JP2015228492A5 - 記憶装置 - Google Patents

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  1. センスアンプと、第1乃至第4のビット線と、メモリセルと、第1乃至第4のトランジスタと、を有し、
    前記第1乃至前記第4のビット線の各々は、前記センスアンプが設けられた層上に設けられ、
    前記メモリセルは、前記第1乃至前記第4のビット線が設けられた層上に設けられ、
    前記センスアンプは、少なくとも2層の導電体を有し、
    前記メモリセルは、第5のトランジスタと、容量素子と、を有し、
    前記第1乃至前記第4のビット線は、第1方向に隣り合う2列と第2方向に隣り合う2行とからなる2行2列に配置され、
    前記第2方向は、前記第1方向に垂直な方向であり、
    前記第1乃至前記第4のビット線の各々は、前記第2方向に延在する領域を有し
    前記第1乃至前記第4のビット線の各々、前第1乃至前記第4のトランジスタのうちの1つを介して前記センスアンプと電気的に接続されることを特徴とする記憶装置。
  2. 請求項において、
    第1及び第2のデータ線と、第6及び第7のトランジスタと、を有し、
    前記第1及び前記第2のデータ線の各々は、前記メモリセルが設けられた層上に設けられ、
    前記第1及び前記第2のデータ線の各々、前第6及び前記第7のトランジスタのうちの1つを介して前記センスアンプと電気的に接続されることを特徴とする記憶装置。
  3. 請求項1又は請求項2において、
    前記第5のトランジスタは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むことを特徴とする記憶装置。
  4. 複数のセンスアンプと、複数のビット線と、複数のメモリセルと、複数の第1トランジスタと、を有し、
    前記複数のビット線の各々は、前記複数のセンスアンプが設けられた層上に設けられ、
    前記複数のメモリセルの各々は、前記複数のビット線が設けられた層上に設けられ、
    前記複数のセンスアンプの各々は、少なくとも2層の導電体を有し、
    前記複数のメモリセルの各々、第トランジスタと、容量素子と、を有し、
    前記複数のビット線の各々は、第2方向に延在する領域を有し、
    前記第2方向に垂直な方向を第1方向とし、
    前記複数のビット線の各々前記第1方向に第1距離のピッチ、前記第2方向に第2距離のピッチで、2次元的に配置され、
    前記複数のセンスアンプの各々、前記複数の第1トランジスタのうちの4つを介して、前記複数のビット線のうちの4本のビット線に接続され、
    前記複数のセンスアンプは、前記第1方向に前記第1距離の2倍のピッチで、かつ、前記第2方向に前記第2距離の2倍のピッチで、2次元的に配置されていることを特徴とする記憶装置。
  5. 請求項において、
    複数のデータ線と、複数の第3トランジスタと、を有し、
    前記複数のデータ線の各々は、前記メモリセルが設けられた層上に設けられ、
    前記複数のセンスアンプの各々、前記複数の第3トランジスタのうちの2つを介して、前記複数のデータ線のうちの2本のデータ線と電気的に接続され、
    前記複数のデータ線の各々、前記複数の第3トランジスタのうちの2つを介して、前記複数のセンスアンプのうち前記第1方向に隣り合うセンスアンプと電気的に接続されることを特徴とする記憶装置。
  6. 請求項4又は請求項において、
    前記第2トランジスタは、チャネル形成領域に酸化物半導体を含むことを特徴とする記憶装置。
  7. 請求項乃至請求項において、
    前記ビット線に接続されるメモリセルの数は、3乃至32であることを特徴とする記憶装置。
  8. 請求項1乃至請求項において、
    前記容量素子の容量値は0.1fF乃至10fFであることを特徴とする記憶装置。
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