JP2012189260A - 親水性化合物薄膜を有する放熱ユニットおよび親水性化合物薄膜沈積方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャンバ11を有し、チャンバ11内に設けられた蒸発部111と、チャンバ11内において、該チャンバ11の高さ方向Zにおいて蒸発部111の反対側に設けられた凝縮部112と、チャンバ111内において、高さ方向Zにおける蒸発部111と凝縮部112との間に設けられた連接部113と、蒸発部111と、凝縮部112と、連接部113およびチャンバ111の表面に付着している親水性化合物薄膜と、を具備することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
ヒートパイプは、銅またはアルミ材料から製造され、チャンバを有する。毛細管構造が表面に形成され、チャンバに作動液体が注入され、真空にされてから、一方の端部に形成された開口が閉鎖されると、密閉された真空チャンバが形成される。
尚、ヒートパイプでよく見られる構造としては、パイプ状および扁平状が挙げられる。ここで、ヒートパイプにおいて、熱エネルギーを伝導するのに大きな影響を与えるのがヒートパイプ内の毛細管構造である。
特に、扁平状ヒートパイプの場合には、大きな毛細管力および小さい水流抵抗が求められる。しかしながら、この求められる二つの要素は、構造上正反対のものであるため、材料の特性により表面改質をするしかない。最も多いのは、毛細管構造にぬれ性(Wettability)を持たせることにより、毛細管力を増加させる方法である。ぬれ性を持たせる最も効果的な方法は、エッチングによりナノ構造を作ることである。
親水性薄膜層は、ナノサイズ酸化チタン、ナノサイズ酸化亜鉛、ナノサイズ酸化アルミニウムまたはそれらの化合物を含み、厚さが10〜200ナノメートルの範囲に規定されているが、20〜50ナノメートルが最も好適であると規定している。
また、本発明の一態様における親水性化合物薄膜沈積方法は、導流構造を有するチャンバを具備する放熱ユニットを用意する工程と、前記放熱ユニットのチャンバおよび前記導流構造の表面に、親水性化合物薄膜を形成する工程と、具備することを特徴とする。
具体的には、放熱ユニットのチャンバおよび導流構造の表面に少なくとも一つの親水性化合物薄膜を沈積させて作動液体をチャンバ内でスムーズに流動させることにより、放熱効率を向上させることができる。
図1〜3を参照する。図1は、本発明の第1実施形態による親水性化合物薄膜を有する放熱ユニットを示す分解斜視図、図2は、図1の放熱ユニットを組み立てた斜視図、図3は、図1の放熱ユニットの断面図である。
図2に示すように、放熱ユニット1は、金属本体1aから構成されたチャンバ11を具備している。また、図1〜図3に示すように、チャンバ11は、蒸発部111と、凝縮部112と、連接部113と、親水性化合物薄膜4とを有する。
第1の流道1111bは、少なくとも一方の端部が開口されており、蒸発部111に設けられた第1の導流部1111の自由区1111cに連通している。尚、複数の第1の導流体1111aは、横方向Yに直交する他方向である縦方向Xに沿って長く延伸して連続的にレール状に形成されており、それぞれ突起状を有している。
第2の導流部1121には、複数の第2の導流体1121aが横方向Yに間隔をあけて配列されている。複数の第2の導流体1121aは、該第2の導流体1121a間に、第2の流道1121bが形成されている。尚、第2の導流体1121aは、縦方向Xに沿って長く延伸して連続的にレール状に形成されており、それぞれ突起状を有している。
図4および図5を参照する。図4は、本発明の第2実施形態による親水性化合物薄膜を有する放熱ユニットの蒸発部を示す平面図、図5は、本発明の第2実施形態による親水性化合物薄膜を有する放熱ユニットの凝縮部を示す平面図である。
尚、第2実施形態の放熱ユニットの構成は、第1実施形態の放熱ユニットの構成とほとんど同じであるため、異なる部分のみを説明する。
図4および図5に示すように、本実施の形態においては、複数の第1の導流体1111aおよび複数の第2の導流体1121aは、縦方向Xにおいて、不連続に複数の間隔Sを有するように配列されている。
図6および図7を参照する。図6は、本発明の第3実施形態による親水性化合物薄膜を有する放熱ユニットの蒸発部を示す平面図、図7は、本発明の第3実施形態による親水性化合物薄膜を有する放熱ユニットの凝縮部を示す平面図である。
尚、第3の実施形態の放熱ユニットの構成は、第1および第2の実施形態の放熱ユニットとほとんど同様であるため、異なる部分のみを説明する。
図6および図7に示すように、第1の導流部1111および第2の導流部1121は、ともに横方向Yにおいて、複数の第1の導流体1111a間、複数の第2の導流体1121a間に複数の凹部115を有する。
尚、凹部115は、平面視した形状が円形、四角形、三角形、鱗状または幾何学模様のどれか一つである。本実施形態では、鱗状を例に挙げて示しているが、これに限定されるものではない。
図8〜図10に示すように、放熱ユニットの親水性化合物薄膜沈積方法は、ステップS1およびステップS2を含む。
ゾル・ゲル法は、ディップコート法、沈降法、スピンコート法、塗布法、ウエットコーティング法のいずれか一つである。
本実施形態ではディップコート法を用いて親水性化合物薄膜4を形成する例を挙げるが、これに限定されるものではない。よって、図9に示すように、蒸着により親水性化合物薄膜4を形成しても良い。
まず、図10に示すように、酸化アルミニウム(Al2O3)の顆粒を水溶液5中に浸し、水溶液5および酸化アルミニウムの顆粒を水槽6内に注入して均等に分散するように撹拌する。
その後、放熱ユニット1のチャンバ11における導流構造11aとなる部位を水槽6の水溶液5中に浸してから、放熱ユニット1を静かに水槽6の水溶液5中に浸し、最後に放熱ユニット1を水槽6の水溶液5から取り出すか、水溶液5を水槽6から排出すれば、図10のように、酸化アルミニウムの顆粒を導流構造11aの表面にコーティングすることができる。即ち、親水性化合物薄膜4を表面にコーティングすることができる。
以上から、水溶液5中に放熱ユニット1を浸漬させるのみの簡単な工程により、親水性化合物薄膜4を低コストにて容易に形成することができる。
本発明では好適な実施形態を前述の通りに開示したが、これらは決して本発明を限定するものではなく、当該技術を熟知する者は誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変更や修正を加えることができる。従って、本発明の保護の範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
1a…金属本体
2…作動液体
4…親水性化合物薄膜
5…水溶液
6…水槽
11…チャンバ
11a…導流構造
111…蒸発部
112…凝縮部
113…連接部
115…凹部
1111…第1の導流部
1111a…第1の導流体
1111b…第1の流道
1111c…自由区
1121…第2の導流部
1121a…第2の導流体
1121b…第2の流道
1131…第1の連通孔
1132…第2の連通孔
S…間隔
X…縦方向(他方向)
Y…横方向(一方向)
Z…高さ方向
Claims (16)
- 金属本体から構成されたチャンバを有し、
前記チャンバ内に設けられた、複数の第1の導流体が一方向に間隔をあけて配列されるとともに自由区が設けられた第1の導流部を有するとともに、前記一方向における前記複数の第1の導流体間に、少なくとも一方の端部の開口が前記自由区に連通する第1の流道が形成された蒸発部と、
前記チャンバ内において、該チャンバの高さ方向において前記蒸発部の反対側に設けられた、複数の第2の導流体が前記一方向に間隔をあけて配列された第2の導流部を有するとともに、前記一方向における複数の前記第2の導流体間に第2の流道が形成された凝縮部と、
前記チャンバ内において、前記高さ方向における前記蒸発部と前記凝縮部との間に設けられた、少なくとも一つの第1の連通孔と第2の連通孔とを有するとともに、前記第1の連通孔と前記第2の連通孔とが、前記第1の流道及び前記第2の流道に連通することによって、導流構造を構成する連接部と、
前記蒸発部と、前記凝縮部と、前記連接部および前記チャンバの表面に付着している親水性化合物薄膜と、
を具備することを特徴とする親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。 - 前記放熱ユニットは、均温板または扁平状ヒートパイプのどちらか一つであることを特徴とする請求項1に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記親水性化合物薄膜は、酸化物であることを特徴とする請求項1または2に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記親水性化合物薄膜は、硫化物であることを特徴とする請求項1または2に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記酸化物は、酸化シリコン(SiO2)、酸化チタン(TiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)、ジルコニア(ZrO2)、酸化カルシウム(CaO)、酸化カリウム(K2O)および酸化亜鉛(ZnO)からなるグループから選択されることを特徴とする請求項3に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記金属本体は、銅、アルミニウム、亜鉛およびステンレスのいずれか1つであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記複数の第1の導流体は、前記一方向に直交する他方向に長く延伸した突起状を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記複数の第1の導流体は、前記一方向に直交する他方向において、間隔をあけて不連続に配列されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記複数の第2の導流体は、前記一方向に直交する他方向に長く延伸した突起状を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記複数の第2の導流体は、前記一方向に直交する他方向において、間隔をあけて不連続に配列されていることを特徴とする請求項1〜6、8のいずれか1項に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 前記第1の導流部は、前記複数の第1の導流体間に、複数の凹部を有し、
前記第2の導流部は、前記複数の第2の導流体間に、複数の凹部を有することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。 - 前記凹部は、平面視した形状が円形、四角形、三角形、鱗状または幾何学模様のどれか一つであることを特徴とする請求項11に記載の親水性化合物薄膜を有する放熱ユニット。
- 導流構造を有するチャンバを具備する放熱ユニットを用意する工程と、
前記放熱ユニットのチャンバおよび前記導流構造の表面に、親水性化合物薄膜を形成する工程と、
具備することを特徴とする放熱ユニットの親水性化合物薄膜沈積方法。 - 前記放熱ユニットは、均温板または扁平状ヒートパイプのどちらか一つであることを特徴とする請求項13に記載の放熱ユニットの親水性化合物薄膜沈積方法。
- 前記親水性化合物薄膜を形成する工程は、物理蒸着法(PVD)、化学蒸着法(CVD)およびゾル・ゲル法のいずれか1つであることを特徴とする請求項13または14に記載の放熱ユニットの親水性化合物薄膜沈積方法。
- 前記ゾル・ゲル法は、ディップコート法、沈降法、スピンコート法、塗布法、ウエットコーティング法のいずれか一つであることを特徴とする請求項15に記載の放熱ユニットの親水性化合物薄膜沈積方法。
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