JP4378565B2

JP4378565B2 - アルコキシシラン化合物

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Publication number: JP4378565B2
Application number: JP2004093432A
Authority: JP
Inventors: 信二久保; 啓三饗場; 昇大谷; 忠則福田
Original assignee: Neos Co Ltd
Current assignee: Neos Co Ltd
Priority date: 2004-03-26
Filing date: 2004-03-26
Publication date: 2009-12-09
Anticipated expiration: 2024-03-26
Also published as: JP2005281143A

Description

本発明は、新規なアルコキシシラン化合物に関する。本化合物は、特に、光学部材例えば、眼鏡レンズあるいは窓ガラス等の表面改質剤として有用である。

従来から光学体、例えば眼鏡レンズの曇りを防止するための技術がいくつか提案されてきている。曇り防止に作用の点から大きく分けてレンズ表面に吸水性樹脂を被覆することと、いわゆる濡れ現象を利用する２つのタイプが挙げられる。但し、近年では吸水性樹脂による防曇作用は吸水性樹脂を被覆すると表面硬度が低くなってしまうことと、その厚みから反射防止レンズには使用できないことから、後者の濡れ現象を利用した防曇レンズの開発が主流である。濡れ現象とは要はレンズに付着する水分の表面張力による水滴化を防止するもので、レンズ表面に界面活性剤を塗布することが最も一般的である。

このような界面活性剤を塗布してレンズの曇り防止を図った技術として特許文献1に掲げるような技術がある。同文献1では基材表面に酸化チタンを含有する無機親水性硬質層を形成する技術が開示されている。そして、この無機親水性硬質層の表面に塗布された界面活性剤を安定化させるというものである。
特開２００３−１５０９２号

ところで、光学体で留意しなければならない課題として水ヤケの問題がある。上記文献1のような界面活性剤の安定化を主目的にすると一般的にはレンズ表面を親水化することとなるため水ヤケしやすくなってしまうからである。ここで水ヤケしやすさは界面活性剤層があれば見かけ上軽減されるが、本質的には下地表面の性質によって決まるものであり、特に界面活性剤層が不十分な状態で使用した場合には下地表面の性質がそのまま現れてしまい、レンズ表面に水ヤケが発生してしまうこととなる。

本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものであり、水ヤケを防止しつつ、界面活性剤の安定化を図ることができる下地処理層を光学部材表面に形成する新規なアルコキシシラン化合物の提供を目的とする。

即ち本発明は、一般式（１）：

[式中、
Ｒは、同一であっても異なっていてもよく、そして水素原子又は−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃若しくは−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃を示し（但し、Ｒのうち少なくとも一つは−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃若しくは−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃を示す。）；
ｍは、０、１または２を示し；
ｎは、同一であっても異なっていてもよく、そして０〜５０の整数を示し、ｎの総合計は３〜５０である。]で表されるアルコキシシラン化合物を提供する。

ｎは、０〜５０、好ましくは０〜２０の整数を示し、そして「ｎの総合計」は３〜５０、好ましくは８〜２６である。

また、「ｎの総合計」が最小値３である一般式（１）のアルコキシシラン化合物は、ｍが０である場合を例に挙げると、グリセリンの３つの水酸基のうち１つに−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₃−が付加しているものであっても、グリセリンの３つの水酸基全てに−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−が付加しているものであっても、またはグリセリンの３つの水酸基のうち２つに−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−および−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂−がそれぞれ付加しているものであってもよい。この場合、−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−が付加するグリセリンの水酸基の位置は中央のものであっても末端のものであってもよい。

本発明はまた、上記一般式（１）のアルコキシシラン化合物を含む表面改質剤を提供する。

本発明による表面処理剤の製造法は特に限定的ではないが、好適な製造法を以下に説明する。先ず、一般式（２）：

（式中、ｍは０、１または２を示す。ｎは０〜５０の整数を示し、ｎは同一であっても異なっていてもよい。ｎの総合計は３〜５０である。）で示されるグリセリン及びポリ（重合度１〜３）グリセリンのエチレンオキサイド付加物（エチレンオキサイド平均付加モル数３〜５０）と一般式（３）：
［化３］
ＯＣＮ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ （３）
（ＫＢＭ−９００７、信越化学工業（株）製）
及び／又は一般式（４）：
［化４］
ＯＣＮ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃ （４）
（ＫＢＥ−９００７、信越化学工業（株）製）を無溶媒で反応させることによって得ることができる。

尚、反応温度は通常０〜１００℃、好ましくは、２０〜５０℃である。

尚、一般式（２）の化合物は、従来の方法、例えばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリンに酸触媒又はアルカリ触媒下でエチレンオキシドを付加させることによって製造することができる。

本発明のアルコキシシラン化合物により下地処理層が形成される光学体（又は、光学部材）としては、曇り防止・水ヤケ防止処理が必要と考えられる物品、例えば眼鏡用レンズ、双眼鏡、望遠鏡のレンズ、窓ガラス、ＣＲＴ等の光学ディスプレイ、光学フィルター等が挙げられるが、これらに限定されない。

光学体基材の素材としては、例えば無機ガラス及びプラスチックを使用することができる。無機ガラスとしてはＳｉＯ₂を主成分とするものが挙げられる。また、プラスチックとしては例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリ４−メチルペンテン−１樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂等が挙げられる。

光学体の基材表面上に直接、あるいは光学体の基材表面上に形成された被膜表面上に、本発明のアルコキシシラン化合物を含む表面改質剤（又は、下地処理剤ともいう）を塗布等することによって、下地処理層が形成される。ここで、光学体の基材表面に形成される被膜としては、本発明のアルコキシシラン化合物と反応して十分な密着力を有する被膜であれば特に限定されず、例えば、酸化物被膜やフッ化マグネシウム被膜が挙げられる。また、光学体基材の素材自体が酸化物を含有していてもよく、この場合基材自体が酸化物表面を形成し得る。

光学体の基材表面に形成される酸化物被膜としては、例えばハードコート膜、反射防止膜等が挙げられる。

ハードコート膜はコート用のハードコート液に浸漬し、その後公知の方法にて溶媒を蒸発させて形成される。

ハードコート膜は、特にオルガノシロキサン系樹脂と無機酸化物微粒子から構成されることが好ましい。そのためのハードコート液は水又はアルコール系の溶媒にオルガノシロキサン系樹脂と無機酸化物微粒子ゾルを分散（混合）させて調整される。

オルガノシロキサン系樹脂はアルコキシシランを加水分解し縮合させて得られるものが好ましい。アルコキシシランの具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルシリケートなどが挙げられる。これらアルコキシシランの加水分解縮合物は、前述のアルコキシシラン化合物を単独または２種類以上組合せ、塩酸等の酸性水溶液で加水分解することによって製造される。

無機酸化物微粒子の具体的な例としては、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ベリリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化セリウム等の各ゾルを単独で又は２種類以上を混晶化して使用可能である。２種類以上を複合化した例としては、例えば、酸化スズと酸化タングステンの複合ゾルが挙げられる。無機酸化物微粒子の大きさはハードコート膜の透明性に関連するので重要である。無機酸化物微粒子の大きさは１００ｎｍ以下であることが必要であり、特に１〜５０ｎｍであることが好ましい。無機酸化物微粒子の配合量はハードコート膜の硬さ、強靭性に大きく影響する。通常はハードコート成分中、４０〜６０重量パーセントが好ましい。

またハードコート液中には必要に応じ、硬化触媒として、アセチルアセトン金属塩、エチレンジアミン四酢酸金属塩などを添加することも可能である。さらに必要に応じ、界面活性剤、着色剤、溶媒などを添加してコーティング剤を調整することも可能である。

ハードコート膜の膜厚は０．５〜４．０μｍ、特に１．０〜３．０μｍの範囲が好ましい。このような範囲とした点についてまず膜厚０．５μｍ以上としたのは、薄過ぎる場合には所望の硬度が得られないためである。一方、膜厚を４．０μｍ以上にすると硬度は上げ易いが、本レンズのクラックが発生しやすくなり、さらに脆くなりやすいなど物性面への問題が生じるためにこのように上限を設定することが好ましい。

反射防止膜は公知の蒸着法やイオンスパッタリング法等により形成されている。反射防止層は、光学理論に基づいた多層構造膜が採用される。膜材料としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｙｂ₂Ｏ₃、ＣｅＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、など一般的な無機酸化物を使用することができる。

反射防止膜は特性の異なるこれらを材料とした薄膜を周知の手段（例えば蒸着）により定石に従って１層から順に蒸着して形成される。

下地処理層は、本発明の一般式（１）のアルコキシシラン化合物を含む下地処理剤（本明細書中で、表面改質剤または表面処理剤ともいう）を、基材又は基材上に形成された被膜（例えば、酸化物被膜）上に、塗布（手塗り、ディッピング法、スピンコート法）、蒸着又はイオンスパッタリング法によって形成される。塗布される場合には下地処理剤には粘度を調整するために溶剤を加えても良い。溶剤としては酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤が好ましい。下地処理層の水に対する接触角は５０〜９０°の範囲に含まれることが必要である。

下地処理剤として使用される一般式（１）のアルコキシシラン化合物は、−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−で示されるポリオキシエチレン基を含む親水部と、基材と反応するカップリング部を有している。

基材と反応するカップリング部は、−Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃又は−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃で表わされるアルコキシシラン基Ｒであり、この官能基は基材側との結合の関係で好適である。即ち、アルコキシシラン基Ｒが、基材側のシラノール基−ＳｉＯＨと反応して共有結合することによって（例えば反射防止膜中の最外層膜に由来するＳｉＯ₂と反応する）、形成される下地層の耐久性が向上すると考えられる。

下地処理剤に含まれる本発明の一般式（１）で表わされるアルコキシシラン化合物はカップリング部によって基材（酸化物被膜）上に固定されることになる。また、分子量としては４３０〜３７００の範囲のものが使用可能であり、特に６００〜２７００の範囲が好ましい。

下地処理層の厚みは０．５〜２０ｎｍ好ましくは１〜１０ｎｍである。

下地処理剤は上記いずれかの手段でコーティングされ、常温〜１２０℃の温度域で３０分〜２時間加熱される。特に５０〜７０℃の温度域で１〜２時間加熱するのが好ましい。

下地処理層の上に形成される防曇層を構成する界面活性剤としては、ノニオン系、アニオン系及びカチオン系が挙げられ、特にノニオン系が好ましいがノニオン系を主体とし異種のものを複合混合して使用することも可能である。また、フッ素系と非フッ素系があるが、特にフッ素系は濡れ性の向上が期待できる。ノニオン系については本出願人の性能評価試験に基づけはＨＬＢ値が５〜１５の範囲がもっとも防曇性能が高く、この範囲から外れるほど防曇性能が低下する傾向となる。防曇層の厚みは反射防止膜の反射色に影響がでない程度であることが望ましい。

防曇層は界面活性剤を塗布することで形成される。界面活性剤は所定の水又はアルコール系の溶媒に溶解させた溶液として調整される。

本発明の新規なアルコキシシラン化合物により下地処理層を形成した光学部材は、水ヤケを防止しつつ、界面活性剤を塗布することで十分な防曇効果を得ることができる。

以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。

＜製造実施例＞
実施例１
ジグリセリンエチレンオキサイド平均１８モル付加物と３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（モル比１：４）の反応物［即ち、一般式（１）においてｍ＝1、ｎの総合計＝18であるアルコキシシラン化合物］の製造
１００ｍｌのナス型フラスコ内に、ジグリセリンエチレンオキサイド平均１８モル付加物３０.０ｇとトルエン３０．０ｇを入れ、ロータリーエバポレーターにより共沸脱水を行った。

上記脱水物１４．７６ｇ（１５．４ｍｍｏｌ）と一般式（４）で示される３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン１５．２４ｇ（６１．６ｍｍｏｌ）を十分乾燥させた三角フラスコ内に秤取し密栓した後、２５℃以下で４８時間攪拌を継続し、目的物３０．００ｇを無色透明粘稠液体として得た。目的物の物性値を表１に示す。

実施例２
ジグリセリンエチレンオキサイド平均８モル付加物と３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（モル比１：４）の反応物［即ち、一般式（１）においてｍ＝1、ｎの総合計＝8であるアルコキシシラン化合物］の製造
実施例１と同様の方法で脱水したジグリセリンエチレンオキサイド平均８モル付加物１０．３７ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）と一般式（４）で示される３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン１９．７９ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）を十分乾燥させた三角フラスコ内に秤取し密栓した後、２５℃以下で７２時間攪拌を継続し目的物３０．１６ｇを無色透明粘稠液体として得た。目的物の物性値を表２に示す。

実施例３
グリセリンエチレンオキサイド平均８モル付加物と３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（モル比１：３）の反応物［即ち、一般式（１）においてｍ＝0、ｎの総合計＝8であるアルコキシシラン化合物］の製造
実施例１と同様の方法で脱水したグリセリンエチレンオキサイド平均８モル付加物１１．５６ｇ（２６．０ｍｍｏｌ）と一般式（４）で示される３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン１９．３０ｇ（７８．０ｍｍｏｌ）を十分乾燥させた三角フラスコ内に秤取し密栓した後、２５℃以下で７２時間攪拌を継続し目的物３０．８６ｇを無色透明粘稠液体として得た。目的物の物性値を表３に示す。

実施例４
ジグリセリンエチレンオキサイド平均１８モル付加物と３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（モル比１：２）の反応物［即ち、一般式（１）においてｍ＝1、ｎの総合計＝18であるアルコキシシラン化合物］の製造
実施例１と同様の方法で脱水したジグリセリンエチレンオキサイド平均１８モル付加物１４．７６ｇ（１５．４ｍｍｏｌ）と一般式（４）で示される３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン７．６２ｇ（３０．８ｍｍｏｌ）を十分乾燥させた三角フラスコ内に秤取し密栓した後、２５℃以下で４８時間攪拌を継続し目的物２２．３８ｇを無色透明粘稠液体として得た。目的物の物性値を表４に示す。

＜性能評価実施例＞
実施例５
層形成方法
Ａ．基材(テストレンズとその作成方法)
ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド８５重量部、チオフェノール１５重量部の１００重量部に、触媒として２−ジエタノールアミノエタノール０．５重量部を室温で均一溶液とした。次にこの液をレンズ用モールドに注入し、脱気後に引続きオーブン中で１０℃から１２０℃まで２２時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率１．６、アッベ数３６の光学特性を有する度数０．００のフラットレンズを形成した。以下、本基材については各実施例６、７及び比較例１〜４とも同様である。

Ｂ．ハードコート膜の形成（一層目）
反応容器中に、エタノール２０６ｇ、メタノール分散チタニア系ゾル３００ｇ（触媒化成工業（株）製固形分３０％）、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン６０ｇ、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン３０ｇ、テトラエトキシシラン６０ｇを加え、その混合液中に０．０１Ｎの塩酸水溶液を滴下、攪拌して加水分解を行った。次にフロー調整剤０．５ｇ（Ｌ−７６０４：日本ユニカ社（株）製及び触媒１．０ｇを加え、室内で３時間攪拌してハードコート液を形成した。このハードコート液をＡで作製した基板にディッピング法で塗布し、風乾後、１１０℃×２ｈ加熱硬化させて、膜厚２．０μのハードコート膜を形成した。以下、ハードコート膜については各実施例６、７及び比較例１〜４とも同様である。

Ｃ．反射防止膜（多層膜）の形成（二層目）
上記のハードコート膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で反射防止膜の形成を行った。膜の構成は、光学膜厚で下から二酸化珪素層がλ／４、酸化ジルコニウム層０．５λ／４、二酸化珪素層０．２λ／４、酸化ジルコニウム層がλ／４、最上層の二酸化珪素層がλ／４の５層膜とした。ここで、λは５００ｎｍに設定した。以下、反射防止膜については各実施例６、７及び比較例１〜４とも同様である。

Ｄ．下地処理層の形成
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で下地処理層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地処理層を定着させた。下地処理層としては実施例１に示したアルコキシシラン化合物を用いた。水に対する接触角は６４．６°とした。

Ｅ．界面活性剤層の形成
Ｄで作製した基板にＨＬＢ１０．７のフッ素系ノニオン界面活性剤（フタージェント２２２Ｆ、（株）ネオス製）を手塗りで塗布した。

性能評価方法
（ａ）初期防曇性
界面活性剤層を形成した後、呼気による曇り具合を目視した。
［判定基準］
Ａ：均一な水膜を形成し曇らない
Ｂ：斑な水膜を形成する
Ｃ：細かな水滴を形成し曇る
（ｂ）耐久防曇性
水中に１分間浸漬した後すぐにエアーブロー乾燥し、呼気による曇り具合を目視した。判定基準は初期防曇性と同じである。
（ｃ）水ヤケ防止性
界面活性剤層を水洗除去し、乾燥した表面に水道水の小さな水滴を付着させ、自然乾燥後ティッシュペーパーで拭き取ってレンズ表面に残るヤケを目視した。
［判定基準］
○：水ヤケはまったくない
△：水ヤケはほとんどないか、めだたない
×：水ヤケがめだつ
評価結果
結果を表５に示す。

実施例６
Ａ．〜Ｃ．省略
Ｄ．下地処理層の形成
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で下地処理層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地処理層を定着させた。下地処理層としては実施例４に示したアルコキシシラン化合物を用いた。水に対する接触角は６２．３°とした。
Ｅ．界面活性剤層の形成
実施例５と同じＨＬＢ１０．７のフッ素系ノニオン界面活性剤を手塗りで塗布した。
評価結果
結果を表５に示す。

実施例７
Ａ．〜Ｃ．省略
Ｄ．下地処理層の形成
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で下地処理層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地処理層を定着させた。下地処理層としては実施例１に示したアルコキシシラン化合物を用いた。水に対する接触角は６４．６°とした。
Ｅ．界面活性剤層の形成
ＨＬＢ１０．０のポリオキシエチレンソルビタンモノオレエートからなるノニオン系界面活性剤（レオドールＴＷ−Ｏ１０６Ｖ、花王（株）製）を手塗りで塗布した。
評価結果
結果を表５に示す。

＜性能評価比較例＞
比較例１
Ａ．〜Ｃ．省略
Ｄ．下地処理層の形成
比較例１では下地処理層は形成させなかった。反射防止膜表面の水に対する接触角は３８．４°とした。
Ｅ．界面活性剤層の形成
実施例５と同じＨＬＢ１０．７のフッ素系ノニオン界面活性剤を手塗りで塗布した。
評価結果
結果を表５に示す。

比較例２
Ａ．〜Ｃ．省略
Ｄ．下地処理層の形成
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で下地処理層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地処理層を定着させた。下地処理剤としてはポリオキシエチレン基を含まないパーフルオロアルキル基を持つシラン化合物を使用した。水に対する接触角は９７．８°とした。
Ｅ．界面活性剤層の形成
実施例５と同じＨＬＢ１０．７のフッ素系ノニオン界面活性剤を手塗りで塗布した。
評価結果
結果を表５に示す。

比較例３
Ａ．〜Ｃ．省略
Ｄ．下地処理層の形成
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で下地処理層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地処理層を定着させた。下地処理剤としては、
イ）ＨＯ−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₄₅−Ｈ・・・９１．７重量％
ロ）一般式（４）に示される３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン・・・８．３重量％
これらイ）及びロ）の反応物を使用した。水に対する接触角は３１．２°とした。
Ｅ．界面活性剤層の形成
実施例５と同じＨＬＢ１０．７のフッ素系ノニオン界面活性剤を手塗りで塗布した。
評価結果
結果を表５に示す。

比較例４
Ａ．〜Ｂ．省略
Ｃ．反射防止膜（多層膜）の形成（二層目）
比較例４では反射防止膜は形成させなかった。
Ｄ．下地処理層の形成
比較例４では下地処理層は形成させなかった。
Ｅ．界面活性剤層の形成
実施例７と同じＨＬＢ１０．０のノニオン系界面活性剤を手塗りで塗布した。
評価結果
結果を表５に示す。

表５に示されるように、本発明の新規なアルコキシシラン化合物により下地処理層を形成した光学部材によれば、水ヤケ防止効果および防曇効果の両方を有するという顕著な効果が奏された。

本化合物は、特に、光学部材例えば、眼鏡レンズあるいは窓ガラス等の表面改質剤として有用である。

Claims

一般式（１）

[式中、
Ｒは、同一であっても異なっていてもよく、そして水素原子又は−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃若しくは−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃を示し（但し、Ｒのうち少なくとも一つは−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃若しくは−ＣＯＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃を示す。）；
ｍは、０、１または２を示し；
ｎは、同一であっても異なっていてもよく、そして０〜５０の整数を示し、ｎの総合計は３〜５０である。]
で表されるアルコキシシラン化合物。
請求項１に記載のアルコキシシラン化合物を含む表面改質剤。