JP2022141938A - 無線周波数及び磁気エネルギーによる生物学的構造の美的処置の方法及びデバイス - Google Patents

無線周波数及び磁気エネルギーによる生物学的構造の美的処置の方法及びデバイス Download PDF

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Abstract

【課題】時変性磁場による筋肉収縮を誘起することによって磁気処置を提供し、生物学的構造を加熱することによってＲＦ処置を適用するデバイスを提供する。【解決手段】デバイスは、ＲＦ電極及び磁場発生デバイス９００を有するアプリケーター８００を備える。デバイスは、主ユニット、ヒューマンマシンインターフェース、及び制御ユニットを備えることもできる。制御ユニットは、ＲＦ電極に提供される信号を調整し、ＲＦ回路を作成し、また、磁場発生デバイスに提供される信号を調整し、ＲＦ回路から電気絶縁された磁気回路を作成する。ＲＦ回路は、電力源及び電力増幅器を備えることができ、磁気回路は、磁場発生デバイスに電流を供給するエネルギー貯蔵部を備えることができる。【選択図】図２５

Description

美的医療（aesthetic medicine）は、患者の基準に従って視覚的外観を向上させること
をもたらす全ての処置を含む。患者は、例えば、特定の身体エリアにおける望ましくない
体脂肪（body fat）を含む全ての不完全さを最小にし、身体形状を改善させ、自然老化の
影響を除去することを欲する。患者は、健康リスクが最小の状態で満足のいく結果を提供
する迅速で非侵襲的な手順を要求する。
非侵襲的な美的アプリケーションのために使用される最も一般的な方法は、超音波若し
くはショック波（shock wave）治療等の機械波（mechanical wave）、又は、無線周波数
処置若しくはレーザー処置を含む光処置等の電磁波の印加に基づく。組織に対する機械波
の効果は、キャビテーション、振動、及び／又は熱誘起効果に基づく。電磁波を使用する
アプリケーションの効果は、生物学的構造における熱生成に基づく。
機械波及び／又は圧力を使用する機械的処置は、セルライト又は脂肪細胞の処置のため
に使用することができる。しかしながら、そのような機械的処置は、脂肪組織炎（pannic
ulitis）のリスク、ターゲット設定されていない組織の破壊、及び／又は不均一な結果等
の幾つかの欠点を有する。
加熱を含む熱処置（thermal treatment）は、例えば、コラーゲン及び／又はエラスチ
ンの産生を増加させること、皮膚を平滑化すること、セルライトを減少させること、及び
／又は脂肪細胞を除去することによって、皮膚及び身体の視覚的外観を向上させるために
患者に適用される。しかしながら、熱処置は、患者を過熱するリスク、又はさらに望まし
くない生物学的構造の熱損傷を引き起こすこと等の幾つかの欠点を有する。脂肪組織炎の
リスク及び／又は不均一な結果は、既存の熱処置の非常に一般的な副作用であり得る。さ
らに、処置中の及び／又は処置後の不十分な血流及び／又はリンパ流は、処置後に、脂肪
組織炎及び他の健康合併症につながる場合がある。さらに、処置は、不快である場合があ
り、また、苦痛である場合がある。
時変性磁場による筋肉刺激は、生物学的構造を処置するための既知の方法に優る幾つか
の利益を提供し、他の筋肉の下に位置する筋肉の非侵襲的刺激を可能にする。さらに、時
変性磁場は、脂肪組織の厚い層を通した筋肉収縮を引き起こす筋肉刺激を提供するために
使用することができる。筋肉収縮を提供するための電気刺激は、電極から脂肪組織を通し
て、筋肉にリンクした神経及び／又は神経筋プレート（neuromuscular plate）まで電流
を送出する必要がある。脂肪組織は、筋肉組織よりも高い抵抗率を有し、電極から絶縁性
の脂肪組織を通した筋肉組織までの電流の送出は効率的でない場合がある。標的対象に完
全に一致する筋肉に対する電流のターゲット設定は、正確でない場合があり、筋肉を刺激
することは、非常に難しく、ほぼ不可能である場合がある。さらに、脂肪組織が厚くなる
と、電気治療によって送出される電流は、より高くならなければならず、そのような大量
の電流が伝播し長い距離の間に消散することは、患者にとって非常に不快である場合があ
る。一方、時変性磁場は、筋肉、神経筋プレート、及び／又は神経内で電流を誘起するた
め、時変性磁場によるターゲット設定及び筋肉刺激は、より容易で、より正確で、より快
適で、より効果的である。時変性磁場は、多数の筋肉及び／又は筋肉群の快適な刺激も可
能にし、アプリケーターは患者の身体と直接接触していなくてもよく、このことは、処置
の衛生状態及び他のパラメーターを改善することもできる。
患者の軟部組織の昇温を提供する無線周波数（ＲＦ）処置、及び、患者の筋肉組織の刺
激を提供する磁気処置の組み合わせは、顕著な相乗効果を有することができる。組み合わ
せ式処置は、改善された処置を提供することができ、改善された処置は、短い処置期間、
処置中の患者の快適さの増加をもたらし、相乗結果を伴って異なる処置効果を組み合わせ
ることを可能にし、患者安全性及び本文書で後に詳細に述べる他のものを改善することが
できる。
最良の相乗効果に至るために、筋肉刺激を提供する磁気処置及びＲＦ処置を１つの身体
エリア（例えば、同じ身体エリア）にターゲット設定することが好ましく、そこでは、Ｒ
Ｆ処置を提供する少なくとも１つのＲＦ電極は、患者の軟部組織の均一な加熱を確実にす
るために、平坦である及び／又は患者の皮膚に対応するべきである。ＲＦ処置及び磁気処
置を同じ身体エリアにターゲット設定することは、磁場発生デバイス及びＲＦ電極を互い
の近くに、例えば、磁場発生デバイス及びＲＦ電極の少なくとも部分的な重なりがある状
態で、位置決めすることを必要とする。しかしながら、ＲＦ電極及び磁場発生デバイスを
すぐ近くに配置することは、問題となる場合があり、これはなぜならば、磁場発生デバイ
スによって生成される時変性磁場が、ＲＦ電極内に、渦電流、表皮効果（skin effect）
、及び／又は他の物理的効果等の望ましくない物理的効果を誘起する場合があるからであ
る。望ましくない物理的効果は、著しいエネルギー損失、そのようなデバイス配置の非効
率性、また同様に、ＲＦ電極を加熱すること、デバイスの正しくないチューニング、生成
されるエネルギーの不正確なターゲット設定、生成される磁場、電磁場、及び／又はその
他のものの劣化等のデバイス機能について影響を与えることを引き起こす場合がある。Ｒ
Ｆ電極は磁場発生デバイスによって影響を受ける場合があり、またその逆も同様である。
本文書で述べるデバイス及び方法は、最大の相乗効果を伴ってＲＦ及び磁気処置を提供
し、送出される磁場及びＲＦ（電磁）場の安全性及び効率も保持する解決策を提示する。
本発明は、少なくとも１つの身体エリア内の少なくとも１つの生物学的構造に対して１
つ以上の処置効果を提供する処置デバイス及び方法を提供する。処置デバイスは、人間又
は動物の身体をどのように形作るか、視覚的外観をどのように改善するか、筋肉機能をど
のように回復させるか、筋肉強度をどのように上げるか、筋肉体積をどのように変化させ
る（例えば、増加させる）か、筋緊張（muscle tonus）をどのように変化させる（例えば
、増加させる）か、筋肉線維肥大（muscle fibre hypertrophy）をどのように引き起こす
か、筋肉線維過形成（hyperplasia）をどのように引き起こすか、脂肪細胞及び脂肪組織
の数及び体積をどのように減少させるか、セルライト及び／又は他のものをどのように除
去するか、のユニークな機会を提供する。処置デバイス及び方法は、無線周波数（ＲＦ）
処置及び磁気処置の適用を使用して、身体エリア内の少なくとも１つのターゲット生物学
的構造の加熱を引き起こし、近接する又は同じ身体エリア内での筋肉収縮を含む筋肉刺激
を引き起こすことができる。処置デバイスは、ＲＦ処置を提供するＲＦエネルギー（ＲＦ
場と呼ぶことができる）を生成するために、ＲＦ電極を処置エネルギー源として使用し、
磁気処置を提供する時変性磁場を発生させるために、磁場発生デバイスを処置エネルギー
源として使用することができる。
処置の効率及び安全性を向上させて、エネルギー損失、及び、少なくとも１つのＲＦ電
極及び／又は磁場発生デバイス内で誘起される望ましくない物理的効果を最小にするため
に、デバイスは、１つ以上のセグメント化ＲＦ電極を使用することができ、セグメント化
ＲＦ電極は、磁場発生デバイスによって生成される近傍の時変性磁場の効果を最小にする
ために、例えば、１つ以上のアパーチャ、切り欠き部、及び／又は突出部を有するＲＦ電
極を意味する。アパーチャは、ＲＦ電極の本体内の開口とすることができる。切り欠き部
は、ＲＦ電極の境界に沿うＲＦ電極の本体内の開口とすることができる。ＲＦ電極の本体
内の開口は、上からのＲＦ電極のビューを示す、床面投影からのビューによって規定する
ことができる（正：may be defined）。アパーチャ、切り欠き部、及び／又は突出部の外
側のエリアは、空気、誘電体、及び／又は他の電気絶縁性材料で充填する（正：filled）
ことができる。ＲＦ電極のアパーチャ、切り欠き部、及び／又は突出部は、ＲＦ電極内の
渦電流の誘起を最小にし、エネルギー損失を最小にし、処置デバイスの過熱を阻止するこ
とができる。さらに、アパーチャ、切り欠き部、及び／又は突出部は、生成されるＲＦ処
置に対する磁気処置の影響を最小にすることができる。提案されるＲＦ電極の設計は、ア
プリケーターの床面投影による少なくとも部分的な重なりがある状態で、同じアプリケー
ターが磁場発生デバイス及びＲＦ電極を含むことを可能にし、一方、本明細書で述べるパ
ラメーターを用いて患者の身体の同じエリアに対するＲＦ処置及び磁気処置のターゲット
設定を可能にする。ＲＦ電極及び磁場発生デバイスの１つのアプリケーター内への組み込
みは、処置ターゲット設定の向上及び上記で述べたマイナスの影響が最小の状態でのプラ
スの処置結果を可能にする。
また、少なくとも１つのＲＦ回路及び少なくとも１つの磁気回路の相互絶縁は、電気信
号及び／又は電磁信号の間の相互作用を防止する。
磁場発生デバイスは、エネルギー貯蔵デバイスと組み合わせて、筋肉収縮を誘発する強
度（磁束密度とすることができる）を有する磁場の生成を可能にする。エネルギー貯蔵デ
バイスは、電気エネルギーを貯蔵するために使用し、５００Ｖ～１５ｋＶの範囲内の電圧
を有する電場の蓄積を可能にすることができる。エネルギー貯蔵デバイスは、磁場発生デ
バイスに、貯蔵された電気エネルギーを数マイクロ秒～数ミリ秒のインパルスで供給する
ことができる。
処置方法は、少なくとも１つの身体エリアの加熱を可能にし、そこでは、断裂（tearin
g）又は炎症等の筋肉及び／又は靭帯損傷（ligament injury）を最小にする筋肉収縮も誘
発される。皮膚、収縮した筋肉、収縮中の筋肉、弛緩した筋肉、脂肪組織、脂肪組織、及
び/又は処置される身体エリアの隣接する生物学的構造の加熱は、処置が不快であると患
者が考える場合があるときに閾値をシフトすることができる。
したがって、加熱は、大量の電磁エネルギー（例えば、ＲＦ及び／又は磁場）が、患者
の身体に送出されて、筋肉収縮及びその後の弛緩を通してより多くの筋肉仕事を提供する
ことを可能にすることができる。同じ身体エリア内でのＲＦ処置及び磁気処置の適用の別
の利点は、筋肉仕事（例えば、反復的な筋肉収縮及び弛緩によって提供される）が、ター
ゲット設定されたエリア内で血流及びリンパ流を加速するため、ＲＦ処置によって生成さ
れる熱エネルギーの消散を改善することである。ＲＦ処置及び磁気処置の適用は、生物学
的構造加熱の均一性も改善し、それは、ホットスポット、エッジ効果（edge effects）、
及び／又は他の望ましくない効果の生成を防止する。同じ身体エリアに対して筋肉刺激及
び加熱を引き起こす処置方法は、脂肪組織のアポトーシス（apoptosis）又は壊死につな
がる細胞外マトリックスの酸過多（hyperacidity）をもたらすことができる。ＲＦ処置は
、脂肪細胞のアポトーシス、壊死、その体積の減少、及びセルライト除去のうちの少なく
とも１つにつながる、脂肪組織の選択的加熱を提供することができる。
本明細書に組み込まれて本明細書の一部を形成する添付図面は、本開示を例示し、さら
に、本記載とともに、本開示の原理を説明することと、関連技術における当業者が本開示
を製造及び使用することを可能にすることとに貢献する。
処置デバイスの例示的な図である。 処置デバイスの例示的な図である。 処置デバイスの例示的な図である。 処置デバイスの例示的な図である。 処置デバイスの例示的な図である。 処置デバイスの例示的な個々の部分を示す図である。 アプリケーター、リモートコントロール、更なる処置デバイス、及び通信デバイス等のデバイスの複数の部分の間の例示的な通信図である。 サーバーと、アプリケーター、リモートコントロール、及び更なる処置デバイス等のデバイスの部分との間の例示的な通信図である。 通信媒体と処置デバイスの治療発生器とマスターユニットとの間の例示的な通信図である。 通信媒体と処置デバイスの治療発生器との間の通信を示す図である。 処置デバイスの例示的な主ユニットの異なる図である。 例示的なヒューマンマシンインターフェース（ＨＭＩ：human machine interface）を示す図である。 例示的なアプリケーターの複数の部分を外側から見た図である。 例示的なアプリケーターの複数の部分を外側から見た図である。 例示的なアプリケーターの複数の部分を外側から見た図である。 例示的なアプリケーターの複数の部分を外側から見た図である。 例示的な磁場発生デバイスをアプリケーターの床面投影から示す図である。 例示的な磁場発生デバイスの厚さを示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の考えられる場所を示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の考えられる場所を示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の考えられる場所を示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の考えられる場所を示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の考えられる場所を示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の考えられる場所を示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の考えられる場所を示す図である。 例示的な磁場発生デバイスに対する例示的なＲＦ電極の場所の床面投影を示す図である。 アプリケーターの床面投影による部分的な重なりを有する、ＲＦ電極及び磁場発生デバイスを含むアプリケーターの床面投影を示す図である。 アパーチャを有する例示的なＲＦ電極を示す図である。 アパーチャを有する例示的なＲＦ電極を示す図である。 アパーチャ、突出部、及び切り欠き部を有する例示的なＲＦ電極を示す図である。 アパーチャ及び切り欠き部を有する別の例示的なＲＦ電極を示す図である。 突出部を有する例示的なＲＦ電極を示す図である。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極の平行対を示す図である。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極の平行対を示す図である。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極の平行対を示す図である。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極の平行対を示す図である。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極の平行対を示す図である。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極対を示す図であり、第１のＲＦ電極は、ＲＦ電極対の第２のＲＦ電極を少なくとも部分的に囲む。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極対を示す図であり、第１のＲＦ電極は、ＲＦ電極対の第２のＲＦ電極を少なくとも部分的に囲む。 突出部を有するバイポーラＲＦ電極対を示す図であり、第１のＲＦ電極は、ＲＦ電極対の第２のＲＦ電極を少なくとも部分的に囲む。 ０．１Ｔよりも大きい差を有する磁力線（magnetic field lines）と交差する１つの例示的な突出部を示す図である。 磁気回路の例示的なスキーマである。 処置デバイスの電気素子の例示的なスキーマである。 ＲＦ回路の例示的なスキーマである。 インパルス又はパルスを含む磁場の例示的な組成を示す図である。 台形包絡線を示す図である。 異なるタイプの筋肉刺激を示す図である。 患者の身体にアプリケーター及び／又は更なる処置デバイスを取り付けるための支持マトリックスを示す図である。 例示的な湾曲アプリケーターの第１の側面部の断面を示す図である。 例示的な対称化（symmetrisation）素子ＳＹＭを示す図である。 アプリケーター要素の分解図である。 処置デバイスの主ユニット内のコンポーネントの例示的な空間配置を示す図である。 磁場の同期式印加の例を示す図である。 磁場の同期式印加の例を示す図である。 磁場の同期式印加の例を示す図である。 磁場の同期式印加の例を示す図である。 磁場の個別式印加の例を示す図である。 磁場の例示的な増加する包絡線を示す図である。 磁場の例示的な減少する包絡線を示す図である。 磁場の例示的な矩形包絡線を示す図である。 磁場の例示的な組み合わせ式包絡線を示す図である。 磁場の別の例示的な組み合わせ式包絡線を示す図である。 磁場の例示的な三角形包絡線を示す図である。 磁場の例示的な台形包絡線を示す図である。 磁場の別の例示的な台形包絡線を示す図である。 磁場の別の例示的な台形包絡線を示す図である。 磁場の例示的な階段状包絡線を示す図である。 磁場の別の例示的な階段状包絡線を示す図である。 磁場の別の例示的な台形包絡線を示す図である。 反復レートの領域における変調を含む磁場の包絡線の例を示す図である。 磁場の列から形成される例示的な台形包絡線を示す図である。 磁場の別の例示的な組み合わせ式包絡線を示す図である。 磁場の別の例示的な組み合わせ式包絡線を示す図である。 包絡線間周期の例を有する磁場の２つの例示的な包絡線を示す図である。
本処置デバイス及び使用方法は、少なくとも１つの身体エリア内の患者の組織の少なく
とも１つの生物学的構造の少なくとも一部を若返らせる（rejuvenate）、治癒する(heal)
、及び／又はそれのリモデリングを提供する等の、種々の処置効果にターゲット設定され
た、ＲＦ処置及び筋肉刺激を提供する処置の組み合わせによって新しい理学療法（physio
therapy）及び／又は美的処置を提供する。
生物学的構造は、同一の機能、構造、及び／又は組成を有することができる人間及び／
又は動物身体内の任意の組織とすることができる。生物学的構造は、任意のタイプの組織
少なくとも一部を含む又は一部であることができる。任意のタイプの組織とは、結合組織
（例えば、腱、靭帯、コラーゲン、エラスチン線維）、脂肪組織（例えば、皮下脂肪組織
及び／又は内臓脂肪組織の脂肪細胞）、骨、真皮、及び／又は、他の組織、例えば、少な
くとも１つの神経細胞、神経筋プレート（神経筋接合部）、筋肉細胞、１つ以上の個々の
筋肉、筋肉群、筋肉線維の少なくとも一部、所定の体積の細胞外マトリックス、内分泌腺
、神経組織（例えば、末梢神経組織、神経細胞、神経膠（neuroglia）、神経筋プレート
）、及び／又は、関節又は関節の一部のようなものである。本出願に関して、生物学的構
造をターゲット生物学的構造と呼ぶことができる。
少なくとも１つのターゲット生物学的構造の少なくとも一部に提供される処置効果は、
筋肉収縮（過最大収縮（supramaximal contractions）及び／又は強縮（tetanic contrac
tion））、筋単収縮（muscle twitch）、筋肉弛緩、及び生物学的構造の加熱を含むこと
ができる。また、処置効果は、例えば、生物学的構造のリモデリング、アポトーシス及び
／又は壊死による脂肪細胞の数及び／又は体積の減少、筋肉増強、筋肉体積増加、筋肉線
維肥大、筋肉線維過形成を引き起こすこと、筋肉機能の回復、筋衛星細胞（myosatellite
cells）の増殖及び／又は筋肉細胞への分化、筋肉形状の改善、筋持久力の改善、筋肉デ
ィフィニション（muscle definition）、筋肉弛緩、筋肉体積減少、コラーゲン線維の再
構築、ネオコラーゲネシス（neocollagenesis）、弾性線維形成、コラーゲン処置、血流
及びリンパ流の改善、少なくとも１つのターゲット生物学的構造の少なくとも一部の加速
、及び／又は他の機能又は利益を含むことができる。処置デバイスによる身体エリアの処
置中に、２つ以上の処置効果を提供することができ、可変の処置効果を組み合わせること
ができる。
ターゲット生物学的構造に提供される処置効果は、身体整形、身体の輪郭の改善、身体
引き締め（body toning）、筋肉トーニング、筋肉整形、身体整形、乳房リフト（breast
lifting）、臀部リフト（buttock lifting）、臀部を丸めること（buttock rounding）、
及び／又は臀部の引き締め（buttock firming）をもたらすことができる。さらに、処置
効果を提供することは、しわ取り（wrinkle reduction）、皮膚若返り、皮膚タイトニン
グ（skin tightening）、皮膚色の単一化（unification of skin colour）、たるんだ肌
（sagging flesh）の減少、口唇増大（lip enhancement）、セルライト除去、皮膚線条（
stretch mark）の除去、及び／又は傷跡の除去等の身体若返り（rejuvenation）をもたら
すことができる。処置効果は、治癒プロセス、抗浮腫（anti-edematic）効果、及び／又
は、他の理学療法及び処置結果の加速につながることもできる。
処置デバイスは、１つ以上のタイプの処置エネルギーを提供することができ、処置エネ
ルギーは、磁場（磁気エネルギーとも呼ばれる）及びＲＦ場（ＲＦエネルギーとも呼ばれ
る）及び／又は磁場（磁気エネルギーとも呼ばれる）を含むことができる。磁場は、磁気
処置中に提供される。ＲＦ処置中に提供されるＲＦ場は、ＲＦ場の電気成分及びＲＦ場の
磁気成分を含むことができる。ＲＦ場の電気成分は、単数又は複数のＲＦ波と呼ぶことが
できる。ＲＦ電極は、ＲＦ場、ＲＦ波、及び／又はＲＦ場の他の成分を生成することがで
きる。
磁場及び／又はＲＦ場は、強度によって特徴付けることができる。磁場の場合、強度は
磁束密度又は磁束密度の振幅を含むことができる。ＲＦ場の場合、強度はＲＦ場又はＲＦ
波のエネルギー束密度（energy flux density）を含むことができる。
身体エリアは、脂肪組織、皮膚、及び／又は他のもののような他の軟部組織構造によっ
て覆われた少なくとも筋肉又は筋肉群を含む患者の身体の少なくとも一部を含むことがで
きる。身体エリアは、処置デバイスによって処置することができる。身体エリアは、臀部
、サドルバッグ、脇腹のぜい肉、腹部エリア、ヒップ、脚、ふくらはぎ、大腿部、腕、胴
体、肩、膝、首、四肢、ブラファット（bra fat）、顔又は顎、及び／又は任意の他の組
織等の身体部分とすることができる。説明のために、用語「身体エリア（body area）」
は、用語「身体領域（body region）」と交換可能とすることができる。
皮膚組織は、３つの基本要素、すなわち、表皮（epidermis）、真皮（dermis）、及び
皮下組織（hypodermis）いわゆる皮下組織（subcutis）から構成される。皮膚の外側の層
であり、また最も薄い層は表皮である。真皮は、コラーゲン、弾性組織、及び細網線維か
らなる。皮下組織は、皮膚の最も下の層であり、毛包根、リンパ管、コラーゲン組織、神
経、及び、皮下白色脂肪組織（ＳＷＡＴ：subcutaneous white adipose tissue）を形成
する脂肪も含む。脂肪組織は、少なくとも１つの脂質に富む細胞、例えば、含脂肪細胞（
adipocyte）のような脂肪細胞を指すことができる。脂肪細胞は、結合組織、線維中隔（
皮膚支帯）によって境界付けられる小葉を形作る。
脂肪組織の別の部分、いわゆる内臓脂肪組織は、腹腔内に位置し、皮下組織層に隣接す
る筋肉線維の下で接近して、壁側腹膜と臓側腹膜との間に位置する内臓白色脂肪組織（Ｖ
ＷＡＴ：visceral white adipose tissue）を形成する。
筋肉は、筋肉線維、全筋（whole muscle）、筋肉群、神経筋プレート、末梢神経、及び
／又は少なくとも１つの筋肉を神経支配する神経（nerve innervating）の少なくとも一
部を含むことができる。
深部筋肉は、表面筋肉によって少なくとも部分的に覆われる筋肉、及び／又は、脂肪組
織等の他の組織の厚い層によって覆われる筋肉を指すことができ、覆う層の厚さは、少な
くとも４センチメートル、５ｃｍ、７ｃｍ、１０ｃｍ、又はそれより長いｃｍから１５ｃ
ｍ厚までとすることができる。
個々の筋肉は、腹直筋、外腹斜筋（正：obliquus abdominis）、腹横筋、及び／又は腰
方形筋を含む腹筋であり得る。個々の筋肉は、大殿筋、中殿筋及び／又は小殿筋を含む臀
部の筋肉であり得る。個々の筋肉は、大腿四頭筋、縫工筋、薄股筋、大腿二頭筋、長／短
大内転筋、前脛骨筋、長趾伸筋、長母趾伸筋、下腿三頭筋、外側腓腹筋（正：gastrocnem
ius lateralis）／内側腓腹筋、ヒラメ筋、長母趾屈筋、長趾屈筋、短趾伸筋、短母趾伸
筋、母趾内転筋、母趾外転筋（正：abductor hallucis）、小指外／内転筋（ab/adductor
digiti minimi）、小指外転筋及び／又は底側骨間筋）を含む下肢の筋肉であり得る。靭
帯は、胸部のクーパー靭帯であり得る。
１つの例は、脂肪細胞の数及び体積の減少、筋肉増強、脂肪除去、コラーゲン線維の再
構築、ネオコラーゲネシス及び弾性線維形成の加速、筋肉増強、筋肉機能、筋持久力、及
び筋肉形状の改善等の処置効果を提供することができる（又は、処置が、最終的にそれを
もたらすことができる）患者の腹部に対する処置デバイス及び方法の適用とすることがで
きる。これらの処置効果は、腹部エリアの外周減少、下垂腹の除去及び／又は腹部エリア
の引き締め、セルライト減少、瘢痕減少、並びに、身体の輪郭、身体外観、及び患者の健
康を改善することもできる腹部筋肉の増強による身体姿勢の改善も引き起こすことができ
る。
１つの他の例は、脂肪細胞の数及び体積の減少、コラーゲン線維の再構築、ネオコラー
ゲネシス及び弾性線維形成の加速、筋肉増強、筋肉引き締め（muscle toning）、及び筋
肉整形等の処置効果を提供することができる（又は、処置が、最終的にそれをもたらすこ
とができる）臀部を含む身体エリアに対する処置デバイス及び方法の適用とすることがで
きる。これらの処置効果は、ウエスト又は臀部外周減少、臀部リフト、臀部を丸めること
、臀部の引き締め及び／又はセルライト減少を引き起こすことができる。
別の例は、脂肪細胞の数及び体積の減少、筋肉増強、筋肉整形、及び筋肉引き締めを提
供することができる（又は、処置が、最終的にそれをもたらすことができる）大腿部を含
む身体エリアに対する処置デバイス及び方法の適用とすることができる。大腿部を含む身
体エリアに対する処置デバイス及び方法の適用は、大腿部の外周減少、下垂腹の除去、及
びセルライト減少を引き起こすことができる。
更に別の例は、脂肪細胞の数及び体積の低減、筋肉増強、筋肉整形、及び筋肉引き締め
を提供することができる（又は、処置が、最終的にそれをもたらすことができる）腕を含
む身体エリアに対する処置デバイス及び方法の適用とすることができる。腕を含む身体エ
リアに対する処置デバイス及び方法の適用は、腹部の外周減少、下垂腹の除去、及びセル
ライト減少を引き起こすことができる。
１つ以上のターゲット生物学的構造に提供される１つ以上の処置効果は、１つ以上の生
物学的構造内へのＲＦ場の選択的ターゲット設定及び筋肉刺激（筋肉収縮を含む）を引き
起こす磁場の印加とともに加熱を提供することに基づくことができる。ＲＦ処置は、１つ
以上の生物学的構造の選択的加熱、細胞外マトリックスの分極、及び／又は、患者の身体
内の細胞膜電位の変化を引き起こすことができる。磁場は、時変性磁場又は静磁場とする
ことができる。時変性磁場が使用される場合、磁気処置は、時変性磁気処置と呼ぶことが
できる。磁気処置は、筋肉収縮、筋肉弛緩、細胞膜分極、渦電流誘起、及び／又は、１つ
以上のターゲット生物学的構造の少なくとも一部において時変性磁場を生成することによ
って引き起こされる他の処置効果を引き起こすことができる。時変性磁場は、生物学的構
造内に電流を誘起することができる。誘起された電流は筋肉収縮をもたらすことができる
。筋肉収縮は反復的とすることができる。磁場によって提供される筋肉収縮は、過最大収
縮、強縮、及び／又は不完全強縮を含むことができる。さらに、磁場は筋単収縮を提供す
ることができる。
磁気処置及びＲＦ処置の適用による処置デバイスの使用によって提供される処置効果を
組み合わせることができる。例えば、脂肪細胞の数及び体積の減少は、実際の処置中に又
は処置後の時間（例えば３か月又は６か月）中に、筋肉増強、筋肉整形、及び／又は筋肉
引き締めとともに達成することができる。さらに、磁気処置及びＲＦ処置の適用による処
置デバイスの使用によって提供される効果は累積的とすることができる。例えば、筋肉引
き締めは、筋肉増強とともに達成することができる脂肪細胞の数及び体積の組み合わせ式
低減によって達成することができる。
処置方法は、適用される磁気処置と組み合わせてＲＦ場によって提供される熱処置によ
って、少なくとも１つのターゲット生物学的構造（正：at least one target biological
structure）に対する処置効果を提供することができる。ターゲット生物学的構造に対す
る処置効果は、少なくとも１つのターゲット生物学的構造を加熱し、磁気処置によって筋
肉の少なくとも部分的な筋肉収縮又は筋肉収縮を誘発することによって提供することがで
きる。
処置方法は、磁場による筋肉収縮が誘発される身体エリアの加熱を可能にすることがで
きる。加熱は、断裂又は炎症を含む筋肉損傷及び／又は靭帯損傷を最小にすることができ
る。収縮中の筋肉及び／又は隣接する生物学的構造の加熱は、不快な処置の閾値をシフト
することもできる。したがって、ＲＦ場によって引き起こされる加熱は、大量の磁気エネ
ルギーが、より多くの筋肉仕事を行うために、患者の生物学的構造内に送出されることを
可能にすることができる。筋肉及び／又は隣接する生物学的構造の加熱は、筋肉収縮の質
及び／又はレベルを改善することもできる。ＲＦ場によって提供される加熱のために、よ
り多くの筋肉線維及び／又は筋肉線維のより長い部分は、磁気処置中に収縮することがで
きる。加熱は、磁気処置によって生成される筋肉刺激の貫入（penetration）を改善する
こともできる。さらに、少なくとも部分的な筋肉収縮又は筋肉収縮が反復して誘発される
と、不快な加熱の患者の閾値が、より高くシフトする場合もある。閾値のそのようなシフ
トは、より多くのＲＦエネルギーが患者の身体に送出されることを可能にすることができ
る。
加熱と組み合わせた、筋肉弛緩が後続する反復的筋肉収縮は、筋肉刺激（例えば、筋肉
収縮）によって引き起こされる不快な感じを抑制することができる。加熱と組み合わせた
筋肉刺激は、処置後のより良好な再生及び／又は脂肪組織炎及び他の組織損傷のより良好
な防止を提供することができる。
ＲＦ加熱と組み合わせた、筋肉弛緩が後続する反復的筋肉収縮は、（予備試験によれば
）糖尿病の処置及び／又は症状の抑制においてプラスの結果を有することができる。ＲＦ
場による生物学的構造の加熱とともに磁場を提供することによって誘起される反復的筋肉
収縮は、糖尿病症状のアウトカムを改善する又は糖尿病症状薬物処置の結果にプラスに影
響を及ぼすこともできる。糖尿病症状の処置の成功を、患者の腹部エリアに対する深部へ
の大量の無線周波数エネルギーの貫入によって引き起こすことができる。そのような貫入
は、大量のＲＦエネルギー束密度に関連する患者の不快な感じの抑制を引き起こすことが
できる磁気処置と組織内の上昇した温度とのの同期適用によって引き起こすことができる
。また、磁気処置は、患者の身体に対するＲＦエネルギー貫入を増加させることもできる
患者の組織の分極及び脱分極を引き起こすことができる。ＲＦ処置及び／又は磁気処置は
、糖代謝（glucose metabolism）に影響を及ぼす、又は、糖尿病症状を抑制することがで
きる体重減少を支援することができる。糖尿病症状を有する患者の体重減少及び運動が糖
尿病症状を抑制するのを支援することができると考えられている。
磁場による磁気処置と組み合わせたＲＦ場によるＲＦ処置の適用は、筋衛星細胞の増殖
及び筋肉細胞への分化にプラスに影響を及ぼすこともできる。異なる継続時間、反復レー
ト、及び磁束密度を有する期間（例えば、以下で規定するパルス又は列）を含む磁気処置
が、筋衛星細胞の増殖及び分化を開始するために必要とされる刺激を提供することができ
ることを試験が示唆する。
異なる継続時間、反復レート、及び磁束密度を有する少なくとも２つの又は少なくとも
３つの連続する期間（例えば、以下で規定するパルス、バースト、又は列）を含む磁場を
提供する処置方法が筋肉にショックを提供することができることも試験が示唆する。結果
として、筋衛星細胞の増殖及び分化をもたらす再生プロセスを開始し、送出されるＲＦ場
によって更に加速することができる。筋衛星細胞の増殖及び分化は、筋肉増強、筋肉機能
の回復、筋肉体積の増加、並びに、筋肉形状、身体引き締め、又は筋肉引き締めの改善を
もたらすことができる。
同じ身体エリアに対する加熱とともに、少なくとも部分的な筋肉刺激又は筋肉収縮を適
用する方法は、細胞外マトリックスの酸過多をもたらすことができる。酸過多は、脂肪組
織のアポトーシス並びに体重減少及び身体体積減少の加速につながる場合がある。酸過多
を、細胞外マトリックス内への脂肪酸の放出によって引き起こすことができ、脂肪酸の放
出を、集中した高負荷の（concentrated high intensity）筋肉仕事によって引き起こす
ことができる。集中した高負荷の筋肉仕事は、述べた磁場発生デバイス及び処置デバイス
によって生成される時変性磁場の印加によって引き起こされる（正：caused）多数回の反
復的筋肉収縮によって提供することができる。
ＲＦ処置の処置効果は、磁気処置、例えば脂肪組織炎又は局所的皮膚炎症のリスクを低
減する又はなくすことによって高めることができる。なぜならば、処置される含脂肪細胞
のいずれのクラスタリングも、改善された代謝によって防止することができるからである
。改善された血流及び／又はリンパ流は含脂肪細胞を除去することに寄与することができ
る。含脂肪細胞の除去を、多数の細胞が含脂肪細胞を貪食することによっても促進するこ
とができる。磁気処置と無線周波数（ＲＦ）処置の相乗効果は代謝を著しく改善する。し
たがって、有害事象の発生の可能性は制限され、本発明によって誘起される処置結果に、
より短い期間で達する。
処置デバイス及び処置方法は、同じ患者の身体エリアの処置を提供することができ、磁
気処置及びＲＦ処置を、１つ以上の生物学的構造の少なくとも一部にターゲット設定する
ことができる。ターゲット設定されるＲＦ及び／又は磁気処置によって影響を受ける患者
の身体組織の１つ以上の体積は、近接しているものとすることができる。患者の身体組織
の少なくとも１つ以上の影響を受ける生物学的構造の少なくとも一部の体積は、上述した
処置デバイス及び／又は処置方法によって提供される処置効果が起こる、影響を受ける組
織体積として規定することができる。処置効果は、反復的筋肉収縮（例えば、磁気処置に
よって提供される）によって、組織温度の変更（例えば、ＲＦ処置によって提供される）
によって、及び／又は、患者の組織内での分子の少なくとも部分的な分極及び加速（好ま
しくは、ＲＦ処置及び磁気処置によって提供される）によって引き起こすことができる。
組織温度の変更は、例えば、通常の組織温度を基準として、少なくとも３℃又は４℃又は
５℃又は６℃又は７℃又は１０℃の組織温度増加を含むことができる。さらに、組織温度
の変更は、同じ又は異なる身体エリア内に位置する未処置組織と比較して、１℃～５０℃
、２℃～３０℃、又は２℃～２５℃の範囲の組織温度の増加又は減少を含むことができる
。変更された組織温度を、生物学的組織の任意の体積又は任意のエリアにおける温度変化
として解釈することができる。
少なくとも１回のＲＦ処置による及び／又は少なくとも１回の磁気処置による、影響を
受ける組織体積の近接性は、２つの影響を受ける組織体積間の距離を意味する。少なくと
も２つの近接する影響を受ける組織体積は、少なくとも部分的な重なりを有する場合があ
り、影響を受ける小さい方の組織体積の２％～１５％又は５％～３０％又は２％～１００
％又は３０％～６０％又は８０％～１００％又は４０％～８５％が、影響を受ける大きい
方の組織体積に重なる場合がある。同様に、影響を受ける組織の体積間の距離は、０．０
１ｃｍ～１０ｃｍの範囲内、又は、０．０１ｃｍ～５ｃｍ、０．０１ｃｍ～３ｃｍ、若し
くは０．０１ｃｍ～１ｃｍの範囲内にあるものとすることができる。代替的に、上記で述
べた範囲内の重なりは、小さい方の組織体積と大きい方の組織体積との区別なしで、同一
体積を有する、２つ以上の影響を受ける組織体積について当てはまる場合がある。
図１ａ～図１ｅは、処置デバイスの例示的な概略図を示す。これらの図は、主ユニット
及びアプリケーターに対してのみ当てはまることができる。処置デバイスは、入力インタ
ーフェース１０３、制御システム１０４、電力源１０５、電力ネットワーク１０６、１つ
以上の処置クラスター１０７、及び、１つ以上の処置エネルギー源１０８を含むことがで
きる。
複数の処置エネルギー源１０８は、少なくとも１つの処置クラスター１０７に結合する
又はそれと通信することができる。制御システム１０４は、各処置クラスターに結合し、
それと通信することができる。
図１ａ～図１ｅの処置デバイスの示す部分は、回路要素（circuitry）の電気素子とす
ることができる。また、図１ａ～図１ｅの図の１つ以上の示す部分は、複数の個々の電気
素子を含むことができる。電気素子は、個々の電気素子間で電磁（例えば電気）信号を、
生成、伝達、修正、受信又は送信することができる。電磁信号は、電流、電圧、位相、周
波数、包絡線、電流の値、信号の振幅、及び／又はそれらの組み合わせによって特徴付け
ることができる。電磁信号が処置エネルギー源に達すると、それぞれの処置エネルギー源
は、処置エネルギー及び／又は場を生成することができる。
入力インターフェース１０３は、ユーザーからの入力を受信することができる。入力イ
ンターフェースは、ヒューマンマシンインターフェース（ＨＭＩ）を含むことができる。
ＨＭＩは、タッチスクリーンディスプレイを含むこともできる、液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイ、有機ＬＥＤ（ＯＬＥＤ）ディスプレイ等
の１つ以上のディスプレイを含むことができる。ＨＭＩは、処置デバイスを調整又は制御
する１つ以上の制御素子を含むことができる。制御素子は、少なくとも１つのボタン、レ
バー、ダイヤル、スイッチ、ノブ、スライドコントロール、ポインター、タッチパッド、
及び／又はキーボードとすることができる。入力インターフェースは、制御システム、電
力ネットワークと通信する又はそれに結合することができる。
ユーザーは、オペレーター（例えば、医師、技術者、看護師）又は患者自身とすること
ができる。しかしながら、処置デバイスは患者のみが動作させることができる。ほとんど
の場合、処置デバイスを、適切な訓練を受けたユーザーが動作させることができる。ユー
ザーは、患者を除いて、ほとんどの場合、処置前に又は処置中に処置パラメーターに影響
を及ぼす任意の人とすることができる。
制御システム１０４は、マスターユニット又は１つ以上の制御ユニットを含むことがで
きる。制御システムは、入力インターフェース１０３の一体部分とすることができる。制
御システム１０４は、入力インターフェース１０３を通して制御することができる。制御
システムは、処置デバイスの任意の部分又は電気素子を調整又は制御するための１つ以上
の制御要素を含むことができる。マスターユニットは、処置デバイス（例えば、アプリケ
ーター及び／又は主ユニット）の一部、又は、高優先度命令を含むマスタースレーブ通信
を処置デバイスの他の部分に提供するために、ユーザー及び／又は処置デバイスが選択す
ることができる回路要素の電気素子である。例えば、マスターユニットは、制御ユニット
、又は、高優先度命令を処置デバイスの他の部分に提供する入力インターフェースの部分
とすることができる。処置デバイスは、マスタースレーブ通信のチェーンを含むことがで
きる。例えば、処置クラスター１０７は、処置クラスター１０７の電気素子のための命令
を提供する１つの制御ユニットを含むことができ、一方、処置クラスター１０７の制御ユ
ニットは、マスターユニットに対するスレーブである。制御システム１０４は、入力イン
ターフェース１０３、１つ又は全ての電力源１０５、電力ネットワーク１０６、及び／又
は、処置デバイス内に存在する１つ又は全ての処置クラスターと結合又は通信することが
できる。制御システム１０４は、１つ以上のプロセッサ（例えば、マイクロプロセッサ）
又はプロセス制御ブロック（ＰＣＢ：process control blocks）を含むことができる。
電力源１０５は、電気信号を含む電気エネルギーを１つ以上の処置クラスターに提供す
ることができる。電力源は、ＡＣ電圧をＤＣ電圧に変換するモジュールを含むことができ
る。
電力ネットワーク１０６はプラグを示すことができる。電力ネットワークはパワーグリ
ッドに対する接続を示すことができる。しかしながら、電力ネットワークは、パワーグリ
ッドの必要性がない状態での処置デバイスの動作のための電池を示すことができる。電力
ネットワークは、処置デバイス全体及び／又はその複数の部分に対して、動作に必要とさ
れる電気エネルギーを提供することができる。図１ａ～図１ｅの例示的な図上に示すよう
に、電力ネットワークは、電気エネルギーを、入力インターフェース１０３、制御システ
ム１０４、及び電力源１０５に提供する。
処置クラスター１０７は、それぞれの処置エネルギーの生成に関連する１つ以上の電気
素子を含むことができる。例えば、磁気処置のための処置クラスター（ＨＩＦＥＭと呼ば
れる）は、例えば、エネルギー貯蔵素子及びスイッチングデバイスを含むことができる。
別の例の場合、ＲＦ処置のための処置クラスター（ＲＦクラスターと呼ばれる）は、例え
ば、電力増幅器及び／又はフィルターを含むことができる。
処置エネルギー源１０８は、特定の処置エネルギー源を含むことができる。磁気処置の
場合、磁場の処置エネルギー源は、磁場発生デバイス、例えば磁気コイルとすることがで
きる。ＲＦ処置の場合、ＲＦエネルギー（ＲＦ波を含む）の処置エネルギー源はＲＦ電極
とすることができる。
処置デバイスは１つ以上の処置回路を含むことができる。１つの処置回路は、電力源、
１つの処置クラスターの電気素子、及び１つのそれぞれの処置エネルギー源を含むことが
できる。磁気処置の場合、磁気回路は、電力源、ＨＩＦＥＭクラスター、及び磁場発生デ
バイスを含むことができる。ＲＦ処置の場合、ＲＦ回路は、電力源、ＲＦクラスター、及
び磁場発生デバイスを含むことができる。ＲＦ処置のために処置回路内で生成される及び
／又は送信される電磁信号は、ＲＦ信号と呼ぶことができる。１つの処置クラスターのそ
れぞれの電気素子を接続する配線は、それぞれのクラスターに含めることもできる。以下
で詳細に述べる図１ａ～図１ｅの処置クラスターのそれぞれは、ＨＩＦＥＭ、ＲＦ、又は
その組み合わせのうちの任意のものとすることができる。
１つ以上の処置回路及び／又はその複数の部分を、制御システム１０４の任意の部分が
、独立に制御又は調節することができる。例えば、１つの処置回路のＨＩＦＥＭクラスタ
ーの動作の速度を、別の処置回路のＨＩＦＥＭクラスターの動作と独立に調節することが
できる。別の例において、１つの処置回路のＲＦ電極の動作によって送出されるエネルギ
ー束密度の量を、別の処置回路のＲＦ電極の動作と独立に設定することができる。
図１ａは、入力インターフェース１０３、制御システム１０４、電力源１０５、電力ネ
ットワーク１０６、処置クラスターＡ １０７ａ、処置クラスターＢ １０７ｂを含む２
つの処置クラスター、処置エネルギー源Ａ １０８ａ及び処置エネルギー源Ｂ １０８ｂ
を含む処置デバイスの例示的な図を示す。そのような場合、処置デバイスは２つの処置回
路を含むことができる。１つの処置回路は、電力源１０５、処置クラスターＡ １０７ａ
、及び/又は処置エネルギー源Ａ １０８ａを含むことができる。別の処置回路は、電力
源１０５、処置クラスターＢ １０７ｂ、及び/又は処置エネルギー源Ｂ １０８ｂを含
むことができる。処置クラスター１０７ａ及び１０７ｂは互いに通信することができる。
図１ｂは、入力インターフェース１０３、制御システム１０４、電力源Ａ １０５ａ及
び電力源Ｂ １０５ｂを含む２つの電力源、電力ネットワーク１０６、処置クラスターＡ
１０７ａ及び処置クラスターＢ １０７ｂを含む２つの処置クラスター、処置エネルギ
ー源Ａ １０８ａ及び処置エネルギー源Ｂ １０８ｂを含む処置デバイスの例示的な図を
示す。そのような場合、処置デバイスは２つの処置回路を含むことができる。１つの処置
回路は、電力源１０５ａ、処置クラスターＡ １０７ａ、及び/又は処置エネルギー源Ａ
１０８ａを含むことができる。別の処置回路は、電力源Ｂ １０５ｂ、処置クラスター
Ｂ １０７ｂ、及び/又は処置エネルギー源Ｂ １０８ｂを含むことができる。処置クラ
スター１０７ａ及び１０７ｂは互いに通信することができる。
図１ｃは、入力インターフェース１０３、制御システム１０４、電力源１０５、電力ネ
ットワーク１０６、処置クラスターＡ １０７ａ及び処置クラスターＢ １０７ｂを含む
２つの処置クラスター、並びに１つの処置エネルギー源１０８を含む処置デバイスの例示
的な図を示す。そのような場合、処置デバイスは２つの処置回路を含むことができる。１
つの処置回路は、電力源１０５、処置クラスターＡ １０７ａ、及び/又は処置エネルギ
ー源１０８を含むことができる。別の処置回路は、電力源１０５、処置クラスターＢ １
０７ｂ、及び/又は処置エネルギー源１０８を含むことができる。処置クラスター１０７
ａ及び１０７ｂは互いに通信することができる。示す図は、ＲＦ処置及び磁気処置の両方
を提供する磁場発生デバイスを含むことができる。
図１ｄは、入力インターフェース１０３、制御システム１０４、電力源１０５、電力ネ
ットワーク１０６、処置クラスターＡ１ １０７ａ、処置クラスターＡ２ １０７ａａ、
処置クラスターＢ１ １０７ｂ、処置クラスターＢ２ １０７ｂｂを含む４つの処置クラ
スター、並びに、処置エネルギー源Ａ１ １０８ａ、処置エネルギー源Ａ２ １０８ａａ
、処置エネルギー源Ｂ１ １０８ｂ、処置エネルギー源Ｂ２ １０８ｂｂを含む４つの処
置エネルギー源を含む処置デバイスの例示的な図を示す。そのような場合、処置デバイス
は４つの処置回路を含むことができる。第１の処置回路は、電力源１０５、処置クラスタ
ーＡ１ １０７ａ、及び/又は処置エネルギー源１０８ａを含むことができる。第２の処
置回路は、電力源１０５、処置クラスターＡ２ １０７ａａ、及び/又は処置エネルギー
源Ａ２ １０８ａａを含むことができる。第３の処置回路は、電力源１０５、処置クラス
ターＢ１ １０７ｂ、及び/又は処置エネルギー源Ｂ１ １０８ｂを含むことができる。
第４の処置回路は、電力源１０５、処置クラスターＢ２ １０７ｂｂ、及び/又は処置エ
ネルギー源Ｂ２ １０８ｂｂを含むことができる。第１の処置回路及び第２の処置回路の
処置エネルギー源は、１つのアプリケーター内に位置決めすることができ、一方、第３の
処置回路及び第４の処置回路の処置エネルギー源は、別のアプリケーター内に位置決めす
ることができる。
図１ｅは、入力インターフェース１０３、制御システム１０４、電力源Ａ １０５ａ及
び電力源Ｂ １０５ｂを含む２つの電力源、電力ネットワーク１０６、処置クラスターＡ
１ １０７ａ、処置クラスターＡ２ １０７ａａ、処置クラスターＢ１ １０７ｂ、処置
クラスターＢ２ １０７ｂｂを含む４つの処置クラスター、並びに、処置エネルギー源Ａ
１ １０８ａ、処置エネルギー源Ａ２ １０８ａａ、処置エネルギー源Ｂ１ １０８ｂ、
処置エネルギー源Ｂ２ １０８ｂｂを含む４つの処置エネルギー源を含む処置デバイスの
例示的な図を示す。そのような場合、処置デバイスは４つの処置回路を含むことができる
。第１の処置回路は、電力源Ａ １０５ａ、処置クラスターＡ１ １０７ａ、及び/又は
処置エネルギー源１０８ａを含むことができる。第２の処置回路は、電力源Ａ １０５ａ
、処置クラスターＡ２ １０７ａａ、及び/又は処置エネルギー源Ａ２ １０８ａａを含
むことができる。第３の処置回路は、電力源Ｂ １０５ｂ、処置クラスターＢ１ １０７
ｂ、及び/又は処置エネルギー源Ｂ１ １０８ｂを含むことができる。第４の処置回路は
、電力源Ｂ １０５ｂ、処置クラスターＢ２ １０７ｂｂ、及び/又は処置エネルギー源
Ｂ２ １０８ｂｂを含むことができる。第１の処置回路及び第２の処置回路の処置エネル
ギー源は、１つのアプリケーター内に位置決めすることができ、一方、第３の処置回路及
び第４の処置回路の処置エネルギー源は、別のアプリケーター内に位置決めすることがで
きる。
図１ｆは、少なくとも１つのアプリケーター１２に接続又は結合される主ユニット１１
、リモートコントロール１３、更なる処置デバイス１４、及び／又は通信デバイス１５を
含む処置デバイスの個々の部分を示す。更なる処置デバイスは、処置デバイス全体と同じ
独立レベルにあるものとすることができる。
処置デバイスは、リモートコントロール１３を含むことができる。リモートコントロー
ル１３は、安全のために不快ボタンを含むことができるため、患者が処置中に不快を感じ
ると、ユーザーは不快ボタンを押すことができる。不快ボタンが押されると、リモートコ
ントロール１３は、主ユニットに信号を送信し、処置を停止することができる。また、リ
モートコントロール１３は、ヒューマンマシンインターフェース（ＨＭＩ）を通してユー
ザーに通知することができる。不快の間、処置を停止するために、不快ボタンの動作は、
マスターユニットからの命令に優先する（override）ことができる。代替的に、不快ボタ
ンは、主ユニット１１に結合する又はその一部であるものとすることができる。
主ユニット１１は、主ユニット１１が電力供給することができる１つ以上の更なる処置
デバイス１４に結合又は接続することができる。しかしながら、主ユニット１１を含む処
置デバイスは、１つ以上の更なる処置デバイス１４と、ソフトウェアによってペアリング
することができる。また、１つ以上の更なる処置デバイス１４を、それら自身の単数又は
複数のエネルギー源によって電力供給することもできる。通信デバイス１５、更なる処置
デバイス１４、リモートコントロール１３、及び少なくとも１つのアプリケーター１２は
それぞれ、主ユニット１１と通信することができる。通信は、情報を送信すること及び／
又は受信することを含むことができる。通信は、インターネットネットワーク、ローカル
ネットワーク、ＲＦ波、音響波、光波、３Ｇ、４Ｇ、５Ｇ、ＧＳＭ、ＨＵＢスイッチ、Ｌ
ＴＥネットワーク、ＧＳＭネットワーク、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、及び／又は他の通信方法
又はプロトコルによって等で、有線及び／又は無線で行うことができる。
更なる処置デバイス１４は、少なくとも１つのターゲット生物学的構造に対して処置効
果を引き起こすように、少なくとも１つのタイプの処置エネルギー（例えば、ＲＦ場、磁
場、超音波、光、時変式機械式圧力、ショック波、又は電流）を患者の身体に提供するこ
とができる任意のデバイスとすることができる。更なる処置デバイス１４は、少なくとも
１つの処置、例えば、磁気、無線周波数、光、超音波、加熱、冷却、マッサージ、プラズ
マ、及び／又は電気療法（electrotherapy）のために処置エネルギーを生成する少なくと
も１つの電気素子を含むことができる。更なる処置デバイス１４は、主ユニット１１から
の命令なしで、少なくとも１つの処置を提供することができる場合がある。更なる処置デ
バイス１４は、主ユニット１１、通信デバイス１５、及び／又は他の更なる処置デバイス
１４と通信することができる。更なる処置デバイス１４は、同じ会社又は他の会社の任意
の他のデバイスとすることができ、デバイスは、特定の１つ以上のタイプの処置エネルギ
ーを提供することができる。更なる処置デバイス１４は、処置デバイスの拡張部分（exte
nsion）とすることができ、更なる処置デバイス１４は、主ユニット１１のＨＭＩによっ
て規定されたパラメーターによって処置エネルギーを提供することができる。
通信デバイス１５は、有線で及び／又は無線で主ユニット１１に接続することができる
。通信デバイス１５は、ラップトップ若しくはデスクトップコンピューター等のコンピュ
ーター（正：computer）、又は、スマートフォン若しくは電子タブレット等のモバイル電
子デバイスとすることができる。通信デバイスは、処置、処置デバイスの機能にリンクし
た情報、及び／又は他の情報を送信及び／又は受信することができる。更なる処置デバイ
ス１４及び／又は通信デバイス１５は、主ユニット１１と直接的に、又は、１つ以上の更
なる通信デバイス（正：one or more additional communication devices）を通して主ユ
ニット１１と間接的に通信することができる。通信を提供するために、通信デバイスは、
受信機、送信機、及び、送信情報及び／又は受信情報を処理する制御ユニットを含むこと
ができる。
処置デバイスの個々の部分からの又はそこへの送信情報及び／又は受信情報は、通信デ
バイス１５と主ユニット１１との間の通信からのデータ、アプリケーター１２と主ユニッ
ト１１との間の通信からのデータ、更なる処置デバイス１４と主ユニット１１との間の通
信からのデータ、及び／又はリモートコントロール１３と主ユニット１１との間の通信か
らのデータを含むことができる。送信情報及び／又は受信情報は、ブラックボックス、ク
ラウド記憶空間、及び／又は他の記憶デバイスに記憶することができる。ブラックボック
スは、主ユニット１１の一部又は処置デバイスの任意の他の部分とすることができる。他
の記憶デバイスは、ＵＳＢ、他のメモリデバイス、及び／又は内部メモリを有する通信デ
バイスともすることができる。送信情報及び／又は受信情報の少なくとも一部は、ＨＭＩ
によって表示することもできる。送信情報及び／又は受信情報を、ＨＭＩを通してユーザ
ーによって及び／又は制御システムによって自動的に、表示、評価、及び／又は変更する
ことができる。１つのタイプの送信情報及び／又は受信情報は、所定の値若しくは現在の
値、又は１つ以上の処置パラメーターの選択物、又は患者情報とすることができる。患者
情報は、例えば、患者の性別、年齢、及び／又は患者の身体タイプを含むことができる。
送信情報及び／又は受信情報は、通信デバイスのサブセットでもある、サポートセンタ
ー、例えば、サービス及び／又は販売部門のような外部機関に通知することもできる。外
部機関に対する送信情報及び／又は受信情報は、処置デバイスの状態に関する情報、提供
された１つ以上の処置の履歴、処置デバイスの動作履歴、ソフトウェア更新情報、摩耗情
報、ＲＦ電極の耐久性、磁場発生デバイスの耐久性、処置警告、前払い処置（paid treat
ment）又はクレジットの番号の情報等の処置クレジット／ビリング情報、及び／又は、他
の動作及び使用情報を含むことができる。
考えられる１つのタイプの送信情報及び／又は受信情報は、１つ以上のアプリケーター
１２、リモートコントロール１３、更なる処置デバイス１４、及び／又は通信デバイス１
５の接続の認識とすることができる。情報に従って、処置デバイスは、接続された更なる
処置デバイス１４及び／又はアプリケーター１２のタイプを手動で又は自動で認識するこ
とができる。自動認識を制御システムによって提供することができる。１つ以上のアプリ
ケーター１２、更なる処置デバイス１４、及び／又は通信デバイス１５の接続に関する情
報に基づいて、処置デバイスは、ＨＭＩの具体化を提供し、アプリケーターに対する接続
及び／又は新しい処置オプションの考えられる最適化に関する通知を示すことができる。
新しい処置オプションの考えられる最適化は、例えば、少なくとも１つの処置パラメータ
ーの調整、更なる処置エネルギー源の実装、新しい処置エネルギー源のパラメーターの変
更、及び／又は他のものを含むことができる。処置デバイス（例えば、制御システム）は
、新しく接続されたアプリケーター１２及び／又は更なる処置デバイス１４に基づいて処
置パラメーターを自動的に調整する又は処置パラメーターの調整をオファーすることがで
きる。接続されたアプリケーター１２、更なる処置デバイス１４、及び／又は通信デバイ
ス１５の認識は、特定のコネクタ（例えば、特定のピンコネクタ）に基づくことができる
。また、接続の認識は、接続された部分のインピーダンスのような特定の物理的特性によ
って、又は、アプリケーター又はその接続された部分によって主ユニット１１に提供され
る特定の信号によって提供することができる。主ユニット１１、アプリケーター１２、リ
モートコントロール１３、更なる処置デバイス１４、及び／又は通信デバイス１５等の処
置デバイスの個々の部分間の接続は、有線で及び／又は無線で（例えば、ＲＦＩＤタグ、
ＲＦ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、及び／又は光電磁パルスによって）提供することができる。
アプリケーター１２は、十分に電力供給されるためにワイヤによって主ユニット１１に接
続することができる（正：may be connected）。代替的に、アプリケーションは、無線接
続を通して接続されて、主ユニット１１及び／又は通信デバイス１５と通信することがで
きる。接続されたアプリケーター１２、更なる処置デバイス１４、及び／又は通信デバイ
ス１５は、ソフトウェア認識、特定のバイナリＩＤ、処置デバイス内に実装されたリスト
から選択される部分の手作業による認識によって、及び／又は、ペアリングアプリケーシ
ョンによって認識することができる。
主ユニット１１内のコネクタ側は、アプリケーターのコネクタ側及び／又は更なる処置
デバイスのコネクタ側に含まれる情報を読み取る及び／又は認識することができるユニッ
トを含むことができる。読み取った情報及び／又は認識した情報に基づいて、アプリケー
ター及び／又は更なる処置デバイスを、主ユニット１１が認識することができる（正：ma
y be recognized by main unit 11）。主ユニット１１内のコネクタ側は接続の第１の側
のコネクタとして役立つことができ、アプリケーター又は更なる処置デバイスの接続は接
続の第２の側のコネクタとして役立つことができる。情報の送信、情報の受信、及び／又
は第１の側のコネクタによる第２の側のコネクタの認識は、これらの２つのコネクタ側の
間の導電性接触によって、光学的読み取りによって、及び／又は第１の側のコネクタによ
って提供される認識によって受信されるバイナリ情報に基づくものとすることができる。
光学的認識は、例えば、特定のアプリケーター１２についての特定のＱＲコード（登録商
標）、バーコード等の読み取りに基づくことができる。
主ユニット１１内に位置する第１の側のコネクタは、アプリケーター１２及び／又は更
なる処置デバイス１４からのケーブルの第２の側のコネクタ内に実装されるバイナリ情報
を読み取る／認識することができるユニットを含むことができる。第２の側のコネクタ内
の実装された情報を、ＳＤカード内に記憶することができる。そのような実装された情報
に基づいて、処置デバイスの任意の部分を、主ユニット１１が認識することができる。
処置デバイスの個々の部分（例えば、主ユニット１１、リモートコントロール、１つ以
上のアプリケーター、１つ以上の更なる処置デバイス、及び／又は通信デバイスを含む）
の間の通信は、ピアツーピア（peer-to-peer）（Ｐ２Ｐと呼ばれる）及び／又はマスター
スレーブ通信に基づくことができる。Ｐ２Ｐ通信中に、処置デバイスの個々の部分は、そ
のコマンドの同じ優先度を有する、及び／又は、互いの間で直接通信することができる。
Ｐ２Ｐ通信は、処置デバイスの接続された個々の部分の初期認識中に使用することができ
る。Ｐ２Ｐ通信は、通信デバイス間等、処置中に処置デバイスの幾つかの部分間で使用す
ることができる。
マスタースレーブ通信は、個々の患者の各処置中に、各処置前に、及び／又は各処置後
に、少なくとも短時間、処置デバイスの個々の部分間で使用することができる。マスター
スレーブ通信中、処置デバイスの１つの部分は、最高優先度を有するコマンドを提供する
ことができる。処置デバイスの個々の部分、例えば主ユニット１１は、最高優先度を有す
るコマンドを提供することができ、マスターユニットと呼ばれる。処置デバイスは、電力
源及び／又は１つ以上の制御ユニット等の、個々の電気素子間に少なくとも１つのマスタ
ースレーブ通信を含むことができ、１つ以上の制御ユニットはマスターとして働く。
マスターユニットを、処置前に、処置後に、及び／又は処置中にユーザーが選択するこ
とができる。ユーザーは、処置デバイスの利用可能な個々の部分又は電気素子からマスタ
ーユニットを選択することができる。したがって、ユーザーは、主ユニット１１、アプリ
ケーター１２、リモートコントロール１３、更なる処置デバイス１４、又は通信デバイス
１５をマスターユニットとして選択することができる。マスターユニットは、処置デバイ
スの個々の部分内に存在する制御ユニット、例えば、主ユニット１１内の制御ユニットと
することができる。ユーザーは、処置パラメーターの調整を容易にするために、マスター
ユニットを選択することができる。ユーザーは、通信デバイス１５をマスターユニットと
して選択することもでき、マスターデバイスとして選択された通信デバイスは２つ以上の
処置デバイスの制御を提供することができる。主ユニット１１は、マスターユニットとし
て制御ユニットを含むことができ、マスターユニットは、患者の温度、処置デバイスの個
々の要素上の電圧、及び／又は他のもの等の処置の少なくとも１つのパラメーターをモニ
ターし評価し、両者の間に接続があっても安全な処置を提供することを可能にする。また
、マスターユニットは、ヒューマンマシンインターフェースの外にある独立した電気素子
とすることができる。マスターユニットは、ヒューマンマシンインターフェースを通して
ユーザーが制御することができる。
代替的に、マスターユニットを、処置デバイスの接続された部分の所定の優先度値に基
づいて自動的に選択することができる。選択されたマスターユニットは、不変のままとす
ることができ、処置デバイスの既に選択された部分は、全体の処置の間、マスターユニッ
トとして働くことができる。しかしながら、マスターユニットの選択は、コマンド優先度
及び／又はユーザーの選択に基づいて処置中に変更することができる。マスターユニット
を、製造上の構成（manufacturing configuration）に従って決定する又はファクトリー
リセット（factory reset）に頼ることもできる（正：may be dependent）。例えば、リ
モートコントロール１３は、患者が不快を感じると処置を停止する、最高優先度を有する
コマンドを提供することができ、処置は、処置デバイスのどの個々の部分がマスターユニ
ットとして設定されたか、及び、設定された処置パラメーターによらずに停止されること
になる。
図２～図５は、主ユニット１１と、１つ以上のアプリケーター１２、リモートコントロ
ール１３、更なる処置デバイス１４、及び／又は通信デバイス１５との間の通信において
使用することができる幾つかの考えられるマスタースレーブ通信スキームを示す。図２に
よれば、１つ以上の治療発生器２０１は、ＲＦ電極及び／又は磁場発生デバイス等の処置
エネルギー源に信号を提供するために、修正された電気信号を生成する。治療発生器２０
１は、処置デバイス及び／又は主ユニットの回路要素内に存在する電気素子の群又は電気
素子の群の少なくとも２つの部材を含むことができる。電気素子の群は、制御ユニット、
電力源、同軸ケーブルのシステム、１つ以上のスイッチ、１つ以上のエネルギー貯蔵デバ
イス、１つ以上のピンダイオード、１つ以上のＬＣ回路、１つ以上のＬＲＣ回路、１つ以
上の電力増幅器、及び／又は制御された方式で電気信号を積極的に修正する処置デバイス
の他の部分を含むことができる。治療発生器は、制御された方式で電気信号の修正を行う
ことができる。
制御された方式で電気信号を修正することは、例えば、患者の組織及び／又はＲＦ電極
にわたって測定されるインピーダンス整合に基づいて、提供されるＲＦ処置のインピーダ
ンス調整を提供すること及び／又は制御することを含むことができる。積極的に修正され
る電気信号は、電気信号が、周波数、対称化、振幅、電圧、位相、強度等のような異なる
パラメーターを有することができるように解釈することができる。電気信号のパラメータ
ーは、患者のタイプ、処置パラメーターを含む処置の要件に基づくものとすることができ
る。さらに、電気信号のパラメーターは、ＲＦエネルギーの測定された定在波（standing
wave）比、組織の温度、ＲＦ電極の温度、アプリケーターの内部の温度、アプリケータ
ーの表面の温度、処置デバイスの個々の素子の電流及び電圧、及び／又は他のもの等のフ
ィードバック情報に基づいて修正することができる。
図２の図は、処置デバイス通信に対する権限のないいずれの侵入も防止し、個人のユー
ザーデータ及び／又はアカウントを保護するセキュリティ２０３を示す。セキュリティ２
０３は、コンピューターウィルス、権限のないアクセスから処置デバイスを保護する、及
び／又は、権限のない媒体又は人による読み取り又は変更から、処置デバイスの個々の部
分間の通信を保護することができる。セキュリティ２０３は、通信、及び／又は、処置デ
バイス及び／又は通信内への望ましくないバイナリコードの侵入を防止するアンチウィル
スサービスにおいて使用される情報のコーディングを提供することができる。セキュリテ
ィ２０３は、通信中に生成される誤りを訂正することができる。セキュリティ２０３は、
処置デバイスに対する、権限のない／望ましくない外部デバイスの接続を遮断することが
できる。
図２のセキュリティ２０３は、通信図内でマスターユニット２０２と通信インターフェ
ース２０４との間に位置することができる。セキュリティ２０３は、素子ユーザー２０８
、サービス２０７、及び／又は販売２０６の一部とすることもできる。セキュリティ２０
３は、通信インターフェース２０４と通信媒体２０５、治療発生器２０１との間に位置す
ることもできる、及び／又は、それらの一部とすることができる。
通信インターフェース２０４は、処置デバイス及び／又は他の通信側又は媒体の少なく
とも２つの部分の間での通信を可能にするために、電気、電磁、赤外、及び／又は他の信
号を、読み取り可能な形態に変換することを可能にするハードウェア及び／又はソフトウ
ェアコンポーネントを含むことができる。通信インターフェース２０４は、情報及び／又
はデータの通信及び／又はコーディングを提供することができる。通信インターフェース
２０４は、例えば、処置デバイスとオンラインネットワーク又はサーバーとの間で通信を
提供するモデム又はＧＳＭモジュールとすることができる。通信インターフェース２０４
は、マスターユニット２０２、治療発生器２０１の一部、及び／又は処置デバイスの他の
部分とすることができる。
通信媒体２０５は通信データを伝達する媒体とすることができる。通信媒体２０５は、
処置デバイスと、ユーザー２０８、サーバー２０７、及び／又は販売２０６との間の通信
において使用することができる。通信媒体２０５は、ワイヤ、ＳＤカード、フラッシュメ
モリ、同軸ワイヤ、任意の導電性接続、サーバー、ＲＦ波、音響波、光学波、ＧＳＭ、３
Ｇ、４Ｇ、５Ｇ、ＨＵＢスイッチ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、ＷｉＦｉ等の一定の法則に従う
（on principle）或る種のネットワーク、及び／又は１つ以上のサーバーを含むことがで
きる他の媒体とすることができる。
通信データ／情報は、処置デバイスの個々の部分に、及び／又は、ユーザー２０８、サ
ービス２０７、及び／又は販売２０６等の個々のユーザー又はサービスにリダイレクトす
ることができる。通信データ／情報を、マスターユニット２０２、通信媒体２０５、及び
／又は治療発生器２０１がリダイレクトすることができる。例えば、サーバーは、ユーザ
ー２０８のためのデータをフィルタリングし、サービス２０７制御ユニット及び／又は処
置デバイスの他の部分にリダイレクトすることになる他の通信情報をフィルタリングする
ことができる。
図２の「ユーザー２０８」と呼ぶ要素は、ユーザーによって制御されるＨＭＩの表現と
することができる。代替的に、図２の「ユーザー２０８」と呼ぶ要素は、ユーザーによっ
て制御される他の通信デバイス（パーソナルコンピューター、ラップトップ、モバイル、
タブレット等）の表現とすることができ、通信デバイスは、処置デバイスの少なくとも１
つの部分に情報を送信する、及び／又は、処置デバイスの少なくとも１つの部分から情報
を受信することができる。この通信チャネルによって提供される情報は、或るタイプの処
置プロトコル、処置効果に関する情報、１つ以上の処置パラメーターの実際の値及び／又
は所定の値、フィードバック情報、処置される身体エリアの選択、処置前の及び処置後の
行動の推奨、及び／又は他の情報とすることができる。情報の少なくとも一部は、モバイ
ルフォン、タブレット、又はラップトップ用のソフトウェアアプリケーションによって等
で、処置デバイスを制御するユーザーに、又同様に患者に送信することができる。
図２のサービス２０７は、処置デバイスに関する情報に対する権限のあるアクセスを有
するサービス部門を示すことができる。サービス２０７は、処置デバイスを提供又は製造
する会社のサービス部門とすることができ、会社のサービス部門とユーザーとの間の通信
は、ＨＭＩ、通信デバイスを通して、及び／又は事前にプログラムされたソフトウェアイ
ンターフェースを通して自動的に提供することができる。この通信チャネルによって提供
される情報は、処置デバイスの個々の電気素子の摩耗、任意のＲＦ電極及び／又は磁場発
生デバイスの耐久性、個々の電気素子の機能不全、考えられるソフトウェア最適化、及び
／又は、別の更なる処置デバイス及び／又は他のものの接続のためのアプリケーションを
提供するデバイスの具体化を含むことができる。処置デバイスの最適化及び／又は具体化
は、例えば、処置デバイスソフトウェアに対するリモートアクセス及び／又はエラーの修
復を含むことができる。
図２の販売２０６は、処置デバイスに関する情報に対する権限のあるアクセスを有する
販売部門とすることができる。販売２０６は、処置デバイスに付加することができる或る
タイプのアクセサリーについてユーザーに通知することができる。さらに、販売２０６は
、プラグインモジュールの販売を仲介する及び／又は処置デバイスのアクセサリーの販売
を仲介することができる。さらに、販売２０６は、ビリング及びレンティングシステム（
billing and renting system）とリンクしたオファーを提供することができる。販売２０
６への又は販売２０６からの通信によって交換される情報は、例えば、処置の回数、処置
の時間、及び／又は、適用される処置のタイプ、アプリケーターに関する情報、及び／又
は、他のものとすることができる。
処置デバイスは、処置履歴に関するデータ、動作履歴、処置デバイスの個々の部分間の
通信、ビリング及びレンティングシステムからの又はそこのためのデータ、動作エラー、
及び／又は他の情報を記憶するためのブラックボックスを含むことができる。データは、
通信媒体（例えば、ストレージクラウド及び／又はサーバー）を介して販売２０６にとっ
て、サービス２０７にとって、及び／又はユーザー２０８にとってアクセス可能とするこ
とができる。処置デバイスは、処置デバイス及び／又はそれぞれの更なる処置デバイスを
使用するための料金を管理するビリング及びレンティングシステムを含むことができる。
ビリング及びレンティングシステムは、そのような情報をプロバイダーに送信して、ビリ
ングインボイス（billing invoice）を準備することができる。ブラックボックスからの
データを、管理者アクセスを有するサービス技術者、会計係、及び／又は他の人等の、検
証された権限のある人員がダウンロードすることができる。権限のある人の検証は、特定
の鍵、パスワード、数ビットのソフトウェアコードによって、及び／又は、特定の相互接
続ケーブルによって提供することができる。
ビリング及びレンティングシステムは、ユーザーアカウントから差し引かれるクレジッ
トに基づくことができる。クレジットを、処置デバイスのプロバイダー、例えば、処置デ
バイスの生産者が予め規定することができる。クレジットを、処置デバイスが動作中であ
る時間中に再チャージすることができる、及び／又は、ユーザー及び／又はプロバイダー
の１つ以上の処置デバイスにリンクしたオンラインアカウントに再チャージすることがで
きる。クレジットを、選択された処置プロトコル又は身体エリアに従って差し引くことが
できる。個々の１回以上の処置及び／又は処置の一部についてのクレジット値を、処置が
開始する前に、処置中に、及び／又は処置後にユーザーに表示することができる。ユーザ
ーのアカウント内のクレジットが底を突いた場合、処置デバイスは、クレジットが再チャ
ージされるまでいずれの更なる処置も使用可能にすることができない。クレジットは、個
々の処置のために交換される通貨として使用することができ、異なる処置は、処置のタイ
プ、処置の継続時間、使用されるアプリケーターの数、及び／又は他の要因に基づいて異
なる量のクレジットを要する場合がある。クレジットは、処置デバイスの個々の部分、処
置デバイス全体、処置デバイスのハードウェア又はソフトウェア拡張機能、及び／又は処
置デバイスに属する他の消耗品及びスペア部品を賃借又は購入するために使用することも
できる。クレジットシステムを再チャージすることができるインターフェースは、処置デ
バイスの一部、ＨＭＩである及び／又はウェブサイトインターフェースを通してオンライ
ンアクセス可能であるものとすることができる。
１つ以上のソフトウェア拡張機能（例えば、ソフトウェアアプリケーション）は、処置
デバイス及び処置方法とリンクすることができる。１つ以上のソフトウェア拡張機能は、
スマートフォン、タブレット、コンピューター、及び／又は他の電子デバイス等の任意の
通信デバイスにダウンロードすることができる。ソフトウェア拡張機能は、処置デバイス
の主ユニット及び／又は他の部分と通信することができる。インストールされたソフトウ
ェア拡張機能を有する通信デバイスは、１つ以上の処置パラメーター又は処置に関連する
情報を表示又は調整するために使用することができる。そのような表示可能な処置パラメ
ーター又は処置に関連する情報は、例えば、処置の時間経過、個々の処置前の及び／又は
処置後の処置された身体エリアの測定されたサイズ、印加されたバースト又は列の概略図
、処置の残りの時間、患者の心拍数、患者の身体の温度、例えば身体表面の温度、提供さ
れる処置のタイプ、処置プロトコルのタイプ、以前の処置に対する患者の身体パラメータ
ーの比較（例えば、体脂肪率（body fat percentage））、及び／又は処置の実際の処置
効果（例えば、筋肉収縮又は筋肉弛緩）を含むことができる。ソフトウェア拡張機能は、
処置のスケジュール、個々の処置間のマッピング経過、他の人々と比較した処置結果のパ
ーセンタイル値、及び／又は、処置前の及び／又は処置後の行動の推奨を患者に通知する
ために患者に提供することもできる。行動の推奨は、例えば、１日の間に患者がどれだけ
の体積の水を飲むべきか、患者の規定食はどのようなものにするべきか、処置前に及び／
又は処置後にどのタイプでかつどれだけの量の運動を患者が行うべきかについての推奨（
正：recommendation of）、及び／又は、処置の結果を改善することができる他の情報を
含むことができる。
治療発生器２０１、マスターユニット２０２、セキュリティ２０３、通信インターフェ
ース２０４、通信媒体２０５、ユーザー２０８，サービス２０７、及び／又は販売２０６
等の、通信図の個々の要素間の通信は、双方向又は多方向とすることができる。
ユーザー２０８、サービス２０７、販売２０６、通信媒体２０５の間の接続、及び／又
は、治療発生器２０１とマスターユニット２０２との間の接続は、安全な通信を提供し、
エラーをなくすためにセキュリティ２０３によってセキュア化することができる。セキュ
リティ２０３は、マスターユニット２０２と通信インターフェース２０４との間に及び／
又は通信媒体２０５と通信インターフェース２０４との間に位置することができる。
図３に示すように、ユーザー２０８、サービス２０７、及び／又は販売２０６と処置デ
バイスとの間のリモートアクセス通信の別のオプションを、サーバー３０１が提供するこ
とができる。サーバー３０１はセキュリティ２０３を含むことができる。セキュリティ２
０３は、ユーザー２０８、サービス２０７、及び／又は販売２０６の個々のアクセスにお
いて実装することができる。
図４に示すように、通信媒体２０５は１つ以上の治療発生器２０１と通信することがで
きる。１つ以上の治療発生器２０１はマスターユニット２０２と通信することができる。
通信媒体２０５からの情報は、治療発生器２０１がマスターユニット２０２に情報を送信
する前に、セキュリティ２０３によって検証することができる。
図５は、通信媒体２０５と１つ以上の治療発生器２０１Ａ～２０１Ｄとの間の通信の概
略図を示す。治療発生器Ａ ２０１Ａは、少なくとも１つ以上の治療発生器２０１Ｂ～２
０１Ｄと通信することができる。別の治療発生器Ｂ ２０１Ｂは、１つ以上の治療発生器
２０１Ａ、２０１Ｃ、２０１Ｄと通信することもできる。治療発生器Ｃ ２０１Ｃは、治
療発生器Ａ ２０１Ａと直接通信することができず、治療発生器Ｂ ２０１Ｂを通して通
信することができる。セキュリティ２０３は、各治療発生器２０１Ａ～２０１Ｄの間及び
／又は治療発生器２０１Ａと通信媒体２０５との間の通信経路内に存在することができる
。
図６は、処置デバイスの主ユニット１１を示す。主ユニット１１は、ＨＭＩ６１、ベン
チレーターグリッド６２、少なくとも１つのアプリケーターホルダー６３ａ及び６３ｂ、
少なくとも１つのデバイスコントロール６４、アプリケーターコネクタ６５ａ及び６５ｂ
、少なくとも１つの主電源入力６６、主ユニット１１の湾曲カバー６７、ホイール６８、
主ユニットカバー開口６９、主ユニットハンドル７０、及び／又はロゴエリア７１を含む
ことができる。主電源入力６６は、パワーグリッド又は電力ネットワークに対する結合又
は接続を提供することができる。
処置デバイスのベンチレーターグリッド６２は、ワンピースとして設計することができ
る、及び／又は、熱消散を提供するために複数のベンチレーターグリッド６２に分割する
ことができる。ベンチレーターグリッド６２は、主ユニット１１を動作させる人の方に向
くこともでき、床に向くとともに目に見えないものとすることもでき、及び／又は、ベン
チレーターグリッド６２は、主ユニット１１の側面に存在することができる。ベンチレー
ターグリッドの床に向く位置付けは、患者のために耳ざわりなノイズを最小にするために
使用することができ、これはなぜならば、電気エネルギーによって駆動される、主ユニッ
ト１１及び／又は電気素子の冷却のようなプロセスがノイズを生成する場合があるからで
ある。主ユニット１１の表面上の全てのベンチレーターグリッド６２の表面積は、１００
ｃｍ２～１５０００ｃｍ２、又は２００ｃｍ２～１０００ｃｍ２、又は３００ｃｍ２～８
００ｃｍ２の範囲内にあるものとすることができる。
主ユニット１１による操作は、主ユニット１１の底部上でホイール６８を回転させるこ
とによって及び／又は主ユニットハンドル７０によって行うことができる。処置デバイス
を提供する会社のロゴエリア７１は、主ユニットハンドル７０の下に及び／又は湾曲カバ
ー６７及びＨＭＩ６１上の任意の場所に位置することができる。
図６に示すように、患者に向く主ユニット１１の前側は主ユニットの湾曲カバー６７と
して設計することができる。患者に向く主ユニット１１の前側は、主ユニット１１の床面
投影に従って直角を持たないとすることができる。患者に向く主ユニット１１の前側は、
主ユニット１１の内部をカバーする１つ、２つ、又はそれより多い数のピースとして設計
することができる。湾曲して向かい合う側を有する主ユニット１１は、患者の支持体の近
くで主ユニット１１自身の操作を改善することができ、主ユニット１１と患者の種々の傷
つきやすい身体部分（例えば、指）との間の衝突（正：collision between）のリスクが
最小にされる。主ユニット１１の向かい合う側は、主ユニットカバー開口６９を含むこと
もできる。主ユニットカバー開口６９は、患者又は処置される身体エリアの温度をモニタ
ーするサーマルカメラ、１つ以上のアプリケーターの場所、患者及び／又は他のものの移
動をモニターするカメラを含むことができる。主ユニットカバー開口６９は、主ユニット
の湾曲カバー６７内の開口によって示すことができる。主ユニットカバー開口６９は、更
なる処置デバイスに接続する１つ以上のコネクタを含むことができる。さらに、主ユニッ
トカバー開口６９は、患者の移動、処置される身体及び／又は生物学的構造の加熱をスキ
ャンする、カメラ、赤外センサー等の１つ以上のセンサーを含むことができる。そのよう
なセンサーからの情報に基づいて、１つ以上の処置パラメーターの実際の値及び／又は所
定の値は、患者が移動するとき、皮膚表面が温度閾値限界に達するとき、又は処置される
身体エリア及び／又は他のものが決定されるとき、最適化することができる。主ユニット
１１の前側は、１つ以上のアプリケーターコネクタ６５ａ及び／又は６５ｂを含むことも
できる。
患者に向くアプリケーターコネクタ６５ａ及び６５ｂは、オペレーター（例えば、医師
又は技術者）に向く側に接続されたアプリケーターよりも患者の身体に近いものとするこ
とができる。したがって、アプリケーターを主ユニット１１に接続する接続管８１４の長
さを最小にすることができる。より短い接続管８１４によって接続される１つのアプリケ
ーター及び／又は複数のアプリケーターを用いた操作は、より長い接続管８１４によって
接続されるアプリケーターを用いた操作よりも容易とすることができる。主ユニット１１
の前側は、角部及び／又は角度を全く持たない場合があり、少なくとも部分的に楕円の及
び／又は円形の湾曲を含むことができる。湾曲は、２０ｃｍ～１５０ｃｍ、３０ｃｍ～１
００ｃｍ、３０ｃｍ～７０ｃｍ、又は４０ｃｍ～６０ｃｍの範囲内の曲率半径を有するこ
とができる。主ユニット１１前側湾曲の角度は、３０度～２００度、又は５０度～１８０
度、又は９０度～１８０度の範囲内にあるものとすることができる。湾曲の角度は、以下
で更に詳細に論じる図２３のセクション２６の角度３０が規定されるのと同じ原理に従っ
て規定することができる。
主ユニット１１は、１つ以上のアプリケーターホルダー、例えば、６３ａ及び６３ｂを
含むことができる。代替的に、１つ以上のアプリケーターホルダーは主ユニット１１に結
合することができる。各アプリケーターホルダー６３ａ及び６３ｂは、異なるタイプのア
プリケーターについて特定の設計を有することができる。アプリケーターホルダー６３ａ
及び６３ｂはそれぞれ、単一のアプリケーター１２ａ又は１２ｂを保持することができる
。各アプリケーターホルダー６３ａ、６３ｂは幾つかの機能を有することができる。例え
ば、アプリケーターホルダー６３ａ及び６３ｂは、アプリケーターの少なくとも一部の予
熱又は予冷のために使用することができる。さらに、アプリケーターホルダー６３ａ及び
６３ｂは、別のＨＭＩを含み、選択された処置に関する情報、１つ以上の処置パラメータ
ーの実際の値及び／又は所定の値を表示するために使用することができる。また、アプリ
ケーターホルダー６３ａ及び／又は６３ｂは、アプリケーターが使用する準備ができてい
るか否かの指示を提供することができる。さらに、アプリケーターホルダー６３ａ及び／
又は６３ｂは、アプリケーターの少なくとも一部の温度の現在値（正：current value of
temperature）を示すことができる。その指示は、色点滅又は振動で提供することができ
る。アプリケーターホルダー６３ａ及び／又は６３ｂは、１つ以上の処置パラメーター及
び／又は患者に接触するアプリケーターの部分の温度等のアプリケーターパラメーターの
実際の値及び／又は所定の値を設定するために使用することができる。
主ユニット１１は、主ユニット１１をスイッチオン及びオフするための、電力入力パラ
メーターの手動設定のための、及び／又は他の機能のためのデバイスコントロール６４を
含むことができる。アプリケーターコネクタ６５ａ及び６５ｂは、主ユニット１１及びア
プリケーターからの電気及び／又は電磁信号の伝達のために使用することができる。アプ
リケーターコネクタ６５ａ及び６５ｂは、１つ以上のアプリケーター（接続管８１４によ
る）、通信デバイス、更なる処置デバイス及び／又は、ＵＳＢ、ＳＳＤディスク等のメモ
リ記憶デバイス、診断デバイス、及び／又は現在の技術水準において知られている他のメ
モリ記憶デバイスの接続のために使用することができる。１つ、２つ、又はそれより多い
数のアプリケーターの接続のためのアプリケーターコネクタ６５（例えば、６５ａ及び／
又は６５ｂ）は、主ユニット１１内に又は主ユニット１１の側面に位置することができる
。同軸ケーブルの長さは、送信される電気信号の周波数にリンクすることができる。１つ
以上のアプリケーター１２ａ及び／又は１２ｂを用いたより容易な操作を提供するために
、主ユニット１１から、例えばアプリケーター１２ａ（したがって、接続管８１４）まで
の接続の長さは、できる限り長くあるべきである。しかしながら、主ユニット１１内の電
気素子間の少なくとも１つの同軸ケーブルの長さは、少なくとも処置エネルギー源（例え
ば、ＲＦエネルギーを提供するＲＦ電極）に送信される送信電気信号（例えば、ＲＦ信号
）の周波数とリンクすることができる。したがって、主ユニット内の（例えば、電力源と
アプリケーターコネクタ６５ａ及び／又は６５ｂとの間の）少なくとも１つの同軸ケーブ
ルの長さは、できる限り短いものとすることができる。主ユニット１１内に位置する同軸
ケーブルの長さは、３ｃｍ～４０ｃｍ、又は７ｃｍ～３０ｃｍ、又は１０ｃｍ～２０ｃｍ
の範囲内にあるものとすることができる。主ユニット１１に接続された１つ以上のアプリ
ケーター１２ａ又は１２ｂを用いた操作を最適化するために、アプリケーターコネクタ６
５ａ及び６５ｂは、主ユニット１１の湾曲した前側上に位置することができる。
ＨＭＩ６１は、１つ以上の処置パラメーターの実際の値及び／又は所定の値を示すタッ
チスクリーンディスプレイを含むことができる。タッチスクリーンは、表示された処置パ
ラメーターを選択する及び／又はそれらを調整するオプションを提供することができる。
ＨＭＩ６１は、２つの表示セクション６１ａ及び選択セクション６１ｂに分割することが
できる。表示セクション６１ａは、１つ以上の処置パラメーターの実際の値及び／又は所
定の値並びにユーザーのための他の情報を表示することができる。ＨＭＩ６１の選択セク
ション６１ｂは、処置パラメーターの選択及び／又は処置の他の調整のために使用するこ
とができる。ＨＭＩは、１つ以上のアプリケーター１２、主ユニット１１、更なる処置デ
バイス１４、及び／又は他の１つ以上の通信デバイス１５に含まれる、それに結合される
、又はその一部とすることができる。
ＨＭＩを主ユニット１１内に含めることができる。ＨＭＩは、主ユニット１１上におい
て水平向きで固定することができ、又は、ＨＭＩ６１は、床又は他の水平支持表面に対し
て０度～９０度だけ方向付け又は傾斜することができる。ＨＭＩ６１平面と床との間の角
度は、少なくとも１つの継手によって調整することができる、又は、少なくとも１つのデ
カルト座標の周りで回転することができる。ＨＭＩ６１は、取り外し可能なＨＭＩ、例え
ばタブレットの形態であるものとすることができる。ＨＭＩ６１は、主ユニット１１から
のＨＭＩ６１の距離、及び／又は、主ユニット１１及びユーザーに対するＨＭＩ６１の向
きを調整することができるホルダーによって、１つ、２つ、又は３つのデカルト座標に従
って、伸縮式に及び／又は回転式に調整することができる。ホルダーは、少なくとも１つ
、２つ、又は３つの実装された継手部材を含むことができる。
１つのＨＭＩ６１は、プロバイダーによって提供される２つ以上のタイプの処置デバイ
スのために使用することができる。ＨＭＩソフトウェアインターフェースは、主ユニット
ソフトウェアの一部、又は、１つ以上の更なる処置デバイス及び／又は通信デバイスに含
まれるソフトウェアの一部とすることができる。ソフトウェアインターフェースは、通信
デバイス、更なる処置デバイス、フラッシュメモリデバイスとの接続、販売、サービス、
及び／又はインターネットとのリモート接続によってダウンロード及び／又は具体化する
ことができる。
図２６は、主ユニット１１の内部の例示的なレイアウトを示す。主ユニット１１の内部
は、複数の電気素子制御システム、１つ以上の制御ＲＦ回路、磁気回路、及び／又は処置
デバイスの訂正機能のために必要とされる他の要素を含むことができる。主ユニット１１
内の個々の要素の位置付けは、患者に向く前側の底部縁をゼロ値とするデカルト座標によ
って記述することができる。主ユニット１１は、１つ以上のストラット７４を含むことが
できる。少なくとも２つのストラット７４は、他の垂直ストラット７４に対してその端で
固定することができるＸ形状を作成して、主ユニット１１のための構成を作成することが
できる。主ユニット１１は、１つ以上の制御ユニット、ＰＣＢ、電力源、スイッチ、エネ
ルギー貯蔵デバイス等の電気素子、及び／又は処置デバイスの他の電気素子を冷却するよ
うに構成される少なくとも１つの冷却システム７８を含むことができる。冷却システム７
８は、アプリケーターに提供される冷却流体を提供及び／又は冷却するために使用するこ
とができる。ＳＹＭ要素７９は、Ｚ座標の上部３分の１でかつＹ座標によらずＸ座標の最
初の３分の１のところに位置することができる。ＳＹＭの機能は以下で説明される。主ユ
ニット１１は、アルミニウム又は他の金属材料から形成される１つ以上のケース７２を含
むこともできる。１つ以上のケース７２は、主ユニット１１の１つ以上の内部部分の、主
ユニット１１の他の部分からの電気絶縁、電磁絶縁、及び／又は放射絶縁（以降で単に絶
縁）を提供することができる。例えば、ＲＦ回路７３の少なくとも一部は、ケースのうち
の１つのケース内でＸ座標及びＺ座標の最後の３分の１のところに位置することができる
。ＲＦ回路及び／又は磁気回路の少なくとも一部に電力供給する電力源７５は、Ｘ座標の
最後の３分の１でかつＺ座標の最初の３分の１のところに位置することができる。エネル
ギー貯蔵デバイス７６を、１つ以上のＲＦ回路から少なくとも部分的に絶縁することがで
きる。複数の磁気回路が使用されるとき、複数の磁気回路を、互いから少なくとも部分的
に絶縁することができる。上記で述べたように、エネルギー貯蔵デバイス７６からアプリ
ケーターコネクタ６５につながる同軸ケーブルの短い長さを確実にするために、両方の要
素（エネルギー貯蔵デバイス７６及びアプリケーターコネクタ６５、例えば６５ａ）は、
Ｘ座標及びＺ座標の最初の半分のところ等、Ｘ座標及びＺ座標の同じ半分のところに位置
することができる。磁気回路のボックス７７によって示される他の電気素子は、Ｘ座標の
最初の半分でかつＺ座標の３分の２のところに位置することができる。
図７は、ＨＭＩ６１の例示的なディスプレイインターフェース７００を示す。ＨＭＩ６
１は、１つ以上のアプリケーターシンボル７０１を表示することができる。１つ以上のア
プリケーターシンボル７０１及びそれらの色は、利用可能な又は接続されたアプリケータ
ー、主ユニット１１に接続された及び／又は処置に関わる更なる処置デバイスの接続品質
、数、及び／又はタイプを表すことができる。リスト７０２は、処置プロトコルのリスト
を記録又は調整することができるページ又は異なるディスプレイレイアウトにリダイレク
トすることができる。処置プロトコルのリスト７０２は、１つ以上の処置パラメーター（
例えば、磁場の強度、ＲＦ場の強度、磁気インパルスの強度、磁気パルスの強度、パルス
継続時間、バースト継続時間、個々のバーストの組成、デューティサイクル、包絡線の形
状、処置の時間、処置部分の組成、処置中の生物学的構造の閾値温度、及び／又は他のパ
ラメーター）の１つ以上の所定の値を含むことができる。処置パラメーターのリストは、
個々の患者又は身体エリアについて最適化された１つ以上の保存された処置プロトコルを
含むことができる。処置プロトコルを選択した後、処置パラメーターを、ユーザーによっ
て更に最適化することができる。また、処置パラメーターを、患者の身体タイプ（例えば
、痩せこけた、ほっそりした、平均体重、太りすぎ、又は肥満）、又は、患者のＢＭＩ、
性別、年齢層（例えば、３０歳未満、３０歳～３９歳、４０歳～４９歳、５０歳～５９歳
、６０歳以上）等の更なる患者のパラメーターを選択することによって調整することがで
きる。また、処置パラメーターを、処置プロトコルの一部のみを選択することによって更
に最適化することができる。
ＨＭＩ６１は、幾つかの機能を有することができる１つ以上のスライダーを含むことが
できる。例えば、スライダー７０３は、リスト７０２、治療アイコン７０４、又はレコー
ド（records）７０７等、インターフェースのどのページを使用するかを選択するための
ナビゲーターとして使用することができる。また、スライダー７０３は、処置の終了まで
にどれだけの時間が残っているかを示すために使用することができる。
治療アイコン７０４は図７に示すインターフェースを示すことができる。タイマー７０
５は、処置継続時間、処置の残りの時間、及び／又は処置の経過時間を示すことができる
。「プロトコル１」アイコン７０６は、選択された、及び／又は、現在適用されている又
は適用されるように準備されているプロトコルのタイプの番号を示すことができる。「レ
コード」７０７は、記録された処置の履歴、処置される患者に関する情報、ビリング及び
レンティングシステムに関する情報、ビリング情報に関する情報、及び／又は処置のクレ
ジットコストを有する別のページのインターフェースにリダイレクトすることができる。
「レコード」７０７は、どれほど多くのクレジットがクレジットアカウントに残っている
か、どれほど多くのクレジットが費やされたか、処置デバイスがどれほど長く使用された
か、及び／又は、他のビリング情報を表示することができる。シンボル「設定（setting
）」７０８によって表されるアイコンは、例えば、デバイスによって生成される音のメロ
ディー及び／又は強度、及び／又は、ディスプレイの輝度の設定を含む処置デバイスの設
定にユーザーをリダイレクトさせることができる。処置デバイスによって生成される音及
び／又はディスプレイの輝度は、処置の前において及び／又は処置中に異なるものとする
ことができる。「設定」７０８インターフェースは、日付け、時間、言語、主ユニットと
、アプリケーター、更なる処置デバイス、及び／又は通信デバイスとの間の接続のタイプ
及び／又はパラメーターを変更することが可能であるとすることもできる。「設定」７０
８インターフェースは、処置デバイス及びその接続された部分の較正及び機能スキャンを
開始するためのアイコンを含むことができる。「設定」７０８インターフェースは、ソフ
トウェア情報、ソフトウェア履歴、及び／又はソフトウェア具体化、サービスに連絡する
及び／又はエラープロトコルを送信するためのボタン、動作モードのタイプ（例えば「基
本（basic）」又は処置デバイスの許可された更なる設定を有する「エキスパート（exper
t）」）、処置のためにクレジットを再チャージする可能性、工場設定への回復及び／又
は他の設定を提供することができる。
強度符号７０９は、パーセンタイル値、数字、パワーの形態で、及び／又は別の形態で
示すことができる。強度符号７０９は、処置エネルギー源の強度を調整することができる
アイコンに隣接して位置することができる。強度符号７０９は、処置エネルギー源の強度
を調整することができるアイコンの下に、その上に、及び／又はその中に（例えば、強度
バー７１０内の数字として及び／又は別の可視化として）位置することができる。提供さ
れるエネルギーの１つの処置エネルギー源（例えば、ＲＦ場又は磁場）を示す各強度バー
７１０は、それ自身の強度符号７０９を有することができる。処置デバイスは複数のアプ
リケーター７１４を含むことができ、例えば、第１のアプリケーターＡ及び第２のアプリ
ケーターＢは、処置デバイスの主ユニットに接続することができる。こうして、アプリケ
ーターＡ及びＢは、同じ筋肉群内の異なる筋肉に、又は、対形成した筋肉又は協働する筋
肉の中でも、左及び右臀部、腹部の左側及び右側、左及び右大腿部等の対の筋肉に適用す
ることができる。接続されたアプリケーター及び／又は処置エネルギーを提供する更なる
処置デバイスの数は、２より少ない又は２より多いものとすることができる。
図７に示すように、各アプリケーターは、磁気処置７１８（図７のためにＨＩＦＥＭ
Ａ及びＨＩＦＥＭ Ｂとしてマーク付けされ、例示的なヒューマンマシンインターフェー
スに示す左ＨＭＩ部分）及び／又はＲＦ処置７１２（図７のためにＲＦ Ａ及びＲＦ Ｂ
としてマーク付けされ、例示的なＨＭＩに示す右ＨＭＩ部分）を提供することができる。
各ＲＦ場及び／又は磁場の強度は、例えば、強度バー７１０を通して個々の磁気強度ス
クローラー７１９及び／又はＲＦ強度スクローラー７１１のスクロールによって独立に調
節することができる。１つ以上のスクローラー又は強度バーは、独立に移動することもで
きるし、複数の磁場、複数のＲＦ場をともに、及び／又は、１つのアプリケーターによっ
て提供される複数のＲＦ場及び磁場をともに調節するために、別のスクローラー又は強度
バーとともに移動することもできる。また、１つ以上のスクローラー又は強度バーは、独
立に制御することもできるし、複数の磁場、複数のＲＦ場をともに、及び／又は、２つの
アプリケーターによって提供される複数のＲＦ場及び磁場をともに調節するために、別の
スクローラー又は強度バーとともに移動することもできる。１つ以上の強度バー７１０は
、色で区別することができ、強度スクローラー７１９又は７１１によって及び／又は強度
ボタン７２０によって調整することができる。強度ボタン７２０は、ＲＦ場及び／又は磁
場強度を、１％又は２％又は５％又は１０％等の固定増分だけ、又は、考えられる最大の
場の強度の１％～１０％の範囲内又は１％～５％の範囲内で変更する（例えば、増加又は
減少させる）ことができる。磁場及び／又はＲＦ場の強度は、各処置エネルギー源につい
て独立に調整することができる。また、磁場及び／又はＲＦ場の強度は、１つ以上のアプ
リケーター、更なる処置デバイス、及び／又は処置エネルギー源の選択及び／又は接続に
よって調整することができる。
１つ以上のＲＦ電極及び／又は磁場発生デバイスの動作は、同期することができ、１つ
、２つ、又はそれより多い数の強度スクローラー７１９及び／又は強度ボタン７２０によ
って制御することができる。処置は、ボタンスタート７１３によって開始することができ
、ボタンスタート７１３は、（例えば、処置を開始した後）ボタンポーズになるように自
動的に変更することができる。処置は、処置中に、ボタンストップ７１６によって再開及
び／又は停止することができる。インターフェースは、処置が不快であるときにリモート
コントロールを通して患者が作動することができる不快ボタン７１７のインジケーターを
示すこともできる。不快ボタン７１７が作動されると、処置を、自動的にかつ即座に中断
（例えば、一時停止又は停止）することができる。不快ボタン７１７が作動されると、処
置デバイスは、音信号を含む可聴警報を含む人間が知覚可能な信号を提供することができ
る。さらに、人間が知覚可能な信号は、例えば、点滅する色を含む視覚的警報を含むこと
ができる。患者の不快に基づいて、ユーザーは、例えば、処置パラメーター又は処理プロ
トコル、アプリケーターの取り付け又は結合を調整することができる。インターフェース
は、処置デバイスをスイッチオン又はオフするソフトウェアパワースイッチ７１５を含む
こともできる。
図７に示すように、ＨＭＩは、ＲＦ処置用の２つの強度バー（例えば、７１０）及び磁
気処置用の２つの強度バーを含むことができる。さらに、ＨＭＩは、ＲＦ処置用の２つの
強度スクローラー（例えば、７１１）及び磁気処置用の２つの強度バー（例えば、７１９
）を含むことができる。さらに、ＨＭＩは、ＲＦ処置用の４つの強度ボタン及び磁気処置
用の４つの強度ボタン（例えば、７２０）を含むことができる。１つの強度スクローラー
、１つの強度バー、及び／又は２つの強度ボタンを、１つの処置回路のために設けること
ができる。さらに、図７は、ＲＦ処置用の２つの処置回路及び磁気処置用の２つの処置回
路を含む処置デバイスのＨＭＩを示すことができる。
処置デバイスは１つ以上のアプリケーターを含むことができる。処置デバイスは、２つ
、３つ、４つ、５つ、又はそれより多い数のアプリケーターを含むことができる。各アプ
リケーターは、ＲＦ処置を提供する１つ以上のＲＦ電極及び磁気処置を提供する１つ以上
の磁場発生デバイス等の、少なくとも１つ、２つ、又はそれより多い数の異なる処置エネ
ルギー源を含むことができる。例えば、第１のアプリケーターは１つのＲＦ電極及び１つ
の磁場発生デバイスを含むことができ、一方、第２のアプリケーターは別のＲＦ電極及び
別の磁場発生デバイスを含むことができる。１のアプリケーターは、１つの接続管によっ
て主ユニットに結合することができる。異なるアプリケーターの接続管は、各アプリケー
ターのために相互接続する又は分離することができる。代替的に、複数のアプリケーター
は、１つの共通接続管によって主ユニットに結合することができる。少なくとも１つのア
プリケーターの少なくとも１つの処置パラメーターを、他の１つ以上のアプリケーター及
び／又は更なる処置デバイス上で独立に変更することができる。
１つ以上のアプリケーター、更なる処置デバイス、及び／又は通信デバイスは、１つ以
上のワイヤによって及び／又は流体導管によって主ユニットに機械的に接続することがで
きる。１つ以上のワイヤ及び／又は流体導管が、接続管を通して位置し、つながることが
できる。主ユニットとアプリケーターとの間で結合した１つ以上のワイヤは、ＲＦエネル
ギーを生成するために、アプリケーター内に位置決めされたＲＦ電極に電気信号（例えば
、ＲＦ信号を表す）を伝達するために使用することができる。１つ以上のワイヤは、磁場
のインパルスを生成するために、アプリケーター内に位置決めされた磁場発生デバイスに
電流を提供するために使用することができる。アプリケーター及び主ユニット１１を結合
する同じワイヤ及び／又は異なるワイヤは、主ユニット１１とアプリケーター１２との間
の通信のために及び／又はフィードバック情報を収集するために使用することができる。
フィードバックアプリケーションは、例えば、処置前の及び／又は処置中の、測定された
信号パラメーター及び／又はワイヤのインピーダンス計測特性を含むことができる。主ユ
ニット１１とアプリケーター１２との間の流体導管は、液体、油、水、蒸気、ガス、及び
／又は他の温度調節用冷却流体を誘導することができる。
１つ以上のアプリケーターは、１つ以上のストラップ、１つ以上のベルトによって、又
は、アプリケーター下で負圧を生じさせることによって、患者の身体及び／又は身体エリ
アに結合することができる。また、アプリケーターは、支持マトリックスによって、又は
、アプリケーターの表面の少なくとも一部上に位置し、患者の身体又は衣類に接触する接
着剤層によって身体エリアに結合することができる。アプリケーターは、調整可能な機械
式位置決めアームによって患者の身体エリア又は衣類にアプリケーターを押すことによっ
て、身体エリアに結合することができ、アプリケーターは、少なくとも１つ、２つ、又は
それより多い数の継手を含む位置決めアームに取り外し可能に結合することができる。ベ
ルトは、少なくとも部分的に弾性があるとすることができ、フック及びループファスナー
（Ｖｅｌｃｒｏによる）、バックル、スタッドによって等で、閉ループを作成することが
できる、及び／又は、他の締結機構を、長さを調整するために使用することができる。ベ
ルトは、身体エリアに結合することができ、アプリケーターをベルト及び／又は患者の皮
膚又は衣類に結合するための締結機構を含むことができる。そのような締結機構は、例え
ば、アプリケーター用のポケットを有するベルトとすることができる。アプリケーターを
身体エリアに結合することは、身体エリアとの近接部又は接触部にアプリケーターを取り
付けること又は位置決めすることを含むことができる。１つ以上のアプリケーターは、１
つ以上のタイプの処置（例えば、ＲＦ処置又は磁気処置）の適用前に又は適用中に身体エ
リアに結合することができる。また、アプリケーターは、軟質材料のカバーによって、身
体エリア、皮膚、又は衣類に結合することができ、カバーは、アプリケーター及び／又は
身体エリアの部分の周りに折り曲げることができる。さらに、アプリケーターは、軟質材
料カバーで覆われ、ベルトの取り付けのための、軟質材料を折り曲げるための、又は本明
細書で述べる任意の他の結合オプションのための他の結合ポイントを提供することができ
る。
ベルトは、少なくとも部分的に柔軟性があるものとすることができる長さ調整可能なベ
ルトとすることができる。１つ以上のベルトは、１つ、２つ、又はそれより多い数のアプ
リケーターを患者の身体又は身体エリアに結合するか、固定するか、及び／又は取り付け
ることができる。ベルトを１つのアプリケーター８００に結合することができる、又は、
１つのベルトは、２つ以上のアプリケーターを患者の身体に結合することができる。複数
（例えば、２つ、３つ、又はそれより多い数）のアプリケーターが使用される場合、１つ
のアプリケーターを１つのベルトによって患者の身体エリアに結合することができ、一方
、別のアプリケーターを異なるベルトによって身体エリアに結合することができる。代替
的に、複数（例えば、２つ、３つ、又はそれより多い数）のアプリケーターを、１つの同
じベルトによって患者の身体エリアに結合することができる。ベルトによって結合される
少なくとも１つのアプリケーターは、処置の少なくとも一部について、患者の身体に対し
て静的に固定することができる。ベルトによって患者の身体に結合される少なくとも１つ
のアプリケーターを、処置中に１回以上、オペレーターによって手動で又は自動で再位置
決めして、患者のための最適処置効果及び処置快適さを確実にすることができる。
アプリケーター及び／又は更なる処置デバイスを患者の身体に結合することは、アプリ
ケーターを、患者の身体及び／又は身体エリアに近接して設置することを含むことができ
る。近接結合の場合、アプリケーターと患者の皮膚との間の最短距離は、０．０１ｃｍ～
１０ｃｍ、又は０．０１ｃｍ～５ｃｍ、又は０．０１ｃｍ～２ｃｍ、又は０．０１ｃｍ～
１ｃｍ、又は０．０１ｍｍ～５ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～２ｍｍの範囲内にあるものとす
ることができる。しかしながら、アプリケーターは、患者の皮膚と直接接触して設置する
こともできる。直接接触の場合、アプリケーターと患者の皮膚との間に有意な距離は存在
しないものとすることができる。近接又は直接接触の場合、介在する材料は、アプリケー
ターと患者の皮膚又は衣類又は身体エリアとの間に位置決めすることができる。介在する
材料は、空気ギャップ、ボーラス、支持マトリックス、ベルトの一部、テキスタイル、他
の衣類、ゲル、液体吸収材料、又は金属とすることができる。
図２２は、支持マトリックス２２の使用による、患者の身体に対するアプリケーター及
び／又は更なる（正：additional）処置デバイス２１の例示的な取り付けを示す。支持マ
トリックス２２は、図２２に示すように、格子及び／又は足場として形作ることができる
。格子及び／又は足場は、少なくとも部分的に柔軟性があり、患者の身体に取り付けられ
る。支持マトリックスは、アプリケーターのスポット２４と呼ばれる規定された場所にお
いて患者の身体に近接してアプリケーター及び／又は更なる処置デバイス２１を締結部材
２３によって結合するために使用することができる。支持マトリックスは、図２２のポリ
マー足場様のもの、テキスタイル／ポリマーシート様の基材、及び／又は他のものとする
ことができる。締結部材は、アプリケーター及び／又は更なる処置デバイス２１を締結す
るための係止機構、ヒンジ、バヨネット様システム、Ｖｅｌｃｒｏ等（正：such as）の
１つ以上の要素とすることができる。
図２５に示すように、アプリケーター８００は、接続管８１４によって主ユニットに接
続することができる、アプリケーターのケーシングを画定する１つ以上の部分を含むこと
ができる。また、アプリケーターは、アプリケーターの機能及び機能性を更に規定するア
プリケーター内で隠蔽された１つ以上の部分を含むことができる。アプリケーターのケー
シングは、異なる部分、例えば、ハンドルカバー５１２、ハンドル５１４、上部カバー５
１６、アプリケーターの底部カバーを作成する第２の側面部８０２を含むことができる。
ハンドルカバー５１２は、マーカー８１３、及び／又は、例えば１つ以上の処置パラメー
ターの実際の値及び／又は所定の値を表示及び／又は調整するＨＭＩ５０８を含むことが
できる。ハンドル５１４は、アプリケーター８００を用いた操作のために及び／又はアプ
リケーター８００を患者の身体エリアに結合するために使用することができる。上部カバ
ー５１６はアプリケーターの内部を画定することができる。上部カバー５１６は、アプリ
ケーターの内部へ又は内部から流れる空気が、アプリケーターの内部に位置する電気素子
を冷却することを可能にする空気開口５０４を有することができる。アプリケーターの内
部に位置する電気素子は、例えば、ＲＦ電極、磁場発生デバイス、及び／又は温度センサ
ー５１０を含むことができる。第２の側面部８０２はアプリケーターの底部カバーを作成
する。第２の側面部８０２は、１つ以上の突出形状、溝、及び／又は他のものを含むこと
ができる。電力、エネルギー、１つ以上の電磁信号、及び／又は冷却流体は、接続管８１
４を介してアプリケーターに送出することができる。さらに、アプリケーター内の１つ以
上の電気駆動式素子（例えば、磁場発生デバイス９００及び／又は少なくとも１つのＲＦ
電極を有する基材１１３ａ）の冷却は、上部カバー５１６及び／又は第２の側面部８０２
に固定されたファン５２４によって提供することができる。ＲＦ電極基材１１３ａは、ア
プリケーター内の温度、底部カバー５２６の少なくとも一部の温度、身体エリアの温度、
及び／又は患者の生物学的構造の温度を決定するように構成される温度センサー５１０を
含むことができる。基材上に位置するＲＦ電極は、同軸ケーブルを再接続する対形成素子
１３６に接続することができる。対形成素子１３６は、図２４に関して更に述べられる。
また、図２５は、磁場発生デバイスを上部カバー５１６及び／又は第２の側面部８０２に
固定するために使用することができるフレーム５０６を示す。フレーム５０６は、磁気処
置中にノイズ及び振動をなくすように構成することができる。
アプリケーターを、例示的な図８ａ～図８ｄに示すように設計することができる。図８
ａ～図８ｄに示すアプリケーター８００は、身体エリアの処置のために使用することがで
きる。
１つ以上のＲＦ電極は、アプリケーター８００内で磁場発生デバイスと患者の身体エリ
アとの間に位置することができる。ＲＦ電極は、第１の側面部８０１、第２の側面部８０
２の湾曲、及び／又は、患者の身体エリアの湾曲に少なくとも部分的に適合するように形
作ることができる。磁場発生デバイスは、第１の側面部８０１の湾曲、第２の側面部８０
２の湾曲、及び／又は、患者の身体エリアの湾曲に少なくとも部分的に適合することがで
きる。ＲＦ電極及び／又は磁場発生デバイスは、ＲＦ処置及び／又は磁気処置のより良好
なターゲット設定に集中する及び／又はそれを提供するために湾曲することができる。第
１の側面部８０１は、処置中に第１の側面部８０１内に四肢の位置を維持するように構成
することができる。第１の側面部８０１は、処置される身体エリアについて安定位置及び
／又は平衡を提供することができる。患者の四肢の位置は、四肢が筋肉収縮によって移動
しても第１の側面部８０１内に維持することができる。四肢の側方移動及び／又は回転は
、四肢が安定位置にあり得るように第１の側面部８０１及び／又はベルト８１７によって
制限することができる。アプリケーター８００に対する回転運動は、アプリケーター８０
０を身体エリア、処置される身体四肢の少なくとも一部（正：at least part of）にベル
トによって結合することによって制限することができる。さらに、腕の一部が磁気処置及
び／又はＲＦ処置によって処置されるとき、四肢の少なくとも一部は、四肢の移動を最小
にするために患者の胴体に取り付けることもできる。
第２の側面部８０２は、第１の側面部８０１に対してアプリケーター８００の反対側に
位置することができる。第２の側面部８０２は実質的に平面とすることができる、又は、
第２の側面部８０２は少なくとも部分的に凹状及び／又は凸状とすることができる。アプ
リケーター８００は、ベルト８１７等の位置決め機構によって患者に結合することができ
、それは図８ａ及び図８ｂに示される。
図８ａは、第１の側面部８０１の第１の端部８０４にある窪み８０３及び第１の側面部
８０１の第２の端部８０５にある窪み８０６内に固定することができる位置決め機構を含
むアプリケーターを記載する。ベルト又はストラップ等の位置決め機構を締結することが
できる、又は、その長さを、クリップ８０７によって調整することができる。クリップ８
０７は、時計回り又は反時計回り方向にピン８０８の周りに移動することができる。クリ
ップ８０７を、ばねによって付勢することができる。代替的に、クリップ８０７を、適切
な係止機構によって又は任意の他の移動制限方法によって係止することができる。クリッ
プ８０７は、位置決め機構の正しい長さを固定するためにクリップ８０７の下側にファス
ナー８０９を含むことができる。ファスナー８０９は、他の機械式ファスナーの中でも面
ファスナー（hook-and-loop fastener）、Ｖｅｌｃｒｏファスナー、ピンタイプファスナ
ーとすることができる。上述したように患者の身体にアプリケーター８００を結合するこ
とは、患者の身体エリアがアプリケーター８００の第１の側面部８０１に取り付けられる
ときにたいていは使用することができる。ＲＦ電極及び／又は磁場発生デバイスは、第１
の側面部８０１の湾曲に少なくとも部分的に適合するように形作ることができる。ＲＦ電
極及び／又は磁場発生デバイスは、ＲＦ処置及び／又は磁気処置のより良好なターゲット
設定に集中する及び／又はそれを提供するために湾曲しているものとすることができる。
図８ｂ及び図８ｃは、第１の側面部８０１の湾曲に垂直に及び／又はアプリケーターの
軸８１０に垂直に誘導することができる位置決め機構を含むアプリケーターを示す。位置
決め機構は、ハンドル８１２の凹部８１５を通して、及び／又は、ハンドル８１２の下に
、それを通して、又はその上に位置決め又は誘導することができる。ベルト８１７を、患
者の皮膚に対してアプリケーター８００を保持するために、アプリケーター８００を通し
て及び／又はその上に任意の方向に誘導することもできる。上述したように患者の身体に
アプリケーター８００を結合することは、患者の身体エリアがアプリケーター８００の第
２の側面部８０２に取り付けられるときにたいていは使用することができる。ＲＦデバイ
ス及び／又は磁場発生デバイスは、第１の側面部８０１に少なくとも部分的に適合するよ
うに形作ることができる。ＲＦ電極及び／又は磁場発生デバイスは、ＲＦ処置及び／又は
磁気処置のより良好なターゲット設定に集中する及び／又はそれを提供するために平坦で
ある又は湾曲しているものとすることができる。
図８ｂは、アプリケーター８００の上面図を示す。アプリケーター８００は、アプリケ
ーター８００内の磁場発生デバイスの場所に対応するマーカー８１３を含むことができる
。マーカー８１３は、磁場発生デバイスの中心の上に位置することができる。マーカー８
１３は、ユーザーによるアプリケーター８００の容易かつ快適な位置決めを可能にするこ
とができる。アプリケーター８００の表面内の窪みを、マーカー８１３として使用するこ
とができる。代替的に、マーカー８１３は、異なる色、異なる粗さ、１つ以上の（正：on
e or more）光源（例えば、発光ダイオードＬＥＤ）の存在、アプリケーターのケーシン
グの特定の湾曲、製造又は流通会社のロゴ、及び／又はその他のもの等の、アプリケータ
ーのカバーの一部の異なる表面修正とすることができる。アプリケーターのケーシングは
少なくとも２つの色を有することができる。第１の色は、アプリケーターの正しい位置決
めを可能にするために磁場発生デバイスの上でアプリケーターのケーシング上にあるもの
とすることができ、アプリケーターの残りの部分は、第１の色と異なる第２の色を有する
ことができる。色は、光の特定の波長を反射及び／又は吸収する塗料と解釈することがで
きる。マーカー８１３と同様に、アプリケーターは、少なくとも１つのＲＦ電極の場所を
示すために第２のマーカーを含むことができる。
図８ｂ及び図８ｃに示すように、アプリケーターは出口８１１を含むことができる。出
口８１１は、アプリケーター８００内の空気の循環、並びに、アプリケーター内に位置決
めされた１つ以上の磁場発生デバイス及び／又はＲＦ電極が生成し、接続管８１４の内部
の１つ以上のワイヤを通るエネルギーが供給する熱の熱消散を可能にすることができる。
接続管８１４は、主ユニット１１からアプリケーター８００に冷却流体を提供又は誘導す
ることができる流体導管を含むこともできる。
アプリケーター８００は、例えば図８ｃに示すように、１つ以上の温度センサー８１６
を更に含むことができる。温度センサー８１６は、アプリケーター８００のケーシングか
ら、例えば、第２の側面部８０２の表面から及び／又は第１の側面部８０１から突出する
ことができる。温度センサー８１６は、アプリケーター８００のケーシングから突出して
、アプリケーター８００によって、処置される身体エリアの部分に対するより高い圧力を
生じさせ、生物学的構造内の温度、身体エリアの温度、及び／又は患者の身体上の温度の
より良好な測定を提供することができる。
第２の側面部８０２及び／又は第１の側面部８０１を加熱及び／又は冷却することがで
きる。第２の側面部８０２及び／又は第１の側面部８０１の加熱は、例えば、処置温度に
より早く達するように処置の始めに使用することができる。処置温度は、磁場の印加のた
めに適切とすることができる、ＲＦ波の印加によって上昇した身体エリア及び／又は生物
学的構造の温度を含むことができる。アプリケーターの所定の部分による冷却又は加熱は
、患者の皮膚上で一定温度を維持するために使用することができる。また、アプリケータ
ーの所定の部分による冷却又は加熱は、患者の皮膚下の０．５ｃｍよりも深いところで患
者の生物学的構造内のより高い処置温度を達成するために使用することができる。患者と
接触しているアプリケーターの部分（例えば、アプリケーターの第２の側面部８０２及び
／又は第１の側面部８０１）を冷却することは、患者の発汗を最小にするために使用する
ことができる。患者の皮膚は、アプリケーター及び／又は処置デバイスの他の部分から流
れる及び／又は吹く冷却流体（例えば空気）によって冷却することができる。患者の皮膚
の冷却は、患者の皮膚に接触するアプリケーターの冷却される部分と患者の皮膚との間の
熱拡散によって提供することができる。アプリケーターの冷却される部分は、アプリケー
ター内を流れる冷却流体によって及び／又はペルチエ効果を使用するペルチエ素子によっ
て冷却することができる。
患者の発汗は、患者にとって不快である場合があり、また、フィードバック情報収集に
悪い影響を及ぼし、アプリケーター及び患者の皮膚に接触し、及び／又は患者の皮膚に対
するアプリケーターの付着の低下につながる場合がある。患者の皮膚の発汗を防止するた
めに、アプリケーターの接触エリア（例えば、第１の側面部８０１及び／又は第２の側面
部８０２）の冷却を使用することができる。第２の側面部８０２及び／又は第１の側面部
８０１は、図８ｄに示すように液体及び／又はガス（例えば、空気、油、又は水）が流れ
ることができるアプリケーターのアパーチャ８２０を通して冷却流体を供給することがで
きる溝８１９を有することができる。アプリケーターの第１の側面部又は第２の側面部は
、アプリケーターの穴又はアプリケーターのアパーチャ８２０を有することができ、アプ
リケーター８００からの空気を、患者の皮膚から熱、水分、及び／又は汗を除去するため
に誘導することができる。穴又はアパーチャは、溝８１９内に存在することができる。穴
は、患者に対して作用物質（active substance）を提供するために使用することができる
。身体エリアに接触しているアプリケーターの接触部分は、少なくとも部分的に、患者の
皮膚から汗を除去する及び／又は患者とアプリケーター８００との間の導電率を改善する
ことができる、スポンジ、親水性材料、不織布、有機及び／又はポリマーテキスタイル等
の流体吸収材料を含むことができる。処置される身体エリアの少なくとも一部における患
者の発汗の低減は、汗腺（sweat gland）活動の低減によって行うことができる。汗腺の
活動の低減は、パルス状磁場、強い光、グリコピロニウムトシル酸塩（glycopyrronium t
osylate）等の患者上への及び／又は患者に対する適用された作用物質による患者の皮膚
の周期的低体温症（hypothermia）によって及び／又は他の機構によって提供されるヒー
トショックの適用によって提供することができる。
図２３は、凹部を有する例示的なアプリケーターを示す。アプリケーターは、第１の側
面部８０１が少なくとも部分的に凸状である状態で設計することができる。第１の側面部
８０１は、代替的に、Ｖ字形状又はＵ字形状とすることができる。曲率半径は患者の四肢
のサイズに対応することができる。第２の側面部８０２は、代替的に又は付加的に、少な
くとも部分的に凸状とすることができる。
患者は、ベッド、カウチ、又はチェアー等の患者支持体上に背臥位で横たわる又は座る
ことができる。患者の腕を、アプリケーター８００の第１の側面部８０１上にセットする
ことができる。第１の側面部８０１は、患者と直接接触しているものとすることができ、
ＲＦ処置は、磁気処置と組み合わせて適用することができる。また、ストラップ又はベル
トは、アプリケーターを患者の身体に取り付けるために凹部８１５を通して誘導すること
ができる。
第１の側面部８０１は、垂直断面に従って、少なくとも部分的に楕円又は円形形状を有
することができ、図２３による全体の湾曲２５は、第１の側面部８０１の少なくとも一部
の湾曲に当てはめられる楕円又は円の一部として規定することができる。第１の側面部８
０１の湾曲が、当てはめられる楕円又は円に適合するセクションは、セクション２６と呼
ぶことができる。セクション２６は、２つの線２８と線２９との間の角度３０として規定
される。線２８及び線２９は、対称の中心２７、並びにアプリケーター８００の湾曲を複
製する楕円又は円の当てはめられる部分に従って最長距離を有する、セクション２６に位
置するポイント３１及び３２と交差する。対称の中心２７は、当てはめられる楕円及び／
又は当てはめられる円の中心である。第１の側面部８０１のセクション２６を画定する角
度３０は、少なくとも５度、又は、１０度～２７０度、３０度～２３５度、４５度～１８
０度、若しくは６０度～１３５度の範囲内にあるものとすることができる。第１の側面部
８０１に対する当てはめられる円の少なくとも一部の曲率半径は、５０ｍｍ～１２５０ｍ
ｍの範囲内、又は１０ｍｍ～７５０ｍｍの範囲内、又は５０ｍｍ～５００ｍｍの範囲内、
又は６０ｍｍ～２５０ｍｍの範囲内にあるものとすることができる。第２の側面部８０２
は、その表面の少なくとも一部上で湾曲状とすることができ、第２の側面部８０２のセク
ション２６は、少なくとも５度、又は、１０度～２７０度、３０度～２３５度、４５度～
１８０度、若しくは６０度～１３５度の範囲内にあるものとすることができる。さらに、
第２の側面部８０２に対する当てはめられる円の少なくとも一部の曲率半径は、５０ｍｍ
～１２５０ｍｍの範囲内、１０ｍｍ～７５０ｍｍ、５０ｍｍ～５００ｍｍ、又は６０ｍｍ
～２５０ｍｍの範囲内にあるものとすることができる。
１つ以上のアプリケーター及び／又は更なる処置デバイスは、例えば図２３に示すよう
にボーラス３２を含むことができる。ボーラス３２は、アプリケーター又はアプリケータ
ーの表面上に位置決めされたＲＦ電極と患者の身体エリア又は皮膚（患者の皮膚の表皮又
は衣類を含む）との間に位置する材料層を指すことができる。ボーラス３２は、アプリケ
ーターの表面上に位置決めされたＲＦ電極と患者の身体エリア又は皮膚との間に位置する
材料層を指すことができる。同様に、ボーラス３２は、アプリケーター８００から独立し
た部分とすることができる。ボーラス３２は、アプリケーター８００の第１の側面部８０
１及び／又は第２の側面部８０２に取り付けることができる。ボーラス３２は、アプリケ
ーター８００からリムーバブルかつ取り外し可能とすることができる。ボーラス３２は、
アプリケーター８００の第１の側面部８０１及び／又は第２の側面部８０２に機械的に結
合することができる。ボーラス３２を、硬質材料、柔軟材料で作ることができる、及び／
又は硬質材料及び柔軟材料の混合物をボーラスとして使用することができる。ボーラス３
２は、セラミック、金属、ポリマー、及び／又は生体適合性材料で作られた柔軟性サック
内に封入される他の粒子を含む、水、ゲル、又は流体溶液等の流体材料を含むことができ
る。ボーラス３２はプロフールを明らかにする（profile）ことができ、ＲＦ電極と患者
の皮膚との間の層としてのボーラス３２の厚さは異なる厚さを有することができる。ボー
ラス３２の厚さは、ＲＦ処置（ＲＦ場を含む）のエネルギー束密度が、不快なホットスポ
ット及び／又は不均一な温度分布を生じるのに十分に高いことになる場所においてより厚
いとすることができる。ボーラス３２は、より均一な生物学的構造加熱を可能にし、エッ
ジ効果を最小にする。エッジ効果は、ボーラス体積及び／又はボーラス面積にわたるボー
ラスの異なる誘電体特性によって最小にすることもできる。ボーラス３２は、ＲＦ電極の
縁の少なくとも一部の下でより大きい厚さを有することができる。ＲＦ電極の縁の少なく
とも一部の下でのボーラスの厚さは、ＲＦ電極の中央の少なくとも一部の下でのボーラス
３２の厚さより少なくとも５％、１０％、１５％、又は２０％大きいとすることができ、
そこでは、アパーチャ、切り欠き部、及び／又は突出部は考慮されない。ボーラス３２は
、バイポーラＲＦ電極の少なくとも一部の下で及び／又は少なくとも２つのバイポーラＲ
Ｆ電極間の距離の少なくとも一部の下で大きい厚さを有することができる。ボーラス３２
は、２つの異なるバイポーラＲＦ電極の最も近い２つのポイント間の距離が少なくとも５
％、１０％、１５％、又は２０％以上である場所において、ボーラス３２の厚さより、ほ
ぼ少なくとも５％、１０％、１５％、又は２０％だけ厚いとすることができる。ボーラス
３２は、少なくとも１つの生物学的構造に対する処置エネルギー（例えば、磁場及び／又
はＲＦ場）の伝達を改善し、アプリケーター及び生物学的構造の異なる２つの界面の間で
誘電体特性の段階的移行を提供することによってエネルギー反射を最小にすることもでき
る。ボーラス３２は、処置効果を高める及び／又は処置のより深い組織貫入を提供するＲ
Ｆ場及び／又は磁場のプロフィールを明らかにする又はそれに焦点を合わせることができ
る。
ボーラス３２は、アプリケーターと患者の身体との間の環境の良好な導電率を提供する
ために、発泡材料、テキスタイル材料、又はゲル材料等の流体吸収材料とすることもでき
る。アプリケーターの接触部分の良好な導電率は、患者の身体に適用されるＲＦ処置のＲ
Ｆ信号の良好な調整のために及び／又はフィードバック情報の良好な収集のために有用と
することができる。ボーラス３２は、ＲＦ電極と患者の皮膚又は身体エリアとの間の導電
性接触を仲介することができる。同様に、ボーラス３２は、非導電性又は誘電体材料とし
て役立つことができ、非導電性又は誘電体材料は、患者の身体に対するエネルギー伝達を
修正する、患者の皮膚の冷却を提供する、患者の皮膚から汗を除去する、及び／又は患者
の身体の容量性加熱等の加熱を提供する。ボーラス３２として役立つ流体吸収材料は、生
物学的構造の良好な熱伝導率、したがって良好な温度を提供することもできる、及び／又
は、アプリケーターを、より早く、より容易に、またより正確に調節することができる。
ボーラス３２は、ＲＦ処置を提供する更なるＲＦ電極を含むこともできる。
上記で述べたように、処置デバイスは、磁気処置及び／又はＲＦ処置を提供する、１つ
、２つ、３つ、４つ、６つ、又はそれより多い数のアプリケーター及び／又は更なる処置
デバイスを含むことができる。各アプリケーター、更なる処置デバイス、及び／又は処置
エネルギー源（例えば、磁場発生デバイス及び／又はＲＦ電極）は、エネルギー伝達のた
めに独自の処置回路を有することができ、各処理回路を、提供される処置エネルギーの各
パラメーターにおいて制御システムが独立に調節することができる。各アプリケーター、
処置デバイス、又は処置エネルギー源は、調整され、処置を独立に提供することができる
、及び／又は、２つ以上のアプリケーター、処置エネルギー源、及び／又は更なる処置デ
バイスは、まとめて調整することができ、また、同時に、同期して調整することができる
、及び／又は、互いに協働することができる。
処置デバイスが２つ以上のアプリケーターを含むとき、アプリケーターは、身体の異な
る部分に対して接触する又は近接するように結合することができる。１つの例において、
第１のアプリケーターは、左臀部に対して接触する又は近接するように結合することがで
き、一方、第２のアプリケーターは、右臀部に対して接触する又は近接するように結合す
ることができる。別の例において、第１のアプリケーターは、腹部エリアの左側に対して
接触する又は近接するように結合することができ、一方、第２のアプリケーターは、腹部
エリアの右側に対して接触する又は近接するように結合することができる。更に別の例に
おいて、第１のアプリケーターは、左大腿部に対して接触する又は近接するように結合す
ることができ、一方、第２のアプリケーターは、右大腿部に対して接触する又は近接する
ように結合することができる。更に別の例において、第１のアプリケーターは、左ふくら
はぎに対して接触する又は近接するように結合することができ、一方、第２のアプリケー
ターは、右ふくらはぎに対して接触する又は近接するように結合することができる。複数
のアプリケーターは、協働する筋肉及び／又は対の筋肉の処置のために有益とすることが
できる。
１つ以上のアプリケーター及び／又は更なる処置デバイスは、磁気処置のために磁場を
生成する磁場発生デバイス（例えば、磁気コイル）を含むことができる。磁場発生デバイ
スは、ＲＦ処置のためにＲＦ場を生成することができる。本質は、電磁場の生成される周
波数が全く異なる値を有するということである。磁場発生デバイスは、低周波数の生成さ
れる電磁場の間に磁気処置のための支配的な磁場ベクトルを生成することができる。しか
しながら、磁場発生デバイスは、ＲＦ処置のために使用することができる高周波数の電磁
場の間に磁気処置のための支配的な磁場ベクトルを生成することができる。磁場発生デバ
イスは、高周波電磁場領域において、ＲＦ電極によって提供されるＲＦ場と同様のＲＦ場
を提供することができる。１つの磁場発生デバイスがＲＦ処置と磁気処置の両方を提供す
るために使用されるとき、ＲＦ処置生成のための周波数と磁気処置生成のための周波数と
の差は、５００ｋＨｚ～５ＧＨｚ、又は５００ｋＨｚ～２．５ＧＨｚ、又は４００ｋＨｚ
～８００ｋＨｚ、又は２ＧＨｚ～２．５ＧＨｚの範囲内にあるものとすることができる。
同様に、１つの磁場発生デバイスがＲＦ処置と磁気処置の両方を提供するために使用され
るとき、ＲＦ処置のための周波数は、１００ｋＨｚ～３ＧＨｚ、４００ｋＨｚ～９００Ｍ
Ｈｚ、又は５００ｋＨｚ～３ＧＨｚの範囲内の周波数に対応することができる。
１つ以上のアプリケーター及び／又は更なる処置デバイスは、１つ以上のＲＦ電極及び
１つ以上の磁場発生デバイスを含むことができ、ＲＦ電極は、磁場発生デバイスと異なる
特性、構造、及び／又は設計を有する。ＲＦ電極は、ユニポーラ電極、モノポーラ―電極
、バイポーラ電極、及び／又はマルチポーラ電極として動作することができる。１つ以上
のＲＦ電極は、生物学的構造又は身体エリアの容量性及び／又は誘導性加熱のために使用
することができる。
アプリケーターは、２つのバイポーラ電極を含むことができる。バイポーラ電極は、少
なくとも１つのアプリケーター内に位置する２つのバイポーラＲＦ電極間でＲＦ場を伝達
することができる。バイポーラ電極は、モノポーラタイプの電極と比較して、提供される
ＲＦ処置の安全性及びターゲット設定を向上させることができる。バイポーラ電極は、Ｒ
Ｆ電極の周りにかつその間に位置する患者の組織を通過する電磁場を提供することができ
、インピーダンス整合によって、患者の組織内での定在電磁波（standing electromagnet
ic wave）の生成を防止し、非ターゲット組織の望ましくない熱損傷を防止することが可
能である。同様に、バイポーラ電極間の距離は、ＲＦ波貫入の深さに影響を及ぼし、ＲＦ
処置のターゲット設定の向上を可能にする。
アプリケーターは、１つのモノポーラＲＦ電極又は２つ以上のモノポーラ電極を含むこ
とができる。モノポーラ電極は、活性電極（active electrode）と不活性電極（passive
electrode）との間で無線周波数エネルギーを伝達することができ、活性電極はアプリケ
ーターの一部とすることができ、より大きい表面積を有する不活性電極はアプリケーター
から少なくとも５ｃｍ、１０ｃｍ、又は２０ｃｍのところに位置することができる。接地
された電極は、不活性電極として使用することができる。接地された電極は、患者の身体
の、アプリケーターが取り付けられている側と反対側にあるものとすることができる。
磁気処置は、例えば銅を含む金属等の導電性材料から作ることができる磁場発生デバイ
スによって提供することができる。磁場発生デバイスは、異なるサイズ及び形状のコイル
として形成することができる。磁場発生デバイスは、複数の巻線のコイルとすることがで
き、コイルの１つのループは１つ又は複数のワイヤを含むことができる。１つ以上のワイ
ヤの個々のループは、１つ以上のワイヤの他のターン又はループから絶縁されているもの
とすることができる。磁気コイルに関して、ワイヤリングの各ループは、ターンと呼ぶこ
とができる。さらに、１つのターン又はループ内の個々のワイヤは、互いから絶縁されて
いるものとすることができる。磁場発生デバイスの形状は、アプリケーターサイズ及び設
計に関して最適化することができる。コイルは、アプリケーターの床面投影に従ってアプ
リケーターの形状の少なくとも一部に適合するように巻くことができる。コイル巻線は少
なくとも部分的に円形、長円形とすることができる、及び／又は、アプリケーター又はそ
の或る部分の形状に適合する任意の他の形状を有することができる。巻線のループは互い
の上部に積み重ねることができる、並べて配置することができる、又は、巻線の積み重ね
は、並べてかつ他の巻線の上部に結合することができる。コイルは平坦とすることができ
る。
図９は、例示的な円形平面磁場発生デバイス９００の床面投影を示す。磁場発生デバイ
ス９００は、外側直径Ｄ、内側直径ｄ、内側半径ｒ、及び外側半径Ｒを含む寸法によって
特徴付けることができる。磁場発生デバイス９００は、エリアＡ１及びＡ２によって更に
特徴付けることができる。エリアＡ２はコイルの巻線エリアを示すことができ、一方、Ａ
１は磁気コアを表すこともできるし、磁気コアも巻線もないエリアを表すこともできる。
エリアＡ１は寸法ｒ及びｄに関連する。エリアＡ１は、コイルの巻線を含まないとする
ことができ、空気、油、ポリマー材料で充填することができる。エリアＡ１は、磁気コア
を表すことができ、磁気コアは空気コアとすることができる。代替的に、磁気コアは、高
い場の飽和度を有する透磁性材料、例えば、軟鉄、鉄合金、珪素鋼板、珪素合金、ガラス
状金属、パーメンジュール、パーマロイ、粉末金属、又はセラミック、及び／又は他の材
料からなる固体コアとすることができる。
エリアＡ２は、外側半径Ｒ及び外側直径Ｄに関連する。
内側半径ｒの寸法は、外側半径Ｒの寸法の１％～９０％の範囲内、又は、外側半径Ｒの
寸法の２％～８０％若しくは３％～６０％若しくは４％～５０％若しくは８％～３０％若
しくは２０％～４０％若しくは３０％～５０％の範囲内にあるものとすることができる。
内側半径ｒ及び外側半径Ｒの寸法を、生成磁場の好都合な形状を達成するために使用する
ことができる。
磁気デバイスの外側直径Ｄは、３０ｍｍ～２５０ｍｍ、又は４０ｍｍ～１５０ｍｍ、又
は５０ｍｍ～１３５ｍｍ、又は９０ｍｍ～１２５ｍｍの範囲内にあるとすることができ、
内側半径ｒの寸法は、外側半径Ｒの寸法の１％～７０％、又は１％～５０％、又は３０％
～５０％、又は５％～２５％、又は８％～１６％の範囲内にあるものとすることができる
。例えば、外側半径Ｒの寸法は５０ｍｍとすることができ、寸法ｒは５ｍｍとすることが
できる。エリアＡ１を省略することができ、磁場発生デバイスは、コイル巻線を有するエ
リアＡ２のみを含むことができる。
論じたように、エリアＡ２は複数の巻線を含むことができる。１つの巻線は１つ以上の
ワイヤを含むことができる。巻線は、緊密に配置することができ、１つの巻線は隣接する
巻線に接触して、高い磁束密度を有する磁場を提供することができる。巻線エリアＡ２は
、４ｃｍ２～７９０ｃｍ２、又は１５ｃｍ２～６００ｃｍ２、又は４５ｃｍ２～４５０ｃ
ｍ２、又は８０ｍ２～３００ｃｍ２、又は８０ｍ２～１５０ｃｍ２、又は８０ｍ２～１３
０ｃｍ２の範囲内にあるものとすることができる。
代替的に、巻線は、各巻線間にギャップを含むことができる。ギャップは、寸法Ｒ～ｒ
の０．０１％～５０％、又は０．１％～２５％、又は０．１％～１０％、又は０．１％～
５％、又は０．００１％～１％とすることができる。そのような構成は、磁場発生デバイ
スの個々の巻線の冷却及び絶縁を容易にすることができる。さらに、生成磁場の形状は、
磁場発生デバイスのそのような構成によって修正することができる。
コイル巻線のワイヤは異なる断面積を有することができる。巻線ワイヤの断面積は、巻
線の中央において大きいとすることができ、コイル巻線半径はより小さい。ワイヤのその
ような断面積は、磁場発生デバイスの外側巻線ターン上で測定した同じワイヤの断面積よ
り２％～５０％、５％～３０％、又は１０％～２０％大きいとすることができ、コイル巻
線半径はより大きい。磁場発生デバイスの巻線ワイヤの断面積は、磁場発生デバイスの外
側コイル巻線ターン上でより大きいとすることができ、コイル巻線半径はより大きい。ワ
イヤのそのような断面積は、磁場発生デバイスの内側ターン上で測定した同じワイヤの断
面積より２％～５０％、５％～３０％、又は１０％～２０％大きいとすることができ、コ
イル巻線半径はより小さい。
上述した原理及びパラメーターが使用されて、患者の身体に対する提供される磁場の形
状を修正する、より均一な及び／又はターゲット設定された筋肉刺激（例えば、筋肉収縮
）を提供する、処置中に磁場発生デバイスの膨張を低減する、及び／又は、磁場発生デバ
イスの耐久性を上げることができる。磁場発生デバイスは、時変性磁場の生成中に膨張し
収縮する場合があり、これは、磁場発生デバイスの損傷を引き起こす可能性がある。使用
される導電性材料（例えば、磁場発生デバイスのワイヤ、金属ストリップ、又は巻線）の
異なる断面積は、磁場発生デバイスの膨張及び収縮の破壊的効果を最小にすることができ
る。
上記で論じたように、使用される導電性材料（例えば、磁場発生デバイスのワイヤ、金
属ストリップ、及び／又は巻線）の断面積は、提供される磁気処置の集中化（focusation
）を改善する、磁場発生デバイスの耐久性を上げる、磁場発生デバイスの加熱を最小にす
る、及び／又は他の理由のために、ワイヤリングの個々のループの間で、２％～５０％、
又は５％～３０％、又は１０％～２０％の範囲内で変動する場合がある。
さらに、磁場発生デバイスの個々の導電性巻線の間でのワイヤリング及び／又は絶縁及
び／又は膨張層の積み重ねは一定でなく、ワイヤ断面積、巻線の半径、提供される磁場の
必要とされる形状、及び／又は他のパラメーターに基づいて異なるものとすることができ
る。
図９ｂに示す磁場発生デバイス９００の厚さ９０１は、アプリケーターの側から見て０
．３ｃｍ～６ｃｍ、又は０．５ｃｍ～５ｃｍ、又は１ｃｍ～３ｃｍの範囲内にあるものと
することができる。
アプリケーターの床面投影による磁場発生デバイス表面の全体表面、すなわち、エリア
Ａ１＋Ａ２は、５ｃｍ２～８００ｃｍ２、１０ｃｍ２～４００ｃｍ２、２０ｃｍ２～３０
０ｃｍ２、又は５０ｃｍ２～１５０ｃｍ２の範囲内にあるものとすることができる。
エリアＡ１と巻線エリアＡ２の比は、アプリケーターの床面投影によれば、０．０１～
０．８、又は０．０２～０．５、又は０．１～０．３の範囲内にあるものとすることがで
きる。アプリケーターの床面投影による、同じアプリケーター内に位置する磁場発生デバ
イスの巻線エリアＡ２とＲＦ電極のエリアとの間の比は、０．０１～４、又は０．５～３
、又は０．５～２、又は０．３～１、又は０．２～０．５、又は０．６～１．７、又は０
．８～１．５、又は０．９～１．２の範囲内にあるものとすることができる。
図１０ａ～図１０ｇは、アプリケーター８００内の少なくとも１つの磁場発生デバイス
９００に対する１つ以上のＲＦ電極１０１の場所を示す。ＲＦ電極１０１、１０２及び／
又は磁場発生デバイス９００の場所は、処置エネルギー源の効果及びターゲット設定に非
常に影響を及ぼす場合がある。ＲＦ電極及び磁場発生デバイスはアプリケーター内に位置
することができる。
１つ以上のＲＦ電極１０１、１０２は、図１０ａ、図１０ｂ、図１０ｄ、図１０ｅ、図
１０ｆ、図１０ｇに示すようにアプリケーター８００の内部に及び／又は図１０ｃに示す
ようにアプリケーター８００の外側に位置することができる。
図１０ａ～図１０ｅ及び図１０ｇに示すように、少なくとも１つのＲＦ電極は、アプリ
ケーターの床面投影によれば、少なくとも１つの磁場発生デバイスのエリアＡ２又はＡ１
との少なくとも部分的な重なり内にあるものとすることができる。そのような配置は、磁
気処置とＲＦ処置の最良の相乗効果を可能にし、ＲＦ処置による組織加熱の均一性を改善
し、磁気処置及びＲＦ処置のターゲット設定を改善し、また同様に健康リスクを最小にす
ることができる。
図１０ａは、少なくとも１つのＲＦ電極及び磁場発生デバイスを含むアプリケーターの
側面図を示す。示すアプリケーターは、アプリケーター８００内の磁場発生デバイス９０
０の下に位置することができる少なくとも１つのＲＦ電極１０１を含むことができる。図
１０ｂは、ＲＦ電極及び磁場発生デバイスを含む同じタイプのアプリケーターの上面図を
示す。図１０ａ及び図１０ｂに示すように、少なくとも１つのＲＦ電極１０１は、時変性
磁場によって引き起こされる望ましくない物理的効果を低減するために非常に薄いとする
ことができる。図１０ｂは、少なくとも１つのＲＦ電極１０１が、ほぼ完全に、磁場発生
デバイス９００との重なり内にあるとすることを示す。
図１０ｃは、少なくとも１つのＲＦ電極１０１及び磁場発生デバイスを含む別の例示的
なアプリケーターを示す。図１０ｃによれば、少なくとも１つのＲＦ電極１０１は、アプ
リケーター８００の外側に、例えばアプリケーター８００の外部表面上に又はそれに隣接
して位置することができる。アプリケーターの外側のＲＦ電極は、磁場発生デバイスから
の、及び／又は、アプリケーターから電磁場を放射する他の導電性デバイスからの良好な
絶縁を有することができる。良好な絶縁は、電磁場及び／又は時変性磁場を放射すること
によって少なくとも１つのＲＦ電極１０１内に誘起される望ましくない物理的効果の影響
を減少させることができる。図１０ｃに示すアプリケーターの外側に位置する１つ以上の
ＲＦ電極１０１は患者の身体との良好な接触を有することもできるため、ＲＦ回路の電気
素子を調節する動作を改善することができる。さらに、少なくとも１つの患者のターゲッ
ト生物学的構造に対するＲＦ処置の伝達を高めることができる。
図１０ｄは、少なくとも１つのＲＦ電極及び磁場発生デバイスを含む別の例示的なアプ
リケーターを示す。少なくとも１つのＲＦ電極１０１は、磁場発生デバイス９００の下に
位置決めすることができる。アプリケーター８００は、磁場発生デバイス９００の上に位
置する別の少なくとも１つのＲＦ電極１０２を含むこともでき、両方のＲＦ電極及び磁場
発生デバイスを１つのアプリケーター８００内に位置決めすることができる。その表面に
近接して又はその表面上に湾曲した少なくとも１つのＲＦ電極１０２を有する第１の側面
部８０１は、湾曲した身体エリア（例えば、少なくとも大腿部、ヒップ、首、及び／又は
腕の部分）を処置するために使用することができる。その表面に近接して又はその表面上
に平坦な少なくとも１つのＲＦ電極１０１を有する第２の側面部８０２は、アプリケータ
ーの平坦な又はほぼ平坦な側がより適切であることになる、腹部エリア又は臀部等の身体
エリアを処置するために使用することができる。
図１０ｅは、図１０ｄの場合と同様のアプリケーター８００の正面図を示す。図１０ｅ
は、ＲＦ電極１０１が実際には、２つの電極１０１ａ及び１０１ｂであるものとすること
ができることを示す。電極１０１ａ及び１０１ｂはバイポーラ電極とすることができる。
したがって、アプリケーターは、磁場発生デバイス９００の下に２つのバイポーラ電極１
０１ａ及び１０１ｂを含むことができる。
図１０ｆは、ＲＦ電極及び磁場発生デバイスを含む別の例示的なアプリケーター８００
を示す。アプリケーターは、アプリケーターの床面投影によれば、少なくとも１つの磁場
発生デバイス９００との最小の重なりを持つ又は重なりを全く持たない１つ以上のＲＦ電
極１０１を含むことができる。アプリケーターは、磁場発生デバイスとの重なりを全く持
たない又は最小の重なりを持つ２つのＲＦ電極１０１を含むことができる。
図１０ｇは、ＲＦ電極及び磁場発生デバイスを含む別の例示的なアプリケーター８００
を示す。アプリケーターは、磁場発生デバイス９００の上に位置することができる少なく
とも１つのＲＦ電極１０１を含むことができる。磁場発生デバイスの上に位置決めされた
ＲＦ電極によって提供される加熱は、磁場発生デバイス自身にも提供される場合がある。
１つのアプリケーター及び／又は２つ以上のアプリケーター８００上に位置決めされた
１つ以上のＲＦ電極は、患者に接触して設置することができる。同様に、１つ以上のＲＦ
電極及び／又はアプリケーターを、空気ギャップ、ボーラス、誘電体材料、絶縁材料、及
び／又は他の材料によって患者から分離することができる。
１つのアプリケーター内の１つ以上のＲＦ電極１０１、１０２及び／又は磁場発生デバ
イス９００は、空気ギャップによって、プリント回路基板の材料、絶縁体、冷却流体、及
び／又は他の材料によって互いから分離することができる。磁場発生デバイスの最近傍導
電性部分と最近傍ＲＦ電極との間の距離は、０．１ｍｍ～１００ｍｍ、又は０．５ｍｍ～
５０ｍｍ、又は１ｍｍ～５０ｍｍ、又は２ｍｍ～３０ｍｍ、又は０．５ｍｍ～１５ｍｍ、
又は０．５ｍｍ～５ｍｍの範囲内にあるものとすることができる。磁場発生デバイスとＲ
Ｆ電極との間の間隔は、磁気回路からＲＦ回路を分離し、１つの処置回路又は処置エネル
ギー源に他の処置回路又は他の処置エネルギー源が影響を及ぼすことを防止する絶縁バリ
アの形態で設けることもできる。患者の身体の近くに位置決めされた磁場発生デバイスは
、患者の身体からより遠い距離にある磁場発生デバイスより効果的にかつ深く、少なくと
も１つのターゲット生物学的構造の少なくとも一部に対して、刺激し、処置効果を提供す
ることができる場合がある。
アプリケーター内に又はその上に含まれる磁場発生デバイス及び／又は１つ以上のＲＦ
電極を処置中に冷却することができる。磁場発生デバイス及び／又は１つ以上のＲＦ電極
の冷却を、ペルチエ効果に基づく素子によって、及び／又は、アプリケーター内での又は
アプリケーターに近接した、空気、水、油、及び／又は流体等の冷却流体の流動によって
提供することができる。冷却流体を、磁場発生デバイスと少なくとも１つのＲＦ電極の少
なくとも一部との間で、１つ以上の磁場発生デバイス、１つ以上のＲＦ電極の周りに流す
又は誘導することができる。冷却流体は、磁場発生デバイスの上部及び／又は底部上での
み流れることができる。冷却流体は、ガス、油、水、及び／又は液体等の流体とすること
ができる。冷却流体を、冷却流体をタンパー処理することができる主ユニットからアプリ
ケーターに送出することができる。冷却流体を、アプリケーターに、また、磁場発生デバ
イス及び／又はＲＦ電極の近接部に送出することができる。冷却流体を、主ユニットに結
合された接続管によってアプリケーターに送出することができる。接続管は、アプリケー
ターと主ユニットとの間で冷却流体のための経路として役立つことができる流体導管を含
むことができる。
主ユニットは、冷却流体を貯蔵する及び／又は冷却することができる１つ以上の冷却タ
ンクを含むことができる。各冷却タンクは、１つ以上のポンプを含むことができ、１つの
ポンプは１つのアプリケーターに冷却流体の流れを提供することができる。代替的に、１
つのポンプは、複数のアプリケーター（例えば、２つのアプリケーター）に冷却流体の流
れを提供することができる。さらに、主ユニットは、１つのそれぞれのアプリケーター又
は複数のアプリケーターのために冷却流体を貯蔵する及び／又は冷却する１つの冷却タン
クを含むことができる。例えば、処置デバイスが２つのアプリケーターを含むとき、主ユ
ニットは、両方のアプリケーターのために冷却流体を提供する１つの冷却タンクを含むこ
とができる。別の例において、処置デバイスが２つのアプリケーターを含むとき、主ユニ
ットは、冷却流体の冷却を提供する２つの冷却タンクを含むことができる。各冷却タンク
は、１つの特定のアプリケーターに同期して又は独立に冷却流体の冷却を提供することが
できる。冷却タンク又は流体導管は、冷却流体の温度を測定するための温度センサーを含
むことができる。
流体導管はプラスチック管とすることができる。プラスチック管は、冷却タンクからア
プリケーターにつながり、その後冷却タンクに戻ることができる。処置デバイスが、例え
ば、２つのアプリケーターを含むとき、流体導管は、冷却タンクから１つのアプリケータ
ーにつながり、その後冷却タンクに戻ることができ、一方、第２の流体導管は、同じ又は
異なる冷却タンクから第２のアプリケーターにつながり、その後冷却タンクに戻ることが
できる。しかしながら、流体導管は、冷却タンクから第１のアプリケーターにつながり、
その後、第２のアプリケーターにつながり、最後に、冷却タンクにつながることができる
。
ＲＦ電極が磁場発生デバイスに近接して位置決めされると、磁場発生デバイスによって
生成される時変性磁場は、ＲＦ電極において望ましくない物理的効果を誘起する場合があ
る。時変性磁場によって誘起される望ましくない物理的効果は、例えば、渦電流の誘起、
ＲＦ電極の過熱、表皮効果、及び／又は、ＲＦ電極における位相シフトのような他の電気
及び／又は電磁効果の引き起こしを含むことができる。そのような望ましくない物理的効
果は、処置デバイス機能不全、エネルギー損失、処置効果の低下、エネルギー消費の増加
、少なくともアプリケーターの一部、例えば、ＲＦ電極の過熱、誤ったフィードバック情
報の収集、ＲＦ電極に提供される信号調整の機能不全、及び／又は他の望ましくない効果
をもたらす場合がある。
述べる発明は、磁場によってＲＦ電極内で誘起される１つ以上の望ましくない物理的効
果をどのように防止するか及び／又は最小にするかについてのオプション、方法、又は設
計を提供する。同じオプション、方法、又は設計は、ＲＦ電極によって磁場のシールドを
最小にするのを助けることができる。１つのオプションは、アプリケーターの床面投影に
よる、磁場発生デバイスと最小の重なりがある状態での又は重なりが全くない状態でのＲ
Ｆ電極の配置を含むことができる。別のオプションは、以下で述べる特別な設計のＲＦ電
極を含むことができる。更に別のオプションは、ＲＦ電極の厚さの低減を含むことができ
る。更に別のオプションは、ＲＦ電極の望ましくない物理的効果及び加熱の誘起を低減す
る導電性材料からなるＲＦ電極を設けることを含むことができる。述べた処置デバイスに
よる処置中にＲＦエネルギーを提供する１つ以上のＲＦ電極は、これらのオプションの少
なくとも１つのオプション、少なくとも２つのオプション、及び／又はこれらのオプショ
ンの組み合わせ、並びに、以下で述べるそれらの特徴付けを使用することができる。
磁場によってＲＦ電極において誘起される望ましくない物理的効果を最小にする又はな
くす１つのオプションは、アプリケーターの床面投影による、磁場発生デバイスと最小の
重なりがある状態で又は重なりが全くない状態でのＲＦ電極の配置を含むことができる。
図１１は、ＲＦ電極１０１ａが、磁場発生デバイス９００の下に、その隣に、及び／又
はその上に位置し、また、アプリケーターの床面投影に従った磁場発生デバイス９００と
の重なりを全く持たない又は最小の重なりを持つ例を示す。図１１に示すように、電極１
０１ａはエリアＡ２の外側に位置することができる。
図１２は、磁場発生デバイス及び１つ以上のＲＦ電極を含む別の例示的なアプリケータ
ーを示す。アプリケーター８００は、ギャップ１１３によって離間した２つのＲＦ電極１
０１ａ及び１０１ｂを含むことができる。２つのＲＦ電極１０１ａ及び／又は１０１ｂは
、アプリケーターの床面投影に従って磁場発生デバイス９００の巻線エリアＡ２及び／又
はエリアＡ１との少なくとも部分的な重なり１１２がある状態になることができる。部分
的な重なり１１２は、図１２において斜線エリアで示される。床面投影は、Ｘ線によって
アプリケーターの底部から撮影されたアプリケーター８００の映像によって示すことがで
きる。そのような部分的な重なり１１２は、アプリケーターの床面投影に従って、１つの
ＲＦ電極エリアの面積の１％～１００％、又は１％～９９％、又は１％～７０％、又は５
％～５０％、又は５％～４０％、又は１０％～３０％、又は２５％～１００％、又は１０
％～１００％、又は３０％～９５％、又は４０％～１００％、又は７０％～１００か、又
は８０％～９５％、又は３０％～７０％の範囲内にあるものとすることができる。２つの
エリアの重なりは、これらの２つの異なるエリアの間の比を指すことができる。
１つ以上の温度センサー８１６ａは、図１２に示すバイポーラＲＦ電極１０１ａ、１０
１ｂの間に位置することができる。１つ以上の温度センサー８１６ａは、図１２の温度セ
ンサー８１６ａによって示すように、アプリケーターの床面投影に従って、少なくとも１
つのＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂによって少なくとも部分的に取り囲むことができる。
最大量のＲＦエネルギーが、バイポーラ電極１０１ａと１０１ｂとの間に流れることがで
きる。したがって、バイポーラ電極の間の又はそのすぐ下の身体エリア又は処置される組
織の体積は、最高温度を有することができ、実際の温度、又は所定の温度に対する温度参
照として測定されるべきである。しかしながら、温度センサーを、アプリケーターの内部
に又はアプリケーターの表面上に設置することができる。
ＲＦ電極の特徴的な形状は、処置中に熱の不均一な温度分布を生じる場合がある。温度
センサーがバイポーラ電極１０１ａ、１０１ｂによって取り囲まれないように、ＲＦバイ
ポーラ電極１０１ａ、１０１ｂの間に位置しないように、温度センサー８１６ｂを配置す
ることが有用である場合がある。温度センサーを、アプリケーターの内部に又はアプリケ
ーターの表面上に設置することができる。同様に、温度センサー８１６ｃは、ＲＦ電極の
下に位置することができる。温度センサー８１６（例えば、８１６ａ、８１６ｂ、又は８
１６ｃ）の少なくとも一部を覆い、患者の身体に接触する第１の側面部８０１及び／又は
第２の側面部８０２の材料は、第１の側面部８０１及び／又は第２の側面部８０２と同じ
材料から製造することができる。しかしながら、温度センサー８１６を覆う第１の側面部
８０１又は第２の側面部８０２の材料は、高い熱伝導率を有する材料、例えば、セラミッ
ク、チタン、アルミニウム、又は他の金属材料若しくは合金等の、第１の側面部８０１又
は第２の側面部８０２の残りの部分と異なる材料から製造することができる。温度センサ
ー８１６はサーミスタとすることができる。温度センサー８１６（例えば、８１６ａ、８
１６ｂ、又は８１６ｃ）は、良好な（good）熱伝導率を有する熱エポキシ層等の熱伝導性
材料によって第１の側面部８０１及び／又は第２の側面部８０２に固定又は結合すること
ができる。温度センサー８１６と処置デバイスの残りの部分との間のワイヤ接続は、０．
０５ｍｍ～３ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～１ｍｍ、又は０．１ｍｍ～０．５ｍｍの範囲内の
直径を有する１つ、２つ、又はそれより多い数の導電性ワイヤによって示すことができる
。述べた直径を有する導電性ワイヤを含むワイヤ接続は、ワイヤと温度センサー８１６と
の間の熱伝達を最小にするため有利であるものとすることができる。温度センサー８１６
に対するワイヤ接続は、５Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１～３２０Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１、又は６Ｗ・
ｍ－１・Ｋ－１～２３０Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１、又は６Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１～１６０Ｗ・ｍ
－１・Ｋ－１、又は２０Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１～１１０Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１、又は４５Ｗ・
ｍ－１・Ｋ－１～１００Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１、又は又は５０Ｗ・ｍ－１・Ｋ－１～９５Ｗ
・ｍ－１・Ｋ－１の範囲内の熱伝導率を有することができる。ワイヤ接続の材料は、例え
ば、ニッケル、モネル、プラチナ、オスミウム、ニオブ、カリウム、鋼、ゲルマニウム、
アルミニウム、コバルト、マグネシウム、銅、及び／又はそれらの合金とすることができ
る。温度センサー８１６に接続されるワイヤ接続の少なくとも一部は、シース又はシール
ド、例えばゴムチュービングによって熱絶縁することができる。温度センサー８１６は、
アプリケーターの一部である及び／又は主ユニット内にあるものとすることができる、赤
外ＩＲ温度センサー等の光温度センサーとすることができる。処置中に、光温度センサー
は、患者の皮膚に接触して、又は、患者の皮膚から０．１ｃｍ～３ｃｍ又は０．２ｃｍ～
２ｃｍの範囲内に位置することができる。光温度センサーは、光ケーブルを通して患者の
皮膚から情報を収集することができる。
磁場発生デバイスの下に少なくとも部分的な重なりを持って位置する１つ以上のＲＦ電
極は、磁気処置及びＲＦ処置の相乗効果を提供することができる。磁場発生デバイスの下
に少なくとも部分的な重なりを持って位置するＲＦ電極によって、より強い又はより徹底
的な処置結果を提供することができる。そのような構成における処置エネルギー源からの
生成されるＲＦ場及び磁場を、同じ身体エリア及び／又はターゲット生物学的構造にター
ゲット設定することができる。これは、刺激される筋肉及び隣接する組織のより良好な加
熱、筋肉刺激（例えば、筋肉収縮）によって引き起こされる不快な感覚のより良好な抑制
、処置後の良好な再生、及び／又は脂肪組織炎及び他の組織損傷のより良好な防止をもた
らすことができる。
磁場によってＲＦ電極において誘起される望ましくない物理的効果を最小にする又はな
くす別のオプションは、ＲＦ電極の特別な設計を含むことができる。
磁場発生デバイスに近接して又はそれとの少なくとも部分的な重なりを持った状態で位
置決めされたＲＦ電極において磁場によって誘起される望ましくない物理的効果を、セグ
メント化ＲＦ電極を使用することによって更に最小にする又はなくすことができることは
本発明の一部である。セグメント化ＲＦ電極は、アパーチャ、切り欠き部、及び／又は突
出部を備えることができる。アパーチャ及び／又は切り欠き部のエリアは、空気、誘電体
、及び／又は他の電気絶縁性材料によって形作ることができる。電極は種々の突出部を備
えることができる。複数のアパーチャ及び／又は切り欠き部は、そのような電極の床面投
影から見ることができる。望ましくない物理的効果の存在を最小にする又はなくす別のパ
ラメーターはＲＦ電極の厚さとすることができる。ＲＦ電極の導電性材料が薄く、ＲＦ電
極のエリアが絶縁体によって少なくとも部分的に分離される場合、磁場によって誘起され
る渦電流のループは非常に小さいとすることができるため、そのようなエリアにおける誘
起は最小になる。
ＲＦ電極は、ＲＦ電極の導電性エリア及び／又はＲＦ電極の周縁をセグメント化するこ
とができる１つ以上のアパーチャ又は切り欠き部を含むことができる。したがって、ＲＦ
電極は、表面エリアの分裂（disruption）による規則的な電極（すなわち、アパーチャ又
は切り欠き部を持たない電極）と比較してセグメント化される。１つのＲＦ電極の２つ以
上のアパーチャ又は切り欠き部は非対称とすることができる。１つ以上のアパーチャ及び
切り欠き部は、例えば、矩形又は円形形状を有することができる。アパーチャは、アプリ
ケーターの床面投影に従った、ＲＦ電極の電極エリア内の任意の穴及び／又は開口とする
ことができる。アパーチャ及び／又は切り欠き部は、規則的、不規則的、対称的、及び／
又は非対称的形状を有することができる。アパーチャ及び／又は切り欠き部を、例えば、
空気、誘電体、及び／又は他の電気絶縁性材料（例えば、プリント回路基板の誘電体材料
）で充填することができる。ＲＦ電極が２つ以上のアパーチャ又は切り欠き部を含むとき
、アパーチャ又は切り欠き部は、同じ対称ポイント及び／又は対称線を有することができ
る。ＲＦ電極の２つの異なるアパーチャ及び切り欠き部の境界上に位置する２つの最接近
ポイント間の距離は、０．１ｍｍ～５０ｍｍ、又は０．１ｍｍ～１５ｍｍ、又は０．１ｍ
ｍ～１０ｍｍ、又は０．１ｍｍ～８ｍｍの範囲内にあるものとすることができる。ＲＦ電
極が磁場発生デバイスと少なくとも部分的な重なりを持つ状態であるとき、ＲＦ電極は、
大きいアパーチャ及び切り欠き部を、磁場発生デバイスの中央に近い導電性表面の一部内
に含むことができる。
図１３ａは、ＲＦ電極１０１が、電極エリア１１９ａを含み、ＲＦ電極の導電性エリア
内に１つ以上のアパーチャ１１７を画定する例示的なＲＦ電極を示す。アパーチャ１１７
は、矩形形状を有する細長いスロットとすることができる。１つのアパーチャ１１７は別
のアパーチャに平行とすることができる。
図１３ｂは、ＲＦ電極１０１が、電極エリア１１９ａ並びにＲＦ電極の導電性エリア内
の１つ以上のアパーチャ１１７ａ及び１１７ｂを含む別の例示的なＲＦ電極を示す。アパ
ーチャ１１７ａはアパーチャ１１７ｂに平行でない。
図１３ｃは、ＲＦ電極１０１が、電極エリア１１９ａと、導電性エリア内の１つ以上の
アパーチャ１１７、導電性エリア内の切り欠き部１１５、及びＲＦ電極の突出部１１４の
組み合わせとを含む別の例示的なＲＦ電極を示す。
図１３ｄは、ＲＦ電極１０１が、導電性エリアにおける１つ以上のアパーチャ１１７及
び電極エリア内の切り欠き部１１５の組み合わせを含む別の例示的なＲＦ電極を示す。線
は、ＲＦ電極の電極エリア１１９ａの細い線（例えば、単一ワイヤ）を示す。ＲＦ電極は
、導電性ワイヤの格子又は導電性ワイヤのメッシュとすることができる。突出部１１４は
、電極の周縁において１つ以上の切り欠き部１１５を画定することができる。
図１３ｅは、突出部及び切り欠き部を含む別の例示的なＲＦ電極を示す。ＲＦ電極１０
１は、電極エリア１１９ａ、境界長さ１１９ｂ、及びＮ♯として示す複数の突出部を有す
る。突出部は、突出切り欠き部（例えば、開口又はギャップとすることができる切り欠き
部１１５）を画定することができる。ＲＦ電極１０１は、少なくとも２つ、３つ、又は５
つの突出部１１４（例えば、１１４ａ、１１４ｂ）又はそれより多い数の突出部を含むこ
とができる。突出部１１４は、切り欠き部１１５によって互いから分離することができる
。同様に、ＲＦ電極１０１は、１つ、２つ、３つ、又はそれより多い数の突出切り欠き部
を含むことができる。複数の突出部のうちの第１の突出部１１４ａ及び第２の突出部１１
４ｂは、互いにほぼ平行に配置することができる。突出部１１４は、一定間隔で離間する
ことができ、規則的に配置することができる。突出部１１４ａ、１１４ｂは、ほぼ直線状
の形状を有するロッド又はピンとして形作ることができる。突出部１１４ａ及び１１４ｂ
は、導電性材料で作ることができる。切り欠き部１１５を、空気、誘電体、又は他の電気
絶縁性材料で充填することができる。突出部間の距離は、切り欠き部１１５内でかつ２つ
の突出部１１４ａと１１４ｂとの間に少なくとも１つの円１１８ａが仮想的に内接するこ
とができる距離である。少なくとも１つの円１１８ａは、０．００１ｍｍ～３０ｍｍ、又
は０．００５ｍｍ～１５ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～１０ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～８ｍｍ
、又は０．０１ｍｍ～７ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～５ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～３ｍｍ、
又は０．０１ｍｍ～２ｍｍの範囲内の直径を有することができ、各円は、第１の突出部１
１４ａ上に位置する少なくとも１つの接点（tangential point）及び第２の突出部１１４
ｂ上に位置する少なくとも１つの接点を有することができる。各円１１８ａは、異なる接
点を有することができる。切り欠き部１１５は、その長さに沿って対称及び／又は非対称
とすることができる。切り欠き部１１５は突出部１１４ａと１１４ｂとの間に一定の距離
を作成することができる。突出部１１４ａと１１４ｂとの間の距離は、突出部の長さに沿
って一定でないとすることができる。２つの最近傍突出部１１４ａと１１４ｂとの間の最
短距離は、突出部の長さの増加とともに増加する及び／又は減少することができる。
突出部１１４又は切り欠き部１１５は、対称的、非対称的、不規則的、及び／又は規則
的形状を有することができる。個々の突出部１１４のサイズ、形状、及び／又は対称性は
、ＲＦ電極１０１にわたって同じ及び／又は異なるものとすることができる。例えば、各
突出部１１４は、同じ形状、同じ寸法、及び／又は対称性を有することができる。
突出部１１４は、突出部内に直接入る仮想的内接円１１８ｂを特徴とすることができる
。突出部１１４に対する仮想的内接円１１８ｂは、０．００１ｍｍ～３０ｍｍ、又は０．
０１ｍｍ～１５ｍｍ、又は０．２ｍｍ～１０ｍｍ、又は０．２ｍｍ～７ｍｍ、又は０．１
ｍｍ～３ｍｍの範囲内の直径を有することができる。仮想的内接円は、その縁が内接する
先の突出部の境界を横切らないとすることができる。ＲＦ電極表面エリアの少なくとも一
部上で測定される磁束密度Ｂは、０．１Ｔ～５Ｔの範囲内、又は０．２Ｔ～４Ｔの範囲内
、又は０．３Ｔ～３Ｔの範囲内、又は０．５Ｔ～５Ｔの範囲内、又は０．７Ｔ～４Ｔの範
囲内、又は１Ｔ～３Ｔの範囲内にあるものとすることができる。ＲＦ電極表面エリアの少
なくとも一部上で測定される磁束密度Ｂは、処置中に測定することができる。ＲＦ電極表
面エリアは、ＲＦ電極の導電性表面の表面エリアを含むことができる。
１つのＲＦ電極内に含まれる突出部Ｎ♯の数は、ＲＦ電極の表面にわたる２つの平行カ
ット１１１の間で及び／又はそれらによって作成することができる、互いから電気絶縁さ
れた導電性エリアの考えられる最大数を意味する。２つの平行カット１１１間の距離は、
１ｍｍ～５０ｍｍ、又は２ｍｍ～３５ｍｍ、又は５ｍｍ～２０ｍｍの範囲内にあるものと
することができる。突出部Ｎ♯の数は、５個～１０００個、又は１０個～６００個、又は
２０個～４００個、又は５０個～４００個、又は１００個～４００個、又は１５個～２０
０個、又は３０個～１００個、又は４０個～１５０個、又は２５個～７５個の範囲内にあ
るものとすることができる。
平行カット１１１に関係ない１つのＲＦ電極内の突出部の総数は、５個～１０００個、
又は１０個～６００個、又は２０個～４００個、又は５０個～４００個、又は１００個～
４００個、又は１５個～２００個、又は３０個～１００個、又は４０個～１５０個、又は
２５個～１４０個の範囲内にあるものとすることができる。
平行カット１１１に関係ない１つのＲＦ電極内のアパーチャ又は切り欠き部の総数は、
５個～１０００個、又は１０個～６００個、又は２０個～４００個、又は５０個～４００
個、又は１００個～４００個、又は１５個～２００個、又は３０個～１００個、又は４０
個～１５０個、又は２５個～１４０個の範囲内にあるものとすることができる。
コアを含むコイルの下に位置する１つのＲＦ電極内のアパーチャ、切り欠き部、及び／
又は突出部の数は、５個～１０００個、又は１０個～６００個、又は２０個～４００個、
又は５０個～４００個、又は１００個～４００個、又は１５個～２００個、又は３０個～
１００個、又は４０個～１５０個、又は２５個～１４０個の範囲内にあるものとすること
ができる。
１つのＲＦ電極に含まれる個々の突出部の数は、２ｃｍに１ｃｍを掛けたサイズのエリ
ア内で、１個～８０００個、又は２個～８０００個、又は５個～８０００個、又は３個～
５０００個、又は５個～１０００個、又は５個～５００個、又は１０個～５００個、又は
５個～２２０個、又は１０個～１００個の範囲内にあるものとすることができる。
ＲＦ電極１０１の少なくとも一部上で測定される磁束密度Ｂ及び／又は磁束密度の振幅
は、処置中に０．１Ｔ～５Ｔ、０．２Ｔ～４Ｔ、０．３Ｔ～３Ｔ、０．７Ｔ～５Ｔ、１Ｔ
～４Ｔ、又は１．５Ｔ～３Ｔの範囲内にあるものとすることができる。電極は、式１に従
って、突出部密度（protrusion density）ρｐによって規定することができる。
Figure 2022141938000002
 ここで、ｎは磁束密度Ｂ[Ｔ]の磁力線と交差する突出部の数のシンボルであり、ｌ[ｃｍ]
は、これらの突出部と交差する磁力線の長さのシンボルである。長さｌは少なくとも１ｃ
ｍとすることができ、磁力線は、少なくとも０．３Ｔ又は０．７Ｔの磁束密度Ｂ[Ｔ]を有
することができる。処置デバイスによる突出部密度は、ＲＦ電極の少なくとも一部内で、
０．３ｃｍ－１・Ｔ－１～７２ｃｍ－１・Ｔ－１、又は０．４ｃｍ－１・Ｔ－１～１０ｃ
ｍ－１・Ｔ－１、又は０．４ｃｍ－１・Ｔ－１～７ｃｍ－１・Ｔ－１、又は０．５ｃｍ－
１・Ｔ－１～６ｃｍ－１・Ｔ－１、又は０．８ｃｍ－１・Ｔ－１～５．２ｃｍ－１・Ｔ－
１の範囲内にあるものとすることができる。
突出部は、磁束密度が低くなるほど、広くなることができ（すなわち、突出部はより大
きい厚さを有することができ）、磁束密度が高くなるほど、薄くなることができる。さら
に、突出部密度ρｐは、磁束密度が高くなるほど、高くなることができる。
１つのアプリケーター又は１つの更なる処置デバイス内の１つ以上のＲＦ電極の電極エ
リアは、アプリケーターの床面投影に従って、１ｃｍ２～２５００ｃｍ２、又は２５ｃｍ
２～８００ｃｍ２、又は３０ｃｍ２～６００ｃｍ２、又は３０ｃｍ２～４００ｃｍ２、又
は５０ｃｍ２～３００ｃｍ２、又は４０ｃｍ２～２００ｃｍ２の範囲内にあるものとする
ことができる。
ＲＦ電極は境界比（border ratio）を有することができる。境界比は、電極の周長と面
積との間の比として規定することができる。境界比の例は図１３ｅに示され、アプリケー
ターの床面投影に従って、周長は境界長さ１１９ｂとして示すことができ、ＲＦ電極の面
積は、ＲＦ電極の電極エリア１１９ａによって示される。電極エリア１１９ａは、ＲＦ電
極に給電するワイヤがなくかつ全てのアパーチャ及び／又は切り欠き部の周長の合計がな
いＲＦ電極のエリアである。境界長さ１１９ｂは、電極の周長と、もし存在すれば、電極
の内部で内接するアパーチャの全ての周長との合計である。ＲＦ電極の境界比は、１５０
ｍ－１～２００００ｍ－１、又は２００ｍ－１～１００００ｍ－１、又は２００ｍ－１～
４０００ｍ－１、又は３００ｍ－１～１００００ｍ－１、又は３００ｍ－１～４０００ｍ
－１、又は５００ｍ－１～４０００ｍ－１、又は１０ｍ－１～２００００ｍ－１、又は２
０ｍ－１～１００００ｍ－１、又は３０ｍ－１～５０００ｍ－１の範囲内にあるものとす
ることができる。
アプリケーターの床面投影に従って、ＲＦ電極の表面の少なくとも一部上の磁束密度Ｂ
が０．１Ｔ～７Ｔ、又は０．３Ｔ～５Ｔ、又は０．５Ｔ～３Ｔ、又は０．５Ｔ～７Ｔの範
囲内、又は０．７Ｔ～５Ｔの範囲内、又は１Ｔ～４Ｔの範囲内にあるものとすることがで
きる場所において、少なくとも１つのＲＦ電極は、１５０ｍ－１～２００００ｍ－１、又
は２５０ｍ－１～１００００ｍ－１、又は２００ｍ－１～４０００ｍ－１、又は３００ｍ
－１～１０００ｍ－１、又は４００ｍ－１～４０００ｍ－１、又は４００ｍ－１～１２０
０ｍ－１、又は５００ｍ－１～２０００ｍ－１、又は１０ｍ－１～２００００ｍ－１、又
は２０ｍ－１～１００００ｍ－１、又は３０ｍ－１～５０００ｍ－１の範囲内の境界比を
有することができる。ＲＦ電極にわたる磁束密度Ｂの増加は境界比の増加になることがで
きる。
境界比とＲＦ電極の表面積上の磁束密度Ｂとの比は、チャージング比（charging ratio
）と呼ぶことができる。チャージング比は、少なくとも１．５ｃｍ２のＲＦ電極の正方形
表面積及び０．１Ｔ～７Ｔ、又は０．３Ｔ～５Ｔ、又は０．５Ｔ～３Ｔ、又は１Ｔ～５Ｔ
、又は１．２Ｔ～５Ｔの範囲内の磁束密度に関連するものとすることができる。ＲＦ電極
の少なくとも一部のチャージング比は、７０ｍ－１・Ｂ－１～３００００ｍ－１・Ｂ－１
、又は１００ｍ－１・Ｂ－１～５０００ｍ－１・Ｂ－１、又は１００ｍ－１・Ｂ－１～２
０００ｍ－１・Ｂ－１、又は１２０ｍ－１・Ｂ－１～１２００ｍ－１・Ｂ－１、又は１２
０ｍ－１・Ｂ－１～６００ｍ－１・Ｂ－１、又は２３０ｍ－１・Ｂ－１～６００ｍ－１・
Ｂ－１の範囲内にあるものとすることができる。ＲＦ電極の正方形表面積は、正方形形状
を有する表面積を含むことができる。
より高い境界比及び／又はチャージング比によって、ＲＦ電極における、誘起される望
ましくない物理的効果は低くなるものとすることができる。なぜならば、ＲＦ電極が、互
いからの部分的に絶縁された突出部を含むことができるからである。より高い境界比及び
／又はチャージング比によって、突出部内への、考えられる仮想的内接円も、より小さく
ならなければならないため、誘起される渦電流のループはより小さくならなければならな
い。したがって、誘起される渦電流はより小さく、ＲＦ電極において誘起される望ましく
ない誘起物理的効果はより低い又は最小になる。
１つのアプリケーター内でのかつその床面投影に従った、全てのＲＦ電極の一方の側の
面積（床面投影）と全ての磁場発生デバイスの全ての巻線エリア（図９ａに示すエリアＡ
２）の一方の側の面積との比は、０．１～１５、又は０．５～８、又は０．５～４、又は
０．５～２の範囲内にあるものとすることができる。
図１６に示すように、１つの突出部１１４と磁力線Ｂ１及びＢ２が交差し、ここで、絶
対値│Ｂ１│が絶対値│Ｂ２│よりも大きく、│Ｂ１│－│Ｂ２０．０５＜│Ｔである場
合、突出部は、磁力線Ｂ１及びＢ２によって３つのエリアに分割することができる。換言
すれば、突出部１１４を、図１６に示すように、磁場勾配の方向に従って同じ長さを有す
る３分の１Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３に分割することができ、Ｓ１はＳ３よりも高い磁束密度にさ
らされる。エリアＳ１は最大磁束密度内に設置することができ、Ｓ２は中間磁束密度内に
設置することができ、Ｓ３は最小磁束密度内に設置することができる。エリアＳ１に内接
する直径ｄ１を有する最大仮想的内接円ｋ１は、エリアＳ３に内接する直径ｄ２を有する
最大内接円ｋ２よりも小さい直径を有することができる。直径ｄ２は、直径ｄ１と比べて
、直径ｄ１の２％～１５００％、又は５％～５００％、又は１０％～３００％、又は１０
％～２００％、又は１０％～１００％、又は５％～９０％、又は２０％～７０％、又は５
％～２０％大きいものとすることができる。そのような場合、突出部は、磁束密度が大き
いほど薄くなることができ、例えば、突出部の少なくとも部分的にピラミッド状の形状を
作成することができる。さらに、突出部は、磁束密度が大きいほど薄くなることができる
。
ＲＦ電極は異なるサイズ及び形状を有することができる。本発明によれば、バイポーラ
電極は、図１４ａ～図１４ｅに示すような平行電極、又は、図１５ａ～図１５ｃに示すよ
うな（正：as is shown）同心電極とすることができる。アプリケーターの第２の側面部
の近くに位置することができる図１４ａ～図１４ｅ及び図１５ａ～図１５ｃに示す同じタ
イプのＲＦ電極１０１は、第１の側面部の近くに位置するＲＦ電極１０２として及び／又
は任意の他の１つ以上のＲＦ電極のために使用することができる。
少なくとも１つのアプリケーターのＲＦ電極の形状及び配置は、少なくとも１つのアプ
リケーターが取り付けられることになる身体場所（解剖学的構造）のサイズ、形状、及び
対称性に基づくものとすることができる。ＲＦ電極の位置決め及び異なる形状は、ホット
スポットの作成を回避する、できる限り大きい処置される身体エリア（正：as large tre
ated body area as possible）の均一な加熱を提供する、１つ以上のアプリケーターに関
する移動の必要性を回避するために有益とすることができる。
図１４ａはＲＦ電極の対称的位置決めの例を示す。図１４ｂはＲＦ電極の別の例の対称
的位置決めを示す。図１４ｃはＲＦ電極の更に別の例の対称的位置決めを示す。図１４ｄ
はＲＦ電極の対称的位置決めを含むアプリケーターの図を示す。図１４ｅはＲＦ電極の対
称的位置決めの例を含むアプリケーターの側面図を示す。
図１４ａ～図１４ｅに示すＲＦ電極の例によれば、アプリケーターは、ギャップ１１３
で離間した少なくとも一対の平行バイポーラＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂを備えること
ができる。ＲＦ電極は配線１００ａ及び１００ｂによって電力供給される。図１４ａ、図
１４ｂ、及び図１４ｄに示すように、ＲＦ電極１０１ａ、１０１ｂは、対称とすることが
でき、また、鏡像とすることができる。個々のＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂの形状は、
不規則的、非対称とすることができ、１つのＲＦ電極内の全ての突出部の少なくとも４０
％、５０％、７０％、９０％、又は９９％の長さ及び／又は面積は異なるものとすること
ができる。身体解剖学及び試験は、そのような種類のＲＦ電極が、腹部エリア、臀部、腕
、及び／又は大腿部等の身体エリアの最も快適かつ効率的な処置を提供する可能性がある
ことを証明することができる。
図１４ｃに示すように、ＲＦ電極１０１ａ、１０１ｂは、線対称、点対称、及び回転対
称に従って等で、少なくとも１つの対称軸又は対称点に従って少なくとも部分的に対称と
することができる。例えば、各電極は、半円又はＣ字形状とすることができる。さらに、
ＲＦ電極１０１ａと１０１ｂとの間のギャップ１１３は、不規則的とすることができ、及
び／又は、ミラー対称を有する直線の対称軸等、少なくとも１つの対称軸に従って設計す
ることができる。こうして、電極１０１ａ及び１０１ｂを半円とすることができる場合、
ギャップ１１３は円形とすることができる。そのような対称電極の使用は、身体エリア（
例えば、臀部又はヒップ）の対称性を強調するために、そのような対称性を必要とする場
合がある身体エリアを処置するために有益とすることができる。
ＲＦ電極１０１ａと１０１ｂとの間のギャップ１１３は、空気、冷却流体、油、水、誘
電体材料、流体、及び／又は、プリント回路基板において使用される複合材料による基材
等の任意の他の電気絶縁体を含むことができる。ＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂは、その
ような基材上に堆積された銅箔及び／又は層から形成することができる。ギャップ１１３
は、ＲＦ電極によって生成される電磁場（例えば、ＲＦ場）の形状、及び、患者の身体組
織内への電磁場貫入の深さに影響を及ぼすことができる。また、少なくとも２つのＲＦ電
極１０１ａと１０１ｂとの間の距離は、図１４ａに示すように、少なくとも部分的に円、
楕円、及び／又は放物線形状を有することができるギャップ１１３を作成することができ
る。ギャップ１１３は、図１４ｂに示すように、一定距離でＲＦ電極を離間させるための
規則的形状を有することができる。
ＲＦ電極１０１ａと１０１ｂとの間のギャップ１１３は、磁場発生デバイスによって生
成される磁場の２％～７０％、又は％～５０％、又は１５％～４０％の範囲内の量の通過
を提供するように設計することができる。１つのアプリケーター内の少なくとも２つの異
なるＲＦ電極の最近傍部分間の距離は、０．１ｃｍ～２５ｃｍ、又は０．２ｃｍ～１５ｃ
ｍ、又は２ｃｍ～１０ｃｍ、又は２ｃｍ～５ｃｍの範囲内にあるものとすることができる
。
２つのＲＦ電極間のギャップ１１３は、ＲＦバイポーラ電極の平面内で設計することが
でき、ギャップ１１３は、磁場発生デバイスによって生成される磁束密度が最大絶対値を
有する場所に少なくとも部分的に重なることができる。ギャップ１１３は、処置効率を最
適にするとともに、エネルギー損失を最小にするためにそのような場所に位置することが
できる。
磁束密度の高次導関数ｄＢ／ｄｔを有する強い磁場が、突出部、アパーチャ、及び／又
は切り欠き部を有するＲＦ電極の場合でも、望ましくない物理的効果を誘起する場合があ
ることが留意されるべきである。ギャップ１１３は、磁束密度の絶対値が最大である場所
に位置決めする又は位置することができる。結果として、ギャップ１１３の周りに位置決
めされた複数のＲＦ電極は、より少ない量の磁束密度によって影響を受ける場合がある。
複数のＲＦ電極（例えば、２つのＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂ）は、図１４ｄに示す
ように、基材１１３ａ上に位置することができる。基材１１３ａは、ＲＦ電極間のギャッ
プ１１３の及び１つ以上の切り欠き部１１５の充填材として使用することができる。図１
４ｄ及び図２５に示すように、基材１１３ａ及び１つ以上のＲＦ電極は、患者の身体エリ
アに当てはめるために、必要とされる形状及び／又は半径になるように湾曲することがで
きる。ＲＦ電極１０１ａ又は１０１ｂは、アプリケーター８００の下側カバー１２５に沿
って、特に、下側カバー１２５の湾曲部１２６に沿って湾曲することができる。図１４ｄ
に示すように、基材１１３ａは、温度センサー等の少なくとも１つのセンサーのための基
材ギャップ１１３ｂを画定することができる。基材ギャップ１１３ｂは、１つ以上のワイ
ヤ、冷却流体の通過、及び／又は、生物学的構造及び／又は身体エリアの照明及び更なる
加熱を提供する、光処置エネルギー源（例えば、ＬＥＤ、レーザーダイオード）等の別の
処置エネルギー源の実装（正：and/or implementing）を更に可能にすることができる。
図１５ａ、図１５ｂ、及び図１５ｃは、２つのＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂを示し、
少なくとも１つのＲＦ電極１０１ａは別のＲＦ電極１０１ｂを少なくとも部分的に囲むこ
とができる。ＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂは、例えば、図１４ａ～図１４ｅに関して上
述したのと同じ絶縁特性を有する基材１１３ａを含むギャップ１１３で離間することがで
きる。ＲＦ電極１０１ｂは、磁場のシールド、及び、ＲＦ電極１０１ｂにおいて誘起され
る望ましくない物理的効果の誘起を最小にするために穴１１６を含むことができる。穴１
１６は、磁場発生デバイスによって生成される磁場の磁束密度が処置中に最大値に達する
ＲＦ電極平面内に位置することができる。穴１１６は、円とすることができ、又は、とり
わけ、長円形、正方形、三角形、又は矩形等の他の形状とすることができる。穴１１６は
、０．０５ｃｍ２～１０００ｃｍ２、又は０．０５ｃｍ２～１００ｃｍ２、又は３ｃｍ２
～７１ｃｍ２、又は３ｃｍ２～４０ｃｍ２、又は３ｃｍ２～２０ｃｍ２、又は３ｃｍ２～
１５ｃｍ２、又は０．５ｃｍ２～２．５ｃｍ２の面積を有することができる。ＲＦ電極は
、完全に又は部分的に同心とすることができる。
図１５ａは、少なくとも１つの線対称及び／又は点対称を有する、非円形とすることが
できる（正：which may be）２つのＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂを示す。示す電極１０
１ａ及び１０１ｂは、対称中心を持たないものとすることができる。示すＲＦ電極１０１
ａは、その中心に穴１１６を有することができ、そこで、磁場によるＲＦ電極における望
ましくない物理的効果の誘起を最小にするために磁束密度は最大である。
図１５ｂは、回転対称を有する、円形形状を有することができる２つのＲＦ電極１０１
ａ及び１０１ｂを示す。ＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂは、同じ対称中心を有することが
できる。示すＲＦ電極１０１ａは、その中心に穴１１６を有することができ、そこで、磁
場によるＲＦ電極における望ましくない物理的効果の誘起を最小にするために磁束密度は
最大である。
図１５ｃは、対称性も対称中心も持たないものとすることができる２つのＲＦ電極１０
１ａ及び１１０ｂを示す。
磁場によってＲＦ電極において誘起される望ましくない物理的効果を最小にする又はな
くす別のオプションは、ＲＦ電極の厚さを低減することを含むことができる。
本発明のＲＦ電極の導電性層の厚さは、０．０１ｍｍ～１０ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～
５ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～３ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～１ｍｍ、又は０．１ｍｍ～１ｍ
ｍ、又は０．００５ｍｍ～０．１ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～０．２ｍｍの範囲内にあるも
のとすることができる。１つのタイプのＲＦ電極は、プリント回路基板（ＰＣＢ）が調製
されるのと同様な方法によって設計することができ、薄い導電性層を、絶縁特性を有する
基材内に及び／又は基材上に堆積することができる。基材は、銅、銀、アルミニウム、ニ
ッケル及び亜鉛の合金、オーステナイト系ステンレス鋼等の材料、及び／又は、ＲＦ電極
を作製する他の材料からなる１つ、２つ、又はそれより多い数の導電性層を含むことがで
きる。基材材料の厚さは、０．０１ｍｍ～１０ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～５ｍｍ、又は０
．０１ｍｍ～３ｍｍ、又は０．０１ｍｍ～２ｍｍ、又は０．１ｍｍ～２ｍｍ、又は０．５
ｍｍ～１．５ｍｍ、又は０．０５ｍｍ～１ｍｍの範囲内にあるものとすることができる。
基材材料は、ポリマー、セラミック、コポリマーシート、フェノール樹脂層、エポキシ樹
脂層、ガラス繊維ファブリック、テキスタイルファブリック、ポリマーファブリック、及
び／又は他のものとすることができる。基材は、少なくとも部分的に柔軟性及び／又は硬
質性があるものとすることができる。
ＲＦ電極は、薄い導電性ワイヤ、平坦ストリップ、シート、又は同様なもののシステム
とすることができる。
磁場によってＲＦ電極において誘起される望ましくない物理的効果を最小にする又はな
くす更に別のオプションは、望ましくない物理的効果の誘起及びＲＦ電極の加熱を低減す
る導電性材料からＲＦ電極を形成することを含むことができる。
ＲＦ電極を、ＲＦ電極における望ましくない物理的効果の誘起を低減する特定の導電性
材料で作ることができる。そのような材料は、４～１００００００、又は２０～３０００
００、又は２００～２５００００、又は３００～１０００００、又は３００～１８０００
、又は１０００～８０００の範囲内の比透磁率を有することができる。ＲＦ電極の材料は
、炭素、アルミニウム、銅、ニッケル、コバルト、マグネシウム、亜鉛、鉄、チタン、銀
、真鍮、プラチナ、パラジウム、及び／又は他のものを含むことができ、それらから、ミ
ューメタル、パーマロイ、電磁鋼板、フェライト鋼、フェライト、ステンレス鋼等の合金
を作製することができる。さらに、ＲＦ電極は、混合金属酸化物、及び／又は、金属酸化
物からの固定粉末、ｍ金属元素からなる金属から作られて、渦電流の誘起及びＲＦ電極の
加熱を最小にし、また同様に、時変性磁場のエネルギー損失を最小にすることができる。
述べた処置デバイスによる処置中にＲＦエネルギーを提供する１つ以上のＲＦ電極は、
磁場によって誘起される望ましくない物理的効果をどのように最小にする又はなくすかの
、上述した少なくとも１つのオプション、少なくとも２つのオプション、及び／又はオプ
ションの組み合わせを使用することができる。同様に、オプションの１つ以上の特徴付け
は、本発明の処置デバイスの製造、設計、及び動作のために使用することができる。
ＲＦ処置を磁気処置と組み合わせる処置デバイスは、１つ以上の処置回路を含むことが
できる。ＲＦ処置のための処置回路は、電力源、ＲＦ電極、及び／又はＲＦクラスターの
ために本明細書で述べる全ての電気素子を含むことができる。磁気処置のための処置回路
は、電力源、磁場発生デバイス、磁気クラスターＨＩＦＥＭのために本明細書で述べる全
ての電気素子を含むことができる。同じ又は異なる処置を提供する複数の処置回路は共通
の電力源を含むことができる。代替的に、各処置回路はそれ自身の電力源を含むことがで
きる。全ての処置回路の動作は、１つのマスターユニット又は１つ以上の制御ユニットに
よって調節することができる。ＨＭＩ、マスターユニット、及び／又は１つ以上の制御ユ
ニットは、各アプリケーター及び／又は各処置エネルギー源（例えば、ＲＦ電極又は磁場
発生デバイス）のための１つ以上の処置パラメーターの選択、制御、及び／又は調整のた
めに使用することができる。処置パラメーターを、各アプリケーターについて独立に、Ｈ
ＭＩ、マスターユニット、及び／又は１つ以上の制御ユニットによって、選択、制御、及
び／又は調整することができる。
図１７は、磁気回路４００の例示的な電気素子を示す。磁気回路４００を通過する電気
信号は、電気信号の１つ以上のパルスの形態に変換することができる。電気パルスを磁場
発生デバイスに提供して、時変性磁場のインパルスを生成することができる。磁気回路の
個々の電気素子は、電力源（ＰＳ：power source）、エネルギー貯蔵デバイス（ＥＳＤ：
energy storage device）、スイッチ（ＳＷ：switch）、磁場発生デバイス（ＭＦＧＤ：m
agnetic field generating device）、及び磁気回路の制御ユニット（ＣＵＭ：control u
nit of magnetic circuit）とすることができる。磁気回路は、ＨＩＦＥＭクラスターと
呼ぶ磁気処置のための処置クラスターを含むことができる。ＨＩＦＥＭクラスターは、例
えば、ＥＳＤ、ＳＷ、及び／又はＣＵＭを含むことができる。磁気回路の制御ユニットＣ
ＵＭは制御システムの一部とすることができる。磁気クラスターの制御ユニットＣＵＭ及
び／又は磁気回路の他の電気素子はマスターユニットのスレーブとすることができる。Ｈ
ＩＦＥＭクラスター、制御システム、及び／又はＣＵＭは、貯蔵される電気エネルギーの
量を制御することによってＥＳＤにおける電気エネルギーの貯蔵を提供又は制御すること
ができる。ＨＩＦＥＭクラスター、制御システム、及び／又はＣＵＭは、電気信号の修正
、ＨＩＦＥＭクラスターを通して伝達される電気信号のパラメーターの調整、回路の安全
な動作、及び／又はＥＳＤの充電又は再充電を提供することができる。例えば、ＨＩＦＥ
Ｍクラスター又は制御システムは、ＭＦＧＤに伝達される電気パルスの電圧及び／又は電
流の調整によってＭＦＧＤによって提供される磁場の磁束密度の調整を提供することがで
きる。電気信号の修正は、磁気回路において送信される信号の歪み、形状、振幅、及び／
又は周波数領域における包絡線歪み、伝達される電気信号に対するノイズの付加、及び／
又は磁気回路に入る、送信されたオリジナル信号の他の劣化を含むことができる。
エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤは、磁場発生デバイスにエネルギーの電気信号の形態で
（例えば、大電力インパルスの形態で）提供することができる電気エネルギーを蓄積する
ことができる。ＥＳＤは、１つ、２つ、３つ、又はそれより多い数のキャパシタを含むこ
とができる。ＥＳＤは、図１８ａに示すように、電圧センサー、高電圧インジケーター、
及び／又は放電抵抗器等の安全素子等の１つ以上の他の電気素子を含むこともできる。電
圧センサー及び高電圧インジケーターは、スイッチＳＷ及び／又は制御ユニットＣＵＭに
フィードバック情報を提供することができる。安全素子の一部である放電抵抗器は、危険
な状況の場合、少なくとも１つのキャパシタの放電を提供することができる。１つ以上の
ＥＳＤの放電は、制御ユニットＣＵＭによって制御することができる。ＥＳＤからの放出
電気エネルギーは、大電力インパルス及び／又はパルスとして、磁気回路の少なくとも一
部に、例えば、磁場発生デバイスＭＦＧＤに送出することができる。
エネルギー貯蔵デバイスのキャパシタンスは、５ｎＦ～１００ｍＦの範囲内、又は２５
ｎＦ～５０ｍＦの範囲内、又は１００ｎＦ～１０ｍＦの範囲内、又は１μＦ～１ｍＦの範
囲内、又は５μＦ～５００μＦの範囲内、又は１０μＦ～１８０μＦの範囲内、又は２０
μＦ～８０μＦの範囲内にあるものとすることができる。
エネルギー貯蔵デバイスを、２５０Ｖ～５０ｋＶ、７００Ｖ～５ｋＶ、７００Ｖ～３ｋ
Ｖ、又は１ｋＶ～１．８ｋＶの範囲内の電圧で充電することができる。
エネルギー貯蔵デバイスは、１００Ａ～５ｋＡ、２００Ａ～３ｋＡ、４００Ａ～３ｋＡ
、又は７００Ａ～２．５ｋＡの範囲内の電流パルス放電を提供することができる。電流は
、磁場発生デバイスによって生成されるピーク磁束密度の値に対応することができる。
エネルギー貯蔵デバイスの放電によって、５Ｊ～３００Ｊ、１０Ｊ～２００Ｊ、又は３
０Ｊ～１５０Ｊの範囲内のエネルギーを有する大電力電流パルスを生成することができる
。
スイッチＳＷは、ダイオード、ピンダイオード、ＭＯＳＦＥＴ、ＪＦＥＴ、ＩＧＢＴ、
ＢＪＴ、サイリスタ、及び／又はその組み合わせ等の任意のスイッチングデバイスを含む
ことができる。スイッチは、電気信号の修正を提供するパルスフィルターを含むことがで
きる。パルスフィルターは、ＥＳＤの放電中にスイッチによって生成されるスイッチング
電圧リップルを抑制することができる。
磁気回路は、時変性磁場を生成するために、スイッチＳＷを反復的にスイッチオン／オ
フし、磁場発生デバイス、例えばコイルに対してエネルギー貯蔵デバイスＥＳＤを放電さ
せるように指令されることができる。
磁場発生デバイスのインダクタンスは、最大１Ｈまで、又は、１ｎＨ～５００ｍＨ、１
ｎＨ～５０ｍＨ、５０ｎＨ～１０ｍＨ、５００ｎＨ～１ｍＨの範囲内、又は、１μＨ～５
００μＨの範囲内若しくは１０μＨ～６０μＨの範囲内にあるものとすることができる。
磁場発生デバイスは放射線（例えば、ガンマ線）を放出しないものとすることができる
。
磁気回路は、スイッチＳＷ及び磁場発生デバイスの直列接続を含むことができる。スイ
ッチＳＷ及び磁場発生デバイスはともに、エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤに並列に接続す
ることができる。エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤを電力源ＰＳによって充電することがで
きる。その後、エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤは、スイッチＳＷを通して磁場発生デバイ
スＭＦＧＤに放電することができる。ＬＣ共振の第２の半周期中に、エネルギー貯蔵デバ
イスＥＳＤ上の極性は、電力源ＰＳと比較して反転することができる。結果として、電力
源の電圧の２倍が存在することができる。したがって、電力源及び磁気回路において接続
される全ての部分は、高電圧負荷のために設計することができ、保護抵抗器を、電力源と
エネルギー貯蔵デバイスとの間に設置することができる。
磁場発生デバイスＭＦＧＤ及びエネルギー貯蔵デバイスＥＳＤは直列に接続することが
できる。磁場発生デバイスＭＦＧＤはスイッチＳＷに並列に配設することができる。エネ
ルギー貯蔵デバイスＥＳＤは磁場発生デバイスを通して充電することができる。磁気パル
スを生成するためにエネルギーインパルス（又は、磁気パルスを生成するためにパルス）
を提供するために、電力源の制御された短絡がスイッチＳＷを通して起こる。こうして、
知られているデバイスに関連するＬＣ共振の第２の半周期中における電力源ＰＳの端子に
おける高電圧負荷が回避される。ＬＣ共振の第２の半周期中における電力源ＰＳの端子上
の電圧は、スイッチＳＷ上の電圧降下に等しい電圧を有することができる。
スイッチは、任意の種類のスイッチングデバイスとすることができる。スイッチのタイ
プに応じて、電力源の負荷は、数ボルト、例えば、１ボルト～１０ボルトに減少すること
ができる。その結果、電力源を、高電圧負荷、例えば、数千ボルトから保護することは必
要ない。したがって、保護抵抗器及び／又は保護回路の使用を低減する又はなくすことが
できる。
図１８ｂは、ＲＦ回路４８０の例示的な電気素子を示す。ＲＦ回路は、調整された及び
／又は修正された電磁信号（電気信号）をＲＦ電極（ＲＦＥ：RF electrode）に提供する
ことができる。ＲＦ回路は、電力源（ＰＳ）、ＲＦ処置のための処置クラスター（ＲＦと
してマーク付けされたエリア）、ＲＦクラスターの制御ユニット（ＣＵＲＦ：control un
it of RF cluster）、電力増幅器（ＰＡ：power amplifier）、フィルター、電力と組み
合わせた定在波比計（ＳＷＲ＋電力計：standing wave ratio combined with power mete
r）、チューニング素子（チューニング）、スプリッター、絶縁体、対称化素子（ＳＹＭ
）、プレマッチ（pre-match）、及びＲＦ電極（ＲＦＥ）を含むことができる。ＲＦ処置
のための処置クラスターは、例えば、ＲＦクラスターの制御ユニット（ＣＵＲＦ）、電力
増幅器（ＰＡ）、フィルター、電力と組み合わせた定在波比計（ＳＷＲ＋電力計）、及び
／又はチューニング素子（チューニング）を含むことができる。ＲＦ回路の制御ユニット
ＣＵＲＦは制御システムの一部とすることができる。ＲＦ回路の制御ユニットＣＵＲＦ及
び／又はＲＦ回路の他の電気素子は、マスターユニットのスレーブとすることができる。
ＲＦ回路の一部として述べる１つ以上の電気素子をなくすことができ、電気素子の一部を
、同様の機能を有する素子に統合することができ、及び／又は、電気素子の一部を、回路
の機能を改善するために付加することができる。
ＲＦ回路の電力源は、１Ｖ～５ｋＶ、又は５Ｖ～１４０Ｖ、又は１０Ｖ～１２０Ｖ、又
は１５Ｖ～５０Ｖ、又は２０Ｖ～５０Ｖの範囲内の電圧の電気信号を提供することができ
る。
ＣＵＲＦは、ＲＦ回路の任意の電気素子の動作を制御することができる。ＣＵＲＦは、
ＲＦ回路を通して伝達される電気信号のパラメーターを調節又は修正することができる。
信号のパラメーター、例えば、電圧、位相、周波数、包絡線、電流値、信号の振幅、及び
／又は他のものは、ＣＵＲＦが制御することができるＲＦ回路の個々の電気素子、制御シ
ステム、及び／又はＲＦ回路の個々の電気素子の電気特性によって影響を受ける場合があ
る。ＲＦ回路内の信号に影響を及ぼす電気素子は、例えば、電力源（ＰＳ）、電力増幅器
（ＰＡ）、フィルター、ＳＷＲ＋電力計、チューニング、スプリッター、絶縁体、不平衡
信号を平衡信号に変更する対称化素子（ＳＹＭ）、プレマッチ、及び／又はＲＦ波を生成
するＲＦ電極とすることができる。電気信号の修正は、ＲＦ回路において送信される信号
の歪み、形状、振幅、及び／又は周波数領域における包絡線歪み、伝達される電気信号に
対するノイズの付加、及び／又はＲＦ回路に入る、送信されたオリジナル信号の他の劣化
を含むことができる。
電力増幅器ＰＡは、ＲＦ電極によるＲＦ波の発生のためにそれぞれの周波数のＲＦ信号
を生成することができる。電力増幅器は、ＭＯＳＦＥＴ、ＬＤＭＯＳトランジスタ、又は
真空管とすることができる。ＰＡは、提供される信号及び／又は修正される信号の振幅を
電気信号（例えば、ＲＦ信号）まで増加させることができるものとすることができる。
フィルターは、電力増幅器から送信される信号の望ましくない周波数を抑制することが
できる１つ以上のフィルターを含むことができる。１つ以上のフィルターは、フィルタリ
ングし、規定された周波数帯を用いる処置を提供することができる。１つ以上のフィルタ
ーは、望ましい周波数帯のみを通過させるために、信号周波数領域に応じて、ＲＦ回路内
の電気信号等の電気信号をフィルタリングするために使用することができる。フィルター
は、フィルターの内部ソフトウェア及び／又はハードウェア設定に基づいて、適さない信
号周波数をフィルタリング除去することができるものとすることができる。フィルターは
、他の１つ以上の電気素子、例えば、ＣＵＲＦとの通信に従って動作することができる。
１つ以上のフィルターは、ＲＦ信号の電力源ＰＳＲＦとＲＦＥとの間に位置することがで
きる。
ＳＷＲ＋電力計は、ＲＦエネルギーの出力電力を測定し、電力増幅器とアプリケーター
との間のインピーダンス整合の品質を評価することができる。ＳＷＲ＋電力計は、送波（
wave transmission）の方向における定在波比を測定することができるＳＷＲ計を含むこ
とができる。ＳＷＲ＋電力計は、そのような定在波の振幅を測定することができる電力計
を含むことができる。ＳＷＲ＋電力計は、ＣＵＲＦ及び／又はチューニング素子と通信す
ることができる。ＳＷＲ＋電力計は、フィードバック情報を提供して、患者の身体内での
定在波の作成を防止し、チューニング素子によるより良好な信号調整を提供し、生物学的
構造に対してより良くターゲット設定された方法でより効率的により安全な処置及びエネ
ルギー伝達を提供することができる。
チューニング素子は、インピーダンス整合の改善を提供することができる。チューニン
グ素子は、例えば、キャパシタ、ＬＣ、及び／又はＲＬＣ回路を含むことができる。チュ
ーニング素子は、ＲＦ回路システムがＲＦ回路の個々の電気素子を含むＲＦ回路システム
容量についての、また、提供されるＲＦ波の影響下での現在処置されている患者の組織に
ついての制御されたチューニングを提供することができる。ＲＦ回路のチューニングは、
処置の前に及び／又はその間に提供することができる。チューニング素子は、トランスマ
ッチ（transmatch）と呼ぶこともできる。
対称化素子ＳＹＭは、信号を不平衡入力から平衡出力に変換することができる。ＳＹＭ
は、ＲＦ電極間の信号を平衡させる巻回式同軸ケーブル（wound coaxial cable）を含む
バラン及び／又はバラン変圧器とすることができる。ＳＹＭ素子は、例えば、同軸ケーブ
ルを通して第１のバイポーラＲＦ電極及び第２のバイポーラＲＦ電極に誘導されるＲＦ信
号のλ／２位相シフトを作成することによって、第１のバイポーラＲＦ電極と第２のバイ
ポーラＲＦ電極との間の信号対称化を提供することができる。
スプリッターは、ＲＦ回路内で伝達される／送出されるＲＦ信号を同軸ケーブルによっ
て分割することができる。分割された信号は、分割された各信号部分の同じ位相を有する
ことができ、及び／又は、分割された信号は、互いからの一定位相シフトを有することが
できる。例えば、スプリッターは、ＲＦ信号の１つの部分をバイポーラ電極の第１のＲＦ
電極に、また、ＲＦ信号の第２の部分をバイポーラ電極の第２のＲＦ電極に提供すること
ができる。スプリッターを、１つ、２つ、又はそれより多い数の独立したＲＦ回路が共有
することができ、又は、各ＲＦ回路は、それ自身のスプリッターを有することができる。
絶縁体は、スプリッターと組み合わせることができ、及び／又は、ＲＦ信号をＲＦ電極
に輸送することに関してスプリッターの前に及び／又はその後ろに位置することができる
。絶縁体は、磁気回路からの、ＲＦ回路の少なくとも一部の電気絶縁とすることができる
。絶縁体は、ＲＦ回路に対する磁気回路の影響を最小にするために使用することができる
。
プレマッチは、同軸ケーブルを使用するデバイスにおいて使用することができる。プレ
マッチは、小さいコイル、コンデンサー（condenser）、及び／又は抵抗器を含むことが
できる。
処置エネルギー源として働くＲＦ電極（ＲＦＥ）は、１つ以上のユニポーラＲＦ電極、
１つ以上のモノポーラＲＦ電極、及び／又は１つ以上の対のバイポーラＲＦ電極を含むこ
とができる。
ＲＦ回路の電力源ＰＳ、電力増幅器ＰＡ、フィルター、ＳＷＲ＋電力計、チューニング
、ＳＹＭ、スプリッター、絶縁体、及び／又はプレマッチは、ＲＦ電極を含む回路の残り
の部分に高周波電気信号によって給電するＨＦ発生器によって、少なくとも部分的に及び
／又は完全に置換することができる。
図２４は、対称化素子ＳＹＭの例のうちの１つを示す。入力同軸ケーブル１３０は、ス
プリッター１３１に電気信号（例えば、ＲＦ信号）を提供し、スプリッター１３１はＲＦ
信号を２つの分岐に分割することができる。スプリッター１３１は、４ｍｍ～１００ｍｍ
、又は２０ｍｍ～５０ｍｍの範囲内の絶縁長を作成する、少なくとも１つの、２つ、３つ
、又はそれより多い数の直列接続されたキャパシタ等の、絶縁素子を含むこともできる。
ＳＹＭは、バイポーラＲＦ電極の対に誘導される又はつながる異なる長さの同軸ケーブル
によって確立又は示すことができる。場所ｌ１における同軸ケーブル１３２と１３３との
間の長さの差は、λの０．４～０．６、又は０．４６～０．５５の範囲内にあるとするこ
とができ、λは、同軸ケーブル１３２及び／又は同軸ケーブル１３３における誘導される
ＲＦ信号の波長とすることができる。同軸ケーブル１３２の長さは１ｃｍ～５ｍ、５ｃｍ
～９０ｃｍ、又は１０ｃｍ～５０ｃｍの範囲内にあるものとすることができる。同軸ケー
ブル１３２＋１３５ｂの長さは、λ／４±１０％若しくは±５％又はそれらの正整数倍の
範囲内にあるものとすることができる。同軸ケーブル１３３の長さは２ｍ～１２ｍ又は２
．２ｍ～８ｍの範囲内にあるものとすることができる。同軸ケーブル１３３の長さは、λ
／２±１０％又は±５％＋ケーブル１３２の長さの範囲内にあるものとすることができる
。同軸ケーブル１３３＋１３５ａの長さは、３λ／４±１０％又は±５％の範囲内にある
ものとすることができる。要約すると、同軸ケーブル１３２＋１３５ｂは、同軸ケーブル
１３３＋１３５ａに対してλ／２±１０％又は±５％だけシフトする。ＳＹＭのこの部分
は、１つのＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂに送出されるＲＦ信号の位相シフト１８０度を
引き起こすことができる。ＲＦ電極１０１ａ及び１０１ｂは１つのアプリケーターの一部
とすることができ、又は、ＲＦ電極１０１ａは第１のアプリケーターの一部とすることが
でき、ＲＦ電極１０１ｂは第２のアプリケーターの一部とすることができる。コネクタ１
３４は、１つ以上のアプリケーターを主ユニットに接続するために使用することができる
。部分ｌ２は、アプリケーターの接続管を示すことができる。この接続管内の同軸ケーブ
ル１３５ａ及び１３５ｂの長さは、１ｍ～６ｍ若しくは１．１ｍ～４ｍ、又は、λ／４±
１０％若しくは±５％の範囲内にあるものとすることができる。対形成素子１３６は、同
軸ケーブル１３５ａ及び１３５ｂの導電性シールド部分の導電性接続とすることができる
。対形成素子１３６は、０．５ｃｍ２～１００ｃｍ２、１ｃｍ２～８０ｃｍ２、又は１．
５ｃｍ２～５０ｃｍ２の範囲内の表面積を有することができる。対形成素子１３６は、銅
、銀、金、ニッケル、又はアルミニウム等の高（正：high）電気伝導率材料を含むことが
でき、対形成素子１３６のインピーダンスはほぼゼロとすることができる。対形成素子と
電極との間に、キャパシタ、抵抗器、及び／又はインダクタを設置することができる。
ＲＦ回路及び／又は磁気回路は、１つ以上のアプリケーター内に少なくとも部分的に位
置することができる。アプリケーター、更なる処置デバイス、及び／又は主ユニットの間
のワイヤ接続は、ワイヤ接続のインピーダンス、抵抗率、及び／又は長さのために、ＲＦ
回路及び／又は磁気回路要素の一部として考慮することもできる。図１７に示す磁気回路
、図１８ａ及び図１８ｂに示すＲＦ回路の１つ以上の電気素子をなくすことができ、異な
る順序でソートすることができ、及び／又は、２つ以上の電気素子が１つの個々の組み合
わせ式電気素子を作成することができる。ＲＦ回路に提供される信号の調整は、処置デバ
イスの別の異なる回路、例えば、磁気回路及び／又は他の回路によって、又は、その内部
で少なくとも部分的に提供することができる。
図１８ａは、処置デバイスの電気素子の例示的なスキーマ１８０を示す。例示的なスキ
ーマは、１つの電力ネットワーク（ＰＮ：power network）に接続されたＲＦ処置のため
の電力源（ＰＳＲＦ：power source for RF treatment）及び磁気処置のための電力源（
ＰＳＭ：power source for magnetic treatment）を含む２つの独立した電力源を含む。
ＰＳＲＦは、ＲＦ処置のための２つの独立した処置クラスターＲＦ Ａ及び／又はＲＦ
Ｂに電磁信号を提供することができる。ＰＳＭは、磁気処置の１つ以上のクラスターＨＩ
ＦＥＭ Ａ及び／又はＨＩＦＥＭ Ｂに電磁信号を提供することができる。１つ以上の電
力源は、とりわけ、ヒューマンマシンインターフェース（ＨＭＩ）又はマスターユニット
等の処置デバイスの他の部分に電力供給することもできる（正：may also power）。各磁
気回路及び／又はＲＦ回路はそれ自身の制御ユニット（ＣＵＭ Ａ、ＣＵＭ Ｂ並びにＣ
ＵＲＦ Ａ及びＣＵＲＦ Ｂ）を有することができ、ＣＵＲＦ Ａ及びＣＵＲＦ Ｂは、
ＲＦ処置のためのＲＦ処置クラスターＡ（ＲＦ Ａ）及びＲＦ処置のための処置クラスタ
ーＢ（ＲＦ Ｂ）の制御ユニットとすることができる。
制御ユニットは、１つ以上のＰＣＢ又はマイクロプロセッサを含むことができる。１つ
以上の制御ユニットは、互いの間で、及び／又は、マスタースレーブ通信において他の制
御ユニットのためのマスターユニットとして選択することができるマスターユニットと通
信することができる。マスターユニットを、ＨＭＩと通信する第１の又は唯一の制御ユニ
ットとすることができる。マスターユニットは、ユニットＣＵＭ Ａ及びＣＵＭ Ｂを制
御することができる。マスターユニットは、１つ以上のＰＣＢ及び／又はマイクロプロセ
ッサを含む制御ユニットとすることができる。マスターユニット又は制御ユニットＡ（Ｃ
ＵＭ Ａ）若しくは制御ユニットＢ（ＣＵＭ Ｂ）は、ヒューマンマシンインターフェー
スに結合することができる。また、マスターユニットは、ヒューマンマシンインターフェ
ースＨＭＩとし、又はヒューマンマシンインターフェースＨＭＩに結合することができる
。
図１８ａは、処置デバイスの２つの部分を示し、第１の部分はＲＦ処置を提供すること
ができ、第２の部分は磁気処置を提供することができる。処置デバイスの２つの部分は、
互いから絶縁されるものとすることができる。処置デバイスは、電圧バリア、距離バリア
、及び／又は放射バリアをシールドするように、処置デバイス及び個々の回路の、互いか
ら絶縁された１つ以上の電気素子及び／又は部分を含むことができる。絶縁された部分の
例は、図１８ａにおいて破線で示すことができる。処置デバイスの個々の電気素子を処置
デバイスの少なくとも１つの部分から絶縁することができることも可能である。そのよう
な部分及び／又は電気素子の絶縁は、高誘電率材料によって、個々の部分及び／又は電気
素子の距離によって、キャパシタ又は抵抗器のシステムによって提供することができる。
また、アルミニウムボックスによる及び／又は他の方法による、電子工学、物理学から知
られている任意のシールドを使用することができる。
ＲＦ処置及び／又は磁気処置は、少なくとも１つ、２つ、３つ、４つ、又はそれより多
い数の処置回路（主ユニット内に位置することができる）及び／又はアプリケーターによ
って提供することができ、１つの処置回路はＲＦクラスター又は磁気クラスターを含むこ
とができる。各アプリケーターＡ及びＢ（ＡＰ Ａ及びＡＰ Ｂ）は、１つ、２つ、又は
それより多い数の処置回路の少なくとも１つの電気素子を含むことができる。各アプリケ
ーターは、ＲＦ処置を提供する１つ以上のＲＦ電極及び磁気処置を提供する１つ以上の磁
場発生デバイス等の、少なくとも１つ、２つ、又はそれより多い数の異なる処置エネルギ
ー源を含むことができる。図１８ａに示すように、処置デバイスは、第１のアプリケータ
ー（ＡＰ Ａ）及び第２のアプリケーター（ＡＰ Ｂ）を備えることができる。第１のア
プリケーター（ＡＰ Ａ）は、第１のＲＦ回路からの第１のＲＦ電極（ＲＦＥ Ａ）及び
第１の磁気回路からの第１の磁場発生デバイス（ＭＦＧＤ Ａ）を備えることができる。
第２のアプリケーター（ＡＰ Ｂ）は、第２のＲＦ回路からの第２のＲＦ電極（ＲＦＥ
Ｂ）及び第２の磁気回路からの第２の磁場発生デバイス（ＭＦＧＤ Ｂ）を備えることが
できる。異なる例において、第１のアプリケーターは、第１の磁場発生デバイス及び第１
の対のバイポーラＲＦ電極を備えることができ、一方、第２のアプリケーターは、第２の
磁場発生デバイス及び第２の対のバイポーラＲＦ電極を備えることができる。２つのアプ
リケーターは、主ユニットに別々に接続することができ、処置の前に又は処置中に身体エ
リアの近接部に個々に位置決めすることができ、そのとき、２つのアプリケーターは身体
エリアに接触して身体エリアに結合される。
図１８ａは、ＲＦ処置のための処置クラスター（ＲＦ Ａ）、ＲＦ処置のための処置ク
ラスター（ＲＦ Ｂ）、磁気回路内の磁気処置のための処置クラスター（ＨＩＦＥＭ Ａ
）、磁気処置のための処置クラスター（ＨＩＦＥＭ Ｂ）、ＲＦ処置のための電力源（Ｐ
ＳＲＦ）、磁気処置のための電力源（ＰＳＭ）、アプリケーターＡ（ＡＰ Ａ）、アプリ
ケーターＢ（ＡＰ Ｂ）等の処置デバイスの他の個々の部分も示す。全ての部分は、アプ
リケーターを除いて、主ユニット内に位置することができる。示すスプリッター、対称化
素子（ＳＹＭ Ａ）、及び対称化素子（ＳＹＭ Ｂ）は、２つのＲＦ回路の複数の部分で
ある。図１８ａ上に示すスプリッターはＲＦ回路のために共通とすることができる。ＲＦ
処置のための電力源（ＰＳＲＦ）は、ＲＦ回路の定常電力源（ＳＰＳＲＦ：steady power
source of RF circuit）、ＲＦ回路の補助電力源（ＡＰＳ ＲＦ：auxiliary power sou
rce of RF circuit）、電力ネットワークフィルター（ＰＮＦＬＴ：power network filte
r）、及び／又は電力ユニット（ＰＵ：power unit）を含むことができる。個々の電気素
子は、ＰＳＲＦ内に他の電気素子とともに含まれないとすることができる。磁気処置のた
めの電力源（ＰＳＭ：power source for magnetic treatment）は、補助電力源Ａ（ＡＰ
Ｓ Ａ）、補助電力源Ｂ（ＡＰＳ Ｂ）、磁気回路の定常電力源（ＳＰＳＭ：steady pow
er source of magnetic circuit）、電力ポンプ（ＰＰ：power pump）、ボード電力源（b
oard power source）Ａ（ＢＰＳ Ａ）、及び／又はボード電力源Ｂ（ＢＰＳ Ｂ）を含
むことができる。個々の電気素子は、ＰＳＭ内に他の電気素子とともに含まれないものと
することができる。磁気回路の磁気処置のための処置クラスターＨＩＦＥＭ Ａは、制御
ユニットＡ（ＣＵＭ Ａ）、エネルギー貯蔵デバイスＡ（ＥＳＤ Ａ）、スイッチＡ（Ｓ
Ｗ Ａ）、安全素子（ＳＥ：safety element）、及び／又はパルスフィルター（ＰＦ：pu
lse filter）を含むことができる。磁気回路の磁気処置のための処置クラスターＨＩＦＥ
Ｍ Ｂは、制御ユニットＢ（ＣＵＭ Ｂ）、エネルギー貯蔵デバイスＢ（ＥＳＤ Ａ）、
及び／又はスイッチＢ（ＳＷ Ａ）を含むことができる。図１８ａに示さないが、磁気処
置のための処置クラスターＨＩＦＥＭ Ｂも、パルスフィルター（ＰＦ）及び／又は安全
素子（ＳＥ）を含むことができる。個々の電気素子は、互いから絶縁されるものとするこ
とができる。しかしながら、個々の電気素子及び／又は回路部分を、他の回路部分と統合
及び／又は共有することができる。１つの例として、１つの制御ユニットを、２つ以上の
ＲＦ回路及び／又は磁気回路と少なくとも部分的に共有することができ、１つの制御ユニ
ットは、ＲＦ回路のために、また磁気回路のためにも、電力を、又は、電力を提供する電
力ネットワーク若しくは電力源を調節することができる。別の例は、少なくとも２つのＲ
Ｆ及び／又は磁気回路とともに共有される少なくとも１つの補助電力源及び／又は定常電
力源とすることができる。
磁気処置のための処置クラスターＨＩＦＥＭ Ａは、磁気処置のための処置クラスター
ＨＩＦＥＭ Ｂと独立に磁気処置を提供することができる。代替的に、処置デバイスは、
磁気処置のためのたった１つの処置クラスターＨＩＦＥＭを含むことができ、又は、処置
デバイスは、磁気処置のための２つ以上の個々の処置クラスターＨＩＦＥＭを含むことが
でき、その場合、磁気処置のための処置クラスターＨＩＦＥＭの一部は、制御ユニット、
エネルギー貯蔵デバイス、パルスフィルター、及び／又は他のもの等の個々の電気素子を
共有することができる。
図１８ａに示すように、磁気処置のための処置クラスターＨＩＦＥＭ、例えば、ＨＩＦ
ＥＭ Ａは、制御ユニット、例えばＣＵＭ Ａを含むことができる。制御ユニット、例え
ばＣＵＭ Ａは、エネルギー貯蔵デバイス、例えば、ＥＳＤ Ａの充電及び／又は放電、
フィードバック情報の処理、及び／又は、個々の電気素子及び／又は磁気処置のための処
置クラスターＨＩＦＥＭのパラメーターの調整を制御することができる。さらに、制御ユ
ニット（例えば、ＣＵＭ Ａ）は、電気素子、例えば、回路部分ＰＳＭからのＢＰＳ Ａ
、スイッチ、ＰＦ、磁気処置のための処置クラスターＨＩＦＥＭ ＡからのＥＳＤ Ａの
パラメーター又は動作の調整、及び／又は、アプリケーターＡＰ Ａ及び／又はＡＰ Ｂ
内のセンサーからの情報の処理を制御することができる。また、制御ユニット（例えば、
ＣＵＭ Ａ）は、別の１つ以上の磁気及び／又はＲＦ回路、及び／又は、マスターユニッ
トと通信することができる。電力源ＰＳＭ、エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤ、及び／又は
スイッチＳＷを、磁気回路の制御ユニット、例えば、ＣＵＭ Ａによって少なくとも部分
的に調節することができる。制御ユニット（例えばＣＵＭ Ａ）又はマスターユニット及
び／又は回路の１つ以上の個々の電気素子を、任意の他の電気素子によって、両者間の相
互通信に基づいて調節することができる。マスターユニットは、センサーから提供される
フィードバック情報に基づいて及び／又は他の制御ユニット、例えば、マスターユニット
との通信に基づいて磁気処置及び／又はＲＦ処置の処置パラメーターを調整することがで
きるものとすることができる。１つの制御ユニットＣＵＭ又はＣＵＲＦは、磁気及び／又
はＲＦ処置を提供する１つ以上の回路を独立に調節することができる。少なくとも１つの
制御ユニットは、他の制御ユニットとのピアツーピア通信及び／又はマスタースレーブ通
信を使用することができる（例えば、ＣＵＭ Ａは、マスターユニットのスレーブ制御ユ
ニットとすることができる）。
処置デバイスは、１つ、２つ、３つ、又はそれより多い数のＥＳＤを含むことができ、
各ＥＳＤは、１つ、２つ、３つ、又はそれより多い数のキャパシタを含むことができる。
１つのＥＳＤは、磁気処置を提供する磁場発生デバイス等の、１つ、２つ、３つ、又はそ
れより多い数の処置エネルギー源にエネルギーを提供することができる。各コイルは、そ
れ自身のそれぞれのＥＳＤ又は２つ以上のＥＳＤに結合することができる。ＥＳＤは、図
１８ａに示すように、電圧センサー、高電圧インジケーター、及び／又は放電抵抗器等の
安全素子ＳＥ等の１つ以上の他の電気素子を含むことができる。電圧センサー及び高電圧
インジケーターは、スイッチＳＷ及び／又は制御ユニット、例えば、ＣＵＭ Ａにフィー
ドバック情報を提供することができる。ＳＥの一部としての放電抵抗器は、危険な状況の
場合、少なくとも１つのキャパシタの放電を提供することができる。１つ以上のＥＳＤの
放電は、制御ユニット、例えば、ＣＵＭ Ａ又はＣＵＭ Ｂによって制御することができ
る。エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤからスイッチＳＷを通して磁場発生デバイスに提供さ
れる信号は、パルスフィルター（ＰＦ）によって修正することができる。ＰＦは、スイッ
チＳＷの一部とすることができ、及び／又は、スイッチＳＷと、磁場発生デバイス、例え
ば、ＭＦＧＤ Ａとの間に位置決めすることができる。ＰＦは、ＥＳＤの放電中にスイッ
チによって生成されるスイッチング電圧リップルを抑制することができる。提案される回
路は、時変性磁場を生成するために、スイッチＳＷを反復的にスイッチオン／オフし、磁
場発生デバイス、例えば、ＭＧＦＤ Ａに対してエネルギー貯蔵デバイスＥＳＤを放電さ
せることができる。図１８ａに示すように、磁気回路及び／又はＲＦ回路の１つ以上の電
気素子を、省略する及び／又は別の電気素子と組み合わせることができる。例えば、ＰＳ
ＲＦ及び／又はＰＳＭの１つ以上の個々の電気素子を、１つになるように組み合わせるこ
とができるが、個々の回路と独立に、減らすことができる。また、電気素子、ＰＦ、ＳＥ
、及び／又は他のものは独立の電気素子とすることができる。また、個々の処置回路、例
えば、ＲＦ回路は、図１８ａ及び図１８ｂに見られるように、互いと異なるものとするこ
とができ、フィルター、ＳＷＲ＋電力計、チューニング、スプリッター、絶縁体、ＳＹＭ
、及び／又はプレマッチ等の電気素子は、なくすことができ、及び／又は、１つになるよ
うに組み合わせることができる。個々の電気素子をなくすこと及び／又は組み合わせるこ
とは、チューニングがない状態での患者身体に対するエネルギー伝達の効率の低下、ＳＹ
Ｍ、プレマッチ、及び／又はチューニングの非存在（正：absence of）によるより大きい
エネルギー損失、回路における信号調整の機能不全、及び、ＳＷＲ＋電力計、スプリッタ
ー、及び絶縁体がない状態での不正確なフィードバック情報をもたらす場合があり、及び
／又は、処置デバイスは、フィルター、ＳＷＲ＋電力計、ＳＹＭ、及び／又はチューニン
グ素子がない状態では患者にとって危険になり得る。
制御ユニットＣＵＭ Ａ及びＣＵＭ Ｂは、それぞれの磁場発生デバイス（例えば、Ｍ
ＦＧＤ Ａ及びＭＦＧＤ Ｂ）に対して電流を放出するように両方の制御ユニットＣＵＭ
Ａ及びＣＵＭ Ｂに指令することができるマスターユニットのスレーブとして役立つこ
とができる。したがって、各制御ユニットＣＵＭ Ａ及びＣＵＭ Ｂの制御は独立である
。代替的に、ＣＵＭ ＢはＣＵＭ Ａのスレーブとすることができ、一方、ＣＵＭ Ａ自
身はマスターユニットのスレーブとすることができる。したがって、磁場発生デバイス（
例えば、ＭＦＧＤ Ａ）内に電流を放出するようにマスターユニットがＣＵＭ Ａに指令
すると、ＣＵＭ Ａは、異なるアプリケーター内に位置決めされた別の磁場発生デバイス
（例えば、ＭＦＧＤ Ｂ）に対して電流を放出するようにＣＵＭ Ｂに指令することがで
きる。別の代替法において、更なる制御ユニットを、マスターユニットと制御ユニットＣ
ＵＭ Ａ及びＣＵＭ Ｂとの間に位置決めすることができ、そのような更なる制御ユニッ
トは、例えば、放電のタイミングを提供することができる。これらの手法の両方によって
、磁場のパルスを、同期して又は同時に印加することができる。
処置デバイスが２つ以上の磁場発生デバイスを含み、処置方法が２つ以上の磁場発生デ
バイス（例えば、コイル）を使用することを含むとき、各コイルはそれぞれの磁気回路に
接続することができる。しかしながら、１つのコイルは複数の磁気回路に接続することが
できる。また、電力源ＰＳＭは、少なくとも２つの磁場発生デバイスのために使用するこ
とができる。
電力源、例えば、ＰＳＭ及び／又はＰＳＲＦは、ＲＦ回路、磁気回路の少なくとも１つ
の又は少なくとも１つの個々の電気素子に、及び／又は、処置デバイスの他の部分に、例
えば、マスターユニット、ＨＭＩ、エネルギー貯蔵デバイス（例えば、ＥＳＤ Ａ及び／
又はＥＳＤ Ｂ）に、制御ユニット（例えば、ＣＵＭ Ａ及び／又はＣＵＭ Ｂ）に、及
び／又はスイッチ（例えば、ＳＷ Ａ及び／又はＳＷ Ｂ）に電気エネルギーを提供する
ことができる。電力源は、図１８ａに示すように、電力ネットワークＰＮ接続からの電気
エネルギーを変換する１つ以上の素子を含むことができる。ＲＦ回路及び／又は磁気回路
の電力源の幾つかの個々の電気素子は、１つの共通電気素子として構築することができ、
図１８ａに示すように個々の電気素子として構築される必要はない。各ＲＦ及び／又は磁
気回路は、それ自身の電力源、及び／又は、ＲＦ及び／又は磁気回路の一方のみに電力供
給する電力源の少なくとも１つの電気素子を有することができる。同様に、１つの電力源
の少なくとも一部は、処置の少なくとも一部の前に及び／又はその間に少なくとも２つの
異なる回路に電力供給することができる（正：may power）。電力源は、少なくとも部分
的に互いから電気絶縁することができる個々の電気回路と共有される１つ以上の部分を含
むことができる。
ＲＦ処置のための電力源の１つ以上の電気素子（例えば、磁気回路の定常電力源（ＳＰ
ＳＭ）、補助電力源ＡＰＳ Ａ及び／又はＡＰＳ Ｂ、電力ポンプＰＰ、ボード電力源Ｂ
ＰＳ Ａ及び／又はＢＰＳ Ｂ）は、ＲＦ回路及び／又は磁気回路の個々の電気素子に直
接的に及び／又は間接的に電気エネルギーを提供することができる。直接的に提供される
電気エネルギーは、２つの電気素子間の導電性接続を通して提供され、回路の他の電気素
子は、直接的に電力供給される電気素子間に直列接続されない。抵抗器、絶縁キャパシタ
等の回路の絶縁用の及び／又は他の電気素子は、電気素子であると考えないものとするこ
とができる。間接的に電力供給される電気素子は、電流値、周波数、位相、振幅、及び／
又は他のもの等の、提供される（正：provided）電気エネルギーのパラメーターを変更す
ることができる任意の他の素子を通して電気エネルギーを提供する１つ以上の他の素子に
よって電力供給することができる。
図１８ａにより詳細に示す電力源ＰＳＭは、電力ネットワークＰＮに対する接続を含む
ことができる。ＰＮは、周波数及び電流値等、電力ネットワークからの入力電気信号のフ
ィルタリング及び／又は他の調整を提供することができる。ＰＮは、処置デバイスと電力
ネットワークとの間のバリアを作成する絶縁素子として使用することもできる。ＰＮは、
キャパシタ、抵抗器、及び／又は、処置デバイスから戻る信号をフィルタリングするフィ
ルターのうちの１つ以上を含むことができる。ＰＮは、プラグ又はプラグに対する接続を
含むことができる。ＰＮは、プラグ又はパワーグリッドに結合することができる。ＰＳＭ
は、１つ以上の定常電力源（例えば、磁気回路の定常電力源ＳＰＳＭ）、補助電力源（例
えば、ＡＰＳ Ａ及び／又はＡＰＳ Ｂ）、１つ以上の電力ポンプＰＰ、及び／又は１つ
以上のボード電力源（例えば、ＢＰＳ Ａ及び／又はＢＰＳ Ｂ）を含むことができる。
図１８ａに示すように、処置デバイスは、少なくとも部分的に独立に制御することができ
る少なくとも２つの電気絶縁された磁気及び／又はＲＦ回路を含むことができ、例えば、
磁気処置のための処置クラスターＨＩＦＥＭ Ａ及びＨＩＦＥＭ Ｂに接続される磁場発
生デバイスＭＦＧＤ Ａ及びＭＦＧＤ Ｂによる生成磁場の強度は異なるものとすること
ができる。定常電力源（ＳＰＳＭ）は、異なる電力ネットワーク条件下で定常出力電圧を
提供することができる。定常電力源ＳＰＳＭは、補助電力源（例えば、ＡＰＳ Ａ及び／
又はＡＰＳ Ｂ）に接続することができる。２つの補助電力源は、組み合わされ、１つの
電気素子を作成することができる。定常電力源によって及び／又は補助電力源によって生
成される定常出力電圧は、１Ｖ～１０００Ｖ、又は２０Ｖ～１４０Ｖ、又は５０Ｖ～７０
０Ｖ、又は１２０Ｖ～５００Ｖ、又は２４０Ｖ～４５０Ｖの範囲内にあるものとすること
ができる。
１つ以上の補助電力源は、個々の回路の１つ以上の制御ユニットに電力供給することが
できる（正：may power）。ＡＰＳは、１つ以上のボード電力源ＢＰＳ、例えば、ＢＰＳ
Ａ及び／又はＢＰＳ Ｂに電力供給することもできる。ＡＰＳは、マスターユニットＨ
ＭＩ及び／又は処置デバイスの他の素子に電力供給することもできる。ＡＰＳがあるため
、少なくとも１つの制御ユニット及び／又はマスターユニットは、ＲＦ及び／又は磁気回
路内の電気信号の処理／調整を正確に独立に提供することができ、及び／又は、処置デバ
イスの個々の電気素子を、過負荷から保護することもできる。ボード電力源（例えば、素
子ＢＰＳ Ａ及び／又はＢＰＳ Ｂ）は、磁気回路の少なくとも１つの素子のための電気
エネルギー源（例えば、エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤ Ａ及び／又はＥＳＤ Ｂ）とし
て使用することができる。代替的に、電力源ＰＳＭの１つ以上の素子を、組み合わせる及
び／又はなくすことができる。
電力源は、磁気回路及び／又はＲＦ回路に電圧を提供する高電圧発生器として役立つこ
とができる。電力源によって提供される電圧は、５００Ｖ～５０ｋＶ、又は７００Ｖ～５
ｋＶ、又は７００Ｖ～３ｋＶ、又は１ｋＶ～１．８ｋＶの範囲内であるものとすることが
できる。電力源は、任意の電気素子（例えば、エネルギー貯蔵デバイスＥＳＤ Ａ）に、
また磁場発生デバイス（例えば、ＭＦＧＤ Ａ）に等、各回路に十分な量の電気エネルギ
ーを送出することができる。磁場発生デバイスは、筋肉収縮を引き起こすのに十分なパラ
メーターを有する時変性磁場を反復して生成することができる。
図１８ａによれば、ＲＦ回路は、ＰＳＭと少なくとも部分的に異なるものとすることが
できるそれら自身の電力源ＰＳＲＦを有する。ＰＳＲＦは、ＰＮの内部部分から及び／又
はＲＦ回路の任意の部分からの電磁放出を抑制する電気素子（正：electrical element）
ＰＮＦＬＴを含むことができる。電気素子ＰＮＦＬＴは電力ネットワークフィルターを示
すことができる。しかしながら、ＰＮＦＬＴは、ＰＮの一部とすることもできる。ＰＳＲ
Ｆは、ＲＦ回路の補助電力源ＡＰＳ ＲＦ、ＲＦ回路の制御ユニット、電力ユニットＰＵ
、及び／又は直流供給電を使用する他の電気素子に対して、異なる電力ネットワーク条件
下で定常出力電圧を提供するＳＰＳＲＦを含むことができる。図１８ａに更に示すように
、ＡＰＳ ＲＦは、ＳＰＳＲＦと独立に、交流を直流に変換するそれ自身の機構を含むこ
とができる。ＡＰＳ ＲＦは、ＲＦ処置のための処置クラスターＲＦ Ａの制御ユニット
及び／又はマスターユニットに電力供給することができるとすることができ、一方、ＳＰ
ＳＲＦは、ＲＦ処置のための処置クラスターＲＦ Ｂの制御ユニットに独立に電力供給す
ることができる。ＲＦ回路の電力ユニットＰＵは、１つ以上のＲＦ回路、又は、電力増幅
器等のＲＦ回路の少なくとも１つの電気素子、及び／又は、高周波信号を作成及び／又は
調整するＲＦ処置のための処置クラスターＲＦ Ａ及び／又はＲＦ処置のための処置クラ
スターＲＦ Ｂの他の電気素子に電力供給することができる。
ＰＳＭ、ＰＳＲＦ、ＡＰＳ、ＳＰＳＭ、及び／又はＳＰＳＲＦとして述べる少なくとも
１つの電気素子は、少なくとも１つのＲＦ回路及び磁気回路によって共有することができ
る。
制御ユニットＣＵＲＦは、マスターユニットのスレーブとして働くことができ、マスタ
ーユニットは、ＲＦ回路を通してＲＦ電極にＲＦ信号を提供するようにＣＵＲＦに指令す
ることができる。２つの制御ユニットＣＵＲＦの場合、両方の制御ユニットは、マスター
ユニットのスレーブとして働き、マスターユニットは、それぞれのＲＦ電極にＲＦ信号を
提供するように両方の制御ユニットＣＵＲＦに指令することができる。したがって、各制
御ユニットの制御は独立とすることができる。代替的に、第１のＣＵＲＦは第２のＣＵＲ
Ｆのスレーブとすることができ、一方、第１のＣＵＲＦ自身はマスターユニットのスレー
ブとすることができる。したがって、第１のＲＦ電極内に電流を放出するようにマスター
ユニットが第１のＣＵＲＦに指令すると、第１のＣＵＲＦは、異なるアプリケーター内に
位置決めされた第２のＲＦ電極に電流を放出するように第２のＣＵＲＦに指令することが
できる。別の代替法において、更なる制御ユニットを、マスターユニットと複数の制御ユ
ニットＣＵＲＦとの間に位置決めすることができ、そのような更なる制御ユニットは、例
えば、放電のタイミングを提供することができる。これらの両方の原理によって、ＲＦ場
のパルスを、連続して又はパルス方式で（正：in pulsed manner）印加することができる
。
図１７、図１８ａ、及び図１８ｂに示す磁気のための処置クラスターＨＩＦＥＭ Ａ及
びＨＩＦＥＭ Ｂは、図７上に示すＨＩＦＥＭ Ａ及びＨＩＦＥＭ Ｂ ７１８としてマ
ーク付けされるＨＭＩ部分に関連する１つ以上のスライダー又はスクローラーを通して制
御することができる。ヒューマンマシンインターフェースＨＭＩ上に示す、関連する強度
スクローラー、強度バー、及び／又は強度スライダーを通して、ユーザーは、磁気エネル
ギーのための処置クラスターＨＩＦＥＭ Ａ及び／又はＨＩＦＥＭ Ｂの１つ以上の電気
素子の動作速度を制御又は調整することができる。
同様に、図１７、図１８ａ、及び図１８ｂに示すＲＦ処置のための処置クラスターＲＦ
Ａ及びＲＦ処置のための処置クラスターＲＦ Ｂは、図７上に示すＲＦ Ａ及びＲＦ
Ｂ ７１２としてマーク付けされるＨＭＩ部分に関連するスライダー、バー、又は強度ス
クローラーを通して制御することができる。ヒューマンマシンインターフェースＨＭＩ上
に示す、関連する強度スクローラー、強度バー、及び／又は強度スライダーを通して、ユ
ーザーは、ＲＦ処置のための処置クラスターＲＦ Ａ及び／又はＲＦ Ｂの１つ以上の電
気素子の動作速度を制御又は調整することができる。同様に、関連する強度スクローラー
、強度バー、及び／又は強度スライダーを使用することによって、ユーザーは、ＲＦ処置
のための処置クラスターＲＦ Ａ又はＲＦ Ｂの１つ以上の電気素子を通した又は電気素
子の間の電気信号送信速度を制御又は調整することができる。
処置デバイスは２つ以上のアプリケーターを含むことができ、各アプリケーターは、１
つの磁場発生デバイス及び１つ又は２つのＲＦ電極を含むことができる。第１のアプリケ
ーター内に位置決めされた第１の磁場発生デバイスのインダクタンスは、第２のアプリケ
ーター内に位置決めされた第２の磁場発生デバイスのインダクタンスと同一とすることが
できる。また、第１のアプリケーター内の第１の磁場発生デバイスのターン数、巻線エリ
ア、及び／又は巻線なしのエリアは、第２のアプリケーター内の第２の磁場発生デバイス
のターン数、巻線エリア、及び／又は巻線なしのエリアと同一とすることができる。第１
のアプリケーター内の第１の磁場発生デバイスは、第２のアプリケーター内の第２の磁場
発生デバイスと同一の磁場を提供することができる。同じ又は別の処置セッション中に複
数の磁場発生デバイスによって提供される同一の磁場は、同じ処置パラメーター、例えば
、列内のパルス数、バースト内のパルス数、同じ振幅の磁束密度のインパルス、同じ形状
の包絡線、又は他のものを有することができる。しかしながら、例えば、磁束密度の振幅
からの妥当な偏差を、同一の磁場において許容することができる。磁束計又はオシロスコ
ープによって測定される磁束密度の振幅又は平均磁束密度の偏差は、０．１％～１０％、
又は０．１％～５％の範囲内にあるものとすることができる。
代替的に、両方のアプリケーター内の磁場発生デバイスのインダクタンスは異なるもの
とすることができる。また、同じ又は別の処置セッション中に複数の磁場発生デバイスに
よって提供される磁場は、異なる処置パラメーターを有することができる。
処置デバイスが２つ以上のアプリケーターを有するとき、各アプリケーターは、１つの
磁場発生デバイス及び１つ又は２つのＲＦ電極を含むことができる。第１のアプリケータ
ー内に位置決めされた１つのＲＦ電極のサイズ又は面積は、第２のアプリケーター内に位
置決めされた（正：positioned）別のＲＦ電極のサイズ又は面積と同一とすることができ
る。第１のアプリケーター及び第２のアプリケーターは、同じ又は別の処置セッション中
に提供される同一のＲＦ場を提供することができ、同一のＲＦ場は、ＲＦ場の同じ処置パ
ラメーター、例えば、波長、位相、継続時間、及び強度を有することができる。
代替的に、両方のアプリケーター内のＲＦ電極のサイズ又は面積は異なるものとするこ
とができる。同様に、同じ又は別の処置セッション中に複数の磁場発生デバイスによって
提供される磁場は、異なる処置パラメーターを有することができる。
図１９は、磁場発生デバイスによって提供される磁場（例えば、時変性磁場）の例示的
な組成を示す。同様に、図１９は、ＲＦ場の組成を示すこともできる。したがって、特に
図１９の説明において、用語「インパルス（impulse）」は「磁気インパルス（magnetic
impulse）」又は「ＲＦインパルス（RF impulse）」を指すことができる。同様に、用語
「パルス（pulse）」は、「磁気パルス（magnetic pulse）」又は「ＲＦパルス（RF puls
e）」を指すことができる。同様に、用語「列」は「磁気列（magnetic train）」を指す
ことができる。用語「磁気列」は、磁気パルスの列を含むことができ、磁気パルスの列は
、１つのパルスが別のパルスに追従する複数の磁気後続パルス（magnetic subsequent pu
lses）として理解することができる。磁気パルスが１つの磁気インパルスを含むことがで
きるため、用語「磁気列」は、磁気インパルスの列を含むこともできる。用語「バースト
（burst）」は「磁気バースト（magnetic burst）」を指すことができる。
図１９に示すように、インパルスは、少なくとも部分的な筋肉収縮、筋肉収縮、生物学
的構造の温度の変化、及び／又は神経刺激等の少なくとも部分的な処置効果を引き起こす
のに十分な強度を有する印加処置エネルギー（例えば、磁場）の期間を指すことができる
。磁気インパルスは、図１９に示すように１つの２相形状を含むことができる。磁気イン
パルスは、所定の振幅の磁束密度を含むことができる。
磁気パルスは、インパルスを含む期間及びパルスのパッシブ期間を指すことができる。
磁気パルスは、１つの磁気インパルスの期間、及び、パッシブ期間、すなわち、立ち上が
り／立ち下がりエッジから後続の立ち上がり／立ち下がりエッジまでの２つのインパルス
間の継続時間を指すことができる。パルスのパッシブ継続時間は、患者の身体に対して処
置エネルギーを全く適用しないこと、及び／又は、送出される処置エネルギーの処置エネ
ルギー強度（例えば、磁束密度）及び／又は周波数が不十分であるため、少なくとも部分
的な処置効果を引き起こすのに不十分な処置エネルギーを適用することを含むことができ
る。そのような期間は、パルス継続時間（pulse duration）と呼ぶことができる。図１９
に示すように、各パルスは、インパルス継続時間（impulse duration）と呼ぶ期間中の１
つの２相永続部（biphasic lasting）を含むことができる。代替的に、インパルス又はパ
ルスは単相とすることができる。
図１９に更に示すように、複数のパルスは列を形成することができる。列は、複数のパ
ルスを指すことができ、１つの列は、パルスが次々に追従する少なくとも２つのパルスを
含むことができる。列は、図１９に示す期間永続部Ｔ１だけ続くことができる。
磁気列は、２磁気パルス～２０００００磁気パルス、又は２磁気パルス～１５００００
磁気パルス、又は２磁気パルス～１０００００磁気パルスの範囲内の複数の磁気パルスを
含むことができる。磁気列は、次々に続く複数回の少なくとも部分的な筋肉収縮又は筋肉
収縮、少なくとも１つの不完全強縮性筋肉収縮、少なくとも１つの過最大収縮、少なくと
も１つの完全強縮性筋肉収縮を引き起こすことができる。１つの列の印加中に、磁場は、
筋肉弛緩が後続する１回の筋肉収縮を提供することができる。筋肉弛緩には、１つの列の
印加中に別の筋肉収縮が後続することができる。１つの列中に、筋肉仕事サイクル（筋肉
弛緩が後続する筋肉収縮を含むことができる）は、少なくとも２回、３回、４回、又はそ
れより多い回数反復することができる。
バーストは、期間Ｔ１、及び、処置効果が引き起こされない期間を示すことができる期
間Ｔ２の間に提供される１つの列を指すことができる。期間Ｔ２は、処置エネルギーが患
者の身体に印加されない及び／又は印加される処置エネルギーが処置効果を引き起こすの
に不十分である、パッシブ処置（passive treatment）を提供する期間とすることができ
る。図１９に示す期間Ｔ３は、バーストの継続時間を示すことができる。
時変性磁場の磁気列には、静磁場が後続することができる、及び／又は、磁気列には、
少なくとも部分的な筋肉収縮又は筋肉収縮を引き起こすのに不十分な周波数の時変性磁場
及び／又は不十分な磁束密度が後続することができる。例えば、バーストは、筋肉収縮が
後続しない少なくとも１回の少なくとも部分的な筋肉収縮を提供することができる。別の
例において、バーストは、筋肉収縮が後続しない少なくとも１回の筋肉収縮を提供するこ
とができる。処置は、１５回～２５０００回の範囲内、又は４０回～１００００回の範囲
内、又は７５回～２５００回の範囲内、又は１５０回～１５００回の範囲内、又は３００
回～７５０回の範囲内の、又は１０００００回までの複数回の磁気バーストを含むことが
できる。後続バーストの反復レートは、１Ｈｚ～２００Ｈｚ、又は２Ｈｚ～２０Ｈｚ、又
は５Ｈｚ～１５Ｈｚの、又は５Ｈｚよりも大きい値の増分で、増分的に増減することがで
きる。代替的に、磁束密度の振幅は、後続バーストにおいて変動する、例えば、直前のパ
ルス周波数の、少なくとも１％、２％、又は５％以上の増分で増分的に増減することがで
きる。１つのバーストの印加中に、磁場は、筋肉弛緩が後続する１回の筋肉収縮を提供す
ることができる。筋肉弛緩は、同じバーストの印加中に、別の筋肉収縮が後続することが
できる。１つのバースト中に、筋肉仕事サイクル（筋肉弛緩が後続する筋肉収縮を含むこ
とができる）は、少なくとも２回、３回、４回、又はそれより多い回数反復することがで
きる。
また、処置デューティサイクルは、図１９に示すように磁場のパルス状処置エネルギー
の印加に関連することができる。処置デューティサイクルは、アクティブ処置時間Ｔ１と
、１サイクルＴ３中のアクティブ処置時間及びパッシブ処置時間の和との間の比を指すこ
とができる。
例示的な処置デューティサイクルは図１９に示される。１０％のデューティサイクルは
、アクティブ処置のＴ１が２ｓ続き、パッシブ処置Ｔ２が１８ｓ続くことを意味する。こ
の例示的な処置において、アクティブ処置期間及びパッシブ処置期間を含む期間Ｔ３は２
０秒続く。処置デューティサイクルはＴ１とＴ３との間の比として規定することができる
。処置デューティサイクルは、１：１００（１％を意味する）～２４：２５（９６％を意
味する）、又は１：５０（２％を意味する）～４：６（６７％を意味する）、又は１：５
０（２％を意味する）～１：２（５０％を意味する）、又は１：５０～１：３（３３％を
意味する）、又は１：５０（２％を意味する）～１：４（２５％を意味する）、又は１：
２０（５％を意味する）～１：８（１２．５％を意味する）、又は１：１００（１％を意
味する）～１：８（１２．５％を意味する）の範囲内にある、又は少なくとも１：４（少
なくとも２５％を意味する）であるものとすることができる。
４Ｈｚのバースト反復レートの例示的な適用は、２００Ｈｚの反復レートで、かつ、列
における５０％の処置デューティサイクルが１２５ｍｓ続く、すなわち、各列が２５パル
スを含む状態で、時変性磁場が患者に適用されるものとすることができる。１分につき６
バーストのバースト反復レートの代替の例示的な適用は、１Ｈｚの反復レートで、かつ、
列における３０％の処置デューティサイクルが３ｓ続く、すなわち、各列が３パルスを含
む状態で、時変性磁場が患者に適用されるものとすることができる。
図１９は、ＲＦ電極によって提供される磁気成分の例示的な組成を示すこともできる。
処置デバイスが複数（例えば、２つ）のアプリケーターを使用するとき、各アプリケー
ターは、１つの磁場発生デバイスを含むことができる。各磁場発生デバイスが１つのそれ
ぞれの磁場を提供することができるため、複数のアプリケーターは異なる磁場を含むこと
ができる。その場合、磁気インパルス又はパルスの磁束密度の振幅は、ＨＭＩを通してユ
ーザーによって及び／又は１つ以上の制御ユニットによって指定されるように、同じ又は
異なるものとすることができる。
１つの磁場発生デバイス（例えば、磁気コイル）によって提供される１つの磁場のイン
パルスを、別の磁場発生デバイスによって提供される別の磁場のインパルスと同期して生
成し印加することができる。処置デバイスが２つの磁場発生デバイスを含む状態での処置
セッション中に、１つの磁場発生デバイスによって提供される１つの磁場のインパルスは
、第２の磁場発生デバイスによって提供される第２の磁場のインパルスと同期して生成す
ることができる。同期生成は同時生成を含むことができる。
磁気インパルスの同期生成は、複数の磁気処置回路のスイッチ、エネルギー貯蔵デバイ
ス、磁場発生デバイス、及び／又は他の電気素子の同期動作によって提供することができ
る。しかしながら、磁気処置回路の電気素子の同期動作を、ＨＭＩを通したユーザー、マ
スターユニット、及び／又は１つ以上の（正：one or more）制御ユニットが、指令する
、調整する、又は制御することができる。
図２７ａは、２つの例示的な磁場発生デバイス上での同時タイプの磁気インパルスの同
期生成を示す。磁場発生デバイスＡ（ＭＦＧＤ Ａ）は、複数の２相磁気インパルス２７
１ａを含む第１の磁場を生成することができる。磁場発生デバイスＢ（ＭＦＧＤ Ｂ）は
、複数の磁気インパルス２７１ｂを含む第２の磁場を生成することができる。両方の磁場
の磁気インパルスは、第１の磁場の磁気インパルス２７１ａのインパルス継続時間２７２
中に生成される。また、両方の磁場のインパルスは、第１の磁場のパルス継続時間２７３
内で生成される。磁場の同時生成は、第１の時変性磁場の磁気インパルス２７１ａが第２
の時変性磁場の磁気インパルス２７１ｂと同時に生成されることを意味する。
磁場の同期生成は、第１の時変性磁場の第１のインパルスの始まりから第１の時変性磁
場の次の連続するインパルスの始まりまで続く期間の間、第１のパルスが続くように、第
１の時変性磁場の第１のパルスを生成すること、及び、第２の時変性磁場の第１のインパ
ルスの始まりから第２の時変性磁場の次の連続するインパルスの始まりまで、第２のパル
スが続くように、第２の磁場発生デバイスによって第２の時変性磁場の第２のパルスを生
成することを含むことができる。磁場の同期生成は、第２の時変性磁場の第１のインパル
スが第１のパルスの期間中に生成されることを意味する。
図２７ｂは、磁気インパルスの同期生成の例を示す。磁場発生デバイスＡ（ＭＦＧＤ
Ａ）は、複数の２相磁気インパルス２７１ａを含む第１の磁場を生成することができる。
磁場発生デバイスＢ（ＭＦＧＤ Ｂ）は、複数の磁気インパルス２７１ｂを含む第２の磁
場を生成することができる。第２の磁場の磁気インパルス２７１ｂは、第１の磁場のパル
スのパルス継続時間２７３中であるが、第１の磁場のインパルスのインパルス継続時間２
７２の外で生成することができる。
図２７ｃは、磁気インパルスの同期生成の別の例を示す。磁場発生デバイスＡ（ＭＦＧ
Ｄ Ａ）は、複数の２相磁気インパルス２７１ａを含む第１の磁場を生成することができ
る。磁場発生デバイスＢ（ＭＦＧＤ Ｂ）は、複数の磁気インパルス２７１ｂを含む第２
の磁場を生成することができる。第２の磁場の磁気インパルス２７１ｂは、第１の磁場の
パルスのパルス継続時間２７３の間に生成することができる。同様に、第２の磁場の磁気
インパルス２７１ｂは、第１の磁場のパルスのインパルス継続時間２７２の間に生成する
ことができる。第２の磁場の磁気インパルス２７１ｂの始まりは、第１の磁場のインパル
ス２７１ａの始まりからインパルスシフト２７４と呼ぶ期間だけ離れているものとするこ
とができる。インパルスシフトは５１～１０ｍｓ、又は５μｓ～１０００μｓ、又は１μ
ｓ～８００μｓの範囲内にあるものとすることができる。
図２７ｄは、磁気インパルスの同期生成の更に別の例を示す。磁場発生デバイスＡ（Ｍ
ＦＧＤ Ａ）は、複数の２相磁気インパルス２７１ａを含む第１の磁場を生成することが
できる。磁場発生デバイスＢ（ＭＦＧＤ Ｂ）は、複数の磁気インパルス２７１ｂを含む
第２の磁場を生成することができる。第２の磁場の磁気インパルス２７１ｂは、第１の磁
場のパルスのパルス継続時間２７３内に生成することができる。第２の磁場の磁気インパ
ルス２７１ｂは、第１の磁場のインパルスのインパルス継続時間２７２の外で生成するこ
とができる。第２の磁場の磁気インパルス２７１ｂの始まりは、第１の磁場の磁気インパ
ルス２７１ａの終わりからインパルス距離期間２７５と呼ぶ期間だけ離れているものとす
ることができる。インパルス距離期間は、５１～１０ｍｓ、又は５μｓ～１０００μｓ、
又は１μｓ～８００μｓの範囲で続くことができる。
同期生成の他に、複数の磁場の磁気インパルスを別々に生成することができる。磁場の
磁気インパルスの分離式生成（separated generation）は、１つの磁場のインパルスの生
成が別の磁場のパルス継続時間の外で生成されることを含むことができる。
図２７ｅは、磁気インパルスの分離生成の例を示す。磁場発生デバイスＡは、インパル
ス継続時間２７２ａを有する２相磁気インパルス２７１ａの列を含む第１の磁場を生成す
ることができる。各磁気インパルス２７１ａはパルス継続時間２７３ａを有するパルスの
一部である。第１の磁場のインパルス継続時間２７２ａは第１の磁場のパルス継続時間２
７３ａの一部とすることができる。第１の磁場の列は、列継続時間２７６ａを有すること
ができる。磁場発生デバイスＢは、インパルス継続時間２７２ｂを有する複数の磁気イン
パルス２７１ｂの別の列を含む別の磁場を生成することができる。各磁気インパルス２７
１ｂは、パルス継続時間２７３ｂを有するパルスの一部である。第２の磁場のインパルス
継続時間２７２ｂは第２の磁場のパルス継続時間２７３ｂの一部とすることができる。第
２の磁場の列は、列継続時間２７６ｂを有することができる。列継続時間２７６ａを有す
る列は、列継続時間２７６ｂを有する列が磁場発生デバイスＢによって生成されるのと異
なる時間に、磁場発生デバイスＡによって生成される。両方の列は、１ｍｓ～３０ｓの範
囲内にあるものとすることができる分離期間２７７によって分離することができる。分離
期間２７７中に、どの磁場発生デバイスもアクティブでないものとすることができ、これ
は、電流パルスを提供するエネルギー貯蔵デバイスがエネルギーを全く貯蔵しないことを
意味する。
磁気インパルスの同期又は分離式生成の全ての例は、１つの処置セッション中に適用す
ることができる。また、インパルスシフト及び／又はインパルス距離期間は、図２７Ｂ～
図２７Ｅによって与えられる任意の例に従って位置決めすることができる第２の又は別の
磁場の任意の磁気インパルス２７１ｂについて計算することができる。インパルスシフト
及び／又はインパルス距離期間は、オシロスコープ測定から測定し計算することができる
。磁気インパルスの同期生成は、２つ以上の磁場発生デバイスによる磁気パルス及び／又
は列の同期生成をもたらし、及びこれに外挿することができる。同様に、磁気インパルス
の分離式生成は、２つ以上の磁場発生デバイスによる磁気パルス及び／又は列の同期生成
をもたらし、及びこれに外挿することができる。
マスターユニット及び／又は１つ以上の制御ユニットによって提供される調整又は制御
は、磁気包絡線又はＲＦ包絡線の作成又は整形のために使用することができる。例えば、
磁気インパルス又はＲＦインパルスは、種々の包絡線の構築を可能にするために、各イン
パルス又は複数のインパルスの振幅を変調することができる。同様に、ＲＦエネルギーの
振幅は、種々の包絡線を構築するために振幅を変調することができる。マスターユニット
及び／又は１つ以上の制御ユニットは、本明細書で述べる１つ以上の包絡線の構築を提供
するように構成することができる。異なるように整形された磁気包絡線及び／又はＲＦ包
絡線（本明細書で包絡線とも呼ぶ）を、患者が異なるように知覚することができる。本出
願の図に示す包絡線（又は全ての包絡線）は、インパルス、パルス、又は列の磁束密度の
振幅、及び／又は、ＲＦ波のＲＦインパルスの電力出力の振幅による当てはめられた曲線
とすることができる。
包絡線は、磁気インパルスから形成される磁気包絡線とすることができる。インパルス
から形成される磁気包絡線は、複数のインパルス、例えば、少なくとも２つ、３つ、４つ
、又はそれより多い数の後続の磁気インパルスを含むことができる。そのような磁気包絡
線の（正：of such magnetic envelope）後続の磁気インパルスは、互いに追従すること
ができる。そのような包絡線の場合、包絡線継続時間は、複数のインパルスのうちの第１
のインパルスで始まり、最後のインパルスで終わることができる。包絡線は、磁気インパ
ルスの１つの列を含むことができる。包絡線は、インパルスの磁束密度の振幅による当て
はめられた曲線とすることができる。したがって、磁気インパルスによって形成される磁
気包絡線は、磁気インパルスの磁束密度の変調、反復レート、及び／又はインパルス継続
時間に従って列形状を規定することができる。したがって、包絡線は、ＲＦインパルス及
びそれらの包絡線の変調、ＲＦ波のＲＦインパルスの反復レート又はインパルス継続時間
によって形成されるＲＦ包絡線とすることができる。
包絡線は、磁気パルスによって形成される磁気包絡線とすることができる。パルスによ
って形成される磁気包絡線は、複数のパルス（例えば、少なくとも２つ、３つ、４つ、又
はそれより多い数の後続の磁気パルス）を含むことができ、パルスは、紛失（missing）
パルスがない状態で互いに追従する。そのような場合、包絡線継続時間は、複数のパルス
の（正：of the plurality of pulses）第１のパルスのインパルスで始まり、最後のイン
パルスのパッシブ継続時間で終わることができる。したがって、磁気パルスによって形成
される包絡線は、磁束密度の変調、反復レート、及び／又はインパルス継続時間に従って
列形状を規定することができる。包絡線は磁気パルスの１つの列を含むことができる。列
は、プロトコル中に少なくとも２回反復するパターンの磁気パルスからなる。磁気包絡線
は、パルスの磁束密度の振幅による当てはめられた曲線とすることができる。
包絡線は、磁気列から形成される磁気包絡線とすることができる。列から形成される磁
気包絡線は、複数の列（例えば、少なくとも２つ、３つ、４つ、又はそれより多い数の後
続の磁気列）を含むことができ、列は、列間の所定の継続時間を持って互いに追従する。
そのような場合、包絡線継続時間は、複数のパルスの第１の列の第１のパルスのインパル
スで始まり、パッシブ継続時間で終わることができる。１つの包絡線内の複数の列は、イ
ンパルスを含む紛失パルスによって分離することができる。紛失パルスの数は、１個～２
０個、又は１個～１０個の範囲内にあるものとすることができる。
包絡線を、磁束密度の種々のオフセット値に対して変調することができる。オフセット
値は、０．０１Ｔ～１Ｔ、又は０．１Ｔ～１Ｔ、又は０．２Ｔ～０．９Ｔの範囲内にある
ものとすることができる。オフセット値は、磁束密度の非ゼロ値に対応することができる
。
１回の処置セッション中に、処置デバイスは、種々の数の包絡線を適用することができ
る。磁場の２つ以上の包絡線を組み合わせて、考えられる結果として得られる形状を作成
することができる。
上記で述べた例において、包絡線は第１のインパルスで始まることができる。さらに、
包絡線は、第１のインパルスを含む第１のそれぞれのパルスの継続時間を通して継続する
。さらに、包絡線は、最後のパルスのパッシブ継続時間で終わることができ、最後のパル
スは第１のパルスに追従することができる。このオプションは、磁気パルスの包絡線の例
示的な形状を示す以下の図に示される。以下の図に示すように、包絡線の形状は、磁束密
度の変調によって提供することができる。ＲＦ包絡線の形状は、ＲＦ波の電力又はインパ
ルスの振幅の変調によって提供することができる。
図２８は、磁気インパルス２８２から形成される増加する包絡線２８１の例示的な図で
あり、１つの磁気インパルス２８２は、磁気パルスの１つのパッシブ期間が後続する。増
加する包絡線における後続のインパルスの磁束密度の振幅は増加する。１つのインパルス
の磁束密度の振幅は、先行するインパルスの磁束密度の振幅よりも大きい。同様に、第２
のインパルスの磁束密度の振幅は、第１のインパルスの磁束密度の振幅よりも大きい。増
加する振幅は筋肉準備（muscle preparation）のために使用することができる。増加する
包絡線２８１の包絡線継続時間２８３は、第１のパルスの第１のインパルスから始まり、
最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に至る。同様に、ＲＦ波の振幅は、増加する包絡
線２８１を構築するために振幅変調することができる。
図２９は、磁気インパルス２９２から形成される減少する包絡線２９１の例示的な図で
ある。減少する包絡線における後続のインパルスの磁束密度の振幅は減少する。１つのイ
ンパルスの磁束密度の振幅は、先行するインパルスの磁束密度の振幅よりも小さい。同様
に、第２のインパルスの磁束密度の振幅は、第１のインパルスの磁束密度の振幅よりも小
さい。減少する包絡線２９１の包絡線継続時間２９３は、第１のパルスの第１のインパル
スから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に至る。同様に、ＲＦ波の振幅は
、減少する包絡線２９１を構築するために振幅変調することができる。
図３０は、磁気インパルス３０３から形成される矩形包絡線３０２の例示的な図である
。矩形包絡線におけるインパルスの磁束密度の振幅は一定とすることができる。しかしな
がら、後続のインパルスの磁束密度の振幅は、０．０１％～５％の範囲内の磁束密度の振
幅の所定の値の周りで振動する場合がある。第１のインパルスの磁束密度の振幅は、第２
のインパルスの磁束密度の振幅と同一とすることができ、第２のインパルスは第１のイン
パルスに追従する。矩形包絡線３０２の包絡線継続時間３０４は、第１のパルスの第１の
インパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に至る。矩形包絡線は、
筋肉収縮又は筋単収縮の誘起のために使用することができる。同様に、ＲＦ波の振幅は、
矩形包絡線３０２を構築するために振幅変調することができる。
図３１は、増加する包絡線と矩形包絡線との組み合わせとして仮想的に見ることができ
る組み合わせ式包絡線３１１の例示的な図である。組み合わせ式包絡線３１１は磁気イン
パルス３１２を含む。組み合わせ式包絡線におけるインパルスの磁束密度の振幅は、組み
合わせ式包絡線全体の継続時間の１％～９５％、又は５％～９０％、又は１０％～８０％
の範囲内について、増加することができる。組み合わせ式包絡線の矩形部分における後続
のインパルスの磁束密度の振幅は、０．０１％～５％の範囲内の磁束密度の振幅の所定の
値の周りで振動する場合がある。組み合わせ式包絡線３１１の包絡線継続時間３１３は、
第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に
至る。図３１に示す組み合わせ式包絡線は、筋肉の準備及び筋肉収縮又は筋単収縮の誘起
のために使用することができる。同様に、ＲＦ波の振幅は、包絡線３１１を構築するため
に振幅変調することができる。
図３２は、矩形包絡線と減少する包絡線との組み合わせとして仮想的に見ることができ
る組み合わせ式包絡線３２１の例示的な図である。組み合わせ式包絡線３２１は磁気イン
パルス３２２を含む。組み合わせ式包絡線におけるインパルスの磁束密度の振幅は、組み
合わせ式包絡線全体の継続時間の１％～９５％、又は５％～９０％、又は１０％～８０％
の範囲内について、減少することができる。組み合わせ式包絡線の矩形部分における後続
のインパルスの磁束密度の振幅は、０．０１％～５％の範囲内の磁束密度の振幅の所定の
値の周りで振動する場合がある。組み合わせ式包絡線３２１の包絡線継続時間３２３は、
第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に
至る。図３２に示す組み合わせ式包絡線は、筋肉収縮又は筋単収縮の誘起及びその後の筋
肉刺激の終了のために使用することができる。同様に、ＲＦ波の振幅は、包絡線３２１を
構築するために振幅変調することができる。
図３３は、増加する包絡線と、すぐその後に続く減少する包絡線との組み合わせとして
理解することができる三角形包絡線３３１の例示的な図である。三角形包絡線３３１は磁
気インパルス３３２を含むことができる。包絡線の三角形形状は、対称でないものとする
ことができる。また、三角形形状の１つ以上の線の真直度（straightness）を、本明細書
で述べる別のタイプの包絡線、例えば、矩形包絡線によって中断することができる。１つ
の三角形包絡線は、別の三角形包絡線に密接に追従する、又は、別の三角形包絡線に接合
することができる。２つの三角形包絡線を接合することによって、結果として得られる包
絡線は、鋸歯状形状を有することができる。三角形包絡線３３１の包絡線継続時間３３３
は、第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終
了に至る。同様に、ＲＦ波の振幅は、三角形包絡線３３１を構築するために振幅変調する
ことができる。
図３４は、台形包絡線３４１の例示的な図である。台形包絡線３４１は磁気インパルス
３４２を含むことができる。台形包絡線は、増加（立ち上がり）期間ＴＲ、ホールド期間
ＴＨ、及び減少（立ち下がり）期間ＴＦを含むことができる。増加期間中、後続のインパ
ルスの磁束密度の振幅は増加する。さらに、増加期間中、１つのインパルスの磁束密度の
振幅は、先行するインパルスの磁束密度の振幅よりも大きい。ホールド期間中、後続のイ
ンパルスの磁束密度の振幅は、０．０１％～５％の範囲内の磁束密度の振幅の所定の値の
周りで振動する場合がある。減少期間中、後続のインパルスの磁束密度の振幅は減少する
。さらに、減少期間中、１つのインパルスの磁束密度の振幅は、先行するインパルスの磁
束密度の振幅より小さい。ホールド期間を、磁束密度の異なる所定の値を有する別のホー
ルド期間によって中断することができる。台形包絡線３４１の包絡線継続時間３４３は、
第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に
至る。同様に、ＲＦ波の振幅は、台形包絡線３４１を構築するために振幅変調することが
できる。
台形包絡線は、筋肉組織刺激にとって最も快適であると患者が知覚することができる。
台形包絡線は、筋肉収縮の自然な経過に配慮する。すなわち、筋肉収縮は時変性とするこ
とができる。自然な筋肉収縮の強度は、増加し、最大強度を保持し、減少する。台形包絡
線は自然な筋肉収縮に対応する。すなわち、筋肉収縮の強度は磁束密度に対応する。台形
包絡線の継続時間中の磁束密度は、増加し、保持し、減少する。同じ形状の包絡線は、適
切な振幅を有するＲＦインパルスから形成されるＲＦ電極を有することができる。
台形包絡線は、台形包絡線形状に当てはまらない、１つ以上のインパルス、パルス、バ
ースト、及び／又は列によって少なくとも１回中断される場合があるが、この中断後、台
形包絡線は継続する。
同様に、台形包絡線は、複数の列、例えば、２つ、３つ、４つ、又はそれより多い数の
列を含むことができる。台形包絡線の場合、包絡線は３つの列を含むことができる。第１
の列は、増加する磁束密度を有するインパルスを含むことができる。１つのインパルスの
磁束密度は、第１のインパルスに後続する第２のインパルスの磁束密度よりも大きいもの
とすることができる。第２の列は、一定の磁束密度を有するインパルスを含むことができ
る。しかしながら、処置デバイスの動作は、各インパルスについて厳密に一定の磁束密度
を提供することができず、したがって、磁束密度は０．１％～５％の範囲内で振動する場
合がある。第３の列は、減少する磁束密度を有するインパルスを含むことができる。１つ
のインパルスの磁束密度は、第１のインパルスに後続する第２のインパルスの磁束密度よ
りも小さいものとすることができる。
さらに、台形包絡線は、複数のバースト、例えば、２つ、３つ、４つ、又はそれより多
い数のバーストを含むことができる。台形包絡線の場合、包絡線は３つのバーストを含む
ことができる。第１のバーストは、増加する磁束密度を有するインパルスを含むことがで
きる。１つのインパルスの磁束密度は、第１のインパルスに後続する第２のインパルスの
磁束密度よりも大きいものとすることができる。第２のバーストは、一定の磁束密度を有
するインパルスを含むことができる。しかしながら、処置デバイスの動作は、各インパル
スについて厳密に一定の磁束密度を提供することができず、したがって、磁束密度は０．
１％～５％の範囲内で振動する場合がある。第３のバーストは、減少する磁束密度を有す
るインパルスを含むことができる。１つのインパルスの磁束密度は、第１のインパルスに
後続する第２のインパルスの磁束密度よりも小さいものとすることができる。
図２０は、別の例示的な台形包絡線を示す。縦軸は磁束密度を示すことができ、横軸は
時間を示すことができる。台形包絡線は、列中に印加されたインパルスの磁束密度の振幅
による当てはめられた曲線とすることができ、ＴＲは、増加遷移時間と呼ぶ、増加する磁
束密度を有する期間であり、すなわち、磁束密度の振幅は増加することができる。ＴＨは
、最大磁束密度を有する期間であり、すなわち、磁束密度の振幅は一定とすることができ
る。ＴＦは、減少する磁束密度を有する期間であり、すなわち、磁束密度の振幅は減少す
ることができる。ＴＲ、ＴＨ、及びＴＲの合計は、筋肉収縮に対応することができる台形
包絡線継続時間とすることができる。
台形包絡線はエネルギー消費を減少させることができる。低エネルギー消費のため、台
形形状は、磁場発生デバイスの冷却の改善を可能にすることができる。さらに、抵抗損失
は、磁場発生デバイスの低温によって低減することができる。異なる反復レートは、異な
るタイプの筋肉収縮を引き起こすことができる。各タイプの筋肉収縮は、異なる量のエネ
ルギーを消費する場合がある。
図３５は、増加期間Ｔ１、第１の減少期間Ｔ２、及び第２の減少期間Ｔ３を含む台形包
絡線３５１の例示的な図である。台形包絡線３５１は磁気インパルス３５２を含む。増加
期間は、磁束密度の増加する振幅を有するインパルスを含む。第１の減少期間及び第２の
減少期間は、磁束密度の減少する振幅を有するインパルスを含む。示す例に関して、第１
の減少期間は、増加期間に追従し、第２の減少期間に先行する。後続のインパルスの磁束
密度の振幅は、第２の減少期間中により急峻に減少することが示される。代替的に、後続
のインパルスの磁束密度の振幅は、第１の減少期間中により急峻に減少することができる
。台形包絡線３５１の包絡線継続時間３５３は、第１のパルスの第１のインパルスから始
まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に至る。したがって、包絡線は、ＲＦイン
パルスから形成される磁気包絡線とすることができる。同様に、ＲＦ波の振幅は、台形包
絡線３５１を構築するために振幅変調することができる。
図３６は、第１の増加期間、第２の増加期間、及び減少期間を含む台形包絡線３６１の
例示的な図である。台形包絡線３６１は磁気インパルス３６２を含む。第１の増加期間及
び第２の増加期間は、磁束密度の増加する振幅を有するインパルスを含む。第１の増加期
間及び第２の増加期間は、磁束密度の増加する振幅を有するインパルスを含む。示す例に
関して、第２の増加期間は、第１の増加期間に追従し、減少期間に先行する。後続のイン
パルスの磁束密度の振幅は、第１の増加期間中により急峻に増加することが示される。代
替的に、後続のインパルスの磁束密度の振幅は、第２の増加期間中により急峻に増加する
ことができる。台形包絡線３６１の包絡線継続時間３６３は、第１のパルスの第１のイン
パルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に至る。同様に、ＲＦ波の振
幅は、台形包絡線３６１を構築するために振幅変調することができる。
図３７は、第１の増加期間Ｔ１、第１のホールド期間Ｔ２、第２の増加期間、第２のホ
ールド期間、及び減少期間を含む階段状包絡線３７１の例示的な図である。階段状包絡線
３７１は磁気インパルス３７２を含む。第１の増加期間及び第２の増加期間中、後続のイ
ンパルスの磁束密度の振幅は増加することができる。減少期間中、後続のインパルスの磁
束密度の振幅は減少することができる。ホールド期間中、後続のインパルスの磁束密度の
振幅は、一定とすることができ、又は、０．０１％～５％の範囲内の磁束密度の振幅の所
定の値の周りで振動する場合がある。階段状包絡線３７１の包絡線継続時間３７３は、第
１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間の終了に至
る。同様に、ＲＦ波の振幅は、台形包絡線３７１を構築するために振幅変調することがで
きる。
図３８は、第１の増加期間Ｔ１、第１のホールド期間Ｔ２、第１の減少期間Ｔ３、第２
のホールド期間Ｔ４、及び第２の減少期間Ｔ５を含む階段状包絡線３８１の例示的な図で
ある。階段状包絡線３８１は磁気インパルス３８２を含む。増加期間中、後続のインパル
スの磁束密度の振幅は増加することができる。第１の減少期間及び第２の減少期間中、後
続のインパルスの磁束密度の振幅は減少することができる。ホールド期間中、後続のイン
パルスの磁束密度の振幅は、一定とすることができ、又は、０．０１％～５％の範囲内の
磁束密度の振幅の所定の値の周りで振動する場合がある。階段状包絡線３８１の包絡線継
続時間３８３は、第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ
継続時間の終了に至る。同様に、ＲＦ波の振幅は、台形包絡線３８１を構築するために振
幅変調することができる。
図３９は、磁気インパルス３９２を含む別のタイプの台形包絡線３９１の例示的な図で
ある。台形包絡線は、増加期間Ｔ１、ホールド期間Ｔ２、及び減少期間Ｔ３を含むことが
できる。増加期間中、後続のインパルスの磁束密度の振幅は増加する。さらに、増加期間
中、１つのインパルスの磁束密度の振幅は、先行するインパルスの磁束密度の振幅よりも
大きい。ホールド期間中、後続のインパルスの磁束密度の振幅は、０．０１％～５％の範
囲内の磁束密度の振幅の所定の値の周りで振動する場合がある。減少期間中、後続のイン
パルスの磁束密度の振幅は減少する。さらに、減少期間中、１つのインパルスの磁束密度
の振幅は、先行するインパルスの磁束密度の振幅よりも小さい。ホールド期間は、磁束密
度の異なる所定の値を有する別のホールド期間Ｔ４を含むことができる。包絡線３９１の
包絡線継続時間３９３は、第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスの
パッシブ継続時間の終了に至る。同様に、ＲＦ波及び／又はＲＦインパルスの振幅は、台
形包絡線３９１を構築するために振幅変調することができる。
包絡線は、磁束密度と反復レートとの組み合わせ式変調を含むことができる。図４０は
、一定振幅の磁束密度を有する矩形包絡線４０１の例示的な図を示す。矩形包絡線４０１
は磁気インパルス４０２を含むことができる。期間ＴＲＲ２及びＴＲＲ３は、矩形包絡線
において示す（正：shown in）ＴＲＲ１中の磁気インパルスの残りの部分よりも高い反復
周波数を有するインパルスを示す。示す期間ＴＲＲ２及びＴＲＲ３は、示す矩形包絡線の
残りの部分よりも強い筋肉収縮を提供することができる。しかしながら、示す全ての包絡
線は、反復レート領域における変調を含むことができる。矩形包絡線４０１の包絡線継続
時間４０３は、第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継
続時間の終了に至る。したがって、包絡線は、ＲＦインパルスから形成される磁気包絡線
とすることができる。それらの振幅は、ＲＦ包絡線と呼ぶ振幅を形成することもできる。
同様に、ＲＦ波の振幅及び／又は反復レートは、包絡線４０１を構築するために振幅変調
することができる。
述べたように、包絡線は、１つ以上の紛失パルスによって分離される磁気列から形成す
ることができる。図４１は、磁気インパルス４１２を含む磁気列から形成された包絡線を
示す。示すように、増加する磁束密度を有するインパルス列を含む第１の列は継続時間Ｔ
１を有する。一定の又は振動する磁束密度を有するインパルス列を含む第２の列は継続時
間Ｔ２を有する。減少する磁束密度を有するインパルス列を含む第３の列は継続時間Ｔ３
を有する。複数の列を含む包絡線４１１は台形形状を有する。継続時間Ｔ１とＴ２との間
又は継続時間Ｔ２とＴ３との間の継続時間は、紛失インパルスを含む紛失パルスが位置決
めされることになる時間ギャップを示すことができる。包絡線４１１の包絡線継続時間４
１３は、第１のパルスの第１のインパルスから始まり、最後のパルスのパッシブ継続時間
の終了に至る。同様に、ＲＦ波又はＲＦインパルスの振幅は、包絡線４１１を構築するた
めに振幅変調することができる。
処置中に、磁気包絡線を組み合わせることができる。図４２は、磁気包絡線の組み合わ
せの例を示す。増大する形状を有する増加する包絡線４２２は磁気インパルス４２１の列
を含む。増加する包絡線４２２は継続時間ＴＥ１を有することができる。矩形包絡線４２
３は磁気インパルス４２１の列を含む。矩形包絡線は継続時間ＴＥ２を有することができ
る。減少する包絡線４２４は磁気インパルス４２１の列を含む。減少する包絡線４２４は
継続時間ＴＥ３を有することができる。第１の包絡線、第２の包絡線、及び第３の包絡線
の組み合わせによって形成される処置プロトコルの結果として得られるサブ期間は、例え
ば、図３４及び図２０に関して示す台形包絡線と同じ又は同様の処置効果を提供すること
ができる。処置プロトコルの結果として得られるサブ期間は、処置サブ期間の第１のパル
スの第１のインパルスから最後のパルスのパッシブ継続時間の終了までの継続時間４２５
を有する。同様に、ＲＦ波及び／又はＲＦインパルスの振幅は、包絡線の組み合わせを構
築するために振幅変調することができる。
図４３は、磁気包絡線の組み合わせの別の例を示し、減少期間は、矩形包絡線と異なる
磁束密度を有する。この例は、磁気包絡線の組み合わせが、異なる磁束密度を有する包絡
線を含むことができることを示すことができる。増大する形状を有する増加する包絡線４
３２は磁気インパルス４３１の列を含む。増加する包絡線は継続時間ＴＥ１を有すること
ができる。矩形包絡線４３３は磁気インパルス４３１の列を含む。矩形包絡線は継続時間
ＴＥ２を有することができる。減少する包絡線は磁気インパルス４３１の列を含む。減少
する包絡線４３４は継続時間ＴＥ３を有することができる。第１の包絡線、第２の包絡線
、及び第３の包絡線の組み合わせによって形成される処置プロトコルの結果として得られ
るサブ期間は、例えば、図３４及び図２０に関して示す台形包絡線と同じ又は同様の処置
効果を提供することができる。処置プロトコルの結果として得られるサブ期間は、処置サ
ブ期間の第１のパルスの第１のインパルスから最後のパルスのパッシブ継続時間の終了ま
での継続時間４３５を有する。同様に、ＲＦ波又はＲＦインパルスの振幅は、包絡線の組
み合わせを構築するために振幅変調することができる。
図４４は、包絡線間期間、すなわち、包絡線の間の期間の例を有する磁場の２つの例示
的な包絡線である。包絡線の間の期間は、磁気刺激なしの時間を含むことができる。しか
しながら、包絡線の間の期間は、不十分な又は認識不能な筋肉刺激（例えば、筋肉収縮及
び筋肉弛緩を含む）を提供する磁気インパルスを含むことができる。包絡線の間の期間中
に生成される磁気インパルスも包絡線を形成することができる。不十分な又は認識不能な
筋肉刺激を提供する磁気インパルスは、残存容量（resting capacity）を放出するために
、磁場発生コイルに対するエネルギー貯蔵デバイスの放電によって生成することができる
。エネルギー貯蔵デバイスは、その後、大電力電流インパルスを磁場発生デバイスに提供
するために、電力源によってより大量の電流及び／又は電圧まで充電することができる。
継続時間Ｔ１を有する矩形包絡線４４２は磁気インパルス４４１を含むことができる。継
続時間Ｔ２を有する台形包絡線４４４は磁気インパルス４４１を含むことができる。継続
時間ＴＥＰを有する包絡線間期間は、包絡線間期間内で磁気インパルス４４１の磁束密度
によって与えられる包絡線４４３（例えば、縮小する形状を有する）を含むことができる
。代替的に、包絡線間期間は、筋単収縮を提供する単一インパルスを含むことができる。
したがって、包絡線は、ＲＦインパルスから形成される磁気包絡線とすることができる。
それらの振幅は、ＲＦ包絡線と呼ぶ振幅を形成することもできる。ＲＦ包絡線間の期間は
加熱なし時間を含むことができる。
ＲＦ処置（ＲＦ場）を、継続的動作（continual operation）、パルス状動作、又は複
数のサイクルを含む動作で、処置エネルギー源（例えば、ＲＦ電極）によって生成するこ
とができる。継続的動作は、継続的ＲＦ処置中に提供される。パルス状動作は、パルス状
ＲＦ処置中に提供される。
継続的動作中に、ＲＦ電極は、マスターユニット又は１つ以上の制御ユニットによって
指令されるＲＦ場を、処置全体にわたって、又は、処置中の１つの継続時間内に生成する
ことができる。ＲＦ電極は、正弦形状を有するＲＦ波を生成することができる。換言すれ
ば、ＲＦ電極は、正弦形状を有する無線周波数波形を生成することができる。他の形状、
例えば、ＲＦ波の振幅に応じて、鋸歯状、三角形、又は正方形が可能である。
継続的ＲＦ処置は、患者のターゲット生物学的構造の継続的加熱による、提供される磁
気処置との最大の相乗効果、患者のターゲット生物学的構造を分極し、深部磁場貫入を確
実にする最大の効果、及び、筋肉収縮を促進するため等、患者の組織に対する生成磁場の
高い効果のうちの１つを有することができる。
パルス状生成中に、ＲＦ電極は、処置の２つ以上のアクティブ期間の間、ＲＦ場を生成
することができ、期間をパッシブ期間によって分離することができる。パルス状ＲＦ処置
のアクティブ期間は、ＲＦ電極がアクティブでありかつＲＦ場を生成する期間を示すこと
ができる。アクティブ期間は、１ｓ～１５分、又は３０ｓ～１０分、又は５ｓ～９００ｓ
、又は３０ｓ～３００ｓ、又は６０ｓ～３６０ｓの範囲内にあるものとすることができる
。ＲＦパルス状処置のパッシブ期間は、ＲＦ電極が非アクティブでありかつＲＦ場を生成
しない期間を示すことができる。ＲＦパルス状処置のパッシブ期間は、１ｓ～１５分、又
は１０ｓ～１０分、又は５ｓ～６００ｓ、又は５ｓ～３００ｓ、又は１０ｓ～１８０ｓの
範囲内にあるものとすることができる。パルス状生成及びそのパラメーターは、処置中に
変化し得る。
ユーザーは、処置デバイスの制御ユニット又はマスターユニットを通して、処置デバイ
スの種々の処置プロトコルを選択、制御、又は調整することができる。同様に、マスター
ユニット及び／又は制御ユニットは、処置プロトコル、身体エリア、又はユーザーが選択
した別のオプションを選択、制御、又は調整することができる。さらに、マスターユニッ
ト及び／又は制御ユニットは、上述した任意のセンサーによって提供されるフィードバッ
クに応じて種々の処置パラメーターを選択、制御、又は調整することができる。
処置プロトコルは、それぞれのプロトコルに割り当てられた１つ以上の処置パラメータ
ー及びそれらの所定の値の選択を含むことができる。さらに、処置プロトコルは、磁気処
置及びＲＦ処置による種々のタイプの組み合わせ式処置を含むことができる。
処置パラメーターに関して、ユーザーは、処置デバイスのマスターユニット又は１つ以
上の制御ユニットを含む制御システムを通して、処置デバイスの種々の処置パラメーター
を制御又は調整することができる。マスターユニット及び／又は制御ユニットは、処置プ
ロトコル、身体エリア、又はユーザーが選択した別のオプションに応じて処置パラメータ
ーを制御又は調整することができる。さらに、マスターユニット及び／又は制御ユニット
は、上述した任意のセンサーによって提供されるフィードバックに応じて種々の処置パラ
メーターを制御又は調整することができる。マスターユニット又は１つ以上の制御ユニッ
トは、磁場の処置パラメーターの調整を提供することができ、磁場の処置パラメーターは
、磁束密度、磁束密度の振幅、インパルス継続時間、パルス継続時間、インパルスの反復
レート、パルスの反復レート、列継続時間、列内のインパルス及び／又はパルスの数、バ
ースト継続時間、磁気バーストの組成、磁気列の組成、包絡線の数、デューティサイクル
、包絡線の形状、及び／又は、磁束密度導関数の最大を含む。マスターユニット又は１つ
以上の制御ユニットは、ＲＦ場の処置パラメーターの調整を提供することができ、ＲＦ場
の処置パラメーターは、ＲＦ場の周波数、ＲＦ場のデューティサイクル、ＲＦ場の強度、
ＲＦ場によって提供されるエネルギー束、ＲＦ場の電力、ＲＦ場の電力の振幅、及び／又
はＲＦ波の電力の振幅を含み、ＲＦ波は、ＲＦ場の電気成分を指すことができる。処置パ
ラメーターを以下の範囲内で制御又は調整することができる。
さらに、処置パラメーターは、例えば、処置時間、磁場発生デバイスの温度、ＲＦ電極
の温度、アプリケーターの温度、冷却タンクの温度、ターゲット設定された身体エリアの
選択、接続されたアプリケーターの数、冷却流体の温度（適切な温度センサーによって流
体導管、接続管、アプリケーター、又は冷却タンク内で測定される）、選択された身体エ
リア、及び／又は他のものを含むことができる。
異なる磁束密度、パルス継続時間、列及び／又はバーストの組成は、筋肉組織に異なる
影響を及ぼすことができる。磁気処置の１つの部分は、例えば、筋肉強度、筋肉体積、筋
肉引き締めを増すために筋肉トレーニングを引き起こすことができ、磁気処置の他の部分
は、筋肉弛緩を引き起こすことができる。ＲＦ電極に提供される信号は、２つのバイポー
ラＲＦ電極によって作成される回路及び患者の身体の容量に関して変調することができ、
アプリケーター及び／又は患者における定在無線周波数波又は他のものの作成が防止され
る。無線周波数場の変調は、周波数領域、強度領域、インパルス継続時間、及び／又は他
のパラメーターにおいて提供することができる。個々の無線周波数処置、磁気処置、及び
／又はそれらの組み合わせの目標は、ターゲット生物学的構造についての最も複雑な及び
／又は効率的な処置に達することである。時間領域における変調は、アクティブ刺激期間
及びパッシブ刺激期間を提供することができる。パッシブ期間は、ＲＦ処置及び／又は磁
気処置が、筋肉刺激がない、及び／又は、ターゲット生物学的構造のＲＦ場によって提供
される温度の変化又は他の処置効果がない期間を含むときに起こるものとすることができ
る。パッシブ期間中に、磁場及び／又はＲＦ場は生成されないものとすることができる。
また、パッシブ期間中に、磁場及びＲＦ場を生成することができるが、磁場及び／又はＲ
Ｆ場の強度は、ターゲット生物学的構造の少なくとも１つの処置効果を提供するのに十分
でないものとすることができる。
磁場の磁束密度は、０．１Ｔ～７Ｔの範囲内、又は０．５Ｔ～７Ｔの範囲内、又は０．
５Ｔ～５Ｔの範囲内、又は０．５Ｔ～４Ｔの範囲内、又は０．５Ｔ～２Ｔの範囲内にある
ものとすることができる。そのような規定は、磁場の磁束密度の振幅を含むことができる
。磁束密度の示す範囲は、筋肉収縮を引き起こすために使用することができる。磁束密度
及び／又は磁束密度の振幅は、磁束計又はオシロスコープによって測定することができる
。
反復レートは、磁気インパルスを発火させる周波数を指すことができる。反復レートは
、磁気パルスの継続時間から導出することができる。磁気インパルスの反復レートは、０
．１Ｈｚ～７００Ｈｚ、又は１Ｈｚ～７００Ｈｚ、又は１Ｈｚ～５００Ｈｚの範囲内、又
は１Ｈｚ～３００Ｈｚ、又は１Ｈｚ～１５０Ｈｚの範囲内であるものとすることができる
。各磁気パルスが１つの磁気インパルスを含むため、磁気パルスの反復レートは磁気イン
パルスの反復レートに等しい。磁気インパルスの継続時間は、１μｓ～１０ｍｓ、又は３
μｓ～３ｍｓ、又は３μｓ～３ｍｓ、又は３μｓ～１ｍｓ、又は１０μｓ～２０００μｓ
、又は５０μｓ～１０００μｓ、又は１００μｓ～８００μｓの範囲内であるものとする
ことができる。インパルスの反復レートは、オシロスコープ測定の記録から測定すること
ができる。
列継続時間は、１ｍｓ～３００ｓ、又は１ｍｓ～８０ｓ、又は２ｍｓ～６０ｓ、又は４
ｍｓ～３０ｓ、又は８ｍｓ～１０ｓ、又は２５ｍｓ～３ｓの範囲内であるものとすること
ができる。２つの後続列間の時間は、５ｍｓ～１００ｓ、又は１０ｍｓ～５０ｓ、又は２
００ｍｓ～２５ｓ、又は５００ｍｓ～１０ｓ、又は７５０ｍｓ～５ｓ、又は３００ｍｓ～
２０ｓの範囲内であるものとすることができる。反復レートは、オシロスコープ測定の記
録から測定することができる。
バースト継続時間は、１０ｍｓ～１００秒、又は１００ｍｓ～１５ｓ、又は５００ｍｓ
～７ｓ、又は５００ｍｓ～５ｓの範囲内であるものとすることができる。磁気バーストの
反復レートは、０．０１Ｈｚ～１５０Ｈｚ、又は０．０２Ｈｚ～１００Ｈｚの範囲内、又
は０．０５Ｈｚ～５０Ｈｚ、又は０．０５Ｈｚ～１０Ｈｚ、又は０．０５Ｈｚ～２Ｈｚの
範囲内であるものとすることができる。反復レートは、オシロスコープ測定の記録から測
定することができる。
有効な磁気処置を提供し、筋肉収縮を引き起こす（正：to cause）別のパラメーターは
、ｄＢ／ｄｔで規定される磁束密度の導関数であり、ｄＢは磁束密度導関数［Ｔ］であり
、ｄｔは時間導関数［ｓ］である。磁束密度導関数は磁場に関連する。磁束密度導関数は
、組織内の誘導電流の量として規定することができるため、筋肉収縮を提供するときの重
要なパラメーターの１つとして役立つことができる。磁束密度導関数が大きいほど、筋肉
収縮が強い。磁束密度導関数は、上記で述べた式から計算することができる。
磁束密度導関数の最大値は、最大５ＭＴ／ｓまで、又は、０．３ｋＴ／ｓ～８００ｋＴ
／ｓ、０．５ｋＴ／ｓ～４００ｋＴ／ｓ、１ｋＴ／ｓ～３００ｋＴ／ｓ、１．５ｋＴ／ｓ
～２５０ｋＴ／ｓ、２ｋＴ／ｓ～２００ｋＴ／ｓ、２．５ｋＴ／ｓ～１５０ｋＴ／ｓの範
囲内であるものとすることができる。
ＲＦ場（例えば、ＲＦ波）の周波数は、数百ｋＨｚ～数十ＧＨｚの範囲内であり、例え
ば、１００ｋＨｚ～３ＧＨｚ、５００ｋＨｚ～３ＧＨｚ、４００ｋＨｚ～９００ＭＨｚ、
若しくは５００ｋＨｚ～９００ＭＨｚの範囲内であり、又は、約１３．５６ＭＨｚ、４０
．６８ＭＨｚ、２７．１２ＭＨｚ、若しくは２．４５ＧＨｚであるものとすることができ
る。
ＲＦ場（例えば、ＲＦ波）によって提供されるエネルギー束は、０．００１Ｗ／ｃｍ２
～１５００Ｗ／ｃｍ２、又は０．００１Ｗ／ｃｍ２～１５Ｗ／ｃｍ２、又は０．０１Ｗ／
ｃｍ２～１０００Ｗ／ｃｍ２、又は０．０１Ｗ／ｃｍ２～５Ｗ／ｃｍ２、又は０．０８Ｗ
／ｃｍ２～１Ｗ／ｃｍ２、又は０．１Ｗ／ｃｍ２～０．７Ｗ／ｃｍ２の範囲内にあるもの
とすることができる。用語「約（around）」は、列挙される値の５％の範囲内にあるとし
て解釈されるべきである。
ＲＦ処置のための処置回路の電力源によって提供される電磁信号の電圧は、１Ｖ～５ｋ
Ｖ、又は５Ｖ～１４０Ｖ、又は１０Ｖ～１２０Ｖ、又は１５Ｖ～５０Ｖ、又は２０Ｖ～５
０Ｖの範囲内にあるものとすることができる。
生物学的構造内の温度、処置される身体エリアの表面上の温度、身体エリア内の温度、
アプリケーターの内部の温度、ＲＦ電極の温度、及び／又は磁場発生デバイスの温度は、
例えば、図８ｃに示すアプリケーター内に実装された温度センサー８１６によって測定す
ることができる。ＲＦ電極及び／又は磁場発生デバイスの温度は、３８℃～１５０℃、３
８℃～１００℃、又は４０℃～８０℃、４０℃～６０℃、又は４１℃～６０℃、又は４２
℃～６０℃の範囲内に維持することができる。処置される身体エリアの表面上の温度、処
置される身体内及び／又は生物学的構造内の温度は、３８℃～６０℃、又は４０℃～５２
℃、又は４１℃～５０℃、又は４１℃～４８℃、又は４２℃～４８℃、又は４２℃～４５
℃の範囲内の温度まで上げることができる。上述した温度の値は、ＲＦ処置及び／又は磁
場処置が開始した後、５ｓ～６００ｓ、１０ｓ～３００ｓ、又は３０ｓ～１８０ｓの間に
達成することができる。その後、温度の値（正：value of temperature）を、５℃、３℃
、又は２℃、又は１℃の範囲内の最大温度偏差を持って、処置中に一定に維持することが
できる。
処置の始めに、患者の皮膚上の及び／又は生物学的構造内の開始温度を、４２℃～６０
℃、又は４５℃～５４℃、又は４８℃～６０℃、又は４８℃～５２℃の範囲内の開始温度
まで、及び／又は、アポトーシスプロセスが始まるときの温度より３℃、又は５℃、又は
８℃高いが６０℃を超えない温度まで上げることができる。開始温度に達してから４５ｓ
～３６０ｓ後、又は６０ｓ～３００ｓ後、又は１２０ｓ～４００ｓ後、又は３００ｓ～５
００ｓ後に、ＲＦ場の強度を減少することができ、患者の皮膚上の温度及び／又は生物学
的構造内の温度を、４１℃～５０℃又は４２℃～４８℃の範囲内の温度に維持することが
できる。処置の別の方法によれば、少なくとも１つのアプリケーターが、腹部エリア、臀
部、腕、脚、及び／又は他の身体エリア等の同じ患者の身体エリアに取り付けられている
間に、生物学的構造の温度は、処置中に少なくとも２回、２℃～１０℃、２℃～８℃、又
は３℃～６℃の範囲内で減少及び増加することができる。
生物学的構造内の温度を、少なくとも１つ以上の測定された特性と組み合わせて、数学
モデル、相関関数に従って、計算することができる。そのような測定された特性は、患者
の皮膚上の温度、ＲＦ電極間のキャパシタンス、ＲＦバイポーラ電極のボルトアンペア特
性、及び／又はＲＦ電極に対する接続された電気素子のボルトアンペア特性を含むことが
できる。
処置継続時間は、５分～１２０分、又は５分～６０分、又は１５分～４０分とすること
ができる。１週間中に、同じ身体エリアの１回、２回、又は３回の処置を行うことができ
る。同様に、２回の後続する処置の間の１回の休止は、１週間、２週間、又は３週間とす
ることができる。
処置中に患者に適用されるＲＦ処置及び磁気処置のエネルギー束密度の合計は、０．０
３ｍＷ／ｍｍ２～１．２Ｗ／ｍｍ２の範囲、又は０．０５ｍＷ／ｍｍ２～０．９Ｗ／ｍｍ
２の範囲、又は０．０１ｍＷ／ｍｍ２～０．６５Ｗ／ｍｍ２の範囲内にあるものとするこ
とができる。ＲＦ処置及びアクティブ磁気処置の同時適用中の磁気処置のエネルギー束密
度の部分は、処置時間の１％～７０％、３％～５０％、５％～３０％、又は１％～２０％
の範囲内にあるものとすることができる。
１つのＲＦ電極によって提供されるＲＦエネルギー（すなわち、ＲＦ場）の電力出力は
、０．００５Ｗ～３５０Ｗ、又は０．１Ｗ～２００Ｗ、又は０．１Ｗ～１５０Ｗの範囲内
にあるものとすることができる。
図２１は、処置デバイスによって提供するとともに、磁場又は磁場とＲＦ場との組み合
わせの適用によって達成することができる異なるタイプの筋肉収縮を示す。筋肉収縮は、
エネルギー消費、及び、筋肉ターゲット設定、例えば、筋肉強化、筋肉体積増加／減少、
筋持久力、筋肉弛緩、筋肉のウォーミングアップ、及び／又は他の効果において異なり得
る。縦軸は筋肉収縮の強度を示すことができ、横軸は時間を示すことができる。矢印は、
患者の筋肉に印加される磁気インパルス及び／又はパルスを示すことができる。
例えば、１Ｈｚ～１５Ｈｚの範囲内の時変性磁場パルスの低い反復レートは、単収縮を
引き起こすことができる。低い反復レートは、処置される筋肉が完全に弛緩することを可
能にするのに十分に低いものとすることができる。処置される筋肉のエネルギー消費は、
低い反復レートのため、低いものとすることができる。しかしながら、低い反復レートは
、例えば、２つの収縮の間に筋肉の積極的弛緩（active relaxation）を引き起こすこと
ができる。
時変性磁場パルスの中間反復レートは不完全強縮性筋肉収縮を引き起こすことができ、
中間反復レートは１５Ｈｚ～２９Ｈｚの範囲内にあるものとすることができる。不完全強
縮性筋肉収縮は、１０Ｈｚ～３０Ｈｚの範囲内の反復レートによって規定することができ
る。筋肉は完全に弛緩することができない。筋肉は部分的に弛緩することができる。筋肉
収縮強度は、一定の磁束密度が印加される状態で増加することができる。
時変性磁場パルスの高い反復レートは完全強縮性筋肉収縮を引き起こすことができる。
高い反復レートは、例えば、３０Ｈｚ～１５０Ｈｚ、又は３０Ｈｚ～９０Ｈｚ、又は３０
Ｈｚ～６０Ｈｚの範囲内にあるものとすることができる。完全強縮性筋肉収縮は、最強の
過最大筋肉収縮を引き起こすことができる。過最大筋肉収縮は意志的（volitional）筋肉
収縮より強いものとすることができる。エネルギー消費はより大きいものとすることがで
きる。強化効果を改善することができる。さらに、少なくとも３０Ｈｚの反復レートにお
いて、脂肪細胞の体積及び／又は数を減少することができると思われる。
９０Ｈｚを超える時変性磁場パルスの更に高い反復レートは、異なるレベル又は神経系
及び／又は疼痛受容体における疼痛励起伝達（pain excitement transmission）を抑制及
び／又は阻止することができる。高い反復レートは、少なくとも１００Ｈｚ、少なくとも
１２０Ｈｚ、若しくは少なくとも１４０Ｈｚであり、又は、１００Ｈｚ～２３０Ｈｚ、若
しくは１２０Ｈｚ～２００Ｈｚ、若しくは１４０Ｈｚ～１８０Ｈｚの範囲内にあるものと
することができる。患者の筋肉に対する時変性磁場の印加は、疼痛緩和効果（pain relie
ving effect）を引き起こすことができる。
１２０Ｈｚ～３００Ｈｚ、又は１５０Ｈｚ～２５０Ｈｚ、又は１８０Ｈｚ～３５０Ｈｚ
の範囲内の又は２００Ｈｚよりも高い時変性磁場パルスの高い反復レートは、筋肉弛緩効
果を引き起こすことができる。
時変性磁場によって引き起こされる筋肉収縮の品質は、筋肉収縮の収縮力、筋肉・腱長
、筋肉の相対的短縮、又は筋肉の短縮速度（shortening velocity）等のパラメーターに
よって特徴付けることができる。
筋肉収縮の収縮力は、少なくとも０．１Ｎ／ｃｍ２及び最大２５０Ｎ／ｃｍ２までの収
縮力に達することができる。収縮力は、０．５Ｎ／ｃｍ２～２００Ｎ／ｃｍ２の範囲内、
又は１Ｎ／ｃｍ２～１５０Ｎ／ｃｍ２の範囲内、又は２Ｎ／ｃｍ２～１００Ｎ／ｃｍ２の
範囲内にあるものとすることができる。
筋肉・腱長は、残りの筋肉・腱長の最大６５％までに達することができる。筋肉・腱長
は、残りの筋肉・腱長の１％～６５％の範囲内、又は残りの筋肉・腱長の３％～５５％の
範囲内、又は残りの筋肉・腱長の５％～５０％の範囲内にあるものとすることができる。
筋肉は、筋肉収縮中に、残りの筋肉長の６０％まで短縮することができる。筋肉短縮は
、残りの筋肉長の０．１％～５０％の範囲内、又は残りの筋肉長の０．５％～４０％の範
囲内、又は残りの筋肉長の１％～２５％の範囲内にあるものとすることができる。
筋肉は、１０ｃｍ／ｓまでの速度で短縮することができる。筋肉短縮速度は、０．１ｃ
ｍ／ｓ～７．５ｃｍ／ｓの範囲内、又は０．２ｃｍ／ｓ～５ｃｍ／ｓの範囲内、又は０．
５ｃｍ／ｓ～３ｃｍ／ｓの範囲内にあるものとすることができる。
時変性磁場は、筋肉収縮による筋肉整形効果を引き起こすために患者に適用することが
できる。筋肉は、緊張及び／又は体積の増大を得ることができる。筋肉の強度も増加する
ことができる。
ＲＦ処置及び磁気処置による組み合わせ式処置のタイプに関して、処置デバイスは、１
回の処置セッション中の種々の期間において異なる処置エネルギー（例えば、ＲＦ場及び
磁場）を提供するように構成することができる。ユーザーは、ＨＭＩを通して処置を制御
又は調整することができる。ＨＭＩを、マスターユニット及び／又は１つ以上の制御ユニ
ットに結合することができる。また、マスターユニット及び／又は制御ユニットは、処置
プロトコル、身体エリア、又はユーザーによって選択される別のオプションに従って、異
なる処置エネルギーの適用を制御又は調整することができる。さらに、マスターユニット
及び／又は制御ユニットは、上記で述べた任意のセンサーによって提供されるフィードバ
ックに従って異なる処置エネルギーの適用を制御又は調整することができる。したがって
、マスターユニット及び／又は１つ以上の制御ユニットは、１回の処置セッション中の種
々の期間において処置及び処置エネルギー（例えば、ＲＦ処置及び磁気処置）の提供を制
御又は調整することができる。磁気処置及びＲＦ処置の示す全てのタイプの適用を、処置
デバイスが提供することができる。
磁気処置とＲＦ処置との１つのタイプの組み合わせ式適用は同時適用とすることができ
る。同時適用中に、磁気処置及びＲＦ処置はともに、処置セッションの全体又はほとんど
の間、同じ時間に適用することができる。１つの例において、同時適用は、連続するＲＦ
場の適用を伴う磁場の１つ以上のセクションの適用によって達成することができる。別の
例において、パルス状磁気処置は、継続的ＲＦ処置中に適用することができる。更に別の
例において、同時適用は、例えば、磁気パルスの１つ又は２つの長い列と一緒のＲＦ処置
の継続的適用によって達成することができる。そうした場合、磁気パルスの長い列は、１
Ｈｚ～１５Ｈｚ又は１Ｈｚ～１０Ｈｚの範囲内の値の反復レートを有する磁気パルスを含
むべきである。１つ又は２つの長い磁気列のみが、処置セッション全体のために使用され
る場合、そのような列の列継続時間は、５ｓ～９０分、又は１０ｓ～８０分、又は１５分
～４５分の範囲内にあるものとすることができる。
同時ＲＦ処置を伴う又はその間の時変性磁場によって引き起こされる筋肉収縮は、影響
を受けるより多くの筋肉線維を含むことができる。また、ターゲット設定された生物学的
構造（例えば、筋肉）は、同時ＲＦ処置がない状況と比較して、磁場のより低い印加磁束
密度によってより収縮することができる。
同じ身体エリア内へのＲＦ処置と磁気処置との同時適用は、ＲＦ処置によって生じる熱
の消散を改善することができる。この効果は、処置される身体エリア内での又は処置され
るエリアの近傍での血液循環の増大に基づく。また、誘起される筋肉仕事は、ＲＦ場によ
って誘起され提供される加熱の均一性及び熱の消散を改善することができる。
磁気処置とＲＦ処置との別のタイプの組み合わせ式適用は分離適用とすることができる
。分離適用中に、磁気処置及びＲＦ処置をともに、処置セッション中の異なる時間に適用
することができる（正：may be applied）。ＲＦ処置を、磁気処置の（正：of）、磁気包
絡線、バースト、列、パルス、及び／又はインパルスの前に、その後に、及び／又はその
間に提供することができる。
磁気処置が適用される時間とＲＦ処置が適用される時間との間の比は、０．２％～８０
％、又は２％～６０％、又は５％～５０％、又は２０％～６０％の範囲内にあるものとす
ることができる。この計算についての適用される磁気処置の時間は、処置中の全てのパル
ス継続時間の合計である。
磁気処置とＲＦ処置との別のタイプの組み合わせ式適用は依存適用（dependent applic
ation）とすることができる。１つの処置エネルギーの適用は、別の処置エネルギーの開
始又は１つ以上の処置パラメーターに依存するものとすることができる。依存適用は、１
つ以上のセンサーからのフィードバックに応じて開始又は調節することができる。例えば
、ＲＦ処置の適用の開始は、磁気処置の開始、又は、列、バースト、及び／又は包絡線の
開始に依存するものとすることができる。筋肉仕事（筋肉収縮及び／又は筋肉弛緩を含む
）によって提供される熱消散が提供されないとき、過熱によって引き起こされる望ましく
ない組織損傷の健康リスクが起こる場合がある。別の例において、磁気処置の適用の開始
は、ＲＦ処置の開始、継続時間、又は強度に依存するものとすることができる。磁気処置
は、好ましくは、生物学的構造が十分に加熱された後に開始することができる。少なくと
も部分的な筋肉収縮又は筋肉収縮を提供する磁気処置は、血流及びリンパ流を改善すると
ともに、隣接組織のマッサージを提供することができ、また、ＲＦ処置によって患者の身
体内に誘起される熱のより良好な再分配を提供する。
処置プロトコルは、２つ以上の処置セクションに分割することができる。処置セクショ
ンの数は、１つのプロトコルについて２個～５０個、又は２個～３０個、又は２個～１５
個の範囲内にあるものとすることができる。
処置プロトコルの各処置セクションは、上述したように、異なる処置パラメーター、及
び／又は、磁気処置及びＲＦ処置の組み合わせ式処置のタイプを含むことができる。
１つの処置セクションは、セクション時間の間、続くことができ、セクション時間は、
１０ｓ～３０分、又は１５ｓ～２５分、又は２０ｓ～２０分の範囲内にあるものとするこ
とができる。異なるセクションは、１つ以上の処置される生物学的構造、例えば、筋肉及
び脂肪組織において異なる処置効果を有することができる。例えば、１つの処置セクショ
ンは、筋肉収縮が強くかつ多数回のそのような収縮が提供される高い強度の筋肉運動を提
供することができ、高いエネルギー束密度を有する高い反復レートの磁気パルスを１つの
処置セクション中に使用することができる。別の処置セクションは、筋肉弛緩効果を有す
ることができ、低い及び／又は高い反復レートの磁気パルスを使用することができ、及び
／又は、磁場の低い磁束密度も使用することができる。
処置プロトコルは、処置デバイスの制御システムによって指令又は制御される、ＲＦ処
置の電力出力の異なる設定を含むことができる。１つの設定は、処置プロトコル中の電力
出力を同じとすることができる一定電力出力とすることができる。別の設定は、ＲＦ処置
の振動性電力出力とすることができる。ＲＦ処置の電力出力は、所定の電力出力の０．１
％～５％の範囲内の電力出力の所定の値の周りで振動する場合がある。更に別の設定は、
ＲＦ処置の電力出力が処置プロトコル中に変動する、ＲＦエネルギーの変動性電力出力と
することができる。ＲＦ処置の電力出力の変動を、１つ以上の電力出力変動ステップで提
供することができ、１つの電力出力変動ステップは、１つ以上のＲＦ電極によって適用さ
れるＲＦ処置の電力出力の値の１つの変化を含むことができる。電力出力変動ステップ中
の１つの値から別の値へのＲＦ処置の電力出力の変化は、０．１Ｗ～５０Ｗ、又は０．１
Ｗ～３０Ｗ、又は０．１Ｗ～２０Ｗの範囲内にあるものとすることができる。電力出力変
動ステップは、０．１ｓ～１０ｍｉｎ又は０．１ｓ～５ｍｉｎの範囲内の継続時間を有す
ることができる。
ＲＦエネルギーの電力出力の変動に関して、ＲＦエネルギーの電力出力は、処置プロト
コルの異なる期間の間に異なる値を有することができる。したがって、ＲＦ処置は、第１
の期間中に電力出力の異なる値を有し、それに続いて、ＲＦ処置の電力出力の異なる値を
有する第２の期間が後続する電力出力変動ステップが起こることができる。ＲＦ処置の電
力出力の１つの値を有する第１の期間は、１ｓ～１５ｍｉｎ又は１０ｓ～１０ｍｉｎの範
囲内にあるものとすることができる。ＲＦ処置の電力出力の別の値を有する第２の期間は
、１ｓ～４５ｍｉｎ、又は４ｓ～５９ｍｉｎ、又は５ｓ～３５ｍｉｎの範囲内にあるもの
とすることができる。例えば、ＲＦ処置は、第１の時間の間、約２０Ｗ、また、第２の期
間の間、１０Ｗの電力出力の値を有することができる。
第１の例示的な処置プロトコルは２つの処置セクションを含むことができる。第１の処
置セクションは、磁気パルスの包絡線を含むことができ、包絡線は、１Ｈｚ～１０Ｈｚの
範囲内の反復レートを有するパルスを含むことができる。第１の処置セクションの包絡線
は、矩形又は台形形状を有することができる。第１の処置セクションの継続時間は、３分
～１５分とすることができる。第２の処置セクションは、磁気パルスの包絡線を含むこと
ができ、包絡線は、１５Ｈｚ～４５Ｈｚの範囲内の反復レートを有するパルスを含むこと
ができる。第２の処置セクションの包絡線は、矩形又は台形形状を有することができる。
第１の処置セクションの継続時間は、３分～１５分とすることができる。処置セクション
を、次々に反復することができる。ＲＦ処置は、処置プロトコル全体の間に連続して適用
することができる。ＲＦ処置は、１つ又は２つの電力出力変動ステップを含むことができ
る。
第２の例示的な処置プロトコルは３つの処置セクションを含むことができる。第１の処
置セクションは、磁気パルスの包絡線を含むことができ、包絡線は、５Ｈｚ～５０Ｈｚの
範囲内の反復レートを有するパルスを含むことができる。第１の処置セクションの包絡線
は、矩形又は台形形状を有することができる。第１の処置セクションの継続時間は、３分
～１５分とすることができる。第２の処置セクションは、磁気パルスの包絡線を含むこと
ができ、包絡線は、１５Ｈｚ～４５Ｈｚの範囲内の反復レートを有するパルスを含むこと
ができる。第２の処置セクションの包絡線は、矩形又は台形形状を有することができる。
第１の処置セクションの継続時間は、３分～１５分とすることができる。第３の処置セク
ションは、磁気パルスの包絡線を含むことができ、包絡線は、１０Ｈｚ～４０Ｈｚの範囲
内の反復レートを有するパルスを含むことができる。第３の処置セクションの包絡線は、
矩形又は台形形状を有することができる。第３の処置セクションの継続時間は、３分～１
５分とすることができる。処置セクションを、次々に反復することができる。ＲＦ処置は
、処置プロトコル全体の間に連続して適用することができる。ＲＦ処置は、１つ又は２つ
の電力出力変動ステップを含むことができる。１つの電力出力変動ステップを、処置プロ
トコルの開始後、１分又は２０分の範囲内で始動することができる。１つの例において、
１つの電力出力変動ステップを、処置プロトコルの開始後、３分で始動することができる
。
例、実施形態、及び方法の全てを、別々に又は任意の組み合わせで使用することができ
る。
新規なシステム及び方法が述べられた。本発明は、最も広い意味で解釈されるべきであ
り、したがって、もちろん、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、種々の変更及
び置換を行うことができる。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲及びそれらの
均等物による以外、制限されるべきでない。
略語のリストは図１７、図１８、及び図１８ａに関連する。（Ａ／Ｂ）は、リストのそ
れぞれの要素をそれぞれの文字で示すことができることを意味する。例えば、ＥＳＤ（Ａ
／Ｂ）は、ＥＳＤ Ａ及び／又はＥＳＤ Ｂが少なくとも１つの図において示されること
を意味する。
ＰＳ 電力源
ＥＳＤ（Ａ／Ｂ） エネルギー貯蔵デバイス
ＳＷ（Ａ／Ｂ） スイッチ
ＨＩＦＥＭ（Ａ／Ｂ） 磁気処置のための処置クラスター
ＭＦＧＤ（Ａ／Ｂ） 磁場発生デバイス
ＣＵＭ（Ａ／Ｂ） 磁気回路の制御ユニット
ＡＰＳ ＲＦ ＲＦ回路の補助電力源
ＰＵ 電力ユニット
ＳＰＳＲＦ ＲＦ回路の定常電力源
ＰＮＦＬＴ 電力ネットワークフィルター
ＰＳＲＦ ＲＦ処置のための電力源
ＲＦ（Ａ／Ｂ） ＲＦ処置のための処置クラスター
ＳＹＭ（Ａ／Ｂ） 対称化素子
ＡＰ（Ａ／Ｂ） アプリケーター
ＲＦＥ（Ａ／Ｂ） ＲＦ電極
ＡＰＳ（Ａ／Ｂ） 補助電力源
ＰＳＭ 磁気処置のための電力源
ＢＰＳ（Ａ／Ｂ） ボード電力源
ＳＰＳＭ 磁気回路の定常電力源
ＰＮ 電力ネットワーク
ＰＦ パルスフィルター
ＳＥ 安全素子
ＰＡ 電力増幅器
ＣＵＲＦ ＲＦ回路の制御ユニット

Claims (1)

  1. 患者に対して磁気及びＲＦ処置を提供するデバイスであって、
    磁場発生デバイスと、
    ＲＦ電極と、
    を備え、
    前記磁場発生デバイスは筋肉収縮を提供し、
    前記ＲＦ電極は患者の組織の加熱を提供する、デバイス。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012013534B3 (de) 2012-07-05 2013-09-19 Tobias Sokolowski Vorrichtung für repetitive Nervenstimulation zum Abbau von Fettgewebe mittels induktiver Magnetfelder
US11491342B2 (en) 2015-07-01 2022-11-08 Btl Medical Solutions A.S. Magnetic stimulation methods and devices for therapeutic treatments
US10695575B1 (en) 2016-05-10 2020-06-30 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US20180001107A1 (en) 2016-07-01 2018-01-04 Btl Holdings Limited Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US11266850B2 (en) 2015-07-01 2022-03-08 Btl Healthcare Technologies A.S. High power time varying magnetic field therapy
US11253717B2 (en) 2015-10-29 2022-02-22 Btl Healthcare Technologies A.S. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US11247039B2 (en) 2016-05-03 2022-02-15 Btl Healthcare Technologies A.S. Device including RF source of energy and vacuum system
US11464993B2 (en) 2016-05-03 2022-10-11 Btl Healthcare Technologies A.S. Device including RF source of energy and vacuum system
US11534619B2 (en) 2016-05-10 2022-12-27 Btl Medical Solutions A.S. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10583287B2 (en) 2016-05-23 2020-03-10 Btl Medical Technologies S.R.O. Systems and methods for tissue treatment
US10556122B1 (en) 2016-07-01 2020-02-11 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
CA3116569C (en) 2019-04-11 2023-08-15 Btl Medical Technologies S.R.O. Methods and devices for aesthetic treatment of biological structures by radiofrequency and magnetic energy
CA3173876A1 (en) 2020-05-04 2021-11-11 Tomas SCHWARZ Device and method for unattended treatment of a patient
US11878167B2 (en) 2020-05-04 2024-01-23 Btl Healthcare Technologies A.S. Device and method for unattended treatment of a patient
CN112402820A (zh) * 2020-12-01 2021-02-26 梁中东 一种多功能塑形理疗平台及方法
GB2601538A (en) 2020-12-04 2022-06-08 Nchain Holdings Ltd Methods and systems for compressing transaction identifiers
GB2601539A (en) 2020-12-04 2022-06-08 Nchain Holdings Ltd Methods and systems for streaming block templates with cross-references
GB2601540A (en) 2020-12-04 2022-06-08 Nchain Holdings Ltd Methods and systems for synchronizing a streamed template to a solved block
CA3178145A1 (en) * 2021-11-03 2023-05-03 Btl Healthcare Technologies A.S. Device and method for unattended treatment of the patient
US11896816B2 (en) 2021-11-03 2024-02-13 Btl Healthcare Technologies A.S. Device and method for unattended treatment of a patient
US20230414963A1 (en) * 2022-05-19 2023-12-28 Skin Design, Llc Multi-modal skin treatment device
TWI820960B (zh) * 2022-10-11 2023-11-01 李洲科技股份有限公司 保健方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995027533A1 (en) * 1994-04-12 1995-10-19 Australasian Medical Technology (Nz) Limited Orthotic devices incorporating pulsed electromagnetic field therapy
JPH09276418A (ja) * 1996-02-15 1997-10-28 Nippon Koden Corp 尿失禁治療装置
JP2003085523A (ja) * 2001-09-13 2003-03-20 Murata Mfg Co Ltd カードタイプ無線通信端末装置
JP2010063007A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Nec Tokin Corp 電磁誘導モジュール
JP2013012285A (ja) * 2011-01-31 2013-01-17 Renesas Electronics Corp 半導体装置および半導体装置の制御方法
US20130030239A1 (en) * 2010-01-11 2013-01-31 Thomas Weyh Magnetic stimulation having a freely selectable pulse shape
US20160015995A1 (en) * 2013-03-11 2016-01-21 The Regents Of The University Of California Portable transcutaneous magnetic stimulator and systems and methods of use thereof
JP2018501927A (ja) * 2014-12-05 2018-01-25 イーニューラ インコーポレイテッド 片頭痛の頭痛の防止的処置のための方法およびシステム
US20180236254A1 (en) * 2015-07-01 2018-08-23 BTL Industries Ltd. Aesthetic Method of Biological Structure Treatment by Magnetic Field
JP2018187510A (ja) * 2013-11-11 2018-11-29 ニューロネティクス インコーポレイテッド 磁気刺激療法に関するパルシング磁場を監視するためのシステム

Family Cites Families (866)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1068831A (en) 1912-07-03 1913-07-29 Arnold Vandoran Worthington Street-railway switch.
GB304587A (en) 1928-01-21 1930-03-13 Abraham Esau Improvements in apparatus for treatment by diathermy
FR744411A (ja) 1931-09-02 1933-04-20
US1973387A (en) 1932-06-13 1934-09-11 Gen Electric X Ray Corp Apparatus for use in giving diathermic treatments and the like
US2021676A (en) 1935-01-10 1935-11-19 Galvin Mfg Corp Balancing and filter system for radioreceivers
DE718637C (de) 1937-12-30 1942-03-17 Electricitaetsgesellschaft San Einrichtung zur Spulenfeldbehandlung mit kurzwelligen elektrischen Schwingungen
DE1118902B (de) 1958-10-28 1961-12-07 Nemec Hans Apparat fuer medizinische Zwecke
US3163161A (en) 1962-08-02 1964-12-29 Courtin Jacques Traveling wave air massaging method
US3658051A (en) 1967-11-13 1972-04-25 Kenneth Sheldon Maclean Method of treating living things using high intensity pulsed magnetic field
US3566877A (en) 1968-01-05 1971-03-02 Luther B Smith Electrotherapeutic apparatus and treatment head and method for tuning said treatment head
US3946349A (en) 1971-05-03 1976-03-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force High-power, low-loss high-frequency electrical coil
US3841306A (en) 1972-10-25 1974-10-15 Univ Iowa State Res Found Inc Implantable, non-contacting nerve stimulating transducer
DE2314573C2 (de) 1973-03-23 1986-12-18 Werner Dipl.-Ing. 8000 München Kraus Gerät zur Förderung von Heilungsprozessen
US3952751A (en) 1975-01-08 1976-04-27 W. Denis Kendall High-performance electrotherapeutic apparatus
US3971387A (en) 1975-03-21 1976-07-27 Mantell Michael J Electro-therapeutic face mask
US4068292A (en) 1975-03-27 1978-01-10 International Medical Electronics, Inc. Electrostatic shield for diathermy treatment head
NL7510644A (en) 1975-09-09 1977-03-11 Enraf Nonius Short:wave therapy inductive electrode - has metal housing with screen of conductors over opening connected to it
US4105017A (en) 1976-11-17 1978-08-08 Electro-Biology, Inc. Modification of the growth repair and maintenance behavior of living tissue and cells by a specific and selective change in electrical environment
US4315503A (en) 1976-11-17 1982-02-16 Electro-Biology, Inc. Modification of the growth, repair and maintenance behavior of living tissues and cells by a specific and selective change in electrical environment
US4197851A (en) 1977-04-14 1980-04-15 Fellus Victor M Apparatus for emitting high-frequency electromagnetic waves
GB1594389A (en) 1977-06-03 1981-07-30 Max Planck Gesellschaft Dressing material for wounds
US4143661A (en) 1977-12-12 1979-03-13 Andros Incorporated Power supply for body implant and method for operation
US4237898A (en) 1978-03-27 1980-12-09 Critical Systems, Inc. Apparatus for heating tissue and employing protection against transients
US4305115A (en) 1979-03-14 1981-12-08 Harry H. Leveen Electrostatic shield
CA1150361A (en) 1980-09-24 1983-07-19 Roland A. Drolet Electro-magnetic therapeutic system and method
US4392040A (en) 1981-01-09 1983-07-05 Rand Robert W Induction heating apparatus for use in causing necrosis of neoplasm
DE3205048A1 (de) 1982-02-12 1983-08-25 Werner Dipl.-Ing. 8000 München Kraus Magnetspule fuer die magnetfeld-therapie nach kraus-lechner
US4454883A (en) 1982-02-16 1984-06-19 Therafield Holdings Limited Electrotherapeutic apparatus
US4456001A (en) 1982-07-02 1984-06-26 Electro-Biology, Inc. Apparatus for equine hoof treatment
US4550714A (en) 1983-03-09 1985-11-05 Electro-Biology, Inc. Electromagnetic coil insert for an orthopedic cast or the like
DE3328051A1 (de) 1983-08-03 1985-02-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Einrichtung zum beruehrungslosen zertruemmern von konkrementen
US5156587A (en) 1983-09-01 1992-10-20 Montone Liber J Method for treating malignant cells
DE3340974C2 (de) 1983-11-11 1994-07-07 Werner Dipl Phys Kraus Elektrotherapiegerät
US4665898A (en) 1984-05-23 1987-05-19 Maxwell Laboratories, Inc. Malignancy treatment
US4889526A (en) 1984-08-27 1989-12-26 Magtech Laboratories, Inc. Non-invasive method and apparatus for modulating brain signals through an external magnetic or electric field to reduce pain
US4723536A (en) 1984-08-27 1988-02-09 Rauscher Elizabeth A External magnetic field impulse pacemaker non-invasive method and apparatus for modulating brain through an external magnetic field to pace the heart and reduce pain
US4674482A (en) 1984-09-12 1987-06-23 Irt, Inc. Pulse electro-magnetic field therapy device with auto bias circuit
BG41964A1 (en) 1985-03-29 1987-09-15 Todorov Device for measuring of magnetic field stress
EP0209246A1 (en) 1985-06-12 1987-01-21 Graeme Ernest Daw Magnetic therapy device
US4989604A (en) 1985-10-03 1991-02-05 Accu Science Corporation Electromagnetic device
DE3605148A1 (de) 1986-02-18 1987-08-20 Vmei Lenin Nis Vorrichtung fuer die magnetische therapie
CN86204070U (zh) 1986-09-09 1987-09-09 谢荣华 磁红仪
US5067940A (en) 1988-03-23 1991-11-26 Life Resonances, Inc. Method and apparatus for controlling the growth of cartilage
CN87203746U (zh) 1987-03-12 1987-12-30 刘耀武 一种多功能的给药理疗装置
CN87215926U (zh) 1987-11-30 1988-07-27 浙江省天台无线电厂 多功能治疗仪
US4957480A (en) 1988-02-02 1990-09-18 Universal Health Products, Inc. Method of facial toning
US5143063A (en) 1988-02-09 1992-09-01 Fellner Donald G Method of removing adipose tissue from the body
IT1217550B (it) 1988-05-10 1990-03-30 Victor Marcel Fellus Struttura di elettrodoa particolarmente per apparecchiature elettroterapeutiche
DE3825165A1 (de) 1988-07-23 1990-01-25 Kastl Electronic Gmbh & Co Kg Diathermiegeraet
US4850959A (en) 1988-08-02 1989-07-25 Bioresearch, Inc. Bioelectrochemical modulation of biological functions using resonant/non-resonant fields synergistically
US4993413A (en) 1988-09-22 1991-02-19 The Research Foundation Of State University Of New York Method and apparatus for inducing a current and voltage in living tissue
BE1002610A6 (fr) 1988-12-06 1991-04-09 Alsthom Internat S A Appareil de physiotherapie pour produire un champ magnetique a utiliser comme moyen therapeutique.
CN1026953C (zh) 1989-09-12 1994-12-14 赵贵春 全息经络针灸仪
US5061234A (en) 1989-09-25 1991-10-29 Corteks, Inc. Magnetic neural stimulator for neurophysiology
IT1240362B (it) 1990-03-30 1993-12-10 Medisan S.L.R. Procedimento per l'elettrostimolazione di una massa muscolare al fine di migliorarne l'aspetto estetico, ed apparecchio per l'attuazione del procedimento
US5199951A (en) 1990-05-17 1993-04-06 Wayne State University Method of drug application in a transporting medium to an arterial wall injured during angioplasty
DE4017215A1 (de) 1990-05-29 1991-12-05 Aeg Elotherm Gmbh Vorrichtung zur elektrolytischen entgratung von kanten in pleuelaugen
DE9006056U1 (ja) 1990-05-29 1991-09-26 Kraus, Werner, Dipl.-Ing., 8000 Muenchen, De
US5181902A (en) 1990-09-21 1993-01-26 American Medical Electronics, Inc. Double-transducer system for PEMF Therapy
ZA917281B (en) 1990-09-26 1992-08-26 Cryomedical Sciences Inc Cryosurgical instrument and system and method of cryosurgery
US5195941A (en) 1991-01-07 1993-03-23 American Medical Electronics, Inc. Contoured triangular transducer system for PEMF therapy
JP3091253B2 (ja) 1991-04-25 2000-09-25 オリンパス光学工業株式会社 温熱治療装置
GB9124379D0 (en) 1991-11-15 1992-01-08 Magstim Company The Limited Coils for magnetic nerve stimulators
CA2058179C (en) 1991-12-20 1999-02-09 Roland Drolet Basic electrophysiological conditioning system and method
CN1027958C (zh) 1992-06-22 1995-03-22 犹学松 气功模拟发生器
US6117066A (en) 1992-12-04 2000-09-12 Somatics, Inc. Prevention of seizure arising from medical magnetoictal non-convulsive stimulation therapy
US5344384A (en) 1992-12-11 1994-09-06 Electromagnetic Bracing Systems, Inc. Magnetotherapy apparatus
US5584863A (en) 1993-06-24 1996-12-17 Electropharmacology, Inc. Pulsed radio frequency electrotherapeutic system
DE69318706T2 (de) 1993-07-06 1999-01-14 Cryonic Medical Einrichtung für die Kryotherapie
US5807232A (en) 1993-12-10 1998-09-15 Espinoza; Fausto Leal Process for the treatment of saccharide three dimensional structures for the reactivation of recognition mechanisms among antigens and antibodies
GB2286660A (en) 1994-02-01 1995-08-23 David Thorner Peltier effect cooling apparatus for treating diseased or injured tissue
GB9402545D0 (en) 1994-02-10 1994-04-06 Magstim Co Ltd Magnetic stimulators
CN2192348Y (zh) 1994-04-09 1995-03-22 犹学松 能量转换器
US5419344A (en) 1994-04-28 1995-05-30 Thomas Lee DeWitt Razor bump electrolysis
US20050187599A1 (en) 1994-05-06 2005-08-25 Hugh Sharkey Method and apparatus for controlled contraction of soft tissue
JP3510016B2 (ja) 1994-10-01 2004-03-22 林原 健 磁気発生装置
US6132361A (en) 1994-11-28 2000-10-17 Neotonus, Inc. Transcranial brain stimulation
US5725471A (en) 1994-11-28 1998-03-10 Neotonus, Inc. Magnetic nerve stimulator for exciting peripheral nerves
US6425852B1 (en) 1994-11-28 2002-07-30 Emory University Apparatus and method for transcranial magnetic brain stimulation, including the treatment of depression and the localization and characterization of speech arrest
US6491620B1 (en) 1994-11-28 2002-12-10 Neotonus, Inc. Sham for transcranial magnetic stimulator
US6086525A (en) 1994-11-28 2000-07-11 Neotonus, Inc. Magnetic nerve stimulator for exciting peripheral nerves
GB9504216D0 (en) 1995-03-02 1995-04-19 Magstim Co Ltd Magnetic stimulator for neuro-muscular tissue
US5755753A (en) 1995-05-05 1998-05-26 Thermage, Inc. Method for controlled contraction of collagen tissue
US5660836A (en) 1995-05-05 1997-08-26 Knowlton; Edward W. Method and apparatus for controlled contraction of collagen tissue
US6042531A (en) 1995-06-19 2000-03-28 Holcomb; Robert R. Electromagnetic therapeutic treatment device and methods of using same
US6099523A (en) 1995-06-27 2000-08-08 Jump Technologies Limited Cold plasma coagulator
BR9611166A (pt) 1995-10-11 1999-04-06 Regeneration Tech Processo e gerador de freqüência bioativa
US6350276B1 (en) 1996-01-05 2002-02-26 Thermage, Inc. Tissue remodeling apparatus containing cooling fluid
US7267675B2 (en) 1996-01-05 2007-09-11 Thermage, Inc. RF device with thermo-electric cooler
EP1319422A3 (en) 1996-02-15 2004-01-28 Nihon Kohden Corporation An apparatus for treating urinary incontinence
US5782743A (en) 1996-05-06 1998-07-21 Russell; John J. Magnetic medical treatment device
US6500110B1 (en) 1996-08-15 2002-12-31 Neotonus, Inc. Magnetic nerve stimulation seat device
AU747678B2 (en) 1996-08-15 2002-05-16 Neotonus, Inc. Transcranial brain stimulation
US7608035B2 (en) 1996-09-10 2009-10-27 Gradient Technologies, Llc Method and morphologically adaptable apparatus for altering the charge distribution upon living membranes with functional stabilization of the membrane physical electrical integrity
BE1010730A7 (nl) 1996-11-04 1998-12-01 Pira Luc Louis Marie Francis Cryoprobe op basis van peltier module.
US7204832B2 (en) 1996-12-02 2007-04-17 Pálomar Medical Technologies, Inc. Cooling system for a photo cosmetic device
US6273884B1 (en) 1997-05-15 2001-08-14 Palomar Medical Technologies, Inc. Method and apparatus for dermatology treatment
EP0850665B1 (en) 1996-12-27 2004-03-03 Nihon Kohden Corporation Magnetic stimulus type urinary incontinence treatment coil apparatus
US6063108A (en) 1997-01-06 2000-05-16 Salansky; Norman Method and apparatus for localized low energy photon therapy (LEPT)
US6029090A (en) 1997-01-27 2000-02-22 Herbst; Ewa Multi-functional electrical stimulation system
US5968527A (en) 1997-02-27 1999-10-19 Catholic University Of America, The Protection of living systems from the adverse effects of stress
US5857957A (en) 1997-03-04 1999-01-12 Lin; Vernon Wen-Hau Functional magentic stimulation of the expiratory muscles
US6032675A (en) 1997-03-17 2000-03-07 Rubinsky; Boris Freezing method for controlled removal of fatty tissue by liposuction
IL132103A0 (en) 1997-04-03 2001-03-19 Eletrofect As Method for introducing pharmaceutical drugs and nucleic acids into skeletal muscle
DE19723910A1 (de) 1997-06-06 1998-12-10 Braun Ag Epilationsgerät und Epilationsverfahren
US5904712A (en) 1997-06-12 1999-05-18 Axelgaard Manufacturing Co., Ltd. Current-controlling electrode
AU3348297A (en) 1997-06-13 1998-12-30 Alain Baudry Method and device for electromagnetic cutaneous stimulation for treating pathol ogical conditions
US5908444A (en) 1997-06-19 1999-06-01 Healing Machines, Inc. Complex frequency pulsed electromagnetic generator and method of use
EA000494B1 (ru) 1997-07-12 1999-08-26 Сергей Владимирович Плетнёв Способ локальной магнитотерапии
US6104959A (en) 1997-07-31 2000-08-15 Microwave Medical Corp. Method and apparatus for treating subcutaneous histological features
ES2224420T3 (es) * 1997-08-01 2005-03-01 Alfred E. Mann Foundation For Scientific Research Dispositivo implantable con configuracion mejorada de alimentacion y recarga de bateria.
WO1999020339A1 (en) 1997-10-17 1999-04-29 Respironics, Inc. Muscle stimulating device and method for diagnosing and treating a breathing disorder
CA2311666C (en) 1997-11-28 2007-09-11 Masayuki Matsuura Method of wave therapy and apparatus therefor
WO1999032191A1 (de) 1997-12-22 1999-07-01 Friedrich Wolff Vorrichtung zur erzeugung eines magnetischen feldes
ATE446122T1 (de) 1998-01-15 2009-11-15 Regenesis Biomedical Inc Verbesserte vorrichtung zur behandlung mittels pulsierter elektromagnetischer energie
FR2775589B1 (fr) 1998-03-06 2000-04-28 Cryonic Medical Appareil autonome et portable de cryogenie utilisant l'anhydride carbonique en phase liquide/solide
US6047215A (en) 1998-03-06 2000-04-04 Sonique Surgical Systems, Inc. Method and apparatus for electromagnetically assisted liposuction
US6094599A (en) 1998-03-24 2000-07-25 Ehti Medical Corporation RF diathermy and faradic muscle stimulation treatment
EP1066086B1 (en) 1998-03-27 2013-01-02 The General Hospital Corporation Method and apparatus for the selective targeting of lipid-rich tissues
US6179771B1 (en) 1998-04-21 2001-01-30 Siemens Aktiengesellschaft Coil arrangement for transcranial magnetic stimulation
GB9808764D0 (en) 1998-04-25 1998-06-24 Magstim Co Ltd Magnetic stimulators for neuro-muscular tissue
DE19819214B4 (de) 1998-04-29 2004-07-01 Markoll, Richard, Dr., Boca Raton Vorrichtung zur Behandlung von Gewebe- und/oder Gelenkserkrankungen
US6050994A (en) 1998-05-05 2000-04-18 Cardiac Pacemakers, Inc. RF ablation apparatus and method using controllable duty cycle with alternate phasing
JPH11333003A (ja) 1998-05-27 1999-12-07 Nippon Koden Corp 尿失禁治療用具
US6002965A (en) 1998-06-10 1999-12-14 Katz; Amiram Self applied device and method for prevention of deep vein thrombosis
US6324430B1 (en) 1998-07-06 2001-11-27 Abiomed, Inc. Magnetic shield for primary coil of transcutaneous energy transfer device
FI105163B (fi) 1998-07-10 2000-06-30 Juha Virtanen Menetelmä ja laite lumemagneettistimulaation tuottamiseksi
EP1100582B1 (en) 1998-08-03 2005-06-15 Amei Technologies Inc. Pemf treatment for osteoporosis and tissue growth stimulation
US6255815B1 (en) 1998-08-20 2001-07-03 Neotonus, Inc. Magnetic field calibration device including housing with locator window
US6099459A (en) 1998-09-04 2000-08-08 Jacobson; Jerry I. Magnetic field generating device and method of generating and applying a magnetic field for treatment of specified conditions
US6213933B1 (en) 1998-09-10 2001-04-10 Vernon Wen-Hau Lin Apparatus and method for functional magnetic stimulation
US7901400B2 (en) 1998-10-23 2011-03-08 Covidien Ag Method and system for controlling output of RF medical generator
US7137980B2 (en) 1998-10-23 2006-11-21 Sherwood Services Ag Method and system for controlling output of RF medical generator
CA2287087C (en) 1998-10-23 2007-12-04 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical device for the collection of soft tissue
US6366814B1 (en) 1998-10-26 2002-04-02 Birinder R. Boveja External stimulator for adjunct (add-on) treatment for neurological, neuropsychiatric, and urological disorders
US6155966A (en) 1998-11-17 2000-12-05 Parker; Lloyd S. Apparatus and method for toning tissue with a focused, coherent electromagnetic field
US9192780B2 (en) 1998-11-30 2015-11-24 L'oreal Low intensity light therapy for treatment of retinal, macular, and visual pathway disorders
US6663659B2 (en) 2000-01-13 2003-12-16 Mcdaniel David H. Method and apparatus for the photomodulation of living cells
CA2359903C (en) 1999-01-11 2013-03-12 Bmr Research & Development Limited An electrotherapy device and method
EP1022034A1 (de) 1999-01-19 2000-07-26 Manfred Dr. Leubner Verfahren und Vorrichtung zur Stimulation von Muskeln oder Nervengewebe
US6635053B1 (en) 1999-01-25 2003-10-21 Cryocath Technologies Inc. Cooling system
WO2000044346A1 (en) 1999-02-03 2000-08-03 Gerard Hassler Lowering skin temperature
ES2240078T3 (es) 1999-03-09 2005-10-16 Thermage, Inc. Aparato para el tratamiento de tejidos.
US6200259B1 (en) 1999-06-03 2001-03-13 Keith L. March Method of treating cardiovascular disease by angiogenesis
IL146976A0 (en) 1999-06-08 2002-08-14 Medical Bracing Systems Ltd Pemf biophysical stimulation field generator device and method
US6445955B1 (en) 1999-07-08 2002-09-03 Stephen A. Michelson Miniature wireless transcutaneous electrical neuro or muscular-stimulation unit
US6939287B1 (en) 1999-07-14 2005-09-06 Nu-Magnetics, Inc. Magnetotherapeutic device with bio-ceramic fibers
WO2001007111A2 (en) 1999-07-22 2001-02-01 Neotonus, Inc. Magnetic toroids for the stimulation of biological tissue
US6246905B1 (en) 1999-07-30 2001-06-12 Jamil Ahmad Mogul Medical instrument that supplies multiple energy forms
AU7880600A (en) 1999-08-12 2001-03-13 Somnus Medical Technologies, Inc. Nerve stimulation and tissue ablation apparatus and method
US7133717B2 (en) 1999-08-25 2006-11-07 Johnson & Johnson Consumer Companies, Inc. Tissue electroperforation for enhanced drug delivery and diagnostic sampling
US6161757A (en) 1999-09-21 2000-12-19 Neotonus, Inc. Patient protocol card
DE60033756T2 (de) 1999-09-30 2007-06-28 Nihon Kohden Corp. Luftkühlungssystem für eine Vorrichtung zur Behandlung von Harninkontinenz
US6324432B1 (en) 1999-11-01 2001-11-27 Compex Sa Electrical neuromuscular stimulator for measuring muscle responses to electrical stimulation pulses
GB9926621D0 (en) 1999-11-11 2000-01-12 Magstim Co Ltd Stimulating coil
US6527695B1 (en) 2000-01-11 2003-03-04 Emory University Magnetic stimulation coil and circuit design
EP1120131A3 (en) 2000-01-27 2001-10-10 Nihon Kohden Corporation Electromagnetic coil apparatus for urinary incontinence treatment
JP2001293098A (ja) 2000-04-14 2001-10-23 Nippon Koden Corp コイル装置およびコイル駆動装置
US20020107514A1 (en) 2000-04-27 2002-08-08 Hooven Michael D. Transmural ablation device with parallel jaws
US6520903B1 (en) 2000-05-18 2003-02-18 Patsy Yukie Yamashiro Multiple mode photonic stimulation device
US7044924B1 (en) 2000-06-02 2006-05-16 Midtown Technology Massage device
US7030764B2 (en) 2000-06-09 2006-04-18 Bed-Check Corporation Apparatus and method for reducing the risk of decubitus ulcers
US6402678B1 (en) 2000-07-31 2002-06-11 Neuralieve, Inc. Means and method for the treatment of migraine headaches
US6697670B2 (en) 2001-08-17 2004-02-24 Minnesota Medical Physics, Llc Apparatus and method for reducing subcutaneous fat deposits by electroporation with improved comfort of patients
US8251986B2 (en) 2000-08-17 2012-08-28 Angiodynamics, Inc. Method of destroying tissue cells by eletroporation
US6871099B1 (en) 2000-08-18 2005-03-22 Advanced Bionics Corporation Fully implantable microstimulator for spinal cord stimulation as a therapy for chronic pain
US6591138B1 (en) 2000-08-31 2003-07-08 Neuropace, Inc. Low frequency neurostimulator for the treatment of neurological disorders
EP1333884B1 (en) 2000-09-13 2010-12-08 Mann Medical Research Organization Apparatus for conditioning muscles during sleep
DE10046275A1 (de) 2000-09-19 2002-03-28 Albrecht Struppler Magnetspule
USD447806S1 (en) 2000-10-06 2001-09-11 Neotonus, Inc. Transcranial magnetic nerve stimulator
DE10062050A1 (de) 2000-10-09 2002-04-18 Medical Magnetics S A Vorrichtung zur Behandlung von Fettleibigkeit, Cellulitis etc.
FR2815246B1 (fr) 2000-10-13 2003-01-24 Cryonic Medical Appareil autonome et portable de cryotherapie a usage grand public
EA002179B1 (ru) 2000-11-03 2002-02-28 Жилинская, Ольга Владимировна Способ лечения сахарного диабета
WO2002035983A2 (en) 2000-11-03 2002-05-10 Biocellulase, Inc. System and method for tissue treatment
US20020082466A1 (en) 2000-12-22 2002-06-27 Jeongho Han Laser surgical system with light source and video scope
US6738667B2 (en) 2000-12-28 2004-05-18 Medtronic, Inc. Implantable medical device for treating cardiac mechanical dysfunction by electrical stimulation
EP1359974A2 (en) 2001-01-16 2003-11-12 B.M.R. Research and Development Limited Apparatus for stimulating a muscle of a subject
RU2226115C2 (ru) 2001-01-26 2004-03-27 Галимов Илдар Рафагатович Электростимулятор
US20110087312A1 (en) 2001-03-02 2011-04-14 Erchonia Corporatin Method for Treatment of Diabetes and Prediabetes with Low-Level Laser Therapy
US20020160436A1 (en) 2001-03-14 2002-10-31 Marko Markov Method and apparatus for determining biologically useful field metrics associated with magnetic fields
US7083580B2 (en) 2001-04-06 2006-08-01 Mattioli Engineering Ltd. Method and apparatus for skin absorption enhancement and transdermal drug delivery
US7496401B2 (en) 2001-04-06 2009-02-24 Mattioli Engineering Ltd Method and apparatus for skin absorption enhancement and transdermal drug delivery
US7520875B2 (en) 2001-04-06 2009-04-21 Mattioli Engineering Ltd. Method and apparatus for skin absorption enhancement and transdermal drug delivery
JP4178762B2 (ja) 2001-04-18 2008-11-12 日本光電工業株式会社 リッツ線コイルを用いた磁気刺激装置
US7250048B2 (en) 2001-04-26 2007-07-31 Medtronic, Inc. Ablation system and method of use
CA2443819C (en) 2001-05-04 2011-07-19 Board Of Regents, The University Of Texas System Apparatus and methods for delivery of transcranial magnetic stimulation
EA003851B1 (ru) 2001-05-04 2003-10-30 Сергей Владимирович ПЛЕТНЕВ Способ восстановления работоспособности методом гемомагнитотерапии
JP2002345979A (ja) 2001-05-28 2002-12-03 Ya Man Ltd パルス健康器
DE20109058U1 (de) 2001-05-31 2002-10-10 Deltamed Gmbh Vorrichtung zur Behandlung mit magnetischen Feldern
KR100491988B1 (ko) 2001-06-09 2005-05-31 (주) 엠큐브테크놀로지 자기 요실금 치료장치의 치료 프로토콜을 형성하기 위한방법 및 그 장치
RU2212909C2 (ru) 2001-06-25 2003-09-27 Тульский государственный университет Конформная магнитотерапевтическая установка
US6625563B2 (en) 2001-06-26 2003-09-23 Northern Digital Inc. Gain factor and position determination system
ES2238365T3 (es) 2001-06-28 2005-09-01 Brainlab Ag Aparato de estimulacion magnetica transcraneal.
IES20010651A2 (en) 2001-07-12 2003-01-22 Bmr Res & Dev Ltd A method and apparatus for applying electrical stimulation to a human or animal subject
US20030032900A1 (en) 2001-08-08 2003-02-13 Engii (2001) Ltd. System and method for facial treatment
US7344533B2 (en) 2001-09-28 2008-03-18 Angiodynamics, Inc. Impedance controlled tissue ablation apparatus and method
CA2408656C (en) 2001-10-17 2016-06-21 Rehabilicare, Inc. Electrical nerve stimulation stimulator
FI114613B (fi) 2001-10-17 2004-11-30 Nexstim Oy Menetelmä ja laite magneettistimulaation annoslaskentaa varten
US6745082B2 (en) 2001-10-22 2004-06-01 Jens Axelgaard Current-controlling electrode with adjustable contact area
US6920883B2 (en) 2001-11-08 2005-07-26 Arthrocare Corporation Methods and apparatus for skin treatment
KR20030039567A (ko) * 2001-11-13 2003-05-22 이영희 천공 보조기를 구비한 근육내 자극기
US6889090B2 (en) 2001-11-20 2005-05-03 Syneron Medical Ltd. System and method for skin treatment using electrical current
EP1627662B1 (en) 2004-06-10 2011-03-02 Candela Corporation Apparatus for vacuum-assisted light-based treatments of the skin
US7762965B2 (en) 2001-12-10 2010-07-27 Candela Corporation Method and apparatus for vacuum-assisted light-based treatments of the skin
KR20030065126A (ko) 2002-01-31 2003-08-06 (주) 엠큐브테크놀로지 자기장을 이용한 기기의 자극코일 냉각시스템
KR100484618B1 (ko) 2002-02-08 2005-04-20 주식회사 오스테오시스 신경 자극기
US6701185B2 (en) 2002-02-19 2004-03-02 Daniel Burnett Method and apparatus for electromagnetic stimulation of nerve, muscle, and body tissues
US20030158585A1 (en) 2002-02-19 2003-08-21 Burnett Daniel R. Method and apparatus for electromagnetic stimulation of nerve, muscle, and body tissues
CN101669841A (zh) 2002-03-15 2010-03-17 总医院公司 通过受控冷却对脂肪组织进行选择性破坏的方法和装置
US8840608B2 (en) 2002-03-15 2014-09-23 The General Hospital Corporation Methods and devices for selective disruption of fatty tissue by controlled cooling
US6662054B2 (en) 2002-03-26 2003-12-09 Syneron Medical Ltd. Method and system for treating skin
JP2003305131A (ja) 2002-04-16 2003-10-28 Kyoichi Nakagawa 磁気治療器
KR100497500B1 (ko) 2002-04-24 2005-07-01 (주) 엠큐브테크놀로지 자기 거울을 이용한 자극 코일 및 그 용도
US20030236487A1 (en) 2002-04-29 2003-12-25 Knowlton Edward W. Method for treatment of tissue with feedback
CN1206975C (zh) 2002-05-13 2005-06-22 沈来沛 集声光电磁热药力疗法于一体并诱导通络的理疗仪
US7967839B2 (en) 2002-05-20 2011-06-28 Rocky Mountain Biosystems, Inc. Electromagnetic treatment of tissues and cells
AU2003233584A1 (en) 2002-05-20 2003-12-12 Stephen T. Flock Device and method for wound healing and uses therefor
US20120035608A1 (en) 2002-05-20 2012-02-09 Marchitto Kevin S Electromagnetic treatment of tissues and cells
FI20021050A (fi) 2002-05-31 2003-12-01 Nexstim Oy Aivojen magneettistimulaation kohdennusmenetelmä ja -laitteisto
UA78051C2 (en) 2002-06-05 2007-02-15 Device for magnetic inductive therapy, method of therapeutic use, unipolar pulse emitter
KR20050026404A (ko) 2002-06-19 2005-03-15 팔로마 메디칼 테크놀로지스, 인코포레이티드 깊이로 조직을 광열 치료하기 위한 방법 및 장치
WO2004000150A1 (en) 2002-06-19 2003-12-31 Palomar Medical Technologies, Inc. Method and apparatus for photothermal treatment of tissue at depth
DE10229112B4 (de) 2002-06-28 2004-07-15 Siemens Ag Schaltkreis für eine elektromagnetische Quelle zur Erzeugung akustischer Wellen
US7250047B2 (en) 2002-08-16 2007-07-31 Lumenis Ltd. System and method for treating tissue
US6876883B2 (en) 2002-08-26 2005-04-05 Arthur F. Hurtado Method for applying variable electro-muscle stimulation and system therefor
US8020560B2 (en) 2002-09-06 2011-09-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Devices, systems and methods using magnetic force systems affecting the tongue or hyoid muscles in the upper airway
CN2595398Y (zh) 2002-09-25 2003-12-31 王健 动态加静态磁脉冲理疗仪
US6860852B2 (en) 2002-10-25 2005-03-01 Compex Medical S.A. Ultrasound therapeutic device
GB0227147D0 (en) 2002-11-21 2002-12-24 Magstim The Company Ltd Magnetic stimulators and coils therefor
US7367936B2 (en) 2002-11-21 2008-05-06 The Magstim Company Ltd. Magnetic stimulators and coils therefor
TWI278327B (en) 2002-12-17 2007-04-11 Hakuju Inst For Health Science An apparatus for treating disorders by altering ion flux across cell membranes with electric fields
WO2004066899A2 (en) 2003-01-24 2004-08-12 Engii (2001) Ltd. System and method for face and body treatment
US7697998B2 (en) 2006-01-20 2010-04-13 Axelgaard Manufacturing Company, Ltd. Electrode with edge protection
US6971984B2 (en) 2003-02-12 2005-12-06 Vincent Ardizzone Magneto-cymatic therapeutic face mask
GB0304714D0 (en) 2003-03-01 2003-04-02 Finetech Medical Ltd Nerve stimulation apparatus
US7153256B2 (en) 2003-03-07 2006-12-26 Neuronetics, Inc. Reducing discomfort caused by electrical stimulation
US8118722B2 (en) 2003-03-07 2012-02-21 Neuronetics, Inc. Reducing discomfort caused by electrical stimulation
WO2004080147A2 (en) 2003-03-13 2004-09-23 Alfatech Medical Systems Ltd. Cellulite ultrasound treatment
WO2004082759A2 (en) 2003-03-17 2004-09-30 Trustees Of Boston University Magnetic stimulator
US20040206365A1 (en) 2003-03-31 2004-10-21 Knowlton Edward Wells Method for treatment of tissue
US9149322B2 (en) 2003-03-31 2015-10-06 Edward Wells Knowlton Method for treatment of tissue
KR100547265B1 (ko) 2003-03-31 2006-01-26 모승기 변조 기능을 갖는 펄스 자기 자극 생성 장치 및 방법
EP1622677B1 (en) 2003-04-02 2013-09-18 Medtronic, Inc. Device for preventing magnetic-device imaging induced damage
ITFI20030104A1 (it) 2003-04-10 2004-10-11 Luciano Alcidi Apparecchiatura per terapie di ipertemia non distruttiva
US20040205345A1 (en) 2003-04-11 2004-10-14 Ripley Michael S. System for identification and revocation of audiovisual titles and replicators
US20040210287A1 (en) 2003-04-21 2004-10-21 Greene Judy L. Portable cooling or heating device for applying cryotherapy
WO2004096343A2 (en) 2003-04-28 2004-11-11 Azna Health And Wellness, Inc. Light and magnetic emitting mask
IL155639A0 (en) 2003-04-29 2003-11-23 A thorny mosaic-like massaging article
CA2496262C (en) 2003-06-06 2012-04-03 Telea Electronic Engineering S.R.L. Cosmetic method of treating skin ageing
US7503927B1 (en) 2003-06-30 2009-03-17 Vetanze Nelson W Multiple therapy system and method
US7418292B2 (en) 2003-10-01 2008-08-26 Medtronic, Inc. Device and method for attenuating an immune response
FR2870132B1 (fr) 2003-10-01 2008-01-11 Jean Sebastien Berger Appareil et procede d'electrostimulation simultanee bi-mode electrique et magnetique
US20050075702A1 (en) 2003-10-01 2005-04-07 Medtronic, Inc. Device and method for inhibiting release of pro-inflammatory mediator
US7186209B2 (en) 2003-10-09 2007-03-06 Jacobson Jerry I Cardioelectromagnetic treatment
FR2862112B1 (fr) 2003-11-06 2007-01-26 Sarma Procede de fabrication d'un organe formant au moins une rotule et organe ainsi realise
KR100571823B1 (ko) 2003-11-18 2006-04-17 삼성전자주식회사 자장을 이용한 혈류 제어 장치 및 그 방법
US9433797B2 (en) 2003-12-05 2016-09-06 Rio Grande Neurosciences, Inc. Apparatus and method for electromagnetic treatment of neurodegenerative conditions
EP1703942B1 (fr) 2004-01-12 2008-02-27 Compex Medical S.A Systeme de securite pour dispositif d electrostimulation
US7041100B2 (en) 2004-01-21 2006-05-09 Syneron Medical Ltd. Method and system for selective electro-thermolysis of skin targets
US7499746B2 (en) 2004-01-30 2009-03-03 Encore Medical Asset Corporation Automated adaptive muscle stimulation method and apparatus
DE102004006192B4 (de) 2004-02-06 2008-11-06 Axel Muntermann Vorrichtung zur Behandlung mit Magnetfeldern
US8813756B1 (en) 2004-02-06 2014-08-26 Erchonia Corporation Non-invasive method for slimming a human body using laser energy of wavelengths shorter than 632 nm
US8932338B2 (en) 2004-02-06 2015-01-13 Erchonia Corporation Noninvasive method for site-specific fat reduction
US7372271B2 (en) 2004-03-15 2008-05-13 Koninklijke Philips Electronics N. V. Main magnet perforated eddy current shield for a magnetic resonance imaging device
US8052591B2 (en) 2006-05-05 2011-11-08 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Trajectory-based deep-brain stereotactic transcranial magnetic stimulation
FR2868686B1 (fr) 2004-04-09 2007-04-06 Spinevision Sa Dispositif pour le suivi de la penetration d'un instrument dans une structure anatomique comprenant au moins une partie longitudinale amovible
MX358779B (es) 2004-04-26 2018-09-04 Ivivi Health Sciences Llc Aparato y método para la inducción de tratamiento electromagnético.
KR100556230B1 (ko) 2004-05-10 2006-03-03 주식회사 씨알테크놀로지 자기 치료기용 코일 냉각장치
BE1016013A5 (nl) 2004-05-11 2006-01-10 Letec Nv Inrichting voor het beinvloeden van een cellulaire structuur.
JP2007244400A (ja) 2004-05-19 2007-09-27 Nippon Kosei Kagaku Kenkyusho:Kk 温熱治療システム
US7601115B2 (en) 2004-05-24 2009-10-13 Neuronetics, Inc. Seizure therapy method and apparatus
NL1026431C1 (nl) 2004-06-16 2005-12-19 Umc Utrecht Holding Bv Inrichting voor het opwekken van elektrische stroomvelden in een menselijk lichaam en werkwijze voor het gebruik daarvan.
GB0414909D0 (en) 2004-07-01 2004-08-04 Magstim The Company Ltd Magnetic stimulators and slimulating coils
US20060020236A1 (en) 2004-07-21 2006-01-26 Asher Ben-Nun Disposable compression sleeve
US20060036300A1 (en) 2004-08-16 2006-02-16 Syneron Medical Ltd. Method for lypolisis
US20060047281A1 (en) 2004-09-01 2006-03-02 Syneron Medical Ltd. Method and system for invasive skin treatment
US7520849B1 (en) 2004-09-20 2009-04-21 Ebi, Lp Pulsed electromagnetic field method of treating soft tissue wounds
US8444562B2 (en) 2004-10-06 2013-05-21 Guided Therapy Systems, Llc System and method for treating muscle, tendon, ligament and cartilage tissue
US20120016239A1 (en) 2004-10-06 2012-01-19 Guided Therapy Systems, Llc Systems for cosmetic treatment
CA2484880A1 (en) 2004-10-15 2006-04-15 Tuan Vinh Le Electrical stimulation apparatus and method
US8417352B2 (en) 2004-10-19 2013-04-09 Meagan Medical, Inc. System and method for stimulating sensory nerves
US20060085048A1 (en) 2004-10-20 2006-04-20 Nervonix, Inc. Algorithms for an active electrode, bioimpedance-based tissue discrimination system
US7857746B2 (en) 2004-10-29 2010-12-28 Nueronetics, Inc. System and method to reduce discomfort using nerve stimulation
JP4324673B2 (ja) 2004-11-05 2009-09-02 国立大学法人東北大学 ペルチェモジュールによる凍結治療装置
US8617152B2 (en) 2004-11-15 2013-12-31 Medtronic Ablation Frontiers Llc Ablation system with feedback
RU2281128C2 (ru) 2004-11-23 2006-08-10 Открытое акционерное общество "Елатомский приборный завод" Аппарат магнитотерапевтический
CN100402110C (zh) 2004-12-24 2008-07-16 任长学 微波全身或区域性加热方法和装置
GB2422109B (en) 2005-01-13 2007-02-21 Richard Mills Apparatus for providing a heating and cooling effect
ES2383376T3 (es) 2005-01-18 2012-06-20 Alma Lasers Ltd Sistema mejorado para calentar tejido biológico mediante energía de RF
US8088058B2 (en) 2005-01-20 2012-01-03 Neuronetics, Inc. Articulating arm
US8825166B2 (en) 2005-01-21 2014-09-02 John Sasha John Multiple-symptom medical treatment with roving-based neurostimulation
US7643883B2 (en) 2005-01-28 2010-01-05 Syneron Medical Ltd. Device and method for treating skin
US7871427B2 (en) 2005-02-08 2011-01-18 Carewave, Inc. Apparatus and method for using a portable thermal device to reduce accommodation of nerve receptors
US20060253176A1 (en) 2005-02-18 2006-11-09 Palomar Medical Technologies, Inc. Dermatological treatment device with deflector optic
CN101132831A (zh) 2005-02-18 2008-02-27 帕洛玛医疗技术公司 皮肤处理设备
EP1853190A4 (en) 2005-03-02 2008-08-13 Meridian Co Ltd FAT TISSUE SOLVENT DEVICE FOR A LOW-ENERGY LASER
JP2006296669A (ja) 2005-04-19 2006-11-02 Kagoshima Univ 磁気コイル
EP1874404B1 (en) 2005-04-19 2015-11-04 Compex Technologies, Inc. Electrical stimulation device
US7862565B2 (en) 2005-05-12 2011-01-04 Aragon Surgical, Inc. Method for tissue cauterization
US7396326B2 (en) 2005-05-17 2008-07-08 Neuronetics, Inc. Ferrofluidic cooling and acoustical noise reduction in magnetic stimulators
US7217265B2 (en) 2005-05-18 2007-05-15 Cooltouch Incorporated Treatment of cellulite with mid-infrared radiation
US8588930B2 (en) 2005-06-07 2013-11-19 Ethicon, Inc. Piezoelectric stimulation device
US7976451B2 (en) 2005-06-16 2011-07-12 The United States Of America As Represented By The Department Of Health And Human Services Transcranial magnetic stimulation system and methods
US8109982B2 (en) 2005-06-23 2012-02-07 Morteza Naghavi Non-invasive modulation of the autonomic nervous system
US20070016274A1 (en) 2005-06-29 2007-01-18 Boveja Birinder R Gastrointestinal (GI) ablation for GI tumors or to provide therapy for obesity, motility disorders, G.E.R.D., or to induce weight loss
GB0515040D0 (en) 2005-07-21 2005-08-31 Bristol Myers Squibb Co Compression device for the limb
US7955262B2 (en) 2005-07-26 2011-06-07 Syneron Medical Ltd. Method and apparatus for treatment of skin using RF and ultrasound energies
US7824324B2 (en) 2005-07-27 2010-11-02 Neuronetics, Inc. Magnetic core for medical procedures
WO2007017778A2 (en) 2005-08-05 2007-02-15 Koninklijke Philips Electronics N.V. Measurement and stimulation of muscle tissue
EP2796168B1 (en) 2005-09-28 2017-09-06 Candela Corporation Treating cellulite
US20070083237A1 (en) 2005-10-12 2007-04-12 Teruel Elberto B Magnetic therapeutic device and method of using the same
US20070088419A1 (en) 2005-10-13 2007-04-19 Fiorina Mark A Conductive pad assembly for electrical therapy device
US7856264B2 (en) 2005-10-19 2010-12-21 Advanced Neuromodulation Systems, Inc. Systems and methods for patient interactive neural stimulation and/or chemical substance delivery
US8702691B2 (en) 2005-10-19 2014-04-22 Thermage, Inc. Treatment apparatus and methods for delivering energy at multiple selectable depths in tissue
DE102005052152A1 (de) 2005-11-02 2007-05-03 Mikas Elektronik Entwicklungen E.K. Therapiegerät und Verfahren zum Betrieb desselben
US9089719B2 (en) 2009-03-20 2015-07-28 ElectroCore, LLC Non-invasive methods and devices for inducing euphoria in a patient and their therapeutic application
US9037247B2 (en) 2005-11-10 2015-05-19 ElectroCore, LLC Non-invasive treatment of bronchial constriction
US8868177B2 (en) 2009-03-20 2014-10-21 ElectroCore, LLC Non-invasive treatment of neurodegenerative diseases
US20110125203A1 (en) 2009-03-20 2011-05-26 ElectroCore, LLC. Magnetic Stimulation Devices and Methods of Therapy
KR200407524Y1 (ko) 2005-11-11 2006-01-31 넥슨 주식회사 양자치료기용 방사기
US20070232966A1 (en) 2005-11-30 2007-10-04 Robert Applebaum Apparatus for skin and muscle treatment
KR200410065Y1 (ko) 2005-12-06 2006-03-03 최동환 복합 기능 자석 밴드
US8262556B2 (en) 2005-12-19 2012-09-11 Neuralieve, Inc. Magnetic pulsing system for inducing electric currents in a human body
US7618429B2 (en) 2005-12-22 2009-11-17 Spamedica International Srl Skin rejuvination resurfacing method
US20100168501A1 (en) 2006-10-02 2010-07-01 Daniel Rogers Burnett Method and apparatus for magnetic induction therapy
US9610459B2 (en) 2009-07-24 2017-04-04 Emkinetics, Inc. Cooling systems and methods for conductive coils
US9339641B2 (en) 2006-01-17 2016-05-17 Emkinetics, Inc. Method and apparatus for transdermal stimulation over the palmar and plantar surfaces
CA2635715A1 (en) 2006-01-20 2007-07-26 Eleme Medical Inc. Mechanical massage device
CA2574935A1 (en) 2006-01-24 2007-07-24 Sherwood Services Ag A method and system for controlling an output of a radio-frequency medical generator having an impedance based control algorithm
US20090254154A1 (en) 2008-03-18 2009-10-08 Luis De Taboada Method and apparatus for irradiating a surface with pulsed light
US8133191B2 (en) 2006-02-16 2012-03-13 Syneron Medical Ltd. Method and apparatus for treatment of adipose tissue
US20130184693A1 (en) 2006-02-17 2013-07-18 Joseph Neev Device and method for treating medical, skin, and hair disorders with energy
GB201317485D0 (en) 2013-10-02 2013-11-13 Goroszeniuk Teodor Transcutaneous stimulting device for pain relief
AU2011265424B2 (en) 2006-02-22 2014-07-31 Zeltiq Aesthetics, Inc. Cooling device for removing heat from subcutaneous lipid-rich cells
US7854754B2 (en) 2006-02-22 2010-12-21 Zeltiq Aesthetics, Inc. Cooling device for removing heat from subcutaneous lipid-rich cells
ITRE20060026A1 (it) 2006-02-24 2007-08-25 Genesis Elettronica S R L Apparecchio per trattamenti medicinali
WO2007104340A1 (de) 2006-03-16 2007-09-20 Ernestine Binder Markoll Portabler applikator zur kollagenstimulation
US20070255355A1 (en) 2006-04-06 2007-11-01 Palomar Medical Technologies, Inc. Apparatus and method for skin treatment with compression and decompression
EP2010283A2 (en) 2006-04-27 2009-01-07 Eyad Kishawi Device and method for non-invasive, localized neural stimulation utilizing hall effect phenomenon
AU2013207657B2 (en) 2006-04-28 2015-11-19 Zeltiq Aesthetics, Inc. Cryoprotectant for use with a treatment device for improved cooling of subcutaneous lipid-rich cells
CN103948468A (zh) 2006-04-28 2014-07-30 斯尔替克美学股份有限公司 促进皮下富含脂肪细胞冷却的治疗装置中所用的防冻剂
US8267850B2 (en) 2007-11-27 2012-09-18 Cervel Neurotech, Inc. Transcranial magnet stimulation of deep brain targets
US9352167B2 (en) 2006-05-05 2016-05-31 Rio Grande Neurosciences, Inc. Enhanced spatial summation for deep-brain transcranial magnetic stimulation
US20070270925A1 (en) 2006-05-17 2007-11-22 Juniper Medical, Inc. Method and apparatus for non-invasively removing heat from subcutaneous lipid-rich cells including a coolant having a phase transition temperature
WO2007140584A1 (en) 2006-06-02 2007-12-13 William Toderan Method and apparatus for treating sleep apnea and snoring
ITVR20060113A1 (it) 2006-06-07 2008-01-07 Giglio Antonio Del Dispositivo per il trattamento del tessuto adiposo sottocutaneo mediante shockwaves non foicalizzate e contrapposte
US9630003B2 (en) 2006-06-15 2017-04-25 Htk Enterprises, Inc. Non-invasive neuro stimulation system
US7753836B2 (en) 2006-06-15 2010-07-13 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for inducing electric field pulses in a body organ
US8545378B2 (en) 2006-06-15 2013-10-01 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for inducing electric field pulses in a body organ
EP2040790B1 (en) 2006-06-19 2012-12-12 Highland Instruments, Inc. Apparatus for stimulation of biological tissue
US9913976B2 (en) 2006-06-19 2018-03-13 Highland Instruments, Inc. Systems and methods for stimulating and monitoring biological tissue
US8700176B2 (en) 2006-07-27 2014-04-15 Pollogen Ltd. Apparatus and method for non-invasive treatment of skin tissue
WO2008024392A2 (en) 2006-08-22 2008-02-28 Valery Godyak Inductive plasma source with high coupling efficiency
US7998053B2 (en) 2006-08-30 2011-08-16 Nexstim Oy Transcranial magnetic stimulation induction coil device and method of manufacture
WO2008036383A1 (en) 2006-09-20 2008-03-27 Ivivi Technologies, Inc. Electromagnetic apparatus for respiratory disease and method for using same
US9132031B2 (en) 2006-09-26 2015-09-15 Zeltiq Aesthetics, Inc. Cooling device having a plurality of controllable cooling elements to provide a predetermined cooling profile
US20080077201A1 (en) 2006-09-26 2008-03-27 Juniper Medical, Inc. Cooling devices with flexible sensors
US8192474B2 (en) 2006-09-26 2012-06-05 Zeltiq Aesthetics, Inc. Tissue treatment methods
CN101516439B (zh) 2006-09-26 2013-09-11 沙皮恩斯脑部刺激控制有限公司 组织刺激方法和设备
US7794457B2 (en) 2006-09-28 2010-09-14 Covidien Ag Transformer for RF voltage sensing
US7742828B2 (en) 2006-09-29 2010-06-22 Tyco Healthcare Group Lp Medical electrode suitable for high-energy stimulation
WO2008042902A2 (en) 2006-10-02 2008-04-10 Emkinetics, Inc. Method and apparatus for magnetic induction therapy
US20100222629A1 (en) 2006-10-02 2010-09-02 Emkinetics, Inc. Method and apparatus for magnetic induction therapy
US20180050216A9 (en) 2006-10-02 2018-02-22 Emkinetics, Inc. Methods and devices for treating migraines with electromagnetic stimulation
JP5258772B2 (ja) 2006-10-10 2013-08-07 メディカル・デバイス・イノベーションズ・リミテッド マイクロ波放射線を用いた組織を処理するための装置およびアンテナ較正システムおよびその方法
DE102006050369A1 (de) 2006-10-25 2008-04-30 Oncotherm Kft. Hyperthermievorrichtung für die selektive Behandlung und die Überwachung von Oberflächengewebe
ITRE20060127A1 (it) 2006-10-27 2008-04-28 Genesis Elettronica S R L Apparecchio per trattamenti medicali
CA2667964A1 (en) 2006-10-31 2008-05-08 Zeltiq Aesthetics, Inc. Method and apparatus for cooling subcutaneous lipid-rich cells or tissue
WO2008053482A2 (en) 2006-11-02 2008-05-08 Shlomo Laniado Application of magnetic field to treat tissue
WO2008060494A2 (en) 2006-11-09 2008-05-22 Lumenis, Inc. Apparatus and method for treating tissue
US20080249536A1 (en) 2007-02-15 2008-10-09 Hansen Medical, Inc. Interface assembly for controlling orientation of robotically controlled medical instrument
US8128549B2 (en) 2007-02-20 2012-03-06 Neuronetics, Inc. Capacitor failure detection
WO2008109058A1 (en) 2007-03-01 2008-09-12 Finsterwald P Michael Magnetic stimulator
US20080228520A1 (en) 2007-03-13 2008-09-18 Scott Day Body Management System and Business Method
US8273037B2 (en) 2007-03-19 2012-09-25 Syneron Medical Ltd Method and system for soft tissue destruction
AU2008236699A1 (en) 2007-04-06 2008-10-16 Stephen Flock Inductive heating of tissues using alternating magnetic fields and uses thereof
US10441346B2 (en) 2007-04-06 2019-10-15 Rocky Mountain Biosystems, Inc Inductive heating of tissues using alternating magnetic fields and uses thereof
US20080262574A1 (en) 2007-04-11 2008-10-23 Eleme Medical Inc. Use of low intensity light therapy for the treatment of various medical conditions
KR100866378B1 (ko) 2007-04-12 2008-11-03 이승영 뇌파를 주요치료정보로 사용하는 저주파 자기물리치료장치
US20080262287A1 (en) 2007-04-14 2008-10-23 Etis Investments, Inc. System for delivery of magnetic stimulation
US8768454B2 (en) 2007-05-03 2014-07-01 Orthocor Medical, Inc. Electromagnetic thermal therapy
US9968797B2 (en) 2007-05-03 2018-05-15 Orthocor Medical, Inc. Electromagnetic thermal therapy
US7783348B2 (en) 2007-05-03 2010-08-24 Orthocor Medical, Inc. Stimulation device for treating osteoarthritis
GB0708783D0 (en) 2007-05-04 2007-06-13 Gyrus Medical Ltd Electrosurgical system
US20090018384A1 (en) 2007-05-09 2009-01-15 Massachusetts Institute Of Technology Portable, Modular Transcranial Magnetic Stimulation Device
US20080287839A1 (en) 2007-05-18 2008-11-20 Juniper Medical, Inc. Method of enhanced removal of heat from subcutaneous lipid-rich cells and treatment apparatus having an actuator
AU2012244313B2 (en) 2007-05-18 2014-11-27 Zeltiq Aesthetics, Inc. Device for enhanced removal of heat from subcutaneous lipid-rich cells having an actuator
DE202007007920U1 (de) 2007-05-31 2008-10-09 Storz Medical Ag Medizinisches Gerät zur Behandlung des menschlichen oder tierischen Körpers
KR100841596B1 (ko) 2007-06-05 2008-06-26 한국전기연구원 자기장 치료기의 냉각 장치
US7744523B2 (en) 2007-06-07 2010-06-29 Emory University Drive circuit for magnetic stimulation
US20080312647A1 (en) 2007-06-15 2008-12-18 Primaeva Medical, Inc. Methods and devices for treating tissue
US20090036958A1 (en) 2007-08-01 2009-02-05 Primaeva Medical, Inc. Methods and devices for treating tissue
US20120143178A9 (en) 2007-06-15 2012-06-07 Primaeva Medical, Inc. Devices and methods for percutaneous energy delivery
IL184218A0 (en) 2007-06-26 2007-10-31 Zidkiyahu Simenhaus Photo-magnetic radiation device
US8216218B2 (en) 2007-07-10 2012-07-10 Thermage, Inc. Treatment apparatus and methods for delivering high frequency energy across large tissue areas
US20090018626A1 (en) 2007-07-13 2009-01-15 Juniper Medical, Inc. User interfaces for a system that removes heat from lipid-rich regions
US20090018625A1 (en) 2007-07-13 2009-01-15 Juniper Medical, Inc. Managing system temperature to remove heat from lipid-rich regions
WO2009011708A1 (en) 2007-07-13 2009-01-22 Zeltiq Aesthetics, Inc. System for treating lipid-rich regions
US8523927B2 (en) 2007-07-13 2013-09-03 Zeltiq Aesthetics, Inc. System for treating lipid-rich regions
US20090018627A1 (en) 2007-07-13 2009-01-15 Juniper Medical, Inc. Secure systems for removing heat from lipid-rich regions
US20090018624A1 (en) 2007-07-13 2009-01-15 Juniper Medical, Inc. Limiting use of disposable system patient protection devices
US8103355B2 (en) 2007-07-16 2012-01-24 Invasix Ltd Method and device for minimally invasive skin and fat treatment
MX2010000908A (es) 2007-07-26 2010-04-01 Syneron Medical Ltd Metodo y aparato para tratamiento ultrasonico de tejido.
WO2009036040A1 (en) 2007-09-10 2009-03-19 Neostim, Inc. Automated movement of electromagnets tracking eccentricity of the head
US8956274B2 (en) 2007-08-05 2015-02-17 Cervel Neurotech, Inc. Transcranial magnetic stimulation field shaping
WO2009026386A1 (en) 2007-08-20 2009-02-26 Neostim, Inc. Firing patterns for deep brain transcranial magnetic stimulation
US20100185042A1 (en) 2007-08-05 2010-07-22 Schneider M Bret Control and coordination of transcranial magnetic stimulation electromagnets for modulation of deep brain targets
US20090099405A1 (en) 2007-08-05 2009-04-16 Neostim, Inc. Monophasic multi-coil arrays for trancranial magnetic stimulation
AU2008286980A1 (en) 2007-08-10 2009-02-19 Eleme Medical Inc. Multi-module skin or body treatment device and the method of using
US20120109241A1 (en) 2007-08-10 2012-05-03 Elizabeth Rauscher Enhancement of Biological Functioning by the use of Electromagnetic and Magnetic Fields
WO2009023680A1 (en) 2007-08-13 2009-02-19 Neostim, Inc. Gantry and switches for position-based triggering of tms pulses in moving coils
WO2009047628A2 (en) 2007-08-17 2009-04-16 Endymed Medical Ltd. Electrosurgical methods and devices employing inductive energy
ES2693430T3 (es) 2007-08-21 2018-12-11 Zeltiq Aesthetics, Inc. Monitorización del enfriamiento de células subcutáneas ricas en lípidos, como el enfriamiento de tejido adiposo
US9757554B2 (en) 2007-08-23 2017-09-12 Bioness Inc. System for transmitting electrical current to a bodily tissue
WO2009033192A1 (en) 2007-09-09 2009-03-12 Neostim, Inc. Focused magnetic fields
CA2604112C (en) 2007-09-24 2016-07-05 Meridian Co. Ltd. Adipose resolve apparatus for low-power laser
DK2197534T3 (en) 2007-09-25 2018-06-14 Neosync Inc DEVICE WITH TWO ROTATE PERMANENT MAGNETS FOR APPLYING ON THE HEAD OF AN INDIVIDUAL
WO2009042863A1 (en) 2007-09-26 2009-04-02 Neostim, Inc. System and methods for cooling electromagnets for transcranial magnetic stimulation
WO2009044400A2 (en) 2007-10-01 2009-04-09 Kineticure Limited Wearable vibrating means and thermal conditioning therapeutic devices
US20100298623A1 (en) 2007-10-24 2010-11-25 Mishelevich David J Intra-session control of transcranial magnetic stimulation
US20090108969A1 (en) 2007-10-31 2009-04-30 Los Alamos National Security Apparatus and method for transcranial and nerve magnetic stimulation
KR100936914B1 (ko) 2007-11-13 2010-01-18 이근용 자기치료기
RU2373971C2 (ru) 2007-11-22 2009-11-27 ООО "НейроСофт" Устройство для магнитной стимуляции
US8035385B2 (en) 2007-11-22 2011-10-11 Kabushiki Kaisha Toshiba MRI system and RF coil with enhanced cooling in vicinty of included circuit elements
TW200924819A (en) 2007-12-06 2009-06-16 Szu Wei Entpr Co Ltd Device of flywheel treading module for exercise apparatus
US20090149930A1 (en) 2007-12-07 2009-06-11 Thermage, Inc. Apparatus and methods for cooling a treatment apparatus configured to non-invasively deliver electromagnetic energy to a patient's tissue
US8579953B1 (en) 2007-12-07 2013-11-12 Peter J. Dunbar Devices and methods for therapeutic heat treatment
US20090156958A1 (en) 2007-12-12 2009-06-18 Mehta Bankim H Devices and methods for percutaneous energy delivery
KR20090063618A (ko) 2007-12-14 2009-06-18 주식회사 씨알테크놀러지 자기장을 이용한 자극 치료기 및 그 제어방법
RU2395267C2 (ru) 2007-12-26 2010-07-27 Евгений Юрьевич Чернышев Физиотерапевтическое устройство
US20090171424A1 (en) 2007-12-27 2009-07-02 Alma Lasers Ltd. Rf device for heating biological tissue using a vibrating applicator
CN101234231A (zh) 2008-01-24 2008-08-06 武汉依瑞德医疗设备新技术有限公司 多个刺激线圈的经颅磁场刺激器
US20090248004A1 (en) 2008-02-28 2009-10-01 Palomar Medical Technologies, Inc. Systems and methods for treatment of soft tissue
US9017273B2 (en) 2008-02-29 2015-04-28 Sensory Neurostimulation, Inc. Devices and methods for treating restless leg syndrome
KR20090095143A (ko) 2008-03-05 2009-09-09 임형준 자기장을 방출하는 신체 가열기구
US20150141877A1 (en) 2008-03-07 2015-05-21 Inrexrem Inc. Led and shockwave therapy for tattoo removal
RU2392979C2 (ru) 2008-03-17 2010-06-27 Тамара Геннадьевна Киселева Способ электростимуляционной тренировки мышц
US20110023079A1 (en) 2008-03-20 2011-01-27 Mark Alan Schultz System and method for processing priority transport stream data in real time in a multi-channel broadcast multimedia system
AU2009251688A1 (en) 2008-04-01 2009-12-03 The General Hospital Corporation Method and apparatus for cooling biological tissue
US10238447B2 (en) 2008-04-29 2019-03-26 Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. System and method for ablating a tissue site by electroporation with real-time monitoring of treatment progress
KR101453071B1 (ko) 2008-05-14 2014-10-23 삼성전자주식회사 트랜스포머, 밸룬 및 이를 포함하는 집적 회로
US20110105826A1 (en) 2008-05-23 2011-05-05 Neostim, Inc. Transcranial magnetic stimulation by enhanced magnetic field perturbations
US8172835B2 (en) 2008-06-05 2012-05-08 Cutera, Inc. Subcutaneous electric field distribution system and methods
US8226639B2 (en) 2008-06-10 2012-07-24 Tyco Healthcare Group Lp System and method for output control of electrosurgical generator
EP2307095B1 (en) 2008-06-29 2020-06-03 Venus Concept Ltd An esthetic apparatus useful for increasing skin rejuvenation
US9981143B2 (en) 2008-06-29 2018-05-29 Venus Concept Ltd. Esthetic apparatus useful for increasing skin rejuvenation and methods thereof
CA3075063A1 (en) 2008-07-02 2010-01-07 Sage Products, Llc Systems and methods for automated muscle stimulation
US20100004536A1 (en) 2008-07-03 2010-01-07 Avner Rosenberg Method and apparatus for ultrasound tissue treatment
US20100017750A1 (en) 2008-07-16 2010-01-21 Avner Rosenberg User interface
CN101327358A (zh) 2008-07-23 2008-12-24 李久峰 利用密集多点细磁场进行理疗的治疗仪
ES2528020T3 (es) 2008-07-30 2015-02-03 François Dufay Equipo para el tratamiento corporal formado por una cubierta en al menos dos partes complementarias
US20100036191A1 (en) 2008-08-06 2010-02-11 Walter Timothy J Brain stimulation systems and methods
US20100036368A1 (en) 2008-08-11 2010-02-11 Laura England Method of selectively heating adipose tissue
US8265763B2 (en) 2008-08-26 2012-09-11 Niveus Medical, Inc. Device, system, and method to improve powered muscle stimulation performance in the presence of tissue edema
US9597145B2 (en) 2008-08-20 2017-03-21 Prostacare Pty Ltd Non-thermal ablation system for treating tissue
EP2326274B8 (en) 2008-08-20 2019-11-27 Prostacare Pty Ltd Catheter for treating tissue with non-thermal ablation
KR101022244B1 (ko) 2008-08-29 2011-03-16 (주) 엠큐브테크놀로지 방열특성이 우수한 저소음 자기장 발생 장치
US8275442B2 (en) 2008-09-25 2012-09-25 Zeltiq Aesthetics, Inc. Treatment planning systems and methods for body contouring applications
US20100145399A1 (en) 2008-09-29 2010-06-10 Pooja Johari Multifunction devices and methods of using the multifunction devices
US8469957B2 (en) 2008-10-07 2013-06-25 Covidien Lp Apparatus, system, and method for performing an electrosurgical procedure
US20100121131A1 (en) 2008-11-11 2010-05-13 Mathes Richard A Apparatus and methods for stimulating a body's natural healing mechanisms
US8795148B2 (en) 2009-10-26 2014-08-05 Cervel Neurotech, Inc. Sub-motor-threshold stimulation of deep brain targets using transcranial magnetic stimulation
US20130317281A1 (en) 2010-10-08 2013-11-28 M. Bret Schneider Transcranial magnetic stimulation for improved analgesia
WO2010068797A1 (en) 2008-12-10 2010-06-17 Waverx, Inc. Devices, systems and methods for preventing and treating sensation loss
US9180305B2 (en) 2008-12-11 2015-11-10 Yeda Research & Development Co. Ltd. At The Weizmann Institute Of Science Systems and methods for controlling electric field pulse parameters using transcranial magnetic stimulation
US8603073B2 (en) 2008-12-17 2013-12-10 Zeltiq Aesthetics, Inc. Systems and methods with interrupt/resume capabilities for treating subcutaneous lipid-rich cells
US8723628B2 (en) 2009-01-07 2014-05-13 Cervel Neurotech, Inc. Shaped coils for transcranial magnetic stimulation
US8506506B2 (en) 2009-01-12 2013-08-13 Solta Medical, Inc. Tissue treatment apparatus with functional mechanical stimulation and methods for reducing pain during tissue treatments
US20100179372A1 (en) 2009-01-13 2010-07-15 Glassman Harry A Method of enhancing skin appearance through the combination of Titan TM and TMR methods
US8494658B2 (en) 2009-01-26 2013-07-23 University College Dublin, National University Of Ireland, Dublin Method and apparatus for stimulating pelvic floor muscles
AU2010215784B2 (en) 2009-02-20 2015-04-30 Sage Products, Llc Systems and methods of powered muscle stimulation using an energy guidance field
US9067052B2 (en) 2009-03-02 2015-06-30 Yeda Research And Development Co., Ltd. At The Weizmann Institute Of Science Magnetic configuration and timing scheme for transcranial magnetic stimulation
EP2403598A4 (en) 2009-03-05 2013-07-31 Cynosure Inc SYSTEM AND METHOD ASSOCIATED WITH PULSED LIGHT WITH THERAPEUTIC EFFECT
US20100228250A1 (en) 2009-03-05 2010-09-09 Intuitive Surgical Operations, Inc. Cut and seal instrument
CN102387835A (zh) 2009-03-06 2012-03-21 麦克内尔-Ppc股份有限公司 具有额外感觉形态的电刺激装置
JP2010207268A (ja) 2009-03-06 2010-09-24 Tohoku Univ 治療用生体磁気刺激方法及び装置
US20100331603A1 (en) 2009-03-18 2010-12-30 Johann Szecsi Method and device for the physical treatment of paretic patients
US9174045B2 (en) 2009-03-20 2015-11-03 ElectroCore, LLC Non-invasive electrical and magnetic nerve stimulators used to treat overactive bladder and urinary incontinence
US20190111255A1 (en) 2009-03-20 2019-04-18 Electrocore, Inc. Systems and methods for initial provisioning and refilling of medical devices
US8320988B2 (en) 2009-04-09 2012-11-27 Axelgaard Manufacturing Co., Ltd. Multi-electrode strung on a common connector
KR102309963B1 (ko) 2009-04-16 2021-10-08 이노비오 파마수티컬즈, 인크. 비접촉식 전기천공 전극 및 방법
US20100274329A1 (en) 2009-04-24 2010-10-28 Chris Bradley System and method for skin care using light and microcurrents
WO2010124234A1 (en) 2009-04-24 2010-10-28 Regenesis Biomedical, Inc. Pulsed electromagnetic field and negative pressure therapy wound treatment method and system
AU2014203094B2 (en) 2009-04-30 2015-07-23 Zeltiq Aesthetics, Inc. Device, system and method of removing heat from subcutaneous lipid-rich cells
AU2010242785B2 (en) 2009-04-30 2014-03-06 Zeltiq Aesthetics, Inc. Device, system and method of removing heat from subcutaneous lipid-rich cells
US8187273B2 (en) 2009-05-07 2012-05-29 Tyco Healthcare Group Lp Apparatus, system, and method for performing an electrosurgical procedure
WO2010135425A1 (en) 2009-05-19 2010-11-25 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for inducing electric field pulses in a body organ
TWI402868B (zh) 2009-05-27 2013-07-21 Delta Electronics Inc 具屏蔽功能之線圈及磁性元件
US20100309689A1 (en) 2009-06-03 2010-12-09 David Coulson Bootstrap Circuitry
DE102009023855B4 (de) 2009-06-04 2013-01-31 Technische Universität München Vorrichtung zur Nervenreizung mit Magnetfeldimpulsen
EP2440150A4 (en) 2009-06-09 2012-11-14 Gen Hospital Corp METHOD AND APPARATUS FOR DERMATOLOGICAL TREATMENT AND TISSUE REMODELING
US8271090B1 (en) 2009-07-02 2012-09-18 Customkynetics, Inc. Apparatus and methods for providing electrical stimulation
US8788060B2 (en) 2009-07-16 2014-07-22 Solta Medical, Inc. Tissue treatment systems with high powered functional electrical stimulation and methods for reducing pain during tissue treatments
US20120116271A1 (en) 2009-07-23 2012-05-10 Palomar Medical Technologies, Inc. Cellulite treatment
US9919168B2 (en) 2009-07-23 2018-03-20 Palomar Medical Technologies, Inc. Method for improvement of cellulite appearance
EP2279708B1 (de) 2009-07-27 2013-05-15 Straumann Holding AG Behälter für ein medizinisches Instrument oder Implantat, insbesondere ein dentalmedizinisches Instrument oder ein Dentalimplantat
BR112012002536A2 (pt) 2009-08-04 2017-08-08 Pollogen Ltd rejuvenescimento da pele cosmético
JP5778151B2 (ja) 2009-08-20 2015-09-16 シネロン メディカル リミテッド 皮膚及び下皮の非侵襲エステティックトリートメントの装置
US8366756B2 (en) 2009-08-28 2013-02-05 Erchonia Corporation Low level laser therapy device with open bore
US8827886B2 (en) 2009-09-14 2014-09-09 Minnesota Medical Physics Llc Thermally assisted pulsed electro-magnetic field stimulation device and method for treatment of osteoarthritis
US9061134B2 (en) 2009-09-23 2015-06-23 Ripple Llc Systems and methods for flexible electrodes
DE202009013768U1 (de) 2009-10-09 2011-02-24 Pichler, Christian Sitz- oder Liegevorrichtung mit integrierter Schaltung zur Magnetfeldtherapie
DE102009049145A1 (de) 2009-10-12 2011-04-21 Quanten-Medicine Ag Vorrichtung zur Magnetstimulation von Körpergewebe
DE102009050010A1 (de) 2009-10-21 2011-05-12 Waltraud Schmidt Verfahren und Vorrichtung zur Stimulation wenigstens eines Muskels
EP2490594A4 (en) 2009-10-24 2017-02-08 Syneron Medical Ltd. Method and apparatus for real time monitoring of tissue layers
CA2778963A1 (en) 2009-10-26 2011-05-05 Emkinetics, Inc. Method and apparatus for electromagnetic stimulation of nerve, muscle, and body tissues
US8376825B2 (en) 2009-10-28 2013-02-19 Wms Gaming, Inc. Wagering game leaderboards
US8204446B2 (en) 2009-10-29 2012-06-19 Motorola Mobility, Inc. Adaptive antenna tuning systems and methods
GB0919031D0 (en) 2009-10-30 2009-12-16 Dezac Group The Ltd Apparatus and methods for the treatment of human or animal tissue by light
NL1037451C2 (en) 2009-11-05 2011-05-10 Vabrema B V Device, system and method for magnetic stimulation.
KR101830051B1 (ko) 2009-11-05 2018-02-19 코닌클리케 필립스 엔.브이. 전기적 근육 자극
US20110112520A1 (en) 2009-11-11 2011-05-12 Invasix Corporation Method and device for fat treatment
KR20120116934A (ko) 2009-11-16 2012-10-23 폴로젠 리미티드 비침습적인 지방 제거 방법
US11590346B2 (en) 2009-11-16 2023-02-28 Pollogen Ltd. Apparatus and method for cosmetic treatment of human mucosal tissue
US20110130796A1 (en) 2009-11-27 2011-06-02 Mohn Louise Thermostimulation methods using multilayer pads with integrated temperature regulation
US8137259B1 (en) 2009-12-01 2012-03-20 Magnafix, Llc Magnetic method for treatment of an animal
US8376925B1 (en) 2009-12-01 2013-02-19 Robert Glenn Dennis Magnetic system for treatment of a tissue
SE1050420A1 (sv) 2010-04-27 2011-07-26 Inerventions Ab System och klädesplagg för avslappning av en spastisk muskel
KR101784536B1 (ko) 2009-12-06 2017-11-06 시네론 메디컬 리미티드 개인용 피부 미용 치료 장치 및 방법
DE102009060543B4 (de) 2009-12-23 2014-02-06 Axel Muntermann Verfahren zur kosmetischen Hautglättung
US20110172735A1 (en) 2009-12-31 2011-07-14 Pooja Johari Systems and methods for therapy
KR101158009B1 (ko) * 2010-01-07 2012-06-25 (주)아이티시 고주파 치료장치
WO2011091293A1 (en) 2010-01-21 2011-07-28 Zeltiq Aesthetics, Inc. Compositions for use with a system for improved cooling of subcutaneous lipid-rich tissue
EP2528560A1 (en) 2010-01-25 2012-12-05 Zeltiq Aesthetics, Inc. Home-use applicators for non-invasively removing heat from subcutaneous lipid-rich cells via phase change coolants, and associated devices, systems and methods
US20120029394A1 (en) 2010-02-05 2012-02-02 Bacoustics, Llc Ultrasound Assisted Laser Skin and Tissue Treatment
US20130006039A1 (en) 2010-02-10 2013-01-03 Sadler John W Power management in transcranial magnetic stimulators
US20110196438A1 (en) 2010-02-10 2011-08-11 Lukas Mnozil Therapy device and method for treating underlying tissue using electrical and acoustic energies
WO2011100692A1 (en) 2010-02-15 2011-08-18 The General Hospital Corporation Methods and devices for selective disruption of visceral fat by controlled cooling
CN102781368A (zh) 2010-02-24 2012-11-14 赛诺龙医疗公司 体形塑造设备
CA2791458A1 (en) 2010-03-01 2011-09-09 Yoni Iger System, device and methods of tissue treatment for achieving tissue specific effects
CN105477782B (zh) 2010-03-22 2019-01-04 纽约城市大学研究基金会 电荷增强神经电刺激系统
JP2011194176A (ja) 2010-03-24 2011-10-06 Panasonic Electric Works Co Ltd 美容装置
US20130096363A1 (en) 2010-04-02 2013-04-18 M. Bret Schneider Neuromodulation of deep-brain targets by transcranial magnetic stimulation enhanced by transcranial direct current stimulation
US8306628B2 (en) 2010-04-06 2012-11-06 BDS Medical Corporation Deep heating hyperthermia using phased arrays and patient positioning
DE102010014157B4 (de) 2010-04-08 2021-02-18 Horst Dittmann E.K. Muskel- und Nervenanregungssystem mit TENS-EMS-Gerät, Gürtel und Thermospeicher
DE102010016458B4 (de) 2010-04-15 2011-12-15 Ingo Dreher Handgeführte Kühlvorrichtung zur Kryotherapie
US20110263925A1 (en) 2010-04-23 2011-10-27 Charles Bratton Pulsed Magnetic Therapy Device
GB201006841D0 (en) 2010-04-26 2010-06-09 Thomsen Lars Method, device and system for targetted cell lysis
US9272157B2 (en) 2010-05-02 2016-03-01 Nervive, Inc. Modulating function of neural structures near the ear
KR20110123831A (ko) 2010-05-10 2011-11-16 주식회사 씨알테크놀러지 자기 자극 치료법의 유효성을 확인하기 위한 의사 자기 자극기
US8725270B2 (en) 2010-06-08 2014-05-13 Arizona Board Of Regents Apparatus, systems, and methods for neurostimulation and neurotelemetry using semiconductor diode systems
WO2011163264A2 (en) 2010-06-21 2011-12-29 Candela Corporation Driving microneedle arrays into skin and delivering rf energy
US9272139B2 (en) 2010-07-01 2016-03-01 Marilyn J. Hamilton Universal closed-loop electrical stimulation system
US10588684B2 (en) 2010-07-19 2020-03-17 Covidien Lp Hydraulic conductivity monitoring to initiate tissue division
US8676338B2 (en) 2010-07-20 2014-03-18 Zeltiq Aesthetics, Inc. Combined modality treatment systems, methods and apparatus for body contouring applications
WO2012014192A2 (en) 2010-07-25 2012-02-02 Syneron Medical Ltd. A method and apparatus for measuring the thickness of adipose tissue
US8646239B2 (en) 2010-08-04 2014-02-11 John David Rulon Modular building block building system
EP2611500A4 (en) 2010-09-05 2014-03-12 Venus Concept Ltd SELF-OPERATED AESTHETIC DEVICE WITH ONE SUBSTRATE
AU2011305581B2 (en) 2010-09-20 2016-05-05 Emkinetics, Inc. Method and apparatus for transdermal stimulation over the palmar and plantar surfaces
WO2012048302A2 (en) 2010-10-07 2012-04-12 Biomobie Corp. Handheld excitation terminal and emf emitter providing dynamic optimization of emission and therapeutic effect and remote therapeutic system
CN201906360U (zh) 2010-10-09 2011-07-27 李明宙 双模式刺激治疗仪
US8523754B2 (en) 2010-10-29 2013-09-03 Laurie A. Bechler Multi-polar magnetic devices for treating patients and methods therefor
WO2012063236A1 (en) 2010-11-12 2012-05-18 Syneron Medical Ltd. Method and device for soft tissue treatment
GB2486400B (en) 2010-11-20 2016-02-10 Pulse Medical Technologies Ltd Device for generating magnetic fields
US9233257B1 (en) 2010-11-22 2016-01-12 Jacob Zabara Electromagnetic radiation treatment
US8684901B1 (en) 2010-11-22 2014-04-01 Jacob Zabara Electromagnetic radiation treatment for cancer and pathological genetic regulations
US9433781B2 (en) 2010-12-03 2016-09-06 Syneron Medical Ltd. Method and apparatus for improving electrode-skin contact
KR20130127478A (ko) 2010-12-03 2013-11-22 싸이노슈어, 인코포레이티드 고열 치료에 의한 비침습적 지방 감소
GB201021032D0 (en) 2010-12-10 2011-01-26 Creo Medical Ltd Electrosurgical apparatus
US9610429B2 (en) 2010-12-29 2017-04-04 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Methods and devices for activating brown adipose tissue with targeted substance delivery
WO2013115756A2 (en) 2010-12-29 2013-08-08 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Methods and devices for activating brown adipose tissue with cooling
ES2555135T3 (es) 2011-01-21 2015-12-29 Cosmosoft Dispositivo para la emisión de un campo magnético
US10722395B2 (en) 2011-01-25 2020-07-28 Zeltiq Aesthetics, Inc. Devices, application systems and methods with localized heat flux zones for removing heat from subcutaneous lipid-rich cells
EP2667811B1 (en) 2011-01-27 2015-12-30 Cryosa, Llc Apparatus for treatment of obstructive sleep apnea utilizing cryolysis of adipose tissues
US20140031605A1 (en) 2011-02-02 2014-01-30 Universite Laval Method and Use of Peripheral Theta-Burst Stimulation (PTBS) for Improving Motor Impairment
WO2012119293A1 (zh) 2011-03-04 2012-09-13 Zhao Zhigang 一种光电磁疗复合电极及带有该电极的光电磁治疗仪
US10413349B2 (en) 2011-03-04 2019-09-17 Covidien Lp System and methods for identifying tissue and vessels
DE102011014291A1 (de) 2011-03-17 2012-09-20 Magic Race Llc Vorrichtung zur extrakorporalen magnetischen Innervation
EP2686067B1 (en) 2011-03-17 2016-05-18 Photopill Medical Ltd. Capsule phototherapy
US20140128780A1 (en) 2011-04-01 2014-05-08 Syneron Beauty Ltd Treatment Device
KR101106834B1 (ko) 2011-04-08 2012-01-19 황주영 오심·구토 제어용 저주파 전기 자극 신호 발생장치
DE102011018470B4 (de) 2011-04-18 2013-01-10 Otto Bock Healthcare Gmbh Bandage und Elektrodensystem
WO2012170909A1 (en) 2011-06-10 2012-12-13 The Research Foundation Of State University Of New York Method and device for non-invasive acoustic stimulation of stem cells and progenitor cells in a patient
US8731657B1 (en) 2011-07-05 2014-05-20 TAMA Research Corp. Multi-mode microcurrent stimulus system with safety circuitry and related methods
KR102068728B1 (ko) 2011-07-10 2020-01-21 가이디드 테라피 시스템스, 엘.엘.씨. 초음파 치료를 위한 방법 및 시스템
WO2013012948A1 (en) 2011-07-18 2013-01-24 Cervel Neurotech, Inc. Concurrent stimulation of deep and superficial brain regions
KR101233287B1 (ko) 2011-07-22 2013-02-14 포텍마이크로시스템(주) 물리치료기
KR101233286B1 (ko) 2011-07-22 2013-02-14 포텍마이크로시스템(주) 물리치료기
KR20140049550A (ko) 2011-08-09 2014-04-25 시네론 뷰티 리미티드 피부 미용 케어를 위한 방법 및 장치
CN102319141B (zh) 2011-08-23 2014-08-13 广州贝伽电子科技有限公司 一种除去人体脂肪的减肥仪
CA2846094C (en) 2011-08-26 2017-06-20 Actium BioSystems, LLC Apparatus for the generation of an energy field for the treatment of cancer in body cavities and parts that are cavity-like
EP2564894B1 (en) * 2011-09-05 2015-11-18 Venus Concept Ltd A device for cosmetic improvement of the skin
WO2013035088A1 (en) 2011-09-05 2013-03-14 Venus Concept Ltd Apparatus and method for selective heating of a tissue
EP2564895B1 (en) 2011-09-05 2015-11-18 Venus Concept Ltd An improved esthetic device for beautifying skin
US9782324B2 (en) 2011-09-15 2017-10-10 Sigma Instruments Holdings, Llc System and method for treating skin and underlying tissues for improved health, function and/or appearance
US20140249355A1 (en) 2011-10-20 2014-09-04 Bioelectronics Corp. Pulsed electromagnetic field device with adhesive applicator
KR101415141B1 (ko) 2011-10-28 2014-07-04 주식회사 리메드 감압 방식의 발열체의 냉각 장치
KR101292289B1 (ko) 2011-10-28 2013-08-21 주식회사 씨알테크놀러지 초점 스윕형 경두개 자기 자극 장치 및 경두개 자기 자극 방법
EP2773424A4 (en) 2011-11-04 2015-10-28 Ivivi Health Sciences Llc METHOD AND DEVICE FOR THE ELECTROMAGNETIC TREATMENT OF COGNITIVE IMPAIRATIONS AND NEUROLOGICAL INJURIES
RU2496532C2 (ru) 2011-11-07 2013-10-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Рязанский государственный радиотехнический университет" Способ формирования магнитотерапевтического воздействия и устройство для его осуществления
US9649502B2 (en) 2011-11-14 2017-05-16 Neosync, Inc. Devices and methods of low frequency magnetic stimulation therapy
WO2013074664A1 (en) 2011-11-14 2013-05-23 Kornstein Andrew Cryolipolyis device having a curved applicator surface
US9867996B2 (en) 2011-11-16 2018-01-16 Btl Holdings Limited Methods and systems for skin treatment
US20160220834A1 (en) 2011-11-16 2016-08-04 Btl Holdings Limited Method and system for skin treatment
CN116236338A (zh) 2011-11-16 2023-06-09 通用医疗公司 用于低温处理皮肤组织的方法和装置
US8548599B2 (en) 2011-11-16 2013-10-01 Btl Holdings Limited Methods and systems for subcutaneous treatments
PL2780080T3 (pl) 2011-11-16 2018-04-30 Btl Holdings Limited Układy do terapii tkanki podskórnej
US20130123765A1 (en) 2011-11-16 2013-05-16 Btl Holdings Limited Methods and systems for subcutaneous treatments
JP6046158B2 (ja) 2011-11-16 2016-12-14 ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション 皮膚組織の低温処置のための方法及び装置
US20130131764A1 (en) 2011-11-18 2013-05-23 P. Eric Grove Cool fat burner
US9414759B2 (en) 2011-12-06 2016-08-16 Imris Inc. Surface electrode design that can be left in place during MR imaging
US8728064B2 (en) 2011-12-12 2014-05-20 Candela Corporation Devices for the treatment of biological tissue
US20130172871A1 (en) 2011-12-28 2013-07-04 Josef LUZON Skin treatment device
EP2614807B1 (en) 2012-01-11 2018-06-06 Syneron Medical Ltd. Large area body shaping applicator
WO2013105079A2 (en) 2012-01-11 2013-07-18 Syneron Medical Ltd. Large area body shaping applicator
WO2013116235A1 (en) 2012-01-30 2013-08-08 THE UNITED STATES OF AMERICA, as represented by THE SECRETARY, DEPT OF HEALTH & HUMAN SERVICES Promoting transcranial direct current stimulation or transcranial magnetic stimulation using temperature-induced synaptic modulation
WO2013114366A1 (en) 2012-01-31 2013-08-08 Friedman, Itzhak High pressure ballistic extracorporeal shockwave device, system and method of use
WO2013116013A1 (en) 2012-02-02 2013-08-08 The United States Government, As Represented By The Department Of Veterans Affairs Integrated surface stimulation device for pain management and wound therapy
ITRE20120010A1 (it) 2012-02-16 2013-08-17 Mantis S R L Metodo e circuito per la generazione di un campo magnetico pulsato per un dispositivo elettromedicale
ITRE20120011A1 (it) 2012-02-16 2013-08-17 Mantis S R L Dispositivo elettromedicale
US9084665B2 (en) 2012-02-23 2015-07-21 Dynatronics Corporation Systems and methods for providing a thermo-electro-stimulation probe device
US9044595B2 (en) 2012-03-05 2015-06-02 Heidi Araya System and method for reducing lipid content of adipocytes in a body
DE202012002278U1 (de) 2012-03-08 2012-06-26 Friedemann Lotsch Gerät für die Kryolipolyse
CA2867774A1 (en) 2012-04-06 2013-10-10 Newport Brain Research Laboratory Inc. Rtms device
US20150088105A1 (en) 2012-04-18 2015-03-26 Afschin Fatemi Medical system for treating deep surface targets
CN202637725U (zh) 2012-04-20 2013-01-02 南京理工大学 一种动态可变多通道经颅磁刺激线圈阵列
CN102847231B (zh) 2012-04-20 2015-02-25 南京理工大学 一种动态可变多通道经颅磁刺激线圈阵列及其控制方法
US9261574B2 (en) 2012-05-02 2016-02-16 General Electric Company Structured RF coil assembly for MRI scanner
US20150133718A1 (en) 2012-05-03 2015-05-14 Cervel Neurotech, Inc. Hinged transcranial magnetic stimulation array for novel coil alignment
US10849784B2 (en) 2012-05-07 2020-12-01 Koninklijke Philips N.V. Radio-frequency system for skin treatment including a roller with an electrode and a method for skin treatment
DE102012012149A1 (de) 2012-06-20 2013-12-24 Quantenmedicine AG Verfahren und Vorrichtung für das maschinengestützte Beckenbodentraining
WO2013191699A1 (en) 2012-06-21 2013-12-27 Liliana Paez Cooling device for lipid-rich cell disruption
DE102012013534B3 (de) 2012-07-05 2013-09-19 Tobias Sokolowski Vorrichtung für repetitive Nervenstimulation zum Abbau von Fettgewebe mittels induktiver Magnetfelder
EP2802281B1 (en) 2012-07-09 2015-07-01 Koninklijke Philips N.V. Skin treatment method and apparatus
WO2014016820A2 (en) 2012-07-26 2014-01-30 Syneron Beauty Ltd A home-use cosmetic treatment device
JP6043686B2 (ja) 2012-08-10 2016-12-14 株式会社 Ｍｔｇ 美容器具
GB2504984A (en) 2012-08-16 2014-02-19 Quest Ion Pte Ltd Toning belt
CA2882299C (en) 2012-08-18 2023-09-19 Wright Therapy Products, Inc. Methods for determining the size of body parts as part of compression therapy procedures
US20140066786A1 (en) 2012-09-04 2014-03-06 Morteza Naghavi Method and Apparatus For Improved Wound Healing and Enhancement of Rehabilitation
KR101413022B1 (ko) 2012-09-14 2014-07-04 주식회사 리메드 자기장을 이용한 자극 치료기
KR101447532B1 (ko) 2012-09-14 2014-10-10 주식회사 리메드 자기장을 이용한 자극 치료기
US20140081359A1 (en) 2012-09-19 2014-03-20 Bruce J. Sand Enhanced light based lipoplasty
EP2911604B1 (en) 2012-10-24 2019-12-04 Biolase, Inc. Handpiece assembly for laser treatment device
KR101351356B1 (ko) 2012-12-18 2014-01-15 (주) 엠큐브테크놀로지 자기 자극기를 이용한 바이오피드백 장치 및 그 제어 방법
CN203169831U (zh) 2012-12-21 2013-09-04 广州赫尔玛思电子科技有限公司 电磁射频纤塑仪
RU2529471C2 (ru) 2012-12-28 2014-09-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физиологии им. И.П. Павлова Российской академии наук (ИФ РАН) Способ накожной электростимуляции спинного мозга
PL402395A1 (pl) 2013-01-08 2014-07-21 Kriosystem Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością Urządzenie do krioterapii z układem ważącym
KR101451891B1 (ko) 2013-01-22 2014-10-16 유니스파테크주식회사 금속 냉온 감압 피부 관리 장치
US9254394B2 (en) 2013-02-21 2016-02-09 Brainsway, Ltd. Central base coils for deep transcranial magnetic stimulation
US20140243933A1 (en) 2013-02-25 2014-08-28 Medos International Sarl Modulation of the Activity of Mitochondria in Brown Adipose Tissue By Photobiomodulation for the Treatment of Obesity
US8880196B2 (en) 2013-03-04 2014-11-04 Zoll Medical Corporation Flexible therapy electrode
US9026196B2 (en) 2013-03-05 2015-05-05 St. Jude Medical, Atrial Fibrillation Division, Inc. System and method for detecting sheathing and unsheathing of localization elements
CA2903974C (en) 2013-03-07 2020-09-22 The Cleveland Clinic Foundation Apparatus for treating a neuromuscular defect
US10835767B2 (en) 2013-03-08 2020-11-17 Board Of Regents, The University Of Texas System Rapid pulse electrohydraulic (EH) shockwave generator apparatus and methods for medical and cosmetic treatments
US9844460B2 (en) 2013-03-14 2017-12-19 Zeltiq Aesthetics, Inc. Treatment systems with fluid mixing systems and fluid-cooled applicators and methods of using the same
WO2014152868A1 (en) 2013-03-14 2014-09-25 Cynosure, Inc. Current delivery systems, apparatuses and methods
US9545523B2 (en) 2013-03-14 2017-01-17 Zeltiq Aesthetics, Inc. Multi-modality treatment systems, methods and apparatus for altering subcutaneous lipid-rich tissue
US20150366611A1 (en) 2013-03-14 2015-12-24 Syneron Medical Ltd Skin treatment apparatus
US20140276693A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Palomar Medical Technologies, Llc Treatment of tissue
WO2014151431A2 (en) 2013-03-15 2014-09-25 Emkinetics, Inc. Method and apparatus for transdermal stimulation over the palmar and plantar surfaces
DK2968883T3 (en) 2013-03-15 2019-01-21 Carewear Corp Light and Ultrasonic Conversion Unit
WO2014149021A2 (en) 2013-03-15 2014-09-25 Cynosure, Inc. Non-invasive fat reduction by hyperthermic treatment
WO2014161000A1 (en) 2013-03-29 2014-10-02 Neurometrix, Inc. Detecting cutaneous electrode peeling using electrode-skin impedance
EP2982411B1 (en) 2013-04-02 2019-05-08 Teijin Pharma Limited Magnetic stimulation device
US10780291B2 (en) 2013-06-03 2020-09-22 Nexstim Oyj mTMS coil device with overlapping coil windings
US9072891B1 (en) 2013-06-04 2015-07-07 Dantam K. Rao Wearable medical device
CA2915077C (en) 2013-06-17 2022-06-14 Adi Mashiach Dynamic modification of modulation throughout a therapy period
DE102013211859B4 (de) 2013-06-21 2015-07-16 Technische Universität München Magnetstimulator zur Stimulation eines Gewebes durch ein Magnetfeld
EP3013420B1 (en) 2013-06-24 2021-09-15 ZetrOZ Systems, LLC Wearable ultrasound device
PL2916906T3 (pl) 2013-06-28 2018-03-30 Koc Universitesi Urządzenie do elektrostymulacji
WO2015012672A1 (ru) 2013-07-22 2015-01-29 Товарищество С Ограниченной Ответственностью "Фармацевтическая Компания "Ромат" Магнитоимпульсный корректор (варианты)
KR101755657B1 (ko) 2013-07-26 2017-07-10 부산대학교 산학협력단 강한 자기장을 이용한 저주파 전기자극시 발생되는 피부의 통증을 완화시키는 자기장 인가장치
KR101487850B1 (ko) 2013-08-08 2015-02-02 (주)클래시스 냉각을 이용한 비만치료 장치
US9168096B2 (en) 2013-09-09 2015-10-27 Invasix Corp. System and method for tissue treatment using non-symmetric radio-frequency energy waveform
DE102013110984B3 (de) 2013-10-02 2015-04-02 Pierenkemper Gmbh Vorrichtung zur Elektrostimulation sowie Verfahren zur Ansteuerung von mehreren Elektroden in einer Vorrichtung zur Elektrostimulation
ES2533145B1 (es) 2013-10-03 2016-07-12 Clinipro, S. L. Procedimiento cosmético para reducir el tejido adiposo subcutáneo
WO2015052705A1 (en) 2013-10-09 2015-04-16 Venus Concept Ltd Integrated treatment system
KR101622143B1 (ko) * 2013-10-30 2016-05-18 주식회사 화니메디칼 피부 조직의 치료 또는 피하 지방 제거를 위한 고주파 자극 장치
KR101511444B1 (ko) 2013-10-30 2015-04-10 주식회사 리메드 헤드기어 타입의 tms 치료기
JP2015085137A (ja) 2013-11-01 2015-05-07 株式会社東芝 磁気共鳴イメージング装置
WO2015069629A1 (en) 2013-11-06 2015-05-14 Terry Ward Cellulite and fat reducing device and method utilizing optical emitters
JP5771261B2 (ja) 2013-12-03 2015-08-26 株式会社Ｉｆｇ 医療用連発磁気パルス発生装置
US10143861B2 (en) 2013-12-13 2018-12-04 Guided Therapy Systems, Llc System and method for non-invasive treatment with improved efficiency
US9849301B2 (en) 2014-01-15 2017-12-26 Neuronetics, Inc. Magnetic stimulation coils and ferromagnetic components for reduced surface stimulation and improved treatment depth
WO2015117026A2 (en) 2014-01-31 2015-08-06 Zeltiq Aesthetics, Inc. Treating systems and methods for treating cellulite and providing other treatments
KR101539633B1 (ko) 2014-02-06 2015-07-27 정상문 다기능 치료장치
US20150223975A1 (en) 2014-02-12 2015-08-13 The General Hospital Corporation Method and apparatus for affecting pigmentation of tissue
US10237962B2 (en) 2014-02-26 2019-03-19 Covidien Lp Variable frequency excitation plasma device for thermal and non-thermal tissue effects
KR20150106379A (ko) 2014-03-11 2015-09-21 송재훈 피부 쿨링 장치 및 방법
WO2015137733A1 (ko) 2014-03-11 2015-09-17 송재훈 피부 쿨링 장치 및 방법
EP3125986B1 (en) 2014-04-02 2019-03-06 University of Maryland, Baltimore Systems for controlling magnetic fields and magnetic field induced current
EP3129100A4 (en) 2014-04-11 2017-10-18 Bioelectronics Corp. Electromagnetic therapy device and methods
GB201406604D0 (en) 2014-04-11 2014-05-28 Zeez Technology Ltd Therapeutic field generator
US20150297909A1 (en) 2014-04-17 2015-10-22 Thomas J. Peashock Apparatus for assisting with the physiological recovery from fatigue, stress or injury
US10195454B2 (en) 2014-05-05 2019-02-05 Patsy Yamashiro Use of magnetic stimulation to modulate muscle contraction
KR102386264B1 (ko) 2014-05-20 2022-04-13 일렉트로코어, 엘엘씨 휴대 장치를 통한 비 침습성 신경 자극
WO2015184447A1 (en) 2014-05-30 2015-12-03 Cervel Neurotech, Inc. Control of spike-timing dependent brain network placticity via multi-coil transcranial magnetic stimulation
WO2015187870A1 (en) 2014-06-03 2015-12-10 Vomaris Innovations, Inc. Methods and devices for treating the skin
US20150360045A1 (en) 2014-06-13 2015-12-17 Zygood, Llc Electrical pulse generator to create magnetic pulses for the treatment of pain
GB2530475A (en) 2014-06-20 2016-03-30 Stefan M Goetz Device and method for quiet magnetic neurostimulation
US20150375005A1 (en) 2014-06-30 2015-12-31 BrainQ Technologies Ltd. Therapeutic electromagnetic field
KR101660830B1 (ko) 2014-07-16 2016-09-29 피에스케이 주식회사 이중 플라즈마 소스를 이용한 플라즈마 생성 장치 및 그를 포함하는 기판 처리 장치
US9649148B2 (en) 2014-07-24 2017-05-16 Arthrocare Corporation Electrosurgical system and method having enhanced arc prevention
US9884199B2 (en) 2014-08-11 2018-02-06 Minnesota Medical Physics Llc Methods and apparatus for treatment of chronic kidney disease
US20160045755A1 (en) 2014-08-18 2016-02-18 Donghoon CHUN Apparatus, system and method for treating fat tissue
US10568759B2 (en) 2014-08-19 2020-02-25 Zeltiq Aesthetics, Inc. Treatment systems, small volume applicators, and methods for treating submental tissue
DE102014112548A1 (de) 2014-09-01 2016-03-03 Logicdata Electronic & Software Entwicklungs Gmbh Arbeitsplatzstuhlsystem und Verfahren zur Justierung und Benutzung eines Arbeitsplatzstuhlsystems
US20160066994A1 (en) 2014-09-09 2016-03-10 Erchonia Corporation Non-Invasive Method for Slimming a Human Body Using Two Wavelngths of Laser Energy Concurrently
WO2016048721A1 (en) 2014-09-25 2016-03-31 Zeltiq Aesthetics, Inc. Treatment systems, methods, and apparatuses for altering the appearance of skin
US10675819B2 (en) 2014-10-03 2020-06-09 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic field alignment of emulsions to produce porous articles
US10251756B2 (en) 2014-10-21 2019-04-09 Tecres S.P.A. Prosthesis for a shoulder articulation
US20160129273A1 (en) 2014-11-07 2016-05-12 Sam Boong Park Pulsed electromagnetic therapy device with combined energy delivery
US20160129274A1 (en) 2014-11-10 2016-05-12 Sam Boong Park Wearable energy delivery system
US9967838B2 (en) 2014-11-21 2018-05-08 Apple Inc. Network synchronization for system configuration exchanges
GB2534369A (en) 2015-01-20 2016-07-27 The Magstim Company Ltd Magnetic field shielding arrangement for a magnetic stimulation (MS) coil
EP3250285B1 (en) 2015-01-26 2020-02-26 Cymedica Orthopedics, Inc. Patient therapy systems
SI24921A (sl) 2015-02-10 2016-08-31 Iskra Medical D.O.O. Naprava za magnetno živčno mišično stimulacijo z večjim številom neodvisnih tuljav nameščenih v aplikatorju
US10556121B2 (en) 2015-02-20 2020-02-11 Endonovo Therapeutics, Inc. Method and apparatus for electromagnetic treatment of multiple sclerosis
US10376145B2 (en) 2015-02-24 2019-08-13 Elira, Inc. Systems and methods for enabling a patient to achieve a weight loss objective using an electrical dermal patch
NL2014356B1 (en) 2015-02-26 2017-01-17 Louis Biesbrouck Electrical body stimulator cushion device, a medical or therapeutic device comprising same and use thereof in a method of therapy.
EP3061494A1 (en) 2015-02-27 2016-08-31 Nihon Kohden Corporation Link mechanism for arm portion
AU2015384447A1 (en) 2015-02-27 2017-08-24 Mtg Co., Ltd. Muscle electrical stimulation device
US9962553B2 (en) 2015-03-04 2018-05-08 Btl Holdings Limited Device and method for contactless skin treatment
JP2016163663A (ja) 2015-03-06 2016-09-08 株式会社 Ｍｔｇ 筋肉電気刺激装置
FI20155181A (fi) 2015-03-17 2016-09-18 Cryotech Nordic Oü Käsikappalekokonaisuus kosmeettisessa hoidossa käytettyä laitetta varten
US20160317346A1 (en) 2015-04-28 2016-11-03 Zeltiq Aesthetics, Inc. Systems and methods for monitoring cooling of skin and tissue to identify freeze events
US20170001029A1 (en) 2015-07-01 2017-01-05 Btl Holdings Limited Methods for controlling a magnetic stimulation device
US20170001024A1 (en) 2015-07-01 2017-01-05 Btl Holdings Limited High power time varying magnetic field therapy
US9919161B2 (en) 2015-07-01 2018-03-20 Btl Holdings Limited Method of neural structure stimulation by magnetic field
US9636519B2 (en) 2015-07-01 2017-05-02 Btl Holdings Limited Magnetic stimulation methods and devices for therapeutic treatments
US20170001025A1 (en) 2015-07-01 2017-01-05 Btl Holdings Limited Aesthetic method of biological structure stimulation by magnetic field
US11491342B2 (en) 2015-07-01 2022-11-08 Btl Medical Solutions A.S. Magnetic stimulation methods and devices for therapeutic treatments
US10124187B2 (en) * 2015-04-28 2018-11-13 Btl Holdings Limited Combination of radiofrequency and magnetic treatment methods
US11129982B2 (en) 2015-05-15 2021-09-28 Dasyo Technology Ltd Apparatus and method of non-invasive directional tissue treatment using radiofrequency energy
US10610696B1 (en) 2015-05-31 2020-04-07 Yona Peled Apparatus and method for treating biological tissue
US20180125416A1 (en) 2016-11-07 2018-05-10 Btl Holdings Limited Apparatus and method for treatment of biological structure
US10549109B2 (en) 2015-07-01 2020-02-04 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US11266850B2 (en) 2015-07-01 2022-03-08 Btl Healthcare Technologies A.S. High power time varying magnetic field therapy
US10549110B1 (en) 2015-07-01 2020-02-04 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10695575B1 (en) 2016-05-10 2020-06-30 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10245439B1 (en) 2015-07-01 2019-04-02 Medical Technologies Cz A.S. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US9974519B1 (en) 2015-07-01 2018-05-22 Btl Holdings Limited Aesthetic method of biologoical structure treatment by magnetic field
US20180001107A1 (en) * 2016-07-01 2018-01-04 Btl Holdings Limited Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10569094B2 (en) 2015-07-01 2020-02-25 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10695576B2 (en) 2015-07-01 2020-06-30 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10709894B2 (en) 2015-07-01 2020-07-14 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10478633B2 (en) 2015-07-01 2019-11-19 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10478634B2 (en) 2015-07-01 2019-11-19 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US20170106201A1 (en) 2015-07-01 2017-04-20 Btl Holdings Limited Combination of magnetic and electromagnetic treatment method
US10821295B1 (en) 2015-07-01 2020-11-03 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10569095B1 (en) 2015-07-01 2020-02-25 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US9937358B2 (en) 2015-07-01 2018-04-10 Btl Holdings Limited Aesthetic methods of biological structure treatment by magnetic field
US10471269B1 (en) 2015-07-01 2019-11-12 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US20170001030A1 (en) 2015-07-01 2017-01-05 Btl Holdings Limited Magnetic stimulation device and methods
KR101673182B1 (ko) 2015-07-30 2016-11-07 주식회사 리메드 자기장을 이용하는 의료 장치
ES2865324T3 (es) 2015-09-15 2021-10-15 I Lumen Scient Inc Aparato para terapia de estimulación ocular por microcorriente
CN106540375B (zh) 2015-09-18 2019-03-12 乐慈元（武汉）生物科技发展有限公司 一种对人体美容、除皱的磁力装置及其美容方法
US9636516B2 (en) 2015-09-30 2017-05-02 Btl Holdings Limited Methods and devices for tissue treatment using shock waves and electromagnetic field
US10080906B2 (en) 2015-09-30 2018-09-25 Btl Holdings Limited Methods and devices for tissue treatment using mechanical stimulation and electromagnetic field
US11484724B2 (en) 2015-09-30 2022-11-01 Btl Medical Solutions A.S. Methods and devices for tissue treatment using mechanical stimulation and electromagnetic field
FR3041881A1 (fr) 2015-10-02 2017-04-07 Deleo Sas Applicateur destine a effectuer un traitement non invasif de reduction des graisses par le froid
US11154418B2 (en) 2015-10-19 2021-10-26 Zeltiq Aesthetics, Inc. Vascular treatment systems, cooling devices, and methods for cooling vascular structures
US11253717B2 (en) 2015-10-29 2022-02-22 Btl Healthcare Technologies A.S. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
RU2645923C2 (ru) 2015-12-01 2018-02-28 Закрытое акционерное общество "ОКБ "РИТМ" Способ адаптивного воздействия на живой организм (варианты)
GB201521133D0 (en) 2015-12-01 2016-01-13 Magstim The Company Ltd Auxilliary magnetic stimulation (MS) coil arrangement and system
CN114796856A (zh) 2015-12-16 2022-07-29 保隆恩有限公司 用于人体粘膜组织的美容治疗的装置和方法
ITUB20159823A1 (it) 2015-12-31 2017-07-01 Mantis S R L Apparecchiatura elettromedicale per il trattamento del corpo umano e procedimento di trattamento mediante detta apparecchiatura
US20200330782A1 (en) 2016-01-04 2020-10-22 Jacob Zabara Electromagnetic radiation treatment
US10729914B2 (en) 2016-01-04 2020-08-04 Jacob Zabara Electromagnetic radiation treatment
WO2017120538A1 (en) 2016-01-07 2017-07-13 Zeltiq Aesthetics, Inc. Temperature-dependent adhesion between applicator and skin during cooling of tissue
KR101891154B1 (ko) 2016-01-29 2018-08-23 이영규 가정용 tms 의료 기기
US10765552B2 (en) 2016-02-18 2020-09-08 Zeltiq Aesthetics, Inc. Cooling cup applicators with contoured heads and liner assemblies
US10398906B2 (en) 2016-03-10 2019-09-03 Kosivana Holdings Limited Systems and methods for pain treatment using spinal nerve magnetic stimulation
KR101794269B1 (ko) 2016-03-15 2017-11-08 주식회사 엔씨바이오 의료용 저온기
KR101650155B1 (ko) 2016-03-17 2016-08-22 정성재 냉동 지방 분해 장치 및 그 제어 방법
EP3435936B1 (fr) 2016-03-31 2023-11-08 Deleo Systeme de reduction d'amas graisseux localises par le froid, applicateur pour un tel systeme et procede de traitement non invasif de reduction des graisses par le froid
AT518082B1 (de) 2016-03-31 2017-07-15 Gerhard Kunze Dr Klimatisierung durch Mehrphasen-Plattenwärmetauscher
US10905584B2 (en) 2016-04-04 2021-02-02 Air Products And Chemicals, Inc. Indirectly cooled cryotherapy apparatus and method
GB2549762A (en) 2016-04-28 2017-11-01 The Magstim Company Ltd Magnetic stimulation coil arrangement
US11247039B2 (en) 2016-05-03 2022-02-15 Btl Healthcare Technologies A.S. Device including RF source of energy and vacuum system
US11464993B2 (en) 2016-05-03 2022-10-11 Btl Healthcare Technologies A.S. Device including RF source of energy and vacuum system
US10195453B2 (en) 2016-05-03 2019-02-05 Btl Holdings Limited Device including RF source of energy and vacuum system
US10682297B2 (en) 2016-05-10 2020-06-16 Zeltiq Aesthetics, Inc. Liposomes, emulsions, and methods for cryotherapy
US20170326346A1 (en) 2016-05-10 2017-11-16 Zeltiq Aesthetics, Inc. Permeation enhancers and methods of cryotherapy
US11382790B2 (en) 2016-05-10 2022-07-12 Zeltiq Aesthetics, Inc. Skin freezing systems for treating acne and skin conditions
WO2017196548A1 (en) 2016-05-10 2017-11-16 Zeltiq Aesthetics, Inc. Skin freezing systems for treating acne and skin conditions
US10555831B2 (en) 2016-05-10 2020-02-11 Zeltiq Aesthetics, Inc. Hydrogel substances and methods of cryotherapy
US10709895B2 (en) 2016-05-10 2020-07-14 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
US10583287B2 (en) 2016-05-23 2020-03-10 Btl Medical Technologies S.R.O. Systems and methods for tissue treatment
CA3025213A1 (en) * 2016-05-25 2017-11-30 Samuel Victor Lichtenstein System for treating unwanted tissue
EP3463132A4 (en) 2016-06-03 2020-01-22 R2 Dermatology, Inc. COOLING SYSTEMS AND METHODS FOR SKIN TREATMENT
GB201609981D0 (en) 2016-06-08 2016-07-20 Magstim The Company Ltd Magnetic stimulation coil arrangement
GB2551171B (en) 2016-06-08 2021-09-22 Feeligreen Sa Skin treatment device and method for producing said skin treatment device
US20200352633A1 (en) 2016-07-01 2020-11-12 Cynosure, Llc Non-invasive, uniform and non-uniform rf methods and systems related applications
US10556122B1 (en) 2016-07-01 2020-02-11 Btl Medical Technologies S.R.O. Aesthetic method of biological structure treatment by magnetic field
CA3029237A1 (en) 2016-07-01 2018-01-04 Cynosure, Inc. Non-invasive, uniform and non-uniform rf methods and systems
GB2552004A (en) 2016-07-06 2018-01-10 The Magstim Company Ltd Magnetic stimulation coil arrangment including coolant leak detector
EP3481495A4 (en) 2016-07-07 2020-04-29 Venus Concept Ltd Aesthetic device useful for increasing skin rejuvenation and method therefor
JP6840487B2 (ja) 2016-07-27 2021-03-10 株式会社ブラウニー 電磁誘導加熱装置及び電磁誘導加熱システム
JP6784092B2 (ja) 2016-08-10 2020-11-11 Smk株式会社 生体用電極及び生体用電極付き着用具
US11141219B1 (en) 2016-08-16 2021-10-12 BTL Healthcare Technologies, a.s. Self-operating belt
JP2019531168A (ja) 2016-08-30 2019-10-31 ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション 細胞組織治療のための凍結療法および凍結切除システムおよび方法
DE102016116399A1 (de) 2016-09-01 2018-03-01 Iskra Medical D.O.O. Sitz- oder Liegevorrichtung für eine Magnetfeldtherapie
US20180103991A1 (en) 2016-10-18 2018-04-19 Btl Holdings Limited Device and method for tissue treatment by combination of energy and plasma
US10786382B2 (en) 2016-10-25 2020-09-29 Jargalsaikhan Shagdar Multifunctional vest for posture correcting, pain relieving and workout boosting
KR20190085006A (ko) 2016-11-08 2019-07-17 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 얼굴 치료 및 변형 감지의 시스템들 및 방법들
KR101904778B1 (ko) 2016-11-25 2018-10-05 주식회사 리메드 의료 장치
TW201825045A (zh) * 2016-11-28 2018-07-16 美商脫其泰有限責任公司 利用表皮電子裝置監測和治療疼痛
RU2019119439A (ru) 2016-12-23 2021-01-26 ДжиЭсКей Консьюмер Хелткер С.А. "Интеллектуальный" электродный узел для транскутанной электрической стимуляции нервов (ТЭСН)
ES2767629T3 (es) 2016-12-27 2020-06-18 Suvaddhana Sarin Loap Procedimiento de reducción de tejidos adiposos por criotermogénesis sin temblor
FR3061012B1 (fr) 2016-12-27 2020-02-14 Deleo Procede de reduction d'un volume graisseux sous-cutane par le froid utilisant un actif anticellulite
US11617615B2 (en) 2017-01-19 2023-04-04 Bios S.R.L. Apparatus and cosmetic method for body orifice remodeling
KR20180092020A (ko) 2017-02-08 2018-08-17 대양의료기(주) 고주파 및 저주파 복합 치료 장치 및 그 방법
US20180229048A1 (en) 2017-02-15 2018-08-16 Btl Holdings Limited Method and device for body fluid stimulation
JP6810278B2 (ja) 2017-03-16 2021-01-06 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーＴｈｅ Ｐｒｏｃｔｅｒ ＆ Ｇａｍｂｌｅ Ｃｏｍｐａｎｙ スキンケアアプリケータ
US20180263677A1 (en) 2017-03-16 2018-09-20 Zeltiq Aesthetics, Inc. Adhesive liners for cryotherapy
WO2018175111A1 (en) 2017-03-21 2018-09-27 Zeltiq Aesthetics, Inc. Use of saccharides for cryoprotection and related technology
US11896823B2 (en) 2017-04-04 2024-02-13 Btl Healthcare Technologies A.S. Method and device for pelvic floor tissue treatment
US10039929B1 (en) 2017-04-04 2018-08-07 BLT Holdings Limited Method and device for pelvic floor tissue treatment
US11076879B2 (en) 2017-04-26 2021-08-03 Zeltiq Aesthetics, Inc. Shallow surface cryotherapy applicators and related technology
WO2018208992A1 (en) 2017-05-09 2018-11-15 Nalu Medical, Inc. Stimulation apparatus
US20190000529A1 (en) 2017-06-28 2019-01-03 Cutera, Inc. System for controlling activation of multiple applicators for tissue treatment
US20200237424A1 (en) 2017-06-28 2020-07-30 Cutera, Inc. System and methods for controlling activation of multiple applicators for tissue treatment
KR20200024241A (ko) 2017-06-30 2020-03-06 알2 더마톨로지, 인크. 노즐들의 선형 어레이를 갖는 피부 과학적 냉동 스프레이 디바이스들 및 사용 방법들
IL253677B2 (en) 2017-07-26 2023-06-01 Epitech Mag Ltd A magnetic device for the treatment of living tissues
EP3434323B1 (de) 2017-07-29 2020-04-08 Hanno Voigt Vorrichtung zur funktionalen elektrischen stimulation unter wasser
CH714113A2 (it) 2017-09-04 2019-03-15 Periso Sa Dispositivo a scopo terapeutico che emette campi magnetici interagenti con segnali a radiofrequenza.
JP6911121B2 (ja) 2017-11-13 2021-07-28 ヤーマン株式会社 美容マスク
US11839756B2 (en) 2017-12-04 2023-12-12 Atlantic Therapeutics Group Limited Conductive circuit
WO2019118709A1 (en) 2017-12-15 2019-06-20 Life Care Medical Devices Limited Skin wrinkle treatment
DK179927B1 (en) 2017-12-18 2019-10-09 Innocon Medical Aps SYSTEM FOR ELECTRICAL STIMULATION OF NERVES
US11291499B2 (en) 2017-12-26 2022-04-05 Inmode Ltd. Device and method for treatment of sleep disorders
US10625077B2 (en) 2017-12-26 2020-04-21 Med Sapiens Co., LTD Portable body slimmer to stimulate core muscle with Russian current
KR200491572Y1 (ko) 2018-01-02 2020-05-04 비티엘 메디컬 테크놀로지스 에스.알.오. 환자의 치료를 위한 자기장 생성 장치
DE102018101394A1 (de) 2018-01-23 2019-07-25 Prof. Dr. Fischer AG Magnetfeldapplikator mit einem rampenförmigen Signalverlauf der verwendeten Spulenströme
KR102000971B1 (ko) 2018-01-24 2019-07-17 주식회사 리메드 체외 치료기
AU2019214592B2 (en) 2018-02-05 2024-05-02 Brainsway Ltd. Electromagnetic coil assembly
US11000693B2 (en) 2018-02-20 2021-05-11 Neuronetics, Inc. Magnetic stimulation coils and ferromagnetic components for treatment and diagnostic procedures
IT201800003075A1 (it) 2018-02-27 2019-08-27 Fremslife S R L Apparato elettrostimolatore
US20200398068A1 (en) 2018-03-13 2020-12-24 Augmented Bionics Pty Ltd Sensory stimulation apparatus
US11207541B2 (en) 2018-03-23 2021-12-28 Regenesis Biomedical, Inc. High-power pulsed electromagnetic field applicator systems
US11666775B2 (en) 2018-03-29 2023-06-06 Minnesota Medical Physics Llc Method and apparatus for treatment of benign prostatic hyperplasia (BPH)
US20190314629A1 (en) 2018-04-17 2019-10-17 Inmode Ltd. Method of adipose tissue treatment
US20190314638A1 (en) 2018-04-17 2019-10-17 Inmode Ltd. Rf device for skin and fat treatment
US11395925B2 (en) 2018-04-29 2022-07-26 Brian A. Gandel Device and method for inducing lypolysis in humans
KR101941863B1 (ko) 2018-05-15 2019-01-24 주식회사 지티지웰니스 전기 자극방식의 근육 운동기기
US20190350646A1 (en) 2018-05-16 2019-11-21 Inmode Ltd. Device for collagenous tissue treatment
FR3083123A1 (fr) 2018-06-29 2020-01-03 Ga. Promotion Procede et systeme de stimulation electrique neuro-musculaire
CN112867533A (zh) 2018-08-14 2021-05-28 神经触发有限公司 经皮颜面神经刺激的方法及设备及其应用
WO2020041502A1 (en) 2018-08-21 2020-02-27 The Regents Of The University Of California Transcutaneous electrical and/or magnetic spinal stimulation for bladder or bowel control in subjects without cns injury
US20200094066A1 (en) 2018-09-20 2020-03-26 Stephan HEATH SYSTEMS, APPARATUS, AND/OR METHODS UTILIZING LASER GENERATING PULSES OF LIGHT, PULSED SOUND FREQUENCIES AND/OR PULSED ELECTROMAGNETIC FIELDS (EMFs) FOR IMPROVING PROPER SYSTEMS, APPARATUS, AND/OR METHODS UTILIZING LASER GENERATING PULSES OF LIGHT, PULSED SOUND FREQUENCIES AND/OR PULSED ELECTROMAGNETIC FIELDS (EMFs) FOR IMPROVING PROPERTIES OR FUNCTIONS OF CELLS, TISSUES, PROTEINS, FATS, OR ORGANS IN VITRO, IN VIVO, OR IN SITU
US10828504B2 (en) 2018-10-12 2020-11-10 Edward L. Blenderman Wearable device that increases muscle strength
KR102170209B1 (ko) 2018-11-07 2020-10-26 주식회사 리메드 자기 자극 장치
KR102195670B1 (ko) 2018-11-15 2020-12-28 주식회사 리메드 펄스 자기장 자극 장치
KR102154771B1 (ko) 2018-11-15 2020-09-10 주식회사 리메드 의료용 자극 장치
KR102262560B1 (ko) 2018-11-15 2021-06-08 주식회사 리메드 자기 자극 장치
KR102199943B1 (ko) 2018-11-15 2021-01-11 주식회사 리메드 의료용 자극 장치
KR102170208B1 (ko) 2018-11-15 2020-10-26 주식회사 리메드 의료용 자극 장치
WO2020110050A1 (en) 2018-11-29 2020-06-04 Novocure Gmbh Enhanced-flexibility transducer arrays for delivering ttfields (tumor treating fields)
AU2019419411A1 (en) 2019-01-02 2021-08-05 Cynosure, Llc Non-invasive, uniform and non-uniform RF methods and systems related applications
HRPK20190078B3 (hr) 2019-01-11 2021-05-28 Synergotron D.O.O. Uređaj za neinvazivno tretiranje bolesti i stanja živih organizama
CA3130035A1 (en) 2019-02-28 2020-09-03 Bios S.R.L. Apparatus and method for fat and cellulite reduction using rf energy in combination with magnetic muscle thermostimulation (ems)
US11653971B2 (en) 2019-03-10 2023-05-23 Inmode Ltd. RF device for tissue treatment
EP3938034A1 (en) 2019-03-13 2022-01-19 Fabrizio ROGNONE Electromedical equipment for the treatment of skin aging and pathological areas of the human body
EP3941564A4 (en) 2019-03-18 2023-01-04 Exoneural Network AB MEDICAL THERAPY DEVICE FOR APPLYING ELECTRICAL STIMULATION TO A HUMAN OR ANIMAL SUBJECT
CA3116569C (en) 2019-04-11 2023-08-15 Btl Medical Technologies S.R.O. Methods and devices for aesthetic treatment of biological structures by radiofrequency and magnetic energy
US20200353273A1 (en) 2019-05-09 2020-11-12 Doug Zucco Method For Reducing Visceral Body Fat In Humans
AU2020290523A1 (en) 2019-06-12 2022-01-06 Truerelief, Llc System and method for delivering pulsed electric current to living tissue
WO2020264263A1 (en) 2019-06-27 2020-12-30 Biovisics Medical, Inc. Systems and interfaces for ocular therapy
KR102264077B1 (ko) 2019-07-01 2021-06-11 주식회사 리메드 의료용 네비게이션 장치
KR102228743B1 (ko) 2019-07-01 2021-03-17 주식회사 리메드 커패시터에 충전된 전하를 방전시키기 위한 수단을 가지는 의료용 장치
GB201910452D0 (en) 2019-07-22 2019-09-04 Remedius Ltd Electrode
BR112022009821A2 (pt) 2019-11-20 2022-08-02 Zeltiq Aesthetics Inc Ciclos de trabalho de alta frequência e baixa frequência alternados para estimulação muscular
US11464970B2 (en) 2020-03-15 2022-10-11 Inmode Ltd. Method for enhanced electro-muscle stimulation
US11717679B2 (en) 2020-05-20 2023-08-08 Pollogen Ltd. Apparatus and method for non-invasive fractional treatment of skin tissue
CN112221015A (zh) 2020-10-29 2021-01-15 广州猴晒蕾科技有限公司 一种通过电磁场分解脂肪组织的装置与方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995027533A1 (en) * 1994-04-12 1995-10-19 Australasian Medical Technology (Nz) Limited Orthotic devices incorporating pulsed electromagnetic field therapy
JPH09276418A (ja) * 1996-02-15 1997-10-28 Nippon Koden Corp 尿失禁治療装置
JP2003085523A (ja) * 2001-09-13 2003-03-20 Murata Mfg Co Ltd カードタイプ無線通信端末装置
JP2010063007A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Nec Tokin Corp 電磁誘導モジュール
US20130030239A1 (en) * 2010-01-11 2013-01-31 Thomas Weyh Magnetic stimulation having a freely selectable pulse shape
JP2013012285A (ja) * 2011-01-31 2013-01-17 Renesas Electronics Corp 半導体装置および半導体装置の制御方法
US20160015995A1 (en) * 2013-03-11 2016-01-21 The Regents Of The University Of California Portable transcutaneous magnetic stimulator and systems and methods of use thereof
JP2018187510A (ja) * 2013-11-11 2018-11-29 ニューロネティクス インコーポレイテッド 磁気刺激療法に関するパルシング磁場を監視するためのシステム
JP2018501927A (ja) * 2014-12-05 2018-01-25 イーニューラ インコーポレイテッド 片頭痛の頭痛の防止的処置のための方法およびシステム
US20180236254A1 (en) * 2015-07-01 2018-08-23 BTL Industries Ltd. Aesthetic Method of Biological Structure Treatment by Magnetic Field

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