JP5299457B2 - ウラシル化合物の製造中間体 - Google Patents

Description

本発明はウラシル化合物の製造中間体に関する。

現在、数多くの除草剤が市販され、使用されているが、防除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期にわたるため、より除草効果が高く、幅広い殺草スペクトラムを有し、作物に対し薬害の問題を生じない除草剤が求められている。
特許文献１において、ある種のフェニルウラシル化合物が除草活性を有することが開示されているが、これらのフェニルウラシル化合物が除草剤として十分な性能を有するものではない。
また、特許文献２、特許文献３において、ある種の置換フェノキシフェニルウラシル化合物が除草活性を有することが開示されているが、これらの置換フェノキシフェニルウラシル化合物が除草剤として十分な性能を有するものではない。

特開昭６３―４１４６６号公報 ＰＣＴ出願公開明細書ＷＯ９７−０１５４１号 ＰＣＴ出願公開明細書ＷＯ９８−４１０９３号

本発明は優れた除草活性を有する化合物の製造中間体を提供することを課題とする。

本発明者らは優れた除草活性を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記一般式［Ｉ］で示されるウラシル化合物が優れた除草活性を有することを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、一般式［Ｉ］

［式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ¹はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ１−Ｃ３ハロアルキル基を表し、Ｒ²はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁵は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基を表し、Ｘ¹はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、Ｘ²は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
で示されるウラシル化合物（以下、本発明化合物と記す。）およびそれを有効成分として含有する除草剤を提供する。

本発明はさらに、本発明化合物の製造中間体として有用な一般式［ＸＸＸＩＩ］

［式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ¹⁷は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基を表し、Ｘ¹はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、Ｘ²は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
で示されるアニリン化合物、一般式［ＸＸＸＩＶ］

［式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ¹⁷は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基を表し、Ｒ¹⁸はＣ１−Ｃ６アルキル基またはフェニル基を表し、Ｘ¹はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、Ｘ²は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
で示される化合物、および一般式［ＸＸＸＩＩＩ］

［式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ¹⁷は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基を表し、Ｘ¹はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、Ｘ²は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基をを表す。］
で示される化合物をも提供する。

本発明化合物を用いることにより、優れた除草効果が得られる。

本発明において、Ｗで示されるＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基としては、メチルイミノ基、エチルイミノ基等があげられ、
Ｙで示されるＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基としては、メチルイミノ基、エチルイミノ基等があげられ、
Ｒ¹で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を意味し、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基としては、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等があげられ、
Ｒ²で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を意味し、
Ｒ⁵で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリクロロプロピル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、アリル基、１−メチルアリル基、１，１−ジメチルアリル基、２−メチルアリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、１−クロロアリル基、１−ブロモアリル基、２−クロロアリル基、３，３−ジクロロアリル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、１−フルオロ−２−プロピニル基、１−クロロ−２−プロピニル基、１−ブロモ−２−プロピニル基、１−クロロ−２−ブチニル基等があげられ、

Ｒ¹⁸で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等があげられ、

Ｘ¹で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味し、
Ｘ²で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味し、
Ｘ³およびＸ⁴で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味し、Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリクロロプロピル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、アリル基、１−メチルアリル基、１，１−ジメチルアリル基、２−メチルアリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、１−クロロアリル基、１−ブロモアリル基、２−クロロアリル基、３，３−ジクロロアリル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基等があげられ、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基、１−フルオロ−２−プロピニル基、１−クロロ−２−プロピニル基、１−ブロモ−２−プロピニル基、１−クロロ−２−ブチニル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメチル基、２−メトキシエチル基、１−メトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル基、３−エトキシプロピル基、イソプロポキシメチル基、２−イソプロポキシエチル基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基としては、クロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基等があげられ、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基としては、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、１−メトキシカルボニルエトキシ基、１−エトキシカルボニルエトキシ基、２−メトキシカルボニルエトキシ基、２−エトキシカルボニルエトキシ基等があげられる。

本発明化合物において、除草活性の点から、Ｒ¹についてはフッ素原子で置換されたメチル基（例えば、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等）、フッ素原子で置換されたエチル基（例えば、ペンタフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基等）が好ましく、その中でもトリフルオロメチル基がより好ましく、Ｒ²についてはメチル基またはエチル基が好ましく、その中でもメチル基がより好ましく、Ｒ⁵についてはＣ１−Ｃ３アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基）が好ましく、その中でもメチル基、エチル基がより好ましく、Ｘ¹についてはハロゲン原子が好ましく、その中でも塩素原子がより好ましく、Ｘ²についてはハロゲン原子が好ましく、その中でもフッ素原子がより好ましく、Ｘ³については水素原子が好ましく、Ｘ⁴については水素原子が好ましく、Ｗについては酸素原子が好ましく、かつ／またはＹについては酸素原子が好ましい。また、ベンゼン環上のＷの置換位置がＹのオルト位が好ましく、このときＲ⁴は水素原子またはメチル基が好ましく、その中でも水素原子がより好ましい。
特に好ましい化合物としては、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であり、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ⁴が水素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｘ¹が塩素原子であり、Ｘ²がフッ素原子であり、Ｘ³が水素原子であり、Ｘ⁴が水素原子であり、Ｗが酸素原子であり、Ｙが酸素原子であり、ベンゼン環上のＷの置換位置がＹのオルト位である化合物；Ｒ¹がトリフルオロメチル基であり、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ⁴が水素原子であり、Ｒ⁵がエチル基であり、Ｘ¹が塩素原子であり、Ｘ²がフッ素原子であり、Ｘ³が水素原子であり、Ｘ⁴が水素原子であり、Ｗが酸素原子であり、Ｙが酸素原子であり、ベンゼン環上のＷの置換位置がＹのオルト位である化合物が挙げられる。
尚、本発明化合物には、二重結合に由来する幾可異性体、不斉炭素に由来する光学異性体及びジアステレオマ−が存在する場合があるが、本発明化合物には、これらの異性体及びその混合物も含まれる。

次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば下記（製造法１）〜（製造法６）の製造法により製造する事ができる。
（製造法１）
本発明化合物は、一般式［ＩＩＩ］

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｗ、Ｙ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物と一般式［ＩＶ］

［式中、Ｒ⁴およびＲ⁵は前記と同じ意味を表わし、Ｒ⁶は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時から７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＩＶ］で示される化合物は１モルの割合、塩基の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（製造法２）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＷが酸素原子である化合物は、一般式［Ｖ］

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｙ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物と一般式［ＶＩ］

［式中、Ｒ⁴およびＲ⁵は前記と同じ意味を表す。］
で示されるアルコール化合物とを、脱水試剤の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時から４８時間である。
脱水試剤としては例えば、トリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィンまたはトリエチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン、および、ジエチルアゾジカルボキシレート、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート等のジ（低級アルキル）アゾジカルボキシレートの組合せが挙げられる。
反応に供される試剤の量は、一般式［Ｖ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＶＩ］で示されるアルコール化合物は１〜３モル、好ましくは１〜１.２モル、トリアリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンは１〜３モル、好ましくは１〜１.５モル、ジ（低級アルキル）アゾジカルボキシレートは１〜３モル、好ましくは１〜１.５モルである。これらの試剤の比率は反応の状況により任意に変化させることができる。
反応に用いられる溶媒としては、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮し、残渣をクロマトグラフィーに付す。
２）反応液をそのまま濃縮し、残渣をクロマトグラフィーに付す。
なお、得られた本発明化合物は、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（製造法３）
本発明化合物は、一般式［ＶＩＩ］

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｗ、Ｙ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
で示されるカルボン酸化合物と一般式［ＶＩＩＩ］

［式中、Ｒ⁵は前記と同じ意味を表す。］
で示されるアルコール化合物とを用いて製造することができる。
該反応は例えば、一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物を塩素化剤と反応させることにより酸塩化物とした（以下、〈工程３−１〉と記す。）後、一般式［ＶＩＩＩ］で示されるアルコール化合物と塩基の存在下に反応させる（以下、〈工程３−２〉と記す。）ことにより行われる。

〈工程３−１〉
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜１５０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物１モルに対して、塩素化剤は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化スルフリル、ホスゲン、塩化オキサリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ノナン、デカン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば反応液を濃縮し、濃縮残渣をそのまま〈工程３−２〉に使用する。

〈工程３−２〉
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−２０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、〈工程３−１〉で用いた一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物１モルに対して、一般式［ＶＩＩＩ］で示されるアルコール化合物および塩基はそれぞれ１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化することができる。
用いられる塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エンまたは１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ノナン、デカン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
また、該反応は上記の方法に限らず、カルボニルジイミダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の縮合剤の存在下に反応させる方法、酸触媒の存在下に反応させる方法およびその他の公知の方法によっても行うことも可能である。

（製造法４）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＸ¹がニトロ基またはシアノ基である化合物は、一般式［ＩＸ］

［式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＸ²は前記と同じ意味を表し、Ｒ⁷はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｘ¹¹はニトロ基またはシアノ基を表す。］
で示されるウラシル化合物と一般式［Ｘ］

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｗ、Ｙ、Ｘ³およびＸ⁴は、前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＩＸ］で示されるウラシル化合物１モルに対して、一般式［Ｘ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒を使用することにより反応が加速されることがある。触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられ、反応に供される触媒の量は、一般式［ＩＸ］で示されるウラシル化合物１モルに対して、０．０００１〜０．１モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（製造法５）
本発明化合物のうち、一般式［Ｉ］におけるＸ¹がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である化合物は、以下のスキームで示される方法により製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｗ、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表し、Ｘ¹²はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｙ¹は酸素原子、硫黄原子またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表わす。］

〈工程５−１〉：一般式［ＸＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＩＩ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＩ］で示される化合物を鉄粉を用いて酸の存在下、溶媒中で還元することにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＩ］で示される化合物で示される化合物１モルに対して、鉄粉の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後、水に注加して生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することもできる。
〈工程５−２〉：一般式［ＸＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＩＩＩ］で示される化合物は、ｉ）一般式［ＸＩＩ］で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続き、目的とする化合物に応じてヨウ化カリウム、臭化銅[Ｉ]、塩化銅[Ｉ]またはフッ化水素酸とホウ酸の混合物（以下、ホウフッ化水素酸と記す）と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
第１段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は通常−２０〜２０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＩＩ］で示される化合物で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
第2段階の反応は、反応温度の範囲は０〜８０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＩＩ］で示される化合物で示される化合物１モルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅[Ｉ]、塩化銅[Ｉ]またはホウフッ化水素酸の量は各々１〜３モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。
用いられる溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られる本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
（Org．Syn．Coll．Vol.２,６０４（１９４３），Vol.１,１３６（１９３２）参照）
また、該反応は上記の方法に限らず、溶媒中で目的とする化合物に応じてヨウ化カリウム、臭化銅[Ｉ]、塩化銅[Ｉ]またはホウフッ化水素酸の存在下に、一般式［ＸＩＩ］で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより製造することも可能である（Heterocycles.,38,1581(1994)など参照）。
尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。

（製造法６）
本発明化合物は、一般式［ＸＸＸＩ］

［式中、Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｗ、Ｙ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
で示されるウラシル化合物と、一般式［ＸＸＸＸ］

［式中、Ｒ¹⁸は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表し、Ｒ²は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは２０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＸＩ］で示されるウラシル化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

本発明化合物の製造法で用いられる一般式［ＩＶ］で示される化合物、一般式［ＶＩ］で示されるアルコール化合物、一般式［ＶＩＩＩ］で示されるアルコール化合物および一般式［Ｘ］で示される化合物は、市販のものを用いるか、公知の方法により製造することができる。
一般式［ＶＩＩ］で示されるカルボン酸化合物は、一般式［Ｉ］で示される本発明化合物を酸加水分解することにより製造できる。

本発明化合物の製造法で用いられる製造中間体のいくつかは、例えば下記（中間体製造法１）〜（中間体製造法１９）の製造法にて製造することができる。
（中間体製造法１）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、ＷおよびＹが酸素原子または硫黄原子である化合物（一般式［ＸＩＸ］で示される化合物）、および一般式［ＸＩＶ］で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ¹²は前記と同じ意味を表わし、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁷はそれぞれ独立して酸素原子または硫黄原子を表わし、Ｒ¹⁶はｔ−ブチルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基；ｔ−ブチル基、メチル基等の置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基；ベンジル基等の置換されてもよいベンジル基；メトキシメチル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の保護基を表わす。］

〈工程Ａ１−１〉：一般式［ＸＸＸＸＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＩＶ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＩＶ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＸＩ］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＸＸＩ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）、２）または３）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液を水に注加し、析出した結晶を濾取する。
３）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１−２〉：一般式［ＸＩＶ］で示される化合物から、一般式［ＸＶＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＶＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＩＶ］で示される化合物と一般式［ＸＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−２０〜２００℃であり、好ましくは−５〜８０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＩＶ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＶ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウムの無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を塩酸、飽和食塩水で順次洗浄、乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１−３〉：一般式［ＸＶＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＶＩ］で示される化合物を鉄粉を用いて酸の存在下、溶媒中で還元することにより製造することができる。
反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶＩ］で示される化合物１モルに対して、鉄粉の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後、水に注加し、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
〈工程Ａ１−４〉：一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物は、ｉ）一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
第１段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は通常−２０〜２０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
第２段階の反応は、反応温度の範囲は０〜８０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の量は各々１〜３モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することもできる。
また、該反応は上記の方法に限らず、溶媒（例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物）中、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の存在下に、一般式［ＸＶＩＩ］で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより製造することも可能である。
（Heterocycles.,38,1581(1994)など参照）

〈工程Ａ１−５〉：一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＩＸ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＩＸ］で示される化合物は、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物を、ボロントリブロミド、ＨＢｒ/酢酸、濃塩酸または濃硫酸等を用いて脱保護させることにより、製造することができる。
尚、一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物のうち、Ｒ¹⁶がベンジル基である化合物の場合は、触媒の存在下に水素添加により脱保護させることにより、製造することもできる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。反応温度の範囲は通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜５０℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜４８時間である。
該反応は加圧条件下に行うこともでき、通常１〜５気圧の条件下に反応を行う。
該反応に供される触媒の量は、一般式［ＸＶＩＩＩ］で示される化合物の０．００１〜１００重量％である。
反応に供される触媒としては、無水パラジウム／炭素、含水パラジウム／炭素、酸化白金等があげられる。
溶媒としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、水あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。
該目的物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法２）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、ＷがＮＨである化合物（一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷、Ｙ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
〈工程Ａ２−１〉：一般式［ＸＸ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸ］で示される化合物と一般式［ＸＸＩ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＩ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒の添加により反応が加速されることがある。
反応に供される触媒の量は、一般式［ＸＸ］で示される化合物１モルに対して、０．０００１〜０．１モルの割合が好ましいが、反応の状況により任意に変化させることができる。
触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
〈工程Ａ２−２〉：一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物は、例えば一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄粉にて還元することにより製造することができる。
反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＩＩ］で示される化合物１モルに対して、鉄粉の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。
溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法３）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、Ｗが酸素原子である化合物（一般式［Ｖ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により、製造することもできる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｙ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
一般式［Ｖ］で示される化合物は、ｉ）一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物をジアゾ化剤と溶媒中で反応させた後、ｉｉ）引き続き、酸性溶媒中で加熱するか、あるいは、銅触媒存在下、銅塩を作用させることにより製造することができる。
第１段階の反応は、反応温度の範囲は通常−２０〜１０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、塩酸、臭化水素酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
第２段階の酸性溶媒中で加熱する反応は、反応温度の範囲は６０℃〜加熱還流であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜４８時間である。
酸性溶媒としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸水溶液等が挙げられる。
反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することができる。
第２段階の銅触媒の存在下、銅塩を作用させる反応は、溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０℃〜加熱還流であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して、銅触媒の量は０．００１〜５モルの割合であり、銅塩の量は１〜１００モルであるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる銅触媒としては、酸化銅（Ｉ）等があげられ、銅塩としては、硫酸銅（II）、硝酸銅（II）等が挙げられる。
溶媒としては、例えば水、塩酸、硫酸等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することができる。

（中間体製造法４）
一般式［ＩＸ］で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷、Ｘ²およびＸ¹¹は、前記と同じ意味を表す。］
一般式［ＩＸ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＩＶ］で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、引き続きハロゲン化剤と反応させることにより製造することができる。
＜第一段階（ジアゾ化反応）＞
反応温度：−２０〜２０℃
反応時間：瞬時〜５時間
ジアゾ化剤の量：一般式［ＸＸＩＶ］で示される化合物１モルに対して１モル〜過剰量
ジアゾ化剤：亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等
溶媒：アセトニトリル、塩酸等
＜第二段階＞
反応温度：０〜８０℃
反応時間：瞬時〜２４時間
ハロゲン化剤の量：一般式［ＸＸＩＶ］で示される化合物１モルに対して１〜３モル
ハロゲン化剤：ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸等
溶媒：アセトニトリル、塩酸等
該反応は溶媒中、ハロゲン化剤の存在下に、一般式［ＸＸＩＶ］で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより製造することも可能である。
反応温度：０〜８０℃
反応時間：瞬時〜４８時間
ジアゾ化剤の量：一般式［ＸＸＩＶ］で示される化合物１モルに対して１モル〜過剰量
ジアゾ化剤：亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等
ハロゲン化剤の量：一般式［ＸＸＩＶ］で示される化合物１モルに対して１〜３モル
ハロゲン化剤：ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸等
溶媒：アセトニトリル等
尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。

（中間体製造法５）
一般式［Ｘ］で示される化合物のうち、Ｗが酸素原子または硫黄原子である化合物（一般式［ＸＸＶＩ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ¹⁵、Ｙ、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
一般式［ＸＸＶＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＶ］で示される化合物と一般式［ＩＶ］で示される化合物とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
反応温度：０〜２００℃
反応時間：瞬時〜７２時間
一般式［ＩＶ］で示される化合物の量：一般式［ＸＸＶ］で示される化合物１モルに対して１〜３モル
塩基の量：一般式［ＸＸＶ］で示される化合物１モルに対して１〜３モル
塩基：トリエチルアミン、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等
溶媒：テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メタノール、水等あるいはそれらの混合物

（中間体製造法６）
一般式［Ｘ］で示される化合物のうち、Ｙが酸素原子または硫黄原子である化合物（一般式［ＸＸＸ］で示される化合物）は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｗ、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］

〈工程Ａ６−１〉：一般式［ＸＸＶＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＶＩＩ］で示される化合物と塩化ｔ−ブチルジメチルシリル、イソブテン、塩化ベンジル、臭化ベンジル等とを反応させることにより製造できる。（Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）参照）
〈工程Ａ６−２〉：一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物と一般式［ＩＶ］で示される化合物とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
反応温度：０〜２００℃
反応時間：瞬時〜７２時間
一般式［ＩＶ］で示される化合物の量：一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して１〜３モル
塩基の量：一般式［ＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して１〜３モル
塩基：トリエチルアミン、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等
溶媒：テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メタノール、水等あるいはそれらの混合物
〈工程Ａ６−３〉：一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸ］で示される化合物は、「有機化学実験の手引き」４巻（化学同人社刊）、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物を脱保護することにより製造することができる。
一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物のうち、Ｒ¹⁸がｔ−ブチルジメチルシリル基等のシリル基である化合物は、トリフルオロ酢酸またはテトラブチルアンモニウフルオリド等を、塩化メチレン、酢酸エチルまたは水等の溶媒中にて反応させることによる。
一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物のうち、Ｒ¹⁸がベンジル基等の置換されてもよいベンジル基である化合物は、触媒の存在下に水素と反応することによる。
反応温度：−２０〜１５０℃、好ましくは０〜５０℃
反応時間：瞬時〜４８時間
触媒の量：一般式［ＸＸＩＸ］で示される化合物１モルに対して、０．００１〜１００重量％
触媒：無水パラジウム／炭素、含水パラジウム／炭素、酸化白金等
溶媒：酢酸、酢酸エチル、メタノール等

（中間体製造法７）
一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物のうち、Ｙが酸素原子または硫黄原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷、Ｒ¹⁷、Ｗ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表し、Ｒ¹⁸はＣ１〜Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）またはフェニル基を表し、Ｒ¹⁹はＣ１〜Ｃ６アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）を表す。］
〈工程Ａ７−１〉：一般式［ＸＸＸＶＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＶＩ］で示される化合物を、一般式［ＸＸＸＶＩＩ］で示される化合物に変換した後に、一般式［ＸＸＸＶＩＩＩ］で示される化合物と反応させることにより、製造することができる。（バイオオルガニック アンド メディシナル ケミストリー レターズ ５巻、１０３５ページ、（１９９５）参照）
〈工程Ａ７−２〉：一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物から特開昭６３−４１４６６号公報等に記載の公知の方法に準じた方法により製造することが出来る。
具体的には、一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物を溶媒中または無溶媒にて、イソシアネート化させることにより一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物を製造することができる。
イソシアネート化剤：ホスゲン、トリクロロメチルクロロホルメート、オキザリルクロライド等
イソシアネート化剤の量：一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物１モルに対して１モル〜過剰量の割合
溶媒：ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類等
反応温度：室温〜還流温度
反応時間：瞬時〜４８時間
反応終了後は、反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的物を得ることができる。該化合物は再結晶等の操作によって精製することもできる。
〈工程Ａ７−３〉：一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物から特開昭６３−４１４６６号公報等に記載の公知の方法に準じた方法により製造することが出来る。
具体的には、一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物と一般式［ｂ−４］

［式中、Ｒ¹⁸およびＸ¹²は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物を製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われるが、無溶媒でも行われる。反応温度の範囲は−２０〜２００℃の範囲である。反応温度の範囲は瞬時〜４８時間である。
該反応に供される一般式［ｂ−４］で示される化合物の量は、一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは１．０〜１．２モルの割合である。
該反応に供される塩基の量は、一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは１．０〜１．２モルの割合である。
塩基としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基があげられる。
溶媒としては、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエ−テル類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、水あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ７−４〉：一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物とから特開昭６３−４１４６６号公報等に記載の公知の方法に準じた方法により製造することが出来る。
具体的には、一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物とを溶媒中、塩基の存在下に反応させることにより一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物を製造することができる。
一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物の量：一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して０．９〜１０モルの割合
塩基の種類：水素化ナトリウム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド類等
塩基の量：一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示される化合物１モルに対して０．１〜１０モルの割合
溶媒：ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物およびそれら混合物等
反応温度：−４０℃〜溶媒還流温度
反応時間：瞬時〜７２時間
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液に酸を注加して生じた結晶を濾取するか、反応液に酸を注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。加える酸としては、塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、あるいはそれらの水溶液等があげられる。
得られた一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物は、単離等の後処理を行うことなく、（製造法６）記載の方法に準じて一般式［ＸＸＸＸ］で示される化合物と反応させることにより、本発明化合物を製造することもできる。

〈工程Ａ７−５〉：一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物から、一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物を製造する工程
一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物は、一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物から特開昭６３−４１４６６号公報等に記載の公知の方法に準じた方法により製造することが出来る。
具体的には、一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物を製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−２０〜２００℃であり、好ましくは０〜１３０℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜７２時間である。
該反応に供される一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物の量は、一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２モルの割合である。
該反応に供される塩基の量は、一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物に対して０．５当量〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２当量の割合である。
塩基としては、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシドがあげられる。
溶媒としては、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液に酸を注加して生じた結晶を濾取するか、反応液に酸を注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。加える酸としては、塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、あるいはそれらの水溶液等があげられる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。
得られた一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化合物は、単離等の後処理を行うことなく、（製造法６）記載の方法に準じて一般式［ＸＸＸＸ］で示される化合物と反応させることにより、本発明化合物を製造することもできる。

（中間体製造法８）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、 ＹおよびＷが酸素原子または硫黄原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表し、Ｒ²⁰はメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等の置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ²⁶はメチル基、エチル基等の置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、フェニル基等の置換されてもよいフェニル基またはベンジル基等の置換されてもよいフェニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、Ｘ¹³はニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。］

〈工程Ａ８−１〉：一般式［ａ−１］で示される化合物から、一般式［ａ−２］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２］で示される化合物は、例えば「有機化学実験の手引き」４巻（化学同人社刊）、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ａ−１］で示される化合物を脱保護させることにより、または以下に記載の方法により製造することが出来る。
反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１］で示される化合物１モルに対して、試剤は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。用いられる試剤としては、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素メタノール錯体、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタノール等のアルコール類あるいはそれらの混合物等が挙げられる。
反応終了後は、反応液を水に注加し、析出した結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得ることができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって精製することもできる。

〈工程Ａ８−２〉：一般式［ａ−２］で示される化合物から、一般式［ａ−３］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−３］で示される化合物は、一般式［ａ−２］で示される化合物と一般式［ｂ−１］

［式中、 Ｒ²⁶およびＸ¹²は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行うが、無溶媒でも行うことができる。反応温度の範囲は−２０〜２００℃の範囲である。反応温度の範囲は瞬時〜４８時間である。
該反応に供される一般式［ｂ−１］で示される化合物の量は、一般式［ａ−２］で示される化合物１モルに対して、０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは１．０〜１．２モルの割合である。
該反応に供される塩基の量は、一般式［ａ−２］で示される化合物に対して０．５当量〜過剰量の割合であり、好ましくは１．０〜１．２当量の割合である。
塩基としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基があげられる。
溶媒としては、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエ−テル類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、水あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的化合物を得ることができる。尚、該目的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ８−３〉：一般式［ａ−３］で示される化合物から、一般式［ａ−５］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−５］で示される化合物は、一般式［ａ−３］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−２０〜２００℃であり、好ましくは０〜１３０℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜７２時間である。
該反応に供される一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物の量は、一般式［ａ−３］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２モルの割合である。
該反応に供される塩基の量は、一般式［ａ−３］で示される化合物に対して０．５当量〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２当量の割合である。
塩基としては、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシドがあげられる。
溶媒としては、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液に酸を注加して生じた結晶を濾取するか、反応液に酸を注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。その際に使用する酸としては、塩化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、あるいはそれらの水溶液等があげられる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。なお、一般式［ａ−５］で示される化合物は、単離することなくそのまま次工程の反応に供することもできる。

〈工程Ａ８−４〉：一般式［ａ−２］で示される化合物から、一般式［ａ−４］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−４］で示される化合物は、一般式［ａ−２］で示される化合物を溶媒中、または無溶媒にて、イソシアネート化剤と反応させることにより、イソシアネート化することにより製造することができる。
イソシアネート化剤：ホスゲン、トリクロロメチルクロロホルメート、オキザリルクロライド等
イソシアネート化剤の量：一般式［ａ−２］で示される化合物１モルに対して１モル〜過剰量の割合
溶媒：ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類等
反応温度：室温〜還流温度
反応時間：瞬時〜４８時間
反応終了後の反応液は、反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的物を得ることができる。該化合物は再結晶等の操作によって精製することもできる。

〈工程Ａ８−５〉：一般式［ａ−４］で示される化合物から、一般式［ａ−５］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−５］で示される化合物は、一般式［ａ−４］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物とを溶媒中、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物の量：一般式［ａ−４］で示される化合物１モルに対して０．９〜１０モルの割合
塩基の種類：水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド類等
塩基の量：一般式［ａ−４］で示される化合物１モルに対して０．１〜１０モルの割合
溶媒：ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物およびそれら混合物等
反応温度：−４０℃〜溶媒還流温度
反応時間：瞬時〜７２時間
反応終了後の反応液は、中和した後に水に注加し、析出した結晶を濾取し乾燥するか、有機溶媒にて抽出し該有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは、反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得ることができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって精製することもできる。
なお、一般式［ａ−５］で示される化合物は、単離することなくそのまま次工程の反応に供することもできる。

〈工程Ａ８−６〉：一般式［ａ−５］で示される化合物から、一般式［ａ−６］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−６］で示される化合物は、一般式［ａ−５］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＸ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−２０〜２００℃であり、好ましくは０〜１００℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜４８時間である。
該反応に供される化合物［ＸＸＸＸ ］の量は、一般式［ａ−５］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２モルの割合である。
該反応に供される塩基の量は、一般式［ａ−５］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２モルの割合である。
塩基としては、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等があげられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ８−７〉：一般式［ａ−６］で示される化合物から、一般式［ａ−７］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−７］で示される化合物は、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ａ−６］で示される化合物を、ボロントリブロミド、ＨＢｒ/酢酸、濃塩酸または濃硫酸等を用いて脱保護させることにより、製造することができる。
尚、一般式［ａ−６］で示される化合物のうち、Ｒ¹⁶がベンジル基である化合物の場合は、触媒の存在下に水素添加により脱保護させることにより、製造することもできる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。反応温度の範囲は通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜５０℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜４８時間である。
該反応は加圧条件下に行うこともでき、通常１〜５気圧の条件下に反応を行う。
該反応に供される触媒の量は、一般式［ａ−６］で示される化合物の０．００１〜１００重量％である。
反応に供される触媒としては、無水パラジウム／炭素、含水パラジウム／炭素、酸化白金等があげられる。
溶媒としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、水あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。
該目的物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法９）
一般式［ａ−１］で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ⁷、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁰、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ¹²は前記と同じ意味を表す。］

〈工程Ａ９−１〉：一般式［ａ−８］で示される化合物から、一般式［ａ−９］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−９］で示される化合物は、一般式［ａ−８］で示される化合物と一般式［ＸＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−８］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＶ］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ９−２〉：一般式［ａ−９］で示される化合物から、一般式［ａ−１０］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１０］で示される化合物は、例えば一般式［ａ−９］で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄粉にて還元することにより製造することができる。
該反応の、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−９］で示される化合物１モルに対して、鉄粉の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ９−３〉：一般式［ａ−１０］で示される化合物から、一般式［ａ−１１］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１１］で示される化合物は、ｉ）一般式［ａ−１０］で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
第１段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は−２０〜２０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１０］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
第２段階の反応は、反応温度の範囲は０〜８０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１０］で示される化合物１モルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の量は各々１〜３モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することもできる。
また、該反応は上記の方法に限らず、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の存在下に、溶媒（例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物）中、一般式［ａ−１０］で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより、製造することも可能である。

（中間体製造法１０）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、Ｘ¹がニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、ＹおよびＷが酸素原子または硫黄原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷、Ｒ¹⁷、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ¹²は前記と同じ意味を表す。］

〈工程Ａ１０−１〉：一般式［ＸＩＶ］で示される化合物から、一般式［ａ−１２］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１２］で示される化合物は、一般式［ＸＩＶ］で示される化合物と一般式［ｂ−２］

［式中、Ｒ¹⁷、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ＸＩＶ］で示される化合物１モルに対して、一般式［ｂ−２］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１０−２〉：一般式［ａ−１２］で示される化合物から、一般式［ａ−１３］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１３］で示される化合物は、例えば一般式［ａ−１２］で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄粉にて還元することにより製造することができる。
該反応の、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１２］で示される化合物１モルに対して、鉄粉の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和、乾燥および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１０−３〉：一般式［ａ−１３］で示される化合物から、一般式［ａ−１４］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１４］で示される化合物は、ｉ）一般式［ａ−１３］で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
第１段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は−２０〜２０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１３］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
第２段階の反応は、反応温度の範囲は０〜８０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１３］で示される化合物１モルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の量は各々１〜３モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することもできる。
また、該反応は上記の方法に限らず、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の存在下に、溶媒（例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物）中、一般式［ａ−１３］で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより、製造することも可能である。

（中間体製造法１１）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、ＹおよびＷが酸素原子ある化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ²⁰、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は前記と同じ意味を表す。］

〈工程Ａ１１−１〉：一般式［ａ−１５］で示される化合物から、一般式［ａ−１６］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１６］で示される化合物は、例えば「有機化学実験の手引き」４巻（化学同人社刊）、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ａ−１５］で示される化合物を脱保護させることにより、または以下に記載の方法により製造することが出来る。
反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１５］で示される化合物１モルに対して、試剤は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。用いられる試剤としては、三フッ化ホウ素メタノール錯体、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタノール等のアルコール類あるいはそれらの混合物等が挙げられる。
反応終了後は、反応液を水に注加し、析出した結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得ることができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって精製することもできる。

〈工程Ａ１１−２〉：一般式［ａ−１６］で示される化合物から、一般式［ａ−１７］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１７］で示される化合物は、一般式［ａ−１６］で示される化合物を溶媒中、または無溶媒でイソシアネート化剤と反応させることによりイソシアネート化させることにより製造することができる。
イソシアネート化剤：ホスゲン、トリクロロメチルクロロホルメート、オキザリルクロライド等
イソシアネート化剤の量：一般式［ａ−１６］で示される化合物１モルに対して１モル〜過剰量の割合
溶媒：ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類等
反応温度：室温〜還流温度
反応時間：瞬時〜４８時間
反応終了後は、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的物を得ることができる。該化合物は再結晶等の操作によって精製することもできる。

〈工程Ａ１１−３〉：一般式［ａ−１７］で示される化合物から、一般式［ａ−１８］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−１８］で示される化合物は、一般式［ａ−１７］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物とを溶媒中、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
一般式［ＸＸＸＶ］で示される化合物の量：一般式［ａ−１７］で示される化合物１モルに対して０．９〜１０モルの割合
塩基の種類：水素化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド類等
塩基の量：一般式［ａ−１７］で示される化合物１モルに対して０．１〜１０モルの割合
溶媒：ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、およびそれら混合物等
反応温度：−４０℃〜溶媒還流温度
反応時間：瞬時〜７２時間
反応終了後は、中和し、反応液を水に注加し、析出した結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得ることができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって精製することもできる。
なお、一般式［ａ−１８］で示される化合物は、単離することなくそのまま次工程の反応に供することもできる。

〈工程Ａ１１−４〉：一般式［ａ−１８］で示される化合物から、一般式［ａ−２９］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２９］で示される化合物は、一般式［ａ−１８］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＸ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−２０〜２００℃であり、好ましくは０〜１００℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜４８時間である。
該反応に供される化合物［ＸＸＸＸ］の量は、一般式［ａ−１８］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２モルの割合である。
該反応に供される塩基の量は、一般式［ａ−１８］で示される化合物１モルに対して０．５モル〜過剰量の割合であり、好ましくは０．８〜１．２モルの割合である。
塩基としては、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基があげられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法１２）
一般式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物のうち、Ｘ¹がニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁰、Ｗ、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、Ｘ¹²およびＸ¹³は前記と同じ意味を表す。］

〈工程Ａ１２−１〉：一般式［ａ−１９］で示される化合物から、一般式［ａ−２０］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２０］で示される化合物は、一般式［ａ−１９］で示される化合物と一般式［ｂ−３］

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁷、Ｗ、Ｙ、Ｘ³、Ｘ⁴およびｎは、前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−１９］で示される化合物１モルに対して、一般式［ｂ−３］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒を使用することにより反応が加速されることがある。触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられ、反応に供される触媒の量は、一般式［ａ−１９］で示される化合物１モルに対して、０．０００１〜０．１モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１２−２〉：一般式［ａ−２０］で示される化合物から、一般式［ａ−２１］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２１］で示される化合物は、例えば一般式［ａ−２０］で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄粉にて還元することにより製造することができる。
該反応の、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２０］で示される化合物１モルに対して、鉄粉の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和、乾燥および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１２−３〉：一般式［ａ−２１］で示される化合物から、一般式［ａ−２２］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２２］で示される化合物は、ｉ）一般式［ａ−２１］で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
第１段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は−２０〜２０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２１］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
第２段階の反応は、反応温度の範囲は０〜８０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２１］で示される化合物１モルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の量は各々１〜３モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することもできる。
また、該反応は上記の方法に限らず、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）（または臭化銅（ＩＩ）との混合物）、塩化銅（Ｉ）（または塩化銅（ＩＩ）との混合物）またはホウフッ化水素酸の存在下に、溶媒（例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物）中、一般式［ａ−２１］で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより、製造することも可能である。

〈工程Ａ１２−４〉：一般式［ａ−２２］で示される化合物から、一般式［ａ−２３］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２３］で示される化合物は、例えば「有機化学実験の手引き」４巻（化学同人社刊）、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ａ−２２］で示される化合物を脱保護させることにより、または以下に記載の方法により製造することが出来る。
反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２２］で示される化合物１モルに対して、試剤は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。用いられる試剤としては、三フッ化ホウ素メタノール錯体、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタノール等のアルコール類あるいはそれらの混合物等が挙げられる。
反応終了後は、反応液を水に注加し、析出した結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得ることができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって精製することもできる。

〈工程Ａ１２−５〉：一般式［ａ−２０］で示される化合物から、一般式［ａ−２３］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２３］で示される化合物のうち、 Ｘ¹³がニトロ基である化合物は、例えば一般式［ａ−２０］で示される化合物から〈工程Ａ１２−４〉に記載の方法に準じて製造することができる。

（中間体製造法１３）
一般式［ＸＸＸＩＶ］で示される化合物、および一般式［ａ−１５］で示される化合物のうち、Ｘ¹がニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である化合物、一般式［ａ−２０］で示される化合物、および一般式［ａ−２２］で示される化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷、Ｒ¹⁷、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、Ｘ¹²およびＸ¹³は前記と同じ意味を表し、Ｒ²⁵はメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等の置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはフェノキシ基等の置換されてもよいフェノキシ基を表す。］

〈工程Ａ１３−１〉：一般式［ａ−２４］で示される化合物から、一般式［ａ−２５］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２５］で示される化合物は、一般式［ａ−２４］で示される化合物と一般式［ｂ−２］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２４］で示される化合物１モルに対して、一般式［ｂ−２］で示される化合物は１モルの割合、塩基は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、触媒を使用することにより反応が加速されることがある。触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられ、反応に供される触媒の量は、一般式［ａ−２４］で示される化合物１モルに対して、０．０００１〜０．１モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１３−２〉：一般式［ａ−２５］で示される化合物から、一般式［ａ−２６］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２６］で示される化合物は、例えば一般式［ａ−２５］で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄粉にて還元することにより製造することができる。
該反応の、反応温度の範囲は０〜２００℃であり、好ましくは室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２５］で示される化合物１モルに対して、鉄粉の量は３モル〜過剰量の割合、酸は１〜１０モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和、乾燥および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１３−３〉：一般式［ａ−２６］で示される化合物から、一般式［ａ−２７］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２７］で示される化合物は、ｉ）一般式［ａ−２６］で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、ｉｉ）引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
第１段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は−２０〜２０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜５時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２６］で示される化合物１モルに対して、ジアゾ化剤の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。
第２段階の反応は、反応温度の範囲は０〜８０℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２６］で示される化合物１モルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の量は各々１〜３モルの割合であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、（必要に応じて水を加えて）生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製することもできる。
また、該反応は上記の方法に限らず、ヨウ化カリウム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）またはホウフッ化水素酸の存在下に、溶媒（例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物）中、一般式［ａ−２６］で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより、製造することも可能である。尚、臭化銅[Ｉ]を用いる場合は、臭化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[Ｉ]を用いる場合は、塩化銅[ＩＩ]の存在下に反応を行うこともできる。

〈工程Ａ１３−４〉：一般式［ａ−２７］で示される化合物から、一般式［ａ−２８］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２８］で示される化合物は、一般式［ａ−２７］で示される化合物と一般式［ＩＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜２００℃、反応時間の範囲は通常瞬時から７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２７］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＩＶ］で示される化合物は１モルの割合、塩基の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１３−５〉：一般式［ａ−２５］で示される化合物から、一般式［ａ−２８］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−２８］で示される化合物のうち、 Ｘ¹³がニトロ基である化合物は、例えば一般式［ａ−２５］で示される化合物と一般式［ＩＶ］で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜２００℃、反応時間の範囲は通常瞬時から７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−２５］で示される化合物１モルに対して、一般式［ＩＶ］で示される化合物は１モルの割合、塩基の量は１モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後は、例えば、以下の１）または２）に示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができる。
１）反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する。
２）反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じて濾過し、該濾液を濃縮する。
なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法１４）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうち、Ｗが酸素原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁶、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＹは前記と同じ意味を表し、 Ｒ²³はホルミル基、アセチル基等の置換されてもよいアルキルカルボニル基、またはメトキシカルボニル基等の置換されてもよいアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ²⁴は水素原子、メチル基等の置換されてもよいアルキル基またはメトキシ基等の置換されてもよいアルコキシ基を表す。］

（中間体製造法１５）
一般式［ＩＩＩ］で示される化合物のうちＸ⁴が水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁶、Ｒ¹⁶、Ｗ、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ¹²およびＹは前記と同じ意味を表す。］

（中間体製造法１６）
一般式［ａ−２５］および［ａ−２７］で示される化合物のうち、Ｒ²⁵がＲ²⁰基である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することもできる。

［式中、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁰、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ¹³は前記と同じ意味を表す。］
一般式［ａ−４２］で示される化合物は、Protective Groups in Organic Synthesis（A Wiley-Interscience publication社刊）に記載の方法に準じて、一般式［ａ−４１］で示される化合物を、ボロントリブロミド、ＨＢｒ/酢酸、濃塩酸または濃硫酸等を用いて脱保護させることにより、製造することができる。
試剤の量：化合物［ａ−４１］１モルに対して１当量〜過剰量の割合
溶媒：ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類等、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応温度：−２０℃〜還流温度
反応時間：瞬時〜４８時間
反応終了後は、反応液を水に注加し、もしくは反応液に濃塩酸等の酸を注加し、析出した結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得ることができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって精製することもできる。
なお、一般式［ａ−４１］で示される化合物のうち、Ｒ¹⁶が置換されてもよいベンジル基である化合物の場合は、触媒の存在下に水素添加することにより、製造することもできる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。反応温度の範囲は通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜５０℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜４８時間である。
該反応は加圧条件下に行うこともでき、１〜５気圧の条件下に反応を行うことが好ましい。
該反応に供される触媒の量は、化合物［ａ−４１］の０．００１〜１００重量％である。
反応に供される触媒としては、無水パラジウム／炭素、含水パラジウム／炭素、酸化白金等があげられる。
溶媒としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ｔ―アミルアルコール等のアルコール類、水あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法１７）
一般式［ＸＸＸＩ］で示される化合物のうち、Ｙが酸素原子または硫黄原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造することができる。

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁷、Ｗ、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ¹³は前記と同じ意味を表し、Ｒ¹¹はＣ１−Ｃ３ペルフルオロアルキル基を表す。］

〈工程Ａ１７−１〉：一般式［ａ−４３］で示される化合物から、一般式［ａ−４４］で示される化合物（条件によっては、一般式［ａ−４４］で示される化合物に水が結合した一般式［ａ−４５］で示されるハイドレートとして得られる場合もある）を製造する工程
一般式［ａ−４４］で示される化合物は、一般式［ａ−４３］で示される化合物と一般式［ａ−４９］

［式中、Ｒ¹¹およびＲ²⁶は前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物とを、溶媒中または無溶媒にて反応させることにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常室温〜１５０℃または使用する溶媒の沸点である。また、副生するアルコール（メタノール、エタノール等）を反応系中より除去することにより、反応速度を上げることも可能である。
該反応に供される一般式［ａ−４９］で示される化合物の量は、一般式［ａ−４３］で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜５モルの割合である。
用いられる溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を濃塩酸等の酸、または水に注加した後に有機溶媒抽出、水洗浄、乾燥および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的化合物を得ることができる。尚、該目的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

〈工程Ａ１７−２〉：一般式［ａ−４４］で示される化合物から、一般式［ａ−４８］で示される化合物を製造する工程
一般式［ａ−４８］で示される化合物は、一般式［ａ−４４］で示される化合物とシアン酸塩とを、プロトン酸の存在下に５５℃〜１５０℃にて反応させることにより製造することができる。
該反応に供されるシアン酸塩としては、シアン酸カリウム、シアン酸ナトリウム等が挙げられ、該反応に供される酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の脂肪族カルボン酸類、安息香酸等の芳香族カルボン酸類、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸類、塩酸、硫酸等の無機酸類、フェニルホウ酸等のホウ酸等が挙げられる。
該反応に供されるシアン酸塩の量は、一般式［ａ−４４］で示される化合物１モルに対して、１モル〜１０モルの割合であり、好ましくは１〜２モルの割合である。該反応に供される酸の量は、一般式［ａ−４４］で示される化合物１モルに対して、１．１モル〜大過剰量の割合である。
該反応は溶媒を用いることも可能であり、溶媒としては例えばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、１，２−ジクロロエタン、１，２，３−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、通常３０分〜１００時間にて完結する。該反応は好ましくは、まず初めに反応混合物を−２０℃〜５０℃にて熟成した後に、５５℃〜１５０℃にて反応混合物中の一般式［ａ−４４］で示される化合物の大部分が消失するまで熟成することにより行われる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法１８）

［式中、Ｒ¹、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁷前記と同じ意味を表し、Ｒ²⁷はｔ−ブチルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基；ｔ−ブチル基、イソプロピル基、メチル基等の置換されてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基；ベンジル基等の置換されてもよいベンジル基；メトキシメチル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の保護基を表わし、Ｒ²⁸は水素原子またはメチル基、エチル基等のＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｘ²¹は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｘ²²は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｍは銅（Ｉ）等の１価の金属を表す。］
一般式［ａ−５１］で示される化合物は、一般式［ａ−５０］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＸＩＶ］で示されるシアン化金属塩とを反応することにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常１４０℃〜２５０℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
該反応に供される一般式［ＸＸＸＸＩＶ］で示されるシアン化金属塩としては、シアン化銅が挙げられる。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−５０］で示される化合物で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸＩＶ］で示されるシアン化金属塩の量は１モル〜過剰量の割合であり、好ましくは１〜２モルであるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
該反応において用いることのできる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出、水洗浄、乾燥および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的化合物を得ることができる。尚、該目的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

（中間体製造法１９）

［式中、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁵、Ｒ²⁷、Ｘ²¹、Ｘ²²およびＭは前記と同じ意味を表す。］
一般式［ａ−５３］で示される化合物は、例えば一般式［ａ−５２］で示される化合物と一般式［ＸＸＸＸＩＶ］で示されるシアン化金属塩とを反応することにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常１４０℃〜２５０℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。
該反応に供される一般式［ＸＸＸＸＩＶ］で示されるシアン化金属塩としては、シアン化銅が挙げられる。
反応に供される試剤の量は、一般式［ａ−５２］で示される化合物で示される化合物１モルに対して、一般式［ＸＸＸＸＩＶ］で示されるシアン化合物の量は１モル〜過剰量の割合であり、好ましくは１〜２モルであるが、反応の状況により任意に変化させることができる。
該反応において用いることのできる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出、水洗浄、乾燥および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的化合物を得ることができる。尚、該目的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することも可能である。

一般式［ＸＸＸＸＩＩ］で示される化合物は、例えば、国際特許出願公開明細書ＷＯ９８／０８８２４号に記載されているか、同公報に記載の方法に準じて製造することができ、一般式［ＸＸＸＸＩ］で示される化合物、一般式［ＸＸＩ］で示される化合物、一般式［ＸＸＩＶ］で示される化合物，一般式［ＸＸ］で示される化合物および一般式［ＸＸＶ］で示される化合物は市販のものを用いるか、または公知の方法により製造することができる。

本発明化合物は、優れた除草効力を有し、かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。すなわち本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
アカバナ科雑草：オオマツヨイグサ（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａ ｅｒｙｔｈｒｏｓｅｐａｌａ）、コマツヨイグサ（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａ ｌａｃｉｎｉａｔａ）
キンポウゲ科雑草：トゲミノキツネノボタン（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ ｍｕｒｉｃａｔｕｓ）、イボミキンポウゲ（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ ｓａｒｄｏｕｓ）
タデ科雑草：ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｌａｐａｔｈｉｆｏｌｉｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、ハルタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｐｅｒｓｉｃａｒｉａ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、イタドリ（Ｐｏｌｉｇｏｎｕｍ ｃｕｓｐｉｄａｔｕｍ）
スベリヒユ科雑草：スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ ｏｌｅｒａｃｅａ）
ナデシコ科雑草：ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ ｍｅｄｉａ）、オランダミミナグサ（Ｃｅｒａｓｔｉｕｍ ｇｌｏｍｅｒａｔｕｍ）
アカザ科雑草：シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ ａｌｂｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ ｓｃｏｐａｒｉａ）
ヒユ科雑草：アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｈｙｂｒｉｄｕｓ）
アブラナ科雑草：ワイルドラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓ ｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ ｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）、マメグンバイナズナ（Ｌｅｐｉｄｉｕｍ ｖｉｒｇｉｎｉｃｕｍ）

マメ科雑草：アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ ｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、フロリダベガ−ウィ−ド（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ ｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ ｒｅｐｅｎｓ）、オオカラスノエンドウ（Ｖｉｃｉａ ｓａｔｉｖａ）、コメツブウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ ｌｕｐｕｌｉｎａ）
アオイ科雑草：イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａ ｓｐｉｎｏｓａ）
スミレ科雑草：フィ−ルドパンジ−（Ｖｉｏｌａ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジ−（Ｖｉｏｌａ ｔｒｉｃｏｌｏｒ）
アカネ科雑草：ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ ａｐａｒｉｎｅ）
ヒルガオ科雑草：アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｐｕｒｐｕｒｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ ｖａｒ ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｌａｃｕｎｏｓａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）

シソ科雑草：ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ ｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ ａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）
ナス科雑草：シロバナチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ ｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｎｉｇｒｕｍ）
ゴマノハグサ科雑草：オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｐｅｒｓｉｃａ）、タチイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｈｅｄｅｒａｅｆｏｌｉａ）
キク科雑草：オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｐｅｒｆｏｒａｔａ ｏｒ ｉｎｏｄｏｒａ）、コ−ンマリ−ゴ−ルド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ ｓｅｇｅｔｕｍ）、コシカギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ａｒｔｅｍｉｓｉｉｆｏｌｉａ）、オオブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ｔｒｉｆｉｄａ）、ヒメムカシヨモギ（Ｅｒｉｇｅｒｏｎ ｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ ｐｒｉｎｃｅｐｓ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ ａｌｔｉｓｓｉｍａ）、セイヨウタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ ｏｆｆｉｃｉｎａｌｅ）
ムラサキ科雑草：ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）
ガガイモ科雑草：オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓ ｓｙｒｉａｃａ）
トウダイグサ科雑草：トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ ｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ ｍａｃｕｌａｔａ）
フウロソウ科雑草：アメリカフウロ（Ｇｅｒａｎｉｕｍ ｃａｒｏｌｉｎｉａｎｕｍ）

カタバミ科雑草：ムラサキカタバミ（Ｏｘａｌｉｓ ｃｏｒｙｍｂｏｓａ）
ウリ科雑草：アレチウリ（Ｓｉｃｙｏｓ ａｎｇｕｌａｔｕｓ）
イネ科雑草：イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｆａｂｅｒｉ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ ｓａｎｇｕｉｎａｌｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ ｉｎｄｉｃａ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａ ａｎｎｕａ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａ ｆａｔｕａ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ ｒｅｐｅｎｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ ｔｅｃｔｏｒｕｍ）、ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎｅ ｄａｃｔｙｌｏｎ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ ｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍ ｔｅｘａｎｕｍ）、シャタ−ケ−ン（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｇｅｎｉｃｕｌａｔｕｓ）
ツユクサ科雑草：ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
トクサ科雑草：スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍ ａｒｖｅｎｓｅ）
カヤツリグサ科雑草：コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｉｒｉａ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）

しかも、本発明化合物のあるものは、トウモロコシ（Ｚｅａ ｍａｙｓ）、コムギ（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ａｅｓｔｉｖｕｍ）、オオムギ（Ｈｏｒｄｅｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）、イネ（Ｏｒｙｓａ ｓａｔｉｖａ）、ソルガム（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｂｉｃｏｌｏｒ）、ダイズ（Ｇｌｙｃｉｎｅ ｍａｘ）、ワタ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｓｐｐ．）、テンサイ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ）、ピ−ナッツ（Ａｒａｃｈｉｓ ｈｙｐｏｇａｅａ）、ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）、ナタネ（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｎａｐｕｓ）等の主要作物、花卉、蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さない。また、本発明化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草する事ができる。しかも、本発明化合物中のあるものは、作物に対しては問題となるような薬害を示さない。

また本発明化合物は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
イネ科雑草：タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）
ゴマノハグサ科雑草：アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）
ミソハギ科雑草：キカシグサ（Ｒｏｔａｌａ ｉｎｄｉｃａ）、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ ｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）
ミゾハコベ科雑草：ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅ ｔｒｉａｎｄｒａ）
カヤツリグサ科雑草：タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、マツバイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）
ミズアオイ科雑草：コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ ｖａｇｉｎａｌｉｓ）
オモダカ科雑草：ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｐｙｇｍａｅａ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ）、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａ ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）
ヒルムシロ科雑草：ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）
セリ科雑草：セリ（Ｏｅｎａｎｔｈｅ ｊａｖａｎｉｃａ）
しかも本発明化合物中のあるものは、移植水稲に対して問題となるような薬害を示さない。

さらに、本発明化合物は、例えば、堤防ののり面、河川敷、道路の路肩及びのり面、鉄道敷、公園緑地、グランド、駐車場、空港、工場および貯蔵設備等の工業施設用地、休耕地、あるいは、市街の有休地等の雑草の生育を制御する必要のある非農耕地、あるいは、樹園地、牧草地、芝生地、林業地等に発生する広範囲の雑草を除草できる。また本発明化合物は、河川、水路、運河、貯水池等に発生する、ホテイアオイ（Ｅｉｃｈｈｏｒｎｉａ ｃｒａｓｓｉｐｅｓ）等の水生雑草に除草効力を有する。
本発明化合物は、国際特許出願公開明細書ＷＯ９５／３４６５９号明細書に記載される除草性化合物と同様な特性を有し、該明細書に記載される、除草剤耐性遺伝子等が導入される事により除草剤に対する耐性の付与された作物を栽培する場面においては、耐性の付与されていない通常の作物の栽培時に使用されるより多くの薬量の本発明化合物の使用が可能となり、好ましくない他の植物をより効果的に除草する事ができる。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合には、通常固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤する。
これらの製剤には、有効成分として本発明化合物を重量比で０．００１〜８０％、好ましくは、０．００５〜７０％含有する。
固体担体としては、カオリンクレ−、アタパルジャイトクレ−、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有機微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および合成含水酸化珪素の微粉末が挙げられ、液体担体としては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレングリコ−ル、２−エトキシエタノ−ル等のアルコ−ル類、フタル酸ジアルキルエステル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルフォキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−ル、アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）等が挙げられる。

本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着しないように雑草に限って処理する局部処理等がある。
また他の除草剤と混合して用いる事により、除草効力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と混用または併用することもできる。
かかる除草剤の例を以下に示す。
アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、クロルトルロン（ｃｈｌｏｒｏｔｏｌｕｒｏｎ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソプロチュロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎｅ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、ピリデ−ト（ｐｙｒｉｄａｔｅ）
ブタミフォス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌｆｌｕｒａｌｉｎ）、ペンディメサリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、アセトクロ−ル（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロ−ル（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロ−ル（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジエタチルエチル（ｄｉｅｔｈａｔｙｌ−ｅｔｈｙｌ）、ジメテンアミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、フルチアミド（ｆｌｕｔｈｉａｍｉｄｅ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、メトラクロ−ル（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロ−ル（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、プロパクロ−ル（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、シンメシリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）
アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ）、アシフルオルフェンＮａ塩（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ）、フォメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔｅ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎｅ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、イソプロパゾール（ｉｓｏｐｒｏｐａｚｏｌ）、サルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａｚｉｍｉｎ）、アザフェニジン（ａｚａｆｅｎｉｄｉｎ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）
ジフェンゾコ−ト（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、パラコ−ト（ｐａｒａｑｕａｔ）

２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）
アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルカルバゾン（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ）、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、フルピリスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アイオドスルフロン（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、メツルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロカルバゾンＮａ塩（ｐｒｏｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、サルフォメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、スルフォスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリベニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、チフェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ビスピリバックＮａ塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリチオバックＮａ塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、イマザメス（ｉｍａｚａｍｅｔｈ）、イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザピック（ｉｍａｚａｐｉｃ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）
テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、アロキシジムＮａ塩（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、クレトジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロディナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップ−エチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップ−ｐ−エチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｈｙｌ）、フルアジホップ−ｐ−ブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップ−ｐ−エチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｐ−ｅｔｈｙｌ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）

ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎｅ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、イソキサフルト−ル（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ピラゾレ−ト（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、サルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、イソキサクロルトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌｅ）
ビアラフォス（ｂｉaｌａｐｈｏｓ）、グルフォシネ−トアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリフォセ−ト（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、スルフォセート（ｓｕｌｆｏｓａｔｅ）
ジクロベニル（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）
ベンチオカ−ブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、ブチレ−ト（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ジメピペレ−ト（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、ＥＰＴＣ、エスプロカーブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネ−ト（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ピリブチカーブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、トリアレ−ト（ｔｒｉａｌｌａｔｅ）
ジフルフェンゾピル（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）
ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、ＤＳＭＡ、ＭＳＭＡ、カフェンストロ−ル（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、エポプロダン（ｅｐｏｐｒｏｄａｎ）、フルポキサム（ｆｌｕｐｏｘａｍ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、ピペロフォス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）
ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、ベンゾバイサイクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、フェントラズアミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、イソキサジフェン（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、ナプロアニリド（ｎａｐｌｏａｎｉｌｉｄｅ）、オキサジクロメフォン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、ペソキシアミド（ｐｅｔｈｏｘｙａｍｉｄ）、フェノチオ−ル（ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、ピリダフォル（ｐｙｒｉｄａｆｏｌ）

上記化合物はファ−ムケミカルズハンドブック（マイスタ−パブリッシングカンパニ−）〔Ｆａｒｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（Ｍｅｉｓｔｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ）〕１９９５年度版のカタログ、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９５版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１３，１９９５ （ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９７版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１５，１９９７（ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９８版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１６，１９９８（ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−１９９９版（アグケムインフォメ−ションサ−ビス）〔ＡＧ ＣＨＥＭ ＮＥＷ ＣＯＭＰＯＵＮＤ ＲＥＶＩＥＷ, ＶＯＬ．１７，１９９９（ＡＧ ＣＨＥＭ ＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮ ＳＥＲＶＩＣＥ）〕、「除草剤研究総覧（博友社）」に記載されているか、「除草剤研究総覧（博友社）」に記載されている。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草によっても異なるが、１ヘクタ−ル当たり通常０．０１ｇ〜２００００ｇ、好ましくは１ｇ〜１２０００ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所定量を１ヘクタ−ル当たり１０リットル〜１０００リットルの（必要ならば展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈することなくそのまま処理する。ここで必要に応じて用いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセントレイト（ｃｒｏｐ ｏｉｌ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ）、大豆油、コ−ン油、綿実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。
また、本発明化合物は、ワタの落葉剤・乾燥剤、ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｔｕｂｅｒｏｓｕｍ）の乾燥剤等の収穫補助剤の有効成分として用いる事ができる。その場合、本発明化合物を、除草剤の有効成分として用いる場合と同様に通常製剤化して、作物の収穫前に、単独または他の収穫補助剤と混合して茎葉処理する。

以下、本発明を製造例、製剤例および試験例等により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例および製造中間体の製造例を示す。本発明化合物の化合物番号は、後記の表１〜表３０に記載の番号である。
製造例１：本発明化合物１−１の製造

４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール（中間体製造例１を参照）０．４３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．０ｍｌに溶解し、無水炭酸カリウム０．１５ｇを加え、室温攪拌下、２−ブロモプロピオン酸メチル０．１７ｇを加えた後、７０℃で３時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−［４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸メチル〔本発明化合物１−１〕０．３９ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ ），３．５２（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），４．７０（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），６．８−６．９（ｍ，２Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）

製造例２：本発明化合物２−１の製造

３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール（中間体製造例２を参照）０．３０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．４ｍｌに溶解し、無水炭酸カリウム０．１０ｇを加え、室温攪拌下、２−ブロモプロピオン酸メチル０．１１ｇを加えた後、７０℃で３時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−［３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸メチル〔本発明化合物２−１〕０．２８ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ ），３．５３（ｓ，３Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），４．７４（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．５−６．７（ｍ，３Ｈ），６．９−７．０（ｍ，１Ｈ），７．１−７．３（ｍ，１Ｈ），７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）

製造例３：本発明化合物３−１の製造

２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール０．２３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｍｌに溶解し、無水炭酸カリウム０．２２ｇを加え、室温攪拌下、２−ブロモプロピオン酸メチル０．１３ｇを加えた後、８０℃で３時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸メチル〔本発明化合物３−１〕０．２３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．４７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ ），３．５０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝０．７Ｈｚ），３．６−３．８（ｍ，３Ｈ），４．６−４．８（ｍ，１Ｈ），６．２８（ｓ，１Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），６．８−６．９（ｍ，１Ｈ），６．９−７．１（ｍ，１Ｈ），７．１−７．２（ｍ，２Ｈ），７．３−７．４（ｍ，１Ｈ）

製造例３記載と同様な方法（製造法１）にて製造された本発明化合物の物性値を以下に示す。

２−［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸エチル〔本発明化合物３−２〕
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．２３（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．４７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ ），３．５０（ｓ，３Ｈ），４．１−４．３（ｍ，２Ｈ），４．６−４．８（ｍ，１Ｈ），６．３−６．４（ｍ，１Ｈ），６．７−７．０（ｍ，３Ｈ），７．０−７．２（ｍ，２Ｈ），７．３−７．４（ｍ，１Ｈ）

［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物３−１１〕
融点：１１６．４℃

［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチル〔本発明化合物３−１２〕
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．２６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５０（ｓ，３Ｈ），４．１９（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．６４（ｓ，２Ｈ），６．２８（ｓ，１Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），６．９−７．２（ｍ，４Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）

製造例４：本発明化合物３−１８９の製造
工程１：

２−［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸メチル〔本発明化合物３−１〕０．３６５ｇを１，4−ジオキサン４ｍｌに溶解し、攪拌下に濃塩酸１ｍｌと水１ｍｌの混合溶液を加えた後、還流条件下で５時間４５分、加熱攪拌した。その後放冷し、反応液に氷水を注加し、酢酸エチルと飽和食塩水を加えた後分液し、該有機層に炭酸水素ナトリウム水を加えた後分液し、該水層に塩酸水を加えて酸性にした後、酢酸エチルを加えた後分液し、該有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、２−［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸０．１８３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．５３(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ)，３．５１(ｓ，３Ｈ)，４．７６〜４．８３（ｍ，１Ｈ），６．３２(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ)，６．６３〜６．６７（ｍ，１Ｈ），７．０〜７．１（ｍ，２Ｈ），７．１〜７．２（ｍ，２Ｈ），７．３８(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）

工程２：

２−［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸をテトラヒドロフランに溶解し、攪拌下に塩化チオニルを加えた後、還流条件下で加熱攪拌する。その後放冷し、濃縮後、テトラヒドロフランに溶解する（以下、溶液Ａと記す。）。１−ペンチルアルコールにテトラヒドロフランを加え、溶液Ａを加えた後、ピリジンを加える。室温で攪拌した後、反応液に２％塩酸水を注加し、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）に付し、２−［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸ペンチル〔本発明化合物３−１８９〕を得る。

製造例５：本発明化合物３−２０の製造
工程１：

［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物３−１１〕０．４ｇを１，4−ジオキサン４ｍｌに溶解し、攪拌下濃塩酸１ｍｌと水１ｍｌの混合溶液を加えた後、還流条件下で１２時間加熱攪拌した。その後放冷し、反応液に氷水を注加し、酢酸エチルと飽和食塩水を加えた後分液し、該有機層に炭酸水素ナトリウム水を加えた後分液し、該水層に塩酸水を加えて酸性にした後、酢酸エチルを加えた後分液し、該有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸０．２５２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５０(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ)，４．６６（ｓ，２Ｈ），６．３１(ｓ，１Ｈ)，６．６９(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ)，６．９８〜７．２０（ｍ，４Ｈ），７．３８(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）

工程２：

［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸１．０ｇをテトラヒドロフランに溶解し、攪拌下に塩化チオニル０．７ｍｌを加えた後、還流条件下で２時間加熱攪拌した。その後放冷し、濃縮後、テトラヒドロフラン３ｍｌに溶解した（以下、溶液Ｂと記す。）。アリルアルコール０．０５ｇにテトラヒドロフラン０．７ｍｌを加え、溶液Ｂを３等分したものを加えた後、ピリジン０．１７ｍｌを加えた。室温で２時間攪拌した後、反応液に２％塩酸水を注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）に付し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ酢酸］アリル〔本発明化合物３−２０〕０．０８ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５０(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ)，４．６２〜４．６４（ｍ，２Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ），５．２２〜５．３２（ｍ，２Ｈ），５．８〜６．０（ｍ，１Ｈ），６．２８(ｓ，１Ｈ)，６．７６(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ)，６．９１〜７．１４（ｍ，４Ｈ），７．３５(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）

製造例６：本発明化合物３−１６の製造

２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール０．２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌに溶解し、炭酸カリウム０．０８３ｇを加え、５０分室温で攪拌した。ここにクロロ酢酸ｔ−ブチル０．０７７ｇを加え、４０〜６０度で２時間攪拌した。放冷後、反応液に氷水を注加し、酢酸エチルと飽和食塩水を加えた後に分液した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）に付し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸ｔ−ブチル〔本発明化合物３−１６〕０．３９ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．４４(ｓ，９H)，３．４９(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ)，４．５３(ｓ，２Ｈ)，６．２７(ｓ，１Ｈ)，６．８０(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ)，６．８〜７．２（ｍ，４Ｈ），７．３５(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
融点５５．６℃

製造例７：本発明化合物３−１９８の製造

［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸１．５ｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶解し、攪拌下に塩化チオニル１ｍｌを加えた後、還流条件下で２時間１０分加熱攪拌した。その後放冷し、濃縮後、テトラヒドロフラン３ｍｌに溶解した（以下、溶液Ｃと記す。）。イソブチルアルコール０．２７３ｇにテトラヒドロフラン１ｍｌを加え、溶液Ｃを３等分したものを加えた後、ピリジン０．２５ｍｌを加えた。その後、室温で２時間攪拌した後、反応液に２％塩酸水を注加し、酢酸エチルを加えた後分液し、該有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）に付し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸イソブチル〔本発明化合物３−１９８〕０．３４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：０．８９(ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ)，１．８〜２．０(ｍ，１Ｈ)，３．５０(ｄ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ)，３．９２(ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ)，４．６７(ｓ，２Ｈ)，６．２８(ｓ，１Ｈ)，６．７７(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ)，６．８５〜７．１５（ｍ，４Ｈ），７．３６(ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ)

製造例８：本発明化合物３−１１の製造

［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル０．９３ｇ、炭酸カリウム０．３１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌの混合物に、ヨウ化メチル０．５８ｇを加え、室温下で２時間攪拌した。ここに希塩酸５０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル［本発明化合物３−１１］（０．８２ｇ）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃/250 MHz)δ(ppm): 3.49-3.50 (m, 3H), 3.73 (s, 3H), 4.66(s, 2H), 6.28 (s, 1H), 6.76 (d, 1H, J=6.6 Hz), 6.9-7.2 (m, 4H), 7.36 (d, 1H, J=8.9 Hz)

製造例９：本発明化合物３−１２の製造

［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチル、炭酸カリウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物に、ヨウ化メチルを加え、室温下で攪拌する。ここに希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチル〔本発明化合物３−１２〕を得る。

製造例１０：本発明化合物１−２の製造

４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール（中間体製造例１を参照）１００ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．０ｍｌに溶解し、無水炭酸カリウム４２ｍｇを加え、室温攪拌下に、２−ブロモプロピオン酸エチル４６ｍｇを加え、６０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−［４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸エチル〔本発明化合物１−２〕８５ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．２７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．６０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．５２（ｓ，３Ｈ），４．２３（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．６８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），６．８−６．９（ｍ，２Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）

製造例１１：本発明化合物１−１１の製造

４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール（中間体製造例１を参照）１５０ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．０ｍｌに溶解し、無水炭酸カリウム５１ｍｇを加え、室温攪拌下、ブロモ酢酸メチル５０ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物１−１１〕１６７ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．８−６．９（ｍ，２Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）

製造例１２：本発明化合物２−１１の製造

３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール（中間体製造例２を参照）１００ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌに溶解し、無水炭酸カリウム３４ｍｇを加え、室温攪拌下、ブロモ酢酸メチル３７ｍｇを加えた後、６０℃で１時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物２−１１〕１１０ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５３（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），３．８０（ｓ，３Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．６０（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，２Ｈ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）

製造例１３：本発明化合物５−７の製造

３−｛２−シアノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール（中間体製造例９を参照）７２ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．０ｍｌに溶解し、無水炭酸カリウム３１ｍｇを加え、室温攪拌下、２−ブロモプロピオン酸メチル３１ｍｇを加えた後、７０℃で１時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−［３−｛２−シアノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］プロピオン酸メチル〔本発明化合物５−７〕８０ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１．６２（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．５３（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），３．７７（ｓ，３Ｈ），４．７５（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．３−６．４（ｍ，１Ｈ），６．６−６．８（ｍ，３Ｈ），６．８−６．９（ｍ，１Ｈ），７．２−７．３（ｍ，１Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）

製造例１４：本発明化合物５−２２の製造

３−｛２−シアノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール（中間体製造例９を参照）３２ｍｇをアセトニトリル０．５ｍｌに溶解し、ブロモ酢酸メチル１３ｍｇ、無水炭酸カリウム１３ｍｇを加えた後、６０℃で１．５時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［３−｛２−シアノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物５−２２〕２６ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５３（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，１Ｈ），６．７−６．８（ｍ，２Ｈ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），７．２−７．４（ｍ，１Ｈ），７．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）

製造例１５：本発明化合物４−１９の製造

（２−ヒドロキシフェノキシ）酢酸メチル１５．１６ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン（中間体製造例４を参照）２９．２３ｇ、無水炭酸カリウム１１．５ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１６０ｍｌの混合物を室温で３０分攪拌後、７０℃で３時間攪拌した。（２−ヒドロキシフェノキシ）酢酸メチル５ｇを追加し１時間攪拌した。該反応液を２％塩酸水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［２−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物４−１９〕１７．８ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），３．７０（ｓ，３Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），６．２８（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．０−７．１（ｍ，１Ｈ），７．１−７．３（ｍ，２Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）

製造例１６：本発明化合物３−１１の製造

亜硝酸イソアミル１１．０２ｇとアセトニトリル４５ｍｌの混合物を［２−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル（中間体製造例１０を参照）１５．１６ｇ、塩化銅（Ｉ）６．２１ｇ、塩化銅（II）１２．６５ｇ、アセトニトリル２５０ｍｌの混合物に室温で滴下し、２時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物３−１１〕１３ｇを得た。

製造例１６記載と同様な方法（製造法５の〈工程５−２〉）にて製造された本発明化合物の物性値を以下に示す。

［２−｛２，４−ジフルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物４−２０〕
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．８−７．２（ｍ，６Ｈ）

［２−｛２−ブロモ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物４−２１〕
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５３（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．６５（ｓ，２Ｈ），６．３３（ｓ，１Ｈ），６．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．８−７．２（ｍ，４Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）

製造例１８：本発明化合物４−２２の製造ｓ

［２−｛２−ブロモ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔本発明化合物４−２１〕１．５ｇ、シアン化銅０．３４ｇおよびＮ−メチル−２−ピロリドン１０ｍｌの混合物を１７０〜１８０℃で３時間攪拌した。反応系を室温に冷却した後、反応液に水およびアンモニア水を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を希塩酸で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）に付し、５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］シアノベンゼン〔本発明化合物４−２２〕０．３７ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．４９（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝０．８Ｈｚ），３．７１（ｓ，３Ｈ），４．６３（ｓ，２Ｈ），６．２７（ｓ，１Ｈ），６．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０−７．１（ｍ，１Ｈ），７．１−７．３（ｍ，２Ｈ），７．４９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）

中間体製造例１：４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノールの製造
第１工程：

４−ベンジルオキシフェノール１．７１ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．０ｍｌの混合物を、氷冷下、水素化ナトリウム０．３４ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８．５ｍｌの混合物に滴下し、２０分攪拌した。２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン（中間体製造例４を参照）３．０ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．０ｍｌの混合物を同温度にて滴下し、１時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を１Ｎ塩酸で１回、飽和食塩水で１回、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−(４−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン２．０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），５．０４（ｓ，２Ｈ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），６．９−７．１（ｍ，４Ｈ），７．３−７．５（ｍ，５Ｈ），７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）

第２工程：

鉄粉２．０ｇ、酢酸６ｍｌおよび水０．６ｍｌの混合物に、２−(４−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン１．９ｇの酢酸５．０ｍｌ溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−(４−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン１．０ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），５．０２（ｓ，２Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ），６．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），６．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），７．３−７．５（ｍ，５Ｈ）

工程３：

亜硝酸イソアミル０．４６ｇを２−(４−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン１．０ｇ、塩化銅（Ｉ）０．３８ｇ、塩化銅（II）０．７８ｇ、アセトニトリル１４ｍｌの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（〔４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ〕メチル）ベンゼン０．７３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（ｓ，３Ｈ），５．０３（ｓ，２Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ），６．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．９−７．０（ｍ，４Ｈ），７．２−７．５（ｍ，６Ｈ）

工程４：

（〔４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ〕メチル）ベンゼン０．７２ｇに、酢酸エチル２ｍｌ、エタノール０．７ｍｌ及び１０％パラジウム／炭素３６ｍｇを加え、水素雰囲気下に室温で５時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライト上で濾過し、ろ液を濃縮して、４−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール０．４８ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（ｓ，３Ｈ），５．２−５．５（ｂ，１Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ），６．６−７．０（ｍ，５Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）

中間体製造例２：３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノールの製造
工程１：

３−ベンジルオキシフェノール１．７１ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．０ｍｌの混合物を、氷冷下、水素化ナトリウム０．３４ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８．５ｍｌの混合物に滴下し、２０分攪拌した。２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン（中間体製造例４を参照）３．０ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．０ｍｌの混合物を同温度にて滴下し、１時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を１Ｎ塩酸で１回、飽和食塩水で１回、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−(３−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン２．４ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５３（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），５．０３（ｓ，２Ｈ），６．３３（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，１Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），６．８−６．９（ｍ，１Ｈ），７．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．２−７．５（ｍ，６Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）

工程２：

鉄粉２．５ｇ、酢酸８ｍｌおよび水０．８ｍｌの混合物に、２−(３−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン２．４ｇの酢酸６．０ｍｌ溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−(３−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン１．５ｇを得た。
融点：６７．０℃

工程３：

亜硝酸イソアミル０．３４ｇを２−(３−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン１．５ｇ、塩化銅（Ｉ）０．５７ｇ、塩化銅（II）１．１７ｇ、アセトニトリル２１ｍｌの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（〔３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ〕メチル）ベンゼン１．０１ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５３（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），５．０３（ｓ，２Ｈ），６．３３（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，２Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．２−７．５（ｍ，７Ｈ）

工程４：

（〔３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ〕メチル）ベンゼン１．０１ｇに、酢酸エチル３ｍｌ、エタノール１ｍｌ及び１０％パラジウム／炭素５０ｍｇを加え、水素雰囲気下に室温で５時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライト上で濾過し、ろ液を濃縮して、３−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール０．６８ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｓ，３Ｈ），５．５−５．８（ｂ，１Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．４−６．５（ｍ，１Ｈ），６．５−６．６（ｍ，２Ｈ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），７．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３，７．９Ｈｚ），７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）

中間体製造例３：２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノールの製造
工程１：

２−ベンジルオキシフェノール４．０５ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９．５ｍｌの混合物を、氷冷下、水素化ナトリウム０．８０ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌの混合物に滴下し、３０分攪拌した。２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン（中間体製造例４を参照）７．１ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１７ｍｌの混合物を同温度にて滴下し、１時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を１Ｎ塩酸で１回、飽和食塩水で１回、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−(２−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン８．６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），５．０１（ｓ，２Ｈ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９−７．１（ｍ，２Ｈ），７．１−７．４（ｍ，７Ｈ），７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）

工程２：

鉄粉８．６ｇ、酢酸２７ｍｌおよび水２．７ｍｌの混合物に、２−(２−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン８．６ｇの酢酸２３ｍｌ溶液を、反応液の温度を３５℃以下に保ちつつ滴下した。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−(２−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン６．４６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），５．０６（ｓ，２Ｈ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１．６Ｈｚ），６．９−７．０（ｍ，１Ｈ），７．０−７．１（ｍ，３Ｈ），７．２−７．４（ｍ，６Ｈ）

工程３：

亜硝酸イソアミル４．４６ｇを２−(２−ベンジルオキシフェノキシ)−５−フルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン６．４６ｇ、塩化銅（Ｉ）２．４５ｇ、塩化銅（II）５．０４ｇ、アセトニトリル９０ｍｌの混合物に室温で滴下し、１時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（〔２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ〕メチル）ベンゼン４．６ｇを得た。
融点：５０．８℃
工程４：

（〔２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ〕メチル）ベンゼン４．５ｇに、酢酸エチル２３０ｍｌ及び１０％パラジウム／炭素０．４６ｇを加え、水素雰囲気下に室温で５時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセライト上で濾過し、ろ液を濃縮して、２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール３．５７ｇを得た。
融点：５５．４℃

中間体製造例４：２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼンの製造

２，４，５−トリフルオロニトロベンゼン１．７７ｇと３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン１．９４ｇをジメチルスルホキシド１０ｍｌに溶解し、室温で無水炭酸カリウム１．５２ｇを加えた後、８０℃で１時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン１．５１ｇを得た。
融点：１５０℃

中間体製造例５：［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチルの製造
工程１：

２−メトキシフェノール２．７３ｇと炭酸カリウム５．５ｇをジメチルホルムアミド２０ｍｌ中に加え６０℃に昇温した。その混合物中へＮ−（２，５−ジフルオロ−４−ニトロフェニル）アセトアミド４．３ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌから成る溶液を６０〜６５℃の温度で滴下した。１時間保温攪拌後、室温まで冷却し、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮してＮ−［２−フルオロ−５−（２−メトキシフェノキシ）−４−ニトロフェニル］アセトアミド５．５２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：２．１６（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），６．８５〜７．２２（４Ｈ，ｍ），７．７５〜７．８３（１Ｈ，ｂｒ），７．８３ （１Ｈ，ｄ，Ｊ＝ １０．７Ｈｚ），８．０４ （１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）

工程２：

Ｎ−［２−フルオロ−５−（２−メトキシフェノキシ）−４−ニトロフェニル］アセトアミド５．４ｇを塩化メチレン５０ｍｌに溶解させた後、三臭化ホウ素４．７ｇを氷冷下で加えた。同温度で２時間攪拌後、濃塩酸を加え水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、得られた結晶をｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄してＮ−［２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−ニトロフェニル］アセトアミド３．２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），６．３３（１Ｈ，ｂｓ），６．８６〜７．２３（４Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｂｓ），７．８１ （１Ｈ，ｄ， Ｊ＝ １０．３ Ｈ ｚ），８．３４ （１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）

工程３：

Ｎ−［２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−ニトロフェニル］アセトアミド３．０２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた後、炭酸カリウム１．５ｇを加え室温で１時間攪拌した。その後、ブロモ酢酸メチル１．６ｇを室温で加えた。同温度で２時間攪拌後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、得られた結晶をｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して［２−（５−アセチルアミノ−４−フルオロ−２−ニトロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル３．０１ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：２．１６（３Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ），４．６２（２Ｈ，ｓ），６．９５〜７．２６（４Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｂｓ），７．８５ （１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）

工程４：

酢酸４０ｍｌと水４０ｍｌの混合物中に鉄粉２．２ｇを加え８０℃に昇温した。その混合溶液中へ［２−（５−アセチルアミノ−４−フルオロ−２−ニトロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル３．０ｇを添加し３０分間加熱還流した。その後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を水洗、飽和重曹水洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して［２−（５−アセチルアミノ−２−アミノ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル２．０１ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：２．１１（３Ｈ，ｓ），３．３１〜４．１５（２Ｈ，ｂｒ），３．７６（３Ｈ，ｓ），４．７１（２Ｈ，ｓ），６．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ）， ６．９０〜７．０１（４Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｂｓ），７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）

工程５：

濃塩酸３０ｍｌに［２−（５−アセチルアミノ−２−アミノ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル２．０を加え室温で１時間攪拌した。その後、亜硝酸ナトリウム０．４２ｇと水３ｍｌから成る水溶液を氷冷下で加えた。同温度で１時間攪拌後、ｔ−ブチルメチルエーテル４０ｍｌを加えさらに塩化銅（Ｉ）０．８５ｇを加えた。３０分攪拌した後、水を加えｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し、有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、得られた残査をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製して［２−（５−アセチルアミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル０．５２ｇを得た。
融点：１３８．９℃

工程６：

三フッ化ホウ素メタノール錯体・メタノール溶液１０ｍｌ中に［２−（５−アセチルアミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル０．２５ｇを加え３時間加熱攪拌した。その後、反応液を濃縮し、残査を酢酸エチルに溶解し飽和重曹水洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル［中間体化合物Ａ３−２２］０．２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：３．７４（３Ｈ，ｓ），３．８６（２Ｈ，ｂｒ），４．７０（２Ｈ，ｓ），６．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２１Ｈｚ），６．８３〜７．０９（５Ｈ，ｍ）

工程７：

［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル［中間体化合物Ａ３−２２］、クロロ蟻酸メチルおよびテトラヒドロフランの混合物に、ピリジンを滴下し、室温で攪拌する。反応液に希塩酸を加え、これを酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−メトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル［中間体化合物Ａ９−２２］を得る。

工程８：

３−アミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチルに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと水素化ナトリウムを加え、０℃で攪拌する。その後、反応液に［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−メトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル［中間体化合物Ａ９−２２］とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物を加え、８０℃で攪拌する。反応液を室温まで冷却した後、塩酸と氷水の混合物に注加し、析出した結晶を濾取し、［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチルを得る。

中間体製造例６： ［２−｛２−クロロ−４−フルオロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチルの製造
工程１：

カテコール１．１ｇと炭酸カリウム２．７６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中に加え６０℃に昇温した。その混合物中へＮ−（２，５−ジフルオロ−４−ニトロフェニル）アセトアミド２．１６ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌからなる溶液を６５〜７０℃の温度で滴下した。１時間保温後、室温まで冷却し、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、得られた結晶をｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄してＮ−［２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−ニトロフェニル］アセトアミド２．５６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），６．３３（１Ｈ，ｂｓ），６．８６〜７．２３（４Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｂｓ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）

工程２：

酢酸２５ｍｌと水２５ｍｌの混合溶液中に鉄粉９．５ｇを加え８０℃に昇温した。その混合物中へＮ−［２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）−４−ニトロフェニル］アセトアミド１０．０ｇと酢酸エチル１００ｍｌからなる溶液を滴下した。１時間加熱還流後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を水洗、飽和重曹水洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮してＮ−［４−アミノ−２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］アセトアミド７．４２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：２．１６（３Ｈ，ｓ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），６．７４〜６．７８（２Ｈ，ｍ），６．９３〜６．９６（２Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｂｓ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）

工程３：

Ｎ−［４−アミノ−２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］アセトアミド７．４ｇをアセトニトリル３０ｍｌに溶解させた後、塩化銅（ＩＩ）５．４２ｇを加え室温で攪拌した。そこへ亜硝酸ｔ−ブチル４．１６ｇとアセトニトリル５ｍｌから成る溶液を室温付近で滴下した。１時間室温で攪拌後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製してＮ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］アセトアミド３．９２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），５．７２（１Ｈ，ｓ），６．７０〜６．８４（２Ｈ，ｍ），７．０１〜７．０３（２Ｈ，ｍ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｂｓ），８．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）

工程４：

Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］アセトアミドをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、炭酸カリウムを加え室温で攪拌する。その後、ブロモ酢酸エチルを室温で加える。同温度で攪拌後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、得られる結晶をｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して［２−（５−アセチルアミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチルを得る。

工程５：

三フッ化ホウ素メタノール錯体・メタノール溶液中に［２−（５−アセチルアミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチルを加え加熱攪拌する。その後、反応液を濃縮し、残査を酢酸エチルに溶解し飽和重曹水洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ３−２３］を得る。

工程６：

［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ３−２３］、クロロ蟻酸エチルおよびテトラヒドロフランの混合物に、ピリジンを滴下し、室温で攪拌する。反応液に希塩酸を加え、これを酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−エトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ８−２３］を得る。

工程７：

３−アミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチルに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと水素化ナトリウムを加え、０℃で攪拌する。その後、反応液に［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−エトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ８−２３］とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物を加え、８０℃で攪拌する。反応液を室温まで冷却した後、塩酸と氷水の混合物に注加し、析出した結晶を濾取し、［２−｛２−クロロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−４−フルオロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチルを得る。

中間体製造例７：［２−｛２−クロロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−４−フルオロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチルの製造
工程１：

［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ３−２３］、トリクロロメチルクロロホルメートおよびトルエンの混合物に、活性炭を加え、加熱還流する。反応液を濾過し、溶媒を留去し、［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−イソシアナト）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ１２−２３］を得る。

工程２：

３−アミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチルに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと水素化ナトリウムを加え、０℃で攪拌する。その後、反応液に［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−イソシアナト）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ１２−２３］とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物を加えた後、室温で攪拌する。反応液を塩酸と氷水の混合物に注加し、析出した結晶を濾取し、［２−｛２−クロロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−４−フルオロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチルを得る。

中間体製造例８：［２−｛２−クロロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−４−フルオロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチルの製造
工程１

［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル（中間体化合物Ａ３−２２）４．８５gとトリフルオロアセト酢酸エチル２．８８gとトルエン４０ｍｌからなる溶液を、モレキュラーシーブス５Ａを通しながら６時間共沸脱エタノールした。該反応混合物を冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加えた後、有機層を濃塩酸、水、および飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、残査をヘキサンで洗浄することで、粗［２−（５−｛３，３−ジヒドロキシ−４，４，４−トリフルオロブチリル｝アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル５．８２ｇを得た。
ｍｐ：１６５．３℃
２）化合物［２ｈ］から［２−｛２−クロロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−４−フルオロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル〔化合物［３ｈ］〕を製造する方法

粗［２−（５−｛３，３−ジヒドロキシ−４，４，４−トリフルオロブチリル｝アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル［２ｈ］１．０ｇとテトラヒドロフラン３ｍｌの溶液に、酢酸４ｍｌおよびシアン酸カリウム０．８７gを加え、室温下６時間攪拌した後、１２０℃で２時間加熱還流させた。冷却後、水３０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、［２−｛２−クロロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−４−フルオロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル０．６７ｇを得た。
〔¹Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳδ（ｐｐｍ））；３．７２（３Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．８９−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）〕

中間体製造例８記載と同様な方法（中間体製造法１７）にて、［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチル［中間体化合物Ａ３−２３］から［２−｛２−クロロ−５−［２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−４−フルオロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸エチルが製造できる。

中間体製造例９：３−｛２−シアノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノールの製造
工程１：

３−メトキシフェノール３．５３ｇ、無水炭酸カリウム５．１２ｇ、２，５−ジフルオロ−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン（前記、中間体製造例４を参照）１０ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍｌの混合物を、６０〜７０℃で２時間攪拌した。該反応液を塩酸水と氷水の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン４．１７ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５３（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），３．７９（ｓ，３Ｈ），６．３３（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，２Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），７．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．２−７．３（ｍ，１Ｈ），７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）

工程２：

鉄粉４．５ｇ、酢酸１０ｍｌおよび水１ｍｌの混合溶液に、５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ニトロベンゼン４．１７ｇの酢酸１０ｍｌ溶液を、２０分かけて滴下した。滴下終了後、２時間攪拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を水で２回洗浄後、有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン３．６７ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），３．７６（ｓ，３Ｈ），４．０−４．２（ｂ，２Ｈ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．５−６．７（ｍ，４Ｈ），６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．１−７．３（ｍ，１Ｈ）

工程３：

亜硝酸ｔ−ブチル５７ｍｇを５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］アニリン２１３ｍｇ、臭化銅（Ｉ）９３ｍｇ、アセトニトリル１ｍｌの混合物に０℃で１時間かけて滴下し、３０分間攪拌した。室温に昇温し、１０時間攪拌した。該反応液を２％塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ブロモベンゼン７５ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），３．７７（ｓ，３Ｈ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．５−６．６（ｍ，１Ｈ），６．５９（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，１Ｈ），６．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０，８．７Ｈｚ），７．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）

工程４：

５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］ブロモベンゼン７５ｍｇ、シアン化銅２７ｍｇおよびＮ−メチル−２−ピロリドン０．５ｍｌの混合物を１７０〜１８０℃で２時間攪拌した。反応系を室温に冷却した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］シアノベンゼン５７ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），３．７９（ｓ，３Ｈ），６．３１（ｓ，１Ｈ），６．６７（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，１Ｈ），６．７−６．８（ｍ，１Ｈ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），７．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１，８．６Ｈｚ），７．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）

工程５：

三臭化ホウ素４８μｌを０℃で５−フルオロ−２−(３−メトキシフェノキシ)−４−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］シアノベンゼン５７ｍｇのクロロホルム０．６ｍｌ溶液に滴下した。滴下終了後、反応液を室温に昇温し１時間攪拌した。反応系を０℃に冷却し、メタノール１ｍｌを加えた。減圧下溶媒を留去した後、酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水を加えｐＨ４とした。酢酸エチルで抽出し、該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−｛２−シアノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノール３６ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．３−６．５（ｂ，１Ｈ），６．５−６．６（ｍ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，２Ｈ），６．８７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），７．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３，８．１Ｈｚ），７．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）

中間体製造例１０：［２−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチルの製造

鉄粉１９ｇ、酢酸６０ｍｌおよび水６ｍｌの混合溶液に、［２−｛４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］−２−ニトロフェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル１９．１２ｇ〔本発明化合物４−１９〕の酢酸６０ｍｌ溶液を氷冷下滴下した。滴下終了後、室温に昇温し、４時間攪拌した後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を水、飽和重曹水、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、［２−｛２−アミノ−４−フルオロ−５−［３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル］フェノキシ｝フェノキシ］酢酸メチル１５．１６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／２５０ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），３．７６（ｓ，３Ｈ），４．２−４．４（ｂ，２Ｈ），４．６９（ｓ，２Ｈ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．６−６．７（ｍ，２Ｈ），６．９−７．１（ｍ，４Ｈ）

中間体製造例１１：［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−メトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル［中間体化合物Ａ９−２２］の製造

工程１：

Ｎ−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］アセトアミド（中間体製造例６、工程３を参照）から中間体製造例５、工程６に記載の方法と同様にして４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）アニリン［中間体化合物Ａ３−４］を製造した。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）： ３．７６（ｂｓ，２Ｈ），５．７８（ｂｓ，１Ｈ），６．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．７−６．９（ｍ，２Ｈ），７．０−７．１（ｍ，２Ｈ），７．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ）

工程２：

４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−ヒドロキシフェノキシ）アニリン［中間体化合物Ａ３−４］、クロロ蟻酸メチルおよびテトラヒドロフランの混合物に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンを滴下し、室温で攪拌する。反応液に希塩酸を加え、これを酢酸エチルで抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−メトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノール［中間体化合物Ａ９−４］を得る。

工程３：

２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−メトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノール［中間体化合物Ａ９−４］をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、炭酸カリウムを加え室温で１時間攪拌する。その後、ブロモ酢酸エチルを室温で加える。６０℃で２時間攪拌後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、［２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−メトキシカルボニルアミノフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル［中間体化合物Ａ９−２２］を得る。

次に、本発明化合物のいくつかを例示する。具体的な化合物は表１〜表３７に記載の化合物番号により特定される。尚、本発明化合物はこれらの例示に限定されない。
一般式［Ｉ−１］で示される化合物（化合物番号は、表１〜表９に記載）

一般式［Ｉ−２］で示される化合物（化合物番号は、表１０〜表１８に記載）

一般式［Ｉ−３］で示される化合物（化合物番号は、表１９〜表２７に記載）

一般式［Ｉ−４］で示される化合物（化合物番号は、表２８〜表２９に記載）

一般式［Ｉ−５］で示される化合物（化合物番号は、表３０〜表３１に記載）

次に、本発明化合物を製造する際の有用な製造中間体のいくつかを例示する。具体的な化合物は、以下に記載の一般式と表３２〜表３５に記載の枝番号の組合わせにより特定される化合物番号により特定される。（例えば、中間体化合物Ａ１−１とは、一般式［Ａ１−］で示される構造であり、置換基Ｘ¹、Ｘ²およびＡが表３２の枝番号１に記載の置換基である化合物を示す。）

一般式［Ａ１−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ２−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ３−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ４−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ５−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ６−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ７−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ８−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ９−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ１０−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ１１−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

一般式［Ａ１２−］で示される化合物（枝番号は、表３２〜表３５に記載。）

次に製剤例を示す。尚、本発明化合物は表１〜表３１の化合物番号で示す。部は重量部である。
製剤例１
本発明化合物１−１〜１−２０１、２−１〜２−２０１、３−１〜３−２０１、４−１〜４−３６および５−１〜５−３６の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得る。
製剤例２
本発明化合物１−１〜１−２７２、２−１〜２−２７２、３−１〜３−２７２、４−１〜４−３６および５−１〜５−３６の各々１０部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３５部およびシクロヘキサノン３５部をよく混合して各々の乳剤を得る。
製剤例３
本発明化合物１−１〜１−２０１、２−１〜２−２０１、３−１〜３−２０１、４−１〜４−３６および５−１〜５−３６の各々２部、合成含水酸化珪素２部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部およびカオリンクレ−６４部をよく粉砕混合し、水を加えよく練りあわせた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。
製剤例４
本発明化合物１−１〜１−２０１、２−１〜２−２０１、３−１〜３−２０１、４−１〜４−３６および５−１〜５−３６の各々２５部、ポリビニルアルコ−ル１０％水溶液５０部、水２５部を混合し、平均粒径が５マイクロメ−トル以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。
製剤例５
ポリビニルアルコ−ル１０％水溶液４０部中に、１−１〜１−２０１、２−１〜２−２０１、３−１〜３−２０１、４−１〜４−３６および５−１〜５−３６の各々５部を加え、ホモジナイザ−にて平均粒径が１０マイクロメ−トル以下になるまで乳化分散し、ついで５５部の水を加え、各々の濃厚エマルジョンを得る。

次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用である事を試験例で示す。尚、本発明化合物は表１〜表３１の化合物番号で示す。
試験例１：畑地茎葉処理試験
直径１０ｃｍ、深さ１０ｃｍの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビ、イヌビエおよびブラックグラスを播種し、温室内で９日間育成した。その後、製剤例２に準じて本発明化合物１−１、２−１、３−１、３−２、３−１１および３−１２の各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、７日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物１−１、２−１、３−１、３−２、３−１１および３−１２の各々は１２５ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオ、イチビ、イヌビエおよびブラックグラスの生育を完全に抑制した。
試験例２：畑地土壌表面処理試験
直径１０cm、深さ１０cmの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビ、イヌビエを播種した。製剤例２に準じて本発明化合物１−１、２−１および３−１の各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタール当たり１０００リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、７日温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物１−１、２−１、および３−１の各々は５００ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオ、イチビ、イヌビエの生育を完全に抑制した。

試験例３：畑地茎葉処理試験
直径１０ｃｍ、深さ１０ｃｍの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビおよびイヌビエを播種し、温室内で９日間育成した。その後、製剤例２に準じて本発明化合物３−１６、３−２０および３−１９８の各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、７日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物３−１６、３−２０および３−１９８の各々は１２５ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオ、イチビおよびイヌビエの生育を完全に抑制した。
試験例４：畑地土壌表面処理試験
直径１０cm、深さ１０cmの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビ、イヌビエおよびブラックグラスを播種した。製剤例２に準じて本発明化合物３−２、３−１１、３−１２、３−１６、３−２０および３−１９８の各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタール当たり１０００リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、７日温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物３−２、３−１１、３−１２、３−１６、３−２０および３−１９８の各々は５００ｇ／ｈａの薬量でアメリカアサガオ、イチビ、イヌビエおよびブラックグラスの生育を完全に抑制した。

以下の試験例では、除草効力を「０」、「１」、「２」、「３」、「４」、「５」、「６」、「７」、「８」、「９」および「１０」の１１段階に区分して示す。調査時の供試雑草の出芽または生育の状態が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違いがないものを「０」とし、また供試植物が完全枯死または出芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「１０」とした。
また、本発明化合物の特徴を明確に示す為、以下の化合物の試験結果についても併せて記載する。

試験例５：畑地茎葉処理試験
直径１８．５ｃｍ、深さ１５ｃｍの円筒形プラスチックポットに土壌を詰め、ハコベを播種し、温室内で２９日間育成した。その後、製剤例２に準じて本発明化合物１−２および対照化合物Ａの各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を表３６に示す。

試験例６
縦２７ｃｍ、横１９ｃｍ、深さ７ｃｍのプラスチックポットに土壌を詰め、セイバンモロコシ（表中ではＪと略記）、アキノエノコログサ（表中ではＧＦと略記）、イヌビエ（表中ではＢと略記）、ラージクラブグラス（表中ではＬＣと略記）、メリケンニクキビ（表中ではＢＣと略記）、カラスムギ（表中ではＷと略記）を播種し、温室内で２５日間育成した。その後、製剤例２に準じて本発明化合物３−１１および４−２２、対照化合物ＢおよびＣの各々を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、４日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を表３７に示す。

Claims (8)

1. 一般式［ＸＸＸＩＩ］
   

   

   ［式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ¹⁷は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基を表し、Ｘ¹はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、Ｘ²は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
   で示されるアニリン化合物。
2. 上記一般式［ＸＸＸＩＩ］に於いて、ベンゼン環上におけるＷの置換位置がＲ¹⁷のオルト位である請求項１に記載のアニリン化合物。
3. ［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸メチル
4. ［２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ）フェノキシ］酢酸エチル
5. 一般式［ＸＸＸＩＶ］
   

   

   ［式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ¹⁷は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基を表し、Ｒ¹⁸はＣ１−Ｃ６アルキル基またはフェニル基を表し、Ｘ¹はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、Ｘ²は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
   で示される化合物。
6. 上記一般式［ＸＸＸＩＶ］に於いて、ベンゼン環上におけるＷの置換位置がＲ¹⁷のオルト位である請求項５に記載の化合物。
7. 一般式［ＸＸＸＩＩＩ］
   

   

   ［式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはＣ１−Ｃ３アルキルイミノ基を表し、Ｒ¹⁷は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ⁴は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基を表し、Ｘ¹はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、Ｘ²は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルコキシ基またはシアノ基を表す。］
   で示される化合物。
8. 上記一般式［ＸＸＸＩＩＩ］に於いて、ベンゼン環上におけるＷの置換位置がＲ¹⁷のオルト位である請求項７に記載の化合物。