CN107531031A - 转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件 - Google Patents

转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件 Download PDF

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Abstract

本发明的转印型感光性折射率调整膜具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。

Description

转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及 电子部件
技术领域
本发明涉及转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件。详细地说，涉及能够简单地形成具有透明电极的保护膜功能和透明电极图案的不可视化或触摸画面的可见性提高这两个功能的固化膜的转印型感光性折射率调整膜。
背景技术
在个人电脑或电视等大型电子设备、导航装置、手机、电子辞典等小型电子设备、OA设备、FA设备等显示设备等中使用液晶显示元件或触摸面板(触摸传感器)。这些液晶显示元件或触摸面板上设有由透明电极材料形成的电极。作为透明电极材料，由于显示高的可见光透射率，因此ITO(Indium-Tin-Oxide，氧化铟锡)、氧化铟或氧化锡成为主流。
触摸面板已经以各种方式实现了实用化。投影型静电电容方式的触摸面板由于能够进行指尖的多点检测，因此具备能够进行复杂指示的良好操作性。因而，在手机或便携式音乐播放器等具有小型显示装置的设备中，作为显示面上的输入装置有所利用。
一般来说，在投影型静电电容方式的触摸面板中，为了表现由X轴和Y轴形成的2维坐标，多个X电极与垂直于该X电极的多个Y电极形成2层结构图案。作为这些电极，近年来探讨了Ag纳米丝、碳纳米管等所代表的导电性纤维的利用，但ITO还不是主流。
然而，在触摸面板的边缘区域上，为了传递触摸位置的检测信号，金属配线变得必要。从导电性的观点出发，一般来说金属配线由铜形成。
触摸面板有时在接触到指尖时，水分或盐分等腐蚀成分会从传感区域侵入到内部。当腐蚀成分侵入到触摸面板的内部时，有上述金属配线发生腐蚀、电极与驱动用电路之间的电阻增加、或发生断线的危险。
为了防止金属配线的腐蚀，本发明人等提出了在透明基材上设置由特定感光性树脂组合物形成的感光性树脂层，对该感光性树脂层进行曝光、显影，从而对透明基材上的金属配线进行保护的方法(例如参照专利文献1)。
然而，如上所述，在投影型静电电容方式的触摸面板中，在基材上由透明电极材料形成的多个X电极与垂直于该X电极的多个Y电极形成2层结构的透明电极图案，但形成了电极图案的部分与未形成的部分因光学反射而色差增大，在进行模块化时有透明导电图案映射在画面上的所谓“透底现象”的问题。另外还有如下问题：在基材与透明电极之间、或者在对进行模块化时所使用的盖玻璃和透明电极图案进行粘接的可见性提高膜(OCA：OpticalClear Adhesive，光学透明胶)与透明电极图案之间，反射光强度增加，从而降低画面的透射率。
上述专利文献1所记载的方法在保护金属配线的方面是有效的，但在抑制透底现象、抑制画面的透射率降低的方面，仍有改善的余地。
另外，作为防止透明电极图案被可见的手法，公开了具有调整至特定折射率范围的低折射率的第一固化性透明树脂层及高折射率的第二固化性透明树脂层的转印膜(例如参照专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2013/084873号
专利文献2：国际公开第2014/084112号
发明内容
但是，专利文献2的转印膜的透明性并不充分、具有进一步改善的余地。另外，形成规定的固化膜时，显影性不充分，在形成兼顾画面的透射率降低的抑制和传感器金属配线的保护的固化膜的观点上来说，仍有改善的余地。另外，作为具体的转印膜的构成，公开了由临时支撑体/热塑性树脂层/中间层/第一固化性透明树脂层/第二固化性透明树脂层/保护膜形成的6层膜，但从多层膜的生产率的观点出发，也仍有改善的余地。
本发明的目的在于提供能够以充分的显影性、简单地形成兼顾透明电极图案的透底现象抑制、画面的透射率降低抑制与传感器金属配线的保护的固化膜、并且透明性高的转印型感光性折射率调整膜。
为了解决上述课题，本发明人等进行了深入研究，结果发现，通过由含有特定光聚合引发剂的感光性树脂层和高折射率层构成的转印型感光性折射率调整膜，可以在透明导电图案上进行IM层(也称作光学调节层、折射率匹配层)的薄膜形成，另外能够以充分的显影性形成兼顾由透底现象的抑制及画面的透射率降低的抑制所带来的触摸画面的可见性提高和抑制金属配线的腐蚀的固化膜，从而完成了本发明。
以下示出本发明的具体方式。
1.一种转印型感光性折射率调整膜，其具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，所述感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，所述光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。
2.根据上述1所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层及所述高折射率层在波长400～700nm下的可见光透射率的最小值为90.00％以上。
3.根据上述1或2所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有三嗪环的化合物或含有具有异氰脲酸的化合物。
4.根据上述1～3中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有芴骨架的化合物。
5.根据上述1～4中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有金属氧化物。
6.根据上述5所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述金属氧化物为选自氧化锆、氧化钛、氧化锡、氧化锌、氧化铟锡、氧化铟、氧化铝、氧化硅及氧化钇中的至少1种。
7.根据上述1～6中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层在波长633nm下的折射率为1.50～1.90。
8.根据上述1～7中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层的膜厚为10～500nm。
9.根据上述1～8中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有粘合剂聚合物。
10.根据上述9所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基。
11.根据上述9或10所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物为含有来源于选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯及(甲基)丙烯酸2-乙基己酯中的至少1种化合物的结构单元的粘合剂聚合物。
12.根据上述1～11中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有磷酸酯化合物。
13.根据上述1～12中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层与所述高折射率层的总厚度为30μm以下。
14.一种折射率调整图案的形成方法，其具备以下工序：使用上述1～13中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，按照所述高折射率层密合在所述基材上的方式，将所述高折射率层及所述感光性树脂层层压在基材上的工序；和对所述基材上的所述高折射率层及所述感光性树脂层的规定部分进行曝光后，将所述规定部分以外的部分除去，形成折射率调整图案的工序。
15.一种电子部件，其具有通过上述14所述的形成方法获得的折射率调整图案。
根据本发明，可以提供能够以充分的显影性、简单地形成兼顾透明电极图案的透底现象抑制及画面的透射率降低抑制和传感器金属配线的保护的固化膜、并且透明性高的转印型感光性折射率调整膜。
附图说明
图1为表示本发明的转印型感光性折射率调整膜的示意截面图。
图2为表示在带有透明导电图案的基材上使用了本发明的转印型感光性折射率调整膜的一个实施方式的示意截面图。
图3为表示本发明一个实施方式的电子部件的示意俯视图。
具体实施方式
以下对用于实施本发明的方式详细地进行说明。但本发明并非限定于以下的实施方式。
其中，本说明书中“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸或甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯或与其相对应的甲基丙烯酸酯。“A或B”是指只要含有A和B中的任一者即可，也可两者均含有。
另外，本说明书中“工序”这一用语不仅是独立的工序，即便是在无法与其他工序明确地区分时，只要是能达成该工序的所期望的作用，则也包含在本用语中。另外，使用“～”表示的数值范围表示将“～”前后所记载的数值分别作为最小值和最大值并包含在内的范围。
进而，本说明书中，组合物中的各成分的含量在组合物中存在多个相当于各成分的物质时，只要无特别限定，则是指存在于组合物中的该多个物质的总量。另外，示例材料只要无特别限定，则可以单独地使用，也可组合使用2种以上。
(转印型感光性折射率调整膜)
本发明的转印型感光性折射率调整膜具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层。进而，其特征在于，感光性树脂层含有光聚合性化合物及光聚合引发剂，该光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。
图1为表示本发明的转印型感光性折射率调整膜的一个实施方式的示意截面图。图1所示的转印型感光性折射率调整膜1具备支撑膜10、设置在上述支撑膜上的感光性树脂层20、以及设置在上述感光性树脂层上的高折射率层30。其中，转印型感光性折射率调整膜也可如图1所示，含有设置在高折射率层30的与感光性树脂层20相反一侧的保护膜40。
另外，本说明书中，高折射率层与感光性树脂层的边界并无必要一定是明确的，也可以是在高折射率层中混有感光性树脂层的形态。
通过使用上述转印型感光性折射率调整膜，可以以充分的显影性、一并地形成满足位于例如触摸面板边缘的金属配线或透明电极的保护功能和透明电极图案的不可视化或触摸画面的可见性提高这两个功能的透明性高的固化膜。
图2为表示在带有透明导电图案的基材上使用了本发明的转印型感光性折射率调整膜的一个实施方式的示意截面图。图2中，在带有ITO等透明电极图案50a的基材50上，按照将图案50a覆盖的方式设置高折射率层30，在其上设置感光性树脂层20，从而构成了层叠体100。
以下对支撑膜、感光性树脂层、高折射率层及保护膜进行说明。
(支撑膜)
作为支撑膜10，可以使用聚合物膜。作为聚合物膜，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚醚砜、环烯烃聚合物等。其中，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯或环烯烃聚合物。
支撑膜10的厚度从感光性树脂层的层压性和抑制隔着支撑膜10照射活性光线时的分辨率降低的观点出发，优选为5～100μm、更优选为10～70μm、进一步优选为15～40μm、特别优选为15～35μm。
(感光性树脂层)
本发明中，感光性树脂层20含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，上述光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。本发明中，通过使用肟酯化合物或氧化膦化合物作为光聚合引发剂，能够以充分的显影性形成透明性高的固化膜。
本发明中使用的光聚合性化合物优选使用具有烯键式不饱和基团的化合物。作为具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物，可举出单官能乙烯基单体、二官能乙烯基单体或具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体。
作为上述单官能乙烯基单体，可举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。
作为上述二官能乙烯基单体，可举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基苯基)丙烷、双酚A二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯；具有二环戊基构造或二环戊烯基构造的二(甲基)丙烯酸酯等。
作为上述具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体，可以没有特别限制地使用以往公知的单体。从抑制金属配线或透明电极的腐蚀及显影性的观点出发，优选使用三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等具有三羟甲基丙烷来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等具有四羟甲基甲烷来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等具有季戊四醇来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等具有二季戊四醇来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯等具有二(三羟甲基丙烷)来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；或具有二甘油来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。
更具体地说，优选含有具有季戊四醇来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有二季戊四醇来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有三羟甲基丙烷来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物或具有二(三羟甲基丙烷)来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，更优选含有具有二季戊四醇来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有三羟甲基丙烷来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物或具有二(三羟甲基丙烷)来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，进一步优选含有具有二(三羟甲基丙烷)来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。
这里，对于“具有～来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物”而言，以具有二(三羟甲基丙烷)来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物为例进行说明。具有二(三羟甲基丙烷)来源的骨架的(甲基)丙烯酸酯是指二(三羟甲基丙烷)与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包括经亚烷基氧基进行了改性的化合物。上述酯化物优选一分子中的酯键数为最大数的4，但也可以是酯键数为1～3的化合物混合在一起。
光聚合性化合物优选含有分子内具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基团的单体。还考虑到组合使用单官能乙烯基单体或二官能乙烯基单体的情况时，从抑制光固化性及电极腐蚀的观点出发，分子内具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基团的单体的比例相对于感光性树脂层所含的光聚合性化合物的总量100质量份，优选为30～100质量份、更优选为50～100质量份、进一步优选为75～100质量份。
作为光聚合引发剂的肟酯化合物优选为下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物。
式(1)中，R11及R12分别表示碳数为1～12的烷基、碳数为4～10的环烷基、苯基或甲苯基。其中，优选碳数为1～8的烷基、碳数为4～6的环烷基、苯基或甲苯基，更优选碳数为1～4的烷基、碳数为4～6的环烷基、苯基或甲苯基，进一步优选甲基、环戊基、苯基或甲苯基。
R13表示H、OH、COOH、O(CH2)OH、O(CH2)2OH、COO(CH2)OH或COO(CH2)2OH。优选H、O(CH2)OH、O(CH2)2OH、COO(CH2)OH或COO(CH2)2OH，更优选H、O(CH2)2OH或COO(CH2)2OH。
式(2)中，多个R14各自独立地表示碳数为1～6的烷基，优选为丙基。多个R14可以分别相同也可分别不同。R15表示NO2或ArCO(这里，Ar表示苯基或甲苯基)，作为Ar，优选甲苯基。
R16及R17分别表示碳数为1～12的烷基、苯基或甲苯基，优选为甲基、苯基或甲苯基。
式(3)中，R18表示碳数为1～6的烷基、优选为乙基。
R19是具有缩醛键的有机基团，优选是与后述式(3-1)所示化合物所具有的R19相对应的取代基。
R20及R21分别表示碳数为1～12的烷基、苯基或甲苯基，优选为甲基、苯基或甲苯基，更优选为甲基。
R22表示碳数为1～6的烷基。n表示0～4的整数。R22存在多个时，多个R22可分别相同也可分别不同。
作为上述式(1)所示的化合物，例如可举出下述式(1-1)所示的化合物及下述式(1-2)所示的化合物。下述式(1-1)所示的化合物可作为IRGACURE OXE 01(BASF日本株式会社制、产品名)获得。
作为上述式(2)所示的化合物，例如可举出下述式(2-1)所示的化合物。下述式(2-1)所示的化合物可作为DFI-091(Daitochemix株式会社制、产品名)获得。
作为上述式(3)所示的化合物，例如可举出下述式(3-1)所示的化合物。下述式(3-1)所示的化合物可作为Adeca Optomer N-1919(株式会社ADEKA制、产品名)获得。
作为其他的肟酯化合物，优选下述式(4)所示的化合物、下述式(5)所示的化合物。
作为氧化膦化合物，例如可举出下述式(6)及下述式(7)所示的化合物。从速固化性、透明性的观点出发，优选下述式(6)所示的化合物。
式(6)中，R31、R32及R33各自独立地表示碳数为1～20的烷基、苯基、甲苯基、二甲苯基或三甲苯基。
式(7)中，R34、R35及R36各自独立地表示碳数为1～20的烷基、苯基、甲苯基、二甲苯基、三甲苯基或二甲氧基苯基。
上述碳数为1～20的烷基可以是直链状、支链状及环状的任一种烷基。另外，烷基的碳数优选为1～10，更优选碳数为1～4的烷基，极优选甲基。
式(6)所示的化合物中，优选R31、R32及R33为苯基、甲苯基、二甲苯基或三甲苯基者。
式(7)所示的化合物中，优选R34、R35及R36为苯基、甲苯基、二甲苯基、三甲苯基或二甲氧基苯基者。
作为式(6)所示的化合物，从所形成的保护膜的透明性及使膜厚为10μm以下时的图案形成能力出发，优选2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦。该化合物例如可以作为LUCIRIN TPO(BASF日本株式会社制、产品名)购买到。
感光性树脂层还可以含有除上述肟酯化合物及氧化膦化合物以外的光聚合引发剂。作为除肟酯化合物及氧化膦化合物以外的光聚合引发剂，例如可举出二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基氨基二苯甲酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代-丙酮-1等芳香族酮；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻苯基醚等苯偶姻醚化合物，苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻等苯偶姻化合物；苄基二甲基缩酮等苄基衍生物；9-苯基吖啶、1,7-双(9,9’-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物；N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物；香豆素系化合物；噁唑系化合物。另外，还可以如二乙基噻吨酮与二甲基氨基苯甲酸的组合那样将噻吨酮系化合物与叔胺化合物组合。
感光性树脂层优选除了上述光聚合性化合物及光聚合引发剂之外还含有粘合剂聚合物。
作为粘合剂聚合物，从可利用碱显影进行布图的观点出发，优选使用具有羧基的聚合物。
粘合剂聚合物优选含有(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸烷基酯来源的结构单元的共聚物。上述共聚物在结构单元中还可含有能够与上述(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯共聚的其他单体。具体地可举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯等。
作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸羟乙基酯等。
其中，特别从相对于无机碱水溶液的碱显影性、图案形成性、透明性的观点出发，优选含有来源于选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯及(甲基)丙烯酸2-乙基己酯中的至少1种化合物的结构单元的粘合剂聚合物。
粘合剂聚合物的重均分子量从显影性的观点出发，优选为10,000～200,000、更优选为15,000～150,000、进一步优选为30,000～150,000、特别优选为30,000～100,000、极优选为40,000～100,000。其中，重均分子量能够以本申请说明书的实施例为参照、利用凝胶渗透色谱法进行测定。
粘合剂聚合物的酸值从碱显影性的观点出发，优选为75mgKOH/g以上。另外，从谋求兼顾保护膜形状的控制容易性和保护膜的防锈性的观点出发，优选为75～200mgKOH/g、更优选为75～150mgKOH/g、进一步优选为75～120mgKOH/g、特别优选为78mg～120mgKOH/g。其中，酸值能够以本申请说明书的实施例为参照进行测定。
粘合剂聚合物的羟基值从进一步提高防锈性的观点出发，优选为50mgKOH/g以下、更优选为45mgKOH/g以下。其中，羟基值能够以本申请说明书的实施例为参照进行测定。
感光性树脂层中，粘合剂聚合物(以下也称作(A)成分)及光聚合性化合物(以下也称作(B)成分)的含量相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选(A)成分为0～85质量份、更优选为15～80质量份、进一步优选为20～80质量份、特别优选为50～70质量份、极优选为55～65质量份。特别是，从维持图案形成性或保护膜的透明性的方面来说，相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选(A)成分为15质量份以上、更优选为40质量份以上、进一步优选为50质量份以上、特别优选为55质量份以上。
光聚合引发剂(以下也称作(C)成分)的含量从光感度及分辨率优异的方面来说，相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选为0.1质量份以上，从可见光透射率优异的方面来说，优选为20质量份以下。
作为光聚合引发剂含有肟酯化合物时，其含量相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选为0.1～5.0质量份、更优选为0.5～3.0质量份、进一步优选为1.0～3.0质量份、特别优选为1.5～2.5质量份。
作为光聚合引发剂含有氧化膦化合物时，其含量相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选为3.0～15质量份、更优选为3.5～15质量份、进一步优选为4.0～15质量份、特别优选为5.0～15质量份。
感光性树脂层从进一步提高保护膜的防锈性的观点出发，优选进一步含有具有巯基的三唑化合物、具有巯基的四唑化合物、具有巯基的噻二唑化合物、具有氨基的三唑化合物或具有氨基的四唑化合物(以下也称作(D)成分)。作为具有巯基的三唑化合物，例如可举出3-巯基-三唑(和光纯药株式会社制、产品名“3MT”)。另外，作为具有巯基的噻二唑化合物，例如可举出2-氨基-5-巯基-1，3，4-噻二唑(和光纯药株式会社制、产品名“ATT”)。
作为上述具有氨基的三唑化合物，可举出苯并三唑、1H-苯并三唑-1-乙腈、苯并三唑-5-羧酸、1H-苯并三唑-1-甲醇、羧基苯并三唑等中经氨基取代的化合物、3-巯基三唑、5-巯基三唑等含巯基的三唑化合物中经氨基取代的化合物等。
作为上述具有氨基的四唑化合物，可举出5-氨基-1H-四唑、1-甲基-5-氨基-四唑、1-羧甲基-5-氨基-四唑等。这些四唑化合物还可以是其水溶性盐。作为具体例，可举出1-甲基-5-氨基-四唑的钠、钾、锂等碱金属盐等。
含有(D)成分时，其含量相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选为0.05～5.0质量份、更优选为0.1～2.0质量份、进一步优选为0.2～1.0质量份、特别优选为0.3～0.8质量份。
感光性树脂层从防止发生显影残留的观点出发，优选含有磷酸酯化合物(以下也称作(E)成分)，更优选该磷酸酯化合物含有光聚合性不饱和键。其中，本说明书中，磷酸酯化合物不包含在(B)成分的光聚合性化合物中。
作为(E)成分的磷酸酯化合物从以高水准兼顾所形成的保护膜的防锈性和显影性的观点出发，优选Phosmer系列(Phosmer-M、Phosmer-CL、Phosmer-PE、Phosmer-MH、Phosmer-PP等、Uni-chemical株式会社制、产品名)或KAYAMER系列(PM21、PM-2等、日本化药株式会社制、产品名)。
含有(E)成分时，其含量相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选为0.05～5.0质量份、更优选为0.1～2.0质量份、进一步优选为0.2～1.0质量份、特别优选为0.2～0.6质量份。
(高折射率层)
高折射率层是折射率比上述感光性树脂层高的层。其中，感光性树脂层在波长633nm光下的折射率通常为1.40～1.49。
高折射率层优选波长633nm光下的折射率为1.50～1.90、更优选为1.53～1.85、进一步优选为1.55～1.75。通过高折射率层的633nm下的折射率为1.50～1.90，当制成图2所示的层叠体时，易于变成ITO等透明电极图案50a与感光性树脂层20上所使用的各种构件(例如对进行模块化时所使用的盖玻璃与透明电极图案进行粘接的OCA)的折射率的中间值，可以减小形成ITO等透明电极图案的部分与未形成的部分处因光学反射所产生的色差，可以抑制透底现象。另外，能够减小画面整体的反射光强度，可以抑制画面上的透射率降低。其中，折射率可以以本申请说明书的实施例为参照进行测定。
ITO等透明电极的折射率优选为1.80～2.10、更优选为1.85～2.05、进一步优选为1.90～2.00。另外，OCA等构件的折射率优选为1.45～1.55、更优选为1.47～1.53、进一步优选为1.48～1.51。
高折射率层的膜厚优选为10～500nm、更优选为20～300nm、进一步优选为30～250nm、特别优选为40～200nm、极优选为45～150nm。通过膜厚为10～500nm，可以进一步降低上述画面整体的反射光强度。
高折射率层从折射率的观点出发，优选含有具有三嗪环的化合物、具有异氰脲酸骨架的化合物、具有芴骨架的化合物或金属氧化物(以下也称作(F)成分)。
另外，高折射率层从折射率和显影性、图案形成性、进一步透明性的观点出发，优选将具有三嗪环的化合物或具有异氰脲酸骨架的化合物与具有芴骨架的化合物并用。
作为具有三嗪环的化合物，可举出结构单元中具有三嗪环的聚合物，可举出具有下述式(8)所示结构单元的化合物等。
式中，Ar表示含有选自芳香环(碳数例如为6～20)及杂环(原子数例如为5～20)中的至少1个的2价基团。X各自独立地表示NR1。R1各自独立地表示氢原子、烷基(碳数例如为1～20)、烷氧基(碳数例如为1～20)、芳基(碳数例如为6～20)或芳烷基(碳数例如为7～20)。多个X可分别相同也可分别不同。
具体地说，优选具有三嗪环的超枝化聚合物，例如可作为HYPERTECH系列(日产化学工业株式会社制、产品名)购买到。
该超枝化聚合物例如如下获得：在间苯基二胺的二甲基乙酰胺溶液中滴加2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪的二甲基乙酰胺溶液使聚合开始，进一步滴加2-氨基丙醇使其反应，使其在氨水溶液中沉淀，从而获得。
还可以利用苯二甲酸或琥珀酸等对所得的具有三嗪环的超枝化聚合物进行改性，从而使其含有酸值。
具有异氰脲酸骨架的化合物的“异氰脲酸骨架”是指从异氰脲酸中除去了3个氢原子之后的基团，作为具有异氰脲酸骨架的化合物，可举出下述式(9)所示的化合物。
具体地说优选异氰脲酸三烯丙基酯。
式中，R各自独立地表示氢原子、卤原子、R2OH(R2是碳数为1～6的亚烷基)或烯丙基，优选烯丙基。
作为卤原子，优选氯原子。
作为R2OH，优选羟甲基、羟乙基。
作为具有芴骨架的化合物，优选具有9,9-双[4-2-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴骨架的化合物。上述化合物还可以用(聚)氧乙烯或(聚)氧丙烯进行改性。这些物质例如可以作为EA-0200(大阪Gas Chemical株式会社制、产品名)购买到。进而，还可以用环氧丙烯酸酯进行环氧改性。这些物质例如可以作为GA5000、EG200(大阪Gas Chemical株式会社制、产品名)购买到。
从获得具有触摸画面的可见性提高的功能的透明性高的固化膜的观点出发，优选含有金属氧化物作为(F)成分。
(F)成分含有金属氧化物时，从提高显影性的观点出发，优选将感光性树脂层的粘合剂聚合物中说明过的具有羧基的聚合物或光聚合性化合物中所记载的具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物单独或多个组合来形成高折射率层。
作为金属氧化物，可举出氧化锆、氧化钛、氧化锡、氧化锌、氧化铟锡、氧化铟、氧化铝、氧化硅、玻璃等。其中，优选氧化锆。
另外，优选金属氧化物为微粒状。
金属氧化物例如可购买NanoUse OZ-S30K、OZ-S40K-AC、OZ-S30M(日产化学工业株式会社制、产品名)、NANON5ZR-010、NANONZR-020(株式会社Solar制、产品名)、SZR-K、SZR-M(堺化学工业株式会社、产品名)。
另外，氧化锆还可以与无定形二氧化硅或氧化锡并用来使用。由此，可以在调整转印型感光性折射率调整膜时进一步提高高折射率层的透明性及显影性。
进而，氧化锆还优选与氧化钇并用来使用。由此，可以在调整转印型感光性折射率调整膜时进一步提高高折射率层的透明性及折射率。
其中，NanoUse OZ-S30K、OZ-S40K-AC及OZ-S30M除了氧化锆之外还混合有无定形二氧化硅或氧化锡。SZR-K及SZR-M混合有氧化钇。
其中，氧化锆或氧化锡可以通过使用STEM-EDX检测锆元素、氧元素、锡元素并进行映射，从而鉴定。
高折射率层中的(F)成分的含量为了将高折射率层在波长633nm光下的折射率调整至1.5～1.9的范围，优选为以下的范围。
含有具有三嗪环的化合物时，相对于(F)成分的总量100质量份，优选含有10～100质量份、更优选含有10～70质量份、进一步优选含有10～60质量份、特别优选含有10～55质量份。
含有具有异氰脲酸骨架的化合物时，相对于(F)成分的总量100质量份，优选含有10～90质量份、更优选含有20～80质量份、进一步优选含有30～70质量份。
含有具有芴骨架的化合物时，相对于(F)成分的总量100质量份，优选含有10～100质量份、更优选含有20～90质量份、进一步优选含有30～90质量份、特别优选含有40～90质量份。
含有金属氧化物时，相对于(F)成分的总量100质量份，优选含有10～100质量份、更优选含有20～93质量份、进一步优选含有30～90质量份。
高折射率层还可根据需要含有感光性树脂层的(A)成分～(E)成分中的任1种成分以上。
另外，高折射率层还可以实质上仅由上述(F)成分中的至少1个构成。即，本发明的高折射率层可以实质上仅由(F)成分构成。
这里“实质上”是指构成层的成分的95质量％以上且100质量％以下(优选98质量％以上且100质量％以下)为(F)成分。
本发明的感光性树脂层及高折射率层还可分别根据需要添加公知的添加剂。作为添加剂，例如可举出八甲基环四硅氧烷等有机硅氧烷、2,2’-亚甲基-双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)等阻聚剂。
本发明的转印型感光性折射率调整膜中，感光性树脂层与高折射率层的层叠体在400～700nm下的可见光透射率的最小值优选为90.00％以上、更优选为90.50％以上、进一步优选为90.70％以上。作为一般的可见光波长区域的400～700nm下的透射率最小值为90.00％以上时，在对触摸面板(触摸传感器)的传感区域的透明电极进行保护时，可以充分地抑制传感区域的图像显示品质、色调、亮度的降低。可见光透射率的最大值通常为100％以下。其中，可见光透射率可以以本申请说明书的实施例为参照进行测定。
转印型感光性折射率调整膜的感光性树脂层20及高折射率层30例如可如下形成：制备含有形成感光性树脂层的感光性树脂组合物的涂布液及含有包含上述(F)成分的高折射率组合物的涂布液，将其分别涂布在支撑膜10或保护膜40上，进行干燥、贴合，从而形成。另外，还可以在支撑膜10上涂布含有感光性树脂组合物的涂布液并进行干燥，之后在感光性树脂层20上涂布含有高折射率组合物的涂布液并进行干燥，粘合保护膜40，从而形成。
涂布液可以通过将上述感光性树脂组合物或高折射率组合物均匀地溶解或分散在溶剂中来获得。
涂布液所使用的溶剂并无特别限定，可以使用公知的溶剂。具体地说，可举出丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、甲二醇、乙二醇、丙二醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二乙基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、氯仿、二氯甲烷等。
作为涂布方法，可举出刮刀涂布法、线棒涂布法、辊涂法、丝网涂布法、旋涂法、喷墨涂布法、喷涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘涂法、模涂法等。
干燥条件并无特别限定，干燥温度优选为60～130℃、干燥时间优选为0.5～30分钟。
感光性树脂层与高折射率层的总(以下也称作感光性折射率调整层)厚度从提高层压时的随动性的观点出发，优选为30μm以下、更优选为20μm以下、进一步优选为10μm以下。进而，从抑制因基材的突起物而导致针孔发生的观点出发，优选为1μm以上、更优选为2μm以上、进一步优选为3μm以上。为3μm以上时，易于极力地抑制因基材的突起物造成的影响以保证防锈性。
感光性折射率调整层的粘度从在将转印型感光性折射率调整膜以卷状保管时、抑制组合物从转印型感光性折射率调整膜的端面渗出的观点、以及从抑制在切断转印型感光性折射率调整膜时、感光性折射率调整层变得过硬、结果产生破片并附着在基材上的观点出发，在30℃下优选为15～100mPa·s、更优选为20～90mPa·s、进一步优选为25～80mPa·s。
(保护膜)
作为保护膜40，可举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物与聚乙烯的层叠膜等。
保护膜40的厚度优选为5～100μm，从卷成卷状进行保管的观点出发，优选为70μm以下、更优选为60μm以下、进一步优选为50μm以下、特别优选为40μm以下。
接着，对于形成满足以下两功能的固化膜的方法进行说明：使用了转印型感光性折射率调整膜的透明电极的保护功能；和抑制电极图案的透底现象或触摸画面的可见性提高功能。
首先，将转印型感光性折射率调整膜1的保护膜40除去之后，将转印型感光性折射率调整膜按照高折射率层30密合在基材50(带有透明导电图案的基材)的表面上的方式层压(转印)高折射率层及感光性树脂层。作为压接手段可举出压接辊。压接辊还可以具备加热手段以使得能够进行加热压接。
进行加热压接时的加热温度为了高折射率层30与基材50的密合性、以及为了使得感光性树脂层或高折射率层的构成成分难以被热固化或热分解，优选为10～160℃、更优选为20～150℃、进一步优选为30～150℃。
另外，加热压接时的压接压力从在充分地确保高折射率层30与基材50的密合性的同时抑制基材50的变形的观点出发，以线压计优选为50～1×105N/m、更优选为2.5×102～5×104N/m、进一步优选为5×102～4×104N/m。
如上对转印型感光性折射率调整膜进行加热压接时，并不一定需要层压前的基材的预热处理，但从进一步提高高折射率层30与基材50的密合性的方面出发，也可以对基材50进行预热处理。此时的处理温度优选为30～150℃。
作为基材，可以举出触摸面板(触摸传感器)中使用的玻璃板、塑料板、陶瓷板、膜等基材等。在该基材上设置成为形成固化膜的对象的电极。作为电极，可举出ITO、Cu、Al、Mo等电极。另外，还可以在基材上于基材与电极之间设置绝缘层。
接着，对转印后的感光性折射率调整层的规定部分隔着光掩模以图案状照射活性光线。照射活性光线时，当感光性折射率调整层上的支撑膜10为透明时，可以直接照射活性光线，为不透明时，将其除去后照射活性光线。作为活性光线的光源，可以使用公知的活性光源。
活性光线的照射量为1×102～1×104J/m2，在照射时，还可以伴随加热。该活性光线的照射量为1×102J/m2以上时，有可以充分地使光固化进行的倾向，为1×104J/m2以下时，有可以抑制感光性折射率调整层变色的倾向。
接着，利用显影液将活性光线照射后的感光性树脂层及高折射率层的未曝光部除去，形成将透明电极的一部分或全部覆盖的折射率调整图案。其中，在活性光线的照射后、在感光性折射率调整层上层叠有支撑膜10时，将其除去后进行显影工序。
显影工序可以通过使用碱水溶液、水系显影液、有机溶剂等公知的显影液，利用喷雾、淋浴、摇动浸渍、刷洗、刮削等公知的方法进行。其中，从环境、安全性的观点出发，优选使用碱水溶液进行喷雾显影。其中，显影温度或时间可以在以往公知的范围内进行调整。
本实施方式的电子部件具备使用转印型感光性折射率调整膜而形成的折射率调整图案。作为电子部件，可举出触摸面板、液晶显示器、有机电致发光、太阳能电池模块、印刷配线板、电子纸等。
图3为表示静电电容式的触摸面板之一例的示意俯视图。图3所示的触摸面板在透明基材101的单面上具有用于检测触摸位置坐标的触摸画面102，将用于检测该区域的静电电容变化的透明电极103及透明电极104设置在基材101上。
透明电极103及透明电极104分别对触摸位置的X位置坐标及Y位置坐标进行检测。
在透明基材101上设置有用于将触摸位置的检测信号从透明电极103及透明电极104向外部电路传递的引出配线105。另外，引出配线105和透明电极103及透明电极104通过设置于透明电极103及透明电极104上的连接电极106而连接。另外，在引出配线105的与和透明电极103及透明电极104的连接部相反一侧的端部上，设有与外部电路连接的连接端子107。
如图3所示，通过形成折射率调整图案123，可以同时发挥透明电极103、透明电极104、引出配线105、连接电极106及连接端子107的保护膜的功能、以及由透明电极图案形成的传感区域(触摸画面102)的折射率调整功能。
实施例
以下举出实施例对本发明更为具体地进行说明。但本发明并非限定于以下的实施例。
[粘合剂聚合物溶液(A1)的制作]
在具备搅拌器、回流冷却机、不活泼性气体导入口及温度计的烧瓶中投入表1所示的(1)，在氮气气氛下升温至80℃，一边将反应温度保持在80℃±2℃、一边用4小时的时间均匀地滴加表1所示的(2)。(2)的滴加后，在80℃±2℃下持续搅拌6小时，获得重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A1)。
表1
其中，重均分子量(Mw)利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定，使用标准聚苯乙烯的标准曲线进行换算，从而导出。以下示出GPC的条件。
＜GPC条件＞
泵：L-6000(株式会社日立制作所制、产品名)
色谱柱：Gelpack GL-R420、Gelpack GL-R430、Gelpack GL-R440(以上为日立化成株式会社制、产品名)
洗脱液：四氢呋喃
测定温度：40℃
流量：2.05mL/分钟
检测器：L-3300(RI检测器、株式会社日立制作所制、产品名)
[酸值的测定方法]
在130℃下对粘合剂聚合物的溶液加热1小时，将挥发成分除去，获得固体成分。进而，精确称量上述固体成分的聚合物1g之后，在该聚合物中添加丙酮30g，使其均匀地溶解。接着，将作为指示剂的酚酞适量地添加到该溶液中，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定。然后，利用下式计算酸值。
酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)、Wp表示所测得的树脂溶液的质量(g)、I表示所测得的树脂溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。
[羟基值的测定方法]
在130℃下对粘合剂聚合物的溶液加热1小时，将挥发成分除去，获得固体成分。进而，精确称量上述固体成分的聚合物1g之后，将聚合物加入到三角烧瓶中，添加10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，使其均匀地溶解，在100℃下加热1小时。加热后，添加水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟之后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制、产品名“COM-1700”)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定。然后，利用下式计算羟基值。
羟基值＝(A-B)×f×28.05/试样(g)+酸值
式中，A表示空白试验中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)、B表示滴定中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)、f表示因子。
[粘合剂聚合物溶液(A2)的制作]
除了将表1所示的(2)改变为甲基丙烯酸12质量份、甲基丙烯酸甲酯38质量份、丙烯酸乙酯30质量份、甲基丙烯酸环己酯20质量份及2,2’-偶氮双(异丁腈)1.1质量份之外，与(A1)同样地进行合成，获得重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A2)。
[粘合剂聚合物溶液(A3)的制作]
除了将表1所示的(2)改变为甲基丙烯酸24质量份、甲基丙烯酸甲酯44质量份、丙烯酸丁酯15质量份、甲基丙烯酸丁酯17质量份及2,2’-偶氮双(异丁腈)3质量份之外，与(A1)同样地进行合成，获得重均分子量为25,000、酸值为157mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A3)。
[粘合剂聚合物溶液(A4)的制作]
除了将表1所示的(2)改变为甲基丙烯酸30质量份、甲基丙烯酸甲酯22质量份、丙烯酸乙酯10质量份、甲基丙烯酸丁酯8质量份、苯乙烯30质量份及2,2’-偶氮双(异丁腈)1.1质量份之外，与(A1)同样地进行合成，获得重均分子量为50,000、酸值为196mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A4)。
(实施例1～24、比较例1～19)
[形成感光性树脂层的涂布液的制作]
使用搅拌器对表2～5的“感光性树脂层”中所示的成分混合15分钟，制作用于形成感光性树脂层的涂布液。
[形成高折射率层的涂布液的制作]
使用搅拌器对表2～5的“高折射率层”中所示的成分混合15分钟，制作用于形成高折射率层的涂布液。
表2～5中的成分的符号表示以下含义。
(A)成分
(A1)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯＝12/58/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g、Tg为60℃
(A2)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸环己酯＝12/38/30/20(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g、Tg为54℃
(A3)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸丁酯＝24/44/15/17(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为25,000、酸值为157mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g、Tg为65℃
(A4)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸丁酯/苯乙烯＝30/22/10/8/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为50,000、酸值为196mgKOH/g、羟基值为2mgKOH/g、Tg为96℃
(B)成分
T-1420(T)：二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯(日本化药株式会社制、产品名)
FA321M：(甲基)丙烯酸系化合物-双酚A EO改性二甲基丙烯酸酯(日立化成株式会社制、产品名)
(C)成分
IRGACURE OXE 01：1,2-辛二酮,1-[(4-苯硫基)苯基]-,2-(O-苯甲酰基肟)(BASF株式会社制、产品名)
IRGACURE 379：2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉代)苯基]-1-丁酮(BASF日本株式会社制、产品名)
DETX：2,4-二乙基噻吨酮(日本化药株式会社制、产品名)
TPO：2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦(BASF日本株式会社制、产品名“LUCIRIN TPO”)
(D)成分
HAT：5-氨基-1H-四唑(东洋纺织株式会社制、产品名)
3MT：3-巯基-三唑(和光纯药株式会社制、产品名)
(E)成分
PM-21：含有光聚合性不饱和键的磷酸酯(日本化药株式会社制、产品名)
Phosmer-M：磷酸2-(甲基丙烯酰氧基)乙酯(Uni-chemical株式会社制、产品名)
(F)成分
UR658：具有三嗪骨架的聚合物(日产化学工业株式会社制、产品名“HYPERTECH系列UR658”(商标名))
异氰脲酸三烯丙基酯：东京化成工业株式会社制
OZ-S40K-AC：氧化锆分散液(日产化学工业株式会社制、产品名“NanoUse OZ-S40K-AC”)
OZ-S30K：氧化锆分散液(日产化学工业株式会社制、产品名“NanoUse OZ-S30K”)
EA0200：聚氧乙烯改性9,9-双(4-羟基苯基)芴二丙烯酸酯(大阪Gas Chemical株式会社制、产品名)
EAF5503：聚氧乙烯改性9,9-双(4-羟基苯基)芴二丙烯酸酯/丙烯酸苄酯/9,9-双(4-羟基苯基)芴骨架化合物的混合物(大阪Gas Chemical株式会社制、产品名)
EA-HC931：聚氧乙烯改性9,9-双(4-羟基苯基)芴二丙烯酸酯其他混合物(大阪GasChemical株式会社制、产品名)
·其他成分
Antage W-500：2,2’-亚甲基-双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)(川口化学株式会社制、产品名)
SH-30：八甲基环四硅氧烷(Dowcorning株式会社制、产品名)
甲基乙基酮(东燃化学株式会社制)
L-7001：八甲基环四硅氧烷(Dowcorning株式会社制、产品名)
[转印型感光性折射率调整膜的制作]
作为保护膜使用厚度为30μm的聚丙烯膜(Ojif-tex株式会社制、产品名“E-201F”)，使用棒涂机将上述制作的用于形成高折射率层的涂布液均匀涂布在保护膜上，利用100℃的热风滞留式干燥机干燥3分钟，将溶剂除去，形成高折射率层。
作为支撑膜使用厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Toray株式会社制、产品名“FB40”)，使用逗号涂布机将上述制作的用于形成感光性树脂层的涂布液均匀涂布在支撑膜上，利用100℃的热风滞留式干燥机干燥3分钟，将溶剂除去，形成8μm厚的感光性树脂层。
使用层压机(日立化成株式会社制、产品名“HLM-3000型”)，将上述制作的具有高折射率层的保护膜与上述制作的具有感光性树脂层的支撑膜按照高折射率层与感光性树脂层密合的方式在23℃下贴合，制作了转印型感光性折射率调整膜。
对于转印型感光性折射率调整膜或各构成层，评价下述项目。将结果示于表2～5。
[高折射率层的折射率的测定]
利用旋涂机将用于形成高折射率层的涂布液均匀地涂布在厚度为0.7mm的玻璃基材上，利用100℃的热风滞留式干燥机干燥3分钟，将溶剂除去，形成高折射率层。
接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、产品名“EXM1201”)以曝光量5×102J/m2(365nm下的测定值)对上述获得的高折射率层照射紫外线之后，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电机株式会社制、型号“NV50-CA”)内静置30分钟，获得具有高折射率层的折射率测定用试样。
接着，使用ETA-TCM(AudioDevGmbH株式会社制、产品名)对所得折射率测定用试样测定633nm下的折射率。
其中，转印型感光性折射率调整膜的形态下的折射率层单层的折射率为高折射率层的靠支撑膜一侧的最表面层的值。
[高折射率层和感光性树脂层的膜厚测定]
利用粘合具有高折射率层的保护膜和具有感光性树脂层的支撑膜之前的试样进行测定。使用F20(FILMETRICS株式会社制、产品名)对上述制作的具有高折射率层的保护膜的高折射率层进行测定，从而测定高折射率层的膜厚。另外，利用数显测厚规(Nikon株式会社制、产品名“DIGIMICROSTAND MS-5C”)对上述制作的具有感光性树脂层的支撑膜进行测定，从而测定感光性树脂层的膜厚。
[固化膜的b＊的测定]
一边剥离所得转印型感光性折射率调整膜的保护膜，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名“HLM-3000型”)在轧辊温度为120℃、基板输送速度为1m/分钟、压接压力(汽缸压力)为4×105Pa(由于使用厚1mm、纵10cm×横10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下，按照高折射率层接触于厚度为0.7mm的玻璃基材的方式层压在该基材上，制作了在玻璃基材上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的基板。
接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、产品名“EXM1201”)，从感光性树脂层侧上方、以曝光量5×102J/m2(i射线(波长365nm)下的测定值)对感光性树脂层照射紫外线之后，将支撑膜除去，再从感光性树脂层侧上方、以曝光量1×104J/m2(i射线(波长365nm)下的测定值)照射紫外线，获得具有厚度为8μm的感光性树脂层的固化膜的测定用试样。
接着，使用分光测色计(Konicaminolta株式会社制、CM-5)，以光源设定为D65、视野角为2°对所得试样测定CIELAB表色系中的b＊(透射b＊及反射b＊)。
另外，作为参照，将玻璃基材单体的测定值示于表5。
[色调(反射率R)的测定]
一边剥离所得转印型感光性折射率调整膜的保护膜，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名“HLM-3000型”)在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(汽缸压力)为4×105Pa(由于使用厚1mm、纵10cm×横10cm的基材，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下，按照高折射率层接触于透明导电性膜(东洋纺株式会社制、产品名“300R”)的方式层压在该透明导电性膜上，制作了在透明导电性膜上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。
接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、产品名“EXM1201”)，自感光性树脂层侧上方、以曝光量5×102J/m2(波长365nm下的测定值)对所得层叠体照射紫外线之后，除去支撑膜，获得具有固化膜的色调(反射率R)测定用试样。
接着，使用分光测色计(Konicaminolta株式会社制、产品名“CM-5”)，以感光性树脂层侧具有光源的方式、以光源设定为D65、视野角为2°、测定直径为30mmφ、SCI(正反射光进入)方式，对所得色调测定用试样测定XYZ表色系中的Y值(将其作为反射率R)，使用下述式实施标准化。
反射率R标准化＝反射率实测值/仅层叠有感光性树脂层的测定试样(比较例16)的反射率实测值×100
另外，作为参照，将透明导电性膜单体的测定值示于表5中。
[固化膜的盐水喷雾试验(人工汗液耐受性评价试验)]
一边剥离所得转印型感光性折射率调整膜的保护膜，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名“HLM-3000型”)在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(汽缸压力)为4×105Pa(由于使用厚1mm、纵10cm×横10cm的基材，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下，按照高折射率层接触于带有溅射铜的聚酰亚胺膜(Toray Film加工株式会社制)的方式层压在该膜上，制作了在溅射铜上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。
接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、产品名“EXM1201”)，自感光性树脂层侧上方、以曝光量5×102J/m2(波长365nm下的测定值)对所得层叠体的感光性树脂层照射紫外线之后，除去支撑膜，再自感光性树脂层侧上方、以曝光量1×104J/m2(波长365nm下的测定值)照射紫外线，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电机株式会社制、型号“NV50-CA”)内静置30分钟。由此，获得人工汗液耐受性评价用试样。
接着，以JIS标准(Z2371)为参照，使用盐水喷雾试验机(Sugatest株式会社制、产品名“STP-90V2”)，在试验槽内放置上述试样，以试验槽温度为35℃、喷雾量为1.5mL/h喷雾浓度为50g/L的盐水(pH＝6.7)48小时。喷雾结束后，擦去盐水，对评价用试样的表面状态进行观察，按照以下评分进行评价。
A：保护膜表面完全没有变化。
B：保护膜表面可见极微小的痕迹，但铜没有变化。
C：保护膜表面可见痕迹，但铜没有变化。
D：保护膜表面有痕迹，且铜发生变色。
另外，作为参照，将带有溅射铜的聚酰亚胺膜单体的测定值示于表5中。
[固化膜的透光率、雾度的测定]
一边剥离上述制作的转印型感光性折射率调整膜的保护膜，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名“HLM-3000型”)在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(汽缸压力)为4×105Pa(由于使用厚1mm、纵10cm×横10cm的基材，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下，按照高折射率层接触于厚度为0.7mm的玻璃基材的方式层压在该基材上，制作了在玻璃基材上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。
接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、产品名“EXM1201”)，自感光性树脂层侧上方、以曝光量5×102J/m2(波长365nm下的测定值)对所得层叠体照射紫外线之后，除去支撑膜，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电机株式会社制、型号“NV50-CA”)内静置30分钟。获得透射率测定用试样。
接着，使用雾度计(日本电色工业株式会社制、产品名“NDH7000”)，在测定波长区域400～700nm下，对所得透射率测定用试样测定可见透光率及雾度。
另外，作为参照，将玻璃基材单体的测定值示于表5中。
[显影残渣试验]
一边剥离所得转印型感光性折射率调整膜的保护膜，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名“HLM-3000型”)在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(汽缸压力)为4×105Pa(由于使用厚125μm、纵10cm×横10cm的基材，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下，按照高折射率层接触于带有易粘接层的PET膜(东洋纺株式会社制、产品名“A4300”、125μm厚)的方式层压在该膜上，制作了在A4300上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。
制作上述获得的层叠体之后，在温度为23℃、湿度为60％的条件下保管30分钟后，将层叠在感光性树脂层上的支撑膜除去，使用1.0质量％碳酸钠水溶液，在30℃下喷雾显影40秒，将高折射率层、感光性树脂层除去。利用显微镜观察所得基材表面状态，按照以下的评分评价显影残渣。
A：未产生显影残渣。
B：显影残渣稍有产生，但对之后的工序没有影响。
C：产生显影残渣。
D：产生很多显影残渣。
其中，表2～5所记载的成分的组成为质量份。
如表2～5所示，实施例中，反射率R标准化的值达到90％以下，在充分降低了反射率的同时，对盐水喷雾试验的耐受性也充分。另外，没有显影残渣，显影性充分。进而，还确认了所转印的感光性树脂层及高折射率层的透光率高。其中，比较例15是仅设置了感光性树脂层时的结果。
以上详细地说明了数个本发明实施方式及/或实施例，但本领域技术人员可以容易地在实质上不脱离本发明新型教示及效果的情况下对这些示例的实施方式及/或实施例加以很多变更。因此，这些多个的变更也包含在本发明的范围内。
将该说明书所记载的文献内容全部援引在此。
符号说明
1转印型感光性折射率调整膜、10支撑膜、20感光性树脂层、30高折射率层、40保护膜、50带有透明电极图案的基材、50a透明电极图案、100层叠体、101透明基材、102触摸画面、103透明电极(X位置坐标)、104透明电极(Y位置坐标)、105引出配线、106连接电极、107连接端子、123折射率调整图案。

Claims (15)

1.一种转印型感光性折射率调整膜，其具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，
所述感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，
所述光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。
2.根据权利要求1所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层及所述高折射率层在波长400～700nm下的可见光透射率的最小值为90.00％以上。
3.根据权利要求1或2所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有三嗪环的化合物或含有具有异氰脲酸的化合物。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有具有芴骨架的化合物。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有金属氧化物。
6.根据权利要求5所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述金属氧化物为选自氧化锆、氧化钛、氧化锡、氧化锌、氧化铟锡、氧化铟、氧化铝、氧化硅及氧化钇中的至少1种。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层在波长633nm下的折射率为1.50～1.90。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层的膜厚为10～500nm。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有粘合剂聚合物。
10.根据权利要求9所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物具有羧基。
11.根据权利要求9或10所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物为含有来源于选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯及(甲基)丙烯酸2-乙基己酯中的至少1种化合物的结构单元的粘合剂聚合物。
12.根据权利要求8～11中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有磷酸酯化合物。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层与所述高折射率层的总厚度为30μm以下。
14.一种折射率调整图案的形成方法，其具备以下工序：
使用权利要求1～13中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，按照所述高折射率层密合在所述基材上的方式，将所述高折射率层及所述感光性树脂层层压在基材上的工序；和
对所述基材上的所述高折射率层及所述感光性树脂层的规定部分进行曝光后，将所述规定部分以外的部分除去，形成折射率调整图案的工序。
15.一种电子部件，其具有通过权利要求14所述的形成方法获得的折射率调整图案。
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