BRPI1009429B1

BRPI1009429B1 - Composição de revestimento, película de revestimento, laminado, método para fabricar o mesmo, módulo de célula solar, dispositivo refletor, e, sistema de geração de energia térmica solar

Info

Publication number: BRPI1009429B1
Application number: BRPI1009429-6A
Authority: BR
Inventors: Hiroaki Takanohashi; Junichi Hirose; Waka Goto; Shuichiro Ogawa; Kentaro SHIRAISHI
Original assignee: Asahi Kasei E-Materials Corporation
Priority date: 2009-03-11
Filing date: 2010-03-11
Publication date: 2019-06-18
Also published as: US20120285528A1; WO2010104146A1; TWI506104B; EP2407521A4; KR20110091559A; BRPI1009429A2; CN102341467A; US20150068603A1; JPWO2010104146A1; US9630208B2; JP5669722B2; ES2547416T3; US9833811B2; US8916266B2; US20150079292A1; KR101263125B1; TW201038685A; EP2407521B1; TW201431979A; EP2407521A1

Abstract

composição de revestimento, película de revestimento, laminado, método para fabricar o mesmo, módulo de célula solar, dispositivo refletor, e, sistema de geração de energia térmica solar a presente invenção refere-se a uma composição de revestimento, uma película de revestimento, um laminado e um método para fabricar o laminado. mais especificamente, a presente invenção refere-se a uma composição de revestimento, uma película de revestimento, um laminado e um método para fabricar o laminado, e um módulo de célula solar, um dispositivo refletor e um sistema de geração de energia térmica solar usando os mesmos. provê-se uma composição de revestimento excelente em propriedades antiincrustação, transparência e hidrofilicidade e capaz de manter hidrofilicidade na superfície mesmo em temperatura elevada.

Description

“COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO, PELÍCULA DE REVESTIMENTO,

LAMINADO, MÉTODO PARA FABRICAR O MESMO, MÓDULO DE

CÉLULA SOLAR, DISPOSITIVO REFLETOR, E, SISTEMA DE * GERAÇÃO DE ENERGIA TÉRMICA SOLAR”

Campo Técnico

A presente invenção refere-se a uma composição de revestimento, uma película de revestimento, um laminado e um método para fabricar o laminado. Mais especificamente, a presente invenção refere-se a uma composição de revestimento, uma película de revestimento, um laminado e um 10 método para fabricar o laminado, e um módulo de célula solar, um dispositivo refletor e um sistema de geração de energia térmica solar usando os mesmos.

Arte Antecedente

Recentemente, a consciência ambiental tem aumentado devido a um fenômeno de aquecimento global e um novo sistema energético não 15 gerando gases estufa, como gás dióxido de carbono, tem atraído atenção. A energia reciclável ambientalmente amigável, como geração de energia fotovoltaica e geração de energia eólica, não emite gases, que são ditos como induzindo aquecimento global, como gás dióxido de carbono, e tem sido ativamente estudada como uma energia limpa. A geração de energia de célula 20 solar e de energia térmica solar tem atraído a atenção devido à excelente segurança e facilidade de controle.

Como um método de geração de energia térmica solar típico, existe um sistema central (sistema de torre central), um sistema distribuído (calha parabólica) e um sistema de disco/agitação. Nestes sistemas, a luz solar é 25 coletada por um ponto por uso de um espelho refletor e calor de luz solar coletado é convertido em energia elétrica através de conversão termoelétrica. Apesar do ponto chave deste sistema ser a coleta de luz sem perda, como o fator de eficiência variando significativamente, uma redução na refletividade causada por mancha de um espelho refletor é particularmente tratada como um problema. Além disso, uma célula solar cuja superfície receptora de luz é protegida por uma cobertura de proteção formada de vidro, uma película de resina resistente às intempéries e similares, tem um problema análogo de 5 reduzir a transmitância de luz e assim uma eficiência de conversão de energia de célula solar uma vez que a cobertura de proteção é manchada com poeira de fumaça durante uso a longo prazo.

Como uma técnica para evitar manchas na superfície, por exemplo, literatura de patente 1 descreve uma tecnologia para formar uma camada de 10 superfície por aplicação de um líquido de revestimento, que contém ácido tungstíco dissolvido em água de amônia e água destilada, sobre uma camada contendo um óxido de titânio de tipo anatase, e então cozendo a 700°C para obter uma camada formada de óxido de tungstênio. Além disso, foi feita uma tentativa para melhorar as propriedades anti-incrustação e similar por mistura 15 não somente de componente inorgânico, mas também de componente orgânico.

LISTA DE CITAÇÕES

Literatura de Patente

Literatura de patente 1: pedido de patente JP acessível ao público No. 10-114545

Sumário da Invenção

Problema Técnico

No entanto, composições de revestimento convencionais incluindo a Literatura de patente 1 ainda precisam ser aperfeiçoadas. A tecnologia descrita na Literatura de patente 1 tem um problema de fendilhar e destacar 2 5 facilmente como ocorre em uma película de revestimento no caso da película de revestimento resultante ser formada sobre a superfície de espelho refletor em larga escala e similar usada em módulo de célula solar e similar porque somente componentes inorgânicos são misturados.

Além disso, composições de revestimento contendo não somente componentes inorgânicos, mas também componentes orgânicos ainda precisam ser aperfeiçoados com relação às propriedades como propriedades antiincrustação, transparência e hidrofilicidade. Além disso, no caso em que esta 5 película de revestimento é colocada sob condições de temperatura elevada como no deserto, um problema como redução significante de propriedades antiincrustação por cultivo de um componente em fase aquosa sobre uma superfície de uma película de revestimento, e similar.

A presente invenção foi feita nas circunstâncias acima mencionadas, e um objeto da presente invenção consiste em prover uma composição de revestimento excelente em propriedades anti-incrustação, transparência e hidrofilicidade e capaz de manter hidrofilicidade na superfície mesmo em temperatura elevada.

Solução para o Problema

Os presentes inventores intensivamente conduziram estudos tendo em vista resolver os problemas acima mencionados. Como um resultado, eles verificaram que os problemas acima mencionados podem ser superados preparando uma composição de revestimento compreendendo (A) uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 20 1 nm a 400 nm e (B) uma partícula de polímero e tendo um teor predeterminado ou menor de um componente em fase aquosa, e com base na descoberta, a presente invenção foi alcançada.

Mais especificamente, a presente invenção é como a seguir:

[1]

5 Composição de revestimento compreendendo (A) uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e (B) uma partícula de polímero,

¥	em que o teor de um componente em fase aquosa no componente (B), representado pela seguinte expressão (I), é 20% em massa ou menos: 0 teor do componente em fase aquosa (%) = (massa seca de um filtrado obtido por filtração do componente (B) em um corte molecular de
5	50.000) x (100 - massa total de teor sólido)/(massa do filtrado - massa seca do filtrado) x 100/a massa total de teor sólido ---(1).
10	[2] A composição de revestimento de acordo com o item [1], em que o componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero (Bl) obtido em uma solução de material de polimerização compreendendo
	um componente (bl): um composto de silício hidrolisável, um componente (b2): um monômero de vinila, um componente (b3): um emulsificador, e
15	um componente (b4): água, por polimerização do componente (bl) e do componente (b2). [3] A composição de revestimento de acordo com o item [1] ou [2],
20	em que o teor do componente em fase aquosa é 15 % em massa ou menos. [4] A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos
25	itens [1] a [3], em que o componente (B) tem um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 800 nm. [5] A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [2] a [4], em que o componente (b2) é um monômero de vinila tendo pelo menos um grupo funcional selecionado dentre o grupo consistindo de um grupo hidróxi, um grupo carboxila, um grupo amida, um grupo amino e um grupo éter. [6]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [2] a [5], em que uma razão em massa ((b2)/(B)) do componente (b2) para o componente (B) é 0,01/1 a 1/1.

[7]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [2] a [6], em que uma razão em massa ((b2)/(A)) do componente (b2) para o componente (A) é0,01/lal/l.

[8]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [7], em que o componente (B) tem uma estrutura núcleo/envoltório compreendendo uma camada de núcleo e uma ou duas ou mais camadas de envoltório cobrindo a camada de núcleo.

[9]

A composição de revestimento de acordo com o item [8], em que 15 uma razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) na camada de núcleo é0,01/lal/l,e a razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) uma camada mais externa das camadas de envoltório é 0,01/1 a 5/1.

[10]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [2] a [9], em que o componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização da solução de material de polimerização na presença de uma partícula de semente formando a camada de núcleo, e a partícula de semente é obtida por polimerização de pelo menos um componente selecionado dentre o grupo consistindo do componente (bl), o componente (b2) e um componente (b5): outro monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2).

	[11] A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [2] a [10], em que o componente (b2) é um monômero de vinila tendo um
y	grupo amida secundário, um grupo amida terciário ou ambos destes.
5	[12] A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [11], em que uma razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) é 110/100 a 480/100. [13]
10	A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [12], ainda compreendendo um componente (C): pelo menos um composto de silício hidrolisável selecionado dentre o grupo consistindo de compostos representados pelas seguintes fórmulas (1), (2) e (3): R’„SiX₄._n(l)
15	em que R representa um átomo de hidrogênio, ou um grupo alquila, grupo alquenila, grupo alquinila ou grupo arila tendo 1 a 10 átomos de carbono e opcionalmente tendo um grupo halogênio, a grupo hidróxi, um grupo mercapto, um grupo amino, um grupo (met)acriloíla ou um grupo epóxi; X representa um grupo hidrolisável; e n é um inteiro de 0 a 3.
20	X₃Si-R² _n-SiX₃ (2) em que X representa um grupo hidrolisável; R² representa um grupo alquileno ou grupo fenileno tendo 1 a 6 átomos de carbono; e n é 0 ou 1. R³-(O-Si(OR³)₂)„-OR³ (3) em que R³ representa um grupo alquila tendo 1 a 6 átomos de
25	carbono; e n é um inteiro de 2 a 8. [14] A composição de revestimento de acordo com o item [13], em que uma razão em massa ((C)/(A)) do componente (C) para o componente (A) é

1/100 a 150/100.

[15]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [14], em que o componente (B) tem um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 100 nm.

[16]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [15], em que o componente (A) compreende, um componente (Al): sílica tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e um componente (A2): um absorvente de infravermelho tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 2000 nm;

uma razão em massa ((A1+A2)/(B)) de um teor total do componente (Al) e do componente (A2) para um teor do componente (B) é 60/100 a 1000/100; e uma razão em massa ((A2)/(A1+B)) do teor do componente (A2) para um teor total do componente (B) e do componente (Al) é 0,05/100 a 40/100.

[17]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [16], em que o componente (A) compreende um componente (Al): sílica tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e um componente (A3): um fotocatalisador tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 2000 nm;

uma razão em massa ((A1+A3)/(B)) de um teor total do componente (Al) e do componente (A3) para um teor do componente (B) é 60/100 a 480/100; e uma razão em massa ((A1)/(A1+A3)) de um teor do componente (Al) para o teor total do componente (Al) e do componente (A3) é 85/100 a

99/100.

[18]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [17] para anti-reflexo.

[19]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [17] para resistência a solvente.

[20]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [17] para uso antiestático.

[21]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [17] para resistência ao calor.

[22]

A composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [17] para revestimento duro.

[23]

Película de revestimento obtido a partir da composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [22].

[24]

Película de revestimento compreendendo (A) uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e (B) uma partícula de polímero circundada pelo componente (A), em que uma película formada de um componente (B2) tendo um corte molecular de 50.000 ou menos e extraída a partir do componente (B) por ultrafiltração tem um ângulo de contato de água de superfície de 30° ou menos.

[25]

Película de revestimento compreendendo (A) uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e (B) uma partícula de polímero circundada pelo componente (A), em que uma película formada de um componente (B2) tendo um corte molecular de 50.000 ou menos e extraída a partir do componente (B) por ultrafiltração tem um ângulo de contato de água de superfície de mais do que 30° e o teor do mesmo é 5 % em massa ou menos.

[26]

A película de revestimento de acordo com o item [24] ou [25], em que o componente (B) é uma partícula em emulsão.

[27]

A película de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [23] a [26], tendo um ângulo de contato de água de superfície a 20°C de 30° ou menos.

[28]

A película de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [23] a [27], em que a película de revestimento após um teste de temperatura elevada/umidade elevada em que a película de revestimento é deixada permanecer ainda por 24 horas sob as condições de uma temperatura de 90°C e uma umidade de 90% tem um ângulo de contato de água de superfície de 20° ou menos.

[29]

Um laminado tendo um substrato e uma película de revestimento obtido por aplicação da composição de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [22] ou a película de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [23] a [28] e formada sobre pelo menos uma das superfícies do substrato.

[30]

O laminado de acordo com o item [29], tendo uma transmitância de luz maior do que uma transmitância de luz do substrato.

[31]

O laminado de acordo com o item [29] ou [30], em que a película de revestimento tem um índice refrativo 0,1 ou mais, menor do que um índice refrativo do substrato.

[32]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [31], em que a película de revestimento tem duas ou mais camadas.

[33]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [32], em que uma camada mais externa posicionada em um lado oposto do substrato tem um índice refrativo 0,1 ou mais, menor do que um índice refrativo de uma camada adjacente à camada mais externa.

[34]

O laminado de acordo com o item [32] ou [33], em que camadas constituindo a película de revestimento têm, cada, a espessura (dn) de 10 nm a 800 nm e um espessura total ( Zdn) de uma película de revestimento é 100 nm a 4000 nm.

[35]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [34], em que o substrato tem uma transmitância de luz de 30% a 99%.

[36]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [35], em que uma razão ((Rc)/(Rb)) de uma refletividade (Rc) de uma superfície oposta ao substrato de uma película de revestimento para a refletividade (Rb) da superfície do substrato em um lado da película de revestimento é 98% ou mais.

[37]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [36], em que a diferença no índice refrativo entre a película de revestimento e o substrato é 0,2 ou menos.

[38]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [37], em 10 que a película de revestimento tem um índice refrativo de 1,30 a 1,48.

[39]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [36] a [38], em que a superfície do substrato em um lado da película de revestimento tem a refletividade (Rb) de 80% ou mais.

[40]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [39], em que o substrato compreende pelo menos uma substância selecionada dentre o grupo consistindo de vidro, uma resina acrílica, uma resina de policarbonato, uma resina de olefina cíclica, uma resina de tereftalato de polietileno e um 2 0 copolímero de etileno-fluoroetileno.

[41]

Um método para fabricar um laminado, compreendendo as etapas de:

formar uma película de revestimento por aplicação da composição 25 de revestimento de acordo com qualquer um dos itens [1] a [22] sobre pelo menos uma das superfícies de um substrato, e aplicar pelo menos um dentre um tratamento térmico a 70°C ou mais e um tratamento de pressurização a 0,1 kPa ou mais a uma película de revestimento.

[42]

O laminado de acordo com qualquer um dos itens [29] a [40], que é um membro para uso em um aparelho de conversão de energia.

[43]

O aminado de acordo com o item [42], que é um membro protetor para um módulo de célula solar.

[44]

Um módulo de célula solar compreendendo o laminado de acordo com o item [42], a folha traseira disposta de modo a ficar defronte do laminado, e um elemento de geração de energia elétrica disposto entre o laminado e a folha traseira.

[45]

O laminado de acordo com o item [42], que é um membro protetor para um espelho refletor de luz.

[46]

Um dispositivo refletor tendo um espelho refletor de luz, o laminado de acordo com o item [45] para proteger uma superfície de reflexão do espelho refletor de luz, e um suporte para suportar o espelho refletor.

[47]

Um sistema de geração de energia térmica solar compreendendo o dispositivo refletor de acordo com o item [46], e um aparelho para converter luz solar coletada pelo dispositivo refletor em energia elétrica.

Efeitos Vantajosos da Invenção

De acordo com a presente invenção, é possível prover uma composição de revestimento para formar uma película de revestimento excelente em propriedades anti-incrustação, transparência e hidrofilicidade e capaz de manter hidrofilicidade na superfície mesmo em temperatura elevada.

Breve Descrição dos Desenhos [Figura 1] Figura 1 é uma vista em seção esquemática de um laminado de acordo com um forma de realização da presente invenção.

[Figura 2] Figura 2 é uma vista em seção esquemática de módulo de célula solar de acordo com uma forma de realização da presente invenção.

[Figura 3] Figura 3 é uma vista em perspectiva esquemática de um dispositivo refletor de acordo com uma forma de realização da presente invenção.

Descrição das Formas de Realização

As formas de realização para realizar a presente invenção (aqui a seguir, simplesmente referidas como a(s) forma(s) de realização) serão mais especificamente descritas. As formas de realização abaixo são apenas ilustração para ilustrar a presente invenção. A presente invenção não deve ser limitada ao conteúdo abaixo. A presente invenção pode ser realizada por modificação apropriada da mesma dentro do seu escopo.

No relatório, (met)acrila refere-se a acrila e a correspondente metacrila; (met)acrilato refere-se a acrilato e o correspondente metacrilato; e (met) acriloíla refere-se a acriloíla e a correspondente metacriloíla.

< Composição de revestimento >

A composição de revestimento da forma de realização contém (A) uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e (B) uma partícula de polímero, em que o teor de um componente em fase aquosa no componente (B), representado pela seguinte expressão (I), é 20% em massa ou menos.

O teor do componente em fase aquosa (%) - (massa seca de um filtrado obtido por filtração do componente (B) em um corte molecular de 50.000) x (100 - massa total de teor sólido)/(massa do filtrado - massa seca do filtrado) x 100/a massa total de teor sólido *··(Ι).

Os presentes inventores verificaram que o ângulo de contato da superfície de uma película de revestimento obtida aumenta principalmente devido a um componente em fase aquosa (componente hidrofóbico) fluir para fora da película de revestimento. Com base na descoberta, eles verificaram que a hidrofilicidade da superfície de película de revestimento pode ser mantida por definição do teor do componente em fase aquosa no componente (B) de modo a cair dentro da faixa acima, assim definindo um coeficiente de distribuição em um meio aquoso. Note-se que a película de revestimento descrita na forma de realização não é necessariamente uma película contínua e pode estar na forma como uma película descontínua, uma película dispersa como ilhas e similares.

Além disso, é preferível que um ângulo de contato da superfície da película formada a partir de um componente em fase aquosa a 20°C seja 30° ou menos. Se o ângulo de contato da água de superfície da película formada a partir de um componente em fase aquosa a 20° for maior do que 30°, o teor do mesmo é preferivelmente 5 % em massa ou menos. O ângulo de contato de superfície aqui, que se refere ao ângulo entre uma película seca e uma linha tangente de uma gota d’água presente em sua superfície, pode ser medido por um método de gota. Note-se que hidrofilicidade usada na forma de realização significa que o ângulo de contato de água (23 °C) com relação à superfície do objeto a ser medido é preferivelmente 60° ou menos, mais preferivelmente 30° ou menos e ainda preferivelmente 20° ou menos.

A seguir, componentes que podem ser misturados com a composição de revestimento e uma película de revestimento serão descritos abaixo.

A composição de revestimento da forma de realização contém o componente (A): uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm. Pela presença do componente, a película de revestimento tendo transparência e hidrofilicidade elevadas pode ser obtida. Pensa-se que o componente (A) interage com o componente (B) e atua como um agente de cura para o componente (B) (no entanto, a função não é limitada a isto). Exemplos da interação podem incluir, mas não particularmente limitados a, uma ligação de hidrogênio entre um grupo funcional (por exemplo, um grupo hidróxi e similar) que o componente (A) geralmente tem e um grupo funcional (por exemplo, um grupo hidróxi, um grupo carboxila, um grupo amida, um grupo amino, um grupo éter e similar) que o componente (B) tem, uma ligação química (por exemplo, condensação) entre o grupo funcional que o componente (A) geralmente tem e o componente (B) e similar.

O tamanho de partícula do componente (A), que se refere a um tamanho médio numérico de partícula (que pode ser uma mistura de uma partícula primária e uma partícula secundária ou de uma dentre uma partícula primária e uma partícula secundária), é 1 nm a 400 nm, preferivelmente 1 nm a 100 nm, mais preferivelmente 3 nm a 80 nm e ainda preferivelmente 5 nm a 50 nm. O tamanho médio numérico de partícula do componente (A) dentro da faixa acima mencionada pode contribuir para as características ópticas e similares da película de revestimento, laminado e similares resultantes. Particularmente, por ajuste do tamanho médio numérico de partícula a 100 nm ou menos, a transmitância de luz da película de revestimento e laminado resultantes pode ser muito melhorada. Note-se que o tamanho médio numérico de partícula da forma de realização (aqui a seguir, às vezes simplesmente referido como tamanho de partícula) é medido de acordo com o método descrito nos Exemplos (descrito depois).

O óxido de metal a ser usado no componente (A) não é particularmente limitado, e um óxido de metal conhecido pode ser usado. Em vista da interação com o componente (B), pelo menos um óxido selecionado dentre o grupo consistindo de dióxido de silício, óxido de alumínio, óxido de antimônio, óxido de titânio, óxido de índio, óxido de estanho, óxido de zircônio, óxido de chumbo, óxido de ferro, silicato de cálcio, óxido de magnésio, óxido de nióbio e óxido de cério é preferível. Dentre estes, porque um grande número de grupos hidróxi de superfície está presente e interação com o componente (B) é particularmente forte, pelo menos um óxido selecionado dentre o grupo consistindo de um dióxido de silício (sílica), óxido de alumínio (alumina), óxido de antimônio e óxido complexo dentre estes é mais preferível. Porque, na formação de uma película de revestimento como descrito depois, uma fase contínua pode ser formada a partir do componente (A) tendo um número grande de grupos hidróxi na superfície, com o resultado que a densidade dos grupos hidróxi na superfície de película de revestimento aumenta e hidrofilicidade dos mesmos aumenta, os óxidos de metal acima mencionados são mais preferíveis. Os óxidos de metal do componente (A) podem ser usados sozinhos ou em combinações de dois ou mais.

Exemplos da forma do componente (A) incluem, mas não particularmente limitado a, pó, dispersão de fluido, sol e similar. A dispersão de fluido e sol refere-se ao estado onde o componente (A) é disperso em água, um solvente orgânico hidrofílico ou uma mistura de solvente dentre estes na forma de pelo menos uma dentre uma partícula primária e uma partícula secundária com uma concentração de 0,01 a 80% em massa e preferivelmente 0,1 a 50% em massa.

Exemplos do solvente orgânico hidrofílico incluem alcoóis como etileno glicol, butil celosolve, n-propanol, isopropanol, n-butanol, etanol, metanol e similar; cetonas como acetona, metil etil cetona, metil isobutil cetona e similar; éteres como tetraidrofurano, dioxano e similar; amidas como dimetilacetamida, dimetilformamida e similar; sulfóxido de dimetila;

nitrobenzeno; e um mistura de dois ou mais dos mesmos.

Dependendo das propriedades a serem adicionadas à composição de revestimento ou uma película de revestimento, um componente preferível pode ser apropriadamente selecionado como o componente (A) dentre os componentes acima mencionados e outros componentes. Exemplos das propriedades a serem adicionadas à composição de revestimento ou uma película de revestimento incluem propriedades anti-reflexo, resistência a solvente, propriedades antiestáticas, resistência ao calor, propriedades de revestimento duro, atividade de fotocatalisador e similar. Dependendo das propriedades desejadas, o componente a ser adicionado, o teor e tamanho médio numérico de partícula podem ser apropriadamente selecionados. Além disso, nos casos onde um efeito de um desempenho específico é desejavelmente melhorado, e onde uma pluralidade de desempenhos são desejavelmente adicionados à composição de revestimento, pelo menos dois tipos de óxido de metais podem ser usados em combinação. Com base neste ponto de vista, compostos típicos incluem (Al) sílica, (A2) um absorvente de infravermelho, (A3) um fotocatalisador, (A4) um óxido de metal condutivo e similar. Agora,estes compostos serão descritos abaixo.

O componente (Al) não é particularmente limitado desde que ele seja sílica (assim chamado dióxido de silício). Um processo de produção da mesma não é particularmente limitado. Por exemplo, produção pode ser feita por um método de precipitação, um método seco e similar. Em vista de manipulação, sílica coloidal é mais preferível. No caso onde o componente (Al) é sílica coloidal, um processo sol-gel pode ser usado para preparação e um produto comercialmente disponível pode ser usado. No caso onde sílica coloidal é preparada pelo processo sol-gel, referência pode ser feita a Wemer

Stober et al; J. Colloid and Interface Sei., 26,62-69 (1968), Rickey D. Badley et al; Lang muir 6, 792-801 (1990); Joumal of the Japan Society of Colour

Material, 61 [9] 488-493 (1988) e similar para a sua preparação.

sílica A coloidal é uma dispersão de sílica, que contém dióxido de silício como uma unidade fundamental, em água ou um solvente solúvel em água. O tamanho médio numérico de partícula do mesmo é preferivelmente 1 nm a 400 nm, mais preferivelmente 1 nm a 200 nm, ainda preferivelmente 1 nm a 100 nm, e ainda mais preferivelmente 5 nm a 30 nm. Por ajuste do tamanho médio numérico de partícula a 1 nm ou mais, a estabilidade em armazenamento da película de revestimento e da composição de revestimento (descrita depois) se toma mais excelente. Por ajuste do tamanho médio numérico de partícula a 100 nm ou menos, a transparência da película de revestimento é ainda melhorada. A sílica coloidal tendo um tamanho de partícula dentro da faixa acima mencionado pode ser usada no estado de uma dispersão de fluido aquoso seja ela ácida ou básica. O pH do mesmo pode ser apropriadamente selecionado dependendo da região estável da dispersão aquosa do componente (B) misturado em combinação.

Exemplos da sílica coloidal ácida usando água como um meio de dispersão incluem produtos comercialmente disponíveis como SNOWTEX (marca registrada)-O, SNOWTEX-OS e SNOWTEX-OL fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.; Adelite (marca registrada) AT-20Q fabricado por ADEKA CORPORATION; e Crebosol (marca registrada) 20H12 e Crebosol 30CAL25, fabricado por Clariant (Japan) K.K.

Exemplos da sílica coloidal básica incluem sílica estabilizada com a adição de um ion de metal alcalino, um ion amônio, uma amina ou similar. Mais especificamente, exemplos do mesmo incluem produtos comercialmente disponíveis como SNOWTEX-20, SNOWTEX-30, SNOWTEX-C,

SNOWTEX-C30, SNOWTEX-CM40, SNOWTEX-N, SNOWTEX-N30, SNOWTEX-K, SNOWTEX-XL, SNOWTEX-YL, SNOWTEX-ZL, SNOWTEX PS-M e SNOWTEX PS-L fabricados por Nissan Chemical Industries, Ltd.; Adelite AT-20, Adelite AT-30, Adelite AT-20N, Adelite AT5 30N, Adelite AT-20A, Adelite AT-30A, Adelite AT-40 e Adelite AT-50 fabricados por ADEKA CORPORATION; Crebosol 30R9, Crebosol 30R50 e Crebosol 50R50 fabricados por Clariant (Japan) K.K.; e Ledoux (marca registrada) HS-40, Ledoux HS-30, Ledoux LS e Ledoux SM-30 fabricados por Du Pont Kabushiki Kaisha.

Exemplos da sílica coloidal usando um solvente solúvel em água como um meio de dispersão incluem produtos comercialmente disponíveis como MA-ST-M (um tamanho médio numérico de partícula de 20 nm a 25 nm, disperso em metanol), IP A-ST (um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 15 nm, disperso em álcool isopropílico), EG-ST (um tamanho médio 15 numérico de partícula de 10 nm a 15 nm, disperso em etileno glicol), EG-STZL (um tamanho médio numérico de partícula de 70 nm a 100 nm, disperso em etileno glicol), NPC-ST (um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 15 nm, disperso em éter monopropílico de etileno glicol) fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.

A sílica coloidal pode ser usada sozinha ou em combinações de duas ou mais. Se o óxido de metal servindo como o componente (A) contém sílica coloidal como um componente principal, alumina, aluminato de sódio e similar podem estar contidos como um componente menor. Além disso, a sílica coloidal pode existir junto com um estabilizador como uma base inorgânica 25 (hidróxido de sódio, hidróxido de potássio, hidróxido de lítio, amônia e similar) e uma base orgânica (tetrametilamônio e similar). O componente principal aqui se refere a um componente contido em uma quantidade de 50% em massa ou mais e preferivelmente 70% em massa ou mais no óxido de metal.

O absorvente de infravermelho servindo como o componente (A2), que tem uma banda de absorção na região de infravermelho (comprimento de onda 800 nm ou mais) é uma substância orgânica, uma substância inorgânica, e um mistura das mesmas. Exemplos do absorvente de infravermelho incluem micropartículas inorgânicas e micropartículas orgânicas. Os exemplos específicos das micropartículas inorgânicas incluem micropartículas de óxido de cério ou óxido de zinco opcionalmente revestidas com sílica; micropartículas condutivas transparentes como óxido de índio dopado com estanho (ITO), óxido de estanho dopado com antimônio (ATO) e óxido de estanho dopado com flúor (FTO); micropartículas de um metal nobre como prata, ouro, platina, ródio, e paládio, e óxidos de tungstênio compósitos representado pela fórmula MxWyOz (onde, M representa pelo menos um elemento selecionado dentre o grupo consistindo de H, He, um metal alcalino, um metal alcalino-terroso, um elemento de terra rara, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi e I; W representa tungstênio; e O representa oxigênio, 0,0001 < x/y < 1,5, 1,0 < z/y < 5,0). Além destas, as micropartículas tendo absorção dentro da região ultravioleta, como óxido de zircônio, óxido de estanho, óxido de bismuto e óxido de titânio podem ser usadas sozinhas ou em combinações de duas ou mais.

Estes absorventes de infravermelho são relativamente estáveis e podem ser microparticulados e assim são preferíveis porque eles podem absorver luz na região de comprimento de onda de infravermelho enquanto suprimindo o espalhamento na região de luz visível. Dentre estes, pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo do absorvente de infravermelho revestido com ITO, ATO, óxido de cério, óxido de zinco ou sílica é mais preferível.

A micropartícula orgânica não é particularmente limitada em tipo e composição desde que ela seja um pigmento tendo um comprimento de onda de absorção máxima dentro da região de comprimento de onda de luz infravermelho próximo (800 nm a 1100 nm) e similar. Por exemplo, um pigmento à base de diimônio de absorção de luz infra-vermelho próximo é preferível. O pigmento à base de diimônio de absorção de luz infra-vermelho próximo tem uma absorbância forte de cerca de 100.000 de coeficiente de absorção molar na região de luz de infravermelho próximo de um comprimento de onda de 850 nm a 1100 nm e uma absorbância fraca na região de luz visível de 400 nm a 500 nm em comprimento de onda. Assim, a luz transmitida é amarelo-marrom. No entanto, porque a transmitância de luz visível do pigmento é superior à de outros pigmentos absorvendo luz no infravermelho próximo, o pigmento à base de diimônio de absorção de luz infra-vermelho próximo é preferível a fim de obter uma elevada transmitância dentro da faixa de luz visível. Um ou mais pigmentos selecionados dentre o grupo consistindo de um pigmento de ftalocianina, um pigmento complexo de metal orgânico e um pigmento de cianina, que têm uma absorção máxima no comprimento de onda de 750 nm a 950 nm e nenhuma absorção dentro da faixa de luz visível, pode ser usado sozinho ou em combinações de dois ou mais. Além disso, um polímero condutivo representado por polianilina, polipirrol, politiofeno, ácido polivinil sulfônico e similar pode ser usado.

A fim de prover uma película de revestimento com propriedades isolantes térmicas, pigmentos colorantes podem ser usados como o componente (A2) sozinho ou em combinação. Neste caso, o pigmento colorante preferivelmente tem uma refletância solar, por exemplo, definida em JIS A5759-1998, de 13% ou mais. Os exemplos específicos do mesmo incluem pigmentos branco como branco de titânio e um pigmento de óxido de zinco; pigmentos vermelho como um pigmento de óxido de ferro e um pigmento quinacridon; pigmentos amarelos como um pigmento de óxido de ferro, um pigmento de hidróxido de ferro, um pigmento de cromato de chumbo e um pigmento azo; pigmentos azul como azul ftalocianina e um pigmento de óxido complexo; e pigmentos verde como pigmento de verde de cromo e verde de ftalocianina.

Um absorvente de infravermelho idealmente não tem absorção na região de comprimento de onda infravermelho de luz solar, particularmente, uma região de comprimento de onda correspondendo a uma banda de absorção de silício, e preferivelmente tem uma refletividade média de 25% ou menos dentro de uma região visível de luz ultravioleta de 300 nm a 780 nm em comprimento de onda e uma refletividade média de 15% ou mais dentro de uma região de luz infravermelha de 780 nm a 2500 nm em comprimento de onda.

No caso onde o componente (A2) está contido, uma absorbância de 0,1% ou mais é preferivelmente obtida na região de comprimento de onda de 1000 nm a 2500 nm. Na região de comprimento de onda de 1000 nm a 2500 nm, onde luz infravermelha pode ser eficientemente convertida em calor, a absorbância é preferivelmente 0,1% ou mais, e mais preferivelmente 10% ou mais. No entanto, porque a região de comprimento de onda se sobrepõe com uma região de absorção de silício, a quantidade de adição pode ser controlada dependendo da capacidade de absorção de um absorvente de infravermelho.

O tamanho de partícula é controlado de modo a não espalhar a luz dentro da faixa de comprimento de onda de absorção de silício por espalhamento das partículas. Deste modo, um aumento de temperatura pode ser efetivamente suprimido sem afetar o desempenho de geração de energia de célula solar. Em vista disto, o tamanho médio numérico de partícula é preferivelmente 10 nm a 2000 nm, mais preferivelmente 10 nm a 1500 nm e ainda preferivelmente 10 nm a 1000 nm. O tamanho médio numérico de partícula de 10 nm ou mais permite a manutenção de estabilidade de dispersão.

O tamanho médio numérico de partícula de 2000 nm ou menos suprime o aumento da intensidade da luz espalhada e redução da eficiência de geração de energia de uma célula solar, mesmo se a quantidade de adição de componente (A2) for grande.

Geralmente, porque estes absorventes de infravermelho tendem a ser menos dispersos em um solvente aquoso, um absorvente de infravermelho (A2) cuja superfície é uniformemente ou não uniformemente revestida com sílica usada como o componente (Al) é preferível. Isto permite a estabilidade da mistura com o componente (Al), a resistência às intempéries do absorvente de infravermelho (A2) e similar devendo ser ainda melhorada. Um método para revestir o absorvente de infravermelho (A2) com sílica (Al) não é particularmente limitado e um método conhecido é empregado. Por exemplo, o absorvente de infravermelho é disperso em água e submetido a um tratamento de dispersão realizado por um homogenizador em alta pressão, e a seguir tetraetóxi silano, água, vidro e similares são adicionados com agitação e enquanto controlando apropriadamente o pH simultaneamente controlando a temperatura para obter um absorvente de infravermelho revestido com sílica.

Exemplos da forma do componente (A2) incluem, mas não particularmente limitados a, pó, dispersão de fluido, sol e similar. A dispersão de fluido e sol aqui se referem a um estado onde o componente (A2) é disperso em água e/ou a solvente orgânico hidrofílico na concentração de 0,01 a 80% em massa e preferivelmente 0,1 a 50% em massa na forma de uma partícula primária e/ou partícula secundária.

O tamanho médio numérico de partícula do componente (A2) observado na dispersão de fluido ou sol por contribuir para as características ópticas da película de revestimento resultante e similar. Particularmente, se o tamanho médio numérico de partícula é 100 nm ou menos, a transparência da película de revestimento resultante pode ser significativamente melhorada.

O fotocatalisador servindo como o componente (A3) refere-se a um composto (aqui a seguir, às vezes simplesmente referido como fotocatalisador) exibindo pelo menos uma dentre atividade de fotocatalisador e hidrofilicidade por irradiação de luz. Se um composto mostra atividade de 5 fotocatalisador por irradiação de luz, a superfície da película de revestimento resultante é excelente em atividade (degradabilidade da substância orgânica) de decompor uma substância orgânica contaminante e resistência a incrustações.

Exemplos do fotocatalisador incluem TiO₂, ZnO, SrTiO₃, BaTiO₃, BaTiO4, BaTi₄O9, K₂NbO₃, Nb₂O5, Fe₂O₃, Ta₂Os, K₃Ta₃Si₂O₃, WO₃, SnO₂, 10 Bi₂O₃, BíVO₄, NiO, Cu₂O, RuO₂, CeO₂, e ainda, um óxido em folha tendo pelo menos um elemento selecionado dentre o grupo consistindo de Ti, Nb, Ta e V (ver, por exemplo, pedido de patente JP acessível ao público No. 62-74452, pedido de patente JP acessível ao público No. 2-172535, pedido de patente JP acessível ao público No. 7-24329, pedido de patente JP acessível ao público No. 15 8-89799, pedido de patente JP acessível ao público No. 8-89800, pedido de patente JP acessível ao público No. 8-89804, pedido de patente JP acessível ao público No. 8-198061, pedido de patente JP acessível ao público No. 9-248465, pedido de patente JP acessível ao público No. 10-99694 e pedido de patente JP acessível ao público No. 10-244165). Dentre estes fotocatalisadores, TiO₂20 (óxido de titânio) é preferível porque ele não é tóxico e é excelente em estabilidade química. O óxido de titânio com uma estrutura anatase, uma estrutura rutílio ou estrutura brookita pode ser usado.

Em vista de exibir as propriedades antiestáticas da composição de revestimento resultante e similar, um óxido de metal condutivo pode ser usado 25 como o componente (A4). Exemplos de tal óxido de metal condutivo incluem óxido de índio (ITO) dopado com estanho, óxido de estanho (ATO) dopado com antimônio, óxido de estanho, óxido de zinco e similar. Além disso, em vista da interação com o componente (B), por exemplo, óxido de alumínio, óxido de antimônio, óxido de índio, óxido de estanho, óxido de zircônio, óxido de chumbo, óxido de ferro, silicato de cálcio, óxido de magnésio, óxido de nióbio e óxido de cério, podem ser usados em combinação com o óxido de metal condutivo.

O componente (B) é uma partícula de polímero. Na película de revestimento da forma de realização, é preferível que (B) a partícula de polímero seja circundada pelo componente (A). (B) A partícula de polímero refere-se a uma partícula de polímero obtida por polimerização de um componente de monômero tendo uma ligação insaturada na presença de radical, um cátion e/ou um anion.

Na forma de realização, o teor do componente em fase aquosa do componente (B), representado pela expressão (I) é de 20% em massa ou menos. Por ajuste do teor do componente em fase aquosa do componente (B) a 20% em massa ou menos, transparência e hidrofilicidade se tomam excelentes e hidrofilicidade excelente pode ser mantida mesmo em temperatura elevada.

O teor do componente em fase aquosa (%) = (massa seca de um filtrado obtido por filtração do componente (B) em um corte molecular de 50.000) x (100 - massa total de teor sólido)/(massa do filtrado - massa seca do filtrado) x 100/a massa total de teor sólido *··(Ι).

O teor do componente em fase aquosa do componente (B) é preferivelmente 15 % em massa ou menos e mais preferivelmente 10% em massa ou menos, assim tendo propriedades excelentes de anti-incrustação, transparência e hidrofilicidade, e mantendo uma hidrofilicidade excelente não somente em temperatura elevada mas também em umidade elevada mesmo em temperatura /umidade elevadas.

O componente (B) é preferivelmente uma partícula em emulsão. Devido à partícula em emulsão, a estrutura de tipo ilha do mar pode ser formada pelo componente (A) e componente (B) quando uma película de revestimento (descrita depois) é formada. Ao formar a estrutura de tipo ilha do mar, um óxido de metal está localizado na superfície mais superior de uma película de revestimento e assim a hidrofilicidade pode ser satisfatoriamente exibida por um grupo hidrofílico como um grupo hidróxi do óxido de metal. Exemplos da partícula em emulsão incluem, mas não são particularmente limitados, uma emulsão acrílica, uma emulsão de estireno, uma emulsão de acrilestireno, uma emulsão de acril silício, uma emulsão de silício, e uma emulsão de resina de flúor.

O componente (B) é mais preferivelmente a partícula em emulsão de polímero obtida, em uma solução de material de polimerização contendo um componente (bl): um composto de silício hidrolisável, um componente (b2): um monômero de vinila, um componente (b3): um emulsificador e um componente (b4): água, por polimerização do componente (bl) e do componente (b2). O componente (B) assim obtido e que pode ser preferivelmente usado é um composto obtido por conjugação de um grupo hidróxi derivado do componente (bl) e um produto de polimerização servindo como o componente (b2) via uma ligação hidrogênio e similar.

Exemplos do componente (bl) incluem um composto representado pela seguinte fórmula (4) e um condensado do mesmo, e um agente de copulação de silano.

SiW_xR_y(4) onde W representa pelo menos um grupo selecionado dentre o grupo consistindo de um grupo alcóxi tendo 1 a 20 átomos de carbono, um grupo hidróxi, um grupo acetóxi tendo 1 a 20 átomos de carbono, um átomo de halogênio, um átomo de hidrogênio, um grupo oxima tendo 1 a 20 átomos de carbono, um grupo enóxi, um grupo aminóxi e um grupo amida; R representa pelo menos um grupo hidrocarboneto selecionado dentre o grupo consistindo de um grupo alquila linear ou ramificado tendo 1 a 30 átomos de carbono, um grupo cicloalquila tendo 5 a 20 átomos de carbono e um grupo arila tendo 6 a átomos de carbono não substituído ou substituído com um grupo alquila tendo 1 a 20 átomos de carbono, um grupo alcóxi tendo 1 a 20 átomos de carbono ou um átomo de halogênio; x é um inteiro de 1 ou mais e 4 ou menos, y é um inteiro de 0 ou mais e 3 ou menos; e x + y = 4.

O agente de copulação de silano refere-se a um derivado de silano tendo grupo funcional intramolecular que é reativo com uma substância orgânica como um grupo vinila polimerizável, um grupo epóxi, um grupo amino, um grupo metacrila, um grupo mercapto e um grupo isocianato.

Exemplos específicos do composto representado pela fórmula (4) incluem tetraalcoxissilanos como tetrametoxissilano, tetraetoxissilano, tetra-npropoxissilano, tetraisopropoxissilano e tetra-n-butoxissilano; trialcoxissilanos como metiltrimetoxissilano, metiltrietoxissilano, etiltrimetoxissilano, etiltrietoxissilano, n-propiltrimetoxissilano, n-propiltrietoxissilano, isopropiltrimetoxissilano, isopropiltrietoxissilano, n-butiltrimetoxissilano, nbutiltrietoxissilano, n-pentiltrimetoxissilano, n-hexiltrimetoxissilano, nheptiltrimetoxissilano, n-octiltrimetoxissilano, viniltrimetoxissilano, viniltrietoxissilano, aliltrimetoxissilano, ciclohexiltrimetoxissilano, ciclohexiltrietoxissilano, feniltrimetoxissilano, feniltrietoxissilano, 3cloropropiltrimetoxissilano,

3-cloropropiltrietoxissilano,

3,3,3trifluoropropiltrimetoxissilano, aminopropiltrimetoxissilano,

3,3,3 -trifluoropropiltrietoxissilano, 3 3 -aminopropiltrietoxissilano, 2-hidroxietil trimetoxissilano, 2-hidroxietiltrietoxissilano, 2-hidroxipropiltrimetoxissilano,

2-hidroxipropiltrietoxissilano, 3-hidroxipropiltrimetoxissilano, 3-hidroxipropil trietoxissilano, trietoxissilano, trietoxissilano, trietoxissilano,

3-mercaptopropiltrimetoxissilano,

3-isocianatepropiltrimetoxissilano,

3-glicidoxipropiltrimetoxissilano,

-mercaptopropil

-isocianatepropil

3-glicidoxipropil

2-(3,4-epoxiciclohexil)etiltrimetoxissilano,

2-(3,428 epoxiciclohexil)etiltrietoxissilano, 3-(met)acriloxipropiltrimetoxissilano, 3(met)acriloxipropiltrietoxissilano, 3-(met)acriloiloxipropiltri-n-propoxissilano, 3-(met)acriloiloxipropiltriisopropoxissilano, 3-ureidopropiltrimetoxissilano e 3ureidopropiltrietoxissilano; dialcoxissilanos como dimetildimetoxissilano, dimetildietoxissilano, dietildimetoxissilano, dietildietoxissilano, di-npropildimetoxissilano, di-n-propildietoxissilano, diisopropildimetoxissilano, diisopropildietoxissilano, di-n-butildimetoxissilano, di-n-butildietoxissilano, din-pentildimetoxissilano, di-n-pentildietoxissilano, di-n-hexildimetoxissilano, di-n-hexildietoxissilano, di-n-heptildimetoxissilano, di-n-heptildietoxissilano, di-n-octildimetoxissilano, di-n-octildietoxissilano, di-nciclohexildimetoxissilano, di-n-ciclohexildietoxissilano, difenildimetoxissilano, difenildietoxissilano e 3-(met)acriloiloxipropilmetildimetoxissilano; e monoalcoxissilanos como trimetilmetoxissilano e trimetiletoxissilano. Estes podem ser usados sozinhos ou combinações de dois ou mais.

Como o componente (bl), um alcóxido de silício tendo um grupo fenila (por exemplo, feniltrimetoxissilano, feniltrietoxissilano e difenildimetoxissilano) pode ser usado. Um alcóxido de silício tendo um grupo fenila é preferivelmente usado devido à estabilidade da polimerização na presença de água e um emulsificador se toma excelente.

O componente (bl) pode incluir um agente de copulação de silano tendo um grupo tiol e um componente (bl-1): um composto de silício hidrolisável tendo um grupo vinila polimerizável. Estes são preferivelmente usados como o componente (bl) devido às propriedades de anti-incrustação a longo prazo da película de revestimento resultante se tomarem excelentes.

Exemplos do agente de copulação de silano tendo um grupo tiol incluem 3-mercaptopropiltrimetoxissilano e 3-mercaptopropiltrietoxissilano.

Exemplos do componente (bl-1) incluem um agente de copulação de silano tendo um grupo vinila polimerizável como 3-(met)acriloxipropil trimetoxissilano, 3-(met)acriloxipropiltrietoxissilano, 3-(met)acriloiloxi propilmetildimetoxissilano, 3-(met)acriloiloxipropiltri-n-propoxissilano, 3(met)acriloiloxipropiltriisopropoxissilano, vinil trimetoxissilano, viniltrietoxissilano, aliltrimetoxissilano e éter 2-trimetoxisililetil vinílico.

Estes agentes de copulação de silano podem produzir uma ligação química via copolimerização ou reação de transferência de cadeia com componente (b2) (descrito depois). A seguir, se um agente de copulação de silano tendo um grupo vinila polimerizável ou um grupo tiol é misturado ou conjugado com o componente acima mencionado (bl), um produto de polimerização do componente (bl) e um produto de polimerização do componente (b2) (descritos depois) podem ser conjugados por uma ligação química.

No componente (bl-1), exemplos do grupo vinila polimerizável incluem um grupo vinila e um grupo alila. Dentre estes, grupo 3(met)acriloxipropila é preferível.

O componente (bl) pode incluir um componente (bl-2): um oligômero de siloxano cíclico. Uso do componente (bl-2) é preferível devido à flexibilidade da película de revestimento resultante ser ainda melhorada.

Exemplos do oligômero de siloxano cíclico podem incluir compostos representados pela seguinte fórmula (5).

(R'₂SiO)_m (5) onde R' é pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de um átomo de hidrogênio, grupo alquila linear ou ramificado tendo 1 a 30 átomos de carbono, um grupo cicloalquila tendo 5 a 20 átomos de carbono e um grupo arila tendo 6 a 20 átomos de carbono não substituído ou substituído com um grupo alquila tendo 1 a 20 átomos de carbono, grupo alcóxi tendo 1 a 20 átomos de carbono ou um átomo de halogênio; m é um inteiro; e 2 < m < 20.

Dentre estes, em vista de reatividade e similar, um oligômero dimetil siloxano cíclico como octametilciclotetrassiloxano é preferível.

Se um condensado é usado como o componente (bl), o peso molecular médio ponderai equivalente de poliestireno (pelo método GPC) do condensado é preferivelmente 200 a 5000 e mais preferivelmente 300 a 1000.

A razão em massa ((bl)/(B)) do teor do componente (bl) para o teor do componente (B) é preferivelmente 0,01/100 a 80/100 e mais preferivelmente 0,1/100 a 70/100 em vista da estabilidade de polimerização.

A razão em massa ((bl-l)/(B)) do teor do componente (bl-1) para o teor do componente (B) é preferivelmente 0,01/100 a 20/100 e mais preferivelmente 0,5/100 a 10/100 em vista da estabilidade de polimerização. A razão em massa ((b 1 -1 )/(b2)) do teor do componente (bl-1) para o teor do componente (b2) é preferivelmente 0,1/100 a 100/100 e mais preferivelmente 0,5/100 a 50/100 em vista da estabilidade de polimerização.

A razão em massa ((bl-2)/(B)) do teor do componente (bl-2) para o teor do componente (B) é preferivelmente 0,01/100 a 20/100 e mais preferivelmente 0,5/100 a 5/100 em vista de hidrofilicidade. A razão em massa ((bl-2)/(b2)) do teor do componente (bl-2) para o teor do componente (b2) é preferivelmente 0,5/100 a 50/100 e mais preferivelmente 1,0/100 a 20/100 em vista da estabilidade de polimerização.

O componente (b2) é um monômero de vinila. O componente (b2) é preferivelmente um monômero de vinila tendo pelo menos um grupo funcional selecionado dentre o grupo consistindo de um grupo hidróxi, um grupo carboxila, um grupo amida, um grupo amino e um grupo éter. Se o monômero de vinila tem tal grupo funcional, a ligação química (por exemplo, condensação) para um grupo funcional de um componente diferente do componente (B) (por exemplo, um óxido de metal do componente (A)) pode ser facilmente feita, melhorando a interação.

Os exemplos específicos do monômero de vinila contendo grupo hidróxi servindo como o componente (b2) incluem um hidroxialquil(met)acrilato como 2-hidroxietil(met)acrilato, 2hidroxipropil(met)acrilato ou 4-hidroxibutil(met)acrilato; um éter vinílico contendo grupo hidróxi como éster 2-hidroxietilvinílico ou éter 4hidroxibutilvinílico; um éster alílico contendo grupo hidróxi, como éter 2hidroxietil alílico; um monoéster de um polioxialquileno glicol obtido a partir de um poliéter poliol representado por polietileno glicol e um ácido carboxílico insaturado representado por ácido (met)acrílico; um aduto de qualquer um dos monômeros contendo grupo hidróxi mencionados acima e uma lactona representada por ε-caprolactona; um aduto de um monômero insaturado contendo grupo epóxi representado por glicidil(met)acrilato e um ácido representado por ácido acético; e um aduto de um ácido carboxílico insaturado representado por ácido (met)acrílico e um composto monoepóxi exceto para epóxido de α-olefina representado por Cardura-E (nome comercial, fabricado por Shell na Holanda).

Os exemplos específicos de monômero de vinila contendo grupo carboxila mencionado como o componente (b2) incluem um ácido carboxílico insaturado como ácido (met)acrílico, 2-carboxietil(met)acrilato, ácido crotônico, ácido itacônico, ácido maleico ou ácido fumárico; um monoéster (meio-éster) de um ácido dicarboxílico insaturado e um mono-álcool insaturado como itaconato de monometila, itaconato de mono-n-butila, maleato de monometila, maleato de mono-n-butila, fumalato de monometila, fumalato de mono-nbutila; um monovinil éster de ácido dicarboxílico saturado como adipato de monovinila ou succinato de monovinila; um produto de uma reação de adição entre um anidrido de ácido policarboxílico insaturado como um anidrido succínico, um anidrido glutárico, um anidrido ftálico ou anidrido trimelítico, e qualquer um dos monômeros de vinila contendo grupo hidróxi, como mencionado acima; e um monômero obtido pela reação de adição de qualquer um dos monômeros contendo grupo carboxila mencionado acima e uma lactona.

Os exemplos específicos do monômero de vinila contendo grupo amino mencionados como o componente (b2) incluem um (met)acrilato contendo grupo amino terciário como 2-dimetilaminoetil(met)acrilato, 25 dietilaminoetil(met)acrilato, 2-di-n-propilaminoetil(met)acrilato, 3dimetilaminopropil(met)acrilato, 4-dimetilaminobutil(met)acrilato ou N-[2(met)acriloiloxi]etil morfolina; um monômero de vinila aromático contendo grupo amino terciário como vinil piridina, N-vinilcarbazol ou N-vinilquinolina; uma (met)acrilamida contendo grupo amino terciário como N-(210 dimetilamino)etil(met)acrilamida, N-(2-dietilamino)etil(met)acrilamida, N-(2di-n-propilamino)etil(met)acrilamida, N-(3-dimetilamino)propil(met) acrilamida, N-(4-dimetilamino)butil(met)acrilamida ou N-[2-(met)acrilamida] etilmorfolina; uma amida de ácido crotônico contendo grupo amino terciário como amida de ácido N-(2-dimetilamino)etilcrotônico, amida de ácido N-(215 dietilamino)etilcrotônico, amida de ácido N-(2-di-n-propilamino)etilcrotônico, amida de ácido N-(3-dimetilamino)propilcrotônico ou amida de ácido N-(4dimetilamino)butilcrotônico; e um éter vinílico contendo grupo de amino terciário como éter 2-dimetilaminoetil vinílico, éter 2-dietilaminoetil vinílico, éter 3-dimetilaminopropil vinílico ou éter 4-dimetilaminobutil vinílico

Os exemplos específicos do monômero de vinila contendo grupo éter mencionados como o componente (b2) incluem monômeros de vinila como um éter de vinila tendo uma cadeia de poliéter na cadeia lateral como éter de polioxietilenoalquílico, éter de polioxietilenoalquilfenílico, um éster de ácido graxo superior de um polioxietileno ou um copolímero em bloco de 25 polioxietileno-polioxipropileno; um éter alílico e um (met)acrilato. Como o monômero de vinila contendo grupo éter, um produto comercialmente disponível pode ser usado. Exemplos do mesmo incluem BLEMMER PE-90, PE-200, PE-350, PME-100, PME-200, PME-400 e AE-350 (nome comercial, fabricado por NOF Corporation); e MA-30, MA-50, MA-100, MA-150, ΚΑΙ 120, RA-2614, RMA-564, RMA-568, RMA-1114 e MPG130-MA (nome comercial, fabricado por Nippon Nyukazai Co., Ltd.). O número de unidades de oxietileno da cadeia polioxietileno aqui é preferivelmente de 2 a 30. Se o número for menor do que 2, a flexibilidade da película de revestimento resultante tende a ser insuficiente. Se o número exceder 30, a película de revestimento resultante se toma flexível e assim tende a ser inferior na

N-metil-N-n-propilacrilamida,

N-acriloilpirrolidina, N-metacriloilpirrolidina, NN-metacriloilpiperidina, N-acriloilhexahidroazepina, NN-metacriloilmorfolina, N-vinilpirrolidona, NΝ,Ν'-metilenobisacrilamida, N,N'-metileno

N-vinilacetamida, diacetonaacrilamida, resistência à formação de bloco.

Exemplos específicos do monômero de vinila contendo grupo amida mencionados como o componente (b2) incluem N-alquila ou Nalquileno-substituída (met)acrilamida. Os exemplos mais específicos incluem N-metilacrilamida, N-metilmetacrilamida, N-etilacrilamida, N,Ndimetilacrilamida, N,N-dimetilmetacrilamida, Ν,Ν-dietilacrilamida, Netilmetacrilamida, N-metil-N-etilacrilamida, N-metil-N-etilmetacrilamida, Nisopropilacrilamida, N-n-propilacrilamida, N-isopropilmetacrilamida, N-npropilmetacrilamida, N-metil-N-n-propilacrilamida, N-metil-Nisopropilacrilamida, acriloilpiperidina, acriloilmorfolina, vinilcaprolactama, bismetacrilamida, diacetonametacrilamida, N-metilolacrilamida e N-metilolmetacrilamida.

Como o componente (b2), em vista de melhorar a ligação de hidrogênio para outros componentes, um monômero de vinila contendo um grupo amida secundário, um grupo amida terciário ou ambos é preferível. Particularmente, um monômero de vinila tendo um grupo amida terciário é preferível em vista de ligação de força de hidrogênio.

A razão em massa ((b2)/(B)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (B) é 0,01/1 a 1/1 em vista da estabilidade de polimerização, preferivelmente 0,1/1 a 0,5/1 e mais preferido 0,2/1 a 0,4/1.

A razão em massa ((b2)/(Al)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (Al) é 0,01/1 a 1/1 em vista de ligação de hidrogênio e estabilidade da mistura, preferivelmente 0,1/1 a 1/1 e mais preferivelmente 0,2/1 a 0,7/1.

Exemplos do componente (b3) incluem um emulsificador acídico como ácido alquilbenzeno sulfônico, ácido alquil sulfônico, ácido alquilsulfosuccínico, ácido polioxietilenoalquil sulfurico, ácido polioxietileno alquilarilsulfurico e diestirilfenil éter de ácido polioxietileno sulfônico; um tensoativo aniônico como um metal alcalino (por exemplo, Li, Na, K) sal de um emulsificador acídico, um sal amônio de um emulsificador acídico e sabão de ácido graxo; tensoativo catiônico de um sal de amônio quaternário, um sal piridínio e um sal imidazolínio como brometo de alquiltrimetilamônio, brometo de alquilpiridínio e laurato de imidazolínio; um tensoativo não iônico como alquilaril éter de polioxietileno, um éster de ácido polioxietileno sorbitano, um copolímero em bloco de polioxietileno oxipropileno e diestiril fenil éter de polioxietileno, e similares. Eles podem ser usados sozinhos ou em combinações de dois ou mais.

Como o componente (b3), em vista de melhorar a estabilidade de dispersão em água do componente resultante (B) e melhorar as propriedades anti-incrustação a longo prazo da película de revestimento resultante, um emulsificador reativo tendo um radical polimerizável de ligação dupla é preferivelmente usado. Exemplos do emulsificador reativo incluem um monômero de vinila tendo um grupo de ácido sulfônico ou um grupo sulfonato, um monômero de vinila tendo um grupo de éster de ácido sulfurico e um sal de metal alcalino e sal de amônio do mesmo; um monômero de vinila tendo um grupo não iônico como polioxietileno e um monômero de vinila tendo um sal de amônio quaternário.

Exemplos do monômero de vinila tendo um grupo de ácido sulfônico ou um grupo sulfonado incluem um composto tendo uma ligação dupla de radical polimerizável e tendo um substituinte selecionado dentre o grupo consistindo de um grupo alquila tendo 1 a 20 átomos de carbono, um grupo éter alquílico tendo 2 a 4 átomos de carbono, um grupo éter polialquílico tendo 2 a 4 átomos de carbono, um grupo fenila, um grupo naftila e um grupo de ácido succínico, que são parcialmente substituídos com um substituinte como um sal de amônio, sal de sódio ou sal de potássio de um grupo de ácido sulfônico; e um composto de sulfonato de vinila tendo um grupo vinila ao qual um substituinte como um sal de amônio, um sal de sódio ou um sal de potássio de um grupo de ácido sulfônico é ligado.

Exemplos do monômero de vinila tendo um grupo de éster de ácido sulfurico incluem um composto tendo uma ligação dupla de radical polimerizável e um substituinte selecionado dentre o grupo consistindo de um grupo alquila tendo 1 a 20 átomos de carbono, um grupo éter alquílico tendo 2 a 4 átomos de carbono, um grupo éter polialquílico tendo 2 a 4 átomos de carbono, um grupo fenila e um grupo naftila, que são parcialmente substituídos com um substituinte como um sal de amônio, sal de sódio ou sal de potássio de um grupo de éster de ácido sulfônico.

Exemplos específicos do composto tendo um grupo de ácido succínico parcialmente substituído com um substituinte como um sal de amônio, sal de sódio ou sal de potássio de um grupo de ácido sulfônico incluem um alil sulfo-succinato. Os exemplos mais específicos incluem ELEMINOL JS-2 (nome comercial, fabricado por Sanyo Chemical Industries, Ltd.) e Latemul S-120, S-180A ou S-180 (nome comercial, fabricado por Kao Corp.).

Exemplos específicos do composto tendo um grupo éter alquílico tendo 2 a 4 átomos de carbono ou um grupo éter polialquílico tendo 2 a 4 átomos de carbono parcialmente substituído com um substituinte como um sal de amônio, sal de sódio ou sal de potássio de um grupo de ácido sulfônico incluem Aqualon HS-10 ou KH-1025 (nome comercial, fabricado por Dai-ichi

Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) e ADEKA REASOAP SE-1025N ou SR-1025 (nome comercial, fabricado por ADEKA CORPORATION).

Exemplos específicos do monômero de vinila tendo um grupo não iônico incluem a-[l-[(alilóxi) metil]-2-(nonilfenóxi) etilj-ωhidroxipolioxietileno (nome comercial: por exemplo, ADEKA REASOAP NE20, NE-30 e NE-40 fabricado por ADEKA CORPORATION) e polioxietileno alquilpropenil fenil éter (nome comercial: por exemplo, Aqualon RN-10, RN20, RN-30 e RN-50, Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).

O uso da quantidade de componente (b3) a 100 partes em massa do componente (B) é preferivelmente não maior do que 10 partes em massa e mais preferivelmente 0,001 a 5 partes em massa, em vista da estabilidade de polimerização.

O componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero, que é obtido, em uma solução de material de polimerização contendo os componentes acima mencionados (bl) a (b3) e um componente (b4) (isto é, água), por polimerização do componente (bl) e do componente (b2). O uso da quantidade de componente (b4), isto é, o teor do mesmo na solução de material de polimerização, é preferivelmente 30 a 99,9 % em massa, em vista da estabilidade de polimerização.

Para a solução de material de polimerização, além dos componentes (bl) a (b4), vários componentes podem ser ainda adicionados. Primeiro, para a solução de material de polimerização, é preferível que o componente (b5): outro monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2), possa ser ainda adicionado. Uso deste componente (b5) é preferível para controlar as propriedades do produto de polimerização a ser produzido (temperatura de transição vítrea, peso molecular, capacidade de ligação de hidrogênio, polar, estabilidade da dispersão, resistência às intempéries, compatibilidade com o produto de polimerização de composto de composto de silício hidrolisável servindo como o componente (bl) e similar).

Exemplos do componente (b5) incluem um acrilato, um metacrilato, um composto vinil aromático e um cianureto de vinila. Além destes, exemplos dos mesmos incluem um monômero contendo grupo funcional como um monômero de vinila contendo grupo epóxi, um monômero de vinila contendo grupo carbonila e um mônomero de vinila aniônico.

A razão do componente (b5) no monômero de vinila total preferivelmente está dentro da faixa de 0,001 a 30% em massa e mais preferivelmente 0,05 a 10% em massa. Uso do componente (b5) dentro desta faixa é preferível desde que a temperatura de transição vítrea, peso molecular, capacidade de ligação de hidrogênio, polaridade, estabilidade da dispersão, resistência às intempéries, compatibilidade com um produto de polimerização de um composto de silício hidrolisável servindo como o componente (bl) e similares possam ser controlados.

Para a solução de material de polimerização, um agente de transferência de cadeia pode ser adicionado. Exemplos do agente de transferência de cadeia incluem um alquil mercaptano como n-octil mercaptano, n-dodecil mercaptano e t-dodecil mercaptano; um mercaptano aromático como benzil mercaptano e dodecil benzil mercaptano; e um ácido tiocarboxílico como ácido tiomálico, um sal do mesmo ou um éster alquílico do mesmo, ou a politiol, dissulfeto de diisopropil xantogênio, dissulfeto de di(metilenotrimetilolpropano) xantogênio, tioglicol e um composto alila como um dímero de oc-metilestireno.

O uso da quantidade de agentes de transferência de cadeia para o monômero de vinila total (100 partes em massa) é preferivelmente 0,001 a 30 partes em massa e mais preferivelmente 0,05 a 10 partes em massa. Uso de um agente de transferência de cadeia dentro da faixa é preferível em vista da estabilidade de polimerização.

Além disso, na solução de material de polimerização, um estabilizador de dispersão pode ser misturado. Exemplos do estabilizador de dispersão incluem, mas não são particularmente limitados a, um oligômero solúvel em água selecionado dentre o grupo consistindo de um ácido policarboxílico e um sulfonado e uma substância de polímero solúvel em água ou dispersível em água, sintético ou de ocorrência natural como álcool polivinílico, hidroxietilcelulose, amido, polibutadieno maleinizado, resina alquídica maleinizada, ácido (poliacrilato) poliacrílico, poliacrilamida, e uma resina acrílica solúvel em água ou dispersível em água. Eles podem ser usados sozinhos ou em combinações de dois ou mais.

O uso da quantidade de estabilizador de dispersão a 100 partes em massa do componente (B), isto é, a partícula em emulsão de polímero, é preferivelmente não maior do que 10 partes em massa e mais preferivelmente 0,001 a 5 partes em massa.

Polimerização da solução acima mencionada de material de polimerização é preferivelmente realizada na presença de um catalisador de polimerização. Exemplo do catalisador de polimerização servindo como o componente (bl) incluem um composto acídico como um halogeneto de hidrogênio como ácido clorídrico e ácido fluorídrico, um ácido carboxílico como ácido acético, ácido tricloroacético, ácido trifluoroacético e ácido láctico, um ácido sulfônico como ácido sulfurico e ácido p-tolueno sulfônico, um emulsificador acídico como ácido alquilbenzenossulfônico, ácido alquilsulfônico, ácido alquilsulfosuccínico, ácido polioxietileno alquil sulfurico, ácido polioxietileno alquilaril sulfurico e ácido polioxietileno diestiril fenil éter sulfônico, sal inorgânico ácido ou ácido fraco, ácido itálico, ácido fosfórico e ácido nítrico; um composto básico como hidróxido de sódio, hidróxido de potássio, metilato de sódio, acetato de sódio, cloreto de tetrametilamônio, hidróxido de tetrametilamônio, tributil amina, diazabicicloundeceno, etileno diamina, dietileno triamina, um etanol amina, γ-aminopropiltrimetoxissilano e Y-(2-aminoetil)-aminopropiltrimetoxissilano; e um composto de estanho como octilato de dibutil estanho e dilaurato de dibutil estanho. Dentre estes, um catalisador de polimerização de um composto de silício hidrolisável servindo como o componente (bl) é preferivelmente um emulsificador acídico tendo uma função de não apenas um catalisador de polimerização, mas também um emulsificador, particularmente, um ácido alquilbenzenossulfônico (ácido dodecil benzeno sulfônico e similar) tendo 5 a 30 átomos de carbono.

Como o catalisador de polimerização para o componente (b2), um catalisador de polimerização radical é preferível, que causa decomposição radical por calor ou uma substância redutível e similar e causa polimerização de adição de um monômero de vinila. Exemplos deste catalisador de polimerização radical preferivelmente incluem um persulfato solúvel em água ou solúvel em óleo, peróxido e composto azobis. Exemplos mais específicos do catalisador de polimerização radical incluem persulfato de potássio, persulfato de sódio, persulfato de amônio, peróxido de hidrogênio, hidroperóxido de tbutila, peroxibenzoato de t-butila, 2,2-azobisisobutironitrila, cioridrato de 2,2azobis(2-diaminopropano) e 2,2-azobis(2,4-dimetilvaleronitrila).

O uso da quantidade de catalisador de polimerização a 100 partes em massa do monômero de vinila total é preferivelmente 0,001 a 5 partes em massa. Se uma taxa de polimerização for desejada para aumentar a polimerização é desejada realizar a mesma em uma temperatura tão baixa como 70°C ou menos, é vantajoso se um agente redutor como bissulfeto de sódio, cloreto ferroso, ascorbato e Rongalite for usado em combinação com um catalisador de polimerização radical

Na forma de realização, polimerização do componente (bl) e polimerização do componente (b2) podem ser separadamente realizadas; no entanto, elas são preferivelmente realizadas simultaneamente porque uma conjugação micro orgânica-inorgânica pode ser atingida por uma ligação de hidrogênio e similar.

Como um método para obter o componente (B), a assim chamada polimerização em emulsão é apropriada em que o componente (bl) e o componente (b2) são polimerizados na presença de uma quantidade suficiente de água para o emulsificador para formar uma micela. Em um exemplo do método de polimerização em emulsão, o componente (bl) e o componente (b2), se necessário, ainda o componente (b3) são adicionados em gotas diretamente ou em um estado de emulsão, de uma vez, em lotes ou continuamente, a um vaso de reação e polimerizado na presença de um catalisador de polimerização, em uma pressão preferivelmente pressão atmosférica a 10 MPa, se necessário para uma temperatura de reação de cerca de 30 a 150°C. No entanto, a polimerização pode ser realizada, se necessário, em pressão acima mencionada ou maior ou na temperatura acima mencionada ou menor.

A solução de material de polimerização é preferivelmente preparada, em vista da estabilidade de polimerização, por mistura dos componentes (bl) a (b4) de modo que a massa total dos teores sólidos está dentro da faixa de 0,1 a 70% em massa e preferivelmente 1 a 55 % em massa. A massa total (% em massa) dos teores sólidos é obtida por colocação e secagem do componente (B) em um forno aquecido a 100°C durante 2 horas para obter o peso seco dos teores sólidos, e calcular de acordo com a seguinte expressão (II).

Massa total de teores sólidos (% em massa) = massa seca/massa de componente (Β) x 100 ··· (II)

Ao realizar a polimerização em emulsão, em vista de apropriadamente cultivar uma partícula ou controlar o tamanho de partícula do componente resultante (B), um método de polimerização de semente é preferivelmente empregado. No método de polimerização de semente, uma partícula em emulsão (partícula de semente) é previamente colocada em uma fase aquosa e então a polimerização é realizada. O pH do sistema de polimerização quando um método de polimerização semente é realizado é preferivelmente 1,0 a 10,0 e mais preferivelmente 1,0 a 6,0. O pH pode ser ajustado pelo uso de um tampão de pH como fosfato dissódico, bórax, carbonato de hidrogênio de sódio e amônia.

Como um método para obter o componente (B), um método de polimerizar o componente (bl) e componente (b2) na presença de componente (b3) e componente (b4) requerido para polimerizar o componente (bl) e, se necessário, na presença de um solvente, seguido por adição de água até o produto de polimerização ser emulsificado, pode ser aplicado.

O componente (B) preferivelmente tem uma estrutura núcleo/envoltório tendo uma camada de núcleo e uma ou duas ou mais camadas de envoltório cobrindo a camada de núcleo em vista de melhorar a adesão da película de revestimento resultante a um substrato. Um método para formar a estrutura de núcleo/envoltório, polimerização em emulsão em múltiplos estágios, em que polimerização em emulsão é realizada em múltiplos estágios, é extremamente utilizável. A estrutura de núcleo/envoltório pode ser observada, por exemplo, por uma observação morfológica por meio de um microscópio eletrônico de transmissão e similar e análise por medição viscoelástica.

O componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização do componente (bl) e do componente (b2) na solução de material de polimerização contendo uma partícula de semente formando a camada de núcleo. A partícula de semente é mais preferivelmente uma partícula obtida por polimerização do componente (bl), do componente (b2) e do componente (b5): de pelo menos um componente selecionado dentre o grupo consistindo de outros monômeros de vinila copolimerizáveis com o > componente (b2). Também neste caso, polimerização em emulsão de múltiplos estágios é utilizável.

A polimerização em emulsão de múltiplos estágios especificamente consiste de, por exemplo, a um primeiro estágio de polimerização, na presença do componente (b3) e componente (b4), do componente (bl), do componente (b2) e de pelo menos um componente 10 selecionado dentre o grupo consistindo dos componentes (b5) para formar uma partícula de semente, e um segundo estágio de polimerização é realizado, na presença da partícula de semente, por adição de uma solução de material de polimerização contendo o componente (bl) e o componente (b2), e, se necessário, o componente (b5) (método de polimerização de dois estágios). No 15 caso onde polimerização em emulsão de múltiplos estágios consistindo de três estágios ou mais é realizada, por exemplo, polimerização do terceiro estágio é realizada por outra adição da solução de material de polimerização contendo o componente (bl) e o componente (b2) e, se necessário, o componente (b5). Este método é preferível em vista da estabilidade de polimerização.

No caso onde o método de polimerização de dois estágios é empregado, razão em massa ((M1)/(M2)) da massa de teor de sólidos (Ml) na solução de material de polimerização usada no primeiro estágio para a massa de teor de sólidos (M2) na solução de material de polimerização a ser adicionada no segundo estágio é preferivelmente 9/1 a 1/9 e mais 2 5 preferivelmente 8/2 a 2/8 em vista da estabilidade de polimerização.

Além disso, como a estrutura de núcleo/envoltório, em vista da estabilidade de polimerização, é preferível que um tamanho de partícula seja aumentado pela polimerização de segundo estágio sem significativamente mudar a distribuição de tamanho (tamanho médio em volume de partícula/tamanho médio numérico de partícula) da partícula de semente. O tamanho de partícula médio em volume pode ser medido do mesmo modo que o tamanho médio numérico de partícula.

Na partícula em emulsão de polímero (B), uma razão em massa ((b2)/(bl)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (bl) na camada de núcleo é preferivelmente 0,01/1 a 1/1. Na camada de envoltório a mais externa, uma razão em massa ((b2)/(bl)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (bl) é preferivelmente 0,01/1 a 5/1. Na camada de núcleo, se a razão em massa ((b2)/(bl)) for 0,01/1 ou mais, estabilidade da polimerização tende a ser ainda mais melhorada, enquanto que se a razão em massa for 1/1 ou menos, durabilidade e flexibilidade são ainda melhoradas. Além disso, na camada de envoltório a mais externa, se a razão em massa ((b2)/(bl)) for 0,01/1 ou mais, a interação com o componente (A) pode ser aumentada, enquanto que se a razão em massa for 5/1 ou menos, a interação pode ser apropriadamente suprimida e estabilidade suficiente tende a ser obtida.

Na estrutura de núcleo/envoltório, s temperatura de transição vítrea (Tg) da camada de núcleo é preferivelmente 0°C ou menos. Este caso é preferível porque a película de revestimento tendo flexibilidade mais excelente em temperatura ambiente pode ser obtida, com o resultado que um membro protetor para uma célula solar raramente gerando fendas e similares pode ser produzido. Tg pode ser medido por calorimetria de varredura diferencial (DSC) na forma de realização.

Um tamanho médio numérico de partícula do componente (B) é preferivelmente 10 nm a 800 nm. Se a composição for formada compreendendo o componente (B) cujo tamanho de partícula é controlado para estar dentro da faixa, em combinação com o componente (A) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, resistência {as intempéries e propriedades anti-incrustação são ainda melhoradas. Em vista de melhorar a transparência da película de revestimento resultante, tamanho médio numérico de partícula do componente (B) é mais preferivelmente 10 nm a 100 nm.

A razão ((SA)/(SB)) da área de área de superfície (SA) do componente (A) para a área de superfície (SB) do componente (B) preferivelmente está dentro da faixa de 0,001 a 1000. A área de superfície de cada componente pode ser calculada com base no tamanho de partículas, valores de massa e densidade específica do componente (A) e do componente (B) e na consideração de que as formas das partículas são esferas verdadeiras.

Na forma de realização, além dos componentes acima mencionados, componentes adicionais geralmente adicionados a um material de revestimento e uma resina de moldagem podem ser misturados dependendo quando de aplicação e do método a ser empregado e similar. Exemplos do mesmo incluem um estabilizador de luz, um absorvente de UV, um agente espessante, um agente nivelador, um agente tixotrópico, um agente desespumante, um estabilizador ao congelamento, um agente de remoção de lustro, um catalisador de reação de reticulação, um pigmento, um catalisador de cura, um agente de reticulação, uma carga, um agente anti-formação de pele, um dispersante, um agente umectante, um antioxidante, um absorvente de UV, um agente de controle de reologia, um auxiliar de formação de película, um agente de prevenção de ferrugem, um corante, um plastificante, um lubrificante, um agente redutor, um agente antisséptico, um agente antifungo, um desodorante, um inibidor do amarelecimento, um agente antiestático e um controlador de carga. Eles podem ser selecionados e usados em combinação

5 dependendo da finalidade.

Como o estabilizador de luz, por exemplo, estabilizadores de luz com base em amina impedida são preferivelmente usados. Dentre estes, um estabilizador de luz polimerizável por radical tendo uma ligação dupla polimerizável por radical dentro da molécula é preferível. Como o absorvente de UV, por exemplo, um absorvente de UV orgânico pode ser mencionado. Exemplos de tal absorvente orgânico de UV incluem um absorvente de UV de benzofenona, um absorvente de UV de benzotriazol e um absorvente de UV de triazina. Dentre estes, um absorvente de UV polimerizável por radical tendo uma ligação dupla polimerizável por radical dentro da molécula é preferível. Além disso, é preferível usar absorvente de UV de benzotriazol e absorvente de UV triazina tendo uma capacidade de absorção de raios UV elevada.

O estabilizador de luz preferivelmente usado em combinação com um absorvente de UV orgânico. O uso dos mesmos em combinação possivelmente contribui para uma melhora da resistência às intempéries da película de revestimento resultante. Além disso, o absorvente de UV orgânico, estabilizador de luz e componentes adicionais podem ser simplesmente misturados com o componente (Al), componente (A2) e o componente (B) e podem estar co-presentes na síntese do componente (B).

Uma composição de revestimento da forma de realização preferivelmente ainda compreende composto de silício hidrolisável como o componente (C) para o fim de melhorar a resistência e propriedades antiincrustação da película de revestimento resultante. Como o composto contendo silício hidrolisável usado como o componente (C), pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de um composto contendo silício hidrolisável (cl) representado pela seguinte fórmula (1), um composto contendo silício hidrolisável (c2) representado pela seguinte fórmula (2) e um composto de silício hidrolisável (c3) representado pela seguinte fórmula (3) podem ser usados.

R'.SiX^(l) onde R¹ representa um átomo de hidrogênio, ou um grupo alquila, grupo alquenila, grupo alquinila ou grupo arila tendo 1 a 10 átomos de carbono e opcionalmente tendo um grupo halogênio, um grupo hidróxi, um grupo mercapto, um grupo amino, um grupo (met)acriloíla ou um grupo epóxi; X representa um grupo hidrolisável; e n é um inteiro de 0 a 3. O grupo hidrolisável não é particularmente limitado desde que ele produza hidroliticamente um grupo hidróxi e exemplos do mesmo incluem um átomo de halogênio, um grupo alcóxi, um grupo acilóxi, um grupo amino, um grupo fenóxi e um grupo oxima.

X₃Si-R² _n-SiX₃ (2) onde X representa um grupo hidrolisável; R² representa um grupo alquileno ou grupo fenileno tendo 1 a 6 átomos de carbono; e n é 0 ou 1.

R³-(O-Si(OR³) ₂) n-OR³ (3) onde R³ representa um grupo alquila tendo 1 a 6 átomos de carbono; e n é um inteiro de 2 a 8.

Os exemplos dos compostos de silício hidrolisáveis (cl) e (c2) incluem tetrametoxissilano, tetraetoxissilano, tetra(n-propoxi)silano, tetra(ipropoxi)silano, tetra(n-butoxi)silano, tetra(i-butoxi)silano, tetra-secbutoxissilano, tetra-terc-butoxissilano, trimetoxissilano, trietoxissilano, metiltrimetoxissilano, etiltrietoxissilano, isobutiltrietoxissilano, metiltrietoxissilano, propiltrimetoxissilano, ciclohexiltrimetoxissilano, feniltrietoxissilano, dimetoxissilano, dietoxissilano, etiltrimetoxissilano, propiltrietoxissilano, feniltrimetoxissilano, metildimetoxissilano, metildietoxissilano, dimetildimetoxissilano, dimetildietoxissilano, bis(trimetoxisilil)metano, bis(trietoxisilil)metano, bis(trifenoxisilil)metano, bis(trimetoxisilil)etano, bis(trietoxisilil)etano, bis(trifenoxisilil)etano, 1,3bis(trimetoxisilil)propano, 1,3-bis(trietoxisilil)propano, 1,3-bis(trifenoxisilil) propano, 1,4-bis(trimetoxisilil)benzeno, l,4-bis(trietoxisilil)benzeno, 3cloropropiltrimetoxissilano, 3 -cloropropiltrietoxissilano, 3 -hidroxipropil trimetoxissilano, 3 -hidroxipropiltrietoxissilano, 3 -mercaptopropil trimetoxissilano, trimetoxissilano, trimetoxissilano,

3-mercaptopropiltrietoxissilano,

3-glicidoxipropiltrietoxissilano,

3-glicidoxipropil

3-acriloxipropil trimetoxissilano,

-acriloxipropiltrietoxissilano,

-metacriloxipropil

3-metacriloxipropiltrietoxissilano, tetraacetoxissilano, tetraquis(tricloroacetoxi)silano, tetraquis(trifluoroacetoxi)silano, triacetoxissilano, tris(tricloroacetoxi)silano, tris(trifluoroacetoxi)silano, metiltriacetoxissilano, metiltris(tricloroacetoxi)silano, tetraclorosilano, tetrabromossilano, tetrafluorossilano, triclorossilano, tribromossilano, trifluorossilano, metiltriclorossilano, metiltribromosilano, metiltrifluorossilano, tetraquis(metiletilcetoxima)silano, tris(metiletilcetoxima)silano, bis(metiletilcetoxima)silano, tris(metiletilcetoxima)silano, metil fenil tris(metiletilcetoxima)silano, metil bis(metiletilcetoxima)silano, hexametildisilazano, hexametilciclotrisilazano, bis(dimetilamino)dimetilsilano, bis(dietilamino)dimetilsilano, bis(dimetilamino)metilsilano bis(dietilamino)metilsilano.

Os exemplos específicos do composto de silício hidrolisável (c3) representados pela fórmula acima (3) incluem um condensado hidrolítico parcial de tetrametoxissilano (por exemplo, nome comercial M silicate 51” fabricado por Tama Chemicals Co., Ltd.; nome comercial MSI51 fabricado por Colcoat Co., Ltd.; e nome comercial MS51 e MS56 fabricado por

Mitsubishi Chemical Corporation), um condensado hidrolítico parcial de tetraetoxissilano (nome comercial Silicate 35 e Silicate 45 fabricado por Tama Chemicals Co., Ltd.; e nome comercial ESMO e ESI48 fabricado por Colcoat Co., Ltd.) e um condensado hidrolítico parcial entre tetrametoxissilano e tetraetoxissilano (nome comercial FR-3 fabricado por Tama Chemicals Co., Ltd.; e nome comercial EMSÍ48 fabricado por Colcoat Co., Ltd.).

A razão em massa ((Al+A2)/B) do teor total do componente (Al) e do componente (A2) para o teor do componente (B) não é particularmente limitada; no entanto, em vista de transmitância de luz total e absorção de infravermelho, a razão em massa é preferivelmente 60/100 a 1000/100, mais preferivelmente 100/100 a 500/100 e ainda preferivelmente 120/100 a 300/100.

A razão em massa ((A2)/(B+A1)) do teor do componente (A2) para o teor total do componente (B) e do componente (Al) é, em vista de transmitância de luz total de uma película de revestimento, preferivelmente 0,05/100 a 40/100, mais preferivelmente 0,1/100 a 20/100 e ainda preferivelmente 0,1/100 a 10/100.

A razão em massa ((b2)/(B)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (B) é, em vista da estabilidade de polimerização, preferivelmente 0,01/1 a 1/1, mais preferivelmente 0,1/1 a 0,8/1 e ainda preferivelmente 0,2/1 a 0,5/1.

A razão em massa ((b2)/(A)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (A) é, em vista de melhorar capacidade de ligação de hidrogênio a um óxido de metal, preferivelmente 0,01/1 a 1/1, mais preferivelmente 0,05/1 a 0.8/1 e ainda preferivelmente 0,1/1 a 0,4/1.

Porque o componente (A2) relativamente causa uma coagulação secundária mais facilmente do que o componente (Al), se a razão em massa ((A2)/(A1+B)) do teor do componente (A2) para o teor total do componente (B) e do componente (Al) é configurada como sendo 40/100 ou menos, a transparência de uma película de revestimento pode ser aumentada e uma redução de transmitância de luz por espalhamento pode ser suprimida. Se a razão ((A2)/(A1+B)) do teor do componente (A2) para o teor total do componente (B) e do componente (Al) é configurada para ser 0,05/100 ou mais, absorção de infravermelho pela superfície de película de revestimento pode ser aumentada e um aumento da temperatura de silício pode ser suprimido, assim melhorando a eficiência de geração de energia.

A razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) é, em vista de propriedades de hidrofilicidade e formação de película, preferivelmente 110/100 a 480/100, mais preferivelmente 110/100 a 300/100 e ainda preferivelmente 150/100 a 250/100. Se a razão é configurada para estar acima da faixa, propriedades de anti-incrustação, transparência e hidrofilicidade podem ser ainda melhoradas e resistência a choques/durabilidade e a hidrofilicidade da superfície de película de revestimento em temperatura elevada, umidade elevada ou temperatura elevada/umidade elevada podem ser tomadas ainda superiores.

A razão em massa ((C)/(A)) do componente (C) para o componente (A) é preferivelmente 1/100 a 150/100, mais preferivelmente 10/100 a 120/100 e ainda preferivelmente 40/100 a 120/100. Se a razão de (C)/(A) é 1/100 ou mais, hidrofilicidade tende a ser mantida mesmo sob condições de temperatura elevada e condições de umidade elevada. Se a razão de (C)/(A) é 150/100 ou menos, a resistência a choques da película de revestimento resultante tende a ser possivelmente ainda melhorada.

O componente (A) preferivelmente compreende sílica tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm como o componente (Al) e um absorvente de infravermelho tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 2000 nm como o componente (A2). O componente (Al), enquanto interagindo com o componente (B), pode estar presente entre partículas do componente (B) na forma de uma fase contínua. Como um resultado, partículas de sílica tendo hidrofilicidade elevada estão presentes na superfície a mais externa da película de revestimento. Assim, hidrofilicidade elevada pode ser obtida imediatamente após formação de uma película de revestimento sem levar em consideração a irradiação de luz, e simultaneamente, resistência ao calor, transparência e resistência às intempéries podem ser ainda melhoradas. Neste caso, é preferível que a razão em massa ((A1+A2)/(B)) do teor total do componente (Al) e do componente (A2) para o teor do componente (B) seja preferivelmente 60/100 a 1000/100 e que a razão em massa ((A2)/(A1+B)) do teor do componente (A2) para o teor total do componente (B) e do componente (Al) seja preferivelmente 0,05/100 a 40/100.

O componente (A) preferivelmente compreende componente (Al): sílica tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm e componente (A3): um fotocatalisador tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 2000 nm. O componente (Al), enquanto interagindo com o componente (B), pode estar presente entre partículas do componente (B) na forma de uma fase contínua. Como um resultado, partículas de sílica tendo hidrofilicidade elevada estão presentes na superfície a mais externa de uma película de revestimento. Assim, hidrofilicidade elevada pode ser obtida imediatamente após a formação de uma película de revestimento sem levar em conta a irradiação de luz, e simultaneamente, transparência e resistência às intempéries podem ser ainda melhoradas. Neste caso, a razão em massa ((A1+A3)/(B)) do teor total do componente (Al) e do componente (A3) para o componente (B) é 60/100 a 480/100 e a razão em massa ((A1)/(A1+A3)) do teor do componente (Al) para o teor total do componente (Al) e do componente (A3) é mais preferivelmente 85/100 a 99/100.

(Aplicação da Composição de Revestimento)

A película de revestimento resultante da composição de revestimento da forma de realização é excelente em propriedades antiincrustação, transparência, hidrofilicidade e durabilidade (resistência a choques) e ainda pode manter hidrofilicidade na superfície mesmo em temperatura elevada, umidade elevada ou temperatura elevada/umidade elevada. Devido a este fato, a composição de revestimento pode ser preferivelmente usada em várias aplicações. Além destas propriedades, outras propriedades podem ser adicionadas se necessário como descrito acima, e assim, a composição de revestimento pode ser preferivelmente usada em várias aplicações, por exemplo, uso em anti-reflexo, uso em resistência a solvente, uso em antiestático, uso em resistência ao calor e uso em revestimento duro.

(O caso da composição de revestimento anti-reflexo)

Na composição de revestimento da forma de realização, o tempo de cura não é excessivamente longo e a restrição sobre os tipos de substratos a serem usados pode ser facilitada. Além disso, a película de revestimento resultante é excelente em resistência à luz, resistência à abrasão e excelente durabilidade. Porque estas vantagens podem ser adicionadas, a composição de revestimento da forma de realização pode ser usada de modo apropriado como uma composição de revestimento anti-reflexo. A composição de revestimento anti-reflexo pode ser preferivelmente usada em vários painéis de tela como um painel de tela de cristal líquido, um painel de tubo de raio catodo frio, e uma tela de plasma, telas usadas ao ar livre como uma tela de exibição de propaganda e placares elétricos, como uma película anti-reflexo para evitar reflexo de luz externa simultaneamente melhorar a qualidade da imagem.

Um aspecto preferível de uma composição de revestimento antireflexo e membros usando a mesma serão descritos abaixo. Se a composição ainda atende às seguintes condições, não somente propriedades como propriedades anti-incrustação, transparência e hidrofilicidade mas também desempenho anti-reflexo pode ser adicionado à película de revestimento resultante.

(1)

E preferível que a composição de revestimento anti-reflexo compreenda como o componente (A), uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e como o componente (B), a partícula em emulsão de polímero tendo um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 800 nm, em que o componente (Β) é uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização da solução de material de polimerização contendo os componentes (bl) a (b4); e a razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) é 50/100 a 450/100.

Particularmente, o componente (A) que é usado é preferivelmente pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de sílica (Al), um fotocatalisador (A3) e um óxido de metal condutivo (A4) como mencionado acima. As vantagens obtidas usando estes componentes são como mencionado 10 acima. Além disso, no caso onde o fotocatalisador (A3) é usado, atividade de fotocatalisador e hidrofilicidade podem ser exibidas por irradiação da luz. Como um resultado, uma atividade excelente para decompor substâncias orgânicas de coloração e resistência às incrustações da superfície de revestimento podem ser ainda significativamente exibidas.

(2)

No item acima (1), é preferível que a razão em massa ((b2)/(B)) do componente (b2) para o componente (B) seja de 0,1/1 a 0,5/1.

(3)

No item acima (1) ou (2), é preferível que a razão em massa 20 ((b2)/(A)) do componente (b2) para o componente (A) seja de 0,1/1 a 1/1.

(4)

Em qualquer um dos itens acima (1) a (3), é preferível que o componente (B) tenha uma estrutura núcleo/envoltório tendo uma camada de núcleo e uma ou duas ou mais camadas de envoltório cobrindo a camada de 2 5 núcleo.

(5)

Na camada de núcleo de acordo com o item acima (4), é preferível que a razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) seja 0,01/1 a 1/1, e que a razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) na camada de envoltório a mais externa seja de 0,1/1 a 5/1.

(6)

No item acima (4) ou (5), é preferível que o componente (B) possa ser obtido por polimerização da solução de material de polimerização na presença de uma partícula de semente formando uma camada de núcleo e que a partícula de semente seja obtida por polimerização de pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo do componente (bl), componente (b2) e um monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2).

(7)

Em qualquer um dos itens acima (1) a (6), é preferível que o componente (b2) seja um monômero de vinila tendo um grupo amida secundário, um grupo amida terciário ou ambos dos mesmos.

(8)

Em qualquer um dos itens acima (1) a (7), é preferível que o tamanho de partícula do componente (B) seja de 120 a 450 nm.

(9)

Em qualquer um dos itens acima (1) a (8), é preferível que o componente (C) acima mencionado ainda esteja contido.

(10)

Um compósito anti-reflexo pode ser provido a partir da composição de revestimento anti-reflexo.

(11)

Um compósito anti-reflexo contendo a composição de revestimento anti-reflexo pode ser provido.

(12)

A tela contendo o compósito anti-reflexo pode ser provida.

(13)

Um membro de tela exterior contendo o compósito anti-reflexo pode ser provido.

(No caso de composição de revestimento resistente a solvente)

Na composição de revestimento da forma de realização, porque o componente (A) e o componente (B) tendem a interagir um com cada outro, a película de revestimento resultante é excelente não somente em propriedades anti-incrustação, transparência e hidrofilicidade mas também em resistência às intempéries e similares. Devido a estas vantagens assim adicionadas, a composição de revestimento pode ser preferivelmente usada também como uma composição de revestimento resistente a solvente. Um produto industrial é geralmente varrido com um solvente como um álcool na etapa de fabricação e montagem do produto e etapa de instalação. Assim, resistência a solvente é requerida. No caso de, por exemplo, partes ópticas como uma lente óptica, a mancha de superfície é limpa com álcool isopropílico e similar. Neste momento, se partes ópticas não tem resistência a solvente, a superfície é dissolvida e as características ópticas como transparência deterioram. Assim, a composição de revestimento da forma de realização pode ser preferivelmente usada como uma composição de revestimento para adicionar resistência a solvente a tal produto.

Um aspecto preferível da composição de revestimento resistente a solvente e um membro usando a mesma serão descritos abaixo. Se a composição ainda atende às seguintes condição, não apenas transparência, hidrofilicidade, propriedades anti-incrustação e similar mas também resistência a solvente pode ser adicionada à película de revestimento resultante.

(1)

E preferível que a composição de revestimento resistente a solvente compreenda como o componente (A), uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e como o componente (B), a partícula em emulsão de polímero tendo um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 800 nm, em que o componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização da solução de material de polimerização contendo os componentes (bl) a (b4); e a razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) 50/100 a 300/100.

(2)

No item acima (1), é preferível que a razão em massa ((b2)/(B)) do componente (b2) para o componente (B) seja 0,1/1 a 0,5/1.

(3)

No item acima (1) ou (2), é preferível que a razão em massa ((b2)/(A)) do componente (b2) para o componente (A) seja 0,1/1 a 1/1.

(4)

Em qualquer um dos itens acima (1) a (3), é preferível que o componente (B) tenha uma estrutura núcleo/envoltório tendo uma camada de núcleo e uma ou duas ou mais camadas de envoltório cobrindo a camada de núcleo.

(5)

Em uma camada de núcleo de acordo com o item acima (4), é preferível que a razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) seja de 0,01/1 a 1/1, e que a razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) na camada de envoltório a mais externa seja 0,1/1 a 5/1.

(6)

Na camada de núcleo de acordo com o item acima (4) ou (5), é preferível que o componente (B) possa ser obtido por polimerização da solução de material de polimerização na presença de uma partícula de semente formando uma camada de núcleo e que a partícula de semente seja obtida por polimerização pelo menos de um selecionado dentre o grupo consistindo do componente (bl), componente (b2) e um monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2).

(7)

Em qualquer um dos itens (1) a (6), é preferível que o componente (b2) seja um monômero de vinila tendo um grupo amida secundário, um grupo amida terciário ou ambos os mesmos.

(8)

Em qualquer um dos itens (1) a (7), é preferível que o tamanho médio numérico de partícula do componente (B) seja 20 a 250 nm.

(9)

Em qualquer um dos itens (1) a (8), é preferível que o componente (C) ainda esteja contido.

(10)

Um compósito resistente a solvente pode ser provido a partir da composição de revestimento resistente a solvente.

(H)

Um compósito resistente a solvente contendo a composição de revestimento resistente a solvente pode ser provido.

(12)

A tela contendo o compósito resistente a solvente pode ser provida.

(13)

Um membro de tela exterior contendo o compósito resistente a solvente pode ser provido.

(14)

Um plástico transparente para uma janela contendo o compósito resistente a solvente pode ser provido.

(15)

Um material protetor transparente para geração de energia fotovoltaica contendo o compósito resistente a solvente pode ser provido.

(No caso da composição de revestimento antiestático)

Na composição de revestimento da forma de realização, porque um óxido de metal condutivo pode ser usado como o componente (A), propriedades antiestáticas podem ser adicionadas à película de revestimento resultante. Devido a este fato, a composição de revestimento da forma de realização pode ser usada como uma composição de revestimento antiestático. Um aspecto preferível da composição de revestimento antiestático e um membro usando o mesmo será descrito abaixo. Particularmente, como o componente (A), pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de sílica (Al), fotocatalisador (A3) e óxido de metal condutivo (A4) como mencionado acima é mais preferivelmente usado. As vantagens de usar estes componentes são como mencionadas acima. Se as seguintes condições são atendidas, não somente propriedades anti-incrustação, transparência, hidrofilicidade e similar, mas também desempenho antiestático pode ser adicionado à película de revestimento resultante.

(1) E preferível que a composição de revestimento antiestático preferivelmente compreenda como o componente (A), uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e como o componente (B), a partícula em emulsão de polímero tendo um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 800 nm, em que o componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização da solução de material de polimerização contendo os componentes (bl) a (b4); e a razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) é 150/100 a 450/100.

(2)

(3)

(4)

(5)

Em uma camada de núcleo de acordo com o item acima (4), é preferível que a razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) seja 0,01/1 a 1/1, e que a razão em massa ((b2)/(bl)) do componente (b2) para o componente (bl) na camada de envoltório a mais externa seja 0,1/1 a 5/1.

(6)

Em uma camada de núcleo formada da composição de revestimento antiestático de acordo com o item (4) ou (5), é preferível que o componente (B) possa ser obtido por polimerização da solução de material de polimerização na presença de uma partícula de semente formando uma camada de núcleo, e que a partícula de semente seja obtida por polimerização de pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo do componente (bl), componente (b2) e um monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2).

(7)

Em qualquer um dos itens (1) a (6), é preferível que o componente (b2) seja um monômero de vinila tendo um grupo amida secundário, um grupo amida terciário ou ambos dos mesmos.

(8)

Em qualquer um dos itens (1) a (7), é preferível que o tamanho médio numérico de partícula do componente (B) seja 50 a 350 nm.

(9)

Em qualquer um dos itens (1) a (8), é preferível que o componente (C) mencionado acima esteja ainda contido na composição de revestimento antiestático, em que a razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) é 150/100 a 350/100 e a razão em massa ((C)/(A)) do componente (C) para o componente (A) é preferível 0,5/100 a 110/100.

(10)

Um compósito antiestático pode ser provido a partir da composição de revestimento antiestático.

(11)

Um compósito antiestático contendo a composição de revestimento antiestático pode ser provido.

(12)

A tela contendo o compósito antiestático pode ser provida.

(13)

Um membro de tela exterior contendo o compósito antiestático pode ser provido.

(14)

Um plástico transparente para uma janela contendo o compósito antiestático pode ser provido.

(15)

Um material protetor transparente para geração de energia fotovoltaica contendo o compósito antiestático pode ser formado.

(O caso composição de revestimento resistente ao calor)

Na composição de revestimento da forma de realização, porque um absorvente de infravermelho (A2) pode ser usado como o componente (A), desempenho de resistência ao calor/desempenho de isolamento térmico podem ser também adicionados à película de revestimento resultante. Devido a este fato, a composição de revestimento da forma de realização pode ser usada também como uma composição de revestimento de isolamento térmico. Particularmente, como o componente (A), é mais preferível usar pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de sílica (Al), o absorvente de infravermelho (A2), o fotocatalisador (A3) e o óxido de metal condutivo (A4). Vantagens de usar estes componentes são como mencionadas acima. Se as seguintes condições são atendidas, não somente transparência, hidrofilicidade, propriedades anti-incrustação e similar mas também resistência ao calor/desempenho de isolamento térmico podem ser adicionados à película de revestimento resultante.

(1)

Uma composição de revestimento resistente ao calor compreende como o componente (Al), sílica tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, como o componente (A2), um absorvente de infravermelho tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 2000 nm, e como o componente (B), a partícula em emulsão de polímero tendo um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 800 nm.

(2)

No item acima (1), é preferível que o componente (A2) seja pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de óxido de índio dopado com estanho, óxido de estanho dopado com antimônio, e óxido de cério ou óxido de zinco opcionalmente revestido com sílica.

(3)

No item acima (1) ou (2), é preferível que o componente (B) seja uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização, em uma solução de material de polimerização contendo o componente (bl) para componente (b4), o componente (bl) e do componente (b2).

(4)

Em qualquer um dos itens acima (1) a (3), é preferível que a razão em massa ((A1+A2)/(B)) do teor total do componente (Al) e do componente (A2) para o teor do componente (B) seja de 60/100 a 1000/100; e a razão em massa ((A2)/( B+Al)) do teor do componente (A2) para o teor total do componente (B) e do componente (Al) é 0,05/100 a 40/100.

(5)

Nos itens acima (1) a (4), é preferível que a razão em massa ((b2)/(B)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (B) seja 0,1/1 a 0,5/1.

(6)

Nos itens acima (1) a (5), é preferível que a razão em massa ((b2)/(Al)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (Al) seja 0,1/1 a 1/1.

(7)

Nos itens acima (1) a (6), é preferível que o componente (B) tenha uma estrutura núcleo/envoltório tendo uma camada de núcleo e uma ou duas ou mais camadas de envoltório cobrindo a camada de núcleo.

(8)

Em uma camada de núcleo do item acima (7), é preferível que a razão em massa ((b2)/(bl)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (bl) seja 0,01/1 a 1/1; e na camada de envoltório a mais externa, a razão em massa ((b2)/(bl)) do teor do componente (b2) para o teor do componente (bl) é 0,1/1 a 5/1.

(9)

No item acima (7) ou (8), é preferível que o componente (B) seja uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização do componente (bl) e do componente (b2) em uma solução de material de polimerização contendo uma partícula de semente formando a camada de núcleo; e a partícula de semente é obtida por polimerização de pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo do componente (bl), componente (b2), componente (b5): um monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2).

(10)

Nos itens acima (3) a (9), é preferível que o componente (b2) seja um monômero de vinila tendo um grupo amida secundário, um grupo amida terciário ou ambos dos mesmos.

(H)

Nos itens acima (1) a (10), é preferível que um componente (C) ainda esteja contido, e a razão em massa ((C)/(A1)) do teor do componente (C) para o teor do componente (Al) seja preferivelmente 1/100 a 100/100.

(12)

Nos itens acima (1) a (11), é preferível que o componente (B) tenha um tamanho médio numérico de partícula de 10 a 100 nm.

(13)

Nos itens acima (1) a (12), é preferível que o componente (Al) seja sílica coloidal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a

400 nm.

(14)

Nos itens acima (1) a (13), é preferível que o componente (A2) tenha uma absorbância de 0,1% ou mais dentro da região de comprimento de onda de 1000 nm a 2500 nm.

(15)

Um membro de célula solar tendo um substrato e uma película de revestimento formada por aplicação da composição de revestimento resistente ao calor sobre o substrato, seguido por secagem pode ser provido. O membro de célula solar pode ser usado como um membro protetor de célula solar.

(O caso de composição de revestimento para revestimento duro)

Na composição de revestimento da forma de realização, o tempo de cura não é excessivamente longo e restrição sobre os tipos de substratos a serem usados pode ser facilitada. Além disso, a película de revestimento resultante é excelente em resistência a luz, resistência à abrasão e durabilidade. Porque estas vantagens podem ser adicionadas, a composição de revestimento da forma de realização pode ser preferivelmente usada também como uma composição de revestimento para revestimento duro. Um aspecto preferível da composição de revestimento para revestimento duro e membros usando a mesma serão descritos abaixo. Se as seguintes condições são atendidas, não somente propriedades anti-incrustação, transparência, hidrofilicidade e similar mas também desempenho de revestimento duro podem ser adicionados à película de revestimento resultante.

(1)

E preferível que a composição de revestimento para revestimento duro compreenda como o componente (A), uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e como o componente (B), a partícula em emulsão de polímero tendo um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 800 nm, em que o componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização da solução de material de polimerização contendo os componentes (bl) a (b4); e a razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) é 50/100 a 350/100.

(2)

(3)

(4)

(5)

(6)

No item acima (4) ou (5), é preferível que o componente (B) possa ser obtido por polimerização da solução de material de polimerização na presença de uma partícula de semente formando uma camada de núcleo, e que a partícula de semente seja obtida por polimerização de pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo do componente (bl), componente (b2) e um monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2).

(7)

(8)

Em qualquer um dos itens (1) a (7), é preferível que o tamanho médio numérico de partícula do componente (B) seja de 50 a 250 nm.

(9)

Em qualquer um dos itens acima (1) a (8), é preferível que o componente (C) mencionado acima ainda esteja contido e a razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) seja 50/100 a 350/100, e a razão em massa ((C)/(A)) do componente (C) para o componente (A) de 5/100 a 90/100.

(10)

Um compósito de revestimento duro pode ser provido a partir da composição de revestimento para revestimento duro.

(11)

Um compósito de revestimento duro contendo a composição de revestimento para revestimento duro pode ser provido.

(12)

A tela contendo o compósito de revestimento duro pode ser provida.

(13)

Um membro de tela exterior contendo o compósito de revestimento duro pode ser provido.

(14)

Uma janela de tráfego contendo o compósito de revestimento duro pode ser provida.

(15)

Um material protetor transparente para uso em geração de energia fotovoltaica contendo o compósito de revestimento duro pode ser provido.

A película de revestimento pode ser obtida a partir da composição de revestimento da forma de realização. Um método para formar a película de revestimento da forma de realização não é limitado e um método conhecido para formar uma película de revestimento a partir de uma solução de revestimento também pode ser empregado. Por exemplo, uma película de revestimento pode ser formada por aplicação à composição de revestimento dispersa em água, de um solvente orgânico e similar sobre um objeto sobre o qual a película deve ser formada (por exemplo, um substrato) seguido por secagem. Mais especificamente, uma película de revestimento tendo uma pluralidade de camadas também pode ser formada repetindo um processo de aplicação da composição de revestimento seguido por secagem. Neste caso, a composição de revestimento é primeiro aplicada sobre, por exemplo, um substrato e secada para obter uma camada única. A seguir, a composição de revestimento é ainda aplicada sobre a camada (isto é, re-revestimento) e secada para formar outra camada, e se necessário, esta operação é repetida. Por emprego deste método, a película de revestimento tendo uma pluralidade de camadas empilhadas pode ser obtida.

Outro aspecto da película de revestimento da forma de realização, provê-se uma película de revestimento tendo uma partícula de óxido de metal (A) e uma partícula de polímero (B) circundada pelo componente (A), em que a superfície de uma película formada de componente (B2) extraída a partir do componente (B) por ultrafiltração e tendo um corte molecular de 50.000 ou menos tem um ângulo de contato de água de 30° ou menos.

É satisfatório se a superfície da película seca formada de componente (B2) extraído a partir do componente (B) e tendo um corte molecular de 50.000 ou menos tiver um ângulo de contato de superfície com água maior do que 30° a 20°C, e as composições e similares de componente (A), componente (B) e componente (B2) não sejam particularmente limitadas. Por exemplo, o componente (A) e o componente (B) acima mencionados podem ser empregados. O ângulo de contato de superfície usado aqui se refere a um ângulo entre a película seca e uma linha tangente da gota d’água presente sobre a superfície e pode ser medido por um método de gota.

Em uma película de revestimento, é preferível que o teor do componente (B2) seja 5% em massa ou menos. Se o teor do componente acima mencionado em fase aquosa for controlado para ser 5 % em massa ou menos, o coeficiente de distribuição para um meio de água cai dentro de uma faixa predeterminada. Como um resultado, hidrofílicidade elevada na superfície pode ser mantida mesmo em temperatura elevada, umidade elevada e ainda em temperatura elevada/umidade elevada.

Em uma película de revestimento da forma de realização, uma partícula de polímero (B) pode ser circundada por uma partícula de óxido de metal (A). Como uma estrutura de dispersão, uma estrutura de tipo ilha do mar é preferida. Para descrever mais especificamente o componente (A) pode estar presente como uma fase de mar, enquanto o componente (B) pode estar presente como uma fase de ilha. E preferível que o componente (A) esteja presente entre as partículas do componente (B) na forma da fase contínua, enquanto mutuamente interagindo com o componente (B). Neste caso, a refletividade, propriedades de resistência às intempéries e anti-incrustação da composição de revestimento resultante podem ser melhoradas.

Além disso, o componente (B) é preferivelmente a partícula em emulsão acima mencionada. A partícula em emulsão é preferivelmente a partícula em emulsão acima mencionada de polímero (Bl). Como a partícula em emulsão ou partícula em emulsão de polímero, as acima mencionadas podem ser usadas.

Um aspecto preferível da forma de realização é uma película de revestimento tendo ângulo de contato da água com a superfície de 20° a 20°C.

Além disso, após um teste de temperatura elevada/umidade elevada em que a película é deixada ainda permanecer a 90°C sob as condições de 90% de umidade durante 24 horas, o ângulo de contato com a água da superfície de película de revestimento é preferivelmente 20° ou menos. Após o teste de temperatura elevada/umidade elevada, o ângulo de contato com água da superfície de película de revestimento é medido pelo método descrito nos Exemplos descritos depois. A temperatura e umidade, a serem usadas no teste, podem ser controladas por um método usando um teste de temperatura elevada/umidade elevada conhecido, por exemplo, SH-661 fabricado por ESPEC Corp. Altemativamente, um recipiente vedado carregado com água destilada, aquecido a uma temperatura pré-determinada para produzir vapor saturado, é usado para avaliação <Laminado>

O laminado pode ser obtido a partir da película de revestimento e composição de revestimento da forma de realização. Figura 1 é uma vista em seção esquemática do laminado de acordo com a forma de realização. O laminado 1 da forma de realização tem um substrato 10 e uma película de revestimento 12, que é formada por aplicação da composição de revestimento acima mencionada sobre pelo menos uma das superfícies do substrato 10.

Exemplos do método para formar película de revestimento usando a composição de revestimento da forma de realização incluem, mas não são particularmente limitados a método para formar uma película de revestimento por aplicação da composição de revestimento sobre um substrato seguido por secagem. Neste caso, a concentração de teor de sólidos da composição de revestimento é preferivelmente 0,01 a 60% em massa e mais preferido 1 a 40% em massa. A viscosidade (20°C) da composição de revestimento é preferivelmente 0,1 a 100000 mPa«s e mais preferido 1 a 10000 mPa*s.

Exemplos do método de revestimento de aplicação de uma composição de revestimento a um substrato incluem, mas não são particularmente limitados a, um método de pulverização, um método de revestimento de fluxo, um método de revestimento por fluxo, um método de revestimento por rolo, um método de revestimento por barra, um método de revestimento por escova, um método de revestimento por imersão, um método de revestimento giratório, um método de revestimento por tela, um método de moldagem, um método de impressão de gravura, e um método de impressão flexográfica. Com relação ao laminado da forma de realização, após uma película de revestimento ser formada sobre um substrato, se desejado, um tratamento térmico e raios UV podem ser aplicados. A temperatura do tratamento térmico não é particularmente limitada; no entanto, a temperatura é preferivelmente 20°C a 500°C e mais preferivelmente 40°C a 250°C.

Na forma de realização, a película de revestimento pode ter uma camada única camada ou duas ou mais camadas. Várias camadas são preferíveis porque uma pluralidade de funções pode ser adicionada ao laminado. O laminado tendo uma pluralidade de películas de revestimento é formado, por exemplo, por um método de re-revestimento para uma composição de revestimento como mencionado acima.

O substrato não é particularmente limitado; no entanto, ele preferivelmente contém pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de vidro, uma resina acrílica, uma resina de policarbonato, uma resina de poliolefina cíclica, uma resina de tereftalato de polietileno e um copolímero de etileno-fluoroetileno. A partir destas resinas, um material preferível pode ser apropriadamente selecionado dependendo das propriedades desejadas. Mais especificamente, em vista de transparência, resistência às intempéries e redução no peso, é preferível usar pelo menos um selecionado dentre o grupo consistindo de vidro, uma resina acrílica, uma resina de policarbonato, uma resina de olefina cíclica, uma resina de tereftalato de polietileno e um copolímero de etileno-fluoroetileno ou um material compósito dentre estes. Além disso, em vista de adicionar resistência às intempéries, um agente resistente às intempéries e similar pode ser ainda amassado em uma resina acrílica, uma resina de policarbonato, uma resina de poliolefina cíclica, uma resina de tereftalato de polietileno e um copolímero de etileno-fluoroetileno. O substrato pode ser formada a partir de camada única e de várias camadas.

A espessura da película de revestimento é preferivelmente 0,05 pm a 100 pm e mais preferivelmente 0,1 pm a 10 pm. Em vista de transparência, a espessura é preferivelmente 100 pm ou menos. Para exercer uma função como propriedades de resistência às intempéries e anti-incrustação, a espessura é preferivelmente 0,05 pm ou mais.

No caso onde uma película de revestimento é formada de duas ou mais camadas, a espessura (dn) de cada camada é preferivelmente 10 nm a 800 nm, e a espessura total (Edn) da película de revestimento é mais preferivelmente 100 nm a 4000 nm. Se a razão de espessura cair dentro da faixa acima, uma transmitância de luz maior do que a de um substrato e de uma película de revestimento de camada única pode ser obtida. Se qualquer uma das camadas múltiplas tiver uma espessura (dn) de 10 nm ou mais, a espessura da película pode ser facilmente controlada. Mesmo se uma película de revestimento for formada sobre uma superfície de substrato irregular, a irregularidade da película de revestimento pode ser efetivamente suprimida. Além disso, se qualquer uma das camadas tiver uma espessura (dn) de 800 nm ou menos, uma transmitância de luz elevada pode ser mantida. A espessura total (Ldn) de camadas múltiplas varia dependendo da espessura de cada uma das camadas constituindo a película de revestimento. Se a espessura total (Zdn) for 100 nm ou mais, a espessura da camada única pode ser assegurada e assim a espessura da película pode ser facilmente controlada. Além disso, se a espessura total (Zdn) das camadas múltiplas for 4000 nm ou menos, transmitância de luz de nível elevado pode ser exibida comparada com uma película de revestimento formada da camada única tendo a mesma espessura da película.

No caso onde uma película de revestimento (laminado) formada de duas ou mais camadas, um laminado tendo a espessura total (Zdn) da película de revestimento na faixa de 100 nm a 4000 nm e a espessura (dn) de cada camada na faixa de 10 nm a 800 nm camada é obtido por, por exemplo, um método de suprimir a concentração de teor de sólidos na composição de revestimento da forma de realização e serve como uma matéria prima, por exemplo, dentro de 1 a 10% em massa. Se a concentração de teor de sólidos for suprimida dentro da faixa acima, a espessura total da película de revestimento pode ser controlada dentro da faixa acima.

Os presentes inventores realizaram estudos intensivos sobre a espessura de uma camada de laminado de película de revestimento formada de várias camadas e similar. Como um resultado, os inventores verificaram que se a espessura (dn e Ldn) da camada de película de revestimento for configurada como estando dentro da faixa, pode ser obtida uma transmitância de luz maior do que a do substrato e de uma camada de película de revestimento única. Além disso, os inventores verificaram que a composição de revestimento servindo como uma matéria prima para uma película de revestimento é diluída com água de modo a obter uma concentração de teor de sólidos de preferivelmente 1 a 10% em massa, a transmitância de luz pode ser efetivamente melhorada. As razões para este fato ainda não são elucidadas em detalhes; no entanto, uma das razões pode ser concebível como abaixo.

Mais especificamente, para obter uma película de revestimento tendo a espessura de camada acima mencionada, é desejável que a concentração de teor de sólidos da composição de revestimento, como matéria prima, seja reduzida até, por exemplo, 1 a 10% em massa. Isto é porque se a concentração de teor de sólidos for configurada para estar dentro da faixa acima mencionada, a espessura total do laminado consistindo da pluralidade de camadas pode estar dentro da faixa. Em contraste, o componente (A), o componente (B) e similares têm, de modo concebível, uma concentração e pH em que uma partícula sólida está presente em um estado estavelmente disperso; no entanto, se a composição de revestimento for diluída preferivelmente rapidamente com água ou um solvente de diluição como um álcool, presume-se que o estado de dispersão não está mais estável e certo tipo de associação e agregado mole são formados. Então, se uma película de revestimento consistindo da pluralidade de camadas for formada usando a composição de revestimento tendo uma associação e uma agregação mole estavelmente formadas na mesma, por exemplo, aumenta a porosidade da película de revestimento. Assim, a transmitância de luz aumenta de modo concebível.

Na forma de realização, é preferível que a transmitância de luz do laminado seja maior do que a transmitância de luz do substrato. Devido a este fato, se tal laminado for usado como um membro de um aparelho de conversão de energia como uma célula solar, a produção de energia do aparelho de conversão de energia como uma célula solar pode ser melhorada. Note-se que a transmitância de luz na forma de realização é medida de acordo com o método descrito nos Exemplos descritos depois. A transmitância de luz de um substrato é preferivelmente 30% a 99%, mais preferivelmente, 70% a 99% e ainda preferivelmente 80% a 99%. Se a transmitância de luz de um substrato cair dentro da faixa, a célula solar tendo uma produção praticamente elevada pode ser obtida. A transmitância de luz pode ser medida de acordo com JIS K7105.

Na forma de realização, é preferível que o índice refrativo da película de revestimento seja 0,1 ou mais, menor do que o índice refrativo do substrato. Devido a este fato, a transmitância de luz pode ser melhorada. No caso onde a película de revestimento tem duas ou mais camadas, é preferível que o índice refrativo da camada de superfície a mais externa sobre a qual a luz solar é incidente seja de 0,1 ou mais, menor do que o índice refrativo da camada adjacente à camada de superfície a mais externa. Devido a este fato, o índice refrativo diminui em etapas a partir do lado de luz solar incidente em direção ao substrato. Como um resultado, o reflexo sobre a superfície de película de revestimento é suprimido e a transmitância de luz pode ser melhorada. A refletividade é medida de acordo com o método descrito nos Exemplos descritos depois.

Na forma de realização, é preferível que a diferença no índice refrativo entre a película de revestimento e o substrato seja de 0,2 ou menos. Se a diferença no índice refrativo estiver dentro da faixa ou menos, as mesmas propriedades refrativas como as do substrato podem ser obtidas. Como um resultado, refletividade pode ser aumentada para coletar eficientemente o calor solar. O índice refrativo é medido de acordo com o método descrito nos Exemplos descritos depois.

Na forma de realização, o índice refrativo da película de revestimento é preferivelmente 1,30 a 1,48 e mais preferivelmente 1,34 a 1,43. Além disso, é preferível que tanto o índice refrativo da película de revestimento como o índice refrativo da camada de superfície a mais externa estejam dentro da faixa mencionada acima. Os índices refrativos da película de revestimento e da camada de superfície a mais externa podem ser selecionados dependendo do tipo de substrato, espessura e formato. Se o índice refrativo da película de revestimento for 1,30 ou mais, a resistência da película de revestimento tende a aumentar. Se o índice refrativo da película de revestimento for 1,48 ou menos, o espalhamento de luz pode ser suprimido e, em particular, um valor de turbidez tende a ser possivelmente reduzido.

A razão (Rc/Rb) de refletividade (Rc) da superfície (Sl) de uma película de revestimento oposta a um substrato para refletividade (Rb) da superfície (S2) do substrato em um lado da película de revestimento é preferivelmente 98% ou mais, mais preferivelmente 99,5% ou mais e ainda preferivelmente, 99,7% ou mais (ver Figura 1). Além disso, uma taxa de redução ((Rb-Rc)/Rb) de refletividade (Rc) para refletividade (Rb) é preferivelmente 2% ou menos, preferivelmente 0,5% ou menos, e mais preferivelmente 0,3% ou menos.

No caso onde um laminado é obtido por re-revestimento para ter uma película com uma espessura pré-determinada obtida por revestimento, a refletividade (Rc) da película de revestimento tende a ser menor do que a refletividade (Rb) do substrato por absorção de luz pela própria película de revestimento, o espalhamento de luz na interface entre o substrato e uma película de revestimento e entre películas de revestimento mútuas e similares. Em particular, se um substrato tendo uma refletividade elevada (Rb) é usado, a tendência é significante. O laminado da forma de realização usando uma película de revestimento compósito orgânico/inorgânico, mesmo se as películas de revestimento são empilhadas repetidas vezes por re-revestimento, uma taxa de redução de refletividade (Rc) para refletividade (Rb) pode ser suprimida dentro de 2% ou menos. A refletividade pode ser ainda reduzida; no entanto ela é preferivelmente de 2% ou menos em vista de eficiência de energia.

Além disso, é preferível que a refletividade (Rb) seja de 80% ou mais. Devido a este fato, a luz solar pode ser coletada de modo eficiente e o custo de geração de energia de um aparelho pode ser reduzido.

Como o método para fabricar um laminado de acordo com a forma de realização, qualquer método pode ser usado desde que uma película de revestimento seja formada sobre um substrato, e um método conhecido pode também ser empregado. Preferivelmente, é possível empregar um método de fabricação tendo as etapas de formar uma película de revestimento sobre pelo menos uma das superfícies de um substrato por aplicação da composição de revestimento da forma de realização e aplicando um tratamento térmico de 70°C ou mais, um tratamento de pressurização a 0,1 kPa ou mais ou ambos a uma película de revestimento. Na etapa de formar uma película de revestimento usando a composição de revestimento da forma de realização, como um método para obter uma película de revestimento da forma de realização, o método acima mencionado pode ser empregado. Então, se a película de revestimento resultante for submetida a uma etapa de aplicar um tratamento térmico de 70°C ou mais, um tratamento de pressurização a 0,1 kPa ou mais ou ambos, a película de revestimento pode ser formada mais densamente. Um método para o tratamento térmico não é particularmente limitado e pode ser realizado por uso de, por exemplo, um aparelho conhecido. Um método para tratamento de pressurização não é particularmente limitado e pode ser realizado por uso de, por exemplo, um aparelho conhecido.

O laminado da forma de realização pode ser preferivelmente usado como um membro de um aparelho de conversão de energia. Exemplos do aparelho de conversão de energia incluem um aparelho de geração de energia usando luz solar. O membro de um aparelho de conversão de energia refere-se a um membro que pode ser usado, por exemplo, em geração de energia usando luz solar. Os exemplos do mesmo mais específicos incluem um membro para uso em módulo de célula solar e um membro para uso no sistema de geração de energia térmica solar. Mais especificamente, o laminado pode ser usado em vidro de cobertura, que é um membro protetor para uma superfície de módulo de célula solar, uma folha traseira, que é um membro protetor para uma superfície traseira, um selante, uma armação de molde como uma armação de alumínio, lente Fresnel do concentrador de célula solar e um espelho refletor de luz para uso em geração de energia térmica solar.

Particularmente, o laminado da forma de realização é preferivelmente usado como um membro protetor para um módulo de célula solar. Por exemplo, se um módulo de célula solar de escala grande for fixado no deserto ou similar e usado, as partículas de areia e similares sopradas pelo vento se fixam ao membro protetor do módulo de célula solar, produzindo problemas: a superfície do membro é arranhada, e a transparência e o efeito das propriedades anti-incrustação diminuem. No entanto, na forma de realização, a película de revestimento do laminado é excelente em propriedades antiincrustação, transparência, hidrofilicidade e durabilidade (resistência a choques) e hidrofilicidade na superfície pode ser mantida mesmo em temperatura elevada/umidade elevada, as partículas de areia fixadas, poeira e similares podendo ser facilmente lavados com por exemplo, água da chuva.

<Módulo de célula solar>

O laminado da forma de realização é usado em módulo de célula solar como um membro protetor (aqui a seguir, às vezes simplesmente referido como membro protetor) do módulo de célula solar. Figura 2 é uma vista em seção esquemática mostrando um aspecto da célula solar da forma de realização. Na forma de realização, módulo de célula solar 2 tem um membro protetor 20, uma folha traseira 22, que é disposta de modo a ficar defronte do membro protetor 20 e um elemento de geração de energia 24 disposto entre o membro protetor 20 e a folha traseira 22. Além disso, o elemento de geração de energia 24 é vedado por um selante 26. No módulo de célula solar 2, a luz solar L é incidente sobre o membro protetor 20 e alcança o elemento de geração de energia 24.

O membro protetor 20 é usado para proteger o elemento de geração de energia 24 e similar. O membro protetor 20 tem uma película de revestimento 204 formada sobre a superfície do substrato. Neste caso, o membro protetor 20 serve como um substrato transmissível de luz através do qual a luz solar transmite e simultaneamente pode evitar um aumento da temperatura do módulo de célula solar porque o membro é excelente mas propriedades anti-incrustação e propriedades de bloqueio dos raios infravermelhos acima mencionadas. Assim, é preferível que o membro protetor 20 seja usado de modo que a superfície sobre o qual a película de revestimento 204 é formada corresponda ao lado da superfície do módulo de célula solar 2.

O membro protetor 20 preferivelmente tem desempenho assegurando confiabilidade a longo prazo do módulo de célula solar 2, como resistência às intempéries do tempo, repelência à água, propriedades antiincrustação e resistência mecânica, mesmo se ele for exposto a ar exterior. Além disso, o membro é preferivelmente um membro altamente transparente enquanto minimizando a perda óptica a fim de usar eficientemente a luz solar. Exemplos de um substrato 202 não são particularmente limitados e os acima mencionados podem ser usados. Os exemplos específicos do mesmo incluem, um substrato de vidro; uma película de resina formada de resina de poliéster, uma resina de flúor, uma resina acrílica, um (co)polímero de olefina cíclica, um copolímero de etileno- acetato de vinila e similar. Dentre estes, em vista de resistência às intempéries, resistência a choque e equilíbrio de custo, um substrato de vidro é mais preferível.

No caso onde um substrato de vidro é usado, é preferível que a transmitância de luz total da luz tendo um comprimento de onda 350 a 1400 nm seja de 80% ou mais e mais preferivelmente 90% ou mais. Como tal substrato de vidro, uma placa de vidro coroa branco tendo uma absorção baixa de uma região de infravermelho é geralmente usada. Mesmo no caso de placa de vidro soda-cal, desde que ele tenha uma espessura de 3 mm ou menos, a característica de produção do módulo de célula solar é geralmente menos afetada. Além disso, se um tratamento térmico for aplicado para melhorar a resistência mecânica do substrato de vidro, vidro reforçado pode ser obtido; no entanto, vidro de placa flutuante ao qual nenhum tratamento térmico é aplicado também pode ser usado.

Como a película de resina, em vista de transparência, resistência, custo e similar, uma resina de poliéster é preferível e particularmente, uma resina de tereftalato de polietileno é mais preferível. Além disso, uma resina de flúor extremamente excelente em resistência às intempéries é preferivelmente usada. Os exemplos específicos da mesma incluem um copolímero de tetrafluoreto de etileno- etileno (ETFE), uma resina de fluoreto de polivinila (PVF), uma resina de fluoreto de polivinilideno (PVDF), uma resina de politetrafluoreto etileno (TFE), uma resina tetrafluoreto etileno - hexafluoreto propileno (FEP) e uma resina de clorotrifluoro etileno (CTFE). Em vista de resistência às intempéries, uma resina de fluoreto de polivinilideno é preferível. Em vista de manter tanto resistência às intempéries como resistência mecânica, um copolímero de tetrafluoreto de etileno - etileno, é preferível.

Como uma película de revestimento 204, a película de revestimento acima mencionada pode ser usada. Como um método para formar uma película de revestimento 204 sobre o substrato 202, o método acima mencionado pode ser usado.

A folha traseira 22 não é particularmente limitada; no entanto porque é disposta na camada de superfície a mais externa do módulo de célula solar, a folha traseira preferivelmente tem várias propriedades como resistência às intempéries e resistência mecânica similarmente ao membro protetor 20 acima mencionado. Assim, a folha traseira pode ser formada do mesmo material como usado no membro protetor 20. Mais especificamente, os vários materiais acima mencionados que podem ser usados para o membro protetor 20 (particularmente, substrato 202) podem ser usados para a folha traseira. Particularmente, uma resina de polímero e um substrato de vidro podem ser preferivelmente usados. Dentre estes, devido à resistência às intempéries e custo, a resina de tereftalato de polietileno (PET) é mais preferível.

A folha traseira 22 é projetada levando em conta que nenhuma luz solar passa através da mesma, a transparência (propriedades de transmissão de luz) não é requerida apesar de ser requerida para o membro protetor 20. Então, uma folha de reforço (não mostrada) pode ser fixada a fim de aumentar a resistência mecânica do módulo de célula solar 2 e evitar distorção e empenamento causados por mudança de temperatura. Por exemplo, um painel de aço, um painel de plástico, e um painel FRP (fibra de vidro reforçada com plástico) podem ser preferivelmente usados.

A folha traseira 22 pode ter uma estrutura multi-camadas consistindo de duas ou mais camadas. Como um exemplo da estrutura multicamadas, as estruturas em que uma ou duas ou mais camadas consistindo dos mesmos componentes são simetricamente empilhadas em ambos os lados da camada central podem ser mencionadas. Exemplos de tal estrutura incluem PET/PET depositado com PET/alumina, PVF (nome comercial: Tedlar)/PET/PVF, e PET/folha de AL/PET.

O elemento de geração de energia 24 não é particularmente limitado desde que gere energia usando o efeito fotovoltaico do semiconductor. Exemplos dos mesmos que podem ser usados incluem silício (cristalino único, policristalino, silício amorfo) e um composto semiconductor (família 3-5, família 2-6 e assim em diante). Dentre estes, silício policristalino é preferível em vista do equilíbrio entre desempenho de geração de energia e custo.

Como o selante 26, qualquer membro pode ser usado desde que ele possa vedar o elemento de geração de energia 24 e o tipo de selante não é particularmente limitado. Exemplos do mesmo incluem uma folha de selante de resina contendo uma resina como copolímero de etileno - acetato de vinila (EVA). Este folha de selante de resina, se ela for fundida por aplicação de calor, adere firmemente ao elemento de geração de energia 24 (objeto a ser vedado) e com sucesso veda o mesmo. Se tal selante for usado, uma adesividade excelente ao membro protetor 20 e à folha traseira 22 pode ser exercida enquanto evitando a deformação do elemento de geração de energia.

O método para fabricar a célula solar da forma de realização não é particularmente limitado e um método conhecido pode ser empregado. Por exemplo, a célula solar pode ser fabricada empilhando sequencialmente o membro protetor 20/selante 26/elemento de geração de energia 24/selante 26/folha traseira 22 nesta ordem, e submetendo as camadas empilhada a um processo de laminação a vácuo realizado por um aparelho de laminação a vácuo sob as condições de 150°C durante 15 minutes.

No módulo de célula solar 2, a espessura de cada membro não é particularmente limitada; no entanto, a espessura do membro protetor 20 é preferivelmente 3 mm ou mais em vista de resistência às intempéries e resistência a choques; a espessura da folha traseira 22 é preferivelmente 75 pm ou mais em vista de isolamento; a espessura do elemento de geração de energia 24 é preferivelmente 140 pm a 250 pm em vista de equilíbrio entre desempenho de geração de energia e custo; e a espessura do selante 26 preferivelmente de 250 pm ou mais em vista de propriedades de amortecimento e propriedades de vedação.

Figura 3 é uma vista em perspectiva esquemática de um dispositivo refletor da forma de realização. Um dispositivo refletor 3 tem um espelho refletor de luz 32, um laminado 30 da forma de realização formado sobre o lado da superfície refletora do espelho refletor de luz, um suporte 34 para suportar o espelho refletor 32. O dispositivo refletor emprega o laminado 30 da forma de realização como um membro protetor para o espelho refletor de luz 32 (aqui a seguir, às vezes simplesmente referido como membro protetor). A estrutura do dispositivo refletor 3 não é particularmente limitada e apropriadamente modificada em uma estrutura preferível.

Na forma de realização, um sistema de geração de energia térmica solar pode ser provido, que tem o dispositivo refletor e um aparelho de conversão para converter luz solar coletada pelo dispositivo refletor em energia elétrica. A estrutura do sistema de geração de energia térmica solar não é particularmente limitada e apropriadamente modificada em uma estrutura preferível.

Exemplos

A presente invenção será descrita mais especifícamente por meio dos Exemplos e Exemplos Comparativos abaixo. No entanto, a presente invenção não é limitada aos exemplos abaixo. Note-se que as propriedades físicas foram avaliadas pelos seguintes métodos. Note-se que nos exemplos, salvo especificado em contrário,% e partes são baseadas em massa.

• Tamanho médio numérico de partícula

O tamanho médio numérico de partícula foi medido por diluição de uma amostra adicionado um solvente de modo que o teor de sólidos na amostra foi de 0,1 a 20% em massa e usando um analisador de tamanho de partícula de processo a úmido (Microtrack UPA-9230 fabricado por Nikkiso Co., Ltd.).

• Angulo de contato inicial

Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície (a superfície aplicada com composição de revestimento) da amostra e deixada permanecer 23°C durante um minuto, e a seguir, um ângulo de contato inicial foi medido por um dispositivo de medição de ângulo de contato (medidor de ângulo de contato CA-X150 fabricado por Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

• Turbidez inicial/transmitância de luz

O valor de turbidez (valor de turbidez inicial da amostra foi medido por uso de um medidor (NDH2000 fabricado por Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) de acordo com JIS K7105. Nota-se que a transmitância de luz foi medida de acordo com JIS K.7105.

• Aparecimento da película de revestimento

O aparecimento da amostra (superfície aplicada com composição de revestimento) foi observado por um microscópio (fabricado por Keyence Corporation; Ampliação: 100X). Os resultados são avaliados com a seguir:

o: Microfendas são raramente observadas, ·_: Muitas microfendas são observadas, x; Película não pode ser formada.

A • Angulo de contato após o teste de resistência ao calor

Após uma amostra ser armazenada a 70°C durante 10 dias, uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície de revestimento e deixada permanecer a 23°C durante um minuto, um ângulo de contato foi medido por um dispositivo de medição de ângulo de contato (medidor de ângulo de contato CA-X150 fabricado por Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

A • Angulo de contato após teste em umidade elevada

Após a amostra ser armazenada durante 16 horas em SH-661 (fabricado por ESPEC Corp.) fixada a 40°C e 90% RH, uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície de revestimento e deixada permanecer a 23°C durante um minuto, e então um ângulo de contato foi medido por um dispositivo de medição de ângulo de contato (medidor de ângulo de contato CA-X150 fabricado por Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

• Ângulo de contato após armazenamento em temperatura elevada/umidade elevada.

Após a amostra ser deixada permanecer ainda por 24 horas em SH661 (fabricado por ESPEC Corp.) fixada a 90°C e 90% RH, uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície de revestimento e deixada permanecer a 23 °C durante um minuto, e então um ângulo de contato foi medido por um dispositivo de medição de ângulo de contato (medidor de ângulo de contato CA-X150 fabricado por Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

• Dureza de lápis

A dureza de lápis da amostra foi medida por um medidor de dureza de lápis (fabricado por Tester Sangyo Co., Ltd.).

• Teste de resistência à abrasão

A superfície da amostra foi esfregada reciprocamente 10 vezes por um chumaço de algodão com uma carga de aplicação de 500 g, e então uma mudança foi visualmente observada.

o: Substancialmente sem mudança □: Levemente riscado x: Muitos riscos • Refletividade da película de revestimento

A refletividade absoluta da amostra foi medida por um medidor de espessura de película por espectroscopia de reflexão (FE3000 fabricado por Otsuka Electronics Co., Ltd.).

• Propriedades antiestáticas

O valor da resistência de superfície da superfície foi medido por um medidor de turbidez (NDH2000 fabricado por Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

• Aparência após o teste de resistência a solvente

Após um compósito resistente a solvente ser preparado, a superfície aplicada com composição de revestimento do compósito resistente a solvente foi esfregado reciprocamente 10 vezes por um chumaço de algodão previamente embebido em álcool isopropílico com uma carga de aplicação de 500 g. O estado de uma película de revestimento foi observado por um microscópio (fabricado por Keyence Corporation; ampliação; 100 X). Os resultados foram avaliados como a seguir:

o: Microfendas são raramente observadas,

C: Microfendas são observadas, *: Muitas fendas aparecem.

• Resistência ao calor

Um compósito resistente ao calor foi formado e depois prensado contra uma chapa quente a 150°C durante 10 minutos. Então, um valor de turbidez foi medido por um medidor (NDH2000 fabricado por Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). Os resultados foram avaliados como a seguir:

o: Turbidez < 2,

C: 2 < turbidez <10, χ: 10 < turbidez.

• Resistência a solvente

Um compósito funcional (película de revestimento usada no Exemplo Comparativo) foi preparado. A superfície do mesmo foi esfregada reciprocamente 10 vezes por um chumaço de algodão impregnado com acetona e então a aparência da superfície foi visualmente observada.

Lj; Raramente mudou, o: Levemente mudou, i~: Um pouco alvejada, ^x: Significativamente alvejada.

• Dureza da superfície

A dureza de lápis da amostra (película de revestimento usada no

Exemplo Comparativo) foi medida por um medidor de dureza de lápis (fabricado por Tester Sangyo Co., Ltd.).

• Refletividade do laminado

Usando um espectrofotômetro UV-Vis/NIR (nome comercial V670 fabricado por JASCO Corporation) e um medidor de esfera integrante em larga escala, os valores de refletividade de um substrato e um laminado foram medidos. A medição foi realizada dentro da faixa de um comprimento de onda de 350 nm a 500 nm e o maior valor de refletividade foi empregado como um valor de avaliação. Na medição da refletividade do laminado, como um substrato, um espelho formado por depósito de Al sobre um vidro cal-soda de 3 mm de espessura foi usado. A superfície da placa de vidro cal-soda é revestida com uma composição de revestimento e a refletividade de luz incidente sobre a superfície de película de revestimento foi usada como um valor de medição.

• Espessura da película e índice refrativo

Usando um medidor de espessura de película (nome comercial FE-3000 fabricado por Otsuka Electronics Co., Ltd.), a espessura da película do laminado de película de revestimento e os índices refrativos (comprimento de onda: 633 nm) da película de revestimento e do substrato foram medidos.

• Angulo de contato após o teste de resistência às intempéries

A película de revestimentos empilhada sobre um substrato foi submetida a um teste de resistência às intempéries por um medidor de tempo xenon (fabricado por Suga Test Instruments Co., Ltd., condições do ciclo: intensidade luminosa da lâmpada de xenon: 60 W/m², BPT 63°C, 50% RH, 102 minutos, chuva, 30°C, 95% RH, 18 minutos) durante 2500 horas. Subsequentemente, uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície de revestimento e deixada permanecer a 23 °C durante um minuto, e então um ângulo de contato foi medido por um dispositivo de medição de ângulo de contato (medidor de ângulo de contato CA-X150 fabricado por

Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

• Tamanho de poro, porosidade

A superfície de película de revestimento foi observadas pelo uso de um microscópio eletrônico a uma ampliação de 250.000X para obter o diâmetro máximo e largura de poros na superfície. Além disso, um diâmetro equivalente de círculo circunscrito foi obtido. O volume de uma película de revestimento foi obtido com base na área de quadrados de 1000 nm e uma espessura da película. Com base nos resultados, a porosidade foi calculada.

• Análise de quantidade de carbono (C/Si) de superfície de película de revestimento

A película de revestimento formada sobre um substrato foi feita em pedaços de cerca de quadrados de 3 mm, que foram usados como amostra de medição. A medição foi realizada pelo uso de XPS (PHI Quantera SXM) nas condições: uma fonte de excitação: monoAlka, 15 kV x 6,7 mA, tamanho da análise: 1,5 mm x 100 pm, região de entrada (escâner de inspeção; 0 a 1, 100 eV, escâner estreito; Si, 2p, Cls (K, 2p), Ols, Nals, Ca2p, PassEnergy (escâner de inspeção; 200 eV, escâner estreito; 112 eV). Os resultados foram obtidos por normalização das concentrações relativas (% atômica) de elementos individuais com base em elemento Si como 1 para obter computacionalmente uma razão C/Si.

(Exemplo de produção 1) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-1))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (6 g) foram alimentados, e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C.

Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (150 g), tetraetoxissilano (30 g), feniltrimetoxissilano (145 g) e 3metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (165 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-1) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 70 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 2) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-2))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (4,6 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (86 g), feniltrimetoxissilano (133 g) e 3-metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (137 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-2) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 100 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 3) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-3))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (2,6 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (86 g), feniltrimetoxissilano (133 g) e 3-metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (137 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-3) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 180 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 4) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-4))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (4 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (86 g), feniltrimetoxissilano (133 g) e 3-metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (137 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-4) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 130 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 5) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-5))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotej amento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (10 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C.

Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (86 g), feniltrimetoxissilano (133 g) e 3-metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (137 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-5) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 40 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 6) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-6))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (20 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (86 g), feniltrimetoxissilano (133 g) e 3-metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (137 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-6) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 20 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 7) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-7))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (6 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C.

Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (150 g), tetraetoxissilano (30 g), feniltrimetoxissilano (145 g) e 393 metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de Nisopropilacrilamida (165 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-7) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 70 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 8) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-8))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (6 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (150 g), tetraetoxissilano (30 g), feniltrimetoxissilano (145 g) e 394 metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (150 g), ácido (met) acrílico de etileno glicol (15 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a agitação foi continuada durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-8) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 70 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 18% em massa.

(Exemplo de produção 9) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-9))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (6 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de metacrilato de metila (150 g), tetraetoxissilano (30 g), feniltrimetoxissilano (145 g) e 3-metacriloxi propiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (165 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA RE ASO AP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a cura térmica foi realizada continuamente durante cerca de oito horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-9) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 90 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 5% em massa.

(Exemplo de produção 10) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-10))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (6 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de metacrilato de ciclo-hexila (75 g), metacrilato de metila (75 g), tetraetoxissilano (30 g), feniltrimetoxissilano (145 g) e 3-metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (165 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a cura térmica foi realizada continuamente durante cerca de oito horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-10) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 70 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 5% em massa.

(Exemplo de produção 11) (Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (HB-11))

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (6 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de metacrilato de ciclo-hexila (75 g), metacrilato de metila (75 g), tetraetoxissilano (30 g), feniltrimetoxissilano (145 g) e 3-metacriloxipropiltrimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (165 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, a cura térmica foi realizada continuamente durante cerca de quatro horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100. A concentração de teor de sólido foi controlada para ser 10,0% em massa com água trocada com íons para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (HB-11) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 70 nm. O teor de um componente em fase aquosa foi de 9% em massa.

(Exemplos 1 a 35; Tabelas 1 a 4)

SNOWTEX (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) disperso em água (teor de sólido: 10% em massa), a partícula em emulsão de polímero (HB) obtida em cada dos exemplos de produção e tetraetoxissilano (C) foram misturadas de acordo com as formulações mostradas na tabela 1. Deste modo, as composições de revestimentos foram obtidas. Os tamanhos das partículas de SNOWTEX mostrados na tabela foram os listados em um catálogo.

A composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de vidro (5 cm x 5 cm) por revestimento por imersão, secada a 70°C durante 10 minutos para obter um laminado tendo uma película de revestimento. Os resultados da avaliação dos mesmos são mostrados nas tabelas 1 a 4.

[Tabela 1]

(partes em massa)	Exemplos
1	2	3	4	5	6	7
Partículas de emulsão	HB-1	Tamanho de partícula	70 nm
HB-2	100 nm
HB-4	130 nm
HB-3	180 nm
HB-5	40 nm
HB-6	20 nm
HB-7	70 nm
HB-8	70 nm
HB-9	90 nm
HB-10	70 nm	100	100	100	100	100	100	100
HB-11	70 nm
Teor de componente em fase aquosa (%)	-	5	5	5	5	5	5	5
Sílica coloidal A (STOS)	8 nm	200	300	200	200	250	350	200
Sílica coloidal A (STO)	10 nm
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)		107
MS56C (relativo a 100 g de componente A)			120	80	160	120	120	10
Propriedades físicas da película de revestimento	Propriedades ópticas	Valor de turbidez	0,3	0,2	0,3	0,3	0,3	0,2	0,3
Transmitância total de luz	93,3	93,2	93,3	93,5	93,4	93,1	93,5
índice refrativo	1,42	1,43	1,42	1,44	1,43	1,41	1,44
Refletividade	85,2	85,7	84,3	84,7	85	85,2	85,1
Espessura da película (nm)	500	500	500	500	500	500	500
Hidrofilicidade (ângulo de contato)	Inicial	6	5	4	4	4	6	7
Após teste de temperatura elevada/ umidade elevada	11	13	15	13	11	12	13
Após teste de umidade elevada	8	6	5	4	6	8	9
Teste de resistência ao calor
Composição da superfície	C/Si	-	-	-	-	-	0,39	-

[Tabela 1]- continuação

(partes em massa)	Exemplos
8	9	10	11	12	13
\| Partículas de emulsão	HB-1	Tamanho de partícula	70 nm
HB-2	100 nm
HB-4	130 nm
HB-3	180 nm
HB-5	40 nm
HB-6	20 nm
HB-7	70 nm
HB-8	70 nm
HB-9	90 nm		100			100	100
HB-10	70 nm	100		100	100
HB-11	70 nm
Teor de componente em fase aquosa (%)	-	5	5	5	5	5	5
Sílica coloidal A (STOS)	8 nm	200	200	200	300	400	400
Sílica coloidal A (STO)	10 nm
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)				107	250	107	161
MS56C (relativo a 100 g de componente A)		27	54
Propriedades físicas da película de revestimento	Propriedades ópticas	Valor de turbidez	0,3	0,76	0,4	0,4	0,4	0,3
Transmitância total de luz	93,4	93,6	-	-	93,7	93,8
índice refrativo	1,43	1,44	1,41	1,46	-	-
Refleti vidade	84,9	-	-	-	-	-
Espessura da película (nm)	500	100 0	-		500	200
Hidrofilicidade (ângulo de contato)	Inicial	8	5	5	5	5	5
Após teste temperatura elevada/umida de elevada	10	8	10	12
Após teste de umidade elevada	8	6	6	7	6	6
Teste de resistência ao calor					25	29
Composição da superfície	C/Si	-	-	-	-	-	-

100 [Tabela 2]

(partes em massa)	Exemplos
14	15	16	17	18	19	20	21
1 Partículas de emulsão 1	HB-1	Tamanho de partícula	70 nm		100	100	100	100	100	100	100
HB-2	100 nm
HB-4	130 nm
HB-3	180 nm
HB-5	40 nm
HB-6	20 nm
HB-7	70 nm
HB-8	70 nm
HB-9	90 nm	100
HB-10	70 nm
HB-11	70 nm
Teor de componente em fase aquosa(%)	-	5	18	18	18	18	18	18	18
Sílica coloidal A (STOS)	Tamanho de partícula	8 nm	200
Sílica coloidal A (STO)	10 nm		120	115	120	250	300	350	300
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g componente A)			107	8,9	18	107	107	0,5	107	250
MS56C (relativo a 100 g componente A)
Propriedades físicas da película de revestimento	Propriedade s ópticas	Valor de turbidez	0,78	0,5	0,5	0,4	0,4	0,5	0,4	0,4
Transmitânci a total de luz	93,7	93,1	93,2	93,5	93,5	93,4	93,5	93,2
índice refrativo	1,43	-	-	-	-	-	-	-
Refletividade	-	-	-	-	-	-	-	-
Espessura da película (nm)	1000	500	500	500	500	500	500	500
Hidrofílicida de (ângulo de contato)	Inicial	5	7	10	8	11	6	11	12
Após teste de temperatura elevada/ umidade elevada	9
Após teste de umidade elevada								11
Teste de resistência ao calor		7	19	9	12	23	18	25
Composição da superfície	C/Si	0,45	-	-	-	-	-	-	-

[Tabela 2]-continuação

(partes em massa)	Exemplos
22	23	24	25	26	27	28
EQ	HB-1	Tamanho de	70 nm
3	HB-2	partícula	100 nm
	HB-4		130 nm
	HB-3		180 nm
	HB-5		40 nm		100

101

	HB-6		20 nm			100
HB-7	70 nm				100	100	100
HB-8	70 nm							100
HB-9	90 nm
HB-10	70 nm
HB-11	70 nm	100
Teor de componente em fase aquosa (%)		9	18	18	18	18	18	18
Sílica coloidal A (STOS)	Tamanho de partícula	8 nm	200
Sílica coloidal A (STO)	10 nm		200	200	200	100	200	200
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)				107	107	107	10	50	107
MS56C (relativo a 100 g de componente A)			54
Propriedades físicas da película de revestimento	Propriedades ópticas	Valor de turbidez	0,3	0,3	0,2	0,4	0,5	0,4	0,4
Transmitância total de luz	93,6	93,1	92,9	93,4	93,6	93,5	93,5
índice refrativo	1,43	1,44	1,45	1,41	1,39	1,4	1,4
Refletividade	-	-	-	-	-	-	-
Espessura da película (nm)	500	500	500	500	500	500	500
Hidrofilicidade (ângulo de contato)	Inicial	7	12	15	8	13	10	9
Após teste de temperatura elevada/ umidade elevada	15
Após teste de umidade elevada	9	15	18	14	17	13	12
Teste de resistência ao calor	8	20	23	17	20	19	19
Composição da superfície	C/Si	0,47	-	-	-	-	-	-

[Tabela 3]

(partes em massa)	Exemplo 29	Exemplo 30	Exemplo 31	Exemplo 32
1 Partículas de emulsão	HB-1	70 nm			100
HB-2	100 nm	100			100
HB-4	130 nm		100
HB-3	180 nm
HB-5	40 nm
HB-6	20 nm
HB-7	70 nm
HB-8	70 nm
HB-9	90 nm
HB-10	70 nm

102

HB-ll	70 nm
Teor de componente em fase aquosa(%)	-	18	18	18	18
Sílica coloidal A (STOS)	Tamanho de partícula	8 nm	100	100
Sílica coloidal A (STO)	Tamanho de partícula	10 nm			100	100
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)		69	0	8,9	0,8
MS56C (relativo a 100 g de componente A)
			Valor de turbidez	1	1,5	0,5	1,1
			Transmitância total de luz	93,5	93,6	93,5	93,5
	Propriedades ópticas	índice refrativo	1,4	1,38	-	-
			Refletividade	-	-	-	-
Propriedades físicas da			Espessura da película (nm)	500	500	500	500
Aparência	O	O	O	O
película de			Inicial	12	15	13	12
revestimento	Hidrofilicidade (ângulo de contato)	Após teste de temperatura elevada/ umidade elevada	55	75
	Após teste de umidade elevada	42	45	38	39
			Teste de resistência ao calor	38	40	38	40
	Composição da superfície	C/Si	0,68	0,72	0,58	-

[Tabela 4]

(partes em massa)	Exemplo 33	Exemplo 34	Exemplo 35
Partículas de emulsão	HB-1	70 nm	100
HB-2	100 nm
HB-4	130 nm		100
HB-3	180 nm			100
HB-5	40 nm
HB-6	20 nm
HB-7	70 nm
HB-8	70 nm
HB-9	90 nm
HB-10	70 nm
HB-ll	70 nm
Teor de componente em fase aquosa (%)	-	18	18	18
Sílica coloidal A (STOS)	8 nm
Sílica coloidal A (STO)	10 nm	500	100	100
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)		143	8,9	8,9
MS56C (relativo a 100 g de componente A)
Óxido de titânio (A2)

103

	Propriedades físicas da película de revestimento	Propriedades ópticas	Valor de turbidez	2	1,2	1,5
Transmitância total de luz	92,5	92,6	92,6
índice reffativo	-	-	-
Refletividade	-	-	-
Espessura da película (nm)	200	500	500
A	parência	O	O	O
Hidrofilicidade (ângulo de contato)	Inicial	10	12	11
Após teste de temperatura elevada/ umidade elevada	-	-	-
Após teste de umidade elevada	35	37	37
Teste de resistência ao calor	34	36	38
Composição da superfície	C/Si	-	-	-

Como evidente das tabelas 1 a 4, foi demonstrado que os laminados de exemplos são excelentes pelo menos na transparência e hidrofilicidade e mantém a hidrofilicidade da superfície mesmo em temperatura elevada e similar.

(Estudo sobre o uso de anti-estático; Tabela 5)

SNOWTEX O (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) disperso em água (teor de sólido: 10% em massa, um tamanho médio numérico de partícula: 10 nm), a partícula em emulsão de polímero (HB) obtida em cada dos exemplos de produção e 10 tetraetoxissilano (C) foram misturadas como mostrado na tabela 5 para obter uma composição de revestimento anti-estático. Subsequentemente, a composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de vidro (5 cm x 5 cm) por revestimento por imersão e então secada a 70°C durante 10 minutos para obter um compósito anti-estático. Os resultados da avaliação dos 15 mesmos são mostrados na tabela 5.

[Tabela 5]

(partes em massa)	Exemplos	Exemplo comparativo
36	37	1
Substrato	PC	PC	PC
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	-	-
HB-2	Tamanho de partícula	100 nm	-	100	-

104

Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	18	-
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	10 nm	200	100	-
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	107	8,9	-
Compósito antiestático	Propriedades físicas	Angulo de contato inicial	7	12	78
Valor de turbidez inicial	0,4	1,1	0,4
Aparência	O	O	O
Valor da resistência da superfície (Ω)	10	10¹³	10¹⁵
PC: Resina de policarbonato

Como mostrado na tabela 5, foi demonstrado que os compósitos de exemplos são excelentes pelo menos em valor de hidrofilicidade, transparência, aparência e resistência da superfície.

(Estudo sobre o uso anti-reflexo; Tabela 6)

SNOWTEX O (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) disperso em água (teor de sólido: 10% em massa, um tamanho médio numérico de partícula: 10 nm), a partícula em emulsão de polímero (HB) obtida em cada dos exemplos de produção e tetraetoxissilano (C) foram misturadas como mostrado na tabela 6 para obter 10 uma composição de revestimento anti-reflexo. Subsequentemente, a composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de vidro (5 cm x 5 cm) por revestimento por imersão e então secada a 70°C durante 10 minutos para obter um compósito anti-reflexo. Os resultados da avaliação dos mesmos são mostrados na tabela 6.

[Tabela 6]

(partes em massa)	Exemplos
38	39	40	41	42
Substrato	Vidro	Vidro	Vidro	Vidro	Vidro
HB-1	Tamanho de partícula	130 nm	100	-	-	-	-
HB-2	Tamanho de partícula	100 nm	-		-	100	100
HB-3	Tamanho de partícula	180 nm	-	100	100	-	-

105

Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	18	18	18	18
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	10 nm	100	200	300	20	200
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	8,9	8,9	107	0	69
Compósito anti-reflexo	Propriedades físicas iniciais	Ângulo de contato inicial	8	8	11	28	12
Valor de turbidez inicial	1,1	1,8	1,6	1,8	1,1
Aparência	O	O	O	O	O
Refletividade	2,80%	3,2%	3,30%	4,10%	4,80%

Como mostrado na tabela 6, foi demonstrado que os compósitos de exemplos são excelentes pelo menos em hidrofilicidade, transparência, aparência e refletividade.

(Estudo sobre o uso de revestimento duro; Tabela 7)

SNOWTEX O (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) disperso em água (teor de sólido: 10% em massa, um tamanho médio numérico de partícula: 10 nm), a partícula em emulsão de polímero (HB) obtida em todos os exemplos de produção e tetraetoxissilano (C) foram misturadas como mostrado na tabela 7 para obter 10 uma composição de revestimento para revestimento duro. Subsequentemente, a composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de policarbonato (PC) (5 cm x 5 cm) de 3 mm de espessura por revestimento por imersão e então secada a 70°C durante 10 minutos para obter um compósito de revestimento duro. Os resultados da avaliação dos mesmos são mostrados na 15 tabela 7.

[Tabela 7]

(partes em massa)	Exemplos	Exemplo comparativo
43	44	45	46	2
Substrato	PC	PC	PC	PC	PC
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	100	-	-	-
HB-2	Tamanho de partícula	100 nm	-	-	100	-	-
HB-3	Tamanho de partícula	180 nm	-	-	-	100	-
Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	-	-	-	-

106

Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	10 nm	150	300	20	380	-
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	8,9	8,9	0	0	-
Compósito de revestimento duro	Propriedades físicas iniciais	Ângulo de contato inicial	8	8	28	10	78
Valor de turbidez inicial	0,4	0,5	1,1	1,5	0,4
Aparência	O	O	O	O	O
Resistência à abrasão	0	o	□	X	X
Dureza de lápis	3H	2H	H	F	F
PC: Resina de policarbonato

Como mostrado na tabela 7, foi demonstrado que os compósitos de exemplos são excelentes pelo menos em hidrofilicidade, transparência, aparência e dureza de lápis. Além disso, foi demonstrado que os compósitos de exemplos 43 a 45 têm resistência à abrasão em um nível tão excelente como 5 prático.

(Estudo sobre o uso resistente a solvente; Tabela 8)

SNOWTEX O (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) disperso em água (teor de sólido: 10% em massa, um tamanho médio numérico de partícula: 10 nm), a partícula em 10 emulsão de polímero (HB) obtida em todos os exemplos de produção e tetraetoxissilano (C) foram misturadas como mostrado na tabela 8 para obter uma composição de revestimento resistente à solvente. Subsequentemente, a composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de policarbonato (5 cm x 5 cm) por revestimento por imersão e então secada a 15 70°C durante 10 minutos para obter um compósito resistente a solvente. Os resultados da avaliação dos mesmos são mostrados na tabela 8.

[Tabela 8]

(partes em massa)	Exemplos	Exemplo comparativo
47	48	49	3
Substrato	PC	PC	PC	PC
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	-	100	-
HB-2	Tamanho de partícula	100 nm	-	100	-	-
Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	-	-	-
Sílica coloidal	Tamanho de	10 nm	120	20	500	-

107

A \| partícula \|
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	8,9	0	8,9	-
Compósito resistente a solvente	Propriedades físicas	Ângulo de contato inicial	7	28	10	78
Valor de turbidez inicial	0,5	1,1	0,8	0,4
Aparência	O	O	X	-
Aparência após teste de resistência a solvente	0	□	-	X

Como mostrado na tabela 8, foi demonstrado que os compósitos de exemplos são excelentes pelo menos em hidrofilicidade e transparência. Além disso, foi demonstrado que os compósitos de exemplos 47 e 48 têm aparência (após o teste de resistência a solvente) em um nível tão excelente como prático.

(Estudo sobre o uso resistente ao calor; Tabela 9)

SNOWTEX O (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) disperso em água (teor de sólido: 10% em massa, um tamanho médio numérico de partícula: 10 nm), a partícula em emulsão de polímero (HB) obtida em todos os exemplos de produção e tetraetoxissilano (C) foram misturadas como mostrado na tabela 9 para obter uma composição de revestimento resistente ao calor. Subsequentemente, a composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de vidro (5 cm x 5 cm) por revestimento por imersão e então secada a 70°C durante 10 minutos para obter um compósito resistente ao calor. Os resultados da avaliação dos mesmos são mostrados na tabela 9.

[Tabela 9]

(partes em massa)	Exemplos	Exemplo comparativo
50	51	52	53	4
Substrato	PC	PC	PC	PC	PC
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	100	-	-	-
HB-2	Tamanho de partícula	100 nm	-	-	100	100	-
Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	18	18	18	-
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	10 nm	150	300	20	300	-
Tetraetoxissilano C	20	20	0	0.9	-

108

(relativo a 100 g de componente A)
Compósito resistente ao calor	Propriedades físicas	Ângulo de contato inicial	6	5	28	10	78
Valor de turbidez inicial	0,4	0,4	1,1	0,8	0,4
Aparência	O	O	O	O	O
Aparência após teste de resistência ao calor	o	0	□	u	X
Valor de turbidez após teste de resistência ao calor	0,5	0,5	2,1	2,2	24
PC: Resina de policarbonato

Como mostrado na tabela 9, foi demonstrado que os compósitos de exemplos são excelentes pelo menos em hidrofilicidade, transparência, aparência após teste de resistência ao calor e transparência após teste de resistência ao calor. Em particular, foi demonstrado que os compósitos de exemplos 50 e 51 têm aparência ainda mais excelente após o teste de resistência ao calor.

(Estudo sobre compósito funcional; Tabela 10) (Exemplo 54)

Sílica coloidal (nome comercial SNOWTEX O (A), fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd., disperso em água, teor de sólido: 10% em massa, um tamanho médio numérico de partícula: 10 nm), partícula em emulsão de polímeros (HB-1) e (HB-2) obtida em todos os exemplos de produção e tetraetoxissilano (C) foram misturadas em uma relação molar mostrada na tabela 10 para obter uma composição de revestimento.

A composição de revestimento obtida foi aplicada sobre um substrato (5 cm x 5 cm) formado de resina de policarbonato e tendo uma espessura de 3 mm por revestimento por imersão e então secada a 70°C durante 10 minutos para obter a película de revestimento. Além disso, um tratamento térmico e um tratamento de pressurização foram aplicados em uma película de revestimento pelo uso de aparelho LM50 de laminação a vácuo (fabricado por NPC) em condição 1 (desgaseificado a 150°C durante 5 minutos, submetido a um processo de laminação a vácuo durante 10 minutos em uma pressão de 100

109 kPa) para obter um compósito funcional. Os resultados da avaliação são mostrados na tabela 10.

(Exemplos 55 e 56)

Uma composição de revestimento foi obtida no mesmo modo como no exemplo 54 exceto que a composição foi trocada como mostrado na tabela 10. A composição de revestimento obtida foi aplicada sobre um substrato (5 cm x 5 cm) formado de resina de policarbonato e tendo uma espessura de 3 mm por revestimento por imersão e então secada a 70°C durante 10 minutos para obter a película de revestimento. Além disso, um tratamento térmico foi aplicado a uma película de revestimento em condição 2 (aquecimento em ar, a 150°C durante 30 minutos) no lugar da condição 1 para obter um compósito funcional. Os resultados da avaliação são mostrados na tabela 10.

(Exemplo comparativo 5)

Apenas a resina de policarbonato servindo como um substrato foi usado. A avaliação foi realizada no mesmo modo como no exemplo 1 exceto que a composição foi trocada como mostrado na tabela 10. Os resultados da avaliação são mostrados na tabela 10.

[Tabela 10]

(partes em massa)	Exemplos	Exemplo comparativo
54	55	56	5
Substrato	PC	PC	PC	PC
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	100	100	-
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	10 nm	150	150	150	-
Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	18	18	-
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	12	12	12	-

110

Condição pós-tratamento	1	2	sem	sem
Compósito funcional	Propriedades físicas	Ângulo de contato inicial	12	12	6	78
Valor de turbidez inicial	0,4	0,4	0,4	0,4
Aparência	O	O	O	-
Aparência após teste de resistência a solvente	u	o	□	X
Dureza superficial	2H	H	HB	F

Como mostrado na tabela 10, foi demonstrado que os compósitos de exemplos são excelentes pelo menos em hidrofilicidade, transparência, aparência após teste de resistência a solvente e dureza superficial.

(Produção de laminado; Tabela 11) (Exemplo 57)

Sílica coloidal (nome comercial SNOWTEX-OS (componente (A)) fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) foi diluída com água para preparar uma dispersão de fluido tendo um teor de massa sólida a 10% em massa (tamanho médio numérico de partícula de 8 nm). Para isto, a dispersão em água de cada partícula em emulsão de polímeros sintetizados nos exemplos de produção, foi misturada e componente (C): tetraetoxissilano (nome comercial KBE-04 fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) foi misturada de forma a atender a composição mostrada na tabela 11, e balanceada com água pura de modo que o teor sólido total foi de 4% em massa para obter uma composição de revestimento.

A composição de revestimento resultante foi aplicada sobre a superfície de superfície de vidro de um espelho refletor (formado por deposição com alumínio na superfície traseira (inferior) de uma placa de vidro) por revestimento por imersão de modo a obter uma espessura pré-determinada após secagem. Subsequentemente, o espelho revestido por imersão foi secado a 70°C durante 30 minutos para obter um laminado.

Nota-se que um laminado foi preparado no mesmo modo como

111 acima exceto que o substrato foi mudado de um espelho refletor para uma placa de vidro coroa branca (espessura 2 mm, quadrados de 6 x 6 cm) e submetido à medição de turbidez.

(Exemplo 58)

Um laminado foi preparado no mesmo modo como no exemplo 57 por uso de uma composição de revestimento misturada no mesmo modo como no exemplo 57 exceto que a espessura de uma película de revestimento foi mudada como mostrado na tabela 11. Além disso, uma composição de revestimento foi aplicada sobre a película de revestimento do laminado por revestimento por imersão e secada a 70°C durante 30 minutos para obter um laminado tendo uma pluralidade de camadas de película de revestimento.

(Exemplo 59)

Um laminado foi preparado no mesmo modo como no exemplo 57 por uso de uma composição de revestimento misturada no mesmo modo como no exemplo 57 exceto que a composição foi mudada com a mostrado na tabela 11 exceto que a espessura da película de revestimento foi mudada como mostrado na tabela 11.

(Exemplo 60)

Um laminado foi preparado no mesmo modo como no exemplo 59 por uso de uma composição de revestimento misturada no mesmo modo como no exemplo 59 exceto que a espessura da película de revestimento foi mudada como mostrado na tabela 11. Subsequentemente, a superfície da película de revestimento foi esfregada 100 vezes por papel lixa (#1000) com a aplicação de uma carga de 22 g/cm². A seguir, sobre a película de revestimento tendo uma superfície esfregada, uma composição de revestimento foi aplicada por revestimento por imersão e secada a 70°C durante 30 minutos para obter um laminado tendo uma pluralidade de camadas de película de revestimento.

(Exemplo comparativo 6)

112

Um espelho refletor apenas servindo como um substrato foi usado.

Resultados da avaliação de exemplos e exemplos comparativos são mostrados na tabela 11.

[Tabela 11]

	Exemplos	Exemplo comparativo
57	58	59	60	6
índice refrativo de substrato	1,51	1,51	1,51	1,51	1,51
Película de revestimento	Sílica coloidal A (Tamanho de partícula: 8 nm)	200	200	200	200
HB-9 (Tamanho de partícula: 90 nm)	100	100	100	100
Teor de componente em fase aquosa (%)	5	5	5	5
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	107	107	160	160
Primeira camada do lado do substrato	Espessura (nm)	252	245	250	245
índice refrativo	1,44	1,44	1,47	1,47
Segunda camada do lado do substrato	Espessura (nm)	-	230	-	240
índice refrativo	-	1,44	-	1,47
Espessura total de película de revestimento (nm)	252	475	250	485
Diferença no índice refrativo entre película de revestimento e substrato	0,07	0,07	0,04	0,04
Proprieda des físicas	Ângulo de contato	6	7	5	6	38
Refletividade	90,5	90,6	90.9	90,8	90,8
Valor de turbidez	0,6	0,5	0,4	0,5	-
Aparência	O	O	O	O	-

Como mostrado na tabela 11, foi demonstrado que os laminados de exemplos são excelentes pelo menos na hidrofilicidade, refletividade, transparência e aparência.

(Estudo sobre laminado, transmitância; Tabelas 12, 13) (Exemplo 61)

SNOWTEX OS (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) foi diluído com água para preparar uma dispersão de fluido (teor de sólido: 10% em massa, tamanho médio numérico de partícula: 8 nm). Para isto, a emulsão de polímero (HB1) sintetizado no exemplo de produção 1 foi misturado e tetraetoxissilano (C) (nome comercial KBE-04 fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) foi misturado de acordo com a composição mostrada na tabela 12 para obter uma composição de revestimento.

A composição de revestimento obtida foi aplicada por

113 revestimento giratório sobre uma placa de vidro coroa branca (espessura: 2 mm, quadrados de 6 x 6 cm) de modo a obter uma espessura da película de 250 nm e secada a 70°C durante 30 minutos para obter um laminado.

(Exemplo 62)

Um laminado foi formado usando a composição de revestimento de forma a atender à composição descrita na tabela 12 no mesmo modo como no exemplo 61. A seguir, a composição de revestimento foi aplicada no mesmo modo para formar uma camada sobre o laminado. Deste modo, um laminado de múltiplas camadas foi obtido.

(Exemplo 63)

Um laminado foi obtido no mesmo modo como no exemplo 61 exceto que um líquido de revestimento foi preparado de acordo com a formulação mostrada na tabela 12.

(Exemplo 64)

Uma camada foi repetidamente formada sobre o laminado no mesmo procedimento como no exemplo 61 para obter um laminado tendo 10 camadas formadas de uma composição de revestimento.

(Exemplo 65)

Depois de uma camada única formada de uma composição de revestimento ser empilhada no mesmo modo como no exemplo 61, a superfície da película de revestimento foi esfregada 10 vezes por lã de aço (#7448) com a aplicação de uma carga de 22 g/cm². A seguir, uma camada única formada de uma composição de revestimento foi novamente empilhada para obter um laminado.

(Exemplo 66)

Um laminado foi obtido no mesmo modo como no exemplo 61 exceto que um substrato foi mudado para uma resina de policarbonato chamada

IUpilon (espessura: 3 mm, quadrados de 5 x 5 cm) fabricada por Mitsubishi

114

Engineering-Plastics Corporation.

(Exemplo comparativo 7)

Os resultados da avaliação de apenas uma placa de vidro coroa branca servindo como um substrato são mostrados na tabela 13.

(Exemplo comparativo 8)

Os resultados da avaliação de apenas uma resina de policarbonato servindo como um substrato são mostrados na tabela 13.

(Exemplo comparativo 9)

SNOWTEX OS (componente (A)) (nome comercial, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) foi diluída com água para preparar uma dispersão de fluido (teor de sólido: 10% em massa, tamanho médio numérico de partícula: 8 nm). Para isto, uma emulsão de polímero sintetizado em um exemplo de produção foi misturado de acordo com a composição mostrada na tabela 13 e 30 partes de metiltrimetoxissilano (C) (nome comercial KBM-13 fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) foram adicionados para obter uma composição de revestimento.

A composição de revestimento resultante foi aplicada sobre uma placa de vidro coroa branca (espessura: 2 mm, quadrados de 6 x 6 cm) de modo a obter uma espessura da película de 250 nm por revestimento giratório e então 2 0 secada a 70°C durante 30 minutos para obter um laminado.

(Exemplo comparativo 10)

Revestimento foi ainda repetido sobre o laminado obtido no exemplo comparativo 9 no mesmo modo. No entanto, um laminado de duas camadas não foi obtido desde um líquido de revestimento foi repelido.

5 Resultados da avaliação de exemplos e exemplos comparativos são mostrados nas tabelas 12 e 13.

[Tabela 12]

115

(partes em massa)	Exemplos
61	62	63	64	65	66
Substrato (*)	Vidro	Vidro	Vidro	Vidro	Vidro	PC
Película de revestim ento	índice refrativo	1,51	1,51	1,51	1,51	1,51	1,58
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	8 nm	200	200	200	200	200	200
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	100	100	100	100	100
Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	18	18	18	18	18
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	0	0	107	107	107	107
Primeira camada	Espessura da película	nm	220	220	250	250	250	280
índice refrativo		1,41	1,41	1,39	1,39	1,39	1,39
Segunda camada	Espessura da película	nm	-	220	250	250	250	300
índice refrativo		-	1,41	1,39	1,39	1,39	1,39
Décima camada	Espessura da película	nm	-	-	-	250	-	-
índice refrativo		-	-	-	1,39	-	-
Total espessura da película		nm	220	440	500	2500	500	580
Diferença no índice refrativo			0,1	0,1	0,12	0,12	0,12	0,19
Proprie dades físicas	Ângulo de contato	5,2	5	3,9	8,5	5	14,8
Transmitância total de luz	92,84	93,14	94,08	93,36	93,73	90,24
Valor de turbidez	0,2	0,18	0,23	0,85	0,66	1,49
Aparência	O	O	O	O	O	O
* Vidro: vidro coroa branco, PC: policarbonato

[Tabela 13]

(partes em massa)	Exemplo comparativo
Ί	8	9	10
Substrato (*)	Vidro	PC	Vidro	Vidro
Película de revestimento	índice refrativo	1,51	1,58	1,51	1,51
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	8 nm	-	-	200	200
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	-	-	0	0
Teor de componente em fase aquosa	(%)		-	-	-	-
Tetraet (relativo a 100	oxissilano C g de componente A)	-	-	240	240
Primeira camada	Espessura da película	nm			300	300
índice refrativo				1,44	1,44
Segunda camada	Espessura da película	nm			-	-
índice refrativo				-	-
Décima camada	Espessura da película	nm			-	-
índice refrativo				-	-
Total espessura da película		nm			300	-

116

	Diferença no índice reffativo	-	-	0,07	-
Propriedade s físicas	Ângulo de contato	35	80	73	-
Transmitância total de luz	92,51	89,23	93,93	-
Valor de turbidez	0,12	0,51	0,07	-
Aparência	-	-	O	X
♦Vidro: vidro coroa branco, PC: policarbonato

Como mostrado na tabelas 12 e 13, foi demonstrado que os laminados de exemplos são excelentes pelo menos em hidrofilicidade, transparência e aparência. Em contraste, foi demonstrado que os laminados de exemplos comparativos são inferiores em pelo menos um dentre hidrofilicidade, transparência e aparência.

(Estudo sobre composição de revestimento aquoso (óxido de titânio usado em combinação); Tabela 14) (Exemplos 67 a 69)

Sílica coloidal (nome comercial SNOWTEX-OS (componente (A)) fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) foi diluída com água para preparar uma dispersão de fluido tendo um teor de massa sólida a 10% em massa (um tamanho médio numérico de partícula de 8 nm). Para isto, um fotocatalisador (nome comercial TSK-5 fabricado por Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd., um tamanho médio numérico de partícula: 10 nm, hidrossol de óxido de titânio revestido com sílica) (componente (A3)) e uma dispersão em água de uma partícula em emulsão de polímero sintetizado em um exemplo de produção foram misturadas de acordo com a composição mostrada na tabela 14 para obter uma composição de revestimento. A composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de vidro coroa branca (espessura: 2 mm, quadrados de 6 x 6 cm) por revestimento giratório de modo a obter uma espessura da película de 250 nm e secada a 70°C durante 30 minutos para obter um laminado consistindo da placa de vidro coroa branca servindo como um substrato e uma película de revestimento formada sobre o mesmo.

(Exemplos 70 e 71)

117

Uma composição de revestimento foi obtida no mesmo modo como no exemplo 67 exceto que tetraetoxissilano (nome comercial KBE-04 fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.,) foi ainda adicionado como um componente (C) de acordo com a composição mostrada na tabela 14. Um 5 laminado foi obtido no mesmo modo como no exemplo 67 exceto que a composição de revestimento foi usada.

(Exemplo 72)

Uma composição de revestimento foi obtida no mesmo modo como no exemplo 67 exceto que a mistura foi feita de modo a obter a 10 composição descrita na tabela 14. Um laminado foi obtido no mesmo modo como no exemplo 67 exceto que a composição de revestimento foi usada.

Os resultados de exemplos e exemplos comparativos são mostrados na tabela 14.

[Tabela 14]

(partes em massa)	Exemplos
67	68	69
Sílica coloidal Al	Tamanho de partícula	8 nm	100	200	200
Sol de óxido de titânio A3	Tamanho de partícula	10~30nm	5	5	10
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	100	100
Teor de substância de peso molecular baixo	(%)		18	18	18
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	0	0	0
A1/(A1+A3)	Razão em massa	95,3/100	97,6/100	95,3/100
C/Al	Razão em massa	0/100	0/100	0/100
Inicial	Ângulo de contato	12	7	8
Valor de turbidez	0,67	0,33	0,4
índice refrativo	1,4	1,4	1,43
Após o teste de resistência às intempéries	Ângulo de contato	15	10	8
Após o teste de aquecimento	Ângulo de contato	30	25	20

[Tabela 14] -continuação

(partes em massa)	Exemplos
7Õ \| 71 \| 72

118

Sílica coloidal Al	Tamanho de partícula	8 nm	200	200	100
Sol de óxido de titânio A3	Tamanho de partícula	10—30 nm	3	5	0
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	100	100
Teor de substância de peso molecular baixo	(%)		18	18	18
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	107	107	0
A1/(A1+A3)	Razão em massa	98,5/100	97,6/100	0/100
C/Al	Razão em massa	50/100	50/100	0/100
Inicial	Ângulo de contato	7	6	13
Valor de turbidez	0,6	0,65	0,5
índice refrativo	1,46	1,47	1,39
Após o teste de resistência intempéries	Ângulo de contato	7	5	22
Após o teste de aquecimento	Ângulo de contato	18	17	38

Como mostrado na tabela 14, foi demonstrado que os laminados de exemplos são excelentes pelo menos na hidrofilicidade inicial, transparência e índice refrativo; ao mesmo tempo, excelentes na hidrofilicidade após o teste de resistência às intempéries e o teste de aquecimento.

(Estudo sobre a película de revestimento funcional; Tabela 15) (Exemplo 73)

SNOWTEX-OS” (componente (A)) (nome comercial fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) foi diluído com água para preparar uma dispersão de fluido tendo um teor de massa sólida a 10% em massa (tamanho 10 médio numérico de partícula de 8 nm). Para isto, uma emulsão de polímero sintetizado em um exemplo de produção foi misturada de acordo com a formulação mostrada na tabela 15 para obter uma composição de revestimento.

A composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de vidro coroa branca (espessura: 2 mm, quadrados 6x6 cm) por revestimento 15 giratório de modo a obter uma espessura da película de 250 nm e secada a 70°C durante 30 minutos para obter uma película de revestimento funcional.

(Exemplo 74)

119

Uma película de revestimento funcional foi obtida no mesmo modo como no exemplo 74 exceto que uma composição de revestimento foi obtida de acordo com a formulação mostrada na tabela 15.

(Exemplo 75)

(Exemplo 76)

SNOWTEX-OS” (componente (A)) (nome comercial fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd.) foi diluído com água para preparar uma dispersão de fluido tendo um teor de massa sólida a 10% em massa (tamanho médio numérico de partícula de 8 nm). Para isto, uma emulsão de polímero sintetizado em um exemplo de produção foi misturado e tetraetoxissilano (C) (nome comercial KBE-04 fabricado por Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.,) foi misturado de acordo com a formulação mostrada na tabela 15 para obter uma composição de revestimento.

A composição de revestimento obtida foi aplicada sobre uma placa de vidro coroa branca (espessura: 2 mm, quadrados 6x6 cm) por revestimento giratório de modo a obter uma espessura da película de 250 nm e secada a 70°C durante 30 minutos para obter uma película de revestimento funcional.

(Exemplo 77)

(Exemplo 78)

120 (Exemplo comparativo 11)

Avaliação foi feita por usar apenas uma placa de vidro servindo como um substrato.

[Tabela 15]

(partes em massa)	Exemplos
73	74	75	76
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	8 nm	100	100	200	200
HB-2	Tamanho de partícula	100 nm	10	0	0	0
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	0	100	100	100
Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	18	18	18
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)		⁰	0	0	160
Película de revestimento funcional	Espessura da película	nm	500	500	500	500
índice refrativo	1 1,35	1,37	1,4	1,41
Propriedades físicas	Ângulo de contato	° 4,8	20	5,2	3,9
Transmitância total de luz	% 94,5	94,3	93,9	94,1
Diâmetro equivalente círculo	nm	30	80	200	300
Porosidade	%	60	29	13	36

[Tabela 15] -continuação

(partes em massa)	Exemplos	Exemplo comparativo
77 200	78 50	11
Sílica coloidal A	Tamanho de partícula	8 nm	-
HB-2	Tamanho de partícula	100 nm	0	0	-
HB-1	Tamanho de partícula	70 nm	100	100	-
Teor de componente em fase aquosa	(%)		18	18
Tetraetoxissilano C (relativo a 100 g de componente A)	¹⁰⁷	0	-
Película de revestimento funcional	Espessura da película	nm	500	500	0
índice refrativo		1,39	1,49	1,51
	Ângulo de contato	O	5,9	60	40
	Transmitância total de luz	%	93,7	92,7	92,5
Propriedades físicas	Círculo de diâmetro equivalente	nm	300	5	-
	Porosidade	%	17	2	-

Como mostrado na tabela 15, foi demonstrado que os laminados de exemplos são excelentes no índice refrativo, transparência e aparência.

121 (Exemplo de produção 12)

Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (TB-1)

A um vaso de reação tendo um condensador de refluxo, um tanque de gotejamento, um termômetro e um agitador, água trocada com íons (1600 g) e ácido dodecil benzeno sulfônico (4 g) foram alimentados e aquecidos para aumentar a temperatura a 80°C sob agitação. Para isto, uma mistura de solução de dimetildimetoxissilano (185 g) e feniltrimetoxissilano (117 g) foi adicionada em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C e a seguir a agitação foi continuada durante cerca de uma hora enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Subsequentemente, uma mistura de solução de acrilato de butila (150 g), tetraetoxissilano (30 g), feniltrimetoxissilano (145 g) e 3-metacriloxipropil trimetoxissilano (1,3 g) e uma mistura de solução de dietilacrilamida (165 g), ácido acrílico (3 g), um emulsificador reativo (nome comercial ADEKA REASOAP SR-1025, fabricado por ADEKA Corporation, uma solução aquosa contendo 25% em massa de teor de sólidos) (13 g), uma solução aquosa de persulfato de amônio a 2% em massa (40 g) e água trocada com íons (1900 g) foram simultaneamente adicionadas em gotas durante cerca de duas horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. Além disso, como cura térmica, a agitação foi subsequentemente realizada durante cerca de 15 horas enquanto mantendo a temperatura do vaso de reação a 80°C. A seguir, a temperatura do vaso de reação foi resfriada a temperatura ambiente e a filtração foi realizada por uma tela de arame de malha 100 para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-1) tendo um teor sólido de 14,03% em massa, um componente em fase aquosa de 2,76% em massa e tendo um tamanho médio numérico de partícula de 131 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-1)

122 foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H-

1) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-1) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados 5x5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-1). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-1) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 57°.

(Exemplo de produção 13)]

Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (TB-2)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e o tempo de cura térmica descrito no exemplo de produção 12 foi fixado para ser 8 horas para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-2) tendo um teor sólido de 14,05% em massa, um componente em fase aquosa de 4,57% em massa e um tamanho médio numérico de partícula de 132 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-2) foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H-

2) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-2) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-2). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-2) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 56°.

(Exemplo de produção 14)

Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero

123 (TB-3)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e o tempo de cura térmica descrito no exemplo de produção 12 foi fixado para ser 4 horas para obter uma dispersão em água da partícula em 5 emulsão de polímero (TB-3) tendo um teor sólido de 14,08% em massa, um componente em fase aquosa de 8,91% em massa e um tamanho médio numérico de partícula de 131 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-3) foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H10 3) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-3) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-3). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-3) assim obtida e deixada 15 permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 58°.

(Exemplo de produção 15)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e o tempo de cura térmica descrito no exemplo de produção 12 foi 20 fixado para ser 3,5 horas para obter uma dispersão em água de uma partícula em emulsão de polímero (TB-4) tendo um teor sólido de 14,02% em massa, um componente em fase aquosa de 11,46% em massa e um tamanho médio numérico de partícula de 131 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-4)

5 foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H4) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-4) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de

124 teste em forma de película (1-4). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-4) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 57°.

(Exemplo de produção 16)

Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (TB-5)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e o tempo de cura térmica descrito no exemplo de produção 12 foi fixado para ser 3 horas para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-5) tendo um teor sólido de 14,05% em massa, um componente em fase aquosa de 14,12% em massa e um tamanho médio numérico de partícula de 130 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-5) foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H-

5) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-5) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-5). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-5) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 57°.

(Exemplo de produção 17)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e o tempo de cura térmica descrito no exemplo de produção 12 foi fixado para ser 2,5 horas para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-6) tendo um teor sólido de 14,07% em massa, um componente em fase aquosa de 16,34% em massa e um tamanho médio

125 numérico de partícula de 130 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-6) foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H-

6) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-6) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-6). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-6) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 58°.

(Exemplo de produção 18)

Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (TB-7)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e o tempo de cura térmica descrito no exemplo de produção 12 foi fixado para ser 2 horas para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-7) tendo um teor sólido de 14,06% em massa, um componente em fase aquosa de 18,19% em massa e um tamanho médio numérico de partícula de 129 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-7) foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H-

7) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-7) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-7). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-7) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 57°.

126 (Exemplo de produção 19)

Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (TB-8)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e o tempo de cura térmica descrito no exemplo de produção 12 foi fixado para ser uma hora para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-8) tendo um teor sólido de 14,09% em massa, um componente em fase aquosa de 21,93% em massa e um tamanho médio numérico de partícula de 130 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-8) foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H-

8) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-8) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-8). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-8) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 56°.

(Exemplo de produção 20)

Síntese de dispersão em água de partícula em emulsão de polímero (TB-9)

Polimerização foi realizada no mesmo método como no exemplo de síntese 1 e a cura térmica descrita no exemplo de produção 12 não foi realizada para obter uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-9) tendo um teor sólido de 14,11% em massa, um componente em fase aquosa de 28,66% em massa e um tamanho médio numérico de partícula de 128 nm.

A dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-9)

127 foi filtrada pelo uso de um aparelho de ultrafiltração para obter um filtrado (H-

9) contendo o componente em fase aquosa. O filtrado obtido (H-9) foi aplicado sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por imersão e então secado a 90°C durante 24 horas para obter uma placa de teste em forma de película (1-9). Uma gota de água deionizada foi colocada sobre a superfície da película da placa de teste (1-9) assim obtida e deixada permanecer ainda a 20°C durante 10 segundos. O ângulo do contato inicial como então medido foi de 58°.

(Exemplo 79)

Para uma dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-1) (100 g) sintetizado no exemplo de produção 12, 100 g de sílica coloidal dispersa em água (nome comercial SNOWTEX O, fabricado por Nissan Chemical Industries, Ltd., teor de sólido: 20% em massa) tendo um tamanho médio numérico de partícula de 12 nm foram misturados e agitados para obter uma composição aquosa de compósito orgânico/ inorgânico (E-l).

A composição aquosa de compósito orgânico/ inorgânico (E-l) foi aplicada sobre uma placa de vidro soda-cal (quadrados de 5 x 5 cm) por revestimento por barra de modo a obter uma espessura da película de 1 pm e depois secada a 70°C durante 30 minutos para obter uma placa de teste (G-l) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-l). O ângulo do contato inicial da placa de teste obtida (G-l) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo 80)

Uma placa de teste (G-2) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-2) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-2) sintetizado no exemplo de produção 13 foi usada no lugar da partícula em emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste

128 obtida (G-2) tendo uma película de compósito orgânico/inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo 81)

Uma placa de teste (G-3) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-3) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-3) sintetizado no exemplo de produção 14 foi usada no lugar da partícula em emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste obtida (G-3) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo 82)

Uma placa de teste (G-4) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-4) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-4) 15 sintetizado no exemplo de produção 15 foi usada no lugar da partícula em emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste obtida (G-4) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo 83)

Uma placa de teste (G-5) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-5) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-5) sintetizado no exemplo de produção 16 foi usada no lugar da partícula em ♦ emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste

5 obtida (G-5) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo 84)

Uma placa de teste (G-6) tendo uma película de compósito

129 orgânico/ inorgânico (F-6) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-6) sintetizado no exemplo de produção 17 foi usada no lugar da partícula em emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste obtida (G-6) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo 85)

Uma placa de teste (G-7) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-7) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-7) sintetizado no exemplo de produção 18 foi usada no lugar da partícula em emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste obtida (G-7) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo comparativo 12)

Uma placa de teste (G-8) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-8) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-8) sintetizado no exemplo de produção 19 foi usada no lugar da partícula em emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste obtida (G-8) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

(Exemplo comparativo 13)

Uma placa de teste (G-9) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico (F-9) foi obtida pelo mesmo método como no exemplo 79 exceto que a dispersão em água da partícula em emulsão de polímero (TB-9) sintetizado no exemplo de produção 20 foi usada no lugar da partícula em emulsão de polímero (TB-1). O ângulo do contato inicial da placa de teste ’ 25

130 obtida (G-9) tendo uma película de compósito orgânico/ inorgânico com água foi de 7,2°.

Os resultados de exemplos e exemplos comparativos são mostrados na tabela 16.

	Tabela	16]
	Tempo de cura térmica (h)	Teor de componente em fase aquosa (% em massa)	Ângulo de contato após teste de temperatura elevada/ umidade elevada (°)	Ângulo de contato inicial (°)
Exemplo 79	15	2,76	11	7
Exemplo 80	8	4,57	13	7
Exemplo 81	4	8,91	15	7
Exemplo 82	3,5	11,46	23	7
Exemplo 83	3	14,12	31	7
Exemplo 84	2,5	16,34	42	7
Exemplo 85	2	18,19	47	7
Exemplo comp. 12	1	21,93	52	7
Exemplo comp. 13	0	28,66	55	7

Como mostrado na tabela 16, foi demonstrado que as películas de revestimento de exemplos podem manter a hidrofilicidade da superfície pelo menos mesmo em temperatura elevada/umidade elevada.

O presente pedido é baseado no pedido de patente japonesa 2009058665 depositado em 11 de março de 2009 junto ao Japanese Patent Office, pedido de patente japonesa 2009-270364 depositado em 27 de novembro de 2009 junto ao Japanese Patent Office, pedido de patente japonesa 2009-270375 depositado em 27 de novembro de 2009 junto ao Japanese Patent Office e pedido de patente japonesa 2010-045505 depositado em 2 de março de 2010 junto ao Japanese Patent Office, e os conteúdos dos mesmos são incorporados aqui por referência.

APLICABILIDADE INDUSTRIAL

A película de revestimento e a composição de revestimento de acordo com a presente invenção são excelentes em propriedades antiincrustação, transparência, hidrofilicidade e durabilidade (resistência a choque) e manter a hidrofilicidade da superfície mesmo em temperatura

131 elevada/umidade elevada e assim são usadas como um membro de vários aparelho de produção de energia e similares como um módulo de célula solar e um sistema de geração de energia térmica solar, e podem ser preferivelmente usadas como um membro tendo transmitância excelente de luz solar e propriedades de coleta de luz solar, como um membro protetor de uma célula solar e um membro de um espelho refletor de luz para geração de energia térmica solar.

Lista de Sinais de Referência ··· Laminado ··· Substrato ··· Película de revestimento ··· Módulo de célula solar ··· Membro protetor ··· Folha traseira ··· Elemento gerador de energia ··· Selante

202 ··· Substrato

204 ··· Película de revestimento ··· Dispositivo refletor ··· Laminado (membro protetor) ··· Espelho refletor de luz ··· Suporte

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Composição de revestimento, caracterizada pelo fato de compreender:

(A) uma partícula de óxido de metal tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, em que a partícula de óxido de metal é, pelo menos, uma selecionada dentre o grupo consistindo em dióxido de silício, óxido de alumínio, óxido de antimônio, óxido de titânio, óxido de índio, óxido de estanho, óxido de zircônio, óxido de chumbo, óxido de ferro, silicato de cálcio, óxido de magnésio, óxido de nióbio e óxido de cério, e (B) uma partícula de polímero, em que a partícula de polímero é uma partícula em emulsão selecionada dentre o grupo consistindo em uma emulsão acrílica, uma emulsão de estireno, uma emulsão de acrilestireno, uma emulsão de acril silício, uma emulsão de silício, e uma emulsão de resina de flúor, e em que um teor de um componente em fase aquosa no componente (B), representado pela seguinte expressão (I), é 15% em massa ou menos:

o teor do componente em fase aquosa (%) = (massa seca de um filtrado obtido por filtração do componente (B) em um corte molecular de 50.000) x (100 - massa total de teor sólido)/(massa do filtrado - massa seca do filtrado) x 100/a massa total de teor sólido (I).
2. Composição de revestimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o componente (B) é uma partícula em emulsão de polímero (B1) obtido, em uma solução de material de polimerização compreendendo:

um componente (b1): um composto de silício hidrolisável, um componente (b2): um monômero de vinila, um componente (b3): um emulsificador, e um componente (b4): água,

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 12/96 por polimerização do componente (bl) e do componente (b2).
3. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 2, caracterizada pelo fato de que o componente (B) tem um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 800 nm.
4. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 3, caracterizada pelo fato de que o componente (b2) é um monômero de vinila tendo pelo menos um grupo funcional selecionado dentre o grupo consistindo em um grupo hidróxi, um grupo carboxila, um grupo amida, um grupo amino e um grupo éter.
5. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 4, caracterizada pelo fato de que uma razão em massa ((b2)/(B)) do componente (b2) para o componente (B) é 0,01 a 1.
6. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 5, caracterizada pelo fato de que uma razão em massa ((b2)/(A)) do componente (b2) para o componente (A) é 0,01 a 1.
7. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizada pelo fato de que o componente (B) tem uma estrutura núcleo/envoltório compreendendo uma camada de núcleo e uma ou duas ou mais camadas de envoltório cobrindo a camada de núcleo.
8. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 7, caracterizada pelo fato de que uma razão em massa ((b2)/(b1)) do componente (b2) para o componente (b1) em uma camada de núcleo é 0,01 a 1, e a razão em massa ((b2)/(b1)) do componente (b2) para o componente (b1) uma camada mais externa das camadas de envoltório é 0,01 a 5.
9. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 8, caracterizada pelo fato de que o componente (B) é uma

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 13/96 partícula em emulsão de polímero obtida por polimerização da solução de material de polimerização na presença de uma partícula de semente formando a camada de núcleo, e a partícula de semente é obtida por polimerização de pelo menos um componente selecionado dentre o grupo consistindo no componente (b1), o componente (b2) e um componente (b5): outro monômero de vinila copolimerizável com o componente (b2).
10. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 9, caracterizada pelo fato de que o componente (b2) é um monômero de vinila tendo um grupo amida secundário, um grupo amida terciário ou ambos destes.
11. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizada pelo fato de que uma razão em massa ((A)/(B)) do componente (A) para o componente (B) é 110/100 a 480/100.
12. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo fato de compreender um componente (C): pelo menos um composto de silício hidrolisável selecionado dentre o grupo consistindo em compostos representados pelas seguintes fórmulas (1), (2) e (3):

R¹nSiX4-n (1) em que R¹ representa um átomo de hidrogênio, ou um grupo alquila, grupo alquenila, grupo alquinila ou grupo arila tendo 1 a 10 átomos de carbono e opcionalmente tendo um grupo halogênio, um grupo hidróxi, um grupo mercapto, um grupo amino, um grupo (met)acriloíla ou um grupo epóxi; X representa um grupo hidrolisável; e n é um inteiro de 0 a 3;

X3Si-R²n-SiX3 (2) em que X representa um grupo hidrolisável; R² representa um grupo alquileno ou grupo fenileno tendo 1 a 6 átomos de carbono; e n é 0 ou 1;

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 14/96

R³-(O-Si(OR³)2)n-OR³ (3) ο

em que R representa um grupo alquila tendo 1 a 6 átomos de carbono; e n é um inteiro de 2 a 8.
13. Composição de revestimento de acordo com a reivindicação

12, caracterizada pelo fato de que uma razão em massa ((C)/(A)) do componente (C) para o componente (A) é 1/100 a 150/100.
14. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 13, caracterizada pelo fato de que o componente (B) tem um tamanho médio numérico de partícula de 10 nm a 100 nm.
15. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizada pelo fato de que o componente (A) compreende:

um componente (A1): sílica tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e um componente (A2): um absorvente de infravermelho tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 2000 nm;

uma razão em massa ((A1+A2)/(B)) de um teor total do componente (A1) e do componente (A2) para um teor do componente (B) é 60/100 a 1000/100; e uma razão em massa ((A2)/(A1+B)) do teor do componente (A2) para um teor total do componente (B) e do componente (A1) é 0,05/100 a 40/100.
16. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 15, caracterizada pelo fato de que o componente (A) compreende:

um componente (A1): sílica tendo um tamanho médio numérico de partícula de 1 nm a 400 nm, e um componente (A3): um fotocatalisador tendo um tamanho

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 15/96 médio numérico de partícula de 1 nm a 2000 nm;

uma razão em massa ((A1+A3)/(B)) de um teor total do componente (A1) e do componente (A3) para um teor do componente (B) é 60/100 a 480/100; e uma razão em massa ((A1)/(A1+A3)) de um teor do componente (A1) para o teor total do componente (A1) e do componente (A3) é 85/100 a 99/100.
17. Uso da composição de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizada pelo fato de ser antirreflexo.
18. Uso da composição de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizada pelo fato de ser para resistência ao solvente.
19. Uso da composição de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizada pelo fato de ser para uso antiestético.
20. Uso da composição de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizada pelo fato de ser para resistência ao calor.
21. Uso da composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizada pelo fato de ser para revestimento duro.
22. Película de revestimento, caracterizada pelo fato de ser obtida a partir da composição de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 21.
23. Película de revestimento, de acordo com a reivindicação 22, caracterizada pelo fato de que uma partícula de polímero circundada pelo componente (A), e em que uma película formada de um componente (B2)

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 16/96 tendo um corte molecular de 50.000 ou menos e extraída a partir do componente (B) por ultrafiltração tem um ângulo de contato de água de superfície de 30^o ou menos.
24. Película de revestimento, de acordo com a reivindicação 23, caracterizada pelo fato de que o teor do componente (B2) é 5 % em massa ou menos.
25. Película de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 22 a 24, caracterizada pelo fato de ter um ângulo de contato de água de superfície a 20oC de 30o ou menos.
26. Película de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 22 a 25, caracterizada pelo fato de que a película de revestimento após um teste de temperatura elevada/umidade elevada em que a película de revestimento é deixada permanecer ainda por 24 horas sob as condições de uma temperatura de 90OC e uma umidade de 90% tem um ângulo de contato de água de superfície de 20o ou menos.
27. Laminado caracterizado pelo fato de compreender:

um substrato e uma película de revestimento obtida por aplicação de composição de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 21 ou uma película de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 22 a 26 e formada sobre pelo menos uma das superfícies do substrato.
28. Laminado de acordo com a reivindicação 27, caracterizado por ter uma transmitância de luz maior do que uma transmitância de luz do substrato.
29. Laminado de acordo com a reivindicação 27 ou 28, caracterizado pelo fato de que a película de revestimento tem um índice refrativo de 0,1 ou mais, menor do que um índice refrativo do substrato.

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 17/96
30. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 29, caracterizado pelo fato de que a película de revestimento tem duas ou mais camadas.
31. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 30, caracterizado em que uma camada mais externa posicionada em um lado oposto do substrato tem um índice refrativo 0,1 ou mais, menor do que um índice refrativo de uma camada adjacente à camada mais externa.
32. Laminado de acordo com a reivindicação 30 ou 31, caracterizado pelo fato de que camadas constituindo a película de revestimento têm, cada, uma espessura (dn) de 10 nm a 800 nm e uma espessura total (Edn) de uma película de revestimento é 100 nm a 4000 nm.
33. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 32, caracterizado pelo fato de que o substrato tem uma transmitância de luz de 30% a 99%.
34. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 33, caracterizado em que uma razão ((Rc)/(Rb)) de uma refletividade (Rc) de uma superfície oposta ao substrato de uma película de revestimento para a refletividade (Rb) da superfície do substrato em um lado da película de revestimento é 98% ou mais.
35. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 34, caracterizado em que a diferença no índice refrativo entre a película de revestimento e o substrato é 0,2 ou menos.
36. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 35, caracterizado em que a película de revestimento tem um índice refrativo de 1,30 a 1,48.
37. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 34

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 18/96 a 36, caracterizado em que a superfície do substrato sobre um lado da película de revestimento tem a refletividade (Rb) de 80% ou mais.
38. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 37, caracterizado em que o substrato compreende pelo menos uma substância selecionada dentre o grupo consistindo em vidro, uma resina acrílica, uma resina de policarbonato, uma resina de olefina cíclica, uma resina de tereftalato de polietileno e um copolímero de etileno-fluoroetileno.
39. Método para fabricar um laminado, caracterizado pelo fato de compreender as etapas de:

formar uma película de revestimento por aplicação da composição de revestimento conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 21 sobre pelo menos uma das superfícies de um substrato, e aplicar pelo menos um dentre um tratamento térmico a 70^OC ou mais e um tratamento de pressurização a 0,1 kPa ou mais para uma película de revestimento.
40. Laminado de acordo com qualquer uma das reivindicações 27 a 38, caracterizado pelo fato de que é um membro para uso em um aparelho de conversão de energia.
41. Laminado de acordo com a reivindicação 40, caracterizado pelo fato de que é um membro protetor para um módulo de célula solar.
42. Módulo de célula solar, caracterizado pelo fato de compreender o laminado conforme definido na reivindicação 40, uma folha traseira disposta de modo a ficar defronte do laminado, e um elemento de geração de energia elétrica disposto entre o laminado e a folha traseira.
43. Laminado de acordo com a reivindicação 40, caracterizado pelo fato de que é um membro protetor para um espelho refletor de luz.
44. Dispositivo refletor, caracterizado pelo fato de compreender:

um espelho refletor de luz,

Petição 870190020921, de 28/02/2019, pág. 19/96 o laminado conforme definido na reivindicação 43 para proteger uma superfície de reflexão do espelho refletor de luz, e um suporte para suportar o espelho refletor.
45. Sistema de geração de energia térmica solar caracterizado pelo fato de compreender:

o dispositivo refletor conforme definido na reivindicação 44, e um aparelho para converter luz solar coletada pelo dispositivo refletor em energia elétrica.