KR100543285B1 - 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름 - Google Patents

터치패널용 광투과성 경질 피복 필름 Download PDF

Info

Publication number
KR100543285B1
KR100543285B1 KR1020030080407A KR20030080407A KR100543285B1 KR 100543285 B1 KR100543285 B1 KR 100543285B1 KR 1020030080407 A KR1020030080407 A KR 1020030080407A KR 20030080407 A KR20030080407 A KR 20030080407A KR 100543285 B1 KR100543285 B1 KR 100543285B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
refractive index
hard coat
light
layer
film
Prior art date
Application number
KR1020030080407A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20040042883A (ko
Inventor
혼고유키
쇼시사토루
타케사코요시타카
Original Assignee
린텍 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 린텍 가부시키가이샤 filed Critical 린텍 가부시키가이샤
Publication of KR20040042883A publication Critical patent/KR20040042883A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100543285B1 publication Critical patent/KR100543285B1/ko

Links

Classifications

    • G02B1/105—
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/38—Anti-reflection arrangements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/256—Heavy metal or aluminum or compound thereof
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/259—Silicic material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

전체 광선 투과율이 높고, 청색의 투과색을 발생할 수 있는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 제공한다.
광투과성 기재필름의 한쪽 면에, (A) 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층, (B) 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 및/또는 산화티탄의 금속산화물을 함유한 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.65~1.90의 범위에 있는 두께 30~160㎚의 고굴절률층 및 (C) 실록산계 경화성 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.40~1.55의 범위에 있는 두께 10~50㎚의 저굴절률층을 순차적으로 적층한다.

Description

터치패널용 광투과성 경질 피복 필름{OPTICALLY TRANSPARENT HARD COAT FILM FOR TOUCH PANEL}
본 발명은, 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름에 관한 것으로서, 자세하게는 광선 투과율이 높고, 청색의 투과색을 발생할 수 있는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름에 관한 것이다.
터치패널은, 은행의 ATM, 역의 매표기나 정보단말, 공항의 탑승수속 단말, 전자수첩 등에 사용되고 있으며, 터치패널의 표면을 손가락이나 펜 등으로 건드리면, 입력위치를 기록시킬 수 있다.
대표적인 아날로그 타입의 터치패널은, 유리의 표면에 제 1의 투명 도전막이 적층되고, 제 1의 투명 도전막의 표면에 마이크로 도트 스페이서가 형성되고, 그 제 1의 투명 도전막에 공간을 형성해서 제 2의 투명 도전막이 적층되고, 또 제 2의 투명 도전막의 표면에 투명필름이 적층되어 있는 구조를 가지고 있으며, 투명필름의 표면을 손가락이나 펜 등으로 건드리면 스페이서가 없는 부분에서 2매의 투명 도전막을 접촉시킴으로써 입력위치를 기록시킬 수 있다.
이 아날로그 타입의 터치패널은, 통상, 표면에 마이크로 도트 스페이서가 형성된 제 1의 투명 도전막이 적층된 유리와 제 2의 투명 도전막이 적층된 투명필름을 투명 도전막 면 끼리, 공간을 형성하여 2매의 투명 도전막을 적층함으로써, 제조할 수 있다.
종래, 투명 도전막이 적층된 투명필름으로서는, 예를 들면, ITO 막과 폴리에틸렌테레프탈레이트필름(PET 필름)과의 적층물을 들 수 있다.
그러나, 터치패널용의 ITO 막과 PET 필름과의 적층물은, 전체광선 투과율이 클리어 경질 피복(clear hard coat) PET 필름과 비교해서 낮고, 투과색도 황색을 띠고 있기 때문에, 시인성, 조작성, 고급감이 충분하지는 못하다고 하는 문제점이 있었다.
또, 유리판, 폴리카보네이트판, 폴리에틸렌테레프탈레이트판 등의 투명기판, 아크릴수지 등으로 이루어진 경질 피복층, ZrO2, TiO2, Al2O3 등으로 이루어진 굴절률이 1.50~2.50인 고굴절률층, SiO2, MgF2 등으로 이루어진 굴절률이 1.35~1.60인 저굴절률층, 투명 도전체층을 적층한 투명 터치패널이 개시되어 있다(특허 문헌 1 참조). 그러나, 이 투명 터치패널은, 시인성, 조작성이 어느 정도 개선되고 있으나, 아직 충분하다고는 말할 수 없고, 투과색이 황색을 띠고 있다고 하는 문제점이 있었다.
또, 폴리에틸렌테레프탈레이트필름, 폴리카보네이트필름, 폴리알릴레이트필름 등의 투명기판, 아크릴 수지 등으로 이루어진 경질 피복층, 타타늄과 지르코늄의 알콕사이드의 가교물 등으로 이루어진 굴절률이 1.7로부터 투명 도전층의 굴절률보다 대략 0.3 큰 고굴절률층, 규소알콕사이드의 가교물 등으로 이루어진 굴절률이 1.35 ~1.5인 저굴절률층, 투명 도전체 층을 적층한 투명 터치패널이 개시되어 있다(특허 문헌 2 참조).
그러나, 이 투명 터치패널은, 투과광이 무착색이거나 약간의 황색을 띠고 있는 것이며, 터치패널에 요망되는 청색은 아니었다.
이 때문에, 전체광선 투과율이 높고, 청색의 투과색을 발생할 수 있는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름이 요망되고 있었다.
[특허 문헌 1]
국제 공개 WO00/63924호 공보
[특허 문헌 2]
특개 2000-301648호 공보
본 발명은, 상기 종래기술의 상황에 비추어서 이루어진 것으로, 전체 광선 투과율이 높고, 청색의 투과색을 발생할 수 있는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 행한 결과, 광투과성 기재필름의 한쪽 면에, (A) 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층, (B) 금속 산화물로서 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 및/또는 산화티탄을 함유한 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.65~1.90의 범위에 있는 두께 30~160㎚의 고굴절률층 및 (C) 실록산계 경화성 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.40~1.55의 범위에 있는 두께 10~50㎚의 저굴절률층을 순차적으로 적층함으로써, 광의 간섭효과에 의해 반사광이 억제되고, 높은 전체광선 투과율을 얻을 수 있어 청색의 투과색을 발생시킬 수 있는 것을 발견하고, 이 식견에 의거하여 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 광투과성 기재필름의 한쪽 면에, (A) 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층, (B) 금속산화물로서 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 및/또는 산화티탄을 함유한 전리 방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.65~1.90의 범위에 있는 두께 30~160㎚의 고굴절률층 및 (C) 실록산계 경화성 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.40~1.55의 범위에 있는 두께 10~50㎚의 저굴절률층을 순차적으로 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 제공하는 것이다.
또, 본 발명은, 상기 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름에 있어서, 상기 광투과성 기재 필름의 (A)의 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층이 형성되어 있는 면의 반대면에 광투과성 경질 피복층을 가진 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 제공하는 것이다.
또, 본 발명은, 상기 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름에 있어서, 상기 광투과성 경질 피복층이 방현성(防眩性: antiglare), 즉, 눈부심 방지성의 광투과성 경질 피복층인 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 제공하는 것이다.
또, 본 발명은, 상기 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름에 있어서, 고굴절률층에 있어서, 안티몬 도핑 산화주석의 함유량이 전체 금속산화물의 합계량의 20~90질량%인 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 제공하는 것이다.
(발명의 실시형태)
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 도면에 의거하여 설명한다.
본 발명에 있어서, 광투과성 기재필름(1)으로서는, 여러 가지 플라스틱 시트, 필름을 사용할 수 있다. 광투과성 기재필름(1)의 구체예로서는, 예를 들면 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지 등의 폴리올레핀 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 등의 폴리에스테르수지, 폴리염화비닐수지, 폴리스티렌수지, 폴리우레탄수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 불소계 수지 등의 각종 합성수지의 필름을 들 수 있고, 특히, 고강도이며 염가이기 때문에, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 등의 폴리에스테르 수지로 이루어진 필름이 바람직하다. 광투과성 기재필름(1)은, 단층이어도 되고, 동종 또는 이종의 2층 이상의 다층이어도 된다.
광투과성 기재필름(1)의 두께는, 특히 제한되지 않지만, 통상 10~ 350㎛가 바람직하고, 25~300㎛가 보다 바람직하고, 50~250㎛가 특히 바람직하다.
광투과성 기재필름(1)의 표면은, 접착용이처리를 실시해도 된다. 접착용이처리로서는, 특히 제한되지 않지만, 예를 들면 , 코로나방전처리나, 광투과성 기재필름(1)의 수지와 동일 성분의 저분자량의 수지 폴리머층을 형성하는 것 등을 들 수 있다. 예를 들면, 광투과성 기재필름(1)이 폴리에스테르 수지(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지)인 때는, 저분자량의 수지 폴리머로서는, 저분자량의 폴리에스테르(예를 들면, 에틸렌테레프탈레이트 올리고머)를 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 광투과성 기재필름(1)의 한쪽 표면에 (A)층으로서의 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층(2)을 가진다.
전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층(2)은, 전리 방사선 경화형 화합물을 함유하는 경화성 조성물을 도포해서 전리방사선을 조사해서 경화시켜서 형성할 수 있다.
전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층(2)의 두께는, 특히 제한이 없지만, 1~50㎛가 바람직하고, 2~30㎛가 보다 바람직하고, 3~20㎛가 특히 바람직하다.
전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층(2)의 경도는, 스틸울 경도로 2OOg/㎠이상의 하중을 건 경우라도 흠이 나지 않는 것이 바람직하다.
전리방사선 경화형 화합물은, 전리방사선을 조사함으로써 경화되는 것이며, 자외선 경화형 화합물, 전자선 경화형 화합물, α선 경화형 화합물, β선 경화형 화합물, γ선 경화형 화합물 등을 들 수 있으나, 자외선경화형 화합물, 전자선 경화형 화합물이 바람직하고, 자외선 경화형 화합물이 특히 바람직하다.
전리방사선 경화형 화합물로서는, 불포화 모노머, 올리고머, 수지 또는 그들을 함유한 조성물 등을 들 수 있다. 그 구체예로서는, 다작용성 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트나 폴리에스테르 아크릴레이트 등의 2작용기 이상을 가진 다작용성 전리 방사선 경화형의 아크릴계 화합물을 들 수 있고, 우레탄 아크릴레이트나 폴리에스테르 아크릴레이트가 바람직하다. 다작용성 아크릴레이트로서는, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올 에탄 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 트리알릴 (메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌옥사이드변성 디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
우레탄 아크릴레이트는, 예를 들면 폴리에테르 폴리올이나 폴리에스테르 폴리올과 폴리이소시아네이트의 반응에 의해서 얻어지는 폴리우레탄 올리고머의 수산기와 (메타)아크릴산과의 반응으로 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.
폴리에스테르아크릴레이트는, 예를 들면 다가 카르복시산과 다가알콜의 축합에 의해서 얻어지는 양 말단에 수산기를 가진 폴리에스테르 올리고머의 수산기를 (메타)아크릴산으로 에스테르화함으로써, 또는 다가 카르복시산에 알킬렌옥사이드를 부가해서 얻어지는 올리고머의 말단의 수산기를 (메타)아크릴산으로 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.
전리방사선 경화형 화합물은, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합해서 이용해도 된다.
전리방사선으로서는, 자외선, 전자선, α선, β선 등을 들 수 있다. 자외선을 사용하는 경우는, 경화성 조성물에는 광중합개시제를 함유시키는 것이 바람직하다. 광중합개시제로서는, 아세토페논계, 벤조페논계 등의 공지의 광중합개시제를 이용할 수 있고, 또, 올리고머형 광중합개시제를 이용할 수도 있다.
광중합개시제는 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합해서 이용해도 된다.
전리방사선 경화형 화합물과 광중합개시제의 배합비율은, 통상 전리방사선 경화형 화합물 100질량부에 대해 광중합개시제가 0.01~20질량부가 바람직하고, 0.1~10질량부가 특히 바람직하다.
본 발명에 있어서, 올리고머형 광중합개시제를 이용하면 중합개시제에 유래하는 가스의 발생을 거의 방지할 수 있다.
또, 경화성 조성물에는, 실리카(콜로이드형상 실리카를 함유함), 실리콘분말, 운모, 유리 비즈, 아크릴계 미세분말, 중공입자 등의 충전제를 함유시켜서 눈부심 방지성을 지니도록 해도 된다. 이 경우, 충전제는 전리방사선 경화형 화합물 100질량부에 대해서, 0.5~50질량부가 바람직하다. 0.5질량부 미만이면 눈부심 방지성이 저하하고, 50질량부를 초과하면 광투과성 경질 피복층의 강도가 저하한다.
또, 경화성 조성물에는, 항균제를 함유시켜도 된다. 항균제로서는, 인산지르코늄을 담지체로 한 은계 무기 항균제, 제올라이트를 담지체로 한 은계 무기 항균제, 인산칼슘을 담지체로 한 은계 무기 항균제, 실리카겔을 담지체로 한 은계 무기 항균제 등의 은계 무기 항균제, 아미노산 화합물을 배합해서 이루어지는 유기계 항균제 등의 아미노산계 유기 항균제, 질소함유 유황계 화합물을 배합해서 이루어진 유기계 항균제 등, 각종 항균제를 사용할 수 있다. 항균제의 배합량은, 사용하는 항균제의 종류나 필요하게 되는 항균성, 그 유지시간 등에 맞추어서 경화성 조성물중에 적당량 배합시키면 된다.
또, 경화성 조성물에는, 광안정제, 자외선흡수제, 촉매, 착색제, 대전방지제, 활제, 레벨링제, 소포제, 중합촉진제, 산화방지제, 난연제, 적외선흡수제, 계면활성제, 표면개질제 등의 첨가성분을 함유시키는 것은 임의이다.
또, 경화성 조성물에는, 도포하기 쉽게 하기 위해서 희석제를 함유시켜도 된다. 희석제로서는, 이소부탄올, 이소프로판올 등의 알콜류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸 등의 지방족 탄화수소, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 디이소프로필케톤 등의 케톤 등을 들 수 있다. 희석제의 배합량은, 요구되는 점도가 되도록 적당히 선정하면 된다.
본 발명에 있어서는, 상기 경화성 조성물은, 광투과성 기재필름의 표면에 도포되고, 희석제를 함유한 경우는 건조한 후에 전리방사선을 조사해서, 경화시켜 경질 피복층을 형성한다.
광투과성 경질 피복층의 두께는, 특히 제한이 없으나, 통상 1~50㎛가 바람직하고, 2~30㎛가 보다 바람직하고, 3~20㎛가 특히 바람직하다.
상기 경화성 조성물의 광투과성 기재 필름에의 도포 방법은, 예를 들면, 바코팅법, 나이프 코팅법, 롤 코팅법, 블레이드 코팅법, 다이 코팅법, 그라비야 코팅법, 커튼 코팅법 등 종래 공지의 방법을 들 수 있다.
조사되는 전리방사선은, 여러 가지의 전리방사선 발생장치로부터 발생하는 전리방사선이 이용된다. 예를 들면, 자외선은, 통상은 자외선램프로부터 방사되는 자외선이 이용된다. 이 자외선램프로서는, 통상 파장 300~400㎚의 영역에 스펙트럼 분포를 가지는 자외선을 발광하는, 고압 수은램프, 퓨젼 H램프, 크세논램프 등의 자외선램프가 이용되고, 조사량은 통상 50~300O mJ/㎠가 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 한쪽의 (A)층으로서의 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층(2)의 표면에는, (B)층으로서의 고굴절률층(3)이 적층되어 있다. 고굴절률층(3)은, 금속산화물로서 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 및/또는 산화티탄을 함유한 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 층이고, 굴절률이 1.65~1.90의 범위이고, 바람직하게는 1.70~1.90의 범위이며, 두께가 30~160㎚의 범위이고, 바람직하게는 50~100㎚의 범위이다.
고굴절률층(3)에는, 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 또는 산화 티탄의 어느 한쪽 또는 양쪽의 금속산화물을 함유한다. 이들 금속산화물을 함유함으로써, 굴절률을 1.65~1.90의 범위로 할 수 있다. 안티몬 도핑 산화주석은, 저굴절률층(4)과의 접착성을 향상시킬 수 있다.
안티몬 도핑 산화주석은, 산화주석에 소량의 안티몬을 첨가(도핑)한 것이다.
안티몬 도핑 산화주석으로서는, 도핑된 안티몬의 함유량은, 1~20 질량%가 바람직하다. 안티몬 도핑 산화주석의 함유량은, 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 및/또는 산화티탄의 금속산화물의 합계량의 20~90질량%가 바람직하고, 25~70질량%가 보다 바람직하고, 30~65질량%가 특히 바람직하다. 안티몬 도핑 산화주석이 상기 범위보다도 적으면 저굴절률층(4)과의 접착성을 향상시키는 효과가 낮고, 상기 범위를 초과하면 전체광선 투과율이 낮아진다.
고굴절률층(3)에 있어서, 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 및/또는 산화티탄의 금속산화물의 함유비율은, 전리방사선 경화형 화합물과 금속산화물의 합계량의 40~90질량%가 바람직하고, 60~85질량%가 특히 바람직하다.
안티몬 도핑 산화주석, 산화지르코늄 및 산화티탄의 평균입자직경은, 10~500㎚가 바람직하고, 50~150㎚가 특히 바람직하다.
고굴절률층(3)은, 상기 (A)층의 형성에 이용되는 전리방사선 경화성 화합물과 마찬가지인 전리방사선 경화형 화합물에 금속산화물로서 안티몬 도핑 산화주석과 산화 지르코늄 및/또는 산화티탄을 혼합한 경화성 조성물을 도포하고 전리방사선을 조사하여 경화시켜서 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서는, (B)층의 고굴절률층(3)의 표면에 (C)층으로서 저굴절률층(4)이 적층되어 있다. 저굴절률층(4)은, 실록산계 경화성 화합물의 경화물로 이루어진 층이고, 굴절률이 1.40~1.55의 범위이고, 바람직하게는 1.40~1.50의 범위이며, 두께가 10~50㎚의 범위이고, 바람직하게는 10~30㎚의 범위이다.
실록산계 경화성 화합물로서는, 규소알콕사이드 등이 바람직하다. 규소알콕사이드로서는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 이들의 부분 가수분해물 등을 들 수 있다. 규소알콕사이드는, 공기 중의 수분 등에 의해 가수분해가 일어나, 탈수축합에 의해 가교되어서, 실록산계 경화성 화합물의 경화물로 된다.
실록산계 경화성 화합물은, 콜로이드입자의 형태로 이용하는 것이 바람직하다. 콜로이드입자의 평균입자직경은, 1~1OO㎚가 바람직하다.
저굴절률층(4)은, 실록산계 경화성 화합물을 함유한 경화성 조성물을 도포해서 경화시켜서 형성할 수 있다. 이 경화는, 가열에 의해 행해지는 것이 바람직하다. 가열 온도는, 100~150℃가 바람직하다.
본 발명의 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름의 (C)층의 저굴절률층(4)의 표면에는, 바람직하게는 광투과성 도전층(5)이 적층되어서 이용된다.
광투과성 도전층(5)은, 매우 적합하게는 ITO막 등을 들 수 있다. ITO는, 인듐과 주석의 산화물의 합금이며, ITO막은, ITO를 스퍼터링에 의해 형성할 수 있다.
광투과성 도전층(5)의 두께는, 10~40㎚가 바람직하고, 20~30㎚가 특히 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서는, 광투과성 기재필름(1)의 (A)의 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층(2)이 형성되어 있는 면의 반대면에 광투과성 경질 피복층(6)을 형성하는 것이 바람직하다.
광투과성 경질 피복층(6)은, (A)의 전리방사선 경화형 화합물의 경화물과 마찬가지인 것으로 구성되어 있어도 된다.
광투과성 경질 피복층(6)의 두께는, 특히 제한은 없으나, 2~20㎛가 바람직하고, 3~18㎛가 보다 바람직하고, 4~15㎛가 특히 바람직하다.
광투과성 경질 피복층(6)의 경도는, 스틸울 경도로 2OO g/㎠ 이상의 하중을 걸은 경우에도 흠이 생기지 않는 것이 바람직하다.
본 발명의 광투과성 경질 피복 필름은, 전체 광선 투과율이 87.0%이상이 바람직하고, 88.0%이상이 특히 바람직하다.
본 발명의 광투과성 경질 피복 필름의 투과광의 니혼코교규격 Z8729호에 정하는 a*b*표색계의 크로매틱니스지수 b*값은, 0.5~4.0이 바람직하고, 1.0~2.0이 보다 바람직하고, 1.3~2.0이 특히 바람직하다.
본 발명의 광투과성 경질 피복의 투과광의 색채는, 청색 또는 녹색의 청색계색 등이지만, 청색이 바람직하다.
(실시예)
다음에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명은, 이들 예에 의해서 하등 제한되는 것은 아니다.
(각종 성분의 조제)
광투과성 경질 피복층 형성용의 경화성 조성물 1의 조제
자외선 경화형 화합물로서의 우레탄 아크릴레이트와 광중합개시제의 혼합물(아라카와 화학공업(주)제, 상품명「빔세트 575 CB」) 100질량부에 희석제로서 톨루엔 150질량부를 가해서 조제한 용액을 광투과성 경질 피복층 형성용의 경화성 조성물 1로 한다.
광투과성 경질 피복층 형성용의 경화성 조성물 2의 조제
자외선 경화형 화합물로서의 우레탄 아크릴레이트(아라카와 화학공업(주)제, 상품명「빔세트 577」) 98질량부에, 광중합개시제(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈(주)제, 상품명「이르가큐어 907」) 2질량부를 첨가해서 얻어지는 혼합액에, 희석제로서 톨루엔 150질량부를 가해서 조제한 용액을 광투과성 경질 피복층 형성용의 경화성 조성물 2로 한다.
눈부심 방지성의 광투과성 경질 피복층 형성용의 경화성 조성물 3의 조제
자외선 경화형 화합물로서의 폴리에스테르 아크릴레이트(다이니치세이카코교 (주)제, 상품명「세이카빔 EXF-01L(NPI)」) 98질량부에, 폴리에스테르 아크릴레이트와 실리카 겔의 혼합물(다이니치세이카코교(주)제, 상품명「세이카빔 EXF-01L (BS)」, 실리카겔 함유량 10질량%) 20질량부 및 광중합개시제(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈(주)제, 상품명「이르가큐어 907」) 2질량부를 첨가해서 얻어지는 혼합액에, 이소부탄올 180질량부를 가해서 조제한 용액을 눈부심 방지성의 광투과성 경질 피복층 형성용의 경화성 조성물 3으로 한다.
고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 4의 조제
자외선 경화형 화합물로서의 우레탄 아크릴레이트, 광중합개시제 및 산화지르코늄의 혼합물(JSR(주)제, 상품명「데소라이트 KZ7252C」, 고형분 45질량%, 고형분에 차지하는 산화지르코늄 68질량%) 100질량부 및 안티몬 도핑 산화주석의 10질량% 이소부탄올 분산체(다이닛뽄 잉크 카가쿠코교(주)제, 상품명「TA-01 D」) 180질량부의 혼합액에 이소부탄올 2870질량부를 가해서 조제한 용액을 고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 4(고형분 농도 2.0질량%)로 한다. 안티몬 도핑 산화주석의 함유량은, 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄의 합계량에 대해서 37질량%였다.
고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 5의 조제
안티몬 도핑 산화주석의 이소부탄올 분산체「TA-01D」를 450질량부, 이소부탄올을 3950질량부로 한 이외는, 고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 4와 마찬가지로 조제해서 고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 5(고형분농도 2.O질량%)를 조제했다.
안티몬 도핑 산화주석의 함유량은, 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄의 합계량에 대해서 60질량%였다.
고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 6의 조제
자외선 경화형 화합물로서의 폴리에스테르 아크릴레이트와 광중합개시제의 혼합물(다이니치세이카코교(주)제, 상품명「세이카빔 EXF-0lL(NS)」) 100질량부, 안티몬 도핑 산화주석의 이소부탄올 분산체(다이닛뽄 잉크 카가쿠코교(주)제, 상품명 「TA-01 D」) 3000질량부의 혼합액에 이소부탄올 16900질량부를 가해서 조제한 용액을 고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 6(고형분 농도 2.0질량%)으로 한다. 상기 경화성 조성물중에 함유되는 금속산화물은 안티몬 도핑 산화주석뿐이다.
고굴절률층 형성용의 경화성 조성물 7의 조제
우레탄아크릴레이트, 광중합개시제 및 산화티탄의 혼합물(니혼 카야쿠(주)제, 상품명「KAYANOVA MHR-101」, 고형분 20질량%, 고형분에 차지하는 산화티탄 65질량%) 100질량부 및 안티몬 도핑 산화주석의 이소부탄올 분산체(다이닛뽄 잉크 카가쿠코교(주)제, 상품명「TA-01 D」) 100질량부의 혼합액에 이소부탄올 1300질량부를 가해서 조제한 용액을 고굴절률 용액 7(고형분 농도 2.0질량%)로 한다. 안티몬 도핑 산화 주석의 함유량은, 안티몬 도핑 산화주석과 산화티탄의 합계량에 대해서 43 질량%였다.
저굴절률층 형성용의 경화성 조성물 8의 조제
실록산계 경화성 화합물의 분산액(콜코토(주)제, 상품명「콜코토 P」, 실록산계 화합물의 농도 2질량%, 분산매: 이소부탄올, 콜로이드입자의 평균입자직경: 약 6㎚) 100질량부에 이소부탄올 900질량부를 가해서 조제한 용액을 저굴절률층 형성용의 경화성 조성물 8(고형분 농도 2.0질량%)로 한다.
경질 피복 필름 1
광투과성 기재필름으로서의 폴리에틸렌테레프탈레이트수지 필름(상품명 「PET188A4300」, 토요보세키(주)제, 두께 188㎛)에 경화성 조성물 1을 마이어 바 #10으로, 건조, 경화후의 두께가 4㎛가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(100O mJ/㎠), 광투과성 경질 피복층을 형성했다. 계속해서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지필름의 광투과성 경질 피복층이 형성되어 있는 면의 반대면에 경화성 조성물 2를 마이어 바 #10으로, 건조막두께 4㎛가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(100 mJ/㎠), 광투과성 경질 피복층을 형성하여 경질 피복 필름 1을 얻었다.
경질 피복 필름 2
광투과성 기재필름으로서의 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지필름(상품명 「PET l88 A4300」, 토요 보세키(주)제, 두께 188㎛)에 경화성 조성물 1을 마이어 바 #10으로, 건조, 경화후의 두께가 4㎛가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(100O mJ/㎠), 광투과성 경질 피복층을 형성했다. 계속해서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름의 광투과성 경질 피복층이 형성되어 있는 면의 반대 면에 경화성 조성물 3을 마이어 바 #10으로, 건조막두께 4㎛가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1OO mJ/㎠), 눈부심 방지성의 광투과성 경질 피복층을 형성하여, 경질 피복 필름 2를 얻었다.
(실시예 1)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 4를 마이어 바 #1O으로, 건조, 경화후의 두께가 70㎚가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #12로, 건조막두께 15㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조해서 저굴절률층을 형성해 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 그리고, 저굴절률층 위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공했다.
(실시예 2)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 5를 마이어 바 #10으로, 건조, 경화후의 두께가 70㎚가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #12로, 건조막두께 15㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조해서 저굴절률층을 형성하여 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 그리고, 저굴절률층위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공했다.
(실시예 3)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층위에 경화성 조성물 7을 마이어 바 #10으로, 건조, 경화후의 두께가 70㎚가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #12로, 건조막두께 15㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조하여 저굴절률층을 형성해서 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 그리고, 저굴절률용액 도공면에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공했다.
(실시예 4)
경질 피복 필름 2의 눈부심 방지성의 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 4를 마이어 바 #l0으로, 건조, 경화후의 두께가 70㎚가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #12로, 건조막두께 15㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조하여 저굴절률층을 형성해서 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 그리고, 저굴절률층 위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공했다.
(실시예 5)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 4를 마이어 바 #12로, 건조, 경화 후의 두께가 1OO㎚가 되도록 도포하고, 7O℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #12로, 건조막두께 15㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조하여 저굴절률층을 형성해서 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 그리고, 저굴절률층 위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공했다.
(실시예 6)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 4를 마이어 바 #8로, 건조, 경화후의 두께가 50㎚가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #12로, 건조막 두께 15㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조하여 저굴절률층을 형성해서 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 그리고, 저굴절률층 위에 막두께 25㎚가 되도록 IT0막을 증착가공했다.
(실시예 7)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 4를 마이어 바 #10으로, 건조, 경화후의 두께가 70㎚가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #16으로, 건조막두께 20㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조하여 저굴절률층을 형성해서 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 그리고, 저굴절률층 위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착 가공했다.
(비교예 1)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 4를 마이어 바 #16으로, 건조, 경화후의 두께가 200㎚가 되도록도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠) , 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #16으로, 건조막두께 30㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조해서 저굴절률층을 형성 하고, 또 저굴절률층 위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공해서, 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다.
(비교예 2)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공해서, 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다.
(비교예 3)
경질 피복 필름 1의 경화성 조성물 2를 경화해서 얻어진 광투과성 경질 피복층 위에 경화성 조성물 6을 마이어 바 #10으로, 건조, 경화후의 두께가 70㎚가 되도록 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성했다. 계속해서, 그 고굴절률층 위에 경화성 조성물 8을 마이어 바 #10으로, 건조 막두께 10㎚가 되도록 도포하고, 130℃에서 1분간 건조해서 저굴절률층을 형성하고, 또 저굴절률층 위에 막두께 25㎚가 되도록 ITO막을 증착가공해서, 광투과성 경질 피복 필름을 얻었다. 이 광투과성 경질 피복 필름의 고굴절률층에 함유되는 금속 산화물은 안티몬 도핑 산화주석뿐이다.
실시예 및 비교예의 광투과성 경질 피복 필름의 성상을 표 1 및 표 2에 표시했다.
전체 광선 투과율, 헤이즈, 색채(a*값, b*값) 및 스틸울 경도는, 이하에 표시하는 방법으로 측정하고, 평가했다.
(1) 전체 광선 투과율 및 헤이즈
광선 투과율 측정기(니혼덴쇼쿠고교(주)제, 상품명「NDH2000」)를 이용해서 측정했다.
(2) 색채(a,*값, b*값)
색차계(니혼덴쇼쿠코교(주)제, 상품명「SQ2000」)를 이용해서, 색채의 계산을 실시했다. 광원으로서 니혼코교규격 Z8720에 규정되는 표준의 광 D65를 채용하고, 2도 시야의 조건으로 측정을 실시했다.
(3) 스틸울 경도
저굴절률층의 표면에 스틸울을 2OO g/㎠의 압력을 가해서 1O회 왕복으로 문질러, 표면을 육안으로 관찰하고, 이하에 표시하는 기준으로 평가했다.
0: 흠을 볼 수 없다.
X: 흠을 볼 수 있다.
(4) 고굴절률층의 굴절률의 측정
고형분농도를 10질량%로 조제한 경화성 조성물을, 마이어 바 #10으로 유리판 위에 도포하고, 70℃에서 1분간 건조한 후, 자외선을 조사해서(1000 mJ/㎠), 고굴절률층을 형성하고, 박막 측정장치(Filmetrics 사제, 상품명「F20」)를 이용해서 굴절률을 측정했다.
(5) 저굴절률층의 굴절률의 측정
고형분농도를 2질량%로 조제한 경화성 조성물을, 마이어 바 #20으로 유리판 위에 도포하고, 130℃에서 1분간 가열해서 저굴절률층을 형성하고, 고굴절률층과 마찬가지로, 박막 측정장치를 이용해서 굴절률을 측정했다.
실시예 1 실시예 2 실시에 3 실시예 4 실시예 5
고굴절률층 막두께(㎚) 70 70 70 70 100
굴절률 1.70 1.78 1.78 1.70 1.70
저굴절률층 막두께(㎚) 15 15 15 15 15
굴절률 1.45 1.45 1.52 1.52 1.45
ITO막의 두께(㎚) 25 25 25 25 25
전체 광선투과율(%) 89.1 88.5 88.4 89.0 89.6
헤이즈 0.4 0.5 0.5 3.1 0.4
a* -1.1 -1.0 -0.5 -0.9 -1.3
b* 1.9 2.0 1.4 0.9 3.2
투과색 엷은 청색 엷은 청색 엷은 청색 엷은 청색 엷은 녹색
스틸울 경도 ○ ○ ○ ○ ○
실시예 6 실시예 7 비교예 1 비교예 2 비교예 3
고굴절률층 막두께(㎚) 50 70 200 - 70
굴절률 1.70 1.70 1.70 - 1.74
저굴절률층 막두께(㎚) 15 20 30 - 10
굴절률 1.45 1.45 1.45 - 1.45
ITO막의 두께(㎚) 25 25 25 25 25
전체 광선투과율(%) 88.1 87.0 86.9 85.3 86.1
헤이즈 0.4 0.4 0.4 0.6 0.5
a* -1.0 -1.4 -2.0 -0.2 -0.6
b* 1.9 3.7 2.8 4.1 2.1
투과색 엷은 청색 엷은 녹색 황색 황색 엷은 황색
스틸울 경도 ○ ○ ○ ○ ○
실시예 1~7의 경질 피복 필름은, 비교예 1~3의 경질 피복 필름과 비교해서, 전체 광선 투과율이 높고, 청색계의 투과색을 발생한다. 또한, 전체 광선 투과율이 1.0%다르면, 터치패널에 있어서는 육안관측으로 투명성의 차이를 명확하게 알수 있다.
본 발명의 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름은, 광의 간섭효과에 의해 반사광이 억제되어 전체 광선 투과율이 높고, 청색의 투과색을 발생할 수 있다.
또한, 은행의 ATM, 역의 매표기나 정보단말, 공항의 탑승수속단말, 전자수첩 등의 여러 가지의 물품에 사용되고 있는 터치패널에 적층할 수 있다.
도 1은 본 발명의 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름의 일실시예의 개략을 표시한 단면도로서, 광투과성 도전층에 적층한 상태를 표시하고 있다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1: 광투과성 기재 필름 2: 광투과성 경질 피복층
3: 고굴절률층 4: 저굴절률층
5: 광투과성 도전층 6: 광투과성 경질 피복층

Claims (4)

  1. 광투과성 기재필름의 한쪽 면에, (A) 전리 방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층, (B) 금속산화물로서 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄 및 산화티탄을 함유하거나 또는 금속산화물로서 안티몬 도핑 산화주석과 산화지르코늄이나 산화티탄을 함유한 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.65~1.90의 범위에 있는 두께 30~160㎚의 고굴절률층 및 (C)실록산계 경화성 화합물의 경화물로 이루어진 층으로, 굴절률이 1.40~1.55의 범위에 있는 두께 10~50㎚의 저굴절률층을 순차적으로 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 광투과성 기재필름의 (A)의 전리방사선 경화형 화합물의 경화물로 이루어진 광투과성 경질 피복층이 형성되어 있는 면의 반대면에 광투과성 경질 피복층을 가진 것을 특징으로 하는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름.
  3. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 광투과성 경질 피복층이 눈부심 방지성의 광투과성 경질 피복층인 것을 특징으로 하는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 고굴절률층에서, 안티몬 도핑 산화주석의 함유량이 전체 금속 산화물의 합계량의 20~90질량%인 것을 특징으로 하는 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름.
KR1020030080407A 2002-11-15 2003-11-14 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름 KR100543285B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002332842 2002-11-15
JPJP-P-2002-00332842 2002-11-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040042883A KR20040042883A (ko) 2004-05-20
KR100543285B1 true KR100543285B1 (ko) 2006-01-20

Family

ID=32375719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030080407A KR100543285B1 (ko) 2002-11-15 2003-11-14 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7211317B2 (ko)
KR (1) KR100543285B1 (ko)
CN (1) CN1319890C (ko)
TW (1) TWI303212B (ko)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1507981A1 (en) * 2002-05-28 2005-02-23 Newfrey LLC Resilient clip fastener and method of manufacturing the same
EP1801814B1 (en) * 2004-08-20 2012-11-07 Teijin Limited Transparent conductive multilayer body and transparent touch panel
CN100412018C (zh) * 2006-01-24 2008-08-20 常州亚玛顿光伏玻璃有限公司 太阳能光电效应玻璃
CN101611109B (zh) * 2007-03-08 2013-02-20 木本股份有限公司 硬涂膜及层叠体
EP2124137A4 (en) * 2007-03-09 2012-10-10 Nissha Printing PROTECTIVE PANEL WITH TOUCH INPUT FUNCTION FOR AN ELECTRONIC DEVICE DISPLAY WINDOW
KR20110038517A (ko) * 2009-10-08 2011-04-14 엘지이노텍 주식회사 터치 패널용 면상 부재 및 그 제조방법
JP2011154442A (ja) * 2010-01-26 2011-08-11 Sony Corp センサ素子及び表示装置
KR20110100564A (ko) * 2010-06-08 2011-09-14 삼성전기주식회사 터치패널 및 그 제조방법
KR101271469B1 (ko) * 2010-11-16 2013-06-05 도레이첨단소재 주식회사 터치스크린 패널용 산화방지 필름 및 이를 채용한 터치스크린 패널
US20150064405A1 (en) * 2011-04-20 2015-03-05 Corning Incorporated Low reflectivity articles and methods thereof
US20130021670A1 (en) * 2011-07-23 2013-01-24 Innovation & Infinity Global Corp. Conductive film
JP2013123825A (ja) * 2011-12-13 2013-06-24 Keiwa Inc ハードコートフィルム、透明導電性積層体及びタッチパネル
US20130164543A1 (en) * 2011-12-26 2013-06-27 Asahi Glass Company, Limited Front panel for touch sensor
CN103959105B (zh) * 2012-02-23 2015-07-01 日油株式会社 色调校正膜及使用其的透明导电性膜
KR20150035642A (ko) * 2013-09-27 2015-04-07 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치용 윈도우 패널 및 이를 포함하는 표시 장치
KR20160083738A (ko) * 2015-01-02 2016-07-12 삼성전자주식회사 표시 장치용 윈도우 및 이를 포함하는 표시 장치
KR20170043885A (ko) * 2015-10-14 2017-04-24 삼성전자주식회사 표시 장치용 윈도우 및 이를 포함하는 표시 장치
KR102590313B1 (ko) * 2016-05-24 2023-10-17 삼성전자주식회사 폴리(아미드-이미드) 코폴리머 필름, 표시 장치용 윈도우, 및 표시 장치
US10591761B2 (en) * 2016-10-21 2020-03-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Flexible plastic substrate and display device including same
KR20180097025A (ko) 2017-02-22 2018-08-30 삼성전자주식회사 폴리(아미드-이미드) 공중합체 및 그 제조 방법, 폴리(아미드-이미드) 공중합체 필름, 표시 장치용 윈도우 및 표시 장치
JP6953170B2 (ja) * 2017-04-19 2021-10-27 日東電工株式会社 導電性フィルムおよびタッチパネル
CN107953641A (zh) * 2017-12-27 2018-04-24 太仓金煜电子材料有限公司 一种半透印刷复合胶带及其生产方法
JP6989711B2 (ja) * 2018-10-18 2022-01-05 富士フイルム株式会社 転写フィルム、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5472798A (en) * 1993-07-16 1995-12-05 Nissan Motor Co., Ltd. Coloring structure having reflecting and interfering functions
US6259491B1 (en) * 1998-02-06 2001-07-10 Motorola, Inc. Double sided laminated liquid crystal display touchscreen and method of making same for use in a wireless communication device
US6689458B1 (en) * 1999-08-31 2004-02-10 Teijin Limited Transparent conductive laminate and touch panel using the same
JP2002200690A (ja) * 2000-12-28 2002-07-16 Bridgestone Corp 反射防止フィルム
JP2002341103A (ja) * 2001-05-18 2002-11-27 Lintec Corp 光学用フィルム

Also Published As

Publication number Publication date
CN1500755A (zh) 2004-06-02
US7211317B2 (en) 2007-05-01
KR20040042883A (ko) 2004-05-20
TWI303212B (en) 2008-11-21
CN1319890C (zh) 2007-06-06
US20040105987A1 (en) 2004-06-03
TW200415016A (en) 2004-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100543285B1 (ko) 터치패널용 광투과성 경질 피복 필름
EP1531167B1 (en) Film for optical applications
KR101700250B1 (ko) 투명 도전성 필름
TWI498212B (zh) 光學積層體及硬質塗膜
KR101275408B1 (ko) 반사방지필름
KR101127952B1 (ko) 광학용 하드코팅 필름
KR101509266B1 (ko) 방현성 광투과성 하드코트필름
JP4906283B2 (ja) 赤外線吸収フィルム
JP2011098563A (ja) 透明導電性フィルム
JP2002036452A (ja) 高精細防眩性ハードコートフィルム
JP4958609B2 (ja) 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP4944572B2 (ja) 防眩性ハードコートフィルム
KR101463282B1 (ko) 방현성 광투과성 하드코트필름
KR20100125460A (ko) 투명막 형성용 조성물 및 적층 투명막
JP4206027B2 (ja) タッチパネル用光透過性ハードコートフィルム
KR100694002B1 (ko) 저굴절률층을 갖는 반사방지필름
WO2004088364A1 (ja) 光学用フィルム
KR20070095386A (ko) 반사방지필름
KR101780849B1 (ko) 광학 부재 및 그의 용도
KR20180127754A (ko) 디스플레이용 양면 하드코팅 필름
JP5659601B2 (ja) 透明導電性フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121227

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131218

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141230

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151217

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161221

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171219

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181219

Year of fee payment: 14