JP7452416B2 - 積層フィルム - Google Patents
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Description
1. 基材フィルム上に直接又は他の層を介してコーティング層が積層された積層フィルムであって、前記コーティング層が積層フィルムの少なくとも一方の面の最外層であり、前記コーティング層が、一次粒子平均径10nm以上300nm以下の疎水性酸化物粒子を固形分の含有量として30質量%以上100質量%以下含有する積層フィルム。
2. 疎水性酸化物粒子が、疎水性シリカである上記第1に記載の積層フィルム。
3. コーティング層中の疎水性酸化物粒子の固形分の含有量が、50~100質量%である上記第1または第2に記載の積層フィルム。
4. コーティング層中にシロキサン系無機高分子を含有する上記第1~第3のいずれかに記載の積層フィルム。
5. コーティング層の表面において測定したジヨードメタンに対する接触角が、60度以上である上記第1~第4のいずれかに記載の積層フィルム。
6. ヘイズが20%以下である請求項1~5のいずれかに記載の積層フィルム。
本発明における積層フィルムは、基材フィルムを有する。この基材フィルムの材質は特に限定されないが、可撓性など取り扱い性の観点から樹脂フィルムであることが好ましい。樹脂フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンやジエン系ポリマーなどのポリオレフィン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ナイロン6、ナイロン6,6、ナイロン6、10、ナイロン12などのポリアミド類、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸エステル類、ポリメチルアクリレート、ポリアクリル酸エステル類などのアクリレート系樹脂、ポリアクリル酸系樹脂、ポリメタクリル酸系樹脂、ポリウレタン系樹脂、酢酸セルロース、エチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリアリレート、アラミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズオキサゾール、ポリベンズチアゾールなどの芳香族系炭化水素系ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオリドなどのフッ素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂、ベンゾオキサジン樹脂などが挙げられる。また、前記のような樹脂の構成ユニットの一部を他の構成ユニットに置き換えた共重合物であってもよい。これらのうち、透明性と寸法安定性の観点から、ポリエステル樹脂やアクリレート樹脂からなるフィルムであることが好ましい。ポリエステル樹脂としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが挙げられる。これらのうち、物性とコストのバランスという観点から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。
本発明における積層フィルムのコーティング層は、疎水性酸化物粒子を含有する。この疎水性酸化物粒子は、疎水性を有するものであれば特に限定されず、例えば、親水性酸化物粒子を表面処理によって疎水化したものであっても良い。すなわち、親水性酸化物粒子に対してシランカップリング剤などの任意の試薬で表面処理を行い、その表面を疎水化したものを用いることができる。
本発明において、「疎水性酸化物粒子」と記載しているのは、通常は「疎水性金属酸化物粒子」と記載することもできると思われる。しかし、例えば、下記のシリカについては、「金属酸化物」に含まれるかどうかについて解釈が種々あるため、単に「酸化物」とだけ記載している。本発明における酸化物粒子は、湿式法、乾式法など公知の方法で合成されたものを用いることができる。これらのうち、ゾル‐ゲル法は、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナなどの酸化物粒子の製造方法の一つとして知られる。この製造方法では、酸性触媒または塩基性触媒の存在下、水を含有する有機溶媒中で、金属アルコキシドの加水分解反応および重縮合によって酸化物粒子が得られる。ゾル‐ゲル法は、球状かつ粒径が比較的揃った微細な酸化物粒子が得られることから好ましい。例えば、ゾル‐ゲル法によるシリカ粒子の合成は、非特許文献1や非特許文献2に記載されている精密に制御された方法で合成することができる。これら文献の方法では金属アルコキシドを水を含有する有機溶剤に滴下する長時間を要するプロセスが必要なく、金属アルコキシドと水を一度に混合するため、より簡易なプロセス、実験装置で酸化物粒子を合成することができる。
Controlled Growth of Monodisperse Silica
Spheres in the Micron Size Range.(1968)Journal of Colloid and Interface Science,26,62-69.
Influence of the initial chemical conditions on the rational design of silica particles.(2018) Journal of Sol-Gel Science and Technology,88,430-441.
酸化物粒子の合成に使用する触媒は、ゾル‐ゲル法に使用される公知の触媒を使用することができ、酸性触媒、塩基性触媒のいずれを用いても良い。これらのうち、粒子径の揃った球状の粒子を得ることが容易であるという観点から、塩基性触媒を用いることが好ましい。ただし、ゾル‐ゲル法においては、まず酸性触媒存在下で予備的に加水分解を行った後に粒子成長を実施することもあるが、本発明においては、この予備的な加水分解時に酸性触媒を用いる可能性を排除するものではなく、粒子成長時に塩基性触媒を用いる方法であれば良い。本発明において用いられる塩基性触媒としては、例えば、アミン化合物、水酸化アルカリ金属などを挙げることができる。特に、目的とする酸化物粒子を構成する金属元素以外の金属を含有する不純物量が少なく、高純度の酸化物粒子が得られるという観点から、アミン化合物を用いることが好ましい。このようなアミン化合物としては、例えば、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンなどを挙げることができる。これらのうち、揮発性が高く、合成後に除去しやすいという観点から、アンモニアを使用することがより好ましい。なお、上記の塩基性触媒は、単独で使用しても良く、二種類以上を使用しても良い。上記の塩基性触媒は、工業的に入手可能なものを市販されている形態のまま使用しても良く、例えばアンモニア水などのように、水や有機溶媒で希釈されているものを用いても良い。特に、反応の進行速度を制御しやすいことから、塩基性触媒を水に希釈して、必要に応じて濃度調整した水溶液を用いることがより好ましい。塩基性触媒として水溶液を使用する場合の濃度は、工業的に入手が容易であること、濃度調整が容易であるなどの観点から、1~30質量%の範囲とすることが好ましい。塩基性触媒の使用割合は、金属アルコキシドの加水分解および重縮合反応の反応速度などを考慮して適宜選択することができる。
本発明において、上記金属アルコキシドの加水分解および重縮合反応に使用される溶媒としては、ゾル‐ゲル法で用いられる任意の極性溶媒を用いることができ、水または水を任意の割合で溶解することができる有機溶媒であれば良い。水以外の有機溶媒を二種類以上混合して使用しても良く、この場合には混合後の有機溶媒が上記の要件を満たせば良い。水以外の極性溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどのアミド類などを挙げることができる。アルコールは、ゾル‐ゲル法の反応において副生するものであるので、上記の有機溶媒のうち、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール類を使用することが、反応後の分散液中への不純物が入る可能性を抑制できる観点から、より好ましい。
金属アルコキシドと塩基性触媒の混合時間は、短すぎると粒径分布幅が広くなる傾向にあり、長すぎると安定した粒子成長ができない傾向にある。反応温度は、ゾル‐ゲル法の反応が速やかに進行する温度であれば特に限定されず、目的とする酸化物粒子の粒径に応じて適宜選択することができる。一般的に、反応温度が低いほど得られる酸化物粒子の粒径が大きくなる傾向がある。また、ゾル‐ゲル法の反応を確実に進行させるために、金属アルコキシドおよび塩基性触媒の滴下が終了した後、熟成工程を経ても良い。ここでの熟成工程とは、次の表面修飾処理剤の添加まで、しばらく時間を置くことを意味する。この場合、熟成温度としては反応温度と同程度の温度とすることが好ましい。また、所望の粒径の酸化物粒子を得るために、熟成後にさらに金属アルコキシドおよび塩基性触媒を添加して酸化物粒子の粒径を成長させるなどの手法を用いることもできる。
本発明においては、前述の方法で得られた酸化物粒子の分散液に、シリコンオイル、シランカップリング剤およびシラザンよりなる群から選ばれる少なくとも1種類以上の表面処理剤を添加することにより、前記酸化物粒子の表面処理を行う。シリコンオイルとしては、通常、酸化物粒子の表面処理に用いられる公知のシリコンオイルを特に制限なく使用することが可能である。具体的には、ジメチルシリコンオイル、メチルフェニルシリコンオイル、メチルハイドロジェンシリコンオイル、アルキル変性シリコンオイル、アミノ変性シリコンオイル、エポキシ変性シリコンオイル、カルボキシル変性シリコンオイル、カルビノール変性シリコンオイル、メタクリル変性シリコンオイル、ポリエーテル変性シリコンオイル、フッ素系シリコンオイルなどを、適宜選択して使用すれば良い。
Surface chemistry and trimethylsilyl functionalization of Stober silica sols.(20
03) Journal of Non-Crystalline Solids,316,349-363.
本発明におけるコーティング層には、上記疎水性酸化物粒子以外の成分を含んでいても良い。具体的には、バインダー成分、酸化防止剤、耐光剤、ゲル化防止剤、有機湿潤剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、界面活性剤などが挙げられ、これらの成分を必要に応じて適宜含有させることができる。
本発明においては、基材フィルム上に直接又は他の層を介してコーティング層を積層することにより、積層フィルムを得る。このコーティング層を形成するためのコーティング液は、前述の方法で作製した疎水性酸化物粒子の分散液をそのまま用いることもできるが、バインダー成分など、前記のコーティング層を形成する各種成分や、適当な溶媒を単独または複数種類含んでいても良い。
本発明の積層フィルムの製造において、コーティングの方法は特に制限されない。例えば、ロールコーティング、グラビアコーティング、バーコート、ドクターブレードコート、スピンコート、スプレーコート、刷毛塗工などの公知の方法に従って作製することができる。これらの方法でコーティングを行う際に使用する溶媒は特に限定されず、例えば、水、アルコール類、ケトン類、ノルマルヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、酢酸ブチル、グリコール類などの有機溶媒を適宜選択して使用することができる。これらの溶媒は単独で用いても良く、複数を混合して用いても良い。溶媒に対する疎水性酸化物粒子の分散量は、均一な分散液が得られる任意の割合で選択することができる。コーティング後に乾燥する方法は、自然乾燥または加熱乾燥のいずれであっても良いが、工業的な製造という観点からは、加熱乾燥がより好ましい。乾燥温度は、基材フィルムやコーティング層の含有成分に影響を与えない範囲であれば特に限定されないが、通常は200°C以下が好ましく、50°C以上160°C以下がより好ましい。乾燥方法は特に限定されず、ホットプレートや熱風オーブン等、フィルムを乾燥させる公知の方法を用いることができる。乾燥時間については、乾燥温度等の他の条件により適宜選択されるが、基材フィルムやコーティング層の含有成分に影響を与えない範囲であれば良い。
本発明による積層フィルムの撥水・撥油性は公知の方法で評価することができる。具体的には、撥水性は水を用いた接触角測定により評価することができ、また撥油性はジヨードメタンを用いた接触角測定により評価することができる。本発明における好ましい水の接触角の範囲は90度以上、より好ましくは120度以上である。水の接触角が90度以上であると優れた撥水性を示すことから好ましく、120度以上であると、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)に代表される従来のフッ素系樹脂シートと同等以上の撥水性を示すことからより好ましい。また、本発明における好ましいジヨードメタンの接触角の範囲は60度以上、より好ましくは90度以上である。ジヨードメタンの接触角が60度以上であると、油汚れ等を抑制することができる撥油性を付与できる観点から好ましく、90度以上であると、従来のフッ素系樹脂シートと同等以上の撥油性を示すことからより好ましい。水の接触角、ジヨードメタンの接触角はともに大きいほどよいと言え、上限は特に設けない。通常、最も好ましい状態は、液滴がコーティング層上に付着せず、接触角を明瞭に示すことができないほどに接触角が大きい状態であると言える。
本発明の積層フィルムは透明性が高いほうが好ましく、フィルムヘイズは20%以下であることが好ましい。より好ましくは15%以下であり、さらに好ましくは10%以下である。フィルムヘイズが20%以下であると、透明性や内容物の審美性が必要とされる用途にも展開できることから好ましい。
作製したフィルムについて、溶剤に対する接触角を測定した。接触角測定には、協和界面科学株式会社製の全自動接触角計DM-701を用いた。測定溶剤には純水とジヨードメタンを用いた。水の接触角(WCAと省略)は水滴を1.8μL滴下し、60秒後に測定した。ジヨードメタンの接触角(DCAと省略)はジヨードメタンの液滴を0.9μL滴下し、30秒後に測定した。
フィルムのヘイズは、日本電色工業株式会社製のNDH-5000を用いて測定した。
疎水性酸化物粒子の一次粒子平均径は、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡による観察して測定した。これらの顕微鏡観察において任意に選んだ20個分の粒子の直径の平均を一次粒子平均径とした。不定形の粒子の一次粒子平均径は円相当径として計算することができる。円相当径は、観察された粒子の面積をπで除し、平方根を算出し2倍した値である。
疎水性シリカナノ粒子分散液を清浄なアルミホイル上に滴下、乾燥させ、アルミホイル上に疎水性シリカナノ粒子薄膜を形成させた。この時、極力表面汚染が生じないよう速やかに乾燥させ、直ちにサンプリングして表面組成分析に供した。
装置にはK-Alpha+(Thermo Fisher Scientific社製)を用いた。測定条件の詳細は以下に示した。なお、解析の際、バックグラウンドの除去はshirley法にて行った。また、表面組成比は、基材のAlが検出されない部位3箇所以上の測定結果の平均値とした。
・測定条件
励起X線 : モノクロ化AlKα線
X線出力: 12kV、6mA
光電子脱出角度 : 90度
スポットサイズ : 400μmΦ
パスエネルギー : 50eV
ステップ : 0.1eV
〔疎水性シリカ粒子分散液〕
一次平均粒子径35nmの単分散シリカ粒子を1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)を用いて表面処理することにより、トリメチルシリル基を導入し、表面を修飾して、均一に分散した疎水性シリカ粒子分散液を得た。以下、このシリカをシリカAと称する。シリカAの一次粒子平均径は50nmであった。
このシリカA分散液をコルコート(登録商標)PX(コルコート社製)と混合してコート液を作製した。混合比は、コルコート(登録商標)PX:シリカ=1:2(固形分の質量比)となるように作製した。このコート液を、ポリエチレンテレフタレート(PETと省略)製のフィルムである東洋紡エステル(登録商標)フィルム(品番:E5100、厚み:75μm)のコロナ処理面に、バーコーター#6を用いてバーコート方式で塗布した後、130℃で1分間乾燥させることにより、コーティングフィルムを得た。
実施例1において、コーティング液のシリカとコルコート(登録商標)PXの混合比をコルコート(登録商標)PX:シリカ=1:64となるように作製した以外は、実施例1と同様にしてコーティングフィルムを得た。
比較例1として、コーティングをしていないPETフィルムE5100を用いた。接触角測定にはコロナ処理面を用いた。
PETフィルムE5100のコロナ処理面に、コルコート(登録商標)PXをバーコーター#6を用いてバーコート方式で塗布した後、130℃で1分間乾燥させることにより、コーティングフィルムを得た。
疎水性シリカとして、表面にトリメチルシリル基を有する、市販のAEROSIL(登録商標)R812S(エボニック社製、一次粒子平均径7nm)を用いた。以下、このシリカをシリカBと称する。シリカBを、固形分濃度が6質量%となるようにエタノール中に撹拌・分散させ、分散液を得た。このシリカB分散液を用いた以外は、実施例1と同様にコーティング液を作製し、コーティングフィルムを得た。
2 : 疎水性酸化物粒子とバインダー成分からなるコーティング層
3 : 疎水性酸化物粒子
4 : 疎水性酸化物粒子を含まない任意の樹脂層
Claims (4)
- 基材フィルム上に直接又は他の層を介してコーティング層が積層された積層フィルムであって、前記コーティング層が積層フィルムの少なくとも一方の面の最外層であり、前記コーティング層中にシロキサン系無機高分子を含有し、前記コーティング層が、一次粒子平均径10nm以上300nm以下の疎水性酸化物粒子を固形分の含有量として30質量%以上100質量%以下含有し、前記疎水性酸化物粒子が、表面にトリメチルシリル基を導入した疎水性シリカであり、前記疎水性酸化物粒子のX線光電子分光装置(ESCA)による10nm深さ領域の炭素原子の比率が12at%以上である積層フィルム。
- コーティング層中の疎水性酸化物粒子の固形分の含有量が、50~100質量%である請求項1に記載の積層フィルム。
- コーティング層の表面において測定したジヨードメタンに対する接触角が、60度以上である請求項1または2に記載の積層フィルム。
- ヘイズが20%以下である請求項1~3のいずれかに記載の積層フィルム。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000290535A (ja) | 1999-04-05 | 2000-10-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 活性エネルギー線硬化性被覆組成物 |
JP2001013303A (ja) | 1999-06-30 | 2001-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック基材フィルム用ハードコート膜、ホログラム及び回折格子シート |
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JP2009161579A (ja) | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Car Mate Mfg Co Ltd | コーティング組成物 |
WO2017159854A1 (ja) | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 被膜形成用組成物及びその製造方法、並びに被膜 |
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Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6013724A (en) * | 1997-03-05 | 2000-01-11 | Nippon Paint Co., Ltd. | Raindrop fouling-resistant paint film, coating composition, film-forming method, and coated article |
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JP4014357B2 (ja) | 2000-10-10 | 2007-11-28 | 大日本印刷株式会社 | 撥水性防汚フィルム |
JP2003139908A (ja) * | 2001-11-07 | 2003-05-14 | Lintec Corp | 光学用フィルム |
TWI388876B (zh) * | 2003-12-26 | 2013-03-11 | Fujifilm Corp | 抗反射膜、偏光板,其製造方法,液晶顯示元件,液晶顯示裝置,及影像顯示裝置 |
US7998554B2 (en) * | 2004-07-06 | 2011-08-16 | Bridgestone Corporation | Hydrophobic surfaces with nanoparticles |
US7419707B2 (en) * | 2005-02-21 | 2008-09-02 | Fujifilm Corporation | Coating composition for the formation of low refractive index layer, antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display device |
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EP2116518A1 (en) * | 2006-12-15 | 2009-11-11 | Asahi Glass Company, Limited | Articles having water-repellent surfaces |
TWI488746B (zh) * | 2009-02-13 | 2015-06-21 | Toyo Aluminium Kk | 層積體及容器 |
US8916266B2 (en) * | 2009-03-11 | 2014-12-23 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Coating composition, coating film, laminate, and process for production of laminate |
US9896549B2 (en) * | 2010-04-13 | 2018-02-20 | Aaron Kessman | Hydrophobic and oleophobic coatings |
US9260629B2 (en) * | 2010-09-02 | 2016-02-16 | United Technologies Corporation | Hydrophobic coating for coated article |
JP5814771B2 (ja) * | 2011-12-13 | 2015-11-17 | 日華化学株式会社 | 撥水性コーティング膜の製造方法、それに用いる下地膜形成用組成物及び撥水性コーティング膜を備えた機能性材料 |
JP6298767B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2018-03-20 | デンカ株式会社 | 撥水性を備えた熱可塑性樹脂シート及び成形品 |
US9644113B2 (en) * | 2014-04-25 | 2017-05-09 | Mitsubishi Materials Corporation | Composition for forming a thin layer with low refractive index, manufacturing method thereof, and manufacturing method of a thin layer with low refractive index |
JP6887225B2 (ja) * | 2015-07-10 | 2021-06-16 | 東洋アルミエコープロダクツ株式会社 | 結露抑制シート |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000290535A (ja) | 1999-04-05 | 2000-10-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 活性エネルギー線硬化性被覆組成物 |
JP2001013303A (ja) | 1999-06-30 | 2001-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック基材フィルム用ハードコート膜、ホログラム及び回折格子シート |
JP2004204131A (ja) | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Kao Corp | 撥水コーティング剤組成物 |
JP2009161579A (ja) | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Car Mate Mfg Co Ltd | コーティング組成物 |
WO2017159654A1 (ja) | 2016-03-14 | 2017-09-21 | デンカ株式会社 | 撥液性樹脂シート及びそれを用いた物品 |
WO2017159854A1 (ja) | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 被膜形成用組成物及びその製造方法、並びに被膜 |
JP2017194528A (ja) | 2016-04-19 | 2017-10-26 | 富士フイルム株式会社 | 積層フィルムおよびその製造方法、偏光板、液晶パネル、液晶表示装置ならびにタッチパネル |
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