JP7458734B2 - 光学部材および光学部材の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の光学部材の一実施形態を示す模式図である。
基材2は、ガラス、樹脂などを用いることが可能である。光学部材の基材2としては透明なものが好ましく、具体的には、光透過率が70%以上のものが好ましい。その形状は限定されることはなく、平面、曲面、凹面、凸面、フィルム状であっても良い。
多孔質層3は、複数の粒子5を含んでおり、複数の粒子5の間に形成される空隙によって多孔質となっている。多孔質層3に含まれる粒子5同士は、直接接触していてもバインダーを挟んで結合されていても良いが、耐摩耗性向上の観点から、粒子5同士はバインダーを挟んで結合されている方が好ましい。
このような屈折率を得るため、多孔質層3の空隙率を30%以上50%以下の範囲で調整するとよい。空隙率が30%以上50%以下の範囲にあれば、粒子間に形成される空隙が多くなりすぎて耐摩耗性が低下することもなく、反射防止層に適した屈折率を実現することができる。
多孔質層3に含まれる粒子5は、真円状、楕円上、円盤状、棒状、針状、鎖状、角型のいずれの形状であっても良く、また、粒子内部が詰まった中実粒子でも、粒子内部に空洞(空隙)を有する中空粒子でも良い。多孔質層3の空隙率を高めてより低屈折率化を可能とするためには、多孔質層3に含まれる粒子5の50質量%以上が、中空粒子又は鎖状の粒子であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましい。
粒子5を結合するバインダー6は、酸化ケイ素バインダーが好ましい。酸化ケイ素バインダーは、シロキサンオリゴマーがシラノール基を介して粒子同士を結合している部分である。シロキサンオリゴマーは、酸化ケイ素粒子との親和性が高いため、酸化ケイ素粒子の間に存在して粒子同士を結合し、多孔質層3の耐摩耗性を向上させることができる。
多孔質層3の上に離散的に設けられたポリマー7は、炭化水素を主鎖に持つポリマーであり、パーフルオロアルキル基とシリル基を特定の割合で有する。ポリマー7の種類は特に限定されないが、オレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ブタジエン系樹脂、アクリル系樹脂などが好適に用いられる。
本発明の光学部材1の製造方法は、基材2上または基材2上に形成された1層以上の膜の表面に、粒子5がバインダー6で結合した多孔質層3を形成する形成工程を有する。
図6は、本発明の撮像装置の好適な実施態様の一例であり、本発明の光学機器の一例であるレンズ鏡筒(交換レンズ)が結合された一眼レフデジタルカメラの構成を示している。
(1)鎖状シリカ粒子塗工液1の調製
鎖状シリカ(SiO2)粒子のIPA分散液(日産化学工業株式会社製 IPA-ST-UP、平均粒径12nm・固形分濃度15質量%、)6.00gを、1-エトキシ-2-プロパノール22.13gで希釈し、鎖状シリカ粒子塗工液1を調整した。得られた鎖状シリカ粒子塗工液1の固形分濃度は3.20質量%である。鎖状シリカ粒子塗工液1に対して動的光散乱法による粒度分布測定(マルバーン社製 ゼータサイザーナノZS)を行い、分散液中には短径が12nm、長径が90nmの鎖状シリカ粒子が分散していることを確認した。
中空シリカ粒子の2-プロパノール(IPA)分散液(日揮触媒化成株式会社製 スルーリア1110、平均粒径55nm・固形分濃度20.50質量%、)6.00gを、1-メトキシ-2-プロパノール(PGME)28.17gで希釈した。得られた中空シリカ粒子塗工液2の固形分濃度が3.60質量%である。中空シリカ粒子塗工液2に対して、動的光散乱法による粒度分布測定(マルバーン社製 ゼータサイザーナノZS)を行い、平均粒子径が55nmの中空シリカ粒子が分散していることを確認した。
ケイ酸エチル4.17gとエタノール2.30gとの混合液に、予め希釈しておいた硝酸水(濃度3.7質量%)1.7gとエタノール2.30gの溶液をゆっくり加え、室温で15時間攪拌して反応溶液を得た。得られた反応溶液から2.00gを計り取り、2-エチル-1-ブタノール36.33gで希釈し、シリカバインダー塗工液4(固形分濃度0.6質量%)を調製した。
(ポリマーAの調製)
攪拌装置とコンデンサーと温度計とを備えた耐圧密閉反応容器に、第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H4C6F13を16質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.2質量部、1-メトキシ-2-プロパノール25.5質量部を仕込んだ。反応容器内を窒素パージし、65℃で加熱しながら15時間反応させた。その後、室温付近まで冷却し、ポリマーAを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H4C6F13を10質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.1質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを16.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーBを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H4C6F13を30質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.3質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを46.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーCを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H3C4F9を16質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.2質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを25.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーDを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H3C8F17を16質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.2質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを25.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーEを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H4C6F13を10質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.1質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを15.0質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーFを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H4C6F13を50質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.5質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを76.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーGを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H4C6F13を8質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.1質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを13.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーHを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H3C3F7を16質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.2質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを25.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーIを含む液を得た。
第一の単量体に相当するCH2=C(CH3)COOC2H3C9F19を16質量部、第二の単量体に相当するCH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3を1質量部、2,2’-アゾビス(2,4’-ジメチルバレロニトリル)を0.2質量部、1-メトキシ-2-プロパノールを25.5質量部にそれぞれ変更する点を除いて、ポリマーAの調製と同様の処理を行うことによりポリマーJを含む液を得た。
(5)膜厚の測定
分光エリプソメータ(VASE、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製)を用い、波長380nmから800nmまでの入射光と反射光の偏光の変化量を測定した。測定結果を解析することにより、膜厚を求めた。
分光エリプソメータ(VASE、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製)を用い、波長380nmから800nmまでの入射光と反射光の偏光の変化量を測定した。測定結果から、波長550nmの屈折率を求めた。
光学部材を形成した後、クリーナーを用いた拭き取りを行う前に、全自動接触角計(共和界面科学株式会社製 DM-701)を用い、ヘキサデカン2μlの液滴を接触させた時の接触角を測定した。
A:65°以上
B:50°以上65°未満
C:50°未満
膜付き基材を、クリーナーを浸み込ませたポリエステルワイパー(テックスワイプ社製 アルファワイパーTX1009)で50g/cm2の力を加えて10回拭きとった後、(8)の接触角の評価をおこなった。イソヘキサンを80~90重量%を含む有機溶媒をクリーナーとして使用した。結果は以下の基準で評価した。
A:65°以上
B:50°以上65°未満
C:50°未満
熱分解GCMS(フロンティア・ラボ社製 PY-3030D)を用い、以下の条件にて光学部材の表面、即ち、反射防止層の表面の測定を行った。
熱分解温度:550℃(1分保持)
Interface温度:250℃
Inlet温度:250℃
カラム: DB-5MS
カラム温度:40℃から320℃まで一定の速度で昇温
X線光電子分光装置(アルバック・ファイ株式会社製 QuanteraII)を用い、アルゴンイオン銃で6~7nmエッチングする毎に成分分析を行うことにより、反射防止層4の表面から80nm弱の深さにかけて成分分析を行った。
実施例1は、直径(φ)30mm厚さ1mmのガラス基材(nd=1.835、νd=50)上に、鎖状シリカ粒子塗工液1を適量滴下し、3500rpmで20秒間スピンコートを行なうことで基材上に鎖状シリカ粒子からなる多孔質層を形成した。形成した多孔質層上にシリカバインダー塗工液4を適量滴下して4500rpmで20秒間スピンコートを行ない、続いてポリマーA溶液を適量滴下して3000rpmで20秒間スピンコートを行なった。その後、熱風循環オーブンにて140℃で30分間加熱し、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーAとを含む光学部材を作製した。
ポリマーA溶液をポリマーB溶液に変更する点を除き、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーBとを有する光学部材を作製した。
ポリマーA溶液をポリマーC溶液に変更する点を除き、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーCとを有する光学部材を作製した。
ポリマーA溶液をポリマーD溶液に変更する点を除き、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーDとを有する光学部材を作製した。
ポリマーA溶液をポリマーE溶液に変更する点を除き、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーEとを有する光学部材を作製した。
鎖状シリカ粒子塗工液1を中空シリカ粒子塗工液2に変更する点を除き、実施例1と同様にして、中空シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーAとを有する光学部材を作製した。
ガラス基材の上に形成した多孔質層の上にシリカバインダー塗工液4をスピンコートした後、ポリマーF溶液を滴下した以外は、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーFとを有する光学部材を作製した。
ガラス基材の上に形成した多孔質層の上にシリカバインダー塗工液4をスピンコートした後、ポリマーG溶液を滴下した以外は、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーGとを有する光学部材を作製した。
ガラス基材の上に形成した多孔質層の上にシリカバインダー塗工液4をスピンコートした後、ポリマーH溶液を滴下した以外は、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーHとを有する光学部材を作製した。
ガラス基材の上に形成した多孔質層の上にシリカバインダー塗工液4をスピンコートした後、ポリマーI溶液を滴下した以外は、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーIとを有する光学部材を作製した。
ガラス基材の上に形成した多孔質層の上にシリカバインダー塗工液4をスピンコートした後、ポリマーJ溶液を滴下した以外は、実施例1と同様にして、鎖状シリカ粒子同士がバインダーで結合された多孔質層とポリマーJとを有する光学部材を作製した。
2 基材
3 多孔質層
4 反射防止層
5 酸化ケイ素粒子
6 バインダー
7 ポリマー
8 酸化物層
Claims (22)
- 多孔質層を含む反射防止層を備える光学部材であって、
前記多孔質層は、酸化ケイ素を主成分とする粒子とバインダーとを含み、
前記反射防止層は、前記多孔質層の表層部に、炭化水素の主鎖と、シリル基と、炭素の鎖長が4以上8以下のパーフルオロアルキル基と、を有し、前記シリル基と前記パーフルオロアルキル基の比が1:10から1:30の範囲にあるポリマーを有し、
前記多孔質層の表層部の一部が、前記ポリマーから露出することを特徴とする光学部材。 - 前記パーフルオロアルキル基の炭素の鎖長は、5以上8以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
- 前記ポリマーは、前記酸化ケイ素粒子に接触して設けられることを特徴とする請求項1または2に記載の光学部材。
- 前記酸化ケイ素粒子の一部は、前記多孔質層の表層部を形成していることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記ポリマーの平均分子量が、5、000以上100、000以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記ポリマーが、オレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ブタジエン系樹脂、アクリル系樹脂のいずれかを含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記多孔質層の波長550nmの光に対する屈折率が、1.22以上、1.32以下であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記多孔質層の厚さが、80nm以上200nm以下であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記多孔質層の空隙率が、30%以上50%以下であることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記粒子の平均粒子径が、10nm以上80nm以下であることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記粒子は、酸素を除く元素のうち80原子%以上がケイ素であることを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記多孔質層が、鎖状の粒子を含むことを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記多孔質層が、中空粒子を含むことを特徴とする請求項1から12のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記バインダーが、酸化ケイ素バインダーであることを特徴とする請求項1から13のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記反射防止層が、基材と多孔質層との間に設けられた、複数の酸化物層を含む積層体を有していることを特徴とする請求項1から14のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記積層体が、相対的に屈折率の高い高屈折率層と、相対的に屈折率の低い低屈折率層を含むことを特徴とする請求項15に記載の光学部材。
- 筐体と、該筐体の内部に複数のレンズを含む光学系を備える光学機器であって、
前記光学系に含まれる少なくとも1つのレンズが、請求項1乃至16のいずれか1項に記載の光学部材であることを特徴とする光学機器。 - 筐体と、該筐体の内部に複数のレンズを含む光学系と、該光学系を通過した光を受光する撮像素子と、を備える撮像装置であって、
前記光学系に含まれる少なくとも1つのレンズが、請求項1乃至17のいずれか1項に記載の光学部材であることを特徴とする撮像装置。 - 光学部材の製造方法であって、
基材の上に、酸化ケイ素を主成分とする複数の粒子が互いにバインダーで結合した多孔質層を形成する工程と、
前記多孔質層の表層部に、炭化水素の主鎖と、シリル基と、炭素の鎖長が4以上8以下のパーフルオロアルキル基と、を有し、前記シリル基と前記パーフルオロアルキル基の比が1:10から1:30の範囲にあるポリマーを設ける工程と、
を有し、
前記表層部の一部を、前記ポリマーから露出させることを特徴とする光学部材の製造方法。 - 前記ポリマーを設ける工程が、前記ポリマーの濃度が0.04質量%以上0.1質量%以下の溶液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項19に記載の光学部材の製造方法。
- 前記多孔質層を形成する工程が、溶媒に粒子を分散した液を塗布した後に、バインダー成分を含む溶液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項19または20に記載の光学部材の製造方法。
- 前記多孔質層を形成する工程が、粒子とバインダー成分の両方を含む分散液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項19または20に記載の光学部材の製造方法。
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US20050008775A1 (en) | 2003-07-07 | 2005-01-13 | Minebea Co., Ltd. | Method of forming dielectric optical thin film |
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