JP2004109728A - 眼鏡用プラスチックレンズ - Google Patents

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Yuji Kato
加藤 祐史
Naoyuki Ishii
石井 直幸
Kaname Hase
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Abstract

【課題】反射防止層を保護するために最適な薄膜コーティングを施した眼鏡用プラスチックレンズを提供すること。
【解決手段】レンズ基材表面にオルガノシロキサン系ハードコート膜を第1層として形成させ、同ハードコート膜に対して無機酸化物系反射防止膜を第2層として形成させるとともに、同反射防止膜に対して有機ケイ素化合物を重縮合させた撥水性薄膜を第3層として形成させた複層膜構造のプラスチックレンズであって、同プラスチックレンズ表面に対する鉛筆硬度を3H〜7Hとし、かつオレイン酸に対する転落角20度以下とした。

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は眼鏡用プラスチックレンズに関するものである。
【0002】
【従来の技術】眼鏡用プラスチックレンズは軽い、割れにくい、染色しやすいといったガラスレンズにはない特性がある。過去にはガラスに比べて屈折率が低いとか経年劣化が生じやすいといった欠点もあったものの、レンズ自体の改良も進み、現在ではガラスレンズと遜色ない性能をもったプラスチックレンズ素材が開発されている。
しかしながら、レンズの光学特性としては性能の向上が見られるものの、プラスチックという材質上の特性からガラスレンズよりもどうしても傷がつきやすくなってしまう。そのため眼鏡用プラスチックレンズではレンズ面への耐スクラッチ性を向上させるため従来よりハードコート膜を被膜として施している。
一般的にレンズには反射防止層が施されるが反射防止層はこのハードコート膜の上層に施される。
ところが、反射防止層として一般的に使用されるTiOやSiO等からなる単層あるいは多層膜から構成されているため、その表面に汚れが付着しやすかった。
そのため、反射防止層の汚れの付着を防止するために更にその上層に更に硬質膜を被覆させるような技術がある(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特公平7−113682号公報(第2頁、第1図)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記硬質膜は単に硬ければ良いのではなく、硬すぎると逆にわずかな擦過であっても剥離してしまう可能性がある。従って、このような反射防止層を保護するための薄膜には眼鏡用プラスチックレンズとして最適な条件を設定する必要がある。
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的は、反射防止層を保護するために最適な薄膜コーティングを施した眼鏡用プラスチックレンズを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために請求項1の発明では、レンズ基材表面にオルガノシロキサン系ハードコート膜を第1層として形成させ、同ハードコート膜に対して無機酸化物系反射防止膜を第2層として形成させるとともに、同反射防止膜に対して有機ケイ素化合物を重縮合させた撥水性薄膜を第3層として形成させた複層膜構造のプラスチックレンズであって、同プラスチックレンズ表面に対する鉛筆硬度を3H〜7Hとし、かつオレイン酸に対する転落角20度以下としたことを要旨とする。
請求項2の発明では、請求項1に記載の発明の構成に加え、前記オルガノシロキサン系ハードコート膜の下層膜としてプライマー膜を形成させるようにしたことを要旨とする。
【0006】
ここにプラスチックレンズを構成するプラスチックは通常、市販の眼鏡用基材であればいずれでも使用可能であり、特に限定されない。例えば、透明なジエチレングリコールビスアリルカーボネート(CR−39)やポリカーボネート等のプラスチックレンズを挙げることができる。屈折率の高いプラスチックとして例えばポリイソシアネート化合物とポリチオール及び/又は含硫ポリオールとを付加重合して得られるポリウレタン系樹脂を挙げることができる。更に高屈折率のプラスチックとしてエピスルフィド基とポリチオール及び/又は含硫ポリオールとを付加重合して得られるエピスルフィド樹脂を挙げることができる。
これらの種々の屈折率を有する基材の中で、特に屈折率が1.57以上の素材が好ましい。例えば、上記ポリウレタン樹脂系やエピスルフィド樹脂系はそれぞれ屈折率1.60及び1.70であって好適である。
【0007】
第1層目のハードコート膜は、オルガノシロキサン系樹脂と無機酸化物微粒子から構成されている。ハードコート膜はコート用のハードコート液に浸漬し、その後公知の方法にて溶媒を蒸発させて形成される。ハードコート液は水又はアルコール系の溶媒にオルガノシロキサン系樹脂と無機酸化物微粒子ゾルを混合させた液である。
オルガノシロキサン系樹脂はアルコキシシランの加水分解物を加熱硬化させて得られるものが好ましい。アルコキシシランの具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルシリケートなどが挙げられる。これらアルコキシシランの加水分解物は、前述のアルコキシシラン化合物を単独または2種以上組合せ、塩酸等の酸性水溶液で加水分解することによって製造される。
無機酸化物微粒子の具体的な例としては、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ベリリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化セリウム等の各ゾルを単独で又は2種以上を混晶化して使用可能である。2種以上を複合化した例としては、例えば、酸化スズと酸化タングステンの複合ゾルが挙げられる。金属粒子の大きさはハードコート膜の透明性に関連するので重要である。金属粒子径は100nm以下であることが必要であり、特に1〜50nm以下であることが好ましい。金属粒子の配合量はハードコート膜の硬さ、強靭性に大きく影響する。通常はハードコート成分中、40〜60重量%が好ましい。
【0008】
またハードコート液中には必要に応じ、硬化触媒として、アセチルアセトン金属塩、エチレンジアミン四酢酸金属塩などを添加することも可能である。さらに必要に応じ、界面活性剤、着色剤、溶媒などを添加してコーティング剤を調整することも可能である。ハードコート膜を構成する樹脂に紫外線吸収剤を添加することでレンズ本体、プライマー、ハードコートを構成する樹脂類の劣化を防止する他、眼球の保護を行うことができる。
【0009】
ハードコート膜の膜厚は0.5〜2.5μ、特に1.0〜2.0μの範囲が好ましい。このような範囲とした点についてまず膜厚0.5μ以上としたのは、膜厚をきわめて薄くすることで干渉縞を防止する効果が期待できるものの、薄過ぎる場合にはレンズの耐擦傷性の効果を発揮できなくなるためである。一方、膜厚を2.5μ以下にすると硬度は上げ易いが、本レンズのクラックが発生しやすくなり、さらに脆くなりやすいなど物性面への問題が生じるためこのように上限を設定することが好ましい。
また、基材の屈折率によってハードコート膜の屈折率を選択することが必要である。屈折率の設定は上記無機微粒子の配合量や配合割合によって異なる。基材とハードコート膜との屈折率に差が生じると、ハードコート膜とレンズの界面からの反射光とハードコート膜表面からの反射光が互いに干渉して、干渉縞が発生してしまう。そのため、理論的にはレンズ本体とハードコート膜の各屈折率が同等であることが好ましい。
尚、この干渉縞の発生しやすい傾向は屈折率が高くなると顕著であって、レンズ本体の屈折率が1.60を越えるようになると、ハードコート膜の屈折率も1.60近くに合わせる必要がある。
【0010】
第2層目の反射防止膜は公知の蒸着法やイオンスパッタリング法等により形成されている。反射防止層は、光学理論に基づいた多層構造膜が採用される。材料としては、SiO、SiO、Al、Y、Yb、CeO、ZrO
Ta、TiO、MgFなど一般的な無機酸化物を使用することができる。
【0011】
第3層目の撥水性薄膜は公知の蒸着法、イオンスパッタリング法あるいは通常のディピングコート法やスピンコート法等により形成されている。撥水性薄膜は、有機ケイ素化合物を重縮合させたものである。重縮合によって、被膜の厚膜化、緻密化が可能となり、基材との密着性および表面硬度が高く、汚れの拭き取り性に優れた被膜が得られやすくなる。
重縮合前の有機ケイ素化合物は、−SiRyX3−y(Rは1価の有機基、Xは加水分解可能な基、yは0から2までの整数)で表される含ケイ素官能基を有する化合物である。ここにXとしては、例えばOCH、OCHCH等のアルコキシ基、OCOCH等のアシロキシ基、ON=CRaRb等のケトオキシム基、Cl、Br等のハロゲン基、NRcRd等のアミノ基(Ra、Rb、Rc、Rdはそれぞれ一価の有機基を表す)などの基が挙げられる。
【0012】
このような有機ケイ素化合物として含フッ素有機ケイ素化合物が好適である。含フッ素有機ケイ素化合物は撥水撥油性、電気絶縁性、離型性、耐溶剤性、潤滑性、耐熱性、消泡性に優れている。特に、分子内にパーフルオロアルキル基あるいはパーフルオロポリエーテル基を持つ分子量1000〜50000程度の比較的大きな有機ケイ素化合物は防汚性に優れる。
【0013】
本発明では、このように3層膜をコーティングした後のレンズに対する鉛筆硬度が、JIS K5600−5−4項の引っかき硬度(鉛筆法)に従い、3H〜7Hの範囲内にあることが必須の要件である。鉛筆硬度は高すぎても低すぎてもクラックの発生率が高くなってしまうためである。
ハードコート膜の硬度設定は、ハードコート成分組成の選択とその官能基濃度によって決定される。さらに使用する金属微粒子径やその粒子径分布、ハードコート膜厚も硬度設定要素である。
【0014】
一方、鉛筆硬度を8H以上にすると硬度は増すものの、膜がもろくなり過ぎてクラックが入り易くなる。ハードコート液成分の架橋に与る官能基濃度が高くなりすぎると、鉛筆硬度は非常に高くなるものの、ハードコートレンズを加熱硬化中にクラックが発生するか、さらに反射防止コート中にクラックが入り易い。また、鉛筆硬度が8H以上となると、ウエザオメーターによる促進暴露試験においてクラックが生じ易くなってしまう。
【0015】
本発明では、更に第3層目の撥水性薄膜の対オレイン酸転落角を20度以下としている。転落角がこの値よりも高くなると指紋付着性や防汚性が悪化するとともに指紋の拭取り性も悪くなる。特に油性ペンで書いたときのハジキ性、その拭取り性には大きな差が生じた。また、特に鉛筆硬度が低い場合には第3層目の耐擦傷性が低下する傾向となり(転落角が大きくなってしまう)防汚性等に好ましくない。上記硬度においては20度以下であることが好ましい。
ここに転落角は撥水性薄膜を構成する成分組成の選択とその官能基濃度によって決定される。
【0016】
第3層目の好ましい膜厚は1nm以上、より好ましくは2nm〜10nmの範囲である。膜厚が1nm未満であると防汚性、撥水性、撥油性、電気絶縁性などの性能が乏しくなる傾向がある。一方、10nm以上であると反射防止膜の色調が変わる問題が生ずる。
【0017】
第1層目のハードコート膜に代わって、あるいはハードコート膜の下層膜としてプライマー膜を形成させることも可能である。プライマー膜はコート用のプライマー液に浸漬し、その後公知の方法にて溶媒を蒸発させて形成される。ハードコート液は水又はアルコール系の溶媒にアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の材料と無機酸化物微粒子ゾルを混合させた液である。これらの樹脂の中では、特にウレタン樹脂が好適である。例えば、アルキレングリコール類、ポリーε―カプロラクトン、ポリ(アルキレンカーボネート)類、シリコーンポリオール類などから選ばれた活性水素含有化合物と、ポリイソシアネートから得られるウレタン樹脂が挙げられる。膜厚みとしては0.5〜3.0μの範囲が好ましい。
ハードコート膜の下層膜としてプライマー膜を形成させた場合にはプライマー膜が第1層目となり、第2層目がハードコート膜、第3層目が反射防止膜、第4層目が撥水性薄膜となる。
【0018】
【実施例】本発明について、実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0019】
実施例1
[基材]
ビス(β―エピチオプロピル)スルフィド85重量部、チオフェノール15重量部に、触媒として2−ジエタノールアミノエタノール0.5重量部を室温で均一溶液とした。次にこの液をレンズ用モールドに注入し、脱気後に引続きオーブン中で10℃から120℃まで22時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率1.698、アッベ数36の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。
[第1層目]
A.プライマーコート膜の形成
ブロック型のポリイソシアネート「コロネート2529」(日本ポリウレタン工業社)25重量部、ポリエステルポリオール「ニッポラン1100」(日本ポリウレタン工業社)18重量部、エチルセロソルブ100重量部を混合して、そこへ市販の酸化スズと酸化タングステンの複合ゾル(メタノール分散ゾル、平均粒子径10−15nm、酸化スズと酸化タングステンの比率100重量部/40重量部、固形分30%)を140重量部、シリコーン系界面活性剤を0.15重量部添加し、充分に撹拌混合することにより、プライマー液を得た。
この液を上記の基材上に引き上げ速度10cm/minでディッピングしてコートした。
塗布したレンズは120℃で30分間加熱硬化し、1.0μのプライマー膜を形成した。
【0020】
[第2層目]
B.ハードコート膜の形成
反応容器中に、エタノール206g、メタノール分散チタニア系ゾル300g(触媒化成工業社品 固形分30%)、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン60g、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン30g、テトラエトキシシラン60gを滴下し、その混合液中に0.01Nの塩酸水溶液を滴下、攪拌して加水分解を行った。次にフロー調整剤0.5g(日本ユニカ社L−7604)および触媒1.0gを加え、室温で3時間攪拌してハードコート液を形成した。このハードコート液をディッピング法で塗布し、風乾後、110℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
【0021】
[第3層目]
C.反射防止膜の形成
上記のハードコートレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度60℃で反射防止処理を行った。膜の構成は、光学膜厚で下から二酸化珪素層がλ/4、酸化ジルコニウム層0.5λ/4、二酸化珪素層0.2λ/4、酸化ジルコニウム層がλ/4、最上層の二酸化珪素層がλ/4の5層膜とした。ここで、λは500nmに設定した。
【0022】
[第4層目]
D.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として有機ケイ素化合物を使用した。オプツールDSX(ダイキン化学工業社)を真空蒸着し、3nm程度の薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
【0023】
実施例2
[基材]
ポリイソシアネートとポリチオールを使用したポリウレタン基材として、三井化学社の商品名MR−7を使用した。そのA液とB液をメーカー指定の混合比率で調合し、さらにスズ系触媒を加えた後、脱気した。この液を注型用モールドに注入し、引続きオーブン中で10℃から120℃まで22時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率1.67、アッベ数32の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
実施例1において、プライマーを塗布せずに、オルガノシロキサン系ハードコート液として実施例1のハードコート液を使用し、膜厚2.0μの硬化膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として信越化学工業社の有機ケイ素化合物商品名KY−8を使用し、薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
【0024】
実施例3
[基材]
ポリイソシアネートとポリチオールを使用したポリウレタン基材として、三井化学社の商品名MR−8を使用した。メーカー指定の混合比率で調合した後、さらにスズ系触媒を加えた。この溶液を脱気した後、注型用モールドに注入し、引続きオーブン中で10℃から120℃まで22時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
反応容器中に、エタノール206g、メタノール分散スズ系ゾル200g(日産化学工業社製 HIT−30M 固形分30%)、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン50g、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン30g、テトラエトキシシラン80gを滴下し、その混合液中に0.01Nの塩酸水溶液を滴下、攪拌して加水分解を行った。次にフロー調整剤0.5g(日本ユニカ社L−7604)および触媒1.0gを加え、室温で3時間攪拌してハードコート液を形成した。このハードコート液をディッピング法で塗布し、風乾後、110℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として実施例2と同様に信越化学工業社の有機ケイ素化合物を使用し、薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
【0025】
実施例4
[基材]
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート重合体のプラスチックレンズをサンルックス社から購入し、屈折率1.52、度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
反応容器中に、エタノール206g、エタノール分散コロイダルシリカ396g(触媒化成工業社製 ”オスカル1232”固形分30%)、γ―グリシドキシプロピルメトキシシランの部分加水分解物312g、フロー調整剤0.2g(日本ユニカ社”L−7604”および0.05N酢酸水溶液86gを加え、室温で3時間攪拌したハードコーティング液をディッピング法で塗布した。風乾後、110℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として有機ケイ素化合物を使用し、ダイキン工業社のオプツールDSXを真空蒸着して3nm程度の薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
【0026】
実施例5
[基材]
実施例3と同様の屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
実施例4において、風乾後、120℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として有機ケイ素化合物を使用した。ダイキン工業社のオプツールDSXと信越化学工業社のシラザン系撥水剤KP−801Mを60:40の比率で混合し、真空蒸着して3nm程度の薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
【0027】
実施例6
[基材]
実施例3と同様の屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
実施例1のハードコート液を使用し、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
実施例5と同様にして、ダイキン工業社のオプツールDSXと信越化学工業社のシラザン系撥水剤KP−801Mを60:40の比率で混合し、真空蒸着して3nm程度の薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
【0028】
実施例7
[基材]
実施例1と同様の屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.プライマーコート膜の形成
実施例1のプライマー液を使用しこの液を上記の基材上に引き上げ速度10cm/minでディッピングしてコートした。
塗布したレンズは110℃で30分間加熱硬化し、1.0μのプライマー膜を形成した。
[第2層目]
B.ハードコート膜の形成
実施例1のハードコート液を使用し、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
[第3層目]
C.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第4層目]
C.撥水性薄膜の形成
実施例1と同様にして、オプツールDSX(ダイキン化学工業社)を真空蒸着し、3nm程度の薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
【0029】
【表1】
Figure 2004109728
【0030】
比較例1
[基材]
実施例3と同様の屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
反応容器中に、エタノール206g、メタノール分散スズ系ゾル200g(日産化学工業社製 HIT−30M 固形分30%)、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン80g、テトラエトキシシラン80gを滴下し、その混合液中に0.01Nの塩酸水溶液を滴下、攪拌して加水分解を行った。次にフロー調整剤0.5g(日本ユニカ社L−7604)および触媒1.0gを加え、室温で3時間攪拌してハードコート液を形成した。このハードコート液をディッピング法で塗布し、風乾後、110℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を得た。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として実施例2と同様の信越化学工業社の有機ケイ素化合物を使用し、薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表2にまとめた。
【0031】
比較例2
[基材]
実施例3と同様の屈折率1.60、アッベ数43の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
反応容器中に、エタノール206g、メタノール分散スズ系ゾル200g(日産化学工業社製 HIT−30M 固形分30%)、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン140g、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン20gを滴下し、その混合液中に0.01Nの塩酸水溶液を滴下、攪拌して加水分解を行った。次にフロー調整剤0.5g(日本ユニカ社L−7604)および触媒1.0gを加え、室温で3時間攪拌してハードコート液を形成した。このハードコート液をディッピング法で塗布し、風乾後、110℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を得た。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として実施例2と同様に信越化学化学工業社の有機ケイ素化合物を使用し、薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表2にまとめた。
【0032】
比較例3
[基材]
実施例3と同様の屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
反応容器中に、エタノール206g、メタノール分散スズ系ゾル200g(日産化学工業社製 HIT−30M 固形分30%)、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン100g、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン60gを滴下し、その混合液中に0.01Nの塩酸水溶液を滴下、攪拌して加水分解を行った。次にフロー調整剤0.5g(日本ユニカ社L−7604)および触媒1.0gを加え、室温で3時間攪拌してハードコート液を形成した。このハードコート液をディッピング法で塗布し、風乾後、110℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を得た。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤として実施例2と同様に信越化学化学工業社の有機ケイ素化合物を使用し、薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表2にまとめた。
【0033】
比較例4
[基材]
ポリイソシアネートとポリチオールを使用したポリウレタン基材として、三井化学社の商品名MR−8を使用した。メーカー指定の混合比率で調合した後、さらにスズ系触媒を加えた。この溶液を脱気した後、注型用モールドに注入し、引続きオーブン中で10℃から120℃まで22時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
実施例4と同様にして、ハードコート膜層を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。撥水剤としてダイキン工業社のオプツールDSXと、信越化学工業社のシラザン系KP−801Mを50:50重量比率で蒸着させて薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表2にまとめた。
【0034】
比較例5
[基材]
ポリイソシアネートとポリチオールを使用したポリウレタン基材として、三井化学社の商品名MR−8のA液とB液を使用した。メーカー指定の混合比率で調合した後、さらにスズ系触媒を加えた。この溶液を脱気した後、注型用モールドに注入し、引続きオーブン中で10℃から120℃まで22時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
実施例4と同様にして、ハードコート膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。信越化学工業社のシラザン系撥水剤KP−801Mを用いて、薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表2にまとめた。
【0035】
比較例6
[基材]
ポリイソシアネートとポリチオールを使用したポリウレタン基材として、三井化学社の商品名MR−8を使用した。メーカー指定の混合比率で調合した後、さらにスズ系触媒を加えた。この溶液を脱気した後、注型用モールドに注入し、引続きオーブン中で10℃から120℃まで22時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。
[第1層目]
A.反射防止膜の形成
比較例2と同様にして、ハードコート膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例1と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
上記の反射防止膜のレンズ上を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって撥水処理を行った。信越化学工業社のシラザン系撥水剤KP−801Mを用いて、薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表2にまとめた。
【0036】
比較例7
[基材]
実施例3と同様の屈折率1.60、アッベ数42の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを使用した。
[第1層目]
A.ハードコート膜の形成
実施例4のハードコート液を使用し、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
[第2層目]
B.反射防止膜の形成
実施例4と同様にして、5層から成る反射防止膜を形成した。
[第3層目]
C.撥水性薄膜の形成
実施例Aと同様にして、ダイキン工業社のオプツールDSXと信越化学工業社のシラザン系撥水剤KP−801Mを60:40の比率で混合し、真空蒸着して3nm程度の薄膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表2にまとめた。
【0037】
【表2】
Figure 2004109728
【0038】
性能評価方法について
(a)鉛筆硬度
JIS K5600−5−4塗料一般試験方法 第5部:塗膜の機械的性質 第4節:引っかき硬度(鉛筆法)に従った。
(b)接触角
協和界面科学社製 FACECA−D型接触角測定装置を用いて23℃、60%RH条件下にて行った。注射筒(注射針の直径約0.7mm)を使用して5mgの重さのオレイン酸の液滴を作った。サンプル台を上昇させてレンズ表面の中央部に該液滴を触れさせ、レンズ表面にオレイン酸の液滴を移し、30秒以内に接触角を測定した。
(c)転落角
協和界面科学社製 FACECA−D型用転落角測定ユニットを用いて23℃、60%RH条件下にて行った。レンズを3cm×7cmにカットした後、回転台にセットし、注射筒(注射針の直径約0.7mm)を使用して10mgの重さのオレイン酸の液滴を作った。1秒間に2゜ずつ傾斜させ、おおよその転落角(予想転落角)を測定した。次に、上記と同じように10mgの重さの人工指紋液の液滴を光学物品表面に移し取った後、光学物品を2゜/秒ずつ傾斜させ、予想転落角前で傾斜を一旦止め、さらに0.1゜ずつ傾斜させながら10秒待って液滴が動いた角度を光学物品表面の人工指紋液の転落角αとした。
(d)指紋付着性
レンズ表面に手指を当て、指紋がレンズ表面に付着する程度を肉眼で観察した。
判定基準
◎: 指紋の付着が極めて少ない
○: 指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない
△: ○×どちらとも判定しにくい
×: 撥水処理していない未処理のレンズと同程度に指紋が付く
【0039】
(e)防汚性―1(指紋拭き取り性)
レンズ表面に指を押しつけて指紋を付着させた後、ティッシュペーパーで指紋を拭き取り、以下の基準で評価を行った。
判定基準
◎: 1〜2往復できれいに拭き取れる
○: 3往復できれいに拭き取れる
△: 10往復で拭き取れる
×: 10往復後も指紋の拭き残しがある
(f)防汚性―2(油性ペン拭き取り性)
レンズ表面にパイロット社製ツインマーカーで書き、そのインキをティッシュペーパーで拭き取り、以下の基準で評価を行った。
判定基準
◎: 1〜2往復できれいに拭き取れる
○: 3往復できれいに拭き取れる
△: 10往復で拭き取れる
×: 10往復後も指紋の拭き残しがある
(g)クラック
レンズ表面を20倍率の顕微鏡を用いて肉眼観察し、クラックの有無を調べた。○〜×については経験則によって決定した。
【0040】
耐久性評価について
上記の各種の評価をA.初期状態、B.ラビング後、C.耐候後のそれぞれの状態において行った。
ラビングテストは引っかき試験機にセーム皮をセットし、500gの加重下で10000回擦ったレンズを使用した。
耐候テストはレンズをウエザオメーター試験機にセットし、所定レベルの紫外線を120時間照射した状態のレンズを使用した。

Claims (2)

  1. レンズ基材表面にオルガノシロキサン系ハードコート膜を第1層として形成させ、同ハードコート膜に対して無機酸化物系反射防止膜を第2層として形成させるとともに、同反射防止膜に対して有機ケイ素化合物を重縮合させた撥水性薄膜を第3層として形成させた複層膜構造のプラスチックレンズであって、同プラスチックレンズ表面に対する鉛筆硬度を3H〜7Hとし、かつオレイン酸に対する転落角20度以下としたことを特徴とする眼鏡用プラスチックレンズ。
  2. 前記オルガノシロキサン系ハードコート膜の下層膜としてプライマー膜を形成させたことを特徴とする請求項1に記載の眼鏡用プラスチックレンズ。
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006350208A (ja) * 2005-06-20 2006-12-28 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP2007065522A (ja) * 2005-09-02 2007-03-15 Hitachi Ltd 光学部品及びそれを用いた投射型画像表示装置
JP2008081710A (ja) * 2006-08-28 2008-04-10 Tokai Kogaku Kk ハードコート組成物及びプラスチック光学製品
JP2009157264A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009162989A (ja) * 2008-01-07 2009-07-23 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009168852A (ja) * 2008-01-10 2009-07-30 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009168986A (ja) * 2008-01-15 2009-07-30 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009193029A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009210733A (ja) * 2008-03-03 2009-09-17 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2010508541A (ja) * 2006-10-31 2010-03-18 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック 防汚膜を有する光学物品
JP2010520493A (ja) * 2007-03-02 2010-06-10 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック 超疎水性のナノテクスチャ表面を有する製品
JP2011081263A (ja) * 2009-10-08 2011-04-21 Tokai Kogaku Kk プラスチック光学レンズ及び眼鏡プラスチックレンズ
JP2012088700A (ja) * 2010-10-01 2012-05-10 Carl Zeiss Vision Gmbh 耐擦傷性反射防止層付き光学レンズ
US8199404B2 (en) 2007-12-27 2012-06-12 Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. Anti-reflection coating, optical member, exchange lens unit and imaging device
WO2012157073A1 (ja) * 2011-05-17 2012-11-22 伊藤光学工業株式会社 表面処理金型及び金型の表面処理方法

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006350208A (ja) * 2005-06-20 2006-12-28 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP2007065522A (ja) * 2005-09-02 2007-03-15 Hitachi Ltd 光学部品及びそれを用いた投射型画像表示装置
JP2008081710A (ja) * 2006-08-28 2008-04-10 Tokai Kogaku Kk ハードコート組成物及びプラスチック光学製品
JP2010508541A (ja) * 2006-10-31 2010-03-18 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック 防汚膜を有する光学物品
JP2010520493A (ja) * 2007-03-02 2010-06-10 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック 超疎水性のナノテクスチャ表面を有する製品
US8199404B2 (en) 2007-12-27 2012-06-12 Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. Anti-reflection coating, optical member, exchange lens unit and imaging device
JP2009157264A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009162989A (ja) * 2008-01-07 2009-07-23 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009168852A (ja) * 2008-01-10 2009-07-30 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009168986A (ja) * 2008-01-15 2009-07-30 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009193029A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2009210733A (ja) * 2008-03-03 2009-09-17 Hoya Corp 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置
JP2011081263A (ja) * 2009-10-08 2011-04-21 Tokai Kogaku Kk プラスチック光学レンズ及び眼鏡プラスチックレンズ
JP2012088700A (ja) * 2010-10-01 2012-05-10 Carl Zeiss Vision Gmbh 耐擦傷性反射防止層付き光学レンズ
US9817155B2 (en) 2010-10-01 2017-11-14 Carl Zeiss Vision International Gmbh Optical lens with scratch-resistant anti-reflective layer
WO2012157073A1 (ja) * 2011-05-17 2012-11-22 伊藤光学工業株式会社 表面処理金型及び金型の表面処理方法
JPWO2012157073A1 (ja) * 2011-05-17 2014-07-31 伊藤光学工業株式会社 表面処理金型及び金型の表面処理方法
JP5745623B2 (ja) * 2011-05-17 2015-07-08 伊藤光学工業株式会社 表面処理金型及び金型の表面処理方法

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