JPH10133001A - 新規な撥水処理されたレンズ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 （メガネ）レンズ基材を下記〔Ｉ〕で表
される２官能有機シラン化合物又はその部分加水分解物
又は〔ＩＩ〕一般式（２）で表される有機ケイ素化合物
からなる撥水剤で処理することによって、非硬化物質か
らなり、水との接触角が８０°以上の撥水層を形成した
ことを特徴とする撥水処理されたレンズ。 【化１】 （式中、Ｒは置換又は非置換の１価炭化水素基、Ｘはケ
イ素原子に直結する加水分解性基又は水酸基、Ｒf はフ
ッ素化された有機基、ｎは正の整数である。） 【効果】 撥水剤として２官能を使用するので、撥水剤
のポットライフが長い。水ヤケなし（息を吹きかけて
も、玉摺作業のときのパッド跡が白く浮き出て来な
い）。ホコリが付着せず、外観がきれいで、高級感があ
る。３官能に比べ滑り性が良い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、撥水処理されたレ
ンズ、例えばメガネレンズに関する。

【０００２】

【従来の技術】メガネレンズ、カメラレンズのごときレ
ンズは、日常生活に密着した物品であり、それだけ様々
な使われ方をする。例えば、雨がかかる機会も多い。こ
のとき、レンズがガラス製であったり、反射防止膜（特
に最上層が酸化ケイ素系の無機物質層のもの）が形成さ
れていたり、そうでなくとも、汚れてきたりすると、表
面が親水性となり、雨滴がなかなか落ちず、光がまっす
ぐ通り難いと言う欠点があった。つまり、メガネレンズ
の場合は、景色が良く見えないと言う第１の問題があっ
た。

【０００３】また、メガネレンズの場合、小売店がフレ
ームの形状に合わせてレンズをカットする玉摺りと言う
作業を行なうが、このとき、砥粒を含んだいわば泥水を
レンズに注ぎながら作業を行なう。左右のレンズの一枚
について玉摺りを終えると、次に残り一枚について玉摺
りを行なう。このとき、先に玉摺りを終えたレンズの表
面に付いていた水が乾いてしまう。きれいにするため、
当然にアルコール、アセトン等を含んだ布で擦って拭き
取るが、一見きれいになったようでも、息を吹きかける
と水跡が白く浮き出て来ると言う第２の問題があった。
この水跡はガラスの水ヤケに準えて「水ヤケ」と俗称さ
れる。

【０００４】これらの問題を解決するため、撥水剤とし
て、水酸基を有する有機ポリシロキサン系重合物又はパ
ーフルオロアルキル基含有化合物を使用し、これらを重
合してなる重合物からなる有機物含有硬化物質層をレン
ズ基材表面に形成することが提案された（特公平６−５
３２４号）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来技術（特公平６−
５３２４号）は、有機ポリシロキサン系重合物にせよパ
ーフルオロアルキル基含有化合物にせよ、撥水処理する
前の形態である撥水剤は硬化性であり、この硬化性の撥
水剤をレンズ表面で硬化させることにより、３次元分子
構造の硬化物質層からなる撥水層を形成するものであ
る。

【０００６】しかし、従来技術は、撥水剤のポットライ
フ（使用可能期間）が短いと言う問題点のあることが判
った。特にパーフルオロアルキル基を有する化合物は高
価なため、レンズメーカーにとってポットライフが短い
欠点は、重要な問題であった。何故なら、最近の傾向と
して、小売店からの注文を受けてから撥水処理すること
が多いため、撥水剤のポットライフは最近特に問題点に
なりだした。

【０００７】また、従来技術は、レンズ表面で硬化させ
るため、硬化に伴う収縮歪みが生じ易く、仮に生じると
光学的性能を低下させ、不良品が多くなると言う問題点
を生み出していた。更に、従来技術は、場合によって、
表面が柔らかくなったり、或いは粘着感が残り、そのた
めホコリが付着し易い問題点もあった。

【０００８】加えて、従来技術は、表面の滑り性がやや
悪い問題点もあった。

【０００９】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明は、以下
のレンズを提供する。 １．レンズ基材を下記〔Ｉ〕又は〔ＩＩ〕からなる撥水
剤で処理することによって、非硬化物質からなり、水と
の接触角が８０°以上の撥水層を形成したことを特徴と
する撥水処理されたレンズ（請求項１）。

【００１０】〔Ｉ〕一般式（１）で表される２官能有機
シラン化合物又はその部分加水分解物。

【００１１】

【化３】 （式中、Ｒは置換又は非置換の１価炭化水素基、Ｘはケ
イ素原子に直結する加水分解性基又は水酸基、Ｒf はフ
ッ素化された有機基である。）

【００１２】〔ＩＩ〕一般式（２）で表される有機ケイ
素化合物。

【００１３】

【化４】 （式中、Ｒf はフッ素化された有機基であり、Ｒは置換
又は非置換の１価炭化水素基であり、ｎは正の整数であ
る。） ２．前記撥水剤が〔Ｉ〕であって、前記Ｘが、ハロゲン
原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基若しくはアシロ
キシ基であることを特徴とする請求項１記載のレンズ
（請求項２）。 ３．前記撥水剤が〔ＩＩ〕であって、前記有機基Ｒｆが
一般式（３）： Ｃ_p Ｆ_2p+1Ｃ_m Ｈ_2m− …（３） （式中、ｐは４以上の整数、ｍは２又は３である。）で
表わされる有機ケイ素化合物であることを特徴とする請
求項１記載のレンズ（請求項３）。 ４．前記撥水剤が〔ＩＩ〕であって、前記有機基Ｒｆが
化学式：Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ −又はＣ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ −Ｃ
₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ −で表され、前記炭化水素基Ｒが化学
式：ＣＨ₃ −で表され、前記ｎが１〜１０であることを
特徴とする請求項１記載のレンズ（請求項４）。 ５．前記レンズ基材と前記撥水層との間に反射防止膜を
有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に
記載のレンズ（請求項５）。 ６．前記反射防止膜が少なくとも最上層に酸化ケイ素系
の無機物質層を有することを特徴とする請求項５記載の
レンズ（請求項６）。 ７．前記レンズ基材と前記撥水層又は前記反射防止膜と
の間に、ハードコート層を有することを特徴とする、請
求項１〜６のいずれか１項に記載のレンズ（請求項
７）。 ８．前記レンズ基材と前記ハードコート層との間に衝撃
吸収層を有することを特徴とする請求項７記載のレンズ
（請求項８）。 ９．前記レンズ基材と前記ハードコート層との屈折率差
がゼロ又は０．０５以下であることを特徴とする請求項
７記載のレンズ（請求項９）。 １０．前記レンズ基材と前記衝撃吸収層との屈折率差が
ゼロ又は０．０５以下であることを特徴とする請求項８
記載のレンズ（請求項１０）。 １１．前記ハードコート層が、下記一般式（４）で示さ
れる少なくとも一種の有機シラン化合物の加水分解部分
縮合物の硬化物からなることを特徴とする請求項７〜１
０のいずれか１項に記載のレンズ（請求項１１）。 Ｒ¹ _a Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-a …（４） （式中、Ｒ¹ はアルキル基、アルケニル基若しくはアリ
ール基又はハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基、
（メタ）アクリロキシ基、シアノ基、グリシジル基、グ
リシドキシ基、メルカプト基若しくはエポキシ基で置換
された１価炭化水素基であり、炭素原子によってＳｉに
結合しており、Ｒ² は炭素数が１〜８のアルキル基、ア
リルアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル
基、アリール基又はアシル基であり、ａは０又は１であ
る。） １２．前記シラン化合物がグリシジル基、グリシドキシ
基又はエポキシ基を有することを特徴とする請求項１１
記載のレンズ（請求項１２）。 １３．前記ハードコート層が１〜２００ｎｍの無機微粒
子を含有することを特徴とする請求項１１又は１２記載
のレンズ（請求項１３）。 １４．前記衝撃吸収層又はプライマー層が１〜２００ｎ
ｍの無機微粒子を含有することを特徴とする請求項８又
は１０記載のレンズ（請求項１４）。 １５．前記レンズ基材の屈折率が１．５６以下と低い場
合には、前記無機微粒子が酸化ケイ素であることを特徴
とする請求項１３又は１４記載のレンズ（請求項１
５）。 １６．前記レンズ基材の屈折率が１．５６以上と高い場
合には、前記無機微粒子が、亜鉛、アルミニウム、アン
チモン、イットリウム、イッテルビウム、イリジウム、
インジウム、エルビウム、オスミウム、カドミウム、ガ
ドリニウム、ガリウム、金、銀、クロム、ゲルマニウ
ム、コバルト、サマリウム、ジスプロシウム、ジルコニ
ウム、水銀、スカンジウム、錫、ストロンチウム、セシ
ウム、セリウム、タリウム、タングステン、タンタル、
チタン、ツリウム、テクネチウム、鉄、テルビウム、テ
ルル、銅、トリウム、鉛、ニオブ、ニッケル、ネオジ
ム、白金、バナジウム、ハフニウム、パラジウム、バリ
ウム、ビスマス、モリブデン若しくはランタンから選択
された金属、その金属の合金、その金属の化合物、同酸
化物、同塩化物又は同両性化合物であることを特徴とす
る請求項１１又は１２記載のレンズ（請求項１６）。 １７．前記撥水層が上面から見て部分的に形成されてい
ることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記
載のレンズ（請求項１７）。 １８．前記レンズ基材がプラスチックで構成されている
ことを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載
のレンズ（請求項１８）。 １９．前記レンズ基材が１．６以上の屈折率を有するこ
とを特徴とする請求項１〜１４又は１６〜１８のいずれ
か１項に記載のレンズ（請求項１９）。 ２０．前記レンズ基材が１．７以上の屈折率を有するこ
とを特徴とする請求項１９記載のレンズ（請求項２
０）。 ２１．前記反射防止膜の反射率が２％以下であることを
特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に記載のレン
ズ（請求項２１）。 ２２．前記レンズ基材が非球面レンズであることを特徴
とする請求項１〜２１のいずれか１項に記載のレンズ
（請求項２２）。 ２３．ツーポイントメガネ用であることを特徴とする請
求項１〜２２のいずれか１項に記載のレンズ（請求項２
３）。

【００１４】

【発明の実施の形態】

（１）レンズ基材について：用途から見たレンズの種類
は、メガネレンズ、カメラレンズ、望遠鏡、双眼鏡のレ
ンズ、虫メガネ、潜望鏡のレンズなど、どのような用途
でもよい。特に雨がかかる機会の多いレンズが好適であ
る。

【００１５】レンズの形状は、球面、非球面、凸面、凹
面、平面など、どのような形状でもよく、多焦点レンズ
や累進焦点レンズのごとき形状でもよい。しかし、本発
明の効果は特に面精度の高い非球面や外観が重視される
ツーポイントメガネ用に効果的である。

【００１６】レンズの材質はガラスでもプラスチックで
もよい。メガネレンズでは後者が好まれる。プラスチッ
クの場合、その素材名としては、当然に透明なものが望
ましいが、セルロイド、セルロースアセテート、セルロ
ースプロピオネート、セルロースブチレート、６−ナイ
ロン、６，６−ナイロン、１２−ナイロンなどの脂肪族
ポリアミド、芳香族ポリアミド、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹
脂、ポリスチレン、ポリエチレン（低密度又は高密
度）、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルアルコール、ポリアセタール、ポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
レンテレフタレートなどの飽和ポリエステル、芳香族ポ
リエステル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリ
エーテルイミド、ポリアリレート、ポリメチルペンテ
ン、アイオノマー樹脂、液晶ポリマー、ポリイミド、ポ
リアミドイミド、フッ素樹脂、ポリフェニレンサルファ
イド、（変性）ポリフェニレンオキサイド、熱可塑性ポ
リウレタン等の熱可塑性樹脂、或いは、エポキシ樹脂、
不飽和ポリエステル、熱硬化性ポリウレタン、ポリイミ
ド、ジエチレングリコールビスアリルカ−ボネート（通
称ＣＲ−３９）の重合物、（ハロゲン化）ビスフェノー
ルＡのジ（メタ）アクリレートの（共）重合物、（ハロ
ゲン化）ビスフェノールＡのウレタン変性ジ（メタ）ア
クリレートの（共）重合物、ジアクリレート化合物やビ
ニルベンジルアルコールと不飽和チオール化合物等との
共重合物などの熱硬化性樹脂が挙げられる。熱硬化性樹
脂には文字通り熱で硬化させるものばかりでなく、光で
硬化させるアクリル系その他の光硬化型の熱硬化性樹脂
も含まれる。

【００１７】ＣＲ−３９の重合物はメガネレンズの素材
として長く使われているが、屈折率が１．５０と低く、
そのため、凹レンズ（近視矯正用）では、度が強い場合
に縁厚が厚くなるので嫌われる傾向がある。その後、屈
折率の高いプラスチックが開発され、数年前より１．６
０以上、最近では１．７０以上のプラスチック素材も開
発された。

【００１８】レンズ基材（プラスチック）の上に望まし
くは衝撃吸収層を介してハードコート層を設けることが
好ましい。これらの層を形成する前にレンズ基材をプラ
ズマ処理又はアルカリ処理により表面を荒らすことで密
着性を上げるようにしてもよい。

【００１９】（２）衝撃吸収層について：衝撃吸収層の
目的は、レンズの耐衝撃性を向上させるためである。メ
ガネレンズ業界では「プライマー層」と呼ぶことがあ
る。昨年よりＰＬ法が日本でも施行され、また、米国に
はＦＤＡ規格があるので、対米輸出も考えたとき、耐衝
撃性の高いレンズが好ましい。

【００２０】このような衝撃吸収層は、基材の素材名と
して上記したもののうち、比較的柔らかい弾性のあるも
のが選択される。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルアルコール、ポリアセタール、ポリビニ
ルブチラール、熱可塑性ポリウレタン、熱硬化性ポリウ
レタンなどが使用される。熱可塑性、熱硬化性ポリウレ
タンを生成する原料成分は、ポリエーテルポリオール
（例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール）やポリエステルポリオールと、ポリイソシア
ネートである。

【００２１】なお、衝撃吸収層と基材との間に密着性を
改良する目的で塗料業界で言うプライマー層を形成して
もよい。この意味でのプライマー層を形成するには、例
えば（１）下記ハードコート層と同様な樹脂材料や
（２）官能基例えばエポキシ基、アミノ基、ビニル基、
メタクリル基を持つ有機シラン化合物（シランカップリ
ング剤）を用いることができる。

【００２２】衝撃吸収層の特性を改良するため、或いは
屈折率を向上させて所定値にするため、これらの樹脂の
中に１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有させてもよい。
含有量は５〜８０重量％、好ましくは１０〜７０重量％
が一応の目安である。レンズ基材と衝撃吸収層との屈折
率差がゼロ又は０．０５以下であることが好ましい。も
し、差が大きい場合に層の厚さ（膜厚）が不均一である
と、干渉縞がで易い欠点がでる。浸漬法で層を形成する
場合に、重力の影響でどうしても層の厚さ（膜厚）が不
均一になり易い。基材の屈折率が１．５６以下と低い場
合には、前記無機微粒子は安価に手に入る二酸化ケイ素
が好ましい。基材の屈折率が１．５６以上と高い場合に
は、層の屈折率を上げるために、前記無機微粒子は、亜
鉛、アルミニウム、アンチモン、イットリウム、イッテ
ルビウム、イリジウム、インジウム、エルビウム、オス
ミウム、カドミウム、ガドリニウム、ガリウム、金、
銀、クロム、ゲルマニウム、コバルト、サマリウム、ジ
スプロシウム、ジルコニウム、水銀、スカンジウム、
錫、ストロンチウム、セシウム、セリウム、タリウム、
タングステン、タンタル、チタン、ツリウム、テクネチ
ウム、鉄、テルビウム、テルル、銅、トリウム、鉛、ニ
オブ、ニッケル、ネオジム、白金、バナジウム、ハフニ
ウム、パラジウム、バリウム、ビスマス、モリブデン若
しくはランタンから選択された金属、その金属の合金、
その金属の化合物、同酸化物（例えば、酸化チタン、酸
化ケイ素、酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニウム）、同塩
化物又は同両性化合物であることが好ましい。

【００２３】層を構成する樹脂（ベヒクル成分）と無機
微粒子との密着性を上げるため、シランカップリング剤
例えばビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランなどを併用することが好ましい。

【００２４】衝撃吸収層は、層を構成する樹脂（ベヒク
ル成分）の溶液又は低分子量であればそれ自身が液状を
呈するので、無溶剤の形でコート液を準備し、適宜硬化
触媒をそれに添加し、浸漬法、ハケ塗り、スピンコート
法、スプレー塗装、流し塗りなどの方法で塗布し、常温
または加熱下（１２０℃以下が好ましい）で乾燥させ
る。乾燥後、更に熱処理（１２０℃以下が好ましい）し
て樹脂を硬化させても良い。

【００２５】衝撃吸収層の厚さは、その目的に応じて、
０．０１μ〜５０μｍ、好ましくは０．３〜２μｍが適
当である。

【００２６】（３）ハードコート層について：ハードコ
ート層の目的は、レンズの耐擦傷性を向上させるためで
あり、基材がプラスチックの場合や衝撃吸収層を設けた
場合に、ハードコート層を設けることが好ましい。

【００２７】ハードコート層の構成材料としては、メラ
ミン樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂が使用され
る。特に、表面硬度の硬いものが好ましいことから、ハ
ードコート層は、下記一般式（４）で示される有機シラ
ン化合物及び／又はその部分加水分解物の硬化物からな
ることが好ましい。 Ｒ¹ _a Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-a …（４） （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びａの意味は上述の通り。但し、
アルキル基の炭素数は１〜１０、アルケニル基の炭素数
は２〜４、アリール基の炭素数は６〜１０、置換１価炭
化水素基はこれらアルキル基、アルケニル基又はアリー
ル基の水素原子の一部又は全部を上記置換基で置換した
ものが好ましい。）

【００２８】これらのシラン化合物のうち、３官能（ａ
＝１）の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、メチルジメトキシエトキシシラ
ン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシ
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、エチルジメトキシエトキシシラン、エチルト
リアセトキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルジメトキシエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエ
トキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキ
シシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノメチルトリ
メトキシシラン、Ｎ−β（アミノメチル）−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシ
ラン、フエニルトリメトキシシラン、フエニルトリエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルジメトキシエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリエトキシシランなどが挙げられる。

【００２９】４官能（ａ＝０）の例としては、メチルシ
リケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケー
ト、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、
ｔ−ブチルシリケート、 sec−ブチルシリケートなどが
挙げられる。

【００３０】必要に応じ２官能のシラン化合物を併用す
ることができる。２官能の例としては、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メ
チルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフ
ェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシ
シラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルエチ
ルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジ
エトキシシラン、アミノメチルエチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−β（アミノメチル）−γ−アミノプロピルエチ
ルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランな
どが、挙げられる。これらの化合物は、１種で使用して
もよいが、目的に応じて２種以上を混合して使用しても
よい。

【００３１】一般式（４）の化合物は、そのまま使用し
てもよいが、反応速度を増し、硬化温度を下げる目的で
加水分解物として使用することが好ましい。同一官能数
の化合物を２種以上を併用する場合、或いは異なる官能
数の化合物を２種以上を併用する場合、加水分解後に併
用してもよいし、加水分解前に併用して共加水分解を行
なってもよい。加水分解によりＨＯＲ² なるアルコール
が遊離され、一般式（４）の化合物は、相当するシラノ
ール（ＳｉＯＨ）になる。シラノールは、複数分子の間
で脱水縮合してシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）を生成
する。脱水縮合は速やかに進み、オリゴマーが生成す
る。脱水縮合が十分に進むように、加水分解後、１〜２
４時間放置（養生）してもよい。このオリゴマーが、加
水分解生成物に含まれる。

【００３２】ハードコート層の特性を改良するため、或
いは屈折率を向上させて所定値にするため、これらの樹
脂の中に１〜２００ｎｍの無機微粒子を含有させてもよ
い。含有量は５〜８０重量％、好ましくは１０〜７０重
量％が一応の目安である。レンズ基材とハードコート層
との屈折率差がゼロ又は０．０５以下であることが好ま
しい。もし、差が大きい場合に層の厚さ（膜厚）が不均
一であると、干渉縞がで易い欠点がでる。浸漬法で層を
形成する場合に、重力の影響でどうしても層の厚さ（膜
厚）が不均一になり易い。基材の屈折率が１．５６以下
と低い場合には、前記無機微粒子は安価に手に入る二酸
化ケイ素が好ましい。基材の屈折率が１．５６以上と高
い場合には、層の屈折率を上げるために、前記無機微粒
子は、上に例示したもの（例えばチタンの酸化物）が好
ましい。

【００３３】ハードコート層は、層を構成する樹脂（ベ
ヒクル成分）の溶液又は低分子量であればそれ自身が液
状を呈するので、無溶剤の形でコート液を準備し、適宜
硬化触媒をそれに添加し、浸漬法、ハケ塗り、スピンコ
ート法、スプレー塗装、流し塗りなどの方法で塗布し、
常温又は加熱下（１２０℃以下が好ましい）で乾燥させ
る。乾燥後、更に熱処理（１２０℃以下が好ましい）し
て樹脂を硬化させても良い。

【００３４】硬化触媒としては、例えば、以下のものが
使用可能である。 （１）アミン類：モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、イソプロパノールアミン、エチレンジアミン、
イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、モルホリ
ン、トリエタノールアミン、ジアミノプロパン、アミノ
エチルエタノールアミン、ジシアンジアミド、トリエチ
レンジアミン、２−エチル−４−メチルイミダゾール

【００３５】（２）一般式：ＭＸ_n Ｙ_3-n で示される金
属キレート化合物：式中、ＸはＯＬ（Ｌは低級アルキル
基）、Ｙは一般式Ａ¹ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＡ² （Ａ¹ 、Ａ²
は低級アルキル基）又はＡ¹ ＣＯＣＨ₂ ＣＯＯＡ² に由
来する配位子から選ばれる少くとも１つで、ｎは０又は
１又は２である。特に有用なキレート化合物としては、
溶解性、安定性、触媒効果の観点から、次のものであ
る。アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウム
ビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネー
ト、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシド−モノエチルア
セトアセテート、アルミニウム−ジ− iso−プロポキシ
ドーモノメチルアセトアセテート、クロムアセチルアセ
トネート、チタニルアセチルアセトネート、コバルトア
セチルアセトネート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネー
ト、マンガンアセチルアセトネート、ニッケルアセチル
アセトネート

【００３６】（３）金属アルコキシド：アルミニウムト
リエトキシド、アルミニウムトリｎ−プロポキシド、ア
ルミニウムトリｎ−ブトキシド、テトラエトキチタン、
テトラｎ−ブトキシチタン、テトラｉ−プロポキシチタ
ン

【００３７】（４）有機金属塩：酢酸ナトリウム、ナフ
テン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オ
クチル酸スズ

【００３８】（５）過塩素酸塩：過塩素酸マグネシウ
ム、過塩素酸アンモニウム

【００３９】（６）有機酸又はその無水物：マロン酸、
コハク酸、酒石酸、アジピン酸、アゼライン酸、マレイ
ン酸、Ｏ−フタル酸、テレフタル酸、フマル酸、イタコ
ン酸、オキザロ酢酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、
無水イタコン酸、1,2 −ジメチルマレイン酸無水物、無
水フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸無水物、無水ナフタ
ル酸

【００４０】（７）ルイス酸：塩化第二鉄、塩化アルミ
ニウム

【００４１】（８）ハロゲン化金属：塩化第一スズ、塩
化第ニスズ、臭化スズ、塩化亜鉛、臭化亜鉛、四塩化チ
タン、臭化チタン、臭化タリウム、塩化ゲルマニウム、
塩化ハフニウム、塩化鉛、臭化鉛

【００４２】以上の触媒は、単独で使用することなく２
種以上混合して使用してもよい。特にエポキシシランを
使用した場合には、エポキシ基の開環重合触媒を兼ねる
ものを使用することが好ましい。

【００４３】溶剤はコート液を液状にするため或いは粘
度を低くするために、必要に応じ添加される。例えば、
水、低級アルコール、アセトン、エーテル、ケトン、エ
ステルなどが使用される。

【００４４】コート液は、一般に、樹脂（固形分）１０
０重量部当たり、無機微粒子を１０〜４００重量部、好
ましくは５０〜２５０重量部含み、樹脂と無機微粒子と
の合計重量部当たり、硬化触媒を０．００００１〜２０
重量部含む。

【００４５】以上の成分の外に更に必要に応じて、例え
ば、密着性改良、耐候性向上などを目的として、或いは
コート液の安定性を向上させる目的で各種添加剤を併用
してもよい。

【００４６】添加剤の例としては、pH調節剤、粘度向上
剤、レベリング剤、つや消し剤、染料、顔料、安定剤、
紫外線吸収剤、酸化防止剤などがある。

【００４７】その外、ハードコート層の染色性を向上さ
せる目的でエポキシ樹脂その他の有機ポリマー、例え
ば、ポリオール、繊維素系樹脂、メラミン樹脂を添加し
てもよい。

【００４８】塗布時におけるフローを向上させ、ハード
コート層の平滑性を向上させてハードコート層表面の摩
擦係数を低下させる目的で、各種の界面活性剤をコート
液に併用することも可能であり、とくにジメチルシロキ
サンとアルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト
共重合体、さらにはフッ素系界面活性剤などが有効であ
る。

【００４９】ハードコート層の厚さは、その目的に応じ
て、０．０１μ〜５０μｍ、好ましくは０．５〜２μｍ
が適当である。

【００５０】最近、乾式法でハードコート層を形成する
技術が提案された。これによれば、メチルトリエトキシ
シランやジメトキシジメチルシランのガスと酸素ガスを
真空チャンバー内に導入してＣＶＤ法によりハードコー
ト層を形成する。この方法でも良い。

【００５１】（４）反射防止膜について：レンズの反射
率は、通常４％位であるが、これを抑えるために、特に
メガネレンズの場合には、他人から見てレンズの存在を
感じさせなくし、装用者の美観を上げる目的で、反射防
止膜が設けられることが多い。本発明の場合、１％以下
にすることが好ましい。

【００５２】反射防止膜の理論は、単層の場合、基材の
屈折率をｎとするとき、屈折率がｎの平方根と同一又は
近い低さを有し、厚さが光の波長λの４分の１の光学薄
膜を設けると反射が抑制されると言うものである。しか
し、単層の場合には、一波長λに対しては反射防止にな
るが、可視光の広い領域にわたって反射防止するには多
層反射防止理論に頼らなければならない。多層反射防止
理論は難しいのでここでは省略する。多層反射防止理論
に基づく反射防止膜は、基本的には低屈折率の光学薄膜
と高屈折率の光学薄膜との交互層からなる。

【００５３】低屈折率の光学薄膜を与える材料として
は、フッ化マグネシウム、一酸化ケイ素、二酸化ケイ
素、高屈折率の光学薄膜を与える材料としては、酸化ア
ルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化
チタン、酸化タンタル、酸化錫、酸化タングステン、酸
化鉄、酸化セリウムなどが使用される。このような光学
薄膜は、膜厚が波長λの８分の１、４分の１、２分の１
等と薄いので、形成方法は真空薄膜形成技術例えば真空
蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどであ
る。いずれも真空チャンバー内で反応を伴う方法でも良
い。

【００５４】本発明が効果的なのは、表面が親水性とな
る反射防止膜、つまり少なくとも最上層に酸化ケイ素系
の無機物質層である反射防止膜である。

【００５５】（５）撥水層について：本発明では、下記
〔Ｉ〕又は〔ＩＩ〕からなる撥水剤を使う。 〔Ｉ〕について：この撥水剤は、一般式（１）で表され
る２官能有機シラン化合物又はその部分加水分解物であ
る。

【００５６】

【化５】

【００５７】式中、Ｒは置換又は非置換の１価炭化水素
基で、好ましくは置換又は非置換の炭素数１〜２０のア
ルキル基、アルケニル基又はアリール基である。なお、
置換１価炭化水素基としては、非置換の１価炭化水素基
の一部又は全部がハロゲン原子例えばフッ素原子で置換
されたものを挙げることができ、Ｒｆであってもよい。
Ｘはケイ素原子に直結する加水分解性基（好ましくはハ
ロゲン原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基若しくはア
シロキシ基）又は水酸基である。Ｒf はフッ素化された
１価の有機基（１価炭化水素基例えばアルキル基）であ
り、炭素数３〜３０が好ましい。このフッ素化は有機基
にある全部の水素原子が置換されていても部分的に置換
されていてもよい。Ｒf の特に好ましいものは、一般
式：Ｃ_p Ｆ_2p+1Ｃ_m Ｈ_2m−（ｐは１〜２０、ｍは２又は
３）で表される。

【００５８】具体的なシラン化合物〔Ｉ〕を例示する
と、以下の通りである。 ＣＦ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）ＳｉＣｌ₂ Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）ＳｉＣｌ₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）ＳｉＣｌ₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）ＳｉＣｌ₂ ＣＦ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ （Ｃ₂ Ｈ₅ ）ＳｉＣｌ₂ Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₂ Ｈ₄ （Ｃ₂ Ｈ₅ ）ＳｉＣｌ₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （Ｃ₂ Ｈ₅ ）ＳｉＣｌ₂ ＣＦ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＨ₃)₂ Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＨ₃)₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＨ₃)₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＨ₃)₂ ＣＦ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ₃ ）＝ＣＨ
₂)₂ Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ₃ ）＝Ｃ
Ｈ₂)₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ₃ ）＝Ｃ
Ｈ₂)₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣ（ＣＨ₃ ）＝Ｃ
Ｈ₂)₂ ＣＦ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂

【００５９】〔ＩＩ〕について：この撥水剤は、一般式
（２）で表される有機ケイ素化合物である。

【００６０】

【化６】

【００６１】この有機ケイ素化合物は、ｎが２以上のシ
ラザン化合物の場合は平均組成式：ＲｆＲＳｉ（ＮＨ）
_2/2 と表すこともでき、この平均組成式において両末端
を−ＮＨ₂ 基としたものである。 特に前記有機基Ｒf が一般式（３）： Ｃ_p Ｆ_2p+1Ｃ_m Ｈ_2m− …（３） で表される有機ケイ素化合物、特にｎが２以上のシラザ
ン化合物が好ましい。

【００６２】好ましい有機ケイ素化合物〔ＩＩ〕を例示
すると、以下の通りである。 ＣＦ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 Ｃ₁₀Ｆ₂₁Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 これらの式において、「ＣＦ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ
（ＮＨ）_2/2 」は、次の式で表現することもできる。他
の化合物も同様に表現することができる。

【００６３】

【化７】 （ｎは正の整数で、好ましくは１〜２０、特に好ましく
は３又は４である。）

【００６４】これらの化合物は単独で又は混合して使用
される。また、撥水剤〔Ｉ〕と〔ＩＩ〕を混合して使用
してもよい。１官能の「フッ素化された有機基を有する
有機シラン化合物」や１官能の「フッ素化された有機基
を有するシラザン化合物」を併用したり、先に本発明の
２官能で処理し、後で１官能（ヘキサメチレンジシラザ
ン）で処理してもよい。また、その逆でもよい。

【００６５】更に先に本発明の２官能で処理し、後でフ
ッ素化シリコーンオイル（非反応性のもの）やフッ素系
オイル（例えば、商品名「デムナム」、商品名「フォン
ブリンオイル」）で後処理してもよい。

【００６６】撥水剤〔Ｉ〕又は〔ＩＩ〕又はそれらの混
合物によるレンズ基材（基材の上に衝撃吸収層やハード
コート層、反射防止膜が形成されている場合には、それ
を有する基材のこと）の撥水処理は、大きく分けて、
塗布法による場合と、真空蒸着法、ＣＶＤ法その他の
真空薄膜形成技術による場合と２通りある。

【００６７】塗布法では、撥水剤が液体である場合はそ
のまま塗布してもよいが、場合によっては、溶剤で０．
１〜２０重量％、好ましくは１〜６重量％に希釈した溶
液を用いることが好適である。溶剤は、無水の非水系有
機溶剤、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ペンタン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル系溶剤、シリコーン系溶剤、好ましくは
フッ素系溶剤（例えば、メタキシレンヘキサフロライ
ド、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオ
ロエタンその他のフロン系）が使用される。

【００６８】塗布法は浸漬法、ハケ塗り、スピンコート
法、スプレー塗装、流し塗りなどが用いられる。塗布
後、被塗布物（レンズ中間体）を溶剤に浸して余分な撥
水剤を除去することが好ましい。その後、室温又は加熱
下（１２０℃以下が好ましい）で１分〜１日乾燥させ
る。こうして撥水層が形成される。撥水の程度は、本発
明の場合、８０°以上、好ましくは９０°以上の接触角
（静止接触角のこと）を持つと合格と評価される。いず
れにせよ、撥水剤の分子が撥水処理の間に分解して活性
点を持ち、反射防止膜表面の活性点と結合することが好
ましい。

【００６９】本発明の撥水剤を使用した場合、そのフッ
素化された有機基がレンズ基材の表面（基材の上に衝撃
吸収層やハードコート層、反射防止膜が形成されている
場合には、その表面）に対してびっしりと垂直に立って
撥水層を形成していることが好ましい。そのため、親水
性の表面は外部に露出しなくなる。

【００７０】更に反射防止膜の上に撥水層を設ける場
合、反射防止理論を崩すので、撥水層は単分子膜程度の
薄いことが好ましい。あるいは、撥水層の屈折率と膜厚
を測定又は規定し、撥水層を設けたときに反射率が低下
するように、予め多層反射防止膜を設計製作しておいて
もよい。

【００７１】

【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、以下の説明において、「部」は重
量部を意味する。

【００７２】（１）レンズ基材の用意：下記に示す市販
のレンズ基材（凹レンズ／直径８０ｍｍ）３種を用意し
た。 ・基材Ｓl ：屈折率１．５０（素材はＣＲ−３９の重合
物系） ・基材Ｓh ：屈折率１．６７（素材は臭素化ビスフェノ
ールＡのウレタン変性ジメタクリレートの共重合物系） ・基材Ｓhh：屈折率１．７０（素材はクォーターフェニ
ル−芳香族ポリエーテルスルホン共重合物系）

【００７３】（２）衝撃吸収層の形成： ＜コート液Ｐl （低屈折率用）の調製＞市販の水性エマ
ルジョン形態のポリウレタン「スーパーフレックス１５
０」（第一工業製薬株式会社製、固形分３０重量％、無
黄変型、エーテル・エステル系）１００部、純水２００
部、ＳｉＯ₂ ゾル（固形分３０重量％、平均粒子径１３
ｎｍ）３０重量部に、メチルトリメトキシシラン１０部
を純水８部で加水分解したものを加え、混合することに
より調製する。 ＜コート液Ｐh （高屈折率用）の調製＞市販の水性エマ
ルジョン形態のポリウレタン「スーパーフレックス１０
０」（第一工業製薬株式会社製、固形分３０重量％、無
黄変型、エーテル・エステル系）１００部、純水２００
部、ＴｉＯ₂ ゾル（固形分３０重量％、平均粒子径３０
ｎｍ）４０部に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン８部を純水５部で加水分解したものを加え、混
合することにより調製する。 ＜コート液Ｐhh（超高屈折率用）の調製＞市販の水性エ
マルジョン形態のポリウレタン「スーパーフレックス１
００」（第一工業製薬株式会社製、固形分３０重量％、
無黄変型、エーテル・エステル系）１００部、純水２０
０部、ＴｉＯ₂ ゾル（固形分３０重量％、平均粒子径３
０ｎｍ）６０部に、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン８部を純水５部で加水分解したものを加え、
混合することにより調製する。 ＜塗布＞前処理としてプラズマ処理を行ったレンズ基材
にスピンコ−ト法（回転速度１０００ｒｐｍ、５秒）に
て塗布し、その後、８０℃で３０分間加熱処理して塗布
層を硬化させ、レンズ基材上に厚さ１．２μｍの衝撃吸
収層を形成する。層の屈折率は、コート液がＰl の場
合、１．４９で、Ｐh の場合、１．６７で、Ｐhhの場
合、１．７０である。

【００７４】（３）ハードコート層の形成： ＜予備組成物Ａの調製＞回転子を備えた反応容器中にγ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン２４８
部を入れ、マグネチックスタ−ラ−を用いて激しく撹拌
しながら、０．０５規定塩酸水溶液３６部を一度に添加
し、１時間撹拌し、加水分解物を得る。

【００７５】得られた加水分解物に、エタノ−ル５６．
６部及びエチレングリコ−ル５３．４部を添加した後、
アルミニウムアセチルアセテ−ト４．７部を加え、十分
に混合溶解させて、予備組成物Ａを調製する。

【００７６】＜予備組成物Ｂの調製＞回転子を備えた反
応容器中に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン２１２．４部を入れ、容器内の温度を１０℃に保
ち、マグネチックスタ−ラ−を用いて激しく撹拌しなが
ら、０．０１規定塩酸水溶液４８．６部を徐々に滴下す
る。滴下終了後は直ちに冷却を止め、液状の加水分解物
を得る。

【００７７】得られた加水分解物にエタノ−ル７７．１
部及びエチレングリコ−ル３７．７部を添加した後、ア
ルミニウムアセチルアセテ−ト７．６５部を加え、十分
に混合させて、予備組成物Ｂを調製する。

【００７８】＜コート液Ｈl （低屈折率用）の調製＞ガ
ラス容器に、前記予備組成物Ａを２０部、予備組成物Ｂ
を８０部、ＳｉＯ₂ゾル（固形分３０重量％、平均粒子
径１３ｎｍ）２００部、シリコ−ン系界面活性剤０．４
５部を十分に撹拌混合し、コート液Ｈl を調製する。 ＜コート液Ｈh （高屈折率用）の調製＞ガラス容器に、
前記予備組成物Ｂを１００部、ＴｉＯ₂ ゾル（固形分３
０重量％、平均粒子径３０ｎｍ）２２０部、シリコ−ン
系界面活性剤０．５５部を十分に撹拌混合し、コート液
Ｈh を調製する。 ＜コート液Ｈhh（超高屈折率用）の調製＞ガラス容器
に、前記予備組成物Ｂを１００部、ＴｉＯ₂ ゾル（固形
分３０重量％、平均粒子径３０ｎｍ）３００部、シリコ
−ン系界面活性剤０．５５部を十分に撹拌混合し、コー
ト液Ｈhhを調製する。 ＜塗布＞密着性の向上を目的として、被塗布物（レンズ
中間体）を６０℃の１０％ＮａＯＨ水溶液に３分間浸漬
し、その後、水洗し、乾燥する。

【００７９】乾燥した被塗布物を縦に立ててコート液に
浸した後、引き上げ速度９０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き
上げる。引き上げた被塗布物について１００℃で４時間
の加熱処理をしてコート液を硬化させる。これにより
２．２μｍの膜厚を有するハ−ドコ−ト層が形成され
る。層の屈折率は、コート液がＨl の場合、１．５０
で、Ｈh の場合、１．６７で、Ｈhhの場合、１．７０で
ある。

【００８０】（４）反射防止膜の形成：レンズ中間体の
両面に真空蒸着法により多層反射防止膜を形成した。反
射防止層の構造は次の通りである。 ＜Ａl （低屈折率基材Ｓl 用・５層構造）＞（反射率１．５％） 空気側／ＳｉＯ₂ 850Å／ＺｒＯ₂ 600Å／ＳｉＯ₂ 200Å ／ＺｒＯ₂ 300Å／ＳｉＯ₂ 200Å／基材側 ＜Ａh （高屈折率基材Ｓh 用・５層構造）＞（反射率１．５％） 空気側／ＳｉＯ₂ 850Å／ＴｉＯ₂ 1100Å／ＳｉＯ₂ 350Å ／ＴｉＯ₂ 150Å／ＳｉＯ₂ 250Å／基材側 ＜Ａhh（超高折率基材Ｓhh用・５層構造）＞（反射率１．５％） 高屈折率基材Ｓh 用と同じ。

【００８１】（５）撥水層の形成： ＜前処理・・・・プラズマ処理＞撥水層の密着性、耐久
性を高めるため、最上層のＳｉＯ₂ 層を親水性（水との
接触角１０°以下）にしておくことが好ましい。ここで
は、プラズマ処理（０．２ｔｏｒｒ．／５０ｓｃｃｍ／
２００Ｗ／４０ｓｅｃ）により、処理前に５０〜６０°
程度あった接触角を０°にしておく。

【００８２】＜撥水層の形成（塗布法）＞まず、撥水剤
として下記の４種を用意し、下記溶剤で５重量％に希釈
する。 〔Ｉa 〕 ：Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）ＳｉＣｌ₂ （溶剤：メタキシレンヘキサフロライド） 〔Ｉb 〕 ：Ｃ₄ Ｆ₉ Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＯＣＨ₃ ）₂ （溶剤：アセトン（触媒として濃硫酸０．１％、部分加水分解用 純水０．２５％を含む） 〔ＩＩa 〕：Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 （式（２）において、ｎ＝４で末端はＮＨ₂ 基） （溶剤：メタキシレンヘキサフロライド） 〔ＩＩb 〕：Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 （式（２）において、ｎ＝４で末端はＮＨ₂ 基） （溶剤：メタキシレンヘキサフロライド）

【００８３】次に被塗布物（レンズ中間体）を縦に立て
て上記撥水剤に浸し、引き上げ速度１ｍｍ／ｓｅｃの速
度で引き上げる。引き上げた被塗布物について６０℃で
２０分乾燥させる。まだ、ベタベタ感が残っているの
で、その後、メタキシレンヘキサフルオライドで洗浄す
る。こうして撥水層が形成され、本発明のレンズ（サン
プル）が仕上がる。比較のため、撥水層を設けない比較
レンズ（サンプル）も用意する。

【００８４】＜撥水層の形成（蒸着法）＞まず、撥水剤
として下記の２種を用意し、下記溶剤で５重量％に希釈
する。 〔ＩＩa₂〕：Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 （溶剤：メタキシレンヘキサフロライド） 〔ＩＩb₂〕：Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₃ Ｈ₆ （ＣＨ₃ ）Ｓｉ（ＮＨ）_2/2 （溶剤：メタキシレンヘキサフロライド）

【００８５】蒸発源として、外径が１８ｍｍ、高さが７
ｍｍ、厚さが０．２ｍｍの銅製の容器にスチールウール
（＃００００）を高さ５ｍｍ分充填し、そこに、上記の
希釈された撥水剤をピペットによって１．２ｍｌ注入す
る。次に８０℃に熱したホットプレートにそれを載せ、
換気しながら約２０分加熱し、希釈溶剤であるメタキシ
レンヘキサフロライドを完全に蒸発させ、有効成分のみ
を残し、撥水層形成用蒸発源とした。これを真空蒸着装
置のチャンバー内の電子銃のハースライナーにセットす
る。

【００８６】他方、被塗布物（レンズ中間体）を、チャ
ンバー内の基板ホルダーにセットする。チャンバー内を
一旦１×１０^-5Ｐａまで真空に排気した後、電子銃条件
AMPLITUDE ＝１０．０、EMISSION電流値＝５ｍＡで３分
間の蒸発源を加熱し、撥水層を形成する。これにより本
発明のレンズ（サンプル）が仕上がる。比較のため、撥
水層を設けない比較レンズ（サンプル）も用意する。

【００８７】（６）水との接触角（撥水性）の測定： 耐久試験前：撥水層を設けた後、下記耐久試験の前
に、協和界面科学株式会社製の接触角計ＣＺ−Ｘ１５０
を用いてサンプルの静止接触角を測定する。 耐拭き（耐久試験１）：アセトンを含ませたレンズペ
ーパーでサンプルを５０往復擦り、その後、前項と同
様に静止接触角を測定する。 耐アルカリ（耐久試験２）：ｐＨ１１の水酸化ナトリ
ウム水溶液にサンプルを１時間浸漬した後、前項と同
様に静止接触角を測定する。

【００８８】（７）水ヤケの有無：サンプルを市販の玉
摺機で所定の玉型に合わせてカットした。２〜３時間放
置後、メタノールを湿した布で表面をきれいに拭いた。
その後、息を吹きかけて、水跡が浮き出て見えるか否か
を判定する。見えなければ、「なし」で合格○、見えれ
ば、「あり」で不合格×である。以上の結果を表１〜４
に示す。

【００８９】

【表１】 （X1は比較例，○：なし・×：あり）

【００９０】

【表２】 （X2は比較例，○：なし・×：あり）

【００９１】

【表３】 （X3は比較例，○：なし・×：あり）

【００９２】

【表４】 （○：なし・×：あり）

【００９３】（８）滑り性：サンプルの表面に爪を立て
て引っ掻いたところ、本発明の実施例のものは、いずれ
も滑りが良好であったが、従来技術（３官能）で撥水処
理したものは、やや悪かった。また、撥水層を設けない
比較例は滑りが悪かった。

【００９４】

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、撥水剤と
しては２官能のものを使用するので、３官能（従来技
術）に比べて撥水剤のポットライフが長く、それでいて
０官能又は１官能のものに比べて撥水性の耐久性があ
る。また、３官能（従来技術）に比べて、表面の滑り性
が良好である。

【００９５】本発明では、レンズ表面で撥水剤を硬化さ
せることがないため、硬化に伴う収縮歪みが生じない。
従って、本発明のレンズは、特に面精度が微妙である非
球面レンズの場合に好適である。本発明のレンズは、レ
ンズに息を吹きかけても、玉摺作業のときのパッド跡が
白く浮き出て来ないので、商品価値が高い。

【００９６】そのほか、本発明のレンズは、ホコリが付
着せず、外観がきれいで、高級感がある。従って、本発
明のレンズは、ツーポイントメガネ用レンズの場合に好
適である。但し、撥水層は硬化物（３官能＝従来技術）
ではないので、「撥水層を設けないもの」と比べて、傷
がつき難い効果はないが、滑り性は良好である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 3/18 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/18 １０４ Ｇ０２Ｃ 7/02 Ｇ０２Ｃ 7/02 (72)発明者 川村 裕子 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 (72)発明者 浅井 光雄 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 上原 仁 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 青木 智則 茨城県取手市白山７丁目５番16号 株式会 社オプトロン内

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レンズ基材を下記〔Ｉ〕又は〔ＩＩ〕か
   らなる撥水剤で処理することによって、非硬化物質から
   なり、水との接触角が８０°以上の撥水層を形成したこ
   とを特徴とする撥水処理されたレンズ。 〔Ｉ〕一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒは置換又は非置換の１価炭化水素基、Ｘはケ
   イ素原子に直結する加水分解性基又は水酸基、Ｒf はフ
   ッ素化された有機基である。）で表される２官能有機シ
   ラン化合物又はその部分加水分解物 〔ＩＩ〕一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒf はフッ素化された有機基であり、Ｒは置換
   又は非置換の１価炭化水素基であり、ｎは正の整数であ
   る。）で表される有機ケイ素化合物
2. 【請求項２】 前記撥水剤が〔Ｉ〕であって、前記Ｘ
   が、ハロゲン原子又は炭素数１〜１０のアルコキシ基若
   しくはアシロキシ基であることを特徴とする請求項１記
   載のレンズ。
3. 【請求項３】 前記撥水剤が〔ＩＩ〕であって、前記有
   機基Ｒｆが一般式（３）： Ｃ_p Ｆ_2p+1Ｃ_m Ｈ_2m− …（３） （式中、ｐは４以上の整数、ｍは２又は３である。）で
   表わされる有機ケイ素化合物であることを特徴とする請
   求項１記載のレンズ。
4. 【請求項４】 前記撥水剤が〔ＩＩ〕であって、前記有
   機基Ｒｆが化学式：Ｃ₈ Ｆ₁₇Ｃ₂ Ｈ₄ −又はＣ₈ Ｆ₁₇Ｃ
   ₃ Ｈ₆ −で表され、前記炭化水素基Ｒが化学式：ＣＨ₃
   −で表され、前記ｎが１〜１０であることを特徴とする
   請求項１記載のレンズ。
5. 【請求項５】 前記レンズ基材と前記撥水層との間に反
   射防止膜を有することを特徴とする請求項１〜４のいず
   れか１項に記載のレンズ。
6. 【請求項６】 前記反射防止膜が少なくとも最上層に酸
   化ケイ素系の無機物質層を有することを特徴とする請求
   項５記載のレンズ。
7. 【請求項７】 前記レンズ基材と前記撥水層又は前記反
   射防止膜との間に、ハードコート層を有することを特徴
   とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のレンズ。
8. 【請求項８】 前記レンズ基材と前記ハードコート層と
   の間に衝撃吸収層を有することを特徴とする請求項７記
   載のレンズ。
9. 【請求項９】 前記レンズ基材と前記ハードコート層と
   の屈折率差がゼロ又は０．０５以下であることを特徴と
   する請求項７記載のレンズ。
10. 【請求項１０】 前記レンズ基材と前記衝撃吸収層との
    屈折率差がゼロ又は０．０５以下であることを特徴とす
    る請求項８記載のレンズ。
11. 【請求項１１】 前記ハードコート層が、下記一般式
    （４）で示される少なくとも一種の有機シラン化合物及
    び／又はその部分加水分解物の硬化物からなることを特
    徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載のレン
    ズ。 Ｒ¹ _a Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-a …（４） （式中、Ｒ¹ はアルキル基、アルケニル基若しくはアリ
    ール基又はハロゲン原子、アミノ基、メルカプト基、
    （メタ）アクリロキシ基、シアノ基、グリシジル基、グ
    リシドキシ基、メルカプト基若しくはエポキシ基で置換
    された１価炭化水素基であり、炭素原子によってＳｉに
    結合しており、Ｒ² は炭素数が１〜８のアルキル基、ア
    リルアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル
    基、アリール基又はアシル基であり、ａは０又は１であ
    る。）
12. 【請求項１２】 前記シラン化合物がグリシジル基、グ
    リシドキシ基又はエポキシ基を有することを特徴とする
    請求項１１記載のレンズ。
13. 【請求項１３】 前記ハードコート層が１〜２００ｎｍ
    の無機微粒子を含有することを特徴とする請求項１１又
    は１２記載のレンズ。
14. 【請求項１４】 前記衝撃吸収層が１〜２００ｎｍの無
    機微粒子を含有することを特徴とする請求項８又は１０
    記載のレンズ。
15. 【請求項１５】 前記レンズ基材の屈折率が１．５６以
    下と低い場合には、前記無機微粒子が酸化ケイ素である
    ことを特徴とする請求項１３又は１４記載のレンズ。
16. 【請求項１６】 前記レンズ基材の屈折率が１．５６以
    上と高い場合には、前記無機微粒子が、亜鉛、アルミニ
    ウム、アンチモン、イットリウム、イッテルビウム、イ
    リジウム、インジウム、エルビウム、オスミウム、カド
    ミウム、ガドリニウム、ガリウム、金、銀、クロム、ゲ
    ルマニウム、コバルト、サマリウム、ジスプロシウム、
    ジルコニウム、水銀、スカンジウム、錫、ストロンチウ
    ム、セシウム、セリウム、タリウム、タングステン、タ
    ンタル、チタン、ツリウム、テクネチウム、鉄、テルビ
    ウム、テルル、銅、トリウム、鉛、ニオブ、ニッケル、
    ネオジム、白金、バナジウム、ハフニウム、パラジウ
    ム、バリウム、ビスマス、モリブデン若しくはランタン
    から選択された金属、その金属の合金、その金属の化合
    物、同酸化物、同塩化物又は同両性化合物であることを
    特徴とする請求項１１又は１２記載のレンズ。
17. 【請求項１７】 前記撥水層が上面から見て部分的に形
    成されていることを特徴とする請求項１〜１６のいずれ
    か１項に記載のレンズ。
18. 【請求項１８】 前記レンズ基材がプラスチックで構成
    されていることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか
    １項に記載のレンズ。
19. 【請求項１９】 前記レンズ基材が１．６以上の屈折率
    を有することを特徴とする請求項１〜１４又は１６〜１
    ８のいずれか１項に記載のレンズ。
20. 【請求項２０】 前記レンズ基材が１．７以上の屈折率
    を有することを特徴とする請求項１９記載のレンズ。
21. 【請求項２１】 前記反射防止膜の反射率が２％以下で
    あることを特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に
    記載のレンズ。
22. 【請求項２２】 前記レンズ基材が非球面レンズである
    ことを特徴とする請求項１〜２１のいずれか１項に記載
    のレンズ。
23. 【請求項２３】 ツーポイントメガネ用であることを特
    徴とする請求項１〜２２のいずれか１項に記載のレン
    ズ。