JP2010508541A - 防汚膜を有する光学物品 - Google Patents
防汚膜を有する光学物品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010508541A JP2010508541A JP2009533885A JP2009533885A JP2010508541A JP 2010508541 A JP2010508541 A JP 2010508541A JP 2009533885 A JP2009533885 A JP 2009533885A JP 2009533885 A JP2009533885 A JP 2009533885A JP 2010508541 A JP2010508541 A JP 2010508541A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- component
- optical article
- film
- article according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 title claims abstract description 53
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 43
- -1 perfluoro compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 33
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical group [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 15
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 claims description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 238000007688 edging Methods 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 9
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 9
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 9
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoxycarbonyloxyethoxy)ethyl prop-2-enyl carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCCOCCOC(=O)OCC=C JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 5
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQTIBEIZDLQNJH-UHFFFAOYSA-N F.F.F.C1=CC=CC=C1 Chemical compound F.F.F.C1=CC=CC=C1 LQTIBEIZDLQNJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N Formic acid Chemical compound OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Polymers C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical class [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940104873 methyl perfluorobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- LGUZHRODIJCVOC-UHFFFAOYSA-N perfluoroheptane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LGUZHRODIJCVOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQZYBQIAUSKCCS-UHFFFAOYSA-N perfluorotripentylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AQZYBQIAUSKCCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Substances C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004429 Calibre Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001059454 Homo sapiens Serine/threonine-protein kinase MARK2 Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004425 Makrolon Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001283 Polyalkylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100028904 Serine/threonine-protein kinase MARK2 Human genes 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Polymers 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000012612 commercial material Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910001610 cryolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N dibutyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCC[Sn](OC)(OC)CCCC ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPPLOTGLKDTASM-UHFFFAOYSA-A pentasodium;pentafluoroaluminum(2-);tetrafluoroalumanuide Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3] PPPLOTGLKDTASM-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical group F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
Abstract
Description
式中、RFは1価または2価のポリフルオロポリエーテル基であり、R1は2価のアルキレン、アリーレンまたはこれら2種の組合わせであり、任意に1または複数の複素原子または官能基を含み、任意に1または複数のハロゲン置換されており、好ましくは2〜16炭素原子を含む;R2は低級アルキル基(すなわちC1−C4アルキル基)であり;Yはハロゲン原子、低級アルコキシ基(すなわちC1−C4アルコキシ基、好ましくはメトキシまたはエトキシ)、または低級アシロキシ基(すなわち−OC(O)R3、ここでのR3はC1−C4アルキル基である)であり;xは0または1であり;yはどれも1(RFは1価)または2(RFは2価)である。適切な化合物は、通常、数平均分子量が少なくとも1000である。好ましくは、Yは低級アルコキシ基であり、RFはパーフロオロポリエーテル基である。
式中、n=5、7、9または11であり、Rはアルキル基、好ましくは−CH3、−C2H5および−C3H7などのC1−C10のもの;
CF3(CF2)5CH2CH2Si(OC2H5)3((トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロ)オクチル−トリエトキシシラン);
式中、n=7または9であり、Rは上記に定義されるとおり。
R1は水酸基または加水分解性基を示す;R2は水素または1価の炭化水素基を示し;mは0、1または2を示す;nは1、2または3を示す;pは少なくとも1、好ましくは少なくとも2の整数を示す。
好ましい態様において、化学種の少なくとも1つが、上記式(1)で示されるシランのフッ素化合物を含む。
式中、
−R’ Fは、線状鎖の2価のパーフロオロポリエーテル基であり、
−R’は、C1−C4のアルキル基またはフェニル基であり、
−X’は、加水分解性基であり、
−a’は、0〜2の整数であり、
−b’は、1〜5の整数であり、および
−m’およびn’は、整数2または3である。
式(2)で示されるフルオロシラン化合物およびそれらの調製方法は、特許文献5中にも記載されている。
この加工の間、レンズを転び止め装置により軸方向にレンズを保持する。
所望形状とするために、砥石車に対するレンズの相対運動を、通常数値的に制御する。
このために、縁取り加工の前に、固定する加工がレンズに施される、すなわち、チャックとして知られているレンズ保持手段をレンズの凸表面上に置く。
粘着性パッチなどの、好ましくは両面粘着性の粘着性保持パッドをチャックと凸レンズ表面との間に置く。
機械加工の間、レンズ保持用システムが充分に機能していなければ、チャックに対してレンズの回転を生起させ得る正接トルクがレンズに発生する。
レンズをその位置にしっかり固定するための主要因は、保持パッド/凸レンズ表面界面の密着性が良好であることである。
縁取り加工をうまく実施すると、レンズはそのレンズ用に予め作製されたフレームに嵌合しうるサイズとなる。より具体的に、これは、レンズのずれが最大2°で縁取り加工を実施すれば得られる結果である。
この種の表面膜で発生する一つの問題は、粘着性パッド/凸表面の界面において粘着性が機能しないことである。
−その主鎖の一端のみに少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む好ましくはパーフルオロ化合物であるフッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第1成分Aを55重量%〜80重量%、好ましくは60〜70重量%と、
−その主鎖の両端に少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む、好ましくはパーフルオロ化合物である線状フッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第2成分Bを45重量%〜20重量%、好ましくは40重量%〜30重量%含み、ただし、第1成分Aと第2成分Bとで100重量%とする、
−上記第1成分Aおよび第2成分Bは合計で、上記膜の全重量の少なくとも50重量%、好ましくは少なくとも60重量%を占める。
−その主鎖の一端のみに少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む好ましくはパーフルオロ化合物であるフッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第1成分Aを55重量%〜80重量%、好ましくは60〜70重量%、および
−その主鎖の両端に少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む、好ましくはパーフルオロ化合物である線状フッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第2成分Bを45重量%〜20重量%、好ましくは40重量%〜30重量%含み、ただし、第1成分Aと第2成分Bとで100重量%とする、
−上記第1成分Aおよび第2成分Bは合計で、上記膜の全重量の少なくとも50重量%、好ましくは少なくとも60重量%、より好ましくは70重量%、さらに好ましくは80重量%を占める。
式中、
−RFは、1〜16の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のパーフルオロアルキル基を示し、
−Xは、ヨウ素または水素原子であり、
−Yは、水素原子または1〜6の炭素原子を有する直鎖または分岐状のアルキル基であり、
−Zは、フッ素原子またはトリフルオロメチル基であり、
−R1は、加水分解性基であり、
−R2は、水素原子または不活性な1価基であり、
−a、b、cおよびdは、0〜200の整数であり、
−eは、0または1であり、
−mおよびnは、0〜2の整数であり、かつ
−pは、1〜10の整数である。
特に好ましいR1加水分解性基は、Cl、−OCH3およびOC2H5である。
a、b、cおよびdは、各々好ましくは1〜50の整数である。
mおよびnは、好ましくは0である。
成分Bとして好ましい化合物のうち、下記式で示されるパーフロオロポリエーテルを挙げることができる:
式中、
−R’Fは、2価の線状パーフロオロポリエーテル基であり、
−R’は、C1−C8の炭化水素基またはフェニル基であり、
−X’は、加水分解性基であり、
−a’は、0〜2の整数であり、好ましくは1であり、
−b’は、1〜5の整数であり、好ましくは3であり、かつ
−m’およびn’は、整数2または3、好ましくは3である。
好ましい加水分解性基X’は、メトキシ、エトキシおよびイソプロペノキシ基などのアルコキシおよびアルキレノキシ基およびクロロ基である。
式中、lは1〜50の整数であり、l1は1〜50の整数であり、l2は1〜50の整数であり、かつl1+l2は10〜100であり、単位要素の配列はランダムである。
−R''F[CO−R''−R'''−Si(ORiv)3]2
式中、
−R''Fは、R’Fとして上記に定義される2価のパーフロオロポリエーテル基、
−R''は、2価の原子または基、好ましくはO、NH、Sなどの炭素原子以外の原子または基、
−R'''は、炭化水素基、好ましくはメチレン、エチレン、プロピレンおよびフェニレンなどの2〜10の炭素原子をもつ炭化水素基、
−Rivは、アルキル基、好ましくはC1〜C3である。
式中、Rは、1〜3の炭素原子を有するパーフルオロアルキレン基を示す。このようなパーフロオロポリエーテルは、好ましくは平均分子量が1,000〜10,000、好ましくは2,000〜10,000である。Rは、C1−C3のアルキル基パーフルオロアルキレン基、具体的には−CF2−、−CF2CF2−、−CF2CF2CF2−および−CF(CF3)CF2−を示す.このようなパーフロオロポリエーテルは、常温で液状であり、通常、フッ化炭素油と称される。このようなパーフロオロポリエーテルの例は、ダイキン工業(株)からDEMNUM(登録商標)、NOK(株)(NOK KIWBER CO LFD)からBARRIERT A(登録商標)、旭硝子(株)からFOMBLIN(登録商標)、エルデュポンデヌムール&カンパニー(株)(El DUPOT DE NEMOURSおよびCOMPANY)からKRYTOX(登録商標)およびダウコーニング社からMOLYKOTE(登録商標)の商品名で上市されている。
一般的に、防汚膜は、厚みが0.1nm〜5μm、好ましくは1〜100nm、より好ましくは10nm未満、さらに好ましくは5nm未満である。
防汚膜は、刷毛塗り、ディップコーティング、遠心、スプレーコーティングおよび蒸着などのどのような周知技術を用いてもよい。好ましくは、防汚膜は蒸着による堆積により形成される。
成分AおよびBの希釈に適切な溶媒のうち、フッ化脂肪族炭化水素(たとえば:パーフルオロヘプタンおよびパーフルオロオクタン)、フッ化芳香族炭化水素(たとえば:キシレンヘキサフルオリドおよびベンゼントリフルオリド)、フッ化エーテル(たとえば:メチルパーフルオロブチルエーテルおよびパーフルオロ(ブチル)−2−テトラヒドロフラン)、フッ化アルキルアミン(たとえば:パーフルオロトリブチルアミンおよびパーフルオロトリペンチルアミン)、炭化水素(たとえば石油ベンジン(benzene)、ミネラルスピリッツ、トルエンおよびキシレン)、ケトン(たとえばアセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン)を挙げることができる。
好ましい態様において、仮のトップコートは無機層であり、具体的には、金属フッ化物または金属フッ化物の混合物、金属酸化物または金属酸化物の混合物である。
アルミナおよびプラセオジム酸化物の混合物は推奨される。
特に推奨される市販材料はLEYBOLD製PASO2である。
無機フッ化物および酸化物の混合物も使用することができる。
仮のトップコートに適切なポリマー材料の例としては、焦点漸進型眼科用レンズ用のマーキングインクおよび/またはインクのバインダーを含む樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。
特に、仮のトップコートは、その上に非フッ素化金属酸化物または水酸化物、好ましくはMgOまたはMg(OH)2より好ましくはMgOの層が堆積された金属フッ化物、好ましくはMgF2を挙げることができる。このような酸化物または水酸化物層を堆積することができる方法としては、蒸着または静電膜からの転写が挙げられる。
仮のトップコート、特に多層膜および仮のトップコート処理は、仏国特許出願FR2856056に記載されている。
それが無機材料からなる場合、仮のトップコートの厚みは、好ましくは50nm以下、通常1〜50nm、より好ましくは5〜50nmである。一般的に、仮のトップコートの厚みが不充分であると、おそらく表面エネルギーを充分に変化させられない。
好ましくは、特に保護の仮のトップコートがレンズ面の片面全面上に堆積される場合、上記材料は、焦点計を用いる従来のレンズ度数測定の実施が可能なある一定の透明度を示す。
したがって、本発明に係るトップコートで被覆されたレンズは、好ましくはISO8980/3基準で、少なくとも18%、好ましくは少なくとも40%の透明性を示す。
必要な厚みは、5〜150μmとすることができる。
一般的に、本発明に係る光学物品の基板は、どのような基板でもよく、好ましくは有機ガラス基板、たとえば熱可塑性または熱硬化性プラスチック材料であればよい。
特に推奨される基板としては、仏国特許出願FR2734827に記載されるものなどのチオ(メタ)アクリルポリマーの重合により得られる基板が挙げられる。
基板は、上記モノマーの混合物の重合により得ることができ、またこのようなポリマーおよび(共重合)ポリマーの混合物を含有してもよいことは明らかである。
光学で従来用いられるこのような機能性膜は、特に制限されず、耐ショック性プライマーコート、耐摩耗性および/または傷付き防止膜、多孔膜、フォトクロミック膜、帯電防止膜または着色膜、または反射防止膜であればよい。
従来、眼科用レンズは、基板に始まり、任意に耐ショック性プライマーコート、耐摩耗性および/または傷付き防止性ハード膜、および該ハード膜上の反射防止膜を含む。
この膜は、眼科用レンズなどの透明ポリマー材料の物品に汎用されているどのような耐ショック性プライマー層でもよい。
好ましいポリ(メタ)アクリルラテックスは、アクリラート−スチレン共重合体ラテックスである。このようなアクリラート−スチレン共重合体ラテックスは、Zeneca RESINSから商品名NEOCRYL(登録商標)の市販品を入手できる。
特にことわらない限り、本発明において、屈折率とは、25℃、波長550nmでの値を意味する。
他の好ましい態様によれば、多層積層のすべてのLI層は、SiO2とAl2O3の混合物を含有し、好ましくはSiO2とAl2O3の混合物のみからなる。
次に、上記レンズに、仮のトップコートを形成し、縁取り加工および仮のトップコートを除去後、レンズの水との静的接触角を測定し、洗浄容易性(洗浄性)を再び測定した。
各種層を堆積するための操作パラメータを以下に記載する。結果を下記表1に示す。
80.5部の0.1N塩酸を、224部のGLYMO(γ−グリシドキシトリメチロキシシラン)および120部のDMDES(ジメチルジエトキシシラン)を含む溶液中に滴下する。
上記加水分解溶液を環境温度で24時間撹拌した後、718部の30%コロイダルシリカメタノール溶液、15部のアルミニウムアセチルアセトナトおよび44部のエチルセロソルブを加える。
少量の張力活性剤を添加する。
上記調製物の理論乾燥抽出物は、約13%の上記加水分解DMDES由来の固形物である。
耐摩耗性および/または傷付き防止膜でコートされた上記レンズを、次に、END HALL MARK2コモンウェルス(COMMONWEALTH)電子銃およびジュール熱蒸発源を有する真空処理用SATIS1200装置内に置く。
電子銃を用いて、4つの高屈折率(Hl)/低屈折率(LI)/HI/LI反射防止光学層を連続的に蒸着する:ZrO2、SiO2、ZrO2、SiO2。
その後、銅製小皿をジュール熱硬化可能に置く。
生成物を2次真空において蒸着する。
堆積された層の厚みは10nm未満である。
この堆積された層の厚みは、クオーツバランスを用いて観察される。
堆積される材料は、メルク社より上市されている粒度分布が1−2.5nmの式MgF2で示される化合物である。
蒸着は電子銃を用いて行われる。
堆積される物理的厚みは、堆積速度0.8nm/sで、20nmである。
堆積された層の厚みは、クオーツバランスを用いて観察される。
次に、MgOを、MgF2層上に直接蒸着することにより堆積する。
真空中、電子銃を使用して、MgF2層上に直接MgO層(原料MgO粒子(リファレンス700428),UMICORE社製)を厚み2nmまで蒸着する。
処理室を環境圧まで戻した後、その所定位置に仮のトップコートをもつレンズを回収する。
試験は、仮のトップコート堆積前のレンズと、仮のトップコートを除去したレンズについて実施した。使用されるレンズは、80〜180mmの範囲からなる曲率半径と、65〜70mmの直径をもつ。
布がレンズ上を移動するときの全幅は40mm、すなわち染みの中心点の両側に20mmずつである。
各拭き取りサイクルの後、レンズの散乱値を測定する。散乱測定は、ヘイズガード(Hazeguard)XL211 Plus装置を用いて行う。
散乱値を得るための拭き取り回数は、0.5%前後の値の拭き取り回数と取得した拡散の実価とを用いる計算により求めた。
H0:レンズの初期散乱値
NS1:0.5%超の散乱となるまでの最大拭き取り回数
H1:NS1に対応する散乱値
NS2:0.5%未満の散乱となるまでの最大拭き取り回数
H2:NS2に対応する散乱値
拭き取り回数=NS1+[[(H1−H0)−0.5]×[(NS2−NS1)/(H1−H0)−(H2−H0))]
清浄度スコアは拭き取り回数の自然対数:Ln(拭き取り回数)である。
スコアが低いほど清浄性が良好である。
この測定は、処理後の疎水性能を評価する目的で、平坦または曲面レンズの表面上に堆積された液滴の接触角の自動取得とイメージ解析により行われる。
測定は、ウィンドウズPCに接続したDSA100(液滴形状分析システム)Kruss装置で行う。
形成される液滴の容量は4マイクロリットルである。
25℃における水の伝導率は、0.3μSないし1μSである。
室温を23+/−5℃に保持する。
Claims (22)
- 主表面を有する光透過性基板と、該主表面を被覆し、それ自体の少なくとも一部が仮のトップコートで被覆された防汚膜とを含み、該防汚膜は下記成分を含む重合性組成物の硬化物であることを特徴とする光学物品:
55重量%〜80重量%、好ましくは60〜70重量%の、その主鎖の一端のみに少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む好ましくはパーフルオロ化合物であるフッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第1成分A、および
45重量%〜20重量%、好ましくは40〜30重量%の、その主鎖の両端に少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む、好ましくはパーフルオロ化合物である線状フッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第2成分B、ただし、第1成分Aと第2成分Bとで100重量%とする、
前記第1成分Aおよび第2成分Bは合計で、上記膜の全重量の少なくとも50重量%、好ましくは60重量%を占める。 - 前記第1および第2成分のAおよびBがパーフロオロポリエーテルのうちから選ばれることを特徴とする請求項1に記載の光学物品。
- 前記第1成分Aが、フッ素化合物またはフッ素化合物の混合物であり、好ましくは線状で、その鎖の一端のみにある前記シラノールまたはシラノール前駆基またはこれら基群以外には、それ自体を基板または基板と防汚層との間に介在する機能性膜の表面に結合する可能性のある反応基をもたないことを特徴とする請求項1または2に記載の光学物品。
- 前記第1成分Aが、下式の化合物のうちから選ばれる化合物を含むか、それからなることを特徴とする請求項1または2に記載の光学物品:
式中、
RFは、1〜16の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のパーフルオロアルキル基を示し、
Xは、ヨウ素または水素原子であり、
Yは、水素原子または1〜6の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐状アルキル基であり、
Zは、フッ素原子またはトリフルオロメチル基であり、
R1は、加水分解性基であり、
R2は、水素原子または不活性な1価基であり、
a、b、cおよびdは、0〜200の整数であり、
eは、0または1であり、
mおよびnは、0〜2の整数であり、かつ
pは、1〜10の整数である。 - 下記を特徴とする請求項4に記載の光学物品:
RFは、CF3−、C2F5−およびC3F7−基のうちから選ばれ、
R1は、ハロゲン原子、−OR3、−OCOR3、−OC(R3)=C(R4)2、−ON=C(R3)2または−ON=CR5であり、ここでのR3は脂肪族また芳香族炭化水素基であり、
R4は、水素原子または1〜6の炭素原子をもつ脂肪族炭化水素基であり、
R5は、3〜6の炭素原子をもつ2価の炭化水素基であり、
R2は、水素原子または1〜4の炭素原子をもつ1価の炭化水素基であり、
a、b、cおよびdは、1〜50の整数であり、かつ
mおよびnは、0である。 - R’ Fが、1〜4の炭素原子をもつパーフロオロポリエーテル繰り返し単位を含む、好ましくは線状の、2価のパーフロオロポリエーテル基であることを特徴とする請求項7に記載の光学物品。
- 前記加水分解性基X’が、ハロゲン原子、−OR3、−OCOR3、−OC(R3)=C(R4)2、−ON=C(R3)2または−ON=CR5(ここで、R3は脂肪族または芳香族炭化水素基であり、R4は水素原子または1〜6の炭素原子をもつ脂肪族炭化水素基である。)から選ばれることを特徴とする請求項6または7に記載の光学物品。
- 前記防汚膜の表面エネルギーが、14mJ/m2以下、好ましくは13mJ/m2以下、より好ましくは12mJ/m2以下であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の光学物品。
- 前記仮のトップコートが、1または複数の金属フッ化物および/または1または複数の金属酸化物からなる無機層であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の光学物品。
- 前記仮のトップコートがポリマー材料製であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の光学物品。
- 前記仮のトップコートの表面エネルギーが、15mJ//m2以上であることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の光学物品。
- 前記基板の主表面と前記反射防止膜との間に介在させた1または複数の機能性膜を含むことを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の光学物品。
- 前記機能性膜が、耐摩耗性および/または傷付き防止膜、反射防止膜および耐ショック性プライマーコートのうちから選ばれることを特徴とする請求項14に記載の光学物品。
- 前記防汚膜が、耐摩耗性膜の直上に形成されることを特徴とする請求項15に記載の光学物品。
- 前記防汚膜が、反射防止膜の直上に形成されることを特徴とする請求項15に記載の光学物品。
- 前記反射防止膜がその最外層をSiO2系層とする多層膜であり、前記防汚膜が該反射防止膜の最外層の直上に形成されることを特徴とする請求項17に記載の光学物品。
- 前記最外層が、SiO2またはSiO2とAl2O3との混合物からなることを特徴とする請求項18に記載の光学物品。
- 前記仮のトップコートが除去されていることを特徴とする請求項1〜19のいずれかに記載の光学物品。
- 防汚膜で被覆された主表面をもつ光透過性基板を含み、かつ該防汚膜が下記成分を含有する重合性組成物の硬化物であることを特徴とする光学物品:
55重量%〜80重量%、好ましくは60〜70重量%の、その主鎖の一端のみに少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む、好ましくはパーフルオロ化合物であるフッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第1成分A、および
45重量%〜20重量%、好ましくは40〜30重量%の、その主鎖の両端に少なくとも1つのシラノール基またはシラノール前駆体を含む、好ましくはパーフルオロ化合物である線状フッ素化合物およびそれらの混合物のうちから選ばれる第2成分B、ただし、第1成分Aと第2成分Bとで100重量%とする、
第1成分Aおよび第2成分Bを合計で、該膜の全重量の少なくとも50重量%、好ましくは少なくとも60重量%を占める。 - 眼科用レンズであることを特徴とする請求項1〜21のいずれかに記載の光学物品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR06/54663 | 2006-10-31 | ||
FR0654663A FR2907915B1 (fr) | 2006-10-31 | 2006-10-31 | Article d'optique comportant un revetement anti-salissure |
PCT/EP2007/061769 WO2008053020A1 (en) | 2006-10-31 | 2007-10-31 | Optical article comprising an anti-smudge coating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010508541A true JP2010508541A (ja) | 2010-03-18 |
JP5623077B2 JP5623077B2 (ja) | 2014-11-12 |
Family
ID=38181101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009533885A Active JP5623077B2 (ja) | 2006-10-31 | 2007-10-31 | 防汚膜を有する光学物品 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100053547A1 (ja) |
EP (1) | EP2078224A1 (ja) |
JP (1) | JP5623077B2 (ja) |
FR (1) | FR2907915B1 (ja) |
WO (1) | WO2008053020A1 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014514615A (ja) * | 2011-05-12 | 2014-06-19 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 防曇コーティングの前駆体コーティング、及び、エッチングに適切なものとする一時的な層を含んでなる光学物品 |
CN104871073A (zh) * | 2012-12-28 | 2015-08-26 | 埃西勒国际通用光学公司 | 可以磨边的、包括疏水双层和临时金属氟化物层的眼镜片 |
WO2016042912A1 (ja) * | 2014-09-18 | 2016-03-24 | 住友ゴム工業株式会社 | 表面改質方法及び表面改質弾性体 |
US10214608B2 (en) | 2015-08-03 | 2019-02-26 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface-modified body |
US10280274B2 (en) | 2014-01-06 | 2019-05-07 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Method for modifying surface and surface modified elastic body |
US10344109B2 (en) | 2012-09-10 | 2019-07-09 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface-modified elastic body |
US10647829B2 (en) | 2013-06-20 | 2020-05-12 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface modification body |
US10759918B2 (en) | 2015-08-03 | 2020-09-01 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface-modified elastic body |
WO2023054433A1 (ja) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、防汚剤組成物、及び眼鏡レンズの製造方法 |
WO2023054434A1 (ja) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、防汚剤組成物、及び眼鏡レンズの製造方法 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2647510C (en) | 2006-03-27 | 2015-05-12 | Essilor International(Compagnie Generale D'optique) | Edging process of lens using transparent coating layer for protecting lens |
FR2921162B1 (fr) * | 2007-09-14 | 2010-03-12 | Essilor Int | Article d'optique comportant un revetement temporaire bicouche |
JP5855393B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2016-02-09 | 株式会社ニコン・エシロール | 眼鏡用レンズ |
US9035082B2 (en) | 2011-10-10 | 2015-05-19 | Cytonix, Llc | Low surface energy touch screens, coatings, and methods |
US9957609B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-05-01 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
US10077207B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-09-18 | Corning Incorporated | Optical coating method, apparatus and product |
JP5857942B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-02-10 | 信越化学工業株式会社 | 蒸着用フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で蒸着処理された物品 |
CN104302589B (zh) | 2011-11-30 | 2017-11-28 | 康宁股份有限公司 | 光学涂覆方法、设备和产品 |
FR2997943B1 (fr) | 2012-11-09 | 2014-12-26 | Essilor Int | Article d'optique comportant un revetement precurseur d'un revetement antibuee et une couche temporaire a base de fluorures metalliques ou de composes comprenant du magnesium et de l'oxygene |
EP2939061B1 (en) | 2012-12-28 | 2019-09-11 | Essilor International | Method for the production of an optical article with improved anti-fouling properties |
JP6445455B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2018-12-26 | エシロール アンテルナショナルEssilor International | 防汚性の改良された光学物品の製造方法 |
FR3001117B1 (fr) | 2013-01-18 | 2015-03-06 | Essilor Int | Lingette seche a action antibuee et/ou nettoyante |
FR3014210B1 (fr) | 2013-12-03 | 2016-01-01 | Satisloh Ag | Article d'optique comportant un revetement precurseur d'un revetement antibuee ayant des proprietes antisalissure |
CN105792953B (zh) * | 2013-12-06 | 2018-11-09 | 依视路国际公司 | 具有纳米结构化表面的制品 |
EP2930012B1 (en) | 2014-04-08 | 2018-11-14 | Essilor Int | A method for depositing a cover layer on one side of a substrate and flexible deposition device |
WO2015177586A1 (en) | 2014-05-20 | 2015-11-26 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Optical lens coated with a patterned removable film and method for edging such a lens |
CN106574987A (zh) | 2014-09-04 | 2017-04-19 | 埃西勒国际通用光学公司 | 包括保护性可去除的膜的光学镜片 |
CN108602332B (zh) * | 2016-04-04 | 2021-03-30 | 惠普发展公司有限责任合伙企业 | 触摸表面组件的自愈 |
JP7087081B2 (ja) * | 2018-07-27 | 2022-06-20 | 京セラ株式会社 | 車載カメラ及び移動体 |
US11774639B2 (en) * | 2019-03-19 | 2023-10-03 | Essilor Laboratories Of America, Inc. | Anti-soiling coating for an ophthalmic lens |
CN114054319A (zh) * | 2020-07-30 | 2022-02-18 | 深圳市万普拉斯科技有限公司 | 一种涂层结构及其制备方法、包括该涂层结构的材料制品和电子产品 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004109728A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Tokai Kogaku Kk | 眼鏡用プラスチックレンズ |
JP2005003817A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Seiko Epson Corp | 防汚性眼鏡レンズおよびその製造方法 |
JP2005505427A (ja) * | 2001-05-17 | 2005-02-24 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | トリミングに適したガラスの作製方法、それにより得られるガラスおよび該ガラスのトリミング方法 |
JP2006124417A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Asahi Glass Co Ltd | 防汚層形成用組成物および反射防止積層体 |
WO2008053712A1 (fr) * | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Nikon-Essilor Co., Ltd. | Verre de lunettes et procédé de production de celui-ci |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0629332B2 (ja) * | 1985-04-26 | 1994-04-20 | 旭硝子株式会社 | 防汚性・低反射性プラスチツク |
US6183872B1 (en) * | 1995-08-11 | 2001-02-06 | Daikin Industries, Ltd. | Silicon-containing organic fluoropolymers and use of the same |
DE60229340D1 (de) * | 2001-10-05 | 2008-11-27 | Shinetsu Chemical Co | Perfluoropolyethermodifizierte Silane, Oberflächenbehandlungsmittel und Antireflexfilter |
FR2856056B1 (fr) * | 2003-06-13 | 2009-07-03 | Essilor Int | Procede de traitement d'un verre apte au debordage. |
FR2860306B1 (fr) * | 2003-09-26 | 2006-09-01 | Essilor Int | Lentille ophtalmique recouverte d'un film electrostatique et procede de debordage d'une telle lentille |
US6991827B2 (en) * | 2003-11-07 | 2006-01-31 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Apparatus and method for dip coating lenses |
JP2005301208A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-10-27 | Seiko Epson Corp | 防汚性光学物品の製造方法 |
-
2006
- 2006-10-31 FR FR0654663A patent/FR2907915B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-10-31 WO PCT/EP2007/061769 patent/WO2008053020A1/en active Application Filing
- 2007-10-31 JP JP2009533885A patent/JP5623077B2/ja active Active
- 2007-10-31 US US12/513,128 patent/US20100053547A1/en not_active Abandoned
- 2007-10-31 EP EP07822116A patent/EP2078224A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005505427A (ja) * | 2001-05-17 | 2005-02-24 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | トリミングに適したガラスの作製方法、それにより得られるガラスおよび該ガラスのトリミング方法 |
JP2004109728A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Tokai Kogaku Kk | 眼鏡用プラスチックレンズ |
JP2005003817A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Seiko Epson Corp | 防汚性眼鏡レンズおよびその製造方法 |
JP2006124417A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Asahi Glass Co Ltd | 防汚層形成用組成物および反射防止積層体 |
WO2008053712A1 (fr) * | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Nikon-Essilor Co., Ltd. | Verre de lunettes et procédé de production de celui-ci |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014514615A (ja) * | 2011-05-12 | 2014-06-19 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 防曇コーティングの前駆体コーティング、及び、エッチングに適切なものとする一時的な層を含んでなる光学物品 |
US10344109B2 (en) | 2012-09-10 | 2019-07-09 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface-modified elastic body |
CN104871073A (zh) * | 2012-12-28 | 2015-08-26 | 埃西勒国际通用光学公司 | 可以磨边的、包括疏水双层和临时金属氟化物层的眼镜片 |
JP2016509250A (ja) * | 2012-12-28 | 2016-03-24 | エシロル アンテルナショナル(コンパーニュ ジェネラル ドプテーク) | 疎水二重層と一時金属フッ化物層とを含む縁取り可能な眼用レンズ |
US10647829B2 (en) | 2013-06-20 | 2020-05-12 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface modification body |
US10280274B2 (en) | 2014-01-06 | 2019-05-07 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Method for modifying surface and surface modified elastic body |
WO2016042912A1 (ja) * | 2014-09-18 | 2016-03-24 | 住友ゴム工業株式会社 | 表面改質方法及び表面改質弾性体 |
US9982105B2 (en) | 2014-09-18 | 2018-05-29 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface-modified elastic body |
JP5894348B1 (ja) * | 2014-09-18 | 2016-03-30 | 住友ゴム工業株式会社 | 表面改質方法及び表面改質弾性体 |
US10214608B2 (en) | 2015-08-03 | 2019-02-26 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface-modified body |
US10759918B2 (en) | 2015-08-03 | 2020-09-01 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Surface modification method and surface-modified elastic body |
WO2023054433A1 (ja) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、防汚剤組成物、及び眼鏡レンズの製造方法 |
WO2023054434A1 (ja) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、防汚剤組成物、及び眼鏡レンズの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100053547A1 (en) | 2010-03-04 |
FR2907915B1 (fr) | 2009-01-23 |
FR2907915A1 (fr) | 2008-05-02 |
JP5623077B2 (ja) | 2014-11-12 |
WO2008053020A1 (en) | 2008-05-08 |
EP2078224A1 (en) | 2009-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5623077B2 (ja) | 防汚膜を有する光学物品 | |
KR101410433B1 (ko) | 저 굴절률 층과 고 굴절률 층의 두께 비율을 최적화시킨, 내열성의 반사 방지 코팅을 갖는 광학 물품 | |
US9075189B2 (en) | Method for obtaining optical articles having superior abrasion resistant properties, and coated articles prepared according to such method | |
JP4969582B2 (ja) | 帯電防止性、反射防止性の被覆層を有する光学製品およびその製造方法 | |
US20170003420A1 (en) | Optical article comprising a double-layer abrasion and scratch resistant coating and method for production thereof | |
US9637643B2 (en) | Method for the production of an optical article with improved anti-fouling properties | |
CN102869631A (zh) | 包含具有防雾性能的抗反射涂层的光学制品 | |
EP2939061A1 (en) | Method for the production of an optical article with improved anti-fouling properties | |
JP6401184B2 (ja) | 疎水二重層と一時金属フッ化物層とを含む縁取り可能な眼用レンズ | |
US10754069B2 (en) | Ophthalmic lens having different anti-fouling properties on each of the two surfaces thereof and manufacturing methods |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100906 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130226 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130527 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130826 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130917 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140117 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140714 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140909 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140924 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5623077 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |