DE3443420C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3443420C2 DE3443420C2 DE3443420A DE3443420A DE3443420C2 DE 3443420 C2 DE3443420 C2 DE 3443420C2 DE 3443420 A DE3443420 A DE 3443420A DE 3443420 A DE3443420 A DE 3443420A DE 3443420 C2 DE3443420 C2 DE 3443420C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- bath
- chloride
- worked
- sulfate
- palladium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur galvanischen Ab
scheidung von glänzenden, rißfreien Palladium-Legierungs
überzügen unter Verwendung eines bewegten, glanzzusatzfreien
wäßrigen Bades, das eine anorganische Palladium (II)-Ver
bindung, ein in dem Bad ein Ammin bildendes Salz aus min
destens einem Metall der Eisengruppe, Ammoniak und ein Leitsalz
enthält.
Bei einem derartigen, aus der DE-OS 27 47 955 bekannten Ver
fahren wird zur Abscheidung einer Palladium-Nickel-Legierung
ein wäßriges Bad verwendet, in dem 3 bis 6 g/l Palladium
als anorganische Palladium-Verbindung in Form von Diamin-Pal
ladiumchlorid, als Metall der Eisengruppe 12 g/l Nickel in
Form von Nickelsulfamat, Nickelchlorid oder Nickelsulfat,
ferner Ammoniak und als Leitsalz 10 bis 50 g/l Ammonium
sulfamat, Ammoniumsulfamat oder Ammoniumchlorid gelöst sind.
Die galvanische Abscheidung erfolgt unter ständiger Bewegung
des Bades bei Raumtemperatur mit einer Stromdichte von 0,3
bis 3 A/dm2. Infolge der geringen Stromdichte ergibt sich
eine relativ geringe Abscheidungsrate der Palladiumlegie
rung; die verhältnismäßig niedrige Badtemperatur und der ge
ringe Palladiumanteil lassen darüber hinaus auch keine hohen
Abscheidungsraten zu. Inwieweit ferner mit dem bekannten
Verfahren ohne Verwendung zusätzlicher Glanzzusätze glänzen
de Palladium-Legierungsüberzüge erzielt werden, geht aus der
DE-OS 27 47 955 nicht hervor; es ist jedoch entsprechend
einer Weiterbildung des bekannten Verfahrens vorgesehen, dem
galvanischen Bad zusätzlich Sulfit-Ionen in Form von
Natrium-Sulfit hinzuzufügen, um gleichmäßige, glänzende
Oberflächen der Palladium-Legierungsüberzüge zu erhalten.
Eine der nachfolgend genannten Aufgabe ähnliche Aufgabe wird
bereits durch ein aus der DE-OS 31 48 788 bekanntes Verfah
ren gelöst, jedoch handelt es sich dabei um ein reines Pal
ladium-Bad und das Problem einer einwandfreien Mischkristall
bildung stellt sich daher nicht. Gerade diese ist aber zur
Erzielung qualitativ hochwertiger Palladium-Legierungsüber
züge unerläßlich. Außerdem muß das Mischungsverhältnis der
Legierungselemente im gesamten Überzug konstant bleiben; daher
ist bei der Konfektionierung des Bades darauf zu achten, daß es
beim Galvanisieren nicht zum selektiven Niederschlag einzelner
Legierungselemente kommt. Das Verhältnis ihrer Abscheidungs
raten soll im jeweiligen gewünschten Arbeitsbereich von der
Stromdichte unabhängig sein.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfah
ren anzugeben, mit dem eine schnelle Abscheidung von glän
zenden, rißfreien Palladium-Legierungsüberzügen glanzzusatz
frei erzielt wird.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einem
5 bis 30 g/l Palladiumsulfat oder -chlorid,
5 bis 30 g/l Nickelsulfat oder -chlorid und/oder
1 bis 30 g/l Kobaltsulfat oder -chlorid, sowie
10 bis 100 g/l Ammoniumsulfat oder -chlorid oder -sulfamat enthaltenden Bad bei Badtemperaturen im Bereich zwischen 20 und 70°C, pH-Werten im Bereich zwischen 6,5 und 9 und in einer Sprühzellenanordnung bei einer Durchflußgeschwindig keit des Bades relativ zur Kathode im Bereich von 0,5 bis 7 m/s und einer Stromdichte im Bereich von 10 bis 160 A/dm2 gearbeitet.
5 bis 30 g/l Palladiumsulfat oder -chlorid,
5 bis 30 g/l Nickelsulfat oder -chlorid und/oder
1 bis 30 g/l Kobaltsulfat oder -chlorid, sowie
10 bis 100 g/l Ammoniumsulfat oder -chlorid oder -sulfamat enthaltenden Bad bei Badtemperaturen im Bereich zwischen 20 und 70°C, pH-Werten im Bereich zwischen 6,5 und 9 und in einer Sprühzellenanordnung bei einer Durchflußgeschwindig keit des Bades relativ zur Kathode im Bereich von 0,5 bis 7 m/s und einer Stromdichte im Bereich von 10 bis 160 A/dm2 gearbeitet.
Als besonders vorteilhaft haben sich bei diesem
Verfahren im einzelnen folgende Parameter bei der
Konfektionierung des Bades
erwiesen: es wird mit einem 10 bis 30 g/l Palladium
sulfat oder -chlorid, 10 bis 15 g/l Nickelsulfat oder -chlorid,
2 bis 5 g/l Kobaltsulfat oder -chlorid und 50 g/l Ammonium
sulfat oder -chlorid oder -sulfamat enthaltenden Bad gear
beitet; ferner wird bei einer Badtemperatur 35°C und bei
pH-Werten im Bereich zwischen 7,5 und 8,5 gearbeitet. Vorzugs
weise mit einem Bad gearbeitet, bei dem das Verhältnis
der Nickel- zu den Palladium-Ionen mindestens 1 : 2 beträgt. Da
mit wird erreicht, daß das Verhältnis der Abscheidung von
Nickel zu Palladium von der gewählten Stromdichte unabhängig
ist. Zur Verhinderung einer Oxydation an der Anode ist bei
gleichzeitiger Anwesenheit von Sulfaten und Chloriden im Bad
der Chloridanteil geringer als der Sulfatanteil zu halten;
dabei wird vorzugsweise mit einem Bad gearbeitet, bei dem die
Gesamtmengen von Sulfat und Chlorid im Verhältnis von 1 : 0,1
bis 1 : 1 vorliegen. Ebenfalls zur Verhinderung einer Oxydation
an der Anode ist es besonders bei der Herstellung von Palla
dium-Kobalt-Überzügen vorteilhaft, wenn mit einem zusätzlich
mindestens ein Salz einer Hydroxycarbonsäure (z. B. der Wein-,
Apfel- oder Zitronensäure) enthaltenden Bad gearbeitet wird.
Dazu können 1 bis 100 g/l oder vorzugsweise 1 bis 10 g/l eines
Ammoniumsalzes einer Hydroxycarbonsäure verwendet werden.
Der pH-Wert des Bades wird mit Bestandteilen des Bades ein
gestellt. Mit Ammoniak verschiebt man ihn in den basischen
Bereich, mit Schwefel- und/oder Salzsäure - falls Sulfate
und/oder Chloride vorhanden sind - in den sauren Bereich.
Der pH-Wert wird durch die Elektrolyse kaum verändert, ledig
lich verdampfendes Ammoniak ist von Zeit zu Zeit zu ergänzen.
Jede Eleketrolyseanordnung mit größerer Elektrolytströmung
(z. B. Schwall- oder Spritzstellen) kann mit dem genannten
Bad betrieben werden. Eine derartige Anordnung zeigt
die DE-OS 31 08 358. Die Strömungsgeschwindigkeit des Bades
relativ zur Kathode ist mit der eingesetzten Stromdichte ab
zustimmen, um möglichst rasch arbeiten zu können und trotz
dem glänzende und rißfreie Überzüge zu erhalten. Die Strom
ausbeute beträgt praktisch 100%.
Im folgenden werden einige Zusammensetzungen galvanischer
Bäder angegeben, die Ausführungsbeispiele der Erfindung dar
stellen.
Badansatz:
20 g/l Pd als PdCl2
15 g/l Ni als NiSO4 · 6 H2/O
50 g/l Ammoniumsulfat oder Ammoniumchlorid pH-Wert 8,0 bis 8,5 mit NH4OH
Badtemperatur 35°C.
15 g/l Ni als NiSO4 · 6 H2/O
50 g/l Ammoniumsulfat oder Ammoniumchlorid pH-Wert 8,0 bis 8,5 mit NH4OH
Badtemperatur 35°C.
20 g/l Pd als PdCl2
12 g/l Ni als NiSO4 · 6 H2O
50 g/l Ammoniumsulfat pH-Wert 7,0 bis 7,5 mit NH4OH
Badtemperatur 50°C
12 g/l Ni als NiSO4 · 6 H2O
50 g/l Ammoniumsulfat pH-Wert 7,0 bis 7,5 mit NH4OH
Badtemperatur 50°C
Diese Bäder ergeben glänzende, duktile PdNI20-Überzüge bei
einer Stromdichte von 20 A/dm2. Der Kontaktwiderstand dieser
Schichten erhöht sich nach Korrosionsbelastung bzw. Temperung
wesentlich weniger als bei Überzügen, die aus Elektrolyten mit
organischen Glanzzusätzen erstellt werden. Es wurde, wie auch
in den folgenden Beispielen, mit einer Sprühzellenanordnung
zur Hochgeschwindigkeitselektrolyse gearbeitet.
20 g/l Pd als PdCl2
5 g/l Co als CoSO4 · 7 H2O
10 g/l Ammoniummalat oder Ammoniumcitrat
50 g/l Ammoniumsulfat pH-Wert 8,0 bis 8,5 mit NH4OH
Badtemperatur 35°C
5 g/l Co als CoSO4 · 7 H2O
10 g/l Ammoniummalat oder Ammoniumcitrat
50 g/l Ammoniumsulfat pH-Wert 8,0 bis 8,5 mit NH4OH
Badtemperatur 35°C
Dieses Bad ergibt glänzende Überzüge von PdCo25 mit niedrigem
Kontaktwiderstand bei einer Stromdichte von 20 A/dm2.
20 g/l Pd als PdCl2
15 g/l Ni als NiSO4 · 5 H2O
2 g/l Co als CoSO4 · 7 H2O
50 g/l Ammoniumsulfat
pH-Wert 8,0 bis 8,5 mit NH4OH
Badtemperatur 35°C
15 g/l Ni als NiSO4 · 5 H2O
2 g/l Co als CoSO4 · 7 H2O
50 g/l Ammoniumsulfat
pH-Wert 8,0 bis 8,5 mit NH4OH
Badtemperatur 35°C
Das Bad ergibt glänzende, duktile Überzüge vo PdCo30Ni20 bei
einer Stromdichte von 10 A/dm2.
Die mittels des genannten Verfahrens erhaltenen
Palladiumlegierungsüberzüge sind nicht nur vorzüglich für
Kontaktbauteile der Elektrotechnik und Elektronik geeignet,
sie genügen sogar dekorativen Ansprüchen.
Claims (12)
1. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von glänzenden,
rißfreien Palladium-Legierungsüberzügen unter Verwendung eines
bewegten glanzzusatzfreien wäßrigen Bades, das eine anor
ganische Palladium (II)-Verbindung, ein in dem Bad ein Ammin
bildendes Salz aus mindestens einem Metall der Eisengruppe,
Ammoniak und ein Leitsalz enthält,
dadurch gekennzeichnet,
daß mit einem 5 bis 30 g/l Palladiumsulfat oder -chlorid,
1 bis 30 g/l Nickelsulfat oder -chlorid und/oder
1 bis 30 g/l Kobaltsulfat oder -chlorid, sowie
10 bis 100 g/l Ammoniumsulfat oder -chlorid oder -sulfamat enthaltenden Bad bei Badtemperaturen im Bereich zwischen 20 und 70°C, pH-Werten im Bereich zwischen 6,5 und 9 und in einer Sprühzellenanordnung bei einer Durchflußgeschwindigkeit des Bades relativ zur Kathode im Bereich von 0,5 bis 7 m/s und einer Stromdichte im Bereich von 10 bis 160 A/dm2 gearbeitet wird.
daß mit einem 5 bis 30 g/l Palladiumsulfat oder -chlorid,
1 bis 30 g/l Nickelsulfat oder -chlorid und/oder
1 bis 30 g/l Kobaltsulfat oder -chlorid, sowie
10 bis 100 g/l Ammoniumsulfat oder -chlorid oder -sulfamat enthaltenden Bad bei Badtemperaturen im Bereich zwischen 20 und 70°C, pH-Werten im Bereich zwischen 6,5 und 9 und in einer Sprühzellenanordnung bei einer Durchflußgeschwindigkeit des Bades relativ zur Kathode im Bereich von 0,5 bis 7 m/s und einer Stromdichte im Bereich von 10 bis 160 A/dm2 gearbeitet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
10 bis 20 g/l Palladiumsulfat oder -chlorid enthaltenden Bad
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
10 bis 15 g/l Nickelsulfat oder -chlorid enthaltenden Bad ge
arbeitet wird.
4. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
2 bis 5 g/l Kobaltsulfat oder -chlorid enthaltenden Bad ge
arbeitet wird.
5. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß mit
einem 50 g/l Ammoniumsulfat oder -chlorid oder -sulfamat
enthaltenden Bad gearbeitet wird.
6. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß bei einer
Badtemperatur von 35°C gearbeitet wird.
7. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß bei
pH-Werten im Bereich zwischen 7,5 und 8,5 gearbeitet wird.
8. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
Bad gearbeitet wird, bei dem das Verhältnis der Nickel- zu den
Palladium-Ionen mindestens 1 : 2 beträgt.
9. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
Bad gearbeitet wird, bei dem die Gesamtmengen von Sulfat und
Chlorid im Verhältnis von 1 : 0,1 bis 1 : 1 vorliegen.
10. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
zusätzlichen mindestens ein Salz einer Hydroxycarbonsäure
enthaltenden Bad gearbeitet wird.
11. Verfahren nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
1 bis 100 g/l eines Ammoniumsalzes einer Hydroxycarbonsäure
enthaltenden Bad gearbeitet wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 und 10,
dadurch gekennzeichnet, daß mit einem
1 bis 10 g/l eines Ammoniumsalzes einer Hydroxycarbonsäure
enthaltenden Bad gearbeitet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843443420 DE3443420A1 (de) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | Galvanisches bad zur schnellabscheidung von palladium-legierungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843443420 DE3443420A1 (de) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | Galvanisches bad zur schnellabscheidung von palladium-legierungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3443420A1 DE3443420A1 (de) | 1986-05-28 |
DE3443420C2 true DE3443420C2 (de) | 1989-03-30 |
Family
ID=6251392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843443420 Granted DE3443420A1 (de) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | Galvanisches bad zur schnellabscheidung von palladium-legierungen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3443420A1 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5976344A (en) * | 1996-05-10 | 1999-11-02 | Lucent Technologies Inc. | Composition for electroplating palladium alloys and electroplating process using that composition |
JP6855149B1 (ja) * | 2020-03-25 | 2021-04-07 | 松田産業株式会社 | パラジウム−コバルト合金皮膜 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4100039A (en) * | 1976-11-11 | 1978-07-11 | International Business Machines Corporation | Method for plating palladium-nickel alloy |
DE3108508C2 (de) * | 1981-03-06 | 1983-06-30 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss | Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
DE3148788C2 (de) * | 1981-12-09 | 1986-08-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Wäßriges Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von glänzenden und rißfreien Palladiumschichten sowie Verfahren zur Herstellung des Bades |
-
1984
- 1984-11-26 DE DE19843443420 patent/DE3443420A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3443420A1 (de) | 1986-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2283170B1 (de) | Pd- und pd-ni-elektrolytbäder | |
DE3012168C2 (de) | ||
DE3606430C2 (de) | ||
DE3601698C2 (de) | ||
DE3012999C2 (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von hochglänzenden und duktiler Goldlegierungsüberzügen | |
DE1496917A1 (de) | Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege | |
DE860300C (de) | Kupfer- und Zinnsalze enthaltender Elektrolyt zur Erzeugung von Kupfer-Zinn-Legierungsueberzuegen und Verfahren zum Erzeugen dieser UEberzuege | |
DE2747955C2 (de) | ||
DE2114119A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Ruthenium und Elektrolysebad zur Durchfuehrung dieses Verfahrens | |
DE2337848C3 (de) | Bad und Verfahren für die elektrolytische Abscheidung von Gold und Goldlegierungen | |
WO2000079031A1 (de) | Saures bad zur galvanischen abscheidung von glänzenden gold- und goldlegierungsschichten und glanzzusatz hierfür | |
EP3067444B1 (de) | Abscheidung von dekorativen palladium-eisen-legierungsbeschichtungen auf metallischen substanzen | |
DE3139815C2 (de) | Verfahren zur galvanischen Herstellung eines einen Metallhärter enthaltenden Goldüberzugs | |
DE3443420C2 (de) | ||
DE3244092A1 (de) | Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von gold und verfahren zur galvanischen abscheidung von hartgold unter seiner verwendung | |
DE2032867C3 (de) | Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge | |
DE1952218A1 (de) | Verfahren und Mittel zum galvanischen Verzinnen | |
DE3347593C2 (de) | ||
DE1496750A1 (de) | Verfahren zum Herstellen galvanischer Chromueberzuege | |
DE3300317A1 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung von chrom | |
DE2618638A1 (de) | Galvanisches verfahren zur abscheidung von zinnenthaltenden legierungen, sowie entsprechendes elektrolysebad | |
DE3619386C2 (de) | ||
WO2004027120A1 (de) | Dunkle schichten | |
DE2439656C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung einer Zinn-Nickel-Legierung | |
DE4040526C2 (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Goldlegierungen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |