JP2010520493A - 超疎水性のナノテクスチャ表面を有する製品 - Google Patents
超疎水性のナノテクスチャ表面を有する製品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010520493A JP2010520493A JP2009551251A JP2009551251A JP2010520493A JP 2010520493 A JP2010520493 A JP 2010520493A JP 2009551251 A JP2009551251 A JP 2009551251A JP 2009551251 A JP2009551251 A JP 2009551251A JP 2010520493 A JP2010520493 A JP 2010520493A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- column
- product
- product according
- array
- nanotextured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 title claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 20
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000020998 Acacia farnesiana Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010643 Leucaena leucocephala Nutrition 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O azanium;cerium;nitrate Chemical compound [NH4+].[Ce].[O-][N+]([O-])=O HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B17/00—Methods preventing fouling
- B08B17/02—Preventing deposition of fouling or of dust
- B08B17/06—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B17/00—Methods preventing fouling
- B08B17/02—Preventing deposition of fouling or of dust
- B08B17/06—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement
- B08B17/065—Preventing deposition of fouling or of dust by giving articles subject to fouling a special shape or arrangement the surface having a microscopic surface pattern to achieve the same effect as a lotus flower
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
- B29D11/00317—Production of lenses with markings or patterns
- B29D11/00346—Production of lenses with markings or patterns having nanosize structures or features, e.g. fillers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Prostheses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Paper (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
‐柱の表面比率ΦS(柱で覆われた表面積の、総表面積に対する比率)=13%であり、
‐柱の高さh=268nmであり、
‐アレイ間隔(柱と柱の中心から中心への距離)p=300nmであり、
‐柱の直径d=124nmである。
‐柱の表面比率ΦSは、3%≦ΦS≦13%、好ましくは、5%≦ΦS≦13%、さらに好ましくは、5.5%≦ΦS≦13%、さらに好ましくは、6%≦ΦS≦13%、いっそう好ましくは、8%≦ΦS≦13%であり、
好ましい範囲として、5%≦ΦS≦12%、さらに好ましくは、6%≦ΦS≦12%、7%≦ΦS≦12%、5%≦ΦS10%、いっそう好ましくは、8%≦ΦS10%も挙げることができ、
‐アレイ間隔pは、100nm≦p≦250nmであり、
‐柱の高さhは、100nm≦h≦400nm、好ましくは、250nm≦h≦400nm、より好ましくは、300≦h≦400nmであり、
好ましい範囲として、150nm≦h≦350nmも挙げることができ、
‐柱の側面は、柱の垂直軸に対して、最大で±20°、好ましくは±10°、さらに好ましくは±5°の角度をなす。
‐ΦS=a2/p2(断面が正方形の平行六面体の柱の場合)であり、
‐ΦS=πd2/4p2(円柱)である。
および
サンプルのシリコン基板の表面に、本発明に基づく疎水性材料の層で被覆され、以下の特徴を有する、ナノテクスチャの周期的アレイが設けられた。
アレイ#1:
間隔(p)=200nm
柱の表面比率(ΦS)=pd2/4p2=11%
粗さ(r)=3.0
柱の外形:先端が丸い円柱
‐直径(d)=75nm
‐高さ(h)=350nm
サンプルの基板は3cm×3cmの正方形で、中心に1cm2のテクスチャのある部分を有する。
1.シリコンウェーハは、30秒間、4000rpmの回転速度および3000rpmの加速度で、メチルイソブチルケトン中の30g/lのポリ(メチルメタクリラート)(PMMA)溶液によってスピンコートされる。得られたコーティングの最終的な厚さは150nmである。
2.被覆されたウェーハは180℃のオーブンに30分間入れられる。
3.被覆されたウェーハの面は、所望のパターンに従って、コンピュータ制御電子ビーム(電子マスキング装置 Leica)で照射される。
4.照射された層は、次に、体積1/3のメチルイソブチルケトン/イソプロパノール溶液中で45秒間、現像される。
5.次に、40nmのクロム層が堆積される(従来の真空蒸着)。
6.PMMA層がアセトン処理によって除去される。シリコンに堆積されたクロムは損傷を受けないが、樹脂上のクロムは樹脂とともに除去される。
7.シリコンは、DPSIプログラムの制御の下で(4sccmSF6−8sccmCHF3−圧力=10mTorr−RF電力=15ワット)、反応性イオンエッチング(RIE)で7分間、50nm/分のエッチング速度でエッチングされ、350nmのエッチング深度を得る(sccm=立方センチメートル毎分(標準状態下)、0℃および101.325kPaの条件下)。
8.クロム層は、Cr−etch(R)(Chromium Etch 3144(ハネウェル)、過塩素酸および硝酸アンモニウム‐セリウム(IV)の混合物)として市販される溶液にサンプルを浸漬させることで、化学的に除去される。
次に、疎水性材料(OPTOOL DSX(R))の幾何学的厚さが2nmの層を、以下の条件で堆積させる。
‐チャンバを真空ポンプで排気して、その気圧を3.10−5mbarにする、
‐低エネルギーでのアルゴンイオン・ボンバーディング:le=0,5A,V=80V,1分間、
‐OPTOOL DSX(R)のジュール効果による蒸発(蒸発速度:0.40nm/秒)、最終通気はゆっくりと行う(4分間)。
本発明に基づくナノテクスチャ表面の接触角を、上記のとおり測定した。結果は表1に示した。比較例として、疎水性材料で被覆されたシリコンウェーハの非ナノテクスチャ表面の、水との接触角を示した(測定は、DIGIDROP GBXで、マニュアルモード−三重点速度=0で行われる)。
液滴衝撃テストに用いられた、実験的な配置の線図を図1で示した。液滴は、シリンジ駆動装置で駆動されたシリンジから投下された。観察は、高速度カメラで行った。
シリンジ駆動装置で駆動されたシリンジ1は、較正された寸法の液滴を投下させる。シリンジは、図2で概略が示されるように、液滴が高さHからサンプル上に落下するよう配置されている。
衝撃の観察は、毎秒2〜1000画像を撮影する高速度カメラによって行われる。写真は、光3を、ディフューザ4の裏に、カメラと対称の位置に配置して、側面から撮影される。
半径1.1〜2mmの液滴の、異なる高さ(3cm〜1m)からのナノテクスチャ表面に対する衝撃を実現し、跳ね返りを、それが1mの高さから投下された液滴のものであっても、必ず観察した。水は表面に侵入せず、跳ね返る。
実施例の、ナノテクスチャ表面に置かれた液滴は、テストの分解能限度、20μm(蒸気よりわずかに大きい巨視的な液滴の寸法)、に達するまで、ファキール状態を維持しながら蒸発する。これらの液滴の変化は、液滴を側面から見るために、水平に配置された双眼鏡によって観察することができる。
ここで観察された反応は、100ミクロン未満の寸法の液滴の串刺しが確認された、より大きな構造体で観察された反応と大きく異なる。
結論:本実施例のナノテクスチャにおいて、液滴の串刺しは観察されない。
Claims (13)
- 垂直で好ましくは規則的な柱アレイを含む、超疎水性のナノテクスチャ表面を有する製品であって、柱アレイは、
‐柱の表面比率ΦSが、3%≦ΦS≦13%、好ましくは、5%≦ΦS≦13%、さらに好ましくは、5.5%≦ΦS≦13%、さらに好ましくは、6%≦ΦS≦13%、いっそう好ましくは、8%≦ΦS≦13%であり、
‐アレイ間隔pが、100nm≦p≦250nmであり、
‐柱の高さhが、100nm≦h≦400nm、好ましくは、250≦h≦400nm、さらに好ましくは、300≦h≦400nmであり、
‐柱の側面が、柱の垂直軸に対して、最高で±20°、好ましくは±10°、さらに好ましくは±5°の角度をなす、という条件を満たす製品。 - 柱の高さが150≦h≦350nmである、請求項1に記載の製品。
- 柱の表面比率ΦSが5%≦ΦS≦12%、さらに好ましくは6%≦ΦS≦12%、さらに好ましくは7%≦ΦS≦12%である、請求項1または2に記載の製品。
- 柱の表面比率ΦSが5%≦ΦS≦10%、さらに好ましくは8%≦ΦS≦10%である、請求項1または2に記載の製品。
- 柱が平行六面体、円柱、円錐台または角錐台である、請求項1〜4のいずれかに記載の製品。
- 柱の長辺または直径が50nm〜100nmの間で変化し、好ましくは50nmより大きく、さらに好ましくは60nmより大きく、いっそう好ましくは60〜90nmの間で変化する、請求項5に記載の製品。
- 柱の先端が丸い形状である請求項1〜6のいずれかに記載の製品。
- ナノテクスチャ表面が粗さr≧2、好ましくは2.5≦r≦3.5である、請求項1〜7のいずれかに記載の製品。
- ナノテクスチャ表面が少なくとも部分的に1層の疎水性材料の層で被覆されている、請求項1〜8のいずれかに記載の製品。
- 層の厚さが10nm未満、好ましくは1〜10nm、さらに好ましくは1〜5nmである、請求項9に記載の製品。
- 製品が光学製品、好ましくは眼用レンズである、請求項1〜10のいずれかに記載の製品。
- ナノテクスチャ表面が防汚性コーティングである、請求項1〜11のいずれかに記載の製品。
- 請求項1〜12のいずれかに記載の、柱アレイを含むナノテクスチャ表面の、製品の表面に撥雨性を付与するための用法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0753631 | 2007-03-02 | ||
FR0753631A FR2913231B1 (fr) | 2007-03-02 | 2007-03-02 | Article ayant une surface nanotexturee a proprietes superhydrophobes. |
PCT/FR2008/050350 WO2008116994A2 (fr) | 2007-03-02 | 2008-02-29 | Article ayant une surface nanotexturee a proprietes superhydrophobes |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010520493A true JP2010520493A (ja) | 2010-06-10 |
JP2010520493A5 JP2010520493A5 (ja) | 2013-10-24 |
JP5560046B2 JP5560046B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=38543956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009551251A Active JP5560046B2 (ja) | 2007-03-02 | 2008-02-29 | 超疎水性のナノテクスチャ表面を有する製品 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8298649B2 (ja) |
EP (1) | EP2117735B1 (ja) |
JP (1) | JP5560046B2 (ja) |
AT (1) | ATE494966T1 (ja) |
DE (1) | DE602008004450D1 (ja) |
FR (1) | FR2913231B1 (ja) |
WO (1) | WO2008116994A2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012514238A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反射防止物品及びこれを作製する方法 |
JP2012514239A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品及びナノ構造化物品の作製方法 |
JP2014523542A (ja) * | 2011-06-09 | 2014-09-11 | ノバルティス アーゲー | ナノテクスチャー表面を持つシリコーンヒドロゲルレンズ |
JP2015530298A (ja) * | 2013-03-14 | 2015-10-15 | エスデイシー テクノロジーズ、インコーポレイテッド | 防曇性のナノ織目加工された表面及び同表面を含有する物品 |
WO2017057220A1 (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 綜研化学株式会社 | 撥水性部材及びその製造方法 |
JP2018523167A (ja) * | 2015-08-10 | 2018-08-16 | エシロール・アンテルナシオナル | 疎水性を有するナノテクスチャ付き表面を有する物品 |
JP2018178033A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | 旭化成株式会社 | 膜 |
CN111929921A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-13 | 安徽信息工程学院 | 一种防水眼镜 |
JP2022506116A (ja) * | 2018-10-30 | 2022-01-17 | マジック リープ, インコーポレイテッド | 拡張および複合現実システムのためのポリマー接眼レンズアセンブリ |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101597550B1 (ko) * | 2009-03-20 | 2016-03-07 | 엘지전자 주식회사 | 디스플레이 장치의 윈도우 및 이를 갖는 휴대 단말기 |
KR20110132758A (ko) * | 2010-06-03 | 2011-12-09 | 삼성전자주식회사 | 초소수성 영역과 초친수성 영역을 가지는 표면 |
US20120143228A1 (en) | 2010-08-30 | 2012-06-07 | Agency For Science Technology And Research | Adhesive structure with stiff protrusions on adhesive surface |
US9492952B2 (en) | 2010-08-30 | 2016-11-15 | Endo-Surgery, Inc. | Super-hydrophilic structures |
US8800155B2 (en) | 2011-04-22 | 2014-08-12 | Jack A. Ekchian | Displacement sensor with reduced hysteresis |
BR112014002627A2 (pt) | 2011-08-03 | 2017-03-01 | Massachusetts Inst Technology | artigos para manipulação de líquidos colididos e métodos de fabricação dos mesmos |
NZ620507A (en) | 2011-08-05 | 2015-10-30 | Massachusetts Inst Technology | Devices incorporating a liquid - impregnated surface |
US9296183B2 (en) | 2011-11-30 | 2016-03-29 | Corning Incorporated | Metal dewetting methods and articles produced thereby |
US9023457B2 (en) * | 2011-11-30 | 2015-05-05 | Corning Incorporated | Textured surfaces and methods of making and using same |
JP6153945B2 (ja) | 2011-12-29 | 2017-06-28 | エシコン・インコーポレイテッドEthicon, Incorporated | 表面上に組織貫入突起を有する接着構造体 |
IN2014DN08031A (ja) * | 2012-02-29 | 2015-05-01 | Massachusetts Inst Technology | |
KR102240529B1 (ko) | 2012-03-23 | 2021-04-16 | 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 식품 포장물 및 식품 가공 장치용 자체-윤활성 표면 |
WO2013141953A2 (en) | 2012-03-23 | 2013-09-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Liquid-encapsulated rare-earth based ceramic surfaces |
US8969648B2 (en) | 2012-04-06 | 2015-03-03 | Ethicon, Inc. | Blood clotting substrate and medical device |
US8926881B2 (en) | 2012-04-06 | 2015-01-06 | DePuy Synthes Products, LLC | Super-hydrophobic hierarchical structures, method of forming them and medical devices incorporating them |
US20130337027A1 (en) | 2012-05-24 | 2013-12-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Medical Devices and Implements with Liquid-Impregnated Surfaces |
US9625075B2 (en) | 2012-05-24 | 2017-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus with a liquid-impregnated surface to facilitate material conveyance |
WO2013188702A1 (en) | 2012-06-13 | 2013-12-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Articles and methods for levitating liquids on surfaces, and devices incorporating the same |
US10689178B2 (en) * | 2012-07-13 | 2020-06-23 | Toyo Seikan Group Holdings, Ltd. | Packing container having excellent slipping property for the content |
US20140178611A1 (en) | 2012-11-19 | 2014-06-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and methods employing liquid-impregnated surfaces |
MX2015006238A (es) | 2012-11-19 | 2015-12-03 | Massachusetts Inst Technology | Aparato y metodos que emplean superficies impregnadas con liquido. |
US9585757B2 (en) | 2013-09-03 | 2017-03-07 | Massachusetts Institute Of Technology | Orthopaedic joints providing enhanced lubricity |
US20150083227A1 (en) * | 2013-09-26 | 2015-03-26 | General Electric Company | Reduced fluid drag across a solid surface with a textured coating |
WO2015095660A1 (en) | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Massachusetts Institute Of Technology | Controlled liquid/solid mobility using external fields on lubricant-impregnated surfaces |
US9947481B2 (en) | 2014-06-19 | 2018-04-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Lubricant-impregnated surfaces for electrochemical applications, and devices and systems using same |
DE102014113097A1 (de) | 2014-09-11 | 2016-03-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Reduzieren der Schmutzhaftung an einem Substrat |
US11785943B2 (en) * | 2017-09-22 | 2023-10-17 | Uchicago Argonne, Llc | Tunable nanotextured materials |
CN113215604B (zh) * | 2021-04-30 | 2022-04-26 | 北京航空航天大学 | 一种仿生浸润性梯度锥簇电极 |
CN117510946A (zh) * | 2022-07-28 | 2024-02-06 | 华为技术有限公司 | 透光板材、结构件和光感装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003149402A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Crystal System:Kk | 防曇性部材 |
JP2004109728A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Tokai Kogaku Kk | 眼鏡用プラスチックレンズ |
JP2006525117A (ja) * | 2003-04-15 | 2006-11-09 | インテグリス・インコーポレーテッド | 高圧液体のための超撥水性表面 |
JP2009517310A (ja) * | 2005-11-23 | 2009-04-30 | サン−ゴバン グラス フランス | ガラス製品を表面構造化する方法、構造化された表面を有するガラス製品、及び使用 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6183872B1 (en) * | 1995-08-11 | 2001-02-06 | Daikin Industries, Ltd. | Silicon-containing organic fluoropolymers and use of the same |
US6277485B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
PT1171529E (pt) * | 1999-03-25 | 2003-12-31 | Wilhelm Barthlott | Processo para a producao de superficies auto-limpantes separaveis |
FR2811316B1 (fr) * | 2000-07-06 | 2003-01-10 | Saint Gobain | Substrat texture transparent et procedes pour l'obtenir |
DE10117945A1 (de) * | 2001-04-10 | 2002-10-24 | Stiftung A Wegener Inst Polar | Biozidfreie Antifouling-Beschichtung |
WO2006008153A1 (de) * | 2004-07-21 | 2006-01-26 | Basf Aktiengesellschaft | Schmutzabweisende oberflächen |
WO2006049020A1 (ja) | 2004-11-01 | 2006-05-11 | Daikin Industries, Ltd. | ガラス系基材処理用組成物 |
US7459197B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-12-02 | Lucent Technologies Inc. | Reversibly adaptive rough micro- and nano-structures |
US20100028604A1 (en) * | 2008-08-01 | 2010-02-04 | The Ohio State University | Hierarchical structures for superhydrophobic surfaces and methods of making |
-
2007
- 2007-03-02 FR FR0753631A patent/FR2913231B1/fr active Active
-
2008
- 2008-02-29 DE DE602008004450T patent/DE602008004450D1/de active Active
- 2008-02-29 AT AT08762181T patent/ATE494966T1/de not_active IP Right Cessation
- 2008-02-29 US US12/529,704 patent/US8298649B2/en active Active
- 2008-02-29 EP EP08762181A patent/EP2117735B1/fr active Active
- 2008-02-29 WO PCT/FR2008/050350 patent/WO2008116994A2/fr active Application Filing
- 2008-02-29 JP JP2009551251A patent/JP5560046B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003149402A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Crystal System:Kk | 防曇性部材 |
JP2004109728A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Tokai Kogaku Kk | 眼鏡用プラスチックレンズ |
JP2006525117A (ja) * | 2003-04-15 | 2006-11-09 | インテグリス・インコーポレーテッド | 高圧液体のための超撥水性表面 |
JP2009517310A (ja) * | 2005-11-23 | 2009-04-30 | サン−ゴバン グラス フランス | ガラス製品を表面構造化する方法、構造化された表面を有するガラス製品、及び使用 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012514238A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反射防止物品及びこれを作製する方法 |
JP2012514239A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品及びナノ構造化物品の作製方法 |
JP2014523542A (ja) * | 2011-06-09 | 2014-09-11 | ノバルティス アーゲー | ナノテクスチャー表面を持つシリコーンヒドロゲルレンズ |
JP2015530298A (ja) * | 2013-03-14 | 2015-10-15 | エスデイシー テクノロジーズ、インコーポレイテッド | 防曇性のナノ織目加工された表面及び同表面を含有する物品 |
JP2018523167A (ja) * | 2015-08-10 | 2018-08-16 | エシロール・アンテルナシオナル | 疎水性を有するナノテクスチャ付き表面を有する物品 |
WO2017057220A1 (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 綜研化学株式会社 | 撥水性部材及びその製造方法 |
JP2018178033A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | 旭化成株式会社 | 膜 |
JP2022506116A (ja) * | 2018-10-30 | 2022-01-17 | マジック リープ, インコーポレイテッド | 拡張および複合現実システムのためのポリマー接眼レンズアセンブリ |
JP7496351B2 (ja) | 2018-10-30 | 2024-06-06 | マジック リープ, インコーポレイテッド | 拡張および複合現実システムのためのポリマー接眼レンズアセンブリ |
CN111929921A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-13 | 安徽信息工程学院 | 一种防水眼镜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE602008004450D1 (de) | 2011-02-24 |
US20100098909A1 (en) | 2010-04-22 |
FR2913231A1 (fr) | 2008-09-05 |
US8298649B2 (en) | 2012-10-30 |
JP5560046B2 (ja) | 2014-07-23 |
FR2913231B1 (fr) | 2009-07-10 |
EP2117735B1 (fr) | 2011-01-12 |
ATE494966T1 (de) | 2011-01-15 |
WO2008116994A2 (fr) | 2008-10-02 |
EP2117735A2 (fr) | 2009-11-18 |
WO2008116994A3 (fr) | 2008-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5560046B2 (ja) | 超疎水性のナノテクスチャ表面を有する製品 | |
US10618214B2 (en) | Article having a nanotextured surface with hydrophobic properties | |
AU2013381844B2 (en) | Anti-fog nanotextured surfaces and articles containing the same | |
Sommers et al. | Creating micro-scale surface topology to achieve anisotropic wettability on an aluminum surface | |
CA2260470C (en) | Structured surfaces having hydrophobic properties | |
KR101361900B1 (ko) | 미세 요철 구조를 표면에 갖는 물품의 제조 방법 | |
EP2595932B1 (fr) | Procede de fabrication d'un depot de nanoparticules inorganiques, comportant des micros-vides, sur un support transparent a la lumiere | |
US20150321231A1 (en) | Article coated with an ultra high hydrophobic film and process for obtaining same | |
CN110799858B (zh) | 具有疏水和防雾性质的纳米结构化透明制品及其制造方法 | |
JP6556722B2 (ja) | ナノ構造化表面を有する工作物 | |
US20120181346A1 (en) | Nanotextured surfaces and related methods, systems, and uses | |
CN103180060A (zh) | 超疏水性膜构造 | |
Son et al. | Effects of surface nanostructures on self-cleaning and anti-fogging characteristics of transparent glass | |
KR101325010B1 (ko) | 나노 패턴된 폴리머 니들 어레이를 갖는 초소수성 투명 박막 및 그 제조방법 | |
KR101014277B1 (ko) | 무반사 표면 및 초발수 표면의 제조방법 | |
KR20200127351A (ko) | 초소수성을 갖는 나노입자 형성방법 | |
Lee et al. | Bioinspired nanoscale hierarchical pillars for extreme superhydrophobicity and wide angular transmittance | |
EP4245798A1 (en) | Process for the surface modification of a polymer substrate by formation of nanopillars | |
Maghsoudi | Development of self-cleaning polymeric surfaces using polymer processing systems for application to high-voltage insulators | |
Son | Fabrication and evaluation of omniphobic transparent glass with self-cleaning and anti-fogging capability |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130305 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130529 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130606 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130704 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130719 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20130905 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131001 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140203 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140326 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140520 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140609 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5560046 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |