JP7475941B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 - Google Patents
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Description
即ち、本発明の第一の態様は、
支持体と導電層と感光層と保護層とをこの順に有する電子写真感光体であって、
該保護層が、結着樹脂及び金属酸化物粒子を含有し、
該保護層の全体積に占める、該金属酸化物粒子の含有量が、33体積%以上であり、
該金属酸化物粒子が酸化チタンを含有する芯材と、該芯材を被覆する酸化チタンを含有する被覆層とを有し、
該被覆層がさらにニオブを含有し、
前記被覆層の全質量に対するニオブの存在比率が、前記芯材の全質量に対するニオブの存在比率より高いことを特徴とする電子写真感光体。
支持体と導電層と感光層と保護層とをこの順に有する電子写真感光体であって、
該保護層が、結着樹脂及び金属酸化物粒子を含有し、
該金属酸化物粒子が酸化チタンを含有する芯材と、該芯材を被覆する酸化チタンを含有する被覆層とを有し、
該金属酸化物粒子の酸素欠損率をA(%)、該芯材の酸素欠損率をB(%)、該被覆層の酸素欠損率をC(%)としたときに下記式(1)及び式(2)を満足することを特徴とする電子写真感光体。
A≦2.0 (1)
10×B<C (2)
本発明者らが検討したところ、従来技術で用いられている酸化チタンを含有する金属酸化物粒子が保護層中に添加された感光体は、繰り返し使用時の帯電能の維持に改善の余地がある事が分かった。
この理由は明確には明らかになっていないが、本発明者は次の様に考えている。
しかし、酸化チタンを含有する金属酸化物粒子の被覆層に、ニオブが優先的に存在する(芯材より被覆層におけるニオブの存在比率が高い)金属酸化物粒子を保護層が有する事で、保護層中における導電パスが繋がり易くなる。その結果、保護層中に電荷が残留し難くなるため、帯電能低下が防止できる。
しかし、酸化チタンを含有する金属酸化物粒子、その芯材及びその被覆層の酸素欠損率を特定の関係を有する金属酸化物粒子を保護層が有することで、保護層中における導電パスが繋がり、保護層中に電荷が残留し難くなるため、帯電能低下が防止できる。
本発明の電子写真感光体は、支持体と導電層と、感光層と、保護層とを有することを特徴とする。
以下、各層について説明する。
本発明において、電子写真感光体は、支持体を有する。本発明において、支持体は導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体の表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理や、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
支持体の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましい。
また、樹脂やガラスには、導電性材料を混合又は被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。
本発明において、支持体の上に、導電層を有する。導電層を設けることで、支持体表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体表面における光の反射を制御することができる。
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。
金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。
これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。
導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の表面をシランカップリング剤などで処理したり、金属酸化物にリンやアルミニウムなど元素やその酸化物をドーピングしたりしてもよい。
また、導電性粒子は、芯材粒子と、その粒子を被覆する被覆層とを有する積層構成としてもよい。芯材粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛などが挙げられる。被覆層としては、酸化スズなどの金属酸化物が挙げられる。
また、導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、その体積平均粒子径が、1nm以上500nm以下であることが好ましく、3nm以上400nm以下であることがより好ましい。
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などを更に含有してもよい。
本発明において、導電層の上に、下引き層を設けてもよい。下引き層を設けることで、層間の接着機能が高まり、電荷注入阻止機能を付与することができる。
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上述の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
また、下引き層は、添加剤を更に含有してもよい。
電子写真感光体の感光層は、主に、(1)積層型感光層と、(2)単層型感光層とに分類される。(1)積層型感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、を有する。(2)単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を共に含有する感光層を有する。
積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷輸送層中の電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、25質量%以上70質量%以下であることが好ましく、30質量%以上55質量%以下であることがより好ましい。
電荷輸送物質と樹脂との含有量比(質量比)は、4:10~20:10が好ましく、5:10~12:10がより好ましい。
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂及び溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂としては、上記「(1)積層型感光層」における材料の例示と同様である。
本発明において、感光層の上に、保護層を設ける。
保護層は、結着樹脂と本発明の第一の態様又は第二の態様に係る金属酸化物粒子を有する。更に好ましくは、第二の態様であって、さらに金属酸化物粒子の被覆層にニオブを含有する場合である。
金属酸化物粒子の芯材にはニオブが含有されていなくても良く、ニオブが金属酸化物粒子全体に均等に存在すると、電荷トラップとして働き、帯電能を低下させてしまう。従って被覆層の全質量に対するニオブ含有比率は、芯材の全質量に対するニオブの含有比率よりも高い必要がある。その場合、被覆層全質量に対するニオブ含有率は、芯材の全質量に対するニオブの含有比率は10倍以上が好ましい。その含有量は、被覆層の全質量に対して、0.5質量%以上である事が好ましく、2.0質量%以上である事がさらに好ましい。5.0質量%以上15.0%質量以下であるとさらに好ましい。
これらの範囲を満たすと、保護層中の金属酸化物粒子同士の接触確率が増大するので、被覆層中のニオブや酸素欠損による導電パスが繋がり易くなることで、電荷滞留の防止効果が上がる。
本発明のプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。
1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体1の表面は、帯電手段3により、正又は負の所定電位に帯電される。尚、図においては、ローラ型帯電部材によるローラ帯電方式を示しているが、コロナ帯電方式、近接帯電方式、注入帯電方式などの帯電方式を採用してもよい。帯電された電子写真感光体1の表面には、露光手段(不図示)から露光光4が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、現像手段5内に収容されたトナーで現像され、電子写真感光体1の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体1の表面に形成されたトナー像は、転写手段6により、転写材7に転写される。トナー像が転写された転写材7は、定着手段8へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体1の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段9を有していてもよい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。電子写真装置は、電子写真感光体1の表面を、前露光手段(不図示)からの前露光光10により除電処理する除電機構を有していてもよい。また、本発明のプロセスカートリッジを電子写真装置本体に着脱するために、レールなどの案内手段12を設けてもよい。
(製造例1)
(金属酸化物粒子A1)
芯材の二酸化チタンは公知の硫酸法で製造することができる。即ち、硫酸チタン、硫酸チタニルを含む溶液を加熱して加水分解させメタチタン酸スラリーを作製し、該メタチタン酸スラリーを脱水焼成して得られる。
芯材粒子として、ニオブが検出されない平均一次粒径が150nmのアナターゼ型酸化チタン粒子を使用した。この芯材100gを水に分散させ、1Lの水懸濁液とし、60℃に加温した。五塩化ニオブ(NbCl5)3.1gを11.4モル/L塩酸100mLに溶解させたニオブ溶液と、Tiとして33.7gを含む硫酸チタン溶液600mLを混合したチタンニオブ酸液と、10.7モル/L水酸化ナトリウム溶液とを、懸濁液のpHが2~3となるように3時間かけて同時に滴下(並行添加)した。滴下終了後、pHを中性付近に調整し、凝集剤を添加して固形分を沈降させた。上澄みを除去し、残部をろ過、その残渣を洗浄し、110℃で乾燥し、凝集剤由来の有機物をC換算で0.1wt%含有する中間体を得た。この中間体を窒素ガス中800℃で、平均一次粒径190nmの金属酸化物粒子A1を作製した。
金属酸化物粒子1の製造において、用いる芯材及び被覆時の条件を変えた以外は、製造例1と同様の方法で酸化チタンを有する金属酸化物粒子A2~A9、B1~B6、C1~C6を製造した。
特開2007-334334号公報を参考に、平均一次粒径200nmのルチル型酸化チタン粒子である酸化チタンを有する粒子R1の粉末を得た。
(保護層用塗布液1)
下記構造式(1)で示される化合物22部を、2-プロパノール144部とテトラヒドロフラン16部の混合溶剤と混合し、この溶液に金属酸化物粒子A1を100部加え、撹拌した。
これらを、平均粒径1.0mmのガラスビーズ200部を用いた縦型サンドミルに入れ、分散液温度23±3℃、回転数1500rpm(周速5.5m/s)の条件で2時間分散処理を行い、分散液を得た。
この分散液からメッシュでガラスビーズを取り除いた後の分散液を、PTFE濾紙(商品名:PF060、アドバンテック東洋製)を用いて加圧ろ過し、保護層用塗布液A1を調製した。
保護層用塗布液1の調製の際に用いた金属酸化物粒子の種類、質量(部数)を、それぞれ表2に示すようにした以外は、保護層用塗布液1の調製と同様の操作で、保護層用塗布液A2~A13、B1~B10、C1~C10及びR1~R2を調製した。
上記構造式(1)で示されるアクリルモノマー22部、光開始剤として2-メチルチオキサントン7部、金属酸化物粒子A1を100部、エタノール160部を用い、保護層用塗布液1と同様に分散処理を行い、保護層用塗布液A14を調製した。
(電子写真感光体1)
直径24mm、長さ257.5mmのアルミニウムシリンダー(JIS-A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。
長さ260.5mm及び直径30mmのアルミニウムシリンダー(JIS-A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。
この導電層用塗布液における酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子の平均粒径を、(株)堀場製作所製の粒度分布計(商品名:CAPA700)を用い、テトラヒドロフランを分散媒とし、回転数5000rpmにて遠心沈降法で測定した。その結果、平均粒径は0.30μmであった。
この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間160℃で乾燥させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。
0部の混合溶媒に溶解した。
式(2)で表される化合物 3.36部
ポリオレフィン樹脂としてスチレン-アクリル樹脂(商品名:UC-3920、東亞合
成(株)製) 0.35部
イソシアネート化合物としてブロックされたイソシアネート化合物(商品名:SBB-
70P、旭化成(株)製) 6.40部
この溶液にイソプロピルアルコールに分散されたシリカスラリー(製品名:IPA-S
T-UP、日産化学工業(株)製、固形分濃度:15質量%、粘度:9mPa・s)1.
8部を加え、1時間撹拌した。その後、ADVANTEC製のポリテトラフルオロエチレ
ン製フィルター(製品名:PF020)を用いて加圧濾過した。
こうして得られた下引き層用塗布液を導電層の上に浸漬塗布し、得られた塗膜を170℃で40分間加熱し、硬化(重合)させることによって、膜厚0.7μmの下引き層を形成した。
この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を10分間95℃で乾燥させることによって、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
電子写真感光体の製造の際に用いた保護層用塗布液を、保護層用塗布液1から、それぞれ保護層用塗布液A2~A14、B1~B10、C1~C10、R1~R2に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
保護層用塗布液34を使用し、これを電荷輸送層上に浸漬塗布し、乾燥後、高圧水銀灯にて250W/cm2の光強度で60秒間紫外線照射した後、120℃で2時間熱風乾燥して膜厚3μmの保護層を形成した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
上記で製造した電子写真感光体から、5mm四方の切片を5つ切り出し、観察用サンプル片を各電子写真感光体につき5つずつ用意した。
先ず、各電子写真感光体について、それぞれ1つのサンプル片を用いて、集束イオンビーム加工観察装置(商品名:FB-2000A、日立ハイテクマニファクチャ&サービス製)を用い、FIB-μサンプリング法により、保護層を厚み:150nmに薄片化し、電界放出型電子顕微鏡(HRTEM)(商品名:JEM-2100F、日本電子製)及びエネルギー分散形X線分析装置(EDX)(商品名:JED-2300T、日本電子製)を用い、保護層の組成分析を行った。なお、EDXの測定条件は、加速電圧:200kV、ビーム径:1.0nmである。
分析用試料加工:FIB法
加工及び観察装置:SII/Zeiss製NVision40
スライス間隔:10nm
観察条件:
加速電圧:1.0kV
試料傾斜:54°
WD:5mm
検出器:BSE検出器
パーチャー:60μm、high current
ABC:ON
画像解像度:1.25nm/pixel
得られた情報を基に、4つのサンプル片のそれぞれにおいて、2μm×2μm×2μmの体積(単位体積:8μm3)中の本発明の酸化チタン粒子又は比較例に用いた酸化チタン粒子の体積Vを求めた。そして、(Vμm3/8μm3×100)を算出した。4つのサンプル片における(Vμm3/8μm3×100)の値の平均値を、保護層の全体積に対する保護層中の本発明の酸化チタン粒子又は比較例に用いた酸化チタン粒子の含有量[体積%]とした。結果を表3に示す。
まず、作製した電子写真感光体1~34、R1~R2の感光体を使用して、以下の条件で繰り返し使用時の帯電能を評価した。
帯電能が悪化すると、暗部電位(Vd)が低下し、カブリが増加する。
電子写真装置には、ヒューレットパッカード社製のレーザービームプリンター、商品名HP LaserJet Enterprise Color M553dnの改造機を使用した。評価に使用した電子写真装置は、像露光量、現像バイアスの、調節及び測定ができるように改造した。
最初に実施例及び比較例の電子写真感光体を明部電位が-180Vになるよう、露光量を調整し、その後暗部電位(Vd)を測定した。
その後、現像バイアスVdcが-450Vとなるように調整し電子写真装置のシアン色のカートリッジに装着した。
その後、温度23℃/相対湿度50%の環境下にてA4サイズ普通紙上にシアン単色にてベタ白画像の出力を行った。
カブリ評価は、白色光度計(商品名;REFLECTMETER TC-6DS/A、東京電色製)にて、上記の画像の白部及び未使用紙の反射率を測定し、両者の差をカブリとした。未使用紙反射率-画像白部の反射率=カブリ%として、カブリ2.0%以上はNGとして評価した。結果を表3に示す。
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 転写材
8 定着手段
9 クリーニング手段
10 前露光光
11 プロセスカートリッジ
12 案内手段
Claims (5)
- 支持体と導電層と感光層と保護層とをこの順に有する電子写真感光体であって、
該保護層が、結着樹脂及び金属酸化物粒子を含有し、
該保護層の全体積に占める、該金属酸化物粒子の含有量が、33体積%以上であり、
該金属酸化物粒子が酸化チタンを含有する芯材と、該芯材を被覆する酸化チタンを含有する被覆層とを有し、
該被覆層がさらにニオブを含有し、
前記被覆層の全質量に対するニオブの存在比率が、前記芯材の全質量に対するニオブの存在比率より高いことを特徴とする電子写真感光体。 - 前記金属酸化物粒子の前記ニオブの含有量が前記金属酸化物粒子の全質量に対して2.6重量%以上である請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記芯材が含有する前記酸化チタンが、アナターゼ型酸化チタン又はルチル型酸化チタンである請求項1又は2に記載の電子写真感光体。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段と、を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項1~3いずれか1項に記載の電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009003235A (ja) | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体とそれを用いた画像形成方法及び画像形成装置 |
JP2009229495A (ja) | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置 |
JP2015114453A (ja) | 2013-12-11 | 2015-06-22 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体およびその製造方法並びに画像形成装置 |
JP2018141974A (ja) | 2017-02-28 | 2018-09-13 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP2018194799A (ja) | 2017-05-22 | 2018-12-06 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
JP2020034903A (ja) | 2018-08-24 | 2020-03-05 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW311187B (ja) | 1994-12-28 | 1997-07-21 | Canon Kk | |
US6228546B1 (en) | 1997-11-19 | 2001-05-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymer, electrophotographic photosensitive member containing the polymer, process cartridge and electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member |
US5955250A (en) * | 1997-12-16 | 1999-09-21 | Eastman Kodak Company | Electrically-conductive overcoat layer for photographic elements |
JP3988685B2 (ja) | 2003-06-24 | 2007-10-10 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法 |
JP4405970B2 (ja) | 2003-12-26 | 2010-01-27 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP5239212B2 (ja) | 2006-05-18 | 2013-07-17 | 三菱化学株式会社 | 下引き層形成用塗布液、下引き層形成用塗布液の製造方法、電子写真感光体、画像形成装置及び電子写真カートリッジ |
WO2010087520A1 (en) | 2009-01-30 | 2010-08-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
JP5430353B2 (ja) | 2009-11-02 | 2014-02-26 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
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JP6353285B2 (ja) | 2013-06-19 | 2018-07-04 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
JP6161425B2 (ja) | 2013-06-19 | 2017-07-12 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
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US9760030B2 (en) | 2014-10-24 | 2017-09-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
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JP7114403B2 (ja) | 2018-08-24 | 2022-08-08 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
JP7155864B2 (ja) | 2018-10-22 | 2022-10-19 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009003235A (ja) | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体とそれを用いた画像形成方法及び画像形成装置 |
JP2009229495A (ja) | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置 |
JP2015114453A (ja) | 2013-12-11 | 2015-06-22 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体およびその製造方法並びに画像形成装置 |
JP2018141974A (ja) | 2017-02-28 | 2018-09-13 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP2018194799A (ja) | 2017-05-22 | 2018-12-06 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
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