JP2002155061A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2002155061A5
JP2002155061A5 JP2001026596A JP2001026596A JP2002155061A5 JP 2002155061 A5 JP2002155061 A5 JP 2002155061A5 JP 2001026596 A JP2001026596 A JP 2001026596A JP 2001026596 A JP2001026596 A JP 2001026596A JP 2002155061 A5 JP2002155061 A5 JP 2002155061A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
methyl
mixture
general formula
fluoro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001026596A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002155061A (ja
JP4356247B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2001026596A priority Critical patent/JP4356247B2/ja
Priority claimed from JP2001026596A external-priority patent/JP4356247B2/ja
Publication of JP2002155061A publication Critical patent/JP2002155061A/ja
Publication of JP2002155061A5 publication Critical patent/JP2002155061A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4356247B2 publication Critical patent/JP4356247B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【書類名】 明細書
【発明の名称】 ウラシル化合物及びその用途
【特許請求の範囲】
【請求項1】
一般式[I]
Figure 2002155061
[式中、Q−R3は、下記の一般式
Figure 2002155061
で示されるR3が置換した5員または6員の含窒素ヘテロ環(該ヘテロ環上に、更にハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、オキソ基およびチオキソ基からなる群より選ばれる少なくとも1種類の置換基が置換していてもよい。)基を表し、
Yは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1−C3アルキルイミノ基を表し、R1はC1−C3アルキル基またはC1−C3ハロアルキル基を表し、
2はC1−C3アルキル基を表し、
3はカルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、OR7基、SR8基またはN(R9)R10基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、チオカルバモイル基またはニトロ基を表し、
2は水素原子またはハロゲン原子を表す。
{ここで、R7、R8およびR10はそれぞれ独立して、カルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8シクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8ハロシクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8シクロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8シクロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8ハロシクロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルキリデンアミノオキシカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェニルC1−C4アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシアミノカルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)(C1−3アルキル)アミノカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルキル)C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルC1−C6アルキル基または置換されていてもよいフェニルC1−C4アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基を表し、R9は水素原子またはC1−C6アルキル基を表す。}]
で示されるウラシル化合物。
【請求項2】
前記一般式[I]において、Q−R3が、
3が置換した5員または6員の含窒素ヘテロ環(該へテロ環上に、更にハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、オキソ基およびチオキソ基からなる群より選ばれる少なくとも1種類の置換基が置換していてもよい。)基であり、
3がカルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、OR7基、SR8基またはN(R9)R10基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、チオカルバモイル基またはニトロ基
{ここで、R7、R8およびR10がそれぞれ独立して、カルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C4アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C4アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C4アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C4アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルC1−C4アルキル基、置換されていてもよいフェニルC1−C4アルコキシカルボニルC1−C4アルキル基、C1−C6アルコキシアミノカルボニルC1−C4アルキル基、(C1−C6アルコキシ)(C1−3アルキル)アミノカルボニルC1−C4アルキル基、C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C4アルキル基、(C1−C6アルキル)C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C4アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルC1−C4アルキル基または置換されていてもよいフェニルC1−C4アルキルアミノカルボニルC1−C4アルキル基であり、R9が水素原子またはC1−C6アルキル基である。}
である請求項1に記載のウラシル化合物。
【請求項3】
前記一般式[I]において、Q−R3が、下記の一般式
Figure 2002155061
[式中、R3は請求項1または2に記載と同じ意味を表し、Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基またはシアノ基を表す。]で示される群から選ばれるいずれかの基である請求項1または2に記載のウラシル化合物。
【請求項4】
前記一般式[I]において、X1がハロゲン原子である請求項1、2または3に記載のウラシル化合物。
【請求項5】
前記一般式[I]において、X1がニトロ基である請求項1、2または3に記載のウラシル化合物。
【請求項6】
前記一般式[I]において、X1が塩素原子である請求項1、2または3に記載のウラシル化合物。
【請求項7】
前記一般式[I]において、X2が水素原子またはフッ素原子である請求項1〜6のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項8】
前記一般式[I]において、X1が塩素原子、X2がフッ素原子である請求項1〜3のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項9】
前記一般式[I]において、R1がCF3基である請求項1〜8のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項10】
前記一般式[I]において、R2がメチル基である請求項1〜9のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項11】
前記一般式[I]において、Yが酸素原子または硫黄原子である請求項1〜10のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項12】
前記一般式[I]において、Yが酸素原子である請求項1〜10のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項13】
前記一般式[I]において、R3がOR7基、SR8基またはN(R9)R10基であり、R7、R8およびR10がそれぞれ独立して、カルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基またはC3−C8シクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基であり、R9が水素原子またはC1−C6アルキル基である請求項1〜12のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項14】
前記一般式[I]において、R3がOR7基、SR8基またはN(R9)R10基であり、R7、R8およびR10がそれぞれ独立して、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C3アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C3アルキル基またはC3−C8シクロアルコキシカルボニルC1−C3アルキル基であり、R9が水素原子またはC1−C6アルキル基である請求項1〜12のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項15】
前記一般式[I]において、R3がOR7基またはSR8基であり、R7およびR8がそれぞれ独立して、C1−C6アルコキシカルボニルメチル基または1−(C1−C6アルコキシカルボニル)エチル基である請求項1〜12のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項16】
前記一般式[I]において、R3がOR7基またはSR8基であり、R7およびR8がそれぞれ独立して、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、1−(メトキシカルボニル)エチル基または1−(エトキシカルボニル)エチル基である請求項1〜12のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項17】
前記一般式[I]において、Q−R3が、下記の一般式
Figure 2002155061
[式中、R3、Z1およびZ2は前記と同じ意味を表す。]
で示される基である請求項1〜16のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項18】
前記一般式[I]において、Q−R3が、下記の一般式
Figure 2002155061
で示される基または下記の一般式
Figure 2002155061
で示される基である請求項1〜16のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項19】
前記一般式[I]において、Q−R3が、下記の一般式
Figure 2002155061
で示される基である請求項1〜16のいずれかに記載のウラシル化合物。
【請求項20】
前記一般式[I]において、
1 がトリフルオロメチル基であり、
2 がメチル基であり、
1 が塩素原子であり、
2 がフッ素原子であり、
Yが酸素原子であり、
Q−R 3 が2−(エトキシカルボニルメトキシ)ピリジン−3−イル基である請求項1に記載のウラシル化合物。
【請求項21】
一般式[XXXI]
Figure 2002155061
[式中、X1、X2、R1、Q−R3およびYは、請求項1に記載と同じ意味を表す。]
で示される化合物。
【請求項22】
前記一般式[XXXI]において、Q−R3が、下記の一般式
Figure 2002155061
[式中、Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基またはシアノ基を表す。]
で示される群から選ばれるいずれかの基であり、Yが酸素原子または硫黄原子であり、R1がC1−C3ハロアルキル基であり、R3がOR7基、SR8基またはN(R9)R10基であり、X1がハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基であり、X2がハロゲン原子であり、R7、R8およびR10がそれぞれ独立して、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基またはC3−C8シクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基であり、R9が水素原子またはC1−C6アルキル基である請求項21記載の化合物。
【請求項23】
前記一般式[XXXI]において、X1が塩素原子であり、X2がフッ素原子であり、Yが酸素原子であり、Z1およびZ2が水素原子であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R3がOR7基またはSR8基であり、R7、R8およびR10がそれぞれ独立して、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、1−(メトキシカルボニル)エチル基または1−(エトキシカルボニル)エチル基である請求項21または22記載の化合物。
【請求項24】
下記の群より選ばれるいずれかの化合物。
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−(エトキシカルボニル)メトキシピリミジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン。
【請求項25】
一般式[XXXXXI]
Figure 2002155061
[式中、X1、X2、Q−R3およびYは、請求項1に記載と同じ意味を表す。]で示される化合物。
【請求項26】
前記一般式[XXXXXI]において、Q−R3が、下記の一般式
Figure 2002155061
[式中、Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基またはシアノ基を表す。]
で示される群から選ばれるいずれかの基であり、Yが酸素原子または硫黄原子であり、R1がC1−C3ハロアルキル基であり、R3がOR7基、SR8基またはN(R9)R10基であり、X1がハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基であり、X2がハロゲン原子であり、R7、R8およびR10がそれぞれ独立して、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基またはC3−C8シクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基であり、R9が水素原子またはC1−C6アルキル基である請求項25記載の化合物。
【請求項27】
前記一般式[XXXXXI]において、X1が塩素原子であり、X2がフッ素原子であり、Yが酸素原子であり、Z1およびZ2が水素原子であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R3がOR7基またはSR8基であり、R7、R8およびR10がそれぞれ独立して、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、1−(メトキシカルボニル)エチル基または1−(エトキシカルボニル)エチル基である請求項25または26記載の化合物。
【請求項28】
下記の群より選ばれるいずれかの化合物。
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}アニリン、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}アニリン
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(メトキシカルボニル)エトキシ〕−3−ピリジルオキシ}アニリン
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(エトキシカルボニル)エトキシ−3−ピリジルオキシ〕アニリン
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン−2−イル〕オキシ}アニリン、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−(エトキシカルボニル)メトキシピリミジン−2−イル〕オキシ}アニリン
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−〔1−(メトキシカルボニル)エトキシ〕ピリミジン−2−イル〕オキシ}アニリン
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−〔1−(エトキシカルボニル)エトキシ〕ピリミジン−2−イル〕オキシ}アニリン。
【請求項29】
一般式[LXI]
Figure 2002155061
[式中、R7はカルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C4アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C4アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C4アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C4アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルC1−C4アルキル基、置換されていてもよいフェニルC1−C4アルコキシカルボニルC1−C4アルキル基、C1−C6アルコキシアミノカルボニルC1−C4アルキル基、(C1−C6アルコキシ)(C1−3アルキル)アミノカルボニルC1−C4アルキル基、C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C4アルキル基、(C1−C6アルキル)C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C4アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルC1−C4アルキル基または置換されていてもよいフェニルC1−C4アルキルアミノカルボニルC1−C4アルキル基を表す。]
で示される化合物。
【請求項30】
下記の群より選ばれるいずれかの化合物。
3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−ヒドロキシ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−ヒドロキシ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
3−ヒドロキシ−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン。
【請求項31】
一般式[XXXXXXII]
Figure 2002155061
[式中、R34は、C1−C6アルコキシカルボニルメチル基、1−(C1−C6アルコキシカルボニル)エチル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルメチル基、1−(C1−C6ハロアルコキシカルボニル)エチル基、C3−C8シクロアルコキシカルボニルメチル基または1−(C3−C8シクロアルコキシカルボニル)エチル基を表す。]
で示される化合物。
【請求項32】
請求項1〜20のいずれかに記載のウラシル化合物を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はウラシル化合物及びその用途に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は優れた除草活性を有する化合物を提供することを課題とする。
【0003】
【課題を解決する為の手段】
現在、数多くの除草剤が市販され、使用されているが、防除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期にわたるため、より除草効果が高く、幅広い殺草スペクトラムを有し、作物に対し薬害の問題を生じない除草剤が求められている。
特開昭63−41466号公報、特開平03−287578号公報、WO98−41093等において、ある種のフェニルウラシル化合物が除草活性を有することが開示されているが、これらのフェニルウラシル化合物が除草剤として十分な性能を有するものではない。
本発明者らは優れた除草活性を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記一般式[I]で示されるウラシル化合物が優れた除草活性を有することを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、一般式[I]
Figure 2002155061
[式中、Q−R3は、下記の一般式
Figure 2002155061
で示されるR3が置換した5員または6員の含窒素ヘテロ環(該ヘテロ環上に、更にハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、オキソ基およびチオキソ基からなる群より選ばれる少なくとも1種類の置換基が置換していてもよい。)基を表し、
Yは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1−C3アルキルイミノ基を表し、R1はC1−C3アルキル基またはC1−C3ハロアルキル基を表し、
2はC1−C3アルキル基を表し、
3はカルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、OR7基、SR8基またはN(R9)R10基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、チオカルバモイル基またはニトロ基を表し、
2は水素原子またはハロゲン原子を表す。
{ここで、R7、R8およびR10はそれぞれ独立して、カルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6ハロアルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8シクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8ハロシクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8シクロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8シクロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C8ハロシクロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルキリデンアミノオキシカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェニルC1−C4アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシアミノカルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)(C1−3アルキル)アミノカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルキル)C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルC1−C6アルキル基または置換されていてもよいフェニルC1−C4アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基を表し、R9は水素原子またはC1−C6アルキル基を表す。}]
で示されるウラシル化合物(以下、本発明化合物と記す。)およびそれを有効成分として含有する除草剤を提供する。
【0004】
【発明の実施の形態】
本発明において、Q−R3で示されるで示されるR3が置換した5員または6員の含窒素へテロ環は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基およびメルカプト基からなる群より選ばれる少なくとも1種類の置換基により置換されていてもよく、Q−R3で示される基としては、下記の一般式
Figure 2002155061
[式中、R3は前記と同じ意味を表し、Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基またはシアノ基を表す。(ここで、Z1およびZ2で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味し、C1−C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等があげられ、C1−C6ハロアルキル基としては、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリクロロプロピル基等があげられ、C2−C6アルケニル基としては、アリル基、1−メチルアリル基、1,1−ジメチルアリル基、2−メチルアリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等があげられ、C2−C6ハロアルケニル基としては、1−クロロアリル基、1−ブロモアリル基、2−クロロアリル基、3,3−ジクロロアリル基等があげられ、C2−C6アルキニル基としては、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1,1−ジメチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−メチル−2−ブチニル基等があげられ、C2−C6ハロアルキニル基としては、3−ブロモ−2−プロピニル基、3−ヨード−2−プロピニル基、1−フルオロ−2−プロピニル基、1−クロロ−2−プロピニル基、1−ブロモ−2−プロピニル基、1−クロロ−2−ブチニル基等があげられ、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基としては、メトキシメチル基、2−メトキシエチル基、1−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、エトキシメチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、イソプロポキシメチル基、2−イソプロポキシエチル基等があげられ、C1−C6アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブチルオキシ基、s−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基等があげられ、C1−C6ハロアルコキシ基としては、クロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、ジクロロメチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、2−フルオロエチルオキシ基、2,2,2−トリクロロエチルオキシ基等があげられ、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基としては、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、プロポキシカルボニルメトキシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ基、2−メトキシカルボニルエトキシ基、2−エトキシカルボニルエトキシ基、2−プロポキシカルボニルエトキシ基、2−イソプロポキシカルボニルエトキシ基等があげられ、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としてはメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、1−メトキシカルボニルエチル基、1−エトキシカルボニルエチル基、1−プロポキシカルボニルエチル基、1−イソプロポキシカルボニルエチル基、1−ブトキシカルボニルエチル基、1−t−ブトキシカルボニルエチル基等ががあげられる。)]
で示される基等があげられる。
3で示されるカルボキシC1−C6アルキル基としては、カルボキシメチル基、1−カルボキシエチル基、2−カルボキシエチル基等があげられ、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、t−アミルオキシカルボニルメチル基、1−メトキシカルボニルエチル基、1−エトキシカルボニルエチル基、1−プロポキシカルボニルエチル基、1−イソプロポキシカルボニルエチル基、1−ブトキシカルボニルエチル基、1−イソブトキシカルボニルエチル基、1−t−ブトキシカルボニルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基等があげられ、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、クロロメチルオキシカルボニルメチル基、2−フルオロエチルオキシカルボニルメチル基、2−クロロプロピルオキシカルボニルメチル基、1−クロロ−2−プロピルオキシカルボニルメチル基、2,2,2−トリフルオロエチルオキシカルボニルメチル基等があげられ、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、アリルオキシカルボニルメチル基、1−メチル−2−プロペニルオキシカルボニルメチル基、2−メチル−2−プロペニルオキシカルボニルメチル基、2−ブテニルオキシカルボニルメチル基、1−アリルオキシカルボニルエチル基、1−(1−メチル−2−プロペニルオキシカルボニル)エチル基、1−(2−メチル−2−プロペニルオキシカルボニル)エチル基、2−アリルオキシカルボニルエチル基、2−(2−メチル−2−プロペニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C6ハロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、1−クロロアリルオキシカルボニルメチル基、1−(1−クロロアリルオキシカルボニル)エチル基、2−クロロアリルオキシカルボニルメチル基、1−(2−クロロアリルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、プロパルギルオキシカルボニルメチル基、1−メチル−2−プロピニルオキシカルボニルメチル基、1−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、1−(1−メチル−2−プロピニルオキシカルボニル)エチル基、2−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、2−(1−メチル−2−プロピニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C6ハロアルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、(3−クロロ−2−プロピニルオキシカルボニル)メチル基、1−(3−クロロ−2−プロピニルオキシカルボニル)エチル基、(1−クロロ−2−プロピニルオキシカルボニル)メチル基、1−(1−クロロ−2−プロピニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、
Yで示されるC1−C3アルキルイミノ基としては、メチルイミノ基、エチルイミノ基等があげられ、
1で示されるC1−C3アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を意味し、C1−C3ハロアルキル基としては、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチル基、クロロジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等があげられ、R2で示されるC1−C3アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を意味し、
7、R8およびR9で示されるカルボキシC1−C6アルキル基としては、カルボキシメチル基、1−カルボキシエチル基、2−カルボキシエチル基等があげられ、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、s−ブトキシカルボニルメチル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、t−アミルオキシカルボニルメチル基、1−メトキシカルボニルエチル基、1−エトキシカルボニルエチル基、1−プロポキシカルボニルエチル基、1−イソプロポキシカルボニルエチル基、1−ブトキシカルボニルエチル基、1−イソブトキシカルボニルエチル基、1−s−ブトキシカルボニルエチル基、1−t−ブトキシカルボニルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基等があげられ、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、クロロメチルオキシカルボニルメチル基、2−フルオロエチルオキシカルボニルメチル基、2−クロロプロピルオキシカルボニルメチル基、1−クロロ−2−プロピルオキシカルボニルメチル基、2,2,2−トリフルオロエチルオキシカルボニルメチル基等があげられ、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、アリルオキシカルボニルメチル基、1−メチル−2−プロペニルオキシカルボニルメチル基、2−メチル−2−プロペニルオキシカルボニルメチル基、2−ブテニルオキシカルボニルメチル基、1−アリルオキシカルボニルエチル基、1−(1−メチル−2−プロペニルオキシカルボニル)エチル基、1−(2−メチル−2−プロペニルオキシカルボニル)エチル基、2−アリルオキシカルボニルエチル基、2−(2−メチル−2−プロペニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C6ハロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、1−クロロ−2−プロペニルオキシカルボニルメチル基、1−(2−クロロ−2−プロペニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、プロパルギルオキシカルボニルメチル基、1−メチル−2−プロピニルオキシカルボニルメチル基、1−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、1−(1−メチル−2−プロピニルオキシカルボニル)エチル基、2−プロパルギルオキシカルボニルエチル基、2−(1−メチル−2−プロピニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C6ハロアルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、1−ブロモ−2−プロピニルオキシカルボニルメチル基、1−(1−クロロ−2−プロピニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C8シクロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、シクロプロピルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、1−(シクロブチルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C8ハロシクロアルキルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、2,2−ジフルオロシクロペンチルオキシカルボニルメチル基、1−(2−クロロシクロブチルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C8シクロアルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、2−シクロペンテニルオキシカルボニルメチル基、1−(2−シクロブテニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C3−C8ハロシクロペンテニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、4−ブロモ−2−シクロブテニルオキシカルボニルメチル基、1−(4−ブロモ−2−シクロペンテニルオキシカルボニル)エチル基等があげられ、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、(メトキシカルボニルメトキシ)カルボニルメチル基、(2−メトキシカルボニル−2−プロポキシ)カルボニルメトキシカルボニルメチル基、1−[(1−エトキシカルボニルエチル)カルボニル]エチル基等があげられ、C1−C6アルキリデンアミノオキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、2−(イソプロピリデンアミノオキシカルボニル)エチル基等があげられ、置換されていてもよいフェノキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、フェノキシカルボニルメチル基、1−フェノキシカルボニルエチル基等があげられ、置換されていてもよいフェニルC1−C4アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基としてはベンジルオキシカルボニルメチル基、1−ベンジルオキシカルボニルエチル基等があげられ、C1−C6アルコキシアミノカルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシアミノカルボニルメチル基、1−メトキシアミノカルボニルエチル基、エトキシアミノカルボニルメチル基、1−エトキシアミノカルボニルエチル基等があげられ、(C1−C6アルコキシ)(C1−3アルキル)アミノカルボニルC1−C6アルキル基としては、(メトキシ)(メチル)アミノカルボニルメチル基、1−(メトキシ)(メチル)アミノカルボニルエチル基、(エトキシ)(メチル)アミノカルボニルメチル基、1−(エトキシ)(メチル)アミノカルボニルエチル基等があげられ、C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基としては、メチルアミノカルボニルメチル基、エチルアミノカルボニルメチル基、イソブチルアミノカルボニルメチル基、1−メチルアミノカルボニルエチル基、1−エチルアミノカルボニルエチル基、1−イソプロピルアミノカルボニルエチル基等があげられ、(C1−C6アルキル)C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基としてはジメチルアミノカルボニルメチル基、1−ジメチルアミノカルボニルエチル基等があげられ、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルC1−C6アルキル基としては、フェニルアミノカルボニルメチル基、1−フェニルアミノカルボニルエチル基等があげられ、置換されていてもよいフェニルC1−C4アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基としてはベンジルアミノカルボニルメチル基、1−ベンジルアミノカルボニルエチル基等があげられ、
9で示されるC1−C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等があげられ、
【0005】
1およびX2で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。
【0006】
本発明化合物において、除草活性の点から、Q−R3で示される基については、Q−1またはQ−6が好ましい。Yについては、酸素原子または硫黄原子が好ましく、酸素原子がより好ましい。R1についてはフッ素原子で置換されたメチル基(例えば、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等)、フッ素原子で置換されたエチル基(例えば、ペンタフルオロエチル基、1,1−ジフルオロエメチル基等)が好ましく、トリフルオロメチル基が更に好ましい。R2についてはメチル基またはエチル基が好ましく、メチル基が更に好ましい。R3についてはC1−C4アルコキシカルボニルC1−C4アルキル基、C1−C4アルコキシカルボニルC1−C4アルコキシ基、C3−C7シクロアルコキシカルボニルC1−C4アルコキシ基、C1−C4アルコキシカルボニルC1−C4アルキルチオ基またはC1−C4アルコキシカルボニルC1−C4アルキルアミノ基が好ましく、C1−C2アルコキシカルボニルC1−C2アルコキシ基が更に好ましい。X1についてはハロゲン原子が好ましく、塩素原子が更に好ましい。X2についてはハロゲン原子が好ましく、フッ素原子が更に好ましい。
尚、本発明化合物には、二重結合に由来する幾可異性体、不斉炭素に由来する光学異性体及びジアステレオマ−が存在する場合があるが、本発明化合物には、これらの異性体及びその混合物も含まれる。
【0007】
次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば下記(製造法1)〜(製造法10)の製造法により製造する事ができる。
(製造法1)
本発明化合物のうち、一般式[I]におけるR3がOR7基、SR8基またはN(R9)R10基である化合物は、一般式[III]
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表し、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはメチルイミノ基等のC1−C3アルキルイミノ基を表す。]
で示される化合物と一般式[IV]
Figure 2002155061
[式中、R11はカルボキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニルオキシカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェニルC1−C4アルコキシカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシアミノカルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)(C1−3アルキル)アミノカルボニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルキル)C1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C6アルキル基、置換されていてもよいフェニルアミノカルボニルC1−C6アルキル基または置換されていてもよいフェニルC1−C6アルキルアミノカルボニルC1−C4アルキル基を表し、R12は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。]
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常0〜200℃、反応時間の範囲は通常瞬時から72時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[III]で示される化合物1モルに対して、一般式[IV]で示される化合物は1モルの割合、塩基の量は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0008】
(製造法2)
本発明化合物のうち、一般式[I]におけるR3がOR7である化合物は、一般式[V]
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表す。]
で示される化合物と一般式[VI]
Figure 2002155061
[式中、R7は前記と同じ意味を表す。]
で示されるアルコール化合物とを、脱水試剤の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20〜150℃、好ましくは0〜100℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時から48時間である。
脱水試剤としては例えば、トリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィンおよびジエチルアゾジカルボキシレート、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート等のジ(低級アルキル)アゾジカルボキシレートの組合せが挙げられる。
反応に供される試剤の量は、一般式[V]で示される化合物1モルに対して、一般式[VI]で示されるアルコール化合物は1〜3モル、好ましくは1〜1.2モル、脱水試剤として用いられるトリアリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンは1〜3モル、好ましくは1〜1.5モル、ジ(低級アルキル)アゾジカルボキシレートは1〜3モル、好ましくは1〜1.5モルである。これらの試剤の比率は反応の状況により任意に変化させることができる。
反応に用いられる溶媒としては、n−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮し、残渣をクロマトグラフィーに付す。
2)反応液をそのまま濃縮し、残渣をクロマトグラフィーに付す。
なお、得られた本発明化合物は、再結晶等の操作によって精製することも可能である場合がある。
【0009】
(製造法3)
本発明化合物のうち、一部の化合物は、一般式[VII]
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、Y、Q、X1、X2およびWは前記と同じ意味を表し、R13はC1−C4アルキリデン基を表し、mは0または1の整数を表す。]
で示されるカルボン酸化合物と一般式[VIII]
Figure 2002155061
[式中、R14はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルケニル基、C1−C6ハロアルケニル基、C1−C6アルキニル基、C1−C6ハロアルキニル基を表す。]
で示されるアルコール化合物とを、原料として用いて製造することができる。
該反応は例えば、一般式[VII]で示されるカルボン酸化合物を塩素化剤と反応させることにより酸塩化物とした(以下、〈工程3−1〉と記す。)後、一般式[VIII]で示されるアルコール化合物と塩基の存在下に反応させる(以下、〈工程3−2〉と記す。)ことにより行われる。
【0010】
〈工程3−1〉は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常0〜150℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[VII]で示されるカルボン酸化合物1モルに対して、塩素化剤は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化スルフリル、ホスゲン、塩化オキサリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、ノナン、デカン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば反応液を濃縮し、濃縮残渣をそのまま〈工程3−2〉に使用する。
【0011】
〈工程3−2〉は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20〜100℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、〈工程3−1〉で用いた一般式[VII]で示されるカルボン酸化合物1モルに対して、一般式[VIII]で示されるアルコール化合物および塩基はそれぞれ1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化することができる。
用いられる塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ピリジン、キノリン、4−ジメチルアミノピリジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコリン、2,3−ルチジン、2,4−ルチジン、2,5−ルチジン、2,6−ルチジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、3−クロロピリジン、2−エチル−3−メチルピリジン、5−エチル−2−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エンまたは1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の第3級アミン類が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、ノナン、デカン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0012】
また、該反応は上記の方法に限らず、一般式[VII]で示される化合物と一般式[VIII]で示される化合物とを、縮合剤とともに溶媒中にて反応(必要に応じて塩基の存在下)させることも可能である。反応温度の範囲は0〜100℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜48時間である。
縮合剤としては、カルボニルジイミダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩があげられる。必要に応じて用いられる塩基としては、トリエチルアミン、自イソプロピルアミン等の有機塩基があげられる。反応に供される試剤の量は、一般式[VII]で示される化合物に対して、一般式[VIII]で示される化合物は1〜3モルの割合、縮合剤は1〜3モルの割合、必要に応じて用いられる塩基は0.5〜3モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
溶媒としては、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が用いられる。
反応終了後は、例えば、反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の方法により、目的の本発明化合物を得ることができる。得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作により精製することも可能である。
更に該反応は、上記の方法によらず、酸触媒の存在下に反応させる方法およびその他の公知の方法によっても行うことも可能である。
【0013】
(製造法4)
本発明化合物のうち、一般式[I]におけるX1がシアノ基である化合物は、一般式[IX]
Figure 2002155061
[式中、R1、R2およびX2は前記と同じ意味を表し、R15はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。]
で示されるウラシル化合物と一般式[X]
Figure 2002155061
[式中、Y、QおよびR3は前記と同じ意味を表す。]
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は0〜200℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[IX]で示されるウラシル化合物1モルに対して、一般式[X]で示される化合物は1モルの割合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒を使用することにより反応が加速されることがある。触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられ、反応に供される触媒の量は、一般式[IX]で示されるウラシル化合物1モルに対して、0.0001〜1モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0014】
(製造法5)
本発明化合物は、一般式[XI]
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、Y、X1およびX2は前記と同じ意味を表す。]で示されるウラシル化合物と、一般式[XII]
Figure 2002155061
[式中、R16はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、R3は前記と同じ意味を表す。]
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は室温〜200℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XI]で示される化合物1モルに対して、一般式[XII]で示される化合物は1モルの割合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒の添加により反応が加速されることがある。
反応に供される触媒の量は、一般式[XI]で示される化合物1モルに対して、0.0001〜1モルの割合が好ましいが、反応の状況により任意に変化させることができる。
触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等の銅化合物、12−クラウン−4、15−クラウン−5、18−クラウン−6等のクラウンエーテルが挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、目的物を得ることができる。
1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0015】
(製造法6)
本発明化合物は、一般式[XXXI]
Figure 2002155061
[式中、R1、R3、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表す。]
で示されるウラシル化合物と、一般式[XXXX]
Figure 2002155061
[式中、R2およびR12は前記と同じ意味を表す。]
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−20〜150℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XXXI]で示されるウラシル化合物1モルに対して、一般式[XXXX]で示される化合物は1モルの割合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール、t−ブタノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
2)反応液を水に注加し、生じた固体を濾集する。
3)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0016】
(製造法7)
本発明化合物のうち、一般式[I]におけるX1がシアノ基(一般式[7−3]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、R3、Q,X2およびYは前記と同じ意味を表し、X10は臭素原子またはヨウ素原子を表し、M1は銅(I価)を表す。]
該反応は、通常溶媒中にて行われ、反応温度は通常130〜250℃、好ましくは150℃〜溶媒還流温度であり、反応時間は瞬時〜24時間である。
反応に用いられる一般式[7−2]で示される化合物としては、シアン化銅があげられる。一般式[7−2]で示される化合物の量は、一般式[7−1]で示される化合物1モルに対して、1モル〜過剰量であり、好ましくは1〜3モルであるが、反応の状況により変化させることができる。
用いられる溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、例えば以下の1)または2)に示す操作により、目的物を得ることができる。
1)反応液を濾過し、該櫨液を濃縮する。
2)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を水にて洗浄し、乾燥し、濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0017】
(製造法8)
本発明化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、R11、W、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表し、A-はCl-、BF4 -、CF3SO3 -等のジアゾニウム陽イオンの対陰イオンを表す。]
〈工程8−1〉一般式[XXIII]で示される化合物から、一般式[XXXXVI]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXXXVI]で示される化合物は、一般式[XXIII]で示される化合物を、溶媒中にてジアゾ化剤によりジアゾ化することにより製造することができる。
反応温度は−30〜30℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜10時間の範囲である。反応に供される試剤の量は、一般式[XXIII]で示される化合物1モルに対して、ジアゾ化剤は1〜3モルの範囲であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
ジアゾ化剤としては、亜硝酸(亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸とから調製される);亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸エステルがあげられる。
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等のハロゲン化脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、塩酸、臭化水素酸、硫酸、あるいはこれらの混合物が用いられる。
反応終了後の反応混合物は、引き続いて次工程の反応に使用する。
【0018】
(工程8−2)一般式[XXXXVI]で示される化合物から一般式[XIV]で示される化合物を製造する工程
一般式[XIV]で示される化合物は、例えば一般式[XXXXVI]で示されるジアゾニウム塩を、溶媒中一般式[XIII]で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
反応温度は0〜120℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜20時間の範囲である。
反応に供される反応試剤の量は、一般式[XXXXVI]で示されるジアゾニウム塩1モルに対して、一般式[XIII]で示される化合物は1〜10モルの範囲であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、例えば以下の1)または2)に示す操作により、目的物を得ることができる。
1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する。
2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該櫨液を濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0019】
(製造法9)
本発明化合物のうち、一般式[I]におけるX1がニトロ基(一般式[XVI]で示される化合物)、またはハロゲン原子(一般式[XVIII]で示される化合物)である化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、R3、R15、Q、YおよびX2は前記と同じ意味を表し、R25はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。]
【0020】
〈工程9−1〉:一般式[XVI]で示される化合物は、例えば一般式[XV]で示される化合物と一般式[X]で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応の反応温度は、通常0〜200℃の範囲であり、反応時間は瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XV]で示される化合物1モルに対して、一般式[X]で示される化合物は1モル、塩基は1モルが理論量であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
反応に用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0021】
〈工程9−2〉:一般式[XVII]で示される化合物は、例えば一般式[XVI]で示される化合物を、1)酸の存在下に鉄粉を反応させる、あるいは、2)触媒存在下に水素添加することにより製造することができる。
1)酸の存在下に鉄粉を反応させる方法
本反応は通常溶媒中にて行い、反応温度は0〜150℃の範囲、好ましくは室温〜溶媒の還流温度であり、反応時間は瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XVI]で示される化合物1モルに対して、鉄粉は3モル〜過剰量、酸は1〜10モルの範囲が通常であるが、反応の状況により変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸、塩酸があげられる。用いられる溶媒としては、水、酢酸、酢酸エチル、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後は、例えば反応混合物を水に注加し、生じた固体を櫨集する等の通常の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
2)触媒存在下に水素添加する方法
本反応は、通常溶媒中にて行い、反応温度は−20〜150℃、好ましくは0〜50℃の範囲であり、反応時間は瞬時〜48時間である。
本反応は水素雰囲気下に行うが、好ましくは1〜5気圧の圧力にて行う。
用いられる触媒の量は、一般式[XVI]で示される化合物に対して、0.001〜10%重量である。触媒としては、パラジウム/炭素、酸化プラチナが上げられる。
溶媒としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後は、反応混合物を濾過した後に、濃縮する等の通常の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもかのうである。
【0022】
〈工程9−3〉:一般式[XVIII]で示される化合物は、例えば、一般式[XVII]で示される化合物を、1)i)溶媒中でジアゾ化した後、ii)引き続きハロゲン化物と反応させる、あるいは、2)ハロゲン化物の存在下に、溶媒中でジアゾ化する(Heterocycles.,38,1581(1994)参照)ことにより製造することができる。
1)i)溶媒中でジアゾ化した後、ii)引き続きハロゲン化物と反応させる方法
i)ジアゾ化反応の第1工程は、反応温度は−20〜10℃の範囲であり、反応時間は瞬時〜5時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[XVII]で示される化合物1モルに対して、ジアゾ化剤は1モルが理論量であるが反応の状況に応じて変化させることができる。ジアゾ化剤としては、亜硝酸(亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸から調製される);亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸エステル等があげられる。用いられる溶媒としてはアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水、あるいはそれらの混合物があげられる。反応後は、反応混合物は次工程の原料として用いられる。
ii)ハロゲン化物と反応させる第2工程は、反応温度は通常0〜80℃、反応時間は瞬時〜48時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[XVII]で示される化合物1モルに対して、ハロゲン化物は1〜3モルであるが、反応の状況に応じて変化させることができる。ハロゲン化物としては、ヨウ化カリウム、臭化銅[I](または臭化銅[II]との混合物)、塩化銅[I](または塩化銅[II]との混合物)またはフッ化水素酸とホウ酸の混合物(ホウフッ化水素酸)があげられる。溶媒としてはアセトニトリル、ジエチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了後は、反応混合物を水に注加し、必要に応じて中和した後に、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の通常の後処理操作により、目的物を得ることができる(Org.Syn.Coll.Vol.2,604(1943)、Vol.1,136(1932)参照)。
2)ハロゲン化物の存在下に、溶媒中でジアゾ化する方法
反応温度は、−20〜50℃であり、好ましくは−10℃〜室温であり、反応時間は瞬時〜48時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[XVII]で示される化合物1モルに対して、ハロゲン化物は1〜3モル、ジアゾ化剤は1〜3モルであるが、反応の状況に応じて変化させることができる。ハロゲン化物としては、ヨウ化カリウム、臭化銅[I](または臭化銅[II]との混合物)、塩化銅[I](または塩化銅[II]との混合物)またはフッ化水素酸とホウ酸の混合物(ホウフッ化水素酸)があげられ、ジアゾ化剤としては、亜硝酸(亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸から調製される);亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸エステル等があげられる。溶媒としては、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了後は、反応混合物を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の通常の後処理操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0023】
本発明化合物の製造法で用いられる一般式[IV]で示される化合物、一般式[VI]で示されるアルコール化合物、一般式[VIII]で示されるアルコール化合物、一般式[X]で示される化合物、一般式[XIII]で示される化合物、一般式[XV]で示される化合物、一般式[XXXX]で示される化合物、一般式[XXXXII]で示される化合物、一般式[XXXXIII]で示される化合物および一般式[XXXXIV]で示される化合物は、市販のものを用いるか、公知の方法により製造することができる。
一般式[IX]で示される化合物は、例えばドイツ特許公開公報DE4412079で公知である。
一般式[VII]で示されるカルボン酸化合物は、同部位がエステルである一般式[I]で示される本発明化合物を酸加水分解することにより製造できる。
一般式[XI]で示される化合物は、例えば特開昭63−41466公報、特開昭61−40261公報、WO9847904公報で公知であるか、同公報に記載の方法に準じて製造することができる。
【0024】
本発明化合物の製造法で用いられる製造中間体のいくつかは、例えば下記(中間体製造法1)〜(中間体製造法12)の製造法にて製造することができる。
(中間体製造法1)
一般式[XII]で示される化合物のうち、R3がOR7基、SR8基またはN(R9)R10基である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R26はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、R11、R16、QおよびWは前記と同じ意味を表す。]
一般式[X1−2]で示される化合物は、一般式[X1−1]で示される化合物と一般式[XIII]で示される化合物とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
供される試剤の量としては、一般式[X1−1]で示される化合物1モルに対して、一般式[XIII]で示される化合物は1モル、塩基は1モルが理論量であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
【0025】
(中間体製造法2)
一般式[III]で示される化合物のうち、WがNHである化合物(一般式[XXIII]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、R16、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表す。]
〈工程A2−1〉:一般式[XI]で示される化合物から、一般式[XXII]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXII]で示される化合物は、一般式[XI]で示される化合物と一般式[XXI]で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は0〜200℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XI]で示される化合物1モルに対して、一般式[XXI]で示される化合物は1モルの割合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−1−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒の添加により反応が加速されることがある。
反応に供される触媒の量は、一般式[XI]で示される化合物1モルに対して、0.0001〜0.1モルの割合が好ましいが、反応の状況により任意に変化させることができる。
触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等の銅化合物、15−クラウン−5、18−クラウン−6等のクラウンエーテルが挙げられる。
反応終了後は、例えば反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥し、濃縮する等の操作により、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
〈工程A2−2〉:一般式[XXII]で示される化合物から、一般式[XXIII]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXIII]で示される化合物は、例えば一般式[XXII]で示される化合物を鉄粉等を用いて酸の存在下、溶媒中で還元することにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は0〜150℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XXII]で示される化合物1モルに対して、鉄粉等の量は3モル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、鉄粉等を濾過した後、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0026】
(中間体製造法3)
一般式[III]で示される化合物のうち、Wが酸素原子である化合物(一般式[V]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表す。]
一般式[V]で示される化合物は、i)一般式[XXIII]で示される化合物をジアゾ化剤と溶媒中で反応させた後、ii)引き続き、酸性溶媒中で加熱するか、あるいは、銅塩を作用させることにより製造することができる。
第1段階の反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−20〜10℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜5時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XXIII]で示される化合物1モルに対して、ジアゾ化剤の量は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸(亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩と酢酸、塩酸等のプロトン酸とから調製される);亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸エステルがあげられる。
溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトニトリル、塩酸、臭化水素、硫酸、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
【0027】
第2段階の酸性溶媒中で加熱する反応は、反応温度の範囲は60℃〜加熱還流であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
酸性溶媒としては、例えば塩酸水、臭化水素水、硫酸水等が挙げられる。
反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することができる。
(Org.Syn.Coll.Vol.2,604(1943),Vol.1,136(1932)参照)
【0028】
(中間体製造法4)
一般式[X]で示される化合物のうち、R3がOR7またはSR8である化合物(一般式[XXVI]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R11、R12、YおよびQは前記と同じ意味を表し、R17は酸素原子または硫黄原子を表す。]
一般式[XXVI]で示される化合物は、一般式[XXV]で示される化合物と一般式[IV]で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
供される試剤の量としては、一般式[XXV]で示される化合物1モルに対して、一般式[IV]で示される化合物1モル、塩基1モルが理論量であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
【0029】
(中間体製造法5)
一般式[X]で示される化合物のうち、R3がOR7基、SR8基またはN(R9)R10基であり、Yが酸素原子または硫黄原子である化合物(一般式[XXX]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R11、R12、R17、WおよびQは前記と同じ意味を表し、R19はt−ブチルジメチルシリル基、t−ブチル基、ベンジル基、メチル基等の保護基を表わす。]
〈工程A5−1〉:一般式[XXVII]で示される化合物から、一般式[XXVIII]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXVIII]で示される化合物は、一般式[XXVII]で示される化合物と塩化t−ブチルジメチルシリル、イソブテン、塩化ベンジル、臭化ベンジル等とを反応させることにより製造できる。(Protective Groups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience publication社刊)参照)
〈工程A5−2〉:一般式[XXVIII]で示される化合物から、一般式[XXIX]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXIX]で示される化合物は、一般式[XXVIII]で示される化合物と一般式[IV]で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〈工程A5−3〉:一般式[XXIX]で示される化合物から、一般式[XXX]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXX]で示される化合物は、「有機化学実験の手引き」4巻(化学同人社刊)、Protective Groups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience publication社刊)に記載の方法に準じて、一般式[XXIX]で示される化合物のうち、R18がt−ブチルジメチルシリル基である化合物を、トリフルオロ酢酸またはテトラブチルアンモニウフルオリド等を用いて,塩化メチレン、酢酸エチルまたは水等の溶媒中にて脱保護させることにより、製造することができる。
また、一般式[XXIX]で示される化合物のうち、R18がベンジル基である化合物を、触媒の存在下に水素と反応させることにより製造することができる。
【0030】
(中間体製造法6)
一般式[III]で示される化合物のうち、Wが酸素原子である化合物(一般式[V]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
Figure 2002155061
[式中、R1、R2、A-、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表し、R24はメチル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基を表し、Mはホウ素等の金属原子を表す。]
〈工程A6−1〉:一般式[XXXXVI]で示される化合物から、一般式[XXXXVIII]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXXXVII]で示される化合物は、例えば一般式[XXXXVI]で示されるジアゾニウム塩と一般式[XXXXVII]で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。反応温度は、室温〜120℃、好ましくは50〜90℃であり、反応時間は瞬時〜5時間である。
供される試剤の量は、一般式[XXXXVI]で示されるジアゾニウム塩1モルに対して、一般式[XXXXVII]で示される化合物は1モルが理論量であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
〈工程A6−2〉:一般式[XXXXVIII]で示される化合物から、一般式[V]で示される化合物を製造する工程
一般式[V]で示される化合物は、一般式[XXXXVIII]で示される化合物を公知の方法で加水分解することにより製造することができる。
【0031】
(中間体製造法7)
一般式[XXXI]で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R1、R3、R15、Y、Q、X1およびX2は前記と同じ意味を表わし、R18はメチル基、エチル基等のC1−C6アルキル基を表し、R27はメチル基、エチル基等のC1−C6アルキル基またはフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基を表し、X12は塩素原子または臭素原子を表す。]
〈工程A7−1〉:一般式[XXXXXI]で示される化合物から、一般式[XXXXXIII]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXXXXIII]で示される化合物は、一般式[XXXXXI]で示される化合物を、イソシアネート化剤と反応させることにより製造することができる。
イソシアネート化剤としては、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチル、取りホスゲン、塩化オギザリルがあげられる。供されるイソシアネート化剤の量としては、一般式[XXXXXI]で示される化合物1モルに対して、イソシアネート化剤は1モル〜過剰量、好ましくは1〜3モルの範囲である。用いられる溶媒としては,トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、あるいはこれらの混合物があげられる。
〈A7−2〉:一般式[XXXXXI]で示される化合物から、一般式[XXXXXII]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXXXXII]で示される化合物は、一般式[XXXXXI]で示される化合物と一般式[A7−1]で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。反応温度は−20〜100℃の範囲、反応時間は瞬時〜48時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XXXXXI]で示される化合物1モルに対して、一般式[A7−1]で示される化合物は1〜5モル、塩基は1〜5モルの範囲であるが、反応の状況に応じて変化させることができる。
用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基があげられる。溶媒としては、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、水、あるいはそれらの混合物があげられる。
〈工程A7−3〉:一般式[XXXXXIII]で示される化合物から一般式[XXXI]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXXI]で示される化合物は、一般式[XXXXXIII]で示される化合物と一般式[XXXXXIV]で示される化合物とを、塩基の存在下に溶媒中にて反応させることにより製造することができる。反応温度は、−40〜100℃の範囲、反応時間は瞬時〜72時間である。
供される試剤の量は、一般式[XXXXXIII]で示される化合物1モルに対して、一般式[XXXXXIV]で示される化合物は1モル〜過剰量、好ましくは1〜2モル、塩基は1モル〜過剰量である。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコキサイドがあげられる。溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
〈工程A7−4〉:一般式[XXXXXII]で示される化合物から、一般式[XXXI]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXXI]で示される化合物は、一般式[XXXXXII]で示される化合物と一般式[XXXXXIV]で示される化合物とを、塩基の存在下に溶媒中にて反応させることにより製造することができる。反応温度は、−40〜100℃の範囲、反応時間は瞬時〜72時間である。
供される試剤の量は、一般式[XXXXXII]で示される化合物1モルに対して、一般式[XXXXXIV]で示される化合物は1モル〜過剰量、好ましくは1〜2モル、塩基は1モル〜過剰量である。
用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコキサイドがあげられる。溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
【0032】
(中間体製造法8)
一般式[X]で示される化合物のうち、Qがピリジン環である化合物(一般式[XXXXXX]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
Figure 2002155061
[式中、R11、R12、R23、R24、Z1、Z2およびA-は前記と同じ意味を表わす。]
製造法詳細は、(製造法8)、(製造法9)、(中間体製造法6)等を参照。
【0033】
(中間体製造法9)
一般式[X]で示される化合物のうち、Qがピリミジン環である化合物(一般式[I9−4]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
Figure 2002155061
[式中、R11、R19、R25、WおよびZ1は前記と同じ意味を表わす。]
〈工程A9−1〉:一般式[I9−1]で示される化合物から、一般式[I9−2]で示される化合物を製造する工程
一般式[I9−2]で示される化合物は、一般式[I9−1]で示される化合物をハロゲン化試剤と反応することにより、製造することができる。反応温度は通常、室温〜50℃の範囲、反応時間は瞬時〜36時間である。
供される試剤の量は一般式[I9−1]で示される化合物1モルに対して、ハロゲン化試剤は1モル〜過剰量である。ハロゲン化試剤としては、オキシ塩化リン、オキシ臭化リンがあげられる。
用いることのできる溶媒としては、トルエン、クロロベンゼンがあげられる。
〈工程A9−2〉:一般式[I9−2]で示される化合物から、一般式[I9−3]で示される化合物を製造する工程、および、〈工程A9−3〉:一般式[I9−3]で示される化合物から、一般式[I9−4]で示される化合物を製造する工程の詳細は、〈中間体製造法1〉、〈中間体製造法5〉を参照。
【0034】
(中間体製造法10)
一般式[X]で示される化合物のうち、Qがピリミジン環である化合物(一般式[I10−4]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
Figure 2002155061
[式中、R11、W、およびZ1は前記と同じ意味を表し、R28は塩素原子または臭素原子を表し、R29はメチル基、エチル基等のC1−C6アルキル基またはフェニル基、p−トリル基等の置換されていてもよいフェニル基を表し、R30はメチル基、エチル基等のC1−C6アルキル基またはトリフルオロメチル基等のC1−C6ハロルキル基を表し、Y2は酸素原子または硫黄原子を表し、nは1または2を表す。]
【0035】
(中間体製造法11)
一般式[XXXXXI]で示される化合物のうち、X1がニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である化合物(一般式[I11−5]で示される化合物)は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。
Figure 2002155061
[式中、R3、R15、R25、Y、QおよびX2は前記と同じ意味を表し、R32はメチル基、エチル基、トリクロロメチル基、ベンジル基等の置換されていてもよいC1−C6アルキル基を表す。]
【0036】
(中間体製造法12)
一般式[XXXI]で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法によっても製造することもできる。
Figure 2002155061
[式中、R3、X1、X2、QおよびYは前記と同じ意味を表し、R35はC1−C3ペルフルオロアルキル基を表す。]
〈工程A12−1〉:一般式[XXXXXI]で示される化合物から、一般式[I12−1]で示される化合物を製造する工程
一般式[I12−1]で示される化合物(条件によっては、一般式[I12−2]で示される化合物)は、一般式[XXXXXI]で示される化合物と一般式[I12−3]
Figure 2002155061
[式中、R35は前記と同じ意味を表し、R31はメチル基、エチル基等のC1−C6アルキル基を表す。]
で示される化合物とを、反応させることにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常室温〜150℃または使用する溶媒の沸点である。また、副生するアルコール(メタノール、エタノール等)を反応系中より除去することにより、反応速度を上げることも可能である。
該反応に供される一般式[I12−3]で示される化合物の量は、一般式[XXXXXI]で示される化合物1モルに対して、通常1モル〜5モルの割合である。
用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、1,2−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を濃塩酸等の酸、または水に注加した後に有機溶媒抽出、水洗浄、乾燥および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的化合物を得ることができる。尚、該目的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0037】
〈工程A12−2〉:一般式[I12−1]で示される化合物(または一般式[I12−2]で示される化合物)から、一般式[XXXI]で示される化合物を製造する工程
一般式[XXXI]で示される化合物は、一般式[I12−1]で示される化合物(または一般式[I12−2]で示される化合物)とシアン酸塩とを、プロトン酸の存在下に55℃〜150℃にて反応させることにより製造することができる。
該反応に供されるシアン酸塩としては、シアン酸カリウム、シアン酸ナトリウム等が挙げられ、該反応に供される酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の脂肪族カルボン酸類、安息香酸等の芳香族カルボン酸類、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類、塩酸、硫酸等の無機酸類、フェニルホウ酸等のホウ酸等が挙げられる。
該反応に供されるシアン酸塩の量は、一般式[I12−1]で示される化合物1モルに対して、1モル〜10モルの割合であり、好ましくは1〜2モルの割合である。該反応に供される酸の量は、一般式[I12−1]で示される化合物1モルに対して、1.1モル〜大過剰量の割合である。
該反応は溶媒を用いることも可能であり、溶媒としては例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、1,2−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、通常30分〜100時間にて完結する。該反応は好ましくは、まず初めに反応混合物を−20℃〜50℃にて熟成した後に、55℃〜150℃にて反応混合物中の一般式[I12−1]で示される化合物の大部分が消失するまで熟成することにより行われる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
【0038】
(中間体製造法13)
一般式[LXI]で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法によって製造することができる。
Figure 2002155061
[式中、R7は前記と同じ意味を表す。]
【0039】
一般式[XXI]で示される化合物、一般式[XXV]で示される化合物,一般式[XXVII]で示される化合物、一般式[XXXXX]で示される化合物、一般式[XXXXXIV]、一般式[XXXXXV]で示される化合物、一般式[I9−1]で示される化合物、一般式[I10−1]で示される化合物、一般式[I11−1]で示される化合物および一般式[I12−3]で示される化合物は市販のものを用いるか、または公知の方法により製造することができる。
【0040】
本発明化合物は、優れた除草効力を有し、かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。すなわち本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
アカバナ科雑草:オオマツヨイグサ(Oenothera erythrosepala)、コマツヨイグサ(Oenothera laciniata)
キンポウゲ科雑草:トゲミノキツネノボタン(Ranunculus muricatus)、イボミキンポウゲ(Ranunculus sardous)
タデ科雑草:ソバカズラ(Polygonum convolvulus)、サナエタデ(Polygonum lapathifolium)、アメリカサナエタデ(Polygonum pensylvanicum)、ハルタデ(Polygonum persicaria)、ナガバギシギシ(Rumex crispus)、エゾノギシギシ(Rumex obtusifolius)、イタドリ(Poligonum cuspidatum)
スベリヒユ科雑草:スベリヒユ(Portulaca oleracea)
ナデシコ科雑草:ハコベ(Stellaria media)、オランダミミナグサ(Cerastium glomeratum)
アカザ科雑草:シロザ(Chenopodium album)、ホウキギ(Kochia scoparia)
ヒユ科雑草:アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲイトウ(Amaranthus hybridus)
アブラナ科雑草:ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum)、ノハラガラシ(Sinapis arvensis)、ナズナ(Capsella bursa−pastoris)、マメグンバイナズナ(Lepidium virginicum)
【0041】
マメ科雑草:アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata)、エビスグサ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガ−ウィ−ド(Desmodium tortuosum)、シロツメクサ(Trifolium repens)、オオカラスノエンドウ(Vicia sativa)、コメツブウマゴヤシ(Medicago lupulina)
アオイ科雑草:イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida spinosa)
スミレ科雑草:フィ−ルドパンジ−(Viola arvensis)、ワイルドパンジ−(Viola tricolor)
アカネ科雑草:ヤエムグラ(Galium aparine)
ヒルガオ科雑草:アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マルバアサガオ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomoea hederacea var integriuscula)、マメアサガオ(Ipomoea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arvensis)
【0042】
シソ科雑草:ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lamium amplexicaule)
ナス科雑草:シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium)、イヌホオズキ(Solanum nigrum)
ゴマノハグサ科雑草:オオイヌノフグリ(Veronica persica)、タチイヌノフグリ(Veronica arvensis)、フラサバソウ(Veronica hederaefolia)
キク科雑草:オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Helianthus annuus)、カミツレ(Matricaria chamomilla)、イヌカミツレ(Matricaria perforata or inodora)、コ−ンマリ−ゴ−ルド(Chrysanthemum segetum)、コシカギク(Matricaria matricarioides)、ブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタクサ(Ambrosia trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis)、ヨモギ(Artemisia princeps)、セイタカアワダチソウ(Solidago altissima)、セイヨウタンポポ(Taraxacum officinale)
ムラサキ科雑草:ワスレナグサ(Myosotis arvensis)
ガガイモ科雑草:オオトウワタ(Asclepias syriaca)
トウダイグサ科雑草:トウダイグサ(Euphorbia helioscopia)、オオニシキソウ(Euphorbia maculata)
フウロソウ科雑草:アメリカフウロ(Geranium carolinianum)
【0043】
カタバミ科雑草:ムラサキカタバミ(Oxalis corymbosa)
ウリ科雑草:アレチウリ(Sicyos angulatus)
イネ科雑草:イヌビエ(Echinochloa crus−galli)、エノコログサ(Setaria viridis)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、メヒシバ(Digitaria sanguinalis)、オヒシバ(Eleusine indica)、スズメノカタビラ(Poa annua)、ブラックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Avena fatua)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense)、シバムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus tectorum)、ギョウギシバ(Cynodone dactylon)、オオクサキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム(Panicum texanum)、シャタ−ケ−ン(Sorghum vulgare)、スズメノテッポウ(Alopecurus geniculatus)
ツユクサ科雑草:ツユクサ(Commelina communis)
トクサ科雑草:スギナ(Equisetum arvense)
カヤツリグサ科雑草:コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rotundus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus)
【0044】
しかも、本発明化合物のあるものは、トウモロコシ(Zea mays)、コムギ(Triticum aestivum)、オオムギ(Hordeum vulgare)、イネ(Orysa sativa)、ソルガム(Sorghum bicolor)、ダイズ(Glycine max)、ワタ(Gossypium spp.)、テンサイ(Beta vulgaris)、ピ−ナッツ(Arachis hypogaea)、ヒマワリ(Helianthus annuus)、ナタネ(Brassica napus)等の主要作物、花卉、蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さない。また、本発明化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草する事ができる。しかも、本発明化合物中のあるものは、作物に対しては問題となるような薬害を示さない。
【0045】
また本発明化合物は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
イネ科雑草:タイヌビエ(Echinochloa oryzicola)
ゴマノハグサ科雑草:アゼナ(Lindernia procumbens)
ミソハギ科雑草:キカシグサ(Rotala indica)、ヒメミソハギ(Ammannia multiflora)
ミゾハコベ科雑草:ミゾハコベ(Elatine triandra)
カヤツリグサ科雑草:タマガヤツリ(Cyperus difformis)、ホタルイ(Scirpus juncoides)、マツバイ(Eleocharis acicularis)、ミズガヤツリ(Cyperus serotinus)、クログワイ(Eleocharis kuroguwai)
ミズアオイ科雑草:コナギ(Monochoria vaginalis)
オモダカ科雑草:ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria trifolia)、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum)
ヒルムシロ科雑草:ヒルムシロ(Potamogeton distinctus)
セリ科雑草:セリ(Oenanthe javanica)
しかも本発明化合物中のあるものは、移植水稲に対して問題となるような薬害を示さない。
【0046】
さらに、本発明化合物は、例えば、堤防ののり面、河川敷、道路の路肩及びのり面、鉄道敷、公園緑地、グランド、駐車場、空港、工場および貯蔵設備等の工業施設用地、休耕地、あるいは、市街の有休地等の雑草の生育を制御する必要のある非農耕地、あるいは、樹園地、牧草地、芝生地、林業地等に発生する広範囲の雑草を除草できる。また本発明化合物は、河川、水路、運河、貯水池等に発生する、ホテイアオイ(Eichhornia crassipes)等の水生雑草に除草効力を有する。
本発明化合物は、国際特許出願公開明細書WO95/34659号明細書に記載される除草性化合物と同様な特性を有し、該明細書に記載される、除草剤耐性遺伝子等が導入される事により除草剤に対する耐性の付与された作物を栽培する場面においては、耐性の付与されていない通常の作物の栽培時に使用されるより多くの薬量の本発明化合物の使用が可能となり、好ましくない他の植物をより効果的に除草する事ができる。
【0047】
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合には、通常固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤する。
これらの製剤には、有効成分として本発明化合物を重量比で0.001〜80%、好ましくは、0.005〜70%含有する。
固体担体としては、カオリンクレ−、アタパルジャイトクレ−、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有機微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および合成含水酸化珪素の微粉末が挙げられ、液体担体としては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレングリコ−ル、2−エトキシエタノ−ル等のアルコ−ル類、フタル酸ジアルキルエステル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルフォキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−ル、アラビアガム、CMC(カルボキシメチルセルロ−ス)、PAP(酸性リン酸イソプロピル)等が挙げられる。
【0048】
本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着しないように雑草に限って処理する局部処理等がある。
また他の除草剤と混合して用いる事により、除草効力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と混用または併用することもできる。
かかる除草剤の例を以下に示す。
アトラジン(atrazine)、シアナジン(cyanazine)、ジメタメトリン(dimethametryn)、メトリブジン(metribuzin)、プロメトリン(prometryn)、シマジン(simazine)、シメトリン(simetryn)、クロルトルロン(chlorotoluron)、ジウロン(diuron)、フルオメツロン(fluometuron)、イソプロチュロン(isoproturon)、リニュロン(linuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、プロパニル(propanil)、ベンタゾン(bentazone)、ブロモキシニル(bromoxynil)、アイオキシニル(ioxynil)、ピリデ−ト(pyridate)
ブタミフォス(butamifos)、ジチオピル(dithiopyr)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、ペンディメサリン(pendimethalin)、チアゾピル(thiazopyr)、トリフルラリン(trifluralin)、アセトクロ−ル(acetochlor)、アラクロ−ル(alachlor)、ブタクロ−ル(butachlor)、ジエタチルエチル(diethatyl−ethyl)、ジメテンアミド(dimethenamid)、フルチアミド(fluthiamide)、メフェナセット(mefenacet)、メトラクロ−ル(metolachlor)、プレチラクロ−ル(pretilachlor)、プロパクロ−ル(propachlor)、シンメシリン(cinmethylin)
アシフルオルフェン(acifluorfen)、アシフルオルフェンNa塩(acifluorfen−sodium)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ビフェノックス(bifenox)、ブタフェナシル(butafenacil)、クロメトキシニル(chlomethoxynil)、フォメサフェン(fomesafen)、ラクトフェン(lactofen)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサジアルギル(oxadiargyl)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazone−ethyl)、フルアゾレート(fluazolate)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac−pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazine)、フルチアセットメチル(fluthiacet−methyl)、イソプロパゾール(isopropazol)、サルフェントラゾン(sulfentrazone)、チジアジミン(thidiazimin)、アザフェニジン(azafenidin)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen−ethyl)、シニドンエチル(cinidon−ethyl)
ジフェンゾコ−ト(difenzoquat)、ジクワット(diquat)、パラコ−ト(paraquat)
【0049】
2,4−D、2,4−DB、クロピラリド(clopyralid)、ジカンバ(dicamba)、フルロキシピル(fluroxypyr)、MCPA、MCPB、メコプロップ(mecoprop)、キンクロラック(quinclorac)、トリクロピル(triclopyr)
アジムスルフロン(azimsulfuron)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron−methyl)、クロリムロンエチル(chlorimuron−ethyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、クロランスラムメチル(cloransulam−methyl)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、ジクロスラム(diclosulam)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フルカルバゾン(flucarbazone)、フルメツラム(flumetsulam)、フルピリスルフロン(flupyrsulfuron)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron−methyl)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、アイオドスルフロン(iodosulfuron)、メトスラム(metosulam)、メツルフロンメチル(metsulfuron−methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、プリミスルフロンメチル(primisulfuron−methyl)、プロカルバゾンNa塩(procarbazone−sodium)、プロスルフロン(prosulfuron)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl)、リムスルフロン(rimsulfuron)、サルフォメツロンメチル(sulfometuron−methyl)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベニュロンメチル(tribenuron−methyl)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron−methyl)、トリフルスルフロンメチル(triflusulfuron−methyl)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ビスピリバックNa塩(bispyribac−sodium)、ピリミノバックメチル(pyriminobac−methyl)、ピリチオバックNa塩(pyrithiobac−sodium)、イマザメス(imazameth)、イマザメタベンズメチル(imazamethabenz−methyl)、イマザモックス(imazamox)、イマザピック(imazapic)、イマザピル(imazapyr)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)
テプラロキシジム(tepraloxydim)、アロキシジムNa塩(alloxydim−sodium)、クレトジム(clethodim)、クロディナホッププロパルギル(clodinafop−propargyl)、シハロホップブチル(cyhalofop−butyl)、ジクロホップメチル(diclofop−methyl)、フェノキサプロップ−エチル(fenoxaprop−ethyl)、フェノキサプロップ−p−エチル(fenoxaprop−p−ethyl)、フルアジホップブチル(fluazifop−buthyl)、フルアジホップ−p−ブチル(fluazifop−p−butyl)、ハロキシホップメチル(haloxyfop−methyl)、キザロホップ−p−エチル(quizalofop−p−ethyl)、セトキシジム(sethoxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)
【0050】
ジフルフェニカン(diflufenican)、フルルタモン(flurtamone)、ノルフルラゾン(norflurazone)、ベンゾフェナップ(benzofenap)、イソキサフルト−ル(isoxaflutole)、ピラゾレ−ト(pyrazolate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、サルコトリオン(sulcotrione)、クロマゾン(clomazone)、メソトリオン(mesotrione)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)
ビアラフォス(bialaphos)、グルフォシネ−トアンモニウム塩(glufosinate−ammonium)、グリフォセ−ト(glyphosate)、スルフォセート(sulfosate)
ジクロベニル(dichlobenil)、イソキサベン(isoxaben)ベンチオカ−ブ(benthiocarb)、ブチレ−ト(butylate)、ジメピペレ−ト(dimepiperate)、EPTC、エスプロカーブ(esprocarb)、モリネ−ト(molinate)、ピリブチカーブ(pyributicarb)、トリアレ−ト(triallate)
ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)
ブロモブチド(bromobutide)、DSMA、MSMA、カフェンストロ−ル(cafenstrol)、ダイムロン(daimuron)、エポプロダン(epoprodan)、フルポキサム(flupoxam)、メトベンズロン(metobenzuron)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ピペロフォス(piperophos)、トリアジフラム(triaziflam)
ベフルブタミド(beflubutamid)、ベンゾバイサイクロン(benzobicyclon)、クロメプロップ(clomeprop)、フェントラズアミド(fentrazamide)、フルフェナセット(flufenacet)、フロラスラム(florasulam)、インダノファン(indanofan)、イソキサジフェン(isoxadifen)、メソトリオン(mesotrione)、ナプロアニリド(naploanilide)、オキサジクロメフォン(oxaziclomefone)、ペソキシアミド(pethoxyamid)、フェノチオ−ル(phenothiol)、ピリダフォル(pyridafol)
【0051】
上記化合物はファ−ムケミカルズハンドブック(マイスタ−パブリッシングカンパニ−)〔Farm Chemical Handbook(Meister Publishing Company)〕1995年度版のカタログ、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−1995版(アグケムインフォメ−ションサ−ビス)〔AG CHEM NEW COMPOUND REVIEW, VOL.13,1995 (AG CHEM INFORMATION SERVICE)〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−1997版(アグケムインフォメ−ションサ−ビス)〔AG CHEM NEW COMPOUND REVIEW, VOL.15,1997(AG CHEM INFORMATION SERVICE)〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−1998版(アグケムインフォメ−ションサ−ビス)〔AG CHEM NEW COMPOUND REVIEW, VOL.16,1998(AG CHEM INFORMATION SERVICE)〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−1999版(アグケムインフォメ−ションサ−ビス)〔AG CHEM NEW COMPOUND REVIEW, VOL.17,1999(AG CHEM INFORMATION SERVICE)〕、「除草剤研究総覧(博友社)」に記載されているか、「除草剤研究総覧(博友社)」に記載されている。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草によっても異なるが、1ヘクタ−ル当たり通常0.01g〜20000g、好ましくは1g〜12000gであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所定量を1ヘクタ−ル当たり10リットル〜1000リットルの(必要ならば展着剤等の補助剤を添加した)水で希釈して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈することなくそのまま処理する。ここで必要に応じて用いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセントレイト(crop oil concentrate)、大豆油、コ−ン油、綿実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。
また、本発明化合物は、ワタの落葉剤・乾燥剤、ジャガイモ(Solanum tuberosum)の乾燥剤等の収穫補助剤の有効成分として用いる事ができる。その場合、本発明化合物を、除草剤の有効成分として用いる場合と同様に通常製剤化して、作物の収穫前に、単独または他の収穫補助剤と混合して茎葉処理する。
【0052】
【実施例】
以下、本発明を製造例、製剤例および試験例等により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例および製造中間体の製造例を示す。本発明化合物の化合物番号は、後記の表1〜表32に記載の番号である。
【0053】
製造例1:本発明化合物1−12の製造
Figure 2002155061
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノール109mgと2−クロロ−5−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン70mgをジメチルスルホキシド1.0mlに溶解し、臭化銅(I)10mg、無水炭酸リチウム12mgを加え、120℃で2時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン〔本発明化合物1−12〕10mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.65(d,3H,J=7.0Hz),3.56(s,3H),3.78(s,3H),4.72(q,1H,J=7.0Hz),6.36(s,1H),7.21(d,1H,J=6.8Hz),7.39(d,1H,J=8.7Hz),8.20(s,2H)
【0054】
中間体製造例1:製造例1で用いた2−クロロ−5−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジンの製造
Figure 2002155061
2−クロロ−5−ヒドロキシピリミジン0.17g、2−ブロモプロピオン酸メチル0.22g、無水炭酸カリウム0.20gとN,N−ジメチルホルムアミド2.6mlの混合物を60℃で1時間攪拌した。該反応液を室温に冷却した後水に注加し、t−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン0.17gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.68(d,3H,J=6.6Hz),3.79(s,3H),4.82(q,1H,J=6.7Hz),8.27(s,2H)
【0055】
製造例2:本発明化合物7−125の製造
Figure 2002155061
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−7〕0.30g、炭酸ナトリウム0.06gおよびシクロペンタノール3.0mlの混合物を、100℃にて1.5時間、その後120℃にて2時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、該反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(シクロペンチルオキシカルボニル)メトキシピリジン0.15g〔本発明化合物7−125〕を得た。
【0056】
製造例3:本発明化合物1−2の製造
Figure 2002155061
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノール339mgと2−クロロ−4−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン217mgをN,N−ジメチルホルムアミド2mlに溶解し、炭酸カリウム150mgを加え、80℃で2時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン〔本発明化合物1−2〕256mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.56(d,3H,J=7.1Hz),3.55(s,3H),3.69(s,3H),5.32(q,1H,J=6.3Hz),6.35(s,1H),6.59(d,1H,J=5.6Hz),7.18(d,1H,J=6.1Hz),7.39(d,1H,J=9.1Hz),8.28(d,1H,J=5.7Hz)
【0057】
製造例4:本発明化合物3−2の製造
Figure 2002155061
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノール156mgと4−クロロ−2−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン100mgをN,N−ジメチルホルムアミド1mlに溶解し、炭酸カリウム75mgを加え、室温で2時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン〔本発明化合物3−2〕69mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.56(d,3H,J=7.1Hz),3.55(s,3H),3.65(s,3H),5.0−5.3(m,1H),6.35(s,1H),6.63(d,1H,J=5.8Hz),7.20(d,1H,J=6.4Hz),7.39(d,1H,J=8.6Hz),8.38(d,1H,J=5.8Hz)
【0058】
中間体製造例2:製造例3および4で用いた2−クロロ−4−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジンと4−クロロ−2−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジンの製造
Figure 2002155061
乳酸メチル3.12gとアセトニトリル10mlの混合物を、氷冷下、水素化ナトリウム1.2gとアセトニトリル40mlの混合物に滴下し、30分攪拌した。2,4−ジクロロピリミジン4.47gとアセトニトリル10mlの混合物を同温度にて滴下し、混合物を60℃で2時間攪拌した。該反応液を室温に冷却した後水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−4−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン2.5gと4−クロロ−2−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン0.25gを得た。
2−クロロ−4−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):3.51(q,3H,J=1.2Hz),5.04(s,2H),6.31(s,1H),6.87(d,1H,J=5.9Hz),6.9−7.1(m,4H),7.3−7.5(m,5H),7.84(d,1H,J=8.6Hz)
4−クロロ−2−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):1.67(d,3H,J=7.0Hz),3.75(s,3H),5.33(q,1H,J=7.0Hz),7.03(d,1H,J=5.3Hz),8.38(d,1H,J=5.3Hz)
【0059】
製造例5:本発明化合物7−7の製造
第1工程
Figure 2002155061
炭酸カリウム2.08gを、3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン3.0gとN−(2,5−ジフルオロ−4−ニトロフェニル)アセトアミド2.95gとのN,N−ジメチルホルムアミド40mlの溶液に加えた。混合物を60〜70℃にて2時間攪拌した。その後、該混合物を室温まで冷却した後、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮し、粗結晶を得た。該粗結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して、N−[2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}−4−ニトロフェニル]アセトアミド3.67gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.21 (s, 3H), 3.72 (s, 3H), 4.90 (s, 2H), 6.96 (dd, 1H, J=7.8,5.0Hz), 7.35 (dd, 1H, J=7.8,1.6Hz), 7.5-7.6 (b, 1H), 7.90 (d, 1H, J=10.6Hz), 7.97 (dd, 1H, J=5.0,1.6Hz), 8.15 (d, 1H, J=6.8Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
N−[2−フルオロ−5−{2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}−4−ニトロフェニル]アセトアミド
N−[2−フルオロ−5−{2−〔1−(メトキシカルボニル)エトキシ〕−3−ピリジルオキシ}−4−ニトロフェニル]アセトアミド
N−[2−フルオロ−5−{2−〔1−(エトキシカルボニル)エトキシ〕−3−ピリジルオキシ}−4−ニトロフェニル]アセトアミド
【0060】
第2工程
Figure 2002155061
鉄粉3.6gと、酢酸10mlと水1mlの混合物に、N−[2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}−4−ニトロフェニル]アセトアミド3.67gの酢酸12mlと酢酸エチル2mlの溶液を、液温が45℃以下に維持しながら滴下した。滴下終了後、反応混合物を40℃にて1時間攪拌した。その後、該反応混合物をセライトにて濾過し、濃縮した。残渣を飽和重曹水にて希釈し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をジイソプロピルエーテルにて洗浄して、N−[4−アミノ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド3.09gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.15 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 3.9-4.1 (b, 2H), 5.03 (s, 2H), 6.56 (d, 1H, J=11.8Hz), 6.84 (dd, 1H, J=7.9,5.0Hz), 7.0-7.2 (b, 1H), 7.14 (dd, 1H, J=7.9,1.5Hz), 7.80 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz), 7.84 (d, 1H, J=7.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
N−[4−アミノ−2−フルオロ−5−{2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド
N−[4−アミノ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(メトキシカルボニル)エトキシ−3−ピリジルオキシ〕フェニル}アセトアミド
N−[4−アミノ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(エトキシカルボニル)エトキシ−3−ピリジルオキシ〕フェニル}アセトアミド
【0061】
第3工程
Figure 2002155061
亜硝酸イソアミル2.01gのアセトニトリル1ml溶液を、N−[4−アミノ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド2.0g、塩化銅(I)1.13g、塩化銅(II)2.31gとアセトニトリル20mlの混合物に室温にて滴下し、1時間攪拌した。反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド1.04gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.18 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.98 (s, 2H), 6.87 (dd, 1H, J=7.8,4.9Hz), 7.08 (dd, 1H, J=7.8,1.4Hz), 7.23 (d, 1H, J=10.3Hz), 7.3-7.4 (b, 1H), 7.86 (dd, 1H, J=4.9,1.4Hz) 8.07 (d, 1H, J=7.3Hz),
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド
N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(メトキシカルボニル)エトキシ〕−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド
N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(エトキシカルボニル)エトキシ〕−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド
【0062】
第4工程
Figure 2002155061
3フッ化ホウ素−メタノール錯体のメタノール溶液20mlとN−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]アセトアミド1.04gを60〜70℃にて3時間攪拌した。その後、反応液を濃縮し、残渣を飽和重曹水にて希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}アニリン0.87gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.77 (s, 3H), 3.7-3.9 (b, 2H), 5.00 (s, 2H), 6.49 (d, 1H, J=8.2Hz), 6.88 (dd, 1H, J=7.9,5.0Hz), 7.08 (d, 1H, J=10.3Hz), 7.10 (dd, 1H, J=7.9,1.6Hz), 7.87 (dd, 1H, J=5.0,1.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}アニリン、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(メトキシカルボニル)エトキシ〕−3−ピリジルオキシ}アニリン、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−〔1−(エトキシカルボニル)エトキシ−3−ピリジルオキシ〕アニリン
【0063】
第5工程
Figure 2002155061
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3ーピリジルオキシ}アニリン0.5g、トリフルオロアセト酢酸エチル0.28gとトルエン10mlの混合物を3時間共沸し、モレキュラーシーブス5Aを通じエタノールを除去した。冷却した後、反応液を濃縮し、N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]−トリフルオロアセト酢酸アミド0.71gを得た。
融点:158.8g
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル]−トリフルオロアセト酢酸アミド、
N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−3−ピリジルオキシ}フェニル]−トリフルオロアセト酢酸アミド、N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}−3−ピリジルオキシ}フェニル]−トリフルオロアセト酢酸アミド
【0064】
第6工程
Figure 2002155061
N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3ーピリジルオキシ}フェニル]−トリフルオロアセト酢酸アミド0.71gと酢酸2mlの混合物に、シアン酸ナトリウムを加え、50℃にて1時間、その後、110℃にて1.5時間攪拌した。冷却した後、反応混合物に水を注加し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水、続いて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.30gを得た。
1H-NMR (CDCl3/250 MHz)δ(ppm): 3.70 (s, 3H), 4.93 (s, 2/2H), 4.94 (s, 2/2H), 6.19(s, 1H), 6.9-7.0 (m, 2H), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.38 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.93 (dd, 1H, J=4.9,1.6Hz)
melting point: 75.3℃
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン
【0065】
第7工程
Figure 2002155061
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.10g、アセトニトリル1mlと炭酸カリウム31mgの混合物に、ヨウ化メチル32mgを加え、室温にて1.5時間攪拌した。その後、ヨウ化メチル64mgを加え、50℃にて1時間攪拌した。該混合物を濾過した後、濾液を減圧条件下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−7〕97mgを得た。
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−8〕、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン〔本発明化合物7−12〕、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン〔本発明化合物7−13〕
【0066】
製造例6:本発明化合物3−12の製造
Figure 2002155061
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノール338mgと4−クロロ−6−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン216mgをN,N−ジメチルホルムアミド2mlに溶解し、炭酸カリウム150mgを加え、60℃で2時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−6−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン〔本発明化合物3−12〕101mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.62(d,3H,J=7.0Hz),3.56(s,3H),3.75(s,3H),5.41(q,1Hz,J=7,0H),6.36(s,1H),6.37(s,1H),7.17(d,1H,J=6.5Hz),7.40(d,1H,J=9.1Hz),8.34(s,1H)
【0067】
製造例7:本発明化合物5−17の製造
4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシ−5−メチルピラゾ−ル0.21gのN,N−ジメチルホルムアミド1.0mlの溶液に、ブロム酢酸メチル0.10gと炭酸カリウム0.20gを加え、室温で3時間攪拌した。該反応液に希塩酸を注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。該溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−(メトキシカルボニル)メトキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−メチルピラゾ−ル〔本発明化合物5−17〕0.06gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):2.16(s,3H),3.51(s,3H),3.69(s,3H),4.77(s,2H),6.30(s,1H),7.12(d,1H,J=6.5Hz),7.31(d,1H,J=9.0Hz)
【0068】
製造例8:本発明化合物5−12のR光学異性体の製造
4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシ−5−メチルピラゾ−ル0.13gの酢酸エチル2.0mlの溶液に、(S)−(−)−乳酸メチル0.10gとトリフェニルホスフィン0.26g、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート40%トルエン溶液0.5mlを加え、室温で3時間攪拌した。該反応液にn−へキサン6mlを注加し、析出した不溶物を濾去した。該溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、(R)−3−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−メチルピラゾ−ル〔本発明化合物5−12のR光学異性体、以下5−12−Rと記す〕0.09gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.51(m,3H),2.15(s,3H),3.48(s,3/2H),3.52(s,3/2H),3.67(s,3H),5.05(m,1H),6.30(s,1/2H),6.31(s,1/2H),7.13(d,1/2H,J=6.5Hz),7.18(d,1/2H,J=6.6Hz),7.31(d,1H,J=8.7Hz)
[α]D+16.4°(c0.5 メタノール)
【0069】
製造例9:本発明化合物5−12のS光学異性体の製造
4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシ−5−メチルピラゾ−ル0.13gの酢酸エチル2.0mlの溶液に、(R)−(+)−乳酸メチル0.10gとトリフェニルホスフィン0.26g、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート40%トルエン溶液0.5mlを加え、室温で3時間攪拌した。該反応液にn−へキサン6mlを注加し、析出した不溶物を濾去した。該溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、(S)−3−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−メチルピラゾ−ル〔本発明化合物5−12のS光学異性体、以下5−12−Sと記す〕0.08gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.51(m,3H),2.15(s,3H),3.49(s,3/2H),3.52(s,3/2H),3.67(s,3H),5.05(m,1H),6.30(s,1/2H),6.31(s,1/2H),7.13(d,1/2H,J=6.8Hz),7.18(d,1/2H,J=6.5Hz),7.31(d,1H,J=8.8Hz)
[α]D−16.0°(c0.5 メタノール)
【0070】
中間体製造例3:製造例7〜9で用いた4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシ−5−メチルピラゾ−ルの製造
第1工程:
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノール10.0gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解し、トリエチルアミン5.0mlを加え、室温攪拌下、2−クロロアセト酢酸メチル5.0gを加えた後、室温攪拌10分、60℃で1時間攪拌した。トリエチルアミン2.0mlと2−クロロアセト酢酸メチル2.0gを加えた後、さらに60℃で1時間攪拌した。反応液を室温にて一夜攪拌した後、該反応液を氷水と希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−オキソ酪酸メチル7.86gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):2.01(s,3/2H ),2.47(s,3/2H ),3.55(s,3H),3.75(s,3/2H),3.81(s,3/2H ),4.99(s,1/2H ),6.34(s,1/2H),6.35(s,1/2H),6.65(d,1/2H,J=6.4Hz),6.83(m,1/2H),7.35(m,1H)
【0071】
第2工程:
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−オキソ酪酸メチル3.09gとメチルカーバゼート1.23gをトルエン30mlに懸濁し、5時間加熱還流攪拌した。室温まで放冷後、反応液を氷水と希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をn−へキサン:酢酸エチル(3:1)の混合溶媒で洗浄し、4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシ−5−メチルピラゾ−ル2.94gを得た。
1H−NMR(CDCl3+CD3OD/250MHz)δ(ppm):2.08(s,3H),3.51(s,3H),6.32(s,1H),6.81(d,1H,J=6.5Hz),7.32(d,1H,J=8.8Hz)
【0072】
製造例10:本発明化合物6−2の製
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェニルメルカプタン0.40gをアセトニトリル6mlに溶解し、炭酸カリウム0.31gを加えて30分攪拌した後、2−クロロ−4−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]ピリミジン0.29gを加えて3時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−([2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェニルチオ}ピリミジン−4−イル]オキシ)プロピオン酸メチル〔本発明化合物6−2〕0.46gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.49(d,3H,J=7.1Hz),3.56(d,3H,J=1.1Hz),3.67(d,3H,J=1.3Hz),5.23(m,1H),6.36(s,1H),6.52(d,1H,J=5.7Hz),7.46(d,1H,J=9.2Hz),7.62(m,1H),8.26(d,1H,J=5.7Hz)
融点:60.2℃
【0073】
中間体製造例4:製造例10で用いた2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェニルメルカプタンの製造
Figure 2002155061
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−ベンゼンスルホニルクロリド1.65gを酢酸16mlに溶解し、亜鉛4.4gを加えた後、加熱還流条件下で反応させた。反応終了後、放冷した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出し、濾過した。濾液を分液後、該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェニルメルカプタン1.35gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):3.55(m,3H),3.86(s,1H),6.36(s,1H),7.27(d,1H,J=6.4Hz),7.33(d,1H,J=9.1Hz)
融点132.5℃
【0074】
製造例11:本発明化合物2−2の製造
Figure 2002155061
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシピリジン200mgと2−ブロモプロピオン酸メチル80mgとをアセトニトリルに溶解し、炭酸カリウム66mgを加えて60℃で2時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン77mg〔本発明化合物2−2〕を得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):1.67(d,3H,J=6.8Hz),3.55(m,3H),3.76(s,3H),4.94(q,1H,J=6.9Hz),6.35(s,1H),6.95(m,1H),7.20(d,1H,J=6.8Hz),7.28(m,1H),7.39(d,1H,J=9.0Hz),7.75(m,1H)
【0075】
製造例12:本発明化合物2−7の製造
Figure 2002155061
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシピリジン60mgとブロモ酢酸メチル20mgをアセトニトリル2mlに溶解し、炭酸カリウム20mgを加えて60℃で2時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物2−7〕60mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):3.55(s,3H),3.80(s,3H),4.81(s,2H),6.35(s,1H),6.97(m,1H),7.21(d,1H,J=6.8Hz),7.27(m,1H),7.39(d,1H,J=9.1Hz),7.75(d,1H,J=4.1Hz)
【0076】
中間体製造例5:製造例11および12で用いた2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシピリジンの製造
第1工程:
Figure 2002155061
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノール11.8gと2−クロロ−3−ニトロピリジン5.2gをトルエン100mlに溶解し、水酸化カリウム2.3gおよび18−クラウン−6、56mgを加え、90℃で3時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、溶媒を留去し、残渣を氷水に注加し、生じた結晶を濾取し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ニトロピリジン11.5gを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):3.56(m,3H),6.36(s,1H),7.4〜7.2(m,2H),7.41(d,1H,J=8.9Hz),8.3(m,1H),8.4(m,1H)
【0077】
第2工程:
Figure 2002155061
鉄粉3.8g、酢酸50mlおよび水5mlの混合溶液に、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ニトロピリジン3.8gの酢酸5.0ml溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリジン3.4gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):3.53(s,3H),4.00(s,2H),6.34(s,1H),6.82(m,1H),6.99(m,1H),7.29(d,1H,J=6.7Hz),7.35(d,1H,J=9.0Hz),7.47(m,1H)
【0078】
第3工程:
Figure 2002155061
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体0.76mlを3−アミノ−2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリジン3.4g、1,2−ジメトキシエタン3ml、塩化メチレン1mlの混合物に−5℃で滴下し、5分間攪拌後、亜硝酸t−ブチル0.44mlを混合物に滴下し、同温度で30分間攪拌した。混合物にn−ペンタンを注加し、生じた結晶2.0gを濾取した。引き続き、上記結晶200mgを無水酢酸1mlに溶解し、70℃で2時間攪拌した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリジン89mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):2.43(s,3H),3.55(s,3H),6.35(s,1H),7.05(m,1H),7.21(d,1H,J=6.9Hz),7.39(d,1H,J=8.8Hz),7.47(m,1H),7.97(m,1H)
【0079】
第4工程:
Figure 2002155061
3−アセトキシ−2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリジン100mg、炭酸カリウム15mg、メタノール1mlの混合物を室温で3時間攪拌した。反応液を氷水に注加したのち、酢酸を注加した。生じた結晶を濾取し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−ヒドロキシピリジン65mgを得た。
【0080】
製造例13:本発明化合物7−7の製造
第1工程:
Figure 2002155061
水素化ナトリウム0.4gを2−クロロ−3−ニトロピリジン1.59g、グリコール酸メチル0.95gおよび1,4−ジオキサン10mlの混合物に10℃で加えた。室温で2時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン1.5gを得た。
mp:61.5℃
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン、
2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−3−ニトロピリジン、
2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}−3−ニトロピリジン
【0081】
第2工程:
Figure 2002155061
2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン0.3g、酸化白金20mg及びエタノール1.4mlの混合物を水素雰囲気下に、室温で3時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.22gを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):3.77(s,3H),3.85(bs,2H),4.95(s,2H),6.75(dd,1H,J=7.5,5.0Hz),6.91(dd,1H,J=7.5,1.6Hz),7.50(dd,1H,J=5.0,1.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−アミノ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−アミノ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
3−アミノ−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン
【0082】
第3工程:
Figure 2002155061
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体1.6gを3−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン1.0g、1,2−ジメトキシエタン3ml及びジクロロメタン1mlの混合物に−10℃で滴下した。同温度で10分攪拌後、亜硝酸t−ブチル0.68gの1,2−ジメトキシエタン1ml溶液を−5℃以下で反応液に滴下した。同温度で30分間攪拌後、混合物にn−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸5mlに溶解し、80℃で1時間攪拌した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.45gを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):2.33(s,3H),3.75(s,3H),4.92(s,2H),6.93(dd,1H,J=7.7,5.0Hz),7.38(dd,1H,J=7.7,1.6Hz),7.97(dd,1H,J=5.0,1.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−アセトキシ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−アセトキシ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
3−アセトキシ−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン
【0083】
第4工程:
Figure 2002155061
3−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.1g、炭酸カリウム31mgおよびメタノール1mlの混合物を室温で3時間攪拌した。
反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン73mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):3.78(s,3H),4.98(s,2H),6.84(dd,1H,J=7.7,5.0Hz),7.17(dd,1H,J=7.7Hz,1.3Hz),7.63(dd,1H,J=5.0Hz,1.3hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−ヒドロキシ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−ヒドロキシ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
3−ヒドロキシ−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン
【0084】
第5工程:
Figure 2002155061
3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.29g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン0.23gおよびN,N−ジメチルホルムアミド3.2mlの混合物に炭酸カリウム0.11gを加え、70℃で2時間攪拌した。2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン0.12gおよび炭酸カリウム0.05gを追加し、70℃で1時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.39gを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):3.51(q,3H,J=1.1Hz),3.68(s,3H),4.86(d,1H),4.98(d,1H),6.29(s,1H),6.99(dd,1H,J=7.8,4.9Hz),7.11(d,1H,J=6.0Hz),7.51(dd,1H,J=7.8,1.6Hz),7.87(d,1H,J=8.6Hz),7.99(dd,1H,J=4.9,1.6Hz)
【0085】
第6工程:
Figure 2002155061
鉄粉0.3g、酢酸3mlおよび水0.3mlの混合溶液に、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.30gの酢酸2ml溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.24gを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):3.52(s,3H),3.74(s,3H),4.29(bs,2H),5.00(s,2H),6.30(s,1H),6.61(d,1H,J=11.3Hz),6.76(d,1H,J=6.8Hz),6.86(dd,1H,J=7.8,5.0Hz),7.22(dd,1H,J=7.8,1.1Hz),7.82(dd,1H,J=5.0,1.1Hz)
【0086】
第7工程:
Figure 2002155061
亜硝酸イソアミル88mgを3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.24g、塩化銅(I)99mg、塩化銅(II)0.20g、アセトニトリル2.5mlの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌した。該反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−7〕0.21gを得た。
mp:52.2℃
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):3.50(q,3H,J=1.0Hz),3.70(s,3H),4.90(d,1H,J=15.8Hz),4.97(d,1H,J=15.8Hz),6.29(s,1H),6.9−7.0(m,2H),7.32(dd,1H,J=7.7,1.9Hz),7.37(d,1H,J=8.7Hz),7.92(dd,1H,J=4.9,1.9Hz)
【0087】
製造例14:本発明化合物4−85の製造
第1工程:
水素化ナトリウム68mgを5−ベンジルオキシ−4−クロロ−2−メチルピリミジン0.4g、グリコール酸メチル0.17gおよびテトラヒドロフラン3.4mlの混合物に0℃で加えた。室温で1時間攪拌後、90℃で30分攪拌した。グリコール酸メチル18mgを追加し、90℃で30分攪拌した。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−ベンジルオキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.21gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):2.49(s,3H),3.78(s,3H),5.01(s,2H),5.17(s,2H),7.2−7.5(m,5H),7.99(s,1H)
【0088】
第2工程:
5−ベンジルオキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.21g、10%パラジウム−炭素16mg及び酢酸エチル1.5mlの混合物を水素雰囲気下室温で3時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、5−ヒドロキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.15gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):2.51(s,3H),3.81(s,3H),5.00(s,2H),8.10(s,1H)
【0089】
第3工程:
5−ヒドロキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.15g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン0.16gおよびN,N−ジメチルホルムアミド2mlの混合物に炭酸カリウム74mgを加え、70℃で1時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.20gを得た。
mp:149.5℃
【0090】
第4工程:
5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.19g、酸化白金5mg、エタノール2ml及び酢酸エチル2mlの混合物を水素雰囲気下室温で1.5時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.17gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):2.55(s,3H),3.51(s,3H),3.75(s,3H),4.9−5.1(m,2H),6.30(s,1H),6.67(d,1H,J=6.3Hz),6.83(bs,1H),7.15(d,1H,J=11.0Hz),7.42(bs,1H),8.18(s,1H)
【0091】
第5工程:
亜硝酸イソアミル60mgを5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン0.17g、塩化銅(I)67mg、塩化銅(II)137mg、アセトニトリル2mlの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌した。該反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルピリミジン〔本発明化合物4−85〕20mgを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):2.57(s,3H),3.51(q,3H,J=1.1Hz),3.71(s,3H),4.90(d,1H,J=15.7Hz),5.00(d,1H,J=15.7Hz),6.29(s,1H),6.89(d,1H,J=6.4Hz),7.37(d,1H,J=9.0Hz),8.26(s,1H)
【0092】
製造例15:本発明化合物4−76の製造
第1工程:
水素化ナトリウムを5−ベンジルオキシ−4−クロロ−2−メチルピリミジン、乳酸メチルおよびテトラヒドロフランの混合物に0℃で加える。室温で1時間攪拌後、90℃で30分攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−ベンジルオキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジンを得る。
【0093】
第2工程:
5−ベンジルオキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジン、10%パラジウム−炭素及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で3時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、5−ヒドロキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジンを得る。
【0094】
第3工程:
5−ヒドロキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジン、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼンおよびN,N−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、70℃で1時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジンを得る。
【0095】
第4工程:
5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジン、酸化白金、エタノール及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で1.5時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジンを得る。
【0096】
第5工程:
亜硝酸イソアミルを5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジン、塩化銅(I)、塩化銅(II)、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌する。該反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルピリミジン〔本発明化合物4−76〕を得る。
【0097】
製造例16:本発明化合物7−2の製造
第1工程:
水素化ナトリウム0.8gを2−クロロ−3−ニトロピリジン3.17g、乳酸メチル2.19gおよび1,4−ジオキサン20mlの混合物に10℃で加え、室温で1.5時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−3−ニトロピリジン3.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.70 (d, 3H, J=7.0Hz), 3.74 (s, 3H), 5.46 (q, 1H, J=7.0Hz), 7.07 (dd, 1H, J=7.8,5.0Hz), 8.2-8.4 (m, 2H)
【0098】
第2工程:
2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−3−ニトロピリジン1.7g、酸化白金102mg及びエタノール7.5mlの混合物を水素雰囲気下に室温で3.5時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン1.16gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.63 (d, 3H, J=6.8Hz), 3.74 (s, 3H), 3.84 (bs, 2H), 5.38 (d, 1H, J=6.8Hz), 6.72 (dd, 1H, J=7.7,5.0Hz), 6.90 (dd, 1H, J=7.7,1.4Hz), 7.48 (dd, 1H, J=5.0,1.4Hz)
【0099】
第3工程:
三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体1.5mlを3−アミノ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン1.1g、1,2−ジメトキシエタン1ml及びジクロロメタン1mlの混合物に−10℃で滴下した。同温度で10分攪拌後、亜硝酸t−ブチル0.8mlの1,2−ジメトキシエタン1ml溶液を−5℃以下で反応液に滴下した。同温度で30分間攪拌後、混合物にn−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸に溶解し、70℃で1時間攪拌した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン0.34gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.60 (d, 1H, J=7.0Hz), 2.33 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 5.34 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.91 (dd, 1H, J=7.6, 5.0Hz), 7.36 (dd, 1H, J=7.6, 1.5Hz), 7.97 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz)
【0100】
第4工程:
3−アセトキシ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン0.34g、炭酸カリウム0.11gおよびメタノール2mlの混合物を、室温で1時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−ヒドロキシ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン198mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.64 (d, 1H, J=7.0Hz), 3.75 (s, 3H), 5.45 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.0-6.2 (bs, 1H), 6.83 (dd, 1H, J=7.7,5.0Hz), 7.15 (dd, 1H, J=7.7,1.5Hz), 7.63 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz)
【0101】
第5工程:
3−ヒドロキシ−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン0.18g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン0.19gおよびN,N−ジメチルホルムアミド2.0mlの混合物に炭酸カリウム90mgを加え、70℃で3時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン0.21gをジアステレオ異性体混合物として得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.45 (d, 3/2H, J=7.1Hz), 1.46 (d, 3/2H, J=7.1Hz), 3.49 (S, 3/2H), 3.51 (s, 3/2H), 3.66 (s, 3H), 5.29 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 5.31 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 6.28 (s, 1/2H), 6.30 (s, 1/2H), 6.9-7.0 (m, 1H), 7.10 (d, 1/2H, J=6.1Hz), 7.17 (d, 1/2H, J=6.1Hz), 7.4-7.6 (m, 1H), 7.8-7.9 (m, 1H), 7.9-8.0 (m, 1H),
【0102】
第6工程:
鉄粉0.21g、酢酸3mlおよび水0.3mlの混合物に、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジンの酢酸1.2ml溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、1時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン0.16gをジアステレオ異性体混合物として得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.61 (d, 3H, J=7.1Hz), 3.52 (s, 3H), 3.72 (s, 3H), 4.28 (bs, 2H), 5.40 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 5.41 (q, 1/2H, J=7.1Hz), 6.30 (s, 1H), 6.62 (d, 1H, J=10.9Hz), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8-6.9 (m, 1H), 7.2-7.3 (m, 1H), 7.7-7.9 (m, 1H)
【0103】
第7工程:
亜硝酸イソアミル18mgを3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン0.16g、塩化銅(I)63mg、塩化銅(II)129mg、アセトニトリル1.5mlの混合物に0℃で滴下し、1時間攪拌した後、室温にて更に1時間攪拌した。該反応液を1N塩酸と氷の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン〔本発明化合物7−2〕0.12gをジアステレオ異性体混合物として得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.51 (d, 3/2H, J=7.0Hz), 1.52 (d, 3/2H, J=7.0Hz), 3.50 (S, 3H), 3.67 (s, 3H), 5.29 (q, 1/2H, J=7.0Hz), 5.30 (q, 1/2H, J=7.0Hz), 6.28 (s, 1/2H), 6.29 (s, 1/2H), 6.8-7.0 (m, 2H), 7.3-7.4 (m, 2H), 7.8-7.9 (m, 1H)
【0104】
製造例17:本発明化合物4−7の製造
第1工程:
水素化ナトリウム0.297gとN,N−ジメチルホルムアミドの混合物に、グリコール酸メチル0.668gを加え、室温にて1時間攪拌した。その後、5−ベンジルオキシ−4−クロロピリミジン(以下の方法にて調製。:5−ベンジルオキシ−4−ピリミジオン1.5gとオキシ塩化リン30mlの混合物を還流温度にて30分間攪拌した後、室温まで冷却、濃縮した。残渣に氷水を注加し、ジエチルエーテルで抽出、濃縮した。)を、該混合物に加え、室温にて3時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水、続いて飽和食塩水洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−ベンジルオキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.934gを得た。
融点:78.7℃
【0105】
第2工程:
5−ベンジルオキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.9g、10%パラジウム−炭素及び酢酸エチルの混合物を、水素雰囲気下室温で3時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、5−ヒドロキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.574gを得た。
融点:105.0℃
【0106】
第3工程:
水素化ナトリウム42mgとN,N−ジメチルホルムアミドの混合物に、、5−ヒドロキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.184gを加え、室温にて1時間攪拌した。その後、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン0.35gを加え、室温にて2時間攪拌し、更に50℃にて1時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.448gを得た。
融点:55.7℃
【0107】
第4工程:
鉄粉0.4g、酢酸2mlと水0.2mlの混合物に、5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.393gの酢酸1mlと酢酸エチル2mlの溶液を滴下した。滴下終了後、該混合物を室温にて1時間攪拌し、更に30〜40℃にて2時間攪拌した。その後、該混合物をセライトで濾過し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、続いて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.315gを得た。
融点:71.2℃
【0108】
第5工程:
亜硝酸イソアミル0.228gのアセトニトリル溶液を、5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン0.315g、塩化銅(I)0.129g、塩化銅(II)0.262g、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、3時間攪拌した。該混合物を濃縮し、酢酸エチルにて希釈し、セライトで濾過した。ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を1%塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン〔本発明化合物4−7〕0.244gを得た。
融点:52.5℃
【0109】
製造例18:本発明化合物4−2の製造
第1工程:
水素化ナトリウムを5−ベンジルオキシ−4−クロロピリミジン、乳酸メチルおよびテトラヒドロフランの混合物に0℃で加える。室温で1時間攪拌後、90℃で30分攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−ベンジルオキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジンを得る。
【0110】
第2工程:
5−ベンジルオキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン、10%パラジウム−炭素及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で3時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し、5−ヒドロキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジンを得る。
【0111】
第3工程:
5−ヒドロキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼンおよびN,N−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、70℃で1時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジンを得る。
【0112】
第4工程:
5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン、酸化白金、エタノール及び酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下室温で1.5時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮し5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジンを得る。
【0113】
第5工程:
亜硝酸イソアミルを5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン、塩化銅(I)、塩化銅(II)、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌する。該反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン〔本発明化合物4−2〕を得る。
【0114】
製造例19:本発明化合物7−42の製造
第1工程:
水素化ナトリウム0.385gとジメチルスルホキシドの混合物に、ベンジルアルコール1.04gのジメチルスルホキシド溶液を室温にて加え、50℃にて30分間攪拌し、室温まで冷却した。4−ブロモ−3−(メトキシ)メトキシピリジン1.7g(Tetrahedron,12745−12774,(1998)に記載の方法で製造した。)のジメチルスルホキシド溶液を、該混合物に加え、50〜60℃にて2時間攪拌した。反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−ベンジルオキシ−3−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン1.48gを得た。
融点:71.2℃
【0115】
第2工程:
4−ベンジルオキシ−3−(メトキシ)メトキシピリジン0.7gと1N塩酸の混合物を、60℃にて2時間攪拌した。混合物を飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して4−ベンジルオキシ−3−ヒドロキシピリジン0.547gを得た。
融点:173.0℃
【0116】
第3工程:
水素化ナトリウム57mg、N,N−ジメチルホルムアミドと4−ベンジルオキシ−3−ヒドロキシピリジンの混合物を、室温にて30分間攪拌した。その後、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン0.5gを、該混合物に加え、室温にて1時間、更に50〜60℃にて1時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニア水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニア水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−ベンジルオキシ−3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}ピリジン0.548gを得た。
nD 23.7: 1.5497
【0117】
第4工程:
鉄粉0.55g、酢酸3mlと水0.3mlの混合物に、4−ベンジルオキシ−3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}ピリジン0.548gの酢酸0.5mlと酢酸エチル3mlの溶液を滴下した。滴下終了後、40〜50℃にて3時間攪拌した。該混合物をセライト濾過し、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−ベンジルオキシピリジン0.438gを得た。
融点:69.3℃
【0118】
第5工程:
亜硝酸イソアミル0.307gのアセトニトリル溶液を、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−ベンジルオキシピリジン0.438g、塩化銅(I)0.173g、塩化銅(II)0.352gとアセトニトリルの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌した。翌日、該反応混合物を濃縮し、酢酸エチルで希釈し、セライトで濾過した。ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を1%塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−ベンジルオキシ−3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリジン0.362gを得た。
融点:55.0℃
【0119】
第6工程:
4−ベンジルオキシ−3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリジン0.356g、10%パラジウム/炭素と酢酸エチルの混合物を、水素雰囲気下に室温にて8時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮して、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−ヒドロキシピリジン0.32gを得た。
融点:196.1℃
【0120】
第7工程:
水素化ナトリウム30mgとN,N−ジメチルホルムアミドの混合物に、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−ヒドロキシピリジン0.31gを加え、室温にて1時間攪拌した。その後、ブロモ酢酸エチル0.114gを該混合物に加え、室温にて8時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−42〕27mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.51 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.74 (s, 3H), 4.71 (s, 2H), 6.29 (s, 1H), 6.7-6.8 (m, 2H), 7.37 (d, 1H, J=8.8Hz), 8.35 (d, 1H, J=5.5Hz), 8.37 (s, 1H)
【0121】
製造例20:本発明化合物2−45の製
水素化ナトリウム2.0gを、2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジン9.65g、グリコール酸メチル4.95gとテトラヒドロフラン100mlの混合物に0℃にて加え、0℃にて4時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン10.86gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.80 (s, 3H), 5.09 (s, 2H), 7.11 (d, 1H, J=8.4Hz), 8.34 (d, 1H, J=8.4Hz),
【0122】
第2工程:
6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン1.0g、2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノール1.37g、炭酸カリウム0.67gとN,N−ジメチルホルムアミド5mlの混合物を室温にて1時間攪拌し、更に50℃にて30分間攪拌した。
該混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン2.25gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.56 (s, 3H), 3.64 (s, 3H), 4.81 (s, 2H), 6.36 (s, 1H), 6.75 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.14 (d, 1H, J=6.6Hz), 7.41 (d, 1H, J=8.9Hz), 8.52 (d, 1H, J=8.6Hz),
【0123】
第3工程
6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン2.25g、10%パラジウム−炭素0.3gと酢酸エチル40mlの混合物を水素雰囲気下、室温にて3時間攪拌した。反応系を窒素置換し、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン1.38gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 3.6-3.7 (b, 2H), 3.67 (s, 3H), 4.76 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.47 (d, 1H, J=8.1Hz), 7.0-7.1 (m, 2H), 7.35 (d, 1H, J=8.9Hz)
【0124】
第4工程:
3フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体を、3−アミノ−6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン1.28gの1,2−ジメトキシエタン3mlと塩化メチレン1mlの溶液に、−7℃にて加えた。該溶液を同温度にて10分間攪拌した後、亜硝酸t−ブチル0.31gの溶液をー5℃以下にて滴下した。該反応溶液を同温度で1時間攪拌した。n−ペンタンを注加し、該n−ペンタン層をデカンテーションにて除いた。エタノール7ml、亜鉛(末)1.2gを該混合物に加え、還流温度にて1.5時間攪拌した。反応混合物をセライトで濾過し、溶媒を留去させた後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ−6−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物2−45〕0.73gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.55 (s, 3H), 3.66 (s, 3H), 4.67 (s, 2H), 6.34 (s, 1H), 6.5-6.6 (m, 1H), 7.1-7.2 (m, 1H), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.6-7.7 (m, 1H)
【0125】
製造例21:本発明化合物7−95の製造
第1工程:
水素化ナトリウムを2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジン、グリコール酸メチルおよび1,4−ジオキサンの混合物に10℃で加える。室温で2時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジンを得る。
【0126】
第2工程:
6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン、酸化白金及びエタノールの混合物を水素雰囲気下室温で3時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0127】
第3工程:
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を3−アミノ−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、1,2−ジメトキシエタン及びジクロロメタンの混合物に−10℃で滴下する。同温度で10分攪拌後、亜硝酸t−ブチルの1,2−ジメトキシエタン溶液を−5℃以下で反応液に滴下する。同温度で30分間攪拌後、混合物にn−ペンタンを注加する。二層に分離したうちの下層を無水酢酸に溶解し、80℃で1時間攪拌する。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0128】
第4工程:
3−アセトキシ−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、炭酸カリウムおよびメタノールの混合物を室温で3時間攪拌する。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−クロロ−3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
第5工程:
6−クロロ−3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼンおよびN,N−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、70℃で2時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0129】
第6工程:
鉄粉、酢酸および水の混合溶液に、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンの酢酸溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴下する。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈する。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0130】
第7工程:
亜硝酸イソアミルを3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−6−クロロ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、塩化銅(I)、塩化銅(II)、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌する。該反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−6−クロロ−2−(メトキシルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−95〕を得る。
【0131】
製造例22:本発明化合物7−109の製造
第1工程:
水素化ナトリウムを2−クロロ−6−メトキシ−3−ニトロピリジン、グリコール酸メチルおよび1,4−ジオキサンの混合物に10℃で加える。室温で2時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジンを得る。
【0132】
第2工程:
6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン、酸化白金及びエタノールの混合物を水素雰囲気下室温で3時間攪拌する。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0133】
第3工程:
三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を3−アミノ−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、1,2−ジメトキシエタン及びジクロロメタンの混合物に−10℃で滴下する。同温度で10分攪拌後、亜硝酸t−ブチルの1,2−ジメトキシエタン溶液を−5℃以下で反応液に滴下する。同温度で30分間攪拌後、混合物にn−ペンタンを注加する。二層に分離したうちの下層を無水酢酸に溶解し、80℃で1時間攪拌する。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0134】
第4工程:
3−アセトキシ−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、炭酸カリウムおよびメタノールの混合物を室温で3時間攪拌する。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−ヒドロキシ−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0135】
第5工程:
3−ヒドロキシ−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼンおよびN,N−ジメチルホルムアミドの混合物に炭酸カリウムを加え、70℃で2時間攪拌する。反応液を室温に冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0136】
第6工程:
鉄粉、酢酸および水の混合溶液に、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンの酢酸溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴下する。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈する。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得る。
【0137】
第7工程:
亜硝酸イソアミルを3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−6−メトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン、塩化銅(I)、塩化銅(II)、アセトニトリルの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌する。該反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−6−メトキシ−2−(メトキシルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−109〕を得る。
【0138】
製造例23:本発明化合物7−8の製造
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−7〕0.60g、炭酸ナトリウム0.13gおよびエタノール7.0mlの混合物を2時間加熱還流した。室温に冷却した後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−8〕0.55gを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):1.25(t,3H,J=7.1Hz),3.50(q,3H,J=1.2Hz),4.16(q,2H,J=7.1Hz),4.88(d,1H,J=15.9Hz),4.96(d,1H,J=15.9Hz),6.29(s,1H),6.9−7.0(m,2H),7.3−7.4(m,2H),7.9−8.0(m,1H)
【0139】
製造例24:本発明化合物7−48の製造
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−7〕0.60g、炭酸ナトリウム0.13g、n−プロパノール7.0mlの混合物を、還流条件下に2時間攪拌した。室温まで冷却した後、減圧条件下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(プロポキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−48〕を得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 0.89 (t, 3H, J=7.3Hz), 1.63 (qt, 2H, J=7.3, 6.5Hz), 3.50 (q, 3H, J=0.8Hz), 4.06 (t, 2H, J=6.5Hz), 4.89 (d, 1H, J=16.0Hz), 4.97 (d, 1H, J=16.0Hz), 6.28 (s, 1H), 6.91 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 6.93 (d, 1H, J=6.5Hz), 7.31 (dd, 1H, J=7.8, 1.6Hz), 7.36 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.91 (dd, 1H, J=5.0, 1.6Hz)
【0140】
製造例25:本発明化合物7−50の製造
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−7〕0.30g、炭酸ナトリウム0.06gおよびn−ペンタノール3.0mlの混合物を100℃で1.5時間攪拌した。室温に冷却した後、該反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(ペンチルオキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−50〕0.07gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):0.88(t,3H,J=6.6Hz),1.2−1.4(m,4H),1.5−1.7(m,2H),3.50(q,3H,J=1.0Hz),4.0−4.2(m,2H),4.8−5.1(m,2H),6.29(s,1H),6.9−7.0(m,2H),7.28(dd,1H,J=7.9,1.4Hz),7.37(d,1H,J=9.0Hz),7.91(dd,1H,J=4.9,1.4Hz)
【0141】
中間体製造例7:製造例13の第3工程で用いる3−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンの製造
2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン55.9g、10%パラジウム/炭素8.64g及び酢酸エチル600mlの混合物を水素雰囲気下に、室温で2時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン46.76gを得た。
【0142】
中間体製造例8:製造例13の第4工程で用いる3−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンの製造
トリフルオロメタンスルホン酸0.41gを3−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.5g、1,2−ジメトキシエタン1.5ml及びジクロロメタン0.5mlの混合物に−5℃で滴下した。同温度で10分攪拌後、亜硝酸t−ブチル0.34gの1,2−ジメトキシエタン0.5ml溶液を−5℃以下で反応液に滴下した。同温度で1時間攪拌後、混合物にn−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸1.5mlに溶解し、60℃で30分間攪拌した。反応液を室温に冷却後、水に注加し、t−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.30gを得た。
【0143】
製造例26:本発明化合物7−17の製造
第1工程:
水素化ナトリウム1.26gを、2−クロロ−5−ニトロピリジン5.0g、グリコール酸メチル3.13gとテトラヒドロフラン50mlの混合物に0℃にて加えた。該混合物を0℃にて15分、室温にて1時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(メトキシカルボニル)メトキシ−5−ニトロピリジン5.18gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.79 (s, 3H), 5.01 (s, 2H), 6.99 (d, 1H, J=9.1Hz), 8.41 (dd, 1H, J=9.1,2.8Hz), 9.03 (d, 1H, J=2.8Hz)
【0144】
第2工程:
2−(メトキシカルボニル)メトキシ−5−ニトロピリジン5.18g、10%パラジウム−炭素0.8gと酢酸エチル50mlの混合物を、水素雰囲気下に室温にて3時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン4.45gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.3-3.5 (bs, 2H), 3.76 (s, 3H), 4.82 (s, 2H), 6.72 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.04 (dd, 1H, J=8.6,2.9Hz), 7.58 (dd, 1H, J=2.9Hz)
【0145】
第3工程:
トリフルオロメタンスルホン酸を、5−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン3.0g、1,2−ジメトキシエタン9mlとジクロロメタン3mlの溶液に−10℃にて滴下した。該溶液を同温度で10分間攪拌した後に、亜硝酸t−ブチル2.35mlの1,2−ジメトキシエタン1ml溶液を加え、同温度で20分間攪拌し、n−ペンタンを加えた。生じた固体をn−ペンタンで洗浄し、無水酢酸18mlに溶解し、該溶液を80℃にて2時間攪拌した。反応液を氷水に注加し、メチルt−ブチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮し、メチルt−ブチルエーテルにて希釈し、該溶液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水にて洗浄し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン1.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 2.30 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 4.89 (s, 2H), 6.88 (d, 1H, J=8.8Hz), 7.40 (dd, 1H, J=8.8,2.8Hz), 7.89 (dd, 1H, J=2.8Hz)
【0146】
第4工程:
5−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン1.4g、炭酸カリウム0.47gとメタノール10mlの混合物を、室温にて4.5時間攪拌した。溶媒を減圧下にて留去した後、残渣に水を注加し、塩酸にて中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン1.0gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.78 (s, 3H), 4.84 (s, 2H), 5.92 (bs, 1H), 6.72 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.12 (dd, 1H, J=8.9,2.9Hz), 7.62 (d, 1H, J=2.9Hz)
【0147】
工程:
5−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.5g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]ニトロベンゼンとN,N−ジメチルホルムアミド5mlの混合物に、炭酸カリウム0.35gを加え、50℃にて1.5時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、水、塩酸と飽和食塩水の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.93gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.54 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.79 (s, 3H), 4.89 (s, 2H), 6.34 (s, 1H), 6.8-7.0 (m, 2H), 7.42 (dd, 1H, J=9.2,2,9Hz), 7.88 (d, 1H, J=8.5Hz), 7.96 (d, 1H, J=2.9Hz)
【0148】
第6工程:
鉄粉1.2g、酢酸5mlと水0.5mlの混合物に、5−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.93gの酢酸4mlの溶液を、液温を35℃以下に維持しながら滴下した。滴下終了後、混合物を2時間攪拌した後、セライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣を水に希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.83gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.52 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.78 (s, 3H), 4.16 (bs, 2H), 4.87 (s, 2H), 6.31 (s, 1H), 6.57 (d, 1H, J=6.8Hz), 6.64 (d, 1H, J=10.8Hz), 6.85 (dd, 1H, J=8.9,0.5Hz), 7.35 (dd, 1H, J=8.9,3.1Hz), 7.90 (dd, 1H, J=3.1,0.5Hz)
【0149】
第7工程:
亜硝酸イソアミル0.3gを5−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.83g、塩化銅(I)0.34g、塩化銅(II)0.69g、アセトニトリル3mlの混合物に室温にて滴下し、1時間攪拌した。混合物に亜硝酸イソアミル0.3gを加え、更に20分攪拌した。反応混合物を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−17〕0.52gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.53 (q, 3H, J=1.3Hz), 3.78 (s, 3H), 4.88 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.76 (d, 1H, J=6.5Hz), 6.88 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.39 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.8-7.9 (m, 1H)
【0150】
製造例27:本発明化合物7−12の製造
第1工程:
5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−17〕0.08gと48%臭化水素水の混合物を還流温度にて3時間攪拌した。該混合物を飽和重曹水で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ピリドンを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.51 (s, 3H), 6.31 (s, 1H), 6.58 (d, 1H, J=9.8Hz), 6.79 (d, 1H, J=6.5Hz), 7.24 (d, 1H, J=3.0Hz), 7.3-7.4 (m, 2H)
【0151】
第2工程:
5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ピリドン60mg、テトラヒドロフラン1.0ml、乳酸メチル25mgとトリフェニルホスフィン64mgの混合物に、40%ジイソプロピル アザジカルボキシレートのトルエン溶液123mgを加え、室温にて2時間攪拌した。反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン〔本発明化合物7−12〕20mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.60 (d, 3H, J=7.0Hz), 3.53 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 5.28 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.32 (s, 1/2H), 6.33 (s, 1/2H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.84 (d, 1H, J=9.1Hz), 7.3-7.4 (m, 1H), 7.38 (d, 1H, J=8.8Hz), 7.8-7.9 (m, 1H)
【0152】
製造例28:本発明化合物1−45
第1工程:
水素化ナトリウム0.4gを、4−クロロ−6−メトキシ−2−メチルチオピリミジン1.59g、グリコール酸メチル0.98gとN,N−ジメチルホルムアミド10mlの混合物に、0℃にて加えた。該混合物を室温にて5時間攪拌し、反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩すりで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し6−メトキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルチオピリミジン1.22gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.48 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 4.88 (s, 2H), 5.87 (s, 1H)
【0153】
第2工程:
3−クロロ過安息香酸2.59gを、6−メトキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルチオピリミジン1.22gのクロロホルム10ml溶液に、0℃にて加えた。混合物を室温にて3時間攪拌した後、飽和チオ硫酸ナトリウム30mlを注加した。次いで該混合物を飽和重曹水に注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−メトキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルスルホニルピリミジン1.32gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.26 (s, 3H), 3.78 (s, 3H), 4.06 (s, 3H), 4.97 (s, 2H), 6.34 (s, 1H)
【0154】
第3工程:
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノール400mg、6−メトキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルスルホニルピリミジン359mgとN,N−ジメチルホルムアミド3mlの混合物に、炭酸カリウム196mgを加え、80℃にて1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−6−メトキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシプリミジン〔本発明化合物1−45〕620mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.55 (s, 3H), 3.71 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 4.78 (s, 2H), 5.95 (s, 1H), 6.34 (s, 1H), 7.1-7.2 (m,1H), 7.37 (d, 1H, J=9.1Hz)
融点:60.3℃
【0155】
製造例29:本発明化合物1−42
第1工程:
28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液3.86gを、20分間かけて4,6−ジクロロ−2−メチルチオピリミジン3.9gのN,N−ジメチルホルムアミド20ml溶液に0℃にて滴下した。混合物を室温にて7時間攪拌し、氷20gを加え、生じた白色沈殿を吸引濾過にて集めて、得られた固体を水で洗浄した。該固体を酢酸エチルで溶解し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し、4−クロロ−6−メトキシ−2−メチルチオピリミジン3.18gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 2.55 (s, 3H), 3.98 (s, 3H), 6.41 (s, 1H)
【0156】
第2工程:
水素化ナトリウム0.4gを、4−クロロ−6−メトキシ−2−メチルチオピリミジン1.59g、乳酸メチル1.13gとN,N−ジメチルホルムアミド10mlの混合物に、0℃にて加えた。該混合物を室温にて5時間攪拌し、反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩すりで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し6−メトキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルチオピリミジン1.5gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.58 (d, 3H, J=7.0Hz), 2.46 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 3.92 (s, 3H), 5.33 (q, 1H, J=7.0Hz), 5.83 (s, 1H)
【0157】
第3工程:
3−クロロ過安息香酸2.81gを、6−メトキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルチオピリミジン1.40gのクロロホルム13ml溶液に、0℃にて加えた。混合物を室温にて3時間攪拌した後、飽和チオ硫酸ナトリウム30mlを注加した。次いで該混合物を飽和重曹水に注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−メトキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルスルホニルピリミジン1.62gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.63 (d, 3H, J=7.0Hz), 3.25 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.06 (s, 3H), 5.36 (q, 1H, J=7.0Hz), 6.30 (s, 1H)
【0158】
第4工程:
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノール400mg、6−メトキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−2−メチルスルホニルピリミジン377mgとN,N−ジメチルホルムアミド3mlの混合物に、炭酸カリウム196mgを加え、80℃にて1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−6−メトキシ−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}プリミジン〔本発明化合物1−42〕630mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.52 (d, 3H, J=6.8Hz), 3.55 (s, 3H), 3.67 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 5.2-5.3 (m, 1H), 5.91 (s, 1H), 6.35 (s, 1H), 7.16 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.37 (d, 1H, J=9.1Hz)
融点: 71.2℃
【0159】
製造例30:本発明化合物7−82の製造
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−7〕0.60g、炭酸ナトリウム0.13g、ベンジルアルコール0.39gおよびトルエン2.4mlの混合物を、90℃にて2時間加熱し、更に還流下にて2時間加熱した。室温まで冷却した後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(ベンジルオキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−82〕0.24gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.47 (s, 3H), 5.15 (s, 2H), 6.25 (s, 1H), 6.8-7.0 (m, 2H), 7.2-7.4 (m, 7H), 7.89 (dd, 1H, J=4.9,1.3Hz)
【0160】
製造例31:本発明化合物7−6
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(ベンジルオキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−82〕0.24g、10%パラジウム−炭素10mgと酢酸エチル1mlの混合物を、水素雰囲気下に室温にて1.5時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物7−6〕0.16gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.50 (s, 3H), 4.92 (s, 2H), 6.32 (s, 1H), 6.80 (d, 1H, J=6.4Hz), 6.95 (dd, 1H, J=7.7,4.9Hz), 7.35 (dd, 1H, J=7.7,1.2Hz), 7.37 (d, 1H, J=6.0Hz), 7.93 (dd, 1H, J=4.9,1.2Hz)
【0161】
製造例32:本発明化合物7−84の製造
1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩0.13gを、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物7−6〕0.30g、o−メチルヒドロキシルアミン56mg、トリエチルアミン68mgとN,N−ジメチルホルムアミド2mlの混合物に室温にて加え、2時間攪拌した。該混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−[(メトキシアミノカルボニル)メトキシ]ピリジン〔本発明化合物7−84〕90mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.52 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 4.87 (s, 2H), 6.32 (s, 1H), 6.71 (d, 1H, J=6.0Hz), 6.99 (dd, 1H, J=7.6,5.0Hz), 7.38 (dd, 1H, J=7.6,1.7Hz), 7.44 (d, 1H, J=8.7Hz), 8.00 (dd, 1H, J=5.0,1.7Hz), 8.7-9.0 (bs, 1H)
【0162】
製造例33:本発明化合物7−119の製造
1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩0.13gを、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物7−6〕0.30g、グリコール酸メチル60mgとN,N−ジメチルホルムアミド2mlの混合物に室温にて加え、1.5時間攪拌した。該混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−[{(メトキシカルボニル)メトキシカルボニル}メトキシ]ピリジン〔本発明化合物7−119〕0.18gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.50 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 4.65 (s, 2H), 5.01 (d, 1H, J=16.2Hz), 5.09 (d, 1H, J=16.2Hz), 6.28 (s, 1H), 6.88 (d, 1H, J=6.7Hz), 6.93 (dd, 1H, J=7.8,4.9Hz), 7.32 (dd, 1H, J=7.8,1.4Hz), 7.37 (d, 1H, J=9.0Hz), 7.93 (dd, 1H, J=4.9,1.4Hz)
【0163】
製造例34:本発明化合物7−118の製造
1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩0.13gを、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−カルボキシメトキシピリジン〔本発明化合物7−6〕0.30g、アセトンオキシム49mgとN,N−ジメチルホルムアミド2mlの混合物に室温にて加え、2時間攪拌した。該混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−[{(2−イソプロピリデンアミノ)オキシカルボニル}メトキシ]ピリジン〔本発明化合物7−118〕0.16gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.94 (s, 3H), 2.01 (s, 3H), 3.49 (s, 3H), 5.0-5.2 (m, 2H), 6.27 (s, 1H), 6.92 (dd, 1H, J=7.8,4.9Hz), 6.98 (d, 1H, J=6.5Hz), 7.3-7.4 (m, 2H), 7.92 (d, 1H, J=4.9Hz)
【0164】
製造例35:本発明化合物9−7の製造
3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン0.5gのアセトニトリル1.5mlの溶液を、臭化銅(I)0.22g、臭化銅(II)0.05gとアセトニトリル1mlの混合物に0℃にて加えた。該混合物に亜硝酸t−ブチル0.18gのアセトニトリル1mlの溶液を30分以上かけて滴下し、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を塩酸中に注加し、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−ブロモ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物9−7〕0.28gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.50 (q, 3H, J=1.2Hz), 3.70 (s, 3H), 4.8- 5.0 (m, 2H), 6.29 (s, 1H), 6.88 (d, 1H, J=6.4Hz), 6.93 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.32 (d, 1H, J=7.8Hz), 7.53 (d, 1H, J=8.5Hz), 7.92 (d, 1H, J=5.0Hz)
【0165】
製造例36:本発明化合物9−27の製造
3−{2−ブロモ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物9−7〕0.23g、シアン化銅75mgとN−メチル−2−ピロリドン2mlの混合物を、160℃にて2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−シアノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物9−27〕0.16gを得た。
1H-NMR (CDCl3/300 MHz)δ(ppm): 3.49 (s, 3H), 3.67 (s, 3H), 4.8-5.0 (m, 2H), 6.28 (s, 1H), 6.96 (d, 1H, J=5.7 Hz), 7.00 (dd, 1H, J=7.8,5.0Hz), 7.50 (d, 1H, J=8.4 Hz), 7.54 (d, 1H, J=7.8Hz), 8.01 (d, 1H, J=5.0Hz)
融点: 173.1℃
【0166】
製造例37:本発明化合物2−42の製造
第1工程:
水素化ナトリウム2.0gを2,6−ジクロロ−3−ニトロピリジン9.65g、ベンジルアルコール5.41gとテトラヒドロフラン30mlの混合物に0℃にて加えた。該混合物を0℃にて1.5時間攪拌し、次いで室温にて1.5時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−クロロ−2−ベンジルオキシ−3−ニトロピリジン10.93gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250Hz)δ(ppm): 5.18 (s, 2H), 7.05 (d, 1H, J=8.3Hz), 7.3-7.6(m, 5H), 8.28 (d, 1H, J=8.3Hz)
【0167】
第2工程:
6−クロロ−2−ベンジルオキシ−3−ニトロピリジン5.29g、2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノール6.77g、炭酸カリウム3.32gとN,N−ジメチルホルムアミド30mlの混合物を室温にて30分間攪拌し、次いで50℃にて2.5時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行い、6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ベンジルオキシ−3−ニトロピリジン9.11gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.56(s, 3H), 5.29 (s, 2H), 6.37 (s, 1H), 6.68 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.1-7.4 (m, 6H), 7.37 (d, 1H, J=8.8Hz), 8.47 (d, 1H, J=8.6Hz)
【0168】
第3工程:
鉄粉3.0g、酢酸15mlと水1.5mlの混合物に、6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ベンジルオキシ−3−ニトロピリジン3.0gの酢酸10mlと酢酸エチル10mlの溶液を、液温35℃以下に維持しながら加えた。加えた後、該混合物を終夜攪拌した後、セライトで濾過し、溶媒は減圧下で留去した。残渣を飽和重曹水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ベンジルオキシピリジン2.55gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.51 (s, 3H), 3.60 (bs, 2H), 5.1-5.3 (m, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.42 (d, 1H, J=7.9Hz), 6.99 (d, 1H, J=8.2Hz), 7.08 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.2-7.4 (m, 6H)
【0169】
第4工程:
3フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体1.38gを、3−アミノ−6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ベンジルオキシピリジン2.55g、1,2−ジメトキシエタン6mlとジクロロメタン2mlの混合物、−5℃にて滴下した。該混合物を同温度にて15分間攪拌した後、亜硝酸t−ブチル0.59gを−5℃にて滴下した。該混合物を同温度で1時間攪拌した後、n−ペンタンを注加した。デカンテーションにて有機層を除いた後、エタノール15mlと、亜鉛(粉末)2.3gを加えた、還流温度にて1.5時間攪拌した。反応混合物をセライト濾過し、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−6−ベンジルオキシピリジン0.75gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.52 (s, 3H), 5.0-5.2 (m, 2H), 6.34 (s, 1H), 6.5-6.6 (m, 2H), 7.1-7.4 (m, 6H), 7.34 (d, 1H, J=9.1Hz), 7.5-7.7 (m, 1H)
【0170】
第5工程:
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−6−ベンジルオキシピリジン0.90g、10%パラジウム−炭素0.1gと酢酸エチル5mlの混合物を、水素雰囲気下に室温にて3時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ピリドン0.60gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 6.11 (d, 1H, J=7.9Hz), 6.33 (s, 1H), 6.44 (d, 1H, J=7.8Hz), 7.09 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.37 (d, 1H, J=8.9Hz), 7.55 (dd, 1H, J=7.9,7.8Hz)
【0171】
第6工程:
6−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−ピリドン50mg、2−ブロムプロピオン酸メチル21mgとN,N−ジメチルホルムアミド1mlの混合物に、炭酸カリウム21mgを加え、50℃にて1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−6−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン〔本発明化合物2−42〕72mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.48 (d, 3H, J=6.9Hz), 3.55 (s, 3H), 3.60 (s, 3/2H), 3.61 (s, 3/2H), 5.10 (q, 1H, J=6.9Hz), 5.12 (q, 1H, J=6.9Hz), 6.34 (s, 1H), 6.55 (d, 1H, J=8.0Hz), 6.56 (dd, 1H, J=7.9,2.9Hz), 7.14 (dd, 1H, J=6.9,2.9Hz), 7.37 (d, 1H, J=9.0Hz), 7.62 (dd, 1H, J=7.9,6.9Hz)
【0172】
製造例38:本発明化合物1−67の製造
2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]アニリン400mg、6−メトキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシ−2−メチルスルホニルピリミジン360mgとN,N−ジメチルホルムアミド2mlの混合物に、炭酸カリウム196mgを加え、80℃にて5時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で抽出し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェニルアミノ}−6−メトキシ−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン〔本発明化合物1−67〕98mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.57 (s, 3H), 3.65 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 4.7-4.9 (m, 2H), 5.75 (s, 1H), 6.38 (s, 1H), 7.32 (d, 1H, J=8.8Hz), 7.37 (bs, 1H), 8.37(d, 1H, J=7.3Hz)
融点: 155.6℃
【0173】
製造例39:本発明化合物2−52の製造
3−アミノ−2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}ピリジン1gと2−ブロモプロピオン酸メチル1.16gの混合物を60℃にて30分間攪拌し、次いで80℃にて4時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−3−{1−(メトキシカルボニル)エチルアミノ}ピリジン〔本発明化合物2−52〕0.4gを得た。
融点: 66.4℃
【0174】
製造例40:本発明化合物7−8の製造
第1工程:
水素化ナトリウム11gを、2−クロロ−3−ニトロピリジン39.63g、グリコール酸エチル31.23g、テトラヒドロフラン250mlとN,N−ジメチルホルムアミド20mlの混合物に0℃にて加えた。該混合物を室温にて5時間攪拌した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン48.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.26 (t, 3H, J=7.1Hz), 4.23 (q, 2H, J=7.1Hz), 5.06 (s, 2H), 7.0-7.2 (m, 1H), 8.3-8.4 (m, 2H)
【0175】
第2工程:
2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ニトロピリジン48.3g、10%パラジウム−炭素7.8gと酢酸エチル540mlの混合物を、水素雰囲気下に室温にて3時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン37.1gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.27 (t, 3H, J=7.1Hz), 3.8-3.9 (b, 2H), 4.24 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.93 (s, 2H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8-7.0 (m, 1H), 7.4-7.6(m, 1H)
【0176】
第3工程:
トリフルオロメタンスルホン酸9.18gを、3−アミノ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン12g、1,2−ジメトキシエタン36mlと塩化メチレン12mlの混合物に−5℃にて滴下した。該混合物を同温度にて10分間攪拌した後、亜硝酸t−ブチル7.57gの1,2−ジメトキシエタンの3ml溶液を−5℃以下にて滴下した。該混合物を同温度で30分間攪拌した後、n−ペンタンを注加した。有機層をデカンテーションにて除き、無水酢酸12mlに加え、50℃にて2.5時間攪拌した。反応混合物を氷水に注加し、メチルt−ブチルエーテルで抽出した。有機層を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン4.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.26 (t, 3H, J=7.1Hz), 2.34 (s, 3H), 4.22 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.90 (s, 2H), 6.94 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.38 (dd, 1H, J=7.8, 1.5Hz), 7.97 (dd, 1H, J=5.0,1.5Hz)
【0177】
工程:
3−アセトキシ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン13.8g、炭酸カリウム4.38gとエタノール60mlの混合物を室温にて終夜攪拌した。反応混合物を水、飽和食塩水と塩酸の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−ヒドロキシ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン10.45gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.28 (t, 3H, J=7.1Hz), 4.25 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.97 (s, 2H), 5.93 (s, 1H), 6.86 (dd, 1H, J=7.7, 4.9Hz), 7.17 (dd, 1H, J=7.7,1.6Hz), 7.65 (dd, 1H, J=4.9,1.6Hz)
【0178】
第5工程:
3−ヒドロキシ−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン10.45g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]ニトロベンゼン16.92gとN,N−ジメチルホルムアミド100mlの混合物に、炭酸カリウム7.32gを加え、70℃にて2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、氷水、飽和食塩水と塩酸の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物9−46〕17.28gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.25 (t, 3H, J=7.3Hz), 3.50 (s, 3H), 4.12 (q, 2H, J=7.3Hz), 4.85 (d, 1H, J=15.9Hz), 4.95 (d, 1H, J=15.9H), 6.28 (s, 1H), 6.98 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.13 (d, 1H, J=6.1 Hz), 7.50 (dd, 1H, J=7.8, 1.4Hz), 7.87 (d, 1H, J=8.6Hz), 7.99 (dd, 1H, J=5.0, 1.4Hz)
【0179】
第6工程:
鉄粉17g、酢酸30mlと水3mlの混合物に、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン17.28gの酢酸20mlの溶液を、液温が35以下に維持しながら滴下した。滴下終了後、該混合物を室温にて1時間攪拌し、40℃にて3時間攪拌した後、セライトで濾過し、酢酸エチルで希釈した。該混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン15.46gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 1.27 (t, 3H, J=7.1Hz), 3.52 (q, 3H, J=1.2Hz), 4.21 (q, 2H, J=7.1Hz), 4.27 (bs, 2H), 4.9-5.1 (m, 2H), 6.31 (s, 1H), 6.63 (d, 1H, J=10.9Hz), 6.79 (d, 1H, J=6.9Hz), 6.86 (dd, 1H, J=7.8, 4.9Hz), 7.23 (dd, 1H, J=7.8, 1.5Hz), 7.83 (dd, 1H, J=4.9,1.5Hz)
【0180】
第7工程:
亜硝酸イソアミル10.99gのアセトニトリル10mlの溶液を、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン15.46g、g、塩化銅(I)6.19g、塩化銅(II)12.61gとアセトニトリル120mlの混合物に室温にて加え、3時間攪拌した。反応混合物を、氷と塩酸の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン〔本発明化合物7−8〕13.16gを得た。
【0181】
中間体製造例9:3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンの製造
第1工程:
トリホスゲン227mgの酢酸エチル8mlの溶液に、トリエチルアミン155mgと4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}アニリンの酢酸エチル8mlの溶液を0℃にて加えた。該混合物を同温度にて30分間攪拌した後、還流温度にて2時間攪拌した。反応混合物を熱いうちに濾過し、減圧条件下に溶媒を留去し、4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル イソシアネート266mgを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.76 (s, 3H), 4.96 (s, 2H), 6.69 (d, 1H, J=7.1Hz), 6.93 (dd, 1H, J=7.8, 5.0Hz), 7.2-7.3 (m, 2H), 7.94 (dd, 1H, J=5.0,1.4Hz)
融点:113.8℃
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(エトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル イソシアネート、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}−3−ピリジルオキシ}フェニル イソシアネート、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}−3−ピリジルオキシ}フェニル イソシアネート、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン−2−イル〕オキシ}フェニル イソシアネート、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−(エトキシカルボニル)メトキシピリミジン−2−イル〕オキシ}フェニル イソシアネート、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−〔1−(メトキシカルボニル)エトキシ〕ピリミジン−2−イル〕オキシ}フェニル イソシアネート、
4−クロロ−2−フルオロ−5−{〔4−〔1−(エトキシカルボニル)エトキシ〕ピリミジン−2−イル〕オキシ}フェニル イソシアネート
【0182】
第2工程:
N,N−ジメチルホルムアミド1mlと水素化ナトリウム26mgとの混合物に、3−アミノ−4,4,4−トリフルオロクロトン酸エチル126mgのN,N−ジメチルホルムアミド1mlの溶液を加え、0℃にて攪拌した。その後、4−クロロ−2−フルオロ−5−{2−(メトキシカルボニル)メトキシ−3−ピリジルオキシ}フェニル イソシアネート266mgとN,N−ジメチルホルムアミドを、同温度にて加え、室温にて終夜攪拌した。反応混合物を塩酸と氷水の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、濃縮し、粗3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メトキシピリジンを得た。
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メトキシピリジン、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−2−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−(エトキシカルボニル)メトキシピリミジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル]フェノキシ}−4−{1−(エトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン
【0183】
製造例41:本発明化合物10−2の製造
第1工程:
水素化ナトリウム24gをテトラヒドロフラン500mlに加え、室温にてベンジルアルコール65gを滴下した。60℃まで昇温し水素ガスの発生が止まった後、−50℃まで冷却して3,4−ジクロロ−1,2,5チアジアゾール100gを加えた。室温にて攪拌し、一晩放置した後、さらに3時間加熱還流した。
反応液を濃縮した後、該反応液を希塩酸に注加し、t−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、粗4−ベンジルオキシ−3−クロロ−1,2,5−チアジアゾール33g(純度約72%)を得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):5.43(s,2H),7.2−7.5(m,5H)
【0184】
第2工程:
2−クロロ−4−フルオロ−5−{3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル}フェノール0.60gと3−ベンジルオキシ−4−クロロ−1,2,5−チアジアゾール0.50gをジメチルスルホキシド8mlに溶解し、炭酸カリウム0.25gを加えて50℃で0.5時間、100℃で3時間攪拌した。該反応液を希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、粗3−ベンジルオキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−1,2,5−チアジアゾール0.27g(純度約44%)を得た。
【0185】
第3工程:
3−ベンジルオキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−1,2,5−チアジアゾールの粗生成物2.5gをトリフルオロ酢酸20mlに溶解し、室温にて一晩放置した。該反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−ヒドロキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−1,2,5−チアジアゾール0.50gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):3.56(s,3H),6.38(s,1H),7.3−7.5(m,2H)
【0186】
第4工程:
3−ヒドロキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−1,2,5チアジアゾール0.20gと2−ブロモプロピオン酸メチル0.15gをN,N−ジメチルホルムアミド10mlに溶解し、炭酸カリウム0.10gを加えて、室温で3時間攪拌した。該反応液を希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣から生じた結晶をヘキサンで洗浄して、4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−[1−(メトキシカルボニル)エトキシ]−1,2,5−チアジアゾール〔本発明化合物10−2〕0.17gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):1.70(d,3H,J=6.9Hz),3.55(s,3H),3.79(s,3H),5.31(q,1H,J=6.9Hz),6.36(s,1H),7.3−7.5(m,2H)
【0187】
製造例42:本発明化合物10−7の製造
3−ヒドロキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−1,2,5−チアジアゾール0.20gとブロモ酢酸メチル0.15gをN,N−ジメチルホルムアミド10mlに溶解し、炭酸カリウム0.10gを加えて、室温で3時間攪拌した。該反応液を希塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣から生じた結晶をヘキサンで洗浄して、4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−3−(メトキシカルボニル)メトキシ−1,2,5−チアジアゾール〔本発明化合物10−7〕0.18gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):3.56(s,3H),3.81(s,3H),5.01(s,2H),6.36(s,1H),7.3−7.5(m,2H)
【0188】
製造例43:本発明化合物3−52の製造
第1工程:
水素化ナトリウム0.098gをN,N−ジメチルホルムアミド中に懸濁した中へ、2−クロロ−4−フルオロ−5−{3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル}フェノール0.829gを室温攪拌下に加え2時間攪拌したのち5−ベンジルオキシ−4−クロロピリミジン(以下により調整;5−ベンジルオキシ−4−ピリミジノン0.495gとオキシ塩化リン10mlの混合物を30分加熱還流した。反応液を室温に冷却し、濃縮した。残渣に氷水を加え、ジエチルエーテルで抽出、濃縮した。)を加え、室温で1時間攪拌したのち60〜70℃にて加熱攪拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和塩化アンモニウム水溶液、水、20%炭酸カリウム水溶液、水、希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し5−ベンジルオキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリミジン0.959gを得た。
融点:58.6℃
【0189】
第2工程:
5−ベンジルオキシ−4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}ピリミジン0.959g、10%パラジウム炭素および酢酸エチルの混合物を水素雰囲気下、室温にて8時間攪拌した。
反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を減圧下に濃縮して、4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−ヒドロキシピリミジン0.824gを得た。
融点:190.7℃
【0190】
第3工程:
水素化ナトリウム0.032gをN,N−ジメチルホルムアミド中に懸濁した中へ4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−ヒドロキシピリミジン0.35gを室温攪拌下に加え1時間攪拌したのち、2−ブロモプロピオン酸メチル0.135gを加え、室温で2時間、さらに50℃で1時間攪拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−{1−(メトキシカルボニル)エトキシ}ピリミジン〔本発明化合物3−52〕0.319gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 1.71 (d, 3H, J=6.8Hz), 3.57 (d, 3H, J=0.9Hz), 3.78 (s, 3H), 5.01 (q, 1H, J=6.8Hz), 6.37 (s, 1H), 7.24 (d, 1H, J=6.7Hz), 7.42 (d, 1H, J=8.7Hz), 8.32 (s, 1H), 8.40 (s, 1H)
【0191】
製造例44:本発明化合物3−57の製造
水素化ナトリウム(60%オイルディスパージョン)0.032gをN,N−ジメチルホルムアミド中に懸濁した中へ4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−ヒドロキシピリミジン0.35gを室温攪拌下に加え1時間攪拌したのち、ブロモ酢酸メチル0.124gを加え、室温で2時間、さらに50℃で1時間攪拌した。反応終了後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−5−(メトキシカルボニル)メトキシピリミジン〔本発明化合物3−57〕0.328gを得た。
融点:62.5℃
【0192】
製造例45:本発明化合物7−27の製造
第1工程:
Figure 2002155061
水素化ナトリウム0.8gを2−クロロ−3−ニトロピリジン3.17g、チオグリコール酸メチル2.12gおよびテトラヒドロフラン20mlの混合物に0℃で加えた。室温で2時間攪拌後、反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を時イソプロピルエーテルおよびヘキサンで洗浄し、2−(メトキシカルボニル)メチルチオ−3−ニトロピリジン3.1gを得た。
1H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm):3.75(s,3H),3.98(s,2H),7.24(dd,1H,J=8.0,4.8Hz),8.54(dd,1H,J=8.0,1.8Hz),8.66(dd,1H,J=4.8,1.8Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
2−(エトキシカルボニル)メチルチオ−3−ニトロピリジン
【0193】
第2工程:
Figure 2002155061
2−(メトキシカルボニル)メチルチオ−3−ニトロピリジン3.0g、酸化白金180mg及びエタノール14mlの混合物を水素雰囲気下に、室温で3時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライトで濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン2.54gを得た。
1H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm):3.73(s,3H),4.03(s,2H),6.2−6.4(b,1H),7.06(dd,1H,J=8.0,4.9Hz),7.1−7.2(bs,1H),7.47(dd,1H,J=8.0,1.4Hz),8.05(dd,1H,J=4.9,1.4Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−アミノ−2−(エトキシカルボニル)メチルチオピリジン
【0194】
第3工程:
Figure 2002155061
トリフルオロメタンスルホン酸1.92gを3−アミノ−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン2.54g、1,2−ジメトキシエタン6ml及びジクロロメタン2mlの混合物に−10℃で滴下した。同温度で10分攪拌後、亜硝酸t−ブチル1.59gの1,2−ジメトキシエタン1ml溶液を−5℃以下で反応液に滴下した。同温度で30分間攪拌後、混合物にn−ペンタンを注加した。二層に分離したうちの下層を無水酢酸3mlに溶解し、50〜70℃で1時間攪拌した。反応液を室温に冷却後、水に注加し、t−ブチルメチルエーテルで抽出した。該有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.48gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 2.36 (s, 3H), 3.74 (s, 3H), 4.00 (s, 2H), 7.07 (dd, 1H, J=8.0, 4.7Hz), 7.37 (dd, 1H, J=8.0, 1.5Hz), 8.29 (dd, 1H, J=4.7, 1.5Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−アセトキシ−2−(エトキシカルボニル)メチルチオピリジン
【0195】
第4工程:
Figure 2002155061
3−アセトキシ−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.48g、炭酸カリウム0.15gおよびメタノール3mlの混合物を室温で3時間攪拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.26gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.74 (s, 3H), 3.92 (s, 2H), 7.02 (dd, 1H, J=8.1,4.6Hz), 7.13 (d, 1H, J=8.1Hz), 8.06 (d, 1H, J=4.6Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−ヒドロキシ−2−(エトキシカルボニル)メチルチオピリジン
第5工程:
Figure 2002155061
3−ヒドロキシ−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.26g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン0.38gおよびN,N−ジメチルホルムアミド2mlの混合物に炭酸カリウム0.17gを加え、70℃で2時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.49gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 4.01 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 7.0-7.1 (m, 2H), 7.18 (dd, 1H, J=7.8, 1.3Hz), 7.92 (d, 1H, J=8.5Hz), 8.28 (dd, 1H, J=4.4, 1.3Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メチルチオピリジン
【0196】
第6工程:
Figure 2002155061
鉄粉0.5g、酢酸1.5mlおよび水0.15mlの混合溶液に、3−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.41gの酢酸1ml溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.36gを得た。
1H-NMR(CDCl3/250MHz)δ(ppm): 3.53 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.02 (s, 2H), 4.18 (bs, 2H), 6.32 (s, 1H), 6.66 (d, 1H, J=10.7Hz), 6.82 (d, 1H, J=6.7Hz), 6.95 (dd, 1H, J=8.4, 4.9Hz), 7.03 (dd, 1H, J=8.4, 1.4Hz), 8.14 (dd, 1H, J=4.9, 1.4Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メチルチオピリジン
【0197】
第7工程:
Figure 2002155061
亜硝酸イソアミル92mgを3−{2−アミノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン0.26g、塩化銅(I)0.10g、塩化銅(II)0.21g、アセトニトリル2.5mlの混合物に室温で滴下し、1時間攪拌した。該反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(メトキシカルボニル)メチルチオピリジン〔本発明化合物7−27〕0.10gを得た。
1H-NMR(CDCl3/300MHz)δ(ppm): 3.54 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.01 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.9-7.0 (m, 3H), 7.42 (d, 1H, J=9.0Hz), 8.20 (dd, 1H, J=4.1, 2.2Hz)
以下の化合物も同様な方法にて製造できる。
3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}−2−(エトキシカルボニル)メチルチオピリジン〔本発明化合物7−28〕
【0198】
次に、本発明化合物のいくつかを化合物番号とともに、表1〜表32に例示するが、本発明化合物はこれらの例示に限定されない。
【0199】
一般式[I−1]で示される化合物
Figure 2002155061
【0200】
【表1】
Figure 2002155061
【0201】
【表2】
Figure 2002155061
【0202】
【表3】
Figure 2002155061
【0203】
一般式[I−2]で示される化合物
Figure 2002155061
【表4】
Figure 2002155061
【0204】
【表5】
Figure 2002155061
【0205】
【表6】
Figure 2002155061
【0206】
【表7】
Figure 2002155061
【0207】
【表8】
Figure 2002155061
【0208】
一般式[I−3]で示される化合物
Figure 2002155061
【表9】
Figure 2002155061
【0209】
【表10】
Figure 2002155061
【0210】
【表11】
Figure 2002155061
【0211】
【表12】
Figure 2002155061
【0212】
一般式[I−4]で示される化合物
Figure 2002155061
【表13】
Figure 2002155061
【0213】
【表14】
Figure 2002155061
【0214】
【表15】
Figure 2002155061
【0215】
【表16】
Figure 2002155061
【0216】
一般式[I−5]で示される化合物
Figure 2002155061
【表17】
Figure 2002155061
【0217】
【表18】
Figure 2002155061
【0218】
【表19】
Figure 2002155061
【0219】
一般式[I−6]で示される化合物
Figure 2002155061
【表20】
Figure 2002155061
【0220】
【表21】
Figure 2002155061
【0221】
【表22】
Figure 2002155061
【0222】
一般式[I−7]で示される化合物
Figure 2002155061
【表23】
Figure 2002155061
【0223】
【表24】
Figure 2002155061
【0224】
【表25】
Figure 2002155061
【0225】
【表26】
Figure 2002155061
【0226】
【表27】
Figure 2002155061
【0227】
一般式[I−8]で示される化合物
Figure 2002155061
【表28】
Figure 2002155061
【0228】
【表29】
Figure 2002155061
【0229】
一般式[I−9]で示される化合物
Figure 2002155061
【表30】
Figure 2002155061
【0230】
【表31】
Figure 2002155061
【0231】
一般式[I−10]で示される化合物
Figure 2002155061
【表32】
Figure 2002155061
【0232】
次に製剤例を示す。尚、本発明化合物は表1〜表32の化合物番号で示す。部は重量部である。
製剤例1
本発明化合物1−1〜1−67、2−1〜2−106、3−1〜3−90、4−1〜4−94、5−1〜5−75、6−1〜6−60、7−1〜7−125、8−1〜8−42、9−1〜9−50および10−1〜10−22の各々50部、リグニンスルホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得る。
製剤例2
本発明化合物1−1〜1−67、2−1〜2−106、3−1〜3−90、4−1〜4−94、5−1〜5−75、6−1〜6−60、7−1〜7−125、8−1〜8−42、9−1〜9−50および10−1〜10−22の各々10部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部、キシレン35部およびシクロヘキサノン35部をよく混合して各々の乳剤を得る。
製剤例3
本発明化合物1−1〜1−67、2−1〜2−106、3−1〜3−90、4−1〜4−94、5−1〜5−75、6−1〜6−60、7−1〜7−125、8−1〜8−42、9−1〜9−50および10−1〜10−22の各々2部、合成含水酸化珪素2部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部およびカオリンクレ−64部をよく粉砕混合し、水を加えよく練りあわせた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。
製剤例4
本発明化合物1−1〜1−67、2−1〜2−106、3−1〜3−90、4−1〜4−94、5−1〜5−75、6−1〜6−60、7−1〜7−125、8−1〜8−42、9−1〜9−50および10−1〜10−22の各々25部、ポリビニルアルコ−ル10%水溶液50部、水25部を混合し、平均粒径が5マイクロメ−トル以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。
製剤例5
ポリビニルアルコ−ル10%水溶液40部中に、1−1〜1−67、2−1〜2−106、3−1〜3−90、4−1〜4−94、5−1〜5−75、6−1〜6−60、7−1〜7−125、8−1〜8−42、9−1〜9−50および10−1〜10−22の各々5部を加え、ホモジナイザ−にて平均粒径が10マイクロメ−トル以下になるまで乳化分散し、ついで55部の水を加え、各々の濃厚エマルジョンを得る。
【0233】
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用である事を試験例で示す。
尚、本発明化合物は表1〜表32の化合物番号で示す。
試験例1
直径10cm、深さ10cmの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオおよびイチビを播種し、温室内で10日間育成した。その後、製剤例2に準じて本発明化合物1−2、1−42、1−45、1−48、2−2、2−7、2−42、2−45、3−2、3−12、4−7、4−85、5−12−R、5−12−S、5−17、6−2、7−2、7−6、7−8、7−12、7−48、7−50、7−84、7−118、7−119、7−125、9−7、9−27および9−45の各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ−ルあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、16日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物1−2、1−42、1−45、1−48、2−2、2−7、2−42、2−45、3−2、3−12、4−7、4−85、5−12−R、5−12−S、5−17、6−2、7−2、7−6、7−8、7−12、7−48、7−50、7−84、7−118、7−119、7−125、9−7、9−27および9−45の各々は125g/haの薬量でアメリカアサガオおよびイチビの生育を完全に抑制した。
【0234】
試験例2
直径10cm、深さ10cmの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオおよびイチビを播種した。製剤例2に準じて本発明化合物1−2、1−42、1−48、2−2、2−7、2−42、2−45、3−2、3−12、4−7、4−85、5−12−R、5−12−S、5−17、6−2、7−2、7−6、7−8、7−12、7−48、7−50、7−84、7−118、7−119、7−125、9−7、9−27および9−45の各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタール当たり1000リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、19日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物1−2、1−42、1−48、2−2、2−7、2−42、2−45、3−2、3−12、4−7、4−85、5−12−R、5−12−S、5−17、6−2、7−2、7−6、7−8、7−12、7−48、7−50、7−84、7−118、7−119、7−125、9−7、9−27および9−45の各々は500g/haの薬量でアメリカアサガオおよびイチビの生育を完全に抑制した。
【0235】
試験例3
長辺27cm、短辺20cm、深さ7.5cmのプラスチックポットに土壌を詰めアメリカアサガオおよびオナモミを播種し温室内で10日間育成した。これに、プラグ苗ポットに播種し温室内で14日間育成したシロザ、アオビユおよびアキノエノコログサを移植し、温室内でさらに8日間育成した。その後、製剤例2に準じて本発明化合物1−12を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ−ルあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、25日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物1−12は16g/haの薬量でアメリカアサガオ、オナモミ、シロザ、アオビユおよびアキノエノコログサの生育を完全に抑制した。
【0236】
試験例4
長辺32cm、短辺22cm、深さ8cmのプラスチックポットに土壌を詰め、アメリカツノクサネム、イヌホオズキ、イチビ、サナエタデ、シロザおよびアキノエノコログサを播種した。製剤例2に準じて本発明化合物1−12を乳剤にし、その所定量を1ヘクタール当たり1000リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、25日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物1−12は250g/haの薬量でアメリカツノクサネム、イヌホオズキ、イチビ、サナエタデ、シロザおよびアキノエノコログサの生育を完全に抑制した。
【0237】
試験例5
長辺27cm、短辺20cm、深さ7.5cmのプラスチックポットに土壌を詰めアメリカアサガオ、オナモミを播種した。3日後にイヌビエを播種したのち温室内で7日間育成した。これに、プラグ苗ポットに播種し温室内で14日間育成したシロザ、アオビユおよびアキノエノコログサを移植し、温室内でさらに8日間育成した。その後、製剤例2に準じて本発明化合物7−7を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ−ルあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、6日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物7−7は16g/haの薬量でアメリカアサガオ、オナモミ、イヌビエ、シロザ、アオビユおよびアキノエノコログサの生育を完全に抑制した。
【0238】
以下の試験例では、除草効力を「0」、「1」、「2」、「3」、「4」、「5」、「6」、「7」、「8」、「9」および「10」の11段階に区分して示す。調査時の供試雑草の出芽または生育の状態が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違いがないものを「0」とし、また供試植物が完全枯死または出芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「10」とした。
また、本発明化合物の特徴を明確に示す為、以下の化合物の試験結果についても併せて記載する。
対照化合物A(PCT出願公開明細書WO92/11244号)
Figure 2002155061
対照化合物B(米国特許公開明細書USP 4859229)
Figure 2002155061
対照化合物C(PCT出願公開明細書WO98/41093号)
Figure 2002155061
【0239】
試験例6
長辺27cm、短辺19cm、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、ラージクラブグラス(表中ではLCと略記;Digitaria sanguinalis)とアキノエノコログサ(表中ではGFと略記;Setaria faberi)を播種した。9日後にイヌビエ(表中ではBと略記;Echinochloa crus-galli)を播種して、温室内で15日間育成した。また、長辺16.5cm、短辺12cm、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、カラスムギ(表中ではWと略記;Avena fatua)を播種し、温室内で18日間育成した。製剤例2に準じて本発明化合物1−67および比較化合物Aの各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、4日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を以下の表にて示す。
【表33】
Figure 2002155061
【0240】
試験例7
長辺27cm、短辺19cm、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、ラージクラブグラス(表中ではLCと略記;Digitaria sanguinalis)とアキノエノコログサ(表中ではGFと略記;Setaria faberi)を播種した。9日後にイヌビエ(表中ではBと略記;Echinochloa crus-galli)を播種して、温室内で15日間育成した。また、長辺16.5cm、短辺12cm、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、カラスムギ(表中ではWと略記;Avena fatua)を播種し、温室内で18日間育成した。製剤例2に準じて本発明化合物1−45および比較化合物Bの各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、4日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を以下の表にて示す。
【表34】
Figure 2002155061
【0241】
試験例8
長辺16.5cm、短辺12cm、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、ラージクラブグラス(表中ではLCと略記;Digitaria sanguinalis)、アキノエノコログサ(表中ではGFと略記;Setaria faberi)とセイバンモロコシ(表中ではJと略記;Sorghum halepense)を播種し、温室内で25日間育成した。製剤例2に準じて本発明化合物2−52および比較化合物Cの各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり373リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、4日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を以下の表にて示す。
【表35】
Figure 2002155061
【0242】
【発明の効果】
本発明化合物を用いることにより、優れた除草効果が得られる。
JP2001026596A 2000-02-04 2001-02-02 ウラシル化合物及びその用途 Expired - Fee Related JP4356247B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001026596A JP4356247B2 (ja) 2000-02-04 2001-02-02 ウラシル化合物及びその用途

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000-28123 2000-02-04
JP2000028123 2000-02-04
JP2000053521 2000-02-29
JP2000-53521 2000-09-06
JP2000269730 2000-09-06
JP2000-269730 2000-09-06
JP2001026596A JP4356247B2 (ja) 2000-02-04 2001-02-02 ウラシル化合物及びその用途

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009107533A Division JP2009209147A (ja) 2000-02-04 2009-04-27 ウラシル化合物及びその用途

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2002155061A JP2002155061A (ja) 2002-05-28
JP2002155061A5 true JP2002155061A5 (ja) 2008-02-21
JP4356247B2 JP4356247B2 (ja) 2009-11-04

Family

ID=27342261

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001026596A Expired - Fee Related JP4356247B2 (ja) 2000-02-04 2001-02-02 ウラシル化合物及びその用途
JP2009107533A Pending JP2009209147A (ja) 2000-02-04 2009-04-27 ウラシル化合物及びその用途

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009107533A Pending JP2009209147A (ja) 2000-02-04 2009-04-27 ウラシル化合物及びその用途

Country Status (17)

Country Link
US (1) US6537948B1 (ja)
EP (1) EP1122244B1 (ja)
JP (2) JP4356247B2 (ja)
KR (1) KR100673344B1 (ja)
CN (2) CN1328261C (ja)
AR (2) AR027938A1 (ja)
AT (1) ATE277910T1 (ja)
AU (1) AU779561B2 (ja)
BR (1) BR0100318B1 (ja)
CA (2) CA2646796A1 (ja)
DE (1) DE60105859T2 (ja)
DK (1) DK1122244T3 (ja)
ES (1) ES2226990T3 (ja)
IL (6) IL167955A (ja)
MX (1) MXPA01001317A (ja)
PT (1) PT1122244E (ja)
TR (1) TR200402577T4 (ja)

Families Citing this family (445)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL167955A (en) * 2000-02-04 2007-10-31 Sumitomo Chemical Co Inilines are converted by troiril
DE10016893A1 (de) 2000-04-05 2001-10-18 Bayer Ag Substituierte Phenyluracile
BR0117032A (pt) * 2001-05-31 2004-04-20 Sumitomo Chemical Co Reguladores de crescimento de planta para coleta de algodão
CA2447845C (en) * 2001-05-31 2010-04-20 Sumitomo Chemical Company, Limited Phenyl uracil steam/leaf desiccants
ATE442363T1 (de) * 2001-08-02 2009-09-15 Sumitomo Chemical Co Verfahren zur herstellung von pyridinverbindungen
JP4214707B2 (ja) * 2002-03-27 2009-01-28 住友化学株式会社 ピリジン化合物の製造法
US6613718B2 (en) * 2001-10-01 2003-09-02 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Aryl ether derivatives and processes for their preparation and herbicidal and desiccant compositions containing them
CA2928061C (en) 2001-10-19 2018-10-16 Sumitomo Chemical Company, Limited Weed controller metabolism proteins, genes thereof and use of the same
JP4779283B2 (ja) * 2001-10-19 2011-09-28 住友化学株式会社 雑草防除剤代謝蛋白質、その遺伝子およびその利用
ES2563488T3 (es) * 2002-06-25 2016-03-15 Sumitomo Chemical Company, Limited Procedimiento para la producción de compuestos de 2-piridona fenoxi-substituidos
ITMI20022758A1 (it) * 2002-12-23 2004-06-24 Isagro Ricerca Srl Nuovi uracili ad attivita' erbicida.
TW200621157A (en) * 2004-12-06 2006-07-01 Syngenta Participations Ag Herbicidal composition
GB0600914D0 (en) * 2006-01-17 2006-02-22 Syngenta Ltd Process
DE102006059941A1 (de) 2006-12-19 2008-06-26 Bayer Cropscience Ag Substituierte 2,4-Diamino-1,3,5-triazine, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung als Herbizide und Pflanzenwachstumsregulatoren
AU2007338792B2 (en) * 2006-12-20 2012-05-31 Amgen Inc. Substituted heterocycles and methods of use
CN104628654A (zh) 2007-09-17 2015-05-20 艾伯维巴哈马有限公司 抗感染嘧啶及其用途
MX2010002904A (es) * 2007-09-17 2010-06-02 Abbott Lab N-fenil-dioxo-hidropirimidinas utiles como inhibidores de virus de hepatitis c (hcv).
WO2009039127A1 (en) 2007-09-17 2009-03-26 Abbott Laboratories Uracil or thymine derivative for treating hepatitis c
EP2052608A1 (de) 2007-10-24 2009-04-29 Bayer CropScience AG Herbizid-Kombination
EP2092825A1 (de) 2008-02-21 2009-08-26 Bayer CropScience Aktiengesellschaft Herbizid-Kombinationen enthaltend ein Herbizid der Klasse der Diamino-s-triazine
EP2147600A1 (en) 2008-07-21 2010-01-27 Bayer CropScience AG Method for weed control in lawn
DE102008037631A1 (de) 2008-08-14 2010-02-18 Bayer Cropscience Ag Herbizid-Kombination mit Dimethoxytriazinyl-substituierten Difluormethansulfonylaniliden
US8193198B2 (en) 2008-10-02 2012-06-05 Korea Research Institute Of Chemical Technology Uracil compounds and a herbicide comprising the same
WO2010103065A1 (en) 2009-03-11 2010-09-16 Basf Se Fungicidal compositions and their use
CA2756882A1 (en) 2009-04-02 2010-10-14 Basf Se Method for reducing sunburn damage in plants
EP2255637A1 (en) 2009-05-02 2010-12-01 Bayer CropScience AG Method for weed control in lawn or turf
EP2440535A1 (en) 2009-06-12 2012-04-18 Basf Se Antifungal 1,2,4-triazolyl derivatives having a 5- sulfur substituent
WO2010146032A2 (de) 2009-06-16 2010-12-23 Basf Se Fungizide mischungen
US20120088662A1 (en) 2009-06-18 2012-04-12 Basf Se Fungicidal mixtures
EA201200018A1 (ru) 2009-06-18 2012-07-30 Басф Се Триазольные соединения, несущие серосодержащий заместитель
WO2010146115A1 (en) 2009-06-18 2010-12-23 Basf Se Triazole compounds carrying a sulfur substituent
WO2010146113A1 (en) 2009-06-18 2010-12-23 Basf Se Antifungal 1, 2, 4-triazolyl derivatives having a 5- sulfur substituent
BRPI1009597A2 (pt) 2009-06-18 2016-03-08 Basf Se compostos de triazol das fórmulas i e ii compostos das fórmulas i e ii, compostos de fórmula iv, composição agrícola, uso de um composto de fórmula i, ii e/ou iv, método para controlar fungos nocivos, semente, composição farmacêutica e método para tratar câncer ou infecções por vírus ou para controlar ou para combater fungos zoopatogênicos ou humanopatogênicos
JP2012530110A (ja) 2009-06-18 2012-11-29 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 抗菌性1,2,4−トリアゾリル誘導体
WO2010146116A1 (en) 2009-06-18 2010-12-23 Basf Se Triazole compounds carrying a sulfur substituent
WO2010149758A1 (en) 2009-06-25 2010-12-29 Basf Se Antifungal 1, 2, 4-triazolyl derivatives
WO2011006886A2 (en) 2009-07-14 2011-01-20 Basf Se Azole compounds carrying a sulfur substituent xiv
BR112012001595B1 (pt) 2009-07-28 2018-06-05 Basf Se Composição de suspo-emulsão pesticida, método para preparar a composição de suspo-emulsão pesticida, uso de uma composição de suspo- emulsão, métodos para combater fungos fitopatogênicos e método para tratar sementes
WO2011026796A1 (en) 2009-09-01 2011-03-10 Basf Se Synergistic fungicidal mixtures comprising lactylates and method for combating phytopathogenic fungi
WO2011069912A1 (de) 2009-12-07 2011-06-16 Basf Se Triazolverbindungen, ihre verwendung sowie sie enthaltende mittel
WO2011069894A1 (de) 2009-12-08 2011-06-16 Basf Se Triazolverbindungen, ihre verwendung sowie sie enthaltende mittel
WO2011069916A1 (de) 2009-12-08 2011-06-16 Basf Se Triazolverbindungen, ihre verwendung als fungizide sowie sie enthaltende mittel
WO2011110583A2 (en) 2010-03-10 2011-09-15 Basf Se Fungicidal mixtures comprising triazole derivatives
US9288996B2 (en) 2010-03-18 2016-03-22 Basf Se Fungicidal compositions comprising a phosphate solubilizing microorganism and a fungicidally active compound
EP2366289A1 (en) 2010-03-18 2011-09-21 Basf Se Synergistic fungicidal mixtures
US9216952B2 (en) 2010-03-23 2015-12-22 Abbvie Inc. Process for preparing antiviral compound
WO2011137088A1 (en) 2010-04-27 2011-11-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Herbicidal uracils
DE102011017541A1 (de) 2010-04-29 2011-11-10 Basf Se Synergistische fungizide Mischungen
DE102011017669A1 (de) 2010-04-29 2011-11-03 Basf Se Synergistische fungizide Mischungen
DE102011017716A1 (de) 2010-04-29 2011-11-03 Basf Se Synergistische fungizide Mischungen
DE102011017715A1 (de) 2010-04-29 2012-03-08 Basf Se Synergistische fungizide Mischungen
DE102011017670A1 (de) 2010-04-29 2011-11-03 Basf Se Synergistische fungizide Mischungen
EP2402337A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazolopyridine compounds
EP2402338A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazolopyridine compounds
EP2402345A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazole fused bicyclic compounds
EP2401915A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazolopyridine compounds
EP2402340A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazolopyridine compounds
EP2402343A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazole-fused bicyclic compounds
EP2402335A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazolopyridine compounds
EP2402336A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazolopyridine compounds
EP2402344A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazole fused bicyclic compounds
EP2402339A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Basf Se Pyrazolopyridine compounds
US9255074B2 (en) 2010-07-16 2016-02-09 Abbvie Inc. Process for preparing antiviral compounds
CR20180412A (es) 2010-07-16 2018-11-01 Abbvie Ireland Unlimited Co Proceso para preparar compuestos antivirales
EP2593226B1 (en) 2010-07-16 2018-11-14 AbbVie Ireland Unlimited Company Phosphine ligands for catalytic reactions
US8975443B2 (en) 2010-07-16 2015-03-10 Abbvie Inc. Phosphine ligands for catalytic reactions
EP2600717A2 (en) 2010-08-03 2013-06-12 Basf Se Fungicidal compositions
EP2447262A1 (en) 2010-10-29 2012-05-02 Basf Se Pyrrole, furane and thiophene derivatives and their use as fungicides
EP2447261A1 (en) 2010-10-29 2012-05-02 Basf Se Pyrrole, furane and thiophene derivatives and their use as fungicides
EP2465350A1 (en) 2010-12-15 2012-06-20 Basf Se Pesticidal mixtures
EP2481284A3 (en) 2011-01-27 2012-10-17 Basf Se Pesticidal mixtures
JP6049684B2 (ja) 2011-03-23 2016-12-21 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se イミダゾリウム基を含むポリマーのイオン性化合物を含有する組成物
US9137997B2 (en) 2011-04-15 2015-09-22 Basf Se Use of substituted dithiine-dicarboximides for combating phytopathogenic fungi
CN103476259A (zh) 2011-04-15 2013-12-25 巴斯夫欧洲公司 取代的二噻烯-四羧酰亚胺在防治植物病原性真菌中的用途
EP2699090A1 (en) 2011-04-21 2014-02-26 Basf Se 3,4-disubstituted pyrrole 2,5-diones and their use as fungicides
BR112013030476A2 (pt) 2011-06-17 2017-06-20 Basf Se mistura, composição agroquímica, método para controlar fungos nocivos fitopatogênicos e material de propagação de planta
PL2731935T3 (pl) 2011-07-13 2016-09-30 GRZYBOBÓJCZE PODSTAWIONE ZWIĄZKI 2-[2-FLUOROWCO-ALKILO-4-(FENOKSY)fenylo]-1-[1,2,4]TRIAZOL-1-ILOETANOLOWE
JP2014520828A (ja) 2011-07-15 2014-08-25 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 殺菌性アルキル−置換2−[2−クロロ−4−(4−クロロ−フェノキシ)−フェニル]−1−[1,2,4]トリアゾール−1−イル−エタノール化合物
US20140141974A1 (en) 2011-07-15 2014-05-22 Basf Se Fungicidal phenylalkyl-substituted 2-[2-chloro-4-(4-chloro-phenoxy)-phenyl]-1-[1,2,4]triazol-1-yl-ethanol compounds
WO2013010885A1 (en) 2011-07-15 2013-01-24 Basf Se Fungicidal alkyl- and aryl-substituted 2-[2-chloro-4-(dihalo-phenoxy)-phenyl]-1-[1,2,4]triazol-1-yl-ethanol compounds
BR112014003412A2 (pt) 2011-08-15 2017-03-14 Basf Se compostos de fórmula i, processo, compostos de fórmula xii, viii e xi, composições agroquímicas, utilização e semente revestida
US20140243194A1 (en) 2011-08-15 2014-08-28 Basf Se Fungicidal substituted 1--1H-[1,2,4]triazole compounds
MX2013014348A (es) 2011-08-15 2014-04-30 Basf Se Compuestos fungicidas de 1-{2-[2-halo-4-(4-halogen-fenoxi)-feni]-2 -alcoxi-2-ciclil-etil}-1h-[1,2,4]triazol sustituidos.
US20140187423A1 (en) 2011-08-15 2014-07-03 Basf Se Fungicidal substituted 1--1H-[1,2,4]triazole compounds
CN103857662B (zh) 2011-08-15 2017-02-15 巴斯夫欧洲公司 杀真菌的取代的1‑{2‑[2‑卤代‑4‑(4‑卤代苯氧基)苯基]‑2‑烷氧基‑2‑炔基/链烯基乙基}‑1h‑[1,2,4]三唑化合物
JP2014525405A (ja) 2011-08-15 2014-09-29 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 殺菌性置換1−{2−[2−ハロ−4−(4−ハロゲン−フェノキシ)−フェニル]−2−アルコキシ−3−メチル−ブチル}−1h−[1,2,4]トリアゾール化合物
EA201400230A1 (ru) 2011-08-15 2014-07-30 Басф Се Фунгицидные замещенные 1-{2-[2-галоген-4-(4-галогенфенокси)фенил]-2-этоксиэтил}-1н-[1,2,4]триазольные соединения
EP2559688A1 (en) 2011-08-15 2013-02-20 Basf Se Fungicidal substituted 1-{2-[2-halo-4-(4-halogen-phenoxy)-phenyl]-2-butoxy-ethyl}-1h [1,2,4]triazole compounds
PL3628320T3 (pl) 2011-11-11 2022-07-25 Gilead Apollo, Llc Inhibitory acc i ich zastosowania
DK2793579T6 (en) 2011-12-21 2018-05-28 Basf Se APPLICATION OF STROBILUR TYPE-COMPOUNDS TO COMBAT PHYTOPATHOGENIC Fungi RESISTANT TO QO INHIBITORS
WO2013113773A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013113716A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013113776A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013113719A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds ii
US9055750B2 (en) 2012-02-03 2015-06-16 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
BR112014018812A8 (pt) 2012-02-03 2017-07-11 Basf Se Compostos, processo para preparar os compostos i, composição agroquímica, método para combater fungos nocivos fitopagênicos, uso dos compostos de fórmula i e semente
WO2013113781A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds i
WO2013113720A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013113778A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013113788A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013113782A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013124250A2 (en) 2012-02-20 2013-08-29 Basf Se Fungicidal substituted thiophenes
US9462809B2 (en) 2012-03-13 2016-10-11 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2013135672A1 (en) 2012-03-13 2013-09-19 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
US9334238B2 (en) 2012-03-30 2016-05-10 Basf Se N-substituted pyridinylidenes for combating animal pests
WO2013144223A1 (en) 2012-03-30 2013-10-03 Basf Se N-substituted pyrimidinylidene compounds and derivatives for combating animal pests
WO2013149940A1 (en) 2012-04-02 2013-10-10 Basf Se Acrylamide compounds for combating invertebrate pests
WO2013149903A1 (en) 2012-04-03 2013-10-10 Basf Se N- substituted hetero - bicyclic furanone derivatives for combating animal
WO2013150115A1 (en) 2012-04-05 2013-10-10 Basf Se N- substituted hetero - bicyclic compounds and derivatives for combating animal pests
EP2844651A1 (en) 2012-05-04 2015-03-11 Basf Se Substituted pyrazole-containing compounds and their use as pesticides
WO2013174645A1 (en) 2012-05-24 2013-11-28 Basf Se N-thio-anthranilamide compounds and their use as pesticides
CN104640442A (zh) 2012-06-14 2015-05-20 巴斯夫欧洲公司 使用取代3-吡啶基噻唑化合物和衍生物防除动物有害物的灭害方法
KR101345394B1 (ko) * 2012-07-13 2013-12-24 동부팜한농 주식회사 5-(3,6-다이하이드로-2,6-다이옥소-4-트리플루오로메틸-1(2h)-피리미디닐)페닐싸이올 화합물의 제조방법
US20150208656A1 (en) 2012-07-13 2015-07-30 Basf Se Substituted thiadiazoles and their use as fungicides
WO2014009293A1 (en) 2012-07-13 2014-01-16 Basf Se New substituted thiadiazoles and their use as fungicides
JP2015530414A (ja) 2012-10-01 2015-10-15 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se アントラニルアミド化合物を含む殺有害生物活性混合物
WO2014053401A2 (en) 2012-10-01 2014-04-10 Basf Se Method of improving plant health
JP2015535838A (ja) 2012-10-01 2015-12-17 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se アントラニルアミド化合物を含む殺有害生物活性混合物
AR093771A1 (es) 2012-10-01 2015-06-24 Basf Se Metodo para controlar insectos resistentes a insecticidas
JP2015532274A (ja) 2012-10-01 2015-11-09 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 栽培植物へのn−チオ−アントラニルアミド化合物の使用
BR112015003035A2 (pt) 2012-10-01 2017-12-05 Basf Se métodos para o controle de insetos, para a proteção de uma cultura e para o controle da resistência
WO2014053407A1 (en) 2012-10-01 2014-04-10 Basf Se N-thio-anthranilamide compounds and their use as pesticides
US20150257383A1 (en) 2012-10-12 2015-09-17 Basf Se Method for combating phytopathogenic harmful microbes on cultivated plants or plant propagation material
WO2014079820A1 (en) 2012-11-22 2014-05-30 Basf Se Use of anthranilamide compounds for reducing insect-vectored viral infections
US20150313229A1 (en) 2012-11-27 2015-11-05 Basf Se Substituted [1,2,4] Triazole Compounds
EP2928873A1 (en) 2012-11-27 2015-10-14 Basf Se Substituted 2-[phenoxy-phenyl]-1-[1,2,4]triazol-1-yl-ethanol compounds and their use as fungicides
WO2014082879A1 (en) 2012-11-27 2014-06-05 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds
CN105008336A (zh) 2012-11-27 2015-10-28 巴斯夫欧洲公司 取代2-[苯氧基苯基]-1-[1,2,4]三唑-1-基乙醇化合物及其作为杀真菌剂的用途
AU2013354353A1 (en) 2012-12-04 2015-07-02 Basf Se New substituted 1,4-dithiine derivatives and their use as fungicides
WO2014086850A1 (en) 2012-12-04 2014-06-12 Basf Agro B.V., Arnhem (Nl) Compositions comprising a quillay extract and a fungicidal inhibitor of respiratory complex ii
WO2014086856A1 (en) 2012-12-04 2014-06-12 Basf Agro B.V., Arnhem (Nl) Compositions comprising a quillay extract and a biopesticide
WO2014086854A1 (en) 2012-12-04 2014-06-12 Basf Agro B.V., Arnhem (Nl) Compositions comprising a quillay extract and a plant growth regulator
EP2935237A1 (en) 2012-12-19 2015-10-28 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds and their use as fungicides
EP2746276A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se New substituted triazoles and imidazoles and their use as fungicides
EP2746264A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
US10071971B2 (en) 2012-12-19 2018-09-11 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds and their use as fungicides
EP2746262A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds for combating phytopathogenic fungi
EP2746277A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Fungicidal imidazolyl and triazolyl compounds
EP2746278A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
WO2014095555A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Basf Se New substituted triazoles and imidazoles and their use as fungicides
EP2745691A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Substituted imidazole compounds and their use as fungicides
WO2014095534A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Basf Se New substituted triazoles and imidazoles and their use as fungicides
EP2746263A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Alpha-substituted triazoles and imidazoles
CN104981459A (zh) 2012-12-19 2015-10-14 巴斯夫欧洲公司 新型取代三唑类和咪唑类及其作为杀真菌剂的用途
EP2746275A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se New substituted triazoles and imidazoles and their use as fungicides
EP2746266A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se New substituted triazoles and imidazoles and their use as fungicides
EP2746279A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Fungicidal imidazolyl and triazolyl compounds
EP2746274A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds
EP2746255A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2746256A1 (en) 2012-12-19 2014-06-25 Basf Se Fungicidal imidazolyl and triazolyl compounds
WO2014095381A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Basf Se Fungicidal imidazolyl and triazolyl compounds
PL2934147T3 (pl) 2012-12-20 2020-06-29 BASF Agro B.V. Kompozycje zawierające związki triazolowe
EP2746259A1 (en) 2012-12-21 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2746260A1 (en) 2012-12-21 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2746257A1 (en) 2012-12-21 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2746258A1 (en) 2012-12-21 2014-06-25 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
BR112015015503A2 (pt) 2012-12-27 2017-07-11 Basf Se composto substituído, composição veterinária, utilização de um composto, método para o controle de pragas de invertebrados e para o tratamento ou proteção de um animal e material de propagação do vegetal
WO2014118099A1 (en) 2013-01-30 2014-08-07 Basf Se Fungicidal naphthoquinones and derivatives
WO2014124850A1 (en) 2013-02-14 2014-08-21 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2975941A1 (en) 2013-03-20 2016-01-27 BASF Corporation Synergistic compositions comprising a bacillus subtilis strain and a pesticide
CN105072915B (zh) 2013-03-20 2018-05-01 巴斯夫公司 包含枯草芽孢杆菌菌株和生物农药的协同增效组合物
EP2783569A1 (en) 2013-03-28 2014-10-01 Basf Se Compositions comprising a triazole compound
BR112015026357A2 (pt) 2013-04-19 2017-07-25 Basf Se compostos, composição agrícola ou veterinária, métodos para o combate ou controle das pragas, para a proteção de vegetais, para a proteção do material de propagação e para o tratamento de animais e utilização de um composto
CA2911818A1 (en) 2013-05-10 2014-11-13 Nimbus Apollo, Inc. Acc inhibitors and uses thereof
EP2813499A1 (en) 2013-06-12 2014-12-17 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2815649A1 (en) 2013-06-18 2014-12-24 Basf Se Fungicidal mixtures II comprising strobilurin-type fungicides
EP2815647A1 (en) 2013-06-18 2014-12-24 Basf Se Novel strobilurin-type compounds for combating phytopathogenic fungi
WO2014202751A1 (en) 2013-06-21 2014-12-24 Basf Se Methods for controlling pests in soybean
BR112016000869B1 (pt) 2013-07-15 2021-07-06 Basf Se composto, composição agrícola, composição veterinária e usos de um composto
WO2015011615A1 (en) 2013-07-22 2015-01-29 Basf Corporation Mixtures comprising a trichoderma strain and a pesticide
EP2835052A1 (en) 2013-08-07 2015-02-11 Basf Se Fungicidal mixtures comprising pyrimidine fungicides
EP2839745A1 (en) 2013-08-21 2015-02-25 Basf Se Agrochemical formulations comprising a 2-ethyl-hexanol alkoxylate
WO2015036058A1 (en) 2013-09-16 2015-03-19 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
WO2015036059A1 (en) 2013-09-16 2015-03-19 Basf Se Fungicidal pyrimidine compounds
CR20160180A (es) 2013-09-19 2016-10-03 Basf Se Compuestos heterocíclicos de n-acilimino
BR112016008555A8 (pt) 2013-10-18 2020-03-10 Basf Agrochemical Products Bv usos do composto carboxamida ativo pesticida e método de proteção de material de propagação vegetal
BR112016013263B1 (pt) 2013-12-12 2020-08-25 Basf Se compostos, composição, uso de um composto e método para o combate dos fungos fitopatogênicos
CN105829296A (zh) 2013-12-18 2016-08-03 巴斯夫欧洲公司 带有亚胺衍生的取代基的唑类化合物
JP2017502022A (ja) 2013-12-18 2017-01-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se N−置換イミノ複素環式化合物
WO2015104422A1 (en) 2014-01-13 2015-07-16 Basf Se Dihydrothiophene compounds for controlling invertebrate pests
AU2015238666B2 (en) 2014-03-26 2018-11-15 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds as fungicides
EP2924027A1 (en) 2014-03-28 2015-09-30 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole fungicidal compounds
EP2949216A1 (en) 2014-05-30 2015-12-02 Basf Se Fungicidal substituted alkynyl [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2949649A1 (en) 2014-05-30 2015-12-02 Basf Se Fungicide substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2952507A1 (en) 2014-06-06 2015-12-09 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds
EP3756464A1 (en) 2014-06-06 2020-12-30 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP2952506A1 (en) 2014-06-06 2015-12-09 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole and imidazole compounds
EP2952512A1 (en) 2014-06-06 2015-12-09 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds
AR100743A1 (es) 2014-06-06 2016-10-26 Basf Se Compuestos de [1,2,4]triazol sustituido
EP2979549A1 (en) 2014-07-31 2016-02-03 Basf Se Method for improving the health of a plant
WO2016055431A1 (en) 2014-10-06 2016-04-14 Basf Se Substituted pyrimidinium compounds for combating animal pests
JP2017538860A (ja) 2014-10-24 2017-12-28 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 固体粒子の表面荷電を改変するための、非両性の四級化可能な水溶性ポリマー
BR112017009513A2 (pt) 2014-11-06 2018-02-06 Basf Se utilização de um composto heterobicíclico, utilização dos compostos i, compostos, composição agrícola ou veterinária, método para o combate ou controle de pragas, método para a proteção de culturas e sementes
EP3028573A1 (en) 2014-12-05 2016-06-08 Basf Se Use of a triazole fungicide on transgenic plants
JP6743032B2 (ja) 2015-02-06 2020-08-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 硝化抑制剤としてのピラゾール化合物
WO2016128240A1 (en) 2015-02-11 2016-08-18 Basf Se Pesticidal mixture comprising a pyrazole compound and two fungicides
ES2820320T3 (es) 2015-02-11 2021-04-20 Basf Se Mezcla de pesticidas que comprende un compuesto de pirazol, un insecticida y un fungicida
CA2980505A1 (en) 2015-04-07 2016-10-13 Basf Agrochemical Products B.V. Use of an insecticidal carboxamide compound against pests on cultivated plants
EP3294690A1 (en) 2015-05-12 2018-03-21 Basf Se Thioether compounds as nitrification inhibitors
WO2016198613A1 (en) 2015-06-11 2016-12-15 Basf Se N-(thio)acylimino compounds
WO2016198611A1 (en) 2015-06-11 2016-12-15 Basf Se N-(thio)acylimino heterocyclic compounds
MX2018000217A (es) * 2015-07-07 2018-05-22 Valent Usa Llc Mezclas herbicidas sinergicas para el control de maiz voluntario resistente al glifosato.
WO2017016883A1 (en) 2015-07-24 2017-02-02 Basf Se Process for preparation of cyclopentene compounds
CN108137537B (zh) 2015-10-02 2021-07-23 巴斯夫欧洲公司 作为有害物防治剂的具有2-氯嘧啶-5-基取代基的亚氨基化合物
EP3359530A1 (en) 2015-10-05 2018-08-15 Basf Se Pyridine derivatives for combating phytopathogenic fungi
EP3371177A1 (en) 2015-11-02 2018-09-12 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3165094A1 (en) 2015-11-03 2017-05-10 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3370525A1 (en) 2015-11-04 2018-09-12 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3165093A1 (en) 2015-11-05 2017-05-10 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3167716A1 (en) 2015-11-10 2017-05-17 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3373732A1 (en) 2015-11-13 2018-09-19 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3373733A1 (en) 2015-11-13 2018-09-19 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
CA3003949A1 (en) 2015-11-19 2017-05-26 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3376867A1 (en) 2015-11-19 2018-09-26 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
SI3380479T1 (sl) 2015-11-25 2023-04-28 Gilead Apollo, Llc Triazolni inhibitorji ACC in uporabe le-teh
CA3004798C (en) 2015-11-25 2023-10-31 Gilead Apollo, Llc Ester acc inhibitors and uses thereof
CA3004796C (en) 2015-11-25 2023-11-14 Gilead Apollo, Llc Pyrazole acc inhibitors and uses thereof
CA3003956A1 (en) 2015-11-30 2017-06-08 Basf Se Mixtures of cis-jasmone and bacillus amyloliquefaciens
EP3383848B1 (en) 2015-12-01 2020-01-08 Basf Se Pyridine compounds as fungicides
EP3383849B1 (en) 2015-12-01 2020-01-08 Basf Se Pyridine compounds as fungicides
EP3205208A1 (en) 2016-02-09 2017-08-16 Basf Se Mixtures and compositions comprising paenibacillus strains or fusaricidins and chemical pesticides
BR112018067628A2 (ja) 2016-03-09 2018-12-26 Nippon Soda Co., Ltd. A pyridine compound and its use
US20190077809A1 (en) 2016-03-09 2019-03-14 Basf Se Spirocyclic Derivatives
BR112018017034A2 (pt) 2016-03-10 2018-12-26 Basf Se misturas e seu uso, composição agroquímica, método de controle de fungos daninhos fitopatogênicos e material de propagação vegetal
CA3015131A1 (en) 2016-03-11 2017-09-14 Basf Se Method for controlling pests of plants
PL3436457T3 (pl) 2016-04-01 2022-11-28 Basf Se Związki bicykliczne
RU2018138748A (ru) 2016-04-11 2020-05-12 Басф Се Замещенные оксадиазолы для борьбы с фитопатогенными грибами
US20190276376A1 (en) 2016-05-18 2019-09-12 Basf Se Capsules comprising benzylpropargylethers for use as nitrification inhibitors
ES2900867T3 (es) * 2016-05-24 2022-03-18 Basf Se Uracilpiridina herbicida
JP2018100254A (ja) * 2016-07-15 2018-06-28 住友化学株式会社 ウラシル化合物結晶の製造方法
WO2018012573A1 (ja) 2016-07-15 2018-01-18 住友化学株式会社 ウラシル化合物結晶の製造方法
AU2017300576B2 (en) 2016-07-22 2021-04-29 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition and weed control method
WO2018016641A1 (ja) 2016-07-22 2018-01-25 住友化学株式会社 除草剤組成物および雑草防除方法
BR112019000800B1 (pt) 2016-07-22 2022-11-08 Sumitomo Chemical Company, Limited Composição herbicida e método de controle de erva daninha
US10863743B2 (en) 2016-07-29 2020-12-15 Basf Se Method for controlling PPO resistant weeds
JP2017019840A (ja) 2016-07-29 2017-01-26 住友化学株式会社 農作物における有害生物の防除方法
WO2018019842A1 (en) 2016-07-29 2018-02-01 Basf Se Method for controlling ppo resistant weeds
WO2018038190A1 (ja) * 2016-08-26 2018-03-01 住友化学株式会社 1-アセチル-3-フェニルウレア化合物及びその用途
CN109641842B (zh) * 2016-08-26 2021-12-07 住友化学株式会社 1-苯基-3-氨基甲酰基脲化合物及其用途
CA3034992A1 (en) 2016-08-26 2018-03-01 Sumitomo Chemical Company, Limited 3-pyridyl oxyaniline compound and use of same
WO2018038192A1 (ja) * 2016-08-26 2018-03-01 住友化学株式会社 3-ピリジルオキシフェニルジヒドロウラシル化合物及びその用途
CN109563042B (zh) * 2016-08-26 2021-12-07 住友化学株式会社 苯基脲化合物及其用途
US20190200612A1 (en) 2016-09-13 2019-07-04 Basf Se Fungicidal mixtures i comprising quinoline fungicides
WO2018054711A1 (en) 2016-09-26 2018-03-29 Basf Se Pyridine compounds for controlling phytopathogenic harmful fungi
WO2018054721A1 (en) 2016-09-26 2018-03-29 Basf Se Pyridine compounds for controlling phytopathogenic harmful fungi
WO2018054723A1 (en) 2016-09-26 2018-03-29 Basf Se Pyridine compounds for controlling phytopathogenic harmful fungi
WO2018065182A1 (en) 2016-10-04 2018-04-12 Basf Se Reduced quinoline compounds as antifuni agents
WO2018073110A1 (en) 2016-10-20 2018-04-26 Basf Se Quinoline compounds as fungicides
CN110291072A (zh) 2016-12-16 2019-09-27 巴斯夫欧洲公司 农药化合物
BR112019011293A2 (pt) 2016-12-19 2019-10-08 Basf Se compostos de fórmula i, intermediários, composição agroquímica, uso e método para combater fungos nocivos fitopatogênicos
EP3339297A1 (en) 2016-12-20 2018-06-27 Basf Se Substituted oxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
EP3338552A1 (en) 2016-12-21 2018-06-27 Basf Se Use of a tetrazolinone fungicide on transgenic plants
KR20180081276A (ko) * 2017-01-06 2018-07-16 주식회사 팜한농 5-(3,6-다이하이드로-2,6-다이옥소-4-트리플루오로메틸-1(2h)-피리미디닐)페닐싸이올 화합물의 제조 방법
BR112019014061A2 (pt) 2017-01-23 2020-02-04 Basf Se compostos de fórmula i, intermediários b, intermediários c, intermediários ii e intermediários d, composição, uso, método para combater fungos fitopatogênicos, semente e processo para a síntese dos compostos de fórmula i
WO2018149754A1 (en) 2017-02-16 2018-08-23 Basf Se Pyridine compounds
BR112019015338B1 (pt) 2017-02-21 2023-03-14 Basf Se Compostos de fórmula i, composição agroquímica, semente revestida, uso dos compostos e método para combater fungos nocivos fitopatogênicos
WO2018162312A1 (en) 2017-03-10 2018-09-13 Basf Se Spirocyclic derivatives
WO2018166855A1 (en) 2017-03-16 2018-09-20 Basf Se Heterobicyclic substituted dihydroisoxazoles
ES2950451T3 (es) 2017-03-28 2023-10-10 Basf Se Compuestos plaguicidas
WO2018178039A1 (en) 2017-03-31 2018-10-04 Basf Se Crystalline forms of ethyl[3-[2-chloro-4-fluoro-5-(1-methyl-6-trifluoromethyl-2,4-dioxo-1,2,3,4-tetrahydropyrimidin-3-yl)phenoxy]-2-pyridyloxy]acetate
AU2018241628B2 (en) 2017-03-31 2022-03-17 Basf Se Pyrimidinium compounds and their mixtures for combating animal pests
CA3056333A1 (en) 2017-03-31 2018-10-04 Basf Se Crystalline forms of ethyl[3-[2-chloro-4-fluoro-5-(1-methyl-6-trifluoromethyl-2,4-dioxo-1,2,3,4-tetrahydropyrimidin-3-yl)phenoxy]-2-pyridyloxy]acetate
WO2018184882A1 (en) 2017-04-06 2018-10-11 Basf Se Pyridine compounds
MX2019012468A (es) 2017-04-20 2019-12-11 Pi Industries Ltd Nuevos compuestos de fenilamina.
WO2018192793A1 (en) 2017-04-20 2018-10-25 Basf Se Substituted rhodanine derivatives
EA201992550A1 (ru) 2017-05-02 2020-04-14 Басф Се Фунгицидные смеси, содержащие замещенные 3-фенил-5-(трифторметил)-1,2,4-оксадиазолы
WO2018202737A1 (en) 2017-05-05 2018-11-08 Basf Se Fungicidal mixtures comprising triazole compounds
EP3625215B1 (en) 2017-05-18 2023-09-13 PI Industries Ltd Formimidamidine compounds useful against phytopathogenic microorganisms
WO2018229202A1 (en) 2017-06-16 2018-12-20 Basf Se Mesoionic imidazolium compounds and derivatives for combating animal pests
EP3642187A1 (en) 2017-06-19 2020-04-29 Basf Se 2-[[5-(trifluoromethyl)-1,2,4-oxadiazol-3-yl]aryloxy](thio)acetamides for combating phytopathogenic fungi
US11542280B2 (en) 2017-06-19 2023-01-03 Basf Se Substituted pyrimidinium compounds and derivatives for combating animal pests
WO2018234488A1 (en) 2017-06-23 2018-12-27 Basf Se SUBSTITUTED CYCLOPROPYL DERIVATIVES
WO2019002158A1 (en) 2017-06-30 2019-01-03 Basf Se SUBSTITUTED TRIFLUOROMETHYLOXADIAZOLES FOR THE CONTROL OF PHYTOPATHOGENIC FUNGI
JP2020152642A (ja) * 2017-07-18 2020-09-24 住友化学株式会社 尿素化合物及びそれを含有する有害節足動物防除剤
WO2019025250A1 (en) 2017-08-04 2019-02-07 Basf Se SUBSTITUTED TRIFLUOROMETHYLOXADIAZOLES FOR COMBATING PHYTOPATHOGENIC FUNGI
EP3440939A1 (en) 2017-08-09 2019-02-13 Basf Se Herbicidal mixtures comprising l-glufosinate
CA3070177A1 (en) 2017-08-09 2019-02-14 Basf Se Herbicidal mixtures comprising l-glufosinate and their use in canola cultures
KR20240095368A (ko) 2017-08-09 2024-06-25 바스프 에스이 L-글루포시네이트 또는 이의 염 및 하나 이상의 프로토포르피리노겐-ix 옥시다아제 저해제를 포함하는 제초제 혼합물
BR122023020943A2 (pt) 2017-08-09 2024-01-09 Basf Se Uso de uma mistura herbicida, mistura pesticida, composição pesticida e método para controlar a vegetação indesejável
WO2019030097A2 (en) 2017-08-09 2019-02-14 Basf Se HERBICIDE MIXTURES COMPRISING L-GLUFOSINATE AND THEIR USE IN SOJA CULTURES
MX2019015443A (es) 2017-08-18 2020-02-17 Sumitomo Chemical Co Compuesto de 3-piridiloxianilida y su uso.
WO2019038042A1 (en) 2017-08-21 2019-02-28 Basf Se SUBSTITUTED TRIFLUOROMETHYLOXADIAZOLES FOR THE CONTROL OF PHYTOPATHOGENIC FUNGI
JP7104787B2 (ja) * 2017-08-24 2022-07-21 住友化学株式会社 プロトポルフィリノーゲンオキシダーゼ阻害剤混合物
EP3915379A1 (en) 2017-08-29 2021-12-01 Basf Se Pesticidal mixtures
WO2019042932A1 (en) 2017-08-31 2019-03-07 Basf Se METHOD FOR CONTROLLING RICE PARASITES IN RICE
EP3453706A1 (en) 2017-09-08 2019-03-13 Basf Se Pesticidal imidazole compounds
BR112020004441B1 (pt) 2017-09-18 2024-01-16 Basf Se Compostos da fórmula i, composição agroquímica, semente revestida, uso de compostos e método não-terapêutico de combate de fungos
WO2019057660A1 (en) 2017-09-25 2019-03-28 Basf Se INDOLE AND AZAINDOLE COMPOUNDS HAVING 6-CHANNEL SUBSTITUTED ARYL AND HETEROARYL CYCLES AS AGROCHEMICAL FUNGICIDES
WO2019072906A1 (en) 2017-10-13 2019-04-18 Basf Se IMIDAZOLIDINE PYRIMIDINIUM COMPOUNDS FOR CONTROL OF HARMFUL ANIMALS
US11147275B2 (en) 2017-11-23 2021-10-19 Basf Se Substituted trifluoromethyloxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
AU2018373436C1 (en) * 2017-11-23 2023-10-19 Basf Se Herbicidal pyridylethers
CN111356693A (zh) * 2017-11-23 2020-06-30 巴斯夫欧洲公司 除草的苯基醚类
WO2019115511A1 (en) 2017-12-14 2019-06-20 Basf Se Fungicidal mixture comprising substituted 3-phenyl-5-(trifluoromethyl)-1,2,4-oxadiazoles
EP3723485A1 (en) 2017-12-15 2020-10-21 Basf Se Fungicidal mixture comprising substituted pyridines
ES2911000T3 (es) 2017-12-19 2022-05-17 Syngenta Crop Protection Ag Tiofeniluracilos sustituidos, sales de los mismos y el uso de los mismos como agentes herbicidas
EA202091469A1 (ru) 2017-12-19 2020-10-19 Зингента Кроп Протекшн Аг Замещенные тиофенилурацилы, их соли и их применение в качестве гербицидных средств
WO2019121547A1 (de) 2017-12-19 2019-06-27 Bayer Aktiengesellschaft Substituierte thiophenyluracile sowie deren salze und ihre verwendung als herbizide wirkstoffe
WO2019121143A1 (en) 2017-12-20 2019-06-27 Basf Se Substituted cyclopropyl derivatives
BR112020012211A2 (pt) 2017-12-20 2020-11-24 Sumitomo Chemical Company, Limited método para controlar organismos nocivos em safras
CN111491925B (zh) 2017-12-21 2023-12-29 巴斯夫欧洲公司 杀害虫化合物
US11414438B2 (en) 2018-01-09 2022-08-16 Basf Se Silylethynyl hetaryl compounds as nitrification inhibitors
WO2019137995A1 (en) 2018-01-11 2019-07-18 Basf Se Novel pyridazine compounds for controlling invertebrate pests
MX2020007565A (es) 2018-01-30 2020-09-03 Pi Industries Ltd Nuevos oxadiazoles.
WO2019150311A1 (en) 2018-02-02 2019-08-08 Pi Industries Ltd. 1-3 dithiol compounds and their use for the protection of crops from phytopathogenic microorganisms
WO2019154665A1 (en) 2018-02-07 2019-08-15 Basf Se New pyridine carboxamides
EP3749660A1 (en) 2018-02-07 2020-12-16 Basf Se New pyridine carboxamides
US20190254277A1 (en) 2018-02-21 2019-08-22 Sumitomo Chemical Company, Limited Method of controlling herbicide resistant weeds
EP3530118A1 (en) 2018-02-26 2019-08-28 Basf Se Fungicidal mixtures
EP3530116A1 (en) 2018-02-27 2019-08-28 Basf Se Fungicidal mixtures comprising xemium
WO2019166252A1 (en) 2018-02-28 2019-09-06 Basf Se Fungicidal mixtures comprising fenpropidin
CA3089381A1 (en) 2018-02-28 2019-09-06 Basf Se Use of pyrazole propargyl ethers as nitrification inhibitors
IL276745B2 (en) 2018-02-28 2023-10-01 Basf Se Use of N-functional alkoxy pyrazole compounds as nitrification inhibitors
CA3089374A1 (en) 2018-02-28 2019-09-06 Basf Se Use of alkoxypyrazoles as nitrification inhibitors
US11917995B2 (en) 2018-03-01 2024-03-05 BASF Agro B.V. Fungicidal compositions of mefentrifluconazole
EP3533331A1 (en) 2018-03-02 2019-09-04 Basf Se Fungicidal mixtures comprising pydiflumetofen
EP3533333A1 (en) 2018-03-02 2019-09-04 Basf Se Fungicidal mixtures comprising pydiflumetofen
EP3536150A1 (en) 2018-03-06 2019-09-11 Basf Se Fungicidal mixtures comprising fluxapyroxad
WO2019171234A1 (en) 2018-03-09 2019-09-12 Pi Industries Ltd. Heterocyclic compounds as fungicides
WO2019175713A1 (en) 2018-03-14 2019-09-19 Basf Corporation New catechol molecules and their use as inhibitors to p450 related metabolic pathways
WO2019175712A1 (en) 2018-03-14 2019-09-19 Basf Corporation New uses for catechol molecules as inhibitors to glutathione s-transferase metabolic pathways
WO2019185413A1 (en) 2018-03-27 2019-10-03 Basf Se Pesticidal substituted cyclopropyl derivatives
BR112020020959A2 (pt) 2018-04-16 2021-01-19 Pi Industries Ltd. Uso de compostos de fenilamidina 4-substituídospara controlar doenças de ferrugem em vegetais
WO2019219529A1 (en) 2018-05-15 2019-11-21 Basf Se Mixtures comprising benzpyrimoxan and oxazosulfyl and uses and methods of applying them
WO2019219464A1 (en) 2018-05-15 2019-11-21 Basf Se Substituted trifluoromethyloxadiazoles for combating phytopathogenic fungi
WO2019224092A1 (en) 2018-05-22 2019-11-28 Basf Se Pesticidally active c15-derivatives of ginkgolides
BR112020023928B1 (pt) * 2018-06-11 2024-01-30 Sumitomo Chemical Company, Limited Composto de uracila e uso do mesmo
CA3103199A1 (en) * 2018-06-11 2019-12-19 Sumitomo Chemical Company, Limited Uracil compound and harmful arthropod control composition containing same
WO2020002472A1 (en) 2018-06-28 2020-01-02 Basf Se Use of alkynylthiophenes as nitrification inhibitors
US11317630B2 (en) * 2018-07-02 2022-05-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Method of controlling weeds
AR115690A1 (es) * 2018-07-05 2021-02-17 Sumitomo Chemical Co Compuestos de uracilo y composición para el control de artrópodos dañinos que comprende estos compuestos
AR115689A1 (es) * 2018-07-05 2021-02-17 Sumitomo Chemical Co Compuestos de uracilo y su utilización
US11896010B2 (en) 2018-07-12 2024-02-13 Sumitomo Chemical Company, Limited Uracil compound and use thereof
CN112424147B (zh) 2018-07-23 2023-06-30 巴斯夫欧洲公司 取代噻唑烷化合物作为硝化抑制剂的用途
CA3104256A1 (en) 2018-07-23 2020-01-30 Basf Se Use of substituted 2-thiazolines as nitrification inhibitors
TW202009235A (zh) 2018-08-17 2020-03-01 印度商皮埃企業有限公司 1,2-二硫醇酮化合物及其用途
EP3613736A1 (en) 2018-08-22 2020-02-26 Basf Se Substituted glutarimide derivatives
US20220046925A1 (en) 2018-09-28 2022-02-17 Basf Se Method of controlling pests by seed treatment application of a mesoionic compound or mixture thereof
EP3628157A1 (en) 2018-09-28 2020-04-01 Basf Se Method of controlling insecticide resistant insects and virus transmission to plants
EP3628156A1 (en) 2018-09-28 2020-04-01 Basf Se Method for controlling pests of sugarcane, citrus, rapeseed, and potato plants
EP3628158A1 (en) 2018-09-28 2020-04-01 Basf Se Pesticidal mixture comprising a mesoionic compound and a biopesticide
CA3112924A1 (en) 2018-10-01 2020-04-09 Pi Industries Ltd Oxadiazoles as fungicides
KR20210098949A (ko) 2018-10-01 2021-08-11 피아이 인더스트리스 엘티디. 새로운 옥사디아졸
EP3643705A1 (en) 2018-10-24 2020-04-29 Basf Se Pesticidal compounds
WO2020095161A1 (en) 2018-11-05 2020-05-14 Pi Industries Ltd. Nitrone compounds and use thereof
CN113166063A (zh) 2018-11-28 2021-07-23 巴斯夫欧洲公司 杀害虫化合物
EP3670501A1 (en) 2018-12-17 2020-06-24 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds as fungicides
BR112021009395A2 (pt) 2018-12-18 2021-08-10 Basf Se compostos de pirimidínio substituídos, compostos de fórmula (i), métodos para proteger culturas, para o combate, controle, prevenção ou proteção, método não terapêutico para o tratamento de animais, semente e usos dos compostos de fórmula (i)
CN113365981A (zh) * 2019-01-30 2021-09-07 住友化学株式会社 吡啶酮化合物的制造方法
EP3696177A1 (en) 2019-02-12 2020-08-19 Basf Se Heterocyclic compounds for the control of invertebrate pests
EP3953340B1 (en) 2019-04-08 2023-08-02 PI Industries Ltd. Novel oxadiazole compounds for controlling or preventing phytopathogenic fungi
BR112021020232A2 (pt) 2019-04-08 2021-12-07 Pi Industries Ltd Compostos de oxadiazol inovadores para controlar ou prevenir fungos fitopatogênicos
CN113874372A (zh) 2019-04-08 2021-12-31 Pi工业有限公司 用于控制或预防植物病原真菌的新型噁二唑化合物
EP3730489A1 (en) 2019-04-25 2020-10-28 Basf Se Heteroaryl compounds as agrochemical fungicides
CN113923987B (zh) 2019-05-29 2024-10-01 巴斯夫欧洲公司 用于防除动物害虫的介离子咪唑鎓化合物和衍生物
EP3769623A1 (en) 2019-07-22 2021-01-27 Basf Se Mesoionic imidazolium compounds and derivatives for combating animal pests
CN113993847A (zh) 2019-06-06 2022-01-28 巴斯夫欧洲公司 杀真菌的n-(吡啶-3-基)羧酰胺类
WO2020244970A1 (en) 2019-06-06 2020-12-10 Basf Se New carbocyclic pyridine carboxamides
WO2020244969A1 (en) 2019-06-06 2020-12-10 Basf Se Pyridine derivatives and their use as fungicides
CN111534524B (zh) * 2019-07-05 2023-09-01 湖南杂交水稻研究中心 水稻野败型细胞质雄性不育恢复基因rf3及其应用
EP3766879A1 (en) 2019-07-19 2021-01-20 Basf Se Pesticidal pyrazole derivatives
JP2022542068A (ja) 2019-07-22 2022-09-29 バイエル、アクチエンゲゼルシャフト 置換n-フェニルウラシル、その塩および除草剤としてのこれらの使用
WO2021013800A1 (de) 2019-07-22 2021-01-28 Bayer Aktiengesellschaft Substituierte n-phenyl-n-aminouracile sowie deren salze und ihre verwendung als herbizide wirkstoffe
AR119774A1 (es) 2019-08-19 2022-01-12 Pi Industries Ltd Compuestos de oxadiazol que contienen un anillo heteroaromático de 5 miembros para controlar o prevenir hongos fitopatogénicos
WO2021063736A1 (en) 2019-10-02 2021-04-08 Basf Se Bicyclic pyridine derivatives
WO2021063735A1 (en) 2019-10-02 2021-04-08 Basf Se New bicyclic pyridine derivatives
AR120374A1 (es) 2019-11-08 2022-02-09 Pi Industries Ltd Compuestos de oxadiazol que contienen anillos de heterociclilo fusionados para controlar o prevenir hongos fitopatogénicos
EP4081037A1 (en) 2019-12-23 2022-11-02 Basf Se Enzyme enhanced root uptake of agrochemical active compound
US20230086500A1 (en) 2020-01-31 2023-03-23 Basf Se Herbicide Combinations Comprising Glufosinate and S-3100
BR112022012674A2 (pt) 2020-01-31 2022-09-06 Bayer Ag Derivados de ácido [(1,4,5-trissubstituído-1h-pirazol-3-il)sulfanil]acético e sais dos mesmos e uso dos mesmos como ingredientes herbicidas ativos
US20230106291A1 (en) 2020-02-28 2023-04-06 BASF Agro B.V. Methods and uses of a mixture comprising alpha-cypermethrin and dinotefuran for controlling invertebrate pests in t
BR112022017563A2 (pt) 2020-03-04 2022-10-18 Basf Se Uso de compostos, composição agroquímica e método para combater fungos fitopatogênicos nocivos
WO2021209360A1 (en) 2020-04-14 2021-10-21 Basf Se Fungicidal mixtures comprising substituted 3-phenyl-5-(trifluoromethyl)-1,2,4-oxadiazoles
EP3903581A1 (en) 2020-04-28 2021-11-03 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors i
EP3903584A1 (en) 2020-04-28 2021-11-03 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors iv
EP3903582A1 (en) 2020-04-28 2021-11-03 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors ii
BR112022021631A2 (pt) 2020-04-28 2022-12-06 Basf Se Compostos, composição, métodos para combater ou controlar pragas invertebradas, para proteger plantas em crescimento e para tratar ou proteger um animal, semente e uso de um composto
EP3903583A1 (en) 2020-04-28 2021-11-03 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors iii
EP3909950A1 (en) 2020-05-13 2021-11-17 Basf Se Heterocyclic compounds for the control of invertebrate pests
WO2021249800A1 (en) 2020-06-10 2021-12-16 Basf Se Substituted [1,2,4]triazole compounds as fungicides
EP3945089A1 (en) 2020-07-31 2022-02-02 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors v
CN112899214B (zh) * 2020-07-07 2023-08-04 湖南师范大学 废弃鱼鳞在制备各向异性基底中的应用
EP3960727A1 (en) 2020-08-28 2022-03-02 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors vi
EP3939961A1 (en) 2020-07-16 2022-01-19 Basf Se Strobilurin type compounds and their use for combating phytopathogenic fungi
WO2022017836A1 (en) 2020-07-20 2022-01-27 BASF Agro B.V. Fungicidal compositions comprising (r)-2-[4-(4-chlorophenoxy)-2-(trifluoromethyl)phenyl]-1- (1,2,4-triazol-1-yl)propan-2-ol
EP3970494A1 (en) 2020-09-21 2022-03-23 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors viii
UY39385A (es) 2020-08-18 2022-02-25 Pi Industries Ltd Nuevos compuestos heterocíclicos para combatir los hongos fitopatógenos
CA3192507A1 (en) 2020-08-24 2022-03-03 Bayer Aktiengesellschaft Substituted n-phenyluracils and salts thereof, and use thereof as herbicidal active substances
WO2022058878A1 (en) 2020-09-15 2022-03-24 Pi Industries Limited Novel picolinamide compounds for combating phytopathogenic fungi
WO2022058877A1 (en) 2020-09-15 2022-03-24 Pi Industries Limited Novel picolinamide compounds for combating phytopathogenic fungi
AR123594A1 (es) 2020-09-26 2022-12-21 Pi Industries Ltd Compuestos nematicidas y uso de los mismos
GB202016568D0 (en) * 2020-10-19 2020-12-02 Syngenta Crop Protection Ag Herbicidal compositions
GB202016569D0 (en) * 2020-10-19 2020-12-02 Syngenta Crop Protection Ag Herbicidal compositions
CN116209355A (zh) 2020-10-27 2023-06-02 巴斯夫农业公司 包含氯氟醚菌唑的组合物
WO2022090069A1 (en) 2020-11-02 2022-05-05 Basf Se Compositions comprising mefenpyr-diethyl
WO2022090071A1 (en) 2020-11-02 2022-05-05 Basf Se Use of mefenpyr-diethyl for controlling phytopathogenic fungi
WO2022106304A1 (en) 2020-11-23 2022-05-27 BASF Agro B.V. Compositions comprising mefentrifluconazole
US20240023553A1 (en) * 2020-12-01 2024-01-25 Sumitomo Chemical Company, Limited Pesticidal composition
JPWO2022118812A1 (ja) * 2020-12-01 2022-06-09
WO2022118814A1 (ja) * 2020-12-01 2022-06-09 住友化学株式会社 液体農薬組成物
WO2022118821A1 (ja) * 2020-12-01 2022-06-09 住友化学株式会社 農薬組成物
CA3203806A1 (en) * 2020-12-01 2022-06-09 Sumitomo Chemical Company, Limited Liquid pesticidal formulation
EP4018830A1 (en) 2020-12-23 2022-06-29 Basf Se Pesticidal mixtures
EP4043444A1 (en) 2021-02-11 2022-08-17 Basf Se Substituted isoxazoline derivatives
UY39755A (es) 2021-05-05 2022-11-30 Pi Industries Ltd Nuevos compuestos heterocíclicos condensados para combatir hongos fitopatógenos.
WO2022238157A1 (en) 2021-05-11 2022-11-17 Basf Se Fungicidal mixtures comprising substituted 3-phenyl-5-(trifluoromethyl)-1,2,4-oxadiazoles
CN117355518A (zh) 2021-05-18 2024-01-05 巴斯夫欧洲公司 用作杀真菌剂的新型取代吡啶类
KR20240008856A (ko) 2021-05-18 2024-01-19 바스프 에스이 살진균제로서의 신규한 치환된 피리딘
BR112023023989A2 (pt) 2021-05-18 2024-01-30 Basf Se Compostos, composição, método para combater fungos fitopatogênicos e semente
EP4341248A1 (en) 2021-05-21 2024-03-27 Basf Se Use of an n-functionalized alkoxy pyrazole compound as nitrification inhibitor
CN117355504A (zh) 2021-05-21 2024-01-05 巴斯夫欧洲公司 乙炔基吡啶化合物作为硝化抑制剂的用途
UY39780A (es) 2021-05-26 2022-11-30 Pi Industries Ltd Composición fungicida que contiene compuestos de oxadiazol
EP4094579A1 (en) 2021-05-28 2022-11-30 Basf Se Pesticidal mixtures comprising metyltetraprole
BR112023027004A2 (pt) 2021-06-21 2024-03-12 Basf Se Estrutura de metal-orgânica, uso da estrutura de metal-orgânica, composição para uso na redução da nitrificação, mistura agroquímica e métodos de redução da nitrificação, de tratamento de fertilizante ou composição de fertilizante e de preparação de uma estrutura de metal-orgânica
EP4119547A1 (en) 2021-07-12 2023-01-18 Basf Se Triazole compounds for the control of invertebrate pests
US20240287028A1 (en) 2021-07-16 2024-08-29 Basf Se Herbicidal phenyluracils
CN117794908A (zh) 2021-08-02 2024-03-29 巴斯夫欧洲公司 (3-喹啉基)-喹唑啉
AU2022321882A1 (en) 2021-08-02 2024-02-15 Basf Se (3-pirydyl)-quinazoline
EP4140986A1 (en) 2021-08-23 2023-03-01 Basf Se Pyrazine compounds for the control of invertebrate pests
EP4140995A1 (en) 2021-08-27 2023-03-01 Basf Se Pyrazine compounds for the control of invertebrate pests
EP4151631A1 (en) 2021-09-20 2023-03-22 Basf Se Heterocyclic compounds for the control of invertebrate pests
WO2023072671A1 (en) 2021-10-28 2023-05-04 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors ix
WO2023072670A1 (en) 2021-10-28 2023-05-04 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors x
EP4194453A1 (en) 2021-12-08 2023-06-14 Basf Se Pyrazine compounds for the control of invertebrate pests
EP4198033A1 (en) 2021-12-14 2023-06-21 Basf Se Heterocyclic compounds for the control of invertebrate pests
EP4198023A1 (en) 2021-12-16 2023-06-21 Basf Se Pesticidally active thiosemicarbazone compounds
AR127972A1 (es) 2021-12-17 2024-03-13 Pi Industries Ltd Novedosos compuestos de piridina carboxamida bicíclica sustituida fusionada para combatir hongos fitopatogénicos
EP4238971A1 (en) 2022-03-02 2023-09-06 Basf Se Substituted isoxazoline derivatives
WO2023203066A1 (en) 2022-04-21 2023-10-26 Basf Se Synergistic action as nitrification inhibitors of dcd oligomers with alkoxypyrazole and its oligomers
WO2023208447A1 (en) 2022-04-25 2023-11-02 Basf Se An emulsifiable concentrate having a (substituted) benzaldehyde-based solvent system
WO2023208866A1 (en) 2022-04-25 2023-11-02 Syngenta Crop Protection Ag Herbicidal compositions
AU2023274686A1 (en) * 2022-05-25 2024-07-18 Sumitomo Chemical Company, Limited Liquid agrochemical composition
CN114788525B (zh) * 2022-06-23 2022-09-16 山东康惠植物保护有限公司 一种含Epyrifenacil和五氟磺草胺的组合物及其应用
WO2024028243A1 (en) 2022-08-02 2024-02-08 Basf Se Pyrazolo pesticidal compounds
EP4342885A1 (en) 2022-09-20 2024-03-27 Basf Se N-(3-(aminomethyl)-phenyl)-5-(4-phenyl)-5-(trifluoromethyl)-4,5-dihydroisoxazol-3-amine derivatives and similar compounds as pesticides
WO2024078906A1 (de) 2022-10-10 2024-04-18 Bayer Aktiengesellschaft Substituierte n-phenyluracile sowie deren salze und ihre verwendung als herbizide wirkstoffe
EP4361126A1 (en) 2022-10-24 2024-05-01 Basf Se Use of strobilurin type compounds for combating phytopathogenic fungi containing an amino acid substitution f129l in the mitochondrial cytochrome b protein conferring resistance to qo inhibitors xv
WO2024104813A1 (en) 2022-11-14 2024-05-23 Basf Se Fungicidal mixture comprising substituted pyridines
WO2024104823A1 (en) 2022-11-16 2024-05-23 Basf Se New substituted tetrahydrobenzoxazepine
WO2024104814A1 (en) 2022-11-16 2024-05-23 Basf Se Fungicidal mixture comprising substituted pyridines
WO2024104815A1 (en) 2022-11-16 2024-05-23 Basf Se Substituted benzodiazepines as fungicides
WO2024104822A1 (en) 2022-11-16 2024-05-23 Basf Se Substituted tetrahydrobenzodiazepine as fungicides
WO2024104818A1 (en) 2022-11-16 2024-05-23 Basf Se Substituted benzodiazepines as fungicides
EP4389210A1 (en) 2022-12-21 2024-06-26 Basf Se Heteroaryl compounds for the control of invertebrate pests
WO2024165343A1 (en) 2023-02-08 2024-08-15 Basf Se New substituted quinoline compounds for combatitng phytopathogenic fungi
WO2024194038A1 (en) 2023-03-17 2024-09-26 Basf Se Substituted pyridyl/pyrazidyl dihydrobenzothiazepine compounds for combatting phytopathogenic fungi

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK366887A (da) 1986-07-31 1988-05-13 Hoffmann La Roche Pyrimidinderivater
ZA875466B (en) * 1986-07-31 1988-02-02 F. Hoffmann-La Roche & Co. Aktiengesellschaft Heterocyclic compounds
US4816065A (en) 1986-12-23 1989-03-28 Fmc Corporation Herbicides
JP3089621B2 (ja) * 1990-12-17 2000-09-18 日産化学工業株式会社 ウラシル誘導体
DE4140661A1 (de) 1991-12-10 1993-06-17 Basf Ag Verwendung von 3-phenylurazil-derivaten zur desikkation und abzission von pflanzenteilen
DE19500118A1 (de) 1994-05-18 1995-11-23 Bayer Ag Substituierte Diazacyclohexandi(thi)one
DE4431219A1 (de) 1994-09-02 1996-03-07 Bayer Ag Selektive Herbizide auf Basis von Aryluracilen
DE4432888A1 (de) 1994-09-15 1996-03-21 Bayer Ag Verwendung von Aryluracilen im semi- und nicht-selektiven Bereich der Unkrautbekämpfung
DE4439332A1 (de) 1994-11-04 1996-05-09 Bayer Ag Substituierte Azolylsulfonylphenyluracile
DE4440914A1 (de) 1994-11-17 1996-05-23 Bayer Ag Substituierte Diazacyclohexandi(thi)one
AU701851B2 (en) 1995-06-29 1999-02-04 Bayer Aktiengesellschaft Substituted cyanophenyluracils
DE19523640A1 (de) 1995-06-29 1997-01-02 Bayer Ag Substituierte Carbonylaminophenyluracile
DE19527570A1 (de) 1995-07-28 1997-01-30 Bayer Ag Substituierte Aminouracile
DE19610786A1 (de) 1996-03-14 1997-09-18 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von substituierten aromatischen Thiocarbonsäureamiden
DE19610785A1 (de) 1996-03-14 1997-09-18 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von substituierten aromatischen Thiocarbonsäureamiden
DE19652432A1 (de) 1996-12-17 1998-06-18 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von 3-Amino-l-phenyl-uracil-Derivaten
DE19652433A1 (de) 1996-12-17 1998-06-18 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von 1-Phenyl-uracil-Derivaten
DE69820242T2 (de) * 1997-03-14 2004-09-09 Isk Americas Incorporated, Concord Diarylether, verfahren zu ihrer herstellung und herbizide und austrocknende zusammensetzungen, die sie enthalten
AU750045B2 (en) 1998-07-09 2002-07-11 Bayer Aktiengesellschaft Substituted phenyl uracils
DE19853864A1 (de) 1998-07-09 2000-01-13 Bayer Ag Substituierte Phenyluracile
AU2145500A (en) 1998-11-30 2000-06-19 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd. A meta-nitro phenol derivative and a process for producing it
DE19954312A1 (de) 1999-11-11 2001-05-17 Bayer Ag Substituierte Phenyluracile
IL167955A (en) * 2000-02-04 2007-10-31 Sumitomo Chemical Co Inilines are converted by troiril

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4356247B2 (ja) ウラシル化合物及びその用途
JP2002155061A5 (ja)
JP5299457B2 (ja) ウラシル化合物の製造中間体
CN100482648C (zh) 具有除草活性的新型尿嘧啶
JP2023510062A (ja) 縮合環置換芳香族化合物、その製造方法、除草組成物およびその使用
US20040023805A1 (en) Substituted phenyluracils
RU2264395C2 (ru) Производные урацила, гербицидная композиция, способ борьбы с сорняками и промежуточные продукты (варианты)
JP4779199B2 (ja) ウラシル化合物及びその用途
JP2001072668A (ja) ウラシル化合物およびその用途
JP4797296B2 (ja) ピリジン化合物の製造法およびその製造中間体
JP2002003480A (ja) ウラシル化合物およびその除草剤用途
JP2001270867A (ja) フェニルピリダジン化合物
CA2275248A1 (en) Heterocyclyluracil
JP4639459B2 (ja) 6−ヒドロキシ−5,6−ジヒドロウラシル化合物
JP2001506246A (ja) ヘテロシクリルウラシル類
JP2001348376A (ja) ウラシル化合物およびその用途
KR20010033804A (ko) 제초제로서 사용된 치환된 헤테로아릴메틸 화합물
JP2001002658A (ja) ピリダジノン化合物およびその用途
JP2001192371A (ja) 除草剤としてのn−シクロヘキサジエニルヘテロアリールオキシアセトアミド