WO2021246366A1

WO2021246366A1 - 転写フィルム、積層体の製造方法

Info

Publication number: WO2021246366A1
Application number: PCT/JP2021/020668
Authority: WO
Inventors: 達也霜山; 知樹松田
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2020-06-01
Filing date: 2021-05-31
Publication date: 2021-12-09
Also published as: JPWO2021246366A1; CN115917430A

Abstract

本発明は、屈折率調整層及び感光性組成物層から形成されるパターンにおいてアンダーカットが生じにくい、転写フィルム、及び、積層体の製造方法を提供する。本発明の転写フィルムは、仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層とをこの順に有し、屈折率調整層が、金属酸化物、トリアジン環を有する化合物、及び、フルオレン骨格を有する化合物からなる群から選択される少なくとも１種の材料、並びに、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位を有するポリマーを含む。

Description

転写フィルム、積層体の製造方法

　本発明は、転写フィルム、及び、積層体の製造方法に関する。

　所定のパターンを得るための工程数が少ないことから、転写フィルムを用いて任意の基板上に感光性組成物層を配置して、この感光性組成物層に対してマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。

　例えば、特許文献１では、屈折率調整層として機能する第二の透明樹脂層を含む転写フィルムが開示されている。なお、特許文献１の実施例欄に記載の第二の透明樹脂層には、メタクリル酸／メタクリル酸アリルの共重合体が含まれている。

国際公開第２０１７／０５７３４８号

　本発明者らは、特許文献１に記載の屈折率調整層を含む転写フィルムの特性を評価したところ、被転写体に、転写フィルム中の屈折率調整層及び感光性組成物層を転写して、これらに露光処理及び現像処理を施して得られるパターンの端部付近において、アンダーカットが生じることを確認した。アンダーカットとは、得られたパターンの被転写体近傍の側面から中心部に向かって生じる凝集破壊による割れであり、このようなアンダーカットが生じるとパターンの浮きが生じしてしまう。パターンの浮きが生じると、例えば、パターンの側面から種々の成分（例えば、汗）が内部に浸透してしまい、パターンによって保護されている導電層に影響を与える懸念が生じる。

　本発明は、上記実情に鑑みて、屈折率調整層及び感光性組成物層から形成されるパターンにおいてアンダーカットが生じにくい、転写フィルムを提供することを課題とする。
　また、本発明は、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供することも課題とする。

　本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１）　仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層とをこの順に有し、
　屈折率調整層が、金属酸化物、トリアジン環を有する化合物、及び、フルオレン骨格を有する化合物からなる群から選択される少なくとも１種の材料、並びに、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位を有するポリマーを含む、転写フィルム。
（２）　ポリマー中における（メタ）アクリロイル基の含有量が２．５０ｍｍｏｌ／ｇ以上である、（１）に記載の転写フィルム。
（３）　ポリマーが、更に、酸基を有する構成単位を有する、（１）又は（２）に記載の転写フィルム。
（４）　ポリマーの酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である、（１）～（３）のいずれかに記載の転写フィルム。
（５）　屈折率調整層の厚みが５００ｎｍ以下である、（１）～（４）のいずれかに記載の転写フィルム。
（６）　屈折率調整層が、酸化ジルコニウム、及び、酸化チタンからなる群から選択される少なくとも１つを含む、（１）～（５）のいずれかに記載の転写フィルム。
（７）　材料の含有量が、屈折率調整層全質量に対して、５０質量％以上である、（１）～（６）のいずれかに記載の転写フィルム。
（８）　屈折率調整層の屈折率が１．６０以上である、（１）～（７）のいずれかに記載の転写フィルム。
（９）　感光性組成物層が、バインダーポリマー、重合性化合物、及び、重合開始剤を含む、（１）～（８）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１０）　重合開始剤が、オキシムエステル化合物、及び、ホスフィンオキサイド化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含む、（９）に記載の転写フィルム。
（１１）　感光性組成物層が、タッチパネル用電極保護膜形成に用いられる、（１）～（１０）のいずれかに記載の転写フィルム。
（１２）　基板と基板上に配置された導電層とを有する導電層付き基板と、（１）～（１１）のいずれかに記載の転写フィルムとを貼り合わせ、基板、導電層、屈折率調整層、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
　屈折率調整層及び感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された屈折率調整層及び感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
（１３）　導電層付き基板が、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方を有する基板である、（１２）に記載の積層体の製造方法。

　本発明によれば、屈折率調整層及び感光性組成物層から形成されるパターンにおいてアンダーカットが生じにくい、転写フィルムを提供できる。
　また、本発明によれば、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法を提供できる。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

　本明細書において、「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

　本明細書において、「透明」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。
　本明細書において、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。

　本明細書において、特段の断りのない限り、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、若しくは、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー株式会社製の商品名）、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、検出器として示差屈折計、及び、標準物質としてポリスチレンを使用し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により測定した標準物質のポリスチレンを用いて換算した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、分子量分布がある化合物の分子量は、重量平均分子量（Ｍｗ）である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、金属元素の含有量は、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）分光分析装置を用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、屈折率は、波長５５０ｎｍでエリプソメーターを用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、色相は、色差計（ＣＲ－２２１、ミノルタ株式会社製）を用いて測定した値である。

　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念である。

　本発明の転写フィルムの特徴点としては、屈折率調整層が、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位を有するポリマーを含む点が挙げられる。屈折率調整層が上記ポリマーを含むことにより、（メタ）アクリロイル基間での重合が進行して、屈折率調整層内での架橋構造が形成され、結果として、所望の効果が得られる。

　本発明の転写フィルムは、仮支持体と、感光性組成物層と、所定の成分を含む屈折率調整層とをこの順に有する。感光性組成物層と屈折率調整層とは直接接していてもよいし、感光性組成物層と屈折率調整層との間に他の層が配置されていてもよい。なかでも、感光性組成物層と屈折率調整層とは直接接していることが好ましい。
　以下、転写フィルムを構成する各部材について詳述する。
　なお、以下では、まず、本発明の特徴点である屈折率調整層について詳述し、その後、仮支持体、及び、感光性組成物層について詳述する。

＜屈折率調整層＞
　転写フィルムは、屈折率調整層を有する。屈折率調整層は、感光性組成物層上に配置される層である。

　屈折率調整層は、金属酸化物、トリアジン環を有する化合物、及び、フルオレン骨格を有する化合物からなる群から選択される少なくとも１種の材料（以下、「特定材料」ともいう。）を含む。上記材料は、屈折率調整層の屈折率を調整するための材料である。

　金属酸化物の種類は特に制限はなく、公知の金属酸化物が挙げられる。金属酸化物における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。

　金属酸化物としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、及び、酸化イットリウムが挙げられる。
　これらの中でも、金属酸化物としては、例えば、屈折率を調整しやすいという点から、酸化ジルコニウム及び酸化チタンからなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

　金属酸化物は粒子状であることが好ましい。
　金属酸化物の粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の点から、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍがより好ましい。
　粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

　金属酸化物粒子の市販品としては、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ０４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７５）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７６）、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｍ、日産化学工業（株）製）、及び、酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｋ、日産化学工業（株）製）が挙げられる。

　トリアジン環を有する化合物としては、構造単位中にトリアジン環を有するポリマーが挙げられ、下記式（Ｘ）で表される構造単位を有する化合物が挙げられる。

　式中、Ａｒは、芳香環（炭素数は、例えば、６～２０）及び複素環（原子数は、例えば、５～２０）から選択される少なくとも１つを含む２価の基を示す。
　Ｘは、それぞれ独立に、ＮＲ^１を示す。Ｒ^１は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基（炭素数は、例えば、１～２０）、アルコキシ基（炭素数は、例えば、１～２０）、アリール基（炭素数は、例えば、６～２０）又はアラルキル基（炭素数は、例えば、７～２０）を示す。複数のＸはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。

　具体的には、トリアジン環を有するハイパーブランチポリマーが好ましく、例えば、ＨＹＰＥＲＴＥＣＨシリーズ（日産化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。

　フルオレン骨格を有する化合物としては、９，９－ビス［４－２－（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル］フルオレン骨格を有する化合物が好ましい。上記化合物は（ポリ）オキシエチレン又は（ポリ）オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、ＥＡ－０２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。更に、エポキシアクリレートでエポキシ変性されていてもよい。これらは、例えば、ＧＡ５０００、ＥＧ２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。

　上記特定材料は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　屈折率調整層における特定材料の含有量は、屈折率調整層全質量に対して、５０質量％以上が好ましく、６０質量%以上がより好ましく、７０質量%以上が特に好ましい。上限は特に制限されないが、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。

　屈折率調整層は、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位を有するポリマー（以下、「特定ポリマー」ともいう。）を含む。
　（メタ）アクリロイル基を有する構成単位（以下、「特定単位」ともいう。）の構造は（メタ）アクリロイル基を有していれば、特に制限されない。
　特定単位としては、式（１）で表される構成単位が好ましい。

　Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、又は、アルキル基を表す。
　Ｌ^１は、単結合、又は、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、ＣＳ－、－ＳＯ－、―ＳＯ_２－、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基（例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、及びアリーレン基等）、及び、これらの複数が連結した連結基（例えば、－ＣＯＯ－置換基を有していてもよい２価の炭化水素基－Ｏ－）が挙げられる。
　上記２価の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、及び、スルホン酸基等が挙げられる。
　Ｘ^１は、（メタ）アクリロイル基を表す。

　特定ポリマー中における特定単位の含有量は特に制限されず、屈折率調整層及び感光性組成物層から形成される膜においてアンダーカットがより生じにくい点（以下、「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、特定ポリマー全構成単位に対して、４０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が更に好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限は特に制限されないが、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が更に好ましい。

　特定ポリマーは特定単位以外の他の構成単位を有していてもよい。
　他の構成単位としては、例えば、酸基を有する構成単位が挙げられる。特定ポリマーが酸基を有する構成単位を有する場合、現像残渣がより残りにくくなる。
　酸基としては、例えば、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、ホスホン酸基が挙げられる。
　酸基を有する構成単位としては、式（２）で表される構成単位が好ましい。

　Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、又は、アルキル基を表す。
　Ｌ^２は、単結合、又は、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、ＣＳ－、－ＳＯ－、―ＳＯ_２－、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基（例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、及びアリーレン基等）、及び、これらの複数が連結した連結基（例えば、－ＣＯＯ－置換基を有していてもよい２価の炭化水素基－）が挙げられる。
　上記２価の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、及び、スルホン酸基等が挙げられる。
　Ｘ^２は、酸基を表す。

　特定ポリマー中における酸基を有する構成単位の含有量は特に制限されず、現像処理後の残渣が発生しづらい点で、特定ポリマー全構成単位に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１３質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。

　特定ポリマーは、他の構成単位として、特定単位及び酸基を有する単位とは別のアルキル基を有する構成単位を有していてもよい。
　アルキル基を有する構成単位としては、式（３）で表される構成単位が好ましい。

　Ｒ^３は、水素原子、ハロゲン原子、又は、アルキル基を表す。
　Ｌ^３は、単結合、又は、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、ＣＳ－、－ＳＯ－、―ＳＯ_２－、及び、これらの複数が連結した連結基（例えば、－ＣＯ－ＮＨ－）が挙げられる。
　Ｘ^３は、アルキル基を表す。アルキル基の炭素数は特に制限されないが、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。

　特定ポリマー中におけるアルキル基を有する構成単位の含有量は特に制限されず、本発明の効果がより優れる点で、特定ポリマー全構成単位に対して、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。下限は特に制限ないが、０質量％が挙げられる。

　特定ポリマーの中における（メタ）アクリロイル基の含有量は特に制限されず、２．００ｍｍｏｌ／ｇ以上の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、２．５０ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましく、３．００ｍｍｏｌ／ｇ以上がより好ましく、３．５０ｍｍｏｌ／ｇ以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、６．００ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましい。
　上記（メタ）アクリロイル基の含有量の計算方法としては、まず、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位の特定ポリマー全構成単位に対する含有量（質量％）を用いて、特定ポリマー１ｇ中における（メタ）アクリロイル基を有する構成単位の質量（ｇ）を算出する。具体的には、以下式で算出される。
　構成単位の質量＝１（ｇ）×（（メタ）アクリロイル基を有する構成単位の特定ポリマー全構成単位に対する含有量（質量％）／１００）
　次に、算出された値を、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位の分子量で割ることにより、上記（メタ）アクリロイル基の含有量（ｍｍｏｌ／ｇ）を算出できる。

　特定ポリマーの酸価は特に制限されず、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の場合が多く、現像処理後の残渣が発生しづらい点で、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

　特定ポリマーの重量平均分子量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５０００～１０００００が好ましく、８０００～５００００がより好ましい。

　上記特定ポリマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　屈折率調整層における特定ポリマーの含有量は、屈折率調整層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましく、５～２０質量％が特に好ましい。

　屈折率調整層は、上記特定材料及び特定ポリマー以外の他の材料を含んでいてもよい。
　他の材料としては、バインダーポリマーが挙げられる。バインダーポリマーは特に制限されず、例えば、後述する感光性組成物層に含まれ得るバインダーポリマーが挙げられる。
　また、他の材料としては、重合性化合物が挙げられる。重合性化合物は特に制限されず、例えば、後述する感光性組成物層に含まれ得る重合性化合物が挙げられる。
　また、他の材料としては、重合開始剤が挙げられる。重合開始剤は特に制限されず、例えば、後述する感光性組成物層に含まれ得る重合開始剤が挙げられる。
　他の材料としては、上記以外にも、複素環化合物、界面活性剤、及び、後述する水素供与性化合物が挙げられる。

　屈折率調整層の屈折率は、感光性組成物層の屈折率よりも高いことが好ましい。
　屈折率調整層の屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６５以上がより好ましい。屈折率調整層の屈折率の上限は、２．１０以下が好ましく、１．８５以下がより好ましく、１．７８以下が更に好ましい。

　屈折率調整層の厚みは、５００ｎｍ以下が好ましく、５０～５００ｎｍがより好ましく、５５～１１０ｎｍが更に好ましく、６０～１００ｎｍが特に好ましい。
　屈折率調整層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

＜仮支持体＞
　転写フィルムは、仮支持体を有する。
　仮支持体は、後述する感光性組成物層を支持する部材であり、最終的には剥離処理により除去される。

　仮支持体は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。
　仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮、又は、伸びを生じないフィルムが好ましい。
　上記フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、ポリメチルメタクリレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　なかでも、仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
　また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、及び、傷等がないことが好ましい。

　仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという点から、透明性が高いことが好ましく、３６５ｎｍの透過率は６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が更に好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物、及び、欠陥の数は少ない方が好ましい。仮支持体中における直径１μｍ以上の微粒子、異物、及び、欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／１０ｍｍ^２以下がより好ましく、３個／１０ｍｍ^２以下が更に好ましく、０個／１０ｍｍ^２が特に好ましい。

　仮支持体の厚みは特に制限されないが、５～２００μｍが好ましく、取り扱いやすさ及び汎用性の点から、１０～１５０μｍがより好ましく、１０～５０μｍが更に好ましい。
　仮支持体の厚みは、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡：Scanning Electron Microscope）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

　仮支持体としては、例えば、厚み１６μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、及び、厚み９μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。

　仮支持体の好ましい形態としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［００１７］～［００１８］、特開２０１６－０２７３６３号公報の段落［００１９］～［００２６］、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落［００４１］～［００５７］、及び、国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落［００２９］～［００４０］に記載が挙げられ、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　仮支持体の市販品としては、ルミラー１６ＫＳ４０、ルミラー１６ＦＢ４０(以上、東レ株式会社製)、コスモシャインＡ４１００、コスモシャインＡ４３００、コスモシャインＡ８３００（以上、東洋紡株式会社製）が挙げられる。

　ハンドリング性を付与する点で、仮支持体の表面に、微小な粒子を含む層（滑剤層）を設けてもよい。滑剤層は仮支持体の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。滑剤層に含まれる粒子の直径は、０．０５～０．８μｍが好ましい。
　また、滑剤層の厚みは、０．０５～１．０μｍが好ましい。

＜感光性組成物層＞
　転写フィルムは、感光性組成物層を有する。
　感光性組成物層を被転写体上に転写した後、露光及び現像を行うことにより、被転写体上にパターンを形成できる。
　感光性組成物層としては、公知の感光性組成物層を用いることができ、ネガ型が好ましい。なお、ネガ型感光性組成物層とは、露光により露光部が現像液に対する溶解性が低下する感光性組成物層である。感光性組成物層がネガ型感光性組成物層である場合、形成されるパターンは硬化層に該当する。

　以下、感光性組成物層（特に、ネガ型感光性組成物層）に含まれる成分について詳述する。

（バインダーポリマー）
　感光性組成物層は、バインダーポリマーを含んでいてもよい。
　バインダーポリマーとしては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アミドエポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応で得られるエポキシアクリレート樹脂、及び、エポキシアクリレート樹脂と酸無水物との反応で得られる酸変性エポキシアクリレート樹脂が挙げられる。

　バインダーポリマーの好適態様の一つとして、アルカリ現像性及びフィルム形成性に優れる点で、（メタ）アクリル樹脂が挙げられる。
　なお、本明細書において、（メタ）アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位を有する樹脂を意味する。（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位のみで構成されていてもよく、（メタ）アクリル化合物以外の重合性単量体に由来する構成単位を有していてもよい。すなわち、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量の上限は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、１００質量％以下である。

　（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、及び、（メタ）アクリロニトリルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、及び、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートが挙げられ、（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましい。
　（メタ）アクリルアミドとしては、例えば、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミドが挙げられる。

　（メタ）アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。（メタ）アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、及び、（メタ）アクリル酸ドデシル等の炭素数が１～１２のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、炭素数１～４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸エチルがより好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位以外の構成単位を有していてもよい。
　上記構成単位を形成する重合性単量体としては、（メタ）アクリル化合物と共重合可能な（メタ）アクリル化合物以外の化合物であれば特に制限されず、例えば、スチレン、ビニルトルエン及びα－メチルスチレン等のα位又は芳香族環に置換基を有してもよいスチレン化合物、アクリロニトリル及びビニル－ｎ－ブチルエーテル等のビニルアルコールエステル、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル及びマレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α－シアノケイ皮酸、イタコン酸、並びに、クロトン酸が挙げられる。
　これらの重合性単量体は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、アルカリ現像性をより良好にする点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、ホスホン酸基が挙げられる。
　なかでも、（メタ）アクリル樹脂は、カルボキシ基を有する構成単位を有することがより好ましく、上記の（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有することが更に好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂における酸基を有する構成単位（好ましくは（メタ）アクリル酸に由来する構成単位）の含有量は、現像性に優れる点で、（メタ）アクリル樹脂の全質量に対して、１０質量％以上が好ましい。また、上限値は特に制限されないが、アルカリ耐性に優れる点で、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を有することがより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂における（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、５０～９０質量％が好ましく、６０～９０質量％がより好ましく、６５～９０質量％が更に好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有する樹脂が好ましく、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位のみで構成されている樹脂がより好ましい。
　また、（メタ）アクリル樹脂としては、メタクリル酸に由来する構成単位、メタクリル酸メチルに由来する構成単位、及び、アクリル酸エチルに由来する構成単位を有するアクリル樹脂も好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種を有することが好ましく、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有することが好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂におけるメタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量は、本発明の効果がより優れる点から、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、４０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％以下であってもよく、８０質量％以下が好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種と、アクリル酸に由来する構成単位及びアクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種とを有することも好ましい。
　本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量は、アクリル酸に由来する構成単位及びアクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量に対して、質量比で６０／４０～８０／２０が好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂は、転写後の感光性組成物層の現像性に優れる点で、末端にエステル基を有することが好ましい。
　なお、（メタ）アクリル樹脂の末端部は、合成に用いた重合開始剤に由来する部位により構成される。末端にエステル基を有する（メタ）アクリル樹脂は、エステル基を有するラジカルを発生する重合開始剤を用いることにより合成できる。

　また、バインダーポリマーの別の好適態様としては、アクリル可溶性樹脂が挙げられる。
　なお、本開示において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
　バインダーポリマーは、例えば、現像性の点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のバインダーポリマーであることが好ましい。
　また、バインダーポリマーは、例えば、加熱により架橋成分と熱架橋し、強固な膜を形成しやすいという点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基を有する樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有樹脂）であることがより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基を有する（メタ）アクリル樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂）であることが更に好ましい。
　バインダーポリマーがカルボキシ基を有する樹脂であると、例えば、ブロックイソシアネート化合物等の熱架橋性化合物を添加して熱架橋することで、３次元架橋密度を高めることができる。また、カルボキシ基を有する樹脂のカルボキシ基が無水化され、疎水化すると、湿熱耐性が改善し得る。

　酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂としては、上記酸価の条件を満たす限りにおいて、特に制限はなく、公知の（メタ）アクリル樹脂から適宜選択できる。
　例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００２５］に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落［００３３］～［００５２］に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂等を好ましく用いることができる。

　バインダーポリマーの他の好適態様としてはスチレン－アクリル共重合体が挙げられる。
　なお、本開示において、スチレン－アクリル共重合体とは、スチレン化合物に由来する構成単位と、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位とを有する樹脂を指し、上記スチレン化合物に由来する構成単位、及び、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の合計含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
　また、スチレン化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、５～８０質量％が更に好ましい。
　また、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０～９５質量％が更に好ましい。

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、芳香環構造を有することが好ましく、芳香環構造を有する構成単位を有することがより好ましい。
　芳香環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、メチルスチレン、及び、α－メチルスチレン等のスチレン化合物、並びに、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　中でも、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
　また、バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、下記式（Ｓ）で表される構成単位（スチレンに由来する構成単位）を有することがより好ましい。

　バインダーポリマーが芳香環構造を有する構成単位を有する場合、芳香環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～９０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける芳香環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～６０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～６０モル％が更に好ましい。
　なお、本開示において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、上記「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において、上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、脂肪族炭化水素環構造を有することが好ましい。つまり、バインダーポリマーは、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有することが好ましい。中でも、バインダーポリマーは、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有することがより好ましい。

　脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位における脂肪族炭化水素環構造を構成する環としては、単環でも多環でもよく、具体例として、トリシクロデカン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、ノルボルナン環、及び、イソボロン環が挙げられる。
　中でも、本発明の効果がより優れる点から、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環が好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環（トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン環）がより好ましい。
　脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、及び、イソボルニル（メタ）アクリレートが挙げられる。
　また、バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することがより好ましく、上記式（Ｓ）で表される構成単位、及び、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することがより好ましい。

　式（Ｃｙ）中、Ｒ^Ｍは水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^Ｃｙは脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基を表す。

　式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｍは、メチル基であることが好ましい。
　式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、本発明の効果がより優れる点から、炭素数５～２０の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが好ましく、炭素数６～１６の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることがより好ましく、炭素数８～１４の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが更に好ましい。
　また、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、本発明の効果がより優れる点から、シクロペンタン環構造、シクロヘキサン環構造、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造、ノルボルナン環構造、又は、イソボロン環構造であることが好ましく、シクロヘキサン環構造、又は、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることがより好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることが更に好ましい。
　更に、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、本発明の効果がより優れる点から、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造であることが好ましく、２～４環の脂肪族炭化水素環が縮環した環であることがより好ましい。
　更に、式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、本発明の効果がより優れる点から、式（Ｃｙ）における－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－の酸素原子と脂肪族炭化水素環構造とが直接結合する基、すなわち、脂肪族炭化水素環基であることが好ましく、シクロヘキシル基、又は、ジシクロペンタニル基であることがより好ましく、ジシクロペンタニル基であることが更に好ましい。

　バインダーポリマーは、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　バインダーポリマーが脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有する場合、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～９０質量％が好ましく、１０～８０質量％がより好ましく、２０～７０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。

　バインダーポリマーが芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有する場合、芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の総含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、４０～７５質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の総含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、１０～８０モル％が好ましく、２０～７０モル％がより好ましく、４０～６０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位及び上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の総含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、１０～８０モル％が好ましく、２０～７０モル％がより好ましく、４０～６０モル％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位のモル量ｎＳと上記式（Ｃｙ）で表される構成単位のモル量ｎＣｙは、本発明の効果がより優れる点から、下記式（ＳＣｙ）に示す関係を満たすことが好ましく、下記式（ＳＣｙ－１）を満たすことがより好ましく、下記式（ＳＣｙ－２）を満たすことが更に好ましい。
　　０．２≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．８　　　式（ＳＣｙ）
　　０．３０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７５　　　式（ＳＣｙ－１）
　　０．４０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７０　　　式（ＳＣｙ－２）

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。
　上記酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、及び、リン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
　上記酸基を有する構成単位としては、下記に示す、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が好ましく、メタクリル酸由来の構成単位がより好ましい。

　バインダーポリマーは、酸基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　バインダーポリマーが酸基を有する構成単位を有する場合、酸基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～５０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、１０～３０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける酸基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、２０～４０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、２０～４０モル％が更に好ましい。

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、反応性基を有することが好ましく、反応性基を有する構成単位を有することがより好ましい。
　反応性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。また、バインダーポリマーがエチレン性不飽和基を有している場合、バインダーポリマーは、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましい。
　本開示において、「主鎖」とは、樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。
　反応性基を有する構成単位の一例としては、下記に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。

　バインダーポリマーは、反応性基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　バインダーポリマーが反応性基を有する構成単位を有する場合、反応性基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましく、２０～４０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける反応性基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。

　反応性基をバインダーポリマーに導入する手段としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第１級アミノ基、第２級アミノ基、アセトアセチル基、及び、スルホ基等の官能基に、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、及び、カルボン酸無水物等の化合物を反応させる方法が挙げられる。
　反応性基をバインダーポリマーに導入する手段の好ましい例としては、カルボキシ基を有するポリマーを重合反応により合成した後、高分子反応により、得られたポリマーのカルボキシ基の一部にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させて、（メタ）アクリロキシ基をポリマーに導入する手段が挙げられる。この手段により、側鎖に（メタ）アクリロキシ基を有するバインダーポリマーを得ることができる。
　上記重合反応は、７０～１００℃の温度条件で行うことが好ましく、８０～９０℃の温度条件で行うことがより好ましい。上記重合反応に用いる重合開始剤としては、アゾ系開始剤が好ましく、例えば、富士フイルム和光純薬（株）製のＶ－６０１（商品名）又はＶ－６５（商品名）がより好ましい。上記高分子反応は、８０～１１０℃の温度条件で行うことが好ましい。上記高分子反応においては、アンモニウム塩等の触媒を用いることが好ましい。

　バインダーポリマーとしては、本発明の効果がより優れる点から、以下に示すポリマーが好ましい。なお、以下に示す各構成単位の含有比率（ａ～ｄ）及び重量平均分子量Ｍｗ等は目的に応じて適宜変更できる。

　上記式中、ａは２０～６０質量％、ｂは１０～５０質量、ｃは５～２５質量％、ｄは１０～５０質量％が好ましい。

　上記式中、ａは２０～６０質量％、ｂは１～２０質量、ｃは５～２５質量％、ｄは１０～５０質量％が好ましい。

　上記式中、ａは１～２０質量％、ｂは２０～６０質量、ｃは５～２５質量％、ｄは１０～５０質量％が好ましい。

　上記式中、ａは１０～６０質量％、ｂは１０～４０質量、ｃは５～４０質量％、ｄは０～３０質量％が好ましい。

　また、バインダーポリマーは、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を有する重合体（以下、「重合体Ｘ」ともいう。）を含んでいてもよい。
　カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造、及び環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造であることが好ましい。
　環状カルボン酸無水物構造の環としては、５～７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位、又は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。

　式Ｐ－１中、Ｒ^Ａ１ａは、置換基を表し、ｎ^１ａ個のＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよく、Ｚ^１ａは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成する２価の基を表し、ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。

　Ｒ^Ａ１ａで表される置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
　Ｚ^１ａとしては、炭素数２～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が更に好ましい。
　ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。Ｚ^１ａが炭素数２～４のアルキレン基を表す場合、ｎ^１ａは、０～４の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　ｎ^１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲ^Ａ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位が好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位がより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位が更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位が特に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位が最も好ましい。

　以下、カルボン酸無水物構造を有する構成単位の具体例を挙げるが、カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、これらの具体例に限定されるものではない。下記の構成単位中、Ｒｘは、水素原子、メチル基、ＣＨ_２ＯＨ基、又はＣＦ_３基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。

　重合体Ｘにおけるカルボン酸無水物構造を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位の総含有量は、重合体Ｘの全構成単位に対して、０～６０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましく、１０～３５モル％が更に好ましい。

　感光性組成物層は、重合体Ｘを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性組成物層が重合体Ｘを含む場合、本発明の効果がより優れる点から、重合体Ｘの含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．１～３０質量％が好ましく、０．２～２０質量％がより好ましく、０．５～２０質量％が更に好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。

　バインダーポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる点から、５，０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましく、１０，０００～５０，０００が更に好ましく、２０，０００～３０，０００が特に好ましい。

　バインダーポリマーの酸価は、１０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、６０ｍｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが更に好ましく、６０～１１０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
　バインダーポリマーの酸価は、ＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に記載の方法に従って、測定される値である。

　感光性組成物層は、バインダーポリマーを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　バインダーポリマーの含有量は、本発明の効果がより優れる点から、感光性組成物層全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、３０～７０質量％が更に好ましい。
　バインダーポリマーの分散度は、現像性の点から、１．０～６．０が好ましく、１．０～５．０がより好ましく、１．０～４．０が更に好ましく、１．０～３．０が特に好ましい。

（重合性化合物）
　感光性組成物層は、重合性化合物を含んでいてもよい。
　重合性化合物は、重合性基を有する化合物である。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、及び、カチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（以下、単に「エチレン性不飽和化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロキシ基が好ましい。
　なお、本開示におけるエチレン性不飽和化合物は、上記バインダーポリマー以外の化合物であり、分子量５，０００未満であることが好ましい。

　重合性化合物の好適態様の一つとして、下記式（Ｍ）で表される化合物（単に、「化合物Ｍ」ともいう。）が挙げられる。
　　Ｑ^２－Ｒ^１－Ｑ^１　　　式（Ｍ）
　式（Ｍ）中、Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ独立に、（メタ）アクリロイルオキシ基を表し、Ｒ^１は鎖状構造を有する二価の連結基を表す。

　式（Ｍ）におけるＱ^１及びＱ^２は、合成容易性の点から、Ｑ^１及びＱ^２は同じ基であることが好ましい。
　また、式（Ｍ）におけるＱ^１及びＱ^２は、反応性の点から、アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
　式（Ｍ）におけるＲ^１としては、本発明の効果がより優れる点から、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基（－Ｌ^１－Ｏ－Ｌ^１－）、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基（－（Ｌ^１－Ｏ）_ｐ－Ｌ^１－）が好ましく、炭素数２～２０の炭化水素基、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基がより好ましく、炭素数４～２０のアルキレン基が更に好ましく、炭素数６～１８の直鎖アルキレン基が特に好ましい。
　上記炭化水素基は、少なくとも一部に鎖状構造を有していればよく、上記鎖状構造以外の部分としては、特に制限はなく、例えば、分岐鎖状、環状又は炭素数１～５の直鎖状アルキレン基、アリーレン基、エーテル結合、及び、それらの組み合わせのいずれであってもよく、アルキレン基、又は、２以上のアルキレン基と１以上のアリーレン基とを組み合わせた基が好ましく、アルキレン基がより好ましく、直鎖アルキレン基が更に好ましい。
　なお、上記Ｌ^１は、それぞれ独立に、アルキレン基を表し、エチレン基、プロピレン基、又は、ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、１，２－プロピレン基がより好ましい。ｐは２以上の整数を表し、２～１０の整数であることが好ましい。

　また、化合物ＭにおけるＱ^１とＱ^２との間を連結する最短の連結鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる点から、３～５０個が好ましく、４～４０個がより好ましく、６～２０個が更に好ましく、８～１２個が特に好ましい。
　本開示において、「Ｑ^１とＱ^２の間を連結する最短の連結鎖の原子数」とは、Ｑ^１に連結するＲ^１における原子からＱ^２に連結するＲ^１における原子までを連結する最短の原子数である。

　化合物Ｍの具体例としては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７－ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、及び、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。上記エステルモノマーは混合物としても使用できる。
　上記化合物の中でも、本発明の効果がより優れる点から、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましく、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることがより好ましく、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが更に好ましい。

　また、重合性化合物の好適態様の一つとして、２官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
　本開示において、「２官能以上のエチレン性不飽和化合物」とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
　エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。

　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　上記化合物Ｍ以外の２官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、及び、トリシクロデカンジメナノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　２官能のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（商品名：ＮＫエステル　ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、及び、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、ジオキサングリコールジアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ－６０４）等が挙げられる。

　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、及び、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。

　ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。

　重合性化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社のＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）　１３５等）、及び、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製ＮＫエステル　Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）も挙げられる。

　重合性化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物〔好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物〕も挙げられる。
　３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＮＫエステル　ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、及び、ＮＫエステル　ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

　重合性化合物の好適態様の一つとして、酸基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
　酸基としては、リン酸基、スルホ基、及び、カルボキシ基が挙げられる。
　これらの中でも、酸基としては、カルボキシ基が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、酸基を有する３～４官能のエチレン性不飽和化合物〔ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価：８０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕、酸基を有する５～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの〔酸価：２５～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕等が挙げられる。
　これら酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物が、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種であると、現像性及び膜強度がより高まる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５２０（東亞合成（株）製）、及び、アロニックス（登録商標）Ｍ－５１０（東亞合成（株）製）が挙げられる。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落［００２５］～［００３０］に記載の酸基を有する重合性化合物が好ましく、この公報に記載の内容は、本開示に組み込まれる。

　重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、グリシジル基含有化合物にα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマー、γ－クロロ－β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、β－ヒドロキシエチル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート及びβ－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート等のフタル酸系化合物、並びに、（メタ）アクリル酸アルキルエステルも挙げられる。
　これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

　多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、及び２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物、エチレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド基の数が２～１４であり、かつ、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、並びに、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　なかでも、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。

　重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物のカプロラクトン変性化合物（例えば、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、エチレン性不飽和化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（例えば、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社製ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１３５等）、及び、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）等も挙げられる。

　重合性化合物（特に、エチレン性不飽和化合物）としては、転写後の感光性組成物層の現像性に優れる点で、なかでも、エステル結合を含むものも好ましい。
　エステル結合を含むエチレン性不飽和化合物としては、分子内にエステル結合を含むものであれば特に制限されないが、本発明の効果が優れる点で、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。
　信頼性付与の点からは、エチレン性不飽和化合物としては、炭素数６～２０の脂肪族基を有するエチレン性不飽和化合物と、上記のテトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物と、を含むことが好ましい。
　炭素数６以上の脂肪族構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　重合性化合物の好適態様の一つとしては、脂肪族炭化水素環構造を有する重合性化合物（好ましくは、２官能エチレン性不飽和化合物）が挙げられる。
　上記重合性化合物としては、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造（好ましくは、トリシクロデカン構造及びトリシクロデセン構造からなる群から選択される構造）を有する重合性化合物が好ましく、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物がより好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが更に好ましい。
　上記脂肪族炭化水素環構造としては、本発明の効果がより優れる点から、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、トリシクロデカン構造、トリシクロデセン構造、ノルボルナン構造、又は、イソボロン構造が好ましい。

　重合性化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
　感光性組成物層に含まれる重合性化合物のうち、分子量３００以下の重合性化合物の含有量の割合は、感光性組成物層に含まれる全ての重合性化合物の含有量に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。

　感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むのが好ましく、３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むのがより好ましく、３官能又は４官能のエチレン性不飽和化合物を含むのが更に好ましい。

　また、感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物と、脂肪族炭化水素環を有する構成単位を有するバインダーポリマーとを含むことが好ましい。

　また、感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、式（Ｍ）で表される化合物と、酸基を有するエチレン性不飽和化合物とを含むことが好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレートと、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物とを含むことがより好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレートと、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸変性体とを含むことが更に好ましい。

　また、感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、式（Ｍ）で表される化合物と、酸基を有するエチレン性不飽和化合物と、後述する熱架橋性化合物とを含むことが好ましく、式（Ｍ）で表される化合物と、酸基を有するエチレン性不飽和化合物と、後述するブロックイソシアネート化合物とを含むことがより好ましい。

　また、感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）と、を含むこと好ましい。

　また、感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、防錆性の点から、化合物Ｍ、及び、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
　また、感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、基板密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の点から、化合物Ｍ、及び、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、及び、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、３官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、３官能以上のエチレン性不飽和化合物、酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。
　また、感光性組成物層の好適態様の一つとして、感光性組成物層は、基板密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の点から、１，９－ノナンジオールジアクリレート、及び、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、及び、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び、カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、ウレタンアクリレート化合物を含むことが特に好ましい。

　感光性組成物層は、エチレン性不飽和化合物として、単官能エチレン性不飽和化合物を含んでいてもよい。
　上記エチレン性不飽和化合物における２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の総含有量に対し、６０～１００質量％が好ましく、８０～１００質量％がより好ましく、９０～１００質量％が更に好ましい。

　重合性化合物（特に、エチレン性不飽和化合物）は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層における重合性化合物（特に、エチレン性不飽和化合物）の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１～７０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましく、２０～５０質量％が特に好ましい。

（重合開始剤）
　感光性組成物層は、重合開始剤を含んでいてもよい。
　重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては特に制限はなく、公知の光重合開始剤が挙げられる。
　光重合開始剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、及び、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）が挙げられる。

　光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及びＮ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。
　また、光重合開始剤は、本発明の効果がより優れる点から、２種以上を併用することが好ましく、オキシム系光重合開始剤及びα－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤を含むことがより好ましく、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）及び２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オンを含むことがより好ましい。

　また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００３１］～［００４２］、及び、特開２０１５－０１４７８３号公報の段落［００６４］～［００８１］に記載された重合開始剤を用いてもよい。

　光重合開始剤の市販品としては、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製〕、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製〕、［８－［５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１１－（２－エチルヘキシル）－１１Ｈ－ベンゾ［ａ］カルバゾイル］［２－（２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ）フェニル］メタノン－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０３、ＢＡＳＦ社製〕、１－［４－［４－（２－ベンゾフラニルカルボニル）フェニル］チオ］フェニル］－４－メチルペンタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０４、ＢＡＳＦ社製〕、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製〕、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　９０７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１２７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　３６９、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１１７３、ＢＡＳＦ社製〕、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１８４、ＢＡＳＦ社製〕、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１、ＢＡＳＦ社製〕等、オキシムエステル系の〔商品名：Ｌｕｎａｒ（登録商標）　６、ＤＫＳＨジャパン（株）製〕、１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルホリノプロパン－１－オン〔商品名ＡＰｉ－３０７（登録商標）、Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　ＵＶ－ＣｈｅｍＴｅｃｈＬＴＤ製〕、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、及び、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）、ＡＰｉ－３０７（１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルホリノプロパン－１－オン、ＳｈｅｎｚｈｅｎＵＶ-ＣｈｅｍＴｅｃｈＬｔｄ．製）等が挙げられる。

　重合開始剤としては、透明性、及び１０μｍ以下でのパターン形成能がより優れる点で、オキシムエステル化合物、又は、ホスフィンオキサイド化合物が好ましく、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、１，２－オクタンジオン－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、又は、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイドがより好ましい。

　重合開始剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、感光性組成物層全質量に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。
　また、感光性組成物層における重合開始剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。

（複素環化合物）
　感光性組成物層は、複素環化合物を含んでいてもよい。
　複素環化合物が有する複素環は、単環及び多環のいずれの複素環でもよい。
　複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。

　複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、及び、ピリミジン化合物が挙げられる。
　上記の中でも、複素環化合物としては、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物がより好ましい。

　複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。トリアゾール化合物及びベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　複素環化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が複素環化合物を含む場合、複素環化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～２０．０質量％が好ましく、０．１０～１０．０質量％がより好ましく、０．３０～８．０質量％が更に好ましく、０．５０～５．０質量％が特に好ましい。

（脂肪族チオール化合物）
　感光性組成物層は、脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含むことで、脂肪族チオール化合物がエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物との間でエン－チオール反応することで、形成される膜の硬化収縮が抑えられ、応力が緩和される。

　脂肪族チオール化合物としては、単官能の脂肪族チオール化合物、又は、多官能の脂肪族チオール化合物（すなわち、２官能以上の脂肪族チオール化合物）が好ましい。

　上記の中でも、脂肪族チオール化合物としては、形成されるパターンの密着性（特に、露光後における密着性）の点から、多官能の脂肪族チオール化合物が好ましい。

　本明細書において、「多官能の脂肪族チオール化合物」とは、チオール基（「メルカプト基」ともいう。）を分子内に２個以上有する脂肪族化合物を意味する。

　多官能の脂肪族チオール化合物としては、分子量が１００以上の低分子化合物が好ましい。具体的には、多官能の脂肪族チオール化合物の分子量は、１００～１，５００がより好ましく、１５０～１，０００が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物の官能基数としては、例えば、形成されるパターンの密着性の点から、２～１０官能が好ましく、２～８官能がより好ましく、２～６官能が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，６－ヘキサメチレンジチオール、２，２’－（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ－２，３－ジメルカプトコハク酸、及び、ジ（メルカプトエチル）エーテルが挙げられる。

　上記の中でも、多官能の脂肪族チオール化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、及び、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。

　単官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、１－オクタンチオール、１－ドデカンチオール、β－メルカプトプロピオン酸、メチル－３－メルカプトプロピオネート、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート、メトキシブチル－３－メルカプトプロピオネート、及び、ステアリル－３－メルカプトプロピオネートが挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよく、２種以上の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含む場合、脂肪族チオール化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、５質量％以上が好ましく、５～５０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましく、８～２０質量％が特に好ましい。

（熱架橋性化合物）
　感光性組成物層は、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の点から、熱架橋性化合物を含むことが好ましい。なお、本開示においては、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、エチレン性不飽和化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
　熱架橋性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メチロール化合物、及び、ブロックイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物の少なくとも一方が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、保護膜としての機能が強化される傾向がある。
　なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。

　ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、特に制限されないが、１００～１６０℃が好ましく、１３０～１５０℃がより好ましい。
　ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
　示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ（株）製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に用いることができる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。

　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等）〕、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、及び、シクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。
　これらの中でも、解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の点から、オキシム化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすいという点から好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、重合性基を有していてもよい。
　重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、ラジカル重合性基が好ましい。
　重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、及び、スチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。
　中でも、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が更に好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いることができる。
　ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工（株）製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標）　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、デュラネート（登録商標）　ＷＴ３２－Ｂ７５Ｐ等、旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。
　また、ブロックイソシアネート化合物として、下記の構造の化合物を用いることもできる。

　熱架橋性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。

（界面活性剤）
　感光性組成物層は、界面活性剤を含んでいてもよい。
　界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落［００６０］～［００７１］に記載の界面活性剤が挙げられる。

　界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましく、シリコーン系界面活性剤がより好ましい。
　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック（登録商標）Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（登録商標）ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント（登録商標）７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１、６８３（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含む官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック（登録商標）ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えば、メガファック（登録商標）ＤＳ－２１が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体も好ましい。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましい。
　フッ素系界面活性剤として、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体的には、メガファック（登録商標）ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤としては、環境適性向上の点から、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）及びパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）等の炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物の代替材料に由来する界面活性剤であることが好ましい。

　シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
　界面活性剤の具体例としては、ＤＯＷＳＩＬ（登録商標）８０３２　ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。

　界面活性剤は、上記以外でもよく、例えば、ノニオン系界面活性剤が挙げられる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック（登録商標）Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック（登録商標）３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース（登録商標）２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン（登録商標）Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）が挙げられる。

　界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～３．０質量％が好ましく、０．０５～１．０質量％がより好ましく、０．１０～０．８０質量％が更に好ましい。

（リン酸エステル化合物）
　感光性組成物層は、基板又は導電層に対する感光性組成物層の密着性をより向上させる点で、リン酸エステル化合物を含むことが好ましい。
　リン酸エステル化合物としては、リン酸（Ｏ＝Ｐ（ＯＨ）_３）における３つの水素の少なくとも１つ以上が有機基で置換されたものであれば特に制限されず、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＰ）、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＫＡＹＡＭＥＲ　ＰＭ－２１、ＫＡＹＡＭＥＲ　ＰＭ－２）、及び、共栄社化学株式会社製のライトエステルシリーズ（ライトエステルＰ－２Ｍ（商品名））が挙げられる。

　リン酸エステル化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層がリン酸エステル化合物を含む場合、リン酸エステル化合物の含有量は特に制限されないが、感光性組成物層全質量に対して、０．０５～３．０質量％が好ましく、０．１～２．０質量％がより好ましく、０．２～１．０質量％が更に好ましい。
　感光性組成物層がリン酸エステル化合物を含む場合、リン酸エステル化合物の含有量は特に制限されないが、基板又は導電層に対する感光性組成物層の密着性をより向上させる点で、バインダーポリマー及び重合性化合物の合計１００質量部に対して、１０質量部以下であるのが好ましく、３質量部以下であるのがより好ましい。また、０．０１質量部以上であるのが好ましく、０．１質量部以上であるのがより好ましい。

（重合禁止剤）
　感光性組成物層は、重合禁止剤を含んでいてもよい。
　重合禁止剤とは、重合反応を遅延又は禁止させる機能を有する化合物を意味する。重合禁止剤としては、例えば、重合禁止剤として用いられる公知の化合物を用いることができる。

　重合禁止剤としては、例えば、フェノチアジン、ビス－（１－ジメチルベンジル）フェノチアジン、及び、３，７－ジオクチルフェノチアジン等のフェノチアジン化合物；ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、１，３，５－トリス（４－ｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、及び、ペンタエリスリトールテトラキス３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のヒンダードフェノール化合物；４－ニトロソフェノール、Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミン、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン等のニトロソ化合物又はその塩；メチルハイドロキノン、ｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルハイドロキノン、及び、４－ベンゾキノン等のキノン化合物；４－メトキシフェノール、４－メトキシ－１－ナフトール、及び、ｔ－ブチルカテコール等のフェノール化合物；ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸マンガン、及び、ジフェニルジチオカルバミン酸マンガン等の金属塩化合物が挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、重合禁止剤としては、フェノチアジン化合物、ニトロソ化合物又はその塩、及び、ヒンダードフェノール化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、フェノチアジン、ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩がより好ましい。

　重合禁止剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が重合禁止剤を含む場合、重合禁止剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～１０．０質量％が好ましく、０．０５～５．０質量％がより好ましく、０．１０～３．０質量％が更に好ましい。

（水素供与性化合物）
　感光性組成物層は、水素供与性化合物を含んでいてもよい。
　水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、及び、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。

　水素供与性化合物としては、例えば、アミン類、及び、アミノ酸化合物が挙げられる。

　アミン類としては、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－０２０１８９号公報、特開昭５１－０８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－０８４３０５号公報、特開昭６２－０１８５３７号公報、特開昭６４－０３３１０４号公報、及び、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号等に記載の化合物が挙げられる。より具体的には、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタン（別名：ロイコクリスタルバイオレット）、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、及び、ｐ－メチルチオジメチルアニリンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、アミン類としては、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、及び、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタンからなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。

　アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルグリシンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、アミノ酸化合物としては、Ｎ－フェニルグリシンが好ましい。

　また、水素供与性化合物としては、例えば、特公昭４８－０４２９６５号公報に記載の有機金属化合物（トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－０３４４１４号公報に記載の水素供与体、及び、特開平６－３０８７２７号公報に記載のイオウ化合物（トリチアン等）も挙げられる。

　水素供与性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の点から、感光性組成物層全質量に対して、０．０１～１０．０質量％が好ましく、０．０３～８．０質量％がより好ましく、０．１０～５．０質量％が更に好ましい。

（不純物等）
　感光性組成物層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。
　不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン及びこれらのイオンが挙げられる。中でも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及び、カリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。

　感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上又は０．１ｐｐｍ以上とすることができる。

　不純物を上記範囲にする方法としては、感光性組成物層の原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、及び、感光性組成物層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。

　不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及び、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。

　感光性組成物層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及び、ヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物の感光性組成物層中における含有量としては、質量基準で、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましく、４ｐｐｍ以下が更に好ましい。
下限は質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。

　感光性組成物層における水の含有量は、信頼性及びラミネート性を向上させる点から、０．０１～１．０質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。

（残存モノマー）
　感光性組成物層は、上述したアルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーを含む場合がある。
　残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、アルカリ可溶性樹脂全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性組成物層全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。

　高分子反応でアルカリ可溶性樹脂を合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてアルカリ可溶性樹脂を合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
　残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。

（他の成分）
　感光性組成物層は、既述の成分以外の成分（以下、「他の成分」ともいう。）を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、着色剤、酸化防止剤、及び、粒子（例えば、金属酸化物粒子）が挙げられる。また、他の成分としては、特開２０００－３１０７０６号公報の段落［００５８］～［００７１］に記載のその他の添加剤も挙げられる。

－粒子－
　粒子としては、金属酸化物粒子が好ましい。
　金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。
　粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の点から、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍがより好ましい。
　粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

　感光性組成物層が粒子を含む場合、金属種、及び、大きさ等の異なる粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性組成物層は、粒子を含まないか、或いは、感光性組成物層が粒子を含む場合には、粒子の含有量が感光性組成物層全質量に対して、０質量％超３５質量％以下が好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性組成物全質量に対して、０質量％超１０質量％以下がより好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性組成物層全質量に対して０質量％超５質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性組成物層全質量に対して０質量％超１質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないことが特に好ましい。

－着色剤－
　感光性組成物は、微量の着色剤（顔料、染料等）を含んでいてもよいが、例えば、透明性の点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
　感光性組成物層が着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。

－酸化防止剤－
　酸化防止剤としては、例えば、１－フェニル－３－ピラゾリドン（別名：フェニドン）、１－フェニル－４，４－ジメチル－３－ピラゾリドン、及び、１－フェニル－４－メチル－４－ヒドロキシメチル－３－ピラゾリドン等の３－ピラゾリドン類；ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、及び、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類；パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、及び、パラフェニレンジアミンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、酸化防止剤としては、３－ピラゾリドン類が好ましく、１－フェニル－３－ピラゾリドンがより好ましい。

　感光性組成物層が酸化防止剤を含む場合、酸化防止剤の含有量は、感光性組成物層全質量に対して、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、１質量％以下が好ましい。

（感光性組成物層の厚み）
　感光性組成物層の厚みは、特に制限されないが３０μｍ以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましく、５μｍ以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、０．０５μｍ以上が好ましい。
　感光性組成物層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出できる。

（感光性組成物層の屈折率）
　感光性組成物層の屈折率は、１．４７～１．５６が好ましく、１．４９～１．５４がより好ましい。

（感光性組成物層の色）
　感光性組成物層は無彩色であることが好ましい。具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、Ｌ^＊値は１０～９０であることが好ましく、ａ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、ｂ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。

　なお、感光性組成物層を硬化して得られるパターン（感光性組成物層の硬化膜）は、無彩色であることが好ましい。
　具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、パターンのＬ^＊値は１０～９０であることが好ましく、パターンのａ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、パターンのｂ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。

［感光性組成物層の透過率］
　感光性組成物層の膜厚１．０μｍあたりの可視光透過率は、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。
　可視光の透過率としては、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの平均透過率、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの透過率の最小値、波長４００ｎｍｍの透過率、いずれもが上記を満たすことが好ましい。
　透過率の好ましい値としては、例えば、８７％、９２％、９８％等が挙げられる。感光性組成物層の硬化膜の膜厚１．０μｍあたりの透過率も同様である。

［感光性組成物層の透湿度］
　感光性組成物層を硬化して得られるパターン（感光性組成物層の硬化膜）の膜厚４０μｍでの透湿度は、電極又は配線の防錆性の点、及び、デバイスの信頼性の点から、５００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下が好ましく、３００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下がより好ましく、１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下が更に好ましい。
　透湿度は、感光性組成物層を、ｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２にて露光した後、１４５℃、３０分間のポストベークを行うことにより、感光性組成物層を硬化させた硬化膜で測定する。
　透湿度の測定は、ＪＩＳＺ０２０８のカップ法に準じて行う。温度４０℃／湿度９０％、温度６５℃／湿度９０％、及び、温度８０℃／湿度９５％のいずれの試験条件においても、上記の透湿度であることが好ましい。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、８０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ、１５０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ、２２０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ等が挙げられる。

［感光性組成物層の溶解速度］
　感光性組成物層の炭酸ナトリウム１．０％水溶液に対する溶解速度は、現像時の残渣抑制の点から、０．０１μｍ／秒以上が好ましく、０．１０μｍ／秒以上がより好ましく、０．２０μｍ／秒以上が更に好ましい。
　パターンのエッジ形状の点から、５．０μｍ／秒以下が好ましく、４．０μｍ／秒以下がより好ましく、３．０μｍ／秒以下が更に好ましい。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、１．８μｍ／秒、１．０μｍ／秒、０．７μｍ／秒等が挙げられる。
　１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する感光性組成物層の単位時間あたりの溶解速度は、以下のように測定するものとする。
　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性組成物層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２５℃で、感光性組成物層が溶け切るまでシャワー現像を行う（但し、最長で２分までとする）。上記感光性組成物層の単位時間あたりの溶解速度は、感光性組成物層の膜厚を、感光性組成物層が溶け切るまでに要した時間で割り算することで求める。なお、２分で溶け切らない場合は、それまでの膜厚変化量から同様に計算する。

　感光性組成物層の硬化膜（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）の炭酸ナトリウム１．０％水溶液に対する溶解速度は、３．０μｍ／秒以下が好ましく、２．０μｍ／秒以下がより好ましく、１．０μｍ／秒以下が更に好ましく、０．２μｍ／秒以下が特に好ましい。上記感光性組成物層の硬化膜は、感光性組成物層をｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２にて露光して得られる膜である。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０．８μｍ／秒、０．２μｍ／秒、０．００１μｍ／秒等が挙げられる。

　現像は、（株）いけうち製１／４ＭＩＮＪＪＸ０３０ＰＰのシャワーノズルを使用し、シャワーのスプレー圧は０．０８ＭＰａとする。上記条件の時、単位時間当たりのシャワー流量は１，８００ｍＬ／ｍｉｎとする。

［感光性組成物層の膨潤率］
　露光後の感光性組成物層の１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する膨潤率は、パターン形成性向上の点から、１００％以下が好ましく、５０％以下がより好ましく、３０％以下が更に好ましい。
　露光後の感光性組成物層の膨潤率１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に対する膨潤率は、以下のように測定するものとする。
　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性組成物層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、超高圧水銀灯で５００ｍｊ／ｃｍ^２（ｉ線測定）で露光する。２５℃でガラス基板ごと、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、３０秒経過時点での膜厚を測定する。そして、浸漬後の膜厚が浸漬前の膜厚に対して増加した割合を計算する。
具体的な好ましい数値としては、例えば、４％、１３％、２５％等が挙げられる。

［感光性組成物層中の異物］
　パターン形成性の点から、感光性組成物層中の直径１．０μｍ以上の異物の数は、１０個／ｍｍ^２以下が好ましく、５個／ｍｍ^２以下がより好ましい。
　異物個数は以下のように測定するものとする。
　感光性組成物層の表面の法線方向から、感光性組成物層の面上の任意の５か所の領域（１ｍｍ×１ｍｍ）を、光学顕微鏡を用いて目視にて観察して、各領域中の直径１．０μｍ以上の異物の数を測定して、それらを算術平均して異物の数として算出する。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０個／ｍｍ^２、１個／ｍｍ^２、４個／ｍｍ^２、８個／ｍｍ^２等が挙げられる。

［感光性組成物層中の溶解物のヘイズ］
　現像時での凝集物発生抑止の点から、１．０質量％炭酸ナトリウムの３０℃水溶液１．０リットルに１．０ｃｍ^３の感光性組成物層を溶解させて得られる溶液のヘイズは、６０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましく、１０％以下が更に好ましく、１％以下が特に好ましい。
　ヘイズは以下のように測定するものとする。
　まず、１．０質量％の炭酸ナトリウム水溶液を準備し、液温を３０℃に調整する。炭酸ナトリウム水溶液１．０Ｌに１．０ｃｍ^３の感光性組成物層を入れる。気泡を混入しないように注意しながら、３０℃で４時間撹拌する。撹拌後、感光性組成物層が溶解した溶液のヘイズを測定する。ヘイズは、ヘイズメーター（製品名「ＮＤＨ４０００」、日本電色工業社製）を用い、液体測定用ユニット及び光路長２０ｍｍの液体測定専用セルを用いて測定される。
　具体的な好ましい数値としては、例えば、０．４％、１．０％、９％、２４％等が挙げられる。

＜保護フィルム＞
　転写フィルムは、屈折率調整層上に保護フィルムを有していてもよい。より具体的には、転写フィルムは、屈折率調整層の感光性組成物層側とは反対側の表面上に保護フィルムを有していてもよい。
　保護フィルムとしては、耐熱性及び耐溶剤性を有する樹脂フィルムを用いることができ、例えば、ポリプロピレンフィルム、及び、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、並びに、ポリスチレンフィルムが挙げられる。
　また、保護フィルムとして上述の仮支持体と同じ材料で構成された樹脂フィルムを用いてもよい。
　なかでも、保護フィルムとしては、ポリオレフィンフィルムが好ましく、ポリプロピレンフィルム又はポリエチレンフィルムがより好ましく、ポリエチレンフィルムが更に好ましい。

　保護フィルムの厚みは、１～１００μｍが好ましく、５～５０μｍがより好ましく、５～４０μｍが更に好ましく、１５～３０μｍが特に好ましい。
　保護フィルムの厚みは、機械的強度に優れる点で、１μｍ以上が好ましく、比較的安価となる点で、１００μｍ以下が好ましい。

　また、保護フィルムにおいては、保護フィルム中に含まれる直径８０μｍ以上のフィッシュアイ数が、５個／ｍ^２以下であることが好ましい。
　なお、「フィッシュアイ」とは、材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸及びキャスティング法等の方法によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、及び、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものである。

　保護フィルムに含まれる直径３μｍ以上の粒子の数は、３０個／ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／ｍｍ^２以下がより好ましく、５個／ｍｍ^２以下が更に好ましい。

　巻き取り性を付与する点から、保護フィルムの屈折率調整層と接する面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。
　保護フィルムは、転写時の欠陥抑制の点から、屈折率調整層と接する面の表面粗さＲａ、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。

＜転写フィルムの製造方法＞
　本発明の転写フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
　なかでも、生産性に優れる点で、仮支持体上に感光性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥処理を施し、感光性組成物層を形成し、その後、感光性組成物層上に屈折率調整層形成用組成物を塗布して、必要に応じて乾燥処理を施し、屈折率調整層を形成する方法（以下、この方法を「塗布方法」ともいう。）が好ましい。
　なお、必要に応じて、屈折率調整層上に保護フィルムを積層してもよい。

　塗布方法で使用される感光性組成物は、上述した感光性組成物層を構成する成分（例えば、バインダーポリマー、重合性化合物、及び、重合開始剤等）、及び、溶剤を含むことが好ましい。
　溶剤としては、有機溶剤が好ましい。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１－メトキシ－２－プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ－プロパノール、及び、２－プロパノールが挙げられる。

　また、溶剤としては、必要に応じ、沸点が１８０～２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を用いることもできる。

　溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の全固形分量は、感光性組成物の全質量に対して、１～８０質量％が好ましく、３～４０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましい。
　なお、上記固形分とは、溶剤以外の感光性組成物層を構成する成分を意味する。なお、上記感光性組成物層を構成する成分の性状が液状であっても、固形分として計算する。

　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における粘度は、例えば、塗布性の点から、１～５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２～４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３～３０ｍＰａ・ｓが更に好ましい。粘度は、粘度計を用いて測定する。粘度計としては、例えば、東機産業株式会社製の粘度計（商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ　ＴＶ－２２）を好適に用いることができる。ただし、粘度計は、上記した粘度計に制限されない。

　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における表面張力は、例えば、塗布性の点から、５～１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０～８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５～４０ｍＮ／ｍが更に好ましい。表面張力は、表面張力計を用いて測定する。表面張力計としては、例えば、協和界面科学株式会社製の表面張力計（商品名：Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ　ＣＢＶＰ－Ｚ）を好適に用いることができる。ただし、表面張力計は、上記した表面張力計に制限されない。

　感光性組成物の塗布方法としては、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、及び、ダイコート法（すなわち、スリットコート法）が挙げられる。

　乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、及び、減圧乾燥が挙げられる。上記した方法を単独で又は複数組み合わせて適用することができる。
　本開示において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。

　塗布方法で使用される屈折率調整層形成用組成物は、上述した屈折率調整層を構成する成分（例えば、特定材料、特定ポリマー、重合性化合物、及び、重合開始剤等）、及び、溶剤を含むことが好ましい。
　溶剤としては、有機溶剤が好ましい。有機溶剤の種類は特に制限されず、上述した感光性組成物に含まれる有機溶剤として例示した有機溶剤が挙げられる。

　溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　屈折率調整層形成用組成物が溶剤を含む場合、屈折率調整層形成用組成物の全固形分量は、感光性組成物の全質量に対して、１～８０質量％が好ましく、３～４０質量％がより好ましく、３～３０質量％が更に好ましい。
　なお、上記固形分とは、溶剤以外の屈折率調整層を構成する成分を意味する。なお、上記屈折率調整層を構成する成分の性状が液状であっても、固形分として計算する。

　屈折率調整層形成用組成物の塗布方法としては、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、及び、ダイコート法（すなわち、スリットコート法）が挙げられる。

　また、屈折率調整層を形成した後、必要に応じて、保護フィルムを屈折率調整層に貼り合わせてもよい。
　保護フィルムを屈折率調整層に貼り合わせる方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　保護フィルムを屈折率調整層に貼り合わせる装置としては、真空ラミネーター、及び、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターが挙げられる。
　ラミネーターはゴムローラー等の任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができるものであることが好ましい。

＜用途＞
　本発明の転写フィルムは、種々の用途に適用できる。
　例えば、電極保護膜、絶縁膜、平坦化膜、オーバーコート膜、ハードコート膜、パッシベーション膜、隔壁、スペーサ、マイクロレンズ、光学フィルター、反射防止膜、エッチングレジスト、及び、めっき部材などに適用できる。より具体的な例として、タッチパネル電極の保護膜又は絶縁膜、プリント配線板の保護膜又は絶縁膜、ＴＦＴ基板の保護膜又は絶縁膜、カラーフィルター、カラーフィルター用オーバーコート膜、配線形成のためのエッチングレジスト、及び、めっきの際の犠牲層等が挙げられる。

　なお、後述する貼合工程における気泡発生抑止の点から、転写フィルムのうねりの最大幅は、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下が更に好ましい。なお、うねりの最大幅の下限値としては、０μｍ以上であり、０．１μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。
　転写フィルムのうねりの最大幅は、以下の手順により測定される値である。
　まず、転写フィルムを縦２０ｃｍ×横２０ｃｍのサイズとなるように主面に垂直な方向に裁断し、試験サンプルを作製する。次いで、表面が平滑で且つ水平なステージ上に、上記試験サンプルを仮支持体の表面がステージに対向するように静置する。静置後、試験サンプルの中心１０ｃｍ角の範囲について、試料サンプルの表面をレーザー顕微鏡（例えば、（株）キーエンス社製　ＶＫ－９７００ＳＰ）で走査して３次元表面画像を取得し、得られた３次元表面画像で観察される最大凸高さから最低凹高さを引き算する。上記操作を１０個の試験サンプルについて行い、その算術平均値を「転写フィルムのうねり最大幅」とする。

＜積層体の製造方法＞
　上述した転写フィルムを用いることにより、被転写体へ屈折率調整層及び感光性組成物層を転写することができる。
　なかでも、本発明の転写フィルムは、タッチパネルの製造に用いられることが好ましい。
　なかでも、本発明の積層体の製造方法は、基板と基板上に配置された導電層とを有する導電層付き基板と、本発明の転写フィルムとを貼り合わせ、基板、導電層、屈折率調整層、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
　屈折率調整層及び感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された屈折率調整層及び感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法が好ましい。
　以下、上記工程の手順について詳述する。

（貼合工程）
　貼合工程は、基板と基板上に配置された導電層とを有する導電層付き基板と、本発明の転写フィルムとを貼り合わせ、基板、導電層、屈折率調整層、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る工程である。

　上記貼合においては、上記導電層と上記屈折率調整層との表面と、が接触するように圧着させる。上記態様であると、露光及び現像後に得られるパターンを、導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
　上記圧着の方法としては特に制限はなく、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。なかでも、屈折率調整層の表面を、導電層付き基板に重ね、ロール等による加圧及び加熱することに行われることが好ましい。
　貼り合せには、真空ラミネーター、及び、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用できる。

　基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、及び、半導体基板が挙げられる。
　基板の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４０］に記載があり、この内容は本明細書に組み込まれる。

　導電層としては、導電性及び細線形成性の点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層、及び、導電ポリマー層からなる群から選択される少なくとも１種の層が好ましい。
　また、基板上には導電層を１層のみ配置してもよいし、２層以上配置してもよい。導電層を２層以上配置する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
　導電層の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４１］に記載があり、この内容は本明細書に組み込まれる。

　導電層付き基板としては、透明電極及び引き回り配線の少なくとも一方を有する基板が好ましい。より具体的には、導電層付き基板としては、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方を有する基板がより好ましい。上記のような基板は、タッチパネル用基板として好適に用いることができる。
　透明電極は、タッチパネル用電極として好適に機能し得る。透明電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、及び、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、並びに、金属メッシュ、及び、銀ナノワイヤー等の金属細線により構成されることが好ましい。
　金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。中でも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。

　引き回し配線（タッチパネル用配線）の材質としては、金属が好ましい。
　引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛及びマンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム又はチタンが好ましく、銅が特に好ましい。

　本発明の転写フィルム中の感光性組成物層を用いて形成されたタッチパネル用電極保護膜は、電極等（すなわち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）を保護する目的で、電極等を直接又は他の層を介して覆うように設けられることが好ましい。

（露光工程）
　露光工程は、屈折率調整層及び感光性組成物層をパターン露光する工程である。なお、
　なお、ここで、「パターン露光」とは、パターン状に露光する形態、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光を指す。
　パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は特に制限されず、適宜調整される。

　パターン露光の光源としては、少なくとも屈折率調整層及び感光性組成物層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。なかでも、パターン露光の露光光の主波長は、３６５ｎｍが好ましい。なお、主波長とは、最も強度が高い波長である。

　光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及び、メタルハライドランプが挙げられる。
　露光量は、５～２００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～２００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

　露光に使用する光源、露光量、及び、露光方法の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４６］～［０１４７］に記載があり、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

（剥離工程）
　剥離工程は、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と後述する現像工程との間に、感光性組成物層付き基板から仮支持体を剥離する工程である。
　剥離方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落［０１６１］～［０１６２］に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を用いることができる。

（現像工程）
　現像工程は、露光された屈折率調整層及び感光性組成物層を現像して、パターン（膜）を形成する工程である。
　上記屈折率調整層及び感光性組成物層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
　現像液として、アルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。

　現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、スピン現像、及び、ディップ現像等の方式が挙げられる。

　本開示において好適に用いられる現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９４］に記載の現像液が挙げられ、好適に用いられる現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９５］に記載の現像方式が挙げられる。

（ポスト露光工程、及び、ポストベーク工程）
　上記積層体の製造方法は、上記現像工程によって得られたパターンを、露光する工程（ポスト露光工程）及び／又は加熱する工程（ポストベーク工程）を有していてもよい。
　ポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。

（エッチング工程）
　上記積層体の製造方法は、得られた積層体中のパターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理するエッチング工程を有していてもよい。
　上記エッチング工程では、上記現像工程により上記屈折率調整層及び感光性組成物層から形成されたパターンを、エッチングレジストとして使用し、上記導電層のエッチング処理を行う。
　エッチング処理の方法としては、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落［０２０９］～［０２１０］に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落［００４８］～［００５４］等に記載の方法、公知のプラズマエッチング等のドライエッチングによる方法等、公知の方法を適用することができる。

（除去工程）
　上記積層体の製造方法は、パターンを除去する除去工程を有していてもよい。
　除去工程は、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
　パターンを除去する方法としては特に制限はないが、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いることが好ましい。
　パターンの除去方法としては、好ましくは３０～８０℃、より好ましくは５０～８０℃にて撹拌中の除去液にパターンを有する積層体を１～３０分間浸漬する方法が挙げられる。

　除去液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分、又は、第１級アミン化合物、第２級アミン化合物、第３級アミン化合物、第４級アンモニウム塩化合物等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶液に溶解させた除去液が挙げられる。
　また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法、及び、パドル法等により除去してもよい。

（その他の工程）
　本発明の積層体の製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
　例えば、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の可視光線反射率を低下させる工程、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程等が挙げられるが、これらの工程に制限されない。

　本発明の積層体の製造方法により製造される積層体は、種々の装置に適用することができる。上記積層体を備えた装置としては、例えば、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましく、静電容量型タッチパネルであることがより好ましい。また、上記入力装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の表示装置に適用することができる。
　積層体がタッチパネルに適用される場合、感光性組成物層から形成されるパターンは、タッチパネル用電極の保護膜として用いられることが好ましい。つまり、転写フィルムに含まれる感光性組成物層は、タッチパネル用電極保護膜の形成に用いられることが好ましい。

　以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更できる。従って、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
　なお、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量である。また、酸価は、理論酸価を用いた。

＜重合体の合成＞
（重合体Ｐ－１の合成）
　プロピレングリコールモノメチルエーテル（８２．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）をフラスコに仕込み、窒素気流下、９０℃に加熱した。この溶液に、スチレン（３８．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、ジシクロペンタニルメタクリレート（３０．１ｇ、ファンクリルＦＡ－５１３Ｍ、日立化成株式会社）、及び、メタクリル酸（３４．０ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）をプロピレングリコールモノメチルエーテル（２０ｇ）に溶解させた溶液、並びに、重合開始剤Ｖ－６０１（５．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（４３．６ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）に溶解させた溶液を同時に３時間かけて滴下した。滴下終了後、１時間おきにＶ－６０１（０．７５ｇ）を３回添加した。その後、更に溶液を３時間反応させた。その後、得られた溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（５８．４ｇ）、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル（１１．７ｇ）で希釈した。空気気流下、溶液を１００℃に昇温し、テトラエチルアンモニウムブロミド（０．５３ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、ｐ－メトキシフェノール（０．２６ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を添加した。得られた溶液に、グリシジルメタクリレート（２５．５ｇ、日油株式会社、ブレンマーＧＨ）を２０分かけて滴下した。得られた溶液を１００℃で７時間反応させ、重合体Ｐ－１の溶液を得た。得られた溶液の固形分濃度は３６．５質量％であった。ＧＰＣにおける標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は１７０００、分散度は２．４、ポリマーの酸価は９４．５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ガスクロマトグラフィーを用いて測定した残存モノマー量はいずれのモノマーにおいてもポリマー固形分に対し０．１質量％未満であった。

（重合体Ｐ－２～Ｐ－４の合成）
　重合体に含まれる各構成単位の種類及び各構成単位の含有量を、表１に示すように変更したこと以外は重合体Ｐ－１の合成と同様にして、重合体Ｐ－２～Ｐ－４を合成した。いずれの重合体も、重合体溶液として合成し、かつ、重合体溶液における重合体濃度（固形分濃度）が３６．３質量％となるように、希釈剤（ＰＧＭＥＡ）の量を調整した。

（重合体Ｐ’－１の合成）
　３つ口フラスコに、ヒドロキシエチルメタクリレート（１６９．２ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、ピリジン（１０８．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、酢酸エチル（５００ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を加え５℃に冷却した。得られた溶液に２－ブロモイソ酪酸ブロミド（３１５ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を加え、得られた溶液を室温にて３時間攪拌した。得られた溶液をイオン交換水（１０００ｇ）で洗浄した後、パラメトキシフェノール（０．０９ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を加え、４０℃で３０Ｔｏｒｒまで減圧して溶剤を除去することで、メタクリル前駆体モノマーＡ（３５５ｇ）を得た。
　３つ口フラスコにジメチルアセトアミド（７９．６ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。メタクリル前駆体モノマーＡ（１３５．２ｇ）、メタクリル酸（２４．０ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、Ｖ－６０１（６．１５ｇ）、及び、ジメチルアセトアミド（７９．６ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－１の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にジアザビシクロウンデセン（１５３．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１２ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を加え、４０℃に昇温した後、３時間攪拌した。得られた溶液を５℃に冷却し、濃塩酸（５１．５ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を加えた後、蒸留水（１０００ｇ）を加えることで固体を析出させた。上澄み液をデカンテーションにて除去した後、蒸留水（１０００ｇ）で３回洗浄し、プロピレングリコールモノメチルエーテル（２８０ｇ）を加えることで、重合体Ｐ’－１のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－２の合成）
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（１９．５ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。メタクリル酸（２２．８ｇ）、Ｖ－６０１（３．０４ｇ）、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル（１９．５ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコの溶液中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－２の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にプロピレングリコールモノメチルエーテル（３２．３ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１７ｇ）、テトラエチルアンモニウムブロミド（０．２８ｇ）、及び、グリシジルメタクリレート（２７．３ｇ）を加え、１００℃に昇温した後、８時間攪拌することで、重合体Ｐ’－２のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度４０質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－３の合成）
　３つ口フラスコに、ヒドロキシエチルメタクリレート（１８０ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、ジメチルアセトアミド（３４６ｇ）を加え、５℃に冷却した。次に、３つ口フラスコ内に、２－クロロプロピオニルクロリド（１９３ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を加え、得られた溶液を室温にて１時間攪拌した。次に、溶液に酢酸エチル（５００ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を加え、有機相を取り出して、有機相をイオン交換水（３００ｇ）、飽和重層水（３００ｇ）、及び、飽和食塩水（３００ｇ）の順で洗浄した。その後、得られた溶液にパラメトキシフェノール（０．０９ｇ）を加え、４０℃で３０Ｔｏｒｒまで減圧して溶剤を除去することで、アクリル前駆体モノマーＢ（３００ｇ）を得た。
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（３５．０ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。アクリル前駆体モノマーＢ（４０．７ｇ）、アクリル酸（６．０ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、Ｖ－６０１（１．８５ｇ）、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル（３５．０ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－３の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にトリエチルアミン（３６．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、ジブチルヒドロキシトルエン（０．０４ｇ）を加え、溶液を５０℃に昇温した後、３時間攪拌した。得られた溶液を５℃に冷却し、溶液に濃塩酸（１７．７ｇ）を加えた後、更に蒸留水（４００ｇ）を加えることで固体を析出させた。上澄み液をデカンテーションにて除去した後、得られた固形分を蒸留水（４００ｇ）で３回洗浄し、得られた固形分にプロピレングリコールモノメチルエーテル（９３ｇ）を加えることで、重合体Ｐ’－３のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－４の合成）
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（２５．５g）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。メタクリル酸（２６．４ｇ）、メタクリル酸シクロヘキシル（４．７ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、Ｖ－６０１（３．８ｇ）、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル（２５．５ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－４の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にプロピレングリコールモノメチルエーテル（２６．８ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（０．２２ｇ）、テトラエチルアンモニウムブロミド（０．３５ｇ）、及び、グリシジルメタクリレート（２４．０ｇ）を加え、１００℃に昇温した後、８時間攪拌することで、重合体Ｐ’－４のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度４０質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－５の合成）
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（２１．１ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。メタクリル酸（２５．１ｇ）、Ｖ－６０１（４．０ｇ）、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル（２１．１ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ－５の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にプロピレングリコールモノメチルエーテル（４４．９ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１９ｇ）、テトラエチルアンモニウムブロミド（０．３１ｇ）、及び、サイクロマーＭ－１００（３６．２ｇ、ダイセル株式会社）を加え、１００℃に昇温した後、８時間攪拌することで、重合体Ｐ’－５のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度４０質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－６の合成）
　３つ口フラスコにジメチルアセトアミド（６１．６ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。重合体Ｐ’－１の合成に使用したメタクリル前駆体モノマーＡ（７６．７ｇ）、メタクリル酸（１５．１ｇ）、メタクリル酸メチル（３１．３ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、Ｖ－６０１（６．１５ｇ）、及び、ジメチルアセトアミド（６１．６ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－６の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にジアザビシクロウンデセン（８９．５ｇ）、及び、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１ｇ）を加え、４０℃に昇温した後、３時間攪拌した。得られた溶液を５℃に冷却し、溶液に濃塩酸（３０．７ｇ）を加えた後、更に、蒸留水７００gを加えることで固体を析出させた。上澄み液をデカンテーションにて除去した後、得られた固形分をプロピレングリコールモノメチルエーテル（３００ｇ）と蒸留水（１０００ｇ）との混合液で３回洗浄し、得られた固形分にプロピレングリコールモノメチルエーテル（１６２ｇ）を加えることで、重合体Ｐ’－６のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－７の合成）
　３つ口フラスコにジメチルアセトアミド（５５．４ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。重合体Ｐ’－１の合成に使用したメタクリル前駆体モノマーＡ（５７．１ｇ）、メタクリル酸（１３．２ｇ）、メタクリル酸メチル（４０．６ｇ）、Ｖ－６０１（６．１５ｇ）、及び、ジメチルアセトアミド（５５．４ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－７の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にジアザビシクロウンデセン（７０．１ｇ）、及び、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１ｇ）を加え、４０℃に昇温した後、３時間攪拌した。得られた溶液を５℃に冷却し、溶液に濃塩酸（２４．７ｇ）を加えた後、更に、蒸留水（７００ｇ）を加えることで固体を析出させた。上澄み液をデカンテーションにて除去した後、得られた固形分をプロピレングリコールモノメチルエーテル（３００ｇ）と蒸留水（１０００ｇ）との混合液で３回洗浄し、得られた固形分にプロピレングリコールモノメチルエーテル（１２５．５ｇ）を加えることで、重合体Ｐ’－７のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－８の合成）
　３つ口フラスコにジメチルアセトアミド（９１．５ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。重合体Ｐ’－１の合成に使用したメタクリル前駆体モノマーＡ（１６９．６ｇ）、メタクリル酸（１３．４ｇ）、Ｖ－６０１（６．１５ｇ）、及び、ジメチルアセトアミド（９１．５ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－８の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にジアザビシクロウンデセン（１６２．４ｇ）、及び、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１ｇ）を加え、４０℃に昇温した後、３時間攪拌した。得られた溶液を５℃に冷却し、濃塩酸（４８．４ｇ）を加えた後、蒸留水（１０００ｇ）を加えることで固体を析出させた。上澄み液をデカンテーションにて除去した後、得られた固形分をプロピレングリコールモノメチルエーテル（３００ｇ）と蒸留水（１０００ｇ）との混合液で３回洗浄し、得られた固形分にプロピレングリコールモノメチルエーテル（３１２．３ｇ）を加えることで、重合体Ｐ’－８のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－９の合成）
　３つ口フラスコにジメチルアセトアミド（９４．２ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。重合体Ｐ’－１の合成に使用したメタクリル前駆体モノマーＡ（１７７．５ｇ）、メタクリル酸（１１．０ｇ）、Ｖ－６０１（６．１５ｇ）、及び、ジメチルアセトアミド（９４．２ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－９の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にジアザビシクロウンデセン（１６４．６ｇ）、及び、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１５ｇ）を加え、４０℃に昇温した後、溶液を３時間攪拌した。得られた溶液を５℃に冷却し、溶液に濃塩酸（４７．７ｇ）を加えた後、更に、蒸留水（１０００ｇ）を加えることで固体を析出させた。上澄み液をデカンテーションにて除去した後、得られた固形分をプロピレングリコールモノメチルエーテル（３００ｇ）と蒸留水（１０００ｇ）との混合液で３回洗浄し、得られた固形分にプロピレングリコールモノメチルエーテル３１９．６ｇを加えることで、重合体Ｐ’－９のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－１０の合成）
　３つ口フラスコにジメチルアセトアミド（１０６．５ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９５℃に昇温した。重合体Ｐ’－１の合成に使用したメタクリル前駆体モノマーＡ（２１３．０ｇ）、Ｖ－６０１（６．１５ｇ）、及び、ジメチルアセトアミド（１０６．５ｇ）を加えた溶液を、９５℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９５℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を３時間撹拌することで、重合体Ｐ’－１０の前駆体を得た。
　次に、得られた溶液にジアザビシクロウンデセン（１７４．３ｇ）、及び、ジブチルヒドロキシトルエン（０．１５ｇ）を加え、４０℃に昇温した後、溶液を３時間攪拌した。得られた溶液を５℃に冷却し、溶液に濃塩酸（４４．５ｇ）を加えた後、更に、蒸留水（１１００ｇ）を加えることで固体を析出させた。上澄み液をデカンテーションにて除去した後、得られた固形分をプロピレングリコールモノメチルエーテル（３００ｇ）と蒸留水（１０００ｇ）との混合液で３回洗浄し、得られた固形分にプロピレングリコールモノメチルエーテル（３５２．９ｇ）を加えることで、重合体Ｐ’－１０のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－１１の合成）
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（３７．５ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において９０℃に昇温した。メタクリル酸メチル（１４．０ｇ）、アクリル酸エチル（２８．９５ｇ）、アクリル酸（７．０５ｇ）、Ｖ－６０１（２．４３ｇ）、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル（３７．５ｇ）を加えた溶液を、９０℃±２℃の温度範囲に維持した３つ口フラスコ内の溶液に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９０℃±２℃の温度範囲にて得られた溶液を２時間撹拌し、プロピレングリコールモノメチルエーテル（４１．７ｇ）を加えることで重合体Ｐ’－１１のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分濃度４０質量％）を得た。

（重合体Ｐ’－１２の合成）
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（２７０．０ｇ）を導入し、撹拌しつつ窒素気流下で７０℃に昇温させた。一方、アリルメタクリレート（４５．６ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、メタクリル酸（１４．４ｇ）をプロピレングリコールモノメチルエーテル（２７０．０ｇ）に溶解させ、更にＶ－６５（３．９４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を溶解させることで滴下液を作製し、フラスコ中へ２．５時間かけて滴下を行った。そのまま得られた溶液を、撹拌状態を保持して２時間反応させた。その後、得られた溶液の温度を室温まで戻し、撹拌状態のイオン交換水（２．７Ｌ）へ滴下し、再沈殿を実施し、懸濁液を得た。ろ紙を引いたヌッチェにて懸濁液を導入することでろ過を行い、濾過物を更にイオン交換水で洗浄し、湿潤状態の粉体を得た。次に、４５℃の送風乾燥にかけ、恒量になったことを確認し、粉体として収率７０％で重合体Ｐ’－１２を得た。

　表１中、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位以外の構成単位については、各構成単位を形成するためのモノマーの略称で示している。
　（メタ）アクリロイル基を有する構成単位については、モノマーとモノマーとの付加構造の形式で示している。例えば、ＭＡＡ－ＧＭＡは、メタクリル酸に由来する構成単位に対してグリシジルメタクリレートが付加した構成単位を意味する。

・略称の意味は以下のとおりである。
　Ｓｔ：スチレン（富士フイルム和光純薬株式会社）
　ＭＡＡ－ＧＭＡ：メタクリル酸に由来する構成単位に対してグリシジルメタクリレートが付加した構成単位
　ＭＡＡ：メタクリル酸（富士フイルム和光純薬株式会社）
　ＤＣＰＭＡ：ジシクロペンタニルメタクリレート（ファンクリルＦＡ－５１３Ｍ、日立化成株式会社）
　ＣＨＭＡ：シクロヘキシルメタクリレート（ＣＨＭＡ、三菱ガス化学株式会社）
　ＭＭＡ：メチルメタクリレート（富士フイルム和光純薬株式会社）
　ＥＡ：エチルアクリレート（富士フイルム和光純薬株式会社）

　表２中、「Ｃ＝Ｃ価」欄は、ポリマー中における（メタ）アクリロイル基の含有量を表す。

（ブロックイソシアネート化合物Ｑ－１の合成）
　窒素気流下、ブタノンオキシム（４５３ｇ、出光興産社製）をメチルエチルケトン（７００ｇ）に溶解させた。これに氷冷下、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（５００ｇ、シス、トランス異性体混合物、三井化学社製、タケネート６００）を１時間かけて滴下し、滴下後、更に溶液を１時間反応させた。その後、得られた溶液を４０℃に昇温して１時間反応させた。^１Ｈ－ＮＭＲ及びＨＰＬＣにて反応が完結したことを確認し、ブロックイソシアネート化合物Ｑ－１（下記構造式）のメチルエチルケトン溶液を得た。

＜感光性組成物の調製＞
　各実施例又は比較例において、下記表３に示す組成の感光性組成物である材料Ａ－１～Ａ－５を調製した。表３中、各成分の数値は各成分の含有量（質量部）を表し、重合体Ｐ－１～Ｐ－４の量は、重合体溶液（重合体濃度３６．３質量％）の量を意味する。

＜屈折率調整層形成用組成物の調製＞
　次に、下記表４に記載の組成で、屈折率調整層形成用組成物である材料Ｂ－１～Ｂ－１７を調製した。

＜実施例１～１９、及び、比較例１～２の転写フィルムの作製＞
　厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ルミラー１６ＫＳ４０、東レ（株）製）の仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、塗布量を、乾燥後の厚みが表５の厚みになる塗布量に調整し、表３に記載の感光性組成物の材料Ａ－１～Ａ－５のいずれか１種を塗布し、感光性組成物層を形成した。
　１００℃の乾燥ゾーンで感光性組成物層から溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて、表５の組み合わせにて、表４に記載の屈折率調整層形成用組成物の材料Ｂ－１～Ｂ－１７のうち１種を用いて、塗布量を、乾燥後の厚みが表５に記載の厚みになる量に調整して感光性組成物層の上に塗布した後、８０℃の乾燥温度で乾燥させ、屈折率調整層を形成した。屈折率調整層の上に保護フィルム（ルミラー１６ＫＳ４０、東レ（株）製）を圧着し、実施例１～１９、並びに、比較例１～２の転写フィルムを作製した。

＜屈折率調整層付き透明フィルム基材の準備＞
（積層フィルム（基材フィルム／ハードコート層）の作製）
　ハードコート層形成用硬化性組成物の原料として、まず、以下の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び、（Ｄ）成分を準備した。

（Ａ）重合性二重結合を有するアクリル樹脂（高分子アクリレート）の合成
　グリシジルメタクリレート（８０質量部）、メチルメタクリレート（１８質量部）、及び、エチルアクリレート（２質量部）を、メチルイソブチルケトン中で常法に従って溶液重合させて、グリシジルメタクリレートに由来するエポキシ基を有するアクリル樹脂を合成した。得られたアクリル樹脂のエポキシ基とアクリル酸との反応により、アクリロイルオキシ基を有するアクリル樹脂（高分子アクリレート）を得た。重合反応に用いたグリシジルメタクリレート１当量に対して、１当量のアクリル酸を反応に用いた。得られた高分子アクリレートの重量平均分子量は１５０００であり、二重結合当量（分子量／同一分子中の重合性結合の数）は２５６であった。

（Ｂ）多官能重合性化合物
Ｂ１：カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（二重結合当量：１３５、日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＣＡ－２０、六官能）
Ｂ２：エチレンオキシド変性ポリグリセリンポリアクリレート（二重結合当量：２４４、新中村化学工業株式会社製、ＮＫエコノマーＡ－ＰＧ５０２７Ｅ、九官能）
（Ｃ）アルキレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート
ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製ファンクリルＦＡ－３２３Ａ）
（Ｄ）ウレタンアクリレート
１０官能ウレタンアクリレート（二重結合当量：１１６、日立化成株式会社製ヒタロイドＨＡ７９０９－１）

　固形分（溶剤以外の成分）の比率として、（Ａ）成分を２０質量部、（Ｂ）成分のＢ１を２０質量部、（Ｂ）成分のＢ２を５２質量部、（Ｃ）成分を１５質量部、（Ｄ）成分を３質量部、及び、溶剤としてのメチルイソブチルケトン（１５０質量部）とを混合し、４０℃で１時間攪拌して、硬化性成分の溶液を得た。
　この硬化性成分の溶液（１００質量部）と、シリカ粒子ゾル（４０質量部）（シリカ粒子の量として）と、レベリング剤（ＢＹＫ社製ＵＶ－３５００）（０．５質量部）と、光重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製）（４質量部）とをメチルイソブチルケトン中で攪拌機を用いて攪拌混合して、塗工用の硬化性組成物を調製した。シリカ粒子ゾルとして、メチルエチルケトンシリカゾル（日産化学工業（株）製ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ、数平均粒子径０．０５６μｍ、シリカ粒子濃度３０質量％、球状）を用いた。このハードコート層形成用硬化性組成物を積層フィルムの作製のために用いた。

　基材フィルムとして、厚み１００μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン社製、商品名ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍＺＦ１６、ガラス転移温度：１６３℃）を準備した。この基材フィルムの片面上に、上記ハードコート層形成用硬化性組成物をバーコーターを用いて２．５μｍの厚みで塗工した。塗膜を乾燥機中で１分間加熱することにより乾燥した。乾燥後の塗膜にコンベア式高圧水銀ランプを用いて４００ｍＪ／ｃｍ^２の光量の紫外線を照射した。紫外線照射により、ハードコート層形成用硬化性組成物の硬化膜を形成させ、積層フィルム（基材フィルム／ハードコート層）を得た。紫外線照射の際、窒素を導入して酸素濃度を１０体積ｐｐｍ以下とした。

（屈折率調整層付き透明フィルム基材（基材フィルム／ハードコート層／屈折率調整層）の作製）
　酸化ジルコニウム粒子（３０．０ｇ、第一稀元素製、ＵＥＰ－１００、１次粒子の平均粒子径：１０～２０ｎｍ）に対して、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（６．０ｇ、東レ・ダウコーニング製、Ｚ６０３０）、及び、メチルエチルケトン（６４．０ｇ）を配合し、周速８ｍ／ｓで３０分間のビーズミル条件で分散処理して、処理液を回収した。次いで、処理液（１００．０ｇ）に対して、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（２．０ｇ、昭和電工（株）製、カレンズＭＯＩ）を配合し、超音波分散機で１時間分散処理して、表面処理された酸化ジルコニウム粒子（Ｚ－１）を３７質量％含む分散液を得た。

　動的光散乱式粒径分布測定装置「ＬＢ－５５０」（（株）堀場製作所製）を用いて粒度分布を測定したところ、酸化ジルコニウム粒子（Ｚ－１）の累積５０％粒径（Ｄ５０）は、２４．２ｎｍであった。アッベ屈折率計（（株）アタゴ製；測定波長：５８９ｎｍ）を用いて屈折率を測定したところ、酸化ジルコニウム粒子（Ｚ－１）の屈折率は、２．０であった。

　紫外線を遮蔽した容器中において、酸化ジルコニウム粒子（Ｚ－１）の分散液（６３質量部）、ＡＢＰＥＦ（５質量部、新中村化学工業株式会社製）、Ａ－ＤＰＨ（１０質量部、新中村化学工業株式会社製）、及び、イルガキュアＴＰＯ（２質量部、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（２０．０質量部）に加えて、室温で２時間撹拌することにより、固形分濃度４０質量％の均一な屈折率調整層形成用硬化性組成物を得た。

　得られた屈折率調整層形成用硬化性組成物を、バーコーターを用いて、上記で作製した積層フィルム（基材フィルム／ハードコート層）上に塗工した。得られた塗膜を８０℃で２分間乾燥した後、無電極ランプシステムを用いて空気下で照射量２５０ｍＪ／ｃｍ^２（ヘレウス（株）製ＵＶパワーマップ、測定波長ＵＶ－Ａ）の紫外線を照射して、厚み１００ｎｍの硬化膜を作製し、屈折率調整層付き透明フィルム基材とした。

＜評価用積層体の作製＞
　上記で作製した屈折率調整層付き透明フィルム基材の上に、実施例及び比較例の各転写フィルムの保護フィルムを剥離し、露出した屈折率調整層を透明フィルム基材の屈折率調整層表面に密着させてラミネートし、仮支持体／感光性組成物層／屈折率調整層／屈折率調整層付き透明フィルム基材の層構造を有する積層体Ａを形成した。この際のラミネートの条件は、ラミロール温度１００℃、線圧０．６ＭＰａ、搬送速度２ｍ／分とした。

＜アンダーカットの評価＞
　超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用い、仮支持体を剥離せずに、Ｌ／Ｓ＝１０００μｍ／１０００μｍのパターンを有するマスクを介して、作製した積層体Ａに露光量１２０ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）で露光した。露光後、１時間放置してから、仮支持体を剥離した後、炭酸ナトリウム１質量％水溶液（液温３３℃）を用いて４５秒間現像することにより、非露光部における屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した。更に、エアを吹きかけて水分を除去した。
　屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した後、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で断面を観察し、１０００μｍラインパターンの端部のアンダーカットを観察した。観察結果に基づき、下記評価基準により、アンダーカットを評価した。
　下記評価基準において、Ａ、Ｂ、Ｃのいずれかであれば実用に適し、Ａが最も好ましい。評価結果を表５に示す。なお、以下のアンダーカットの距離とは、パターンの端部から中心部に向かって延びるアンダーカットの距離を意味する。
－現像残渣の評価基準－
　　Ａ：アンダーカットの距離が、１μｍ未満である。
　　Ｂ：アンダーカットの距離が、１μｍ以上３μｍ未満である。
　　Ｃ：アンダーカットの距離が、３μｍ以上５μｍ未満である。
　　Ｄ：アンダーカットの距離が、５μｍ以上１０μｍ未満である。
　　Ｅ：アンダーカットの距離が、１０μｍ以上である。

＜現像残渣の評価＞
　各実施例及び比較例の転写フィルムから保護フィルムを剥離し、保護フィルムを剥離した転写フィルムを、ロール温度１００℃、線圧０．６ＭＰａ、及び、搬送速度２ｍ／分のラミネート条件で銅箔が積層されたシクロオレフィン樹脂フィルムにラミネートすることにより、銅箔の表面に転写フィルムの屈折率調整層及び感光性組成物層を転写した。
　上記積層体から仮支持体を剥離し、剥離後２４時間放置してから、現像液として炭酸ナトリウム１質量％水溶液（液温３３℃）を用いて４５秒間現像することで、屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した。更に、エアを吹きかけて水分を除去した。
　屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した後、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面を観察し、銅箔上の現像残渣を確認した。観察結果に基づき、下記評価基準により、現像残渣を評価した。
　下記評価基準において、Ａ、Ｂ、Ｃのいずれかであれば、実用に適し、Ａが最も好ましい。評価結果を表５に示す。
－現像残渣の評価基準－
　　Ａ：屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した後の銅箔上の残渣の厚みが、１０ｎｍ未満である。
　　Ｂ：屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した後の銅箔上の残渣の厚みが、１０ｎｍ以上２０ｎｍ未満である。
　　Ｃ：屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した後の銅箔上の残渣の厚みが、２０ｎｍ以上３０ｎｍ未満である。
　　Ｄ：屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した後の銅箔上の残渣の厚みが、３０ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
　　Ｅ：屈折率調整層及び感光性組成物層を現像除去した後の銅箔上の残渣の厚みが、５０ｎｍ以上である。

＜透明電極パターン隠蔽性の評価用積層体作製に用いる透明電極パターンフィルムの作製＞
（透明電極層付きフィルムの形成）
　上記にて得られた屈折率調整層付き透明フィルム基材を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：スズ＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明フィルム基板の温度１５０℃、アルゴン分圧０．１３Ｐａ、酸素分圧０．０１Ｐａ）により、厚み４０ｎｍ、屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、屈折率調整層上に透明電極層を形成したフィルムを得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。

（エッチング用感光性フィルムＥ１の調製）
　厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層形成用組成物を塗布して、乾燥させた。次に、下記の処方Ｐ１からなる中間層形成用組成物を塗布して、乾燥させた。更に、下記の処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層形成用組成物を塗布して、乾燥させた。既述の方法により仮支持体の上に乾燥厚みが１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥厚みが１．６μｍの中間層と、厚み２．０μｍのエッチング用光硬化性樹脂層とからなる積層体を作製し、最後に保護フィルム（厚み１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料である、エッチング用感光性フィルムＥ１を作製した。

－エッチング用光硬化性樹脂層形成用組成物：処方Ｅ１－
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、重量平均分子量６０，０００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート：２．８質量部
・２－クロロ－Ｎ－ブチルアクリドン：０．４２質量部
・２，２－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット：０．２６質量部
・フェノチアジン：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ－７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製）：０．０３質量部
・メチルエチルケトン：４０質量部
・１－メトキシ－２－プロパノール：２０質量部
　なお、エッチング用光硬化性樹脂層形成用組成物Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２，５００Ｐａ・ｓｅｃであった。

－熱可塑性樹脂層形成用組成物：処方Ｈ１－
・メタノール：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：６．３６質量部
・メチルエチルケトン：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２－エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）：９．１質量部
・フッ素系ポリマー〔下記成分〕：０．５４質量部
　フッ素系ポリマー：Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（４０質量部）と、Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（５５質量部）と、Ｈ（ＯＣＨＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（５質量部）との共重合体（重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液（商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製））

－中間層形成用組成物：処方Ｐ１－
・ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）：３２．２質量部
・ポリビニルピロリドン（商品名：Ｋ－３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）：１４．９質量部
・蒸留水：５２４質量部
・メタノール：４２９質量部

（透明電極パターンの形成）
　上記で作製した屈折率調整層上に透明電極層を形成したフィルム上に、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした。ラミネート条件は、透明フィルム基板の温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分にて行った。
　仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面と既述のエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。
　次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、更に１３０℃で３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基材の屈折率調整層上に透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを得た。

　上記の透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを、ＩＴＯ用エッチング液（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒間処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを得た。
　次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを、レジスト剥離液（Ｎ－メチル－２－ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツジャパン（株）製）、液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒間処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、透明フィルム基材の屈折率調整層上に透明電極パターンを形成したフィルムを得た。

＜透明積層体の作製＞
　保護フィルムを剥離した各実施例及び比較例の転写フィルムを用いて、透明フィルム基材の屈折率調整層上に透明電極パターンを形成したフィルムの屈折率調整層及び透明電極パターンを、転写フィルムが覆う位置にて転写した。その結果、透明フィルム基材が有する屈折率調整層及び透明電極パターン上に、転写フィルムによって、屈折率調整層、感光性組成物層及び仮支持体がこの順に転写された。転写は、ＭＣＫ社製真空ラミネーターを用いて、透明フィルム基板の温度：４０℃、ゴムローラー温度１００℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件で行った。
　その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体とを密着させ、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。
　仮支持体を剥離後、炭酸ナトリウム１質量％水溶液を用いて、３２℃で６０秒間現像処理を実施した。その後、現像処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、１４５℃で３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基材上に屈折率調整層、透明電極パターン、並びに、屈折率調整層及び感光性組成物層から形成されたパターンが基材から順に積層された透明積層体を形成した。

〔透明積層体の評価〕
＜透明電極パターン隠蔽性の評価＞
　透明フィルム基材上に、屈折率調整層、透明電極パターン、並びに、屈折率調整層及び感光性組成物層から形成されたパターンをこの順に積層させた透明積層体を、透明接着テープ（スリーエムジャパン（株）製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、黒色ＰＥＴ材と接着させ、基板全体を遮光した。
　透明電極パターン隠蔽性は、暗室において、蛍光灯（光源）と作製した基板を、ガラス面側から光を入射させ、ガラス表面からの反射光を、斜めから目視観察することにより行った。Ａ又はＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。
《評価基準》
　　Ａ：透明電極パターンが全く見えない。
　　Ｂ：透明電極パターンが見える（分かりにくい）。
　　Ｃ：透明電極パターンがはっきり見える（分かりやすい）。

　表５に示すように、本発明の転写フィルムは所望の効果を示した。
　なかでも、実施例６及び７と他の実施例との比較より、Ｃ＝Ｃ価が２．５０ｍｍｏｌ／ｇ以上の場合（好ましくは、３．００ｍｍｏｌ／ｇ以上の場合）、アンダーカットの発生がより抑制されることが確認された。
　また、実施例９及び１０と他の実施例との比較より、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の場合、現像残渣がより残りにくいことが確認された。
　また、実施例１６と他の実施例との比較より、感光性組成物層がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含む場合、アンダーカットの発生がより抑制されることが確認された。

Claims

　仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層とをこの順に有し、
　前記屈折率調整層が、金属酸化物、トリアジン環を有する化合物、及び、フルオレン骨格を有する化合物からなる群から選択される少なくとも１種の材料、並びに、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位を有するポリマーを含む、転写フィルム。
　前記ポリマー中における（メタ）アクリロイル基の含有量が２．５０ｍｍｏｌ／ｇ以上である、請求項１に記載の転写フィルム。
　前記ポリマーが、更に、酸基を有する構成単位を有する、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
　前記ポリマーの酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記屈折率調整層の厚みが５００ｎｍ以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記屈折率調整層が、酸化ジルコニウム、及び、酸化チタンからなる群から選択される少なくとも１つを含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記材料の含有量が、前記屈折率調整層全質量に対して、５０質量％以上である、請求項１～６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記屈折率調整層の屈折率が１．６０以上である、請求項１～７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層が、バインダーポリマー、重合性化合物、及び、重合開始剤を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記重合開始剤が、オキシムエステル化合物、及び、ホスフィンオキサイド化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項９に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層が、タッチパネル用電極保護膜形成に用いられる、請求項１～１０のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　基板と前記基板上に配置された導電層とを有する導電層付き基板と、請求項１～１１のいずれか１項に記載の転写フィルムとを貼り合わせ、前記基板、前記導電層、前記屈折率調整層、前記感光性組成物層、及び、前記仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る貼合工程と、
　前記屈折率調整層及び前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された前記屈折率調整層及び前記感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、前記貼合工程と前記露光工程との間、又は、前記露光工程と前記現像工程との間に、前記感光性組成物層付き基板から前記仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
　前記導電層付き基板が、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方を有する基板である、請求項１２に記載の積層体の製造方法。