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  1. 第1乃至第3のメモリセルと、第1及び第2の行選択線と、第1及び第2の列選択線と、を有し、
    前記第1のメモリセルと前記第2のメモリセルは同じ行に設けられ、
    前記第1のメモリセルと前記第3のメモリセルは同じ列に設けられ、
    前記第1乃至第3のメモリセルのそれぞれは、第1のゲート及び第2のゲートを有するトランジスタを有し、
    前記第1の行選択線は、前記第1のメモリセルの前記トランジスタの前記第1のゲート及び前記第2のメモリセルの前記トランジスタの前記第1のゲートと電気的に接続され、
    前記第2の行選択線は、前記第3のメモリセルの前記トランジスタの前記第1のゲートと電気的に接続され、
    前記第1の列選択線は、前記第1のメモリセルの前記トランジスタの前記第2のゲート及び前記第3のメモリセルの前記トランジスタの前記第2のゲートと電気的に接続され、
    前記第2の列選択線は、前記第2のメモリセル記トランジスタの前記第2のゲート電気的に接続されることを特徴とする半導体装置
  2. 請求項1において、
    記トランジスタは、酸化物半導体層を有することを特徴とする半導体装置
  3. 第1乃至第3のメモリセルと、第1及び第2のデータ線と、第1及び第2の行選択線と、第1及び第2の列選択線と、第1及び第2の読み出し線と、を有し、
    前記第1のメモリセルと前記第2のメモリセルは同じ行に設けられ、
    前記第1のメモリセルと前記第3のメモリセルは同じ列に設けられ、
    前記第1乃至第3のメモリセルは、それぞれ、
    ースレイン、第1のゲート、第2のゲートと、を有する第1のトランジスタと、
    ースレイン、第のゲート、第のゲートと、を有する第2のトランジスタと、を有し
    前記第1のデータ線は、前記第1のメモリセル前記第1のトランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの一方及び前記第1のメモリセルの前記第2のトランジスタの前記ソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第1のデータ線は、前記第3のメモリセルの前記第1のトランジスタの前記ソースまたはドレインの一方及び前記第3のメモリセルの前記第2のトランジスタの前記ソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2のデータ線は、前記第2のメモリセル前記第1のトランジスタの前記ソースまたはドレインの一方及び前記第2のメモリセル前記第2のトランジスタの前記ソースまたはドレインの一方電気的に接続され、
    前記第1の行選択線は、前記第1のメモリセル前記第1のトランジスタの前記第1のゲート及び前記第2のメモリセル前記第1のトランジスタの前記第1のゲートと電気的に接続され、
    前記第2の行選択線は、前記第のメモリセル前記第1のトランジスタの前記第1のゲート電気的に接続され、
    前記第1の列選択線は、前記第1のメモリセル前記第1のトランジスタの前記第2のゲート及び前記第3のメモリセルの前記第1のトランジスタの前記第2のゲートと電気的に接続され、
    前記第2の列選択線は、前記第2のメモリセル前記第1のトランジスタの前記第2のゲート電気的に接続され、
    前記第1の読み出し選択線は、前記第1のメモリセルの前記第2のトランジスタの前記ソースまたはドレインの他方及び前記第2のメモリセルの第2のトランジスタの前記ソースまたはドレインの他方に電気的に接続され、
    前記第2の読み出し選択線は、前記第3のメモリセルの前記第2のトランジスタの前記ソースまたはドレインの他方と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタの前記第1のゲートが前記第2のトランジスタの前記ソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタの前記第のゲートが前記第1のトランジスタの前記ソースまたはドレインの他方に電気的に接続されることを特徴とする半導体装置
  4. 請求項3において、
    前記第1のトランジスタは、酸化物半導体層を有することを特徴とする半導体装置
  5. 請求項4において、
    前記第2のトランジスタは、前記第1のトランジスタの上に積層して設けられることを特徴とする半導体装置。
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