JP5868971B2 - 金属錯体 - Google Patents

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Description

本発明は、有機エレクトロルミネセンスデバイスにおけるエミッターとしての使用に適する金属錯体に関する。
有機半導体が機能材料として使用される有機エレクトロルミネセンスデバイス(OLED)の構造は、たとえば、US 4539507、US 5151629、EP 0676461およびWO 98/27136に記載されている。ここで使用される発光材料は、ますます、蛍光ではなくリン光を示す有機金属錯体となっている(M.A.Baldoら、Appl.Phys.Lett.1999、75、4〜6)。量子力学的理由のため、リン光エミッターとして有機金属化合物を用いて、4倍までのエネルギーおよび電力効率が可能である。一般に、3重項発光を示すOLEDの改善が、特に、効率、駆動電圧および寿命に関して、依然として求められている。
先行技術は、リガンドとしてイミダゾフェナントリジン誘導体またはジイミダゾキナゾリン誘導体を含有するイリジウム錯体を開示する(WO 2007/095118)。有機エレクトロルミネセンスデバイスに用いられた場合、これらの錯体は、特に、青色および緑色のリン光を示す。ここでは、効率、駆動電圧および寿命の点で、依然として、更なる改善が望ましい。更に、この場合、黄色、オレンジ色または赤色発光を実現できるように、特に、色座標に関して、依然として改善が求められている。
WO 2010/086089は、リガンドとしてイミダゾイソキノリン誘導体を含有する金属錯体を開示する。このタイプの錯体を用いて、3重項エミッター、特に、青色発光を示す3重項エミッターの開発において、素晴らしい前進がすでに達成されている。しかし、ここでは、効率、駆動電圧および寿命に関して、やはり依然として更なる改善が望ましい。特に、この場合、このタイプの構造体を用いる緑色、黄色、オレンジ色または赤色の発光を実現できるように、色座標に関して、依然として改善が求められている。
したがって、本発明の目的は、OLEDに使用されるエミッターとして適切である新規金属錯体の提供である。特に、その目的は、緑色−、黄色−、オレンジ色−または赤色−蛍光OLEDに適しており、同時に、効率、駆動電圧、寿命および色座標に関して良好な特性を示すエミッターを提供することである。
驚くべきことに、以下でより詳細に記載される特定の金属キレート錯体は、この目的を達成し、結果として、有機エレクトロルミネセンスデバイスが改善されることが見出された。これらの金属錯体は、高収率で入手可能である。それゆえに、本発明は、これらの金属錯体、およびこれらの金属錯体を含む有機エレクトロルミネセンスデバイスに関する。
したがって、本発明は、式(1)の化合物に関し、
M(L)n(L’)m 式(1)
式中、一般式(1)の化合物は、式(2)の部分構造M(L)nを含有する:
Figure 0005868971
式中、使用された記号および添え字には以下が適用される:
Mは、金属であり;
Yは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、CまたはNであり、但し、各リガンドにおいて正確に1つの記号YはNを表し、その他の2つの記号YはCを表すことを条件とし;
Xは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、CRまたはNであり;
Rは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、Cl、Br、I、N(R12、CN、NO2、OH、COOH、C(=O)N(R12、Si(R13、B(OR12、C(=O)R1、P(=O)(R12、S(=O)R1、S(=O)21、OSO21、1〜20個のC原子を有する直鎖のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基、または2〜20個のC原子を有するアルケニルもしくはアルキニル基、または3〜20個のC原子を有する分枝もしくは環状のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基(これらの各々は、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)(ここで、1以上の隣接していないCH2基は、R1C=CR1、C≡C、Si(R12、C=O、NR1、O、SまたはCONR1により置きかえられていてもよく、1以上のH原子は、D、F、Cl、Br、IまたはCNにより置きかえられていてもよい)、または5〜60個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)、または5〜40個の芳香族環原子を有するアリールオキシもしくはヘテロアリールオキシ基(これは、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)、または5から40個の芳香族環原子を有するアラルキルもしくはヘテロアラルキル基(これは、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)、または10〜40個の芳香族環原子を有するジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基もしくはアリールヘテロアリールアミノ基(これは、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)であり;ここで2個の隣接するラジカルRは、互いに、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよく;
1は、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、Cl、Br、I、N(R22、CN、NO2、Si(R23、B(OR22、C(=O)R2、P(=O)(R22、S(=O)R2、S(=O)22、OSO22、1〜20個のC原子を有する直鎖のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基、または2〜20個のC原子を有するアルケニルもしくはアルキニル基、または3〜20個のC原子を有する分枝もしくは環状のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基(これらの各々は、1以上のラジカルR2により置換されていてもよい)(ここで、1以上の隣接していないCH2基は、R2C=CR2、C≡C、Si(R22、C=O、NR2、O、SまたはCONR2により置きかえられていてもよく、1以上のH原子は、D、F、Cl、Br、I、CNまたはNO2により置きかえられていてもよい)、または5〜60個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR2により置換されていてもよい)、または5〜40個の芳香族環原子を有するアリールオキシもしくはヘテロアリールオキシ基(これは、1以上のラジカルR2により置換されていてもよい)、または5から40個の芳香族環原子を有するアラルキルもしくはヘテロアラルキル基(これは、1以上のラジカルR2により置換されていてもよい)、または10〜40個の芳香族環原子を有するジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基もしくはアリールヘテロアリールアミノ基(これは、1以上のラジカルR2により置換されていてもよい)であり;ここで2個以上の隣接するラジカルR1は、互いに、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよく;
2は、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、または1〜20個のC原子を有する脂肪族、芳香族および/またはヘテロ芳香族の炭化水素ラジカル(ここで更に、1以上のH原子は、Fにより置きかえられていてもよい)であり;ここで2個以上の置換基R2は、互いに、単環または多環式の脂肪族環系を形成していてもよく;
L’は、出現するごとに同一であるかまたは異なり、任意の所望のコリガンドであり;
nは、1、2または3であり;
mは、0、1、2、3または4であり;
ここで複数のリガンドLは、互いに連結されていてもよいし、またはLは、単結合または任意の所望の架橋Vを介してL’に連結されることにより三座、四座、五座または六座配位子系を形成していてもよく、および/または置換基Rは、前記金属に更に配位結合されてもよく;
以下の2つの化合物は本発明から除外される:
Figure 0005868971
式(2)の部分構造における5員環内の円は、それが、6個のπ電子を有するヘテロ芳香族基であることを示す。ここで、窒素は、2個のπ電子を与え、炭素および基Yの各々が、それぞれ、全体としてのπ電子系に1個のπ電子を与える。
式(1)の錯体において、添え字nおよびmは、金属Mへの配位数が、金属に応じて、この金属の通常の配位数に全体として一致するように選択される。これは、通常、遷移金属では、金属に応じて、配位数4、5または6である。金属配位化合物は、金属および金属の酸化状態に応じて、様々な配位数を有する、すなわち、様々な数のリガンドを結合することが一般に知られている。様々な酸化状態における金属および金属イオンの好ましい配位数は、有機金属化学または配位化学の分野における当業者の一般的専門知識に属するので、金属およびその酸化状態に応じて、またリガンドLの正確な構造に応じて、適切な数のリガンドを用いること、および、このようにして添え字nおよびmを適切に選択することは当業者に容易に可能である。
本発明の意味においてアリール基は、6〜40個のC原子を含有し;本発明の意味においてヘテロアリール基は、2〜40個のC原子、および少なくとも1個のヘテロ原子を含有するが、但し、C原子とヘテロ原子の合計は少なくとも5個であることを条件とする。ヘテロ原子は、好ましくは、N、Oおよび/またはSから選択される。ここでは、アリール基またはヘテロアリール基は、単純な芳香族環、すなわち、ベンゼン、もしくは単純なヘテロ芳香族環、たとえば、ピリジン、ピリミジン、チオフェンなど、または縮合アリールもしくはヘテロアリール基、たとえば、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、キノリン、イソキノリンなどのいずれかを意味するとみなされる。
本発明の意味において芳香族環系は、環系に6〜60個のC原子を含有する。本発明の意味においてヘテロ芳香族環系は、環系に、1〜60個のC原子、および少なくとも1個のヘテロ原子を含有するが、但し、C原子とヘテロ原子の合計は少なくとも5個であることを条件とする。ヘテロ原子は、好ましくは、N、Oおよび/またはSから選択される。本発明の意味において芳香族またはヘテロ芳香族環系は、必ずしもアリールまたはヘテロアリール基のみを含有するとは限らず、代わりに、更に、複数のアリールまたはヘテロアリール基に、非芳香族単位(好ましくは、H以外の原子の10%未満)、たとえば、C、N、OもしくはSi原子またはカルボニル基が介在していてもよい系を意味するとみなされることを意図する。よって、たとえば、たとえば、9,9’−スピロビフルオレン、9,9−ジアリールフルオレン、トリアリールアミン、ジアリールエーテル、スチルベンなどの系もまた、本発明の目的では、芳香族環系であるとみなされることを意図し、2つ以上のアリール基に、たとえば、直鎖もしくは環状アルキル基、またはシリル基が介在している系も同様である。更に、2つ以上のアリールまたはヘテロアリール基が互いに直接結合している系、たとえば、ビフェニルまたはテルフェニルも、同じく、芳香族またはヘテロ芳香族環系であるとみなされることを意図する。
本発明の意味においてアラルキル基は、上記の定義に従う少なくとも一つのアリールまたはヘテロアリール基によって置換されたアルキル基である。
本発明の意味において環状のアルキル、アルコキシまたはチオアルコキシ基は、単環、2環または多環式の基を意味するとみなされる。
本発明の目的では、C1−〜C40−アルキル基は、更に、個々のH原子またはCH2基が前記の基によって置換されていてもよく、たとえば、次のラジカル、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、2−メチルブチル、n−ペンチル、s−ペンチル、tert−ペンチル、2−ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、n−へキシル、s−ヘキシル、tert−へキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、ネオへキシル、シクロヘキシル、1−メチルシクロペンチル、2−メチルペンチル、n−へプチル、2−へプチル、3−へプチル、4−へプチル、シクロへプチル、1−メチルシクロヘキシル、n−オクチル、2−エチルへキシル、シクロオクチル、1−ビシクロ[2.2.2]オクチル、2−ビシクロ[2.2.2]オクチル、2−(2,6−ジメチル)オクチル、3−(3,7−ジメチル)オクチル、アダマンチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチルまたは2,2,2−トリフルオロエチルを意味するとみなされる。アルケニル基は、たとえば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニル、ヘプテニル、シクロヘプテニル、オクテニル、シクロオクテニルまたはシクロオクタジエニルを意味するとみなされる。アルキニル基は、たとえば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、へプチニルまたはオクチニルを意味するとみなされる。C1−〜C40−アルコキシ基は、たとえば、メトキシ、トリフルオロメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ、n−ブトキシ、i−ブトキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシまたは2−メチルブトキシを意味するとみなされる。
5〜60個の芳香族環原子を有する芳香族またはヘテロ芳香族環系は、また、各々の場合に、上記のラジカルRにより置換されていてもよく、任意の所望の位置を介して芳香族またはヘテロ芳香族環系に連結していてもよく、たとえば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ベンゾアントラセン、フェナントレン、ベンゾフェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレン、フルオランテン、ベンゾフルオランテン、ナフタセン、ペンタセン、ベンゾピレン、ビフェニル、ビフェニレン、テルフェニル、テルフェニレン、フルオレン、スピロビフルオレン、ジヒドロフェナントレン、ジヒドロピレン、テトラヒドロピレン、シス−もしくはトランス−インデノフルオレン、シス−もしくはトランス−モノベンゾインデノフルオレン、シス−もしくはトランス−ジベンゾインデノフルオレン、トルキセン、イソトルキセン、スピロトルキセン、スピロイソトルキセン、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イシベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、ピロール、インドール、イソインドール、カルバゾール、インドロカルバゾール、インデノカルバゾール、ピリジン、キノリン、イソキノリン、アクリジン、フェナントリジン、ベンゾ−5,6−キノリン、ベンゾ−6,7−キノリン、ベンゾ−7,8−キノリン、フェノチアジン、フェノキサジン、ピラゾール、インダゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、フェナントリミダゾール、ピリドイミダゾール、ピラジンイミダゾール、キノキサリンイミダゾール、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール、アントロオキサゾール、フェナントロオキサゾール、イソオキサゾール、1,2−チアゾール、1,3−チアゾール、ベンゾチアゾール、ピリダジン、ベンゾピリダジン、ピリミジン、ベンゾピリミジン、キノキサリン、1,5−ジアザアントラセン、2,7−ジアザピレン、2,3−ジアザピレン、1,6−ジアザピレン、1,8−ジアザピレン、4,5−ジアザピレン、4,5,9,10−テトラアザペリレン、ピラジン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、フルオルビン、ナフチリジン、アザカルバゾール、ベンゾカルボリン、フェナントロリン、1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、1,2,3−オキサジアゾール、1,2,4−オキサジアゾール、1,2,5−オキサジアゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,2,3−チアジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,5−チアジアゾール、1,3,4−チアジアゾール、1,3,5−トリアジン、1,2,4−トリアジン、1,2,3−トリアジン、テトラゾール、1,2,4,5−テトラジン、1,2,3,4−テトラジン、1,2,3,5−テトラジン、プリン、プテリジン、インドリジンおよびベンゾチアジアゾールから誘導される基を意味するとみなされる。
式(1)の化合物は、荷電していても、または荷電していなくてもよい。式(1)の化合物が荷電している場合、それらは、また、1以上の対イオンを有する。カチオン対イオンの例は、アルカリ金属イオン、たとえば、リチウム、ナトリウムもしくはカリウム、テトラアルキルアンモニウムもしくはテトラアルキルホスホニウムイオンであり、ここで、アルキル基は、それぞれ、好ましくは、1〜4個のC原子を含有する。アニオン対イオンの例は、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオンまたはヘキサフルオロリン酸イオンである。
荷電していない、すなわち、電気的に中性であることを特徴とする、式(1)の化合物が好ましい。これは、リガンドLおよびL’の電荷を、錯体をつくる金属原子Mの電荷を相殺するように選択することによって、簡単な仕方で実現される。
更に、金属原子のまわりの価電子の合計が、4配位錯体では16個、5配位錯体では16または18個、6配位錯体では18個であることを特徴とする式(1)の化合物が好ましい。この好ましいものは、これらの金属錯体の特別な安定性に帰因する。
本発明の好ましい態様において、Mは、遷移金属(ここで、ランタニドおよびアクチニドは除外される)、または主族金属を表す。Mが主族金属を表す場合、それは、好ましくは、第3、第4または第5の主族に由来する金属、特にスズを表す。
Mが、遷移金属(ここで、ランタニドおよびアクチニドは除外される)を表し、特に好ましくは、クロム、モリブデン、タングステン、レニウム、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀および金(特に、モリブデン、タングステン、レニウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウム、銅、白金および金)からなる群より選択される、特に、4配位、5配位または6配位の遷移金属を表す式(1)の化合物が好ましい。イリジウムおよび白金が特に非常に好ましい。ここで、金属は、様々な酸化状態にあり得る。上記金属は、好ましくは、次の酸化状態:Cr(0)、Cr(II)、Cr(III)、Cr(IV)、Cr(VI)、Mo(0)、Mo(II)、Mo(III)、Mo(IV)、Mo(VI)、W(0)、W(II)、W(III)、W(IV)、W(VI)、Re(I)、Re(II)、Re(III)、Re(IV)、Ru(II)、Ru(III)、Os(II)、Os(III)、Os(IV)、Rh(I)、Rh(III)、Ir(I)、Ir(III)、Ir(IV)、Ni(0)、Ni(II)、Ni(IV)、Pd(II)、Pt(II)、Pt(IV)、Cu(I)、Cu(II)、Cu(III)、Ag(I)、Ag(II)、Au(I)、Au(III)およびAu(V)にある。Mo(0)、W(0)、Re(I)、Ru(II)、Os(II)、Rh(III)、Cu(I)、Ir(III)およびPt(II)が特に好ましい。Ir(III)およびPt(II)が、特に非常に好ましい。
本発明の好ましい態様において、Mは、4配位の金属であり、添え字nは、1または2を表す。添え字nが1である場合、1つの二座または2つの単座配位子L’、好ましくは1つの二座配位子L’もまた、金属Mに配位結合される。添え字nが2である場合、添え字mは0である。好ましい4配位の金属はPt(II)である。
本発明の好ましい更なる態様において、Mは、6配位の金属であり、添え字nは、1、2または3、好ましくは2または3を表す。添え字nが1である場合、4つの単座、または2つの二座、または1つの二座と2つの単座、または1つの三座と1つの単座、または1つの4座配位子L’、好ましくは2つの二座配位子L’もまた、金属に配位結合される。添え字nが2である場合、1つの二座または2つの単座配位子L’、好ましくは1つの二座配位子L’もまた、金属に配位結合される。添え字nが3である場合、添え字mは0である。好ましい6配位の金属はIr(III)である。
リガンドLにおいて、好ましくはすべての基XはCRを表す、または正確に1、2、3もしくは4個の基X、特に好ましくは、1、2もしくは3個の基X、特に非常に好ましくは、1もしくは2個の基XがNを表す。殊に好ましくは、すべての基XがCRを表す、または正確に1個の基XがNを表し、残りの基XはCRを表す。
リガンドLが次の式(3)を表す場合、少なくとも1個の基XがNを表すことが好ましい。
Figure 0005868971
すべての基XがCRを表す場合、式(2)の部分構造は、次の式(4)、(5)および(6)の部分構造から選択される。
Figure 0005868971
正確に1個の基XがNを表す場合、好ましい式(2)の部分構造は、次の式(7)〜(33)の部分構造である。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
式中、使用された記号および添え字は、上記の意味を有する。
本発明の好ましい態様において、少なくとも一つの基XがNである式(2)の部分構造では、この窒素原子に隣接する少なくとも一つの基Xは、CR3基を表す。これは、式(7)〜(33)の部分構造に同様に適用される。
ここで、R3は、出現するごとに同一であるかまたは異なり、1〜20個のC原子を有する直鎖のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基、または2〜20個のC原子を有するアルケニルもしくはアルキニル基、または3〜20個のC原子を有する分枝もしくは環状のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基(これらの各々は、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)(ここで、1以上の隣接していないCH2基は、R1C=CR1、C≡C、Si(R12、C=O、NR1、O、SまたはCONR1により置きかえられていてもよく、1以上のH原子は、D、F、Cl、Br、IまたはCNにより置きかえられていてもよい)、または5〜60個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)、または5〜40個の芳香族環原子を有するアリールオキシもしくはヘテロアリールオキシ基(これは、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)、または5から40個の芳香族環原子を有するアラルキルもしくはヘテロアラルキル基(これは、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)、または10〜40個の芳香族環原子を有するジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基もしくはアリールヘテロアリールアミノ基(これは、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)であり;ここでR3は、隣接するラジカルRと、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよい。R3は、特に好ましくは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、CF3、OCF3、3〜20個のC原子を有する分岐もしくは環状のアルキルもしくはアルコキシ基(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)(ここで、リガンドの芳香族炭素原子に直接結合していない1以上の隣接していないCH2基は、R1C=CR1、C≡C、Si(R12、C=O、NR1、O、SもしくはCONR1により置きかえられていてもよく、1以上のH原子は、D、F、Cl、Br、IもしくはCN、またはSi(R13により置きかえられていてもよく、式中、R1は、HもしくはDに等しくない)、ジアルキルアミノ基(ここで、アルキル基は、各々、1〜10個のC原子を有し、直鎖、分岐もしくは環状であってもよい)、または5〜60個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)、または5〜40個の芳香族環原子を有するアラルキルもしくはヘテロアラルキル基(これは、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)である。
Xの定義において、「この窒素に隣接する少なくとも一つの基X」は、このXが窒素に直接結合できること、または、それが、式(2)においてXが存在する次に可能な位置であることを意味する。これは、次の図による表示において、2つの特定のリガンドを参照して、重ねて説明される。
Figure 0005868971
この表示において、窒素に直接結合する位置と、Xが存在する次に可能な位置の両方が、標識されている。どちらの位置も、本出願の目的では、窒素に隣接する位置とみなされる。
したがって、式(7)〜(33)の構造の好ましい態様は、次の式(7a)〜(33a)、および(8b)〜(32b)の構造である。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
式中、使用された記号および添え字は、上記の意味を有する。
上で定義されたように、R3は、アルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基、シリル基、芳香族もしくはヘテロ芳香族環系、アラルキルもしくはヘテロアラルキル基、または置換されたアミノ基から選択される基である。これらの基は、立体的に嵩高い基である。
3が、アルキル基を表す場合、このアルキル基は、好ましくは、3〜20個、特に、4〜10個のC原子を有する。更に、それは、好ましくは、第2級または第3級C原子がリガンドに直接結合しているか、またはCH2基を介してリガンドに結合しているかのいずれかである、第2級もしくは第3級アルキル基である。このアルキル基は、特に好ましくは、次の式(R3−1)〜(R3−33)の構造から選択され、ここで、各々の場合、リガンドへのこれらの基の連結が、「Lig」により示されている。
Figure 0005868971
式中、Ligは、リガンドへのアルキル基の連結を示す。
3がアルコキシ基を表す場合、このアルコキシ基は、好ましくは、3〜20個、特に4〜10個のC原子を有する。このアルコキシ基は、好ましくは、次の式(R3−34)〜(R3−47)の構造から選択され、ここで、各々の場合、リガンドへのこれらの基の連結は、「Lig」により示されている。
Figure 0005868971
式中、Ligは、リガンドへのアルキル基の連結を示す。
3がジアルキルアミノ基を表す場合、これらのアルキル基の各々は、好ましくは、1〜8個のC原子、特に好ましくは、1〜6個のC原子を有する。適切なアルキル基の例は、メチル、エチル、または(R3−1)〜(R3−33)基として上に挙げられた構造である。ジアルキルアミノ基は、特に好ましくは、次の式(R3−48)〜(R3−55)の構造から選択され、ここで、各々の場合、リガンドへのこれらの基の連結は、「Lig」により示されている。
Figure 0005868971
式中、Ligは、リガンドへのアルキル基の連結を示す。
3がアラルキル基を表す場合、このアラルキル基は、好ましくは、次の式(R3−56)〜(R3−69)の構造から選択され、ここで、各々の場合、リガンドへのこれらの基の連結は、「Lig」により示されている。
Figure 0005868971
式中、Ligは、リガンドへのアラルキル基の連結を示し、フェニル基は、それぞれ1以上のラジカルR3により置換されていてもよい。
アルキル、アルコキシ、ジアルキルアミノおよびアラルキル基は、正確な構造に応じて、また、1つ以上の立体中心を有していてもよい。錯体の基本構造もまたキラルな構造であってもよいので、ジアステレオマーの生成が、特にまた、立体中心を有する複数のこのようなアルキル、アルコキシ、ジアルキルアミノおよびアラルキル基が存在する場合、可能である。この場合、本発明による錯体は、様々なジアステレオマーまたは対応するラセミ体の混合物も、また個々の単離されたジアステレオマーまたはエナンチオマーも包含する。
3が芳香族またはヘテロ芳香族環系を表す場合、この芳香族またはヘテロ芳香族環系は、好ましくは、5〜30個の芳香族環原子、特に好ましくは、5〜24個の芳香族環原子を有する。芳香族環系が縮合アリール基を含有する場合、これらは、好ましくは、ナフタレン、フェナントレンまたはトリフェニレンから選択されるが、他の縮合アリール基からは選択されない。芳香族またはヘテロ芳香族環系は、好ましくは、2個を超える芳香族6員環が互いに直接縮合したアリールまたはヘテロアリール基を含有しない。芳香族またはヘテロ芳香族環系は、特に好ましくは、縮合したアリールまたはヘテロアリール基を全く含有せず、それは、特に非常に好ましくは、フェニル基だけを含有する。この場合、芳香族環系は、好ましくは、次の式(R3−70)〜(R3−84)の構造から選択され、ここで、各々の場合、リガンドへのこれらの基の連結は「Lig」により示されている。
Figure 0005868971
式中、Ligは、リガンドへの芳香族またはヘテロ芳香族環系の連結を示し、フェニル基は、それぞれ、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい。
更に、ヘテロ芳香族環系は、好ましくは、次の式(R3−85)〜(R3−115)の構造から選択され、ここで、各々の場合、リガンドへのこれらの基の連結は「Lig」により示されている。
Figure 0005868971
式中、Ligは、リガンドへの芳香族またはヘテロ芳香族環系の連結を示し、芳香族およびヘテロ芳香族基は、それぞれ、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい。
3を表さないラジカルRが、式(2)の部分構造に結合している場合、これらのラジカルRは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、Br、I、N(R12、CN、Si(R13、B(OR12、C(=O)R1、1〜10個のC原子を有する直鎖のアルキル基、または2〜10個のC原子を有するアルケニル基、または3〜10個のC原子を有する分枝もしくは環状のアルキル基(これらの各々は、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)(ここで、1以上のH原子は、DまたはFにより置きかえられていてもよい)、または5〜30個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)からなる群より好ましくは選択され;ここで2個の隣接するラジカルRは、互いに、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよい。これらのラジカルRは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、N(R12、1〜6個のC原子を有する直鎖のアルキル基、または3〜10個のC原子を有する分岐もしくは環状のアルキル基(ここで、1以上のH原子は、DもしくはFにより置きかえられていてもよい)、または5〜24個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい)からなる群より特に好ましくは、選択され;ここで2個の隣接するラジカルRは、互いに、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよい。
本発明の好ましい態様において、中央の6員環に結合するラジカルRは、互いに、芳香族またはベンゾ縮合環系を形成しない、すなわち、それらは、互いに環系を全く形成しないか、または、それらが互いに環系を形成する場合、これは脂肪族環系であるかのいずれかである。これは、次の図による表示を参照して、重ねて説明される。
Figure 0005868971
更に、金属配位に対してオルト位にある置換基Rが、同じく金属Mに配位結合される、または結合される基を表すことが可能である。好ましい配位結合基Rは、アリールもしくはヘテロアリール基(たとえばフェニルもしくはピリジル)、アリールもしくはアルキルシアニド、アリールもしくはアルキルイソシアニド、アミンもしくはアミド、アルコールもしくはアルコラート、チオアルコールもしくはチオアルコラート、ホスフィン、ホスフィット、カルボニル官能基、カルボキシレート、カルバミド、またはアリール−もしくはアルキルアセチリドである。この場合、たとえば、次の式(34)〜(40)の部分構造MLが利用可能である。
Figure 0005868971
式中、使用された記号および添え字は、上記と同じ意味を有し、Wは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、S、OまたはNR1を表す。
式(34)〜(40)は、置換基Rが、どのように金属に付加的に配位結合できるかを、単なる例としてのみ示す。金属に配位結合する他の基R、たとえばカルベンもやはり、また、更なる進歩性(inventive step)なしに、全く同様に利用可能である。
上記のように、このリガンドLを1以上の更なるリガンドLもしくはL’に連結する、単結合または架橋ユニットVが、また、ラジカルRの1つの代わりに存在していてもよい。本発明の好ましい態様において、単結合または架橋ユニットVは、ラジカルRの1つの代わりに、特に、配位結合している原子に対してオルト−もしくはメタ−位にあるラジカルRの代わりに、存在し、その結果、リガンドは、三座もしくは多座または多脚型(polypodal)の特性を有する。2つのこのような架橋ユニットVが存在することもまた可能である。これにより、マクロ環状リガンドの形成またはクリプタートの形成が起こる。
多座配位子を含有する好ましい構造は、次の式(41)〜(46)の金属錯体である。
Figure 0005868971
式中、使用された記号は上記の意味を有し、ここで、Vは、単結合、または、第3、第4、第5および/または第6の主族(IUPAC第13、14、15または16族)に由来する1〜80個の原子、好ましくは、第3、第4、第5および/または第6の主族に由来する1〜20個の原子を含有する架橋ユニット、または3〜6員のホモもしくはヘテロ環を好ましくは表し、これは、部分リガンドLを互いに共有結合で連結するかまたはLをL’に互いに共有結合で連結する。ここで、架橋ユニットVは、また、非対称構造を有していてもよい、すなわち、LおよびL’へのVの連結は、同一である必要はなく、Vは、また、1以上のラジカルR1により置換されていてもよい。架橋ユニットVは、中性、−1、−2もしくは−3の負電荷を有する、または+1、+2もしくは+3の正電荷を有していることができる。Vは、好ましくは、中性、または−1の負電荷を有する、もしくは+1の正電荷を有しており、特に好ましくは中性である。Vの電荷は、好ましくは、全体として中性の錯体が形成されるように選択される。部分構造MLnにとっての上記の好ましいことは、リガンドに当てはまり、nは、好ましくは、少なくとも2である。
基Vの正確な構造および化学組成は、この基の役割が、本質的に、Lを互いにもしくはL’と架橋することにより錯体の化学的および熱的安定性を増すことであるので、錯体の電子特性に重大な影響は及ぼさない。
Vが、3価の基である、すなわち、3個のリガンドLを互いに、または2個のリガンドLをL’に、または1個のリガンドLを2個のリガンドL’に架橋する場合、Vは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、B、B(R1-、B(C(R123、(R1)B(C(R123 -、B(O)3、(R1)B(O)3 -、B(C(R12C(R123、(R1)B(C(R12C(R123 -、B(C(R12O)3、(R1)B(C(R12O)3 -、B(OC(R123、(R1)B(OC(R123 -、C(R1)、CO-、CN(R12、(R1)C(C(R123、(R1)C(O)3、(R1)C(C(R12C(R123、(R1)C(C(R12O)3、(R1)C(OC(R123、(R1)C(Si(R123、(R1)C(Si(R12C(R123、(R1)C(C(R12Si(R123、(R1)C(Si(R12Si(R123、Si(R1)、(R1)Si(C(R123、(R1)Si(O)3、(R1)Si(C(R12C(R123、(R1)Si(OC(R123、(R1)Si(C(R12O)3、(R1)Si(Si(R123、(R1)Si(Si(R12C(R123、(R1)Si(C(R12Si(R123、(R1)Si(Si(R12Si(R123、N、NO、N(R1+、N(C(R123、(R1)N(C(R123 +、N(C=O)3、N(C(R12C(R123、(R1)N(C(R12C(R12+、P、P(R1+、PO、PS、PSe、PTe、P(O)3、PO(O)3、P(OC(R123、PO(OC(R123、P(C(R123、P(R1)(C(R123 +、PO(C(R123、P(C(R12C(R123、P(R1)(C(R12C(R123 +、PO(C(R12C(R123、S+、S(C(R123 +、S(C(R12C(R123 +、または式(47)、(48)、(49)もしくは(50)のユニットからなる群より好ましくは選択される。
Figure 0005868971
式中、破線で示される結合は、各々の場合に、部分リガンドLまたはL’への結合を示し、Zは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、単結合、O、S、S(=O)、S(=O)2、NR1、PR1、P(=O)R1、P(=NR1)、C(R12、C(=O)、C(=NR1)、C(=C(R12)、Si(R12またはBR1からなる群より選択される。使用された他の記号は、上記の意味を有する。
Vが2価の基である、すなわち、2個のリガンドLを互いに、または1個のリガンドLをL’に架橋する場合、Vは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、BR1、B(R12 -、C(R12、C(=O)、Si(R12、NR1、PR1、P(R12 +、P(=O)(R1)、P(=S)(R1)、AsR1、As(=O)(R1)、As(=S)(R1)、O、S、Se、または式(51)〜(60)のユニットからなる群より好ましくは選択される。
Figure 0005868971
式中、破線で示される結合は、各々の場合に、部分リガンドLまたはL’への結合を示し、Yは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、C(R12、N(R1)、OまたはSを表し、使用された他の記号は、それぞれ上記の意味を有する。
式(1)に現れる好ましいリガンドL’が下に記載される。リガンド基L’は、また、式(41)、(43)および(45)に示されるように、それらが架橋ユニットVを介してLに結合されるかどうかに対応しても選択され得る。
リガンドL’は、好ましくは、中性、モノアニオン、ジアニオンまたはトリアニオンのリガンド、特に好ましくは、中性またはモノアニオンのリガンドである。それらは、単座、二座、三座または四座であってよく、好ましくは、二座である、すなわち、好ましくは、2つの配位サイトを有する。上記のように、リガンドL’は、また、架橋基Vを介してLに結合していてもよい。
好ましい中性の単座配位子L’は、一酸化炭素、一酸化窒素、アルキルシアニド(たとえば、アセトニトリル)、アリールシアニド(たとえば、ベンゾニトリル)、アルキルイソシアニド(たとえば、メチルイソニトリル)、アリールイソシアニド(たとえば、ベンゾイソニトリル)、アミン(たとえば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モルホリン)、ホスフィン、特に、ハロホスフィン、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィンもしくはアルキルアリールホスフィン(たとえば、トリフルオロホスフィン、トリメチルホスフィン、トリシクロへキシルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ビス(tert−ブチル)フェニルホスフィン)、ホスフィット(たとえば、トリメチルホスフィット、トリエチルホスフィット)、アルシン(たとえば、トリフルオロアルシン、トリメチルアルシン、トリシクロヘキシルアルシン、トリ−tert−ブチルアルシン、トリフェニルアルシン、トリス(ペンタフルオロフェニル)アルシン)、スチビン(たとえば、トリフルオロスチビン、トリメチルスチビン、トリシクロヘキシルスチビン、トリ−tert−ブチルスチビン、トリフェニルスチビン、トリス(ペンタフルオロフェニル)スチビン)、窒素含有ヘテロ環(たとえば、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン)、およびカルベン、特に、アルデュエンゴ(Arduengo)カルベンからなる群より選択される。
好ましいモノアニオンの単座配位子L’は、水素化物、重水素化物、ハロゲン化物F-、Cl-、Br-およびI-、アルキルアセチリド(たとえば、メチル−C≡C-、tert−ブチル−C≡C-)、アリールアセチリド(たとえば、フェニル−C≡C-)、シアニド、シアナート、イソシアナート、チオシアナート、イソチオシアナート、脂肪族もしくは芳香族アルコラート(たとえば、メタノラート、エタノラート、プロパノラート、イソ−プロパノラート、tert−ブチラート、フェノラート)、脂肪族もしくは芳香族チオアルコラート(たとえば、メタンチオラート、エタンチオラート、プロパンチオラート、イソ−プロパンチオラート、tert−チオブチラート、チオフェノラート)、アミド(たとえば、ジメチルアミド、ジエチルアミド、ジ−イソ−プロピルアミド、モルホリド)、カルボキシレート(たとえば、アセタート、トリフルオロアセタート、プロピオナート、ベンゾアート)、アリール基(たとえば、フェニル、ナフチル)、およびアニオンの窒素含有ヘテロ環(たとえば、ピロリド、イミダゾリド、ピラゾリド)から選択される。これらの基におけるアルキル基は、好ましくは、C1〜C20−アルキル基、特に好ましくは、C1〜C10−アルキル基、特に非常に好ましくは、C1〜C4−アルキル基である。アリール基は、またヘテロアリール基も意味するとみなされる。これらの基は上で定義された通りである。
好ましいジ−またはトリアニオンのリガンドは、O2-、S2-、カーバイド(これらは、R−C≡Mの形の配位を生じる)、およびニトレン(これらは、R−N=Mの形の配位を生じる)であり、式中、Rは、通常、置換基、またはN3-を表す。
好ましい中性またはモノ−もしくはジアニオンの二座または多座配位子L’は、ジアミン(たとえば、エチレンジアミン、N,N,N',N'−テトラメチルエチレンジアミン、プロピレンジアミン、N,N,N',N'−テトラメチルプロピレンジアミン、シス−もしくはトランス−ジアミノシクロヘキサン、シス−もしくはトランス−N,N,N',N'−テトラメチルジアミノシクロヘキサン)、イミン(たとえば、2−[1−(フェニルイミノ)エチル]ピリジン、2−[1−(2−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン、2−[1−(2,6−ジ−イソ−プロピルフェニルイミノ)エチル]ピリジン、2−[1−(メチルイミノ)エチル]ピリジン、2−[1−(エチルイミノ)エチル]ピリジン、2−[1−(イソ−プロピルイミノ)エチル]ピリジン、2−[1−(tert−ブチルイミノ)エチル]ピリジン)、ジイミン(たとえば、1,2−ビス(メチルイミノ)エタン、1,2−ビス(エチルイミノ)エタン、1,2−ビス(イソ−プロピルイミノ)エタン、1,2−ビス(tert−ブチルイミノ)エタン、2,3−ビス(メチルイミノ)ブタン、2,3−ビス(エチルイミノ)ブタン、2,3−ビス(イソ−プロピルイミノ)ブタン、2,3−ビス(tert−ブチルイミノ)ブタン、1,2−ビス(フェニルイミノ)エタン、1,2−ビス(2−メチルフェニルイミノ)エタン、1,2−ビス(2,6−ジ−イソ−プロピルフェニルイミノ)エタン、1,2−ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニルイミノ)エタン、2,3−ビス(フェニルイミノ)ブタン、2,3−ビス(2−メチルフェニルイミノ)ブタン、2,3−ビス(2,6−ジ−イソ−プロピルフェニルイミノ)ブタン、2,3−ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニルイミノ)ブタン)、2個の窒素原子を含むヘテロ環(たとえば、2,2’−ビピリジン、o−フェナントロリン)、ジホスフィン(たとえば、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、ビス(ジメチルホスフィノ)メタン、ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、ビス(ジメチルホスフィノ)プロパン、ビス(ジエチルホスフィノ)メタン、ビス(ジエチルホスフィノ)エタン、ビス(ジエチルホスフィノ)プロパン、ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)メタン、ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)エタン、ビス(tert−ブチルホスフィノ)プロパン)、1,3−ジケトン(たとえば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、1,5−ジフェニルアセチルアセトン、ジベンゾイルメタン、ビス(1,1,1−トリフルオロアセチル)メタン、2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオン)に由来する1,3−ジケトナート、3−ケトエステル(たとえば、エチルアセトアセタート)に由来する3−ケトナート、アミノカルボン酸(たとえば、ピリジン−2−カルボン酸、キノリン−2−カルボン酸、グリシン、N,N−ジメチルグリシン、アラニン、N,N−ジメチルアミノアラニン)に由来するカルボキシレート、サリチルイミン(たとえば、メチルサリチルイミン、エチルサリチルイミン、フェニルサリチルイミン)に由来するサリチルイミナート、ジアルコール(たとえば、エチレングリコール、1,3−プロピレングリコール)に由来するジアルコラート、およびジチオール(たとえば、1,2−エチレンジチオール、1,3−プロピレンジチオール)に由来するジチオラートから選択される。
好ましい三座配位子は、窒素含有ヘテロ環のボラート、たとえば、テトラキス(1−イミダゾリル)ボラート、およびテトラキス(1−ピラゾリル)ボラートである。
更に、モノアニオン、中性もしくはジアニオンの二座配位子L’、特に、モノアニオンのリガンドが好ましく、これらは、前記金属と共に、少なくとも一つの金属−炭素結合を有するシクロメタル化5員環もしくは6員環、特に、シクロメタル化5員環を形成する。これらは、特に、有機エレクトロルミネセンスデバイスのためのリン光金属錯体の分野において一般的に用いられるリガンド、すなわち、フェニルピリジン、ナフチルピリジン、フェニルキノリン、フェニルイソキノリンなどのタイプのリガンドであり、これらの各々は、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい。多数のこのタイプのリガンドが、リン光エレクトロルミネセンスデバイスの分野における当業者に知られており、その当業者は、進歩性なしに、式(1)の化合物のためのリガンドL’として、このタイプの更なるリガンドを選択できるであろう。次の式(61)〜(88)により表される2つの基の組合せが、通常、この目的にとって、特に適切であり、ここで、1つの基は、好ましくは、中性の窒素原子もしくはカルベン炭素原子により結合し、他方の基は、好ましくは、負電荷を有する炭素原子もしくは負電荷を有する窒素原子により結合する。この場合、リガンドL’は、式(61)〜(88)の基から、各々の場合に、#により示された位置で互いに結合するこれらの基によって、形成できる。基が金属に配位結合する位置は、*により示されている。これらの基は、また、1または2つの架橋ユニットVを介して、リガンドLに結合していてもよい。
Figure 0005868971
ここで、Qは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、OまたはSを表し、XおよびRは、上記と同じ意味を有する。好ましくは、各々の基において、最大で3つの記号XがNを表し、特に好ましくは、各々の基において、最大で2つの記号XがNを表し、特に非常に好ましくは、各々の基において、最大で1つの記号Xが、Nを表す。殊に好ましくは、すべての記号XはCRを表す。
同じく好ましいリガンドL’は、η5−シクロペンタジエニル、η5−ペンタメチル−シクロペンタジエニル、η6−ベンゼンもしくはη7−シクロヘプタトリエニルであり、これらの各々は、1以上のRにより置換されていてもよい。
同じく好ましいリガンドL’は、特に式(89)の、1,3,5−シス,シス−シクロヘキサン誘導体、特に式(90)の、1,1,1−トリ(メチレン)メタン誘導体、ならびに、特に式(91)および(92)の、1,1,1−3置換メタンである。
Figure 0005868971
式中、金属Mへの配位は、各々の式において示されており、Rは、上記の意味を有し、Aは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、O-、S-、COO-、PR2またはNR2を表す。
本発明による錯体は、フェイシャルもしくはシュードフェイシャル(pseudofacial)であることができる、または、それらは、メリジオナルもしくはシュードメリジオナル(pseudomeridional)であることができる。
上で示された好ましい態様は、望まれる場合、互いに組み合わせることができる。本発明の特に好ましい態様において、上で示された好ましい態様は、同時に適用される。
本発明による金属錯体は、原理的に、様々な方法により調製できる。しかし、下記の方法が、特に適切であることが分かった。
それゆえに、本発明は、更に、対応する遊離のリガンドを、式(93)の金属アルコキシドと、式(94)の金属ケトケトナートと、式(95)のハロゲン化金属と、または式(96)のダイマー金属錯体と反応させることによる、式(1)の金属錯体化合物の調製方法に関する。
Figure 0005868971
式中、記号M、L’、m、nおよびRは、上記の意味を有し、Halは、F、Cl、BrまたはIである。
同様に、金属化合物、特に、ケトケトナートラジカルに加えて、アルコキシドおよび/またはハロゲン化物および/またはヒドロキシルラジカルも有する、イリジウム化合物を用いることも可能である。これらの化合物は、また、荷電していてもよい。出発材料として特に適切である対応するイリジウム化合物は、WO 2004/085449に開示されている。特に適切であるのは、[IrCl2(acac)2-、たとえば、Na[IrCl2(acac)2]、リガンドとしてアセチルアセトナート誘導体を有する金属錯体、たとえば、Ir(acac)3、もしくはトリス(2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−3,5−ジオナト)イリジウム、およびIrCl3・xH2O(式中、xは、通常、2乃至4の数を表す)である。
適切な白金出発材料は、たとえば、PtCl2、K2[PtCl4]、PtCl2(DMSO)2、Pt(Me)2(DMSO)2、またはPtCl2(ベンゾニトリル)2である。
錯体の合成は、好ましくは、WO 2002/060910、WO 2004/085449、WO 2007/065523およびWO 2010/086089に記載されているように実施される。ヘテロレプチック(heteroleptic)錯体もまた、たとえば、WO 2005/042548に従って合成できる。この場合、合成は、また、たとえば、熱的に、光化学的に、および/またはマイクロ波放射により、活性化できる。本発明の好ましい態様において、反応は、付加される溶媒を用いることなく、溶融物として実施される。ここで、「溶融物」は、リガンドが溶融状態にあり、金属前駆体が、この溶融物に溶解または懸濁されていることを意味する。
これらの方法は、本発明による式(1)の化合物が、高い、好ましくは99%を超える(1H−NMRおよび/またはHPLCによって求められる)純度で、得られることを可能にする。
本発明による化合物は、また、たとえば、比較的長いアルキル基(約4〜20個のC原子)、特に、分岐アルキル基、または任意に置換されていてもよいアリール基、たとえば、キシリル、メシチル、またはオリゴアリール基、たとえば、直鎖もしくは分岐テルフェニルまたはクアテルフェニル基による、適切な置換を通じて、可溶化できる。この場合、このような化合物は、室温で、溶液から錯体を処理できるのに十分な濃度で、一般的な有機溶媒、たとえば、トルエンまたはキシレンに可溶である。これらの可溶性化合物は、たとえば印刷処理による、溶液からの処理に、特に非常に適している。
本発明による化合物の例は、下に表された構造1〜66である。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
上記の式(1)の錯体、または上で示された好ましい態様は、電子デバイスにおける能動構成要素として使用できる。電子デバイスは、アノード、カソードおよび少なくとも一つの層を含むデバイスを意味するとみなされ、ここで、この層は、少なくとも1種の有機または有機金属化合物を含む。よって、本発明による電子デバイスは、アノードと、カソードと、少なくとも1種の上記の式(1)の化合物を含む少なくとも一つの層とを含む。ここで、好ましい電子デバイスは、少なくとも1種の上記の式(1)の化合物を、少なくとも一つの層に含む、有機エレクトロルミネセンスデバイス(OLED、PLED)、有機集積回路(O−IC)、有機電界効果トランジスタ(O−FET)、有機薄膜トランジスタ(O−TFT)、有機発光トランジスタ(O−LET)、有機太陽電池(O−SC)、有機光学検出器、有機感光体(photoreceptor)、有機電場消光(field-quench)デバイス(O−FQD)、発光電気化学セル(LEC)または有機レーザーダイオード(O−レーザー)からなる群より選択される。有機エレクトロルミネセンスデバイスが特に好ましい。能動構成要素は、通常、アノードとカソードの間に導入された、有機もしくは無機材料、たとえば、電荷注入、電荷輸送または電荷ブロッキング材料であるが、特に、発光材料およびマトリクス材料である。本発明による化合物は、有機エレクトロルミネセンスデバイスにおける発光材料として、特に良好な特性を示す。このため、有機エレクトロルミネセンスデバイスは、本発明の好ましい態様である。
有機エレクトロルミネセンスデバイスは、カソード、アノード、および少なくとも一つの発光層を含む。これらの層以外に、それは、また、更なる層、たとえば、各々の場合に、1つ以上のホール注入層、ホール輸送層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、励起子ブロッキング層、電子ブロッキング層、電荷発生層および/または有機もしくは無機p/n接合を含んでいてもよい。エレクトロルミネセンスデバイスにおける、たとえば、励起子ブロッキング機能を有する、および/または電荷バランスを制御する中間層も、同じく、2つの発光層の間に導入されてもよい。しかし、これらの層の各々は、必ずしも存在しなければならないとは限らないことが、指摘されるべきである。有機エレクトロルミネセンスデバイスは、1つの発光層、または複数の発光層を含んでいてもよい。複数の発光層が存在する場合、これらは、好ましくは、全体として、380nm乃至750nmに複数の発光極大を有し、その結果、全体として白色発光を生じる、すなわち、蛍光またはリン光を発することができる様々な発光化合物が、発光層に用いられる。3つの層が青色、緑色およびオレンジ色もしくは赤色発光を示す(基本的な構造については、たとえば、WO 2005/011013を参照)3層系、または3層を超える発光層を有する系が、特に好ましい。それは、また、1つ以上の層が蛍光を発し、1つ以上の他の層がリン光を発するハイブリッド系であってもよい。同一の発光層に存在している、異なる色で発光する2種以上のエミッターにより、白色発光を生じることも同じく可能である。
本発明の好ましい態様において、有機エレクトロルミネセンスデバイスは、1つ以上の発光層における発光化合物として、式(1)の化合物または上で示された好ましい態様を含む。
式(1)の化合物が、発光化合物として、発光層に使用される場合、それは、1種以上のマトリクス材料と組み合わせて、好ましくは使用される。式(1)の化合物とマトリクス材料を含む混合物は、エミッターおよびマトリクス材料を含む全体としての混合物に対して、0.1乃至99体積%、好ましくは、1乃至90体積%、特に好ましくは3乃至40体積%、殊に5乃至15体積%の式(1)の化合物を含む。対応して、混合物は、エミッターおよびマトリクス材料を含む全体としての混合物に対して、99.9乃至1体積%、好ましくは99乃至10体積%、特に好ましくは97乃至60体積%、殊に95乃至85体積%のマトリクス材料を含む。
使用されるマトリクス材料は、一般に、先行技術により、この目的のために知られているすべての材料であることができる。マトリクス材料の3重項レベルは、好ましくは、エミッターの3重項レベルより高い。
本発明による化合物にとって適切なマトリクス材料は、ケトン、ホスフィンオキシド、スルホキシドおよびスルホン、(たとえば、WO 2004/013080、WO 2004/093207、WO 2006/005627もしくはWO 2010/006680による)、トリアリールアミン、カルバゾール誘導体(たとえば、CBP(N,N−ビスカルバゾリルビフェニル)、m−CBP、またはWO 2005/039246、US 2005/0069729、JP 2004/288381、EP 1205527、WO 2008/086851もしくはUS 2009/0134784に開示されているカルバゾール誘導体)、インドロカルバゾール誘導体(たとえば、WO 2007/063754もしくはWO 2008/056746による)、インデノカルバゾール誘導体(たとえば、WO 2010/136109もしくはWO 2011/000455による)、アザカルバゾール(たとえば、EP 1617710、EP 1617711、EP 1731584、JP 2005/347160による)、双極性マトリクス材料(たとえば、WO 2007/137725による)、シラン(たとえば、WO 2005/111172による)、アザボロールもしくはボロン酸エステル(たとえば、WO 2006/117052による)、ジアザシロール誘導体(たとえば、WO 2010/054729による)、ジアザホスホール誘導体(たとえば、WO 2010/054730による)、トリアジン誘導体(たとえば、WO 2010/015306、WO 2007/063754もしくはWO 2008/056746による)、亜鉛錯体(たとえば、EP 652273もしくはWO 2009/062578による)、ジベンゾフラン誘導体(たとえば、WO 2009/148015による)、または、架橋カルバゾール誘導体(たとえば、US 2009/0136779、WO 2010/050778、もしくは未公開出願DE 102009048791.3およびDE 102010005697.9による)である。
複数の異なるマトリクス材料、特に、少なくとも1種の電子伝導性マトリクス材料と少なくとも1種のホール伝導性マトリクス材料を、混合物として使用することもまた、好ましいことがある。本発明による金属錯体のための混合マトリクスとして、好ましい組合せは、たとえば、芳香族ケトン、トリアジン誘導体もしくはホスフィンオキシド誘導体と、トリアリールアミン誘導体もしくはカルバゾール誘導体との使用である。同じく、たとえばWO 2010/108579に記載されているように、電荷輸送マトリクス材料と、電荷輸送に関与しない、もしくは有意には関与しない電気的に不活性なマトリクス材料との混合物の使用が好ましい。
更に、マトリクスと共に、2種以上の3重項エミッターの混合物を使用することが好ましい。この場合、より短い波長の発光スペクトルを有する3重項エミッターは、より長い波長の発光スペクトルを有する3重項エミッターにとっての共マトリクス(co-matrix)として役立つ。よって、たとえば、本発明による式(1)の錯体は、共マトリクスとしての、より短い波長で発光する金属錯体と一緒に、エミッターとして使用することができる。
本発明による化合物は、また、電子デバイスにおける他の機能に、たとえば、ホール−注入もしくは−輸送層におけるホール輸送材料として、電荷生成材料として、または電子ブロッキング材料として、使用することができる。同じく、本発明による錯体は、発光層における他のリン光金属錯体のためのマトリクス材料としても使用することができる。
カソードは、様々な金属、たとえば、アルカリ土類金属、アルカリ金属、主族の金属もしくはランタノイド(たとえば、Ca、Ba、Mg、Al、In、Mg、Yb、Smなど)を含む、低い仕事関数を有する金属、金属合金または多層構造体を好ましくは含む。やはり適切であるのは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属と銀を含む合金、たとえば、マグネシウムと銀を含む合金である。多層構造体の場合には、比較的高い仕事関数を有する更なる金属、たとえばAgも、また、前記金属に加えて用いられてもよく、この場合、金属の組合せ、たとえば、Mg/Ag、Ca/Ag、またはBa/Agが、通常、用いられる。高い誘電率を有する材料の薄い中間層を、金属カソードと有機半導体の間に導入することもまた好ましいことがある。この目的に適するのは、たとえば、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のフッ化物であるが、対応する酸化物もしくは炭酸塩もまた適切である(たとえば、LiF、Li2O、BaF2、MgO、NaF、CsF、Cs2CO3など)。有機アルカリ金属錯体、たとえば、Liq(キノリン酸リチウム)は、同じく、この目的にとって適切である。この層の層厚は、好ましくは、0.5乃至5nmである。
アノードは、高い仕事関数を有する材料を好ましくは含む。アノードは、好ましくは、4.5eV(vs.真空)を超える仕事関数を有する。この目的に適するのは、一方では、高い酸化還元電位を有する金属、たとえば、Ag、PtまたはAuである。他方、金属/金属酸化物の電極(たとえば、Al/Ni/NiOx、Al/PtOx)もまた好ましいことがある。ある用途では、有機材料(O−SC)の照射または光の取出し(coupling-out)(OLED/PLED、O−LASER)のいずれかを容易にするために、少なくとも一つの電極が透明または部分的に透明でなければならない。この場合、好ましいアノード材料は、導電性混合金属酸化物である。酸化インジウムスズ(ITO)または酸化インジウム亜鉛(IZO)が特に好ましい。更に、ドーピングされた導電性有機材料、特に、ドーピングされた導電性ポリマー、たとえば、PEDOT、PANIまたはこれらのポリマーの誘導体が好ましい。
層についての先行技術に従って用いられるすべての材料は、通常、更なる層に用いることができ、当業者は、進歩性なしに、電子デバイスにおいて、これらの材料の各々を、本発明による材料と組み合わせることができるであろう。
デバイスは、(用途に応じて)相応に構造化され、接点が備えられ、最後に、このようなデバイスの寿命は、水および/または空気が存在すると劇的に短くなるので、密閉される。
更に、1つ以上の層が、昇華法により、コーティングされることを特徴とする、有機エレクトロルミネセンスデバイスが好ましく、この方法では、材料は、真空昇華装置内で、通常、10-5mbar未満、好ましくは10-6mbar未満の初期圧力で、蒸着される。初期圧力が、一層低い、または一層高い、たとえば10-7mbar未満であることもまた可能である。
1つ以上の層が、OVPD(有機気相成長)法により、またはキャリアガス昇華の助けによりコーティングされることを特徴とする有機エレクトロルミネセンスデバイスも同じく好ましく、この場合、材料は、10-5mbar乃至1barの圧力で付けられる。この方法の特別な場合は、OVJP(有機蒸気ジェット印刷)法であり、この方法では、材料は、ノズルを通して直接塗布されて、構造化される(たとえば、M.S.Arnoldら、Appl.Phys.Lett.2008、92、053301)。
更に、1つ以上の層が、溶液から、たとえば、スピンコーティングによって、または任意の所望の印刷プロセス、たとえば、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷もしくはノズル印刷によって、しかし、特に好ましくは、LITI(光誘発熱画像形成、熱転写印刷)もしくはインクジェット印刷によって、生成されることを特徴とする有機エレクトロルミネセンスデバイスが好ましい。可溶性の化合物が、この目的のために必要であり、これらは、たとえば、適切な置換を通じて得られる。
有機エレクトロルミネセンスデバイスは、また、1つ以上の層を溶液から塗布し、1つ以上の他の層を蒸着により付着させることによるハイブリッド系として製造されてもよい。よって、たとえば、式(1)の化合物とマトリクス材料を含む発光層を溶液から塗布し、真空蒸着によって上にホールブロッキング層および/または電子輸送層を付着させることが可能である。
これらの方法は、当業者に一般的に知られており、式(1)の化合物または上で示された好ましい態様を含む有機エレクトロルミネセンスデバイスに、当業者によって問題なく適用され得る。
本発明による電子デバイス、特に、有機エレクトロルミネセンスデバイスは、先行技術を凌ぐ次の驚くべき利点によって際立っている。
1.発光材料として式(1)の化合物を含む有機エレクトロルミネセンスデバイスは、非常に良好な寿命を有する。
2.発光材料として式(1)の化合物を含む有機エレクトロルミネセンスデバイスは、優れた効率を有する。
3.本発明による金属錯体は、緑色、黄色、オレンジ色または赤色の領域でリン光を発する有機エレクトロルミネセンスデバイスを得られるようにする。
4.本発明による金属錯体は、合成によって、高収率で、容易に入手可能である。
上に挙げたこれらの利点は、他の電子特性の悪化を伴わない。
本発明が、以下の例によって、より詳細に説明されるが、それらにより本発明を限定しようとするものではない。当業者は、説明に基づいて、進歩性なしに、本発明による更なる電子デバイスを製造できるであろうし、よって、特許請求の範囲の全体に渡って本発明を実施できるであろう。
[実施例]
以下の合成は、特に断らなければ、乾燥溶媒中で、保護ガス雰囲気下に行われる。金属錯体は、更に、光を排除して取り扱われる。溶媒および試薬は、Sigma−ALDRICHまたはABCRから購入できる。文献から知られる化合物に対して示された数字は、CAS番号に関する。
1)リガンドの合成:
例1:6−tert−ブチル−5,6b,11−トリアザベンゾ[a]フルオレン(L1)
Figure 0005868971
S.Sharmaら、J.Comb.Chem.2007、9、783に類似の調製
500mlのキシレン中、20.9g(100mmol)の2−イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−イルフェニルアミン[127219−06−1]、42.1g(500mmol)の2,2−ジメチルプロパナール[630−19−3]、および1.9g(10mmol)のp−トルエンスルホン酸水和物の混合物を、16時間加熱還流し、その間、生成する水を、共沸蒸留によって除去し、空気の穏やかな流れを溶液中に通す。冷却後、溶媒を真空除去し、残留物を、1000mlの酢酸エチルに溶解し、各回に500mlの水で2回、500mlの飽和塩化ナトリウム溶液で1回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。エタノールから2回再結晶した後、固体から、低沸点および非揮発性の副次的成分を昇華(p:約1×10-5mbar、T:約180℃)によって除く。収率:9.1g(33mmol)、33%、純度:約99.5%(NMR)。
例2:5−tert−ブチルインダゾロ[2,3−a]キノリン(L2)
Figure 0005868971
N.Shindoh、J.Org.Chem.2008、73、7451に類似の調製
工程1:2−(2−ニトロフェニル)−4−tert−ブチルキノリン
Figure 0005868971
37.5ml(15mmol)のビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミン[82113−65−3](トルエン中、0.4M溶液)を、22.6g(100ml)のN−[2−ニトロフェニル]メチレン]フェニルアミン[1624−50−6]および10.1g(120mmol)の3,3−ジメチルブタ−1−エン[558−37−2]の1,2−ジクロロエタン(300ml)溶液に、室温で、滴下して加え、次に、混合物を、70℃で4時間撹拌する。室温まで冷却した後、50.0g(220mmol)の2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン[84−58−2]を、分割して加え、混合物を、発熱反応が治まるまで、撹拌し、最後に、50℃で更に1時間温める。冷却後、混合物を1000mlのクロロホルムで希釈し、セライト床を通して濾過し、有機相を、各回に300mlの飽和炭酸水素ナトリウム溶液で2回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、酸化アルミニウム床(酸化アルミニウム、塩基性、活性度1)を通して濾過し、溶媒を真空除去し、残留物をエタノールから再結晶する。収率:22.7g(74mmol)、74%、純度:約98%(NMR)。
工程2:
15.3g(50mmol)の2−(2−ニトロフェニル)−4−tert−ブチルキノリンおよび34.1g(130mmol)のトリフェニルホスフィンのo−ジクロロベンゼン(150ml中溶液を、12時間、加熱還流する。冷却後、溶媒を真空除去し、残留物を、酢酸エチルから2回再結晶し、次いで、シリカゲルでのクロマトグラフィーにかける(DCM:ヘプタン 3:1、(v:v)+0.2%のトリエチルアミン)。このようにして得られる固体から、易揮発性および非揮発性の副次的成分を分別昇華(p:約1×10-5mbar、T:約180℃)によって除く。収率:8.8g(32mmol)、64%、純度:約99.5%(NMR)。
以下は同様に調製される。
Figure 0005868971
例46:6−メシチル−5,6b,11−トリアザベンゾ[a]フルオレン(L46)
例1に類似の調製で、500mmolの2,2−ジメチルプロパナールの代わりに、500mmolの2,4,6−トリメチル−ベンズアルデヒド[487−68−3]を用いる。収率:7.1g(21mmol)、21%、純度:約99.5%(NMR)。
以下の化合物は、対応するアルデヒドから同様に調製される。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
例56:6,9−ジ−tert−ブチル−5,6b,8,11−テトラアザベンゾ[a]フルオレン(L56)
Figure 0005868971
15.1g(100mmol)の6−tert−ブチルピリミジン−4−イルアミン[3435−27−6]および24.4g(100mmol)の2−ブロモ−1−(2−ニトロフェニル)エタノン[6851−99−6]のエタノール(300ml)中溶液を、8時間、加熱還流する。溶媒を真空除去し、残留物を200mlの水に溶解し、混合物を、2NのNaOHの添加によってアルカリ性にし、水性相を、各回に100mlのジクロロメタンで3回抽出し、有機相を、100mlの飽和塩化ナトリウム溶液で1回洗い、ジクロロメタンを真空除去する。油状の残留物を、500mlのエタノールに溶かし、112.8g(500ml)の塩化スズ(II)二水和物を加え、混合物を2時間、加熱還流する。冷却後、反応混合物を、1000mlの氷水に注ぎ、混合物を、飽和炭酸水素ナトリウム溶液の添加によって、弱アルカリ性にし、500mlの酢酸エチルを加え、混合物を、短いセライト床を通して濾過し、有機相を分離し、300mlの水で1回、300mlの飽和塩化ナトリウム溶液で1回洗い、次いで、溶媒を真空除去する。このようにして得られる2−(7−tert−ブチルイミダゾ[1,2−c]ピリミジン−2−イル)フェニルアミンを、例1に記載されたように、42.1g(500mmol)の2,2−ジメチルプロパナール[630−19−3]および1.9g(10mmol)のp−トルエンスルホン酸水和物と更に反応させる。収率:9.0g(27mmol)、27%、純度:約99.5%(NMR)。
以下の化合物は、同様に、対応するアミンおよびアルデヒドから調製される。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
例63:5−メチルインダゾロ[2,3−a]キノリン(L63)
Figure 0005868971
工程1:2−(4−メチルキノリン−2−イル)フェニルアミン塩酸塩
Figure 0005868971
22.3g(100mmol)の2−ブロモ−4−メチルキノリン[64658−04−4]、13.7g(120mmol)の2−アミノベンゼンボロン酸、1.2g(1mmol)のテトラキス(トリフェニルホスフィノ)パラジウム(0)、21.2g(200mmol)の炭酸ナトリウム、500mlのトルエン、100mlのエタノールおよび300mlの水の混合物を、12時間、加熱還流する。冷却後、有機相を分離し、各回に200mlの水で2回洗い、約100mlまで真空蒸発させ、30mlの濃塩酸を激しく撹拌しながら加え、混合物を更に30分間撹拌し、塩酸塩を吸引濾別し、50mlのトルエンで1回洗い、次いで、真空乾燥する。収率:23.5g(87mmol)、87%、純度:約98%(NMR)。
次の化合物は、同様に、対応するキノリンおよびアミンから調製される。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
工程2:5−メチルインダゾロ[2,3−a]キノリン(L63)
蓋のない10lのビーカー内の、1300mlの氷水および1000mlのトルエン中、90.5g(332mmol)の2−(4−メチルキノリン−2−イル)フェニルアミン塩酸塩の0℃に冷却した懸濁液に、9mlの濃塩酸を加え、次いで、24.1g(352mmol)の亜硝酸ナトリウムの水(100ml)中溶液を、滴下して加え、その間、温度を+5℃未満に保つ。添加が完了したら、混合物を更に20分間撹拌し、次いで、激しく撹拌しながら、24.9g(382mmol)のアジ化ナトリウムの氷水(500ml)中溶液を、ゆっくりと流下させ(注意:ガスの発生、発泡!)、次に、混合物を、ガスの発生が完了するまで、更に撹拌する。室温まで温めた後、反応混合物を、飽和炭酸ナトリウム溶液を用い、僅かにアルカリ性にし、有機相を分離し、500mlの水で1回、500mlの飽和塩化ナトリウム溶液で1回洗い、炭酸ナトリウムと硫酸マグネシウムの混合物で乾燥し、乾燥剤を濾別し、濾液を、アルゴンの下で、還流するまでゆっくりと加熱する(注意:約80℃からガスの発生)。8時間の還流後、混合物を、放冷し、800gのアルミナ(塩基性、活性度1)を通して濾過し、2000mlのトルエンで洗い流し、次いで、濾液を、真空で蒸発乾固する。このようにして得られる黄色のオイルを、約300mlのエタノールから2回再結晶する。このようにして得られる固体から、易揮発性および非揮発性の副次的成分を、分別昇華(p:約1×10-5mbar、T:約180℃)によって除く。収率:48.8g(210mmol)、63%、純度:約99.5%(NMR)。
次の化合物は、同様に調製される。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
例86:3,5,8,3’,5’,8’−ヘキサメチル[10,10’]ビ[インダゾロ[2,3]−キノリニル](L86)
Figure 0005868971
18.7g(105mmol)のN−ブロモスクシンイミドを、51.9g(100mmol)のL81のDMF(300ml)中溶液に、60℃で、光を排除して、分割して加え、次いで、混合物を更に2時間撹拌する。真空でDMFを除去した後、油状の残留物を、500mlの酢酸エチルに溶解し、各回に300mlの水で5回、500mlの飽和塩化ナトリウム溶液で1回洗う。有機相を、約50mlまで真空蒸発させ、150mlのメタノールを加える。12時間撹拌した後、生成する結晶を、吸引濾別し、50mlのメタノールで洗い、すべてのメタノールが除去されるまで、真空乾燥する。このようにして得られる10−ブロモ−3,5,8−トリメチルインダゾロ[2,3−a]キノリンを、150mlのジメチルアセトアミドと300mlのトルエンの混合物に溶かし、溶液を慎重に脱気し、11.0g(200mmol)のマンガン粉末、1.3g(2mmol)のビス(トリフェニルホスフィノ)ニッケル(II)塩化物、1.3g(8mmol)のビピリジンおよび100gのガラスビーズ(直径5mm)を加え、混合物を70℃で48時間撹拌する。冷却後、ガラスビーズ、余分なニッケルおよび塩を除去するために、混合物を、短いセライト床を通して濾過し、トルエンで洗い流し、次いで、濾液を真空蒸発させる。油状の残留物を、1000mlのトルエンに溶解し、各回に500mlの水で3回洗い、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、約100mlの体積まで真空蒸発させ、300mlのメタノールを滴下して加える。固体を吸引濾別し、トルエン/エタノールから3回再結晶する。このようにして得られる固体から、易揮発性および非揮発性の副次的成分を分別昇華(p:約1×10-5mbar、T:約300℃)によって除く。収率:13.5g(26mmol)、52%、純度:約99.5%(NMR)。
例87:10−ベンゾ[h]キノリン−2−イル−3,5,8−トリメチル−インダゾロ[2,3−a]キノリン(L87)
Figure 0005868971
17.0g(50mmol)の10−ブロモ−3,5,8−トリメチルインダゾロ[2,3−a]キノリン(例86)、19.8g(65mmol)の2−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンゾ[h]キノリン、225mg(1mmol)の酢酸パラジウム(II)、1.8g(6mmol)のトリ−o−トリルホスフィン、10.6g(100mmol)の炭酸ナトリウム、200mlのトルエン、50mlのジオキサンおよび300mlの水の混合物を16時間、加熱還流する。冷却後、有機相を分離し、300mlの水で2回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、有機相を真空で蒸発乾固し、残留物を、トルエン/エタノールから再結晶する。このようにして得られる固体から、易揮発性および非揮発性の副次的成分を分別昇華(p:約1×10-5mbar、T:約270℃)によって除く。収率:15.8g(36mmol)、72%、純度:約99.5%(NMR)。
次の化合物は、同様に調製される。
Figure 0005868971
例90:5−メチル−10a,11−ジアザベンゾ[a]フルオレン(L90)
Figure 0005868971
工程1:4−メチル−2−ピリジン−2−イルナフタレン−1−イルアミン塩酸塩
Figure 0005868971
23.6g(100mmol)の1−アミノ−2−ブロモ−4−メチルナフタレン[180411−16−9]、17.2g(140mmol)のピリジン−2−ボロン酸[197958−29−5]、1.2g(1mmol)のテトラキス(トリフェニルホスフィノ)パラジウム(0)、21.2g(200mmol)の炭酸ナトリウム、500mlのトルエン、100mlのエタノールおよび300mlの水の混合物を、12時間、加熱還流する。冷却後、有機相を分離し、各回に300mlの水で2回洗い、約100mlまで真空蒸発させ、30mlの濃塩酸を、激しく撹拌しながら加え、混合物を、更に30分間撹拌し、塩酸塩を吸引濾別し、50mlのトルエンで1回洗い、次いで、真空乾燥する。収率:22.1g(81mmol)、81%、純度:約98%(NMR)。
次の化合物は、同様に、対応するアミンおよびボロン酸から調製される。
Figure 0005868971
工程2:5−メチル−10a,11−ジアザベンゾ[a]フルオレン(L90)
例63に類似の調製で、90.5g(332mmol)の2−(4−メチルキノリン−2−イル)フェニルアミン塩酸塩の代わりに、90.5g(332mmol)の4−メチル−2−ピリジン−2−イルナフタレン−1−イルアミン塩酸塩を用いる。収率:53.6g(231mmol)、70%、純度:約99.5%(NMR)。
次の化合物は、同様に調製される。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
2)金属錯体の合成
1)ホモレプチックトリス−フェイシャルイリジウム錯体:
変異形A:イリジウム出発材料として、トリスアセチルアセトナトイリジウム(III)
10mmolのトリス(アセチルアセトナト)イリジウム(III)[15635−87−7]および60mmolのリガンドLの混合物を、真空(10-3mbar)中で溶融して、50mlのガラスアンプルに入れる。アンプルを、示された温度で、示された時間、加熱し、その間、溶融混合物を磁気撹拌子の助けで撹拌する。冷却後(注意:アンプルは、通常、圧力を受けている!)、アンプルを開封し、シンターケーキ(sinter cake)を、100mlの示されている懸濁媒体中、100gのガラスビーズ(直径3mm)と共に3時間撹拌すると同時に、機械的に粉砕する。粒子の細かい懸濁液を、ガラスビーズからデカントして分け、固体を吸引濾別し、真空乾燥する。乾燥固体を、加熱抽出器(hot extractor)内の10cmの深さを有する酸化アルミニウム床(塩基性、活性度1)上に置き、次いで、示されている抽出溶媒(量は約500ml)で抽出する。抽出が完了したら、抽出溶媒を、約100mlまで、真空蒸発する。抽出溶媒に過度に良好な溶解性を有する金属錯体は、200mlのメタノールを滴下して加えることによって、晶析させる。このようにして得られる懸濁液の固体を、吸引濾別し、約50mlのメタノールで1回洗い、乾燥する。乾燥後、金属錯体の純度を、NMRおよび/またはHPLCにより求める。純度が99.5%未満である場合、加熱−抽出工程を繰り返し、99.5〜99.9%の純度が達成された時に、金属錯体を、加熱するまたは昇華させる。この加熱は、200〜300℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施する。昇華は、約320〜約440℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施し、ここで、昇華は、好ましくは、分別昇華の形で実施する。
変異形B:イリジウム出発材料として、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト)イリジウム
変異形Aに類似の手順で、10mmolのトリス(アセチルアセトナト)イリジウム(III)[15635−87−7]の代わりに、10mmolのトリス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト)イリジウム[99581−86−9]を用いる。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
Figure 0005868971
2)ヘテロレプチックイリジウム錯体
変異形A:
工程1:
10mmolのビス(アセチルアセトナト)ジクロロイリジウム(III)酸ナトリウム[770720−50−8]および24mmolのリガンドLの混合物を、真空(10-3mbar)中で溶融して、50mlのガラスアンプルに入れる。アンプルを、示された温度で、示された時間、加熱し、その間、溶融混合物を磁気撹拌子の助けで撹拌する。冷却後(注意:アンプルは、通常、圧力を受けている!)、アンプルを開封し、シンターケーキを、100mlの示されている懸濁媒体中、100gのガラスビーズ(直径3mm)と共に3時間撹拌すると同時に、機械的に粉砕する。粒子の細かい懸濁液を、ガラスビーズからデカントして分け、固体を吸引濾別し、真空乾燥する。
工程2:
このようにして得られる式[Ir(L)2Cl]2の未精製クロロ架橋ダイマーを、75mlの2−エトキシエタノールおよび25mlの水の混合物に懸濁させ、13mmolのコリガンドCLおよび15mmolの炭酸ナトリウムを加える。20時間の還流後、更なる75mlの水を、滴下して加え、混合物を冷却し、固体を吸引濾別し、各回に50mlの水で3回、各回に50mlのメタノールで3回洗い、真空乾燥する。乾燥固体を、加熱抽出器内の10cmの深さを有する酸化アルミニウム床(塩基性、活性度1)上に置き、示されている抽出溶媒(量は約500ml)で抽出する。抽出が完了したら、抽出溶媒を、約100mlまで真空濃縮する。抽出溶媒に過度に良好な溶解性を有する金属錯体は、200mlのメタノールを滴下して加えることによって、晶析させる。このようにして得られる懸濁液の固体を、吸引濾別し、約50mlのメタノールで1回洗い、乾燥する。乾燥後、金属錯体の純度を、NMRおよび/またはHPLCにより求める。純度が99.5%未満である場合、加熱−抽出工程を繰り返す;99.5〜99.9%の純度が達成された時に、金属錯体を、加熱するまたは昇華させる。この加熱は、200〜300℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施する。昇華は、約300〜約390℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施し、昇華は、好ましくは、分別昇華の形で実施する。
Figure 0005868971
変異形B:
工程1:
変異形A、工程1を参照
工程2:
このようにして得られる式[Ir(L)2Cl]2の未精製クロロ架橋ダイマーを、1000mlのジクロロメタンおよび150mlのエタノール中に懸濁させ、懸濁液に、40mmolのトリフルオロメタンスルホン酸銀(I)を加え、混合物を室温で24時間撹拌する。析出固体(AgCl)を、短いセライト床を通して吸引濾別し、濾液を真空で蒸発乾固する。このようにして得られる固体を、100mlのエタノールに溶解し、30mmolのコリガンドCLを加え、次いで、混合物を30時間、加熱還流する。冷却後、固体を吸引濾別し、各回に50mlのエタノールで2回洗い、真空乾燥する。このようにして得られる固体を、加熱抽出器内の10cmの深さを有する酸化アルミニウム床(酸化アルミニウム、塩基性、活性度1)上に置き、次いで、示されている抽出溶媒(量は約500ml)で抽出する。抽出が完了したら、抽出溶媒を、約100mlまで真空濃縮する。抽出溶媒に過度に良好な溶解性を有する金属錯体は、200mlのメタノールを滴下して加えることによって、晶析させる。このようにして得られる懸濁液の固体は、吸引濾別し、約50mlのメタノールで1回洗い、乾燥する。乾燥後、金属錯体の純度を、NMRおよび/またはHPLCにより求める。純度が99.5%未満である場合、加熱−抽出工程を繰り返す;99.5〜99.9%の純度が達成された時に、金属錯体を、加熱するまたは昇華させる。この加熱は、200〜300℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施する。昇華は、約300〜約390℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施し、昇華は、好ましくは、分別昇華の形で実施する。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
3)ヘテロレプチック白金錯体
30mlのジクロロメタン中、10mmolの塩化白金(II)、12mmolのリガンドLおよび1mmolのテトラ−n−ブチルアンモニウムクロリドの混合物を、12時間、加熱還流する。100mlのメタノールを滴下して加えた後、細かい固体を、吸引濾別し、各回に25mlのメタノールで2回洗い、真空乾燥する。このようにして得られる式[Pt(L)Cl]2の未精製クロロ架橋ダイマーを、60mlの2−エトキシエタノールと20mlの水の混合物に懸濁させ、12mmolのコリガンドCLもしくはコリガンド化合物CL、および12mmolの炭酸ナトリウムを加える。20時間の還流後、更なる100mlの水を滴下して加え、混合物を冷却し、固体を、吸引濾別し、各回に50mlの水で3回、各回に50mlのメタノールで3回洗い、真空乾燥する。このようにして得られる固体を、加熱抽出器内の10cmの深さを有するセライト床上に置き、示されている抽出溶媒(量は約500ml)で抽出する。抽出が完了したら、抽出溶媒を、約100mlまで真空濃縮する。抽出溶媒に過度に良好な溶解性を有する金属錯体は、200mlのメタノールを滴下して加えることによって、晶析させる。このようにして得られる懸濁液の固体を、吸引濾別し、約50mlのメタノールで1回洗い、乾燥する。乾燥後、金属錯体の純度を、NMRおよび/またはHPLCにより求める。純度が99.5%未満である場合、加熱−抽出工程を繰り返す;99.5〜99.9%の純度が達成された時に、金属錯体を、加熱するまたは昇華させる。この加熱は、200〜300℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施する。昇華は、約300〜約390℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施し、昇華は、好ましくは、分別昇華の形で実施する。
Figure 0005868971
4)四座配位子の白金錯体
変異形A:
100mlの氷酢酸中、10mmolのテトラクロロ白金酸カリウム、10mmolのリガンドL、50mmolの酢酸リチウム(無水)の混合物を、60時間、加熱還流する。冷却した反応混合物に、100mlのメタノールおよび100mlの水を滴下して加えた後、固体を、吸引濾別し、各回に25mlのメタノールで5回洗い、真空乾燥する。このようにして得られる固体を、加熱抽出器内の3cmの深さを有するセライト床上に置き、次いで、示されている抽出溶媒(量は約300ml)で抽出する。抽出が完了したら、抽出溶媒を、約100mlまで真空濃縮する。抽出溶媒に過度に良好な溶解性を有する金属錯体は、200mlのメタノールを滴下して加えることによって、晶析させる。このようにして得られる懸濁液の固体を、吸引濾別し、約50mlのメタノールで1回洗い、乾燥する。乾燥後、金属錯体の純度を、NMRおよび/またはHPLCにより求める。純度が99.5%未満である場合、加熱−抽出工程を繰り返す;99.5〜99.9%の純度が達成された時に、Pt錯体を昇華させる。昇華は、約350〜約420℃の温度範囲で、高真空(p:約10-6mbar)で実施し、昇華は、好ましくは、分別昇華の形で実施する。
変異形B:
50mlのベンゾニトリル中、10mmolの塩化白金(II)および10mmolのリガンドLの混合物を、24時間、加熱還流する。冷却した反応混合物に、100mlのメタノールを滴下して加えた後、固体を、吸引濾別し、各回に25mlのメタノールで5回洗い、真空乾燥する。処理の残りの部分は、変異形Aの場合に記載の通りである。
Figure 0005868971
Figure 0005868971
例24:OLEDの製造
本発明によるOLEDおよび先行技術に従うOLEDを、WO2004/058911による一般的方法により、ここに記載の状況に適応させて(層厚の変化、使用される材料)、製造する。
様々なOLEDについての結果は、下の例25〜42(表1および2を参照)に記載されている。構造化されたITO(酸化インジウムスズ)により150nmの厚さでコーティングされたガラス板を、加工性の改善のために、20nmのPEDOT(ポリ(3,4−エチレンジオキシ−2,5−チオフェン)、水からのスピンコーティングにより塗布する;H.C.Starck(Goslar、ドイツ)から購入)でコーティングする。これらのコーティングされたガラス板は、OLEDが付けられる基板を成す。OLEDは、基本的に、次の層構造を有する:基板/任意選択のホール注入層(HIL)/ホール輸送層(HTL)/電子ブロッキング層(EBL)/発光層(EML)/任意選択のホールブロッキング層(HBL)/電子輸送層(ETL)/任意選択の電子注入層(EIL)および最後に、カソード。カソードは、100nmの厚さを有するアルミニウム層によって形成される。
最初に、真空で処理されるOLEDを記載する。この目的では、すべての材料は、真空チャンバ内で、熱蒸着により付着させる。この場合、発光層は、常に、少なくとも1種のマトリクス材料(ホスト材料)および発光ドーパント(エミッター)からなり、発光ドーパントは、同時蒸発によって、1種以上のマトリクス材料と特定の体積比率で混合される。ここで、表現、たとえば、M3:M2:Ir(L1)3(55%:35%:10%)は、材料M3が55体積%の比率で層に存在し、M2が35%の比率で層に存在し、またIr(L1)3が10%の比率で層に存在することを意味する。同様に、電子輸送層もまた、2種の材料の混合物からなっていてもよい。OLEDの正確な構造は、表1に示されている。OLEDを製造するために使用された材料は、表3に示されている。
OLEDは、標準的な方法によって特徴付けられる。この目的のために、エレクトロルミネセンススペクトル、電流効率(cd/Aとして測定)および電圧(1000cd/m2でのVとして測定)を、電流/電圧/輝度特性線(IUL特性線)から求める。選ばれた実験で、寿命を求めた。寿命は、その時点の後では、光束密度(luminous density)が、一定の初期光束密度から、一定の割合まで低下してしまう時点として定義される。LD50という表現は、記載された寿命が、光束密度が初期光束密度の50%まで、すなわち、たとえば、4000cd/m2から2000cd/m2まで低下した時点であることを意味する。発光色に応じて、様々な初期輝度を選択した。寿命の値は、当業者に知られている変換式の助けで、他の初期光束密度での数値に変換できる。ここでは、1000cd/m2の初期光束密度での寿命が、通常の数値である。
リン光OLEDにおけるエミッター材料としての本発明による化合物の使用
本発明による化合物は、とりわけ、OLEDにおける発光層のリン光エミッター材料として使用することができる。ここでは、中心原子IrおよびPtを有する金属錯体を使用する。化合物Ir−refが、先行技術に従う比較として用いられる。OLEDに対する結果は、表2に要約されている。前記処理によるOLEDの場合、ここで、本発明による材料により、効率のよい黄色−〜赤色−発光OLEDが得られることが明らかである。特に、寿命は、基準(reference)エミッター(Ex.43)に比べて、著しく向上する。
Figure 0005868971
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本発明による材料は、また、溶液からも使用でき、この場合、それらから、真空で処理されるOLEDに比べて、より単純であるにもかかわらず良好な特性を有するOLEDが得られる。このようなコンポーネントの製造は、ポリマー発光ダイオード(PLED)の製造に基づいており、これは、すでに、文献(たとえば、WO 2004/037887において)に何度も記載されている。その構造は、基板/ITO/PEDOT(80nm)/中間層/発光層(80nm)/カソードからなる。使用される中間層は、ホール注入層としての役目を果たす;この場合には、MerckによるHIL−012が用いられた。今の場合、発光層のための本発明によるエミッターを、トルエンに、マトリクスと共に溶かす。このような溶液の典型的な固体含有量は、ここでの場合のように、デバイスでの80nmの典型的な層の厚さがスピンコーティングにより達成される場合、16乃至25g/lである。発光層は、不活性ガス雰囲気(今の場合、アルゴン)中で、スピンコーティングにより塗布し、120℃で10分間加熱することにより乾燥する。最後に、バリウムおよびアルミニウムを含むカソードを、真空蒸着によって付着させる。前に挙げた例において使用された層HBLおよびETLも、また、EMLとカソードの間に、蒸着によって付けることができ、中間層は、また、1つ以上の層によって置きかえることができ、これらは、単に、溶液からEMLを付着させる後の処理工程によって、再び剥がれることがないという条件を満たさなければならないだけである。溶液処理によるデバイスは、また、マトリクスPS(ポリスチレン):ETM1:Ir(LX)3(26%:54%:20%)における標準的な方法によって特徴付けられる。記載のOLEDの例は、まだ最適化されていない。表4は、得られたデータを要約する。この処理によるOLEDの場合、本発明による材料により、効率のよい黄色−〜オレンジ色/赤色−発光OLEDが得られることが明らかである。
Figure 0005868971

Claims (14)

  1. 式(1)の化合物
    M(L)(L’) 式(1)
    式中、前記化合物は式(2)の部分構造M(L)を含有する:
    Figure 0005868971
    式中、使用された記号および添え字には以下が適用される:
    Mは、金属であり;
    Yは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、CまたはNであり、但し、各リガンドにおいて正確に1つの記号YはNを表し、その他の2つの記号YはCを表すことを条件とし;
    Xは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、CRまたはNであり;
    Rは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、Br、I、N(R 、CN、Si(R 、B(OR 、C(=O)R 、1〜10個のC原子を有する直鎖のアルキル基、または2〜10個のC原子を有するアルケニル基、または3〜10個のC原子を有する分枝もしくは環状のアルキル基(これらの各々は、1以上のラジカルR により置換されていてもよい)(ここで、1以上のH原子は、DまたはFにより置きかえられていてもよい)、または5〜30個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルR により置換されていてもよい)からなる群より選択され;ここで2個の隣接するラジカルRは、互いに、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよく;中央の6員環に結合するラジカルRは、互いに芳香族またはベンゾ縮合環系を形成しない;
    は、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、Cl、Br、I、N(R、CN、NO、Si(R、B(OR、C(=O)R、P(=O)(R,S(=O)R、S(=O)、OSO、1〜20個のC原子を有する直鎖のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基、または2〜20個のC原子を有するアルケニルもしくはアルキニル基、または3〜20個のC原子を有する分枝もしくは環状のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基(これらの各々は、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)(ここで、1以上の隣接していないCH基は、RC=CR、C≡C、Si(R、C=O、NR、O、SまたはCONRにより置きかえられていてもよく、1以上のH原子は、D、F、Cl、Br、I、CNまたはNOにより置きかえられていてもよい)、または5〜60個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)、または5〜40個の芳香族環原子を有するアリールオキシもしくはヘテロアリールオキシ基(これは、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)、または5から40個の芳香族環原子を有するアラルキルもしくはヘテロアラルキル基(これは、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)、または10〜40個の芳香族環原子を有するジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基もしくはアリールヘテロアリールアミノ基(これは、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)であり;ここで2個以上の隣接するラジカルRは、互いに、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよく;
    は、出現するごとに同一であるかまたは異なり、H、D、F、または1〜20個のC原子を有する脂肪族、芳香族および/またはヘテロ芳香族の炭化水素ラジカル(ここで更に、1以上のH原子は、Fにより置きかえられていてもよい)であり;ここで2個以上の置換基Rは、互いに、単環または多環式の脂肪族環系を形成していてもよく;
    L’は、出現するごとに同一であるかまたは異なり、コリガンドであり;
    nは、1、2または3であり;
    mは、0、1、2、3または4であり;
    ここで複数のリガンドLは、互いに連結されていてもよいし、またはLは、任意の所望の架橋Vを介してL’に連結されることにより三座、四座、五座または六座配位子系を形成していてもよく、および/または置換基Rは、前記金属に更に配位結合されてもよく;
    以下の化合物は本発明から除外される:
    Figure 0005868971
  2. Mが、クロム、モリブデン、タングステン、レニウム、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀および金からなる群より選択されることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  3. リガンドLにおいてすべてのXがCRを表すこと、または正確に1、2、3もしくは4個の基XがNを表し、残りの基XがCRを表すことを特徴とする請求項1または2に記載の化合物。
  4. 前記式(2)の部分構造が、式(4)〜(33)の部分構造から選択されることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の化合物
    Figure 0005868971
    Figure 0005868971
    Figure 0005868971
    式中、使用された記号および添え字は、請求項1に記載される意味を有する。
  5. 少なくとも一つの基XがNであり、この窒素原子に隣接する少なくとも一つの基Xが、CR基を表し、ここで、Rは、出現するごとに同一であるかまたは異なり、1〜20個のC原子を有する直鎖のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基、または2〜20個のC原子を有するアルケニルもしくはアルキニル基、または3〜20個のC原子を有する分枝もしくは環状のアルキル、アルコキシもしくはチオアルコキシ基(これらの各々は、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)(ここで、1以上の隣接していないCH基は、RC=CR、C≡C、Si(R、C=O、NR、O、SまたはCONRにより置きかえられていてもよく、1以上のH原子は、D、F、Cl、Br、IまたはCNにより置きかえられていてもよい)、または5〜60個の芳香族環原子を有する芳香族もしくはヘテロ芳香族環系(これは、各々の場合に、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)、または5〜40個の芳香族環原子を有するアリールオキシもしくはヘテロアリールオキシ基(これは、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)、または5から40個の芳香族環原子を有するアラルキルもしくはヘテロアラルキル基(これは、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)、または10〜40個の芳香族環原子を有するジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基もしくはアリールヘテロアリールアミノ基(これは、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)であり;ここでRは、隣接するラジカルRと、単環または多環式の、脂肪族、芳香族および/またはベンゾ縮合環系を形成していてもよいことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の化合物。
  6. 式(7a)〜(33a)および(8b)〜(32b)の構造から選択される請求項1〜5の何れか1項に記載の化合物
    Figure 0005868971
    Figure 0005868971
    Figure 0005868971
    Figure 0005868971
    式中、使用された記号および添え字は、請求項1および5に記載される意味を有する。
  7. が、以下の式(R−1)〜(R−115)の構造から選択され、ここで、各々の場合、リガンドへのこれらの基の連結も示されていることを特徴とする請求項5または6に記載の化合物:
    Figure 0005868971
    Figure 0005868971
    Figure 0005868971
    式中、Ligは、リガンドへのこの基の連結を示し、芳香族およびヘテロ芳香族基は、それぞれ1以上のラジカルRにより置換されていてもよい。
  8. 金属配位に対してオルト位にある置換基Rが、金属Mに配位結合される基を表し、アリールもしくはヘテロアリール基、アリールもしくはアルキルシアニド、アリールもしくはアルキルイソシアニド、アミン、アミド、アルコール、アルコラート、チオアルコール、チオアルコラート、ホスフィン、ホスフィット、カルボニル官能基、カルボキシレート、カルバミド、またはアリールもしくはアルキルアセチリドから選択されることを特徴とする請求項1〜の何れか1項に記載の化合物。
  9. 式(41)〜(46)の金属錯体から選択される請求項1〜の何れか1項に記載の化合物
    Figure 0005868971
    式中、使用された記号は上記の意味を有し、ここで、Vは、第3、第4、第5および/または第6の主族(IUPAC第13、14、15または16族)に由来する1〜80個の原子を含有する架橋ユニット(これは、1以上のラジカルRにより置換されていてもよい)、または3〜6員のホモもしくはヘテロ環を好ましくは表し、これは、部分リガンドLを互いに共有結合で連結するかまたはLをL’に互いに共有結合で連結する。
  10. リガンドL’が、出現するごとに同一であるかまたは異なり、一酸化炭素、一酸化窒素、アルキルシアニド、アリールシアニド、アルキルイソシアニド、アリールイソシアニド、アミン、ホスフィン、ホスフィット、アルシン、スチビン、窒素含有ヘテロ環、カルベン、水素化物、重水素化物、ハロゲン化物F、Cl、BrおよびI、アルキルアセチリド、アリールアセチリド、シアニド、シアナート、イソシアナート、チオシアナート、イソチオシアナート、脂肪族もしくは芳香族アルコラート、脂肪族もしくは芳香族チオアルコラート、アミド、カルボキシレート、アリール基、O2−、S2−、カーバイド、ニトレン、ジアミン、イミン、ジイミン、ジホスフィン、1,3−ジケトナート、3−ケトエステルに由来する3−ケトナート、アミノカルボン酸に由来するカルボキシレート、サリチルイミンに由来するサリチルイミナート、ジアルコラート、ジチオラート、窒素含有ヘテロ環のボラート、および前記金属とともにシクロメタル化5員環もしくは6員環を有するリガンドからなる群より選択されることを特徴とする請求項1〜の何れか1項に記載の化合物。
  11. リガンドを、式(93)の金属アルコラートと、式(94)の金属ケトケトナートと、式(95)のハロゲン化金属と、または式(96)のダイマー金属錯体と反応させることによる、請求項1〜10の何れか1項に記載の化合物の調製方法
    Figure 0005868971
    式中、記号M、L’、m、nおよびRは、請求項1に記載される意味を有し、Halは、F、Cl、BrまたはIである。
  12. 有機エレクトロルミネセンスデバイス(OLED、PLED)、有機集積回路(O−IC)、有機電界効果トランジスタ(O−FET)、有機薄膜トランジスタ(O−TFT)、有機発光トランジスタ(O−LET)、有機太陽電池(O−SC)、有機光学検出器、有機感光体、有機電場消光デバイス(O−FQD)、発光電気化学セル(LEC)または有機レーザーダイオード(O−レーザー)からなる群より好ましくは選択される電子デバイスにおける、金属Mが、Ir(III)およびPt(II)から選ばれる、請求項1〜10の何れか1項に記載の化合物の使用。
  13. 有機エレクトロルミネセンスデバイス(OLED、PLED)、有機集積回路(O−IC)、有機電界効果トランジスタ(O−FET)、有機薄膜トランジスタ(O−TFT)、有機発光トランジスタ(O−LET)、有機太陽電池(O−SC)、有機光学検出器、有機感光体、有機電場消光デバイス(O−FQD)、発光電気化学セル(LEC)または有機レーザーダイオード(O−レーザー)からなる群より好ましくは選択される、金属Mが、Ir(III)およびPt(II)から選ばれる、請求項1〜10の何れか1項に記載の少なくとも1種の化合物を含む電子デバイス。
  14. 金属Mが、Ir(III)およびPt(II)から選ばれる、請求項1〜10の何れか1項に記載の化合物が、1つ以上の発光層において発光化合物として使用されることを特徴とする請求項13に記載の有機エレクトロルミネセンスデバイス。
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