JP5228172B2 - 光学物品 - Google Patents
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Description
ところで、光学物品の表面が汚れた場合には布等でそれを拭き取ることになるが、拭き取り時に静電気が発生し、拭き取ることによってかえって汚れを吸い寄せてしまうということが生じてしまう。特に、フッ素化合物からなる被膜層では静電気が発生しやすい傾向にある。このような帯電の防止のために従来では中間層としてのハードコート膜や反射防止膜を利用する技術が提案されている。例えば、特許文献3ではハードコート膜に酸化スズを含む塗膜を形成させるようにして帯電防止を図っている。また、特許文献4では硬化皮膜(ハードコート膜)の上層にITO膜を含む反射防止膜を形成するようにして帯電防止を図っている。
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的は、最外層に形成される被膜層の帯電性を防汚性能を維持しながらハードコート膜や反射防止膜に頼らずに低減することが可能な光学物品を提供することにある。
請求項2の発明では、請求項1に記載の発明の構成に加え、前記プラスチック製基材の無機酸化物表面とは酸化ケイ素を主成分とすることを要旨とする。
請求項3の発明では、請求項2に記載の発明の構成に加え、前記無機酸化物表面とはハードコート膜及び同ハードコート膜の上層に形成した反射防止膜であることを要旨とする。
請求項4の発明では、請求項3に記載の発明の構成に加え、前記反射防止膜は無機多層膜からなることを要旨とする。
プラスチック製基材としては例えばアクリル樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリエ−テルサルホン樹脂、ポリ4-メチルペンテン-1樹脂、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト樹脂等が挙げられる。レンズとして屈折率が高く好適なものとして例えばポリイソシアネート化合物とポリチオール及び/又は含硫黄ポリオールとを付加重合して得られるポリウレタン樹脂を挙げることができる。更に高屈折率のプラスチックとしてエピスルフィド基とポリチオール及び/又は含硫黄ポリオールとを付加重合して得られるエピスルフィド樹脂を挙げることができる。
ハードコート膜はコート用のハードコート液に浸漬し、その後公知の方法にて溶媒を蒸発させて形成される。
ハードコート膜は、特にオルガノシロキサン系樹脂と無機酸化物微粒子から構成されることが好ましい。そのためのハードコート液は水又はアルコール系の溶媒にオルガノシロキサン系樹脂と無機酸化物微粒子ゾルを分散(混合)させて調整される。
オルガノシロキサン系樹脂はアルコキシシランを加水分解し縮合させて得られるものが好ましい。アルコキシシランの具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルシリケートなどが挙げられる。これらアルコキシシランの加水分解縮合物は、前述のアルコキシシラン化合物を単独または2種以上組合せ、塩酸等の酸性水溶液で加水分解することによって製造される。
無機酸化物微粒子の具体的な例としては、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ベリリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化セリウム等の各ゾルを単独で又は2種以上を混晶化して使用可能である。無機酸化物微粒子の大きさはハードコート膜の透明性に関連するので重要である。無機酸化物微粒子径は100nm以下であることが必要であり、特に1〜50nmであることが好ましい。無機酸化物微粒子の配合量はハードコート膜の硬さ、強靭性に大きく影響する。通常はハードコート成分中、40〜60重量%が好ましい。
ハードコート膜の膜厚は0.5〜4.0μm、特に1.0〜3.0μmの範囲が好ましい。このような範囲とした点についてまず膜厚0.5μm以上としたのは、薄過ぎる場合には所望の硬度が得られないためである。一方、膜厚を4.0μm以上にすると硬度は上げ易いが、本レンズのクラックが発生しやすくなり、さらに脆くなりやすいなど物性面への問題が生じるためこのように上限を設定することが好ましい。
反射防止膜は特性の異なるこれらを材料とした薄膜を周知の手段(例えば蒸着)により定石に従って1層から順に蒸着して形成される。本発明では下地層と接する層には酸化ケイ素が膜材料として使用される必要がある。
下地層用の下地剤としては親水基と、基材側と反応するシランカップリング基を有する必要がある。親水基及びシランカップリング基以外の基として疎水基を多く有していてはいけない。後述するように防汚被膜層の形成過程において防汚処理剤の撥水性に関わる疎水基が下地層側に配向して十分な防汚性能が得られなくなってしまうからである。
−Si(OR)n
で示されるアルコキシシラン基、
−SiOH
で示されるシラノール基、
が挙げられる。
これら2種の官能基は基材側の無機酸化物表面との結合の関係で好適である。すなわち、アルコキシシラン基及びシラノール基は基材側のシラノールと反応して共有結合することで(例えば反射防止膜中の最外層膜に由来するSiO2)と反応し、形成される下地層の耐久性が向上すると考えられる。
これらの官能基は単独で、あるいは2種が選択されてもよい。
また、親水基としては、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、ポリオキシエチレン基、スルホン酸基、リン酸基等の極性溶媒に溶けやすい基が挙げられる。
また、ポリオキシエチレン基を有するものとして化1のようなシランカップリング剤や化2のようなアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、より具体的には化3のようものが例示される。
本発明の防汚被膜層はフッ素化合物又はシリコーン化合物の少なくともいずれか一方を主成分とした防汚被膜層であって、使用される化合物としては反応基を持ったシリコーン、パーフルオロアルキル基あるいはパーフルオロエーテル基を持ったシランカップリング剤等が好ましい。
シリコーン化合物としてより具体的には、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサンやアミノ基を有するポリジメチルシロキサン等の反応性シリコ−ンが挙げられる。 フッ素化合物としては、特開平9−258003号公報、特開2004−145283号公報等に開示されているパーフルオロポリエ−テル構造を持つシラン化合物が防汚性の観点から好適である。上記化合物は単独あるいは2種以上が混合されても構わない。
フッ素化合物又はシリコーン化合物の分子量は特に限定されないが、安定性、取り扱いやすさなどの点から、数平均分子量で1000〜100万、より好ましくは2000〜50万である。防汚被膜層の厚味は0.5〜20nm、好ましくは光学特性に影響を与えないために1〜10nmである。
防汚被膜層の硬化方法としては通常は室温以上120℃以下の加熱処理、さらには加湿雰囲気下での加熱処理が好ましい。
実施例1
A.[基材]
ビス(β―エピチオプロピル)スルフィド85重量部、チオフェノール15重量部に、触媒として2−ジエタノールアミノエタノール0.5重量部を室温で均一溶液とした。次にこの液をレンズ用モールドに注入し、脱気後に引続きオーブン中で10℃から120℃まで22時間をかけてゆっくりと重合硬化させ、屈折率1.698、アッベ数36の光学特性を有する度数0.00のフラットレンズを形成した。
以下、基材については各実施例及び比較例とも同様である。
B.ハードコート膜の形成(一層目)
反応容器中に、エタノール206g、メタノール分散チタニア系ゾル300g(日揮触媒化成工業(株)製 固形分30%)、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン60g、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン30g、テトラエトキシシラン60gを加え、その混合液中に0.01Nの塩酸水溶液を滴下、攪拌して加水分解を行った。次にフロー調整剤0.5g(L−7604:東レ・ダウコ−ニング(株)製)および触媒1.0gを加え、室温で3時間攪拌してハードコート液を形成した。このハードコート液をディッピング法で塗布し、風乾後、110℃×2h加熱硬化させて、膜厚2.0μのハードコート膜を形成した。
以下、ハードコート膜については各実施例及び比較例とも同様である。
上記のハードコート膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度60℃で反射防止膜の形成を行った。膜の構成は、光学膜厚で下から二酸化ケイ素層がλ/4、酸化ジルコニウム層0.5λ/4、二酸化ケイ素層0.2λ/4、酸化ジルコニウム層がλ/4、最上層の二酸化ケイ素層がλ/4の5層膜とした。ここで、λは500nmに設定した。
以下、反射防止膜については各実施例及び比較例とも同様である。
D.下地層の形成(三層目)
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度60℃で下地層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地層を定着させた。下地剤としては
イ)OCN−CH2CH2CH2Si−(OC2H5)3・・・51重量パーセント
ロ)下記化4の化合物を49重量パーセント
これらイ)及びロ)を室温にて20時間かけて反応させたもの(a−1)を使用した。
パ−フルオロポリエ−テル型シラン化合物(KY−8:信越化学工業(株)製)をフッ素系溶剤(HFE−7200:米国3M社製)で希釈し0.2重量パーセント濃度の溶液とし(b−1)、このb−1溶液に下地層を形成した基材を浸漬(ディッピング法)し、取り出した後60℃、湿度80%の雰囲気中で塗布面を1時間かけて硬化させた。硬化後にアセトンで余剰付着分を拭き上げたものを評価した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
A.〜C.省略
D.下地層の形成
実施例2については実施例1と同じ条件で下地層を形成した。
E.防汚被膜層の形成
パ−フルオロポリエ−テル型シラン化合物(Xー71−166:信越化学工業(株)製)をフッ素系溶剤(HFE−7200:米国3M社製)で希釈し0.2重量パーセント濃度の溶液とし(b−2)、このb−2溶液に下地層を形成した基材を浸漬(ディッピング法)し、取り出した後60℃、湿度80%の雰囲気中で塗布面を1時間かけて硬化させた。硬化後にアセトンで余剰付着分を拭き上げたものを評価した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
実施例3
A.〜C.省略
D.下地層の形成
実施例3についても実施例1と同じ条件で下地層を形成した。
E.防汚被膜層の形成
アミノ変成シリコ−ン化合物(KF−869:信越化学工業(株)製)をn-ヘキサンで希釈し0.3重量パーセント濃度の溶液とし(b−3)、このb−3溶液に下地層を形成した基材を浸漬(ディッピング法)し、取り出した後100℃で塗布面を15分かけて硬化させた。硬化後にアセトンで余剰付着分を拭き上げたものを評価した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
A.〜C.省略
D.下地層の形成
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度60℃で下地層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地層を定着させた。下地剤としては下記イ)の示性式で示されるシラン化合物(a−2)を使用した。
イ)(CH3O)3SiC3H6NHC2H4NH2
E.防汚被膜層の形成
実施例4については実施例2と同じ条件で防汚被膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
A.〜C.省略
D.下地層の形成
比較例1は下地層を形成しなかった。
E.防汚被膜層の形成
比較例1については実施例1と同じ条件で防汚被膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
比較例2
A.〜C.省略
D.下地層の形成
比較例2は下地層を形成しなかった。
E.防汚被膜層の形成
比較例2については実施例2及び4と同じ条件で防汚被膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
比較例3
A.〜C.省略
D.下地層の形成
比較例3は下地層を形成しなかった。
E.防汚被膜層の形成
比較例3については実施例3と同じ条件で防汚被膜層を形成した。
[評価結果]
結果を表1にまとめた。
A.〜C.省略
D.下地層の形成
上記反射防止膜が形成されたレンズを真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度60℃で下地層の形成を行った。蒸着後1時間同温度で保持し、下地層を定着させた。下地剤としては、下記化5の示性式で示される片末端シラノールを有するシリコーンを主体としたシリコーン化合物(X−24−9011:信越化学工業(株)製)(a−3)を使用した。
E.防汚被膜層の形成
比較例4については実施例2、実施例4及び比較例2と同じ条件で防汚被膜層を形成した。
結果を表1にまとめた。
(a)純水及びオレイン酸の接触角
協和界面科学社製 FACE CA−D型接触角測定装置を用いて23℃、湿度60%RH条件下にて行った。注射筒(注射針の直径約0.7mm)を使用して5mgの重さの純水の液滴を作った。サンプル台を上昇させてレンズ表面の中央部に該液滴を触れさせ、レンズ表面に純水の液滴を移し、30秒以内に接触角を測定した。オレイン酸の場合も純水に変えてオレイン酸を使用するだけで測定方法は同じである。
(b)撥油性
市販の油性マーカ−(ハイマッキ−ケア:ゼブラ社製)で線を引いたときのインクの弾き具合を目視で評価した。
判定基準
◎: 細かな点状になる
○: 細い線状になる
△: 輪郭がキザキザになる
×: 全く弾かない
(c)拭き取り性
上記撥油性を評価した後に、紙(ピュアリ−フ)で拭き取り、インクが完全に拭き取れる回数を3段階で判定した。
判定基準
○: 5回以下
△: 6〜10回
×: 10回では拭き取れない
(d)帯電電位
25℃、湿度30%の環境で表面をピュアリ−フで20回擦り、直後の帯電電位を静電気測定器(FMX−003:SIMCO製)にて測定した。
上記実施例及び比較例について評価を行った。実施例1〜4についてはいずれも防汚性は十分であった。比較例1〜3と防汚性を比較した場合にも防汚性に明確な差異はなかった。一方、比較例4ではシリコーン由来の疎水基によって防汚被膜層の疎水基が下地側に配向してしまうことから、防汚性が劣る結果となった。
帯電しにくさについては実施例1〜4はいずれも下地層がないケースと比較して電位が下がることが確認できた。比較例1〜3のハードコート膜及び反射防止膜は実施例1〜4と同じ構成であるため、ハードコート膜及び反射防止膜の構成によらずに下地層によって帯電電位をさげることが可能であることが分かる。
Claims (4)
- 無機酸化物表面を持つプラスチック製基材にポリオキシエチレン鎖を含む有機基の親水基及びシランカップリング基の両方をその組成の一部に有する下地層を形成し、同下地層の上層にフッ素化合物又はシリコーン化合物の少なくともいずれか一方を主成分とした防汚被膜層を形成したことを特徴とする光学物品。
- 前記プラスチック製基材の無機酸化物表面とは酸化ケイ素を主成分とするものであることを特徴とする請求項1に記載の光学物品。
- 前記無機酸化物表面とはハードコート膜及び同ハードコート膜の上層に形成した反射防止膜であることを特徴とする請求項2に記載の光学物品。
- 前記反射防止膜は無機多層膜からなることを特徴とする請求項3に記載の光学物品。
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