JP6989711B2 - 転写フィルム、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法 - Google Patents

転写フィルム、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法 Download PDF

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Description


本開示は、転写フィルム、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法に関する。

携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置される。液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、指示画像が表示されている箇所に指又はタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行える装置がある。

既述の如き入力装置（以下、タッチパネルと称することがある。）には、抵抗膜型、静電容量型などがある。静電容量型入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプの装置がある。

静電容量型入力装置の電極パターンや枠部にまとめられた引き回し配線（例えば銅線などの金属配線）などを保護する等の目的で、指などで入力する表面とは反対側に透明樹脂層が設けられている。

また、従来の転写フィルムとしては、特許文献１に記載のものが挙げられる。

特許文献１には、仮支持体と、第一の透明樹脂層と、第二の透明樹脂層とをこの順で有し、上記第二の透明樹脂層が金属酸化物粒子及び有機成分を含み、上記第二の透明樹脂層の中の上記金属酸化物粒子を構成する金属原子の上記有機成分を構成する炭素原子に対する比率の厚み方向分布プロファイルの面積をＡとし、上記プロファイルのピーク高さをＰとした場合に以下の式（１）を満たす転写フィルムが記載されている。

０．０１（ｎｍ）−１≦Ｐ／Ａ≦０．０８（ｎｍ）−１ 式（１）

また、上記金属酸化物粒子として、酸化チタン粒子を用いた例も記載されている。

特開２０１７−６４９８８号公報

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、密着性に優れ、低ヘイズである膜を形成することができる転写フィルムを提供することである。

また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記転写フィルムを用いた硬化膜の製造方法、積層体の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することである。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。

＜１＞ 下記（１）及び（２）の少なくとも一方を満たす転写フィルム。

（１）仮支持体と、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層とを有し、上記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

（２）仮支持体と 、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層と、第２の透明層とを有し、上記第２の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

＜２＞ 上記（２）を満たす＜１＞に記載の転写フィルム。

＜３＞ 上記金属酸化物粒子における上記酸化チタンが、ルチル型酸化チタンを含む＜１＞又は＜２＞に記載の転写フィルム。

＜４＞ 上記金属酸化物粒子の平均一次粒子径が、１０ｎｍ以下である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。

＜５＞ 上記金属酸化物粒子において、上記酸化チタンの含有量に対する上記酸化スズの含有量が５質量％以上である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。

＜６＞ 上記金属酸化物粒子が、上記酸化チタン及び上記酸化スズ以外の無機酸化物を更に含む＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。

＜７＞ 上記金属酸化物粒子を含有する層が、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤を更に含有する＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。

＜８＞ タッチパネルにおける保護膜形成用転写フィルムである＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。

＜９＞ 支持体上に、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の転写フィルムにおける上記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、上記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し硬化膜を形成する工程と、を含む硬化膜の製造方法。

＜１０＞ 電極を有する基板上に、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の転写フィルムにおける上記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、上記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し、硬化層を形成する工程と、を含む積層体の製造方法。

＜１１＞ 上記電極が、静電容量型入力装置の電極である＜１０＞に記載の積層体の製造方法。

＜１２＞ 基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程と、上記タッチパネル用基板の上記タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程と、上記タッチパネル用基板上に形成された上記感光性層をパターン露光する工程と、パターン露光された上記感光性層を現像することにより、上記タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る工程と、を含むタッチパネルの製造方法。

本発明の一実施形態によれば、密着性に優れ、低ヘイズである膜を形成することができる転写フィルムを提供することができる。

また、本発明の他の実施形態によれば、上記転写フィルムを用いた硬化膜の製造方法、積層体の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することができる。

本開示に係る転写フィルムの一例を示す概略断面図である。 本開示に係る転写フィルムの他の一例を示す概略断面図である。 本開示に係るタッチパネルの第１具体例を示す概略断面図である。 本開示に係るタッチパネルの第２具体例を示す概略断面図である。 本開示に用いられるカバーモジュールの一例を表示装置ともに示す断面図である。 本開示に用いられるカバーモジュールの他の一例の示す上面図である。

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。

なお、本開示において、数値範囲を示す「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。

本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

また、本開示における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。

本明細書において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。

また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。

更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。

本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。

本開示において、「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。

本開示において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を包含する概念である。

また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。

本開示において、樹脂中の構成単位の割合は、特に断りが無い限り、モル割合を表す。

本開示において、分子量分布がある場合の分子量は、特に断りが無い限り、重量平均分子量（Ｍｗ）を表す。

本開示において、特段の断りが無い限り、屈折率は、エリプソメーターにより２５℃において測定した波長５５０ｎｍの光での値である。

以下、本開示を詳細に説明する。

（転写フィルム）

本開示に係る転写フィルムは、下記（１）及び（２）の少なくとも一方を満たす。

（１）仮支持体と、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層とを有し、上記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

（２）仮支持体と 、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層と、第２の透明層とを有し、上記第２の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

すなわち、本開示に係る転写フィルムの第１の実施態様は、仮支持体と、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層とを有し、上記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

また、本開示に係る転写フィルムの第２の実施態様は、仮支持体と 、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層と、第２の透明層とを有し、上記第２の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

密着性及びヘイズの観点から、特定粒子を上記第２の透明層に含有すること（上記（２）、上記第２の実施態様）が好ましい。第２の透明層に特定粒子を含有させること（第２の実施態様）で、転写して形成した積層体において、透明電極パターンの隠蔽性に優れる。

本開示に係る転写フィルムの第２の実施態様においては、上記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を更に含有していてもよい。

なお、本開示において、「本開示に係る転写フィルム」と述べる場合は、上記第１の実施態様及び上記第２の実施態様の両方を含むものとする。

また、本開示において、単に「第１の透明層」と述べる場合は、上記第１の実施態様及び上記第２の実施態様の両方を含むものとする。

また、本開示に係る転写フィルムは、タッチパネルにおける保護膜形成用転写フィルムとして好適に用いることができ、タッチパネルにおける透明電極保護膜形成用転写フィルムとしてより好適に用いることができる。

更に、本開示に係る転写フィルムは、屈折率調整層形成用転写フィルムとしても好適に用いることができる。

本発明者が鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、密着性に優れ、低ヘイズである膜を形成することができる転写フィルムを提供することができることを見出した。

これによる優れた効果の作用機構は明確ではないが、以下のように推定している。

酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有することにより、特に酸化スズを含むことで樹脂との相性が良く、低ヘイズである膜が得られる。また、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有することにより、酸化チタン及び酸化スズ、特に酸化チタンの屈折率が高いため、少ない量の金属酸化物添加で所望の屈折率を実現できるようになる。そのため、転写フィルム中の有機成分を多くできることで基材に対する密着性を向上することができると推定される。

なお、本開示における「ヘイズ」とは、透明性に関する指標で、濁度（曇度）を表すものであり、ヘイズ値が小さいほど、曇り及び濁りが少なく、透明性に優れる。

以下、本開示に係る転写フィルムについて、第１の実施態様、第２の実施態様の順に詳細に説明する。

〔第１の実施態様〕

本開示に係る転写フィルムの第１の実施態様は、仮支持体と、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層とを有し、上記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

＜仮支持体＞

本開示に係る転写フィルムは、仮支持体を有する。

仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。

仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮又は伸びを生じないフィルムを用いることができる。

このようなフィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。

中でも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。

また、仮支持体として使用するフィルムは、シワ等の変形や、傷がないものであることが好ましい。

仮支持体として使用するフィルムのヘイズは１．０％以下が好ましく、０．５％以下がさらに好ましい。フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であることが好ましい。

また、仮支持体の両面において、仮支持体における樹脂中の気泡の破裂によって生じる直径が４０μｍ以上１００μｍ以下の破泡痕の密度が、５個／０．２５ｍ２以下であることが好ましい。

また、仮支持体における第１の透明層側の面の表面粗さＳａ（ＳＲａ）は２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。ＳＲｚは１００ｎｍ以下であることが好ましい。仮支持体の第１の透明層と接しない面の表面粗さＳＲａは２０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ〜１２ｎｍであることがより好ましい。面の最大高さＳｚ（ＳＲｚ）は３００ｎｍ以下であることが好ましい。

上記を満たす２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムとしては、ルミラー１６ＱＳ６２（東レ（株）製）、ルミラー１６ＱＳ５２（東レ（株）製）、ルミラー１６ＱＳ４８（東レ（株）製）、ルミラー１２ＱＳ６２（東レ（株）製）などが挙げられる。

仮支持体の厚みは、特に制限はないが、３μｍ〜２００μｍであることが好ましく、４μｍ〜５０μｍであることがより好ましく、５μｍ〜３０μｍであることが特に好ましい。

＜第１の透明層＞

本開示に係る転写フィルムの第１の実施態様は、仮支持体と、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層とを有し、上記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

第１の透明層における酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子については、後述する。

本開示において、「透明」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の透過率が、８０％以上であることを意味する。したがって、「透明層」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の透過率が８０％以上である層を指す。「透明層」の可視光の透過率は、９０％以上であることが好ましい。

また、転写フィルム及び転写フィルムの各層の光透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、（株）日立製作所製の分光光度計Ｕ−３３１０を用いて測定することができる。

−酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子−

本開示に係る転写フィルムの第１の実施態様は、上記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

以下、上記酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を「特定粒子」ともいう。

特定粒子は、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子、すなわち、酸化チタン−酸化スズ複合粒子である。

特定粒子における酸化チタンは、ヘイズの観点から、二酸化チタンであることが好ましい。

特定粒子における酸化チタン（二酸化チタン）における結晶構造は、アナターゼ型（正方晶）、ルチル型（正方晶）、ブルッカイト型（斜方晶）のいずれであってもよい。

中でも、得られる膜の屈折率、密着性、ヘイズ、及び、耐光性の観点から、特定粒子は、ルチル型酸化チタンを含むことが好ましく、ルチル型酸化チタンであることがより好ましい。

また、特定粒子における酸化スズは、ヘイズの観点から、二酸化スズであることが好ましい。

特定粒子は、密着性及びヘイズの観点から、酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物を含むことが好ましい。

上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物が挙げられる。

なお、本開示における金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれる。

中でも、上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物としては、密着性、ヘイズ、及び、耐光性の観点から、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、及び、酸化ジルコニウムよりなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物が好ましく、二酸化ケイ素がより好ましい。

上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物は、１種単独で含有されていても、２種以上を含有されていてもよい。

また、特定粒子は、親水化処理、疎水化処理等の表面処理が施された粒子であってもよい。

表面処理方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。

特定粒子における酸化チタンの含有量は、得られる膜の屈折率、密着性及びヘイズの観点から、特定粒子の全質量に対し、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上９９質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以上９５質量％以下であることが更に好ましく、７０質量％以上９０質量％以下であることが特に好ましい。

特定粒子における酸化スズの含有量は、得られる膜の屈折率、密着性及びヘイズの観点から、特定粒子の全質量に対し、０．１質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることが更に好ましい。

特定粒子が上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物を含む場合、特定粒子における酸化チタンの含有量に対する上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物の含有量は、得られる膜の屈折率、密着性及びヘイズ、耐光性の観点から、特定粒子の全質量に対し、０．１質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることが特に好ましい。

特定粒子の形状は、特に制限はなく、球状、紡錘状、角柱状、円柱状、平板状、不定形状等が挙げられる。

特定粒子の平均一次粒子径は、密着性及びヘイズの観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１ｎｍ以上１０ｎｍであることが特に好ましい。

本開示における特定粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。

本開示における転写フィルムは、特定粒子を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。

上記第１の実施態様における上記第１の透明層に含有される特定粒子の含有量は、得られる膜の屈折率、透明電極パターンの隠蔽性、密着性及びヘイズの観点から、上記第１の透明層の全質量に対し、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８５質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上８０質量％以下であることが更に好ましく、２０質量％以上７０質量％以下であることが特に好ましい。

＜＜重合性化合物＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、重合性化合物を含有する。

重合性化合物は、感光性（すなわち、光硬化性）、及び、得られる硬化膜の強度に寄与する成分である。

上記重合性化合物としては、重合可能な化合物、例えば、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物等が挙げられるが、エチレン性不飽和化合物が好ましく挙げられる。

エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。

エチレン性不飽和化合物としては、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。

ここで、２官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。

エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。

エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。

上記第１の透明層は、硬化後の硬化性の観点から、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）と、を含有することが特に好ましい。

２官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。

２官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

２官能のエチレン性不飽和化合物としては、より具体的には、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９−ノナンジオールジアクリレート（Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ−ＨＤ−Ｎ、新中村化学工業（株）製）、ポリテトラメチレングリコール＃６５０ジアクリレート（Ａ−ＰＴＭＧ−６５、新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。

３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。

ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。

エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ−２０、新中村化学工業（株）製Ａ−９３００−１ＣＬ等）、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ−１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−９３００、ダイセル・オルネクス社製 ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標） １３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）

製Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ等）等も挙げられる。

エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物）も挙げられる。

３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ−０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ−３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ−１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

また、エチレン性不飽和化合物は、現像性向上の観点から、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。

酸基としては、例えば、リン酸基、スルホン酸基、及び、カルボキシ基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。

酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、例えば、酸基を有する３〜４官能のエチレン性不飽和化合物（ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝８０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、酸基を有する５〜６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝２５ｍｇＫＯＨ／ｇ〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、等が挙げられる。

これら酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。

酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。これにより現像性、及び、硬化膜の強度が高まる。

カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。

カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、アロニックス（登録商標）ＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ−５２０（東亞合成（株）製）、又は、アロニックスＭ−５１０（東亞合成（株）製）を好ましく用いることができる。

酸基を有するエチレン性不飽和化合物は、特開２００４−２３９９４２号公報の段落００２５〜００３０に記載の酸基を有する重合性化合物であることも好ましい。この公報の内容は本明細書に組み込まれる。

本開示に用いられるエチレン性不飽和化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２００〜３，０００が好ましく、２５０〜２，６００がより好ましく、２８０〜２，２００が更に好ましく、３００〜２，２００が特に好ましい。

また、上記第１の透明層に含まれるエチレン性不飽和化合物のうち、分子量３００以下のエチレン性不飽和化合物の含有量の割合は、上記第１の透明層に含有されるすべてのエチレン性不飽和化合物に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。

エチレン性不飽和化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

エチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％〜７０質量％が好ましく、１０質量％〜７０質量％がより好ましく、２０質量％〜６０質量％が更に好ましく、２０質量％〜５０質量％が特に好ましい。

また、上記第１の透明層が２官能のエチレン性不飽和化合物と３官能以上のエチレン性不飽和化合物とを含有する場合、２官能のエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、１０質量％〜９０質量％が好ましく、２０質量％〜８５質量％がより好ましく、３０質量％〜８０質量％が更に好ましい。

また、この場合、３官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、１０質量％〜９０質量％が好ましく、１５質量％〜８０質量％がより好ましく、２０質量％〜７０質量％が更に好ましい。

また、この場合、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、２官能のエチレン性不飽和化合物と３官能以上のエチレン性不飽和化合物との総含有量に対し、４０質量％以上１００質量％未満であることが好ましく、４０質量％〜９０質量％であることがより好ましく、５０質量％〜８０質量％であることが更に好ましく、５０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。

また、上記第１の透明層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、上記第１の透明層は、更に単官能エチレン性不飽和化合物を含有してもよい。

更に、上記第１の透明層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、上記第１の透明層に含有されるエチレン性不飽和化合物において、２官能以上のエチレン性不飽和化合物が主成分であることが好ましい。

具体的には、上記第１の透明層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合において、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層に含有されるエチレン性不飽和化合物の総含有量に対し、４０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、６０質量％〜１００質量％が特に好ましい。

また、上記第１の透明層が、酸基を有するエチレン性不飽和化合物（好ましくは、カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物又はそのカルボン酸無水物）を含有する場合、酸基を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％〜５０質量％が好ましく、１質量％〜２０質量％がより好ましく、１質量％〜１０質量％が更に好ましい。

＜＜重合開始剤＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、重合開始剤を含有する。

重合開始剤としては特に制限はなく、公知の重合開始剤を用いることができる。

重合開始剤としては、光重合開始剤、及び、熱重合開始剤が好ましく挙げられ、光重合開始剤がより好ましく挙げられる。

光重合開始剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α−アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α−ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α−ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、Ｎ−フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ−フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）等が挙げられる。

光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α−ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤及びＮ−フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤及びＮ−フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。

また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００３１〜００４２、特開２０１５−０１４７８３号公報の段落００６４〜００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。

光重合開始剤の市販品としては、１−［４−（フェニルチオ）］−１，２−オクタンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ社製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７、ＢＡＳＦ社製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７、ＢＡＳＦ社製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９、ＢＡＳＦ社製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １１７３、ＢＡＳＦ社製）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４、ＢＡＳＦ社製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１、ＢＡＳＦ社製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン（株）製）などが挙げられる。

光重合開始剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

光重合開始剤の含有量は、特に制限はないが、上記第１の透明層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、０．３質量％以上が更に好ましい。

また、光重合開始剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。

＜＜樹脂＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、樹脂を含む。

上記樹脂としては、バインダーポリマーであることが好ましい。

上記樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。

上記樹脂は、特に制限はないが、現像性の観点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂であることが好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂であることがより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂であることが特に好ましい。

酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂（以下、特定重合体Ａと称することがある。）としては、上記酸価の条件を満たす限りにおいて特に制限はなく、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。

例えば、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂であるバインダーポリマー、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂等が、本実施形態における特定重合体Ａとして好ましく用いることができる。

ここで、（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の少なくとも一方を含む樹脂を指す。

（メタ）アクリル樹脂中における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計割合は、３０モル％以上が好ましく、５０モル％以上がより好ましい。

特定重合体Ａにおける、カルボキシ基を有するモノマーに由来する構成単位の割合は、特定重合体Ａ１００質量％に対して、好ましくは５質量％〜５０質量％、より好ましくは５質量％〜４０質量％、更に好ましくは１０質量％〜３０質量％の範囲内である。

特定重合体Ａは、反応性基を有していてもよく、反応性基を特定重合体Ａに導入する手段としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸などに、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。

これらの中でも、反応性基としては、ラジカル重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましく、（メタ）アクリロキシ基であることが特に好ましい。

また、上記樹脂、特に特定重合体Ａは、硬化後の透湿度及び強度の観点から、芳香環を有する構成単位を有することが好ましい。

芳香環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、メチルスチレン、α−メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

芳香環を有する構成単位としては、後述する式Ｐ−２で表される構成単位を少なくとも１種含有することが好ましい。また、芳香環を有する構成単位としては、スチレン化合由来の構成単位であることが好ましい。

上記樹脂が芳香環を有する構成単位を含有する場合、芳香環を有する構成単位の含有量は、上記樹脂の全質量に対し、５質量％〜９０質量％であることが好ましく、１０質量％〜７０質量％であることがより好ましく、１５質量％〜５０質量％であることが更に好ましい。

また、上記樹脂、特に特定重合体Ａは、タック性、及び、硬化後の強度の観点から、脂肪族環式骨格を有する構成単位を有することが好ましい。

脂肪族環式骨格を有する構成単位を形成するモノマーとして、具体的には、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記脂肪族環式骨格を有する構成単位が有する脂肪族環としては、ジシクロペンタン環、シクロヘキサン環、イソボロン環、トリシクロデカン環等が好ましく挙げられる。中でも、トリシクロデカン環が特に好ましく挙げられる。

上記樹脂が脂肪族環式骨格を有する構成単位を含有する場合、脂肪族環式骨格を有する構成単位の含有量は、上記樹脂の全質量に対し、５質量％〜９０質量％であることが好ましく、１０質量％〜８０質量％であることがより好ましく、２０質量％〜７０質量％であることが更に好ましい。

また、上記樹脂、特に特定重合体Ａは、タック性、及び、硬化後の強度の観点から、エチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましく、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することがより好ましい。

なお、本開示において、「主鎖」とは樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは主鎖から枝分かれしている原子団を表す。

エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。

上記樹脂がエチレン性不飽和基を有する構成単位を含有する場合、エチレン性不飽和基を有する構成単位の含有量は、上記樹脂の全質量に対し、５質量％〜７０質量％であることが好ましく、５質量％〜５０質量％であることがより好ましく、１０質量％〜４０質量％であることが更に好ましい。

本開示に用いられる上記樹脂の酸価は、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが更に好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。

本明細書において、酸価は、ＪＩＳ Ｋ００７０（１９９２年）に記載の方法に従って、測定された値を意味する。

特定重合体Ａの重量平均分子量は、５，０００以上が好ましく、１０，０００〜１００，０００がより好ましい。

また、上記樹脂は、上記特定重合体Ａ以外にも、任意の膜形成樹脂を目的に応じて適宜選択して用いることができる。転写フィルムを静電容量型入力装置の電極保護膜として用いる観点から、表面硬度、耐熱性が良好な膜が好ましく、アルカリ可溶性樹脂がより好ましく、アルカリ可溶性樹脂の中でも、公知の感光性シロキサン樹脂材料などを好ましく挙げることができる。

本開示に用いられる上記樹脂としては、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体（以下、特定重合体Ｂとも称する。）を含むことが好ましい。特定重合体Ｂを含むことにより、現像性、及び、硬化後の強度により優れる。

カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造及び環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造であることが好ましい。

環状カルボン酸無水物構造の環としては、５〜７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。

また、環状カルボン酸無水物構造は、他の環構造と縮環又は結合して多環構造を形成していてもよいが、多環構造を形成していないことが好ましい。

環状カルボン酸無水物構造に他の環構造が縮環又は結合して多環構造を形成している場合、多環構造としては、ビシクロ構造又はスピロ構造が好ましい。

多環構造において、環状カルボン酸無水物構造に対し縮環又は結合している他の環構造の数としては、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましい。

他の環構造としては、炭素数３〜２０の環状の炭化水素基、炭素数３〜２０のヘテロ環基等が挙げられる。

ヘテロ環基としては、特に限定されないが、脂肪族ヘテロ環基及び芳香族ヘテロ環基が挙げられる。

また、ヘテロ環基としては、５員環又は６員環が好ましく、５員環が特に好ましい。

また、ヘテロ環基としては、酸素原子を少なくとも一つ含有するヘテロ環基（例えば、オキソラン環、オキサン環、ジオキサン環等）が好ましい。

カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式Ｐ−１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位であるか、又は、下記式Ｐ−１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。

Figure 0006989711

式Ｐ−１中、ＲＡ１ａは置換基を表し、ｎ１ａ個のＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよい。

Ｚ１ａは、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を含む環を形成する２価の基を表す。ｎ１ａは０以上の整数を表す。

ＲＡ１ａで表される置換基としては、上述したカルボン酸無水物構造が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。

Ｚ１ａとしては、炭素数２〜４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が特に好ましい。

式Ｐ−１で表される部分構造は、他の環構造と縮環又は結合して多環構造を形成していてもよいが、多環構造を形成していないことが好ましい。

ここでいう他の環構造としては、上述した、カルボン酸無水物構造と縮環又は結合してもよい他の環構造と同様のものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。

ｎ１ａは、０以上の整数を表す。

Ｚ１ａが炭素数２〜４のアルキレン基を表す場合、ｎ１ａは０〜４の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０が更に好ましい。

ｎ１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲＡ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。

カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位であることが好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位であることがより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位であることが更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位であることが更に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位であることが特に好ましい。

以下、カルボン酸無水物構造を有する構成単位の具体例を挙げるが、カルボン酸無水物構造を有する構成単位はこれらの具体例に限定されるものではない。

下記の構成単位中、Ｒｘは、水素原子、メチル基、ＣＨ２ＯＨ基、又はＣＦ３基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。

Figure 0006989711

Figure 0006989711

カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、上記式ａ２−１〜式ａ２−２１のいずれかで表される構成単位のうちの少なくとも１種であることが好ましく、上記式ａ２−１〜式ａ２−２１のいずれかで表される構成単位のうちの１種であることがより好ましい。

カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、現像性、及び、得られる硬化膜の透湿度の観点から、式ａ２−１で表される構成単位及び式ａ２−２で表される構成単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、式ａ２−１で表される構成単位を含むことがより好ましい。

特定重合体Ｂにおけるカルボン酸無水物構造を有する構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量。以下同じ。）は、特定重合体Ｂの全量に対し、０モル％を超え、６０モル％以下であることが好ましく、５モル％〜４０モル％であることがより好ましく、１０モル％〜３５モル％であることが更に好ましい。

なお、本開示において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、当該「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。

特定重合体Ｂは、下記式Ｐ−２で表される構成単位を少なくとも１種含有することが好ましい。これにより、得られる硬化膜の透湿度がより低くなり、また、強度がより向上する。

Figure 0006989711

式Ｐ−２中、ＲＰ１は、ヒドロキシ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルボキシ基、又はハロゲン原子を表し、ＲＰ２は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎＰは０〜５の整数を表す。ｎＰが２以上の整数である場合、２つ以上存在するＲＰ１は、同一であっても異なっていてもよい。

ＲＰ１としては、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、カルボキシ基、Ｆ原子、Ｃｌ原子、Ｂｒ原子、又はＩ原子であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、Ｃｌ原子、又はＢｒ原子であることがより好ましい。

ＲＰ２としては、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素原子６〜１２のアリール基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

ｎＰは、０〜３の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。

式Ｐ−２で表される構成単位としては、スチレン化合物に由来する構成単位であることが好ましい。

スチレン化合物としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、α，ｐ−ジメチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン、１，１−ジフェニルエチレン等が挙げられ、スチレン又はα−メチルスチレンが好ましく、スチレンが特に好ましい。

式Ｐ−２で表される構成単位を形成するためのスチレン化合物は、１種のみであっても２種以上であってもよい。

特定重合体Ｂが式Ｐ−２で表される構成単位を含有する場合、特定重合体Ｂにおける式Ｐ−２で表される構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量。以下同じ。）は、特定重合体Ｂの全量に対し、５モル％〜９０モル％であることが好ましく、３０モル％〜９０モル％であることがより好ましく、４０モル％〜９０モル％であることが更に好ましい。

特定重合体Ｂは、カルボン酸無水物構造を有する構成単位及び式Ｐ−２で表される構成単位以外のその他の構成単位を少なくとも１種含んでいてもよい。

その他の構成単位は、酸基を含有しないことが好ましい。

その他の構成単位としては特に限定されないが、単官能エチレン性不飽和化合物に由来する構成単位が挙げられる。

上記単官能エチレン性不飽和化合物としては、公知の化合物を特に限定なく用いることができ、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸誘導体；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物；アリルグリシジルエーテル等のアリル化合物の誘導体；等が挙げられる。

特定重合体Ｂにおけるその他の構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量）は、特定重合体Ｂの全量に対し、０モル％〜９０モル％であることが好ましく、０モル％〜７０モル％であることがより好ましい。

上記樹脂の重量平均分子量は、特に制限はないが、３，０００を超えることが好ましく、３，０００を超え６０，０００以下であることがより好ましく、５，０００〜５０，０００であることが更に好ましい。

上記樹脂は、１種単独で使用しても、２種以上を含有してもよい。

上記樹脂の含有量は、得られる硬化膜の強度、及び、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、上記第１の透明層の全質量に対し、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。

上記樹脂に対する上記重合性化合物の質量割合（上記重合性化合物の含有量／上記樹脂の含有量）は、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、０．２０〜２．０が好ましく、０．３０〜１．５がより好ましく、０．３５〜０．９５が特に好ましい。

＜＜熱架橋性化合物＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、硬化後の硬度の観点から、熱架橋性化合物を含有することが好ましく、ブロックイソシアネート化合物を含有することがより好ましい。

なお、熱架橋性化合物とは、「加熱により架橋反応を起こし得る官能基（熱架橋性基）を１分子中に１つ以上有する化合物」をいう。

熱架橋性化合物としては、ブロックイソシアネート化合物、ビスフェノールＡ型、クレゾールノボラック型、ビフェニル型、脂環式エポキシ化合物のエポキシ化合物、メラミン系化合物などが挙げられる。

中でも、現像残渣抑制性、並びに、得られる硬化膜の透湿度及び曲げ耐性の観点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。

ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（マスク）した構造を有する化合物」のことをいう。

ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、１００℃〜１６０℃であることが好ましく、１３０℃〜１５０℃であることがより好ましい。

本明細書中におけるブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ（株）製、ＤＳＣ６２００）によりＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合に、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」のことをいう。

解離温度が１００℃〜１６０℃であるブロック剤としては、ピラゾール化合物（３，５−ジメチルピラゾール、３−メチルピラゾール、４−ブロモ−３，５−ジメチルピラゾール、４−ニトロ−３，５−ジメチルピラゾールなど）、活性メチレン化合物（マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ−ブチル、マロン酸ジ２−エチルヘキシル）など）、トリアゾール化合物（１，２，４−トリアゾールなど）、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどの分子内に−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）−で表される構造を有する化合物）などが挙げられる。中でも、保存安定性の観点から、オキシム化合物、又は、ピラゾール化合物が好ましく、オキシム化合物が特に好ましい。

また、ブロックイソシアネート化合物がイソシアヌレート構造を有することが膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の観点から好ましい。イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えばヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより調製することができる。

イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、現像残渣を少なくしやすい観点から好ましい。

本開示に用いられるブロックイソシアネート化合物は、硬化後の硬度の観点から、ラジカル重合性基を有することが好ましい。

ラジカル重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、例えば、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基等のエチレン性不飽和基、グリシジル基等のエポキシ基を有する基などが挙げられる。中でも、重合性基としては、得られる硬化膜における表面の面状、現像速度及び反応性の観点から、エチレン性不飽和基であることが好ましく、（メタ）アクリロキシ基であることがより好ましい。

本開示に用いられるブロックイソシアネート化合物としては、市販のブロックイソシアネート化合物を挙げることもできる。例えば、カレンズＡＯＩ−ＢＭ、カレンズＭＯＩ−ＢＭ、カレンズ、カレンズＭＯＩ−ＢＰ（いずれも昭和電工（株）製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（旭化成ケミカルズ（株）製）などを挙げることができる。

本開示に用いられるブロックイソシアネート化合物は、分子量が２００〜３，０００であることが好ましく、２５０〜２，６００であることがより好ましく、２８０〜２，２００であることが特に好ましい。

本開示においては、熱架橋性化合物を１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

熱架橋性化合物の含有量は、得られる硬化膜の強度の観点から、上記第１の透明層の全質量に対して、１質量％〜５０質量％であることが好ましく、５質量％〜３０質量％であることがより好ましい。

＜＜複素環化合物＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、複素環化合物を更に含むことが好ましい。

上記複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。中でも、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、窒素原子、及び、硫黄原子、及び、酸素原子よりなる群から選ばれた少なくとも１種の原子をヘテロ原子として有することが好ましく、窒素原子を少なくともヘテロ原子として有することがより好ましい。

上記複素環化合物としては、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、窒素原子を有することが好ましく、上記複素環化合物における複素環が窒素原子を含むことがより好ましく、上記複素環化合物における複素環が窒素原子を含む５員環であることが更に好ましく、上記複素環化合物における複素環が窒素原子及び硫黄原子及び酸素原子を含む５員環であることが特に好ましい。

また、上記複素環化合物の複素環としては、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、５員環、又は、６員環であることが好ましく、５員環であることがより好ましい。

上記複素環化合物は、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、メルカプト基（チオール基）を有する複素環化合物であることが好ましく、複素環上にメルカプト基が直接結合した複素環化合物であることがより好ましい。

また、上記複素環化合物がメルカプト基を有する場合、上記複素環化合物におけるメルカプト基の数は、特に制限はないが、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、１〜６であることが好ましく、１〜４であることがより好ましく、１又は２であることが更に好ましく、１であることが特に好ましい。

上記複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、又は、ピリミジン化合物が好ましく挙げられる。

中でも、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、又は、ベンゾオキサゾール化合物が好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、又は、ベンゾオキサゾール化合物がより好ましく、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、又は、ベンゾオキサゾール化合物が特に好ましい。

上記複素環化合物としては特に制限はないが、密着性、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、下記式Ｈ１〜式Ｈ１３のいずれかで表される化合物であることが好ましい。

Figure 0006989711

式Ｈ１〜式Ｈ１３中、Ｒ１ｈ、Ｒ５ｈ、Ｒ７ｈ、Ｒ９ｈ、Ｒ２０ｈ及びＲ２５ｈはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はアミノ基を表し、Ｒ２ｈ〜Ｒ４ｈ、Ｒ８ｈ、Ｒ１０ｈ〜Ｒ１３ｈ、Ｒ１５ｈ〜Ｒ１８ｈ、Ｒ２２ｈ、Ｒ２４ｈ、Ｒ２６ｈ〜Ｒ２８ｈ及びＲ３０ｈはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基又はアリールチオ基を表し、Ｒ６ｈ、Ｒ１４ｈ、Ｒ２１ｈ、Ｒ２３ｈ及びＲ２９ｈはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、Ｒ１９ｈは、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、ｎ１〜ｎ５はそれぞれ独立に、０〜４の整数を表す。

なお、上記式Ｈ１又は式Ｈ２で表される化合物はトリアゾール化合物であり、上記式Ｈ３で表される化合物はベンゾトリアゾール化合物であり、上記式Ｈ４で表される化合物はテトラゾール化合物であり、上記式Ｈ５〜式Ｈ７で表される化合物はチアジアゾール化合物であり、上記式Ｈ８で表される化合物はトリアジン化合物であり、上記式Ｈ９で表される化合物はローダニン化合物であり、上記式Ｈ１０で表される化合物はベンゾチアゾール化合物であり、上記式Ｈ１１で表される化合物はベンゾイミダゾール化合物であり、上記式Ｈ１２で表される化合物はチアゾール化合物であり、上記Ｈ１３で表される化合物は、ベンゾオキサゾール化合物である。

Ｒ１ｈ、Ｒ７ｈ、Ｒ９ｈ、Ｒ２０ｈ及びＲ２５ｈはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

Ｒ５ｈは、水素原子、アルキル基又はアミノ基であることが好ましく、水素原子又はアミノ基であることがより好ましい。

Ｒ２ｈ〜Ｒ４ｈ、Ｒ８ｈ、Ｒ１０ｈ〜Ｒ１３ｈ、Ｒ２２ｈ、Ｒ２４ｈ、Ｒ２６ｈ〜Ｒ２８ｈ及びＲ３０ｈはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基、メルカプト基又はアルキルチオ基であることが好ましく、水素原子、アミノ基、メルカプト基又はアルキルチオ基であることがより好ましい。

Ｒ１５ｈ〜Ｒ１７ｈはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基、メルカプト基又はアルキルチオ基であることが好ましく、アミノ基又はヘテロアリール基であることがより好ましく、アミノ基又はピリジル基であることが特に好ましい。

また、合成上の観点から、Ｒ１５ｈ〜Ｒ１７ｈは、同じ基であることが好ましい。

Ｒ１８ｈは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基、メルカプト基又はアルキルチオ基であることが好ましく、水素原子、アミノ基、メルカプト基又はアルキルチオ基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。

Ｒ６ｈ、Ｒ１４ｈ、Ｒ２１ｈ、Ｒ２３ｈ及びＲ２９ｈはそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基であることが好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基又はカルボキシ基であることがより好ましい。

また、Ｒ６ｈ、Ｒ１４ｈ、Ｒ２１ｈ、Ｒ２３ｈ及びＲ２９ｈは、上記各式におけるベンゼン環上の任意の位置の水素原子を置換し結合することができる。

Ｒ１９ｈは、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。

ｎ１〜ｎ５はそれぞれ独立に、０〜２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが特に好ましい。

上記複素環化合物は、密着性の観点から、上記式Ｈ１、式Ｈ２及び式Ｈ４〜式Ｈ１３のいずれかで表される化合物であることが好ましく、上記式Ｈ４〜式Ｈ１３のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、上記式Ｈ５〜式Ｈ７、式Ｈ１０及び式Ｈ１３のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、上記式Ｈ５〜式Ｈ７及び式Ｈ１３のいずれかで表される化合物であることが特に好ましい。

また、上記複素環化合物は、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、上記式Ｈ５〜式Ｈ７及び式Ｈ１３のいずれかで表される化合物であることが好ましく、上記式Ｈ５、式Ｈ６及び式Ｈ１３のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、上記式Ｈ６で表される化合物、又は、上記式Ｈ１３で表される化合物であることが更に好ましく、上記式Ｈ１３で表される化合物であることが特に好ましい。

上記複素環化合物として、具体的には、以下に示す化合物が好ましく例示できる。

トリアゾール化合物及びベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

Figure 0006989711

テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

Figure 0006989711

チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

Figure 0006989711

トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

Figure 0006989711

ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

Figure 0006989711

チアゾール化合物としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 0006989711

ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 0006989711

ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

Figure 0006989711

ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

Figure 0006989711

上記第１の透明層は、上記複素環化合物を、１種単独で含有しても、２種以上を含有してもよい。

上記複素環化合物の含有量は、特に制限はないが、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、上記第１の透明層の全質量に対して、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１０質量％であることがより好ましく、０．５質量％〜８質量％であることが更に好ましく、１質量％〜５質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる硬化物の硬度及び金属配線への腐食防止性により優れ、また、得られる硬化物の透明性に優れる。

＜＜チオール化合物＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、チオール化合物を更に含むことが好ましい。

チオール化合物としては、単官能チオール化合物、又は、多官能チオール化合物が好適に用いられる。中でも、硬化後の硬度の観点から、２官能以上のチオール化合物（多官能チオール化合物）を含むことが好ましく、多官能チオール化合物であることがより好ましい。

本開示において多官能チオール化合物とは、メルカプト基（チオール基）を分子内に２個以上有する化合物を意味する。多官能チオール化合物としては、分子量１００以上の低分子化合物が好ましく、具体的には、分子量１００〜１，５００であることがより好ましく、１５０〜１，０００が更に好ましい。

多官能チオール化合物の官能基数としては、硬化後の硬度の観点から、２官能〜１０官能が好ましく、２官能〜８官能がより好ましく、２官能〜６官能が更に好ましい。

また、多官能チオール化合物としては、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性及び硬度の観点から、脂肪族多官能チオール化合物であることが好ましい。

更に、チオール化合物としては、硬化後の曲げ耐性及び硬度の観点から、第二級チオール化合物がより好ましい。

多官能チオール化合物として具体的には、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチリルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリス［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，２−ベンゼンジチオール、１，３−ベンゼンジチオール、１，２−エタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，６−ヘキサメチレンジチオール、２，２’−（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ−２，３−ジメルカプトコハク酸、ｐ−キシレンジチオール、ｍ−キシレンジチオール、ジ（メルカプトエチル）エーテル等を例示することができる。

これらの中でも、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチリルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリス［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、及び、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）が好ましく挙げられる。

単官能チオール化合物としては、脂肪族チオール化合物、及び、芳香族チオール化合物のどちらも用いることができる。

単官能脂肪族チオール化合物としては、具体的には、１−オクタンチオール、１−ドデカンチオール、β−メルカプトプロピオン酸、メチル−３−メルカプトプロピオネート、２−エチルヘキシル−３−メルカプトプロピオネート、ｎ−オクチル−３−メルカプトプロピオネート、メトキシブチル−３−メルカプトプロピオネート、ステアリル−３−メルカプトプロピオネート等が挙げられる。

単官能芳香族チオール化合物としては、ベンゼンチオール、トルエンチオール、キシレンチオール等が挙げられる。

上記チオール化合物は、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性及び硬度の観点から、エステル結合を有するチオール化合物であることが好ましく、下記式１で表される化合物を含むことがより好ましい。

Figure 0006989711

式１中、ｎは１〜６の整数を表し、Ａは炭素数１〜１５のｎ価の有機基、又は、下記式２で表される基を表し、Ｒ１はそれぞれ独立に、炭素数１〜１５の二価の有機基を表す。ただし、Ａが下記式２で表される基を表す場合は、ｎは３である。

Figure 0006989711

式２中、Ｒ２〜Ｒ４はそれぞれ独立に、炭素数１〜１５の二価の有機基を表し、波線部分は、上記式１におけるＡに隣接する酸素原子との結合位置を表す。

式１におけるｎは、硬化後の硬度の観点から、２〜６の整数であることが好ましい。

式１におけるＡは、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性及び硬度の観点から、炭素数１〜１５のｎ価の脂肪族基、又は、上記式２で表される基であることが好ましく、炭素数４〜１５のｎ価の脂肪族基、又は、上記式２で表される基であることがより好ましく、炭素数５〜１０のｎ価の脂肪族基、又は、上記式２で表される基であることが更に好ましく、上記式２で表される基であることが特に好ましい。

また、式１におけるＡは、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性及び硬度の観点から、水素原子及び炭素原子からなるｎ価の基、又は、水素原子、炭素原子及び酸素原子からなるｎ価の基であることが好ましく、水素原子及び炭素原子からなるｎ価の基であることがより好ましく、ｎ価の脂肪族炭化水素基であることが特に好ましい。

式１におけるＲ１はそれぞれ独立に、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性及び硬度の観点から、炭素数１〜１５のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数３のアルキレン基であることが更に好ましく、１，２−プロピレン基であることが特に好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状であっても、分岐を有していてもよい。

式２におけるＲ２〜Ｒ４はそれぞれ独立に、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性及び硬度の観点から、炭素数２〜１５の脂肪族基であることが好ましく、炭素数２〜１５のアルキレン基、又は、炭素数３〜１５のポリアルキレンオキシアルキル基であることがより好ましく、炭素数２〜１５のアルキレン基であることが更に好ましく、エチレン基であることが特に好ましい。

また、多官能チオール化合物としては、下記式Ｓ−１で表される基を２個以上有する化合物が好ましい。

Figure 0006989711

式Ｓ−１中、Ｒ1Sは水素原子又はアルキル基を表し、Ａ1Sは−ＣＯ−又は−ＣＨ2−を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。

多官能チオール化合物としては、式Ｓ−１で表される基を２以上６以下有する化合物が好ましい。

式Ｓ−１中のＲ1Sにおけるアルキル基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、炭素数の範囲としては１〜１６が好ましく、１〜１０がより好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、へキシル基、２−エチルへキシル基等であり、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基が好ましい。

Ｒ1Sとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、又は、イソプロピル基が特に好ましく、メチル基又はエチル基が最も好ましい。

更に、多官能チオール化合物としては、上記式Ｓ−１で表される基を複数個有する下記式Ｓ−２で表される化合物であることが特に好ましい。

Figure 0006989711

式Ｓ−２中、Ｒ1Sはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ａ1Sはそれぞれ独立に、−ＣＯ−又は−ＣＨ2−を表し、Ｌ1SはｎＳ価の連結基を表し、ｎＳは２〜８の整数を表す。合成上の観点からは、Ｒ1Sは全て同じ基であることが好ましく、また、Ａ1Sは全て同じ基であることが好ましい。

式Ｓ−２中のＲ1Sは、上記式Ｓ−１中のＲ1Sと同義であり、好ましい範囲も同様である。ｎＳは２〜６の整数が好ましい。

式Ｓ−２中のｎＳ価の連結基であるＬ1Sとしては、例えば−（ＣＨ2）mS−（ｍＳは２〜６の整数を表す。）などの二価の連結基、トリメチロールプロパン残基、−（ＣＨ2）pS−（ｐＳは２〜６の整数を表す。）を３個有するイソシアヌル環などの三価の連結基、ペンタエリスリトール残基などの四価の連結基、ジペンタエリスリトール残基などの五価又は六価の連結基が挙げられる。

チオール化合物として具体的には、以下の化合物が好ましく挙げられるが、これらに限定されないことは、言うまでもない。

Figure 0006989711

Figure 0006989711

チオール化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

チオール化合物の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、０．１質量％〜４０質量％が好ましく、０．５質量％〜３０質量％がより好ましく、１質量％〜２５質量％が特に好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、界面活性剤を含有してもよい。

界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７及び特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤、公知のフッ素系界面活性剤等を用いることができる。

界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤が好ましい。

フッ素系界面活性剤の市販品としては、メガファック（登録商標）Ｆ５５１（ＤＩＣ（株）製）が挙げられる。

上記第１の透明層が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対して、０．０１質量％〜３質量％が好ましく、０．０５質量％〜１質量％がより好ましく、０．１質量％〜０．８質量％が更に好ましい。

＜＜重合禁止剤＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、重合禁止剤を含有してもよい。

重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう）を用いることができる。

中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４−メトキシフェノールを好適に用いることができる。

上記第１の透明層が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対して、０．０１質量％〜３質量％が好ましく、０．０１質量％〜１質量％がより好ましく、０．０１質量％〜０．８質量％が更に好ましい。

＜＜水素供与性化合物＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、水素供与性化合物を更に含むことが好ましい。

本開示において水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、或いは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。

このような水素供与性化合物の例としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１８９号公報、特開昭５１−８２１０２号公報、特開昭５２−１３４６９２号公報、特開昭５９−１３８２０５号公報、特開昭６０−８４３０５号公報、特開昭６２−１８５３７号公報、特開昭６４−３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ ３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。

また、水素供与性化合物の更に別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。

これら水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、上記第１の透明層の全質量に対し、０．１質量％以上３０質量％以下の範囲が好ましく、１質量％以上２５質量％以下の範囲がより好ましく、０．５質量％以上２０質量％以下の範囲が更に好ましい。

＜＜シランカップリング剤及びチタンカップリング剤＞＞

第１の実施態様における上記第１の透明層は、金属酸化物粒子の分散安定性の観点から、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤を更に含有することが好ましい。また、上記第１の透明層は、シランカップリング剤及びチタンカップリング剤の両方を含有していてもよい。

シランカップリング剤及びチタンカップリング剤はそれぞれ、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

シランカップリング剤及びチタンカップリング剤の総含有量は、第１の透明層の全質量に対し、０．１質量％〜３０質量％が好ましく、０．２質量％〜２０質量％がより好ましく、０．５質量％〜１０質量％が更に好ましく、０．５質量％〜５質量％が特に好ましい。

シランカップリング剤としては、特に限定されず、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）、Ｎ−２（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラントリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、メチルトリイソシアネートシラン等を用いることができ、これらを単独で使用しても、複数組合せて使用してもよい。中でも、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが、金属酸化物粒子の分散安定性の観点から好ましい。

上記シランカップリング剤としては、市販品を用いることができ、例えば、ＫＡ−１００３、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＥ−６０３，ＫＢＭ−９０３，ＫＢＥ−９０３，ＫＢＥ−９１０３，ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−６１２３、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−７０３、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、ＫＢＭ−０４、ＫＢＥ−０４、ＫＢＭ−１３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＨＭＤＳ−３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３１０３Ｃ、ＫＰＮ−３５０４及びＫＦ−９９（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられる。

チタンカップリング剤としては、特に限定されず、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ−ｎ−ドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルピロホスフェート）チタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリロイルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラキス（２−エチルヘキシル）チタネート、テトラステアリルチタネート、テトラメチルチタネート、ジエトキシビス（アセチルアセトナト）チタン、ジイソプロピルビス（アセチルアセトナト）チタン、ジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジ（２−エチルヘキソキシ）ビス（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、テトラアセチルアセトネートチタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ジクミルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート等を挙げることができる。

上記チタンカップリング剤としては、市販品を用いることができ、例えば、味の素ファインテクノ（株）製のプレンアクトシリーズであるＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、ＫＲ−４１Ｂ、ＫＲ−３８Ｓ、ＫＲ−１３８Ｓ、ＫＲ−２３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ４４、ＫＲ９ＳＡ等；マツモトファインケミカル（株）製のオルガチックスシリーズであるＴＡ‐１０、ＴＡ‐２５、ＴＡ‐２２、ＴＡ‐３０、ＴＣ‐１００、ＴＣ‐２００、ＴＣ‐４０１、ＴＣ‐７５０等；日本曹達（株）製のＡ−１、Ｂ−１、ＴＯＴ、ＴＳＴ、ＴＡＡ、ＴＡＴ、ＴＬＡ、ＴＯＧ、ＴＢＳＴＡ、Ａ−１０、ＴＢＴ、Ｂ−２、Ｂ−４、Ｂ−７、Ｂ−１０、ＴＢＳＴＡ−４００、ＴＴＳ、ＴＯＡ−３０、ＴＳＤＭＡ、ＴＴＡＢ、ＴＴＯＰ等を挙げることができる。

＜＜その他の成分＞＞

上記第１の透明層は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。

その他の成分としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤、等が挙げられる。

また、上記第１の透明層は、その他の成分として、微量の着色剤（顔料、染料、等）を含有してもよいが、透明性の観点から、着色剤を実質的に含有しないことが好ましい。

具体的には、上記第１の透明層における着色剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。

上記第１の透明層の厚さは、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１２μｍ以下が特に好ましい。

上記第１の透明層の厚さが、２０μｍ以下であると、転写フィルム全体の薄膜化、第１の透明層又は得られる硬化膜の透過率向上、上記第１の透明層又は得られる硬化膜の黄着色化抑制等の面で有利である。

上記第１の透明層の厚さは、製造適性の観点から、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、２μｍ以上が特に好ましい。

上記第１の実施態様における上記第１の透明層の屈折率としては、透明電極パターンの隠蔽性の観点から、１．５０〜２．１０であることが好ましく、１．６０〜１．９０であることがより好ましく、１．６３〜１．８０であることが更に好ましく、１．６５〜１．７８であることが特に好ましい。

本開示において、「屈折率」は、波長５５０ｎｍにおける屈折率を指す。

本開示における「屈折率」は、特に断りが無い限り、温度２３℃において波長５５０ｎｍの可視光で、エリプソメトリーによって測定した値を意味する。

上記第１の透明層の形成方法には、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。

上記第１の透明層の形成方法の一例として、仮支持体上に、溶剤を含有する感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。

塗布の方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ダイコート法（即ち、スリットコート法）等が挙げられ、ダイコート法が好ましい。

乾燥の方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等の公知の方法を、単独で、又は複数組み合わせて適用することができる。

−溶剤−

上記感光性樹脂組成物は、塗布による層形成の観点から、溶剤を更に含むことが好ましい。

溶剤としては、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。

溶剤としては、有機溶剤が好ましい。

有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１−メトキシ−２−プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ−プロパノール、２−プロパノールなどを挙げることができる。また、使用する溶剤は、これらの化合物の混合物である混合溶剤を含有してもよい。

溶剤としては、メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、又はジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。

溶剤を使用する場合、感光性樹脂組成物の固形分含有量としては、感光性樹脂組成物の全量に対し、５質量％〜８０質量％が好ましく、５質量％〜４０質量％がより好ましく、５質量％〜３０質量％が特に好ましい。

また、溶剤を使用する場合、感光性樹脂組成物の粘度（２５℃）は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２ｍＰａ・ｓ〜４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。

粘度は、例えば、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２（東機産業（株）製）を用いて測定する。

感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合、感光性樹脂組成物の表面張力（２５℃）は、塗布性の観点から、５ｍＮ／ｍ〜１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０ｍＮ／ｍ〜８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍが特に好ましい。

表面張力は、例えば、Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ ＣＢＶＰ−Ｚ（協和界面科学（株）製）を用いて測定する。

溶剤としては、米国特許出願公開第２００５／２８２０７３号明細書の段落００５４及び００５５に記載のＳｏｌｖｅｎｔを用いることもでき、この明細書の内容は本明細書に組み込まれる。

また、溶剤として、必要に応じて沸点が１８０℃〜２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を使用することもできる。

溶剤を含む上記感光性樹脂組成物を用いて上記第１の透明層を形成した場合、上記第１の透明層において、溶剤は、完全に除去されている必要はないが、上記第１の透明層における溶剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。

＜保護フィルム＞

本開示に係る転写フィルムにおける第１の実施態様は、更に、第１の透明層からみて仮支持体とは反対側に、保護フィルムを備えていてもよい。

保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。

保護フィルムとして使用するフィルムは、シワ等の変形や、傷がないものであることが好ましい。

保護フィルムとして使用するフィルムのヘイズは１．０％以下が好ましく、フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であることが好ましい。

また、保護フィルムの両面において、保護フィルムにおける樹脂中の気泡の破裂によって生じる直径が４０μｍ以上１００μｍ以下の破泡痕の密度が、５個／０．２５ｍ２以下であることが好ましい。

これらを満たす保護フィルムとしては、ルミラー１６ＱＳ６２（東レ（株）製）、ルミラー１６ＱＳ５２（東レ（株）製）、ルミラー１６ＱＳ４８（東レ（株）製）、ルミラー１２ＱＳ６２（東レ（株）製）、トレファン１２ＫＷ３７（東レ（株）製）、トレファン２５ＫＷ３７（東レ（株）製）、アルファンＥ−５０１Ｌ（王子エフテックス（株））、アルファンＨＳ−５０１（王子エフテックス（株））などが挙げられる。

保護フィルムの厚みは、特に制限はないが、５μｍ〜２００μｍであることが好ましく、取扱い易さ及び汎用性の観点から、１０μｍ〜１５０μｍであることが特に好ましい。

＜熱可塑性樹脂層＞

本開示に係る転写フィルムにおける第１の実施態様は、更に、仮支持体と第１の透明層との間に、熱可塑性樹脂層を備えていてもよい。

転写フィルムが熱可塑性樹脂層を備える場合には、転写フィルムを基板に転写して積層体を形成した場合に、積層体の各要素に気泡が発生しにくくなる。この積層体を画像表示装置に用いた場合には、画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性が得られる。

熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有することが好ましい。

熱可塑性樹脂層は、転写時において、基板表面の凹凸を吸収するクッション材として機能する。

基板表面の凹凸には、既に形成されている、画像、電極、配線なども含まれる。熱可塑性樹脂層は、凹凸に応じて変形し得る性質を有していることが好ましい。

熱可塑性樹脂層は、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を含むことが好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質を含むことがより好ましい。

熱可塑性樹脂層の厚さとしては、３μｍ〜３０μｍが好ましく、４μｍ〜２５μｍがより好ましく、５μｍ〜２０μｍが更に好ましい。

熱可塑性樹脂層の厚さが３μｍ以上であると、基板表面の凹凸に対する追従性が向上するので、基板表面の凹凸をより効果的に吸収できる。

熱可塑性樹脂層の厚さが３０μｍ以下であると、プロセス適性がより向上する。例えば、仮支持体に熱可塑性樹脂を塗布形成する際の乾燥（溶剤除去）の負荷がより軽減され、また、転写後の熱可塑性樹脂層の現像時間が短縮される。

熱可塑性樹脂層は、溶剤及び熱可塑性の有機高分子を含む熱可塑性樹脂層形成用組成物を仮支持体に塗布し、必要に応じ乾燥させることによって形成され得る。

塗布及び乾燥の方法の具体例は、それぞれ、第１の透明層を形成する際の塗布及び乾燥の具体例と同様である。

溶剤としては、熱可塑性樹脂層を形成する高分子成分を溶解するものであれば、特に制限されず、有機溶剤（例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ−プロパノール、及び２−プロパノール）が挙げられる。

熱可塑性樹脂層は、１００℃で測定した粘度が１，０００〜１０，０００Ｐａ・ｓであることが好ましい。また、１００℃で測定した熱可塑性樹脂層の粘度が、１００℃で測定した第１の透明層の粘度よりも低いことが好ましい。

＜中間層＞

本開示に係る転写フィルムにおける第１の実施態様は、更に、仮支持体と第１の透明層との間に、中間層を備えていてもよい。

本開示に係る転写フィルムが熱可塑性樹脂層を備える場合、中間層は、好ましくは、熱可塑性樹脂層と第１の透明層との間に配置される。

中間層の成分としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース、又は、これらのうちの少なくとも２種を含む混合物である樹脂が挙げられる。

また、中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されているものを用いることもできる。

仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、及び、第１の透明層をこの順に備える態様の転写フィルムを製造する場合において、中間層は、例えば、熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤と、中間層の成分としての上記樹脂と、を含有する中間層形成用組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることによって形成され得る。塗布及び乾燥の方法の具体例は、それぞれ、第１の透明層を形成する際の塗布及び乾燥の具体例と同様である。

上記の場合、例えば、まず、仮支持体上に熱可塑性樹脂層形成用組成物を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成する。次いで、この熱可塑性樹脂層上に中間層形成用組成物を塗布し、乾燥させて中間層を形成する。その後、中間層上に、有機溶剤を含有する態様の感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて第１の透明層を形成する。この場合の有機溶剤は、中間層を溶解しない有機溶剤であることが好ましい。

＜その他の層＞

本開示に係る転写フィルムにおける第１の実施態様は、更に、その他の層を有していてもよい。

その他の層としては、特に制限はなく、転写フィルムにおける公知の層を有することができる。

−不純物−

本開示に係る転写フィルムにおいて、信頼性やパターニング性を向上させる観点から、上記各層の不純物の含有量が少ないことが好ましい。

不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、及びこれらのイオン、並びに、ハロゲン化物イオン（塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等）などが挙げられる。中でも、ナトリウムイオン、カリウムイオン、塩化物イオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが特に好ましい。

各層における不純物の含有量は、質量基準で、１，０００ｐｐｍ以下が好ましく、２００ｐｐｍ以下がより好ましく、４０ｐｐｍ以下が特に好ましい。下限は特に定めるものではないが、現実的に減らせる限界及び測定限界の観点から、質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、また、１００ｐｐｂ以上とすることができる。各不純物の具体的数値としては例えば、０．１ｐｐｍを挙げることができる。

不純物を上記範囲に減らす方法としては、各層の原料に不純物を含まないものを選択すること、及び層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去すること等が挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。

不純物は、例えば、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）発光分光分析法、原子吸光分光法、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量することができる。

また、各層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３−ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサン等の化合物の含有量が少ないことが好ましい。これら化合物の各層中における含有量としては、質量基準で、１，０００ｐｐｍ以下が好ましく、２００ｐｐｍ以下がより好ましく、４０ｐｐｍ以下が特に好ましい。下限は特に定めるものではないが、現実的に減らせる限界及び測定限界の観点から、質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、また、１００ｐｐｂ以上とすることができる。

化合物の不純物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制することができる。また、公知の測定法により定量することができる。

〔第２の実施態様〕

本開示に係る転写フィルムの第２の実施態様は、仮支持体と 、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層と、第２の透明層とを有し、上記第２の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

本開示に係る転写フィルムの第２の実施態様における仮支持体、保護フィルム、熱可塑性樹脂層、及び、その他の層、並びに、これらの好ましい態様については、本開示に係る転写フィルムの第１の実施態様における仮支持体、保護フィルム、熱可塑性樹脂層、及び、その他の層、並びに、これらの好ましい態様と同様である。

＜第１の透明層＞

本開示に係る転写フィルムの第２の実施態様は、仮支持体と 、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層を有する。

本開示に係る転写フィルムは、仮支持体上に、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層を有する。

第２の実施態様における上記第１の透明層は、特定粒子を含有していてもよい。

第２の実施態様における上記第１の透明層に含有していてもよい特定粒子の好ましい態様は、第２の実施態様における上記第１の透明層に含有される定粒子の好ましい態様と同様である。

本開示において、「透明」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の透過率が、８０％以上であることを意味する。したがって、「透明層」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の透過率が８０％以上である層を指す。「透明層」の可視光の透過率は、９０％以上であることが好ましい。

また、転写フィルム及び転写フィルムの各層の光透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、（株）日立製作所製の分光光度計Ｕ−３３１０を用いて測定することができる。

＜＜重合性化合物＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、重合性化合物を含有する。

重合性化合物は、感光性（すなわち、光硬化性）、及び、得られる硬化膜の強度に寄与する成分である。

第２の実施態様における上記第１の透明層に用いられる重合性化合物は、第１の実施態様における上記第１の透明層に用いられる重合性化合物と同様のものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

エチレン性不飽和化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

エチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％〜７０質量％が好ましく、１０質量％〜７０質量％がより好ましく、２０質量％〜６０質量％が更に好ましく、２０質量％〜５０質量％が特に好ましい。

また、上記第１の透明層が２官能のエチレン性不飽和化合物と３官能以上のエチレン性不飽和化合物とを含有する場合、２官能のエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、１０質量％〜９０質量％が好ましく、２０質量％〜８５質量％がより好ましく、３０質量％〜８０質量％が更に好ましい。

また、この場合、３官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、１０質量％〜９０質量％が好ましく、１５質量％〜８０質量％がより好ましく、２０質量％〜７０質量％が更に好ましい。

また、この場合、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、２官能のエチレン性不飽和化合物と３官能以上のエチレン性不飽和化合物との総含有量に対し、４０質量％以上１００質量％未満であることが好ましく、４０質量％〜９０質量％であることがより好ましく、５０質量％〜８０質量％であることが更に好ましく、５０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。

また、上記第１の透明層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、上記第１の透明層は、更に単官能エチレン性不飽和化合物を含有してもよい。

更に、上記第１の透明層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、上記第１の透明層に含有されるエチレン性不飽和化合物において、２官能以上のエチレン性不飽和化合物が主成分であることが好ましい。

具体的には、上記第１の透明層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合において、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層に含有されるエチレン性不飽和化合物の総含有量に対し、４０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、６０質量％〜１００質量％が特に好ましい。

また、上記第１の透明層が、酸基を有するエチレン性不飽和化合物（好ましくは、カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物又はそのカルボン酸無水物）を含有する場合、酸基を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％〜５０質量％が好ましく、１質量％〜２０質量％がより好ましく、１質量％〜１０質量％が更に好ましい。

＜＜重合開始剤＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、重合開始剤を含有する。

重合開始剤としては特に制限はなく、公知の重合開始剤を用いることができる。

第２の実施態様における上記第１の透明層に用いられる重合開始剤は、第１の実施態様における上記第１の透明層に用いられる重合開始剤と同様のものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

光重合開始剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

光重合開始剤の含有量は、特に制限はないが、上記第１の透明層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、０．３質量％以上が更に好ましい。

また、光重合開始剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。

＜＜樹脂＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、樹脂を含む。

上記樹脂としては、バインダーポリマーであることが好ましい。

上記樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。

第２の実施態様における上記第１の透明層に用いられる樹脂は、第１の実施態様における上記第１の透明層に用いられる樹脂と同様のものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

上記樹脂は、１種単独で使用しても、２種以上を含有してもよい。

上記樹脂の含有量は、得られる硬化膜の強度、及び、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、上記第１の透明層の全質量に対し、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。

＜＜熱架橋性化合物＞＞

上記第１の透明層は、硬化後の硬度の観点から、熱架橋性化合物を含有することが好ましく、ブロックイソシアネート化合物を含有することがより好ましい。

なお、熱架橋性化合物とは、「加熱により架橋反応を起こし得る官能基（熱架橋性基）を１分子中に１つ以上有する化合物」をいう。

第２の実施態様における上記第１の透明層に用いられる熱架橋性化合物は、第１の実施態様における上記第１の透明層に用いられる熱架橋性化合物と同様のものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

本開示においては、熱架橋性化合物を１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

熱架橋性化合物の含有量は、得られる硬化膜の強度の観点から、上記第１の透明層の全質量に対して、１質量％〜５０質量％であることが好ましく、５質量％〜３０質量％であることがより好ましい。

＜＜複素環化合物＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、複素環化合物を更に含むことが好ましい。

第２の実施態様における上記第１の透明層に用いられる複素環化合物は、第１の実施態様における上記第１の透明層に用いられる複素環化合物と同様のものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

上記第１の透明層は、上記複素環化合物を、１種単独で含有しても、２種以上を含有してもよい。

上記複素環化合物の含有量は、特に制限はないが、接触する金属配線の変色防止性、及び、得られるパターンの直線性の観点から、上記第１の透明層の全質量に対して、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１０質量％であることがより好ましく、０．５質量％〜８質量％であることが更に好ましく、１質量％〜５質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる硬化物の硬度及び金属配線への腐食防止性により優れ、また、得られる硬化物の透明性に優れる。

＜＜チオール化合物＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、チオール化合物を更に含むことが好ましい。

チオール化合物としては、単官能チオール化合物、又は、多官能チオール化合物が好適に用いられる。中でも、硬化後の硬度の観点から、２官能以上のチオール化合物（多官能チオール化合物）を含むことが好ましく、多官能チオール化合物であることがより好ましい。

第２の実施態様における上記第１の透明層に用いられるチオール化合物は、第１の実施態様における上記第１の透明層に用いられるチオール化合物と同様のものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

チオール化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

チオール化合物の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、０．１質量％〜４０質量％が好ましく、０．５質量％〜３０質量％がより好ましく、１質量％〜２５質量％が特に好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、界面活性剤を含有してもよい。

界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７及び特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤、公知のフッ素系界面活性剤等を用いることができる。

界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤が好ましい。

フッ素系界面活性剤の市販品としては、メガファック（登録商標）Ｆ５５１（ＤＩＣ（株）製）が挙げられる。

上記第１の透明層が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対して、０．０１質量％〜３質量％が好ましく、０．０５質量％〜１質量％がより好ましく、０．１質量％〜０．８質量％が更に好ましい。

＜＜重合禁止剤＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、重合禁止剤を含有してもよい。

重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう）を用いることができる。

中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４−メトキシフェノールを好適に用いることができる。

上記第１の透明層が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対して、０．０１質量％〜３質量％が好ましく、０．０１質量％〜１質量％がより好ましく、０．０１質量％〜０．８質量％が更に好ましい。

＜＜水素供与性化合物＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、水素供与性化合物を更に含むことが好ましい。

本開示において水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、或いは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。

このような水素供与性化合物の例としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１８９号公報、特開昭５１−８２１０２号公報、特開昭５２−１３４６９２号公報、特開昭５９−１３８２０５号公報、特開昭６０−８４３０５号公報、特開昭６２−１８５３７号公報、特開昭６４−３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ ３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。

また、水素供与性化合物の更に別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。

これら水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、上記第１の透明層の全質量に対し、０．１質量％以上３０質量％以下の範囲が好ましく、１質量％以上２５質量％以下の範囲がより好ましく、０．５質量％以上２０質量％以下の範囲が更に好ましい。

＜＜その他の成分＞＞

第２の実施態様における上記第１の透明層は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。

その他の成分としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤、等が挙げられる。

また、第２の実施態様における上記第１の透明層における不純物及びその好ましい含有量については、上述した第１の実施態様における上記第１の透明層と同様である。

また、上記第１の透明層は、その他の成分として、微量の着色剤（顔料、染料、等）を含有してもよいが、透明性の観点から、着色剤を実質的に含有しないことが好ましい。

具体的には、上記第１の透明層における着色剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。

上記第１の透明層の厚さは、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１２μｍ以下が特に好ましい。

上記第１の透明層の厚さが、２０μｍ以下であると、転写フィルム全体の薄膜化、第１の透明層又は得られる硬化膜の透過率向上、上記第１の透明層又は得られる硬化膜の黄着色化抑制等の面で有利である。

上記第１の透明層の厚さは、製造適性の観点から、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、２μｍ以上が特に好ましい。

上記第２の実施態様において第１の透明層が特定粒子を含有する場合における上記第１の透明層の屈折率としては、透明電極パターンの隠蔽性の観点から、１．５０〜２．１０であることが好ましく、１．６０〜１．９０であることがより好ましく、１．６３〜１．８０であることが更に好ましく、１．６５〜１．７８であることが特に好ましい。

上記第２の実施態様において第１の透明層が特定粒子を含有しない場合における上記第１の透明層の屈折率としては、特に制限はないが、透明電極パターンの隠蔽性の観点から、１．４７〜１．５６が好ましく、１．４８〜１．５５がより好ましく、１．４９〜１．５４が更に好ましく、１．５０〜１．５３が特に好ましい。

本開示において、「屈折率」は、波長５５０ｎｍにおける屈折率を指す。

本開示における「屈折率」は、特に断りが無い限り、温度２３℃において波長５５０ｎｍの可視光で、エリプソメトリーによって測定した値を意味する。

上記第１の透明層の形成方法には、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。

上記第１の透明層の形成方法の一例として、仮支持体上に、溶剤を含有する感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。

塗布の方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ダイコート法（即ち、スリットコート法）等が挙げられ、ダイコート法が好ましい。

乾燥の方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等の公知の方法を、単独で、又は複数組み合わせて適用することができる。

−溶剤−

上記感光性樹脂組成物は、塗布による層形成の観点から、溶剤を更に含むことが好ましい。

溶剤としては、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。

溶剤としては、有機溶剤が好ましい。

有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１−メトキシ−２−プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ−プロパノール、２−プロパノールなどを挙げることができる。また、使用する溶剤は、これらの化合物の混合物である混合溶剤を含有してもよい。

溶剤としては、メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、又はジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。

溶剤を使用する場合、感光性樹脂組成物の固形分含有量としては、感光性樹脂組成物の全量に対し、５質量％〜８０質量％が好ましく、５質量％〜４０質量％がより好ましく、５質量％〜３０質量％が特に好ましい。

また、溶剤を使用する場合、感光性樹脂組成物の粘度（２５℃）は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２ｍＰａ・ｓ〜４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。

粘度は、例えば、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２（東機産業（株）製）を用いて測定する。

感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合、感光性樹脂組成物の表面張力（２５℃）は、塗布性の観点から、５ｍＮ／ｍ〜１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０ｍＮ／ｍ〜８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍが特に好ましい。

表面張力は、例えば、Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ ＣＢＶＰ−Ｚ（協和界面科学（株）製）を用いて測定する。

溶剤としては、米国特許出願公開第２００５／２８２０７３号明細書の段落００５４及び００５５に記載のＳｏｌｖｅｎｔを用いることもでき、この明細書の内容は本明細書に組み込まれる。

また、溶剤として、必要に応じて沸点が１８０℃〜２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を使用することもできる。

溶剤を含む上記感光性樹脂組成物を用いて上記第１の透明層を形成した場合、上記第１の透明層において、溶剤は、完全に除去されている必要はないが、上記第１の透明層における溶剤の含有量は、上記第１の透明層の全質量に対し、１質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。

＜第２の透明層＞

本開示に係る転写フィルムの第２の実施態様は、第２の透明層を有し、上記第２の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

また、上記第２の透明層は、密着性及びヘイズの観点から、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子（特定粒子）を含有すること、すなわち、上記（２）を満たすこと（上記第２の実施態様）が好ましい。

更に、上記第２の透明層の屈折率は、透明電極パターンの隠蔽性、密着性及びヘイズの観点から、上記第１の透明層の屈折率よりも大きいことが好ましい。

第２の透明層の屈折率は、透明電極パターンの隠蔽性の観点から、１．５０〜２．１０であることが好ましく、１．６０〜１．９０であることがより好ましく、１．６３〜１．８０であることが更に好ましく、１．６５〜１．７８であることが特に好ましい。

第２の透明層は、光硬化性（すなわち、感光性）を有してもよいし、熱硬化性を有していてもよいし、光硬化性及び熱硬化性の両方を有してもよい。

転写後の光硬化により、強度に優れた硬化膜を形成する観点からは、第２の透明層は光硬化性を有することが好ましい。

また、熱硬化により、硬化膜の強度をより向上させることができる観点から、第２の透明層は熱硬化性を有することが好ましい。

第２の透明層は、熱硬化性及び光硬化性を有することが好ましい。

第２の透明層は、アルカリ可溶性（例えば、弱アルカリ水溶液に対する溶解性）を有することが好ましい。

第２の透明層が感光性を有する態様は、転写後において、基板上に転写された上記第１の透明層及び第２の透明層を、一度のフォトリソグラフィによってまとめてパターニングできるという利点を有する。

＜＜酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子＞＞

本開示に係る転写フィルムの第２の実施態様は、上記第２の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

特定粒子は、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子、すなわち、酸化チタン−酸化スズ複合粒子である。

特定粒子における酸化チタンは、ヘイズの観点から、二酸化チタンであることが好ましい。

特定粒子における酸化チタン（二酸化チタン）における結晶構造は、アナターゼ型（正方晶）、ルチル型（正方晶）、ブルッカイト型（斜方晶）のいずれであってもよい。

中でも、得られる膜の屈折率、密着性、ヘイズ、及び、耐光性の観点から、特定粒子は、ルチル型酸化チタンを含むことが好ましく、ルチル型酸化チタンであることがより好ましい。

また、特定粒子における酸化スズは、ヘイズの観点から、二酸化スズであることが好ましい。

特定粒子は、密着性及びヘイズの観点から、酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物を含むことが好ましい。

上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物が挙げられる。

なお、本開示における金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれる。

中でも、上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物としては、密着性、ヘイズ、及び、耐光性の観点から、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、及び、酸化ジルコニウムよりなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物が好ましく、二酸化ケイ素がより好ましい。

上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物は、１種単独で含有されていても、２種以上を含有されていてもよい。

また、特定粒子は、親水化処理、疎水化処理等の表面処理が施された粒子であってもよい。

表面処理方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。

特定粒子における酸化チタンの含有量は、得られる膜の屈折率、密着性及びヘイズの観点から、特定粒子の全質量に対し、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上９９質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以上９５質量％以下であることが更に好ましく、７０質量％以上９０質量％以下であることが特に好ましい。

特定粒子における酸化スズの含有量は、得られる膜の屈折率、密着性及びヘイズの観点から、特定粒子の全質量に対し、０．１質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることが更に好ましい。

特定粒子が上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物を含む場合、特定粒子における酸化チタンの含有量に対する上記酸化チタン及び酸化スズ以外の金属酸化物の含有量は、得られる膜の屈折率、密着性及びヘイズ、耐光性の観点から、特定粒子の全質量に対し、０．１質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることが特に好ましい。

特定粒子の形状は、特に制限はなく、球状、紡錘状、角柱状、円柱状、平板状、不定形状等が挙げられる。

特定粒子の平均一次粒子径は、密着性及びヘイズの観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１ｎｍ以上１０ｎｍであることが特に好ましい。

本開示における特定粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。

第２の実施態様における転写フィルムは、特定粒子を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。

上記第２の実施態様における上記第２の透明層に含有される特定粒子の含有量は、得られる膜の屈折率、透明電極パターンの隠蔽性、密着性及びヘイズの観点から、上記第２の透明層の全質量に対し、２０質量％以上９５質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、３５質量％以上８５質量％以下であることが更に好ましく、４５質量％以上７５質量％以下であることが特に好ましく、５５質量％以上７５質量％以下であることが最も好ましい。

第２の透明層の厚さとしては、５００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、９０ｎｍ以下が特に好ましい。

また、第２の透明層の厚さは、２０ｎｍ以上が好ましく、３０ｎｍ以上がより好ましく、４０ｎｍ以上が更に好ましく、５０ｎｍ以上が特に好ましい。

第２の透明層の厚さは、５０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下が最も好ましい。

第２の透明層の屈折率は、透明電極パターンの屈折率に応じて調整することが好ましい。

例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；酸化インジウムスズ）からなる透明電極パターンのように透明電極パターンの屈折率が１．８〜２．０の範囲である場合は、第２の透明層の屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６５以上がより好ましい。この場合の第２の透明層の屈折率の上限は特に制限されないが、２．１以下が好ましく、１．８５以下がより好ましく、１．７８以下が更に好ましく、１．７４以下が特に好ましい。

また、例えば、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ；酸化インジウム亜鉛）からなる透明電極パターンのように、透明電極パターンの屈折率が２．０を超える場合は、第２の透明層の屈折率は、１．６５以上１．９５以下が好ましく、１．７０以上１．８５以下がより好ましい。

第２の透明層の屈折率を制御する方法は、特に制限されず、例えば、所定の屈折率の樹脂を単独で用いる方法、樹脂と特定粒子とを用いる方法、金属塩と樹脂との複合体を用いる方法、等が挙げられるが、樹脂と特定粒子とを用いる方法が好ましい。

また、第２の実施態様における第２の透明層は、樹脂、及び、重合性化合物を含有することが好ましく、樹脂、重合性化合物、及び、特定粒子を含有することが好ましい。

第２の実施態様の第２の透明層における樹脂及び重合性化合物の好ましい態様としては、第２の実施態様の第１の透明層における樹脂及び重合性化合物の好ましい態様と同様である。

第２の透明層における樹脂の含有量は、得られる硬化膜の強度、及び、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、第２の透明層の全質量に対し、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。

第２の透明層における重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物を用いることが好ましい。

第２の透明層におけるエチレン性不飽和化合物の含有量は、第２の透明層の全質量に対し、０．１質量％〜３０質量％が好ましく、０．５質量％〜２０質量％がより好ましく、０．５質量％〜１０質量％が更に好ましく、０．５質量％〜５質量％が特に好ましい。

また、第２の透明層が３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有することが好ましい。更に、第２の透明層が酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含有することが好ましい。

第２の実施態様における第２の透明層に含有される特定粒子の好ましい態様としては、上述した特定粒子の好ましい態様に記載した内容と同様である。

また、第２の実施態様における第２の透明層に含有される特定粒子の好ましい含有量は、上述した通りである。

また、第２の実施態様における第２の透明層は、複素環化合物を少なくとも１種含有することが好ましい。

第２の透明層が複素環化合物を含有する場合には、第２の透明層を基板（即ち、転写対象物）上に転写する際に、第２の透明層と直接接する部材（例えば、基板上に形成された導電性部材）を表面処理することができる。この表面処理は、第２の透明層と直接接する部材に対し金属酸化抑制機能（保護性）を付与する。

複素環化合物としては、上述したものが挙げられる。

第２の実施態様における上記第２の透明層は、金属酸化物粒子の分散安定性の観点から、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤を更に含有することが好ましい。また、上記第２の透明層は、シランカップリング剤及びチタンカップリング剤の両方を含有していてもよい。

第２の実施態様における上記第２の透明層に用いられるシランカップリング剤及びチタンカップリング剤は、第１の実施態様における上記第１の透明層に用いられるシランカップリング剤及びチタンカップリング剤と同様のものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

第２の実施態様における第２の透明層は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。

第２の実施態様における第２の透明層に含有され得るその他の成分としては、第２の実施態様における上記第１の透明層に含まれる各成分と同様のものが挙げられる。

第２の透明層は、その他の成分として、界面活性剤を含有することが好ましい。

また、第２の実施態様における上記第２の透明層における不純物及びその好ましい含有量については、上述した第１の実施態様における上記第１の透明層と同様である。

第２の透明層の形成方法には特に限定はない。

第２の透明層の形成方法の一例として、仮支持体上に形成された上記第１の透明層上に、水系溶剤を含有する態様の第２の透明層形成用組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。

塗布及び乾燥の方法の具体例は、それぞれ、上記第１の透明層を形成する際の塗布及び乾燥の具体例と同様である。

第２の透明層形成用組成物は、上述した第２の透明層の各成分を含有し得る。

第２の透明層形成用組成物は、例えば、バインダーポリマー、エチレン性不飽和化合物、粒子、及び、水系溶剤を含有することが好ましい。

また、第２の透明層形成用組成物としては、国際公開第２０１６／００９９８０号の段落００３４〜００５６に記載されている、アンモニウム塩を有する組成物も好ましい。

＜第３の透明層＞

本開示に係る転写フィルムにおける第２の実施態様は、第３の透明層を有することが好ましく、第３の透明層を上記第２の透明層上に有することがより好ましい。

第２の実施態様における上記第３の透明層は、特定粒子を含有しない層であることが好ましい。

第２の実施態様における上記第３の透明層は、樹脂、及び、重合性化合物を含有することが好ましい。

また、上記第３の透明層における樹脂、及び、重合性化合物の好ましい態様、並びに、好ましい含有量としては、第１の透明層又は第２の透明層における樹脂、及び、重合性化合物の好ましい態様、並びに、好ましい含有量と同様である。

第２の実施態様における第３の透明層は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。

第３の透明層に含有され得るその他の成分としては、特定粒子以外の上記第１の透明層又は第２の透明層に含まれる各成分と同様のものが挙げられる。

第３の透明層の形成方法については特に限定はない。第３の透明層の形成方法の一例として、上記第２の透明層上に、水系又は有機溶剤を含有する態様の第３の透明層形成用組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。また、別の形成方法としては、仮支持体上に形成された上記第１の透明層上に、水系溶剤を含有する態様の第２の透明層形成用組成物を塗布、乾燥する際に、第１の透明層の成分を抽出して第２の透明層の上に偏在させることで形成する方法が挙げられる。また、別の形成方法としては、第２の透明層形成用組成物を塗布、乾燥する際に、第２の透明層形成組成物の相分離により形成する方法が挙げられる。

第３の透明層における特定粒子の含有量は、密着性及びヘイズの観点から、特定粒子を含有しないか、又は、第３の透明層の全質量に対し、５質量％以下であることが好ましく、特定粒子を含有しないか、又は、第３の透明層の全質量に対し、１．０質量％以下であることがより好ましく、特定粒子を含有しないか、又は、第３の透明層の全質量に対し、０．５質量％以下であることが更に好ましく、特定粒子を含有しないことが特に好ましい。

第３の透明層の厚さとしては、密着性及びヘイズの観点から、０．５ｎｍ〜３０ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜１５ｎｍがより好ましい。

＜転写フィルムの具体例＞

図１は、本開示に係る転写フィルムの一具体例である転写フィルム１０の概略断面図である。

図１に示されるように、転写フィルム１０は、保護フィルム１６／第２の透明層２０Ａ／第１の透明層１８Ａ／仮支持体１２の積層構造（即ち、仮支持体１２と、第１の透明層１８Ａと、第２の透明層２０Ａと、保護フィルム１６と、がこの順に配置された積層構造）を有する。

ただし、本開示に係る転写フィルムは、転写フィルム１０であることには限定されず、例えば、第２の透明層２０Ａ及び保護フィルム１６は省略されていてもよい。また、仮支持体１２と第１の透明層１８Ａとの間に、上述の熱可塑性樹脂層及び中間層の少なくとも一方を備えていてもよい。

第２の透明層２０Ａは、第１の透明層１８Ａからみて仮支持体１２が存在する側とは反対側に配置された層である。

転写フィルム１０は、ネガ型材料（ネガ型フィルム）である。

また、特定粒子を第２の透明層２０Ａに少なくとも含む場合、本開示に係る転写フィルムにおける第２の実施態様の一例を表す。

本開示に係る転写フィルムの製造方法は、特に制限されない。

本開示に係る転写フィルムの製造方法は、例えば、図１に示す転写フィルム１０を作製する場合、仮支持体１２上に第１の透明層１８Ａを形成する工程と、第１の透明層１８Ａ上に第２の透明層２０Ａを形成する工程と、第２の透明層２０Ａ上に保護フィルム１６を形成する工程と、をこの順に含むことが好ましい。

転写フィルム１０の製造方法は、第２の透明層２０Ａを形成する工程と保護フィルム１６を形成する工程との間に、国際公開第２０１６／００９９８０号の段落００５６に記載されている、アンモニアを揮発させる工程を含んでもよい。

図２は、本開示に係る転写フィルムの他の一具体例である転写フィルム１０の概略断面図である。

図２に示されるように、転写フィルム１０は、保護フィルム１６／第１の透明層１８Ａ／仮支持体１２の積層構造（即ち、仮支持体１２と、第１の透明層１８Ａと、保護フィルム１６と、がこの順に配置された積層構造）を有する。

また、図２における第１の透明層１８Ａは特定粒子を含み、図２に示す転写フィルム１０は、本開示に係る転写フィルムにおける第１の実施態様の一例を表す。

（硬化膜及びその製造方法）

本開示に係る転写フィルムとして、上記第１の実施態様における転写フィルムを用いる場合、本開示に係る硬化膜は、本開示に係る転写フィルムにおける上記第１の透明層を少なくとも転写、及び、硬化してなる硬化膜である。

本開示に係る転写フィルムとして、上記第２の実施態様の転写フィルムを用いる場合、本開示に係る硬化膜は、本開示に係る転写フィルムにおける上記第１の透明層及び上記第２の透明層を少なくとも転写、及び、硬化してなる硬化膜である。

また、上記硬化膜は、所望のパターン形状であってもよい。

本開示に係る転写フィルムにおける上記第１の透明層を少なくとも転写する被転写体としては、特に制限はなく、支持体や後述する基板等が好適に挙げられる。

本開示に係る硬化膜は、層間絶縁膜（絶縁膜）やオーバーコート膜（保護膜）として好適に用いることができ、タッチパネル用保護膜としてより好適に用いられる。

本開示に係る硬化膜は、膜物性に優れるため、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。

中でも、本開示に係る硬化膜は、タッチパネル用保護膜としてより好適に用いることができ、タッチパネル配線用保護膜としてより好適に用いることができる。

上記硬化膜の厚さは、特に制限はないが、１μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、２μｍ以上１５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上１２μｍ以下が特に好ましい。

本開示に係る硬化膜の製造方法は、本開示に係る転写フィルムを用いる方法であればよい。

上記第１の実施態様における転写フィルムを用いる場合、本開示に係る硬化膜の製造方法は、支持体上に、上記転写フィルムにおける上記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、上記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し、硬化膜を形成する工程とを含む方法であることが好ましく、上記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、転写した上記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し硬化層を形成する工程と、を含む方法であることがより好ましい。

また、上記第２の実施態様における転写フィルムを用いる場合、本開示に係る硬化膜の製造方法は、支持体上に、上記転写フィルムにおける上記第１の透明層及び上記第２の透明層を少なくとも転写することと、上記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し硬化膜を形成することとを含む方法であることが好ましい。

上記第２の実施態様における転写フィルムの上記第２の透明層が、重合性化合物、及び、重合開始剤を含む層である場合、本開示に係る硬化膜の製造方法は、支持体上に、上記転写フィルムにおける上記第１の透明層及び上記第２の透明層を少なくとも転写することと、上記第１の透明層の少なくとも一部及び上記第２の透明層の少なくとも一部を硬化し硬化膜を形成することとを含む方法であることが好ましい。

本開示に係る硬化膜の製造方法における上記転写は、公知の転写方法及びラミネート方法を用いて行うことができる。また、好ましい転写方法の詳細は、後述するタッチパネルの製造方法における感光性層形成工程における好ましい態様を参照することができる。

本開示に係る転写フィルムが第１の透明層及び第２の透明層のみを有する場合、例えば、本開示に係る転写フィルムを支持体上にラミネートし、本開示に係る転写フィルムの第２の透明層側を上記支持体に接触させ転写する方法が挙げられる。

本開示に係る転写フィルムが第１の透明層、第２の透明層及び第３の透明層を感光性層として有する場合、上記において、本開示に係る転写フィルムの第３の透明層側を上記支持体に接触させ転写する方法が挙げられる。

本開示に係る硬化膜の製造方法における支持体としては、特に制限はなく、所望に応じて適宜選択すればよい。

支持体としては、樹脂フィルム、基板等が挙げられる。

樹脂フィルムとしては、上述した仮支持体における樹脂フィルム等が挙げられる。

基板としては、樹脂基板、ガラス基板、金属基板、シリコン基板等の公知の基板が挙げられ、電極等の公知の構造を基板表面及び基板内部に更に有していてもよい。

基板としては、後述する積層体における基板が好ましく挙げられる。

本開示に係る硬化膜の製造方法における上記硬化は、用いる本開示に係る転写フィルムにおける各層の組成に応じ、光、又は、熱による硬化が好ましく挙げられる。

中でも、露光による硬化が好ましく、所望の形状にパターン形成する観点から、パターン露光による硬化がより好ましい。

光、又は、熱による硬化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。また、好ましいパターン露光方法については、後述するタッチパネルの製造方法におけるパターン露光工程における好ましい態様を参照することができる。

また、本開示に係る硬化膜の製造方法は、上述した以外のその他の工程を含んでいてもよい。

上記その他の工程としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の工程を含むことができる。

（積層体、及び、静電容量型入力装置）

以下に述べる本開示に係る積層体は、本開示に係る硬化膜を有していればよいが、基板、電極、及び、本開示に係る硬化膜をこの順に積層してなる積層体であることが好ましい。

また、本開示に係る積層体における上記硬化膜は、所望のパターン形状であってもよい。

更に、本開示に係る積層体における上記硬化膜は、上記第１の透明層を転写し、その少なくとも一部を硬化してなる硬化膜であることが好ましい。また、第２の実施態様である場合、上記第１の透明層、及び、上記第２の透明層を転写し、その少なくとも一部を硬化してなる硬化膜であることが好ましく、上記第１の透明層、上記第２の透明層、及び、上記第３の透明層を転写し、その少なくとも一部を硬化してなる硬化膜であることがより好ましい。

本開示に係る静電容量型入力装置は、本開示に係る硬化膜、又は、本開示に係る積層体を有する。

上記基板は、静電容量型入力装置の電極を含む基板であることが好ましい。

また、上記電極は、静電容量型入力装置の電極であることが好ましい。

静電容量型入力装置の電極は、透明電極パターンであっても、引き回し配線であってもよい。積層体は、静電容量型入力装置の電極が、電極パターンであることが好ましく、透明電極パターンであることがより好ましい。

本開示に係る積層体においては、基板と、透明電極パターンと、透明電極パターンに隣接して配置された第２の透明層と、第２の透明層に隣接して配置された第１の透明層と、を有し、第２の透明層の屈折率が第１の透明層の屈折率よりも高いことが好ましい。第２の透明層の屈折率は、１．６以上であることが好ましい。

既述の積層体の構成とすることにより、透明電極パターンの隠蔽性が良好となる。

上記基板としては、ガラス基板又は樹脂基板が好ましい。

また、基板は、透明な基板であることが好ましく、透明な樹脂基板であることがより好ましい。本開示における透明とは、全可視光線の透過率が８５％以上であることを意図し、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。

基板の屈折率は、１．５０〜１．５２が好ましい。

ガラス基板としては、例えば、コーニング社のゴリラガラス（登録商標）などの強化ガラスを用いることができる。

樹脂基板としては、光学的に歪みがないもの及び透明度が高いものの、少なくとも一方を用いることが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等の樹脂からなる基板が挙げられる。

透明な基板の材質としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報、及び特開２０１０−２５７４９２号公報に記載されている材質が好ましく用いられる。

上記静電容量型入力装置としては、タッチパネルが好適に挙げられる。

タッチパネル用電極としては、例えば、タッチパネルの少なくとも画像表示領域に配置される透明電極パターンが挙げられる。タッチパネル用電極は、画像表示領域からタッチパネルの枠部にまで延びていてもよい。

タッチパネル用配線としては、例えば、タッチパネルの枠部に配置される引き回し配線（取り出し配線）が挙げられる。

タッチパネル用基板及びタッチパネルの好ましい態様は、透明電極パターンのタッチパネルの枠部に延びている部分に、引き回し配線の一部が積層されることにより、透明電極パターンと引き回し配線とが電気的に接続されている態様が好適である。

透明電極パターンの材質としては、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜が好ましい。

引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛及びマンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム又はチタンが好ましく、銅が特に好ましい。

本開示に係るタッチパネル用電極保護膜は、電極等（すなわち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）を保護する目的で、電極等を直接又は他の層を介して覆うように設けられる。

タッチパネル用電極保護膜の厚さの好ましい範囲は、上述した第１の透明層の厚さの好ましい範囲と同様である。

本開示に係る電極保護膜、好ましくはタッチパネル用電極保護膜は、開口部を有していてもよい。

上記開口部は、第１の透明層の非露光部が現像液によって溶解されることによって形成され得る。

この場合において、タッチパネル用電極保護膜が、転写フィルムを用いて高温のラミネート条件で形成された場合においても、タッチパネル用電極保護膜の開口部における現像残渣が抑制される。

タッチパネルは、更に、電極等とタッチパネル用電極保護層との間に第一屈折率調整層を備えていてもよい（例えば、後述するタッチパネルの第１具体例参照）。

第一屈折率調整層の好ましい態様は、第２の実施態様における転写フィルムに備えられ得る第２の透明層の好ましい態様と同様である。第一屈折率調整層は、第一屈折率調整層形成用組成物の塗布及び乾燥によって形成されてもよいし、別途、屈折率調整層を備える転写フィルムの屈折率調整層を転写することによって形成されてもよい。

第一屈折率調整層を備える態様のタッチパネルは、好ましくは、第２の実施態様における転写フィルムを用い、上記転写フィルムにおける第１の透明層及び第２の透明層を転写することによって形成することが好ましい。この場合、上記転写フィルムにおける第１の透明層からタッチパネル用電極保護層が形成され、転写フィルムにおける第２の透明層から第一屈折率調整層が形成される。

また、タッチパネル又はタッチパネル用基板は、基板と電極等との間に、第二屈折率調整層を備えていてもよい（例えば、後述するタッチパネルの第１具体例参照）。

第二屈折率調整層の好ましい態様は、転写フィルムに備えられ得る第２の透明層の好ましい態様と同様である。

タッチパネルが第一屈折率調整層を備える態様（より好ましくは第一屈折率調整層及び第二屈折率調整層を備える態様）は、電極等が視認されにくくなる（即ち、いわゆる骨見えが抑制される）という利点を有する。

タッチパネルの構造については、特開２０１４−１０８１４号公報又は特開２０１４−１０８５４１号公報に記載の静電容量型入力装置の構造を参照してもよい。

＜タッチパネルの第１具体例＞

図３は、本開示に係るタッチパネルの第１具体例であるタッチパネル３０の概略断面図である。より詳細には、図３は、タッチパネル３０の画像表示領域の概略断面図である。

図３に示されるように、タッチパネル３０は、基板３２と、第二屈折率調整層３６と、タッチパネル用電極としての透明電極パターン３４と、第一屈折率調整層２０と、タッチパネル用電極保護膜１８と、がこの順序で配置された構造を有する。

タッチパネル３０では、タッチパネル用電極保護膜１８及び第一屈折率調整層２０が、透明電極パターン３４の全体を覆っている。しかし本開示に係るタッチパネルはこの態様には限定されない。タッチパネル用電極保護膜１８及び第一屈折率調整層２０は、透明電極パターン３４の少なくとも一部を覆っていればよい。

また、第二屈折率調整層３６及び第一屈折率調整層２０は、それぞれ、透明電極パターン３４が存在する第１領域４０及び透明電極パターン３４が存在しない第２領域４２を、直接又は他の層を介して連続して被覆することが好ましい。これにより、透明電極パターン３４がより視認されにくくなる。

第二屈折率調整層３６及び第一屈折率調整層２０は、第１領域４０及び第２領域４２の両方を、他の層を介して被覆するよりも、直接被覆することが好ましい。「他の層」としては、例えば、絶縁層、透明電極パターン３４以外の電極パターン、等が挙げられる。

第一屈折率調整層２０は、第１領域４０及び第２領域４２の両方にまたがって積層されている。第一屈折率調整層２０は、第二屈折率調整層３６と隣接しており、更に、透明電極パターン３４とも隣接している。

第二屈折率調整層３６と接触する箇所における透明電極パターン３４の端部の形状が、図３に示される如きテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（すなわち、テーパー角と同じ傾きで）、第一屈折率調整層２０が積層されていることが好ましい。

透明電極パターン３４としては、ＩＴＯ透明電極パターンが好適である。

透明電極パターン３４は、例えば、以下の方法により形成できる。

第二屈折率調整層３６が形成された基板３２の上に、スパッタリングにより電極用薄膜（例えばＩＴＯ膜）を形成する。この電極用薄膜の上に、エッチング用感光性レジストを塗布することにより、又は、エッチング用感光性フィルムを転写することにより、エッチング保護層を形成する。次いで、露光及び現像により、このエッチング保護層を所望とするパターン形状にパターニングする。次いで、エッチングにより、電極用薄膜のうちパターニングされたエッチング保護層に覆われていない部分を除去する。これにより、電極用薄膜を所望の形状のパターン（すなわち、透明電極パターン３４）とする。続いて、剥離液によりパターニングされたエッチング保護層を除去する。

第一屈折率調整層２０及びタッチパネル用電極保護膜１８は、例えば以下のようにして、第二屈折率調整層３６及び透明電極パターン３４が順次設けられた基板３２（即ち、タッチパネル用基板）の上に形成される。

まず、図１に示した転写フィルム１０（すなわち、保護フィルム１６／第２の透明層２０Ａ／第１の透明層１８Ａ／仮支持体１２の積層構造を有する転写フィルム１０）を準備する。

次に、転写フィルム１０から保護フィルム１６を取り除く。

次に、保護フィルム１６が取り除かれた転写フィルム１０を、第二屈折率調整層３６及び透明電極パターン３４が順次設けられた基板３２（即ち、タッチパネル用基板）の上にラミネートする。ラミネートは、保護フィルム１６が取り除かれた転写フィルム１０の第２の透明層２０Ａと、透明電極パターン３４と、が接する向きで行う。このラミネートにより、仮支持体１２／第１の透明層１８Ａ／第２の透明層２０Ａ／透明電極パターン３４／第二屈折率調整層３６／基板３２の積層構造を有する積層体が得られる。

次に、積層体から仮支持体１２を取り除く。

次に、仮支持体１２が取り除かれた積層体をパターン露光することにより、第１の透明層１８Ａ及び第２の透明層２０Ａをパターン状に硬化させる。第１の透明層１８Ａ及び第２の透明層２０Ａのパターン状に硬化は、それぞれ別個のパターン露光によって別個に行ってもよいが、１回のパターン露光によって同時に行うことが好ましい。

次に、現像によって第１の透明層１８Ａ及び第２の透明層２０Ａの非露光部(即ち、非硬化部）を除去することにより、第１の透明層１８Ａのパターン状の硬化物であるタッチパネル用電極保護膜１８（パターン形状については不図示）、及び、第２の透明層２０Ａのパターン状の硬化物である第一屈折率調整層２０（パターン形状については不図示）をそれぞれ得る。パターン露光後の第１の透明層１８Ａ及び第２の透明層２０Ａの現像は、それぞれ別個の現像によって別個に行ってもよいが、１回の現像によって同時に行うことが好ましい。

ラミネート、パターン露光、現像の好ましい態様は後述する。

タッチパネルの構造については、特開２０１４−１０８１４号公報又は特開２０１４−１０８５４１号公報に記載の静電容量型入力装置の構造を参照してもよい。

＜タッチパネルの第２具体例＞

図４は、本開示に係るタッチパネルの第２具体例であるタッチパネル９０の概略断面図である。

図４に示されるように、タッチパネル９０は、画像表示領域７４及び画像非表示領域７５（すなわち、枠部）を有する。

図４に示されるように、タッチパネル９０は、基板３２の両面にタッチパネル用電極を備えている。詳細には、タッチパネル９０は、基板３２の一方の面に第１透明電極パターン７０を備え、他方の面に第２透明電極パターン７２を備えている。

タッチパネル９０では、第１透明電極パターン７０及び第２透明電極パターン７２のそれぞれに、引き回し配線５６が接続されている。引き回し配線５６は、例えば銅配線である。

タッチパネル９０では、基板３２の一方の面において、第１透明電極パターン７０及び引き回し配線５６を覆うようにタッチパネル用電極保護膜１８が形成されており、基板３２の他方の面において、第２透明電極パターン７２及び引き回し配線５６を覆うようにタッチパネル用電極保護膜１８が形成されている。

基板３２の一方の面及び他方の面には、それぞれ、第１具体例における第一屈折率調整層及び第二屈折率調整層が設けられていてもよい。

また、本開示に係るタッチパネルの他の一例について、図５に示す。

図５は、本開示に用いられるカバーモジュールの一例を表示装置ともに示す断面図である。また、図５に示す本開示に係るタッチパネルの他の一例は、カバーモジュール１２０と表示装置１１５からなる。

図５に示す静電容量方式のカバーモジュール１２０は、フィルムセンサー１３０と、上記フィルムセンサー１３０が保護膜１１４によって裏面に貼り付けられたカバーパネル１１２と、を備えている。

図５に示すように、フィルムセンサー１３０は、基材フィルム１３２と、基材フィルム１３２の一方の側（観察者側）の面１３２ａ上に設けられた第１電極部１４０と、基材フィルム１３２の他方の側（表示装置１１５の側）の面１３２ｂ上に設けられた第２電極部１４５と、を有している。

第１電極部１４０は、基材フィルム１３２の一方の側（観察者側、図５における指１０５が接している側）の面１３２ａ上に所定のパターンで配置された第１導電体１４１を有している。第２電極部１４５は、基材フィルム１３２の他方の側（表示装置１１５の側）の面１３２ｂ上に所定のパターンで配置された第２導電体１４６を有している。フィルムセンサー１３０は、上述したように、表示装置１１５の表示パネル上に配置されている。

基材フィルム１３２、第１導電体４１及び第２導電体１４６は、透光性を有しており、観察者は、これらを介して、表示装置１１５に表示された映像を観察することができる。

第１導電体１４１及び第２導電体１４６は、導電性を有した材料（例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ））から形成され、指などの外部導体１０５のカバーパネル１１２への接触位置を検出するように構成された検出制御部（図示しない）の検出回路に電気的に接続されている。

また、本開示に係るタッチパネルに用いられるカバーモジュールの一例について、図６に示す。

図６は、本開示に用いられるカバーモジュールの他の一例の示す上面図である。

カバーモジュールは、図６に示すように、基材フィルム１３２の一方の側の面１３１ａ上に第１電極部１４０と、第２電極部１４５と、互いに絶縁可能に設けてもよい。基材フィルム１３２のフィルム面の法線方向から観察した場合、第１電極部１４０に含まれる第１導電体１４１と第２電極部１４５に含まれる第２導電体１４６とは、各導電体１４１，１４６のライン部１４２，１４７のみにおいて交わっているが、本開示においては、各導電体１４１，１４６の交差領域において、導電体１４１，１４６間に絶縁層１４９を介在させる。なお、交差領域に設けられた絶縁層１４９の上から形成され隣接する導電体１４１の膨出部どうしを電気的に接続するブリッジ部１５５は、ブリッジ部として導電体１４１の膨出部１４３、導電体１４６のライン部１４７及び膨出部１４８とは別の工程で形成する。

（積層体の製造方法）

本開示に係る積層体の製造方法は、本開示に係る転写フィルムを用いる方法であればよく、電極を有する基板上に、本開示に係る転写フィルムにおける上記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、上記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し硬化層を形成する工程と、を含む方法であることが好ましく、上記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、転写した上記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し硬化層を形成する工程と、を含む方法であることがより好ましい。

本開示に係る積層体の製造方法により得られる積層体の好ましい態様は、上述した本開示に係る積層体の好ましい態様と同様である。

また、本開示に係る積層体は、本開示に係る積層体の製造方法により製造された積層体であることが好ましい。

本開示に係る積層体の製造方法における上記転写は、公知の転写方法及びラミネート方法を用いて行うことができる。また、好ましい転写方法の詳細は、後述するタッチパネルの製造方法における感光性層形成工程における好ましい態様を参照することができる。

本開示に係る積層体の製造方法における上記電極を有する基板は、基板表面に電極を有することが好ましい。また、本開示に係る積層体の製造方法における上記転写は、表面に電極を有している基板の上記電極の少なくとも一部に接触するように、本開示に係る転写フィルムにおける上記第１の透明層を転写することが好ましい。

本開示に係る積層体の製造方法における上記硬化は、用いる本開示に係る転写フィルムにおける各層の組成に応じ、光、又は、熱による硬化が好ましく挙げられる。

中でも、露光による硬化が好ましく、所望の形状にパターン形成する観点から、パターン露光による硬化がより好ましい。

光、又は、熱による硬化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。また、好ましいパターン露光方法については、後述するタッチパネルの製造方法におけるパターン露光工程における好ましい態様を参照することができる。

また、本開示に係る積層体の製造方法は、上述した以外のその他の工程を含んでいてもよい。

上記その他の工程としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の工程を含むことができる。

（タッチパネルの製造方法）

本開示に係るタッチパネルを製造する方法には、特に制限はないが、以下の製造方法が好ましい。

本開示に係るタッチパネルの好ましい製造方法は、

基板上に電極等（すなわち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程（以下、「準備工程」ともいう。）と、

タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面の上に、本開示に係る転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程（以下、「感光性層形成工程」ともいう。）と、

タッチパネル用基板の上記面の上に形成された感光性層をパターン露光する工程（以下、「パターン露光工程」ともいう。）と、

パターン露光された感光性層を現像することにより、電極等の少なくとも一部を保護するタッチパネル用電極保護膜を得る工程（以下、「現像工程」ともいう。）と、を含む。

上記好ましい製造方法によれば、曲げ耐性に優れたタッチパネル用電極保護膜を備えるタッチパネルを製造できる。

また、上記好ましい製造方法では、本開示に係る転写フィルムを用い高温のラミネート条件で感光性層を形成した場合においても、現像後の感光性層の非露光部において、現像残渣の発生が抑制される。

以下、上記好ましい製造方法の各工程について説明する。

＜準備工程＞

準備工程は、便宜上の工程であり、基板上に電極等（すなわち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程である。

準備工程は、予め製造されたタッチパネル用基板を単に準備するだけの工程であってもよいし、タッチパネル用基板を製造する工程であってもよい。

タッチパネル用基板の好ましい態様は、上述のとおりである。

＜感光性層形成工程＞

感光性層形成工程は、タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面の上に、本開示に係る転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程である。

以下、感光性層形成工程において、本開示に係る転写フィルムを用いる態様について説明する。

上記感光性層は、例えば、本開示に係る転写フィルムにおける第１の透明層、第２の透明層及び第３の透明層等が挙げられる。

本開示に係る転写フィルムが第１の透明層及び第２の透明層のみを感光性層として有する場合、例えば、本開示に係る転写フィルムをタッチパネル用基板の電極等が配置された側の面の上にラミネートし、本開示に係る転写フィルムの第２の透明層を上記面の上に転写することにより、上記面の上に感光性層を形成する。

本開示に係る転写フィルムが第１の透明層、第２の透明層及び第３の透明層を感光性層として有する場合、上記において、本開示に係る転写フィルムの第３の透明層を上記面の上に転写することにより、上記面の上に感光性層を形成する。

ラミネート（感光性層の転写）は、真空ラミネーター、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを用いて行うことができる。

ラミネート条件としては、一般的な条件を適用できる。

ラミネート温度としては、８０℃〜１５０℃が好ましく、９０℃〜１５０℃がより好ましく、１００℃〜１５０℃が特に好ましい。

上述のとおり、本開示に係る転写フィルムを用いる態様では、ラミネート温度が高温（例えば１２０℃〜１５０℃）である場合においても、熱かぶりによる現像残渣の発生が抑制される。

ゴムローラーを備えたラミネーターを用いる場合、ラミネート温度は、ゴムローラー温度を指す。

ラミネート時の基板温度には特に制限はない。ラミネート時の基板温度としては、１０℃〜１５０℃が挙げられ、２０℃〜１５０℃が好ましく、３０℃〜１５０℃がより好ましい。基板として樹脂基板を用いる場合には、ラミネート時の基板温度としては、１０℃〜８０℃が好ましく、２０℃〜６０℃がより好ましく、３０℃〜５０℃が特に好ましい。

また、ラミネート時の線圧としては、０．５Ｎ／ｃｍ〜２０Ｎ／ｃｍが好ましく、１Ｎ／ｃｍ〜１０Ｎ／ｃｍがより好ましく、１Ｎ／ｃｍ〜５Ｎ／ｃｍが特に好ましい。

また、ラミネート時の搬送速度（ラミネート速度）としては、０．５ｍ／分〜５ｍ／分が好ましく、１．５ｍ／分〜３ｍ／分がより好ましい。

例えば、保護フィルム／第１の透明層／中間層／熱可塑性樹脂層／仮支持体の積層構造を有する上記第１の実施態様における転写フィルムを用いる場合には、まず、転写フィルムから保護フィルムを剥離して第１の透明層を露出させ、次いで、露出した第１の透明層とタッチパネル用基板の電極等が配置された側の面とが接するようにして、転写フィルムとタッチパネル用基板とを貼り合わせ、次いで加熱及び加圧を施す。これにより、上記第１の実施態様における転写フィルムの第１の透明層が、タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面上に転写され、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／第１の透明層／電極等／基板の積層構造を有する積層体が形成される。この積層構造のうち、「電極等／基板」の部分が、タッチパネル用基板である。

その後、必要に応じ、上記積層体から仮支持体を剥離する。ただし、仮支持体を残したまま、後述のパターン露光を行うこともできる。

タッチパネル用基板上に転写フィルムの第１の透明層を転写し、パターン露光し、現像する方法の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１の記載を参照することもできる。

＜パターン露光工程＞

パターン露光工程は、タッチパネル用基板上に形成された感光性層をパターン露光する工程である。

ここで、パターン露光とは、パターン状に露光する態様、すなわち、露光部と非露光部とが存在する態様の露光を指す。

タッチパネル用基板上の感光性層のうち、パターン露光における露光部が硬化され、最終的に硬化膜となる。

一方、タッチパネル用基板上の感光性層のうち、パターン露光における非露光部は硬化せず、次の現像工程で、現像液によって除去（溶解）される。非露光部は、現像工程後、硬化膜の開口部を形成し得る。

パターン露光は、マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。

パターン露光の光源としては、感光性層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及び、メタルハライドランプが挙げられる。露光量は、好ましくは５ｍＪ／ｃｍ２〜２００ｍＪ／ｃｍ２であり、より好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ２〜２００ｍＪ／ｃｍ２である。

転写フィルムを用いて基板上に感光性層を形成した場合には、パターン露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。

また、露光工程では、パターン露光後であって現像前に、感光性層に対し熱処理（いわゆるＰＥＢ（Ｐｏｓｔ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｂａｋｅ））を施してもよい。

＜現像工程＞

現像工程は、パターン露光された感光性層を現像することにより（即ち、パターン露光における非露光部を現像液に溶解させることにより）、電極等の少なくとも一部を保護するタッチパネル用電極保護膜を得る工程である。

現像に用いる現像液は特に制限されず、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を用いることができる。

現像液としては、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。

アルカリ性水溶液に含有され得るアルカリ性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン（２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）、等が挙げられる。

アルカリ性水溶液の２５℃におけるｐＨとしては、８〜１３が好ましく、９〜１２がより好ましく、１０〜１２が特に好ましい。

アルカリ性水溶液中におけるアルカリ性化合物の含有量は、アルカリ性水溶液全量に対し、０．１質量％〜５質量％が好ましく、０．１質量％〜３質量％がより好ましい。

現像液は、水に対して混和性を有する有機溶剤を含有してもよい。

有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、及び、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。

有機溶剤の濃度は、０．１質量％〜３０質量％が好ましい。

現像液は、公知の界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。

現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。

現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、ディップ現像、等の方式が挙げられる。

シャワー現像を行う場合、パターン露光後の感光性層に現像液をシャワー状に吹き付けることにより、感光性層の非露光部を除去する。感光性層と熱可塑性樹脂層及び中間層の少なくとも一方とを備える転写フィルムを用いた場合には、これらの層の基板上への転写後であって感光性層の現像の前に、感光性層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワー状に吹き付け、熱可塑性樹脂層及び中間層の少なくとも一方（両方存在する場合には両方）を予め除去してもよい。

また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付けつつブラシなどで擦ることにより、現像残渣を除去することが好ましい。

現像液の液温度は、２０℃〜４０℃が好ましい。

現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を加熱処理（以下、「ポストベーク」ともいう）する段階と、を含んでいてもよい。

基板が樹脂基板である場合には、ポストベークの温度は、１００℃〜１６０℃が好ましく、１３０℃〜１６０℃がより好ましい。

このポストベークにより、透明電極パターンの抵抗値を調整することもできる。

また、感光性層がカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂を含む場合には、ポストベークにより、カルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂の少なくとも一部をカルボン酸無水物に変化させることができる。これにより、現像性、及び、硬化膜の強度に優れる。

また、現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を露光（以下、「ポスト露光」ともいう。）する段階と、を含んでいてもよい。

現像工程がポスト露光する段階及びポストベークする段階を含む場合、好ましくは、ポスト露光、ポストベークの順序で実施する。

パターン露光、現像などについては、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１の記載を参照することもできる。

本開示に係るタッチパネルの好ましい製造方法は、上述した工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。その他の工程としては、通常のフォトリソグラフィ工程に設けられることがある工程（例えば、洗浄工程など）を特に制限なく適用できる。

（画像表示装置）

本開示に係る画像表示装置は、本開示に係る静電容量型入力装置、好ましくは本開示に係るタッチパネル（例えば、第１〜第２具体例のタッチパネル）を備える。

本開示に係る画像表示装置としては、本開示に係るタッチパネルを公知の液晶表示素子と重ね合わせた構造を有する液晶表示装置が好ましい。

タッチパネルを備える画像表示装置の構造としては、例えば、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、『タッチパネルの技術と開発』、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２に開示されている構造を適用することができる。

以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。

なお、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量である。また、酸価は、理論酸価を用いた。

＜第１の透明層形成用塗布液の調製＞

以下の表１又は表２に示す組成となるように第１の透明層形成用塗布液である材料Ａ−１〜Ａ−８をそれぞれ調製した。

Figure 0006989711

Figure 0006989711

ＴＯ−２３４９：カルボキシ基を有するモノマー（東亞合成（株）製アロニックス（登録商標）ＴＯ−２３４９、５官能エチレン性不飽和化合物と６官能エチレン性不飽和化合物との混合物）

ＭＴＮＲ１：チオール化合物、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチリルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、昭和電工（株）製カレンズＭＴＮＲ１

Figure 0006989711

化合物Ａにおける各構成単位に併記された数値は、構成単位の含有比率（モル比）である。化合物Ａの重量平均分子量Ｍｗは１７，０００、Ｍｎは７，０００であった。

＜バインダーポリマーＰ−１０の合成＞

３口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＭＦＧ、和光純薬工業（株）製）２４４．２質量部を入れ、窒素下、９０℃に保持した。そこに、メタクリル酸ジシクロペンタニル（東京化成工業（株）製）１１８．７質量部、メタクリル酸（ＭＡＡ、富士フイルム和光純薬（株）製）９４．７質量部、スチレン（富士フイルム和光純薬（株）

製）９０．９質量部、ＭＦＧ１８８．５質量部、ｐ−メトキシフェノール（富士フイルム和光純薬（株）製）０．０６１０質量部、Ｖ−６０１（ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、富士フイルム和光純薬（株）製）１６．９質量部の混合液を３時間かけて滴下した。

滴下後、９０℃で１時間撹拌し、Ｖ−６０１（２．１質量部）とＭＦＧ（５．２質量部）の混合液を添加し、１時間撹拌後、Ｖ−６０１（２．１質量部）とＭＦＧ（５．２質量部）の混合液を更に添加した。１時間撹拌後、Ｖ−６０１（２．１質量部）とＭＦＧ（５．２質量部）の混合液を更に添加した。３時間撹拌後、ＭＦＧ２．９質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、（株）ダイセル製）１６６．９質量部を添加し、均一になるまで撹拌した。

反応液に、付加触媒としてのテトラメチルアンモニウムブロミド（ＴＥＡＢ、東京化成工業（株）製）１．５質量部、ｐ−メトキシフェノール０．７質量部を添加し、１００℃に昇温した。更に、メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ、富士フイルム和光純薬（株）製）６１．９質量部を添加し、１００℃、９時間撹拌し、重合体Ｐ−１０のＭＦＧ／ＰＧＭＥＡ混合溶液を得た。Ｐ−１０のＧＰＣ測定による重量平均分子量は１７，０００（ポリスチレン換算）であり、数平均分子量は７，０００であった。固形分濃度は３６．３質量％であった。

Figure 0006989711

Ｐ−１０における各構成単位に併記された数値は、構成単位の含有比率（モル比）である。

＜バインダーポリマーＰ−２０の合成＞

単量体の種類、及び、量を変更したこと以外は、重合体Ｐ−１０の合成と同様な方法により、Ｐ−２０を合成した。Ｐ−２０における各構成単位に併記された数値は、構成単位の含有比率（モル比）である。

Figure 0006989711

カレンズＡＯＩ−ＢＭ：アクリル酸２−（Ｏ−［１’−メチルプロピリデンアミノ］カルボニルアミノ）エチル、昭和電工（株）製

＜第２の透明層形成用塗布液の調製＞

次に、下記表３又は表４に記載の組成で、第２の透明層形成用塗布液である材料Ｂ−１〜Ｂ−１５をそれぞれ調製した。

Figure 0006989711

Figure 0006989711

Figure 0006989711

化合物Ｂの重量平均分子量Ｍｗは、１５，５００であった。また、化合物Ｂにおける各構成単位の括弧の右下に併記された数値は、構成単位の含有比率（モル比）である。

＜バインダーポリマーＰ−３の合成＞

三口フラスコに１−メトキシプロパノール（東京化成工業（株）製）２７０．０質量部を導入し、撹拌しつつ窒素気流下で７０℃に昇温させた。一方、アリルメタクリレート４５．６質量部（富士フイルム和光純薬（株）製）、メタクリル酸１４．４質量部（富士フイルム和光純薬（株）製）を１−メトキシプロパノール（東京化成工業（株）製）２７０．０質量部に溶解させ、更にＶ−６５（富士フイルム和光純薬（株）製）を３．９４質量部溶解させることで滴下液を作製し、フラスコ中へ２．５時間かけて滴下を行った。そのまま２時間、撹拌状態を保持し反応を行った。その後温度を室温（２５℃、以下同様）まで戻し、撹拌状態のイオン交換水２，７００質量部へ滴下し、再沈殿を実施し、研濁液を得た。ろ紙を引いたヌッチェにて研濁液を導入することでろ過を行い、濾過物を更にイオン交換水で洗浄し、湿潤状態の粉体を得た。４５℃の送風乾燥にかけ、恒量になったことを確認し、粉体として収率７０％でバインダーポリマー（メタクリル酸／メタクリル酸アリルの共重合樹脂）を得た。バインダーポリマーのＧＰＣ測定による重量平均分子量は３８，０００（ポリスチレン換算）であった。

（実施例１〜２１、及び、比較例１〜３：転写フィルムの作製）

厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ルミラー１６ＫＳ４０、東レ（株）製）の仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、塗布量を、乾燥後の膜厚が表６又は表７の厚みになる塗布量に調整し、表６又は表７に記載の第１の透明層形成用の材料Ａ−１〜Ａ−８のいずれか１種を塗布し、第１の透明層を形成した。

１００℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて、表６又は表７に記載の組み合わせにて、表６又は表７に記載の第２の透明層形成用の材料Ｂ−１〜Ｂ−１５のうちの少なくとも１種を用いて、塗布量を、乾燥後の膜厚が表６又は表７に記載の膜厚になる量に調整して第１の透明層の上に塗布した後、８０℃の乾燥温度で乾燥させ、第２の透明層を形成した。第２の透明層の上に保護フィルム（ルミラー１６ＫＳ４０、東レ（株）製）を圧着し、実施例１〜２１、及び、比較例１〜３の転写フィルムを作製した。

また、実施例１１においては、第２の透明層は形成せず、第１の透明層の上に直接保護フィルム（ルミラー１６ＫＳ４０、東レ（株）製）を圧着して転写フィルムを作製した。

＜積層体作製に用いる透明電極パターンフィルムの作製＞

−透明膜の形成−

膜厚３８μｍ、屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面改質を行った。得られたフィルムを透明フィルム基板とした。

次に、下記表５中に示す材料−Ｃの材料を、スリット状ノズルを用いて、透明フィルム基板上に塗工した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）し、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６０、膜厚８０ｎｍの透明膜を製膜した。

Figure 0006989711

Figure 0006989711

また、上記式（３）で表される構造式のポリマーにおける各構成単位の括弧の右下に併記された数値は、構成単位の含有比率（モル比）である。

−透明電極パターンの形成−

上記にて得られた透明フィルム基板上に透明膜が積層されたフィルムを、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：スズ＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明フィルム基板の温度１５０℃、アルゴン分圧０．１３Ｐａ、酸素分圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍ、屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。

−エッチング用感光性フィルムＥ１の調製−

厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記の処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。既述の方法により仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍのエッチング用光硬化性樹脂層とからなる積層体を作製し、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料である、エッチング用感光性フィルムＥ１を作製した。

−エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１−

・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、重量平均分子量６０，０００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）：１６質量部

・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）：５．６質量部

・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物：７質量部

・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート：２．８質量部

・２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン：０．４２質量部

・２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール：２．１７質量部

・マラカイトグリーンシュウ酸塩：０．０２質量部

・ロイコクリスタルバイオレット：０．２６質量部

・フェノチアジン：０．０１３質量部

・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製）：０．０３質量部

・メチルエチルケトン：４０質量部

・１−メトキシ−２−プロパノール：２０質量部

なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２，５００Ｐａ・ｓｅｃであった。

−熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１−

・メタノール：１１．１質量部

・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：６．３６質量部

・メチルエチルケトン：５２．４質量部

・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃：５．８３質量部

・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）：１３．６質量部

・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）：９．１質量部

・フッ素系ポリマー〔下記成分〕：０．５４質量部

フッ素系ポリマー：Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２ ４０質量部と、（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２ ５５質量部と、Ｈ（ＯＣＨＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２ ５質量部との共重合体（重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製）

−中間層用塗布液：処方Ｐ１−

・ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）：３２．２質量部

・ポリビニルピロリドン（商品名：Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）：１４．９質量部

・蒸留水：５２４質量部

・メタノール：４２９質量部

−透明電極パターンの形成−

透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを洗浄し、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした。ラミネート条件は、透明フィルム基板の温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分にて行った。

仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面と既述のエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）でパターン露光した。

次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理した。回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行った。更に１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを得た。

透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを、ＩＴＯ用エッチング液（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを得た。

次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを、レジスト剥離液（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツジャパン（株）製）、液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、透明フィルム基板上に透明膜及び透明電極パターンを形成したフィルムを得た。

＜透明積層体の作製＞

保護フィルムを剥離した各実施例及び比較例の転写フィルムを用いて、透明フィルム基板上に透明膜及び透明電極パターンを形成したフィルムの透明膜及び透明電極パターンを、転写フィルムが覆う位置にて転写した。その結果、透明フィルム基板が有する透明膜及び透明電極パターン上に転写フィルムによって、第３の透明層、第２の透明層、第１の透明層及び仮支持体がこの順に転写された。転写は、ＭＣＫ社製真空ラミネーターを用いて、透明フィルム基板の温度：４０℃、ゴムローラー温度１００℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件で行った。

その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体とを密着させ、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）でパターン露光した。

仮支持体を剥離後、炭酸ナトリウム１％水溶液３２℃で６０秒間現像処理を実施した。その後、現像処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜、透明電極パターン、第２の透明層及び第１の透明層が基板から順に積層された透明積層体を形成した。

〔透明積層体の評価〕

＜透明電極パターン隠蔽性の評価＞

透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン、第２の透明層及び第１の透明層をこの順に積層させた透明積層体を、透明接着テープ（スリーエムジャパン（株）製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、黒色ＰＥＴ材と接着させ、基板全体を遮光した。

透明電極パターン隠蔽性は、暗室において、蛍光灯（光源）と作製した基板を、ガラス面側から光を入射させ、ガラス表面からの反射光を、斜めから目視観察することにより行った。Ａ、Ｂ又はＣであることが好ましく、Ａ又はＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。

《評価基準》

Ａ：透明電極パターンが全く見えない。

Ｂ：透明電極パターンがわずかに見える。

Ｃ：透明電極パターンがＢ評価よりも見えるが、Ｄ評価よりは見えない。

Ｄ：透明電極パターンがＣ評価よりも見えるが、はっきりとは見えず、実用上許容できる。

Ｅ：透明電極パターンがはっきり見え、実用上許容できない。

＜ヘイズ（ＨＡＺＥ）評価＞

得られた透明積層体を用いて、ＨＡＺＥメーターＮＤＨ４０００（日本電色工業（株）

製）により、ヘイズ値（ＨＡＺＥ値）を測定した。測定波長は３８０ｎｍ〜７８０ｎｍであり、ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００）に準拠した測定となっている。

ヘイズ値が小さい値であるほど、透明性が高く好ましい。

＜面状評価＞

得られた透明積層体を用いて、上記透明積層体の第１の透明層側から光学顕微鏡にて２００倍の倍率にて観察した。観察状態により以下の評価基準により評価した。実用上Ｂ以上であることが好ましく、Ａであることがより好ましい。

Ａ：全面に特に異常感が見られない。

Ｂ：全面にうっすらとした海島状の欠陥あり。

Ｃ：全面にはっきりと海島状に欠陥あり。

＜密着性評価＞

ＪＩＳ規格（Ｋ５４００−８．５）を参考に１００マスのクロスカット試験を実施した。各実施例及び比較例の透明積層体の試験面である転写層（第１の透明層、第２の透明層及び第３の透明層）にカッターナイフを用いて１ｍｍ四方の碁盤目の切り傷を入れ、透明粘着テープ＃６００（スリーエム（株）製）を強く圧着させ、１８０℃方向に剥離した後、碁盤目の状態を目視により観察し、以下の評価基準にしたがって密着性を評価した。Ａ、Ｂ又はＣであることが好ましく、Ａ又はＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。

《評価基準》

Ａ：試験面における全面積の１００％が密着している。

Ｂ：試験面における全面積のうち９５％以上１００％未満が密着し残っている。

Ｃ：試験面における全面積のうち６５％以上９５％未満が密着し残っている。

Ｄ：試験面における全面積のうち３５％以上６５％未満が密着し残っている。

Ｅ：試験面における全面積のうち密着して残っている部分が３５％未満である。

以下の表６又は表７に評価結果をまとめて示す。

Figure 0006989711

Figure 0006989711

なお、実施例１０で使用した金属酸化物粒子は、各金属酸化物が表４に記載の範囲内の量を満たす粒子が混在しているものを使用した。

上記表４に示すように、酸化チタンの他に酸化スズを含む金属酸化物粒子を含む実施例１〜２１の転写フィルムを用いることにより、比較例１〜３の転写フィルムに比べ、密着性に優れ、低ヘイズである膜が得られた。

また、実施例１において使用した仮支持体の代わりに、厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ルミラー１２ＱＳ６２、東レ（株）製）を用いて転写フィルム、透明積層体を作製した結果、実施例１と全く同じ評価結果が得られることを確認した。

また、本実施例の透明積層体を使って、４２０ｎｍで２．４Ｗ／（ｍ２・ｎｍ）出力のキセノン耐光性試験機を用いて５００時間処理したが、外観や透明性に問題がみられず、耐光性にも強い材料であることが確認できた。

また、本実施例の透明積層体の透明基材と第２の透明層との間には、粒子がほぼない１ｎｍ〜１５ｎｍ程度の極薄い透明層（第３の透明層）が形成されていた。

（実施例１０１〜１２１）

＜タッチパネルの作製＞

特開２０１３−２１４１７３号公報の記載に従って、図５に記載の第１電極部１４０及び第２電極部１４５までの構造体を形成した。更に第一電極部１４０及び第二電極部１４５の上に実施例１〜２１のいずれかの転写フィルムを用いて保護膜１１４及び１１９を形成し、フィルムセンサーを形成した。更にフィルムセンサーを、接着層（図示せず）を介してカバーパネル１２と、接着層（図示せず）を介して表示装置１１５と、それぞれ貼り合わせることにより、タッチパネルを作製した。得られたタッチパネルが正常に動作することを確認した。

また、特開２０１３−２１４１７３号公報の記載に従って、図６に記載の片面ＸＹ電極のフィルムセンサーにおいて、絶縁膜１４９を、上記で使用した転写フィルムと同じ実施例１〜２１のいずれかの転写フィルムを用いて形成することによりタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルがいずれも正常に動作することを確認した。

１０：転写フィルム、１２：仮支持体、１６：保護フィルム、１８，１８Ａ：第１の透明層（タッチパネル用電極保護膜）、２０，２０Ａ：第２の透明層（第一屈折率調製層）、３０：タッチパネル、３２：基板、３４：透明電極パターン、３６：第二屈折率調整層、４０：透明電極パターンが存在する第１領域、４２：透明電極パターンが存在しない第２領域、５６：引き回し配線、７０：第１透明電極パターン、７２：第２透明電極パターン、７４：画像表示領域、７５：画像非表示領域、９０：タッチパネル、１０５：指、１１０：入出力装置（タッチパネル）、１１２：カバーパネル、１１４：保護膜、１１５：表示装置、１１９：保護膜、１２０：カバーモジュール、１３０：フィルムセンサー、１３２：基材フィルム、１３２ａ：面（一方の側の面）、１３２ｂ：面（他方の側の面）、１３６：引き回し配線、１４０：第１電極部、１４１：第１導電体、１４２：ライン部、１４３：膨出部、１４５：第２電極部、１４６：第２導電体、１４７：ライン部、１４８：膨出部、１４９：絶縁層、１５５：ブリッジ部、Ａ１：表示領域、Ａ２：非表示領域

Claims (12)


  1. 下記（１）及び（２）の少なくとも一方を満たす転写フィルム。

    （１）仮支持体と、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層とを有し、前記第１の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

    （２）仮支持体と、重合性化合物、重合開始剤、及び、樹脂を含む第１の透明層と、第２の透明層とを有し、前記第２の透明層が、酸化チタン及び酸化スズを含む金属酸化物粒子を含有する。

  2. 前記（２）を満たす請求項１に記載の転写フィルム。

  3. 前記金属酸化物粒子における前記酸化チタンが、ルチル型酸化チタンを含む請求項１又は請求項２に記載の転写フィルム。

  4. 前記金属酸化物粒子の平均一次粒子径が、１０ｎｍ以下である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の転写フィルム。

  5. 前記金属酸化物粒子において、前記酸化チタンの含有量に対する前記酸化スズの含有量が５質量％以上である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の転写フィルム。

  6. 前記金属酸化物粒子が、前記酸化チタン及び前記酸化スズ以外の無機酸化物を更に含む請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の転写フィルム。

  7. 前記金属酸化物粒子を含有する層が、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤を更に含有する請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の転写フィルム。

  8. タッチパネルにおける保護膜形成用転写フィルムである請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の転写フィルム。

  9. 支持体上に、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の転写フィルムにおける前記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、

    前記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し硬化膜を形成する工程と、を含む

    硬化膜の製造方法。

  10. 電極を有する基板上に、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の転写フィルムにおける前記第１の透明層を少なくとも転写する工程と、

    前記第１の透明層の少なくとも一部を硬化し、硬化層を形成する工程と、を含む

    積層体の製造方法。

  11. 前記電極が、静電容量型入力装置の電極である請求項１０に記載の積層体の製造方法。

  12. 基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程、

    前記タッチパネル用基板の前記タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程と、

    前記タッチパネル用基板上に形成された前記感光性層をパターン露光する工程と、

    パターン露光された前記感光性層を現像することにより、前記タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る工程と、を含む

    タッチパネルの製造方法。
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