CN114026498A - 转印膜、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法 - Google Patents

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CN114026498A CN202080045617.9A CN202080045617A CN114026498A CN 114026498 A CN114026498 A CN 114026498A CN 202080045617 A CN202080045617 A CN 202080045617A CN 114026498 A CN114026498 A CN 114026498A
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有年阳平
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Abstract

本发明的课题在于提供一种临时支承体及保护膜的剥离性优异，使转印后的感光性树脂层固化而成的固化膜的冲压加工性优异的转印膜、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法。转印膜依次具有临时支承体、感光性树脂层及保护膜，使感光性树脂层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率为15％以上，临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为150nm以下。

Description

转印膜、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法
技术领域
本发明涉及一种转印膜、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法。
背景技术
在电子设备(例如、移动电话、汽车导航、个人电脑、售票机及银行终端等)的显示设备中，作为输入装置大多使用触摸面板。
已知在这种触摸面板中，设置有用于保护包括金属布线的电极的保护膜。
例如，在专利文献1中记载有触摸面板电极保护膜形成用组合物，其特征在于，作为成分A含有式1所表示的化合物、作为成分B含有粘合剂聚合物及作为成分C含有光聚合引发剂([权利要求1])，并且记载有使用具有临时支承体和由触摸面板电极保护膜形成用组合物组成的感光性树脂层的转印膜，在具有触摸面板用电极的基材上，设置感光性树脂层的方法([权利要求6][权利要求10])。
Q2-R1-Q1 (1)
在式(1)中，Q1及Q2分别独立地表示(甲基)丙烯酰氧基或(甲基)丙烯酰氧烷基，R1表示2价的烃基。
并且，在专利文献2中记载有触摸面板电极保护膜形成用组合物，其特征在于，作为成分A含有式1所表示的化合物、作为成分B含有粘合剂聚合物、作为成分C含有光聚合引发剂、作为成分D含有具有羧基的单体，相对于单体成分的总质量，成分A的含量为5质量％以上且小于50质量％([权利要求1])，并且记载有使用具有临时支承体和由触摸面板电极保护膜形成用组合物组成的感光性树脂层的转印膜，在具有触摸面板用电极的基材上设置感光性树脂层的方法([权利要求6][权利要求10])。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2016-051470号公报
专利文献2：日本特开2016-155978号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人等对专利文献1及2等中所记载的转印膜进行了研究，其结果得知根据感光性树脂层的种类，有时固化后的冲压加工性变差。
并且，本发明人等得知，关于冲压加工性，若想要通过增加感光性树脂层的固化后的断裂伸长率来进行改善，则转印膜所具有的临时支承体及保护膜的剥离性有时会变差。
因此，本发明的课题在于提供一种临时支承体及保护膜的剥离性优异、固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性优异的转印膜、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了实现上述课题进行了深入研究的结果发现，关于依次包括具有规定的表面粗糙度的临时支承体、固化后在120℃下的断裂伸长率成为规定的值的感光性树脂层及具有规定的表面粗糙度的保护膜的转印膜，临时支承体及保护膜的剥离性优异、并且固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性也优异，并完成了本发明。
即，本发明人等发现通过以下结构能够实现上述课题。
[1]一种转印膜，其依次具有临时支承体、感光性树脂层及保护膜，其中，
使感光性树脂层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率为15％以上，
临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，
保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为150nm以下。
[2]根据[1]所述的转印膜，其满足下述式(1)。
X×Y＜750 式(1)
在此，在式(1)中，X表示使感光性树脂层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率的值(％)，Y表示临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)。
[3]根据[1]或[2]所述的转印膜，其满足下述式(2)。
Y≤Z 式(2)
在此，在式(2)中，Y表示临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)，Z表示保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)。
[4]根据[1]至[3]中任一项所述的转印膜，其中，使感光性树脂层固化而成的固化膜在膜厚40μm下的透湿度为500g/m2/24hr以下。
[5]根据[1]至[4]中任一项所述的转印膜，其中，相对于使感光性树脂层固化而成的固化膜在23℃下的断裂伸长率，在120℃下的断裂伸长率大2倍以上。
[6]根据[1]至[5]中任一项所述的转印膜，其中，感光性树脂层含有粘合剂聚合物、聚合性单体及光聚合引发剂。
[7]根据[6]所述的转印膜，其中，粘合剂聚合物的酸值为30～160mgKOH/g。
[8]根据[6]或[7]所述的转印膜，其中，感光性树脂层还含有通过加热产生能够与酸基或羟基反应的基团的化合物。
[9]根据[6]至[8]中任一项所述的转印膜，其中，所述感光性树脂层还含有能够进行迈克尔加成反应的化合物。
[10]根据[1]至[9]中任一项所述的转印膜，其中，在感光性树脂层与保护膜之间还具有折射率比感光性树脂层高的折射率调整层。
[11]根据[1]至[10]中任一项所述的转印膜，其用于形成电极保护膜。
[12]一种层叠体的制造方法，其包括：第1剥离工序，从[1]至[11]中任一项所述的转印膜剥离保护膜；
转印工序，将剥离了保护膜之后的转印膜从感光性树脂层侧转印到具有电极的基板上；
固化工序，使经转印的感光性树脂层的至少一部分固化，形成固化膜；及
第2剥离工序，在固化工序之后，剥离临时支承体，获得在具有电极的基板上层叠有固化膜的层叠体。
[13]一种触摸面板的制造方法，其包括：第1剥离工序，从[1]至[11]中任一项所述的转印膜剥离保护膜；
转印工序，将剥离了保护膜之后的转印膜从感光性树脂层侧转印到触摸面板用基板上，所述触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的结构；
曝光工序，对经转印的感光性树脂层进行图案曝光；
第2剥离工序，在曝光工序之后，剥离临时支承体；及
显影工序，在第2剥离工序之后，对经图案曝光的感光性树脂层进行显影，由此获得保护触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的至少一部分的触摸面板用保护膜。
发明效果
根据本发明能够提供一种临时支承体及保护膜的剥离性优异，固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性优异的转印膜、层叠体的制造方法及触摸面板的制造方法。
附图说明
图1是表示本发明的转印膜的一例的概略剖视图。
图2是表示具有使用本发明的转印膜转印的感光性树脂层的触摸面板的第1具体例的概略剖视图。
图3是表示具有使用本发明的转印膜转印的感光性树脂层的触摸面板的第2具体例的概略剖视图。
图4是用于测量断裂伸长率的样品的示意图。
具体实施方式
以下对本发明的内容进行详细说明。以下记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式而进行，但本发明并不限定于这种实施方式。
另外，在本发明中，表示数值范围的“～”是以包含记载于其前后的数值作为下限值及上限值的含义来使用。
在本说明书中阶段性地记载的数值范围中，以一个数值范围记载的上限值或下限值可以替换成其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，在本说明书中记载的数值范围中，该数值范围的上限值或下限值可以替换成实施例中所示的值。
并且，在本发明中的基团(原子团)的标记中，未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团，并且也包含具有取代基的基团。例如，“烷基”是指，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基)，也包含具有取代基的烷基(经取代烷基)。
并且，在本发明中，“质量％”与“重量％”的含义相同，“质量份”与“重量份”的含义相同。
此外，在本发明中2个以上的优选的方式的组合为更优选的方式。
在本发明中，关于组合物中的各成分的量，当在组合物中存在多种与各成分相应的物质时，只要没有特别的说明，则表示在组合物中存在的上述多种物质的总量。
在本发明中，“工序”这一术语不仅包含独立的工序，即使在无法与其他工序明确区别的情况下，只要能够实现工序所期望的目的，则也包含于本术语中。
在本发明中，“(甲基)丙烯酸”是包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两个的概念，“(甲基)丙烯酸酯”是包含丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两个的概念，“(甲基)丙烯酰基”是包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两个的概念。
并且，本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)只要没有特别的说明，则是通过使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制的商品名)的管柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置，并通过溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射计进行检测，并且作为标准物质使用聚苯乙烯进行换算的分子量。
在本发明中，若无特别说明，则具有分子量分布的化合物的分子量为重均分子量。
在本发明中，若无特别说明，则高分子的结构单元的比为摩尔比。
在本发明中，若无特别说明，则折射率为利用椭偏仪在25℃下测出的波长550nm下的值。
以下，对本发明进行详细说明。
[转印膜]
本发明的转印膜为依次具有临时支承体、感光性树脂层及保护膜的转印膜。
并且，在本发明的转印膜中，固化感光性树脂层而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率为15％以上。
并且，在本发明的转印膜中，临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为150nm以下。
在本发明中，如上所述，关于依次具有感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra成为50nm以下的临时支承体、固化后的120℃下的断裂伸长率成为15％以上的感光性树脂层及感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra成为150nm以下的保护膜的转印膜，临时支承体及保护膜的剥离性优异、并且固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性也变良好。
其详细内容虽然不明确，但本发明人等推测为如下。
即，认为通过本发明的转印膜具有固化后的120℃下的断裂伸长率成为15％以上的感光性树脂层，在固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜中产生韧性，其结果，冲压加工性变良好。
并且，认为在考虑到剥离临时支承体及保护膜的时刻、固化转印后的感光性树脂层的时刻的基础上，临时支承体及保护膜中的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra调整为上述的范围，由此能够维持良好的冲压加工性，并且能够提高剥离性。
以下对本发明的转印膜所具有的各层进行详细说明。
〔临时支承体〕
本发明的转印膜具有临时支承体。
临时支承体优选为膜，更优选为树脂膜。作为临时支承体，能够使用具有挠性，且在加压下或加压及加热下不会产生显著的变形、收缩或拉伸的膜。
作为这种膜，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(例如，双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)、三醋酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。
其中，作为临时支承体，尤其优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
并且，作临时支承体使用的膜中优选没有褶皱等变形、划痕等。
从能够经由临时支承体进行图案曝光的观点出发，临时支承体优选透明性高，365nm的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。
从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发，优选临时支承体的雾度小。具体而言，临时支承体的雾度值优选为2％以下，更优选为0.5％以下，尤其优选为0.1％以下。
从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发，优选临时支承体中所含的微粒或异物或缺陷的数量少。直径1μm以上的微粒或异物或缺陷的数量优选为50个/10mm2以下，更优选为10个/10mm2以下，进一步优选为3个/10mm2以下，尤其优选为0个/10mm2。
关于本发明的转印膜所具有的临时支承体，感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，优选为1～20nm，更优选为1～12nm。
在此，算术平均粗糙度Ra为使用光学式表面特性测量机测量的以JIS B060 1：2001为基准的算术平均粗糙度。
在本发明中，从将临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra调整为上述范围的观点出发，可以在临时支承体中不含有粒子，作为临时支承体中含有的层结构，可以具有构成感光性树脂层侧的表面的粒子含有层。
作为临时支承体(尤其粒子含有层)中含有的粒子，可以为有机系粒子，也可以为无机系粒子。
作为有机系粒子，具体而言，例如可以举出聚酰亚胺系树脂、烯烃或改性烯烃系树脂、交联聚苯乙烯系树脂及硅酮树脂等。
作为无机系粒子，具体而言，例如可以举出氧化硅、碳酸钙、凝聚氧化铝、硅酸铝、云母、粘土、滑石及硫酸钡等。
并且，通过调整临时支承体中含有的粒子的数量或粒径，能够将临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra调整为上述范围。
临时支承体的厚度并无特别限制，但优选为5μm～200μm，从操作容易性及通用性的观点出发，更优选为10μm～150μm，进一步优选为10μm～50μm。
作为临时支承体的优选方式，例如记载于日本特开2014-85643号公报的0017段～0018段)、日本特开2016-27363号公报的0019～0026段、WO2012/081680A1公报的0041～0057段、WO2018/179370A1公报的0029～0040段，这些公报的内容可编入到本说明书中。
作为临时支承体的优选市售品，能够举出Lumirror 16KS40、Lumirror 16FB40(以上，Toray Industries,Inc.制)、COSMOSHINE A4100、COSMOSHINE A4300、COSMOSHINEA8300(以上，TOYOBO CO.,LTD.制)。
〔感光性树脂层〕
本发明的转印膜具有感光性树脂层。
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层为经固化的固化膜在120℃下的断裂伸长率成为15％以上的感光性树脂层。换言之为具有固化后的120℃下的断裂伸长率成为15％以上的特性的感光性树脂层。
在此，关于固化膜在120℃下的断裂伸长率，采用由以下所示的方法测量而得的值。
首先，适当调整感光性树脂层形成用的材料(以下也简称为“感光性树脂组合物”。)的固体成分浓度，以干燥后的厚度成为20μm方式，涂布于Cerapeel(TorayIndustries,Inc.制)上，使其干燥，形成断裂伸长率评价用的涂布膜。
接着，将形成于Cerapeel表面的涂布膜，使用超高压汞灯以120mJ/cm2进行曝光并固化之后，使用高压汞灯以400mJ/cm2进一步进行追加曝光，并在145℃下加热30分钟后，切割成3cm×5mm的大小。
之后，从Cerapeel剥离涂布膜。
通过拉伸试验机(TENSILON RTG-1210：A&D Company,Limited制)，在120℃的环境下，以50mm/分钟的速度对所获得的涂布膜进行拉伸试验。在拉伸试验机中，如图4所示，以样品1的测量长度成为20mm的方式设置于卡盘部2。另外，样品宽度为5mm。
在该拉伸试验中，测量5次涂布膜断裂的点的伸长率，计算出平均值作为断裂伸长率。
在本发明中，从固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性变得更加良好的理由出发，优选相对于固化感光性树脂层而成的固化膜在23℃下的断裂伸长率，在120℃下的断裂伸长率大2倍以上。
在此，关于固化膜在23℃下的断裂伸长率，除了将拉伸试验的环境从120℃变更为23℃以外，采用由与上述的方法相同的方法测量而得的值。
在本发明中，从临时支承体及保护膜的剥离性和固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性能够以更高的水平兼顾的理由出发，优选满足下述式(1)。
X×Y＜750 式(1)
在此，在式(1)中，X表示固化感光性树脂层而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率的值(％)，Y表示临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)。
并且，在本发明中，从临时支承体及保护膜的剥离性和固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性能够以进一步高的水平兼顾的理由出发，X×Y的值更优选小于400，且优选大于70。
在本发明中，在用作电极保护膜的情况下，从防锈性优异的理由出发，固化感光性树脂层而成的固化膜在膜厚40μm下的透湿度优选为500g/m2/24hr以下，更优选为10～400g/m2/24hr，进一步优选为10～300g/m2/24hr。
在此，固化膜在膜厚40μm下的透湿度采用按以下的步骤测量而得的值。
＜透湿度测量用试样的制作＞
使用狭缝状喷嘴，将感光性树脂组合物涂布于作为临时支承体的厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜上，接着使其干燥，由此形成厚度8μm的感光性树脂层，而获得试样制作用转印膜。
接着，将试样制作用转印膜层压于Sumitomo Electric Industries,Ltd.制PTFE(四氟乙烯树脂)膜过滤器FP-100-100上，形成具有临时支承体/厚度8μm的感光性树脂层/膜过滤器的层结构的层叠体A。层压条件设为膜过滤器温度40℃、压接辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。
接着，从层叠体A剥离临时支承体。
通过重复5次以上操作，形成具有总膜厚40μm的感光性树脂层/膜过滤器的层叠结构的层叠体B。
利用i射线以曝光量300mJ/cm2对所获得的层叠体B的感光性树脂层进行曝光之后，进行145℃、30分钟的后烘干，由此固化感光性树脂层而形成固化膜。
根据以上，获得具有总膜厚40μm的固化膜/膜过滤器的层叠结构的透湿度测量用试样。
＜透湿度的测量＞
使用透湿度测量用试样，参考JIS-Z-0208(1976)而实施基于杯式法的透湿度测量。
首先，从透湿度测量用试样切出直径70mm的圆形试样。
接着，在测量杯内放入经干燥的20g的氯化钙，接着通过上述圆形试样盖上，由此准备带盖子的测量杯。
在恒温恒湿槽内中，在65℃、90％相对湿度(RH)的条件下，将该带盖子的测量杯放置24小时。
由放置前后的带盖子的测量杯的质量变化，计算出圆形试样的水蒸气渗透率(单位：g/m2/24hr)。
实施3次上述测量，计算水蒸气渗透率的平均值作为透湿度。
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层优选含有粘合剂聚合物、聚合性单体及光聚合引发剂，更优选使用含有粘合剂聚合物、聚合性单体及光聚合引发剂的感光性树脂组合物来形成。
＜粘合剂聚合物＞
粘合剂聚合物优选为碱溶性树脂。
例如，从显影性的观点出发，粘合剂聚合物优选酸值为30～160mgKOH/g的粘合剂聚合物，更优选酸值为30～160mgKOH/g的碱溶性树脂。
另外，在本发明中，“碱溶性”是指在22℃下碳酸钠在1质量％水溶液中的溶解度为0.1质量％以上。
并且，粘合剂聚合物的酸值为按照JIS K0070：1992中记载的方法测量的值。
并且，例如，从通过加热与交联成分热交联而容易形成牢固的膜的观点出发，粘合剂聚合物进一步优选酸值为30～160mgKOH/g的具有羧基的树脂(所谓的含羧基树脂)，尤其优选酸值为30～160mgKOH/g的具有羧基的丙烯酸树脂(所谓的含羧基丙烯酸树脂)。
另外，在本发明中，丙烯酸树脂是指，具有源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂，相对于树脂的总质量，上述结构单元的含量优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上。
从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性，以及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，粘合剂聚合物优选丙烯酸树脂或苯乙烯-丙烯酸共聚物，更优选苯乙烯-丙烯酸共聚物。
另外，在本发明中，苯乙烯-丙烯酸共聚物是指，具有源自苯乙烯化合物的结构单元和源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂，相对于上述共聚物的总质量，上述源自苯乙烯化合物的结构单元、上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的总含量优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上。
并且，相对于上述共聚物的总质量，源自苯乙烯化合物的结构单元的含量优选为1质量％以上，更优选为5质量％以上，尤其优选为5质量％以上且80质量％以下。
并且，相对于上述共聚物的总质量，上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量优选为5质量％以上，更优选为10质量％以上，尤其优选为20质量％以上且95质量％以下。
此外，作为上述(甲基)丙烯化合物，可举出(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酰胺化合物、(甲基)丙烯腈等。其中，也优选为选自由(甲基)丙烯酸酯化合物及(甲基)丙烯酸组成的组中的至少一种化合物。
-具有芳香环的结构单元-
从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，粘合剂聚合物优选为含有具有芳香环的结构单元。
作为形成具有芳香环的结构单元的单体，可举出苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸苄酯等。
其中，优选为苯乙烯化合物，尤其优选为苯乙烯。
并且，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(S)表示的结构单元(源自苯乙烯的结构单元)。
[化学式1]
Figure BDA0003423941540000111
在粘合剂聚合物含有具有芳香环的结构单元的情况下，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总质量，具有芳香环的结构单元的含量优选为5质量％～90质量％，更优选为10质量％～70质量％，尤其优选为20质量％～50质量％。
并且，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的具有芳香环的结构单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
此外，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
另外，在本发明中，以摩尔比规定“结构单元”的含量时，上述“结构单元”的含义与“单体单元”的含义相同。并且，在本发明中，上述“单体单元”可在通过高分子反应等聚合后进行修饰。以下也相同。
-具有脂肪族烃环的结构单元-
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，粘合剂聚合物优选含有具有脂肪族烃环的结构单元。
作为具有脂肪族烃环的结构单元中的脂肪族烃环，可举出三环癸烷环、环己烷环、环戊烷环、降冰片烷环、异冰片烷环等。
在这些中，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，优选为2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环，尤其优选为四氢二环戊二烯环(三环[5.2.1.02,6]癸烷环)。
作为形成具有脂肪族烃环的结构单元的单体，可举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等。
并且，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(Cy)表示的结构单元，尤其优选具有由上述式(S)表示的结构单元及由下述式(Cy)表示的结构单元。
[化学式2]
Figure BDA0003423941540000121
在式(Cy)中，RM表示氢原子或甲基，RCy表示具有脂肪族烃环结构的1价的基团。
式(Cy)中的RM优选为甲基。
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，式(Cy)中的RCy优选为具有碳原子数5～20的脂肪族烃环结构的1价的基团，更优选为具有碳原子数6～16的脂肪族烃环结构的1价的基团，尤其优选为具有碳原子数8～14的脂肪族烃环结构的1价的基团。
并且，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为环戊烷环结构、环己烷环结构、四氢二环戊二烯环结构、降冰片烷环、异冰片烷环，更优选为环己烷环结构或四氢二环戊二烯环结构，尤其优选为四氢二环戊二烯环结构。
此外，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构，更优选为2环以上且4环以下的脂肪族烃环稠环而成的环。
另外，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，式(Cy)中的RCy优选为式(Cy)中的-C(＝O)O-的氧原子和脂肪族烃环结构直接键合的基团即脂肪族烃环基，更优选为环己基或二环戊基，尤其优选为二环戊基。
粘合剂聚合物可以单独具有1种具有脂肪族烃环的结构单元，也可以具有2种以上。
在粘合剂聚合物含有具有脂肪族烃环的结构单元的情况下，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总质量，具有脂肪族烃环的结构单元的含量优选为5质量％～90质量％，更优选为10质量％～80质量％，尤其优选为20质量％～70质量％。
并且，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的具有脂肪族烃环的结构单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
此外，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的由上述式(Cy)表示的结构单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
在粘合剂聚合物含有具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元的情况下，从所获得的固化膜的透湿度、耐弯曲性及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总质量，具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元的总含量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，尤其优选为40质量％～75质量％。
并且，从所获得的固化膜的透湿度、耐弯曲性及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元的总含量优选为10摩尔％～80摩尔％，更优选为20摩尔％～70摩尔％，尤其优选为40摩尔％～60摩尔％。
并且，从所获得的固化膜的透湿度、耐弯曲性及强度的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元及由上述式(Cy)表示的结构单元的总含量优选为10摩尔％～80摩尔％，更优选为20摩尔％～70摩尔％，尤其优选为40摩尔％～60摩尔％。
并且，从所获得的固化膜的透湿度、耐弯曲性及强度的观点出发，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的摩尔量nS及由上述式(Cy)表示的结构单元的摩尔量nCy优选满足下述式(SCy)所示的关系，更优选满足下述式(SCy-1)，尤其优选满足下述式(SCy-2)。
0.2≤nS/(nS+nCy)≤0.8 式(SCy)
0.30≤nS/(nS+nCy)≤0.75 式(SCy-1)
0.40≤nS/(nS+nCy)≤0.70 式(SCy-2)
-具有酸基的结构单元-
从所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发，粘合剂聚合物优选含有具有酸基的结构单元。
作为上述酸基，例如可举出羧基、磺酸基、膦酸基及磷酸基等，优选为羧基。
作为具有上述酸基的结构单元，可优选举出下述所示的源自(甲基)丙烯酸的结构单元，更优选举出源自甲基丙烯酸的结构单元。
[化学式3]
Figure BDA0003423941540000141
粘合剂聚合物可以单独具有1种具有酸基的结构单元，也可以具有2种以上。
在粘合剂聚合物含有具有酸基的结构单元的情况下，从所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总质量，具有酸基的结构单元的含量优选为5质量％～50质量％，更优选为5质量％～40质量％，尤其优选为10质量％～30质量％。
并且，从所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的具有酸基的结构单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～50摩尔％，尤其优选为20摩尔％～40摩尔％。
此外，从所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的源自(甲基)丙烯酸的结构单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～50摩尔％，尤其优选为20摩尔％～40摩尔％。
-具有反应性基团的构成单元-
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，粘合剂聚合物优选具有反应性基团，更优选含有具有反应性基团的结构单元。
作为反应性基团，优选自由基聚合性基团，更优选烯属不饱和基团。并且，在粘合剂聚合物具有烯属不饱和基团的情况下，粘合剂聚合物优选在侧链上含有具有烯属不饱和基团的结构单元。
在本发明中，“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的键合链，“侧链”表示从主链分支的原子团。
作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酸基，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。
作为具有反应性基团的结构单元的一例，可以举出下述所示的结构单元，但当然并不限定于这些。
[化学式4]
Figure BDA0003423941540000151
粘合剂聚合物可以单独具有1种具有反应性基团的结构单元，也可以具有2种以上。
在粘合剂聚合物含有具有反应性基团的结构单元的情况下，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总质量，具有反应性基团的结构单元的含量优选为5质量％～70质量％，更优选为10质量％～50质量％，尤其优选为20质量％～40质量％。
并且，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，相对于粘合剂聚合物的总量，粘合剂聚合物中的具有反应性基团的结构单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
作为将反应性基团导入到粘合剂聚合物中的方法，可举出使环氧化合物、封端异氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸等进行反应的方法。
作为将反应性基团导入到粘合剂聚合物中的方法的优选例，可举出如下方法：通过聚合反应合成具有羧基的聚合物之后，通过高分子反应使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯与所得到的聚合物的羧基的一部分反应，从而将(甲基)丙烯酰氧基导入到聚合物中。通过该方法，能够获得在侧链上具有(甲基)丙烯酰氧基的粘合剂聚合物。
上述聚合反应优选在70℃～100℃的温度条件下进行，更优选在80℃～90℃的温度条件下进行。作为上述聚合反应中使用的聚合引发剂，优选偶氮系引发剂，例如更优选FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制的V-601(商品名)或V-65(商品名)。上述高分子反应优选在80℃～110℃的温度条件下进行。在上述高分子反应中，优选使用铵盐等催化剂。
从图案化性及可靠性的方面出发，相对于粘合剂聚合物总质量，粘合剂聚合物的各结构单元的残留单体的含量优选为5,000质量ppm以下，更优选为2,000质量ppm以下，进一步优选为500质量ppm以下。下限没有特别限制，但优选为1质量ppm以上，更优选为10质量ppm以上。
从图案化性及可靠性的方面出发，相对于后述的感光性组合物总质量，粘合剂聚合物的各结构单元的残留单体优选为3,000质量ppm以下，更优选为600质量ppm以下，进一步优选为100质量ppm以下。下限没有特别限制，但优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。
通过高分子反应合成粘合剂聚合物时的单体的残留单体量也优选在上述范围内。例如，在使丙烯酸缩水甘油酯与羧酸侧链反应来合成粘合剂聚合物的情况下，优选将丙烯酸缩水甘油酯的含量设为上述范围。
残留单体的量能够通过液相色谱分析、气相色谱分析等的公知的方法进行测量。
作为粘合剂聚合物，可优选举出以下所示的聚合物。另外，以下所示的各结构单元的含有比率(a～d)及重均分子量Mw等能够根据目的而适当变更。
[化学式5]
Figure BDA0003423941540000171
[化学式6]
Figure BDA0003423941540000172
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)优选为5,000以上，更优选为10,000以上，进一步优选为10,000～50,000，尤其优选为20,000～30,000。
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅含有一种粘合剂聚合物，也可以含有两种以上。
例如，从固化膜的强度及转印膜中的操作性的观点出发，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分，粘合剂聚合物的含量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，进一步优选为30质量％～70质量％。
＜聚合性单体＞
作为聚合性单体，优选为具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(以下也简称为“烯属不饱和化合物”。)。
具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物为有助于感光性树脂层的感光性(即，光固化性)及固化膜的强度的成分。
并且，烯属不饱和化合物为具有1个以上的烯属不饱和基团的化合物。
作为烯属不饱和化合物，感光性树脂层优选为包含2官能以上的烯属不饱和化合物。
在此，2官能以上的烯属不饱和化合物是指，在一个分子中具有2个以上的烯属不饱和基团的化合物。
作为烯属不饱和基团，更优选为(甲基)丙烯酰基。
作为烯属不饱和化合物，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物。
从固化后的固化性的观点出发，感光性树脂层尤其优选含有2官能的烯属不饱和化合物(优选为2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)、3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。
作为2官能的烯属不饱和化合物并没有特别的限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为2官能的烯属不饱和化合物，可举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作为2官能的烯属不饱和化合物，更具体而言，可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP、Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N、Shin NakamuraChemical Co.,Ltd.制)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N、Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)等。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物并没有特别的限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，例如可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物等。
在此，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
作为烯属不饱和化合物，还可以举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制A-9300-1CL等)、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARAD RP-1040、Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧化甘油三丙烯酸酯(Shin NakamuraChemical Co.,Ltd.制A-GLY-9E等)等。
作为烯属不饱和化合物，还可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(优选为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物)。官能团数的上限例如能够设为20官能以下。
作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可举出8UX-015A(TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.制)、UA-32P(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、UA-1100H(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.制的AH-600(商品名)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H、UX-5000(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)等。
并且，从提高显影性的观点出发，烯属不饱和化合物优选包含具有酸基的烯属不饱和化合物。
作为酸基，例如可举出磷酸基、磺酸基及羧基，优选为羧基。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，例如可举出具有酸基的3～4官能的烯属不饱和化合物(在季戊四醇三及四丙烯酸酯(PETA)骨架导入羧基而成(酸值＝80～120mgKOH/g))、具有酸基的5～6官能的烯属不饱和化合物(在二季戊四醇五及六丙烯酸酯(DPHA)骨架导入羧基而成(酸值＝25～70mgKOH/g))、等。这些具有酸基的3官能以上的烯属不饱和化合物可以根据需要与具有酸基的2官能的烯属不饱和化合物同时使用。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选为选自由含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐组成的组中的至少1种。由此，显影性及固化膜的强度得到提高。
含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物并没有特别的限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物，例如能够优选地使用ARONIX(注册商标)TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制)、ARONIX M-520(TOAGOSEI CO.,LTD.制)或ARONIXM-510(TOAGOSEI CO.,LTD.制)。
具有酸基的烯属不饱和化合物也优选为在日本特开2004-239942号公报的0025～0030段中记载的具有酸基的聚合性化合物。该公报的内容编入到本说明书中。
在本发明中，烯属不饱和化合物优选为由下述式(I)表示的化合物A(也简称为“化合物A”。)。
Q2-R1-Q1 式(I)
在式(I)中，Q1及Q2分别独立地表示(甲基)丙烯酰氧基，R1表示具有链状结构的2价的连结基团。
从合成容易性的观点出发，式(I)中的Q1及Q2优选Q1及Q2为相同的基团。
并且，从反应性的观点出发，式(I)中的Q1及Q2优选为丙烯酰氧基。
从所获得的固化膜的耐弯曲性的观点出发，式(I)中的R1优选为亚烷基、亚烷氧基亚烷基(-L1-O-L1-)、或聚亚烷氧基亚烷基(-(L1-O)p-L1-)，更优选为碳原子数2～20的烃基或聚亚烷氧基亚烷基，进一步优选为碳原子数4～20的亚烷基，尤其优选为碳原子数6～18的直链亚烷基。上述烃基在至少一部分具有链状结构即可，例如可以是直链状、支链状、环状及这些组合中的任一个，从所获得的固化膜的耐弯曲性的观点出发，优选为亚烷基或组合2个以上的亚烷基和1个以上的亚芳基的基团，更优选为亚烷基，尤其优选为直链亚烷基。
另外，上述L1分别独立地表示亚烷基，优选为乙烯基、亚丙基或亚丁基，更优选为乙烯基或1,2-亚丙基。p表示2以上的整数，优选为2～10的整数。
并且，从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性的观点出发，化合物A中的连结Q1及Q2之间的最短连结链的原子数优选为3个～50个，更优选为4个～40个，进一步优选为6个～20个，尤其优选为8个～12个。
在本发明中，“连结Q1及Q2之间的最短连结链的原子数”是指，从连结到Q1的R1中的原子连结至连结到Q2的R1中的原子的最短的原子数。
作为化合物A的具体例，可举出1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,7-庚二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,8-辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-环己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚F的二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/丙二醇)二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯。上述酯单体也能够作为混合物使用。
从所获得的固化膜的耐弯曲性的观点出发，在上述化合物中，也优选为选自由1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种化合物，更优选为选自由1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种化合物，尤其优选为选自由1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种化合物。
作为烯属不饱和化合物的重均分子量(Mw)，优选为200～3,000，更优选为250～2,600，进一步优选为280～2,200，尤其优选为300～2,200。
并且，在感光性树脂层中所使用的烯属不饱和化合物中，相对于在感光性树脂层中所含有的所有烯属不饱和化合物，分子量300以下的烯属不饱和化合物的含量的比例优选为30质量％以下，更优选为25质量％以下，进一步优选为20质量％以下。
烯属不饱和化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
相对于感光性树脂层的总质量，感光性树脂层中的烯属不饱和化合物的含量优选为1质量％～70质量％，更优选为5质量％～70质量％，进一步优选为10质量％～70质量％，尤其优选为20质量％～60质量％，最优选为20质量％～50质量％。
并且，在感光性树脂层含有2官能的烯属不饱和化合物与3官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，相对于感光性树脂层中所含的所有的烯属不饱和化合物，2官能的烯属不饱和化合物的含量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～85质量％，进一步优选为30质量％～80质量％。
并且，此时，3官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性树脂层中所含的所有的烯属不饱和化合物优选为10质量％～90质量％，更优选为15质量％～80质量％，进一步优选为20质量％～70质量％。
并且，此时，相对于2官能的烯属不饱和化合物与3官能以上的烯属不饱和化合物的总含量，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量优选为40质量％以上且小于100质量％，更优选为40质量％～90质量％，进一步优选为50质量％～80质量％，尤其优选为50质量％～70质量％。
并且，在感光性树脂层含有2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，感光性树脂层还可以含有单官能烯属不饱和化合物。
此外，在感光性树脂层含有2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，优选在感光性树脂层中所含有的烯属不饱和化合物中，2官能以上的烯属不饱和化合物为主成分。
具体而言，在感光性树脂层含有2官能以上的烯属不饱和化合物情况下，相对于感光性树脂层中所含有的烯属不饱和化合物的总含量，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量优选为60质量％～100质量％，更优选为80质量％～100质量％，尤其优选为90质量％～100质量％。
并且，在感光性树脂层含有具有酸基的烯属不饱和化合物(优选为含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物或其羧酸酐)的情况下，相对于感光性树脂层，具有酸基的烯属不饱和化合物的含量优选为1质量％～50质量％，更优选为1质量％～20质量％，进一步优选为1质量％～10质量％。
＜光聚合引发剂＞
作为光聚合引发剂并没有特别的限制，能够使用公知的光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下也称作“肟系光聚合引发剂”。)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下也称作“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下也称作“α-羟烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下也称作“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)、具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下也称作“N-苯基甘胺酸系光聚合引发剂”。)等。
光聚合引发剂优选包含选自由肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂组成的组中的至少1种，更优选包含选自由肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂组成的组中的至少1种。
并且，作为光聚合引发剂，例如也可以使用在日本特开2011-95716号公报的0031～0042段、日本特开2015-014783号公报的0064～0081段中记载的聚合引发剂。
作为光聚合引发剂的市售品，可举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮-2-(O-苯甲酰肟)〔商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制〕、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基肟)〔商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-02、BASF公司制〕、IRGACURE(注册商标)OXE03(BASF公司制)、IRGACURE(注册商标)OXE04(BASF公司制)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮〔商品名：IRGACURE(注册商标)379EG、BASF公司制〕、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮〔商品名：IRGACURE(注册商标)907、BASF公司制〕、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮〔商品名：IRGACURE(注册商标)127、BASF公司制〕、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮-1〔商品名：IRGACURE(注册商标)369、BASF公司制〕、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮〔商品名：IRGACURE(注册商标)1173、BASF公司制〕、1-羟基环己基苯基酮〔商品名：IRGACURE(注册商标)184、BASF公司制〕、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮〔商品名：IRGACURE 651、BASF公司制〕等、肟酯系的〔商品名：Lunar(注册商标)6、DKSH Management Ltd.制〕、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙烷-1,2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名：TR-PBG-305、常州强力电子新材料公司制)、1,2-丙二酮,3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃基羰基)-9H-咔唑-3-基]-2-(O-乙酰基肟)(商品名：TR-PBG-326、常州强力电子新材料公司制)、3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰氧基亚氨基)己酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基)-丙烷-1,2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名：TR-PBG-391、常州强力电子新材料公司制)等。
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅含有一种光聚合引发剂，也可以含有两种以上。
光聚合引发剂的含量并无特别限制，但相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。
并且，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，光聚合引发剂的含量优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。
从固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性变得更加良好的理由出发，本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有通过加热产生能够与酸基或羟基反应的基团的化合物(以下也简称为“热交联性化合物”。)。
作为热交联性化合物，例如可举出环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、羟甲基化合物、封端异氰酸酯化合物等。其中，从获得的固化膜的强度及获得的未固化膜的粘合性的观点出发，优选以下所示的封端异氰酸酯化合物。
＜封端异氰酸酯化合物＞
封端异氰酸酯化合物是指，“具有将异氰酸酯的异氰酸酯基以封端剂进行保护(所谓掩模)的结构的化合物”。
封端异氰酸酯化合物的解离温度并无特别限制，但优选为100℃～160℃，更优选为130℃～150℃。
在此，封端异氰酸酯的解离温度是指，“使用差示扫描量热计通过DSC(Differential scanning calorimetry，差示扫描量热法)分析测量时伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。
作为差示扫描量热计，例如能够优选使用Seiko Instruments Inc.制的差示扫描量热计(型号：DSC6200)。但是，差示扫描量热计并不限定于此。
作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，可举出活性亚甲基化合物〔(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2-乙基己酯等)等〕、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的结构的化合物)等。
其中，作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，例如，从保存稳定性的观点出发，优选选自肟化合物中的至少一种。
例如，从改善膜的脆性、提高与被转印体之间的密合力等观点出发，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。
具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如通过将六亚甲基二异氰酸酯异氰脲酸酯化来进行保护而得。
在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中，从比不具有肟结构的化合物容易将解离温度设在优选的范围，并且容易减少显影残渣等观点出发，也优选为将肟化合物用作封端剂的具有肟结构的化合物。
例如，从固化膜的强度的观点出发，封端异氰酸酯化合物优选具有聚合性基团，更优选具有自由基聚合性基团。
作为聚合性基团，没有特别的限制，可以使用公知的聚合性基团。
作为聚合性基团，可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基等烯属不饱和基团、缩水甘油基等具有环氧基的基团等。
其中，作为聚合性基团，从获得的固化膜中的表面的面状、显影速度及反应性的观点出发，优选烯属不饱和基团，更优选(甲基)丙烯酰氧基，尤其优选为丙烯酰氧基。
作为封端异氰酸酯化合物，能够使用市售品。
作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子，可举出Karenz(注册商标)AOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BP等(以上，SHOWA DENKO K.K制)、封端型Duranate系列(例如，Duranate(注册商标)TPA-B80E、Asahi Kasei Corporation制)等。
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅含有一种热交联性化合物，也可以含有两种以上。
在包含热交联性化合物的情况下，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，热交联性化合物的含量优选为1质量％～50质量％，更优选为5质量％～30质量％。
从固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性变得更加良好的理由出发，本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有能够进行迈克尔加成反应的化合物，具体而言，更优选含有以下所示的硫醇化合物。
<硫醇化合物>
作为硫醇化合物，优选使用单官能硫醇化合物或多官能硫醇化合物。其中，从固化后的硬度的观点出发，优选包含2官能以上的硫醇化合物(多官能硫醇化合物)，更优选为多官能硫醇化合物。
在此，多官能硫醇化合物是指，在分子内具有2个以上的巯基(硫醇基)的化合物。
作为多官能硫醇化合物，优选为分子量100以上的低分子化合物，具体而言，更优选为分子量100～1,500，进一步优选为150～1,000。
作为多官能硫醇化合物的官能团数，从固化后的硬度的观点出发，优选为2官能～10官能，更优选为2官能～8官能，进一步优选为2官能～6官能。
并且，作为多官能硫醇化合物，从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点出发，优选为脂肪族多官能硫醇化合物。
此外，作为硫醇化合物，从感光性转印材料的保存稳定性的观点出发，更优选仲硫醇化合物。
作为多官能硫醇化合物，具体而言能够例示出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、乙二醇双硫代丙酸酯、1,2-苯二硫醇、1,3-苯二硫醇、1,2-乙二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,6-六亚甲基二硫醇、2,2’-(乙烯二硫代)二乙硫醇、内消旋-2,3-二巯基丁二酸、对甲苯二硫醇、间甲苯二硫醇、二(巯基乙基)酯等。
这些之中，可优选地举出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)及二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)。
作为单官能硫醇化合物，脂肪族硫醇化合物及芳香族硫醇化合物均可以使用。
作为单官能脂肪族硫醇化合物，具体而言可举出1-辛硫醇、1-十二烷硫醇、β-巯基丙酸、甲基-3-巯基丙酸酯、2-乙基己酯-3-巯基丙酸酯、正辛基-3-巯基丙酸酯、甲氧基丁基-3-巯基丙酸酯、硬脂基-3-氢基丙酸酯等。
作为单官能芳香族硫醇化合物，可举出苯硫酚、甲苯硫醇、二甲苯硫醇等。
从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点出发，上述硫醇化合物优选为具有酯键的硫醇化合物，更优选为包含由下述式1表示的化合物。
[化学式7]
Figure BDA0003423941540000271
式1中，n表示1～6的整数，A表示碳原子数1～15的n价的有机基团或由下述式2表示的基团，R1分别独立地表示碳原子数1～15的二价的有机基团。
[化学式8]
Figure BDA0003423941540000272
式2中，R2～R4分别独立地表示碳原子数1～15的二价的有机基团，波浪线部分表示与上述式1中的A相邻的与氧原子的键合位置。其中，在A表示由下述式2所示的基团的情况下，n表示3。
从固化后的硬度的观点出发，式1中的n优选为2～6的整数。
从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点出发，式1中的A优选为碳原子数1～15的n价的脂肪族基团或由上述式2表示的基团，更优选为碳原子数4～15的n价的脂肪族基团或由上述式2表示的基团，进一步优选为碳原子数4～10的n价的脂肪族基团或由上述式2表示的基团，尤其优选为由上述式2表示的基团。
并且，从粘性以及固化后的耐弯曲性、硬度及透湿性的观点出发，式1中的A优选包括氢原子及碳原子的n价的基团或包括氢原子、碳原子及氧原子的n价的基团，更优选为包括氢原子及碳原子的n价的基团，尤其优选为n价的脂肪族烃基。
从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点出发，式1中的R1分别独立地优选为碳原子数1～15的亚烷基，更优选为碳原子数2～4的亚烷基，进一步优选为碳原子数3的亚烷基，尤其优选为1,2-亚丙基。上述亚烷基可以是直链状，也可以具有分支。
从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点出发，式2中的R2～R4分别独立地优选为碳原子数2～15的脂肪族基团，更优选为碳原子数2～15的亚烷基或碳原子数3～15的聚亚烷氧基烷基，进一步优选为碳原子数2～15的亚烷基，尤其优选为乙烯基。
并且，作为多官能硫醇化合物，优选为具有2个以上由下述式S-1表示的基团的化合物。
[化学式9]
Figure BDA0003423941540000281
式S-1中，R1S表示氢原子或烷基，A1S表示-CO-或-CH2-，波浪线部分表示与其他结构的键合位置。
作为多官能硫醇化合物，优选为具有2个以上且6个以下由式S-1表示的基团的化合物。
作为式S-1中的R1S中的烷基，可以是直链、分支或环状的烷基，作为碳原子数的范围，优选为1～16，更优选为1～10。作为烷基的具体例，为甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、2-乙基己基等，优选为甲基、乙基、丙基或异丙基。
作为R1S，尤其优选为氢原子、甲基、乙基、丙基或异丙基，最优选为甲基或乙基。
此外，作为多官能硫醇化合物，尤其优选为具有多个由上述式S-1表示的基团的由下述式S-2表示的化合物。
[化学式10]
Figure BDA0003423941540000282
式S-2中，R1S分别独立地表示氢原子或烷基，A1S分别独立地表示-CO-或-CH2-，L1S表示nS价的连接基团，nS表示2～8的整数。从合成上的观点出发，优选R1S均为相同的基团，并且，优选A1S均为相同的基团。
式S-2中的R1S与上述式S-1中的R1S的含义相同，优选范围也相同。nS优选为2～6的整数。
作为式S-2中的nS价的连接基团的L1S，例如可举出-(CH2)mS-(mS表示2～6的整数。)、-(CH2)mS{(CH2)mSO}mT(CH2)mS-(mS及mT分别独立地表示2～6的整数。)等的二价的连接基团、三羟甲基丙烷残基、具有3个-(CH2)pS-(pS表示2～6的整数。)的异氰脲酸环等三价的连接基团、季戊四醇残基等四价的连接基团、二季戊四醇残基等五价或六价的连接基团。
作为硫醇化合物，具体而言，可优选地举出以下化合物，但当然并不限定于这些。
[化学式11]
Figure BDA0003423941540000291
[化学式12]
Figure BDA0003423941540000301
＜杂环化合物＞
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有杂环化合物。
杂环化合物有助于提高相对于基材(尤其，铜基板)的密合性及金属(尤其，铜)的抗腐蚀性。
杂环化合物所具有的杂环可以为单环及多环中的任一杂环。
作为杂环化合物所具有的杂原子，可举出氮原子、氧原子、硫原子等。杂环化合物优选具有选自由氮原子、氧原子及硫原子组成的组中的至少一种原子，更优选具有氮原子。
作为杂环化合物，例如可优选地举出三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、罗丹宁化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、苯并噁唑化合物或嘧啶化合物。上述中，杂环化合物优选为选自由三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、罗丹宁化合物、噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物组成的组中的至少一种化合物，更优选为选自由三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物组成的组中的至少一种化合物。
以下示出杂环化合物的优选具体例。作为三唑化合物及苯并三唑化合物，能够例示出以下化合物。
[化学式13]
Figure BDA0003423941540000311
作为四唑化合物，能够例示出以下化合物。
[化学式14]
Figure BDA0003423941540000312
作为噻二唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式15]
Figure BDA0003423941540000321
作为三嗪化合物，能够例示出以下化合物。
[化学式16]
Figure BDA0003423941540000322
作为罗丹宁化合物，能够例示出以下化合物。
[化学式17]
Figure BDA0003423941540000323
作为噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式18]
Figure BDA0003423941540000324
作为苯并噻唑化合物，能够例示出以下化合物。
[化学式19]
Figure BDA0003423941540000331
作为苯并咪唑化合物，能够例示出以下化合物。
[化学式20]
Figure BDA0003423941540000332
作为苯并噁唑化合物，能够例示出以下化合物。
[化学式21]
Figure BDA0003423941540000333
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅含有一种杂环化合物，也可以含有两种以上。
在含有杂环化合物的情况下，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，杂环化合物的含量优选为0.01质量％～20质量％，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.3质量％～8质量％，尤其优选为0.5质量％～5质量％。通过杂环化合物的含量在上述范围内，能够提高相对于基材(尤其，铜基板)的密合性及金属(尤其，铜)的抗腐蚀性。
＜表面活性剂＞
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物可以含有表面活性剂。
作为表面活性剂并无特别限制，能够使用公知的表面活性剂。
作为表面活性剂，可举出日本专利第4502784号公报的0017段及日本特开2009-237362号公报的0060～0071段中记载的表面活性剂。
作为表面活性剂，优选氟系表面活性剂或硅系表面活性剂。
作为氟系表面活性剂的市售品的例子，可举出MEGAFACE(注册商标)F551A(DICCorporation制)。
作为氟系表面活性剂的市售品，例如可举出MEGAFACE F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-551-A、F-552、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上，DIC Corporation制)、FLUORAD FC430、FC431、FC171(以上，Sumitomo 3M Limited制)、SURFLON S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上，AGC Inc.制)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上，OMNOVA Solutions Inc.制)、FTERGENT 710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F(以上，NEOS COMPANY LIMITED制)等。
并且，氟系表面活性剂具有带含有氟原子的官能团的分子结构，也能够优选使用丙烯酸系化合物，所述丙烯酸系化合物若施加热则含有氟原子的官能团的一部分被切割而氟原子挥发。作为这种氟系表面活性剂，可举出DIC Corporation制的MEGAFACE DS系列(化学工业日报(2016年2月22日)、日经产业新闻(2016年2月23日))、例如MEGAFACE DS-21。
并且，氟系表面活性剂也优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子乙烯基醚化合物与亲水性乙烯基醚化合物的聚合物。
氟系表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。氟系表面活性剂也能够优选使用包含源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元、源自具有2个以上(优选为5以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元的含氟高分子化合物。
氟系表面活性剂也能够使用在侧链具有含烯属不饱和键基团的含氟聚合物。可举出MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上，DIC Corporation制)等。
作为非离子系表面活性剂，可举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及这些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、失水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上，BASF公司制)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(以上，BASF公司制)、Solsperse 20000(以上，The Lubrizol Corporation制)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)、Pionin D-6112、D-6112-W、D-6315(以上，Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制)、Olfine E1010、Surfynol 104、400、440(以上，Nissin Chemical co.,ltd.制)等。
作为硅系表面活性剂，可举出包括硅氧烷键的直链状聚合物、及在侧链或末端导入有机基团而得的改性硅氧烷聚合物。
作为硅系表面活性剂的市售品的例子，可举出DOWSIL 8032ADDITIVE、ToraySilicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray SiliconeSH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上，Dow Corning Toray Co.,Ltd.制)以及X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上，Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制)、F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上，Momentive performance MaterialsInc.制)、BYK307、BYK323、BYK330(以上，BYK Co.,LTD制)等。可举出DOWSIL(注册商标)8032(Dow Toray Co.,Ltd.制)。
从在感光性树脂层上容易压接及剥离后述的保护膜的方面上，优选硅系表面活性剂。
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅含有一种表面活性剂，也可以含有两种以上。
在含有表面活性剂的情况下，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，表面活性剂的含量优选为0.01质量％～3质量％，更优选为0.05质量％～1质量％，进一步优选为0.1质量％～0.8质量％。
＜供氢性化合物＞
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有供氢性化合物。
在此，供氢性化合物具有进一步提高光聚合引发剂相对于活化光线的灵敏度、抑制基于氧的聚合性化合物的聚合障碍等的作用。
作为供氢性化合物，可举出胺类、例如，M.R.Sander等著“Journal of PolymerSociety”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-20189号公报、日本特开昭51-82102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-84305号公报、日本特开昭62-18537号公报、日本特开昭64-33104号公报、Research Disclosure 33825号等中记载的化合物等。
作为供氢性化合物的具体例，可举出三乙醇胺、对二甲氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲硫基二甲基苯胺等。
并且，作为供氢性化合物，还可举出氨基酸化合物(N-苯基甘氨酸等)、日本特公昭48-42965号公报中记载的有机金属化合物(乙酸三丁基锡等)、日本特公昭55-34414号公报中记载的供氢体、日本特开平6-308727号公报中记载的硫化合物(三噻烷等)等。
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅含有一种供氢性化合物，也可以含有两种以上。
在含有供氢性化合物的情况下，例如，从通过聚合生长速度和链转移的平衡来提高固化速度的观点出发，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，供氢性化合物的含量优选为0.01质量％～10质量％，更优选为0.03质量％～5质量％，进一步优选为0.05质量％～3质量％。
＜溶剂＞
形成本发明的转印膜所具有的感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有溶剂。
若感光性树脂组合物含有溶剂，则趋于容易通过涂布来形成感光性树脂层。
作为溶剂，能够无特别限制地使用通常使用的溶剂。
作为溶剂，优选为有机溶剂。
作为有机溶剂，可举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别名：乙酸1-甲氧基-2-丙酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇、2-丙醇等。
作为溶剂，优选为甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂或二乙二醇乙基甲基醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。
作为溶剂，也能够使用美国专利申请公开第2005/282073号说明书的0054及0055段中记载的Solvent，该说明书的内容编入到本发明中。
并且，作为溶剂，还能够根据需要使用沸点为180℃～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。
在感光性树脂组合物含有溶剂的情况下，可以仅含有一种溶剂，也可以含有两种以上。
在含有溶剂的情况下，相对于感光性树脂组合物的总质量，感光性树脂组合物的固体成分量优选为5质量％～80质量％，更优选为5质量％～40质量％，尤其优选为5质量％～30质量％。
在感光性树脂组合物含有溶剂的情况下，例如，从涂布性的观点出发，感光性树脂组合物的25℃下的粘度优选为1mPa·s～50mPa·s，更优选为2mPa·s～40mPa·s，进一步优选为3mPa·s～30mPa·s。
使用粘度计来测量粘度。作为粘度计，例如能够优选使用TOKI SANGYO CO.,LTD.制的粘度计(商品名：VISCOMETER TV-22)。但是，粘度计并不限定于此。
在感光性树脂组合物含有溶剂的情况下，例如，从涂布性的观点出发，感光性树脂组合物的25℃下的表面张力优选为5mN/m～100mN/m，更优选为10mN/m～80mN/m，进一步优选为15mN/m～40mN/m。
使用表面张力计来测量表面张力。作为表面张力计，例如能够优选使用KyowaInterface Science Co.,Ltd.制的表面张力计(商品名：Automatic Surface TensiometerCBVP-Z)。但是，表面张力计并不限定于此。
＜其他成分＞
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物可以含有除了已叙述的成分以外的成分(所谓的其他成分)。
作为其他成分，可举出粒子(例如，金属氧化物粒子)、着色剂等。
并且，作为其他成分，例如也可举出日本专利第4502784号公报的0018段中记载的热聚合抑制剂、日本特开2000-310706号公报的0058～0071段中记载的其他添加剂等。
-粒子-
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以以调节折射率、光透射性等为目的而含有粒子(例如，金属氧化物粒子；以下相同。)。
在金属氧化物粒子中的金属中，还包括B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。
例如，从固化膜的透明性的观点出发，粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，更优选为3nm～80nm。
粒子的平均一次粒径通过使用电子显微镜测量任意200个粒子的粒径，并将测量结果进行算术平均来计算。另外，在粒子的形状不是球形的情况下，将最长的边设为粒径。
在感光性树脂层或感光性树脂组合物含有粒子的情况下，可以仅含有一种金属种类、大小等不同的粒子，也可以含有两种以上的金属种类、大小等不同的粒子。
感光性树脂层或感光性树脂组合物优选不含粒子或相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，粒子的含量超过0质量％且为35质量％以下，更优选不含粒子或相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，粒子的含量超过0质量％且为10质量％以下，进一步优选不含粒子或相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，粒子的含量超过0质量％且为5质量％以下，进一步优选不含粒子或相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，粒子的含量超过0质量％且为1质量％以下，尤其优选不含粒子。
-着色剂-
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以含有微量的着色剂(颜料、染料等)，但例如从透明性的观点出发，优选实质上不含着色剂。
在含有着色剂的情况下，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，着色剂的含量优选为小于1质量％，更优选为小于0.1质量％。
感光性树脂层的厚度并无特别限制，优选为20μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为12μm以下。
感光性树脂层的厚度为20μm以下，则在转印膜整体的膜化、提高感光性树脂层或所获得的固化膜的透射率、抑制感光性树脂层或所获得的固化膜的黄色着色化等方面有利。
感光性树脂层的厚度例如从制造适用性的观点出发，优选为1μm以上，更优选为2μm以上，尤其优选为3μm以上。
感光性树脂层的厚度作为通过利用扫描式电子显微镜(SEM)的截面观察测出的任意5个点的平均值来计算。
感光性树脂层的折射率并无特别限制，但优选为1.47～1.56，更优选为1.50～1.53，进一步优选为1.50～1.52，尤其优选为1.51～1.52。
感光性树脂层优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角8°、光源：D-65(2°视野))在CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，L*值优选为10～90，a*值优选为-1.0～1.0，b*值优选为-1.0～1.0。
作为感光性树脂层的形成方法，并无特别限定，能够使用公知的方法。
作为感光性树脂层的形成方法的一例，可举出通过在临时支承体上涂布含有溶剂的方式的感光性树脂组合物，并根据需要使其干燥来形成感光性树脂层的方法。
作为涂布方法，能够使用公知的方法。
作为涂布方法，可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法、模涂法(即，狭缝涂布法)等。
其中，作为涂布方法，优选模涂法。
作为干燥方法，能够使用自然干燥、加热干燥、减压干燥等公知的方法，能够单独适用这些方法或组合多个这些方法来适用。
在本发明中，“干燥”是指，去除组合物中所含的溶剂的至少一部分。
〔保护膜〕
本发明的转印膜具有保护膜。
作为保护膜，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚丙烯膜、聚苯乙烯膜及聚碳酸酯膜等。
作为保护膜，例如可以使用日本特开2006-259138号公报的0083～0087段及0093段中记载的膜。
关于本发明的转印膜所具有的保护膜，感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为150nm以下，优选为1～80nm，更优选为1～30nm。
在本发明中，从将保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra调整为上述范围的观点出发，可以在保护膜中含有粒子，作为临时支承体中含有的层结构，可以具有构成感光性树脂层侧的表面的粒子含有层。
作为保护膜(尤其粒子含有层)中含有的粒子，可举出与以临时支承体中含有的粒子为例示的粒子相同的粒子。
在本发明中，从临时支承体及保护膜的剥离性和固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性能够以更高的水平兼顾的理由出发，优选满足下述式(2)。
Y≤Z 式(2)
在此，在式(2)中，Y表示临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)，Z表示保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)。
〔折射率调整层〕
本发明的转印膜在感光性树脂层与保护膜之间，还可以具有折射率比感光性树脂层高的折射率调整层。
折射率调整层的折射率优选为1.50以上，更优选为1.55以上，进一步优选为1.60以上，尤其优选为1.70以上。
折射率调整层的折射率的上限并无特别限制，但优选为2.10以下，更优选为1.85以下，进一步优选为1.78以下，尤其优选为1.74以下。
折射率调整层可以具有光固化性(即，感光性)，也可以具有热固化性，还可以具有光固化性及热固化性这两者，但从形成强度优异的固化膜的观点考虑，优选具有光固化性。
折射率调整层优选具有碱溶性(例如相对于弱碱水溶液的溶解性)。
作为折射率调整层的厚度，并没有特别限制。
折射率调整层的厚度优选为50nm以上且500nm以下，更优选为55nm以上且110nm以下，进一步优选为60nm以上且100nm以下。
折射率调整层的厚度作为通过利用扫描式电子显微镜(SEM)的截面观察测出的任意5个点的平均值来计算。
控制折射率调整层的折射率的方法并没有特别的限制，例如可举出单独使用规定折射率的树脂的方法、使用树脂与金属氧化物粒子或金属粒子的方法、使用金属盐与树脂的复合体的方法等。
作为金属氧化物粒子的种类，并没有特别的限制，能够使用公知的金属氧化物粒子。
作为金属氧化物粒子，具体而言，优选为选自由氧化锆粒子(ZrO2粒子)、Nb2O5粒子、氧化钛粒子(TiO2粒子)及二氧化硅粒子(SiO2粒子)组成的组中的至少一种。
其中，作为金属氧化物粒子，例如从容易将折射率调整层的折射率调整为1.6以上的观点出发，更优选为选自由氧化锆粒子及氧化钛粒子组成的组中的至少一种。例如，从固化膜的透明性的观点出发，粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，更优选为3nm～80nm。
粒子的平均一次粒径通过使用电子显微镜测量任意200个粒子的粒径，并将测量结果进行算术平均来计算。另外，在粒子的形状不是球形的情况下，将最长的边设为粒径。
在折射率调整层含有金属氧化物粒子的情况下，折射率调整层可以仅含有一种金属氧化物粒子，也可以含有两种以上的金属氧化物粒子。
作为金属酸化物粒子的市售品，能够举出
煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名：ZRPGM15WT％-F04)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名：ZRPGM15WT％-F74)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名：ZRPGM15WT％-F75)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名：ZRPGM15WT％-F76)、
氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30M、Nissan Chemical Corporation制)
氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30K、Nissan Chemical Corporation制)。
从电极图案等的被隐蔽物的隐蔽性变得良好，能够有效地改善被隐蔽物的可见性的观点考虑，相对于折射率调整层的总质量，金属氧化物粒子的含量优选为1质量％～95质量％，更优选为20％～90％，进一步优选为40质量％～85％质量％。
在作为金属氧化物粒子使用氧化钛的情况下，相对于折射率调整层的总质量，氧化钛粒子的含量优选为1质量％～95质量％，更优选为20％～90％，进一步优选为40质量％～85％质量％。
并且，折射率调整层优选含有粘合剂聚合物及烯属不饱和化合物。
关于折射率调整层的成分，能够参考在日本特开2014-108541号公报的0019～0040段及0144～0150段中记载的固化性第二树脂层的成分、在日本特开2014-10814号公报的0024～0035段及0110～0112段中记载的透明层的成分、在国际公开第2016/009980号的0034～0056段中记载的具有铵盐的组合物的成分等。
作为折射率调整层所含有的粘合剂聚合物，能够使用与感光性树脂层所含有的粘合剂聚合物相同的粘合剂聚合物，优选范围也相同。
作为折射率调整层所含有的烯属不饱和化合物，能够使用与感光性树脂层所含有的具有烯属不饱和化合物的自由基聚合性化合物相同的烯属不饱和化合物，优选范围也相同。
并且，从与折射率调整层接触的金属氧化抑制性的观点出发，折射率调整层优选含有至少一种金属抗氧化剂。
作为金属抗氧化剂，例如可优选举出在分子内具有含有氮原子的芳香环的化合物。
作为金属抗氧化剂的例子，可举出咪唑、苯并咪唑、四唑、巯基噻二唑及苯并三唑等。
折射率调整层可以含有除上述的成分以外的其他成分。
作为折射率调整层中可含有的其他成分，可举出与已叙述的感光性树脂层中所含的各成分相同的成分。
折射率调整层优选含有表面活性剂作为其他成分。
折率调整层优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角8°、光源：D-65(2°视野))在CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，L*值优选为10～90，a*值优选为-1.0～1.0，b*值优选为-1.0～1.0。
作为折射率调整层的形成方法，并没有特别的限定。
作为折射率调整层的形成方法的一例，可举出通过在形成于临时支承体上的已叙的述感光性树脂层上涂布含有水系溶剂的方式的折射率调整层形成用组合物，且根据需要使其干燥来形成折射率调整层的方法。
折射率调整层的形成方法中的涂布及干燥方法的具体例分别与感光性树脂层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
〔热塑性树脂层〕
本发明的转印膜在临时支承体与感光性树脂层之间还可以具有热塑性树脂层。
若转印膜还具有热塑性树脂层，则在将转印膜转印到基板上而形成了层叠体的情况下，不易产生由层叠引起的气泡。在将该层叠体使用于图像显示装置的情况下，不易产生图像不均匀等，可获得优异的显示特性。
热塑性树脂层优选具有碱溶性。
热塑性树脂层在转印时作为吸收基板表面的凹凸的缓冲材料而发挥作用。
基板表面的凹凸还包含已形成的图像、电极、布线等。
热塑性树脂层优选具有可与凹凸对应地变形的性质。
热塑性树脂层优选包含日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质，更优选包含基于维卡(Vicat)法(具体而言，基于美国材料试验法ASTMD 1235的聚合物软化点测量法)的软化点为约80℃以下的有机高分子物质。
热塑性树脂层的厚度例如优选为3μm～30μm，更优选为4μm～25μm，进一步优选为5μm～20μm。
若热塑性树脂层的厚度为3μm以上，则相对于基板表面的凹凸的追随性进一步提高，因此能够更有效地吸收基板表面的凹凸。
若热塑性树脂层的厚度为30μm以下，则制造适应性进一步提高，因此例如进一步减轻在临时支承体上涂布形成热塑性树脂层时的干燥(所谓的用于去除溶剂的干燥)的负荷，并且进一步缩短转印后的热塑性树脂层的显影时间。
热塑性树脂层的厚度作为通过利用扫描式电子显微镜(SEM)的截面观察测出的任意5个点的平均值来计算。
热塑性树脂层可通过将包含溶剂及热塑性的有机高分子的热塑性树脂层形成用组合物涂布到临时支承体并根据需要使其干燥来形成。
热塑性树脂层的形成方法中的涂布及干燥方法的具体例分别与感光性树脂层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
只要溶解形成热塑性树脂层的高分子成分，则溶剂并无特别限制。
作为溶剂，可举出有机溶剂(例如，甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇)。
热塑性树脂层在100℃下测量出的粘度优选为1,000Pa·s～10,000Pa·s。并且，优选为在100℃下测量的热塑性树脂层的粘度低于在100℃下测量的感光性树脂层的粘度。
[中间层]
本发明的转印膜在临时支承体与感光性树脂层之间还可以具有中间层。
在本发明的转印膜具有热塑性树脂层的情况下，中间层优选配置于热塑性树脂层与感光性树脂层之间。
作为中间层中所含的成分，例如可举出选自由聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮及纤维素组成的组中的至少一种聚合物。
并且，作为中间层，还能够使用在日本特开平5-72724号公报中记载为“分离层”的中间层。
在制造在临时支承体上依次具有热塑性树脂层、中间层及感光性树脂层的方式的转印膜的情况下，中间层例如可以通过涂布不溶解热塑性树脂层的溶剂及含有作为中间层的成分的上述聚合物的中间层形成用组合物并根据需要使其干燥来形成。
详细而言，首先，在临时支承体上涂布热塑性树脂层形成用组合物，并根据需要使其干燥，从而形成热塑性树脂层。接着，在所形成的热塑性树脂层上涂布中间层形成用组合物，并根据需要使其干燥，从而形成中间层。接着，在所形成的中间层上涂布含有有机溶剂的方式的感光性树脂组合物(所谓的感光性树脂层形成用组合物)，使其干燥，从而形成感光性树脂层。另外，感光性树脂层形成用组合物中所含的有机溶剂优选为不溶解中间层的有机溶剂。
中间层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与感光性树脂层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
-杂质-
本发明所涉及的转印膜中，从提高可靠性和图案形成性的观点出发，优选感光性树脂层及上述折射率调整层的杂质的含量较少。
作为杂质的具体例，可举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡及这些的离子、以及卤化物离子(氯化物离子、溴化物离子、碘化物离子等)等。其中，钠离子、钾离子、氯化物离子作为杂质不易混入，因此尤其优选设为下述含量。
各层中的杂质的含量以质量基准计优选为1,000ppm以下，更优选为200ppm以下，尤其优选为40ppm以下。下限并没有特别限定，但从现实中可减少的极限或测量极限的观点出发，以质量基准计，能够设为10ppb以上，且能够设为100ppb以上。
作为将杂质减少到上述范围的方法，可以举出选择在各层的原料中不包含杂质的方法，在形成层时防止杂质混入的方法，清洗去除的方法等。通过这种方法，能够将杂质的量设在上述范围内。
杂质例如能够通过ICP(Inductively Coupled Plasma，电感耦合等离子体)发射光谱分析法、原子吸收光谱法、离子色谱法等公知的方法来定量。
并且，优选为各层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1,3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、己烷等的化合物的含量少。作为这些化合物的各层中的含量，以质量基准计优选为1,000ppm以下，更优选为200ppm以下，尤其优选为40ppm以下。下限并没有特别限定，但从现实中可减少的极限或测量极限的观点出发，以质量基准计，能够设为10ppb以上，且能够设为100ppb以上。
通过与上述的金属杂质相同的方法能够控制化合物的杂质的含量。并且，能够通过公知的测量方法定量。
-转印膜的具体例-
图1是表示本发明的转印膜的一例的概略剖视图。
如图1所示，转印膜10具有保护膜16/折射率调整层20A/感光性树脂层18A/临时支承体12的层叠结构(即依次配置临时支承体12、感光性树脂层18A、折射率调整层20A、保护膜16而成的层叠结构)。
但是，本发明的转印膜并不限定于转印膜10，例如可以省略折射率调整层20A。并且，在临时支承体12与感光性树脂层18A之间，可以具有已叙述的热塑性树脂层及中间层中的至少一层。
折射率调整层20A为从感光性树脂层18A观察时配置于与存在临时支承体12的一侧相反的一侧的层，且为波长550nm中的折射率为1.50以上的层。
转印膜10为负型材料(所谓负型膜)。
转印膜10的制造方法并没有特别的限制。
转印膜10的制造方法例如依次包括在临时支承体12上形成感光性树脂层18A的工序、在感光性树脂层18A上形成折射率调整层20A的工序及在折射率调整层20A上形成保护膜16的工序。
转印膜10的制造方法可以在形成折射率调整层20A的工序与形成保护膜16的工序之间包括在国际公开第2016/009980号的0056段中记载的使氨挥发的工序。
〔用途〕
本发明的转印膜的用途并无特别限制，临时支承体及保护膜的剥离性优异、固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性优异，因此能够优选用作触摸面板用转印膜，能够更优选用作触摸面板中的保护膜形成用转印膜，能够尤其优选用作触摸面板中的电极保护膜形成用转印膜。
[层叠体的制造方法]
本发明的层叠体的制造方法，其具有：
从上述的本发明的转印膜剥离保护膜的第1剥离工序、
将剥离了保护膜之后的转印膜从感光性树脂层侧转印到具有电极的基板上的转印工序；
固化经转印的感光性树脂层的至少一部分，形成固化膜的固化工序；及
在固化工序之后剥离临时支承体，获得在具有电极的基板上层叠固化膜而成的层叠体的第2剥离工序。
另外，本发明的层叠体的制造方法所具有的第1剥离工序、转印工序及第2剥离工序中的具体的方法，可举出与在后述的本发明的触摸面板的制造方法所具有的第1剥离工序、转印工序及第2剥离工序中进行说明的方法相同的方法。
通过本发明的层叠体的制造方法制作的层叠体为在具有电极的基板上，转印本发明的转印膜所具有的感光性树脂层，并层叠有经固化的固化膜的层叠体。
具有电极的基板优选为包含静电电容型输入装置的电极的基板。
并且，静电电容型输入装置的电极可以是透明电极图案，也可以是迂回布线。
作为静电电容型输入装置，可优选地举出触摸面板。
作为触摸面板用电极，例如可举出配置于触摸面板的至少图像显示区域的透明电极图案。触摸面板用电极可以从图像显示区域延伸至触摸面板的框部。
作为触摸面板用布线，例如可举出配置在触摸面板的框部的迂回布线(所谓的取出布线)。
作为触摸面板用基板及触摸面板的方式，优选为通过在延伸至透明电极图案的触摸面板的框部的部分层叠迂回布线的一部分而透明电极图案与迂回布线电连接的方式。
作为透明电极图案的材质，优选为ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等金属氧化膜、或金属网、银纳米线等金属细线。
作为金属细线可举出银、铜等的细线。其中，优选为银网、银纳米线等银导电性材料。
作为迂回布线的材质，优选为金属。
作为迂回布线的材质的金属，可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰以及包含这些金属元素中的2种以上的合金。作为迂回布线的材质，优选为铜、钼、铝或钛，尤其优选为铜。
-触摸面板的第1具体例-
图2是表示具有使用本发明的转印膜转印的感光性树脂层的触摸面板的第1具体例的概略剖视图。更详细而言，图2是触摸面板30的图像显示区域的概略剖视图。
如图2所示，触摸面板30具有依次配置基板32、第二折射率调整层36、作为触摸面板用电极的透明电极图案34、第一折射率调整层20、触摸面板用电极保护膜18而成的结构。
在触摸面板30中，触摸面板用电极保护膜18及第一折射率调整层20覆盖透明电极图案34的整体。
第二折射率调整层36及第一折射率调整层20优选为分别直接或经由其他层来连续包覆存在透明电极图案34的第1区域40及不存在透明电极图案34的第2区域42。根据这种方式，透明电极图案34变得更难以被视觉辨认。
第二折射率调整层36及第一折射率调整层20，相比经由其他层包覆第1区域40及第2区域42这两者，更优选直接包覆第1区域40及第2区域42这两者。
作为“其他层”，可举出绝缘层、除透明电极图案34以外的电极图案等。
第一折射率调整层20遍及第1区域40及第2区域42这两者而层叠。第一折射率调整层20与第二折射率调整层36相邻，进而也与透明电极图案34相邻。
在与第二折射率调整层36接触的部位中的透明电极图案34的端部的形状为如图2所示的锥形状的情况下，优选为沿着锥形状(即以与锥角相同的斜率)层叠第一折射率调整层20。
作为透明电极图案34，优选为ITO透明电极图案。
透明电极图案34例如能够通过以下方法来形成。
在形成有第二折射率调整层36的基板32上，通过溅射来形成电极用膜(例如ITO膜)。接着，在所形成的电极用膜上，通过涂布蚀刻用感光性阻剂或通过转印蚀刻用感光性膜而形成蚀刻保护层。接着，通过曝光及显影，将所形成的蚀刻保护层图案化为所期望的图案形状。接着，通过蚀刻去除电极用膜中没有被经图案化的蚀刻保护层覆盖的部分，将电极用膜作成所期望形状的图案(即，透明电极图案34)。接着，去除通过剥离液图案化的蚀刻保护层。
-触摸面板的第2具体例-
图3是表示具有使用本发明的转印膜转印的感光性树脂层的触摸面板的第2具体例的概略剖视图。
如图3所示，触摸面板90具有图像显示区域74及图像非显示区域75(即框部)。
并且，触摸面板90在基板32的两个面上具备触摸面板用电极。详细而言，触摸面板90在基板32的一侧的面上具备第1透明电极图案70，在另一侧的面上具备第2透明电极图案72。
在触摸面板90中，分别在第1透明电极图案70及第2透明电极图案72连接有迂回布线56。迂回布线56例如为铜布线。
在触摸面板90中，在基板32的一侧的面上以覆盖第1透明电极图案70及迂回布线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18，且在基板32的另一侧的面上以覆盖第2透明电极图案72及迂回布线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18。
在基板32的一侧的面及另一侧的面上可以分别形成有第1具体例中的第一折射率调整层及第二折射率调整层。
[触摸面板的制造方法]
本发明的触摸面板的制造方法包括：
从上述的本发明的转印膜剥离保护膜的第1剥离工序、
将剥离了保护膜之后的转印膜从感光性树脂层侧转印到具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线的至少一个的结构的触摸面板用基板上的转印工序；
对经转印的感光性树脂层进行图案曝光的曝光工序；
在曝光工序之后，剥离临时支承体的第2剥离工序；及
在第2剥离工序之后，对经图案曝光的感光性树脂层进行显影，由此获得保护触摸面板用电极及触摸面板用布线的至少一个的至少一部分的触摸面板用保护膜的显影工序。
〔第1剥离工序〕
第1剥离工序为从上述的本发明的转印膜剥离保护膜的工序，剥离方法没有特别限制，能够适当采用公知的方法。
〔转印工序〕
转印工序为将剥离了保护膜之后的转印膜从感光性树脂层侧转印到具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线的至少一个的结构的触摸面板用基板上的工序。
作为转印的方法，可举出将上述的本发明的转印膜层压于触摸面板用基板的触摸面板用电极及触摸面板用布线的至少一个配置侧的面上，将转印膜中的感光性树脂层转印到上述面上，由此在上述面上形成感光性树脂层的方法。
层压(所谓感光性树脂层的转印)能够使用真空层压机、自动切割层压机等公知的层压机来进行。
作为层压条件，能够适用通常的条件。
层压温度优选为80℃～150℃，更优选为90℃～150℃，进一步优选为100℃～150℃。
在使用具备橡胶辊的层压机的情况下，层压温度是指橡胶辊的温度。
层压时的基板温度并无特别限制。
作为层压时的基板温度，优选为10℃～150℃，更优选为20℃～150℃，进一步优选为30℃～150℃。
在作为基板而使用树脂基板的情况下，作为层压时的基板温度，优选为10℃～80℃，更优选为20℃～60℃，进一步优选为30℃～50℃。
并且，作为层压时的线压，优选为0.5N/cm～20N/cm，更优选为1N/cm～10N/cm，进一步优选为1N/cm～5N/cm。
并且，作为层压时的传送速度(层压速度)，优选为0.5m/分钟～5m/分钟，更优选为1.5m/分钟～3m/分钟。
通过转印工序，转印膜的感光性树脂层转印到触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上，形成具有临时支承体/热塑性树脂层/感光性树脂层/电极等/基板的层叠结构的层叠体。在该层叠结构中，“电极等/基板”的部分为触摸面板用基板。
〔曝光工序〕
曝光工序为对经转印的感光性树脂层进行图案曝光的工序。
在此，图案曝光是指曝光成图案状的方式即存在曝光部与非曝光部的方式的曝光。
在触摸面板用基板上的感光性树脂层中，图案曝光中的曝光部被固化，而最终成为固化膜。
另一方面，触摸面板用基板上的感光性树脂层中，图案曝光中的非曝光部不被固化，而在接下来的显影工序中被显影液溶解去除。非曝光部能够在显影工序后形成固化膜的开口部。
图案曝光可以是经由掩模的曝光，也可以是使用了激光等的数字曝光。
作为图案曝光的光源，只要是能够照射可固化感光性树脂层的波长区域的光(例如365nm或405nm)则能够适当选择来使用。
作为光源，可举出各种激光、发光二极管(LED)、超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。
曝光量优选为5mJ/cm2～200mJ/cm2，更优选为10mJ/cm2～200mJ/cm2。
〔第2剥离工序〕
第2剥离工序为在曝光工序之后剥离临时支承体的工序，剥离方法并没有特别限定，能够适当采用公知的方法。
〔显影工序〕
显影工序为在第2剥离工序之后，对经图案曝光的感光性树脂层进行显影，由此获得保护触摸面板用电极及触摸面板用布线的至少一个的至少一部分的触摸面板用保护膜的工序。
使用于显影的显影液并没有特别的限制，能够使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。
作为显影液，优选使用碱性水溶液。
作为在碱性水溶液中可含有的碱性化合物，可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)等。
碱性水溶液的25℃下的pH优选为8～13，更优选为9～12，尤其优选为10～12。
相对于碱性水溶液的总质量，碱性水溶液中的碱性化合物的含量优选为0.1质量％～5质量％，更优选为0.1质量％～3质量％。
显影液可以含有对水具有溶混性(miscibility)的有机溶剂。
作为有机溶剂，能够举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。
有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。
显影液可以包含公知的表面活性剂。
表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。
显影液的液温优选为20℃～40℃。
作为显影的方式，例如可举出旋涂浸没显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等方式。
在进行喷淋显影的情况下，通过在图案曝光后的感光性树脂层上将显影液以喷淋状喷吹来去除感光性树脂层的非曝光部。
在使用具备感光性树脂层与热塑性树脂层及中间层中的至少一个的转印膜的情况下，在转印到这些层的基板上之后且感光性树脂层的显影之前，可以将感光性树脂层的溶解性低的碱性的溶液以喷淋状喷吹来预先去除热塑性树脂层及中间层中的至少一个(在存在两个时为两个)。
并且，优选在显影之后，通过利用喷淋喷吹清洗剂等的同时，用刷子等进行擦拭来去除显影残渣。
显影液的液温优选为20℃～40℃。
显影工序可以包括进行上述显影的阶段及将通过上述显影获得的固化膜进行加热处理(以下也称作“后烘干”。)的阶段。
在基板为树脂基板的情况下，后烘烤的温度优选为100℃～160℃，更优选为130℃～160℃。
通过该后烘干，还能够调整透明电极图案的电阻值。
在感光性树脂层包含含有羧基的(甲基)丙烯酸树脂的情况下，通过后烘干，能够使含有羧基的(甲基)丙烯酸树脂的至少一部分变为羧酸酐。若如此变化，则显影性及固化膜的强度优异。
显影工序可以包括进行上述显影的阶段及将通过上述显影获得的固化膜进行曝光(以下也称作“后曝光”。)的阶段。
在显影工序包括进行后曝光的阶段及进行后烘烤的阶段这两个阶段的情况下，优选在后曝光之后实施后烘烤。
关于图案曝光、显影等，还能够参考例如日本特开2006-23696号公报的0035～0051段的记载。
通过上述步骤形成的图案(感光性树脂层的固化膜)优选为无彩色。
具体而言，全反射(入射角8°、光源：D-65(2°视野))在CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，图案的L*值优选为10～90，图案的a*值优选为-1.0～1.0，图案的b*值优选为-1.0～1.0。
本发明所涉及的触摸面板的制造方法可以包括除已叙述的工序以外的工序(所谓的其他工序)。
作为其他工序，可举出有时在通常的光刻工序中设置的公知的工序(例如，清洗工序)。
[实施例]
以下举出实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的主旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并非限定于以下所示的具体例。另外，只要没有特别的说明，则“份”、“％”为质量基准。
另外，在以下实施例中，树脂的重均分子量是以基于凝胶渗透色谱(GPC)的聚苯乙烯换算求出的重均分子量。并且，酸值使用了理论酸值。
＜感光性树脂层形成用涂布液的制备＞
将作为感光性树脂层形成用涂布液的材料A-1～A-7分别制备成下述表1所示的组成。
[表1]
Figure BDA0003423941540000531
MAA-GMA：对源自甲基丙烯酸的结构单元加成甲基丙烯酸缩水甘油酯而成的结构单元。
＜折射率调整层形成用涂布液的制备＞
将作为折射率调整层形成用涂布液的材料B-1制备成下述表2所示的组成。
[表2]
Figure BDA0003423941540000541
[实施例1]
使用狭缝状喷嘴将感光性树脂层形成用的材料A-1涂布于将含有0.05质量％的碳酸钙(平均粒径：1.0μm)的厚度1μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯层(粒子含有层)设置于厚度14μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯层的两面的总厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(临时支承体)上，而形成了感光性树脂层。另外，涂布量调整成使干燥后的膜厚成为下述表3的厚度。
接着，在100℃的干燥区使溶剂挥发之后，在感光性树脂层上，压接将含有0.05质量％的碳酸钙(平均粒径：1.0μm)的厚度1μm的聚丙烯层(粒子含有层)设置于厚度28μm的聚丙烯层的两面的总厚度30μm的聚丙烯膜(保护膜)，而制作了实施例1的转印膜。
[实施例2～4、实施例8及比较例1]
除了将感光性树脂层形成用的材料A-1变更为下述表3所示的材料以外，以与实施例1相同的方法制作了转印膜。
[实施例5]
除了将感光性树脂层形成用的材料A-1变更为下述表3所示的材料并且以满足下述表3所示的算术平均粗糙度Ra的方式变更临时支承体及保护膜中的粒子含有层中所含有的碳酸钙的浓度以外，以与实施例1相同的方法制作了转印膜。
[实施例6]
使用狭缝状喷嘴将折射率调整层形成用的材料B-1涂布于以与实施例1相同的方法形成的感光性树脂层上，在80℃的干燥温度下使其干燥而形成了折射率调整层。另外，涂布量调整成使干燥后的膜厚成为70nm。
接着，将厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(保护膜)压接于折射率调整层上，从而制作了实施例6的转印膜。
折射率调整层的折射率为1.68。
[实施例7]
除了以满足下述表3所示的算术平均粗糙度Ra的方式变更临时支承体及保护膜中的粒子含有层中所含有的碳酸钙的浓度以外，以与实施例5相同的方法制作了转印膜。
[比较例2]
除了以满足下述表3所示的算术平均粗糙度Ra的方式变更临时支承体中的粒子含有层中所含有的碳酸钙的浓度以外，以与实施例1相同的方法制作了转印膜。
[比较例3]
除了以满足下述表3所示的算术平均粗糙度Ra的方式变更保护膜中的粒子含有层中所含有的碳酸钙的浓度以外，以与实施例1相同的方法制作了转印膜。
〔水蒸气渗透率(透湿度)的评价〕
通过上述的方法测量了透湿度(平均值)。
根据测得的透湿度的平均值，并按照下述评价基准对水蒸气渗透率进行了评价。在下述评价基准中，只要是A及B，则适合于实际使用。将结果记载于下述表3中的感光性树脂层的项目中。
另外，在上述测量中，如上述测量了具有固化膜/膜过滤器的层叠结构的圆形试样的透湿度。然而，与固化膜的透湿度相比膜过滤器的透湿度极其高，因此在上述测量中，实质上是测量了感光性树脂层的固化膜自身的透湿度。
(水蒸气渗透率的评价基准)
A：透湿度的平均值小于400g/m2/24hr
B：透湿度的平均值为400g/m2/24hr以上且小于500g/m2/24hr
C：透湿度的平均值为500g/m2/24hr以上
〔断裂伸长率的测量〕
通过上述方法测量了感光性树脂层的固化膜在23℃及120℃下的断裂伸长率。将结果记载于下述表3中的感光性树脂层的项目中。
〔算术平均粗糙度Ra的测量〕
针对从实施例及比较例中制作的转印膜剥离的保护膜的感光性树脂层侧的表面、及使用具有超高压汞灯的近接式曝光(proximityexposure)型曝光机(Hitachi High-TechElectronics Engineering Co.,Ltd.制)，隔着临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)对感光性树脂层进行曝光之后剥离的临时支承体的感光性树脂层侧的表面，测量了算术平均粗糙度Ra。
测量是使用光学式表面特性测量仪(Zygo NewView 6300(Zygo公司制))进行。将结果示于下述表3。
[表3]
Figure BDA0003423941540000571
〔透明电极图案膜的制作〕
＜透明膜的形成＞
使用高频振荡器，在输出电压100％、输出功率250W、直径1.2mm的线电极，电极长240mm、工作电极之间1.5mm的条件下，对膜厚38μm、折射率1.53的环烯烃树脂膜进行3秒钟的电晕放电处理，并进行了表面改性。将所获得的膜做成透明膜基板。
接着，通过使用狭缝喷嘴将下述表4所示的材料-C的材料涂布于透明膜基板上之后，进行紫外线照射(累积光量300mJ/cm2)，在约110℃下进行干燥，从而制作了折射率1.60、膜厚80nm的透明膜。
[表4]
Figure BDA0003423941540000581
[化学式22]
Figure BDA0003423941540000582
＜透明电极图案的形成＞
将上述所获得的透明膜基板上层叠有透明膜的膜导入真空室内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶(铟:锡＝95:5(摩尔比))，通过直流(DC)磁控管溅射(条件：透明膜基板的温度150℃，氩分压0.13Pa、氧分压0.01Pa)，形成厚度40nm、折射率1.82的ITO膜，并获得了在透明膜基板上形成了透明膜和透明电极层的膜。ITO膜的表面电阻为80Ω/□(每平方Ω)。
＜蚀刻用感光性膜E1的制作＞
使用狭缝状喷嘴，将由下述处方H1构成的热塑性树脂层用涂布液涂布于厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜临时支承体上，并使其干燥。
接着，涂布由下述处方P1构成的中间层用涂布液，并使其干燥。
此外，涂布由下述处方E1构成的蚀刻用光固化性树脂层用涂布液，并使其干燥。通过已叙述的方法，在临时支承体上制作由干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、膜厚2.0μm的蚀刻用光固化性树脂层构成的层叠体，最后将保护膜(厚度12μm聚丙烯膜)进行压接。如此制作了作为临时支承体、热塑性树脂层、中间层(隔氧膜)及蚀刻用光固化性树脂层成为一体的转印材料的蚀刻用感光性膜E1。
(热塑性树脂层用涂布液：处方H1)
·甲醇：11.1质量份
·丙二醇单甲醚乙酸酯：6.36质量份
·甲基乙基酮：52.4质量份
·甲基丙烯酸甲酯/2-乙基己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)＝55/11.7/4.5/28.8、分子量＝10万、Tg≈70℃：5.83质量份
·苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)＝63/37、重均分子量＝1万、Tg≈100℃)：13.6质量份
·单体1(商品名：BPE-500，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)：9.1质量份
·氟系聚合物〔下述成分〕：0.54质量份
氟系聚合物：C6F13CH2CH2OCOCH＝CH2 40质量份、(OCH(CH3)CH2)7OCOCH＝CH2 55质量份及H(OCHCH2)7OCOCH＝CH2 5质量份的共聚物(重均分子量3万、甲基乙基酮30质量％溶液、商品名：MEGAFACE F780F、DIC Corporation制)
(中间层用涂布液：处方P1)
·聚乙烯醇(商品名：PVA205、KURARAY CO.,LTD.制、皂化度＝88％、聚合度550)：32.2质量份
·聚乙烯吡咯烷酮(商品名：K-30、ISP Japan Co.,Ltd.制)：14.9质量份
·蒸馏水：524质量份
·甲醇：429质量份
(蚀刻用光固化性树脂层用涂布液：处方E1)
·甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物(共聚物组成比(质量％)：31/40/29，重均分子量60,000，酸值163mgKOH/g)：16质量份。
单体1(商品名：BPE-500，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)：5.6质量份
·六亚甲基二异氰酸酯的四氧化乙烯单甲基丙烯酸酯0.5摩尔加成物：7质量份
·作为分子中具有一个聚合性基团的化合物的环己烷二甲醇单丙烯酸酯：2.8质量份
·2-氯-N-丁基吖啶酮：0.42质量份
·2,2-双(O-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑：2.17质量份
·孔雀绿草酸盐：0.02质量份
·无色结晶紫：0.26质量份
·吩噻嗪：0.013质量份
·表面活性剂(商品名：MEGAFACE F-780F，DIC Corporation制)：0.03质量份
·甲基乙基酮：40质量份
·1-甲氧基-2-丙醇：20质量份
另外，去除蚀刻用光固化性树脂层用涂布液E1的溶剂之后的100℃的粘度为2,500Pa·sec。
＜透明电极图案的形成＞
清洗透明膜基板上形成了透明膜和透明电极层的膜，并层压了去除保护膜而得的蚀刻用感光性膜E1。层压条件在透明膜基板的温度：130℃，橡胶辊温度120℃，线压100N/cm，传送速度2.2m/分钟下进行。
剥离临时支承体之后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与已叙述的蚀刻用固化性树脂层之间的距离设定为200μm，以曝光量50mJ/cm2(i射线)进行图案曝光。
接着，将三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％、将商品名：T-PD2(FujifilmCorporation制)用纯水稀释10倍的溶液)在25℃下处理100秒钟，使用含表面活性剂清洗液(将商品名：T-SD3(Fujifilm Corporation制)用纯水稀释10倍的溶液)在33℃下处理20秒钟，使用旋转刷子、超高压清洗喷嘴进行残渣去除，进而进行130℃30分钟的后烘干处理来获得了在透明膜基板上形成了透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的膜。
将在透明膜基板上形成了透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的膜浸渍到装有ITO用蚀刻液(盐酸、氯化钾水溶液、液温30℃)的蚀刻槽中，进行100秒钟处理，并溶解去除未被蚀刻用光固化性树脂层覆盖而暴露的区域的透明电极层，从而获得具有带有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极图案的膜。
接着，将具有带有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极图案的膜浸渍到装有抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、表面活性剂(商品名：Surfynol465、AirProducts and Chemicals,Inc.制)、液温45℃)抗蚀剂剥离槽中，进行200秒钟处理，并去除蚀刻用光固化性树脂层，从而获得了在透明膜基板上形成了透明膜及透明电极图案的膜。
〔层叠体的制作〕
使用剥离了保护膜的各实施例及比较例的转印膜，将在透明膜基板上形成了透明膜及透明电极图案的膜的透明膜及透明电极图案转印到由转印膜覆盖的位置上。
其结果，通过转印膜，感光性树脂层及临时支承体依次转印到透明膜基板所具有的透明膜及透明电极图案上。另外，在实施例6中，折射率调整层、感光性树脂层及临时支承体依次被转印。转印在使用MCK CO.,LTD制真空层压机，在透明膜基板的温度：40℃、橡胶辊温度100℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟的条件下进行。
之后，使用具有超高压汞灯的近接式曝光型曝光机(Hitachi High-TechElectronics Engineering Co.,Ltd.制)，使曝光掩模(具有电极保护膜形成用图案的石英曝光掩模)面和临时支承体密合，经由临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。
剥离临时支承体后，在32℃下用1％碳酸钠水溶液实施了显影处理60秒钟。
之后，通过从超高压清洗喷嘴向显影处理后的透明膜基板喷射超纯水来去除残渣。
随后，吹入空气并去除透明膜基板上的水分，在145℃下进行30分钟的后烘干，从而形成了在透明膜基板上从基板依次层叠有透明膜、透明电极图案及感光性树脂层的固化物的层叠体。在实施例6中，形成了在透明膜基板上从基板依次层叠有透明膜、透明电极图案、折射率调整层及感光性树脂层的固化物而成的层叠体。
〔冲压加工性〕
对所制作的层叠体评价冲切时的冲压加工性。
以10cm见方形状打穿的方式设置汤姆逊刀，在120℃的温度环境下，进行打穿之后，用光学显微镜按以下基准评价了切割部分。将结果示于下述表5。另外，只要评价为A及B，则能够评价为实际使用上没有问题。
A：在任一边上，均未产生缺口、裂纹
B：产生轻微的缺口、裂纹
C：产生明显的缺口、裂纹
〔剥离性〕
(保护膜的剥离性)
按以下基准评价了转印前剥离保护膜时，是否产生了剥离不良。将结果示于下述表5。
A：在保护膜侧未残留感光性树脂层，在感光性树脂层也未观察到异常感。
B：剥离开始时，在保护膜侧观察到少许感光性树脂层的残留，但除此之外没有问题，实际使用上没有问题。
C：在保护膜侧明显产生感光性树脂层的残留，实际使用上有问题。
(临时支承体的剥离性)
按以下基准评价了曝光后、显影前剥离临时支承体时，是否产生了剥离不良。将结果示于下述表5。
A：在临时支承体侧未残留感光性树脂层，在感光性树脂层也未观察到异常感。
B：剥离开始时，在临时支承体侧观察到少许感光性树脂层的残留，但除此之外没有问题，实际使用上没有问题。
C：在临时支承体侧明显产生感光性树脂层的残留，实际使用上存在问题。
[表5]
Figure BDA0003423941540000631
从如上述表3及表5所示的结果得知，若感光性树脂层为固化后在120℃下的断裂伸长率小于15％的感光性树脂层，则冲压加工性差(比较例1)。
并且，得知即使感光性树脂层为固化后在120℃下的断裂伸长率成为15％以上的感光性树脂层，只要临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra超过50nm，则临时支承体的剥离性差(比较例2)。
并且，得知即使感光性树脂层为固化后在120℃下的断裂伸长率成为15％以上的感光性树脂层，只要保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra超过150nm，则保护膜的剥离性差(比较例3)。
相比之下得知，若感光性树脂层为固化后在120℃下的断裂伸长率成为15％以上的感光性树脂层，临时支承体的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，保护膜的感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为150nm以下，则临时支承体及保护膜的剥离性优异、固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲压加工性优异(实施例1～8)。
符号说明
1-样品，2-卡盘部，10-转印膜，12-临时支承体，16-保护膜，18-触摸面板用电极保护膜，18A-感光性树脂层，20-第一折射率调整层，20A-折射率调整层，30-触摸面板，32-基板，34-透明电极图案，36-第二折射率调整层，40-存在透明电极图案的第1区域，42-不存在透明电极图案的第2区域，56-迂回布线，70-第1透明电极图案，72-第2透明电极图案，74-图像显示区域，75-图像非显示区域，90-触摸面板。

Claims (13)

1.一种转印膜，其依次具有临时支承体、感光性树脂层及保护膜，其中，
使所述感光性树脂层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率为15％以上，
所述临时支承体的所述感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，
所述保护膜的所述感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为150nm以下。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其满足下述式(1)，
X×Y＜750 式(1)
在此，在所述式(1)中，X表示使所述感光性树脂层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率的值，单位为％，Y表示所述临时支承体的所述感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值，单位为nm。
3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其满足下述式(2)，
Y≤Z 式(2)
在此，在所述式(2)中，Y表示所述临时支承体的所述感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值，单位为nm，Z表示所述保护膜的所述感光性树脂层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值，单位为nm。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印膜，其中，
使所述感光性树脂层固化而成的固化膜在膜厚40μm下的透湿度为500g/m2/24hr以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其中，
相对于使所述感光性树脂层固化而成的固化膜在23℃下的断裂伸长率，在120℃下的断裂伸长率大2倍以上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性树脂层含有粘合剂聚合物、聚合性单体及光聚合引发剂。
7.根据权利要求6所述的转印膜，其中，
所述粘合剂聚合物的酸值为30mgKOH/g～160mgKOH/g。
8.根据权利要求6或7所述的转印膜，其中，
所述感光性树脂层还含有通过加热产生能够与酸基或羟基反应的基团的化合物。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性树脂层还含有能够进行迈克尔加成反应的化合物。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的转印膜，其中，
在所述感光性树脂层与所述保护膜之间还具有折射率比所述感光性树脂层高的折射率调整层。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的转印膜，其用于形成电极保护膜。
12.一种层叠体的制造方法，其包括：
第1剥离工序，从权利要求1至11中任一项所述的转印膜剥离所述保护膜；
转印工序，将剥离所述保护膜之后的所述转印膜从所述感光性树脂层侧转印到具有电极的基板上；
固化工序，使经转印的所述感光性树脂层的至少一部分固化，形成固化膜；及
第2剥离工序，在所述固化工序之后，剥离所述临时支承体，获得在具有电极的所述基板上层叠有所述固化膜的层叠体。
13.一种触摸面板的制造方法，其包括：
第1剥离工序，从权利要求1至11中任一项所述的转印膜剥离所述保护膜；
转印工序，将剥离所述保护膜之后的所述转印膜从所述感光性树脂层侧转印到触摸面板用基板上，所述触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的结构；
曝光工序，对经转印的所述感光性树脂层进行图案曝光；
第2剥离工序，在所述曝光工序之后，剥离所述临时支承体；及
显影工序，在所述第2剥离工序之后，对经图案曝光的所述感光性树脂层进行显影，由此获得保护所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的至少一部分的触摸面板用保护膜。
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