WO2019124307A1 - プリント配線板の製造方法及び積層体 - Google Patents
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Definitions
- the present disclosure relates to a method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern for mounting an electronic component, and a laminate used in the method of manufacturing the printed wiring board.
- Conduction laminated on the surface of an insulating substrate as a method of forming a conductor pattern of a printed wiring board having a conductor pattern for mounting a micro electronic component such as a semiconductor element on the surface of the insulating substrate, such as a flexible printed wiring board (FPC)
- a method of exposing a layer using a photosensitive resin film (dry film, resist film) having a photosensitive resin layer (resist layer) to form a conductor pattern for example, a conductive layer made of copper or the like laminated on an insulating base material such as a polyimide film is covered with a photosensitive resin film, and a desired wiring pattern is exposed through a mask (photomask) on which a wiring pattern is drawn.
- Non-Patent Document 1 etc.
- a conductive layer (seed layer) having a thickness of about 1 ⁇ m was formed on the insulating resin layer (the surface of the insulating base) by electroless copper plating, and a photosensitive resin layer was formed on the surface. Thereafter, a desired wiring pattern is exposed through a mask and developed to form a pattern of a photosensitive resin layer in which the electroless copper plating layer is partially exposed, and thereafter, power is supplied to the electroless copper plating layer to carry out electrolytic copper
- a method (semi-additive method) is disclosed in which plating is performed and electrolytic copper plating is performed on a portion where the electroless copper plating layer is exposed to form a conductor pattern.
- the photosensitive resin film used in the subtractive process and the semi-additive process is composed of a photosensitive resin layer and a support layer laminated on the surface, and is shipped with the protective layer laminated on the opposite surface of the photosensitive resin layer. It is often done. And when manufacturing a printed wiring board which has a conductor pattern on both surfaces, photosensitive resin films are used to sensitize both surfaces of the insulating base on which the conductive layer is laminated and the insulating base on which the seed layer is formed. The conductive resin layer is coated so as to be in contact with the conductive layer or the seed layer, and after exposing one surface through a mask, the other surface is also exposed through the mask.
- the first aspect of the present disclosure is A method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces of an insulating base material, Preparing an insulating substrate double-sided board having a conductive layer on both surfaces, A first covering step of covering a first photosensitive resin film having a photosensitive resin layer and a support layer on the first surface of the double-sided board so that the photosensitive resin layer and the conductive layer are in contact with each other; A second covering step of covering a second photosensitive resin film having a photosensitive resin layer and a support layer on the second surface of the double-sided board so that the photosensitive resin layer and the conductive layer are in contact with each other; After the first and second coating steps, a first exposure step of exposing the photosensitive resin film covering the first surface, and the second surface after the first exposure step Having a second exposure step of exposing the photosensitive resin film to be coated; It is a manufacturing method of the printed wired board whose maximum depth of a crevice of the outermost surface of the 2nd photosensitive resin film used
- the second aspect of the present disclosure is A method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces of an insulating base material, Preparing a double-sided board having the insulating substrate, a conductive layer A1 laminated on the surface of the insulating substrate, and a conductive layer B1 laminated on the other surface of the insulating substrate; A first covering step of covering the surface of the conductive layer A1 with the photosensitive resin film C1 including the photosensitive resin layer and a support layer covering the surface of the conductive layer A1 so that the photosensitive resin layer is in contact with the conductive layer A1 ,
- the photosensitive resin is a photosensitive resin film D1 comprising a photosensitive resin layer and a photosensitive resin film D1 comprising a support layer covering the surface of the conductive layer B1, and a laminate comprising a cover layer coating the surface of the support layer, the photosensitive resin A second coating step of coating so that the layer is in contact with the conductive layer B1; A first exposure step of exposing the photosensitive
- the third aspect of the present disclosure is A method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces of an insulating base material, Preparing a double-sided board having the insulating substrate, a conductive layer A1 laminated on the surface of the insulating substrate, and a conductive layer B1 laminated on the other surface of the insulating substrate; A first covering step of covering the surface of the conductive layer A1 with the photosensitive resin film C1 including the photosensitive resin layer and a support layer covering the surface of the conductive layer A1 so that the photosensitive resin layer is in contact with the conductive layer A1 , A second covering step of covering the surface of the conductive layer B1 with the photosensitive resin film D1 including the photosensitive resin layer and a support layer covering the surface of the conductive layer B1 so that the photosensitive resin layer is in contact with the conductive layer B1 , After the second covering step, a third covering step of covering the surface of the support layer constituting the photosensitive resin film D1 with a cover layer; A first exposure step
- the fourth aspect of the present disclosure is A laminate used in a method for producing a printed wiring board, comprising: a photosensitive resin layer, a support layer covering one surface of the photosensitive resin layer, and a cover layer covering the surface of the support layer It is.
- the present disclosure has been made in view of the above problems, and is a method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces, and after exposing a desired wiring pattern on one surface, the other surface is desired. Even when the exposure of the wiring pattern is performed, the occurrence of the disconnection in the case of the subtractive method and the occurrence of the short defect in the case of the semi-additive method are suppressed on the other surface, and the shape and size are high in accuracy. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a printed wiring board capable of forming a conductor pattern. Another object of the present disclosure is to provide a laminate used in the method of manufacturing the printed wiring board.
- the inventor found that the photosensitive resin layer after development has, for example, a filamentous scratch. Defects (such as defects) that cause defects such as broken conductor patterns in the subtractive method and shorts in the conductor pattern in the semi-additive method. The probability of the occurrence of the above-mentioned failure tends to increase as the maximum depth of the recess on the surface of the support layer increases.
- the present inventor also transports the object to be exposed to the surface of the support layer of the photosensitive resin film that covers the other surface of the insulating substrate when performing the process up to the exposure on one surface of the insulating substrate.
- the wiring pattern is exposed on one surface, and then the wiring pattern is exposed on the other surface.
- the method of manufacturing a printed wiring board can be provided which can form a conductor pattern with high precision in shape and dimension while suppressing the occurrence of disconnection or short circuit failure of the conductor pattern on the other surface.
- a method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces which is desired for the other surface after exposing the desired wiring pattern for one surface
- the process up to the exposure is performed on one surface, the generation of a recess having a maximum depth of 1 ⁇ m or more due to contact with a roller or the like transporting the object is prevented on the other surface.
- the laminated body used for the said 2nd aspect is provided.
- a first aspect of the present disclosure is A method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces of an insulating base material, Preparing an insulating substrate double-sided board having a conductive layer on both surfaces, A first covering step of covering a first photosensitive resin film having a photosensitive resin layer and a support layer on the first surface of the double-sided board so that the photosensitive resin layer and the conductive layer are in contact with each other; A second covering step of covering a second photosensitive resin film having a photosensitive resin layer and a support layer on the second surface of the double-sided board so that the photosensitive resin layer and the conductive layer are in contact with each other; After the first and second coating steps, a first exposure step of exposing the photosensitive resin film covering the first surface, and the second surface after the first exposure step Having a second exposure step of exposing the photosensitive resin film to be coated; It is a manufacturing method of the printed wired board whose maximum depth of a crevice of the outermost surface of the 2nd photosensitive
- the photosensitive resin layer in the above becomes insufficient in photosensitivity, becomes an exposure defect at the time of exposure, and generates a thread-like flaw in the wiring pattern made of the photosensitive resin after development, and the defect such as the thread-like scratch
- the maximum depth of the recess on the surface of the support layer of the photosensitive resin film is less than 1 ⁇ m, the conductive pattern disconnection (in the case of the subtractive method) and the short failure (semi-additive) It has been found that the occurrence of defects such as in the case of the construction method is suppressed and hardly occurred.
- the support layer is usually a film made of a resin that transmits ultraviolet light.
- irregularities are generated on the surface of the support layer.
- the occurrence of the above-mentioned defects can also be reduced by reducing the length of the recess in the surface of the second photosensitive resin film support layer.
- the conductor pattern can be more reliably disconnected It is preferable because it can suppress the occurrence of defects such as a subtractive method) or a short failure (in the case of a semi-additive method).
- the printed wiring board is a substrate on which the wiring of an electric circuit is printed on the surface or inside of a plate or a film (insulating base material) made of an insulator.
- the printed wiring board manufactured by this aspect has a conductor pattern in the both surfaces of an insulation base material. Further, both a printed wiring board on which a wiring is formed by a subtractive method and a printed wiring board on which a wiring is formed by a semi-additive method are included.
- a printed wiring board manufactured by this aspect a flexible printed wiring board can be mentioned, for example.
- a polyimide (PI) film is preferably used because it is excellent in heat resistance.
- a film made of another heat resistant resin, a glass epoxy substrate, or the like can also be used.
- copper (Cu) is used as the material of the conductor pattern, but other conductive metals such as silver, copper alloys, stainless steel, aluminum and the like can also be used.
- a step of preparing a double-sided board of an insulating substrate having a conductive layer on both surfaces is performed.
- copper (Cu) foil etc. are used as a conductive layer.
- a double-sided board in which copper foils are laminated on both surfaces of the insulating base is prepared.
- the formation of the conductive layer is carried out by, for example, a method of bonding a metal foil such as copper foil to both surfaces of the substrate, and a method of forming a thin conductive layer and then electroplating.
- a conductive layer is a conductive layer (seed layer) for performing electricity supply of electroplating which forms wiring.
- a double-sided board is prepared by a method of forming a thin copper layer by electroless plating on both surfaces of the insulating substrate.
- the conductive layer (seed layer) may be formed by sputtering on both surfaces of the insulating substrate instead of electroless plating.
- a photosensitive resin film is laminated on the conductive layer on both surfaces of the double-sided board prepared as described above to cover the conductive layer.
- the photosensitive resin film used in the present embodiment comprises a photosensitive resin layer made of a photosensitive resin, and a support layer laminated on the surface of the photosensitive resin layer to support and protect the photosensitive resin layer.
- a protective layer may be provided on the opposite surface of the photosensitive resin layer. In this case, the protective layer is peeled off before use.
- the lamination on the conductive layer is performed such that the photosensitive resin layer is in contact with the conductive layer, and the insulating base, the conductive layer, the photosensitive resin layer, and the support layer are laminated in this order.
- photosensitive resin films have a support layer on the surface of the photosensitive resin layer and a protective layer on another surface.
- the photosensitive resin film marketed as a dry film photoresist manufactured by Nikko Materials, Inc. has films laminated on both surfaces of the resist layer.
- the protective layer on one surface is peeled off to expose the photosensitive resin layer.
- photosensitive resin film Next, each element which comprises the photosensitive resin film used for this aspect is demonstrated.
- a well-known ultraviolet (UV) curable resin etc. can be used as a material which forms a photosensitive resin layer (resist layer). Specifically, acrylics and the like can be mentioned.
- the thickness of the photosensitive resin layer is not particularly limited, but is generally about 5 to 100 ⁇ m.
- the support layer can be formed of a material that can form a film that protects the photosensitive resin layer and can be peeled off from the photosensitive resin layer.
- a material that can form a film that protects the photosensitive resin layer and can be peeled off from the photosensitive resin layer when the exposure is performed by UV irradiation, it is desired that the transmittance of UV is high, that a flat film can be formed (flatness), and the like.
- PET, polypropylene, polyolefin etc. can be mentioned as this material, Above all, a resin mainly composed of PET is preferably used in view of UV transparency and flatness.
- “consisting mainly of” is a meaning including both the case where it consists only of PET, and the case where other components are contained in the range which does not impair the meaning of invention although PET is made into the largest composition.
- the thickness of the support layer is not particularly limited as long as it can protect the photosensitive resin layer, but usually 5 to 200 ⁇ m is preferable, and 10 to 30 ⁇ m is more preferable in terms of UV transparency and handling.
- the peel strength of the support layer to the photosensitive resin layer is preferably 0.2 to 20 N / m.
- the photosensitive resin film used in the present embodiment after the support layer is made of PET or the like, a solution of the photosensitive resin is coated to a predetermined thickness on one surface thereof, and dried to form a photosensitive resin layer It can manufacture by a method etc.
- the exposure of the wiring pattern is performed.
- the exposure method when the photosensitive resin film is a negative type, a mask on which a wiring pattern is drawn on the surface of the support layer of the photosensitive resin film is disposed, UV is irradiated from above the mask, and the wiring portion of the wiring pattern There is a method of curing only by UV irradiation. In this case, after the exposure, the support layer is removed and immersed in a developing solution to remove the uncured portion, leaving only the cured portion, thereby forming the wiring pattern of the photosensitive resin layer.
- the method of using particle beams, such as other high energy electromagnetic waves and an electron beam, instead of UV is also considered.
- the photosensitive resin film is positive, that is, using a photosensitive resin film having a photosensitive resin layer made of a photosensitive resin in which the irradiated portion is soluble in the developer, the portion other than the wiring portion is irradiated. Then, the method of solubilizing in a developing solution is also considered.
- a lens is disposed between the mask and the substrate, and a projection exposure method in which a pattern on the mask is imaged on a photosensitive resin in the form of a substrate and exposed, and laser light without using a mask are used.
- a direct exposure method a contact exposure method in which exposure is performed by bringing a mask into contact with a substrate
- a proximity exposure method in which a gap of several ⁇ m to several tens of ⁇ m is set between the mask and the substrate.
- a projection exposure method in which a lens is disposed between a mask and a substrate and a pattern on the mask is imaged on a substrate-like photosensitive resin and exposed, and a direct exposure method using a laser beam without using a mask is high. Used for fine circuit formation.
- the support layer is peeled off and development is then performed.
- development By development, the photosensitive resin layer in the portion other than the wiring pattern is dissolved and removed in the developer, and only the portion of the wiring pattern remains, and the wiring pattern of the photosensitive resin layer is formed.
- the development can be carried out by a method of immersing the laminate after exposure in a developer which dissolves the uncured portion of the photosensitive resin layer or the portion rendered soluble by irradiation.
- the developer when the photosensitive resin layer is formed of a resin of the alkali-soluble, for example the alkaline solution such as aqueous sodium carbonate (Na 2 CO 3 / H 2 O) is used.
- the conductive layer is etched after development.
- the conductive layer is exposed in the portion from which the photosensitive resin layer is removed by development, but the conductive layer in the exposed portion is removed by etching, and the conductive layer is covered with the photosensitive resin layer only in the portion of the wiring pattern. Will remain.
- the etching of the conductive layer can be performed by chemical etching using an etching solution such as, for example, an iron chloride or copper chloride aqueous solution.
- the photosensitive resin layer is peeled off from the conductive layer by treatment with a peeling solution. By peeling, the photosensitive resin layer which covers a conductive layer is removed, and a conductor pattern is formed.
- an aqueous solution of sodium hydroxide is used as the stripping solution.
- a conductive layer seed layer: a thin copper layer formed by electroless plating etc.
- a conductive layer is energized to form a wiring, for example, copper electroplating Perform electrolytic copper plating.
- electroplating a material for forming a wiring is plated and laminated on a portion from which the photosensitive resin layer is removed by development, that is, a portion where the conductive layer is exposed, whereby a wiring is formed.
- the photosensitive resin layer is peeled off and removed from the conductive layer in the same manner as in the case of the subtractive method.
- the conductive layer is exposed by removing the photosensitive resin layer, but a conductive pattern is formed by removing the exposed conductive layer by etching (quick etching).
- the second aspect of the present disclosure is A method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces of an insulating base material, Preparing a double-sided board having the insulating substrate, a conductive layer A1 laminated on the surface of the insulating substrate, and a conductive layer B1 laminated on the other surface of the insulating substrate; A first covering step of covering the surface of the conductive layer A1 with the photosensitive resin film C1 including the photosensitive resin layer and a support layer covering the surface of the conductive layer A1 so that the photosensitive resin layer is in contact with the conductive layer A1 ,
- the photosensitive resin is a photosensitive resin film D1 comprising a photosensitive resin layer and a photosensitive resin film D1 comprising a support layer covering the surface of the conductive layer B1, and a laminate comprising a cover layer coating the surface of the support layer, the photosensitive resin A second coating step of coating so that the layer is in contact with the conductive layer B1;
- the third aspect of the present disclosure is A method of manufacturing a printed wiring board having a conductor pattern on both surfaces of an insulating base material, Preparing a double-sided board having the insulating substrate, a conductive layer A1 laminated on the surface of the insulating substrate, and a conductive layer B1 laminated on the other surface of the insulating substrate; A first covering step of covering the surface of the conductive layer A1 with the photosensitive resin film C1 including the photosensitive resin layer and a support layer covering the surface of the conductive layer A1 so that the photosensitive resin layer is in contact with the conductive layer A1 , A second covering step of covering the surface of the conductive layer B1 with the photosensitive resin film D1 including the photosensitive resin layer and a support layer covering the surface of the conductive layer B1 so that the photosensitive resin layer is in contact with the conductive layer B1 , After the second covering step, a third covering step of covering the surface of the support layer constituting the photosensitive resin film D1 with a cover layer; A first exposure step
- a second aspect and a method of manufacturing a printed wiring board of a third aspect After preparing a laminate having the insulating base and the conductive layer laminated on both surfaces, each of the conductive layers on both surfaces, Coating the surface of the conductive layer with a photosensitive resin film; The point of having a process of exposing a wiring pattern to the photosensitive resin film is the same as the method of manufacturing the printed wiring board of the first aspect. Thereafter, the support layer of the photosensitive resin film is peeled off, followed by development to form a conductor pattern, which is the same as in the method for producing a printed wiring board of the first aspect.
- the method for producing a printed wiring board according to the second aspect comprises: a photosensitive resin film D1 comprising a photosensitive resin layer and a support layer covering the surface of the conductive layer (conductive layer B1) on one surface, and the support Covering the surface of the layer with a laminate comprising a cover layer, and exposing the wiring pattern on the other surface (the conductive layer A1 side) (first exposure step), peeling off the cover layer and removing it Then, the surface of the conductive layer B1 side is exposed to light (second exposure step) of the wiring pattern.
- the surface of the support layer of the photosensitive resin film D1 is covered with a cover layer before the wiring pattern on the conductive layer A1 side is exposed (first exposure step). Having a third coating step for coating, and after the first exposure step, the cover layer is peeled off and then exposed (second exposure step) of the wiring pattern on the surface on the conductive layer B1 side It is characterized by
- the maximum depth of the concave portion on the surface of the support layer on the surface opposite to the exposed surface is 1. due to the contact with equipment such as rollers for conveying the double-sided plate. As a result, irregularities such as 0 ⁇ m or more occur, and as a result, defects such as disconnection in the case of the subtractive method and short failure in the case of the semi-additive method occur.
- the cover layer is in contact with equipment such as a roller, and the surface of the support layer does not directly contact the roller etc. Even if the surface is damaged, the surface of the support layer is not damaged, and a recess with a maximum depth of 1.0 ⁇ m or more does not occur. Therefore, if the cover layer is peeled off before exposure, the exposure is performed in the state where the scratch-free support layer is laminated, so that problems such as disconnection and short circuit do not occur.
- the printed wiring board having the wiring on both surfaces of the insulating substrate manufactured according to the second aspect and the third aspect is the same printed wiring board as the case of the first aspect.
- the surface of the support layer of the photosensitive resin film D1 laminated on the conductive layer B1 is covered with a cover layer before the first exposure step on the conductive layer A1 side, and It can carry out like each process of a 1st aspect except the point which has a cover layer peeling process which peels a cover layer after a 1st exposure process.
- a process of preparing a double-sided board having an insulating substrate, a conductive layer A1 laminated on the surface of the insulating substrate, and a conductive layer B1 laminated on the other surface of the insulating substrate includes the preparation of the laminate of the first aspect Can be done in the same way,
- the first covering step and the second covering step can be performed in the same manner as the step of covering the photosensitive resin layer so as to be in contact with the conductive layer with the photosensitive resin film in the first aspect,
- the first exposure step and the second exposure step can be performed in the same manner as the step of exposing the wiring pattern in the first aspect.
- the steps after the exposure step that is, peeling of the support layer, development to form a wiring pattern, and formation of a wiring by a subtractive method, a semi-additive method or the like can be performed in the same manner as in the first embodiment.
- the cover layer used in the second and third aspects of the present disclosure and the cover layer constituting the laminate of the fourth aspect are formed of a material that can form a film and can be peeled off from the support layer. Be done. Since the cover layer peeling step is performed before peeling the support layer of the photosensitive resin film, the cover layer needs to be peelable from the support layer with a smaller force than the peeling of the support layer from the photosensitive resin. However, it is necessary to prevent peeling prior to the cover layer peeling step. Therefore, a material having a thermal expansion coefficient close to that of the support layer is preferable, and a film made of the same material as the support layer is preferably used.
- a fourth aspect of the present disclosure is a laminate used in a method for producing a printed wiring board, the photosensitive resin layer, and a support layer covering one surface of the photosensitive resin layer. And a cover layer covering the surface of the support layer.
- This laminate is used in the method of manufacturing the printed wiring board of the second aspect.
- the second aspect is characterized by using the laminate of the fourth aspect (and having the step of peeling the cover layer), and therefore, by using the laminate of the fourth aspect, the fourth aspect can be used. The effects of the two aspects can be achieved.
- 1 to 5 are schematic views for the purpose of explanation, and do not show the ratio of thickness of each layer or the like.
- FIG. 1 is a laminate of the fourth embodiment, that is, a laminate comprising a photosensitive resin film D1 including a photosensitive resin layer 1 and a support layer 2 used in the second covering step of the second embodiment and a cover layer 3 It is a sectional view showing composition of one example typically.
- FIG. 2A is a cross-sectional view schematically showing the configuration of photosensitive resin films C1 and D1 used in the second and third embodiments.
- the photosensitive resin film shown in FIG. 2A includes the photosensitive resin layer 1 and the support layer 2 is peelably laminated on one surface of the photosensitive resin layer 1 in order to support and protect the photosensitive resin layer 1. .
- the cover layer 3 can be further peeled off from one surface of the support layer 2 Is stacked on.
- FIG. 2B is a cross-sectional view schematically showing an example of a commercially available photosensitive resin film.
- a commercially available photosensitive resin film usually comprises a photosensitive resin layer 1 as shown in FIG. 2B, and a support layer 2 and a protective layer 21 for supporting and protecting the photosensitive resin layer 1 on both surfaces thereof. Are laminated in a peelable manner.
- the protective layer 21 has smoothness on the photosensitive resin side, and polyethylene or the like having flexibility is used.
- the photosensitive resin film shown to FIG. 2A can peel and prepare the protective layer 21 in one surface side of the commercially available photosensitive resin film as shown to FIG. 2B.
- FIG. 1 is a method of laminating the cover layer 3 on the support layer 2 on one side of the photosensitive resin film as shown in FIG. 2B and peeling off the protective layer 21, the support layer 2 and the cover layer 3
- a photosensitive resin is applied in a state in which the protective layer 21 is laminated in advance, and the protective layer 21 is laminated on the other side, and then the protective layer 21 is peeled off when attached to the substrate, or a photosensitive resin as shown in FIG.
- a method can be prepared by peeling off the protective layer 21 on one surface side of the film and laminating the cover layer 3 on the support layer 2 on the other surface side.
- FIG. 3A is a cross-sectional view schematically showing a first covering step and a second covering step of the method for producing a printed wiring board of the second aspect.
- the laminate in the figure is obtained by laminating the conductive layer 5 (conductive layer A1 and conductive layer B1) on both surfaces of the insulating base material 4.
- a photosensitive resin film C1 consisting of a photosensitive resin layer 1 and a support layer 2 is coated on the conductive layer A1 so that the photosensitive resin layer 1 is in contact with the conductive layer A1.
- a laminate of a photosensitive resin film D1 comprising a photosensitive resin layer 1 and a support layer 2 and a cover layer 3 is coated such that the photosensitive resin layer 1 is in contact with the conductive layer B1, as shown in FIG. 3A.
- the laminate shown in the figure is formed.
- FIG. 3 B is sectional drawing which shows typically the 1st coating process of the manufacturing method of the printed wiring board of a 3rd aspect, a 2nd coating process, and a 3rd coating process.
- the laminate in the figure is obtained by laminating the conductive layer 5 (conductive layer A1 and conductive layer B1) on both surfaces of the insulating base material 4.
- the photosensitive resin films C1 and D1 consisting of the photosensitive resin layer 1 and the support layer 2 respectively have the photosensitive resin layer 1 in contact with the conductive layer A1 or B1. Coated to form a laminate as shown in the center view of FIG. 3B. Thereafter, as shown in FIG.
- the cover layer 3 (the support layer of the photosensitive resin film D1) on one surface of the formed laminate is coated with a cover layer 3 (third coating) Step), the stack shown in the right drawing of FIG. 3B (the same as the stack shown in the right drawing of FIG. 3A) is formed.
- FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the exposure performed in the first exposure step of the second and third aspects.
- UV is irradiated from above the mask 61 to perform exposure (downward arrow in FIG. 4).
- a scratch is generated on the surface of the cover layer 3 on the other surface of the laminate due to contact with a roller used for transporting the laminate (a broken line in FIG. 4: a scratch caused by the roller).
- the support layer 2 the support layer of the photosensitive resin film D1 is protected by the cover layer 3 and does not contact the roller, its surface is not damaged.
- FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the exposure performed in the second exposure step of the second aspect and the third aspect.
- the surface of the cover layer 3 is scratched by contact with the roller, but the cover layer 3 is peeled off and the surface of the scratch-free support layer 2 is exposed.
- a mask 62 on which a wiring pattern is drawn is put on the surface, and exposure is performed (downward arrow in FIG. 5). Accordingly, the occurrence of defects such as linear flaws in the photosensitive resin layer 1 on the conductive layer B side after development is suppressed, and the occurrence of disconnection or short circuit in the conductor pattern can be suppressed.
- a sputtered substrate having a 40 nm-thick NiCr layer and a 0.4 ⁇ m-thick Cu layer (conductive layer: seed layer) on the surface of a 25 ⁇ m-thick polyimide substrate (insulating substrate) was prepared.
- a negative type dry film resist photosensitive resin film
- the layers were stacked in contact with the Cu layer.
- the support layer was peeled off and developed to form a dry film resist pattern. Thereafter, electrolytic copper plating, peeling of the dry film resist, and removal of the Cu layer and the NiCr layer exposed by peeling were sequentially performed.
- electrolytic copper plating, peeling of the dry film resist, and removal of the Cu layer and the NiCr layer exposed by peeling were sequentially performed.
- an unexposed portion is generated in the photosensitive resin, the photosensitive resin in the unexposed portion is dissolved in development, and the portion is plated at the time of electrolytic copper plating As a result, a short failure occurred.
- a 60 ⁇ m thick glass-epoxy substrate (insulating base) having a 12 ⁇ m thick Cu layer (conductive layer) on its surface was prepared.
- a photosensitive resin layer comprising a photosensitive resin layer having a thickness of 15 ⁇ m and a support layer on the surface of a glass epoxy substrate, and a maximum depth of a recess of the support layer of 1.8 ⁇ m being a photosensitive resin layer Laminated so as to be in contact with the Cu layer.
- the support layer was peeled off and developed to form a dry film resist pattern and then etching was performed.
- etching was performed in the above process, in the portion corresponding to the recess of the support layer, an unexposed portion is generated in the photosensitive resin, the unexposed photosensitive resin is dissolved in the development, and copper in the portion is removed during etching. A break occurred.
- Example 1 Exposure, development, electrolytic copper plating, Cu layer and NiCr layer in the same manner as in Comparative Example 1 except that as the photosensitive resin film, a negative dry film resist with a maximum depth of 0.6 ⁇ m of the recesses of the support layer was used. Removal of In the above process, the unexposed area was not generated in the photosensitive resin even in the area corresponding to the concave portion of the support layer, and the short failure did not occur.
- Example 2 Exposure, development, and etching were performed in the same manner as in Comparative Example 2 except that a negative dry film resist having a maximum depth of 0.8 ⁇ m of the concave portion of the support layer was used as the photosensitive resin film. In the above process, the unexposed portion was not generated in the photosensitive resin even in the portion corresponding to the concave portion of the support layer, and the disconnection did not occur.
- Photosensitive resin layer 2 Support layer 21 Protective layer 3 Cover layer 4 Insulating base material 5 Conductive layer 61, 62 Mask
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Abstract
両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程、第1の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第1の表面に被覆する第1の被覆工程、第2の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第2の表面に被覆する第2の被覆工程、第1及び第2の被覆工程の後、第1の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第1の露光工程、及び前記第1の露光工程の後、第2の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第2の露光工程を有し、前記第2の露光工程に用いる前記第2の感光性樹脂フィルムの最表面の凹部の最大深さが1.0μm未満であるプリント配線板の製造方法。
Description
本開示は、電子部品を搭載する導体パターンを有するプリント配線板の製造方法、及び前記プリント配線板の製造方法に使用される積層体に関する。本出願は、2017年12月20日出願の日本出願第2017-244121号に基づく優先権を主張し、上記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
半導体素子等の微小電子部品を搭載する導体パターンを絶縁基材の表面に有するプリント配線板、例えばフレキシブルプリント配線板(FPC)の導体パターンの形成方法として、絶縁基材の表面に積層された導電層を、感光性樹脂層(レジスト層)を有する感光性樹脂フィルム(ドライフィルム、レジストフィルム)を用い、露光して導体パターンを形成する方法が広く用いられている。
例えば、ポリイミドフィルム等の絶縁基材に積層された銅等からなる導電層を、感光性樹脂フィルムで被覆し、さらに配線パターンが描かれたマスク(フォトマスク)を介して所望の配線パターンを露光し、配線パターンに対応した部分を感光した後、現像及び導電層のエッチングを行い導電層の配線の部分のみを残して絶縁基材上に配線を形成する方法(サブトラクティブ工法)が知られている(非特許文献1等)。
例えば、ポリイミドフィルム等の絶縁基材に積層された銅等からなる導電層を、感光性樹脂フィルムで被覆し、さらに配線パターンが描かれたマスク(フォトマスク)を介して所望の配線パターンを露光し、配線パターンに対応した部分を感光した後、現像及び導電層のエッチングを行い導電層の配線の部分のみを残して絶縁基材上に配線を形成する方法(サブトラクティブ工法)が知られている(非特許文献1等)。
又、特許文献1には、絶縁樹脂層(絶縁基材の表面)の上に無電解銅めっきにより1μm厚程度の導電層(シード層)を形成し、その表面に感光性樹脂層を形成した後、マスクを介して所望の配線パターンを露光、現像して無電解銅めっき層が部分的に露出する感光性樹脂層のパターンを形成し、その後、無電解銅めっき層へ給電して電解銅めっきを行い、無電解銅めっき層が露出する部分に電解銅めっきをして導体パターンを形成する工法(セミアディティブ工法)が、開示されている。
前記サブトラクティブ工法やセミアディティブ工法に用いられる感光性樹脂フィルムは、感光性樹脂層及びその表面に積層された支持層により構成され、感光性樹脂層の反対表面に保護層を積層した状態で出荷される場合が多い。そして、両表面に導体パターンを有するプリント配線板を製造する場合には、導電層が積層された絶縁基材やシード層が形成された絶縁基材の両表面を、感光性樹脂フィルムにより、感光性樹脂層が導電層やシード層に接するように被覆し、一方の表面についてマスクを介して露光した後、他方の表面についてもマスクを介して露光が行われる。
http://nikko-materials.com/dry_mecanism、ドライフィルム-メカニズム紹介、ニッコー・マテリアルズ株式会社
本開示の第1の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第1の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第1の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第1の被覆工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第2の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第2の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第1及び第2の被覆工程の後、前記第1の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第1の露光工程、及び
前記第1の露光工程の後、前記第2の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第2の露光工程を有し、
前記第2の露光工程に用いる、前記第2の感光性樹脂フィルムの最表面の凹部の最大深さが1.0μm未満であるプリント配線板の製造方法である。
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第1の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第1の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第1の被覆工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第2の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第2の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第1及び第2の被覆工程の後、前記第1の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第1の露光工程、及び
前記第1の露光工程の後、前記第2の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第2の露光工程を有し、
前記第2の露光工程に用いる、前記第2の感光性樹脂フィルムの最表面の凹部の最大深さが1.0μm未満であるプリント配線板の製造方法である。
本開示の第2の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1、ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなる積層体により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法である。
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1、ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなる積層体により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法である。
本開示の第3の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を構成する支持層の表面をカバー層で被覆する第3の被覆工程、
前記第3の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに、
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法である。
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を構成する支持層の表面をカバー層で被覆する第3の被覆工程、
前記第3の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに、
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法である。
本開示の第4の態様は、
プリント配線板の製造方法に使用される積層体であって、感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の1表面を覆う支持層と、前記支持層の表面を覆うカバー層とを備える積層体である。
プリント配線板の製造方法に使用される積層体であって、感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の1表面を覆う支持層と、前記支持層の表面を覆うカバー層とを備える積層体である。
[本開示が解決しようとする課題]
しかしながら、特許文献1に記載のように一方の表面について露光した後、他方の表面についての露光をして両表面に導体パターンを形成する場合、当該他方の面について、サブトラクティブ工法では、形成された導体パターンに断線(欠陥)が発生しやすく、セミアディティブ工法では、形成された導体パターンにショート不良が発生しやすく、形状、寸法が高精度の導体パターンを形成できないとの問題があった。
特に、L/S(ライン/スペース)=50/50μm以下であるようなファインピッチの導体パターンを形成する場合、この問題が大きかった。
しかしながら、特許文献1に記載のように一方の表面について露光した後、他方の表面についての露光をして両表面に導体パターンを形成する場合、当該他方の面について、サブトラクティブ工法では、形成された導体パターンに断線(欠陥)が発生しやすく、セミアディティブ工法では、形成された導体パターンにショート不良が発生しやすく、形状、寸法が高精度の導体パターンを形成できないとの問題があった。
特に、L/S(ライン/スペース)=50/50μm以下であるようなファインピッチの導体パターンを形成する場合、この問題が大きかった。
本開示は上記の問題に鑑みなされたものであり、両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、一方の表面について所望の配線パターンを露光した後、他方の表面について所望の配線パターンの露光を行う場合であっても、当該他方の面について、サブトラクティブ工法の場合における断線の発生や、セミアディティブ工法の場合におけるショート不良の発生が抑制され、形状、寸法が高精度の導体パターンを形成できるプリント配線板の製造方法を提供することを課題とする。
本開示はさらに、前記プリント配線板の製造方法に使用される積層体の提供を課題とする。
本開示はさらに、前記プリント配線板の製造方法に使用される積層体の提供を課題とする。
本発明者は検討の結果、支持層の表面に、最大深さが数μm以上であるような凹部が存在する感光性樹脂フィルムを用いた場合、現像後の感光性樹脂層に例えば糸状の傷等の欠陥が生じ、この傷(欠陥)により、サブトラクティブ工法においては導体パターンの断線、セミアディティブ工法では導体パターンのショート不良等の不具合が発生すること、
前記の不具合の発生確率は、支持層表面の凹部の最大深さが深くなればなるほど高くなる傾向にあること、
そして、支持層の表面に存在する凹部の最大深さが1μm未満の場合には、前記の不具合が発生する可能性は非常に低くなり、導体パターンの断線やショート不良等の不具合の発生が抑制されることを見出した。
本発明者は、又、絶縁基材の一方の面について露光までの工程を行う際に、絶縁基材の他方の面を被覆する感光性樹脂フィルムの支持層の表面に、被露光体を搬送するローラ等との接触により最大深さが1μm以上であるような凹部を有する傷が形成され、この傷により前記の不具合が発生すること、
そして、ローラ等との接触がされる支持層の表面に、さらにその表面を保護するフィルムを積層した積層体を用いることにより、又は支持層の表面にその表面を保護するフィルムを積層することにより、支持層の表面でのローラ等との接触による最大深さが1μm以上の凹部の発生を防ぐことができ、その結果、前記の不具合、すなわち導体パターンの断線やショート不良の発生を抑制できることを見出し、本開示を完成した。
前記の不具合の発生確率は、支持層表面の凹部の最大深さが深くなればなるほど高くなる傾向にあること、
そして、支持層の表面に存在する凹部の最大深さが1μm未満の場合には、前記の不具合が発生する可能性は非常に低くなり、導体パターンの断線やショート不良等の不具合の発生が抑制されることを見出した。
本発明者は、又、絶縁基材の一方の面について露光までの工程を行う際に、絶縁基材の他方の面を被覆する感光性樹脂フィルムの支持層の表面に、被露光体を搬送するローラ等との接触により最大深さが1μm以上であるような凹部を有する傷が形成され、この傷により前記の不具合が発生すること、
そして、ローラ等との接触がされる支持層の表面に、さらにその表面を保護するフィルムを積層した積層体を用いることにより、又は支持層の表面にその表面を保護するフィルムを積層することにより、支持層の表面でのローラ等との接触による最大深さが1μm以上の凹部の発生を防ぐことができ、その結果、前記の不具合、すなわち導体パターンの断線やショート不良の発生を抑制できることを見出し、本開示を完成した。
[本開示の効果]
前記第1の態様によれば、両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、一方の表面について配線パターンを露光した後、他方の表面について配線パターンの露光をする場合であっても、当該他方の面について、導体パターンの断線やショート不良の発生が抑制されて、形状、寸法が高精度の導体パターンを形成できるプリント配線板の製造方法が提供される。
前記第1の態様によれば、両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、一方の表面について配線パターンを露光した後、他方の表面について配線パターンの露光をする場合であっても、当該他方の面について、導体パターンの断線やショート不良の発生が抑制されて、形状、寸法が高精度の導体パターンを形成できるプリント配線板の製造方法が提供される。
前記第2の態様及び第3の態様によれば、両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、一方の表面について所望の配線パターンを露光した後、他方の表面について所望の配線パターンの露光を行う場合、一方の面について露光までの工程を行う際に、他方の面について、被露光体を搬送するローラ等との接触による最大深さが1μm以上の凹部の発生を防ぐことができ、その結果、導体パターンの断線やショート不良の発生が抑制されて、形状、寸法が高精度の導体パターンを形成できるプリント配線板の製造方法が提供される。
前記第4の態様によれば、前記第2の態様に使用される積層体が提供される。
[本開示の実施形態の説明]
以下、本開示を実施するための形態について具体的に説明する。なお、本開示は下記の実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲内及び請求の範囲と均等の意味、範囲内での全ての変更が含まれる。
以下、本開示を実施するための形態について具体的に説明する。なお、本開示は下記の実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲内及び請求の範囲と均等の意味、範囲内での全ての変更が含まれる。
(1)第1の態様
本開示の第1の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第1の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第1の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第1の被覆工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第2の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第2の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第1及び第2の被覆工程の後、前記第1の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第1の露光工程、及び
前記第1の露光工程の後、前記第2の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第2の露光工程を有し、
前記第2の露光工程に用いる、前記第2の感光性樹脂フィルムの最表面の凹部の最大深さが1.0μm未満であるプリント配線板の製造方法である。
本開示の第1の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第1の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第1の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第1の被覆工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第2の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第2の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第1及び第2の被覆工程の後、前記第1の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第1の露光工程、及び
前記第1の露光工程の後、前記第2の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第2の露光工程を有し、
前記第2の露光工程に用いる、前記第2の感光性樹脂フィルムの最表面の凹部の最大深さが1.0μm未満であるプリント配線板の製造方法である。
本態様のプリント配線板の製造方法は、この方法に用いられる前記の第2の感光性樹脂フィルムの支持層の表面に在る凹部の最大深さが、1.0μm未満であることを特徴とする。
L/S=50/50μm以下であるようなファインピッチの導体パターンを形成する場合、導体パターンの断線(サブトラクティブ工法の場合)やショート不良(セミアディティブ工法の場合)等の不具合が発生しやすいが、
本発明者は、感光性樹脂フィルムの支持層の表面にある凹凸等の欠陥、特に最大深さが1μm以上であるような凹部が存在する場合、この凹凸により光が散乱し、凹凸部の下にある感光性樹脂層の感光が不十分となり、露光の際に露光欠陥となり、現像後に感光性樹脂からなる配線パターンに糸状の傷が発生すること、そしてこの糸状の傷等の欠陥により、前記の不具合が発生することを見出すとともに、感光性樹脂フィルムの支持層の表面にある凹部の最大深さが1μm未満の場合は、導体パターンの断線(サブトラクティブ工法の場合)やショート不良(セミアディティブ工法の場合)等の不具合の発生が抑制され、ほとんど発生しないことを見出した。
L/S=50/50μm以下であるようなファインピッチの導体パターンを形成する場合、導体パターンの断線(サブトラクティブ工法の場合)やショート不良(セミアディティブ工法の場合)等の不具合が発生しやすいが、
本発明者は、感光性樹脂フィルムの支持層の表面にある凹凸等の欠陥、特に最大深さが1μm以上であるような凹部が存在する場合、この凹凸により光が散乱し、凹凸部の下にある感光性樹脂層の感光が不十分となり、露光の際に露光欠陥となり、現像後に感光性樹脂からなる配線パターンに糸状の傷が発生すること、そしてこの糸状の傷等の欠陥により、前記の不具合が発生することを見出すとともに、感光性樹脂フィルムの支持層の表面にある凹部の最大深さが1μm未満の場合は、導体パターンの断線(サブトラクティブ工法の場合)やショート不良(セミアディティブ工法の場合)等の不具合の発生が抑制され、ほとんど発生しないことを見出した。
支持層は、通常、紫外線を透過する樹脂からなるフィルムである。プリント配線板を製造する際の露光工程において、ローラ等の設備と支持層とが接触すると支持層の表面に凹凸が発生する。このような凹凸の発生を抑制し、支持層の表面にある凹部の深さを小さくすることにより前記の不具合の発生を減少させることができ、特に凹部の最大深さを1μm未満とすることにより、前記の不具合の発生を抑制できる。
又、前記の不具合の発生は、第2の感光性樹脂フィルムの支持層の表面にある凹部の長さを小さくすることによっても減少する。特に、第2の感光性樹脂フィルムの支持層の表面にある凹部の最大深さが1μm未満であって、かつ凹部の最大長さが5.0μm未満の場合、より確実に導体パターンの断線(サブトラクティブ工法の場合)やショート不良(セミアディティブ工法の場合)等の不具合の発生を抑制できるので好ましい。
次に、本態様の製造方法の各構成について説明する。
(プリント配線板)
プリント配線板とは、電気回路の配線を絶縁体からなる板やフィルム(絶縁基材)の表面や内部にプリントした基板である。本態様により製造されるプリント配線板は、導体パターンを絶縁基材の両表面に有するものである。又、サブトラクティブ工法により配線が形成されるプリント配線板及びセミアディティブ工法により配線が形成されるプリント配線板のいずれもが含まれる。本態様により製造されるプリント配線板としては、例えば、フレキシブルプリント配線板を挙げることができる。
絶縁基材としては、ポリイミド(PI)フィルムが、耐熱性に優れるため好ましく用いられる。また他の耐熱性樹脂からなるフィルムやガラスエポキシ基板等を用いることもできる。
導体パターンの材料としては、通常、銅(Cu)が用いられるが、他の導電性金属、例えば銀、銅合金、ステンレス、アルミニウム等を用いることもできる。
プリント配線板とは、電気回路の配線を絶縁体からなる板やフィルム(絶縁基材)の表面や内部にプリントした基板である。本態様により製造されるプリント配線板は、導体パターンを絶縁基材の両表面に有するものである。又、サブトラクティブ工法により配線が形成されるプリント配線板及びセミアディティブ工法により配線が形成されるプリント配線板のいずれもが含まれる。本態様により製造されるプリント配線板としては、例えば、フレキシブルプリント配線板を挙げることができる。
絶縁基材としては、ポリイミド(PI)フィルムが、耐熱性に優れるため好ましく用いられる。また他の耐熱性樹脂からなるフィルムやガラスエポキシ基板等を用いることもできる。
導体パターンの材料としては、通常、銅(Cu)が用いられるが、他の導電性金属、例えば銀、銅合金、ステンレス、アルミニウム等を用いることもできる。
(両面板の準備)
本態様の方法では、先ず、両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程が行われる。
サブトラクティブ工法により配線が形成されるプリント配線板の製造の場合には、導電層として銅(Cu)箔などが用いられる。例えば、絶縁基材の両表面に銅箔が積層された両面基板を準備する。導電層の形成は、例えば、銅箔などの金属箔を基材の両表面に接着する方法、薄い導電層を形成した後電気メッキする方法により行われる。
セミアディティブ工法により配線が形成されるプリント配線板の製造の場合には、導電層は、配線を形成する電気メッキの通電を行うための導電層(シード層)である。この場合、例えば、絶縁基材の両表面に、無電解メッキにより薄い銅の層を形成する方法により両面板が準備される。無電解メッキの代わりに絶縁基材の両表面へのスパッタリングにより導電層(シード層)を形成してもよい。
両面板が準備された後、絶縁基材の両表面にある導電層のそれぞれについて、感光性樹脂フィルムによる被覆、配線パターンの露光、現像の工程が行われる。
本態様の方法では、先ず、両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程が行われる。
サブトラクティブ工法により配線が形成されるプリント配線板の製造の場合には、導電層として銅(Cu)箔などが用いられる。例えば、絶縁基材の両表面に銅箔が積層された両面基板を準備する。導電層の形成は、例えば、銅箔などの金属箔を基材の両表面に接着する方法、薄い導電層を形成した後電気メッキする方法により行われる。
セミアディティブ工法により配線が形成されるプリント配線板の製造の場合には、導電層は、配線を形成する電気メッキの通電を行うための導電層(シード層)である。この場合、例えば、絶縁基材の両表面に、無電解メッキにより薄い銅の層を形成する方法により両面板が準備される。無電解メッキの代わりに絶縁基材の両表面へのスパッタリングにより導電層(シード層)を形成してもよい。
両面板が準備された後、絶縁基材の両表面にある導電層のそれぞれについて、感光性樹脂フィルムによる被覆、配線パターンの露光、現像の工程が行われる。
(感光性樹脂フィルムによる被覆)
前記のようにして準備された両面板の両表面にある導電層上に、感光性樹脂フィルムが積層され、導電層を被覆する。
本態様に使用される感光性樹脂フィルムは、感光性の樹脂からなる感光性樹脂層と、感光性樹脂層を支持し保護するためにその1表面に積層された支持層からなる。感光性樹脂層の反対表面に保護層を有していても良い。この場合、保護層を剥がしてから使用する。導電層上への積層は、感光性樹脂層が導電層に接するように行われ、絶縁基材、導電層、感光性樹脂層、支持層の順で積層される。
市販されている感光性樹脂フィルムの多くは、感光性樹脂層の表面に支持層が、別の表面に保護層が積層されている。例えばニッコーマテリアルズ社製のドライフィルムフォトレジストとして市販されている感光性樹脂フィルムは、レジスト層の両表面にフィルムがそれぞれ積層されている。このような感光性樹脂フィルムを本態様に使用する場合は、一方の表面にある保護層を剥離し感光性樹脂層を露出して使用する。
前記のようにして準備された両面板の両表面にある導電層上に、感光性樹脂フィルムが積層され、導電層を被覆する。
本態様に使用される感光性樹脂フィルムは、感光性の樹脂からなる感光性樹脂層と、感光性樹脂層を支持し保護するためにその1表面に積層された支持層からなる。感光性樹脂層の反対表面に保護層を有していても良い。この場合、保護層を剥がしてから使用する。導電層上への積層は、感光性樹脂層が導電層に接するように行われ、絶縁基材、導電層、感光性樹脂層、支持層の順で積層される。
市販されている感光性樹脂フィルムの多くは、感光性樹脂層の表面に支持層が、別の表面に保護層が積層されている。例えばニッコーマテリアルズ社製のドライフィルムフォトレジストとして市販されている感光性樹脂フィルムは、レジスト層の両表面にフィルムがそれぞれ積層されている。このような感光性樹脂フィルムを本態様に使用する場合は、一方の表面にある保護層を剥離し感光性樹脂層を露出して使用する。
(感光性樹脂フィルム)
次に本態様に使用される感光性樹脂フィルムを構成する各要素について説明する。
感光性樹脂層(レジスト層)を形成する材料としては、公知の紫外線(UV)硬化性樹脂等を用いることができる。具体的には、アクリル系等を挙げることができる。感光性樹脂層の厚みは、特に限定されないが、一般的には5~100μm程度である。
次に本態様に使用される感光性樹脂フィルムを構成する各要素について説明する。
感光性樹脂層(レジスト層)を形成する材料としては、公知の紫外線(UV)硬化性樹脂等を用いることができる。具体的には、アクリル系等を挙げることができる。感光性樹脂層の厚みは、特に限定されないが、一般的には5~100μm程度である。
支持層は、感光性樹脂層を保護する皮膜を形成でき、かつ感光性樹脂層からの剥離が可能な材料から形成される。この材料には、露光がUV照射により行われる場合は、UVの透過率が高いこと、平坦な皮膜を形成できること(平坦性)等が望まれる。そこで、この材料としてはPET、ポリプロピレン、ポリオレフィン等を挙げることができ、中でもUV透過性、平坦性の点からPETを主体とする樹脂が好ましく用いられる。ここで、「主体とする」とは、PETのみからなる場合及びPETを最大の組成とするが発明の趣旨を損ねない範囲で他の成分を含有する場合のいずれをも含む意味である。
支持層の厚さは、感光性樹脂層を保護できる厚さであれば特に限定されないが、通常5~200μmが好ましく、UV透過性や取扱いの点から10~30μmがより好ましい。また感光性樹脂層に対する支持層の剥離力は0.2~20N/m有するのが望ましい。
支持層の厚さは、感光性樹脂層を保護できる厚さであれば特に限定されないが、通常5~200μmが好ましく、UV透過性や取扱いの点から10~30μmがより好ましい。また感光性樹脂層に対する支持層の剥離力は0.2~20N/m有するのが望ましい。
本態様に使用される感光性樹脂フィルムは、支持層をPET等から作製した後、その1表面上に感光性樹脂の溶液を所定の厚みにコーティングし、乾燥して感光性樹脂層を形成する方法等により製造することができる。
(露光)
感光性樹脂フィルムによる被覆がされた後、配線パターンの露光が行われる。
露光方法としては、感光性樹脂フィルムがネガ型の場合は、感光性樹脂フィルムの支持層の表面に配線パターンが描かれたマスクを配置し、マスク上からUVを照射し、配線パターンの配線部分のみをUV照射して硬化する方法が挙げられる。この場合、露光の後、支持層を取り除き、現像液に浸漬すると、硬化されていない部分が除去され、硬化した部分だけが残され感光性樹脂層の配線パターンが形成される。又、UVの代わりに他の高エネルギー電磁波や電子線等の粒子線を用いる方法も考えられる。
さらに、感光性樹脂フィルムがポジ型の場合、すなわち照射された部分が現像液に可溶となる感光性樹脂からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂フィルムを用い、配線部分以外の部分を照射して、現像液に可溶化する方法も考えられる。
なお、露光の方式としては、マスクと基板間にレンズを配置して、マスク上のパターンを基板状の感光性樹脂に結像させて露光する投影露光方式、マスクを用いないレーザー光を用いたダイレクト露光方式、マスクを基板に接触させて露光するコンタクト露光方式、マスクと基板間に数μmから数十μm程度の隙間を設定して露光するプロキシミティ露光方式などがあり いずれの方式でも良い。特に、マスクと基板間にレンズを配置して、マスク上のパターンを基板状の感光性樹脂に結像させて露光する投影露光方式、マスクを用いないレーザー光を用いたダイレクト露光方式は、高精細な回路形成に用いられる。
感光性樹脂フィルムによる被覆がされた後、配線パターンの露光が行われる。
露光方法としては、感光性樹脂フィルムがネガ型の場合は、感光性樹脂フィルムの支持層の表面に配線パターンが描かれたマスクを配置し、マスク上からUVを照射し、配線パターンの配線部分のみをUV照射して硬化する方法が挙げられる。この場合、露光の後、支持層を取り除き、現像液に浸漬すると、硬化されていない部分が除去され、硬化した部分だけが残され感光性樹脂層の配線パターンが形成される。又、UVの代わりに他の高エネルギー電磁波や電子線等の粒子線を用いる方法も考えられる。
さらに、感光性樹脂フィルムがポジ型の場合、すなわち照射された部分が現像液に可溶となる感光性樹脂からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂フィルムを用い、配線部分以外の部分を照射して、現像液に可溶化する方法も考えられる。
なお、露光の方式としては、マスクと基板間にレンズを配置して、マスク上のパターンを基板状の感光性樹脂に結像させて露光する投影露光方式、マスクを用いないレーザー光を用いたダイレクト露光方式、マスクを基板に接触させて露光するコンタクト露光方式、マスクと基板間に数μmから数十μm程度の隙間を設定して露光するプロキシミティ露光方式などがあり いずれの方式でも良い。特に、マスクと基板間にレンズを配置して、マスク上のパターンを基板状の感光性樹脂に結像させて露光する投影露光方式、マスクを用いないレーザー光を用いたダイレクト露光方式は、高精細な回路形成に用いられる。
(支持層の剥離及び現像)
配線パターンの露光の後、支持層が剥離され、その後現像が行われる。現像により、配線パターン以外の部分の感光性樹脂層は現像液に溶解されて除去され、配線パターンの部分のみが残り、感光性樹脂層の配線パターンが形成される。現像は、感光性樹脂層の硬化されていない部分又は照射により可溶となった部分を溶解する現像液に露光後の積層体を浸漬する方法により行うことができる。現像液としては、感光性樹脂層がアルカリ可溶性の樹脂で形成されているときは、例えば炭酸ナトリウム水溶液(Na2CO3/H2O)等のアルカリ性の液が用いられる。
配線パターンの露光の後、支持層が剥離され、その後現像が行われる。現像により、配線パターン以外の部分の感光性樹脂層は現像液に溶解されて除去され、配線パターンの部分のみが残り、感光性樹脂層の配線パターンが形成される。現像は、感光性樹脂層の硬化されていない部分又は照射により可溶となった部分を溶解する現像液に露光後の積層体を浸漬する方法により行うことができる。現像液としては、感光性樹脂層がアルカリ可溶性の樹脂で形成されているときは、例えば炭酸ナトリウム水溶液(Na2CO3/H2O)等のアルカリ性の液が用いられる。
(現像後の工程-サブトラクティブ工法の場合)
プリント配線板をサブトラクティブ工法により製造する場合は、現像後、導電層のエッチングが行われる。現像により感光性樹脂層が除去された部分は導電層が露出するが、エッチングにより、この露出された部分の導電層が除去されて、配線パターンの部分のみ感光性樹脂層に被覆された導電層が残存する。導電層のエッチングは、例えば、塩化鉄、塩化銅水溶液等のエッチング液を用いて化学エッチングより行うことができる。
エッチング後、剥離液で処理して、感光性樹脂層を導電層から剥離させる。剥離により、導電層を被覆する感光性樹脂層が取り除かれて、導体パターンが形成される。剥離液には、例えば水酸化ナトリウム水溶液が用いられる。
プリント配線板をサブトラクティブ工法により製造する場合は、現像後、導電層のエッチングが行われる。現像により感光性樹脂層が除去された部分は導電層が露出するが、エッチングにより、この露出された部分の導電層が除去されて、配線パターンの部分のみ感光性樹脂層に被覆された導電層が残存する。導電層のエッチングは、例えば、塩化鉄、塩化銅水溶液等のエッチング液を用いて化学エッチングより行うことができる。
エッチング後、剥離液で処理して、感光性樹脂層を導電層から剥離させる。剥離により、導電層を被覆する感光性樹脂層が取り除かれて、導体パターンが形成される。剥離液には、例えば水酸化ナトリウム水溶液が用いられる。
(現像後の工程-セミアディティブ工法の場合)
プリント配線板をセミアディティブ工法により製造する場合は、現像後、導電層(シード層:無電解メッキにより形成された薄い銅層等)に通電し、配線を形成する材料、例えば銅の電気めっき(電解銅めっき)を行う。電気めっきにより、現像により感光性樹脂層が除去された部分、すなわち導電層が露出する部分に、配線を形成する材料がめっきされて積層され配線が形成される。その後、感光性樹脂層を、サブトラクティブ工法の場合と同様にして導電層から剥離させ除去する。感光性樹脂層を取り除くことにより導電層が露出するが、露出した導電層をエッチング(クイックエッチング)により取り除くことにより導体パターンが形成される。
プリント配線板をセミアディティブ工法により製造する場合は、現像後、導電層(シード層:無電解メッキにより形成された薄い銅層等)に通電し、配線を形成する材料、例えば銅の電気めっき(電解銅めっき)を行う。電気めっきにより、現像により感光性樹脂層が除去された部分、すなわち導電層が露出する部分に、配線を形成する材料がめっきされて積層され配線が形成される。その後、感光性樹脂層を、サブトラクティブ工法の場合と同様にして導電層から剥離させ除去する。感光性樹脂層を取り除くことにより導電層が露出するが、露出した導電層をエッチング(クイックエッチング)により取り除くことにより導体パターンが形成される。
(2)第2の態様、第3の態様
本開示の第2の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1、ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなる積層体により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法である。
本開示の第2の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1、ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなる積層体により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法である。
本開示の第3の態様は、
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を構成する支持層の表面をカバー層で被覆する第3の被覆工程、
前記第3の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに、
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程、を有するプリント配線板の製造方法である。
絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を構成する支持層の表面をカバー層で被覆する第3の被覆工程、
前記第3の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに、
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程、を有するプリント配線板の製造方法である。
第2の態様及び第3の態様のプリント配線板の製造方法は、
前記絶縁基材、及びその両表面に積層された導電層を有する積層体を準備した後、両表面の前記導電層のそれぞれについて、
導電層の表面を感光性樹脂フィルムにより被覆し、
前記感光性樹脂フィルムに配線パターンを露光する工程を有する点は、前記第1の態様のプリント配線板の製造方法と同じである。その後、感光性樹脂フィルムの支持層を剥離した後、現像して導体パターンを形成する点も前記第1の態様のプリント配線板の製造方法の場合と同じである。
前記絶縁基材、及びその両表面に積層された導電層を有する積層体を準備した後、両表面の前記導電層のそれぞれについて、
導電層の表面を感光性樹脂フィルムにより被覆し、
前記感光性樹脂フィルムに配線パターンを露光する工程を有する点は、前記第1の態様のプリント配線板の製造方法と同じである。その後、感光性樹脂フィルムの支持層を剥離した後、現像して導体パターンを形成する点も前記第1の態様のプリント配線板の製造方法の場合と同じである。
第2の態様のプリント配線板の製造方法は
1表面の導電層(導電層B1)の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1、ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなる積層体により被覆すること、そして
他の表面(導電層A1側)についての配線パターンを露光(第1の露光工程)後、前記カバー層を剥離して取り去り、その後導電層B1側の表面について配線パターンの露光(第2の露光工程)をすることを特徴とする。
又、第3の態様のプリント配線板の製造方法は、導電層A1側についての配線パターンを露光する(第1の露光工程)前に、感光性樹脂フィルムD1の支持層の表面をカバー層で被覆する第3の被覆工程を有すること、そして
第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離して取り去り、その後導電層B1側の表面について配線パターンの露光(第2の露光工程)をすることを特徴とする。
1表面の導電層(導電層B1)の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1、ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなる積層体により被覆すること、そして
他の表面(導電層A1側)についての配線パターンを露光(第1の露光工程)後、前記カバー層を剥離して取り去り、その後導電層B1側の表面について配線パターンの露光(第2の露光工程)をすることを特徴とする。
又、第3の態様のプリント配線板の製造方法は、導電層A1側についての配線パターンを露光する(第1の露光工程)前に、感光性樹脂フィルムD1の支持層の表面をカバー層で被覆する第3の被覆工程を有すること、そして
第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離して取り去り、その後導電層B1側の表面について配線パターンの露光(第2の露光工程)をすることを特徴とする。
絶縁基材の両表面に配線を有するプリント配線板の製造において、支持層の表面が露出している感光性樹脂フィルムを用いると、絶縁基材及びその両表面に積層された導電層を有する両面板の一方の表面について露光をする工程において、両面板の搬送のためのローラ等の設備との接触により、露光面と反対側の表面にある支持層の表面に凹部の最大深さが1.0μm以上となるような凹凸が生じ、その結果、サブトラクティブ工法の場合における断線や、セミアディティブ工法の場合におけるショート不良等の不具合が発生する。 しかし、第2の態様、第3の態様によれば、ローラ等の設備とはカバー層が接触し支持層の表面はローラ等と直接接触しないので、カバー層の表面が搬送用のローラ等により傷付いても、支持層の表面が傷付き、最大深さが1.0μm以上となるような凹部が生じることはない。従って、露光の前にカバー層を剥離して取り去れば、傷のない支持層が積層された状態で露光がされるため、断線やショート不良等の不具合が生じることはない。
次に、第2の態様、第3の態様の製造方法の各構成について説明する。
第2の態様、第3の態様により製造される、絶縁基材の両表面に配線を有するプリント配線板は、第1の態様の場合と同じプリント配線板である。
そして、第2の態様については、導電層B1の表面を被覆する積層体が、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなること、及び
第1の露光工程の後、カバー層を剥離するカバー層剥離工程を有している点以外は、第1の態様の各工程と同様にして行うことができる。
又、第3の態様については、導電層A1側についての第1の露光工程の前に、導電層B1に積層された感光性樹脂フィルムD1の支持層の表面をカバー層で被覆すること、及び 第1の露光工程の後、カバー層を剥離するカバー層剥離工程を有している点以外は、第1の態様の各工程と同様にして行うことができる。
第2の態様、第3の態様により製造される、絶縁基材の両表面に配線を有するプリント配線板は、第1の態様の場合と同じプリント配線板である。
そして、第2の態様については、導電層B1の表面を被覆する積層体が、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなること、及び
第1の露光工程の後、カバー層を剥離するカバー層剥離工程を有している点以外は、第1の態様の各工程と同様にして行うことができる。
又、第3の態様については、導電層A1側についての第1の露光工程の前に、導電層B1に積層された感光性樹脂フィルムD1の支持層の表面をカバー層で被覆すること、及び 第1の露光工程の後、カバー層を剥離するカバー層剥離工程を有している点以外は、第1の態様の各工程と同様にして行うことができる。
すなわち、第2の態様、第3の態様については、
感光性樹脂フィルムC1、D1としては、第1の態様に用いられる感光性樹脂フィルムと同様なものを用いることができ、
絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程は、第1の態様の積層体の準備と同様にして行うことができ、
第1の被覆工程及び第2の被覆工程は、第1の態様における、感光性樹脂フィルムにより、感光性樹脂層が導電層に接するように被覆する工程と同様にして行うことができ、
第1の露光工程及び第2の露光工程は、第1の態様における配線パターンを露光する工程と同様にして行うことができる。
露光工程後の工程、すなわち支持層の剥離、現像して配線パターンの形成、サブトラクティブ工法やセミアディティブ工法等による配線の形成方法も第1の態様の場合と同様にして行うことができる。
感光性樹脂フィルムC1、D1としては、第1の態様に用いられる感光性樹脂フィルムと同様なものを用いることができ、
絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程は、第1の態様の積層体の準備と同様にして行うことができ、
第1の被覆工程及び第2の被覆工程は、第1の態様における、感光性樹脂フィルムにより、感光性樹脂層が導電層に接するように被覆する工程と同様にして行うことができ、
第1の露光工程及び第2の露光工程は、第1の態様における配線パターンを露光する工程と同様にして行うことができる。
露光工程後の工程、すなわち支持層の剥離、現像して配線パターンの形成、サブトラクティブ工法やセミアディティブ工法等による配線の形成方法も第1の態様の場合と同様にして行うことができる。
(カバー層)
本開示の第2の態様や第3の態様で使用されるカバー層及び第4の態様の積層体を構成するカバー層は、皮膜を形成でき、かつ支持層からの剥離が可能な材料から形成される。カバー層剥離工程は、感光性樹脂フィルムの支持層を剥離する前に行われるので、カバー層は、支持層の感光性樹脂からの剥離より小さい力で支持層から剥離可能である必要がある。しかしカバー層剥離工程より前の剥離は防ぐ必要がある。そこで、熱膨張係数が支持層と近い材質からなるものが好ましく、支持層と同じ材質からなるフィルムが好ましく用いられる。
カバー層には、製造工程中にローラ等と接触したとき、支持層の傷の発生を防ぐことができる厚さが望まれる。
(3)第4の態様
本開示の第4の態様は、プリント配線板の製造方法に使用される積層体であって、感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の1表面を覆う支持層と、前記支持層の表面を覆うカバー層とを備える積層体である。この積層体は、前記第2の態様のプリント配線板の製造方法に使用される。前記第2の態様は、この第4の態様の積層体を用いること(及びカバー層を剥離する工程を有すること)を特徴としているので、第4の態様の積層体を用いることにより、前記第2の態様の効果を達成することができる。
本開示の第2の態様や第3の態様で使用されるカバー層及び第4の態様の積層体を構成するカバー層は、皮膜を形成でき、かつ支持層からの剥離が可能な材料から形成される。カバー層剥離工程は、感光性樹脂フィルムの支持層を剥離する前に行われるので、カバー層は、支持層の感光性樹脂からの剥離より小さい力で支持層から剥離可能である必要がある。しかしカバー層剥離工程より前の剥離は防ぐ必要がある。そこで、熱膨張係数が支持層と近い材質からなるものが好ましく、支持層と同じ材質からなるフィルムが好ましく用いられる。
カバー層には、製造工程中にローラ等と接触したとき、支持層の傷の発生を防ぐことができる厚さが望まれる。
(3)第4の態様
本開示の第4の態様は、プリント配線板の製造方法に使用される積層体であって、感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の1表面を覆う支持層と、前記支持層の表面を覆うカバー層とを備える積層体である。この積層体は、前記第2の態様のプリント配線板の製造方法に使用される。前記第2の態様は、この第4の態様の積層体を用いること(及びカバー層を剥離する工程を有すること)を特徴としているので、第4の態様の積層体を用いることにより、前記第2の態様の効果を達成することができる。
次に本開示の実施形態の例を、より具体的に図を参照しながら説明する。なお、図1~図5は、説明のために模式的に示す図であり、各層の厚さの比等を表すものではない。
図1は第4の態様の積層体、すなわち第2の態様の第2の被覆工程で用いられる感光性樹脂層1と支持層2を含む感光性樹脂フィルムD1とカバー層3からなる積層体の1例の構成を模式的に示す断面図である。図2Aは、第2の態様及び第3の態様に用いられる感光性樹脂フィルムC1及びD1の構成を模式的に示す断面図である。
図2Aに示す感光性樹脂フィルムは、感光性樹脂層1を備え、感光性樹脂層1を支持し保護するため、感光性樹脂層1の1表面に支持層2が剥離可能に積層されている。図1に示す積層体、すなわち第4の態様の積層体や第2の態様の第2の被覆工程で用いられる積層体では、支持層2の1表面には、さらに、カバー層3が剥離可能に積層されている。
図2Bは、市販されている感光性樹脂フィルムの例を模式的に示す断面図である。
市販されている感光性樹脂フィルムは、通常、図2Bに示すように、感光性樹脂層1を備え、その両表面に、感光性樹脂層1を支持し保護するため支持層2及び保護層21が剥離可能に積層されている。この保護層21は、感光性樹脂側に平滑性が有り、柔軟性があるポリエチレンなどが用いられる。
図2Aに示す感光性樹脂フィルムは、図2Bに示すような市販されている感光性樹脂フィルムの1面側にある保護層21を剥離して準備することができる。
図1に示す積層体は、図2Bに示すような感光性樹脂フィルムの1面側にある支持層2にカバー層3を積層し、保護層21を剥離する方法、支持層2とカバー層3を予め積層した状態で感光性樹脂を塗布し、他面側に保護層21を積層した後、基板に貼りつける際に保護層21を剥離する方法、又は、図2Bに示すような感光性樹脂フィルムの1面側にある保護層21を剥離するとともに、他面側にある支持層2にカバー層3を積層することにより準備する方法とすることができる。
市販されている感光性樹脂フィルムは、通常、図2Bに示すように、感光性樹脂層1を備え、その両表面に、感光性樹脂層1を支持し保護するため支持層2及び保護層21が剥離可能に積層されている。この保護層21は、感光性樹脂側に平滑性が有り、柔軟性があるポリエチレンなどが用いられる。
図2Aに示す感光性樹脂フィルムは、図2Bに示すような市販されている感光性樹脂フィルムの1面側にある保護層21を剥離して準備することができる。
図1に示す積層体は、図2Bに示すような感光性樹脂フィルムの1面側にある支持層2にカバー層3を積層し、保護層21を剥離する方法、支持層2とカバー層3を予め積層した状態で感光性樹脂を塗布し、他面側に保護層21を積層した後、基板に貼りつける際に保護層21を剥離する方法、又は、図2Bに示すような感光性樹脂フィルムの1面側にある保護層21を剥離するとともに、他面側にある支持層2にカバー層3を積層することにより準備する方法とすることができる。
図3Aは、第2の態様のプリント配線板の製造方法の第1の被覆工程及び第2の被覆工程を模式的に示す断面図である。
図中の積層体は、絶縁基材4の両表面に導電層5(導電層A1及び導電層B1)が積層されたものである。
図3Aに示すように導電層A1には、感光性樹脂層1及び支持層2からなる感光性樹脂フィルムC1が、感光性樹脂層1が導電層A1に接するように被覆され、導電層B1には、感光性樹脂層1及び支持層2からなる感光性樹脂フィルムD1ならびにカバー層3からなる積層体が、感光性樹脂層1が導電層B1に接するように被覆されて、図3Aの右側の図に示す積層体が形成される。
図中の積層体は、絶縁基材4の両表面に導電層5(導電層A1及び導電層B1)が積層されたものである。
図3Aに示すように導電層A1には、感光性樹脂層1及び支持層2からなる感光性樹脂フィルムC1が、感光性樹脂層1が導電層A1に接するように被覆され、導電層B1には、感光性樹脂層1及び支持層2からなる感光性樹脂フィルムD1ならびにカバー層3からなる積層体が、感光性樹脂層1が導電層B1に接するように被覆されて、図3Aの右側の図に示す積層体が形成される。
図3Bは、第3の態様のプリント配線板の製造方法の第1の被覆工程、第2の被覆工程及び第3の被覆工程を模式的に示す断面図である。
図中の積層体は、絶縁基材4の両表面に導電層5(導電層A1及び導電層B1)が積層されたものである。
図に示すように導電層A1及びB1には、感光性樹脂層1及び支持層2からなる感光性樹脂フィルムC1及びD1が、それぞれ、感光性樹脂層1が導電層A1又はB1に接するように被覆され、図3Bの中央の図に示す積層体が形成される。
その後図3(b)に示すように、形成された積層体の1方の表面にある支持層2(感光性樹脂フィルムD1の支持層)には、カバー層3が被覆され(第3の被覆工程)、図3Bの右側の図に示す積層体(図3Aの右側の図に示す積層体と同じである)が形成される。
図中の積層体は、絶縁基材4の両表面に導電層5(導電層A1及び導電層B1)が積層されたものである。
図に示すように導電層A1及びB1には、感光性樹脂層1及び支持層2からなる感光性樹脂フィルムC1及びD1が、それぞれ、感光性樹脂層1が導電層A1又はB1に接するように被覆され、図3Bの中央の図に示す積層体が形成される。
その後図3(b)に示すように、形成された積層体の1方の表面にある支持層2(感光性樹脂フィルムD1の支持層)には、カバー層3が被覆され(第3の被覆工程)、図3Bの右側の図に示す積層体(図3Aの右側の図に示す積層体と同じである)が形成される。
図4は、第2の態様及び第3の態様の第1の露光工程で行う露光を模式的に示す断面図である。
図4に示すように、図3A又は図3Bの右側の図に示す積層体の1表面側の支持層2(感光性樹脂フィルムC1の支持層)の表面に配線パターンが描かれたマスク61が被せられ、UV等がマスク61上から照射されて露光が行われる(図4の下向き矢印)。この工程で、積層体の搬送に使用されるローラとの接触等により積層体の他方の表面にあるカバー層3の表面に傷が発生している(図4の波線部分:ローラによる傷)。しかし、支持層2(感光性樹脂フィルムD1の支持層)は、カバー層3により保護されローラとは接触しないため、その表面が傷付くことはない。
図4に示すように、図3A又は図3Bの右側の図に示す積層体の1表面側の支持層2(感光性樹脂フィルムC1の支持層)の表面に配線パターンが描かれたマスク61が被せられ、UV等がマスク61上から照射されて露光が行われる(図4の下向き矢印)。この工程で、積層体の搬送に使用されるローラとの接触等により積層体の他方の表面にあるカバー層3の表面に傷が発生している(図4の波線部分:ローラによる傷)。しかし、支持層2(感光性樹脂フィルムD1の支持層)は、カバー層3により保護されローラとは接触しないため、その表面が傷付くことはない。
図5は、第2の態様及び第3の態様の第2の露光工程で行う露光を模式的に示す断面図である。
図5の左側の図に示すようにカバー層3の表面にはローラとの接触による傷が発生しているが、カバー層3は剥離され、傷のない支持層2の表面が露出する。そして、その表面に配線パターンが描かれたマスク62が被せられ、露光が行われる(図5の下向き矢印)。従って、現像後の導電層B側の感光性樹脂層1に線状の傷等の欠陥の発生は抑制され、導体パターンに断線やショート不良等が発生することを抑制できる。
図5の左側の図に示すようにカバー層3の表面にはローラとの接触による傷が発生しているが、カバー層3は剥離され、傷のない支持層2の表面が露出する。そして、その表面に配線パターンが描かれたマスク62が被せられ、露光が行われる(図5の下向き矢印)。従って、現像後の導電層B側の感光性樹脂層1に線状の傷等の欠陥の発生は抑制され、導体パターンに断線やショート不良等が発生することを抑制できる。
(比較例1)
厚さ25μmのポリイミド基板(絶縁基材)の表面に厚さ40nmのNiCr層、厚さ0.4μmのCu層(導電層:シード層)を有するスパッタ基板を準備した。このスパッタ基板の表面に、厚さ19μmの感光性樹脂層と支持層からなり、支持層の凹部の最大深さが1.2μmのネガ型ドライフィルムレジスト(感光性樹脂フィルム)を、感光性樹脂層がCu層に接するように積層した。
このドライフィルムレジストの表面上に、L/S=10/10μmの配線パターンが描かれたマスクを被せ、投影露光機によりパターン露光した。
露光後に、支持層の剥離及び現像を行って、ドライフィルムレジストのパターンを形成した。その後、電解銅めっき、ドライフィルムレジストの剥離、剥離により露出したCu層及びNiCr層の除去を順に行った。
上記の工程では、支持層の凹部に相当する部分において、感光性樹脂に未露光部分が発生し、現像で未露光部の感光性樹脂が溶解し、電解銅めっきの時にその部分がめっきされ、結果としてショート不良が発生した。
厚さ25μmのポリイミド基板(絶縁基材)の表面に厚さ40nmのNiCr層、厚さ0.4μmのCu層(導電層:シード層)を有するスパッタ基板を準備した。このスパッタ基板の表面に、厚さ19μmの感光性樹脂層と支持層からなり、支持層の凹部の最大深さが1.2μmのネガ型ドライフィルムレジスト(感光性樹脂フィルム)を、感光性樹脂層がCu層に接するように積層した。
このドライフィルムレジストの表面上に、L/S=10/10μmの配線パターンが描かれたマスクを被せ、投影露光機によりパターン露光した。
露光後に、支持層の剥離及び現像を行って、ドライフィルムレジストのパターンを形成した。その後、電解銅めっき、ドライフィルムレジストの剥離、剥離により露出したCu層及びNiCr層の除去を順に行った。
上記の工程では、支持層の凹部に相当する部分において、感光性樹脂に未露光部分が発生し、現像で未露光部の感光性樹脂が溶解し、電解銅めっきの時にその部分がめっきされ、結果としてショート不良が発生した。
(比較例2)
厚さ12μmのCu層(導電層)をその表面に有する厚さ60μmのガラエポ基板(絶縁基材)を準備した。ガラエポ基板の表面に、厚さ15μmの感光性樹脂層と支持層からなり、支持層の凹部の最大深さが1.8μmのネガ型ドライフィルムレジスト(感光性樹脂フィルム)を、感光性樹脂層がCu層に接するように積層した。
このドライフィルムレジストの表面上に、L/S=30/30μmの配線パターンが描かれたマスクを被せ、投影露光機によりパターン露光した。
露光後に、支持層の剥離及び現像を行って、ドライフィルムレジストのパターンを形成した後エッチングを行った。
上記の工程では、支持層凹部に相当する部分において、感光性樹脂に未露光部分が発生し、現像で未露光の感光性樹脂が溶解して、エッチング時にその部分の銅が除去され、結果として断線が発生した。
厚さ12μmのCu層(導電層)をその表面に有する厚さ60μmのガラエポ基板(絶縁基材)を準備した。ガラエポ基板の表面に、厚さ15μmの感光性樹脂層と支持層からなり、支持層の凹部の最大深さが1.8μmのネガ型ドライフィルムレジスト(感光性樹脂フィルム)を、感光性樹脂層がCu層に接するように積層した。
このドライフィルムレジストの表面上に、L/S=30/30μmの配線パターンが描かれたマスクを被せ、投影露光機によりパターン露光した。
露光後に、支持層の剥離及び現像を行って、ドライフィルムレジストのパターンを形成した後エッチングを行った。
上記の工程では、支持層凹部に相当する部分において、感光性樹脂に未露光部分が発生し、現像で未露光の感光性樹脂が溶解して、エッチング時にその部分の銅が除去され、結果として断線が発生した。
(実施例1)
感光性樹脂フィルムとして、支持層の凹部の最大深さ0.6μmのネガ型ドライフィルムレジストを用いた以外は、前記比較例1と同様にして露光、現像、電解銅めっき、Cu層及びNiCr層の除去を行った。
上記の工程では、支持層の凹部に相当する部分においても、感光性樹脂に未露光部分は発生せず、ショート不良は発生しなかった。
感光性樹脂フィルムとして、支持層の凹部の最大深さ0.6μmのネガ型ドライフィルムレジストを用いた以外は、前記比較例1と同様にして露光、現像、電解銅めっき、Cu層及びNiCr層の除去を行った。
上記の工程では、支持層の凹部に相当する部分においても、感光性樹脂に未露光部分は発生せず、ショート不良は発生しなかった。
(実施例2)
感光性樹脂フィルムとして、支持層の凹部の最大深さ0.8μmのネガ型ドライフィルムレジストを用いた以外は、前記比較例2と同様にして露光、現像、エッチングを行った。
上記の工程では、支持層の凹部に相当する部分においても、感光性樹脂に未露光部分は発生せず、断線は発生しなかった。
感光性樹脂フィルムとして、支持層の凹部の最大深さ0.8μmのネガ型ドライフィルムレジストを用いた以外は、前記比較例2と同様にして露光、現像、エッチングを行った。
上記の工程では、支持層の凹部に相当する部分においても、感光性樹脂に未露光部分は発生せず、断線は発生しなかった。
上記の比較例、実施例の結果より、感光性樹脂フィルムとして、支持層の凹部の最大深さが1.0μm以上のものを用いた場合は、ショート不良や断線が発生するが、最大深さが1.0μm未満のものを用いた場合は、ショート不良や断線の発生が抑制されることが示されている。
1 感光性樹脂層
2 支持層
21 保護層
3 カバー層
4 絶縁基材
5 導電層
61、62 マスク
2 支持層
21 保護層
3 カバー層
4 絶縁基材
5 導電層
61、62 マスク
Claims (7)
- 絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
両表面に導電層を有する絶縁基材の両面板を準備する工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第1の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第1の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第1の被覆工程、
感光性樹脂層と支持層を有する第2の感光性樹脂フィルムを、前記両面板の第2の表面に、前記感光性樹脂層と前記導電層とが接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第1及び第2の被覆工程の後、前記第1の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第1の露光工程、及び
前記第1の露光工程の後、前記第2の表面を被覆する前記感光性樹脂フィルムを露光する第2の露光工程を有し、
前記第2の露光工程に用いる、前記第2の感光性樹脂フィルムの最表面の凹部の最大深さが1.0μm未満であるプリント配線板の製造方法。 - 前記第2の露光工程に用いる、前記第2の感光性樹脂フィルムの最表面の凹部の最大長さが5μm未満である請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
- 絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1、ならびに前記支持層の表面を被覆するカバー層からなる積層体により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法。 - 絶縁基材の両表面に導体パターンを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記絶縁基材、その1表面に積層された導電層A1及び前記絶縁基材の他方の表面に積層された導電層B1を有する両面板を準備する工程、
前記導電層A1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムC1により、前記感光性樹脂層が導電層A1に接するように被覆する第1の被覆工程、
前記導電層B1の表面を、感光性樹脂層及びその1表面を被覆する支持層からなる感光性樹脂フィルムD1により、前記感光性樹脂層が導電層B1に接するように被覆する第2の被覆工程、
前記第2の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を構成する支持層の表面をカバー層で被覆する第3の被覆工程、
前記第3の被覆工程の後、前記感光性樹脂フィルムC1を露光する第1の露光工程、
前記第1の露光工程の後、前記カバー層を剥離するカバー層剥離工程、ならびに、
前記カバー層剥離工程の後、前記感光性樹脂フィルムD1を露光する第2の露光工程を有するプリント配線板の製造方法。 - 前記プリント配線板が、フレキシブルプリント配線板である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記プリント配線板の導体パターンが、L/S=50μm/50μm以下の細線パターンを有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
- プリント配線板の製造方法に使用される積層体であって、感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の1表面を覆う支持層と、前記支持層の表面を覆うカバー層とを備える積層体。
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