TW201431979A - 塗覆組成物、塗膜、積層體及積層體之製造方法 - Google Patents

塗覆組成物、塗膜、積層體及積層體之製造方法 Download PDF

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廣瀨淳一
後藤和佳
小川周一郎
白石健太郎
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旭化成電子材料股份有限公司
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Abstract

本發明係提供防污性、透明性、親水性優異並且即使在高溫下也可以維持表面親水性之塗覆組成物。該塗覆組成物係包含：(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物粒子；及(B)聚合物粒子，並且以下述公式(I)表示之前述(B)成分中之水相成分的含有率為20質量%以下者：水相成分的含有率(%)=(將(B)成分以阻截分子量50,000過濾而得之濾液的乾燥質量)×(100-全固形分質量)/(前述濾液的質量-前述濾液的乾燥質量)×100/全固形分質量…(I)。

Description

塗覆組成物、塗膜、積層體及積層體之製造方法
本發明是有關塗覆組成物、塗膜、積層體及積層體之製造方法。更詳細的說，本發明是有關塗覆組成物、塗膜、積層體及其製造方法；以及使用該等之太陽電池模組、反射器裝置及太陽熱能發電系統。
近年來，由於全球之暖化現象而提高了對環境之意識，而正聚集關心不產生二氧化碳等暖化氣體之新能源系統。太陽電池發電或風力發電等對環境優異的可再生能源，因為不會排放二氧化碳等會引起暖化之氣體，而正熱烈進行研究開發作為乾淨能源，且因為安全性和處理容易性優異，所以太陽電池和太陽熱能發電正受到注目。
具代表性之太陽熱能發電方法有集中方式(中央塔式)、分散方式(拋物面槽式，parabolic trough)、碟(dish)/史特靈(Stirling)方式，因為此等係藉由反射鏡聚集一部分之太陽光並藉由該聚光熱進行熱電轉換藉此得到電能，故不損失地將光聚集係關鍵，然而作為大幅影響效率之要素者，反射鏡因污垢導致反射率下降特別成為問題。同時， 經由玻璃或耐候性樹脂薄膜等所做成的保護膜保護受光面之太陽電池，由於該保護膜在長期使用中也會被煤塵污染，故光線穿透率會下降，而有太陽電池的能量轉換效率會降低之類似問題。
作為防止表面污染之技術者，例如，在專利文獻1中揭示一種形成表面層之技術，其係在含有銳鈦礦(anatase)型氧化鈦層上塗覆加入溶解於氨水之鎢酸與蒸餾水而成之塗佈液後，在700℃進行烘烤處理而形成由氧化鎢所成之層。又，也正進行嘗試不僅摻配無機成分，也摻配有機成分以提高防污性等。
[先前技術文獻]
專利文獻1：日本特開平10-114545號公報
然而，以專利文獻1為首的以往之塗覆組成物尚有改善之空間。專利文獻1所揭示之技術，因為只摻配無機成分，所以在太陽電池模組等中使用之大型反射鏡等的表面形成塗膜時，有容易產生破裂、容易剝離之問題。
又，不僅含無機成分也含有機成分之塗覆組成物，在防污性、透明性、親水性等方面也尚有改善之空間。再者將如此之塗膜置於如沙漠之高溫下時，有由於水相成分在塗膜表面滲出(bleed out)等而防污性能大幅下降之問題。
本發明是有鑑於上述原因而研創者，目的之一為提供一種在製作成塗膜之時防污性、透明性、親水性優異並且 即使在高溫下也可以維持表面親水性之塗覆組成物。
本發明為了解決上述課題經專心檢討之結果，發現藉由一種包含(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物粒子及(B)聚合物粒子並且水相成分之含量在預定範圍以下之塗覆組成物，即可以解決上述課題，遂而完成本發明。
即，本發明是如以下者。
[1]一種塗覆組成物，係包含：(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及(B)聚合物粒子，並且下述公式(I)表示之前述(B)成分中之水相成分的含有率為20質量%以下者：水相成分的含有率(%)=(將(B)成分以阻截(cutoff)分子量50,000過濾而得之濾液的乾燥質量)×(100-全固形分質量)/(前述濾液的質量-前述濾液的乾燥質量)×100/全固形分質量…(I)
[2]如[1]之塗覆組成物，其中，前述(B)成分為在包含下述成分之聚合原液中使下述(b1)成分與下述(b2)成分聚合而得之聚合物乳漿(emulsion)粒子(B1)：(b1)成分：水解性矽化合物；(b2)成分：乙烯系單體；(b3)成分：乳化劑；以及(b4)成分：水。
[3]如[1]或[2]之塗覆組成物，其中，前述水相成分的含有 率為15質量%以下。
[4]如[1]至[3]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(B)成分的數平均粒徑為10nm至800nm。
[5]如[2]至[4]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(b2)成分為具有選自由羥基、羧基、醯胺基、胺基、及醚基所成群組中之至少1種官能基之乙烯系單體。
[6]如[2]至[5]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(b2)成分相對於前述(B)成分之質量比((b2)/(B))為0.01/1至1/1。
[7]如[2]至[6]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(b2)成分相對於前述(A)成分之質量比((b2)/(A))為0.01/1至1/1。
[8]如[1]至[7]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(B)成分係具有核心/外殼結構，該結構係具備有：核心層、及被覆前述核心層之1層或2層以上之外殼層。
[9]如[8]之塗覆組成物，其中，在前述核心層中，前述(b2)成分相對於前述(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1，在前述外殼層的最外層中，前述(b2)成分相對於前述(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至5/1。
[10]如[2]至[9]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(B)成分為在形成前述核心層之晶種粒子的存在下使前述聚合原液聚合而得之聚合物乳漿粒子，前述晶種粒子係使選自由前述(b1)成分、前述(b2)成分、以及(b5)成分：可與前述(b2)成分共聚合之其他乙烯系單體所成群組中之至少1種以上聚合而得。
[11]如[2]至[10]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(b2)成分為具有2級醯胺基、3級醯胺基、或該兩者之乙烯系單體。
[12]如[1]至[11]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(A)成分相對於前述(B)成分之質量比((A)/(B))為110/100至480/100。
[13]如[1]至[12]中任一項之塗覆組成物，其中，復包含(C)成分：選自由下述式(1)、(2)及(3)所示化合物所成群組中之1種以上之水解性矽化合物：R1 nSiX4-n (1)(式(1)中，R1表示氫原子、或是亦可以具有鹵素基、羥基、氫硫基、胺基、(甲基)丙烯醯基或環氧基之碳數1至10之烷基、烯基、炔基或芳基。X表示水解性基，n是0至3之整數)X3Si-R2 n-SiX3 (2)(式(2)中，X表示水解性基，R2表示碳數1至6之伸烷基或伸苯基，n是0或1)R3-(O-Si(OR3)2)n-OR3 (3)(式(3)中，R3表示碳數1至6之烷基，n是2至8之整數)。
[14]如[13]之塗覆組成物，其中，前述(C)成分相對於前述(A)成分之質量比((C)/(A))為1/100至150/100。
[15]如[1]至[14]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(B)成分之數平均粒徑為10nm至100nm。
[16]如[1]至[15]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(A) 成分係包含：(A1)成分：數平均粒徑為1nm至400nm之二氧化矽；及(A2)成分：數平均粒徑為1nm至2000nm之紅外線吸收劑，並且前述(A1)成分與前述(A2)成分之總含量相對於前述(B)成分之含量之質量比((A1+A2)/(B))為60/100至1000/100，前述(A2)成分之含量相對於前述(B)成分與前述(A1)成分之前述總含量之質量比((A2)/(A1+B))為0.05/100至40/100。
[17]如[1]至[16]中任一項之塗覆組成物，其中，前述(A)成分係包含：(A1)成分：數平均粒徑為1nm至400nm之二氧化矽；及(A3)成分：數平均粒徑為1nm至2000nm之光觸媒，並且前述(A1)成分與前述(A3)成分之總含量相對於前述(B)成分之含量之質量比((A1+A3)/(B))為60/100至480/100，前述(A1)成分之含量相對於前述(A1)成分與前述(A3)成分之總含量之質量比((A1)/(A1+A3))為85/100至99/100。
[18]如[1]至[17]中任一項之塗覆組成物，其係抗反射用。
[19]如[1]至[17]中任一項之塗覆組成物，其係耐溶劑用。
[20]如[1]至[17]中任一項之塗覆組成物，其係抗靜電用。
[21]如[1]至[17]中任一項之塗覆組成物，其係耐熱用。
[22]如[1]至[17]中任一項之塗覆組成物，其係硬塗用。
[23]一種塗膜，係由[1]至[22]中任一項之塗覆組成物所得。
[24]一種塗膜，係包含：(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及 經前述(A)成分包圍之聚合物粒子(B)，且，將藉由超過濾法從前述(B)成分萃取之阻截分子量50,000以下之成分(B2)製作成薄膜時的薄膜表面的水接觸角在30°以下。
[25]一種塗膜，係包含：(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及經前述(A)成分包圍之聚合物粒子(B)，且，將藉由超過濾法從前述(B)成分萃取之阻截分子量50,000以下之成分(B2)製作成薄膜時的薄膜表面的水接觸角超過30°，且其含量在5質量%以下。
[26]如[24]或[25]之塗膜，其中，前述(B)成分為乳漿粒子。
[27]如[23]至[26]中任一項之塗膜，其中，在20℃中之表面水接觸角為30°以下。
[28]如[23]至[27]中任一項之塗膜，其中，在溫度90℃、濕度90%之條件下靜置24小時之高溫高濕試驗後之塗膜表面的水接觸角為20°以下。
[29]一種積層體，係具備有：基材；及形成在前述基材之至少一邊表面之塗膜，該塗膜係將[1]至[22]中任一項之塗覆組成物塗佈而得之塗膜、或[23]至[28]中任一項之塗膜。
[30]如[29]之積層體，其中，前述積層體之光線穿透率比前述基材之光線穿透率高。
[31]如[29]或[30]之積層體，其中，前述塗膜之折射率比前 述基材之折射率低0.1以上。
[32]如[29]至[31]中任一項之積層體，其中，前述塗膜為具有2層以上之層的塗膜。
[33]如[29]至[32]中任一項之積層體，其中，位在與前述基材相反側之最表層的折射率比鄰接前述最表層之層的折射率低0.1以上。
[34]如[32]或[33]之積層體，其中，構成前述塗膜之各層之厚度(dn)為10nm至800nm，前述塗膜之總厚度(Σ dn)為100nm至4000nm。
[35]如[29]至[34]中任一項之積層體，其中，前述基材之光線穿透率為30%至99%。
[36]如[29]至[35]中任一項之積層體，其中，前述塗膜之與前述基材的相反側之表面之反射率(Rc)相對於前述基材中之前述塗膜側之表面之反射率(Rb)的比率((Rc)/(Rb))為98%以上。
[37]如[29]至[36]中任一項之積層體，其中，前述塗膜與前述基材之折射率的差為0.2以下。
[38]如[29]至[37]中任一項之積層體，其中，前述塗膜之折射率為1.30至1.48。
[39]如[36]至[38]中任一項之積層體，其中，前述基材之前述塗膜側之表面之反射率(Rb)為80%以上。
[40]如[29]至[39]中任一項之積層體，其中，前述基材係包含選自由玻璃、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、及乙烯-氟乙烯共聚物所成 群組中之至少1種。
[41]一種積層體之製造方法，係具有下述步驟：在基材之至少一邊表面塗佈[1]至[22]中任一項之塗覆組成物而形成塗膜之步驟；及對前述塗膜實施70℃以上之加熱處理、或0.1kPa以上之加壓處理的至少一者之步驟。
[42]如[29]至[40]中任一項之積層體，其係能量轉換裝置用構件。
[43]如[42]之積層體，其係太陽電池模組之保護構件。
[44]一種太陽電池模組，係具備有：[42]之積層體；與前述積層體相對向地配置之背板(back sheet)；以及配置在前述積層體與前述背板之間之發電元件。
[45]如[42]之積層體，其係光反射鏡之保護構件。
[46]一種反射器裝置，係具備有：光反射鏡；保護前述光反射鏡之反射面之[45]之積層體；以及支撐前述反射鏡之支撐體。
[47]一種太陽熱能發電系統，係具備有：[46]之反射器裝置；及將藉由前述反射器裝置所聚集之太陽光轉換成電能量之裝置。
依照本發明，可以提供一種在製作成塗膜之時防污 性、透明性、及親水性優異並且即使在高溫下也可以維持表面親水性之塗覆組成物。
1‧‧‧積層體
2‧‧‧太陽電池模組
3‧‧‧反射器裝置
10‧‧‧基材
12‧‧‧塗膜
20‧‧‧保護構件
22‧‧‧背板
24‧‧‧發電元件
26‧‧‧密封材
30‧‧‧積層體(保護構件)
32‧‧‧光反射鏡
34‧‧‧支撐體
202‧‧‧基盤
204‧‧‧塗膜
L‧‧‧太陽光
S1‧‧‧塗膜之與基材相反側表面
S2‧‧‧基材之塗膜側表面
第1圖係本實施形態之積層體的一個例子的概略截面圖。
第2圖係本實施形態之太陽電池模組的一個例子的概略截面圖。
第3圖係本實施形態之反射器裝置的一個例子的概略斜視圖。
實施發明之最佳形態：
以下，詳細說明用以實施本發明之形態(以下，僅稱為「本實施形態」)。以下之本實施形態是用以說明本發明之例示，本發明並不侷限於以下之內容。本發明可以在該要旨之範圍內適當地變形實施。
在本說明書中，「(甲基)丙烯酸」是指「丙烯酸」及與其相對應之「甲基丙烯酸」的意思，「(甲基)丙烯酸酯」是指「丙烯酸酯」及與其相對應之「甲基丙烯酸酯」的意思，「(甲基)丙烯醯基」是指「丙烯醯基」及與其相對應之「甲基丙烯醯基」的意思。
<塗覆組成物>
本實施形態的塗覆組成物係包含：(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物粒子；及(B)聚合物粒子，並且 下述式(I)表示之前述(B)成分中之水相成分的含有率為20質量%以下。
水相成分的含有率(%)=(將(B)成分以阻截分子量50,000過濾而得之濾液的乾燥質量)×(100-全固形分質量)/(前述濾液的質量-前述濾液的乾燥質量)×100/全固形分質量…(I)
本發明人係究明在製作成塗膜之時膜表面的接觸角上昇之主要原因為水相成分(疏水性成分)自塗膜內部流出之事實。從此技術思想發現，使(B)成分中水相成分之含量成為上述範圍來規定水介質中之分配率，即可以維持塗膜表面之親水性。同時，在本實施形態所謂的「塗膜」，無須為一定為連續膜，也可以為不連續膜、島狀分散膜等態樣。
又，將該水相成分製作成薄膜時之20℃之表面接觸角以在30°以下為佳。將該水相成分製作成薄膜時之20℃之表面水接觸角大於30°時，以其含量在5質量%以下為佳。在此，表面接觸角是指乾燥薄膜與存在於其表面之水滴的切線所成之角度，可以藉由液滴法測定。同時，在本實施形態中，「親水性」係指相對於測定對象物之表面之水(23℃)的接觸角，以60°以下為佳，以30°以下較佳，更佳為20°以下之意思。
以下，說明可以摻配於塗覆組成物及塗膜中之成分。
本實施形態之塗覆組成物係包含(A)成分：數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物。藉此，可以製作成透明性及親水性高的塗膜。(A)成分是藉由與(B)成分相互作用 而發揮作為(B)成分之硬化劑的作用(但，作用並不限定於此而己)。作為該相互作用者並無特定限定，可以例示如(A)成分一般具有之官能基(例如羥基等)與(B)成分具有之官能基(例如羥基、羧基、醯胺基、胺基、及醚基等)的氫鍵鍵結、(A)成分一般具有之官能基與(B)成分之化學鍵結(例如縮合)等。
(A)成分之粒徑是數平均粒徑(可以是一次粒子與二次粒子之混合物，也可以僅為一次粒子及二次粒子中的任一粒子)之意思，為1nm至400nm，以1nm至100nm為佳，較佳是3nm至80nm，更佳是5nm至50nm。使(A)成分之數平均粒徑成為上述範圍時，可以有助於所得塗膜或積層體等之光學特性等。尤其，使該數平均粒徑成為100nm以下時，則所得塗膜或積層體之光線穿透率可大幅提高。同時，本實施形態中數平均粒徑(以下，有僅簡稱「粒徑」之情形)係根據後述之實施例的方法測定。
在(A)成分使用之金屬氧化物，並無特別限定，也可以使用習知者，但從與(B)成分之相互作用的觀點而言，以選自由二氧化矽、氧化鋁、氧化銻、氧化鈦、氧化銦、氧化錫、氧化鋯、氧化鉛、氧化鐵、矽酸鈣、氧化鎂、氧化鈮、及氧化鈰所成群組中之1種以上為佳。其中，從表面羥基多且與(B)成分之相互作用特別強的觀點而言，以選自由二氧化矽、氧化鋁、氧化銻、及此等之複合氧化物所成群組中之1種以上較佳。由於製作成後述之塗膜時，表面羥基多之(A)成分可以形成連續相，故塗膜表面之羥基密度變 高，其本身之親水性也變高，因此以上述金屬氧化物較佳。(A)成分之金屬氧化物，可以單獨使用1種，也可以組合2種以上使用。
作為(A)成分之形態者並無特別限定，例如粉體、分散液、溶膠等。在此「分散液」及「溶膠」是指(A)成分在水、親水性有機溶劑或此等之混合溶劑中以0.01至80質量%之濃度、較佳為0.1至50質量%之濃度分散成一次粒子或二次粒子之至少一種的狀態之意。
作為親水性有機溶劑者可列舉如：乙二醇、丁基溶纖劑、正丙醇、異丙醇、正丁醇、乙醇、甲醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類；四氫呋喃、二烷(dioxane)等醚類；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺等醯胺類；二甲基亞碸(dimethyl sulfoxide)及硝基苯；以及此等之2種以上的混合物。
可以因應欲對塗覆組成物或塗膜賦予之性質等而在上述成分或其他成分中選擇適當者作為(A)成分。作為可以對塗覆組成物或塗膜賦予之性質等，列舉例如抗反射性、耐溶劑性、抗靜電性、耐熱性、硬塗性、光觸媒活性等。可以因應所期望之性質而對於添加成分、含量、以及數平均粒徑等物性等選擇較佳者。再者欲提高特定性能之效果時、或欲對塗覆組成物賦予複數種性能時，也可以合併使用2種以上之金屬氧化物。作為從如此之觀點來看具代表性者，可列舉如(A1)二氧化矽、(A2)紅外線吸收劑、(A3)光觸媒、(A4)導電性金屬氧化物等。以下說明此等。
(A1)成分只要是二氧化矽就可以，其製法無特別限定，也可藉由沉澱法、乾式法等而製造。從處理性之觀點而言，以膠態二氧化矽較佳。(A1)成分為膠態二氧化矽時，可用溶膠-凝膠法調製而可以使用，也可利用市售品。將膠態二氧化矽以溶膠-凝膠法調製時，可以參照Werner Stober et al；J.Colloid and Interface Sci.,26,62-69(1968)、Rickey D.Badley et al；Lang muir 6,792-801(1990)、色材協會誌，61[9]488-493(1988)等記載之方法調製。
膠態二氧化矽是以二氧化矽作為基本單元之二氧化矽的水或水溶性溶劑之分散體，其數平均粒徑是以1nm至400nm為佳，以1nm至200nm較佳，以1nm至100nm更佳，而以5nm至30nm為特佳。數平均粒徑在1nm以上時，塗膜或後述之塗覆組成物的貯藏安定性更佳，在100nm以下時，塗膜之透明性變得較佳。具有上述範圍之粒徑之膠態二氧化矽，在水性分散液之狀態下，在酸性或鹼性之任一種狀態下皆可以使用，可以因應一起混合之(B)成分的水性分散體之安定區域而適當選擇其pH。
以水作為分散介質之酸性膠態二氧化矽者，市售品可列舉如：日產化學工業公司製之SNOWTEX(商標)-O、SNOWTEX-OS、SNOWTEX-OL；旭電化工業公司製之ADELITE(商標)AT-20Q、Clariant公司製之Klebosol(商標)20H12、Klebosol 30CAL25等。
作為鹼性膠態二氧化矽者，可列舉如：因添加鹼金屬離子、銨離子、或胺而安定化的二氧化矽等。更具體的， 市售品可列舉如：日產化學工業公司製之SNOWTEX-20、SNOWTEX-30、SNOWTEX-C、SNOWTEX-C30、SNOWTEX-CM40、SNOWTEX-N、SNOWTEX-N30、SNOWTEX-K、SNOWTEX-XL、SNOWTEX-YL、SNOWTEX-ZL、SNOWTEX PS-M、SNOWTEX PS-L等；旭電化工業公司製之ADELITE AT-20、ADELITE AT-30、ADELITE AT-20N、ADELITE AT-30N、ADELITE AT-20A、ADELITE AT-30A、ADELITE AT-40、ADELITE AT-50等；Clariant公司製Klebosol 30R9、Klebosol 30R50、Klebosol 50R50；杜邦公司製之Ludox(商標)HS-40、Ludox HS-30、Ludox LS、Ludox SM-30等。
作為以水溶性溶劑作為分散介質之膠態二氧化矽者，市售品可列舉如：日產化學工業公司製之MA-ST-M(數平均粒徑為20nm至25nm之甲醇分散型)、IPA-ST(數平均粒徑為10nm至15nm之異丙醇分散型)、EG-ST(數平均粒徑為10nm至15nm之乙二醇分散型)、EG-ST-ZL(數平均粒徑為70nm至100nm之乙二醇分散型)、NPC-ST(數平均粒徑為10nm至15nm之乙二醇單丙基醚分散型)等。
膠態二氧化矽可以單獨使用1種，亦可以組合2種以上使用。(A)成分之金屬氧化物含有以膠態二氧化矽作為主成分時，也可以含有氧化鋁、鋁酸鈉等作為少量成分。又在膠態二氧化矽中，無機鹼(氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、氨等)或有機鹼(四甲基銨等)也可以共存作為安定劑。在此，主成分是指在金屬氧化物中含有50質量%以上、較 佳是含有70質量%以上之成分。
(A2)成分之紅外線吸收劑，係在紅外線區域(波長800nm以上)具有吸收帶之有機物、無機物、及此等之混合物。作為紅外線吸收劑者，可列舉無機微粒子及有機微粒子。作為無機微粒子者，具體上可列舉經氧化鈰、氧化鋅、及二氧化矽被覆之該微粒子；摻雜有錫之氧化銦(ITO)、摻雜有銻之氧化錫(ATO)、摻雜有氟之氧化錫(FTO)等透明導電性微粒子；銀、金、鉑、銠、鈀等貴金屬微粒子；式MxWyOz(惟M元素表示選自由H、He、鹼金屬、鹼土族金屬、稀土族元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、及I所成群組中之1種以上之元素，W表示鎢，O表示氧，0.0001≦x/y≦1.5，1.0≦z/y≦5.0)所示之複合鎢氧化物等。其他也可以將氧化鋯、氧化錫、氧化鉍、氧化鈦等在紫外區域具有吸收之微粒子單獨使用1種，亦可以使用2種以上之組合。
為了也可以比較安定地微粒子化，此等紅外線吸收劑由於可以一面抑制可見光區域之散射，一面吸收紅外線區域之波長，故佳。其中，以選自由經ITO、ATO、氧化鈰、氧化鋅及二氧化矽所被覆之該劑所成群組中之至少1種較佳。
作為有機微粒子者，係只要在近紅外線(800nm至1100nm)之波長帶區域具有極大吸收波長之色素等就可以，其 種類及組成等並無限定。以例如二亞銨鹽(Diimonium)系之近紅外線吸收色素為佳。二亞銨鹽系之近紅外線吸收色素，由於在波長850nm至1100nm之近紅外線區域具有莫耳吸光係數為10萬左右之強吸收性，且在波長400nm至500nm之可見光區域具有若干吸收，雖呈現黃褐色之穿透色，因為可見光穿透性也比其他近紅外線吸收色素更優異，而在可見光區域得到高穿透率，故佳。可以將在波長750nm至950nm具有極大吸收且在可見光區域無吸收之選自由酞菁系色素、有機金屬錯合物系色素、及花菁系(Cyanine)系色素所成群組中之1種以上之色素單獨使用，也可以併用2種以上者。又，也可以使用以聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩(polythiophene)、聚乙烯磺酸等所代表之導電性聚合物。
在賦予塗膜隔熱性之目的下，可以單獨或合併使用著色顏料作為(A2)成分。此時，以例如在JIS A5759-1998中規定之日照反射率在13%以上之著色顏料為佳，具體上可列舉，作為白色顏料之鈦白、氧化鋅系顏料等白色系顏料；氧化鐵系顏料、喹吖啶酮(quinacridone)系顏料等紅色系顏料；氧化鐵系顏料、氫氧化鐵系顏料、鉻酸鉛系顏料、偶氮系顏料等黃色系顏料；酞菁藍、複合氧化物系顏料等藍色系顏料；鉻綠、酞菁綠系顏料等綠色系顏料等。
紅外線吸收劑較理想是在太陽光之紅外線波長、尤其在相當於矽之吸收帶之波長區域無吸收者，但以在可見紫外光區域波長300nm至780nm之平均反射率在25%以下， 且在紅外線區域波長780nm至2500nm之平均反射率在15%以上為佳。
含(A2)成分時，在波長1000nm至2500nm之波長區域以具有0.1%以上之吸收為佳。波長1000nm至2500nm區域是紅外線可有效率地轉換成熱之波長區域，而以在此波長區域具有0.1%以上之吸收為佳，以具有10%以上之吸收為較佳。但是，由於該波長區域也與矽之吸收區域相重疊，故也可以因應紅外線吸收劑之紅外線吸收能力而調整添加量使用。
使粒徑成為不會因粒子之散亂使矽之吸收帶波長之光散射之粒徑，即可以不對太陽電池之發電性能有不好之影響而有效地抑制溫度之上昇。從此觀點而言，數平均粒徑以在10nm至2000mn為佳，以在10nm至1500nm較佳，以在10nm至1000nm更佳。使數平均粒徑成為10nm以上，即可以保持分散安定性。成為2000nm以下，則即使(A2)成分之添加量多時散射光也不會變強，而太陽電池之發電效率不會下降。
因為一般此等紅外線吸收劑有不易分散在水系溶劑中之傾向，故以將紅外線吸收劑之表面以作為(A1)成分使用之二氧化矽均勻地或不均勻地被覆而成之(A2)紅外線吸收劑為佳。藉此，可以更提高與(A1)成分之摻配安定性、(A2)紅外線吸收劑之耐候性等。將(A2)紅外線吸收劑以(A1)二氧化矽被覆之方法並無特別限定，可以採用習知之方法，例如使紅外線吸收劑分散在水中，以高壓均質機分散處理 之後，一面攪拌一面添加四乙氧基矽烷或水玻璃等適當地調整pH，並同時管理溫度即可以得到。
(A2)成分之形態，無特別限制，可列舉例如粉體、分散液、溶膠等。在此所謂之「分散液」及「溶膠」是指(A2)成分以0.1至80質量%、較佳是0.1至50質量%之濃度分散在水及/或親水性有機溶劑中成為一次粒子及/或二次粒子之狀態的意思。
在分散液或溶膠中觀察到之(A2)成分之數平均粒徑，可以有助於所得塗膜之光學特性等。尤其，使該數平均粒徑成為100nm以下，可以大幅地提高塗膜之透明性。
(A3)成分之光觸媒，係指所謂的藉由照光而顯現光觸媒活性及親水性之至少一者的化合物(以下，有僅簡稱為「光觸媒」之情形)。在藉由照光顯現光觸媒活性之化合物時，所得塗膜之表面係污染有機物質之分解活性(有機物分解性)或耐污染性優異。
作為光觸媒者，可列舉例如：TiO2、ZnO、SrTiO3、BaTiO3、BaTiO4、BaTi4O9、K2NbO3、Nb2O5、Fe2O3、Ta2O5、K3Ta3Si2O3、WO3、SnO2、Bi2O3、BiVO4、NiO、Cu2O、RuO2、CeO2、以及選自由Ti、Nb、Ta及V所成群組中之至少1種之元素之層狀氧化物(例如參照日本特開昭62-74452號公報、日本特開平2-172535號公報、日本特開平7-24329號公報、日本特開平8-89799號公報、日本特開平8-89800號公報、日本特開平8-89804號公報、日本特開平8-198061號公報、日本特開平9-248465號公報、日本特開平10-99694 號公報、日本特開平10-244165號公報等)等。此等光觸媒中TiO2(氧化鈦)由於無害且化學安定性也優異，故佳。作為氧化鈦者，可以使用銳鈦礦型、金紅石型、板鈦礦型中之任一者。
從使所得之塗覆組成物顯現抗靜電性能等之觀點而言，作為(A4)成分者，可以使用具有導電性之金屬氧化物。作為具有如此導電性之金屬氧化物者，可列舉例如：摻雜有錫之氧化銦(ITO)、摻雜有銻之氧化錫(ATO)、氧化錫、氧化鋅等。又，從與(B)成分之相互作用之觀點而言，也可併用例如：氧化鋁、氧化銻、氧化銦、氧化錫、氧化鋯、氧化鉛、氧化鐵、矽酸鈣、氧化鎂、氧化鈮、氧化鈰等。
(B)成分是聚合物粒子。本實施形態之塗膜中，以存在作為經(A)成分包圍之(B)聚合物粒子為佳。(B)聚合物粒子是指具有不飽和鍵之單體成分因介置有自由基、陽離子、陰離子等而進行聚合而成之高分子之粒子。
在本實施形態，式(I)所示(B)之水相成分的含有率在20質量%以下。藉由使(B)成分之水相成分成為20質量%以下，而透明性及親水性優異並且即使在高溫下也可以維持優異之親水性。水相成分的含有率(%)=(將(B)成分以阻截分子量50,000過濾而得之濾液的乾燥質量)×(100-全固形分質量)/(前述濾液的質量-前述濾液的乾燥質量)×100/全固形分質量…(I)
經由使(B)成分中之水相成分的含量較佳成為15質量 %以下為佳、更佳成為10質量%以下，而防污性、透明性及親水性優良，並且不僅在高溫下，即使在高濕下、以及高溫高濕下也可以維持優異之親水性。
(B)成分是以乳漿粒子為佳。因為其為乳漿粒子，而在製作成後述塗膜時，可藉由(A)成分與(B)成分形成海島結構。形成海島結構，即可以使金屬氧化物局部存在於塗膜最表面，藉由金屬氧化物之羥基等親水基顯現良好之親水性。作為乳漿粒子者，無特別限制，可列舉例如丙烯酸乳漿、苯乙烯乳漿、丙烯酸苯乙烯乳漿、丙烯酸矽乳漿、矽乳漿、氟樹脂乳漿等。
(B)成分係以在包含下述成分之聚合原液中使(b1)成分及(b2)成分聚合而得之聚合物乳漿粒子為較佳：(b1)成分：水解性矽化合物；(b2)成分：乙烯系單體；(b3)成分：乳化劑；以及(b4)成分：水。如此所得之(B)成分係宜使用源自(b1)成分之羥基與(b2)成分的聚合生成物藉由氫鍵等複合化而成者。
作為(b1)成分者，可列舉如下述式(4)所示化合物或其縮合生成物、矽烷偶合劑等。
SiWxRy (4)
在此，式中，W係選自由碳數1至20之烷氧基、羥基、碳數1至20之乙醯氧基、鹵素原子、氫原子、碳數1至20之肟(oxime)基、烯氧基、胺氧基及醯胺基所成群組中之至少1種之基。R表示選自由直鏈狀或分枝狀之碳數為1至30個之烷基、碳數5至20之環烷基、及無取代或是經 碳數1至20之烷基、碳數1至20之烷氧基或鹵素原子取代之碳數6至20之芳基所成群組中之至少1種之烴基。x是1以上4以下之整數，y是0以上3以下之整數。又，x+y=4。
矽烷偶合劑是指在分子內存在乙烯聚合性基、環氧基、胺基、甲基丙烯醯基、氫硫基、異氰酸基等與有機物具有反應性之官能基之矽烷衍生物之意。
式(4)所示化合物之具體例，可列舉如：四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四正丙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷等四烷氧基矽烷類；甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽烷、異丙基三甲氧基矽烷、異丙基三乙氧基矽烷、正丁基三甲氧基矽烷、正丁基三乙氧基矽烷、正戊基三甲氧基矽烷、正己基三甲氧基矽烷、正庚基三甲氧基矽烷、正辛基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、環己基三甲氧基矽烷、環己基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基三乙氧基矽烷、3,3,3-三氯丙基三甲氧基矽烷、3,3,3-三氯丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、2-羥基乙基三甲氧基矽烷、2-羥基乙基三乙氧基矽烷、2-羥基丙基三甲氧基矽烷、2-羥基丙基三乙氧基矽烷、3-羥基丙基三甲氧基矽烷、3-羥基丙基三乙氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽 烷、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷、3-異氰酸基丙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三正丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三異丙氧基矽烷、3-脲基丙基三甲氧基矽烷、3-脲基丙基三乙氧基矽烷等三烷氧基矽烷類；二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二乙基二甲氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷、二正丙基二甲氧基矽烷、二正丙基二乙氧基矽烷、二異丙基二甲氧基矽烷、二異丙基二乙氧基矽烷、二正丁基二甲氧基矽烷、二正丁基二乙氧基矽烷、二正戊基二甲氧基矽烷、二正戊基二乙氧基矽烷、二正己基二甲氧基矽烷、二正己基二乙氧基矽烷、二正庚基二甲氧基矽烷、二正庚基二乙氧基矽烷、二正辛基二甲氧基矽烷、二正辛基二乙氧基矽烷、二正環己基二甲氧基矽烷、二正環己基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷等二烷氧基矽烷類；三甲基甲氧基矽烷、三甲基乙氧基矽烷等單烷氧基矽烷類等。此等可以單獨使用1種，也可以併用2種以上。
作為(b1)成分者，可以使用具有苯基之矽烷氧化物(例如苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷等)。使用具有苯基之矽烷氧化物時，在水及乳化劑 之存在下聚合安定性變良好，而較佳。
(b1)成分也可以包含：具有硫醇基之矽烷偶合劑、或(b1-1)成分：具有乙烯聚合性基之水解性矽化合物。將此等作為(b1)成分使用時，所得塗膜的長期防污染性變良好，而較佳。
作為具有硫醇基之矽烷偶合劑者，可列舉如：3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷等。
作為(b1-1)成分者，可列舉如：3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三正丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三異丙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、2-三甲氧基矽烷基乙基乙烯基醚等具有乙烯聚合性基之矽烷偶合劑等。
該等矽烷偶合劑可以藉由與後述之(b2)成分之共聚合或鏈轉移(chain transfer)反應而生成化學鍵結。因此，使具有乙烯聚合性基或硫醇基之矽烷偶合劑與上述(b1)成分混合或是複合化使用時，可以藉由將(b1)成分之聚合生成物與後述(b2)成分的聚合生成物進行化學鍵結而複合化。
(b1-1)成分中，「乙烯聚合性基」可列舉如：乙烯基、烯丙基等，其中，以3-(甲基)丙烯醯氧基丙基為佳。(b1)成分也可包含(b1-2)成分：環狀矽氧烷寡聚物。使用(b1-2)成分時，所得塗膜之柔軟性變得良好，而較佳。
作為環狀矽氧烷寡聚物者，可以例示下述式(5)所示化 合物。
(R’2SiO)m (5)
在此，式中，R’表示選自由氫原子、直鏈狀或分枝狀之碳數為1至30個之烷基、碳數5至20之環烷基、及無取代或是經碳數1至20之烷基、碳數1至20之烷氧基或鹵素原子取代之碳數6至20之芳基所成群組中之至少1種。m是整數，2≦m≦20。
其中，從反應性等之觀點而言，以八甲基環四矽氧烷等環狀二甲基矽氧烷寡聚物為佳。
使用縮合生成物作為(b1)成分時，該縮合生成物之換算成聚苯乙烯的重量平均分子量(藉由GPC法所得)，以200至5000為佳，更佳為300至1000。
(b1)成分之含量相對於(B)成分之含量之質量比((b1)/(B))，從聚合安定性之觀點而言，以0.01/100至80/100為佳，更佳是0.1/100至70/100。
(b1-1)成分之含量相對於(B)成分之含量之質量比((b1-1)/(B))，從聚合安定性之觀點而言，以0.01/100至20/100為佳，更佳是0.5/100至10/100。(b1-1)成分之含量相對於(b2)成分之含量之質量比((b1-1)/(b2))，從聚合安定性之觀點而言，以0.1/100至100/100為佳，更佳是0.5/100至50/100。
(b1-2)成分之含量相對於(B)成分之含量之質量比((b1-2)/(B))，從親水性之觀點而言，以0.01/100至20/100為佳，更佳是0.5/100至5/100。(b1-2)成分之含量相對於(b2) 成分之含量之質量比((b1-2)/(b2))，從聚合安定性之觀點而言，以0.5/100至50/100為佳，更佳是1.0/100至20/100。
(b2)成分是乙烯系單體。作為(b2)成分者，以選自由羥基、羧基、醯胺基、胺基、及醚基所成群組中之至少1種官能基之乙烯系單體佳。藉由有如此之官能基之乙烯系單體，而容易與(B)成分以外之其他成分(例如(A)成分之金屬氧化物等)具有之官能基化學鍵結(例如縮合等)，可以提高相互作用。
作為列舉作為(b2)成分之含有羥基之乙烯系單體的具體例者，可列舉：如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、或(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯之各種(甲基)丙烯酸羥基烷基酯類；如2-羥基乙基乙烯基醚或4-羥基丁基乙烯基醚之各種含有羥基之乙烯基醚類；如2-羥基乙基烯丙基醚之各種含有羥基之烯丙基醚類；由聚乙二醇所代表之各種聚醚多元醇與(甲基)丙烯酸所代表之各種不飽和羧酸所得之聚氧烷二醇之單酯類；上述各種含有羥基之單體類與ε-己內酯所代表之各種內酯類之加成物；(甲基)丙烯酸環氧丙酯所代表之各種含有環氧基之不飽和單體與乙酸所代表之各種酸類之加成物：(甲基)丙烯酸所代表之各種不飽和羧酸類與「Cardula E」(荷蘭Shell公司製之商品名)所代表之α-烯烴的環氧化物以外的各種單環氧基化合物之加成物等。
作為列舉作為(b2)成分之含有羧基之乙烯系單體的具體例者，可列舉：如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羧基 乙酯、巴豆酸、依康酸、馬來酸或富馬酸之各種不飽和羧酸類；如依康酸單甲酯、依康酸單正丁酯、馬來酸單甲酯、馬來酸正丁酯、富馬酸單甲酯、富馬酸單正丁酯之不飽和二羧酸類與飽和1元醇類之單酯類(半酯類)；如己二酸單乙烯酯或是琥珀酸單乙烯酯之各種飽和二羧酸的單乙烯酯類；琥珀酸酐、戊二酸酐、苯二甲酸酐或偏苯三甲酸酐之各種飽和多羧酸之酐類與上述之各種含有羥基之乙烯系單體類的加成反應生成物；將上述之各種含有羧基單體類與內酯類進行加成反應而得之單體類等。
作為列舉作為(b2)成分之含有胺基之乙烯系單體的具體例者，可列舉：如(甲基)丙烯酸2-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二乙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二正丙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸3-二甲基胺基丙酯、(甲基)丙烯酸4-二甲基胺基丁酯或是N-[2-(甲基)丙烯醯氧基]乙基嗎啉之各種含有3級胺基之(甲基)丙烯酸酯類；如乙烯基吡啶、N-乙烯基咔唑、N-乙烯基喹啉之各種含有3級胺基之芳香族乙烯系單體類；N-(2-二甲基胺基)乙基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-二乙基胺基)乙基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-二正丙基胺基)乙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基)丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(4-二甲基胺基)丁基(甲基)丙烯醯胺或是N-[2-(甲基)丙烯醯胺基]乙基嗎啉之各種含有3級胺基之(甲基)丙烯醯胺類；如N-(2-二甲基胺基)乙基巴豆醯胺、N-(2-二乙基胺基)乙基巴豆醯胺、N-(2-二正丙基胺基)乙基巴豆醯胺、N-(3-二甲基胺基)丙基巴豆醯胺或是N-(4-二甲基胺基)丁 基巴豆醯胺之各種含有3級胺基之巴豆醯胺類；如2-二甲基胺基乙基乙烯基醚、2-二乙基胺基乙基乙烯基醚、3-二甲基胺基丙基乙烯基醚或是4-二甲基胺基丁基乙烯基醚之各種含有3級胺基之乙烯基醚類等。
作為列舉作為(b2)成分之含有醚基之乙烯系單體的具體例者，可列舉：在側鏈具有如聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基高級脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段共聚物之各種聚醚鏈之乙烯基醚類、烯丙基醚類或(甲基)丙烯酸酯類之乙烯系單體類。含有醚基之乙烯系單體可以使用市售品，可列舉如：BLEMMER PE-90、PE-200、PE-350、PME-100、PME-200、PME-400、AE-350(以上，日本油脂公司製，商品名)；MA-30、MA-50、MA-100、MA-150、RA-1120、RA-2614、RMA-564、RMA-568、RMA-1114、MPG130-MA(以上，日本乳化劑公司製，商品名)等。在此，聚氧伸乙基鏈之氧伸乙基單元數以2至30為佳。未滿2時，塗膜之柔軟性有變不足之傾向，超過30時，塗膜有變成不柔軟而耐結塊性變差之傾向。
作為列舉作為(b2)成分之含有醯胺基之乙烯系單體的具體例者，可列舉N-烷基或N-伸烷基取代(甲基)丙烯醯胺之例子。更具體而言，例如：N-甲基丙烯醯胺、N-甲基甲基丙烯醯胺、N-乙基丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二甲基甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N-乙基甲基丙烯醯胺、N-甲基-N-乙基丙烯醯胺、N-甲基-N-乙基甲基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-正丙基丙烯醯胺、N-異 丙基甲基丙烯醯胺、N-正丙基甲基丙烯醯胺、N-甲基-N-正丙基丙烯醯胺、N-甲基-N-異丙基丙烯醯胺、N-丙烯醯基吡咯啶、N-甲基丙烯醯基吡咯啶、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基六氫氮呯(N-acryloylhexahydroazepine)、N-丙烯醯基嗎啉、N-甲基丙烯醯基嗎啉、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基己內醯胺、N,N’-亞甲基雙丙烯醯胺、N,N’-亞甲基雙甲基丙烯醯胺、N-乙烯基乙醯胺、二丙酮丙烯醯胺、二丙酮甲基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-羥甲基甲基丙烯醯胺等。
作為前述(b2)成分者，從使與其他成分之氫鍵鍵結性更提高之觀點而言，以具有2級醯胺基、3級醯胺基或該兩者之乙烯系單體為佳。尤其從氫鍵鍵結力之觀點而言，以具有3級醯胺基之乙烯系單體為佳。
(b2)成分之含量相對於(B)成分之含量之質量比((b2)/(B))，從聚合安定性之觀點而言，係0.01/1至1/1，以0.1/1至0.5/1為佳，更佳是0.2/1至0.4/1。
(b2)成分之含量相對於(A1)成分之含量之質量比((b2)/(A1))，從與(A1)成分之氫鍵鍵結性或摻配安定性之觀點而言，為0.01/1至1/1，以0.1/1至1/1為佳，更佳是0.2/1至0.7/1。
作為(b3)成分者，可列舉：如烷基苯磺酸、烷基磺酸、烷基磺基琥珀酸、硫酸聚氧伸乙基烷基酯、硫酸聚氧伸乙基烷基芳基酯、聚氧伸乙基二(苯乙烯基)苯基醚磺酸等酸性乳化劑、酸性乳化劑之鹼金屬(Li、Na、K等)鹽、酸性 乳化劑之銨鹽、脂肪酸皂等陰離子性界面活性劑；溴化烷基三甲基銨、溴化烷基吡啶鎓鹽、月桂酸咪唑鎓鹽等四級銨鹽、吡啶鎓鹽、咪唑鎓鹽型的陽離子性界面活性劑；聚氧伸乙基烷基芳基醚、聚氧伸乙基山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚聚氧伸乙基氧伸丙基嵌段共聚物、聚氧伸乙基二(苯乙烯基)苯基醚等非離子型界面活性劑等。此等可以單獨使用1種，亦可以組合2種以上來使用。
作為(b3)成分者，從提高所得(B)成分之水分散安定性之觀點而言、及從提高所得塗膜之長期防污染性之觀點而言，以使用具有自由基聚合性之雙鍵的反應性乳化劑為佳。作為反應性乳化劑者，可以列舉如：具有磺酸基或磺酸酯基之乙烯系單體、具有硫酸酯基之乙烯系單體、及具有此等鹼金屬鹽、銨鹽、聚氧伸乙基等之非離子基之乙烯系單體、以及具有4級銨鹽之乙烯系單體等。
作為具有磺酸基或磺酸酯基之乙烯系單體者，可列舉例如具有自由基聚合性之雙鍵且具有一部分經如磺酸基之銨鹽、鈉鹽或鉀鹽之取代基取代之選自由碳數1至20之烷基、碳數2至4之烷基醚基、碳數2至4之聚烷基醚基、苯基、萘基、及琥珀酸基所成群組之取代基的化合物；如磺酸基之銨鹽、鈉鹽或鉀鹽之鍵結有取代基之具有乙烯基的乙烯基磺酸酯化合物等。
作為具有硫酸酯基之乙烯系單體者，例如具有自由基聚合性之雙鍵且具有一部分經如硫酸酯基之銨鹽、鈉鹽或鉀鹽之取代基取代之選自由碳數1至20之烷基、碳數2 至4之烷基醚基、碳數2至4之聚烷基醚基、苯基、及萘基所成群組之取代基的化合物等。
作為具有一部分經如磺酸基之銨鹽、鈉鹽或鉀鹽之取代基取代之琥珀酸基之化合物之具體例，可列舉如烯丙基磺基琥珀酸鹽等。更詳細而言，例如ELEMINOL JS-2(三洋化成公司製，商品名)；LATEMUL S-120、S-180A或S-180(花王公司製，商品名)等。
作為具有一部分經如磺酸基之銨鹽、鈉鹽或鉀鹽之取代基取代之碳數2至4之烷基醚基或碳數2至4之聚烷基醚基之化合物的具體例，可列舉如Aqualon HS-10或KH-1025(第一工業製藥公司製，商品名)；ADEKA REASOAP SE-1025N或SR-1025(旭電化工業公司製，商品名)等。
作為具有非離子基之乙烯系單體，具體可列舉例如：α-[1-[(烯丙氧基)甲基]-2-(壬基苯氧基)乙基]-ω-羥基聚氧伸乙基(商品名，ADEKA REASOAP NE-20、NE-30、NE-40等，旭電化工業公司製)；聚氧伸乙基烷基丙烯基苯基醚(商品名，Aqualon RN-10、RN-20、RN-30、RN-50等，第一工業製藥公司製)。
(b3)成分之使用量，從聚合安定性之觀點而言，相對於(B)成分100質量份，(b3)成分以10質量份以下為佳，較佳是0.001至5質量份。
(B)成分是在包含上述之(b1)至(b3)各成分、及(b4)成分(即水)之聚合原液中使(b1)與(b2)成分聚合而得之聚合物乳漿粒子。(b4)成分之使用量，從聚合安定性之觀點而言， 作為聚合原液中之含有率以30至99.9質量%為佳。
在聚合原液中，除了(b1)至(b4)成分之外，復可以混合各種成分。首先，在聚合原液中，以再混合(b5)成分：可與前述(b2)成分共聚合之其他乙烯系單體為佳。從控制生成之聚合生成物的特性(玻璃轉移溫度、分子量、氫鍵鍵結力、極性、分散安定性、耐候性、與(b1)成分的水解性矽化合物之聚合生成物的相溶性等)觀點而言，以使用如此之(b5)成分為佳。
作為(b5)成分者，例如，除了丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、芳香族乙烯化合物、氰乙烯類之外，可以列舉：如含環氧基之乙烯系單體、含羰基之乙烯系單體、陰離子型乙烯系單體的含官能基之單體等。
(b5)成分在全乙烯系單體中所佔比率，係以0.001至30質量%為佳，較佳是0.05至10質量%之範圍。從控制玻璃轉移溫度、分子量、氫鍵鍵結力、極性、分散安定性、耐候性、與(b1)成分的水解性矽化合物之聚合生成物的相溶性等觀點而言，以在此範圍內使用(b5)成分為佳。
在聚合原液中，可以混合鏈轉移劑。作為鏈轉移劑者，可以列舉：如正辛基硫醇、正十二烷基硫醇、三級十二烷基硫醇之烷基硫醇類；如苄基硫醇、十二烷基苄基硫醇之芳香族硫醇類；如硫代蘋果酸之硫代羧酸或其鹽或其烷基酯類；或多硫醇類；黃原酸二異丙酯二硫化物(diisopropyl xanthogen disulfide)、二(亞甲基三羥甲基丙烷)黃原酸酯二硫化物及硫甘醇、α-甲基苯乙烯之二聚物等烯丙基化合物 等。
該鏈轉移劑之使用量，相對於全乙烯系單體之合計量100質量份，以0.001至30質量份為佳，更佳是0.05至10質量份。從聚合安定性之觀點而言，以在此範圍內使用鏈轉移劑為佳。
再者在聚合原液中，可以混合分散安定劑。作為分散安定劑者，無特別限定，可列舉如：選自由聚羧酸及磺酸鹽所成群組的各種水溶性寡聚物類；聚乙烯醇、羥基乙基纖維素、澱粉、馬來醯化聚丁二烯、馬來醯化醇酸(alkyd)樹脂、聚丙烯酸(鹽)、聚丙烯醯胺、水溶性或水分散性丙烯酸樹脂等合成或天然之水溶性或水分散性的各種高分子物質等。此等可以單獨使用1種，亦可以組合2種以上而使用。
分散安定劑之使用量，相對於(B)成分之聚合物乳漿粒子100質量份，以10質量份以下為佳，更佳是0.001至5質量份。
上述聚合原液之聚合，以在聚合觸媒之存在下實施為佳。作為(b1)成分之聚合觸媒者可以列舉如：鹽酸、氟酸等鹵化氫類；乙酸、三氯乙酸、三氟乙酸、乳酸等羧酸類；硫酸、對甲苯磺酸等磺酸類；烷基苯磺酸、烷基磺酸、烷基磺基琥珀酸、硫酸聚氧伸乙基烷基酯、硫酸聚氧伸乙基烷基芳基酯、聚氧伸乙基二(苯乙烯基)苯基醚磺酸等酸性乳化劑類；如酸性或弱酸性之無機鹽、對苯二甲酸、磷酸、硝酸之酸性化合物類；如氫氧化鈉、氫氧化鉀、甲醇鈉、 乙酸鈉、氯化四甲基銨、氫氧化四甲基銨、三丁基胺、二氮雜雙環十一烯、乙二胺、二伸乙三胺、乙醇胺類、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)-胺基丙基三甲氧基矽烷之鹼性化合物類；如辛酸二丁基錫、二(十二烷酸)二丁基錫的錫化物等。其中，作為(b1)成分之水解性矽化合物之聚合觸媒者，以不僅具有聚合觸媒之作用也具有作為乳化劑之作用的酸性乳化劑類為佳，尤其以碳數為5至30之烷基苯磺酸(十二烷基苯磺酸等)等為佳。
作為(b2)成分之聚合觸媒者，宜為藉由熱或還元性物質等進行自由基分解產生乙烯系單體之加成聚合的自由基聚合觸媒。作為如此之自由基聚合觸媒者，可列舉例如水溶性或油溶性之過硫酸鹽、過氧化物、偶氮雙化合物，以此等為佳。更具體的，作為自由基聚合觸媒者，可列舉如：過硫酸鉀、過硫酸鈉、過硫酸銨、過氧化氫、三級丁基氫過氧化物、過氧苯甲酸三級丁酯、2,2-偶氮雙異丁腈、2,2-偶氮雙(2-二胺基丙烷)鹽酸鹽、2,2-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)等。
聚合觸媒之使用量，相對於全乙烯系單體100質量份，以0.001至5質量份為佳。同時，期望促進聚合速度及在70℃以下的低溫進行聚合時，例如將亞硫酸氫鈉、氯化亞鐵、抗壞血酸鹽、雕白粉等還原劑與自由基聚合觸媒組合使用時較有利。
本實施形態中，(b1)成分的聚合與(b1)成分的聚合也可分別實施，但同時實施時因為可以達成藉由氫鍵等進行微 有機/無機複合化，故佳。
得到(B)成分的方法，宜為在足以使乳化劑形成膠粒的量之水存在下使(b1)成分與(b2)成分聚合之所謂的乳化聚合。作為乳化聚合的方法，列舉如將(b1)成分與(b2)成分、以及因應需要之(b3)成分直接或以乳化狀態，整體地或分批地、或是連續地滴入反應容器中，在聚合觸媒存在下，較佳在大氣壓至因應需要而在10MPa之壓力下，在約30至150℃之反應溫度下聚合之方法等。但是，也可以因應需要而在比此更高壓力下、或在比此低之溫度條件下進行聚合。
有關聚合原液之摻配，從聚合安定性之觀點而言，以使全固形分質量成為0.1至70質量%、較佳成為1至55質量%之範圍摻配(b1)至(b4)各成分為佳。全固形分質量(質量%)是將(B)成分放入升溫至100℃的烘箱2小時並乾燥後，求取乾燥質量，可按照下述式(II)求取。
全固形分質量(質量%)=乾燥質量/(B)成分之質量×100…(II)
進行乳化聚合之時，從使所得(B)成分之粒徑適度成長或控制的觀點而言，以使用晶種聚合法為宜。晶種聚合法是指預先使乳漿粒子(晶種粒子)於水相中進行聚合之方法。進行晶種聚合法時之聚合系中的pH，以1.0至10.0為佳，較佳是1.0至6.0。該pH可以使用磷酸氫二鈉、硼砂、碳酸氫鈉、氨等pH緩衝劑進行調節。
得到(B)成分之方法，也可以適用在使(b1)成分聚合所 需的(b3)成分及(b4)成分之存在下，在因應需要之溶劑存在下，使(b1)成分與(b2)成分聚合後，添加水直到聚合生成物變成乳漿為止的方法。
從提高所得塗膜的基材密著性之觀點而言，(B)成分是以具有具備有核心層及被覆該核心層之1層或2層以上之外殼層之核心/外殼結構者為佳。形成該核心/外殼結構之方法，以多段進行乳化聚合，多段乳化聚合是非常有用。核心/外殼結構可以藉由例如藉由穿透型電子顯微鏡等進行形態觀察或藉由黏彈性測定進行解析等觀察。
(B)成分是在含有形成前述核心層之晶種粒子的前述聚合原液中使前述(b1)成分與前述(b1)成分聚合而得之聚合物乳漿粒子，且以前述晶種粒子是使選自由前述(b1)成分、前述(b2)成分及(b5)成分：可與前述(b2)成分共聚合之其他乙烯系單體所成群組中之至少1種以上之成分聚合而得之粒子較佳。此時，多段乳化聚合為有用。
具體上，多段乳化聚合，例如，作為第1階段者係在(b3)成分及(b4)成分之存在下使選自由(b1)成分、(b2)成分及(b5)成分所成群組中之至少1種以上之成分聚合形成晶種粒子，作為第2階段者係在該晶種粒子之存在下添加含有(b1)成分及(b2)成分、以及因應需要之(b5)成分的聚合原液進行聚合(2段聚合法)。實施3段以上之多段乳化聚合時，例如作為第3階段者可以再添加含有(b1)成分及(b2)成分、以及因應需要之(b5)成分的聚合原液進行聚合。從聚合安定性之觀點而言，也如此之方法較佳。
採用2段聚合法時，在上述第1階段使用之聚合原液中之固形分質量(M1)與上述第2階段所添加之聚合原液中之固形分質量(M2)之質量比(M1)/(M2)，從聚合安定性之觀點而言，以9/1至1/9為佳，較佳是8/2至2/8。
又，從聚合安定性之觀點而言，上述核心/外殼結構是以具有在晶種粒子之粒徑分布(體積平均粒徑/數平均粒徑)不會大幅變化之情形下藉由上述第2階段之聚合增加粒徑之結構者為佳。同時，體積平均粒徑可以與數平均粒徑同樣地進行測定。
聚合物乳漿粒子(B)，在上述核心層中，以(b2)成分的含量相對於(b1)成分的含量之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1為佳。在外殼層之最外層中，以(b2)成分之含量相對於(b1)成分的含量之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至5/1為佳。在核心層中使質量比((b2)/(b1))成為0.01/1以上，則聚合安定性有較優異之傾向，使其成為1/1以下，則耐久性和柔軟性更為提高。又，在外殼層之最外層，使質量比((b2)/(b1))成為0.01/1以上，則可以使與(A)成分之相互作用變大，使其成為在5/1以下，則可以適度抑制相互作用，有得到充分安定性之傾向。
核心/外殼結構之核心層的玻璃轉移溫度(Tg)以在0℃以下為佳。此時，因為可以得到在室溫中柔軟性更優異之塗膜，故可形成不易產生破裂等之太陽電池用保護構件，故佳。同時，在本實施形態中，Tg可以藉由示差掃描熱量測定裝置(DSC)測定。
(B)成分之數平均粒徑是以10nm至800nm為佳。藉由調整(B)成分之粒徑在此範圍後與數平均粒徑1nm至400nm之(A)成分組合形成組成物，而耐候性、防污染性變得更良好。從所得塗膜之透明性提高的觀點而言，(B)成分之數平均粒徑是以10nm至100nm為更佳。
(A)成分之表面積(SA)與(B)成分之表面積(SB)之比((SA)/(SB))以在0.001至1000之範圍為佳。同時，各成分之表面積可以由(A)成分及(B)成分之各自之粒徑、各自之質量、及各自之比重，假設粒子之形狀為正球形而算出。
在本實施形態中，除了上述各成分之外，也可摻配因應其用途及使用方法等而通常添加摻配在塗料或成型用樹脂中的添加成分，例如，光安定劑、紫外線吸收劑、增黏劑、塗平劑、搖變劑、消泡劑、凍結安定劑、消光劑、交聯反應觸媒、顏料、硬化觸媒、交聯劑、填充劑、防止結皮劑、分散劑、濕潤劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、控制流變劑、成膜助劑、防鏽劑、染料、可塑劑、潤滑劑、還原劑、防腐劑、防黴劑、除臭劑、防止黃變劑、抗靜電劑、或帶電調整劑等，此等可因應各自之目的而選擇或組合摻配。
作為光安定劑者，以使用例如受阻胺(Hindered Amine)系光安定劑為佳。其中，以在分子內具有自由基聚合性的雙鍵之自由基聚合性光安定劑為佳。作為紫外線吸收劑者，可列舉例如有機系紫外線吸收劑。作為如此之有機系紫外線吸收劑者，可列舉如：二苯甲酮系紫外線吸收劑、 苯并三唑系紫外線吸收劑、三系紫外線吸收劑等。其中，以使用在分子內具有自由基聚合性的雙鍵之自由基聚合性紫外線吸收劑為佳。又，以紫外線吸收能力高之苯并三唑系紫外線吸收劑、三系紫外線吸收劑為佳。
光安定劑係以與有機系紫外線吸收劑併用為佳。併用兩者係可以有助於所得塗膜之耐候性提高。又，此等有機系紫外線吸收劑、光安定劑、或各種添加劑成分，係可以僅與(A1)成分、(A2)成分、及(B)成分摻配，也可在合成(B)成分之際使其共存。
本實施形態之塗覆組成物，在提高所得塗膜之強度及防污性之目的下，以復包含水解性矽化合物作為(C)成分為佳。使用作為(C)成分之含有水解性矽之化合物，可以使用選自由下述式(1)所示之含有水解性矽之化合物(c1)、下述式(2)所示之含有水解性矽之化合物(c2)、下述式(3)所示之水解性矽化合物(c3)所成群組中1種以上。
R1 nSiX4-n (1)
在此，式(1)中，R1表示氫原子、或是亦可以具有鹵素基、羥基、氫硫基、胺基、(甲基)丙烯醯基或環氧基之碳數1至10之烷基、烯基、炔基或芳基。X表示水解性基，n是0至3之整數。水解性基只要為藉由水解產生羥基者即無特別限定，列舉如：鹵素原子、烷氧基、醯氧基、胺基、苯氧基、肟基等。
X3Si-R2 n-SiX3 (2)
在此，式(2)中，X表示水解性基，R2表示碳數1至6 之伸烷基或伸苯基，n是0或1。
R3-(O-Si(OR3)2)n-OR3 (3)
在此，式(3)中，R3表示碳數1至6之烷基，n是2至8之整數。
作為水解性矽化合物(c1)及(c2)者，具體上，可列舉如：四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四(正丙氧基)矽烷、四(異丙氧基)矽烷、四(正丁氧基)矽烷、四(異丁氧基)矽烷、四(二級丁氧基)矽烷、四(三級丁氧基)矽烷、三甲氧基矽烷、三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、異丁基三乙氧基矽烷、環己基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、二甲氧基矽烷、二乙氧基矽烷、甲基二甲氧基矽烷、甲基二乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、雙(三甲氧基矽烷基)甲烷、雙(三乙氧基矽烷基)甲烷、雙(三苯氧基矽烷基)甲烷、雙(三甲氧基矽烷基)乙烷、雙(三乙氧基矽烷基)乙烷、雙(三苯氧基矽烷基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽烷基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽烷基)丙烷、1,3-雙(三苯氧基矽烷基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽烷基)苯、1,4-雙(三乙氧基矽烷基)苯、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基三乙氧基矽烷、3-羥基丙基三甲氧基矽烷、3-羥基丙基三乙氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲 氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、四乙醯氧基矽烷、肆(三氯乙醯氧基)矽烷、肆(三氟乙醯氧基)矽烷、三乙醯氧基矽烷、參(三氯乙醯氧基)矽烷、參(三氟乙醯氧基)矽烷、甲基三乙醯氧基矽烷、甲基參(三氯乙醯氧基)矽烷、四氯矽烷、四溴矽烷、四氟矽烷、三氯矽烷、三溴矽烷、三氟矽烷、甲基三氯矽烷、甲基三溴矽烷、甲基三氟矽烷、肆(甲基乙基酮肟)矽烷、參(甲基乙基酮肟)矽烷、甲基參(甲基乙基酮肟)矽烷、苯基參(甲基乙基酮肟)矽烷、雙(甲基乙基酮肟)矽烷、甲基雙(甲基乙基酮肟)矽烷、六甲基二矽氮烷、六甲基環三矽氮烷、雙(二甲基胺基)二甲基矽烷、雙(二乙基胺基)二甲基矽烷、雙(二甲基胺基)甲基矽烷、雙(二乙基胺基)甲基矽烷等。
前述式(3)所示水解性矽化合物(c3)的具體例，可列舉如：四甲氧基矽烷之部分水解縮合物(例如，多摩化學工業公司製之商品名「M Silicate 51」、Colcoat公司製之商品名「MSI 51」、三菱化學公司製之商品名「MS51」、同樣三菱化學公司製的「MS56」)；四乙氧基矽烷之部分水解縮合物(例如，多摩化學工業公司製之商品名「Silicate 35」、同樣多摩化學工業公司製之「Silicate 45」、Colcoat公司製之商品名「ESI 40」、同樣Colcoat公司製之「ESI 48」)；四甲氧基矽烷與四乙氧基矽烷之共部分水解縮合物(例如，多摩化學工業公司製之商品名「FR-3」、Colcoat公司製之商品名「EMSi 48」)等。
前述(A1)成分與前述(A2)成分之總含量相對於前述(B)成分之含量之質量比((A1+A2)/(B))，並無特別限定，從全光線穿透率與紅外線吸收的觀點而言，以60/100至1000/100為佳，較佳是100/100至500/100、更佳是120/100至300/100。
(A2)成分之含量相對於(B)成分與(A1)成分之合計含量之質量比((A2)/(B+A1))，從塗膜之全光線穿透率的觀點而言，以0.05/100至40/100為佳，較佳是0.1/100至20/100，更佳是0.1/100至10/100。
前述(b2)成分相對於前述(B)成分之質量比((b2)/(B))，從聚合安定性之觀點而言，以0.01/1至1/1為佳，較佳是0.1/1至0.8/1，更佳是0.2/1至0.5/1。
前述(b2)成分相對於前述(A)成分之質量比((b2)/(A))，從提高與金屬氧化物之氫鍵鍵結力的觀點而言，以0.01/1至1/1為佳，較佳是0.05/1至0.8/1，更佳是0.1/1至0.4/1。
由於(A2)成分比(A1)成分更容易發生二次凝集，故藉由使(A2)成分之含量相對於前述(B)成分與前述(A1)成分之合計含量之質量比((A2)/(A1+B)成為40/100以下，就可以提高塗膜之透明性，抑制因散射所造成之光線穿透率下降。藉由使(A2)成分含量相對於前述(B)成分與(A1)成分之合計含量之質量比((A2)/(A1+B)成為0.05/100以上，可以提高在塗膜表面之紅外線吸收，抑制矽之溫度上昇，提高發電效率。
前述(A)成分相對於前述(B)成分之質量比((A)/(B)，從親水性與成膜性之觀點而言，以110/100至480/100為佳，較佳是110/100至300/100，更佳是150/100至250/100。使其成為如此之比率，即可以更提高防污性、穿透性、親水性，並且也可以製作成耐衝擊性、耐久性、和在高溫下、高濕下或高溫高濕下之塗膜表面的親水性皆優異者。
(C)成分相對於(A)成分之質量比((C)/(A))，以1/100至150/100為佳，較佳是10/100至120/100，更佳是40/100至120/100。使((C)/(A))成為1/100以上時，有即使在高溫條件下和高濕條件下也可以維持親水性之傾向，使((C)/(A))成為150/100以下時，有可更提高製作成塗膜時的耐衝擊性之傾向。
(A)成分以包含作為(A1)成分之數平均粒徑為1nm至400nm之二氧化矽、及作為(A2)成分之數平均粒徑為1nm至2000nm之紅外線吸收劑為佳。(A1)成分可以一面與(B)成分相互作用一面在(B)成分之粒子間形成連續相而存在。結果，因為在塗膜之最表面會存在親水性高之二氧化矽粒子，故可無關照光地從塗膜剛形成後即得到高親水性，並且可更為提高耐熱性、透明性、耐候性。此時，以前述(A1)成分與前述(A2)成分之總含量相對於前述(B)成分之含量之質量比((A1+A2)/(B))為60/100至1000/100，前述(A2)成分之含量相對於前述(B)成分與前述(A1)成分之前述總含量之質量比((A2)/(A1+B)為0.05/100至40/100為佳。
(A)成分以包含(A1)成分：數平均粒徑為1nm至400nm之二氧化矽、及(A3)成分：數平均粒徑為1nm至2000nm之光觸媒為佳。(A1)成分可以一面與(B)成分相互作用一面在(B)成分之粒子間形成連續相而存在。結果，因為在塗膜之最表面會存在親水性高之二氧化矽粒子，故可無關照光地從塗膜剛形成後即得到高親水性，並且可更為提高透明性、耐候性。此時，以前述(A1)成分與前述(A3)成分之總含量相對於前述(B)成分之含量之質量比((A1+A3)/(B))為60/100至480/100，前述(A1)成分之含量相對於前述(A1)成分與前述(A3)成分之前述總含量之質量比((A1)/(A1+A3)為85/100至99/100為更佳。
(塗覆組成物之用途)
由本實施形態之塗覆組成物所得之塗膜，因為可以製作成防污性、透明性、親水性、耐久性(耐擊性)優異並且即使在高溫下、高濕下、或高溫高濕下也可以維持表面親水性之塗膜，故宜使用在各種之用途中。而且，如上述，因為除了此等特性之外也可以因應需要而賦予其他特性，故宜使用在各種用途中。例如宜作為抗反射用、耐溶劑用、抗靜電用、耐熱用、硬塗用之塗覆組成物使用。
(抗反射用塗覆組成物之情形)
本實施形態的塗覆組成物，其硬化時間不會變得過長，也可以緩和可以使用之基材種類之限制。又，因為也可以對所得塗膜賦予耐光性、耐摩擦性、耐久性優異之優點，而也宜作為抗反射用塗覆組成物使用。宜作為防止外 光映照在液晶顯示面板、冷陰極線管面板及電漿顯示器等各種顯示面板、顯示在屋外之招牌等之顯示器、以及在電子告示板等並且提高畫質之抗反射膜使用。
作為抗反射用塗覆組成物及使用該塗覆組成物之各種構件的1個較佳態樣例，可以列舉以下者。進一步滿足以下之條件，不僅可以對塗膜賦予防污性、透明性、親水性等，也可以賦予抗反射性能。
(1)以一種抗反射用塗覆組成物為佳，其係包含：作為(A)成分之數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及作為(B)成分之數平均粒徑為10nm至800nm之聚合物乳漿粒子，並且(B)成分為使包含上述(b1)至(b4)各成分之聚合原液聚合而得之聚合物乳漿粒子，(A)成分相對於(B)成分之質量比((A)/(B))為50/100至450/100。尤其，作為(A)成分者，以使用選自由上述之(A1)二氧化矽、(A3)光觸媒、及(A4)導電性金屬氧化物所成群組中之至少1種以上為較佳。使用該等各成分的優點是如上所述，但除此之外，尚有使用(A3)光觸媒時，可以藉由照光顯現光觸媒活性和親水性，在塗膜表面可以更顯著顯現污染有機物質之優異分解活性和耐污染性。
(2)以在上述(1)中，(b2)成分相對於(B)成分之質量比((b2)/(B))為0.1/1至0.5/1為佳。
(3)以在上述(1)或(2)中，(b2)成分與(A)成分之質量比((b2)/(A))為0.1/1至1/1為佳。
(4)以在上述(1)至(3)中任一項中，(B)成分具有具備有核心層及被覆核心層之1層或2層以上之外殼層之核心/外殼結構為佳。
(5)以在上述(4)之核心層中，(b2)成分與(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1，在外殼層的最外層中，(b2)成分與(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.1/1至5/1為佳。
(6)以在上述(4)或(5)中，(B)成分是在形成核心層之晶種粒子存在下使聚合原液聚合而得，晶種粒子是使選自由(b1)成分、(b2)成分、以及可與(b2)成分共聚合之乙烯系單體所成群組中之至少1種以上聚合而得者為佳。
(7)以在上述(1)至(6)中任一項中，(b2)成分為具有2級醯胺基、3級醯胺基、或該兩者之乙烯系單體為佳。
(8)以在上述(1)至(7)中任一項中，(B)成分之粒徑為120至450nm為佳。
(9)以在上述(1)至(8)中任一項中，復包含上述(C)成分為佳。
(10)可以製作成一種抗反射複合體，其係由上述抗反射用塗覆組成物所形成。
(11)可以製作成一種抗反射複合體，其係包含上述抗反射用塗覆組成物而成。
(12)可以製作成一種顯示器，其係包含上述抗反射複合體而成。
(13)可以製作成一種外裝顯示用構件，其係包含上述抗反射複合體而成。
(耐溶劑用塗覆組成物之情形)
本實施形態的塗覆組成物，因為如上述有(A)成分與(B)成分會相互作用之傾向，因此不僅可以賦予所得塗膜之防污性、透明性、親水性，尚且也有可以賦予耐候性等優異之優點，故宜作為耐溶劑用塗覆組成物使用。工業生產之物品，因為一般在製造步驟或製品之組裝、安裝步驟中有時以醇類等溶劑洗淨，故要求耐溶劑性。例如光學透鏡等光學零件之情形，以異丙醇等擦拭除去表面之污垢，但此時不具耐溶劑性時，表面會溶解，透明性等光學特性會下降。因此，宜作為用以對如此之物品賦予耐溶劑性之塗覆組成物使用。
作為耐溶劑用塗覆組成物及使用該塗覆組成物之各種構件的一種較佳態樣例，可以列舉以下者。進一步滿足以下之條件，不僅可以對塗膜賦予透明性、親水性、防污性等，也可以賦予耐溶劑性能。
(1)以一種耐溶劑用塗覆組成物為佳，其係包含：作為(A)成分之數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及作為(B)成分之數平均粒徑為10nm至800nm之聚合物乳漿粒子，並且(B)成分為使包含上述(b1)至(b4)各成分之聚合原液聚合而得之聚合物乳漿粒子， (A)成分相對於(B)成分之質量比((A)/(B))為50/100至300/100。
(2)以在上述(1)中，(b2)成分相對於(B)成分之質量比((b2)/(B))為0.1/1至0.5/1為佳。
(3)以在上述(1)或(2)中，(b2)成分相對於(A)成分之質量比((b2)/(A))為0.1/1至1/1為佳。
(4)以在上述(1)至(3)中任一項中，(B)成分具有具備有核心層及被覆核心層之1層或2層以上之外殼層之核心/外殼結構為佳。
(5)以在上述(4)之核心層中，(b2)成分相對於(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1，在外殼層的最外層中，(b2)成分相對於(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.1/1至5/1為佳。
(6)以在上述(4)或(5)之核心層中，(B)成分是在形成核心層之晶種粒子存在下使聚合原液聚合而得，晶種粒子是使選自由(b1)成分、(b2)成分、以及可與(b2)成分共聚合之乙烯系單體所成群組中之至少1種以上聚合而得者為佳。
(7)以在上述(1)至(6)中任一項中，(b2)成分為具有2級醯胺基、3級醯胺基、或該兩者之乙烯系單體為佳。
(8)以在上述(1)至(7)中任一項中，(B)成分之數平均粒徑為20至250nm為佳。
(9)以在上述(1)至(8)中任一項中，復包含(C)成分為佳。
(10)可以製作成一種耐溶劑複合體，其係由上述耐溶劑用塗覆組成物所形成。
(11)可以製作成一種耐溶劑複合體，其係包含上述耐溶劑用塗覆組成物而成。
(12)可以製作成一種顯示器，其係包含上述耐溶劑複合體而成。
(13)可以製作成一種外裝顯示用構件，其係包含上述耐溶劑複合體而成。
(14)可以製作成一種窗用透明塑膠，其係包含上述耐溶劑複合體而成。
(15)可以製作成一種太陽光發電用透明保護材，其係包含上述耐溶劑複合體而成。
(抗靜電用塗覆組成物之情形)
本實施形態的塗覆組成物，因為可以使用導電性金屬氧化物作為(A)成分，故也可以賦予塗膜抗靜電能力。因此，也可以作為抗靜電用塗覆組成物使用。作為抗靜電用塗覆組成物及使用該塗覆組成物之各種構件的一個較佳態樣例，可以列舉以下者。尤其，作為(A)成分者，以使用選自由上述之(A1)二氧化矽、(A3)光觸媒、及(A4)導電性金屬氧化物所成群組中之至少1種以上較佳。使用該等各成分的優點如上所述，但進一步滿足以下之條件，不僅可以對塗膜賦予防污性、透明性、親水性等，也可以賦予抗靜電性能。
(1)以一種抗靜電用塗覆組成物為佳，其係包含：作為(A)成分之數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及 作為(B)成分之數平均粒徑為10nm至800nm之聚合物乳漿粒子，並且(B)成分為使包含上述(b1)至(b4)各成分之聚合原液聚合而得之聚合物乳漿粒子，(A)成分相對於(B)成分之質量比((A)/(B))為150/100至450/100。
(2)以在上述(1)中，(b2)成分相對於(B)成分之質量比((b2)/(B))為0.1/1至0.5/1為佳。
(3)以在上述(1)或(2)中，(b2)成分相對於(A)成分之質量比((b2)/(A))為0.1/1至1/1為佳。
(4)以在上述(1)至(3)中任一項中，(B)成分具有具備有核心層及被覆核心層之1層或2層以上之外殼層之核心/外殼結構為佳。
(5)以在上述(4)之核心層中，(b2)成分與(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1為佳，在外殼層的最外層中，(b2)成分與(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.1/1至5/1為佳。
(6)以在上述(4)或(5)之抗靜電用塗覆組成物的核心層中，(B)成分是在形成核心層之晶種粒子存在下使聚合原液聚合而得，晶種粒子是使選自由(b1)成分、(b2)成分、以及可與(b2)成分共聚合之乙烯系單體所成群組中之至少1種以上聚合而得者為佳。
(7)以在上述(1)至(6)中任一項中，(b2)成分為具有2級醯胺基、3級醯胺基、或該兩者之乙烯系單體為佳。
(8)以在上述(1)至(7)中任一項中，(B)成分之數平均粒徑為 50至350nm為佳。
(9)以在上述(1)至(8)中任一項中，復包含上述(C)成分之抗靜電用塗覆組成物為佳，其中，(A)成分相對於(B)成分之質量比((A)/(B))為150/100至350/100，(C)成分相對於(A)成分之質量比((C)/(A))為0.5/100至110/100。
(10)可以製作成一種抗靜電複合體，其係由上述抗靜電用塗覆組成物所形成。
(11)可以製作成一種抗靜電複合體，其係包含上述抗靜電用塗覆組成物而成。
(12)可以製作成一種顯示器，其係包含上述抗靜電複合體而成。
(13)可以製作成一種外裝顯示用構件，其係包含上述抗靜電複合體而成。
(14)可以製作成一種窗用透明塑膠，其係包含上述抗靜電複合體而成。
(15)可以製作成一種太陽光發電用透明保護材，其係包含上述抗靜電複合體而成。
(耐熱用塗覆組成物之情形)
本實施形態的塗覆組成物，因為可以使用(A2)紅外線吸收劑作為(A)成分，故也可以在塗膜上賦予耐熱性能、隔熱性能。因此，可以作為隔熱用塗覆組成物使用。尤其，作為(A)成分者，以使用選自由上述之(A1)二氧化矽、(A2) 紅外線吸收劑、(A3)光觸媒、及(A4)導電性金屬氧化物所成群組中至少1種以上較佳。使用該等各成分的優點如上述，但進一步滿足以下之條件，不僅可以對塗膜賦予透明性、親水性、防污性等，也可以賦予耐熱、隔熱性能。
(1)以一種耐熱用塗覆組成物，其係包含：作為(A1)成分之數平均粒徑為1nm至400nm之二氧化矽；作為(A2)成分之數平均粒徑為1nm至2000nm之紅外線吸收劑；以及作為(B)成分之數平均粒徑為10nm至800nm之聚合物乳漿粒子。
(2)以在上述(1)中，前述(A2)成分為選自由摻雜有錫之氧化銦、摻雜有銻之氧化錫、經氧化鈰、氧化鋅、及以二氧化矽被覆之該劑所成群組中之至少1種為佳。
(3)以在上述(1)或(2)中，前述(B)成分為在包含上述(b1)至(b4)之聚合原液中使前述(b1)成分及前述(b2)成分聚合而得之聚合物乳漿粒子為佳。
(4)以在上述(1)至(3)中任一項中，前述(A1)成分與前述(A2)成分之總含量相對於(B)成分之含量之質量比((A1+A2))/(B))為60/100至1000/100。
前述(A2)成分之含量相對於(B)成分與前述(A1)成分之合計含量的質量比((A2))/(B+A1))為0.05/100至40/100為佳。
(5)以在上述(1)至(4)中，前述(b2)成分之含量相對於前述(B)成分之含量之質量比((b2)/(B))為0.1/1至0.5/1為佳。
(6)以在上述(1)至(5)中，前述(b2)成分之含量相對於前述(A1)成分之含量之質量比((b2)/(A1))為0.1/1至1/1為佳。
(7)以在上述(1)至(6)中，前述(B)成分具有具備有核心層及被覆該核心層之1層或2層以上之外殼層之核心/外殼結構為佳。
(8)以在上述(7)之核心層中，前述(b2)成分之含量相對於前述(b1)成分之含量之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1，在前述外殼層的最外層中，前述(b2)成分之含量相對於前述(b1)成分之含量之質量比((b2)/(b1))為0.1/1至5/1為佳。
(9)以在上述(7)或(8)中，前述(B)成分為在含有形成前述核心層之晶種粒子的前述聚合原液中使前述(b1)成分及前述(b2)成分聚合而得之聚合物乳漿粒子，前述晶種粒子為使選自由前述(b1)成分、前述(b2)成分、以及(b5)成分：可以與前述(b2)成分共聚合之其他乙烯系單體所成群組中之至少1種以上聚合而得之粒子為佳。
(10)以在上述(3)至(9)中，前述(b2)成分為具有2級醯胺基、3級醯胺基、或該兩者之乙烯系單體為佳。
(11)以在上述(1)至(10)中，復含有(C)成分，前述(C)成分之含量相對於前述(A1)成分之含量之質量比((C)/(A1))為1/100至100/100為佳。
(12)以在上述(1)至(11)中，前述(B)成分之數平均粒徑為10至100nm為佳。
(13)以在上述(1)至(12)中，前述(A1)成分為數平均粒徑為1nm至400nm的膠態二氧化矽為佳。
(14)以在上述(1)至(13)中，前述(A2)成分在波長1000nm至2500nm之波長區域具有0.1%以上之吸收為佳。
(15)可以製作成一種太陽電池用構件，其係具備有：基材、及在前述基材上塗佈上述之耐熱用塗覆組成物並使其乾燥而形成之塗膜。該等太陽電池用構件可以作為太陽電池之保護構件使用。
(硬塗用塗覆組成物之情形)
本實施形態的塗覆組成物，其硬化時間不會變得過長，也可以緩和可以使用之基材種類之限制。又，因為也可以對所得塗膜賦予耐光性、耐摩擦性、耐久性優異的優點，而也宜作為硬塗用塗覆組成物使用。作為硬塗用塗覆組成物及使用該硬塗用塗覆組成物之各種構件的一個較佳之態樣例子，可列舉如以下。進一步滿足以下之條件，不僅可以對塗膜賦予防污性、透明性、親水性等，也可以賦予硬塗性能。
(1)以一種硬塗用塗覆組成物為佳，其係包含：作為(A)成分之粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及作為(B)成分之粒徑為10nm至800nm之聚合物乳漿粒子，並且(B)成分為使包含上述(b1)至(b4)各成分之聚合原液聚合而得之聚合物乳漿粒子，(A)成分相對於(B)成分之質量比((A)/(B))為50/100至350/100。
(2)以在上述(1)中，(b2)成分相對於(B)成分之質量比 ((b2)/(B))為0.1/1至0.5/1為佳。
(3)以在上述(1)或(2)中，(b2)成分相對於(A)成分之質量比((b2)/(A))為0.1/1至1/1為佳。
(4)以在上述(1)至(3)中任一項中，(B)成分具有具備有核心層及被覆核心層之1層或2層以上之外殼層之核心/外殼結構為佳。
(5)以在上述(4)之核心層中，(b2)成分相對於(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1，在外殼層的最外層中，(b2)成分相對於(b1)成分之質量比((b2)/(b1))以在0.1/1至5/1為佳。
(6)以在上述(4)或(5)中，(B)成分是在形成核心層之晶種粒子的存在下使聚合原液聚合而得，晶種粒子是使選自由(b1)成分、(b2)成分、以及可與(b2)成分共聚合之乙烯系單體所成群組中之至少1種以上聚合而得者為佳。
(7)以在上述(1)至(6)中任一項中，(b2)成分為具有2級醯胺基、3級醯胺基、或該兩者之乙烯系單體為佳。
(8)以在上述(1)至(7)中任一項中，(B)成分之數平均粒徑為50至250nm為佳。
(9)以在上述(1)至(8)中任一項中，復包含上述(C)成分，(A)成分相對於(B)成分之質量比((A)/(B))為50/100至350/100，(C)成分相對於(A)成分之質量比((C)/(A))為5/100至90/100為佳。
(10)可以製作成一種硬塗複合體，其係由上述硬塗用塗覆 組成物所形成。
(11)可以製作成一種硬塗複合體，其係包含上述硬塗用塗覆組成物而成。
(12)可以製作成一種顯示器，其係包含上述硬塗複合體而成。
(13)可以製作成一種外裝顯示用構件，其係包含上述硬塗複合體而成。
(14)可以製作成一種乘載工具用窗，其係包含上述硬塗複合體而成。
(15)可以製作成一種太陽光發電用透明保護材，其係包含上述硬塗複合體而成。
可以從本實施形態之塗覆組成物得到塗膜。形成本實施形態之塗膜之形成方法並無限定，也可以採用從塗佈液形成塗膜之習知方法。例如，將分散在水或有機溶劑等中之塗覆組成物塗佈在所欲形成之對象物(例如基材等)上塗佈後使其乾燥即可以形成塗膜。更詳細地說，藉由重覆將上述塗覆組成物塗佈並乾燥之處理，也可以製作成複數層之塗膜。此時，可以採用下述方法：首先將塗覆組成物塗佈在基材等塗佈並乾燥而得到單一層之後，進一步在該層上塗佈塗覆組成物(即重覆塗佈)後乾燥形成其他層，並因應需要而重覆上述步驟。如此，可以得到積層複數層之塗膜。
本實施形態之塗膜的其他態樣為一種塗模，其係包含：金屬氧化物粒子(A)、及經前述(A)成分包圍之聚合粒 子(B)，其中，將藉由超過濾法從前述(B)成分萃取之阻截分子量50,000以下之成分(B2)製作成薄膜時的薄膜表面之水接觸角是在30°以下。
只要將從(B)成分萃取之阻截分子量50,000以下之成分(B2)作成薄膜時的20℃之與水之表面接觸角比30°大就可以，(A)成分、(B)成分、及(B2)成分之組成等並無特別限定。例如，也可以採用上述之(A)成分或(B)成分等。在此，表面接觸角是指乾燥薄膜與存在於其表面之水滴的切線所形成之角度，可以藉由液滴法來測定。
該塗膜之(B2)成分含量是以5質量%以下為佳。藉由使上述之水相成分之含量成為5質量%以下，而使對水介質之分配率成為特定範圍，而即使在高溫下、高濕下、以及高溫高濕下也可以維持高的表面親水性。
本實施形態之塗膜中，可以形成金屬氧化物(A)包圍聚合物粒子(B)之結構，作為其分散形態者，以採取所謂的海島結構為佳。例如，可以形成為(A)成分為海相、(B)成分為島相。(A)成分是以一面與(B)成分相互作用一面在(B)成分之粒子間形成連續相而存在者為佳。此時，所得塗覆組成物之反射率、耐候性、防污性更為提高。
又，(B)成分以上述之乳漿粒子為佳，作為乳漿粒子者，以上述之聚合物乳漿粒子(B1)為佳。如此之乳漿粒子、或聚合物乳漿粒子是可以使用上述者。
作為本實施形態之較佳態樣者，可以製作成一種塗膜，其係在20℃之表面水接觸角為20°。
再者，以在90℃、濕度90%之條件下靜置24小時之高溫高濕試驗後的塗膜表面的水接觸角為20°以下為佳。高溫高濕試驗後的塗膜表面的水接觸角是藉由後述之實施例記載之方法來測定。在該試驗中使用之溫度或濕度之控制方法是可以使用以往周知之高溫高濕試驗機，例如ESPEC公司製，SH-661。又，也可以在密封容器中放入蒸餾水，並將密封容器在預定溫度中加熱形成飽和蒸氣後使用在評估中。
<積層體>
可以從本實施形態之塗膜及塗覆組成物得到積層體。第1圖是本實施形態之積層體的一個例子之概略截面圖。本實施形態之積層體1係具備有：基材10；及形成於前述基材10之至少一邊表面之塗佈上述之塗覆組成物而得之塗膜12。
使用本實施形態之塗覆組成物形成塗膜之方法並無特別限定，可列舉如在基材上塗佈塗覆組成物並乾燥而形成塗膜之方法。此時之塗覆組成物之固形分濃度，以0.01至60質量%為佳，較佳是1至40質量%。塗覆組成物之黏度(20℃)是以在0.1至100000mPa‧s為佳，較佳是1至10000mPa‧s。
將塗覆組成物塗佈在基材之塗佈方法並無特別限定，可列舉如：噴鍍法、流塗法、輥筒塗佈法、棒塗佈法、刷塗法、浸漬塗佈法、旋塗法、網版印刷法、流鑄法、凹版印刷法、柔版印刷法等。本實施形態之積層體，也可以例 如在基材上形成塗膜後，依所期望進行熱處理或紫外線照射等。熱處理之溫度並無特別限定，以在20℃至500℃為佳，較佳是40℃至250℃。
在本實施形態，前述塗膜可以是單層，亦可以具有2層以上。因為使其成為複數層即可以對積層體賦予複數機能，故佳。作為作成具備複數層塗膜之積層體之方法，可列舉例如上述之重覆塗佈之方法等。
作為基材者雖無特別限定，以含有選自由玻璃、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、乙烯-氟乙烯共聚物所成群組中之1種為佳。此等樹脂可以因應所期望之物性而選擇適當之材料。例如，從透明性、耐候性、輕量化之觀點而言，以使用選自由玻璃、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、及乙烯-氟乙烯共聚物所成群組中之至少1種、或是該等之複合素材為佳。又，從賦予耐候性之觀點而言，也可以在丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、乙烯-氟乙烯共聚物中進一步混煉耐候劑等。基材可以是單層，亦可以是複數層。
前述塗膜之厚度，以在0.05μm至100μm為佳，較佳是0.1μm至10μm。從透明性方面而言，以在100μm以下之厚度為佳，為了顯現耐候性、防污性等機能，以0.05μm以上之厚度為佳。
塗膜由2層以上所構成時，以各層之厚度(dn)為10nm 至800nm，塗膜之總厚度(Σ dn)為100nm至4000nm較佳。藉由使厚度之比率成為上述之範圍，即可以得到比基材或單層之塗膜高的光線穿透率。因複數層的任一層之厚度(dn)為10nm以上，膜厚變得容易控制，即使在有凸凹之基材表面形成塗膜時，也可以有效地抑制塗膜之不均。又，因任一層之厚度(dn)為800nm以下，可以維持高的光線穿透率。複數層的總厚度(Σ dn)係視構成其之單一層的厚度而定時，其總厚度(Σ dn)在100nm以上時，由於可以確保單一層之厚度，膜厚變得容易控制。又，因複數層的總厚度(Σ dn)為4000nm以下，與相同膜厚之只由單一層所構成的塗膜相比較，可以顯示高的光線穿透率。
塗膜由2層以上所構成時，得到各層之厚度(dn)為10nm至800nm且前述塗膜之總厚度(Σ dn)為100nm至4000nm之積層體的方法，列舉如：將作為其原料之本實施形態的塗覆組成物中的固形分濃度抑制到例如1至10質量%之方法。將固形分濃度抑制到上述範圍內，即可以使塗膜之總厚度成為上述範圍。
本案發明人等，對於有關積層複數層的塗膜時之層厚度等進行檢討之結果，發現使塗膜之層的厚度(dn及Σ dn)成為上述範圍，即可以得到比基材及單層之塗膜更高之光線穿透率。又，發現將作為塗膜原料之塗覆組成物以使其固形分濃度較佳成為1至10質量%之方式用水稀釋，可以使光線穿透率更有效地提高。有關此等之詳細理由尚不明確，但其理由之一應為下述。
即，在得到上述層厚度之塗膜中，宜使作為其原料之塗覆組成物中的固形分濃度下降到例如1至10質量%。使固形分濃度成為如此之範圍內，即可在積層複數層時使其總厚度成為上述之範圍內之故。另一方面，推測(A)成分及(b)成分等可以在該等固體粒子安定之分散狀態下存在之濃度及pH下存在時，使用水或醇等稀釋溶劑較佳急速地稀釋，則分散狀態會變得不安定，而形成某種集合體或軟凝集體之故。於是，使用安定地形成某種集合體或軟凝集體的塗覆組成物，形成由複數層所構成的塗膜時，該塗膜之空隙率會變大等，而提高光線穿透率。
本實施形態中，以積層體之光線穿透率較前述基材的光線穿透率高為佳。藉此，作為太陽電池等能量轉換裝置構件使用時，可以提高太陽電池等能量轉換裝置的能量輸出。同時，本實施形態中光線穿透率係根據後述之實施例記載的方法進行測定。而且，基材之光線穿透率以在30%至99%為佳，以在70%至99%較佳，以80%至99%更佳。使基材之光線穿透率成為上述範圍時，即可以得到實用上輸出高的太陽電池。光線穿透率可以根據JIS K7105進行測定。
本實施形態中，以前述塗膜之折射率比前述基材之折射率低0.1以上為佳。藉此，可以提高光線穿透率。塗膜具有2層以上時，以太陽光入射側之最表層的折射率比鄰接前述最表層的層之折射率低0.1以上為佳。藉此，折射率從太陽光入射側朝向基材階段性地下降，即可以抑制反 射至塗膜表面，而提高光線穿透率。反射率是根據後述之實施例記載之方法測定。
本實施形態中，以塗膜與基材之折射率的差在0.2以下為佳。由於使折射率的差成為上述範圍以下，即可以得到與基材同樣之反射特性，故提高反射率，使太陽熱能有效率地聚集。折射率是根據後述之實施例記載之方法進行測定。
本實施形態之塗膜之折射率，以在1.30至1.48為佳，以1.34至1.43較佳。又，以塗膜之折射率及最表層之折射率兩者在上述範圍為佳。塗膜及最表層之折射率雖可以依所使用之基材種類、厚度或形狀而選擇，但使塗膜之折射率成為1.30以上時，有塗膜之強度會提高之傾向，使塗膜之折射率成為1.48以下時，有可以抑制光之散射，特別是可以降低霧度值之傾向。
塗膜之與基材相反側之表面(S1)之反射率(Rc)相對於基材之塗膜側之表面(S2)之反射率(Rb)的比率(Rb/Rc)以在98%以上為佳，以在99.5%以上較佳，以在99,7%以上更佳(參照第1圖)。進一步，反射率(Rc)之相對於反射率(Rb)之減少率((Rb/Rc)/Rb)以在2%以下為佳，以在0.5%以下較佳，以在0.3%以下更佳。
將塗膜以一定膜厚重覆塗佈而得到積層體時，因光被塗膜本身吸收、光在基材與塗膜之界面及塗膜間之界面散射等，塗膜之反射率(Rc)有下降至比基材之反射率(Rb)低之傾向。尤其使用反射率(Rb)高的基材時，該傾向變得更 顯著。使用本實施形態之有機無機複合塗膜之積層體，即使藉由塗膜之重覆塗佈而重覆進行塗膜之積層，也可以將反射率(Rc)之相對於反射率(Rb)之減少率抑制在2%以下。反射率也可更為降低，但考慮到能量效率時，減少率以2%以下為佳。
又前述反射率(Rb)以80%以上為佳。藉此，可以有效率地聚集太陽光，可以抑制裝置之發電成本。
本實施形態之積層體的製造方法，只要為在基材上形成塗膜之方法就可以，可以採用習知之方法。較佳是可以採用具有下述步驟之製造方法：在基材之至少一邊表面塗佈本實施形態之塗覆組成物而形成塗膜之步驟；及對前述塗膜進行70℃以上之加熱處理、0.1kPa以上之加壓處理、或該兩者之步驟。在使用本實施形態之塗覆組成物形成塗膜之步驟中，可以採用上述方法作為得到本實施形態之塗膜的方法。而且，對所得到之塗膜進行70℃以上之加熱處理、0.1kPa以上之加壓處理、或該兩者之步驟，即可以使塗膜更加細密。加熱處理之方法並無特別限定，可以使用習知之裝置等進行。加壓處理之方法並無特別限定，可以使用習知之裝置等進行。
<能量轉換裝置用構件>
本實施形態之積層體是宜作為能量轉換裝置用構件使用。能量轉換裝置列舉例如利用太陽光之發電裝置等。作為能量轉換裝置用構件，係指例如可以使用在利用太陽光發電之構件，更具體的，可列舉如使用在太陽電池模組之 構件、使用在太陽熱能發電系統之構件等。更具體的，可以作為太陽電池模組之表面之保護構件之保護玻璃或背面之保護構件之背板、密封材、鋁框等塑模、聚集型太陽電池之菲涅耳(Fresnel)透鏡、使用在太陽熱能發電之光反射鏡等使用。
本實施形態之積層體，尤其宜作為太陽電池模組之保護構件。例如在沙漠等設置大規模之太陽電池模組使用時，會發生下述問題：由於風吹而揚起之沙等附著在太陽電池模組之保護構件，故構件之表面損傷、或透明性或防污性之效果下降。然而，由於本實施形態之積層體的塗膜之防污性、透明性、親水性、耐久性(耐衝擊性)優異並且即使在高溫高濕下也可以維持表面親水性，故也可以藉由雨水等將附著之沙或灰塵等簡單地沖刷掉。
<太陽電池模組>
可以將本實施形態之積層體製作成作為太陽電池模組之保護構件(以下，有僅稱為保護構件之情形)之太陽電池模組。第2圖是本實施形態之太陽電池模組的一態樣的簡略截面圖。本實施形態之太陽電池模組2係具備有：保護構件20、與前述保護構件20相對向地配置之背板22、以及配置在前述保護構件20與前述背板22之間之發電元件24。並且，發電元件24是經密封材26密封。在太陽電池模組2中，太陽光L是從保護構件20側入射到達發電元件24。
保護構件20是保護發電元件24等之保護構件。保護 構件20是在基板之表面上形成有塗膜204。此時，保護構件20可發揮作為使太陽光穿透之光穿透性基板之機能，並且因為上述之防污性、紅外線遮蔽性優異，所以也可以抑制太陽電池之模組溫度上昇。而且，保護構件20以使形成有前述塗膜204之面成為太陽電池模組2之表面側之方式使用為佳。
保護構件20以具備有以耐候性、撥水性、耐防污性、機械強度為首之用以可以確保太陽電池模組2之曝露在屋外之長時間可靠性之性能為佳。又，為了可以有效地活用太陽光，以光學損失小、透明性高之構件為佳。作為基板202之材料者並無特別限制，可以使用上述者。更具體的，以玻璃基板；由聚酯樹脂、氟樹脂、丙烯酸樹脂、環狀烯烴(共)聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等所構成之樹脂薄膜等為佳，其中，從耐候性、耐衝擊性、成本之平衡之觀點而言，以玻璃基板較佳。
使用玻璃基板時，波長350至1400nm之光之全光線穿透率以80%以上為佳，較佳是90%以上。作為如此之玻璃基板者，一般是使用紅外線部之吸收少之白板玻璃，但即使是青板玻璃，只要厚度在3mm以下，則對太陽電池模組之輸出特性的影響通常很少。又，為了提高玻璃基板之機械強度，可以藉由熱處理得到強化玻璃，但也可以使用未熱處理之浮板玻璃。
作為樹脂薄膜者，從透明性、強度、成本等之觀點而言，以聚酯樹脂為佳，而以聚對苯二甲酸乙二酯樹脂更佳。 又，也宜使用耐候性特別良好之氟樹脂。具體上，可列舉如：四氟乙烯-乙烯共聚物(ETFE)、聚氟乙烯樹脂(PVF)、聚偏二氟乙烯樹脂(PVDF)、聚四氟乙烯樹脂(TFE)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、聚三氟氯乙烯樹脂(CTFE)等。從耐候性之觀點而言，以聚偏二氟乙烯樹脂為佳，但從使耐候性及機械強度並存之觀點而言，以四氟乙烯-乙烯共聚物為佳。
作為塗膜204者可以使用上述之塗膜。基材202之上形成塗膜204之方法，也可以使用上述之方法。
作為背板22者並無特別限定，由於位於太陽電池模組之最表層，故以與上述之保護構件20同樣地具有耐候性、機械強度等各種特性為佳。因此，也可以用與保護構件20相同之材質構成背板。即，也可以在背板22中使用可以在保護構件20(尤其，基材202)中使用之上述各種材料。尤其宜使用聚酯樹脂、及玻璃基板，其中，從耐候性、成本之觀點而言，以聚對苯二甲酸乙二酯樹脂(PET)較佳。
背板22由於不以使太陽光通過為前提，所以不一定要求在保護構件20所要求之透明性(透光性)。在此，雖圖中沒有顯示，但也可以在增加太陽電池模組2之機械強度之目的、或防止因溫度變化所造成之偏斜或彎曲之目的貼著強化板。較佳使用例如鋼板、塑膠板、FRP(玻璃纖維強化塑膠)板等。
背板22也可以具有由2層以上所構成的多層結構。作為多層結構者，可列舉例如，以成為與中央層對稱之配置 之方式，在中央層之兩面積層同一成分之層1層或2層以上而成之結構等。作為具有如此結構者，可列舉例如，PET/氧化鋁蒸鍍PET/PET、PVF(商品名：Tedlar)/PET/PVF、PET/鋁箔/PET等。
發電元件24只要為可以利用半導體之光電效果發電者即可，無特別限定，可以使用例如矽(單晶系、多晶系、非晶(非晶形，amorphous)系)、化合物半導體(3至5族、2至6族，其他)等，其中，從發電性能與成本之平衡之觀點而言，以多晶矽為佳。
密封材26只要是可以將發電元件24密封之構件即可，其種類並無特別限定，列舉如含有乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)等樹脂之樹脂密封薄片等。使如此之樹脂密封薄片熱熔融，即可以與密封對象之發電元件24等密著並予以密封。使用如此之密封材，即可以防止發電元件之潛變(creep)，並且可以發揮對保護構件20與背板22為優異之接著性。
作為本實施形態中之太陽電池之製造方法，並無特別限定，可以採用習知之方法。可以藉由例如，依序將保護構件20/密封材26/發電元件24/密封材26/背板22重疊，並使用真空積層裝置在150℃、15分鐘之條件下進行真空積層而製造。
太陽電池模組2之各構件的厚度無特別限定，保護構件20的厚度，從耐候性、耐衝擊性之觀點而言，以3mm以上為佳，背板22的厚度，從絕緣性之觀點而言，以75 μm以上為佳，發電元件24的厚度，從發電性能及成本之平衡之觀點而言，以140μm至250μm為佳，密封材26的厚度，從緩衝性及密封性之觀點而言，以250μm以上為佳。
<反射器裝置>
第3圖是本實施形態之反射器裝置的一個例子的概略斜視圖。可以製作一種反射器裝置3，其係具備有：光反射鏡32、形成在前述光反射鏡之反射面側的本實施形態之積層體30、以及支撐前述光反射鏡32之支撐體34。可以製作成一種以本實施形態之積層體30作為光反射鏡32之保護構件(以下，有僅稱為「保護構件」之情形)之反射器裝置。反射器裝置3之結構並無特別限定，可以適當變形成較佳的結構。
<太陽熱能發電系統>
在本實施形態中，可以製作成一種太陽熱能發電系統，其係具備有：前述反射器裝置、及將藉由該反射器裝置所聚集之太陽光轉換成電能之裝置。太陽熱能發電系統之結構並無特別限定，可以適當變形成較佳的結構。
[實施例]
接著，列舉實施例及比較例以更詳細說明本發明，然本發明並不僅限於以下之實施例。另外，各種物性係依下述之方法評估。同時，本實施例中，只要無特別說明，「%」以及「份」即為質量基準。
‧數平均粒徑
添加溶劑稀釋使試料中之固形分含量成為0.1至20質量%，並使用濕式粒度分析儀(日機裝公司製造之Microtrac UPA-9230)進行測定。
‧初期接觸角
在試料之表面(塗覆組成物之塗佈面)載置去離子水之水滴，在23℃放置1分鐘後，使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製造之CA-X150型接觸角計)進行測定。
‧初期霧度、光線穿透率
使用濁度計(日本電色工業公司製造之NDH2000)，依照JIS K7105之基準測定試料之霧度值(初期霧度值)。另外，光線穿透率係依照JIS K7105之基準測定。
‧塗膜外觀
以顯微鏡(Keyence公司製造；倍率100倍)觀察試料(塗覆組成物之塗佈面)之外觀。其結果係如下評估。
○：幾乎沒有微小破裂
△：有很多微小破裂
×：無法成膜
‧耐熱試驗後之接觸角
將試料在70℃中保存10天後，在塗佈面上載置去離子水之水滴，在23℃中放置1分鐘後，使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製造之CA-X150型接觸角計)進行測定。
‧高溫試驗後之接觸角
將ESPEC公司製造之SH-661設定為40℃、90% RH， 將試料保存16小時後，在塗佈面上載置去離子水之水滴，在23℃中放置1分鐘後，使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製造之CA-X150型接觸角計)進行測定。
‧高溫高濕保存後之接觸角
將ESPEC公司製造之SH-661設定為90℃、90% RH，將試料靜置24小時後，在塗佈面上載置去離子水之水滴，在23℃中放置1分鐘後，使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製造之CA-X150型接觸角計)進行測定。
‧鉛筆硬度
試料之鉛筆硬度係使用鉛筆硬度計(TESTER產業公司製造)進行測定。
‧耐摩擦性試驗
以棉棒施加500g之載重來回摩擦試料表面10次，並以肉眼觀察變化。
○：幾乎沒有變化
△：有若干擦傷
×：傷痕累累
‧塗膜反射率
試料之絕對反射率係使用反射分光膜厚計(大塚電子公司製造之FE3000)進行測定。
‧抗靜電性
試料之表面電阻值係使用濁度計(日本電色工業公司製造之NDH2000)進行測定。
‧耐溶劑試驗後之外觀
製成耐溶劑用複合體後，使用預先浸漬於異丙醇中之棉棒施加500g之載重來回摩擦耐溶劑用複合體之塗覆組成物之塗佈面10次，以顯微鏡(Keyence公司製造；倍率100倍)觀察塗膜狀態。其結果係如下評估。
○：幾乎沒有微小破裂
△：有很多微小破裂
×：產生很多破裂
‧耐熱性
製成耐熱用複合體後，按壓在150℃之熱板上，然後使用濁度計(日本電色工業公司製造之NDH2000)測定霧度值。其結果係如下評估。
○：霧度≦2
△：2<霧度≦10
×：10<霧度
在製作機能性複合體(在比較例中為塗膜)後，以經浸漬丙酮之棉棒在其表面來回摩擦10次，然後以肉眼判別該表面之外觀。
◎：幾乎沒有變化
○：稍有變化
△：稍微白化
×：明顯白化
‧表面硬度
試料(在比較例中為塗膜)之鉛筆硬度係使用鉛筆硬度計(TESTER產業公司製造)進行測定。
‧積層體反射率
使用紫外/可見/近紅外分光光度計(日本分光公司製造之商品名稱「V-670」)與大型積分球計，測定基材及積層體之反射率。測定係以在波長350nm至500nm之範圍內反射率最高之值作為評估值。測定積層體之反射率時的基材係使用在3mm厚之青板玻璃上蒸鍍有鋁之鏡子。在青板玻璃面塗佈塗覆組成物，以從該塗膜面入射之光的反射率作為測定值。
‧膜厚以及折射率
使用膜厚計(大塚電子公司製造之FE-3000)，測定所積層之塗膜之厚度、以及該塗膜與基材之折射率(波長：633nm)。
‧耐候性試驗後之接觸角
對積層於基材上之塗膜以氙弧燈耐候試驗機(Suga Test Instrument公司製造；循環條件：氙弧燈照度60W/m2、BPT 63℃、50% RH、102分鐘；降雨、30℃、95% RH、18分鐘)實施2500小時之耐候性試驗。其次，在塗膜表面載置去離子水之水滴，在23℃下放置1分鐘後，使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製造之CA-X150型接觸角計)測定該水滴之接觸角。
‧空孔徑、空隙率
使用電子顯微鏡以25萬倍觀察塗膜表面，求取該表面之空孔徑的最大直徑、最大寬度。進一步求取其相當的外接圓之直徑。塗膜體積係由1邊1000nm之正方形之面積 與膜厚求取，並由結果算出空隙率。
‧塗膜表面之碳量(C/Si)解析
將形成於基材上之塗膜切割成約3mm正方之小片作為測定用試料。測定係使用XPS(PHI Quantera SXM)，在激發源：monoAlk α、15kV×6.7mA；分析尺寸：1.5mm×100μm、放入區域(survey scan；0至1、100eV、Narrow scan；Si,2p、C1s(K,2p)、O1s、Na1s,Ca2p,PassEnergy(survey scan；200eV、Narrow scan；112eV)之條件下進行實施。所得結果係以Si元素作為1，將各元素之相對元素濃度(atomic%)規格化而求取，算出C/Si之比率。
(製造例1) (聚合物乳漿粒子(HB-1)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸6g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯150g、四乙氧基矽烷30g、苯基三甲氧基矽烷145g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺165g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之 2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑70nm之聚合物乳漿粒子(HB-1)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例2) (聚合物乳漿粒子(HB-2)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸4.6g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯86g、苯基三甲氧基矽烷133g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺137g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑100nm之聚合物乳漿粒子(HB-2)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例3) (聚合物乳漿粒子(HB-3)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸2.6g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯86g、苯基三甲氧基矽烷133g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺137g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑180nm之聚合物乳漿粒子(HB-3)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例4) (聚合物乳漿粒子(HB-4)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸4g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於 80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯86g、苯基三甲氧基矽烷133g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺137g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑130nm之聚合物乳漿粒子(HB-4)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例5) (聚合物乳漿粒子(HB-5)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸10g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯86g、苯基三甲氧基矽烷133g、3- 甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺137g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑40nm之聚合物乳漿粒子(HB-5)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例6) (聚合物乳漿粒子(HB-6)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸20g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯86g、苯基三甲氧基矽烷133g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺137g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中 之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑20nm之聚合物乳漿粒子(HB-6)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例7) (聚合物乳漿粒子(HB-7)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸6g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。
其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯150g、四乙氧基矽烷30g、苯基三甲氧基矽烷145g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及N-異丙基丙烯醯胺165g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑70nm之聚合物乳漿粒子(HB-7)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例8) (聚合物乳漿粒子(HB-8)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸6g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯150g、四乙氧基矽烷30g、苯基三甲氧基矽烷145g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺150g、甲基丙烯酸乙二醇酯15g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約2小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑70nm之聚合物乳漿粒子(HB-8)水分散體。水相成分為18質量%。
(製造例9) (聚合物乳漿粒子(HB-9)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸6g後， 於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入甲基丙烯酸甲酯150g、四乙氧基矽烷30g、苯基三甲氧基矽烷145g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺165g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續熱熟成約8小時後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑90nm之聚合物乳漿粒子(HB-9)水分散體。水相成分為5質量%。
(製造例10) (聚合物乳漿粒子(HB-10)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸6g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其 次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入甲基丙烯酸環己酯75g、甲基丙烯酸甲酯75g、四乙氧基矽烷30g、苯基三甲氧基矽烷145g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺165g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約8小時進行熱熟成後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑70nm之聚合物乳漿粒子(HB-10)水分散體。水相成分為5質量%。
(製造例11) (聚合物乳漿粒子(HB-11)水分散體之合成)
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸6g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入甲基丙烯酸環己酯75g、甲基丙烯酸甲酯75g、四乙氧基矽烷30g、苯基三甲氧基矽烷145g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯 胺165g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約4小時進行熱熟成後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，以離子交換水將固形分調整為10.0質量%，得到數平均粒徑70nm之聚合物乳漿粒子(HB-11)水分散體。水相成分為9質量%。
(實施例1至35；表1至4)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX」((A)成分)分散於水中者(固形分10質量%)、由製造例製得之聚合物乳漿粒子(HB)以及四乙氧基矽烷(C)如表1所示調配，得到塗覆組成物。表中所記載之「SNOWTEX」的粒徑係記載目錄值。
將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之玻璃上，然後於70℃下乾燥10分鐘，得到具有塗膜之積層體。該等之評估結果示於表1至4。
如表1至4所示，確認在各實施例中至少透明性、親水性優異並且即使在高溫下等也可維持表面親水性。
(抗靜電用途之檢討；表5)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX O」((A)成分)分散於水中者(固形分10質量%；數平均粒徑10nm)、由製造例製得之聚合物乳漿粒子(HB)以及四乙氧基矽烷(C)如表5所示調配，得到抗靜電用塗覆組成物。其次，將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之玻璃上，然後於70℃下乾燥10分鐘，得到抗靜電用複合體。該等之評估結果示於表5。
如表5所示，確認各實施例之複合體至少親水性、透明性、外觀以及表面電阻值優異。
(抗反射用途之檢討；表6)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX O」((A)成分)分散於水中者(固形分10質量%；數平均粒徑10nm)、由製造例製得之聚合物乳漿粒子(HB)以及四乙氧基矽烷(C)如表6所示調配，得到抗反射用塗覆組成物。其次，將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之玻璃上，然後於70℃下乾燥10分鐘，得到抗反射用複合體。該等之評估結果示於表6。
如表6所示，確認各實施例之複合體至少親水性、透明性、外觀以及反射率優異。
(硬塗用途之檢討；表7)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX O」((A)成分)分散於水中者(固形分10質量%；數平均粒徑10nm)、由製造例製得之聚合物乳漿粒子(HB)以及四乙氧基矽烷(C)如表7所示調配，得到硬塗用塗覆組成物。其次，將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之聚碳酸酯：PC(厚度3mm)上，然後於70℃下乾燥10分鐘，得到硬塗用複合體。該等之評估結果示於表7。
如表7所示，確認各實施例之複合體至少親水性、透明性、外觀以及鉛筆硬度優異。更且，確認實施例43至45之複合體之耐摩擦性亦為實用等級優異者。
(耐溶劑用途之檢討；表8)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX O」((A)成分)分散於水中者(固形分10質量%；數平均粒徑10nm)、由製造例製得之聚合物乳漿粒子(HB)以及四乙氧基矽烷(C)如表8所示調配，得到耐溶劑用塗覆組成物。其次，將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之聚碳酸酯上，然後於70℃下乾燥10分鐘，得到耐溶劑用複合體。該等之評估結果示於表8。
如表8所示，確認各實施例之複合體至少親水性、透明性優異。更且，確認實施例47、48之複合體在耐溶劑試驗後之外觀亦為實用等級優異者。
(耐熱用途之檢討；表9)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX O」((A)成分)分散於水中者(固形分10質量%；數平均粒徑10nm)、由製造例製得之聚合物乳漿粒子(HB)以及四乙氧基矽烷(C)如表9所示調配，得到耐熱用塗覆組成物。其次，將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之玻璃上，然後於70℃下乾燥10分鐘，得到耐熱用複合體。該等之評估結果示於表9。
如表9所示，確認各實施例之複合體至少親水性、透明性、耐熱後之外觀以及耐熱後之透明性優異。特別是，確認實施例50、51之複合體之耐熱後之外觀更加優異。
(機能性複合體之檢討；表10) (實施例54)
將膠態二氧化矽(日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX O」；(A)分散於水中者，固形分10質量%；數平均粒徑10nm)、由製造例製得之聚合物乳漿粒子(HB-1)、(HB-2)以及四乙氧基矽烷(C)以表10所示比例調配，得到塗覆組成物。
將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之基材(聚碳酸酯樹脂製造；厚度：3mm)上，然後於70℃下乾燥10分鐘得到塗膜。進一步，使用LM50型真空積層機(NPC公司)，於條件1(以150℃除氣5分鐘後，10分鐘之真空積層、壓力100kPa)中，對塗膜施行加熱處理以及加壓處理，得到機能性複合體。評估結果示於表10。
(實施例55、56)
除了將組成變更為表10所示者之外，其餘進行與實施例54之相同處理，得到塗覆組成物。將所得塗覆組成物浸塗在5cm×5cm之基材(聚碳酸酯樹脂製造；厚度：3mm)上，然後於70℃下乾燥10分鐘，得到塗膜。進一步，將條件1以條件2(於大氣下、150℃中加熱30分鐘)取代，對塗膜施行加熱處理，得到機能性複合體。評估結果示於表10。
(比較例5)
僅使用聚碳酸酯樹脂之基材。除了將組成變更為表10所示者之外，其餘進行與實施例1之相同處理、並加以評估。評估結果示於表10。
如表10所示，確認各實施例之複合體至少親水性、透明性、外觀、耐溶劑試驗後之外觀以及表面硬度優異。
(積層體之製造；表11) (實施例57)
將膠態二氧化矽(日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX O」)((A)成分)以水稀釋而調整成固形分10質量%之分散液(數平均粒徑8nm)。在其中調配製造例所合成之聚合物乳漿粒子水分散體，並調配(C)成分之四乙氧基矽烷(信越化學公司製造之商品名稱「KBE-04」)使成為表11所示之組成，再以純水調整使全體之固形分成為4質量%，得到塗覆組成物。
將所得之塗覆組成物浸塗在基材之反射鏡(經對板玻璃之背面(下面)施加鍍鋁處理者)中之玻璃側的表面上，使乾燥後成為預定厚度。接著，將經浸塗者於70℃下乾燥30分鐘，得到積層體。
另外，在測定霧度值時，除了基材係將反射鏡變更為白板玻璃(厚度2mm、6×6cm見方)之外，其餘與上述做法相同，將製得之積層體作為測定對象。
(實施例58)
使用與實施例57相同調配之塗覆組成物，除了將塗膜厚度改為表11所示者之外，其餘與實施例57之相同作法製作積層體。進一步，將塗覆組成物浸塗在該積層體之塗膜上，於70℃下乾燥30分鐘，得到具有複數層之塗膜的積層體。
(實施例59)
除了變更為表11所示組成之外，其餘使用與實施例57相同調配之塗覆組成物，除了將塗膜厚度改為表11所示者之外，其餘與實施例57之相同作法製作積層體。
(實施例60)
使用與實施例59相同調配之塗覆組成物，除了將塗膜厚度改為表11所示者之外，其餘與實施例59之相同作法製作積層體。接著，將塗膜表面以砂紙以載重22g/cm2反覆摩擦100次。然後，將塗覆組成物浸塗在表面經摩擦之塗膜上，於70℃下乾燥30分鐘，得到具有複數層之塗膜的積層體。
(比較例6)
僅使用反射鏡之基材。
將實施例以及比較例之評估結果示於表11。
如表11所示，確認各實施例之積層體至少親水性、反射率、透明性以及外觀優異。
(積層體、穿透率之檢討；表12、13) (實施例61)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX OS」((A)成分)以水稀釋而調整成固形分10質量%之分散液(數平均粒徑8nm)，調配製造例1所合成之聚合物乳漿(HB1)， 並調配表12所示之作為四乙氧基矽烷(C)的信越化學公司製造之商品名稱「KBE-04」，得到塗覆組成物。
將所得之塗覆組成物旋塗於白板玻璃(厚度2mm、6×6cm見方)上使膜厚成為250nm之後，於70℃下乾燥30分鐘，得到積層體。
(實施例62)
使用與實施例61之相同調配而成為表12所記載之組成的塗覆組成物，製成積層體後，以相同順序積層塗覆組成物，得到多層之積層體。
(實施例63)
除了依表12所示配方而調製塗液之外，其餘與實施例61之相同順序而得到積層體。
(實施例64)
以實施例61之相同順序反覆積層，得到積層10層塗覆組成物之積層體。
(實施例65)
與實施例61之相同順序將塗覆組成物積層1次後，將塗膜表面以鋼絲絨(#7448)以載重22g/cm2摩擦10次。然後再將塗覆組成物積層1次，得到積層體。
(實施例66)
除了將基材變更為三菱工程塑料公司製造之聚碳酸酯樹脂「Iupilon」(厚度3mm、5×5cm見方)之外，其餘與實施例61之相同作法而得到積層體。
(比較例7)
將僅為白板玻璃之基材的評估結果示於表13。
(比較例8)
將僅為聚碳酸酯樹脂之基材的評估結果示於表13。
(比較例9)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX OS」((A)成分)以水稀釋而調整成固形分10質量%之分散液(數平均粒徑8nm)，以表13所示比例調配製造例所合成之聚合物乳漿(HB1)，並調配作為甲基三甲氧基矽烷(C)的信越化學公司製造之商品名稱「KBM-13」30份，得到塗覆組成物。
將所得之塗覆組成物旋塗於白板玻璃(厚度2mm、6×6cm見方)上使膜厚成為250nm之後，於70℃下乾燥30分鐘，得到積層體。
(比較例10)
雖在比較例9所得積層體上再重複相同之塗佈，然而因塗覆液排斥而無法得到2層的積層體。
將實施例與比較例之評估結果示於表12、13。
如表12以及表13所示，確認各實施例之積層體至少親水性、透明性以及外觀優異。另一方面，確認各比較例親水性、透明性以及外觀之至少一項低劣。
(水系塗覆組成物(併用氧化鈦)之檢討；表14) (實施例67至69)
將膠態二氧化矽(日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX OS」)((A)成分)以水稀釋而調整成固形分10 質量%之分散液(數平均粒徑8nm)，在其中以表14所示組成調配光觸媒(石原產業公司製造之商品名稱「TSK-5」；數平均粒徑10nm；二氧化矽被覆氧化鈦水溶膠)((A3)成分)與製造例所合成之聚合物乳漿粒子之水分散體，得到塗覆組成物。將所得之塗覆組成物以旋塗器塗佈於白板玻璃(厚度2mm、6×6cm見方)上使膜厚成為250nm之後，於70℃下乾燥30分鐘，得到具有白板玻璃之基材以及設置於其上之塗膜的積層體。
(實施例70、71)
除了進一步加入作為(C)成分之四乙氧基矽烷(信越化學公司製造之商品名稱「KBE-04」)，調配成表14所示之組成以外，進行與實施例67之相同做法，得到塗覆組成物。並且除了使用該塗覆組成物之外，其餘進行與實施例67之相同做法，得到積層體。
(實施例72)
除了調配成表14所記載之組成以外，進行與實施例67之相同做法，得到塗覆組成物。除了使用該塗覆組成物之外，其餘進行與實施例67之相同做法，得到積層體。
將實施例與比較例之結果示於表14。
如表14所示，確認各實施例之積層體至少初期之親水性、透明性以及折射率優異，並且在耐候性試驗後以及加熱試驗後之親水性亦為優異。
(機能性塗膜之檢討；表15) (實施例73)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX OS」)((A)成分)以水稀釋而調整成固形分10質量%之分散液(數平均粒徑8nm)，調配製造例所合成之聚合物乳漿，以表15所示之調配，得到塗覆組成物。
將所得之塗覆組成物旋塗在白板玻璃(厚度2mm、6×6cm見方)上使膜厚成為250nm之後，於70℃下乾燥30分 鐘，得到機能性塗膜。
(實施例74)
除了以表15所示之調配而得到塗覆組成物之外，其餘進行與實施例74之相同做法，得到機能性塗膜。
(實施例75)
除了以表15所示之調配而得到塗覆組成物之外，其餘進行與實施例74之相同做法，得到機能性塗膜。
(實施例76)
將日產化學工業公司製造之商品名稱「SNOWTEX OS」)((A)成分)以水稀釋而調整成固形分10質量%之分散液(數平均粒徑8nm)，調配製造例所合成之聚合物乳漿，並如表15所示調配作為四乙氧基矽烷(C)的信越化學公司製造之商品名稱「KBE-04」，得到塗覆組成物。
將所得之塗覆組成物旋塗在白板玻璃(厚度2mm、6×6cm見方)上使膜厚成為250nm之後，於70℃下乾燥30分鐘，得到機能性塗膜。
(實施例77)
除了以表15所示之調配而得到塗覆組成物之外，其餘進行與實施例74之相同做法，得到機能性塗膜。
(實施例78)
除了以表15所示之調配而得到塗覆組成物之外，其餘進行與實施例74之相同做法，得到機能性塗膜。
(比較例11)
僅使用玻璃之基材進行評估。
如表15所示，確認各實施例之積層體折射率、透明性以及外觀優異。
(製造例12) 聚合物乳漿粒子(TB-1)水分散體之合成
在具備回流冷卻器、滴入槽、溫度計以及攪拌裝置之反應器中投入離子交換水1600g、十二烷基苯磺酸4g後，於攪拌下將溫度升溫至80℃。在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時在其中滴入二甲基二甲氧基矽烷185g與苯基三甲氧基矽烷117g之混合液，然後，在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌1小時左右。其 次，在反應容器中之溫度維持於80℃之狀態下，以約2小時同時滴入丙烯酸丁酯150g、四乙氧基矽烷30g、苯基三甲氧基矽烷145g、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.3g之混合液以及二乙基丙烯醯胺165g、丙烯酸3g、反應性乳化劑(商品名稱「ADEKA REASOAP SR-1025」；旭電化公司製造，固形分為25質量%之水溶液)13g、過硫酸銨之2質量%水溶液40g、離子交換水1900g之混合液。進一步，進行熱熟成係在反應容器中之溫度為80℃之狀態下持續攪拌約15小時。然後冷卻至室溫，以100網目之金屬網過濾後，得到固形分為14.03質量%、水相成分為2.76質量%、數平均粒徑131nm之聚合物乳漿粒子(TB-1)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-1)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-1)。將所得濾液(H-1)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-1)。在所得試驗板(I-1)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為57°。
(製造例13) 聚合物乳漿粒子(TB-2)水分散體之合成
以與合成例1相同之方法進行聚合，將製造例12所記載之熱熟成時間設為8小時，得到固形分為14.05質量%、水相成分為4.57質量%、數平均粒徑132nm之聚合物乳漿粒子(TB-2)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-2)水分散體使用超過濾裝置進 行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-2)。將所得濾液(H-2)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-2)。在所得試驗板(I-2)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為56°。
(製造例14) 聚合物乳漿粒子(TB-3)水分散體之合成
以與合成例1相同之方法進行聚合，將製造例12所記載之熱熟成時間設為4小時，得到固形分為14.08質量%、水相成分為8.91質量%、數平均粒徑131nm之聚合物乳漿粒子(TB-3)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-3)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-3)。將所得濾液(H-3)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-3)。在所得試驗板(I-3)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為58°。
(製造例15)
以與合成例1相同之方法進行聚合，將製造例12所記載之熱熟成時間設為3.5小時，得到固形分為14.02質量%、水相成分為11.46質量%、數平均粒徑131nm之聚合物乳漿粒子(TB-4)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-4)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-4)。將所得濾液(H-4) 旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-4)。在所得試驗板(I-4)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為57°。
(製造例16) 聚合物乳漿粒子(TB-5)水分散體之合成
以與合成例1相同之方法進行聚合，將製造例12所記載之熱熟成時間設為3小時，得到固形分為14.05質量%、水相成分為14.12質量%、數平均粒徑130nm之聚合物乳漿粒子(TB-5)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-5)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-5)。將所得濾液(H-5)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-5)。在所得試驗板(I-5)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為57°。
(製造例17)
以與合成例1相同之方法進行聚合，將製造例12所記載之熱熟成時間設為2.5小時，得到固形分為14.07質量%、水相成分為16.34質量%、數平均粒徑130nm之聚合物乳漿粒子(TB-6)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-6)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-6)。將所得濾液(H-6)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥 24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-6)。在所得試驗板(I-6)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為58°。
(製造例18) 聚合物乳漿粒子(TB-7)水分散體之合成
以與合成例1相同之方法進行聚合，將製造例12所記載之熱熟成時間設為2小時，得到固形分為14.06質量%、水相成分為18.19質量%、數平均粒徑129nm之聚合物乳漿粒子(TB-7)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-7)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-7)。將所得濾液(H-7)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-7)。在所得試驗板(I-7)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為57°。
(製造例19) 聚合物乳漿粒子(TB-8)水分散體之合成
以與合成例1相同之方法進行聚合，將製造例12所記載之熱熟成時間設為1小時，得到固形分為14.09質量%、水相成分為21.93質量%、數平均粒徑130nm之聚合物乳漿粒子(TB-8)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-8)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-8)。將所得濾液(H-8)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥 24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-8)。在所得試驗板(I-8)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為56°。
(製造例20) 聚合物乳漿粒子(TB-9)水分散體之合成
以與合成例1相同之方法進行聚合，而不進行製造例12所記載之熱熟成，得到固形分為14.11質量%、水相成分為28.66質量%、數平均粒徑128nm之聚合物乳漿粒子(TB-9)水分散體。
將聚合物乳漿粒子(TB-9)水分散體使用超過濾裝置進行過濾，得到含有水相成分之濾液(H-9)。將所得濾液(H-9)旋塗在5cm×5cm之青板玻璃上，然後，使其在90℃中乾燥24小時，藉此得到膜狀之試驗板(I-9)。在所得試驗板(I-9)之膜表面載置去離子水之水滴，在20℃中放置10秒鐘後，所測定之初期接觸角為58°。
(實施例79)
於製造例12所合成之聚合物乳漿粒子(TB-1)水分散體100g中將數平均粒徑12nm之水分散膠態二氧化矽(商品名稱「SNOWTEX O」；日產化學工業公司製造；固形分20質量%)100g混入並攪拌，得到水系有機/無機複合組成物(E-1)。
以棒塗佈法將上述水系有機/無機複合組成物(E-1)塗佈在5cm×5cm之青板玻璃上，使膜厚成為1μm，然後，在70℃中乾燥30分鐘，藉此得到具有有機/無機複合體 皮膜(F-1)之試驗板(G-1)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-1)與水的初期接觸角為7.2°。
(實施例80)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例13所合成之聚合物乳漿粒子(TB-2)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-2)之試驗板(G-2)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-2)與水的初期接觸角為7.2°。
(實施例81)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例14所合成之聚合物乳漿粒子(TB-3)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-3)之試驗板(G-3)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-3)與水的初期接觸角為7.2°。
(實施例82)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例15所合成之聚合物乳漿粒子(TB-4)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-4)之試驗板(G-4)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-4)與水的初期接觸角為7.2°。
(實施例83)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例16所合成之聚合物乳漿粒子(TB-5)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-5) 之試驗板(G-5)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-5)與水的初期接觸角為7.2°。
(參考例1)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例17所合成之聚合物乳漿粒子(TB-6)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-6)之試驗板(G-6)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-6)與水的初期接觸角為7.2°。
(參考例2)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例18所合成之聚合物乳漿粒子(TB-7)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-7)之試驗板(G-7)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-7)與水的初期接觸角為7.2°。
(比較例12)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例19所合成之聚合物乳漿粒子(TB-8)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-8)之試驗板(G-8)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-7)與水的初期接觸角為7.2°。
(比較例13)
除了聚合物乳漿粒子(TB-1)係經製造例20所合成之聚合物乳漿粒子(TB-9)水分散體所取代之外，其餘以與實施例79之相同方法，得到具有有機/無機複合體皮膜(F-9) 之試驗板(G-9)。所得之具有有機/無機複合體皮膜之試驗板(G-9)與水的初期接觸角為7.2°。
將實施例與比較例之結果示於表16。
如表16所示，確認各實施例之塗膜至少在高溫高濕下也可維持表面親水性。
本申請案係依據2009年3月11日於日本國特許廳所提出之日本專利申請案(日本特願2009-058665號)、2009年11月27日於日本國特許廳所提出之日本專利申請案(日本特願2009-270364號)、2009年11月27日於日本國特許廳所提出之日本專利申請案(日本特願2009-270375號)、以及2010年3月2日於日本特許廳所提出之日本專利申請案(日本特願2010-045505號)而作成者，並摘取該等內容在此作為參照。
[產業上之可利用性]
本發明之塗膜以及塗覆組成物係防污性、透明性、親水性、耐久性(耐衝擊性)優異並且即使在高溫高濕下也可維持表面親水性，因此可利用作為太陽電池模組或太陽熱能發電系統等之各種能量生產裝置之構件，宜作為太陽光之穿透性或聚集性良好的太陽電池用之保護構件、太陽熱能發電用之光反射鏡的構件使用。
1‧‧‧積層體
10‧‧‧基材
12‧‧‧塗膜
L‧‧‧太陽光
S1‧‧‧塗膜之與基材相反側表面
S2‧‧‧基材之塗膜側表面

Claims (46)

  1. 一種由塗覆組成物所得之塗膜，該塗覆組成物係包含：(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物粒子；及(B)聚合物粒子，並且下述公式(I)表示之前述(B)成分中之水相成分的含有率為20質量%以下者：水相成分的含有率(%)=(將(B)成分以阻截分子量50,000過濾而得之濾液的乾燥質量)×(100-全固形分質量)/(前述濾液的質量-前述濾液的乾燥質量)×100/全固形分質量…(I)。
  2. 如申請專利範圍第1項之塗膜，其中，前述(B)成分為在包含下述成分之聚合原液中使下述(b1)成分與下述(b2)成分聚合而得之聚合物乳漿粒子(B1)：(b1)成分：水解性矽化合物；(b2)成分：乙烯系單體；(b3)成分：乳化劑；以及(b4)成分：水。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，前述水相成分的含有率為15質量%以下。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，前述(B)成分的數平均粒徑為10nm至800nm。
  5. 如申請專利範圍第2項之塗膜，其中，前述(b2)成分為具有選自由羥基、羧基、醯胺基、胺基、及醚基所成群組中之至少1種官能基之乙烯系單體。
  6. 如申請專利範圍第2項之塗膜，其中，前述(b2)成分相對於前述(B)成分之質量比((b2)/(B))為0.01/1至1/1。
  7. 如申請專利範圍第2項之塗膜，其中，前述(b2)成分相對於前述(A)成分之質量比((b2)/(A))為0.01/1至1/1。
  8. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，前述(B)成分係具有核心/外殼結構，該結構係具備有：核心層、及被覆前述核心層之1層或2層以上之外殼層。
  9. 如申請專利範圍第2項之塗膜，其中，在前述核心層中，前述(b2)成分相對於前述(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至1/1，在前述外殼層的最外層中，前述(b2)成分相對於前述(b1)成分之質量比((b2)/(b1))為0.01/1至5/1。
  10. 如申請專利範圍第2項之塗膜，其中，前述(B)成分為在形成前述核心層之晶種粒子的存在下使前述聚合原液聚合而得之聚合物乳漿粒子，前述晶種粒子係使選自由前述(b1)成分、前述(b2)成分、以及(b5)成分：可與前述(b2)成分共聚合之其他乙烯系單體所成群組中之至少1種以上聚合而得。
  11. 如申請專利範圍第2項之塗膜，其中，前述(b2)成分為具有2級醯胺基、3級醯胺基、或該兩者之乙烯系單體。
  12. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，前述(A)成分相對於前述(B)成分之質量比((A)/(B))為110/100至480/100。
  13. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，復包含(C) 成分：選自由下述式(1)、(2)及(3)所示化合物所成群組中之1種以上之水解性矽化合物：R1 nSiX4-n (1)(式(1)中，R1表示氫原子、或是亦可以具有鹵素基、羥基、氫硫基、胺基、(甲基)丙烯醯基或環氧基之碳數1至10之烷基、烯基、炔基或芳基，X表示水解性基，n是0至3之整數)X3Si-R2 n-SiX3 (2)(式(2)中，X表示水解性基，R2表示碳數1至6之伸烷基或伸苯基，n是0或1)R3-(O-Si(OR3)2)n-OR3 (3)(式(3)中，R3表示碳數1至6之烷基，n是2至8之整數)。
  14. 如申請專利範圍第13項之塗膜，其中，前述(C)成分相對於前述(A)成分之質量比((C)/(A))為1/100至100/100。
  15. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，前述(B)成分之數平均粒徑為10nm至100nm。
  16. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，前述(A)成分係包含：(A1)成分：數平均粒徑為1nm至400nm之二氧化矽；及(A2)成分：數平均粒徑為1nm至2000nm之紅外線吸收劑，並且前述(A1)成分與前述(A2)成分之總含量相對於前述(B) 成分之含量之質量比((A1+A2)/(B))為60/100至1000/100，前述(A2)成分之含量相對於前述(B)成分與前述(A1)成分之前述總含量之質量比((A2)/(A1+B))為0.05/100至40/100。
  17. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其中，前述(A)成分係包含：(A1)成分：數平均粒徑為1nm至400nm之二氧化矽；及(A3)成分：數平均粒徑為1nm至2000nm之光觸媒，並且前述(A1)成分與前述(A3)成分之總含量相對於前述(B)成分之含量之質量比((A1+A3)/(B))為60/100至480/100，前述(A1)成分之含量相對於前述(A1)成分與前述(A3)成分之前述總含量之質量比((A1)/(A1+A3))為85/100至99/100。
  18. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其係抗反射用。
  19. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其係耐溶劑用。
  20. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其係抗靜電用。
  21. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其係耐熱用。
  22. 如申請專利範圍第1或2項之塗膜，其係硬塗(hard coat)用。
  23. 一種塗膜，係包含： 金屬氧化物粒子(A)；及經前述(A)成分包圍之聚合物粒子(B)，且將藉由超過濾法從前述(B)成分萃取之阻截分子量50,000以下之成分(B2)製作成薄膜時的薄膜表面的水接觸角為30°以下。
  24. 一種塗膜，係包含：(A)數平均粒徑為1nm至400nm之金屬氧化物；及經前述(A)成分包圍之聚合物粒子(B)，且將藉由超過濾法從前述(B)成分萃取之阻截分子量50,000以下之成分(B2)製作成薄膜時的薄膜表面的水接觸角超過30°，且其含量為5質量%以下。
  25. 如申請專利範圍第23或24項之塗膜，其中，前述(B)成分為乳漿粒子。
  26. 如申請專利範圍第23或24項中任一項之塗膜，其中，在20℃之表面水接觸角為30°以下。
  27. 如申請專利範圍第23或24項中任一項之塗膜，其中，在溫度90℃、濕度90%之條件下靜置24小時之高溫高濕試驗後的塗膜表面之水接觸角為20°以下。
  28. 一種積層體，係具備有：基材；及形成在前述基材之至少一表面之塗膜，該塗膜係申請專利範圍第1至27項中任一項之塗膜。
  29. 如申請專利範圍第28項之積層體，其中，前述積層體之光線穿透率比前述基材之光線穿透率高。
  30. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其中，前述塗膜之折射率比前述基材之折射率低0.1以上。
  31. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其中，前述塗膜為具有2層以上之層的塗膜。
  32. 如申請專利範圍第31項之積層體，其中，位在與前述基材相反側之最表層的折射率比鄰接前述最表層之層的折射率低0.1以上。
  33. 如申請專利範圍第31項之積層體，其中，構成前述塗膜之各層之厚度(dn)為10nm至800nm，前述塗膜之總厚度(Σ dn)為100nm至4000nm。
  34. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其中，前述基材之光線穿透率為30%至99%。
  35. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其中，前述塗膜之與前述基材相反側之表面之反射率(Rc)相對於前述基材之前述塗膜側之表面之反射率(Rb)的比率((Rc)/(Rb))為98%以上。
  36. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其中，前述塗膜與前述基材之折射率的差為0.2以下。
  37. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其中，前述塗膜之折射率為1.3至1.48。
  38. 如申請專利範圍第35項之積層體，其中，前述基材之前述塗膜側表面之反射率(Rb)為80%以上。
  39. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其中，前述基材係包含選自由玻璃、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、 環狀烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、及乙烯-氟乙烯共聚物所成群組中之至少1種者。
  40. 一種積層體之製造方法，係具有下述步驟：對申請專利範圍第1至22項中任一項之塗膜實施70℃以上之加熱處理、或0.1kPa以上之加壓處理的至少一者之步驟。
  41. 如申請專利範圍第28或29項之積層體，其係能量轉換裝置用構件。
  42. 如申請專利範圍第41項之積層體，其係太陽電池模組之保護構件。
  43. 一種太陽電池模組，係具備有：申請專利範圍第41項之積層體；與前述積層體相對向配置之背板；以及配置在前述積層體與前述背板之間之發電元件。
  44. 如申請專利範圍第41項之積層體，其係光反射鏡之保護構件。
  45. 一種反射器裝置，係具備有：光反射鏡；保護前述光反射光之反射面之申請專利範圍第44項之積層體；以及支撐前述反射鏡之支撐體。
  46. 一種太陽熱能發電系統，係具備有：申請專利範圍第45項之反射器裝置；及將藉由前述反射器裝置所聚集之太陽光轉換成電能之 裝置。
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US (3) US8916266B2 (zh)
EP (1) EP2407521B1 (zh)
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KR (1) KR101263125B1 (zh)
CN (1) CN102341467A (zh)
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TW (2) TWI506104B (zh)
WO (1) WO2010104146A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI684285B (zh) * 2014-12-26 2020-02-01 日商材料概念股份有限公司 太陽電池模組及其製造方法

Families Citing this family (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5599635B2 (ja) * 2010-03-30 2014-10-01 旭化成イーマテリアルズ株式会社 機能性塗膜
CN102946832B (zh) * 2010-06-18 2015-08-19 花王株式会社 发热器
EP2625227A4 (en) 2010-10-06 2017-12-27 3M Innovative Properties Company Coating composition and method of making and using the same
WO2012047872A2 (en) * 2010-10-06 2012-04-12 3M Innovative Properties Company Coatings for optical components of solar energy systems
CN103155170B (zh) * 2010-10-06 2016-05-04 3M创新有限公司 用于太阳能系统的光学元件的涂料
KR101846601B1 (ko) * 2010-12-17 2018-04-06 롬 앤드 하스 캄파니 재제거가능한 광전지 코팅
TWI513780B (zh) * 2010-12-31 2015-12-21 Eternal Materials Co Ltd 塗料組成物及其用途
JP2012170859A (ja) * 2011-02-18 2012-09-10 Asahi Kasei E-Materials Corp 機能性塗膜の製造方法
JP2012170858A (ja) * 2011-02-18 2012-09-10 Asahi Kasei E-Materials Corp 機能性塗膜
JP2012210558A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Asahi Kasei E-Materials Corp 親水性塗膜の形成方法、及び親水性塗膜
JP2012218209A (ja) * 2011-04-05 2012-11-12 Jsr Corp 太陽電池保護シートの製造方法および太陽電池保護シート
JP5728278B2 (ja) * 2011-04-11 2015-06-03 旭化成イーマテリアルズ株式会社 複合組成物、当該複合組成物を用いた塗膜の製造方法、当該製造方法により得られる塗膜、及び当該塗膜を具備する部材
ES2396536B1 (es) * 2011-04-19 2013-12-26 Kaparazoom Slu Recubrimiento transmisor de radiación electromagnetica
WO2012155086A2 (en) * 2011-05-11 2012-11-15 Austin Gary N Anaerobic digester for the production of methane gas from organic gas
KR101589337B1 (ko) * 2011-06-17 2016-01-29 주식회사 엘지화학 광전지용 시트
US9529120B2 (en) 2011-08-11 2016-12-27 Canon Kabushiki Kaisha Light-shielding coating, light-shielding film, and optical element
US20150059846A1 (en) 2012-01-23 2015-03-05 Asahi Kasei E-Materials Corporation Coating composition and antireflection film
JP6128884B2 (ja) * 2012-02-24 2017-05-17 ベック株式会社 化粧壁面
US9862842B2 (en) * 2012-02-29 2018-01-09 Sabic Global Technologies B.V. Infrared radiation absorbing articles and method of manufacture
KR20140131575A (ko) * 2012-03-02 2014-11-13 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 방열성 도료 조성물 및 방열성 도막
WO2013174753A1 (en) 2012-05-22 2013-11-28 Dsm Ip Assets B.V. Hybrid organic-inorganic nano-particles
JP5304939B1 (ja) 2012-05-31 2013-10-02 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板、偏光板の製造方法、画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の視認性改善方法
ITMI20122250A1 (it) 2012-12-28 2014-06-29 Eni Spa "concentratore solare luminescente"
WO2014109370A1 (ja) * 2013-01-11 2014-07-17 大日本印刷株式会社 光学積層体、その製造方法、並びにこれを用いた偏光板及び液晶表示装置
US10301477B2 (en) * 2013-03-15 2019-05-28 Behr Process Corporation Superhydrophilic coating composition
JP6326199B2 (ja) * 2013-04-08 2018-05-16 旭化成株式会社 光学塗膜、光学塗膜の製造方法、及び反射防止膜
JP6328885B2 (ja) * 2013-04-10 2018-05-23 旭化成株式会社 コーティング組成物及び積層体
JP6196061B2 (ja) * 2013-04-15 2017-09-13 フューチャーイヴテクノロジー株式会社 透明保護膜で表面を被覆した太陽電池用カバーガラス及び該カバーガラスを備えた太陽電池モジュール並びに透明保護膜形成用塗布液及び透明保護膜の形成方法
KR102087153B1 (ko) * 2013-07-09 2020-03-10 엘지전자 주식회사 태양전지 모듈
JP6099510B2 (ja) * 2013-07-24 2017-03-22 富士フイルム株式会社 水性防汚コート剤、防汚コート層及び太陽電池モジュール
CN105493296B (zh) 2013-07-26 2019-02-05 新南创新私人有限公司 硅中的热处理
ITBO20130477A1 (it) * 2013-09-06 2015-03-07 Carlo Dallari Modulo fotovoltaico per la produzione di energia elettrica da energia solare
JP6263357B2 (ja) * 2013-09-10 2018-01-17 堺化学工業株式会社 表面処理用樹脂、複合粉体及びその用途
JP6542213B2 (ja) * 2013-11-22 2019-07-10 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ．Ｄｓｍ Ｉｐ Ａｓｓｅｔｓ Ｂ．Ｖ． 反射防止コーティング組成物を製造するプロセス、およびそれから製造される多孔質コーティング
CN105814154A (zh) * 2013-12-17 2016-07-27 Jsr株式会社 涂料和涂装体
CN104744909B (zh) * 2013-12-31 2019-01-11 比亚迪股份有限公司 聚合物制品和油墨组合物以及表面选择性金属化方法
US10613255B2 (en) * 2014-02-12 2020-04-07 Vision Ease, Lp Easy-clean coating
JP6099587B2 (ja) * 2014-03-17 2017-03-22 富士フイルム株式会社 水性コート剤、膜、膜の製造方法、積層体、及び太陽電池モジュール
JP6651283B2 (ja) * 2014-06-02 2020-02-19 旭化成株式会社 難燃性付与方法
US10665742B2 (en) 2014-07-04 2020-05-26 Dsm Ip Assets B.V. Co-extruded backsheet for solar cell modules
JP6437243B2 (ja) * 2014-08-25 2018-12-12 旭化成株式会社 光学塗膜、光学塗膜の製造方法、及び反射防止膜
CN105368070A (zh) * 2014-08-27 2016-03-02 旭化成株式会社 光学涂膜形成用前体、光学涂膜以及光学涂膜的制造方法
US20170233587A1 (en) * 2014-08-29 2017-08-17 Zinniatek Limited Fire retarding system and protective layers or coatings
KR20160026430A (ko) 2014-09-01 2016-03-09 현대자동차주식회사 회생 제동량 가변 방법 및 시스템
JP6425964B2 (ja) * 2014-10-22 2018-11-21 旭化成株式会社 光学塗膜及び反射防止膜
CN107003451A (zh) * 2014-12-05 2017-08-01 柯尼卡美能达株式会社 隔热膜及其制造方法、以及使用其的隔热体
JP6456669B2 (ja) * 2014-12-09 2019-01-23 旭化成株式会社 機能膜
KR102542864B1 (ko) * 2015-01-19 2023-06-14 도레이 카부시키가이샤 적층 기재, 커버글라스, 터치패널 및 적층 기재의 제조 방법
JP6457866B2 (ja) * 2015-03-30 2019-01-23 旭化成株式会社 太陽電池用のコーティング膜及びその製造方法
JP6532740B2 (ja) * 2015-04-09 2019-06-19 旭化成株式会社 コーティング組成物、反射防止膜、及び反射防止膜の製造方法
JP2016219545A (ja) * 2015-05-18 2016-12-22 旭化成株式会社 太陽電池用コーティング膜
TWI546559B (zh) * 2015-05-19 2016-08-21 長興材料工業股份有限公司 增光穿透塗料組合物及由其所形成之塗層
JP6483822B2 (ja) * 2015-06-25 2019-03-13 旭化成株式会社 塗膜
JP2017036424A (ja) * 2015-08-13 2017-02-16 旭化成株式会社 塗膜及びその製造方法
JP6659271B2 (ja) * 2015-08-17 2020-03-04 Toto株式会社 塗料組成物および塗装体
JP2017039784A (ja) * 2015-08-17 2017-02-23 Toto株式会社 塗料組成物および塗装体
JP6739310B2 (ja) * 2015-10-28 2020-08-12 日東電工株式会社 光透過性導電フィルム、その製造方法、調光フィルムおよびその製造方法
JP6706059B2 (ja) * 2015-12-21 2020-06-03 旭化成株式会社 ハードコート塗膜
US10793746B2 (en) * 2015-12-25 2020-10-06 3M Innovative Properties Company Coating composition comprising silica-polymer core-shell particles, method of making composition and article
JP6509757B2 (ja) * 2016-02-25 2019-05-08 旭化成株式会社 水系組成物、水系塗料、塗膜、及び塗装製品
JP6700859B2 (ja) * 2016-02-29 2020-05-27 キヤノン株式会社 膜の製造方法
JP6863962B2 (ja) * 2016-03-14 2021-04-21 旭化成株式会社 高耐久防曇塗膜およびコーティング組成物
JP6892740B2 (ja) * 2016-04-22 2021-06-23 パンサーフェス株式会社 親水性付与剤、親水性被膜形成方法、親水性被膜、及び太陽光パネル
KR102604087B1 (ko) 2016-06-24 2023-11-21 삼성디스플레이 주식회사 윈도우 및 이를 포함하는 표시 장치
EP3486957A4 (en) * 2016-07-14 2020-02-12 Zeon Corporation INFRARED LED
KR20230047207A (ko) 2016-08-26 2023-04-06 아리엘 싸이언티픽 이노베이션스 엘티디. 주석-기반 촉매, 그것의 제조법, 및 상기 촉매를 사용한 연료 전지
CN109789439B (zh) * 2016-09-30 2022-01-28 马自达汽车株式会社 叠层涂膜及涂装物
KR102126686B1 (ko) * 2016-11-04 2020-06-25 주식회사 엘지화학 코팅 조성물
WO2018101277A1 (ja) * 2016-11-30 2018-06-07 富士フイルム株式会社 塗布組成物、反射防止膜、積層体及び積層体の製造方法、並びに、太陽電池モジュール
JP6493579B2 (ja) * 2017-02-09 2019-04-03 ダイキン工業株式会社 液状組成物、塗膜及び液状組成物の製造方法
JP6637534B2 (ja) * 2017-03-08 2020-01-29 旭化成株式会社 水系組成物、水系塗料、塗膜、及び塗装製品
JP2019002671A (ja) * 2017-06-14 2019-01-10 合資会社Ｇｓ工事 内部に冷暖房機構を収納した屋外機の冷暖房効率を上げる方法
EP3645617A4 (en) * 2017-06-29 2021-02-17 Dow Global Technologies Llc POLYOLEFINE COMPOSITION
US20190033491A1 (en) * 2017-07-28 2019-01-31 Ppg Industries Ohio, Inc. Multi-layer antireflective coated articles
CN117790809A (zh) 2017-08-24 2024-03-29 阿里尔科技创新公司 电催化剂、其制备以及其在燃料电池中的用途
CN111095046B (zh) * 2017-09-15 2022-07-22 富士胶片株式会社 组合物、膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器
CN111247199B (zh) * 2017-10-31 2023-02-17 陶氏环球技术有限责任公司 用于光伏包封膜的聚烯烃组合物
JP7064585B2 (ja) * 2017-10-31 2022-05-10 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 太陽光発電封止材フィルムのためのポリオレフィン組成物
EP3725745A4 (en) * 2017-12-11 2021-09-29 Nissan Chemical Corporation INORGANIC OXIDE PARTICLES COATED WITH A SILANE COMPOUND WITH NITROGEN RING AND COATING COMPOSITION
JP7087059B2 (ja) * 2018-02-23 2022-06-20 旭化成株式会社 高耐久防曇塗膜およびコーティング組成物
US20210114338A1 (en) * 2018-03-30 2021-04-22 Yupo Corporation Laminate and adhesive label
KR102273689B1 (ko) * 2018-07-27 2021-07-05 주식회사 엘지화학 광학 적층체 및 디스플레이 장치
KR102259912B1 (ko) * 2018-07-27 2021-06-01 주식회사 엘지화학 광학 적층체 및 디스플레이 장치
KR102259911B1 (ko) * 2018-07-27 2021-06-01 주식회사 엘지화학 광학 적층체 및 디스플레이 장치
US20210324232A1 (en) * 2018-08-31 2021-10-21 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Hard coating film, hard coating film-applied substrate, coating material composition, and window material
JP7051233B2 (ja) * 2018-09-28 2022-04-11 旭化成株式会社 コーティング組成物
JP6826138B2 (ja) * 2019-02-13 2021-02-03 デクセリアルズ株式会社 熱吸収材
JP7452416B2 (ja) * 2019-03-07 2024-03-19 東洋紡株式会社 積層フィルム
CN110317485B (zh) * 2019-08-05 2021-07-09 西南大学 一种镍掺杂多钛酸钡黄色太阳热反射颜料
NL2024826B1 (en) * 2020-02-04 2021-09-13 2V Holding B V Improved PV-panel
KR102158511B1 (ko) * 2020-06-25 2020-09-22 임환명 구조물의 표면부식 및 열화 방지용 친환경 세라믹계 코팅제 조성물 및 이를 이용한 구조물 표면의 보호 시공방법
US20210403680A1 (en) * 2020-06-25 2021-12-30 Solenis Technologies, L.P. Compositions and methods for improving adhesion of an image to a treated substrate
CN112636682A (zh) * 2020-12-17 2021-04-09 滁州隆基乐叶光伏科技有限公司 一种光伏组件边框及其材料、光伏组件
CN113578827B (zh) * 2021-08-25 2022-10-11 上海能源科技发展有限公司 一种用于多风沙地区使用的光伏板表面清扫装置
CN114535587A (zh) * 2022-02-22 2022-05-27 济南易航新材料科技有限公司 一种微纳米铋的制备方法及所得微纳米铋的应用、镁离子电池用负极
CN116496652B (zh) * 2023-06-29 2023-09-22 优美特（北京）环境材料科技股份公司 一种丙烯酸粉末涂料及其应用

Family Cites Families (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6274452A (ja) 1985-09-27 1987-04-06 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 水の光分解触媒
JP2637955B2 (ja) 1986-07-31 1997-08-06 大日本インキ化学工業株式会社 水性被覆用組成物
JP2730111B2 (ja) 1988-12-26 1998-03-25 株式会社ニコン 新規な水の光分解触媒
JP2715198B2 (ja) 1991-07-22 1998-02-18 文星 許 自動平面点パターン・マッチング装置及びマッチング方法
JPH0724329A (ja) 1993-07-07 1995-01-27 Nikon Corp 光触媒
JPH0889799A (ja) 1994-09-19 1996-04-09 Nikon Corp 光触媒
JPH0889800A (ja) 1994-09-19 1996-04-09 Nikon Corp 光触媒
JPH0889804A (ja) 1994-09-19 1996-04-09 Nikon Corp 光触媒
JPH08198061A (ja) 1995-01-30 1996-08-06 Suzuki Motor Corp ウォッシャタンク内の液量確認装置
JPH0959568A (ja) 1995-08-28 1997-03-04 Nippon Unicar Co Ltd コーティング用組成物及びその使用方法
JPH09248465A (ja) 1996-03-12 1997-09-22 Nikon Corp 可視光領域で触媒活性をもつ光触媒
JP3624274B2 (ja) 1996-06-25 2005-03-02 中央理化工業株式会社 コーティング組成物
JPH10114544A (ja) 1996-08-22 1998-05-06 Toto Ltd 光触媒性親水性部材、その製造方法、及び光触媒性親水性コーティング組成物
JPH1099694A (ja) 1996-10-01 1998-04-21 Riken Corp 光触媒及びその製造方法
JPH10244165A (ja) 1997-03-07 1998-09-14 Nikon Corp 可視光領域で触媒活性をもつ光触媒
CN1303885A (zh) * 1999-10-25 2001-07-18 上海绿纳科技有限公司 纳米复合微粒－有机聚合物混杂复合体系的制备
JP2002145609A (ja) 2000-11-02 2002-05-22 Oji Paper Co Ltd シリカ微粒子分散液の製造方法
JP2002285097A (ja) 2001-03-26 2002-10-03 Kansai Paint Co Ltd 水分散性艶消し塗料組成物
US6773801B2 (en) * 2001-04-06 2004-08-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Fine particle layer laminated film and optical functional material
JP3971629B2 (ja) 2001-04-06 2007-09-05 大日本印刷株式会社 微粒子層積層膜およびそれを用いた光学機能材
JP2003266606A (ja) 2002-03-13 2003-09-24 Sumitomo Chem Co Ltd 硬化被膜付き透明基材
US7008979B2 (en) * 2002-04-30 2006-03-07 Hydromer, Inc. Coating composition for multiple hydrophilic applications
JP2004111577A (ja) 2002-09-17 2004-04-08 Asahi Kasei Chemicals Corp 防汚性能を有する太陽電池カバー
JP4048912B2 (ja) 2002-10-22 2008-02-20 松下電工株式会社 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板
WO2005063899A1 (ja) 2003-12-25 2005-07-14 Sk Kaken Co., Ltd. 水性塗料組成物
JP4352934B2 (ja) 2004-03-03 2009-10-28 株式会社日立製作所 反射防止膜及びそれを有する画像表示装置，光記録媒体，太陽発電モジュール並びに反射防止膜形成方法
JP2006178041A (ja) 2004-12-21 2006-07-06 Asahi Kasei Corp 反射防止拡散板
JP4785865B2 (ja) * 2005-12-13 2011-10-05 旭化成イーマテリアルズ株式会社 水系有機・無機複合組成物
JP5137352B2 (ja) * 2006-07-28 2013-02-06 旭化成イーマテリアルズ株式会社 水系汚染防止用組成物および塗装物
KR20080070349A (ko) 2007-01-26 2008-07-30 동우 화인켐 주식회사 방현성 하드코팅액 및 이를 사용한 고경도 하드코팅 필름
JP2008189884A (ja) 2007-02-07 2008-08-21 Mitsubishi Rayon Co Ltd 水性被覆材および塗装物
JP4964021B2 (ja) * 2007-05-15 2012-06-27 旭化成ケミカルズ株式会社 防汚層の形成方法
JP2009019072A (ja) 2007-07-10 2009-01-29 Asahi Kasei Chemicals Corp 水系有機・無機複合組成物
JP5599134B2 (ja) 2007-07-26 2014-10-01 旭化成ケミカルズ株式会社 多官能シランを用いた有機・無機複合組成物
JP5478817B2 (ja) 2007-08-30 2014-04-23 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置およびその製造方法
JP5518299B2 (ja) * 2008-04-10 2014-06-11 旭化成イーマテリアルズ株式会社 太陽電池用コーティング組成物
JP5415014B2 (ja) 2008-04-10 2014-02-12 旭化成イーマテリアルズ株式会社 コーティング組成物
DE102008021005A1 (de) 2008-04-25 2009-10-29 Byk-Chemie Gmbh Partikuläre Wachskomposite mit Kern/Hülle-Struktur und Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
JP5150354B2 (ja) 2008-05-08 2013-02-20 株式会社大林組 充填材の充填状態の確認方法、定着金物を鉄筋に固定する方法、定着金物、ｐｃ部材
JP2009270375A (ja) 2008-05-09 2009-11-19 Toto Ltd シャワー本体載置部
US20090283133A1 (en) 2008-05-14 2009-11-19 3M Innovative Properties Company Solar concentrating mirror
JP5366440B2 (ja) * 2008-05-28 2013-12-11 旭化成イーマテリアルズ株式会社 太陽電池用カバー材
JP5532550B2 (ja) * 2008-05-29 2014-06-25 パナソニック株式会社 プラズマディスプレイの誘電体膜用ケイ素化合物
JP5085462B2 (ja) 2008-08-11 2012-11-28 ソニー株式会社 情報記録装置、撮像装置、情報記録方法およびプログラム
JP5514463B2 (ja) 2009-03-30 2014-06-04 旭化成イーマテリアルズ株式会社 耐熱用コーティング組成物
JP2010235678A (ja) 2009-03-30 2010-10-21 Asahi Kasei E-Materials Corp 帯電防止用コーティング組成物
JP2010235676A (ja) 2009-03-30 2010-10-21 Asahi Kasei E-Materials Corp ハードコート用コーティング組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI684285B (zh) * 2014-12-26 2020-02-01 日商材料概念股份有限公司 太陽電池模組及其製造方法

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