WO2021246251A1 - 転写フィルム、積層体の製造方法 - Google Patents

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WO2021246251A1
WO2021246251A1 PCT/JP2021/019916 JP2021019916W WO2021246251A1 WO 2021246251 A1 WO2021246251 A1 WO 2021246251A1 JP 2021019916 W JP2021019916 W JP 2021019916W WO 2021246251 A1 WO2021246251 A1 WO 2021246251A1
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photosensitive composition
composition layer
compound
preferable
transfer film
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PCT/JP2021/019916
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裕之 米澤
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富士フイルム株式会社
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    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a transfer film and a laminate.
  • a photosensitive composition layer is arranged on an arbitrary substrate using a transfer film, and the photosensitive composition layer is exposed to the photosensitive composition layer through a mask.
  • a method of developing to form a pattern is widely used.
  • Patent Document 1 discloses a photosensitive composition containing a binder polymer and a predetermined photopolymerizable compound.
  • the transfer film is produced by applying a photosensitive composition on a temporary support and drying it to form a photosensitive composition layer, and then further arranging a protective film on the photosensitive composition layer. There is. From the time when the photosensitive composition is applied on the temporary support until the protective film is arranged, there is a step in which the photosensitive composition layer and the pass roll come into contact with each other. In the above contacting step, when the photosensitive composition layer and the pass roll come into contact with each other, imprints and stains (foreign matter adhered) on the surface of the pass roll may occur on the photosensitive composition layer, and these are few. Is desired.
  • suppressing the generation of imprints and stains (adhesion of foreign matter) on the surface of the pass roll on the photosensitive composition layer is said to be excellent in handling suitability.
  • the photosensitive composition layer is exposed and developed to form a cured film having contact holes, and then ITO (ITO () is applied on the cured film in order to conduct conduction between the conductive portions exposed in the contact holes.
  • a conductive bridge portion such as an indium tin oxide) layer is further formed. It is desired that the conductive bridge portion formed on the cured film does not have formation defects such as cracks. Specifically, in the contact hole portion (bottom corner portion and peripheral portion), it is desired that there are few formation defects such as cracks in the conductive bridge portion.
  • the occurrence of poor formation such as cracks in the conductive bridge portion is also referred to as poor formation of the conductive portion.
  • the photosensitive composition layer comprises a binder polymer, a polymerizable compound, and a polymerization initiator.
  • the binder polymer has a cyclic structure, and the weight average molecular weight of the binder polymer is less than 100,000.
  • the polymerizable compound comprises a first polymerizable compound having a cyclic structure having an oxygen atom or a sulfur atom as a ring member atom.
  • a transfer film having a photosensitive composition layer having a thickness of 8.0 ⁇ m or less.
  • the photosensitive composition layer further contains a second polymerizable compound other than the first polymerizable compound.
  • the photosensitive composition layer side of the transfer film according to any one of (1) to (15) is brought into contact with a substrate having a conductive portion and bonded to the substrate, the conductive portion, and the photosensitive composition layer.
  • a conduction step of forming a conductive bridge portion that conducts conductive portions exposed from a plurality of openings on the cured layer has a conduction step of forming a conductive bridge portion that conducts conductive portions exposed from a plurality of openings on the cured layer.
  • a method for producing a laminated body comprising a peeling step of peeling a temporary support from a substrate with a photosensitive composition layer between a bonding step and an exposure step, or between an exposure step and a developing step. .. (17) The method for manufacturing a laminated body according to (16), wherein the substrate having a conductive portion is a substrate having at least one of a touch panel electrode and a touch panel wiring.
  • the present invention it is possible to provide a transfer film which is excellent in handling suitability and laminating suitability and in which the occurrence of poor formation of a conductive portion is suppressed. Further, according to the present invention, it is possible to provide a method for producing a laminate using the transfer film.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a laminated body obtained in the bonding step.
  • FIG. 2 is a plan view of the laminated body for explaining the transparent conductive portion in the laminated body obtained in the bonding step.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the laminated body obtained in the developing step.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the laminated body obtained in the conduction step.
  • FIG. 5 is a plan view of the laminated body for explaining the conductive bridge portion in the laminated body obtained in the conduction step.
  • the numerical range represented by using “-" means a range including the numerical values before and after "-" as the lower limit value and the upper limit value.
  • the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described in stages. ..
  • the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
  • process is included in this term not only as an independent process but also as long as the intended purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
  • transparent means that the average transmittance of visible light having a wavelength of 400 to 700 nm is 80% or more, and is preferably 90% or more.
  • the average transmittance of visible light is a value measured by using a spectrophotometer, and can be measured by, for example, a spectrophotometer U-3310 manufactured by Hitachi, Ltd.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, or TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Toso Co., Ltd.) as columns. ), THF (tetrahexyl) as the eluent, a differential refraction meter as the detector, and polystyrene as the standard substance, and the values converted using the standard substance polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer.
  • GPC gel permeation chromatography
  • the molecular weight of a compound having a molecular weight distribution is the weight average molecular weight (Mw).
  • Mw weight average molecular weight
  • the content of the metal element is a value measured by using an inductively coupled plasma (ICP) spectroscopic analyzer.
  • the refractive index is a value measured using an ellipsometer at a wavelength of 550 nm.
  • the hue is a value measured using a color difference meter (CR-221, manufactured by Minolta Co., Ltd.).
  • (meth) acrylic is a concept that includes both acrylic and methacrylic
  • (meth) acryloxy group is a concept that includes both an acryloxy group and a metaacryloxy group.
  • the binding direction of the divalent group (for example, -COO-) described in the present specification is not particularly limited, and for example, when L in X-LY is -COO-, it is bonded to the X side. If the position is * 1 and the position connected to the Y side is * 2, L may be * 1-O-CO- * 2 or * 1-CO-O- * 2. May be good.
  • the feature of the transfer film of the present invention is that the thickness of the photosensitive composition layer and, as described later, the photosensitive composition layer contains a binder polymer and a polymerizable compound satisfying predetermined properties. Be done.
  • the effect of the present invention is said to be more excellent when at least one of the effects of being more excellent in handling suitability, being more excellent in laminating suitability, and further suppressing the occurrence of poorly formed conductive portions can be obtained.
  • the transfer film has a temporary support.
  • the temporary support is a member that supports the photosensitive composition layer described later, and is finally removed by a peeling treatment.
  • the temporary support may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
  • the temporary support is preferably a film, more preferably a resin film.
  • the temporary support is preferably a film that is flexible and does not undergo significant deformation, shrinkage, or elongation under pressure, or under pressure and heating.
  • the film include a polyethylene terephthalate film (for example, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film), a polymethylmethacrylate film, a cellulose triacetate film, a polystyrene film, a polyimide film, and a polycarbonate film.
  • a polyethylene terephthalate film is preferable as the temporary support.
  • the film used as the temporary support is free from deformation such as wrinkles and scratches.
  • the temporary support is preferably highly transparent from the viewpoint that the pattern can be exposed via the temporary support, and the transmittance at 365 nm is preferably 60% or more, more preferably 70% or more. From the viewpoint of pattern formation during pattern exposure via the temporary support and transparency of the temporary support, it is preferable that the haze of the temporary support is small. Specifically, the haze value of the temporary support is preferably 2% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.1% or less. From the viewpoint of pattern formation during pattern exposure via the temporary support and transparency of the temporary support, it is preferable that the number of fine particles, foreign substances, and defects contained in the temporary support is small.
  • Temporary support diameter 1 ⁇ m or more particles in the body, the foreign matter, and the number of defects preferably 50/10 mm 2 or less, more preferably 10/10 mm 2 or less, more preferably 3/10 mm 2 or less, 0 Pieces / 10 mm 2 are particularly preferred.
  • the thickness of the temporary support is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 ⁇ m, more preferably 10 to 150 ⁇ m, still more preferably 10 to 50 ⁇ m, from the viewpoint of ease of handling and versatility.
  • the thickness of the temporary support is calculated as an average value of any five points measured by cross-sectional observation with an SEM (Scanning Electron Microscope).
  • Examples of the temporary support include a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 16 ⁇ m, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 ⁇ m, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 9 ⁇ m.
  • Preferred forms of the temporary support include, for example, paragraphs [0017] to [0018] of JP-A-2014-085643, paragraphs [0019]-[0026] of JP-A-2016-0273363, and International Publication No. 2012 /.
  • the description is given in paragraphs [0041] to [0057] of No. 081680 and paragraphs [0029] to [0040] of International Publication No. 2018/179370, and the contents of these publications are incorporated in the present specification.
  • a layer containing fine particles may be provided on the surface of the temporary support from the viewpoint of imparting handleability.
  • the lubricant layer may be provided on one side of the temporary support or on both sides.
  • the diameter of the particles contained in the lubricant layer is preferably 0.05 to 0.8 ⁇ m.
  • the film thickness of the lubricant layer is preferably 0.05 to 1.0 ⁇ m.
  • Examples of commercially available temporary supports include Lumirror 16KS40, Lumirror 16FB40 (above, manufactured by Toray Industries, Inc.), Cosmo Shine A4100, Cosmo Shine A4300, and Cosmo Shine A8300 (above, manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
  • the transfer film has a photosensitive composition layer.
  • a pattern can be formed on the transferred object by transferring the photosensitive composition layer onto the transferred object and then exposing and developing the photosensitive composition layer.
  • the photosensitive composition layer a known photosensitive composition layer can be used, and a negative type is preferable.
  • the negative photosensitive composition layer is a photosensitive composition layer whose solubility in a developing solution is reduced by exposure to an exposed portion.
  • the photosensitive composition layer is a negative photosensitive composition layer
  • the formed pattern corresponds to a cured layer.
  • the photosensitive composition layer is preferably an insulating layer.
  • the thickness of the photosensitive composition layer is 8.0 ⁇ m or less.
  • the thickness of the layer is preferably 5.0 ⁇ m or less, more preferably 3.5 ⁇ m or less, still more preferably 3.0 ⁇ m or less, in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.05 ⁇ m or more.
  • the thickness of the photosensitive composition layer can be calculated, for example, as an average value of the thicknesses of any five points of the photosensitive composition measured by cross-sectional observation with a scanning electron microscope (SEM).
  • the components contained in the photosensitive composition layer (particularly, the negative type photosensitive composition layer) will be described in detail.
  • the photosensitive composition layer contains a binder polymer (hereinafter, also referred to as “specific polymer”) having a cyclic structure and having a weight average molecular weight of the binder polymer of less than 100,000.
  • the weight average molecular weight of the specific polymer is less than 100,000, and is preferably less than 70,000, more preferably less than 5 full, still more preferably less than 40,000, and particularly preferably less than 20,000, in that the effect of the present invention is more excellent. ..
  • the lower limit of the weight average molecular weight of the specific polymer is not particularly limited, but 8000 or more is preferable, and 10,000 or more is more preferable, because the effect of the present invention is more excellent.
  • Examples of the cyclic structure of the specific polymer include an aromatic ring structure and an aliphatic hydrocarbon ring structure. Further, the cyclic structure may be a heterocyclic structure. Further, the ring constituting the annular structure may be either a monocyclic ring or a polycyclic ring.
  • the specific polymer preferably has a structural unit having an aromatic ring structure.
  • the aromatic ring constituting the aromatic ring structure include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a piperidine ring, a pyrazole ring, a pyrrole ring, a thiophene ring, and a furan ring.
  • the benzene ring is preferable because the effect of the present invention is more excellent.
  • Examples of the monomer forming a structural unit having an aromatic ring structure include styrene compounds such as styrene, tert-butoxystyrene, methylstyrene, and ⁇ -methylstyrene, and benzyl (meth) acrylate. Of these, styrene compounds are preferable, and styrene is more preferable. That is, as the structural unit having an aromatic ring structure, a structural unit derived from a styrene compound is preferable, and a structural unit derived from styrene is more preferable. Further, it is more preferable that the specific polymer has a structural unit (constituent unit derived from styrene) represented by the following formula (S) from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • S structural unit represented by the following formula (S) from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • a compound-acrylic copolymer having an aromatic ring structure is more preferable.
  • the compound-acrylic copolymer having an aromatic ring structure means a binder polymer having a structural unit derived from a compound having an aromatic ring structure and a structural unit derived from a (meth) acrylic compound described later.
  • the total content of the structural unit having the aromatic ring structure and the structural unit derived from the (meth) acrylic compound is preferably 30% by mass or more, preferably 50% by mass, based on all the structural units of the copolymer. % Or more is more preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 100% by mass or less.
  • the content of the structural unit derived from the compound having an aromatic ring structure is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and 5 to 80% by mass with respect to all the structural units of the copolymer. % Is more preferable.
  • the content of the structural unit derived from the (meth) acrylic compound is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and 20 to 95% by mass, based on all the structural units of the copolymer. Is more preferable.
  • the specific polymer may have one type of structural unit having an aromatic ring structure alone, or may have two or more types.
  • the content of the structural unit having an aromatic ring structure is 5 to 5 with respect to all the structural units of the specific polymer because the effect of the present invention is more excellent. 90% by mass is preferable, 10 to 70% by mass is more preferable, and 20 to 60% by mass is further preferable.
  • the content of the structural unit having an aromatic ring structure in the specific polymer is preferably 5 to 70 mol%, preferably 10 to 60 mol% with respect to all the structural units of the specific polymer, from the viewpoint of further excellent effect of the present invention. % Is more preferred, and 20-60 mol% is even more preferred.
  • the content of the structural unit represented by the above formula (S) in the specific polymer is preferably 5 to 70 mol% with respect to all the structural units of the specific polymer, because the effect of the present invention is more excellent. -60 mol% is more preferred, and 20-60 mol% is even more preferred.
  • the above “constituent unit” shall be synonymous with the "monomer unit”.
  • the above-mentioned "monomer unit” may be modified after polymerization by a polymer reaction or the like. The same applies to the following.
  • the cyclic structure of the specific polymer also includes an aliphatic hydrocarbon ring structure.
  • the aliphatic hydrocarbon ring constituting the aliphatic hydrocarbon ring structure may be a monocyclic ring or a polycyclic ring, and specific examples thereof include a tricyclodecane ring, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring, a disicpentane ring, a norbornane ring, and an isoborone. Ring is mentioned.
  • Examples of the monomer forming a structural unit having an aliphatic hydrocarbon ring structure include dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and isobornyl (meth) acrylate.
  • the content of the structural unit having an aliphatic hydrocarbon ring structure is higher than that of all the structural units of the specific polymer because the effect of the present invention is more excellent. 5 to 90% by mass is preferable, 10 to 80% by mass is more preferable, and 20 to 70% by mass is further preferable. Further, the content of the structural unit having an aliphatic hydrocarbon ring structure in the specific polymer is preferably 5 to 70 mol% with respect to all the structural units of the specific polymer from the viewpoint of further excellent effect of the present invention. 60 mol% is more preferable, and 20 to 50 mol% is further preferable.
  • the content of the structural unit represented by the above formula (Cy) in the specific polymer is preferably 5 to 70 mol% with respect to all the structural units of the specific polymer, because the effect of the present invention is more excellent. -60 mol% is more preferred, and 20-50 mol% is even more preferred.
  • the (meth) acrylic resin means a resin having a structural unit derived from the (meth) acrylic compound.
  • the content of the structural unit derived from the (meth) acrylic compound is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, based on all the structural units of the (meth) acrylic resin. ..
  • the (meth) acrylic resin may be composed of only structural units derived from the (meth) acrylic compound, or may have structural units derived from a polymerizable monomer other than the (meth) acrylic compound. .. That is, the upper limit of the content of the structural unit derived from the (meth) acrylic compound is 100% by mass or less with respect to the total mass of the (meth) acrylic resin.
  • Examples of the (meth) acrylic compound include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylamide, and (meth) acrylonitrile.
  • Examples of the (meth) acrylic acid ester include (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid tetrahydrofurfuryl ester, (meth) acrylic acid dimethylaminoethyl ester, (meth) acrylic acid diethylaminoethyl ester, and (meth) acrylic acid ester.
  • Acrylic acid glycidyl ester (meth) acrylic acid benzyl ester, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, and 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate.
  • Meta) Acrylic acid alkyl esters are preferred.
  • the (meth) acrylamide include acrylamide such as diacetone acrylamide.
  • the alkyl group of the (meth) acrylic acid alkyl ester may be linear or branched.
  • Specific examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include, for example, methyl (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylic acid, propyl (meth) acrylic acid, butyl (meth) acrylic acid, and pentyl (meth) acrylic acid.
  • (meth) acrylic acid ester a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and methyl (meth) acrylate or ethyl (meth) acrylate is more preferable.
  • the (meth) acrylic resin may have a structural unit other than the structural unit derived from the (meth) acrylic compound.
  • the polymerizable monomer forming the structural unit is not particularly limited as long as it is a compound other than the (meth) acrylic compound that can be copolymerized with the (meth) acrylic compound, and is, for example, styrene, vinyltoluene and ⁇ -methyl.
  • Styrene compounds such as styrene which may have a substituent on the ⁇ -position or aromatic ring, vinyl alcohol esters such as acrylonitrile and vinyl-n-butyl ether, maleic acid, maleic acid anhydride, monomethyl maleate, monoethyl maleate and Examples thereof include maleic acid monoesters such as maleic acid monoisopropyl, fumaric acid, silicic acid, ⁇ -cyanosilicic acid, itaconic acid, and crotonic acid. These polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the (meth) acrylic resin has a structural unit derived from the above-mentioned (meth) acrylic acid alkyl ester.
  • the content of the constituent units derived from the (meth) acrylic acid alkyl ester in the (meth) acrylic resin is preferably 0 to 90% by mass, preferably 1 to 70% by mass, based on all the constituent units of the (meth) acrylic resin. More preferred.
  • the (meth) acrylic resin a resin having both a structural unit derived from (meth) acrylic acid and a structural unit derived from (meth) acrylic acid alkyl ester is preferable, and a structural unit derived from (meth) acrylic acid and a structural unit derived from (meth) acrylic acid are preferable.
  • a resin composed only of structural units derived from the (meth) acrylic acid alkyl ester is more preferable.
  • an acrylic resin having a structural unit derived from methacrylic acid, a structural unit derived from methyl methacrylate, and a structural unit derived from ethyl acrylate is also preferable.
  • the (meth) acrylic resin may have at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from methacrylic acid and a structural unit derived from a methacrylic acid alkyl ester, because the effect of the present invention is more excellent. It is more preferable to have both a structural unit derived from methacrylic acid and a structural unit derived from an alkyl methacrylate ester.
  • the (meth) acrylic resin is at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from methacrylic acid and a structural unit derived from methacrylic acid, and acrylic acid, because the effect of the present invention is more excellent. It is also preferable to have at least one selected from the group consisting of the structural unit derived from the acrylic acid alkyl ester and the structural unit derived from the acrylic acid alkyl ester.
  • the (meth) acrylic resin preferably has an ester group at the terminal in that the photosensitive composition layer after transfer is excellent in developability.
  • the terminal portion of the (meth) acrylic resin is composed of a site derived from the polymerization initiator used in the synthesis.
  • a (meth) acrylic resin having an ester group at the terminal can be synthesized by using a polymerization initiator that generates a radical having an ester group.
  • an acrylic soluble resin is an acrylic soluble resin.
  • alkali-soluble means that the solubility of sodium carbonate in 100 g of a 1% by mass aqueous solution at 22 ° C. is 0.1 g or more.
  • the specific polymer preferably has a structural unit having an acid group from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • the acid group include a carboxy group, a sulfo group, a phosphonic acid group, and a phosphoric acid group, and a carboxy group is preferable.
  • the structural unit having the acid group the structural unit derived from (meth) acrylic acid shown below is preferable, and the structural unit derived from methacrylic acid is more preferable.
  • the specific polymer may have one type of structural unit having an acid group alone or two or more types.
  • the content of the structural unit having an acid group is 5 to 50% by mass with respect to all the structural units of the binder polymer because the effect of the present invention is more excellent. It is preferable, 5 to 40% by mass is more preferable, and 10 to 30% by mass is further preferable.
  • the content of the constituent unit having an acid group in the specific polymer is preferably 5 to 70 mol%, preferably 10 to 50 mol%, based on all the constituent units of the specific polymer, from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent. More preferably, 20-40 mol% is even more preferable.
  • the content of the structural unit derived from (meth) acrylic acid in the specific polymer is preferably 5 to 70 mol% with respect to all the structural units of the specific polymer from the viewpoint of further excellent effect of the present invention. 50 mol% is more preferable, and 20-40 mol% is even more preferable.
  • the specific polymer preferably has a reactive group, and more preferably has a structural unit having a reactive group, from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • a reactive group a radically polymerizable group is preferable, and an ethylenically unsaturated group is more preferable.
  • the specific polymer has an ethylenically unsaturated group, it is preferable that the specific polymer has a structural unit having an ethylenically unsaturated group in the side chain.
  • the "main chain” represents a relatively longest bound chain among the molecules of the polymer compound constituting the resin
  • the "side chain” represents an atomic group branched from the main chain. ..
  • a (meth) acrylic group is preferable, and a (meth) acryloyl group is more preferable.
  • structural units having a reactive group include, but are not limited to, those shown below.
  • the specific polymer may have one type of structural unit having a reactive group alone or two or more types.
  • the content of the structural unit having a reactive group is 5 to 70 mass with respect to all the structural units of the specific polymer because the effect of the present invention is more excellent. % Is preferable, 10 to 50% by mass is more preferable, and 20 to 40% by mass is further preferable.
  • the content of the structural unit having a reactive group in the specific polymer is preferably 5 to 70 mol%, preferably 10 to 60 mol%, based on all the structural units of the specific polymer, from the viewpoint of further excellent effect of the present invention. Is more preferable, and 20 to 50 mol% is further preferable.
  • a functional group such as a hydroxy group, a carboxy group, a primary amino group, a secondary amino group, an acetoacetyl group, and a sulfo group, an epoxy compound, and a blocked isocyanate are used.
  • a functional group such as a hydroxy group, a carboxy group, a primary amino group, a secondary amino group, an acetoacetyl group, and a sulfo group, an epoxy compound, and a blocked isocyanate.
  • examples thereof include a method of reacting a compound such as a compound, an isocyanate compound, a vinyl sulfone compound, an aldehyde compound, a methylol compound, and a carboxylic acid anhydride.
  • a polymer having a carboxy group is synthesized by a polymerization reaction, and then a part of the carboxy group of the obtained polymer is glycidyl (meth) acrylate by the polymer reaction.
  • a means for introducing a (meth) acryloxy group into a polymer by reacting with the polymer By this means, a specific polymer having a (meth) acryloxy group in the side chain can be obtained.
  • the polymerization reaction is preferably carried out under a temperature condition of 70 to 100 ° C., and more preferably carried out under a temperature condition of 80 to 90 ° C.
  • an azo-based initiator is preferable, and for example, V-601 (trade name) or V-65 (trade name) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. is more preferable.
  • the polymer reaction is preferably carried out under temperature conditions of 80 to 110 ° C. In the above polymer reaction, it is preferable to use a catalyst such as an ammonium salt.
  • the polymers shown below are preferable because the effects of the present invention are more excellent.
  • the content ratios (a to d) and the weight average molecular weight Mw of each structural unit shown below can be appropriately changed according to the purpose.
  • the specific polymer may have a structural unit having a carboxylic acid anhydride structure.
  • the carboxylic acid anhydride structure may be either a chain carboxylic acid anhydride structure or a cyclic carboxylic acid anhydride structure, but a cyclic carboxylic acid anhydride structure is preferable.
  • a cyclic carboxylic acid anhydride structure As the ring having a cyclic carboxylic acid anhydride structure, a 5- to 7-membered ring is preferable, a 5-membered ring or a 6-membered ring is more preferable, and a 5-membered ring is further preferable.
  • the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure is a structural unit containing a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms from the compound represented by the following formula P-1 in the main chain, or the following formula P-1. It is preferable that the monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from the represented compound is a structural unit bonded to the main chain directly or via a divalent linking group.
  • R A1a represents a substituent
  • n 1a number of R A1a may be the same or different
  • n 1a represents an integer of 0 or more.
  • Examples of the substituent represented by RA1a include an alkyl group.
  • Z 1a an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms is preferable, an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms is more preferable, and an alkylene group having 2 carbon atoms is further preferable.
  • n 1a represents an integer of 0 or more.
  • Z 1a represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms
  • n 1a is preferably an integer of 0 to 4, more preferably an integer of 0 to 2, and even more preferably 0.
  • a plurality of RA1a may be the same or different. Further, although a plurality of RA1a may be bonded to each other to form a ring, it is preferable that the RA1a are not bonded to each other to form a ring.
  • a structural unit derived from an unsaturated carboxylic acid anhydride is preferable, a structural unit derived from an unsaturated cyclic carboxylic acid anhydride is more preferable, and an unsaturated aliphatic cyclic carboxylic acid is preferable.
  • a structural unit derived from an acid anhydride is more preferable, a structural unit derived from maleic anhydride or an itaconic acid anhydride is particularly preferable, and a structural unit derived from maleic anhydride is most preferable.
  • Rx represents a hydrogen atom, a methyl group, a CH 2 OH group, or CF 3 groups
  • Me represents a methyl group.
  • the specific polymer may have one type of structural unit having a carboxylic acid anhydride structure alone, or may have two or more types.
  • the total content of the structural units having a carboxylic acid anhydride structure is preferably 0 to 60 mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 10 to 35 mol%, based on all the structural units of the specific polymer. ..
  • the ClogP value of the specific polymer is preferably 1.00 or more, more preferably 1.50 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 5.00 or less, more preferably 3.00 or less, and even more preferably 2.00 or less.
  • the LogP value is a value obtained by calculation of the common logarithm logP of 1-octanol and the partition coefficient P to water.
  • Known methods and software can be used for calculating the ClogP value, but unless otherwise specified, the ClogP program incorporated in ChemBioDrow Ultra 13.0 of Cambridge software can be used in the present invention.
  • the ClogP value of the specific polymer For the ClogP value of the specific polymer, the ClogP value of each structural unit contained in the specific polymer is calculated, and the ClogP value of each structural unit is averaged according to the content mass ratio of the structural unit to obtain the ClogP value of the specific polymer. And.
  • the acid value of the specific polymer is preferably 10 to 200 mgKOH / g, more preferably 60 to 200 mgKOH / g, even more preferably 80 to 140 mgKOH / g, and particularly preferably 90 to 140 mgKOH / g.
  • the acid value of the specific polymer is a value measured according to the method described in JIS K0070: 1992.
  • the content of the double bond of the specific polymer is preferably 1.0 to 2.0 mmol / g per 1 g of the specific polymer.
  • the content of the double bond of the specific polymer may be calculated as a theoretical value from the amount of various monomers charged at the time of polymer synthesis, or the structure of the specific polymer may be measured by a known measurement such as 1 H NMR.
  • the content of the double bond may be calculated by analysis using means.
  • the photosensitive composition layer may contain only one type of the specific polymer, or may contain two or more types.
  • the content of the specific polymer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and 30 to 75% by mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent. Is more preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain a binder polymer other than the specific polymer.
  • the binder polymer other than the specific polymer is a binder polymer that satisfies at least one of having no cyclic structure and having a weight average molecular weight of 100,000 or more.
  • the preferred structure of the binder polymer other than the specific polymer is the same as that of the specific polymer except that it does not have a cyclic structure and satisfies at least one of a weight average molecular weight of 100,000 or more.
  • the dispersity of the binder polymer is preferably 1.0 to 6.0, more preferably 1.0 to 5.0, still more preferably 1.0 to 4.0, and 1.0 to 3 from the viewpoint of developability. .0 is particularly preferred.
  • the photosensitive composition layer contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound includes a first polymerizable compound having a cyclic structure (hereinafter, also referred to as “specific cyclic structure”) having an oxygen atom or a sulfur atom as a ring member atom.
  • the photosensitive composition layer may further contain a second polymerizable compound other than the first polymerizable compound.
  • the specific cyclic structure is not particularly limited as long as it is a cyclic structure having an oxygen atom or a sulfur atom as a ring member atom. Further, the specific cyclic structure may be either a single ring or a double ring, and may be either a saturated heterocyclic structure or an unsaturated heterocyclic structure. When the specific annular structure is a single ring, a 5-membered ring or a 6-membered ring is preferable, and a 6-membered ring is more preferable. Among them, as the specific cyclic structure, a heterocyclic structure having an oxygen atom is preferable, and a saturated heterocyclic structure having an oxygen atom is more preferable.
  • the number of oxygen atoms or sulfur atoms as ring member atoms of the specific cyclic structure is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2.
  • the ring member atoms may be the same atom or different atoms.
  • the polymerizable compound may have a specific cyclic structure and may further have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group.
  • Specific cyclic structures include, for example, an oxygen-containing heterocyclic structure such as a dioxane structure, a furan structure, a pyran structure, and a caprolactam structure; a thiophene structure, a pyran structure, a tetrahydrothiophene structure, a thiophene structure, a thian structure, a dithian structure, and the like.
  • Sulfur-containing heterocyclic structure such as thiepan structure; a structure in which two or more of these are combined can be mentioned.
  • the oxygen-containing heterocyclic structure is preferable as the specific cyclic structure in that the effect of the present invention is excellent, and a dioxane structure (preferably 1,3-dioxane structure) or a dithiane structure (preferably 1,1) is used. 4-Dithiane structure) is more preferable, and dioxane structure is further preferable.
  • the first polymerizable compound examples include a radically polymerizable group and a cationically polymerizable group, and a radically polymerizable group is preferable.
  • the first polymerizable compound is preferably a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group (hereinafter, also referred to as “ethylenically unsaturated compound”).
  • ethylenically unsaturated compound As the ethylenically unsaturated group, a (meth) acryloyl group is preferable.
  • the ethylenically unsaturated compound in the present disclosure is a compound other than the above-mentioned specific polymer, and preferably has a molecular weight of less than 5,000.
  • the ethylenically unsaturated compound in the present disclosure is a compound other than the binder polymer, and preferably has a molecular weight of less than 5,000.
  • R 1 represents a cyclic structure having an oxygen atom or a sulfur atom as a ring member atom, which may have a substituent.
  • R 1 is synonymous with the above-mentioned specific annular structure. Examples of the substituent having the specific cyclic structure include an alkyl group.
  • Q 1 and Q 2 each independently represent a (meth) acryloyl groups.
  • Q 1 and Q 2 the same group is preferable for Q 1 and Q 2 from the viewpoint of ease of synthesis.
  • Q 1 and Q 2 are, from the viewpoint of reactivity, an acryloyl group is preferable.
  • L 1 and L 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group include, -O -, - CO -, - COO -, - S -, - NH-, CS -, - SO -, - SO 2 -, substituted It also has a divalent hydrocarbon group (eg, an alkylene group, a cycloalkylene group, an alkenylene group, an arylene group, etc.) and a linking group in which a plurality of these are linked (eg, -COO-, a substituent, etc.).
  • a divalent hydrocarbon group—O— may be mentioned.
  • L 1 and L 2 an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom or a sulfur atom is preferable.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is not particularly limited, and is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5.
  • the number of oxygen atoms in the aliphatic hydrocarbon group which may have oxygen atoms is not particularly limited, and may be one or two or more.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom include -alkylene group-O- and- (alkylene group-O) n- (n represents an integer of 1 to 5). Can be mentioned.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is not particularly limited, and is preferably 1 to 5.
  • the number of sulfur atoms in the aliphatic hydrocarbon group which may have sulfur atoms is not particularly limited, and may be one or two or more.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group which may have a sulfur atom include -S-alkylene group- and -S- (alkylene group-S) n -alkylene group- (n is 1 to 5). Represents an integer.).
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is not particularly limited, and is preferably 1 to 5.
  • Examples of the polymerizable compound include a dioxane glycol-modified compound of a (meth) acrylate compound (KAYARAD® R-604 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and a di (meth) having a dispiro structure according to WO2018 / 074305. ) Acrylate, WO2018 / 074305, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-148776, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-044570, and JP-A-2005-029563, which are derived from the spiro-structure-containing polyvalent alcohol (meth).
  • Acrylate compound 4- (5-hexyl-1,3-dithian-2-yl) phenyl acrylate, WO09 / 144801, JP-A-2002-03802, and JP-A-2001-064278.
  • Derivatives include thio (meth) acrylate compounds.
  • the molecular weight of the first polymerizable compound is preferably 200 to 3,000, more preferably 250 to 2,600, further preferably 280 to 2,200, and particularly preferably 300 to 2,200.
  • the ClogP value of the first polymerizable compound is preferably 1.00 or more, more preferably 2.00 or more, and even more preferably 3.00 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 5.00 or less, and more preferably 4.00 or less.
  • the first polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the first polymerizable compound in the photosensitive composition layer is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and 20 to 60% by mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer. More preferably, 20 to 50% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer further contains a second polymerizable compound which is a polymerizable compound other than the first polymerizable compound
  • the content of the first polymerizable compound is based on the total mass of the polymerizable compound. , 30% by mass or more is preferable, 50% by mass or more is more preferable, and 60% by mass or more is further preferable.
  • the upper limit of the content is not particularly limited, but is preferably 100 mass or less.
  • the absolute value of the difference between the ClogP value of the first polymerizable compound and the ClogP value of the binder polymer is not particularly limited, and is often 5.00 or less, preferably 2.00 or less, and more preferably 1.50 or less. ..
  • the mass ratio of the content of the polymerizable compound (content of the polymerizable compound / content of the binder polymer) to the content of the binder polymer is preferably 0.10 to 1.50, more preferably 0.40 to 1.00. preferable.
  • the content of the polymer compound means the total amount of all the polymer compounds when other polymer compounds are contained in addition to the first polymer compound.
  • the polymerizable compound may contain a second polymerizable compound which is another polymerizable compound in addition to the first polymerizable compound described above.
  • the second polymerizable compound include known polymerizable compounds other than the first polymerizable compound.
  • a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group (hereinafter, also referred to as “ethylenically unsaturated compound”) is preferable.
  • ethylenically unsaturated compound a (meth) acryloxy group is preferable.
  • a compound represented by the following formula (M-2) (hereinafter, also referred to as “Compound M2”) can be mentioned.
  • Q 22- R 11- Q 11 formula (M-2) In formula (M-2), Q 11 and Q 22 each independently represent a (meth) acryloyloxy group, and R 11 represents a divalent linking group having a chain structure.
  • Q 11 and Q 22 in formula (M-2) from the viewpoint of ease of synthesis, it is preferable Q 11 and Q 22 are the same group. Further, Q 11 and Q 22 in the formula (M-2) are preferably acryloyloxy groups from the viewpoint of reactivity.
  • an alkylene group, an alkylene oxyalkylene group (-L 11 -O-L 11 - ), or, polyalkylene oxyalkylene group (- (L 11 -O) p -L 11 -) is preferably a hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, or, more preferably polyalkylene oxyalkylene group, more preferably an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms, 6 carbon atoms Eighteen linear alkylene groups are particularly preferred.
  • the hydrocarbon group may have a chain structure at least partially, and the portion other than the chain structure is not particularly limited, and is, for example, a branched chain, cyclic, or having 1 to 5 carbon atoms. It may be any of a linear alkylene group, an arylene group, an ether bond, and a combination thereof, and an alkylene group or a group in which two or more alkylene groups and one or more arylene groups are combined is preferable. Groups are more preferred, and linear alkylene groups are even more preferred.
  • the above L 11 independently represents an alkylene group, and an ethylene group, a propylene group, or a butylene group is preferable, and an ethylene group or a 1,2-propylene group is more preferable.
  • p represents an integer of 2 or more, and is preferably an integer of 2 to 10.
  • the number of atoms of the shortest connecting chain connecting between Q 11 and Q 22 in compound M2 is preferably 3 to 50, more preferably 4 to 40, because the effect of the present invention is more excellent. 6 to 20 are more preferable, and 8 to 12 are particularly preferable.
  • “the number of atoms in the shortest connecting chain connecting between Q 11 and Q 22 " is the shortest connecting atoms in R 11 connected to Q 11 to atoms in R 1 connected to Q 22. The number of atoms in.
  • the compound M2 include 1,3-butanediol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate.
  • the ester monomer can also be used as a mixture.
  • 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, and 1,10-decanediol di (meth) acrylate are more excellent in the effect of the present invention.
  • a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound can be mentioned.
  • the "bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound” means a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
  • a (meth) acryloyl group is preferable.
  • a (meth) acrylate compound is preferable.
  • the bifunctional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited and may be appropriately selected from known compounds.
  • Examples of the bifunctional ethylenically unsaturated compound other than the compound M2 include tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate and tricyclodecanedimenanol di (meth) acrylate.
  • NK ester A-DCP tricyclodecanedimethanol diacrylate
  • NK ester A-DCP tricyclodecanedimenanol dimethacrylate
  • NK ester DCP manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • 1,9-nonanediol diacrylate (trade name: NK ester A-NOD-N, manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)
  • 1,6 -Hexanediol diacrylate (trade name: NK ester A-HD-N, manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)
  • the trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited and may be appropriately selected from known compounds.
  • Examples of the trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound include dipentaerythritol (tri / tetra / penta / hexa) (meth) acrylate, pentaerythritol (tri / tetra) (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate.
  • Examples thereof include ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, isocyanuric acid (meth) acrylate, and (meth) acrylate compound having a glycerintri (meth) acrylate skeleton.
  • (tri / tetra / penta / hexa) (meth) acrylate is a concept including tri (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate, penta (meth) acrylate, and hexa (meth) acrylate.
  • (tri / tetra) (meth) acrylate” is a concept that includes tri (meth) acrylate and tetra (meth) acrylate.
  • Examples of the second polymerizable compound include caprolactone-modified compounds of (meth) acrylate compounds (KAYARAD (registered trademark) DPCA-20 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., A-9300-1CL manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., etc.).
  • (Meta) acrylate compound alkylene oxide-modified compound (KAYARAD (registered trademark) RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., ATM-35E, A-9300 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., EBECRYL manufactured by Daisel Ornex Co., Ltd. ( (Registered trademark) 135, etc.), ethoxylated glycerin triacrylate (NK ester A-GLY-9E, etc. manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) can also be mentioned.
  • Examples of the second polymerizable compound include urethane (meth) acrylate compounds [preferably trifunctional or higher functional urethane (meth) acrylate compounds].
  • Examples of the trifunctional or higher functional urethane (meth) acrylate compound include 8UX-015A (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), NK ester UA-32P (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), and NK ester UA-1100H (new). Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.
  • One of the preferred embodiments of the second polymerizable compound is an ethylenically unsaturated compound having an acid group.
  • the acid group include a phosphoric acid group, a sulfo group, and a carboxy group.
  • the carboxy group is preferable as the acid group.
  • the ethylenically unsaturated compound having an acid group a 3- to 4-functional ethylenically unsaturated compound having an acid group [pentaerythritol tri and a tetraacrylate (PETA) skeleton introduced with a carboxy group (acid value: 80 mgKOH /).
  • a 5- to 6-functional ethylenically unsaturated compound having an acid group (dipentaerythritol penta and hexaacrylate (DPHA)) with a carboxy group introduced into the skeleton [acid value: 25 mgKOH / g to 70 mgKOH] / G)] and the like.
  • DPHA dipentaerythritol penta and hexaacrylate
  • These trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compounds having an acid group may be used in combination with a bifunctional ethylenically unsaturated compound having an acid group, if necessary.
  • the ethylenically unsaturated compound having an acid group at least one selected from the group consisting of a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a carboxy group and a carboxylic acid anhydride thereof is preferable.
  • the ethylenically unsaturated compound having an acid group is at least one selected from the group consisting of a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a carboxy group and a carboxylic acid anhydride thereof, the developability and film strength are further improved. It will increase.
  • the bifunctional or higher functional unsaturated compound having a carboxy group is not particularly limited and can be appropriately selected from known compounds.
  • Examples of the bifunctional or higher functional unsaturated compound having a carboxy group include Aronix (registered trademark) TO-2349 (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.), Aronix (registered trademark) M-520 (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.), and the like.
  • Aronix (registered trademark) M-510 (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.) can be mentioned.
  • the second polymerizable compound having an acid group described in paragraphs [0025] to [0030] of JP-A-2004-239942 is preferable, and the contents described in this publication are described. , Incorporated in this disclosure.
  • Examples of the second polymerizable compound include a compound obtained by reacting a polyhydric alcohol with an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid, and a compound obtained by reacting a glycidyl group-containing compound with an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid.
  • Urethane monomers such as (meth) acrylate compounds having a urethane bond, ⁇ -chloro- ⁇ -hydroxypropyl- ⁇ '-(meth) acryloyloxyethyl-o-phthalate, ⁇ -hydroxyethyl- ⁇ '-(meth) acryloyl Examples thereof include phthalic acid compounds such as oxyethyl-o-phthalate and ⁇ -hydroxypropyl- ⁇ '-(meth) acryloyloxyethyl-o-phthalate, and (meth) acrylic acid alkyl esters. These may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the compound obtained by reacting a polyvalent alcohol with an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid include 2,2-bis (4-((meth) acrylamide polyethoxy) phenyl) propane and 2,2-bis.
  • Bisphenol A-based (meth) acrylate compounds such as (4-((meth) acrylamide polypropoxy) phenyl) propane and 2,2-bis (4-((meth) acrylamide polyethoxypolypropoxy) phenyl) propane, Polyethylene glycol di (meth) acrylate having 2 to 14 ethylene oxide groups, polypropylene glycol di (meth) acrylate having 2 to 14 propylene oxide groups, and 2 to 14 ethylene oxide groups.
  • an ethylene unsaturated compound having a tetramethylolmethane structure or a trimethylolpropane structure is preferable, and a tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, a tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate, a trimethylolpropanetri (meth) acrylate, or a trimethylolpropane tri (meth) acrylate is preferable.
  • Di (trimethylolpropane) tetraacrylate is more preferred.
  • Examples of the second polymerizable compound include caprolactone-modified compounds of ethylenically unsaturated compounds (for example, KAYARAD® DPCA-20 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., A-9300-1CL manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., etc.). ), An alkylene oxide-modified compound of an ethylenically unsaturated compound (for example, KAYARAD RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., ATM-35E, A-9300 manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., EBECRYL manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd. (Registered trademark) 135 etc.), ethoxylated glycerin triacrylate (A-GLY-9E etc. manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) and the like can also be mentioned.
  • KAYARAD® DPCA-20 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., A-9300-1
  • a compound containing an ester bond is preferable in that the photosensitive composition layer after transfer is excellent in developability.
  • the ethylenically unsaturated compound containing an ester bond is not particularly limited as long as it contains an ester bond in the molecule, but is not ethylene-free having a tetramethylolmethane structure or a trimethylolpropane structure in that the effect of the present invention is excellent.
  • the ethylenically unsaturated compound includes an ethylenically unsaturated compound having an aliphatic group having 6 to 20 carbon atoms and the above-mentioned ethylene unsaturated compound having a tetramethylol methane structure or a trimethylol propane structure. It is preferable to contain a compound.
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound having an aliphatic structure having 6 or more carbon atoms include 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, and tricyclodecanedimethanoldi. Examples include (meth) acrylate.
  • One of the preferred embodiments of the second polymerizable compound is a polymerizable compound having an aliphatic hydrocarbon ring structure (preferably a bifunctional ethylenically unsaturated compound).
  • a polymerizable compound having a ring structure in which two or more aliphatic hydrocarbon rings are condensed preferably a structure selected from the group consisting of a tricyclodecane structure and a tricyclodecane structure
  • a bifunctional ethylenically unsaturated compound having a ring structure in which two or more aliphatic hydrocarbon rings are fused is more preferable, and tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate is further preferable.
  • a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a tricyclodecane structure, a tricyclodecene structure, a norbornane structure, or an isoborone structure is preferable from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • the molecular weight of the second polymerizable compound is preferably 200 to 3,000, more preferably 250 to 2,600, further preferably 280 to 2,200, and particularly preferably 300 to 2,200.
  • the ratio of the content of the polymerizable compound having a molecular weight of 300 or less to the content of all the polymerizable compounds contained in the photosensitive composition layer is 30% by mass with respect to the content of all the polymerizable compounds contained in the photosensitive composition layer. % Or less is preferable, 25% by mass or less is more preferable, and 20% by mass or less is further preferable.
  • the content of the polymerizable compound in the photosensitive composition layer is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, still more preferably 20 to 60% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. , 20-50% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer contains a polymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator is preferable.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include known photopolymerization initiators.
  • Examples of the photopolymerization initiator include a photopolymerization initiator having an oxime ester structure (hereinafter, also referred to as “oxym-based photopolymerization initiator”) and a photopolymerization initiator having an ⁇ -aminoalkylphenone structure (hereinafter, “ ⁇ -”.
  • Photopolymerization initiator hereinafter, also referred to as “acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator”
  • photopolymerization initiator having an N-phenylglycine structure hereinafter, “N-phenylglycine-based photopolymerization initiator”. Also referred to as "agent").
  • the photopolymerization initiator is selected from the group consisting of an oxime-based photopolymerization initiator, an ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator, an ⁇ -hydroxyalkylphenone-based polymerization initiator, and an N-phenylglycine-based photopolymerization initiator. It is preferable to contain at least one selected from the group consisting of an oxime-based photopolymerization initiator, an ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator, and an N-phenylglycine-based photopolymerization initiator. Is more preferable.
  • the photopolymerization initiator it is preferable to use two or more kinds of the photopolymerization initiator in combination from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent, and it is more preferable to include an oxime-based photopolymerization initiator and an ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator.
  • photopolymerization initiator is described in, for example, paragraphs [0031] to [0042] of JP-A-2011-095716 and paragraphs [0064]-[0081] of JP-A-2015-014783.
  • a polymerization initiator may be used.
  • photopolymerization initiators include 1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione-2- (O-benzoyloxime) [trade name: IRGACURE (registered trademark) OXE-01, BASF.
  • an oxime ester compound or an acylphosphine oxide-based compound is preferable because it is more excellent in transparency and pattern forming ability at 10 ⁇ m or less, and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-.
  • 4-Molholinophenyl) -butanone-1,1,2-octanedione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime), or 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl -Phosphinoxide is more preferred.
  • the polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the polymerization initiator in the photosensitive composition layer is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, based on the total mass of the photosensitive composition layer. 0% by mass or more is more preferable.
  • the content of the polymerization initiator in the photosensitive composition layer is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, based on the total mass of the photosensitive composition layer.
  • the photosensitive composition layer may contain a heterocyclic compound.
  • the above-mentioned first polymerizable compound is not included in the heterocyclic compound.
  • the heterocycle contained in the heterocyclic compound may be either a monocyclic or polycyclic complex. Examples of the hetero atom contained in the heterocyclic compound include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.
  • the heterocyclic compound preferably has at least one atom selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and more preferably has a nitrogen atom.
  • heterocyclic compound examples include a triazole compound, a benzotriazole compound, a tetrazole compound, a thiadiazol compound, a triazine compound, a rhonin compound, a thiazole compound, a benzothiazole compound, a benzoimidazole compound, a benzoxazole compound, and a pyrimidine compound.
  • the heterocyclic compound is at least one selected from the group consisting of a triazole compound, a benzotriazole compound, a tetrazole compound, a thiadiazol compound, a triazine compound, a rhonin compound, a thiazole compound, a benzoimidazole compound, and a benzoxazole compound.
  • the above-mentioned compound is preferable, and at least one compound selected from the group consisting of a triazole compound, a benzotriazole compound, a tetrazole compound, a thiadiazol compound, a thiazole compound, a benzothiazole compound, a benzoimidazole compound, and a benzoxazole compound is more preferable.
  • heterocyclic compound A preferable specific example of the heterocyclic compound is shown below.
  • examples of the triazole compound and the benzotriazole compound include the following compounds.
  • Examples of the tetrazole compound include the following compounds.
  • Examples of the thiadiazole compound include the following compounds.
  • Examples of the triazine compound include the following compounds.
  • Examples of the loadonine compound include the following compounds.
  • Examples of the thiazole compound include the following compounds.
  • benzothiazole compound examples include the following compounds.
  • Examples of the benzimidazole compound include the following compounds.
  • benzoxazole compound examples include the following compounds.
  • the heterocyclic compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the heterocyclic compound is preferably 0.01 to 20.0% by mass, preferably 0.10 to 10% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. 0% by mass is more preferable, 0.30 to 8.0% by mass is further preferable, and 0.50 to 5.0% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain an aliphatic thiol compound.
  • the photosensitive composition layer contains an aliphatic thiol compound, the aliphatic thiol compound undergoes an en-thiol reaction with a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group to cure and shrink the film formed. Is suppressed and the stress is relieved.
  • aliphatic thiol compound a monofunctional aliphatic thiol compound or a polyfunctional aliphatic thiol compound (that is, a bifunctional or higher functional aliphatic thiol compound) is preferable.
  • aliphatic thiol compound a polyfunctional aliphatic thiol compound is preferable from the viewpoint of adhesion of the formed pattern (particularly, adhesion after exposure).
  • polyfunctional aliphatic thiol compound means an aliphatic compound having two or more thiol groups (also referred to as “mercapto groups”) in the molecule.
  • the polyfunctional aliphatic thiol compound a low molecular weight compound having a molecular weight of 100 or more is preferable. Specifically, the molecular weight of the polyfunctional aliphatic thiol compound is more preferably 100 to 1,500, and even more preferably 150 to 1,000.
  • the number of functional groups of the polyfunctional aliphatic thiol compound for example, 2 to 10 functionalities are preferable, 2 to 8 functionalities are more preferable, and 2 to 6 functionalities are further preferable, from the viewpoint of adhesion of the formed pattern.
  • polyfunctional aliphatic thiol compound examples include trimethylolpropanetris (3-mercaptobutylate), 1,4-bis (3-mercaptobutylyloxy) butane, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), and the like.
  • the polyfunctional aliphatic thiol compounds include trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, and 1,3,5-tris. At least one compound selected from the group consisting of (3-mercaptobutyryloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione is preferred.
  • Examples of the monofunctional aliphatic thiol compound include 1-octanethiol, 1-dodecanethiol, ⁇ -mercaptopropionic acid, methyl-3-mercaptopropionate, 2-ethylhexyl-3-mercaptopropionate, and n-. Examples thereof include octyl-3-mercaptopropionate, methoxybutyl-3-mercaptopropionate, and stearyl-3-mercaptopropionate.
  • the photosensitive composition layer may contain one kind of aliphatic thiol compound alone, or may contain two or more kinds of aliphatic thiol compounds.
  • the content of the aliphatic thiol compound is preferably 5% by mass or more, more preferably 5 to 50% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. 5 to 30% by mass is more preferable, and 8 to 20% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain a heat-crosslinkable compound.
  • the heat-crosslinkable compound having an ethylenically unsaturated group described later is not treated as an ethylenically unsaturated compound, but is treated as a heat-crosslinkable compound.
  • the heat-crosslinkable compound include an epoxy compound, an oxetane compound, a methylol compound, and a blocked isocyanate compound. Among them, the blocked isocyanate compound is preferable from the viewpoint of the strength of the obtained cured film and the adhesiveness of the obtained uncured film.
  • the blocked isocyanate compound reacts with a hydroxy group and a carboxy group, for example, when at least one of the binder polymer and the radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group has at least one of the hydroxy group and the carboxy group, The hydrophilicity of the formed film tends to decrease, and the function as a protective film tends to be strengthened.
  • the blocked isocyanate compound refers to "a compound having a structure in which the isocyanate group of isocyanate is protected (so-called masked) with a blocking agent".
  • the dissociation temperature of the blocked isocyanate compound is not particularly limited, but is preferably 100 to 160 ° C, more preferably 130 to 150 ° C.
  • the dissociation temperature of the blocked isocyanate means "the temperature of the endothermic peak associated with the deprotection reaction of the blocked isocyanate when measured by DSC (Differential scanning calorimetry) analysis using a differential scanning calorimeter".
  • DSC Different scanning calorimeter
  • a differential scanning calorimeter model: DSC6200 manufactured by Seiko Instruments, Inc. can be preferably used.
  • the differential scanning calorimeter is not limited to this.
  • the blocking agent having a dissociation temperature of 100 to 160 ° C. for example, at least one selected from oxime compounds is preferable from the viewpoint of storage stability.
  • the blocked isocyanate compound preferably has an isocyanurate structure, for example, from the viewpoint of improving the brittleness of the membrane and improving the adhesion to the transferred body.
  • the blocked isocyanate compound having an isocyanurate structure can be obtained, for example, by subjecting hexamethylene diisocyanate to isocyanurate to protect it.
  • the compound having an oxime structure using an oxime compound as a blocking agent is easier to set the dissociation temperature in a preferable range and reduces the development residue than the compound having no oxime structure. It is preferable because it is easy.
  • the blocked isocyanate compound may have a polymerizable group.
  • the polymerizable group is not particularly limited, and a known polymerizable group can be used, and a radically polymerizable group is preferable.
  • the polymerizable group include a (meth) acryloxy group, a (meth) acrylamide group, an ethylenically unsaturated group such as a styryl group, and a group having an epoxy group such as a glycidyl group.
  • an ethylenically unsaturated group is preferable
  • a (meth) acryloxy group is more preferable
  • an acryloxy group is further preferable.
  • blocked isocyanate compound a commercially available product can be used.
  • examples of commercially available blocked isocyanate compounds include Karenz (registered trademark) AOI-BM, Karenz (registered trademark) MOI-BM, Karenz (registered trademark) MOI-BP (all manufactured by Showa Denko KK), and blocks.
  • Examples thereof include the Duranate series of molds (for example, Duranate (registered trademark) TPA-B80E, Duranate (registered trademark) WT32-B75P, etc., manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.).
  • the heat-crosslinkable compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the heat-crosslinkable compound is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. ..
  • the photosensitive composition layer may contain a surfactant.
  • the surfactant include the surfactants described in paragraph [0017] of Japanese Patent No. 4502784 and paragraphs [0060] to [0071] of JP-A-2009-237362.
  • a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant is preferable, and a silicone-based surfactant is more preferable.
  • Commercially available products of fluorine-based surfactants include, for example, Megafax (registered trademark) F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143.
  • an acrylic compound having a molecular structure containing a functional group having a fluorine atom and in which a portion of the functional group having a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatilizes when heat is applied is also preferable. ..
  • a fluorine-based surfactant Megafuck (registered trademark) DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)) , For example, Megafuck® DS-21.
  • a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound is also preferable.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound is also preferable.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain can also be used.
  • Megafvck registered trademark
  • RS-101, RS-102, RS-718K, RS-72-K all manufactured by DIC Corporation
  • a compound having a linear perfluoroalkyl group having 7 or more carbon atoms such as perfluorooctanoic acid (PFOA) and perfluorooctanesulfonic acid (PFOS), can be used from the viewpoint of improving environmental suitability.
  • PFOA perfluorooctanoic acid
  • PFOS perfluorooctanesulfonic acid
  • silicone-based surfactant examples include a linear polymer composed of a siloxane bond and a modified siloxane polymer having an organic group introduced into a side chain or a terminal.
  • Specific examples of the surfactant include DOWSIL (registered trademark) 8032 ADDITIVE, Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torre Silicone SH28PA, Torre Silicone SH29PA, Torre Silicone SH30PA, Torre Silicone SH8400 (and above).
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ethers, polyoxyethylene stearyl ethers, etc.
  • the surfactant may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the surfactant is preferably 0.01 to 3.0% by mass, preferably 0.05 to 1.% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. 0% by mass is more preferable, and 0.10 to 0.80% by mass is further preferable.
  • the photosensitive composition layer preferably contains a phosphoric acid ester compound in terms of further improving the adhesion of the photosensitive composition layer to the substrate or the conductive portion.
  • the phosphoric acid ester compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the phosphoric acid ester compound is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 3.0% by mass, more preferably 0.1 to 2.0% by mass, and 0, based on the total mass of the photosensitive composition layer. .2 to 1.0% by mass is more preferable.
  • the content of the phosphoric acid ester compound is not particularly limited, but the binder polymer and the binder polymer can further improve the adhesion of the photosensitive composition layer to the substrate or the conductive portion.
  • It is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the total of the polymerizable compound. Further, it is preferably 0.01 part by mass or more, and more preferably 0.1 part by mass or more.
  • the photosensitive composition layer may contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor means a compound having a function of delaying or prohibiting a polymerization reaction.
  • a known compound used as a polymerization inhibitor can be used.
  • polymerization inhibitor examples include phenothiazine compounds such as phenothiazine, bis- (1-dimethylbenzyl) phenothiazine, and 3,7-dioctylphenothiazine; bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-.
  • Methylphenyl) propionic acid [ethylene bis (oxyethylene)] 2,4-bis [(laurylthio) methyl] -o-cresol, 1,3,5-tris (3,5-di-t-butyl-4-) Hydroxybenzyl), 1,3,5-tris (4-t-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl), 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3) , 5-Di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, and hindered phenol compounds such as pentaerythritol tetrakis 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate; 4 -Nitroso compounds such as nitrosophenol, N-nitrosodiphenylamine, N-nitrosocyclohexylhydroxylamine, and N-nitrosophenylhydroxylamine or salts thereof;
  • quinone compounds such as 4-benzoquinone; phenolic compounds such as 4-methoxyphenol, 4-methoxy-1-naphthol, and t-butylcatechol; copper dibutyldithiocarbamate, copper diethyldithiocarbamate, manganese diethyldithiocarbamate, And a metal salt compound such as manganese diphenyldithiocarbamate can be mentioned.
  • the polymerization inhibitor preferably contains at least one selected from the group consisting of a phenylothiazine compound, a nitroso compound or a salt thereof, and a hindered phenol compound, and phenothiazine.
  • a phenylothiazine compound a nitroso compound or a salt thereof
  • a hindered phenol compound a hindered phenol compound
  • phenothiazine preferably contains at least one selected from the group consisting of a phenylothiazine compound, a nitroso compound or a salt thereof, and a hindered phenol compound, and phenothiazine.
  • the polymerization inhibitor may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 10.0% by mass, preferably 0.05 to 5.% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. 0% by mass is more preferable, and 0.10 to 3.0% by mass is further preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain a hydrogen donating compound.
  • the hydrogen donating compound has an action of further improving the sensitivity of the photopolymerization initiator to active light rays and suppressing the inhibition of the polymerization of the polymerizable compound by oxygen.
  • Examples of the hydrogen donating compound include amines and amino acid compounds.
  • Examples of amines include M.I. R. "Journal of Polymer Society" by Sander et al., Vol. 10, pp. 3173 (1972), JP-A-44-020189, JP-A-51-081022, JP-A-52-134692, JP-A-59-138205. Examples thereof include the compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-0843305, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-018537, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-033104, and Research Disclosure No. 33825.
  • examples thereof include dimethylaniline and p-methylthiodimethylaniline.
  • at least one selected from the group consisting of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone and tris (4-dimethylaminophenyl) methane is used as the amines because the effect of the present invention is more excellent. preferable.
  • amino acid compound examples include N-phenylglycine, N-methyl-N-phenylglycine, and N-ethyl-N-phenylglycine.
  • N-phenylglycine is preferable as the amino acid compound because the effect of the present invention is more excellent.
  • Examples of the hydrogen-donating compound include an organometallic compound (tributyltin acetate, etc.) described in Japanese Patent Publication No. 48-042965, a hydrogen donor described in Japanese Patent Publication No. 55-0344414, and JP-A-6.
  • a sulfur compound (Tritian or the like) described in JP-A-308727 can also be mentioned.
  • the hydrogen donating compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the hydrogen donating compound is based on the total mass of the photosensitive composition layer in terms of improving the curing rate due to the balance between the polymerization growth rate and the chain transfer. Therefore, 0.01 to 10.0% by mass is preferable, 0.03 to 8.0% by mass is more preferable, and 0.10 to 5.0% by mass is further preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain a predetermined amount of impurities.
  • impurities include sodium, potassium, magnesium, calcium, iron, manganese, copper, aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, zinc, tin, halogen and ions thereof.
  • halide ions, sodium ions, and potassium ions are easily mixed as impurities, so the following content is preferable.
  • the content of impurities in the photosensitive composition layer is preferably 80 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, still more preferably 2 ppm or less on a mass basis.
  • the content of impurities in the photosensitive composition layer can be 1 ppb or more or 0.1 ppm or more on a mass basis.
  • Specific examples of the content of impurities in the photosensitive composition layer include an embodiment in which all the above impurities are 0.6 ppm on a mass basis.
  • a material having a low impurity content is selected as a raw material of the photosensitive composition layer, and the impurities are prevented from being mixed during the formation of the photosensitive composition layer, and the cleaning is performed. Removal is mentioned.
  • the amount of impurities can be kept within the above range.
  • Impurities can be quantified by known methods such as ICP (Inductively Coupled Plasma) emission spectroscopy, atomic absorption spectroscopy, and ion chromatography.
  • ICP Inductively Coupled Plasma
  • the content of compounds such as benzene, formaldehyde, trichlorethylene, 1,3-butadiene, carbon tetrachloride, chloroform, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and hexane in the photosensitive composition layer is Less is preferable.
  • the content of these compounds in the photosensitive composition layer is preferably 100 ppm or less, more preferably 20 ppm or less, still more preferably 4 ppm or less on a mass basis.
  • the lower limit is based on mass and can be 10 ppb or more, and can be 100 ppb or more.
  • the content of these compounds can be suppressed in the same manner as the above-mentioned metal impurities. Further, it can be quantified by a known measurement method.
  • the water content in the photosensitive composition layer is preferably 0.01 to 1.0% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass, from the viewpoint of improving reliability and laminating property.
  • the photosensitive composition layer may contain residual monomers of each structural unit of the binder polymer described above.
  • the content of the residual monomer is preferably 5,000 mass ppm or less, more preferably 2,000 mass ppm or less, and 500 mass ppm or less with respect to the total mass of the binder polymer from the viewpoint of patterning property and reliability. More preferred.
  • the lower limit is not particularly limited, but 1 mass ppm or more is preferable, and 10 mass ppm or more is more preferable.
  • the residual monomer of each structural unit of the binder polymer is preferably 3,000 mass ppm or less, more preferably 600 mass ppm or less, based on the total mass of the photosensitive composition layer from the viewpoint of patterning property and reliability. More preferably, it is 100 mass ppm or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.1 mass ppm or more, and more preferably 1 mass ppm or more.
  • the amount of residual monomer of the monomer when synthesizing the binder polymer by the polymer reaction is also preferably in the above range.
  • the content of glycidyl acrylate is preferably in the above range.
  • the amount of the residual monomer can be measured by a known method such as liquid chromatography and gas chromatography.
  • the photosensitive composition layer may contain components other than the above-mentioned components (hereinafter, also referred to as “other components”).
  • other components include other polymerizable compounds other than the above-mentioned polymerizable compounds, colorants, antioxidants, and particles (for example, metal oxide particles).
  • other additives described in paragraphs [0058] to [0071] of JP-A-2000-310706 can also be mentioned.
  • metal oxide particles are preferable.
  • the metal in the metal oxide particles also includes metalloids such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
  • the average primary particle size of the particles is, for example, preferably 1 to 200 nm, more preferably 3 to 80 nm, from the viewpoint of transparency of the cured film.
  • the average primary particle size of the particles is calculated by measuring the particle size of 200 arbitrary particles using an electron microscope and arithmetically averaging the measurement results. If the shape of the particle is not spherical, the longest side is the particle diameter.
  • the photosensitive composition layer When the photosensitive composition layer contains particles, it may contain only one kind of particles having different metal types and sizes, or may contain two or more kinds of particles.
  • the photosensitive composition layer does not contain particles, or when the photosensitive composition layer contains particles, the content of the particles is more than 0% by mass and 35 mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer. % Or less, preferably no particles, or the content of the particles is more than 0% by mass and 10% by mass or less with respect to the total mass of the photosensitive composition, and more preferably no particles or no particles.
  • the content is more preferably more than 0% by mass and 5% by mass or less with respect to the total mass of the photosensitive composition layer, and either does not contain particles or the content of particles is 0 mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer. It is more preferably more than% and 1% by mass or less, and particularly preferably not containing particles.
  • the photosensitive composition may contain a trace amount of a colorant (pigment, dye, etc.), but for example, from the viewpoint of transparency, it is preferable that the photosensitive composition contains substantially no colorant.
  • the content of the colorant is preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer.
  • the antioxidant examples include 1-phenyl-3-pyrazolidone (also known as phenidone), 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, and 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-.
  • 3-Pyrazoridones such as 3-pyrazolidone; polyhydroxybenzenes such as hydroquinone, catechol, pyrogallol, methylhydroquinone, and chlorhydroquinone; paramethylaminophenol, paraaminophenol, parahydroxyphenylglycine, and paraphenylenediamine. Be done.
  • 3-pyrazolidones are preferable, and 1-phenyl-3-pyrazolidone is more preferable as the antioxidant because the effect of the present invention is more excellent.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.005% by mass or more, based on the total mass of the photosensitive composition layer. , 0.01% by mass or more is more preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or less.
  • the refractive index of the photosensitive composition layer is preferably 1.47 to 1.56, more preferably 1.49 to 1.54.
  • the photosensitive composition layer is preferably achromatic. Specifically, the total reflection (incident angle 8 °, light source: D-65 (2 ° field)) has an L * value of 10 to 90 in the CIE1976 (L *, a *, b *) color space.
  • the a * value is preferably ⁇ 1.0 to 1.0
  • the b * value is preferably ⁇ 1.0 to 1.0.
  • the pattern (cured film of the photosensitive composition layer) obtained by curing the photosensitive composition layer is preferably achromatic.
  • the total reflection (incident angle 8 °, light source: D-65 (2 ° field)) has a pattern L * value of 10 to 90 in the CIE1976 (L *, a *, b *) color space.
  • the a * value of the pattern is preferably ⁇ 1.0 to 1.0
  • the b * value of the pattern is preferably ⁇ 1.0 to 1.0.
  • the visible light transmittance per 1.0 ⁇ m film thickness of the photosensitive composition layer is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more.
  • the transmittance of visible light it is preferable that the average transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm, the minimum value of the transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm, and the transmittance at a wavelength of 400 nmm all satisfy the above.
  • Preferred values for the transmittance include, for example, 87%, 92%, 98% and the like. The same applies to the transmittance of the cured film of the photosensitive composition layer per 1.0 ⁇ m film thickness.
  • the moisture permeability of the pattern (cured film of the photosensitive composition layer) obtained by curing the photosensitive composition layer at a thickness of 40 ⁇ m is the point of rust prevention of the electrode or wiring and the point of reliability of the device. from less preferably 500g / m 2 / 24hr, more preferably less 300g / m 2 / 24hr, 100g / m 2 / 24hr or less is more preferable.
  • the moisture permeability is a cured film obtained by curing the photosensitive composition layer by exposing the photosensitive composition layer with an i-line at an exposure amount of 300 mJ / cm 2 and then post-baking at 145 ° C. for 30 minutes. Measure with.
  • the moisture permeability is measured according to the JIS Z0208 cup method.
  • the above-mentioned moisture permeability is preferable under any of the test conditions of temperature 40 ° C./humidity 90%, temperature 65 ° C./humidity 90%, and temperature 80 ° C./humidity 95%.
  • the dissolution rate of the photosensitive composition layer in a 1.0% aqueous solution of sodium carbonate is preferably 0.01 ⁇ m / sec or more, more preferably 0.10 ⁇ m / sec or more, and 0.20 ⁇ m / sec from the viewpoint of suppressing residue during development. Seconds or more are more preferred. From the point of view of the edge shape of the pattern, 5.0 ⁇ m / sec or less is preferable, 4.0 ⁇ m / sec or less is more preferable, and 3.0 ⁇ m / sec or less is further preferable. Specific preferable numerical values include, for example, 1.8 ⁇ m / sec, 1.0 ⁇ m / sec, 0.7 ⁇ m / sec, and the like.
  • the dissolution rate of the photosensitive composition layer in a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution per unit time shall be measured as follows.
  • a photosensitive composition layer (within a film thickness of 1.0 to 10 ⁇ m) formed on a glass substrate from which a solvent has been sufficiently removed is subjected to a photosensitive composition at 25 ° C. using a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution.
  • shower development is performed until the material layer is completely melted (however, the maximum is 2 minutes).
  • the dissolution rate per unit time of the photosensitive composition layer is determined by dividing the film thickness of the photosensitive composition layer by the time required for the photosensitive composition layer to completely dissolve. If it does not melt completely in 2 minutes, calculate in the same way from the amount of change in film thickness up to that point.
  • the dissolution rate of the cured film (within a film thickness of 1.0 to 10 ⁇ m) of the photosensitive composition layer in a 1.0% aqueous solution of sodium carbonate is preferably 3.0 ⁇ m / sec or less, more preferably 2.0 ⁇ m / sec or less. It is preferable, 1.0 ⁇ m / sec or less is more preferable, and 0.2 ⁇ m / sec or less is particularly preferable.
  • the cured film of the photosensitive composition layer is a film obtained by exposing the photosensitive composition layer with an i-line at an exposure amount of 300 mJ / cm 2. Specific preferable numerical values include, for example, 0.8 ⁇ m / sec, 0.2 ⁇ m / sec, 0.001 ⁇ m / sec and the like.
  • the swelling ratio of the photosensitive composition layer after exposure to a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution is preferably 100% or less, more preferably 50% or less, still more preferably 30% or less, from the viewpoint of improving pattern formation.
  • Swelling rate of the photosensitive composition layer after exposure The swelling rate of the photosensitive composition layer with respect to a 1.0% by mass sodium carbonate aqueous solution shall be measured as follows.
  • the photosensitive composition layer (within a film thickness of 1.0 to 10 ⁇ m) formed on the glass substrate from which the solvent has been sufficiently removed is exposed to 500 mj / cm 2 (i-line measurement) with an ultra-high pressure mercury lamp.
  • the glass substrate is immersed in a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution at 25 ° C., and the film thickness is measured after 30 seconds. Then, the rate at which the film thickness after immersion increases with respect to the film thickness before immersion is calculated.
  • Specific preferable numerical values include, for example, 4%, 13%, 25% and the like.
  • the number of foreign substances having a diameter of 1.0 ⁇ m or more in the photosensitive composition layer is preferably 10 pieces / mm 2 or less, and more preferably 5 pieces / mm 2 or less.
  • the number of foreign substances shall be measured as follows. Arbitrary five regions (1 mm ⁇ 1 mm) on the surface of the photosensitive composition layer are visually observed from the normal direction of the surface of the photosensitive composition layer using an optical microscope, and each region is observed. The number of foreign substances having a diameter of 1.0 ⁇ m or more in the inside is measured, and they are arithmetically averaged to calculate the number of foreign substances. Specific preferable numerical values include, for example, 0 pieces / mm 2 , 1 piece / mm 2 , 4 pieces / mm 2 , 8 pieces / mm 2, and the like.
  • Haze of solution in photosensitive composition layer In view of aggregates generation suppression at the time of development, the haze of the resulting solution to 1.0 30 ° C. solution 1.0 liters of mass% sodium carbonate was dissolved photosensitive composition layer of 1.0 cm 3, the 60 % Or less is preferable, 30% or less is more preferable, 10% or less is further preferable, and 1% or less is particularly preferable. Haze shall be measured as follows. First, a 1.0% by mass sodium carbonate aqueous solution is prepared, and the liquid temperature is adjusted to 30 ° C. Add a photosensitive composition layer of 1.0 cm 3 aqueous sodium carbonate solution 1.0 L. Stir at 30 ° C. for 4 hours, being careful not to mix air bubbles.
  • the haze of the solution in which the photosensitive composition layer is dissolved is measured.
  • the haze is measured using a haze meter (product name "NDH4000", manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.), a liquid measuring unit, and a liquid measuring cell having an optical path length of 20 mm.
  • a haze meter product name "NDH4000", manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.
  • Specific preferable numerical values include, for example, 0.4%, 1.0%, 9%, 24% and the like.
  • the transfer film may have a protective film on the photosensitive composition layer. More specifically, the transfer film may have a protective film on the surface of the photosensitive composition layer opposite to the temporary support side.
  • a resin film having heat resistance and solvent resistance can be used.
  • a polypropylene film, a polyolefin film such as a polyethylene film, a polyester film such as a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, and a polystyrene film can be used.
  • a resin film made of the same material as the above-mentioned temporary support may be used.
  • a polyolefin film is preferable, a polypropylene film or a polyethylene film is more preferable, and a polyethylene film is further preferable.
  • the thickness of the protective film is preferably 1 to 100 ⁇ m, more preferably 5 to 50 ⁇ m, still more preferably 5 to 40 ⁇ m, and particularly preferably 15 to 30 ⁇ m.
  • the thickness of the protective film is preferably 1 ⁇ m or more in terms of excellent mechanical strength, and preferably 100 ⁇ m or less in terms of relatively low cost.
  • the number of fish eyes having a diameter of 80 ⁇ m or more contained in the protective film is 5 / m 2 or less.
  • fish eye refers to foreign substances, undissolved substances, oxidative deterioration substances, etc. of the material when the material is thermally melted, kneaded, extruded, and used to produce a film by a biaxial stretching method, a casting method, or the like. Was incorporated into the film.
  • the number of diameter 3 ⁇ m or more of the particles contained in the protective film is preferably 30 / mm 2 or less, more preferably 10 / mm 2 or less, more preferably 5 / mm 2 or less. As a result, it is possible to suppress defects caused by the unevenness caused by the particles contained in the protective film being transferred to the photosensitive composition layer or the conductive portion.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the surface in contact with the photosensitive composition layer or the refractive index adjusting layer is preferably 0.01 ⁇ m or more, preferably 0.02 ⁇ m or more, from the viewpoint of imparting winding property. Is more preferable, and 0.03 ⁇ m or more is further preferable. On the other hand, it is preferably less than 0.50 ⁇ m, more preferably 0.40 ⁇ m or less, still more preferably 0.30 ⁇ m or less.
  • the protective film preferably has a surface roughness Ra of 0.01 ⁇ m or more, more preferably 0.02 ⁇ m or more, and 0.03 ⁇ m on the surface in contact with the photosensitive composition layer or the refractive index adjusting layer.
  • the above is more preferable.
  • less than 0.50 ⁇ m is preferable, 0.40 ⁇ m or less is more preferable, and 0.30 ⁇ m or less is further preferable.
  • the transfer film may have a refractive index adjusting layer.
  • the transfer film may have a refractive index adjusting layer on the surface of the photosensitive composition layer opposite to the temporary support side.
  • the transfer film preferably has a temporary support, a photosensitive composition layer, a refractive index adjusting layer, and a protective film in this order.
  • the refractive index adjusting layer a known refractive index adjusting layer can be applied. Examples of the material contained in the refractive index adjusting layer include a binder polymer, a polymerizable compound, a metal salt, and particles.
  • the method of controlling the refractive index of the refractive index adjusting layer is not particularly limited, and for example, a method of using a resin having a predetermined refractive index alone, a method of using a resin and particles, or a method of using a composite of a metal salt and a resin is used. The method can be mentioned.
  • binder polymer and the polymerizable compound examples include the binder polymer described in the above section "Photosensitive composition layer” and the polymerizable compound.
  • the particles include metal oxide particles and metal particles.
  • the type of the metal oxide particles is not particularly limited, and examples thereof include known metal oxide particles.
  • the metal in the metal oxide particles also includes metalloids such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
  • the average primary particle size of the particles is, for example, preferably 1 to 200 nm, more preferably 3 to 80 nm, from the viewpoint of transparency of the cured film.
  • the average primary particle size of the particles is calculated by measuring the particle size of 200 arbitrary particles using an electron microscope and arithmetically averaging the measurement results. If the shape of the particle is not spherical, the longest side is the particle diameter.
  • the metal oxide particles include zirconium oxide particles (ZrO 2 particles), Nb 2 O 5 particles, titanium oxide particles (TIO 2 particles), silicon dioxide particles (SiO 2 particles), and a composite thereof. At least one selected from the group consisting of particles is preferred. Among these, as the metal oxide particles, for example, at least one selected from the group consisting of zirconium oxide particles and titanium oxide particles is more preferable because the refractive index can be easily adjusted.
  • metal oxide particles include calcined zirconium oxide particles (manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd., product name: ZRPGM15WT% -F04), calcined zirconium oxide particles (manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd., product name: ZRPGM15WT% -F74).
  • Fired Zirconium Oxide Particles (CIK Nanotech Co., Ltd., Product Name: ZRPGM15WT% -F75), Fired Zirconium Oxide Particles (CIK Nanotech Co., Ltd., Product Name: ZRPGM15WT% -F76), Zirconium Oxide Particles (Nano Teen OZ-S30M, Nissan) Examples include (manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.) and zirconium oxide particles (Nano Teen OZ-S30K, manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd.).
  • the particles may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the particles in the refractive index adjusting layer is preferably 1 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, still more preferably 40 to 85% by mass, based on the total mass of the refractive index adjusting layer.
  • the content of the titanium oxide particles is preferably 1 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and 40 to 85% by mass with respect to the total mass of the refractive index adjusting layer. % Is more preferable.
  • the refractive index of the refractive index adjusting layer is preferably higher than that of the photosensitive composition layer.
  • the refractive index of the refractive index adjusting layer is preferably 1.50 or more, more preferably 1.55 or more, further preferably 1.60 or more, and particularly preferably 1.65 or more.
  • the upper limit of the refractive index of the refractive index adjusting layer is preferably 2.10 or less, more preferably 1.85 or less, further preferably 1.78 or less, and particularly preferably 1.74 or less.
  • the thickness of the refractive index adjusting layer is preferably 50 to 500 nm, more preferably 55 to 110 nm, and even more preferably 60 to 100 nm.
  • the thickness of the refractive index adjusting layer is calculated as an average value of any five points measured by cross-sectional observation with a scanning electron microscope (SEM).
  • the transfer film may have a layer (intermediate layer) other than the photosensitive composition layer and the refractive index adjusting layer.
  • the intermediate layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
  • Preferred intermediate layers include, for example, a thermoplastic resin layer and a water-soluble resin layer.
  • the intermediate layer may include a thermoplastic resin layer, a water-soluble resin layer, or both a thermoplastic resin layer and a water-soluble resin layer.
  • the intermediate layer preferably includes a thermoplastic resin layer and a water-soluble resin layer.
  • the transfer film includes a temporary support, a thermoplastic resin layer, a water-soluble resin layer, a photosensitive composition layer, and a protective film. It is preferable to include them in order.
  • an oxygen blocking layer having an oxygen blocking function which is described as a “separation layer” in JP-A-5-07724, may be mentioned.
  • the intermediate layer is an oxygen blocking layer, the sensitivity at the time of exposure is improved, the time load of the exposure machine is reduced, and the productivity is improved.
  • thermoplastic resin layer (Component of intermediate layer: thermoplastic resin layer)
  • the thermoplastic resin layer improves the followability to the substrate when the transfer film and the substrate are bonded, suppresses the mixing of air bubbles between the substrate and the transfer film, and improves the adhesion between the substrate and the transfer film. Improve.
  • thermoplastic resin layer preferably contains an alkali-soluble resin as the thermoplastic resin.
  • alkali-soluble resin include acrylic resin, polystyrene resin, styrene-acrylic copolymer, polyurethane resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyamide resin, polyester resin, polyamide resin, epoxy resin, polyacetal resin, and polyhydroxystyrene resin.
  • examples thereof include polyimide resin, polybenzoxazole resin, polysiloxane resin, polyethyleneimine, polyallylamine, and polyalkylene glycol.
  • an acrylic resin is preferable from the viewpoint of developability and adhesion to an adjacent layer.
  • the acrylic resin is selected from the group consisting of a structural unit derived from (meth) acrylic acid, a structural unit derived from (meth) acrylic acid ester, and a structural unit derived from (meth) acrylic acid amide. It means a resin having at least one structural unit.
  • the acrylic resin the total content of the structural unit derived from (meth) acrylic acid, the structural unit derived from (meth) acrylic acid ester, and the structural unit derived from (meth) acrylic acid amide is the acrylic resin. It is preferably 50% by mass or more with respect to the total mass.
  • the total content of the structural unit derived from (meth) acrylic acid and the structural unit derived from (meth) acrylic acid ester is preferably 30 to 100% by mass, preferably 50 to 100% by mass, based on the total mass of the acrylic resin. More preferably by mass.
  • the alkali-soluble resin is preferably a polymer having an acid group.
  • the acid group include a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, and a phosphonic acid group, and a carboxy group is preferable.
  • the alkali-soluble resin is more preferably an alkali-soluble resin having an acid value of 60 mgKOH / g or more, and further preferably a carboxy group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mgKOH / g or more.
  • the upper limit of the acid value of the alkali-soluble resin is not particularly limited, but is preferably 200 mgKOH / g or less, and more preferably 150 mgKOH / g or less.
  • the carboxy group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mgKOH / g or more is not particularly limited and can be appropriately selected from known resins and used.
  • an alkali-soluble resin which is a carboxy group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mgKOH / g or more, described in paragraphs 0033 to 0052 of JP-A-2010-237589.
  • a carboxy group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mgKOH / g or more examples include the contained acrylic resin.
  • the copolymerization ratio of the constituent unit having a carboxy group in the carboxy group-containing acrylic resin is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and 12 to 30% by mass with respect to the total mass of the acrylic resin. Is more preferable.
  • an acrylic resin having a structural unit derived from (meth) acrylic acid is particularly preferable from the viewpoint of developability and adhesion to an adjacent layer.
  • the alkali-soluble resin may have a reactive group.
  • the reactive group may be a polymerizable group, for example, a group capable of addition polymerization, polycondensation or polyaddition; an ethylenically unsaturated group; a polycondensable group such as a hydroxy group and a carboxy group; an epoxy group.
  • (Block) Examples thereof include a heavy addition reactive group such as an isocyanate group.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin is preferably 1,000 or more, more preferably 10,000 to 100,000, and even more preferably 20,000 to 50,000.
  • the thermoplastic resin layer may contain one kind of alkali-soluble resin alone, or may contain two or more kinds.
  • the content of the alkali-soluble resin is preferably 10 to 99% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin layer from the viewpoint of developability and adhesion to the adjacent layer. 40 to 80% by mass is more preferable, and 50 to 70% by mass is particularly preferable.
  • thermoplastic resin layer contains a dye having a maximum absorption wavelength of 450 nm or more in the wavelength range of 400 to 780 nm at the time of color development and whose maximum absorption wavelength is changed by an acid, a base, or a radical (also referred to simply as “dye B”). Is preferable.
  • the preferred embodiment of the dye B is the same as the preferred embodiment of the dye N except for the points described later.
  • the dye B a dye whose maximum absorption wavelength is changed by an acid or a radical is preferable, and a dye whose maximum absorption wavelength is changed by an acid is more preferable from the viewpoint of visibility and resolution of an exposed portion and a non-exposed portion.
  • the thermoplastic resin layer is both a dye whose maximum absorption wavelength is changed by an acid as dye B and a compound that generates an acid by light, which will be described later, from the viewpoint of visibility and resolution of exposed and unexposed parts. It is preferable to include.
  • Dye B may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the dye B is preferably 0.2% by mass or more, more preferably 0.2 to 6% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin layer from the viewpoint of visibility of the exposed portion and the non-exposed portion. , 0.2 to 5% by mass, more preferably 0.25 to 3.0% by mass.
  • the content of the dye B means the content of the dye when all of the dye B contained in the thermoplastic resin layer is in a colored state.
  • a method for quantifying the content of dye B will be described by taking a dye that develops color by radicals as an example. Two kinds of solutions in which 0.001 g or 0.01 g of the dye is dissolved in 100 mL of methyl ethyl ketone are prepared. Irradicure OXE01 (trade name, manufactured by BASF), a photoradical polymerization initiator, is added to each of the obtained solutions, and radicals are generated by irradiating with light of 365 nm to bring all the dyes into a colored state.
  • Irradicure OXE01 trade name, manufactured by BASF
  • the absorbance of each solution having a liquid temperature of 25 ° C. is measured using a spectrophotometer (UV3100, manufactured by Shimadzu Corporation), and a calibration curve is prepared.
  • UV3100 UV3100, manufactured by Shimadzu Corporation
  • the absorbance of the solution in which all the dyes are colored is measured by the same method as above except that 0.1 g of the thermoplastic resin layer is dissolved in methyl ethyl ketone instead of the dye. From the absorbance of the obtained solution containing the thermoplastic resin layer, the amount of the dye contained in the thermoplastic resin layer is calculated based on the calibration curve.
  • thermoplastic resin layer compound that generates acid, base or radical by light
  • the thermoplastic resin layer may contain a compound (also simply referred to as “compound C”) that generates an acid, a base or a radical by light.
  • a compound that receives an active ray such as ultraviolet rays and visible rays to generate an acid, a base, or a radical is preferable.
  • a known photoacid generator, photobase generator, and photoradical polymerization initiator photoradical generator
  • a photoacid generator is preferable.
  • the thermoplastic resin layer preferably contains a photoacid generator from the viewpoint of resolution.
  • the photoacid generator include a photocationic polymerization initiator which may be contained in the above-mentioned photosensitive composition layer, and the same preferred embodiments are used except for the points described below.
  • the photoacid generator preferably contains at least one compound selected from the group consisting of an onium salt compound and an oxime sulfonate compound from the viewpoint of sensitivity and resolution, and preferably contains sensitivity, resolution and adhesion. From the viewpoint of sex, it is more preferable to contain an oxime sulfonate compound. Further, as the photoacid generator, a photoacid generator having the following structure is also preferable.
  • the thermoplastic resin layer may contain a photoradical polymerization initiator (photoradical polymerization initiator).
  • photo-radical polymerization initiator include a photo-radical polymerization initiator that may be contained in the above-mentioned photosensitive composition layer, and the preferred embodiment is also the same.
  • the thermoplastic resin layer may contain a photobase generator.
  • the photobase generator is not particularly limited as long as it is a known photobase generator, and for example, 2-nitrobenzylcyclohexylcarbamate, triphenylmethanol, O-carbamoylhydroxylamide, O-carbamoyloxime, ⁇ [(2, 6-Dinitrobenzyl) oxy] carbonyl ⁇ cyclohexylamine, bis ⁇ [(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl ⁇ hexane-1,6-diamine, 4- (methylthiobenzoyl) -1-methyl-1-morpholinoetan, ( 4-Molholinobenzoyl) -1-benzyl-1-dimethylaminopropane, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) pyrrolidine, hexaammine cobalt (III) tris (triphenylmethylborate), 2-benzyl-2-dimethylamino -1- (4
  • the thermoplastic resin layer may contain one type of compound C alone, or may contain two or more types of compound C.
  • the content of the compound C is preferably 0.1 to 10% by mass, preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin layer from the viewpoint of visibility and resolution of the exposed and non-exposed areas. More preferably by mass.
  • thermoplastic resin layer preferably contains a plasticizer from the viewpoints of resolution, adhesion to adjacent layers, and developability.
  • the plasticizer preferably has a smaller molecular weight (weight average molecular weight (Mw) in the case of an oligomer or polymer) than the alkali-soluble resin.
  • the molecular weight (weight average molecular weight (Mw)) of the plasticizer is preferably 200 to 2,000.
  • the plasticizer is not particularly limited as long as it is a compound that is compatible with the alkali-soluble resin and exhibits plasticity, but from the viewpoint of imparting plasticity, the plasticizer preferably has an alkyleneoxy group in the molecule, and is a polyalkylene glycol. Compounds are more preferred. It is more preferable that the alkyleneoxy group contained in the plasticizer has a polyethyleneoxy structure or a polypropyleneoxy structure.
  • the plasticizer preferably contains a (meth) acrylate compound from the viewpoint of resolution and storage stability.
  • the alkali-soluble resin is an acrylic resin and the plasticizer contains a (meth) acrylate compound.
  • the (meth) acrylate compound used as a plasticizer include the (meth) acrylate compound described as the ethylenically unsaturated compound contained in the above-mentioned photosensitive composition layer.
  • both the thermoplastic resin layer and the photosensitive composition layer contain the same (meth) acrylate compound. This is because the thermoplastic resin layer and the photosensitive composition layer each contain the same (meth) acrylate compound, so that the diffusion of components between the layers is suppressed and the storage stability is improved.
  • thermoplastic resin layer contains a (meth) acrylate compound as a plasticizer
  • the (meth) acrylate compound does not polymerize even in the exposed portion after exposure from the viewpoint of adhesion to the adjacent layer.
  • the (meth) acrylate compound used as a plasticizer is a polyfunctional compound having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule in terms of resolution, adhesion to adjacent layers, and developability.
  • a (meth) acrylate compound is preferred.
  • a (meth) acrylate compound having an acid group or a urethane (meth) acrylate compound is also preferable.
  • the thermoplastic resin layer may contain one type of plasticizer alone, or may contain two or more types of plasticizer.
  • the content of the plasticizer is preferably 1 to 70% by mass, preferably 10 to 60% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin layer from the viewpoints of resolution, adhesion to adjacent layers and developability. More preferably, 20 to 50% by mass is further preferable.
  • thermoplastic resin layer preferably contains a surfactant from the viewpoint of thickness uniformity.
  • surfactant include surfactants that may be contained in the above-mentioned photosensitive composition layer, and preferred embodiments are also the same.
  • the thermoplastic resin layer may contain one type of surfactant alone, or may contain two or more types of surfactant.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 3% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin layer.
  • thermoplastic resin layer may contain a sensitizer.
  • the sensitizer is not particularly limited, and examples thereof include a sensitizer that may be contained in the above-mentioned photosensitive composition layer.
  • the thermoplastic resin layer may contain one kind of sensitizer alone, or may contain two or more kinds of sensitizers.
  • the content of the sensitizer can be appropriately selected depending on the purpose, but is 0.01 with respect to the total mass of the thermoplastic resin layer from the viewpoint of improving the sensitivity to the light source and the visibility of the exposed portion and the non-exposed portion.
  • the range of about 5% by mass is preferable, and the range of 0.05 to 1% by mass is more preferable.
  • thermoplastic resin layer may contain known additives in addition to the above components, if necessary. Further, the thermoplastic resin layer is described in paragraphs 0189 to 0193 of JP-A-2014-085643, and the contents described in this publication are incorporated in the present specification.
  • the layer thickness of the thermoplastic resin layer is not particularly limited, but is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 2 ⁇ m or more, from the viewpoint of adhesion to adjacent layers.
  • the upper limit is not particularly limited, but from the viewpoint of developability and resolvability, 20 ⁇ m or less is preferable, 10 ⁇ m or less is more preferable, and 5 ⁇ m or less is further preferable.
  • the water-soluble resin layer preferably contains a water-soluble resin.
  • the water-soluble resin include polyvinyl alcohol-based resins, polyvinylpyrrolidone-based resins, cellulose-based resins, acrylamide-based resins, polyethylene oxide-based resins, gelatin, vinyl ether-based resins, polyamide resins, and resins such as copolymers thereof. Can be mentioned.
  • the resin contained in the water-soluble resin layer suppresses mixing of the components between the plurality of layers, and thus the polymer A contained in the photosensitive composition layer and the thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin layer (for example, alkali). It is preferable that the resin is different from any of the soluble resins).
  • the water-soluble resin layer preferably contains polyvinyl alcohol, and both polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone, from the viewpoint of oxygen blocking property and suppressing mixing of components during application and storage after application. It is more preferable to include.
  • the water-soluble resin layer may contain one kind of water-soluble resin alone, or may contain two or more kinds of water-soluble resin.
  • the content of the water-soluble resin in the water-soluble resin layer is not particularly limited, but is a water-soluble resin from the viewpoint of oxygen blocking property and suppressing the mixing of components during application of a plurality of layers and storage after application.
  • the total mass of the layer 50 to 100% by mass is preferable, 70 to 100% by mass is more preferable, 80 to 100% by mass is further preferable, and 90 to 100% by mass is particularly preferable.
  • the water-soluble resin layer may contain an additive such as a surfactant, if necessary.
  • the layer thickness of the water-soluble resin layer is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 5 ⁇ m, more preferably 0.5 to 3 ⁇ m.
  • the thickness of the water-soluble resin layer is within the above range, the oxygen barrier property is not deteriorated, the mixing of the components can be suppressed when applying the plurality of layers and when storing after application, and at the time of development. It is possible to suppress an increase in the removal time of the water-soluble resin layer.
  • the method for producing the transfer film of the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. Among them, in terms of excellent productivity, a method of applying a photosensitive composition on a temporary support and, if necessary, performing a drying treatment to form a photosensitive composition layer (hereinafter, this method is referred to as "coating method"). ”) Is preferable. If necessary, a protective film may be laminated on the photosensitive composition layer.
  • the photosensitive composition used in the coating method may contain a component (for example, a specific polymer, a first polymerizable compound, a polymerization initiator, etc.) constituting the above-mentioned photosensitive composition layer, and a solvent.
  • a component for example, a specific polymer, a first polymerizable compound, a polymerization initiator, etc.
  • a solvent for example, an organic solvent is preferable.
  • the organic solvent include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate (also known as 1-methoxy-2-propyl acetate), diethylene glycol ethyl methyl ether, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, ethyl lactate, methyl lactate, and caprolactam.
  • a mixed solvent of methyl ethyl ketone and propylene glycol monomethyl ether acetate or a mixed solvent of diethylene glycol ethyl methyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate is preferable.
  • an organic solvent having a boiling point of 180 to 250 ° C. can be used, if necessary.
  • the solvent may be used alone or in combination of two or more.
  • the total solid content of the photosensitive composition is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and 5 to 4 to the total mass of the photosensitive composition. 30% by mass is more preferable.
  • the viscosity of the photosensitive composition at 25 ° C. is, for example, preferably 1 to 50 mPa ⁇ s, more preferably 2 to 40 mPa ⁇ s, and 3 to 30 mPa ⁇ s from the viewpoint of coatability. s is more preferable. Viscosity is measured using a viscometer.
  • a viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. (trade name: VISCOMETER TV-22) can be preferably used.
  • the viscometer is not limited to the above-mentioned viscometer.
  • the surface tension of the photosensitive composition at 25 ° C. is, for example, preferably 5 to 100 mN / m, more preferably 10 to 80 mN / m, and 15 to 40 mN from the viewpoint of coatability. / M Is more preferable.
  • Surface tension is measured using a tensiometer.
  • a surface tension meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. (trade name: Automatic Surface Tensiometer CBVP-Z) can be preferably used.
  • the tensiometer is not limited to the above-mentioned tensiometer.
  • Examples of the method for applying the photosensitive composition include a printing method, a spray method, a roll coating method, a bar coating method, a curtain coating method, a spin coating method, and a die coating method (that is, a slit coating method).
  • drying means removing at least a portion of the solvent contained in the composition.
  • the protective film may be attached to the photosensitive composition layer.
  • the method of adhering the protective film to the photosensitive composition layer is not particularly limited, and known methods can be mentioned.
  • Examples of the device for adhering the protective film to the photosensitive composition layer include a vacuum laminator and a known laminator such as an auto-cut laminator. It is preferable that the laminator is provided with an arbitrary heatable roller such as a rubber roller and can be pressurized and heated.
  • the composition for forming the refractive index adjusting layer is applied on the photosensitive composition layer and dried if necessary. Can form a refractive index adjusting layer.
  • the transfer film of the present invention can be applied to various uses. For example, it can be applied to an electrode protective film, an insulating film, a flattening film, an overcoat film, a hard coat film, a passivation film, a partition wall, a spacer, a microlens, an optical filter, an antireflection film, an etching resist, and a plating member. More specific examples include a protective film or insulating film for a touch panel electrode, a protective film or an insulating film for a printed wiring board, a protective film or an insulating film for a TFT (Thin Film Transistor) substrate, a color filter, and an overcoat film for a color filter. Examples thereof include an etching resist for forming wiring and a sacrificial layer during plating.
  • TFT Thin Film Transistor
  • the maximum width of the waviness of the transfer film is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less, still more preferably 60 ⁇ m or less, from the viewpoint of suppressing the generation of bubbles in the bonding step described later.
  • the lower limit of the maximum width of the swell is 0 ⁇ m or more, preferably 0.1 ⁇ m or more, and more preferably 1 ⁇ m or more.
  • the maximum width of the waviness of the transfer film is a value measured by the following procedure. First, the transfer film is cut in a direction perpendicular to the main surface so as to have a size of 20 cm in length ⁇ 20 cm in width to prepare a test sample. If the transfer film has a protective film, the protective film is peeled off.
  • test sample is placed on a stage having a smooth and horizontal surface so that the surface of the temporary support faces the stage.
  • the surface of the sample sample was scanned with a laser microscope (for example, VK-9700SP manufactured by Keyence Co., Ltd.) for a range of 10 cm square in the center of the test sample to obtain a three-dimensional surface image, and the obtained 3 Subtract the minimum concave height from the maximum convex height observed in the 3D surface image.
  • a laser microscope for example, VK-9700SP manufactured by Keyence Co., Ltd.
  • the photosensitive composition layer can be transferred to the transferred object.
  • the transfer film of the present invention is preferably used for manufacturing a touch panel.
  • the photosensitive composition layer of the above-mentioned transfer film is brought into contact with a substrate having a conductive portion and bonded to the substrate, the conductive portion, the photosensitive composition layer, and temporary support.
  • the procedure of the above process will be described in detail.
  • the procedure of this step will be described in detail with reference to the drawings, but the case where the conductive portion has two types of transparent conductive portions will be described below as an example.
  • the bonding step the photosensitive composition layer of the transfer film is brought into contact with a substrate having a conductive portion and bonded, and the photosensitive composition having the substrate, the conductive portion, the photosensitive composition layer, and the temporary support in this order. This is the process of obtaining a substrate with a material layer. If the transfer film has a protective film, the above procedure is performed after the protective film is peeled off. By carrying out this step, as shown in FIG. 1, the substrate 10, the first transparent conductive portion 12, the second transparent conductive portion 14 arranged in an island shape, and the photosensitive composition layer 18 are arranged in this order. The laminated body to have is formed. As shown in FIG.
  • the conductive substrate 16 has a substrate 10 and a first transparent conductive portion 12 arranged on the substrate 10 and a second transparent conductive portion 14 arranged in an island shape.
  • 2 is a plan view showing the configurations of the first transparent conductive portion 12 and the second transparent conductive portion 14 of the laminated body shown in FIG. 1, and
  • FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. be.
  • the first transparent conductive portion 12 connects a plurality of island-shaped transparent conductive portions 20 arranged in the first direction (direction of arrow P) and adjacent island-shaped transparent conductive portions 20. It is composed of a transparent wiring unit 22 to be used. That is, in the laminated body, a long transparent conductive portion is formed in one direction on the upper part of the substrate 10. Although only one first transparent conductive portion 12 is shown in FIGS. 1 and 2, the first transparent conductive portion 12 is provided with a predetermined interval along the direction orthogonal to the first direction. A plurality of conductors may be arranged. Further, although only two island-shaped transparent conductive portions 20 and one transparent wiring portion 22 are shown in FIG.
  • the island-shaped transparent conductive portion 20 and the transparent wiring portion 22 may be repeatedly connected.
  • the shape of the island-shaped transparent conductive portion 20 is not particularly limited, and may be any of a square, a rectangle, a rhombus, a trapezoid, and a polygon of pentagon or more, and the square, rhombus, or hexagon has a close-packed structure. It is preferable because it is easy to form.
  • a plurality of island-shaped second transparent conductive portions 14 are arranged along another direction (direction of arrow Q) orthogonal to the first direction. Although only the two island-shaped second transparent conductive portions 14 are shown in FIGS. 1 and 2, three or more island-shaped second transparent conductive portions are arranged along the other directions. May be good. Further, a plurality of island-shaped second transparent conductive portions may be arranged along the first direction at predetermined intervals.
  • the shape of the island-shaped second transparent conductive portion 14 is not particularly limited, and may be a square, a rectangle, a rhombus, a trapezoid, or a polygon having a pentagon or more, and the square, rhombus, or hexagon is fine. It is preferable because it is easy to form a filling structure.
  • the type of substrate is not particularly limited, but a glass substrate or a resin substrate is preferable, and a resin substrate is more preferable.
  • the base material is preferably a transparent base material, and more preferably a transparent resin base material.
  • the material contained in the transparent conductive portion is not particularly limited, and is, for example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide (IZO), zinc oxide aluminum (AZO), and , Silver nanowires.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO zinc oxide
  • AZO zinc oxide aluminum
  • Silver nanowires silver nanowires.
  • the transparent conductive portion is a metal oxide
  • its refractive index is preferably 1.50 to 2.20, more preferably 1.70 to 2.00.
  • the arrangement position of the transparent conductive portion on the substrate is not particularly limited, and is not limited to the form shown in FIGS. 1 and 2 above. Further, as shown in FIGS. 1 and 2, it is preferable that a plurality of transparent conductive portions are arranged on the substrate. More specifically, it is preferable that a plurality of transparent conductive portions are discretely arranged on the substrate. It is preferable that the transparent conductive portions arranged separately are electrically connected to each other by the conductive bridge portion described later.
  • the transparent conductive portion such as ITO has been illustrated in FIG. 1, the conductive portion is selected from the group consisting of a metal layer, a conductive metal oxide layer, a graphene layer, a carbon nanotube layer, and a conductive polymer layer. It may contain at least one kind.
  • a substrate having at least one of a transparent electrode and a routing wire is preferable.
  • the above-mentioned substrate can be suitably used as a touch panel substrate.
  • the transparent electrode may function suitably as a touch panel electrode.
  • the transparent electrode is preferably composed of a metal oxide film such as ITO (indium tin oxide) and IZO (indium zinc oxide), a metal mesh, and a fine metal wire such as silver nanowire.
  • the thin metal wire include thin wires such as silver and copper. Of these, silver conductive materials such as silver mesh and silver nanowires are preferable.
  • Metal is preferable as the material of the routing wiring.
  • the metal that is the material of the routing wiring include gold, silver, copper, molybdenum, aluminum, titanium, chromium, zinc and manganese, and alloys composed of two or more of these metal elements.
  • copper, molybdenum, aluminum or titanium is preferable, and copper is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer and the temporary support are arranged on the substrate having the conductive portion.
  • the conductive portion and the surface of the photosensitive composition layer are pressure-bonded so as to be in contact with each other.
  • the crimping method is not particularly limited, and a known transfer method and laminating method can be used. Above all, it is preferable to superimpose the surface of the photosensitive composition layer on a substrate having a conductive portion, pressurize and heat it with a roll or the like.
  • a known laminator such as a vacuum laminator and an auto-cut laminator can be used for bonding.
  • the electrode protective film for a touch panel formed by using the photosensitive composition layer in the transfer film of the present invention has an electrode or the like for the purpose of protecting the electrode or the like (that is, at least one of the electrode for the touch panel and the wiring for the touch panel). It is preferably provided so as to cover it directly or via another layer. That is, the substrate having the conductive portion is preferably a substrate having at least one of the touch panel electrode and the touch panel wiring.
  • the exposure step is a step of pattern-exposing the photosensitive composition layer.
  • the "pattern exposure” refers to an exposure in a form of exposure in a pattern, that is, a form in which an exposed portion and a non-exposed portion are present.
  • the positional relationship between the exposed area and the unexposed area in the pattern exposure is not particularly limited and is appropriately adjusted.
  • As the pattern formation it is preferable to form a pattern that can obtain the shape of the opening described later.
  • any light source in a wavelength range capable of curing the photosensitive composition layer (for example, 365 nm or 405 nm) can be appropriately selected and used.
  • the main wavelength of the exposure light for pattern exposure is preferably 365 nm.
  • the main wavelength is the wavelength having the highest intensity.
  • Exposure is preferably 5 ⁇ 200mJ / cm 2, more preferably 10 ⁇ 200mJ / cm 2.
  • the peeling step is a step of peeling the temporary support from the substrate with the photosensitive composition layer between the bonding step and the exposure step, or between the exposure step and the development step described later.
  • the peeling method is not particularly limited, and a mechanism similar to the cover film peeling mechanism described in paragraphs [0161] to [0162] of JP2010-072589 can be used.
  • the developing step is a developing step of developing the exposed photosensitive composition layer to form a cured layer having a plurality of openings in which at least a part of the conductive portion is exposed.
  • a cured layer 28 having an opening 26 in which at least a part of the second transparent conductive portion 14 is exposed is formed.
  • the number of openings 26 is two, but the number of openings is not particularly limited as long as it is plural.
  • the present invention is not limited to this form, and the exposed portion may be removed.
  • the development of the photosensitive composition layer can be performed using a developing solution.
  • An alkaline aqueous solution is preferable as the developing solution.
  • the alkaline compound that can be contained in the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and tetrapropylammonium hydroxy.
  • Do tetrabutylammonium hydroxide, and choline (2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide).
  • Examples of the development method include paddle development, shower development, spin development, and dip development.
  • Examples of the developer preferably used in the present disclosure include the developer described in paragraph [0194] of International Publication No. 2015/093271, and examples of the developing method preferably used include International Publication No. 2015. The developing method described in paragraph [0195] of No. 093271 can be mentioned.
  • the conduction step is a step of forming a conductive bridge portion on the cured layer that conducts conductive portions exposed from a plurality of openings. Specifically, by carrying out this step, as shown in FIG. 4, a conductive portion (on the conductive bridge portion) that conducts the second transparent conductive portions 14 exposed from the two openings on the cured layer 28. Applicable) 30 is formed.
  • the conductive portion 30 is a member that bridges a plurality of second transparent conductive portions 14 arranged at intervals in the second direction intersecting the first direction on the substrate 10 and electrically connects them.
  • 5 is a plan view showing the configurations of the first transparent conductive portion 12, the second transparent conductive portion 14, and the conductive portion 30 of the laminated body shown in FIG. 4, and
  • FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the conductive portion 30.
  • FIG. 4 is B in FIG. -B line sectional view.
  • the conductive bridge portion is a transparent conductive film such as an ITO film and an IZO film; a metal film such as Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, Mo, Ag, and Au; and a plurality of metals such as a copper-nickel alloy. It can be composed of an alloy film of. Among them, the conductive bridge portion is preferably a transparent conductive film (transparent wiring portion).
  • the thickness of the conductive bridge portion is preferably 0.01 to 1 ⁇ m, more preferably 0.03 to 0.5 ⁇ m from the viewpoint of conductivity and transparency.
  • the thickness of the conductive bridge portion is calculated as an average value of any five points measured by cross-sectional observation with a scanning electron microscope (SEM).
  • SEM scanning electron microscope
  • Examples of the method for forming the conductive bridge portion include known methods. For example, after forming a film on the cured layer by a sputtering method and a coating method, a predetermined region is etched by a known method to obtain a desired region. A conductive bridge portion can be formed at the position.
  • the method for producing the laminate may include a step of exposing the pattern obtained by the development step (post-exposure step) and / or a step of heating (post-baking step).
  • post-exposure step a step of exposing the pattern obtained by the development step
  • post-baking step a step of heating
  • the method for manufacturing the laminate may include a resin layer forming step of forming a resin layer on the cured film so as to cover the conductive bridge portion.
  • the procedure of the resin layer forming step is not particularly limited, and the resin layer may be formed by using the above-mentioned transfer film. More specifically, a method of laminating a photosensitive composition layer of a transfer film so as to cover a conductive bridge portion and subjecting the photosensitive composition layer to a curing treatment to form a resin layer can be mentioned.
  • the method for producing a laminate of the present invention may include any steps (other steps) other than those described above.
  • steps other steps
  • the laminate produced by the method for producing a laminate of the present invention can be applied to various devices.
  • the device provided with the laminated body include an input device and the like, and a touch panel is preferable, and a capacitive touch panel is more preferable.
  • the input device can be applied to a display device such as an organic electroluminescence display device and a liquid crystal display device.
  • the pattern formed from the photosensitive composition layer is preferably used as a protective film for the touch panel electrodes. That is, the photosensitive composition layer contained in the transfer film is preferably used for forming the electrode protective film for the touch panel.
  • methacrylic acid manufactured by Mitsubishi Rayon, trade name Acryester M
  • methyl methacrylate manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, trade name MMA
  • cyclohexyl Methacrylic acid manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, trade name CHMA
  • dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name V-601) (9.637 g) was added to PGM-Ac (136.56 g).
  • PGM-Ac 136.56 g
  • the dropping liquid (1) and the dropping liquid (2) were simultaneously added dropwise to the above-mentioned 2000 mL flask (specifically, a 2000 mL flask containing a liquid heated to 90 ° C.) over 3 hours.
  • the container of the dropping liquid (1) was washed with PGM-Ac (12 g), and the washing liquid was dropped into the 2000 mL flask.
  • the container of the dropping liquid (2) was washed with PGM-Ac (6 g), and the washing liquid was dropped into the 2000 mL flask.
  • the reaction solution in the 2000 mL flask was kept at 90 ° C. and stirred at a stirring speed of 250 rpm. Further, as a post-reaction, the reaction solution was stirred at 90 ° C. for 1 hour.
  • V-601 (2.401 g) was added to the reaction solution after the post-reaction as the first additional addition of the initiator. Further, the container containing V-601 was washed with PGM-Ac (6 g), and the washing liquid was introduced into the reaction liquid. Then, the mixture was stirred at 90 ° C. for 1 hour.
  • V-601 (2.401 g) was added to the reaction solution as the second additional addition of the initiator. Further, the container containing V-601 was washed with PGM-Ac (6 g), and the washing liquid was introduced into the reaction liquid. Then, the reaction solution was stirred at 90 ° C. for 1 hour. Next, V-601 (2.401 g) was added to the reaction solution as the third additional addition of the initiator. Further, the container containing V-601 was washed with PGM-Ac (6 g), and the washing liquid was introduced into the reaction liquid. Then, the reaction solution was stirred at 90 ° C. for 3 hours.
  • glycidyl methacrylate manufactured by NOF CORPORATION, trade name Blemmer G (76.03 g) was added dropwise to the reaction solution over 1 hour.
  • the container containing Blemmer G was washed with PGM-Ac (6 g), and the washing liquid was introduced into the reaction liquid.
  • the reaction solution was stirred at 100 ° C. for 6 hours.
  • the reaction solution was cooled and filtered through a mesh filter (100 mesh) for removing dust to obtain 1158 g of a solution of the binder polymer A1 (solid content concentration: 36.3% by mass).
  • the content of the structural unit derived from each monomer is represented by mass% with respect to all the structural units of the binder polymer.
  • ⁇ St Styrene (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • MAA Methyl methacrylate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • MMA Methylacrylic acid (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • -MMA-GMA A structural unit obtained by reacting glycidyl methacrylate with a structural unit derived from methacrylic acid (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • CHMA Cyclohexyl methacrylate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • DCPMA Dicyclopentanyl methacrylate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • -HEMA 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries,
  • A-DOG KAYARAD R-604, Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • A-DCP Tricyclodecanedimethanol diacrylate, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • A-NOD-N 1,9-nonanediol diacrylate, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • A-TMMT Pentaerythritol tetraacrylate, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • DPHA Dipentaerythritol hexaacrylate, Toa Synthetic Co., Ltd. , Toa Synthetic Co., Ltd.
  • Compound 1 see structural formula below
  • composition for forming a refractive index adjusting layer was prepared according to the components and contents having the compositions shown in Table 3 below.
  • the numerical values in Table 3 represent "parts by mass”.
  • B-3 is the following polymer.
  • the molar ratio of the repeating unit in the formula was 40:60 in order from the repeating unit on the left side.
  • Compound B is the following polymer.
  • the molar ratio of the repeating unit in the formula was 50: 4: 38: 8 in order from the repeating unit on the left side.
  • ⁇ Transfer film 1> The photosensitive composition OC-1 was applied to a temporary support, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 16 ⁇ m, using a slit-shaped nozzle, and passed through a drying zone at 80 ° C. for 40 seconds to achieve a thickness. A 3 ⁇ m photosensitive composition layer was formed. Next, a polypropylene (PP) film having a thickness of 16 ⁇ m was laminated as a protective film on the photosensitive composition layer to obtain a transfer film 1. Further, transfer films 2 to 31 were obtained in the same procedure as that of the transfer film 1 except that the type of the photosensitive composition was changed according to Table 4.
  • PTT polyethylene terephthalate
  • PP polypropylene
  • a Cu wire pattern base material A having a line and space of 10 ⁇ m / 10 ⁇ m and a thickness of 200 nm and a Cu wire pattern base material B having a line and space of 200 ⁇ m / 200 ⁇ m and a thickness of 200 nm were prepared.
  • the prepared transfer film was heat-laminated on each substrate in a direction perpendicular to the substrate line at a temperature of 90 ° C. and a speed of 4 m / min.
  • the pattern substrate after thermal laminating was observed with an optical microscope, and the state of existence of bubbles existing between the Cu line patterns (spaces) was evaluated according to the following evaluation criteria. If the evaluation is 3 or more, there is no practical problem.
  • a quadrangular contact hole having a length and width of 40 ⁇ m was formed in the same manner as in the evaluation of the development residue described later.
  • the obtained substrate having contact holes was UV-cured on the entire surface of the substrate using 400 mJ / cm 2 (i-line) of a high-pressure mercury lamp, and then fired at a temperature of 140 ° C. for 20 minutes to be photosensitive.
  • the sex composition layer was cured.
  • An ITO layer having a thickness of 100 nm was formed by a sputtering method so as to cover the obtained contact hole.
  • the periphery of the contact hole of the obtained ITO layer was observed with a scanning electron microscope (SEM) and evaluated according to the following evaluation criteria.
  • a film (electrode of a capacitance type input device) in which a transparent film and a transparent electrode pattern are formed on a photosensitive composition layer of the transfer film and a transparent film substrate.
  • the transparent film (the substrate containing the above) and the transparent electrode pattern side were bonded so as to be in contact with each other.
  • a proximity type exposure machine manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.
  • an ultra-high pressure mercury lamp was used to temporarily support the surface of the exposure mask (quartz exposure mask having a square contact hole pattern of 40 ⁇ m in length and width) and the transfer film.
  • the distance to the body was set to 0 ⁇ m, and pattern exposure was performed from the temporary support side with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (i-line) via the temporary support. Then, the temporary support was peeled off and washed with a 2% aqueous sodium carbonate solution at 32 ° C. for 60 seconds. Then, the contact hole was observed with an optical microscope, the ratio of the area of the development residue to the total area of the bottom of the contact hole was calculated, and the evaluation was made according to the following evaluation criteria.
  • the column "Polymerizable compound (A1)” indicates a polymerizable compound (first polymerizable compound) having a cyclic structure having an oxygen atom or a sulfur atom as a ring member atom.
  • the “content of (A1)” column shows the content (mass) of the polymerizable compound (A1) with respect to the total mass of the polymerizable compound (A1) and the other polymerizable compound (second polymerizable compound).
  • the “Mw” column indicates the weight average molecular weight of the binder polymer.
  • the “ClogP difference” column shows the value calculated by
  • the "OC film thickness” column indicates the thickness of the photosensitive composition layer.
  • the photosensitive composition layer further contains a second polymerizable compound other than the first polymerizable compound, and the content of the first polymerizable compound is polymerizable. It was confirmed that the handling property was more effective when the content was 30% by mass or more with respect to the total mass of the compounds.
  • Example 1 and Example 4 From the comparison between Example 1 and Example 4 (or the comparison between Example 3 and Example 21), the absolute value of the difference between the ClogP value of the first polymerizable compound and the ClogP value of the binder polymer is determined. When it was 2.00 or less, it was confirmed that the handleability was more effective. From the comparison between Examples 1 and Examples 8 to 9, when the mass ratio of the content of the polymerizable compound to the content of the binder polymer is 0.40 to 1.00, the handleability and the laminating suitability are improved. It was confirmed that the effect was excellent. From the comparison between Example 16 and Example 17, it was confirmed that when the thickness of the photosensitive composition layer was 5.0 ⁇ m or less, the poor formation of the conductive portion was further suppressed.
  • Example 1 From the comparison between Example 1 and Example 16, it was confirmed that when the thickness of the photosensitive composition layer was 3.5 ⁇ m or less, the poor formation of the conductive portion was further suppressed. From the comparison between Example 20 and other examples, it was confirmed that the swelling inhibitory property was more excellent when the content of the double bond was in the predetermined range.
  • the photosensitive composition OC-1 was applied to a temporary support, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 16 ⁇ m, using a slit-shaped nozzle, and passed through a drying zone at 80 ° C. for 40 seconds to achieve a thickness.
  • a 3 ⁇ m photosensitive composition layer was formed.
  • a slit-shaped nozzle is used to adjust the amount of the above-mentioned composition for forming the refractive index adjusting layer to be applied so that the thickness of the refractive index adjusting layer after drying is 80 nm.
  • the composition for forming the refractive index adjusting layer was applied.
  • the obtained temporary support was dried in a drying zone at 70 ° C.
  • a polypropylene (PP) film having a thickness of 16 ⁇ m was laminated as a protective film on the photosensitive composition layer to obtain a transfer film X.
  • the transfer film X had no problem in laminating suitability, and the performance of preventing the appearance of bones in the ITO wiring was also good.
  • the photosensitive composition OC-1 was applied to a temporary support, a polyethylene terephthalate (PET) film (16FB40, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 16 ⁇ m using a slit-shaped nozzle, and a drying zone at 80 ° C. was 40. It was passed over a second to form a photosensitive composition layer with a thickness of 3.0 ⁇ m. Next, on the photosensitive composition layer, a slit-shaped nozzle is used to adjust the amount of the above-mentioned composition for forming the refractive index adjusting layer to be applied so that the thickness of the refractive index adjusting layer after drying is 80 nm. Then, the composition for forming the refractive index adjusting layer was applied.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the obtained temporary support was dried in a drying zone at 70 ° C. to form a refractive index adjusting layer on the photosensitive composition layer.
  • a polypropylene (PP) film (E-201F, manufactured by Oji F-Tex Co., Ltd.) having a thickness of 30 ⁇ m was laminated on the refractive index adjusting layer as a protective film to obtain a transfer film X-2.
  • PP polypropylene
  • the photosensitive composition OC-1 was applied to a temporary support, a polyethylene terephthalate (PET) film (16FB40, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 16 ⁇ m using a slit-shaped nozzle, and a drying zone at 80 ° C. was 40. It was passed over a second to form a 6.0 ⁇ m thick photosensitive composition layer.
  • a slit-shaped nozzle is used to adjust the amount of the above-mentioned composition for forming the refractive index adjusting layer to be applied so that the thickness of the refractive index adjusting layer after drying is 75 nm. Then, the composition for forming the refractive index adjusting layer was applied.
  • the obtained temporary support was dried in a drying zone at 70 ° C. to form a refractive index adjusting layer on the photosensitive composition layer.
  • a polypropylene (PP) film (FG-201, manufactured by Oji F-Tex Co., Ltd.) having a thickness of 30 ⁇ m was laminated on the refractive index adjusting layer as a protective film to obtain a transfer film X-3.
  • PP polypropylene
  • the photosensitive composition OC-1 was applied to a temporary support, a polyethylene terephthalate (PET) film (16KS40, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 16 ⁇ m using a slit-shaped nozzle, and a drying zone at 80 ° C. was 40. It was passed over a second to form a 4.0 ⁇ m thick photosensitive composition layer.
  • a slit-shaped nozzle is used to adjust the amount of the above-mentioned composition for forming the refractive index adjusting layer to be applied so that the thickness of the refractive index adjusting layer after drying is 75 nm. Then, the composition for forming the refractive index adjusting layer was applied.
  • the obtained temporary support was dried in a drying zone at 70 ° C. to form a refractive index adjusting layer on the photosensitive composition layer.
  • a polyethylene terephthalate (PET) film (16KS40, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 16 ⁇ m was laminated on the refractive index adjusting layer as a protective film to obtain a transfer film Y-1.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the transfer film Y-1 was evaluated in the same manner as in Example 1, there was no problem in practical use, and the bone visibility prevention performance of the ITO wiring was also good.
  • the transfer film Y is the same as that of the transfer film Y-1, except that the photosensitive composition OC-1 is changed to the photosensitive compositions OC-2 to OC-27, respectively.
  • -2 to transfer film Y-27 was obtained.
  • the transfer films Y-2 to the transfer films Y-27 were evaluated in the same manner as in Example 1, there were no practical problems in any of them, and the bone visibility prevention performance of the ITO wiring was also good.
  • Substrate 12 1st transparent conductive part 14 2nd transparent conductive part 16 Conductive substrate 18 Photosensitive composition layer 20 Island-shaped transparent conductive part 22 Transparent wiring part 26 Opening 28 Cured layer 30 Conductive part

Landscapes

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Abstract

本発明は、ハンドリング適性及びラミネート適性に優れ、導電部形成不良の発生が抑制される、転写フィルム、並びに、積層体の製造方法を提供することを課題とする。本発明の転写フィルムは、仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、感光性組成物層が、バインダーポリマーと、重合性化合物と、重合開始剤とを含み、バインダーポリマーが、環状構造を有し、かつ、バインダーポリマーの重量平均分子量が１０万未満であり、重合性化合物が、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造を有する第１重合性化合物を含み、感光物組成物層の厚さが、８．０μｍ以下である。

Description

転写フィルム、積層体の製造方法
　本発明は、転写フィルム、及び、積層体の製造方法に関する。
　所定のパターンを得るための工程数が少ないことから、転写フィルムを用いて任意の基板上に感光性組成物層を配置して、この感光性組成物層に対してマスクを介して露光した後に現像してパターンを形成する方法が広く使用されている。
　例えば、特許文献１では、バインダーポリマーと、所定の光重合性化合物を含む感光性組成物が開示されている。
特開２０１９－０４６４９９号公報
　通常、転写フィルムは、仮支持体上に感光性組成物を塗布及び乾燥し、感光性組成物層が形成された後、更に感光性組成物層上に保護フィルムを配置して製造される場合がある。仮支持体上に感光性組成物を塗布した後から保護フィルムが配置されるまでの間には、感光性組成物層とパスロールとが接触する工程が存在する。
　上記接触する工程において、感光性組成物層とパスロールとが接触した際に、感光性組成物層に押し跡及びパスロール表面の汚れ（異物付着）等が発生してしまうことがあり、これらが少ないことが望まれている。以下、感光性組成物層に押し跡及びパスロール表面の汚れ（異物付着）の発生が抑制されることを、ハンドリング適性に優れるという。
　また、転写フィルムを用いた積層体の製造工程において、転写フィルムの感光性組成物層と、導電部を有する基板とを接触させてラミネートして貼り合わせる工程が存在する。その際、導電部のパターン間に気泡等が少なくラミネートができることも望まれている。以下、ラミネート後の導電部のパターン間に気泡等の発生が少ないことを、ラミネート適性に優れるともいう。
　更に、上記ラミネート後には、感光性組成物層を露光及び現像等し、コンタクトホールを有する硬化膜が形成された後、コンタクトホールに露出した導電部間を導通させるために硬化膜上にＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層等の導電ブリッジ部が更に形成される。
　硬化膜上に形成される導電ブリッジ部において、クラック等の形成不良が生じないことが望まれている。具体的には、コンタクトホール部（底角部及び周辺部）において、導電ブリッジ部にクラック等の形成不良が少ないことが望まれている。以下、導電ブリッジ部にクラック等の形成不良が生じることを、導電部形成不良ともいう。
　本発明者は、特許文献１に記載の感光性組成物を用いて上記特性について検討したところ、優れたハンドリング適性、優れたラミネート適性、及び、導電部形成不良の抑制の３つを鼎立できないことを知見した。
　本発明は、上記実情に鑑みて、ハンドリング適性及びラミネート適性に優れ、導電部形成不良の発生が抑制される、転写フィルムを提供することを課題とする。
　また、本発明は、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供することも課題とする。
　本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
（１）　仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、
　感光性組成物層が、バインダーポリマーと、重合性化合物と、重合開始剤とを含み、
　バインダーポリマーが、環状構造を有し、かつ、バインダーポリマーの重量平均分子量が１０万未満であり、
　重合性化合物が、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造を有する第１重合性化合物を含み、
　感光物組成物層の厚さが、８．０μｍ以下である、転写フィルム。
（２）　バインダーポリマーが、芳香族環構造を有する、（１）に記載の転写フィルム。
（３）　バインダーポリマーの重量平均分子量が、５万未満である、（１）又は（２）に記載の転写フィルム。
（４）　バインダーポリマーの酸価が、９０～１４０ｍｇＫＯＨ／ｇである、（１）～（３）のいずれかに記載の転写フィルム。
（５）　バインダーポリマー分子内における二重結合の含有量が、バインダーポリマー１ｇ当たり、１．０～２．０ｍｍｏｌ／ｇである、（１）～（４）のいずれかに記載の転写フィルム。
（６）　第１重合性化合物が、ジオキサン構造を有する、（１）～（５）のいずれかに記載の転写フィルム。
（７）　感光物組成物層が、第１重合性化合物以外の第２重合性化合物を更に含み、
　第１重合性化合物の含有量が、重合性化合物の全質量に対して、３０質量％以上である、（１）～（６）のいずれかに記載の転写フィルム。
（８）　第１重合性化合物のＣｌｏｇＰ値と、バインダーポリマーのＣｌｏｇＰ値との差の絶対値が、２．００以下である、（１）～（７）のいずれかに記載の転写フィルム。
（９）　第１重合性化合物のＣｌｏｇＰ値と、バインダーポリマーのＣｌｏｇＰ値との差の絶対値が、１．５０以下である、（１）～（８）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１０）　バインダーポリマーの含有量に対する重合性化合物の含有量の質量比が、０．４０～１．００である、（１）～（９）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１１）　感光性組成物層の厚さが、５．０μｍ以下である、（１）～（１０）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１２）　感光性組成物層の厚さが、３．５μｍ以下である、（１）～（１１）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１３）　感光性組成物層上に配置された屈折率調整層を更に有する、（１）～（１２）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１４）　仮支持体が、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、（１）～（１３）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１５）　感光性組成物層が、タッチパネル用電極保護膜形成に用いられる、（１）～（１４）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１６）　（１）～（１５）のいずれかに記載の転写フィルムの感光性組成物層側を、導電部を有する基板に接触させて貼り合わせ、基板、導電部、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された感光性組成物層を現像して、導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する現像工程と、
　硬化層上に、複数の開口部から露出する導電部同士を導通させる導電ブリッジ部を形成する導通工程と、を有し、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
（１７）　導電部を有する基板が、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方を有する基板である、（１６）に記載の積層体の製造方法。
　本発明によれば、ハンドリング適性及びラミネート適性に優れ、導電部形成不良の発生が抑制された、転写フィルムを提供できる。
　また、本発明によれば、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供できる。
図１は、貼合工程で得られる積層体の断面図である。 図２は、貼合工程で得られる積層体中の透明導電部を説明するための積層体の平面図である。 図３は、現像工程で得られた積層体の断面図である。 図４は、導通工程で得られた積層体の断面図である。 図５は、導通工程で得られる積層体中の導電ブリッジ部を説明するための積層体の平面図である。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　本明細書において、「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
　本明細書において、「透明」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。
　本明細書において、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。
　本明細書において、特段の断りのない限り、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、若しくは、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー株式会社製の商品名）、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、検出器として示差屈折計、及び、標準物質としてポリスチレンを使用し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により測定した標準物質のポリスチレンを用いて換算した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、分子量分布がある化合物の分子量は、重量平均分子量（Ｍｗ）である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、金属元素の含有量は、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）分光分析装置を用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、屈折率は、波長５５０ｎｍでエリプソメーターを用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、色相は、色差計（ＣＲ－２２１、ミノルタ株式会社製）を用いて測定した値である。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロキシ基」は、アクリロキシ基及びメタアクリロキシ基の両方を包含する概念である。
　本明細書において表記される２価の基（例えば、－ＣＯＯ－）の結合方向は特に制限されず、例えば、Ｘ－Ｌ－Ｙ中のＬが－ＣＯＯ－である場合、Ｘ側に結合している位置を＊１、Ｙ側に結合している位置を＊２とすると、Ｌは＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよく、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよい。
　本発明の転写フィルムの特徴点としては、感光性組成物層の厚さ、並びに後述するように、感光性組成物層が、所定の特性を満たす、バインダーポリマー及び重合性化合物を含むことが挙げられる。
　以下、ハンドリング適性がより優れる点、ラミネート適性がより優れる点、及び、導電部形成不良の発生がより抑制される点の少なくとも１つの効果が得られることを、本発明の効果がより優れるという。
　以下、転写フィルムを構成する各部材について詳述する。
＜仮支持体＞
　転写フィルムは、仮支持体を有する。
　仮支持体は、後述する感光性組成物層を支持する部材であり、最終的には剥離処理により除去される。
　仮支持体は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。
　仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮、又は、伸びを生じないフィルムが好ましい。
　上記フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、ポリメチルメタクリレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　なかでも、仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
　また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、及び、傷等がないことが好ましい。
　仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという点から、透明性が高いことが好ましく、３６５ｎｍの透過率は６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が更に好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物、及び、欠陥の数は少ない方が好ましい。仮支持体中における直径１μｍ以上の微粒子、異物、及び、欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ２以下が好ましく、１０個／１０ｍｍ２以下がより好ましく、３個／１０ｍｍ２以下が更に好ましく、０個／１０ｍｍ２が特に好ましい。
　仮支持体の厚さは特に制限されないが、５～２００μｍが好ましく、取り扱いやすさ及び汎用性の点から、１０～１５０μｍがより好ましく、１０～５０μｍが更に好ましい。
　仮支持体の厚さは、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡：Scanning Electron Microscope）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。
　仮支持体としては、例えば、膜厚１６μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、膜厚１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、及び、膜厚９μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。
　仮支持体の好ましい形態としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［００１７］～［００１８］、特開２０１６－０２７３６３号公報の段落［００１９］～［００２６］、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落［００４１］～［００５７］、及び、国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落［００２９］～［００４０］に記載が挙げられ、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　ハンドリング性を付与する点で、仮支持体の表面に、微小な粒子を含む層（滑剤層）を設けてもよい。滑剤層は仮支持体の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。滑剤層に含まれる粒子の直径は、０．０５～０．８μｍが好ましい。
　また、滑剤層の膜厚は、０．０５～１．０μｍが好ましい。
　仮支持体の市販品としては、ルミラー１６ＫＳ４０、ルミラー１６ＦＢ４０(以上、東レ株式会社製)、コスモシャインＡ４１００、コスモシャインＡ４３００、コスモシャインＡ８３００（以上、東洋紡株式会社製）が挙げられる。
＜感光性組成物層＞
　転写フィルムは、感光性組成物層を有する。
　感光性組成物層を被転写体上に転写した後、露光及び現像を行うことにより、被転写体上にパターンを形成できる。
　感光性組成物層としては、公知の感光性組成物層を用いることができ、ネガ型が好ましい。なお、ネガ型感光性組成物層とは、露光により露光部が現像液に対する溶解性が低下する感光性組成物層である。感光性組成物層がネガ型感光性組成物層である場合、形成されるパターンは硬化層に該当する。
　感光性組成物層は、絶縁層であることが好ましい。
　感光性組成物層の厚さは、８．０μｍ以下である。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、上記層の厚さは、５．０μｍ以下が好ましく、３．５μｍ以下がより好ましく、３．０μｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．０５μｍ以上が好ましい。
　感光性組成物層の厚さは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の感光性組成物の厚さの平均値として算出できる。
　以下、感光性組成物層（特に、ネガ型感光性組成物層）に含まれる成分について詳述する。
［バインダーポリマー］
　感光性組成物層は、環状構造を有し、かつ、バインダーポリマーの重量平均分子量が１０万未満であるバインダーポリマー（以下、「特定ポリマー」ともいう。）を含む。
　特定ポリマーの重量平均分子量は、１０万未満であり、本発明の効果がより優れる点で、７万未満が好ましく、５満未満がより好ましく、４万未満が更に好ましく、２万未満が特に好ましい。
　特定ポリマーの重量平均分子量の下限は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、８０００以上が好ましく、１００００以上がより好ましい。
　特定ポリマーが有する環状構造としては、芳香族環構造、及び、脂肪族炭化水素環構造が挙げられる。また、上記環状構造は、複素環構造であってもよい。また、上記環状構造を構成する環は、単環及び多環のいずれであってもよい。
　特定ポリマーとしては、芳香族環構造を有する構成単位を有することが好ましい。
　芳香族環構造を構成する芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピラゾール環、ピロール環、チオフェン環、及び、フラン環が挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、ベンゼン環が好ましい。
　芳香族環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、メチルスチレン、及び、α－メチルスチレン等のスチレン化合物、並びに、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　なかでも、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。つまり、芳香族環構造を有する構成単位としては、スチレン化合物に由来する構成単位が好ましく、スチレンに由来する構成単位がより好ましい。
　また、特定ポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、下記式（Ｓ）で表される構成単位（スチレンに由来する構成単位）を有することがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　芳香族環構造を有する構成単位を有する特定ポリマーとしては、芳香族環構造を有する化合物－アクリル共重合体がより好ましい。
　芳香族環構造を有する化合物－アクリル共重合体とは、芳香族環構造を有する化合物に由来する構成単位と、後述する（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位とを有するバインダーポリマーを意味する。
　上記芳香族環構造を有する構成単位、及び、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の合計含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％以下が好ましい。
　また、芳香族環構造を有する化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、５～８０質量％が更に好ましい。
　また、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０～９５質量％が更に好ましい。
　特定ポリマーは、芳香族環構造を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　特定ポリマーが芳香族環構造を有する構成単位を含む場合、芳香族環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～９０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましい。
　また、特定ポリマーにおける芳香族環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～６０モル％が更に好ましい。
　更に、特定ポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～６０モル％が更に好ましい。
　なお、本開示において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、上記「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において、上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。
　上述したように、特定ポリマーが有する環状構造としては、脂肪族炭化水素環構造も挙げられる。
　脂肪族炭化水素環構造を構成する脂肪族炭化水素環としては、単環でも多環でもよく、具体例として、トリシクロデカン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、ジシクペンタン環、ノルボルナン環、及び、イソボロン環が挙げられる。
　脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、及び、イソボルニル（メタ）アクリレートが挙げられる。
　特定ポリマーが脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を含む場合、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～９０質量％が好ましく、１０～８０質量％がより好ましく、２０～７０質量％が更に好ましい。
　また、特定ポリマーにおける脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。
　更に、特定ポリマーにおける上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。
　特定ポリマーの好適態様の一つとして、アルカリ現像性及びフィルム形成性に優れる点で、（メタ）アクリル樹脂であることが挙げられる。
　なお、本明細書において、（メタ）アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位を有する樹脂を意味する。（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が更に好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位のみで構成されていてもよく、（メタ）アクリル化合物以外の重合性単量体に由来する構成単位を有していてもよい。すなわち、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量の上限は、（メタ）アクリル樹脂の全質量に対して、１００質量％以下である。
　（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、及び、（メタ）アクリロニトリルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、及び、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートが挙げられ、（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましい。
　（メタ）アクリルアミドとしては、例えば、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミドが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。（メタ）アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、及び、（メタ）アクリル酸ドデシル等の炭素数が１～１２のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、炭素数１～４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸エチルがより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位以外の構成単位を有していてもよい。
　上記構成単位を形成する重合性単量体としては、（メタ）アクリル化合物と共重合可能な（メタ）アクリル化合物以外の化合物であれば特に制限されず、例えば、スチレン、ビニルトルエン及びα－メチルスチレン等のα位又は芳香族環に置換基を有してもよいスチレン化合物、アクリロニトリル及びビニル－ｎ－ブチルエーテル等のビニルアルコールエステル、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル及びマレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α－シアノケイ皮酸、イタコン酸、並びに、クロトン酸が挙げられる。
　これらの重合性単量体は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　また、（メタ）アクリル樹脂は、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を有することがより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂における（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、０～９０質量％が好ましく、１～７０質量％がより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有する樹脂が好ましく、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位のみで構成されている樹脂がより好ましい。
　また、（メタ）アクリル樹脂としては、メタクリル酸に由来する構成単位、メタクリル酸メチルに由来する構成単位、及び、アクリル酸エチルに由来する構成単位を有するアクリル樹脂も好ましい。
　また、（メタ）アクリル樹脂は、本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種を有することが好ましく、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有することがより好ましい。
　また、（メタ）アクリル樹脂は、本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種と、アクリル酸に由来する構成単位及びアクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種とを有することも好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂は、転写後の感光性組成物層の現像性に優れる点で、末端にエステル基を有することが好ましい。
　なお、（メタ）アクリル樹脂の末端部は、合成に用いた重合開始剤に由来する部位により構成される。末端にエステル基を有する（メタ）アクリル樹脂は、エステル基を有するラジカルを発生する重合開始剤を用いることにより合成できる。
　また、特定ポリマーの別の好適態様としては、アクリル可溶性樹脂であることが挙げられる。
　なお、本開示において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
　特定ポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。
　上記酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、及び、リン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
　上記酸基を有する構成単位としては、下記に示す、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位が好ましく、メタクリル酸に由来する構成単位がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　特定ポリマーは、酸基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　特定ポリマーが酸基を有する構成単位を有する場合、酸基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～５０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、１０～３０質量％が更に好ましい。
　また、特定ポリマーにおける酸基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、２０～４０モル％が更に好ましい。
　更に、特定ポリマーにおける（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、２０～４０モル％が更に好ましい。
　特定ポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、反応性基を有していることが好ましく、反応性基を有する構成単位を有することがより好ましい。
　反応性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。また、特定ポリマーがエチレン性不飽和基を有している場合、特定ポリマーは、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましい。
　本開示において、「主鎖」とは、樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。
　反応性基を有する構成単位の一例としては、下記に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　特定ポリマーは、反応性基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　特定ポリマーが反応性基を有する構成単位を含む場合、反応性基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましく、２０～４０質量％が更に好ましい。
　また、特定ポリマーにおける反応性基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、特定ポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。
　反応性基を特定ポリマーに導入する手段としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第１級アミノ基、第２級アミノ基、アセトアセチル基、及び、スルホ基等の官能基に、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、及び、カルボン酸無水物等の化合物を反応させる方法が挙げられる。
　反応性基を特定ポリマーに導入する手段の好ましい例としては、カルボキシ基を有するポリマーを重合反応により合成した後、高分子反応により、得られたポリマーのカルボキシ基の一部にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させて、（メタ）アクリロキシ基をポリマーに導入する手段が挙げられる。この手段により、側鎖に（メタ）アクリロキシ基を有する特定ポリマーを得ることができる。
　上記重合反応は、７０～１００℃の温度条件で行うことが好ましく、８０～９０℃の温度条件で行うことがより好ましい。上記重合反応に用いる重合開始剤としては、アゾ系開始剤が好ましく、例えば、富士フイルム和光純薬（株）製のＶ－６０１（商品名）又はＶ－６５（商品名）がより好ましい。上記高分子反応は、８０～１１０℃の温度条件で行うことが好ましい。上記高分子反応においては、アンモニウム塩等の触媒を用いることが好ましい。
　特定ポリマーとしては、本発明の効果がより優れる点から、以下に示すポリマーが好ましい。なお、以下に示す各構成単位の含有比率（ａ～ｄ）及び重量平均分子量Ｍｗ等は目的に応じて適宜変更できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　また、特定ポリマーは、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を有していてもよい。
　カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造、及び、環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造であることが好ましい。
　環状カルボン酸無水物構造の環としては、５～７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。
　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位、又は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式Ｐ－１中、ＲＡ１ａは、置換基を表し、ｎ１ａ個のＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよく、Ｚ１ａは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成する２価の基を表し、ｎ１ａは、０以上の整数を表す。
　ＲＡ１ａで表される置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
　Ｚ１ａとしては、炭素数２～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が更に好ましい。
　ｎ１ａは、０以上の整数を表す。Ｚ１ａが炭素数２～４のアルキレン基を表す場合、ｎ１ａは、０～４の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　ｎ１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲＡ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。
　カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位が好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位がより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位が更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位が特に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位が最も好ましい。
　以下、カルボン酸無水物構造を有する構成単位の具体例を挙げるが、カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、これらの具体例に限定されるものではない。下記の構成単位中、Ｒｘは、水素原子、メチル基、ＣＨ２ＯＨ基、又はＣＦ３基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　特定ポリマーは、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　カルボン酸無水物構造を有する構成単位の総含有量は、特定ポリマーの全構成単位に対して、０～６０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましく、１０～３５モル％が更に好ましい。
　特定ポリマーのＣｌｏｇＰ値は、１．００以上が好ましく、１．５０以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、５．００以下が好ましく、３．００以下がより好ましく、２．００以下が更に好ましい。
　ここで、ＣｌｏｇＰ値とは、１－オクタノールと水への分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰを計算によって求めた値である。ＣｌｏｇＰ値の計算に用いる方法やソフトウェアについては公知の物を用いることができるが、特に断らない限り、本発明ではＣａｍｂｒｉｄｇｅ ｓｏｆｔ社の ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ Ｕｌｔｒａ １３．０に組み込まれたＣｌｏｇＰプログラムを用いることができる。
　なお、特定ポリマーのＣｌｏｇＰ値は、特定ポリマーに含まれる各構成単位のＣｌｏｇＰ値を算出して、その各構成単位のＣｌｏｇＰ値を構成単位の含有質量比に従って平均化した値を特定ポリマーのＣｌｏｇＰ値とする。
　特定ポリマーの酸価は、１０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、６０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、８０～１４０ｍｇＫＯＨ／ｇが更に好ましく、９０～１４０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
　特定ポリマーの酸価は、ＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に記載の方法に従って、測定される値である。
　特定ポリマーの二重結合の含有量は、特定ポリマー１ｇ当たり、１．０～２．０ｍｍｏｌ／ｇが好ましい。
　特定ポリマーの二重結合の含有量は、ポリマー合成時の各種モノマーの仕込み量から、理論値として算出されるものを採用してもよいし、特定ポリマーの構造を１Ｈ　ＮＭＲ等の公知の測定手段を用いて解析して、二重結合の含有量を算出してもよい。
　感光性組成物層は、特定ポリマーを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　特定ポリマーの含有量は、本発明の効果がより優れる点から、感光性組成物層全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、３０～７５質量％が更に好ましい。
　感光性組成物層は、特定ポリマー以外のバインダーポリマーを含んでいてもよい。
　特定ポリマー以外のバインダーポリマーは、環状構造を有しないこと、及び重量平均分子量が１０万以上であることの少なくとも一方を満たすバインダーポリマーである。特定ポリマー以外のバインダーポリマーの好ましい構造は、環状構造を有しないこと、及び重量平均分子量が１０万以上であることの少なくとも一方を満たすこと以外は、特定ポリマーと同様である。
　バインダーポリマーの分散度は、現像性の点から、１．０～６．０が好ましく、１．０～５．０がより好ましく、１．０～４．０が更に好ましく、１．０～３．０が特に好ましい。
［重合性化合物］
　感光性組成物層は、重合性化合物を含む。
　重合性化合物は、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造（以下、「特定環状構造」ともいう。）を有する第１重合性化合物を含む。
　感光性組成物層は、後述するように、上記第１重合性化合物以外の第２重合性化合物を更に含んでいてもよい。
　特定環状構造としては、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造であれば特に制限されない。
　また、特定環状構造は、単環及び複環のいずれであってもよく、飽和複素環構造及び不飽和複素環構造のいずれであってもよい。
　特定環状構造が単環である場合、５員環または６員環が好ましく、６員環がより好ましい。
　なかでも、特定環状構造としては、酸素原子を有する複素環構造が好ましく、酸素原子を有する飽和複素環構造がより好ましい。
　特定環状構造が有する環員原子としての酸素原子又は硫黄原子の数は、１～５個が好ましく、１～３個がより好ましく、１～２個が更に好ましい。
　なお、特定環状構造が環員原子としての酸素原子又は硫黄原子を複数有する場合、環員原子としては、同じ原子であってよく、異なる原子であってもよい。
　また、重合性化合物は、特定環状構造を有していればよく、更に置換基を有していてもよい。上記置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
　特定環状構造としては、例えば、ジオキサン構造、フラン構造、ピラン構造、及び、カプロラクタム構造等の含酸素複素環構造；チオフェン構造、ピラン構造、テトラヒドロチオフェン構造、チオフェン構造、チアン構造、ジチアン構造、及び、チエパン構造等の含硫黄複素環構造；これらの２種以上を組み合わせた構造が挙げられる。
　なかでも、本発明の効果が優れる点で、特定環状構造としては、含酸素複素環構造が好ましく、ジオキサン構造（好ましくは、１，３－ジオキサン構造）、又は、ジチアン構造（好ましくは、１，４－ジチアン構造）がより好ましく、ジオキサン構造が更に好ましい。
　第１重合性化合物が有する重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、及び、カチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。
　第１重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（以下、「エチレン性不飽和化合物」ともいう。）であることが好ましい。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　なお、本開示におけるエチレン性不飽和化合物は、上記特定ポリマー以外の化合物であり、分子量５，０００未満であることが好ましい。本開示におけるエチレン性不飽和化合物は、上記バインダーポリマー以外の化合物であり、分子量５，０００未満であることが好ましい。
　第１重合性化合物としては、下記式（Ｍ－１）で表される化合物が好ましい。
　　Ｑ２－Ｌ２－Ｒ１－Ｌ１－Ｑ１　　　式（Ｍ－１）
　式（Ｍ－１）中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造を表す。
　Ｒ１は、上述した特定環状構造と同義である。
　特定環状構造が有する置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
　Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、（メタ）アクリロイル基を表す。
　Ｑ１及びＱ２は、合成容易性の点から、Ｑ１及びＱ２は同じ基が好ましい。
　また、Ｑ１及びＱ２は、反応性の点から、アクリロイル基が好ましい。
　Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。
　上記２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、ＣＳ－、－ＳＯ－、―ＳＯ２－、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基（例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、及びアリーレン基等）、及び、これらの複数が連結した連結基（例えば、－ＣＯＯ－、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基－Ｏ－）が挙げられる。
　なかでも、Ｌ１及びＬ２としては、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基が好ましい。
　脂肪族炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。
　酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基中における酸素原子の数は特に制限されず、１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。
　酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、例えば、－アルキレン基－Ｏ－、及び、－（アルキレン基－Ｏ）ｎ－（ｎは、１～５の整数を表す。）が挙げられる。上記アルキレン基中の炭素数は特に制限されず、１～５が好ましい。
　硫黄原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基中における硫黄原子の数は特に制限されず、１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。
　硫黄原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、例えば、－Ｓ－アルキレン基－、及び、－Ｓ－（アルキレン基－Ｓ）ｎ－アルキレン基－（ｎは、１～５の整数を表す。）が挙げられる。上記アルキレン基中の炭素数は特に制限されず、１～５が好ましい。
　重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリレート化合物のジオキサングリコール変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　Ｒ－６０４）、ＷＯ２０１８／０７４３０５号に記載のジスピロ構造を有するジ（メタ）アクリレート、ＷＯ２０１８／０７４３０５号、特開昭５９－１４８７７６号公報、特開２０００－０４４５７０号公報、及び、特開２００５－０２９５６３号公報に記載のスピロ構造含有多価アルコールから誘導される（メタ）アクリレート化合物、アクリル酸４－（５－ヘキシル－１，３－ジチアン－２－イル）フェニル、ＷＯ０９／１４４８０１号、特開２００２－０３００８２号公報、及び、特開２００１－０６４２７８号公報に記載のジチアン誘導体チオ（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　第１重合性化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
　第１重合性化合物のＣｌｏｇＰ値は、１．００以上が好ましく、２．００以上がより好ましく、３．００以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、５．００以下が好ましく、４．００以下がより好ましい。
　第１重合性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層における第１重合性化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１～７０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましく、２０～５０質量％が特に好ましい。
　感光物組成物層が、第１重合性化合物以外の他の重合性化合物である第２重合性化合物を更に含む場合、第１重合性化合物の含有量は、重合性化合物の合計質量に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が更に好ましい。上記含有量の上限は特に制限されないが、１００質量以下が好ましい。
　第１重合性化合物のＣｌｏｇＰ値と、バインダーポリマーのＣｌｏｇＰ値との差の絶対値は特に制限されず、５．００以下の場合が多く、２．００以下が好ましく、１．５０以下がより好ましい。
　バインダーポリマーの含有量に対する重合性化合物の含有量（重合性化合物の含有量／バインダーポリマーの含有量）の質量比は、０．１０～１．５０が好ましく、０．４０～１．００がより好ましい。ここで、重合体化合物の含有量とは、第１重合体化合物以外に、他の重合体化合物を有する場合には、全ての重合体化合物の合計量を意味する。
　上述したように、重合性化合物は、上述した第１重合性化合物以外に、他の重合性化合物である第２重合性化合物を含んでいてもよい。
　第２重合性化合物としては、第１重合性化合物以外の公知の重合性化合物が挙げられる。
　第２重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（以下、「エチレン性不飽和化合物」ともいう。）が好ましい。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロキシ基が好ましい。
　第２重合性化合物の好適態様の一つとして、下記式（Ｍ－２）で表される化合物（以下、「化合物Ｍ２」ともいう。）が挙げられる。
　　Ｑ２２－Ｒ１１－Ｑ１１　　　式（Ｍ－２）
　式（Ｍ－２）中、Ｑ１１及びＱ２２はそれぞれ独立に、（メタ）アクリロイルオキシ基を表し、Ｒ１１は鎖状構造を有する２価の連結基を表す。
　式（Ｍ－２）におけるＱ１１及びＱ２２は、合成容易性の点から、Ｑ１１及びＱ２２は同じ基であることが好ましい。
　また、式（Ｍ－２）におけるＱ１１及びＱ２２は、反応性の点から、アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
　式（Ｍ）におけるＲ１１としては、本発明の効果がより優れる点から、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基（－Ｌ１１－Ｏ－Ｌ１１－）、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基（－（Ｌ１１－Ｏ）ｐ－Ｌ１１－）が好ましく、炭素数２～２０の炭化水素基、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基がより好ましく、炭素数４～２０のアルキレン基が更に好ましく、炭素数６～１８の直鎖アルキレン基が特に好ましい。
　上記炭化水素基は、少なくとも一部に鎖状構造を有していればよく、上記鎖状構造以外の部分としては、特に制限はなく、例えば、分岐鎖状、環状又は炭素数１～５の直鎖状アルキレン基、アリーレン基、エーテル結合、及び、それらの組み合わせのいずれであってもよく、アルキレン基、又は、２以上のアルキレン基と１以上のアリーレン基とを組み合わせた基が好ましく、アルキレン基がより好ましく、直鎖アルキレン基が更に好ましい。
　なお、上記Ｌ１１は、それぞれ独立に、アルキレン基を表し、エチレン基、プロピレン基、又は、ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、１，２－プロピレン基がより好ましい。ｐは２以上の整数を表し、２～１０の整数であることが好ましい。
　また、化合物Ｍ２におけるＱ１１及びＱ２２との間を連結する最短の連結鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる点から、３～５０個が好ましく、４～４０個がより好ましく、６～２０個が更に好ましく、８～１２個が特に好ましい。
　本開示において、「Ｑ１１及びＱ２２の間を連結する最短の連結鎖の原子数」とは、Ｑ１１に連結するＲ１１における原子からＱ２２に連結するＲ１における原子までを連結する最短の原子数である。
　化合物Ｍ２の具体例としては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７－ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、及び、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。上記エステルモノマーは混合物としても使用できる。
　上記化合物Ｍ２の中でも、本発明の効果がより優れる点から、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましく、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることがより好ましく、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが更に好ましい。
　また、第２重合性化合物の好適態様の一つとして、２官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
　本開示において、「２官能以上のエチレン性不飽和化合物」とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
　エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　上記化合物Ｍ２以外の２官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、及び、トリシクロデカンジメナノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　２官能のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（商品名：ＮＫエステル　ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、及び、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及び、ヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。
　第２重合性化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社のＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）　１３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製ＮＫエステル　Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）も挙げられる。
　第２重合性化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物〔好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物〕も挙げられる。
　３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＮＫエステル　ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＮＫエステル　ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
　第２重合性化合物の好適態様の一つとして、酸基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
　酸基としては、リン酸基、スルホ基、及び、カルボキシ基が挙げられる。
　これらの中でも、酸基としては、カルボキシ基が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、酸基を有する３～４官能のエチレン性不飽和化合物〔ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価：８０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕、酸基を有する５～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの〔酸価：２５ｍｇＫＯＨ／ｇ～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕等が挙げられる。
　これら酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物が、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種であると、現像性及び膜強度がより高まる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５２０（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５１０（東亞合成（株）製）が挙げられる。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落［００２５］～［００３０］に記載の酸基を有する第２重合性化合物が好ましく、この公報に記載の内容は、本開示に組み込まれる。
　第２重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、グリシジル基含有化合物にα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマー、γ－クロロ－β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、β－ヒドロキシエチル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート及びβ－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート等のフタル酸系化合物、並びに、（メタ）アクリル酸アルキルエステルも挙げられる。
　これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
　多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、及び２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物、エチレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド基の数が２～１４であり、かつ、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、並びに、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　なかでも、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。
　第２重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物のカプロラクトン変性化合物（例えば、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、エチレン性不飽和化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（例えば、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社製 ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１３５等）、及び、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）等も挙げられる。
　第２重合性化合物（特に、エチレン性不飽和化合物）としては、転写後の感光性組成物層の現像性に優れる点で、なかでも、エステル結合を含むものも好ましい。
　エステル結合を含むエチレン性不飽和化合物としては、分子内にエステル結合を含むものであれば特に制限されないが、本発明の効果が優れる点で、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。
　信頼性付与の点からは、エチレン性不飽和化合物としては、炭素数６～２０の脂肪族基を有するエチレン性不飽和化合物と、上記のテトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物と、を含むことが好ましい。
　炭素数６以上の脂肪族構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　第２重合性化合物の好適態様の一つとしては、脂肪族炭化水素環構造を有する重合性化合物（好ましくは、２官能エチレン性不飽和化合物）が挙げられる。
　上記重合性化合物としては、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造（好ましくは、トリシクロデカン構造及びトリシクロデセン構造からなる群から選択される構造）を有する重合性化合物が好ましく、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物がより好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが更に好ましい。
　上記脂肪族炭化水素環構造としては、本発明の効果がより優れる点から、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、トリシクロデカン構造、トリシクロデセン構造、ノルボルナン構造、又は、イソボロン構造が好ましい。
　第２重合性化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
　感光性組成物層に含まれる重合性化合物のうち、分子量３００以下の重合性化合物の含有量の割合は、感光性組成物層に含まれる全ての重合性化合物の含有量に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。
　感光性組成物層における重合性化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１～７０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましく、２０～５０質量％が特に好ましい。
［重合開始剤］
　感光性組成物層は、重合開始剤を含む。
　重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては特に制限はなく、公知の光重合開始剤が挙げられる。
　光重合開始剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、及び、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）が挙げられる。
　光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。
　また、光重合開始剤は、本発明の効果がより優れる点から、２種以上を併用することが好ましく、オキシム系光重合開始剤及びα－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤を含むことがより好ましく、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、又は、１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルフォリノプロパン)－１－オンを含むことがより好ましい。
　また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００３１］～［００４２］、及び、特開２０１５－０１４７８３号公報の段落［００６４］～［００８１］に記載された重合開始剤を用いてもよい。
　光重合開始剤の市販品としては、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製〕、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製〕、［８－［５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１１－（２－エチルヘキシル）－１１Ｈ－ベンゾ［ａ］カルバゾイル］［２－（２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ）フェニル］メタノン－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０３、ＢＡＳＦ社製〕、１－［４－［４－（２－ベンゾフラニルカルボニル）フェニル］チオ］フェニル］－４－メチルペンタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０４、ＢＡＳＦ社製〕、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製〕、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　９０７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１２７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　３６９、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１１７３、ＢＡＳＦ社製〕、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１８４、ＢＡＳＦ社製〕、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１、ＢＡＳＦ社製〕等、オキシムエステル系の〔商品名：Ｌｕｎａｒ（登録商標）　６、ＤＫＳＨジャパン（株）製〕、１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルホリノプロパン－１－オン〔商品名ＡＰｉ－３０７（登録商標）、Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　ＵＶ－ＣｈｅｍＴｅｃｈ ＬＴＤ製〕、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、及び、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）等が挙げられる。
　重合開始剤としては、透明性、及び、１０μｍ以下でのパターン形成能がより優れる点で、オキシムエステル化合物、又は、アシルフォスフィンオキサイド系化合物が好ましく、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、１，２－オクタンジオン－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、又は、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイドがより好ましい。
　重合開始剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、感光性組成物層全質量に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。
　また、感光性組成物層における重合開始剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
［複素環化合物］
　感光性組成物層は、複素環化合物を含んでいてもよい。なお、上述した第１重合性化合物は、複素環化合物には含まれない。
　複素環化合物が有する複素環は、単環及び多環のいずれの複素環でもよい。
　複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。
　複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、及び、ピリミジン化合物が挙げられる。
　上記の中でも、複素環化合物としては、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物がより好ましい。
　複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。トリアゾール化合物及びベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　複素環化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が複素環化合物を含む場合、複素環化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～２０．０質量％が好ましく、０．１０～１０．０質量％がより好ましく、０．３０～８．０質量％が更に好ましく、０．５０～５．０質量％が特に好ましい。
［脂肪族チオール化合物］
　感光性組成物層は、脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含むことで、脂肪族チオール化合物がエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物との間でエン－チオール反応することで、形成される膜の硬化収縮が抑えられ、応力が緩和される。
　脂肪族チオール化合物としては、単官能の脂肪族チオール化合物、又は、多官能の脂肪族チオール化合物（すなわち、２官能以上の脂肪族チオール化合物）が好ましい。
　上記の中でも、脂肪族チオール化合物としては、形成されるパターンの密着性（特に、露光後における密着性）の点から、多官能の脂肪族チオール化合物が好ましい。
　本明細書において、「多官能の脂肪族チオール化合物」とは、チオール基（「メルカプト基」ともいう。）を分子内に２個以上有する脂肪族化合物を意味する。
　多官能の脂肪族チオール化合物としては、分子量が１００以上の低分子化合物が好ましい。具体的には、多官能の脂肪族チオール化合物の分子量は、１００～１，５００がより好ましく、１５０～１，０００が更に好ましい。
　多官能の脂肪族チオール化合物の官能基数としては、例えば、形成されるパターンの密着性の点から、２～１０官能が好ましく、２～８官能がより好ましく、２～６官能が更に好ましい。
　多官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，６－ヘキサメチレンジチオール、２，２’－（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ－２，３－ジメルカプトコハク酸、及び、ジ（メルカプトエチル）エーテルが挙げられる。
　上記の中でも、多官能の脂肪族チオール化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、及び、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。
　単官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、１－オクタンチオール、１－ドデカンチオール、β－メルカプトプロピオン酸、メチル－３－メルカプトプロピオネート、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート、メトキシブチル－３－メルカプトプロピオネート、及び、ステアリル－３－メルカプトプロピオネートが挙げられる。
　感光性組成物層は、１種単独の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよく、２種以上の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含む場合、脂肪族チオール化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、５質量％以上が好ましく、５～５０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましく、８～２０質量％が特に好ましい。
［熱架橋性化合物］
　感光性組成物層は、熱架橋性化合物を含んでいてもよい。
　なお、本開示においては、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、エチレン性不飽和化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
　熱架橋性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メチロール化合物、及び、ブロックイソシアネート化合物が挙げられる。なかでも、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物の少なくとも一方が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、保護膜としての機能が強化される傾向がある。
　なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。
　ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、特に制限されないが、１００～１６０℃が好ましく、１３０～１５０℃がより好ましい。
　ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
　示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ（株）製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に用いることができる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。
　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等）〕、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、及び、シクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。
　これらの中でも、解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の点から、オキシム化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすいという点から好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物は、重合性基を有していてもよい。
　重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、ラジカル重合性基が好ましい。
　重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、及び、スチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。
　なかでも、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が更に好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いることができる。
　ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工（株）製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標）　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、デュラネート（登録商標）　ＷＴ３２－Ｂ７５Ｐ等、旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。
　熱架橋性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。
［界面活性剤］
　感光性組成物層は、界面活性剤を含んでいてもよい。
　界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落［００６０］～［００７１］に記載の界面活性剤が挙げられる。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましく、シリコーン系界面活性剤がより好ましい。
　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック（登録商標）Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（登録商標）ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント（登録商標）７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を有する官能基を含む分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好ましい。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック（登録商標）ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えば、メガファック（登録商標）ＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体も好ましい。
　フッ素系界面活性剤として、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましい。
　フッ素系界面活性剤として、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。例えば、メガファック（登録商標）ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤としては、環境適性向上の点から、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）及びパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）等の炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物の代替材料に由来する界面活性剤であることが好ましい。
　シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
　界面活性剤の具体例としては、ＤＯＷＳＩＬ（登録商標）８０３２　ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、及び、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤も挙げられる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック（登録商標）Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック（登録商標）３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース（登録商標）２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン（登録商標）Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）等が挙げられる。
　界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～３．０質量％が好ましく、０．０５～１．０質量％がより好ましく、０．１０～０．８０質量％が更に好ましい。
［リン酸エステル化合物］
　感光性組成物層は、基板又は導電部に対する感光性組成物層の密着性をより向上させる点で、リン酸エステル化合物を含むことが好ましい。
　リン酸エステル化合物としては、リン酸（Ｏ＝Ｐ（ＯＨ）３）における３つの水素原子の少なくとも１つ以上が有機基で置換されたものであれば特に制限されず、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＰ）、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＫＡＹＡＭＥＲ　ＰＭ－２１、ＫＡＹＡＭＥＲ　ＰＭ－２）、及び、共栄社化学株式会社製のライトエステルシリーズ（ライトエステルＰ－２Ｍ（商品名））が挙げられる。
　リン酸エステル化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　リン酸エステル化合物の含有量は特に制限されないが、感光性組成物層全質量に対して、０．０５～３．０質量％が好ましく、０．１～２．０質量％がより好ましく、０．２～１．０質量％が更に好ましい。
　感光性組成物層がリン酸エステル化合物を含む場合、リン酸エステル化合物の含有量は特に制限されないが、基板又は導電部に対する感光性組成物層の密着性をより向上させる点で、バインダーポリマー及び重合性化合物の合計１００質量部に対して１０質量部以下であるのが好ましく、３質量部以下であるのがより好ましい。また、０．０１質量部以上であるのが好ましく、０．１質量部以上であるのがより好ましい。
［重合禁止剤］
　感光性組成物層は、重合禁止剤を含んでいてもよい。
　重合禁止剤とは、重合反応を遅延又は禁止させる機能を有する化合物を意味する。重合禁止剤としては、例えば、重合禁止剤として用いられる公知の化合物を用いることができる。
　重合禁止剤としては、例えば、フェノチアジン、ビス－（１－ジメチルベンジル）フェノチアジン、及び、３，７－ジオクチルフェノチアジン等のフェノチアジン化合物；ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、１，３，５－トリス（４－ｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、及び、ペンタエリスリトールテトラキス３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のヒンダードフェノール化合物；４－ニトロソフェノール、Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミン、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン等のニトロソ化合物又はその塩；メチルハイドロキノン、ｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルハイドロキノン、及び、４－ベンゾキノン等のキノン化合物；４－メトキシフェノール、４－メトキシ－１－ナフトール、及び、ｔ－ブチルカテコール等のフェノール化合物；ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸マンガン、及び、ジフェニルジチオカルバミン酸マンガン等の金属塩化合物が挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、重合禁止剤としては、フェノチアジン化合物、ニトロソ化合物又はその塩、及び、ヒンダードフェノール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、フェノチアジン、ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩がより好ましい。
　重合禁止剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が重合禁止剤を含む場合、重合禁止剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～１０．０質量％が好ましく、０．０５～５．０質量％がより好ましく、０．１０～３．０質量％が更に好ましい。
［水素供与性化合物］
　感光性組成物層は、水素供与性化合物を含んでいてもよい。
　水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、及び、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
　水素供与性化合物としては、例えば、アミン類、及び、アミノ酸化合物が挙げられる。
　アミン類としては、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－０２０１８９号公報、特開昭５１－０８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－０８４３０５号公報、特開昭６２－０１８５３７号公報、特開昭６４－０３３１０４号公報、及び、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号等に記載の化合物が挙げられる。より具体的には、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタン（別名：ロイコクリスタルバイオレット）、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、及び、ｐ－メチルチオジメチルアニリンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、アミン類としては、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、及び、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタンからなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルグリシンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、アミノ酸化合物としては、Ｎ－フェニルグリシンが好ましい。
　また、水素供与性化合物としては、例えば、特公昭４８－０４２９６５号公報に記載の有機金属化合物（トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－０３４４１４号公報に記載の水素供与体、及び、特開平６－３０８７２７号公報に記載のイオウ化合物（トリチアン等）も挙げられる。
　水素供与性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の点から、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～１０．０質量％が好ましく、０．０３～８．０質量％がより好ましく、０．１０～５．０質量％が更に好ましい。
［不純物等］
　感光性組成物層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。
　不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン及びこれらのイオンが挙げられる。なかでも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及び、カリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。
　感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上又は０．１ｐｐｍ以上とすることができる。
感光性組成物層における不純物の含有量の具体例としては、上記の全ての不純物が質量基準で、０．６ｐｐｍである態様が挙げられる。
　不純物を上記範囲にする方法としては、感光性組成物層の原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、及び、感光性組成物層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。
　不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及び、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。
　感光性組成物層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及び、ヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物の感光性組成物層中における含有量としては、質量基準で、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましく、４ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。
　感光性組成物層における水の含有量は、信頼性及びラミネート性を向上させる点から、０．０１～１．０質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。
［残存モノマー］
　感光性組成物層は、上述したバインダーポリマーの各構成単位の残存モノマーを含む場合がある。
　残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、バインダーポリマー全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　バインダーポリマーの各構成単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性組成物層全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　高分子反応でバインダーポリマーを合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてバインダーポリマーを合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
　残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。
［他の成分］
　感光性組成物層は、既述の成分以外の成分（以下、「他の成分」ともいう。）を含んでいてもよい。
　他の成分としては、例えば、上述した重合性化合物以外のその他重合性化合物、着色剤、酸化防止剤、及び、粒子（例えば、金属酸化物粒子）が挙げられる。また、他の成分としては、特開２０００－３１０７０６号公報の段落［００５８］～［００７１］に記載のその他の添加剤も挙げられる。
－粒子－
　粒子としては、金属酸化物粒子が好ましい。
　金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。
　粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の点から、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍがより好ましい。
　粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。
　感光性組成物層が粒子を含む場合、金属種、及び、大きさ等の異なる粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性組成物層は、粒子を含まないか、或いは、感光性組成物層が粒子を含む場合には、粒子の含有量が感光性組成物層全質量に対して、０質量％超３５質量％以下が好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性組成物全質量に対して、０質量％超１０質量％以下がより好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性組成物層全質量に対して０質量％超５質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性組成物層全質量に対して０質量％超１質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないことが特に好ましい。
－着色剤－
　感光性組成物は、微量の着色剤（顔料、染料等）を含んでいてもよいが、例えば、透明性の点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
　感光性組成物層が着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。
－酸化防止剤－
　酸化防止剤としては、例えば、１－フェニル－３－ピラゾリドン（別名：フェニドン）、１－フェニル－４，４－ジメチル－３－ピラゾリドン、及び、１－フェニル－４－メチル－４－ヒドロキシメチル－３－ピラゾリドン等の３－ピラゾリドン類；ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、及び、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類；パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、及び、パラフェニレンジアミンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、酸化防止剤としては、３－ピラゾリドン類が好ましく、１－フェニル－３－ピラゾリドンがより好ましい。
　感光性組成物層が酸化防止剤を含む場合、酸化防止剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、１質量％以下が好ましい。
［感光性組成物層の屈折率］
　感光性組成物層の屈折率は、１．４７～１．５６が好ましく、１．４９～１．５４がより好ましい。
［感光性組成物層の色］
　感光性組成物層は無彩色であることが好ましい。具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、Ｌ＊値は１０～９０であることが好ましく、ａ＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、ｂ＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。
　なお、感光性組成物層を硬化して得られるパターン（感光性組成物層の硬化膜）は、無彩色であることが好ましい。
　具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、パターンのＬ＊値は１０～９０であることが好ましく、パターンのａ＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、パターンのｂ＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。
［感光性組成物層の透過率］
　感光性組成物層の膜厚１．０μｍあたりの可視光透過率は、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。
　可視光の透過率としては、波長４００～８００ｎｍの平均透過率、波長４００～８００ｎｍの透過率の最小値、波長４００ｎｍｍの透過率、いずれもが上記を満たすことが好ましい。
　透過率の好ましい値としては、例えば、８７％、９２％、９８％等が挙げられる。感光性組成物層の硬化膜の膜厚１．０μｍあたりの透過率も同様である。
［感光性組成物層の透湿度］
　感光性組成物層を硬化して得られるパターン（感光性組成物層の硬化膜）の膜厚４０μｍでの透湿度は、電極又は配線の防錆性の点、及び、デバイスの信頼性の点から、５００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下が好ましく、３００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下がより好ましく、１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下が更に好ましい。
　透湿度は、感光性組成物層を、ｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、１４５℃、３０分間のポストベークを行うことにより、感光性組成物層を硬化させた硬化膜で測定する。
　透湿度の測定は、ＪＩＳ Ｚ０２０８のカップ法に準じて行う。温度４０℃／湿度９０％、温度６５℃／湿度９０％、及び、温度８０℃／湿度９５％のいずれの試験条件においても、上記の透湿度であることが好ましい。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、８０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、１５０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、２２０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ等が挙げられる。
［感光性組成物層の溶解速度］
　感光性組成物層の炭酸ナトリウム１．０％水溶液に対する溶解速度は、現像時の残渣抑制の点から、０．０１μｍ／秒以上が好ましく、０．１０μｍ／秒以上がより好ましく、０．２０μｍ／秒以上が更に好ましい。
　パターンのエッジ形状の点から、５．０μｍ／秒以下が好ましく、４．０μｍ／秒以下がより好ましく、３．０μｍ／秒以下が更に好ましい。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、１．８μｍ／秒、１．０μｍ／秒、０．７μｍ／秒等が挙げられる。
　１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する感光性組成物層の単位時間あたりの溶解速度は、以下のように測定するものとする。
　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性組成物層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２５℃で、感光性組成物層が溶け切るまでシャワー現像を行う（但し、最長で２分までとする）。上記感光性組成物層の単位時間あたりの溶解速度は、感光性組成物層の膜厚を、感光性組成物層が溶け切るまでに要した時間で割り算することで求める。なお、２分で溶け切らない場合は、それまでの膜厚変化量から同様に計算する。
　感光性組成物層の硬化膜（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）の炭酸ナトリウム１．０％水溶液に対する溶解速度は、３．０μｍ／秒以下が好ましく、２．０μｍ／秒以下がより好ましく、１．０μｍ／秒以下が更に好ましく、０．２μｍ／秒以下が特に好ましい。上記感光性組成物層の硬化膜は、感光性組成物層をｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ２にて露光して得られる膜である。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０．８μｍ／秒、０．２μｍ／秒、０．００１μｍ／秒等が挙げられる。
　現像は、（株）いけうち製１／４ＭＩＮＪＪＸ０３０ＰＰのシャワーノズルを使用し、シャワーのスプレー圧は０．０８ＭＰａとする。上記条件の時、単位時間当たりのシャワー流量は１，８００ｍＬ／ｍｉｎとする。
［感光性組成物層の膨潤率］
　露光後の感光性組成物層の１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する膨潤率は、パターン形成性向上の点から、１００％以下が好ましく、５０％以下がより好ましく、３０％以下が更に好ましい。
　露光後の感光性組成物層の膨潤率１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する膨潤率は、以下のように測定するものとする。
　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性組成物層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、超高圧水銀灯で５００ｍｊ／ｃｍ２（ｉ線測定）で露光する。２５℃でガラス基板ごと、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、３０秒経過時点での膜厚を測定する。そして、浸漬後の膜厚が浸漬前の膜厚に対して増加した割合を計算する。
具体的な好ましい数値としては、例えば、４％、１３％、２５％等が挙げられる。
［感光性組成物層中の異物］
　パターン形成性の点から、感光性組成物層中の直径１．０μｍ以上の異物の数は、１０個／ｍｍ２以下が好ましく、５個／ｍｍ２以下がより好ましい。
　異物個数は以下のように測定するものとする。
　感光性組成物層の表面の法線方向から、感光性組成物層の面上の任意の５か所の領域（１ｍｍ×１ｍｍ）を、光学顕微鏡を用いて目視にて観察して、各領域中の直径１．０μｍ以上の異物の数を測定して、それらを算術平均して異物の数として算出する。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０個／ｍｍ２、１個／ｍｍ２、４個／ｍｍ２、８個／ｍｍ２等が挙げられる。
［感光性組成物層中の溶解物のヘイズ］
　現像時での凝集物発生抑止の点から、１．０質量％炭酸ナトリウムの３０℃水溶液１．０リットルに１．０ｃｍ３の感光性組成物層を溶解させて得られる溶液のヘイズは、６０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましく、１０％以下が更に好ましく、１％以下が特に好ましい。
　ヘイズは以下のように測定するものとする。
　まず、１．０質量％の炭酸ナトリウム水溶液を準備し、液温を３０℃に調整する。炭酸ナトリウム水溶液１．０Ｌに１．０ｃｍ３の感光性組成物層を入れる。気泡を混入しないように注意しながら、３０℃で４時間撹拌する。撹拌後、感光性組成物層が溶解した溶液のヘイズを測定する。ヘイズは、ヘイズメーター（製品名「ＮＤＨ４０００」、日本電色工業社製）を用い、液体測定用ユニット及び光路長２０ｍｍの液体測定専用セルを用いて測定される。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０．４％、１．０％、９％、２４％等が挙げられる。
＜保護フィルム＞
　転写フィルムは、感光性組成物層上に、保護フィルムを有していてもよい。より具体的には、転写フィルムは、感光性組成物層の仮支持体側とは反対側の表面上に保護フィルムを有していてもよい。
　保護フィルムとしては、耐熱性及び耐溶剤性を有する樹脂フィルムを用いることができ、例えば、ポリプロピレンフィルム、及び、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、並びに、ポリスチレンフィルムが挙げられる。
　また、保護フィルムとして上述の仮支持体と同じ材料で構成された樹脂フィルムを用いてもよい。
　なかでも、保護フィルムとしては、ポリオレフィンフィルムが好ましく、ポリプロピレンフィルム又はポリエチレンフィルムがより好ましく、ポリエチレンフィルムが更に好ましい。
　保護フィルムの厚さは、１～１００μｍが好ましく、５～５０μｍがより好ましく、５～４０μｍが更に好ましく、１５～３０μｍが特に好ましい。
　保護フィルムの厚さは、機械的強度に優れる点で、１μｍ以上が好ましく、比較的安価となる点で、１００μｍ以下が好ましい。
　また、保護フィルムにおいては、保護フィルム中に含まれる直径８０μｍ以上のフィッシュアイ数が、５個／ｍ２以下であることが好ましい。
　なお、「フィッシュアイ」とは、材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸及びキャスティング法等の方法によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、及び、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものである。
　保護フィルムに含まれる直径３μｍ以上の粒子の数は、３０個／ｍｍ２以下が好ましく、１０個／ｍｍ２以下がより好ましく、５個／ｍｍ２以下が更に好ましい。
　これにより、保護フィルムに含まれる粒子に起因する凹凸が感光性組成物層又は導電部に転写されることにより生じる欠陥を抑制することができる。
　巻き取り性を付与する点から、保護フィルムの感光性組成物層又は屈折率調整層と接する面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満でが好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。
　保護フィルムは、転写時の欠陥抑制の点から、感光性組成物層又は屈折率調整層と接する面の表面粗さＲａ、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。
＜屈折率調整層＞
　転写フィルムは、屈折率調整層を有していてもよい。例えば、転写フィルムは、感光性組成物層の仮支持体側とは反対側の表面上に屈折率調整層を有していてもよい。転写フィルムが屈折率調整層及び保護フィルムを有する場合、転写フィルムは、仮支持体、感光性組成物層、屈折率調整層、及び、保護フィルムをこの順に有することが好ましい。
　屈折率調整層としては、公知の屈折率調整層を適用できる。屈折率調整層に含まれる材料としては、例えば、バインダーポリマー、重合性化合物、金属塩、及び、粒子が挙げられる。
　屈折率調整層の屈折率を制御する方法は、特に制限されず、例えば、所定の屈折率の樹脂を単独で用いる方法、樹脂と粒子とを用いる方法、金属塩と樹脂との複合体を用いる方法が挙げられる。
　バインダーポリマー、及び、重合性化合物としては、例えば、上記「感光性組成物層」の項において説明したバインダーポリマー、及び、重合性化合物が挙げられる。
　粒子としては、例えば、金属酸化物粒子、及び金属粒子が挙げられる。
　金属酸化物粒子の種類は特に制限はなく、公知の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。
　粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の点から、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍがより好ましい。
　粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。
　金属酸化物粒子としては、具体的には、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ２粒子）、Ｎｂ２Ｏ５粒子、酸化チタン粒子（ＴｉＯ２粒子）、二酸化珪素粒子（ＳｉＯ２粒子）、及び、これらの複合粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　これらの中でも、金属酸化物粒子としては、例えば、屈折率を調整しやすいという点から、酸化ジルコニウム粒子及び酸化チタン粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。
　金属酸化物粒子の市販品としては、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ０４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７５）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７６）、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｍ、日産化学工業（株）製）、及び、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｋ、日産化学工業（株）製）が挙げられる。
　粒子は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　屈折率調整層における粒子の含有量は、屈折率調整層全質量に対し、１～９５質量％が好ましく、２０～９０質量％がより好ましく、４０～８５質量％が更に好ましい。
　金属酸化物粒子として酸化チタンを用いる場合、酸化チタン粒子の含有量は、屈折率調整層全質量に対して、１～９５質量％が好ましく、２０～９０質量％がより好ましく、４０～８５質量％が更に好ましい。
　屈折率調整層の屈折率は、感光性組成物層の屈折率よりも高いことが好ましい。
　屈折率調整層の屈折率は、１．５０以上が好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．６０以上が更に好ましく、１．６５以上が特に好ましい。屈折率調整層の屈折率の上限は、２．１０以下が好ましく、１．８５以下がより好ましく、１．７８以下が更に好ましく、１．７４以下が特に好ましい。
　屈折率調整層の厚さは、５０～５００ｎｍが好ましく、５５～１１０ｎｍがより好ましく、６０～１００ｎｍが更に好ましい。
　屈折率調整層の厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

＜中間層＞　転写フィルムは、感光性組成物層及び屈折率調整層以外の層（中間層）を有していてもよい。
　中間層は、単層構造又は多層構造を有してもよい。好ましい中間層としては、例えば、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層が挙げられる。中間層は、熱可塑性樹脂層、水溶性樹脂層、又は、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層の両方を、含んでもよい。中間層は、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層を含むことが好ましい。中間層が熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層を含む場合、転写フィルムは、仮支持体と、熱可塑性樹脂層と、水溶性樹脂層と、感光性組成物層と、保護フィルムと、をこの順に含むことが好ましい。また、中間層としては、例えば、特開平５－０７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断層も挙げられる。中間層が酸素遮断層であると、露光時の感度が向上し、露光機の時間負荷が低減し、生産性が向上する。
（中間層の構成要素：熱可塑性樹脂層）
　熱可塑性樹脂層は、例えば、転写フィルムと基板との貼り合わせにおける基板への追従性を向上させ、基板と転写フィルムとの間の気泡の混入を抑制し、基板と転写フィルムとの密着性を向上させる。
（熱可塑性樹脂層の成分：アルカリ可溶性樹脂）
　熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂として、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、及び、ポリアルキレングリコールが挙げられる。
　アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の点から、アクリル樹脂が好ましい。ここで、アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を有する樹脂を意味する。アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して５０質量％以上であることが好ましい。中でも、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して、３０～１００質量％が好ましく、５０～１００質量％がより好ましい。
　また、アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有する重合体であることが好ましい。酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、ホスホン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、現像性の点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂がより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂が更に好ましい。アルカリ可溶性樹脂の酸価の上限は、特に制限されないが、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
　酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、特に制限されず、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうち酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるアルカリ可溶性樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、及び、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００５３～００６８に記載のアルカリ可溶性樹脂のうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂が挙げられる。上記カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する構成単位の共重合比は、アクリル樹脂の全質量に対して、５～５０質量％が好ましく、１０～４０質量％がより好ましく、１２～３０質量％が更に好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂が特に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂は、反応性基を有していてもよい。反応性基としては、重合可能な基、例えば、付加重合、重縮合又は重付加が可能な基であればよく、エチレン性不飽和基；ヒドロキシ基及びカルボキシ基等の重縮合性基；エポキシ基、（ブロック）イソシアネート基等の重付加反応性基が挙げられる。
　アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００以上が好ましく、１万～１０万がより好ましく、２万～５万が更に好ましい。
　熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂を１種単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂の含有量は、現像性及び隣接する層との密着性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１０～９９質量％が好ましく、２０～９０質量％がより好ましく、４０～８０質量％が更に好ましく、５０～７０質量％が特に好ましい。
（熱可塑性樹脂層の成分：色素）
　熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲４００～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより極大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｂ」ともいう。）を含むことが好ましい。色素Ｂの好ましい態様は、後述する点以外は、色素Ｎの好ましい態様と同様である。
　色素Ｂとしては、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の点から、酸又はラジカルにより極大吸収波長が変化する色素が好ましく、酸により極大吸収波長が変化する色素がより好ましい。熱可塑性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の点から、色素Ｂとしての酸により極大吸収波長が変化する色素、及び、後述する光により酸を発生する化合物の両者を含むことが好ましい。
　色素Ｂは、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。
　色素Ｂの含有量は、露光部及び非露光部の視認性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．２質量％以上が好ましく、０．２～６質量％がより好ましく、０．２～５質量％が更に好ましく、０．２５～３．０質量％が特に好ましい。
　ここで、色素Ｂの含有量は、熱可塑性樹脂層に含まれる色素Ｂの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｂの含有量の定量方法を説明する。メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ又は０．０１ｇを溶かした２種類の溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦ社製）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、株式会社島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。次に、色素に代えて熱可塑性樹脂層０．１ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた熱可塑性樹脂層を含む溶液の吸光度から、検量線に基づいて熱可塑性樹脂層に含まれる色素の量を算出する。
（熱可塑性樹脂層の成分：光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物）
　熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物（単に「化合物Ｃ」ともいう。）を含んでいてもよい。化合物Ｃとしては、紫外線及び可視光線等の活性光線を受けて、酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物が好ましい。化合物Ｃとしては、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤、及び、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル発生剤）を用いることができる。中でも、光酸発生剤が好ましい。
　熱可塑性樹脂層は、解像性の点から、光酸発生剤を含むことが好ましい。光酸発生剤としては、上述した感光性組成物層が含んでいてもよい光カチオン重合開始剤が挙げられ、後述する点以外は好ましい態様も同じである。
　光酸発生剤としては、感度及び解像性の点から、オニウム塩化合物、及び、オキシムスルホネート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、感度、解像性及び密着性の点から、オキシムスルホネート化合物を含むことがより好ましい。また、光酸発生剤としては、以下の構造を有する光酸発生剤も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　熱可塑性樹脂層は、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル重合開始剤）を含んでいてもよい。光ラジカル重合開始剤としては、上述した感光性組成物層が含んでいてもよい光ラジカル重合開始剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
　熱可塑性樹脂層は、光塩基発生剤を含んでいてもよい。光塩基発生剤としては、公知の光塩基発生剤であれば特に制限されず、例えば、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、｛［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル｝シクロヘキシルアミン、ビス｛［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル｝ヘキサン－１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（III）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、及び、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジンが挙げられる。
　熱可塑性樹脂層は、化合物Ｃを、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　化合物Ｃの含有量は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．５～５質量％がより好ましい。
（熱可塑性樹脂層の成分：可塑剤）
　熱可塑性樹脂層は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の点から、可塑剤を含むことが好ましい。
　可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂よりも分子量（オリゴマー又はポリマーである場合は重量平均分子量（Ｍｗ））が小さいことが好ましい。可塑剤の分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））は、２００～２，０００が好ましい。
　可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂と相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に制限されないが、可塑性付与の点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物がより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造又はポリプロピレンオキシ構造を有することがより好ましい。
　また、可塑剤は、解像性及び保存安定性の点から、（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。相溶性、解像性及び隣接する層との密着性の点から、アルカリ可溶性樹脂がアクリル樹脂であり、かつ、可塑剤が（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、上述した感光性組成物層に含まれるエチレン性不飽和化合物として記載した（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　転写フィルムにおいて、熱可塑性樹脂層と感光性組成物層とが直接接触して積層される場合、熱可塑性樹脂層及び感光性組成物層がいずれも同じ（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。同じ（メタ）アクリレート化合物を熱可塑性樹脂層及び感光性組成物層がそれぞれ含むことで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上するためである。
　熱可塑性樹脂層が可塑剤として（メタ）アクリレート化合物を含む場合、隣接する層との密着性の点から、露光後の露光部においても（メタ）アクリレート化合物が重合しないことが好ましい。
　また、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の点から、一分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
　更に、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物も好ましい。
　熱可塑性樹脂層は、可塑剤を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　可塑剤の含有量は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１～７０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましく、２０～５０質量％が更に好ましい。
（熱可塑性樹脂層の成分：界面活性剤）
　熱可塑性樹脂層は、厚さ均一性の点から、界面活性剤を含むことが好ましい。界面活性剤としては、上述した感光性組成物層が含んでいてもよい界面活性剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
　熱可塑性樹脂層は、界面活性剤を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　界面活性剤の含有量は、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～３質量％がより好ましい。
（熱可塑性樹脂層の成分：増感剤）
　熱可塑性樹脂層は、増感剤を含んでいてもよい。増感剤としては、特に制限されず、上述した感光性組成物層が含んでいてもよい増感剤が挙げられる。
　熱可塑性樹脂層は、増感剤を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、露光部及び非露光部の視認性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．０１～５質量％の範囲が好ましく、０．０５～１質量％の範囲がより好ましい。
（熱可塑性樹脂層の成分：添加剤等）
　熱可塑性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含んでいてもよい。また、熱可塑性樹脂層については、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落０１８９～０１９３に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
（熱可塑性樹脂層の物性等）
　熱可塑性樹脂層の層厚は、特に制限されないが、隣接する層との密着性の点から、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、現像性及び解像性の点から、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。　

（中間層の構成要素：水溶性樹脂層）
　水溶性樹脂層は、水溶性樹脂を含むことが好ましい。水溶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及び、これらの共重合体等の樹脂が挙げられる。水溶性樹脂層に含まれる樹脂は、複数層間の成分の混合を抑制する点から、感光性組成物層に含まれる重合体Ａ、及び、熱可塑性樹脂層に含まれる熱可塑性樹脂（例えば、アルカリ可溶性樹脂）のいずれとも異なる樹脂であることが好ましい。
　水溶性樹脂層は、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する点から、ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンの両者を含むことがより好ましい。
　水溶性樹脂層は、水溶性樹脂を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　水溶性樹脂層における水溶性樹脂の含有量は、特に制限されないが、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する点から、水溶性樹脂層の全質量に対し、５０～１００質量％が好ましく、７０～１００質量％がより好ましく、８０～１００質量％が更に好ましく、９０～１００質量％が特に好ましい。
　また、水溶性樹脂層は、必要に応じて界面活性剤等の添加剤を含んでいてもよい。
　水溶性樹脂層の層厚は、特に制限されないが、０．１～５μｍが好ましく、０．５～３μｍがより好ましい。
　水溶性樹脂層の厚みが上記の範囲内であると、酸素遮断性を低下させることがなく、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制でき、また、現像時の水溶性樹脂層除去時間の増大を抑制できる。　
＜転写フィルムの製造方法＞
　本発明の転写フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
　なかでも、生産性に優れる点で、仮支持体上に感光性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥処理を施し、感光性組成物層を形成する方法（以下、この方法を「塗布方法」ともいう。）が好ましい。
　なお、必要に応じて、感光性組成物層上に保護フィルムを積層してもよい。
　塗布方法で使用される感光性組成物は、上述した感光性組成物層を構成する成分（例えば、特定ポリマー、第１重合性化合物、及び、重合開始剤等）、及び、溶剤を含むことが好ましい。
　溶剤としては、有機溶剤が好ましい。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１－メトキシ－２－プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ－プロパノール、及び、２－プロパノールが挙げられる。溶剤としては、メチルエチルケトンと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、又は、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。
　また、溶剤としては、必要に応じ、沸点が１８０～２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を用いることもできる。
　溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の全固形分量は、感光性組成物の全質量に対して、５～８０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましい。
　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における粘度は、例えば、塗布性の点から、１～５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２～４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３～３０ｍＰａ・ｓが更に好ましい。粘度は、粘度計を用いて測定する。粘度計としては、例えば、東機産業株式会社製の粘度計（商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ　ＴＶ－２２）を好適に用いることができる。ただし、粘度計は、上記した粘度計に制限されない。
　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における表面張力は、例えば、塗布性の点から、５～１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０～８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５～４０ｍＮ／ｍが更に好ましい。表面張力は、表面張力計を用いて測定する。表面張力計としては、例えば、協和界面科学株式会社製の表面張力計（商品名：Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ　ＣＢＶＰ－Ｚ）を好適に用いることができる。ただし、表面張力計は、上記した表面張力計に制限されない。
　感光性組成物の塗布方法としては、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、及び、ダイコート法（すなわち、スリットコート法）が挙げられる。
　乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、及び、減圧乾燥が挙げられる。上記した方法を単独で又は複数組み合わせて適用することができる。
　本開示において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。
　また、保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせてもよい。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる装置としては、真空ラミネーター、及び、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターが挙げられる。
　ラミネーターはゴムローラー等の任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができるものであることが好ましい。
　また、転写フィルムが感光性組成物層上に屈折率調整層を有する場合、例えば、感光性組成物層上に屈折率調整層形成用組成物を塗布し、そして、必要に応じて乾燥させることにより屈折率調整層を形成できる。
＜用途＞

　本発明の転写フィルムは、種々の用途に適用できる。
　例えば、電極保護膜、絶縁膜、平坦化膜、オーバーコート膜、ハードコート膜、パッシベーション膜、隔壁、スペーサ、マイクロレンズ、光学フィルター、反射防止膜、エッチングレジスト、及び、めっき部材などに適用できる。より具体的な例として、タッチパネル電極の保護膜又は絶縁膜、プリント配線板の保護膜又は絶縁膜、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板の保護膜又は絶縁膜、カラーフィルター、カラーフィルター用オーバーコート膜、配線形成のためのエッチングレジスト、及び、めっきの際の犠牲層等が挙げられる。
　なお、後述する貼合工程における気泡発生抑止の点から、転写フィルムのうねりの最大幅は、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下が更に好ましい。なお、うねりの最大幅の下限値としては、０μｍ以上であり、０．１μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。
　転写フィルムのうねりの最大幅は、以下の手順により測定される値である。
　まず、転写フィルムを縦２０ｃｍ×横２０ｃｍのサイズとなるように主面に垂直な方向に裁断し、試験サンプルを作製する。なお、転写フィルムが保護フィルムを有する場合には、保護フィルムを剥離する。次いで、表面が平滑で且つ水平なステージ上に、上記試験サンプルを仮支持体の表面がステージに対向するように静置する。静置後、試験サンプルの中心１０ｃｍ角の範囲について、試料サンプルの表面をレーザー顕微鏡（例えば、（株）キーエンス社製　ＶＫ－９７００ＳＰ）で走査して３次元表面画像を取得し、得られた３次元表面画像で観察される最大凸高さから最低凹高さを引き算する。上記操作を１０個の試験サンプルについて行い、その算術平均値を「転写フィルムのうねり最大幅」とする。　
＜積層体の製造方法＞
　上述した転写フィルムを用いることにより、被転写体へ感光性組成物層を転写することができる。
　なかでも、本発明の転写フィルムは、タッチパネルの製造に用いられることが好ましい。
　本発明の積層体の製造方法としては、上述した転写フィルムの感光性組成物層を、導電部を有する基板に接触させて貼り合わせ、基板、導電部、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された感光性組成物層を現像して、導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する現像工程と、
　硬化層上に、複数の開口部から露出する導電部同士を導通させる導電ブリッジ部を形成する導通工程とを有し、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法が好ましい。
　以下、上記工程の手順について詳述する。
　なお、以下、図面を用いて本工程の手順について詳述するが、以下では導電部が２種の透明導電部を有する場合を例にして説明する。
［貼合工程］
　貼合工程は、転写フィルムの感光性組成物層を、導電部を有する基板に接触させて貼り合わせ、基板、導電部、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る工程である。
　なお、転写フィルムが保護フィルムを有する場合、保護フィルムを剥離した後、上記手順を実施する。
　本工程を実施することにより、図１に示すように、基板１０と、第１透明導電部１２及び島状に配置された第２透明導電部１４と、感光性組成物層１８とをこの順に有する積層体が形成される。図２に示すように、導電性基板１６は、基板１０と、基板１０上に配置された、第１透明導電部１２及び島状に配置された第２透明導電部１４とを有する。
　なお、図２は、図１に示す積層体の第１透明導電部１２及び第２透明導電部１４の構成を示す平面図であり、図１は、図２中のＡ－Ａ線断面図である。
　図１及び２に示すように、第１透明導電部１２は、第１方向（矢印Ｐの方向）に配列された複数の島状透明導電部２０と、隣接する島状透明導電部２０を接続する透明配線部２２とから構成される。つまり、積層体においては、基板１０の上部に、一方向に長尺状の透明導電部が形成されている。なお、図１及び２には、一本の第１透明導電部１２しか記載していないが、第１透明導電部１２は第１方向と直交する方向に沿って、所定の間隔をあけて、複数本配置されていてもよい。また、図２においては、２つの島状透明導電部２０と１つの透明配線部２２しか記載していないが、島状透明導電部２０と透明配線部２２とは繰り返し繋がっていてもよい。
　島状透明導電部２０の形状は特に制限されず、正方形、長方形、菱形、台形、及び、五角形以上の多角形のいずれであってもよく、正方形、菱形、又は、六角形は細密充填構造を形成しやすい点で好ましい。
　また、図１及び２に示すように、島状の第２透明導電部１４は、第１方向と直交する他の方向（矢印Ｑの方向）に沿って、複数配置されている。なお、図１及び２には、２つの島状の第２透明導電部１４しか記載していないが、島状の第２透明導電部は他の方向に沿って、３つ以上配置されていてもよい。また、島状の第２透明導電部は、第１方向に沿って、所定の間隔をあけて、複数個配置されていてもよい。
　島状の第２透明導電部１４の形状は特に制限されず、正方形、長方形、菱形、台形、及び、五角形以上の多角形のいずれであってもよく、正方形、菱形、又は、六角形は細密充填構造を形成しやすい点で好ましい。
　基板の種類は特に制限されないが、ガラス基材又は樹脂基材が好ましく、樹脂基材がより好ましい。また、基材は、透明な基材であることが好ましく、透明な樹脂基材であることがより好ましい。
　透明導電部（第１透明導電部及び第２透明導電部）に含まれる材料は特に制限されず、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛アルミニウム（ＡＺＯ）、及び、銀ナノワイヤーが挙げられる。
　透明導電部が金属酸化物である場合、その屈折率は、１．５０～２．２０が好ましく、１．７０～２．００がより好ましい。
　基板上における透明導電部の配置位置は特に制限されず、上記図１及び２に示す形態には限定されない。
　また、図１及び２に示すように、透明導電部は、基板上に複数配置されていることが好ましい。より具体的には、透明導電部は、基板上に複数離散して配置されていることが好ましい。後述する導電ブリッジ部によって、離散して配置される透明導電部同士が電気的に接続されることが好ましい。
　なお、図１においては、ＩＴＯ等の透明導電部について例示したが、導電部は、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層、及び、導電ポリマー層からなる群から選択される少なくとも１種を含んでいてもよい。
　導電部を有する基板としては、透明電極及び引き回り配線の少なくとも一方を有する基板が好ましい。上記のような基板は、タッチパネル用基板として好適に用いることができる。
　透明電極は、タッチパネル用電極として好適に機能し得る。透明電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、及び、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、並びに、金属メッシュ、及び、銀ナノワイヤー等の金属細線により構成されることが好ましい。
　金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。なかでも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。
　引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。
　引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛及びマンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム又はチタンが好ましく、銅が特に好ましい。
　転写フィルムの感光性組成物層を、導電部を有する基板に接触させて貼り合わせることにより、導電部を有する基板上に、感光性組成物層及び仮支持体が配置される。
　上記貼合においては、上記導電部と上記感光性組成物層の表面と、が接触するように圧着させる。
　上記圧着の方法としては特に制限はなく、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。なかでも、感光性組成物層の表面を、導電部を有する基板に重ね、ロール等による加圧及び加熱することに行われることが好ましい。
　貼り合せには、真空ラミネーター、及び、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用できる。
　本発明の転写フィルム中の感光性組成物層を用いて形成されたタッチパネル用電極保護膜は、電極等（すなわち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）を保護する目的で、電極等を直接又は他の層を介して覆うように設けられることが好ましい。
　つまり、導電部を有する基板は、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方を有する基板であることが好ましい。
［露光工程］
　露光工程は、感光性組成物層をパターン露光する工程である。
　なお、ここで、「パターン露光」とは、パターン状に露光する形態、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光を指す。
　パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は特に制限されず、適宜調整される。
　パターン形成としては、後述する開口部の形状が得られるパターン形成が好ましい。
　パターン露光の光源としては、少なくとも感光性組成物層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。なかでも、パターン露光の露光光の主波長は、３６５ｎｍが好ましい。なお、主波長とは、最も強度が高い波長である。
　光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及び、メタルハライドランプが挙げられる。
　露光量は、５～２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０～２００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
　露光に使用する光源、露光量及び露光方法の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４６］～［０１４７］に記載があり、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
［剥離工程］
　剥離工程は、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と後述する現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する工程である。
　剥離方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落［０１６１］～［０１６２］に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を用いることができる。
［現像工程］
　現像工程は、露光された感光性組成物層を現像して、導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する現像工程である。
　上記現像工程を実施することにより、図３に示す通り、第２透明導電部１４の少なくとも一部が露出する開口部２６を有する硬化層２８が形成される。
　なお、図３においては、開口部２６の数は２つだが、開口部の数は複数であれば特に制限されない。
　また、図３においては非露光部が除去される形態について記載したが、本発明のこの形態に限定されず、露光部が除去される形態であってもよい。
　上記感光性組成物層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
　現像液として、アルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。
　現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、スピン現像、及び、ディップ現像等の方式が挙げられる。
　本開示において好適に用いられる現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９４］に記載の現像液が挙げられ、好適に用いられる現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９５］に記載の現像方式が挙げられる。
［導通工程］
　導通工程は、上記硬化層上に、複数の開口部から露出する導電部同士を導通させる導電ブリッジ部を形成する工程である。
　具体的には、本工程を実施することにより、図４に示すように、硬化層２８上に、２つの開口部から露出する第２透明導電部１４同士を導通させる導電部（導電ブリッジ部に該当）３０が形成される。導電部３０は、基板１０上に第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２透明導電部１４同士を橋掛けして、電気的に接続する部材である。
　なお、図５は、図４に示す積層体の第１透明導電部１２、第２透明導電部１４、及び、導電部３０の構成を示す平面図であり、図４は、図５中のＢ－Ｂ線断面図である。
　導電ブリッジ部は、ＩＴＯ膜、及び、ＩＺＯ膜等の透明導電膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、及び、Ａｕ等の金属膜；銅ニッケル合金等の複数の金属の合金膜から構成できる。なかでも、導電ブリッジ部は、透明導電膜（透明配線部）であることが好ましい。
　導電ブリッジ部の厚みは、導電性及び透明性の点から、０．０１～１μｍが好ましく、０．０３～０．５μｍがより好ましい。
　導電ブリッジ部の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。
　導電ブリッジ部の形成方法としては、公知の方法が挙げられ、例えば、スパッタ法、及び、塗布法により硬化層上に膜を形成した後、公知の方法より所定の領域をエッチングして、所望の位置に導電ブリッジ部を形成することができる。
［ポスト露光工程及びポストベーク工程］
　上記積層体の製造方法は、上記現像工程によって得られたパターンを、露光する工程（ポスト露光工程）及び／又は加熱する工程（ポストベーク工程）を有していてもよい。
　ポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。
［樹脂層形成工程］
　上記積層体の製造方法は、導電ブリッジ部を覆うように、硬化膜上に樹脂層を形成する樹脂層形成工程を有していてもよい。
　樹脂層形成工程の手順は特に制限されず、上述した転写フィルムを用いて、樹脂層を形成してもよい。より具体的には、転写フィルムの感光性組成物層を導電ブリッジ部を覆うように貼合して、感光性組成物層に対して硬化処理を施して樹脂層を形成する方法が挙げられる。
［その他の工程］
　本発明の積層体の製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
　例えば、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の可視光線反射率を低下させる工程、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の絶縁膜上に新たな導電部を形成する工程等が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
　本発明の積層体の製造方法により製造される積層体は、種々の装置に適用することができる。上記積層体を備えた装置としては、例えば、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましく、静電容量型タッチパネルであることがより好ましい。また、上記入力装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び、液晶表示装置等の表示装置に適用することができる。
　積層体がタッチパネルに適用される場合、感光性組成物層から形成されるパターンは、タッチパネル用電極の保護膜として用いられることが好ましい。つまり、転写フィルムに含まれる感光性組成物層は、タッチパネル用電極保護膜の形成に用いられることが好ましい。
　以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特段の断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。また、ポリマー中の組成比は特段の断りのない限りモル比である。
＜バインダーポリマーＡ１の合成＞
　２０００ｍＬのフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（三和化学産業製、商品名ＰＧＭ－Ａｃ）（６０ｇ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（三和化学産業製、商品名ＰＧＭ）（２４０ｇ）を導入した。得られた液体を、撹拌速度２５０ｒｐｍ（round per minute；以下同じ。）で撹拌しつつ９０℃に昇温した。
　滴下液（１）の調製として、メタクリル酸（三菱レイヨン製、商品名アクリエステルＭ）（１０７．１ｇ）、メタクリル酸メチル（三菱ガス化学製、商品名ＭＭＡ）（５．４６ｇ）、及び、シクロヘキシルメタクリレート（三菱ガス化学製、商品名ＣＨＭＡ）（２３１．４２ｇ）を混合し、ＰＧＭ－Ａｃ（６０ｇ）で希釈することにより、滴下液（１）を得た。
　滴下液（２）の調製として、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）（和光純薬工業製、商品名Ｖ－６０１）（９．６３７ｇ）をＰＧＭ－Ａｃ（１３６．５６ｇ）で溶解させることにより、滴下液（２）を得た。
　滴下液（１）と滴下液（２）とを同時に３時間かけて、上述した２０００ｍＬのフラスコ（詳細には、９０℃に昇温された液体が入った２０００ｍＬのフラスコ）に滴下した。次に、滴下液（１）の容器をＰＧＭ－Ａｃ（１２ｇ）で洗浄し、洗浄液を上記２０００ｍＬのフラスコに滴下した。次に、滴下液（２）の容器をＰＧＭ－Ａｃ（６ｇ）で洗浄し、洗浄液を上記２０００ｍＬのフラスコに滴下した。これらの滴下中、上記２０００ｍＬのフラスコ内の反応液を９０℃に保ち、撹拌速度２５０ｒｐｍで撹拌した。更に、後反応として、反応液を９０℃で１時間撹拌した。
　後反応後の反応液に、開始剤の追加添加１回目として、Ｖ－６０１（２．４０１ｇ）を添加した。更に、Ｖ－６０１が入っていた容器をＰＧＭ－Ａｃ（６ｇ）で洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後、９０℃で１時間撹拌した。
　次に、開始剤の追加添加２回目として、Ｖ－６０１（２．４０１ｇ）を反応液に添加した。更に、Ｖ－６０１が入っていた容器をＰＧＭ－Ａｃ（６ｇ）で洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後、反応液を９０℃で１時間撹拌した。
　次に、開始剤の追加添加３回目として、Ｖ－６０１（２．４０１ｇ）を反応液に添加した。更に、Ｖ－６０１が入っていた容器をＰＧＭ－Ａｃ（６ｇ）で洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後、反応液を９０℃で３時間撹拌した。
　上記撹拌終了後、ＰＧＭ－Ａｃ（１７８．６６ｇ）を反応液へ導入した。次に、テトラエチルアンモニウムブロミド（和光純薬工業社製）（１．８ｇ）とハイドロキノンモノメチルエーテル（和光純薬工業社製）（０．８ｇ）とを反応液に添加した。更に、それぞれの化合物が入っていた容器をＰＧＭ－Ａｃ（６ｇ）で洗浄し、洗浄液を反応液へ導入した。その後、反応液の温度を１００℃まで昇温させた。
　次に、グリシジルメタクリレート（日油社製、商品名ブレンマーＧ）（７６．０３ｇ）を１時間かけて反応液に滴下した。ブレンマーＧが入っていた容器をＰＧＭ－Ａｃ（６ｇ）で洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。この後、付加反応として、反応液を１００℃で６時間撹拌した。
　次に、反応液を冷却し、ゴミ取り用のメッシュフィルター（１００メッシュ）でろ過し、バインダーポリマーＡ１の溶液を１１５８ｇ得た（固形分濃度３６．３質量％）。
　なお、表１中、各モノマーに由来する構成単位の含有量は、バインダーポリマーの全構成単位に対する、質量％で表される。
＜重合体Ａ２～Ａ１２、Ｂ１の合成＞
　表１に従って各成分を混合して、上記合成法と同様の手順で、重合体Ａ２～Ａ１２及びＢ１を合成した。
　なお、重合体Ａ１～Ａ１２及びＢ１のＣｌｏｇＰ、酸価、Ｍｗ、及び、二重結合の含有量は、後述する表４にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
　表１中、各記載は以下を表す。
・Ｓｔ：スチレン（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ＭＡＡ：メタクリル酸メチル（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ＭＭＡ：メタクリル酸（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ＭＭＡ－ＧＭＡ：メタクリル酸に由来する構成単位にメタクリル酸グリシジルが反応して得られる構成単位（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ＣＨＭＡ：メタクリル酸シクロヘキシル（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ＤＣＰＭＡ：メタクリル酸ジシクロペンタニル（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ＨＥＭＡ：メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ＥＡ：アクリル酸エチル（富士フイルム和光純薬株式会社製）
＜感光性組成物１の調製＞
　表２に従って、各成分を混合して、感光性組成物（ＯＣ－１～ＯＣ－２７、ＯＣ’－１～ＯＣ’－４）を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
　表中の各記号は、以下の化合物を表す。
・Ａ－ＤＯＧ：ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ－６０４、日本化薬株式会社
・Ａ－ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業株式会社
・Ａ－ＮＯＤ－Ｎ：１，９－ノナンジオールジアクリレート、新中村化学工業株式会社
・Ａ－ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学工業株式会社
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、東亞合成株式会社
・ＴＯ－２３４９：カルボン酸基変性ＤＰＨＡ、アロニックス　ＴＯ－２３４９、東亞合成株式会社
・化合物１（以下構造式参照）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　Ｃ１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ－３７９（ＢＡＳＦ社製）
　ＯＸＥ－０１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０１
　ＯＸＥ－０２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２
　Ａｐｉ３０７：１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルホリノプロパン－１－オン
　Ｏｍｎｉｒａｄ９０７：２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン
　Ｗ１：メガファックＦ－５５１Ａ（ＤＩＣ社製）
　ＭＥＫ：メチルエチルケトン
＜屈折率調整層形成用組成物の調製＞
　以下の表３に記載の組成となる成分及び含有量により、屈折率調整層形成用組成物を調製した。
　表３中の数値は、「質量部」を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
　なお、表３中、「Ｂ－３」は、以下のポリマーである。なお、以下、式中の繰り返し単位のモル比は、左側の繰り返し単位から順に、４０：６０であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　表３中、「化合物Ｂ」は、以下のポリマーである。なお、以下、式中の繰り返し単位のモル比は、左側の繰り返し単位から順に、５０：４：３８：８であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
＜転写フィルム１＞
　仮支持体である厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、スリット状ノズルを用いて感光性組成物ＯＣ－１を塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、厚さ３μｍの感光性組成物層を形成した。
　次いで、上記感光性組成物層の上に、保護フィルムとして厚さ１６μｍのポリプロピレン（ＰＰ）フィルムをラミネートして転写フィルム１を得た。
　また、表４に従って感光性組成物の種類を変更した以外は、転写フィルム１と同様の手順で、転写フィルム２～３１を得た。
＜評価＞
［ハンドリング適性］
　作製した転写フィルムから保護フィルムを剥離して、転写フィルムの感光性組成物層側と、ハードクロムメッキコーティングされたステンレス製のロール（直径１００ｍｍ）の表面とが、ラップ角度１８０度及び面圧２ｋＰａで接触するようにセッティングした。この状態で、１５ｍ／ｍｉｎの速度で転写フィルム１００ｍをハンドリング処理した。ハンドリング処理後、ロール表面及び転写フィルムの表面を目視にて観察し、以下の評価基準に従って評価した。評価が３以上であれば、実用上問題ない。
（評価基準）
　５：ロールに汚れ付着がなく、転写フィルムにも押し跡及び異物付着がない
　４：ロールにわずかに汚れが付着するが、転写フィルムには押し跡及び異物付着がない
　３：ロールにわずかに汚れが付着し、転写フィルムにもわずかに押し跡及び異物付着がある
　２：ロールに汚れが付着し、転写フィルムにも押し跡及び異物付着がある
　１：ロールに多数の汚れが付着し、転写フィルムにも多数の押し跡及び異物付着がある
［ラミネート適性］
　ラインアンドスペースが１０μｍ／１０μｍ、及び、厚み２００ｎｍのＣｕ線パターン基材Ａと、ラインアンドスペースが２００μｍ／２００μｍ、及び、厚み２００ｎｍのＣｕ線パターン基材Ｂとを用意した。各基材に対して、基材のラインに直行する方向に、作製した転写フィルムを、温度９０℃及び速度４ｍ／ｍｉｎにて熱ラミネートした。
　熱ラミネート後のパターン基材を光学顕微鏡で観察し、Ｃｕ線パターンの間（スペース）に存在する気泡の存在状態を、以下の評価基準に従って評価した。評価が３以上であれば、実用上問題ない。
（評価基準）
　５：基材Ａ及び基材Ｂに気泡がない
　４：基材Ａにわずかに気泡があるが、基材Ｂには気泡がない
　３：基材Ａ及び基材Ｂにわずかに気泡がある
　２：基材Ａの全面に気泡があり、基材Ｂにもわずかに気泡がある
　１：基材Ａ及び基材Ｂに全面に気泡がある
［導電部形成不良］
　作製した転写フィルムを用いて、後述する現像残渣の評価と同様にして、縦横４０μｍの四角形コンタクトホールを形成した。
　得られたコンタクトホールを有する基板に対して、高圧水銀灯の４００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）を用いて、基板全面にＵＶ硬化を行った後、温度１４０℃及び２０分で焼成処理を行い、感光性組成物層を硬化させた。
　得られたコンタクトホールを覆うように、厚み１００ｎｍのＩＴＯ層をスパッタリング法にてＩＴＯ層を形成した。得られたＩＴＯ層のコンタクトホール周辺を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察し、以下の評価基準に従って評価した。評価が３以上であれば、実用上問題ない。
（評価基準）
　５：クラックがない
　４：コンタクトホール底角部に、わずかなクラックがある
　３：コンタクトホール底角部及び底辺部に、わずかなクラックがある
　２：コンタクトホール底角部及び底辺部に、全体に渡ってクラックがある
　１：コンタクトホール底角部及び底辺部、及びコンタクトホール周辺に全体にクラックが存在する
［現像残渣］
　各実施例の転写フィルムから保護フィルムを剥離した後、転写フィルムの感光物組成物層と、透明フィルム基板上に、透明膜及び透明電極パターンを形成されたフィルム（静電容量型入力装置の電極を含む基板）の透明膜及び透明電極パターン側とが接するように貼り合わせた。その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（縦横４０μｍの四角形コンタクトホールパターンを有する石英露光マスク）面と、転写フィルムの仮支持体との間の距離を０μｍに設定し、仮支持体側から、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）でパターン露光した。その後、仮支持体を剥離して、２％炭酸ソーダ水溶液を用いて、３２℃及び６０秒間によって洗浄処理した。その後、光学顕微鏡でコンタクトホールの観察を行い、コンタクトホール底部の全面積に対する現像残渣の面積の割合を算出して、以下の評価基準に従って評価した。
（評価基準）
　５：コンタクトホール底部に、現像残渣がない
　４：コンタクトホール底部に、現像残渣の占有面積が５％未満
　３：コンタクトホール底部に、現像残渣の占有面積が５％以上１０％未満
　２：コンタクトホール底部に、現像残渣の占有面積が１０％以上３０％未満
　１：コンタクトホール底部に、現像残渣の占有面積が３０％以上
［膨潤抑制性］
　作製した転写フィルムを用いて、上述した現像残渣の評価と同様にして、縦横４０μｍの四角形コンタクトホールを形成した。
　得られたコンタクトホールを有する基板に対して、高圧水銀灯の４００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）を用いて、基板全面にＵＶ硬化を行った後、温度１４０℃及び２０分で焼成処理を行い、感光性組成物層を硬化させた。
　得られたサンプルを、レジスト剥離液Ｎ－３４２（ナガセケムテックス社製）を用いて、温度４０℃及び２分間で剥離処理した後、純水によりリンス処理を行った。
　剥離処理及びリンス処理後のサンプルと、未処理のサンプルとの硬化膜の膜厚を測定し、硬化膜の膨潤率を算出して、以下の評価基準に従って評価した。
（評価基準）
　５：膨潤率が１％未満
　４：膨潤率が１％以上３％未満
　３：膨潤率が３％以上５％未満
　２：膨潤率が５％以上１０％未満
　１：膨潤率が１０％以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
　表４中の各記載は、以下を表す。
　「重合性化合物（Ａ１）」欄は、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造有する重合性化合物（第１重合性化合物）を示す。
　「（Ａ１）の含有量」欄は、重合性化合物（Ａ１）とその他の重合性化合物（第２重合性化合物）との全質量に対する重合性化合物（Ａ１）の含有量（質量）を示す。
　「Ｍｗ」欄は、バインダーポリマーの重量平均分子量を示す。
　「ＣｌｏｇＰ差」欄は、｜（重合性化合物（Ａ１）のＣｌｏｇＰ）－（バインダーポリマー（Ｂ）のＣｌｏｇＰ）｜により算出される値を示す。
　「Ａ／Ｂ」欄は、バインダーポリマー（Ｂ）の含有量に対する重合性化合物（Ａ１）とその他の重合性化合物との合計含有量の質量比（重合性化合物（Ａ１）とその他の重合性化合物との合計含有量／バインダーポリマー（Ｂ）の含有量）を示す。
　「ＯＣ膜厚さ」欄は、感光性組成物層の厚さを示す。
　表４に示す通り、本発明の転写フィルムによれば、所望の効果が得られることが確認さえた。
　実施例１と、実施例２との比較から、バインダーポリマーが、芳香族環構造を有する場合、ハンドリング性がより優れることが確認された。
　実施例６と、実施例７との比較から、バインダーポリマーの重量平均分子量が、５万未満である場合、ラミネート適性がより効果が優れることが確認された。
　実施例１１～１２と、実施例１３との比較から、感光物組成物層が、第１重合性化合物以外の第２重合性化合物を更に含み、第１重合性化合物の含有量が、重合性化合物の合計質量に対して、３０質量％以上である場合、ハンドリング性がより効果が優れることが確認された。
　実施例１と、実施例４との比較（または、実施例３と実施例２１との比較）から、第１重合性化合物のＣｌｏｇＰ値と、バインダーポリマーのＣｌｏｇＰ値との差の絶対値が、２．００以下である場合、ハンドリング性がより効果が優れることが確認された。
　実施例１と、実施例８～９との比較から、バインダーポリマーの含有量に対する重合性化合物の含有量の質量比が、０．４０～１．００である場合、ハンドリング性及びラミネート適性がより効果が優れることが確認された。
　実施例１６と、実施例１７との比較から、感光性組成物層の厚さが、５．０μｍ以下である場合、導電部形成不良がより抑制されることが確認された。
　実施例１と、実施例１６との比較から、感光性組成物層の厚さが、３．５μｍ以下である場合、導電部形成不良がより抑制されることが確認された。
　実施例２０と、他の実施例との比較より、二重結合の含有量が所定の範囲の場合、膨潤抑制性がより優れることが確認された。
　仮支持体である厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、スリット状ノズルを用いて感光性組成物ＯＣ－１を塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、厚さ３μｍの感光性組成物層を形成した。
　次に、感光性組成物層上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の屈折率調整層の厚みが８０ｎｍになるように、上述した、屈折率調整層形成用組成物の塗布量を調整し、屈折率調整層形成用組成物を塗布した。次に、得られた仮支持体を７０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、感光性組成物層上に屈折率調整層を形成した。
　次いで、上記感光性組成物層の上に、保護フィルムとして厚さ１６μｍのポリプロピレン（ＰＰ）フィルムをラミネートして転写フィルムＸを得た。
　転写フィルムＸは、ラミネート適性に問題はなく、ＩＴＯ配線の骨見え防止性能も良好であった。
　仮支持体である厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（１６ＦＢ４０、東レ株式会社製）上に、スリット状ノズルを用いて感光性組成物ＯＣ－１を塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、厚さ３．０μｍの感光性組成物層を形成した。
　次に、感光性組成物層上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の屈折率調整層の厚みが８０ｎｍになるように、上述した、屈折率調整層形成用組成物の塗布量を調整し、屈折率調整層形成用組成物を塗布した。次に、得られた仮支持体を７０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、感光性組成物層上に屈折率調整層を形成した。
　次いで、上記屈折率調整層の上に、保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレン（ＰＰ）フィルム（Ｅ－２０１Ｆ、王子エフテックス社製）をラミネートして転写フィルムＸ－２を得た。
　転写フィルムＸ－２について実施例１と同様に評価したところ、実用上問題はなく、ＩＴＯ配線の骨見え防止性能も良好であった。
　仮支持体である厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（１６ＦＢ４０、東レ株式会社製）上に、スリット状ノズルを用いて感光性組成物ＯＣ－１を塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、厚さ６．０μｍの感光性組成物層を形成した。
　次に、感光性組成物層上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の屈折率調整層の厚みが７５ｎｍになるように、上述した、屈折率調整層形成用組成物の塗布量を調整し、屈折率調整層形成用組成物を塗布した。次に、得られた仮支持体を７０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、感光性組成物層上に屈折率調整層を形成した。
　次いで、上記屈折率調整層の上に、保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレン（ＰＰ）フィルム（ＦＧ－２０１、王子エフテックス社製）をラミネートして転写フィルムＸ－３を得た。
　転写フィルムＸ－３について実施例１と同様に評価したところ、実用上問題はなく、ＩＴＯ配線の骨見え防止性能も良好であった。
　仮支持体である厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（１６ＫＳ４０、東レ株式会社製）上に、スリット状ノズルを用いて感光性組成物ＯＣ－１を塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、厚さ４．０μｍの感光性組成物層を形成した。
　次に、感光性組成物層上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の屈折率調整層の厚みが７５ｎｍになるように、上述した、屈折率調整層形成用組成物の塗布量を調整し、屈折率調整層形成用組成物を塗布した。次に、得られた仮支持体を７０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、感光性組成物層上に屈折率調整層を形成した。
　次いで、上記屈折率調整層の上に、保護フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（１６ＫＳ４０、東レ株式会社製）をラミネートして転写フィルムＹ－１を得た。
　転写フィルムＹ－１について実施例１と同様に評価したところ、実用上問題はなく、ＩＴＯ配線の骨見え防止性能も良好であった。
　転写フィルムＹ－１の作製において、感光性組成物ＯＣ－１を、感光性組成物ＯＣ－２～ＯＣ－２７にそれぞれ変更したこと以外は、転写フィルムＹ－１と同様にして、転写フィルムＹ－２～転写フィルムＹ－２７を得た。転写フィルムＹ－２～転写フィルムＹ－２７について実施例１と同様に評価したところ、いずれも実用上問題はなく、ＩＴＯ配線の骨見え防止性能も良好であった。
１０　　基材
１２　　第１透明導電部
１４　　第２透明導電部
１６　　導電性基板
１８　　感光性組成物層
２０　　島状透明導電部
２２　　透明配線部
２６　　開口部
２８　　硬化層
３０　　導電部

Claims (17)

  1. 　仮支持体と、前記仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、
    　前記感光性組成物層が、バインダーポリマーと、重合性化合物と、重合開始剤とを含み、
    　前記バインダーポリマーが、環状構造を有し、かつ、前記バインダーポリマーの重量平均分子量が１０万未満であり、
    　前記重合性化合物が、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造を有する第１重合性化合物を含み、
    　前記感光物組成物層の厚さが、８．０μｍ以下である、転写フィルム。
  2. 　前記バインダーポリマーが、芳香族環構造を有する、請求項１に記載の転写フィルム。
  3. 　前記バインダーポリマーの重量平均分子量が、５万未満である、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
  4. 　前記バインダーポリマーの酸価が、９０～１４０ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項１～３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  5. 　前記バインダーポリマー分子内における二重結合の含有量が、バインダーポリマー１ｇ当たり、１．０～２．０ｍｍｏｌ／ｇである、請求項１～４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  6. 　前記第１重合性化合物が、ジオキサン構造を有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  7. 　前記感光物組成物層が、前記第１重合性化合物以外の第２重合性化合物を更に含み、
    　前記第１重合性化合物の含有量が、前記重合性化合物の全質量に対して、３０質量％以上である、請求項１～６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  8. 　前記第１重合性化合物のＣｌｏｇＰ値と、前記バインダーポリマーのＣｌｏｇＰ値との差の絶対値が、２．００以下である、請求項１～７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  9. 　前記第１重合性化合物のＣｌｏｇＰ値と、前記バインダーポリマーのＣｌｏｇＰ値との差の絶対値が、１．５０以下である、請求項１～８のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  10. 　前記バインダーポリマーの含有量に対する前記重合性化合物の含有量の質量比が、０．４０～１．００である、請求項１～９のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  11. 　前記感光性組成物層の厚さが、５．０μｍ以下である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  12. 　前記感光性組成物層の厚さが、３．５μｍ以下である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  13. 　前記感光性組成物層上に配置された屈折率調整層を更に有する、請求項１～１２のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  14. 　前記仮支持体が、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項１～１３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  15. 　前記感光性組成物層が、タッチパネル用電極保護膜形成に用いられる、請求項１～１４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  16. 　請求項１～１５のいずれか１項に記載の転写フィルムの前記感光性組成物層側を、導電部を有する基板に接触させて貼り合わせ、前記基板、前記導電部、前記感光性組成物層、及び、前記仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
    　前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
    　露光された感光性組成物層を現像して、前記導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する現像工程と、
    　前記硬化層上に、複数の開口部から露出する導電部同士を導通させる導電ブリッジ部を形成する導通工程と、を有し、
    　更に、前記貼合工程と前記露光工程との間、又は、前記露光工程と前記現像工程との間に、前記感光性組成物層付き基板から前記仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
  17. 　前記導電部を有する基板が、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方を有する基板である、請求項１６に記載の積層体の製造方法。
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