CN102301285A - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

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Abstract

提供一种电子照相感光构件，其能够再现正重影很少的良好图像，并具有良好的感光性，该电子照相感光构件在其感光层中引入共聚物，所述共聚物含有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元，或者所述共聚物含有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、和具有所述电子照感光构件的处理盒和电子照相设备。
背景技术
已知用于电子照相设备的电子照相感光构件的感光层包括单层型感光层和多层型感光层。电子照相感光构件依赖于当它们的表面静电带电时产生的电荷极性还被粗略地分为正带电性电子照相感光构件和负带电性电子照相感光构件。其中，通常使用具有多层型感光层的负带电性电子照相感光构件。
具有多层型感光层的负带电性电子照相感光构件通常具有在支承体上从支承体侧依次设置的电荷产生层和空穴输送层，所述电荷产生层含有电荷产生物质如偶氮颜料或酞菁颜料，所述空穴输送层含有空穴输送物质如腙化合物、三芳基胺化合物或茋化合物。
然而，在感光层(特别是在多层型感光层的情况下的电荷产生层)直接设置于支承体上时，经常可能发生感光层(电荷产生层)剥离或支承体表面的任何缺陷(有关形状的缺陷如划痕或有关材料的缺陷如杂质)直接反映在图像上，从而产生问题如黑点类图像缺陷和空白区域。
为了解决这些问题，大多数电子照相感光构件在感光层和支承体之间设置有称作中间层的层(也称作附属层(subbinglayer))。
然而，在一些情况下可以看到此类电子照相感光构件推测是由于中间层而使电子照相性能变得不良。因此，传统上试图通过使用各种手段，例如通过将电子输送物质引入负带电性电子照相感光构件的中间层以使中间层成为电子输送层来改进中间层的性质(日本专利申请特开No.2001-83726和No.2003-345044)。
发明内容
近来年，对于电子照相图像品质的需求存在稳定的增长。例如，对于正重影的允许限度变得非常苛刻。正重影是以下现象：在薄片上形成图像的过程中，暴露于光的区域在电子照相感光构件的下一轮(round)呈现为半色调图像，仅暴露于光的区域的图像浓度高。
在这方面，不存在上述背景技术关于如何减轻正重影获得令人满意的水平的情况。
因此，本发明的目的是提供能够再现具有较少正重影的良好图像的电子照相感光构件，以及具有此类电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
为了提供能够成功地以高水平减轻正重影，本发明人进行了深入的研究。结果，他们发现：将具有特定结构的共聚物引入电子照相感光构件的感光层，这能够使电子照相感光构件成功地以高水平减轻正重影。
更具体地，本发明是具有支承体和在支承体上形成的感光层的电子照相感光构件，其中
所述感光层包含具有由下式(1)表示的重复结构单元和由下式(2)表示的重复结构单元的共聚物或者具有由下式(1)表示的重复结构单元和由下式(3)表示的重复结构单元的共聚物：
Figure BPA00001408771300021
Figure BPA00001408771300031
其中在式(1)、(2)和(3)中
Z1至Z6各自独立地表示单键、亚烷基、亚芳基或用烷基取代的亚芳基；
E1表示由-W1-B1-W1-表示的二价基团，或者由下式(E11)表示的二价基团：
其中X1表示通过从环烃中去掉四个氢原子形成的四价基团；
E4表示由-W3-B4-W3-表示的二价基团，或者是由下式(E41)表示的二价基团：
Figure BPA00001408771300033
其中X4表示通过从环烃中去掉四个氢原子形成的四价基团；
W1至W3各自独立表示单键、氨基甲酸酯键、脲键或酰亚胺键；
A表示由任一下式(A-1)至(A-8)表示的二价基团：
其中，在式(A-1)至(A-8)中；
R101至R104各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基或氰基，或者表示键合或连接位点；R105和R106各自独立地表示氢原子，芳基，用烷基或卤素原子取代的芳基，或者烷基，或者表示键合位点；条件是R101至R106中的任意二个是键合位点；
R201至R208各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基或氰基，或者表示键合位点；R209和R210各自独立地表示氢原子，芳基，用烷基或卤素原子取代的芳基，或者烷基，或者表示键合位点；条件是R201至R210中的任意二个是键合位点；
R301至R308各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R309表示氧原子或二氰基亚甲基；R310和R311各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R304和R305不存在；条件是R301至R308中的任意二个是键合位点；
R401至R406各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R407表示氧原子或二氰基亚甲基；条件是R401至R406中的任意两个是键合位点；
R501至R508各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R509和R510各自独立地表示氧原子或二氰基亚甲基；R511和R512各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R501和R505不存在；条件是R501至R508中的任意两个是键合位点；
R601至R608各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，硝基，或羧酸酯基，或者表示键合位点；R610和R611各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R604和R605不存在；R609表示二氰基亚甲基；条件是R601至R608中的任意二个是键合位点；
R701至R713各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，硝基，或羧酸酯基，或者表示键合位点；R714和R715各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R704和R705不存在；条件是R701至R713中的任意两个是键合位点；和
R801至R808各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；条件是R801至R808中的任意两个是键合位点；
B1和B4各自独立地表示亚芳基；亚烷基；亚烷芳基；用烷基、卤素原子、氰基或硝基取代的亚芳基；用卤素原子、氰基或硝基取代的亚烷基；用烷基、卤素原子、氰基或硝基取代的亚烷芳基；由醚或磺酰基中断的亚芳基；或者由醚中断的亚烷基；和
B2和B3各自独立地表示仅用羧基取代的亚芳基；仅用羧基和烷基取代的亚芳基；或仅用羧基取代的亚烷基。
本发明还涉及处理盒，所述处理盒一体化地支承上述电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组中的至少一种装置，并且所述处理盒可拆卸地安装于电子照相设备的主体。
本发明还涉及电子照相设备，所述电子照相设备包括上述电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
本发明的效果
根据本发明，可以提供以高水平成功减轻正重影的电子照相感光构件，以及具有此类电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
具有包含上述共聚物(共聚物树脂)的感光层的电子照相感光构件在减轻正重影方面具有优异的效果的原因尚不清楚，本发明人推测的原因，如下所述。
即，用于本发明的共聚物是具有如下结构的共聚物，其中交替存在具有电子输送行为的结构和除此之外的其它结构，并且该共聚物是含有羧基的共聚物。本发明人推测，在这种共聚物中具有电子输送行为的结构没有不均匀分布的方式存在，并且羧基之间还相互作用，因而在该共聚物中具有电子输送行为的结构在该共聚物所形成的层中可能适当地排布，因此获得减少正重影的优异效果。
本发明进一步的特征由以下示例性实施方案的描述结合附图而变得显而易见。
附图说明
图1是示出具有设置有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备构造的示意图。
图2是说明重影图像(用于评价重影的打印)的图。
图3是说明单点“Keima”图案(“Keima”图案类似于国际象棋的马的(knight’s)移动图案)图像的图。
具体实施方式
以下详细地描述本发明。
通常，电子照相感光构件具有支承体和形成于支承体上的感光层。
作为支承体，可以使用任何支承体，只要其具有导电性(导电性支承体)即可。其可以包括例如由金属如铝、镍、铜、金或铁、或者任意这些金属的合金制成的支承体；由聚酯、聚酰亚胺或玻璃制成的绝缘性支承体并在其上已形成金属如铝、银或金的薄膜或导电性材料如氧化铟或氧化锡的薄膜。
为了改进其电性质和防止当用相干光(coherent light)如半导体激光照射时产生问题的任何干涉条纹，支承体可以具有已通过电化学处理如阳极氧化(anodizing)或通过湿法珩磨(honing)、喷砂(blasting)或切割而处理的表面。
多层型感光层具有包含电荷产生物质的电荷产生层和包含电荷输送物质的电荷输送层。所述电荷输送物质包括空穴输送物质和电子输送物质，其中包含空穴输送物质的电荷输送层被称为空穴输送层，包含电子输送物质的电荷输送层被称为电子输送层。可以使多层型感光层具有多个电荷输送层。
单层型感光层是将电荷产生物质和电荷输送物质引入同一层的层。
优选将用于本发明的共聚物引入在支承体上具有从支承体侧依次层叠的电子输送层、电荷产生层和空穴输送层的多层型感光层的电子输送层中。
以下采用负带电性电子照相感光构件的多层型感光层的情况来描述感光层。
电荷产生层包含电荷产生物质，并任选地包含粘结剂树脂和其它组分。
电荷产生材料可包括例如偶氮类颜料如单偶氮颜料、双偶氮颜料和三偶氮颜料；苝类颜料如苝酸酐和苝酸酰亚胺；蒽醌或多环醌颜料如蒽醌衍生物、二苯并芘二酮衍生物、二苯并芘醌(dibenzpyrenequinone)衍生物、皮蒽酮(pyranthrone)衍生物、紫蒽酮衍生物和异紫蒽酮衍生物；靛蓝颜料如靛蓝衍生物和硫靛衍生物；酞菁颜料如金属酞菁和非金属酞菁；和苝酮(perynone)颜料如二苯并咪唑衍生物。其中，优选偶氮类颜料和酞菁颜料。特别优选为氧钛酞菁、氯化镓酞菁和羟基镓酞菁。
作为氧钛酞菁，优选的是在CuKα特性X射线衍射中，在布拉格角(2θ±0.2°)为9.0°、14.2°、23.9°和27.1°处具有强峰的晶体形式的氧钛酞菁晶体和在布拉格角(2θ±0.2°)为9.5°、9.7°、11.7°、15.0°、23.5°、24.1°和27.3°处具有强峰的晶体形式的氧钛酞菁晶体。
作为氯化镓酞菁，优选的是在CuKα特性X射线衍射中，在布拉格角(2θ±0.2°)为7.4°、16.6°、25.5°和28.2°处具有强峰的晶体形式的氯化镓酞菁晶体、在布拉格角(2θ±0.2°)为6.8°、17.3°、23.6°和26.9°处具有强峰的晶体形式的氯化镓酞菁晶体和在布拉格角(2θ±0.2°)为8.7°、9.2°、17.6°、24.0°、27.4°和28.8°具有强峰的晶体形式的氯化镓酞菁晶体。
作为羟基镓酞菁，优选的是在CuKα特性X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.3°、24.9°和28.1°处具有强峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体和在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体。
在本发明中，酞菁晶体晶体形式在CuKα特性X射线衍射中的布拉格角在以下条件下测量。
测量仪器：全自动X射线衍射仪(商品名：MXP18；由MachScience Co.制造)。
X射线管：Cu，管电压：50kV；管电流：300mA，扫描方法：2θ/θ扫描，扫描速度：2°/分钟，取样间隔：0.020°，开始角度(2θ)：5°，停止角度(2θ)：40°，发散狭缝：0.5°，散射狭缝：0.5°，和接收狭缝：0.3mm。使用凹形单色镜。
用于电荷产生层的粘结剂树脂可以包括例如，乙烯基化合物如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯和三氟乙烯的聚合物和共聚物；聚乙烯醇；聚乙烯醇缩醛；聚碳酸酯；聚酯；聚砜；聚苯醚；聚氨酯；纤维素树脂；酚醛树脂；三聚氰胺树脂；硅酮树脂；和环氧树脂。其中，聚酯、聚碳酸酯和聚乙烯醇缩醛是优选的。特别地，聚乙烯醇缩醛是更优选的。
空穴输送物质可以包括例如，多环芳香族化合物、杂环化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、联苯胺化合物、三芳基胺化合物和三苯基胺化合物、或者在主链或侧链中具有衍生自任意这些化合物的基团的聚合物。
用于空穴输送层的粘结剂树脂可以包括例如，聚酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、多芳基化合物(polyarylate)、聚砜和聚苯乙烯。其中，聚碳酸酯和多芳基化合物是特别优选的。任何这些树脂还可以优选具有重均分子量(Mw)为10,000至300,000范围的分子量。
在空穴输送层中，空穴输送物质和粘结剂树脂可优选以10/5至5/10，更优选10/8至6/10的比例(空穴输送物质/粘结剂树脂)。
在负带电性电子照相感光构件的情况下，表面保护层可进一步形成于空穴输送层上。表面保护层包含导电性颗粒或电荷输送物质和粘结剂树脂。表面保护层可进一步包含添加剂如润滑剂。表面保护层的粘结剂树脂本身可具有导电性和/或电荷输送性质。在这种情况下，表面保护层不需要包含导电性颗粒和/或电荷输送物质。表面保护层的粘结剂树脂可以是能够通过热、光或辐射等而固化的可固化树脂和非固化热塑性树脂。
电子输送层形成于电荷产生层与支承体之间。电子产生层由单层或多层构成。当电子产生层是多层时的情况下，这些层的至少一层包含上述共聚物。此外，除了包含共聚物的电子产生层之外，可以在电荷产生层和支承体之间形成用于改进粘合性的粘合剂层或用于改进电性能的层，例如由树脂和分散于其中的金属氧化物或导电性颗粒如炭黑形成的导电层。
用于本发明中的感光层用共聚物是具有由下式(1)表示的重复结构单元和由下式(2)表示的重复结构单元的共聚物，或者是具有由下式(1)表示的重复结构单元和由下式(3)表示的重复结构单元的共聚物：
其中在式(1)、(2)和(3)中
Z1至Z6各自独立地表示单键、亚烷基、亚芳基或用烷基取代的亚芳基；
E1表示由-W1-B1-W1-表示的二价基团，或者由下式(E11)表示的二价基团：
Figure BPA00001408771300112
其中X1表示通过从环烃中去掉四个氢原子形成的四价基团；
E4表示由-W3-B4-W3-表示的二价基团，或者是由下式(E41)表示的二价基团：
Figure BPA00001408771300121
其中X4表示通过从环烃中去掉四个氢原子形成的四价基团；
W1至W3各自独立表示单键、氨基甲酸酯键、脲键或酰亚胺键；
A表示由任一下式(A-1)至(A-8)表示的二价基团：
Figure BPA00001408771300122
其中，在式(A-1)至(A-8)中；
R101至R104各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基或氰基，或者表示键合位点；R105和R106各自独立地表示氢原子，芳基，用烷基或卤素原子取代的芳基，或者烷基，或者表示键合位点；条件是R101至R106中的任意二个是键合位点；
R201至R208各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基或氰基，或者表示键合位点；R209和R210各自独立地表示氢原子，芳基，用烷基或卤素原子取代的芳基，或者烷基，或者表示键合位点；条件是R201至R210中的任意二个是键合位点；
R301至R308各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R309表示氧原子或二氰基亚甲基；R310和R311各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R304和R305不存在；条件是R301至R308中的任意二个是键合位点；
R401至R406各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R407表示氧原子或二氰基亚甲基；条件是R401至R406中的任意两个是键合位点；
R501至R508各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R509和R510各自独立地表示氧原子或二氰基亚甲基；R511和R512各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R501和R505不存在；条件是R501至R508中的任意两个是键合位点；
R601至R608各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，硝基，或羧酸酯基，或者表示键合位点；R610和R611各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R604和R605不存在；R609表示二氰基亚甲基；条件是R601至R608中的任意二个是键合位点；
R701至R713各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，硝基，或羧酸酯基，或者表示键合位点；R714和R715各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R704和R705不存在；条件是R701至R713中的任意两个是键合位点；和
R801至R808各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；条件是R801至R808中的任意两个是键合位点；
在式(1)、(2)和(3)中，
B1和B4各自独立地表示亚芳基；亚烷基；亚烷芳基(即，具有亚芳基部分和亚烷基部分两者的二价基团)；用烷基、卤素原子、氰基或硝基取代的亚芳基；用卤素原子、氰基或硝基取代的亚烷基；用烷基、卤素原子、氰基或硝基取代的亚烷芳基；由醚或磺酰基中断的亚芳基；或由醚中断的亚烷基；和
B2和B3各自独立地表示仅用羧基取代的亚芳基；仅用羧基和烷基取代的的亚芳基；或仅用羧基取代的亚烷基。换言之，B2和B3各自独立地表示取代基为羧基的取代的亚芳基、取代基为羧基和烷基的取代的亚芳基，或者取代基为羧基的取代的亚烷基。
电子输送层可优选以80质量％至100质量％的量包含上述共聚物，基于电子输送层的总质量。
为了优化成膜性和电性质，除共聚物之外，电子输送层还可包含各种类型的树脂、交联剂、有机颗粒、无机颗粒、流平剂等。然而，这些可优选含量为小于50质量％，更优选小于20质量％，基于电子输送层的总质量。
在上述共聚物中，各重复结构单元可以是按需选择的任何比例。由式(1)表示的重复结构单元优选比例为50mol％至99mol％，更优选70mol％至99mol％，基于共聚物的全部重复结构单元。
在当共聚物是具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的情况下，由式(2)表示的重复结构单元优选比例为1mol％至30mol％，基于共聚物中的全部重复结构单元。由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的总量优选比例为70mol％至100mol％，基于共聚物的全部重复结构单元。
在当共聚物是具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的情况下，同样，由式(3)表示的重复结构单元可优选比例为1mol％至30mol％，基于共聚物的全部重复结构单元。由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的总量也可优选比例为70mol％至100mol％，基于共聚物的全部重复结构单元。
用于本发明的共聚物的具体实例示于以下，然而，本发明绝不限于此。
在下表1至16C中，键合位点通过虚线示出。在键是单链的情况下，将其示作“sing.”。
式(1)、(2)和(3)与表1至16C中根据从右到左的方向给出的基团(结构)相同。关于示例性化合物125-127、209-211、308-310、322-357、407、408、414-444、509、510、513-549、607-609、612-646、707-709、712-745、807-809和812-844，-NHCOO-作为W1和W3的基团沿该方向排列以致N’s分别结合至B1和B4。
表1(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表2A和2B(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。表2C(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表3(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表4A和4B(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。表4C(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表5(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表6A、6B、6C和6D(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表7(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表8A、8B、8C和8D(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表9(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表10A、10B和10C(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表11(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表12A、12B和12C(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表13(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表14A、14B和14C(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表15(稍后给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
表16A、16B和16C(以下给出)示出具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物的具体实例(示例性化合物)。
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本发明所用共聚物的分子量可以优选，但不限于5,000-15,000的重均分子量(Mw)。为了在式(1)-(3)中形成W1至W3的键(bonds)或键(linkages)，本发明所用共聚物也可以通过但不限于例如以下反应过程来合成。
当W1至W3的键是氨基甲酸酯键时，共聚物可以通过例如使具有羟基的化合物与具有异氰酸酯基的化合物反应来形成(“The Foundation and Application of Polyurethane”，CMCPublishing Co.，Ltd.，p.3，1986)。然而，在本发明中，反应绝不限于此反应。
当W1至W3的键是脲键时，共聚物可以通过使具有氨基的化合物与具有异氰酸酯基的化合物反应来形成(“The Synthesisand Reaction of High Polymers(2)”，Kyoritu Shuppan Co.，Ltd.，p.326，1991)。然而，在本发明中，反应绝不限于此反应。
当W1至W3的键是酰亚胺键时，共聚物可以通过使具有酸二酐基团的化合物与具有氨基的化合物反应来形成(“TheDictionary of High Polymers”，Maruzen Co.，Ltd.，p.1101，1994)。然而，在本发明中，反应绝不限于此反应。
当W1至W3的键是单键时，共聚物可以通过例如使用脲化合物和硼酸衍生物作为原料、在碱性条件下并利用钯催化剂例如四(三苯基膦)钯进行的偶联反应来形成(Angew.Chem.Int.Ed.2005，44，4442)。然而，已知单键可通过其它各种反应产生，在本发明中该反应绝不限于此反应。
本发明中使用的共聚物可通过具有上述可聚合官能团的化合物相互聚合来合成。当以此方式合成共聚物时，需要先获得具有可聚合官能团如氨基、羟基、异氰酸酯基、卤素基团、硼酸基团或酸酐基团并具有与上式(A-1)-(A-8)中任意一个相对应的骨架的化合物。然后，需要采用此类化合物进行形成由W1至W3表示的键(bonds)或键(linkages)的聚合反应。
具有(A-1)结构作为主骨架的衍生物(其是指具有可聚合官能团并具有与式(A-1)相对应的骨架的化合物；下同，可通过使用例如美国专利4,442,193、4,992,349或5,468,583、或者Chemistry of Materials，Vol.19，No.11，pp.2703-2705，2007所公开的合成方法来合成)。这些可通过萘四羧酸酐与单胺衍生物的反应来合成；二者作为试剂可商购自例如Tokyo ChemicalIndustry Co.，Ltd.、Sigma-Aldrich Japan Co.或Johnson MattheyJapan Incorporated。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-1)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法，以及此外利用具有可聚合官能团或可为可聚合官能团前体的官能团、或者具有可与具有可聚合官能团的其它化合物结合的官能团的萘四甲酸二酐(naphthalenetetracarboxylic dianhydride)衍生物或单胺衍生物的方法。
其中使萘四甲酸二酐衍生物与二胺衍生物反应来直接生产聚合物的方法也是可用的。在此情况下，式(1)至(3)中的Z1至Z6和W1至W3是单键。
具有(A-2)结构作为主骨架的衍生物可通过使用例如Journal of the American Chemical Society，Vol.129，No.49，pp.15259-78，2007所公开的合成方法来合成，并可通过苝四甲酸二酐(perylenetetracarboxylic dianhydride)衍生物与单胺衍生物的反应来合成；二者作为试剂可商购自例如Tokyo ChemicalIndustry Co.，Ltd.、Sigma-Aldrich Japan Co.或Johnson MattheyJapan Incorporated。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-2)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法，以及此外利用具有可聚合官能团或可为可聚合官能团前体的官能团、或者具有可与具有可聚合官能团的其它化合物结合的官能团的苝四甲酸二酐衍生物或单胺衍生物的方法。
其中使苝四甲酸二酐衍生物与二胺衍生物反应来直接生产聚合物的方法也是可用的。在此情况下，式(1)至(3)中的Z1至Z6和W1至W3是单键。
具有(A-3)结构作为主骨架的一些衍生物作为试剂可商购自例如Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.、Sigma-Aldrich JapanCo.或Johnson Matthey Japan Incorporated。此外，这些也可以使用商购可得的菲衍生物或菲咯啉衍生物为原料、通过Bull.Chem.Soc.，Jpn.，Vol.65，pp.116-1011，1992、Chem.Educator No.6，pp.227-234，2001、Journal of Synthetic Organic Chemistry，Japan，Vol.15，pp.29-32，1957、或Journal of Synthetic OrganicChemistry，Japan，Vol.15，pp.32-34，1957所公开的合成方法来合成。二氰基亚甲基也可通过与丙二腈的反应来引入。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-3)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法，以及此外将具有可聚合官能团或可为可聚合官能团前体的官能团的结构引入的方法(例如，通过使用菲衍生物的卤化物或菲咯啉衍生物的卤化物作为原料利用钯催化剂进行交叉偶联反应的方法)。
具有(A-4)结构作为主骨架的一些衍生物作为试剂商购可得自例如Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.、Sigma-AldrichJapan Co.或Johnson Matthey Japan Incorporated。此外，这些也可以使用商购可得的苊醌(acenaphthenequinone)衍生物为原料、通过Tetrahedron Letters，43(16)，pp.2911-2944，2002或Tetrahedron Letters，44(10)，pp.2087-2091，2003所公开的合成方法来合成。二氰基亚甲基也可通过与丙二腈的反应来引入。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-4)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法，以及此外将具有可聚合官能团或可为可聚合官能团前体的官能团的结构引入的方法(例如，通过使用苊醌衍生物的卤化物作为原料利用钯催化剂进行交叉偶联反应的方法)。
具有(A-5)结构作为主骨架的一些衍生物作为试剂可商购自例如Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.、Sigma-Aldrich JapanCo.或Johnson Matthey Japan Incorporated。此外，这些也可以使用商购可得的化合物为原料、通过Synthesis，Vo.5，pp.388-389，1988所公开的合成方法来合成。二氰基亚甲基也可通过与丙二腈的反应来引入。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-5)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法，以及此外将具有可聚合官能团或可为可聚合官能团前体的官能团的结构引入的方法(例如，通过使用蒽醌衍生物的卤化物为原料利用钯催化剂进行交叉偶联反应进行的方法)。
具有(A-6)结构作为主骨架的衍生物可通过采用美国专利4,562,132所公开的合成方法，使用芴酮衍生物和丙二腈来合成；前者作为试剂可商购自例如Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.、Sigma-Aldrich Japan Co.或Johnson Matthey JapanIncorporated。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-6)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法，以及此外将具有可聚合官能团或可为所述可聚合官能团前体的官能团的结构引入的方法。
具有(A-7)结构作为主骨架的衍生物可通过使用日本专利申请特开H05-279582或H07-70038所公开的合成方法，使用芴酮衍生物和苯胺衍生物来合成；二者作为试剂可商购自例如Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.、Sigma-Aldrich Japan Co.或Johnson Matthey Japan Incorporated。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-7)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法，以及此外将具有可聚合官能团或可为所述可聚合官能团前体的官能团的结构引入的方法和利用具有可聚合官能团或可为可聚合官能团前体的官能团、或者具有可与具有可聚合官能团的其它化合物结合的官能团的苯胺衍生物作为上述苯胺衍生物的方法。
具有(A-8)结构作为主骨架的衍生物可以通过采用日本专利申请特开H01-206349或PPCI/Japan Hardcopy‘98 Papers，p.207，1988所公开的合成方法来合成，并可通过采用作为试剂可商购自例如Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.或Sigma-Aldrich Japan Co.的苯酚衍生物作为原料来合成。
为了使该化合物具有可聚合官能团，可用的方法例如：合成通过上述合成方法合成的对应于式(A-8)的骨架，其后引入可聚合官能团的方法以及此外将具有可聚合官能团或可为可聚合官能团前体的官能团的结构引入的方法。
具有根据B1至B4的结构作为主骨架的衍生物(其是指将上述可聚合官能团在B1至B4二价基团键合至Z’s的位点引入的那些；下文中B1至B4也统称为“B’s”)作为试剂可商购自例如TokyoChemicalIndustry Co.，Ltd.或Sigma-Aldrich Japan Co.。这些也可通过将可聚合官能团引入商购可得的化合物来合成。此类商购可得产品可以包括，例如作为含异氰酸酯的化合物的商购可得产品，可购自Mitsui Takeda Chemicals，Inc的TAKENATE和COSMONATE；可购自Asahi Chemical Industry Co.，Ltd.的DURANATE；和可购自Nippon Polyurethane Industry Co.，Ltd.的NIPPOLAN。作为含氨基的化合物的商购可得产品，它们可包括可购自Nippon Shokubai Co.，Ltd.的POLYMENT；和可购自Three Bond Co.，Ltd.的“2100系列”。此外，作为含羟基的化合物的商购可得产品，它们可包括可购自Mitsui ChemicalsPolyurethane，Inc.的TAKELAC；和可购自DIC Corporation的POLYLITE。
在B’s中，B2和B3各自需要具有羧基。因此，为了将该结构引入共聚物中，可用的方法如下：将具有含羧基的结构的化合物、或者具有包含在聚合后能够衍生为羧基的官能团例如羧酸酯基的结构的化合物，进一步聚合成具有各自具有可聚合官能团的B2和B3结构作为主骨架的衍生物。
本发明所用的共聚物等通过以下方法来确认。
用于合成共聚物的原料的确认：
原料通过质谱法来确认。采用质谱仪(MALDI-TOF MS，ultraflex，Bruker Daltonics Corp.制造)，在以下条件下测量分子量：加速电压20kV；模式：反射镜(reflector)；分子量标准分子：C60富勒烯。通过所获得的峰顶值来进行确认。
共聚物的确认：
其结构通过NMR来确认。该结构通过1H-NMR和13C-NMR分析(FT-NMR：JNM-EX400型，JEOL Ltd.制造)在120℃下在1，1，2，2-四氯乙烷(d2)或二甲基亚砜(d6)中来确认。为了定量测定羧基含量，共聚物中的羧基含量也通过以下方法定量测定：采用FT-IR，使用其中通过使用KBr压片法将苯甲酸以不同用量添加至KBr粉末的样品制作基于羧基吸收的标准曲线。
作为形成构成电子照相感光构件如电荷产生层、空穴输送层和电子输送层的层的方法，优选以下方法：施涂通过溶解或分散组成各层的材料而制备的涂布液以形成所述层。涂布方法可包括，例如浸涂、喷涂、帘式涂布和旋涂。从效率和生产率的角度考虑，优选浸涂。
本发明的处理盒是一体化地支承本发明的电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置的处理盒，并且可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
本发明的电子照相设备是包括本发明的电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置的电子照相设备。
图1示意性示出设置有具有本发明电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的构造。
在图1中，附图标记1表示本发明的鼓形电子照相感光构件，其沿箭头方向以规定的圆周速度围绕轴2旋转驱动。在其旋转期间，电子照相感光构件1通过充电装置3(例如接触式一次充电装置或非接触式一次充电装置)在其表面(圆周表面)均匀静电带电为正或负的给定电势。然后将如此充电的电子照相感光构件暴露于由用于狭缝曝光或激光束扫描曝光的曝光装置(未示出)发出的曝光光4(例如激光)。以此方式，在电子照相感光构件1的表面上连续形成静电潜像。
然后将如此形成的静电潜像采用容纳在显影装置5(其可以是接触式或者非接触式)中的调色剂显影。将如此形成的调色剂图像通过转印装置6连续转印至转印材料7(例如纸)，所述转印材料7以与电子照相感光构件1的旋转同步的方式从纸张进给部(未示出)进给至电子照相感光构件1和转印装置6(例如转印充电组件)之间的部分。
将已转印调色剂图像至其的转印材料7从电子照相感光构件的表面分离，将所述调色剂图像导入至在其中定影调色剂图像的定影装置8，然后作为复制品(复印品)从该设备输出。
将已从其转印调色剂图像的电子照相感光构件1的表面通过清洁装置9除去转印残余调色剂。由此清洁电子照相感光构件的表面，并进一步通过由预曝光装置(未示出)发出的预曝光光进行电荷消除，然后重复用于形成图像。
充电装置3可以是栅格(scorotron)充电组件和电晕充电组件，其利用电晕放电。也可以使用利用例如辊形、刀片形或刷形充电构件的接触式充电装置。
在本发明中，可以将上述电子照相感光构件1和选自如充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置9等构成要素的至少一种装置如此装配从而一体化结合作为处理盒。也可以将该处理盒如此装配从而可拆卸地安装至电子照相设备如复印机或激光束打印机的主体。
例如，充电装置3、显影装置5和清洁装置9中的至少一种装置可以与电子照相感光构件1一起一体化地支承以形成盒，从而装配通过在电子照相设备主体中设置的引导件(guide)如导轨(rails)11和12可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒10。
在当电子照相设备是复印机或打印机的情况下，曝光光4是从原稿反射的光或透过原稿的光；或者是根据通过借助于传感器读取原稿并将信息转换为信号而获得的信号，通过激光束扫描、LED阵列驱动或液晶快门阵列驱动发射的光。
本发明的电子照相感光构件适用于通常的电子照相设备，如复印机、激光束打印机、LED打印机和液晶快门打印机。它可进一步广泛用于已经应用电子照相技术的显示、记录、轻印刷、制版和传真等。
实施例
以下通过给出具体的工作例更详细地描述本发明。然而，需要注意本发明绝不限于这些实例。
首先给出引入本发明电子照相感光构件的感光层的共聚物的合成例。然而，需要注意本发明所用的共聚物的合成绝不限于以下化合物和合成方法。
本文中，已合成的各个共聚物的分子量通过GPC测量(使用凝胶渗透色谱仪“HLC-8120”测量，Tosoh Corporation制造，并根据聚苯乙烯计算)。
合成例1
(示例性化合物101的共聚物)
在氮气气氛中，将5.4质量份萘四甲酸二酐、2.1质量份1，4-苯二胺和0.15质量份3，5-二氨基苯甲酸加入200质量份二甲基乙酰胺中，并将这些在室温下搅拌1小时。这些原料溶解后，进行回流8小时，所形成的沉淀通过过滤来分离，接着使用丙酮洗涤，从而获得6.2质量份目标共聚物(示例性化合物101)。所得产物呈粒状。
合成例2
(示例性化合物102的共聚物)
在氮气气氛中，向200质量份二甲基乙酰胺，添加8.2质量份通过Chemistry of Materials，Vol.19，No.11，pp.2703-2705(2007)所描述的合成方法合成的二溴萘四甲酸二酐、2.1质量份1，4-苯二胺和0.15质量份3，5-二氨基苯甲酸，并将这些在室温下搅拌1小时。这些原料溶解后，进行回流8小时，所形成的沉淀通过过滤来分离，接着使用丙酮洗涤，从而获得7.5质量份目标共聚物(示例性化合物102)。所得产物呈粒状。
合成例3
(示例性化合物125的共聚物)
在氮气气氛中，向200质量份二甲基乙酰胺，添加5.4质量份萘四甲酸二酐和4.4质量份4-羟基苯胺，并将这些在室温下搅拌1小时。这些原料溶解后，进行回流8小时，所形成的沉淀通过过滤来分离，接着使用乙酸乙酯重结晶，从而获得5.0质量份由以下结构式表示的化合物。
Figure BPA00001408771301591
向4.3质量份由上述结构式表示的化合物，添加1.6质量份1，4-苯二异氰酸酯和0.08质量份3，5-二羟基苯甲酸，在甲苯中进行回流8小时，形成的沉淀通过过滤来分离，接着使用丙酮洗涤，从而获得3.6质量份目标共聚物(示例性化合物125)。所得产物呈粒状。
合成例4
(示例性化合物304的共聚物)
向20质量份通过Journal of Synthetic Organic Chemistry，Japan，Vol.15，pp.29-32(1957)和Journal of Synthetic OrganicChemistry，Japan，Vol.15，pp.32-34(1957)所描述的合成方法合成的二氨基菲醌，添加8质量份二氰基亚甲基丙二腈，在四氢呋喃中进行回流12小时。静置冷却后，将沉淀的紫色晶体通过过滤来分离，接着使用乙酸乙酯重结晶，从而获得4.8质量份由以下结构式表示的化合物。
Figure BPA00001408771301601
在氮气气氛中，向200质量份二甲基乙酰胺，添加4.5质量份由上述结构式表示的化合物、0.15质量份3，5-二氨基苯甲酸和4.4质量份1，2，4，5-苯四酸酐，并将这些在室温下搅拌1小时。这些原料溶解后，进行回流8小时，所形成的沉淀通过过滤来分离，接着使用丙酮洗涤，从而获得5.2质量份目标共聚物(示例性化合物304)。所得产物呈粒状。
合成例5
(示例性化合物310的共聚物)
在氮气气氛中，向100质量份甲苯和50质量份乙醇的混合溶剂，添加2.8质量份3-羟基苯基硼酸和7.4质量份通过Chem.Educator No.6，pp.227-234(2001)所描述的合成方法合成的3，6-二溴-9，10-菲二酮。向所得混合物中，逐滴添加100质量份20％碳酸钠水溶液，然后加入0.55质量份四(三苯基膦)钯(0)，接着回流2小时。反应后，有机相用氯仿萃取，然后用水洗涤，接着用无水硫酸钠干燥。在减压下除去溶剂，随后将所形成的残余物通过硅胶色谱法纯化，从而获得5.2质量份由以下结构式表示的化合物。
Figure BPA00001408771301602
向3.7质量份由上述结构式表示的化合物，添加1.6质量份1，4-苯二异氰酸酯和0.08质量份3，5-二羟基苯甲酸，在100质量份甲苯中进行回流12小时，从而获得2.2质量份目标共聚物(示例性化合物310)。所得产物呈粒状。
接着，如下所示制造和评价电子照相感光构件。
实施例1
将长度为260.5mm、直径为30mm的铝圆筒(JIS A 3003、铝合金)用作支承体(导电性支承体)。
接着，将50质量份作为导电性颗粒的氧缺陷SnO2涂布的TiO2颗粒(粉末电阻：120Ω·cm；以质量百分比计的SnO2覆盖率：40％)、40质量份作为粘结剂树脂的酚醛树脂(PLYOPHEN J-325；购自Dainippon Ink & Chemicals，Incorporated；树脂固成分：60％)和40份作为溶剂的羟甲基丙醇(分散介质)借助于利用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机进行分散3小时，从而制备导电层涂布液(液态分散液)。
该导电层涂布液中的氧缺陷SnO2涂布的TiO2颗粒的平均粒径为0.33μm(采用Horiba Ltd.制造的粒径分布仪CAPA700(商品名)、并使用四氢呋喃作为分散介质，通过在5,000rpm转数下离心沉降法进行测量)。
将该导电层涂布液浸涂于支承体上，并将所形成的湿涂层通过在145℃下加热30分钟来干燥和固化，从而形成层厚度为16μm的导电层。
接着，向40质量份示例性化合物101的共聚物颗粒(该共聚物中含羧基部分的比例及其分子量如表17所示)，添加300质量份作为分散介质的蒸馏水、500质量份甲醇和8质量份三乙胺，并将它们通过利用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机进行分散2小时，从而制得电子输送层涂布液(液态分散液)。
在制备该电子输送层涂布液之前和之后，所述共聚物的粒径也通过使用Horiba Ltd.制造的粒径分布仪CAPA700(商品名)、并使用甲醇作为分散介质，通过在7,000rpm转数下的离心沉降来测量。所得结果也示于表17。
将该电子输送层涂布液浸渍涂布于导电层上，并将其在120℃下加热10分钟以使分散介质蒸发，同时使所述共聚物颗粒凝聚(使其干燥)，从而形成层厚度为1.0μm的电子输送层。
接着，将10质量份在CuKα特性X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体、5质量份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：S-LEC BX-1，购自Sekisui Chemical Co.，Ltd.)和260质量份环己酮通过利用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机进行分散1.5小时。接着，向其加入240份乙酸乙酯，从而制备电荷产生层涂布液。
将该电荷产生层涂布液浸涂于电子输送层上，并将其在95℃下干燥10分钟，从而形成层厚度为0.18μm的电荷产生层。
接着，将7质量份由以下结构式表示的胺化合物(空穴输送物质)：
Figure BPA00001408771301621
和10质量份具有由以下结构式表示的重复结构单元并且重均分子量(Mw)(采用Tosoh Corporation制造的凝胶渗透色谱仪“HLC-8120”测量，并根据聚苯乙烯计算)为10,000的多芳基化合物溶解于30质量份二甲氧基甲烷和70质量份氯苯的混合溶剂中，从而制备空穴输送层涂布液。
Figure BPA00001408771301631
将该空穴输送层涂布液浸涂于电荷产生层上，并将其在120℃下干燥40分钟，从而形成层厚度为18μm的空穴输送层。
由此，生产其空穴输送层为表面层的电子照相感光构件。
导电层、电子输送层和空穴输送层各自的层厚度通过以下方式测定：使用通过在具有与上述支承体相同尺寸的铝圆筒上卷绕铝薄片并在与上述相同条件下在其上形成对应于导电层、电子输送层和空穴输送层的膜而制得的样品，采用直读式厚度计(dial gauge)(2109FH，Mitutoyo Corporation制造)测量在该样品中间部分的六个点处各层的层厚度，并计算如此获得的值的平均值。
为了测定电荷产生层的层厚度，将通过以与上述相同的方式形成的对应于电荷产生层的膜而制得的样品在其中间部分切出100mm×50mm区域，该区域处的膜用丙酮擦除，其中该层厚度由该膜擦除前后所测的重量来计算(以1.3g/cm3的密度计算)。
将所制造的电子照相感光构件在23℃和50％RH的环境下安装于CA°NON INC.制造的激光束打印机LBP-2510中，对其表面电势以及再现的图像进行评价。详述如下。
表面电势评价：
将上述激光束打印机LBP-2510的青色用处理盒转换为电势探针(6000B-8型，Trek Japan Corporation制造)附着于显影位置，采用表面电位仪(1344型，Trek Japan Corporation制造)测量电子照相感光构件(感光鼓)中间部分的电势，从而评价表面电势。如此设置光量以使暗区电势为-500V、亮区电势为-100V。此外，在其它各实施例中，使用与实施例1中使亮区电势达到-100V相同的光量作为评价该亮区电势的光量。
图像评价：
将所制造的电子照相感光构件安装于激光束打印机LBP-2510的青色用处理盒中。将该处理盒安装于青色处理盒位置，并再现图像。此时，如此设置光量以使暗区电势为-500V、亮区电势为-100V。
首先，使用A4-尺寸普通纸，在3,000张纸上再现全色图像(对于每种颜色，字符图像的打印百分比为1％)。
随后，以实白图像(1张)、重影图像(5张)、实黑图像(1张)和重影图像(5张)的顺序连续再现图像。
重影图像是如图2所示在图像前端区域处再现实心正方图像并随后如图3所示在单点“Keima”图案中形成半色调图像的那些。
重影图像通过测量单点“Keima”图案的图像浓度与重影区域的图像浓度之间的浓度差来评价。浓度差通过采用光谱浓度计(商品名：X-Rite 504/508，X-Rite Ltd.制造)在一张上的重影图像中10个点处测量。对10张上的所有重影图像进行该操作，并计算100个点处值的平均值。结果示于表17。重影区域的浓度较高的图像为正重影图像。该浓度差(Macbeth浓度差)意味着，该值越小，正重影图像出现的可能性越小。
实施例2-11
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例12
除了将电子输送层中所用的共聚物改变为表17所示共聚物和当制备电子输送层涂布液时进一步添加10质量份聚酰胺树脂(TORESIN EF30T，购自Nagase ChemteX Corporation)之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例13-18
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例19
除了将电子输送层中所用的共聚物改变为表17所示共聚物和当制备电子输送层涂布液时进一步添加10质量份聚酰胺树脂(TORESIN EF30T，购自Nagase ChemteX Corporation)之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例20-27
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例28-30
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物，并且在实施例28、29、30中，当制备电子输送层涂布液时分别进一步添加10质量份、13.3质量份和40质量份聚酰胺树脂(TORESIN EF30T，购自Nagase ChemteX Corporation)之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例31-37
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例38
除了将电子输送层中所用的共聚物改变为表17所示共聚物和当制备电子输送层涂布液时进一步添加10质量份酚醛树脂(PLYOPHEN J-325，购自Dainippon Ink & Chemicals，Incorporated)之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例39-51
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例52-54
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物，并且在实施例52、53、54中，当制备电子输送层涂布液时分别进一步添加10质量份、13.3质量份和40质量份聚酰胺树脂(TORESIN EF30T，购自Nagase ChemteX Corporation)之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
实施例55-229
除了将电子输送层中所用的共聚物分别改变为表17所示共聚物之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表17中。
比较例1
除了将电子输送层替换为以下方法制备的中间层之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件：制备由40质量份聚酰胺树脂(TORESIN EF30T，购自Nagase ChemteXCorporation)、300质量份正丁醇和500质量份甲醇组成的涂布液并将其涂布，随后在120℃下干燥10分钟，从而形成层厚度为0.8μm的中间层。以与实施例1相同的方式进行评价。结果示于表18中。
比较例2
除了使用由下述结构式(I-1)表示的嵌段共聚物(日本专利申请特开2001-83726)代替本发明所用的共聚物来形成电子输送层之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表18中。
Figure BPA00001408771301671
比较例3
除了使用由下述结构式表示的化合物(日本专利申请特开2003-345044)代替本发明所用的共聚物来形成电子输送层之外，以与实施例1相同的方式制造电子照相感光构件。以相同的方式进行评价。结果示于表18中。
Figure BPA00001408771301681
表17
Figure BPA00001408771301691
表17(续)
Figure BPA00001408771301701
表17(续)
表17(续)
表17(续)
Figure BPA00001408771301731
表17(续)
表17(续)
Figure BPA00001408771301751
表17(续)
表18
  比较例   Macbeth浓度差   V1(-V)
  1   0.070   165
  2   0.085   170
  3   0.070   130
虽然已经参照示例性实施方案描述了本发明，但是应当理解，本发明不限于所公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围符合最宽泛的解释，以致包含所有此类改进、等同的结构和功能。
本申请要求2009年1月30日提交的日本专利申请2009-019744和2010年1月29日提交的日本专利申请2010-017706的权益，在此将这些专利申请的全部内容引入以作参考。

Claims (11)

1.一种电子照相感光构件，其包括支承体和形成于所述支承体上的感光层，其中
所述感光层包含具有由下式(1)表示的重复结构单元和由下式(2)表示的重复结构单元的共聚物，或者具有由下式(1)表示的重复结构单元和由下式(3)表示的重复结构单元的共聚物：
Figure FPA00001408771200011
其中在式(1)、(2)和(3)中，
Z1至Z6各自独立地表示单键、亚烷基、亚芳基或用烷基取代的亚芳基；
E1表示由-W1-B1-W1-表示的二价基团，或者由下式(E11)表示的二价基团：
Figure FPA00001408771200012
其中X1表示通过从环烃中去掉四个氢原子形成的四价基团；
E4表示由-W3-B4-W3-表示的二价基团，或者由下式(E41)表示的二价基团：
Figure FPA00001408771200013
其中X4表示通过从环烃中去掉四个氢原子形成的四价基团；
W1至W3各自独立地表示单键、氨基甲酸酯键、脲键或酰亚胺键；
A表示由任一下式(A-1)至(A-8)表示的二价基团：
Figure FPA00001408771200021
其中，在式(A-1)至(A-8)中，
R101至R104各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，或氰基，或者表示键合位点；R105和R106各自独立地表示氢原子，芳基，用烷基或卤素原子取代的芳基，或烷基，或者表示键合位点；条件是R101至R106中的任意二个是键合位点；
R201至R208各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，或氰基，或者表示键合位点；R209和R210各自独立地表示氢原子，芳基，用烷基或卤素原子取代的芳基，或烷基，或者表示键合位点；条件是R201至R210中的任意二个是键合位点；
R301至R308各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R309表示氧原子或二氰基亚甲基；R310和R311各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R304和R305不存在；条件是R301至R308中的任意二个是键合位点；
R401至R406各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R407表示氧原子或二氰基亚甲基；条件是R401至R406中的任意两个是键合位点；
R501至R508各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；R509和R510各自独立地表示氧原子或二氰基亚甲基；R511和R512各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R501和R505不存在；条件是R501至R508中的任意两个是键合位点；
R601至R608各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，硝基，或羧酸酯基，或者表示键合位点；R610和R611各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R604和R605不存在；R609表示二氰基亚甲基；条件是R601至R608中的任意二个是键合位点；
R701至R713各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，硝基，或羧酸酯基，或者表示键合位点；R714和R715各自独立地表示碳原子或氮原子，并且，在氮原子的情况下，R704和R705不存在；条件是R701至R713中的任意两个是键合位点；和
R801至R808各自独立地表示氢原子，芳基，用卤素原子、硝基、氰基、烷基或烷基卤化物基取代的芳基，烷基，氰基，或硝基，或者表示键合位点；条件是R801至R808的任意两个是键合位点；
B1和B4各自独立地表示亚芳基，亚烷基，亚烷芳基，用烷基、卤素原子、氰基或硝基取代的亚芳基，用卤素原子、氰基或硝基取代的亚烷基，用烷基、卤素原子、氰基或硝基取代的亚烷芳基，由醚或磺酰基中断的亚芳基，或由醚中断的亚烷基；和
B2和B3各自独立地表示仅用羧基取代的亚芳基；仅用羧基和烷基取代的亚芳基；或仅用羧基取代的亚烷基。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述感光层是具有从支承体侧依次层叠的电子输送层、电荷产生层和空穴输送层的感光层，所述电子输送层包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物、或具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物。
3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，其中所述感光层是具有从支承体侧依次层叠的电子输送层、电荷产生层和空穴输送层的感光层，所述电子输送层以80质量％至100质量％的量包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物、或具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物，基于所述电子输送层的总质量。
4.根据权利要求1、2或3所述的电子照相感光构件，其中所述感光层包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物，所述由式(1)表示的重复结构单元的比例为50mol％至99mol％，基于所述共聚物的全部重复结构单元。
5.根据权利要求1、2或3所述的电子照相感光构件，其中所述感光层包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物，所述由式(1)表示的重复结构单元的比例为70mol％至99mol％，基于所述共聚物的全部重复结构单元。
6.根据权利要求1、2、3、4或5所述的电子照相感光构件，其中所述感光层包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(2)表示的重复结构单元的共聚物，所述由式(2)表示的重复结构单元的比例为1mol％至30mol％，基于所述共聚物的全部重复结构单元。
7.根据权利要求1、2或3所述的电子照相感光构件，其中所述感光层包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物，所述由式(1)表示的重复结构单元的比例为50mol％至99mol％，基于所述共聚物的全部重复结构单元。
8.根据权利要求1、2或3所述的电子照相感光构件，其中所述感光层包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物，所述由式(1)表示的重复结构单元的比例为70mol％至99mol％，基于所述共聚物的全部重复结构单元。
9.根据权利要求1、2、3、7或8所述的电子照相感光构件，其中所述感光层包含具有由式(1)表示的重复结构单元和由式(3)表示的重复结构单元的共聚物，所述由式(3)表示的重复结构单元的比例为1mol％至30mol％，基于所述共聚物的全部重复结构单元。
10.一种处理盒，其一体化地支承根据权利要求1至9任一项所述的电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组中的至少一种装置，所述处理盒可拆卸地安装于电子照相设备的主体。
11.一种电子照相设备，其包含根据权利要求1至9任一项所述的电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
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