WO2021246400A1 - 転写フィルム及び積層体の製造方法 - Google Patents

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WO2021246400A1
WO2021246400A1 PCT/JP2021/020833 JP2021020833W WO2021246400A1 WO 2021246400 A1 WO2021246400 A1 WO 2021246400A1 JP 2021020833 W JP2021020833 W JP 2021020833W WO 2021246400 A1 WO2021246400 A1 WO 2021246400A1
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photosensitive composition
composition layer
compound
preferable
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邦彦 児玉
達也 霜山
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富士フイルム株式会社
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    • H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a transfer film and a laminate.
  • Patent Document 1 discloses that a composition containing an ⁇ -aminoalkylphenone compound having a specific structure as a polymerization initiator, a curable resin, a diluent, and a filler is used for forming a solder resist. Has been done.
  • the cured film obtained by exposing and developing the photosensitive composition layer may be used as a protective film (touch panel electrode protective film) for protecting the sensor electrode and the lead-out wiring in the touch panel.
  • the present inventors prepared a transfer film having a photosensitive composition layer using the photosensitive composition obtained with reference to the description in Patent Document 1, and then exposed and developed the photosensitive composition layer. As a result of producing a cured film, it was found that there is room for improvement because the cured film may have high moisture permeability or insufficient bending resistance.
  • the photosensitive composition layer contains an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a polymerization initiator represented by the formula I or the formula II described below.
  • X 1 represents a group represented by -SR 11 or a group represented by -R 12.
  • R 11 and R 12 each independently represent a monovalent organic group having 2 or more carbon atoms.
  • X 2 represents an n-valent linking group.
  • Y 1 and Y 2 independently represent an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent.
  • Z 1 and Z 2 independently represent an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent.
  • Z 1 and Z 2 when Z 1 and Z 2 is an alkyl group which may have a substituent, it may be linked and the Z 1 and Z 2 form a ring.
  • X 3 is a monovalent substituent.
  • m represents an integer of 0 to 3. when m is 2 or more, a plurality of X 3 may being the same or different.
  • n is 2 or 3.
  • X 1 is an aromatic ring
  • the photosensitive composition layer further contains a polymerization initiator other than the polymerization initiator represented by the formula I and the polymerization initiator represented by the formula II. ..
  • [4] The polymerization initiator and the polymerization initiator represented by the above formula I with respect to the content of the polymerization initiator other than the polymerization initiator represented by the above formula I and the polymerization initiator represented by the above formula II in the photosensitive composition layer.
  • the polymerizable compound contains a (meth) acrylate compound having an aliphatic ring which may contain an oxygen atom or a nitrogen atom in the ring and having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule. , [1] to any one of [4].
  • the polymerizable compound includes a (meth) acrylate compound having two ethylenically unsaturated groups in one molecule and a (meth) acrylate compound having three to six ethylenically unsaturated groups in one molecule.
  • the photosensitive composition layer on the temporary support of the transfer film according to any one of [1] to [11] is brought into contact with a substrate having a conductive layer and bonded to the substrate, the conductive layer, and the conductive layer.
  • the exposure step of pattern-exposing the photosensitive composition layer and It comprises a developing step of developing the exposed photosensitive composition layer to form a pattern. Further, it has a peeling step of peeling the temporary support from the substrate with the photosensitive composition layer between the bonding step and the exposure step, or between the exposure step and the developing step. , A method for manufacturing a laminate.
  • a transfer film capable of forming a cured film having low moisture permeability and excellent bending resistance. Further, according to the present invention, it is also possible to provide a method for producing a laminate using the transfer film.
  • the numerical range represented by using "-" in the present specification means a range including the numerical values before and after "-" as the lower limit value and the upper limit value.
  • the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. good.
  • the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
  • process in the present specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term “process” will be used as long as the intended purpose of the process is achieved. included.
  • transparent means that the average transmittance of visible light having a wavelength of 400 to 700 nm is 80% or more, and is preferably 90% or more.
  • the average transmittance of visible light is a value measured using a spectrophotometer, and can be measured using, for example, a spectrophotometer U-3310 manufactured by Hitachi, Ltd.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are gels using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all are trade names manufactured by Toso Co., Ltd.).
  • the molecular weight is detected by THF (tetrahydrofuran) and a differential refractometer by a permeation chromatography (GPC) analyzer and converted using polystyrene as a standard substance.
  • the molecular weight of a compound having a molecular weight distribution is a weight average molecular weight.
  • the refractive index is a value measured by an ellipsometer at a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.
  • (meth) acrylic is a concept that includes both acrylic and methacrylic
  • (meth) acrylate is a concept that includes both acrylate and methacrylate
  • (meth) acrylicic acid is a concept that includes both an acryloxy group and a methacrylic acid group.
  • the transfer film of the present invention has a temporary support and a photosensitive composition layer arranged on the temporary support, and the photosensitive composition layer includes an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a description thereof, which will be described later.
  • the polymerization initiator represented by the formula I or the formula II (hereinafter, also referred to as “specific polymerization initiator”) is contained, and the content of the polymerization initiator is based on the total mass of the photosensitive composition layer. It is 0.1 to 3.0% by mass.
  • a method for forming a cured film using the transfer film of the present invention after the transfer film is brought into contact with a substrate or the like having a conductive layer (sensor electrode, lead-out wiring, etc.) and bonded.
  • a method of forming a cured film (patterned protective film) through steps such as pattern exposure, development, and post-baking of the photosensitive composition layer of the transfer film can be mentioned.
  • the cured film thus obtained has low moisture permeability and excellent bending resistance. Although the details of this reason are not clear, it is presumed that the content of the specific polymerization initiator in the photosensitive composition layer has an effect, as shown in the Examples column described later.
  • the transfer film of the present invention can be applied to various uses. For example, it can be applied to an electrode protective film, an insulating film, a flattening film, an overcoat film, a hard coat film, a passivation film, a partition wall, a spacer, a microlens, an optical filter, an antireflection film, an etching resist, a plating member and the like. More specific examples include a protective film or insulating film for a touch panel electrode, a protective film or an insulating film for a printed wiring board, a protective film or an insulating film for a TFT substrate, a color filter, an overcoat film for a color filter, and wiring formation. Examples include an etching resist, a sacrificial layer during plating, and the like.
  • the maximum width of the undulation of the transfer film is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less, still more preferably 60 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the maximum width of the swell is 0 ⁇ m or more, preferably 0.1 ⁇ m or more, and more preferably 1 ⁇ m or more.
  • the maximum width of the waviness of the transfer film is a value measured by the following procedure. First, the transfer film is cut in a direction perpendicular to the main surface so as to have a size of 20 cm in length ⁇ 20 cm in width to prepare a test sample. If the transfer film has a protective film, the protective film is peeled off.
  • test sample is placed on a stage having a smooth and horizontal surface so that the surface of the temporary support faces the stage.
  • the surface of the sample sample was scanned with a laser microscope (for example, VK-9700SP manufactured by Keyence Co., Ltd.) for a range of 10 cm square in the center of the test sample to obtain a three-dimensional surface image, and the obtained 3 Subtract the minimum concave height from the maximum convex height observed in the 3D surface image.
  • a laser microscope for example, VK-9700SP manufactured by Keyence Co., Ltd.
  • the transfer film has a temporary support.
  • the temporary support is a member that supports the photosensitive composition layer and the like, which will be described later, and is finally removed by a peeling treatment.
  • the temporary support is preferably a film, more preferably a resin film.
  • a film that is flexible and does not undergo significant deformation, shrinkage, or elongation under pressure, or under pressure and heating can be used.
  • Examples of such a film include a polyethylene terephthalate film (for example, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film), a cellulose triacetate film, a polystyrene film, a polyimide film, and a polycarbonate film.
  • a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is preferable as the temporary support.
  • the film used as the temporary support is free from deformation such as wrinkles and scratches.
  • the temporary support is preferably highly transparent from the viewpoint that the pattern can be exposed via the temporary support, and the transmittance at 365 nm is preferably 60% or more, more preferably 70% or more. From the viewpoint of pattern formation during pattern exposure via the temporary support and transparency of the temporary support, it is preferable that the haze of the temporary support is small. Specifically, the haze value of the temporary support is preferably 2% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.1% or less. From the viewpoint of pattern formation during pattern exposure via the temporary support and transparency of the temporary support, it is preferable that the number of fine particles, foreign substances and defects contained in the temporary support is small. Diameter 1 ⁇ m or more particles, the number of foreign matter and defects, preferably 50/10 mm 2 or less, more preferably 10/10 mm 2 or less, more preferably 3/10 mm 2 or less, particularly preferably 0/10 mm 2 ..
  • the thickness of the temporary support is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 ⁇ m, more preferably 10 to 150 ⁇ m, and even more preferably 10 to 50 ⁇ m from the viewpoint of ease of handling and versatility.
  • a layer (lubricant layer) containing fine particles may be provided on the surface of the temporary support in terms of imparting handleability.
  • the lubricant layer may be provided on one side of the temporary support or on both sides.
  • the diameter of the particles contained in the lubricant layer can be 0.05 to 0.8 ⁇ m.
  • the film thickness of the lubricant layer can be 0.05 to 1.0 ⁇ m.
  • Examples of the temporary support include a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 16 ⁇ m, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 ⁇ m, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 9 ⁇ m.
  • Preferred forms of the temporary support include, for example, paragraphs [0017] to [0018] of JP-A-2014-085643, paragraphs [0019]-[0026] of JP-A-2016-0273363, and International Publication No. 2012 /. It is described in paragraphs [0041] to [0057] of No. 081680 and paragraphs [0029] to [0040] of International Publication No. 2018/179370, and the contents of these publications are incorporated in the present specification.
  • Examples of commercially available temporary supports include Lumirror 16KS40, Lumirror 16FB40 (all manufactured by Toray Industries, Inc.), Cosmo Shine A4100, Cosmo Shine A4300, and Cosmo Shine A8300 (all manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
  • the transfer film has a photosensitive composition layer.
  • a pattern can be formed on the transferred object by transferring the photosensitive composition layer onto the transferred object and then exposing and developing the photosensitive composition layer.
  • the photosensitive composition layer contains an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a specific polymerization initiator.
  • the photosensitive composition layer may be a positive type or a negative type.
  • the positive photosensitive composition layer is a photosensitive composition layer whose exposed portion becomes highly soluble in a developing solution by exposure, and the negative photosensitive composition layer is a developing solution whose exposed portion is exposed by exposure. It is a photosensitive composition layer that is less soluble in water. Above all, it is preferable to use a negative photosensitive composition layer.
  • the photosensitive composition layer is a negative photosensitive composition layer, the formed pattern corresponds to a cured film.
  • the components contained in the negative photosensitive composition layer will be described in detail.
  • the photosensitive composition layer contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound is a compound having a polymerizable group. Examples of the polymerizable group include a radically polymerizable group and a cationically polymerizable group, and a radically polymerizable group is preferable.
  • the polymerizable compound preferably contains a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group (hereinafter, also simply referred to as “ethylenically unsaturated compound”).
  • ethylenically unsaturated compound a (meth) acryloxy group is preferable.
  • the ethylenically unsaturated compound preferably contains a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound.
  • the "bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound” means a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
  • a (meth) acrylate compound is preferable.
  • the ethylenically unsaturated compound include a bifunctional ethylenically unsaturated compound (preferably a bifunctional (meth) acrylate compound) and a trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound in terms of film strength after curing. It preferably contains a compound (preferably a trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound).
  • bifunctional ethylenically unsaturated compound examples include tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, and Examples thereof include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate.
  • bifunctional ethylenically unsaturated compounds include, for example, tricyclodecanedimethanol diacrylate [trade name: NK ester A-DCP, Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.], tricyclodecanedimethanol dimethacrylate [commodity].
  • NK Ester DCP Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • 1,9-Nonandiol Diacrylate Product Name: NK Ester A-NOD-N, Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.] 1,10-Decandiol Diacrylate
  • NK ester A-DOD-N Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • 1,6-hexanediol diacrylate Product name: NK ester A-HD-N, Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.]
  • Examples thereof include dioxane glycol diacrylate (KAYARAD R-604 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • Examples of the trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound include dipentaerythritol (tri / tetra / penta / hexa) (meth) acrylate, pentaerythritol (tri / tetra) (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth).
  • Examples thereof include acrylates, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylates, isocyanuric acid tri (meth) acrylates, and glycerintri (meth) acrylates.
  • (tri / tetra / penta / hexa) (meth) acrylate is a concept including tri (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate, penta (meth) acrylate, and hexa (meth) acrylate. be.
  • (tri / tetra) (meth) acrylate” is a concept including tri (meth) acrylate and tetra (meth) acrylate.
  • the trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited in the upper limit of the number of functional groups, but may be, for example, 20 or less functional or 15 or less functional.
  • Examples of commercially available products of trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compounds include dipentaerythritol hexaacrylate [trade name: KAYARAD DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.].
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound include caprolactone-modified compounds of (meth) acrylate compounds [KAYARAD (trade name) DPCA-20 of Nippon Kayaku Co., Ltd., A-9300-1CL of Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., etc.], (Meta). ) Ester oxide-modified compound of acrylate compound [KAYARAD (trade name) RP-1040 of Nippon Kayaku Co., Ltd., ATM-35E, A-9300 of Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., EBECRYL (trade name) 135 of Daicel Ornex Co., Ltd. Etc.] and ethoxylated glycerin triacrylate [NK ester A-GLY-9E, etc. of Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.] can also be mentioned.
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound include urethane (meth) acrylate compounds.
  • urethane (meth) acrylate compound a trifunctional or higher functional urethane (meth) acrylate compound is preferable.
  • examples of the trifunctional or higher functional urethane (meth) acrylate compound include 8UX-015A [Taisei Fine Chemical Co., Ltd.], NK ester UA-32P [New Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.], and NK ester UA-1100H [New Nakamura Chemical Co., Ltd.]. Industrial Co., Ltd.].
  • the ethylenically unsaturated compound preferably contains an ethylenically unsaturated compound having an acid group from the viewpoint of improving developability.
  • the acid group examples include a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a carboxy group.
  • the carboxy group is preferable as the acid group.
  • ethylenically unsaturated compound having an acid group a 3- to 4-functional ethylenically unsaturated compound having an acid group [pentaerythritol tri and a compound having a carboxy group introduced into a tetraacrylate (PETA) skeleton (acid value: 80 to 80). 120 mgKOH / g)] and a 5- to 6-functional ethylenically unsaturated compound having an acid group (dipentaerythritol penta and hexaacrylate (DPHA)) in which a carboxy group is introduced into the skeleton [acid value: 25 to 70 mgKOH / g]. )].
  • the trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having an acid group may be used in combination with a bifunctional ethylenically unsaturated compound having an acid group, if necessary.
  • the ethylenically unsaturated compound having an acid group at least one compound selected from the group consisting of a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a carboxy group and a carboxylic acid anhydride thereof is preferable.
  • the ethylenically unsaturated compound having an acid group is at least one compound selected from the group consisting of a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a carboxy group and a carboxylic acid anhydride thereof, the developability and The film strength is further increased.
  • Bifunctional or higher functional unsaturated compounds having a carboxy group include Aronix (trade name) TO-2349 [Toagosei], Aronix (trade name) M-520 [Toagosei], and Aronix (trade name). ) M-510 [Toagosei Co., Ltd.] can be mentioned.
  • the polymerizable compound having an acid group described in paragraphs [0025] to [0030] of JP-A-2004-239942 can be preferably used, and is described in this publication. The contents are incorporated herein by reference.
  • the molecular weight of the ethylenically unsaturated compound is preferably 200 to 3,000, more preferably 250 to 2,600, further preferably 280 to 2,200, and particularly preferably 300 to 2,200.
  • the content of the ethylenically unsaturated compound having a molecular weight of 300 or less is preferably 30% by mass or less with respect to the content of all the ethylenically unsaturated compounds contained in the photosensitive composition layer. , 25% by mass or less is more preferable, and 20% by mass or less is further preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain one type of polymerizable compound alone, or may contain two or more types of polymerizable compounds.
  • the content of the polymerizable compound is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and 20 to 60% by mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer. % Is more preferable, and 20 to 50% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer contains a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound, it may further contain a monofunctional ethylenically unsaturated compound.
  • the bifunctional or higher ethylenically unsaturated compound may be the main component of the ethylenically unsaturated compound contained in the photosensitive composition layer. preferable.
  • the content of the bifunctional or higher ethylenically unsaturated compound is the content of all the ethylenically unsaturated compounds contained in the photosensitive composition layer.
  • the amount 60 to 100% by mass is preferable, 80 to 100% by mass is more preferable, and 90 to 100% by mass is further preferable.
  • the photosensitive composition layer contains an ethylenically unsaturated compound having an acid group (preferably a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a carboxy group or a carboxylic acid anhydride thereof), the ethylenically unsaturated compound having an acid group.
  • the content of the saturated compound is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, still more preferably 1 to 10% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer.
  • the polymerizable compound has an aliphatic ring which may contain an oxygen atom or a nitrogen atom in the ring, and has two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule ().
  • examples thereof include an embodiment containing a meta) acrylate compound (hereinafter, also referred to as “bifunctional or higher functional (meth) acrylate compound having an aliphatic ring”).
  • the number of functional groups of the bifunctional or higher (meth) acrylate compound having an aliphatic ring is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 5, still more preferably 2 or 3 from the viewpoint of further excellent effect of the present invention. Is particularly preferable.
  • the aliphatic ring may contain an oxygen atom or a nitrogen atom in the ring, but the effect of the present invention is more excellent in the ring. It is preferably free of oxygen and nitrogen atoms.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic ring is preferably 3 to 20, more preferably 5 to 15, and even more preferably 5 to 12, from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • Specific examples of the bifunctional or higher functional (meth) acrylate compound having an aliphatic ring include tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate and isocyanuric acid tri (meth) acrylate.
  • the polymerizable compound may contain a bifunctional or higher functional (meth) acrylate compound having one or more aliphatic rings, and may contain a bifunctional or higher functional (meth) acrylate compound having two or more aliphatic rings. You may be.
  • the polymerizable compound contains a bifunctional or higher (meth) acrylate compound having an aliphatic ring
  • the content of the bifunctional or higher (meth) acrylate compound having an aliphatic ring is the polymerizable property in the photosensitive composition layer. From the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent with respect to the total mass of the compound, 5 to 80% by mass is preferable, 10 to 70% by mass is more preferable, and 20 to 60% by mass is particularly preferable.
  • One of the preferred embodiments of the polymerizable compound is a (meth) acrylate compound having two ethylenically unsaturated groups in one molecule (hereinafter, also referred to as “bifunctional (meth) acrylate compound”).
  • examples thereof include an embodiment containing a (meth) acrylate compound having 3 to 6 ethylenically unsaturated groups in one molecule (hereinafter, also referred to as “3 to 6-functional (meth) acrylate compound”).
  • Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include the above-mentioned bifunctional ethylenically unsaturated compound and the above-mentioned bifunctional ethylenically unsaturated compound having an acid group.
  • Examples of the 3 to 6-functional (meth) acrylate compound include the above-mentioned trifunctional or higher-functional ethylenically unsaturated compound and the above-mentioned ethylenically unsaturated compound having an acid group, which is 3 to 6-functional. ..
  • the polymerizable compound may contain one kind of bifunctional (meth) acrylate compound alone, or may contain two or more kinds of bifunctional (meth) acrylate compounds. Further, the polymerizable compound may contain one kind of single 3 to 6 functional (meth) acrylate compound, or may contain two or more kinds of 3 to 6 functional (meth) acrylate compounds.
  • the content of the bifunctional (meth) acrylate compound is the polymerizable property in the photosensitive composition layer. From the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent with respect to the total mass of the compound, 10 to 90% by mass is preferable, 20 to 80% by mass is more preferable, and 30 to 70% by mass is particularly preferable.
  • the polymerizable compound contains a bifunctional (meth) acrylate compound and a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound, the content of the 3 to 6 functional (meth) acrylate compound is determined in the photosensitive composition layer.
  • the effect of the present invention is more excellent with respect to the total mass of the polymerizable compound, 10 to 90% by mass is preferable, 20 to 80% by mass is more preferable, and 30 to 70% by mass is particularly preferable.
  • the polymerizable compound contains a bifunctional (meth) acrylate compound and a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound
  • the bifunctional (meth) acrylate with respect to the content of the 3 to 6 functional (meth) acrylate compound is preferably 1/9 to 9/1 from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • / 8 to 8/2 is more preferable, and 3/7 to 7/3 is even more preferable.
  • the photosensitive composition layer contains a specific polymerization initiator which is a photopolymerization initiator.
  • the specific polymerization initiator is a polymerization initiator represented by the following formula I or the following formula II.
  • X 1 represents a group represented by -SR 11 or a group represented by -R 12.
  • R 11 and R 12 each independently represent a monovalent organic group having 2 or more carbon atoms.
  • the monovalent organic group in R 11 and R 12 has 2 or more carbon atoms, preferably 2 to 20, more preferably 3 to 15, and even more preferably 6 to 12.
  • Specific examples of the monovalent organic group in R 11 and R 12 include an alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent.
  • the alkyl groups may be linear, branched or cyclic.
  • the substituents include an aryl group (preferably a phenyl group), a hydroxyl group, a vinyl group and an alkoxy group (preferably alkoxy having 1 to 3 carbon atoms). group), an alkoxycarbonyl group (i.e., R 11 -O-C (O ) -. group .
  • R 11 represented by represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), an acyloxy group (i.e. , R 12- C (O) O-.
  • R 12 represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.), A hydroxyalkyloxy group (HO-R 13- O-).
  • the group .R 13 represented an alkylene group, preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
  • an amino group e.g., -NH 2, -NR 14, .R include -NR 15 R 16 14 are each ⁇ R 16 independently.
  • R 17 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
  • an alkoxycarbonyloxy group i.e., R 17 -O-C (O ) group
  • R 17 represented by -O- alkyl represents a group, preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • C 6 H 5 -R 18 -O- a group represented by (R 18 represents an alkylene group, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms ), (Meta) acryloyloxy group and the like can be mentioned.
  • the aryl group may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group, and phenyl. Groups are preferred.
  • the substituents include an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), a hydroxyl group, a vinyl group and an alkoxy group (preferably).
  • R 11 an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms
  • R 11 -O-C (O ) - group R 11 represented by represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
  • An acyloxy group that is, a group represented by R 12- C (O) O-.
  • R 12 represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), a hydroxyalkyloxy group (HO).
  • R 13 represents an alkylene group, preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms), an amino group (for example, -NH 2 , -NR 14 , -NR 15 R).
  • R 14 to R 16 each independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and an alkoxycarbonyloxy group (that is, represented by R 17 -OC (O) -O-. that group .
  • R 17 represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • C 6 H 5 -R 18 -O- a group represented by (R 18 represents an alkylene group, carbon atoms 1 to 4 alkylene groups are preferable
  • (meth) acryloyloxy groups and the like can be mentioned.
  • the group represented by —S—R 11 is preferably a group represented by the following formula from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • * represents the bond position with the benzene ring in the above formula I.
  • the group represented by —R 12 is preferably an aryl group which may have a substituent, more preferably an aryl group (that is, an aryl group having no substituent), and further preferably a phenyl group.
  • X 1 is preferably a group having an aromatic ring because the effect of the present invention is more excellent.
  • R 11 and R 12 are alkyl groups which may have the above-mentioned substituent, and the substituent is an aryl group (that is, an alkyl substituted with an aryl group). (Being a group), and groups in which R 11 and R 12 are aryl groups which may have the above-mentioned substituents are mentioned.
  • the group represented by —R 12 is preferable as X 1 from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • X 2 represents an n-valent linking group.
  • the n-valent linking group include a sulfur atom (-S-), an oxygen atom (-O-), a carbonyl group, a hydrocarbon group, and a group in which two or more of these groups or atoms are bonded.
  • the hydrocarbon group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, but a saturated aliphatic hydrocarbon group is preferable, and an alkylene group is more preferable.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, but linear is preferred.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 8.
  • the aromatic hydrocarbon group may be a monocyclic ring or a condensed ring, and may have a substituent.
  • a divalent aromatic hydrocarbon group is preferable, and a phenylene group is more preferable.
  • X 2 is preferably a group containing a sulfur atom because the effect of the present invention is more excellent, and contains a divalent group containing a sulfur atom, an alkylene group and an oxygen atom, a sulfur atom, a phenylene group, an alkylene group and an oxygen atom. It is more preferably a divalent group containing a divalent group, a sulfur atom, a phenylene group, an alkylene group, an oxygen atom and a carbonyl group, or a sulfur atom.
  • X 2 is preferably a divalent group represented by the following formula from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • * represents the bond position with the benzene ring in Formula II.
  • Y 1 and Y 2 independently represent an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent.
  • the alkyl groups may be linear, may be branched or cyclic, and is preferably linear.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 3.
  • specific examples of the substituent include specific examples of the substituent of the alkyl group which may have a substituent in R 11 and R 12.
  • a phenyl group is preferable.
  • the aryl group may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group, and phenyl. Groups are preferred.
  • the substituent is the same as the specific example of the substituent of the aryl group which may have a substituent in R 11 and R 12. Although there are, alkyl groups are preferable.
  • Y 1 and Y 2 from the viewpoint of the effect of the present invention is more excellent, a methyl group, an ethyl group, a benzyl group or p- tolylmethyl group.
  • Z 1 and Z 2 independently represent an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. However, when Z 1 and Z 2 is an alkyl group which may have a substituent, it may be linked and the Z 1 and Z 2 form a ring.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but linear is preferred.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 3.
  • specific examples of the substituent include specific examples of the substituent of the alkyl group which may have a substituent in R 11 and R 12. Is similar to.
  • the aryl group may be a monocyclic ring or a fused ring, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group, and phenyl. Groups are preferred.
  • the substituent is the same as the specific example of the substituent of the aryl group which may have a substituent in R 11 and R 12. be.
  • Z 1 and Z 2 are preferably alkyl groups that may have a substituent from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent, and Z 1 and Z 2 are linked to form a ring. Is more preferable.
  • the ring formed by connecting Z 1 and Z 2 is a heterocycle containing a nitrogen atom in Formulas I and II, and further contains a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom in the ring. You can stay.
  • the ring formed by connecting Z 1 and Z 2 is preferably a morpholine ring or a piperidine ring, and more preferably a morpholine ring.
  • X 3 is a monovalent substituent.
  • the monovalent substituent include a hydroxyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, or, for example, a group represented by X 1 in formula I as described above.
  • m represents an integer of 0 to 3, preferably 0 or 1, more preferably 0. when m is 2 or more, a plurality of X 3 may being the same or different.
  • n is 2 or 3, preferably 2.
  • the specific polymerization initiator is preferably a polymerization initiator represented by the formula I because the effect of the present invention is more excellent.
  • the photosensitive composition layer may contain one type of specific polymerization initiator, or may contain two or more types of specific polymerization initiators.
  • the content of the specific polymerization initiator is 0.1 to 3.0% by mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer.
  • the lower limit of the content of the specific polymerization initiator is preferably 0.2% by mass or more from the viewpoint of improving the adhesion to the conductive layer, and more preferably 0.3% by mass or more from the viewpoint of further reducing the moisture permeability.
  • the upper limit of the content of the specific polymerization initiator is preferably 2.0% by mass or less from the viewpoint of improving the adhesion to the conductive layer, and more preferably 1.5% by mass or less from the viewpoint of suppressing yellowing of the cured film. It is preferable, and 1.0% by mass or less is more preferable from the viewpoint of being more excellent in bending resistance.
  • the specific polymerization initiator may contain impurities derived from its synthesis process, raw materials, and the like.
  • impurities include unreacted raw materials, catalysts, metal ions, halogen ions and the like. From the viewpoint of exhibiting stable performance, it is preferable that the content of impurities is small.
  • the content of impurities is preferably less than 1000 mass ppm, more preferably less than 100 mass ppm, further preferably less than 10 mass ppm, and particularly preferably less than 1 mass ppm. ..
  • the photosensitive composition layer may contain a polymerization initiator (hereinafter, also referred to as “another polymerization initiator”) other than the above-mentioned specific polymerization initiator.
  • a polymerization initiator hereinafter, also referred to as “another polymerization initiator”
  • a photopolymerization initiator is preferable.
  • the photopolymerization initiator examples include a photopolymerization initiator having an oxime ester structure (hereinafter, also referred to as “oxym-based photopolymerization initiator”) and a photopolymerization initiator having an ⁇ -aminoalkylphenone structure (hereinafter, "" Also referred to as “ ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator”), photopolymerization initiator having an ⁇ -hydroxyalkylphenone structure (hereinafter, also referred to as " ⁇ -hydroxyalkylphenone-based polymerization initiator”), acylphosphine.
  • oxime ester structure hereinafter, also referred to as "oxym-based photopolymerization initiator”
  • ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator photopolymerization initiator having an ⁇ -aminoalkylphenone structure
  • ⁇ -hydroxyalkylphenone-based polymerization initiator
  • a photopolymerization initiator having an oxide structure hereinafter, also referred to as “acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator” and a photopolymerization initiator having an N-phenylglycine structure (hereinafter, “N-phenylglycine-based light”). Also referred to as “polymerization initiator”).
  • the photopolymerization initiator is selected from the group consisting of an oxime-based photopolymerization initiator, an ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator, an ⁇ -hydroxyalkylphenone-based polymerization initiator, and an N-phenylglycine-based photopolymerization initiator. It is preferable to contain at least one selected from the group consisting of an oxime-based photopolymerization initiator, an ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator, and an N-phenylglycine-based photopolymerization initiator. Is more preferable.
  • photopolymerization initiator is described in, for example, paragraphs [0031] to [0042] of JP-A-2011-095716 and paragraphs [0064]-[0081] of JP-A-2015-014783.
  • a polymerization initiator may be used.
  • photopolymerization initiators examples include 1- [4- (phenylthio)] phenyl-1,2-octanedione-2- (O-benzoyloxime) [trade name: IRGACURE (trade name) OXE-01.
  • the photosensitive composition layer may contain one type of other polymerization initiator, or may contain two or more types of other polymerization initiators.
  • the photosensitive composition layer preferably contains a specific polymerization initiator and another polymerization initiator because the effect of the present invention is more excellent.
  • the mass ratio of the content of the specific polymerization initiator to the content of the other polymerization initiator in the photosensitive composition layer is preferably 0.5 or more, more preferably 0.8 or more, further preferably 1.5 or more, further preferably 10 or less, preferably 6 or less, in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the following is more preferable, 5 or less is further preferable, and 3 or less is particularly preferable.
  • the content of the other polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more, preferably 0.3% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. % Or more is more preferable.
  • the upper limit of the content of the other polymerization initiator is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, still more preferably 3% by mass or less, based on the total mass of the photosensitive composition layer. Mass% or less is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer contains an alkali-soluble resin.
  • the solubility of the photosensitive composition layer (non-exposed portion) in the developing solution is improved.
  • alkali soluble means that the dissolution rate required by the following method is 0.01 ⁇ m / sec or more.
  • a propylene glycol monomethyl ether acetate solution having a concentration of the target compound (for example, resin) of 25% by mass is applied onto a glass substrate, and then heated in an oven at 100 ° C. for 3 minutes to obtain a coating film (for example) of the target compound. A thickness of 2.0 ⁇ m) is formed.
  • the dissolution rate ( ⁇ m / sec) of the coating film is determined.
  • the target compound When the target compound is not soluble in propylene glycol monomethyl ether acetate, the target compound is dissolved in an organic solvent having a boiling point of less than 200 ° C. (for example, tetrahydrofuran, toluene, or ethanol) other than propylene glycol monomethyl ether acetate.
  • an organic solvent having a boiling point of less than 200 ° C. for example, tetrahydrofuran, toluene, or ethanol
  • the alkali-soluble resin preferably contains at least one selected from a structural unit having an aromatic ring and a structural unit having an aliphatic ring, a structural unit having an acid group, and a structural unit having a radically polymerizable group. It is more preferable to include.
  • the alkali-soluble resin preferably contains a structural unit having an aromatic ring.
  • a (meth) acrylate structural unit having an aromatic ring in the side chain and a structural unit derived from a vinylbenzene derivative (hereinafter, also referred to as “vinylbenzene derivative unit”) are preferable.
  • Examples of the monomer for forming a (meth) acrylate structural unit having an aromatic ring in the side chain include benzyl (meth) acrylate, phenethyl (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate.
  • unit (1) a unit represented by the following formula (1) (hereinafter, also referred to as “unit (1)”) is preferable.
  • n represents an integer of 0 to 5.
  • R 1 represents a substituent. When n is 2 or more, two R 1 may form a condensed ring structure bonded to each other. When n is 2 or more, R 1 may be the same or different.
  • a halogen atom an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or a hydroxyl group is preferable.
  • a preferred embodiment is one halogen atom of R 1, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or iodine atom and preferably a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom.
  • R 1 a fluorine atom
  • 1 to 20 As the carbon number of the alkyl group, which is one of the preferred embodiments of R 1 , 1 to 20 is preferable, 1 to 12 is more preferable, 1 to 6 is more preferable, 1 to 3 is more preferable, and 1 or 2 is particularly preferable. Preferably, 1 is most preferred.
  • the number of carbon atoms which is one aryl group of preferred embodiments R 1, preferably from 6 to 20, more preferably 6 to 12, more preferably 6 to 10, 6 is particularly preferred.
  • carbon number of the alkoxy group which is one of the preferred embodiments of R 1 , 1 to 20 is preferable, 1 to 12 is more preferable, 1 to 6 is more preferable, 1 to 3 is more preferable, and 1 or 2 is particularly preferable. Preferably, 1 is most preferred.
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • n an integer of 0 to 2 is particularly preferable as n.
  • a naphthalene ring structure or anthracene ring structure is preferred.
  • Examples of the monomer for forming the vinylbenzene derivative unit include styrene, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, vinylbiphenyl, vinylanthracene, 4-hydroxystyrene, 4-bromostyrene, 4-methoxystyrene, and 4-tert-. Examples thereof include butyl styrene and ⁇ -methyl styrene, and styrene is particularly preferable.
  • As the structural unit having an aromatic ring a structural unit formed using styrene is most preferable.
  • the content of the structural unit having an aromatic ring can suppress corrosion of wiring and electrodes with respect to the total amount of all structural units contained in the alkali-soluble resin. From the point of view, 25% by mass or more is preferable, 35% by mass or more is more preferable, and 45% by mass or more is further preferable.
  • the upper limit of the content of the structural unit having an aromatic ring is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less.
  • the alkali-soluble resin may contain a structural unit having one kind of aromatic ring, or may contain a structural unit having two or more kinds of aromatic rings.
  • the content of "structural unit” when the content of "structural unit” is specified by mass%, the above “structural unit” shall be synonymous with “monomer unit” unless otherwise specified. Further, in the present disclosure, when the resin or polymer has two or more specific structural units, the content of the specific structural units is the total of the two or more specific structural units unless otherwise specified. It shall represent the content.
  • Examples of the structural unit having an aliphatic ring include a structural unit formed by using an alkyl (meth) acrylate having a cyclic aliphatic hydrocarbon group.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic.
  • Examples of the alkyl (meth) acrylate having a cyclic aliphatic hydrocarbon group include dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentel (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylicate, and cyclohexyl (meth).
  • the alkali-soluble resin contains a structural unit having an aliphatic ring
  • the content of the structural unit having an aliphatic ring causes corrosion of wiring and electrodes with respect to the total amount of all structural units contained in the alkali-soluble resin. From the viewpoint of suppression, 5% by mass or more is preferable, 10% by mass or more is more preferable, and 20% by mass or more is further preferable.
  • the upper limit of the content of the structural unit having an aliphatic ring is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less.
  • the alkali-soluble resin preferably contains a structural unit having an acid group (hereinafter, also referred to as “acid group-containing unit”).
  • acid group-containing unit a structural unit having an acid group
  • the photosensitive composition layer is alkali-soluble.
  • Examples of the acid group in the acid group-containing unit include a carboxy group, a sulfonic acid group, a sulfate group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxy group is preferable.
  • unit (3) As the acid group-containing unit, a unit represented by the following formula (3) (hereinafter, also referred to as “unit (3)”) is preferable.
  • R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • (meth) acrylic acid is particularly preferable.
  • the content of the acid group-containing unit is 10 from the viewpoint of suppressing corrosion of wiring and electrodes with respect to the total amount of all structural units contained in the alkali-soluble resin. It is preferably from 40% by mass, more preferably 15 to 30% by mass, still more preferably 15 to 25% by mass.
  • the alkali-soluble resin may contain one type of acid group-containing unit alone, or may contain two or more types of acid group-containing units.
  • the alkali-soluble resin preferably contains a structural unit having a radically polymerizable group (hereinafter, also referred to as “radical polymerizable group-containing unit”). As a result, the moisture permeability can be further reduced.
  • a group having an ethylenic double bond hereinafter, also referred to as “ethylenically unsaturated group” is preferable, and a (meth) acryloyl group is more preferable.
  • unit (2) a unit represented by the following formula (2) (hereinafter, also referred to as “unit (2)”) is preferable.
  • R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and L represents a divalent linking group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl groups represented by R 2 and R 3 is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • a group formed by linking one group selected from the above group or two or more groups selected from the above group is preferable.
  • Each of the alkylene group and the arylene group may be substituted with a substituent (for example, a hydroxyl group other than the primary hydroxyl group, a halogen atom, etc.).
  • the divalent linking group represented by L may have a branched structure.
  • the number of carbon atoms of the divalent linking group represented by L is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and even more preferably 2 to 10.
  • the divalent linking group represented by L the group shown below is particularly preferable.
  • * 1 represents the bond position with the carbon atom contained in the main chain in the formula (2)
  • * 2 represents the bond position with the carbon atom forming the double bond in the formula (2).
  • n and m each independently represent an integer of 1 to 6.
  • Examples of the radically polymerizable group-containing unit include a structural unit in which an epoxy group-containing monomer is added to a (meth) acrylic acid unit, a structural unit in which an isocyanate group-containing monomer is added to a hydroxyl group-containing monomer unit, and the like. Be done.
  • an epoxy group-containing monomer an epoxy group-containing (meth) acrylate having a total carbon number of 5 to 24 is preferable, an epoxy group-containing (meth) acrylate having a total carbon number of 5 to 12 is more preferable, and glycidyl (meth) is used. Acrylate or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate is more preferred.
  • hydroxyalkyl (meth) acrylate having a total carbon number of 4 to 24 is preferable, and hydroxyalkyl (meth) acrylate having a total carbon number of 4 to 12 is more preferable.
  • Hydroxyethyl (meth) acrylates are preferred, and hydroxyethyl (meth) acrylates are even more preferred.
  • the "(meth) acrylic acid unit” means a structural unit derived from (meth) acrylic acid.
  • the term having the word "unit” immediately after the monomer name means a structural unit derived from the monomer (for example, a hydroxyl group-containing monomer). ..
  • the content of the radically polymerizable group-containing units can suppress corrosion of wiring and electrodes with respect to the total amount of all structural units contained in the alkali-soluble resin. From the point of view, 10 to 60% by mass is preferable, 20 to 50% by mass is more preferable, and 25 to 40% by mass is further preferable.
  • the alkali-soluble resin may contain one kind of radically polymerizable group-containing unit alone, or may contain two or more kinds of radically polymerizable group-containing units.
  • the alkali-soluble resin may contain other structural units other than the structural units described above.
  • Other structural units are alkyl (meth) acrylate structural units that have a hydroxyl group and no radically polymerizable group or acid group, and alkyl (meth) that has neither a hydroxyl group, a radically polymerizable group nor an acid group.
  • Examples include acrylate structural units.
  • Examples of the monomer having a hydroxyl group and having neither a radical polymerizable group nor an acid group to form an alkyl (meth) acrylate structural unit include hydroxyethyl (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate.
  • an alkyl (meth) acrylate structural unit having neither a hydroxyl group, a radically polymerizable group nor an acid group and an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched aliphatic hydrocarbon group (for example, methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, etc.) can be mentioned.
  • the content of the alkyl (meth) acrylate structural unit having a hydroxyl group and neither a radically polymerizable group nor an acid group is 0 to 10% by mass with respect to the total amount of all the structural units contained in the alkali-soluble resin. Is preferable, and 1 to 5% by mass is more preferable.
  • the content of the alkyl (meth) acrylate structural unit having neither a hydroxyl group, a radically polymerizable group nor an acid group is preferably 0 to 30% by mass with respect to the total amount of all the structural units contained in the alkali-soluble resin. More preferably, 1 to 5% by mass.
  • the alkali-soluble resin may contain one type of other structural unit alone, or may contain two or more types of other structural units.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin is preferably 5,000 or more, more preferably 5,000 to 100,000, further preferably 7,000 to 50,000, and particularly preferably 10,000 to 30,000.
  • the dispersity of the alkali-soluble resin (weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn) is preferably 1.0 to 3.0, more preferably 1.8 to 2.8, from the viewpoint of reducing the development residue.
  • the acid value of the alkali-soluble resin is preferably 50 mgKOH / g or more, more preferably 60 mgKOH / g or more, further preferably 70 mgKOH / g or more, and particularly preferably 80 mgKOH / g or more from the viewpoint of developability.
  • the upper limit of the acid value of the alkali-soluble resin is preferably 200 mgKOH / g or less, more preferably 150 mgKOH / g or less, still more preferably 130 mgKOH / g or less, from the viewpoint of suppressing dissolution in a developing solution.
  • the value of the theoretical acid value calculated by the calculation method described in paragraph [0063] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-149806 or paragraph [0070] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-21128 can be used.
  • the photosensitive composition layer may contain one kind of alkali-soluble resin alone, or may contain two or more kinds of alkali-soluble resins.
  • the content of the alkali-soluble resin is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and further preferably 25 to 70% by mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer from the viewpoint of developability. preferable.
  • an embodiment comprising at least one structural unit of the structural unit having the aromatic ring and the structural unit having the aliphatic ring can be mentioned. This makes it possible to lower the moisture permeability.
  • an embodiment including a structural unit having an aromatic ring is preferable, an embodiment containing a vinylbenzene derivative unit is more preferable, and a structural unit formed using styrene is used. The including aspect is more preferable.
  • the photosensitive composition layer preferably contains a blocked isocyanate compound.
  • the blocked isocyanate compound contributes to the improvement of the strength of the formed pattern. Since the blocked isocyanate compound reacts with a hydroxyl group and a carboxy group, it is formed, for example, when at least one of a binder polymer and a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group has at least one of a hydroxyl group and a carboxy group.
  • the hydrophilicity of the polymer tends to decrease, and the function as a protective film tends to be strengthened.
  • the blocked isocyanate compound refers to "a compound having a structure in which the isocyanate group of isocyanate is protected (so-called masked) with a blocking agent".
  • the content of the blocked isocyanate compound is preferably 1 to 40% by mass from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent with respect to the total mass of the photosensitive composition layer. 5 to 30% by mass is more preferable, and 10 to 20% by mass is further preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain one type of blocked isocyanate compound alone, or may contain two or more types of blocked isocyanate compounds.
  • the blocked isocyanate compound preferably contains a blocked isocyanate compound having a blocked isocyanate equivalent (hereinafter, also referred to as “NCO value”) of 4.5 mmol / g or more (hereinafter, also referred to as “first blocked isocyanate compound”).
  • NCO value blocked isocyanate equivalent
  • the NCO value of the first blocked isocyanate compound is 4.5 mmol / g or more, and is preferably 5.0 mmol / g or more, more preferably 5.3 mmol / g or more, from the viewpoint of further excellent effects of the present invention.
  • the upper limit of the NCO value of the first block isocyanate compound is preferably 6.0 mmol / g or less, more preferably less than 5.8 mmol / g, and further preferably 5.7 mmol / g or less, because the effect of the present invention is more excellent. preferable.
  • the NCO value of the blocked isocyanate compound in the present invention means the number of millimoles of the blocked isocyanate group contained in 1 g of the blocked isocyanate compound and can be calculated from the following formula.
  • NCO value of blocked isocyanate compound 1000 ⁇ (number of blocked isocyanate groups contained in the molecule) / (molecular weight of blocked isocyanate compound)
  • the dissociation temperature of the first block isocyanate compound is preferably 100 to 160 ° C, more preferably 110 to 150 ° C.
  • the "dissociation temperature of the blocked isocyanate compound” is the heat absorption peak associated with the deprotection reaction of the blocked isocyanate compound when measured by DSC (Differential scanning calorimetry) analysis using a differential scanning calorimeter. Means temperature.
  • DSC Different scanning calorimetry
  • Means temperature As the differential scanning calorimeter, for example, a differential scanning calorimeter (model: DSC6200) manufactured by Seiko Instruments, Inc. can be preferably used.
  • the differential scanning calorimetry is not limited to the above-mentioned differential scanning calorimetry.
  • the oxime compound is preferable as the blocking agent having a dissociation temperature of 100 to 160 ° C. from the viewpoint of storage stability.
  • the first block isocyanate compound preferably has a ring structure from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • the ring structure include an aliphatic hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring and a heterocyclic ring. From the viewpoint of further excellent effects of the present invention, the aliphatic hydrocarbon ring and the aromatic hydrocarbon ring are preferable, and the aliphatic hydrocarbon ring is preferable. Hydrocarbon rings are more preferred. Specific examples of the aliphatic hydrocarbon ring include a cyclopentane ring and a cyclohexane ring, and a cyclohexane ring is preferable.
  • the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring and a naphthalene ring, and a benzene ring is preferable.
  • Specific examples of the heterocycle include an isocyanurate ring.
  • the number of rings is preferably 1 to 2 and more preferably 1 from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • the first block isocyanate compound contains a fused ring, the number of rings constituting the fused ring is counted, for example, the number of rings in the naphthalene ring is counted as 2.
  • the number of blocked isocyanate groups contained in the first blocked isocyanate compound is preferably 2 to 5 and more preferably 2 to 3 from the viewpoint of excellent strength of the formed pattern and more excellent effect of the present invention. Is more preferable.
  • the first blocked isocyanate compound is preferably a blocked isocyanate compound represented by the formula Q from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • B 1 and B 2 each independently represent a blocked isocyanate group.
  • the blocked isocyanate group is not particularly limited, but a group in which the isocyanate group is blocked with an oxime compound is preferable, and a group in which the isocyanate group is blocked with a methylethylketooxime (specifically, a group in which the isocyanate group is blocked with an oxime compound) is preferable because the effect of the present invention is more excellent.
  • B 1 and B 2 are preferably the same group.
  • a 1 and A 2 independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is preferable.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group is 1 to 10, but 1 to 5 is preferable, 1 to 3 is more preferable, and 1 is further preferable, because the effect of the present invention is more excellent. It is preferable that A 1 and A 2 are the same group.
  • L 1 represents a divalent linking group.
  • the divalent linking group include a divalent hydrocarbon group.
  • the divalent hydrocarbon group include a divalent saturated hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, and a group formed by linking two or more of these groups.
  • the divalent saturated hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic, and is preferably cyclic from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • the number of carbon atoms of the divalent saturated hydrocarbon group is preferably 4 to 15, more preferably 5 to 10, and even more preferably 5 to 8 from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.
  • the divalent aromatic hydrocarbon group preferably has 5 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenylene group.
  • the divalent aromatic hydrocarbon group may have a substituent (for example, an alkyl group).
  • the divalent linking group includes a linear, branched or cyclic divalent saturated hydrocarbon group having 5 to 10 carbon atoms, a cyclic saturated hydrocarbon group having 5 to 10 carbon atoms and 1 to 1 carbon atoms.
  • a group linked with a chain-like alkylene group is preferable, a cyclic divalent saturated hydrocarbon group having 5 to 10 carbon atoms, or a phenylene group which may have a substituent is more preferable, and a cyclohexylene group is more preferable.
  • a phenylene group which may have a substituent is further preferable, and a cyclohexylene group is particularly preferable.
  • the blocked isocyanate compound represented by the formula Q is particularly preferably a blocked isocyanate compound represented by the formula QA because the effect of the present invention is more excellent.
  • B 1a and B 2a each independently represent a blocked isocyanate group.
  • the preferred embodiments of B 1a and B 2a are the same as those of B 1 and B 2 in the formula Q.
  • a 1a and A 2a each independently represent a divalent linking group.
  • Preferred embodiments of the divalent linking group for A 1a and A 2a are the same as A 1a and A 2a in the formula Q.
  • L 1a represents a cyclic divalent saturated hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group.
  • the number of carbon atoms of the cyclic divalent saturated hydrocarbon group in L 1a is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, further preferably 5 to 6, and particularly preferably 6.
  • the preferred embodiment of the divalent aromatic hydrocarbon group in L 1a is the same as that of L 1 in the formula QA.
  • L 1a is preferably a cyclic divalent saturated hydrocarbon group, more preferably a cyclic divalent saturated hydrocarbon group having 5 to 10 carbon atoms, and more preferably a cyclic divalent saturated hydrocarbon group having 5 to 10 carbon atoms.
  • a hydrogen group is more preferable, a cyclic divalent saturated hydrocarbon group having 5 to 6 carbon atoms is particularly preferable, and a cyclohexylene group is most preferable.
  • first block isocyanate compound Specific examples of the first block isocyanate compound are shown below, but the first block isocyanate compound is not limited to this.
  • the photosensitive composition layer may contain one kind of first block isocyanate compound alone, or may contain two or more kinds of first block isocyanate compounds.
  • the content of the first block isocyanate compound is preferably 0.5 to 25% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, with respect to the total mass of the photosensitive composition layer, from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent. 2 to 15% by mass is more preferable.
  • the first blocked isocyanate compound is obtained, for example, by reacting the isocyanate group of a compound having an isocyanate group (for example, a compound in which B 1 and B 2 in the above formula Q are isocyanate groups) with the blocking agent.
  • a compound having an isocyanate group for example, a compound in which B 1 and B 2 in the above formula Q are isocyanate groups
  • the blocked isocyanate compound preferably contains a blocked isocyanate compound having an NCO value of less than 4.5 mmol / g (hereinafter, also referred to as “second blocked isocyanate compound”). This makes it possible to suppress the generation of development residues after pattern exposure and development of the photosensitive composition layer.
  • the NCO value of the second block isocyanate compound is less than 4.5 mmol / g, preferably 2.0 to 4.5 mmol / g, and more preferably 2.5 to 4.0 mmol / g.
  • the dissociation temperature of the second block isocyanate compound is preferably 100 to 160 ° C, more preferably 110 to 150 ° C.
  • Specific examples of the blocking agent having a dissociation temperature of 100 to 160 ° C. are as described above.
  • the second block isocyanate compound preferably has an isocyanurate structure from the viewpoint of improving the brittleness of the membrane or improving the adhesion to the transferred material.
  • the blocked isocyanate compound having an isocyanurate structure can be obtained, for example, by subjecting hexamethylene diisocyanate to isocyanurate to protect it.
  • an oxime structure using an oxime compound as a blocking agent is used because it is easier to set the dissociation temperature in a preferable range and to reduce the amount of development residue as compared with a compound having no oxime structure.
  • the compound to have is preferable.
  • the second block isocyanate compound may have a polymerizable group in terms of the strength of the formed pattern.
  • a radically polymerizable group is preferable.
  • the polymerizable group include a (meth) acryloxy group, a (meth) acrylamide group, an ethylenically unsaturated group such as a styryl group, and a group having an epoxy group such as a glycidyl group.
  • an ethylenically unsaturated group is preferable, and a (meth) acryloxy group is more preferable, from the viewpoint of surface surface condition, development speed, and reactivity in the obtained pattern.
  • second block isocyanate compound Specific examples of the second block isocyanate compound are shown below, but the second block isocyanate compound is not limited to this.
  • the second block isocyanate compound a commercially available product can be used.
  • examples of commercially available blocked isocyanate compounds include, for example, Karenz (trade name) AOI-BM, Karenz (trade name) MOI-BM, Karenz (trade name) AOI-BP, Karenz (trade name) MOI-BP, etc. [ As mentioned above, Showa Denko Co., Ltd.] and the block type Duranate series [for example, Duranate (trade name) TPA-B80E, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.] can be mentioned.
  • the photosensitive composition layer may contain one type of second-block isocyanate compound alone, or may contain two or more types of second-block isocyanate compounds.
  • the content of the second block isocyanate compound is 0. from the viewpoint that the generation of development residue can be further reduced with respect to the total mass of the photosensitive composition layer. 5 to 25% by mass is preferable, 1 to 20% by mass is more preferable, and 2 to 15% by mass is further preferable.
  • the mass ratio of the content of the first block isocyanate compound to the content of the second block isocyanate compound is preferably 10/90 to 90/10, more preferably 15/85 to 70/30, and even more preferably 15/85 to 50/50 from the viewpoint of bending resistance and reduction of moisture permeability.
  • the photosensitive composition layer may further contain a polymer containing a structural unit having a carboxylic acid anhydride structure (hereinafter, also referred to as “polymer B”) as a binder.
  • polymer B a polymer containing a structural unit having a carboxylic acid anhydride structure
  • the carboxylic acid anhydride structure may be either a chain carboxylic acid anhydride structure or a cyclic carboxylic acid anhydride structure, but a cyclic carboxylic acid anhydride structure is preferable.
  • a cyclic carboxylic acid anhydride structure As the ring having a cyclic carboxylic acid anhydride structure, a 5- to 7-membered ring is preferable, a 5-membered ring or a 6-membered ring is more preferable, and a 5-membered ring is further preferable.
  • the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure is a structural unit containing a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms from the compound represented by the following formula P-1 in the main chain, or the following formula P-1. It is preferable that the monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from the represented compound is a structural unit bonded directly to the main chain or via a divalent linking group.
  • R A1a represents a substituent
  • n 1a number of R A1a may be the same or different
  • n 1a represents an integer of 0 or more.
  • Examples of the substituent represented by RA1a include an alkyl group.
  • an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms is preferable, an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms is more preferable, and an alkylene group having 2 carbon atoms is further preferable.
  • n 1a represents an integer of 0 or more.
  • Z 1a represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms
  • n 1a is preferably an integer of 0 to 4, more preferably an integer of 0 to 2, and even more preferably 0.
  • n 1a represents an integer of 2 or more
  • a plurality of RA1a may be the same or different. Further, although a plurality of RA1a may be bonded to each other to form a ring, it is preferable that the RA1a are not bonded to each other to form a ring.
  • a structural unit derived from an unsaturated carboxylic acid anhydride is preferable, a structural unit derived from an unsaturated cyclic carboxylic acid anhydride is more preferable, and an unsaturated aliphatic cyclic carboxylic acid is preferable.
  • Structural units derived from acid anhydrides are more preferred, structural units derived from maleic anhydride or itaconic anhydride are particularly preferred, and structural units derived from maleic anhydride are most preferred.
  • the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure in the polymer B may be one kind alone or two or more kinds.
  • the content of the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure is preferably 0 to 60 mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 10 to 35 mol%, based on the total amount of the polymer B.
  • the photosensitive composition layer may contain one type of polymer B alone, or may contain two or more types of polymer B.
  • the content of the residual monomer of each structural unit of the polymer B in the photosensitive composition layer is preferably 1000 mass ppm or less, preferably 500 mass ppm or less, based on the total mass of the polymer B from the viewpoint of patterning property and reliability.
  • the following is more preferable, and 100 mass ppm or less is further preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.1 mass ppm or more, and more preferably 1 mass ppm or more.
  • the content of the polymer B is 0.1 to 30 mass with respect to the total mass of the photosensitive composition layer in terms of developability and strength after curing. % Is preferable, 0.2 to 20% by mass is more preferable, 0.5 to 20% by mass is further preferable, and 1 to 20% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer preferably contains a heterocyclic compound.
  • the heterocycle contained in the heterocyclic compound may be either a monocyclic or polycyclic complex.
  • Examples of the hetero atom contained in the heterocyclic compound include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.
  • the heterocyclic compound preferably has at least one atom selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and more preferably has a nitrogen atom.
  • heterocyclic compound examples include triazole compounds, benzotriazole compounds, tetrazole compounds, thiadiazol compounds, triazine compounds, rodonin compounds, thiazole compounds, benzothiazole compounds, benzoimidazole compounds, benzoxazole compounds, pyridine compounds, and pyrimidine compounds. Can be mentioned.
  • the heterocyclic compound is selected from the group consisting of a triazole compound, a benzotriazole compound, a tetrazole compound, a thiadiazol compound, a triazine compound, a rhonin compound, a thiazole compound, a benzoimidazole compound, and a benzoxazole compound and a pyridine compound.
  • At least one compound is preferable, and at least one selected from the group consisting of a triazole compound, a benzotriazole compound, a tetrazole compound, a thiadiazol compound, a thiazole compound, a benzothiazole compound, a benzoimidazole compound, a pyridine compound, and a benzoxazole compound.
  • a triazole compound a benzotriazole compound
  • tetrazole compound a thiadiazol compound
  • a thiazole compound a benzothiazole compound
  • benzoimidazole compound a pyridine compound
  • benzoxazole compound a benzoxazole compound
  • heterocyclic compound A preferable specific example of the heterocyclic compound is shown below.
  • examples of the triazole compound and the benzotriazole compound include the following compounds.
  • Examples of the tetrazole compound include the following compounds.
  • Examples of the thiadiazole compound include the following compounds.
  • Examples of the triazine compound include the following compounds.
  • Examples of the loadonine compound include the following compounds.
  • Examples of the thiazole compound include the following compounds.
  • benzothiazole compound examples include the following compounds.
  • Examples of the benzimidazole compound include the following compounds.
  • benzoxazole compound examples include the following compounds.
  • Examples of the pyridine compound include (iso) nicotinic acid and (iso) nicotinamide.
  • the photosensitive composition layer may contain one kind of heterocyclic compound alone, or may contain two or more kinds of heterocyclic compounds.
  • the content of the heterocyclic compound is preferably 0.01 to 20% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. Is more preferable, 0.3 to 8% by mass is further preferable, and 0.5 to 5% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer preferably contains an aliphatic thiol compound.
  • the photosensitive composition layer contains an aliphatic thiol compound
  • the aliphatic thiol compound undergoes an en-thiol reaction with a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group to cure and shrink the film formed. Is suppressed and the stress is relieved.
  • aliphatic thiol compound a monofunctional aliphatic thiol compound or a polyfunctional aliphatic thiol compound (that is, a bifunctional or higher functional aliphatic thiol compound) is preferable.
  • aliphatic thiol compound for example, a polyfunctional aliphatic thiol compound is preferable from the viewpoint of adhesion (particularly, adhesion after exposure) of the formed pattern.
  • polyfunctional aliphatic thiol compound means an aliphatic compound having two or more thiol groups (also referred to as “mercapto groups”) in the molecule.
  • the polyfunctional aliphatic thiol compound a low molecular weight compound having a molecular weight of 100 or more is preferable. Specifically, the molecular weight of the polyfunctional aliphatic thiol compound is more preferably 100 to 1,500, and even more preferably 150 to 1,000.
  • the number of functional groups of the polyfunctional aliphatic thiol compound for example, 2 to 10 functionalities are preferable, 2 to 8 functionalities are more preferable, and 2 to 6 functionalities are further preferable, from the viewpoint of adhesion of the formed pattern.
  • polyfunctional aliphatic thiol compound examples include trimethylolpropanetris (3-mercaptobutylate), 1,4-bis (3-mercaptobutylyloxy) butane, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), and the like.
  • the polyfunctional aliphatic thiol compounds include trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, and 1,3,5-tris. At least one compound selected from the group consisting of (3-mercaptobutyryloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione is preferred.
  • Examples of the monofunctional aliphatic thiol compound include 1-octanethiol, 1-dodecanethiol, ⁇ -mercaptopropionic acid, methyl-3-mercaptopropionate, 2-ethylhexyl-3-mercaptopropionate, and n-. Examples thereof include octyl-3-mercaptopropionate, methoxybutyl-3-mercaptopropionate, and stearyl-3-mercaptopropionate.
  • the photosensitive composition layer may contain one kind of aliphatic thiol compound alone, or may contain two or more kinds of aliphatic thiol compounds.
  • the content of the aliphatic thiol compound is preferably 5% by mass or more, more preferably 5 to 50% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. 5 to 30% by mass is more preferable, and 8 to 20% by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive composition layer preferably contains a surfactant.
  • the surfactant include the surfactants described in paragraph [0017] of Japanese Patent No. 4502784 and paragraphs [0060] to [0071] of JP-A-2009-237362.
  • a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant is preferable.
  • Commercially available products of fluorine-based surfactants include, for example, Megafuck (trade names) F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143. , F-144, F-437, F-475, F-477, F-479, F-482, F-551-A, F-552, F-554, F-555-A, F-556, F -557, F-558, F-559, F-560, F-561, F-565, F-563, F-568, F-575, F-780, EXP, MFS-330, EXP.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatilizes when heat is applied.
  • a fluorine-based surfactant Megafuck (trade name) DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016))
  • Megafuck (trade name) DS-21 can be mentioned.
  • the fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a block polymer can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain can also be used. Megafvck (trade name) RS-101, RS-102, RS-718K, RS-72-K (all manufactured by DIC Corporation) and the like can be mentioned.
  • fluorine-based surfactant from the viewpoint of improving environmental suitability, compounds having a linear perfluoroalkyl group having 7 or more carbon atoms such as perfluorooctanoic acid (PFOA) and perfluorooctanesulfonic acid (PFOS) can be used. It is preferably a surfactant derived from an alternative material.
  • PFOA perfluorooctanoic acid
  • PFOS perfluorooctanesulfonic acid
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ethers, polyoxyethylene stearyl ethers, etc.
  • silicone-based surfactant examples include a linear polymer composed of a siloxane bond and a modified siloxane polymer having an organic group introduced into a side chain or a terminal.
  • Specific examples of the surfactant include DOWSIL (trade name) 8032 ADDITIVE, Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torre Silicone SH28PA, Torre Silicone SH29PA, Torre Silicone SH30PA, Torre Silicone SH8400 (and above).
  • the photosensitive composition layer may contain one type of surfactant alone, or may contain two or more types of surfactant.
  • the content of the surfactant is preferably 0.01 to 3% by mass, preferably 0.05 to 1% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer. Is more preferable, and 0.1 to 0.8% by mass is further preferable.
  • the photosensitive composition layer preferably contains a hydrogen donating compound.
  • the hydrogen donating compound has actions such as further improving the sensitivity of the photopolymerization initiator to active light rays and suppressing the polymerization inhibition of the polymerizable compound by oxygen.
  • Examples of the hydrogen donating compound include amines, for example, M.I. R. "Journal of Polymer Society" by Sander et al., Vol. 10, pp. 3173 (1972), JP-A-44-020189, JP-A-51-081022, JP-A-52-134692, JP-A-59-138205. Examples thereof include the compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-0843305, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-018537, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-033104, and Research Disclosure No. 33825.
  • Examples of the hydrogen donating compound include triethanolamine, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, and p-methylthiodimethylaniline.
  • Examples of the hydrogen-donating compound include an amino acid compound (N-phenylglycine, etc.), an organometallic compound (tributyltin acetate, etc.) described in Japanese Patent Publication No. 48-042965, and hydrogen described in Japanese Patent Publication No. 55-0344414. Donors and sulfur compounds (Tritian and the like) described in JP-A-6-308727 can also be mentioned.
  • the photosensitive composition layer may contain one kind of hydrogen donating compound alone, or may contain two or more kinds of hydrogen donating compounds.
  • the content of the hydrogen donating compound is the total mass of the photosensitive composition layer in terms of improving the curing rate due to the balance between the polymerization growth rate and the chain transfer.
  • 0.01 to 10% by mass is preferable, 0.03 to 5% by mass is more preferable, and 0.05 to 3% by mass is further preferable.
  • the photosensitive composition layer may contain components other than the above-mentioned components (hereinafter, also referred to as “other components”).
  • other components include particles (for example, metal oxide particles) and colorants.
  • other components include the thermal polymerization inhibitor described in paragraph [0018] of Japanese Patent No. 4502784, and other components described in paragraphs [0058] to [0071] of JP-A-2000-310706. Additives are also mentioned.
  • the photosensitive composition layer may contain particles for the purpose of adjusting the refractive index, light transmittance and the like.
  • the particles include metal oxide particles.
  • the metal in the metal oxide particles also includes metalloids such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
  • the average primary particle diameter of the particles is preferably 1 to 200 nm, more preferably 3 to 80 nm, for example, from the viewpoint of pattern transparency.
  • the average primary particle size of the particles is calculated by measuring the particle size of 200 arbitrary particles using an electron microscope and arithmetically averaging the measurement results. If the shape of the particle is not spherical, the longest side is the particle diameter.
  • the photosensitive composition layer may contain particles of one type alone, or may contain particles of two or more types. When the photosensitive composition layer contains particles, it may contain only one kind of particles having different metal species, sizes, etc., or may contain two or more kinds of particles.
  • the photosensitive composition layer does not contain particles, or the content of the particles is preferably more than 0% by mass and 35% by mass or less with respect to the total mass of the photosensitive composition layer, and preferably contains particles. It is more preferable that there is no particle or the content of the particles is more than 0% by mass and 10% by mass or less based on the total mass of the photosensitive composition layer, and the content of the particles is not contained or the content of the particles is not contained. Is more preferably more than 0% by mass and 5% by mass or less with respect to the total mass of the photosensitive composition layer, and either does not contain particles or the content of particles is the total mass of the photosensitive composition layer. It is particularly preferably more than 0% by mass and 1% by mass or less, and most preferably it does not contain particles.
  • the photosensitive composition layer may contain a trace amount of a colorant (for example, a pigment and a dye), but for example, from the viewpoint of transparency, it is preferable that the photosensitive composition layer contains substantially no colorant.
  • a colorant for example, a pigment and a dye
  • the content of the colorant is preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, based on the total mass of the photosensitive composition layer.
  • the photosensitive composition layer may contain a predetermined amount of impurities.
  • impurities include sodium, potassium, magnesium, calcium, iron, manganese, copper, aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, zinc, tin, halogen and ions thereof.
  • halide ions particularly chloride ions, bromide ions, iodide ions
  • sodium ions, and potassium ions are easily mixed as impurities, so the following content is preferable.
  • the content of impurities in the photosensitive composition layer is preferably 80 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, still more preferably 2 ppm or less on a mass basis.
  • the content of impurities in the photosensitive composition layer can be 1 ppb or more, and 0.1 ppm or more, on a mass basis.
  • an embodiment in which all the above impurities are 0.6 ppm on a mass basis can be mentioned.
  • a material having a low impurity content is selected as a raw material of the photosensitive composition layer, and the impurities are prevented from being mixed during the formation of the photosensitive composition layer, and the cleaning is performed. Removal is mentioned.
  • the amount of impurities can be kept within the above range.
  • Impurities can be quantified by known methods such as ICP (Inductively Coupled Plasma) emission spectroscopy, atomic absorption spectroscopy, and ion chromatography.
  • ICP Inductively Coupled Plasma
  • the content of compounds such as benzene, formaldehyde, trichlorethylene, 1,3-butadiene, carbon tetrachloride, chloroform, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and hexane in the photosensitive composition layer is Less is preferable.
  • the content of these compounds in the photosensitive composition layer is preferably 100 ppm or less, more preferably 20 ppm or less, still more preferably 4 ppm or less on a mass basis.
  • the lower limit is based on mass and can be 10 ppb or more, and can be 100 ppb or more.
  • the content of these compounds can be suppressed in the same manner as the above-mentioned metal impurities. Further, it can be quantified by a known measurement method.
  • the water content in the photosensitive composition layer is preferably 0.01 to 1.0% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass, from the viewpoint of improving reliability and laminating property.
  • the photosensitive composition layer may contain residual monomers of each structural unit of the alkali-soluble resin described above.
  • the content of the residual monomer is preferably 5,000 mass ppm or less, more preferably 2,000 mass ppm or less, and 500 mass ppm or less with respect to the total mass of the alkali-soluble resin from the viewpoint of patterning property and reliability. Is more preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, but 1 mass ppm or more is preferable, and 10 mass ppm or more is more preferable.
  • the residual monomer of each structural unit of the alkali-soluble resin is preferably 3,000 mass ppm or less, more preferably 600 mass ppm or less, based on the total mass of the photosensitive composition layer from the viewpoint of patterning property and reliability. , 100 mass ppm or less is more preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.1 mass ppm or more, and more preferably 1 mass ppm or more.
  • the amount of residual monomer of the monomer when synthesizing the alkali-soluble resin by the polymer reaction is also preferably in the above range.
  • the content of glycidyl acrylate is preferably in the above range.
  • the amount of the residual monomer can be measured by a known method such as liquid chromatography and gas chromatography.
  • the upper limit of the thickness of the photosensitive composition layer is preferably 20.0 ⁇ m or less, more preferably 15.0 ⁇ m or less, still more preferably 10 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the thickness of the photosensitive composition is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 3.0 ⁇ m or more, further preferably 4.0 ⁇ m or more, and particularly preferably 5.0 ⁇ m or more.
  • the thickness of the photosensitive composition layer is calculated as an average value of any five points measured by cross-sectional observation with a scanning electron microscope (SEM).
  • the refractive index of the photosensitive composition layer is preferably 1.47 to 1.56, more preferably 1.49 to 1.54.
  • the photosensitive composition layer is preferably achromatic.
  • the a * value of the photosensitive composition layer is preferably ⁇ 1.0 to 1.0, and the b * value of the photosensitive composition layer is preferably ⁇ 1.0 to 1.0.
  • the hue of the photosensitive composition layer can be measured using a color difference meter (CR-221, manufactured by Minolta Co., Ltd.).
  • the visible light transmittance per 1.0 ⁇ m film thickness of the photosensitive composition layer is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 95% or more.
  • the transmittance of visible light it is preferable that the average transmittance at a wavelength of 400 nm to 800 nm, the minimum value of the transmittance at a wavelength of 400 nm to 800 nm, and the transmittance at a wavelength of 400 nmm all satisfy the above.
  • Preferred values for the transmittance include, for example, 87%, 92%, 98% and the like. The same applies to the transmittance per 1 ⁇ m of the film thickness of the cured film of the photosensitive composition layer.
  • the moisture permeability of the pattern (cured film of the photosensitive composition layer) obtained by curing the photosensitive composition layer at a thickness of 40 ⁇ m is from the viewpoint of rust prevention of the electrode or wiring and from the viewpoint of device reliability. is preferably not more than 500g / m 2 / 24hr, more preferably at most 300g / m 2 / 24hr, more preferably not more than 100g / m 2 / 24hr.
  • the moisture permeability is a cured film obtained by curing the photosensitive composition layer by exposing the photosensitive composition layer with an i-line at an exposure amount of 300 mJ / cm 2 and then post-baking at 145 ° C. for 30 minutes.
  • the moisture permeability is measured according to the JIS Z0208 cup method.
  • the above-mentioned moisture permeability is preferable under any of the test conditions of temperature 40 ° C./humidity 90%, temperature 65 ° C./humidity 90%, and temperature 80 ° C./humidity 95%.
  • Specific preferable numerical for example, 80g / m 2 / 24hr, 150g / m 2 / 24hr, 220g / m 2 / 24hr, and the like.
  • the dissolution rate of the photosensitive composition layer in a 1.0% aqueous solution of sodium carbonate is preferably 0.01 ⁇ m / sec or more, more preferably 0.10 ⁇ m / sec or more, and 0.20 ⁇ m / sec from the viewpoint of suppressing residue during development. Seconds or more are more preferable. From the viewpoint of the edge shape of the pattern, 5.0 ⁇ m / sec or less is preferable, 4.0 ⁇ m / sec or less is more preferable, and 3.0 ⁇ m / sec or less is further preferable. Specific preferable numerical values include, for example, 1.8 ⁇ m / sec, 1.0 ⁇ m / sec, 0.7 ⁇ m / sec, and the like.
  • the dissolution rate of the photosensitive composition layer in a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution per unit time shall be measured as follows.
  • a photosensitive composition layer (within a film thickness of 1.0 to 10 ⁇ m) formed on a glass substrate from which a solvent has been sufficiently removed is subjected to a photosensitive composition at 25 ° C. using a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution.
  • shower development is performed until the material layer is completely melted (however, the maximum is 2 minutes). It is obtained by dividing the film thickness of the photosensitive composition layer by the time required for the photosensitive composition layer to melt completely. If it does not melt completely in 2 minutes, calculate in the same way from the amount of change in film thickness up to that point.
  • the dissolution rate of the cured film (within a film thickness of 1.0 to 10 ⁇ m) of the photosensitive composition layer in a 1.0% aqueous solution of sodium carbonate is preferably 3.0 ⁇ m / sec or less, more preferably 2.0 ⁇ m / sec or less. It is more preferably 1.0 ⁇ m / sec or less, and most preferably 0.2 ⁇ m / sec or less.
  • the cured film of the photosensitive composition layer is a film obtained by exposing the photosensitive composition layer with an i-line at an exposure amount of 300 mJ / cm 2. Specific preferable numerical values include, for example, 0.8 ⁇ m / sec, 0.2 ⁇ m / sec, 0.001 ⁇ m / sec, and the like.
  • the swelling rate of the photosensitive composition layer after exposure with respect to a 1.0% by mass sodium carbonate aqueous solution is preferably 100% or less, preferably 50% or less, from the viewpoint of improving pattern formation. More preferably, 30% or less is further preferable.
  • the swelling rate of the photosensitive resin layer after exposure shall be measured as follows.
  • the photosensitive resin layer (within a film thickness of 1.0 to 10 ⁇ m) formed on the glass substrate from which the solvent has been sufficiently removed is exposed to 500 mj / cm 2 (i-line measurement) with an ultra-high pressure mercury lamp.
  • the glass substrate is immersed in a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution at 25 ° C., and the film thickness is measured after 30 seconds. Then, the rate at which the film thickness after immersion increases with respect to the film thickness before immersion is calculated.
  • Specific preferable numerical values include, for example, 4%, 13%, 25% and the like.
  • the number of foreign matters having a diameter of 1.0 ⁇ m or more in the photosensitive composition layer is preferably 10 pieces / mm 2 or less, and 5 pieces / It is more preferably mm 2 or less.
  • the number of foreign substances shall be measured as follows. Arbitrary five regions (1 mm ⁇ 1 mm) on the surface of the photosensitive composition layer are visually observed from the normal direction of the surface of the photosensitive composition layer using an optical microscope, and each region is observed. The number of foreign substances having a diameter of 1.0 ⁇ m or more in the inside is measured, and they are arithmetically averaged to calculate the number of foreign substances. Specific preferable numerical values include, for example, 0 pieces / mm 2 , 1 piece / mm 2 , 4 pieces / mm 2 , 8 pieces / mm 2, and the like.
  • a haze of a solution obtained by dissolving a photosensitive resin layer of 1.0 cm 3 to 1.0 30 ° C. solution 1.0 liters of% by weight sodium carbonate is 60% or less It is preferably 30% or less, more preferably 10% or less, and most preferably 1% or less. Haze shall be measured as follows. First, a 1.0% by mass sodium carbonate aqueous solution is prepared, and the liquid temperature is adjusted to 30 ° C. Add a photosensitive resin layer of 1.0 cm 3 aqueous sodium carbonate solution 1.0 L. Stir at 30 ° C. for 4 hours, being careful not to mix air bubbles.
  • the haze of the solution in which the photosensitive resin layer is dissolved is measured.
  • the haze is measured using a haze meter (product name "NDH4000", manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.), a liquid measuring unit, and a liquid measuring cell having an optical path length of 20 mm.
  • a haze meter product name "NDH4000", manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.
  • Specific preferable numerical values include, for example, 0.4%, 1.0%, 9%, 24% and the like.
  • the transfer film may have a refractive index adjusting layer.
  • the position of the refractive index adjusting layer is not particularly limited, but it is preferably arranged in contact with the photosensitive composition layer. Above all, it is preferable that the transfer film has a temporary support, a photosensitive composition layer, and a refractive index adjusting layer in this order.
  • the transfer film further has a protective film described later, it is preferable to have a temporary support, a photosensitive composition layer, a refractive index adjusting layer, and a protective film in this order.
  • the refractive index adjusting layer As the refractive index adjusting layer, a known refractive index adjusting layer can be applied. Examples of the material contained in the refractive index adjusting layer include a binder and particles.
  • binder examples include the alkali-soluble resin described in the above section "Photosensitive composition layer”.
  • the particles include zirconium oxide particles (ZrO 2 particles), niobium oxide particles (Nb 2 O 5 particles), titanium oxide particles (TiO 2 particles), and silicon dioxide particles (SiO 2 particles).
  • the refractive index adjusting layer preferably contains a metal oxidation inhibitor.
  • the metal oxidation inhibitor for example, a compound having an aromatic ring containing a nitrogen atom in the molecule is preferable.
  • the metal oxidation inhibitor include imidazole, benzimidazole, tetrazole, mercaptothiadiazole, and benzotriazole.
  • the refractive index of the refractive index adjusting layer is preferably 1.60 or more, more preferably 1.63 or more.
  • the upper limit of the refractive index of the refractive index adjusting layer is preferably 2.10 or less, and more preferably 1.85 or less.
  • the thickness of the refractive index adjusting layer is preferably 500 nm or less, more preferably 110 nm or less, still more preferably 100 nm or less.
  • the thickness of the refractive index adjusting layer is preferably 20 nm or more, more preferably 50 nm or more.
  • the thickness of the refractive index adjusting layer is calculated as an average value of any five points measured by cross-sectional observation with a scanning electron microscope (SEM).
  • the transfer film may include a temporary support, a photosensitive composition layer, and other layers other than the refractive index adjusting layer described above. Examples of other layers include a protective film and an antistatic layer.
  • the transfer film may have a protective film for protecting the photosensitive composition layer on the surface opposite to the temporary support.
  • the protective film is preferably a resin film, and a resin film having heat resistance and solvent resistance can be used.
  • the protective film include polyolefin films such as polypropylene film and polyethylene film.
  • a resin film made of the same material as the above-mentioned temporary support may be used.
  • the thickness of the protective film is preferably 1 to 100 ⁇ m, more preferably 5 to 50 ⁇ m, further preferably 5 to 40 ⁇ m, and particularly preferably 15 to 30 ⁇ m.
  • the thickness of the protective film is preferably 1 ⁇ m or more in terms of excellent mechanical strength, and preferably 100 ⁇ m or less in terms of relatively low cost.
  • the number of fish eyes having a diameter of 80 ⁇ m or more contained in the protective film is 5 / m 2 or less.
  • fish eye refers to foreign substances, undissolved substances, oxidative deterioration substances, etc. of the material when the material is thermally melted, kneaded, extruded, and used to produce a film by a biaxial stretching method, a casting method, or the like. Was incorporated into the film.
  • the number of diameter 3 ⁇ m or more of the particles contained in the protective film is preferably 30 / mm 2 or less, more preferably 10 / mm 2 or less, more preferably 5 / mm 2 or less. As a result, it is possible to suppress defects caused by the unevenness caused by the particles contained in the protective film being transferred to the photosensitive composition layer or the conductive layer.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the protective film opposite to the surface in contact with the composition layer is preferably 0.01 ⁇ m or more, more preferably 0.02 ⁇ m or more, and more preferably 0.03 ⁇ m from the viewpoint of imparting windability.
  • the above is more preferable.
  • less than 0.50 ⁇ m is preferable, 0.40 ⁇ m or less is more preferable, and 0.30 ⁇ m or less is further preferable.
  • the protective film has a surface roughness Ra of the surface in contact with the composition layer of preferably 0.01 ⁇ m or more, more preferably 0.02 ⁇ m or more, still more preferably 0.03 ⁇ m or more, from the viewpoint of suppressing defects during transfer.
  • less than 0.50 ⁇ m is preferable, 0.40 ⁇ m or less is more preferable, and 0.30 ⁇ m or less is further preferable.
  • the transfer film may include an antistatic layer. Since the transfer film has an antistatic layer, it is possible to suppress the generation of static electricity when peeling off the film or the like arranged on the antistatic layer, and also suppress the generation of static electricity due to rubbing against equipment or other films. Therefore, for example, it is possible to suppress the occurrence of a defect in an electronic device.
  • the antistatic layer is preferably arranged between the temporary support and the photosensitive composition layer.
  • the antistatic layer is a layer having antistatic properties and contains at least an antistatic agent.
  • the antistatic agent is not particularly limited, and a known antistatic agent can be applied.
  • the method for producing the transfer film of the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. Among them, in terms of excellent productivity, a method of applying a photosensitive composition on a temporary support and, if necessary, performing a drying treatment to form a photosensitive composition layer (hereinafter, this method is referred to as "coating method"). ”) Is preferable.
  • the photosensitive composition used in the coating method preferably contains the components constituting the above-mentioned photosensitive composition layer (for example, a polymerizable compound, an alkali-soluble resin, a specific polymerization initiator, etc.), and a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable.
  • the organic solvent include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate (also known as 1-methoxy-2-propyl acetate), diethylene glycol ethyl methyl ether, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, ethyl lactate, methyl lactate, and caprolactam.
  • a mixed solvent of methyl ethyl ketone and propylene glycol monomethyl ether acetate or a mixed solvent of diethylene glycol ethyl methyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate is preferable.
  • the photosensitive composition may contain one kind of solvent alone, or may contain two or more kinds of solvents.
  • the total solid content of the photosensitive composition is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and 5 to 4 to the total mass of the photosensitive composition. 30% by mass is more preferable.
  • the viscosity of the photosensitive composition at 25 ° C. is, for example, preferably 1 to 50 mPa ⁇ s, more preferably 2 to 40 mPa ⁇ s, and 3 to 30 mPa ⁇ s from the viewpoint of coatability. s is more preferable. Viscosity is measured using a viscometer.
  • a viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. (trade name: VISCOMETER TV-22) can be preferably used.
  • the viscometer is not limited to the above-mentioned viscometer.
  • the surface tension of the photosensitive composition at 25 ° C. is, for example, preferably 5 to 100 mN / m, more preferably 10 to 80 mN / m, and 15 to 40 mN from the viewpoint of coatability. / M Is more preferable.
  • Surface tension is measured using a tensiometer.
  • a surface tension meter for example, a surface tension meter (trade name: Automatic Surface Tensiometer CBVP-Z) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. can be preferably used.
  • the tensiometer is not limited to the above-mentioned tensiometer.
  • Examples of the method for applying the photosensitive composition include a printing method, a spray method, a roll coating method, a bar coating method, a curtain coating method, a spin coating method, and a die coating method (that is, a slit coating method).
  • drying means removing at least a portion of the solvent contained in the composition.
  • the transfer film when the transfer film has a protective film, the transfer film can be manufactured by adhering the protective film to the photosensitive composition layer.
  • the method of adhering the protective film to the photosensitive composition layer is not particularly limited, and known methods can be mentioned.
  • Examples of the device for adhering the protective film to the photosensitive composition layer include a vacuum laminator and a known laminator such as an auto-cut laminator. It is preferable that the laminator is provided with an arbitrary heatable roller such as a rubber roller and can be pressurized and heated.
  • the photosensitive composition layer can be transferred to the transferred object.
  • the photosensitive composition layer on the temporary support of the transfer film is brought into contact with the substrate having the conductive layer and bonded to each other, and the substrate, the conductive layer, the photosensitive composition layer, and the temporary support are provided in this order.
  • the bonding process for obtaining a substrate with a photosensitive composition layer, An exposure process for pattern exposure of the photosensitive composition layer, and It comprises a developing step of developing an exposed photosensitive composition layer to form a pattern.
  • a method for producing a laminated body comprising a peeling step of peeling a temporary support from a substrate with a photosensitive composition layer between a bonding step and an exposure step, or between an exposure step and a developing step. Is preferable.
  • the procedure of the above process will be described in detail.
  • the bonding step the photosensitive composition layer on the temporary support of the transfer film is brought into contact with the substrate having the conductive layer and bonded, and the substrate, the conductive layer, the photosensitive composition layer, and the temporary support are bonded.
  • This is a step of obtaining a substrate with a photosensitive composition layer having the same order.
  • the exposed photosensitive composition layer on the temporary support of the transfer film is brought into contact with the substrate having the conductive layer and bonded.
  • the photosensitive composition layer and the temporary support are arranged on the substrate having the conductive layer.
  • the conductive layer and the surface of the photosensitive composition layer are pressure-bonded so as to be in contact with each other.
  • the pattern obtained after exposure and development can be suitably used as an etching resist when etching the conductive layer.
  • the crimping method is not particularly limited, and a known transfer method and laminating method can be used. Above all, it is preferable to superimpose the surface of the photosensitive composition layer on the substrate having the conductive layer, pressurize and heat with a roll or the like.
  • a known laminator such as a vacuum laminator and an auto-cut laminator can be used for bonding.
  • the substrate having a conductive layer has a conductive layer on the substrate, and any layer may be formed if necessary. That is, the substrate having the conductive layer is a conductive substrate having at least a substrate and a conductive layer arranged on the substrate. Examples of the substrate include a resin substrate, a glass substrate, and a semiconductor substrate. Preferred embodiments of the substrate are described, for example, in paragraph 0140 of WO 2018/155193, the contents of which are incorporated herein.
  • the conductive layer includes at least one layer selected from the group consisting of a metal layer, a conductive metal oxide layer, a graphene layer, a carbon nanotube layer, and a conductive polymer layer from the viewpoint of conductivity and fine wire forming property. preferable. Further, only one conductive layer may be arranged on the substrate, or two or more conductive layers may be arranged. When two or more conductive layers are arranged, it is preferable to have conductive layers made of different materials. Preferred embodiments of the conductive layer are described, for example, in paragraph 0141 of WO 2018/155193, the contents of which are incorporated herein.
  • a substrate having at least one of a transparent electrode and a routing wire is preferable.
  • the above-mentioned substrate can be suitably used as a touch panel substrate.
  • the transparent electrode may function suitably as a touch panel electrode.
  • the transparent electrode is preferably composed of a metal oxide film such as ITO (indium tin oxide) and IZO (indium zinc oxide), a metal mesh, and a fine metal wire such as silver nanowire.
  • the thin metal wire include thin wires such as silver and copper. Of these, silver conductive materials such as silver mesh and silver nanowires are preferable.
  • Metal is preferable as the material of the routing wiring.
  • the metal that is the material of the routing wiring include gold, silver, copper, molybdenum, aluminum, titanium, chromium, zinc and manganese, and alloys composed of two or more of these metal elements.
  • copper, molybdenum, aluminum or titanium is preferable, and copper is particularly preferable.
  • the exposure step is a step of pattern-exposing the photosensitive composition layer.
  • the "pattern exposure” refers to an exposure in a form of exposure in a pattern, that is, a form in which an exposed portion and a non-exposed portion are present.
  • the detailed arrangement and specific size of the pattern in the pattern exposure are not particularly limited.
  • the pattern formed by the development step described later preferably includes thin lines having a width of 20 ⁇ m or less, and more preferably contains thin lines having a width of 10 ⁇ m or less.
  • any light source in a wavelength range capable of curing the photosensitive composition layer (for example, 365 nm or 405 nm) can be appropriately selected and used.
  • the main wavelength of the exposure light for pattern exposure is preferably 365 nm.
  • the main wavelength is the wavelength having the highest intensity.
  • Exposure is preferably 5 ⁇ 200mJ / cm 2, more preferably 10 ⁇ 200mJ / cm 2.
  • the peeling step is a step of peeling the temporary support from the substrate with the photosensitive composition layer between the bonding step and the exposure step, or between the exposure step and the development step described later.
  • the peeling method is not particularly limited, and a mechanism similar to the cover film peeling mechanism described in paragraphs [0161] to [0162] of JP2010-072589 can be used.
  • the developing step is a step of developing the exposed photosensitive composition layer to form a pattern.
  • the development of the photosensitive composition layer can be performed using a developing solution.
  • An alkaline aqueous solution is preferable as the developing solution.
  • the alkaline compound that can be contained in the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and tetrapropylammonium hydroxy.
  • Do tetrabutylammonium hydroxide, and choline (2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide).
  • Examples of the development method include paddle development, shower development, spin development, and dip development.
  • Examples of the developer preferably used in the present disclosure include the developer described in paragraph [0194] of International Publication No. 2015/093271, and examples of the developing method preferably used include International Publication No. 2015. The developing method described in paragraph [0195] of No. 093271 can be mentioned.
  • the detailed arrangement and specific size of the formed pattern are not particularly limited, but a pattern is formed in which conductive thin lines described later can be obtained.
  • the pattern spacing is preferably 8 ⁇ m or less, more preferably 6 ⁇ m or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but it is often 2 ⁇ m or more.
  • the pattern (cured film of the photosensitive composition layer) formed by the above procedure is preferably achromatic.
  • the a * value of the pattern is preferably -1.0 to 1.0
  • the b * value of the pattern is -1.0 to 1. It is preferably 0.0.
  • the method for producing the laminate may include a step of exposing the pattern obtained by the development step (post-exposure step) and / or a step of heating (post-baking step).
  • post-exposure step a step of exposing the pattern obtained by the development step
  • post-baking step a step of heating
  • the method for producing a laminate of the present invention may include any steps (other steps) other than those described above.
  • steps include an etching step and a removing step.
  • the method for manufacturing the laminated body may include an etching step of etching the conductive layer in the region where the pattern is not arranged in the obtained laminated body.
  • the etching step the pattern formed from the photosensitive composition layer by the developing step is used as an etching resist, and the conductive layer is etched.
  • a known method such as a known dry etching method such as plasma etching can be applied.
  • the method for manufacturing the laminate may include a removal step of removing the pattern.
  • the removal step can be performed as needed, but is preferably performed after the etching step.
  • the method for removing the pattern is not particularly limited, but a method for removing the pattern by chemical treatment can be mentioned, and it is preferable to use a removing liquid.
  • a method for removing the pattern a method of immersing the laminate having the pattern in the removing liquid being stirred at preferably 30 to 80 ° C., more preferably 50 to 80 ° C. for 1 to 30 minutes can be mentioned.
  • the removing liquid may be, for example, an inorganic alkali component such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, or an organic alkali such as a primary amine compound, a secondary amine compound, a tertiary amine compound or a quaternary ammonium salt compound.
  • an inorganic alkali component such as sodium hydroxide or potassium hydroxide
  • an organic alkali such as a primary amine compound, a secondary amine compound, a tertiary amine compound or a quaternary ammonium salt compound.
  • Examples thereof include a removal solution in which the component is dissolved in water, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone or a mixed solution thereof. Further, it may be removed by a spray method, a shower method, a paddle method or the like using a removing liquid.
  • the laminate produced by the method for producing a laminate of the present invention can be applied to various devices.
  • the device provided with the laminated body include an input device and the like, and a touch panel is preferable, and a capacitive touch panel is more preferable.
  • the input device can be applied to a display device such as an organic electroluminescence display device and a liquid crystal display device.
  • the pattern formed from the photosensitive composition layer is preferably used as a protective film for the touch panel electrodes. That is, the photosensitive composition layer contained in the transfer film is preferably used for forming the touch panel electrode protective film.
  • the touch panel electrode includes not only the sensor electrode of the touch sensor but also the lead-out wiring.
  • the present invention will be described in more detail with reference to examples.
  • the materials, amounts used, ratios, treatment contents, treatment procedures, etc. shown in the following examples may be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present disclosure. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.
  • "part” and “%” are based on mass.
  • the weight average molecular weight of the resin is the weight average molecular weight obtained in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC gel permeation chromatography
  • the theoretical acid value was used as the acid value.
  • V-601 was added 3 times every 1 hour. After that, it was reacted for another 3 hours. Then, it was diluted with 160.7 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 233.3 g of propylene glycol monomethyl ether. The temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C. under an air flow, and 1.8 g of tetraethylammonium bromide and 0.86 g of p-methoxyphenol were added. 71.9 g of glycidyl methacrylate (NOF Corporation Blemmer GH) was added dropwise to this over 20 minutes. This was reacted at 100 ° C.
  • NOF Corporation Blemmer GH glycidyl methacrylate
  • alkali-soluble resin A-1 (see the structural formula described later).
  • the solid content concentration of the obtained solution was 36.2% by mass.
  • the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene in GPC was 17,000, the dispersity was 2.3, and the acid value of the alkali-soluble resin was 124 mgKOH / g.
  • the amount of residual monomer measured by gas chromatography was less than 0.1% by mass with respect to the solid content of the alkali-soluble resin in any of the monomers.
  • the alkali-soluble resin is the same as the synthesis of the alkali-soluble resin A-1, except that the type of the monomer for obtaining each structural unit contained in the alkali-soluble resin and the content of each structural unit are appropriately changed.
  • A-3 to A-6 were synthesized.
  • the amount of residual monomer measured by gas chromatography was less than 0.1% by mass with respect to the solid content of the alkali-soluble resin in any of the monomers.
  • the alkali-soluble resin is the same as the synthesis of the alkali-soluble resin A-2, except that the type of the monomer for obtaining each structural unit contained in the alkali-soluble resin and the content of each structural unit are appropriately changed.
  • A-7 was synthesized. The amount of residual monomer measured by gas chromatography was less than 0.1% by mass with respect to the solid content of the alkali-soluble resin in any of the monomers.
  • ⁇ Second block isocyanate compound> As the second block isocyanate compound, Duranate TPA-B80E (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., NCO value: 3.9 mmol / g) was used.
  • the photosensitive compositions A-1 to A-41 and B-1 to B-4 were prepared so that the composition of the solid content was as shown in Table 1 below.
  • Table 1 the numerical value of each component represents the content (solid content mass) of each component.
  • (Polymerizable compound) -A-DCP Product name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., tricyclodecanedimethanol diacrylate-A-NOD-N: Product name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 1,9-nonanediol diacrylate-DPHA: Product name , Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Dipentaerythritol hexaacrylate TO-2349: Aronix TO-2349, Toagosei Co., Ltd., 5-6 functional monomer (having a carboxy group) obtained by modifying dipentaerythritol polyacrylate with succinic acid.
  • the structures of the specific polymerization initiators I-1 to I-11 and II-1 to II-3 are as follows.
  • the specific polymerization initiators I-1 to I-6 and II-1 to II-2 were synthesized with reference to the method described in European Patent No. 88050.
  • the Specified Polymerization Initiators I-7 to I-10 were synthesized with reference to the method described in International Publication No. 2016-017537.
  • the specific polymerization initiator I-11 was synthesized by referring to the method described in Journal of American Chemical Society, 1961, vol. 83, p. 1237-1240.
  • the Specified Polymerization Initiator II-3 was synthesized with reference to the method described in JP-A-2016-079157.
  • OXE-02 IRGACURE OXE-02, manufactured by BASF, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl] etanone-1- (O-acetyloxime)
  • OXE-03 IRGACURE OXE-03, manufactured by BASF, 8- [5- (2,4,6-trimethylphenyl) -11- (2-ethylhexyl) -11H-benzo [a] carbazoyl] [2- ( 2,2,3,3-Tetrafluoropropoxy) Phenyl] Metanon- (O-Acetyloxime) Omnirad-907: Product Name, IGM Resins B.I. V. Made by the company, see the formula below
  • the above-mentioned photosensitive composition is applied onto a polyethylene terephthalate film (Toray Industries, Inc., 16KS40) (temporary support) having a thickness of 16 ⁇ m after adjusting the thickness to 5 ⁇ m after drying. Then, it was dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive composition layer.
  • a polyethylene terephthalate film Toray Industries, Inc., 16KS40
  • the coating liquid for forming a refractive index adjusting layer having the following composition was applied onto the photosensitive composition layer after adjusting the thickness to 70 nm after drying, and dried at 80 ° C. for 1 minute. Further, it was dried at 110 ° C. for 1 minute to form a refractive index adjusting layer arranged in direct contact with the photosensitive composition layer.
  • the refractive index of the refractive index adjusting layer was 1.69.
  • the photosensitive composition layer and the refractive index adjusting layer arranged in direct contact with the photosensitive composition layer are provided on the temporary support obtained as described above.
  • a polyethylene terephthalate film (protective film) having a thickness of 16 ⁇ m was pressure-bonded onto the refractive index adjusting layer to prepare a transfer film.
  • the laminating conditions were a lamirol temperature of 110 ° C., a linear pressure of 3 N / cm, and a transport speed of 2 m / min. Then, using a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp, both sides were exposed on the entire surface with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (i-line) via a temporary support. After peeling off the temporary supports on both sides, the photosensitive composition layer was cured by further double-sided exposure with an exposure amount of 400 mJ / cm 2 (i-line) and then post-baking at 145 ° C. for 30 minutes. A cured film was formed.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a state of a sample for bending resistance evaluation in bending resistance evaluation.
  • the bending resistance evaluation sample obtained above was cut into a rectangle of 5 cm ⁇ 12 cm.
  • a weight 104 of 100 g is attached to one of the short sides and weighted so as to be in contact with the metal rod 106 having a diameter of d mm at an angle of 90 °. It was retained (state of sample 102 for bending resistance evaluation in FIG. 1).
  • the bending resistance evaluation sample is bent to a state in which the bending resistance evaluation sample 102 is bent 180 ° so as to be wound around the metal rod 106 (the state of the bending resistance evaluation sample 102A after bending in FIG. 1).
  • the movement to return to the original position (reciprocating direction D) was reciprocated 10 times, and the presence or absence of cracks on the surface of the sample was visually confirmed.
  • the above operation was performed while changing the diameter d of the metal rod 106, and the smallest d at which cracks did not occur was obtained.
  • A has the best bending resistance.
  • a or B is preferable, and A is more preferable.
  • A: The smallest d that does not generate cracks is 2 mm or less
  • B: The smallest d that does not generate cracks is larger than 2 mm and 3 mm or less
  • C The smallest d that does not generate cracks is larger than 3 mm
  • a photosensitive composition layer having a thickness of 8 ⁇ m is formed by applying a photosensitive composition on a polyethylene terephthalate (PET) film (temporary support) having a thickness of 75 ⁇ m using a slit-shaped nozzle and then drying the film. It was formed and a transfer film for sample preparation was obtained.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a transfer film for sample preparation was laminated on a PTFE (tetrafluoroethylene resin) membrane filter FP-100-100 manufactured by Sumitomo Electric, and "temporary support / photosensitive composition layer with a thickness of 8 ⁇ m / membrane filter".
  • a laminated body B-1 having a layered structure of No. 1 was formed.
  • the laminating conditions were a membrane filter temperature of 40 ° C., a lamilol temperature of 110 ° C., a linear pressure of 3 N / cm, and a transport speed of 2 m / min.
  • the temporary support was peeled off from the laminated body B-1.
  • a transfer film for sample preparation was further laminated on the exposed photosensitive composition layer of the laminated body B-1, and the temporary support was peeled off from the obtained laminated body four times.
  • a laminated body B-2 having a laminated structure of "a photosensitive composition layer / membrane filter having a thickness of 40 ⁇ m" was formed.
  • the photosensitive composition layer of the obtained laminate B-2 was completely exposed using a high-pressure mercury lamp.
  • the integrated exposure amount measured with a 365 nm illuminometer was 375 mJ / cm 2 .
  • the exposed laminate was post-baked in an oven at 140 ° C. for 30 minutes to cure the photosensitive composition layer to form a cured film. In this way, a sample for measuring moisture permeability having a laminated structure of "cured film / membrane filter having a thickness of 40 ⁇ m" was obtained.
  • the moisture permeability was measured by the cup method with reference to JIS-Z-0208 (1976). The details will be described below.
  • a circular sample having a diameter of 70 mm was cut out from the sample for measuring moisture permeability.
  • a measuring cup with a lid was prepared by putting 20 g of dried calcium chloride in the measuring cup and then covering with the above circular sample. This measuring cup with a lid was left in a constant temperature and humidity chamber at 65 ° C. and 90% RH for 24 hours.
  • the water vapor transmission rate (WVTR) (unit: g / (m 2 ⁇ day)) of the circular sample was calculated from the mass change of the measuring cup with a lid before and after the standing.
  • the above measurement was carried out three times, and the average value of WVTR in the three measurements was calculated.
  • the moisture vapor transmission rate was evaluated based on the reduction rate (%) of the WVTR of each example when the WVTR of Comparative Example 1 was set to 100%. It should be noted that the larger the value of the reduction rate, the lower the moisture permeability as compared with Comparative Example 1, which is preferable as a protective film. In the following evaluation criteria, A or B is preferable, and A is more preferable.
  • the WVTR of a circular sample having a laminated structure of "cured film / membrane filter having a thickness of 40 ⁇ m" was measured. However, since the WVTR of the membrane filter is extremely high as compared with the WVTR of the photosensitive composition layer after exposure, in the above measurement, the WVTR of the cured film itself is substantially measured.
  • WVTR reduction rate is 40% or more
  • a transfer film was produced by performing the same operation as the above-mentioned evaluation of bending resistance. By peeling the cover film from the obtained transfer film and laminating it on the glass on which ITO (indium tin oxide) is laminated, the photosensitive composition layer of the transfer film is transferred to the surface of the ITO substrate, and the "temporary support" is obtained.
  • the laminating conditions were a touch panel substrate temperature of 40 ° C., a rubber roller temperature (that is, laminating temperature) of 110 ° C., a linear pressure of 3 N / cm, and a transport speed of 2 m / min.
  • ITO is a film that assumes an electrode of a touch panel.
  • the laminate property was good.
  • the obtained laminate C was exposed to an exposure amount of 100 mJ via a temporary support using a proximity type exposure machine [manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.] having an ultra-high pressure mercury lamp without using an exposure mask. The entire surface was exposed at / cm 2 (i-line).
  • the temporary support was peeled off from the laminated body after full exposure to obtain a sample after exposure.
  • a cross-cut test was carried out on the sample for ITO adhesion measurement according to the method of ASTM D3359-17.
  • the part peeled off from the copper substrate was confirmed, and if it was confirmed, the area was measured.
  • the adhesion to the ITO substrate after exposure was evaluated according to the following evaluation criteria.
  • the "area ratio of the portion peeled off from the substrate” is a value (unit:%) obtained by the following formula.
  • A indicates the case where the adhesion to the substrate is the best
  • F indicates the case where the adhesion to the substrate is the worst. If the evaluation result is either A or B, it is determined that the evaluation result is within a practically acceptable range.
  • A No part peeled off from the substrate was confirmed.
  • B The area ratio of the portion peeled off from the substrate was less than 5%.
  • C The area ratio of the portion peeled off from the substrate was 5% or more.
  • Table 1 shows the results of the above evaluation tests.
  • the photosensitive composition layer is an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and specific polymerization initiation. Including agents It was shown that when the content of the specific polymerization initiator in the photosensitive composition layer is 0.1 to 3.0% by mass, a cured film having excellent bending resistance and capable of suppressing yellowing can be formed (). Example).
  • a specific polymerization initiator is an initiator of the formula I, a group X1 in Formula I is represented by R 12, R 12 is a substituent It was shown that the aryl group, which may be used, has better bending resistance of the cured film.
  • the polymerization initiator is a polymerization initiator represented by the formula I (Examples 1-11), using X 1 of formula I is a specific polymerization initiator is a group having an aromatic ring (Example 3, 5, 7-11), it was shown that the ITO adhesion is more excellent.
  • the polymerizable compound has an aliphatic ring which may contain an oxygen atom or a nitrogen atom in the ring, and an ethylenically unsaturated group is contained in one molecule. It was shown that the bending resistance is more excellent when the (meth) acrylate compound having two or more of the above is contained (Example 11). From the comparison between Examples 31 and 32, when the polymerizable compound contains a (meth) acrylate compound having two ethylenically unsaturated groups in one molecule, further, an ethylenically unsaturated group is contained in one molecule.
  • the polymerizable compound has a (meth) acrylate compound having two ethylenically unsaturated groups in one molecule and three to six ethylenically unsaturated groups in one molecule ().
  • a meta) acrylate compound Examples 29, 31 and 32
  • Example 11 From the comparison between Example 11 and Example 38, it was shown that the bending resistance was more excellent when the first blocked isocyanate compound was contained (Example 11).
  • a substrate having an ITO transparent electrode pattern and copper routing wiring formed on a polyimide transparent film was prepared.
  • the same operation as in the evaluation of bending resistance described above was performed to peel off the protective film of the produced transfer film of each example, and the ITO transparent electrode pattern and the copper routing wiring were laminated at a position covered by the transfer film.
  • Lamination was performed using a vacuum laminator manufactured by MCK under the conditions of a cycloolefin transparent film temperature: 40 ° C., a rubber roller temperature of 100 ° C., a linear pressure of 3 N / cm, and a transport speed of 2 m / min.
  • the surface of the exposure mask (quartz exposure mask having a pattern for forming an overcoat) surface and the temporary support were brought into close contact with each other.
  • the pattern was exposed with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (i-line) via the temporary support.
  • development treatment was carried out at 26 ° C. with a 1% sodium carbonate aqueous solution for 65 seconds to form a cured film pattern.
  • ultrapure water was sprayed onto the developed transparent film substrate from an ultrahigh pressure washing nozzle.
  • a liquid crystal display device provided with a touch panel was manufactured by attaching the manufactured touch panel to a liquid crystal display element manufactured by the method described in paragraphs 097 to 0119 of JP2009-47936A. It was confirmed that the liquid crystal display device equipped with a touch panel has excellent display characteristics and the touch panel operates without problems.

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Abstract

本発明の課題は、透湿性が低く、かつ、曲げ耐性に優れた硬化膜を形成できる転写フィルムの提供である。また、本発明の課題は、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法の提供にもある。本発明の転写フィルムは、仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、感光性組成物層が、アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、式Ｉ又は式ＩＩで表される重合開始剤と、を含み、重合開始剤の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０．１～３．０質量％である。Ｘ１は、－Ｓ－Ｒ１１で表される基又は－Ｒ１２で表される基、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に炭素数２以上の１価の有機基、Ｘ２はｎ価の連結基、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１及びＺ２は置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基、Ｘ３は１価の置換基、ｍは０～３の整数、ｎは２又は３である。

Description

転写フィルム及び積層体の製造方法
　本発明は、転写フィルム及び積層体の製造方法に関する。
　光の照射によって硬化する感光性組成物は、多様な用途に用いられる。例えば、特許文献１では、重合開始剤である特定構造のα－アミノアルキルフェノン化合物と、硬化性樹脂と、希釈剤と、充填剤とを含む組成物を、ソルダーレジストの形成に用いることが開示されている。
特開２０１６－９０８５７号公報
　近年、所定のパターンを得るための工程数が少ないことから、転写フィルムを用いて任意の基板上に設けた感光性組成物層に対して、マスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。
　ここで、感光性組成物層を露光及び現像して得られた硬化膜を、タッチパネル中のセンサー電極及び引き出し配線を保護するための保護膜（タッチパネル電極保護膜）として用いる場合がある。
　本発明者らが、特許文献１の記載を参考にして得られた感光性組成物を用いて、感光性組成物層を有する転写フィルムを作製した後、感光性組成物層を露光及び現像して硬化膜を作製したところ、硬化膜の透湿性が高い場合や、曲げ耐性が不十分な場合があり、改善の余地があることを見出した。
　そこで、本発明は、透湿性が低く、かつ、曲げ耐性に優れた硬化膜を形成できる転写フィルムの提供を課題とする。また、本発明は、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法の提供も課題とする。
　本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
［１］
　仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、
　上記感光性組成物層が、アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、後述の式Ｉ又は後述の式ＩＩで表される重合開始剤と、を含み、
　上記重合開始剤の含有量が、上記感光性組成物層の全質量に対して、０．１～３．０質量％である、転写フィルム。
　後述の式Ｉ中、Ｘ１は、－Ｓ－Ｒ１１で表される基、又は、－Ｒ１２で表される基を表す。Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、炭素数２以上の１価の有機基を表す。
　後述の式ＩＩ中、Ｘ２は、ｎ価の連結基を表す。
　後述の式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
　後述の式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。ただし、Ｚ１及びＺ２が置換基を有していてもよいアルキル基である場合、Ｚ１とＺ２とが連結して環を形成していてもよい。
　後述の式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｘ３は、１価の置換基である。
　後述の式Ｉ及び式ＩＩ中、ｍは、０～３の整数を表す。ｍが２以上である場合、複数のＸ３は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
　後述の式ＩＩ中、ｎは、２又は３である。
［２］
　後述の式Ｉ中、Ｘ１が芳香環を有する基である、［１］に記載の転写フィルム。
［３］
　上記感光性組成物層が、上記式Ｉで表される重合開始剤及び上記式ＩＩで表される重合開始剤以外の重合開始剤を更に含む、［１］又は［２］に記載の転写フィルム。
［４］
　上記感光性組成物層における、上記式Ｉで表される重合開始剤及び上記式ＩＩで表される重合開始剤以外の重合開始剤の含有量に対する、上記式Ｉで表される重合開始剤及び上記式ＩＩで表される重合開始剤の合計含有量の質量比が、０．５～１０である、［３］に記載の転写フィルム。
［５］
　上記重合性化合物が、環内に酸素原子又は窒素原子を含んでいてもよい脂肪族環を有し、かつ、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する（メタ）アクリレート化合物を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の転写フィルム。
［６］
　上記重合性化合物が、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ有する（メタ）アクリレート化合物と、一分子中にエチレン性不飽和基を３～６つ有する（メタ）アクリレート化合物と、を含む、［１］～［５］のいずれかに記載の転写フィルム。
［７］
　上記アルカリ可溶性樹脂が、芳香環を有する構造単位及び脂肪族環を有する構造単位の少なくとも一方の構造単位を含む、［１］～［６］のいずれかに記載の転写フィルム。
［８］
　上記アルカリ可溶性樹脂が、ラジカル重合性基を有する構造単位を含む、［１］～［７］のいずれかに記載の転写フィルム。
［９］
　上記感光性組成物層が更にブロックイソシアネート化合物を含む、［１］～［８］のいずれかに記載の転写フィルム。
［１０］
　更に屈折率調整層を含み、
　上記屈折率調整層が上記感光性組成物層に接して配置され、
　上記屈折率調整層の屈折率が１．６０以上である、［１］～［９］のいずれかに記載の転写フィルム。
［１１］
　上記感光性組成物層が、タッチパネル電極保護膜の形成に用いられる、［１］～［１０］のいずれかに記載の転写フィルム。
［１２］
　［１］～［１１］のいずれかに記載の転写フィルムの上記仮支持体上の上記感光性組成物層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせ、上記基板、上記導電層、上記感光性組成物層、及び、上記仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
　上記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された上記感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、上記貼合工程と上記露光工程との間、又は、上記露光工程と上記現像工程との間に、上記感光性組成物層付き基板から上記仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
　本発明によれば、透湿性が低く、かつ、曲げ耐性に優れた硬化膜を形成できる転写フィルムの提供できる。また、本発明によれば、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法も提供できる。
曲げ耐性評価における曲げ耐性評価用試料の状態を示す断面模式図である。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
　本明細書において、「透明」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。
　また、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。
　本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　本開示において、特段の断りが無い限り、分子量分布が有る化合物の分子量は、重量平均分子量である。
　また、本明細書において、屈折率は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍでエリプソメーターによって測定される値である。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロキシ基」は、アクリロキシ基及びメタアクリロキシ基の両方を包含する概念である。
〔転写フィルム〕
　本発明の転写フィルムは、仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、上記感光性組成物層が、アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、後述の式Ｉ又は式ＩＩで表される重合開始剤（以下、「特定重合開始剤」ともいう。）と、を含み、上記重合開始剤の含有量が上記感光性組成物層の全質量に対して０．１～３．０質量％である。
　ここで、詳細は後述するが、本発明の転写フィルムを用いた硬化膜の形成方法としては、導電層（センサー電極及び引き出し配線等）を有する基板等に転写フィルムを接触させて貼り合わせた後、転写フィルムが有する感光性組成物層のパターン露光、現像及びポストベーク等の工程を経て、硬化膜（パターン状の保護膜）を形成する方法が挙げられる。
　このように得られた硬化膜は、透湿性が低く、かつ、曲げ耐性に優れる。この理由の詳細は明らかではないが、後述の実施例欄でも示されるように、感光性組成物層中の特定重合開始剤の含有量が影響しているものと推測される。
　本発明の転写フィルムは、種々の用途に適用できる。例えば、電極保護膜、絶縁膜、平坦化膜、オーバーコート膜、ハードコート膜、パッシベーション膜、隔壁、スペーサ、マイクロレンズ、光学フィルター、反射防止膜、エッチングレジスト、及びめっき部材などに適用できる。
　より具体的な例として、タッチパネル電極の保護膜又は絶縁膜、プリント配線板の保護膜又は絶縁膜、ＴＦＴ基板の保護膜又は絶縁膜、カラーフィルター、カラーフィルター用オーバーコート膜、配線形成のためのエッチングレジスト、めっきの際の犠牲層等を挙げることができる。
　後述する貼合工程における気泡発生抑止の観点から、転写フィルムのうねりの最大幅は、３００μｍ以下であることが好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下が更に好ましい。なお、うねりの最大幅の下限値としては、０μｍ以上であり、０．１μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。
　転写フィルムのうねりの最大幅は、以下の手順により測定される値である。
　まず、転写フィルムを縦２０ｃｍ×横２０ｃｍのサイズとなるように主面に垂直な方向に裁断し、試験サンプルを作製する。なお、転写フィルムが保護フィルムを有する場合には、保護フィルムを剥離する。次いで、表面が平滑で且つ水平なステージ上に、上記試験サンプルを仮支持体の表面がステージに対向するように静置する。静置後、試験サンプルの中心１０ｃｍ角の範囲について、試料サンプルの表面をレーザー顕微鏡（例えば、（株）キーエンス社製　ＶＫ－９７００ＳＰ）で走査して３次元表面画像を取得し、得られた３次元表面画像で観察される最大凸高さから最低凹高さを引き算する。上記操作を１０個の試験サンプルについて行い、その算術平均値を「転写フィルムのうねり最大幅」とする。　
　以下、転写フィルムを構成する各部材について説明する。
＜仮支持体＞
　転写フィルムは、仮支持体を有する。仮支持体は、後述する感光性組成物層等を支持する部材であり、最終的には剥離処理により除去される。
　仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮、又は伸びを生じないフィルムを用いることができる。
　このようなフィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　これらの中でも、仮支持体としては、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
　また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、及び、傷等がないことが好ましい。
　仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという点から、透明性が高いことが好ましく、３６５ｎｍの透過率は６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が更に好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物及び欠陥の数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子、異物及び欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ２以下が好ましく、１０個／１０ｍｍ２以下がより好ましく、３個／１０ｍｍ２以下が更に好ましく、０個／１０ｍｍ２が特に好ましい。
　仮支持体の厚みは特に制限されないが、５～２００μｍが好ましく、取り扱いやすさ及び汎用性の点から、１０～１５０μｍがより好ましく、１０～５０μｍが更に好ましい。
　仮支持体の表面に、ハンドリング性を付与する点で、微小な粒子を含有する層（滑剤層）を設けてもよい。滑剤層は仮支持体の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。滑剤層に含まれる粒子の直径は、０．０５～０．８μｍとすることができる。また、滑剤層の膜厚は０．０５～１．０μｍとすることができる。
　仮支持体としては、例えば、膜厚１６μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、膜厚１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、及び、膜厚９μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。
　仮支持体の好ましい形態としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［００１７］～［００１８］、特開２０１６－０２７３６３号公報の段落［００１９］～［００２６］、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落［００４１］～［００５７］、及び、国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落［００２９］～［００４０］に記載があり、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　仮支持体の市販品としては、ルミラー１６ＫＳ４０、ルミラー１６ＦＢ４０(以上、東レ株式会社製)、コスモシャインＡ４１００、コスモシャインＡ４３００、コスモシャインＡ８３００（以上、東洋紡株式会社製）を挙げることができる。
＜感光性組成物層＞
　転写フィルムは、感光性組成物層を有する。感光性組成物層を被転写物上に転写した後、露光及び現像を行うことにより、被転写物上にパターンを形成できる。
　感光性組成物層は、アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、特定重合開始剤とを含む。
　感光性組成物層としては、ポジ型であっても、ネガ型であってもよい。
　なお、ポジ型感光性組成物層とは、露光により露光部が現像液に対する溶解性が高くなる感光性組成物層であり、ネガ型感光性組成物層とは、露光により露光部が現像液に対する溶解性が低下する感光性組成物層である。
　なかでも、ネガ型感光性組成物層を用いることが好ましい。感光性組成物層がネガ型感光性組成物層である場合、形成されるパターンは硬化膜に該当する。
　以下、ネガ型感光性組成物層に含まれる成分について詳述する。
［重合性化合物］
　感光性組成物層は、重合性化合物を含む。
　重合性化合物は、重合性基を有する化合物である。重合性基としては、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。
　重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（以下、単に「エチレン性不飽和化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロキシ基が好ましい。
　エチレン性不飽和化合物は、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。ここで、「２官能以上のエチレン性不飽和化合物」とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、例えば、硬化後の膜強度の点から、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）とを含むことが好ましい。
　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　２官能のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業株式会社〕、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート〔商品名：ＮＫエステル　ＤＣＰ、新中村化学工業株式会社〕、１，９－ノナンジオールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社〕、１，１０－デカンジオールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＯＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社〕、及び、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社〕、ジオキサングリコールジアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ－６０４）が挙げられる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、及び、グリセリントリ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及び、ヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念である。また、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、官能基数の上限に特に制限はないが、例えば、２０官能以下とすることができ、１５官能以下とすることもできる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート〔商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、日本化薬株式会社〕が挙げられる。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物〔日本化薬株式会社のＫＡＹＡＲＡＤ（商品名）　ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業株式会社のＡ－９３００－１ＣＬ等〕、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物〔日本化薬株式会社のＫＡＹＡＲＡＤ（商品名）　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業株式会社のＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社のＥＢＥＣＲＹＬ（商品名）　１３５等〕、及び、エトキシル化グリセリントリアクリレート〔新中村化学工業株式会社のＮＫエステル　Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等〕も挙げられる。
　エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物も挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物が好ましい。３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ〔大成ファインケミカル株式会社〕、ＮＫエステル　ＵＡ－３２Ｐ〔新中村化学工業株式会社〕、及び、ＮＫエステル　ＵＡ－１１００Ｈ〔新中村化学工業株式会社〕が挙げられる。
　エチレン性不飽和化合物は、現像性向上の点から、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
　酸基としては、例えば、リン酸基、スルホン酸基、及び、カルボキシ基が挙げられる。上記の中でも、酸基としては、カルボキシ基が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、酸基を有する３～４官能のエチレン性不飽和化合物〔ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入した化合物（酸価：８０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕、及び、酸基を有する５～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入した化合物〔酸価：２５～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕が挙げられる。酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、そのカルボン酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。酸基を有するエチレン性不飽和化合物が、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、そのカルボン酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であると、現像性及び膜強度がより高まる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、アロニックス（商品名）　ＴＯ－２３４９〔東亞合成社〕、アロニックス（商品名）　Ｍ－５２０〔東亞合成社〕、及び、アロニックス（商品名）　Ｍ－５１０〔東亞合成社〕が挙げられる。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落［００２５］～［００３０］に記載の酸基を有する重合性化合物を好ましく用いることができ、この公報に記載の内容は参照により本明細書に組み込まれる。
　エチレン性不飽和化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
　エチレン性不飽和化合物のうち、分子量３００以下のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の含有量に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。
　感光性組成物層は、１種単独の重合性化合物を含んでいてもよく、２種以上の重合性化合物を含んでいてもよい。
　重合性化合物（好ましくはエチレン性不飽和化合物）の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１～７０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましく、２０～５０質量％が特に好ましい。
　感光性組成物層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含む場合、更に単官能エチレン性不飽和化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含む場合、２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、感光性組成物層に含まれるエチレン性不飽和化合物において主成分であることが好ましい。
　感光性組成物層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含む場合、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の含有量に対して、６０～１００質量％が好ましく、８０～１００質量％がより好ましく、９０～１００質量％が更に好ましい。
　感光性組成物層が酸基を有するエチレン性不飽和化合物（好ましくは、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物又はそのカルボン酸無水物）を含む場合、酸基を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、１～１０質量％が更に好ましい。
　重合性化合物の好適態様の一つとしては、環内に酸素原子又は窒素原子を含んでいてもよい脂肪族環を有し、かつ、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する（メタ）アクリレート化合物（以下、「脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物」ともいう。）を含む態様が挙げられる。これにより、本発明の効果がより優れる。
　脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物の官能基数は、本発明の効果がより優れる点から、２～１０が好ましく、２～５がより好ましく、２又は３が更に好ましく、２が特に好ましい。
　脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物において、脂肪族環は、環内に酸素原子又は窒素原子を含んでいてもよいが、本発明の効果がより優れる点から、環内に酸素原子及び窒素原子を含まないことが好ましい。
　脂肪族環の炭素数は、本発明の効果がより優れる点から、３～２０が好ましく、５～１５がより好ましく、５～１２が更に好ましい。
　脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　重合性化合物は、１種単独の脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物を含んでいてもよく、２種以上の脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物を含んでいてもよい。
　重合性化合物が脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物を含む場合、脂肪族環を有する２官能以上の（メタ）アクリレート化合物の含有量は、感光性組成物層中の重合性化合物の全質量に対して、本発明の効果がより優れる点から、５～８０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が特に好ましい。
　重合性化合物の好適態様の一つしては、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ有する（メタ）アクリレート化合物（以下、「２官能の（メタ）アクリレート化合物」ともいう。）と、一分子中にエチレン性不飽和基を３～６つ有する（メタ）アクリレート化合物（以下、「３～６官能の（メタ）アクリレート化合物」ともいう。）と、を含む態様が挙げられる。これにより、曲げ耐性及び透湿性低減の少なくとも一方がより優れる。
　２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、上述の２官能のエチレン性不飽和化合物、及び、上述の酸基を有するエチレン性不飽和化合物のうち２官能である化合物が挙げられる。
　３～６官能の（メタ）アクリレート化合物としては、上述の３官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、上述の酸基を有するエチレン性不飽和化合物のうち３～６官能である化合物が挙げられる。
　重合性化合物は、１種単独の２官能の（メタ）アクリレート化合物を含んでいてもよく、２種以上の２官能の（メタ）アクリレート化合物を含んでいてもよい。
　また、重合性化合物は、１種単独の３～６官能の（メタ）アクリレート化合物を含んでいてもよく、２種以上の３～６官能の（メタ）アクリレート化合物を含んでいてもよい。
　重合性化合物が２官能の（メタ）アクリレート化合物と３～６官能の（メタ）アクリレート化合物とを含む場合、２官能の（メタ）アクリレート化合物の含有量は、感光性組成物層中の重合性化合物の全質量に対して、本発明の効果がより優れる点から、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、３０～７０質量％が特に好ましい。
　重合性化合物が２官能の（メタ）アクリレート化合物と３～６官能の（メタ）アクリレート化合物とを含む場合、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物の含有量は、感光性組成物層中の重合性化合物の全質量に対して、本発明の効果がより優れる点から、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、３０～７０質量％が特に好ましい。
　重合性化合物が２官能の（メタ）アクリレート化合物と３～６官能の（メタ）アクリレート化合物とを含む場合、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物の含有量に対する、２官能の（メタ）アクリレート化合物の含有量の質量比（２官能の（メタ）アクリレート化合物／３～６官能の（メタ）アクリレート化合物）は、本発明の効果がより優れる点から１／９～９／１が好ましく、２／８～８／２がより好ましく、３／７～７／３が更に好ましい。
［特定重合開始剤］
　感光性組成物層は、光重合開始剤である特定重合開始剤を含む。特定重合開始剤は、下記式Ｉ又は下記式ＩＩで表される重合開始剤である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式Ｉ中、Ｘ１は、－Ｓ－Ｒ１１で表される基、又は、－Ｒ１２で表される基を表す。
　Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、炭素数２以上の１価の有機基を表す。Ｒ１１及びＲ１２における１価の有機基の炭素数は、２以上であり、２～２０が好ましく、３～１５がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒ１１及びＲ１２における１価の有機基の具体例としては、置換基を有していてもよいアルキル基、及び、置換基を有していてもよいアリール基が挙げられる。
　Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアルキル基において、アルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状であってもよい。
　Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアルキル基において、置換基としては、アリール基（好ましくはフェニル基）、水酸基、ビニル基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３のアルコキシ基）、アルコキシカルボニル基（すなわち、Ｒ１１－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－で表される基。Ｒ１１はアルキル基を表し、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。）、アシルオキシ基（すなわち、Ｒ１２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基。Ｒ１２はアルキル基を表し、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。）、ヒドロキシアルキルオキシ基（ＨＯ－Ｒ１３－Ｏ－で表される基。Ｒ１３はアルキレン基を表し、炭素数１～４のアルキレン基が好ましい。）、アミノ基（例えば、－ＮＨ２、－ＮＲ１４、－ＮＲ１５Ｒ１６が挙げられる。Ｒ１４～Ｒ１６はそれぞれ独立に、炭素数１～３のアルキル基を表す。）、アルコキシカルボニルオキシ基（すなわち、Ｒ１７－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－で表される基。Ｒ１７はアルキル基を表し、炭素数１～５のアルキル基が好ましい。）、Ｃ６Ｈ５－Ｒ１８－Ｏ－で表される基（Ｒ１８はアルキレン基を表し、炭素数１～４のアルキレン基が好ましい。）、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。
　Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアリール基において、アリール基は、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フェニル基及びナフチル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。
　Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアリール基において、置換基としては、アルキル基（好ましくは、炭素数１～５のアルキル基）、水酸基、ビニル基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３のアルコキシ基）、アルコキシカルボニル基（すなわち、Ｒ１１－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－で表される基。Ｒ１１はアルキル基を表し、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。）、アシルオキシ基（すなわち、Ｒ１２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基。Ｒ１２はアルキル基を表し、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。）、ヒドロキシアルキルオキシ基（ＨＯ－Ｒ１３－Ｏ－で表される基。Ｒ１３はアルキレン基を表し、炭素数１～４のアルキレン基が好ましい。）、アミノ基（例えば、－ＮＨ２、－ＮＲ１４、－ＮＲ１５Ｒ１６が挙げられる。Ｒ１４～Ｒ１６はそれぞれ独立に、炭素数１～３のアルキル基を表す。）、アルコキシカルボニルオキシ基（すなわち、Ｒ１７－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－で表される基。Ｒ１７はアルキル基を表し、炭素数１～５のアルキル基が好ましい。）、Ｃ６Ｈ５－Ｒ１８－Ｏ－で表される基（Ｒ１８はアルキレン基を表し、炭素数１～４のアルキレン基が好ましい。）、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。
　中でも、－Ｓ－Ｒ１１で表される基は、本発明の効果がより優れる点から、下記式で表される基であることが好ましい。式中、＊は、上記式Ｉにおけるベンゼン環との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　－Ｒ１２で表される基は、置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、アリール基（すなわち置換基を有しないアリール基）がより好ましく、フェニル基が更に好ましい。
　Ｘ１は、本発明の効果がより優れる点から、芳香環を有する基が好ましい。
　芳香環を有する基としては、Ｒ１１及びＲ１２が上述の置換基を有していてもよいアルキル基であって、その置換基がアリール基である基（すなわち、アリール基で置換されたアルキル基であること）、及び、Ｒ１１及びＲ１２が上述の置換基を有していてもよいアリール基である基が挙げられる。
　Ｘ１は、本発明の効果がより優れる点から、－Ｓ－Ｒ１１で表される基及び－Ｒ１２で表される基の中でも、－Ｒ１２で表される基が好ましい。
　式ＩＩ中、Ｘ２は、ｎ価の連結基を表す。ｎ価の連結基としては、硫黄原子（－Ｓ－）、酸素原子（－Ｏ－）、カルボニル基、炭化水素基、及び、これらの基又は原子を２つ以上結合した基が挙げられる。
　炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。
　脂肪族炭化水素基は、飽和であっても不飽和であってもよいが、飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。アルキレン基は、直鎖状、分岐状又は環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～８がより好ましい。
　芳香族炭化水素基は、単環であっても縮合環であってもよく、置換基を有していてもよい。芳香族炭化水素基は、２価の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
　Ｘ２は、本発明の効果がより優れる点から、硫黄原子を含む基が好ましく、硫黄原子、アルキレン基及び酸素原子を含む２価の基、硫黄原子、フェニレン基、アルキレン基及び酸素原子を含む２価の基、硫黄原子、フェニレン基、アルキレン基、酸素原子及びカルボニル基を含む２価の基、又は、硫黄原子であることがより好ましい。
　Ｘ２は、本発明の効果がより優れる点から、下記式で表される２価の基であることが好ましい。下記式中、＊は、式ＩＩにおけるベンゼン環との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
　Ｙ１及びＹ２における置換基を有していてもよいアルキル基において、アルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。また、アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましい。
　Ｙ１及びＹ２における置換基を有していてもよいアルキル基において、置換基の具体例としては、Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアルキル基の置換基の具体例と同様であるが、中でもフェニル基が好ましい。
　Ｙ１及びＹ２における置換基を有していてもよいアリール基において、アリール基は、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フェニル基及びナフチル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。
　Ｙ１及びＹ２における置換基を有していてもよいアリール基において、置換基としては、Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアリール基の置換基の具体例と同様であるが、中でもアルキル基が好ましい。
　Ｙ１及びＹ２は、本発明の効果がより優れる点から、メチル基、エチル基、ベンジル基又はｐ－トリルメチル基が好ましい。
　式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。ただし、Ｚ１及びＺ２が置換基を有していてもよいアルキル基である場合、Ｚ１とＺ２とが連結して環を形成していてもよい。
　Ｚ１及びＺ２における置換基を有していてもよいアルキル基において、アルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。また、アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましい。
　Ｚ１及びＺ２における置換基を有していてもよいアルキル基において、置換基の具体例としては、Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアルキル基の置換基の具体例と同様である。
　Ｚ１及びＺ２における置換基を有していてもよいアリール基において、アリール基は、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フェニル基及びナフチル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。
　Ｚ１及びＺ２における置換基を有していてもよいアリール基において、置換基としては、Ｒ１１及びＲ１２における置換基を有していてもよいアリール基の置換基の具体例と同様である。
　Ｚ１及びＺ２は、本発明の効果がより優れる点から、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましく、Ｚ１とＺ２とが連結して環を形成していることがより好ましい。
　Ｚ１とＺ２とが連結して形成された環は、式Ｉ及び式ＩＩにおける窒素原子を含む複素環であり、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等のヘテロ原子を環内に更に含んでいてよい。中でも、Ｚ１とＺ２とが連結して形成された環は、モルホリン環又はピぺリジン環であることが好ましく、モルホリン環であることがより好ましい。
　式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｘ３は、１価の置換基である。１価の置換基の具体例としては、水酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、又は、上述した式Ｉ中のＸ１で表される基が挙げられる。
　式Ｉ及び式ＩＩ中、ｍは、０～３の整数を表し、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
　ｍが２以上である場合、複数のＸ３は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式ＩＩ中、ｎは、２又は３であり、２が好ましい。
　特定重合開始剤の具体例を以下に示すが、特定重合開始剤はこれに限定されるわけではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　特定重合開始剤は、本発明の効果がより優れる点から、式Ｉで表される重合開始剤であることが好ましい。
　感光性組成物層は、１種単独の特定重合開始剤を含んでいてもよく、２種以上の特定重合開始剤を含んでいてもよい。
　特定重合開始剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．１～３．０質量％である。
　特定重合開始剤の含有量の下限は、導電層に対する密着性を向上できる点から、０．２質量％以上が好ましく、透湿性をより低減できる点から、０．３質量％以上がより好ましい。
　特定重合開始剤の含有量の上限は、導電層に対する密着性を向上できる点から、２．０質量％以下が好ましく、硬化膜の黄変を抑制できる点から、１．５質量％以下がより好ましく、曲げ耐性により優れる点から、１．０質量％以下が更に好ましい。
　特定重合開始剤は、その合成過程や原料等に由来する不純物を含み得る。不純物としては、例えば、未反応の原料、触媒、金属イオン、及び、ハロゲンイオン等が挙げられる。安定した性能を発揮する観点から、不純物の含有量は少ない方が好ましい。具体的には、特定重合開始剤の質量を基準として、不純物の含有量は１０００質量ｐｐｍ未満が好ましく、１００質量ｐｐｍ未満がより好ましく、１０質量ｐｐｍ未満が更に好ましく、１質量ｐｐｍ未満が特に好ましい。
［他の重合開始剤］
　感光性組成物層は、上述の特定重合開始剤以外の重合開始剤（以下、「他の重合開始剤」ともいう。）を含んでいてもよい。他の重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、及び、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）が挙げられる。
　光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。
　また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００３１］～［００４２］、及び、特開２０１５－０１４７８３号公報の段落［００６４］～［００８１］に記載された重合開始剤を用いてもよい。
　光重合開始剤の市販品としては、例えば、１－［４－（フェニルチオ）］フェニル－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製〕、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製〕、８－［５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１１－（２－エチルヘキシル）－１１Ｈ－ベンゾ［ａ］カルバゾイル］［２－（２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ）フェニル］メタノン－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　ＯＸＥ－０３、ＢＡＳＦ社製〕、１－［４－［４－（２－ベンゾフラニルカルボニル）フェニル］チオ］フェニル］－４－メチル－１－ペンタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　ＯＸＥ－０４、ＢＡＳＦ社製〕、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製〕、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　１２７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　３６９、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　１１７３、ＢＡＳＦ社製〕、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）　１８４、ＢＡＳＦ社製〕、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１、ＢＡＳＦ社製〕、オキシムエステル系の化合物〔商品名：Ｌｕｎａｒ（商品名）　６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製〕、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、及び、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）が挙げられる。
　感光性組成物層は、１種単独の他の重合開始剤を含んでいてもよく、２種以上の他の重合開始剤を含んでいてもよい。
　感光性組成物層は、本発明の効果がより優れる点で、特定重合開始剤と、他の重合開始剤とを含むことが好ましい。
　感光性組成物層が他の重合開始剤を含む場合、感光性組成物層における、他の重合開始剤の含有量に対する特定重合開始剤の含有量の質量比（特定重合開始剤の含有量／他の重合開始剤の含有量）は、本発明の効果がより優れる点で、０．５以上が好ましく、０．８以上がより好ましく、１．５以上が更に好ましく、１０以下が好ましく、６以下がより好ましく、５以下が更に好ましく、３以下が特に好ましい。
　感光性組成物層が他の重合開始剤を含む場合、他の重合開始剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．３質量％以上がより好ましい。また、他の重合開始剤の含有量の上限は、感光性組成物層の全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、３質量％以下が更に好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
［アルカリ可溶性樹脂］
　感光性組成物層は、アルカリ可溶性樹脂を含む。感光性組成物層がアルカリ可溶性樹脂を含むことで、現像液への感光性組成物層（非露光部）の溶解性が向上する。
　本開示において、「アルカリ可溶性」とは、以下の方法によって求められる溶解速度が０．０１μｍ／秒以上であることをいう。
　対象化合物（例えば、樹脂）の濃度が２５質量％であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液をガラス基板上に塗布し、次に、１００℃のオーブンで３分間加熱することによって上記対象化合物の塗膜（厚み２．０μｍ）を形成する。上記塗膜を炭酸ナトリウム１質量％水溶液（液温３０℃）に浸漬させることにより、上記塗膜の溶解速度（μｍ／秒）を求める。
　なお、対象化合物がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解しない場合は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以外の沸点２００℃未満の有機溶剤（例えば、テトラヒドロフラン、トルエン、又は、エタノール）に対象化合物を溶解させる。
　アルカリ可溶性樹脂は、芳香環を有する構造単位及び脂肪族環を有する構造単位から選ばれる少なくとも１種と、酸基を有する構造単位と、を含むことが好ましく、更にラジカル重合性基を有する構造単位を含むことがより好ましい。
（芳香環を有する構造単位）
　アルカリ可溶性樹脂は、芳香環を有する構造単位を含むことが好ましい。
　芳香環を有する構造単位は、側鎖に芳香環を有する（メタ）アクリレート構造単位、及び、ビニルベンゼン誘導体に由来する構造単位（以下、「ビニルベンゼン誘導体単位」ともいう。）が好ましい。
　側鎖に芳香環を有する（メタ）アクリレート構造単位を形成するためのモノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ビニルベンゼン誘導体単位としては、下記式（１）で表される単位（以下、「単位（１）」ともいう）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式（１）中、ｎは、０～５の整数を表す。式（１）中、Ｒ１は、置換基を表す。ｎが２以上である場合には、２つのＲ１が互いに結合して縮環構造を形成していてもよい。ｎが２以上の場合、Ｒ１は同一でも異なってもよい。
　Ｒ１で表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は水酸基が好ましい。
　Ｒ１の好ましい態様の一つであるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。
　Ｒ１の好ましい態様の一つであるアルキル基の炭素数としては、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～６がより好ましく、１～３が更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。
　Ｒ１の好ましい態様の一つであるアリール基の炭素数としては、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６～１０が更に好ましく、６が特に好ましい。
　Ｒ１の好ましい態様の一つであるアルコキシ基の炭素数としては、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～６がより好ましく、１～３が更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。
　Ｒ１１は、水素原子又はメチル基を表す。
　式（１）において、ｎとしては、０～２の整数が特に好ましい。
　式（１）において、ｎが２である場合において２つのＲ１が互いに結合することにより形成され得る縮環構造としては、ナフタレン環構造又はアントラセン環構造が好ましい。
　ビニルベンゼン誘導体単位を形成するためのモノマーとしては、スチレン、１－ビニルナフタレン、２－ビニルナフタレン、ビニルビフェニル、ビニルアントラセン、４－ヒドロキシスチレン、４－ブロモスチレン、４－メトキシスチレン、４－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、α－メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが特に好ましい。
　芳香環を有する構造単位としては、スチレンを用いて形成された構造単位が最も好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂が芳香環を有する構造単位を含む場合、芳香環を有する構造単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂に含まれる全ての構造単位の合計量に対して、配線及び電極の腐食を抑制できる点から、２５質量％以上が好ましく、３５質量％以上がより好ましく、４５質量％以上が更に好ましい。
　芳香環を有する構造単位の含有量の上限値は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂は、１種単独の芳香環を有する構造単位を含んでいてもよく、２種以上の芳香環を有する構造単位を含んでいてもよい。
　本開示において、「構造単位」の含有量を質量％で規定する場合、特に断りのない限り、上記「構造単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において、樹脂又は重合体が２種以上の特定の構造単位を有する場合、特に断りのない限り、上記特定の構造単位の含有量は、上記２種以上の特定の構造単位の総含有量を表すものとする。
（脂肪族環を有する構造単位）
　脂肪族環を有する構造単位としては、環状の脂肪族炭化水素基を有するアルキル（メタ）アクリレートを用いて形成された構造単位が挙げられる。環状の脂肪族炭化水素基は単環でも多環でもよい。
　環状の脂肪族炭化水素基を有するアルキル（メタ）アクリレートとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレ－ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１－アダマンチル（メタ）アクリレート等）が挙げられる。
　アルカリ可溶性樹脂が脂肪族環を有する構造単位を含む場合、脂肪族環を有する構造単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂に含まれる全ての構造単位の合計量に対して、配線及び電極の腐食を抑制できる点から、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。
　脂肪族環を有する構造単位の含有量の上限値は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。
（酸基を有する構造単位）
　アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有する構造単位（以下、「酸基含有単位」ともいう。）を含むことが好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂が酸基含有単位を含む場合、感光性組成物層はアルカリ可溶性を有する。
　酸基含有単位における酸基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、硫酸基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
　酸基含有単位としては、下記式（３）で表される単位（以下、「単位（３）」ともいう。）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式（３）において、Ｒ５は、水素原子又はアルキル基を表す。
　Ｒ５で表されるアルキル基の炭素数としては、１～３が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
　Ｒ５としては、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。
　酸基含有単位を形成するためのモノマーとして、特に好ましくは、（メタ）アクリル酸である。
　アルカリ可溶性樹脂が酸基含有単位を含む場合、酸基含有単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂に含まれる全ての構造単位の合計量に対して、配線及び電極の腐食を抑制できる点から、１０～４０質量％が好ましく、１５～３０質量％がより好ましく、１５～２５質量％が更に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂は、１種単独の酸基含有単位を含んでいてもよく、２種以上の酸基含有単位を含んでいてもよい。
（ラジカル重合性基を有する構造単位）
　アルカリ可溶性樹脂は、ラジカル重合性基を有する構造単位（以下、「ラジカル重合性基含有単位」ともいう。）を含むことが好ましい。これにより、透湿度をより低減できる。
　ラジカル重合性基含有単位において、ラジカル重合性基としては、エチレン性二重結合を有する基（以下、「エチレン性不飽和基」ともいう。）が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
　ラジカル重合性基含有単位としては、下記式（２）で表される単位（以下、「単位（２）」ともいう）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式（２）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌは、２価の連結基を表す。
　Ｒ２及びＲ３で表されるアルキル基の炭素数としては、それぞれ独立に、１～３が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
　Ｌで表される２価の連結基としては、カルボニル基（即ち、－Ｃ（＝Ｏ）－基）、酸素原子（即ち、－Ｏ－基）、アルキレン基、及びアリーレン基からなる群から選ばれる１つの基、又は、上記群から選ばれる２つ以上の基が連結されて形成される基が好ましい。
　アルキレン基又はアリーレン基は、それぞれ、置換基（例えば、１級水酸基以外の水酸基、ハロゲン原子、等）によって置換されていてもよい。
　Ｌで表される２価の連結基は、分岐構造を有していてもよい。
　Ｌで表される２価の連結基の炭素数としては、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～１０が更に好ましい。
　Ｌで表される２価の連結基としては、以下に示す基が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　上記の各基において、＊１は、式（２）中の主鎖に含まれる炭素原子との結合位置を表し、＊２は、式（２）において二重結合を形成している炭素原子との結合位置を表す。
　また、（Ｌ－５）において、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、１～６の整数を表す。
　ラジカル重合性基含有単位としては、（メタ）アクリル酸単位に対してエポキシ基含有モノマーが付加された構造単位、水酸基含有モノマー単位に対してイソシアネート基含有モノマーが付加された構造単位、等が挙げられる。
　エポキシ基含有モノマーとしては、総炭素数が５～２４であるエポキシ基含有（メタ）アクリレートが好ましく、総炭素数が５～１２であるエポキシ基含有（メタ）アクリレートがより好ましく、グリシジル（メタ）アクリレート又は３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートが更に好ましい。
　水酸基含有モノマー単位を形成するための水酸基含有モノマーとしては、総炭素数が４～２４であるヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、総炭素数が４～１２であるヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートがより好ましく、ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレートが更に好ましい。
　ここで、「（メタ）アクリル酸単位」とは、（メタ）アクリル酸に由来する構造単位を意味する。
　同様に、本明細書中において、モノマー名の直後に「単位」の語を付した用語（例えば「水酸基含有モノマー単位」）は、そのモノマー（例えば水酸基含有モノマー）に由来する構造単位を意味する。
　ラジカル重合性基含有単位として、より具体的には、
（メタ）アクリル酸単位に対してグリシジル（メタ）アクリレートが付加された構造単位、
（メタ）アクリル酸単位に対して（メタ）アクリル酸が付加された構造単位、
（メタ）アクリル酸単位に対して３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートが付加された構造単位、
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート単位に対して２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレートが付加された構造単位、
ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート単位に対して２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレートが付加された構造単位、
ヒドロキシスチレン単位に対して２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレートが付加された構造単位、等が挙げられる。
　ラジカル重合性基含有単位としては、
（メタ）アクリル酸単位に対して（メタ）アクリル酸グリシジルが付加された構造単位又は（メタ）アクリル酸単位に対して（メタ）アクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルメチルが付加された構造単位が更に好ましく、
メタクリル酸単位に対してメタクリル酸グリシジルが付加された構造単位又はメタクリル酸単位に対してメタクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルメチルが付加された構造単位が特に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂がラジカル重合性基含有単位を含む場合、ラジカル重合性基含有単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂に含まれる全ての構造単位の合計量に対して、配線及び電極の腐食を抑制できる点から、１０～６０質量％が好ましく、２０～５０質量％がより好ましく、２５～４０質量％が更に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂は、１種単独のラジカル重合性基含有単位を含んでいてもよく、２種以上のラジカル重合性基含有単位を含んでいてもよい。
（その他の構造単位）
　アルカリ可溶性樹脂は、上述した構造単位以外のその他の構造単位を含んでいてもよい。
　その他の構造単位は、水酸基を有しラジカル重合性基及び酸基のいずれも有しないアルキル（メタ）アクリレート構造単位、並びに、水酸基、ラジカル重合性基及び酸基のいずれも有しないアルキル（メタ）アクリレート構造単位が挙げられる。
　水酸基を有しラジカル重合性基及び酸基のいずれも有しないアルキル（メタ）アクリレート構造単位を形成するモノマーとしては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及び４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　水酸基、ラジカル重合性基及び酸基のいずれも有しないアルキル（メタ）アクリレート構造単位を形成するモノマーとしては、及び、直鎖状又は分岐状の脂肪族炭化水素基を有するアルキル（メタ）アクリレート（例えば、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等）が挙げられる。
　水酸基を有しラジカル重合性基及び酸基のいずれも有しないアルキル（メタ）アクリレート構造単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂に含まれる全ての構造単位の合計量に対して、０～１０質量％が好ましく、１～５質量％がより好ましい。
　水酸基、ラジカル重合性基及び酸基のいずれも有しないアルキル（メタ）アクリレート構造単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂に含まれる全ての構造単位の合計量に対して、０～３０質量％が好ましく、１～５質量％がより好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂は、１種単独のその他の構造単位を含んでいてもよく、２種以上のその他の構造単位を含んでいてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、５，０００～１００，０００がより好ましく、７，０００～５０，０００が更に好ましく、１００００～３００００が特に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、現像残渣低減の点から、１．０～３．０が好ましく、１．８～２．８がより好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の酸価は、現像性の点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の酸価の上限は、現像液へ溶解することを抑止する点から、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい
　酸価としては、特開２００４－１４９８０６号公報の段落［００６３］又は特開２０１２－２１１２２８号公報の段落［００７０］等に記載の計算方法により算出した理論酸価の値を用いることができる。
　感光性組成物層は、１種単独のアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよく、２種以上のアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂の含有量は、現像性の点から、感光性組成物層の全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、２５～７０質量％が更に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の好適態様の一つとしては、上記芳香環を有する構造単位及び上記脂肪族環を有する構造単位の少なくとも一方の構造単位を含む態様が挙げられる。これにより、透湿度をより低くすることができる。
　芳香環を有する構造単位及び脂肪族環を有する構造単位の中でも、芳香環を有する構造単位を含む態様が好ましく、ビニルベンゼン誘導体単位を含む態様がより好ましく、スチレンを用いて形成された構造単位を含む態様が更に好ましい。
［ブロックイソシアネート化合物］
　感光性組成物層は、ブロックイソシアネート化合物を含むことが好ましい。ブロックイソシアネート化合物は、形成されるパターンの強度の向上に寄与する。
　ブロックイソシアネート化合物は、水酸基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物の少なくとも一方が、水酸基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、保護膜としての機能が強化される傾向がある。なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。
　感光性組成物層がブロックイソシアネート化合物を含む場合、ブロックイソシアネート化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、本発明の効果がより優れる点から、１～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、１０～２０質量％が更に好ましい。
　感光性組成物層は、１種単独のブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよく、２種以上のブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよい。
（第１ブロックイソシアネート化合物）
　ブロックイソシアネート化合物は、ブロックイソシアネート当量（以下、「ＮＣＯ価」ともいう。）が４．５ｍｍｏｌ／ｇ以上のブロックイソシアネート化合物（以下、「第１ブロックイソシアネート化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。これにより、曲げ耐性がより優れ、また、導電層の腐食も抑制できる。
　第１ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価は、４．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、本発明の効果がより優れる点から、５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましく、５．３ｍｍｏｌ／ｇ以上がより好ましい。
　第１ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価の上限値は、本発明の効果がより優れる点から、６．０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、５．８ｍｍｏｌ／ｇ未満がより好ましく、５．７ｍｍｏｌ／ｇ以下が更に好ましい。
　本発明におけるブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価は、ブロックイソシアネート化合物１ｇ当たりに含まれるブロックイソシアネート基のミリモル数を意味し、以下の式から算出できる。
　　ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価＝１０００×（分子中に含まれるブロックイソシアネート基の個数）／（ブロックイソシアネート化合物の分子量）
　第１ブロックイソシアネート化合物の解離温度としては、１００～１６０℃が好ましく、１１０～１５０℃がより好ましい。
　本明細書において、「ブロックイソシアネート化合物の解離温度」とは、示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネート化合物の脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度を意味する。示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ株式会社製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に用いることができる。ただし、示差走査熱量計は、上記した示差走査熱量計に制限されない。
　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、活性メチレン化合物〔（マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等））等〕、及び、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。上記の中でも、解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、保存安定性の点から、オキシム化合物が好ましい。
　第１ブロックイソシアネート化合物は、本発明の効果がより優れる点から、環構造を有することが好ましい。環構造としては、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環及び複素環が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、脂肪族炭化水素環及び芳香族炭化水素環が好ましく、脂肪族炭化水素環がより好ましい。
　脂肪族炭化水素環の具体例としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環が挙げられ、中でも、シクロヘキサン環が好ましい。
　芳香族炭化水素環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられ、中でも、ベンゼン環が好ましい。
　複素環の具体例としては、イソシアヌレート環が挙げられる。
　第１ブロックイソシアネート化合物が環構造を有する場合、環の個数は、本発明の効果がより優れる点から、１～２が好ましく、１がより好ましい。なお、第１ブロックイソシアネート化合物が縮合環を含む場合には、縮合環を構成する環の個数を数え、例えば、ナフタレン環における環の個数は２として数える。
　第１ブロックイソシアネート化合物が有するブロックイソシアネート基の個数は、形成されるパターンの強度が優れる点、及び、本発明の効果がより優れる点から、２～５が好ましく、２～３がより好ましく、２が更に好ましい。
　第１ブロックイソシアネート化合物は、本発明の効果がより優れる点から、式Ｑで表されるブロックイソシアネート化合物であることが好ましい。
　　Ｂ１－Ａ１－Ｌ１－Ａ２－Ｂ２　　　式Ｑ
　式Ｑ中、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、ブロックイソシアネート基を表す。
　ブロックイソシアネート基としては、特に限定されないが、本発明の効果がより優れる点から、イソシアネート基がオキシム化合物でブロックされた基が好ましく、イソシアネート基がメチルエチルケトオキシムでブロックされた基（具体的には、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（ＣＨ３）－Ｃ２Ｈ５で表される基。＊は、Ａ１又はＡ２との結合位置を表す。）がより好ましい。
　Ｂ１及びＢ２は、同一の基であることが好ましい。
　式Ｑ中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１０のアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましい。
　アルキレン基は、直鎖状、分岐状又は環状であってもよいが、直鎖状であることが好ましい。
　アルキレン基の炭素数は、１～１０であるが、本発明の効果がより優れる点から、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。
　Ａ１及びＡ２は、同一の基であることが好ましい。
　式Ｑ中、Ｌ１は、２価の連結基を表す。
　２価の連結基の具体例としては、２価の炭化水素基が挙げられる。
　２価の炭化水素基の具体例としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、及び、これらの基が２つ以上連結されて形成される基が挙げられる。
　２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状であってもよく、本発明の効果がより優れる点から、環状であることが好ましい。２価の飽和炭化水素基の炭素数は、本発明の効果がより優れる点から、４～１５が好ましく、５～１０がより好ましく、５～８が更に好ましい。
　２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基は、置換基（例えば、アルキル基）を有していてもよい。
　中でも、２価の連結基としては、炭素数５～１０の直鎖状、分岐状若しくは環状の２価の飽和炭化水素基、炭素数５～１０の環状の飽和炭化水素基と炭素数１～３の直鎖状のアルキレン基とが連結した基、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基、又は、２価の芳香族炭化水素基と炭素数１～３の直鎖状のアルキレン基とが連結した基が好ましく、炭素数５～１０の環状の２価の飽和炭化水素基、又は、置換基を有していてもよいフェニレン基がより好ましく、シクロへキシレン基又は置換基を有していてもよいフェニレン基が更に好ましく、シクロへキシレン基が特に好ましい。
　式Ｑで表されるブロックイソシアネート化合物は、本発明の効果がより優れる点から、式ＱＡで表されるブロックイソシアネート化合物であることが特に好ましい。
　　Ｂ１ａ－Ａ１ａ－Ｌ１ａ－Ａ２ａ－Ｂ２ａ　　　式ＱＡ
　式ＱＡ中、Ｂ１ａ及びＢ２ａはそれぞれ独立に、ブロックイソシアネート基を表す。Ｂ１ａ及びＢ２ａの好適態様は、式Ｑ中のＢ１及びＢ２と同様である。
　式ＱＡ中、Ａ１ａ及びＡ２ａはそれぞれ独立に、２価の連結基を表す。Ａ１ａ及びＡ２ａにおける２価の連結基の好適態様は、式Ｑ中のＡ１ａ及びＡ２ａと同様である。
　式ＱＡ中、Ｌ１ａは、環状の２価の飽和炭化水素基、又は、２価の芳香族炭化水素基を表す。
　Ｌ１ａにおける環状の２価の飽和炭化水素基の炭素数は、５～１０が好ましく、５～８がより好ましく、５～６が更に好ましく、６が特に好ましい。
　Ｌ１ａにおける２価の芳香族炭化水素基の好適態様は、式ＱＡ中のＬ１と同様である。
　中でも、Ｌ１ａは、環状の２価の飽和炭化水素基が好ましく、炭素数５～１０の環状の２価の飽和炭化水素基がより好ましく、炭素数５～１０の環状の２価の飽和炭化水素基が更に好ましく、炭素数５～６の環状の２価の飽和炭化水素基が特に好ましく、シクロへキシレン基が最も好ましい。
　第１ブロックイソシアネート化合物の具体例を以下に示すが、第１ブロックイソシアネート化合物はこれに限定されるわけではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　感光性組成物層は、１種単独の第１ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよく、２種以上の第１ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよい。
　第１ブロックイソシアネート化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、本発明の効果がより優れる点から、０．５～２５質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、２～１５質量％が更に好ましい。
　第１ブロックイソシアネート化合物は、例えば、イソシアネート基を有する化合物（例えば、上記式ＱにおけるＢ１及びＢ２がイソシアネート基である化合物）のイソシアネート基と、上記ブロック剤とを反応させて得られる。
（第２ブロックイソシアネート化合物）
　ブロックイソシアネート化合物は、ＮＣＯ価が４．５ｍｍｏｌ／ｇ未満のブロックイソシアネート化合物（以下、「第２ブロックイソシアネート化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。これにより、感光性組成物層をパターン露光及び現像を行った後において、現像残渣の発生を抑制できる。
　第２ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価は、４．５ｍｍｏｌ／ｇ未満であり、２．０～４．５ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、２．５～４．０ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。
　第２ブロックイソシアネート化合物の解離温度としては、１００～１６０℃が好ましく、１１０～１５０℃がより好ましい。
　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤の具体例は、上述した通りである。
　第２ブロックイソシアネート化合物は、膜の脆性改良、又は、被転写体に対する密着力の向上等の点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物としては、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすい点から、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が好ましい。
　第２ブロックイソシアネート化合物は、形成されるパターンの強度の点から、重合性基を有していてもよい。重合性基としては、ラジカル重合性基が好ましい。
　重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、及び、スチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。上記の中でも、重合性基としては、得られるパターンにおける表面の面状、現像速度、及び、反応性の点から、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。
　第２ブロックイソシアネート化合物の具体例を以下に示すが、第２ブロックイソシアネート化合物はこれに限定されるわけではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　第２ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いることができる。ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、例えば、カレンズ（商品名）　ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（商品名）　ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（商品名）　ＡＯＩ－ＢＰ、カレンズ（商品名）　ＭＯＩ－ＢＰ等〔以上、昭和電工株式会社製〕、及び、ブロック型のデュラネートシリーズ〔例えば、デュラネート（商品名）　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、旭化成ケミカルズ株式会社製〕が挙げられる。
　感光性組成物層は、１種単独の第２ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよく、２種以上の第２ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が第２ブロックイソシアネート化合物を含む場合、第２ブロックイソシアネート化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、現像残渣の発生をより低減できる点から、０．５～２５質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、２～１５質量％が更に好ましい。
　感光性組成物層が第１ブロックイソシアネート化合物及び第２ブロックイソシアネート化合物を含む場合、第２ブロックイソシアネート化合物の含有量に対する、第１ブロックイソシアネート化合物の含有量の質量比（第１ブロックイソシアネート化合物／第２ブロックイソシアネート化合物）は、曲げ耐性と透湿度低減の点から、１０／９０～９０／１０が好ましく、１５／８５～７０／３０がより好ましく、１５／８５～５０／５０が更に好ましい。
［カルボン酸無水物構造を有する構造単位を含む重合体］
　感光性組成物層は、バインダーとして、カルボン酸無水物構造を有する構造単位を含む重合体（以下、「重合体Ｂ」ともいう。）を更に含んでいてもよい。感光性組成物層が重合体Ｂを含むことで、現像性及び硬化後の強度を向上できる。
　カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造、及び、環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造が好ましい。
　環状カルボン酸無水物構造の環としては、５～７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。
　カルボン酸無水物構造を有する構造単位は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構造単位、又は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構造単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式Ｐ－１中、ＲＡ１ａは、置換基を表し、ｎ１ａ個のＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよく、Ｚ１ａは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成する２価の基を表し、ｎ１ａは、０以上の整数を表す。
　ＲＡ１ａで表される置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
　Ｚ１ａとしては、炭素数２～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が更に好ましい。
　ｎ１ａは、０以上の整数を表す。Ｚ１ａが炭素数２～４のアルキレン基を表す場合、ｎ１ａは、０～４の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　ｎ１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲＡ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。
　カルボン酸無水物構造を有する構造単位としては、不飽和カルボン酸無水物に由来する構造単位が好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構造単位がより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構造単位が更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構造単位が特に好ましく、無水マレイン酸に由来する構造単位が最も好ましい。
　重合体Ｂにおけるカルボン酸無水物構造を有する構造単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。
　カルボン酸無水物構造を有する構造単位の含有量は、重合体Ｂの全量に対して、０～６０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましく、１０～３５モル％が更に好ましい。
　感光性組成物層は、１種単独の重合体Ｂを含んでいてもよく、２種以上の重合体Ｂを含んでいてもよい。
　感光性組成物層中における重合体Ｂの各構造単位の残存モノマーの含有量は、パターニング性及び信頼性の点から、重合体Ｂ全質量に対して、１０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　感光性組成物層が重合体Ｂを含む場合、重合体Ｂの含有量は、現像性及び硬化後の強度の点から、感光性組成物層の全質量に対して、０．１～３０質量％が好ましく、０．２～２０質量％がより好ましく、０．５～２０質量％が更に好ましく、１～２０質量％が特に好ましい。
［複素環化合物］
　感光性組成物層は、複素環化合物を含むことが好ましい。
　複素環化合物が有する複素環は、単環及び多環のいずれの複素環でもよい。
　複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。
　複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ピリジン化合物、及び、ピリミジン化合物が挙げられる。
　上記の中でも、複素環化合物としては、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物、ピリジン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ピリジン化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物がより好ましい。
　複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。トリアゾール化合物及びベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　ピリジン化合物としては、（イソ）ニコチン酸、（イソ）ニコチンアミド等が例示できる。
　感光性組成物層は、１種単独の複素環化合物を含んでいてもよく、２種以上の複素環化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が複素環化合物を含む場合、複素環化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましく、０．３～８質量％が更に好ましく、０．５～５質量％が特に好ましい。
［脂肪族チオール化合物］
　感光性組成物層は、脂肪族チオール化合物を含むことが好ましい。
　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含むことで、脂肪族チオール化合物がエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物との間でエン－チオール反応することで、形成される膜の硬化収縮が抑えられ、応力が緩和される。
　脂肪族チオール化合物としては、単官能の脂肪族チオール化合物、又は、多官能の脂肪族チオール化合物（すなわち、２官能以上の脂肪族チオール化合物）が好ましい。
　上記の中でも、脂肪族チオール化合物としては、例えば、形成されるパターンの密着性（特に、露光後における密着性）の点から、多官能の脂肪族チオール化合物が好ましい。
　本開示において、「多官能の脂肪族チオール化合物」とは、チオール基（「メルカプト基」ともいう。）を分子内に２個以上有する脂肪族化合物を意味する。
　多官能の脂肪族チオール化合物としては、分子量が１００以上の低分子化合物が好ましい。具体的には、多官能の脂肪族チオール化合物の分子量は、１００～１，５００がより好ましく、１５０～１，０００が更に好ましい。
　多官能の脂肪族チオール化合物の官能基数としては、例えば、形成されるパターンの密着性の点から、２～１０官能が好ましく、２～８官能がより好ましく、２～６官能が更に好ましい。
　多官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，６－ヘキサメチレンジチオール、２，２’－（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ－２，３－ジメルカプトコハク酸、及び、ジ（メルカプトエチル）エーテルが挙げられる。
　上記の中でも、多官能の脂肪族チオール化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、及び、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。
　単官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、１－オクタンチオール、１－ドデカンチオール、β－メルカプトプロピオン酸、メチル－３－メルカプトプロピオネート、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート、メトキシブチル－３－メルカプトプロピオネート、及び、ステアリル－３－メルカプトプロピオネートが挙げられる。
　感光性組成物層は、１種単独の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよく、２種以上の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含む場合、脂肪族チオール化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、５質量％以上が好ましく、５～５０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましく、８～２０質量％が特に好ましい。
［界面活性剤］
　感光性組成物層は、界面活性剤を含むことが好ましい。
　界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落［００６０］～［００７１］に記載の界面活性剤が挙げられる。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。
　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック（商品名）Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７９、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８６、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８７、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラード（商品名）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロン（商品名）Ｓ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（商品名）ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント（商品名）７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック（商品名）ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファック（商品名）ＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
　フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。メガファック（商品名）ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤としては、環境適性向上の観点から、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）及びパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）等の炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物の代替材料に由来する界面活性剤であることが好ましい。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック（商品名）Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック（商品名）３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース（商品名）２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン（商品名）Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
　界面活性剤の具体例としては、ＤＯＷＳＩＬ（商品名）８０３２　ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　感光性組成物層は、１種単独の界面活性剤を含んでいてもよく、２種以上の界面活性剤を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～３質量％が好ましく、０．０５～１質量％がより好ましく、０．１～０．８質量％が更に好ましい。
［水素供与性化合物］
　感光性組成物層は、水素供与性化合物を含むことが好ましい。水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
　水素供与性化合物としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－０２０１８９号公報、特開昭５１－０８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－０８４３０５号公報、特開昭６２－０１８５３７号公報、特開昭６４－０３３１０４号公報、及び、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号等に記載の化合物が挙げられる。
　水素供与性化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、及び、ｐ－メチルチオジメチルアニリンが挙げられる。
　また、水素供与性化合物としては、アミノ酸化合物（Ｎ－フェニルグリシン等）、特公昭４８－０４２９６５号公報に記載の有機金属化合物（トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－０３４４１４号公報に記載の水素供与体、及び、特開平６－３０８７２７号公報に記載のイオウ化合物（トリチアン等）も挙げられる。
　感光性組成物層は、１種単独の水素供与性化合物を含んでいてもよく、２種以上の水素供与性化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の点から、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０３～５質量％がより好ましく、０．０５～３質量％が更に好ましい。
［他の成分］
　感光性組成物層は、既述の成分以外の成分（以下、「他の成分」ともいう。）を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、粒子（例えば、金属酸化物粒子）、及び、着色剤が挙げられる。
　また、他の成分としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１８］に記載の熱重合防止剤、及び、特開２０００－３１０７０６号公報の段落［００５８］～［００７１］に記載のその他の添加剤も挙げられる。
　感光性組成物層は、屈折率、光透過性等の調節を目的として、粒子を含んでいてもよい。粒子としては、例えば、金属酸化物粒子が挙げられる。
　金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。
　粒子の平均一次粒子径としては、例えば、パターンの透明性の点から、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍがより好ましい。粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。
　感光性組成物層は、１種単独の粒子を含んでいてもよく、２種以上の粒子を含んでいてもよい。また、感光性組成物層が粒子を含む場合、金属種、大きさ等の異なる粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性組成物層は、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて３５質量％以下であることが好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて１０質量％以下であることがより好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて５質量％以下であることが更に好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて１質量％以下であることが特に好ましく、粒子を含まないことが最も好ましい。
　感光性組成物層は、微量の着色剤（例えば、顔料、及び染料）を含んでいてもよいが、例えば、透明性の点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
　感光性組成物層が着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。
［不純物等］
　感光性組成物層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。
　不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン及びこれらのイオンが挙げられる。中でも、ハロゲン化物イオン（特に塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン）、ナトリウムイオン、及び、カリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。
　感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上とすることができ、０．１ｐｐｍ以上とすることができる。
　感光性組成物層における不純物の含有量の具体例としては、上記の全ての不純物が質量基準で、０．６ｐｐｍである態様を挙げることができる。
　不純物を上記範囲にする方法としては、感光性組成物層の原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、及び、感光性組成物層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。
　不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及び、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。
　感光性組成物層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及び、ヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物の感光性組成物層中における含有量としては、質量基準で、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましく、４ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。
　感光性組成物層における水の含有量は、信頼性及びラミネート性を向上させる点から、０．０１～１．０質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。
［残存モノマー］
　感光性組成物層は、上述したアルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーを含む場合がある。
　残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、アルカリ可溶性樹脂全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性組成物層全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　高分子反応でアルカリ可溶性樹脂を合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてアルカリ可溶性樹脂を合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
　残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。
［感光性組成物層の厚み］
　感光性組成物層の厚みの上限値は、２０．０μｍ以下が好ましく、１５．０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましい。
　感光性組成物の厚みの下限値は、１μｍ以上が好ましく、３．０μｍ以上がより好ましく、４．０μｍ以上が更に好ましく、５．０μｍ以上が特に好ましい。
　感光性組成物層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。
［感光性組成物層の屈折率］
　感光性組成物層の屈折率は、１．４７～１．５６が好ましく、１．４９～１．５４がより好ましい。
［感光性組成物層の色］
　感光性組成物層は無彩色であることが好ましい。感光性組成物層のａ＊値は、－１．０～１．０であることが好ましく、感光性組成物層のｂ＊値は、－１．０～１．０であることが好ましい。
　感光性組成物層の色相は、色差計（ＣＲ－２２１、ミノルタ株式会社製）を用いて測定できる。

［感光性組成物層の透過率］
　感光性組成物層の膜厚１．０μｍあたりの可視光透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が最も好ましい。
　可視光の透過率としては、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの平均透過率、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの透過率の最小値、波長４００ｎｍｍの透過率、いずれもが上記を満たすことが好ましい。
　透過率の好ましい値としては、例えば、８７％、９２％、９８％等を挙げることが出来る。
　感光性組成物層の硬化膜の膜厚１μｍあたりの透過率も同様である。
［感光性組成物層の透湿度］
　感光性組成物層を硬化して得られるパターン（感光性組成物層の硬化膜）の膜厚４０μｍでの透湿度は、電極又は配線の防錆性の観点、及びデバイスの信頼性の観点から、５００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であることが好ましく、３００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であることがより好ましく、１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であることが更に好ましい。
　透湿度は、感光性組成物層を、ｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ２にて露光した後、１４５℃、３０分間のポストベークを行うことにより、感光性組成物層を硬化させた硬化膜で測定する。
　透湿度の測定は、ＪＩＳ　Ｚ０２０８のカップ法に準じて行う。温度４０℃／湿度９０％、温度６５℃／湿度９０％、及び温度８０℃／湿度９５％のいずれの試験条件においても、上記の透湿度であることが好ましい。　具体的な好ましい数値としては、例えば、８０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、１５０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、２２０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ、等を挙げることが出来る。
［感光性組成物層の溶解速度］
　感光性組成物層の炭酸ナトリウム１．０％水溶液に対する溶解速度は、現像時の残渣抑制の観点から、０．０１μｍ／秒以上が好ましく、０．１０μｍ／秒以上がより好ましく、０．２０μｍ／秒以上がより好ましい。
　パターンのエッジ形状の観点から、５．０μｍ／秒以下が好ましく、４．０μｍ／秒以下がより好ましく、３．０μｍ／秒以下が更に好ましい。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、１．８μｍ／秒、１．０μｍ／秒、０．７μｍ／秒等を挙げることができる。
　１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する感光性組成物層の単位時間あたりの溶解速度は、以下のように測定するものとする。
　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性組成物層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２５℃で、感光性組成物層が溶け切るまでシャワー現像を行う（但し、最長で２分までとする）。
　感光性組成物層の膜厚を、感光性組成物層が溶け切るまでに要した時間で割り算することで求める。なお、２分で溶け切らない場合は、それまでの膜厚変化量から同様に計算する。
　感光性組成物層の硬化膜（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）の炭酸ナトリウム１．０％水溶液に対する溶解速度は、３．０μｍ／秒以下が好ましく、２．０μｍ／秒以下がより好ましく、１．０μｍ／秒以下が更に好ましく、０．２μｍ／秒以下が最も好ましい。感光性組成物層の硬化膜は、感光性組成物層をｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ２にて露光して得られる膜である。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０．８μｍ／秒、０．２μｍ／秒、０．００１μｍ／秒等を挙げることが出来る。
　現像は、（株）いけうち製１／４ＭＩＮＪＪＸ０３０ＰＰのシャワーノズルを使用し、シャワーのスプレー圧は０．０８ＭＰａとする。上記条件の時、単位時間当たりのシャワー流量は１，８００ｍＬ／ｍｉｎとする。
［感光性組成物層の膨潤率］　露光後の感光性組成物層の１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する膨潤率は、パターン形成性向上の観点から、１００％以下が好ましく、５０％以下がより好ましく、３０％以下が更に好ましい。
　露光後の感光性樹脂層の膨潤率１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する膨潤率は、以下のように測定するものとする。
　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性樹脂層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、超高圧水銀灯で５００ｍｊ／ｃｍ２（ｉ線測定）で露光する。２５℃でガラス基板ごと、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、３０秒経過時点での膜厚を測定する。そして、浸漬後の膜厚が浸漬前の膜厚に対して増加した割合を計算する。
具体的な好ましい数値としては、例えば、４％、１３％、２５％等を挙げることが出来る。
［感光性組成物層中の異物］　パターン形成性の観点から、感光性組成物層中の直径１．０μｍ以上の異物の数は、１０個／ｍｍ２以下であることが好ましく、５個／ｍｍ２以下であることがより好ましい。
　異物個数は以下のように測定するものとする。
　感光性組成物層の表面の法線方向から、感光性組成物層の面上の任意の５か所の領域（１ｍｍ×１ｍｍ）を、光学顕微鏡を用いて目視にて観察して、各領域中の直径１．０μｍ以上の異物の数を測定して、それらを算術平均して異物の数として算出する。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０個／ｍｍ２、１個／ｍｍ２、４個／ｍｍ２、８個／ｍｍ２等を挙げることが出来る。
［感光性組成物層中の溶解物のヘイズ］
　現像時での凝集物発生抑止の観点から、１．０質量％炭酸ナトリウムの３０℃水溶液１．０リットルに１．０ｃｍ３の感光樹脂層を溶解させて得られる溶液のヘイズは６０％以下であることが好ましく、３０％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
　ヘイズは以下のように測定するものとする。
　まず、１．０質量％の炭酸ナトリウム水溶液を準備し、液温を３０℃に調整する。炭酸ナトリウム水溶液１．０Ｌに１．０ｃｍ３の感光樹脂層を入れる。気泡を混入しないように注意しながら、３０℃で４時間撹拌する。撹拌後、感光性樹脂層が溶解した溶液のヘイズを測定する。ヘイズは、ヘイズメーター（製品名「ＮＤＨ４０００」、日本電色工業社製）を用い、液体測定用ユニット及び光路長２０ｍｍの液体測定専用セルを用いて測定される。　具体的な好ましい数値としては、例えば、０．４％、１．０％、９％、２４％等を挙げることが出来る。
＜屈折率調整層＞
　転写フィルムは、屈折率調整層を有していてもよい。屈折率調整層の位置は特に制限されないが、感光性組成物層に接して配置されることが好ましい。中でも、転写フィルムは、仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層とをこの順で有することが好ましい。
　なお、転写フィルムが後述する保護フィルムを更に有する場合、仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層と、保護フィルムとをこの順で有することが好ましい。
　屈折率調整層としては、公知の屈折率調整層を適用できる。屈折率調整層に含まれる材料としては、例えば、バインダー、及び、粒子が挙げられる。
　バインダーとしては、例えば、上記「感光性組成物層」の項において説明したアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。
　粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ２粒子）、酸化ニオブ粒子（Ｎｂ２Ｏ５粒子）、酸化チタン粒子（ＴｉＯ２粒子）、及び、二酸化珪素粒子（ＳｉＯ２粒子）が挙げられる。
　また、屈折率調整層は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。屈折率調整層が金属酸化抑制剤を含むことで、屈折率調整層に接する金属の酸化を抑制できる。
　金属酸化抑制剤としては、例えば、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物が好ましい。金属酸化抑制剤としては、例えば、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及び、ベンゾトリアゾールが挙げられる。
　屈折率調整層の屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６３以上がより好ましい。
　屈折率調整層の屈折率の上限は、２．１０以下が好ましく、１．８５以下がより好ましい。
　屈折率調整層の厚みは、５００ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。
　屈折率調整層の厚みは、２０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。
　屈折率調整層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。
＜その他の層＞
　転写フィルムは、上述した仮支持体、感光性組成物層、及び、屈折率調整層以外のその他の層を含んでいてもよい。
　その他の層としては、例えば、保護フィルム、及び、帯電防止層が挙げられる。
　転写フィルムは、仮支持体と反対側の表面に、感光性組成物層を保護するための保護フィルムを有していてもよい。
　保護フィルムは樹脂フィルムであることが好ましく、耐熱性及び耐溶剤性を有する樹脂フィルムを用いることができる。
　保護フィルムとしては、例えば、ポリプロピレンフィルム及びポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。また、保護フィルムとして上述の仮支持体と同じ材料で構成された樹脂フィルムを用いてもよい。
　保護フィルムの厚みは、１～１００μｍが好ましく、５～５０μｍがより好ましく、５～４０μｍが更に好ましく、１５～３０μｍが特に好ましい。保護フィルムの厚みは、機械的強度に優れる点で、１μｍ以上が好ましく、比較的安価となる点で、１００μｍ以下が好ましい。
　また、保護フィルムにおいては、保護フィルム中に含まれる直径８０μｍ以上のフィッシュアイ数が、５個／ｍ２以下であることが好ましい。
　なお、「フィッシュアイ」とは、材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸及びキャスティング法等の方法によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、及び、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものである。
　保護フィルムに含まれる直径３μｍ以上の粒子の数は、３０個／ｍｍ２以下が好ましく、１０個／ｍｍ２以下がより好ましく、５個／ｍｍ２以下が更に好ましい。
　これにより、保護フィルムに含まれる粒子に起因する凹凸が感光性組成物層又は導電層に転写されることにより生じる欠陥を抑制することができる。
　巻き取り性を付与する点から、保護フィルムの組成物層と接する面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。
　保護フィルムは、転写時の欠陥抑制の点から、組成物層と接する面の表面粗さＲａ、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。　
　転写フィルムは、帯電防止層を含んでいてもよい。
　転写フィルムが帯電防止層を有することで、帯電防止層上に配置されたフィルム等を剥離する際における静電気の発生を抑制でき、また、設備又は他のフィルム等との擦れによる静電気の発生も抑制できるため、例えば、電子機器における不具合の発生を抑止できる。
　帯電防止層は、仮支持体と感光性組成物層との間に配置することが好ましい。
　帯電防止層は、帯電防止性を有する層であり、帯電防止剤を少なくとも含む。帯電防止剤としては特に制限されず、公知の帯電防止剤を適用できる。
〔転写フィルムの製造方法〕
　本発明の転写フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
　なかでも、生産性に優れる点で、仮支持体上に感光性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥処理を施し、感光性組成物層を形成する方法（以下、この方法を「塗布方法」ともいう。）が好ましい。
　塗布方法で使用される感光性組成物は、上述した感光性組成物層を構成する成分（例えば、重合性化合物、アルカリ可溶性樹脂、特定重合開始剤等）、及び、溶剤を含むことが好ましい。
　溶剤としては、有機溶剤が好ましい。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１－メトキシ－２－プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ－プロパノール、及び、２－プロパノールが挙げられる。溶剤としては、メチルエチルケトンと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、又は、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。
　また、溶剤としては、必要に応じ、沸点が１８０～２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を用いることもできる。
　感光性組成物は、１種単独の溶剤を含んでいてもよく、２種以上の溶剤を含んでいてもよい。
　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の全固形分量は、感光性組成物の全質量に対して、５～８０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましい。
　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における粘度は、例えば、塗布性の点から、１～５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２～４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３～３０ｍＰａ・ｓが更に好ましい。粘度は、粘度計を用いて測定する。粘度計としては、例えば、東機産業株式会社製の粘度計（商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ　ＴＶ－２２）を好適に用いることができる。ただし、粘度計は、上記した粘度計に制限されない。
　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における表面張力は、例えば、塗布性の観点から、５～１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０～８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５～４０ｍＮ／ｍが更に好ましい。表面張力は、表面張力計を用いて測定する。表面張力計としては、例えば、協和界面科学株式会社製の表面張力計（商品名：Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ　ＣＢＶＰ－Ｚ）を好適に用いることができる。ただし、表面張力計は、上記した表面張力計に制限されない。
　感光性組成物の塗布方法としては、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、及び、ダイコート法（すなわち、スリットコート法）が挙げられる。
　乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、及び、減圧乾燥が挙げられる。上記した方法を単独で又は複数組み合わせて適用することができる。
　本開示において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。
　また、転写フィルムが保護フィルムを有する場合、保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせることにより、転写フィルムを製造できる。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる装置としては、真空ラミネーター、及び、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターが挙げられる。
　ラミネーターはゴムローラー等の任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができるものであることが好ましい。
〔積層体の製造方法〕
　上述した転写フィルムを用いることにより、被転写体へ感光性組成物層を転写することができる。
　なかでも、転写フィルムの仮支持体上の感光性組成物層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせ、基板、導電層、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法が好ましい。
　以下、上記工程の手順について詳述する。
＜貼合工程＞
　貼合工程は、転写フィルムの仮支持体上の感光性組成物層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせ、基板、導電層、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る工程である。
　転写フィルムの仮支持体上の露出した感光性組成物層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる。この貼合によって、導電層を有する基板上に、感光性組成物層及び仮支持体が配置される。
　上記貼合においては、上記導電層と上記感光性組成物層の表面と、が接触するように圧着させる。上記態様であると、露光及び現像後に得られるパターンを、導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
　上記圧着の方法としては特に制限はなく、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。なかでも、感光性組成物層の表面を、導電層を有する基板に重ね、ロール等による加圧及び加熱することに行われることが好ましい。
　貼り合せには、真空ラミネーター、及び、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用できる。
　導電層を有する基板は、基板上に導電層を有し、必要により任意の層が形成されてもよい。つまり、導電層を有する基板は、基板と、基板上に配置される導電層とを少なくとも有する導電性基板である。
　基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、及び、半導体基板が挙げられる。
　基板の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４０に記載があり、この内容は本明細書に組み込まれる。
　導電層としては、導電性及び細線形成性の点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層、及び、導電ポリマー層からなる群から選択される少なくとも１種の層が好ましい。
　また、基板上には導電層を１層のみ配置してもよいし、２層以上配置してもよい。導電層を２層以上配置する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
　導電層の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４１に記載があり、この内容は本明細書に組み込まれる。
　導電層を有する基板としては、透明電極及び引き回り配線の少なくとも一方を有する基板が好ましい。上記のような基板は、タッチパネル用基板として好適に用いることができる。
　透明電極は、タッチパネル電極として好適に機能し得る。透明電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、及び、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、並びに、金属メッシュ、及び、銀ナノワイヤー等の金属細線により構成されることが好ましい。
　金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。中でも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。
　引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。
　引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛及びマンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム又はチタンが好ましく、銅が特に好ましい。
＜露光工程＞
　露光工程は、感光性組成物層をパターン露光する工程である。
　なお、ここで、「パターン露光」とは、パターン状に露光する形態、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光を指す。
　パターン露光におけるパターンの詳細な配置及び具体的サイズは、特に制限されない。なお、後述する現像工程によって形成されるパターンは、幅が２０μｍ以下である細線を含むことが好ましく、幅が１０μｍ以下の細線を含むことがより好ましい。
　パターン露光の光源としては、少なくとも感光性組成物層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。なかでも、パターン露光の露光光の主波長は、３６５ｎｍが好ましい。なお、主波長とは、最も強度が高い波長である。
　光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及び、メタルハライドランプが挙げられる。
　露光量は、５～２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０～２００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
　露光に使用する光源、露光量及び露光方法の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４６］～［０１４７］に記載があり、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
＜剥離工程＞
　剥離工程は、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と後述する現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する工程である。
　剥離方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落［０１６１］～［０１６２］に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を用いることができる。
＜現像工程＞
　現像工程は、露光された感光性組成物層を現像して、パターンを形成する工程である。
　上記感光性組成物層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
　現像液として、アルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。
　現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、スピン現像、及び、ディップ現像等の方式が挙げられる。
　本開示において好適に用いられる現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９４］に記載の現像液が挙げられ、好適に用いられる現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９５］に記載の現像方式が挙げられる。
　形成されるパターンの詳細な配置及び具体的なサイズは特に制限されないが、後述する導電性細線が得られるパターンが形成される。なお、パターンの間隔は、８μｍ以下が好ましく、６μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、２μｍ以上の場合が多い。
　上記手順によって形成されるパターン（感光性組成物層の硬化膜）は無彩色であることが好ましい。具体的には、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、パターンのａ＊値は、－１．０～１．０であることが好ましく、パターンのｂ＊値は、－１．０～１．０であることが好ましい。
＜ポスト露光工程、及び、ポストベーク工程＞
　上記積層体の製造方法は、上記現像工程によって得られたパターンを、露光する工程（ポスト露光工程）及び／又は加熱する工程（ポストベーク工程）を有していてもよい。
　ポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。
＜その他の工程＞
　本発明の積層体の製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。その他の工程としては、エッチング工程、及び除去工程を挙げることができる。
　例えば、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の可視光線反射率を低下させる工程、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程等が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
＜エッチング工程＞
　上記積層体の製造方法は、得られた積層体中のパターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理するエッチング工程を有していてもよい。
　上記エッチング工程では、上記現像工程により上記感光性組成物層から形成されたパターンを、エッチングレジストとして使用し、上記導電層のエッチング処理を行う。
　エッチング処理の方法としては、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落［０２０９］～［０２１０］に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落［００４８］～［００５４］等に記載の方法、公知のプラズマエッチング等のドライエッチングによる方法等、公知の方法を適用することができる。
＜除去工程＞
　上記積層体の製造方法は、パターンを除去する除去工程を有していてもよい。
　除去工程は、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
　パターンを除去する方法としては特に制限はないが、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いることが好ましい。
　パターンの除去方法としては、好ましくは３０～８０℃、より好ましくは５０～８０℃にて撹拌中の除去液にパターンを有する積層体を１～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
　除去液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分、又は、第１級アミン化合物、第２級アミン化合物、第３級アミン化合物、第４級アンモニウム塩化合物等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶液に溶解させた除去液が挙げられる。
　また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により除去してもよい。
　本発明の積層体の製造方法により製造される積層体は、種々の装置に適用することができる。上記積層体を備えた装置としては、例えば、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましく、静電容量型タッチパネルであることがより好ましい。また、上記入力装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の表示装置に適用することができる。
　積層体がタッチパネルに適用される場合、感光性組成物層から形成されるパターンは、タッチパネル電極の保護膜として用いられることが好ましい。つまり、転写フィルムに含まれる感光性組成物層は、タッチパネル電極保護膜の形成に用いられることが好ましい。なお、タッチパネル電極とは、タッチセンサーのセンサー電極のみならず、引き出し配線も含む。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
　なお、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量である。また、酸価は、理論酸価を用いた。
＜アルカリ可溶性樹脂Ａ－１の合成＞
　プロピレングリコールモノメチルエーテル１１３．５ｇをフラスコに仕込み窒素気流下９０℃に加熱した。この液にスチレン１７２ｇ、メタクリル酸メチル４．７ｇ、メタクリル酸１１２．１ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇに溶解させた溶液、及び、重合開始剤Ｖ－６０１（富士フイルム和光純薬社製）２７．６ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル５７．７ｇに溶解させた溶液を同時に３時間かけて滴下した。滴下終了後、１時間おきに３回Ｖ－６０１を２．５ｇ添加した。その後更に３時間反応させた。その後プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６０．７ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル２３３．３ｇで希釈した。空気気流下、反応液を１００℃に昇温し、テトラエチルアンモニウムブロミド１．８ｇ、ｐ－メトキシフェノール０．８６ｇを添加した。これにグリシジルメタクリレート（日油社製ブレンマーＧＨ）７１．９ｇを２０分かけて滴下した。これを１００℃で７時間反応させ、アルカリ可溶性樹脂Ａ－１（後述の構造式参照。）の溶液を得た。得られた溶液の固形分濃度は３６．２質量％であった。ＧＰＣにおける標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は１７０００、分散度は２．３、アルカリ可溶性樹脂の酸価は１２４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ガスクロマトグラフィーを用いて測定した残存モノマー量はいずれのモノマーにおいてもアルカリ可溶性樹脂の固形分に対し０．１質量％未満であった。
＜アルカリ可溶性樹脂Ａ－２の合成＞
　プロピレングリコールモノメチルエーテル１４４．５ｇをフラスコに仕込み窒素気流下９０℃に加熱した。この液にスチレン１１８．１ｇ、メタクリル酸メチル１１８．１ｇ、メタクリル酸５９．１ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル４０ｇに溶解させた溶液、及び、重合開始剤Ｖ－６０１（富士フイルム和光純薬社製）２７．６ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル７１．６ｇに溶解させた溶液を同時に３時間かけて滴下した。滴下終了後、１時間おきに３回Ｖ－６０１を２．５ｇ添加した。その後更に３時間反応させた。その後プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２９．３ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル９３．６ｇで希釈した。このようにして、アルカリ可溶性樹脂Ａ－２（後述の構造式参照。）の溶液を得た。得られた溶液の固形分濃度は３６．２質量％であった。ＧＰＣにおける標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は９０００、分散度は２．３、アルカリ可溶性樹脂の酸価は１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ガスクロマトグラフィーを用いて測定した残存モノマー量はいずれのモノマーにおいてもアルカリ可溶性樹脂の固形分に対し０．１質量％未満であった。
＜アルカリ可溶性樹脂Ａ－３～Ａ－６の合成＞
　アルカリ可溶性樹脂に含まれる各構造単位を得るためのモノマーの種類、及び、各構造単位の含有量を、適宜変更したこと以外は、アルカリ可溶性樹脂Ａ－１の合成と同様にして、アルカリ可溶性樹脂Ａ－３～Ａ－６を合成した。ガスクロマトグラフィーを用いて測定した残存モノマー量はいずれのモノマーにおいてもアルカリ可溶性樹脂の固形分に対し０．１質量％未満であった。
＜アルカリ可溶性樹脂Ａ－７の合成＞
　アルカリ可溶性樹脂に含まれる各構造単位を得るためのモノマーの種類、及び、各構造単位の含有量を、適宜変更したこと以外は、アルカリ可溶性樹脂Ａ－２の合成と同様にして、アルカリ可溶性樹脂Ａ－７を合成した。ガスクロマトグラフィーを用いて測定した残存モノマー量はいずれのモノマーにおいてもアルカリ可溶性樹脂の固形分に対し０．１質量％未満であった。
　アルカリ可溶性樹脂Ａ－１～Ａ－７の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
＜第１ブロックイソシアネート化合物の合成＞
　窒素気流下、ブタノンオキシム（出光興産社製）４５３ｇをメチルエチルケトン７００ｇに溶解させた。これに氷冷下、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（cis,trans異性体混合物、三井化学社製、タケネート６００）５００ｇを１時間かけて滴下し、滴下後更に１時間反応させた。その後４０℃に昇温して１時間反応させた。１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）及びＨＰＬＣ（High Performance Liquid Chromatography）にて反応が完結したことを確認し、ブロックイソシアネート化合物１（下記式参照。ＮＣＯ価：５．４ｍｍｏｌ／ｇ）のメチルエチルケトン溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
＜第２ブロックイソシアネート化合物＞
　第２ブロックイソシアネート化合物として、デュラネートＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ（旭化成ケミカルズ株式会社製。ＮＣＯ価：３．９ｍｍｏｌ／ｇ）を用いた。
＜感光性組成物の調製＞
　固形分の組成が下記表１に示す通りになるように、感光性組成物Ａ－１～Ａ－４１及びＢ－１～Ｂ－４を調製した。表１中、各成分の数値は各成分の含有量（固形分質量）を表す。
　なお、感光性組成物はいずれも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／プロピレングリコールモノメチルエーテル／メチルエチルケトン＝１８／６０／２２（質量比）である混合溶剤と、表１に記載の各成分とを混合及び溶解させて、感光性組成物（塗布液）の固形分濃度が２５質量％になるように調製して得られた塗布液である。
　表１中の略称で示された成分の概要を以下に示す。
（重合性化合物）
・Ａ－ＤＣＰ：製品名、新中村化学社製、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
・Ａ－ＮＯＤ－Ｎ：製品名、新中村化学社製、１，９－ノナンジオールジアクリレート
・ＤＰＨＡ：製品名、新中村化学社製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
・ＴＯ－２３４９：アロニックス　ＴＯ－２３４９、東亞合成社製、ジペンタエリスリトールポリアクリレートをコハク酸変性した５－６官能モノマー（カルボキシ基を有する）
（特定重合開始剤）
　特定重合開始剤Ｉ－１～Ｉ－１１及びＩＩ－１～ＩＩ－３の構造は、以下の通りである。
　ここで、特定重合開始剤Ｉ－１～Ｉ－６及びＩＩ－１～ＩＩ－２は、欧州特許第８８０５０号の記載の方法を参考にして合成した。特定重合開始剤Ｉ－７～Ｉ－１０は、国際公開第２０１６－０１７５３７号に記載の方法を参考にして合成した。特定重合開始剤Ｉ－１１は、Journal of American Chemical Society, 1961, vol. 83, p.1237-1240に記載の方法を参考にして合成した。特定重合開始剤ＩＩ－３は、特開２０１６－０７９１５７号に記載の方法を参考にして合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
（他の重合開始剤）
・ＯＸＥ－０２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）
・ＯＸＥ－０３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０３、ＢＡＳＦ社製、８－［５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１１－（２－エチルヘキシル）－１１Ｈ－ベンゾ［ａ］カルバゾイル］［２－（２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ）フェニル］メタノン－（Ｏ－アセチルオキシム）
・Ｏｍｎｉｒａｄ－９０７：製品名、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製、下記式参照
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
＜実施例１～４１及び比較例１～４の転写フィルムの作製及び評価試験＞
　上述の感光性組成物Ａ－１～Ａ－４１及びＢ－１～Ｂ－４を用いて、以下に示す評価試験毎に実施例１～４１及び比較例１～４の転写フィルムを作製して、各種評価試験を実施した。
（曲げ耐性）
　厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ製、１６ＫＳ４０）（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、上述の感光性組成物を、乾燥後の厚みが５μｍになるように調節して塗布し、１００℃で２分間乾燥させて、感光性組成物層を形成した。
　次に、感光性組成物層上に、下記組成の屈折率調整層形成用塗布液を、乾燥後の厚みが７０ｎｍになるように調節して塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、更に１１０℃で１分間乾燥させて、感光性組成物層に直接接して配置された屈折率調整層を形成した。なお、屈折率調整層の屈折率は、１．６９であった。
－屈折率調整層形成用塗布液の組成－
・（メタ）アクリル樹脂（酸基を有する樹脂、メタクリル酸／メタクリル酸アリルの共重合樹脂、重量平均分子量２．５万、組成比（モル比）＝４０／６０、固形分９９．８％）：０．２９部
・アロニックス　ＴＯ－２３４９（カルボン酸基を有するモノマー、東亞合成社製）：０．０４部
・ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｍ（ＺｒＯ２粒子、固形分３０．５％、メタノール６９．５％、屈折率が２．２、平均粒径：約１２ｎｍ、日産化学工業社製）：４．８０部
・ＢＴ１２０（ベンゾトリアゾール、城北化学工業社製）：０．０３部
・メガファックＦ４４４（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ社製）：０．０１部
・アンモニア水溶液（２．５％）：７．８０部
・蒸留水：２４．８０部
・メタノール：７６．１０部
　上記のようにして得られた、仮支持体の上に感光性組成物層と、感光性組成物層に直接接して配置された屈折率調整層とをこの順で設けた積層体に対し、その屈折率調整層の上に、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（保護フィルム）を圧着し、転写フィルムを作製した。
　得られた転写フィルムから保護フィルムを剥離してから、１４５℃３０分間の熱処理をした東洋紡（株）製ポリエチレンテレフタレートフィルムのコスモシャインＡ４３００（厚み５０μｍ）の両方の面の上にラミネートし、仮支持体／感光性組成物層／屈折率調整層／コスモシャインＡ４３００（厚み５０μｍ）／屈折率調整層／感光性組成物層／仮支持体の層構造を有する積層体Ａを形成した。ラミネートの条件は、ラミロール温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分とした。
　その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で両面を全面露光した。両面の仮支持体を剥離してから、更に露光量４００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で両面露光した後、１４５℃、３０分間のポストベークを行うことにより、感光性組成物層を硬化させて硬化膜を形成した。
　このようにして、厚さ１０μｍの硬化膜／屈折率調整層／コスモシャインＡ４３００（厚み５０μｍ）／屈折率調整層／厚さ１０μｍの硬化膜からなる曲げ耐性評価用試料を得た。
　曲げ耐性評価用試料を用い、以下のようにして曲げ耐性を評価した。
　図１は、曲げ耐性評価における曲げ耐性評価用試料の状態を示す断面模式図である。
　上記で得られた曲げ耐性評価用試料を５ｃｍ×１２ｃｍの長方形に裁断した。図１に示すように、裁断した曲げ耐性評価用試料１０２のうち、短辺の一方に１００ｇのおもり１０４をつけて加重し、直径ｄミリメートルの金属製ロッド１０６に９０°の角度で接するように保持した（図１における曲げ耐性評価用試料１０２の状態）。その後、金属製ロッド１０６に巻きつくように曲げ耐性評価用試料１０２を１８０°に曲げた状態（図１における曲げ後の曲げ耐性評価用試料１０２Ａの状態）となるまで曲げ耐性評価用試料を屈曲させ、元の位置に戻す運動（往復方向Ｄ）を１０往復させ、試料の表面のクラックの有無を目視で確認した。
　この金属製ロッド１０６の直径ｄを変えながら、上記の動作を行い、クラックが発生しない最も小さいｄを求めた。下記評価基準において、Ａが曲げ耐性が最も優れる。Ａ又はＢであることが好ましく、Ａがより好ましい。
　　Ａ：クラックが発生しない最も小さいｄが２ｍｍ以下
　　Ｂ：クラックが発生しない最も小さいｄが２ｍｍより大きく３ｍｍ以下
　　Ｃ：クラックが発生しない最も小さいｄが３ｍｍより大きい
（透湿度）
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、感光性組成物を塗布し、次いで乾燥させることにより、厚さ８μｍの感光性組成物層を形成し、試料作製用転写フィルムを得た。
　次に、住友電工製ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン樹脂）メンブレンフィルターＦＰ－１００－１００上に試料作製用転写フィルムをラミネートし、「仮支持体／厚さ８μｍの感光性組成物層／メンブレンフィルター」の層構造を有する積層体Ｂ－１を形成した。ラミネートの条件は、メンブレンフィルター温度４０℃、ラミロール温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分とした。
　次に、積層体Ｂ－１から仮支持体を剥離した。
　積層体Ｂ－１の露出した感光性組成物層の上に、更に、試料作製用転写フィルムを同様にラミネートし、得られた積層体から仮支持体を剥離することを４回繰り返し、「合計厚さ４０μｍの感光性組成物層／メンブレンフィルター」の積層構造を有する積層体Ｂ－２を形成した。
　得られた積層体Ｂ－２の感光性組成物層を、高圧水銀ランプを用い、全面露光した。３６５ｎｍの照度計で計測した積算露光量は３７５ｍＪ／ｃｍ２であった。露光後の積層体をオーブンにて１４０℃、３０分間のポストベークを行うことによって、感光性組成物層を硬化させて硬化膜を形成した。
　このようにして、「厚さ４０μｍの硬化膜／メンブレンフィルター」の積層構造を有する透湿度測定用試料を得た。
　透湿度測定用試料を用い、ＪＩＳ－Ｚ－０２０８（１９７６）を参考にして、カップ法による透湿度測定を実施した。以下、詳細を説明する。
　まず、透湿度測定用試料から直径７０ｍｍの円形試料を切り出した。次に、測定カップ内に乾燥させた２０ｇの塩化カルシウムを入れ、次いで上記円形試料によって蓋をすることにより、蓋付き測定カップを準備した。
　この蓋付き測定カップを、恒温恒湿槽内にて６５℃、９０％ＲＨの条件で２４時間放置した。上記放置前後での蓋付き測定カップの質量変化から、円形試料の透湿度（ＷＶＴＲ）（単位：ｇ／（ｍ２・ｄａｙ））を算出した。
　上記測定を３回実施し、３回の測定でのＷＶＴＲの平均値を算出した。
　比較例１のＷＶＴＲを１００％としたときの、各実施例のＷＶＴＲの減少率（％）に基づき、透湿度を評価した。なお、減少率の値が大きいほど比較例１に比べて透湿度が低減できており、保護膜として好ましい。下記評価基準において、Ａ又はＢであることが好ましく、Ａがより好ましい。
　なお、上記測定では、上述のとおり「厚さ４０μｍの硬化膜／メンブレンフィルター」の積層構造を有する円形試料のＷＶＴＲを測定した。しかし、メンブレンフィルターのＷＶＴＲが露光後の感光性組成物層のＷＶＴＲと比較して極めて高いことから、上記測定では、実質的には、硬化膜自体のＷＶＴＲを測定したことになる。
　　Ａ：ＷＶＴＲの減少率が４０％以上
　　Ｂ：ＷＶＴＲの減少率が２０％以上４０％未満
　　Ｃ：ＷＶＴＲの減少率が２０％未満
（ＩＴＯ密着性）
　上述の曲げ耐性の評価と同様の操作を行って、転写フィルムを作製した。
　得られた転写フィルムからカバーフィルムを剥離し、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が積層されたガラスにラミネートすることにより、ＩＴＯ基板の表面に転写フィルムの感光性組成物層を転写し、「仮支持体／感光性組成物層／屈折率調整層／ＩＴＯ層／基板（ガラス）」の積層構造を有する積層体Ｃを得た。ラミネートの条件は、タッチパネル用基板の温度４０℃、ゴムローラー温度（即ち、ラミネート温度）１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件とした。ここで、ＩＴＯは、タッチパネルの電極を想定した膜である。ラミネート性は良好であった。
　次いで、得られた積層体Ｃに、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機〔日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製〕を用いて、露光マスクを用いずに、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）で全面露光した。全面露光後の積層体から仮支持体を剥離して露光後のサンプルを得た。次いで高圧水銀ランプを用いてポスト露光を行った。３６５ｎｍの照度計を用いて観測した露光量は３７５ｍＪ／ｃｍ２であった。ポスト露光後の積層体をオーブンにて１４０℃、３０分間のポストベークを行い、感光性組成物層を硬化させて硬化膜を形成した。
　このようにして、「仮支持体／硬化膜／屈折率調整層／ＩＴＯ層／基板（ガラス）」の積層構造を有するＩＴＯ密着性測定用試料を得た。
　ＩＴＯ密着性測定用試料に対し、ＡＳＴＭ　Ｄ３３５９－１７の手法に従い、クロスカット試験を実施した。銅基板から剥がれた部分を確認し、確認された場合には、面積を測定した。そして、測定値に基づき、下記の評価基準に従い、露光後におけるＩＴＯ基板に対する密着性を評価した。
　下記評価基準において、「基板から剥がれた部分の面積割合」とは、下記計算式により求められる値（単位：％）である。
　銅基板から剥がれた部分の面積割合（単位：％）＝（基板から剥がれた部分）／［（基板から剥がれた部分）＋（銅基板から剥がれなかった部分）］×１００
　下記評価基準において、Ａは、基板に対する密着性が最も優れる場合を示し、Ｆは基板に対する密着性が最も劣る場合を示す。評価結果が、Ａ又はＢのいずれかであれば、実用上許容される範囲内であると判断した。
　Ａ：基板から剥がれた部分が確認されなかった。
　Ｂ：基板から剥がれた部分の面積割合が５％未満であった。
　Ｃ：基板から剥がれた部分の面積割合が５％以上であった。
（黄変）
　ＩＴＯが積層されたガラスの代わりに、ＩＴＯが積層されていないガラスを用いた以外は、ＩＴＯ密着性測定用試料の作製と同様にして、「仮支持体／硬化膜／屈折率調整層／基板（ガラス）」の積層構造を有する黄変測定用試料を得た。
　黄変測定用試料のＵＶ－ＶＩＳスペクトルを測定し、４２０ｎｍの吸光度を観測し、黄変を評価した。下記評価基準において、Ａ又はＢであることが好ましく、Ａがより好ましい。
Ａ：吸光度が０．１未満
Ｂ：吸光度が０．１以上０．２未満
Ｃ：吸光度が０．２以上
　以上の評価試験の結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
　表１に示すように、仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、感光性組成物層が、アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、特定重合開始剤とを含み、
感光性組成物層中の特定重合開始剤の含有量が０．１～３．０質量％であれば、曲げ耐性に優れ、かつ、黄変を抑制できる硬化膜を形成できることが示された（実施例）。
　実施例１～１４の対比において、特定重合開始剤が式Ｉで表される重合開始剤であって、式Ｉ中のＸ１がＲ１２で表される基であり、Ｒ１２が置換基を有していてもよいアリール基であれば、硬化膜の曲げ耐性がより優れることが示された。
　特定重合開始剤が式Ｉで表される重合開始剤である場合（実施例１～１１）、式ＩのＸ１が芳香環を有する基である特定重合開始剤を用いれば（実施例３、５、７～１１）、ＩＴＯ密着性がより優れることが示された。
　実施例１１及び１５～２１の対比から、感光性組成物中の特定重合開始剤の含有量が０．２～２質量％であれば（実施例１１及び１６～２０）、ＩＴＯ密着性がより優れることが示された。
　実施例１１及び１５～２１の対比から、感光性組成物中の特定重合開始剤の含有量が０．３質量％以上であれば（実施例１１及び１７～２１）、透湿性をより抑制できることが示された。
　実施例１１及び１５～２１の対比から、感光性組成物中の特定重合開始剤の含有量が１．５質量％以下であれば（実施例１１及び１５～１９）、黄変をより抑制できることが示された。
　実施例１１及び１５～２１の対比から、感光性組成物中の特定重合開始剤の含有量が１．０質量％以下であれば（実施例１１及び１５～１８）、曲げ耐性がより優れることが示された。
　実施例１１及び２２～２７の対比から、アルカリ可溶性樹脂がラジカル重合性基を有する構造単位を含んでいれば（実施例１１及び２３～２６）、透湿性をより抑制できることが示された。
　実施例１１及び実施例２６～２８の対比から、重合性化合物が、環内に酸素原子又は窒素原子を含んでいてもよい脂肪族環を有し、かつ、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する（メタ）アクリレート化合物を含む場合（実施例１１）、曲げ耐性がより優れることが示された。
　実施例３１と実施例３２との対比から、重合性化合物が一分子中にエチレン性不飽和基を２つ有する（メタ）アクリレート化合物を含む場合、更に、一分子中にエチレン性不飽和基を５～６つ有する（メタ）アクリレート化合物を含んでいれば、透湿性をより抑制でき、かつ、ＩＴＯ密着性もより優れることが示された。
　実施例２８～３２の対比から、重合性化合物が、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ有する（メタ）アクリレート化合物と、一分子中にエチレン性不飽和基を３～６つ有する（メタ）アクリレート化合物とを含む場合（実施例２９、３１及び３２）、曲げ耐性及び透湿抑制の少なくとも一方がより優れることが示された。
　実施例１１と実施例３８との対比から、第１ブロックイソシアネート化合物を含む場合（実施例１１）、曲げ耐性がより優れることが示された。
　表１に示すように、感光性組成物中の特定重合開始剤の含有量が０．１～３．０質量％の範囲外であれば、得られる硬化膜の曲げ耐性及び黄変の少なくとも一方が劣ることが示された（比較例１～４）。
＜タッチパネルの作製＞
　ポリイミド透明フィルムにＩＴＯ透明電極パターン、銅の引き回し配線を形成した基板を準備した。
　上述の曲げ耐性の評価と同様の操作を行って、作製した各実施例の転写フィルムの保護フィルムを剥離し、ＩＴＯ透明電極パターン、銅の引き回し配線を、転写フィルムが覆う位置にてラミネートした。ラミネートは、ＭＣＫ社製真空ラミネーターを用いて、シクロオレフィン透明フィルムの温度：４０℃、ゴムローラー温度１００℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件で行った。
　その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有する石英露光マスク）面と仮支持体とを密着させ、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）でパターン露光した。
　仮支持体を剥離後、炭酸ナトリウム１％水溶液２６℃で６５秒間現像処理を実施し、硬化膜パターンを形成した。
　その後、現像処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射した。引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、次いで高圧水銀ランプを用いてポスト露光を行った。３６５ｎｍの照度計を用いて観測した露光量は１０００ｍＪ／ｃｍ２であった。その後、１８０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上にＩＴＯ透明電極パターン、銅の引き回し配線、屈折率調整層及び硬化膜パターンが順に積層された透明積層体を形成した。
　作製した透明積層体を用いて、公知の方法によりタッチパネルを製造した。製造したタッチパネルを、特開２００９－４７９３６号公報の段落００９７～０１１９に記載の方法で製造した液晶表示素子に貼り合わせることにより、タッチパネルを備えた液晶表示装置を製造した。
　タッチパネルを備えた液晶表示装置について、表示特性に優れ、タッチパネルが問題無く動作することを確認した。
　１０２　　曲げ耐性評価用試料
　１０２Ａ　１８０°に曲げた状態の曲げ耐性評価用試料
　１０４　　おもり
　１０６　　金属製ロッド
　Ｄ　　　　往復方向
　ｄ　　　　金属製ロッド１０６の直径

Claims (12)

  1. 　仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有し、
    　前記感光性組成物層が、アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、式Ｉ又は式ＩＩで表される重合開始剤と、を含み、
    　前記重合開始剤の含有量が、前記感光性組成物層の全質量に対して、０．１～３．０質量％である、転写フィルム。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    　式Ｉ中、Ｘ１は、－Ｓ－Ｒ１１で表される基、又は、－Ｒ１２で表される基を表す。Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に、炭素数２以上の１価の有機基を表す。
    　式ＩＩ中、Ｘ２は、ｎ価の連結基を表す。
    　式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
    　式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアリール基を表す。ただし、Ｚ１及びＺ２が置換基を有していてもよいアルキル基である場合、Ｚ１とＺ２とが連結して環を形成していてもよい。
    　式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｘ３は、１価の置換基である。
    　式Ｉ及び式ＩＩ中、ｍは、０～３の整数を表す。ｍが２以上である場合、複数のＸ３は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
    　式ＩＩ中、ｎは、２又は３である。
  2. 　式Ｉ中、Ｘ１が芳香環を有する基である、請求項１に記載の転写フィルム。
  3. 　前記感光性組成物層が、前記式Ｉで表される重合開始剤及び前記式ＩＩで表される重合開始剤以外の重合開始剤を更に含む、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
  4. 　前記感光性組成物層における、前記式Ｉで表される重合開始剤及び前記式ＩＩで表される重合開始剤以外の重合開始剤の含有量に対する、前記式Ｉで表される重合開始剤及び前記式ＩＩで表される重合開始剤の合計含有量の質量比が、０．５～１０である、請求項３に記載の転写フィルム。
  5. 　前記重合性化合物が、環内に酸素原子又は窒素原子を含んでいてもよい脂肪族環を有し、かつ、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する（メタ）アクリレート化合物を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  6. 　前記重合性化合物が、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ有する（メタ）アクリレート化合物と、一分子中にエチレン性不飽和基を３～６つ有する（メタ）アクリレート化合物と、を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  7. 　前記アルカリ可溶性樹脂が、芳香環を有する構造単位及び脂肪族環を有する構造単位の少なくとも一方の構造単位を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  8. 　前記アルカリ可溶性樹脂が、ラジカル重合性基を有する構造単位を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  9. 　前記感光性組成物層が更にブロックイソシアネート化合物を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  10. 　更に屈折率調整層を含み、
    　前記屈折率調整層が前記感光性組成物層に接して配置され、
    　前記屈折率調整層の屈折率が１．６０以上である、請求項１～９のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  11. 　前記感光性組成物層が、タッチパネル電極保護膜の形成に用いられる、請求項１～１０のいずれか１項に記載の転写フィルム。
  12. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載の転写フィルムの前記仮支持体上の前記感光性組成物層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせ、前記基板、前記導電層、前記感光性組成物層、及び、前記仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
    　前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
    　露光された前記感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
    　更に、前記貼合工程と前記露光工程との間、又は、前記露光工程と前記現像工程との間に、前記感光性組成物層付き基板から前記仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
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JP2020056825A (ja) * 2018-09-28 2020-04-09 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、転写フィルム、及び、タッチパネルの製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016090857A (ja) * 2014-11-06 2016-05-23 株式会社Adeka 感光性ソルダーレジスト用光重合開始剤及びこれを用いた感光性ソルダーレジスト組成物
JP2020056825A (ja) * 2018-09-28 2020-04-09 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、転写フィルム、及び、タッチパネルの製造方法

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