KR100282285B1 - 적층된 다중칩 모듈 및 그의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
회로 조립체는 실질적으로 나란하며 서로 대향하는 제1 및 제2 표면 및 상기 제1표면상에 장착된 적어도 하나의 전기 접점을 갖는 반도체 다이를 포함한다. 실질적으로 나란하고 서로 대향하는 제1 및 제2 표면 및 상기 표면중 한 표면상에 장착된 적어도 하나의 전기 접점을 갖는 제1요소는 반도체 다이의 제1표면상에 장착되어 있으며 제2표면에서 상기 반도체 다이의 제1표면에 의해 적어도 부분적으로 지지되어 있다. 상기 제1요소는, 반도체 다이 전기 접점을 노출시키도록 배치되어 있다. 제1 및 제2단부를 갖는 미세한 도체는 제1단부에서 반도체 다이 전기 접점 또는 제1요소 전기 접점에 접속되어 있다. 또한, 이러한 회로 조립체를 제조하는 방법이 개시되어 있다.
Description
제1도는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 단면도.
제2도는 제1도의 다중칩 모듈의 평면도.
제3도는 3개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 한 실시예에 대한 단면도.
제4도는 3개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 한 변형 실시예에 대한 단면도.
제5도는 3개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 제2의 변형 실시예에 대한 단면도.
제6도는 3개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 제3의 변형 실시예에 대한 평면도.
제7도는 3개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 제4의 변형 실시예에 대한 단면도.
제8도는 4개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 한 실시예에 대한 단면도.
제9도는 4개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 제1변형 실시예에 대한 단면도.
제10도는 4개의 요소를 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 제2변형 실시예에 대한 단면도.
제11도는 3개의 요소를 지니고 있고, 상기 3개의 요소중 어느 하나는 그것을 통과하는 적어도 하나의 홀(hole) 또는 슬롯(slot)을 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 한 실시예에 대한 단면도.
제12도는 관통하는 홀 또는 슬롯을 지니는 요소에 대한 동일 축척의 사시도.
제13도는 한 요소가 절단 단면을 지니는 3개의 요소에 대한 동일 축척의 사시도.
제14도는 3개의 요소를 지니고 있고, 상기 3개의 요소중 어느 하나는 그것을 통과하는 적어도 하나의 홀 또는 슬롯을 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 한 변형 실시예에 대한 단면도.
제15도는 3개의 요소를 지니고 있고, 상기 3개의 요소중 어느 하나는 그것을 통과하는 적어도 하나의 홀 또는 슬롯을 갖는 본 발명에 따른 다중칩 모듈의 제2변형 실시예에 대한 평면도.
[발명의 분야]
본 발명은 반도체 패키지 기술에 관한 것이며, 보다 구체적으로 기술하면, 복수개의 반도체 다이 및/또는 기판을 포함하는 반도체 패키지에 관한 것이다.
[관련 기술의 설명]
초대규모 직접 회로(VLSI) 반도체 다이(semiconductor die)는 대개 반도체 패키지내에 격납되어 있다. 대개는, 1개의 반도체 패키지가 단지 하나의 다이만을 포함한다.
종래의 반도체 패키지에는 3가지 형태가 있다. 성형 플라스틱 패키지는 플라스틱 본체내에 성형된 리드 플레임(lead frame)을 포함한다. 리드 프레임은 여러 전기 리드를 지니는 판금 구조(sheet metal framework) 및 다이가 장착되는 주장착면(principal mounting surface 또는 안착면(seating plane))으로써 기능하는 다이 접착 패드(Die Attach Pad;DAP)이다. 상기 다이는 DAP 또는 DAP에 부착된 기판에 직접 본딩될 수 있다. 상기 전기 리드는 상기 성형 플라스틱 내측에서 상기 플라스틱의 외측으로 전기 경로를 제공한다. 성형 플라스틱 패키지중 몇가지 통상적인 형태는, 플라스틱 칩 캐리어(Plastic Chip Carrier:PCC), 성형된 듀얼 인라인 패키지(Molded Dual Inline Package; MDIP), 플라스틱 쿼드 플랫팩(Plastic Quad Flat Pack;PQFP), 소형 아웃라인(Small Outline;SO), 수축 소형 아웃라인 패키지(Shrink Small Outline Package;SSOP), 트랜지스터 아웃라인 패키지(Transistor Outline Package;TO), 초소형 아웃라인 패키지(Very Small Outline Package;VSOP), 및 얇은 소형 아웃라인 패키지(Thin Small Outline Package;TSOP)이다.
두번째 종래의 반도체 패키지 형태는 공동(cavity) 패키지이다. 상기 공동 패키지에서는, 다이가 장착되는 주장착면(또는 안착면)으로써 기능하는 공동 베이스(cavity base)가 중공(中空) 하우징내에 포함되어 있다. 상기 성형 플라스틱 패키지와는 달리, 공동 패키지에 내재하는 다이는 공기로 에워싸여져 있다. 여러 전기 리드는 하우징 내측에서 하우징 외측으로의 전기 경로를 제공한다. 공동 패키지중 몇가지 일반적인 형태는, 세라믹 패키지, 금속캔, 플라스틱 패키지, 및 그들에 대한 임의의 조합이다.
세번째 종래의 반도체 구조형태는 칩-온-보드(Chip-On-Board;COB) 조립체이다. 상기 COB에서는, 다이가 주장착면(또는 안착면)의 역할을 하는 회로 보드나 기판에 직접 본딩되어 있다. 상기 다이는 플라스틱 재료로 도포되어 보호되는 것이 보통이다. 다양한 형태의 전기 리드는 플라스틱 재료내측에서 플라스틱 재료외측으로의 전기 경로를 제공하는데 사용될 수 있다.
비록 종래의 3가지 반도체 패키지 형태는 여러가지 서로 다른 형상 및 사이즈를 갖지만, 그들 각각은 수개의 전기 리드 및 다이가 장착되는 주장착면(또는 안착면)을 포함한다.
상기 다이 및 상기 전기 리드 사이에 전기 접속 부분을 형성하며 상기 패키지의 세가지 종래의 형태 각각에 사용되는 통상적인 방법은 와이어 본딩(wire bonding)이다. 와이어 본딩은 미세와이어를 개별적인 구성요소에 용접함으로써 분리되어 있는 패키지내의 구성요소 사이에 전기적 상호접속 부분을 형성하는 방법이다. 따라서, 미세와이어 도체의 일단부는 전기 리드에 접속되고 타단부는 다이상의 전기 접점에 접속된다. 와이어 본딩은 다이를 상호접속시키는 일반적인 방법이다. 캐필러리(capillary) 설계, 와이어 본딩 처리 제어 및 와이어 특성을 개선시켜 보다 미세한 피치(pitch)본딩의 형성이 가능하게 되었다.
흔히, 2개 또는 그 이상의 반도체 다이는 단일한 회로 조립체를 제공하도록 전기적으로 상호접속되어 있다. 패키지 패러다임마다 1개의 다이가 있는 경우, 2개 또는 그이상의 다이를 상호접속하는 것은 패키지의 수와 동일한 만큼의 실제적인 공간을 필요로 한다. 디바이스 성능을 향상시킬 뿐만 아니라, 사이즈 및 무게를 감소시키기 위하여, 2개 또는 그이상의 다이를 단일 패키지내로 결합시키려는 시도가 여러번 있었다. 고밀도 집적 회로 패키지 산업에서는, 2개 또는 그이상의 다이를 단일 패키지내에 결합시키는 것을 일반적으로 다중-칩모듈(Multi-Chip Module;MCM) 또는 다중-칩 패키지(Multi-Chip Package;MCP)라고 한다. 다중-칩 모듈 및 다중-칩 패키지라는 기술적 용어는 의미상 약간의 차이가 있기는 하나, 본 발명의 개시를 위한 본 명세서에서 상기 2가지 용어는 서로 혼용하기로 한다.
가장 일반적인 MCM은 "병행(side-by-side)" MCM이다. 이 경우, 2개 또는 그 이상의 다이가 플라스틱 성형 패키지, 공동 패키지, 또는 COB 패키지중 어느 하나의 주장착면 상에 서로 이웃하여(또는 서로 병행하여) 장착된다. 다이는 상기 주장착면에 직접 장착될 수 있거나, 주장착면에 스스로 직접 장착되는 기판 재료 상에 장착될 수 있다. 상기 다이 및 전기 리드사이의 상호접속은 통상적으로 와이어 본딩을 통하여 형성된다.
그러나, 상기 병행 MCM은 많은 단점을 갖는다. 성형 플라스틱 패키지 또는 공동 패키지에 내재하는 주장착면 상에 다이를 병행으로 배치하는 것은 패키지의 실영역을 사용하는 가장 최적의 방법이 아니다. 그러한 실영역(real estate)은 엄격하게 제한되는데, 왜냐하면 대부분의 경우 다이는 단지 1개의 다이용으로 미리 설계된 몇가지 표준형태 요소에 맞추어야하기 때문이다. 만약 다이가 적절하게 배치되어 있지 않다면, 실영역에 대한 제한은 상기 MCM 내에 합체될 수 있는 다이의 수를 한정하게 될 것이다. 더군다나, 최적이 아닌 다이 레이아웃(layout)은 그에 상응하여 최적이 아닌 와이어 본딩을 초래하고 결과적으로 와이어 간의 교선, 와이어 길이가 길어짐 및 작은 와이어-와이어 분리가 생기게 된다. 1개의 와이어가 다른 와이어 상에 루프를 형성하는 와이어 교선(wire cross over)은, 성형 조건의 결과로써 단락 현상이 생길 수 있기 때문에 매우 바람직하지 않다. 마찬가지로, 와이어 길이가 길어지는 것 및 작은 와이어-와이어의 분리가 생기는 것을 신속한 성형 전이 상태 또는 높은 수지 점도하에서의 와이어 소인(wire sweep)에 치명적인 위험을 줄 수 있다.
MCM을 형성하기 위한 또다른 시도는 서로 상부에 2개 또는 그이상의 다이를 배치하고 그런 다음 패키지내에서 다이의 "적층(stack)"을 확보하는 것과 관련 있다. 현재 사용가능한 적층된 MCM의 제조는 우선 전체 웨이퍼를 적층시키고, 그런 다음 상기 적층된 웨이퍼를 적층 다이로 잘라 냄으로써 이루어진다. 따라서, 특정한 적층에서 개별적인 다이 각각은 동일한 크기가 된다.
현재 사용가능한 적층 MCM의 한가지 단점은 그것이 모두 메모리 디바이스라는 점으로써, 적층 형태로는 어떠한 혼합적인 기술 디바이스도 현재로는 사용가능하지 않는 것으로 보인다. 현재 사용가능한 적층된 MCM의 또다른 단점은 그것이 단일하고 특정화된 패키지를 필요로 한다는 점이다. 더군다나, 다이들 간에 전기적 상호접속을 형성하는데 사용하는 방법은 복잡하고 비용이 많이 드는데, 현재 사용되고 있는 상호접속의 방법은 제어된 컬랩스 칩 접속(Controlled Collapse Chip Connectionl;C4) 및 테이프 자동화 본딩(Tape Automated Bonding;TAB)이다.
"플립 칩(flip chip)"으로도 알려져 있는 제어된 컬랩스 칩 접속(C4)은 페이스 다운(face down) 본딩될 수 있는 다이 표면 상에 다수의 납땜 범프(solder bump)를 사용하는 것과 관련있다. 그 효과는 열적 성능, 전기 특성 및 재가공력이 개선된 점이다. 반면, 통상적으로 인식된 단점은 정밀한 정렬의 필요성, 청정 및 정밀 검사의 어려움, 모든 접속 부분에 대하여 균일한 땜납접합 높이를 형성하는 것 및 보다 긴 열적 싸이클 수명에 대하여 기판이 낮은 열 팽창 계수를 갖는다는 점 등이다. 더군다나, C4를 사용하기 위해서는 모든 납땜 범프 및 상호접속은 다이를 적층하기 전 또는 다이를 적층하는 동안에 이행되어야는데, 다시 말하면 다이가 적층된 후에는 어떠한 부가적인 상호접속도 형성될 수 없다.
테이프 자동화 본딩(TAB)은 열압축 본딩을 사용하여 중합체 테이프상에 패턴된 금속에 의하여 다이가 결합되는 공정을 말한다. 다음으로 기판 또는 보드에 부착하는 것은 외부 리드 본딩(outer lead bonding)에 의해 수행된다. 테이프 자동화 본딩(TAB)은 MCM의 대한 제한된 범위에서의 응용만을 보여준다. 비록 TAB는 많은 이점을 갖지만, 그 광범위한 용도를 방해하는 요인으로써, 주문 테이프에 대한 높은 착수 비용, 폴리이미드 테이프의 감습성 및 평탄성 문제를 극복하기 위하여 대형 다이를 갖는 단일점 본딩으로 전환해야 할 필요성 등이다.
따라서, 저비용의 MCM으로써, 현재 사용되는 MCM이 갖고 있는 문제를 극복할 수 있는 것에 대한 요구가 있다.
[발명의 요약]
본 발명은 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 지니고 있고 적어도 하나의 전기 접점이 상기 제1표면 상에 장착되어 있는 반도체 다이(semiconductor die)를 구비하는 회로 조립체(circuit assembly)를 제공한다. 제1요소(first element)는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 지니고 있고 상기 표면중 한 표면 상에 적어도 하나의 전기 접점이 장착되어 있으며, 상기 제1요소는 상기 반도체 다이의 제1표면상에 장착되어 있으며 상기 반도체 다이의 제1표면에 의해 상기 제2표면에서 적어도 부분적으로 지지되어 있다. 상기 제1요소는 반도체 다이 전기 접점(electrical contact)이 노출되도록 배치되어 있다. 제1 및 제2 단부를 갖는 미세와이어 도체(fine wire conductor)는 상기 제1단부에서 반도체 다이 전기 접점이나 제1요소 전기 접점중 어느 하나에 접속되어 있다.
상기 회로 조립체를 제조하는 방법은 주장착면 및 복수개의 전기 리드를 지니는 캐리어 부재(carrier member)상에 반도체 다이를 배치하는(dispensing)단계를 포함한다. 상기 반도체 다이는 주장착면에 의해 제2표면에서 적어도 부분적으로 지지되어야 한다. 그런 다음, 상기 제1요소를 반도체 다이 제1표면상에 배치한다. 상기 제1요소는 상기 반도체 다이에 의해 상기 제2표면에서 부분적으로 지지되어야 하고, 또한 상기 제1요소는 상기 반도체 다이 전기 접점이 노출되도록 배치되어야 한다.
본 발명의 특징 및 효과에 대한 좀 더 깊은 이해를 위하여 본 발명의 기술적 사상을 구체화한 실시예를 도시하는 첨부 도면 및 본 발명의 상세한 설명을 참조하기 바람다.
[본 발명의 바람직한 실시예에 대한 상세한 설명]
제 1 도는 본 발명에 따른 다중칩 모듈(20)의 한 실시예를 예시한 것이다. 상기 모듈(20), 또는 간단히 기술하면, 회로 조립체(20)는 반도체 다이(22)상에 "적층"되는 제1요소(24)를 포함한다. 상기 반도체 다이(22)는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2 표면을 지니고 있고 적어도 하나의 전기 접점(32)이 제1표면(30)상에 장착되어 있다. 상기 제1요소(24)는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면(36, 34)을 지니고 있고, 상기 제1 또는 제2표면(36, 34)상에는 적어도 하나의 전기 접점이 장착되어 있다. 제 1 도에 도시된 실시예에서는 상기 전기 접점(38)이 상기 제1표면(36)상에 장착되어 있는 것으로 도시되어 있다.
상기 제1요소(24)는 반도체 다이 또는 기판재료일 수 있다. 상기 제1요소(24)가 기판 재료인 경우, 상기 제1요소(24)는 상호접속 매체(다음에 설명함)로써 사용될 수 있다. 기판 재료는, 세라믹, 금속, 실리콘, 또는 플라스틱 회로 보드(PCB) 재료일 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 기판 재료의 간편성 및 용이한 사용가능성 때문에 다층 세라믹(MLC)기판이 매우 대중적이다. 금속 기판은 인성(toughness;MLC와 비교해서), 고강도, 저비용 및 고 열전도성 등의 효과를 제공한다. 구리-인바트-구리 또는 구리-몰리브덴-구리와 같은 금속층을 적절하게 조합하면, 중합체 박막 및 기판사이의 열적 부조화(thermal mismatch)를 최소화시킬 수 있다. 몇몇 전형적인 베이스 금속은 알루미늄, 구리, 구리/몰리브덴, 구리/텅스텐, 인바르, 및 코바르를 포함한다.
구리는 열도전성이 높기 때문에 주된 베이스 금속중 하나를 이루고, 이는 열적응력(thermal stress)을 최소화시키려는 경향이 있다. 실리콘 기판의 효과는 집적 회로(IC)제조 기술에 대하여 응용이 용이하다는 점, 능동 및 수동 디바이스 모두에 대하여 합체가 가능하다는 점, 기판에 부착되는 다른 실리콘 IC와 열적 정합이 양호하다는 점 등이 있고, 유전체 층은 폴리이미드 또는 SiO2중 어느 하나일 수 있는데, 상기 2가지는 IC를 제조함에 있어서의 표준 유전체이다. 반면, 실리콘 기판의 주요 단점은 실리콘 기판이 비싼데다가 크기가 웨이퍼 사이즈에 한정되어 있으며, 실리콘이 금속 기판보다 열전도성이 낮다는 점이다.
반도체 다이(22)는 캐리어 부재(42)상에 장착될 수 있으며 상기 캐리어 부재(42)의 주장착면(또는 안착면) (40)에 의해 적어도 부분적으로 지지되어 있다. "캐리어 부재(42)상에 장착된"이라는 말의 의미는 특정 요소(상기 경우 다이(22))가 상기 캐리어 부재(42)에 직접 부착된다는 것이거나, 특정 요소가 기타 다른 요소, 적층 요소 또는 접착제와 같이 스스로 캐리어 부재에 직접 접착되는 다른 구조 또는 구조의 조합에 부착된다는 것이다.
일반적으로, 상기 캐리어 부재(42)는 2개 또는 그이상의 전기 리드(44, 46)를 포함한다. 제 1 도에 도시된 실시예에서, 상기 캐리어 부재(42)는 리드 프레임이고, 주장착면(40)은 상기 리드 프레임(42)의 다이 부착 패드(Die Attach Pad;DAP)이다. 상기 전기 리드(44, 46)는 상기 리드 프레임(42)의 리드이다. 상기 리드 프레임(42)은 종래의 성형 플라스틱 듀얼 인라인 패키지(Dual Inline Package;DIP;26)의 성형 컴파운드(mold compound;25)내에 격납되어 있다.
본 발명의 1가지 이점은 상기한 3가지 종래의 반도체 패키지, 즉 성형 플라스틱 패키지, 공동 패키지, 및 칩-온-보드(Chip-On-Board;COB)패키지중 어느 하나가 적층된 요소 및 다이(24, 22)를 격납하는데 사용될 수 있다는 점이다. 더군다나, 주장착면 및 전기 리드를 갖는 임의의 다른 패키지도 마찬가지로 상기 적층을 격납하는데 사용될 수 있다. 종래의 패키지를 사용하면, 비용이 절감되는 것을 물론 시스템을 거의 수정하지 않거나 전혀 수정하지 않고도 현재하는 전기 시스템에서 다중칩 모듈이 즉시 사용될 수 있다. 따라서, DIP가 제1도에 도시되어 있으나 본 발명에 따른 적층된 다중칩 모듈이 가상적으로는 임의의 반도체 패키지내에 격납될 수 있다는 점은 자명하다.
반도체 다이(22)는 접착제 재료(48)에 의해 주장착면(40)에 장착될 수 있다. 상기 접착제(48)는 에폭시 접착제, 연질 땝납, 또는 다이를 기판에 장착하는데 적합한 기타 접착제일 수 있다. 상기 접착제(48)는 전기적으로 도전성이거나 비도전성일 수 있다. 도전성은 아교질내로 합체되는 충전재 형태에 의해 정해진다. 예를들면, 금속 충전제는 양호한 전기 및 열 손실(dissipation)을 제공하지만, 융합 실리카 또는 다이아몬드와 같은 무기물 충전제는 주로 열적 성능을 향상시킨다. 세라믹 패키지에 특히 양호하게 작용하는 접착제의 일례는 미합중국, 캘리포니아, 산타 아나의 Staystik 사 제품인 부품번호 11 Staystik 이다. 플라스틱 패키지용 고열전도성을 위한 것으로 알루미늄 니트라이드를 갖는 접착제의 일례는 부품 번호 282 Staystik 이다.
제1요소(24)는 또한 캐리어 부재(42)에 장착되어 있다. 상기 제1요소(24)는 다이(22)의 제1표면(30)에 의해 제2표면에서 적어도 부분적으로 지지되도록 장착되어 있다. 더군다나, 상기 제1요소(24)는, 상기 다이(22)의 전기 접점(32)을 노출하여 상기 전기접점(32)에 전기 접속부분을 형성하기 위해 접근할 수 있도록 배치되어 있다. 제1도에 도시된 제1요소(24)는 상기 다이(22)에 의해 완전히 지지되고 있으나, 본 발명에 따른 다른 실시예(다음에 기술됨)에서는 제2요소가 상기 다이(22)와 함께 상기 제1요소(24)를 부분적으로 지지하고 있다.
상기 제1요소(24)는 상기 다이(22)의 제1표면(30) 및 상기 제1요소(24)의 제2표면(34)에 도포되는 접착제 재료(50)에 의해 캐리어 부재(42)에 장착될 수 있다. 상기 접착제(50)는 또한 도전 또는 비도전성 접착제일 수 있다. 또한 상기한 Staystik 접착제는 여기에 특히 잘 작용한다.
와이어 본딩은 상기 다이(22)의 전기 접점(32, 58)사이의 상호접속 부분, 상기 제1요소(24)의 전기 접점(38, 54)사이의 상호 접속 부분, 및 전기 리드(44, 46)사이의 전기 접속부분을 형성하는데 사용된다. 와이어 본딩이 상기 다이 및 적층을 이루는 다른 요소사이에 전기 접속부분을 형성하는데 사용되기 때문에, 상기 다이 및 다른 요소는, 상기 다이 및/또는 다른 요소의 전기 접점중 적어도 하나를 노출시켜 거기에 미세와이어 접속을 이루도록 접근 가능한 방식으로 적층배치되어야 한다. 제 1 도에 도시된 바에 따르면, 제1요소(24)는 다이(22)보다 작아서 제1요소(24)가 다이(22)의 중앙으로 적층되는 경우에 다이(22)의 전기 접점(32, 58)을 노출된다. 그러나, 제1요소(24)는 다이(22)보다 작아야 할 필요는 없다. 즉, 전기 접점(32, 58)중 적어도 하나가 노출되어 거기에 미세와이어 접속이 이루어지도록 접근 가능한 방식으로 제1요소(24)가 다이(22)상에 배치된다면, 제1요소(24)는 다이(22)와 동일한 크기 또는 더 큰 크기를 가져도 된다. 다음에 설명하는 바와 같이, 심지어 다이(22)의 전기 접점중 적어도 하나의 전기 접점을 노출시키도록 제1요소(24)를 관통하는 홀(hole) 또는 슬롯이 존재할 수 있다.
와이어 본딩 방법을 사용하여 형성되는 특정의 상호접속 부분은 다중칩 모듈(20)이 사용될 특정 용도에 따라 변화할 수 있고 그러한 용도에 의존하게 된다. 예를들면, 상기 제1요소(24)의 전기 접점(38)은, 상기 접점(38)을 상기 리드(46)에 직접 접속시키는 미세와이어 도체(52)에 의하여 상기 전기 리드(46)에 연결될 수 있다. 또한, 전기 접점은, 와이어 본딩을 사용하여 리드에 간접적으로 연결될 수 있다. 예를들면, 미세와이어 도체(56)로 접점(54)과 접점(58)을 접속하고, 그런 다음 다른 미세와이어 도체(60)로 접점(58)과 리드(44)를 접속하여 전기 접점(54)는 리드(44)에 연결될 수 있다.
제 2 도는 제1요소(24)가 상호접속 매체, 즉 여러 장거리 상호접속(long distance interconnection) 및 라인 경로를 형성할 수 있는 표면으로써 사용되는 것을 도시한다. 한 요소가 상호접속 매체(interconnection media)로써 사용되는 경우, 상기 요소는 상기한 기판 재료중 어느 하나로부터 제조된다. 장거리 상호접속의 일례는 전기 접점(62)을 리드(64)에 연결하도록 전기 "스트립(strip)" 접점(68)을 사용하는 것이다. 구체적으로 기술하면, 미세와이어 도체(66)는 스트립 접점(68)의 일단부에 접점(62)을 접속시키는데 사용된다. 또다른 미세와이어 도체(70)는 스트립 접점(68)의 타단부를 리드(64)에 접속시키는데 사용된다. 따라서, 상기 제1요소(24)가 상호접속 매체로서 사용되는 경우, 상기 제1요소(24)는 회로 조립체(20)의 일면에서 타면으로 전기 신호를 전송시키기 위한 인쇄 배선 회로 기판(printed circuit board)과 유사한 긴 스트립 접점을 포함할 수 있다. 다시, 제조되는 특정의 상호접속 부분은 다중칩 모듈(20)이 사용되는 특정의 용도에 따라 변화하게 되고 상기 특정의 용도에 의존하게 된다. 더욱이, 제 2 도는 상기 제1요소(24)를 상호접속 매체로써 사용하는 것을 도시하고 있으나, 그와 달리 상기 제1요소(24)는 반도체 다이가 될 수 있으며, 이 경우에 일다이로부터 타다이로 유사한 상호접속 부분이 형성될 수 있다는 것을 자명하다.
적층 구조는, 3차원으로의 확장 및 배치(병행 배치와는 반대임)가 MCM의 밀도를 현저하게 증가시킬 수 있음을 보여준다. 동일한 공간에 대하여 더 많은 수의 다이가 적층 MCM내에 격납될 수 있고 그것은 MCM의 성능, 파워 및 범용성을 증가시킨다. 다이 또는 기판의 적층 순서에 따라 점진적으로 크기를 작게하여 본드 패드를 노출시키고 접근 가능하게 한다. 그러나, 점진적으로 크기를 작게 하는 것은 상기한 바와 같이 반드시 필요한 것은 아니다.
3차원적 이용을 최적화하기 위하여 적층 구조를 다양하게 변화시킬 수 있다. 다이는 서로의 상측에 배치될 수 있는데, 각각의 다이는 비도전성 다이접착 또는 상측 다이의 푸트프린트(footprint)에 맞는 열가소성 테이프에 의해 다른 다이에 부착된다. 하나의 적층내에 포함될 수 있는 다이의 수는 세라믹 패키지내의 공동 높이 또는 성형 플라스틱 패키지의 두께에 의하여 제한 될 수 있다.
다이 사이에 상호접속 매체 및 라인 경로 수단을 제공하기 위하여 기판은 다이로 적층될 수 있고 그것은 와이어 결합 길이가 긴 것을 배제하는데 도움을 준다. 다른 다이의 상측에 배치되는 기판은 전체 다이 표면을 덮어야 할 필요는 없다. 또한, 그것은 기판에 나란하게 배치된 다른 다이에 배선 배치하는 매개 수단으로써 사용될 수 있다.
다이 또는 다이/기판을 적절하게 배치함으로써, 와이어 본딩은 와이어 교선이 전혀 없고 허용 가능한 와이어-와이어 분리 수준에서 실현될 수 있다. 더군다나, 적층 다이는 표준 조립 사양을 만족시키는 와이어 본드 길이를 갖는 구성을 제공할 수 있다. 짧은 와이어 본드 길이를 유지하는 것은 MCM의 성형에 있어서 와이어 소인(wire sweep)에 대한 잠재성을 최소화시킨다.
제 1 도 및 제 2 도에 도시된 본 발명의 실시예는 단지 2개의 요소, 즉 다이(22) 및 다이 또는 기판(24)만을 갖는 적층된 MCM을 예시한 것이다. 그러나, 적층될 수 있는 요소의 수에 대한 제한은 없다. 본 발명은, 적층을 이루는 요소중 적어도 하나의 요소가 다이 상측에 적어도 하나의 다른 요소를 갖는 반도체 다이이고, 적어도 하나의 요소중 적어도 하나의 전기 접점이 노출되어 거기에 와이어 본딩 접속부분을 형성하도록 접근 가능한 방식으로 상기 요소가 적층될 때, 요소의 임의의 수에 대한 적층을 포함한다. 적층을 이루는 요소중 어떤 요소는, 적어도 하나의 요소중 적어도 하나의 전기 접점을 노출시켜, 거기에 와이어 본딩 접속 부분을 형성하도록 접근 가능한 방식으로 상기 요소가 적층되는 경우, 제어된 컬랩스 칩 접속(C4), 또는 "플립 칩(flip chip)" 접속을 사용하여 상호 접속될 수 있다는 점에 주목할 필요가 있다.
제 3 도는 3개의 적층 요소를 갖는 본 발명의 또다른 실시예를 도시한 것이다. 다중칩 모듈(72)은 캐리어 부재(82)의 주장착면(80)에 장착되는 3개의 요소(74, 76, 78)를 포함한다. 상기 요소(74, 76, 78) 각각은 평탄하고 반대로 향하는 표면을 지니고 있고, 상기 요소(74, 76) 중 적어도 하나가 반도체다이라면, 상기 요소(74, 76, 78) 각각은 반도체 다이 또는 기판 재료일 수 있다. 제1요소(74)가 접착제(84)에 의해 주장착면(80)에 장착되고, 제2요소(76)는 접착제(86)에 의해 상기 제1요소(74)에 장착되며, 제3요소(78)는 접착제(88)에 의해 상기 제2요소(76)에 장착된다. 상기 제3요소(78)는 상기 제2요소(76)에 의해 적어도 부분적으로 지지되어야 하고, 상기 제2요소(76)는 상기 제1요소(74)에 의해 적어도 부분적으로 지지되어야 한다. 더욱이 상기 제2요소(76)는 상기 제1요소(74)의 전기 접점(94, 100)을 노출시켜 거기에 미세와이어 접속 부분을 형성하기 위해 접근 가능하도록 배치되어야 한다. 마찬가지로 상기 제3요소(78)는 제2요소(76)의 전기 접점(96, 102)을 노출시켜 거기에 미세와이어 접속 부분을 형성하기 위해 접근 가능하도록 배치될 수 있다. 비록 상기 요소(76, 78)가 크기면에서 볼때 점진적으로 작아지고 있으나, 이는 하부에 있는 요소의 전기 접점 중 적어도 하나를 노출되도록 요소가 배치된다면 반드시 필요한 것은 아니다.
와이어 본딩은 전기 리드(106, 108) 중 어느 하나 또는 2가지 모두에 접점(94, 96, 98, 100, 102, 104) 중 어느 것 또는 그 모두를 전기적으로 연결시키는데 사용될 수 있다. 제3도에 도시된 바와같이, 미세와이어 도체(110, 112, 114)는 상기 접점(94, 96, 98)을 리드(108)에 연결시키고, 미세와이어 도체(116, 118, 120)는 상기 접점(100, 102, 104)을 리드(106)에 연결시킨다.
캐리어 부재(82)는 상기한 3가지 종래의 반도체 패키지중 어느 하나일 수 있다. 예를들면, 제 4 도에 도시된 다중칩 모듈(122)은, 주장착면(134)의 일면에만 전기 리드(132)를 갖는 캐리어 부재(130)상에 장착되는 3개의 요소(124, 126, 128)를 포함한다. 제 5 도에 도시된 다중칩 모듈(144)은 캐리어 부재(152)상에 장착되는 3개의 요소(146, 148, 150)를 포함한다. 상기 캐리어 부재(152)는 주장착면(154) 바로 밑에 장착되는 전기 리드(도시되지 않음)를 지니는 세라믹 패키지 또는 금속 캔일 수 있다. 제 6 도는 캐리어 부재(166)의 주장착면(164)상에 장착되는 3개의 요소(158, 160, 162)를 갖는 다중칩모듈(156)에 대한 평면도이다. 상기 캐리어 부재(166)는, 상기 캐리어 부재(166)의 4면 모두에 있는 전기 리드(168)를 포함한다.
최상부 요소가 유일한 다이가 아니라면, 3개의 요소에 대한 임의의 조합은 반도체 다이 및/또는 기판 재료일 수 있다. 한편, 형성될 특정의 와이어 본딩 상호접속부분 뿐만 아니라 다이나 기판에 대한 선택은, 다중칩 모듈이 사용되는 특정한 용도에 의존한다. 제 7 도는 캐리어 부재(142)상에 장착되는 3개의 요소(136, 138, 140)를 갖는 다중칩 모듈(135)을 도시한 것이다. 제1 및 제3요소(136, 140)는 반도체 다이이고, 제2요소(138)는 기판 재료이다.
제 8 도는 본 발명에 따른 다중칩 모듈(170)의 또다른 실시예를 도시한다. 4개의 요소(172, 174, 176, 180)는 캐리어 부재(184)의 주장착면(182)상에 장착되어 있다. 상기 요소(172, 174, 176, 180) 각각은 평평하고 반대로 향하는 표면을 지니고 있고, 상기 요소(172, 174, 176)중 적어도 하나가 다이일 경우, 상기 요소(172, 174, 176, 180) 각각은 반도체 다이이거나 기판 재료 중 어느 하나일 수 있다. 제2 및 제3요소(174, 176)는 모두 제1요소(172)에 의해 지지되어 있다. 제4요소(178)는 상기 제2요소(174)에 의해 부분적으로 지지되고 있고 상기 제3요소(176)에 의해 부분적으로 지지되어 있다. 더군다나, 요소(174, 176)는, 요소(172)의 전기 접점중 적어도 하나를 와이어 본딩용으로 노출시키도록 배치되어 있고, 요소(178)는, 요소(174, 176)중 어느 하나의 전기 접점중 적어도 하나를 와이어 본딩용으로 노출시키도록 배치되어 있다. 접착제(186, 188, 190)는 상기 요소(172, 174, 176, 178) 각각을 캐리어 부재(184)에 장착시키는데 사용된다. 한편, 상기 캐리어 부재(184)는 종래의 반도체 패키지중 임의 형태의 캐리어일 수 있다. 제 9 도는, 캐리어 부재(192)가 세라믹 패키지나 금속캔에서 볼 수 있는 형태인 것을 제외하고는, 제 8 도에 도시된 것과 기본적으로 동일한 실시예를 도시한 것이다.
제 10 도는 본 발명에 따른 다중칩 모듈(193)의 다른 실시예를 도시한 것이다. 4개의 요소(194, 196, 198, 200)는 캐리어 부재(204)의 주장착면(202)상에 장착되어 있다. 상기 요소(194, 196, 198, 200) 각각은 평평하며 반대로 향하는 표면을 갖는다. 상기 요소(194, 198)는 반도체 다이이고, 상기 요소(196, 200)는 각각 반도체 다이이거나 기판 재료일 수 있다. 상기 4개의 요소(194, 196, 198, 200)는 2개의 분리된 적층(206, 208)으로 배치되어 있다. 제1적층(206)은 주장착면(202) 상에 장착되는 제1요소(194)를 포함하고 제2요소(196)는 상기 제1요소(194)에 의해 적어도 부분적으로 지지되어 있다. 제2적층(208)은 주장착면(202) 상에 장착되는 제3요소(198)를 포함하고 제4요소(200)는 상기 제3요소(198)에 의해 적어도 부분적으로 지지되어 있다.
제 11 도는 본 발명에 따른 다중칩 모듈(210)의 다른 실시예를 도시한 것이다. 3개의 요소(212, 214, 216)는 캐리어 부재(220)의 주장착면(218) 상에 장착되어 있다. 상기 요소(212, 214, 216) 각각은 평평하고 반대로 향하는 표면을 지니고 있고, 요소(214, 216)중 적어도 하나의 요소가 다이일 경우 상기 요소(212, 214, 216) 각각은 반도체 다이이거나 기판 재료일 수 있다. 제1요소(212)는 상기 주장착면(218)상에 장착되어 있고, 제2요소(214)는 상기 제1요소(212)에 의해 적어도 부분적으로 지지되고 있으며, 제3요소(216)는 상기 제2요소(214)에 의해 적어도 부분적으로 지지되어 있다. 상기 다중칩 모듈(210)과 상기한 다른 실시예간의 기본적인 차이점은 상기 제2요소(214)가 제2요소(214)를 통해 제1표면(226)으로부터 제2표면(228)으로 연장하는 홀 또는 슬롯(222, 224)을 갖는다는 점이다.
상기 홀(222, 224)의 목적은, 요소(212)의 전기 접점(236, 242)을 노출시켜 거기에 미세와이어 접속부분을 형성하도록 접근 가능하게 하는 것이다. 다시 말하면, 요소(214)는, 전기 접점(236, 242)을 노출시켜 홀(222, 224)을 통해 접근할 수있는 방식으로 배치되어 있다는 것이다. 전기 접점(236, 242)을 노출시키도록 홀(222, 224)을 사용함으로써, 비록 요소(214)가 요소(212)보다 크다하더라도, 요소(216, 214, 212)사이에 와이어 본딩 상호접속 부분이 형성될 수 있다. 예를들면, 미세와이어 도체(230)는 상기 홀(224)을 통해 전기 접점(234)와 전기 접점(236)을 접속하도록 연장한다. 다른 예로서, 미세와이어 도체(238)는 전기 접점(240)으로부터 상기 홀(222)을 통해 연장하여 전기 접점(242)과 접속 시킨다. 따라서, 제1요소(212)가 제2요소(214)에 의해 완전히 덮여질 정도로 상기 제2요소(214)가 상기 제1요소(212)보다 큰 경우, 상기 홀(222, 224)은 상기 제1요소(212) 및 상기 제3요소(216)사이에 미세와이어 도체를 통하여 직접 전기 접속될 수 있게 한다.
상기 제2요소(214)가 상기 제1요소(212)보다 큰 한가지 이유는, 제1표면(226)이 상기 제1 및 제3요소(212, 216) 사이의 많은 상호접속 부분을 형성하기 위한 대량의 회로를 수용할 수 있다는 것이다. 대개 상기 제2요소(214)가 상호접속 매체로서 사용하기 위한 기판 재료로 된다. 그러나, 상기 제2요소(214)는 또한, 회로가 전혀없는 다이 부분 상에 홀을 갖는 반도체 다이일 수 있다.
제 12 도는 평행하고 반대로 향하는 표면을 갖는 요소를 통해 홀 또는 슬롯(244)이 형성될 수 있는 한가지 방법을 도시한다. 상기 홀(244)은 임의의 바람직한 크기 또는 형상일 수 있는데, 예를들면, 상기 홀(244)은 작은 원형홀, 긴 직사각형 홀 및 정사각형 홀 등일 수 있다.
제 13 도는 제1요소(248) 및 제3요소(252) 사이에 샌드위치 되는 제2요소(250)를 도시한다. 홀이나 슬롯을 사용하는 대신에 상기 제2요소(250)는, 미세와이어 도체(256)가 상기 제3요소(252)로부터 상기 제1요소(248)로 연장 가능하게 하는 절단 부분(254)을 갖는다. 따라서, 상기 요소중 어느 하나에서의 절단 부분은 홀이나 슬롯의 유사한 목적으로 제공할 수 있다.
제 14 도는 캐리어 부재(268)의 주장착면(266)상에 장착된 3개의 요소(260, 262, 264)를 갖는 다중칩 모듈(258)을 도시한다. 제2요소(262)는 홀(270, 272)을 포함한다. 캐리어 부재(268)는 세라믹 패키지나 금속 캔에서 볼 수 있는 형태이다. 제15도는 캐리어 부재(284)의 주장착면(282)상에 장착되는 3개의 요소(276, 278, 280)를 갖는 다중칩 모듈(274)에 대한 평면도이다. 상기 캐리어 부재(284)는 상기 주장착면(282)의 4면 모두에 전기 리드(286)를 갖는 형태이다. 상기 제2요소(278)는 제2요소(278)를 통해 연장하는 4개의 슬롯(288, 290, 292, 294)을 포함하여 제1요소(276)의 전기 접점을 노출시킨다. 따라서, 미세와이어 도체(296)는 제3요소(280)로부터 슬롯(292)을 통해 제1요소(276)로 연장하도록 허용된다.
제 1 도로 되돌아가면, 다중칩 모듈(20)을 제조하는 방법은 캐리어 부재(42)의 주장착면(40)상에 접착제 또는 연성-땜납(48)을 도포하는 것으로부터 개시한다. 그리고 나서 반도체 다이(22)를, 평방-인치당 대략 8-10파운드(psi)의 압력으로 접착제(48)상에 조합한다.
다음 단계는 다이(22)의 제1표면(30)상에 접착제 또는 에폭시(50)를 도포하는 것이다. 다음에, 제1요소(24)를 대략 3-5psi의 압력으로 상기 접착제(50)상에 분배한다. 상기 제1요소(24)는 다이(22)에 의해 적어도 부분적으로 지지되어야 하고 그위에 상기 제1요소(24)는 다이(22)의 전기 접점 중 적어도 하나가 노축되어 거기에 와이어 본딩 접속이 이루어지도록 접근 가능하게 배치되어야 한다. 상기 제1요소(24)는 반도체 다이 또는 기판 재료일 수 있다.
제2요소가 필요한 경우, 제1요소(24)의 제1표면(36)에 접착제 또는 에폭시를 도포하고 상기 제1표면(36)상에 제2요소를 조합한다. 부가적인 요소가 필요한 경우, 최종적으로 조합된 요소의 표면 상에 접착제 또는 에폭시를 도포한 다음 상기 최종 요소 상에 다른 요소를 조합하는 동일한 단계가 이어진다.
원하는 갯수의 요소가 캐리어(42) 상에 장착된 후 접점(32, 38, 54, 58)과 같은 요소상의 전기 접점 및 리드(44, 46)와 같은 캐리어(42)상의 전기 리드는 함께 와이어 본딩된다.
와이어 본딩이 완성된 후에는, 캐리어 부재(42)가 반도체 패키지(26)내에 밀봉된다. 이러한 단계는 대개 다이 및 제1요소(22, 24)가 성형 컴파운드(25)로 완전히 덮여지고 리드(44, 46)만이 노출되도록 캐리어(42) 주위에 성형 컴파운드(25)를 형성하는 단계를 수반한다. 상기 반도체 패키지(26)는 DIP이지만, 종래의 반도체 패키지중 어느 것이 사용될 수 있다는 점은 자명하다.
다중 칩 모듈(20)을 제조하는 변형 방법은 적층된 다이 및 제1요소(22, 24)를 미리 조립한 다음에 미리 조립된 적층을 캐리어 부재(42)상에 장착하는 것으로부터 개시한다. 바꾸어 말하면, 2개, 3개 또는 4개 등 원하는 만큼의 요소의 갯수는 우선 적층되어 접착제로 함께 본딩된다. 그리고 나서, 상기 적층은 주장착면(40)상에 장착된다. 와이어 본딩 상호접속이 이루어진 후 회로조립체는 반도체 패키지 내에 밀봉된다. 이러한 또다른 방법은 개별적인 다이가 각각 한번에 하나씩 캐리어 부재상에 장착되는 것보다 모든 다이가 캐리어 부재 상에 단일한 단계로 장착되는 효과가 있다.
본원에 기술된 본 발명의 실시예에서 여러 가지 변형된 형태는 본 발명의 범위내에 속하는 것으로 본 발명을 실시하는데 사용될 수 있음을 자명하다. 이하 특허청구의 범위는 본 발명의 범위를 한정하고, 이러한 특허청구의 범위의 기술적 사상 내에 속하는 구조 및 방법은 본 발명과 균등한 범위 내에 있다.
Claims (40)
- 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 제1표면에 배치된 적어도 하나의 전기 접점을 갖는 반도체 다이;실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 제1표면에 배치된 적어도 하나의 전기 접점을 갖는 제1기판 상호접속 매체로서, 그 위에 수동 회로만이 장착되어 있으며, 상기 반도체 다이 제1표면 상에 장착되고 그 제2표면에서 상기 반도체 다이 제1표면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 반도체 다이 전기 접점이 노출되도록 배치된 제1기판 상호접속 매체; 및 제1 및 제2단부를 지니고 있고, 상기 제1단부가 상기 기판 상호접속 매체 전기 접점에 접속되어 있는 미세 와이어 도체를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제1항에 있어서, 상기 미세 와이어 도체의 상기 제2단부는 상기 반도체 다이 전기 접점에 접속되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제1항에 있어서, 상기 회로조립체는 주장착면 및 다수의 전기 리드를 구비한 캐리어 부재를 더 포함하며, 상기 반도체 다이가 상기 주장착면 상에 장착되고, 그 제2표면에서 상기 주장착면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제3항에 있어서, 상기 미세 와이어 도체의 제2단부는 상기 다수의 전기 리드 중 하나에 접속되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1기판 상호접속 매체는 상기 반도체 다이 전기접점을 노출시키기 위하여 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면에서 상기 제1기판 상호접속 매체 제2표면으로 관통하여 연장된 홀을 구비하고, 상기 미세 와이어 도체는 상기 홀을 통하여 연장된 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제1항에 있어서, 상기 반도체 다이 및 상기 제1기판 상호접속 매체 사이에 배치되는 접착제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제3항에 있어서, 상기 주장착면 및 상기 반도체 다이 사이에 배치되는 접착제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제3항에 있어서, 상기 캐리어 부재는 리드 프레임을 포함하고, 상기 주장 착면은 다이 부착 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제1항에 있어서, 상기 회로조립체는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 표면들 중 하나에 배치된 적어도 하나의 전기 접점을 갖는 제1요소를 더 포함하며, 상기 제1요소는 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면 상에 장착되고 그 제2표면에서 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제3항에 있어서, 상기 회로조립체는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 갖는 제2요소를 더 포함하며, 상기 제2요소는 상기 주장착면에 장착되고, 상기 주장착면 및 상기 반도체 다이 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 제1표면에 배치된 적어도 하나의 전기 접점을 갖는 반도체 다이; 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 구비한 제1기판 상호접속 매체로서, 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면에 배치된 적어도 하나의 전기 접점을 구비하며, 상기 반도체 다이 제1표면 상에 장착되고 그 제2표면에서 상기 반도체 다이 제1표면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 반도체 다이 전기 접점을 노출시키기 위하여 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면에서 상기 제1기판 상호접속 매체 제2표면으로 관통하여 연장된 홀을 구비하는 제1기판 상호접속 매체; 및 제1 및 제2단부를 지니고 있고, 상기 제1단부가 상기 제1기판 상호접속 매체내의 상기 홀을 통하여 연장되고 상기 반도체 다이 전기 접점에 접속된, 미세 와이어 도체를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제11항에 있어서, 상기 미세 와이어 도체의 상기 제2단부는 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제11항에 있어서, 상기 회로조립체는 주장착면 및 다수의 전기 리드를 구비한 캐리어 부재를 더 포함하며, 상기 반도체 다이는 상기 주장착면 상에 장착되고, 그 제2표면에서 상기 주장착면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제13항에 있어서, 상기 미세 와이어 도체의 상기 제2단부는 상기 다수의 전기 리드 중 하나에 접속되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제11항에 있어서, 상기 반도체 다이 및 상기 제1기판 상호접속 매체 사이에 배치되는 접착제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제13항에 있어서, 상기 주장착면 및 상기 반도체 다이 사이에 배치되는 접착제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제13항에 있어서, 상기 캐리어 부재는 리드 프레임을 포함하고, 상기 주장착면은 다이 부착 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제13항에 있어서, 상기 회로조립체는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 갖는 제1요소를 더 포함하며, 상기 제1요소 제1표면 상에 적어도 하나의 전기 접점이 배치되고, 상기 제1요소는 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면 상에 장착되고 그 제2표면에서 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점이 노출되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제13항에 있어서, 상기 회로조립체는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 갖는 제2요소를 더 포함하며, 상기 제2요소는 상기 주장착면에 장착되고, 상기 주장착면 및 상기 반도체 다이 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 주장착면 및 다수의 전기리드를 지니는 캐리어 부재;실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 가진 반도체 다이로서, 상기 반도체 다이 제1표면에 배치된 적어도 하나의 전기 접점을 구비하고, 상기 캐리어 부재에 장착되고, 그 제2표면에서 상기 주장착면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되는 반도체 다이; 및 라인 경로 형성 및 라인 상호접속에 사용하기 위한 제1기판 상호접속 매체로서, 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 표면 중 하나 상에 배치된 적어도 하나의 전기 접점을 가지며, 상기 반도체 다이 제1표면 상에 장착되고 그 제2표면에서 상기 반도체 다이 제1표면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 반도체 다이 전기 접점이 노출되도록 배치된 제1기판 상호접속 매체를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제20항에 있어서, 제1 및 제2단부를 구비하고, 상기 제1단부가 상기 반도체 다이 전기 접점에 접속되어 있는 미세 와이어 도체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제21항에 있어서, 상기 미세 와이어 도체의 상기 제2단부가 상기 다수의 전기 리드 중 하나에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제21항에 있어서, 상기 제1기판 상호접속 매체의 상기 전기 접점은 상기 제1기판 상호접속 매체의 상기 제1면에 배치되고, 상기 미세 와이어 도체의 상기 제2단부는 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제20항에 있어서, 상기 제1기판 상호접속 매체는 상기 반도체 다이 전기 접점을 노출시키기 위하여 상기 제1표면에서 상기 제2표면으로 관통하여 연장된 홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제20항에 있어서, 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점은 상기 제1기판 상호접속 매체의 상기 제1표면에 배치되고, 상기 회로조립체는, 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 가진 제1요소로서, 상기 제1요소 제1표면에 적어도 하나의 전기 접점이 배치되고, 상기 제1요소는 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면 상에 장착되고 그 제2표면에서 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점이 노출되도록 배치된 제1요소를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 제20항에 있어서, 상기 회로조립체는 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 갖는 제2요소를 더 포함하며, 상기 제2요소는 상기 캐리어 부재에 장착되고, 상기 주장착면 및 상기 반도체 다이 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 회로조립체.
- 회로조립체 제조방법에 있어서, (a) 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 제1표면에 배치된 전기 접점을 구비한 반도체 다이를, 주장착면 및 다수의 전기 리드를 구비한 캐리어 부재상에 배치하는 단계로서, 상기 반도체 다이는 그 제2면에서 상기 주장착면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되는 단계;(b) 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2 표면을 가진 제1기판 상호접속 매체로서, 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면에 전기 접점이 배치된 제1기판 상호 접속 매체를, 상기 반도체 다이 제1표면 상에 배치하는 단계로서, 상기 제1기판 상호접속 매체는 그 제2표면에서 상기 반도체 다이에 의하여 적어도 부분적으로 지지되고, 상기 제1기판 상호접속 매체는 상기 반도체 다이 전기 접점을 노출시키기 위하여 상기 제1기판 상호접속 매체 제1표면으로부터 상기 제1기판 상호접속 매체 제2표면으로 관통하여 연장된 홀을 구비하는 단계; 및 (c) 상기 제1기판 상호접속 매체 내의 상기 홀을 통하여 제1미세 와이어 도체가 연장되도록 상기 제1미세 와이어 도체의 제1단부를 상기 반도체 다이 전기 접점에 접속하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제27항에 있어서, 상기 제1미세 와이어 도체의 제2단부를 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점에 접속하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제27항에 있어서, 단계 (a)가 수행되기 전에 상기 캐리어 부재의 상기 주장착면에 접착제를 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제27항에 있어서, 단계 (b)가 수행되기 전에 상기 반도체 다이의 상기 제1표면에 접착제를 도포하는 단계를 더 포함하는것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제27항에 있어서, 상기 제조방법이 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면을 가진 제1요소로서, 상기 제1요소 제1표면에 전기 접점이 배치된 제1요소를, 상기 제1기판 상호접속 매체의 상기 제1표면 상에 배치하는 단계를 더 포함하며, 상기 제1요소가 그 제2표면에서 상기 제1기판 상호접속 매체에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 제1요소가 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점이 노출되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제31항에 있어서, 제2미세 와이어 도체의 제1단부를 상기 제1요소 전기 접점에 접속하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 제1표면에 배치된 전기 접점을 갖는 반도체 다이 상에, 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과, 상기 제1표면에 배치된 전기 접점을 갖는 제1기판 상호접속 매체를 배치하는 단계로서, 상기 제1기판 상호접속 매체는 그 위에 수동 회로만이 장착되어 있으며, 그 제2표면에서 상기 반도체 다이 제1표면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 반도체 다이 전기 접점이 노출되도록 배치되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제33항에 있어서, 상기 제조방법은 상기 반도체 다이 및 상기 제1기판 상호접속 매체를, 주장착면 및 다수의 전기 리드를 구비한 캐리어 부재 상에 배치하는 단계를 더 포함하며, 상기 반도체 다이가 그 제2표면에서 상기 주장착면에 의하여 적어도 부분적으로 지지되는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제34항에 있어서, 제1미세 와이어 도체의 제1단부를 상기 전기 접점중의 하나에 접속하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제35항에 있어서, 상기 제1미세 와이어 도체의 제2단부를 상기 캐리어 부재 전기 리드 중의 하나에 접속하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제33항에 있어서, 상기 반도체 다이 및 상기 제1기판 상호접속 매체 사이에 접착제를 배치하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제34항에 있어서, 상기 캐리어 부재의 상기 주장착면 및 상기 반도체 다이 사이에 접착제를 배치하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제33항에 있어서, 상기 제조방법은 실질적으로 평행하고 반대로 향하는 제1 및 제2표면과 상기 제1표면에 배치된 전기 접점을 가진 제2요소를, 상기 제1기판 상호접속 매체의 상기 제1표면 상에 배치하는 단계를 더 포함하며, 상기 제2요소가 그 제2표면에서 상기 제1기판 상호접속 매체에 의하여 적어도 부분적으로 지지되며, 상기 제2요소가 상기 제1기판 상호접속 매체 전기 접점이 노출되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
- 제39항에 있어서, 제2미세 와이어 도체의 제1단부를 상기 제2요소 전기 접점에 접속하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로조립체 제조방법.
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Families Citing this family (337)
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JP3011510B2 (ja) * | 1990-12-20 | 2000-02-21 | 株式会社東芝 | 相互連結回路基板を有する半導体装置およびその製造方法 |
US5614766A (en) * | 1991-09-30 | 1997-03-25 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device with stacked alternate-facing chips |
US6295729B1 (en) * | 1992-10-19 | 2001-10-02 | International Business Machines Corporation | Angled flying lead wire bonding process |
US5657206A (en) * | 1994-06-23 | 1997-08-12 | Cubic Memory, Inc. | Conductive epoxy flip-chip package and method |
US5506753A (en) * | 1994-09-26 | 1996-04-09 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for a stress relieved electronic module |
JP3487524B2 (ja) * | 1994-12-20 | 2004-01-19 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置及びその製造方法 |
FR2732509B1 (fr) * | 1995-03-31 | 1997-06-13 | Sgs Thomson Microelectronics | Boitier de montage d'une puce de circuit integre |
US6005778A (en) * | 1995-06-15 | 1999-12-21 | Honeywell Inc. | Chip stacking and capacitor mounting arrangement including spacers |
US5886412A (en) | 1995-08-16 | 1999-03-23 | Micron Technology, Inc. | Angularly offset and recessed stacked die multichip device |
US5874781A (en) * | 1995-08-16 | 1999-02-23 | Micron Technology, Inc. | Angularly offset stacked die multichip device and method of manufacture |
US6884657B1 (en) | 1995-08-16 | 2005-04-26 | Micron Technology, Inc. | Angularly offset stacked die multichip device and method of manufacture |
US5721452A (en) * | 1995-08-16 | 1998-02-24 | Micron Technology, Inc. | Angularly offset stacked die multichip device and method of manufacture |
US5861666A (en) * | 1995-08-30 | 1999-01-19 | Tessera, Inc. | Stacked chip assembly |
US5818698A (en) * | 1995-10-12 | 1998-10-06 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for a chip-on-board semiconductor module |
US6014586A (en) * | 1995-11-20 | 2000-01-11 | Pacesetter, Inc. | Vertically integrated semiconductor package for an implantable medical device |
US5689135A (en) * | 1995-12-19 | 1997-11-18 | Micron Technology, Inc. | Multi-chip device and method of fabrication employing leads over and under processes |
US5777345A (en) * | 1996-01-03 | 1998-07-07 | Intel Corporation | Multi-chip integrated circuit package |
US5696031A (en) * | 1996-11-20 | 1997-12-09 | Micron Technology, Inc. | Device and method for stacking wire-bonded integrated circuit dice on flip-chip bonded integrated circuit dice |
US7166495B2 (en) | 1996-02-20 | 2007-01-23 | Micron Technology, Inc. | Method of fabricating a multi-die semiconductor package assembly |
US5952725A (en) * | 1996-02-20 | 1999-09-14 | Micron Technology, Inc. | Stacked semiconductor devices |
WO1997037374A2 (en) * | 1996-03-26 | 1997-10-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method of packaging multiple integrated circuit chips in a standard semiconductor device package |
US6169329B1 (en) * | 1996-04-02 | 2001-01-02 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor devices having interconnections using standardized bonding locations and methods of designing |
US6795120B2 (en) | 1996-05-17 | 2004-09-21 | Sony Corporation | Solid-state imaging apparatus and camera using the same |
US6784023B2 (en) | 1996-05-20 | 2004-08-31 | Micron Technology, Inc. | Method of fabrication of stacked semiconductor devices |
US5917242A (en) * | 1996-05-20 | 1999-06-29 | Micron Technology, Inc. | Combination of semiconductor interconnect |
US5817530A (en) * | 1996-05-20 | 1998-10-06 | Micron Technology, Inc. | Use of conductive lines on the back side of wafers and dice for semiconductor interconnects |
US6682954B1 (en) | 1996-05-29 | 2004-01-27 | Micron Technology, Inc. | Method for employing piggyback multiple die #3 |
US5723907A (en) * | 1996-06-25 | 1998-03-03 | Micron Technology, Inc. | Loc simm |
US5811879A (en) * | 1996-06-26 | 1998-09-22 | Micron Technology, Inc. | Stacked leads-over-chip multi-chip module |
US5982185A (en) * | 1996-07-01 | 1999-11-09 | Micron Technology, Inc. | Direct connect carrier for testing semiconductor dice and method of fabrication |
US6255833B1 (en) | 1997-03-04 | 2001-07-03 | Micron Technology, Inc. | Method for testing semiconductor dice and chip scale packages |
US6639416B1 (en) | 1996-07-02 | 2003-10-28 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing semiconductor dice |
US5929647A (en) * | 1996-07-02 | 1999-07-27 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing semiconductor dice |
US5748452A (en) * | 1996-07-23 | 1998-05-05 | International Business Machines Corporation | Multi-electronic device package |
DE19635582C1 (de) * | 1996-09-02 | 1998-02-19 | Siemens Ag | Leistungs-Halbleiterbauelement für Brückenschaltungen mit High- bzw. Low-Side-Schaltern |
US6250192B1 (en) * | 1996-11-12 | 2001-06-26 | Micron Technology, Inc. | Method for sawing wafers employing multiple indexing techniques for multiple die dimensions |
US6121676A (en) * | 1996-12-13 | 2000-09-19 | Tessera, Inc. | Stacked microelectronic assembly and method therefor |
US7149095B2 (en) * | 1996-12-13 | 2006-12-12 | Tessera, Inc. | Stacked microelectronic assemblies |
US6225688B1 (en) | 1997-12-11 | 2001-05-01 | Tessera, Inc. | Stacked microelectronic assembly and method therefor |
KR100226737B1 (ko) * | 1996-12-27 | 1999-10-15 | 구본준 | 반도체소자 적층형 반도체 패키지 |
DE19701165C1 (de) * | 1997-01-15 | 1998-04-09 | Siemens Ag | Chipkartenmodul |
US6399230B1 (en) | 1997-03-06 | 2002-06-04 | Sarnoff Corporation | Multilayer ceramic circuit boards with embedded resistors |
US5994166A (en) * | 1997-03-10 | 1999-11-30 | Micron Technology, Inc. | Method of constructing stacked packages |
US5815372A (en) * | 1997-03-25 | 1998-09-29 | Intel Corporation | Packaging multiple dies on a ball grid array substrate |
US6208018B1 (en) | 1997-05-29 | 2001-03-27 | Micron Technology, Inc. | Piggyback multiple dice assembly |
US5790384A (en) * | 1997-06-26 | 1998-08-04 | International Business Machines Corporation | Bare die multiple dies for direct attach |
US5905639A (en) * | 1997-09-29 | 1999-05-18 | Raytheon Company | Three-dimensional component stacking using high density multichip interconnect decals and three-bond daisy-chained wedge bonds |
US6441495B1 (en) * | 1997-10-06 | 2002-08-27 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device of stacked chips |
CA2218307C (en) * | 1997-10-10 | 2006-01-03 | Gennum Corporation | Three dimensional packaging configuration for multi-chip module assembly |
US5899705A (en) | 1997-11-20 | 1999-05-04 | Akram; Salman | Stacked leads-over chip multi-chip module |
JP3481444B2 (ja) * | 1998-01-14 | 2003-12-22 | シャープ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
US6207474B1 (en) | 1998-03-09 | 2001-03-27 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a stack of packaged memory die and resulting apparatus |
US6121679A (en) * | 1998-03-10 | 2000-09-19 | Luvara; John J. | Structure for printed circuit design |
US6310303B1 (en) | 1998-03-10 | 2001-10-30 | John J. Luvara | Structure for printed circuit design |
JP3077668B2 (ja) * | 1998-05-01 | 2000-08-14 | 日本電気株式会社 | 半導体装置、半導体装置用リードフレームおよびその製造方法 |
US6414391B1 (en) * | 1998-06-30 | 2002-07-02 | Micron Technology, Inc. | Module assembly for stacked BGA packages with a common bus bar in the assembly |
US6153929A (en) | 1998-08-21 | 2000-11-28 | Micron Technology, Inc. | Low profile multi-IC package connector |
US6313522B1 (en) | 1998-08-28 | 2001-11-06 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor structure having stacked semiconductor devices |
US6077724A (en) * | 1998-09-05 | 2000-06-20 | First International Computer Inc. | Multi-chips semiconductor package and fabrication method |
SG88741A1 (en) * | 1998-09-16 | 2002-05-21 | Texas Instr Singapore Pte Ltd | Multichip assembly semiconductor |
US6261865B1 (en) | 1998-10-06 | 2001-07-17 | Micron Technology, Inc. | Multi chip semiconductor package and method of construction |
TW368707B (en) * | 1998-10-27 | 1999-09-01 | Tech Field Co Ltd | Packaging method for semiconductor die and the product of the same |
US7157314B2 (en) | 1998-11-16 | 2007-01-02 | Sandisk Corporation | Vertically stacked field programmable nonvolatile memory and method of fabrication |
US5969783A (en) * | 1998-12-11 | 1999-10-19 | National Semiconductor Corporation | Reflective liquid crystal display and connection assembly and method |
DE19902462B4 (de) * | 1999-01-22 | 2004-02-05 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit Chip-on-Chip-Aufbau |
FR2788882A1 (fr) * | 1999-01-27 | 2000-07-28 | Schlumberger Systems & Service | Dispositif a circuits integres, module electronique pour carte a puce utilisant le dispositif et procede de fabrication dudit dispositif |
US6815251B1 (en) | 1999-02-01 | 2004-11-09 | Micron Technology, Inc. | High density modularity for IC's |
US6476499B1 (en) * | 1999-02-08 | 2002-11-05 | Rohm Co., | Semiconductor chip, chip-on-chip structure device and assembling method thereof |
US6043109A (en) * | 1999-02-09 | 2000-03-28 | United Microelectronics Corp. | Method of fabricating wafer-level package |
JP3662461B2 (ja) * | 1999-02-17 | 2005-06-22 | シャープ株式会社 | 半導体装置、およびその製造方法 |
US6498636B1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-12-24 | National Semiconductor Corporation | Apparatus and method for substantially stress-free electrical connection to a liquid crystal display |
JP4121665B2 (ja) * | 1999-04-19 | 2008-07-23 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体基板の接合方法 |
US6215193B1 (en) * | 1999-04-21 | 2001-04-10 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Multichip modules and manufacturing method therefor |
JP3575001B2 (ja) * | 1999-05-07 | 2004-10-06 | アムコー テクノロジー コリア インコーポレーティド | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
US6849480B1 (en) | 1999-05-07 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Surface mount IC stacking method and device |
JP3398721B2 (ja) | 1999-05-20 | 2003-04-21 | アムコー テクノロジー コリア インコーポレーティド | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
USRE40112E1 (en) | 1999-05-20 | 2008-02-26 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package and method for fabricating the same |
JP3304921B2 (ja) * | 1999-06-18 | 2002-07-22 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
DE19928733A1 (de) * | 1999-06-23 | 2001-01-04 | Giesecke & Devrient Gmbh | Halbleiterspeicher-Chipmodul |
US6453547B1 (en) * | 1999-11-10 | 2002-09-24 | Micron Technology, Inc. | Coupling spaced bond pads to a contact |
JP2001077301A (ja) * | 1999-08-24 | 2001-03-23 | Amkor Technology Korea Inc | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
US6212767B1 (en) * | 1999-08-31 | 2001-04-10 | Micron Technology, Inc. | Assembling a stacked die package |
KR100342589B1 (ko) | 1999-10-01 | 2002-07-04 | 김덕중 | 반도체 전력 모듈 및 그 제조 방법 |
US6316727B1 (en) * | 1999-10-07 | 2001-11-13 | United Microelectronics Corp. | Multi-chip semiconductor package |
JP3765952B2 (ja) | 1999-10-19 | 2006-04-12 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
JP2001127246A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-11 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
TW434854B (en) * | 1999-11-09 | 2001-05-16 | Advanced Semiconductor Eng | Manufacturing method for stacked chip package |
US6384890B1 (en) | 1999-11-15 | 2002-05-07 | National Semiconductor Corporation | Connection assembly for reflective liquid crystal projection with branched PCB display |
US6524890B2 (en) | 1999-11-17 | 2003-02-25 | Denso Corporation | Method for manufacturing semiconductor device having element isolation structure |
US6723620B1 (en) * | 1999-11-24 | 2004-04-20 | International Rectifier Corporation | Power semiconductor die attach process using conductive adhesive film |
KR20010064907A (ko) | 1999-12-20 | 2001-07-11 | 마이클 디. 오브라이언 | 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지 |
US6621155B1 (en) | 1999-12-23 | 2003-09-16 | Rambus Inc. | Integrated circuit device having stacked dies and impedance balanced transmission lines |
US6605875B2 (en) | 1999-12-30 | 2003-08-12 | Intel Corporation | Integrated circuit die having bond pads near adjacent sides to allow stacking of dice without regard to dice size |
US6414396B1 (en) * | 2000-01-24 | 2002-07-02 | Amkor Technology, Inc. | Package for stacked integrated circuits |
JP3768761B2 (ja) * | 2000-01-31 | 2006-04-19 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2001291822A (ja) | 2000-02-04 | 2001-10-19 | Seiko Epson Corp | 半導体チップの製造方法および半導体装置の製造方法、半導体チップ、半導体装置、接続用基板、電子機器 |
JP2001223324A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
NO20001360D0 (no) * | 2000-03-15 | 2000-03-15 | Thin Film Electronics Asa | Vertikale elektriske forbindelser i stabel |
JP3737333B2 (ja) * | 2000-03-17 | 2006-01-18 | 沖電気工業株式会社 | 半導体装置 |
KR100559664B1 (ko) | 2000-03-25 | 2006-03-10 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
CN1452786A (zh) * | 2000-04-17 | 2003-10-29 | 先进微装置公司 | 晶片背面的晶粒黏接材料的预先使用方法及封装组件 |
US6888750B2 (en) * | 2000-04-28 | 2005-05-03 | Matrix Semiconductor, Inc. | Nonvolatile memory on SOI and compound semiconductor substrates and method of fabrication |
US8575719B2 (en) | 2000-04-28 | 2013-11-05 | Sandisk 3D Llc | Silicon nitride antifuse for use in diode-antifuse memory arrays |
US7247932B1 (en) * | 2000-05-19 | 2007-07-24 | Megica Corporation | Chip package with capacitor |
US6321976B1 (en) * | 2000-05-22 | 2001-11-27 | Siliconware Precision Industries Co., Ltd. | Method of wire bonding for small clearance |
US6531784B1 (en) | 2000-06-02 | 2003-03-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package with spacer strips |
US6452278B1 (en) | 2000-06-30 | 2002-09-17 | Amkor Technology, Inc. | Low profile package for plural semiconductor dies |
US6258626B1 (en) * | 2000-07-06 | 2001-07-10 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Method of making stacked chip package |
US6333562B1 (en) * | 2000-07-13 | 2001-12-25 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Multichip module having stacked chip arrangement |
EP2988331B1 (en) | 2000-08-14 | 2019-01-09 | SanDisk Technologies LLC | Semiconductor memory device |
JP2002076248A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Oki Micro Design Co Ltd | マルチチップパッケージ |
JP2002076250A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP4570809B2 (ja) * | 2000-09-04 | 2010-10-27 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 積層型半導体装置及びその製造方法 |
US6552416B1 (en) | 2000-09-08 | 2003-04-22 | Amkor Technology, Inc. | Multiple die lead frame package with enhanced die-to-die interconnect routing using internal lead trace wiring |
JP3631120B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2005-03-23 | 沖電気工業株式会社 | 半導体装置 |
US6476474B1 (en) * | 2000-10-10 | 2002-11-05 | Siliconware Precision Industries Co., Ltd. | Dual-die package structure and method for fabricating the same |
US6900549B2 (en) | 2001-01-17 | 2005-05-31 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor assembly without adhesive fillets |
US7352199B2 (en) | 2001-02-20 | 2008-04-01 | Sandisk Corporation | Memory card with enhanced testability and methods of making and using the same |
US6472747B2 (en) * | 2001-03-02 | 2002-10-29 | Qualcomm Incorporated | Mixed analog and digital integrated circuits |
JP4780844B2 (ja) * | 2001-03-05 | 2011-09-28 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置 |
KR100401020B1 (ko) * | 2001-03-09 | 2003-10-08 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체칩의 스택킹 구조 및 이를 이용한 반도체패키지 |
US6897514B2 (en) * | 2001-03-28 | 2005-05-24 | Matrix Semiconductor, Inc. | Two mask floating gate EEPROM and method of making |
US6894398B2 (en) * | 2001-03-30 | 2005-05-17 | Intel Corporation | Insulated bond wire assembly for integrated circuits |
JP4091838B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2008-05-28 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
US6437449B1 (en) | 2001-04-06 | 2002-08-20 | Amkor Technology, Inc. | Making semiconductor devices having stacked dies with biased back surfaces |
JP3839323B2 (ja) * | 2001-04-06 | 2006-11-01 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置の製造方法 |
SG106054A1 (en) | 2001-04-17 | 2004-09-30 | Micron Technology Inc | Method and apparatus for package reduction in stacked chip and board assemblies |
US6828884B2 (en) * | 2001-05-09 | 2004-12-07 | Science Applications International Corporation | Phase change control devices and circuits for guiding electromagnetic waves employing phase change control devices |
DE10124774B4 (de) * | 2001-05-21 | 2016-05-25 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit zumindest einem Halbleiterchip auf einem als Substrat dienenden Basischip und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6531782B1 (en) | 2001-06-19 | 2003-03-11 | Cypress Semiconductor Corp. | Method of placing die to minimize die-to-die routing complexity on a substrate |
US6900528B2 (en) * | 2001-06-21 | 2005-05-31 | Micron Technology, Inc. | Stacked mass storage flash memory package |
US20030006494A1 (en) * | 2001-07-03 | 2003-01-09 | Lee Sang Ho | Thin profile stackable semiconductor package and method for manufacturing |
US20030006493A1 (en) * | 2001-07-04 | 2003-01-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
KR100567225B1 (ko) * | 2001-07-10 | 2006-04-04 | 삼성전자주식회사 | 칩 패드가 셀 영역 위에 형성된 집적회로 칩과 그 제조방법 및 멀티 칩 패키지 |
DE10231385B4 (de) * | 2001-07-10 | 2007-02-22 | Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon | Halbleiterchip mit Bondkontaktstellen und zugehörige Mehrchippackung |
US6563198B1 (en) * | 2001-08-01 | 2003-05-13 | Lsi Logic Corporation | Adhesive pad having EMC shielding characteristics |
US7126218B1 (en) | 2001-08-07 | 2006-10-24 | Amkor Technology, Inc. | Embedded heat spreader ball grid array |
US6841813B2 (en) * | 2001-08-13 | 2005-01-11 | Matrix Semiconductor, Inc. | TFT mask ROM and method for making same |
US6843421B2 (en) * | 2001-08-13 | 2005-01-18 | Matrix Semiconductor, Inc. | Molded memory module and method of making the module absent a substrate support |
US6525953B1 (en) | 2001-08-13 | 2003-02-25 | Matrix Semiconductor, Inc. | Vertically-stacked, field-programmable, nonvolatile memory and method of fabrication |
US6593624B2 (en) | 2001-09-25 | 2003-07-15 | Matrix Semiconductor, Inc. | Thin film transistors with vertically offset drain regions |
US6680219B2 (en) * | 2001-08-17 | 2004-01-20 | Qualcomm Incorporated | Method and apparatus for die stacking |
US20030048624A1 (en) * | 2001-08-22 | 2003-03-13 | Tessera, Inc. | Low-height multi-component assemblies |
KR20030018204A (ko) * | 2001-08-27 | 2003-03-06 | 삼성전자주식회사 | 스페이서를 갖는 멀티 칩 패키지 |
US20030042615A1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-03-06 | Tongbi Jiang | Stacked microelectronic devices and methods of fabricating same |
US20050156322A1 (en) * | 2001-08-31 | 2005-07-21 | Smith Lee J. | Thin semiconductor package including stacked dies |
US6787926B2 (en) * | 2001-09-05 | 2004-09-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Wire stitch bond on an integrated circuit bond pad and method of making the same |
US6613606B1 (en) * | 2001-09-17 | 2003-09-02 | Magic Corporation | Structure of high performance combo chip and processing method |
US6979894B1 (en) | 2001-09-27 | 2005-12-27 | Marvell International Ltd. | Integrated chip package having intermediate substrate |
US6555917B1 (en) | 2001-10-09 | 2003-04-29 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package having stacked semiconductor chips and method of making the same |
US6946323B1 (en) | 2001-11-02 | 2005-09-20 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package having one or more die stacked on a prepackaged device and method therefor |
US6624485B2 (en) | 2001-11-05 | 2003-09-23 | Matrix Semiconductor, Inc. | Three-dimensional, mask-programmed read only memory |
US7021520B2 (en) * | 2001-12-05 | 2006-04-04 | Micron Technology, Inc. | Stacked chip connection using stand off stitch bonding |
US6737750B1 (en) | 2001-12-07 | 2004-05-18 | Amkor Technology, Inc. | Structures for improving heat dissipation in stacked semiconductor packages |
JP3865055B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2007-01-10 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US20030127717A1 (en) * | 2002-01-09 | 2003-07-10 | Jen-Kuang Fang | Multi-chip stacking package |
US6896760B1 (en) * | 2002-01-16 | 2005-05-24 | Micron Technology, Inc. | Fabrication of stacked microelectronic devices |
US6770982B1 (en) * | 2002-01-16 | 2004-08-03 | Marvell International, Ltd. | Semiconductor device power distribution system and method |
US8258616B1 (en) | 2002-01-16 | 2012-09-04 | Marvell International Ltd. | Semiconductor dice having a shielded area created under bond wires connecting pairs of bonding pads |
US7211884B1 (en) | 2002-01-28 | 2007-05-01 | Pacesetter, Inc. | Implantable medical device construction using a flexible substrate |
US6982485B1 (en) * | 2002-02-13 | 2006-01-03 | Amkor Technology, Inc. | Stacking structure for semiconductor chips and a semiconductor package using it |
US8089142B2 (en) * | 2002-02-13 | 2012-01-03 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for a stacked-die interposer |
US6731011B2 (en) * | 2002-02-19 | 2004-05-04 | Matrix Semiconductor, Inc. | Memory module having interconnected and stacked integrated circuits |
US7198693B1 (en) * | 2002-02-20 | 2007-04-03 | Micron Technology, Inc. | Microelectronic device having a plurality of stacked dies and methods for manufacturing such microelectronic assemblies |
CN1937223A (zh) * | 2002-02-21 | 2007-03-28 | 松下电器产业株式会社 | 半导体装置 |
US7154171B1 (en) | 2002-02-22 | 2006-12-26 | Amkor Technology, Inc. | Stacking structure for semiconductor devices using a folded over flexible substrate and method therefor |
US6853049B2 (en) * | 2002-03-13 | 2005-02-08 | Matrix Semiconductor, Inc. | Silicide-silicon oxide-semiconductor antifuse device and method of making |
JP2003298204A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-17 | Fujitsu Ltd | 部品の実装構造 |
US7109588B2 (en) * | 2002-04-04 | 2006-09-19 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for attaching microelectronic substrates and support members |
JP3678212B2 (ja) * | 2002-05-20 | 2005-08-03 | ウシオ電機株式会社 | 超高圧水銀ランプ |
US6737675B2 (en) | 2002-06-27 | 2004-05-18 | Matrix Semiconductor, Inc. | High density 3D rail stack arrays |
JP4077261B2 (ja) * | 2002-07-18 | 2008-04-16 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
US7326594B2 (en) * | 2002-07-31 | 2008-02-05 | Microchip Technology Incorporated | Connecting a plurality of bond pads and/or inner leads with a single bond wire |
US7157790B2 (en) * | 2002-07-31 | 2007-01-02 | Microchip Technology Inc. | Single die stitch bonding |
US6765288B2 (en) * | 2002-08-05 | 2004-07-20 | Tessera, Inc. | Microelectronic adaptors, assemblies and methods |
US20050167817A1 (en) * | 2002-08-05 | 2005-08-04 | Tessera, Inc. | Microelectronic adaptors, assemblies and methods |
US6965160B2 (en) * | 2002-08-15 | 2005-11-15 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor dice packages employing at least one redistribution layer |
JP3576540B2 (ja) * | 2002-08-19 | 2004-10-13 | 沖電気工業株式会社 | マルチチップパッケージ |
JP3958156B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2007-08-15 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置 |
US6762472B2 (en) | 2002-08-30 | 2004-07-13 | Agilent Technologies, Inc. | Signal communication structures |
US6713856B2 (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-30 | Ultratera Corporation | Stacked chip package with enhanced thermal conductivity |
US6838761B2 (en) * | 2002-09-17 | 2005-01-04 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having wire bond interconnect between stacked packages and having electrical shield |
US7053476B2 (en) * | 2002-09-17 | 2006-05-30 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having package stacked over die-down flip chip ball grid array package and having wire bond interconnect between stacked packages |
US6972481B2 (en) * | 2002-09-17 | 2005-12-06 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module including stacked-die package and having wire bond interconnect between stacked packages |
US7064426B2 (en) * | 2002-09-17 | 2006-06-20 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having wire bond interconnect between stacked packages |
US20040061213A1 (en) * | 2002-09-17 | 2004-04-01 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having package stacked over die-up flip chip ball grid array package and having wire bond interconnect between stacked packages |
US7205647B2 (en) * | 2002-09-17 | 2007-04-17 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having package stacked over ball grid array package and having wire bond interconnect between stacked packages |
US7382043B2 (en) * | 2002-09-25 | 2008-06-03 | Maxwell Technologies, Inc. | Method and apparatus for shielding an integrated circuit from radiation |
US7034387B2 (en) * | 2003-04-04 | 2006-04-25 | Chippac, Inc. | Semiconductor multipackage module including processor and memory package assemblies |
EP1556895A4 (en) * | 2002-10-08 | 2009-12-30 | Chippac Inc | SEMICONDUCTOR STACKED MULTIPLE CAPSULATION MODULE WITH INVERTED SECOND CAPACITY |
US6989122B1 (en) * | 2002-10-17 | 2006-01-24 | National Semiconductor Corporation | Techniques for manufacturing flash-free contacts on a semiconductor package |
US6755700B2 (en) * | 2002-11-12 | 2004-06-29 | Modevation Enterprises Inc. | Reset speed control for watercraft |
US8129222B2 (en) * | 2002-11-27 | 2012-03-06 | United Test And Assembly Test Center Ltd. | High density chip scale leadframe package and method of manufacturing the package |
US6906406B2 (en) * | 2002-12-19 | 2005-06-14 | Freescale Semiconductor, Inc. | Multiple dice package |
ITMI20022767A1 (it) * | 2002-12-24 | 2004-06-25 | St Microelectronics Srl | Processo per realizzare un dispositivo a semiconduttore |
WO2004061861A2 (en) * | 2002-12-31 | 2004-07-22 | Matrix Semiconductor, Inc. | Nand memory array incorporating capacitance boosting of channel regions in unselected memory cells and method for operation of same |
US7005350B2 (en) | 2002-12-31 | 2006-02-28 | Matrix Semiconductor, Inc. | Method for fabricating programmable memory array structures incorporating series-connected transistor strings |
US7135780B2 (en) | 2003-02-12 | 2006-11-14 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor substrate for build-up packages |
US6879047B1 (en) | 2003-02-19 | 2005-04-12 | Amkor Technology, Inc. | Stacking structure for semiconductor devices using a folded over flexible substrate and method therefor |
US6879028B2 (en) * | 2003-02-21 | 2005-04-12 | Freescale Semiconductor, Inc. | Multi-die semiconductor package |
TWI225290B (en) * | 2003-03-21 | 2004-12-11 | Advanced Semiconductor Eng | Multi-chips stacked package |
US6984881B2 (en) * | 2003-06-16 | 2006-01-10 | Sandisk Corporation | Stackable integrated circuit package and method therefor |
US7309923B2 (en) * | 2003-06-16 | 2007-12-18 | Sandisk Corporation | Integrated circuit package having stacked integrated circuits and method therefor |
US7094633B2 (en) * | 2003-06-23 | 2006-08-22 | Sandisk Corporation | Method for efficiently producing removable peripheral cards |
US7191516B2 (en) * | 2003-07-16 | 2007-03-20 | Maxwell Technologies, Inc. | Method for shielding integrated circuit devices |
US7416132B2 (en) * | 2003-07-17 | 2008-08-26 | Sandisk Corporation | Memory card with and without enclosure |
JP2007531083A (ja) * | 2003-07-17 | 2007-11-01 | サンディスク コーポレイション | 隆起部を備えたメモリカード |
US20050013106A1 (en) * | 2003-07-17 | 2005-01-20 | Takiar Hem P. | Peripheral card with hidden test pins |
US20050011672A1 (en) * | 2003-07-17 | 2005-01-20 | Alawani Ashish D. | Overmolded MCM with increased surface mount component reliability |
US7144640B2 (en) * | 2003-08-01 | 2006-12-05 | Agency For Science, Technology And Research | Tilted media for hard disk drives and magnetic data storage devices |
US7368320B2 (en) * | 2003-08-29 | 2008-05-06 | Micron Technology, Inc. | Method of fabricating a two die semiconductor assembly |
US7019394B2 (en) | 2003-09-30 | 2006-03-28 | Intel Corporation | Circuit package and method of plating the same |
US8641913B2 (en) | 2003-10-06 | 2014-02-04 | Tessera, Inc. | Fine pitch microcontacts and method for forming thereof |
US7495179B2 (en) | 2003-10-06 | 2009-02-24 | Tessera, Inc. | Components with posts and pads |
DE10348620A1 (de) * | 2003-10-15 | 2005-06-02 | Infineon Technologies Ag | Halbleitermodul mit Gehäusedurchkontakten |
US6930378B1 (en) | 2003-11-10 | 2005-08-16 | Amkor Technology, Inc. | Stacked semiconductor die assembly having at least one support |
KR100621992B1 (ko) * | 2003-11-19 | 2006-09-13 | 삼성전자주식회사 | 이종 소자들의 웨이퍼 레벨 적층 구조와 방법 및 이를이용한 시스템-인-패키지 |
US7345361B2 (en) * | 2003-12-04 | 2008-03-18 | Intel Corporation | Stackable integrated circuit packaging |
US7221588B2 (en) | 2003-12-05 | 2007-05-22 | Sandisk 3D Llc | Memory array incorporating memory cells arranged in NAND strings |
US7023739B2 (en) | 2003-12-05 | 2006-04-04 | Matrix Semiconductor, Inc. | NAND memory array incorporating multiple write pulse programming of individual memory cells and method for operation of same |
WO2005059967A2 (en) * | 2003-12-17 | 2005-06-30 | Chippac, Inc. | Multiple chip package module having inverted package stacked over die |
US7989940B2 (en) * | 2003-12-19 | 2011-08-02 | Tessera, Inc. | System and method for increasing the number of IO-s on a ball grid package by wire bond stacking of same size packages through apertures |
US7709968B2 (en) * | 2003-12-30 | 2010-05-04 | Tessera, Inc. | Micro pin grid array with pin motion isolation |
TW200536089A (en) * | 2004-03-03 | 2005-11-01 | United Test & Assembly Ct Ltd | Multiple stacked die window csp package and method of manufacture |
US7245021B2 (en) * | 2004-04-13 | 2007-07-17 | Vertical Circuits, Inc. | Micropede stacked die component assembly |
US7215018B2 (en) | 2004-04-13 | 2007-05-08 | Vertical Circuits, Inc. | Stacked die BGA or LGA component assembly |
US7705432B2 (en) * | 2004-04-13 | 2010-04-27 | Vertical Circuits, Inc. | Three dimensional six surface conformal die coating |
US7382056B2 (en) * | 2004-04-29 | 2008-06-03 | Sychip Inc. | Integrated passive devices |
US20050242425A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Leal George R | Semiconductor device with a protected active die region and method therefor |
US20050269692A1 (en) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Chippac, Inc | Stacked semiconductor package having adhesive/spacer structure and insulation |
US8552551B2 (en) * | 2004-05-24 | 2013-10-08 | Chippac, Inc. | Adhesive/spacer island structure for stacking over wire bonded die |
US20050258527A1 (en) * | 2004-05-24 | 2005-11-24 | Chippac, Inc. | Adhesive/spacer island structure for multiple die package |
US7253511B2 (en) * | 2004-07-13 | 2007-08-07 | Chippac, Inc. | Semiconductor multipackage module including die and inverted land grid array package stacked over ball grid array package |
US7187068B2 (en) * | 2004-08-11 | 2007-03-06 | Intel Corporation | Methods and apparatuses for providing stacked-die devices |
US7419852B2 (en) * | 2004-08-27 | 2008-09-02 | Micron Technology, Inc. | Low temperature methods of forming back side redistribution layers in association with through wafer interconnects, semiconductor devices including same, and assemblies |
US20060051912A1 (en) * | 2004-09-09 | 2006-03-09 | Ati Technologies Inc. | Method and apparatus for a stacked die configuration |
TWI268431B (en) * | 2004-10-21 | 2006-12-11 | Via Tech Inc | Integrated structure with CPU and north bridge chip |
US7301242B2 (en) * | 2004-11-04 | 2007-11-27 | Tabula, Inc. | Programmable system in package |
KR100843137B1 (ko) * | 2004-12-27 | 2008-07-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 패키지 |
US7884454B2 (en) * | 2005-01-05 | 2011-02-08 | Alpha & Omega Semiconductor, Ltd | Use of discrete conductive layer in semiconductor device to re-route bonding wires for semiconductor device package |
US7898092B2 (en) * | 2007-11-21 | 2011-03-01 | Alpha & Omega Semiconductor, | Stacked-die package for battery power management |
TWI249831B (en) * | 2005-02-21 | 2006-02-21 | Touch Micro System Tech | Chip type micro connector and method of packaging the sane |
JP4808979B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2011-11-02 | 株式会社リコー | マルチチップ型半導体装置及びその製造方法 |
WO2006118720A2 (en) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Stats Chippac Ltd. | Semiconductor assembly including chip scale package and second substrate and having exposed substrate surfaces on upper and lower sides |
US7364945B2 (en) * | 2005-03-31 | 2008-04-29 | Stats Chippac Ltd. | Method of mounting an integrated circuit package in an encapsulant cavity |
US7372141B2 (en) * | 2005-03-31 | 2008-05-13 | Stats Chippac Ltd. | Semiconductor stacked package assembly having exposed substrate surfaces on upper and lower sides |
US8022522B1 (en) | 2005-04-01 | 2011-09-20 | Marvell International Ltd. | Semiconductor package |
US7326592B2 (en) * | 2005-04-04 | 2008-02-05 | Infineon Technologies Ag | Stacked die package |
US20060254815A1 (en) * | 2005-04-26 | 2006-11-16 | Humphrey Thomas W | Radiofrequency identification shielding |
US7429786B2 (en) * | 2005-04-29 | 2008-09-30 | Stats Chippac Ltd. | Semiconductor package including second substrate and having exposed substrate surfaces on upper and lower sides |
US7354800B2 (en) | 2005-04-29 | 2008-04-08 | Stats Chippac Ltd. | Method of fabricating a stacked integrated circuit package system |
US7582960B2 (en) * | 2005-05-05 | 2009-09-01 | Stats Chippac Ltd. | Multiple chip package module including die stacked over encapsulated package |
US20060267173A1 (en) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Sandisk Corporation | Integrated circuit package having stacked integrated circuits and method therefor |
US7394148B2 (en) * | 2005-06-20 | 2008-07-01 | Stats Chippac Ltd. | Module having stacked chip scale semiconductor packages |
FR2888460B1 (fr) * | 2005-07-08 | 2010-12-24 | Valeo Vision | Dispositif d'eclairage et/ou de signalisation pour vehicule, associe a une electronique de haut niveau d'integration |
SG130055A1 (en) | 2005-08-19 | 2007-03-20 | Micron Technology Inc | Microelectronic devices, stacked microelectronic devices, and methods for manufacturing microelectronic devices |
DE102005049978A1 (de) | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Infineon Technologies Ag | Schaltungsanordnung für Tiefsetzsteller und Verfahren zur Herstellung eines Leistungs-Halbleiterbauelements |
US7429785B2 (en) * | 2005-10-19 | 2008-09-30 | Littelfuse, Inc. | Stacked integrated circuit chip assembly |
US7576995B2 (en) | 2005-11-04 | 2009-08-18 | Entorian Technologies, Lp | Flex circuit apparatus and method for adding capacitance while conserving circuit board surface area |
JP2007134486A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Toshiba Corp | 積層型半導体装置及びその製造方法 |
US20070135055A1 (en) * | 2005-12-13 | 2007-06-14 | Ho Lee S | Combination quad flat no-lead and thin small outline package |
US7456088B2 (en) | 2006-01-04 | 2008-11-25 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including stacked die |
US7768125B2 (en) * | 2006-01-04 | 2010-08-03 | Stats Chippac Ltd. | Multi-chip package system |
US7605454B2 (en) | 2006-01-11 | 2009-10-20 | Entorian Technologies, Lp | Memory card and method for devising |
US7508069B2 (en) | 2006-01-11 | 2009-03-24 | Entorian Technologies, Lp | Managed memory component |
US7304382B2 (en) | 2006-01-11 | 2007-12-04 | Staktek Group L.P. | Managed memory component |
US7508058B2 (en) | 2006-01-11 | 2009-03-24 | Entorian Technologies, Lp | Stacked integrated circuit module |
US7608920B2 (en) | 2006-01-11 | 2009-10-27 | Entorian Technologies, Lp | Memory card and method for devising |
US7750482B2 (en) * | 2006-02-09 | 2010-07-06 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including zero fillet resin |
US8704349B2 (en) * | 2006-02-14 | 2014-04-22 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with exposed interconnects |
US7675180B1 (en) | 2006-02-17 | 2010-03-09 | Amkor Technology, Inc. | Stacked electronic component package having film-on-wire spacer |
SG135066A1 (en) | 2006-02-20 | 2007-09-28 | Micron Technology Inc | Semiconductor device assemblies including face-to-face semiconductor dice, systems including such assemblies, and methods for fabricating such assemblies |
TWI309079B (en) * | 2006-04-21 | 2009-04-21 | Advanced Semiconductor Eng | Stackable semiconductor package |
US7633144B1 (en) | 2006-05-24 | 2009-12-15 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package |
DE102006026023A1 (de) * | 2006-06-01 | 2007-12-06 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit Halbleiterchipstapel und Kunststoffgehäuse sowie Verfahren zur Herstellung des Halbleiterbauteils |
US9202776B2 (en) * | 2006-06-01 | 2015-12-01 | Stats Chippac Ltd. | Stackable multi-chip package system |
JP2008034567A (ja) | 2006-07-27 | 2008-02-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
US7592691B2 (en) * | 2006-09-01 | 2009-09-22 | Micron Technology, Inc. | High density stacked die assemblies, structures incorporated therein and methods of fabricating the assemblies |
US8013332B2 (en) * | 2006-10-20 | 2011-09-06 | Sandisk Technologies Inc. | Portable memory devices |
US7468553B2 (en) | 2006-10-20 | 2008-12-23 | Entorian Technologies, Lp | Stackable micropackages and stacked modules |
US7928010B2 (en) * | 2006-10-20 | 2011-04-19 | Sandisk Corporation | Method for producing portable memory devices |
TWI324817B (en) * | 2006-12-20 | 2010-05-11 | Advanced Semiconductor Eng | Multiple chip package |
US8252615B2 (en) * | 2006-12-22 | 2012-08-28 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system employing mold flash prevention technology |
DE102007005862A1 (de) * | 2007-02-06 | 2008-08-14 | Siemens Audiologische Technik Gmbh | Schaltungsvorrichtung mit bebondetem SMD-Bauteil |
US8922028B2 (en) * | 2007-02-13 | 2014-12-30 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor package |
JP4751351B2 (ja) * | 2007-02-20 | 2011-08-17 | 株式会社東芝 | 半導体装置とそれを用いた半導体モジュール |
US9466545B1 (en) | 2007-02-21 | 2016-10-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package in package |
JP5143451B2 (ja) * | 2007-03-15 | 2013-02-13 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | 半導体装置及びその製造方法 |
TWI369774B (en) * | 2007-05-15 | 2012-08-01 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Multi-chip semiconductor device having leads and method for fabricating the same |
US8852986B2 (en) * | 2007-05-16 | 2014-10-07 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system employing resilient member mold system technology |
TWI368956B (en) | 2007-08-10 | 2012-07-21 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Multichip stack structure and method for fabricating the same |
US8299626B2 (en) | 2007-08-16 | 2012-10-30 | Tessera, Inc. | Microelectronic package |
KR101388538B1 (ko) | 2007-09-28 | 2014-04-23 | 테세라, 인코포레이티드 | 이중 포스트를 사용하여 플립칩 상호연결한 마이크로전자 어셈블리 |
JP4912275B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2012-04-11 | 新光電気工業株式会社 | 半導体パッケージ |
US8399973B2 (en) * | 2007-12-20 | 2013-03-19 | Mosaid Technologies Incorporated | Data storage and stackable configurations |
US7919845B2 (en) * | 2007-12-20 | 2011-04-05 | Xilinx, Inc. | Formation of a hybrid integrated circuit device |
US7791175B2 (en) * | 2007-12-20 | 2010-09-07 | Mosaid Technologies Incorporated | Method for stacking serially-connected integrated circuits and multi-chip device made from same |
US8594110B2 (en) | 2008-01-11 | 2013-11-26 | Mosaid Technologies Incorporated | Ring-of-clusters network topologies |
KR101458954B1 (ko) * | 2008-01-17 | 2014-11-07 | 삼성전자주식회사 | 재배선층을 갖는 반도체 패키지 장치 |
US8354742B2 (en) * | 2008-03-31 | 2013-01-15 | Stats Chippac, Ltd. | Method and apparatus for a package having multiple stacked die |
US7968373B2 (en) * | 2008-05-02 | 2011-06-28 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package on package system |
CN101615587A (zh) * | 2008-06-27 | 2009-12-30 | 桑迪士克股份有限公司 | 半导体装置中的导线层叠式缝线接合 |
US8399974B1 (en) | 2008-07-10 | 2013-03-19 | Henkel Corporation | Methods of dicing stacked shingled strip constructions to form stacked die packages |
JP2010021449A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
US8102666B2 (en) * | 2008-08-19 | 2012-01-24 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system |
KR100994209B1 (ko) * | 2008-12-15 | 2010-11-12 | 삼성전기주식회사 | 반도체 적층 패키지 |
US8304884B2 (en) * | 2009-03-11 | 2012-11-06 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device including spacer element |
US8476749B2 (en) * | 2009-07-22 | 2013-07-02 | Oracle America, Inc. | High-bandwidth ramp-stack chip package |
JP5218319B2 (ja) * | 2009-07-27 | 2013-06-26 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体基板 |
US8164199B2 (en) * | 2009-07-31 | 2012-04-24 | Alpha and Omega Semiconductor Incorporation | Multi-die package |
US9257375B2 (en) | 2009-07-31 | 2016-02-09 | Alpha and Omega Semiconductor Inc. | Multi-die semiconductor package |
US20110108974A1 (en) * | 2009-11-06 | 2011-05-12 | Mediatek Inc. | Power and signal distribution of integrated circuits |
JP2013528324A (ja) * | 2010-06-08 | 2013-07-08 | モサイド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | ピラー接続を有するマルチチップパッケージ |
TWI409933B (zh) * | 2010-06-15 | 2013-09-21 | Powertech Technology Inc | 晶片堆疊封裝結構及其製法 |
US8330272B2 (en) | 2010-07-08 | 2012-12-11 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages with dual or multiple-etched flip-chip connectors |
US8580607B2 (en) | 2010-07-27 | 2013-11-12 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages with nanoparticle joining |
JP2010278466A (ja) * | 2010-08-13 | 2010-12-09 | Oki Semiconductor Co Ltd | 半導体装置 |
KR20120024099A (ko) * | 2010-09-06 | 2012-03-14 | 삼성전자주식회사 | 멀티-칩 패키지 및 그의 제조 방법 |
US8853558B2 (en) | 2010-12-10 | 2014-10-07 | Tessera, Inc. | Interconnect structure |
KR20120096754A (ko) * | 2011-02-23 | 2012-08-31 | 삼성전자주식회사 | 인터포저를 이용한 웨이퍼 칩의 3차원 스택 구조 |
KR20130005465A (ko) * | 2011-07-06 | 2013-01-16 | 삼성전자주식회사 | 반도체 스택 패키지 장치 |
US8872318B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-10-28 | Tessera, Inc. | Through interposer wire bond using low CTE interposer with coarse slot apertures |
TWI481001B (zh) * | 2011-09-09 | 2015-04-11 | Dawning Leading Technology Inc | 晶片封裝結構及其製造方法 |
US8723327B2 (en) | 2011-10-20 | 2014-05-13 | Invensas Corporation | Microelectronic package with stacked microelectronic units and method for manufacture thereof |
US9082632B2 (en) | 2012-05-10 | 2015-07-14 | Oracle International Corporation | Ramp-stack chip package with variable chip spacing |
JP5959097B2 (ja) | 2012-07-03 | 2016-08-02 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP6017901B2 (ja) | 2012-09-14 | 2016-11-02 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置および計測装置 |
US9209080B2 (en) * | 2012-12-14 | 2015-12-08 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device comprising a protective structure on a chip backside and method of producing the same |
US9627395B2 (en) | 2015-02-11 | 2017-04-18 | Sandisk Technologies Llc | Enhanced channel mobility three-dimensional memory structure and method of making thereof |
JP6364543B2 (ja) * | 2015-03-30 | 2018-07-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US9971970B1 (en) | 2015-04-27 | 2018-05-15 | Rigetti & Co, Inc. | Microwave integrated quantum circuits with VIAS and methods for making the same |
US10886250B2 (en) | 2015-07-10 | 2021-01-05 | Invensas Corporation | Structures and methods for low temperature bonding using nanoparticles |
US9633971B2 (en) | 2015-07-10 | 2017-04-25 | Invensas Corporation | Structures and methods for low temperature bonding using nanoparticles |
US9478495B1 (en) | 2015-10-26 | 2016-10-25 | Sandisk Technologies Llc | Three dimensional memory device containing aluminum source contact via structure and method of making thereof |
JP6463317B2 (ja) * | 2016-09-29 | 2019-01-30 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置および計測装置 |
US10153221B1 (en) * | 2017-06-13 | 2018-12-11 | Micron Technology, Inc. | Face down dual sided chip scale memory package |
US11121301B1 (en) | 2017-06-19 | 2021-09-14 | Rigetti & Co, Inc. | Microwave integrated quantum circuits with cap wafers and their methods of manufacture |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01235363A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH03165550A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-17 | Hitachi Cable Ltd | 高実装密度型半導体装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4192565A (en) * | 1976-10-28 | 1980-03-11 | Richard Gianni | Multi-level socket for an integrated circuit |
JPS5655067A (en) * | 1979-10-11 | 1981-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
US4320438A (en) * | 1980-05-15 | 1982-03-16 | Cts Corporation | Multi-layer ceramic package |
US4296456A (en) * | 1980-06-02 | 1981-10-20 | Burroughs Corporation | Electronic package for high density integrated circuits |
JPS61108160A (ja) * | 1984-11-01 | 1986-05-26 | Nec Corp | コンデンサ内蔵型半導体装置及びその製造方法 |
JPS6370532A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPS6428856A (en) * | 1987-07-23 | 1989-01-31 | Mitsubishi Electric Corp | Multilayered integrated circuit |
US5012323A (en) * | 1989-11-20 | 1991-04-30 | Micron Technology, Inc. | Double-die semiconductor package having a back-bonded die and a face-bonded die interconnected on a single leadframe |
JPH03225932A (ja) * | 1990-01-31 | 1991-10-04 | Kawasaki Steel Corp | Icチップ |
US5291061A (en) * | 1993-04-06 | 1994-03-01 | Micron Semiconductor, Inc. | Multi-chip stacked devices |
US5294826A (en) * | 1993-04-16 | 1994-03-15 | Northern Telecom Limited | Integrated circuit package and assembly thereof for thermal and EMI management |
-
1992
- 1992-05-22 US US07/887,774 patent/US5422435A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-05-17 DE DE69325749T patent/DE69325749T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-17 EP EP93303792A patent/EP0575051B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-21 KR KR1019930008810A patent/KR100282285B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-05-24 JP JP12101693A patent/JP3356821B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-03-13 US US08/403,061 patent/US5502289A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-05 US US08/462,812 patent/US5495398A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01235363A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH03165550A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-17 | Hitachi Cable Ltd | 高実装密度型半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69325749T2 (de) | 2000-02-17 |
JPH0637250A (ja) | 1994-02-10 |
US5495398A (en) | 1996-02-27 |
JP3356821B2 (ja) | 2002-12-16 |
EP0575051A1 (en) | 1993-12-22 |
EP0575051B1 (en) | 1999-07-28 |
DE69325749D1 (de) | 1999-09-02 |
US5502289A (en) | 1996-03-26 |
KR930024145A (ko) | 1993-12-22 |
US5422435A (en) | 1995-06-06 |
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