WO2022196537A1

WO2022196537A1 - 積層体及びその製造方法

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Publication number: WO2022196537A1
Application number: PCT/JP2022/010737
Authority: WO
Inventors: 裕之米澤; 正弥鈴木; 健太郎豊岡
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2021-03-16
Filing date: 2022-03-10
Publication date: 2022-09-22
Also published as: TW202239606A

Abstract

基材、及び、樹脂層を有する積層体であって、上記基材が露出した部分、及び、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分が存在し、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分の少なくとも一部において、上記基材が露出した部分に隣接して、上記樹脂層の厚みが変化する傾斜領域が存在し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記基材が露出した部分の外形形状の接線に垂直な方向の上記傾斜領域の断面形状が、上記傾斜領域の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、上記ｎが２以上の整数である積層体、並びに、その製造方法。

Description

積層体及びその製造方法

　本開示は、積層体及びその製造方法に関する。

　タッチパネルセンサー、表示装置等の電子部品においては、層状に配置される配線間の絶縁性を保つための層間絶縁膜等の硬化層が設けられている。このような硬化層の形成には、感光性組成物が使用されている。
　従来の半導体装置、又は、表示装置として、例えば、特許文献１には、絶縁膜の上下に配設される導体又は半導体が絶縁膜に設けられるコンタクトホールを介して接続される半導体装置であって、上記コンタクトホールが２段形状に形成され、上記２段形状のコンタクトホールのそれぞれの側面は共にテーパ形状に形成されると共に、上記２段の下段のテーパの角度は上段のテーパの角度より小さい角度のテーパ形状に形成されてなる半導体装置が記載されている。
　特許文献２には、第１電極と、上記第１電極の表面に配置され、貫通孔を含む無機絶縁膜と、上記無機絶縁膜の表面に配置され、上記貫通孔に連通するように形成されたコンタクトホールを含む有機絶縁膜と、上記貫通孔の内側の上記第１電極の表面、上記貫通孔の表面および上記コンタクトホールの表面に沿うように形成された第２電極とを備え、上記有機絶縁膜は、上記コンタクトホールの表面の断面形状が２段になっており、上記無機絶縁膜の側の第１段目の径が、上記貫通孔の径の大きさ以上になるように形成され、第２段目の径が、上記第１段目の径よりも大きくなるように形成されている、アクティブマトリクス型表示装置が記載されている。

　　特許文献１：特開平１１－６７９０８号公報
　　特許文献２：特開２００６－１０６５７５号公報

　層間絶縁膜や保護膜にコンタクトホールを形成した際、ホールエッジ（断面形状が斜めになった部分、テーパー部分）での光の反射が視認され問題になることがある。
　本発明者は、ホールエッジでの光の反射はホールエッジの幾何学的形状に影響され、反射が少なく視認されにくい形状を検討した。

　本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、パターニング部分のエッジの視認抑制性に優れる積層体を提供することである。
　本発明の他の一実施形態が解決しようとする課題は、パターニング部分のエッジの視認抑制性に優れる積層体の製造方法を提供することである。

　上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　基材、及び、樹脂層を有する積層体であって、上記基材が露出した部分、及び、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分が存在し、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分の少なくとも一部において、上記基材が露出した部分に隣接して、上記樹脂層の厚みが変化する傾斜領域が存在し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記基材が露出した部分の外形形状の接線に垂直な方向の上記傾斜領域の断面形状が、上記傾斜領域の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、上記ｎが２以上の整数である積層体。
＜２＞　上記樹脂層の厚さ方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記基材が露出した部分までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にある＜１＞に記載の積層体。
＜３＞　基材、及び、コンタクトホールを有する樹脂層を有し、上記コンタクトホールが、上記基材が露出した底面と、上記底面の周囲を囲む側面と、開口部とを有し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記底面の外形形状の接線に垂直な方向の上記側面の断面形状が、上記側面の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、上記ｎが２以上の整数であり、上記樹脂層の厚さ方向において、上記側面の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記底面までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記底面から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、上記基材の面方向に平行な方向における上記開口部の面積が、上記底面の面積よりも大きい積層体。
＜４＞　上記変曲点１が、上記傾斜領域又は上記側面の断面形状における上記基材と反対側の端部よりも基材側にある＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜５＞　上記変曲点１が、上記傾斜領域又は上記側面の断面形状における上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの１／３までの範囲にある＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜６＞　ｎが１０以下の整数である＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜７＞　ｎが３以上の整数である＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜８＞　上記基材が露出した部分又は上記底面と接する部分における上記傾斜領域又は上記側面の断面形状のテーパー角度が、５０°以下である＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜９＞　上記樹脂層の厚さ方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記基材が露出した部分までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にある＜１＞に記載の積層体。
＜１０＞　基材、及び、コンタクトホールを有する樹脂層を有し、上記コンタクトホールが、上記基材が露出した底面と、上記底面の周囲を囲む側面と、開口部とを有し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記底面の外形形状の接線に垂直な方向の上記側面の断面形状が、上記側面の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、上記ｎが２以上の整数であり、上記樹脂層の厚さ方向において、上記側面の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記底面までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記側面の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記底面から上記側面の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、上記基材の面方向に平行な方向における上記開口部の面積が、上記底面の面積よりも大きい積層体。
＜１１＞　上記変曲点１が、上記傾斜領域又は上記側面の断面形状における上記基材と反対側の端部よりも基材側にある＜９＞又は＜１０＞に記載の積層体。
＜１２＞　上記変曲点１が、上記傾斜領域又は上記側面の断面形状における上記基材と反対側の端部から上記側面の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／３までの範囲にある＜９＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１３＞　ｎが１０以下の整数である＜９＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１４＞　ｎが３以上の整数である＜９＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１５＞　上記基材が露出した部分又は上記底面と接する部分における上記傾斜領域又は上記側面の断面形状のテーパー角度が、５０°以下である＜９＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１６＞　上記樹脂層が、透明である＜１＞～＜１５＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１７＞　タッチセンサーである＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１８＞　散乱板を介して感光性層を露光する工程を含む＜１＞～＜１７＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。

　本発明の一実施形態によれば、パターニング部分のエッジの視認抑制性に優れる積層体を提供することができる。
　本発明の他の一実施形態によれば、パターニング部分のエッジの視認抑制性に優れる積層体の製造方法を提供することができる。

本開示に係る積層体の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。本開示に係る積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。本開示に係る積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。本開示に係る積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。本開示に係る積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。本開示に係る積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。従来の積層体の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。従来の積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。従来の積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。従来の積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。本開示に係る積層体の他の一例のパターニング部分の傾斜領域での概略断面図である。

　以下、本開示の積層体及びその製造方法について説明する。
　但し、本開示は、以下に記載の実施形態に何ら限定されるものではなく、目的の範囲内において、適宜、変更を加えて実施することができる。

　以下、本開示の内容について説明する。なお、添付の図面を参照しながら説明するが、符号は省略する場合がある。
　また、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
　更に、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
　また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
　本明細書において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　また、本明細書において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本明細書において、「透明」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。
　本明細書において、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、（株）日立製作所製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。
　また、本明細書における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、重合体の組成比は質量比である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、金属元素の含有量は、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）分光分析装置を用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、屈折率は、波長５５０ｎｍでエリプソメーターを用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、色相は、色差計（ＣＲ－２２１、ミノルタ（株）製）を用いて測定した値である。
　本明細書において、「アルカリ可溶性」とは、液温が２２℃である炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
　本明細書において「水溶性」とは、液温が２２℃であるｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。したがって、例えば、水溶性樹脂とは、上述の溶解度条件を満たす樹脂を意図する。
　本明細書において、組成物の「固形分」とは、組成物を用いて作製する層を形成する成分を意味し、組成物が溶剤（有機溶剤、水等）を含む場合、溶剤を除いたすべての成分を意味する。また、上記層を形成する成分であれば、液体状の成分も固形分とみなす。
　本明細書において、各層の層厚は、基材又は感光性転写材料の主面に対し垂直な方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、得られた観察画像に基づいて各層の厚みを任意の５点以上計測し、その平均値を算出することにより、測定される。

＜積層体＞
　本開示に係る積層体は、基材、及び、樹脂層を有する積層体であって、上記基材が露出した部分、及び、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分が存在し、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分の少なくとも一部において、上記基材が露出した部分に隣接して、上記樹脂層の厚みが変化する傾斜領域が存在し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記基材が露出した部分の外形形状の接線に垂直な方向の上記傾斜領域の断面形状が、上記傾斜領域の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、上記ｎが２以上の整数である。

　層間絶縁膜や保護膜にコンタクトホール等をパターニングにより形成した際、パターニング部分のエッジ（傾斜領域（断面形状が基材に対して斜めになった部分）、テーパー部分）での光の反射が視認され問題になる場合があることを本発明者は見出した。
　パターニング部分のエッジでの光の反射はホールエッジの幾何学的形状に影響され、反射が少なく視認されにくい形状を、本発明者は検討した。
　本発明者が鋭意検討を行った結果、上記傾斜領域の断面形状を数学的な関数としてとらえた時、変曲点が２つ以上存在するときに反射光の反射方向が分散され、パターニング部分のエッジの視認性が良化することを見出した。
　上記態様であると、パターニング部分の上記傾斜領域の反射光を種々の方向へ反射し、同じ角度で多く反射されることを抑制するとともに、また、ある１つの角度から視認した場合の反射光が確認される部分の面積が小さく、視認しづらくすることにより、パターニング部分のエッジの視認抑制性に優れると推定している。

　また、本開示に係る積層体の好ましい態様としては、以下の態様が挙げられる。
　本開示に係る積層体は、コンタクトホールのエッジの視認抑制性の観点から、基材、及び、コンタクトホールを有する樹脂層を有し、上記コンタクトホールが、上記基材が露出した底面と、上記底面の周囲を囲む側面と、開口部とを有し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記底面の外形形状の接線に垂直な方向の上記側面の断面形状が、上記側面の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、上記ｎが２以上の整数であり、上記樹脂層の厚さ方向において、上記側面の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記底面までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記底面から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、上記基材の面方向に平行な方向における上記開口部の面積が、上記底面の面積よりも大きいことが好ましい。
　また、本開示に係る積層体は、コンタクトホールのエッジの視認抑制性の観点から、基材、及び、コンタクトホールを有する樹脂層を有し、上記コンタクトホールが、上記基材が露出した底面と、上記底面の周囲を囲む側面と、開口部とを有し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記底面の外形形状の接線に垂直な方向の上記側面の断面形状が、上記側面の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、上記ｎが２以上の整数であり、上記樹脂層の厚さ方向において、上記側面の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記底面までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記側面の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記底面から上記側面の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、上記基材の面方向に平行な方向における上記開口部の面積が、上記底面の面積よりも大きいことが好ましい。

〔傾斜領域の断面形状〕
　本開示に係る積層体は、上記基材が露出した部分、及び、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分が存在し、上記基材が上記樹脂層で覆われた部分の少なくとも一部において、上記基材が露出した部分に隣接して、上記樹脂層の厚みが変化する傾斜領域が存在し、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記基材が露出した部分の外形形状の接線に垂直な方向の上記傾斜領域の断面形状が、上記傾斜領域の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有する。
　上記傾斜領域は、例えば、コンタクトホールにおける側面に該当し、上記基材が露出した部分は、例えば、コンタクトホールにおける底面に該当し、また、上記樹脂層の厚さ方向において、上記基材が露出した部分の上記基材とは反対側の上記樹脂層の端部全体が、例えば、コンタクトホールにおける開口部に該当する。
　本開示に係る積層体は、パターニング部分のエッジの視認抑制性の観点から、上記樹脂層の厚さ方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記基材が露出した部分までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあることが好ましい。
　また、本開示に係る積層体は、パターニング部分のエッジの視認抑制性の観点から、上記樹脂層の厚さ方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記基材が露出した部分までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあることが好ましい。
　更に、本開示に係る積層体は、パターニング部分として、コンタクトホールを含むことが好ましい。

　上記傾斜領域の断面形状は、パターニング部分のエッジの視認抑制性の観点から、上記傾斜領域の２０面積％以上が上記要件を満たしていることが好ましく、上記傾斜領域の５０面積％以上が上記要件を満たしていることがより好ましく、上記傾斜領域の８０面積％以上が上記要件を満たしていることが特に好ましい。
　なお、上記コンタクトホールの中央部の断面は、例えば、コンタクトホールの２つの側面の断面形状が見られ、本開示に係る積層体においては、上記コンタクトホールにおける少なくとも１つの側面の断面形状は、上記側面の２０面積％以上が上記要件を満たしていることが好ましく、上記側面の５０面積％以上が上記要件を満たしていることがより好ましく、上記側面の８０面積％以上が上記要件を満たしていることが特に好ましい。
　本開示における上記樹脂層が存在する部分と存在しない部分との境界部における「傾斜領域」とは、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記基材が露出した部分の外形形状の接線に垂直な方向における上記断面形状が基材に対して斜めになった部分である。
　また、本開示における上記コンタクトホールが有する「側面」とは、上記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ上記基材が露出した部分（上記コンタクトホールの底面）の外形形状の接線に垂直な方向における上記断面形状が基材に対して斜めになった部分である。
　更に、本開示における上記コンタクトホールが有する「開口部」とは、上記基材が露出した部分（上記コンタクトホールの底面）とは上記樹脂層の厚さ方向反対側における上記樹脂層が存在しない部分をいい、また、上記樹脂層の厚さが、上記基材が露出した部分に向かって上記樹脂層の上記基材とは反対側の面の厚さより小さくなり始めの部分が、上記開口部の外形となる。

　本開示に係る積層体の好ましい一例におけるパターニング部分の傾斜領域での概略断面図として、図１～図６及び図１１が挙げられる。

　図１に示す積層体のパターニング部分の傾斜領域１８の断面形状は、変曲点を３つ有し、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記樹脂層１４の厚さの１／４までの範囲にあり、かつ上記変曲点３（ＩＰ３）が上記基材が露出した部分１６から上記樹脂層１４の厚さの１／４までの範囲にあり、また、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の１／４までの範囲にあり、上記変曲点３（ＩＰ３）が上記基材が露出した部分１６から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の１／４までの範囲にある。
　また、上記基材が露出した部分１６と接する部分における上記傾斜領域１８の断面形状のテーパー角度θ１は、２０°である。

　図２に示す積層体のパターニング部分の傾斜領域１８の断面形状は、変曲点を３つ有し、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記樹脂層１４の厚さの４／１０までの範囲にあり、かつ上記変曲点３（ＩＰ３）が上記基材が露出した部分１６から上記樹脂層１４の厚さの１／５までの範囲にあり、また、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の４／１０までの範囲にあり、上記変曲点３（ＩＰ３）が上記基材が露出した部分１６から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の１／５までの範囲にある。
　また、上記基材が露出した部分１６と接する部分における上記傾斜領域１８の断面形状のテーパー角度θ１は、３０°である。

　図３に示す積層体のパターニング部分の傾斜領域１８の断面形状は、変曲点を２つ有し、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記樹脂層１４の厚さの４／１０までの範囲にあり、かつ上記変曲点２（ＩＰ２）が上記基材が露出した部分１６から上記樹脂層１４の厚さの４／１０までの範囲にあり、また、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の４／１０までの範囲にあり、上記変曲点２（ＩＰ２）が上記基材が露出した部分１６から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の４／１０までの範囲にある。
　また、上記基材が露出した部分１６と接する部分における上記傾斜領域１８の断面形状のテーパー角度θ１は、４０°である。

　図４に示す積層体のパターニング部分の傾斜領域１８の断面形状は、変曲点を２つ有し、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記樹脂層１４の厚さの４／１０までの範囲にあり、かつ上記変曲点２（ＩＰ２）が上記基材が露出した部分１６から上記樹脂層１４の厚さの４／１０までの範囲にあり、また、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の４／１０までの範囲にあり、上記変曲点２（ＩＰ２）が上記基材が露出した部分１６から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の４／１０までの範囲にある。
　また、上記基材が露出した部分１６と接する部分における上記傾斜領域１８の断面形状のテーパー角度θ１は、６０°である。

　図５に示す積層体のパターニング部分の傾斜領域１８の断面形状は、変曲点を３つ有し、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記樹脂層１４の厚さの１／４までの範囲にあり、かつ上記変曲点３（ＩＰ３）が上記基材が露出した部分１６から上記樹脂層１４の厚さの１／４までの範囲にあり、また、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の１／４までの範囲にあり、上記変曲点３（ＩＰ３）が上記基材が露出した部分１６から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の１／４までの範囲にある。
　また、上記基材が露出した部分１６と接する部分における上記傾斜領域１８の断面形状のテーパー角度θ１は、１０°である。

　図６に示す積層体のパターニング部分の傾斜領域１８の断面形状は、変曲点を４つ有し、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記樹脂層１４の厚さの１／４までの範囲にあり、かつ上記変曲点４（ＩＰ４）が上記基材が露出した部分１６から上記樹脂層１４の厚さの１／４までの範囲にあり、また、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の１／４までの範囲にあり、上記変曲点４（ＩＰ４）が上記基材が露出した部分１６から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の１／４までの範囲にある。
　また、上記基材が露出した部分１６と接する部分における上記傾斜領域１８の断面形状のテーパー角度θ１は、２０°である。

　図１１に示す積層体のパターニング部分の傾斜領域１８の断面形状は、変曲点を２つ有し、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記樹脂層１４の厚さの２／３までの範囲にあり、かつ上記変曲点２（ＩＰ２）が上記基材が露出した部分１６から上記樹脂層１４の厚さの２／１０までの範囲にあり、また、上記変曲点１（ＩＰ１）が上記基材１２と反対側の端部２０から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の２／３までの範囲にあり、上記変曲点２（ＩＰ２）が上記基材が露出した部分１６から上記傾斜領域１８の断面形状部分の上記基材１２の面方向に平行な方向の最大長の２／１０までの範囲にある。
　また、上記基材が露出した部分１６と接する部分における上記傾斜領域１８の断面形状のテーパー角度θ１は、６０°である。

　また、図７～図１０は、従来の積層体の例であり、図７～図１０の積層体は、上記変曲点の数ｎが、０又は１の例である。

　上記パターニング部分の傾斜領域１８の断面形状における変曲点は、上記傾斜領域１８の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点、すなわち、二階の導関数の符号が変化する点（断面形状の凸の向きが変化する点）である。
　また、本開示においては、図１～図６及び図１１に示すように、上記傾斜領域１８と上記基材が露出した部分１６とが接する部分は、上記変曲点に含めないものとする。

　本開示に係る積層体において、上記傾斜領域の断面形状における変曲点の数ｎは、２以上の整数であり、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、１０以下の整数であることが好ましく、５以下の整数であることがより好ましく、４以下の整数であることが更に好ましい。
　また、上記変曲点の数ｎは、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、３以上の整数であることが好ましく、３であることが特に好ましい。

　本開示に係る積層体において、上記基材が露出した部分（コンタクトホールにおいては、底面）と接する部分における上記傾斜領域（コンタクトホールにおいては、側面）の断面形状のテーパー角度は、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、６０°以下が好ましく、５０°以下がより好ましく、５°以上４０°以下が更に好ましく、１０°以上３０°以下が特に好ましい。
　また、本開示に係る積層体において、上記基材が露出した部分と接する部分における上記傾斜領域の断面形状は、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、上記基材が露出した部分（コンタクトホールにおいては、底面）から上記樹脂層の厚さ方向における上記基材が露出した部分とは反対側（コンタクトホールにおいては、上記開口部）に向かって、順テーパー形状であることが好ましく、上記基材が露出した部分から上記樹脂層の厚さ方向における上記基材が露出した部分とは反対側（コンタクトホールにおいては、上記開口部）に向かって、かつ上記傾斜領域（コンタクトホールにおいては、上記側面）全体にわたって順テーパー形状であることがより好ましい。

　本開示に係る積層体において、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、上記変曲点１が、上記基材と反対側の端部よりも基材側にある、すなわち、上記端部が変曲点でないことが好ましい。
　なお、本開示において、上記基材と反対側の端部は、上記樹脂層の厚さと等しくなる部分である。

　また、本開示に係る積層体において、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、上記変曲点１が、上記樹脂層の厚さ方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材と反対側の端部より上記樹脂層の厚さの１／１０以上上記基材側にあることがより好ましい。
　更に、本開示に係る積層体において、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、上記変曲点１が、上記基材の面方向に平行な方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材と反対側の端部より上記基材が露出した部分から上記側面の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／１０以上上記基材が露出した部分側にあることがより好ましい。

　本開示に係る積層体は、パターニング部分のエッジの視認抑制性の観点から、上記樹脂層の厚さ方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記基材が露出した部分までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあることが好ましく、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの４／１０までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記樹脂層の厚さの４／１０までの範囲にあることがより好ましく、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記樹脂層の厚さの１／３までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記樹脂層の厚さの１／３までの範囲にあることが更に好ましい。

　本開示に係る積層体は、パターニング部分のエッジの視認抑制性の観点から、上記樹脂層の厚さ方向において、上記傾斜領域の断面形状における上記基材とは反対側の端部から上記基材側の上記基材が露出した部分までの上記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、上記変曲点１が上記基材と反対側の端部から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあることが好ましく、上記変曲点１が上記傾斜領域の断面形状における上記基材と反対側の端部から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の４／１０までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の４／１０までの範囲にあることがより好ましく、上記変曲点１が上記傾斜領域の断面形状における上記基材と反対側の端部から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／３までの範囲にあり、かつ上記変曲点ｎが上記基材が露出した部分から上記傾斜領域の断面形状部分の上記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／３までの範囲にあることが更に好ましい。

　本開示において、積層体における傾斜領域の断面形状は、上記樹脂層が存在しない部分（基材が露出した部分及びその近傍）を下記条件１～３を満たす平面で裁断し、その断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、測定される。観察に際しては、裁断した面から垂直な方向から観察する。
条件１：上記樹脂層の厚さ方向に平行である。
条件２：上記基材が露出した部分の外形形状のうちの１点を含む。
条件３：上記１点での基材が露出した部分の外形形状の接線に垂直である。

〔上記断面形状以外のコンタクトホールの形状〕
　本開示におけるコンタクトホールは、上記基材の面方向に平行な方向における上記開口部の面積が、上記底面の面積よりも大きい。
　本開示におけるコンタクトホールの開口部及び底面の形状は、特に制限されず、円形状、楕円形状、多角形状、細線状、及び、無定形状が挙げられる。中でも、円形状、楕円形状又は多角形状が好ましい。
　本開示におけるコンタクトホールの開口部の最大長は、特に制限はないが、導通性の観点から、１μｍ～５００μｍであることが好ましく、１０μｍ～２００μｍであることがより好ましく、２０μｍ～１００μｍであることが特に好ましい。
　また、本開示におけるコンタクトホールの深さは、特に制限されないが、導通性の観点から、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下が更に好ましく、１０μｍ以下が特に好ましく、５．０μｍ以下が最も好ましい。本開示におけるコンタクトホールの深さの下限としては、樹脂層の強度が優れる観点から、０．６μｍ以上が好ましく、１．５μｍ以上がより好ましい。

〔コンタクトホール以外の形状〕
　本開示に係る積層体は、コンタクトホール以外の形状のパターニング部分を有していてもよい。コンタクトホール以外の形状としては、特に制限はないが、例えば、アイランド形状、ライン形状が挙げられる。ライン形状はライン状に樹脂層がある形状、ライン状に樹脂層がない形状、樹脂層がある領域とない領域とがライン状に交互に存在する形状等が挙げられる。アイランド形状、ライン形状の場合においても、コンタクトホールの断面形状と同様の断面形状で制御することが、アイランドパターンエッジの視認性抑制、及び、導通性の観点から好ましい。

〔基材〕
　本開示に係る積層体に用いられる基材としては、公知の基材を用いればよいが、導電層を有する基板が好ましく、基板の表面に導電層を有することがより好ましい。
　基材は、必要に応じて導電層以外の任意の層を有してもよい。
　基材としては、例えば、樹脂基材、ガラス基材、及び、半導体基板が挙げられる。
　基材の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４０に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。樹脂基材の材料としては、シクロオレフィンポリマー及びポリイミドが好ましい。樹脂基材の厚みは、５μｍ～２００μｍが好ましく、１０μｍ～１００μｍがより好ましい。

　導電層としては、一般的な回路配線又はタッチパネル配線に用いられる導電層が挙げられる。
　また、導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層及び導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層が好ましく、金属層がより好ましく、銅層又は銀層が更に好ましい。
　基板は、導電層を１層単独で有してよく、２層以上有してもよい。２層以上の導電層を有する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。

　導電層の材料としては、金属及び導電性金属酸化物が挙げられる。
　金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ及びＡｕが挙げられる。
　導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）及びＳｎＯ_２が挙げられる。
　なお、本明細書において「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０^６Ωｃｍ未満であることをいう。導電性金属酸化物の体積抵抗率は、１×１０^４Ωｃｍ未満が好ましい。

　複数の導電層を有する基板を用いて積層体を製造する場合、複数の導電層のうち少なくとも一つの導電層は導電性金属酸化物を含有することが好ましい。
　導電層としては、静電容量型タッチパネルに用いられる視認部のセンサーに相当する電極パターン又は周辺取り出し部の配線が好ましい。
　導電層の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４１に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　導電層を有する基板としては、透明電極及び引き回し配線の少なくとも一方を有する基板が好ましい。上記のような基板は、タッチパネル用基板として好適に使用できる。
　透明電極は、タッチパネル用電極として好適に機能し得る。透明電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、及び、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、並びに、金属メッシュ、及び、金属ナノワイヤー等の金属細線により構成されることが好ましい。
　金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。中でも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。

　引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。
　引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛、及び、マンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム、又は、チタンが好ましく、銅が特に好ましい。

〔樹脂層〕
　本開示に係る積層体は、基材、及び、樹脂層を有する。
　上記樹脂層は、本開示に係る効果をより発揮する観点から、透明であることが好ましい。
　また、上記樹脂層は、後述する感光性層を硬化してなる層であることが好ましい。

〔〔感光性層〕〕。
　感光性層に対し、露光及び現像を行うことにより、上記樹脂層を形成できる。
　また、感光性層は、感光性転写材料により形成することが好ましい。
　以下、感光性層に含まれ得る成分について詳述する。

＜アルカリ可溶性樹脂＞
　感光性層は、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アミドエポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応で得られるエポキシアクリレート樹脂、及び、エポキシアクリレート樹脂と酸無水物との反応で得られる酸変性エポキシアクリレート樹脂が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂の好適態様の一つとして、アルカリ現像性及びフィルム形成性に優れる点で、（メタ）アクリル樹脂が挙げられる。
　なお、本明細書において、（メタ）アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位を有する樹脂を意味する。（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位のみで構成されていてもよく、（メタ）アクリル化合物以外の重合性単量体に由来する構成単位を有していてもよい。すなわち、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量の上限は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、１００質量％以下である。

　（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、及び、（メタ）アクリロニトリルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、及び、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートが挙げられ、（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましい。
　（メタ）アクリルアミドとしては、例えば、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミドが挙げられる。

　（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、及び、（メタ）アクリル酸ドデシル等の炭素数が１～１２のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、炭素数１～４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸エチルがより好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位以外の構成単位を有していてもよい。
　上記構成単位を形成する重合性単量体としては、（メタ）アクリル化合物と共重合可能な（メタ）アクリル化合物以外の化合物であれば特に制限されず、例えば、スチレン、ビニルトルエン、及び、α－メチルスチレン等のα位又は芳香族環に置換基を有してもよいスチレン化合物、アクリロニトリル及びビニル－ｎ－ブチルエーテル等のビニルアルコールエステル、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、及び、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマル酸、ケイ皮酸、α－シアノケイ皮酸、イタコン酸、並びに、クロトン酸が挙げられる。
　これらの重合性単量体は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、アルカリ現像性をより良好にする点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、ホスホン酸基が挙げられる。
　中でも、（メタ）アクリル樹脂は、カルボキシ基を有する構成単位を有することがより好ましく、上記の（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有することが更に好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂における酸基を有する構成単位（好ましくは（メタ）アクリル酸に由来する構成単位）の含有量は、現像性に優れる点で、（メタ）アクリル樹脂の全質量に対して、１０質量％以上が好ましい。また、上限値は特に制限されないが、アルカリ耐性に優れる点で、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を有することがより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂における（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、１質量％～９０質量％が好ましく、１質量％～５０質量％がより好ましく、１質量％～３０質量％が更に好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有する樹脂が好ましく、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位のみで構成されている樹脂がより好ましい。
　また、（メタ）アクリル樹脂としては、メタクリル酸に由来する構成単位、メタクリル酸メチルに由来する構成単位、及び、アクリル酸エチルに由来する構成単位を有するアクリル樹脂も好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、解像性の観点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位よりなる群から選択される少なくとも１種を有することが好ましく、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有することが好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂におけるメタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量は、解像性の観点から、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、４０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％以下であってもよく、８０質量％以下が好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、解像性の観点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位よりなる群から選択される少なくとも１種と、アクリル酸に由来する構成単位及びアクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位よりなる群から選択される少なくとも１種とを有することも好ましい。
　解像性の観点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量は、アクリル酸に由来する構成単位及びアクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量に対して、質量比で６０／４０～８０／２０が好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂は、転写後の感光性層の現像性に優れる点で、末端にエステル基を有することが好ましい。
　なお、（メタ）アクリル樹脂の末端部は、合成に用いた重合開始剤に由来する部位により構成される。末端にエステル基を有する（メタ）アクリル樹脂は、エステル基を有するラジカルを発生する重合開始剤を用いることにより合成できる。

　また、アルカリ可溶性樹脂は、例えば、現像性の点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂は、例えば、加熱により架橋成分と熱架橋し、強固な膜を形成しやすいという点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基を有する樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有樹脂）であることがより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基を有する（メタ）アクリル樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂）であることが更に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂がカルボキシ基を有する樹脂であると、例えば、ブロックイソシアネート化合物等の熱架橋性化合物を添加して熱架橋することで、３次元架橋密度を高めることができる。また、カルボキシ基を有する樹脂のカルボキシ基が無水化され、疎水化すると、湿熱耐性が改善し得る。

　酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂としては、上記酸価の条件を満たす限りにおいて、特に制限はなく、公知の（メタ）アクリル樹脂から適宜選択できる。
　例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～００５２に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂等を好ましく使用できる。

　アルカリ可溶性樹脂の他の好適態様としては、スチレン－アクリル共重合体が挙げられる。なお、本明細書において、スチレン－アクリル共重合体とは、スチレン化合物に由来する構成単位と、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位とを有する樹脂を指し、上記スチレン化合物に由来する構成単位、及び、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の合計含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
　また、スチレン化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、５質量％～８０質量％が更に好ましい。
　また、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％～９５質量％が更に好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂は、得られる硬化膜の透湿度及び強度の観点から、芳香環構造を有することが好ましく、芳香環構造を有する構成単位を有することがより好ましい。
　芳香環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、メチルスチレン、及び、α－メチルスチレン等のスチレン化合物、並びに、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　中でも、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂は、得られる硬化膜の透湿度及び強度の観点から、下記式（Ｓ）で表される構成単位（スチレンに由来する構成単位）を有することがより好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂が芳香環構造を有する構成単位を有する場合、芳香環構造を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度及び強度の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５質量％～９０質量％が好ましく、１０質量％～７０質量％より好ましく、２０質量％～６０質量％が更に好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂における芳香環構造を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度及び強度の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５モル％～７０モル％が好ましく、１０モル％～６０モル％がより好ましく、２０モル％～６０モル％が更に好ましい。
　更に、アルカリ可溶性樹脂における上記式（Ｓ）で表される構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度及び強度の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５モル％～７０モル％が好ましく、１０モル％～６０モル％がより好ましく、２０モル％～６０モル％が更に好ましく、２０モル％～５０モル％が特に好ましい。
　なお、本明細書において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、上記「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本明細書において、上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。

　アルカリ可溶性樹脂は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、脂肪族炭化水素環構造を有することが好ましい。つまり、アルカリ可溶性樹脂は、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有することが好ましい。中でも、アルカリ可溶性樹脂は、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有することがより好ましい。

　脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位における脂肪族炭化水素環構造を構成する環としては、トリシクロデカン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、ノルボルナン環、及び、イソボロン環が挙げられる。
　脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、及び、イソボルニル（メタ）アクリレートが挙げられる。
　また、アルカリ可溶性樹脂は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することがより好ましく、上記式（Ｓ）で表される構成単位、及び、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することがより好ましい。

　式（Ｃｙ）中、Ｒ^Ｍは水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^Ｃｙは脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基を表す。

　式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｍは、メチル基であることが好ましい。
　式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、炭素数５～２０の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが好ましく、炭素数６～１６の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることがより好ましく、炭素数８～１４の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが更に好ましい。
　式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、単環構造であっても、多環構造であってもよい。
　また、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、シクロペンタン環構造、シクロヘキサン環構造、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造、ノルボルナン環構造、又は、イソボロン環構造であることが好ましく、シクロヘキサン環構造、又は、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることがより好ましい。
　更に、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造であることが好ましく、２～４環の脂肪族炭化水素環が縮環した環であることがより好ましい。
　更に、式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、式（Ｃｙ）における－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－の酸素原子と脂肪族炭化水素環構造とが直接結合する基、すなわち、脂肪族炭化水素環基であることが好ましく、シクロヘキシル基、又は、ジシクロペンタニル基であることがより好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂は、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂が脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有する場合、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５質量％～９０質量％が好ましく、１０質量％～８０質量％がより好ましく、２０質量％～７０質量％が更に好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂における脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５モル％～７０モル％が好ましく、１０モル％～６０モル％がより好ましく、２０モル％～５０モル％が更に好ましい。
　更に、アルカリ可溶性樹脂における上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の含有量は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５モル％～７０モル％が好ましく、１０モル％～６０モル％がより好ましく、２０モル％～５０モル％が更に好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂が芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有する場合、芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の総含有量は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、１０質量％～９０質量％が好ましく、２０質量％～８０質量％がより好ましく、４０質量％～７５質量％が更に好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂における芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の総含有量は、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、１０モル％～８０モル％が好ましく、２０モル％～７０モル％がより好ましく、４０モル％～６０モル％が更に好ましい。
　更に、アルカリ可溶性樹脂における上記式（Ｓ）で表される構成単位及び上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の総含有量は、本現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、１０モル％～８０モル％が好ましく、２０モル％～７０モル％がより好ましく、４０モル％～６０モル％が更に好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂における上記式（Ｓ）で表される構成単位のモル量ｎＳと上記式（Ｃｙ）で表される構成単位のモル量ｎＣｙは、現像残渣抑制性、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、下記式（ＳＣｙ）に示す関係を満たすことが好ましく、下記式（ＳＣｙ－１）を満たすことがより好ましく、下記式（ＳＣｙ－２）を満たすことが更に好ましい。
　　０．２≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．８　　　式（ＳＣｙ）
　　０．３０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７５　　　式（ＳＣｙ－１）
　　０．４０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７０　　　式（ＳＣｙ－２）

　アルカリ可溶性樹脂は、現像性、及び、基材との密着性の観点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。
　上記酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、及び、リン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
　上記酸基を有する構成単位としては、下記に示す、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が好ましく、メタクリル酸由来の構成単位がより好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂が酸基を有する構成単位を有する場合、酸基を有する構成単位の含有量は、現像性、及び、基材との密着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５質量％～５０質量％が好ましく、５質量％～４０質量％がより好ましく、１０質量％～３０質量％が更に好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂における酸基を有する構成単位の含有量は、現像性、及び、基材との密着性の観点、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５モル％～７０モル％が好ましく、１０モル％～５０モル％がより好ましく、２０モル％～４０モル％が更に好ましい。
　更に、アルカリ可溶性樹脂における（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量は、現像性、及び、基材との密着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５モル％～７０モル％が好ましく、１０モル％～５０モル％がより好ましく、２０モル％～４０モル％が更に好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂は、硬化性、及び、得られる硬化膜の強度の観点から、反応性基を有することが好ましく、反応性基を有する構成単位を有することがより好ましい。
　反応性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。また、アルカリ可溶性樹脂がエチレン性不飽和基を有している場合、アルカリ可溶性樹脂は、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましい。
　本明細書において、「主鎖」とは、樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
　エチレン性不飽和基としては、アリル基又は（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。
　反応性基を有する構成単位の一例としては、下記に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。

　アルカリ可溶性樹脂は、反応性基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂が反応性基を有する構成単位を有する場合、反応性基を有する構成単位の含有量は、硬化性、及び、得られる硬化膜の強度の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５質量％～７０質量％が好ましく、１０質量％～５０質量％がより好ましく、２０質量％～４０質量％が更に好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂における反応性基を有する構成単位の含有量は、硬化性、及び、得られる硬化膜の強度の観点から、アルカリ可溶性樹脂の全構成単位に対して、５モル％～７０モル％が好ましく、１０モル％～６０モル％がより好ましく、２０モル％～５０モル％が更に好ましい。

　反応性基をアルカリ可溶性樹脂に導入する手段としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、アセトアセチル基、及び、スルホ基等の官能基に、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、及び、カルボン酸無水物等の化合物を反応させる方法が挙げられる。
　反応性基をアルカリ可溶性樹脂に導入する手段の好ましい例としては、カルボキシ基を有するポリマーを重合反応により合成した後、高分子反応により、得られた樹脂のカルボキシ基の一部にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させて、（メタ）アクリロキシ基をポリマーに導入する手段が挙げられる。この手段により、側鎖に（メタ）アクリロキシ基を有するアルカリ可溶性樹脂を得ることができる。
　上記重合反応は、７０℃～１００℃の温度条件で行うことが好ましく、８０℃～９０℃の温度条件で行うことがより好ましい。上記重合反応に用いる重合開始剤としては、アゾ系開始剤が好ましく、例えば、富士フイルム和光純薬（株）製のＶ－６０１（商品名）又はＶ－６５（商品名）がより好ましい。上記高分子反応は、８０℃～１１０℃の温度条件で行うことが好ましい。上記高分子反応においては、アンモニウム塩等の触媒を用いることが好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂としては、本開示における効果がより優れる点から、以下に示す樹脂が好ましい。なお、以下に示す各構成単位の含有比率（ａ～ｄ）及び重量平均分子量Ｍｗ等は目的に応じて適宜変更できる。

　上記樹脂において、ａは２０質量％～６０質量％、ｂは１０質量％～５０質量％、ｃは５．０質量％～２５質量％、ｄは１０質量％～５０質量％であることが好ましい。

　上記樹脂において、ａは３０質量％～６５質量％、ｂは１．０質量％～２０質量％、ｃは５．０質量％～２５質量％、ｄは１０質量％～５０質量％であることが好ましい。

　上記化合物において、ａは１．０質量％～２０質量％、ｂは２０質量％～６０質量％、ｃは５．０質量％～２５質量％、ｄは１０質量％～５０質量％であることが好ましい。

　また、アルカリ可溶性樹脂は、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を有する重合体（以下、「重合体Ｘ」ともいう。）を含んでいてもよい。
　カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造、及び、環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造であることが好ましい。
　環状カルボン酸無水物構造の環としては、５員環～７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位、又は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。

　式Ｐ－１中、Ｒ^Ａ１ａは、置換基を表し、ｎ^１ａ個のＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよく、Ｚ^１ａは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成する２価の基を表し、ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。

　Ｒ^Ａ１ａで表される置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
　Ｚ^１ａとしては、炭素数２～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が更に好ましい。
　ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。Ｚ^１ａが炭素数２～４のアルキレン基を表す場合、ｎ^１ａは、０～４の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　ｎ^１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲ^Ａ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位が好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位がより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位が更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位が特に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位が最も好ましい。

　以下、カルボン酸無水物構造を有する構成単位の具体例を挙げるが、カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、これらの具体例に限定されるものではない。下記の構成単位中、Ｒｘは、水素原子、メチル基、ＣＨ_２ＯＨ基、又は、ＣＦ_３基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。

　重合体Ｘにおけるカルボン酸無水物構造を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位の総含有量は、重合体Ｘの全構成単位に対して、０モル％～６０モル％が好ましく、５モル％～４０モル％がより好ましく、１０モル％～３５モル％が更に好ましい。

　感光性層は、重合体Ｘを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性層が重合体Ｘを含む場合、解像性及び現像性の観点から、重合体Ｘの含有量は、感光性層の全質量に対して、０．１質量％～３０質量％が好ましく、０．２質量％～２０質量％がより好ましく、０．５質量％～２０質量％が更に好ましく、１質量％～２０質量％が更に好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、解像性及び現像性を向上させる観点から５，０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましく、１０，０００～５０，０００が更に好ましく、１５，０００～３０，０００が特に好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂の酸価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが更に好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１３０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
　なお、アルカリ可溶性樹脂の酸価は、ＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に記載の方法に従って、測定される値である。
　アルカリ可溶性樹脂の分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、現像性の観点から、１．０～６．０が好ましく、１．０～５．０がより好ましく、１．０～４．０が更に好ましく、１．０～３．０が特に好ましい。

　感光性層は、アルカリ可溶性樹脂を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂の含有量は、感光性、解像性及び現像性の観点から、感光性層の全質量に対して、１０質量％～９０質量％が好ましく、２０質量％～８０質量％がより好ましく、３０質量％～７０質量％が更に好ましい。

＜重合性化合物＞
　感光性層は、重合性化合物を含んでいてもよい。
　重合性化合物は、重合性基を有する化合物である。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、及び、カチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物（以下、単に「エチレン性不飽和化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロキシ基が好ましい。
　なお、本明細書におけるエチレン性不飽和化合物は、上記バインダーポリマー以外の化合物であり、分子量５，０００未満であることが好ましい。
　重合性化合物としては、ネガ型感光性層の感光性がより優れる点で、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（エチレン性不飽和化合物）が好ましく、一分子中に２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（多官能エチレン性不飽和化合物）がより好ましい。
　また、解像性及び剥離性により優れる点で、エチレン性不飽和化合物が一分子中に有するエチレン性不飽和基の数は、６つ以下が好ましく、３つ以下がより好ましく、２つ以下が更に好ましい。

　また、感光性と解像性及び剥離性とのバランスがより優れる点で、一分子中に２つ又は３つのエチレン性不飽和基を有する２官能又は３官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、一分子中に２つのエチレン性不飽和基を有する２官能エチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。
　重合性化合物の全質量に対する２官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、ネガ型感光性層の全質量に対して、剥離性に優れる観点から、２０質量％以上が好ましく、４０質量％超がより好ましく、５５質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％であってもよい。即ち、重合性化合物が全て２官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。

－エチレン性不飽和化合物Ｂ１－
　感光性層は、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、上述したエチレン性不飽和化合物のうち、一分子中に１つ以上の芳香環を有する２官能エチレン性不飽和化合物である。

　感光性層中、エチレン性不飽和化合物の含有量に対するエチレン性不飽和化合物Ｂ１の含有量の質量比は、解像性がより優れる点から、４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。上限は特に制限されないが、剥離性の点から、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が更に好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。

　エチレン性不飽和化合物Ｂ１が有する芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の芳香族炭化水素環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環等の芳香族複素環、並びに、それらの縮合環が挙げられ、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。なお、上記芳香環は、置換基を有してもよい。
　エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。

　エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、現像液による感光性層の膨潤を抑制することにより、解像性が向上する点から、ビスフェノール構造を有することが好ましい。
　ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造、及び、ビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。

　ビスフェノール構造を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、例えば、ビスフェノール構造と、そのビスフェノール構造の両端に結合した２つの重合性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）とを有する化合物が挙げられる。
　ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４個～１６個が好ましく、６個～１４個がより好ましい。
　ビスフェノール構造を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～００８０に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。

　エチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、ビスフェノールＡ構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物が好ましく、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンがより好ましい。
　２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業（株）製）、及び、エトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、引き置き時間線幅変化、現像温度線幅変化、及び、感度の観点から、下記式（Ｂｉｓ）で表される化合物を含むことが好ましい。

　式（Ｂｉｓ）中、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ＡはＣ_２Ｈ_４であり、ＢはＣ_３Ｈ_６であり、ｎ_１及びｎ_３はそれぞれ独立に、１～３９の整数であり、かつｎ_１＋ｎ_３は２～４０の整数であり、ｎ_２及びｎ_４はそれぞれ独立に、０～２９の整数であり、かつｎ_２＋ｎ_４は０～３０の整数であり、－（Ａ－Ｏ）－及び－（Ｂ－Ｏ）－の繰り返し単位の配列は、ランダムであってもブロックであってもよい。そして、ブロックの場合、－（Ａ－Ｏ）－と－（Ｂ－Ｏ）－とのいずれがビスフェノール構造側でもよい。
　一態様において、ｎ_１＋ｎ_２＋ｎ_３＋ｎ_４は、２～２０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～１２の整数が更に好ましい。また、ｎ_２＋ｎ_４は、０～１０の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましく、０～２の整数が更に好ましく、０が特に好ましい。

　エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　感光性層における、エチレン性不飽和化合物Ｂ１を含む場合の含有量は、解像性がより優れる点から、感光性層の全質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（感光性転写材料の端部から感光性層中の成分が滲み出す現象）の点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。

　感光性層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物を含有してもよい。
　エチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。例えば、一分子中に１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（単官能エチレン性不飽和化合物）、芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物、及び、３官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。

　単官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及び、フェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。

　芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ウレタンジ（メタ）アクリレート、及び、トリメチロールプロパンジアクリレートが挙げられる。
　その他のジ（メタ）アクリレートとしては、ジオキサングリコールジアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ－６０４）、ジオキサングリコールジメタクリレート、国際公開第２０１８／０７４３０５号の請求項１９に記載のジスピロ構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物、及び、特開２００１－６４２７８号公報の請求項１に記載のジチアン誘導体ジ（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物の好適態様の一つとして、下記式（Ｍ）で表される化合物（単に、「化合物Ｍ」ともいう。）が挙げられる。
　　Ｑ^２－Ｒ^１－Ｑ^１　　　式（Ｍ）
　式（Ｍ）中、Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ独立に、（メタ）アクリロイルオキシ基を表し、Ｒ^１は鎖状構造を有する二価の連結基を表す。

　式（Ｍ）におけるＱ^１及びＱ^２は、合成容易性の点から、Ｑ^１及びＱ^２は同じ基であることが好ましい。
　また、式（Ｍ）におけるＱ^１及びＱ^２は、反応性の点から、アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
　式（Ｍ）におけるＲ^１としては、現像残渣抑制性、防錆性、得られる硬化膜の曲げ耐性の観点から、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基（－Ｌ^１－Ｏ－Ｌ^１－）、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基（－（Ｌ^１－Ｏ）_ｐ－Ｌ^１－）が好ましく、炭素数２～２０の炭化水素基、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基がより好ましく、炭素数４～２０のアルキレン基が更に好ましく、炭素数６～１８の直鎖アルキレン基が特に好ましい。
　上記炭化水素基は、少なくとも一部に鎖状構造を有していればよく、上記鎖状構造以外の部分としては、特に制限はなく、例えば、分岐鎖状、環状、又は、炭素数１～５の直鎖状アルキレン基、アリーレン基、エーテル結合、及び、それらの組み合わせのいずれであってもよく、アルキレン基、又は、２以上のアルキレン基と１以上のアリーレン基とを組み合わせた基が好ましく、アルキレン基がより好ましく、直鎖アルキレン基が更に好ましい。
　なお、上記Ｌ^１はそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、エチレン基、プロピレン基、又は、ブチレン基が好ましく、エチレン基又は１，２－プロピレン基がより好ましい。
ｐは２以上の整数を表し、２～１０の整数であることが好ましい。

　また、化合物ＭにおけるＱ^１とＱ^２との間を連結する最短の連結鎖の原子数は、現像残渣抑制性、防錆性、得られる硬化膜の曲げ耐性の観点から、３個～５０個が好ましく、４個～４０個がより好ましく、６個～２０個が更に好ましく、８個～１２個が特に好ましい。
　本明細書において、「Ｑ^１とＱ^２の間を連結する最短の連結鎖の原子数」とは、Ｑ^１に連結するＲ^１における原子からＱ^２に連結するＲ^１における原子までを連結する最短の原子数である。

　化合物Ｍの具体例としては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７－ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、及び、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。上記エステルモノマーは混合物としても使用できる。
　上記化合物の中でも、現像残渣抑制性、防錆性、得られる硬化膜の曲げ耐性の観点から、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましく、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることがより好ましく、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが更に好ましい。

　エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。

　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　上記化合物Ｍ以外の２官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、及び、１，４－シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　２官能のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（商品名：ＮＫエステル　ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。

　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、及び、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。

　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社のＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）　１３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製ＮＫエステル　Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）も挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物も挙げられる。
　ウレタン（メタ）アクリレートとしては、ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられ、例えば、プロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、並びに、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　また、ウレタン（メタ）アクリレートとしては、３官能以上のウレタン（メタ）アクリレートも挙げられる。官能基数の下限としては、６官能以上がより好ましく、８官能以上が更に好ましい。なお、官能基数の上限としては、２０官能以下が好ましい。３官能以上のウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、Ｕ－１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）、共栄社化学（株）製のＡＨ－６００（商品名）、並びに、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、及びＵＸ－５０００（いずれも日本化薬（株）製）等が挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物の好適態様の一つとして、酸基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
　酸基としては、リン酸基、スルホ基、及び、カルボキシ基が挙げられる。
　これらの中でも、酸基としては、カルボキシ基が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、酸基を有する３官能～４官能のエチレン性不飽和化合物〔ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価：８０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕、酸基を有する５官能～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの〔酸価：２５ｍｇＫＯＨ／ｇ～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕等が挙げられる。
　これら酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物が、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種であると、現像性及び膜強度がより高まる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５２０（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５１０（東亞合成（株）製）が挙げられる。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～００３０に記載の酸基を有する重合性化合物が好ましく、この公報に記載の内容は、本明細書に組み込まれる。

　エチレン性不飽和化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、グリシジル基含有化合物にα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマー、γ－クロロ－β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、β－ヒドロキシエチル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、及び、β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート等のフタル酸系化合物、並びに、（メタ）アクリル酸アルキルエステルも挙げられる。
　これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

　多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、及び、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物、エチレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド基の数が２～１４であり、かつ、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、並びに、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　中でも、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。

　エチレン性不飽和化合物としては、現像性に優れる観点から、エステル結合を含むものも好ましい。
　エステル結合を含むエチレン性不飽和化合物としては、分子内にエステル結合を含むものであれば特に制限されないが、硬化性及び現像性に優れる観点から、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。
　信頼性付与の点からは、エチレン性不飽和化合物としては、炭素数６～２０の脂肪族基を有するエチレン性不飽和化合物と、上記のテトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物と、を含むことが好ましい。
　炭素数６以上の脂肪族構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物の好適態様の一つとしては、脂肪族炭化水素環構造を有するエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能エチレン性不飽和化合物）が挙げられる。
　上記エチレン性不飽和化合物としては、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造（好ましくは、トリシクロデカン構造及びトリシクロデセン構造よりなる群から選択される構造）を有するエチレン性不飽和化合物が好ましく、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物がより好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが更に好ましい。
　上記脂肪族炭化水素環構造としては、得られる硬化膜の透湿度及び曲げ耐性、並びに、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、トリシクロデカン構造、トリシクロデセン構造、ノルボルナン構造、又は、イソボロン構造が好ましい。

　エチレン性不飽和化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
　感光性層に含まれるエチレン性不飽和化合物のうち、分子量３００以下のエチレン性不飽和化合物の含有量の割合は、感光性層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の含有量に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。

　感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、３官能又は４官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましい。

　また、感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物と、脂肪族炭化水素環を有する構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含むことが好ましい。

　また、感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、式（Ｍ）で表される化合物と、酸基を有するエチレン性不飽和化合物とを含むことが好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレートと、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物とを含むことがより好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレートと、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸変性体とを含むことが更に好ましい。

　また、感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、式（Ｍ）で表される化合物と、酸基を有するエチレン性不飽和化合物と、後述する熱架橋性化合物とを含むことが好ましく、式（Ｍ）で表される化合物と、酸基を有するエチレン性不飽和化合物と、後述するブロックイソシアネート化合物とを含むことがより好ましい。

　また、感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、現像残渣抑制性、及び、防錆性の点から、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）と、を含むことが好ましい。
　２官能のエチレン性不飽和化合物と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量の質量比は１０：９０～９０：１０が好ましく、３０：７０～７０：３０がより好ましい。
　全てのエチレン性不飽和化合物の合計量に対する、２官能のエチレン性不飽和化合物の含有量は、２０質量％～８０質量％が好ましく、３０質量％～７０質量％がより好ましい。
　感光性層における２官能のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性層の全質量に対し、１０質量％～６０質量％が好ましく、１５質量％～４０質量％がより好ましい。

　また、感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、防錆性の点から、化合物Ｍ、及び、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
　また、感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、基板密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の点から、化合物Ｍ、及び、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、及び、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、３官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、３官能以上のエチレン性不飽和化合物、酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。
　また、感光性層の好適態様の一つとして、感光性層は、感光性層は、基板密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の点から、１，９－ノナンジオールジアクリレート、及び、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、及び、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び、カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、ウレタンアクリレート化合物を含むことが特に好ましい。

　感光性層は、エチレン性不飽和化合物として、単官能エチレン性不飽和化合物を含んでいてもよい。
　上記エチレン性不飽和化合物における２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の総含有量に対し、６０質量％～１００質量％が好ましく、８０質量％～１００質量％がより好ましく、９０質量％～１００質量％が更に好ましい。

　エチレン性不飽和化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性層における重合性化合物の含有量は、感光性層の全質量に対して、１質量％～７０質量％が好ましく、５質量％～７０質量％がより好ましく、５質量％～６０質量％が更に好ましく、５質量％～５０質量％が特に好ましい。
　感光性層における重合性化合物の含有量とアルカリ可溶性樹脂の含有量との質量比は、重合性化合物／アルカリ可溶性樹脂＝２０／８０～８０／２０が好ましく、３０／７０～５０／５０がより好ましく、３５／６５～４４／５６が更に好ましい。

＜重合開始剤＞
　感光性層は、重合開始剤を含むことも好ましい。
　重合開始剤は重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、及び、光重合開始剤が挙げられる。
　また、重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、及び、カチオン重合開始剤が挙げられる。

　感光性層は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤は、紫外線、可視光線及びＸ線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する化合物である。光重合開始剤としては、特に制限されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。
　光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられ、光ラジカル重合開始剤が好ましい。

　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤が挙げられる。

　また、ネガ型感光性層は、感光性、露光部及び非露光部の視認性及び解像性の観点から、光ラジカル重合開始剤として、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。なお、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体における２つの２，４，５－トリアリールイミダゾール構造は、同一であっても異なっていてもよい。
　２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体の誘導体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、及び、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が挙げられる。

　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～００４２、特開２０１５－１４７８３号公報の段落００６４～００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。

　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＢＥ、ＣＡＳ　Ｎｏ．１０２８７－５３－３）、ベンゾインメチルエーテル、アニシル（ｐ，ｐ’－ジメトキシベンジル）、ＴＡＺ－１１０（商品名：みどり化学（株）製）、ベンゾフェノン、ＴＡＺ－１１１（商品名：みどり化学（株）製）、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３、ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）、Ｏｍｎｉｒａｄ６５１及び３６９（商品名：ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、及び、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（東京化成工業（株）製）が挙げられる。

　光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルホリノプロパン－１－オン（商品名：ＡＰｉ‐３０７、Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　ＵＶ－ＣｈｅｍＴｅｃｈ　ＬＴＤ社製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　６５１、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２，４，６－トリメチルベンゾリル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ　Ｈ、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾリル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ　６、ＤＫＳＨジャパン（株）製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）（商品名：Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）、及び、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業（株）製）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業社製）、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、及び、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）が挙げられる。

　光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）は、活性光線を受けて酸を発生する化合物である。光カチオン重合開始剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００～４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造は制限されない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光カチオン重合開始剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
　光カチオン重合開始剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が特に好ましい。ｐＫａの下限値は特に定めないが、例えば、－１０．０以上が好ましい。

　光カチオン重合開始剤としては、イオン性光カチオン重合開始剤及び非イオン性光カチオン重合開始剤が挙げられる。
　イオン性光カチオン重合開始剤として、例えば、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、並びに、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。
　イオン性光カチオン重合開始剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～０１３３に記載のイオン性光カチオン重合開始剤を用いてもよい。

　非イオン性光カチオン重合開始剤としては、例えば、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物が挙げられる。トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物及びイミドスルホネート化合物としては、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落００８３～００８８に記載の化合物を用いてもよい。また、オキシムスルホネート化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００８４～００８８に記載された化合物を用いてもよい。

　重合開始剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　重合開始剤の含有量は、感光性層の全質量に対して、０．１質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましく、１．０質量％以上であることが更に好ましい。また、その上限値としては、感光性層の全質量に対して、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることより好ましい。

＜複素環化合物＞
　感光性層は、複素環化合物を含んでいてもよい。
　複素環化合物が有する複素環は、単環及び多環のいずれの複素環でもよい。
　複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子よりなる群から選ばれる少なくとも１種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。

　複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、及び、ピリミジン化合物が挙げられる。
　上記の中でも、複素環化合物としては、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物がより好ましい。

　複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。トリアゾール化合物及びベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　複素環化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性層が複素環化合物を含む場合、複素環化合物の含有量は、感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～２０．０質量％が好ましく、０．１０質量％～１０．０質量％がより好ましく、０．３０質量％～８．０質量％が更に好ましく、０．５０質量％～５．０質量％が特に好ましい。

＜脂肪族チオール化合物＞
　感光性層は、脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。
　感光性層が脂肪族チオール化合物を含むことで、脂肪族チオール化合物がエチレン性不飽和化合物との間でエン－チオール反応することで、形成される膜の硬化収縮が抑えられ、応力が緩和される。

　脂肪族チオール化合物としては、単官能の脂肪族チオール化合物、又は、多官能の脂肪族チオール化合物（すなわち、２官能以上の脂肪族チオール化合物）が好ましい。
　上記の中でも、脂肪族チオール化合物としては、形成されるパターンの密着性（特に、露光後における密着性）の点から、多官能の脂肪族チオール化合物がより好ましい。
　本明細書において、「多官能の脂肪族チオール化合物」とは、チオール基（「メルカプト基」ともいう。）を分子内に２個以上有する脂肪族化合物を意味する。

　多官能の脂肪族チオール化合物としては、分子量が１００以上の低分子化合物が好ましい。具体的には、多官能の脂肪族チオール化合物の分子量は、１００～１，５００がより好ましく、１５０～１，０００が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物の官能基数としては、例えば、形成されるパターンの密着性の点から、２官能～１０官能が好ましく、２官能～８官能がより好ましく、２官能～６官能が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，６－ヘキサメチレンジチオール、２，２’－（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ－２，３－ジメルカプトコハク酸、及び、ジ（メルカプトエチル）エーテルが挙げられる。

　上記の中でも、多官能の脂肪族チオール化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、及び、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンよりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。

　単官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、１－オクタンチオール、１－ドデカンチオール、β－メルカプトプロピオン酸、メチル－３－メルカプトプロピオネート、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート、メトキシブチル－３－メルカプトプロピオネート、及び、ステアリル－３－メルカプトプロピオネートが挙げられる。

　感光性層は、１種単独の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよく、２種以上の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。
　感光性層が脂肪族チオール化合物を含む場合、脂肪族チオール化合物の含有量は、感光性層の全質量に対して、５質量％以上が好ましく、５質量％～５０質量％がより好ましく、５質量％～３０質量％が更に好ましく、８質量％～２０質量％が特に好ましい。

＜熱架橋性化合物＞
　感光性層は、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、熱架橋性化合物を含むことが好ましい。なお、本明細書においては、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、エチレン性不飽和化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
　熱架橋性化合物としては、メチロール化合物、及びブロックイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、アルカリ可溶性樹脂及び／又はエチレン性不飽和化合物等が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、感光性層を硬化した膜を保護膜として使用する場合の機能が強化される傾向がある。
　なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。

　ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、特に制限されないが、１００℃～１６０℃が好ましく、１００℃～１５０℃がより好ましい。
　ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
　示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ（株）製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に使用できる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。

　解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等）〕、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、及びシクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）、ピラゾール化合物（１，３－ジメチルピラゾール等）が挙げられる。
　これらの中でも、解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の観点から、オキシム化合物、ピラゾール化合物を含むことが好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の観点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、且つ、現像残渣を少なくしやすいという観点から好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、重合性基を有していてもよい。
　重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、ラジカル重合性基が好ましい。
　重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。
　中でも、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が更に好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を使用できる。
　ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工（株）製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標）　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、デュラネート（登録商標）ＳＢＮ－７０Ｄ、デュラネート（登録商標）　ＷＴ３２－Ｂ７５Ｐ等、旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。
　また、ブロックイソシアネート化合物として、下記の構造の化合物を用いることもできる。

　熱架橋性化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
　感光性層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性層の全質量に対して、１質量％～５０質量％が好ましく、５質量％～３０質量％がより好ましい。

＜界面活性剤＞
　感光性層は、界面活性剤を含んでいてもよい。
　界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤が挙げられる。
　また、界面活性剤としては、炭化水素系界面活性剤、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。
　環境適性向上の観点から、界面活性剤は、フッ素原子を含まないことが好ましい。界面活性剤としては、炭化水素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤がより好ましい。

　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック（商品名）Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４４４、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－３３０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７９、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８６、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８７、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６２８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６３１、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６０３、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラード（商品名）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロン（商品名）Ｓ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（商品名）ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント（商品名）７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２１２Ｍ、２４５Ｆ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１、６８３（以上、（株）ネオス製）Ｕ－１２０Ｅ（ユニケム（株）製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック（商品名）ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファック（商品名）ＤＳ－２１が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
　フッ素系界面活性剤としては、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
　フッ素系界面活性剤としては、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。メガファック（商品名）ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤として、例えば、炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物が使用されてもよい。ただし、環境適性向上の観点から、フッ素系界面活性剤として、ペルフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）又はペルフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）の代替材料が使用されることが好ましい。

　炭化水素系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック（商品名）Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック（商品名）３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース（商品名）２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン（商品名）Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。

　シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤の具体例としては、
　ＥＸＰ．Ｓ－３０９－２、ＥＸＰ．Ｓ－３１５、ＥＸＰ．Ｓ－５０３－２、ＥＸＰ．Ｓ－５０５－２（以上、ＤＩＣ（株）製）ＤＯＷＳＩＬ（商品名）８０３２　ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＰ－１０１ＫＰ－１０３、ＫＰ－１０４、ＫＰ－１０５、ＫＰ－１０６、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１１２、ＫＰ－１２０、ＫＰ－１２１、ＫＰ－１２４、ＫＰ－１２５、ＫＰ－３０１、ＫＰ－３０６、ＫＰ－３１０、ＫＰ－３２２、ＫＰ－３２３、ＫＰ－３２７、ＫＰ－３４１、ＫＰ－３６８、ＫＰ－３６９、ＫＰ－６１１、ＫＰ－６２０、ＫＰ－６２１、ＫＰ－６２６、ＫＰ－６５２（以上、信越化学工業（株）製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３１３、ＢＹＫ３１５Ｎ、ＢＹＫ３３１、ＢＹＫ３３３、ＢＹＫ３４５、ＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８、ＢＹＫ３４９、ＢＹＫ３７０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３２３（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。

　界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性層が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～３．０質量％が好ましく、０．０１質量％～１．０質量％がより好ましく、０．０５質量％～０．８０質量％が更に好ましい。
　また、界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。

＜ラジカル重合禁止剤＞
　感光性層は、ラジカル重合禁止剤を含んでいてもよい。
　ラジカル重合禁止剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性層がラジカル重合禁止剤を含む場合、ラジカル重合禁止剤の含有量は、感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～３質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。含有量が０．０１質量％以上の場合、感光性層の保存安定性がより優れる。一方、含有量が３質量％以下である場合、感度の維持及び染料の脱色を抑制がより優れる。
　重合禁止剤としては、例えば、フェノチアジン、ビス－（１－ジメチルベンジル）フェノチアジン、及び、３，７－ジオクチルフェノチアジン等のフェノチアジン化合物；ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、１，３，５－トリス（４－ｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、及び、ペンタエリスリトールテトラキス３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のヒンダードフェノール化合物；４－ニトロソフェノール、Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミン、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン等のニトロソ化合物又はその塩；メチルハイドロキノン、ｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルハイドロキノン、及び、４－ベンゾキノン等のキノン化合物；４－メトキシフェノール、４－メトキシ－１－ナフトール、及び、ｔ－ブチルカテコール等のフェノール化合物；ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸マンガン、及び、ジフェニルジチオカルバミン酸マンガン等の金属塩化合物が挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、重合禁止剤としては、フェノチアジン化合物、ニトロソ化合物又はその塩、及び、ヒンダードフェノール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、フェノチアジン、ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩がより好ましい。

＜水素供与性化合物＞
　感光性層は、水素供与性化合物を含んでいてもよい。
　水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、及び、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
　水素供与性化合物としては、例えば、アミン類、及び、アミノ酸化合物が挙げられる。

　アミン類としては、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－０２０１８９号公報、特開昭５１－０８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－０８４３０５号公報、特開昭６２－０１８５３７号公報、特開昭６４－０３３１０４号公報、及び、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号等に記載の化合物が挙げられる。より具体的には、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタン（別名：ロイコクリスタルバイオレット）、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、及び、ｐ－メチルチオジメチルアニリンが挙げられる。
　中でも、感度、硬化速度、及び、硬化性の観点から、アミン類としては、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、及び、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタンよりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

　アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルグリシンが挙げられる。
　中でも、感度、硬化速度、及び、硬化性の観点から、アミノ酸化合物としては、Ｎ－フェニルグリシンが好ましい。

　また、水素供与性化合物としては、例えば、特公昭４８－０４２９６５号公報に記載の有機金属化合物（トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－０３４４１４号公報に記載の水素供与体、及び、特開平６－３０８７２７号公報に記載のイオウ化合物（トリチアン等）も挙げられる。

　水素供与性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性層が水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の点から、感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．０１質量％～８．０質量％がより好ましく、０．０３質量％～５．０質量％が更に好ましい。

＜不純物等＞
　樹脂層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。
　不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン及びこれらのイオンが挙げられる。中でも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及びカリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。

　樹脂層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上とすることができ、０．１ｐｐｍ以上としてもよい。

　不純物を上記範囲にする方法としては、組成物の原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、感光性層の作製時に不純物の混入を防ぐこと、及び洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。

　不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及びイオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。

　樹脂層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及びヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物の樹脂層の全質量に対する含有量としては、質量基準で、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましく、４ｐｐｍ以下が更に好ましい。
　下限は、質量基準で、樹脂層の全質量に対して、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。

　樹脂層における水の含有量は、信頼性を向上させる観点から、０．０１質量％～１．０質量％が好ましく、０．０５質量％～０．５質量％がより好ましい。

＜残存モノマー＞
　樹脂層は、上述したアルカリ可溶性樹脂の各構成単位に対応する残存モノマーを含む場合がある。
　残存モノマーの含有量は、コンタクトホール等の傾斜形状の形状安定性、及び、信頼性の点から、アルカリ可溶性樹脂全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーは、コンタクトホール等の傾斜形状の形状安定性、及び、信頼性の点から、樹脂層の全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。

　高分子反応でアルカリ可溶性樹脂を合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてアルカリ可溶性樹脂を合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
　残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。

＜他の成分＞
　感光性層は、既述の成分以外の成分（以下、「他の成分」ともいう。）を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、着色剤、酸化防止剤、及び、粒子（例えば、金属酸化物粒子）が挙げられる。また、他の成分としては、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載のその他の添加剤も挙げられる。

－粒子－
　粒子としては、金属酸化物粒子が好ましい。
　金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。
　粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の点から、１ｎｍ～２００ｎｍが好ましく、３ｎｍ～８０ｎｍがより好ましい。
　粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

　感光性層が粒子を含む場合、金属種、及び、大きさ等の異なる粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性層は、粒子を含まないか、あるいは、感光性層が粒子を含む場合には、粒子の含有量が感光性層の全質量に対して、０質量％超３５質量％以下が好ましく、粒子を含まないか、あるいは、粒子の含有量が感光性層の全質量に対して、０質量％超１０質量％以下がより好ましく、粒子を含まないか、あるいは、粒子の含有量が感光性層の全質量に対して０質量％超５質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないか、あるいは、粒子の含有量が感光性層の全質量に対して０質量％超１質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないことが特に好ましい。

－着色剤－
　感光性層は、着色剤（顔料、染料等）を含んでいてもよいが、例えば、透明性の点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
　感光性層が着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性層の全質量に対して、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。

－酸化防止剤－
　酸化防止剤としては、例えば、１－フェニル－３－ピラゾリドン（別名：フェニドン）、１－フェニル－４，４－ジメチル－３－ピラゾリドン、及び、１－フェニル－４－メチル－４－ヒドロキシメチル－３－ピラゾリドン等の３－ピラゾリドン類；ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、及び、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類；パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、及び、パラフェニレンジアミンが挙げられる。
　中でも、保存安定性、及び、硬化性の観点から、酸化防止剤としては、３－ピラゾリドン類が好ましく、１－フェニル－３－ピラゾリドンがより好ましい。

　感光性層が酸化防止剤を含む場合、酸化防止剤の含有量は、感光性層の全質量に対して、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、１質量％以下が好ましい。

＜樹脂層の厚み＞
　感光性層の厚み（層厚）は、特に制限されないが、現像性及び解像性の観点から、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下が更に好ましく、１０μｍ以下が特に好ましく、５．０μｍ以下が最も好ましい。下限としては、感光性層を硬化して得られる膜の強度が優れる点で、０．６０μｍ以上が好ましく、１．５μｍ以上がより好ましい。

＜樹脂層の屈折率＞
　樹脂層の屈折率は、１．４７～１．５６が好ましく、１．４９～１．５４がより好ましい。

＜樹脂層の色＞
　感光性層を硬化して得られるパターン（樹脂層）は、無彩色であることが好ましい。
　具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ^＊，ａ^＊，ｂ^＊）色空間において、パターンのＬ^＊値は１０～９０であることが好ましく、パターンのａ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、パターンのｂ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。

＜樹脂層の透湿度＞
　感光性層を硬化して得られるパターン（樹脂層）の層厚４０μｍでの透湿度は、防錆性の観点から、５００ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）以下であることが好ましく、３００ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）以下であることがより好ましく、１００ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）以下であることが更に好ましい。
　なお、透湿度は、感光性層を、ｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２にて露光した後、１４５℃、３０分間のポストベークを行うことにより、感光性層を硬化させた硬化膜で測定する。

＜感光性層の形成方法＞
　感光性層の形成方法は、上記の成分を含有する層を形成可能な方法であれば特に制限されない。
　感光性層の形成方法としては、例えば、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及び溶剤等を含有する感光性樹脂組成物を調製し、例えば、仮支持体等の表面に感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。
　感光性樹脂組成物の塗膜の乾燥方法としては、加熱乾燥及び減圧乾燥が好ましい。なお、本明細書において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、及び、減圧乾燥が挙げられる。上記した方法を単独で又は複数組み合わせて適用することができる。
　乾燥温度としては、８０℃以上が好ましく、９０℃以上がより好ましい。また、その上限値としては１３０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましい。温度を連続的に変化させて乾燥させることもできる。

　感光性層の形成に使用される感光性樹脂組成物としては、例えば、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、上記の任意成分及び溶剤を含有する組成物が挙げられる。
　感光性樹脂組成物は、感光性樹脂組成物の粘度を調節し、感光性層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
　また、乾燥時間としては、２０秒以上が好ましく、４０秒以上がより好ましく、６０秒以上が更に好ましい。また、その上限値としては特に制限されないが、６００秒以下が好ましく、３００秒以下がより好ましい。

－溶剤－
　感光性樹脂組成物に含有される溶剤としては、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及び上記の任意成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されず、公知の溶剤を使用できる。
　溶剤としては、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びにこれらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。
　仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層及び感光性層を備える感光性転写材料を作製する場合、感光性樹脂組成物は、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。中でも、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種と、ケトン溶剤及び環状エーテル溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種とを含む混合溶剤がより好ましく、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種、ケトン溶剤、並びに環状エーテル溶剤の３種を少なくとも含む混合溶剤が更に好ましい。

　アルキレングリコールエーテル溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル及びジプロピレングリコールジアルキルエーテルが挙げられる。
　アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられる。
　溶剤としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～００９４に記載された溶剤、及び、特開２０１８－１７７８８９公報の段落００１４に記載された溶剤を用いてもよく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　感光性樹脂組成物は、溶剤を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
　感光性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。

　感光性樹脂組成物の調製方法は特に制限されず、例えば、各成分を上記溶剤に溶解させた溶液を予め調製し、得られた溶液を所定の割合で混合することにより、感光性樹脂組成物を調製する方法が挙げられる。
　感光性樹脂組成物は、感光性層を形成する前に、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルターを用いてろ過することが好ましい。

　感光性樹脂組成物の塗布方法は特に制限されず、公知の方法で塗布すればよい。塗布方法としては、例えば、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布及びインクジェット塗布が挙げられる。
　また、感光性層は、感光性樹脂組成物を後述する保護フィルム上に塗布し、乾燥することにより形成してもよい。

〔屈折率調整層〕
　本開示に係る積層体は、屈折率調整層を更に有していることが好ましい。
　屈折率調整層は、１層であっても、２層以上であってもよい。
　屈折率調整層としては、公知の屈折率調整層を適用できる。屈折率調整層に含まれる材料としては、例えば、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、金属塩、及び、粒子が挙げられる。
　屈折率調整層の屈折率を制御する方法は、特に制限されず、例えば、所定の屈折率の樹脂を単独で用いる方法、樹脂と粒子とを用いる方法、及び、金属塩と樹脂との複合体を用いる方法が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂及びエチレン性不飽和化合物としては、例えば、上記「感光性層」の項において説明したアルカリ可溶性樹脂及びエチレン性不飽和化合物が挙げられる。

　粒子としては、例えば、金属酸化物粒子、及び、金属粒子が挙げられる。
　金属酸化物粒子の種類は特に制限はなく、公知の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。

　粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の点から、１ｎｍ～２００ｎｍが好ましく、３ｎｍ～８０ｎｍがより好ましい。
　粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

　金属酸化物粒子としては、具体的には、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、Ｎｂ_２Ｏ_５粒子、酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）、二酸化珪素粒子（ＳｉＯ_２粒子）、及び、これらの複合粒子よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　これらの中でも、金属酸化物粒子としては、例えば、屈折率を調整しやすいという点から、酸化ジルコニウム粒子及び酸化チタン粒子よりなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。

　金属酸化物粒子の市販品としては、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック（株）製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ０４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック(株）製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック（株）製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７５）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック（株）製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７６）、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｍ、日産化学工業（株）製）、及び、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｋ、日産化学工業（株）製）が挙げられる。

　粒子は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　屈折率調整層における粒子の含有量は、屈折率調整層の全質量に対し、１質量％～９５質量％が好ましく、２０質量％～９０質量％がより好ましく、４０質量％～８５質量％が更に好ましい。
　金属酸化物粒子として酸化チタンを用いる場合、酸化チタン粒子の含有量は、屈折率調整層の全質量に対して、１質量％～９５質量％が好ましく、２０質量％～９０質量％がより好ましく、４０質量％～８５質量％が更に好ましい。

　屈折率調整層の屈折率は、感光性層の屈折率よりも高いことが好ましい。
　屈折率調整層の屈折率は、１．５０以上が好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．６０以上が更に好ましく、１．６５以上が特に好ましい。屈折率調整層の屈折率の上限は、２．１０以下が好ましく、１．８５以下がより好ましく、１．７８以下が特に好ましい。

　屈折率調整層の厚みは、５０ｎｍ～５００ｎｍが好ましく、５５ｎｍ～１１０ｎｍがより好ましく、６０ｎｍ～１００ｎｍが更に好ましい。

＜屈折率調整層形成用組成物及び屈折率調整層の形成方法＞
　屈折率調整層形成用組成物としては、上述した屈折率調整層を形成する各種成分と溶剤とを含むことが好ましい。なお、屈折率調整層形成用組成物において、組成物の全固形分に対する各成分の含有量の好適範囲は、上述した屈折率調整層の全質量に対する各成分の含有量の好適範囲と同じである。
　溶剤としては、屈折率調整層に含まれる成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されず、水及び水混和性の有機溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、水又は水と水混和性の有機溶剤との混合溶剤がより好ましい。
　水混和性の有機溶剤としては、例えば、炭素数１～３のアルコール、アセトン、エチレングリコール、及びグリセリンが挙げられ、炭素数１～３のアルコールが好ましく、メタノール又はエタノールがより好ましい。
　溶剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
　溶剤の含有量は、組成物の全固形分１００質量部に対して、５０質量部～２，５００質量部が好ましく、５０質量部～１，９００質量部がより好ましく、１００質量部～９００質量部が更に好ましい。

　本開示に係る積層体は、上述した層以外の層（以下「その他の層」ともいう。）を備えてもよい。
　その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を設けることができる。

〔用途〕
　本開示に係る積層体は、種々の装置に適用することができる。上記積層体を備えた装置としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置、プリント配線板、半導体パッケージ、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましく、静電容量型タッチパネルであることがより好ましい。また、上記入力装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の表示装置に適用することができる。
　また、本開示に係る積層体は、タッチセンサーとして好適に用いることができる。

〔積層体の製造方法〕
　本開示に係る積層体の製造方法は、特に制限はないが、感光性層を露光する工程（以下「露光工程」ともいう。）を含むことが好ましく、散乱板を介して感光性層を露光する工程を含むことがより好ましい。

＜露光工程＞
　積層体の製造方法は、感光性層を露光する工程を含むことが好ましい。また、上記露光は、パターン状に露光することが好ましい。
　なお、ここで、「パターン状に露光」とは、パターン状に露光する形態、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光を指す。なお、本開示においては、コンタクトホールを含むパターンを形成することが好ましい。
　パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は特に制限されず、適宜調整される。
　感光性層は、基板が設けられた側とは反対側から露光してもよいし、基板が設けられた側から露光してもよい。

　上記コンタクトホールを形成する方法としては、特に制限はないが、散乱板を介して露光する方法、及び、露光マスクと感光性層とを離して（ギャップを設けて）露光する方法が好適に挙げられ、散乱板を介して露光する方法がより好適に挙げられる。

（散乱板）
　露光工程では、散乱光の照射は、露光光源と感光性層との間に配置された散乱板を介して行うことが好ましい。
　散乱板は、独立して設けられてもよく、例えば、露光マスクの基材、ドライフィルムレジストにおける仮支持体等に散乱性を有する材料を用いて、散乱板としの機能を付与してもよい。
　拡散透過率の測定は、光拡散透過率の指標を用いる。光拡散透過率とは、散乱板に光を当て、散乱板を透過する光のうち、平行成分と拡散成分とを全て含めた光線の全透過率から平行成分を除いた拡散光の透過率を指す。
　光拡散透過率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６「プラスチック－透明材料のヘーズの求め方」に準拠して求めることができる。
　即ち、へーズとは、下記式で表される値を示し、従って、ヘーズメーターを用いることで、被検体である散乱板の拡散透過率を求めることができる。
　曇価（へーズ）％＝〔拡散透過率（Ｔｄ）／全光透過率（Ｔｔ）〕×１００
　本開示における測定装置としては、日本電色工業（株）ヘーズメーター　ＮＤＨ７０００ＩＩを用いた値を採用している。

　散乱板の拡散透過率は、５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、７０％以上が更に好ましく、９０％以上が特に好ましい。
　拡散透過率の上限には特に制限されないが、例えば、１００％とすることができる。

　散乱板の散乱角は、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、５°以上であることが好ましく、１０°以上であることがより好ましく、１５°以上であることが更に好ましく、２０°以上６０°以下であることが特に好ましく、２０°以上４０°以下であることが最も好ましい。ここで、散乱角とは、散乱板を透過した光の垂直方向を０°の強度として、その２分の１の強度となる角度までの幅（プラス側、マイナス側の合計）を意味する。半値全角という言葉で表現される場合もある。
散乱角は、ゴニオメータなどを用いて測定することができる。
　光の散乱特性は一般的にプラス側とマイナス側で対称になるが、プラス側とマイナス側が非対称の場合でも、散乱角の定義は変更されない。
　散乱角の値が測定面の向きによって異なる場合には、その中で最大の値を、その散乱板の散乱角とする。

　散乱板は、上記拡散透過率を達成できれば特に制限はない。中でも、拡散透過率の調整が容易であり、入手しやすいという観点からは、散乱板は、マトリックス材料とマトリックス材料中に存在する粒子とを含有する散乱板（以下、マトリックス材料と粒子とを含有する散乱板と称することがある）、又は、少なくとも一方の面に凹凸を有する散乱板であることが好ましい。

－マトリックス材料と粒子とを含有する散乱板－
　本開示の製造方法に用いられる散乱板の一態様として、マトリックス材料とマトリックス材料中に存在し、散乱板に光散乱性を付与するための粒子（以下、特定粒子と称することがある）とを含有する層が挙げられる。
　特定粒子を含む散乱板は、特定粒子が透明なマトリックス材料に分散されて含まれる層であることが好ましい。
　マトリックス材料としては、ガラス、石英、樹脂材料等が挙げられる。
　マトリックス材料としてガラスや石英を用いる場合には、ガラスや石英に特定粒子を練り込んで均一に分散させ、散乱板とすればよい。
　マトリックス材料として樹脂材料を用いる場合、紫外線透過性の樹脂層を形成し得る樹脂であることが好ましく、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。
　マトリックス材料として樹脂材料を用いる場合には、散乱板の形成は、公知の方法で行うことができる。例えば、マトリックス材料の樹脂ペレットと特定粒子を溶融混練して、射出成型により板状の散乱板を得ることができる。また、樹脂の前駆体モノマーと特定粒子とを含む樹脂組成物を硬化して散乱板としてもよく、樹脂材料と任意成分としての溶媒等を含む混合物に、特定粒子を混練した樹脂組成物を硬化して散乱板としてもよい。なお、散乱板の形成方法は、上記に限定されない。

　特定粒子が散乱板に十分な光散乱性を与えるためには、マトリックス材料と特定粒子との屈折率差が０．０５以上であることが好ましい。屈折率差は０．０５～１．０の範囲であることがより好ましく、０．０５～０．６であることが更に好ましい。
　マトリックス材料と特定粒子との屈折率差が上記範囲であると、散乱光強度を大きくすることができ、且つ、散乱高強度が大きすぎる場合に懸念される入射光の反射が大きくなりすぎることに起因するエネルギーの付与低下が抑制され、感光性層を硬化させるのに十分なエネルギー量を付与することができる。

　特定粒子が、散乱板に十分な光散乱性を与えるためには、特定粒子のサイズは、平均一次粒子径が０．３μｍ以上であることが好ましい。特定粒子の平均一次粒子径は、０．３μｍ～２．０μｍの範囲であることが好ましく、０．５μｍ～１．５μｍの範囲であることがより好ましい。平均一次粒子径が上記範囲であると、紫外線のミー散乱が発生し、前方散乱光の強度が大きくなり、感光性層を硬化させるのに十分なエネルギー量を付与しやすい。
　特定粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて視野角内に存在する任意の特定粒子２００個の粒子径を測定し、測定した数値を算術平均することにより算出したものを採用する。
　なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

　特定粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、酸化ニオブ粒子（Ｎｂ_２Ｏ_５粒子）、酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）、酸化アルミニウム粒子（Ａｌ_２Ｏ_３粒子）、二酸化珪素粒子（ＳｉＯ_２粒子）等の無機粒子、及び、架橋ポリメタクリル酸メチル等の有機粒子が挙げられる。

　散乱板は、特定粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　特定粒子の含有量には特に制限はなく、散乱板における特定粒子の種類、サイズ、含有量、形状、屈折率等を調整することで、所望の拡散透過率あるいは所望の散乱角を達成することが好ましい。
　特定粒子の含有量としては、例えば、散乱板の全質量に対し、５質量％～５０質量％とすることができる。

－少なくとも一方の面に凹凸を有する散乱板－
　散乱板の他の態様として、少なくとも一方の面に凹凸を有する散乱板が挙げられる。散乱板の少なくとも一方の面に凹凸を有することで、凹凸により光が散乱され、散乱板を介して、感光性層に対して散乱光が照射される。
　散乱板における凹凸は、隣り合う凸部と凸部との頂部間の距離が１０μｍ～５０μｍであることが好ましい。
　凹凸は、隣接する凸部と凸部の底部間が接しており、隣接する凸部と凸部が空隙等の間隔を有さず密に形成されることが光散乱性の観点から好ましい。
　凸部のサイズ、形状、凸部の単位面積当たりの形成密度等を調製することで、所望の拡散透過率あるいは所望の散乱角を達成し得る。凸部の形状には特に制限はなく、半球形、円錐形、角錐形、畝状等、目的とする拡散透過率、拡散角度等により、適宜選択される。

　少なくとも一方の面に凹凸を有する散乱板は、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、（株）オプティカルソリューションズ製、レンズ拡散板（登録商標）、商品名：（以下、同じ）ＬＳＤ５ＡＣＵＶＴ１０、ＬＳＤ１０ＡＣＵＶＴ１０、ＬＳＤ２０ＡＣＵＶＴ１０、ＬＳＤ３０ＡＣＵＶＴ１０、ＬＳＤ４０ＡＣＵＶＴ１０、ＬＳＤ６０ＡＣＵＶＴ１０、ＬＳＤ８０ＡＣＵＶＴ１０（以上、紫外線透過アクリル樹脂製）、
　レンズ拡散板（登録商標）：ＬＳＤ５ＡＣ１０、ＬＳＤ１０ＡＣ１０、ＬＳＤ２０ＡＣ１０、ＬＳＤ３０ＡＣ１０、ＬＳＤ４０ＡＣ１０、ＬＳＤ６０ＡＣ１０、ＬＳＤ８０ＡＣ１０（以上、アクリル樹脂製）、
　レンズ拡散板（登録商標）：ＬＳＤ５ＰＣ１０、ＬＳＤ１０ＰＣ１０、ＬＳＤ２０ＰＣ１０、ＬＳＤ３０ＰＣ１０、ＬＳＤ４０ＰＣ１０、ＬＳＤ６０ＰＣ１０、ＬＳＤ８０ＰＣ１０、ＬＳＤ６０×１０ＰＣ１０、ＬＳＤ６０×１ＰＣ１０、ＬＳＤ４０×１ＰＣ１０、ＬＳＤ３０×５ＰＣ１０（以上、ポリカーボネート製）、
　レンズ拡散板（登録商標）：ＬＳＤ５Ｕ３ＰＳ（以上、石英ガラス製）等が挙げられる。

　その他の散乱板としては、日本特殊光学樹脂（株）製のフライアイレンズＦＥ１０、（有）フィット製のＤｉｆｆｕｓｅｒ、サンテックオプト（株）製のＳＤＸＫ－１ＦＳ，ＳＤＸＫ－ＡＦＳ、ＳＤＸＫ－２ＦＳ、フィルプラス（株）製の光拡散フィルムＭＸ、（株）渋谷光学製のアクリル拡散板ＡＤＦ９０１、ＡＤＦ８５２、ＡＤＦ８０３、ＡＤＦ７５４、ＡＤＦ７０５、ＡＤＦ６５６、ＡＤＦ６０７、ＡＤＦ５５８、ＡＤＦ５０９、ＡＤＦ４５１、王子エフテックス（株）製のナノバックリング（登録商標）、リンテック（株）製の光拡散フィルムＨＤＡ０６０，ＨＡＡ１２０、ＧＢＡ１１０、ＤＣＢ２００，ＦＣＢ２００、ＩＫＡ１３０、ＥＤＢ２００、スリーエムジャパン（株）製のスコッチカル（登録商標）光拡散ディフューザーフィルム３６３５－３０、３６３５－７０、（株）きもと製のライトアップ（登録商標）ＳＤＷ，ＥＫＷ，Ｋ２Ｓ，ＬＤＳ，ＰＢＵ，ＧＭ７，ＳＸＥ，ＭＸＥ、ＳＰ６Ｆ、オプトセーバー（登録商標）Ｌ－９，Ｌ－１１，Ｌ－１９，Ｌ－２０，Ｌ－３５，Ｌ－５２，Ｌ－５７、ＳＴＣ３，ＳＴＥ３、ケミカルマット（登録商標）７５ＰＷＸ，１２５ＰＷ，７５ＰＢＡ，７５ＢＬＢ，７５ＰＢＢ、恵和（株）製のオパルス（登録商標）ＰＢＳ－６８９Ｇ，ＰＢＳ－６８０Ｇ，ＰＢＳ－６８９ＨＦ，ＰＢＳ－６８０ＨＧ，ＰＢＳ－６７０Ｇ，ＵＤＤ－１４７Ｄ２，ＵＤＤ－１４８Ｄ２、ＳＨＢＳ－２２７Ｃ１，ＳＨＢＳ－２２８Ｃ２，ＵＤＤ－２４７Ｄ２、ＰＢＳ－６３０Ｌ，ＰＢＳ－６３０Ａ，ＰＢＳ－６３２Ａ，ＢＳ－５３９，ＢＳ－５３０，ＢＳ－５３１，ＢＳ－９１０，ＢＳ－９１１，ＢＳ－９１２、（株）クラレ製のレジェンダ（登録商標）ＰＣ，ＣＬ，ＨＣ，ＯＣ，ＴＲ，ＭＣ，ＳＱ，ＥＬ，ＯＥ、（株）ツジデン製のＤ１２０Ｐ，Ｄ１２１ＵＰＺ，Ｄ１２１ＵＰ，Ｄ２６１ＳＩＩＩＪ１、Ｄ２６１ＩＶＪ１、Ｄ２６３ＳＩＩＩ、Ｓ２６３ＳＩＶ，Ｄ１７１，Ｄ１７１Ｓ，Ｄ１７４Ｓ等が挙げられる。

　散乱板の厚みは、２ｍｍ以下が好ましく、１ｍｍ以下がより好ましく、２００μｍ以下が更に好ましい。
　散乱板の厚みは、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。
　散乱板の厚みは、散乱板の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察して測定した、任意の５箇所の測定値の算術平均値を採用する。

　散乱光の照射は、独立した散乱板を介する光照射に限定されない。
　例えば、露光マスクにおける遮光部以外の層が光散乱性を有する散乱性露光マスク、転写材料における仮支持体に光散乱性を有する散乱性仮支持体等を用いることができる。散乱性露光マスクを用いれば、露光マスクを介した光は散乱光となる。また、感光性層を基材に転写した後、散乱性仮支持体を剥離することなく露光することで、散乱性仮支持体を介した光は散乱光となる。

　露光工程における散乱光の照射において、散乱板の配置位置は、露光光源と感光性層との間であれば、配置位置には特に制限はない。
　例えば、上記感光性層における上記基材が設けられた側とは反対側に、露光マスクと、散乱板と、露光光源と、をこの順に有してもよく、上記感光性層における上記基材が設けられた側とは反対側に、散乱板と、露光マスクと、露光光源と、をこの順に有してもよい。

　露光マスクと感光性層とを離して（ギャップを設けて）露光する方法における露光マスクと感光性層とのギャップ（距離）としては、上記コンタクトホール等の傾斜領域を有する形状が形成可能であれば、特に制限はないが、パターニング部分のエッジの視認抑制性、及び、導通性の観点から、１０μｍ～５００μｍであることが好ましく、１０μｍ～２００μｍであることがより好ましく、２０μｍ～１００μｍであることが更に好ましく、５０μｍ～１００μｍであることが特に好ましい。

　露光に使用する光源は、感光性層を露光可能な波長の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射する光源であれば、適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）が挙げられる。
　露光量としては、５ｍＪ／ｃｍ^２～２００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２～１００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　露光に使用する光源、露光量及び露光方法の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４６～０１４７に記載が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　感光性転写材料を用いる場合、露光工程においては、感光性層から仮支持体を剥離した後にパターン露光してもよく、仮支持体を剥離する前に、仮支持体を介してパターン露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。露光マスクは、露光前に仮支持体を剥離した場合には、感光性層と接触させて露光してもよいし、接触せずに近接させて露光してもよい。仮支持体を剥離せずに露光する場合には、マスクは、仮支持体と接触させて露光してもよいし、接触せずに近接させて露光してもよい。感光性層とマスクとの接触によるマスク汚染の防止、及びマスクに付着した異物による露光への影響を避けるためには、仮支持体を剥離せずにパターン露光することが好ましい。なお、露光方式は、接触露光の場合は、コンタクト露光方式、非接触露光方式の場合は、プロキシミティ露光方式、レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光方式、露光レーザー等を用いたダイレクト露光方式を適宜選択して用いることができる。レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光の場合、必要な解像力、焦点深度に応じて、適当なレンズの開口数（ＮＡ）を有する露光機を用いることができる。ダイレクト露光方式の場合は、直接感光性層に描画を行ってもよいし、レンズを介して感光性層に縮小投影露光をしてもよい。また、露光は大気下で行うだけでなく、減圧、真空下で行ってもよく、また、光源と感光性層との間に水等の液体を介在させて露光してもよい。

　露光マスクを介して露光する場合のマスクの基材としては、石英マスク、ソーダライムガラスマスク、フィルムマスクなどが挙げられる。中でも、石英マスクは寸法精度に優れる点が好ましく、フィルムマスクは、低コスト且つ大サイズ化が容易である点で好ましい。フィルムマスクの基材としては、ポリエステルフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。
フィルムマスクの基材の具体例としては、ＸＰＲ－７Ｓ　ＳＧ（富士フイルムグローバルグラフィックシステムズ（株）製）が挙げられる。

＜現像工程＞
　積層体の製造方法は、上記露光工程の後、露光された感光性層を現像する工程（現像工程）を含むことが好ましい。

　現像工程における露光された感光性層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
　現像液としては、感光性層の非画像部（非露光部）を除去することができれば特に制限されず、例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液等の公知の現像液が使用できる。
　現像液としては、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ～５ｍｏｌ／Ｌ（リットル）の濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。現像液は、水溶性の有機溶剤及び／又は界面活性剤を含有してもよい。
　アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。
　現像液としては、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液も好ましく挙げられる。好適に用いられる現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９５に記載の現像方式が挙げられる。

　現像方式としては、特に制限されず、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、並びに、ディップ現像のいずれであってもよい。シャワー現像とは、露光後の感光性層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、非露光部を除去する現像処理である。
　現像工程の後に、洗浄剤をシャワーにより吹き付け、ブラシで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
　現像液の液温は特に制限されないが、２０℃～４０℃が好ましい。

　本開示に係る積層体の製造方法は、感光性転写材料を用いることが好ましい。
　感光性転写材料を用いる場合、積層体の製造方法としては、感光性転写材料から保護フィルムを剥離する工程（以下、「保護フィルム剥離工程」ともいう。）と、上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層を、基板に接触させて貼り合わせる工程（以下「貼り合わせ工程」ともいう。）と、上記露光工程と、上記現像工程と、をこの順に含む方法が好ましい。

　本開示に用いられる感光性転写材料は、仮支持体と、感光性層とを有することが好ましく、仮支持体と、感光性層と、屈折率調整層とを有することがより好ましい。
　感光性転写材料は、仮支持体と感光性層とが他の層を介さずに直接積層されていてもよいし、仮支持体と感光性層とが他の層を介して積層されていてもよい。また、感光性層の仮支持体に対向する面とは反対側の面に他の層が積層していてもよい。
　仮支持体及び感光性層以外の他の層としては、例えば、熱可塑性樹脂層、中間層、屈折率調整層及び保護フィルムが挙げられる。
　また、各層は、単層であっても、２層以上の複層であってもよい。

　感光性転写材料の態様の一例を以下に示すが、これに制限されない。
（１）「仮支持体／感光性層／屈折率調整層／保護フィルム」
（２）「仮支持体／感光性層／保護フィルム」
　なお、上記各構成において、感光性層は、ネガ型感光性層であることが好ましい。本開示に係る感光性転写材料は、配線保護膜用感光性転写材料として使用されてもよい。

　感光性転写材料において、感光性層の仮支持体側とは反対側に他の層を更に有する構成の場合、感光性層の仮支持体側とは反対側に配置される他の層の合計厚みは、感光性層の層厚に対して、０．１％～３０％であることが好ましく、０．１％～２０％であることがより好ましい。

　後述する貼り合わせ工程時における気泡発生抑止の観点から、感光性転写材料のうねりの最大幅は、３００μｍ以下であることが好ましく、２００μｍ以下であることがより好ましく、６０μｍ以下であることが更に好ましい。なお、感光性転写材料のうねりの最大幅の下限値としては、０μｍ以上であり、０．１μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。
　感光性転写材料のうねりの最大幅は、以下の手順により測定される値である。
　まず、感光性転写材料を縦２０ｃｍ×横２０ｃｍのサイズとなるように主面に垂直な方向に裁断し、試験サンプルを作製する。なお、感光性転写材料が保護フィルムを有する場合には、保護フィルムを剥離する。次いで、表面が平滑で且つ水平なステージ上に、上記試験サンプルを仮支持体の表面がステージに対向するように静置する。静置後、試験サンプルの中心１０ｃｍ角の範囲について、試験サンプルの表面をレーザー顕微鏡（例えば、（株）キーエンス製ＶＫ－９７００ＳＰ）で走査して３次元表面画像を取得し、得られた３次元表面画像で観察される最大凸高さから最低凹高さを引き算する。上記操作を１０個の試験サンプルについて行い、その算術平均値を「感光性転写材料のうねり最大幅」とする。

－仮支持体－
　本開示に用いられる感光性転写材料は、仮支持体を有することが好ましい。
　また、仮支持体は最終的には除去されるため、本開示に係る積層体には含まれない。
　仮支持体は、感光性層又は感光性層を含む積層体前駆体を支持し、且つ、剥離可能な支持体である。

　仮支持体は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。
　仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮、又は、伸びを生じないフィルムが好ましい。
　上記フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、ポリメチルメタクリレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　中でも、仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
　また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、及び、傷等がないことが好ましい。

　仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという観点から、透明性が高いことが好ましく、３６５ｎｍの透過率は６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が更に好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる粗大粒子、異物、及び、欠陥の数は少ない方が好ましい。仮支持体中における直径１μｍ以上の粒子、異物、及び、欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／１０ｍｍ^２以下がより好ましく、３個／１０ｍｍ^２以下が更に好ましく、０個／１０ｍｍ^２が特に好ましい。

　仮支持体の厚み（層厚）は、特に制限されないが、５μｍ～２００μｍの範囲が好ましく、取扱い易さ及び汎用性の点から、１０μｍ～１５０μｍの範囲がより好ましく、１０μｍ～５０μｍの範囲が更に好ましい。
　仮支持体の厚みは、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡：Scanning Electron Microscope）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

　仮支持体としては、例えば、膜厚１６μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、膜厚１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、及び、膜厚９μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。

　仮支持体の好ましい態様としては、例えば、特開２０１４－８５６４３号公報の段落００１７～００１８、特開２０１６－２７３６３号公報の段落００１９～００２６、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落００４１～００５７、国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落００２９～００４０、及び、特開２０１９－１０１４０５号公報の段落００１２～００３２に記載があり、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。

　ハンドリング性を付与する観点から、仮支持体の表面に、微小な粒子を含む層（「滑剤層」ともいう。）を設けてもよい。滑剤層は、仮支持体の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。滑剤層に含まれる粒子の直径は、０．０５μｍ～０．８μｍが好ましい。
　また、滑剤層の厚みは、０．０５μｍ～１．０μｍが好ましい。

〔保護フィルム〕
　感光性転写材料は、仮支持体側とは反対側における最外層として、保護フィルムを備えることが好ましい。また、感光性転写材料は、感光性層における仮支持体が設けられた側とは反対側の面に接するように保護フィルムを設けることがより好ましい。
　また、保護フィルムは転写時に除去されるため、本開示に係る積層体には含まれない。

　保護フィルムを構成する材料としては、樹脂フィルム及び紙が挙げられ、強度及び可撓性の観点から、樹脂フィルムが好ましい。
　樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、又は、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。

　保護フィルムの厚み（層厚）は、特に制限されないが、１μｍ～１００μｍが好ましく、５μｍ～５０μｍがより好ましく、５μｍ～４０μｍが更に好ましく、１５μｍ～３０μｍが特に好ましい。
　また、保護フィルムの感光性層に接する面（以下単に「保護フィルムの表面」ともいう）の算術平均粗さＲａ値は、解像性により優れる点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下がより好ましく、０．０５μｍ以下が更に好ましい。保護フィルムの表面のＲａ値が上記範囲であることにより、感光性層及び形成される樹脂パターンの層厚の均一性が向上するためと考えられる。
　保護フィルムの表面のＲａ値の下限は特に制限されないが、０．００１μｍ以上が好ましい。

　保護フィルムの表面のＲａ値は、以下の方法で測定される。
　３次元光学プロファイラー（Ｎｅｗ　Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて保護フィルムの表面を測定し、光学フィルムの表面プロファイルを得る。
　測定・解析ソフトとしては、ＭｅｔｒｏＰｒｏ　ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いる。次に、上記解析ソフトにてＳｕｒｆａｃｅ　Ｍａｐ画面を表示し、Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｍａｐ画面中でヒストグラムデータを得る。得られたヒストグラムデータから、算術平均粗さを算出し、保護フィルムの表面のＲａ値を得る。
　保護フィルムが感光性転写材料に貼り合わされている場合は、感光性転写材料から保護フィルムを剥離して、剥離した側の表面のＲａ値を測定すればよい。

　更に、保護フィルムを感光性層等に貼り合わせることにより、感光性転写材料を製造できる。
　保護フィルムを感光性層等に貼り合わせる方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　保護フィルムを感光性層に貼り合わせる装置としては、真空ラミネーター、及び、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターが挙げられる。
　ラミネーターはゴムローラー等の任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができるものであることが好ましい。

　感光性転写材料は、上述した層以外の層（以下「その他の層」ともいう。）を備えてもよい。その他の層としては、例えば、屈折率調整層（コントラストエンハンスメント層）が挙げられる。
　コントラストエンハンスメント層については、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４に記載されている。また、その他の層については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～０１９６に記載されている。これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。

　感光性転写材料における仮支持体及び保護フィルムを除く各層の総厚みは、解像性、及び、基板との密着性の観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
　また、感光性転写材料における感光性層、中間層及び熱可塑性樹脂層の総厚みは、解像性、及び、基板との密着性の観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。

＜貼り合わせ工程＞
　積層体の製造方法は、貼り合わせ工程を含むことが好ましい。
　貼り合わせ工程においては、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層に基板（基板の表面に導電層が設けられている場合は導電層）を接触させ、感光性転写材料と基板とを圧着させることが好ましい。

　なお、感光性転写材料が保護フィルムを備える場合は、感光性層の表面から保護フィルムを除去した後、貼り合わせればよい。
　また、貼り合わせ工程は、感光性転写材料が感光性層の仮支持体と対向していない側の表面に保護フィルム以外の層（例えば高屈折率層及び／又は低屈折率層）を更に備える場合、感光性層の仮支持体を有していない側の表面と基板とがその層を介して貼り合わされる態様となる。

　基板と感光性転写材料とを圧着する方法としては、特に制限されず、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。
　感光性転写材料の基板への貼り合わせは、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層と基板と重ね、ロール等の手段を用いて加圧及び加熱を施すことにより、行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターが使用できる。
　ラミネート温度としては、特に制限されないが、例えば、７０℃～１３０℃であることが好ましい。

　貼り合わせ工程を含む積層体の製造方法は、ロールツーロール方式により行われることが好ましい。
　以下、ロールツーロール方式について説明する。
　ロールツーロール方式とは、基材として、巻き取り及び巻き出しが可能な基材を用い、積層体の製造方法に含まれるいずれかの工程の前に、基材又は基材を含む構造体を巻き出す工程（「巻き出し工程」ともいう。）と、いずれかの工程の後に、基材又は基材を含む構造体を巻き取る工程（「巻き取り工程」ともいう。）と、を含み、少なくともいずれかの工程（好ましくは、全ての工程、又は加熱工程以外の全ての工程）を、基材又は基材を含む構造体を搬送しながら行う方式をいう。
　巻き出し工程における巻き出し方法、及び巻き取り工程における巻取り方法としては、特に制限されず、ロールツーロール方式を適用する製造方法において、公知の方法を用いればよい。

＜剥離工程＞
　積層体の製造方法は、貼り合わせ工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、仮支持体を剥離する剥離工程を含む。
　仮支持体の剥離方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落０１６１～０１６２に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を使用できる。

＜保護フィルム剥離工程＞
　感光性転写材料が保護フィルムを備える場合、積層体の製造方法は、感光性転写材料から保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。保護フィルムを剥離する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。

＜ポスト露光工程及びポストベーク工程＞
　積層体の製造方法は、上記現像工程によって得られた樹脂パターンを、露光する工程（ポスト露光工程）、及び／又は、加熱する工程（ポストベーク工程）を有していてもよい。
　ポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。
　ポスト露光の露光量は、１００ｍＪ／ｃｍ^２～５，０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ^２～３，０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　ポストベークの温度は、８０℃～２５０℃が好ましく、９０℃～１６０℃がより好ましい。
　ポストベークの時間は、１分～１８０分が好ましく、１０分～６０分がより好ましい。

＜その他の工程＞
　積層体の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下の工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。

　また、積層体の製造方法に適用可能な現像工程及びその他の工程としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の工程が挙げられる。
　更に、その他の工程としては、例えば、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落０１７２に記載の可視光線反射率を低下させる工程、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落０１７２に記載の絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程等が挙げられるが、これらの工程に制限されない。

－可視光線反射率を低下させる工程－
　積層体の製造方法は、基板が有する複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理を行う工程を含んでいてもよい。
　可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理が挙げられる。基板が銅を含有する導電層を有する場合、銅を酸化処理して酸化銅とし、導電層を黒化することにより、導電層の可視光線反射率を低下させることができる。
　可視光線反射率を低下させる処理については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落００１７～００２５、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落００４１、段落００４２、段落００４８及び段落００５８に記載されており、これらの公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。

－絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程－
　積層体の製造方法は、上記樹脂層の表面に新たな導電層を形成する工程を含むことも好ましい。
　上記樹脂層上に新たな導電層を形成する工程は、特に制限されず、例えば、導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。

　積層体の製造方法は、基材として、基板の両方の表面にそれぞれ複数の導電層を有する基板を用い、基板の両方の表面に形成された導電層に対して逐次又は同時に回路形成することも好ましい。このような構成により、基板の一方の表面に第一の導電パターン、もう一方の表面に第二の導電パターンを形成したタッチパネル用回路配線を形成できる。また、このような構成のタッチパネル用回路配線を、ロールツーロールで基板の両面から形成することも好ましい。

〔タッチパネルの製造方法〕
　本開示に係るタッチパネルの製造方法は、本開示に係る積層体を用いる方法であれば、特に制限されない。
　タッチパネルの製造方法における、各工程の具体的な態様、及び、各工程を行う順序等の実施態様については、上述の「積層体の製造方法」の項において説明した通りであり、好ましい態様も同様である。
　タッチパネルの製造方法は、本開示に係る積層体の製造方法と同様の工程以外は、公知のタッチパネルの製造方法を参照すればよい。
　また、タッチパネルの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。

　タッチパネルにおける検出方法としては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式等の公知の方式が挙げられる。中でも、静電容量方式が好ましい。

　タッチパネル型としては、いわゆるインセル型（例えば、特表２０１２－５１７０５１号公報の図５、図６、図７及び図８に記載のもの）、いわゆるオンセル型（例えば、特開２０１３－１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、並びに、特開２０１２－８９１０２号公報の図１及び図５に記載のもの）、ＯＧＳ（Ｏｎｅ　Ｇｌａｓｓ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）型、ＴＯＬ（Ｔｏｕｃｈ－ｏｎ－Ｌｅｎｓ）型（例えば、特開２０１３－５４７２７号公報の図２に記載のもの）、各種アウトセル型（いわゆる、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１及びＧ１Ｆ等）並びにその他の構成（例えば、特開２０１３－１６４８７１号公報の図６に記載のもの）が挙げられる。
　タッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２２９に記載のものが挙げられる。

　以下、本開示について実施例を挙げて、更に具体的に説明するが、本開示はその主旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
　なお、特に断らない限り、以下の実施例における「％」及び「部」は質量基準である。「Ｍｗ」は、重量平均分子量を意味する。

＜実施例１～３４、及び、比較例１～４＞
　膜厚３８μｍ及び屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％及び出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ及びワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行って表面改質を施し、透明基材を得た。
　次に、下記表１中に示す材料を、スリット状ノズルを用いて、透明基材のコロナ放電処理面に塗工した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２）し、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６０及び膜厚８０ｎｍの透明膜を形成した。

　透明基材上に透明膜が形成されたフィルムを真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明基材の温度１５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、透明膜上に、厚さ４０ｎｍ及び屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、第１の透明導電部とした。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は、８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。
　次に、公知の化学エッチング法によりＩＴＯ薄膜をエッチングしてパターンニングし、透明基材上に透明膜及び透明導電部を有する導電性基板を得た。

（感光性組成物の調製）
　表２に記載の各成分を混合して、孔径３μｍのフィルターでろ過することにより、各感光性組成物をそれぞれ調製した。

（屈折率調整層形成用組成物の調製）
　表３に記載の組成となる成分及び含有量により、屈折率調整層形成用組成物を調製した。なお、表３中の組成欄の各数値の単位は、「質量部」を表す。

（転写フィルムの作製）
　表４～表７に記載の仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の感光性層の厚み表２記載の値になるように、上記で調製した感光性組成物の塗布量を調整し、表４～表７に記載の感光性組成物を塗布した。次に、得られた仮支持体を８０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、感光性層を形成した。
　次に、上記感光性層の上に、表４～表７において、屈折率調整層がありの場合は、表３に記載の屈折率調整層形成用組成物を、乾燥後の層厚が表４～表７に記載の値になるように量を調節してスリット状ノズルを用いて塗布し、１００℃の乾燥ゾーンで乾燥させて屈折率調整層を得た。
　次に、感光性層又は屈折率調整層の表面に、表４～表７に記載の保護フィルムを圧着し、転写フィルム（感光性転写材料）を作製した。

　表２における各成分欄の数値の単位は、質量部である。
　表２に記載の略号の詳細を、以下に示す。
　Ｂ１：Ｓｔ／ＭＭＡ／ＭＡＡ／ＭＡＡ－ＧＭＡ＝４７／２／１９／３２の共重合体（酸価１２４ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１７，０００）
　Ｂ２：Ｓｔ／ＭＭＡ／ＭＡＡ／ＭＡＡ－ＧＭＡ＝４７／２／１９／３２の共重合体（酸価１２４ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝４２，０００）
　Ｂ３：Ｓｔ／ＭＭＡ／ＭＡＡ／ＭＡＡ－ＧＭＡ＝５３／２／１３／３２の共重合体（酸価８３ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１７，０００）
　Ｂ４：ＭＭＡ／ＭＡＡ／Ｓｔ＝４０／１６／４４の共重合体（酸価１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１７，０００）
　Ｂ５：Ｓｔ／ＭＡＡ／ＭＭＡ－ＧＭＡ／ＤＣＰＭＡ＝３０／１５／３２／２３　の共重合体（酸価９６ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１７，０００）
　なお、共重合比率は質量比で記載した。また、各構成単位の略号は以下の通りである。
　Ｓｔ：スチレン
　ＭＡＡ：メタクリル酸
　ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
　ＭＭＡ－ＧＭＡ：メタクリル酸にグリシジルメタクリレートを付加させたモノマー
　ＤＣＰＭＡ：メタクリル酸ジシクロペンタニル
　また、バインダーポリマー溶液は、すべてメチルエチルケトンを合成溶媒とし、固形分濃度３６質量％になるように調整した。

　Ａ－ＮＯＤ－Ｎ：１，９－ノナンジオールジアクリレート、新中村化学工業（株）製
　Ｒ－６０４：ジオキサングリコールジアクリレート、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ－６０４、日本化薬（株）製）
　Ａ－ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製
　ＴＯ－２３４９：カルボキシ基を有するモノマー、東亞合成（株）製
　Ａ－ＤＰＨ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、新中村化学工業（株）製
　８ＵＸ－０１５Ａ：ウレタンアクリレート、大成ファインケミカル（株）製
　Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９：光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製
　Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ－０２：光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製
　Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７：光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製
　ＡＰｉ‐３０７：光重合開始剤、Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　ＵＶ－ＣｈｅｍＴｅｃｈ　ＬＴＤ社製
　デュラネート　ＳＢＮ－７０Ｄ：ヘキサメチレンジイソシアネート系ブロックポリイソシアネート、旭化成（株）製
　デュラネート　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ：ヘキサメチレンジイソシアネート系ブロックポリイソシアネート、旭化成（株）製
　Ｆ－５５１Ａ：フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製
　１６ＫＳ４０：厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製）
　２５ＫＳ４０：厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製）

　表３中、「化合物Ｂ」は、以下のポリマーである（重量平均分子量１５，５００）。なお式中の繰り返し単位の値はモル比である。

　次に、上記で作製した転写フィルムの保護フィルムを剥離し、露出した表面を、導電性基板の第１の透明導電部の形成面に接触させ、導電性基板上に感光性層及び仮支持体を以下の条件でラミネートして、積層体前駆体を得た。
（条件）
　透明基材の温度：４０℃
　ゴムローラーの温度：１１０℃
　線圧：３Ｎ／ｃｍ
　搬送速度：２ｍ／分

　次に、露光マスク（コンタクトホール形成用マスク：表４～表７に記載の形状）を、得られた積層体前駆体の仮支持体の表面（透明基材の感光性層側の面）に表４～表７に記載の露光ギャップで設けた。
　その後、露光マスクの上に、表４～表７に記載の散乱板を配置した。

　露光光源として、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、散乱板を通過させて、露光マスクを有する積層体前駆体に対してｉ線を、表４～表７に記載の露光量にてパターン状に露光した。

　その後、露光された積層体前駆体から露光マスク及び仮支持体を剥離し、温度３０℃の炭酸ソーダ１質量％水溶液を用いて剥離面（表面）を６０秒間現像処理した。洗浄処理後、更に、現像処理した剥離面に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することにより残渣を除去した。その後、残渣を除去した剥離面にエアを吹きかけて水分を除去し、側面の断面形状が図１～図９のいずれかであるコンタクトホールを有する樹脂層を有する積層体を得た。

（散乱板の散乱角の測定）
　（株）村上色彩技術研究所製のゴニオフォトメーターＧＰ－２００を用いて、散乱板に対して垂直に光を入射させ、透過光の強度をプラス９０°からマイナス９０°までの角度範囲で測定した。０°の強度に対して、強度が２分の１になる全角度幅を散乱角とした。
　結果を下記表４～表７に示す。

（コンタクトホール側面の断面形状の測定）
　得られた積層体における形成されたコンタクトホール側面の断面形状を、既述の方法により測定した。
　結果を下記表４～表７に示す。
　なお、いずれの実施例においても、側面のうちの８０面積％以上が表に記載の形状であった。

（ホール見え（コンタクトホールエッジの視認抑制性）の評価方法）
　作製した積層体を、黒紙の上に配置し、表面側から高輝度ＬＥＤライト（ジェントス（株）製、フラッシュライトＧＦ－０１４ＲＧ、明るさ８００ルーメン、照射角度４５度）を照射した。その反射光を用いて、表面側から目視で観察し、コンタクトホールが見えるかどうかを評価した。コンタクトホールが視認され難い方が好ましい。
　　５：どの角度から見てもコンタクトホールが見えない。
　　４：見る角度によってはコンタクトホールがわずかに視認される。
　　３：どの角度から見てもコンタクトホールがわずかに視認される。
　　２：どの角度から見てもコンタクトホールがわずかに視認され、角度によっては明確に視認される。
　　１：どの角度から見てもコンタクトホールが明確に視認される。

（ＩＴＯ導通性の評価方法）
　ホール見えの評価と同様の方法で作製した積層体を真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明基材の温度１５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、透明膜上に、厚さ４０ｎｍ及び屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成した。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は、８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。
　次に、公知の化学エッチング法によりＩＴＯ薄膜をエッチングしてパターンニングし、厚さ４０ｎｍのＩＴＯパターンを得た。更に、透明粘着剤（ＯＣＡ）とカバーガラスを貼り合わせ、駆動用の取り回し配線の接続を行い、評価用のタッチセンサー素子を得た。
　作製したタッチセンサー素子のタッチ検出感度と、コンタクトホール部分に成膜されたＩＴＯ膜の破断の有無を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した。破断が少ないほど好ましい。
　　５：全体にわたってタッチ検出感度に問題なく、ＩＴＯ膜の破断もない
　　４：全体にわたってタッチ検出感度に問題ないが、局所的なＩＴＯ膜の破断がある
　　３：全体にわたってタッチ検出感度に問題ないが、ＩＴＯ膜の破断が点在している
　　２：局所的なタッチ検出不良があり、ＩＴＯ膜の破断が全体に存在している
　　１：全体にわたってタッチ検出不良があり、ＩＴＯ膜の破断が全体に存在している

　表４～表７におけるホールデザイン（上から見た形状）とは、コンタクトホールの開口部を上から見た形状を表す。

　表４～表７に記載の散乱板の詳細を、以下に示す。
　ライトアップＬＤＳ：（株）きもと製、散乱角：３０°、光拡散ポリマーフィルム、凹凸を有する樹脂層、厚み１１５μｍ
　ライトアップＭＸＥ：（株）きもと製、散乱角：３０°、光拡散ポリマーフィルム、凹凸を有する樹脂層、厚み１１５μｍ
　ＬＳＤ３０ＡＣＵＶＴ３０：（株）オプティカルソリューションズ製、散乱角：３０°、材質：紫外線透過アクリル樹脂、厚み７６０μｍ
　ＬＳＤ６０ＡＣＵＶＴ３０：（株）オプティカルソリューションズ製、散乱角：６０°、材質：紫外線透過アクリル樹脂、厚み７６０μｍ
　ＬＳＤ２０ＡＣＵＶＴ３０：（株）オプティカルソリューションズ製、散乱角：２０°、材質：紫外線透過アクリル樹脂、厚み７６０μｍ
　ライトアップＧＭ７：（株）きもと製、散乱角：１５°、光拡散ポリマーフィルム、厚み１１５μｍ
　ＬＳＤ１０ＡＣＵＶＴ３０：（株）オプティカルソリューションズ製、散乱角：１０°、材質：紫外線透過アクリル樹脂、厚み７６０μｍ

＜実施例３４及び３５＞
　露光マスクとしてＸＰＲ－７Ｓ　ＳＧ（富士フイルムグローバルグラフィックシステムズ（株）製）を基材フィルムに用いたフィルムマスクを使用したこと以外は、実施例１と同様に評価を行った。結果を表８に示す。

＜実施例３７、及び、比較例５＞
　実施例３７においては、転写フィルムをラミネートした後の露光時に用いる露光マスクをアイランド形成用のマスクに変更したい以外は実施例１と同様にして積層体を作製した。また、プロセスを調整して比較例５の積層体を作製した。また、アイランドの場合のパターン見え評価については以下のとおり行った。

（アイランド形状のパターン見え評価方法）
　作製した積層体を、黒紙の上に配置し、表面側から高輝度ＬＥＤライト（ジェントス（
株）製、フラッシュライトＧＦ－０１４ＲＧ、明るさ８００ルーメン、照射角度４５度）
を照射した。その反射光を用いて、表面側から目視で観察し、パターンが見えるかどうかを評価した。パターンが視認され難い方が好ましい。
　　５：どの角度から見てもパターンが見えない。
　　４：見る角度によってはパターンがわずかに視認される。
　　３：どの角度から見てもパターンがわずかに視認される。
　　２：どの角度から見てもパターンがわずかに視認され、角度によっては明確に視認される。
　　１：どの角度から見てもパターンが明確に視認される。

＜実施例３８＞
　アイランドパターン上に、ＩＴＯの代わりにＡｕ（金）を積層したこと以外は実施例３７と同様にサンプルを作製し、評価した。Ａｕの積層においては、公知のスパッタリング法及び、公知の化学エッチング法により金のパターンを形成した。更に、透明粘着剤（ＯＣＡ）とカバーガラスを貼り合わせ、駆動用の取り回し配線の接続を行い、評価用のタッチセンサー素子を得た。作製したタッチセンサー素子のタッチ検出感度と、成膜された導電層の破断の有無を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した。破断が少ないほど好ましい。

（ＩＴＯ以外の導電層の導通性評価基準）
　　５：全体にわたって電子装置の動作に問題なく、導電層の破断もない。
　　４：全体にわたって電子装置の動作に問題ないが、局所的な導電層の破断がある。
　　３：全体にわたって電子装置の動作に問題ないが、導電層の破断が点在している。
　　２：局所的な電子装置の動作不良があり、導電層の破断が全体に存在している。
　　１：全体にわたって電子装置の動作不良があり、導電層の破断が全体に存在している。

＜実施例３９及び４０、並びに、比較例６＞
　基材を以下のように変更して作製したこと、
「膜厚３８μｍのポリイミド樹脂フィルム上に公知のスパッタリング法でＣｕ（銅）を製膜した。また、公知の化学エッチング法によりＣｕをパターニングして第１の導電層を得た。」
　表９に記載の感光性組成物、及び、露光方法に変更したこと、及び、
　樹脂パターン上にＡｕ電極の代わりにＡｇ（銀）電極とした以外は、実施例３８と同様にして、タッチセンサー素子を作製したこと
　以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。

＜実施例４１～４５＞
　実施例１の転写フィルムの作製において、仮支持体及び保護フィルムを下記表１０に記載のように変更したこと以外は、実施例１と同様に評価を行った。
　評価結果は、実施例４１～４５のいずれも実施例１と同じであった。

　表４～表１０に記載の結果より、実施例の積層体は、比較例の積層体に比べ、パターニング部分のエッジの視認抑制性に優れるものであった。
　また、表４～表１０に記載の結果より、実施例の積層体は、ＩＴＯ導通性にも優れるものであった。

　２０２１年３月１６日に出願された日本国特許出願第２０２１－０４２１５２号の開示、２０２１年９月２８日に出願された日本国特許出願第２０２１－１５８３０９号の開示、及び、２０２１年１１月１１日に出願された日本国特許出願第２０２１－１８４２４３号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

　１２：基材、１４：樹脂層、１６：基材が露出した部分、１８：傾斜領域、２０：端部、ＩＰ１：変曲点１、ＩＰ２：変曲点２、ＩＰ３：変曲点３、θ１：基材が露出した部分と接する部分における傾斜領域の断面形状のテーパー角度

Claims

　基材、及び、
　樹脂層を有する積層体であって、
　前記基材が露出した部分、及び、前記基材が前記樹脂層で覆われた部分が存在し、
　前記基材が前記樹脂層で覆われた部分の少なくとも一部において、前記基材が露出した部分に隣接して、前記樹脂層の厚みが変化する傾斜領域が存在し、
　前記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ前記基材が露出した部分の外形形状の接線に垂直な方向の前記傾斜領域の断面形状が、前記傾斜領域の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、
　前記ｎが２以上の整数である
　積層体。
　前記樹脂層の厚さ方向において、前記傾斜領域の断面形状における前記基材とは反対側の端部から前記基材側の前記基材が露出した部分までの前記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、前記変曲点１が前記基材と反対側の端部から前記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、かつ前記変曲点ｎが前記基材が露出した部分から前記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にある請求項１に記載の積層体。
　基材、及び、
　コンタクトホールを有する樹脂層を有し、
　前記コンタクトホールが、前記基材が露出した底面と、前記底面の周囲を囲む側面と、開口部とを有し、
　前記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ前記底面の外形形状の接線に垂直な方向の前記側面の断面形状が、前記側面の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、
　前記ｎが２以上の整数であり、
　前記樹脂層の厚さ方向において、前記側面の断面形状における前記基材とは反対側の端部から前記基材側の前記底面までの前記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、前記変曲点１が前記基材と反対側の端部から前記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、かつ前記変曲点ｎが前記底面から前記樹脂層の厚さの１／２までの範囲にあり、
　前記基材の面方向に平行な方向における前記開口部の面積が、前記底面の面積よりも大きい
　積層体。
　前記変曲点１が、前記傾斜領域又は前記側面の断面形状における前記基材と反対側の端部よりも基材側にある請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の積層体。
　前記変曲点１が、前記傾斜領域又は前記側面の断面形状における前記基材と反対側の端部から前記樹脂層の厚さの１／３までの範囲にある請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の積層体。
　ｎが１０以下の整数である請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の積層体。
　ｎが３以上の整数である請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の積層体。
　前記基材が露出した部分又は前記底面と接する部分における前記傾斜領域又は前記側面の断面形状のテーパー角度が、５０°以下である請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の積層体。
　前記樹脂層の厚さ方向において、前記傾斜領域の断面形状における前記基材とは反対側の端部から前記基材側の前記基材が露出した部分までの前記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、前記変曲点１が前記基材と反対側の端部から前記傾斜領域の断面形状部分の前記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、かつ前記変曲点ｎが前記基材が露出した部分から前記傾斜領域の断面形状部分の前記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にある請求項１に記載の積層体。
　基材、及び、
　コンタクトホールを有する樹脂層を有し、
　前記コンタクトホールが、前記基材が露出した底面と、前記底面の周囲を囲む側面と、開口部とを有し、
　前記樹脂層の厚さ方向に平行な方向かつ前記底面の外形形状の接線に垂直な方向の前記側面の断面形状が、前記側面の断面形状を数学的な関数としてとらえた時の変曲点がｎ個存在する形状を有し、
　前記ｎが２以上の整数であり、
　前記樹脂層の厚さ方向において、前記側面の断面形状における前記基材とは反対側の端部から前記基材側の前記底面までの前記変曲点を順に変曲点１、変曲点２、・・・、変曲点ｎとした場合、前記変曲点１が前記基材と反対側の端部から前記側面の断面形状部分の前記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、かつ前記変曲点ｎが前記底面から前記側面の断面形状部分の前記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／２までの範囲にあり、
　前記基材の面方向に平行な方向における前記開口部の面積が、前記底面の面積よりも大きい
　積層体。
　前記変曲点１が、前記傾斜領域又は前記側面の断面形状における前記基材と反対側の端部よりも基材側にある請求項９又は請求項１０に記載の積層体。
　前記変曲点１が、前記傾斜領域又は前記側面の断面形状における前記基材と反対側の端部から前記側面の断面形状部分の前記基材の面方向に平行な方向の最大長の１／３までの範囲にある請求項９～請求項１１のいずれか１項に記載の積層体。
　ｎが１０以下の整数である請求項９～請求項１２のいずれか１項に記載の積層体。
　ｎが３以上の整数である請求項９～請求項１３のいずれか１項に記載の積層体。
　前記基材が露出した部分又は前記底面と接する部分における前記傾斜領域又は前記側面の断面形状のテーパー角度が、５０°以下である請求項９～請求項１４のいずれか１項に記載の積層体。
　前記樹脂層が、透明である請求項１～請求項１５のいずれか１項に記載の積層体。
　タッチセンサーである請求項１～請求項１６のいずれか１項に記載の積層体。
　散乱板を介して感光性層を露光する工程を含む請求項１～請求項１７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。