JP7213981B2 - 転写フィルム、積層体の製造方法およびタッチパネルの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、転写フィルム、積層体の製造方法およびタッチパネルの製造方法に関する。

電子機器（例えば、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機および銀行端末など）の表示機器には、入力装置としてタッチパネルが使用されることが多い。
このようなタッチパネルでは、金属配線を含む電極を保護するための保護膜が設けられることが知られている。

例えば、特許文献１には、成分Ａとして、式１で表される化合物と、成分Ｂとして、バインダーポリマーと、成分Ｃとして、光重合開始剤と、を含有することを特徴とするタッチパネル電極保護膜形成用組成物が記載されており（［請求項１］）、また、仮支持体と、タッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性樹脂層とを有する転写フィルムを用いて、タッチパネル用電極を有する基材上に、感光性樹脂層を設ける方法が記載されている（［請求項６］［請求項１０］）。
Ｑ^２－Ｒ^１－Ｑ^１ （１）
式１中、Ｑ^１およびＱ^２はそれぞれ独立に、（メタ）アクリロイルオキシ基または（メタ）アクリロイルオキシアルキル基を表し、Ｒ^１は二価の炭化水素基を表す。

また、特許文献２には、成分Ａとして、式１で表される化合物と、成分Ｂとして、バインダーポリマーと、成分Ｃとして、光重合開始剤と、成分Ｄとして、カルボキシ基を有するモノマーとを含有し、成分Ａの含有量が、モノマー成分の総質量に対して、５質量％以上５０質量％未満であることを特徴とするタッチパネル電極保護膜形成用組成物が記載されており（［請求項１］）、また、仮支持体と、タッチパネル電極保護膜形成用組成物よりなる感光性樹脂層とを有する転写フィルムを用いて、タッチパネル用電極を有する基材上に、感光性樹脂層を設ける方法が記載されている（［請求項６］［請求項１０］）。

特開２０１６－０５１４７０号公報 特開２０１６－１５５９７８号公報

本発明者らは、特許文献１および２などに記載された転写フィルムについて検討したところ、感光性樹脂層の種類によっては、硬化後の打ち抜き加工性に劣る場合があることを明らかとした。
また、本発明者らは、打ち抜き加工性について、感光性樹脂層の硬化後の破断伸びを大きくして改善を図ろうとすると、転写フィルムが有している仮支持体および保護フィルムの剥離性が劣る場合があることを明らかとした。

そこで、本発明は、仮支持体および保護フィルムの剥離性に優れ、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性に優れる転写フィルム、積層体の製造方法およびタッチパネルの製造方法を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、所定の表面粗さを有する仮支持体と、硬化後の１２０℃における破断伸びが所定の値となる感光性樹脂層と、所定の表面粗さを有する保護フィルムとをこの順に有する転写フィルムが、仮支持体および保護フィルムの剥離性に優れ、かつ、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性にも優れることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 仮支持体と、感光性樹脂層と、保護フィルムとをこの順に有する転写フィルムであって、
感光性樹脂層を硬化した硬化膜の１２０℃における破断伸びが１５％以上であり、
仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが５０ｎｍ以下であり、
保護フィルムの感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが１５０ｎｍ以下である、転写フィルム。
［２］ 下記式（１）を満たす、［１］に記載の転写フィルム。
Ｘ×Ｙ＜７５０ 式（１）
ここで、式（１）中、Ｘは、感光性樹脂層を硬化した硬化膜の１２０℃における破断伸びの値（％）を表し、Ｙは、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表す。
［３］ 下記式（２）を満たす、請求項１または２に記載の転写フィルム。
Ｙ ≦ Ｚ 式（２）
ここで、式（２）中、Ｙは、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表し、Ｚは、保護フィルムの感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表す。
［４］ 感光性樹脂層を硬化した硬化膜の膜厚４０μｍでの透湿度が５００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下である、［１］～［３］のいずれかに記載の転写フィルム。
［５］ 感光性樹脂層を硬化した硬化膜の２３℃での破断伸びに対し、１２０℃での破断伸びが２倍以上大きい、［１］～［４］のいずれかに記載の転写フィルム。
［６］ 感光性樹脂層が、バインダーポリマー、重合性モノマーおよび光重合開始剤を含有する、［１］～［５］のいずれかに記載の転写フィルム。
［７］ バインダーポリマーの酸価が３０～１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである、［６］に記載の転写フィルム。
［８］ 感光性樹脂層が、更に、酸基またはヒドロキシ基と反応可能な基を加熱により生起する化合物を含有する、［６］または［７］に記載の転写フィルム。
［９］ 感光性樹脂層が、更に、マイケル付加反応可能な化合物を含有する、［６］～［８］のいずれかに記載の転写フィルム。
［１０］ 感光性樹脂層と保護フィルムとの間に、更に、感光性樹脂層よりも屈折率の高い屈折率調整層を有する、［１］～［９］のいずれかに記載の転写フィルム。
［１１］ 電極保護膜形成用である、［１］～［１０］のいずれかに記載の転写フィルム。

［１２］ ［１］～［１１］のいずれかに記載の転写フィルムから保護フィルムを剥離する第１剥離工程と、
電極を有する基板上に、保護フィルムを剥離した転写フィルムを感光性樹脂層側から転写する転写工程と、
転写した感光性樹脂層の少なくとも一部を硬化し、硬化膜を形成する硬化工程と、
硬化工程後に仮支持体を剥離し、電極を有する基板上に硬化膜が積層された積層体を得る第２剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。

［１３］ ［１］～［１１］のいずれかに記載の転写フィルムから保護フィルムを剥離する第１剥離工程と、
基板上にタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板上に、保護フィルムを剥離した転写フィルムを感光性樹脂層側から転写する転写工程と、
転写した感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、
露光工程後に仮支持体を剥離する第２剥離工程と、
第２剥離工程後に、パターン露光された感光性樹脂層を現像することにより、タッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る現像工程と、を有するタッチパネルの製造方法。

本発明によれば、仮支持体および保護フィルムの剥離性に優れ、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性に優れる転写フィルム、積層体の製造方法およびタッチパネルの製造方法を提供することができる。

図１は、本発明の転写フィルムの一例を示す概略断面図である。 図２は、本発明の転写フィルムを用いて転写した感光性樹脂層を有するタッチパネルの第１具体例を示す概略断面図である。 図３は、本発明の転写フィルムを用いて転写した感光性樹脂層を有するタッチパネルの第２具体例を示す概略断面図である。 図４は、破断伸びの測定に用いたサンプルの模式図である。

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本開示において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値または下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値または下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値または下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本開示における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。
本開示において、「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基およびメタクリロイル基の両方を包含する概念である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、特段の断りが無い限り、分子量分布が有る化合物の分子量は、重量平均分子量である。
本開示において、特段の断りが無い限り、高分子の構成単位の比はモル比である。
本開示において、特段の断りが無い限り、屈折率はエリプソメーターで２５℃において測定した波長５５０ｎｍでの値である。
以下、本開示を詳細に説明する。

［転写フィルム］
本発明の転写フィルムは、仮支持体と、感光性樹脂層と、保護フィルムとをこの順に有する転写フィルムである。
また、本発明の転写フィルムにおいては、感光性樹脂層を硬化した硬化膜の１２０℃における破断伸びが１５％以上である。
また、本発明の転写フィルムにおいては、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが５０ｎｍ以下であり、保護フィルムの感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが１５０ｎｍ以下である。

本発明においては、上述した通り、感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが５０ｎｍ以下となる仮支持体と、硬化後の１２０℃における破断伸びが１５％以上となる感光性樹脂層と、感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが１５０ｎｍ以下となる保護フィルムとをこの順に有する転写フィルムが、仮支持体および保護フィルムの剥離性に優れ、かつ、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性も良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、本発明の転写フィルムが、硬化後の１２０℃における破断伸びが１５％以上となる感光性樹脂層を有することより、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜に靭性が生じ、その結果、打ち抜き加工性が良好になったと考えられる。
また、仮支持体および保護フィルムを剥離するタイミングと、転写後の感光性樹脂層を硬化するタイミングとを考慮した上で、仮支持体および保護フィルムにおける感光性樹脂層側の表面における算術平均粗さＲａが上述した範囲に調整することにより、良好な打ち抜き加工性を維持しながら剥離性を向上させることができたと考えられる。
以下に、本発明の転写フィルムが有する各層について詳細に説明する。

〔仮支持体〕
本発明の転写フィルムは、仮支持体を有する。
仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、または、加圧および加熱下において、著しい変形、収縮、または伸びを生じないフィルムを用いることができる。
このようなフィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、およびポリカーボネートフィルムが挙げられる。
これらの中でも、仮支持体としては、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、傷などがないことが好ましい。
仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという観点から、透明性が高いことが好ましく、３６５ｎｍの透過率は６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、および、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が特に好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、および、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる微粒子や異物や欠陥の数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子や異物や欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ^２以下であることが好ましく、１０個／１０ｍｍ^２以下であることがより好ましく、３個／１０ｍｍ^２以下であることが更に好ましく、０個／１０ｍｍ^２であることが特に好ましい。

本発明の転写フィルムが有する仮支持体は、感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが５０ｎｍ以下であり、１～２０ｎｍであることが好ましく、１～１２ｎｍであることがより好ましい。
ここで、算術平均粗さＲａは、光学式の表面性状測定器を用いて測定した、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に準拠する算術平均粗さである。

本発明においては、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａを上述した範囲に調整する観点から、仮支持体に粒子を含有させていてもよく、仮支持体に含まれる層構成として、感光性樹脂層側の表面を構成する粒子含有層を有していてもよい。
仮支持体（特に粒子含有層）に含有させる粒子としては、有機系の粒子であっても、無機系の粒子であってもよい。
有機系の粒子としては、具体的には、例えば、ポリイミド系樹脂、オレフィンもしくは変性オレフィン系樹脂、架橋ポリスチレン系樹脂、および、シリコーン樹脂などが挙げられる。
無機系の粒子としては、具体的には、例えば、酸化珪素、炭酸カルシウム、凝集アルミナ、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク、および、硫酸バリウムなどが挙げられる。
また、仮支持体に含有させる粒子の数や粒径を調整することにより、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａを上述した範囲に調整することができる。

仮支持体の厚さは、特に制限されないが、５μｍ～２００μｍであることが好ましく、取り扱いやすさおよび汎用性の観点から、１０μｍ～１５０μｍであることがより好ましく、１０～５０μｍであることが更に好ましい。
仮支持体の好ましい態様としては、例えば、特開２０１４－８５６４３号公報の段落００１７～段落００１８）、特開２０１６－２７３６３号公報の段落００１９～００２６、ＷＯ２０１２／０８１６８０Ａ１公報の段落００４１～００５７、ＷＯ２０１８／１７９３７０Ａ１公報の段落００２９～００４０に記載があり、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
仮支持体の好ましい市販品としては、ルミラー１６ＫＳ４０、ルミラー１６ＦＢ４０(以上、東レ株式会社製)、コスモシャインＡ４１００、コスモシャインＡ４３００、コスモシャインＡ８３００（以上、東洋紡株式会社製）を挙げることができる。

〔感光性樹脂層〕
本発明の転写フィルムは、感光性樹脂層を有する。
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層は、硬化した硬化膜の１２０℃における破断伸びが１５％以上となる感光性樹脂層である。言い換えると、硬化後の１２０℃における破断伸びが１５％以上となる特性を有する感光性樹脂層である。
ここで、硬化膜の１２０℃における破断伸びは、以下に示す方法で測定した値を採用する。
まず、感光性樹脂層形成用の材料（以下、「感光性樹脂組成物」とも略す。）の固形分濃度を適宜調整し、乾燥後の厚みが２０μｍになるように、セラピール（東レ社製）上に塗布し、乾燥させ、破断伸び評価用の塗布膜を形成する。
次いで、セラピール表面に形成された塗布膜を、超高圧水銀ランプで１２０ｍＪ／ｃｍ^２露光して硬化した後、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ^２でさらに追加露光し、１４５℃で３０分間加熱した後、３ｃｍ×５ｍｍの大きさに切断する。
その後、塗布膜をセラピールから剥離する。
得られた塗布膜を引っ張り試験機（テンシロンＲＴＧ－１２１０：エー・アンド・デイ社製）により、１２０℃の環境下、５０ｍｍ／分の速度で引っ張り試験を行う。引っ張り試験機には、図４に示すように、サンプル１の測定長さが２０ｍｍとなるようにチャック部２にセットする。なお、サンプル幅は５ｍｍである。
この引っ張り試験において、塗布膜が破断する点の伸び率を５回測定し、平均値を破断伸びとして算出する。

本発明においては、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性がより良好となる理由から、感光性樹脂層を硬化した硬化膜の２３℃での破断伸びに対し、１２０℃での破断伸びが２倍以上大きいことが好ましい。
ここで、硬化膜の２３℃での破断伸びは、引っ張り試験の環境を１２０℃から２３℃に変更した以外は、上述した方法と同様の方法で測定した値を採用する。

本発明においては、仮支持体および保護フィルムの剥離性と、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性とがより高いレベルで両立できる理由から、下記式（１）を満たしていることが好ましい。
Ｘ×Ｙ＜７５０ 式（１）
ここで、式（１）中、Ｘは、感光性樹脂層を硬化した硬化膜の１２０℃における破断伸びの値（％）を表し、Ｙは、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表す。
また、本発明においては、仮支持体および保護フィルムの剥離性と、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性とが更に高いレベルで両立できる理由から、Ｘ×Ｙの値は、４００未満がより好ましく、７０より大きいことが好ましい。

本発明においては、電極保護膜として用いた場合に防錆性に優れる理由から、感光性樹脂層を硬化した硬化膜の膜厚４０μｍでの透湿度が５００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下であることが好ましく、１０～４００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒであることがより好ましく、１０～３００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒであることが更に好ましい。
ここで、硬化膜の膜厚４０μｍでの透湿度は、以下の手順で測定した値を採用する。

＜透湿度測定用試料の作製＞
仮支持体としての厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、スリット状ノズルを用い、感光性樹脂組成物を塗布し、次いで乾燥させることにより、厚さ８μｍの感光性樹脂層を形成し、試料作製用転写フィルムを得る。
次に、試料作製用転写フィルムを、住友電工製ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン樹脂）メンブレンフィルターＦＰ－１００－１００上にラミネートし、仮支持体／厚さ８μｍの感光性樹脂層／メンブレンフィルターの層構造を有する積層体Ａを形成する。ラミネートの条件は、メンブレンフィルター温度４０℃、ラミロール温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分とする。
次に、積層体Ａから仮支持体を剥離する。
以上の操作を５回繰り返すことにより、合計膜厚４０μｍの感光性樹脂層／メンブレンフィルターの積層構造を有する積層体Ｂを形成する。
得られた積層体Ｂの感光性樹脂層を、ｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２にて露光した後、１４５℃、３０分間のポストベークを行うことにより、感光性樹脂層を硬化させて硬化膜を形成する。
以上により、合計膜厚４０μｍの硬化膜／メンブレンフィルターの積層構造を有する透湿度測定用試料を得る。

＜透湿度の測定＞
透湿度測定用試料を用い、ＪＩＳ－Ｚ－０２０８（１９７６）を参考にして、カップ法による透湿度測定を実施する。
まず、透湿度測定用試料から直径７０ｍｍの円形試料を切り出す。
次に、測定カップ内に乾燥させた２０ｇの塩化カルシウムを入れ、次いで上記円形試料によって蓋をすることにより、蓋付き測定カップを準備する。
この蓋付き測定カップを、恒温恒湿槽内にて６５℃、９０％相対湿度（ＲＨ）の条件で２４時間放置する。
放置前後での蓋付き測定カップの質量変化から、円形試料の水蒸気透過度（単位：ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ）を算出する。
上記測定を３回実施し、水蒸気透過度の平均値を透湿度として算出する。

本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層は、バインダーポリマー、重合性モノマーおよび光重合開始剤を含有していることが好ましく、バインダーポリマー、重合性モノマーおよび光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて形成されることがより好ましい。

＜バインダーポリマー＞
バインダーポリマーは、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
バインダーポリマーは、例えば、現像性の観点から、酸価が３０～１６０ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーであることが好ましく、酸価が３０～１６０ｍｇＫＯＨ／ｇのアルカリ可溶性樹脂であることがより好ましい。
なお、本開示において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液への溶解度が０．１質量％以上であることを意味する。
また、バインダーポリマーの酸価は、ＪＩＳ Ｋ００７０：１９９２に記載の方法に従って、測定される値である。
また、バインダーポリマーは、例えば、加熱により架橋成分と熱架橋し、強固な膜を形成しやすいという観点から、酸価が３０～１６０ｍｇＫＯＨ／ｇのカルボキシ基を有する樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有樹脂）であることが更に好ましく、酸価が３０～１６０ｍｇＫＯＨ／ｇのカルボキシ基を有するアクリル樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有アクリル樹脂）であることが特に好ましい。
なお、本開示において、アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル化合物由来の構成単位を有する樹脂を指し、上記構成単位の含有量が、樹脂の全質量に対し、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましい。

バインダーポリマーは、得られる硬化膜の透湿度および曲げ耐性、並びに、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、アクリル樹脂、または、スチレン－アクリル共重合体であることが好ましく、スチレン－アクリル共重合体であることがより好ましい。
なお、本開示において、スチレン－アクリル共重合体とは、スチレン化合物由来の構成単位と、（メタ）アクリル化合物由来の構成単位とを有する樹脂を指し、上記スチレン化合物由来の構成単位、上記（メタ）アクリル化合物由来の構成単位の合計含有量が、上記共重合体の全質量に対し、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましい。
また、スチレン化合物由来の構成単位の含有量は、上記共重合体の全質量に対し、１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上８０質量％以下であることが特に好ましい。
また、上記（メタ）アクリル化合物由来の構成単位の含有量は、上記共重合体の全質量に対し、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上９５質量％以下であることが特に好ましい。
更に、上記（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド化合物、（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。中でも、（メタ）アクリレート化合物、および、（メタ）アクリル酸よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が好ましい。

－芳香環を有する構成単位－
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、芳香環を有する構成単位を有することが好ましい。
芳香環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、メチルスチレン、α－メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
中でも、スチレン化合物が好ましく、スチレンが特に好ましい。
また、バインダーポリマーは、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、下記式（Ｓ）で表される構成単位（スチレン由来の構成単位）を有することがより好ましい。

バインダーポリマーが芳香環を有する構成単位を含む場合、芳香環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、２０質量％～５０質量％であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける芳香環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、５モル％～７０モル％であることが好ましく、１０モル％～６０モル％であることがより好ましく、２０モル％～５０モル％であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、５モル％～７０モル％であることが好ましく、１０モル％～６０モル％であることがより好ましく、２０モル％～５０モル％であることが特に好ましい。
なお、本開示において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、上記「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において、上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。

－脂肪族炭化水素環を有する構成単位－
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、脂肪族炭化水素環を有する構成単位を有することが好ましい。
脂肪族炭化水素環を有する構成単位における脂肪族炭化水素環としては、トリシクロデカン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、ノルボルナン環、イソボロン環等が挙げられる。
これらの中でも、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環であることが好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環（トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン環）であることが特に好ましい。
脂肪族炭化水素環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、バインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することがより好ましく、上記式（Ｓ）で表される構成単位、および、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することが特に好ましい。

式（Ｃｙ）中、Ｒ^Ｍは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^Ｃｙは脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基を表す。

式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｍは、メチル基であることが好ましい。
式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、炭素数５～２０の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが好ましく、炭素数６～１６の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることがより好ましく、炭素数８～１４の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが特に好ましい。
また、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、シクロペンタン環構造、シクロヘキサン環構造、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造、ノルボルナン環構造、または、イソボロン環構造であることが好ましく、シクロヘキサン環構造、または、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることがより好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることが特に好ましい。
更に、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造であることが好ましく、２環以上４環以下の脂肪族炭化水素環が縮環した環であることがより好ましい。
更にまた、式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、式（Ｃｙ）における－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－の酸素原子と脂肪族炭化水素環構造とが直接結合する基、すなわち、脂肪族炭化水素環基であることが好ましく、シクロヘキシル基、または、ジシクロペンタニル基であることがより好ましく、ジシクロペンタニル基であることが特に好ましい。

バインダーポリマーは、脂肪族炭化水素環を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
バインダーポリマーが脂肪族炭化水素環を有する構成単位を含む場合、脂肪族炭化水素環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、１０質量％～８０質量％であることがより好ましく、２０質量％～７０質量％であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける脂肪族炭化水素環を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、５モル％～７０モル％であることが好ましく、１０モル％～６０モル％であることがより好ましく、２０モル％～５０モル％であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の含有量は、得られる硬化膜の透湿度および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、５モル％～７０モル％であることが好ましく、１０モル％～６０モル％であることがより好ましく、２０モル％～５０モル％であることが特に好ましい。

バインダーポリマーが芳香環を有する構成単位および脂肪族炭化水素環を有する構成単位を含む場合、芳香環を有する構成単位および脂肪族炭化水素環を有する構成単位の総含有量は、得られる硬化膜の透湿度、曲げ耐性および強度の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、１０質量％～９０質量％であることが好ましく、２０質量％～８０質量％であることがより好ましく、４０質量％～７５質量％であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける芳香環を有する構成単位および脂肪族炭化水素環を有する構成単位の総含有量は、得られる硬化膜の透湿度、曲げ耐性および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、１０モル％～８０モル％であることが好ましく、２０モル％～７０モル％であることがより好ましく、４０モル％～６０モル％であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位および上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の総含有量は、得られる硬化膜の透湿度、曲げ耐性および強度の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、１０モル％～８０モル％であることが好ましく、２０モル％～７０モル％であることがより好ましく、４０モル％～６０モル％であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位のモル量ｎＳと上記式（Ｃｙ）で表される構成単位のモル量ｎＣｙは、得られる硬化膜の透湿度、曲げ耐性および強度の観点から、下記式（ＳＣｙ）に示す関係を満たすことが好ましく、下記式（ＳＣｙ－１）を満たすことがより好ましく、下記式（ＳＣｙ－２）を満たすことが特に好ましい。
０．２≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．８ 式（ＳＣｙ）
０．３０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７５ 式（ＳＣｙ－１）
０．４０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７０ 式（ＳＣｙ－２）

－酸基を有する構成単位－
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。
上記酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基等が挙げられるが、カルボキシ基が好ましい。
上記酸基を有する構成単位としては、下記に示す、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が好ましく挙げられ、メタクリル酸由来の構成単位がより好ましく挙げられる。

バインダーポリマーは、酸基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
バインダーポリマーが酸基を有する構成単位を含む場合、酸基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～４０質量％であることがより好ましく、１０質量％～３０質量％であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける酸基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、５モル％～７０モル％であることが好ましく、１０モル％～５０モル％であることがより好ましく、２０モル％～４０モル％であることが特に好ましい。
更に、バインダーポリマーにおける（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、現像性の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、５モル％～７０モル％であることが好ましく、１０モル％～５０モル％であることがより好ましく、２０モル％～４０モル％であることが特に好ましい。

－反応性基を有する構成単位－
バインダーポリマーは、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、反応性基を有していることが好ましく、反応性基を有する構成単位を有することがより好ましい。
反応性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。また、バインダーポリマーがエチレン性不飽和基を有している場合、バインダーポリマーは、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましい。
本開示において、「主鎖」とは、樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。
反応性基を有する構成単位の一例としては、下記に示すものが挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。

バインダーポリマーは、反応性基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
バインダーポリマーが反応性基を有する構成単位を含む場合、反応性基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、バインダーポリマーの全質量に対し、５質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～５０質量％であることがより好ましく、２０質量％～４０質量％であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーにおける反応性基を有する構成単位の含有量は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、バインダーポリマーの全量に対し、５モル％～７０モル％であることが好ましく、１０モル％～６０モル％であることがより好ましく、２０モル％～５０モル％であることが特に好ましい。

反応性基をバインダーポリマーに導入する手段としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホ基等に、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物等を反応させる方法が挙げられる。
反応性基をバインダーポリマーに導入する手段の好ましい例としては、カルボキシ基を有するポリマーを重合反応により合成した後、高分子反応により、得られたポリマーのカルボキシ基の一部にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させて、（メタ）アクリロキシ基をポリマーに導入する手段が挙げられる。この手段により、側鎖に（メタ）アクリロキシ基を有するバインダーポリマーを得ることができる。
上記重合反応は、７０℃～１００℃の温度条件で行うことが好ましく、８０℃～９０℃の温度条件で行うことがより好ましい。上記重合反応に用いる重合開始剤としては、アゾ系開始剤が好ましく、例えば、富士フイルム和光純薬（株）製のＶ－６０１（商品名）またはＶ－６５（商品名）がより好ましい。上記高分子反応は、８０℃～１１０℃の温度条件で行うことが好ましい。上記高分子反応においては、アンモニウム塩等の触媒を用いることが好ましい。
バインダーポリマーの各構成単位の残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、バインダーポリマー全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
バインダーポリマーの各構成単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性組成物層全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
高分子反応でバインダーポリマーを合成する際のモノマーの残存モノマー量も上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてバインダーポリマーを合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
残存モノマーの量は液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィーなどの公知の方法で測定することができる。

バインダーポリマーとしては、以下に示すポリマーが好ましく挙げられる。なお、以下に示す各構成単位の含有比率（ａ～ｄ）および重量平均分子量Ｍｗ等は目的に応じて適宜変更することができる。

バインダーポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、５，０００以上であることが好ましく、１０，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～５０，０００であることが更に好ましく、２０，０００～３０，０００であることが特に好ましい。

感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、バインダーポリマーを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
バインダーポリマーの含有量は、例えば、硬化膜の強度、および、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分に対し、１０質量％～９０質量％であることが好ましく、２０質量％～８０質量％であることがより好ましく、３０質量％～７０質量％であることが更に好ましい。

＜重合性モノマー＞
重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（以下、単に「エチレン性不飽和化合物」とも略す。）であることが好ましい。
エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物は、感光性樹脂層の感光性（すなわち、光硬化性）および硬化膜の強度に寄与する成分である。
また、エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。

感光性樹脂層は、エチレン性不飽和化合物として、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
ここで、２官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。

感光性樹脂層は、硬化後の硬化性の観点から、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）と、を含有することが特に好ましい。

２官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
２官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
２官能のエチレン性不飽和化合物としては、より具体的には、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物、等が挙げられる。

ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、およびヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレートおよびテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。

エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社製 ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）等も挙げられる。

エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物）も挙げられる。官能基数の上限は例えば２０官能以下とすることができる。

３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）、共栄社化学（株）製のＡＨ－６００（商品名）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＸ－５０００（日本化薬（株）製）等が挙げられる。

また、エチレン性不飽和化合物は、現像性向上の観点から、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
酸基としては、例えば、リン酸基、スルホン酸基、および、カルボキシ基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、例えば、酸基を有する３～４官能のエチレン性不飽和化合物（ペンタエリスリトールトリおよびテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝８０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、酸基を有する５～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝２５～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、等が挙げられる。これら酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。

酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物およびそのカルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。これにより現像性、および、硬化膜の強度が高まる。
カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ－５２０（東亞合成（株）製）、または、アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製）を好ましく用いることができる。

酸基を有するエチレン性不飽和化合物は、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～００３０に記載の酸基を有する重合性化合物であることも好ましい。この公報の内容は本明細書に組み込まれる。

本発明においては、エチレン性不飽和化合物が、下記式（Ｉ）で表される化合物Ａ（単に、「化合物Ａ」ともいう。）であることが好ましい。
Ｑ^２－Ｒ^１－Ｑ^１ 式（Ｉ）
式（Ｉ）中、Ｑ^１およびＱ^２はそれぞれ独立に、（メタ）アクリロイルオキシ基を表し、Ｒ^１は鎖状構造を有する二価の連結基を表す。

式（Ｉ）におけるＱ^１およびＱ^２は、合成容易性の観点から、Ｑ^１およびＱ^２は同じ基であることが好ましい。
また、式（Ｉ）におけるＱ^１およびＱ^２は、反応性の観点から、アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
式（Ｉ）におけるＲ^１は、得られる硬化膜の曲げ耐性の観点から、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基（－Ｌ^１－Ｏ－Ｌ^１－）、または、ポリアルキレンオキシアルキレン基（－（Ｌ^１－Ｏ）_ｐ－Ｌ^１－）であることが好ましく、炭素数２～２０の炭化水素基、または、ポリアルキレンオキシアルキレン基であることがより好ましく、炭素数４～２０のアルキレン基であることが更に好ましく、炭素数６～１８の直鎖アルキレン基であることが特に好ましい。上記炭化水素基は、少なくとも一部に鎖状構造を有していればよく、例えば、直鎖状、分岐鎖状、環状、および、それらの組み合わせのいずれであってもよく、得られる硬化膜の曲げ耐性の観点から、アルキレン基、または、２以上のアルキレン基と１以上のアリーレン基とを組み合わせた基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましく、直鎖アルキレン基であることが特に好ましい。
なお、上記Ｌ^１はそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、エチレン基、プロピレン基、または、ブチレン基であることが好ましく、エチレン基、または、１，２－プロピレン基であることがより好ましい。ｐは２以上の整数を表し、２～１０の整数であることが好ましい。

また、化合物ＡにおけるＱ^１とＱ^２との間を連結する最短の連結鎖の原子数は、得られる硬化膜の透湿度および曲げ耐性の観点から、３個～５０個であることが好ましく、４個～４０個であることがより好ましく、６個～２０個であることが更に好ましく、８個～１２個であることが特に好ましい。
本開示において、「Ｑ^１とＱ^２の間を連結する最短の連結鎖の原子数」とは、Ｑ^１に連結するＲ^１における原子からＱ^２に連結するＲ^１における原子までを連結する最短の原子数である。

化合物Ａの具体例としては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７－ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。上記エステルモノマーは混合物としても使用できる。
上記化合物の中でも、得られる硬化膜の曲げ耐性の観点から、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、および、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましく、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、および、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることがより好ましく、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、および、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが特に好ましい。

エチレン性不飽和化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
また、感光性樹脂層に用いられるエチレン性不飽和化合物のうち、分子量３００以下のエチレン性不飽和化合物の含有量の割合は、感光性樹脂層に含有されるすべてのエチレン性不飽和化合物に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。

エチレン性不飽和化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
感光性樹脂層におけるエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、１質量％～７０質量％が好ましく、５質量％～７０質量％がより好ましく、１０質量％～７０質量％が更に好ましく、２０質量％～６０質量％が特に好ましく、２０質量％～５０質量％が最も好ましい。

また、感光性樹脂層が２官能のエチレン性不飽和化合物と３官能以上のエチレン性不飽和化合物とを含有する場合、２官能のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性樹脂層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、１０質量％～９０質量％が好ましく、２０質量％～８５質量％がより好ましく、３０質量％～８０質量％が更に好ましい。
また、この場合、３官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性樹脂層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物に対し、１０質量％～９０質量％が好ましく、１５質量％～８０質量％がより好ましく、２０質量％～７０質量％が更に好ましい。
また、この場合、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、２官能のエチレン性不飽和化合物と３官能以上のエチレン性不飽和化合物との総含有量に対し、４０質量％以上１００質量％未満であることが好ましく、４０質量％～９０質量％であることがより好ましく、５０質量％～８０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～７０質量％であることが特に好ましい。

また、感光性樹脂層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、感光性樹脂層は、更に単官能エチレン性不飽和化合物を含有してもよい。
更に、感光性樹脂層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、感光性樹脂層に含有されるエチレン性不飽和化合物において、２官能以上のエチレン性不飽和化合物が主成分であることが好ましい。
具体的には、感光性樹脂層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有する場合において、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性樹脂層に含有されるエチレン性不飽和化合物の総含有量に対し、６０質量％～１００質量％が好ましく、８０質量％～１００質量％がより好ましく、９０質量％～１００質量％が特に好ましい。

また、感光性樹脂層が、酸基を有するエチレン性不飽和化合物（好ましくは、カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物またはそのカルボン酸無水物）を含有する場合、酸基を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性樹脂層に対し、１質量％～５０質量％が好ましく、１質量％～２０質量％がより好ましく、１質量％～１０質量％が更に好ましい。

＜光重合開始剤＞
光重合開始剤としては特に制限はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）等が挙げられる。

光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、およびＮ－フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、およびＮ－フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。

また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～００４２、および、特開２０１５－０１４７８３号公報の段落００６４～００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。

光重合開始剤の市販品としては、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製〕、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製〕、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製〕、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ９０７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） １２７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ３６９、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） １１７３、ＢＡＳＦ社製〕、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） １８４、ＢＡＳＦ社製〕、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１、ＢＡＳＦ社製〕等、オキシムエステル系の〔商品名：Ｌｕｎａｒ（登録商標） ６、ＤＫＳＨジャパン（株）製〕、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）などが挙げられる。

感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
光重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、０．１質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましく、１．０質量％以上であることが更に好ましい。
また、光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましい。

本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性がより良好となる理由から、酸基またはヒドロキシ基と反応可能な基を加熱により生起する化合物（以下、「熱架橋性化合物」とも略す。）を含有していることが好ましい。
熱架橋性化合物としては、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メチロール化合物、ブロックイソシアネート化合物等が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の強度、および、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、以下にも示すブロックイソシアネート化合物が好ましい。

＜ブロックイソシアネート化合物＞
ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。
ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、特に制限されないが、１００℃～１６０℃であることが好ましく、１３０℃～１５０℃であることがより好ましい。
ここで、ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ（株）製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に用いることができる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。

解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔（マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等）など〕、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）などが挙げられる。
これらの中でも、解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の観点から、オキシム化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の観点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすいという観点から好ましい。

ブロックイソシアネート化合物は、例えば、硬化膜の強度の観点から、重合性基を有することが好ましく、ラジカル重合性基を有することがより好ましい。
重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができる。
重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基等のエチレン性不飽和基、グリシジル基等のエポキシ基を有する基などが挙げられる。
これらの中でも、重合性基としては、得られる硬化膜における表面の面状、現像速度および反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いることができる。
ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ（登録商標） ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工（株）製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標） ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、旭化成ケミカルズ（株）製）などが挙げられる。

感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、熱架橋性化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～３０質量％であることがより好ましい。

本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性がより良好となる理由から、マイケル付加反応可能な化合物を含有していることが好ましく、具体的には、以下にも示すチオール化合物を含有していることがより好ましい。

＜チオール化合物＞
チオール化合物としては、単官能チオール化合物、または、多官能チオール化合物が好適に用いられる。中でも、硬化後の硬度の観点から、２官能以上のチオール化合物（多官能チオール化合物）を含むことが好ましく、多官能チオール化合物であることがより好ましい。
ここで、多官能チオール化合物とは、メルカプト基（チオール基）を分子内に２個以上有する化合物を意味する。
多官能チオール化合物としては、分子量１００以上の低分子化合物が好ましく、具体的には、分子量１００～１，５００であることがより好ましく、１５０～１，０００が更に好ましい。
多官能チオール化合物の官能基数としては、硬化後の硬度の観点から、２官能～１０官能が好ましく、２官能～８官能がより好ましく、２官能～６官能が更に好ましい。
また、多官能チオール化合物としては、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性および硬度の観点から、脂肪族多官能チオール化合物であることが好ましい。
更に、チオール化合物としては、感光性転写材料の保存安定性の観点から、第二級チオール化合物がより好ましい。

多官能チオール化合物として具体的には、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，２－ベンゼンジチオール、１，３－ベンゼンジチオール、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，６－ヘキサメチレンジチオール、２，２’－（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ－２，３－ジメルカプトコハク酸、ｐ－キシレンジチオール、ｍ－キシレンジチオール、ジ（メルカプトエチル）エーテル等を例示することができる。

これらの中でも、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、および、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）が好ましく挙げられる。

単官能チオール化合物としては、脂肪族チオール化合物、および、芳香族チオール化合物のどちらも用いることができる。
単官能脂肪族チオール化合物としては、具体的には、１－オクタンチオール、１－ドデカンチオール、β－メルカプトプロピオン酸、メチル－３－メルカプトプロピオネート、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート、メトキシブチル－３－メルカプトプロピオネート、ステアリル－３－メルカプトプロピオネート等が挙げられる。
単官能芳香族チオール化合物としては、ベンゼンチオール、トルエンチオール、キシレンチオール等が挙げられる。

上記チオール化合物は、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性および硬度の観点から、エステル結合を有するチオール化合物であることが好ましく、下記式１で表される化合物を含むことがより好ましい。

式１中、ｎは１～６の整数を表し、Ａは炭素数１～１５のｎ価の有機基、または、下記式２で表される基を表し、Ｒ １ はそれぞれ独立に、炭素数１～１５の二価の有機基を表す。

式２中、Ｒ^２～Ｒ^４はそれぞれ独立に、炭素数１～１５の二価の有機基を表し、波線部分は、上記式１におけるＡに隣接する酸素原子との結合位置を表す。ただし、Ａが下記式２で表される基を表す場合、ｎは３を表す。

式１におけるｎは、硬化後の硬度の観点から、２～６の整数であることが好ましい。
式１におけるＡは、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性および硬度の観点から、炭素数１～１５のｎ価の脂肪族基、または、上記式２で表される基であることが好ましく、炭素数４～１５のｎ価の脂肪族基、または、上記式２で表される基であることがより好ましく、炭素数４～１０のｎ価の脂肪族基、または、上記式２で表される基であることが更に好ましく、上記式２で表される基であることが特に好ましい。
また、式１におけるＡは、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性、硬度および透湿性の観点から、水素原子および炭素原子からなるｎ価の基、または、水素原子、炭素原子および酸素原子からなるｎ価の基であることが好ましく、水素原子および炭素原子からなるｎ価の基であることがより好ましく、ｎ価の脂肪族炭化水素基であることが特に好ましい。
式１におけるＲ^１はそれぞれ独立に、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性および硬度の観点から、炭素数１～１５のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～４のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数３のアルキレン基であることが更に好ましく、１，２－プロピレン基であることが特に好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状であっても、分岐を有していてもよい。

式２におけるＲ^２～Ｒ^４はそれぞれ独立に、タック性、並びに、硬化後の曲げ耐性および硬度の観点から、炭素数２～１５の脂肪族基であることが好ましく、炭素数２～１５のアルキレン基、または、炭素数３～１５のポリアルキレンオキシアルキル基であることがより好ましく、炭素数２～１５のアルキレン基であることが更に好ましく、エチレン基であることが特に好ましい。

また、多官能チオール化合物としては、下記式Ｓ－１で表される基を２個以上有する化合物が好ましい。

式Ｓ－１中、Ｒ^１Ｓは水素原子またはアルキル基を表し、Ａ^１Ｓは－ＣＯ－またはＣＨ_２－を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。

多官能チオール化合物としては、式Ｓ－１で表される基を２以上６以下有する化合物が好ましい。
式Ｓ－１中のＲ^１Ｓにおけるアルキル基としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基であり、炭素数の範囲としては１～１６が好ましく、１～１０がより好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、へキシル基、２－エチルへキシル基等であり、メチル基、エチル基、プロピル基またはイソプロピル基が好ましい。
Ｒ^１Ｓとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、または、イソプロピル基が特に好ましく、メチル基またはエチル基が最も好ましい。

更に、多官能チオール化合物としては、上記式Ｓ－１で表される基を複数個有する下記式Ｓ－２で表される化合物であることが特に好ましい。

式Ｓ－２中、Ｒ^１Ｓはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ａ^１Ｓはそれぞれ独立に、－ＣＯ－またはＣＨ_２－を表し、Ｌ^１ＳはｎＳ価の連結基を表し、ｎＳは２～８の整数を表す。合成上の観点からは、Ｒ^１Ｓは全て同じ基であることが好ましく、また、Ａ^１Ｓは全て同じ基であることが好ましい。

式Ｓ－２中のＲ^１Ｓは、上記式Ｓ－１中のＲ^１Ｓと同義であり、好ましい範囲も同様である。ｎＳは２～６の整数が好ましい。
式Ｓ－２中のｎＳ価の連結基であるＬ^１Ｓとしては、例えば－（ＣＨ_２）ｍＳ－（ｍＳは２～６の整数を表す。）、－（ＣＨ_２）ｍＳ｛（ＣＨ_２）ｍＳＯ｝ｍＴ（ＣＨ_２）ｍＳ－（ｍＳおよびｍＴはそれぞれ独立に２～６の整数を表す。）などの二価の連結基、トリメチロールプロパン残基、－（ＣＨ_２）ｐＳ－（ｐＳは２～６の整数を表す。）を３個有するイソシアヌル環などの三価の連結基、ペンタエリスリトール残基などの四価の連結基、ジペンタエリスリトール残基などの五価または六価の連結基が挙げられる。

チオール化合物として具体的には、以下の化合物が好ましく挙げられるが、これらに限定されないことは、言うまでもない。

＜複素環化合物＞
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、複素環化合物を含有することが好ましい。
複素環化合物は、基材（特に、銅基板）に対する密着性、および金属（特に、銅）の腐食抑制性の向上に寄与する。
複素環化合物が有する複素環は、単環および多環のいずれの複素環でもよい。
複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子よりなる群から選ばれる少なくとも１種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。

複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、または、ピリミジン化合物が好ましく挙げられる。上記の中でも、複素環化合物は、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物およびベンゾオキサゾール化合物よりなる群から選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物およびベンゾオキサゾール化合物よりなる群から選択される少なくとも１種の化合物であることがより好ましい。

複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。トリアゾール化合物、およびベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、複素環化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
複素環化合物を含有する場合、複素環化合物の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．１質量％～１０質量％であることがより好ましく、０．３質量％～８質量％であることがさらに好ましく、０．５質量％～５質量％であることが特に好ましい。複素環化合物の含有量が上記範囲内であることで、基材（特に、銅基板）に対する密着性、および金属（特に、銅）の腐食抑制性を向上できる。

＜界面活性剤＞
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、特に制限されず、公知の界面活性剤を用いることができる。
界面活性剤としては、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７および特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤が挙げられる。

界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤またはケイ素系界面活性剤が好ましい。
フッ素系界面活性剤の市販品の例としては、メガファック（登録商標）Ｆ５５１Ａ（ＤＩＣ（株）製）が挙げられる。
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラード ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント ７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファック ＤＳ－２１が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。メガファック ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック ３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース ２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。

ケイ素系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
ケイ素系界面活性剤の市販品の例としては、ＤＯＷＳＩＬ ８０３２ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。ＤＯＷＳＩＬ（登録商標）８０３２（ダウ・東レ（株）製）が挙げられる。
感光性樹脂層に、後述する保護フィルムを圧着及び剥離し易い点でケイ素系界面活性剤は好ましい。

感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、０．０１質量％～３質量％であることが好ましく、０．０５質量％～１質量％であることがより好ましく、０．１質量％～０．８質量％であることが更に好ましい。

＜水素供与性化合物＞
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、水素供与性化合物を含むことが好ましい。
ここで、水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
水素供与性化合物としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－２０１８９号公報、特開昭５１－８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－８４３０５号公報、特開昭６２－１８５３７号公報、特開昭６４－３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ ３３８２５号等に記載の化合物等が挙げられる。
水素供与性化合物の具体例としては、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、ｐ－メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。

また、水素供与性化合物としては、アミノ酸化合物（Ｎ－フェニルグリシン等）、特公昭４８－４２９６５号公報に記載の有機金属化合物（トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－３４４１４号公報に記載の水素供与体、特開平６－３０８７２７号公報に記載のイオウ化合物（トリチアン等）等も挙げられる。

感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、水素供与性化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、例えば、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の観点から、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、０．０１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０３質量％～５質量％であることがより好ましく、０．０５質量％～３質量％であることが更に好ましい。

＜溶剤＞
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、溶剤を含むことが好ましい。
感光性樹脂組成物が溶剤を含むと、塗布による感光性樹脂層の形成がより容易となる傾向がある。

溶剤としては、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。
溶剤としては、有機溶剤が好ましい。
有機溶剤としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１－メトキシ－２－プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ－プロパノール、２－プロパノール等が挙げられる。
溶剤としては、メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、または、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。

溶剤としては、米国特許出願公開第２００５／２８２０７３号明細書の段落００５４および００５５に記載のＳｏｌｖｅｎｔを用いることもでき、この明細書の内容は、本開示に組み込まれる。
また、溶剤としては、必要に応じ、沸点が１８０℃～２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を用いることもできる。

感光性樹脂組成物は、溶剤を含む場合、溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
溶剤を含む場合、感光性樹脂組成物の固形分量は、感光性樹脂組成物の全質量に対し、５質量％～８０質量％であることが好ましく、５質量％～４０質量％であることがより好ましく、５質量％～３０質量％であることが特に好ましい。

感光性樹脂組成物が溶剤を含む場合、感光性樹脂組成物の２５℃における粘度は、例えば、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２ｍＰａ・ｓ～４０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、３ｍＰａ・ｓ～３０ｍＰａ・ｓであることが更に好ましい。
粘度は、粘度計を用いて測定される。粘度計としては、例えば、東機産業（株）製の粘度計（商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ－２２）を好適に用いることができる。但し、粘度計は、これに限定されない。

感光性樹脂組成物が溶剤を含む場合、感光性樹脂組成物の２５℃における表面張力は、例えば、塗布性の観点から、５ｍＮ／ｍ～１００ｍＮ／ｍであることが好ましく、１０ｍＮ／ｍ～８０ｍＮ／ｍであることがより好ましく、１５ｍＮ／ｍ～４０ｍＮ／ｍであることが更に好ましい。
表面張力は、表面張力計を用いて測定される。表面張力計としては、例えば、協和界面科学（株）製の表面張力計（商品名：Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ ＣＢＶＰ－Ｚを好適に用いることができる。但し、表面張力計は、これに限定されない。

＜その他の成分＞
本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層または感光性樹脂層を形成する感光性樹脂組成物は、既述の成分以外の成分（いわゆる、その他の成分）を含んでいてもよい。
その他の成分としては、粒子（例えば、金属酸化物粒子）、着色剤等が挙げられる。
また、その他の成分としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載のその他の添加剤等も挙げられる。

－粒子－
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、屈折率、光透過性等の調節を目的として、粒子（例えば、金属酸化物粒子；以下、同じ。）を含んでいてもよい。
金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれる。

粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の観点から、１ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましく、３ｎｍ～８０ｎｍであることがより好ましい。
粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、粒子を含む場合、金属種、大きさ等の異なる粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し０質量％を超えて３５質量％以下であることが好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し０質量％を超えて１０質量％以下であることがより好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し０質量％を超えて５質量％以下であることが更に好ましく、粒子を含まないか、或いは、粒子の含有量が感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し０質量％を超えて１質量％以下であることが更に好ましく、粒子を含まないことが特に好ましい。

－着色剤－
感光性樹脂層または感光性樹脂組成物は、微量の着色剤（顔料、染料等）を含んでいてもよいが、例えば、透明性の観点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性樹脂層または感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。

感光性樹脂層の厚さは、特に制限されないが、２０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以下であることがより好ましく、１２μｍ以下であることが更に好ましい。
感光性樹脂層の厚さが、２０μｍ以下であると、転写フィルム全体の薄膜化、感光性樹脂層または得られる硬化膜の透過率向上、感光性樹脂層または得られる硬化膜の黄着色化抑制等の面で有利である。
感光性樹脂層の厚さは、例えば、製造適性の観点から、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがより好ましく、３μｍ以上であることが特に好ましい。
感光性樹脂層の厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

感光性樹脂層の屈折率は、特に制限されないが、１．４７～１．５６であることが好ましく、１．５０～１．５３であることがより好ましく、１．５０～１．５２であることが更に好ましく、１．５１～１．５２であることが特に好ましい。

感光性樹脂層は無彩色であることが好ましい。具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、Ｌ^＊値は１０～９０であることが好ましく、ａ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、ｂ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。

感光性樹脂層の形成方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
感光性樹脂層の形成方法の一例として、仮支持体上に、溶剤を含む態様の感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させることにより感光性樹脂層を形成する方法が挙げられる。
塗布の方法としては、公知の方法を用いることができる。
塗布の方法としては、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ダイコート法（すなわち、スリットコート法）等が挙げられる。
これらの中でも、塗布の方法としては、ダイコート法が好ましい。
乾燥の方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等の公知の方法を用いることができ、これらの方法を単独でまたは複数組み合わせて適用することができる。
本開示において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。

〔保護フィルム〕
本発明の転写フィルムは、保護フィルムを有する。
保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
保護フィルムとしては、例えば、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００８３～００８７および００９３に記載のフィルムを用いてもよい。

本発明の転写フィルムが有する保護フィルムは、感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが１５０ｎｍ以下であり、１～８０ｎｍであることが好ましく、１～３０ｎｍであることがより好ましい。

本発明においては、保護フィルムの感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａを上述した範囲に調整する観点から、保護フィルムに粒子を含有させていてもよく、仮支持体に含まれる層構成として、感光性樹脂層側の表面を構成する粒子含有層を有していてもよい。
保護フィルム（特に粒子含有層）に含有させる粒子としては、仮支持体に含有させる粒子として例示したものと同様のものが挙げられる。

本発明においては、仮支持体および保護フィルムの剥離性と、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性とがより高いレベルで両立できる理由から、下記式（２）を満たしていることが好ましい。
Ｙ ≦ Ｚ 式（２）
ここで、式（２）中、Ｙは、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表し、Ｚは、保護フィルムの感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表す。

〔屈折率調整層〕
本発明の転写フィルムは、感光性樹脂層と保護フィルムとの間に、更に、感光性樹脂層よりも屈折率の高い屈折率調整層を有していてもよい。

屈折率調整層の屈折率は、１．５０以上であることが好ましく、１．５５以上であることがより好ましく、１．６０以上であることが更に好ましく、１．７０以上であることが特に好ましい。
屈折率調整層の屈折率の上限は、特に制限されないが、２．１０以下であることが好ましく、１．８５以下であることがより好ましく、１．７８以下であることが更に好ましく、１．７４以下であることが特に好ましい。

屈折率調整層は、光硬化性（すなわち、感光性）を有してもよいし、熱硬化性を有していてもよいし、光硬化性および熱硬化性の両方を有してもよいが、強度に優れた硬化膜を形成するという観点からは、光硬化性を有することが好ましい。
屈折率調整層は、アルカリ可溶性（例えば、弱アルカリ水溶液に対する溶解性）を有することが好ましい。

屈折率調整層の厚さとしては、特に制限はない。
屈折率調整層の厚さは、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、５５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であることがより好ましく、６０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
屈折率調整層の厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

屈折率調整層の屈折率を制御する方法は、特に制限されず、例えば、所定の屈折率の樹脂を単独で用いる方法、樹脂と金属酸化物粒子または金属粒子とを用いる方法、金属塩と樹脂との複合体を用いる方法等が挙げられる。
金属酸化物粒子の種類としては、特に制限はなく、公知の金属酸化物粒子を用いることができる。
金属酸化物粒子としては、具体的には、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、Ｎｂ_２Ｏ_５粒子、酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）、および二酸化珪素粒子（ＳｉＯ_２粒子）よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
これらの中でも、金属酸化物粒子としては、例えば、屈折率調整層の屈折率を１．６以上に調整しやすいという観点から、酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子よりなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の観点から、１ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましく、３ｎｍ～８０ｎｍであることがより好ましい。
粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

屈折率調整層が金属酸化物粒子を含む場合、屈折率調整層は、金属酸化物粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
金属酸化物粒子の市販品としては、
焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ０４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７４）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７５）、焼成酸化ジルコニウム粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、製品名：ＺＲＰＧＭ１５ＷＴ％－Ｆ７６）、
酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｍ、日産化学工業（株）製）
酸化ジルコニウム粒子（ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｋ、日産化学工業（株）製）
を挙げることができる。

金属酸化物粒子の含有量は、電極パターン等の被隠蔽物の隠蔽性が良好になり、被隠蔽物の視認性を効果的に改善することができるという観点から、屈折率調整層の全質量に対し、１質量％～９５質量％であることが好ましく、２０質量％～９０質量％であることがより好ましく、４０質量％～８５質量％であることが更に好ましい。
金属酸化物粒子として酸化チタンを用いる場合、酸化チタン粒子の含有量は、屈折率調整層の全質量に対し、１質量％～９５質量％であることが好ましく、２０質量％～９０質量％であることがより好ましく、４０質量％～８５質量％であることが更に好ましい。

また、屈折率調整層は、バインダーポリマーおよびエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
屈折率調整層の成分については、特開２０１４－１０８５４１号公報の段落００１９～００４０および０１４４～０１５０に記載されている硬化性第二の樹脂層の成分、特開２０１４－１０８１４号公報の段落００２４～００３５および０１１０～０１１２に記載されている透明層の成分、国際公開第２０１６／００９９８０号の段落００３４～００５６に記載されている、アンモニウム塩を有する組成物の成分等を参照することができる。
屈折率調整層に含まれるバインダーポリマーとしては、感光性樹脂層に含まれるバインダーポリマーと同様のものを使用することができ、好ましい範囲も同様である。
屈折率調整層に含まれるエチレン性不飽和化合物としては、感光性樹脂層に含まれるエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物と同様のものを使用することができ、好ましい範囲も同様である。

また、屈折率調整層は、屈折率調整層に接する金属の酸化抑制性の観点から、金属酸化抑制剤を少なくとも１種含むことが好ましい。
金属酸化抑制剤としては、例えば、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物が好ましく挙げられる。
金属酸化抑制剤の例としては、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

屈折率調整層は、上述した成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
屈折率調整層に含まれ得るその他の成分としては、既述の感光性樹脂層に含まれる各成分と同様のものが挙げられる。
屈折率調整層は、その他の成分として、界面活性剤を含むことが好ましい。

折率調整層は無彩色であることが好ましい。具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、Ｌ^＊値は１０～９０であることが好ましく、ａ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、ｂ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。
屈折率調整層の形成方法としては、特に限定はない。
屈折率調整層の形成方法の一例として、仮支持体上に形成された既述の感光性樹脂層上に、水系溶剤を含む態様の屈折率調整層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させることにより屈折率調整層を形成する方法が挙げられる。
屈折率調整層の形成方法における塗布および乾燥の方法の具体例は、それぞれ感光性樹脂層の形成方法における塗布および乾燥の具体例と同様である。

〔熱可塑性樹脂層〕
本発明の転写フィルムは、更に、仮支持体と感光性樹脂層との間に、熱可塑性樹脂層を有していてもよい。
転写フィルムが熱可塑性樹脂層を更に有すると、転写フィルムを基板に転写して積層体を形成した場合に、積層に起因する気泡が発生し難くなる。この積層体を画像表示装置に用いた場合には、画像ムラ等が発生し難くなり、優れた表示特性が得られる。
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有することが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、転写時において、基板表面の凹凸を吸収するクッション材として機能する。
基板表面の凹凸には、既に形成されている、画像、電極、配線等も含まれる。
熱可塑性樹脂層は、凹凸に応じて変形し得る性質を有していることが好ましい。

熱可塑性樹脂層は、特開平５－７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を含むことが好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質を含むことがより好ましい。

熱可塑性樹脂層の厚さは、例えば、３μｍ～３０μｍであることが好ましく、４μｍ～２５μｍであることがより好ましく、５μｍ～２０μｍであることが更に好ましい。
熱可塑性樹脂層の厚さが３μｍ以上であると、基板表面の凹凸に対する追従性がより向上するため、基板表面の凹凸をより効果的に吸収できる。
熱可塑性樹脂層の厚さが３０μｍ以下であると、製造適性がより向上するため、例えば、仮支持体に熱可塑性樹脂層を塗布形成する際の乾燥（いわゆる、溶剤除去のための乾燥）の負荷がより軽減され、また、転写後の熱可塑性樹脂層の現像時間がより短縮される。
熱可塑性樹脂層の厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

熱可塑性樹脂層は、溶剤および熱可塑性の有機高分子を含む熱可塑性樹脂層形成用組成物を仮支持体に塗布し、必要に応じて、乾燥させることによって形成され得る。
熱可塑性樹脂層の形成方法における塗布および乾燥の方法の具体例は、それぞれ感光性樹脂層の形成方法における塗布および乾燥の具体例と同様である。
溶剤は、熱可塑性樹脂層を形成する高分子成分を溶解するものであれば、特に制限されない。
溶剤としては、有機溶剤（例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ－プロパノール、および２－プロパノール）が挙げられる。

熱可塑性樹脂層は、１００℃で測定した粘度が１，０００Ｐａ・ｓ～１０，０００Ｐａ・ｓであることが好ましい。また、１００℃で測定した熱可塑性樹脂層の粘度が、１００℃で測定した感光性樹脂層の粘度よりも低いことが好ましい。

〔中間層〕
本発明の転写フィルムは、更に、仮支持体と感光性樹脂層との間に、中間層を有していてもよい。
本発明の転写フィルムが熱可塑性樹脂層を有する場合、中間層は、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層との間に配置されていることが好ましい。
中間層に含まれる成分としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマーが挙げられる。
また、中間層としては、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されているものを用いることもできる。

仮支持体上に、熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とをこの順に有する態様の転写フィルムを製造する場合には、中間層は、例えば、熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤、および、中間層の成分としての上記ポリマーを含む中間層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させることによって形成され得る。
詳細には、まず、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させて、熱可塑性樹脂層を形成する。次いで、形成した熱可塑性樹脂層上に、中間層形成用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥させて、中間層を形成する。次いで、形成した中間層上に、有機溶剤を含む態様の感光性樹脂組成物（いわゆる、感光性樹脂層形成用組成物）を塗布し、乾燥させて感光性樹脂層を形成する。なお、感光性樹脂層形成用組成物に含まれる有機溶剤は、中間層を溶解しない有機溶剤であることが好ましい。
中間層の形成方法における塗布および乾燥の方法の具体例は、それぞれ感光性樹脂層の形成方法における塗布および乾燥の具体例と同様である。

－不純物－
本開示に係る転写フィルムにおいて、信頼性やパターニング性を向上させる観点から感光性樹脂層、および、上記屈折率調整層の不純物の含有量が少ないことが好ましい。
不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、およびこれらのイオン、並びに、ハロゲン化物イオン（塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等）などが挙げられる。中でも、ナトリウムイオン、カリウムイオン、塩化物イオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが特に好ましい。
各層における不純物の含有量は、質量基準で、１，０００ｐｐｍ以下が好ましく、２００ｐｐｍ以下がより好ましく、４０ｐｐｍ以下が特に好ましい。下限は特に定めるものではないが、現実的に減らせる限界および測定限界の観点から、質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。
不純物を上記範囲に減らす方法としては、各層の原料に不純物を含まないものを選択すること、および層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去すること等が挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。
不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量することができる。

また、各層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ヘキサン等の化合物の含有量が少ないことが好ましい。これら化合物の各層中における含有量としては、質量基準で、１，０００ｐｐｍ以下が好ましく、２００ｐｐｍ以下がより好ましく、４０ｐｐｍ以下が特に好ましい。下限は特に定めるものではないが、現実的に減らせる限界および測定限界の観点から、質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。
化合物の不純物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制することができる。また、公知の測定法により定量することができる。

－転写フィルムの具体例－
図１は、本発明の転写フィルムの一例を示す概略断面図である。
図１に示すように、転写フィルム１０は、保護フィルム１６／屈折率調整層２０Ａ／感光性樹脂層１８Ａ／仮支持体１２の積層構造（すなわち、仮支持体１２と、感光性樹脂層１８Ａと、屈折率調整層２０Ａと、保護フィルム１６と、がこの順に配置された積層構造）を有する。
ただし、本発明の転写フィルムは、転写フィルム１０であることには限定されず、例えば、屈折率調整層２０Ａは省略されていてもよい。また、仮支持体１２と感光性樹脂層１８Ａとの間に、既述の熱可塑性樹脂層および中間層の少なくとも一方を有していてもよい。

屈折率調整層２０Ａは、感光性樹脂層１８Ａからみて仮支持体１２が存在する側とは反対側に配置された層であり、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５０以上である層である。
転写フィルム１０は、ネガ型材料（いわゆる、ネガ型フィルム）である。

転写フィルム１０の製造方法は、特に制限されない。
転写フィルム１０の製造方法は、例えば、仮支持体１２上に感光性樹脂層１８Ａを形成する工程と、感光性樹脂層１８Ａ上に屈折率調整層２０Ａを形成する工程と、屈折率調整層２０Ａ上に保護フィルム１６を形成する工程と、をこの順に含む。
転写フィルム１０の製造方法は、屈折率調整層２０Ａを形成する工程と保護フィルム１６を形成する工程との間に、国際公開第２０１６／００９９８０号の段落００５６に記載されている、アンモニアを揮発させる工程を含んでもよい。

〔用途〕
本発明の転写フィルムの用途は、特に制限はないが、仮支持体および保護フィルムの剥離性に優れ、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性に優れるため、タッチパネル用の転写フィルムとして好適に用いることができ、タッチパネルにおける保護膜形成用の転写フィルムとしてより好適に用いることができ、タッチパネルにおける電極保護膜形成用の転写フィルムとして特に好適に用いることができる。

［積層体の製造方法］
本発明の積層体の製造方法は、
上述した本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離する第１剥離工程と、
電極を有する基板上に、保護フィルムを剥離した転写フィルムを感光性樹脂層側から転写する転写工程と、
転写した感光性樹脂層の少なくとも一部を硬化し、硬化膜を形成する硬化工程と、
硬化工程後に仮支持体を剥離し、電極を有する基板上に硬化膜が積層された積層体を得る第２剥離工程と、を有する。
なお、本発明の積層体の製造方法が有する第１剥離工程、転写工程および第２剥離工程における具体的な手法は、後述する本発明のタッチパネルの製造方法が有する第１剥離工程、転写工程および第２剥離工程で説明する手法と同様のものが挙げられる。

本発明の積層体の製造方法により作製される積層体は、電極を有する基板上に、本発明の転写フィルムが有する感光性樹脂層が転写され、硬化した硬化膜が積層された積層体である。

電極を有する基板は、静電容量型入力装置の電極を含む基板であることが好ましい。
また、静電容量型入力装置の電極は、透明電極パターンであってもよく、引き回し配線であってもよい。

静電容量型入力装置としては、タッチパネルが好適に挙げられる。
タッチパネル用電極としては、例えば、タッチパネルの少なくとも画像表示領域に配置される透明電極パターンが挙げられる。タッチパネル用電極は、画像表示領域からタッチパネルの枠部にまで延びていてもよい。
タッチパネル用配線としては、例えば、タッチパネルの枠部に配置される引き回し配線（いわゆる、取り出し配線）が挙げられる。
タッチパネル用基板およびタッチパネルの態様としては、透明電極パターンのタッチパネルの枠部に延びている部分に、引き回し配線の一部が積層されることにより、透明電極パターンと引き回し配線とが電気的に接続されている態様が好適である。

透明電極パターンの材質としては、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、または、金属メッシュ、銀ナノワイヤー等の金属細線が好ましい。
金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。中でも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。

引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。
引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛およびマンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウムまたはチタンが好ましく、銅が特に好ましい。

－タッチパネルの第１具体例－
図２は、本発明の転写フィルムを用いて転写した感光性樹脂層を有するタッチパネルの第１具体例を示す概略断面図である。より詳細には、図２は、タッチパネル３０の画像表示領域の概略断面図である。
図２に示すように、タッチパネル３０は、基板３２と、第二屈折率調整層３６と、タッチパネル用電極としての透明電極パターン３４と、第一屈折率調整層２０と、タッチパネル用電極保護膜１８と、がこの順序で配置された構造を有する。
タッチパネル３０では、タッチパネル用電極保護膜１８および第一屈折率調整層２０が、透明電極パターン３４の全体を覆っている。

第二屈折率調整層３６および第一屈折率調整層２０は、それぞれ透明電極パターン３４が存在する第１領域４０、および、透明電極パターン３４が存在しない第２領域４２を、直接または他の層を介して連続して被覆することが好ましい。このような態様によれば、透明電極パターン３４がより視認され難くなる。
第二屈折率調整層３６および第一屈折率調整層２０は、第１領域４０および第２領域４２の両方を、他の層を介して被覆するよりも、直接被覆することが好ましい。
「他の層」としては、絶縁層、透明電極パターン３４以外の電極パターン等が挙げられる。

第一屈折率調整層２０は、第１領域４０および第２領域４２の両方にまたがって積層されている。第一屈折率調整層２０は、第二屈折率調整層３６と隣接しており、更に、透明電極パターン３４とも隣接している。
第二屈折率調整層３６と接触する箇所における透明電極パターン３４の端部の形状が、図２に示される如きテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（すなわち、テーパー角と同じ傾きで）、第一屈折率調整層２０が積層されていることが好ましい。

透明電極パターン３４としては、ＩＴＯ透明電極パターンが好適である。
透明電極パターン３４は、例えば、以下の方法により形成できる。
第二屈折率調整層３６が形成された基板３２の上に、スパッタリングにより電極用薄膜（例えば、ＩＴＯ膜）を形成する。次いで、形成した電極用薄膜の上に、エッチング用感光性レジストを塗布することにより、または、エッチング用感光性フィルムを転写することにより、エッチング保護層を形成する。次いで、形成したエッチング保護層を、露光および現像により、所望とするパターン形状にパターニングする。次いで、エッチングにより、電極用薄膜のうち、パターニングされたエッチング保護層に覆われていない部分を除去し、電極用薄膜を所望の形状のパターン（すなわち、透明電極パターン３４）とする。次いで、剥離液によりパターニングされたエッチング保護層を除去する。

－タッチパネルの第２具体例－
図３は、本発明の転写フィルムを用いて転写した感光性樹脂層を有するタッチパネルの第２具体例を示す概略断面図である。
図３に示すように、タッチパネル９０は、画像表示領域７４および画像非表示領域７５（すなわち、枠部）を有する。
また、タッチパネル９０は、基板３２の両面にタッチパネル用電極を備えている。詳細には、タッチパネル９０は、基板３２の一方の面に第１透明電極パターン７０を備え、他方の面に第２透明電極パターン７２を備えている。
タッチパネル９０では、第１透明電極パターン７０および第２透明電極パターン７２のそれぞれに、引き回し配線５６が接続されている。引き回し配線５６は、例えば、銅配線である。
タッチパネル９０では、基板３２の一方の面において、第１透明電極パターン７０および引き回し配線５６を覆うように、タッチパネル用電極保護膜１８が形成されており、基板３２の他方の面において、第２透明電極パターン７２および引き回し配線５６を覆うようにタッチパネル用電極保護膜１８が形成されている。
基板３２の一方の面および他方の面には、それぞれ第１具体例における第一屈折率調整層および第二屈折率調整層が形成されていてもよい。

［タッチパネルの製造方法］
本発明のタッチパネルの製造方法は、
上述した本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離する第１剥離工程と、
基板上にタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板上に、保護フィルムを剥離した転写フィルムを感光性樹脂層側から転写する転写工程と、
転写した感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、
露光工程後に仮支持体を剥離する第２剥離工程と、
第２剥離工程後に、パターン露光された感光性樹脂層を現像することにより、タッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る現像工程と、を有する。

〔第１剥離工程〕
第１剥離工程は、上述した本発明の転写フィルムから保護フィルムを剥離する工程であり、剥離する手法は特に限定されず、公知の方法を適宜採用することができる。

〔転写工程〕
転写工程は、基板上にタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板上に、保護フィルムを剥離した転写フィルムを感光性樹脂層側から転写する工程である。

転写する方法としては、上述した本発明の転写フィルムを、タッチパネル用基板のタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置側の面の上にラミネートし、転写フィルムにおける感光性樹脂層を上記面の上に転写することにより、上記面の上に感光性樹脂層を形成する方法が挙げられる。
ラミネート（いわゆる、感光性樹脂層の転写）は、真空ラミネーター、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを用いて行うことができる。

ラミネート条件としては、一般的な条件を適用できる。
ラミネート温度は、８０℃～１５０℃であることが好ましく、９０℃～１５０℃であることがより好ましく、１００℃～１５０℃であることが更に好ましい。
ゴムローラーを備えたラミネーターを用いる場合、ラミネート温度は、ゴムローラーの温度を指す。
ラミネート時の基板温度は、特に制限されない。
ラミネート時の基板温度としては、１０℃～１５０℃が好ましく、２０℃～１５０℃がより好ましく、３０℃～１５０℃が更に好ましい。
基板として樹脂基板を用いる場合には、ラミネート時の基板温度としては、１０℃～８０℃が好ましく、２０℃～６０℃がより好ましく、３０℃～５０℃が更に好ましい。
また、ラミネート時の線圧としては、０．５Ｎ／ｃｍ～２０Ｎ／ｃｍが好ましく、１Ｎ／ｃｍ～１０Ｎ／ｃｍがより好ましく、１Ｎ／ｃｍ～５Ｎ／ｃｍが更に好ましい。
また、ラミネート時の搬送速度（ラミネート速度）としては、０．５ｍ／分～５ｍ／分が好ましく、１．５ｍ／分～３ｍ／分がより好ましい。

転写工程により、転写フィルムの感光性樹脂層が、タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面上に転写され、仮支持体／熱可塑性樹脂層／感光性樹脂層／電極等／基板の積層構造を有する積層体が形成される。この積層構造のうち、「電極等／基板」の部分が、タッチパネル用基板である。

〔露光工程〕
露光工程は、転写した感光性樹脂層をパターン露光する工程である。
「パターン露光」とは、パターン状に露光する態様、すなわち、露光部と非露光部とが存在する態様の露光を指す。
タッチパネル用基板上の感光性樹脂層のうち、パターン露光における露光部が硬化され、最終的に硬化膜となる。
一方、タッチパネル用基板上の感光性樹脂層のうち、パターン露光における非露光部は硬化せず、次の現像工程において、現像液によって溶解されて除去される。非露光部は、現像工程後、硬化膜の開口部を形成し得る。
パターン露光は、マスクを介した露光でもよく、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。

パターン露光の光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍまたは４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
光源としては、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量は、５ｍＪ／ｃｍ^２～２００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２～２００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましい。

〔第２剥離工程〕
第２剥離工程は、露光工程後に仮支持体を剥離する工程であり、剥離する手法は特に限定されず、公知の方法を適宜採用することができる。

〔現像工程〕
現像工程は、第２剥離工程後に、パターン露光された感光性樹脂層を現像することにより、タッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る工程である。

現像に用いる現像液は、特に制限されず、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液等、公知の現像液を用いることができる。
現像液としては、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。
アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）等が挙げられる。
アルカリ性水溶液の２５℃におけるｐＨは、８～１３であることが好ましく、９～１２であることがより好ましく、１０～１２であることが特に好ましい。
アルカリ性水溶液中におけるアルカリ性化合物の含有量は、アルカリ性水溶液の全質量に対し、０．１質量％～５質量％であることが好ましく、０．１質量％～３質量％であることがより好ましい。

現像液は、水に対して混和性を有する有機溶剤を含んでいてもよい。
有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２－プロパノール、１－プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε－カプロラクトン、γ－ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε－カプロラクタム、Ｎ－メチルピロリドン等が挙げられる。
有機溶剤の濃度は、０．１質量％～３０質量％であることが好ましい。
現像液は、公知の界面活性剤を含んでもよい。
界面活性剤の濃度は、０．０１質量％～１０質量％であることが好ましい。
現像液の液温度は、２０℃～４０℃であることが好ましい。

現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワーおよびスピン現像、ディップ現像等の方式が挙げられる。
シャワー現像を行う場合、パターン露光後の感光性樹脂層に現像液をシャワー状に吹き付けることにより、感光性樹脂層の非露光部を除去する。
感光性樹脂層と熱可塑性樹脂層および中間層の少なくとも一方とを備える転写フィルムを用いた場合には、これらの層の基板上への転写後であって感光性樹脂層の現像の前に、感光性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワー状に吹き付け、熱可塑性樹脂層および中間層の少なくとも一方（両方存在する場合には両方）を予め除去してもよい。
また、現像の後に、洗浄剤等をシャワーにより吹き付けつつ、ブラシ等で擦ることにより、現像残渣を除去することが好ましい。
現像液の液温度は、２０℃～４０℃であることが好ましい。

現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を加熱処理（以下、「ポストベーク」ともいう。）する段階と、を含んでいてもよい。
基板が樹脂基板である場合には、ポストベークの温度は、１００℃～１６０℃であることが好ましく、１３０℃～１６０℃であることがより好ましい。
このポストベークにより、透明電極パターンの抵抗値を調整することもできる。
感光性樹脂層がカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂を含む場合には、ポストベークにより、カルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂の少なくとも一部をカルボン酸無水物に変化させることができる。このように変化させると、現像性、および、硬化膜の強度に優れる。

現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を露光（以下、「ポスト露光」ともいう。）する段階と、を含んでいてもよい。
現像工程がポスト露光する段階およびポストベークする段階の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。

パターン露光、現像等については、例えば、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１の記載を参照することもできる。
上記手順によって形成されるパターン（感光性樹脂層の硬化膜）は無彩色であることが好ましい。
具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））が、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、パターンのＬ^＊値は１０～９０であることが好ましく、パターンのａ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、パターンのｂ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。

本開示に係るタッチパネルの製造方法は、既述の工程以外の工程（いわゆる、その他の工程）を含んでいてもよい。
その他の工程としては、通常のフォトリソグラフィ工程に設けられることがある公知の工程（例えば、洗浄工程）が挙げられる。

以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
なお、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量である。また、酸価は、理論酸価を用いた。

＜感光性樹脂層形成用塗布液の調製＞
下記表１に示す組成となるように、感光性樹脂層形成用塗布液である材料Ａ－１～Ａ－７をそれぞれ調製した。

ＭＡＡ－ＧＭＡ：メタクリル酸に由来する構成単位に対してグリシジルメタクリレートが付加した構成単位

＜屈折率調整層形成用塗布液の調製＞
下記表２に示す組成となるように、屈折率調整層形成用塗布液である材料Ｂ－１を調製した。

［実施例１］
炭酸カルシウム（平均粒子径：１．０μｍ）を０．０５質量％含有する厚み１μｍのポリエチレンテレフタレート層（粒子含有層）を、厚さ１４μｍのポリエチレンテレフタレート層の両面に設けた、合計厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持体）の上に、感光性樹脂層形成用の材料Ａ－１をスリット状ノズルを用いて塗布し、感光性樹脂層を形成した。なお、塗布量は、乾燥後の膜厚が下記表３の厚みになるように調整した。
次いで、１００℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、感光性樹脂層の上に、炭酸カルシウム（平均粒子径：１．０μｍ）を０．０５質量％含有する厚み１μｍのポリプロピレン層（粒子含有層）を、厚さ２８μｍのポリプロピレン層の両面に設けた、合計厚み３０μｍのポリプロピレンフィルム（保護フィルム）を圧着し、実施例１の転写フィルムを作製した。

［実施例２～４、実施例８および比較例１］
感光性樹脂層形成用の材料Ａ－１を下記表３に示す材料に変更した以外は、実施例１と同様の方法で転写フィルムを作製した。

［実施例５］
感光性樹脂層形成用の材料Ａ－１を下記表３に示す材料に変更し、また、下記表３に示す算術平均粗さＲａを満たすように、仮支持体および保護フィルムにおける粒子含有層に含有させる炭酸カルシウムの濃度を変更した以外は、実施例１と同様の方法で転写フィルムを作製した。

［実施例６］
実施例１と同様の方法で形成した感光性樹脂層の上に、屈折率調整層形成用の材料Ｂ－１をスリット状ノズルを用いて塗布し、８０℃の乾燥温度で乾燥させ、屈折率調整層を形成した。なお、塗布量は、乾燥後の膜厚が７０ｎｍになるように調整した。
次いで、屈折率調整層の上に、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（保護フィルム）を圧着し、実施例６の転写フィルムを作製した。
屈折率調整層の屈折率は１．６８であった。

［実施例７］
下記表３に示す算術平均粗さＲａを満たすように、仮支持体および保護フィルムにおける粒子含有層に含有させる炭酸カルシウムの濃度を変更した以外は、実施例５と同様の方法で転写フィルムを作製した。

［比較例２］
下記表３に示す算術平均粗さＲａを満たすように、仮支持体における粒子含有層に含有させる炭酸カルシウムの濃度を変更した以外は、実施例１と同様の方法で転写フィルムを作製した。

［比較例３］
下記表３に示す算術平均粗さＲａを満たすように、保護フィルムにおける粒子含有層に含有させる炭酸カルシウムの濃度を変更した以外は、実施例１と同様の方法で転写フィルムを作製した。

〔水蒸気透過度（透湿度）の評価〕
透湿度（平均値）を上述した方法で測定した。
測定した透湿度の平均値に基づき、下記評価基準に従い、水蒸気透過度を評価した。下記評価基準において、ＡおよびＢであれば、実用に適する。結果を下記３中の感光性樹脂層の項目に記載する。
なお、上記測定では、上述のとおり、硬化膜／メンブレンフィルターの積層構造を有する円形試料の透湿度を測定した。しかし、メンブレンフィルターの透湿度が硬化膜の透湿度と比較して極めて高いことから、上記測定では、実質的には、感光性樹脂層の硬化膜自体の透湿度を測定したことになる。
（水蒸気透過度の評価基準）
Ａ：透湿度の平均値が４００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ未満
Ｂ：透湿度の平均値が４００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以上５００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ未満
Ｃ：透湿度の平均値が５００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以上

〔破断伸びの測定〕
感光性樹脂層の硬化膜の２３℃および１２０℃における破断伸びを上述した方法で測定した。結果を下記３中の感光性樹脂層の項目に記載する。

〔算術平均粗さＲａの測定〕
実施例および比較例で作製した転写フィルムから剥離した保護フィルムの感光性樹脂層側の表面、および、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）で感光性樹脂層を露光した後に剥離した仮支持体の感光性樹脂層側の表面について、算術平均粗さＲａを測定した。
測定は、光学式表面性状測定器（Ｚｙｇｏ ＮｅｗＶｉｅｗ ６３００（Ｚｙｇｏ社製））を用いて行った。結果を下記表３に示す。

〔透明電極パターンフィルムの作製〕
＜透明膜の形成＞
膜厚３８μｍ、屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面改質を行った。得られたフィルムを透明フィルム基板とした。
次に、下記表４中に示す材料－Ｃの材料を、スリット状ノズルを用いて、透明フィルム基板上に塗工した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２）し、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６０、膜厚８０ｎｍの透明膜を製膜した。

＜透明電極パターンの形成＞
上記にて得られた透明フィルム基板上に透明膜が積層されたフィルムを、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：スズ＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明フィルム基板の温度１５０℃、アルゴン分圧０．１３Ｐａ、酸素分圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍ、屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。

＜エッチング用感光性フィルムＥ１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。
次に、下記の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。
更に、下記の処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。既述の方法により仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍのエッチング用光硬化性樹脂層とからなる積層体を作製し、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料である、エッチング用感光性フィルムＥ１を作製した。

（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：６．３６質量部
・メチルエチルケトン：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２－エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）：９．１質量部
・フッ素系ポリマー〔下記成分〕：０．５４質量部
フッ素系ポリマー：Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２ ４０質量部と、（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２ ５５質量部と、Ｈ（ＯＣＨＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２ ５質量部との共重合体（重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製）

（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）：３２．２質量部
・ポリビニルピロリドン（商品名：Ｋ－３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）：１４．９質量部
・蒸留水：５２４質量部
・メタノール：４２９質量部

（エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１）
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、重量平均分子量６０，０００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート：２．８質量部
・２－クロロ－Ｎ－ブチルアクリドン：０．４２質量部
・２，２－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット：０．２６質量部
・フェノチアジン：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ－７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製）：０．０３質量部
・メチルエチルケトン：４０質量部
・１－メトキシ－２－プロパノール：２０質量部
なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２，５００Ｐａ・ｓｅｃであった。

＜透明電極パターンの形成＞
透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを洗浄し、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした。ラミネート条件は、透明フィルム基板の温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分にて行った。
仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面と既述のエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、更に１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを得た。

透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを、ＩＴＯ用エッチング液（塩酸、塩化カリウム水溶液、液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを得た。
次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを、レジスト剥離液（Ｎ－メチル－２－ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツジャパン（株）製）、液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、透明フィルム基板上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムを得た。

〔積層体の作製〕
保護フィルムを剥離した各実施例および比較例の転写フィルムを用いて、透明フィルム基板上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムの透明膜および透明電極パターンを、転写フィルムが覆う位置にて転写した。
その結果、透明フィルム基板が有する透明膜および透明電極パターン上に、転写フィルムによって、感光性樹脂層および仮支持体がこの順に転写された。なお、実施例６では、屈折率調整層、感光性樹脂層および仮支持体がこの順に転写された。転写は、ＭＣＫ社製真空ラミネーターを用いて、透明フィルム基板の温度：４０℃、ゴムローラー温度１００℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件で行った。
その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（電極保護膜形成用パターンを有する石英露光マスク）面と仮支持体とを密着させ、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。
仮支持体を剥離後、炭酸ナトリウム１％水溶液３２℃で６０秒間現像処理を実施した。
その後、現像処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。
引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターンおよび感光性樹脂層の硬化物が基板から順に積層された積層体を形成した。実施例６では、透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン、屈折率調整層および感光性樹脂層の硬化物が基板から順に積層された積層体を形成した。

〔打ち抜き加工性〕
作製した積層体に対して、ダイカット時の打ち抜き加工性を評価した。
１０ｃｍ四方の形で打ち抜けるようにトムソン刃を設置し、１２０℃の温度環境下にて、打ち抜いた後、カット部分を光学顕微鏡にて以下の基準で評価した。結果を下記表５に示す。なお、評価がＡおよびＢであれば、実用上問題ないと評価できる。
Ａ：いずれの辺においても欠け、割れの発生なし
Ｂ：軽微な欠け、割れが発生している
Ｃ：明らかに欠け、割れが発生している

〔剥離性〕
（保護フィルムの剥離性）
転写前の保護フィルムの剥離時に、剥離不良が生じていないかを以下の基準で評価した。結果を下記表５に示す。
Ａ：保護フィルム側に感光性樹脂層が残ることなく、感光性樹脂層にも異常感が見られない。
Ｂ：剥離始めで保護フィルム側に少し感光性樹脂層の残りが見られるが、それ以外では問題なく、実用上問題ない
Ｃ：保護フィルム側への感光性樹脂層の残りが明らかに生じており、実用上問題がある
（仮支持体の剥離性）
露光後、現像前の仮支持体の剥離時に、剥離不良が生じていないかを以下の基準で評価した。結果を下記表５に示す。
Ａ：仮支持体側に感光性樹脂層が残ることなく、感光性樹脂層にも異常感が見られない。
Ｂ：剥離始めで仮支持体側に少し感光性樹脂層の残りが見られるが、それ以外では問題なく、実用上問題ない
Ｃ：仮支持体側への感光性樹脂層の残りが明らかに生じており、実用上問題がある

上述した表３および表５に示す結果から、感光性樹脂層が、硬化後の１２０℃における破断伸びが１５％未満となる感光性樹脂層であると、打ち抜き加工性が劣ることが分かった（比較例１）。
また、感光性樹脂層が、硬化後の１２０℃における破断伸びが１５％以上となる感光性樹脂層であっても、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが５０ｎｍ超であると、仮支持体の剥離性が劣ることが分かった（比較例２）。
また、感光性樹脂層が、硬化後の１２０℃における破断伸びが１５％以上となる感光性樹脂層であっても、保護フィルムの感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが１５０ｎｍ超であると、保護フィルムの剥離性が劣ることが分かった（比較例３）。
これに対し、感光性樹脂層が、硬化後の１２０℃における破断伸びが１５％以上となる感光性樹脂層であり、仮支持体の感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが５０ｎｍ以下であり、保護フィルムの感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが１５０ｎｍ以下であると、仮支持体および保護フィルムの剥離性に優れ、転写後の感光性樹脂層を硬化した硬化膜の打ち抜き加工性に優れることが分かった（実施例１～８）。

１：サンプル
２：チャック部
１０：転写フィルム
１２：仮支持体
１６：保護フィルム
１８：タッチパネル用電極保護膜
１８Ａ：感光性樹脂層
２０：第一屈折率調整層
２０Ａ：屈折率調整層
３０：タッチパネル
３２：基板
３４：透明電極パターン
３６：第二屈折率調整層
４０：透明電極パターンが存在する第１領域
４２：透明電極パターンが存在しない第２領域
５６：引き回し配線
７０：第１透明電極パターン
７２：第２透明電極パターン
７４：画像表示領域
７５：画像非表示領域
９０：タッチパネル

Claims (14)

1. 仮支持体と、感光性樹脂層と、保護フィルムとをこの順に有する転写フィルムであって、
   前記感光性樹脂層を硬化した硬化膜の１２０℃における破断伸びが１５％以上であり、
   前記仮支持体の前記感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが５０ｎｍ以下であり、
   前記保護フィルムの前記感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａが１５０ｎｍ以下であり、
   下記式（２）を満たし、
   電極保護膜形成用である、転写フィルム。
   Ｙ ≦ Ｚ 式（２）
   ここで、前記式（２）中、Ｙは、前記仮支持体の前記感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表し、Ｚは、前記保護フィルムの前記感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表す。
2. 下記式（１）を満たす、請求項１に記載の転写フィルム。
   Ｘ×Ｙ＜７５０ 式（１）
   ここで、前記式（１）中、Ｘは、前記感光性樹脂層を硬化した硬化膜の１２０℃における破断伸びの値（％）を表し、Ｙは、前記仮支持体の前記感光性樹脂層側の表面の算術平均粗さＲａの値（ｎｍ）を表す。
3. 前記式（１）中のＸ×Ｙの値が４００未満である、請求項２に記載の転写フィルム。
4. 前記感光性樹脂層を硬化した硬化膜の膜厚４０μｍでの透湿度が５００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
5. 前記感光性樹脂層を硬化した硬化膜の膜厚４０μｍでの透湿度が１０～４００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒである、請求項１～４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
6. 前記感光性樹脂層を硬化した硬化膜の膜厚４０μｍでの透湿度が１０～３００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒである、請求項１～５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
7. 前記感光性樹脂層を硬化した硬化膜の２３℃での破断伸びに対し、１２０℃での破断伸びが２倍以上大きい、請求項１～６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
8. 前記感光性樹脂層が、バインダーポリマー、重合性モノマーおよび光重合開始剤を含有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
9. 前記バインダーポリマーの酸価が３０～１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項８に記載の転写フィルム。
10. 前記感光性樹脂層が、更に、酸基またはヒドロキシ基と反応可能な基を加熱により生起する化合物を含有する、請求項８または９に記載の転写フィルム。
11. 前記感光性樹脂層が、更に、マイケル付加反応可能な化合物を含有する、請求項８～１０のいずれか１項に記載の転写フィルム。
12. 前記感光性樹脂層と前記保護フィルムとの間に、更に、前記感光性樹脂層よりも屈折率の高い屈折率調整層を有する、請求項１～１１のいずれか１項に記載の転写フィルム。
13. 請求項１～１２のいずれか１項に記載の転写フィルムから前記保護フィルムを剥離する第１剥離工程と、
    電極を有する基板上に、前記保護フィルムを剥離した前記転写フィルムを前記感光性樹脂層側から転写する転写工程と、
    転写した前記感光性樹脂層の少なくとも一部を硬化し、硬化膜を形成する硬化工程と、
    前記硬化工程後に前記仮支持体を剥離し、電極を有する前記基板上に前記硬化膜が積層された積層体を得る第２剥離工程と、
    を有する積層体の製造方法。
14. 請求項１～１２のいずれか１項に記載の転写フィルムから前記保護フィルムを剥離する第１剥離工程と、
    基板上にタッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板上に、前記保護フィルムを剥離した前記転写フィルムを前記感光性樹脂層側から転写する転写工程と、
    転写した前記感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、
    前記露光工程後に前記仮支持体を剥離する第２剥離工程と、
    前記第２剥離工程後に、パターン露光された前記感光性樹脂層を現像することにより、前記タッチパネル用電極およびタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る現像工程と、
    を有するタッチパネルの製造方法。

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