JP7285331B2 - 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルムおよびタッチパネルの製造方法 - Google Patents

組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルムおよびタッチパネルの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7285331B2
JP7285331B2 JP2021550459A JP2021550459A JP7285331B2 JP 7285331 B2 JP7285331 B2 JP 7285331B2 JP 2021550459 A JP2021550459 A JP 2021550459A JP 2021550459 A JP2021550459 A JP 2021550459A JP 7285331 B2 JP7285331 B2 JP 7285331B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
composition
group
mass
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021550459A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021070520A1 (ja
Inventor
陽平 有年
邦彦 児玉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of JPWO2021070520A1 publication Critical patent/JPWO2021070520A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7285331B2 publication Critical patent/JP7285331B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/02Homopolymers or copolymers of acids; Metal or ammonium salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/17Amines; Quaternary ammonium compounds
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06Hydrocarbons
    • C08F212/08Styrene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/08Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
    • C08F290/12Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3462Six-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/16Solid spheres
    • C08K7/18Solid spheres inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/02Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • C08L101/06Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing oxygen atoms
    • C08L101/08Carboxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D125/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D125/02Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C09D125/04Homopolymers or copolymers of styrene
    • C09D125/08Copolymers of styrene
    • C09D125/14Copolymers of styrene with unsaturated esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/40Esters of unsaturated alcohols, e.g. allyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2244Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Description

本発明は、組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルムおよびタッチパネルの製造方法に関する。
電子機器(例えば、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機および銀行端末など)の表示機器には、入力装置としてタッチパネルが使用されることが多い。
このようなタッチパネルでは、金属配線を含む電極を保護するための保護膜が設けられることが知られている。
例えば、特許文献1には、仮支持体と、仮支持体上に積層された透明硬化性樹脂層とを有し、透明硬化性樹脂層の550nmの波長における屈折率が1.55以上である転写材料が記載されている。
特開2014-056311号公報
本発明者らは、特許文献1に記載された転写フィルムについて検討したところ、転写フィルムを曲げると、透明硬化性樹脂層の表面に割れが生じる場合があることがあった。特に、特許文献1に記載されたフィルムの透明硬化性樹脂層が金属酸化物粒子を含む場合に曲げると割れが生じやすいことがわかった。
本発明が解決しようとする課題は、金属酸化物粒子を含む層を有する場合に曲げ性が改善された転写フィルムを得られる組成物を提供することである。また、本発明が解決しようとする課題は、この組成物の製造方法、この組成物の硬化膜、この組成物を用いた転写フィルム、この組成物を用いたタッチパネルの製造方法を提供することである。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、金属酸化物粒子および酸基を有するバインダーポリマーを含有する組成物に、連結鎖長が特定の範囲の連結基を含む置換基を有し、かつ特定の範囲の重量平均分子量であるアミン化合物を用いた組成物とすることで、金属酸化物粒子を含む層を有する場合に曲げ性が改善された転写フィルムを得られることを見出し、本発明を完成させた。
なお、特許文献1には金属酸化物粒子を含む透明硬化性樹脂層に対してアミン化合物を含有することに関する記載はない。
上記課題を解決できる本発明の構成および本発明の好ましい態様は以下のとおりである。
[1] アミン化合物、金属酸化物粒子および酸基を有するバインダーポリマーを含有し、
アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有し、
アミン化合物の重量平均分子量が100以上である、組成物。
[2] アミン化合物が下記一般式Nで表される化合物である[1]に記載の組成物。
Figure 0007285331000001
[3] 金属酸化物粒子の含有量が、組成物中の全固形分に対し、40~95質量%である[1]または[2]に記載の組成物。
[4] 金属酸化物粒子が酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種類を含む[1]~[3]のいずれか1項に記載の組成物。
[5] さらに6員複素環構造を有する化合物を含有し、
6員複素環構造を有する化合物が単環または多環の芳香族複素環構造を有する[1]~[4]のいずれか1項に記載の組成物。
[6] 6員複素環構造を有する化合物が、窒素原子を環構造内に2個有する6員複素環構造を有する[5]に記載の組成物。
[7] 6員複素環構造を有する化合物がアデニンまたはピリミジンである[5]または[6]に記載の組成物。
[8] さらにエチレン性不飽和化合物を有する[1]~[7]のいずれか1項に記載の組成物。
[9] さらに光重合開始剤を含有する[8]に記載の組成物。
[10] タッチパネルにおける保護膜形成用である[1]~[9]のいずれか1項に記載の組成物。
[11] タッチパネルにおける屈折率調整層形成用である[1]~[10]のいずれか1項に記載の組成物。
[12] 金属酸化物粒子、酸基を有するバインダーポリマー、およびアミン化合物を用いて組成物を調製する工程を含み、
アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有し、
アミン化合物の重量平均分子量が100以上である、組成物の製造方法。
[13] [1]~[11]のいずれか1項に記載の組成物の硬化膜。
[14] 仮支持体と、[1]~[11]のいずれか1項に記載の組成物を含む屈折率調整層とを有する、転写フィルム。
[15] 屈折率調整層の屈折率が1.55~1.80である[14]に記載の転写フィルム。
[16] 仮支持体と屈折率調整層との間に、感光性樹脂層を有する[14]または[15]に記載の転写フィルム。
[17] 感光性樹脂層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和化合物および光重合開始剤を含有する[16]に記載の転写フィルム。
[18] 基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程と、
タッチパネル用基板のタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、[1]~[11]のいずれか1項に記載の組成物からなるまたは組成物を乾燥してなる屈折率調整層を形成する工程と、
タッチパネル用基板上に形成された屈折率調整層をパターン露光する工程と、
パターン露光された屈折率調整層を現像することにより、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護する硬化膜を得る工程とを含む、タッチパネルの製造方法。
本発明によれば、金属酸化物粒子を含む層を有する場合に曲げ性が改善された転写フィルムを得られる組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルム、タッチパネルの製造方法を提供することができる。
図1は、本発明の転写フィルムの一例を示す概略断面図である。 図2は、本発明の転写フィルムを用いて製造したタッチパネルの第1具体例を示す概略断面図である。 図3は、本発明の転写フィルムを用いて製造したタッチパネルの第2具体例を示す概略断面図である。
以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本開示において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値または下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値または下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値または下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本開示における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。
本開示において、「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において、「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの両方を包含する概念であり、「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基およびメタクリロイル基の両方を包含する概念である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶媒THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、特段の断りが無い限り、分子量分布が有る化合物の分子量は、重量平均分子量である。
本開示において、特段の断りが無い限り、高分子の構成単位の比はモル比である。
本開示において、特段の断りが無い限り、屈折率はエリプソメーターで25℃において測定した波長550nmでの値である。
以下、本開示を詳細に説明する。
[組成物]
本発明の組成物は、アミン化合物、金属酸化物粒子および酸基を有するバインダーポリマーを含有し、アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有し、アミン化合物の重量平均分子量が100以上である。
本発明の組成物は、金属酸化物粒子を含む層を有する場合に曲げ性が改善された転写フィルムを得られる。
この理由は、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
金属酸化物粒子を用いることで、金属酸化物粒子を含む層に高い屈折率を付与することができるが、金属酸化物粒子を含む層は割れやすい。金属酸化物粒子を含む組成物中、連結鎖長がある程度長い連結基を含む置換基(例えば、鎖状基)を有し、重量平均分子量がある程度大きいアミン化合物が、酸基を有するバインダーポリマーの酸基と反応して、一部または全部がバインダーポリマーに取り込まれる。その結果、バインダーポリマーのガラス転移温度(Tg)を低下させ、この組成物を含む膜のTgを低下させて柔らかくして、曲げ性を改善できた(割れ難くなった)と考えられる。
なお、他の方法でバインダーポリマーのTgを低下して柔らかくさせる方法と比較して、本発明の組成物は、処方の自由度が高く、また本発明の組成物の好ましい態様ではより防錆性を改善できる。
本発明の組成物は、タッチパネルにおける任意の膜形成用に用いることができるが、特にタッチパネルにおける保護膜形成用および/または屈折率調整層形成用であることが好ましい。
本発明の組成物を、タッチパネルにおける保護膜形成用および屈折率調整層形成用に用いる場合、本発明の組成物の硬化物からなる単層の屈折率調整層をタッチパネルにおける保護膜に用いることができる。タッチパネルにおける保護膜形成用および屈折率調整層形成用に用いる場合、本発明の組成物は、バインダーポリマー、エチレン性不飽和化合物および光重合開始剤を含有していることが好ましい。
本発明の組成物を、タッチパネルにおける屈折率調整層形成用に用いる場合、本発明の組成物を含む層又は本発明の組成物を硬化してなる硬化物の層を屈折率調整層として用いることができ、別途準備した感光性樹脂層の硬化物をタッチパネルにおける保護膜に用いることができる。タッチパネルにおける屈折率調整層形成用に用いる場合、本発明の組成物は、光重合開始剤を含有していなくてもよく、光重合開始剤もエチレン性不飽和化合物も含有していなくてもよい。
以下、本発明の組成物の好ましい組成を説明する。必要に応じ、本発明の組成物の硬化物からなる単層の屈折率調整層をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合と、本発明の組成物の硬化物を屈折率調整層として用いる場合(すなわち別途準備した感光性樹脂層の硬化物をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合)に分けて説明する。
〔アミン化合物〕
本発明の組成物に用いられるアミン化合物は、アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有し、アミン化合物の重量平均分子量が100以上である。
本発明の組成物中、アミン化合物は、その全量が酸基を有するバインダーポリマーの酸基と反応して、アミン化合物として残っていなくてもよい。アミン化合物が、酸基を有するバインダーポリマーとアミン化合物が結合した化合物(塩を含む)、または、アミン化合物イオンなどの誘導体として存在している態様も、本発明の組成物に含まれる。なお、本発明の組成物中、アミン化合物以外に酸基を有するバインダーポリマーの酸基と反応する化合物(例えばアンモニア)が含まれる場合は、酸基を有するバインダーポリマーはアンモニア塩およびアミン化合物塩の両方の塩を形成していてもよい。
本発明では、アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有する。アミン化合物の窒素原子の置換基のうち、少なくとも1つの置換基が、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基であればよい。ここで、連結鎖長とは、連結鎖の原子数を意味する。
連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基としては、連結鎖長3以上でヘテロ原子を含む連結基を含む置換基であることが好ましい。ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子などを挙げることができ、酸素原子または硫黄原子であることが好ましく、酸素原子であることがより好ましい。連結鎖長が3以上である連結基がヘテロ原子を有する場合、連結基の末端にヘテロ原子を有していてもよく、連結基の鎖中にヘテロ原子を有していてもよい。連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基は、連結基の末端にヘテロ原子を有する場合、-OH基または-SH基を有することが好ましく、水系溶剤への溶解性を高める観点から-OH基を有することがより好ましい。連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基は、連結基の鎖中にヘテロ原子を有する場合、-O-結合または-S-結合を有することが好ましく、曲げ性及びパターニング性を改善する観点から-O-結合を有することがより好ましい。
連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基は、分岐してさらなる置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基を挙げることができ、アルキル基、ヒドロキシ基が好ましい。
連結鎖長が3以上である連結基の連結鎖長は、3~12であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、3~8であることが特に好ましく、3~6であることがより特に好ましく、4~6であることがさらに好ましい。
なお、アミン化合物中に2以上の窒素原子が含まれる場合、アミン化合物中の特定の窒素原子を起点とすると、その他の窒素原子を含む置換基の全長の連結鎖長は用いないで、他の窒素原子までの窒素原子間の連結基の連結鎖長のみを用いる(その他の窒素原子を超えない原子までを数える)。例えば、N,N,N’,N’-テトラキス(2-ヒドロキシプロピル)エチレンジアミンの場合、連結鎖長が3である2-ヒドロキシプロピル基を4つと、窒素原子間の連結鎖長が2である連結基1個を有することとする。N,N,N’,N’-テトラメチル-1,6-ヘキサンジアミンの場合、連結鎖長が1であるメチル基を4個と、窒素原子間の連結鎖長6である連結基1個を有することとする(起点とした窒素原子から、連結鎖長が1であるメチル基4個のみを数えるわけではない)。
一方、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミンの場合、連結鎖長が1個であるメチル基を4つと、窒素原子間の連結鎖長2である連結基1個を有することとし、本発明で規定するアミン化合物の範囲外となる(起点とした窒素原子から、連結鎖長が1個であるメチル基を2つと、その他の窒素原子を含む連結鎖長が4である置換基1個とは数えない)。
アミン化合物の窒素原子の置換基の個数は特に制限はなく、1個、2個、3個のいずれでもよい。すなわち、アミン化合物は第一級アミン、第二級アミン、第三級アミンのいずれでもよい。アミン化合物は、第二級アミンまたは第三級アミンであることが割れ性の観点から好ましく、第三級アミンであることが割れ性の観点からより好ましい。
アミン化合物が第二級アミンまたは第三級アミンである場合、窒素原子の置換基はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。アミン化合物の窒素原子の置換基が、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を2個以上有する場合、それぞれ同じであることが好ましい。
アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基以外のその他の置換基を有していてもよい。その他の置換基としては、連結鎖長が2以下であるアルキル基およびアルコキシ基を挙げることができ、これらはさらなる置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基を挙げることができる。その他の置換基としては、連結鎖長が2以下である無置換のアルキル基が好ましい。
アミン化合物の窒素原子の置換基は、割れ性の観点から、互いに結合して環を形成しないことが好ましい(すなわち、鎖状構造が好ましい)。また、アミン化合物の窒素原子の置換基は、割れ性の観点から、環構造を有しない置換基であることが好ましい。
本発明では、アミン化合物が下記一般式Nで表される化合物であることが好ましい。
Figure 0007285331000002
一般式N中、Lは連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基を表し、Rは水素原子またはハロゲン原子を表す。LおよびLはそれぞれ独立にアルキレン基または連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基を表し、RおよびRはそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。
一般式N中、Lの好ましい範囲は、連結鎖長が3以上である連結基の好ましい範囲と同様である。
一般式N中、LおよびLが連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基を表す場合、Lが表す連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基と同じであることが好ましい。LおよびLがアルキレン基を表す場合、炭素数1または2のアルキレン基であることが好ましい。
一般式N中、R~Rは水素原子であることが好ましい。
アミン化合物の具体例としては、3-(ジエチルアミノ)-1,2-プロパンジオール、N-メチルジエタノールアミン、2-[2-(ジメチルアミノ)エトキシ]エタノール、N,N,N’,N’-テトラキス(2-ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン、トリn-プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリn-ブチルアミン、トリス(2-エチルヘキシル)アミン、N,N-ジメチルn-プロピルアミン、N,N-ジメチルイソプロピルアミン、N,N-ジメチルドデシルアミン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-プロパンジアミン、N,N-ジメチル-N’,N’-ジメチル-1,3-プロパンジアミン、N,N-ジブチルエタノールアミン、ビス(2-ジメチルアミノエチル)エーテル、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,6-ヘキサンジアミンを挙げることができる。これらの中では、3-(ジエチルアミノ)-1,2-プロパンジオール、N-メチルジエタノールアミン、2-[2-(ジメチルアミノ)エトキシ]エタノール、N,N,N’,N’-テトラキス(2-ヒドロキシプロピル)エチレンジアミンが好ましく、割れ性を改善する観点から、3-(ジエチルアミノ)-1,2-プロパンジオール、N-メチルジエタノールアミン、2-[2-(ジメチルアミノ)エトキシ]エタノールがより好ましい。
本発明では、アミン化合物の重量平均分子量が100以上である。アミン化合物の重量平均分子量の上限は特に制限は無く、例えば500以下とすることができる。アミン化合物の重量平均分子量は、割れ性の観点から100~350であることが好ましく、割れ性をより改善させる観点から110~250であることがより好ましく、120~200であることが特に好ましく、130~150であることがより特に好ましい。
アミン化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
アミン化合物の含有量は、割れ性の観点から、本発明の組成物中の全固形分に対し、0.1質量%以上であることが好ましく、0.5質量%以上であることがより好ましく、1.0質量%以上であることが更に好ましい。また、アミン化合物の含有量は、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
アミン化合物の含有量は、割れ性の観点から、酸基を有するバインダーポリマーの全固形分に対し、5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましい。アミン化合物の含有量は、防錆性の観点から、酸基を有するバインダーポリマーの全固形分に対し、35質量%以下であることが好ましく、25質量%以下であることがより好ましい。
なお、本開示における組成物中の全固形分とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量を表し、また、本開示における固形分は、固体である必要はなく、液体であってもよく、また、固体と液体との混合物であってもよい。
〔金属酸化物粒子〕
金属酸化物粒子の種類としては、特に制限はなく、公知の金属酸化物粒子を用いることができる。
金属酸化物粒子における金属には、B、Si、Ge、As、Sb、Te等の半金属も含まれる。
金属酸化物粒子としては、具体的には、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム粒子(ZrO粒子)、Nb粒子、酸化チタン粒子(TiO粒子)、および二酸化珪素粒子(SiO粒子)からなる群から選ばれる少なくとも1種類が好ましい。
これらの中でも、屈折率調整層の屈折率を1.6以上に調整しやすいという観点から、金属酸化物粒子が酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種類を含むことがより好ましい。
金属酸化物粒子の好ましい組み合わせとして、酸化ジルコニウム粒子と酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム粒子と酸化ケイ素粒子、酸化チタン粒子と酸化スズ粒子、を挙げることができる。
金属酸化物粒子は合金の酸化物でもよく、具体例として、ジルコニウムとスズの合金の酸化物粒子、ジルコニウムとケイ素の合金の酸化物粒子、チタンとスズの合金の酸化物粒子、を挙げることができる。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の観点から、1nm~200nmであることが好ましく、3nm~80nmであることがより好ましい。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の金属酸化物粒子200個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、金属酸化物粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。
本発明の組成物は、金属酸化物粒子を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
金属酸化物粒子の含有量は、電極パターン等の被隠蔽物の隠蔽性が良好になり、被隠蔽物の視認性を効果的に改善することができるという観点から、本発明の組成物中の全固形分に対し、40質量%~95質量%であることが好ましく、40質量%~90質量%であることがより好ましく、40質量%~85質量%であることが更に好ましい。
金属酸化物粒子として酸化ジルコニウム粒子または酸化チタンを用いる場合、酸化ジルコニウム粒子または酸化チタン粒子の含有量は、屈折率調整層の全質量に対し、40質量%~95質量%であることが好ましく、40質量%~90質量%であることがより好ましく、40質量%~85質量%であることが更に好ましい。
金属酸化物粒子の市販品としては、
焼成酸化ジルコニウム粒子(CIKナノテック株式会社製、製品名:ZRPGM15WT%-F04)、焼成酸化ジルコニウム粒子(CIKナノテック株式会社製、製品名:ZRPGM15WT%-F74)、焼成酸化ジルコニウム粒子(CIKナノテック株式会社製、製品名:ZRPGM15WT%-F75)、焼成酸化ジルコニウム粒子(CIKナノテック株式会社製、製品名:ZRPGM15WT%-F76)、
酸化ジルコニウム粒子(ナノユースOZ-S30M、日産化学工業(株)製)、
酸化ジルコニウム粒子(ナノユースOZ-S30K、日産化学工業(株)製)、
を挙げることができる。
〔酸基を有するバインダーポリマー〕
<酸基を有するバインダーポリマーの種類>
酸基を有するバインダーポリマー(以下、単にバインダーポリマーとも言う)は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
バインダーポリマーは、例えば、現像性の観点から、酸価が30~200mgKOH/gのバインダーポリマーであることが好ましく、酸価が30~200mgKOH/gのアルカリ可溶性樹脂であることがより好ましい。
なお、本開示において、「アルカリ可溶性」とは、22℃において炭酸ナトリウムの1質量%水溶液への溶解度が0.1質量%以上であることを意味する。
また、バインダーポリマーの酸価は、JIS K0070:1992に記載の方法に従って、測定される値である。
また、バインダーポリマーは、例えば、加熱により架橋成分と熱架橋し、強固な膜を形成しやすいという観点から、酸価が30~160mgKOH/gのカルボキシ基を有する樹脂(いわゆる、カルボキシ基含有樹脂)であることが更に好ましく、酸価が30~160mgKOH/gのカルボキシ基を有するアクリル樹脂(いわゆる、カルボキシ基含有アクリル樹脂)であることが特に好ましい。
なお、本開示において、アクリル樹脂とは、(メタ)アクリル化合物由来の構成単位を有する樹脂を指し、上記構成単位の含有量が、樹脂の全質量に対し、30質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましい。
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の透湿度および曲げ性、並びに、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アクリル樹脂、または、スチレン-アクリル共重合体であることが好ましい。
なお、本開示において、スチレン-アクリル共重合体とは、スチレン化合物由来の構成単位と、(メタ)アクリル化合物由来の構成単位とを有する樹脂を指し、上記スチレン化合物由来の構成単位、上記(メタ)アクリル化合物由来の構成単位の合計含有量が、上記共重合体の全質量に対し、30質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましい。
また、スチレン化合物由来の構成単位の含有量は、上記共重合体の全質量に対し、1質量%以上であることが好ましく、5質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上80質量%以下であることが特に好ましい。
また、上記(メタ)アクリル化合物由来の構成単位の含有量は、上記共重合体の全質量に対し、5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上95質量%以下であることが特に好ましい。
更に、上記(メタ)アクリル化合物としては、(メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド化合物、(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。中でも、(メタ)アクリレート化合物、および、(メタ)アクリル酸よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物が好ましい。
-芳香環を有する構成単位-
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、芳香環を有する構成単位を有することが好ましい。
芳香環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、tert-ブトキシスチレン、メチルスチレン、α-メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
中でも、スチレン化合物が好ましく、スチレンが特に好ましい。
また、バインダーポリマーは、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、下記式(S)で表される構成単位(スチレン由来の構成単位)を有することがより好ましい。
Figure 0007285331000003
バインダーポリマーが芳香環を有する構成単位を含む場合、芳香環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、5質量%~90質量%であることが好ましく、10質量%~70質量%であることがより好ましく、20質量%~50質量%であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける芳香環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、5モル%~70モル%であることが好ましく、10モル%~60モル%であることがより好ましく、20モル%~50モル%であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける上記式(S)で表される構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、5モル%~70モル%であることが好ましく、10モル%~60モル%であることがより好ましく、20モル%~50モル%であることが特に好ましい。
なお、本開示において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、上記「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において、上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。
-脂肪族炭化水素環を有する構成単位-
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、脂肪族炭化水素環を有する構成単位を有することが好ましい。
脂肪族炭化水素環を有する構成単位における脂肪族炭化水素環としては、トリシクロデカン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、ノルボルナン環、イソボロン環等が挙げられる。
これらの中でも、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、2環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環であることが好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環(トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環)であることが特に好ましい。
脂肪族炭化水素環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、バインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、下記式(Cy)で表される構成単位を有することがより好ましく、上記式(S)で表される構成単位、および、下記式(Cy)で表される構成単位を有することが特に好ましい。
Figure 0007285331000004
式(Cy)中、Rは水素原子またはメチル基を表し、RCyは脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基を表す。
式(Cy)におけるRは、メチル基であることが好ましい。
式(Cy)におけるRCyは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、炭素数5~20の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが好ましく、炭素数6~16の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることがより好ましく、炭素数8~14の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが特に好ましい。
また、式(Cy)のRCyにおける脂肪族炭化水素環構造は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、シクロペンタン環構造、シクロヘキサン環構造、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造、ノルボルナン環構造、または、イソボロン環構造であることが好ましく、シクロヘキサン環構造、または、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることがより好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることが特に好ましい。
更に、式(Cy)のRCyにおける脂肪族炭化水素環構造は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、2環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造であることが好ましく、2環以上4環以下の脂肪族炭化水素環が縮環した環であることがより好ましい。
更にまた、式(Cy)におけるRCyは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、式(Cy)における-C(=O)O-の酸素原子と脂肪族炭化水素環構造とが直接結合する基、すなわち、脂肪族炭化水素環基であることが好ましく、シクロヘキシル基、または、ジシクロペンタニル基であることがより好ましく、ジシクロペンタニル基であることが特に好ましい。
バインダーポリマーは、脂肪族炭化水素環を有する構成単位を1種単独で有していても、2種以上有していてもよい。
バインダーポリマーが脂肪族炭化水素環を有する構成単位を含む場合、脂肪族炭化水素環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、5質量%~90質量%であることが好ましく、10質量%~80質量%であることがより好ましく、20質量%~70質量%であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける脂肪族炭化水素環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、5モル%~70モル%であることが好ましく、10モル%~60モル%であることがより好ましく、20モル%~50モル%であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける上記式(Cy)で表される構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、5モル%~70モル%であることが好ましく、10モル%~60モル%であることがより好ましく、20モル%~50モル%であることが特に好ましい。
バインダーポリマーが芳香環を有する構成単位および脂肪族炭化水素環を有する構成単位を含む場合、芳香環を有する構成単位および脂肪族炭化水素環を有する構成単位の総含有量は、得られる硬化膜の透湿度、曲げ性および強度の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、10質量%~90質量%であることが好ましく、20質量%~80質量%であることがより好ましく、40質量%~75質量%であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける芳香環を有する構成単位および脂肪族炭化水素環を有する構成単位の総含有量は、得られる硬化膜の透湿度、曲げ性および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、10モル%~80モル%であることが好ましく、20モル%~70モル%であることがより好ましく、40モル%~60モル%であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける上記式(S)で表される構成単位および上記式(Cy)で表される構成単位の総含有量は、得られる硬化膜の透湿度、曲げ性および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、10モル%~80モル%であることが好ましく、20モル%~70モル%であることがより好ましく、40モル%~60モル%であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける上記式(S)で表される構成単位のモル量nSと上記式(Cy)で表される構成単位のモル量nCyは、得られる硬化膜の透湿度、曲げ性および強度の観点から、下記式(SCy)に示す関係を満たすことが好ましく、下記式(SCy-1)を満たすことがより好ましく、下記式(SCy-2)を満たすことが特に好ましい。
0.2≦nS/(nS+nCy)≦0.8 式(SCy)
0.30≦nS/(nS+nCy)≦0.75 式(SCy-1)
0.40≦nS/(nS+nCy)≦0.70 式(SCy-2)
-酸基を有する構成単位-
酸基を有するバインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、酸基を有する構成単位を有する。
上記酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基等が挙げられるが、カルボキシ基が好ましい。
上記酸基を有する構成単位としては、下記に示す、(メタ)アクリル酸由来の構成単位が好ましく挙げられ、メタクリル酸由来の構成単位がより好ましく挙げられる。
Figure 0007285331000005
バインダーポリマーは、酸基を有する構成単位を1種単独で有していても、2種以上有していてもよい。
バインダーポリマーが酸基を有する構成単位を含む場合、酸基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、5質量%~40質量%であることがより好ましく、10質量%~30質量%であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける酸基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、5モル%~70モル%であることが好ましく、10モル%~50モル%であることがより好ましく、15モル%~30モル%であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける(メタ)アクリル酸由来の構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、5モル%~70モル%であることが好ましく、10モル%~50モル%であることがより好ましく、10モル%~30モル%であることが特に好ましい。
-反応性基を有する構成単位-
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、反応性基を有していることが好ましく、反応性基を有する構成単位を有することがより好ましい。
反応性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、エチレン性不飽和結合含有基がより好ましい。また、バインダーポリマーがエチレン性不飽和結合含有基を有している場合、バインダーポリマーは、側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を有する構成単位を有することが好ましい。
本開示において、「主鎖」とは、樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
エチレン性不飽和結合含有基としては、アリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基が好ましく、アリル基および(メタ)アクリロイルオキシ基がより好ましく、アリル基が特に好ましい。
反応性基を有する構成単位の一例としては、下記に示すものが挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。
Figure 0007285331000006
バインダーポリマーは、反応性基を有する構成単位を1種単独で有していても、2種以上有していてもよい。
バインダーポリマーが反応性基を有する構成単位を含む場合、反応性基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、5質量%~95質量%であることが好ましく、10質量%~90質量%であることがより好ましく、70質量%~90質量%であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける反応性基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、5モル%~95モル%であることが好ましく、10モル%~90モル%であることがより好ましく、70モル%~85モル%であることが特に好ましい。
反応性基をバインダーポリマーに導入する手段としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホ基等に、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物等を反応させる方法が挙げられる。
反応性基をバインダーポリマーに導入する手段の好ましい例としては、カルボキシ基を有するポリマーを重合反応により合成した後、高分子反応により、得られたポリマーのカルボキシ基の一部にグリシジル(メタ)アクリレートを反応させて、(メタ)アクリロキシ基をポリマーに導入する手段が挙げられる。この手段により、側鎖に(メタ)アクリロキシ基を有するバインダーポリマーを得ることができる。
上記重合反応は、70℃~100℃の温度条件で行うことが好ましく、80℃~90℃の温度条件で行うことがより好ましい。上記重合反応に用いる重合開始剤としては、アゾ系開始剤が好ましく、例えば、富士フイルム和光純薬(株)製のV-601(商品名)またはV-65(商品名)がより好ましい。上記高分子反応は、80℃~110℃の温度条件で行うことが好ましい。上記高分子反応においては、アンモニウム塩等の触媒を用いることが好ましい。
-酸基を有するバインダーポリマーの具体例-
酸基を有するバインダーポリマーの具体例としては、例えば、ZB-015M(富士フイルムファインケミカル(株)製)、ARUFON UC3920(東亞合成(株)製)等が挙げられる。
酸基を有するバインダーポリマーとしては、以下に示すポリマーが好ましく挙げられる。なお、以下に示す各構成単位の含有比率(a~d)および重量平均分子量Mw等は目的に応じて適宜変更することができる。
Figure 0007285331000007
Figure 0007285331000008
<酸基を有するバインダーポリマーの重量平均分子量>
酸基を有するバインダーポリマーの重量平均分子量(Mw)は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、5,000以上であることが好ましく、10,000以上であることがより好ましく、10,000~50,000であることが更に好ましく、20,000~30,000であることが特に好ましい。
<酸基を有するバインダーポリマーの含有量>
本発明の組成物は、酸基を有するバインダーポリマーを1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
本発明の組成物の硬化物からなる単層の屈折率調整層をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、酸基を有するバインダーポリマーの含有量は、例えば、硬化膜の強度、および、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、本発明の組成物の全固形分に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、20質量%~40質量%であることがより好ましく、25質量%~35質量%であることが更に好ましい。
本発明の組成物の硬化物を屈折率調整層として用い、感光性樹脂層の硬化物をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、酸基を有するバインダーポリマーの含有量は、本発明の組成物中の全固形分に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~40質量%であることがより好ましく、12質量%~35質量%であることが更に好ましい。
[残存モノマー]
バインダーポリマーの各構成単位の残存モノマーの含有量は、パターニング性向上の点から、バインダーポリマー全質量に対して、5,000質量ppm以下が好ましく、2,000質量ppm以下がより好ましく、500質量ppm以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、1質量ppm以上が好ましく、10質量ppm以上がより好ましい。
バインダーポリマーの各構成単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性組成物層全質量に対して、3,000質量ppm以下が好ましく、600質量ppm以下がより好ましく、100質量ppm以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、0.1質量ppm以上が好ましく、1質量ppm以上がより好ましい。
高分子反応でバインダーポリマーを合成する際のモノマーの残存モノマー量も上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてバインダーポリマーを合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
残存モノマーの量は液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィーなどの公知の方法で測定することができる。
〔6員複素環構造を有する化合物〕
本発明の組成物は、曲げ性および防錆性を改善する観点から、さらに6員複素環構造を有する化合物を含有することが好ましい。
本発明では、6員複素環構造を有する化合物が単環または多環の芳香族複素環構造を有することが好ましい。
6員複素環構造を有する化合物が有する上記複素環構造としては、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、窒素原子及び硫黄原子の少なくとも1種の原子を環構造内に有する(本開示においては、「環員として有する」ともいう。)ことが好ましく、窒素原子を環構造内に有することがより好ましく、窒素原子を1個又は2個環構造内に有することが更に好ましく、窒素原子を環構造内に2個有することが特に好ましい。
更に、6員複素環構造を有する化合物は、上記複素環構造として、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、窒素原子を環構造内に有する6員複素環構造を有することが好ましい。本発明では、6員複素環構造を有する化合物は、窒素原子を環構造内に2個有する6員複素環構造を有することがより好ましい。
また、6員複素環構造を有する化合物が有する上記複素環構造としては、脂肪族複素環構造であっても、芳香族複素環構造であってもよく、また、単環の複素環構造であっても、少なくとも1つの複素環が縮合した多環構造であってもよいが、揮発性、及び、防錆性の観点から、芳香族複素環構造であることが好ましく、単環または2環構造の芳香族複素環構造であることがより好ましい。
更に、6員複素環構造を有する化合物は、上記複素環構造を1つのみ有していても、2つ以上有していてもよいが、現像残渣抑制性、揮発性、及び、防錆性の観点から、1つのみ有していることが好ましい。
6員複素環構造を有する化合物が有する上記複素環構造として、具体的には、例えば、ピリジン環構造、ピリミジン環構造、1,3,5-トリアジン環構造、キノリン環構造、イソキノリン環構造、フタラジン環構造、ナフチリジン環構造、キノキサリン環構造、キナゾリン環構造、シンノリン環構造、プリン環構造、フェナントリジン環構造、アクリジン環構造等が挙げられる。
中でも、現像残渣抑制性、揮発性、及び、防錆性の観点から、ピリジン環構造、ピリミジン環構造、1,3,5-トリアジン環構造、又は、プリン環構造であることが好ましく、ピリジン環構造又はプリン環構造であることがより好ましい。
6員複素環構造を有する化合物は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子の少なくとも1種の原子を環構造内に有する複素環構造と、-SH、-OH、-COOH、-NHおよび-CONHよりなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基とを有することが好ましい。
6員複素環構造を有する化合物において、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、上記官能基が、上記複素環構造における複素環に直接結合している基であることが好ましい。
6員複素環構造を有する化合物が有する上記官能基としては、現像残渣抑制性、配線への吸着性、及び、防錆性の観点から、-SH、-OH、-COOH、-NHおよび-CONHよりなる群から選ばれる少なくとも1種の基であることが好ましく、-OH及び-COOHよりなる群から選ばれる少なくとも1種の基であることがより好ましく、-COOHであることが特に好ましい。
6員複素環構造を有する化合物は、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、-SH、-OH、-COOH、-NHおよび-CONHよりなる群から選ばれる上記官能基を合計1個~3個有する化合物であることが好ましく、-SH、-OH、-COOH、-NHおよび-CONHよりなる群から選ばれる上記官能基を合計1個又は2個有する化合物であることがより好ましく、-SH、-OH、-COOH、-NHおよび-CONHよりなる群から選ばれる上記官能基を1個有する化合物であることが特に好ましい。
また、6員複素環構造を有する化合物は、現像残渣抑制性、配線への吸着性、揮発性、及び、防錆性の観点から、-OH及び-COOHよりなる群から選ばれる少なくとも1種の上記官能基を有する化合物であることが好ましく、-OH及び-COOHよりなる群から選ばれる上記官能基を1個又は2個有する化合物であることがより好ましく、上記官能基として、-COOHを1個有する化合物であることが特に好ましい。
6員複素環構造を有する化合物の分子量は、揮発性、及び、防錆性の観点から、500以下であることが好ましく、80以上300以下であることがより好ましく、100以上200以下であることが更に好ましく、100以上150以下であることが特に好ましい。
6員複素環構造を有する化合物がピリジン環構造、ピリミジン環構造または1,3,5-トリアジン環構造を有する化合物である場合、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、下記式(A-1)~式(A-3)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、ピリミジン環構造を有する化合物に相当する下記式(A-2)で表される化合物であることがより好ましい。
Figure 0007285331000009
式(A-1)~式(A-3)中、Rはそれぞれ独立に、-SH、-OH、-COOH又は-NHを表し、n1は0~5の整数を表し、n2は0~4の整数を表し、n3は0~3の整数を表す。
式(A-1)~式(A-3)中、Rは、現像残渣抑制性、配線への吸着性、及び、防錆性の観点から、-SH、-OH又は-COOHであることが好ましく、-OH又は-COOHであることがより好ましく、-COOHであることが特に好ましい。
式(A-1)におけるn1は、現像残渣抑制性、配線への吸着性、揮発性、及び、防錆性の観点から、1~3の整数であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。
式(A-2)におけるn2は、現像残渣抑制性、配線への吸着性、揮発性、及び、防錆性の観点から、0~3の整数であることが好ましく、0であることがより好ましい。
式(A-3)におけるn3は、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、1又は3であることが好ましく、1であることがより好ましい。
6員複素環構造を有する化合物がプリン環構造を有する化合物である場合、防錆性の観点から、アデニンであることが好ましい。
6員複素環構造を有する化合物としては、特に制限はないが、具体的には、例えば、ピリジン-2-カルボン酸(ピコリン酸)、ピリジン-3-カルボン酸(ニコチン酸)、ピリジン-4-カルボン酸(イソニコチン酸)、2-ヒドロキシピリジン、3-ヒドロキシピリジン、4-ヒドロキシピリジン、2-メルカプトピリジン、3-メルカプトピリジン、4-メルカプトピリジン、2-アミノピリジン、3-アミノピリジン、4-アミノピリジン、ピリジン-3,5-ジカルボン酸、2,3-ジヒドロキシピリジン、ピリジン-2-ヒドロキシ-3-カルボン酸、ピリミジン、2-アミノピリミジン、4-ヒドロキシピリミジン、2-ピリミジンチオール、ピリミジン-4-カルボン酸、4,6-ジヒドロキシピリミジン、4-アミノ-6-ヒドロキシピリミジン、4,5-ジアミノピリミジン、2,4-ジアミノ-1,3,5-トリアジン、2,6-ジヒドロキシイソニコチン酸、2-アミノ-4,6-ジヒドロキシピリミジン、2,4-ジアミノ-6-ヒドロキシピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリミジン、シアヌル酸(トリヒドロキシトリアジン)、ニコチンアミド、6-メチル-ニコチンアミド、イソニコチンアミド、2-アミノ-イソニコチンアミド、6-アミノ-イソニコチンアミド、アデニン等が挙げられる。
中でも、6員複素環構造を有する化合物としては、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、ピリジン-2-カルボン酸、ピリジン-3-カルボン酸、2-ヒドロキシピリジン、2-メルカプトピリジン、2-アミノピリジン、2,3-ジヒドロキシピリジン、ピリジン-2-ヒドロキシ-3-カルボン酸、ピリミジン、2-アミノピリミジン、4-ヒドロキシピリミジン、ピリミジン-4-カルボン酸、4,6-ジヒドロキシピリミジン、2,6-ジヒドロキシイソニコチン酸、及び、シアヌル酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物が好ましく、ピリジン-2-カルボン酸、ピリジン-3-カルボン酸、2-ヒドロキシピリジン、2,3-ジヒドロキシピリジン、ピリジン-2-ヒドロキシ-3-カルボン酸、4-ヒドロキシピリミジン、ピリミジン-4-カルボン酸、及び、4,6-ジヒドロキシピリミジン、アデニンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物がより好ましく、ピリジン-2-カルボン酸、ピリジン-3-カルボン酸、2-ヒドロキシピリジン、2,3-ジヒドロキシピリジン、及び、ピリジン-2-ヒドロキシ-3-カルボン酸、ピリミジン、アデニンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物が特に好ましく、本発明ではピリミジンまたはアデニンがより特に好ましい。
また、6員複素環構造を有する化合物としては、汎用性の観点からは、ピリジン-3-カルボン酸が好ましく、また、揮発性、及び、配線への吸着性のバランスの観点からは、ピリジン-2-カルボン酸、2-ヒドロキシピリジン、2,3-ジヒドロキシピリジン、ピリジン-2-ヒドロキシ-3-カルボン酸、4-ヒドロキシピリミジン、ピリミジン-4-カルボン酸、及び、4,6-ジヒドロキシピリミジンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物が好ましい。
6員複素環構造を有する化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用することもできる。
6員複素環構造を有する化合物の含有量は、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、感光性樹脂組成物中の全固形分に対し、0.01質量%~20質量%であることが好ましく、0.05質量%~10質量%であることがより好ましく、0.1質量%~2.0質量%であることが更に好ましく、0.2質量%~1.8質量%であることが特に好ましい。
本発明の組成物は、上述した成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
本発明の組成物に含まれ得るその他の成分としては、後述の感光性樹脂層に含まれる各成分と同様のものが挙げられる。
〔金属酸化抑制剤〕
また、本発明の組成物は、屈折率調整層に接する金属の酸化抑制性の観点から、金属酸化抑制剤を少なくとも1種含んでいてもよい。
金属酸化抑制剤としては、例えば、6員複素環構造を有する化合物以外であって、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物が好ましく挙げられる。
金属酸化抑制剤の例としては、イミダゾール、トリアゾール、ベンゾイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
〔エチレン性不飽和化合物〕
本発明の組成物は、その硬化物を単層の屈折率調整層としてタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、さらにエチレン性不飽和化合物を有することが好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有するラジカル重合性化合物であることが好ましい。
エチレン性不飽和結合含有基を有するラジカル重合性化合物は、屈折率調整層の感光性(すなわち、光硬化性)および屈折率調整層を硬化してなる硬化膜の強度に寄与する成分である。
また、エチレン性不飽和化合物は、1つ以上のエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物である。
本発明の組成物は、エチレン性不飽和化合物として、2官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
ここで、2官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和結合含有基を2つ以上有する化合物を意味する。
エチレン性不飽和結合含有基としては、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、(メタ)アクリレート化合物が好ましい。
本発明の組成物は、硬化後の硬化性の観点から、2官能のエチレン性不飽和化合物(好ましくは、2官能の(メタ)アクリレート化合物)と、3官能以上のエチレン性不飽和化合物(好ましくは、3官能以上の(メタ)アクリレート化合物)と、を含有することが特に好ましい。
2官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
2官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
2官能のエチレン性不飽和化合物としては、より具体的には、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(商品名:NKエステル A-DCP、新中村化学工業(株)製)、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート(商品名:NKエステル DCP、新中村化学工業(株)製)、1,9-ノナンジオールジアクリレート(商品名:NKエステル A-NOD-N、新中村化学工業(株)製)、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(商品名:NKエステル A-HD-N、新中村化学工業(株)製)等が挙げられる。
3官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
3官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール(トリ/テトラ/ペンタ/ヘキサ)(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(トリ/テトラ)(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート骨格の(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。
ここで、「(トリ/テトラ/ペンタ/ヘキサ)(メタ)アクリレート」は、トリ(メタ)アクリレート、テトラ(メタ)アクリレート、ペンタ(メタ)アクリレート、およびヘキサ(メタ)アクリレートを包含する概念であり、「(トリ/テトラ)(メタ)アクリレート」は、トリ(メタ)アクリレートおよびテトラ(メタ)アクリレートを包含する概念である。
3官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、東新油脂(株)製)等が挙げられる。
エチレン性不飽和化合物としては、(メタ)アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物(日本化薬(株)製KAYARAD(登録商標)DPCA-20、新中村化学工業(株)製A-9300-1CL等)、(メタ)アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物(日本化薬(株)製KAYARAD RP-1040、新中村化学工業(株)製ATM-35E、A-9300、ダイセル・オルネクス社製 EBECRYL(登録商標)135等)、エトキシル化グリセリントリアクリレート(新中村化学工業(株)製A-GLY-9E等)等も挙げられる。
エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン(メタ)アクリレート化合物(好ましくは3官能以上のウレタン(メタ)アクリレート化合物)も挙げられる。
3官能以上のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、8UX-015A(大成ファインケミカル(株)製)、NKエステル UA-32P(新中村化学工業(株)製)、NKエステル UA-1100H(新中村化学工業(株)製)、AH-600(共栄社化学(株)製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H、UX-5000(以上、日本化薬(株)製)等が挙げられる。
また、エチレン性不飽和化合物は、現像性向上の観点から、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
酸基としては、例えば、リン酸基、スルホン酸基、および、カルボキシ基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、例えば、酸基を有する3~4官能のエチレン性不飽和化合物(ペンタエリスリトールトリおよびテトラアクリレート(PETA)骨格にカルボキシ基を導入したもの(酸価=80~120mgKOH/g))、酸基を有する5~6官能のエチレン性不飽和化合物(ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレート(DPHA)骨格にカルボキシ基を導入したもの(酸価=25~70mgKOH/g))等が挙げられる。これら酸基を有する3官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する2官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。
酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を含有する2官能以上のエチレン性不飽和化合物およびそのカルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。これにより現像性、および、硬化膜の強度が高まる。
カルボキシ基を含有する2官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
カルボキシ基を含有する2官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、アロニックス(登録商標)TO-2349(東亞合成(株)製)、アロニックスM-520(東亞合成(株)製)、または、アロニックスM-510(東亞合成(株)製)を好ましく用いることができる。
酸基を有するエチレン性不飽和化合物は、特開2004-239942号公報の段落0025~0030に記載の酸基を有する重合性化合物であることも好ましい。この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
<化合物M>
本発明においては、エチレン性不飽和化合物が、下記式(M)で表される化合物M(単に、「化合物M」ともいう。)であることが好ましい。
-R-Q 式(M)
式(M)中、QおよびQはそれぞれ独立に、(メタ)アクリロイルオキシ基を表し、Rは鎖状構造を有する二価の連結基を表す。
式(M)におけるQおよびQは、合成容易性の観点から、QおよびQは同じ基であることが好ましい。
また、式(M)におけるQおよびQは、反応性の観点から、アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
式(M)におけるRは、得られる硬化膜の曲げ性の観点から、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基(-L-O-L-)、または、ポリアルキレンオキシアルキレン基(-(L-O)-L-)であることが好ましく、炭素数2~20の炭化水素基、または、ポリアルキレンオキシアルキレン基であることがより好ましく、炭素数4~20のアルキレン基であることが更に好ましく、炭素数6~18の直鎖状のアルキレン基であることが特に好ましい。上記炭化水素基は、少なくとも一部に鎖状構造を有していればよく、上記鎖状構造以外の部分としては、特に制限はなく、例えば、分岐鎖状、環状又は直鎖状のアルキレン基、アリーレン基、エーテル結合、および、それらの組み合わせのいずれであってもよく、得られる硬化膜の曲げ性の観点から、アルキレン基、または、2以上のアルキレン基と1以上のアリーレン基とを組み合わせた基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましく、直鎖状のアルキレン基であることが特に好ましい。
なお、上記Lはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、エチレン基、プロピレン基、または、ブチレン基であることが好ましく、エチレン基、または、1,2-プロピレン基であることがより好ましい。pは2以上の整数を表し、2~10の整数であることが好ましい。
また、化合物MにおけるQとQとの間を連結する最短の連結鎖の原子数は、得られる硬化膜の透湿度および曲げ性の観点から、3個~50個であることが好ましく、4個~40個であることがより好ましく、6個~20個であることが更に好ましく、8個~12個であることが特に好ましい。
本開示において、「QとQの間を連結する最短の連結鎖の原子数」とは、Qに連結するRにおける原子からQに連結するRにおける原子までを連結する最短の原子数である。
化合物Mの具体例としては、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,7-ヘプタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,8-オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFのジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール/プロピレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。上記エステルモノマーは混合物としても使用できる。
上記化合物の中でも、得られる硬化膜の曲げ性の観点から、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、および、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましく、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、および、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることがより好ましく、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、および、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが特に好ましい。
化合物Mは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用することもできる。
エチレン性不飽和化合物の重量平均分子量(Mw)としては、200~3,000が好ましく、250~2,600がより好ましく、280~2,200が更に好ましく、300~2,200が特に好ましい。
また、本発明の組成物に用いられるエチレン性不飽和化合物のうち、重量平均分子量300以下のエチレン性不飽和化合物の含有量の割合は、本発明の組成物に含有されるすべてのエチレン性不飽和化合物に対して、30質量%以下が好ましく、25質量%以下がより好ましく、20質量%以下が更に好ましい。
エチレン性不飽和化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
本発明の組成物の硬化物からなる単層の屈折率調整層をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、本発明の組成物におけるエチレン性不飽和化合物の含有量は、本発明の組成物の全質量に対し、単層で転写性(基材に粘着)および硬化性を確保する観点から、1質量%~60質量%が好ましく、5質量%~50質量%がより好ましく、10質量%~40質量%が更に好ましく、10質量%~20質量%が特に好ましい。
本発明の組成物の硬化物を屈折率調整層として用い、感光性樹脂層の硬化物をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、感光性樹脂層が転写性および硬化性を担うため屈折率調整層のエチレン性不飽和化合物を少なくできる。この場合、エチレン性不飽和化合物の含有量は、本発明の組成物の全質量に対し、0.1質量%~60質量%が好ましく、0.5質量%~10質量%がより好ましく、1.0質量%~5質量%が特に好ましい。
また、本発明の組成物が2官能のエチレン性不飽和化合物と3官能以上のエチレン性不飽和化合物とを含有する場合、2官能のエチレン性不飽和化合物の含有量は、本発明の組成物に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、10質量%~90質量%が好ましく、20質量%~85質量%がより好ましく、30質量%~80質量%が更に好ましい。
また、この場合、3官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、本発明の組成物に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、10質量%~90質量%が好ましく、15質量%~80質量%がより好ましく、20質量%~70質量%が更に好ましい。
また、この場合、2官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、2官能のエチレン性不飽和化合物と3官能以上のエチレン性不飽和化合物との総含有量に対し、40質量%以上100質量%未満であることが好ましく、40質量%~90質量%であることがより好ましく、50質量%~80質量%であることが更に好ましく、50質量%~70質量%であることが特に好ましい。
また、本発明の組成物が2官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、本発明の組成物は、更に単官能エチレン性不飽和化合物を含有してもよい。
更に、本発明の組成物が2官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、本発明の組成物に含有されるエチレン性不飽和化合物において、2官能以上のエチレン性不飽和化合物が主成分であることが好ましい。
具体的には、本発明の組成物が2官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合において、2官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、本発明の組成物に含有されるエチレン性不飽和化合物の総含有量に対し、60質量%~100質量%が好ましく、80質量%~100質量%がより好ましく、90質量%~100質量%が特に好ましい。
また、本発明の組成物が、酸基を有するエチレン性不飽和化合物(好ましくは、カルボキシ基を含有する2官能以上のエチレン性不飽和化合物またはそのカルボン酸無水物)を含有することが好ましい。酸基を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、本発明の組成物に対し、1質量%~50質量%が好ましく、1質量%~20質量%がより好ましく、1質量%~10質量%が更に好ましい。
エチレン性不飽和化合物は1種単独でも、2種以上を併用してもよい。
〔光重合開始剤〕
本発明の組成物は、光重合開始剤を含んでいてもよい。
特に、本発明の組成物の硬化物からなる単層の屈折率調整層をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、本発明の組成物は光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては特に制限はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤(以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。)、α-アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤(以下、「α-アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。)、α-ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤(以下、「α-ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。)、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤(以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。)、N-フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤(以下、「N-フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。)等が挙げられる。
光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α-アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α-ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、およびN-フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α-アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、およびN-フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことがより好ましい。
また、光重合開始剤としては、例えば、特開2011-95716号公報の段落0031~0042、および、特開2015-014783号公報の段落0064~0081に記載された重合開始剤を用いてもよい。
光重合開始剤の市販品としては、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)〔商品名:IRGACURE(登録商標) OXE-01、BASF社製〕、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン-1-(O-アセチルオキシム)〔商品名:IRGACURE(登録商標) OXE-02、BASF社製〕、IRGACURE(登録商標)OXE03(BASF社製)、IRGACURE(登録商標)OXE04(BASF社製)、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン〔商品名:IRGACURE(登録商標) 379EG、BASF社製〕、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン〔商品名:IRGACURE(登録商標) 907、BASF社製〕、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル)ベンジル]フェニル}-2-メチルプロパン-1-オン〔商品名:IRGACURE(登録商標) 127、BASF社製〕、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタノン-1〔商品名:IRGACURE(登録商標) 369、BASF社製〕、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン〔商品名:IRGACURE(登録商標) 1173、BASF社製〕、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔商品名:IRGACURE(登録商標) 184、BASF社製〕、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン〔商品名:IRGACURE 651、BASF社製〕等、オキシムエステル系の〔商品名:Lunar(登録商標) 6、DKSHジャパン(株)製〕、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-3-シクロペンチルプロパン-1,2-ジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)(商品名:TR-PBG-305、常州強力電子新材料社製)、1,2-プロパンジオン,3-シクロヘキシル-1-[9-エチル-6-(2-フラニルカルボニル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,2-(O-アセチルオキシム)(商品名:TR-PBG-326、常州強力電子新材料社製)、3-シクロヘキシル-1-(6-(2-(ベンゾイルオキシイミノ)ヘキサノイル)-9-エチル-9H-カルバゾール-3-イル)-プロパン-1,2-ジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)(商品名:TR-PBG-391、常州強力電子新材料社製)、(1-(ビフェニル-4-イル)-2-メチル-2-モルホリノプロパン-1-オン(商品名:APi-307、Shenzhen UV-ChemTech Ltd.製)などが挙げられる。
光重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、本発明の組成物の全固形分量に対し、0.1質量%以上であることが好ましく、0.5質量%以上であることがより好ましく、1.0質量%以上であることが更に好ましい。
また、光重合開始剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分量に対し、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
光重合開始剤は1種単独でも、2種以上を併用してもよい。
〔界面活性剤〕
本発明の組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、特に制限されず、公知の界面活性剤を用いることができる。
界面活性剤としては、特許第4502784号公報の段落0017および特開2009-237362号公報の段落0060~0071に記載の界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤またはケイ素系界面活性剤が好ましい。
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、
メガファック F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-551-A、F-552、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上、DIC株式会社製)、
フロラード FC430、FC431、FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、
サーフロンS-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上、AGC(株)製)、
PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上、OMNOVA社製)、
フタージェント 710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F、251、212M、250、209F、222F、208G、710LA、710FS、730LM、650AC、681(以上、(株)NEOS製)等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、DIC(株)製のメガファック DSシリーズ(化学工業日報(2016年2月22日)、日経産業新聞(2016年2月23日))、例えばメガファック DS-21が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基(好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基)を2以上(好ましくは5以上)有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。メガファック RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上、DIC株式会社製)等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
シリコーン系界面活性剤の市販品としては、
DOWSIL 8032 ADDITIVE、トーレシリコーンDC3PA、トーレシリコーンSH7PA、トーレシリコーンDC11PA、トーレシリコーンSH21PA、トーレシリコーンSH28PA、トーレシリコーンSH29PA、トーレシリコーンSH30PA、トーレシリコーンSH8400(以上、東レ・ダウコーニング(株)製)並びに、
X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上、信越シリコーン株式会社製)、
F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)、
BYK307、BYK323、BYK330(以上、ビックケミー社製)等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、
グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステルなどが挙げられる。
ノニオン系界面活性剤の市販品としては、プルロニック L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上、BASF社製)、
テトロニック 304、701、704、901、904、150R1(以上、BASF社製)、
ソルスパース 20000(以上、日本ルーブリゾール(株)製)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上、富士フイルム和光純薬(株)製)、
パイオニン D-6112、D-6112-W、D-6315(以上、竹本油脂(株)製)、
オルフィンE1010、サーフィノール104、400、440(以上、日信化学工業(株)製)などが挙げられる。
本発明の組成物は、界面活性剤を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分量に対し、0.01質量%~3.0質量%であることが好ましく、0.05質量%~1.0質量%であることがより好ましく、0.10質量%~0.80質量%であることが更に好ましい。
〔溶剤〕
本発明の組成物は、溶剤を含むことが好ましい。
本発明の組成物が溶剤を含むと、塗布による屈折率調整層の形成がより容易となる傾向がある。
溶剤としては、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。
溶剤としては、水系溶剤または有機溶剤が好ましい。
本発明の組成物を用いて転写フィルムを形成する場合における、その下地層の種類に応じて、溶剤の種類を適宜選択できる。
例えば、本発明の組成物を用いて転写フィルムを形成する場合における、屈折率調整層の下地層が仮支持体である場合は水系溶剤または有機溶剤のいずれも選択できる。または、屈折率調整層の下地層が後述の中間層である場合は中間層を溶解しない溶剤を適宜選択できる。
一方、本発明の転写フィルムが屈折率調整層と仮支持体との間に感光性樹脂層を有する場合、例えば、有機溶剤を含む態様の感光性樹脂組成物を感光性樹脂層用いて形成した場合は、本発明の組成物には水系溶剤を選択することが好ましい。
水系溶剤としては、特開2018-024226号公報の段落0161および0162に水性溶媒として記載のものを用いることができ、この明細書の内容は、本開示に組み込まれる。例えば、水系溶剤としては、水もしくは炭素原子数1乃至3の低級アルコールと水との混合溶剤が好ましい。水および炭素原子数1~3のアルコールを含むことが好ましく、炭素原子数1~3のアルコール/水の質量比が20/80~80/20の水または混合溶剤を含むことがより好ましい。混合溶剤としては、水とメタノールとの混合溶剤、水とエタノールとの混合溶剤が好ましく、乾燥および塗布性の観点から水とメタノールとの混合溶剤が好ましい。特に、屈折率調整層形成の際、水とメタノール(MeOH)との混合溶剤を用いる場合は、MeOH/水の質量比(質量%比率)が20/80~80/20であることが好ましく、30/70~75/30であることがより好ましく、40/60~70/30であることがさらに好ましい。上記範囲に制御することにより、感光性樹脂層と屈折率調整層とが界面にて互いに層溶して混合することなく、塗布と迅速な乾燥とを実現できる。
有機溶剤としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(別名:1-メトキシ-2-プロピルアセテート)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、n-プロパノール、2-プロパノール等が挙げられる。
溶剤としては、メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、または、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。
溶剤としては、米国特許出願公開第2005/282073号明細書の段落0054および0055に記載のSolventを用いることもでき、この明細書の内容は、本開示に組み込まれる。
また、溶剤としては、必要に応じ、沸点が180℃~250℃である有機溶剤(高沸点溶剤)を用いることもできる。
本発明の組成物は、溶剤を含む場合、溶剤を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
溶剤を含む場合、本発明の組成物の固形分量は、本発明の組成物の全質量に対し、0.5質量%~80質量%であることが好ましく、1.0質量%~40質量%であることがより好ましく、1.5質量%~30質量%であることが特に好ましい。
本発明の組成物が溶剤を含む場合、本発明の組成物の25℃における粘度は、例えば、塗布性の観点から、1mPa・s~50mPa・sであることが好ましく、2mPa・s~40mPa・sであることがより好ましく、3mPa・s~30mPa・sであることが更に好ましい。
粘度は、粘度計を用いて測定される。粘度計としては、例えば、東機産業(株)製の粘度計(商品名:VISCOMETER TV-22)を好適に用いることができる。但し、粘度計は、これに限定されない。
本発明の組成物が溶剤を含む場合、本発明の組成物の25℃における表面張力は、例えば、塗布性の観点から、5mN/m~100mN/mであることが好ましく、10mN/m~80mN/mであることがより好ましく、15mN/m~40mN/mであることが更に好ましい。
表面張力は、表面張力計を用いて測定される。表面張力計としては、例えば、協和界面科学(株)製の表面張力計(商品名:Automatic Surface Tensiometer CBVP-Z)を好適に用いることができる。但し、表面張力計は、これに限定されない。
〔その他の成分〕
本発明の組成物のその他の成分については、特開2014-108541号公報の段落0019~0040および0144~0150に記載されている硬化性第二の樹脂層の成分、特開2014-10814号公報の段落0024~0035および0110~0112に記載されている透明層の成分、国際公開第2016/009980号の段落0034~0056に記載されている、アンモニウム塩を有する組成物の成分等を参照することができる。
〔不純物〕
本発明の組成物において、信頼性やパターニング性を向上させる観点から本発明の組成物、および、後述の感光性樹脂層の不純物の含有量が少ないことが好ましい。
不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、およびこれらのイオン、並びに、ハロゲン化物イオン(塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等)などが挙げられる。中でも、ナトリウムイオン、カリウムイオン、塩化物イオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが特に好ましい。
各層における不純物の含有量は、質量基準で、1,000ppm以下が好ましく、200ppm以下がより好ましく、40ppm以下が特に好ましく、10ppm以下であることがより特に好ましく、5ppm以下であることがさらにより特に好ましい。下限は特に定めるものではないが、現実的に減らせる限界および測定限界の観点から、質量基準で、10ppb以上とすることができ、100ppb以上とすることができる。
不純物を上記範囲に減らす方法としては、各層の原料に不純物を含まないものを選択すること、および層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去すること等が挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。
不純物は、例えば、ICP(Inductively Coupled Plasma)発光分光分析法、原子吸光分光法、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量することができる。
また、各層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、1,3-ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ヘキサン等の化合物の含有量が少ないことが好ましい。これら化合物の各層中における含有量としては、質量基準で、1,000ppm以下が好ましく、200ppm以下がより好ましく、40ppm以下が特に好ましく、10ppm以下であることがより特に好ましく、5ppm以下であることがさらにより特に好ましい。下限は特に定めるものではないが、現実的に減らせる限界および測定限界の観点から、質量基準で、10ppb以上とすることができ、100ppb以上とすることができる。
化合物の不純物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制することができる。また、公知の測定法により定量することができる。
[組成物の製造方法]
本発明の組成物の製造方法は、金属酸化物粒子、酸基を有するバインダーポリマー、およびアミン化合物を用いて組成物を調製する工程を含み、アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有し、アミン化合物の重量平均分子量が100以上である。
金属酸化物粒子、酸基を有するバインダーポリマー、およびアミン化合物を用いて組成物を調製する工程としては特に制限はなく、公知の方法で組成物を調製することができる。
本発明の組成物の製造方法のその他の好ましい態様は、本発明の組成物の好ましい態様と同様である。
[硬化膜]
本発明の硬化膜は、本発明の組成物の硬化膜である。
本発明の硬化膜の好ましい態様は、組成物がエチレン性不飽和化合物を含有する場合には、エチレン性不飽和化合物が硬化していること、組成物が重合開始剤を含有する場合には、重合開始剤が分解していること以外は、本発明の組成物の好ましい態様と実質的に同様である。
[転写フィルム]
本発明の転写フィルムは、仮支持体と、本発明の組成物を含む屈折率調整層とを有する。
以下に、本発明の転写フィルムが有する各層について詳細に説明する。
〔仮支持体〕
本発明の転写フィルムは、仮支持体を有する。
仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、または、加圧および加熱下において、著しい変形、収縮、または伸びを生じないフィルムを用いることができる。
このようなフィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム(例えば、2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム)、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、およびポリカーボネートフィルムが挙げられる。
これらの中でも、仮支持体としては、2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、傷などがないことが好ましい。
仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという観点から、透明性が高いことが好ましく、365nmの透過率は60%以上が好ましく、70%以上がより好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、および、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、2%以下が好ましく、0.5%以下がより好ましく、0.1%以下が特に好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、および、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる微粒子や異物や欠陥の数は少ない方が好ましい。直径1μm以上の微粒子や異物や欠陥の数は、50個/10mm以下であることが好ましく、10個/10mm以下であることがより好ましく、3個/10mm以下であることが更に好ましく、0個/10mmであることが特に好ましい。
本発明の転写フィルムが有する仮支持体は、屈折率調整層側の表面の算術平均粗さRaが50nm以下であり、1~20nmであることが好ましく、1~12nmであることがより好ましい。
ここで、算術平均粗さRaは、光学式の表面性状測定器を用いて測定した、JIS B0601:2001に準拠する算術平均粗さである。
本発明においては、仮支持体の屈折率調整層側の表面の算術平均粗さRaを上述した範囲に調整する観点から、仮支持体に粒子を含有させていてもよく、仮支持体に含まれる層構成として、屈折率調整層側の表面を構成する粒子含有層を有していてもよい。
仮支持体は、ハンドリング性をより向上させる点で、屈折率調整層が形成される側とは反対側の面に、直径0.5μm以上5μm以下の粒子が1個/mm以上存在する層を有することが好ましく、1~50個/mm存在するのがより好ましい。
仮支持体(特に粒子含有層)に含有させる粒子としては、有機系の粒子であっても、無機系の粒子であってもよい。
有機系の粒子としては、具体的には、例えば、ポリイミド系樹脂、オレフィンもしくは変性オレフィン系樹脂、架橋ポリスチレン系樹脂、および、シリコーン樹脂などが挙げられる。
無機系の粒子としては、具体的には、例えば、酸化珪素、炭酸カルシウム、凝集アルミナ、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク、および、硫酸バリウムなどが挙げられる。
また、仮支持体に含有させる粒子の数や粒径を調整することにより、仮支持体の屈折率調整層側の表面の算術平均粗さRaを上述した範囲に調整することができる。
仮支持体の厚さは、特に制限されないが、5μm~200μmであることが好ましく、取り扱いやすさおよび汎用性の観点から、10μm~150μmであることがより好ましく、10~50μmであることが更に好ましい。
仮支持体の好ましい態様としては、例えば、特開2014-85643号公報の段落0017~0018、特開2016-27363号公報の段落0019~0026、国際公開第2012/081680号の段落0041~0057、国際公開第2018/179370号の段落0029~0040に記載があり、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
仮支持体は、例えば、東レ株式会社製のルミラー(登録商標)16FB40、及び東レ株式会社製のルミラー(登録商標)16QS62(16KS40)として入手することもできる。
また、仮支持体の特に好ましい態様としては、厚さ16μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、及び、厚さ10μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを挙げることができる。
〔屈折率調整層〕
本発明の転写フィルムは、本発明の組成物を含む屈折率調整層を有する。
屈折率調整層の屈折率は、1.50以上であることが好ましく、1.55以上であることがより好ましく、1.60以上であることが更に好ましく、1.70以上であることが特に好ましい。
屈折率調整層の屈折率の上限は、特に制限されないが、2.10以下であることが好ましく、1.85以下であることがより好ましく、1.78以下であることが更に好ましく、1.74以下であることが特に好ましい。
屈折率調整層は、光硬化性(すなわち、感光性)を有してもよいし、熱硬化性を有していてもよいし、光硬化性および熱硬化性の両方を有してもよいが、強度に優れた硬化膜を形成するという観点からは、光硬化性を有することが好ましい。
屈折率調整層は、アルカリ可溶性(例えば、弱アルカリ水溶液に対する溶解性)を有することが好ましい。
屈折率調整層の厚さとしては、特に制限はない。
屈折率調整層の厚さは、本発明の組成物の硬化物からなる単層の屈折率調整層をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、十分な表面保護能を発揮させる観点から、0.5~20μmが好ましく、0.8~10μmがより好ましく、1~5μmが特に好ましい。
屈折率調整層の厚さは、本発明の組成物の硬化物を屈折率調整層として用いる場合(すなわち別途準備した感光性樹脂層の硬化物をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合)、50nm以上500nm以下であることが好ましく、55nm以上110nm以下であることがより好ましく、60nm以上100nm以下であることが更に好ましい。
屈折率調整層の厚さは、走査型電子顕微鏡(SEM)による断面観察により測定した任意の5点の平均値として算出する。
本発明において屈折率調整層の屈折率を制御する方法は、金属酸化物粒子およびバインダーポリマーを用いる以外は特に制限されず、例えば、任意の屈折率のバインダーポリマーと金属酸化物粒子を用いる方法、所定の高屈折率のバインダーポリマーと金属酸化物粒子を用いる方法、金属酸化物粒子とバインダーポリマーとの複合体を用いる方法、これらの方法でさらに金属粒子や金属塩を用いる方法等が挙げられる。
屈折率調整層の形成方法としては、特に限定はない。
屈折率調整層の形成方法の一例として、仮支持体上に形成された後述の感光性樹脂層上に、水系溶剤を含む態様の屈折率調整層形成用組成物(水系樹脂組成物)を塗布し、必要に応じて乾燥させることにより屈折率調整層を形成する方法が挙げられる。
塗布の方法としては、公知の方法を用いることができる。
塗布の方法としては、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ダイコート法(すなわち、スリットコート法)等が挙げられる。
これらの中でも、塗布の方法としては、ダイコート法が好ましい。
乾燥の方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等の公知の方法を用いることができ、これらの方法を単独でまたは複数組み合わせて適用することができる。
本開示において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。
[屈折率調整層の色]
屈折率調整層及びその硬化膜は無彩色であることが好ましい。具体的には、全反射(入射角8°、光源:D-65(2°視野))が、CIE1976(L*,a*,b*)色空間において、L値は10~90であることが好ましく、a値は-1.0~1.0であることが好ましく、b値は-1.0~1.0であることが好ましい。
〔感光性樹脂層〕
本発明の転写フィルムは、屈折率調整層と仮支持体との間に、感光性樹脂層を有することが好ましい。感光性樹脂層は、屈折率調整層よりも屈折率の低いことが好ましい。
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層は、バインダーポリマー、エチレン性不飽和化合物および光重合開始剤を含有していることが好ましく、バインダーポリマー、重合性モノマーおよび光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて形成されることがより好ましい。
<バインダーポリマー>
感光性樹脂層に含まれるバインダーポリマーとしては、本発明の組成物に含まれる酸基を有するバインダーポリマーと同様のものを使用することができ、好ましい種類も同様である。感光性樹脂層におけるバインダーポリマーの含有量は、例えば、硬化膜の強度、および、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、感光性樹脂層の全質量(または感光性樹脂組成物の全固形分)に対し、10質量%~90質量%であることが好ましく、20質量%~80質量%であることがより好ましく、30質量%~70質量%であることが更に好ましい。
<エチレン性不飽和化合物>
感光性樹脂層に含まれるエチレン性不飽和化合物としては、本発明の組成物に含まれるエチレン性不飽和結合含有基を有するラジカル重合性化合物と同様のものを使用することができ、好ましい種類も同様である。
ただし、感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物に含まれるエチレン性不飽和化合物としては、感光性樹脂層の硬化物の透湿度及び曲げ性、並びに、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、脂肪族炭化水素環構造を有する2官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、2環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有する2官能エチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレートを含むことが特に好ましい。
上記脂肪族炭化水素環構造は、感光性樹脂層の硬化物の透湿度及び曲げ性、並びに、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、シクロペンタン環構造、シクロヘキサン環構造、トリシクロデカン環構造、ノルボルナン環構造、又は、イソボロン環構造であることが好ましく、シクロヘキサン環構造、又は、トリシクロデカン環構造であることがより好ましく、トリシクロデカン環構造であることが特に好ましい。
感光性樹脂組成物は、脂肪族炭化水素環構造を有する2官能エチレン性不飽和化合物を、1種単独で含有していていても、2種以上を含有していてもよい。
脂肪族炭化水素環構造を有する2官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、得られる硬化膜の透湿度及び曲げ性、並びに、感光性樹脂層の硬化物の粘着性の観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、1質量%~50質量%であることが好ましく、5質量%~40質量%であることがより好ましく、10質量%~30質量%であることが更に好ましく、15質量%~25質量%であることが特に好ましい。
感光性樹脂層におけるエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、1質量%~70質量%が好ましく、5質量%~70質量%がより好ましく、10質量%~70質量%が更に好ましく、20質量%~60質量%が特に好ましく、20質量%~50質量%が最も好ましい。
感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよく、2種以上併用することが好ましい。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物では、エチレン性不飽和化合物として、基板密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、前述した式(M)で表される化合物(化合物M)、酸基を有するエチレン性不飽和化合物および3官能以上のエチレン性不飽和化合物を併用することが好ましく、連結基が直鎖状のアルキレン基である化合物M、脂肪族炭化水素環構造を有する化合物M、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物およびジペンタエリスリトール(トリ/テトラ/ペンタ/ヘキサ)(メタ)アクリレートを併用することがより好ましく、1,9-ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸変性体およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを併用することが特に好ましい。
化合物Mの含有量は、感光性樹脂層の硬化物の透湿度及び曲げ性の観点から、感光性樹脂組成物中のエチレン性不飽和化合物の全質量に対し、10質量%~90質量%であることが好ましく、20質量%~80質量%であることがより好ましく、40質量%~75質量%であることが更に好ましく、60質量%~70質量%であることが特に好ましい。
また、化合物Mの含有量は、感光性樹脂層の硬化物の透湿度及び曲げ性の観点から、感光性樹脂組成物中の全固形分に対し、1質量%~45質量%であることが好ましく、15質量%~40質量%であることがより好ましく、20質量%~35質量%であることが更に好ましく、25質量%~33質量%であることが特に好ましい。
更に、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物では、上記エチレン性不飽和化合物として、得られる硬化膜の強度、基板密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、化合物M、酸基を有するエチレン性不飽和化合物、3官能以上のエチレン性不飽和化合物、および後述する熱架橋性化合物を併用することが好ましく、連結基が直鎖状のアルキレン基である化合物M、脂肪族炭化水素環構造を有する化合物M、酸基を有するエチレン性不飽和化合物、3官能以上のエチレン性不飽和化合物および後述するブロックイソシアネート化合物を併用することがより好ましい。
また、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物では、感光性樹脂層の硬化物の透湿度及び曲げ性、並びに、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、脂肪族炭化水素環構造を有する2官能エチレン性不飽和化合物および脂肪族炭化水素環を有する構成単位を有するバインダーポリマーを併用することが好ましい。
<光重合開始剤>
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、光重合開始剤を含んでいてもよい。
感光性樹脂層に含まれる光重合開始剤としては、本発明の組成物に含まれる光重合開始剤と同様のものを使用することができ、好ましい種類も同様である。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、光重合開始剤を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよく、2種以上併用することが好ましい。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物では、光重合開始剤として、基板密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の観点から、オキシム系光重合開始剤およびα-アミノアルキルフェノン系光重合開始剤を併用することが好ましく、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン-1-(O-アセチルオキシム)および2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オンを併用することがより好ましい。
光重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、0.1質量%以上であることが好ましく、0.5質量%以上であることがより好ましく、1.0質量%以上であることが更に好ましい。
また、光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
<熱架橋性化合物>
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性がより良好となる理由から、酸基またはヒドロキシ基と反応可能な基を加熱により生起する化合物(以下、「熱架橋性化合物」とも略す。)を含有していることが好ましい。
熱架橋性化合物としては、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メチロール化合物、ブロックイソシアネート化合物等が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、以下にも示すブロックイソシアネート化合物が好ましい。
ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護(いわゆる、マスク)した構造を有する化合物」を指す。
ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、特に制限されないが、100℃~160℃であることが好ましく、130℃~150℃であることがより好ましい。
ここで、ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、DSC(Differential scanning calorimetry)分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ(株)製の示差走査熱量計(型式:DSC6200)を好適に用いることができる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。
解離温度が100℃~160℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔マロン酸ジエステル(マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジn-ブチル、マロン酸ジ2-エチルヘキシル等)など〕、オキシム化合物(ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等の分子内に-C(=N-OH)-で表される構造を有する化合物)などが挙げられる。
これらの中でも、解離温度が100℃~160℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の観点から、オキシム化合物から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の観点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすいという観点から好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、例えば、感光性樹脂層を硬化した硬化膜の強度の観点から、重合性基を有することが好ましく、ラジカル重合性基を有することがより好ましい。
重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができる。
重合性基としては、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、スチリル基等のエチレン性不飽和結合含有基、グリシジル基等のエポキシ基を有する基などが挙げられる。
これらの中でも、重合性基としては、感光性樹脂層を硬化した硬化膜における表面の面状、現像速度および反応性の観点から、エチレン性不飽和結合含有基が好ましく、(メタ)アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が特に好ましい。
ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いることができる。
ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ(登録商標) AOI-BM、カレンズ(登録商標) MOI-BM、カレンズ(登録商標) MOI-BP等(以上、昭和電工(株)製)、ブロック型のデュラネートシリーズ(例えば、デュラネート(登録商標) TPA-B80E、旭化成(株)製)などが挙げられる。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、熱架橋性化合物を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、1質量%~50質量%であることが好ましく、5質量%~30質量%であることがより好ましい。
<チオール化合物>
転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性がより良好となる理由から、マイケル付加反応可能な化合物を含有していることが好ましく、具体的には、以下にも示すチオール化合物を含有していることがより好ましい。
チオール化合物としては、単官能チオール化合物、または、多官能チオール化合物が好適に用いられる。中でも、硬化後の硬度の観点から、2官能以上のチオール化合物(多官能チオール化合物)を含むことが好ましく、多官能チオール化合物であることがより好ましい。
ここで、多官能チオール化合物とは、メルカプト基(チオール基)を分子内に2個以上有する化合物を意味する。
多官能チオール化合物としては、分子量100以上の低分子化合物が好ましく、具体的には、分子量100~1,500であることがより好ましく、150~1,000が更に好ましい。
多官能チオール化合物の官能基数としては、硬化後の硬度の観点から、2官能~10官能が好ましく、2官能~8官能がより好ましく、2官能~6官能が更に好ましい。
また、多官能チオール化合物としては、タック性、並びに、硬化後の曲げ性および硬度の観点から、脂肪族多官能チオール化合物であることが好ましい。
更に、チオール化合物としては、感光性転写材料の保存安定性の観点から、第二級チオール化合物がより好ましい。
多官能チオール化合物として具体的には、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチリルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、トリス[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル]イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、エチレングリコールビスチオプロピオネート、1,2-ベンゼンジチオール、1,3-ベンゼンジチオール、1,2-エタンジチオール、1,3-プロパンジチオール、1,6-ヘキサメチレンジチオール、2,2’-(エチレンジチオ)ジエタンチオール、meso-2,3-ジメルカプトコハク酸、p-キシレンジチオール、m-キシレンジチオール、ジ(メルカプトエチル)エーテル等を例示することができる。
これらの中でも、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチリルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、トリス[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル]イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、および、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)が好ましく挙げられる。
単官能チオール化合物としては、脂肪族チオール化合物、および、芳香族チオール化合物のどちらも用いることができる。
単官能脂肪族チオール化合物としては、具体的には、1-オクタンチオール、1-ドデカンチオール、β-メルカプトプロピオン酸、メチル-3-メルカプトプロピオネート、2-エチルヘキシル-3-メルカプトプロピオネート、n-オクチル-3-メルカプトプロピオネート、メトキシブチル-3-メルカプトプロピオネート、ステアリル-3-メルカプトプロピオネート等が挙げられる。
単官能芳香族チオール化合物としては、ベンゼンチオール、トルエンチオール、キシレンチオール等が挙げられる。
上記チオール化合物は、タック性、並びに、硬化後の曲げ性および硬度の観点から、エステル結合を有するチオール化合物であることが好ましく、下記式1で表される化合物を含むことがより好ましい。
Figure 0007285331000010
式1中、nは1~6の整数を表し、Aは炭素数1~15のn価の有機基、または、下記式2で表される基を表し、Rはそれぞれ独立に、炭素数1~15の二価の有機基を表す。
Figure 0007285331000011
式2中、R~Rはそれぞれ独立に、炭素数1~15の二価の有機基を表し、波線部分は、上記式1におけるAに隣接する酸素原子との結合位置を表す。ただし、Aが式2で表される基を表す場合、nは3を表す。
式1におけるnは、硬化後の硬度の観点から、2~6の整数であることが好ましい。
式1におけるAは、タック性、並びに、硬化後の曲げ性および硬度の観点から、炭素数1~15のn価の脂肪族基、または、上記式2で表される基であることが好ましく、炭素数4~15のn価の脂肪族基、または、上記式2で表される基であることがより好ましく、炭素数4~10のn価の脂肪族基、または、上記式2で表される基であることが更に好ましく、上記式2で表される基であることが特に好ましい。
また、式1におけるAは、タック性、並びに、硬化後の曲げ性、硬度および透湿性の観点から、水素原子および炭素原子からなるn価の基、または、水素原子、炭素原子および酸素原子からなるn価の基であることが好ましく、水素原子および炭素原子からなるn価の基であることがより好ましく、n価の脂肪族炭化水素基であることが特に好ましい。
式1におけるRはそれぞれ独立に、タック性、並びに、硬化後の曲げ性および硬度の観点から、炭素数1~15のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2~4のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数3のアルキレン基であることが更に好ましく、1,2-プロピレン基であることが特に好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状であっても、分岐を有していてもよい。
式2におけるR~Rはそれぞれ独立に、タック性、並びに、硬化後の曲げ性および硬度の観点から、炭素数2~15の脂肪族基であることが好ましく、炭素数2~15のアルキレン基、または、炭素数3~15のポリアルキレンオキシアルキル基であることがより好ましく、炭素数2~15のアルキレン基であることが更に好ましく、エチレン基であることが特に好ましい。
また、多官能チオール化合物としては、下記式S-1で表される基を2個以上有する化合物が好ましい。
Figure 0007285331000012
式S-1中、R1Sは水素原子またはアルキル基を表し、A1Sは-CO-または-CH-を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
多官能チオール化合物としては、式S-1で表される基を2以上6以下有する化合物が好ましい。
式S-1中のR1Sにおけるアルキル基としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基であり、炭素数の範囲としては1~16が好ましく、1~10がより好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、へキシル基、2-エチルへキシル基等であり、メチル基、エチル基、プロピル基またはイソプロピル基が好ましい。
1Sとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、または、イソプロピル基が特に好ましく、メチル基またはエチル基が最も好ましい。
更に、多官能チオール化合物としては、上記式S-1で表される基を複数個有する下記式S-2で表される化合物であることが特に好ましい。
Figure 0007285331000013
式S-2中、R1Sはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、A1Sはそれぞれ独立に、-CO-または-CH-を表し、L1SはnS価の連結基を表し、nSは2~8の整数を表す。合成上の観点からは、R1Sは全て同じ基であることが好ましく、また、A1Sは全て同じ基であることが好ましい。
式S-2中のR1Sは、上記式S-1中のR1Sと同義であり、好ましい範囲も同様である。nSは2~6の整数が好ましい。
式S-2中のnS価の連結基であるL1Sとしては、例えば-(CH)mS-(mSは2~6の整数を表す。)、-(CH)mS{(CH)mSO}mT(CH)mS-(mSおよびmTはそれぞれ独立に2~6の整数を表す。)などの二価の連結基、トリメチロールプロパン残基、-(CH)pS-(pSは2~6の整数を表す。)を3個有するイソシアヌル環などの三価の連結基、ペンタエリスリトール残基などの四価の連結基、ジペンタエリスリトール残基などの五価または六価の連結基が挙げられる。
チオール化合物として具体的には、以下の化合物が好ましく挙げられるが、これらに限定されないことは、言うまでもない。
Figure 0007285331000014
Figure 0007285331000015
<複素環化合物>

本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、複素環化合物を含有することが好ましい。
複素環化合物は、基材(特に、銅基板)に対する密着性、および金属(特に、銅)の腐食抑制性の向上に寄与する。
複素環化合物が有する複素環は、単環および多環のいずれの複素環でもよい。
複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子よりなる群から選ばれる少なくとも1種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。
複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、または、ピリミジン化合物が好ましく挙げられる。上記の中でも、複素環化合物は、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物およびベンゾオキサゾール化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物であることが好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物およびベンゾオキサゾール化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物であることがより好ましい。
複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。トリアゾール化合物、およびベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000016
テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000017
チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000018
トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000019
ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000020
チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000021
ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000022
ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000023
ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。
Figure 0007285331000024
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、複素環化合物を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
複素環化合物を含有する場合、複素環化合物の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分に対し、0.01質量%~20質量%であることが好ましく、0.1質量%~10質量%であることがより好ましく、0.3質量%~8質量%であることがさらに好ましく、0.5質量%~5質量%であることが特に好ましい。複素環化合物の含有量が上記範囲内であることで、基材(特に、銅基板)に対する密着性、および金属(特に、銅)の腐食抑制性を向上できる。
<界面活性剤>
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。
感光性樹脂層に含まれる界面活性剤としては、屈折率調整層に含まれる界面活性剤と同様のものを使用することができ、好ましい範囲も同様である。
<水素供与性化合物>
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、水素供与性化合物を含むことが好ましい。
ここで、水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
水素供与性化合物としては、アミン類、例えば、M.R.Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44-20189号公報、特開昭51-82102号公報、特開昭52-134692号公報、特開昭59-138205号公報、特開昭60-84305号公報、特開昭62-18537号公報、特開昭64-33104号公報、Research Disclosure 33825号等に記載の化合物等が挙げられる。
水素供与性化合物の具体例としては、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ホルミルジメチルアニリン、p-メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
また、水素供与性化合物としては、アミノ酸化合物(N-フェニルグリシン等)、特公昭48-42965号公報に記載の有機金属化合物(トリブチル錫アセテート等)、特公昭55-34414号公報に記載の水素供与体、特開平6-308727号公報に記載のイオウ化合物(トリチアン等)等も挙げられる。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、水素供与性化合物を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、例えば、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の観点から、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、0.01質量%~10質量%であることが好ましく、0.03質量%~5質量%であることがより好ましく、0.05質量%~3質量%であることが更に好ましい。
<溶剤>
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、溶剤を含むことが好ましい。
感光性樹脂組成物が溶剤を含むと、塗布による感光性樹脂層の形成がより容易となる傾向がある。
感光性樹脂層に含まれる溶剤としては、本発明の組成物に含まれる溶剤と同様のものを使用することができ、好ましい範囲も同様である。感光性樹脂組成物が溶剤を含む場合、感光性樹脂組成物の固形分量は、感光性樹脂組成物の全質量に対し、5質量%~80質量%であることが好ましく、5質量%~40質量%であることがより好ましく、5質量%~30質量%であることが特に好ましい。
<その他の成分>
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、既述の成分以外の成分(いわゆる、その他の成分)を含んでいてもよい。
その他の成分としては、粒子(例えば、金属酸化物粒子)、着色剤等が挙げられる。
また、その他の成分としては、例えば、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤、特開2000-310706号公報の段落0058~0071に記載のその他の添加剤等も挙げられる。
-粒子-
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、屈折率、光透過性等の調節を目的として、粒子(例えば、金属酸化物粒子;以下、同じ)を含んでいてもよい。
金属酸化物粒子における金属には、B、Si、Ge、As、Sb、Te等の半金属も含まれる。
粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の観点から、1nm~200nmであることが好ましく、3nm~80nmであることがより好ましい。
粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子200個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、粒子を含む場合、金属種、大きさ等の異なる粒子を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し0質量%を超えて35質量%以下であることが好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し0質量%を超えて10質量%以下であることがより好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し0質量%を超えて5質量%以下であることが更に好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し0質量%を超えて1質量%以下であることが更に好ましく、粒子を含まないことが特に好ましい。
粒子を含まない感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いる場合、転写フィルムの転写時の気泡の混入をより防止できる。
-着色剤-
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、微量の着色剤(顔料、染料等)を含んでいてもよいが、例えば、透明性の観点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、1質量%未満が好ましく、0.1質量%未満がより好ましい。
<感光性樹脂層の厚さ>
感光性樹脂層の厚さは、特に制限されないが、20μm以下であることが好ましく、15μm以下であることがより好ましく、12μm以下であることが更に好ましい。
感光性樹脂層の厚さが、20μm以下であると、転写フィルム全体の薄膜化、感光性樹脂層または得られる硬化膜の透過率向上、感光性樹脂層または得られる硬化膜の黄着色化抑制等の面で有利である。
感光性樹脂層の厚さは、例えば、製造適性の観点から、1μm以上であることが好ましく、2μm以上であることがより好ましく、3μm以上であることが特に好ましい。
感光性樹脂層の厚さは、走査型電子顕微鏡(SEM)による断面観察により測定した任意の5点の平均値として算出する。
<感光性樹脂層の屈折率>
感光性樹脂層の屈折率は、特に制限されないが、1.47~1.56であることが好ましく、1.50~1.53であることがより好ましく、1.50~1.52であることが更に好ましく、1.51~1.52であることが特に好ましい。
<感光性樹脂層の形成方法>
感光性樹脂層の形成方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
感光性樹脂層の形成方法の一例として、仮支持体上に、溶剤を含む態様の感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させることにより感光性樹脂層を形成する方法が挙げられる。
感光性樹脂層の形成方法における塗布および乾燥の方法の具体例は、それぞれ屈折率調整層の形成方法における塗布および乾燥の具体例と同様である。
[感光性樹脂層の色]
感光性樹脂層は無彩色であることが好ましい。具体的には、全反射(入射角8°、光源:D-65(2°視野))が、CIE1976(L*,a*,b*)色空間において、L値は10~90であることが好ましく、a値は-1.0~1.0であることが好ましく、b値は-1.0~1.0であることが好ましい。
〔保護フィルム〕
本発明の転写フィルムは、保護フィルムを有することが好ましい。
保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
保護フィルムとしては、例えば、特開2006-259138号公報の段落0083~0087および0093に記載のフィルムを用いてもよい。
保護フィルムは、例えば、王子エフテックス株式会社製のアルファン(登録商標)FG-201、アルファン(登録商標)E-201F、東レフィルム加工株式会社製のセラピール(登録商標)25WZ、及び東レ株式会社製のルミラー(登録商標)16QS62として入手することもできる。
また、保護フィルムは、保護フィルム中に含まれる直径80μm以上のフィッシュアイ数が5個/m以下であることが好ましい。なお、「フィッシュアイ」とは、材料を熱溶融し、混練、押し出し、2軸延伸及びキャスティング法等の方法によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものである。
保護フィルムに含まれる直径3μm以上の粒子の数が30個/mm以下であることが好ましく、10個/mm以下であることがより好ましく、5個/mm以下であることが更に好ましい。これにより、保護フィルムに含まれる粒子に起因する凹凸が感光性樹脂層に転写されることにより生じる欠陥を抑制することができる。
保護フィルムは、巻き取り性を付与する観点から、屈折率調整層と接する面とは反対側の表面の算術平均粗さRaが、0.01μm以上であることが好ましく、0.02μm以上であることがより好ましく、0.03μm以上であることが更に好ましい。一方で、0.50μm未満であることが好ましく、0.40μm以下であることがより好ましく、0.30μm以下であることがさらに好ましい。
保護フィルムは、転写時の欠陥抑制の観点から、屈折率調整層と接する面の表面粗さRa、0.01μm以上であることが好ましく、0.02μm以上であることがより好ましく、0.03μm以上であることが更に好ましい。一方で、0.50μm未満であることが好ましく、0.40μm以下であることがより好ましく、0.30μm以下であることがさらに好ましい。
本発明においては、保護フィルムの屈折率調整層側の表面の算術平均粗さRaを上述した範囲に調整する観点から、保護フィルムに粒子を含有させていてもよく、仮支持体に含まれる層構成として、屈折率調整層側の表面を構成する粒子含有層を有していてもよい。
保護フィルム(特に粒子含有層)に含有させる粒子としては、仮支持体に含有させる粒子として例示したものと同様のものが挙げられる。
〔熱可塑性樹脂層〕
本発明の転写フィルムは、更に、仮支持体と屈折率調整層との間、あるいは、仮支持体と感光性樹脂層との間に、熱可塑性樹脂層を有していてもよい。
転写フィルムが熱可塑性樹脂層を更に有すると、転写フィルムを基板に転写して積層体を形成した場合に、積層に起因する気泡が発生し難くなる。この積層体を画像表示装置に用いた場合には、画像ムラ等が発生し難くなり、優れた表示特性が得られる。
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有することが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、転写時において、基板表面の凹凸を吸収するクッション材として機能する。
基板表面の凹凸には、既に形成されている、画像、電極、配線等も含まれる。
熱可塑性樹脂層は、凹凸に応じて変形し得る性質を有していることが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、特開平5-72724号公報に記載の有機高分子物質を含むことが好ましく、ヴィカー(Vicat)法(具体的には、米国試験材料協会(ASTM International)ASTM D 1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質を含むことがより好ましい。
熱可塑性樹脂層の厚さは、例えば、3μm~30μmであることが好ましく、4μm~25μmであることがより好ましく、5μm~20μmであることが更に好ましい。
熱可塑性樹脂層の厚さが3μm以上であると、基板表面の凹凸に対する追従性がより向上するため、基板表面の凹凸をより効果的に吸収できる。
熱可塑性樹脂層の厚さが30μm以下であると、製造適性がより向上するため、例えば、仮支持体に熱可塑性樹脂層を塗布形成する際の乾燥(いわゆる、溶剤除去のための乾燥)の負荷がより軽減され、また、転写後の熱可塑性樹脂層の現像時間がより短縮される。
熱可塑性樹脂層の厚さは、走査型電子顕微鏡(SEM)による断面観察により測定した任意の5点の平均値として算出する。
熱可塑性樹脂層は、溶剤および熱可塑性の有機高分子を含む熱可塑性樹脂層形成用組成物を仮支持体に塗布し、必要に応じて、乾燥させることによって形成され得る。
熱可塑性樹脂層の形成方法における塗布および乾燥の方法の具体例は、それぞれ感光性樹脂層の形成方法における塗布および乾燥の具体例と同様である。
溶剤は、熱可塑性樹脂層を形成する高分子成分を溶解するものであれば、特に制限されない。
溶剤としては、有機溶剤(例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、n-プロパノール、および2-プロパノール)が挙げられる。
熱可塑性樹脂層は、100℃で測定した粘度が1,000Pa・s~10,000Pa・sであることが好ましい。また、100℃で測定した熱可塑性樹脂層の粘度が、100℃で測定した感光性樹脂層の粘度よりも低いことが好ましい。
〔中間層〕
本発明の転写フィルムは、更に、仮支持体と屈折率調整層との間、あるいは、仮支持体と感光性樹脂層との間に、中間層を有していてもよい。
本発明の転写フィルムが熱可塑性樹脂層を有する場合、中間層は、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層との間に配置されていることが好ましい。
中間層に含まれる成分としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも1種のポリマーが挙げられる。
また、中間層としては、特開平5-72724号公報に「分離層」として記載されているものを用いることもできる。
仮支持体上に、熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層と、屈折率調整層とをこの順に有する態様の転写フィルムを製造する場合には、中間層は、例えば、熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤、および、中間層の成分としての上記ポリマーを含む中間層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させることによって形成され得る。詳細には、まず、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させて、熱可塑性樹脂層を形成する。次いで、形成した熱可塑性樹脂層上に、中間層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させて、中間層を形成する。次いで、形成した中間層上に、有機溶剤を含む態様の感光性樹脂組成物(いわゆる、感光性樹脂層形成用組成物)を塗布し、乾燥させて感光性樹脂層を形成する。なお、感光性樹脂層形成用組成物に含まれる有機溶剤は、中間層を溶解しない有機溶剤であることが好ましい。次いで、形成した感光性樹脂層上に、水系溶剤を含む態様の本発明の組成物(いわゆる、屈折率調整層形成用組成物)を塗布し、乾燥させて屈折率調整層を形成する。なお、本発明の組成物に含まれる水系溶剤は、感光性樹脂層を溶解しない水系溶剤であることが好ましい。
一方、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層と、中間層と、単層の屈折率調整層とをこの順に有する態様の転写フィルムを製造する場合には、まず、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させて、熱可塑性樹脂層を形成する。次いで、形成した熱可塑性樹脂層上に、中間層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させて、中間層を形成する。次いで、形成した中間層上に、有機溶剤を含む態様の本発明の組成物(いわゆる、屈折率調整層形成用組成物)を塗布し、乾燥させて屈折率調整層を形成する。なお、本発明の組成物に含まれる有機溶剤は、中間層を溶解しない有機溶剤であることが好ましい。
中間層の形成方法における塗布および乾燥の方法の具体例は、それぞれ屈折率調整層の形成方法における塗布および乾燥の具体例と同様である。
〔転写フィルムの具体例〕
図1は、本発明の転写フィルムの一例を示す概略断面図である。
図1に示すように、転写フィルム10は、保護フィルム16/屈折率調整層20A/感光性樹脂層18A/仮支持体12の積層構造(すなわち、仮支持体12と、感光性樹脂層18Aと、屈折率調整層20Aと、保護フィルム16と、がこの順に配置された積層構造)を有する。
ただし、本発明の転写フィルムは、転写フィルム10であることには限定されず、例えば、感光性樹脂層18Aは省略されていてもよい。また、仮支持体12と感光性樹脂層18Aとの間に、既述の熱可塑性樹脂層および中間層の少なくとも一方を有していてもよい。
屈折率調整層20Aは、感光性樹脂層18Aからみて仮支持体12が存在する側とは反対側に配置された層である。屈折率調整層20Aは、波長550nmにおける屈折率が1.50以上である層であることが好ましい。
転写フィルム10は、ネガ型材料(いわゆる、ネガ型フィルム)である。
〔転写フィルムの製造方法〕
転写フィルム10の製造方法は、特に制限されない。
転写フィルム10の製造方法は、本発明の組成物の硬化物からなる単層の屈折率調整層をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合、例えば、仮支持体12上に屈折率調整層20Aを形成する工程と、屈折率調整層20A上に保護フィルム16を形成する工程と、をこの順に含むことが好ましい。
転写フィルム10の製造方法は、本発明の組成物の硬化物を屈折率調整層として用いる場合(すなわち別途準備した感光性樹脂層の硬化物をタッチパネルにおける保護膜に用いる場合)、仮支持体12上に感光性樹脂層18Aを形成する工程と、感光性樹脂層18A上に屈折率調整層20Aを形成する工程と、屈折率調整層20A上に保護フィルム16を形成する工程と、をこの順に含むことが好ましい。
転写フィルム10の製造方法は、屈折率調整層20Aを形成する工程と保護フィルム16を形成する工程との間に、国際公開第2016/009980号の段落0056に記載されている、アンモニアを揮発させる工程を含んでもよい。
〔用途〕
本発明の転写フィルムの用途は、特に制限はないが、曲げ性に優れるため、タッチパネル用の転写フィルムとして好適に用いることができ、タッチパネルにおける保護膜形成用の転写フィルムとしてより好適に用いることができ、タッチパネルにおける電極保護膜形成用の転写フィルムとして特に好適に用いることができる。
<積層体>
本発明の転写フィルムを用いることで、電極を有する基板上に、本発明の転写フィルムが有する屈折率調整層が転写され、屈折率調整層が硬化した硬化膜が積層された積層体を製造することができる。
積層体の製造方法は、例えば本発明の転写フィルムが保護フィルムを有する場合、
上述した本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離する第1剥離工程と、
電極を有する基板上に、保護フィルムを剥離した転写フィルムを屈折率調整層側から転写する転写工程と、
転写した屈折率調整層の少なくとも一部を硬化し、硬化膜を形成する硬化工程と、
硬化工程後に仮支持体を剥離し、電極を有する基板上に硬化膜が積層された積層体を得る第2剥離工程と、を有することが好ましい。
なお、積層体の製造方法が有する第1剥離工程、転写工程および第2剥離工程における具体的な手法は、後述する本発明のタッチパネルの製造方法が有する第1剥離工程、転写工程および第2剥離工程で説明する手法と同様のものが挙げられる。
電極を有する基板は、静電容量型入力装置の電極を含む基板であることが好ましい。
また、静電容量型入力装置の電極は、透明電極パターンであってもよく、引き回し配線であってもよい。
<タッチパネル>
積層体は、静電容量型入力装置の部材として用いることができる。
静電容量型入力装置としては、タッチパネルが好適に挙げられる。積層体は、タッチパネル部材として用いることが好ましい。
タッチパネル用電極としては、例えば、タッチパネルの少なくとも画像表示領域に配置される透明電極パターンが挙げられる。タッチパネル用電極は、画像表示領域からタッチパネルの枠部にまで延びていてもよい。
タッチパネル用配線としては、例えば、タッチパネルの枠部に配置される引き回し配線(いわゆる、取り出し配線)が挙げられる。
タッチパネル用基板およびタッチパネルの態様としては、透明電極パターンのタッチパネルの枠部に延びている部分に、引き回し配線の一部が積層されることにより、透明電極パターンと引き回し配線とが電気的に接続されている態様が好適である。
透明電極パターンの材質としては、ITO(酸化インジウムスズ)、IZO(酸化インジウム亜鉛)等の金属酸化膜、または、金属メッシュ、銀ナノワイヤー等の金属細線が好ましい。
金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。中でも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。
引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。
引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛およびマンガン、並びに、これらの金属元素の2種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウムまたはチタンが好ましく、銅が特に好ましい。
<タッチパネルの第1具体例>
図2は、本発明の転写フィルムを用いて転写および硬化して形成した硬化膜(屈折率調整層の硬化物)を有するタッチパネルの第1具体例を示す概略断面図である。より詳細には、図2は、タッチパネル30の画像表示領域の概略断面図である。
図2に示すように、タッチパネル30は、基板32と、第二屈折率調整層36と、タッチパネル用電極としての透明電極パターン34と、第一屈折率調整層として用いられる硬化膜20(屈折率調整層の硬化物)と、タッチパネル用電極保護膜18と、がこの順序で配置された構造を有する。
タッチパネル30では、タッチパネル用電極保護膜18および硬化膜20が、透明電極パターン34の全体を覆っている。
第二屈折率調整層36および硬化膜20は、それぞれ透明電極パターン34が存在する第1領域40、および、透明電極パターン34が存在しない第2領域42を、直接または他の層を介して連続して被覆することが好ましい。このような態様によれば、透明電極パターン34がより視認され難くなる。
第二屈折率調整層36および硬化膜20は、第1領域40および第2領域42の両方を、他の層を介して被覆するよりも、直接被覆することが好ましい。
「他の層」としては、絶縁層、透明電極パターン34以外の電極パターン等が挙げられる。
硬化膜20は、第1領域40および第2領域42の両方にまたがって積層されている。硬化膜20は、第二屈折率調整層36と隣接しており、更に、透明電極パターン34とも隣接している。
第二屈折率調整層36と接触する箇所における透明電極パターン34の端部の形状が、図2に示される如きテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って(すなわち、テーパー角と同じ傾きで)、硬化膜20が積層されていることが好ましい。
透明電極パターン34としては、ITO透明電極パターンが好適である。
透明電極パターン34は、例えば、以下の方法により形成できる。
第二屈折率調整層36が形成された基板32の上に、スパッタリングにより電極用薄膜(例えば、ITO膜)を形成する。次いで、形成した電極用薄膜の上に、エッチング用感光性レジストを塗布することにより、または、エッチング用感光性フィルムを転写することにより、エッチング保護層を形成する。次いで、形成したエッチング保護層を、露光および現像により、所望とするパターン形状にパターニングする。次いで、エッチングにより、電極用薄膜のうち、パターニングされたエッチング保護層に覆われていない部分を除去し、電極用薄膜を所望の形状のパターン(すなわち、透明電極パターン34)とする。次いで、剥離液によりパターニングされたエッチング保護層を除去する。
<タッチパネルの第2具体例>
図3は、本発明の転写フィルムを用いて転写および硬化して形成した、硬化膜(屈折率調整層の硬化物;図3には不図示)および感光性樹脂層の硬化物を有するタッチパネルの第2具体例を示す概略断面図である。
図3に示すように、タッチパネル90は、画像表示領域74および画像非表示領域75(すなわち、枠部)を有する。
また、タッチパネル90は、基板32の両面にタッチパネル用電極を備えている。詳細には、タッチパネル90は、基板32の一方の面に第1透明電極パターン70を備え、他方の面に第2透明電極パターン72を備えている。
タッチパネル90では、第1透明電極パターン70および第2透明電極パターン72のそれぞれに、引き回し配線56が接続されている。引き回し配線56は、例えば、銅配線である。
タッチパネル90では、基板32の一方の面において、第1透明電極パターン70および引き回し配線56を覆うように、不図示の硬化膜(屈折率調整層の硬化物、すなわち第一屈折率調整層)およびタッチパネル用電極保護膜18が形成されており、基板32の他方の面において、第2透明電極パターン72および引き回し配線56を覆うように不図示の硬化膜(屈折率調整層の硬化物)およびタッチパネル用電極保護膜18が形成されている。
基板32の一方の面および他方の面には、それぞれ第1具体例における第二屈折率調整層が形成されていてもよい。
[タッチパネルの製造方法]
本発明のタッチパネルの製造方法は、基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程と、タッチパネル用基板のタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、本発明の組成物からなるまたは組成物を乾燥してなる屈折率調整層を形成する工程と、タッチパネル用基板上に形成された屈折率調整層をパターン露光する工程と、パターン露光された屈折率調整層を現像することにより、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護する硬化膜を得る工程とを含む。
〔第1剥離工程〕
タッチパネルの製造方法は、本発明の転写フィルムが保護フィルムを有する場合、本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離する第1剥離工程を含むことが好ましい。
第1剥離工程は、上述した本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離する工程であり、剥離する手法は特に限定されず、公知の方法を適宜採用することができる。
〔転写工程〕
転写工程は、タッチパネル用基板のタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、本発明の組成物からなるまたは組成物を乾燥してなる屈折率調整層を形成する(転写する)工程である。
転写フィルムが屈折率調整層と仮支持体との間に感光性樹脂層を有する場合、この転写工程により、屈折率調整層および感光性樹脂層を同時に形成する(転写する)ことが好ましい。
転写する方法としては、上述した本発明の転写フィルムを、タッチパネル用基板のタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上にラミネートし、転写フィルムにおける屈折率調整層を上記面の上に転写することにより、上記面の上に屈折率調整層を形成する方法が挙げられる。
ラミネート(いわゆる、屈折率調整層の転写)は、真空ラミネーター、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを用いて行うことができる。
ラミネート条件としては、一般的な条件を適用できる。
ラミネート温度は、80℃~150℃であることが好ましく、90℃~150℃であることがより好ましく、100℃~150℃であることが更に好ましい。
ゴムローラーを備えたラミネーターを用いる場合、ラミネート温度は、ゴムローラーの温度を指す。
ラミネート時の基板温度は、特に制限されない。
ラミネート時の基板温度としては、10℃~150℃が好ましく、20℃~150℃がより好ましく、30℃~150℃が更に好ましい。
基板として樹脂基板を用いる場合には、ラミネート時の基板温度としては、10℃~80℃が好ましく、20℃~60℃がより好ましく、30℃~50℃が更に好ましい。
また、ラミネート時の線圧としては、0.5N/cm~20N/cmが好ましく、1N/cm~10N/cmがより好ましく、1N/cm~5N/cmが更に好ましい。
また、ラミネート時の搬送速度(ラミネート速度)としては、0.5m/分~5m/分が好ましく、1.5m/分~3m/分がより好ましい。
転写工程により、転写フィルムの屈折率調整層が、タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面上に転写され、仮支持体/屈折率調整層/電極等/基板の積層構造を有する積層体が形成される。または、転写フィルムが屈折率調整層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する場合、仮支持体/熱可塑性樹脂層/屈折率調整層/電極等/基板の積層構造を有する積層体が形成される。または、転写フィルムが屈折率調整層と仮支持体との間に感光性樹脂層を有する場合、仮支持体/感光性樹脂層/屈折率調整層/電極等/基板の積層構造を有する積層体が形成される。
これらの積層構造のうち、「電極等/基板」の部分が、タッチパネル用基板である。
〔露光工程〕
露光工程は、タッチパネル用基板上に形成された屈折率調整層をパターン露光する工程である。
転写フィルムが屈折率調整層と仮支持体との間に感光性樹脂層を有する場合、この露光工程により、屈折率調整層および感光性樹脂層を同時にパターン露光することが好ましい。
「パターン露光」とは、パターン状に露光する態様、すなわち、露光部と非露光部とが存在する態様の露光を指す。
タッチパネル用基板上の屈折率調整層のうち、パターン露光における露光部が硬化され、最終的に硬化膜となる。
一方、タッチパネル用基板上の屈折率調整層のうち、パターン露光における非露光部は硬化せず、次の現像工程において、現像液によって溶解されて除去される。非露光部は、現像工程後、硬化膜の開口部を形成し得る。
パターン露光は、マスクを介した露光でもよく、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。
パターン露光の光源としては、屈折率調整層を硬化し得る波長域の光(例えば、365nmまたは405nm)を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
光源としては、各種レーザー、発光ダイオード(LED)、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量は、5mJ/cm~200mJ/cmであることが好ましく、10mJ/cm~200mJ/cmであることがより好ましい。
〔第2剥離工程〕
タッチパネルの製造方法は、露光工程後に仮支持体を剥離し、電極を有する基板上に硬化膜が積層された積層体を得る第2剥離工程を有することが好ましい。
第2剥離工程は、露光工程後に仮支持体を剥離する工程であり、剥離する手法は特に限定されず、公知の方法を適宜採用することができる。
〔現像工程〕
現像工程は、第2剥離工程後に行うことが好ましい。
現像工程は、パターン露光された屈折率調整層を現像することにより、タッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護する硬化膜(タッチパネル用保護膜)を得る工程である。
転写フィルムが屈折率調整層と仮支持体との間に感光性樹脂層を有する場合、この現像工程により、パターン露光された屈折率調整層およびパターン露光された感光性樹脂層を同時に現像することが好ましい。
現像に用いる現像液は、特に制限されず、特開平5-72724号公報に記載の現像液等、公知の現像液を用いることができる。
現像液としては、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。
アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン(2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド)等が挙げられる。
アルカリ性水溶液の25℃におけるpHは、8~13であることが好ましく、9~12であることがより好ましく、10~12であることが特に好ましい。
アルカリ性水溶液中におけるアルカリ性化合物の含有量は、アルカリ性水溶液の全質量に対し、0.1質量%~5質量%であることが好ましく、0.1質量%~3質量%であることがより好ましい。
現像液は、水に対して混和性を有する有機溶剤を含んでいてもよい。
有機溶剤としては、メタノール、エタノール、2-プロパノール、1-プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε-カプロラクトン、γ-ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε-カプロラクタム、N-メチルピロリドン等が挙げられる。
有機溶剤の濃度は、0.1質量%~30質量%であることが好ましい。
現像液は、公知の界面活性剤を含んでもよい。
界面活性剤の濃度は、0.01質量%~10質量%であることが好ましい。
現像液の液温度は、20℃~40℃であることが好ましい。
現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワーおよびスピン現像、ディップ現像等の方式が挙げられる。
シャワー現像を行う場合、パターン露光後の屈折率調整層に現像液をシャワー状に吹き付けることにより、屈折率調整層の非露光部を除去する。
屈折率調整層(および任意の感光性樹脂層)と、熱可塑性樹脂層および中間層の少なくとも一方とを備える転写フィルムを用いた場合には、これらの層の基板上への転写後であって屈折率調整層(および感光性樹脂層)の現像の前に、屈折率調整層(および感光性樹脂層)の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワー状に吹き付け、熱可塑性樹脂層および中間層の少なくとも一方(両方存在する場合には両方)を予め除去してもよい。
また、現像の後に、洗浄剤等をシャワーにより吹き付けつつ、ブラシ等で擦ることにより、現像残渣を除去することが好ましい。
現像液の液温度は、20℃~40℃であることが好ましい。
現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を加熱処理(以下、「ポストベーク」ともいう。)する段階と、を含んでいてもよい。
基板が樹脂基板である場合には、ポストベークの温度は、100℃~160℃であることが好ましく、130℃~160℃であることがより好ましい。
このポストベークにより、透明電極パターンの抵抗値を調整することもできる。
屈折率調整層や感光性樹脂層がカルボキシ基含有(メタ)アクリル樹脂を含む場合には、ポストベークにより、カルボキシ基含有(メタ)アクリル樹脂の少なくとも一部をカルボン酸無水物に変化させることができる。このように変化させると、現像性、および、硬化膜の強度に優れる。
現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を露光(以下、「ポスト露光」ともいう。)する段階と、を含んでいてもよい。
現像工程がポスト露光する段階およびポストベークする段階の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。
パターン露光、現像等については、例えば、特開2006-23696号公報の段落0035~0051の記載を参照することもできる。
本開示に係るタッチパネルの製造方法は、既述の工程以外の工程(いわゆる、その他の工程)を含んでいてもよい。
その他の工程としては、通常のフォトリソグラフィ工程に設けられることがある公知の工程(例えば、洗浄工程)が挙げられる。
以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は質量基準である。
なお、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量である。また、酸価は、理論酸価を用いた。
[実施例1]
〔組成物の調製〕
下記の処方201である屈折率調整層用塗布液を、実施例1の組成物として調製した。
ここで、実施例1の組成物は、金属酸化物粒子と、酸基を有するバインダーポリマーと、アンモニア水溶液と、アミン化合物と、メタノールおよび蒸留水の混合溶剤を用いて調製しており、酸基を有するバインダーポリマーはアンモニア水溶液およびアミン化合物で中和され、酸基を有するバインダーポリマーのアンモニア塩およびアミン化合物塩を含む水系樹脂組成物である屈折率調整層用塗布液を調製した。
-屈折率調整層用塗布液:処方201(水系樹脂組成物)-
・金属酸化物粒子(ZrO粒子、ナノユースOZ-S30M、固形分30.5%、メタノール69.5%、屈折率が2.2、平均粒径:約12nm、日産化学工業(株)製):80.00部(固形分量)
・酸基を有するバインダーポリマー(アクリル樹脂、ZB-015M、富士フイルムファインケミカル(株)製、メタクリル酸/メタクリル酸アリルの共重合樹脂、重量平均分子量2.5万、組成比(モル比)=20/80、固形分5.00%、アンモニア水溶液):12.85部(固形分量)
・酸基を有するバインダーポリマー(アクリル樹脂、ARUFON UC3920、東亞合成(株)製):0.47部
・エチレン性不飽和化合物(カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物、アロニックス TO-2349、東亞合成(株)製):2.00部
・6員複素環構造を有する化合物(アデニン、東京化成工業(株)製):2.00部
・界面活性剤(フッ素系界面活性剤、メガファックF-444、DIC(株)製):0.68部
・アミン化合物(N-1、N-メチルジエタノールアミン、東京化成工業(株)製):2.00部
・溶剤:メタノールと蒸留水の7:3(質量比)混合溶剤を、屈折率調整層用塗布液の固形分濃度が1.66質量%になるように添加した。
〔転写フィルムの作製〕
<感光性樹脂層の形成>
厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(仮支持体、16QS62、東レ(株)製)の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方101である感光性樹脂層用塗布液を、乾燥後の厚みが5.5μmになるように調整して塗布し、75℃から120℃の温度勾配をもつ熱風対流式乾燥機で乾燥して溶剤を除去して、感光性樹脂層を形成した。
-感光性樹脂層用塗布液:処方101(有機溶剤系樹脂組成物)-
・エチレン性不飽和化合物
A-NOD-N(M-1、1,9-ノナンジオールジアクリレート、新中村化学工業(株)製):2.73部
A-DCP(M-2、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業(株)製):17.90部
アロニックス TO-2349(M-3、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物、東亞合成(株)製):2.98部
DPHA(M-4、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、東新油脂(株)製):7.99部
・バインダーポリマー
P-1(下記に示す樹脂、スチレン由来の構成単位(St)/ジシクロペンタニルメタクリレート由来の構成単位(DCPMA)/メタクリル酸由来の構成単位(MAA)/メタクリル酸由来の構成単位にグリシジルメタクリレートを付加してなる構成単位(GMA-MAA)=41.0/15.2/23.9/19.9(mol%)、Mw=17,000):52.67部(固形分量)
・光重合開始剤
1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン-1-(O-アセチルオキシム)(D-1、Irgacure OXE-02、BASF社製):0.36部
2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン(D-2、Irgacure 907、BASF社製):0.73部
・熱架橋性化合物
デュラネートWT32-B75P(E-3、ブロックイソシアネート化合物、旭化成ケミカルズ(株)製):12.50部
・化合物A-1
イソニコチンアミド:0.52部
・化合物A-2
ベンゾイミダゾール:0.13部
・その他の添加剤
水素供与性化合物(AD-1、N-フェニルグリシン、純正化学(株)製):0.10部
スチレン/無水マレイン酸=4:1(モル比)の共重合体(AD-2、SMA EF-40、酸無水物価1.94mmol/g、重量平均分子量10,500、Cray Valley社製):1.20部
界面活性剤(AD-3、フッ素系界面活性剤、メガファック F-551A、DIC(株)製):0.19部
・有機溶剤:1-メトキシ-2-プロピルアセテートとメチルエチルケトンの1:1(質量比)混合溶剤を、感光性樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が25質量%になるように添加した。
Figure 0007285331000025
<屈折率調整層の形成>
次に、上記の感光性樹脂層上に、スリット状ノズルを用いて、実施例1の組成物(上記の処方201である屈折率調整層用塗布液)を、乾燥後の厚みが70nmになるように調整して塗布し、40℃から95℃の温度勾配をもつ熱風対流式乾燥機で乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂層に直接接して配置された屈折率調整層を形成した。屈折率調整層の屈折率は、25℃において波長550nmで1.68であった。
<保護フィルムの形成>
上記のようにして得られた、仮支持体の上に感光性樹脂層と、感光性樹脂層に直接接して配置された屈折率調整層とをこの順で設けた積層体に対し、その屈折率調整層に、厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(保護フィルム、16QS62、東レ(株)製)を圧着し、実施例1の転写フィルムを作製した。
[実施例2~6、8~18および比較例1~3]
屈折率調整層として用いる組成物の処方を、下記表1のように変更したこと以外は実施例1と同様に転写フィルムを作製した。なお、表1では溶剤を省略したが、各実施例および比較例の組成物の溶剤および固形分濃度は、実施例1の組成物の溶剤および固形分濃度と同様である。
[実施例7]
下記表1に記載の実施例7の組成物を調製した。実施例7の組成物において、光重合開始剤としてOXE-01(商品名:IRGACURE(登録商標) OXE-01、BASF社製)を、0.58部添加した。なお、表1では溶剤を省略したが、実施例7の組成物の溶剤および固形分濃度は、処方101である感光性樹脂層用塗布液の有機溶剤および固形分濃度と同様である。
厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(仮支持体、16QS62、東レ(株)製)の上に、スリット状ノズルを用いて、実施例7の組成物(屈折率調整層用塗布液)を、乾燥後の厚みが4.0μmになるように調整して塗布し、75℃から120℃の温度勾配をもつ熱風対流式乾燥機で乾燥して溶剤を除去して、単層の屈折率調整層を形成した。
上記のようにして得られた、仮支持体の上に直接接する単層の屈折率調整層を設けた積層体に対し、厚み30μmのポリプロピレンフィルム(保護フィルム、アルファンE-201F、王子エフテックス(株)製)を圧着し、実施例7の転写フィルムを作製した。
[実施例16]
-感光性樹脂層用塗布液:処方102(有機溶剤系樹脂組成物)-
・エチレン性不飽和化合物
A-NOD-N(M-1、1,9-ノナンジオールジアクリレート、新中村化学工業(株)製):2.79部
A-DCP(M-2、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業(株)製):9.13部
アロニックス TO-2349(M-3、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物、東亞合成(株)製):3.04部
DPHA(M-4、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、東新油脂(株)製):1.73部・バインダーポリマー
P-2(下記に示す樹脂、スチレン由来の構成単位(St)/メタクリル酸由来の構成単位(MAA)/メタクリル酸由来の構成単位にグリシジルメタクリレートを付加してなる構成単位(GMA-MAA)/メタクリル酸メチルの構成単位(MMA)
=55.1/26.5/16.9/1.5(mol%)、Mw=17,000):49.04部(固形分量)
P-2
Figure 0007285331000026
・光重合開始剤
1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン-1-(O-アセチルオキシム)(D-1、Irgacure OXE-02、BASF社製):0.37部
2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン(D-2、Irgacure 907、BASF社製):0.74部
・熱架橋性化合物
デュラネートWT32-B75P(ブロックイソシアネート化合物、旭化成ケミカルズ(株)製):12.50部
下記の構造の化合物:3.00部
Figure 0007285331000027
・化合物A-1
イソニコチンアミド:0.52部
・化合物A-2
ベンゾイミダゾール:0.13部
・その他の添加剤
水素供与性化合物(AD-1、N-フェニルグリシン、純正化学(株)製):0.10部
スチレン/無水マレイン酸=4:1(モル比)の共重合体(AD-2、SMA EF-40、酸無水物価1.94mmol/g、重量平均分子量10,500、Cray Valley社製):1.20部
界面活性剤(AD-3、フッ素系界面活性剤、メガファック F-551A、DIC(株)製):0.19部
・有機溶剤:1-メトキシ-2-プロピルアセテートとメチルエチルケトンの1:1(質量比)混合溶剤を、感光性樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が25質量%になるように添加した。
〔転写フィルムの作製〕
<感光性樹脂層の形成>
厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(仮支持体、16QS62、東レ(株)製)の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方102である感光性樹脂層用塗布液を、乾燥後の厚みが5.5μmになるように調整して塗布し、75℃から120℃の温度勾配をもつ熱風対流式乾燥機で乾燥して溶剤を除去して、感光性樹脂層を形成した。
<屈折率調整層の形成>
次に、上記の感光性樹脂層上に、スリット状ノズルを用いて、実施例1の組成物(上記の処方201である屈折率調整層用塗布液)を、乾燥後の厚みが70nmになるように調整して塗布し、40℃から95℃の温度勾配をもつ熱風対流式乾燥機で乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂層に直接接して配置された屈折率調整層を形成した。屈折率調整層の屈折率は、25℃において波長550nmで1.68であった。
<保護フィルムの形成>
上記のようにして得られた、仮支持体の上に感光性樹脂層と、感光性樹脂層に直接接して配置された屈折率調整層とをこの順で設けた積層体に対し、その屈折率調整層に、厚み16μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(保護フィルム、16QS62、東レ(株)製)を圧着し、実施例16の転写フィルムを作製した。
[実施例17]
感光性樹脂層の乾燥後の厚みが4.5μmになるように調整した以外は、実施例16と同様に転写フィルムを作製した。
[実施例18]
感光性樹脂層の乾燥後の厚みが8.8μmになるように調整した以外は、実施例16と同様に転写フィルムを作製した。
各実施例で用いたアミン化合物の構造は以下のとおりである。なお、下記表1に、各アミン化合物の窒素原子の置換基が含む連結基の連結鎖長(最大値)と、各アミン化合物の重量平均分子量を記載した。
Figure 0007285331000028
各比較例で用いたアミン化合物の構造は以下のとおりである。
Figure 0007285331000029
実施例11で用いた金属酸化物粒子、及び、実施例12で用いたエチレン性不飽和化合物は以下のとおりである。
・金属酸化物粒子(二酸化チタン粒子、TS―020、酸化スズ及び二酸化ケイ素含有、不揮発分 25.8%、テイカ(株)製)
・エチレン性不飽和化合物(2-ヒドロキシエチルメタクリレート、ライトエステルHO-250(N)、共栄社化学(株)製)
[評価]
得られた転写フィルムを用い、以下のように評価した。得られた結果を下記表1に記載した。
〔曲げ性の評価〕
得られた転写フィルムについて、保護フィルムの上方から超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング(株)製)を用いて、保護フィルムを介して露光量120mJ/cm(i線)で全面露光した。
その後、保護フィルムを剥離し、直径1mmのロッドに仮支持体を接するように180°巻きつけ、5分間静置した。
その後、屈折率調整層の表面を光学式顕微鏡を用いて観察し、割れの有無を確認した。
下記評価基準において、Aが曲げ性が最も良く、Dが最も悪い。AまたはBであることが好ましく、Aであることがより好ましい。
A:まったく割れは生じていない。
B:わずかに割れが生じている。
C:全面に割れが生じている。
D:全面に割れが生じており、ところどころ樹脂層が剥がれ落ちている。
〔防錆性の評価〕
得られた感光性転写材料を、保護フィルムを剥離してから、屈折率調整層を銅板にラミネートした。ラミネートの条件は、ラミロール温度100℃、線圧3N/cm、搬送速度4m/分とした。
その後、得られた露光前の積層体に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング(株)製)を用いて、露光マスク(1mm幅のラインアンドスペースパターン:5ライン)面と仮支持体との間の距離を125μmに設定し、仮支持体を介して露光量120mJ/cm(i線)でパターン露光した。仮支持体を剥離後、パターン露光後の積層体を33℃の炭酸ソーダ1%水溶液に浸漬させ、45秒間静置して現像処理した。現像処理後の銅基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、空気を吹きかけて銅基板上の水分を除去し、140℃、30分間のポストベーク処理を行って、防錆性の評価サンプルとした。
その後、上記防錆性の評価サンプルを85℃、相対湿度85%の環境下で24時間静置した。
このパターンのスペース部分の銅の変色を目視で確認した。
下記評価基準において、Aが防錆性が最も良く、Dが最も悪い。A、B及びCのいずれかであることが好ましく、A又はBであることがより好ましく、Aであることが特に好ましい。
A:処理前の銅の色と同じで、全く変色が無い。
B:わずかに赤く変色している。
C:赤く変色している。
D:青く変色している。

Figure 0007285331000030
Figure 0007285331000031
上記表1に示した結果から、本発明の組成物を用いると、金属酸化物粒子を含む層を有する場合に曲げ性が改善された転写フィルムを得られることがわかった。
比較例1より、アミン化合物の重量平均分子量が、本発明で規定する下限値を下回る場合、曲げ性が劣ることがわかった。
比較例2より、アミン化合物の窒素原子の置換基が含む連結基の連結鎖長が、本発明で規定する下限値を下回る場合、曲げ性が劣ることがわかった。
比較例3より、アミン化合物を含有しない場合は、曲げ性が劣ることがわかった。
なお、本発明の組成物の好ましい態様である実施例1~18によれば、さらに防錆性も改善された転写フィルムを提供できることがわかった。
[実施例101~106、108~118]
〔表示装置の作製〕
シクロオレフィン透明フィルムに第二屈折率調整層及びITO透明電極パターン、銅の引き回し配線を形成した基板を準備した。
保護フィルムを剥離した実施例1~6、8~18の転写フィルムをそれぞれ用いて、第二屈折率調整層及びITO透明電極パターン、銅の引き回し配線を、転写フィルムが覆う位置にてラミネートした。ラミネートは、MCK社製真空ラミネーターを用いて、シクロオレフィン透明フィルムの温度:40℃、ゴムローラー温度100℃、線圧3N/cm、搬送速度2m/分の条件で行った。
その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング(株)製)を用いて、露光マスク(オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク)面と仮支持体とを密着させ、仮支持体を介して露光量100mJ/cm(i線)でパターン露光した。
仮支持体を剥離後、パターン露光後の積層体を33℃の炭酸ナトリウム1%水溶液に浸漬させ、45秒間静置して現像処理を実施した。
その後、現像処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、145℃30分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に第二屈折率調整層及びITO透明電極パターン、銅の引き回し配線、硬化膜(屈折率調整層の硬化物)、および感光性樹脂層の硬化物が順に積層された透明な積層体を形成した。
〔表示装置の作製〕
作製した透明な積層体を用いて、公知の方法により静電容量型タッチパネル部材(入力装置)を製造した。
製造したタッチパネル部材を、特開2009-047936号公報の段落0097~0119に記載の方法で製造した液晶表示素子に貼り合わせることにより、入力装置としてタッチパネル部材、表示装置として液晶表示装置を備えたタッチパネルを製造した。
[実施例107]
実施例1の転写フィルムの代わりに実施例7の転写フィルムを用いた以外は実施例101と同様にして、透明フィルム基板上に第二屈折率調整層及びITO透明電極パターン、銅の引き回し配線、硬化膜(単層の屈折率調整層の硬化物)が順に積層された透明な積層体を形成した。
[タッチパネルの評価]
各実施例のタッチパネルについて、表示特性に優れ、問題無く動作することを確認した。
10:転写フィルム
12:仮支持体
16:保護フィルム
18:タッチパネル用電極保護膜
18A:感光性樹脂層
20:第一屈折率調整層
20A:屈折率調整層
30:タッチパネル
32:基板
34:透明電極パターン
36:第二屈折率調整層
40:透明電極パターンが存在する第1領域
42:透明電極パターンが存在しない第2領域
56:引き回し配線
70:第1透明電極パターン
72:第2透明電極パターン
74:画像表示領域
75:画像非表示領域
90:タッチパネル

Claims (15)

  1. 仮支持体と、組成物を含む屈折率調整層とを有する、転写フィルムであって、
    前記組成物がアミン化合物、金属酸化物粒子および酸基を有するバインダーポリマーを含有し、
    前記アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有し、
    前記アミン化合物の重量平均分子量が100以上であり、
    前記アミン化合物が下記一般式Nで表される化合物である、転写フィルム:
    Figure 0007285331000032
    一般式N中、L は連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基を表し、R は水素原子またはハロゲン原子を表し、
    およびL はそれぞれ独立にアルキレン基または連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基を表し、R およびR はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。
  2. 前記金属酸化物粒子の含有量が、前記組成物中の全固形分に対し、40~95質量%である、請求項1に記載の転写フィルム
  3. 前記金属酸化物粒子が酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種類を含む、請求項1または2に記載の転写フィルム
  4. 前記組成物がさらに6員複素環構造を有する化合物を含有し、
    前記6員複素環構造を有する化合物が単環または多環の芳香族複素環構造を有し、
    前記芳香族複素環構造が、窒素原子を環構造内に2個有する6員複素環構造であり、
    前記6員複素環構造を有する化合物の分子量が500以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の転写フィルム
  5. 前記6員複素環構造を有する化合物がアデニンまたはピリミジンである、請求項4に記載の転写フィルム
  6. 前記組成物がさらにエチレン性不飽和化合物を有する、請求項1~5のいずれか1項に記載の転写フィルム
  7. 前記組成物がさらに光重合開始剤を含有する、請求項6に記載の転写フィルム
  8. タッチパネルにおける保護膜形成用である請求項1~7のいずれか1項に記載の転写フィルム
  9. タッチパネルにおける屈折率調整層形成用である請求項1~8のいずれか1項に記載の転写フィルム
  10. 前記屈折率調整層の屈折率が1.55~1.80である、請求項1~9のいずれか1項に記載の転写フィルム。
  11. 前記仮支持体と前記屈折率調整層との間に、感光性樹脂層を有する、請求項1~10のいずれか1項に記載の転写フィルム。
  12. 前記感光性樹脂層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和化合物および光重合開始剤を含有する、請求項11に記載の転写フィルム。
  13. 基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程と、
    前記タッチパネル用基板の前記タッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、組成物からなるまたは前記組成物を乾燥してなる屈折率調整層を形成する工程と、
    前記タッチパネル用基板上に形成された前記屈折率調整層をパターン露光する工程と、
    パターン露光された前記屈折率調整層を現像することにより、前記タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護する硬化膜を得る工程とを含むタッチパネルの製造方法であって
    前記組成物がアミン化合物、金属酸化物粒子および酸基を有するバインダーポリマーを含有し、
    前記アミン化合物の窒素原子の置換基として、連結鎖長が3以上である連結基を含む置換基を有し、
    前記アミン化合物の重量平均分子量が100以上であり、
    前記アミン化合物が下記一般式Nで表される化合物である、製造方法:
    Figure 0007285331000033
    一般式N中、L は連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基を表し、R は水素原子またはハロゲン原子を表し、
    およびL はそれぞれ独立にアルキレン基または連結鎖長3以上で酸素原子を含む連結基を表し、R およびR はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を表す。
  14. 前記組成物がさらに6員複素環構造を有する化合物を含有し、
    前記6員複素環構造を有する化合物が単環または多環の芳香族複素環構造を有し、
    前記芳香族複素環構造が、窒素原子を環構造内に2個有する6員複素環構造であり、
    前記6員複素環構造を有する化合物の分子量が500以下である、請求項13に記載の製造方法。
  15. 前記6員複素環構造を有する化合物がアデニンまたはピリミジンである、請求項14に記載の製造方法。
JP2021550459A 2019-10-11 2020-09-01 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルムおよびタッチパネルの製造方法 Active JP7285331B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019188207 2019-10-11
JP2019188207 2019-10-11
PCT/JP2020/033105 WO2021070520A1 (ja) 2019-10-11 2020-09-01 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルムおよびタッチパネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021070520A1 JPWO2021070520A1 (ja) 2021-04-15
JP7285331B2 true JP7285331B2 (ja) 2023-06-01

Family

ID=75437164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021550459A Active JP7285331B2 (ja) 2019-10-11 2020-09-01 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルムおよびタッチパネルの製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20220204745A1 (ja)
JP (1) JP7285331B2 (ja)
KR (1) KR20220056200A (ja)
CN (1) CN114467057A (ja)
TW (1) TW202115192A (ja)
WO (1) WO2021070520A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002327096A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Toho Chem Ind Co Ltd 樹脂エマルション組成物
CN101226332B (zh) 2007-12-26 2011-02-16 彩虹集团公司 一种障壁浆料的制备方法
JP2015528496A (ja) 2012-09-14 2015-09-28 ヴァレアント ファーマシューティカルズ インターナショナル インコーポレイテッドValeant Pharmaceuticals International, Inc. 歯のホワイトニングのための組成物および方法
JP2016181083A (ja) 2015-03-24 2016-10-13 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極用保護膜、積層体、積層体の製造方法および静電容量型入力装置
JP2017197580A (ja) 2009-05-29 2017-11-02 パラウ ファルマ ソシエテ アノニム アゾール系抗真菌性組成物
JP2018065844A (ja) 2010-04-30 2018-04-26 クロックス テクノロジーズ インコーポレイテッドKlox Technologies Inc. 光励起性酸素放出組成物および歯のホワイトニング方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3837324A1 (de) * 1988-11-03 1990-05-10 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
CN102385254B (zh) * 2010-09-01 2013-03-06 达兴材料股份有限公司 感光树脂组合物
JP6170288B2 (ja) 2012-09-11 2017-07-26 富士フイルム株式会社 転写材料、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置
CN107203095B (zh) * 2017-07-19 2020-08-18 江苏广信感光新材料股份有限公司 一种白色碱可溶感光性组合物及其制备方法与应用
TW201940342A (zh) * 2018-02-26 2019-10-16 日商旭化成股份有限公司 轉印膜、使用轉印膜之樹脂圖案之製造方法、及硬化膜圖案之製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002327096A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Toho Chem Ind Co Ltd 樹脂エマルション組成物
CN101226332B (zh) 2007-12-26 2011-02-16 彩虹集团公司 一种障壁浆料的制备方法
JP2017197580A (ja) 2009-05-29 2017-11-02 パラウ ファルマ ソシエテ アノニム アゾール系抗真菌性組成物
JP2018065844A (ja) 2010-04-30 2018-04-26 クロックス テクノロジーズ インコーポレイテッドKlox Technologies Inc. 光励起性酸素放出組成物および歯のホワイトニング方法
JP2015528496A (ja) 2012-09-14 2015-09-28 ヴァレアント ファーマシューティカルズ インターナショナル インコーポレイテッドValeant Pharmaceuticals International, Inc. 歯のホワイトニングのための組成物および方法
JP2016181083A (ja) 2015-03-24 2016-10-13 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極用保護膜、積層体、積層体の製造方法および静電容量型入力装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021070520A1 (ja) 2021-04-15
US20220204745A1 (en) 2022-06-30
CN114467057A (zh) 2022-05-10
TW202115192A (zh) 2021-04-16
KR20220056200A (ko) 2022-05-04
JPWO2021070520A1 (ja) 2021-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI766902B (zh) 轉印膜、電極保護膜、積層體、靜電電容型輸入裝置及觸控面板的製造方法
JP6566983B2 (ja) 転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法
KR102521385B1 (ko) 전사 필름, 정전 용량형 입력 장치의 전극 보호막, 적층체 및 정전 용량형 입력 장치
US20220107562A1 (en) Photosensitive resin composition, transfer film, cured film, laminate, and method for manufacturing touch panel
JP7213981B2 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法およびタッチパネルの製造方法
TW202012187A (zh) 轉印薄膜、積層體及圖案形成方法
JP7285331B2 (ja) 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、転写フィルムおよびタッチパネルの製造方法
WO2021241557A1 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法及びブロックイソシアネート化合物
JP7407272B2 (ja) 感光性材料、転写フィルム、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、パターン形成方法
WO2017155003A1 (ja) 転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法
WO2021241636A1 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法
WO2021246251A1 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法
WO2021246400A1 (ja) 転写フィルム及び積層体の製造方法
JP7360476B2 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法
WO2021117668A1 (ja) 積層体の製造方法、積層体、タッチセンサー
WO2021125168A1 (ja) 感光性転写材料及びその製造方法、パターン付き金属導電性材料の製造方法、膜、タッチパネル、劣化抑制方法、並びに、積層体
WO2022209307A1 (ja) 積層体及び積層体の製造方法
WO2021187549A1 (ja) 転写フィルム、感光性材料、パターン形成方法、回路基板の製造方法、タッチパネルの製造方法
WO2022044879A1 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法、回路配線の製造方法
WO2021246366A1 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法
JP2020091322A (ja) 感光性樹脂組成物、転写フィルム、硬化膜、積層体、及びタッチパネルの製造方法
JP2023020450A (ja) タッチパネルセンサー、及び、タッチパネルセンサーの製造方法
CN116157264A (zh) 转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220315

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230502

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230522

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7285331

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150