EP1102875B1 - Alkalisches zink-nickelbad - Google Patents

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EP1102875B1
EP1102875B1 EP99940077A EP99940077A EP1102875B1 EP 1102875 B1 EP1102875 B1 EP 1102875B1 EP 99940077 A EP99940077 A EP 99940077A EP 99940077 A EP99940077 A EP 99940077A EP 1102875 B1 EP1102875 B1 EP 1102875B1
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    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation

Definitions

  • the invention relates to an electroplating bath for applying zinc-nickel coatings with an anode, a cathode and an alkaline electrolyte.
  • the alkaline zinc-nickel electroplating baths disclosed in German patent specification 37 12 511 have recently been used, which have the following composition, for example: 11.3 g / l ZnO 4.1 g / l NiSO 4 * 6H 2 O 120 g / l NaOH 5.1 g / l polyethyleneimine.
  • the amines contained in the electroplating bath serve as complexing agents for the nickel ions, which are otherwise insoluble in the alkaline medium.
  • the composition of the baths varies depending on the manufacturer.
  • the electroplating baths are usually operated with insoluble nickel anodes.
  • the zinc concentration is determined by adding zinc and the nickel concentration by adding a nickel solution, for example a nickel sulfate solution, kept constant.
  • the formation of the second phase is due to a reaction of the amines, that in alkaline solution on nickel anodes to nitriles (among others can also be converted to cyanide). Due to the decomposition of the amines new complexing agents must also be continuously added to the bath, which drives up the cost of the process.
  • Anodes other than nickel anodes cannot be used because of this dissolve in the alkaline electrolyte, which is also disadvantageous Effects on the quality of the coating.
  • the problem underlying the invention is an alkaline one To create zinc-nickel electroplating bath, which is inexpensive zinc-nickel coatings delivers high quality.
  • the invention proposes the anode of the to separate alkaline electrolyte through an ion exchange membrane.
  • a cation exchange membrane has proven to be particularly advantageous made out of a perfluorinated polymer, since this has negligible electrical resistance, however have a high chemical and mechanical resistance.
  • the zinc-nickel bath acts as a catholyte in the solution according to the invention.
  • sulfuric or phosphoric acid can be used as the anolyte become.
  • the anode material used in the electroplating cell according to the invention usual anodes, e.g. Platinized titanium anodes are eligible because of this are no longer exposed to the basic zinc-nickel bath.
  • the 1 shows an electroplating cell 1, which has an anode 2 and a cathode 3, which is the workpiece to be coated.
  • the the Catholyte 4 surrounding the cathode is alkaline and consists of a zinc-nickel electroplating bath known composition, in which as a complexing agent for Nickel ion amines are used.
  • the anolyte 5 surrounding the anode 2 can consist for example of sulfuric or phosphoric acid.
  • Anolyte 5 and catholyte 4 are separated from one another by a perfluorinated cation exchange membrane 6 Cut. This membrane 6 enables an unimpeded flow of current through the Bad, however, prevents the catholyte 4, especially those contained therein Amines, comes into contact with the anode 2, which results in the introduction to the description detailed reactions including their adverse effects be avoided.

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Description

Die Erfindung betrifft ein Galvanikbad zum Aufbringen von Zink-Nickel-Überzügen mit einer Anode, einer Kathode und einem alkalischen Elektrolyten.
Es ist bekannt, elektrisch leitende Werkstoffe zur Verbesserung deren Korrosionsbeständigkeit mit Zink-Nickel-Legierungen zu überziehen. Dazu wird in herkömmlicher Weise ein saures Elekrolytbad, beispielsweise mit Sulfat-, Chlorid-, Fluoropromat- oder Sulfamat-Elektrolyten eingesetzt. Bei diesen Verfahren ist die Erzielung einer gleichmäßigen Dicke des Zink-Nickel-Überzuges auf dem zu beschichtenden Werkstoff regelungstechnisch sehr aufwendig und in der Praxis meistens unmöglich.
Aus diesem Grund werden in jüngster Zeit die in der deutschen Patentschrift 37 12 511 offenbarten alkalischen Zink-Nickel-Galvanikbäder eingesetzt, die beispielsweise folgende Zusammensetzung aufweisen:
11,3 g/l ZnO
4,1 g/l NiSO4*6H2O
120 g/l NaOH
5,1 g/l Polyethylenimin.
Die in dem Galvanikbad enthaltenen Amine dienen als Komplexbildner für die Nickelionen, welche im alkalischen Medium ansonsten unlöslich sind. Die Zusammensetzung der Bäder variiert je nach Hersteller.
Betrieben werden die Galvanikbäder gewöhnlich mit unlöslichen Nickelanoden. Die Zinkkonzentration wird durch Zugabe von Zink und die Nickelkonzentration durch Addition einer Nickellösung, zum Beispiel einer Nickelsulfat-Lösung, konstant gehalten.
Diese Bäder zeigen jedoch nach einigen Stunden Betrieb eine Farbänderung von ursprünglich blau-violett nach braun. Nach mehreren Tagen bzw. Wochen verstärkt sich diese Färbung und es ist eine Trennung des Bades in zwei Phasen feststellbar, wobei die obere Phase dunkelbraun ist. Diese Phase bewirkt erhebliche Störungen der Beschichtung der Werkstücke, wie beispielsweise ungleichmäßige Schichtdicken oder Bläschenbildung. Eine kontinuierliche Reinigung des Bades, d.h. ein kontinuierliches Abschöpfen dieser Schicht, ist somit unumgänglich. Diese ist aber zeit- und kostenaufwendig.
Des weiteren kann nach einigen Wochen des Betriebs Cyanid in den Bädern nachgewiesen werden. Die Cyanidbelastung erfordert ein regelmäßiges Erneuern des Bades und eine spezielle Abwasserbehandlung, die sich erheblich auf die Betriebskosten des Bades auswirkt. Dies gilt um so mehr, als die Abwässer eine sehr hohe Organikkonzentration aufweisen und mit einem CSB-Wert von ca. 15.000 bis 20.000 mg/l die Cyanidentgiftung erschweren. Das Einhalten der vom Gesetzgeber vorgegebenen Abwasserwerte (Nickel 0,5 ppm und Zink 2 ppm) ist dann nur noch durch umfangreichen Zusatz von Chemikalien möglich.
Die Ausbildung der zweiten Phase ist auf eine Reaktion der Amine zurückzuführen, die in alkalischer Lösung an Nickelanoden zu Nitrilen (unter anderen auch zu Cyanid) umgesetzt werden. Aufgrund der Zersetzung der Amine muß dem Bad zudem kontinuierlich neuer Komplexbildnern zugegeben werden, was die Kosten des Prozesses in die Höhe treibt.
Andere Anoden als Nickel-Anoden können nicht eingesetzt werden, weil diese sich in dem alkalischen Elektrolyten auflösen, was ebenfalls nachteilige Auswirkungen auf die Qualität der Beschichtung mit sich bringt.
Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung das Problem zugrunde, ein alkalisches Zink-Nickel-Galvanikbad zu schaffen, welches kostengünstig Zink-Nickel-Beschichtungen von hoher Qualität liefert.
Zur Lösung dieses Problems schlägt die Erfindung vor, die Anode von dem alkalischen Elektrolyt durch eine lonenaustauschermembran zu trennen.
Durch diese Trennung wird die Reaktion der Amine an der Nickelanode vermieden, was zur Folge hat, daß keine unerwünschten Nebenreaktionen ablaufen, die Entsorgungsprobleme bereiten oder zu einer zweiten Phase auf dem Bad absetzenden Reaktionsprodukten führen und die Qualität des Zink-Nickel-Überzuges nachteilig beeinflussen. Das aufwendige Abschöpfen dieser Schicht sowie das Erneuern des Bades wird durch die Erfindung überflüssig. Ferner ist eine erhebliche Qualitätsverbesserung der Beschichtung zu verzeichnen.
Als besonders vorteilhaft hat sich der Einsatz einer Kationenaustauschermembran aus einem perfluorierten Polymer herausgestellt, da diese einen vernachlässigbaren elektrischen Widerstand, jedoch eine hohe chemische und mechanischer Widerstandsfähigkeit besitzen.
Des weiteren entfällt die Cyanidvergiftung des Abwassers, wodurch die gesamte Abwasserreinigung erheblich vereinfacht wird. Darüber hinaus wird das Auffüllen des Elektrolyten mit Komplexbildner überflüssig, da dieser sich nicht mehr zersetzt und seine Konzentration im Bad annähernd konstant bleibt. Das Verfahren wir dadurch erheblich kostengünstiger.
Das Zink-Nickelbad fungiert bei der erfindungsgemäßen Lösung als Katholyt. Als Anolyt können beispielsweise Schwefel- oder Phosphorsäure eingesetzt werden. Als Anodenmaterial kommen in der erfindungsgemäßen Galvanikzelle übliche Anoden, wie z.B. platinierte Titan-anoden infrage, da diese nicht mehr dem basischen Zink-Nickelbad ausgesetzt sind.
Die vorliegende Erfindung wird anhand des in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert. In der Zeichnung zeigt:
  • Fig. 1 den schematischen Aufbau eines erfindungsgemäßen Galvanikbades.
  • In Fig. 1 ist eine Galvanikzelle 1 dargestellt, die eine Anode 2 und eine Kathode 3, bei der es sich um das zu beschichtende Werkstück handelt, aufweist. Der die Kathode umgebende Katholyt 4 ist alkalisch und besteht aus einem Zink-Nickel-Galvanikbad bekannter Zusammensetzung, bei dem als Komplexbildner für die Nickelionen Amine eingesetzt werden. Der die Anode 2 umgebende Anolyt 5 kann beispielsweise aus Schwefel- oder Phosphorsäure bestehen. Anolyt 5 und Katholyt 4 sind durch eine perfluorierte Kationenaustauschermembran 6 voneinander getrennt. Diese Membran 6 ermöglicht einen ungehinderten Stromfluß durch das Bad, verhindert jedoch, daß der Katholyt 4, insbesondere die darin enthaltenen Amine, mit der Anode 2 in Kontakt kommt, wodurch die in der Beschreibungseinleitung ausführlich dargelegten Reaktionen einschließlich deren nachteiligen Auswirkungen vermieden werden.

    Claims (4)

    1. Alkalisches Galvanikbad (1) zum Aufbringen von Zink-Nickel-Überzügen mit einer Anode (2), einer Kathode (3) und einem alkalischen Katholyten (4) in dem Amine als Komplexbildner für die Nickelionen eingesetzt werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode von dem alkalischen Katholyten durch eine lonenaustauschermembran (6) getrennt ist.
    2. Galvanikbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (2) durch eine perfluorierte Kationenaustauschermembran (6) von dem alkalischen Katholyten (4) getrennt ist.
    3. Galvanikbad nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch Schwefelsäure, Phosphorsäure, Methansulfonsäure, Amidosulfonsäure und/oder Phosphonsäure als Anolyt (5).
    4. Galvanikbad nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch eine platinierte Titananode.
    EP99940077A 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad Revoked EP1102875B1 (de)

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    US (4) US6602394B1 (de)
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    JP (2) JP4716568B2 (de)
    KR (1) KR20010071074A (de)
    CN (1) CN1311830A (de)
    AT (2) ATE346180T1 (de)
    AU (1) AU5415299A (de)
    BG (1) BG105184A (de)
    BR (1) BR9912589A (de)
    CA (1) CA2339144A1 (de)
    CZ (1) CZ298904B6 (de)
    DE (3) DE19834353C2 (de)
    EE (1) EE200100059A (de)
    ES (2) ES2277624T3 (de)
    HR (1) HRP20010044B1 (de)
    HU (1) HUP0103951A3 (de)
    IL (1) IL141086A0 (de)
    MX (1) MXPA01000932A (de)
    PL (1) PL198149B1 (de)
    SK (1) SK285453B6 (de)
    TR (1) TR200100232T2 (de)
    WO (1) WO2000006807A2 (de)

    Cited By (1)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    EP1712660A1 (de) 2005-04-12 2006-10-18 Enthone Inc. Unlösliche Anode

    Families Citing this family (47)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad
    US20060157355A1 (en) * 2000-03-21 2006-07-20 Semitool, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
    US8236159B2 (en) * 1999-04-13 2012-08-07 Applied Materials Inc. Electrolytic process using cation permeable barrier
    US8852417B2 (en) 1999-04-13 2014-10-07 Applied Materials, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
    US20060189129A1 (en) * 2000-03-21 2006-08-24 Semitool, Inc. Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers
    DE10026956A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-13 Walter Hillebrand Galvanotechn Zink-Legierungsbad
    ATE306572T1 (de) 2000-06-15 2005-10-15 Taskem Inc Zink-nickel-elektroplattierung
    US6755960B1 (en) 2000-06-15 2004-06-29 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
    US7628898B2 (en) * 2001-03-12 2009-12-08 Semitool, Inc. Method and system for idle state operation
    DE10223622B4 (de) * 2002-05-28 2005-12-08 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute
    US8377283B2 (en) 2002-11-25 2013-02-19 Coventya, Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
    DE10261493A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH Anode zur Galvanisierung
    BR0318331A (pt) * 2003-06-03 2006-07-11 Taskem Inc aparelho para aplicar um eletrodepósito de zinco ou de liga de zinco a uma peça de trabalho
    US20050121332A1 (en) * 2003-10-03 2005-06-09 Kochilla John R. Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation
    US20050133376A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Opaskar Vincent C. Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom
    FR2864553B1 (fr) * 2003-12-31 2006-09-01 Coventya Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc
    US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
    DE102004061255B4 (de) 2004-12-20 2007-10-31 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben
    EP2050841B1 (de) 2005-04-26 2016-05-11 ATOTECH Deutschland GmbH Alkalisches Galvanikbad mit einer Filtrationsmembran
    EP1717351A1 (de) * 2005-04-27 2006-11-02 Enthone Inc. Galvanikbad
    JP4738910B2 (ja) * 2005-06-21 2011-08-03 日本表面化学株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき方法
    US20070043474A1 (en) * 2005-08-17 2007-02-22 Semitool, Inc. Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process
    DE102005051632B4 (de) * 2005-10-28 2009-02-19 Enthone Inc., West Haven Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
    JP4819612B2 (ja) * 2006-08-07 2011-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 めっき処理装置および半導体装置の製造方法
    DE102007040005A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad
    DE102007060200A1 (de) 2007-12-14 2009-06-18 Coventya Gmbh Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad
    TWI384094B (zh) * 2008-02-01 2013-02-01 Zhen Ding Technology Co Ltd 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置
    EP2096193B1 (de) 2008-02-21 2013-04-03 Atotech Deutschland GmbH Verfahren zur Herstellung von korrosionsresistentem Zink und Zink-Nickel-plattierten linearen oder komplex geformten Teilen
    DE102008058086B4 (de) 2008-11-18 2013-05-23 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen
    KR100977068B1 (ko) * 2010-01-25 2010-08-19 한용순 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액
    EP2384800B1 (de) 2010-05-07 2013-02-13 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Regeneration alkalischer Zinknickelelektrolyte durch Entfernen von Cyanidionen
    DE102010044551A1 (de) 2010-09-07 2012-03-08 Coventya Gmbh Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad
    EP2565297A3 (de) 2011-08-30 2013-04-24 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Haftungsförderung von cyanidfreier weißer Bronze
    CN103849915B (zh) * 2012-12-06 2016-08-31 北大方正集团有限公司 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法
    CN103911650B (zh) * 2014-04-02 2016-07-06 广东达志环保科技股份有限公司 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极
    DE202015002289U1 (de) 2015-03-25 2015-05-06 Hartmut Trenkner Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen
    US9903038B2 (en) 2015-07-22 2018-02-27 Dipsol Chemicals Co., Ltd. Zinc alloy plating method
    CN106550606B (zh) 2015-07-22 2019-04-26 迪普索股份公司 锌合金镀敷方法
    WO2017171113A1 (ko) * 2016-03-29 2017-10-05 (주) 테크윈 전해조 및 전해 방법
    CN106987879A (zh) * 2016-11-23 2017-07-28 瑞尔太阳能投资有限公司 电沉积装置及其电沉积方法
    EP3358045A1 (de) 2017-02-07 2018-08-08 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
    FI3415665T3 (fi) 2017-06-14 2024-02-06 Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg Menetelmä sinkki-nikkeliseoskerroksien erottamiseksi galvaanisesti emäksisestä sinkki-nikkeliseoskylvystä vähemmällä lisäaineiden hajoamisella
    EP3914757B1 (de) 2019-01-24 2023-04-05 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Verfahren zur elektrolytischen abscheidung von zink-nickel-legierungen unter verwendung eines membrananodensystems
    WO2020166062A1 (ja) 2019-02-15 2020-08-20 ディップソール株式会社 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム
    JP6750186B1 (ja) 2019-11-28 2020-09-02 ユケン工業株式会社 めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法
    TW202132629A (zh) 2019-12-20 2021-09-01 德商德國艾托特克公司 用於在基板上沉積鋅-鎳合金的方法及系統
    EP4273303A1 (de) 2022-05-05 2023-11-08 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Verfahren zum abscheiden einer zink-nickel-legierung auf einem substrat, ein wässriges zink-nickel-abscheidungsbad, ein glanzmittel und verwendung davon

    Family Cites Families (37)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    DE925264C (de) 1952-11-15 1955-03-17 Hesse & Co Dr Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden
    GB1349735A (en) 1969-11-20 1974-04-10 Fulmer Res Inst Ltd Electrodeposited metal coatings
    US3660170A (en) * 1970-04-08 1972-05-02 Gen Electric Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode
    US3718549A (en) 1971-06-14 1973-02-27 Kewanee Oil Co Alkaline nickel plating solutions
    JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
    GB1602404A (en) 1978-04-06 1981-11-11 Ibm Electroplating of chromium
    US4192908A (en) * 1979-06-15 1980-03-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell
    JPS5893886A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Tokuyama Soda Co Ltd 電気メツキ方法
    JPS5893899A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気メツキの浴管理方法
    US4469564A (en) * 1982-08-11 1984-09-04 At&T Bell Laboratories Copper electroplating process
    DE3310730A1 (de) 1983-03-24 1984-03-29 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder
    JPS59193295A (ja) 1983-04-15 1984-11-01 Hitachi Ltd ニツケルめつき方法及び装置
    US4889602B1 (en) 1986-04-14 1995-11-14 Dipsol Chem Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating
    DE3712511C3 (de) * 1986-04-14 1995-06-29 Dipsol Chem Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades
    US4832812A (en) * 1987-09-08 1989-05-23 Eco-Tec Limited Apparatus for electroplating metals
    JPH02175894A (ja) * 1988-12-28 1990-07-09 Kosaku:Kk スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置
    FR2650304B1 (fr) 1989-07-25 1991-10-04 Siderurgie Fse Inst Rech Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre
    JPH049493A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Permelec Electrode Ltd 鋼板の電気錫メッキ方法
    JP2764337B2 (ja) * 1990-05-10 1998-06-11 新日本製鐵株式会社 Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法
    JPH0444374A (ja) 1990-06-12 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd エキシマレーザ装置
    US5310465A (en) * 1990-06-14 1994-05-10 Vaughan Daniel J Electrodialytic oxydation-reduction of metals
    JPH0452296A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Permelec Electrode Ltd 銅めっき方法
    JPH08375Y2 (ja) * 1990-08-15 1996-01-10 株式会社アルメックス メッキ装置の陽極構造
    EP0483937A1 (de) 1990-10-24 1992-05-06 ATOTECH Deutschland GmbH Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung
    DE4035316C2 (de) 1990-11-07 1993-11-04 Daimler Benz Ag Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern
    JPH04176893A (ja) 1990-11-08 1992-06-24 Kawasaki Steel Corp Sn―Ni合金めっき方法
    US5162079A (en) 1991-01-28 1992-11-10 Eco-Tec Limited Process and apparatus for control of electroplating bath composition
    JP2997072B2 (ja) * 1991-02-13 2000-01-11 ディップソール株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法
    JPH059776A (ja) * 1991-07-01 1993-01-19 Fujitsu Ltd プリント配線板のめつき方法
    JPH059799A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Kawasaki Steel Corp 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置
    JPH05128533A (ja) 1991-11-05 1993-05-25 Nec Eng Ltd 光デイスク再生装置
    FR2686352B1 (fr) 1992-01-16 1995-06-16 Framatome Sa Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel.
    US5417840A (en) * 1993-10-21 1995-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Alkaline zinc-nickel alloy plating baths
    US5405523A (en) * 1993-12-15 1995-04-11 Taskem Inc. Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer
    JPH10130878A (ja) 1996-11-01 1998-05-19 Asahi Glass Co Ltd 電解ニッケルめっき方法
    US5883762A (en) 1997-03-13 1999-03-16 Calhoun; Robert B. Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations
    DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad

    Cited By (2)

    * Cited by examiner, † Cited by third party
    Publication number Priority date Publication date Assignee Title
    EP1712660A1 (de) 2005-04-12 2006-10-18 Enthone Inc. Unlösliche Anode
    US7666283B2 (en) 2005-04-12 2010-02-23 Enthone Inc. Insoluble anode

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