JP4352934B2 - 反射防止膜及びそれを有する画像表示装置,光記録媒体,太陽発電モジュール並びに反射防止膜形成方法 - Google Patents
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Description
n1 、反射防止用のコート層の屈折率をn2 とした場合において、n2=√n1が満たされれば理論的に反射率を0とできる、という技術である。詳細は下記特許文献1に開示されている。
(1)無機酸化物微粒子とバインダーとを有して構成され、厚さが60〜190nmであり、5〜200nmの大きさの空隙を有することを特徴とする反射防止膜とする。
(2)(1)において、無機酸化物微粒子は酸化ケイ素微粒子であることを特徴とする。
(3)(1)において、反射防止膜は、酸化ケイ素微粒子と加水分解性残基を有するケイ素化合物から形成されてなることを特徴とする。
(4)(1)において、表面抵抗率が1011Ω以下であることを特徴とする。
(5)(1)において、含フッ素化合物からなる層を表面に有し、該表面における水との接触角が100°以上180°以下であることを特徴とする。
(6)(1)において、含フッ素化合物からなる層は下記構造であることを特徴とする。
[F{CF(CF 3 )−CF 2 O} n −CF(CF 3 )]−X−Si(OR) 3 (14≦n≦21)
{F(CF 2 CF 2 CF 2 O) n }−X−Si(OR) 3 (14≦n≦21)
{H(CF 2 ) n }−Y−Si(OR) 3 (n=6,8)
{(CF 2 ) n }−Y−Si(OR) 3 (n=6,8)
Xはパーフルオロポロエーテル鎖とアルコキシシラン残基との結合部位でCONH−(CH 2 ) 3 、
Yはパーフルオロアルキル基とアルコキシシラン残基との結合部位でCONH−(CH 2 ) 3 ,(CH 2 ) 2
Rはアルキル基。
(7)(1)において、酸化ケイ素微粒子が鎖状の酸化ケイ素微粒子であることを特徴とする。
(8)(1)において、無機酸化微粒子は酸化ケイ素微粒子であって、形状は鎖状であり、酸化ケイ素微粒子は膜の固形分に対して75重量%以上であることを特徴とする。
(9)画像表示部位の最表面に反射防止膜を有する画像表示装置において、反射防止膜が(1)における反射防止膜であることを特徴とする。
(10)記録部分の光の反射率の違いにより記録を行う光記録媒体において、最表面に
(1)における反射防止膜を有することを特徴とする。
(11)少なくとも透明な壁面を1面以上有する温室において、透明な壁面が(1)における反射防止膜を有していることを特徴とする温室。
(12)入力部位,画像表示部位を有する携帯画像表示端末であって、画像表示部位は透明基板と、透明基板の表面に形成される反射防止膜とを有し、反射防止膜は(1)における反射防止膜である携帯画像表示端末。
(13)絶縁性光透過基板,表面電極,光電変換層,中間透明電極,裏面電極を備えた太陽光発電モジュールであって、前記絶縁性光透過基板の表面に(1)における反射防止膜が形成されていることを特徴とする。
(14)透明性を有する室内建材用基板であって(1)における反射防止膜を有していることを特徴とする。
(15)無機酸化物微粒子,バインダー、及び溶剤からなる塗料を塗布する工程と、
該塗料を加熱する工程と、を有する反射防止膜の形成方法。
(16)(15)において、過熱する工程における加熱温度は、前記塗料の沸点以上で沸点+150℃以下で行うことを特徴とする。
(17)(15)において、無機酸化物微粒子は酸化ケイ素であることを特徴とする。
(18)(15)において、バインダーは加水分解性残基を有するケイ素化合物を有することを特徴とする。
(19)(15)において、塗料を加熱する工程の後に、含フッ素化合物を溶解した溶液を塗布した後加熱する工程と、を有することを特徴とする。
(20)(15)において、含フッ素化合物は下記含フッ素化合物であることを特徴とする。
(1)塗料材料
塗料材料はバインダー,無機酸化物微粒子,溶媒からなる。これらに関して下記に記述する。
塗膜材料としては、透明性の高い有機系或いは無機系の高分子材料,高分子化可能な材料が挙げられる。有機系の材料の場合、基板が樹脂の場合、用いる溶媒によって基板が膨潤,変形或いは溶解することがある。また硬度も無機系のものの方が高い傾向がある。そのため無機系の材料が好適である。無機系の材料の場合、低屈折率の材料の方が反射防止膜を形成する際には有利となる。低屈折率の材料としてはケイ素系の材料が好適である。
無機酸化物微粒子としては酸化ケイ素,酸化アルミニウム,酸化チタン,酸化セリウム等の無色、或いは白色の微粒子が挙げられる。大きさとしては膜を平坦性を高める点で、粒子の短軸が平均膜厚以下になることが望ましい。また上記の中では低屈折率の膜が得やすいという点で、比較的屈折率の低い酸化ケイ素(屈折率は約1.5〜1.7),酸化アルミニウム(屈折率は約1.7〜1.9)等が好適である。そこで特に酸化ケイ素微粒子について詳細を記述する。
nm)が散乱しないよう平均粒子径は190nm以下が望ましい。これ以上になると入射した光が散乱するため膜が濁って見え、ディスプレイ関係への適用に不具合を生じる場合がある。また酸化ケイ素微粒子が鎖状の場合も上記と同様の理由で太さ(延伸方向に対して垂直な断面における太さ)を190nm以下にすることが望ましい。なお酸化ケイ素微粒子の粒子径は小さいほど透明性が向上する。そのため望ましくは平均粒子径が100
nm以下が好適である。また本発明で酸化ケイ素微粒子の大きさの下限は入手可能なサイズの関係で9nm程度であるが、膜中に良好に分散するのであればこれより小さくても問題は無い。
UPが挙げられる。
塗料の溶媒はバインダーを溶解、或いは一様に分散できるものが有効である。但し、基板が樹脂の場合、ケトン系,エーテル系、或いはエステル系溶媒は基板を膨潤,変形,溶解する場合があるので、注意を要する。前述のバインダーとして好適の加水分解性残基を有するケイ素化合物と、無機酸化物微粒子として好適である酸化ケイ素微粒子を有する塗料の場合はアルコール系の溶媒が好適である。具体的にはエタノール、n−プロパノール,イソプロパノール、n−ブタノール,イソブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、イソペンタノール、tert−ペンタノール等が挙げられる。アルコール系溶媒はポリカーボネート,アクリル等で形成される基板を膨潤,変形,溶解させにくいので好適である。またアルコール系溶媒については炭素数の大きなアルコールは沸点が高くなる傾向がある。また枝分かれが多くなるほど沸点は低くなる傾向がある。後述する製膜の際、熱硬化の温度より沸点が若干低い方が屈折率の低い膜が形成しやすい。これは膜内部に溶媒の気化に伴って発生する空隙の膜に占める体積が増えるためである。
(2)製膜方法
本実施形態の低屈折率膜は基板の前処理,塗布,加熱によって形成される。更に耐擦性を向上させるため、加熱後の後処理を行うこともある。これらの詳細について記述する。
前処理では塗料を均一に付着させるため、基板の洗浄,基板の濡れ性向上を行う。
(i)基板の洗浄
基板の洗浄では基板に付着している汚れを良く溶かす、或いは良く除去できる溶媒,洗浄剤等を用いる。但し基板が樹脂の場合、例えばアクリルやポリカーボネートの場合は表面を溶解することによる曇りを発生させるような溶媒(テトラヒドロフラン,ジオキサン等)よりもメタノール,エタノール,プロパノール,ブタノール等のアルコール系溶媒が望ましい。基板がガラスの場合は塩基性の溶液(例えば水酸化ナトリウム水溶液等)に浸漬して表面を薄くエッチングすることで汚れも一緒に除去することも可能であり、浸漬時に加熱を併用するとエッチングが敏速に進行し好適である。しかし長時間これを行うとエッチングが進行しすぎて表面に曇りを生じることもあるので、注意を要する。
(ii)基板の濡れ性向上
基板の濡れ性を向上することで塗料が均一に塗布されるため、膜厚にばらつきが少なくなり、光学特性が良好となる。基板の濡れ性を向上させるには、プラズマ照射装置等の機器による表面改質方法と、酸,塩基溶液等を用いて表面を化学的に改質する方法が挙げられる。
・機器による表面改質方法
この範疇の方法としては酸素プラズマ照射,オゾン雰囲気に放置,UV照射等が挙げられる。いずれも活性な酸素が基板表面に作用し、水酸基やカルボキシル基等を生成する。これらの基は親水性なので、これらの基が生成した表面は濡れ性が向上する。そのため塗布により均一な厚さの膜を得やすくなる。なおUV照射はUVによって空気中の酸素が活性な状態に変化し、これが表面を改質するものであるから、酸素プラズマ照射,オゾン雰囲気に放置と類似の効果が得られるものである。これ以外の方法としてはアルゴンプラズマが挙げられる。アルゴンプラズマを照射しても濡れ性は向上する。ただプラズマ発生装置の高周波電源の出力が同じ場合は酸素プラズマより照射時間を長めにする必要がある。
・化学的に改質する方法
ガラスは水酸化ナトリウム水溶液に浸漬すると表面のケイ素−酸素の結合が切断し水酸基を生成するため濡れ性が向上する。アクリル板もガラスと同様塩基に浸漬すると濡れ性が向上するがこの原理は表面のエステル基が加水分解し、水酸基、或いはカルボキシル基が露出することによって親水性が向上するというものである。
塗布はスピンコート,ディップコート,バーコート,アプリケーターによるコート,スプレーコート,フローコート等特に限定は無い。適切な膜厚に制御するために塗料の濃度、及びそれぞれ個別の塗布方法の条件を適正化する必要がある。スピンコートの場合は回転数と回転時間が膜厚に影響を与える。特に回転数の影響が大きく、回転数を高めるほど膜は薄くなる傾向がある。ディップコートの場合は浸漬時間と引き上げ速度が膜厚に影響を与える。特に引き上げ速度の影響が大きく、引き上げ速度を小さくするほど膜は薄くなる傾向がある。バーコートの場合は適切な番数,アプリケーターによるコートの場合はギャップの大きさ,スプレーコートの場合はスプレーの移動速度,フローコートの場合は基板を保持する際の角度と用いる塗料の使用量などが個別の塗布条件である。
塗布工程後、溶媒を揮発させる、或いはバインダーによっては重合を進行させるために加熱を行う。加熱温度を溶媒の沸点以上にすることで膜内に気泡が発生し、最終的に空隙として膜中に残り、結果として膜の屈折率を低減する。
熱硬化によって本発明の反射防止膜は形成されるが、これに撥液性を有する含フッ素化合物からなる層が形成されることによって、表面の防汚性が向上する。ただし撥液性を有する含フッ素化合物からなる層の厚さは形成された反射防止膜の反射防止効果を低下させることがないよう、極めて薄く製膜する必要がある。具体的には(2−2)のところで述べたよう56nm未満にすることで反射率への影響を逃れることができる。
・撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜
撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜を形成する方法である。表面を塗膜で被覆することにより撥液性を発揮するものである。そのため、反射防止膜が低抵抗の場合、撥液性の含フッ素化合物が被覆されるため、表面抵抗が高まり、結果的にチリ等の埃を付着しやすくなる。
・パーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を結合
末端に水酸基等と結合可能なアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を反射防止膜に結合させる方法である。具体的には下記で示されるような化合物を反射防止膜に結合される。
(2−4)で記述したように撥液剤としては末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物が有効である。下記に撥液剤、及び撥液膜形成方法を示す。
(a)撥液剤
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物としては具体的には以下の化合物1〜12があげられる。
12は化合物名がそれぞれ1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、1H,
1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシランとしてヒドラス化学社より上市されている。またその他の市販材料としてはダイキン工業社製オプツールDSXが挙げられる。また化合物1〜4はフッ素鎖がパーフルオロポリエーテルであり、このフッ素鎖を有する化合物から形成される撥液膜は水以外にエンジンオイルやガソリン等に長期(1000時間)にわたって浸漬しても撥水性が殆ど低下しない(低下量は5°以下)という特徴がある。これら化合物を一般式で表すと以下のようになる。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)を3M社製PF−5080(100重量部)に溶解し、これに塩化チオニル(20重量部)を加え、攪拌しながら48時間還流する。塩化チオニルとPF−5080をエバポレーターで揮発させクライトックス157FS−Lの酸クロライド(25重量部)を得る。これにPF−5080(100重量部),チッソ(株)製サイラエースS330(3重量部),トリエチルアミン(3重量部)を加え、室温で20時間攪拌する。反応液を昭和化学工業製ラジオライト ファインフローAでろ過し、ろ液中のPF−5080をエバポレーターで揮発させ、化合物1(20重量部)を得た。
チッソ(株)製サイラエースS330(3重量部)の代わりにチッソ(株)製サイラエースS360(3重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物2(20重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製デムナムSH(平均分子量3500)(35重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物3(30重量部)を得た。
チッソ(株)製サイラエースS330(3重量部)の代わりにチッソ(株)製サイラエースS360を用い、デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製デムナムSH(平均分子量3500)(35重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物4(30重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500) (25重量部) の代わりにダイキン工業社製7H−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量346.06)(3.5重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物5(3.5重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500) (25重量部) の代わりにダイキン工業社製7H−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量346.06)(3.5重量部)を用い、チッソ(株)せいサイラエースS310(2重量部)の代わりにチッソ(株)社サイラエースS320(2重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物6(3.5重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製9H−ヘキサデカフルオロノナン酸(分子量446.07)
(4.5重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物7(4.5重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量200)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製9H−ヘキサデカフルオロノナンサン(分子量446.07)
(4.5重量部 )を用い、チッソ(株)製サイラエースS310(2重量部)の代わりにチッソ(株)サイラエースS320(2重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物8(4.5重量部)を得た。
(b)撥液膜形成方法
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を用いる撥液膜形成方法は以下の通りである。
(3)用途
本実施形態の反射防止膜はガラス基板やポリカーボネート樹脂基板,アクリル樹脂基板等の透明基板上に形成できる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
(1)反射防止膜塗料塗布の前処理
縦100mm,横100mm,厚さ1.1mm,屈折率1.50のガラス板に低圧水銀ランプで紫外光を照射した。照射光量は10mW、照射時間は5分間である。これにより紫外光照射を受けたガラス板表面の水との接触角が10°以下となった。なお紫外光照射前のガラス板表面の水との接触角は30〜35°であった。
(2)反射防止塗料調製
バインダーとしてシリカゾル溶液(リン酸酸性,溶媒は水:エタノール=1:4、アルコキシシラン重合物は2.5 重量%含有)(3重量部)、無機酸化物微粒子として酸化ケイ素の分散液(日産化学製IPA−ST、固形分は30重量%)(4重量部)、これにエタノール(60重量部)を混合することで反射防止膜を形成するための塗料(以後反射防止塗料と記述)が調製される。なおこの塗料の沸点は80℃であった。
(3)反射防止塗料塗布
この塗料を(1)の前処理を施したガラス板にスピンコートで塗布する。なおスピンコート条件は最初回転数350rpmで5秒間、引き続き回転数1200rpmで回転時間20秒間である。塗布された塗料は目視ではガラス板上にほぼ均一に広がった。
(4)加熱
スピンコート後、速やかにガラス板を160℃に制御した恒温槽中にいれ、10分間加熱する。これによりシリカゾルが酸化ケイ素に変化し、熱硬化が完了する。こうして表面に反射防止膜の形成されたガラス板が完成する。
(5)裏面への処理
表面に反射防止膜の形成されたガラス板を裏返し、上記(1),(3),(4)の処理を行い、裏面へも表面と同様の反射防止膜を形成した。
(6)評価実験
ガラス板に形成された反射防止膜の膜厚と屈折率を測定したところ、それぞれ120
nmと1.327 であった。なお膜厚と屈折率は溝尻光学工業所製エリプソメーター(型式DHA−OLX)を用いて測定した。ただし、この方法で得られる屈折率は、膜全体の屈折率である。
80℃であった。
(5)と同様にして反射防止膜をガラス板の上に形成した。なお、この実施例で調製した塗料の沸点は80℃であった。
IPA−ST−UPの添加量が4重量部の膜の膜厚と屈折率はそれぞれ76nmと1.241であり、用いた酸化ケイ素微粒子の膜中での存在割合は89%である。実施例6でIPA−ST−UPの添加量が8重量部の膜の膜厚と屈折率はそれぞれ98nmと1.200であり、用いた酸化ケイ素微粒子の膜中での存在割合は94%である。
(1)反射防止膜塗料塗布の前処理
厚さ5mmのアクリル板(アズワン社製)を縦100mm,横100mmに切り出した。この基板上に以下の方法で反射防止膜を形成する。なおこの基板の屈折率は1.52 であった。
(2)反射防止塗料調製
シリカゾル溶液(リン酸酸性,溶媒は水:エタノール=1:4、アルコキシシラン重合物は2.5重量%含有)(3重量部),酸化ケイ素の分散液(日産化学製IPA−ST−UP、固形分は15重量%)(4重量部),エタノール(60重量部)を混合することで反射防止膜を形成するための塗料(以後反射防止塗料と記述)が調製される。また、この実施例で調製した塗料の沸点は80℃であった。
(3)反射防止塗料塗布
この塗料を(1)の前処理を施したアクリル板にスピンコートで塗布する。なおスピンコート条件は最初回転数350rpmで5秒間、引き続き回転数1200rpmで回転時間20秒間である。塗布された塗料は目視ではアクリル板上にほぼ均一に広がった。
(4)熱硬化
スピンコート後、速やかにアクリル板を95℃に制御した恒温槽中にいれ、30分間加熱する。これによりシリカゾルが酸化ケイ素に変化し、熱硬化が完了する。こうして表面に反射防止膜の形成されたアクリル板が完成する。
(5)裏面への処理
表面に反射防止膜の形成されたアクリル板を裏返し、上記(1),(3),(4)の処理を行い、裏面へも表面と同様の反射防止膜を形成した。
(6)評価実験
次に実施例1の(6)と同様にこの膜を評価した。その結果、アクリル板に形成された反射防止膜の膜厚と屈折率を測定したところ、それぞれ86nmと1.245であった。
(1)反射防止膜塗料塗布の前処理
厚さ0.5mmのポリカーボネート板(藤本化学社製)を縦200mm,横200mmに切り出した。この基板上に以下の方法で反射防止膜を形成する。なおこの基板の屈折率は1.54であった。
(2)反射防止塗料調製
シリカゾル溶液(リン酸酸性,溶媒は水:エタノール=1:4、アルコキシシラン重合物は2.5 重量%含有)(3重量部),酸化ケイ素の分散液(日産化学製IPA−ST−UP、固形分は15重量%)(4重量部),エタノール(60重量部)を混合することで反射防止膜を形成するための塗料(以後反射防止塗料と記述)が調製される。なお、この実施例で調製した塗料の沸点は80℃であった。
(3)反射防止塗料塗布
この塗料を(1)の前処理を施したポリカーボネート板にスピンコートで塗布する。なおスピンコート条件は最初回転数350rpmで5秒間、引き続き回転数1200rpmで回転時間20秒間である。塗布された塗料は目視ではポリカーボネート板上にほぼ均一に広がった。
(4)熱硬化
スピンコート後、速やかにポリカーボネート板を120℃に制御した恒温槽中にいれ、20分間加熱する。これによりシリカゾルが酸化ケイ素に変化し、熱硬化が完了する。こうして表面に反射防止膜の形成されたポリカーボネート板が完成する。
(5)裏面への処理
表面に反射防止膜の形成されたポリカーボネート板を裏返し、上記(1),(3),
(4)の処理を行い、裏面へも表面と同様の反射防止膜を形成した。
(6)評価実験
次に実施例1の(6)と同様にこの膜を評価した。その結果、ポリカーボネート板に形成された反射防止膜の膜厚と屈折率を測定したところ、それぞれ82nmと1.243 であった。
(1)撥液処理液調製
始めに化合物1〜12の0.5 重量%溶液 (溶媒は3M社製フロリナートPF−5080)を調製する。これらを撥液処理液とする。また化合物1の0.1重量%PF−5080溶液を撥液処理液[1]、化合物2の0.1重量%PF−5080溶液を撥液処理液[2]、……化合物12の0.1重量%PF−5080溶液を撥液処理液[12]とする。
(2)撥液処理方法
・撥液処理液[1]〜[12]を用いた場合
撥液処理液中にそれぞれの基板を3分間浸漬する。基板を取り出し、内部を95℃に加熱された恒温漕に30分間放置する。基板を取り出し、PF−5080で表面をリンスし、余分な撥液処理液を除去することで処理が完了する。
・撥液処理液[13]を用いた場合
撥液処理液中にそれぞれの基板を3分間浸漬する。基板を取り出し、内部を95℃に加熱された恒温漕に90分間放置する。基板を取り出し、処理が完了する。
(3)撥液性評価
撥液処理の完了した基板の表面の撥液性を水との接触角で評価した。結果を表1〜8に示す。
DVDの記録再生においては最近記録密度の向上を狙って405nmの光が使われ始めている。そのためこの波長の光の反射率が高い基板を用いてディスクを作製すると、記録・再生時の光の強度を大きくする必要が出てくる。レーザーの出力を変えないで照射強度を高めるにはそれぞれのピットへの光の照射時間を長くすれば良いが、高速での記録・再生にとってはマイナスである。そのため、この波長の光の反射率を低減することが高速で記録・再生を可能にする技術の一つとなる。
nmにおける反射率の平均を求めたところ、反射防止膜を形成していないガラス基板は
10%であったが、反射防止膜を形成したガラス基板は0.5% であった。このことから太陽光を反射せず光電変換層に取り込める点で、発電量が向上したものと考えられる。
(固形分2.5% )(3重量部)、酸化ケイ素の分散液を日産化学製IPA−ST(4重量部)の代わりに日産化学製IPA−ST−UP(4重量部)に代える以外は、実施例1と同様にして反射防止塗料を調製する。
(3)〜(5)と同様にして反射防止膜を形成したガラス板を作製した。実施例1の(6)と同様の評価試験を行ったところ、ガラス板に形成された反射防止膜の膜厚と屈折率はそれぞれ90nmと1.320であった。550nmでの反射率は2.9%であった。形成した反射防止膜の断面をTEMで観察したところ、図2に示すように大きさが5〜80nmの空隙が確認された。
(2重量部)を用いる以外は、実施例1と同様にして反射防止塗料を調製する。
Claims (12)
- 無機酸化物微粒子とケイ素化合物とを有して構成され、
厚さが60〜190nmであり、
5〜200nmの大きさの空隙を有し、
前記無機酸化物微粒子の形状は鎖状であり、
屈折率は1.295未満であり、
前記無機酸化物微粒子は酸化ケイ素微粒子であり、
前記無機酸化物微粒子の表面に水酸基が存在し、
含フッ素化合物からなる層を表面に有し、
前記含フッ素化合物は下記含フッ素化合物であり、
前記含フッ素化合物からなる層は化学結合により結合していることを特徴とする反射防止膜。
(化1)
[F{CF(CF3)−CF2O}n―CF(CF3)]−X−Si(OR)3(14≦n≦21)
{F(CF2CF2CF2O)n}−(CF 2 ) 2 −X―Si(OR)3(14≦n≦21)
{H(CF2)n}−Y 1 ―Si(OR)3(n=6,8)
{F(CF2)n}−Y 2 ―Si(OR)3(n=6,8)
Xはパーフルオロポロエーテル鎖とアルコキシシラン残基との結合部位でCONH−(CH2)3、
Y 1 ,Y 2 はパーフルオロアルキル基とアルコキシシラン残基との結合部位で、Y 1 はCONH−(CH2)3 、Y 2 は (CH2)2
Rはアルキル基。 - 塗料を塗布することによって形成され、前記塗料の沸点以上前記塗料の沸点+150℃以下で加熱されることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 前記無機酸化微粒子は酸化ケイ素微粒子であって、
形状は鎖状であり、
前記酸化ケイ素微粒子は膜の固形分に対して75重量%以上であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。 - 画像表示部位の最表面に反射防止膜を有する画像表示装置において、
該反射防止膜が請求項1に記載の反射防止膜である画像表示装置。 - 記録部分の光の反射率の違いにより記録を行う光記録媒体において、
最表面に請求項1に記載の反射防止膜を有することを特徴とする光記録媒体。 - 少なくとも透明な壁面を1面以上有する温室において、
前記透明な壁面が請求項1に記載の反射防止膜を有していることを特徴とする温室。 - 入力部位,画像表示部位を有する携帯画像表示端末であって、
前記画像表示部位は透明基板と、該透明基板の表面に形成される反射防止膜とを有し、
該反射防止膜は請求項1に記載の反射防止膜である携帯画像表示端末。 - 絶縁性光透過基板,表面電極,光電変換層,中間透明電極,裏面電極を備えた太陽光発電モジュールであって、
前記絶縁性光透過基板の表面に請求項1に記載の反射防止膜が形成されていることを特徴とする太陽光発電モジュール。 - 透明性を有する室内建材用基板であって請求項1に記載の反射防止膜を有していることを特徴とする室内建材用基板。
- 鎖状の無機酸化物微粒子、ケイ素化合物であるバインダー、及び溶剤からなる塗料を塗布する工程と、
該塗料を加熱する工程と、
前記塗料を加熱する工程の後に、含フッ素化合物を溶解した溶液を塗布した後加熱する工程とを有し、
前記無機酸化物微粒子は酸化ケイ素微粒子であり、
前記含フッ素化合物は下記含フッ素化合物であることを特徴とする屈折率が1.295未満の反射防止膜の形成方法。
(化2)
[F{CF(CF3)−CF2O}n―CF(CF3)]−X−Si(OR)3(14≦n≦21)
{F(CF2CF2CF2O)n}−(CF 2 ) 2 −X―Si(OR)3(14≦n≦21)
{H(CF2)n}−Y 1 ―Si(OR)3(n=6,8)
{F(CF2)n}−Y 2 ―Si(OR)3(n=6,8)
Xはパーフルオロポロエーテル鎖とアルコキシシラン残基との結合部位でCONH−(CH2)3、
Y 1 ,Y 2 はパーフルオロアルキル基とアルコキシシラン残基との結合部位で、Y 1 はCONH−(CH2)3 、Y 2 は (CH2)2
Rはアルキル基。 - 前記加熱する工程における加熱温度は、前記塗料の沸点以上前記塗料の沸点+150℃以下で行うことを特徴とする請求項10に記載の反射防止膜の形成方法。
- 前記溶媒はアルコール系であることを特徴とする請求項10に記載の反射防止膜の形成方法。
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