KR100856158B1 - 신규 서브프탈로시아닌 착색제, 잉크 조성물, 및 그 제조방법 - Google Patents
신규 서브프탈로시아닌 착색제, 잉크 조성물, 및 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100856158B1 KR100856158B1 KR1020017014975A KR20017014975A KR100856158B1 KR 100856158 B1 KR100856158 B1 KR 100856158B1 KR 1020017014975 A KR1020017014975 A KR 1020017014975A KR 20017014975 A KR20017014975 A KR 20017014975A KR 100856158 B1 KR100856158 B1 KR 100856158B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- subphthalocyanine
- compound
- substituted
- nitrogen
- Prior art date
Links
- PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N subphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(=N3)N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C3=N1 PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 91
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 68
- 239000003086 colorant Substances 0.000 title description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 68
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 12
- -1 subphthalocyanine compound Chemical class 0.000 claims description 81
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 49
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 27
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 24
- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical group N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229920006391 phthalonitrile polymer Polymers 0.000 claims description 21
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 18
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- GHFGOVUYCKZOJH-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3-dicarbonitrile Chemical class N#CC1=CC=CN=C1C#N GHFGOVUYCKZOJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 claims description 9
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 claims description 8
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 8
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ALJUMASAQKRVRM-UHFFFAOYSA-N pyridine-3,4-dicarbonitrile Chemical class N#CC1=CC=NC=C1C#N ALJUMASAQKRVRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 claims description 4
- OTVZGAXESBAAQQ-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,3-dicarbonitrile Chemical class N#CC1=NC=CN=C1C#N OTVZGAXESBAAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 claims description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims 9
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract description 6
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 64
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 45
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 41
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical class CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 22
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 16
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 16
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 16
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 15
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- 0 CC(C1*)C(*)C1(C)Cl Chemical compound CC(C1*)C(*)C1(C)Cl 0.000 description 10
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011874 heated mixture Substances 0.000 description 6
- NTZMSBAAHBICLE-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C#N)C(C#N)=C1 NTZMSBAAHBICLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 5
- QEVHRUUCFGRFIF-MDEJGZGSSA-N reserpine Chemical compound O([C@H]1[C@@H]([C@H]([C@H]2C[C@@H]3C4=C(C5=CC=C(OC)C=C5N4)CCN3C[C@H]2C1)C(=O)OC)OC)C(=O)C1=CC(OC)=C(OC)C(OC)=C1 QEVHRUUCFGRFIF-MDEJGZGSSA-N 0.000 description 5
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 4
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQHXZZGZASQSOB-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C(C#N)C(C#N)=C1Cl OQHXZZGZASQSOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SRIJSZQFAMLVQV-UHFFFAOYSA-N 4,5-dichlorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound ClC1=CC(C#N)=C(C#N)C=C1Cl SRIJSZQFAMLVQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOTMIRVNJTVTSU-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylbenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C#N)C(C#N)=C1 LOTMIRVNJTVTSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000065 atmospheric pressure chemical ionisation Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical group 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000007527 lewis bases Chemical group 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- JZRYQZJSTWVBBD-UHFFFAOYSA-N pentaporphyrin i Chemical compound N1C(C=C2NC(=CC3=NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 JZRYQZJSTWVBBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 2
- YBBJYHBMEQZUOX-UHFFFAOYSA-N 1,6-dichlorocyclohexa-3,5-diene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound ClC1=CC=CC(C#N)C1(Cl)C#N YBBJYHBMEQZUOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-N-(3-nitrophenyl)naphthalene-2-carboxamide Chemical compound Cc1ccc(N=Nc2c(O)c(cc3ccccc23)C(=O)Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(c1)[N+]([O-])=O MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEPBITJSIHRMRT-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzenesulfonic acid Chemical compound OC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 FEPBITJSIHRMRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPSXFMHXRZAGTG-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-[2-(5-methoxy-2-nitrosophenyl)ethyl]-1-nitrosobenzene Chemical compound COC1=CC=C(N=O)C(CCC=2C(=CC=C(OC)C=2)N=O)=C1 YPSXFMHXRZAGTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- QFSSZCGNMKGKRR-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=C(C=C1)C)C.B(Cl)(Cl)Cl Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)C)C.B(Cl)(Cl)Cl QFSSZCGNMKGKRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWKRKTZSDFMUDA-UHFFFAOYSA-N C[NH+](C(C(C1[N+]([O-])=O)N)C1Cl)[O-] Chemical compound C[NH+](C(C(C1[N+]([O-])=O)N)C1Cl)[O-] GWKRKTZSDFMUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHJWZADAWEIFE-UHFFFAOYSA-N Cc(cc(cc1)N)c1C#N Chemical compound Cc(cc(cc1)N)c1C#N RGHJWZADAWEIFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical group ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- DHUWBNXXQFWIKW-UHFFFAOYSA-N chloro(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(Cl)C1=CC=CC=C1 DHUWBNXXQFWIKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical group 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- CKYLHMGDNIAAPE-UHFFFAOYSA-M sodium;4-hydroxy-3-nitrobenzenesulfonate Chemical compound [Na+].OC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1[N+]([O-])=O CKYLHMGDNIAAPE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/32—Inkjet printing inks characterised by colouring agents
- C09D11/328—Inkjet printing inks characterised by colouring agents characterised by dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
- C07F5/022—Boron compounds without C-boron linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
- C09B47/04—Phthalocyanines abbreviation: Pc
- C09B47/06—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide
- C09B47/067—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide from phthalodinitriles naphthalenedinitriles, aromatic dinitriles prepared in situ, hydrogenated phthalodinitrile
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
본 발명은 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 신규 군의 서브프탈로시아닌 화합물은 물론, 공지된 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하는 데도 사용될 수 있다. 본 발명의 방법은 환경 친화적인 용매를 사용할 수 있는데, 이는 반응 기작에서의 사용을 위한 수소 원자를 공여한다. 본 발명의 방법은 약 50%를 초과하며, 심지어 약 94%를 초과하는 수율로 서브프탈로시아닌 화합물을 제조한다. 아울러 본 발명은 개선된 내광성을 갖는 서브프탈로시아닌 화합물에 관한 것이다. 서브프탈로시아닌 화합물은 약 15% 미만의 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값을 가질 수 있다.
서브프탈로시아닌, 내광성, 환경 친화적 용매.
Description
본 발명은 서브프탈로시아닌 화합물의 신규 제조 방법에 관한 것이다. 또한 본 발명은 신규 서브프탈로시아닌 화합물 군에 관한 것이다. 신규 서브프탈로시아닌 화합물은 단독으로 또는 하나 이상의 다른 착색제와 함께 착색제로 사용될 수 있다. 아울러, 본 발명은 신규 서브프탈로시아닌 화합물을 함유하는 잉크에 관한 것이다.
다양한 서브프탈로시아닌 화합물 및 이들의 제조 방법이 당업계에 공지되어 있다. 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하기 위한 대부분의 종래 방법은 1-클로로-나프탈렌과 같은 용매의 사용으로 인해 일반적으로, 고온의 반응 온도, 통상 약 200℃ 내지 약 250℃ 범위를 요구한다. 아울러, 대부분의 종래 방법은 다양한 2차 산물과 함께 서브프탈로시아닌 화합물을 생산하고, 서브프탈로시아닌 화합물을 단리하기 위해 비싼 분리 과정을 요구한다. 또한, 대부분의 종래 방법에 의한 서브프탈로시아닌 화합물 제조의 반응 수율은 최대 약 35%이고, 통상 약 20% 미만이다. 이러한 반응 조건은 고 에너지 비용, 환경 비친화적인 용매로 인한 잠재적인 환경 손상 및 낮은 수율을 초래하고, 따라서 이는 생산되는 서브프탈로시아닌 화합물에 대한 고비용을 초래한다.
밴 라이어(Van Lier) 등의 미국 특허 제5,864,044호는 낮은 끓는 점을 가진 용매가 사용된 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법을 개시하고 있다. 밴 라이어는 서브프탈로시아닌 화합물의 제조를 위해 적합한 용매로 1-클로로벤젠(b.p.130℃)의 사용을 개시하고 있다. 그러나, 1-클로로벤젠은 현재 미국 환경 보호청(U.S.Environmental Protection Agency)에 의한 감시가 증대되고 있는 환경 비친화적인 용매이다. 밴 라이어가 약 60%의 수율의 서브프탈로시아닌 화합물의 제조를 개시하고 있지만, 이 방법은 환경 비친화적인 용매를 사용하고, 이는 미국 내에서 제조상의 문제를 나타낸다.
비록 선행 기술이 약 60% 이하의 수율의 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법을 개시하고 있지만, 비용 효율적으로 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하기 위해 더 높은 수율이 요구된다. 아울러, 환경 비친화적인 용매를 사용하지 않으면서 고수율로 얻는 것이 더욱 바람직하다.
더욱이, 공지된 서브프탈로시아닌 화합물은 열등한 내광성(lightfastness) 성질을 가지며, 이는 화합물이 통상의 잉크 세트에서 착색제로 사용되는 것을 막는다. 공지된 서브프탈로시아닌 화합물의 열등한 내광성의 주원인은 분자 샘플이 빛에 노출되었을 때, 여기 상태 분자의 농도가 높고 및 여기 상태 시간이 길 뿐만 아니라, 여기 상태 분자의 반응성이 높다는 것이다. 문헌 ["Synthesis and Nonlinear Optical, Photophysical, and Electrochemical Properties of Subphthalocyanines", del Rey et al., J. Am. Chem. Soc., Vol. 120, No. 49(1998)]에 보고된 바와 같이, 공지된 서브프탈로시아닌 화합물은 100μsec 정도의 여기 상태 수명을 가진다. 열등한 내광성 및 퇴색 경향에 대한 다른 가능한 이유는 (1) 단일항 산소 (singlet oxygen)와의 반응 및 (2) 붕소 결실 및(또는) 발색단 치환에 이르는 친핵성 공격(nucleophilic attack)이다.
당업계에서 요구되는 것은 환경 친화적인 용매를 사용하면서 동시에 50%를 넘는 수율에 이르는 개선된 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법이다. 아울러, 또한 당업계에서 요구되는 것은 개선된 내광성 성질을 가지며, 단독으로 또는 하나 이상의 다른 착색제와 함께 착색제로 사용될 수 있는 안정한 서브프탈로시아닌 화합물의 신규군이다.
발명의 요약
본 발명은 상기에서 기술된 요구를 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하는 신규 방법을 제공하여 해결한다. 본 발명의 방법은 본원에서 개시된 우수한 내광성을 가지는 신규 군의 서브프탈로시아닌 화합물은 물론, 공지된 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하는 데도 사용될 수 있다.
아울러, 본 발명은 하기의 화학식을 가지는 서브프탈로시아닌 화합물의 신규군에 관한 것이다.
식에서, X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 알킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 황 함유기, 란탄족 함유기 또는 에스테르기를 나타내고; 단, X1 내지 X12 중 어느 하나가 질소라면, 대응하는 R1 내지 R12는 질소 원자상의 전자쌍을 나타낸다. 서브프탈로시아닌 화합물은 단독으로 또는 하나 이상의 다른 착색제와 함께 착색제로 사용될 수 있다.
또한 본 발명은 하나 이상의 상기에서 기술된 서브프탈로시아닌 화합물을 포함하는 개선된 안정성을 가지는 착색제 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 이들 및 다른 특징 및 장점은 하기에 개시된 실시태양의 상세한 기술 및 첨부된 청구범위를 검토한 후 명백해 질 것이다.
발명의 상세한 설명
본 발명은 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 본원에서 개시된 서브프탈로시아닌 화합물의 신규 군은 물론, 공지된 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하는 데도 사용될 수 있다. 종래의 서브프탈로시아닌 화합물 제조 방법과 달리, 본 발명의 방법은 환경 친화적인 용매를 사용하여 약 180℃ 이하의 온도에서 일어나는 반응 기작을 이용한다. 아울러, 본 발명의 방법은 약 50% 초과 내지 약 94% 이하의 반응 수율로 서브프탈로시아닌 화합물을 제조한다.
본 발명의 서브프탈로시아닌 화합물 제조 방법의 하나를 하기 반응식으로 나타낼 수 있다:
식에서, X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 알킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 황 함유기 또는 에스테르기를 나타내고; 단, X1 내지 X12 중 어느 하나가 질소라면, 대응하는 R1 내지 R12는 질소 원자상의 전자쌍을 나타낸다. 반응은 대부분의 종래의 반응 방법에 비해 매우 낮은 반응 온도에서 일어날 것이다. 본 발명의 한 실시태양에서, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법은 약 20℃ 내지 약 180℃의 목적하는 반응 온도에서 일어난다. 보다 바람직하게는, 반응 온도는 약 50℃ 내지 약 160℃이다. 보다 더 바람직하게는, 반응 온도는 약 80℃ 내지 150℃이다.
본 발명의 추가의 실시태양에서, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법이 하기 반응식으로 나타낼 수 있다.
상기 식에서, R1 내지 R4, R7 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 알킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 황 함유기, 또는 에스테르기를 나타낸다. 반응은 상기에서 기술된 반응 온도에서 일어날 것이며, 목적하는 반응 온도는 약 80℃ 내지 약 150℃이다. 생성된 서브프탈로시아닌 화합물은 독특한 비대칭 화학 구조를 가지며, 이는 하기에서 기술되는 다른 분자와의 "거대환간 켄칭 (intermacrocyclic quenching)"은 물론 "거대환내 켄칭 (intramacrocyclic quenching)"을 가능하게 한다.
본 발명의 방법은 다양한 환경 친화적인 용매를 사용한다. 바람직하게는, 용매는 "수소 공여" 용매를 포함한다. 본원에서 사용된, "수소 공여"란 용어는 상기에서 기술된 반응 중 수소 원자를 공여할 수 있는 용매를 기술한다. 수소 공여 용매는 벤젠, 1-클로로-나프탈렌 및 1-클로로벤젠과 같은 수소 함유 용매와 구분되는데, 이들은 본 발명의 반응 기작 중 공여될 수 있는 수소를 가지고 있지 않다. 본 발명에서의 사용을 위해 적합한 수소 공여 용매는 반응물질, 반응 온도 및 다른 반응 매개변수에 따라 변화할 수 있다. 적합한 수소 공여 용매는 치환된 방향족 화합물; 시클로헥사디엔; 2-프로판올과 같은 알콜; 석유 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 및 테트랄렌과 같은 에테르를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 바람직하게는, 용매는 o-크실렌, m-크실렌, p-크실렌, 톨루엔, 또는 수소 함유 잔기를 포함하는 치환기로 치환된 벤젠을 포함한다. 보다 바람직하게는, 용매는 p-크실렌, 톨루엔, 또는 큐멘을 포함한다. 보다 더 바람직하게는, 용매는 p-크실렌 또는 큐멘을 포함한다.
본 발명의 방법은 약 50%를 초과하는 수율로 다양한 서브프탈로시아닌 화합물을 제조한다. 바람직하게는, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법은 약 60%를 초과하는 수율을 가진다. 보다 바람직하게는, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법은 약 70%를 초과하는 수율을 가진다. 보다 더 바람직하게는, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법은 약 80%를 초과하는 수율을 가진다. 보다 더 바람직하게는, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법은 약 85%를 초과하는 수율을 가진다. 보다 더 바람직하게는, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법은 약 90%를 초과하는 수율을 가진다. 가장 바람직하게는, 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법은 약 94%를 초과하는 수율을 가진다.
본 발명의 방법 중에서, 하나 이상의 반응물질이 하나 이상의 수소 공여 용매와 함께 사용될 수 있다. 적합한 반응물질은 프탈로니트릴, 하나 이상 치환된 프탈로니트릴, 피리딘-2,3-디카르보니트릴, 하나 이상 치환된 피리딘-2,3-디카르보니트릴, 피리딘-3,4-디카르보니트릴, 하나 이상 치환된 피리딘-3,4-디카르보니트릴, 피라진-2,3-디카르보니트릴, 하나 이상의 치환된 피라진-2,3-디카르보니트릴, 또는 이들의 조합을 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 치환된 프탈로니트릴 화합물은 프탈로니트릴 화합물의 방향족 환에 6개 이하의 잔기가 결합된 프탈로니트릴 화합물을 포함한다. 아울러, 치환된 피리딘-2,3-디카르보니트릴 화합물은 피리딘-2,3-디카르보니트릴 화합물의 방향족 환에 3개 이하의 추가 잔기가 결합된 피리딘-2,3-디카르보니트릴 화합물을 포함한다. 치환된 피리딘-3,4-디카르보니트릴 화합물은 피리딘-3,4-디카르보니트릴 화합물의 방향족 환에 3개 이하의 추가 잔기가 결 합된 피리딘-3,4-디카르보니트릴 화합물을 포함한다. 치환된 피라진-2,3-디카르보니트릴 화합물은 피라진-2,3-디카르보니트릴 화합물의 방향족 환에 2개 이하의 추가 잔기가 결합된 피라진-2,3-디카르보니트릴 화합물을 포함한다.
상기에서 인용된 치환된 반응물질상의 적합한 잔기는 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 카르복실산기, 황 함유기, 질소 함유기, 및 이들의 염을 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 적합한 할로겐은 염소, 브롬, 플루오르 및 요오드를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 적합한 알킬기는 메틸기, 에틸기, 및 tert-부틸기를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 적합한 알콕시기는 메톡시기 및 에톡시기를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 적합한 황 함유기는 -SC8H17, -SO3H, -SO3Na, -SO3Cl, 및 -SO3 -pyH+을 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 적합한 질소 함유기는 -NO2, -pyH+, -NR2, 및 -NR3 (식에서, R은 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 아킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 황 함유기 또는 에스테르기를 나타냄)을 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 다른 적합한 기는 -CO2Na를 포함하나 이에 제한되지는 않는다.
상기 반응물질 외에, 하나 이상의 붕소 함유 화합물이 본 발명의 방법에서 사용될 수 있다. 적합한 붕소 함유 화합물은 보론 트리클로라이드, 보론 트리플루오라이드 및 보론 트리브로마이드와 같은 할로겐 치환된 붕소 화합물을 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 다른 적합한 붕소 함유 화합물은 하나 이상의 할로겐 원자 및 하나 이상의 페닐기를 함유한 혼합 붕소 화합물을 포함한다. 이러한 혼합 붕소 화합물은 BCl2Ph, BClPh2, BBr2Ph, 및 BBrPh2(식에서, "Ph"는 페닐기를 나타냄)를 포함하나 이에 제한되지는 않는다.
본 발명의 한 실시태양에서, 서브프탈로시아닌 화합물은 하기에서 기술된 반응 기작을 사용하여 제조된다:
단계 1:
(단계 1에서, X는 루이스 염기를 나타낸다. 바람직하게는, X는 할로겐이다. 보다 바람직하게는, X는 Cl이다.)
단계 2:
단계 3:
단계 4:
단계 5-8:
단계 9에서 두 개의 전자는 수소 공여 용매의 수소 원자로부터 공여받는다. 상기 기작 중에서 수소 원자간의 상호작용은 다음과 같이 기술될 수 있다:
수소 공여 용매는 두 개의 수소 원자를 공급하고, 이는 두 개의 수소 이온 및 두 개의 전자를 형성한다. 전자들이 서브프탈로시아닌 화합물 중의 두 개의 질소 원자 상의 전하와 상쇄한다. 두 개의 수소 이온은 붕소 화합물에 의해 방출된 루이스 염기와 반응하여 하기에 나타낸 두 개의 산 분자를 형성한다.
본 발명의 추가 실시태양에서, 서브프탈로시아닌 화합물은 하기 반응 기작을 사용하여 제조된다. 단계 1-4는 상기에서 기술된 것과 동일한 단계이다. 단계 5-11은 하기에 기술된다:
단계 5-9:
단계 10:
단계 11:
상기 기작 중에서, 프탈로니트릴이 단계 1, 2 및 5(제1 기작)에서 반응물질로 나타났지만, 하나 이상의 비치환된 프탈로니트릴, 치환된 프탈로니트릴, 비치환된 피리딘-2,3-디카르보니트릴, 치환된 피리딘-2,3-디카르보니트릴, 비치환된 피리딘-3,4-디카르보니트릴, 치환된 피리딘-3,4-디카르보니트릴 또는 이들의 조합이 상기에서 기술된 반응 기작의 단계 1, 2 및 5에서 사용될 수 있다는 것을 이해해야 한다. 아울러, 제2 기작에 나타낸 것과 같이, "봉개된(capped)" 프탈로니트릴이 반응물질로 사용될 수 있다. 이 실시태양에서, 봉개된 프탈로니트릴은 하기 반응에 의해 형성될 수 있다:
제1 기작에서 나타낸 것과 같이, 수소 공여 용매는 단계 11에 나타낸 것과 같이 용매 중의 수소 원자로부터 두 개의 전자를 공급한다.
아울러 본 발명은 하기 화학식을 가진 서브프탈로시아닌 화합물의 신규군에 관한 것이다.
상기 식에서, X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H; 할로겐; 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬기; 알킬 뼈대를 따라 약 18개 이하의 탄소 원자를 함유하는 치환된 알킬기; 아릴기; 치환된 아릴기; 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알콕시드기; 페녹시기; 치환된 페녹시기; 약 8개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬 술파이드; 아릴 술파이드; 질소 함유기; 술폰산; 황 함유기; 란탄족 함유기; -OR', -NR'R'' 또는 -SR'(식에서, R' 및 R''는 각각 독립적으로 약 8개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬기, 알킬 뼈대를 따라 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유하는 치환된 알킬기, 아릴기 또는 치환된 아릴기를 나타내고; 단, X1 내지 X12 중 어느 하나가 질소이면, 대응하는 R1 내지 R12는 질소 원자 상의 전자쌍을 나타낸다. 바람직하게는, R1 내지 R12는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 약 8개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬기, 질소 함유기, 황 함유기, 또는 란탄족 함유기를 나타낸다. 보다 바람직하게는, R1 내지 R12는 각각 독립적으로 -H, 염소, 브롬, 플루오르, 요오드, tert-부틸기, -NO2, -SC8H17, -SO3H, -SO3Na, -SO3Cl, -SO3 -pyH+ 또는 Eu-함유 잔기를 나타낸다. 보다 더 바람직하게는, R1 내지 R12는 각각 독립적으로 -H, 염소, 브롬, 플루오르, 또는 요오드를 나타낸다.
적합한 Z 치환기는 생성된 서브프탈로시아닌 화합물에 바람직한 성질을 제공하는 다양한 치환기로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는, Z는 서브프탈로시아닌 화합물을 안정화시키는 잔기; 서브프탈로시아닌 화합물을 수용성으로 만드는 잔기; 또는 서브프탈로시아닌을 안정화시키고 수용성으로 만드는 잔기를 포함한다. 적합한 Z의 예는 히드록실기; 할로겐; 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬기; 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알콕시기; 에테르기; 폴리올기; 방향족기; 치환 방향족기; 질소 함유기; 황 함유기; 란탄족 함유기; -OR', -NR'R'', 또는 -SR'(식에서, R 및 R''는 각각 독립적으로 약 8개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬기, 약 8개 이하의 탄소 원자를 함유하는 치환된 알킬기, 아릴기, 또는 치환된 아릴기를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 바람직하게는, Z는 하기 잔기 중 하 나를 포함한다:
식에서, x는 3 내지 30의 정수이고, y는 0 내지 6이고, R'''는 수소 또는 6개 이하의 탄소 원자를 가지는 알킬기이고, L은 아세테이트; 할로겐;에틸렌 디아민; 화학식 H2N(CH2)xNH2(식에서, x는 2 내지 8임)를 가지는 화합물; 프로피오네이 트; 니트레이트; 또는 옥살레이트이다.
특정 "R" 및 "Z"기를 를 선택함으로써, 우수한 내광성 성질을 가지는 서브프탈로시아닌 화합물을 제조할 수 있다. 본 발명의 한 실시태양에서는, 우수한 내광성 성질을 가지는 서브프탈로시아닌 화합물을 제조한다; 이들 화합물은 상기 화학식에서 X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 또는 -SR'를 나타내고; Z는 할로겐, 아릴기, 치환된 아릴기, 피리딘기, 치환된 피리딘기, -OR', -NR'R'', 또는 -SR'(식에서, R' 및 R''는 각각 독립적으로 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬기, 알킬 뼈대를 따라 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유하는 치환된 알킬기, 아릴기, 또는 치환된 아릴기를 나타냄)를 나타내는 것들이다.
본 발명의 추가 실시태양에서는, 상기 화학식에서 X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 또는 -SR'를 나타내고; Z는 바람직하게는 페닐기, 아릴기, 또는 치환된 아릴기인 서브프탈로시아닌 화합물을 제조한다. 이 실시태양에서, 페닐기, 아릴기, 또는 치환된 아릴기는 하기에 예시하는 기작에 나타낸 것과 같은 축 리간드의 광화학적 1,3 이동을 억제한다.
주어진 서브프탈로시아닌 화합물의 우수한 내광성 성질을 본원에서 기술된 "서브프탈로시아닌 내광성 시험"에 의해 측정할 수 있다. 본 발명에서 사용된 서브프탈로시아닌 내광성 시험은 o-크실렌 중의 5 ×10-5M 서브프탈로시아닌 화합물 용액의 흡광도 변화(%)를 측정하였고, 하기 수학식으로 주어진다.
식에서, PO은 시간 0(즉, 시험 개시점)에서의 흡광도 값을 나타내고, P144는 서브프탈로시아닌 화합물로부터 약 6 피트 떨어진 곳에 놓은 표준 형광 램프(즉, 실바니아 쿨 화이트(Sylvania Cool White), 115W, 모델번호 F48T12)에 144시간 노출된 후의 흡광도 값을 나타낸다. 바람직하게는, 본 발명의 서브프탈로시아닌 화합물은 약 15% 미만의 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값을 가진다. 보다 바람직하게는, 본 발명의 서브프탈로시아닌 화합물은 약 12% 미만의 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값을 가진다. 보다 더 바람직하게는, 본 발명의 서브프탈로시아닌 화합물은 약 10% 미만의 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값을 가진다.
상기 화학식에서 볼 수 있듯이, 본 발명은 다수의 신규 서브프탈로시아닌 화합물에 관한 것이다. 본 발명의 서브프탈로시아인 화합물은 하기 화합물들을 포함하나 이에 제한되지는 않는다:
(하기 식에서,
R1-4는 R1 내지 R4를 나타내고, R5-8은 R5 내지 R8을 나타내고, R9-12는 R9 내지 R12를 나타낸다.):
본 발명의 신규 서브프탈로시아닌 화합물은 여기 상태로 존재할 가능성이 낮음은 물론, 여기 상태에서의 시간이 감소됨으로 인해 우수한 내광성 성질을 가지는 것으로 생각된다. 화합물의 방향족 환 상에서 높은 "Z"값(즉, 원자 번호)을 가지는 하나 이상의 치환기의 존재는 "스핀 궤도 결합"으로도 알려진 "중원자 효과(heavy atom effect)"를 발생시키고, 이는 빛에 노출됨으로 인해 일어난 여기 상태의 진동 에너지가 분자 내에 분포되는 것을 가능하게 한다. 이러한 분자의 "분자내 켄칭"은 여기 상태를 기저 상태로 재빨리 켄칭하게 한다. 궁극적인 효과는 어떤 점에서 여기 상태 종의 농도가 휠씬 낮다는 것이다. "중원자 효과" 및 "스핀 궤도 결합"의 일반적인 해설은 문헌 [Handbook of Photochemistry(Murov et al.), 2nd ed., Section 16, 제목"Spin-Orbit Coupling", pages 338-341(1993)"]에서 발견될 수 있으며, 그 문헌을 온전히 본원에 인용참증으로 삽입한다.
본 발명의 한 실시태양에서, 하나 이상의 "R" 및(또는) "Z"기가 약 500을 초과하는 스핀 궤도 결합 상수 ζ1을 가지는 우수한 내광성을 가지는 서브프탈로시아닌 화합물이 형성된다. 약 500을 초과하는 스핀 궤도 상수를 가지는 적합한 "R" 및(또는) "Z"기는 염소(ζ1=587), 유로퓸(ζ1=1469), 브롬(ζ1=2460) 및 요오드(ζ1=5069)를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 바람직하게는, 본 발명의 서브프탈로시아닌 화합물은 약 500을 초과하는 스핀 궤도 결합 상수 ζ1 을 가지는 "R" 및(또는) "Z" 기를 하나 이상 함유한다. 보다 바람직하게는, 본 발명의 서브프탈로시아닌 화합물은 약 1000을 초과하는 스핀 궤도 결합 상수 ζ1을 가지는 "R" 및(또는) "Z"기를 하나 이상 함유한다. 보다 더 바람직하게는, 본 발명의 서브프탈로시아닌 화합물은 약 1400을 초과하는 스핀 궤도 결합 상수 ζ1을 가지는 "R" 및(또는) "Z"기를 하나 이상 함유한다.
상기에서 논의된 바와 같이, 서브프탈로시아닌 화합물의 방향족 환상에 높은 "Z" 값을 가지는 하나 이상의 치환기를 추가하는 것은 분자의 "분자내 켄칭"을 생기게 하는 것으로 생각된다. 서브프탈로시아닌 화합물의 "분자내 켄칭" 외에, 서브프탈로시아닌 화합물의 "분자간 켄칭"은 하나 이상의 켄칭 화합물을 서브프탈로시아닌 화합물과 연결하여 달성할 수 있다. "분자간 켄칭"의 예는 하기 화학식에 나타내어진다:
식에서, 구리 화합물은 서브프탈로시아닌 화합물 내에서 서로 매우 근접해 있는 질소 원자 상에 존재하는 두 쌍의 전자와 배위 공유 결합을 형성한다. "분자간 켄칭"의 추가 예는 하기 서브프탈로시아닌 착물로 나타내어진다:
식에서, 구리 화합물은 서브프탈로시아닌 화합물 내에서 서로 매우 근접해 있는 질소 원자 상에 존재하는 두 쌍의 전자와 배위 공유 결합을 형성한다. Cu(L)2
화합물에서, "L"은 구리 원자와 착물을 형성할 수 있는 어떠한 잔기도 될 수 있다. 적합한 "L" 잔기는 아세테이트; 할로겐; 에틸렌 디아민; 및 하기 화학식 H2N(CH2)xNH2를 가진 화합물(식에서, x는 2 내지 8); 프로피오네이트; 니트레이트; 및 옥살레이트를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. Cu(L)2 이외의 다른 화합물을 켄칭 잔기로 사용할 수 있다는 것을 주의해야 한다. 다른 화합물은 다른 착화 전이 금속 및 전이 금속을 함유한 화합물을 포함하나 이에 제한되지는 않는다.
"분자내 켄칭" 및 "분자간 켄칭"을 가진 상기에서 기술된 서브프탈로시아닌 화합물 함유 착물은 서브프탈로시아닌 화합물과 하나 이상의 착화 전이 금속 및 전이 금속을 함유한 화합물을 반응시켜 형성될 수 있다. 상기에서 기술된 서브프탈로시아닌 화합물을 켄칭 잔기와 반응시키는 한 방법은 단순히 물질을 혼합하고, 혼합물을 용매에 첨가하고, 혼합물이 실온에서 반응하도록 하는 것이다. 적합한 용매는 디메틸 술폭시드 및 디메틸 포름아미드를 포함하나 이에 제한되지는 않는다. 어떤 경우, 반응은 약 100℃ 이하의 반응 온도에서 일어난다.
다양한 서브프탈로시아닌 화합물 함유 착물이 상기에서 기술된 반응 기작에 의해 형성될 수 있다. 특정 "R"기, 축 리간드 Z 및 켄칭기를 선택하여, 우수한 내광성을 가지는 서브프탈로시아닌 화합물 함유 착물을 제조할 수 있다. 서브프탈로시아닌 화합물 함유 착물의 가능한 예는 하기 화합물을 포함하나 이에 제한되지는 않는다.
다른 바람직한 서브프탈로시아닌 화합물 함유 착물은 축 리간드가 하기 구조를 가지는 치환된 아릴을 포함하는 상기 화합물을 포함하나 이에 제한되지는 않는 다.
식에서, R31 내지 R35는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, -NO2, 카르복실기, 또는 카르보닐기를 나타낸다.
축 리간드가 켄칭 화합물을 포함하는 서브프탈로시아닌 화합물 함유 착물의 한 예가 하기에 제시되었다.
상기 화합물은 축 리간드가 켄칭 화합물을 포함하는 본 발명의 다수의 서브프탈로시아닌 함유 착물 중 단지 하나의 예에 지나지 않음을 유의해야 한다.
본 발명의 추가 실시태양에서, 두 개의 서브프탈로시아닌 화합물을 제3의 반 응물질과 반응시켜서 화학식을 가지는 화합물을 획득한다:
식에서, R21 내지 R36, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 상기에서 R1 내지 R12 및 Z에 대해 기술된 잔기를 나타낸다. 상기 화합물의 형성에서, 제3의 반응물질은 1,3,4,6-테트라시아노벤젠 또는 하나 이상의 전자 끄는 기 E1 및 E2로 추가로 치환된 1,3,4,6-테트라시아노벤젠으로부터 선택될 수 있다. 적합한 전자 끄는 기 "E"는 할로겐; -NO2, 할로겐, -OR' 및 -CO2R'(식에서, R'는 약 8개 이하의 탄소 원자를 함유하는 알킬기, 알킬 뼈대를 따라 약 12개 이하의 탄소 원자를 함유한 치환된 알킬기, 아릴기, 또는 치환된 아릴기를 나타냄)를 포함하나 이에 제한되지는 않는다.
상기에서 기술된 서브프탈로시아닌 화합물은 단독으로 또는 하나 이상의 다른 착색제와 함께 착색제로 사용될 수 있다. 서브프탈로시아닌 화합물은 잉크 조성물 중으로 혼입되어 황색, 청색, 흑색 및 삼홍색을 포함하는 잉크 세트를 형성할 수 있다.
또한 본 발명은 착색제가 하나 이상의 상기에서 기술된 서브프탈로시아닌 화합물을 포함하는 개선된 안정성을 가지는 착색제 조성물에 관한 것이다. 바람직하게는, 하나 이상의 신규 서브프탈로시아닌 화합물은 착색제 안정제와 혼합되거나 또는 공유 결합된다. 착색제 안정제는 미국 특허 출원 제08/563,381호 (1995. 11. 28 출원, 현재 포기되었음), 제08/589,321호 (1996.1.22 출원, 현재 포기되었음) 및 제08/788,863호(1997. 1. 23 출원, 계류중) 및 미국 특허 제5,782,963호, 제5,855,655호, 제5,885,337호 및 제5,891,229호(이 모두가 킴벌리 클라크 월드와이드 인크(Kimberly Clark Worldwide, Inc.) 사에 양도되었으며, 그 전체가 본원에 인용참증으로 삽입되었음)에 개시된 하나 이상의 착색제 안정제일 수 있다. 임의로는, 신규 서브프탈로시아닌 화합물은 분자 내포제, 킬레이팅제, 또는 서브프탈로시아닌 화합물과 존재하는 착색제 안정제의 용해도 및(또는) 상호작용을 개선하기 위한 다른 물질들과 결합될 수 있다. 적합한 분자 내포제, 킬레이트제, 및 다른 조성 물질 또한 상기에서 언급한 킴벌리 클라크 월드와이드 인크사에 양도되었으며, 전체 내용이 본원에 인용참증으로 삽입된 미국 특허 출원 및 특허에 개시되었다.
본 발명의 한 실시태양에서는, 상기에서 기술된 서브프탈로시아닌 화합물은 포르핀 형태의 착색제 안정제와 공유 결합한다. 적합한 포르핀은 미국 특허 제5,782,963호, 제5,855,655호 및 제5,891,229호에 개시되었다. 이들 모두는 킴벌리 클라크 월드와이드 인크사에 양도되었으며, 그 전체 내용은 본원에 인용참증으 로 삽입되었다. 바람직하게는, 포르핀은 Z, Z1 및(또는) Z2에서 서브프탈로시아닌 화합물에 공유 결합된다. 본 발명의 추가 실시태양에서는, 두 개의 서브프탈로시아닌 화합물이 서로 공유 결합한다. 이 실시태양에서, 한 서브프탈로시아닌 화합물이 Z, Z1 및(또는) Z2 위치에서 다른 서브프탈로시아닌 화합물에 결합되는 것이 바람직하다.
본 발명은 추가로 하기 실시예에 의해 기술된다. 그러나, 이 같은 실시예는 어떠한 식으로든 본 발명의 정신 또는 범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다. 이 실시예에서, 모든 부는 달리 언급되지 않았다면 중량부이다.
실시예 1
크실렌 중에서 서브프탈로시아닌의 제조
서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
10.0g(0.078mole)의 프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니(Aldrich Chemical Company))을 100ml의 p-크실렌 중에 첨가하였다. 혼합물 중에 존재하는 물을 제거하기 위해 혼합물을 딘 앤 스타크(Dean and Stark) 장치를 사용하여 증류하였다. 혼합물을 약 50℃ 미만의 온도로 냉각하였다. 이후 혼합물을 교반 막대, 냉각기, 온도계, 아르곤 버블러, 및 아르곤 유입 튜브가 장착된 3-목 둥근 바닥 250ml 플라스크에 첨가하였다.
혼합물을 50℃로 가열하였다. 가열된 혼합물 중으로 p-크실렌 중의 3.04g (0.026mole)의 보론 트리클로라이드 (알드리치 케미칼 컴파니)를 함유한 26ml의 1M 용액을 약 2분에 걸쳐 주입하였다. 반응 혼합물이 오렌지/레드 색으로 변화하였다. 반응 혼합물을 약 138℃의 환류 온도로 서서히 가열하였다. 반응을 HPLC 분석을 사용하여 관찰하였다. 각각의 분취량의 UV 스펙트럼을 얻기 위해 반응 중에 분취량을 덜어 내었다. 보론 트리클로라이드 용액 도입 후 약 35분 후 반응을 중지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 20ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 용매를 제거하기 위해 0.01mm Hg에서 4 시간 동안 진공하에서 반응 혼합물을 여과시키고 펌핑하였다. 반응은 9.9g의 레드/브라운 고형물을 제조하였다. 수율은 90%이었다.
하기 분석 데이타를 측정하였다. 고형물을 아세토니트릴 및 ZORBAX™ 칼럼을 사용하여 HPLC 1100 시리즈(휴렛 페커드(Hewlett Packard)에서 분석하였다.
λ최대치(p-크실렌 용매)=564nm
TLC(CHCl3을 용리액으로 한 실리카)Rf=0.71
HPLC 체류 시간=5.5분
실시예 2
큐멘 중에서 서브프탈로시아닌의 제조
서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
p-크실렌 대신 큐멘을 용매 및 수소원으로 사용했다는 것을 제외하고는, 실시예 1을 반복하였다. 반응 혼합물은 p-크실렌 중의 10.0g(0.078mole)의 프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니), 100ml의 큐멘, 및 26ml의 1M 용액(3.04g(0.026mole)의 보론 클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)를 함유)이었다. 보론 트리클로라이드 용액을 도입한 후 약 45분 후에 반응을 정지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 20ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 용매를 제거하기 위해, 0.01mm Hg에서 진공하에서 4시간 동안 반응 혼합물을 여과시키고 펌핑하였다. 반응은 짙은 적색의 10.8g의 고형물을 제조하였다. 수율은 96%이었다. 하기 분석 데이타를 측정하였다:
λ최대치(p-크실렌 용매)=564nm
TLC(CHCl3을 용리액으로 한 실리카)Rf=0.71
HPLC 체류 시간=5.5분
실시예 3
큐멘 중에서 트리니트로서브프탈로시아닌의 제조
아질산 치환된 서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
프탈로니트릴 대신 4-니트로프탈로니트릴을 반응물질로 사용했다는 것을 제외하고는 실시예 2를 반복하였다. 반응 혼합물은 p-크실렌 중에 10.0g(0.058mole)의 4-니트로프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니), 100ml의 큐멘, 및 19.2ml의 1M 용액(2.25g(0.019mole)의 보론 클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)를 함유)이었다. 보론 트리클로라이드 용액을 도입한 후 약 25분 후에 반응을 정지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 20ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 용매를 제거하기 위해 0.01mm Hg에서 진공하에서 4시간 동안 반응 혼합물을 여과시키고 펌핑하였다. 반응은 10.5g의 자색의 고형물을 제조하였다. 수율은 96.3%이었다. 하기 분석 데이타를 얻었다:
λ최대치(p-크실렌 용매)=586nm
TLC(CHCl3을 용리액으로 한 실리카)Rf=0.63
HPLC 체류 시간=4.7분
실시예 4
큐멘 중에서 tri-tert-부틸서브프탈로시아닌의 제조
tert-부틸-치환된 서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였 다:
프탈로니트릴 대신, 4-tert-부틸프탈로니트릴을 반응물질로 사용했다는 것을 제외하고는 실시예 2를 반복하였다. 실시예 2에서 사용된 250ml의 플라스크 대신 25ml의 3-목 둥근 바닥 플라스크를 사용하였다. 반응 혼합물은 p-크실렌 중에 1.0g(5.4mmole)의 4-tert-부틸프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니), 10ml의 큐멘, 및 1.8ml의 1M 용액(0.21g(1.8mmole)의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)함유)이었다. 보론 트리클로라이드 용액의 도입 후 약 67분 후 반응을 정지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 2ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 용매를 제거하기 위해 0.01mm Hg에서 진공하에서 4시간 동안 반응 혼합물을 펌핑하였다. 반응은 1.05g의 핑크/레드 고형물을 제조하였다. 수율은 90%이었다. 하기 분석 데이타를 관측하였다.
λ최대치(p-크실렌 용매)=569nm
HPLC 체류 시간=18.9분
실시예 5
큐멘 중에서 디클로로서브프탈로시아닌의 제조
염소 치환된 서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
프탈로니트릴 대신, 4,5-디클로로프탈로니트릴을 반응물질로 사용했다는 것을 제외하고는 실시예 2를 반복하였다. 반응 혼합물은 p-크실렌 중에 10.0g (0.051mole)의 4,5-디클로로프탈로니트릴 (알드리치 케미칼 컴파니), 100ml의 큐멘, 및 16.9ml의 1M 용액(2.0g(0.017mole)의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)함유)이었다. 반응 혼합물은 적색으로 변화한 후, 약 150℃의 환류 온도로 가열되는 동안 짙은 적색/청색으로 변화하였다. 보론 트리클로라이드 용액의 도입 후 약 60분 후 반응을 정지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 60ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 용매를 제거하기 위해 0.01mm Hg에서 진공하에서 4시간 동안 반응 혼합물을 여과시키고 펌핑하였다. 반응은 10.1g의 적색/자색 고형물을 제조하였다. 수율은 92%이었다. 하기 분석 데이타를 얻었다.
λ최대치(p-크실렌 용매)=574nm
HPLC 체류 시간=25.5분
실시예 6
큐멘 중에서 tetra-플루오로서브프탈로시아닌의 제조
플루오르 치환된 서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
프탈로니트릴 대신, 3,4,5,6-테트라프탈로니트릴을 반응물질로 사용했다는 것을 제외하고는 실시예 2를 반복하였다. 반응 혼합물은 p-크실렌 중에 10.0g(0.050mole)의 3,4,5,6-테트라프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니), 100ml의 큐멘, 및 16.7ml의 1M 용액(1.95g(0.017mole)의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)함유)이었다. 보론 트리클로라이드 용액의 도입 후 약 30분 후 반응을 정지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 60ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 용매를 제거하기 위해 0.01mm Hg에서 진공하에서 4시간 동안 반응 혼합물을 여과하고 펌핑하였다. 반응은 10.5g의 적색/자색 고형물을 제조하였다. 수율은 90%이었다. 하기 분석 데이타를 얻었다.
λ최대치(p-크실렌 용매)=577nm
HPLC 체류 시간=4.4분
실시예 7
큐멘 중에서 테트라클로로서브프탈로시아닌의 제조
염소 치환된 서브프탈린시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
프탈로니트릴 대신, 3,4,5,6-테트라클로로프탈로니트릴을 반응물질로 사용했다는 것을 제외하고는 실시예 2를 반복하였다. 반응 혼합물은 p-크실렌 중에 10.0g(0.038mole)의 3,4,5,6-테트라클로로프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니), 100ml의 큐멘, 및 12.5ml의 1M 용액(1.47g(0.012mole)의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)함유)이었다. 보론 트리클로라이드 용액의 도입 후 약 80분 후 반응을 정지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 60ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 침전물이 형성되지 않았으며, 용매를 제거하기 위해 0.01mm Hg에서 진공하에서 4시간 동안 50℃ 수조 중에서 반응 혼합물을 펌핑하였다. 반응은 9.6g의 고형물을 제조하였다. 수율은 93%이었다. 하기 분석 데이타를 얻었다.
λ최대치(p-크실렌 용매)=593nm
HPLC 체류 시간=26.0분
실시예 8
"봉개된" 트리니트로서브프탈로시아닌의 제조
봉개된 트리니트로서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였 다:
자석 교반 막대가 장착된 250ml의 둥근 바닥 플라스크 중에 실시예 3으로부터의 2.0g(3.54mmole)의 트리니트로서브프탈로시아닌; 0.69g(3.54mmole)의 4-히드록시벤젠 술폰산, 나트륨염(알드리치 케미칼 컴파니); 및 100ml의 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(EGDME)(알드리치 케미칼 컴파니)를 넣었다. 혼합물을 약 85℃의 환류 온도로 서서히 가열하였다. 혼합물을 약 16시간 동안 환류로 가열하였다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시켰다. 용매를 제거하기 위해 반응 혼합물을 0.01mm Hg에서 4시간 동안 진공하에서 펌핑하였다. 반응은 2.1g의 고형물을 제조하였다. 수율은 84%이었다.
실시예 9
"봉개된" 디클로로서브프탈로시아닌의 제조
봉개된 디클로로서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
자석 교반 막대가 장착된 250ml의 둥근 바닥 플라스크 중에 실시예 5로부터의 2.0g(3.5mmole)의 디클로로서브프탈로시아닌; 0.84g(3.5mmole)의 4-히드록시-3- 니트로벤젠 술폰산, 나트륨염(알드리치 케미칼 컴파니); 및 100ml의 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(알드리치 케미칼 컴파니)을 넣었다. 혼합물을 약 85℃의 환류 온도로 서서히 가열하였다. 혼합물을 약 16시간 동안 환류로 가열하였다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시켰다. 용매를 제거하기 위해 반응 혼합물을 0.01mm Hg에서 4시간 동안 진공하에서 펌핑하였다. 반응은 2.4g의 적색/갈색 고형물을 제조하였다. 수율은 89%이었다.
실시예 10
큐멘 중에서 디서브프탈로시아닌의 제조
디서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
2.0g(0.011mole)의 테트라시아노벤젠 (알드리치 케미칼 컴파니) 및 6.1g (0.044mole)의 프탈로니트릴 (알드리치 케미칼 컴파니)를 80ml의 큐멘 중에 첨가하였다. 혼합물 중에 존재하는 물을 제거하기 위해 딘 앤 스타크 장치를 사용하여 혼합물을 증류시켰다. 혼합물을 약 60℃ 미만의 온도로 냉각시켰다. 이후 혼합물을 교반 막대, 냉각기, 온도계, 아르곤 버블러 및 아르곤 유입 튜브가 장착된 3-목 둥근 바닥 2000ml 플라스크에 첨가하였다.
혼합물을 60℃로 가열하였다. 가열된 혼합물 중으로 p-크실렌 중에 1.3g(0.011mole)의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)을 함유한 1M 용액 11ml을 약 3분에 걸쳐 주입하였다. 반응 혼합물이 적색/청색으로 변화하였다. 반응 혼합물을 약 150℃의 환류 온도로 서서히 가열하였다. 반응 혼합물을 HPLC 분석을 사용하여 관측하였다. 각 분취량의 UV 스펙트럼을 얻기 위해 반응 중에 분취량을 덜어 내었다. 보론 트리클로라이드 용액 도입 약 20분 후 반응을 정지시켰다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시켰다. 용매를 제거하기 위해 0.01mm Hg에서 진공하에서 4시간 동안 반응 혼합물을 펌핑하였다. 반응은 9.9g의 적갈색 고형물을 제조하였다. 수율은 98%이었다.
실시예 11
다양한 서브프탈로시아닌 화합물 용액에 대한 서브프탈로시아닌-내광성 값의 측정
상기에서 기술된 대로 다양한 서브프탈로시아닌을 제조하였다. 5 ×10-5M의 서브프탈로시아닌 농도를 가진 원액을 제조하기 위해 서브프탈로시아닌을 o-크실렌 중에 용해시켰다. 각각의 원액을 별개의 4개의 50ml 용액으로 나누고 A, B, C 및 D로 표시된 파이렉스(Pyrex) 원추형 플라스크 중에 넣었다. 플라스크를 알루미늄 호일로 봉하였다.
각각의 세트의 샘플 B 및 D에 5ml의 증류수를 첨가하였다. 샘플 A 및 B는 형광 램프(즉, 실비아 쿨 화이트(Sylvania Cool White), 115W, 모델번호 F48T12)로부터 약 6 피트 떨어진 실험실 벤치탑 위에 놓았으며, 이를 24시간/일 동안 유지하였다. 샘플 C 및 D는 10℃의 어두운 냉장고에 놓았다. 샘플의 흡광도를 측정하기 위해 각 샘플로부터 매일 분취량을 덜어 내었다. 21시간, 48시간 및 144시간에, 각각의 서브프탈로시아닌 용액에 대한 각각의 샘플에 대해 서브프탈로시아닌-내광성 시험 값을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
시험된 서브프탈로시아닌은 하기 식을 가지며, 식에서 "R"은 표 1에서와 같이 달라진다.
실시예 12
큐멘 중에서 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물의 제조
주어진 수율로 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하기 위해 하기 반응 을 수행하였다:
3.3g(0.019mole)의 4-니트로프탈로니트릴 (알드리치 케미칼 컴파니) 및 4.9g (0.038mole)의 프탈로니트릴 (알드리치 케미칼 컴파니)을 80ml의 큐멘 중에 첨가하였다. 혼합물 중에 존재하는 물을 제거하기 위해 딘 앤 스타크 장치를 사용하여 혼합물을 증류하였다. 혼합물을 약 50℃ 미만의 온도로 냉각시켰다. 이후 혼합물을 교반 막대, 냉각기, 온도계, 아르곤 버블러 및 아르곤 유입 튜브가 장착된 3-목 둥근 바닥 250ml 플라스크에 첨가하였다.
혼합물을 50℃로 가열하였다. 가열된 혼합물 중으로 큐멘 중의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니) 1M 용액 19.2ml을 약 2분에 걸쳐 주입하였다. 반응 혼합물을 약 ℃의 환류 온도로 서서히 가열하고, 약 45분간 이 온도에서 유지하였다. 반응 혼합물을 HPLC 분석을 사용하여 관측하였다.
생성물을 아세트니트릴 및 C-18 HYPERSIL™칼럼을 사용하여 HPLC 1100 시리즈(휴렛 패커드)에서 분석하였다. HPLC 스펙트럼은 5분의 체류 영역 부근에서 4개의 피크를 나타내었다. 생성된 스펙트럼을 다양한 화합물에 대한 대조구 스펙트럼과 비교하였다. 4개의 피크는 상기에서 나타낸 4개의 화합물 스펙트럼상의 피크에 대응하였다. 각 화합물의 중량 %를 계산하였으며, 이는 상기에 나타낸 것과 같이 A 10 중량%, B 56 중량%, C 23 중량%, 및 D 10 중량%로 관측되었다.
실시예 13
큐멘 중에서 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물의 제조
주어진 수율로 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
6.6g(0.038mole)의 4-니트로프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니) 및 2.4g(0.019mole)의 프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니)을 80ml의 큐멘 중에 첨가하였다. 혼합물 중에 존재하는 물을 제거하기 위해 딘 앤 스타크 장치를 사용하여 혼합물을 증류하였다. 혼합물을 약 50℃ 미만의 온도로 냉각시켰다. 이후 혼합물을 교반 막대, 냉각기, 온도계, 아르곤 버블러 및 아르곤 유입 튜브가 장착된 3-목 둥근 바닥 250ml 플라스크에 첨가하였다.
혼합물을 50℃로 가열하였다. 가열된 혼합물 중으로 큐멘 중의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니) 1M 용액 19.2ml을 약 2분에 걸쳐 주입하였다. 반응 혼합물을 약 ℃의 환류 온도로 서서히 가열하고, 약 45분간 이 온도에서 유 지하였다. 반응 혼합물을 HPLC 분석을 사용하여 관측하였다.
생성물을 아세트니트릴 및 C-18 HYPERSIL™칼럼을 사용하여 HPLC 1100 시리즈(휴렛 패커드) 상에서 분석하였다. HPLC 스펙트럼은 5분의 체류 영역 부근에서 4개의 피크를 나타내었다. 생성된 스펙트럼을 다양한 화합물에 대한 대조구 스펙트럼과 비교하였다. 4개의 피크는 상기에서 나타낸 4개의 화합물 스펙트럼상의 피크에 대응하였다. 각 화합물의 중량 %를 계산하였으며 이는 상기에 나타낸 것과 같이 A 33 중량%, B 54 중량%, C 13 중량%, 및 D <1 중량%로 관측되었다.
실시예 14
큐멘 중에서 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물의 제조
주어진 수율로 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
3.50g(0.019mole)의 4-tert-부틸프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니) 및 6.57g(0.038mole)의 4-니트로프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니)을 80ml의 큐멘 중에 첨가하였다. 혼합물 중에 존재하는 물을 제거하기 위해 딘 앤 스타크 장치를 사용하여 혼합물을 증류하였다. 혼합물을 약 50℃ 미만의 온도로 냉각시켰다. 이후, 혼합물을 교반 막대, 냉각기, 온도계, 아르곤 버블러 및 아르곤 유입 튜브가 장착된 3-목 둥근 바닥 250ml 플라스크에 첨가하였다.
혼합물을 50℃로 가열하였다. 가열된 혼합물 중으로 큐멘 중의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니) 1M 용액 19.2ml을 약 2분에 걸쳐 주입하였다. 반응 혼합물을 약 138℃의 환류 온도로 서서히 가열하고, 약 30분간 이 온도에서 유지하였다. 반응 혼합물을 HPLC 분석을 사용하여 관측하였다.
생성물을 아세트니트릴 및 C-18 HYPERSIL™칼럼을 사용하여 HPLC 1100 시리즈(휴렛 패커드) 상에서 분석하였다. HPLC 스펙트럼은 5분의 체류 영역 부근에서 4개의 피크를 나타내었다. 생성된 스펙트럼을 다양한 화합물에 대한 대조구 스펙트럼과 비교하였다. 4개의 피크는 상기에서 나타낸 4개의 화합물 스펙트럼상의 피크에 대응하였다. 각 화합물의 중량 %를 계산하였으며 이는 상기에 나타낸 것과 같이 A 29 중량%, B 54 중량%, C 16 중량%, 및 D <1 중량%로 관측되었다.
실시예 15
큐멘/크실렌 혼합물 중에서 비대칭 서브프탈로니트릴 화합물의 제조
비대칭 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
1.50g(7.8mmole)의 2,3-디클로로프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니) 및 0.50g(3.9mmole)의 피리딘-2,3-디카르보니트릴(오레곤주 포틀랜드 소재 TCI 아메리카(America)사)을 3ml의 큐멘 및 27ml의 크실렌의 혼합물 중에 첨가하였다. 혼합물 중에 존재하는 물을 제거하기 위해 딘 앤 스타크 장치를 사용하여 약 40분 동안 혼합물을 증류하였다. 혼합물을 약 50℃ 미만의 온도로 냉각시키고 트랩을 제거하였다.
이후 혼합물을 교반 막대, 냉각기, 온도계, 아르곤 버블러 및 아르곤 유입 튜브가 장착된 3-목 둥근 바닥 250ml 플라스크에 첨가하였다. 혼합물을 질소 블랭킷하에서 50℃로 가열하였다. 가열된 혼합물 중으로 큐멘 중의 보론 트리클로라이드(알드리치 케미칼 컴파니)의 1M 용액 11.7ml (11.7mmole)을 약 5분에 걸쳐 주입하였다. 반응 혼합물을 약 138℃의 환류 온도로 서서히 가열하고, 약 60분간 이 온도에서 유지하였다. 반응 혼합물을 HPLC 분석을 사용하여 관측하였다.
생성물을 아세트니트릴 및 C-18 HYPERSIL™칼럼을 사용하여 HPLC 1100 시리즈(휴렛 패커드) 상에서 분석하였다. HPLC 스펙트럼은 두 개의 피크, 8.1분 체류 시간에서 하나의 피크 및 25.4분 체류 시간에서 하나의 피크를 나타내었다. 생성된 스펙트럼을 다양한 화합물에 대한 대조구 스펙트럼과 비교하였다. 2개의 피크는 헥사클로로서브프탈로시아닌 및 상기 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물 스펙트럼 상의 피크에 해당하였다. 헥사클로로서브프탈로시아닌의 중량%는 77%로 관측되었으며, 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물의 중량%는 약 15 중량%로 관측되었다.
반응 혼합물을 주변 온도로 냉각시키고, 30ml의 헥산을 반응 혼합물에 첨가하였다. 혼합물을 여과시켰다. 고형물을 헥산으로 세척한 후, 주변 온도의 진공 오븐 및 0.01mmHg에서 4시간 동안 건조시켰다. 수득량은 2.0g의 생성물이었다.
실시예 16
"봉개된"서브프탈로시아닌의 제조
봉개된 디클로로서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다:
자석 교반 막대가 장착된 250ml의 둥근 바닥 플라스크 중으로 3.8g(0.3mole)의 프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니) 및 30ml의 큐멘(알드리치 케미칼 컴파 니)을 아르곤 분위기 하에서 넣었다. 주사기로, 2.0g(0.01mole)의 클로로디페닐보론(알드리치 케미칼 컴파니)을 첨가하였다. 혼합물을 약 138℃의 환류 온도로 서서히 가열하였다. 혼합물을 약 90분 동안 환류로 가열하였다.
반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 40ml의 헥산을 혼합물에 첨가하였다. 침전물을 여과시켰다. 생성물을 아세토니트릴 및 C-18 HYPERSIL™칼럼을 사용하여 HPLC1100시리즈(휴렛 패커드)에서 분석하였다. HPLC 분석은 생성물이 75 중량%의 페닐 봉개된 서브프탈로시아닌 화합물 및 25 중량%의 염소 봉개된 서브프탈로시아닌 화합물임을 보여주었다. 반응 수득량은 3.1g이었다.
서브프탈로시아닌 화합물을 메틸렌 클로라이드 및 톨루엔 50:50 부피% 혼합물을 용리액으로 사용한 중성 알루미나를 이용하여 칼럼 크로마토그래피로 분리하였다.
실시예 17
대칭 서브프탈로시아닌의 제조
서브프탈로시아닌을 제조하기 위해 하기 반응을 수행하였다;
의 혼합물을 나타낸다.
자석 교반 막대가 장착되었으며, 아르곤으로 플러시되는(flush) 250ml의 둥근 바닥 플라스크 중으로 2.0g(0.155mole)의 피리딘-2,3-디카르보니트릴(오레곤주 포틀랜드 소재 TCI 아메리카사) 및 30ml의 큐멘(알드리치 케미칼 컴파니)을 넣었다. 주사기로, 크셀렌 중의 1.8g(0.0155mole)의 트리클로로보론(알드리치 케미칼 컴파니)을 혼합물에 첨가하였다. 혼합물이 황색으로 변화하였으며, 이후 실온에서 갈색/적색으로 변화하였다. 혼합물을 약 80℃로 서서히 가열하였으며, 이 온도에서 약 30분 동안 유지하였다.
반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 침전물을 여과시켰다. 생성물을 헥산으로 세척하였다. 반응 수득량은 1.5g이었다(실제 수율 71%).
실시예 18
대칭 및 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물의 혼합물 제조
대칭 및 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하기 위해 하기 반응을 수행 하였다:
자석 교반 막대가 장착되었으며 아르곤으로 플러시되는 250ml의 둥근 바닥 플라스크 중으로 2.0g(15.5mole)의 프탈로니트릴(알드리치 케미칼 컴파니), 1.0g(7.8mmole)의 피리딘-2,3-디카르보니트릴(오레곤주 포틀랜드 소재 TCI 아메리카사) 및 30ml의 큐멘(알드리치 케미칼 컴파니)을 넣었다. 주사기로, 크실렌 중의 1.8g(15.5mmole)의 트리클로로보론(알드리치 케미칼 컴파니)을 혼합물에 첨가하였다. 혼합물을 약 138℃의 환류 온도로 서서히 가열하였다. 혼합물을 약 45분 동안 환류로 가열시킨 후, 실온으로 냉각시켰다.
30ml의 헥산을 반응 혼합물에 첨가하였다. 침전물을 여과시키고 헥산으로 세척하였다. 반응 수득량은 2.5g이었다.
HPLC 분석은 생성물이 18 중량%의 대칭 서브프탈로시아닌 화합물 및 82 중량%의 비대칭 서브프탈로시아닌 화합물의 혼합물임을 보여주었다.
실시예 19
선택된 서브프탈로시아닌 화합물의 질량 분광학 분석
상기 예의 기술을 사용하여, 다수의 서브프탈로시아닌 화합물을 제조하였다. 화합물을 두 개의 상이한 질량분석기를 사용하여 분석하였다. 하기 화합물들을 마이크로매스 쿼트로 II 트리플 쿼드루폴 매스 스펙트로미터(Micromass Quattro II Triple Quadrupole Mass Spectrometer)에서 대기압 화학적 이온화(APCI)에 의해 분석하였다.
하기 화합물들을 설모퀘스트(Thermoquest) LCQ 질량 분석기를 사용하여 분석하였다:
본 명세서가 그 특정 실시태양에 관련하여 상세히 기술되었지만, 당해 업계에서 숙련된 기술을 가진 자들은 상기 기재를 이해할 때 이들 실시태양의 변경, 변형 및 균등물을 용이하게 생각할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 첨부된 청구범위 및 그 균등물로 평가되어야 한다.
Claims (30)
- 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값이 0% 이상 15% 미만인 하기 화학식을 갖는 서브프탈로시아닌 화합물을 포함하는 잉크 조성물.(식에서, X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 알킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 황 함유기, 란탄족 함유기 또는 에스테르기를 나타내고; 단, X1 내지 X12 중 어느 하나가 질소라면, 대응하는 R1 내지 R12는 질소 원자 상의 전자쌍을 나타낸다.)
- 제1항에 있어서, R1 내지 R12가 각각 독립적으로 -H, 염소, 브롬, 불소, 요오드, tert-부틸기, -NO2, -SO3H, -SO3Na, -SO3Cl, -SO3 -pyH+, 또는 Eu 함유 잔기를 나타내는 것인 조성물.
- 제2항에 있어서, R1 내지 R12가 각각 독립적으로 -H, 염소, 브롬, 불소, 또는 요오드를 나타내는 것인 조성물.
- 제1항에 있어서, Z가 -Cl, 페닐기, 또는 OR'(식에서, R'는 알킬, 치환된 알킬, 아릴, 또는 치환된 아릴을 나타냄)를 나타내는 것인 조성물.
- 하나 이상의 잉크가 제1항의 잉크 조성물을 포함하는 것인, 두 개 이상의 잉크를 포함하는 잉크 세트.
- 제6항에 있어서, 황색 잉크, 청색 잉크, 및 흑색 잉크를 더 포함하는 것인 잉크 세트.
- 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값이 0% 이상 15% 미만이고, 하기 화학식을 갖는 서브프탈로시아닌 화합물.(식에서, X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 알킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 란탄족 함유기 또는 에스테르기를 나타내고; 단, X1 내지 X12 중 어느 하나가 질소라면, 대응하는 R1 내지 R12는 질소 원자 상의 전자쌍을 나타낸다.)
- 제8항에 있어서, 0% 이상 12% 미만의 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값을 가지는 화합물.
- 제9항에 있어서, 0% 이상 10% 미만의 서브프탈로시아닌 내광성 시험 값을 가지는 화합물.
- 삭제
- 제8항에 있어서, R1 내지 R12가 각각 독립적으로 -H, 염소, 브롬, 불소, 요오드, tert-부틸기, -NO2, -SO3H, -SO3Na, -SO3Cl, -SO3 -pyH+, 또는 Eu 함유 잔기를 나타내는 것인 화합물.
- 제8항에 있어서, R1 내지 R12가 각각 독립적으로 -H, 염소, 브롬, 불소, 또는 요오드를 나타내는 것인 화합물.
- 제14항에 있어서, Z가 -Cl, 페닐기, 또는 OR'(식에서, R'는 알킬, 치환된 알킬, 아릴, 또는 치환된 아릴을 나타냄)를 나타내는 것인 화합물.
- 삭제
- 삭제
- 500을 초과하는 스핀 궤도 결합 상수 ζ1을 갖는 잔기를 하나 이상 함유하는, 하기 화학식을 갖는 서브프탈로시아닌 화합물.(식에서, X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 알킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 란탄족 함유기 또는 에스테르기를 나타내고; 단, X1 내지 X12 중 어느 하나가 질소라면, 대응하는 R1 내지 R12는 질소 원자 상의 전자쌍을 나타낸다.)
- 제18항에 있어서, 1000을 초과하는 스핀 궤도 결합 상수 ζ1을 갖는 잔기를 하나 이상 함유하는 화합물.
- 제19항에 있어서, 1400을 초과하는 스핀 궤도 결합 상수 ζ1을 갖는 잔기를 하나 이상 함유하는 화합물.
- 20℃ 이상 180℃ 미만의 온도에서 하나 이상의 제1 반응물질과 하나 이상의 수소 공여 용매를 반응시켜, 50% 초과 100% 이하의 반응 수율로 서브프탈로시아닌 화합물을 생성하는 것을 포함하며,상기 하나 이상의 제1 반응물질은 프탈로니트릴, 치환된 프탈로니트릴, 피리딘-2,3-디카르보니트릴, 치환된 피리딘-2,3-디카르보니트릴, 피리딘-3,4-디카르보니트릴, 치환된 피리딘-3,4-디카르보니트릴, 피라진-2,3-디카르보니트릴, 치환된 피라진-2,3-디카르보니트릴, 또는 이들의 조합을 포함하고,상기 하나 이상의 수소 공여 용매는 치환된 방향족 화합물; 시클로헥사디엔; 2-프로판올과 같은 알콜; 석유 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 및 테트랄렌과 같은 에테르; 또는 이들의 조합을 포함하는,하기 화학식을 갖는 서브프탈로시아닌 화합물의 제조 방법.(식에서, X1 내지 X12는 각각 독립적으로 탄소 또는 질소를 나타내고; R1 내지 R12 및 Z는 각각 독립적으로 -H, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 아릴기, 치환된 아릴기, 알콕시드기, 페녹시기, 치환된 페녹시기, 알킬 술파이드, 아릴 술파이드, 질소 함유기, 술폰산, 란탄족 함유기 또는 에스테르기를 나타내고; 단, X1 내지 X12 중 어느 하나가 질소라면, 대응하는 R1 내지 R12는 질소 원자 상의 전자쌍을 나타낸다.)
- 제21항에 있어서, 수율이 80% 초과 100% 이하인 방법.
- 제22항에 있어서, 수율이 90% 초과 100% 이하인 방법.
- 제23항에 있어서, 수율이 94% 초과 100% 이하인 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제21항에 있어서, 하나 이상의 수소 공여 용매가 o-크실렌, m-크실렌, p-크실렌, 톨루엔 또는 치환된 벤젠(여기에서, 치환체는 수소 함유 잔기를 포함함)을 포함하는 것인 방법.
- 삭제
- 제21항의 방법에 의해 제조된 서브프탈로시아닌 화합물.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13545699P | 1999-05-24 | 1999-05-24 | |
US60/135,456 | 1999-05-24 | ||
US17565300P | 2000-01-12 | 2000-01-12 | |
US60/175,653 | 2000-01-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020033094A KR20020033094A (ko) | 2002-05-04 |
KR100856158B1 true KR100856158B1 (ko) | 2008-09-03 |
Family
ID=26833339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020017014975A KR100856158B1 (ko) | 1999-05-24 | 2000-05-18 | 신규 서브프탈로시아닌 착색제, 잉크 조성물, 및 그 제조방법 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6368395B1 (ko) |
EP (1) | EP1180126B1 (ko) |
JP (1) | JP2003500510A (ko) |
KR (1) | KR100856158B1 (ko) |
AT (1) | ATE294839T1 (ko) |
AU (1) | AU5027700A (ko) |
DE (1) | DE60019918T2 (ko) |
MX (1) | MXPA01011714A (ko) |
WO (1) | WO2000071621A1 (ko) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004010838A (ja) * | 2002-06-10 | 2004-01-15 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 顔料分散体、カラーレジストインキ及びカラーフィルター |
KR101057248B1 (ko) * | 2003-01-30 | 2011-08-16 | 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 | 안료 분산체, 컬러필터용 조성물 및 컬러필터 |
JP4694138B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2011-06-08 | 新日鐵化学株式会社 | サブフタロシアニン化合物の製造方法 |
ES2245884B1 (es) * | 2004-07-02 | 2007-02-01 | Universidad Autonoma De Madrid | Procedimiento para la preparacion de subftalocianinas con alta solubilidad y alta estabilidad optica con aplicaciones como materiales para almacenamiento optico de datos. |
ES2245886B1 (es) * | 2004-07-02 | 2007-02-01 | Universidad Autonoma De Madrid | Procedimiento para la preparacion de subporfirazinas con alta solubilidad con aplicaciones como materiales para almacenamiento optico de datos. |
US7888398B2 (en) * | 2004-07-29 | 2011-02-15 | Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. | Pigment |
JP4652213B2 (ja) * | 2005-11-16 | 2011-03-16 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、光硬化性組成物及びカラーフィルタ |
JP5322268B2 (ja) * | 2008-08-08 | 2013-10-23 | オリヱント化学工業株式会社 | リン誘導体を軸置換基とするサブフタロシアニン誘導体とその製造方法、およびそれを用いる光学膜 |
US8580464B2 (en) * | 2011-11-17 | 2013-11-12 | General Electric Company | Reverse saturable absorbtion sensitizers for optical data storage media and methods for use |
KR101960468B1 (ko) | 2012-10-08 | 2019-03-21 | 삼성전자주식회사 | 유기 광전 소자 및 이미지 센서 |
CN102936260A (zh) * | 2012-11-05 | 2013-02-20 | 西北大学 | 亚酞菁化合物、制备方法及其应用 |
KR102195813B1 (ko) | 2013-05-27 | 2020-12-29 | 삼성전자주식회사 | 유기 광전 소자 및 이미지 센서 |
US8981088B1 (en) * | 2013-08-28 | 2015-03-17 | Xerox Corporation | Boron subphthalocyanine compounds and method of making |
US8920551B1 (en) | 2013-08-28 | 2014-12-30 | Xerox Corporation | Phase change inks |
US9394319B2 (en) * | 2013-08-28 | 2016-07-19 | Xerox Corporation | Boron subphthalocyanine compounds and method of making |
KR102270705B1 (ko) | 2013-12-06 | 2021-06-29 | 삼성전자주식회사 | 유기 광전 소자 및 이미지 센서 |
JP6185431B2 (ja) * | 2014-06-23 | 2017-08-23 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 光電変換膜、固体撮像素子、および電子機器 |
JP2016063084A (ja) * | 2014-09-18 | 2016-04-25 | 株式会社東芝 | 有機光電変換素子及びこれを備える撮像装置 |
KR102108349B1 (ko) * | 2018-06-11 | 2020-05-07 | 부산대학교 산학협력단 | 착색제 및 이를 포함하는 조성물 |
KR102400637B1 (ko) * | 2019-11-04 | 2022-05-23 | 주식회사 케이디파인켐 | 열전달 유체용 착색제 및 이를 포함하는 조성물 |
KR20210073277A (ko) * | 2019-12-10 | 2021-06-18 | 극동제연공업 주식회사 | 열전달 유체용 착색제 및 이를 포함하는 조성물 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH039939A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-17 | Chisso Corp | ポリオレフイン系樹脂組成物 |
US5738716A (en) * | 1996-08-20 | 1998-04-14 | Eastman Kodak Company | Color pigmented ink jet ink set |
Family Cites Families (755)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA552565A (en) | 1958-02-04 | Scalera Mario | Stabilization of copperized azo dyestuffs | |
US3123647A (en) | 1964-03-03 | Certificate of correction | ||
US3248337A (en) | 1966-04-26 | Composite reducing agent for use in the textile industry | ||
US1876880A (en) | 1932-09-13 | Othmab dbapal | ||
CA461082A (en) | 1949-11-15 | Jozsef Biro Laszlo | Writing paste | |
CA537687A (en) | 1957-03-05 | J. Leavitt Julian | Stable solutions of mixtures of naphthols and stabilized diazo compounds | |
US2612495A (en) | 1952-09-30 | Process of effecting same | ||
CA571792A (en) | 1959-03-03 | Ciba Limited | Process for printing textiles and printing preparations therefor | |
US575228A (en) | 1897-01-12 | Moritz von gallois | ||
CA413257A (en) | 1943-06-15 | Albert Genest Homer | Hat bat shrinking and felting machine | |
US2171976A (en) | 1939-09-05 | Process of manufacturing stabilized | ||
CA460268A (en) | 1949-10-11 | L. Walsh William | Stable diazonium salt preparation and process of preparing same | |
CA779239A (en) | 1968-02-27 | General Electric Company | Information recording | |
US582853A (en) | 1897-05-18 | Adolf feer | ||
US2809189A (en) | 1957-10-08 | Method of producing stabilized | ||
US2185153A (en) | 1939-12-26 | Stable ice color producing | ||
CA463021A (en) | 1950-02-07 | Streck Clemens | Stable diazo salt preparation and process of preparing them | |
CA483214A (en) | 1952-05-13 | General Aniline And Film Corporation | Diazo amino printing colors | |
CA465496A (en) | 1950-05-30 | Z. Lecher Hans | Stabilization of colouring compositions containing diazonium salts | |
CA465495A (en) | 1950-05-30 | Z. Lecher Hans | Stabilization of colouring compositions containing diazonium salts | |
US2237885A (en) | 1941-04-08 | Stable diazo compounds | ||
CA517364A (en) | 1955-10-11 | H. Von Glahn William | Stabilized diazonium salts and process of effecting same | |
US2381145A (en) | 1945-08-07 | Stable diazo salt preparation | ||
CA463022A (en) | 1950-02-07 | General Aniline And Film Corporation | Stable diazo salt preparation | |
CA465499A (en) | 1950-05-30 | American Cyanamid Company | Stabilization of printing pastes containing diazonium salts | |
US2628959A (en) | 1953-02-17 | Process for making stabilized | ||
US1325971A (en) | 1919-12-23 | Kazue akashi | ||
CA458808A (en) | 1949-08-09 | L. Gardner Frank | Cleat assembly for athletic shoes | |
US893636A (en) | 1904-06-14 | 1908-07-21 | Frederick J Maywald | Coloring material and process of making same. |
BE398850A (ko) | 1932-09-30 | |||
US1013544A (en) | 1910-08-30 | 1912-01-02 | Equilibrator Company | Ink. |
US1364406A (en) | 1920-04-24 | 1921-01-04 | Chester Novelty Company Inc | Ink-stick |
US1436856A (en) | 1922-01-31 | 1922-11-28 | George W Brenizer | Printing process ink |
NL21515C (ko) | 1924-12-28 | |||
US1803906A (en) | 1928-02-16 | 1931-05-05 | Kalle & Co Ag | Diazo-types stabilized with alpha derivative of thiocarbonic acid and alpha processof preparing them |
US1844199A (en) | 1928-08-30 | 1932-02-09 | Rca Corp | Pyro-recording paper |
DE498028C (de) | 1929-05-15 | 1930-07-14 | I G Farbenindustrie Akt Ges | Fixierbare Schicht fuer das Farbenausbleichverfahren |
GB355686A (en) | 1929-06-08 | 1931-08-26 | Kodak Ltd | Improvements in or relating to combined kinematographic and sound record films |
CH147673A (de) | 1929-06-17 | 1931-06-15 | Chem Ind Basel | Verfahren zur Herstellung eines festen, beständigen Diazopräparates. |
DE503314C (de) | 1929-07-30 | 1930-07-29 | I G Farbenindustrie Akt Ges | Ausbleichfarbschichten |
BE369421A (ko) | 1929-09-09 | |||
US1962111A (en) | 1930-01-07 | 1934-06-12 | Firm Chemical Works Formerly S | Stable tetrazomonoazo compounds and their preparation |
US2058489A (en) | 1930-06-16 | 1936-10-27 | Nat Aniline & Chem Co Inc | Dye powder compositions |
BE381968A (ko) | 1930-08-14 | |||
BE390157A (ko) | 1931-08-04 | |||
US2062304A (en) | 1931-11-19 | 1936-12-01 | Gaspar Bela | Process for the production of a colored sound film |
US2005378A (en) | 1931-12-16 | 1935-06-18 | Waldhof Zellstoff Fab | Manufacture of cellulose material |
US2005511A (en) | 1931-12-22 | 1935-06-18 | Chemical Works Formerly Sandoz | Basic derivatives of porphins and metalloporphins and process for their manufacture |
US2049005A (en) | 1932-01-04 | 1936-07-28 | Gaspar Bela | Color-photographic bleach out dyestuff layers |
US1975409A (en) | 1932-05-19 | 1934-10-02 | Gen Aniline Works Inc | Solid stable diazoazo salts and process of preparing them |
BE397731A (ko) | 1932-07-21 | |||
US2125015A (en) | 1932-10-26 | 1938-07-26 | Gaspar Bela | Multicolor photographic material and a process for using the same |
US2106539A (en) | 1933-07-13 | 1938-01-25 | Gen Aniline Works Inc | Stable diazo salt preparations and process of preparing them |
US2054390A (en) | 1934-08-09 | 1936-09-15 | Photographic bleachjng-out layers | |
DE678456C (de) | 1935-01-05 | 1939-07-18 | Bela Gaspar Dr | Verfahren zur Herstellung von photographischen oder kinematographischen Bildern mit und ohne Tonaufzeichnungen, bei denen Farbstoffbilder mit einem Silberbilde vereinigtwerden |
US2090511A (en) | 1935-04-18 | 1937-08-17 | Calco Chemical Co Inc | Colloidized vat dye |
BE417861A (ko) | 1935-05-04 | |||
GB458808A (en) | 1935-06-28 | 1936-12-28 | Kenneth Herbert Saunders | The manufacture of new stabilised diazo compounds and compositions of matter |
US2220178A (en) | 1936-01-09 | 1940-11-05 | Gen Aniline & Film Corp | Process of producing a sound track on a light-sensitive color film |
GB486006A (en) | 1936-10-27 | 1938-05-27 | Christopher William Crouch Whe | Improvements in colour photography |
US2159280A (en) | 1936-12-31 | 1939-05-23 | Eastman Kodak Co | Sound image on multilayer film |
GB492711A (en) | 1937-03-22 | 1938-09-22 | Bela Gaspar | Process for the production of a combined coloured picture and sound record film |
US2181800A (en) | 1937-06-23 | 1939-11-28 | Calco Chemical Co Inc | Colloidized azo coloring matter |
CH197808A (de) | 1937-06-28 | 1938-05-31 | Fritz Busenhart | Luftbefeuchtungsapparat an Radiatoren. |
US2230590A (en) | 1938-01-22 | 1941-02-04 | Gen Aniline & Film Corp | Color photographic process |
BE433290A (ko) | 1938-03-16 | |||
US2154996A (en) | 1938-06-24 | 1939-04-18 | West Virginia Pulp & Paper Com | Manufacture of calcium sulphite filled paper |
GB518612A (en) | 1938-07-27 | 1940-03-04 | Bela Gaspar | Process for the manufacture of combined picture and sound films |
BE437152A (ko) | 1938-12-03 | |||
US2416145A (en) | 1938-12-27 | 1947-02-18 | Eterpen Sa Financiera | Writing paste |
US2349090A (en) | 1939-05-25 | 1944-05-16 | Ici Ltd | Stabilized polydiazo-phthalocyanines |
GB539912A (en) | 1939-08-07 | 1941-09-29 | Durand & Huguenin Ag | Process for the manufacture of new preparations containing the components for the production of ice colours and their application to textile printing |
US2243630A (en) | 1939-10-10 | 1941-05-27 | Rohm & Haas | Reaction of polysaccharides with aminomethyl pyrroles |
BE439901A (ko) | 1939-11-20 | |||
US2364359A (en) | 1940-11-06 | 1944-12-05 | American Cyanamid Co | Printing compositions and methods of printing therewith |
GB600451A (en) | 1940-11-06 | 1948-04-09 | American Cyanamid Co | Direct dye planographic printing compositions |
US2356618A (en) | 1941-05-23 | 1944-08-22 | Du Pont | Stabilized diazo printing paste |
US2361301A (en) | 1941-07-03 | 1944-10-24 | Du Pont | Stabilization of azo dyestuffs |
US2346090A (en) | 1942-08-19 | 1944-04-04 | Eastman Kodak Co | Photographic bleach-out layer |
US2402106A (en) | 1942-09-09 | 1946-06-11 | Gen Aniline & Film Corp | Stable diazonium salts |
US2382904A (en) | 1942-10-10 | 1945-08-14 | Du Pont | Stabilization of organic substances |
US2386646A (en) | 1943-07-05 | 1945-10-09 | American Cyanamid Co | Stabilization of coloring compositions containing diazonium salts |
FR996646A (fr) | 1945-05-11 | 1951-12-24 | Procédé d'obtention de films en couleurs par synthèse trichrome soustractive, et son application à la cinématographie sonore | |
GB618616A (en) | 1946-09-25 | 1949-02-24 | George Trapp Douglas | Improvements in textile printing processes |
GB626727A (en) | 1946-11-29 | 1949-07-20 | Geoffrey Bond Harrison | Improvements in or relating to the recording of sound tracks in colour film |
US2477165A (en) | 1946-12-27 | 1949-07-26 | Gen Aniline & Film Corp | Nondusting compositions containing stabilized diazo compounds |
US2527347A (en) | 1946-12-27 | 1950-10-24 | Gen Aniline & Film Corp | Nondusting compositions for stabilizing diazo salts |
US2580461A (en) | 1947-08-27 | 1952-01-01 | Sulphite Products Corp | Ultraviolet-radiation impervious wrapping material |
US2612494A (en) | 1948-10-22 | 1952-09-30 | Gen Aniline & Film Corp | Stabilized diazonium salts and process of effecting same |
US2647080A (en) | 1950-06-30 | 1953-07-28 | Du Pont | Light-stabilized photopolymerization of acrylic esters |
US2601669A (en) | 1950-09-30 | 1952-06-24 | American Cyanamid Co | Stabilized barium and strontium lithol toners |
US2768171A (en) | 1951-03-28 | 1956-10-23 | Ici Ltd | Acid stabilized isothiouronium dyestuffs |
US2680685A (en) | 1951-04-10 | 1954-06-08 | Us Agriculture | Inhibition of color formation in nu, nu-bis (2-hydroxyethyl) lactamide |
DE903529C (de) | 1951-09-01 | 1954-02-08 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliche Schichten |
US2773056A (en) | 1952-07-12 | 1956-12-04 | Allied Chem & Dye Corp | Stable finely divided alkyl amine dyes |
US2834773A (en) | 1952-09-23 | 1958-05-13 | American Cyanamid Co | Stabilization of copperized azo dyestuffs |
US2732301A (en) | 1952-10-15 | 1956-01-24 | Chxcxch | |
US2798000A (en) | 1952-12-16 | 1957-07-02 | Int Minerals & Chem Corp | Printing ink with anti-skinning agent |
US2827358A (en) | 1953-06-15 | 1958-03-18 | American Cyanamid Co | Preparation of stable compositions of sulfuric acid half esters of leuco vat dyestuffs |
BE529607A (ko) | 1953-06-18 | |||
NL189059A (ko) | 1953-07-13 | |||
DE1022801B (de) | 1953-11-14 | 1958-01-16 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung von verzweigt polymerisierenden, loeslichen und reckbaren bzw. vernetzten Mischpolymerisaten mit geringem dielektrischem Verlust, hoher Durchschlagsfestigkeit und Waermeformbestaendigkeit |
US2728784A (en) | 1954-03-17 | 1955-12-27 | Eastman Kodak Co | Stabilization of oxidizable materials and stabilizers therefor |
US2955067A (en) | 1954-10-20 | 1960-10-04 | Rohm & Haas | Cellulosic paper containing ion exchange resin and process of making the same |
US2875045A (en) | 1955-04-28 | 1959-02-24 | American Cyanamid Co | Alum containing antioxidant and manufacture of sized paper therewith |
DE1119510B (de) | 1956-03-14 | 1961-12-14 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung unloeslicher, vernetzter hochmolekularer Polyester |
DE1047013B (de) | 1956-05-15 | 1958-12-18 | Agfa Ag | Verfahren zur photothermographischen Bilderzeugung |
DE1039835B (de) | 1956-07-21 | 1958-09-25 | Bayer Ag | Photographisches Verfahren zur Herstellung von Farbstoffbildern |
DE1040562B (de) | 1956-08-23 | 1958-10-09 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von festen, haltbaren Diazoniumverbindungen |
DE1047787B (de) | 1956-08-24 | 1958-12-31 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von festen, haltbaren Diazoniumverbindungen |
DE1045414B (de) | 1956-09-19 | 1958-12-04 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von festen, haltbaren Diazoniumverbindungen |
US2992198A (en) | 1956-12-24 | 1961-07-11 | Funahashi Takaji | Process of producing liquid color |
US2992129A (en) | 1957-03-25 | 1961-07-11 | Ludlow Corp | Gummed product printed with conditioner |
US2936241A (en) | 1957-05-16 | 1960-05-10 | Sperry Rand Corp | Non-printing indicia ink |
US2892865A (en) | 1957-09-20 | 1959-06-30 | Erba Carlo Spa | Process for the preparation of tertiary esters of benzoylcarbinol |
US3076813A (en) | 1957-11-13 | 1963-02-05 | Monsanto Chemicals | alpha, beta, gamma, sigma-tetra-arylporphins |
US2940853A (en) | 1958-08-21 | 1960-06-14 | Eastman Kodak Co | Azide sensitized resin photographic resist |
US3071815A (en) | 1958-09-09 | 1963-01-08 | Allied Chem | Process for producing free flowing oil soluble fusible organic dyestuffs |
DE1154069B (de) | 1958-12-27 | 1963-09-12 | Bayer Ag | Verfahren zur Erzeugung wasserunloeslicher Azofarbstoffe auf Gebilden aus aromatischen Polyestern, insbesodnere Polyaethylen-terephthalaten, synthetischen Polyamiden undPolyurethanen |
US3304297A (en) | 1959-02-12 | 1967-02-14 | Ciba Ltd | Dyestuffs consisting of organic dyestuffs bound to polyhydroxylated organic polymers |
DE1132540B (de) | 1959-09-15 | 1962-07-05 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Loesungen von Kupplungskomponenten der Eisfarbenreihe |
NL256641A (ko) | 1959-10-09 | |||
NL262736A (ko) | 1960-03-24 | |||
US3242215A (en) | 1960-04-04 | 1966-03-22 | Du Pont | Bis-(2-chloroacryloyl) aryl compounds |
US3075014A (en) | 1960-06-14 | 1963-01-22 | Richardson Merrell Inc | Basic substituted alkoxy diphenylalkanols, diphenylalkenes and diphenylalkanes |
US3104973A (en) | 1960-08-05 | 1963-09-24 | Horizons Inc | Photographic bleaching out of cyanine dyes |
NL270002A (ko) | 1960-10-08 | |||
NL270722A (ko) | 1960-10-27 | |||
US3154416A (en) | 1961-03-30 | 1964-10-27 | Horizons Inc | Photographic process |
NL280345A (ko) | 1961-06-30 | |||
NL282186A (ko) | 1961-08-22 | |||
US3121632A (en) | 1961-08-30 | 1964-02-18 | Horizons Inc | Photographic process and composition including leuco triphenylmethane dyes |
US3155509A (en) | 1961-09-05 | 1964-11-03 | Horizons Inc | Photographic process |
US3140948A (en) | 1961-10-18 | 1964-07-14 | Horizons Inc | Photography |
US3282886A (en) | 1962-07-27 | 1966-11-01 | Du Pont | Polycarbonamides of improved photostability and dye lightfastness |
US3445234A (en) | 1962-10-31 | 1969-05-20 | Du Pont | Leuco dye/hexaarylbiimidazole imageforming composition |
US3305361A (en) | 1962-12-28 | 1967-02-21 | Gen Electric | Information recording |
US3313797A (en) | 1963-01-17 | 1967-04-11 | Du Pont | Stabilized fiber-reactive dyes |
US3300314A (en) | 1963-02-01 | 1967-01-24 | Eastman Kodak Co | Nonsilver, light-sensitive photographic elements |
US3266973A (en) | 1963-07-25 | 1966-08-16 | Richard P Crowley | Method of preparing adsorbent filter paper containing crystalline zeolite particles, and paper thereof |
US3284205A (en) | 1963-09-17 | 1966-11-08 | Horizons Inc | Benzotriazole and heterocyclic ketimide activators for leuco compounds |
NL125868C (ko) | 1964-01-29 | |||
US3363969A (en) | 1964-02-12 | 1968-01-16 | Du Pont | Dyeing and light stabilizing nylon yarns with sulfonated dyes; sterically hindered phenols, and alkylnaphthalene sulfonates with or without other ultraviolet light absorbers |
US3359109A (en) | 1964-04-29 | 1967-12-19 | Du Pont | Leuco dye-n, n. o-triacylhydroxylamine light-sensitive dye former compositions |
US3341492A (en) | 1964-05-11 | 1967-09-12 | Celanese Corp | Polyamides stabilized with iodine and/or bromine substituted phenols |
US3320080A (en) | 1964-06-05 | 1967-05-16 | Nat Starch Chem Corp | Water resistant paper coating compositions |
GB1070863A (en) | 1964-06-12 | 1967-06-07 | Gevaert Photo Prod Nv | Light-sensitive photographic materials |
US3397984A (en) | 1965-08-19 | 1968-08-20 | Eastman Kodak Co | Silver dye bleach materials improving image density |
US3361827A (en) | 1965-01-05 | 1968-01-02 | American Plastic & Chemical Co | Preparation of benzalacetophenone |
US3418118A (en) | 1965-06-03 | 1968-12-24 | Du Pont | Photographic processes and products |
US3479185A (en) | 1965-06-03 | 1969-11-18 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers |
CH475214A (de) | 1965-06-04 | 1969-07-15 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung sulfonsäure- bzw. sulfonatgruppenhaltiger Hydroxybenzophenone |
US3563931A (en) | 1965-08-06 | 1971-02-16 | Shojiro Horiguchi | Method of making chromogen-bonded-polymer and products thereof |
US3488269A (en) | 1965-09-15 | 1970-01-06 | Technical Operations Inc | Labile hydrogen initiators for visible light photopolymerization |
US3502476A (en) | 1965-10-20 | 1970-03-24 | Konishiroku Photo Ind | Light-sensitive photographic materials |
US3464841A (en) | 1965-10-23 | 1969-09-02 | Customark Corp | Method of preparing security paper containing an ultraviolet inhibitor |
GB1135693A (en) | 1966-03-10 | 1968-12-04 | Scholten Chemische Fab | Polysaccharide derivatives |
GB1184054A (en) | 1966-04-05 | 1970-03-11 | Agfa Gevaert Nv | Thermographic Recording Processes and Materials |
US3528814A (en) | 1966-04-29 | 1970-09-15 | Agfa Gevaert Ag | Sensitization of light-sensitive polymers |
US3637337A (en) | 1966-08-03 | 1972-01-25 | Brian Pilling | Improving the dye lightfastness of acrylic substrates with triazine compounds |
US3541142A (en) | 1966-09-02 | 1970-11-17 | Merck & Co Inc | (4-(2-hydroxymethylalkanoyl)phenoxy) acetic acids |
US3547646A (en) | 1966-12-16 | 1970-12-15 | Keuffel & Esser Co | Light-sensitive imaging material containing hydrazones |
US3503744A (en) | 1967-02-16 | 1970-03-31 | Keuffel & Esser Co | Photographic bleaching out of azomethine and azoaniline dyes |
US3453258A (en) | 1967-02-20 | 1969-07-01 | Corn Products Co | Reaction products of cyclodextrin and unsaturated compounds |
US3607863A (en) | 1967-02-28 | 1971-09-21 | Dyckerhoff Zementwerke Ag | Clathrate compounds |
US3453259A (en) | 1967-03-22 | 1969-07-01 | Corn Products Co | Cyclodextrin polyol ethers and their oxidation products |
US3565753A (en) | 1967-07-17 | 1971-02-23 | Ncr Co | Capsule-cellulose fiber units and products made therewith |
SE312870B (ko) | 1967-07-17 | 1969-07-28 | Asea Ab | |
US3637581A (en) | 1967-08-04 | 1972-01-25 | Shojiro Horiguchi | Method of making chromogen-bonded-polymer and products thereof |
US3642472A (en) | 1967-08-30 | 1972-02-15 | Holotron Corp | Bleaching of holograms |
US3546161A (en) | 1968-01-22 | 1970-12-08 | Allied Chem | Polyolefins with improved light stability |
US3574624A (en) | 1968-02-08 | 1971-04-13 | Eastman Kodak Co | Photographic elements containing dithiolium salts |
US3579533A (en) | 1968-03-18 | 1971-05-18 | Antioch College | Preparation of porphin,substituted porphin and metal chelates thereof |
US3615562A (en) | 1968-04-25 | 1971-10-26 | Rca Corp | Cyanine dye photographic film |
US3549367A (en) | 1968-05-24 | 1970-12-22 | Du Pont | Photopolymerizable compositions containing triarylimidazolyl dimers and p-aminophenyl ketones |
GB1257205A (ko) | 1968-07-15 | 1971-12-15 | ||
ES369481A1 (es) | 1968-07-15 | 1971-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Mejoras en el procedimiento de fabricacion de un papel paracopias sensible a las presiones. |
DE1769854C3 (de) | 1968-07-26 | 1982-08-19 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation |
US3595659A (en) | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dye bleachout system using indigoid dyes and colored activators |
US3595658A (en) | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dye bleachout system using polymethine dyes and colored activators |
US3595657A (en) | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dye bleachout system using indigoid dyes and colorless activators |
US3595655A (en) | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dyes bleachout system using polymethine dyes and colorless activators |
USRE28225E (en) | 1968-10-09 | 1974-11-05 | Photobleachable dye compositions | |
US3914166A (en) | 1968-11-06 | 1975-10-21 | Bayer Ag | Butyric acid derivatives as novel photosensitizers |
GB1245079A (en) | 1968-12-10 | 1971-09-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Spiro-indoline derivatives and their use in pressure-sensitive copying paper |
US3553710A (en) | 1969-03-14 | 1971-01-05 | Edward C Lloyd | Erasable trace recorder |
US3840338A (en) | 1969-04-11 | 1974-10-08 | Oreal | Light stabilized hair dye compositions |
JPS4912180B1 (ko) | 1969-04-21 | 1974-03-22 | ||
US3697280A (en) | 1969-05-22 | 1972-10-10 | Du Pont | Hexaarylbiimidazole-selected aromatic hydrocarbon compositions |
US3647467A (en) | 1969-05-22 | 1972-03-07 | Du Pont | Hexaarylbiimidazole-heterocyclic compound compositions |
US3617288A (en) | 1969-09-12 | 1971-11-02 | Minnesota Mining & Mfg | Propenone sensitizers for the photolysis of organic halogen compounds |
US3668188A (en) | 1969-11-03 | 1972-06-06 | Monsanto Co | Thermally stable polyester fibers having improved dyeability and dye lightfastness |
US3660542A (en) | 1969-12-11 | 1972-05-02 | Takeda Chemical Industries Ltd | Alkylbenzoylcarbinol phosphate esters |
CA930103A (en) | 1970-03-16 | 1973-07-17 | Dominion Textile Limited | Printing and dyeing process for blended fibre fabrics |
US3695879A (en) | 1970-04-20 | 1972-10-03 | Ibm | Hologram life extension |
US3669925A (en) | 1970-04-28 | 1972-06-13 | Monsanto Co | Thermally stable dyeable polyesters having improved dyed lightfastness |
US3689565A (en) | 1970-05-04 | 1972-09-05 | Horst Hoffmann | {60 -methylolbenzoin ethers |
US3873500A (en) | 1970-06-16 | 1975-03-25 | Agency Ind Science Techn | Photosensitive polymers |
US3652275A (en) | 1970-07-09 | 1972-03-28 | Du Pont | HEXAARYLBIIMIDAZOLE BIS (p-DIALKYL-AMINOPHENYL-{60 ,{62 -UNSATURATED) KETONE COMPOSITIONS |
GB1325220A (en) | 1970-10-07 | 1973-08-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Colour-forming composition |
NL7113828A (ko) | 1970-10-15 | 1972-04-18 | ||
US3678044A (en) | 1970-10-22 | 1972-07-18 | Chevron Res | Substituted flavanones |
JPS4926584B1 (ko) | 1970-11-26 | 1974-07-10 | ||
US3705043A (en) | 1970-12-07 | 1972-12-05 | Dick Co Ab | Infrared absorptive jet printing ink composition |
US3671251A (en) | 1970-12-10 | 1972-06-20 | Eastman Kodak Co | Sensitized pyrylium photobleachable dye in gelatin |
US3707371A (en) | 1970-12-14 | 1972-12-26 | Xerox Corp | Photosensitive element comprising a polymer matrix including styrene,auramine o,and a proxide and the use thereof in volume recording |
JPS509178B1 (ko) | 1970-12-28 | 1975-04-10 | ||
US3676690A (en) | 1971-01-04 | 1972-07-11 | Westinghouse Learning Corp | Reflected light document reading head |
JPS5121345B1 (ko) | 1971-01-19 | 1976-07-01 | ||
US3671096A (en) | 1971-02-03 | 1972-06-20 | Us Navy | Erasable holographic recording |
US3887450A (en) | 1971-02-04 | 1975-06-03 | Dynachem Corp | Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents |
US3694241A (en) | 1971-04-19 | 1972-09-26 | Grace W R & Co | Method for chemically printing |
US3901779A (en) | 1971-05-13 | 1975-08-26 | Dow Chemical Co | Vinyl ester resin and process for curing same with ionizing radiation in the presence of amines |
US3737628A (en) | 1971-06-11 | 1973-06-05 | Automatic Corp | Automatically programmed test grading and scoring method and system |
BE787339A (nl) | 1971-09-14 | 1973-02-09 | Agfa Gevaert Nv | Fotografische registratie en reproductie van informatie |
GB1408265A (en) | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
US4004998A (en) | 1971-11-18 | 1977-01-25 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerizable compounds and compositions comprising the product of the reaction of a hydroxy-containing ester and a monocarboxy-substituted benzophenone |
US3926641A (en) | 1971-11-18 | 1975-12-16 | Sun Chemical Corp | Photopolymerizable compositions comprising polycarboxysubstituted benzophenone reaction products |
US3765896A (en) | 1971-11-22 | 1973-10-16 | Eastman Kodak Co | Photographic element containing a light sensitive photobleachant and a colored stable 2-amino-aryl-7-oxyl-3-oxide-2-imidazoline free radical |
US3729313A (en) | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
US3801329A (en) | 1971-12-17 | 1974-04-02 | Union Carbide Corp | Radiation curable coating compositions |
USRE28789E (en) | 1972-01-25 | 1976-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing cyclic cis-α-dicarbonyl compounds and selected sensitizers |
US3928264A (en) | 1972-02-11 | 1975-12-23 | Monsanto Co | Polymeric ultraviolet light stabilizers prepared from phenol-formaldehyde condensates |
US3800439A (en) | 1972-05-04 | 1974-04-02 | Scan Tron Corp | Test scoring apparatus |
US3844790A (en) | 1972-06-02 | 1974-10-29 | Du Pont | Photopolymerizable compositions with improved resistance to oxygen inhibition |
GB1440001A (en) | 1972-06-23 | 1976-06-23 | Sandoz Ltd | Organophosphonous acid derivatives and their use as uv absorbers |
JPS5034966B2 (ko) | 1972-07-24 | 1975-11-12 | ||
US3914165A (en) | 1972-09-18 | 1975-10-21 | Desoto Inc | Radiation curable non-gelled michael addition reaction products |
US4012256A (en) | 1972-09-25 | 1977-03-15 | Keuffel & Esser Company | Photo-imaging utilizing alkali-activated photopolymerizable compositions |
US4056665A (en) | 1972-10-26 | 1977-11-01 | Owens-Illinois, Inc. | Composition and process |
US3904562A (en) | 1973-01-31 | 1975-09-09 | Sherwin Williams Co | Organic pigments encapsulated with vinylpyrrolidone polymer |
US3933682A (en) | 1973-01-31 | 1976-01-20 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerization co-initiator systems |
JPS5148516B2 (ko) | 1973-02-07 | 1976-12-21 | ||
US3847771A (en) | 1973-03-30 | 1974-11-12 | Scm Corp | Uv and laser curing of pigmented polymerizable binders |
US3876496A (en) | 1973-05-14 | 1975-04-08 | Ernesto B Lozano | Method and means for protecting documents |
US4251622A (en) | 1973-05-25 | 1981-02-17 | Nippon Paint Co., Ltd. | Photo-sensitive composition for dry formation of image |
JPS5040538A (ko) | 1973-07-06 | 1975-04-14 | ||
JPS5041536A (ko) | 1973-08-03 | 1975-04-16 | ||
US4067892A (en) | 1973-08-23 | 1978-01-10 | Beecham Group Limited | Substituted (4-carboxyphenoxy) phenyl alkane compounds |
GB1469641A (en) | 1973-09-20 | 1977-04-06 | Agfa Gevaert | Stabilization of photosensitive recording material |
US4039332A (en) | 1973-09-20 | 1977-08-02 | Agfa-Gevaert N.V. | Stabilization of photosensitive recording material |
US4022674A (en) | 1973-10-11 | 1977-05-10 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerizable compounds and compositions comprising the product of the reaction of a monomeric ester and a polycarboxy-substituted benzophenone |
US3960685A (en) | 1973-11-12 | 1976-06-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photosensitive resin composition containing pullulan or esters thereof |
US3978132A (en) | 1973-12-06 | 1976-08-31 | Sandoz, Inc. | Acyl benzyl ethers |
US3919323A (en) | 1974-08-08 | 1975-11-11 | Sandoz Ag | Acyl substituted dibenzylethers |
GB1494191A (en) | 1973-12-17 | 1977-12-07 | Lilly Industries Ltd | Preparation of alpha-acyloxy aldehydes and ketones |
US3984248A (en) | 1974-02-19 | 1976-10-05 | Eastman Kodak Company | Photographic polymeric film supports containing photobleachable o-nitroarylidene dyes |
US3988154A (en) | 1974-02-19 | 1976-10-26 | Eastman Kodak Company | Photographic supports and elements utilizing photobleachable omicron-nitroarylidene dyes |
US4058400A (en) | 1974-05-02 | 1977-11-15 | General Electric Company | Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts |
US4043819A (en) | 1974-06-11 | 1977-08-23 | Ciba-Geigy Ag | Photo-polymerizable material for the preparation of stable polymeric images and process for making them by photopolymerization in a matrix |
US4017652A (en) | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
US4181807A (en) | 1974-11-30 | 1980-01-01 | Ciba-Geigy Corporation | Polymerizable esters derived from a glycidyl ether of a phenolic unsaturated ketone |
US4179577A (en) | 1974-11-30 | 1979-12-18 | Ciba-Geigy Corporation | Polymerisable esters derived from a phenolic unsaturated ketone |
GB1489419A (en) | 1974-11-30 | 1977-10-19 | Ciba Geigy Ag | Polymerisable esters |
JPS5442617B2 (ko) | 1974-12-28 | 1979-12-15 | ||
DE2500520A1 (de) | 1975-01-08 | 1976-07-15 | Schickedanz Willi | Verfahren zur herstellung von farbkopien |
ES434175A1 (es) | 1975-01-27 | 1976-12-01 | Genaro Salcedo Allende | Procedimiento de obtencion de materiales con bajo contenidoen elementos solubles de multiples aplicaciones. |
US4024324A (en) | 1975-07-17 | 1977-05-17 | Uop Inc. | Novel polyolefin composition of matter |
DE2648498A1 (de) | 1975-10-27 | 1977-04-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur desensibilisierung eines farbentwicklers |
JPS5265425A (en) | 1975-11-24 | 1977-05-30 | Minnesota Mining & Mfg | Image forming composition |
JPS5274406A (en) | 1975-12-05 | 1977-06-22 | Dainippon Toryo Kk | Ink for ink jet recording |
US4126412A (en) | 1975-12-29 | 1978-11-21 | Monsanto Company | Method for stabilizing brightened modacrylic fibers |
JPS5299776A (en) | 1976-02-18 | 1977-08-22 | Hitachi Ltd | Radiation sensitive high polymeric material |
US4105572A (en) | 1976-03-31 | 1978-08-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ferromagnetic toner containing water-soluble or water-solubilizable resin(s) |
US4144156A (en) | 1976-04-14 | 1979-03-13 | Basf Aktiengesellschaft | Manufacture of unsymmetric monoacetals of aromatic 1,2-diketones employable as photoiniatiators |
DE2714978A1 (de) | 1976-04-15 | 1977-10-27 | Sandoz Ag | Faerbeverfahren |
US4132562A (en) | 1976-08-06 | 1979-01-02 | Marion Darrah And Joseph Y. Houghton, Co-Trustees | Intrachromospheruloid/inorganic pigment compositions and processes for producing same |
JPS5928323B2 (ja) | 1976-08-12 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US4048034A (en) | 1976-08-27 | 1977-09-13 | Uop Inc. | Photopolymerization using an alpha-aminoacetophenone |
JPS5994B2 (ja) | 1976-09-14 | 1984-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
US4100047A (en) | 1976-10-12 | 1978-07-11 | Mobil Oil Corporation | Ultraviolet curable aqueous coatings |
US4054719A (en) | 1976-11-23 | 1977-10-18 | American Cyanamid Company | Phenacyl ester photosensitizers for radiation-curable coatings |
US4085062A (en) | 1976-11-24 | 1978-04-18 | Givaudan Corporation | N,N'-bis-aromaticformamidines useful as sunscreening agents |
JPS5928326B2 (ja) | 1976-12-02 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
CH603767A5 (en) | 1976-12-27 | 1978-08-31 | Sandoz Ag | Spray dried basic dyes |
JPS6026122B2 (ja) | 1977-01-20 | 1985-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
DE2708188C2 (de) | 1977-02-25 | 1979-02-08 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Stabilisierung anionischer Indolfarbstoffe |
US4141807A (en) | 1977-03-01 | 1979-02-27 | Stauffer Chemical Company | Photopolymerizable composition stabilized with nitrogen-containing aromatic compounds |
US4190671A (en) | 1977-03-17 | 1980-02-26 | Biorex Laboratories Limited | Chalcone derivatives |
DE2722264C2 (de) | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
US4114028A (en) | 1977-05-26 | 1978-09-12 | Sealectro Corporation | Optical punched card reader |
US4111699A (en) | 1977-06-06 | 1978-09-05 | Eastman Kodak Company | O-nitro-o-azaarylidene photobleachable dyes and photographic elements utilizing them |
US4110112A (en) | 1977-06-23 | 1978-08-29 | Neste Oy | Photosensitive material containing 2,3-di(2,3-diiodopropoxy)-propyl cellulose and uses thereof |
US4250096A (en) | 1977-10-14 | 1981-02-10 | Ciba-Geigy Corporation | 3- and 4-Azidophthalic acid derivatives |
JPS5462987A (en) | 1977-10-28 | 1979-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
JPS5469580A (en) | 1977-11-15 | 1979-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
JPS5472780A (en) | 1977-11-22 | 1979-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
JPS5474728A (en) | 1977-11-28 | 1979-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS5928328B2 (ja) | 1977-11-29 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JPS5482385A (en) | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
JPS5482234A (en) | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photostabilizing method for organic base material |
JPS5482386A (en) | 1977-12-15 | 1979-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
US4391867A (en) | 1977-12-16 | 1983-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Polyvinyl butyral ink formulation |
US4318791A (en) | 1977-12-22 | 1982-03-09 | Ciba-Geigy Corporation | Use of aromatic-aliphatic ketones as photo sensitizers |
JPS6054197B2 (ja) | 1978-01-05 | 1985-11-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 顕色インキ |
US4345011A (en) | 1978-01-30 | 1982-08-17 | Eastman Kodak Company | Color imaging devices and color filter arrays using photo-bleachable dyes |
US4245018A (en) | 1978-01-30 | 1981-01-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for stabilizing organic substrate materials including photographic dye images to light and a color diffusion transfer material |
EP0003884A3 (en) | 1978-02-23 | 1979-09-19 | Imperial Chemical Industries Plc | Alpha-beta unsaturated ketone derivatives useful as herbicides |
CH623447B (de) | 1978-03-06 | Sandoz Ag | Verfahren zum faerben von acetalisierten pvc/pva-textilien mit dispersionsfarbstoffen. | |
FR2420522A1 (fr) | 1978-03-20 | 1979-10-19 | Unicler | Derives de l'acide (m-benzoyl-phenoxy)-2 propionique et leurs applications comme medicaments |
US4199420A (en) | 1978-04-06 | 1980-04-22 | Stauffer Chemical Company | Alkoxymethylbenzophenones as photoinitiators for photopolymerizable compositions and process based thereon |
JPS54136581A (en) | 1978-04-14 | 1979-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
JPS54136582A (en) | 1978-04-17 | 1979-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
US4162162A (en) | 1978-05-08 | 1979-07-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl-aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions |
JPS54152091A (en) | 1978-05-22 | 1979-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
GB2024209B (en) | 1978-05-31 | 1982-09-08 | Sori Soc Rech Ind | Phenoxalkylcarboxylic acids |
EP0007468B1 (de) | 1978-07-13 | 1982-04-07 | Ciba-Geigy Ag | Photohärtbare Zusammensetzungen |
JPS6053300B2 (ja) | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
DE2839129C2 (de) | 1978-09-08 | 1982-06-03 | Chemische Fabrik Stockhausen GmbH, 4150 Krefeld | Verfahren zur Verbesserung der Lichtbeständigkeit von in üblicher Weise gefärbten Ledern |
DE2842862A1 (de) | 1978-10-02 | 1980-04-10 | Boehringer Mannheim Gmbh | Verfahren zur bestimmung von ionen, polaren und/oder lipophilen substanzen in fluessigkeiten |
JPS5550001A (en) | 1978-10-06 | 1980-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photo-polymerizable composition |
JPS5577742A (en) | 1978-12-08 | 1980-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS5592370A (en) | 1978-12-29 | 1980-07-12 | Nissan Chem Ind Ltd | Phenoxypyridine derivative and its preparation |
US4300123A (en) | 1979-01-02 | 1981-11-10 | Westinghouse Electric Corp. | Optical reading system |
US4270130A (en) | 1979-01-08 | 1981-05-26 | Eastman Kodak Company | Thermal deformation record device with bleachable dye |
DE2902293A1 (de) | 1979-01-22 | 1980-07-31 | Henkel Kgaa | Beschichtungsmaterial fuer die rueckseiten von zu verklebenden papieren |
JPS55102538A (en) | 1979-01-30 | 1980-08-05 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | Preparation of p-n-alkyl benzoate |
CH640361A5 (de) | 1979-02-01 | 1983-12-30 | Landis & Gyr Ag | Einrichtung zum thermischen loeschen maschinenlesbarer optischer markierungen. |
CA1160880A (en) | 1979-02-02 | 1984-01-24 | Keith E. Whitmore | Imaging with nonplanar support elements |
US4197080A (en) | 1979-02-14 | 1980-04-08 | Eastman Kodak Company | Radiation-cleavable nondiffusible compounds and photographic elements and processes employing them |
US4258367A (en) | 1979-03-29 | 1981-03-24 | Whittaker Corporation | Light sensitive jet inks |
JPS55133032A (en) | 1979-04-03 | 1980-10-16 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS55152750A (en) | 1979-05-17 | 1980-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilization of organic substrate substance against light |
US4289844A (en) | 1979-06-18 | 1981-09-15 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
US4426153A (en) | 1979-06-21 | 1984-01-17 | Ibm Corporation | Apparatus for the reduction of image intensity variations in a continuously variable reducing copier |
JPS566236A (en) | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material and pattern forming method using it |
US4288631A (en) | 1979-09-05 | 1981-09-08 | General Electric Company | UV Stabilizers, coating compositions and composite structures obtained therefrom |
US4256493A (en) | 1979-10-04 | 1981-03-17 | Dai Nippon Tokyo Co., Ltd. | Jet ink composition |
US4349617A (en) | 1979-10-23 | 1982-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Function separated type electrophotographic light-sensitive members and process for production thereof |
JPS5664335A (en) | 1979-10-29 | 1981-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
US4292154A (en) | 1979-11-07 | 1981-09-29 | Gelman Sciences, Inc. | Buffer composition and method for the electrophoretic separation of proteins |
JPS5677189A (en) | 1979-11-30 | 1981-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Recording material |
US4336323A (en) | 1979-12-07 | 1982-06-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Decolorizable imaging system |
US4370401A (en) | 1979-12-07 | 1983-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light sensitive, thermally developable imaging system |
US4373020A (en) | 1979-12-07 | 1983-02-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Decolorizable imaging system |
US4460676A (en) | 1980-02-21 | 1984-07-17 | Fabel Warren M | Non-impact single and multi-ply printing method and apparatus |
US4373017A (en) | 1980-03-05 | 1983-02-08 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Photosensitive compound and photosensitive material containing it |
DE3008411A1 (de) | 1980-03-05 | 1981-09-10 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone |
US4276211A (en) | 1980-03-10 | 1981-06-30 | Troy Chemical Corporation | Stabilization composition for coating composition |
DE3010148A1 (de) | 1980-03-15 | 1981-09-24 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue gemische auf basis von aromatisch-aliphatischen ketonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische |
US4268667A (en) | 1980-04-21 | 1981-05-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones based on 9,10-dihydro-9,10-ethanoanthracene and p-dialkyl-aminoaryl aldehydes as visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
US4351893A (en) | 1980-12-31 | 1982-09-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions |
EP0041043B1 (de) | 1980-05-13 | 1983-11-09 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkenylbenzol- oder -naphthalin-derivaten |
EP0040177B1 (de) | 1980-05-13 | 1983-07-20 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkenylbenzol- oder -naphthalincarbonsäurederivaten |
US4307182A (en) | 1980-05-23 | 1981-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Imaging systems with tetra(aliphatic) borate salts |
US4343891A (en) | 1980-05-23 | 1982-08-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fixing of tetra (hydrocarbyl) borate salt imaging systems |
US4302606A (en) | 1980-05-23 | 1981-11-24 | Gaf Corporation | 2-Hydroxy,alkoxy,methylolbenzophenone intermediate compounds for the manufacture of improved copolymerizable ultraviolet light absorber compounds |
JPS56167139A (en) | 1980-05-27 | 1981-12-22 | Daikin Ind Ltd | Sensitive material |
JPS575771A (en) | 1980-06-13 | 1982-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Formation of colored image by ink jetting method |
JPS5720734A (en) | 1980-07-15 | 1982-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heat developing photosensitive material |
HU181733B (en) | 1980-08-07 | 1983-11-28 | Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet | Process for preparing sorbents containing cyclodextrin on cellulose base |
US4416961A (en) | 1980-09-11 | 1983-11-22 | Eastman Kodak Company | Color imaging devices and color filter arrays using photo-bleachable dyes |
JPS5774372A (en) | 1980-10-27 | 1982-05-10 | Seiko Epson Corp | Fluid ink for printer |
DE3041153A1 (de) | 1980-10-31 | 1982-06-16 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von polyamidfaerbungen |
EP0054992B1 (en) | 1980-12-22 | 1985-03-20 | Unilever N.V. | Composition containing a photo-activator for improved bleaching |
JPS57107879A (en) | 1980-12-25 | 1982-07-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Preparation of recording paper |
US4369283A (en) | 1981-03-06 | 1983-01-18 | E. I. Du Pont De Nemours & Company | High solids can coating composition containing epoxy, acrylic and aminoplast resins |
US4372582A (en) | 1981-03-30 | 1983-02-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilizer for electron doner-acceptor carbonless copying systems |
US4401470A (en) | 1981-03-30 | 1983-08-30 | Mobil Oil Corporation | Intaglio printing ink and method of employing the same |
US4350753A (en) | 1981-06-15 | 1982-09-21 | Polychrome Corporation | Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising radiation sensitive diazo oxide and haloalkyl-s-triazine with novolak and dyestuff |
JPS57207065A (en) | 1981-06-17 | 1982-12-18 | Seiko Epson Corp | Ink jet recorder |
DE3126433A1 (de) | 1981-07-04 | 1983-01-13 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | "neue gemische auf basis von substituierten dialkoxyacetophenonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische" |
US4508570A (en) | 1981-10-21 | 1985-04-02 | Ricoh Company, Ltd. | Aqueous ink for ink-jet printing |
JPS5872139A (ja) | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性材料 |
US4822714A (en) | 1981-11-12 | 1989-04-18 | The Mead Corporation | Transfer imaging system |
US4399209A (en) | 1981-11-12 | 1983-08-16 | The Mead Corporation | Transfer imaging system |
EP0088050B1 (de) | 1982-02-26 | 1986-09-03 | Ciba-Geigy Ag | Photohärtbare gefärbte Massen |
US4425424A (en) | 1982-04-08 | 1984-01-10 | Eastman Kodak Company | Dye-forming compositions |
US4495041A (en) | 1982-04-15 | 1985-01-22 | Mobil Oil Corporation | Photochemical process using shape-selective photoassisted heterogenous catalyst compositions |
JPS5936174A (ja) | 1982-08-23 | 1984-02-28 | Ricoh Co Ltd | インクジエツト記録用水性インク |
US5135940A (en) | 1982-09-23 | 1992-08-04 | Merck Frosst Canada, Inc. | Leukotriene antagonists |
DE3380028D1 (en) | 1982-10-01 | 1989-07-13 | Ciba Geigy Ag | Propiophenone derivatives as photoinitiators in the photopolymerization |
US4450227A (en) | 1982-10-25 | 1984-05-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dispersed imaging systems with tetra (hydrocarbyl) borate salts |
US4447521A (en) | 1982-10-25 | 1984-05-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fixing of tetra(hydrocarbyl)borate salt imaging systems |
JPS5980475A (ja) | 1982-10-29 | 1984-05-09 | Ricoh Co Ltd | 水性インキ組成物 |
US5108874A (en) | 1982-11-01 | 1992-04-28 | Microsi, Inc. | Composite useful in photolithography |
US4668235A (en) | 1982-12-07 | 1987-05-26 | The Commonwealth Of Australia Commonwealth Scientific & Industrial Research Organization | Use of substituted 2-(2-hydroxyaryl)-2H-benzotriazolesulfonates as photostabilizing agents for natural synthetic fibres |
US4523924A (en) | 1982-12-20 | 1985-06-18 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of stable aqueous solutions of water-soluble reactive dyes by membrane separation |
JPS59133235A (ja) | 1983-01-21 | 1984-07-31 | Kanebo Ltd | 殺菌性ポリマー組成物及びその製造法 |
DE3465636D1 (en) | 1983-02-18 | 1987-10-01 | Ciba Geigy Ag | Coloured photo-curable mouldings |
GB2136590B (en) | 1983-03-15 | 1986-01-02 | Minnesota Mining & Mfg | Dye-bleach materials and process |
US4510392A (en) | 1983-04-08 | 1985-04-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Autoradiogram marking process |
DE3415033C2 (de) | 1983-04-20 | 1986-04-03 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 4'-Azidobenzal-2-methoxyacetophenon, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses enthaltende photoempfindliche Masse |
US4567171A (en) | 1983-04-21 | 1986-01-28 | Ciba-Geigy Corporation | Stable, concentrated, liquid dispersions of anionic dyestuffs |
GB8311252D0 (en) | 1983-04-26 | 1983-06-02 | Ciba Geigy Ag | Photocrosslinking process |
IE55632B1 (en) | 1983-05-09 | 1990-12-05 | Vickers Plc | Improvements in or relating to radiation sensitive plates |
DE3417782A1 (de) | 1983-05-23 | 1984-11-29 | Sandoz-Patent-GmbH, 7850 Lörrach | Faerbereihilfsmittel |
JPS59219270A (ja) | 1983-05-30 | 1984-12-10 | Wako Pure Chem Ind Ltd | テトラゾリウム塩を含有する溶液の安定化方法 |
DE3464252D1 (en) | 1983-06-03 | 1987-07-23 | Hoffmann La Roche | Labelled molecules for fluorescence immunoassays and processes and intermediates for their preparation |
US4475999A (en) | 1983-06-06 | 1984-10-09 | Stauffer Chemical Company | Sensitization of glyoxylate photoinitiators |
US4595745A (en) | 1983-06-27 | 1986-06-17 | Ube Industries, Ltd. | Organic solvent-soluble photosensitive polyamide resin |
DE3326640A1 (de) | 1983-07-23 | 1985-01-31 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von faerbungen mit saeure- oder metallkomplexfarbstoffen auf polyamid |
US4707161A (en) | 1983-07-23 | 1987-11-17 | Basf Aktiengesellschaft | Lightfastness of dyeings obtained with acid dyes or metal complex dyes on polyamides: treatment with copper hydroxamates |
US4702996A (en) | 1983-09-28 | 1987-10-27 | General Electric Company | Method of enhancing the contrast of images and materials therefor |
JPS6083029A (ja) | 1983-10-13 | 1985-05-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 光記録媒体 |
US4707425A (en) | 1983-11-18 | 1987-11-17 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Optical recording method and media therefor |
GB8333853D0 (en) | 1983-12-20 | 1984-02-01 | Ciba Geigy Ag | Production of images |
JPH0630950B2 (ja) | 1983-12-29 | 1994-04-27 | 日本製紙株式会社 | 水性インク記録用シ−ト及びその製造法 |
US4571377A (en) | 1984-01-23 | 1986-02-18 | Battelle Memorial Institute | Photopolymerizable composition containing a photosensitive donor and photoinitiating acceptor |
JPH0697339B2 (ja) | 1984-02-02 | 1994-11-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
GB8402937D0 (en) | 1984-02-03 | 1984-03-07 | Ciba Geigy Ag | Production of images |
US4701402A (en) | 1984-02-13 | 1987-10-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Oxidative imaging |
US4620875A (en) | 1984-04-10 | 1986-11-04 | Ricoh Company, Ltd. | Aqueous ink composition |
US4534838A (en) | 1984-04-16 | 1985-08-13 | Loctite Corporation | Siloxane polyphotoinitiators of the substituted acetophenone type |
US4745042A (en) | 1984-04-19 | 1988-05-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Water-soluble photopolymer and method of forming pattern by use of the same |
JPS60264279A (ja) | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 記録材料 |
JPS612771A (ja) | 1984-06-14 | 1986-01-08 | Taoka Chem Co Ltd | インク組成物 |
US4763966A (en) | 1984-07-16 | 1988-08-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Infrared absorbent |
JPH0755582B2 (ja) | 1984-07-27 | 1995-06-14 | 株式会社リコー | 二色感熱記録型ラベル |
US4632895A (en) | 1984-08-23 | 1986-12-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Diffusion or sublimation transfer imaging system |
US4663275A (en) | 1984-09-04 | 1987-05-05 | General Electric Company | Photolithographic method and combination including barrier layer |
US4617380A (en) | 1984-09-11 | 1986-10-14 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of concentrated stable liquid dye solutions of CI Direct Yellow 11 utilizing an extended surface silica filter aid during a desalting procedure |
US4524122A (en) | 1984-09-26 | 1985-06-18 | Eastman Kodak Company | Substituted 4-nitrophenylazo-1-naphthol cyan dyes having improved light stability |
US4632891A (en) | 1984-10-04 | 1986-12-30 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of images |
JPS61101568A (ja) | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Ricoh Co Ltd | 水性インク |
JPS61101574A (ja) | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Ricoh Co Ltd | 水性インク |
JPS61101572A (ja) | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Ricoh Co Ltd | 水性インク |
US4790565A (en) | 1984-10-24 | 1988-12-13 | Steed Signs Pty., Limited | Game |
JPH068390B2 (ja) | 1984-11-19 | 1994-02-02 | 住友化学工業株式会社 | 反応染料液状組成物およびそれを用いる染色または捺染法 |
US4565769A (en) | 1984-11-21 | 1986-01-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric sensitizers for photopolymer composition |
DE3565136D1 (en) | 1984-12-21 | 1988-10-27 | Ciba Geigy Ag | Process for the photochemical stabilisation of synthetic fibrous materials containing polyamide fibres |
IE56890B1 (en) | 1984-12-30 | 1992-01-15 | Scully Richard L | Photosensitive composition for direct positive colour photograph |
US4672041A (en) | 1985-02-22 | 1987-06-09 | Beckman Instruments, Inc. | Method and stable diazo reagent for detecting bilirubin |
JPH0613653B2 (ja) | 1985-02-26 | 1994-02-23 | 株式会社リコー | 水性インク組成物 |
JPH0710620B2 (ja) | 1985-03-28 | 1995-02-08 | 株式会社リコー | 2色感熱記録型ラベル |
EP0196901A3 (en) | 1985-03-29 | 1988-10-19 | Taoka Chemical Co., Ltd | Copper phthalocyanine compound and aqueous ink composition comprising the same |
DE3512179A1 (de) | 1985-04-03 | 1986-12-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen |
JPS61238874A (ja) | 1985-04-17 | 1986-10-24 | Ricoh Co Ltd | 水性インク組成物 |
JPH0621930B2 (ja) | 1985-05-01 | 1994-03-23 | 富士写真フイルム株式会社 | 光応答性材料 |
EP0200843B1 (de) | 1985-05-09 | 1988-06-22 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur fotochemischen Stabilisierung von ungefärbtem und gefärbtem Polyamidfasermaterial und dessen Mischungen |
US4668533A (en) | 1985-05-10 | 1987-05-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet printing of printed circuit boards |
EP0202803A3 (en) | 1985-05-14 | 1987-06-03 | Commonwealth Of Australia Department Of Industry Technology And Commerce | Laser curing of coatings and inks |
US4720450A (en) | 1985-06-03 | 1988-01-19 | Polaroid Corporation | Thermal imaging method |
IT1187703B (it) | 1985-07-23 | 1987-12-23 | Lamberti Fratelli Spa | Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione |
CA1270089A (en) | 1985-08-01 | 1990-06-05 | Masami Kawabata | Photopolymerizable composition |
US4786586A (en) | 1985-08-06 | 1988-11-22 | Morton Thiokol, Inc. | Radiation curable coating for photographic laminate |
US4622286A (en) | 1985-09-16 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer |
JPS62102241A (ja) | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
EP0389067B1 (en) | 1985-11-20 | 1994-10-19 | The Mead Corporation | Ionic dye compounds |
US4772541A (en) | 1985-11-20 | 1988-09-20 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same |
JPS62174741A (ja) | 1986-01-24 | 1987-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 有機基体物質を光に対して安定化する方法 |
DE3609320A1 (de) | 1986-03-20 | 1987-09-24 | Basf Ag | Fotochromes system, damit hergestellte schichten und deren verwendung |
EP0239376A3 (en) | 1986-03-27 | 1988-05-11 | Gec-Marconi Limited | Contrast enhanced photolithography |
US4755450A (en) | 1986-04-22 | 1988-07-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Spectral sensitizing dyes in photopolymerizable systems |
US4775386A (en) | 1986-05-05 | 1988-10-04 | Ciba-Geigy Corporation | Process for photochemical stabilization of undyed and dyed polyamide fibre material and blends thereof with other fibres: copper complex and light stabilizer treatment |
US4895880A (en) | 1986-05-06 | 1990-01-23 | The Mead Corporation | Photocurable compositions containing photobleachable ionic dye complexes |
US4849320A (en) | 1986-05-10 | 1989-07-18 | Ciba-Geigy Corporation | Method of forming images |
US4772291A (en) | 1986-05-12 | 1988-09-20 | Japan Liquid Crystal Co., Ltd. | Process for the preparation of densely colored pellet for synthetic resins |
US4925770A (en) | 1986-05-20 | 1990-05-15 | Director General Of Agency Of Industrial Science And Technology | Contrast-enhancing agent for photolithography |
US4988561A (en) | 1986-06-17 | 1991-01-29 | J. M. Huber Corporation | Paper coated with synthetic alkali metal aluminosilicates |
US4721531A (en) | 1986-07-08 | 1988-01-26 | Plasticolors, Inc. | Pigment dispersions exhibiting improved compatibility in polyurethane systems |
US4724021A (en) | 1986-07-23 | 1988-02-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making porous bottom-layer dielectric composite structure |
US5002993A (en) | 1986-07-25 | 1991-03-26 | Microsi, Inc. | Contrast enhancement layer compositions, alkylnitrones, and use |
DE3625355A1 (de) | 1986-07-26 | 1988-02-04 | Basf Ag | Benzophenonether-ester und ein verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von polyesterfaerbungen unter verwendung von benzophenonether-estern |
US5190565A (en) | 1986-07-28 | 1993-03-02 | Allied-Signal Inc. | Sulfonated 2-(2'-hydroxyaryl)-2H-benzotriazoles and/or sulfonated aromatic formaldehyde condensates and their use to improve stain resistance and dye lightfasteness |
US4874391A (en) | 1986-07-29 | 1989-10-17 | Ciba-Geigy Corporation | Process for photochemical stabilization of polyamide fiber material and mixtures thereof with other fibers: water-soluble copper complex dye and light-stabilizer |
US4752341A (en) | 1986-08-11 | 1988-06-21 | Pq Corporation | Pigment system for paper |
US4864324A (en) | 1986-08-13 | 1989-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Color image forming method and ink used therefor |
US4711802A (en) | 1986-08-14 | 1987-12-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink for use on fluorocarbon surfaces |
US4933265A (en) | 1986-09-01 | 1990-06-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for forming direct positive color image |
JPH0610727B2 (ja) | 1986-09-17 | 1994-02-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 光応答性材料 |
US4727824A (en) | 1986-09-22 | 1988-03-01 | Personal Pet Products Partnership | Absorbent composition, method of making and using same |
DE3632530A1 (de) | 1986-09-25 | 1988-04-07 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von alpha-beta-ungesaettigten ketonen |
US4800149A (en) | 1986-10-10 | 1989-01-24 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same |
DE3637717A1 (de) | 1986-11-05 | 1988-05-11 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von positiven oder negativen reliefkopien unter verwendung dieses materials |
US4746735A (en) | 1986-11-21 | 1988-05-24 | The Dow Chemical Company | Regiospecific aryl nitration of meso-substituted tetraarylporphyrins |
GB8628807D0 (en) | 1986-12-02 | 1987-01-07 | Ecc Int Ltd | Clay composition |
US4952478A (en) | 1986-12-02 | 1990-08-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Transfer recording medium comprising a layer changing its transferability when provided with light and heat |
US4902725A (en) | 1986-12-22 | 1990-02-20 | General Electric Company | Photocurable acrylic coating composition |
JPS63190815A (ja) | 1987-02-04 | 1988-08-08 | Hoou Kk | 粉末染毛剤組成物 |
US4838938A (en) | 1987-02-16 | 1989-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Recording liquid and recording method by use thereof |
US4926190A (en) | 1987-02-18 | 1990-05-15 | Ciba-Geigy Corporation | Ink jet recording process using certain benzotriazole derivatives as light stabilizers |
US4831068A (en) | 1987-02-27 | 1989-05-16 | Ciba-Geigy Corporation | Process for improving the photochemical stability of dyeings on polyester fibre materials |
DE3738567A1 (de) | 1987-03-12 | 1988-09-22 | Merck Patent Gmbh | Coreaktive fotoinitiatoren |
US5028792A (en) | 1987-03-19 | 1991-07-02 | Xytronyx, Inc. | System for the visualization of exposure to ultraviolet radiation |
ATE89262T1 (de) | 1987-03-26 | 1993-05-15 | Ciba Geigy Ag | Neue alpha-aminoacetophenone als photoinitiatoren. |
US4766050A (en) | 1987-03-27 | 1988-08-23 | The Mead Corporation | Imaging system with integral cover sheet |
US4853398A (en) | 1987-04-13 | 1989-08-01 | Eli Lilly And Company | Leukotriene antagonists and use thereas |
US4892941A (en) | 1987-04-17 | 1990-01-09 | Dolphin David H | Porphyrins |
US4952680A (en) | 1987-04-23 | 1990-08-28 | Basf Aktiengesellschaft | Preparation of stable solutions of azo dyes of m-phenylenediamine by reaction with formic acid |
DE3720850A1 (de) | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von ungesaettigten und gesaettigten ketonen |
JPS649272A (en) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Nippon Kayaku Kk | Non-flying granular dye |
JPH07120036B2 (ja) | 1987-07-06 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US5190845A (en) | 1987-07-28 | 1993-03-02 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition and color filter comprising a polymer dyeable with an anionic dye, an azide compound and a compound with at least two acrylol groups |
US5196295A (en) | 1987-07-31 | 1993-03-23 | Microsi, Inc. | Spin castable mixtures useful for making deep-UV contrast enhancement layers |
DE3826046A1 (de) | 1987-08-17 | 1989-03-02 | Asea Brown Boveri | Verfahren zur herstellung von metallischen schichten |
US4945121A (en) | 1987-08-18 | 1990-07-31 | Koh-I-Noor Radiograph, Inc. | Thermosetting dyed latex colorant dispersions |
US5180624A (en) | 1987-09-21 | 1993-01-19 | Jujo Paper Co., Ltd. | Ink jet recording paper |
US4803008A (en) | 1987-09-23 | 1989-02-07 | The Drackett Company | Cleaning composition containing a colorant stabilized against fading |
DE3732980A1 (de) | 1987-09-30 | 1989-04-13 | Basf Ag | Verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von polyesterfaerbungen unter verwendung von benzophenonether-estern und neue benzophenonether-ester |
US5025036A (en) | 1987-10-01 | 1991-06-18 | Hoffmann-La Roche Inc. | Catechol carboxylic acids |
US4950304A (en) | 1987-10-02 | 1990-08-21 | Ciba-Geigy Corporation | Process for quenching or suppressing the fluorescence of substrates treated with fluorescent whitening agents |
JP2604177B2 (ja) | 1987-10-05 | 1997-04-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジカラー画像形成方法 |
JPH01106053A (ja) | 1987-10-20 | 1989-04-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラー画像形成方法 |
US4853037A (en) | 1987-10-30 | 1989-08-01 | Hewlett-Packard Company | Low glycol inks for plain paper printing |
US4968596A (en) | 1987-11-02 | 1990-11-06 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Method for forming a direct positive image |
US4954380A (en) | 1987-11-27 | 1990-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and process for production thereof |
US5037726A (en) | 1987-12-08 | 1991-08-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a direct positive image from a material comprising a nucleation accelerator |
US4812517A (en) | 1987-12-28 | 1989-03-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dispersants resistant to color change |
JPH0753469B2 (ja) | 1987-12-29 | 1995-06-07 | 新王子製紙株式会社 | インクジェット記録用シート、およびその製造法 |
US4813970A (en) | 1988-02-10 | 1989-03-21 | Crompton & Knowles Corporation | Method for improving the lightfasteness of nylon dyeings using copper sulfonates |
US5001330A (en) | 1988-03-02 | 1991-03-19 | National Computer Systems, Inc. | Optically scanned document with fail-safe marking |
JPH01223446A (ja) | 1988-03-03 | 1989-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光像形成材料及びそれを用いた光像形成システム |
DE3807381A1 (de) | 1988-03-07 | 1989-09-21 | Hoechst Ag | 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindung enthaelt |
US5106723A (en) | 1988-03-10 | 1992-04-21 | Microsi, Inc. | Contrast enhancement layer compositions, alkylnitrones, and use |
US5279652A (en) | 1988-03-24 | 1994-01-18 | Rainer Kaufmann | Use of solids as antiblocking additives for marker liquids |
JPH0735640B2 (ja) | 1988-04-18 | 1995-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 染色された多糖類の製造方法 |
US4902787A (en) | 1988-04-21 | 1990-02-20 | North Carolina State University | Method for producing lightfast disperse dyestuffs containing a build-in photostabilizer [molecule] compound |
EP0345212A1 (de) | 1988-05-04 | 1989-12-06 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Verhinderung der Vergilbung von mit Fleckenschutzmitteln ausgerüsteten Polyamidfasermaterialien |
US4812139A (en) | 1988-05-04 | 1989-03-14 | Burlington Industries, Inc. | Dyed polyester fabrics with improved lightfastness |
DE3815622A1 (de) | 1988-05-07 | 1989-11-16 | Merck Patent Gmbh | Fotoinitiator-dispersionen |
US5262276A (en) | 1988-05-11 | 1993-11-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive compositions |
US4987056A (en) | 1988-06-02 | 1991-01-22 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photopolymerizable composition |
US5003142A (en) | 1988-06-03 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Easy opening microwave pouch |
DE58907159D1 (de) | 1988-06-14 | 1994-04-14 | Ciba Geigy | Verfahren zum fotochemischen Stabilisieren von ungefärbten und gefärbten Polypropylenfasern. |
DE3921600C1 (ko) | 1988-07-02 | 1990-01-04 | Asea Brown Boveri Ag, 6800 Mannheim, De | |
US4917956A (en) | 1988-07-11 | 1990-04-17 | Uop | Method of preparing cyclodextrin-coated surfaces |
DE3824486A1 (de) | 1988-07-20 | 1990-02-08 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von 4-alkoxy-2-hydroxybenzophenon-5-sulfonsaeuren |
DE3826947A1 (de) | 1988-08-09 | 1990-02-22 | Merck Patent Gmbh | Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung |
US4886774A (en) | 1988-08-09 | 1989-12-12 | Alfred Doi | Ultraviolet protective overcoat for application to heat sensitive record materials |
JPH0820734B2 (ja) | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
US5334455A (en) | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
US5153166A (en) | 1988-08-18 | 1992-10-06 | Trustees Of At Biochem | Chromatographic stationary supports |
US5202213A (en) | 1988-08-31 | 1993-04-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Developer with surface treated silicic acid for developing electrostatic image |
US5030248A (en) | 1988-08-31 | 1991-07-09 | Sandoz Ltd. | Dyeing method |
US5034526A (en) | 1988-09-07 | 1991-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety |
US5187045A (en) | 1988-09-07 | 1993-02-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety |
DE3830914A1 (de) | 1988-09-10 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von kopien |
US5098793A (en) | 1988-09-29 | 1992-03-24 | Uop | Cyclodextrin films on solid substrates |
DE3833438A1 (de) | 1988-10-01 | 1990-04-05 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche gemische und deren verwendung |
DE3833437A1 (de) | 1988-10-01 | 1990-04-05 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche gemische und deren verwendung |
JPH02100048A (ja) | 1988-10-07 | 1990-04-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
JP2547626B2 (ja) | 1988-10-07 | 1996-10-23 | 富士写真フイルム株式会社 | モノマーの製造方法 |
CH676168A5 (ko) | 1988-10-10 | 1990-12-14 | Asea Brown Boveri | |
US5026427A (en) | 1988-10-12 | 1991-06-25 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Process for making pigmented ink jet inks |
DE68921146T2 (de) | 1988-11-11 | 1995-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Zusammensetzung. |
KR0139296B1 (ko) | 1988-11-21 | 1998-05-15 | 가와무라 시게꾸니 | 칼콘 유도체 및 그 제조 방법 |
US5045435A (en) | 1988-11-25 | 1991-09-03 | Armstrong World Industries, Inc. | Water-borne, alkali-developable, photoresist coating compositions and their preparation |
CH677846A5 (ko) | 1988-12-01 | 1991-06-28 | Asea Brown Boveri | |
US5185236A (en) | 1988-12-09 | 1993-02-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Full color recording materials and a method of forming colored images |
DE58907949D1 (de) | 1988-12-14 | 1994-07-28 | Ciba Geigy Ag | Aufzeichnungsmaterial für Tintenstrahldruck. |
US5098477A (en) | 1988-12-14 | 1992-03-24 | Ciba-Geigy Corporation | Inks, particularly for ink printing |
JP2604453B2 (ja) | 1988-12-14 | 1997-04-30 | 積水化学工業株式会社 | アクリル系粘着テープ |
US5096781A (en) | 1988-12-19 | 1992-03-17 | Ciba-Geigy Corporation | Water-soluble compounds as light stabilizers |
US4954416A (en) | 1988-12-21 | 1990-09-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tethered sulfonium salt photoinitiators for free radical polymerization |
US5030243A (en) | 1989-01-05 | 1991-07-09 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photochemical stabilization of undyed and dyeable artificial leather with a sterically hindered amine |
JPH02289856A (ja) | 1989-01-18 | 1990-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光・感熱性組成物、それを用いた記録材料及び画像形成方法 |
US4985345A (en) | 1989-02-02 | 1991-01-15 | Ricoh Company, Ltd. | Recording material |
CH677292A5 (ko) | 1989-02-27 | 1991-04-30 | Asea Brown Boveri | |
US4902299A (en) | 1989-02-28 | 1990-02-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Nylon fabrics with cupric salt and oxanilide for improved dye-lightfastness |
US5230982A (en) | 1989-03-09 | 1993-07-27 | The Mead Corporation | Photoinitiator compositions containing disulfides and photohardenable compositions containing the same |
EP0390439A1 (en) | 1989-03-27 | 1990-10-03 | The Mead Corporation | Complexes useful as photoinitiators and photohardenable compositions containing the same |
CH677557A5 (ko) | 1989-03-29 | 1991-05-31 | Asea Brown Boveri | |
US4933948A (en) | 1989-05-30 | 1990-06-12 | Eastman Kodak Company | Dye laser solutions |
JPH0323984A (ja) | 1989-06-20 | 1991-01-31 | Seiji Kawashima | 印刷物 |
US5023129A (en) | 1989-07-06 | 1991-06-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Element as a receptor for nonimpact printing |
US5068140A (en) | 1989-08-02 | 1991-11-26 | Xerox Corporation | Transparencies |
US5328504A (en) | 1989-08-09 | 1994-07-12 | Seiko Epson Corporation | Image recording ink |
EP0425429B1 (de) | 1989-08-25 | 1995-02-22 | Ciba-Geigy Ag | Lichtstabilisierte Tinten |
EP0415880B1 (de) | 1989-08-25 | 1995-04-05 | Ciba-Geigy Ag | Lichtstabilisierte Tinten |
US5362916A (en) | 1989-09-06 | 1994-11-08 | Tropix, Inc. | Synthesis of mercaptaryl or hydroxyaryl enol ether alkali metal salts |
EP0417040A1 (de) | 1989-09-06 | 1991-03-13 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zum Färben von Wolle |
DE3930516A1 (de) | 1989-09-13 | 1991-03-21 | Riedel De Haen Ag | Benzophenonether-ester, verfahren zu ihrer herstellung, sowie ihre verwendung zur verbesserung der lichtstabilitaet von polyesterfaerbungen |
US5098806A (en) | 1989-09-22 | 1992-03-24 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Photosensitive elements based on polymeric matrices of diacetylenes and spiropyrans and the use thereof as coatings to prevent document reproduction |
US5176984A (en) | 1989-10-25 | 1993-01-05 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a borate salt |
FR2653867B1 (fr) | 1989-10-31 | 1992-08-21 | France Rayonnement | Ensemble de sechage par u.v. a plusieurs emetteurs. |
US5028262A (en) | 1989-11-02 | 1991-07-02 | Eastman Kodak Company | Stabilization of ink compositions |
JPH03155554A (ja) | 1989-11-14 | 1991-07-03 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 放射線感応性樹脂組成物 |
JP2830211B2 (ja) | 1989-11-17 | 1998-12-02 | 日本曹達株式会社 | β−ヒドロキシケトン類の製造方法 |
US5026425A (en) | 1989-12-11 | 1991-06-25 | Hewlett-Packard Company | Waterfastness of DB-168 ink by cation substitution |
DE3941295A1 (de) | 1989-12-14 | 1991-06-20 | Basf Ag | Verfahren zum faerben von polyamidsubstraten |
US4968813A (en) | 1989-12-22 | 1990-11-06 | Eastman Kodak Company | Derivatives of 4H-thiopyran-1,1-dioxides |
US5069681A (en) | 1990-01-03 | 1991-12-03 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photochemical stabilization of dyed polyamide fibres with foamed aqueous composition of copper organic complexes |
US5202212A (en) | 1990-01-16 | 1993-04-13 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Toner composition for electrophotography |
DE59105066D1 (de) | 1990-01-19 | 1995-05-11 | Ciba Geigy Ag | Stabilisierung von Färbungen auf Polyamidfasern. |
NL9000268A (nl) | 1990-02-05 | 1991-09-02 | Oce Nederland Bv | Gedoteerd tinoxidepoeder, een werkwijze voor zijn bereiding, en de toepassing ervan in elektrisch geleidende of antistatische bekledingen. |
RU1772118C (ru) | 1990-02-19 | 1992-10-30 | В. П. Чуев, М. М. Асимов, О. Д. Каменева, В. М. Никитченко, С. Н. Коваленко и А. Н. Рубинов | Способ получени водорастворимой формы производного кумарина |
JPH03257463A (ja) | 1990-03-07 | 1991-11-15 | Nippon Paint Co Ltd | トナーおよびその製造法 |
JP2632066B2 (ja) | 1990-04-06 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ画像の形成方法 |
US5221334A (en) | 1990-04-11 | 1993-06-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous pigmented inks for ink jet printers |
US5272201A (en) | 1990-04-11 | 1993-12-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Amine-containing block polymers for pigmented ink jet inks |
US5085698A (en) | 1990-04-11 | 1992-02-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous pigmented inks for ink jet printers |
US5053320A (en) | 1990-04-16 | 1991-10-01 | Richard L. Scully | Direct dry negative color printing process and composition |
US5384186A (en) | 1990-05-09 | 1995-01-24 | The Proctor & Gamble Company | Non-destructive carriers for cyclodextrin complexes |
US5139687A (en) | 1990-05-09 | 1992-08-18 | The Proctor & Gamble Company | Non-destructive carriers for cyclodextrin complexes |
EP0459942B1 (de) | 1990-05-10 | 1995-02-22 | Ciba-Geigy Ag | Tinten |
US5261953A (en) | 1990-05-10 | 1993-11-16 | Ciba-Geigy Corporation | Inks |
US5108505A (en) | 1990-05-16 | 1992-04-28 | Hewlett-Packard Company | Waterfast inks via cyclodextrin inclusion complex |
EP0485614B1 (en) | 1990-05-21 | 1997-08-13 | Toppan Printing Co., Ltd. | Cyclodextrin derivative |
CH680099A5 (ko) | 1990-05-22 | 1992-06-15 | Asea Brown Boveri | |
EP0459950B1 (de) | 1990-05-31 | 1997-03-12 | Ciba SC Holding AG | Stabilisierung von Färbungen auf Polyamidfasern |
US5153105A (en) | 1990-06-18 | 1992-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermally developable light sensitive imageable layers containing photobleachable dyes |
US5153104A (en) | 1990-06-18 | 1992-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermally developable light-sensitive layers containing photobleachable sensitizers |
US5275646A (en) | 1990-06-27 | 1994-01-04 | Domino Printing Sciences Plc | Ink composition |
ATE130882T1 (de) | 1990-07-12 | 1995-12-15 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur photochemischen und thermischen stabilisierung von polyamid-fasermaterialien. |
US5187049A (en) | 1990-07-16 | 1993-02-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive thermally developed compositions |
TW207021B (ko) | 1990-07-23 | 1993-06-01 | Showa Denko Kk | |
JP3244288B2 (ja) | 1990-07-23 | 2002-01-07 | 昭和電工株式会社 | 近赤外光消色型記録材料 |
US5277965A (en) | 1990-08-01 | 1994-01-11 | Xerox Corporation | Recording sheets |
US5089374A (en) | 1990-08-20 | 1992-02-18 | Eastman Kodak Company | Novel bis-onium salts and the use thereof as photoinitiators |
US5281261A (en) | 1990-08-31 | 1994-01-25 | Xerox Corporation | Ink compositions containing modified pigment particles |
JP3019381B2 (ja) | 1990-08-31 | 2000-03-13 | ソニー株式会社 | 光記録媒体 |
US5208136A (en) | 1990-09-06 | 1993-05-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Fabricating of integrated optics |
US5224197A (en) | 1990-09-06 | 1993-06-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Integrated optics using photodarkened polystyrene |
JP2642776B2 (ja) | 1990-09-10 | 1997-08-20 | 三田工業株式会社 | 情報記録媒体及び情報記録方法 |
EP0475905B1 (de) | 1990-09-13 | 1998-01-14 | Ciba SC Holding AG | Photochemisches Stabilisieren von Wolle |
JPH04153079A (ja) | 1990-10-18 | 1992-05-26 | Digital Sutoriimu:Kk | 消去、書き換え可能な用紙、印字用インク、並びにこれらを用いた印字装置及び消去装置 |
DE4033215A1 (de) | 1990-10-19 | 1992-04-23 | Hoechst Ag | Acyl-(2'-hydroxybiphenyl-2-yl)-phosphinsaeuresalze, ihre herstellung und verwendung |
US5296556A (en) | 1990-10-30 | 1994-03-22 | Union Camp Corporation | Three-component curable resin compositions |
JP2550775B2 (ja) | 1990-11-22 | 1996-11-06 | 富士ゼロックス株式会社 | 磁気ブラシ現像剤用キャリア |
SE468054B (sv) | 1990-12-03 | 1992-10-26 | Mo Och Domsjoe Ab | Papper samt foerfarande foer framstaellning av papper |
DE59106479D1 (de) | 1990-12-13 | 1995-10-19 | Ciba Geigy Ag | Wässrige Dispersion schwerlöslicher UV-Absorber. |
US5254429A (en) | 1990-12-14 | 1993-10-19 | Anocoil | Photopolymerizable coating composition and lithographic printing plate produced therefrom |
JPH06504628A (ja) | 1990-12-20 | 1994-05-26 | エクソン・ケミカル・パテンツ・インク | リソグラフィー及び腐食防止コーティング用途向けのuv/eb硬化性ブチルコポリマー |
US5190710A (en) | 1991-02-22 | 1993-03-02 | The B. F. Goodrich Company | Method for imparting improved discoloration resistance to articles |
US5144964A (en) | 1991-03-14 | 1992-09-08 | Philip Morris Incorporated | Smoking compositions containing a flavorant-release additive |
FR2675347B1 (fr) | 1991-04-17 | 1994-09-02 | Tabacs & Allumettes Ind | Cigarette a papier incorporant un agent modificateur de la fumee. |
EP0511166A1 (de) | 1991-04-26 | 1992-10-28 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur photochemischen und thermischen Stabilisierung von Polyamid-Fasermaterial mit einer faseraffinen Kupferkomplexverbindung und einem Oxalsäurediarylamid |
US5271764A (en) | 1992-02-12 | 1993-12-21 | Xerox Corporation | Ink compositions |
US5286286A (en) | 1991-05-16 | 1994-02-15 | Xerox Corporation | Colorless fast-drying ink compositions for printing concealed images detectable by fluorescence |
US5302195A (en) | 1991-05-22 | 1994-04-12 | Xerox Corporation | Ink compositions containing cyclodextrins |
US5141797A (en) | 1991-06-06 | 1992-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet paper having crosslinked binder |
DE4118899C1 (ko) | 1991-06-08 | 1992-10-22 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | |
US5160372A (en) | 1991-06-13 | 1992-11-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing ester diol and amide diol cosolvents |
US5141556A (en) | 1991-06-13 | 1992-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Penetrants for aqueous ink jet inks |
US5169438A (en) | 1991-06-13 | 1992-12-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing cycloaliphatic diol pluggage inhibitors |
JP3009939B2 (ja) * | 1991-06-17 | 2000-02-14 | 株式会社リコー | 新規なアザアヌレン化合物 |
JP3203694B2 (ja) | 1991-07-19 | 2001-08-27 | 東ソー株式会社 | 石英ガラスの製造方法 |
US5133803A (en) | 1991-07-29 | 1992-07-28 | Hewlett-Packard Company | High molecular weight colloids which control bleed |
DE4126461C2 (de) | 1991-08-09 | 1994-09-29 | Rainer Hoppe | Farbstoffbeladenes anorganisches Molekularsieb, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
DE4127733A1 (de) | 1991-08-22 | 1993-02-25 | Basf Ag | Pfropfpolymerisate aus saccharidstrukturen enthaltenden naturstoffen oder deren derivaten und ethylenisch ungesaettigten verbindungen und ihre verwendung |
US5209814A (en) | 1991-09-30 | 1993-05-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for diffusion patterning |
US5205861A (en) | 1991-10-09 | 1993-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing alkylene oxide condensates of certain nitrogen heterocyclic compounds as cosolvents |
US5198330A (en) | 1991-10-11 | 1993-03-30 | Eastman Kodak Company | Photographic element with optical brighteners having reduced migration |
US5202209A (en) | 1991-10-25 | 1993-04-13 | Xerox Corporation | Toner and developer compositions with surface additives |
US5415976A (en) | 1991-10-25 | 1995-05-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for photopolymer compositions |
US5455143A (en) | 1991-10-25 | 1995-10-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for aqueous soluble photopolymer compositions |
SE9103140L (sv) | 1991-10-28 | 1993-04-29 | Eka Nobel Ab | Hydrofoberat papper |
US5180425A (en) | 1991-11-05 | 1993-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing polyol/alkylene oxide condensates as cosolvents |
US5224987A (en) | 1991-11-12 | 1993-07-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Penetrants for aqueous ink jet inks |
DE69212275T2 (de) | 1991-11-14 | 1997-01-09 | Bando Chemical Ind | Entfärbbarer Toner |
DE4142956C2 (de) | 1991-12-24 | 1996-08-14 | Du Pont Deutschland | Bleichbares Lichthofschutzsystem für photographische Aufzeichnungsmaterialien |
DE4202038A1 (de) | 1992-01-25 | 1993-07-29 | Basf Ag | Verwendung einer fluessigkeit, enthaltend ir-farbstoffe, als druckfarbe |
US5445651A (en) | 1992-01-31 | 1995-08-29 | The Procter & Gamble Company | Detergent compositions inhibiting dye transfer in washing |
US5271765A (en) | 1992-02-03 | 1993-12-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous cationic dye-based ink jet inks |
US5219703A (en) | 1992-02-10 | 1993-06-15 | Eastman Kodak Company | Laser-induced thermal dye transfer with bleachable near-infrared absorbing sensitizers |
US5541633A (en) | 1992-02-12 | 1996-07-30 | Xerox Corporation | Ink jet printing of concealed images on carbonless paper |
US5298030A (en) | 1992-02-21 | 1994-03-29 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photochemical and thermal stabilization of undyed and dyed or printed polyester fiber materials |
US5193854A (en) | 1992-02-28 | 1993-03-16 | Babn Technologies Inc. | Tamper-resistant article and method of authenticating the same |
JP2845389B2 (ja) | 1992-03-10 | 1999-01-13 | 大日精化工業株式会社 | 熱転写記録用着色組成物 |
US5226957A (en) | 1992-03-17 | 1993-07-13 | Hewlett-Packard Company | Solubilization of water-insoluble dyes via microemulsions for bleedless, non-threading, high print quality inks for thermal ink-jet printers |
US5178420A (en) | 1992-03-19 | 1993-01-12 | Shelby Meredith E | Reusable facsimile transmittal sheet and method |
US5401562A (en) | 1992-03-27 | 1995-03-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Paper material for photosensitive materials and method of producing the same |
US5344483A (en) | 1992-03-30 | 1994-09-06 | Porelon, Inc. | High-density, low-viscosity ink for use in ink jet printers |
US5173112A (en) | 1992-04-03 | 1992-12-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Nitrogen-containing organic cosolvents for aqueous ink jet inks |
US5169436A (en) | 1992-05-13 | 1992-12-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Sulfur-containing penetrants for ink jet inks |
US5503664A (en) | 1992-05-20 | 1996-04-02 | Seiko Epson Corporation | Ink compositions for ink jet printing |
EP0571190B1 (en) | 1992-05-20 | 1997-01-29 | Seiko Epson Corporation | Ink compositions for ink jet printing |
US5258274A (en) | 1992-05-22 | 1993-11-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal dye bleach construction sensitive to ultraviolet radiation |
US5300403A (en) | 1992-06-18 | 1994-04-05 | International Business Machines Corporation | Line width control in a radiation sensitive polyimide |
US5256193A (en) | 1992-06-25 | 1993-10-26 | Xerox Corporation | Porphyrin chromophore and dendrimer ink composition |
DE4321607A1 (de) | 1992-06-30 | 1994-01-05 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | Aufzeichnungsmaterial |
US5296275A (en) | 1992-07-01 | 1994-03-22 | Xytronyx, Inc. | Phototranschromic ink |
ATE266999T1 (de) | 1992-07-13 | 2004-06-15 | Shiseido Co Ltd | Dermatologische zusammensetzung |
US5599924A (en) | 1992-08-14 | 1997-02-04 | Trustees Of The University Of Pennsylvania | Electron-deficient porphyrins and processes and intermediates for preparing same |
US5270078A (en) | 1992-08-14 | 1993-12-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing high resolution wash-off images |
US5310778A (en) | 1992-08-25 | 1994-05-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing ink jet inks having improved properties |
EP0585679A1 (en) | 1992-09-01 | 1994-03-09 | Konica Corporation | Method for forming a photographic color image |
JP3151547B2 (ja) | 1992-09-07 | 2001-04-03 | パイロットインキ株式会社 | 筆記具用水性インキ組成物 |
JP2602404B2 (ja) | 1992-09-08 | 1997-04-23 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 水性インク組成物 |
JP3176444B2 (ja) | 1992-10-01 | 2001-06-18 | 株式会社リコー | 水性インク及びこれを用いた記録方法 |
US5338822A (en) | 1992-10-02 | 1994-08-16 | Cargill, Incorporated | Melt-stable lactide polymer composition and process for manufacture thereof |
DE4234222A1 (de) | 1992-10-10 | 1994-04-14 | Cassella Ag | Wasserlösliche Schwefelfarbstoffe, ihre Herstellung und Verwendung |
DE4236143A1 (de) | 1992-10-26 | 1994-04-28 | Bayer Ag | Gegen unbefugtes Kopieren geschützte Substrate und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US5509957A (en) | 1992-11-09 | 1996-04-23 | Ciba-Geigy Corporation | Ink compositions |
US5489503A (en) | 1992-12-03 | 1996-02-06 | Ciba-Geigy Corp. | UV absorbers |
US5427415A (en) | 1992-12-09 | 1995-06-27 | Wallace Computer Services, Inc. | Heat sensitive system and use thereof |
EP0602494B1 (en) | 1992-12-10 | 1996-10-09 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Ink jet recording sheet |
US5372387A (en) | 1992-12-15 | 1994-12-13 | Wajda; Tadeusz | Security device for document protection |
US5292556A (en) | 1992-12-22 | 1994-03-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing negative-working wash-off relief images |
US5250109A (en) | 1992-12-22 | 1993-10-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of polyoxyalkyleneamines as cosolvents for aqueous ink jet inks |
US5268027A (en) | 1992-12-22 | 1993-12-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Alkylpolyol ethers as cosolvents for ink jet inks |
US5426164A (en) | 1992-12-24 | 1995-06-20 | The Dow Chemical Company | Photodefinable polymers containing perfluorocyclobutane groups |
EP0605840A3 (en) | 1992-12-25 | 1994-12-14 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Inkjet recording sheet. |
US5455074A (en) | 1992-12-29 | 1995-10-03 | Kimberly-Clark Corporation | Laminating method and products made thereby |
US5302197A (en) | 1992-12-30 | 1994-04-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet inks |
GB9301451D0 (en) | 1993-01-26 | 1993-03-17 | Allied Colloids Ltd | Production of filled paper |
FR2700780B1 (fr) | 1993-01-28 | 1995-03-10 | Novalis Fibres | Filaments, fibres, fils pigmentés pour emploi extérieur. |
JPH06248194A (ja) | 1993-02-25 | 1994-09-06 | Ensuiko Sugar Refining Co Ltd | ケルセチン含有着色料 |
JPH06248193A (ja) | 1993-02-25 | 1994-09-06 | Ensuiko Sugar Refining Co Ltd | クロセチン含有着色料 |
EP0949084B1 (en) | 1993-03-02 | 2003-08-20 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Ink jet recording sheet |
US5286288A (en) | 1993-03-11 | 1994-02-15 | Videojet Systems International, Inc. | Hot melt inks for continuous jet printing |
US5429628A (en) | 1993-03-31 | 1995-07-04 | The Procter & Gamble Company | Articles containing small particle size cyclodextrin for odor control |
JPH06287493A (ja) | 1993-04-07 | 1994-10-11 | Canon Inc | インク及びこれを用いた記録装置 |
KR0185765B1 (ko) | 1993-04-10 | 1999-04-15 | 가와다 미쓰구 | 광 정보매체와 그 제조방법 |
GB9307749D0 (en) * | 1993-04-15 | 1993-06-02 | Zeneca Ltd | Chemical compounds |
US5330860A (en) | 1993-04-26 | 1994-07-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Membrane and electrode structure |
DE4321376A1 (de) | 1993-06-26 | 1995-01-05 | Hoechst Ag | Wäßrige Feindispersion eines organophilen Schichtsilikates |
DE4322179C2 (de) | 1993-07-03 | 1997-02-13 | Schoeller Felix Jun Papier | Aufzeichnungsmaterial für Ink-Jet-Druckverfahren |
US5432274A (en) | 1993-07-28 | 1995-07-11 | National Research Council Of Canada | Redox dye and method of preparation thereof using 2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin and 1,1'-dimethylferrocene |
DE69406731T2 (de) | 1993-07-30 | 1998-03-26 | Canon Kk | Aufzeichnungselement, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren unter Verwendung desselben, so erhaltener Druck und Dispersion und Verfahren zur Herstellung des Aufzeichnungselementes unter Verwendung der Dispersion |
US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
US5643356A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-01 | Kimberly-Clark Corporation | Ink for ink jet printers |
US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
US5700850A (en) | 1993-08-05 | 1997-12-23 | Kimberly-Clark Worldwide | Colorant compositions and colorant stabilizers |
CA2120838A1 (en) | 1993-08-05 | 1995-02-06 | Ronald Sinclair Nohr | Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation |
US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
EP0639664A1 (en) | 1993-08-16 | 1995-02-22 | Basf Corporation | Nylon fibers with improved dye washfastness and heat stability |
JP3341394B2 (ja) * | 1993-10-08 | 2002-11-05 | 東洋インキ製造株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
DE4338486A1 (de) | 1993-11-11 | 1995-08-10 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Aufzeichnungsmaterialien für Tintenstrahldrucker |
EP0661598B1 (en) | 1993-12-10 | 1998-09-16 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Decolorizable toner and a decolorizable toner production process |
DE69413363T2 (de) | 1993-12-14 | 1999-04-29 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Tinte, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Tintenstrahldruckgerät unter Verwendung derselben |
US5506079A (en) | 1994-02-28 | 1996-04-09 | Ricoh Company, Ltd. | Magnetic composition, magnetic toner and ink containing the magnetic composition |
JPH07290818A (ja) | 1994-03-04 | 1995-11-07 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | インクジェット記録用タックシート |
US5401303A (en) | 1994-04-26 | 1995-03-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous inks having improved halo characteristics |
JP3170415B2 (ja) | 1994-05-23 | 2001-05-28 | シャープ株式会社 | 静電結合入力装置 |
US5883161A (en) | 1994-06-23 | 1999-03-16 | Cellresin Technologies, Llc | Moisture barrier material comprising a thermoplastic and a compatible cyclodextrin derivative |
US5501902A (en) | 1994-06-28 | 1996-03-26 | Kimberly Clark Corporation | Printable material |
US5739175A (en) | 1995-06-05 | 1998-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer |
US5685754A (en) | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
TW271464B (ko) | 1994-07-26 | 1996-03-01 | Hitachi Seisakusyo Kk | |
US5474691A (en) | 1994-07-26 | 1995-12-12 | The Procter & Gamble Company | Dryer-added fabric treatment article of manufacture containing antioxidant and sunscreen compounds for sun fade protection of fabrics |
EP0699723A3 (en) | 1994-08-31 | 1997-07-02 | Canon Kk | Ink for inkjet printing |
US5476540A (en) | 1994-10-05 | 1995-12-19 | Hewlett Packard Corporation | Gel-forming inks for use in the alleviation of bleed |
JPH08230313A (ja) | 1994-12-12 | 1996-09-10 | Arkwright Inc | インクジェット媒体用ポリマーマトリックスコーティング |
US5580369A (en) | 1995-01-30 | 1996-12-03 | Laroche Industries, Inc. | Adsorption air conditioning system |
US5575891A (en) | 1995-01-31 | 1996-11-19 | The Procter & Gamble Company | Soft tissue paper containing an oil and a polyhydroxy compound |
US5643631A (en) | 1995-03-17 | 1997-07-01 | Minerals Tech Inc | Ink jet recording paper incorporating novel precipitated calcium carbonate pigment |
US5591489A (en) | 1995-05-04 | 1997-01-07 | Sequa Chemicals, Inc. | Process for surface sizing paper or paperboard |
US5747550A (en) | 1995-06-05 | 1998-05-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material |
US5811199A (en) | 1995-06-05 | 1998-09-22 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Adhesive compositions containing a photoreactor composition |
US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
US5849411A (en) | 1995-06-05 | 1998-12-15 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition |
US5798015A (en) | 1995-06-05 | 1998-08-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition |
EP0830638B1 (en) | 1995-06-05 | 2000-08-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Pre-dyes and compositions comprising them |
GB9515304D0 (en) | 1995-07-26 | 1995-09-20 | Ilford Ag | Azo dyes |
JP3258867B2 (ja) | 1995-07-29 | 2002-02-18 | 株式会社堀場製作所 | 半導体を用いた光走査型ポテンショメトリックセンサ |
US5531821A (en) | 1995-08-24 | 1996-07-02 | Ecc International Inc. | Surface modified calcium carbonate composition and uses therefor |
US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
DE69620428T2 (de) | 1995-11-28 | 2002-11-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Lichtstabilisierte fabstoffzusammensetzungen |
US5795985A (en) | 1996-03-05 | 1998-08-18 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Phenyl alkyl ketone substituted by cyclic amine and a process for the preparation thereof |
US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
DE19618607C2 (de) | 1996-05-09 | 1999-07-08 | Schoeller Felix Jun Foto | Aufzeichnungsmaterial für Tintenstrahl-Druckverfahren |
US5709976A (en) | 1996-06-03 | 1998-01-20 | Xerox Corporation | Coated papers |
JP3206439B2 (ja) | 1996-06-28 | 2001-09-10 | 東海興業株式会社 | モールディングの製造方法及び装置 |
CN1222584C (zh) | 1996-09-13 | 2005-10-12 | 大日本油墨化学工业株式会社 | 生产喷墨油墨的方法 |
TW452575B (en) | 1996-12-06 | 2001-09-01 | Ciba Sc Holding Ag | New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators |
US5925692A (en) | 1997-03-12 | 1999-07-20 | Lexmark International, Inc. | High performance ink compositions |
JP3134072B2 (ja) | 1997-05-13 | 2001-02-13 | 三洋化成工業株式会社 | 真珠光沢顔料用分散剤 |
JP3599160B2 (ja) | 1997-05-16 | 2004-12-08 | 大日本インキ化学工業株式会社 | マレイミド誘導体を含有する活性エネルギー線硬化性組成物及び該活性エネルギー線硬化性組成物の硬化方法 |
US5864044A (en) | 1997-07-24 | 1999-01-26 | Universite De Sherbrooke | Syntheses of trisulfonated phthalocyanines and their derivatatives using boron (111) subphthalocyanines as intermediates |
-
2000
- 2000-05-12 US US09/569,549 patent/US6368395B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-18 EP EP00932576A patent/EP1180126B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-18 KR KR1020017014975A patent/KR100856158B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-05-18 MX MXPA01011714A patent/MXPA01011714A/es active IP Right Grant
- 2000-05-18 DE DE60019918T patent/DE60019918T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-18 JP JP2000620004A patent/JP2003500510A/ja active Pending
- 2000-05-18 AU AU50277/00A patent/AU5027700A/en not_active Abandoned
- 2000-05-18 AT AT00932576T patent/ATE294839T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-05-18 WO PCT/US2000/013698 patent/WO2000071621A1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH039939A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-17 | Chisso Corp | ポリオレフイン系樹脂組成物 |
US5738716A (en) * | 1996-08-20 | 1998-04-14 | Eastman Kodak Company | Color pigmented ink jet ink set |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
미국화학사회지, vol. 120, 1988, B.del Rey 외9인. Synthesis and Nonlinear Optical, Photophysical, and Electrochemical Properities of Subphthalocyanines, p12808 - 12817. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MXPA01011714A (es) | 2002-05-14 |
WO2000071621A1 (en) | 2000-11-30 |
DE60019918D1 (de) | 2005-06-09 |
JP2003500510A (ja) | 2003-01-07 |
DE60019918T2 (de) | 2005-09-29 |
EP1180126A1 (en) | 2002-02-20 |
EP1180126B1 (en) | 2005-05-04 |
US6368395B1 (en) | 2002-04-09 |
AU5027700A (en) | 2000-12-12 |
KR20020033094A (ko) | 2002-05-04 |
ATE294839T1 (de) | 2005-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100856158B1 (ko) | 신규 서브프탈로시아닌 착색제, 잉크 조성물, 및 그 제조방법 | |
Durmuş et al. | The synthesis, fluorescence behaviour and singlet oxygen studies of new water-soluble cationic gallium (III) phthalocyanines | |
Durmuş et al. | Synthesis and solvent effects on the electronic absorption and fluorescence spectral properties of substituted zinc phthalocyanines | |
Maya et al. | Synthesis of Alkynyl‐Linked Phthalocyanine Dyads: Push–Pull Homo‐and Heterodimetallic Bisphthalocyaninato Complexes | |
Bayır | Synthesis and characterization of novel soluble octa-cationic phthalocyanines | |
Samankumara et al. | Syntheses, structures, modification, and optical properties of meso-tetraaryl-2, 3-dimethoxychlorin, and two isomeric meso-tetraaryl-2, 3, 12, 13-tetrahydroxybacteriochlorins | |
Pushkarev et al. | Selective synthesis and spectroscopic properties of alkyl-substituted lanthanide (III) mono-, di-, and triphthalocyanines | |
Yu et al. | AIE-active difluoroboronated acylhydrozone dyes (BOAHY) emitting across the entire visible region and their photo-switching properties | |
Bandera et al. | Synthesis of water soluble axially disubstituted silicon (IV) phthalocyanines with alkyne & azide functionality | |
Ağırtaş | Highly soluble phthalocyanines with hexadeca tert-butyl substituents | |
Dubinina et al. | Synthesis and investigation of spectral and electrochemical properties of alkyl-substituted planar binuclear phthalocyanine complexes sharing a common naphthalene ring | |
Kandaz et al. | Functional solitare-and trans-hybrids, the synthesis, characterization, electrochemistry and reactivity of porphyrazine/phthalocyanine hybrids bearing nitro and amino functionality | |
Kandaz et al. | Synthesis and electrochemistry of soluble phthalocyanine complexes containing four peripheral dihexyl and dihexylhexylmalonate residues | |
Özçeşmeci et al. | Synthesis and spectroscopic investigation of boronic esters of metal-free fluorinated and non-fluorinated phthalocyanines | |
Özçeşmeci | Synthesis, photophysical and photochemical properties of metal-free and zinc (II) phthalocyanines bearing α-naphtholbenzein units | |
Modibane et al. | Synthesis and photophysical properties of lead phthalocyanines | |
Calvete et al. | A binuclear phthalocyanine containing two different metals | |
Al-Raqa | The synthesis and photophysical properties of novel, symmetrical, hexadecasubstituted Zn phthalocyanines and related unsymmetrical derivatives | |
Yongzhong et al. | Synthesis and properties of soluble metal-free phthalocyanines containing tetra-or octa-alkyloxy substituents | |
Zhao et al. | Synthesis and photophysical properties of a covalently linked porphyrin-phthalocyanine conjugate | |
Akasaka et al. | Photo-induced energy transfer and its switching in dyad and triad chromophore systems composed of coumarin, Ru (II) and Os (II) terpyridine-type complexes | |
EP1322906A1 (de) | Optische datenspeicher enthaltend einen co-phthalocyanin-komplex in der mit licht beschreibbaren informationsschicht | |
Tikhomirova et al. | Synthesis and spectral luminescent properties of 4, 4´, 4´´, 4´´´-tetra (tert-butyl)-5, 5´, 5´´, 5´´´-tetrakis (phenylsulfanyl) phthalocyanines and their sulfo acids | |
Canlıca | Co, Ni, Cu phthalocyanines with tetra substituted bisbenzimide | |
WO2004046253A1 (de) | Optische datenspeicher enthaltend ein colbalt- phthalocyanin mit einem axialen substituenten und einem axialen liganden in der mit licht beschreibbaren informationsschicht |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20110810 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120821 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |