JP4760237B2 - 光学部品及びそれを用いた投射型画像表示装置 - Google Patents
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Images
Description
なお空気の屈折率n0は通常1.0であるためこの式は下記のようになる。
この式にガラス,アクリル樹脂,PET樹脂の屈折率を当てはめるとそれぞれの透明部材の片面における反射率は、ガラスが3.9〜4.0% 、アクリル樹脂が3.9%、PET樹脂が4.8% となる。この反射率を抑えるため部材表面に適正な膜厚で単層構造の反射防止膜を設けた場合、反射率R′は、空気層の屈折率n0 ,最表面基板の屈折率n1 ,膜の屈折率n2 とすると、
R′={(n2 2−n0×n1)/(n2 2+n0×n1)}2 …(3)
から求められる。空気の屈折率n0は通常1.0であるため、
R′={(n2 2−n1)/(n2 2+n1)}2 …(4)
となり、n2 2=n1 のとき、すなわちn2=√n1 のとき理論的に反射率は0%になる。
nmの大きさの空隙を持たせる方法を見出した。この膜はバインダーの屈折率より小さな値を示すと同時に、膜内部に空隙を有しているにもかかわらず空隙を持たない無機酸化物粒子を用いているため物理的強度に優れ、アクリル,ガラス等の透明部材への密着性が高いことも判明し、この膜を有するレンズ等の光学部品は表面の反射が少なく光透過性が高くなるとともに、膜の表面への密着性にも優れるため物理的強度が高いことがわかった。
(1)塗料材料
塗料材料はバインダー,無機酸化物微粒子,溶媒からなる。これらに関して下記に記述する。
(1−1)バインダー
塗膜材料としては、透明性の高い有機系或いは無機系の高分子材料,高分子化可能な材料が挙げられる。レンズ基材が樹脂の場合、有機系の塗膜材料を選択すると、用いる溶媒によって基板が膨潤,変形或いは溶解することがある。また硬度も無機系のものの方が高い傾向がある。そのため無機系の材料が好適である。無機系の材料の場合、低屈折率の材料の方が反射防止膜を形成する際には有利となる。低屈折率の材料としてはケイ素系の材料が好適である。
(1−2)無機酸化物粒子
無機酸化物粒子としては酸化ケイ素,酸化アルミニウム,酸化チタン,酸化セリウム等の無色、或いは白色の粒子が挙げられる。大きさとしては膜の平坦性を高める点で、粒子の短軸が平均膜厚以下になることが望ましい。また上記の中では低屈折率の膜が得やすいという点で、比較的屈折率の低い酸化ケイ素(屈折率は約1.5〜1.7),酸化アルミニウム(屈折率は約1.7〜1.9)等が好適である。そこで特に酸化ケイ素粒子について詳細を記述する。
190nm以下が望ましい。可視領域については、納谷嘉信著,1984年2月10日第2版 産業色彩学,朝倉書店,2ページに記載がある。これ以上になると入射した光が散乱するため膜が濁って見え、ディスプレイ関係への適用に不具合を生じる場合がある。また酸化ケイ素微粒子が鎖状の場合も上記と同様の理由で太さ(延伸方向に対して垂直な断面における太さ)を190nm以下にする必要にすることが望ましい。なお酸化ケイ素微粒子の粒子径は小さいほど透明性が向上する。そのため望ましくは平均粒子径100nm以下が好適である。
nm以下が望ましい。
(1−3)溶媒
塗料の溶媒はバインダーを溶解、或いは一様に分散できるものが有効である。
(1−4)分散剤
無機酸化物粒子は凝集すると、入射してくる光を散乱する。そのため透過率が低下する、或いは膜が濁る等の問題がある。特に無機物粒子の直径が60nm以上の場合、この傾向が著しく見られる。これは、わずかな個数で凝集しても、その凝集体の長軸が100
nm以上になり、可視領域の光の透過性を妨げてしまうためである。そこで、分散剤を添加することで粒子の凝集を抑制することが可能となる。
(i)非イオン性の界面活性剤
非イオン性の界面活性剤としてはポリアルキレングリコール鎖を有する化合物が挙げられる。ポリアルキレングリコール鎖は親水性を有し、無機酸化物粒子表面の水酸基,酸素原子等の吸着、或いは近傍に局在化する。一方ポリアルキレングリコール鎖以外の部分は溶媒に親和性のある構造、例えばアルキル鎖,アルキレン鎖等が望ましい。
(ii)イオン性の界面活性剤
イオン性の界面活性剤としては、アニオン部位がスルホン酸イオン,カルボン酸イオンとなっているものが望ましい。カチオン部位はアルカリ金属イオン、具体的にはナトリウムイオン,カリウムイオン,リチウムイオン、又はアルカリ土類金属イオン、具体的にはマグネシウムイオン,カルシウムイオン、その他アンモニウムイオン等が望ましい。
(2)製膜方法
本実施形態の低屈折率膜は基板の前処理,塗布,加熱によって形成される。単層プロセスで形成可能であり、多層プロセスで形成しても良い。更に耐擦性を向上させるため、加熱後の後処理を行うこともある。これらの詳細について記述する。
(2−1)前処理
前処理では塗料を均一に付着させるため、基板の洗浄,基板の濡れ性向上を行う。
(i)基板の洗浄
基板の洗浄では基板に付着している汚れを良く溶かす、或いは良く除去できる溶媒,洗浄剤等を用いる。但し基板が樹脂の場合、例えばアクリルやポリカーボネートの場合は表面を溶解することによる曇りを発生させるような溶媒(テトラヒドロフラン,ジオキサン等)よりもメタノール,エタノール,プロパノール,ブタノール等のアルコール系溶媒が望ましい。基板がガラスの場合は塩基性の溶液(例えば水酸化ナトリウム水溶液等)に浸漬して表面を薄くエッチングすることで汚れも一緒に除去することも可能である。
(ii)基板の濡れ性向上
基板の濡れ性を向上することで塗料が均一に塗布されるため、膜厚にばらつきが少なくなり、光学特性が良好となる。また、基板と膜との密着性が向上するので膜強度向上につながる。基板の濡れ性を向上させるには、プラズマ照射装置等の機器による表面改質方法と、酸,塩基溶液等を用いて表面を化学的に改質する方法が挙げられる。
・機器による表面改質方法
この範疇の方法としては酸素プラズマ照射,オゾン雰囲気に放置,UV照射等が挙げられる。いずれも活性な酸素が基板表面に作用し、水酸基やカルボキシル基等を生成する。これらの基は親水性なので、これらの基が生成した表面は濡れ性が向上する。そのため塗布により均一な厚さの膜を得やすくなる。なおUV照射はUVによって空気中の酸素が活性な状態に変化し、これが表面を改質するものであるから、酸素プラズマ照射,オゾン雰囲気に放置と類似の効果が得られるものである。これ以外の方法としてはアルゴンプラズマが挙げられる。アルゴンプラズマを照射しても濡れ性は向上する。ただプラズマ発生装置の高周波電源の出力が同じ場合は酸素プラズマより照射時間を長めにする必要がある。
・化学的に改質する方法
ガラスは水酸化ナトリウム水溶液に浸漬すると表面のケイ素−酸素の結合が切断し水酸基を生成するため濡れ性が向上する。アクリル板もガラスと同様塩基に浸漬すると濡れ性が向上するがこの原理は表面のエステル基が加水分解し、水酸基、或いはカルボキシル基が露出することによって親水性が向上するというものである。
(2−2)塗布方法
塗布はスピンコート,ディップコート,バーコート,アプリケーターによるコート,スプレーコート,フローコート等特に限定は無い。適切な膜厚に制御するために塗料の濃度、及びそれぞれ個別の塗布方法の条件を適正化する必要がある。スピンコートの場合は回転数と回転時間が膜厚に影響を与える。特に回転数の影響が大きく、回転数を高めるほど膜は薄くなる傾向がある。ディップコートの場合は浸漬時間と引き上げ速度が膜厚に影響を与える。特に引き上げ速度の影響が大きく、引き上げ速度を小さくするほど膜は薄くなる傾向がある。バーコートの場合は適切な番数、アプリケーターによるコートの場合はギャップの大きさ、スプレーコートの場合はスプレーの移動速度、フローコートの場合は基板を保持する際の角度と用いる塗料の使用量などが個別の塗布条件である。
116nmである。反射防止膜なしでの基板片面の反射率は約4%あるので、少なくとも反射率を4%以下にできる反射防止膜の膜厚は90nmから140nmの範囲である。
(2−3)加熱
塗布工程後、溶媒を揮発させる、或いはバインダーによっては重合を進行させるために加熱を行う。加熱温度を溶媒の沸点以上にすることで膜内に気泡が発生し、最終的に空隙として膜中に残り、結果として膜の屈折率を低減する。
(2−4)後処理概要
熱硬化によって本発明の反射防止膜は形成されるが、これに撥液性を有する含フッ素化合物からなる層が形成されることによって、表面の防汚性が向上する。ただし撥液性を有する含フッ素化合物からなる層の厚さは形成された反射防止膜の反射防止効果を低下させることがないよう、極めて薄く製膜する必要がある。具体的には(2−2)のところで述べたよう56nm未満にすることで反射率への影響を逃れることができる。なお人間の視感度の高い555nmの波長において、反射率への影響が1%未満となる撥液層の膜厚は、我々の検討では6nm未満であった。
・撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜
撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜を形成する方法である。表面を塗膜で被覆することにより撥液性を発揮するものである。そのため、反射防止膜が低抵抗の場合、撥液性の含フッ素化合物が被覆されるため、表面抵抗が高まり、結果的にチリ等の埃を付着しやすくなる。
・パーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を結合
末端に水酸基等と結合可能なアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を反射防止膜に結合させる方法である。具体的には(化1)下記で示されるような化合物を反射防止膜に結合される。
(2−5)後処理で用いる撥液剤
(2−4)で記述したように撥液剤としては末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物が有効である。下記に撥液剤、及び撥液膜形成方法を示す。
撥液剤
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物としては具体的には以下の化合物1〜12があげられる。
12は化合物名がそれぞれ1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、1H,
1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシランとしてヒドラス化学社より上市されている。またその他の市販材料としてはダイキン工業社製オプツールDSXが挙げられる。また化合物1〜4はフッ素鎖がパーフルオロポリエーテルであり、このフッ素鎖を有する化合物から形成される撥液膜は水以外にオイルやタバコの煙等に長期(1000時間)にわたって接触しても撥水性が殆ど低下しない(低下量は5°以下)という特徴がある。これら化合物を一般式で表すと以下のようになる。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)を3M社製PF−5080(100重量部)に溶解し、これに塩化チオニル(20重量部)を加え、攪拌しながら48時間還流する。塩化チオニルとPF−5080をエバポレーターで揮発させクライトックス157FS−Lの酸クロライド(25重量部)を得る。これにPF−5080(100重量部),チッソ(株)製サイラエースS330(3重量部),トリエチルアミン(3重量部)を加え、室温で20時間攪拌する。反応液を昭和化学工業製ラジオライト ファインフローAでろ過し、ろ液中のPF−5080をエバポレーターで揮発させ、化合物1(20重量部)を得た。
チッソ(株)製サイラエースS330(3重量部)の代わりにチッソ(株)製サイラエースS360(3重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物2(20重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製デムナムSH(平均分子量3500)(35重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物3(30重量部)を得た。
チッソ(株)製サイラエースS330(3重量部)の代わりにチッソ(株)製サイラエースS360を用い、デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製デムナムSH(平均分子量3500)(35重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物4(30重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製7H−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量36.06) (3.5重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物5(3.5重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製7H−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量346.06) (3.5重量部)を用い、チッソ(株)社サイラエースS310(2重量部)の代わりにチッソ
(株)社サイラエースS320(2重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物6(3.5重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量2500)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製9H−ヘキサデカフルオロノナン酸(分子量446.07)
(4.5 重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物7(4.5重量部)を得た。
デュポン社製クライトックス157FS−L(平均分子量200)(25重量部)の代わりにダイキン工業社製9H−ヘキサデカフルオロノナンサン(分子量446.07)
(4.5 重量部)を用い、チッソ(株)製サイラエースS310(2重量部)の代わりにチッソ(株)サイラエースS320(2重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同様にして化合物8(4.5重量部)を得た。
(b)撥液膜形成方法
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を用いる撥液膜形成方法は以下の通りである。
(3)レンズ,プロジェクタ等への使用について
図5にフロントプロジェクタタイプの画像表示装置の光学系の模式図を示す。
33によってスクリーン34上へと投射されることにより大画面映像を形成する。また第1リレーレンズ,第2リレーレンズは映像表示素子2R,2Gに比べて映像表示素子2Bの光源からの光路が長くなっていることを補うためのものである。更にコンデンサレンズ10R,10G,10Bは投射レンズによる効率良い投射を行うために映像表示素子2R,2G,2B通過後の光線の広がりを抑えるものである。
38に投射される。こうしてスクリーンには画像が表示される。
(4)その他の用途
本実施形態の反射防止膜はガラスやポリカーボネート,アクリル樹脂等の透明基材上に形成できる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
(1)洗浄
直径100mmのアクリル樹脂製レンズを水の入っている水槽に入れ、内部を超音波洗浄器で振動させた後、蒸留水でリンスして、レンズの表面の汚れを除去する。
(2)反射防止塗料調製
バインダーとしてシリカゾル溶液(主溶媒は水,アルコキシシラン重合物は10重量%含有)(2重量部),無機酸化物粒子として長軸の平均長さが約60nmの酸化ケイ素の5重量%分散液(35重量部)、これに水(80重量部)を混合することで反射防止膜を形成するための塗料(以後反射防止塗料と記述)が調製される。
(3)反射防止塗料塗布
この塗料を(1)の洗浄を施したレンズにスピンコートで塗布する。塗布された塗料は目視ではレンズ上にほぼ均一に広がった。
(4)加熱
スピンコート後、速やかにレンズを90℃に制御した恒温槽中にいれ、10分間加熱する。これによりシリカゾルが酸化ケイ素に変化し、熱硬化が完了する。こうして表面に反射防止膜の形成されたガラス板が完成する。
(5)裏面への処理
表面に反射防止膜の形成されたガラス板を裏返し、上記(1)(3)(4)の処理を行い、裏面へも表面と同様の反射防止膜を形成した。
(6)評価実験
ガラス板に形成された反射防止膜の膜厚と屈折率をエリプソメトリィで測定したところ、それぞれ120nmと1.25であった。
(1)〜(5)と同様にして反射防止膜を形成したレンズを形成した。
20℃,湿度50%の条件において1×1010Ωであった。なお反射防止膜を形成していないレンズの表面抵抗率は1×1012Ωであった。そのため、反射防止膜付きのレンズの方が、反射防止膜の無いレンズに比べて帯電しにくく、ほこりがつきにくかった。
反射防止膜の部材をフッ化マグネシウムに、また製膜を塗布ではなく蒸着にする以外は実施例1の(1)〜(5)と同様にして、反射防止膜付きのレンズを形成する。
20℃,湿度50%の条件において2×1014Ωであった。そのため、実施例1で形成したレンズに比べて帯電しやすくほこりがつきやすかった。
反射防止膜の部材をフッ化マグネシウムに、また製膜を塗布ではなく蒸着にする以外は実施例2と同様にして、反射防止膜付きのレンズを形成する。
20℃,湿度50%の条件において2×1014Ωであった。そのため、実施例2で形成したレンズに比べて帯電しやすくほこりがつきやすかった。
nmでの光の透過率が約7%向上していることを確認した。また従来用いられているフッ化マグネシウム製の反射防止膜付きの色合成プリズムに比べても約3%光の透過率が向上していることを確認した。
(1)撥液処理液調製
始めに化合物1〜12の0.5 重量%溶液 (溶媒は3M社製フロリナートPF−5080)を調製する。これらを撥液処理液とする。また化合物1の0.1 重量%PF−5080溶液を撥液処理液[1]、化合物2の0.1重量%PF−5080溶液を撥液処理液[2],……化合物12の0.1重量%PF−5080溶液を撥液処理液[12]とする。
(2)撥液処理方法
撥液処理液[1]〜[12]を用いた場合
撥液処理液中にそれぞれの光学部品を3分間浸漬する。光学部品を取り出し、内部を
95℃に加熱された恒温漕に30分間放置する。光学部品を取り出し、PF−5080で表面をリンスし、余分な撥液処理液を除去することで処理が完了する。
撥液処理液[13]を用いた場合
撥液処理液中にそれぞれの光学部品を3分間浸漬する。光学部品を取り出し、内部を
95℃に加熱された恒温漕に90分間放置する。光学部品を取り出し、処理が完了する。
(3)撥液性評価
撥液処理の完了した光学部品の表面の撥液性を水との接触角で評価した。結果を表1〜表6に示す。
550nmでの光の強度が約3%向上していることを確認した。
12…リフレクタ、13…凹レンズ、14…第1レンズアレイ、15…第2レンズアレイ、16…偏光変換素子、17…映像表示素子2R、18…映像表示素子2G、19…映像表示素子2B、20…集光レンズ、21…コンデンサレンズ10R、22…コンデンサレンズ10G、23…コンデンサレンズ10B、24…第1リレーレンズ、25…第2リレーレンズ、26〜29…ミラー、30,31…ダイクロイックミラー、32…色合成プリズム、33…投射レンズ、34,38…スクリーン、35…ハウジング、36…光学ユニット、37…背面ミラー、40…ガラス板、42…画像光、43…反射光。
Claims (9)
- 光を透過、或いは一部反射する光学部品において、
前記光学部品の表面に反射防止膜を有し、
前記反射防止膜が無機酸化物粒子とバインダーから構成され、
且つ前記反射防止膜の厚さが60〜190nmであり、
且つ前記反射防止膜が5〜200nmの大きさの空隙を有し、
前記反射防止膜中に分散剤が添加されており、
前記分散剤はポリアルキレングリコール鎖を有する有機化合物または塩構造を有する有機化合物であり、
前記分散剤の添加量は前記反射防止膜の固形分の0.1〜5重量%であり、
前記反射防止膜について、前記光学部品側から前記反射防止膜の表面側へ行くに従い前記空隙の割合が増加することを特徴とする光学部品。 - 前記無機酸化物粒子は酸化ケイ素粒子であり、
且つ前記バインダーがケイ素化合物からなることを特徴とする請求項1記載の光学部品。 - 前記粒子の長軸の径は190nm以下であり、
且つ短軸の径は膜厚よりも小さいことを特徴とする請求項1または2に記載の光学部品。 - 前記反射防止膜表面に含フッ素化合物からなる層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学部品。
- 前記含フッ素化合物は下記構造であり、且つ前記含フッ素化合物からなる層は化学結合により前記反射防止膜と結合していることを特徴とする請求項4に記載の光学部品。
〔化1〕
[[F{CF(CF3)−CF2O}n−CF(CF3)]−X−Si(OR)3(14≦n≦21)
F(CF2CF2CF2O)n}−(CF2)2−X−Si(OR)3(14≦n≦21)
{H(CF2)n}−Y1−Si(OR)3(n=6、8)
{F(CF2)n}−Y2−Si(OR)3(n=6、8)
Xはパーフルオロポロエーテル鎖とアルコキシシラン残基との結合部位でCONH−(CH2)3、
Y1,Y2はパーフルオロアルキル基とアルコキシシラン残基との結合部位でY1はCONH−(CH2)3、Y2は(CH2)2、Rはアルキル基。 - 前記光学部品がレンズ,偏光変換素子,ダイクロイックミラー,映像表示素子,色合成プリズム,ランプの管球,背面ミラー,前面板であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学部品。
- 前記含フッ素化合物からなる層の厚さは56nm未満であることを特徴とする請求項4に記載の光学部品。
- 前記反射防止膜は単層であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学部品。
- 光源からの光束を反射させて出射し、該光源からの出射光束を表示素子で光強度変調して、該光強度変調された映像光を投射レンズで拡大して表示する投射型画像表示装置において、
前記投射型画像表示装置の内部に組み込まれている複数のレンズ,偏光変換素子,ダイクロイックミラー,映像表示素子,色合成プリズム,ランプの管球,背面ミラー,前面板の少なくとも1つの部品の少なくとも1つの受光面に請求項1〜8のいずれか1項に記載の光学部品が形成されていることを特徴とする投射型画像表示装置。
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