WO2016181422A1 - 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品 - Google Patents

転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品 Download PDF

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photosensitive resin
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真弓 佐藤
忠広 木村
和仁 渡部
匠 渡邊
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日立化成株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a transfer type photosensitive refractive index adjusting film, a method for forming a refractive index adjusting pattern, and an electronic component. More specifically, the present invention relates to a transfer type photosensitive refractive index adjusting film capable of easily forming a cured film having both functions of a protective film of a transparent electrode and invisibility of a transparent electrode pattern or improved visibility of a touch screen.
  • Liquid crystal display elements and touch panels are used in large electronic devices such as personal computers and televisions, small electronic devices such as car navigation, mobile phones, and electronic dictionaries, and display devices such as OA devices and FA devices.
  • These liquid crystal display elements and touch panels are provided with electrodes made of a transparent electrode material.
  • ITO Indium-Tin-Oxide
  • indium oxide Indium oxide
  • tin oxide mainly used because of high visible light transmittance.
  • a plurality of X electrodes and a plurality of Y electrodes orthogonal to the X electrodes have a two-layer structure pattern in order to express two-dimensional coordinates by the X axis and the Y axis. Is forming.
  • the use of conductive fibers typified by Ag nanowires and carbon nanotubes has been studied as these electrodes, but ITO is still the mainstream.
  • the metal wiring is required to transmit a touch position detection signal.
  • the metal wiring is generally made of copper.
  • the present inventors provide a photosensitive resin layer formed from a specific photosensitive resin composition on a transparent substrate, and the photosensitive resin layer is exposed and developed to be transparent.
  • a method for protecting metal wiring on a substrate has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
  • a plurality of X electrodes made of a transparent electrode material and a plurality of Y electrodes perpendicular to the X electrodes are formed on a base material.
  • the color difference increases due to optical reflection between the portion where the transparent electrode pattern is formed and the portion where it is not formed, and the transparent conductive pattern is reflected on the screen when modularized.
  • the transparent electrode pattern There is a problem of so-called “bone appearance phenomenon”.
  • OCA Optical Clear Adhesive
  • Patent Document 1 The method described in Patent Document 1 is effective in protecting the metal wiring, but there is room for improvement in terms of suppressing the bone appearance phenomenon and suppressing the decrease in screen transmittance.
  • a low refractive index first curable transparent resin layer and a high refractive index second curable transparent resin layer adjusted to a specific refractive index range.
  • the transfer film of Patent Document 2 is not sufficiently transparent, and there is room for further improvement. Further, when a predetermined cured film is formed, developability is not sufficient, and there is room for improvement from the viewpoint of forming a cured film that achieves both suppression of a decrease in screen transmittance and protection of sensor metal wiring. Further, as a specific transfer film configuration, a six-layer film comprising a temporary support / thermoplastic resin layer / intermediate layer / first curable transparent resin layer / second curable transparent resin layer / protective film is disclosed. However, there is room for improvement from the viewpoint of productivity of multilayer films.
  • the present invention is capable of easily forming a cured film with sufficient developability, which can suppress the bone-visible phenomenon of the transparent electrode pattern, suppress the decrease in the transmittance of the screen, and protect the sensor metal wiring, and has a highly transparent transfer type photosensitive refraction. It aims at providing a rate adjustment film.
  • a transfer-type photosensitive refractive index adjusting film composed of a photosensitive resin layer containing a specific photopolymerization initiator and a high refractive index layer, It is possible to form a thin IM layer (also referred to as an optical adjustment layer or an index matching layer) on the transparent conductive pattern, and to improve the visibility of the touch screen by suppressing the bone-visible phenomenon and reducing the transmittance of the screen.
  • the present inventors have found that a cured film that can simultaneously suppress the corrosion of metal wiring can be formed with sufficient developability, and have completed the present invention.
  • a transfer type photosensitive refractive index adjusting film comprising a polymerization initiator, wherein the photopolymerization initiator contains an oxime ester compound or a phosphine oxide compound.
  • 2. The transfer type photosensitive refractive index adjusting film according to 1, wherein a minimum value of visible light transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer is 90.00% or more.
  • Refractive index adjusting film 7 The transfer type photosensitive refractive index adjusting film according to any one of 1 to 6, wherein the high refractive index layer has a refractive index of 1.50 to 1.90 at a wavelength of 633 nm. 8).
  • the binder polymer is (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester, styrene, (meth) acrylic acid methyl ester, (meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid butyl 11.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film according to 9 or 10 which is a binder polymer containing a structural unit derived from at least one compound selected from the group consisting of an ester and 2-ethylhexyl ester of (meth) acrylic acid. 12 12. The transfer type photosensitive refractive index adjusting film according to any one of 1 to 11, wherein the photosensitive resin layer contains a phosphate ester compound. 13 The transfer type photosensitive refractive index adjusting film according to any one of 1 to 12, wherein the total thickness of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer is 30 ⁇ m or less. 14.
  • a shaped photosensitive refractive index adjusting film can be provided.
  • (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid
  • (meth) acrylate means acrylate or a corresponding methacrylate.
  • a or B only needs to include one of A and B, or may include both.
  • process is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term “process” is used as long as the intended action of the process is achieved. included.
  • the numerical range indicated by using “to” indicates a range including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively.
  • each component in the composition is the sum of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific indication when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition. Means quantity.
  • the exemplary materials may be used alone or in combination of two or more unless otherwise specified.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film of the present invention includes a support film, a photosensitive resin layer provided on the support film, and a high refractive index layer provided on the photosensitive resin layer.
  • the photosensitive resin layer includes a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator includes an oxime ester compound or a phosphine oxide compound.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a transfer type photosensitive refractive index adjusting film of the present invention.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film 1 shown in FIG. 1 includes a support film 10, a photosensitive resin layer 20 provided on the support film, and a high refractive index layer provided on the photosensitive resin layer. 30.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film may include a protective film 40 provided on the opposite side of the high refractive index layer 30 to the photosensitive resin layer 20 as shown in FIG.
  • the boundary between the high refractive index layer and the photosensitive resin layer is not necessarily clear, and the high refractive index layer may be mixed with the photosensitive resin layer.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film for example, transparency that satisfies both functions of protecting metal wiring and transparent electrodes on the frame of the touch panel and invisibility of the transparent electrode pattern or improving the visibility of the touch screen.
  • High cured film can be formed at a time with sufficient developability.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment in which the transfer type photosensitive refractive index adjusting film of the present invention is used for a substrate with a transparent conductive pattern.
  • a high refractive index layer 30 is provided on a substrate 50 with a transparent electrode pattern 50a such as ITO so as to cover the pattern 50a, a photosensitive resin layer 20 is provided thereon, and the laminate 100 is formed. It is configured.
  • the support film, the photosensitive resin layer, the high refractive index layer, and the protective film will be described.
  • a polymer film As the support film 10, a polymer film can be used.
  • the polymer film include polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyether sulfone, and cycloolefin polymer. Among these, polyethylene terephthalate or cycloolefin polymer is preferable.
  • the thickness of the support film 10 is preferably 5 to 100 ⁇ m from the viewpoint of laminating properties of the photosensitive resin layer and suppressing a reduction in resolution when irradiated with active light through the support film 10. It is more preferably 70 ⁇ m, further preferably 15 to 40 ⁇ m, and particularly preferably 15 to 35 ⁇ m.
  • the photosensitive resin layer 20 includes a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator includes an oxime ester compound or a phosphine oxide compound.
  • the photopolymerization initiator includes an oxime ester compound or a phosphine oxide compound.
  • a cured film having high transparency can be formed with sufficient developability by using an oxime ester compound or a phosphine oxide compound as a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerizable compound used in the present invention is preferably a compound having an ethylenically unsaturated group.
  • the photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated group include a monofunctional vinyl monomer, a bifunctional vinyl monomer, or a polyfunctional vinyl monomer having at least three polymerizable ethylenically unsaturated groups.
  • Examples of the monofunctional vinyl monomer include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid benzyl ester, styrene, (meth) acrylic acid methyl ester, (meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid butyl ester, (meth ) Acrylic acid 2-ethylhexyl ester and the like.
  • bifunctional vinyl monomer examples include polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxypolypropoxy Phenyl) propane, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, and di (meth) acrylate having a dicyclopentanyl structure or a dicyclopentenyl structure.
  • (Meth) acrylate compounds having a skeleton derived from trimethylolpropane, such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate; tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, tetramethylol, from the viewpoint of corrosion inhibition of metal wiring and transparent electrodes and developability (Meth) acrylate compounds having a skeleton derived from tetramethylolmethane such as methanetetra (meth) acrylate; (meth) acrylates having a skeleton derived from pentaerythritol such as pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate Compound; (Meth) acrylate compound having a skeleton derived from dipenta
  • a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from pentaerythritol, a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from dipentaerythritol, a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from trimethylolpropane, or ditrimethylolpropane It is preferable to include a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from, and a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from dipentaerythritol, a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from trimethylolpropane, or a skeleton derived from ditrimethylolpropane It is more preferable that a (meth) acrylate compound having a skeleton is included, and it is further preferable that a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from ditrimethylolpropan
  • (meth) acrylate compound having a skeleton derived from will be described by taking a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from ditrimethylolpropane as an example.
  • (Meth) acrylate having a skeleton derived from ditrimethylolpropane means an esterified product of ditrimethylolpropane and (meth) acrylic acid, and the esterified product includes a compound modified with an alkyleneoxy group.
  • the esterified product preferably has a maximum number of 4 ester bonds in one molecule, but a compound having 1 to 3 ester bonds may be mixed.
  • the photopolymerizable compound preferably contains a monomer having at least three polymerizable ethylenically unsaturated groups in the molecule.
  • the ratio of the monomer having at least three polymerizable ethylenically unsaturated groups in the molecule is from the viewpoint of suppressing photocurability and electrode corrosion.
  • the amount of the photopolymerizable compound contained in the photosensitive resin layer is preferably 30 to 100 parts by weight, more preferably 50 to 100 parts by weight, and 75 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the photopolymerizable compounds. More preferably.
  • the oxime ester compound that is a photopolymerization initiator is preferably a compound represented by the following formula (1), a compound represented by the following formula (2), or a compound represented by the following formula (3). .
  • R 11 and R 12 each represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 10 carbon atoms, a phenyl group, or a tolyl group.
  • an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or a tolyl group is preferable, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a cyclohexane having 4 to 6 carbon atoms is preferable.
  • R 13 represents H, OH, COOH, O (CH 2 ) OH, O (CH 2 ) 2 OH, COO (CH 2 ) OH or COO (CH 2 ) 2 OH.
  • H, O (CH 2 ) OH, O (CH 2 ) 2 OH, COO (CH 2 ) OH, or COO (CH 2 ) 2 OH are preferred, and H, O (CH 2 ) 2 OH, or COO More preferred is (CH 2 ) 2 OH.
  • a plurality of R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and is preferably a propyl group.
  • the plurality of R 14 may be the same or different.
  • R 15 represents NO 2 or ArCO (wherein Ar represents a phenyl group or a tolyl group), and Ar is preferably a tolyl group.
  • R 16 and R 17 each represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group, or a tolyl group, and is preferably a methyl group, a phenyl group, or a tolyl group.
  • R 18 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and is preferably an ethyl group.
  • R 19 is an organic group having an acetal bond, and is preferably a substituent corresponding to R 19 in a compound represented by the formula (3-1) described later.
  • R 20 and R 21 each represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group or a tolyl group, preferably a methyl group, a phenyl group or a tolyl group, and more preferably a methyl group.
  • R 22 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 4. If R 22 there are a plurality, or different plural R 22 are each identical.
  • Examples of the compound represented by the above formula (1) include a compound represented by the following formula (1-1) and a compound represented by the following formula (1-2).
  • the compound represented by the following formula (1-1) is available as IRGACURE OXE 01 (manufactured by BASF Japan Ltd., product name).
  • Examples of the compound represented by the above formula (2) include a compound represented by the following formula (2-1).
  • the compound represented by the following formula (2-1) is available as DFI-091 (product name, manufactured by Daito Chemix Co., Ltd.).
  • Examples of the compound represented by the above formula (3) include a compound represented by the following formula (3-1).
  • a compound represented by the following formula (3-1) is available as Adekaoptomer N-1919 (manufactured by ADEKA, product name).
  • oxime ester compounds are preferably compounds represented by the following formula (4) and compounds represented by the following formula (5).
  • phosphine oxide compound As a phosphine oxide compound, the compound represented by following formula (6) and following formula (7) is mentioned, for example. From the viewpoint of fast curability and transparency, a compound represented by the following formula (6) is preferable.
  • R 31 , R 32 and R 33 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group or a mesityl group.
  • R 34 , R 35 and R 36 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group or a dimethoxyphenyl group.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be any of linear, branched and cyclic alkyl groups.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and most preferably a methyl group.
  • R 31 , R 32 and R 33 are a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group or a mesityl group are preferable.
  • R 34 , R 35 and R 36 are a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group or a dimethoxyphenyl group are preferable.
  • 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide is preferable because of the transparency of the protective film to be formed and the pattern forming ability when the film thickness is 10 ⁇ m or less.
  • This compound is commercially available, for example, as LUCIRIN TPO (manufactured by BASF Japan Ltd., product name).
  • the photosensitive resin layer may contain a photopolymerization initiator other than the oxime ester compound and the phosphine oxide compound described above.
  • photopolymerization initiators other than oxime ester compounds and phosphine oxide compounds include benzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone.
  • benzoin ether compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin, Benzoin compounds such as methylbenzoin and ethylbenzoin; benzyl derivatives such as benzyldimethyl ketal; acridine derivatives such as 9-phenylacridine and 1,7-bis (9,9′-acridinyl) heptane; N-phenylglycine, N Phenylglycine derivatives; coumarin compounds; oxazole-based compounds.
  • the photosensitive resin layer preferably contains a binder polymer in addition to the above-described photopolymerizable compound and photopolymerization initiator.
  • a binder polymer a polymer having a carboxyl group is preferably used from the viewpoint of enabling patterning by alkali development.
  • the binder polymer is preferably a copolymer containing structural units derived from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid alkyl ester.
  • the copolymer may contain other monomers that can be copolymerized with the (meth) acrylic acid and the (meth) acrylic acid alkyl ester as constituent units. Specific examples include (meth) acrylic acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester, and styrene.
  • Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include (meth) acrylic acid methyl ester, (meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid butyl ester, (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl ester, (meth) acrylic And acid hydroxyl ethyl ester.
  • (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester, styrene, (meth) acrylic particularly from the viewpoint of alkali developability, patterning properties, and transparency with respect to an inorganic alkaline aqueous solution
  • a binder polymer comprising a structural unit derived from at least one compound selected from the group consisting of acid methyl ester, (meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid butyl ester and (meth) acrylic acid 2-ethylhexyl ester preferable.
  • the weight average molecular weight of the binder polymer is preferably 10,000 to 200,000, more preferably 15,000 to 150,000, and more preferably 30,000 to 150,000 from the viewpoint of developability. More preferably, it is particularly preferably 30,000 to 100,000, particularly preferably 40,000 to 100,000.
  • the weight average molecular weight can be measured by a gel permeation chromatography method with reference to the examples of the present specification.
  • the acid value of the binder polymer is preferably 75 mgKOH / g or more from the viewpoint of alkali developability. Further, from the viewpoint of achieving both controllability of the shape of the protective film and rust prevention of the protective film, it is preferably 75 to 200 mgKOH / g, more preferably 75 to 150 mgKOH / g, and 75 to 120 mgKOH. / G is more preferable, and 78 mg to 120 mg KOH / g is particularly preferable.
  • an acid value can be measured with reference to the Example of this-application specification.
  • the hydroxyl value of the binder polymer is preferably 50 mgKOH / g or less, more preferably 45 mgKOH / g or less, from the viewpoint of further improving the rust prevention property.
  • the hydroxyl value can be measured with reference to the examples in the present specification.
  • the content of the binder polymer (hereinafter also referred to as component (A)) and the photopolymerizable compound (hereinafter also referred to as component (B)) is the total amount of component (A) and component (B).
  • the component (A) is preferably 0 to 85 parts by weight, more preferably 15 to 80 parts by weight, still more preferably 20 to 80 parts by weight, and more preferably 50 to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight. Parts are particularly preferred, and 55 to 65 parts by mass are very particularly preferred.
  • the component (A) is 15 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) in terms of maintaining the pattern formability and the transparency of the protective film. 40 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more, and particularly preferably 55 parts by mass or more.
  • the content of the photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as “component (C)”) is 0.1 mass relative to 100 parts by mass of the total amount of component (A) and component (B) in terms of excellent photosensitivity and resolution. In terms of excellent visible light transmittance, it is preferably 20 parts by mass or less.
  • the oxime ester compound is included as a photopolymerization initiator, the content thereof is preferably 0.1 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B). 0.5 to 3.0 parts by mass, more preferably 1.0 to 3.0 parts by mass, and particularly preferably 1.5 to 2.5 parts by mass.
  • the content thereof is preferably 3.0 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass as a total of the components (A) and (B). More preferably, the amount is from 5 to 15 parts by mass, still more preferably from 4.0 to 15 parts by mass, and particularly preferably from 5.0 to 15 parts by mass.
  • the photosensitive resin layer includes a triazole compound having a mercapto group, a tetrazole compound having a mercapto group, a thiadiazole compound having a mercapto group, a triazole compound having an amino group, or an amino group from the viewpoint of further improving the rust prevention property of the protective film. It is preferable to further include a tetrazole compound (hereinafter also referred to as component (D)).
  • component (D) tetrazole compound
  • the triazole compound having a mercapto group include 3-mercapto-triazole (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name “3MT”).
  • Examples of the thiadiazole compound having a mercapto group include 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole (product name “ATT” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
  • triazole compound having an amino group examples include benzotriazole, 1H-benzotriazole-1-acetonitrile, benzotriazole-5-carboxylic acid, 1H-benzotriazole-1-methanol, carboxybenzotriazole, etc. , 3-mercaptotriazole, 5-mercaptotriazole, and other triazole compounds containing a mercapto group are substituted with amino groups.
  • tetrazole compound having an amino group examples include 5-amino-1H-tetrazole, 1-methyl-5-amino-tetrazole, 1-carboxymethyl-5-amino-tetrazole and the like. These tetrazole compounds may be water-soluble salts thereof. Specific examples thereof include alkali metal salts such as sodium, potassium and lithium of 1-methyl-5-amino-tetrazole.
  • the content thereof is preferably 0.05 to 5.0 parts by weight, and preferably 0.1 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the components (A) and (B) Part by mass is more preferable, 0.2 to 1.0 part by mass is further preferable, and 0.3 to 0.8 part by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive resin layer preferably contains a phosphate ester compound (hereinafter also referred to as component (E)) from the viewpoint of preventing the occurrence of undeveloped residues, and the phosphate ester compound contains a photopolymerizable unsaturated bond. Is more preferable.
  • a phosphate ester compound shall not be included in the photopolymerizable compound of (B) component.
  • the phosphoric acid ester compound as the component (E) includes a phosphor series (Phosmer-M, Phosmer-CL, Phosmer-PE, Phosmer-, from the viewpoint of achieving both high levels of rust prevention and developability of the protective film to be formed.
  • a phosphor series Phosmer-M, Phosmer-CL, Phosmer-PE, Phosmer-, from the viewpoint of achieving both high levels of rust prevention and developability of the protective film to be formed.
  • KAYAMER series PM21, PM-2, etc., manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name
  • the content thereof is preferably 0.05 to 5.0 parts by mass, preferably 0.1 to 2.0 parts per 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B). Mass parts are more preferred, 0.2 to 1.0 parts by mass are more preferred, and 0.2 to 0.6 parts by mass are particularly preferred.
  • the high refractive index layer is a layer having a refractive index higher than that of the photosensitive resin layer.
  • the refractive index of the photosensitive resin layer with respect to light having a wavelength of 633 nm is usually 1.40 to 1.49.
  • the high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.50 to 1.90, more preferably 1.53 to 1.85, and more preferably 1.55 to 1.75 in light having a wavelength of 633 nm. More preferably. Since the refractive index at 633 nm of the high refractive index layer is 1.50 to 1.90, the laminate shown in FIG. 2 is used on the transparent electrode pattern 50a such as ITO and the photosensitive resin layer 20.
  • the refractive index of various members for example, OCA that bonds a cover glass and a transparent electrode pattern used when modularizing
  • a transparent electrode pattern such as ITO
  • the refractive index of a transparent electrode such as ITO is preferably 1.80 to 2.10, more preferably 1.85 to 2.05, and even more preferably 1.90 to 2.00.
  • the refractive index of a member such as OCA is preferably 1.45 to 1.55, more preferably 1.47 to 1.53, and further preferably 1.48 to 1.51. .
  • the film thickness of the high refractive index layer is preferably from 10 to 500 nm, more preferably from 20 to 300 nm, further preferably from 30 to 250 nm, particularly preferably from 40 to 200 nm, and from 45 to A thickness of 150 nm is very preferable.
  • the film thickness is 10 to 500 nm, the reflected light intensity of the entire screen can be further reduced.
  • the high refractive index layer preferably contains a compound having a triazine ring, a compound having an isocyanuric acid skeleton, a compound having a fluorene skeleton, or a metal oxide (hereinafter also referred to as (F) component).
  • a compound having a triazine ring preferably contains a compound having an isocyanuric acid skeleton, a compound having a fluorene skeleton, or a metal oxide (hereinafter also referred to as (F) component).
  • the high refractive index layer is preferably a combination of a compound having a triazine ring or a compound having an isocyanuric acid skeleton and a compound having a fluorene skeleton from the viewpoints of refractive index, developability, patternability, and transparency. .
  • Ar represents a divalent group containing at least one selected from an aromatic ring (having 6 to 20 carbon atoms) and a heterocyclic ring (having 5 to 20 atoms).
  • Each X independently represents NR 1 .
  • R 1 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group (carbon number is 1 to 20 for example), an alkoxy group (carbon number is 1 to 20), an aryl group (carbon number is 6 to 20) or an aralkyl group (carbon The number indicates, for example, 7 to 20).
  • a plurality of X may be the same or different.
  • a hyperbranched polymer having a triazine ring is preferable, and is commercially available, for example, as the HYPERTECH series (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., product name).
  • This hyperbranched polymer is polymerized by, for example, dropping a 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine dimethylacetamide solution into a dimethylacetamide solution of m-phenyldiamine to give 2-aminopropanol Furthermore, it is made to react by dripping and making it precipitate in aqueous ammonia solution.
  • the obtained hyperbranched polymer having a triazine ring can be modified with phthalic acid or succinic acid to contain an acid value.
  • the “isocyanuric acid skeleton” of the compound having an isocyanuric acid skeleton refers to a group obtained by removing three hydrogen atoms from isocyanuric acid, and examples of the compound having an isocyanuric acid skeleton include compounds represented by the following formula (9). It is done. Specifically, triallyl isocyanurate is preferred.
  • each R independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, R 2 OH (R 2 is alkylene having 1 to 6 carbon atoms) or an allyl group, preferably an allyl group.
  • R 2 OH is preferably a methylol group or a hydroxyethyl group.
  • a compound having a 9,9-bis [4-2 (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene skeleton is preferable.
  • the compound may be modified with (poly) oxyethylene or (poly) oxypropylene. These are commercially available, for example, as EA-0200 (product name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.). Further, it may be epoxy-modified with epoxy acrylate. These are commercially available, for example, as GA5000 and EG200 (product name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.).
  • the component (F) contains a metal oxide
  • the polymer having a carboxyl group described in the binder polymer of the photosensitive resin layer, or the ethylenically unsaturated group described in the photopolymerizable compound is used. It is preferable to form a high refractive index layer by using a single photopolymerizable compound or a combination thereof.
  • the metal oxide examples include zirconium oxide, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium tin oxide, indium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, and glass. Among these, zirconium oxide is preferable.
  • the metal oxide is preferably in the form of fine particles.
  • the metal oxide include nano-use OZ-S30K, OZ-S40K-AC, OZ-S30M (product name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), NANON5ZR-010, NANONZR-020 (product name, manufactured by Solar Corporation), SZR-K and SZR-M (Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product name) are commercially available.
  • Zirconium oxide is preferably used in combination with amorphous silica or tin oxide. Thereby, when adjusting the transfer type photosensitive refractive index adjusting film, it becomes possible to further improve the transparency and developability of the high refractive index layer. Furthermore, zirconium oxide is also preferably used in combination with yttrium oxide. Thereby, when adjusting the transfer type photosensitive refractive index adjusting film, it becomes possible to further improve the transparency and refractive index of the high refractive index layer. Note that nanouse OZ-S30K, OZ-S40K-AC, and OZ-S30M are mixed with amorphous silica or tin oxide in addition to zirconium oxide.
  • SZR-K and SZR-M are mixed with yttrium oxide.
  • Zirconium oxide and tin oxide can be identified by detecting and mapping a zirconium element, an oxygen element, and a tin element using STEM-EDX.
  • the content of the component (F) in the high refractive index layer is preferably in the following range in order to adjust the refractive index of light having a wavelength of 633 nm of the high refractive index layer to a range of 1.5 to 1.9.
  • a compound having a triazine ring When a compound having a triazine ring is contained, it is preferably contained in an amount of 10 to 100 parts by mass, more preferably 10 to 70 parts by mass, and more preferably 10 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of component (F). Is more preferable, and 10 to 55 parts by mass is particularly preferable.
  • the compound having an isocyanuric acid skeleton is included, it is preferably included in an amount of 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, and more preferably 30 to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the component (F). More preferably.
  • a compound having a fluorene skeleton When a compound having a fluorene skeleton is included, it is preferably included in an amount of 10 to 100 parts by weight, more preferably 20 to 90 parts by weight, and more preferably 30 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of component (F). Is more preferable, and 40 to 90 parts by mass is particularly preferable.
  • the metal oxide when included, it is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 20 to 93 parts by mass, and further preferably 30 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (F). preferable.
  • the high refractive index layer may contain one or more components among the components (A) to (E) of the photosensitive resin layer as necessary. Further, the high refractive index layer may consist essentially of at least one of the above-described component (F). That is, the high refractive index layer in the present invention may consist essentially of the component (F).
  • “substantially” means that 95% by mass or more and 100% by mass or less (preferably 98% by mass or more and 100% by mass or less) of the component constituting the layer is the component (F).
  • additives may be added as necessary.
  • the additive include organosiloxanes such as octamethylcyclotetrasiloxane, and polymerization inhibitors such as 2,2'-methylene-bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol).
  • the minimum value of the visible light transmittance at 400 to 700 nm of the laminate of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer is preferably 90.00% or more. It is more preferably 90.50% or more, and further preferably 90.70% or more. If the minimum value of transmittance in a general visible light wavelength range of 400 to 700 nm is 90.00% or more, an image in the sensing area can be used to protect the transparent electrode in the sensing area of the touch panel (touch sensor). It can suppress sufficiently that display quality, a hue, and a brightness
  • the maximum visible light transmittance is usually 100% or less. The visible light transmittance can be measured with reference to the examples in the present specification.
  • the photosensitive resin layer 20 and the high refractive index layer 30 of the transfer type photosensitive refractive index adjusting film are, for example, a coating liquid containing a photosensitive resin composition for forming the photosensitive resin layer and a high component containing the component (F). It can be formed by preparing a coating liquid containing a refractive index composition, applying the coating liquid onto the support film 10 or the protective film 40, drying and bonding them. Further, a coating liquid containing a photosensitive resin composition is applied on the support film 10 and dried, and then a coating liquid containing a high refractive index composition is applied and dried on the photosensitive resin layer 20, and the protective film 40. It can also be formed by pasting.
  • the coating solution can be obtained by uniformly dissolving or dispersing the above-described photosensitive resin composition or high refractive index composition in a solvent.
  • the solvent used for the coating solution is not particularly limited, and known ones can be used. Specifically, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, methanol, ethanol, propanol, butanol, methylene glycol, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether , Diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, chloroform, methylene chloride and the like.
  • Application methods include doctor blade coating method, Mayer bar coating method, roll coating method, screen coating method, spinner coating method, inkjet coating method, spray coating method, dip coating method, gravure coating method, curtain coating method, and die coating method. Etc.
  • the drying conditions are not particularly limited, but the drying temperature is preferably 60 to 130 ° C., and the drying time is preferably 0.5 to 30 minutes.
  • the total thickness of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer is preferably 30 ⁇ m or less, and preferably 20 ⁇ m or less from the viewpoint of improving the followability during lamination. Is more preferably 10 ⁇ m or less. Furthermore, from the viewpoint of suppressing the occurrence of pinholes due to the protrusions of the base material, the thickness is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 2 ⁇ m or more, and further preferably 3 ⁇ m or more. If it is 3 micrometers or more, it will become easy to suppress the influence by the protrusion of a base material as much as possible, and to maintain rust prevention property.
  • the viscosity of the photosensitive refractive index adjusting layer is determined from the viewpoint of suppressing the composition from exuding from the end face of the transfer type photosensitive refractive index adjusting film when the transfer type photosensitive refractive index adjusting film is stored in a roll. 15 to 100 mPa ⁇ s at 30 ° C. from the viewpoint of suppressing fragmentation and adhesion to the substrate as a result of the photosensitive refractive index adjustment layer becoming too hard when cutting the photosensitive refractive index adjustment film. It is preferably 20 to 90 mPa ⁇ s, more preferably 25 to 80 mPa ⁇ s.
  • Examples of the protective film 40 include polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene-vinyl acetate copolymer, a laminated film of polyethylene-vinyl acetate copolymer and polyethylene, and the like.
  • the thickness of the protective film 40 is preferably 5 to 100 ⁇ m, but is preferably 70 ⁇ m or less, more preferably 60 ⁇ m or less, and even more preferably 50 ⁇ m or less from the viewpoint of storing in a roll. 40 ⁇ m or less is particularly preferable.
  • the high refractive index layer 30 is adhered to the surface of the substrate 50 (substrate with a transparent conductive pattern).
  • the high refractive index layer and the photosensitive resin layer are laminated (transferred).
  • the pressing means include a pressing roll.
  • the pressure roll may be provided with a heating means so that it can be heat-pressure bonded.
  • the heating temperature for thermocompression bonding is 10 in order to prevent the adhesiveness between the high refractive index layer 30 and the substrate 50 and the constituent components of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer from being hard-cured or thermally decomposed. It is preferably set to ⁇ 160 ° C., more preferably 20 to 150 ° C., and further preferably 30 to 150 ° C.
  • the pressure during thermocompression bonding is 50 to 1 ⁇ 10 5 N in terms of linear pressure from the viewpoint of suppressing deformation of the base material 50 while ensuring sufficient adhesion between the high refractive index layer 30 and the base material 50.
  • / M preferably 2.5 ⁇ 10 2 to 5 ⁇ 10 4 N / m, more preferably 5 ⁇ 10 2 to 4 ⁇ 10 4 N / m.
  • the transfer-type photosensitive refractive index adjusting film is thermocompression bonded as described above, pre-heat treatment of the base material before lamination is not necessarily required, but the adhesion between the high refractive index layer 30 and the base material 50 is further improved.
  • the substrate 50 may be preheated.
  • the treatment temperature at this time is preferably 30 to 150 ° C.
  • the substrate examples include substrates such as glass plates, plastic plates, ceramic plates and films used for touch panels (touch sensors).
  • an electrode to be a target for forming a cured film is provided on this base material.
  • the electrode examples include electrodes such as ITO, Cu, Al, and Mo.
  • an insulating layer may be provided on the base material between the base material and the electrode.
  • a predetermined portion of the photosensitive refractive index adjusting layer after the transfer is irradiated with actinic rays in a pattern form through a photomask.
  • actinic light if the support film 10 on the photosensitive refractive index adjusting layer is transparent, the actinic light can be irradiated as it is, and if it is opaque, the actinic light is irradiated after removal.
  • a known active light source can be used as the active light source.
  • the irradiation amount of actinic rays is 1 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 4 J / m 2 , and heating can be accompanied during irradiation. If the irradiation amount of this actinic ray is 1 ⁇ 10 2 J / m 2 or more, photocuring can sufficiently proceed, and if it is 1 ⁇ 10 4 J / m 2 or less, the photosensitive refractive index is adjusted. There exists a tendency which can suppress that a layer discolors.
  • the unexposed portions of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer after irradiation with actinic rays are removed with a developer to form a refractive index adjustment pattern that covers part or all of the transparent electrode.
  • the image development process is performed.
  • the development step can be performed by a known method such as spraying, showering, rocking dipping, brushing, scraping, or the like using a known developer such as an alkaline aqueous solution, an aqueous developer, or an organic solvent.
  • spray development is preferably performed using an alkaline aqueous solution from the viewpoint of environment and safety.
  • the development temperature and time can be adjusted within a conventionally known range.
  • the electronic component according to the present embodiment includes a refractive index adjustment pattern formed using a transfer type photosensitive refractive index adjustment film.
  • Examples of the electronic component include a touch panel, a liquid crystal display, an organic electroluminescence, a solar cell module, a printed wiring board, and electronic paper.
  • FIG. 3 is a schematic top view showing an example of a capacitive touch panel.
  • the touch panel shown in FIG. 3 has a touch screen 102 for detecting a touch position coordinate on one side of a transparent base material 101, and is based on a transparent electrode 103 and a transparent electrode 104 for detecting a capacitance change in this region. It is provided on the material 101.
  • the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104 detect the X position coordinate and the Y position coordinate of the touch position, respectively.
  • a lead-out wiring 105 for transmitting a touch position detection signal from the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104 to an external circuit is provided.
  • the lead-out wiring 105 is connected to the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104 by a connection electrode 106 provided on the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104.
  • a connection terminal 107 for connecting to an external circuit is provided at the end of the lead-out wiring 105 opposite to the connection portion between the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104.
  • the refractive index adjustment pattern 123 As shown in FIG. 3, by forming the refractive index adjustment pattern 123, the transparent electrode 103, the transparent electrode 104, the lead-out wiring 105, the connection electrode 106, the function of the protective film of the connection terminal 107, and the transparent electrode pattern are formed.
  • the refractive index adjustment function of the sensing area is simultaneously performed.
  • the weight average molecular weight (Mw) was measured by gel permeation chromatography (GPC) and was converted by using a standard polystyrene calibration curve.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Acid value 0.1 ⁇ Vf ⁇ 56.1 / (Wp ⁇ I / 100)
  • Vf represents the titration amount (mL) of the KOH aqueous solution
  • Wp represents the mass (g) of the measured resin solution
  • I represents the proportion (mass%) of the non-volatile content in the measured resin solution.
  • hydroxyl value (A ⁇ B) ⁇ f ⁇ 28.05 / sample (g) + acid value
  • A represents the amount (mL) of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used in the blank test
  • B represents the amount (mL) of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used for titration
  • f represents a factor.
  • binder polymer solution (A2)] (2) shown in Table 1 is 12 parts by weight of methacrylic acid, 38 parts by weight of methyl methacrylate, 30 parts by weight of ethyl acrylate, 20 parts by weight of cyclohexyl methacrylate and 1.1 parts by weight of 2,2′-azobis (isobutyronitrile).
  • the binder polymer solution was synthesized in the same manner as (A1) except that the weight average molecular weight was 65,000, the acid value was 78 mgKOH / g, and the hydroxyl value was 2 mgKOH / g (solid content 45% by mass) (A2 )
  • binder polymer solution (A3)) (2) shown in Table 1 is 24 parts by weight of methacrylic acid, 44 parts by weight of methyl methacrylate, 15 parts by weight of butyl acrylate, 17 parts by weight of butyl methacrylate and 3 parts by weight of 2,2′-azobis (isobutyronitrile).
  • binder polymer solution (A4) (2) shown in Table 1 is 30 parts by weight of methacrylic acid, 22 parts by weight of methyl methacrylate, 10 parts by weight of ethyl acrylate, 8 parts by weight of butyl methacrylate, 30 parts by weight of styrene and 2,2′-azobis (isobutyro (Nitrile)
  • a binder polymer solution (solid content) having a weight average molecular weight of 50,000, an acid value of 196 mgKOH / g, and a hydroxyl value of 2 mgKOH / g was synthesized in the same manner as (A1) except that the amount was changed to 1.1 parts by mass. 45% by mass) (A4) was obtained.
  • T-1420 (T): Ditrimethylolpropane tetraacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name)
  • FA321M (meth) acrylic compound / bisphenol AEO-modified dimethacrylate (product name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
  • IRGACURE OXE 01 1,2-octanedione, 1-[(4-phenylthio) phenyl-, 2- (O-benzoyloxime)] (product name, manufactured by BASF Corporation)
  • IRGACURE 379 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone (product name, manufactured by BASF Japan Ltd.)
  • DETX 2,4-diethyl thioxanthone (Nippon Kayaku Co., Ltd., product name)
  • TPO 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (manufactured by BASF Japan Ltd., product name “LUCIRIN TPO”)
  • Component PM-21 Phosphate ester containing photopolymerizable unsaturated bond (product name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • Phosmer-M 2- (methacryloyloxy) ethyl phosphate (product name, manufactured by Unichemical Co., Ltd.)
  • Component UR658 a polymer having a triazine skeleton (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., product name “HYPERTECH series UR658” (trade name)) Triallyl isocyanurate: Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
  • OZ-S40K-AC Zirconia dispersion (Nissan Chemical Industry Co., Ltd., product name “Nanouse OZ-S40K-AC”)
  • OZ-S30K Zirconia dispersion (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., product name “Nanouse OZ-S30K”)
  • EA0200 polyoxyethylene-modified 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) full orange acrylate (product name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.)
  • EAF5503 Mixture of polyoxyethylene-modified 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene acrylate / benzyl acrylate / 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene skeleton compound (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., product name) )
  • EA-HC931 polyoxyethylene modified 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) full orange acrylate and other mixture (product name, manufactured
  • the protective film having the high refractive index layer prepared above and the support film having the photosensitive resin layer prepared above are used for high refraction.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film was prepared by bonding at 23 ° C. so that the refractive index layer and the photosensitive resin layer were in close contact with each other.
  • the refractive index of the single refractive index layer in the form of the transfer type photosensitive refractive index adjusting film is the value of the outermost surface layer on the support film side of the high refractive index layer.
  • the photosensitive resin layer is exposed at an exposure amount of 5 ⁇ 10 2 J / m 2 from the upper side of the photosensitive resin layer (i Line (measured value at a wavelength of 365 nm), after irradiating ultraviolet rays, the support film is removed, and further at an exposure amount of 1 ⁇ 10 4 J / m 2 from above the photosensitive resin layer side (measurement at the i-line (wavelength 365 nm)) Value)
  • An ultraviolet ray was irradiated to obtain a measurement sample having a cured film of a photosensitive resin layer having a thickness of 8 ⁇ m.
  • the obtained hue measurement sample was subjected to a light source setting D65 using a spectrocolorimeter (manufactured by Konica Minolta, product name “CM-5”) so that a light source was present on the photosensitive resin layer side.
  • the Y value in the XYZ color system (referred to as reflectance R) was measured using a SCI (including regular reflection light) method with a viewing angle of 2 °, a measurement diameter of 30 mm ⁇ , and normalization was performed using the following formula.
  • Reflectivity R normalization actual reflectance value / reflectance actual value of measurement sample (Comparative Example 16) in which only the photosensitive resin layer is laminated ⁇ 100
  • the measured values of the transparent conductive film alone are shown in Table 5.
  • HLM-3000 type Using a product name “HLM-3000 type”, a roll temperature of 120 ° C., a substrate feed speed of 1 m / min, a pressure of pressure (cylinder pressure) of 4 ⁇ 10 5 Pa (thickness of 1 mm, length 10 cm ⁇ width 10 cm) Since the material was used, the lamination was performed under the condition that the linear pressure at this time was 9.8 ⁇ 10 3 N / m), and the high refractive index layer, the photosensitive resin layer, and the support film were laminated on the sputtered copper. The body was made.
  • a parallel light exposure machine (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., product name “EXM1201”) is used for the photosensitive resin layer of the obtained laminate, and the exposure amount is 5 ⁇ 10 2 J from above the photosensitive resin layer side.
  • / M 2 (measured value at a wavelength of 365 nm)
  • the support film was removed, and the exposure amount was 1 ⁇ 10 4 J / m 2 (measured value at a wavelength of 365 nm) from above the photosensitive resin layer side. It was allowed to stand for 30 minutes in a box dryer (model number “NV50-CA” manufactured by Mitsubishi Electric Corporation) irradiated with ultraviolet rays and heated to 140 ° C. Thereby, a sample for artificial sweat resistance evaluation was obtained.
  • the visible light transmittance and haze were measured in the measurement wavelength range of 400 to 700 nm.
  • the measured values of the glass substrate alone are shown in Table 5.
  • roll temperature is 120 ° C.
  • substrate feed speed is 1 m / min
  • pressure (cylinder pressure) is 4 ⁇ 10 5 Pa (thickness is 125 ⁇ m) Since a substrate of 10 cm in length and 10 cm in width was used, the linear pressure at this time was laminated under the condition of 9.8 ⁇ 10 3 N / m), and a high refractive index layer, a photosensitive resin layer, and A laminate in which a support film was laminated was produced.
  • compositions of the components listed in Tables 2 to 5 are parts by mass. As shown in Tables 2 to 5, in the examples, the reflectance R normalized value was 90% or less, the reflectance was sufficiently reduced, and the resistance to the salt spray test was sufficient. Further, there was no development residue and the developability was sufficient. Furthermore, it was confirmed that the light transmittance of the transferred photosensitive resin layer and high refractive index layer was high. Comparative Example 15 is a result when only the photosensitive resin layer is provided.
  • SYMBOLS 1 Transfer type photosensitive refractive index adjustment film, 10 ... Support film, 20 ... Photosensitive resin layer, 30 ... High refractive index layer, 40 ... Protective film, 50 ... Base material with a transparent electrode pattern, 50a ... Transparent electrode pattern, DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Laminated body, 101 ... Transparent base material, 102 ... Touch screen, 103 ... Transparent electrode (X position coordinate), 104 ... Transparent electrode (Y position coordinate), 105 ... Lead-out wiring, 106 ... Connection electrode, 107 ... Connection terminal 123: Refractive index adjustment pattern.

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Abstract

支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、感光性樹脂層が、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含み、光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物である、転写形感光性屈折率調整フィルム。

Description

転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
　本発明は、転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品に関する。詳しくは透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムに関する。
　パソコンやテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ機器、ＦＡ機器等の表示機器などには液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明電極材料からなる電極が設けられている。透明電極材料としては、高い可視光透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ－Ｔｉｎ－Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウムや酸化スズが主流になっている。
　タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えている。そのため、携帯電話や携帯型音楽プレーヤ等の小型の表示装置を有する機器において、表示面上の入力装置として利用が進んでいる。
　一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造パターンを形成している。これらの電極として、近年、Ａｇナノワイヤ、カーボンナノチューブ等に代表される導電性繊維の利用が検討されているが、ＩＴＯが未だに主流である。
　ところで、タッチパネルの額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために金属配線が必要となる。導電性の観点から、一般的に金属配線は銅により形成されている。
　タッチパネルは指先に接触される際に水分や塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがある。
　金属配線の腐食を防ぐために、本発明者らは、透明基材上に特定の感光性樹脂組成物から形成される感光性樹脂層を設け、この感光性樹脂層を露光、現像することで透明基材上の金属配線を保護する方法を提案している（例えば、特許文献１参照）。
　ところで、上述したように投影型静電容量方式のタッチパネルでは、基材上に透明電極材料による複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造の透明電極パターンを形成しているが、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分とでの光学的な反射により色差が大きくなり、モジュール化した際に透明導電パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。また、基材と透明電極との間、又はモジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する視認性向上フィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ）と透明電極パターンとの間で、反射光強度が増加し画面の透過率を低下させるという問題もある。
　上記特許文献１に記載の方法は、金属配線を保護する上では有効であるが、骨見え現象の抑制や、画面の透過率低下を抑制する点では改善の余地があった。
　また、透明電極パターンが視認されることを防ぐ手法として、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層及び高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを有する転写フィルムが開示されている（例えば、特許文献２参照）。
国際公開第２０１３／０８４８７３号 国際公開第２０１４／０８４１１２号
　しかしながら、特許文献２の転写フィルムは透明性が充分ではなく、更なる改善の余地がある。また、所定の硬化膜を形成する際、現像性が充分ではなく、画面の透過率低下の抑制とセンサー金属配線の保護を両立させる硬化膜を形成する観点では改善の余地がある。また、具体的な転写フィルムの構成として、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／第一の硬化性透明樹脂層／第二の硬化性透明樹脂層／保護フィルムからなる６層フィルムを開示しているが、多層フィルムの生産性の観点からも改善の余地がある。
　本発明は、透明電極パターンの骨見え現象抑制、画面の透過率低下抑制とセンサー金属配線の保護を両立させる硬化膜を充分な現像性で簡便に形成でき、透明性が高い転写形感光性屈折率調整フィルムを提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、特定の光重合開始剤を含む感光性樹脂層と、高屈折率層とから構成される転写形感光性屈折率調整フィルムにより、透明導電パターン上にＩＭ層（光学調整層、インデックスマッチング層ともいう）を薄膜形成することが可能となり、また、骨見え現象の抑制及び画面の透過率低下の抑制によるタッチ画面の視認性向上と、金属配線の腐食抑制とを両立する硬化膜を、充分な現像性で形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　本発明の具体的態様を以下に示す。
１．支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、前記感光性樹脂層が、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含み、前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含む転写形感光性屈折率調整フィルム。
２．前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層の、波長４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０．００％以上である１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
３．前記高屈折率層がトリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸を有する化合物を含む１又は２に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
４．前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含む１～３のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
５．前記高屈折率層が金属酸化物を含む１～４のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
６．前記金属酸化物が酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素及び酸化イットリウムからなる群より選択される少なくとも一種である５に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム
７．前記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０である１～６のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
８．前記高屈折率層の膜厚が１０～５００ｎｍである１～７のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
９．前記感光性樹脂層がバインダーポリマーを含む１～８のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１０．前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有する９に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１１．前記バインダーポリマーが（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル及び（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーである９又は１０に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１２．前記感光性樹脂層がリン酸エステル化合物を含む１～１１のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１３．前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である１～１２のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１４．１～１３のいずれかに記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程とを備える屈折率調整パターンの形成方法。
１５．１４に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
　本発明によれば、透明電極パターンの骨見え現象抑制及び画面の透過率低下抑制と、センサー金属配線の保護を両立させる硬化膜を、充分な現像性で簡便に形成でき、透明性が高い転写形感光性屈折率調整フィルムを提供することができる。
本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを示す模式断面図である。 本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを透明導電パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式平面図である。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
　また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
　さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（転写形感光性屈折率調整フィルム）
　本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムは、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備える。そして、感光性樹脂層が光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含むことを特徴とする。
　図１は、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される転写形感光性屈折率調整フィルム１は、支持フィルム１０と、上記支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層２０と、上記感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層３０とを備える。なお、転写形感光性屈折率調整フィルムは、図１に示すように高屈折率層３０の感光性樹脂層２０とは反対側に設けられた保護フィルム４０を含んでもよい。
　なお、本明細書において、高屈折率層と感光性樹脂層との境界は必ずしも明確になっている必要はなく、高屈折率層に感光性樹脂層が混じり合った態様であってもよい。
　上記転写形感光性屈折率調整フィルムを用いることで、例えばタッチパネルの額縁にある金属配線や透明電極の保護機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす透明性の高い硬化膜を充分な現像性で一括に形成することができる。
　図２は、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを透明導電パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。図２において、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａ付き基材５０上に、パターン５０ａを覆うように高屈折率層３０が設けられ、その上に感光性樹脂層２０が設けられて、積層体１００が構成されている。
　以下、支持フィルム、感光性樹脂層、高屈折率層及び保護フィルムについて説明する。
（支持フィルム）
　支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート、又はシクロオレフィンポリマーが好ましい。
　支持フィルム１０の厚さは、感光性樹脂層のラミネート性と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５～１００μｍであることが好ましく、１０～７０μｍであることがより好ましく、１５～４０μｍであることがさらに好ましく、１５～３５μｍであることが特に好ましい。
（感光性樹脂層）
　本発明において感光性樹脂層２０は、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含み、上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含む。本発明では、光重合開始剤としてオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を使用することにより、透明性の高い硬化膜を充分な現像性で形成することができる。
　本発明で使用する光重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有する化合物を用いることが好ましい。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、又は少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
　上記一官能ビニルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
　上記二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート；ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線や透明電極の腐食抑制及び現像性の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることが好ましい。
　より具体的には、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがさらに好ましい。
　ここで、「～由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物」について、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を例にとり説明する。ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記エステル化物は、一分子中におけるエステル結合数が最大数の４であることが好ましいが、エステル結合の数が１～３の化合物が混合していてもよい。
　光重合性化合物は、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーを含むことが好ましい。一官能ビニルモノマーや二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合も考慮すると、光硬化性及び電極腐食を抑制する観点から、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーの割合が、感光性樹脂層に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０～１００質量部であることが好ましく、５０～１００質量部であることがより好ましく、７５～１００質量部であることがさらに好ましい。
　光重合開始剤であるオキシムエステル化合物としては、下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、又は下記式（３）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式（１）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。これらの中でも、炭素数１～８のアルキル基、炭素数４～６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基、炭素数４～６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。
　Ｒ１３は、Ｈ、ＯＨ、ＣＯＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。Ｈ、Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ、又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることが好ましく、Ｈ、Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、又はＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式（２）中、複数のＲ１４は、各々独立に炭素数１～６のアルキル基を示し、プロピル基であることが好ましい。複数のＲ１４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ１５は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはフェニル基又はトリル基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。
　Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（３）中、Ｒ１８は、炭素数１～６のアルキル基を示し、エチル基であることが好ましい。
　Ｒ１９はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（３－１）に示す化合物が有するＲ１９に対応する置換基であることが好ましい。
　Ｒ２０及びＲ２１は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
　Ｒ２２は、炭素数１～６のアルキル基を示す。ｎは０～４の整数を示す。Ｒ２２が複数存在する場合、複数のＲ２２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
　上記式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（１－１）で表される化合物及び下記式（１－２）で表される化合物が挙げられる。下記式（１－１）で表される化合物はＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式（２－１）で表される化合物が挙げられる。下記式（２－１）で表される化合物は、ＤＦＩ－０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　上記式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３－１）で表される化合物が挙げられる。下記式（３－１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ－１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　その他のオキシムエステル化合物としては、下記式（４）で表される化合物、下記式（５）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　ホスフィンオキサイド化合物としては、例えば、下記式（６）及び下記式（７）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記式（６）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式（６）中、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、又はメシチル基を示す。
　式（７）中、Ｒ３４、Ｒ３５及びＲ３６は各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、又はジメトキシフェニル基を示す。
　上記炭素数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれのアルキル基であってもよい。また、アルキル基の炭素数は１～１０であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が極めて好ましい。
　式（６）で表わされる化合物のなかでも、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３がフェニル基、トリル基、キシリル基、又はメシチル基であるものが好ましい。
　式（７）で表わされる化合物のなかでも、Ｒ３４、Ｒ３５及びＲ３６がフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基又はジメトキシフェニル基であるものが好ましい。
　式（６）で表わされる化合物としては、形成される保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイドが好ましい。本化合物は、例えば、ＬＵＣＩＲＩＮ　ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　感光性樹脂層は、上述したオキシムエステル化合物及びホスフィンオキサイド化合物以外の光重合開始剤を含んでいてもよい。オキシムエステル化合物及びホスフィンオキサイド化合物以外の光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－プロパノン－１等の芳香族ケトン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；９－フェニルアクリジン、１，７－ビス（９，９’－アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－フェニルグリシン誘導体；クマリン系化合物；オキサゾール系化合物が挙げられる。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
　感光性樹脂層は、上述した光重合性化合物及び光重合開始剤に加えて、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
　バインダーポリマーとしては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するポリマーを用いることが好ましい。
　バインダーポリマーは、（メタ）アクリル酸、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含む共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン等が挙げられる。
　上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
　これらの中でも、特に無機アルカリ水溶液に対するアルカリ現像性、パターニング性、透明性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル及び（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーが好ましい。
　バインダーポリマーの重量平均分子量は、現像性の観点から、１０，０００～２００，０００であることが好ましく、１５，０００～１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００～１５０，０００であることがさらに好ましく、３０，０００～１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００～１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本願明細書の実施例を参考にゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。
　バインダーポリマーの酸価は、アルカリ現像性の観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、保護膜形状の制御容易性と保護膜の防錆性との両立を図る観点から、７５～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、７８ｍｇ～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。なお、酸価は本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　バインダーポリマーの水酸基価は、防錆性をより向上させる観点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、水酸基価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　感光性樹脂層において、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）及び光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が０～８５質量部であることが好ましく、１５～８０質量部であることがより好ましく、２０～８０質量部であることがさらに好ましく、５０～７０質量部であることが特に好ましく、５５～６５質量部であることが極めて好ましい。特に、パターン形成性や保護膜の透明性を維持する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、１５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることがさらに好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい
　光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１質量部以上が好ましく、可視光透過率に優れる点では、２０質量部以下であることが好ましい。
　光重合開始剤として、オキシムエステル化合物を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１～５．０質量部であることが好ましく、０．５～３．０質量部であることがより好ましく、１．０～３．０質量部であることがさらに好ましく、１．５～２．５質量部であることが特に好ましい。
　光重合開始剤として、ホスフィンオキサイド化合物を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、３．０～１５質量部であることが好ましく、３．５～１５質量部であることがより好ましく、４．０～１５質量部であることがさらに好ましく、５．０～１５質量部であることが特に好ましい。
　感光性樹脂層は、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物又はアミノ基を有するテトラゾール化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）をさらに含むことが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３－メルカプト－トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名「３ＭＴ」）が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２－アミノ－５－メルカプト－１，３，４－チアジアゾール（和光純薬株式会社製、製品名「ＡＴＴ」）が挙げられる。
　上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－アセトニトリル、ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３－メルカプトトリアゾール、５－メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。
　上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５－アミノ－１Ｈ－テトラゾール、１－メチル－５－アミノ－テトラゾール、１－カルボキシメチル－５－アミノ－テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１－メチル－５－アミノ－テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩等が挙げられる。
　（Ｄ）成分を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５～５．０質量部が好ましく、０．１～２．０質量部がより好ましく、０．２～１．０質量部がさらに好ましく、０．３～０．８質量部が特に好ましい。
　感光性樹脂層は、現像残りの発生を防ぐ観点から、リン酸エステル化合物（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含むことが好ましく、該リン酸エステル化合物が光重合性不飽和結合を含むことがより好ましい。なお、本明細書において、リン酸エステル化合物は、（Ｂ）成分の光重合性化合物には含めないものとする。
　（Ｅ）成分であるリン酸エステル化合物としては、形成する保護膜の防錆性と現像性を高水準で両立する観点から、Ｐｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＰ等、ユニケミカル株式会社製、製品名）、又はＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ２１、ＰＭ－２等、日本化薬株式会社製、製品名）が好ましい。
　（Ｅ）成分を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５～５．０質量部が好ましく、０．１～２．０質量部がより好ましく、０．２～１．０質量部がさらに好ましく、０．２～０．６質量部が特に好ましい。
（高屈折率層）
　高屈折率層は、上記の感光性樹脂層よりも屈折率が高い層である。なお、感光性樹脂層の波長６３３ｎｍの光における屈折率は、通常、１．４０～１．４９である。
　高屈折率層は、波長６３３ｎｍの光における屈折率が１．５０～１．９０であることが好ましく、１．５３～１．８５であることがより好ましく、１．５５～１．７５であることがさらに好ましい。高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０であることにより、図２に示す積層体とした場合、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａと、感光性樹脂層２０の上に使用される各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するＯＣＡ）との屈折率の中間値となりやすく、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を抑制できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を抑制することが可能となる。なお、屈折率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、１．８０～２．１０であることが好ましく、１．８５～２．０５であることがより好ましく、１．９０～２．００であることがさらに好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は１．４５～１．５５であることが好ましく、１．４７～１．５３であることがより好ましく、１．４８～１．５１であることがさらに好ましい。
　高屈折率層の膜厚は、１０～５００ｎｍであることが好ましく、２０～３００ｎｍであることがより好ましく、３０～２５０ｎｍであることがさらに好ましく、４０～２００ｎｍであることが特に好ましく、４５～１５０ｎｍであることが極めて好ましい。膜厚が、１０～５００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。
　高屈折率層は、屈折率の観点から、トリアジン環を有する化合物、イソシアヌル酸骨格を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物、又は金属酸化物（以下、（Ｆ）成分とも呼ぶ）を含むことが好ましい。
　また、高屈折率層は、屈折率と現像性、パターニング性、さらには透明性の観点から、トリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、フルオレン骨格を有する化合物を併用することが好ましい。
　トリアジン環を有する化合物としては、構造単位中にトリアジン環を有するポリマーが挙げられ、下記式（８）で表される構造単位を有する化合物等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式中、Ａｒは、芳香環（炭素数は例えば６～２０）及び複素環（原子数は例えば５～２０）から選択される少なくとも１つを含む２価の基を示す。Ｘは、各々独立にＮＲ１を示す。Ｒ１は、各々独立に水素原子、アルキル基（炭素数は例えば１～２０）、アルコキシ基（炭素数は例えば１～２０）、アリール基（炭素数は例えば６～２０）又はアラルキル基（炭素数は例えば７～２０）を示す。複数のＸはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
　具体的には、トリアジン環を有するハイパーブランチポリマーが好ましく、例えば、ＨＹＰＥＲＴＥＣＨシリーズ（日産化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　このハイパーブランチポリマーは、例えば、ｍ－フェニルジアミンのジメチルアセトアミド溶液に２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジンのジメチルアセトアミド溶液を滴下させて重合を開始し、２－アミノプロパノールをさらに滴下して反応させ、アンモニア水溶液に沈殿させることで得られる。
　得られたトリアジン環を有するハイパーブランチポリマーを、フタル酸やコハク酸等で変性することにより酸価を含有させることも可能である。
　イソシアヌル酸骨格を有する化合物の「イソシアヌル酸骨格」とは、イソシアヌル酸から３つの水素原子を除いた基を言い、イソシアヌル酸骨格を有する化合物としては、下記式（９）で表される化合物が挙げられる。
　具体的には、イソシアヌル酸トリアリルが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式中、Ｒは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、Ｒ２ＯＨ（Ｒ２は炭素数１～６のアルキレンである）、又はアリル基を示し、アリル基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
　Ｒ２ＯＨとしては、メチロール基、ヒドロキシエチル基が好ましい。
　フルオレン骨格を有する化合物としては、９，９－ビス［４－２－（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン骨格を有する化合物が好ましい。上記化合物は（ポリ）オキシエチレン又は（ポリ）オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、ＥＡ－０２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。さらに、エポキシアクリレートでエポキシ変性されていてもよい。これらは、例えば、ＧＡ５０００、ＥＧ２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　タッチ画面の視認性向上の機能を有する透明性の高い硬化膜を得る観点からは、（Ｆ）成分として金属酸化物を含むことが好ましい。
　（Ｆ）成分が金属酸化物を含む場合、現像性を向上する観点から、感光性樹脂層のバインダーポリマーで説明したカルボキシル基を有するポリマー、又は光重合性化合物に記載のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を、単独又は複数組み合わせて高屈折率層を形成することが好ましい。
　金属酸化物としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素、ガラス等が挙げられる。これらの中でも、酸化ジルコニウムが好ましい。
　また、金属酸化物は微粒子状であることが好ましい。
　金属酸化物は、例えば、ナノユースＯＺ―Ｓ３０Ｋ、ＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ、ＯＺ－Ｓ３０Ｍ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＮＡＮＯＮ５ＺＲ－０１０、ＮＡＮＯＮＺＲ－０２０（株式会社ソーラー製、製品名）、ＳＺＲ－Ｋ、ＳＺＲ－Ｍ（堺化学工業株式会社、製品名）が商業的に入手可能である。
　また、酸化ジルコニウムは、アモルファスシリカ又は酸化スズと併用して用いることが好ましい。これにより転写形感光性屈折率調整フィルムを調整した際、高屈折率層の透明性及び現像性をより向上させることが可能となる。
　さらに、酸化ジルコニウムは、酸化イットリウムと併用して用いることも好ましい。これにより転写形感光性屈折率調整フィルムを調整した際、高屈折率層の透明性及び屈折率をより向上させることが可能となる。
　なお、ナノユースＯＺ―Ｓ３０Ｋ、ＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ、及びＯＺ－Ｓ３０Ｍは酸化ジルコニウムの他にアモルファスシリカ又は酸化スズを混合させている。ＳＺＲ－Ｋ、及びＳＺＲ－Ｍは、酸化イットリウムを混合させている。
　なお、酸化ジルコニウムや酸化スズは、ＳＴＥＭ－ＥＤＸを用いて、ジルコニウム元素、酸素元素、スズ元素を検出してマッピングすることで特定できる。
　高屈折率層における（Ｆ）成分の含有量は、高屈折率層の波長６３３ｎｍの光における屈折率を１．５～１．９の範囲に調整するため、以下の範囲が好ましい。
　トリアジン環を有する化合物を含む場合、（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、１０～１００質量部含むことが好ましく、１０～７０質量部含むことがより好ましく、１０～６０質量部含むことがさらに好ましく、１０～５５質量部含むことが特に好ましい。
　イソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む場合、（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、１０～９０質量部含むことが好ましく、２０～８０質量部含むことがより好ましく、３０～７０質量部含むことがさらに好ましい。
　フルオレン骨格を有する化合物を含む場合、（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、１０～１００質量部含むことが好ましく、２０～９０質量部含むことがより好ましく、３０～９０質量部含むことがさらに好ましく、４０～９０質量部含むことが特に好ましい。
　金属酸化物を含む場合、（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、１０～１００質量部含むことが好ましく、２０～９３質量部含むことがより好ましく、３０～９０質量部含むことがさらに好ましい。
　高屈折率層は、必要に応じて感光性樹脂層の（Ａ）成分～（Ｅ）成分のうち、いずれか１成分以上を含んでもよい。
　また、高屈折率層は、実質的に上述した（Ｆ）成分の少なくとも１つのみからなってもよい。即ち、本発明における高屈折率層は、実質的に（Ｆ）成分のみからなっていてもよい。
　ここで「実質的」とは、層を構成する成分の９５質量％以上１００質量％以下（好ましくは９８質量％以上１００質量％以下）が（Ｆ）成分であることを意味する。
　本発明の感光性樹脂層及び高屈折率層は、それぞれ、必要に応じて公知の添加剤を添加してもよい。添加剤としては、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン等のオルガノシロキサン、２，２’－メチレン－ビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）等の重合禁止剤が挙げられる。
　本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムにおいて、感光性樹脂層と高屈折率層の積層体の、４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値は９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることがさらに好ましい。一般的な可視光波長域である４００～７００ｎｍにおける透過率の最小値が９０．００％以上であれば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。可視光透過率の最大値は、通常１００％以下である。なお、可視光透過率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　転写形感光性屈折率調整フィルムの感光性樹脂層２０及び高屈折率層３０は、例えば、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物を含む塗布液、及び上記（Ｆ）成分を含む高屈折率組成物を含む塗布液を調製し、これを各々支持フィルム１０、又は保護フィルム４０上に塗布、乾燥し、貼り合わせることにより形成できる。また、支持フィルム１０上に感光性樹脂組成物を含む塗布液を塗布、乾燥し、その後、感光性樹脂層２０上に、高屈折率組成物を含む塗布液を塗布、乾燥し、保護フィルム４０を貼り付けることにより形成することもできる。
　塗布液は、上述した感光性樹脂組成物、又は高屈折率組成物を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
　塗布液に用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。
　塗布方法としては、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
　乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０～１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５～３０分間とすることが好ましい。
　感光性樹脂層と高屈折率層の合計（以下、感光性屈折率調整層ともいう）の厚みは、ラミネート時の追従性向上の観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。さらに、基材の突起物によりピンホールが発生することを抑制する観点から、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがさらに好ましい。３μｍ以上であれば、基材の突起物による影響を極力抑え防錆性を保つことが容易となる。
　感光性屈折率調整層の粘度は、転写形感光性屈折率調整フィルムをロール状に保管した場合に、転写形感光性屈折率調整フィルムの端面から組成物がしみ出すことを抑制する観点及び転写形感光性屈折率調整フィルムを切断する際に感光性屈折率調整層が硬くなり過ぎた結果、破片化し基材に付着することを抑制する観点から、３０℃において、１５～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０～９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５～８０ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。
（保護フィルム）
　保護フィルム４０としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン－酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
　保護フィルム４０の厚さは、５～１００μｍが好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
　次に、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いた透明電極の保護機能と、電極パターンの骨見え現象の抑制又はタッチ画面の視認性向上機能の両機能を満たす硬化膜を形成する方法について説明する。
　まず、転写形感光性屈折率調整フィルム１の保護フィルム４０を除去した後、転写形感光性屈折率調整フィルムを基材５０（透明導電パターン付き基材）の表面に高屈折率層３０が密着するように高屈折率層及び感光性樹脂層をラミネート（転写）する。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
　加熱圧着する場合の加熱温度は、高屈折率層３０と基材５０との密着性と、感光性樹脂層や高屈折率層の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにするため、１０～１６０℃とすることが好ましく、２０～１５０℃とすることがより好ましく、３０～１５０℃とすることがさらに好ましい。
　また、加熱圧着時の圧着圧力は、高屈折率層３０と基材５０との密着性を充分確保しながら、基材５０の変形を抑制する観点から、線圧で５０～１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２～５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２～４×１０４Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。
　転写形感光性屈折率調整フィルムを上記のように加熱圧着すれば、ラミネート前の基材の予熱処理は必ずしも必要ではないが、高屈折率層３０と基材５０との密着性をさらに向上させる点から、基材５０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０～１５０℃とすることが好ましい。
　基材としては、タッチパネル（タッチセンサー）に用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板、フィルム等の基材等が挙げられる。この基材上には、硬化膜を形成する対象となる電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極が挙げられる。また、基材上には、基材と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。
　次に、転写後の感光性屈折率調整層の所定部分に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、感光性屈折率調整層上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。
　活性光線の照射量は、１×１０２～１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２以上であれば、光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０４Ｊ／ｍ２以下であれば感光性屈折率調整層が変色することを抑制できる傾向がある。
　続いて、活性光線照射後の感光性樹脂層及び高屈折率層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する屈折率調整パターンを形成する。なお、活性光線の照射後、感光性屈折率調整層に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
　現像工程は、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行うことができる。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度や時間は従来公知の範囲で調整することができる。
　本実施形態に係る電子部品は、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した屈折率調整パターンを備えている。電子部品としては、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。
　図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基材１０１上に設けられている。
　透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
　透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
　図３に示すように、屈折率調整パターン１２３を形成することによって、透明電極１０３、透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜の機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域（タッチ画面１０２）の屈折率調整機能を同時に奏する。
　以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
　撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ条件＞
ポンプ：Ｌ－６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ－３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
［酸価の測定方法］
　バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
　　　酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
　式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
［水酸基価の測定方法］
　バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名「ＣＯＭ－１７００」）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
　　　水酸基価＝（Ａ－Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
　式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
［バインダーポリマー溶液（Ａ２）の作製］
　表１に示す（２）をメタクリル酸１２質量部、メタクリル酸メチル３８質量部、アクリル酸エチル３０質量部、シクロヘキシルメタクリレート２０質量部及び２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）１．１質量部に変更した他は（Ａ１）と同様に合成し、重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ２）を得た。
［バインダーポリマー溶液（Ａ３）の作製］
　表１に示す（２）をメタクリル酸２４質量部、メタクリル酸メチル４４質量部、アクリル酸ブチル１５質量部、メタクリル酸ブチル１７質量部及び２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）３質量部に変更した他は（Ａ１）と同様に合成し、重量平均分子量が２５，０００、酸価が１５７ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ３）を得た。
［バインダーポリマー溶液（Ａ４）の作製］
　表１に示す（２）をメタクリル酸３０質量部、メタクリル酸メチル２２質量部、アクリル酸エチル１０質量部、メタクリル酸ブチル８質量部、スチレン３０質量部及び２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）１．１質量部に変更した他は（Ａ１）と同様に合成し、重量平均分子量が５０，０００、酸価が１９６ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ４）を得た。
（実施例１～２４、比較例１～１９）
［感光性樹脂層を形成する塗布液の作製］
　表２～５の「感光性樹脂層」に示す成分を、撹拌器を用いて１５分間混合し、感光性樹脂層を形成するための塗布液を作製した。
［高屈折率層を形成する塗布液の作製］
　表２～５の「高屈折率層」に示す成分を、撹拌機を用いて１５分間混合し高屈折率層を形成するための塗布液を作製した。
　表２～５中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６０℃
（Ａ２）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／シクロヘキシルメタクリレート＝１２／３８／３０／２０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ５４℃
（Ａ３）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４４／１５／１７（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量２５，０００、酸価１５７ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６５℃
（Ａ４）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／メタクリル酸ブチル／スチレン＝３０／２２／１０／８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量５０，０００、酸価１９６ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ９６℃
（Ｂ）成分
Ｔ－１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
ＦＡ３２１Ｍ：（メタ）アクリル系化合物・ビスフェノールＡＥＯ変性ジメタクリレート（日立化成株式会社製、製品名）
（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０１：１，２－オクタンジオン，１－［（４－フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９：２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名）
ＤＥＴＸ：２，４－ジエチル　チオキサントン（日本化薬株式会社製、製品名）
ＴＰＯ：２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名「ＬＵＣＩＲＩＮ　ＴＰＯ」）
（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５－アミノ－１Ｈ－テトラゾール（東洋紡績株式会社製、製品名）
３ＭＴ：３－メルカプト－トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名）
（Ｅ）成分
ＰＭ－２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ：りん酸２－(メタクリロイルオキシ)エチル（ユニケミカル株式会社製、製品名）
（Ｆ）成分
ＵＲ６５８：トリアジン骨格を有するポリマー（日産化学工業株式会社製、製品名「ＨＹＰＥＲＴＥＣＨシリーズ　ＵＲ６５８」（商標名））
イソシアヌル酸トリアリル：東京化成工業株式会社製
ＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名「ナノユースＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ」）
ＯＺ-Ｓ３０Ｋ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名「ナノユースＯＺ-Ｓ３０Ｋ」）
ＥＡ０２００：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡＦ５５０３：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート／ベンジルアクリレート／９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン骨格化合物の混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ－ＨＣ９３１：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート他混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
・その他の成分
Ａｎｔａｇｅ　Ｗ－５００：２，２’－メチレン－ビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）（川口化学株式会社製、製品名）
ＳＨ－３０：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
メチルエチルケトン（東燃化学株式会社製）
Ｌ－７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
［転写形感光性屈折率調整フィルムの作製］
　保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名「Ｅ－２０１Ｆ」）を使用し、上記で作製した高屈折率層を形成するための塗布液を保護フィルム上にダイコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。
　支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名「ＦＢ４０」）を使用し、上記で作製した感光性樹脂層を形成する塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、８μｍ厚の感光性樹脂層を形成した。
　上記で作製した高屈折率層を有する保護フィルムと、上記で作製した感光性樹脂層を有する支持フィルムをラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、高屈折率層と感光性樹脂層が密着するように２３℃で貼り合わせて転写形感光性屈折率調整フィルムを作製した。
　転写形感光性屈折率調整フィルム又は各構成層について、下記の項目を評価した。結果を表２～５に示す。
［高屈折率層の屈折率の測定］
　高屈折率層を形成するための塗布液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。
　次いで、上記で得られた高屈折率層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射した後、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番「ＮＶ５０－ＣＡ」）内に３０分間静置し、高屈折率層を有する屈折率測定用試料を得た。
　次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ－ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖ　ＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
　なお、転写形感光性屈折率調整フィルムの形態における屈折率層単層の屈折率は、高屈折率層の支持フィルム側の最表面層の値とする。
［高屈折率層と感光性樹脂層の膜厚測定］
　高屈折率層を有する保護フィルムと、感光性樹脂層を有する支持フィルムを貼り合わせる前の試料で測定した。上記で作製した高屈折率層を有する保護フィルムの高屈折率層をＦ２０（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ株式会社製、製品名）で測定することにより高屈折率層の膜厚を測定した。また、上記で作製した感光性樹脂層を有する支持フィルムを、デジタルシックネスゲージ（ニコン株式会社製、製品名「ＤＩＧＩＭＩＣＲＯＳＴＡＮＤ　ＭＳ－５Ｃ」）で測定することにより感光性樹脂層の膜厚を測定した。
［硬化膜のｂ＊の測定］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された基板を作製した。
　次いで、感光性樹脂層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光性樹脂層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ８μｍの感光性樹脂層の硬化膜を有する測定用試料を得た。
　次いで、得られた試料を分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、ＣＭ－５）を使用して、光源設定Ｄ６５、視野角２°でＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊（透過ｂ＊及び反射ｂ＊）を測定した。
　なお、参考としてガラス基材単体の測定値を表５に示す。
［色相（反射率Ｒ）の測定］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、透明導電性フィルム（東洋紡株式会社製、製品名「３００Ｒ」）上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、透明導電性フィルム上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、硬化膜を有する色相（反射率Ｒ）測定用試料を得た。
　次いで、得られた色相測定用試料を分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、製品名「ＣＭ－５」）を使用して感光性樹脂層側に光源があるようにして、光源設定Ｄ６５、視野角２°、測定径３０ｍｍφ、ＳＣＩ（正反射光込み）方式でＸＹＺ表色系でのＹ値（これを反射率Ｒとする）を測定し、下記式を用いて規格化を実施した。
　　反射率Ｒ規格化＝反射率実測値／感光性樹脂層のみ積層した測定試料（比較例１６）の反射率実測値×１００
　なお、参考として透明導電性フィルム単体の測定値を表５に示す。
［硬化膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工株式会社製）上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体の感光性樹脂層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光性樹脂層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番「ＮＶ５０－ＣＡ」）内に３０分間静置した。これにより、人工汗液耐性評価用試料を得た。
　次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機株式会社製、製品名「ＳＴＰ－９０Ｖ２」）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ　：　保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ　：　保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ　：　保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ　：　保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
　なお、参考としてスパッタ銅付きポリイミドフィルム単体の測定値を表５に示す。
［硬化膜の光線透過率、ヘーズの測定］
　上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番「ＮＶ５０－ＣＡ」）内に３０分間静置し、透過率測定用試料を得た。
　次いで、得られた透過率測定用試料をヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名「ＮＤＨ７０００」）を使用して、測定波長域４００～７００ｎｍで可視光線透過率、及びヘーズを測定した。
　なお、参考としてガラス基材単体の測定値を表５に示す。
［現像残渣試験］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、易接着層付ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、製品名「Ａ４３００」、１２５μｍ厚）上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１２５μｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、Ａ４３００上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　上記で得られた積層体を作製後、温度２３℃、湿度６０％の条件で３０分間保管した後、感光性樹脂層上に積層されている支持フィルムを除去し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、高屈折率層、感光性樹脂層を除去した。得られた基材表面状態を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って現像残渣を評価した。
Ａ　：　現像残渣が発生しない。
Ｂ　：　現像残渣がわずかに発生するが、その後の工程への影響はない。
Ｃ　：　現像残渣が発生する。
Ｄ　：　現像残渣が多く発生する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　なお、表２～５に記載の成分の組成は質量部である。
　表２～５に示すように、実施例では反射率Ｒ規格化の値が９０％以下となり、反射率を充分に低減しているとともに、塩水噴霧試験に対する耐性も充分であった。また、現像残渣がなく現像性が充分であった。さらに、転写された感光性樹脂層及び高屈折率層の光線透過率が高いことも確認できた。なお、比較例１５は感光性樹脂層のみを設けた場合の結果である。
　上記に本発明の実施形態及び／又は実施例を幾つか詳細に説明したが、当業者は、本発明の新規な教示及び効果から実質的に離れることなく、これら例示である実施形態及び／又は実施例に多くの変更を加えることが容易である。従って、これらの多くの変更は本発明の範囲に含まれる。
　この明細書に記載の文献の内容を全てここに援用する。
１…転写形感光性屈折率調整フィルム、１０…支持フィルム、２０…感光性樹脂層、３０…高屈折率層、４０…保護フィルム、５０…透明電極パターン付き基材、５０ａ…透明電極パターン、１００…積層体、１０１…透明基材、１０２…タッチ画面、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…屈折率調整パターン。

Claims (15)

  1. 　支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、
    　前記感光性樹脂層が、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含み、
    　前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含む転写形感光性屈折率調整フィルム。
  2. 　前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層の、波長４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０．００％以上である請求項１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  3. 　前記高屈折率層がトリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸を有する化合物を含む請求項１又は２に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  4. 　前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含む請求項１～３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  5. 　前記高屈折率層が金属酸化物を含む請求項１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  6. 　前記金属酸化物が酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素及び酸化イットリウムからなる群より選択される少なくとも一種である請求項５に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム
  7. 　前記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０である請求項１～６のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  8. 　前記高屈折率層の膜厚が１０～５００ｎｍである請求項１～７のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  9. 　前記感光性樹脂層がバインダーポリマーを含む請求項１～８のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  10. 　前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有する請求項９に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  11. 　前記バインダーポリマーが（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル及び（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーである請求項９又は１０に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  12. 　前記感光性樹脂層がリン酸エステル化合物を含む請求項８～１１のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  13. 　前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である請求項１～１２のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  14. 　請求項１～１３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
    　前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程と、を備える屈折率調整パターンの形成方法。
  15. 　請求項１４に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
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