CN113994259B - 感光性树脂组合物、转印膜、固化膜、层叠体及触摸面板的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显影残渣抑制性及对所获得的膜或固化膜进行加热处理后的膜周边的暴露布线的防锈性优异的感光性树脂组合物以及使用上述感光性树脂组合物而成的转印膜、固化膜、层叠体及触摸面板的制造方法。感光性树脂组合物含有化合物A、碱溶性粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物以及光聚合引发剂,所述化合物A具有在环结构内具有氧原子、氮原子及硫原子中的至少一种原子的杂环结构和选自由‑SH、‑OH、‑COOH、‑NH2及‑CONH2组成的组中的至少一种官能团。
Description
技术领域
本发明涉及一种感光性树脂组合物、转印膜、固化膜、层叠体及触摸面板的制造方法。
背景技术
近年来,在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行的终端等电子设备中,在液晶装置等的表面上配置有触控式输入装置。在这种电子设备中,通过参考显示于液晶装置的图像显示区域的指示图像,并且利用手指或触控笔接触显示有指示图像的部位,能够进行与指示图像对应的信息的输入。
如上所述的输入装置(以下也称为“触摸面板”。)有电阻膜式、静电电容式等。静电电容式输入装置具有只要在一片基板上形成透光性导电膜即可的优点。作为相关静电电容式输入装置,例如有如下类型的装置:使电极图案沿着彼此交叉的方向延伸,并在手指等接触时,检测电极间的静电电容发生变化的情况来检测输入位置。
在静电电容式输入装置中,以电极图案、对收拢于框部的迂回布线(例如,铜线等金属布线)等进行保护等的目的,大多设置透明树脂层。作为用于形成这种透明树脂层的材料,大多使用感光性树脂组合物。
并且,作为以往的表面包覆金属材料,可举出专利文献1中记载的材料。
在专利文献1中,记载有一种表面包覆金属材料,所述表面包覆金属材料为至少在单面具有在基质中至少分散防锈剂而成的抗腐蚀性包覆层的金属材料,其特征在于,具有含有选自氮、硫及氧中的至少一种元素的杂环结构,并且具有1个以上含有氧、氮及硫中的至少一种元素的官能团,并且含有1种以上具有对金属元素具有吸附能力的部位为3处以上的结构的有机化合物作为上述防锈剂。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-86613号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明的一实施方式欲解决的课题在于,提供一种显影残渣抑制性及对所获得的膜或固化膜进行加热处理后的膜周边的暴露布线的防锈性优异的感光性树脂组合物。
并且,本发明的另一实施方式欲解决的课题在于提供一种使用了上述感光性树脂组合物而成的转印膜、固化膜、层叠体及触摸面板的制造方法。
用于解决技术课题的手段
用于解决上述课题的方法包含以下方式。
<1>一种感光性树脂组合物,其含有:
化合物A、碱溶性粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物以及光聚合引发剂,所述化合物A具有在环结构内具有氧原子、氮原子及硫原子中的至少一种原子的杂环结构和选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的至少一种官能团。
<2>根据<1>所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A具有在环结构内具有氮原子的5元杂环或在环结构内具有氮原子的6元杂环来作为上述杂环结构。
<3>根据<1>或<2>所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A具有在环结构内具有氮原子的6元杂环来作为上述杂环结构。
<4>根据<1>至<3>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A中的上述杂环结构为吡啶环结构、嘧啶环结构或1,3,5-三嗪环结构。
<5>根据<1>至<4>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A中的上述杂环结构为吡啶环结构。
<6>根据<1>至<5>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A为合计具有1至3个选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的上述官能团的化合物。
<7>根据<1>至<6>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A为具有1个选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的上述官能团的化合物。
<8>根据<1>至<7>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A为具有选自由-OH、-COOH及-CONH2组成的组中的至少一种上述官能团的化合物。
<9>根据<1>至<8>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A为具有1个或2个选自由-OH、-COOH及-CONH2组成的组中的上述官能团的化合物。
<10>根据<1>至<9>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,上述化合物A为具有1个-COOH或-CONH2作为上述官能团的化合物。
<11>根据<1>至<10>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,在上述化合物A中,上述官能团为直接键合于所述杂环结构中的杂环的基团。
<12>根据<1>至<11>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,相对于上述感光性树脂组合物的总固体成分,上述化合物A的含量为0.1质量%~2.0质量%。
<13>根据<1>至<12>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,在将上述感光性树脂组合物在100℃下的储能模量设为P×102Pa、将相对于上述感光性树脂组合物中的总固体成分的所述化合物A的含量设为WA质量%时,满足下述式1。
0.01≤P/WA≤1,000式1。
<14>根据<1>至<13>中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,在将上述感光性树脂组合物在100℃下的储能模量设为P×102Pa、将相对于上述感光性树脂组合物中的总固体成分的所述化合物A的含量设为WA质量%时,满足下述式2。
0.1≤P/WA≤500式2。
<15>根据<1>至<14>中任一项所述的感光性树脂组合物,其为触摸面板中的保护膜形成用感光性树脂组合物。
<16>一种转印膜,其具有:临时支承体;及由<1>至<15>中任一项所述的感光性树脂组合物形成或对上述感光性树脂组合物进行干燥而成的感光性层。
<17>一种固化膜,其是将<1>至<15>中任一项所述的感光性树脂组合物固化而成的。
<18>一种层叠体,其具有基板及将<1>至<15>中任一项所述的感光性树脂组合物固化而成的固化膜。
<19>一种触摸面板的制造方法,其包括以下步骤:
准备具有配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的面的触摸面板用基板;在上述触摸面板用基板的配置有上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的上述面上,形成由<1>至<15>中任一项所述的感光性树脂组合物形成的感光性层或对上述感光性树脂组合物进行干燥而成的感光性层;对形成在上述触摸面板用基板上的上述感光性层进行图案曝光;及通过对经图案曝光的上述感光性层进行显影,获得保护上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的至少一部分的保护膜。
发明效果
根据本发明的一实施方式,能够提供一种显影残渣抑制性及对所获得的膜或固化膜进行加热处理后的膜周边的暴露布线的防锈性优异的感光性树脂组合物。
并且,根据本发明的另一实施方式,能够提供一种使用上述感光性树脂组合物而成的转印膜、固化膜、层叠体及触摸面板的制造方法。
附图说明
图1是表示本发明所涉及的转印膜的一例的概略剖视图。
图2是表示适用了包含本发明所涉及的感光性树脂组合物的感光性层的触摸面板的第一具体例的概略剖视图。
图3是表示适用了包含本发明所涉及的感光性树脂组合物的感光性层的触摸面板的第二具体例的概略剖视图。
具体实施方式
以下对本发明的内容进行详细说明。以下记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式而进行,但本发明并非限定于这种实施方式。
另外,在本发明中,表示数值范围的“~”以包含记载于其前后的数值作为下限值及上限值的含义来使用。
在本说明书中阶段性地记载的数值范围中,一个数值范围中记载的上限值或下限值可以替换成其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且,在本说明书中记载的数值范围中,该数值范围的上限值或下限值可以替换成实施例中所示的值。
并且,在本发明中的基团(原子团)的标记中,未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团(原子团),并且也包含具有取代基的基团(原子团)。例如,“烷基”是指,不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基),也包含具有取代基的烷基(经取代烷基)。
并且,在本发明中,“质量%”与“重量%”的含义相同,“质量份”与“重量份”的含义相同。
此外,在本发明中两个以上的优选方式的组合为更优选的方式。
在本发明中,在组合物中存在多个与各成分对应的物质的情况下,若无特别说明,则组合物中的各成分的量表示组合物中存在的上述多个物质的总量。
在本发明中,术语“工序”不仅包括独立的工序,而且即使在无法与其他工序明确地区分的情况下,只要能够实现工序所期望的目的,则也包括在本术语中。
在本发明中,“(甲基)丙烯酸”是包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两个的概念,“(甲基)丙烯酸酯”是包含丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两个的概念,“(甲基)丙烯酰基”是包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两个的概念。
并且,若无特别说明,则本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)是通过使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制的商品名)的柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置,以THF(四氢呋喃)为溶剂,利用差示折射计进行检测,并将聚苯乙烯用作标准物质换算出的分子量。
在本发明中,若无特别说明,则具有分子量分布的化合物的分子量为重均分子量。
在本发明中,若无特别说明,则高分子的结构单元的比为摩尔比。
在本发明中,若无特别说明,则折射率为利用椭偏仪在25℃下测出的波长550nm下的值。
以下,对本发明进行详细说明。
(感光性树脂组合物)
本发明所涉及的感光性树脂组合物含有化合物A、碱溶性粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物以及光聚合引发剂,所述化合物A具有在环结构内具有氧原子、氮原子及硫原子中的至少一种原子的杂环结构和选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的至少一种官能团。
本发明所涉及的感光性树脂组合物由于显影残渣抑制性及对所获得的膜或固化膜进行加热处理后的膜周边的暴露布线的防锈性(以下也简称为“防锈性”)优异,因此能够优选地用作触摸面板用感光性树脂组合物,能够更优选地用作触摸面板中的保护膜形成用感光性组合物,能够尤其优选地用作触摸面板中的电极保护膜形成用感光性组合物。
本发明人等进行深入研究的结果,发现根据上述结构,能够提供一种显影残渣抑制性及对所获得的固化膜进行加热处理后的膜周边的暴露布线的防锈性优异的感光性树脂组合物。
虽然基于上述内容的优异的效果的作用机制尚不明确,但推测为如下。
推测为,通过含有化合物A,在形成膜或固化膜后进行加热处理(也称为“烘烤”。)时化合物A挥发,从而防止膜或固化膜的周边的暴露出的布线(例如,铜布线)的腐蚀,且防锈性优异,所述化合物A具有在环结构内具有氧原子、氮原子及硫原子中的至少一种原子的杂环结构和选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的至少一种官能团。并且,可推测为通过上述化合物A具有在环结构内具有氧原子、氮原子及硫原子中的至少一种原子的杂环结构和选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成组中的至少一种官能团,提高上述杂环结构及上述官能团挥发时的对布线的吸附性,且上述防锈性优异。
并且,可推测为通过上述化合物A具有选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的至少一种官能团,提高显影残渣的溶解性及分散性,并且也能够抑制显影残渣的凝集,从而抑制显影残渣的发生。
<化合物A>
本发明所涉及的感光性树脂组合物含有化合物A,该化合物A具有在环结构内具有氧原子、氮原子及硫原子中的至少一种原子的杂环结构和选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的至少一种官能团。
从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,在化合物A中,上述官能团优选为直接键合于上述杂环结构中的杂环的基团。
从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,作为化合物A所具有的上述杂环结构,优选在环结构内具有氮原子及硫原子中的至少一种原子(在本发明中,也称为“作为环元具有”。),更优选在环结构内具有氮原子,进一步优选在1个或2个环结构内具有氮原子,尤其优选仅在1个环结构内具有氮原子。
并且,从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,作为化合物A所具有上述杂环结构,优选为5元杂环结构或6元杂环结构,更优选为6元杂环结构。
此外,从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,作为上述杂环结构,化合物A优选具有在环结构内具有氮原子的5元杂环结构或在环结构内具有氮原子的6元杂环结构,更优选具有在环结构内具有氮原子的6元杂环结构。
并且,作为化合物A所具有的上述杂环结构,可以为脂肪族杂环结构,也可以为芳香族杂环结构,并且可以为单环的杂环结构,也可以为至少1个杂环稠合而成的多环结构。从挥发性及防锈性的观点出发,作为上述杂环结构,优选为芳香族杂环结构,更优选为单环的芳香族杂环结构。
此外,化合物A可以仅具有一个上述杂环结构,也可以具有两个以上上述杂环结构,从显影残渣抑制性、挥发性及防锈性的观点出发,优选仅具有1个上述杂环结构。
作为化合物A所具有的上述杂环结构,具体而言,例如可举出吡啶环结构、嘧啶环结构、1,3,5-三嗪环结构、吡咯环结构、呋喃环结构、噻吩环结构、咪唑环结构、吡唑环结构、三唑环结构、苯并三唑环结构、四氮唑环结构、噻二唑环结构、噁唑环结构、噻唑环结构、苯并噻唑环结构、吲哚环结构、异吲哚环结构、苯并咪唑环结构、苯并噁唑环结构、喹啉环结构、异喹啉环结构、酞嗪环结构、萘啶环结构、喹喔啉环结构、喹唑啉环结构、噌啉环结构、嘌呤环结构、咔唑环结构、菲啶环环结构、吖啶环结构等。
其中,从显影残渣抑制性、挥发性及防锈性的观点出发,优选为吡啶环结构、嘧啶环结构或1,3,5-三嗪环结构,更优选为吡啶环结构。
从显影残渣抑制性、对布线的吸附性及防锈性的观点出发,作为化合物A所具有的上述官能团,优选为选自由-SH、-OH、-COOH及-CONH2组成的组中的至少一种基团,更优选为选自由-OH、-COOH及-CONH2组成的组中的至少一种基团,进一步优选为选自由-COOH及-CONH2组成的组中的至少一种基团,尤其优选为-CONH2。
从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,化合物A优选为合计具有1个~3个选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的上述官能团的化合物,更优选为合计具有1个或2个选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的上述官能团的化合物,尤其优选为具有1个选自由-SH、-OH、-COOH、-NH2及-CONH2组成的组中的上述官能团的化合物。
并且,显影残渣抑制性、对布线的吸附性、挥发性及防锈性的观点出发,化合物A优选为具有选自由-OH、-COOH及-CONH2组成的组中的至少一种上述官能团的化合物,更优选为具有1个或2个选自由-OH、-COOH及-CONH2组成的组中的上述官能团的化合物,尤其优选为作为上述官能团具有1个-COOH或-CONH2的化合物。
从挥发性及防锈性的观点出发,化合物A的分子量优选为500以下,更优选为80以上且300以下,进一步优选为100以上且200以下,尤其优选为100以上且150以下。
从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,化合物A优选为由下述式(A-1)~式(A-3)中的任一个所表示的化合物,更优选为由下述式(A-1)所表示的化合物。
[化学式1]
在式(A-1)~式(A-3)中,Ra分别独立地表示-SH、-OH、-COOH、-NH2或-CONH2,n1表示1~5的整数,n2表示1~4的整数,n3表示1~3的整数。
从显影残渣抑制性、对布线的吸附性及防锈性的观点出发,在式(A-1)~式(A-3)中,Ra优选为-SH、-OH、-COOH或-CONH2,更优选为-OH、-COOH或-CONH2,进一步优选为-COOH或-CONH2,尤其优选为-CONH2。
从显影残渣抑制性、对布线的吸附性、挥发性及防锈性的观点出发,式(A-1)中的n1优选为1~3的整数,更优选为1或2,尤其优选为1。
从显影残渣抑制性、对布线的吸附性、挥发性及防锈性的观点出发,式(A-2)中的n2优选为1~3的整数,更优选为1或2,尤其优选为1。
从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,式(A-3)中的n3优选为1或3,更优选为1。
作为化合物A并无特别限制,具体而言,例如可举出吡啶-2-羧酸(吡啶甲酸)、吡啶-3-羧酸(烟酸)、吡啶-4-羧酸(异烟酸)、2-羟基吡啶、3-羟基吡啶、4-羟基吡啶、2-巯基吡啶、3-巯基吡啶、4-巯基吡啶、2-氨基吡啶、3-氨基吡啶、4-氨基吡啶、吡啶-3,5-二羧酸、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、2-氨基嘧啶、4-羟基嘧啶、2-嘧啶硫醇、嘧啶-4-羧酸、4,6-二羟基嘧啶、4-氨基-6-羟基嘧啶、4,5-二氨基嘧啶、2,4-二氨基-1,3,5-三嗪、吡唑-4-羧酸、5-苯并三唑羧酸、2,6-二羟基异烟酸、2-氨基-4,6-二羟基嘧啶、2,4-二氨基-6-羟基嘧啶、4,6-二氨基-2-巯基嘧啶及三聚氰酸(三羟基三嗪)、烟酰胺、6-甲基烟酰胺、异烟酰胺、2-氨基异烟酰胺、6-氨基异烟酰胺等。
从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,其中,作为化合物A,优选为选自由吡啶-2-羧酸、吡啶-3-羧酸、2-羟基吡啶、2-巯基吡啶、2-氨基吡啶、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、2-氨基嘧啶、4-羟基嘧啶、嘧啶-4-羧酸、4,6-二羟基嘧啶、吡唑-4-羧酸、5-苯并三唑羧酸、2,6-二羟基异烟酸、三聚氰酸、烟酰胺及异烟酰胺组成的组中的至少一种的化合物,更优选为选自由吡啶-2-羧酸、吡啶-3-羧酸、2-羟基吡啶、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、4-羟基嘧啶、嘧啶-4-羧酸、4,6-二羟基嘧啶、烟酰胺及异烟酰胺组成的组中的至少一种化合物,尤其优选为选自由吡啶-2-羧酸、吡啶-3-羧酸、2-羟基吡啶、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸及异烟酰胺组成的组中的至少一种化合物。
并且,从通用性的观点出发,作为化合物A,优选为烟酰胺、异烟酰胺、吡啶-3-羧酸,并且从挥发性及对布线的吸附性的平衡的观点出发,优选为选自由异烟酰胺、吡啶-2-羧酸、2-羟基吡啶、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、4-羟基嘧啶、嘧啶-4-羧酸及4,6-二羟基嘧啶组成的组中的至少一种化合物。
化合物A可以单独使用一种,也能够同时使用两种以上。
从显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,相对于感光性树脂组合物中的总固体成分,化合物A的含量优选为0.01质量%~20质量%,更优选为0.05质量%~10质量%,进一步优选为0.1质量%~2.0质量%,尤其优选为0.2质量%~1.8质量%。
另外,本发明中的感光性树脂组合物中的总固体成分表示去除溶剂等的挥发性成分的量,并且本发明中的固体成分,不必一定是固体,可以为液体,并且也可以为固体和液体的混合物。
在将上述感光性树脂组合物在100℃下的储能模量设为P×102Pa、将相对于上述感光性树脂组合物中的总固体成分的上述化合物A的含量设为WA质量%时,本发明所涉及的感光性树脂组合物优选满足下述式1,更优选满足下述式2,进一步优选满足下述式3,尤其优选满足下述式4。
0.01≤P/WA≤1,000 式1
0.1≤P/WA≤500 式2
0.5≤P/WA≤10 式3
0.5≤P/WA≤4 式4
在本发明中,感光性树脂组合物在100℃下的储能模量的测量通过以下所示的方法进行。
在储能模量的测量中,使用TA Instruments.制流变仪(Discovery HR-2)。样品固定用夹具使用20mmφ的平行板。
使用狭缝状喷嘴将感光性层用涂布液调整而涂布于厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(临时支承体,16QS62(16KS40)(TORAY INDUSTRIES,INC.制))上,以使干燥后的厚度成为10μm,并使用具有75℃到120℃的温度梯度的热风对流干燥机进行干燥来去除溶剂,从而形成感光性层。将其重复50次进行层压,由此获得约500μm膜厚的样品。
将经制作的样品配置于板之间,从而使样品与板密合。动态粘弹性是在剪切模式、频率1.0HZ、应变0.5%下,在20~125℃的温度范围内以升温速度5℃/分钟进行测量,并求出在100℃下的储能模量G’(Pa)。
<碱溶性粘合剂聚合物>
本发明所涉及的感光性树脂组合物含有碱溶性粘合剂聚合物(以下也简称为“粘合剂聚合物”。)。
另外,在本发明中,“碱溶性”表示在22℃下碳酸钠在1质量%水溶液100g中的溶解度为0.1g以上。
例如,从显影性的观点出发,粘合剂聚合物优选为酸值60mgKOH/g以上的粘合剂聚合物。
并且,例如,从容易通过加热与交联成分热交联而形成牢固的膜的观点出发,粘合剂聚合物进一步优选为酸值60mgKOH/g以上的具有羧基的树脂(所谓的含羧基树脂),尤其优选为酸值60mgKOH/g以上的具有羧基的丙烯酸树脂(所谓的含羧基丙烯酸树脂)。
另外,在本发明中,丙烯酸树脂是指,具有源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂,相对于树脂的总质量,上述结构单元的含量优选为30质量%以上,更优选为50质量%以上。
当粘合剂聚合物为具有羧基的树脂时,例如,通过添加封端异氰酸酯化合物等热交联性化合物来进行热交联,能够提高三维交联密度。并且,若具有羧基的树脂的羧基脱水而疏水化,则能够改善耐湿热性。
作为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂,只要满足上述酸值的条件,则没有特别的限制,能够从公知的丙烯酸树脂中适当选择而使用。
例如,能够优选使用日本特开2011-95716号公报的0025段中记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂、日本特开2010-237589号公报的0033~0052段中记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂等。
从显影残渣抑制性、所获得的固化膜的透湿度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,粘合剂聚合物优选为丙烯酸树脂或苯乙烯-丙烯酸共聚物,更优选为苯乙烯-丙烯酸共聚物。
另外,在本发明中,苯乙烯-丙烯酸共聚物是指,具有源自苯乙烯化合物的结构单元和源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂,相对于上述共聚物的总质量,上述源自苯乙烯化合物的结构单元、上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的总含量优选为30质量%以上,更优选为50质量%以上。
并且,相对于上述共聚物的总质量,源自苯乙烯化合物的结构单元的含量优选为1质量%以上,更优选为5质量%以上,尤其优选为5质量%以上且80质量%以下。
并且,相对于上述共聚物的总质量,上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量优选为5质量%以上,更优选为10质量%以上,尤其优选为20质量%以上且95质量%以下。
此外,作为上述(甲基)丙烯化合物,可举出(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酰胺化合物、(甲基)丙烯腈等。其中,也优选为选自由(甲基)丙烯酸酯化合物及(甲基)丙烯酸组成的组中的至少一种化合物。
-具有芳香环的结构单元-
从显影残渣抑制性、所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,粘合剂聚合物优选含有具有芳香环的结构单元。
作为形成具有芳香环的结构单元的单体,可举出苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯化合物、(甲基)丙烯酸苄酯等。
其中,优选为苯乙烯化合物,尤其优选为苯乙烯。
从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,粘合剂聚合物更优选具有由下述式(S)表示的结构单元(源自苯乙烯的结构单元)。
[化学式2]
从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,在粘合剂聚合物含有具有芳香环的结构单元的情况下,相对于粘合剂聚合物的总质量,具有芳香环的结构单元的含量优选为5质量%~90质量%,更优选为10质量%~70质量%,尤其优选为20质量%~50质量%。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的具有芳香环的结构单元的含量优选为5摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~60摩尔%,尤其优选为20摩尔%~50摩尔%。
此外,从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的含量优选为5摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~60摩尔%,尤其优选为20摩尔%~50摩尔%。
另外,在本发明中,以摩尔比规定“结构单元”的含量的情况下,上述“结构单元”的含义与“单体单元”相同。并且,在本发明中,上述“单体单元”可以在通过高分子反应等聚合后进行修饰。以下也相同。
-具有脂肪族烃环的结构单元-
从显影残渣抑制性、所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,粘合剂聚合物优选含有具有脂肪族烃环的结构单元。
作为具有脂肪族烃环的结构单元中的脂肪族烃环,可举出三环癸烷环、环己烷环、环戊烷环、降冰片烷环、异佛尔酮环等。
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,在这些中,优选为2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环,尤其优选为四氢二环戊二烯环(三环[5.2.1.02,6癸烷环)。
作为形成具有脂肪族烃环的结构单元的单体,可举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等。
并且,从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,粘合剂聚合物更优选具有由下述式(Cy)表示的结构单元,尤其优选具有由上述式(S)表示的结构单元及由下述式(Cy)表示的结构单元。
[化学式3]
在式(Cy)中,RM表示氢原子或甲基,RCy表示具有脂肪族烃环结构的1价基团。
式(Cy)中的RM优选为甲基。
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,式(Cy)中的RCy优选为具有碳原子数5~20的脂肪族烃环结构的1价基团,更优选为具有碳原子数6~16的脂肪族烃环结构的1价基团,尤其优选为具有碳原子数8~14的脂肪族烃环结构的1价基团。
并且,从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为环戊烷环结构、环己烷环结构、四氢二环戊二烯环结构、降冰片烷环、异佛尔酮环,更优选为环己烷环结构或四氢二环戊二烯环结构,尤其优选为四氢二环戊二烯环结构。
此外,从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构,更优选为2环以上且4环以下的脂肪族烃环稠合而成的环结构。
另外,从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,式(Cy)中的RCy优选为式(Cy)中的-C(=O)O-的氧原子和脂肪族烃环结构直接键合的基团即脂肪族烃环基,更优选为环己基或二环戊基,尤其优选为二环戊基。
粘合剂聚合物可以单独具有一种具有脂肪族烃环的结构单元,也可以具有两种以上具有脂肪族烃环的结构单元。
从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,在粘合剂聚合物含有具有脂肪族烃环的结构单元的情况下,相对于粘合剂聚合物的总质量,具有脂肪族烃环的结构单元的含量优选为5质量%~90质量%,更优选为10质量%~80质量%,尤其优选为20质量%~70质量%。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的具有脂肪族烃环的结构单元的含量优选为5摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~60摩尔%,尤其优选为20摩尔%~50摩尔%。
此外,从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的由上述式(Cy)表示的结构单元的含量优选为5摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~60摩尔%,尤其优选为20摩尔%~50摩尔%。
从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,在粘合剂聚合物含有具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元的情况下,相对于粘合剂聚合物的总质量,具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元的总含量优选为10质量%~90质量%,更优选为20质量%~80质量%,尤其优选为40质量%~75质量%。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元的总含量优选为10摩尔%~80摩尔%,更优选为20摩尔%~70摩尔%,尤其优选为40摩尔%~60摩尔%。
此外,从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元及由上述式(Cy)表示的结构单元的总含量优选为10摩尔%~80摩尔%,更优选为20摩尔%~70摩尔%,尤其优选为40摩尔%~60摩尔%。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点出发,粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的摩尔量nS及由上述式(Cy)表示的结构单元的摩尔量nCy优选满足下述式(SCy)所示的关系,更优选满足下述式(SCy-1),尤其优选满足下述式(SCy-2)。
0.2≤nS/(nS+nCy)≤0.8 式(SCy)
0.30≤nS/(nS+nCy)≤0.75 式(SCy-1)
0.40≤nS/(nS+nCy)≤0.70 式(SCy-2)
-具有酸基的结构单元-
从显影残渣抑制性、所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发,粘合剂聚合物优选含有具有酸基的结构单元。
作为上述酸基,例如可举出羧基、磺酸基、膦酸基及磷酸基等,优选为羧基。
作为具有上述酸基的结构单元,可优选地举出下述所示的源自(甲基)丙烯酸的结构单元,更优选地举出源自甲基丙烯酸的结构单元。
[化学式4]
粘合剂聚合物可以单独具有一种具有酸基的结构单元,也可以具有两种以上具有酸基的结构单元。
从所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发,在粘合剂聚合物含有具有酸基的结构单元的情况下,相对于粘合剂聚合物的总质量,具有酸基的结构单元的含量优选为5质量%~50质量%,更优选为5质量%~40质量%,尤其优选为10质量%~30质量%。
并且,从所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的具有酸基的结构单元的含量优选为5摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~50摩尔%,尤其优选为20摩尔%~40摩尔%。
此外,从所获得的固化膜的强度及显影性的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的源自(甲基)丙烯酸的结构单元的含量优选为5摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~50摩尔%,尤其优选为20摩尔%~40摩尔%。
-具有反应性基团的结构单元-
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,粘合剂聚合物优选具有反应性基团,更优选具有含有反应性基团的结构单元。
作为反应性基团,优选为自由基聚合性基团,更优选为烯属不饱和基团。并且,在粘合剂聚合物具有烯属不饱和基团的情况下,粘合剂聚合物优选在侧链上含有具有烯属不饱和基团的结构单元。
在本发明中,“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的键合链,“侧链”表示从主链分支的原子团。
作为烯属不饱和基团,优选为(甲基)丙烯酸基,更优选为(甲基)丙烯酰氧基。
作为具有反应性基团的结构单元的一例,可以举出下述所示的结构单元,但当然并不限定于这些。
[化学式5]
粘合剂聚合物可以单独具有一种具有反应性基团的结构单元,也可以具有两种以上具有反应性基团的结构单元。
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,在粘合剂聚合物含有具有反应性基团的结构单元的情况下,相对于粘合剂聚合物的总质量,具有反应性基团的结构单元的含量优选为5质量%~70质量%,更优选为10质量%~50质量%,尤其优选为20质量%~40质量%。
并且,从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,相对于粘合剂聚合物的总量,粘合剂聚合物中的具有反应性基团的结构单元的含量优选为5摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~60摩尔%,尤其优选为20摩尔%~50摩尔%。
作为将反应性基团导入到粘合剂聚合物中的方法,可举出使环氧化合物、封端异氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸基等进行反应的方法。
作为将反应性基团导入到粘合剂聚合物中的方法的优选例,可举出如下方法:通过聚合反应合成具有羧基的聚合物之后,通过高分子反应使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯与所获得的聚合物的羧基的一部分反应,从而将(甲基)丙烯酰氧基导入到聚合物中。通过该方法,能够获得在侧链上具有(甲基)丙烯酰氧基的粘合剂聚合物。
上述聚合反应优选在70℃~100℃的温度条件下进行,更优选在80℃~90℃的温度条件下进行。作为上述聚合反应中使用的聚合引发剂,优选为偶氮系引发剂,例如更优选为FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制的V-601(商品名)或V-65(商品名)。上述高分子反应优选在80℃~110℃的温度条件下进行。在上述高分子反应中,优选使用铵盐等催化剂。
从显影残渣抑制性的观点出发,作为粘合剂聚合物,可优选地举出以下所示的聚合物。另外,以下示出的各结构单元的含有比率(a~d)及重均分子量Mw等能够根据目的而适当变更。
[化学式6]
[化学式7]
并且,作为粘合剂聚合物可以含有:包含具有羧酸酐结构的结构单元的聚合物(以下也称为“聚合物B”。)。通过感光性树脂组合物含有聚合物B,能够提高显影性及固化后的强度。
羧酸酐结构可以为链状羧酸酐结构及环状羧酸酐结构中的任一个,优选为环状羧酸酐结构。
作为环状羧酸酐结构的环,优选为5~7元环,更优选为5元环或6元环,尤其优选为5元环。
具有羧酸酐结构的结构单元优选为在主链中含有从由下述式P-1表示的化合物去除两个氢原子而得的2价基团的结构单元或从由下述式P-1表示的化合物去除一个氢原子而得的1价基团直接或经由2价连接基团与主链键合的结构单元。
[化学式8]
在式P-1中,RA1a表示取代基,n1a个RA1a可以相同,也可以不同,Z1a表示形成含有-C(=O)-O-C(=O)-的环的2价基团,n1a表示0以上的整数。
作为由RA1a表示的取代基,例如可举出烷基。
作为Z1a,优选为碳原子数2~4的亚烷基,更优选为碳原子数2或3的亚烷基,尤其优选为碳原子数2的亚烷基。
n1a表示0以上的整数。在Z1a表示碳原子数2~4的亚烷基的情况下,n1a优选为0~4的整数,更优选为0~2的整数,尤其优选为0。
在n1a表示2以上的整数的情况下,存在多个的RA1a可以相同,也可以不同。并且,存在多个的RA1a可以彼此键合而形成环,但优选不彼此键合而形成环。
具有羧酸酐结构的结构单元优选为源自不饱和羧酸酐的结构单元,更优选为源自不饱和环式羧酸酐的结构单元,进一步优选为源自不饱和脂肪族环式羧酸酐的结构单元,尤其优选为源自马来酸酐或衣康酸酐的结构单元,最优选为源自马来酸酐的结构单元。
以下,举出具有羧酸酐结构的结构单元的具体例,但具有羧酸酐结构的结构单元并不限定于这些具体例。下述结构单元中,Rx表示氢原子、甲基、CH2OH基或CF3基,Me表示甲基。
[化学式9]
[化学式10]
聚合物B中的具有羧酸酐结构的结构单元可以为单独一种,也可以为两种以上。
相对于聚合物B的总量,具有羧酸酐结构的结构单元的总含量优选为0摩尔%~60摩尔%,更优选为5摩尔%~40摩尔%,尤其优选为10摩尔%~35摩尔%。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种聚合物B,也可以含有两种以上的聚合物B。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有聚合物B时,从光固化性,显影性及所获得的固化膜的强度的观点出发,相对于感光性树脂组合物的总固体成分,聚合物B的含量优选为0.1质量%~30质量%,更优选为0.2质量%~20质量%,进一步优选为0.5质量%~20质量%,尤其优选为1质量%~20质量%。
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)优选为5,000以上,更优选为10,000以上,进一步优选为10,000~50,000,更进一步优选为15,000~30,000,尤其优选为20,000~30,000。
粘合剂聚合物的酸值优选为10mgKOH/g~200mgKOH/g,更优选为60mgKOH/g~200mgKOH/g,进一步优选为60mgKOH/g~150mgKOH/g,尤其优选为60mgKOH/g~110mgKOH/g。
粘合剂聚合物的酸值为按照JIS K0070:1992中记载的方法测量的值。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种粘合剂聚合物,也可以含有两种以上的粘合剂聚合物。
例如,从固化膜的强度及转印膜中的操作性的观点出发,相对于感光性树脂组合物的总固体成分,粘合剂聚合物的含量优选为10质量%~90质量%,更优选为20质量%~80质量%,进一步优选为30质量%~70质量%。
从图案化性及可靠性的观点出发,在粘合剂聚合物中,相对于具有该结构单位的粘合剂聚合物总质量,各结构单位的残留单体的含量优选为5,000质量ppm以下,更优选为2,000质量ppm以下,进一步优选为500质量ppm以下。下限没有特别限制,优选为1质量ppm以上,更优选为10质量ppm以上。
从图案化性及可靠性的观点出发,相对于后述的感光性层,粘合剂聚合物的各结构单元的残留单体优选为3,000质量ppm以下,更优选为600质量ppm以下,进一步优选为100质量ppm以下。下限没有特别限制,优选为0.1质量ppm以上,更优选为1质量ppm以上。
通过高分子反应合成粘合剂聚合物时的单体的残留单体量也优选设为上述范围。例如,在使丙烯酸缩水甘油酯与羧酸侧链反应来合成粘合剂聚合物的情况下,优选将丙烯酸缩水甘油酯的含量设为上述范围。
<烯属不饱和化合物>
本发明所涉及的感光性树脂组合物含有烯属不饱和化合物。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物中,烯属不饱和化合物有助于感光性(即光固化性)及固化膜的强度。
并且,本发明中的烯属不饱和化合物为除了上述粘合剂聚合物以外的化合物,优选为小于分子量5,000。
并且,其中,从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,本发明所涉及的感光性树脂组合物作为上述烯属不饱和化合物,优选包含由后述的式(M)所表示的化合物和具有酸基的烯属不饱和化合物,更优选包含1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物,尤其优选包含1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的丁二酸改性体。
此外,从所获得的固化膜的强度、基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,本发明所涉及的感光性树脂组合物作为上述烯属不饱和化合物,优选包含由后述的式(M)所表示的化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述的热交联性化合物,更优选包含由后述的式(M)所表示的化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述的封端异氰酸酯化合物。
从显影残渣抑制性、防锈性、所获得的固化膜的耐弯曲性的观点出发,上述烯属不饱和化合物优选包含由下述式(M)所表示的化合物(也简称为“化合物M”。)。
Q2-R1-Q1式(M)
在式(M)中,Q1及Q2分别独立地表示(甲基)丙烯酰氧基,R1表示具有链状结构的2价连接基团。
从合成容易性的观点出发,式(M)中的Q1及Q2优选为相同的基团。
并且,从反应性的观点出发,式(M)中的Q1及Q2优选为丙烯酰氧基。
从所获得的固化膜的耐弯曲性的观点出发,式(M)中的R1优选为亚烷基、亚烷氧基亚烷基(-L1-O-L1-)、或聚亚烷氧基亚烷基(-(L1-O)p-L1-),更优选为碳原子数2~20的烃基或聚亚烷氧基亚烷基,进一步优选为碳原子数4~20的亚烷基,尤其优选为碳原子数6~18的直链状亚烷基。上述烃基在至少一部分具有链状结构即可,作为除了上述链状结构以外的部分并无特别限制,例如可以为支链状、环状或碳原子数1~5的直链状亚烷基、亚芳基、醚键及这些组合中的任一种,从所获得的固化膜的耐弯曲性的观点出发,优选为亚烷基或组合2个以上的亚烷基和1个以上的亚芳基的基团,更优选为亚烷基,尤其优选为直链状亚烷基。
另外,上述L1分别独立地表示亚烷基,优选为乙烯基、亚丙基或亚丁基,更优选为乙烯基或1,2-亚丙基。p表示2以上的整数,优选为2~10的整数。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性的观点出发,化合物M中的连结Q1与Q2之间的最短连结链的原子数优选为3个~50个,更优选为4个~40个,进一步优选为6个~20个,尤其优选为8个~12个。
在本发明中,“连结Q1与Q2之间的最短连结链的原子数”是指,从连结到Q1的R1中的原子连结至连结到Q2的R1中的原子的最短的原子数。
作为化合物M的具体例,可举出1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,7-庚二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,8-辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-环己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚F的二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/丙二醇)二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯。上述酯单体也能够作为混合物使用。
从所获得的固化膜的耐弯曲性的观点出发,在上述化合物中,也优选为选自由1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种化合物,更优选为选自由1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种化合物,尤其优选为选自由1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种化合物。
化合物M可以单独使用一种,也可以同时使用两种以上。
从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性的观点出发,相对于感光性树脂组合物中的烯属不饱和化合物的总质量,化合物M的含量优选为10质量%~90质量%,更优选为15质量%~70质量%,进一步优选为20质量%~50质量%,尤其优选为25质量%~35质量%。
另外,本发明中的烯属不饱和化合是指,(重均)分子量为10,000以下的,具有烯属不饱和基团的化合物。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性的观点出发,相对于感光性树脂组合物中的总固体成分,化合物M的含量优选为1质量%~30质量%,更优选为3质量%~25质量%,进一步优选为5质量%~20质量%,尤其优选为6质量%~14.5质量%。
另外,本发明中的感光性树脂组合物中的总固体成分表示去除了溶剂等的挥发性成分的量。
并且,作为其他烯属不饱和化合物,优选含有2官能以上的烯属不饱和化合物。
在本发明中,“2官能以上的烯属不饱和化合物”是指,在一个分子中具有两个以上的烯属不饱和基团的化合物。
作为烯属不饱和化合物中的烯属不饱和基团,优选(甲基)丙烯酰基。
作为烯属不饱和化合物,优选为(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为烯属不饱和化合物,例如,从固化后的固化膜的强度的观点出发,尤其优选含有2官能的烯属不饱和化合物(优选为2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)和3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。
作为2官能的烯属不饱和化合物并没有特别的限制,能够从公知的化合物中适当选择。
作为除了上述化合物M以外的2官能的烯属不饱和化合物,可举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作为2官能的烯属不饱和化合物的市售品,可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(商品名:NK ESTETR A-DCP、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO,LTD.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(商品名:NK ESTETR DCP、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO,LTD.制)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名:NK ESTETR A-NOD-N、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO,LTD.制)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(商品名:NK ESTETR A-HD-N、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO,LTD.制)等。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物并没有特别的限制,能够从公知的化合物中适当选择。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物,例如可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物等。
在此,“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念,“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
作为烯属不饱和化合物,还可以举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制A-9300-1CL等)、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARAD(注册商标)RP-1040、Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(ShinNakamura Chemical Co.,Ltd.制NK ESTETR A-GLY-9E等)等。
作为烯属不饱和化合物,还可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物〔优选为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物〕。例如可举出环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯以及环氧乙烷及环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯。
作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物,官能团数更优选6官能以上,进一步优选8官能以上。官能团数的上限例如能够设为20官能以下。作为市售品,例如可举出8UX-015A(TAISEI FINE CHEMICAL CO.,LTD.制)、NK ESTER UA-32P(Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制)、U-15HA(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、NK ESTER A-1100H(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H、UX-5000(以上Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)等。
从显影性及显影残渣抑制性的观点出发,作为烯属不饱和化合物,优选包含具有酸基的烯属不饱和化合物。
作为酸基,可举出磷酸基、磺酸基、羧基等。
在这些中,作为酸基,优选为羧基。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物,可举出具有酸基的3官能~4官能的烯属不饱和化合物〔在季戊四醇三及四丙烯酸酯(PETA)骨架中导入羧基而成的化合物(酸值:80mgKOH/g~120mgKOH/g)〕、具有酸基的5官能~6官能的烯属不饱和化合物〔在二季戊四醇五及六丙烯酸酯(DPHA)骨架中导入羧基而成的化合物(酸值:25mgKOH/g~70mgKOH/g)〕等。
这些具有酸基的3官能以上的烯属不饱和化合物可以根据需要与具有酸基的2官能的烯属不饱和化合物同时使用。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物,优选选自由具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐组成的组中的至少1种。
若具有酸基的烯属不饱和化合物为选自由具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐组成的组中的至少一种,则显影性及膜强度进一步提高。
具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物并无特别限制,能够从公知的化合物中适当选择。
作为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物,能够优选使用ARONIX(注册商标)TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制)、ARONIX(注册商标)M-520(TOAGOSEI CO.,LTD.制)及ARONIX(注册商标)M-510(TOAGOSEI CO.,LTD.制)等。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物,可以优选使用日本特开2004-239942号公报的0025~0030段中记载的具有酸基的聚合性化合物,该公报中记载的内容可编入到本发明中。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以单独含有一种具有酸基的烯属不饱和化合物,也可以含有两种以上具有酸基的烯属不饱和化合物。
从显影性及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,相对于感光性树脂组合物的总固体成分,具有酸基的烯属不饱和化合物的含量优选为0.1质量%~30质量%,更优选为0.5质量%~20质量%,进一步优选为1质量%~10质量%,尤其优选为1质量%~5质量%。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,作为烯属不饱和化合物优选包含具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物,更优选包含具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构的2官能烯属不饱和化合物,尤其优选包含三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,上述脂肪族烃环结构优选为环戊烷环结构、环己烷环结构、三环癸烷环结构、降冰片烷环、异佛尔酮环,更优选为环己烷环结构或三环癸烷环结构,尤其优选为三环癸烷环结构。
并且,从所获得的固化膜的透湿度及耐弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,本发明所涉及的感光性树脂组合物优选包含具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物及具有包含脂肪族烃环的结构单元的粘合剂聚合物。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以单独含有一种具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物,也可以含有两种以上具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物。
从所获得的固化膜中的透湿度及耐弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,相对于感光性树脂组合物的总固体成分,具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物的含量优选为1质量%~50质量%,更优选为5质量%~40质量%,进一步优选为10质量%~30质量%,尤其优选为15质量%~25质量%。
从防锈性的观点出发,作为上述烯属不饱和化合物,优选包含化合物M及具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物。
并且,从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,作为上述烯属不饱和化合物,优选包含化合物M及具有酸基的烯属不饱和化合物,更优选包含化合物M、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物,进一步优选包含化合物M、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物、3官能以上的烯属不饱和化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物,尤其优选包含化合物M、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物、3官能以上的烯属不饱和化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
此外,从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,作为上述烯属不饱和化合物,优选包含1,9-壬二醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物,更优选包含1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物,进一步优选包含1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯及具有羧酸基的烯属不饱和化合物,尤其优选包含1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、具有羧酸基的烯属不饱和化合物及氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以含有单官能烯属不饱和化合物作为烯属不饱和化合物。
相对于感光性树脂组合物中所含的所有烯属不饱和化合物的总含量,上述烯属不饱和化合物中的2官能以上的烯属不饱和化合物的含量优选为60质量%~100质量%,更优选为80质量%~100质量%,尤其优选为90质量%~100质量%。
作为烯属不饱和化合物的分子量优选为200~3,000,更优选为250~2,600,进一步优选为280~2,200,尤其优选为300~2,200。
本发明所涉及的感光性树脂组合物中所含有的烯属不饱和化合物中,相对于在感光性树脂组合物中含有的所有烯属不饱和化合物的含量,分子量300以下的烯属不饱和化合物的含量的比例优选为30质量%以下,更优选为25质量%以下,进一步优选为20质量%以下。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种烯属不饱和化合物,也可以含有两种以上的烯属不饱和化合物。
相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,本发明所涉及的感光性树脂组合物中的烯属不饱和化合物的含量优选为1质量%~70质量%,更优选为10质量%~70质量%,进一步优选为20质量%~60质量%,尤其优选为20质量%~50质量%。
<光聚合引发剂>
本发明所涉及的感光性树脂组合物含有光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂并没有特别的限制,能够使用公知的光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂,可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下也称为“肟系光聚合引发剂”。)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下也称为“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下也称为“α-羟烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下也称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)、具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下也称为“N-苯基甘胺酸系光聚合引发剂”。)等。
光聚合引发剂优选包括选自由肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂组成的组中的至少1种,更优选包括选自由肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂组成的组中的至少1种。
并且,从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点出发,光聚合引发剂优选同时使用2种以上,更优选包含肟系光聚合引发剂及α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂,尤其优选包含1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基肟)及2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮。
并且,作为光聚合引发剂,例如也可以使用日本特开2011-95716号公报的0031~0042段及日本特开2015-014783号公报的0064~0081段中记载的聚合引发剂。
作为光聚合引发剂的市售品,可举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮-2-(O-苯甲酰肟)〔商品名:IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制〕、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰肟)〔商品名:IRGACURE(注册商标)OXE-02、BASF公司制〕、[8-[5-(2,4,6-三甲基苯基)-11-(2-乙基己基)-11H-苯并[a]咔唑][2-(2,2,3,3-四氟丙氧基)苯基]甲酮-(O-乙酰肟)〔商品名:IRGACURE(注册商标)OXE-03、BASF公司制〕、1-[4-[4-(2-苯并呋喃基羰基)苯基]硫基]苯基]-4-甲基戊酮-1-(O-乙酰肟)〔商品名:IRGACURE(注册商标)OXE-04、BASF公司制〕、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮〔商品名:IRGACURE(注册商标)379EG、BASF公司制〕、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮〔商品名:IRGACURE(注册商标)907、BASF公司制〕、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮〔商品名:IRGACURE(注册商标)127、BASF公司制〕、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮-1〔商品名:IRGACURE(注册商标)369、BASF公司制〕、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮〔商品名:IRGACURE(注册商标)1173、BASF公司制〕、1-羟基环己基苯基酮〔商品名:IRGACURE(注册商标)184、BASF公司制〕、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮〔商品名:IRGACURE 651、BASF公司制〕等、肟酯系的商品〔商品名:Lunar(注册商标)6、DKSH Management Ltd.制〕、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙烷-1,2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名:TR-PBG-305、常州强力电子新材料公司制)、1,2-丙二酮,3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃基羰基)-9H-咔唑-3-基]-2-(O-乙酰基肟)(商品名:TR-PBG-326、常州强力电子新材料公司制)、3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰氧基亚氨基)己酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基)-丙烷-1,2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名:TR-PBG-391、常州强力电子新材料公司制)等。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种光聚合引发剂,也可以含有两种以上的光聚合引发剂。
本发明所涉及的感光性树脂组合物中的光聚合引发剂的含量并无特别限制,但相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,优选为0.1质量%以上,更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1.0质量%以上。
并且,相对于感光性树脂组成物的总固体成分量,本发明所涉及的感光性树脂组合物中的光聚合引发剂的含量优选为10质量%以下,更优选为5质量%以下。
<热交联性化合物>
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,本发明所涉及的感光性树脂组合物优选含有热交联性化合物。另外,在本发明中,具有后述的烯属不饱和基的热交联性化合物不作为烯属不饱和化合物,而作为热交联性化合物。
作为热交联性化合物,可举出环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、羟甲基化合物、封端异氰酸酯化合物等。其中,从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发,优选封端异氰酸酯化合物。
封端异氰酸酯化合物与羟基及羧基反应,因此例如在粘合剂聚合物及具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物中的至少一个具有羟基及羧基中的至少一个的情况下,所形成的膜的亲水性趋于下降,作为保护膜的作用趋于增强。
另外,封端异氰酸酯化合物是指,“具有利用封端剂保护(所谓的掩蔽)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。
封端异氰酸酯化合物的解离温度并无特别限制,但优选为100℃~160℃,更优选为130℃~150℃。
本发明中的封端异氰酸酯的解离温度是指,“使用差示扫描量热计通过DSC(Differential scanning calorimetry,差示扫描量热法)分析测量时伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。
作为差示扫描量热计,例如能够优选使用Seiko Instruments Inc.制的差示扫描量热计(型号:DSC6200)。但是,差示扫描量热计并不限定于此。
作为解离温度为100℃~160℃的封端剂,可举出活性亚甲基化合物〔(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2-乙基己酯等)等〕、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等在分子内具有由-C(=N-OH)-所表示的结构的化合物)等。
在这些中,例如,从保存稳定性的观点出发,作为解离温度为100℃~160℃的封端剂,优选为选自肟化合物中的至少1种。
例如,从改善膜的脆性、提高与被转印体之间的密合力等观点出发,封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。
具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如通过将六亚甲基二异氰酸酯异氰脲酸酯化来进行保护而得。
在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中,从比不具有肟结构的化合物容易将解离温度设在优选的范围,且容易减少显影残渣的观点出发,优选为将肟化合物用作封端剂的具有肟结构的化合物。
封端异氰酸酯化合物可以具有聚合性基团。
作为聚合性基团,没有特别的限制,能够使用公知的聚合性基团,可优选地举出自由基聚合性基团。
作为聚合性基团,可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基等烯属不饱和基团、缩水甘油基等具有环氧基的基团等。
从获得的固化膜中的表面的面状、显影速度及反应性的观点出发,在这些中,作为聚合性基团,优选烯属不饱和基团,更优选(甲基)丙烯酰氧基,尤其优选为丙烯酰氧基。
作为封端异氰酸酯化合物,能够使用市售品。
作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子,可举出Karenz(注册商标)AOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BP等(以上为SHOWA DENKO K.K制)、封端型Duranate系列(例如,Duranate(注册商标)TPA-B80E、Duranate(注册商标)WT32-B75P等、Asahi Kasei Chemicals Corporation制)等。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种热交联性化合物,也可以含有两种以上的热交联性化合物。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物包含热交联性化合物的情况下,相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,热交联性化合物的含量优选为1质量%~50质量%,更优选为5质量%~30质量%。
<脂肪族硫醇化合物>
本发明所涉及的感光性树脂组合物优选包含除了上述化合物A以外的脂肪族硫醇化合物。
若本发明所涉及的感光性树脂组合物含有脂肪族硫醇化合物,则脂肪族硫醇化合物进行烯硫醇反应,由此所形成的膜的固化收缩得到抑制,应力得到缓和,因此所形成的固化膜相对于基板的密合性(尤其,曝光后的密合性)有提高的倾向。
通常,若感光性树脂组合物含有脂肪族硫醇化合物,则金属(尤其铜)更容易腐蚀。相对于此,本发明所涉及的感光性树脂组合物具有如下优点:即使在含有脂肪族硫醇化合物的情况下,也能够形成金属(尤其铜)的抗腐蚀性优异的固化膜。
作为脂肪族硫醇化合物,可优选使用单官能脂肪族硫醇化合物或多官能脂肪族硫醇化合物(即,2官能以上的脂肪族硫醇化合物)。
例如从所形成的固化膜相对于基板的密合性(尤其,曝光后的密合性)的观点出发,在这些中,作为脂肪族硫醇化合物,优选含有多官能脂肪族硫醇化合物,更优选为多官能脂肪族硫醇化合物。
在本发明中,“多官能脂肪族硫醇化合物”是指,在分子内具有两个以上的硫醇基(也称为“巯基”。)的脂肪族化合物。
多官能脂肪族硫醇化合物优选为分子量为100以上的低分子化合物。具体而言,多官能脂肪族硫醇化合物的分子量更优选为100~1,500,进一步优选为150~1,000。
例如,从所形成的固化膜相对于基板的密合性的观点出发,多官能脂肪族硫醇化合物的官能团数优选为2官能~10官能,更优选为2官能~8官能,进一步优选为2官能~6官能。
作为多官能脂肪族硫醇化合物,可举出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、乙二醇双硫代丙酸酯、1,2-乙二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,6-六亚甲基二硫醇、2,2’-(乙烯二硫代)二乙硫醇、内消旋-2,3-二巯基丁二酸、二(巯基乙基)醚等。
作为多官能的脂肪族硫醇化合物,在这些中,优选为选自由三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、及、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷组成的组中的至少一种。
作为单官能脂肪族硫醇化合物,可举出1-辛硫醇、1-十二烷硫醇、β-巯基丙酸、甲基-3-巯基丙酸酯、2-乙基己酯-3-巯基丙酸酯、正辛基-3-巯基丙酸酯、甲氧基丁基-3-巯基丙酸酯、硬脂基-3-巯基丙酸酯等。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种脂肪族硫醇化合物,也可以含有两种以上的脂肪族硫醇化合物。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有脂肪族硫醇化合物的情况下,相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,脂肪族硫醇化合物的含量优选为5质量%以上,更优选为5质量%~50质量%,进一步优选为5质量%~30质量%,尤其优选为8质量%~20质量%。
若相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,脂肪族硫醇化合物的含量为5质量%以上,则趋于能够形成相对于基板(尤其,铜基板)的密合性(尤其,曝光后的密合性)更优异的固化膜。
<表面活性剂>
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以包含表面活性剂。
作为表面活性剂并无特别限制,能够使用公知的表面活性剂。
作为表面活性剂,可举出日本专利第4502784号公报的0017段及日本特开2009-237362号公报的0060~0071段中记载的表面活性剂。
作为表面活性剂优选为氟系表面活性剂或硅系表面活性剂(也称为“硅酮系表面活性剂”)。
作为氟系表面活性剂的市售品,例如可举出MEGAFACE F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-551-A、F-552、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上,DIC Corporation制)、FLUORAD FC430、FC431、FC171(以上,Sumitomo 3M Limited制)、SURFLON S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上,AGC Inc.制)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上,OMNOVA Solutions Inc.制)、FTERGENT 710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F(以上,NEOS COMPANY LIMITED制)等。
并且,氟系表面活性剂具有带含有氟原子的官能团的分子结构,也能够优选使用丙烯酸系化合物,所述丙烯酸系化合物若施加热则含有氟原子的官能团的一部分被切割而氟原子挥发。作为这种氟系表面活性剂,可举出DIC Corporation制的MEGAFACE DS系列(化学工业日报(2016年2月22日)、日经产业新闻(2016年2月23日)),例如MEGAFACE DS-21。
并且,氟系表面活性剂也优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子乙烯基醚化合物与亲水性乙烯基醚化合物的聚合物。
氟系表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。氟系表面活性剂也能够优选使用包含源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元、源自具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元的含氟高分子化合物。
氟系表面活性剂也能够使用在侧链上具有含烯属不饱和键基团的含氟聚合物。可举出MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上,DIC Corporation制)等。
作为非离子系表面活性剂,可举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及这些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、失水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上,BASF公司制)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(以上,BASF公司制)、Solsperse 20000(以上,The Lubrizol Corporation制)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上,FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)、Pionin D-6112、D-6112-W、D-6315(以上,Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制)、Olfine E1010、Surfynol 104、400、440(以上,Nissin Chemical co.,ltd.制)等。
作为硅系表面活性剂的市售品的例子,可举出包括硅氧烷键的直链状聚合物、及在侧链或末端导入有机基团而得的改性硅氧烷聚合物。
作为表面活性剂的具体例,可举出DOWSIL 8032ADDITIVE、Toray SiliconeDC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、ToraySilicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Si liconeSH8400(以上,Dow Corning Toray Co.,Ltd.制)以及X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上,Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制)、F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上,Momentive performance Materials Inc.制)、BYK307、BYK323、BYK330(以上,BYK Co.,LTD制)等。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种表面活性剂,也可以含有两种以上的表面活性剂。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有表面活性剂的情况下,相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,表面活性剂的含量优选为0.01质量%~3.0质量%,更优选为0.05质量%~1质量%,进一步优选为0.1质量%~0.8质量%。
<供氢性化合物>
本发明所涉及的感光性树脂组合物优选包含供氢性化合物。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物中,供氢性化合物具有如下作用:进一步提高光聚合引发剂相对于活化光线的灵敏度、抑制氧气对聚合性化合物的聚合抑制等。
作为供氢性化合物,可举出胺类、例如,M.R.Sander等著“Journal of PolymerSociety”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-20189号公报、日本特开昭51-82102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-84305号公报、日本特开昭62-18537号公报、日本特开昭64-33104号公报、Research Disclosure 33825号等中记载的化合物等。
作为供氢性化合物的具体例,可举出三乙醇胺、对二甲氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲硫基二甲基苯胺等。
并且,作为供氢性化合物,还可举出氨基酸化合物(N-苯基甘氨酸等)、日本特公昭48-42965号公报中记载的有机金属化合物(乙酸三丁基锡等)、日本特公昭55-34414号公报中记载的供氢体、日本特开平6-308727号公报中记载的硫化合物(三噻烷等)等。
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以仅含有一种供氢性化合物,也可以含有两种以上的供氢性化合物。
例如,从通过聚合生长速度和链转移的平衡来提高固化速度的观点出发,在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有供氢性化合物的情况下,相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,供氢性化合物的含量优选为0.01质量%~10质量%,更优选为0.03质量%~5质量%,进一步优选为0.05质量%~3质量%。
<溶剂>
本发明所涉及的感光性树脂组合物优选包含溶剂。
若本发明所涉及的感光性树脂组合物含有溶剂,则趋于容易通过涂布来形成感光性层。
作为溶剂,能够无特别限制地使用通常使用的溶剂。
作为溶剂,优选为有机溶剂。
作为有机溶剂,可举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别名:1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇、2-丙醇等。
作为溶剂,优选为甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂或二乙二醇乙基甲基醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。
作为溶剂,也能够使用美国专利申请公开第2005/282073号说明书的0054及0055段中记载的Solvent,该说明书的内容可编入到本发明中。
并且,作为溶剂,还能够根据需要使用沸点为180℃~250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有溶剂的情况下,可以仅含有一种溶剂,也可以含有两种以上的溶剂。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有溶剂的情况下,相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,在本发明所涉及的感光性树脂组合物的固体成分量优选为5质量%~80质量%,更优选为5质量%~40质量%,尤其优选为5质量%~30质量%。
例如,从涂布性的观点出发,在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有溶剂的情况下,感光性树脂组合物在25℃下的粘度优选为1mPa·s~50mPa·s,更优选为2mPa·s~40mPa·s,进一步优选为3mPa·s~30mPa·s。
使用粘度计来测量粘度。作为粘度计,例如能够优选使用TOKI SANGYO CO.,LTD.制的粘度计(商品名:VISCOMETER TV-22)。但是,粘度计并不限定于此。
例如,从涂布性的观点出发,在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有溶剂的情况下,感光性树脂组合物在25℃下的表面张力优选为5mN/m~100mN/m,更优选为10mN/m~80mN/m,进一步优选为15mN/m~40mN/m。
使用表面张力计来测量表面张力。作为表面张力计,例如能够优选使用KyowaInterface Science Co.,Ltd.制的表面张力计(商品名:Automatic Surface TensiometerCBVP-Z)。但是,表面张力计并不限定于此。
<其他成分>
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以含有除了已叙述的成分以外的成分(所谓的其他成分)。
作为其他成分,可举出粒子(例如,金属氧化物粒子)、着色剂等。
并且,作为其他成分,例如还可举出日本专利第4502784号公报的0018段中记载的热聚合抑制剂、日本特开2000-310706号公报的0058~0071段中记载的其他添加剂等。
-粒子-
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以以调节折射率、光透射性等为目的而含有粒子(例如,金属氧化物粒子;以下相同。)。
在金属氧化物粒子中的金属中,还包括B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。
例如,从固化膜的透明性的观点出发,粒子的平均一次粒径优选为1nm~200nm,更优选为3nm~80nm。
粒子的平均一次粒径通过使用电子显微镜测量任意200个粒子的粒径,并将测量结果进行算术平均来计算。另外,在粒子的形状不是球形的情况下,将最长的边设为粒径。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有粒子的情况下,可以仅含有一种金属种类、大小等不同的粒子,也可以含有两种以上的金属种类、大小等不同的粒子。
本发明所涉及的感光性树脂组合物优选不含粒子或相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,粒子的含量超过0质量%且为35质量%以下,更优选不含粒子或相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,粒子的含量超过0质量%且为10质量%以下,进一步优选不含粒子或相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,粒子的含量超过0质量%且为5质量%以下,进一步优选不含粒子或相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,粒子的含量超过0质量%且为1质量%以下,尤其优选不含粒子。
-着色剂-
本发明所涉及的感光性树脂组合物可以含有微量的着色剂(颜料、染料等),但例如从透明性的观点出发,优选实质上不含着色剂。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物含有着色剂的情况下,相对于感光性树脂组合物的总固体成分量,着色剂的含量优选为小于1质量%,更优选为小于0.1质量%。
<用途>
本发明所涉及的感光性树脂组合物的用途并无特别限制,但由于所获得的固化膜的透湿性低,且耐弯曲性优异,因此能够优选地用作触摸面板用感光性树脂组合物,能够更优选地用作触摸面板中的保护膜形成用感光性组合物,能够尤其优选地用作触摸面板中的电极保护膜形成用感光性组合物。
(固化膜)
本发明所涉及的固化膜为使本发明所涉及的感光性树脂组合物固化而成的膜。另外,在本发明所涉及的感光性树脂组合物包含溶剂的情况下,本发明所涉及的固化膜为使本发明所涉及的感光性树脂组合物的固体成分固化而成的固化膜。
并且,在本发明所涉及的感光性树脂组合物包含溶剂的情况下,优选将本发明所涉及的感光性树脂组合物以膜状涂布到基材上之后,通过加热干燥、风干、减压干燥等公知的方法来去除溶剂的至少一部分,之后进行固化来形成固化膜。
并且,上述固化膜可以是所期望的图案形状。
本发明所涉及的固化膜能够优选地用作层间绝缘膜(所谓,绝缘膜)或外涂膜(所谓,保护膜)等。并且,本发明所涉及的固化膜,由于其膜物性优异,因此优选地使用于有机EL显示装置、液晶显示装置等。
并且,本发明所涉及的固化膜能够优选地用作触摸面板用保护膜,且尤其能够优选地用作触摸面板用电极保护膜。
本发明所涉及的固化膜的厚度并无特别限制,优选为1μm~20μm,更优选为2μm~15μm,进一步优选为3μm~12μm。
(转印膜)
本发明所涉及的转印膜具有临时支承体、至少包含本发明所涉及的感光性树脂组合物的固体成分的感光性层,优选具有由本发明所涉及的感光性树脂组合物组成或对上述感光性树脂组合物进行干燥而成的感光性层。
<临时支承体>
本发明所涉及的转印膜具有临时支承体。
临时支承体优选为膜,更优选为树脂膜。作为临时支承体,能够使用具有挠性,且在加压下或在加压及加热下不会发生显著的变形、收缩或拉伸的膜。
作为这种膜,例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(例如,双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)、三醋酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。
在这些中,作为临时支承体,尤其优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
并且,作为临时支承体使用的膜优选没有褶皱等变形、划伤等。
从能够隔着临时支承体进行图案曝光的观点出发,临时支承体优选透明性高,365nm的透射率优选为60%以上,更优选为70%以上。
从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发,优选临时支承体的雾度小。具体而言,临时支承体的雾度值优选为2%以下,更优选为0.5%以下,尤其优选为0.1%以下。
从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发,优选临时支承体中所含的微粒、异物和缺陷的数量少。直径1μm以上的微粒或异物或缺陷的数量优选为50个/10mm2以下,更优选为10个/10mm2以下,进一步优选为3个/10mm2以下,尤其优选为0个/10mm2。
并且,从更提高操作性的观点出发,可以在临时支承体的表面设置含有微小粒子的层(润滑剂层)。润滑剂层可以设置于临时支承体的单面上,也可以设置于两个面上。润滑剂层中所含有的粒子的直径能够设为0.05μm~0.8μm。并且,润滑剂层的膜厚能够设为0.05μm~1.0μm。
临时支承体的厚度并无特别限制,但优选为5μm~200μm,从操作容易性及通用性的观点出发,更优选为10μm~150μm,进一步优选为10μm~50μm。
作为临时支承体,例如能够举出膜厚16μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、膜厚12μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜及膜厚9μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等。
作为临时支承体的优选方式,例如记载于日本特开2014-85643号公报的0017~0018段、日本特开2016-27363号公报的0019~0026段、国际公开第2012/081680号的0041~0057段、国际公开第2018/179370号的0029~0040段,这些公报的内容可编入到本说明书中。
作为临时支承体,例如能够以TORAY INDUSTRIES,INC.制的Lumirror(注册商标)16FB40或TORAY INDUSTRIES,INC.制的Lumirror(注册商标)16QS62(16KS40)、COSMOSHINE(注册商标)A4100、COSMOSHINE(注册商标)A4300、COSMOSHINE(注册商标)A8300(以上,TOYOBO CO.,LTD.制)形式来获得。
并且,作为临时支承体的尤其优选的方式,能够举出厚16μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、厚12μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜及厚10μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
<感光性层>
本发明所涉及的转印膜具有至少包含本发明所涉及的感光性树脂组合物的固体成分的感光性层,优选具有由本发明所涉及的感光性树脂组合物组成或对上述感光性树脂组合物进行干燥而成的感光性层。
在本发明所涉及的感光性树脂组合物包含溶剂的情况下,优选为通过公知的方法来去除至少一部分溶剂来形成感光性层。
溶剂不需完全去除。例如,相对于感光性层的总质量,感光性层中的溶剂的含量优选为5质量%以下,更优选为1质量%以下,尤其优选为0.5质量%以下。
感光性层的厚度并无特别限制,优选为20μm以下,更优选为15μm以下,进一步优选为12μm以下。
若感光性层的厚度为20μm以下,则在转印膜整体的膜化、感光性层或所获得的固化膜的透射率提高、感光性层或所获得的固化膜的黄色着色化抑制等方面有利。
从制造适用性的观点出发,例如,感光性层的厚度优选为1μm以上,更优选为2μm以上,尤其优选为3μm以上。
感光性层的厚度作为通过利用扫描式电子显微镜(SEM)的截面观察测出的任意5个点的平均值来计算。
感光性层的折射率并无特别限制,但优选为1.47~1.56,更优选为1.50~1.53,进一步优选为1.50~1.52,尤其优选为1.51~1.52。
作为感光性层的形成方法,并无特别限定,可以使用公知的方法。
作为感光性层的形成方法的一例,可举出通过在临时支承体上涂布含有溶剂的方式的感光性树脂组合物并根据需要使其干燥来形成感光性层的方法。
作为涂布方法,能够使用公知的方法。
作为涂布方法,可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂布法、旋涂法、模涂法(即,狭缝涂布法)等。
在这些中,作为涂布方法,优选模涂法。
作为干燥的方法,能够使用自然干燥、加热干燥、减压干燥等公知的方法,能够单独适用这些方法或组合多个这些方法来适用。
在本发明中,“干燥”表示去除组合物中所含的溶剂的至少一部分。
<第二树脂层>
本发明所涉及的转印膜还可以在从感光性层观察时与临时支承体存在侧相反的一侧具备第二树脂层。
作为第二树脂层,可优选地举出折射率调整层。
并且,第二树脂层可以包含化合物A。化合物A的优选方式及优选含量等与上述感光性层中的优选方式相同。
第二树脂层优选与感光性层相邻配置。
从布线视觉辨认抑制性的观点出发,第二树脂层的折射率优选高于感光性层的折射率。
第二树脂层的折射率优选为1.50以上,更优选为1.55以上,进一步优选为1.60以上,尤其优选为1.70以上。
第二树脂层的折射率的上限并无特别限制,但优选为2.10以下,更优选为1.85以下,进一步优选为1.78以下,尤其优选为1.74以下。
第二树脂层可以具有光固化性(即,感光性),也可以具有热固化性,还可以具有光固化性及热固化性这两者,但从形成强度优异的固化膜的观点出发,第二树脂层优选具有光固化性。
第二树脂层优选具有碱溶性(例如相对于弱碱水溶液的溶解性)。
作为第二树脂层的厚度没有特别限制。
第二树脂层的厚度优选为50nm以上且500nm以下,更优选为55nm以上且110nm以下,进一步优选为60nm以上且100nm以下。
第二树脂层的厚度作为通过利用扫描式电子显微镜(SEM)的截面观察测出的任意5个点的平均值来计算。
控制第二树脂层的折射率的方法并没有特别的限制,例如可举出单独使用规定折射率的树脂的方法、使用树脂与金属氧化物粒子或金属粒子的方法、使用金属盐与树脂的复合体的方法等。
作为金属氧化物粒子的种类没有特别的限制,能够使用公知的金属氧化物粒子。
在金属氧化物粒子中的金属中,还包括B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。
并且,从透明性的观点出发,粒子的平均一次粒径优选为1nm~200nm,更优选为3nm~80nm。
粒子的平均一次粒径通过使用电子显微镜测量任意200个粒子的粒径,并将测量结果进行算术平均来计算。另外,在粒子的形状不是球形的情况下,将最长的边设为粒径。
作为金属氧化物粒子,具体而言,优选为选自由氧化锆粒子(ZrO2粒子)、Nb2O5粒子、氧化钛粒子(TiO2粒子)及二氧化硅粒子(SiO2粒子)组成的组中的至少1种及其复合粒子。
例如从容易将第二树脂层的折射率调整为1.6以上的观点出发,在这些中,作为金属氧化物粒子,更优选为选自由氧化锆粒子及氧化钛粒子组成的组中的至少一种。
作为金属氧化物粒子的市售品,能够举出煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名:ZRPGM15WT%-F04)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名:ZRPGM15WT%-F74)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名:ZRPGM15WT%-F75)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名:ZRPGM15WT%-F76)、氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30M、NissanChemical Corporation制)氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30K、Nissan Chemical Corporation制)。
在第二树脂层含有金属氧化物粒子的情况下,第二树脂层可以仅含有一种金属氧化物粒子,也可以含有两种以上的金属氧化物粒子。
从电极图案等的被隐蔽物的隐蔽性变得良好,能够有效地改善被隐蔽物的可见性的观点出发,相对于第二树脂层的总质量,金属氧化物粒子的含量优选为1质量%~95质量%,更优选为20%~90%,进一步优选为40质量%~85%质量%。
在作为金属氧化物粒子使用氧化钛的情况下,相对于第二树脂层的总质量,氧化钛粒子的含量优选为1质量%~95质量%,更优选为20%~90%,进一步优选为40质量%~85%质量%。
并且,第二树脂层优选含有粘合剂聚合物及烯属不饱和化合物。
关于第二树脂层的成分,能够参考在日本特开2014-108541号公报的0019~0040段及0144~0150段中记载的固化性第二树脂层的成分、在日本特开2014-10814号公报的0024~0035段及0110~0112段中记载的透明层的成分、在国际公开第2016/009980号的0034~0056段中记载的具有铵盐的组合物的成分等。
作为第二树脂层所含有的粘合剂聚合物,能够使用与感光性层所含有的粘合剂聚合物相同的粘合剂聚合物,优选范围也相同。
作为第二树脂层所含有的烯属不饱和化合物,能够使用与感光性层所含有的具有烯属不饱和化合物的自由基聚合性化合物相同的烯属不饱和化合物,优选范围也相同。
并且,从与第二树脂层接触的金属的抗氧化性的观点出发,第二树脂层可以包含除了化合物A以外的金属抗氧化剂。
作为除了化合物A以外的金属抗氧化剂,例如可优选地举出在分子内具有含有氮原子的芳香环的化合物。
作为除了化合物A以外的金属抗氧化剂的例子,可举出咪唑、三唑、苯并咪唑、四氮唑、巯基噻二唑、苯并三唑、嘌呤等。
并且,从与第二树脂层接触的金属的抗氧化性的观点出发,第二树脂层还优选包含腺嘌呤作为化合物A。
从制造适应性的观点出发,第二树脂层可以包含具有原子数3以上的链状基团的胺化合物。作为具有原子数3以上的链状基团的胺化合物,能够举出3-(二乙氨基)-1,2-丙二醇、N-甲基二乙醇胺。
第二树脂层也可以含有除了上述的成分以外的其他成分。
作为第二树脂层中可含有的其他成分,可举出与已叙述的感光性层中所含的各成分相同的成分。
第二树脂层优选含有表面活性剂作为其他成分。
作为第二树脂层的形成方法并没有特别的限定。
作为第二树脂层的形成方法的一例,可举出通过在形成于临时支承体上的已叙述的感光性层上涂布含有水系溶剂的方式的第二树脂层形成用组合物,且根据需要使其干燥来形成第二树脂层的方法。
第二树脂层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与感光性层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
<保护膜>
本发明所涉及的转印膜可以在从感光性层观察时与临时支承体相反的一侧还具有保护膜。
本发明所涉及的转印膜在从感光性层观察时与临时支承体相反的一侧具有第二树脂层的情况下,优选在从第二树脂层观察时与临时支承体相反的一侧具有保护膜。
上述保护膜优选为本发明所涉及的转印膜中的与临时支承体相反的一侧的面的最外层。
作为保护膜,可举出聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚苯乙烯膜及聚碳酸酯膜等。
作为保护膜,例如可以使用日本特开2006-259138号公报的0083~0087及0093段中记载的膜。
保护膜例如能够以Oji F-Tex Co.,Ltd.制的ALPHAN(注册商标)FG-201、Oji F-Tex Co.,Ltd.制的ALPHAN(注册商标)E-201F、TORAY ADVANCED FILM CO.,LTD.制的Cerapeel(注册商标)25WZ、或TORAY INDUSTRIES,INC.制的Lumirror(注册商标)16QS62(16KS40)形式来获得。
并且,保护膜优选保护膜中所含的直径80μm以上的鱼眼的数量为5个/m2以下。另外,“鱼眼”是在将材料热融并通过混炼、挤压、双轴拉伸及浇铸涂布法等方法制造膜时,材料的异物、未溶解物、氧化劣化物等混入膜中而成。
保护膜中所含的直径3μm以上的粒子的数量优选为30个/mm2以下,更优选为10个/mm2以下,进一步优选为5个/mm2以下。由此,能够抑制因由保护膜中所含的粒子引起的凹凸转印到感光性树脂层上而产生的缺陷。
从赋予卷取性的观点出发,保护膜的和与感光层接触的面相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.01μm以上,更优选为0.02μm以上,进一步优选为0.03μm以上。另一方面,从抑制转印时的缺陷的观点出发,Ra优选小于0.50μm,更优选为0.40μm以下,进一步优选为0.30μm以下。
并且,从抑制转印时的缺陷的观点出发,保护膜的与感光层接触的面的表面粗糙度Ra优选为0.01μm以上,更优选为0.02μm以上,进一步优选为0.03μm以上。另一方面,优选为小于0.50μm,更优选为0.40μm以下,进一步优选为0.30μm以下。
<热塑性树脂层>
本发明所涉及的转印膜可以在临时支承体与感光性层之间还具有热塑性树脂层。
若转印膜还具有热塑性树脂层,则在将转印膜转印到基板上而形成了层叠体的情况下,不易产生由层叠引起的气泡。在将该层叠体用于图像显示装置的情况下,不易产生图像不均匀等,可获得优异的显示特性。
热塑性树脂层优选具有碱溶性。
热塑性树脂层在转印时作为吸收基板表面的凹凸的缓冲材料而发挥作用。
基板表面的凹凸还包括已形成的图像、电极、布线等。
热塑性树脂层优选具有可根据凹凸变形的性质。
热塑性树脂层优选含有日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质,更优选包含基于维卡(Vicat)法(具体而言,基于美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测量法)的软化点约为80℃以下的有机高分子物质。
热塑性树脂层的厚度例如优选为3μm~30μm,更优选为4μm~25μm,进一步优选为5μm~20μm。
若热塑性树脂层的厚度为3μm以上,则相对于基板表面的凹凸的追随性进一步提高,因此能够更有效地吸收基板表面的凹凸。
若热塑性树脂层的厚度为30μm以下,则制造适应性进一步提高,因此例如,进一步减轻在临时支承体上涂布形成热塑性树脂层时的干燥(所谓的用于去除溶剂的干燥)的负荷,并且进一步缩短转印后的热塑性树脂层的显影时间。
热塑性树脂层的厚度作为通过利用扫描式电子显微镜(SEM)的截面观察测出的任意5个点的平均值来计算。
热塑性树脂层可以通过将包括溶剂及热塑性的有机高分子的热塑性树脂层形成用组合物涂布到临时支承体并根据需要使其干燥来形成。
热塑性树脂层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与感光性层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
只要溶解形成热塑性树脂层的高分子成分,则溶剂并无特别限制。
作为溶剂,可举出有机溶剂(例如,甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇)。
热塑性树脂层优选在100℃下测量出的粘度为1,000Pa·s~10,000Pa·s。并且,优选在100℃下测量出的热塑性树脂层的粘度低于在100℃下测量出的感光性层的粘度。
<中间层>
本发明所涉及的转印膜可以在临时支承体与感光性层之间还具有中间层。
在本发明所涉及的转印膜具有热塑性树脂层的情况下,中间层优选配置于热塑性树脂层与感光性层之间。
作为中间层中所含的成分,例如可举出选自由聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮及纤维素组成的组中的至少一种聚合物。
并且,作为中间层,还能够使用日本特开平5-72724号公报中记载为“分离层”的中间层。
在制造在临时支承体上依次具有热塑性树脂层、中间层及感光性层的方式的转印膜的情况下,中间层例如可以通过涂布不溶解热塑性树脂层的溶剂及含有作为中间层的成分的上述聚合物的中间层形成用组合物并根据需要使其干燥来形成。
详细而言,首先,在临时支承体上涂布热塑性树脂层形成用组合物,并根据需要使其干燥,从而形成热塑性树脂层。接着,在所形成的热塑性树脂层上涂布中间层形成用组合物,并根据需要使其干燥,从而形成中间层。接着,在所形成的中间层上涂布含有有机溶剂的方式的感光性树脂组合物(所谓的感光性层形成用组合物),使其干燥,从而形成感光性层。另外,感光性层形成用组合物中所含的有机溶剂优选为不溶解中间层的有机溶剂。
中间层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与感光性层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
-杂质-
本发明所涉及的转印膜中,从提高可靠性和图案形成性的观点出发,优选上述感光性层及上述第二树脂层的杂质的含量较少。
作为杂质的具体例,可举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡及这些的离子、以及卤化物离子(氯化物离子、溴化物离子、碘化物离子等)等。其中,钠离子、钾离子、氯化物离子作为杂质不易混入,因此尤其优选设为以下含量。
各层中的杂质的含量,以质量基准计,优选为1,000ppm以下,更优选为200ppm以下,进一步优选40ppm以下,尤其优选为10ppm以下,最优选为5ppm以下。下限并没有特别限定,但从现实中可减少的极限及测量极限的观点出发,以质量基准计,能够设为10ppb以上,能够设为100ppb以上。
作为将杂质减少到上述范围的方法,可以举出选择在各层的原料中不包含杂质的方法,及在形成层时防止杂质混入的方法,清洗去除的方法等。通过这种方法,能够使杂质量设在上述范围内。
杂质例如能够通过ICP(Inductively Coupled Plasma,电感耦合等离子体)发射光谱分析法、原子吸收光谱法、离子色谱法等公知的方法来定量。
并且,优选为各层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1,3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺及己烷等的化合物的含量少。作为这些化合物在各层中的含量,以质量基准计,优选为1,000ppm以下,更优选为200ppm以下,进一步优选为40ppm以下,尤其优选为10ppm以下,最优选为5ppm以下。下限并没有特别限定,但从现实中可减少的极限及测量极限的观点出发,以质量基准计,能够设为10ppb以上,能够设为100ppb以上。
通过与上述的金属杂质相同的方法能够控制化合物的杂质的含量。并且,能够通过公知的测量方法进行定量。
-水分-
从提高层压性、可靠性及图案化性的观点出发,在本发明所涉及的转印膜中,相对于上述感光性层或上述第二树脂层的总质量,上述感光性层及上述第二树脂层的含水量优选为0.01质量%以上且1.0质量%以下,更优选为0.1质量%以上且0.5质量%以下。
并且,感光性层及第二树脂层优选为无彩色。具体而言,全反射(入射角8°、光源:D-65(2°视野))在CIE1976(L*,a*,b*)颜色空间中,L*值优选为10~90,a*值优选为-1.0~1.0,b*值优选为-1.0~1.0。
-转印膜的具体例-
图1是作为本发明所涉及的转印膜的一具体例的转印膜10的概略剖视图。如图1所示,转印膜10具有保护膜16/第二树脂层20A/感光性层18A/临时支承体12的层叠结构(即依次配置临时支承体12、感光性层18A、第二树脂层20A、保护膜16而成的层叠结构)。
但是,本发明所涉及的转印膜并不限定于转印膜10,例如可以省略第二树脂层20A及保护膜16。并且,在临时支承体12与感光性层18A之间,可以具有已叙述的热塑性树脂层及中间层中的至少一个。
第二树脂层20A为在从感光性层18A观察时配置于与存在临时支承体12的一侧相反的一侧的层,且为波长550nm中的折射率为1.50以上的层。
转印膜10为负型材料(所谓负型膜)。
转印膜10的制造方法并没有特别的限制。
转印膜10的制造方法例如依次包括在临时支承体12上形成感光性层18A的工序、在感光性层18A上形成第二树脂层20A的工序及在第二树脂层20A上形成保护膜16的工序。
转印膜10的制造方法可以在形成第二树脂层20A的工序与形成保护膜16的工序之间包括在国际公开第2016/009980号的0056段中记载的使氨挥发的工序。
本发明所涉及的转印膜在制作之后直至使用为止的期间,优选以卷取成辊状的状态冷藏保管。作为冷藏温度,例如能够举出2℃以上且10℃以下。
(层叠体及静电电容式输入装置)
本发明所涉及的层叠体具有基板和使本发明所涉及的感光性树脂组合物固化而成的固化膜。
本发明所涉及的层叠体只要具有本发明所涉及的固化膜即可,但优选为依次层叠基板、电极及本发明所涉及的固化膜而成的层叠体。
固化膜可以为所期望的图案形状。
本发明所涉及的静电电容式输入装置具有本发明所涉及的固化膜或本发明所涉及的层叠体。
基板优选为包括静电电容式输入装置的电极的基板。
电极优选为静电电容式输入装置的电极。
静电电容式输入装置的电极可以为透明电极图案,也可以为迂回布线。
层叠体中,静电电容式输入装置的电极优选为电极图案,更优选为透明电极图案。
本发明所涉及的层叠体及使本发明所涉及的感光性树脂组合物固化而成的固化膜优选为无彩色。具体而言,全反射(入射角8°、光源:D-65(2°视野))在CIE1976(L*,a*,b*)颜色空间中,图案的L*值优选为10~90,图案的a*值优选为-1.0~1.0,图案的b*值优选为-1.0~1.0。
在本发明所涉及的层叠体中具有基板、透明电极图案、与透明电极图案相邻配置的第二树脂层及与第二树脂层相邻配置的感光性层,优选为第二树脂层的折射率高于感光性层的折射率。
第二树脂层的折射率优选为1.6以上。
若如上构成层叠体,则透明电极图案的隐蔽性会变得良好。
作为基板,优选玻璃基板或树脂基板。
并且,基板优选为透明的基板,更优选为透明的树脂基板。
基板的折射率优选为1.50~1.52。
作为玻璃基板,例如能够使用Corning Incorporated的大猩猩玻璃(注册商标)等强化玻璃。
作为树脂基板,优选为使用没有光学畸变的树脂基板及透明度高的树脂基板中的至少一个,例如可举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)、聚酰亚胺(PI)、聚苯并噁唑(PBO)、环烯烃聚合物(COP)等树脂形成的基板。
作为透明的基板的材质,优选日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中记载的材质。
作为静电电容式输入装置,可优选地举出触摸面板。
作为触摸面板用电极,例如可举出配置于触摸面板的至少图像显示区域的透明电极图案。触摸面板用电极可以从图像显示区域延伸至触摸面板的框部。
作为触摸面板用布线,例如可举出在触摸面板的框部配置的迂回布线(所谓的取出布线)。
作为触摸面板用基板及触摸面板的方式,优选为通过在延伸至透明电极图案的触摸面板的框部的部分层叠迂回布线的一部分而透明电极图案与迂回布线电连接的方式。
作为透明电极图案的材质,优选为ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等金属氧化膜、或金属网、银纳米线等金属细线。
作为金属细线可举出银、铜等的细线。其中,优选为银网、银纳米线等银导电性材料。
作为迂回布线的材质,优选为金属。
作为迂回布线的材质的金属,可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰以及包含这些金属元素中的两种以上的合金。作为迂回布线的材质,优选为铜、钼、铝或钛,尤其优选为铜。
使用本发明所涉及的转印膜形成的触摸面板用电极保护膜以保护电极等(即触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个)为目的设置成直接或经由其他层覆盖电极等。
触摸面板用电极保护膜的厚度的优选范围与已叙述的感光性层的厚度的优选范围相同。
上述电极保护膜(优选为触摸面板用电极保护膜),可以具有开口部。
开口部可以通过感光性层的非曝光部被显影液溶解而形成。
触摸面板在电极等与触摸面板用电极保护层之间还可以具备第一折射率调整层(例如参考后述的触摸面板的第1具体例)。
第一折射率调整层的优选方式与转印膜可具有的第二树脂层的优选方式相同。但是,在第二树脂层为固化性的情况下,第一折射率调整层为固化后的层,作为第一折射率调整层的优选方式,当然也不适用第二树脂层中的光固化性、热固化性及碱溶性等的优选方式。
第一折射率调整层可以通过第一折射率调整层形成用组合物的涂布及干燥而形成,也可以通过单独将具有折射率调整层的转印膜的折射率调整层进行转印来形成。
具备第一折射率调整层的方式的触摸面板优选为通过使用具有第二树脂层的方式的本发明所涉及的转印膜且将转印膜中的感光性层及第二树脂层进行转印来形成。此时,由转印膜中的感光性层形成触摸面板用电极保护层,且由转印膜中的第二树脂层形成第一折射率调整层。
并且,触摸面板或触摸面板用基板可以在基板与电极等之间具备第二折射率调整层(例如参考后述的触摸面板的第1具体例)。
第二折射率调整层的优选方式与转印膜可具有的第二树脂层的优选方式相同。
触摸面板具备第一折射率调整层的方式(更优选为,具备第一折射率调整层及第二折射率调整层的方式)具有不易视觉辨认到电极等(所谓,抑制图案可见)的优点。
关于触摸面板的结构,可参考日本特开2014-10814号公报及日本特开2014-108541号公报中记载的静电电容式输入装置的结构。
-触摸面板的第1具体例-
图2是作为本发明所涉及的触摸面板的第1具体例的触摸面板30的概略剖视图。更详细而言,图2是触摸面板30的图像显示区域的概略剖视图。
如图2所示,触摸面板30具有依次配置基板32、第二折射率调整层36、作为触摸面板用电极的透明电极图案34、第一折射率调整层20、触摸面板用电极保护膜18而成的结构。
在触摸面板30中,触摸面板用电极保护膜18及第一折射率调整层20覆盖透明电极图案34的整体。但是,本发明所涉及的触摸面板并不限定于该方式。触摸面板用电极保护膜18及第一折射率调整层20覆盖透明电极图案34的至少一部分即可。
第二折射率调整层36及第一折射率调整层20优选为分别直接或经由其他层来连续包覆存在透明电极图案34的第1区域40及不存在透明电极图案34的第2区域42。根据这种方式,透明电极图案34变得更难以被视觉辨认。
第二折射率调整层36及第一折射率调整层20,相比经由其他层包覆第1区域40及第2区域42这两者,更优选直接包覆第1区域40及第2区域42这两者。
作为“其他层”,可举出绝缘层、除了透明电极图案34以外的电极图案等。
第一折射率调整层20遍及第1区域40及第2区域42这两者而层叠。第一折射率调整层20与第二折射率调整层36相邻,进而也与透明电极图案34相邻。
在与第二折射率调整层36接触的部位中的透明电极图案34的端部的形状为如图2所示的锥形状的情况下,优选为沿着锥形状(即以与锥角相同的斜率)层叠第一折射率调整层20。
作为透明电极图案34,优选为ITO透明电极图案。
透明电极图案34例如能够通过以下方法来形成。
在形成有第二折射率调整层36的基板32上,通过溅射来形成电极用膜(例如ITO膜)。接着,在所形成的电极用膜上通过涂布蚀刻用感光性抗蚀剂或通过转印蚀刻用感光性膜而形成蚀刻保护层。接着,通过曝光及显影,将所形成的蚀刻保护层图案化为所期望的图案形状。接着,通过蚀刻去除电极用膜中没有被图案化的蚀刻保护膜覆盖的部分,将电极用膜作成所期望形状的图案(即,透明电极图案34)。接着,去除通过剥离液图案化的蚀刻保护层。
第一折射率调整层20及触摸面板用电极保护膜18例如以如下方式形成于依次设置有第二折射率调整层36及透明电极图案34的基板32(即触摸面板用基板)上。
首先,准备图1所示的转印膜10(即具有保护膜16/第二树脂层20A/感光性层18A/临时支承体12的层叠结构的转印膜10)。
接着,从转印膜10去除保护膜16。
接着,将去除了保护膜16的转印膜10层压到依次设置有第二折射率调整层36及透明电极图案34的基板32(即触摸面板用基板)上。层压以去除了保护膜16的转印膜10的第二树脂层20A与透明电极图案34接触的方向进行。通过该层压,可获得具有临时支承体12/感光性层18A/第二树脂层20A/透明电极图案34/第二折射率调整层36/基板32的层叠结构的层叠体。
接着,从层叠体去除临时支承体12。
接着,通过对去除了临时支承体12的层叠体进行图案曝光,使感光性层18A及第二树脂层20A固化成图案状。感光性层18A及第二树脂层20A的图案状固化可以分别通过独自的图案曝光来个别进行,但优选为通过1次图案曝光来同时进行。
接着,通过显影来去除感光性层18A及第二树脂层20A的非曝光部(即非固化部),由此分别获得感光性层18A的图案状的固化物即触摸面板用电极保护膜18(关于图案形状未图示)及第二树脂层20A的图案状的固化物即第一折射率调整层20(关于图案形状未图示)。图案曝光后的感光性层18A及第二树脂层20A的显影可以分别通过独自的显影来个别进行,但优选为通过1次显影来同时进行。
层压、图案曝光及显影的优选方式待留后述。
-触摸面板的第2具体例-
图3是作为本发明所涉及的触摸面板的第2具体例的触摸面板90的概略剖视图。
如图3所示,触摸面板90具有图像显示区域74及图像非显示区域75(即,框部)。
并且,触摸面板90在基板32的两个面上具备触摸面板用电极。详细而言,触摸面板90在基板32的一侧的面上具备第1透明电极图案70,在另一侧的面上具备第2透明电极图案72。
在触摸面板90中,第1透明电极图案70及第2透明电极图案72分别连接有迂回布线56。迂回布线56例如为铜布线。
在触摸面板90中,在基板32的一侧的面上以覆盖第1透明电极图案70及迂回布线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18,且在基板32的另一侧的面上以覆盖第2透明电极图案72及迂回布线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18。
在基板32的一侧的面及另一侧的面上可以分别形成第1具体例中的第一折射率调整层及第二折射率调整层。
(触摸面板的制造方法)
本发明所涉及的触摸面板的制造方法并没有特别的限制,优选为以下的方法。
本发明所涉及的触摸面板的制造方法优选包括以下工序:
准备具有在基板上配置有电极等(即触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个)的结构的触摸面板用基板(以下也称为“准备工序”。);
在触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上形成包括本发明所涉及的感光性树脂组合物的感光性层(以下也称为“感光性层形成工序”。);
对形成在触摸面板用基板上的感光性层进行图案曝光(以下也称为“图案曝光工序”。);以及
通过对经图案曝光的感光性层进行显影,获得保护电极等的至少一部分的触摸面板用电极保护膜(以下也称为“显影工序”。)。
根据本发明所涉及的触摸面板的优选制造方法,能够制造具备相对于基板的密合性及金属的抗腐蚀性优异的固化膜的触摸面板。
以下,对本发明所涉及的触摸面板的优选的制造方法中的各工序进行说明。
<准备工序>
准备工序是为了方便起见的工序,是准备具有在基板上配置有电极等(即触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个)的结构的触摸面板用基板的工序。
准备工序可以是仅准备预先制造的触摸面板用基板的工序,也可以是制造触摸面板用基板的工序。
触摸面板用基板的优选方式如已叙述。
<感光性层形成工序>
感光性层形成工序是在触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上形成包括本发明所涉及的感光性树脂组合物的感光性层的工序。
以下,对在感光性层形成工序中,使用本发明所涉及的转印膜形成含有本发明所涉及的感光性树脂组合物的感光性层的方式进行说明。
在该方式中,将本发明所涉及的转印膜层压于触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上,通过将本发明所涉及的转印膜中的感光性层转印到上述面上来在上述面上形成感光性层。
层压(所谓的感光性层的转印)能够使用真空层压机、自动切割层压机等公知的层压机来进行。
作为层压条件,能够适用通常的条件。
层压温度优选为80℃~150℃,更优选为90℃~150℃,进一步优选为100℃~150℃。
在使用具备橡胶辊的层压机的情况下,层压温度是指橡胶辊的温度。
层压时的基板温度并无特别限制。
作为层压时的基板温度,优选为10℃~150℃,更优选为20℃~150℃,进一步优选为30℃~150℃。
在将树脂基板用作基板的情况下,作为层压时的基板温度,优选为10℃~80℃,更优选为20℃~60℃,进一步优选为30℃~50℃。
并且,作为层压时的线压,优选为0.5N/cm~20N/cm,更优选为1N/cm~10N/cm,进一步优选为1N/cm~5N/cm。
并且,作为层压时的传送速度(层压速度),优选为0.5m/分钟~5m/分钟,更优选为1.5m/分钟~3m/分钟。
在使用具有保护膜/感光性层/中间层/热塑性树脂层/临时支承体的层叠结构的转印膜的情况下,首先,从转印膜剥离保护膜来使感光性层暴露,接着,以使暴露的感光性层与触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面接触的方式贴合转印膜与触摸面板用基板,接着进行加热及加压。通过这种操作,转印膜的感光性层转印到触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上,形成具有临时支承体/热塑性树脂层/中间层/感光性层/电极等/基板的层叠结构的层叠体。在该层叠结构中,“电极等/基板”的部分为触摸面板用基板。
然后,根据需要从上述层叠体剥离临时支承体。但是,也能够以留有临时支承体的状态进行后述的图案曝光。
作为在触摸面板用基板上转印转印膜的感光性层,并进行图案曝光、显影的方法的例子,也能够参考日本特开2006-23696号公报的0035~0051段的记载。
<图案曝光工序>
图案曝光工序是对形成在触摸面板用基板上的感光性层进行图案曝光的工序。
“图案曝光”是指曝光成图案状的方式即存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。
在触摸面板用基板上的感光性层中,图案曝光中的曝光部被固化,最终成为固化膜。
另一方面,触摸面板用基板上的感光性层中,图案曝光中的非曝光部不被固化,从而在接下来的显影工序中被显影液溶解而去除。非曝光部可以在显影工序后形成固化膜的开口部。
图案曝光可以为经由掩模的曝光,也可以为使用激光等而成的数字曝光。
作为图案曝光的光源,只要是能够照射能将感光性层固化的波长区域的光(例如365nm或405nm),则能够适当选择来使用。
作为光源,可举出各种激光、发光二极管(LED)、超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。
曝光量优选为5mJ/cm2~200mJ/cm2,更优选为10mJ/cm2~200mJ/cm2。
在使用转印膜在基板上形成有感光性层的情况下,可以在剥离临时支承体之后进行图案曝光,也可以在剥离临时支承体之前进行图案曝光,然后剥离临时支承体。
并且,在曝光工序中,可以在图案曝光之后且在显影之前对感光性层实施热处理(所谓的PEB(Post Exposure Bake、后烘烤))。
<显影工序>
显影工序是通过使经图案曝光的感光性层显影(即通过使图案曝光中的非曝光部溶解于显影液)而获得保护电极等的至少一部分的触摸面板用电极保护膜的工序。
用于显影的显影液并无特别限制,能够使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。
作为显影液,优选使用碱性水溶液。
作为碱性水溶液中可含有的碱性化合物,可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)等。
碱性水溶液在25℃下的pH优选为8~13,更优选为9~12,尤其优选为10~12。
相对于碱性水溶液的总质量,碱性水溶液中的碱性化合物的含量优选为0.1质量%~5质量%,更优选为0.1质量%~3质量%。
显影液可以含有对水具有溶混性(miscibility)的有机溶剂。
作为有机溶剂,可举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。
有机溶剂的浓度优选为0.1质量%~30质量%。
显影液可以包含公知的表面活性剂。
表面活性剂的浓度优选为0.01质量%~10质量%。
显影液的液温优选为20℃~40℃。
作为显影方式,例如可举出旋覆浸没显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等方式。
在进行喷淋显影时,通过在图案曝光后的感光性层上以喷淋状喷吹显影液来去除感光性层的非曝光部。
在使用具备感光性层和热塑性树脂层及中间层中的至少一个而成的转印膜的情况下,可以在将这些层转印到基板上之后且显影感光性层之前,以喷淋状喷吹感光性层的溶解性低的碱性的液体来预先去除热塑性树脂层及中间层中的至少一个(在存在这两者的情况下为这两者)。
并且,优选在显影之后,通过利用喷淋器喷吹清洗剂等的同时,用刷子等进行擦拭来去除显影残渣。
显影液的液温优选为20℃~40℃。
显影工序可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影得到的固化膜进行加热处理(以下,还称为“后烘烤”。)的阶段。
在基板为树脂基板的情况下,后烘烤的温度优选为100℃~160℃,更优选为130℃~160℃。
通过该后烘烤,还能够调整透明电极图案的电阻值。
在感光性层含有含羧基(甲基)丙烯酸树脂的情况下,通过后烘烤,能够使含羧基(甲基)丙烯酸树脂的至少一部分变为羧酸酐。若如此改变,则显影性及固化膜的强度优异。
显影工序可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影获得的固化膜进行曝光(以下,还称为“后曝光”。)的阶段。
在显影工序包括进行后曝光的阶段及进行后烘烤的阶段这两个阶段的情况下,优选在后曝光之后实施后烘烤。
关于图案曝光、显影等,例如还可以参考日本特开2006-23696号公报的0035~0051段的记载。
本发明所涉及的触摸面板的制造方法可以包括除了已叙述的工序以外的工序(所谓的其他工序)。
作为其他工序,可举出有时会在通常的光刻工序中设置的公知的工序(例如,清洗工序)。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行更具体的说明。
以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的主旨,则能够适当进行变更。因此,本发明的范围并不限定于以下示出的具体例。
(实施例1)
<感光性转印材料(转印膜)的制作>
<<感光性层的形成>>
使用狭缝状喷嘴将由以下处方101构成的感光性层用涂布液调整而涂布于厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(临时支承体、16QS62(16KS40)(TORAY INDUSTRIES,INC.制))上,以使干燥后的厚度成为4.5μm,并使用具有75℃到120℃的温度梯度的热风对流干燥机进行干燥来去除溶剂,从而形成了感光性层。
-感光性层用涂布液:处方101(有机溶剂系树脂组合物(感光性树脂组合物))-
·烯属不饱和化合物
A-NOD-N(M-1:1,9-壬二醇二丙烯酸酯、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO,LTD.制):8.41份
A-DCP(M-3、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制):16.83份
ARONIX TO-2349(M-4、具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物、TOAGOSEI CO.,LTD.制):2.80份
·粘合剂聚合物
P-1(下述所示的树脂、源自苯乙烯的结构单元(St)/源自二环戊基甲基丙烯酸酯的结构单位(DCPMA)/源自甲基丙烯酸的结构单元(MAA)/将甲基丙烯酸缩水甘油酯附加于源自甲基丙烯酸的结构单元而成的结构单元(GMA-MAA)=41.0/15.2/23.9/19.9(mol%)、Mw=17,000):56.32份(固体成分量)
·光聚合引发剂
1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基肟)(D-1、Irgacure OXE-02、BASF公司制):0.32份
2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮(D-2、Irgacure 907、BASF公司制):0.64份
·热交联性化合物
Duranate WT32-B75P(E-3、封端异氰酸酯化合物、Asahi Kasei ChemicalsCorporation制):12.50份
·化合物A
吡啶-2-羧酸:0.69份
·其他添加剂
供氢性化合物(AD-1、N-苯基甘氨酸、JUNSEI CHEMICAL CO.,LTD.制):0.10部
苯乙烯/马来酸酐=4:1(摩尔比)的共聚物(AD-2、SMA EF-40、酸酐值1.94mmol/g、重均分子量10,500、Cray Valley公司制):1.20份
表面活性剂(AD-3、氟系表面活性剂、MEGAFACE F551A、DIC CORPORATION制):0.32份
·有机溶剂:添加了乙酸1-甲氧基-2-丙酯和甲基乙基酮的1:1(质量比)混合溶剂,以使感光性层形成用涂布液的固体成分浓度成为29质量%。
[化学式11]
<<第二树脂层的形成>>
接着,使用狭缝状的喷嘴,将由下述处方201构成的第二树脂层用涂布液调整而涂布于上述感光性层上,以使干燥后的厚度成为70nm,并使用具有40℃到95℃的温度梯度的热风对流干燥机进行干燥来去除溶剂,从而形成了与感光性层直接接触而配置的第二树脂层。在25℃下波长550nm处第二树脂层的折射率为1.68。
在此,处方201使用具有酸基的树脂和氨水溶液进行制备,具有酸基的树脂用氨水溶液中和,制备了含有具有酸基的树脂的铵盐的水系树脂组合物即第二树脂层用涂布液。
-第二树脂层用涂布液:处方201(水系树脂组合物)-
·丙烯酸树脂(ZB-015M、Fuji Fine Chemical Co.,Ltd.制、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙酯的共聚合树脂、重均分子量2.5万、组成比(摩尔比)=20/80、固体成分5.00%、氨水溶液):4.92份
·具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物(ARONIX TO-2349、TOAGOSEI CO.,LTD.制):0.04份
·ZrO2粒子(NanoUse OZ-S30M、固体成分30.5%、甲醇69.5%、折射率为2.2、平均粒径:约12nm、Nissan Chemical Corporation制):4.34份
·防锈剂(苯并三唑衍生物、BT-LX、JOHOKU CHEMICAL CO.,LTD制):0.03份
·表面活性剂(氟系表面活性剂、MEGAFACE F444、DIC CORPORATION制):0.01份
·蒸馏水:24.83份
·甲醇:65.83份
<<保护膜的形成>>
在以如上的方式获得的,在临时支承体上依次设置感光性层和与感光性层直接接触而配置的第二树脂层而成的层叠体的第二树脂层上压接厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(保护膜、16QS62(16KS40)(TORAY INDUSTRIES,INC.制)),从而制作了实施例1的感光性转印材料(转印膜)。
<评价方法>
使用所获得的感光性转印材料以如下进行评价。
<防锈性的评价>
剥离保护膜之后,将所获得的感光性转印材料层压于铜板上的单面。层压的条件设为压接辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。
之后,在所获得的曝光前的层叠体上,使用具有超高压汞灯的近接式曝光机(proximityexposure)(Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co.,Ltd.制),将曝光掩模(具有外涂形成用图案的石英曝光掩模、1mm的线与空间:5线)面与临时支承体之间的距离设定为125μm,隔着临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。剥离临时支承体之后,在32℃下用碳酸钠2%水溶液对图案曝光后的层叠体清洗处理60秒钟。通过从超高压清洗喷嘴对清洗处理后的铜基板喷射超纯水,去除了残渣。随后,吹入空气去除了铜基板上的水分,并在140℃下进行了30分钟的后烘烤处理。
之后,在85℃85%RH的环境下,将上述图案化样品静置24小时。
目视确认了该图案的空间部分的铜的变色。
在下述评价基准中,A为防锈性最好,E为最差。优选为A、B及C中的任一个,更优选为A或B,尤其优选为A。
A:与处理前的铜色相同,完全没有变色
B:稍微变为红色
C:变为红色
D:变为蓝色
E:完全变为蓝色
<防锈宽度>
在上述防锈性评价中,目视观察距感光性树脂组合物的固化膜1mm的铜板上的部分附近,根据以下的基准评价了上述防锈性的评价基准中确认到评价A~C的效果的范围。另外,在下述评价基准中,优选为A。
A:距上述固化膜1mm以上的部分也确认到防锈性的效果
B:确认到防锈性的效果的部分仅为距上述固化膜小于1mm的部分
<显影残渣抑制性的评价>
剥离保护膜之后,将所获得的感光性转印材料层压于铜板上的单面。层压的条件设为压接辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。
之后,在所获得的曝光前的层叠体上,使用具有超高压汞灯的近接式曝光机(Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co.,Ltd.制),将曝光掩模(具有外涂形成用图案的石英曝光掩模、1mm的线与空间:5线)面与临时支承体之间的距离设定为125μm,隔着临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。
剥离临时支承体之后,将图案曝光后的层叠体浸泡在23℃的碳酸钠1%水溶液中静置45秒进行了显影处理。之后,在23℃的纯水中静置25秒进行了清洗处理。利用鼓风机将空气吹到清洗处理后的铜基板,去除水滴,而将其用作显影残渣抑制性评价样品。
目视确认了该图案的空间部分的铜上的残渣物。
在下述评价标准中,A为显影残渣抑制性最好,E为最差。评价越好越优选。
A:无铜的变色,未确认到铜上的附着物。
B:铜稍微带红色,未确认到铜上的附着物。
C:铜略带红色,未确认到铜上的附着物。
D:铜略带红色,可稀疏确认到铜上的附着物。
E:铜略带红色,在正面确认到铜上的附着物。
<基板密合性(密合性)的评价>
作为支承体使用铜基板,在铜基板上剥离转印膜的保护膜,使露出的第二树脂层表面密合而进行层压,从而形成了具有临时支承体/感光性层/第二树脂层/铜基板的层叠结构的层叠体A。此时的层压的条件设为层压辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。
使用具有超高压汞灯的近接式曝光机(Hitachi High-Tech ElectronicsEngineering Co.,Ltd.制),隔着临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)对所制作的层叠体A进行了曝光。曝光之后,剥离了临时支承体。
剥离了临时支承体之后,进一步以曝光量375mJ/cm2(i射线)进行后曝光,进一步在145℃下进行30分钟的后烘烤制成了评价用试样。
使用上述的评价用试样,按照JIS标准(K5400)的方法,对以10个×10个格子状切入切口的层叠体进行了横切试验。
具体而言,使用切刀从层叠体的感光层的固化膜的表面至第二树脂层以1mm×1mm见方的格子状切入切痕,将透明粘合胶带#600(3M Japan Limited制)压接于感光层的固化膜的表面而贴合。然后,抓住经贴合的透明粘合胶带的一端,沿着感光层的固化膜的表面向180°方向牵拉,而剥离了透明粘合带。
之后,目视观察感光层的固化膜的表面(剥离面)的状态,进而,求出被剥离部分的面积,算出切成格子状的切痕的区域相对于总面积的比率,并以算出值为基础,按照以下的评价基准进行了评价。
在评价基准中,A为最好,E为最差。
-评价基准-
A:总面积的100%的感光层的固化膜及第二树脂层保持密合。
B:总面积的95%以上且小于100%的感光层的固化膜及第二树脂层保持密合。
C:总面积的65%以上且小于95%的感光层的固化膜及第二树脂层保持密合。
D:总面积的35%以上且小于65%的感光层的固化膜及第二树脂层保持密合。
E:感光层的固化膜及第二树脂层保持密合的部分小于总面积的35%。
<储能模量的测量>
按照以下方法进行了感光性树脂组合物在100℃下的储能模量的测量。
在储能模量的测量中,使用了TA Instruments.制流变仪(Discovery HR-2)。并且,样品固定用夹具使用了20mmφ的平行板。
使用狭缝状喷嘴将感光性层用涂布液调整而涂布于厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(临时支承体,16QS62(16KS40)(TORAY INDUSTRIES,INC.制))上,以使干燥后的厚度成为10μm,并使用具有75℃到120℃的温度梯度的热风对流干燥机进行干燥来去除溶剂,从而形成了感光性层。将其重复50次进行层压,由此获得了约500μm膜厚的样品。
将经制作的样品配置于板之间,从而使样品与板密合。动态粘弹性是在剪切模式、频率1.0HZ、应变0.5%下,在20~125℃的温度范围内以升温速度5℃/分钟进行测量,并求出了在100℃下的储能模量G’(Pa)。
(实施例2~40及比较例1~5)
如表1~表4所记载那样变更除了溶剂以外的各成分的种类及含量(固体成分量),除此之外,以与实施例1相同的方式分别制造了感光性树脂组合物及转印膜。
并且,使用所获得的感光性转印材料,与实施例1相同的方式进行了各评价。
(实施例41~44)
如表4所记载那样变更除了溶剂以外的各成分的种类及含量(固体成分量),并且在实施例41及43中,按照下述处方202进行第二树脂层用涂布液的制备,在实施例42及44中,按照下述处方203进行了第二树脂层用涂布液的制备,除此之外,以与实施例1相同的方式,分别制作了感光性树脂组合物及转印膜。
并且,使用所获得的感光性转印材料,与实施例1相同的方式进行了各评价。
以下示出第二树脂层用涂布液的制备中的处方202及处方203。
-第二树脂层用涂布液:处方202(水系树脂组合物)-
·丙烯酸树脂(ZB-015M、Fuj i Fine Chemical Co.,Ltd.制、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙酯的共聚合树脂、重均分子量2.5万、组成比(摩尔比)=20/80、固体成分5.00%、氨水溶液):4.92份
·具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物(ARONIX TO-2349、TOAGOSEI CO.,LTD.制):0.04份
·ZrO2粒子(NanoUse OZ-S30M、固体成分30.5%、甲醇69.5%、折射率为2.2、平均粒径:约12nm、Nissan Chemical Corporation制):4.34份
·添加剂(腺嘌呤、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制):0.03份
·添加剂(N-甲基二乙醇胺、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制):0.03份
·表面活性剂(氟系表面活性剂、MEGAFACE F444、DIC CORPORATION制):0.01份
·蒸馏水:24.83份
·甲醇:65.83份
-第二树脂层用涂布液:处方203(水系树脂组合物)-
·丙烯酸树脂(ZB-015M、Fuj i Fine Chemical Co.,Ltd.制、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙酯的共聚合树脂、重均分子量2.5万、组成比(摩尔比)=20/80、固体成分5.00%、氨水溶液):4.92份
·具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物(ARONIX TO-2349、TOAGOSEI CO.,LTD.制):0.04份
·ZrO2粒子(NanoUse OZ-S30M、固体成分30.5%、甲醇69.5%、折射率为2.2、平均粒径:约12nm、Nissan Chemical Corporation制):4.34份
·添加剂(嘧啶、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制):0.03份
·添加剂(N-甲基二乙醇胺、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制):0.03份
·表面活性剂(氟系表面活性剂、MEGAFACE F444、DIC CORPORATION制):0.01份
·蒸馏水:24.83份
·甲醇:65.83份
(实施例45~48)
如表5所记载那样变更除了溶剂以外的各成分的种类及含量(固体成分量),变更为使干燥后的感光性层的厚度成为5.5μm,并且变更为按照下述处方204进行第二树脂层用涂布液的制备,而以下述方式形成第二树脂层,除此之外,以与实施例1相同的方式,分别制作了感光性树脂组合物及转印膜。
并且,使用所获得的感光性转印材料,与实施例1相同的方式进行了各评价。
-第二树脂层用涂布液:处方204(水系树脂组合物)-
·粘合剂聚合物
甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙酯的共聚合树脂(Mw:38,000、组成比(摩尔比)=20/80):12.85份
ARUFON UC-3920(TOAGOSEI CO.,LTD.制):0.47份
·具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物(ARONIX TO-2349、TOAGOSEI CO.,LTD.制):2.00份
·ZrO2粒子(NanoUse OZ-S30M、折射率为2.2、平均粒径:约12nm、NissanChemical Corporation制):80.00份
·添加剂1(N-甲基二乙醇胺):2.00份
·添加剂2(腺嘌呤):2.00份
·表面活性剂(氟系表面活性剂、MEGAFACE F444、DIC CORPORATION制):0.68份
·溶剂:添加了甲醇和蒸馏水的7:3(质量比)混合溶剂,以使第二树脂层用涂布液的固体成分浓度成为1.66质量%。
<<第二树脂层的形成>>
使用狭缝状的喷嘴,将由处方204构成的第二树脂层用涂布液调整而涂布于感光性层上,以使干燥后的厚度成为73nm,并使用具有40℃到95℃的温度梯度的热风对流干燥机进行干燥来去除溶剂,从而形成了与感光性层直接接触而配置的第二树脂层。在25℃下波长550nm处第二树脂层的折射率为1.68。
在此,处方204使用具有酸基的树脂和氨水溶液进行制备,具有酸基的树脂用氨水溶液中和,制备了含有具有酸基的树脂的铵盐的水系树脂组合物即第二树脂层用涂布液。
(实施例49)
如表5所记载那样变更除了溶剂以外的各成分的种类及含量(固体成分量),变更为使干燥后的感光性层的厚度成为3.5μm,并且变更为按照处方204进行第二树脂层用涂布液的制备,而形成第二树脂层,除此之外,以与实施例1相同的方式,分别制作了感光性树脂组合物及转印膜。
并且,使用所获得的感光性转印材料,与实施例1相同的方式进行了各评价。
(实施例50)
如表5所记载那样变更除了溶剂以外的各成分的种类及含量(固体成分量),变更为使干燥后的感光性层的厚度成为6.5μm,并且变更为按照处方204进行第二树脂层用涂布液的制备,而形成第二树脂层,除此之外,以与实施例1相同的方式,分别制作了感光性树脂组合物及转印膜。
并且,使用所获得的感光性转印材料,与实施例1相同的方式进行了各评价。
将评价结果总括示于表1~表5。
/>
[表3]
/>
[表5]
另外,表1~表5中的储能模量P表示所获得的感光性树脂组合物在100℃下的储能模量(单位:102Pa)。
并且,在实施例中作为化合物A使用的化合物均为Tokyo Chemical IndustryCo.,Ltd.制。
除了上述以外的表1~表5中记载的缩写如下所示。
M-2:二季戊四醇六丙烯酸酯(A-DPH、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)
M-5:氨基甲酸酯丙烯酸酯8UX-015A(Taisei Fine Chemical Co.,Ltd.制)
DPHA:二季戊四醇六丙烯酸酯(Toshin Yushi Co.,Ltd.制)
P-2:下述所示的树脂(各结构单元的比为摩尔比。)、Mw=29,000
[化学式12]
P-3:下述所示的树脂
源自苯乙烯的结构单元(St)/源自甲基丙烯酸的结构单元(MAA)/将甲基丙烯酸缩水甘油酯附加于源自甲基丙烯酸的结构单元而成的结构单元(GMA-MAA)/甲基丙烯酸甲酯=55.1/26.5/16.85/1.6(mol%)、Mw=17,000)
D-3:1-[4-(苯硫基)硫代]-1,2-辛二酮-2-(O-苯甲酰氧基)(IRGACURE OXE-01、BASF公司制)
D-4:[8-[5-(2,4,6-三甲苯基)-11-(2-乙基己基)-11H-苯并[a]咔唑][2-(2,2,3,3-四氟丙氧基)苯基]甲酮-(O-乙酰基肟)(IRGACURE OXE-03、BASF公司制)
D-5:2-(二甲氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(IRGACURE 379EG、BASF公司制)
D-6:1-(biphenyl-4-yl)-2-methyl-2-morpholinopropan-1-one(APi307、ShenZhen UV-ChemTech LTD制)
E-1:Karenz AOI-BM(光聚合性封端异氰酸酯化合物、丙烯酸2-(O-[1'-甲基亚丙基氨基]羧基氨基)乙基、Showa Denko K.K.制)
E-2:Karenz MOI-BM(光聚合性封端异氰酸酯化合物、甲基丙烯酸2-(O-[1’-甲基亚丙基氨基]羧基氨基)乙基、Showa Denko K.K.制)
E-4:下述结构的化合物
/>
从表1~表5所述的结果,可知与比较例1~比较例5的感光性树脂组合物相比,作为本发明所涉及的感光性树脂组合物的实施例1~实施例50的感光性树脂组合物的显影残渣抑制性及对所获得的膜或固化膜进行加热处理后的膜周边的暴露布线的防锈性优异。
此外,从表1~表5所述的结果,可知作为本发明所涉及的感光性树脂组合物的实施例1~实施例50的感光性树脂组合物,可以获得上述防锈效果的范围光,并且基板密合性也优异。
(实施例101)
在实施例1中,未形成第二树脂层,除此之外,以与实施例1相同的方式,分别制作了感光性树脂组合物及感光性转印膜,并进行了各评价。评价结果与实施例1相同。
(实施例102~150)
如表1~表5中记载的实施例2~50所记载那样变更了各成分的种类及含量(固体成分量),除此之外,与实施例101相同的方式分别制造了感光性树脂组合物和感光性转印材料。评价结果分别与实施例2~50相同。
(实施例201A~201D)
在实施例1中,如表6变更了临时支承体及保护膜,除此之外,以与实施例1相同的方式制作了转印膜及层叠体,并以与实施例1相同的方式进行了评价。评价结果均与实施例1相同。
[表6]
(实施例202~250)
对于实施例2~50也进行了与对于实施例1进行与实施例201A~201D相同的临时支承体及保护膜的变更,制作了转印膜及层叠体,并以与实施例1相同的方式进行了评价。
评价结果均与变更临时支承体及保护膜之前的实施例相同。
(实施例301~350)
<透明层叠体的制作>
准备了在环烯烃透明膜上形成有第二折射率调整层及ITO透明电极图案、铜的迂回布线的基板。
使用已剥离了保护膜的各实施例1~50的转印膜(分别对应于实施例301~350),将第二折射率调整层及ITO透明电极图案、铜的迂回布线层压到由转印膜覆盖的位置上。层压是使用MCK CO.,LTD制真空层压机,在环烯烃透明膜的温度40℃、橡胶辊温度100℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟的条件下进行的。
之后,使用具有超高压汞灯的近接式曝光机(Hitachi High-Tech ElectronicsEngineering Co.,Ltd.制),使曝光掩模(具有外涂形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支承体密合,隔着临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。
剥离临时支承体之后,在33℃的1%碳酸钠水溶液实施了45秒钟的显影处理。
之后,通过从超高压清洗喷嘴向显影处理后的透明膜基板喷射超纯水来去除了残渣。随后,吹入空气去除透明膜基板上的水分,在145℃下进行30分钟的后烘烤,从而形成了在透明膜基板上依次层叠有第二折射率调整层及ITO透明电极图案、铜的迂回布线、第一折射率调整层及固化膜的透明层叠体。
使用所制作的透明层叠体,根据公知的方法制造了静电电容型触摸面板。
将所制造的触摸面板贴合在由日本特开2009-47936号公报的0097~0119段中所记载的方法制造的液晶显示元件上,由此制造了具备触摸面板的液晶显示装置。
确认了具备触摸面板的液晶显示装置的显示特性优异,且动作没有问题。
符号说明
10-转印膜,12-临时支承体,16-保护膜,18、18A-感光性层(触控面板用电极保护膜),20、20A-第二树脂层(第一折射率调整层),30-触摸面板,32-基板,34-透明电极图案,36-第二折射率调整层,40-存在透明电极图案的第一区域,42-不存在透明电极图案的第二区域,56-迂回布线,70-第一透明电极图案,72-第二透明电极图案,74-图像显示区域,75-图像非显示区域,90-触摸面板。
Claims (10)
1.一种感光性树脂组合物,其含有:
化合物A;
碱溶性粘合剂聚合物;
烯属不饱和化合物;以及
光聚合引发剂,
相对于所述感光性树脂组合物的总固体成分,所述化合物A的含量为0.2质量%~2.0质量%,
所述化合物A具有杂环结构,所述杂环结构为吡啶环结构、嘧啶环结构或1,3,5-三嗪环结构,且所述化合物A具有1个-COOH或-CONH2,或者,所述化合物A为2-氨基异烟酰胺。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,
所述化合物A中的所述杂环结构为吡啶环结构。
3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,
在所述化合物A中,所述1个-COOH或-CONH2直接键合于所述杂环结构中的杂环。
4.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,
在将所述感光性树脂组合物在100℃下的储能模量设为P×102Pa、将相对于所述感光性树脂组合物中的总固体成分的所述化合物A的含量设为WA质量%时,满足下述式1,
0.01≤P/WA≤1000 式1。
5.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,
在将所述感光性树脂组合物在100℃下的储能模量设为P×102Pa、将相对于所述感光性树脂组合物中的总固体成分的所述化合物A的含量设为WA质量%时,满足下述式2,
0.1≤P/WA≤500 式2。
6.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其为触摸面板中的保护膜形成用感光性树脂组合物。
7.一种转印膜,其具有:
临时支承体;及
由权利要求1至6中任一项所述的感光性树脂组合物形成或对所述感光性树脂组合物进行干燥而成的感光性层。
8.一种固化膜,其是将权利要求1至6中任一项所述的感光性树脂组合物固化而成的。
9.一种层叠体,其具有:
基板;及
将权利要求1至6中任一项所述的感光性树脂组合物固化而成的固化膜。
10.一种触摸面板的制造方法,其包括如下步骤:
准备具有配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的面的触摸面板用基板;
在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的所述面上,形成由权利要求1至6中任一项所述的感光性树脂组合物形成的感光性层或对所述感光性树脂组合物进行干燥而成的感光性层;
对形成在所述触摸面板用基板上的所述感光性层进行图案曝光;及
通过对经图案曝光的所述感光性层进行显影,获得保护所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的至少一部分的保护膜。
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