CN108712964B

CN108712964B - 转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置、静电电容型输入装置的制造方法及转印薄膜的制造方法

Info

Publication number: CN108712964B
Application number: CN201780014096.9A
Authority: CN
Inventors: 豊冈健太郎; 有年阳平; 霜山达也
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2016-03-08
Filing date: 2017-03-08
Publication date: 2020-08-07
Anticipated expiration: 2037-03-08
Also published as: JP6566983B2; JP2018024225A; US11014344B2; US20190004632A1; KR20180111911A; TWI717480B; JP2018024226A; CN108712964A; JP6566982B2; KR102123886B1; TW201800232A

Abstract

本发明提供一种转印薄膜及其应用，该转印薄膜在临时支撑体上，从临时支撑体侧依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；及第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄。对于第3透明层，层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率，或通过X射线光电子能谱法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

Description

转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置、静电电容型输入装置的制造方法及转印薄膜的制造方法

技术领域

本发明涉及一种转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置、静电电容型输入装置的制造方法及转印薄膜的制造方法。

背景技术

近年来，手机、汽车导航系统、个人电脑、售票机、银行的终端等电子设备中，在液晶装置等的表面配置平板型输入装置。有如下装置：通过参考显示于液晶装置的图像显示区域的指示图像，并通过手指或触摸笔等触摸指示图像所显示的部位而对与指示图像相对应的信息进行输入。

如已叙述的输入装置(以下，有时称为“触摸面板”。)中有电阻膜型及静电电容型等。静电电容型输入装置具有可以仅在一张基板上形成透光性导电膜的优点。这种静电电容型输入装置中有如下类型的装置：例如，使电极图案在彼此交叉的方向延伸，当手指等接触时，通过检测电极之间的静电电容发生变化的情况来检测输入位置。

出于对静电电容型输入装置的电极图案或收容于框部中的引绕布线(例如铜线等金属布线)等进行保护等目的，在通过手指等输入的表面设有透明树脂层。

当使用这些静电电容型输入装置时，存在如下情况：例如，在从来自光源的入射光的正反射附近稍微隔开距离的位置目视触摸面板的表面时，目视到存在于内部的透明电极图案，引起外观上的问题。因此，需要提高触摸面板等的表面上的透明电极图案的隐蔽性。

在日本特开2014-108541号公报中记载有一种转印薄膜，其依次具有：临时支撑体；第1固化性透明树脂层；及与第1固化性透明树脂层相邻配置的第2固化性透明树脂层，第2固化性透明树脂层的折射率比第1固化性透明树脂层的折射率高，第2固化性透明树脂层的折射率为1.6以上，且记载有形成电极保护膜时的透明电极图案的隐蔽性良好。

日本特开2004-50734号公报中记载有一种转印薄膜，其关于在基材薄膜表面上设有防反射用转印膜的转印薄膜，该转印薄膜在基材薄膜表面上依次层叠第1折射层、第2折射层及第3折射层而成，各层的可见光折射率在第2折射层、第3折射层、第1折射层依次降低，并且记载有防反射性能良好，且生产率优异。

日本特开2015-196369号公报公开有一种转印薄膜，其依次具有：临时支撑体；第1固化性透明树脂层；及与第1固化性透明树脂层相邻配置的第2固化性透明树脂层，第1固化性透明树脂层及第2固化性透明树脂层中的任一个是显示水溶性的层，另一个是显示非水溶性的层，第2固化性透明树脂层的折射率比第1固化性透明树脂层的折射率高，第2固化性透明树脂层的折射率为1.6以上。日本特开2015-196369号公报所记载的转印薄膜中，记载有图案形成性、透明电极图案的隐蔽性良好，此外，记载有在第2固化性透明树脂层上可涂敷第3固化性透明树脂层。

发明内容

发明要解决的技术课题

日本特开2014-108541号公报所记载的转印薄膜中，作为将第2固化性透明树脂层的折射率调整为1.6以上的方法，举出了在第2固化性透明树脂层中添加金属氧化物粒子的方法。

根据本发明人等的研究，若含有金属氧化物粒子的第2固化性透明树脂层在最表面，则在第2固化性透明树脂层中产生金属氧化物粒子的分布的情况下，在将转印薄膜层压到被转印部件时，有时会由于偏在的金属氧化物粒子而在透明树脂层中产生线状的缺陷。在转印薄膜中产生线状的缺陷的情况下，当将转印薄膜使用于电极保护膜的形成时，存在沿着线状的缺陷而漏光的可能性。

对于日本特开2004-50734号公报所记载的转印薄膜，调整各个层的折射率时繁琐复杂，并且，关于作为防反射材料的金属氧化物粒子，并没有记载，为了得到作为目的的透明电极图案的隐蔽性，还有改进的余地。

对于日本特开2015-196369号公报所记载的转印薄膜，其为第2透明树脂层包含金属氧化物粒子的结构，从调整折射率的观点考虑，在第2透明树脂层上，且在能够通过涂布法而形成的任意的层即第3透明树脂层中也优选包含金属氧化物粒子，从第2透明树脂层与第3透明树脂层的折射率的平衡的观点考虑，还有改进的余地。

在本发明的第1实施方式中，提供一种能够制作与被转印体的密合性优异，且透明电极图案的隐蔽性良好的层叠体的转印薄膜。

在本发明的第2实施方式中，提供一种能够制作与被转印体的密合性优异，且透明电极图案的隐蔽性良好的层叠体的转印薄膜。并且，在两个实施方式中，提供一种与被转印体的密合性优异，且透明电极图案的隐蔽性良好的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置、静电电容型输入装置的制造方法及转印薄膜的制造方法。

用于解决技术课题的手段

在第1实施方式中包含以下方式。

＜1-1＞一种转印薄膜，其中，

在临时支撑体上，从临时支撑体侧依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；及第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过X射线光电子能谱(X-rayPhotoelectron Spectroscopy：以下，有时称为XPS)法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

＜1-2＞根据＜1-1＞所述的转印薄膜，其中第3透明层的平均厚度为10nm以下。

＜1-3＞根据＜1-1＞或＜1-2＞所述的转印薄膜，其中第1透明层还含有聚合引发剂及通过加热能够与酸进行反应的化合物。

＜1-4＞根据＜1-1＞～＜1-3＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第3透明层包含第1透明层中所包含的成分。

＜1-5＞根据＜1-4＞所述的转印薄膜，其中第1透明层中所包含的成分为第1透明层中所包含的固化成分。

＜1-6＞根据＜1-1＞～＜1-5＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层满足下述式(1)。

式(1)：100×H2/T2≤80.0

(式(1)中，H2表示第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示第2透明层的平均厚度。)

＜1-7＞根据＜1-1＞～＜1-6＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层满足下述式(2)。

式(2)：100×H2/T2≤40.0

(式(2)中，H2表示第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示第2透明层的平均厚度。)

＜1-8＞根据＜1-1＞～＜1-7＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层满足下述式(3)。

式(3)：100×H2/T2≤20.0

(式(3)中，H2表示第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示第2透明层的平均厚度。)

＜1-9＞根据＜1-1＞～＜1-8＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层包含至少2种树脂。

＜1-10＞根据＜1-9＞所述的转印薄膜，其中至少2种树脂中的至少1种为重均分子量为1000以上且20000以下的树脂。

＜1-11＞根据＜1-9＞或＜1-10＞所述的转印薄膜，其中至少2种树脂中的至少1种为酸值为150mgKOH/g以上的树脂。

＜1-12＞根据＜1-1＞～＜1-11＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层中所包含的树脂包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元的共聚物。

＜1-13＞根据＜1-1＞～＜1-12＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层中所包含的树脂包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元且酸值为150mgKOH/g以上的共聚物。

＜1-14＞根据＜1-1＞～＜1-13＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层中所包含的树脂包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自苯乙烯的结构单元及源自具有乙撑氧基链的(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物。

＜1-15＞根据＜1-1＞～＜1-14＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层还包含溶剂，溶剂中粘度最高的溶剂在20℃时的粘度为3.0mPa·s以上。

＜1-16＞根据＜1-1＞～＜1-15＞中的任一项所述的转印薄膜，其中金属氧化物粒子为选自氧化锆粒子及氧化钛粒子中的至少1种。

＜1-17＞一种电极保护膜，其从＜1-1＞～＜1-16＞中的任一项所述的转印薄膜去除了临时支撑体。

＜1-18＞一种层叠体，其中，在包含静电电容型输入装置的电极的基板上，从基板侧依次具有从＜1-1＞～＜1-16＞中的任一项所述的转印薄膜去除了临时支撑体之后的，第3透明层、第2透明层及第1透明层。

＜1-19＞一种层叠体，其依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下；及基板，包含静电电容型输入装置的电极。

＜1-20＞根据＜1-19＞所述的层叠体，其中第3透明层包含第1透明层中所包含的成分。

＜1-21＞一种静电电容型输入装置，其具有＜1-17＞所述的电极保护膜、或＜1-18＞～＜1-20＞中的任一项所述的层叠体。

＜1-22＞一种转印薄膜的制造方法，其依次具有：在临时支撑体上涂布包含有机溶剂及聚合性单体及树脂的涂布液而形成第1透明层的工序；及在第1透明层被固化之前，在第1透明层上涂布包含水及金属氧化物粒子及树脂的涂布液而形成平均厚度小于200nm的第2透明层的工序，制造在第2透明层上配置有第3透明层的转印薄膜，该第3透明层的平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

＜1-23＞一种静电电容触摸面板的制造方法，其依次具有：将＜1-1＞～＜1-16＞中的任一项所述的转印薄膜的第3透明层的面贴附于包含静电电容型输入装置的电极的基板的工序；对已贴附转印薄膜的基板进行曝光的工序；及对经曝光的转印薄膜进行显影的工序，在贴附所述转印薄膜的工序和所述进行曝光的工序之间和/或在所述进行曝光的工序和所述进行显影的工序之间具有剥离临时支撑体的工序。

第2实施方式中包含以下方式。

＜2-1＞一种转印薄膜，其中，在临时支撑体上，从临时支撑体侧依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；及第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率。

＜2-2＞根据＜2-1＞所述的转印薄膜，其中第3透明层的平均厚度为10nm以下。

＜2-3＞根据＜2-1＞或＜2-2＞所述的转印薄膜，其中第1透明层还含有聚合引发剂及通过加热能够与酸进行反应的化合物。

＜2-4＞根据＜2-1＞～＜2-3＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第3透明层包含第1透明层中所包含的成分。

＜2-5＞根据＜2-4＞所述的转印薄膜，其中上述成分为第1透明层中所包含的固化成分。

＜2-6＞根据＜2-1＞～＜2-5＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层满足下述式(1)。

式(1)：100×H2/T2≤80.0

＜2-7＞根据＜2-1＞～＜2-6＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层满足下述式(2)。

式(2)：100×H2/T2≤40.0

＜2-8＞根据＜2-1＞～＜2-7＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层满足下述式(3)。

式(3)：100×H2/T2≤20.0

＜2-9＞根据＜2-1＞～＜2-8＞中的任一项所述的转印薄膜，其中，第2透明层包含至少2种树脂。

＜2-10＞根据＜2-9＞所述的转印薄膜，其中，至少2种树脂中的至少1种为重均分子量为1000以上且20000以下的树脂。

＜2-11＞根据＜2-9＞或＜2-10＞所述的转印薄膜，其中，至少2种树脂中的至少1种为酸值为150mgKOH/g以上的树脂。

＜2-12＞根据＜2-1＞～＜2-11＞中的任一项所述的转印薄膜，其中，第2透明层中所包含的树脂包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元的共聚物。

＜2-13＞根据＜2-1＞～＜2-11＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层中所包含的树脂包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元且酸值为150mgKOH/g以上的共聚物。

＜2-14＞根据＜2-1＞～＜2-13＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层中所包含的树脂包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自苯乙烯的结构单元及源自具有乙撑氧基链的(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物。

＜2-15＞根据＜2-1＞～＜2-14＞中的任一项所述的转印薄膜，其中第2透明层还包含溶剂，溶剂中粘度最高的溶剂在20℃时的粘度为3.0mPa·s以上。

＜2-16＞根据＜2-1＞～＜2-15＞中的任一项所述的转印薄膜，其中金属氧化物粒子为选自氧化锆粒子及氧化钛粒子中的至少1种。

＜2-17＞一种电极保护膜，其从＜2-1＞～＜2-16＞中的任一项所述的转印薄膜去除了临时支撑体。

＜2-18＞一种层叠体，其中，在包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)的基板上，从基板侧依次具有＜2-1＞～＜2-16＞中的任一项所述的转印薄膜去除了临时支撑体之后的第3透明层、第2透明层及第1透明层。

＜2-19＞一种层叠体，其依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率；及基板，包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)。

＜2-20＞根据＜2-19＞所述的层叠体，其中，第3透明层包含第1透明层中所包含的成分。

＜2-21＞一种转印薄膜的制造方法，其依次具有：在临时支撑体上涂布包含有机溶剂及聚合性单体及树脂的涂布液而形成第1透明层的工序；及在第1透明层被固化之前，在第1透明层上涂布包含水及金属氧化物粒子及树脂的涂布液，并形成平均厚度小于200nm的第2透明层的工序，制造在第2透明层上配置有第3透明层的转印薄膜，该第3透明层的平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率。

＜2-22＞一种静电电容型输入装置，其具有＜2-17＞所述的电极保护膜，或＜2-18＞～＜2-20＞中的任一项所述的层叠体。

＜2-23＞一种静电电容型输入装置，其依次具有：第1树脂层，包含聚合性单体的固化物及树脂；第2树脂层，包含金属氧化物粒子及树脂，且平均厚度小于200nm；第3树脂层，平均厚度比第2树脂层的平均厚度薄，并且层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2树脂层中的金属原子相对于所有原子的比率；及基板，包含电极。

＜2-24＞根据＜2-23＞所述的静电电容型输入装置，其为触摸面板。

＜2-25＞一种静电电容型输入装置(优选为静电电容触摸面板)的制造方法，其依次具有：通过使转印薄膜的第3透明层的面与包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)的基板接触而贴附于＜2-1＞～＜2-16＞中的任一项所述的转印薄膜的工序；对贴附有上述转印薄膜的基板进行曝光的工序；及对上述曝光后的转印薄膜进行显影的工序，在贴附上述转印薄膜的工序和上述进行曝光的工序之间，或在上述进行曝光的工序和上述进行显影的工序之间中的中的至少一方具有剥离临时支撑体的工序。

发明效果

根据本发明的第1实施方式，提供一种能够制作与被转印体的密合性优异，且透明电极图案的隐蔽性良好的层叠体的转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及转印薄膜的制造方法。

根据本发明的第2实施方式，提供一种能够制作与被转印体的密合性优异，且透明电极图案的隐蔽性良好的层叠体的转印薄膜。并且，根据本发明的第2实施方式，提供一种与被转印体的密合性优异，且透明电极图案的隐蔽性良好的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置、静电电容型输入装置的制造方法及转印薄膜的制造方法。

附图说明

图1是表示转印薄膜的结构的一例的概略剖视图。

具体实施方式

以下，针对本发明的转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置、静电电容型输入装置的制造方法及转印薄膜的制造方法进行详细说明。

在以下进行说明的本发明中的各构成要件有时是根据本发明的代表性实施方式或具体例而完成的，但本发明并不限定于在以下记载的实施方式及具体例等。

在本说明书中用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包括的范围。在本发明中阶段性地记载的数值范围中，在某个数值范围记载的上限值或下限值可以替换成其他阶段性地记载的数值范围的上限值或下限值。并且，在本发明中记载的数值范围中，在某个数值范围记载的上限值或下限值可以替换成在实施例中所示出的值。

并且，在记载于“～”前后的数值的一方中附有单位的情况下，指其整个数值范围内单位相同。

“(甲基)丙烯酸”以包含“甲基丙烯酸”及“丙烯酸”中的一方或双方的含义使用，“(甲基)丙烯酸酯”以包含“丙烯酸酯”及“甲基丙烯酸酯”中的一方或双方的含义使用。

只要没有特别的说明，则本说明书中的“室温”是指25℃。

并且，只要没有特别的说明，则本说明书中聚合物的各结构单元的含有比率为摩尔比。

只要没有特别的说明，则本说明书中，折射率是在波长550nm下，通过椭圆偏光法(ellipsometry)进行测定的值。

[转印薄膜]

第1实施方式的转印薄膜为一种如下转印薄膜，

在临时支撑体上，从临时支撑体侧依次具有：

第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；

第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；及

第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

通过已叙述的结构，本实施方式的转印薄膜提供与被转印体的密合性优异，且透明电极图案的隐蔽性良好的层叠体。

第2实施方式的转印薄膜为一种如下转印薄膜，在临时支撑体上，从临时支撑体侧依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；及第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄、并且层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率。

在本说明书中“透明”是指波长为400nm～700nm的可见光的透射率为80％以上。从而，“透明层”是指波长为400nm～700nm的可见光的透射率为80％以上的层。“透明层”的可见光的透射率优选为90％以上。

并且，转印薄膜及转印薄膜的各透明层的透光率为使用分光光度计进行测定的值，例如，能够使用Hitachi,Ltd.制造的分光光度计U-3310进行测定。

在第2实施方式中，从进一步提高与被转印体的密合性的观点考虑，作为第3透明层，优选为通过X射线光电子能谱法(XPS)从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下的层。

对于本发明的第1实施方式及第2实施方式中的作用机构，虽然并不明确，但推定为如下。

本发明的第1实施方式或第2实施方式的转印薄膜所具有的第2透明层，至少包括金属氧化物粒子及树脂，从而折射率高，并且平均厚度小于200nm，因此，透明电极图案的隐蔽性成为良好。

而且，在包含聚合性单体及树脂的第1透明层上层叠包含已叙述的金属氧化物粒子及树脂且平均厚度小于200nm的第2透明层时，未固化的第1树脂层中所包含的聚合性单体等低分子量成分通过包含金属氧化物粒子的第2透明层，在与第2透明层的表面即配置有第2透明层的临时支撑体一侧的相反侧的表面渗出，在第2透明层上形成厚度比第2透明层薄的第3透明层。

在形成第2透明层时，在未固化的第1透明层上涂布、干燥第2透明层形成用涂布液。在通过涂布、干燥而形成第2透明层时，对于第2透明层形成用涂布液中所包含的金属氧化物粒子，在第1透明层中所包含的低分子量成分通过第2透明层而在第2透明层的表面渗出时，几乎不会移动到第2透明层上。因此，形成于第2透明层的表面的第3透明层不包含金属氧化物粒子，或者即便是包含金属氧化物粒子也是非常少量。即，在第1实施方式中，用XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在第3透明层，300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率成为2％以下，在第2实施方式中，第3透明层中的金属原子相对于所有原子的比率变得小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率。

在将转印薄膜密合于被转印体时，被转印体中不含有金属原子，或者金属原子的含有比率非常少的第3透明层与被转印体接触，因此，与被转印体的密合性成为良好。此外，若第2透明层的厚度存在面内分布时，则在第2透明层的厚度薄的部分，在转印时有时产生压接包含金属氧化物粒子的第2透明层与被转印体时由金属氧化物粒子引起的缺陷。第2透明层的厚度在面内均匀，因此由该金属氧化物粒子引起的缺陷的发生被抑制。

另外，缺陷是指因产生裂缝(裂纹)而导致的缺陷。

并且，当第3透明层的厚度薄时，不用担心由第2透明层中的折射率引起的对第2透明层所具有的良好的透明电极图案的隐蔽性造成不良影响。

因此，推测第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜能够兼顾与被转印体的密合性及低折射率层的存在引起的透明电极图案的隐蔽性。

另外，本发明并不限定于上述推定机理。

参考图1示出第1实施方式或第2实施方式中的转印薄膜的一例。

图1是表示本发明的第1实施方式或第2实施方式的转印薄膜的一方式的概略剖视图。图1所示的转印薄膜10从临时支撑体12侧依次配置有临时支撑体12、第1透明层14、第2透明层16及第3透明层18。

以下，针对第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜进行详细说明。

＜临时支撑体＞

在第1实施方式及第2实施方式中，用于转印薄膜的临时支撑体只要具有必要的强度和柔软性，则并无特别限制。从操作性的观点考虑，优选方式为薄膜状。

(厚度)

临时支撑体的厚度并无特别限制，能够任意使用厚度为5μm～200μm的范围的薄膜。从易处理性、通用性等观点考虑，厚度优选为10μm～150μm的范围。

(材质)

临时支撑体的材质只要在形成薄膜时具有必要的强度和柔软性，则并无特别限制。从成型性、成本的观点考虑，优选为树脂薄膜。

用作临时支撑体的薄膜优选为具有挠性且在加压下或者在加压及加热的下不产生显著的变形、收缩或拉伸的薄膜。

更具体而言，作为临时支撑体，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜、三乙酸纤维素(TAC)薄膜、聚苯乙烯(PS)薄膜、聚碳酸酯(PC)薄膜等，其中，优选为双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。

临时支撑体的外观也并无特别限制，能够根据目的进行选择。即，可以是透明薄膜，也可以是被着色的薄膜。作为被着色的薄膜，可以举出含有染色硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等的树脂薄膜。

通过日本特开2005-221726号公报中记载的方法等，能够对临时支撑体赋予导电性。

＜第1透明层＞

在第1实施方式及第2实施方式中，第1透明层至少包含聚合性单体及树脂。第1透明层为通过赋予能量而固化的层。第1透明层还可以含有聚合引发剂及通过加热能够与酸进行反应的化合物。

对于第1透明层，可以为光固化性，也可以为热固性，也可以为热固性且光固化性。其中，从能够提高膜的可靠性的观点考虑，优选为热固性且光固化性的组合物。

第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜中的第1透明层优选为碱可溶性的树脂层。第1透明层优选为能够通过弱碱性水溶液而显影。

(厚度)

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层的厚度并无特别限制，能够根据目的适当选择。

例如，第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜用于形成静电电容型输入装置的电极保护膜时，从透明性的观点考虑，第1透明层的厚度能够设为1μm～20μm。第1透明层的厚度优选为2μm～15μm的范围，更优选为3μm～12μm的范围，进一步优选为6μm～12μm的范围。

(折射率)

第1透明层的折射率优选为1.5～1.53，更优选为1.5～1.52，尤其优选为1.51～1.52。

控制第1透明层的折射率的方法并无特别限制。例如，可以举出如下方法：单独使用所希望的折射率的透明树脂层的方法、使用添加了金属粒子及金属氧化物粒子等粒子的透明树脂层方法、使用金属盐与高分子的复合体的方法等。

(组成)

第1透明层由包含聚合性单体的负型材料形成。因此，第1透明层在强度及可靠性方面良好。

以下，针对第1透明层中可包含的成分进行叙述。

-树脂-

第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜中的第1透明层含有至少一种树脂。第1透明层中所包含的树脂能够起到粘合剂聚合物的作用。

第1透明层中所包含的树脂优选为碱可溶性树脂。

从显影性的观点考虑，作为碱可溶性树脂，例如优选酸值为60mgKOH/g以上的树脂。并且，从与交联成分反应而进行热交联、容易形成坚固的膜的观点考虑，优选为具有羧基的树脂。

从显影性及透明性的观点考虑，作为碱可溶性树脂，优选为丙烯酸树脂。丙烯酸树脂是指具有源自(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的至少一种的结构单元的树脂。

碱可溶性树脂的酸值并无特别限制，但优选酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂。树脂包含羧基的情况下，在添加封端异氰酸酯而进行热交联时，能够提高三维交联密度。并且，推定为通过含羧基丙烯酸树脂的羧基被无水化、疏水化而有助于改善耐湿热性。

(酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂)

作为第1透明层中所包含的酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂(以下，有时称为特定粘合剂)，只要满足上述酸值的条件，则并无特别限制，能够从公知的树脂适当选择而使用。

例如，作为第1实施方式及第2实施方式中的特定粘合剂，能够优选使用日本特开2011-95716号公报的0025段落中所记载的聚合物中的酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段落中所记载的聚合物中的酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂等。

特定粘合剂中的具有羧基的单体的共聚比的优选范围相对于聚合物100质量％为5质量％～50质量％，更优选在5质量％～40质量％的范围内，进一步优选在20质量％～30质量％的范围内。

特定粘合剂也可以具有反应性基团，作为将反应性基团导入到特定粘合剂的方式，可以举出使羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸基等与环氧化合物、封端异氰酸酯、异氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等反应的方法。

作为特定粘合剂，优选以下所示的化合物A。另外，以下所示的各结构单元的含有比率能够根据目的而适当地改变。

[化学式1]

化合物A

具体而言，特定粘合剂的酸值优选为60mgKOH/g～200mgKOH/g，更优选为60mgKOH/g～150mgKOH/g，进一步优选为60mgKOH/g～110mgKOH/g。

在本说明书中，树脂的酸值为用JIS K0070(1992)中规定的滴定方法而测定的值。

第1透明层及后述的第2透明层均含有丙烯酸树脂的情况下，能够提高第1透明层与第2透明层的层间密合性。

特定粘合剂的重均分子量优选为1万以上，进一步优选为2万～10万。

第1透明层可以包含除了已叙述的优选的特定粘合剂即酸值为60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂以外的其他树脂(以下，有时将第1透明层中可包含的其他树脂称为“其他树脂(1)”)。

作为其他树脂(1)，能够根据目的适当选择任意的膜形成树脂而使用。从将转印薄膜用作静电电容型输入装置的电极保护膜的观点考虑，优选表面硬度、耐热性良好的膜，更优选碱可溶性树脂，在碱可溶性树脂中，也能够优选举出公知的感光性硅氧烷树脂材料等。

从固化前的膜的操作性、固化后的膜的硬度的观点考虑，相对于第1透明层的总固体成分量，树脂的含量优选在20质量％～80质量％的范围，更优选在40质量％～60质量％范围。若树脂的含量为80质量％以下，则单体量不会变得过少，良好地维持固化膜的交联密度，硬度优异的固化膜。并且，若树脂的含量为20质量％以上，则固化前的膜不会变得过软，从中途操作性的观点考虑有利。

-聚合性单体-

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层包含聚合性单体。作为聚合性单体，优选包含具有烯属不饱和基团的聚合性单体，更优选包含具有烯属不饱和基团的光聚合性化合物。聚合性单体优选光聚合性基团具有至少1个烯属不饱和基团，除了烯属不饱和基团以外也可以具有环氧基等阳离子聚合性基团。作为第1透明层中所包含的聚合性单体优选具有(甲基)丙烯酰基的化合物。

第1透明层优选包含作为聚合性单体具有2个烯属不饱和基团的化合物及具有至少3个烯属不饱和基团的化合物，更优选包含具有2个(甲基)丙烯酰基的化合物及具有至少3个(甲基)丙烯酰基的化合物。

并且，从特定粘合剂中的羧基与聚合性单体的羧基形成羧酸酐而提高耐湿热性的观点考虑，优选第1透明层中所包含的聚合性单体的至少1种含有羧基。

作为含有羧基的聚合性单体，并无特别限定，能够使用市售的化合物。作为市售品，例如可优选举出ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.)、ARONIX M-520(TOAGOSEI CO.,LTD.)、ARONIX M-510(TOAGOSEI CO.,LTD.)等。相对于第1透明层中所包含的所有聚合性单体，在含有包含羧基的聚合性单体时的含量优选在1质量％～50质量％的范围使用，更优选在1质量％～30质量％的范围使用，进一步优选在5质量％～15质量％的范围使用。

第1透明层中所包含的聚合性单体优选包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。

相对于第1透明层中所包含的所有聚合性单体，在包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物时的含量优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上。在氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物中，光聚合性基团的官能团数即(甲基)丙烯酰基的数优选为3官能以上，更优选为4官能以上。

具有2官能的烯属不饱和基团的光聚合性单体只要是在分子内具有2个烯属不饱和基团的化合物，则并没有特别限定，能够使用市售的(甲基)丙烯酸酯化合物。作为市售品，例如可优选举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.)、三环癸二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.)等。

具有3官能以上的烯属不饱和基团的光聚合性单体只要是在分子内具有烯属不饱和基团的3个以上的化合物，则并没有特别限定，能够使用例如二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、异氰脲酸丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。其中，优选(甲基)丙烯酸酯间的跨距长度长的化合物，具体可优选举出所述二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.：AD-TMP等)、异氰脲酸丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.：KAYARAD DPCA、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.：A-9300-1CL等)、环氧烷(alkylene oxide)改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.：KAYARAD RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.：ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制造：EBECRYL 135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.：A-GLY-9E等)等。并且，使用3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯也是优选的方式。作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，可优选举出8UX-015A：TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.、UA-32P：Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.、UA-1100H：Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.等。

第1透明层中所包含的聚合性单体的重均分子量优选为200～3000,更优选为250～2600,尤其优选为280～2200。

聚合性单体可以仅使用1种，也可以使用2种以上。从可控制第1透明层中的膜的物性的观点考虑优选聚合性单体使用2种以上。

其中，对于第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜中的第1透明层中所含有的聚合性单体，从改善对转印后的第1透明层进行曝光之后的膜的物性的观点考虑，优选组合使用3官能以上的聚合性单体和2官能的聚合性单体。

在使用2官能的聚合性单体时，相对于第1透明层中所包含的所有聚合性单体优选在10质量％～90质量％的范围使用，更优选在20质量％～85质量％的范围使用，进一步优选在30质量％～80质量％的范围使用。

在使用3官能以上的聚合性单体时，相对于第1透明层中所包含的所有聚合性单体优选在10质量％～90质量％的范围使用，更优选在15质量％～80质量％的范围使用，进一步优选在20质量％～70质量％的范围使用。

在第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜中，当第1透明层与第2透明层直接接触时，从第1透明层中所包含的低分子量成分容易经由第2透明层而渗出到所层叠的第2透明层的表面的观点考虑，在第1透明层中所包含的所有聚合性单体中的最小的分子量即聚合性单体的分子量优选为250以上，更优选为280以上，尤其优选为300以上。

在第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜中，当第1透明层及第2透明树脂层直接接触时，对于在第2透明层的厚度方向而言，第1透明层中所包含的低分子量成分容易渗出到第2透明层的表面的观点考虑，相对于第1透明层中所包含的聚合性单体的含量，分子量为300以下的聚合性单体的含量的比例优选为30质量％以下，更优选为25质量％以下，尤其优选为20质量％以下。

并且，相对于第1透明层所包含的树脂的聚合性单体的质量比优选为0.1～0.9，更优选为0.2～0.9，尤其优选为0.3～0.7。

并且，所述第1透明层中，除了树脂及聚合性单体以外，根据目的还能够含有各种成分。

作为任意成分，可以举出聚合引发剂、通过加热能够与酸进行反应的化合物等。

-聚合引发剂-

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层优选包含聚合引发剂，更优选包含光聚合引发剂。

第1透明层除了包含树脂、聚合性单体以外，包含聚合引发剂，从而能够容易形成第1透明层的图案。

作为聚合引发剂，可以举出日本特开2011-95716号公报的0031～0042段落中所记载的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如除了1,2-辛二酮,1-[4-苯硫基)-,2-(邻苯甲酰肟)](商品名称：IRGACURE OXE-01，BASF公司制造)以外，可优选举出1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮1-(O-乙酰肟)(商品名称：IRGACURE OXE-02，BASF公司)、2-(二甲氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名称：IRGACURE 379EG，BASF公司)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 907，BASF公司)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 127、BASF公司)、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(商品名称：IRGACURE 369，BASF公司)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 1173，BASF公司)、1-羟基-环己基-苯基-酮(商品名称：IRGACURE 184，BASF公司)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名称：IRGACURE 651，BASF公司)、肟酯引发剂(商品名称：Lunar 6、DKSH JAPAN K.K.)等。

第1透明层包含聚合引发剂时，聚合引发剂相对于第1透明层的固体成分的含量优选为0.01质量％以上，更优选为0.1质量％以上。并且，优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。通过聚合引发剂的含量在上述范围，从能够进一步改善转印薄膜中的图案形成性及与被转印体的密合性的观点考虑是优选的。

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层还能够包含选自敏化剂及阻聚剂中的至少1种，以调整固化灵敏度。

-敏化剂-

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层能够包含敏化剂。

第1实施方式及第2实施方式中的敏化剂具有进一步提高第1透明层中所包含的敏化色素及聚合引发剂等对活性放射线的灵敏度的作用，或具有通过氧抑制聚合性化合物的聚合抑制的作用等。

作为第1实施方式及第2实施方式中的敏化剂例子，可以举出胺化合物，例如M.R.Sander等人著“Journal of Polymer Society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-20189号公报、日本特开昭51-82102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-84305号公报、日本特开昭62-18537号公报、日本特开昭64-33104号公报、Research Disclosure 33825号等中记载的化合物等。更具体而言,可以举出三乙醇胺、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲基硫代二甲基苯胺等。

作为第1实施方式及第2实施方式中的敏化剂的其他例子，可以举出硫醇化合物及硫化物，例如日本特开昭53-702号公报、日本特公昭55-500806号公报、日本特开平5-142772号公报中记载的硫醇化合物、日本特开昭56-75643号公报的二硫化物等。更具体可以举出2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-4(3H)-喹唑啉、β-巯基萘等。

作为第1实施方式及第2实施方式中的敏化剂的其他例子，可以举出N-苯基甘氨酸等氨基酸化合物、日本特公昭48-42965号公报中记载的有机金属化合物(例如，三丁基锡乙酸酯等)、日本特公昭55-34414号公报中记载的氢供体、日本特开平6-308727号公报中记载的硫化合物(例如，三噻烷等)等。

从由于聚合生长速度和链转移的平衡而固化速度得到进一步提高的观点考虑，相对于第1透明层的总固体成分量，第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层包含敏化剂时的敏化剂的含量优选在0.01质量％～30质量％的范围，更优选在0.05质量％～10质量％的范围。

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层包含敏化剂时，敏化剂可以仅包含1种，也可以包含2种以上。

-阻聚剂-

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层能够包含阻聚剂。

阻聚剂具有在制造过程中或保存过程中阻止聚合性单体发生不希望的聚合的作用。

第1实施方式及第2实施方式中的阻聚剂并无特别限制，能够根据目的使用公知的阻聚剂。作为公知的阻聚剂，例如可以举出对苯二酚、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、邻苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺亚铈盐、吩噻嗪、吩噁嗪等。

相对于第1透明层的总固体成分，第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层包含阻聚剂时的阻聚剂的添加量优选为0.01质量％～20质量％。

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层包含阻聚剂时，阻聚剂可以仅包含1种，也可以包含2种以上。

-通过加热能够与酸进行反应的化合物-

第1实施方式及第2实施方式中的第1透明层优选包含通过加热能够与酸进行反应的化合物。

作为通过加热能够与酸进行反应的化合物，只要不违背本发明的主旨就无特别的限制。通过加热能够与酸进行反应的化合物优选为，相比与25℃下的酸的反应性，与超过25℃而加热后的酸的反应性更高的化合物。通过加热能够与酸进行反应的化合物优选为，具有能够与通过封端剂而暂且失去活性的酸进行反应的基团，且在预设的解离温度下源自封端剂的基团进行解离的化合物。

通过加热能够与酸进行反应的化合物能够举出羧酸化合物、醇化合物、胺化合物、封端异氰酸酯及环氧化合物等，优选为封端异氰酸酯。

作为分子内具有亲水性基团的通过加热能够与酸进行反应的化合物，并无特别限制，能够使用公知的化合物。作为分子内具有亲水性基团的通过加热能够与酸进行反应的化合物的制备方法，并无特别限制，但能够通过例如合成而进行制备。

作为分子内具有亲水性基团的通过加热能够与酸进行反应的化合物，优选为分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯。关于分子内具有亲水性基团的通过加热能够与酸进行反应的化合物的详细内容，在后述封端异氰酸酯的说明中进行描述。

封端异氰酸酯是指“具有用封端剂对异氰酸酯的异氰酸酯基进行保护(掩模)的结构的化合物”。

封端异氰酸酯的初始Tg(glass transition temperature：玻璃转变温度)优选为-40℃～10℃，更优选为-30℃～0℃。

通过封端异氰酸酯的初始Tg在上述范围，从转印时的台阶追随性及抑制卷入气泡的观点考虑是有利的。

封端异氰酸酯的解离温度优选为100℃～160℃，更优选为130℃～150℃。

本说明书中的封端异氰酸酯的解离温度是指“由差示扫描量热仪(SeikoInstruments Inc.制造、DSC6200)通过DSC(Differential scanning calorimetry)分析而进行测定的情况下，伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰值的温度”。

作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，可以举出吡唑化合物(3,5-二甲基吡唑、3-甲基吡唑、4-溴-3,5-二甲基吡唑、4-硝基-3,5-二甲基吡唑等)、活性亚甲基化合物(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二-2-乙基己酯)等)、三唑化合物(1,2,4-三唑等)、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、乙酰肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的化合物)等。其中，从保存稳定性的观点考虑，优选肟化合物、吡唑化合物，尤其优选肟化合物。

从改进膜的脆性、提高与被转印体的密合力等的观点考虑，封端异氰酸酯优选具有异氰脲酸酯结构。具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯例如能够将六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化而制备。

从比不具有肟结构的化合物更容易将解离温度设为优选的范围，且容易减少显影残渣的观点考虑，在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯中，优选将肟化合物作为封端剂而使用的具有肟结构的化合物。

封端异氰酸酯的被封端的异氰酸酯基在每一个分子内的个数优选为1～10,更优选为2～6,尤其优选为3～4。

通过封端异氰酸酯的被封端的异氰酸酯基的个数在上述范围，从热交联后的低透湿性及柔软性的观点考虑是有利的。

作为封端异氰酸酯，可以使用在日本特开2006-208824号公报的〔0074〕～〔0085〕段落中记载的封端异氰酸酯化合物，上述公报的内容被引用于本发明中。

作为转印薄膜中所使用的封端异氰酸酯的具体例，能够举出以下化合物。然而，第1实施方式及第2实施方式所使用的封端异氰酸酯并不限定于以下具体例。

[化学式2]

作为转印薄膜中所使用的封端异氰酸酯，也能够举出市售的封端异氰酸酯。例如，异佛尔酮二异氰酸酯的甲乙酮肟嵌段落物即Takenate(注册商标)B870N(MitsuiChemicals,Inc.)、六亚甲基二异氰酸酯类封端异氰酸酯化合物即DURANATE(注册商标)MF-K60B、TPA-B80E、X3071.04(均为Asahi Kasei Chemicals Corporation)等。

分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯优选为异氰酸酯基的至少一部分为被加成了亲水性基团的水性异氰酸酯基的封端异氰酸酯。通过使聚异氰酸酯的异氰酸酯基和封端剂(有时也称作胺类化合物)进行反应，能够获得分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯。作为反应方法，可以举出在聚异氰酸酯所具有的异氰酸酯基的一部分通过化学反应而加成亲水性基团的方法。

作为通过加热能够与酸进行反应的化合物所具有的亲水性基团并无特别的限定，具体而言，可以举出非离子型亲水性基团、阳离子型亲水性基团等。

作为非离子型亲水性基团并无特别的限定，具体而言，可以举出在甲醇、乙醇、丁醇、乙二醇或二乙二醇等醇的羟基上加成了环氧乙烷或环氧丙烷的化合物等。即，分子内具有亲水性基团的通过加热能够与酸进行反应的化合物的亲水性基团优选为环氧乙烷链或环氧丙烷链。这些化合物具有与异氰酸酯基进行反应的活性氢，由活性氢能够与异氰酸酯基进行加成。其中，优选以少的使用量能够分散于水的一元醇类。

并且，作为环氧乙烷链或环氧丙烷链的加成数优选为4～30,更优选为4～20。若加成数为4以上，则有水分散性进一步提高的倾向。并且，若加成数为30以下，则有所得到的封端异氰酸酯的初始Tg进一步提高的倾向。

阳离子型亲水性基团的加成有如下方法：利用一并具有阳离子型亲水性基团和与异氰酸酯基进行反应的活性氢的化合物的方法；在聚异氰酸酯中预先导入例如缩水甘油基等官能团，之后，例如使硫醚、膦等特定化合物与缩水甘油基等的官能团进行反应的方法等，但前者的方法容易。

作为与异氰酸酯基进行反应的活性氢，并无特别的限定，具体而言，可以举出羟基、硫醇基等。作为一并具有阳离子型亲水性基团和与异氰酸酯基进行反应的活性氢的化合物，并无特别的限定，具体而言，可以举出二甲基乙醇胺、二乙基乙醇胺、二乙醇胺及甲基二乙醇胺等。由已叙述的方法被导入的叔氨基也能够通过硫酸二甲酯、硫酸二乙酯等进行季化。

被加成了亲水性基团的异氰酸酯基与封端异氰酸酯基的当量比率优选为1:99～80:20，更优选为2:98～50:50，尤其优选为5:95～30:70。设为上述范围，从兼顾异氰酸酯反应性和抑制显影残渣的观点考虑优选。

作为分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯及其合成方法，能够优选使用在日本特开2014-065833号公报的0010～0045中所记载的水性封端聚异氰酸酯，该公报的内容被引用于本发明中。

在将分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯进行合成的情况下，能够在存在合成溶剂的条件下进行亲水性基团的加成反应和异氰酸酯基的封端反应。该情况下，合成溶剂优选不含有活性氢，能够举出例如二丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲氧基乙酸丙酯等。

在将分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯进行合成的情况下，具有亲水性基团的化合物相对于聚异氰酸酯优选添加1质量％～100质量％，更优选添加2质量％～80质量％。

在将分子内具有亲水性基团的封端异氰酸酯进行合成的情况下，封端剂相对于聚异氰酸酯优选添加20质量％～99质量％，更优选添加10质量％～100质量％。

第1透明层中所包含的封端异氰酸酯的重均分子量优选为200～3000，更优选为250～2600，尤其优选为280～2200。

从转印后的加热工序前的操作性、加热工序后的低透湿性的观点考虑，相对于第1透明层的总固体成分量，封端异氰酸酯的含量优选在1质量％～30质量％的范围，更优选在5质量％～20质量％的范围。

-金属氧化物粒子-

以调节折射率或透光性为目的，第1透明层可以包含粒子(优选为金属氧化物粒子)，也可以不包含粒子。为了将第1透明层的折射率控制在上述范围内，能够根据所使用的树脂或聚合性单体的种类而以任意的比例包含金属氧化物粒子。

相对于第1透明层，第1透明层中的金属氧化物粒子的含量优选为0质量％～35质量％，更优选为0质量％～10质量％，尤其优选为0质量％(不包含)。

金属氧化物粒透明性高且具有透光性。因此，通过含有金属氧化物粒子，可得到高折射率且透明性优异的第1透明层。

金属氧化物粒子的折射率优选比由从第1透明层形成用涂布液中去除了金属氧化物粒子的涂布液形成的透明膜的折射率高。

另外，金属氧化物粒子的金属中也包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。

作为透光性且折射率较高的金属氧化物粒子，优选为包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更优选氧化钛、钛复合氧化物、氧化锌、氧化锆、铟/锡氧化物及锑/锡氧化物，进一步优选氧化钛、钛复合氧化物及氧化锆，尤其优选二氧化钛及氧化锆，最优选二氧化钛。作为二氧化钛，尤其优选折射率较高的金红石型。这些金属氧化物粒子为了赋予分散稳定性而能够用有机材料对表面进行处理。

从第1透明层的透明性的观点考虑，所述金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，尤其优选为3nm～80nm。在此，粒子的平均一次粒径是指通过电子显微镜来测定任意200个粒子的粒径后进行的其算术平均。并且粒子的形状为非球形的情况下，将最长边设为径。

并且，金属氧化物粒子可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

并且，作为第1透明层中所包含的其他添加剂，可以举出例如在日本专利第4502784号公报的0017段落、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂、公知的氟类表面活性剂、在日本专利第4502784号公报的0018段落中所记载的热聚合抑制剂，另外，在日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中所记载的其他添加剂。作为第1透明层中优选使用的添加剂，可以举出公知的氟类表面活性剂即MEGAFACE(注册商标)F-551(DIC CORPORATION)。

～第1透明层的形成～

第1透明层是通过涂布将用于形成至少包含聚合性单体及树脂的第1透明层的树脂组合物溶解于溶剂中的溶液(称为第1透明层形成用涂布液)并干燥而形成。

＜第2透明层＞

第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜分别具有第2透明层，第2透明层包含金属氧化物粒子及树脂。

对于第2透明层，可以为光固化性，也可以为热固性，也可以为热固性且光固化性。其中，热固性且光固化性的组合物，不仅在形成转印薄膜时，而且在将转印薄膜转印到被转印体之后，能够通过光照射而简易地固化并制成膜。而且随后，从能够通过加热进行热固化而进一步提高膜的可靠性的观点考虑是也是优选的。

在第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜中，从生产的简便性，尤其是从形成后述的第3透明层的简便性的观点考虑，优选第1透明层及第2透明层相互接触。

第2透明层优选满足下述式(1)。

在下述式(1)中，H2表示第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示第2透明层的平均厚度。

式(1)：100×H2/T2≤80.0

此外，第2透明层更优选满足下述式(2)，进一步优选满足下述式(3)。

式(2)及式(3)中，H2表示第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示第2透明层的平均厚度。即，在第2透明层的厚度中，由于相对于平均膜厚的厚度偏差小，后述的第3透明层的形成性变得更良好，第2透明层中的折射率也成为更良好的范围。

式(2)：100×H2/T2≤40.0

式(3)：100×H2/T2≤20.0

第2透明层的厚度能够使用透射型电子显微镜(TEM：Transmission ElectronMicroscope)来测定。具体而言，使用超薄切片机来制作转印薄膜的切片，用TEM扫描转印薄膜的切片的剖面5mm的长度区域，并测定第2透明层即包含金属氧化物粒子的区域的厚度。接着，算出该区域中的第2透明层的平均厚度及厚度的最大值和最小值之差。

在上述区域中，求出以等间隔划分的20个部位的厚度测定值的算术平均，并作为各层的平均厚度。

形成满足上述式(1)～式(3)的条件的第2透明层的方式并无特别限制，例如，作为得到均匀膜厚的方法，如在以下进行详细描述，能够优选举出使第2透明层至少含有2种树脂的方法。

并且，可以举出使第2透明层形成用涂布液含有高粘度溶剂以增加涂布液的粘度的方法，详细而言，使第2透明层形成用涂布液含有溶剂，使其含有溶剂中粘度最高的溶剂在20℃时的粘度为3.0mPa·s以上的溶剂的方法。

另外，针对20℃下的溶剂的粘度测定方法进行后述。

并且，作为得到均匀膜厚的其他方法，例如可以举出含有提高涂布表面状态性能的氟类表面活性剂、硅酮系表面活性剂、及包含其他亲水部及疏水部的表面活性剂的表面活性剂的方法、及在第1透明层上涂布第2透明层形成用涂布液时，在面内吹送均匀性高的风以使其干燥的方法等。

在第2透明层由负型材料形成时，第2透明层中优选除了包含金属氧化物粒子及树脂(优选为碱可溶性树脂)以外，还包含聚合性单体及聚合引发剂。根据需要还能够使用其他添加剂。

作为控制第2透明树脂层的折射率的方法并无特别限制，可以举出单独使用所希望的折射率的透明树脂层的方法、使用添加了金属粒子或金属氧化物粒子等粒子的透明树脂层的方法、及使用金属盐与高分子的复合体的方法等。

-树脂-

第2透明层包含树脂。树脂也可以具有作为粘合剂的作用。作为树脂优选为碱可溶性树脂，更优选为具有源自(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的至少一种的结构单元的树脂((甲基)丙烯酸树脂)。对于碱可溶性树脂，详细而言，与第1透明层中的碱可溶性树脂的含义相同。其中，在第2透明层中，作为优选的树脂的例子，能够举出具有酸基的树脂的铵盐。

第2透明层形成用组合物也可以包含具有酸基的单体的铵盐作为固化成分。

-具有酸基的树脂的铵盐-

作为具有酸基的树脂的铵盐，并无特别限制，可适宜地举出(甲基)丙烯酸树脂的铵盐。

在制备第2透明层形成用组合物时，优选包含将具有酸基的树脂溶解于氨水溶液，制造酸基的至少一部分包含经铵盐化的树脂的第2透明层形成用涂布液的工序。

--具有酸基的树脂--

作为具有酸基的树脂，优选为具有1价酸基(羧基等)的树脂。第2透明层中所包含的树脂尤其优选为具有羧基的树脂。

作为能够使用于第2透明层且对水性溶剂(优选为水或者碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂)具有溶解性的树脂，只要不违背本发明的主旨就无特别的限制，能够从公知的树脂中适当地进行选择。

第2透明层中所使用的具有酸基的树脂优选为碱可溶性树脂。

碱可溶性树脂是线状有机高分子聚合物，能够从分子中具有至少1个促进碱可溶性的基团的聚合物中适当选择。作为促进碱可溶性的基团即酸基，例如可以举出羧基、磷酸基、磺酸基等，优选为羧基。

作为碱可溶性树脂，可优选举出将选自(甲基)丙烯酸及苯乙烯的结构单元包含于主链的共聚物。对于碱可溶性树脂，可更优选举出可溶于有机溶剂，并且能够通过弱碱性水溶液而显影的树脂。

在碱可溶性树脂的制造中，能够适用例如基于公知的自由基聚合法的方法。利用自由基聚合法来制造碱可溶性树脂时的温度、压力、自由基引发剂的种类及其量、溶剂的种类等聚合条件，对于本领域技术人员来讲是能够容易设定的，也能够实验性地确定条件。

作为上述线状有机高分子聚合物，优选在侧链上具有羧酸的树脂。例如，诸如在日本特开昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、日本特开昭59-53836号、日本特开昭59-71048号、日本特开昭46-2121号公报或特公昭56-40824号公报的各公报中记载的聚(甲基)丙烯酸、甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、苯乙烯/马来酸等马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等、以及羧烷基纤维素及羧烷基淀粉等在侧链上具有羧酸的酸性纤维素衍生物、对具有羟基的树脂加成酸酐的树脂等，而且，也可以举出在侧链上具有(甲基)丙烯酰基等反应性官能团的高分子聚合物作为优选列。

其中，尤其优选包括苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物和苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸/其他单体的多元共聚物。

此外，也可以举出将2-羟基乙基甲基丙烯酸酯共聚的聚合物等作为有用的例。

除了上述聚合物以外，可以举出在日本特开平7-140654号公报中记载的、2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物等。

关于碱可溶性树脂的具体的结构单元，尤其优选(甲基)丙烯酸与能够与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体的共聚物。

作为能够与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体，可以举出烷基(甲基)丙烯酸酯、芳基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基化合物等。在此，烷基及芳基的氢原子可以被取代基取代。

作为烷基(甲基)丙烯酸酯及芳基(甲基)丙烯酸酯的具体例，能够举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、丙烯酸甲苯酯、丙烯酸萘酯、丙烯酸环己基酯等。

并且，作为乙烯基化合物，能够举出例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸四氢糠酯、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体、CH₂＝CR¹R²、CH₂＝C(R¹)(COOR³)〔在此，R¹表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基，R²表示碳原子数为6～10的芳香族烃环，R³表示碳原子数为1～8的烷基或碳原子数为6～12的芳烷基〕等。

这些能够共聚的其他单体能够单独使用一种，或者组合两种以上而使用。

优选的能够共聚的其他单体是选自CH₂＝CR¹R²、CH₂＝C(R¹)(COOR³)、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯及苯乙烯的至少一种，尤其优选为选自CH₂＝CR¹R²及CH₂＝C(R¹)(COOR³)的至少一种。

此外，可以举出如下树脂：使具有反应性官能团的(甲基)丙烯酸化合物、肉桂酸等和具有与该反应性官能团能够反应的取代基的线状高分子进行反应，从而将烯属不饱和双键导入到该线状高分子中。作为反应性官能团，能够例示羟基、羧基、氨基等，作为能够与该反应性官能团反应的取代基，能够举出异氰酸酯基、醛基、环氧基等。

第1实施方式及第2实施方式中的第2透明层优选包含至少2种树脂。在至少2种树脂中，至少1种优选为重均分子量为1000以上且20000以下的树脂，在至少2种树脂中，至少1种优选为酸值为150mgKOH/g以上的树脂。

更详细而言，在至少2种树脂中包含重均分子量为1,000以上且20,000以下的树脂，进一步优选包含重均分子量大于20,000的树脂。

并且，从碱可溶性的观点考虑，至少1种中包含酸值为150mgKOH/g以上的树脂，进一步优选包含酸值小于150mgKOH/g的树脂。

通过包含已叙述的至少2种树脂，第1透明层中所包含的低分子量成分变得容易通过第2透明层而在第2透明层表面渗出，而变得容易形成后述的第3透明层。

从与金属氧化物粒子的相互作用及在干燥中涂布液粘度容易维持优选范围的观点考虑，至少2种树脂中的至少1种树脂的重均分子量优选为上述范围，更优选为1000以上且18000以下，进一步优选为2000以上且17000以下。

从与金属氧化物粒子的相互作用良好的观点考虑，至少2种树脂中的至少1种树脂的酸值优选为上述范围，更优选为180以上，进一步优选为200以上。

通过满足第2透明层中所包含的至少2种树脂中的至少1种为重均分子量为1000以上且20000以下的树脂及至少2种树脂中的至少1种为酸值为150mgKOH/g以上的树脂中的至少1个条件，形成第2透明层时的膜厚均匀性变得更良好。

本说明书中的树脂的重均分子量使用通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的值。

基于凝胶渗透色谱法(GPC)的测定中，能够使用如下：作为测定装置，使用HLC(注册商标)-8020GPC(TOSOH CORPORATION)，作为管柱，使用3根TSKgel(注册商标)SuperMultipore HZ-H(4.6mmID×15cm，TOSOH CORPORATION)，作为洗脱液，使用THF(四氢呋喃)。

并且，作为测定条件，能够将试样浓度设为0.45质量％、流速设为0.35ml/min、样品注入量设为10μl、及测定温度设为40℃，并使用差示折射率(RI)检测器来进行测定。

校准曲线能够由TOSOH CORPORATION的“标准试样TSK standard，聚苯乙烯(polystyrene)”：“F-40”、“F-20”、“F-4”、“F-1”、“A-5000”、“A-2500”、“A-1000”、及“正丙苯”的8个样品来制作。

并且，作为第2透明层中所包含的具有酸基的树脂，优选为具有酸基的(甲基)丙烯酸树脂，更优选为(甲基)丙烯酸/乙烯基化合物的共聚树脂，尤其优选为(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸烯丙酯的共聚树脂。

其中，第2透明层作为树脂优选包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元的共聚物，更优选包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自苯乙烯的结构单元、及源自具有乙撑氧基链的(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物。

通过在第2透明层作为树脂包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元的共聚物，进而，通过包含具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自苯乙烯的结构单元及源自具有乙撑氧基链的(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物，从而形成第2透明层时的膜厚均匀性变得更良好。

以下，举出了具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元的共聚物、及具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自苯乙烯的结构单元及源自具有乙撑氧基链的(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物的例子，但本发明并不限制于此。

[化学式3]

在上述例示化合物中，a1～d4表示各自所记载的结构单元的含有比率(摩尔比)，在能够实现已叙述的优选的酸值及重均分子量的范围内，根据目的而适当调整。

第2透明层中所包含的具有酸基的树脂可以使用市售品。第2透明层中所包含的具有酸基的树脂的市售品并无特别限制，能够根据目的适当选择。作为可以使用于第1实施方式及第2实施方式中的第2透明层的具有酸基的树脂的市售品，例如可以举出TOAGOSEICO.,LTD.制造的ARUFON(注册商标)UC3000，UC3510，UC3080，UC3920,UF5041(以上为商品名称)，BASF公司制造的JONCRYL(注册商标)67、JONCRYL611、JONCRYL678、JONCRYL690、JONCRYL819(以上为商品名称)等。

相对于第2透明层，具有酸基的树脂优选包含10质量％～80质量％，更优选包含15质量％～65质量％，尤其优选包含20质量％～50质量％。

--具有酸基的单体--

第2透明层作为固化成分能够含有具有酸基的单体。作为具有酸基的单体，能够优选使用(甲基)丙烯酸或其衍生物等的(甲基)丙烯酸单体、及以下单体。

例如可以举出3官能～4官能的自由基聚合性单体(季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯[PETA]骨架中导入羧酸基的单体(酸值＝80mgKOH/g～120mgKOH/g))、5官能～6官能的自由基聚合性单体(二季戊四醇五丙烯酸酯或二季戊四醇六丙烯酸酯[DPHA]骨架中导入羧酸基的化合物(酸值＝25mgKOH/g～70mgKOH/g))等。虽然未记载具体的名称，但根据需要，可以使用2官能的碱可溶性自由基聚合性单体。

此外，也能够优选使用在日本特开2004-239942号公报的[0025]～[0030]中所记载的具有酸基的单体，该公报的内容被引用于本发明中。

并且，也能够优选使用作为第1透明层中所使用的聚合性单体而例举的单体中具有酸基的单体。

其中，优选含有羧基的聚合性单体，能够更优选使用(甲基)丙烯酸和其衍生物等丙烯酸单体，其中，尤其优选ARONIXTO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.)。另外，在本说明书中，丙烯酸单体包含甲基丙烯酸单体和丙烯酸单体这两种。

在第2透明层中，相对于具有酸基的树脂，具有酸基的单体优选包含1质量％～50质量％，更优选包含3质量％～20质量％，尤其优选包含6质量％～15质量％。

-其他树脂-

不具有第2透明层中所使用的酸基的其他树脂并无特别限制，能够同样地使用其他树脂(1)，该其他树脂(1)使用于在所述第1透明层的形成中所使用的第1透明层形成用涂布液。

-金属氧化物粒子-

第2透明层以调节折射率或透光性为目的，包含金属氧化物粒子。

在第2透明层中，根据所使用的树脂、聚合性单体的种类及含量、及所使用的金属氧化物粒子的种类等，能够以任意的比例包含金属氧化物粒子。

作为金属氧化物粒子的种类并无特别限制，能够使用公知的金属氧化物粒子。在已叙述的第1透明层中所举出的金属氧化物粒子也能够在第2透明层中使用。

从将折射率控制在所述第2透明层的折射率的范围的观点考虑，优选第1实施方式及第2实施方式中的第2透明层具有氧化锆粒子(ZrO₂粒子)、Nb₂O₅粒子及氧化钛粒子(TiO₂粒子)中的至少1个，更优选金属氧化物粒子为氧化锆粒子或氧化钛粒子，尤其优选为氧化锆粒子。

作为金属氧化物粒子使用氧化锆粒子时，从在转印后难以发现具有金属氧化物粒子的第2树脂层的缺陷，并且能够制作透明电极图案的隐蔽性良好的层叠体的观点考虑，相对于第2透明层的所有成分，氧化锆粒子的含量优选为40质量％～95质量％，更优选为60质量％～95质量％，进一步优选为60质量％以上且小于80质量％。

作为金属氧化物粒子使用氧化钛时，从在转印后难以发现具有金属氧化物粒子的第2透明层的缺陷，并且能够制作透明电极图案的隐蔽性良好的层叠体的观点考虑，相对于第2透明层，氧化钛粒子的含量优选为30质量％～70质量％，更优选为40质量％以上且小于60质量％。

金属氧化物粒子的折射率优选比由从第2透明层形成用涂布液中去除了金属氧化物粒子的组合物形成的透明膜的折射率高。

具体而言，对于转印薄膜，第2透明层优选含有在具有400nm～750nm的波长的光下的折射率为1.50以上的金属氧化物粒子，更优选含有折射率为1.55以上的粒子，进一步优选含有折射率为1.70以上的粒子，尤其优选含有折射率为1.90以上的粒子，最优选含有折射率为2.00以上的粒子。

在此，具有400nm～750nm波长的光中的折射率为1.50以上是指，具有上述范围的波长的光中的平均折射率为1.50以上，不需要在具有上述范围波长的所有光中的折射率为1.50以上。并且，平均折射率为、相对于具有上述范围的波长的各光的折射率的测定值的总和除以测定点的数量的值。

从雾度等光学性能的观点考虑，金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为100nm以下，更优选为50nm以下，进一步优选为20nm以下。

金属氧化物粒子的平均一次粒径为基于透射型电子显微镜(TEM)的观测而测定任意100个粒子的直径，并通过100个直径的算术平均来求得的值。

第2透明层可以仅含有1种金属氧化物粒子，也可以含有2种以上的金属氧化物粒子。

第2透明层中的金属氧化物粒子的含量与金属氧化物粒子的种类无关，相对于第2透明层的所有成分，优选含有30质量％～95质量％，更优选含有30质量％～85质量％，进一步优选含有30质量％以上且小于80质量％。通过金属氧化物粒子的含量为已叙述的范围，转印后的透明电极图案的隐蔽性得到进一步提高。

第2透明层除了包含树脂及金属氧化物粒子以外，还能够包含其他成分。

-金属抗氧化剂-

第2透明层优选包含金属抗氧化剂。

作为在第1实施方式及第2实施方式中所使用的金属抗氧化剂，优选为在分子内具有包含氮原子的芳香环的化合物。

并且，作为金属抗氧化剂，包含上述氮原子的芳香环为选自由咪唑环、三唑环、四唑环、噻二唑环及这些环与其他芳香环的稠环构成的组的至少1个环，包含上述氮原子的芳香环更优选为咪唑环或者咪唑环与其他芳香环的稠环。

作为上述其他芳香环，可以是单环，也可以是杂环，但优选为单环，更优选为苯环或萘环，进一步优选为苯环。

作为优选的金属抗氧化剂，优选例示出咪唑、苯并咪唑、四唑、巯基噻二唑及苯并三唑，更优选为咪唑、苯并咪唑及苯并三唑。作为金属抗氧化剂，可以使用市售品，也能够优选使用例如含有苯并三唑的JOHOKU CHEMICAL CO.,LTD、BT120等。

并且，金属抗氧化剂的含量相对于第2透明层的总质量优选为0.1质量％～20质量％，更优选为0.5质量％～10质量％，进一步优选为1质量％～5质量％。

-通过加热能够与酸进行反应的化合物-

第1实施方式及第2实施方式中的第2透明层能够包含通过加热能够与酸进行反应的化合物。本说明书中，通过加热能够与酸进行反应的化合物是指，在常温(25℃)下不具有与酸的反应性，而在加热至与化合物的物性对应的特定温度以上时显现与酸的反应性的化合物。

通过加热能够与酸进行反应的化合物只要具有作为目的的反应性，则并无特别限制，能够适当选择使用公知的化合物。通过加热能够与酸进行反应的化合物优选与在温度25℃下与酸的反应性相比，在加热到大于25℃时与酸的反应性更高的化合物。

通过加热能够与酸进行反应的化合物优选具有能够与通过源自封端剂的部分结构而暂时被非活性化的酸反应的基团，且在预设解离温度下源自封端剂的部分结构解离的化合物。

通过加热能够与酸进行反应的化合物能够举出羧酸化合物、醇化合物、胺化合物、封端异氰酸酯及环氧化合物等，其中，从保存稳定性的观点考虑，优选为封端异氰酸酯。

作为封端异氰酸酯能够同样使用在第1透明层形成用涂布液中说明的封端异氰酸酯，优选例也相同。

而且，所述第2透明层中可以使用添加剂。作为所述添加剂，可以举出例如日本专利第4502784号公报的0017段落、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂，或日本专利第4502784号公报的0018段落中所记载的热聚合抑制剂，另外，在日本特开2000-310706号公报的0058～0071段落中所记载的其他添加剂。作为优选使用于第2透明层中的添加剂，可以举出公知的氟类表面活性剂即MEGAFACE(注册商标)F-444(DIC CORPORATION)。

-聚合性单体-

从通过固化而提高膜的强度等观点考虑，第2透明层优选包含光聚合性单体或热聚合性单体等聚合性单体。第2透明层作为聚合性单体可以仅包含所述具有酸基的单体，也可以包含所述具有酸基的单体以外的其他聚合性单体。

作为第2透明层中所使用的聚合性单体，能够使用日本专利第4098550号的0023～0024段落中所记载的聚合性化合物。其中，能够优选使用季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯。这些聚合性单体，可以单独使用，也可以将多个组合使用。在使用季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物时，季戊四醇三丙烯酸酯的比率以质量比计优选为0％～80％，更优选为10％～60％。

作为第2透明层中所使用的聚合性单体，具体能够举出下述结构式1所表示的水溶性的聚合性单体、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(NK酯A-TMMT：Shin-Nakamura ChemicalCo.,Ltd.，作为杂质含有三丙烯酸酯约10％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3LM-N Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.，三丙烯酸酯37％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM-3L Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.，三丙烯酸酯55％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(NK酯A-TMM3Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.，三丙烯酸酯57％)、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯(KAYARADRP-1040Nippon Kayaku Co.,Ltd.)等。

[化学式4]

作为其他的第2透明层中所使用的聚合性单体，优选对水或者碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂等水性溶剂具有溶解性的聚合性单体。作为对水性溶剂具有溶解性的聚合性单体，可以举出具有羟基的单体、分子内具有环氧乙烷或聚环氧丙烷及磷酸基的单体。

-聚合引发剂-

第2透明层能够包含聚合引发剂。

作为第2透明层中所使用的聚合引发剂，优选具有对水性溶剂的溶解性的聚合引发剂。作为对水性溶剂具有溶解性的聚合引发剂，可以举出IRGACURE 2959、下述结构式2的光聚合引发剂等。

[化学式5]

以上，以转印薄膜为负型材料的情况为中心进行了说明，但转印薄膜也可以是正型材料。转印薄膜为正型材料时，所述第2透明层中虽然使用例如日本特开2005-221726号公报所记载的材料等，但不局限于已叙述的材料。

在第2透明层的形成中所使用的第2透明层形成用涂布液能够包含溶解特定粘合剂等的溶剂。

第2透明层还包含溶剂，溶剂中粘度最高的溶剂在20℃时的粘度优选为3.0mPa·s以上。通过第2透明层中所包含的溶剂中粘度最高的溶剂的粘度为3.0mPa·s以上，从而在形成第2透明层时所使用的第2透明层形成用涂布液的粘度变得更高，能够抑制第1透明层中所包含的成分与第2透明层中所包含的溶剂相溶，第2透明层的膜厚均匀性得到进一步提高。

另外，在20℃下的溶剂的粘度为使用TOKI SANGYO CO.,LTD.制造的TV25型粘度计(TVE-25)对在20℃的恒温槽进行了温度调整的溶剂进行测定的值。

作为在20℃时的粘度为3.0mPa·s以上的溶剂，例如可以举出二丙酮醇(3.2mPa·s)、乙二醇(32.5mPa·s)、丙二醇(56mPa·s)、异丁醇(4.2mPa·s)等。

～第2透明层的形成～

第2透明层是通过涂布将用于形成包含金属氧化物粒子及树脂的第2透明层的树脂组合物溶解于溶剂中的溶液(称为第2透明层形成用涂布液)并干燥而形成。

另外，本说明书中，第2透明层形成用涂布液是指将用于形成包含金属氧化物粒子及树脂的第2透明层的树脂组合物溶解于包含水或醇等水性溶剂的溶剂中的溶液。

并且，在形成第2透明层时，优选在临时支撑体上层叠第1透明层之后，不固化第1透明层而层叠第2透明层。优选方式为第1透明层由含有有机溶剂的第1透明层形成用涂布液形成，第2透明层由含有水或醇等水性溶剂的第2透明层形成用涂布液形成的方式，相邻的2个层的划分变得良好，从而能够通过上述机理来改善透明电极图案的辨识性。进而，能够从转印薄膜将折射率调整层(即，第1透明层及第2透明层)转印于透明电极图案上之后，通过光刻法显影成所希望的图案。另外，若第1透明层及第2透明层的层划分良好，则容易使基于上述机理的射率调整效果变得充分，透明电极图案的隐蔽性变得更良好。

(折射率)

第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜各自在第1透明层上具有第2透明层。第2透明层的折射率优选比第1透明层的折射率高。

通过减小被转印体中的透明电极图案(优选为氧化铟锡，Indium Tin Oxide：ITO)与第2透明层的折射率差，以及第2透明层与第1透明层的折射率差，光反射降低而透明电极图案变得难以看到，从而能够改善透明电极图案的隐蔽性。

第2透明层的折射率优选为1.60以上。

第2透明层的折射率需要通过透明电极的折射率来进行调整，值的上限值并无特别限制，优选为2.1以下，更优选为1.78以下，也可以为1.74以下。

在使用In及Zn的氧化物(氧化铟锌，Indium Zinc Oxide：IZO)的情况下，如果透明电极的折射率超过2.0，则第2透明层的折射率优选为1.7以上且1.85以下。

另外，只要没有特别的说明，则折射率为在波长550nm下通过椭圆偏光法(ellipsometry)测定的值。

(厚度)

第2透明层的平均厚度小于200nm，优选为110nm以下，更优选为100nm以下。

第2透明层的平均厚度大于0nm，优选为20nm以上。

第2透明层的平均厚度优选为55nm～100nm，更优选为60nm～100nm，进一步优选为70nm～100nm。

若平均厚度为上述范围，则优选的折射率被维持，透明电极图案的隐蔽性变得更良好。

＜第3透明层＞

(第1实施方式中的第3透明层)

对于第1实施方式的转印薄膜，在第2透明层上具有第3透明层，该第3透明层的平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下第3透明层。

第1实施方式中的第3透明层中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下，优选为1％以下，更优选去除不可避免的杂质且不包含金属原子。

(第3透明层的平均厚度)

在第1实施方式中，通过后述的优选方法而形成的第3透明层，只要平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，则并无特别限制，但从效果的观点考虑，优选为薄层，具体而言，第3透明层的平均厚度优选为30nm以下，更优选为20nm以下，更优选为10nm以下。

第3透明层的平均厚度需要大于0nm，优选为1nm以上。

难以通过通常的涂布法来形成该种非常薄的透明层。

能够由以下方法来测定第3透明层的平均厚度。

第3透明层的厚度能够与第2透明层的厚度同时进行测定。即，以与第2透明层的厚度测定方法中叙述的方法同样的方法切出剖面，并通过TEM(Transmission ElectronMicroscope：透射型电子显微镜)测定第2透明层的厚度，并扫描测定对象的剖面5mm的长度区域，将包含金属氧化物粒子的区域的厚度作为第2透明层的厚度，将不包含金属氧化物粒子的区域作为第3透明层的厚度，从而能够测定第3透明层的厚度。第3透明层的平均厚度为在测定对象区域算出以等间隔划分的20个部位的厚度的测定值的平均的值。

第3透明层优选为包含第1透明层中所包含的成分的层，作为第1透明层中所包含的成分，优选包含固化成分。

在此，固化成分是指通过赋予光、热等的能量而反应以形成交联结构的成分，或进行聚合重合的成分，能够例示出聚合性单体、封端异氰酸酯等。

作为在第1透明层中所包含的成分且通过第2透明层而在第2透明层上渗出的低分子量成分，可以举出聚合性单体、聚合引发剂、封端异氰酸酯等通过加热能够与酸进行反应的化合物、表面活性剂等。

在第2透明层上渗出的第1透明层中所包含的低分子量成分中，有助于固化的固化成分，例如聚合性单体、聚合引发剂、封端异氰酸酯等通过加热能够与酸进行反应的化合物等，在固化第2透明层时，在第2透明层上被固化，形成固化的第3透明层。

对于第3透明层中所包含的第1透明层的成分，例如能够通过使用飞行时间型二次离子质谱分析法(TOF-SIMS)来解析第3透明层的表面以进行分析和确认。

第3透明层包含第1透明层中所包含的成分，尤其是有助于固化的固化成分，且第3透明层的平均厚度为10nm以下的非常薄的层，从而能够推测认定为，第3透明层由在第2透明层上渗出的第1透明层中所包含的成分形成。

(第3透明层中的金属原子的含量)

通过XPS法从与第1实施方式的第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，能够由以下方法来测定在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率。

能够使用Quantera SXM型XPS(ULVAC-PHI,Inc.制造)，并通过XPS(X-rayPhotoelectron Spectroscopy)法来测定转印薄膜表面中的第3透明层的与第2透明层接触的面相反侧的最表面中的构成金属氧化物粒子的金属原子(M)的比率。

测定条件能够在以下条件下实施。

X射线：Al-Kα射线(100μm、25W、15kV)

测定面积：300μm□(μm正方形、μm见方)

光电子拾取角度：45°

通能(Pass Energy)：112eV、台阶能(Step Energy)：0.1eV

通过上述条件进行测定的结果，判断为，在测定对象区域300μm见方中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下时，第3透明层为几乎不包含金属氧化物粒子的区域。

(第3透明层的形成)

第1实施方式中的第3透明层能够通过如下方式形成：在临时支撑体上涂布包含有机溶剂、聚合性单体及树脂的涂布液而形成第1透明层，然后，在第1透明层上，涂布包含水、金属氧化物粒子及树脂的涂布液，形成平均厚度小于200nm的第2透明层。即，优选第1透明层中所包含的低分子量成分和有机溶剂不与第2透明层中所包含的水性成分相溶，通过从第2透明层内而在第2透明层上渗出，在第2透明层上形成。

另外，第3透明层的形成方法并不限定于上述方法。

＜第3透明层＞

(第2实施方式中的第3透明层)

对于第2实施方式的转印薄膜，在第2透明层上具有第3透明层，该第3透明层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率。

从对被转印体的密合性变得更优异的观点考虑，第2实施方式中的第3透明层优选为平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下的层。

第3透明层中的金属原子相对于所有原子的比率优选为2％以下，更优选为1％以下，进一步优选去除不可避免的杂质且不包含金属原子。

针对基于XPS法的测定金属原子的比率的具体方法进行后述。

(厚度)

第3透明层形成为平均厚度小于第2透明层的平均厚度的层。从效果的观点考虑，第3透明层优选为薄层。具体而言，作为第3透明层的平均厚度优选为30nm以下，更优选为20nm以下，进一步优选为10nm以下。

第3透明层的平均厚度大于0nm，优选为1nm以上。

如上述的薄透明层难以通过通常的涂布法来形成。

第3透明层的平均厚度为由以下方法测定的值。

第3透明层的平均厚度能够与第2透明层的厚度同时进行测定。即，使用超薄切片机来制作转印薄膜的切片，通过透射型电子显微镜(TEM：Transmission ElectronMicroscope)来测定转印薄膜的切片中的第1透明层的上层的平均厚度，并扫描切片中的剖面5mm的长度区域，将包含金属氧化物粒子的区域的厚度作为第2透明层的厚度，将不包含金属氧化物粒子的区域作为第3透明层的厚度。由此，测定出第3透明层的厚度。

平均厚度为在测定对象区域算出以等间隔划分的20个部位的厚度的测定值的平均的值。

第3透明层优选为包含第1透明层中所包含的成分的层，第1透明层中所包含的成分优选为低分子量成分，作为低分子量成分优选包含固化成分。

固化成分是指通过赋予光、热等能量而反应以进行聚合反应或交联反应的成分，能够例示出聚合性单体、聚合引发剂、封端异氰酸酯等。

在第1透明层中所包含的成分中，作为通过第2透明层而在第2透明层上渗出的低分子量成分，可以举出聚合性单体、聚合引发剂、封端异氰酸酯等通过加热能够与酸进行反应的化合物、表面活性剂等。

在第2透明层上渗出的第1透明层中所包含的低分子量成分中，有助于固化的固化成分(例如，聚合性单体、聚合引发剂、封端异氰酸酯)等通过加热能够与酸进行反应的化合物等，对第3透明层赋予固化性。

对于第3透明层中所包含的第1透明层的成分，例如能够通过使用飞行时间型二次离子质谱分析法(TOF-SIMS)来解析第3透明层的表面以进行确认。

第3透明层包含第1透明层中所包含的成分，尤其是有助于固化的固化成分，且第3透明层的平均厚度为非常薄的(30nm以下的)层，从而能够推测认定为，第3透明层是由在第2透明层上渗出的第1透明层中所包含的成分形成的。

(第3透明层中的金属原子的含量)

第3透明层的层中的金属原子相对于所有原子的比例与第2透明层的层中的金属原子相对于所有原子的比例能够通过如下方式测定：使用超薄切片机来切割转印薄膜，使用Hitachi High-Technologies Corporation制造的HD2300型STEM，并通过能量色散型X射线分析(EDX：Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)来测定露出剖面的切片的剖面。

并且，通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，能够由以下方法来测定在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率。

测定条件能够在以下条件下实施。

X射线：Al-Kα射线(100μm、25W、15kV)

测定面积：300μm□(μm正方形、μm见方)

光电子拾取角度：45°

通能(Pass Energy)：112eV、台阶能(Step Energy)：0.1eV

～第3透明层的形成～

第3透明层优选如下形成：在临时支撑体上涂布包含有机溶剂、聚合性单体及树脂的第1透明层形成用涂布液而形成第1透明层，在所形成的在第1透明层上，涂布包含水性溶剂、金属氧化物粒子及树脂的第2透明层形成用涂布液，形成平均厚度小于200nm的第2透明层之后，在第2透明层上形成。

具体而言，在第1透明层上层叠第2透明层时，优选第1透明层中所包含的低分子量成分和有机溶剂不与第2透明层中所包含的水性成分相溶，通过第2透明层内而在第2透明层上渗出，从而形成层。

＜任意树脂层＞

在第1实施方式的转印薄膜中，只要具有除了已叙述的第1透明层、第2透明层及第3透明层以外，只要不损害第1实施方式的效果，则也可以具有其他任意层。在第2实施方式的转印薄膜中，除了已叙述的第1透明层、第2透明层及第3透明层以外，只要不损害第2实施方式的效果，则也可以具有其他任意层。

(热塑性树脂层)

转印薄膜能够在临时支撑体与第1透明层之间设置热塑性树脂层。

通过设置热塑性树脂层，在将转印薄膜转印到被转印体而形成层叠体时，各层中的气泡的产生得到抑制，由于难以产生由气泡引起的图像不均等，因此优选。

热塑性树脂层优选包含碱可溶性树脂。优选通过设置热塑性树脂层，而作为吸收被转印体表面的凹凸的缓冲材的作用，且优选具有根据对象面的凹凸可以变形的性质的树脂层。

关于热塑性树脂层，优选为作为成分包含日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质的方式，尤其优选为选自包含基于维卡(Vicat)法〔具体而言，基于美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测量法〕的软化点约为80℃以下的有机高分子物质中的至少1种的方式。

在设置热塑性树脂层时的层厚优选为3μm～30μm。通过热塑性树脂层的层厚设为上述范围，转印时的追随性良好，且能够吸收被转印体表面的凹凸，并且可简单地进行在形成热塑性树脂层时的干燥、显影，因此优选。作为热塑性树脂层的层厚进一步优选为4μm～25μm，尤其优选为5μm～20μm。

＜中间层＞

转印薄膜在任意设置的热塑性树脂层与第1透明层之间设置中间层。

作为中间层，能够适用日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”所记载的层。

＜保护膜＞

转印薄膜能够在第3透明层的表面设置保护膜。通过设置保护膜，能够保护与转印薄膜的被转印体密合的面即第3透明层表面。

作为保护膜，能够适当地使用在日本特开2006-259138号公报的0083～0087及0093段落中所记载的保护膜。

～转印薄膜的制造方法～

转印薄膜的制造方法并无特别限制，能够使用公知的方法。其中，从能够形成作为目的的第3透明层的观点考虑，优选通过以下所示的制造方法来制造。

第1实施方式及第2实施方式中的转印薄膜的制造方法优选：具有在临时支撑体上涂布包含有机溶剂、聚合性单体及树脂的第1透明层形成用涂布液而形成第1透明层的工序；以及在第1透明层上涂布包含水性溶剂、金属氧化物粒子及树脂的第2透明层形成用涂布液，并形成平均厚度小于200nm的第2透明层的工序，且制造在第2透明层上配置有第3透明层的转印薄膜，该第3透明层的平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

在临时支撑体上形成第1透明层之后，形成第2透明层时，优选在临时支撑体上涂布用于形成第1透明层的第1透明层形成用涂布液之后，在第1透明层形成用涂布液完全干燥、固化之前，形成第2透明层。即，优选实施涂布第2透明层形成用涂布液的第2透明层形成工序。

优选形成第1透明层的工序为在临时支撑体上涂布第1透明层形成用涂布液的工序，并且形成第2透明层的工序为在第1透明层上直接形成第2透明层的工序。其中，更优选形成第2透明层的工序为涂布包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐的第2透明层形成用涂布液的工序。

根据第1实施方式及第2实施方式中的制造方法，第1透明层与第2透明层的划分变得良好，第1透明层中所包含的低分子量成分通过第2透明层而在第2透明层上渗出，可容易进行第3透明层的形成。

在通过第1透明层形成用涂布液而得到的第1透明层上，通过涂布包含具有酸基的树脂(优选包含酸值为150mgKOH/g以上的树脂)的第2透明层形成用涂布液(水系树脂组合物)而形成第2透明层，从而即使在固化第1透明层之间形成第2透明层也不产生层混合、划分成为良好。

并且，通过设为上述结构，在高温高湿下使经时吸湿时，构成第2透明层的具有酸基的树脂已变得不会溶解于水，因此也能够抑制转印薄膜吸湿时产生的问题。

(形成第1透明层的工序)

转印薄膜的制造方法具有在临时支撑体上形成第1透明层的工序。

形成第1透明层的工序优选为在临时支撑体上涂布第1透明层形成用涂布液的工序。

第1透明层形成用涂布液指将用于形成包含聚合性单体及树脂的第1透明层的树脂组合物溶解于溶剂的溶液。作为溶剂，优选有机溶剂。

作为有机溶剂，能够使用以往公知的有机溶剂。作为有机溶剂的例子，能够举出甲乙酮、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、环己酮、甲基异丁酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺等。

第1透明层形成用涂布液优选包含聚合性单体、树脂、有机溶剂及聚合引发剂。

(形成第2透明层的工序)

转印薄膜的制造方法优选为具有在第1透明层上直接形成第2透明层的工序。

形成第2透明层的工序优选为涂布将用于形成至少包含金属氧化物粒子及树脂的第2透明层的树脂组合物溶解于包含水等的水性溶剂的溶液(第2透明层形成用涂布液(水系树脂组合物))的工序。

作为使用于第2透明层形成用涂布液的水性溶剂，优选为水或碳原子数为1至3的低级醇和水的混合溶剂。转印薄膜的制造方法的优选方式中，用于形成第2透明层的第2透明层形成用涂布液的溶剂优选包含水及碳原子数为1～3的醇，更优选包含碳原子数为1～3的醇/水的质量比为20/80～80/20的混合溶剂。

作为混合溶剂优选水和甲醇的混合溶剂、水和乙醇的混合溶剂，从干燥及涂布性的观点考虑，优选为水和甲醇的混合溶剂。

尤其，在形成第2透明层时，在水和甲醇(MeOH)的混合溶剂的情况下，MeOH/水的质量比(质量％比率)优选为20/80～80/20，更优选为30/70～70/30，进一步优选为40/60～70/30。通过控制在上述范围，能够实现涂布和快速干燥，而第1透明层和第2透明层不会在界面相互层间溶解而混合。

第2透明层形成用涂布液在25℃下的pH(Power of Hydrogen：酸碱度)优选为7.0以上且12.0以下，更优选为7.0～10.0，尤其优选为7.0～8.5。例如，对酸基使用过量的氨，并添加具有酸基的单体或具有酸基的树脂，从而在上述优选范围内能够调整第2透明层形成用涂布液的pH。

并且，转印薄膜的制造方法中，在形成第2透明树脂层时所使用的第2透明层形成用涂布液优选为热固性及光固化性中的至少一方。在第1透明层及第2透明层为该种固化性透明树脂层的情况下，根据转印薄膜的制造方法，优选即使在层叠第1透明层之后无需使其固化的情况下层叠第2透明层，层划分也良好且能够改善透明电极图案的辨识性，并且能够从所得到的转印薄膜(转印材料，优选为转印薄膜)将折射率调整层(即，第1透明层及第2透明层)转印于透明电极图案上之后，通过光刻法显影成所希望的图案。

转印薄膜的制造方法中，在形成第2透明树脂层时所使用的第2透明层形成用涂布液包含具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐，优选包含粘合剂聚合物、光或热聚合性单体及光或热聚合引发剂。可以仅是具有酸基的树脂的铵盐为粘合剂聚合物，除了具有酸基的树脂的铵盐以外，还可以并用其他粘合剂聚合物。具有酸基的单体的铵盐可以为光或热聚合性单体，除了具有酸基的单体的铵盐以外，还可以并用光或热聚合性单体。

～氨的挥发～

而且，转印薄膜的制造方法中优选包含通过使氨从具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐挥发而生成酸基的工序。通过使氨从所述具有酸基的单体的铵盐或具有酸基的树脂的铵盐挥发而生成酸基的工序优选为加热所涂布的所述第2透明层形成用涂布液的工序。

关于加热所涂布的所述第2透明层形成用涂布液的工序的详细条件的优选的范围，将示于以下。

作为加热、干燥方法，能够实施在具备加热装置的炉内进行的方法，或者能够通过送风而实施。加热、干燥条件只要根据所使用的有机溶剂等而适当地设定即可，可以举出加热到40℃～150℃温度的方法等。这些条件中，从可轻松地将第2透明层的M/C的厚度方向分布的曲线的P/A值控制在优选的范围内的观点考虑，尤其优选在50℃～120℃的温度下加热，进一步优选在60℃～100℃的温度下加热。作为加热、干燥之后的组合物，优选将含水率设为5质量％以下，更优选设为3质量％以下，进一步优选设为1质量％以下。

(第3透明层的形成)

如已经叙述般，在涂布、干燥第1透明层形成用涂布液之后，通过在固化前涂布第2透明层形成用涂布液，第1透明层中所包含的成分通过第2透明层而在第2透明层上渗出以形成第3透明层。

(其他工序)

第1实施方式及第2实施方式中的转印薄膜的制造方法在所述临时支撑体上形成所述第1透明层之前，还可以进一步包含形成热塑性树脂层的工序、在形成热塑性树脂层的工序之后，根据期望而实施的形成中间层的工序。

其他透明树脂层的制造方法能够采用在日本特开2006-259138号公报的0094～0098段落中所记载的感光性转印材料的制作方法。

～用途～

第1实施方式的转印薄膜及第2实施方式的转印薄膜优选分别使用于静电电容型输入装置的电极保护膜的形成中，在电极保护膜用途中，优选为透明绝缘层用途或透明保护层用途。转印薄膜中第1透明层可以是未固化状态，该情况下，在透明电极图案上，通过光刻方式而能够作为用于形成静电电容型输入装置的电极保护膜的层叠图案的转印薄膜而使用，更优选作为用于形成折射率调整层及外涂层(透明保护层)的层叠图案的转印薄膜而使用。

[电极保护膜]

第1实施方式的电极保护膜为从已叙述的第1实施方式的转印薄膜去除了临时支撑体的层叠膜。第2实施方式的电极保护膜为从已叙述的第2实施方式的转印薄膜去除了临时支撑体的层叠膜。

对于在以下叙述的第1实施方式的层叠体，在基板上具有第1实施方式的电极保护膜，包含电极的基板的电极被第3透明层、第2透明层及第1透明层覆盖并保护。对于第2实施方式的层叠体，在基板上具有第2实施方式的电极保护膜，包含电极的基板的电极被第3透明层、第2透明层及第1透明层覆盖并保护。

[层叠体]

第1实施方式的层叠体为在包含电极的基板上，从基板侧依次具有从已叙述的第1实施方式的转印薄膜去除了临时支撑体后的第3透明层、第2透明层及第1透明层的层叠体。第2实施方式的层叠体为在包含电极的基板上，从基板侧依次具有从已叙述的第2实施方式的转印薄膜去除了临时支撑体后的第3透明层、第2透明层及第1透明层的层叠体。

具体而言，第1实施方式的层叠体为依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且通过X射线光电子能谱法从与所述第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下；及基板包含电极，的层叠体。第2实施方式的层叠体为依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄，并且层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率；及基板，包含电极，的层叠体。

另外，第2实施方式的层叠体优选为如下方式：第3透明层通过XPS法从与第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

并且，优选为如下方式：第1实施方式中的层叠体及第2实施方式中的层叠体中，第3透明层为包含第1透明层中所包含的成分。

静电电容型输入装置的电极可以为透明电极图案，也可以为引绕布线。在层叠体中，静电电容型输入装置的电极优选为电极图案，更优选为透明电极图案。

第1实施方式及第2实施方式中的层叠体从基板侧依次具有包含静电电容型输入装置的电极的基板和形成于该基板上的第1透明层、第2透明层及第3透明层。

在层叠体中，具有基板、透明电极图案、与透明电极图案相邻配置的第3透明层、与第3透明层相邻配置的第2透明层及与第2透明层相邻配置的第1透明层，优选第2透明层的折射率比第1透明层的折射率高。第2透明层的折射率优选为1.6以上。

通过设为已叙述的层叠体的结构，透明电极图案隐蔽性变得良好。

(基板)

第1实施方式的层叠体及第2实施方式的层叠体各自具有包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)的基板。关于包含静电电容型输入装置的电极的基板，基板和电极优选为分体部件。

基板能够使用玻璃基板或薄膜基板。

作为薄膜基板，能够举出聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、三乙酸纤维素(TAC)、环烯烃共聚物(COP)、聚酰亚胺(PI)、聚笨并噁唑(PBO)等公知的树脂基材。

可根据目选择基板，但一般优选为透明基板。

基板的折射率优选为1.5～1.52。

(透明电极图案)

输入装置中的透明电极图案的折射率优选为1.75～2.1。

透明电极图案的材料并无特别限制，能够使用公知的材料。例如，能够使用ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)或IZO(Indium Zinc Oxide：氧化铟锌)等透光性导电性金属氧化膜来制作。作为该种金属膜，可以举出：ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo、Ag、Au等的金属膜、铜镍合金等的多个金属的合金模；及SiO₂等的金属氧化膜等。此时，能够将各要件的膜厚设为10nm～200nm。并且，通过烧成而将非晶形的ITO膜设为多晶ITO膜，因此能够降低电阻。

在通过ITO等形成导电性图案等的情况下，能够参考日本专利第4506785号公报的0014～0016段落等。

适用第1实施方式的转印薄膜的电极并不限定于透明电极。第1实施方式的转印薄膜也能够用作不透明的金属膜或金属氧化膜的保护膜。适用第2实施方式的转印薄膜的电极并不限定于透明电极。第2实施方式的转印薄膜也能够用作不透明的金属膜或金属氧化膜的保护膜。

不透明的金属膜或金属氧化膜的材料并无特别限制，例如，也能够将作为透明电极的材料而举出的材料等用于不透明的金属膜或金属氧化膜的形成中。

[层叠体的制造方法]

层叠体的制造方法能够通过如下方式制造：在包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)的基板上，使转印薄膜的第3透明层侧与基板接触而密合(层压)，并将第3透明层、第2透明层及第1透明层转印到基板来制造已叙述的转印薄膜。临时支撑体在转印之后被剥离、去除。

在对转印薄膜的各透明层进行转印时，为了提高层压时的基板与第3透明层之间的密合性，能够预先在被转印体即基板的，与转印薄膜的接触面实施表面处理。作为表面处理，可以举出使用了硅烷化合物的硅烷偶联处理。

去除了任意设置的保护膜的第1实施方式或第2实施方式的转印薄膜转印到具有透明电极图案的被转印体而形成层叠体。

转印薄膜的转印通过将第1实施方式或第2实施方式的转印薄膜的第3透明层侧层叠于透明电极图案表面并加压、加热而进行。贴合时能够使用层压机、真空层压机及能够进一步提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。

能够根据需要进行图案形成，并根据需要实施曝光工序及显影工序。作为曝光工序、显影工序及其他工序的例子，参考日本特开2006-23696号公报的0035～0051段落中记载的方法，在第1实施方式及第2实施方式中也能够优选地实施。

曝光工序为将转印到透明电极图案上的第1透明层、第2透明层及第3透明层进行曝光的工序。

具体而言，可以举出如下方法：在转印到所述透明电极图案上的转印薄膜的上方配置规定的掩模，经由掩模及临时支撑体而从掩模上方曝光成图案状的方法。作为图案曝光，也可以为使用激光等扫描所希望的区域而进行曝光的扫描曝光。

作为曝光光源，只要能够照射可以固化已叙述的各透明层中的至少任一层的波长区域的光(例如，365nm、405nm等)即可，能够适当选定使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。作为曝光量，通常为5mJ/cm²～200mJ/cm²左右，优选为10mJ/cm²～100mJ/cm²左右。

在曝光后实施的显影工序为对经曝光的光固化性树脂层进行显影的工序。

第1实施方式及第2实施方式中的显影工序为通过显影液对被图案曝光的已叙述的各透明层进行图案显影的显影工序。

显影能够使用显影液来进行。作为显影液并无特别限制，能够使用在日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。作为显影液优选例示出包含碱水溶液的显影液。

作为显影方式，可以是旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋&旋涂显影、浸渍显影等中的任一种。

另外，在转印薄膜具有热塑性树脂层、中间层等的情况下，优选在显影之前通过喷淋等而喷附光固化性树脂层的溶解性低的碱性溶液，并去除热塑性树脂层、中间层等之后，进行显影。并且，优选在显影之后，通过喷淋而喷附清洗剂等，一边用刷子等进行擦拭，一边去除显影残渣。显影液的液体温度优选为20℃～40℃，并且，显影液的pH优选为8～13。

[静电电容型输入装置]

第1实施方式的静电电容型输入装置为具有已叙述的第1实施方式的电极保护膜或层叠体的静电电容型输入装置。第2实施方式的静电电容型输入装置为具有已叙述的第2实施方式的电极保护膜或层叠体的静电电容型输入装置。

第1实施方式的静电电容型输入装置优选为通过从第1实施方式的转印薄膜将第3透明层、第2透明层及第1透明层转印到透明电极图案上而制作的装置。第2实施方式的静电电容型输入装置优选为通过从第2实施方式的转印薄膜将第3透明层、第2透明层及第1透明层转印到透明电极图案上而制作的装置。

具体而言，第1实施方式的静电电容型输入装置优选为如下静电电容型输入装置：依次具有，第1树脂层，包含聚合性单体的固化物及树脂；第2树脂层，包含金属氧化物粒子及树脂，且平均厚度小于200nm；第3树脂层，平均厚度比第2树脂层的平均厚度薄，并且通过X射线光电子能谱法从与所述第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下；及基板，包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)。第2实施方式的静电电容型输入装置优选为如下静电电容型输入装置：依次具有，第1树脂层，包含聚合性单体的固化物及树脂；第2树脂层，包含金属氧化物粒子及树脂，且平均厚度小于200nm；第3树脂层，平均厚度比第2树脂层的平均厚度薄，并且层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2树脂层中的金属原子相对于所有原子的比率；及基板，包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)。

从进一步提高与被转印体的密合性的观点考虑，第3树脂层优选为通过X射线光电子能谱法(XPS)法从与第2树脂层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下的层。

第1实施方式的静电电容型输入装置及第2实施方式的静电电容型输入装置中，第1树脂层为转印薄膜的第1透明层中的固化成分进行固化反应而成的固化层(本说明书中也称为“第1固化层”。)。

第2树脂层为包含至少金属氧化物粒子及树脂的层，可以为非固化的层，在层中包含固化成分时，也可以为固化成分进行固化反应而成的固化层(本说明书中，第2树脂层被固化的层时也称为“第2固化层”。)。

并且，第3树脂层为转印薄膜的第3透明层中的固化成分进行固化反应而成的固化层(本说明书中也称为“第3固化层”。)。

第1实施方式的静电电容型输入装置具有以下要件，优选还具有第1实施方式的静电电容型输入装置的电极保护膜或第1实施方式的层叠体。第2实施方式的静电电容型输入装置具有以下要件，优选还具有第2实施方式的静电电容型输入装置的电极保护膜或第2实施方式的层叠体。

(要件1)多个第1透明电极图案，由多个焊盘部分经由连接部分在第1方向上延伸形成；

(要件2)多个第2电极图案，与所述第1透明电极图案电绝缘，并包括从与第1方向交叉的方向上延伸形成的多个焊盘部分；

(要件3)绝缘层，将所述第1透明电极图案与所述第2电极图案进行电绝缘；

已叙述的透明树脂层通常优选为公知的静电电容型输入装置中的所谓的透明保护层。

第1实施方式的静电电容型输入装置及第2实施方式的静电电容型输入装置即使在包含这样的多种部件的情况下，通过与透明电极图案相邻配置的所述层叠体的作用而透明电极图案的隐蔽性也优异。

静电电容型输入装置中包含有触摸面板等。

第1实施方式的静电电容型输入装置及第2实施方式的静电电容型输入装置及将该静电电容型输入装置作为构成要件而具备的图像显示装置，能够适用『最新触摸面板或技术』(2009年7月6日发行，Techno Times Co.,Ltd.)、三谷雄二监修、『触摸面板的技术和开发』、CMC出版(2004，12)、FPD International2009Forum T-11讲座教材、CypressSemiconductor Corporation应用笔记AN2292等中所公开的结构。

[静电电容型输入装置的制造方法]

第1实施方式的静电电容触摸面板的制造方法依次具有：通过使转印薄膜的第3透明层的面与包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)的基板接触而贴附已叙述的第1实施方式的转印薄膜的工序；对贴附有转印薄膜的基板进行曝光的工序；在对曝光后的转印薄膜进行显影的工序；及在贴附转印薄膜的工序和进行曝光的工序之间，或在进行曝光的工序和进行显影的工序之间中的至少一方具有剥离临时支撑体的工序。第2实施方式的静电电容触摸面板的制造方法依次具有：通过使转印薄膜的第3透明层的面与包含电极(优选为静电电容型输入装置的电极)的基板接触而贴附已叙述的第2实施方式的转印薄膜的工序；对贴附有转印薄膜的基板进行曝光的工序；在对曝光后的转印薄膜进行显影的工序；及在贴附转印薄膜的工序和进行曝光的工序之间，或在进行曝光的工序和进行显影的工序之间中的至少一方具有剥离临时支撑体的工序。

另外，针对将转印薄膜贴附于基板的工序、对转印薄膜进行曝光的工序及进行显影的工序，在已叙述的层叠体的制造方法中有详细的记载，在静电电容型输入装置(优选为静电电容触摸面板)的制造方法中也能够同样地适用。

实施例

以下，例举实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下实施例中示出的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨就能够适当地进行变更。从而，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，若无特别说明，“份”、“％”为质量基准。

另外，在以下实施例中，树脂的重均分子量为基于凝胶渗透色谱法(GPC)而以聚苯乙烯换算求得的重均分子量。并且，酸值使用了理论酸值。

[实施例1～21，比较例1～2]

＜第1透明层形成用涂布液的制备＞

制备了具有下表1所示的组成的材料A-1～A-10(第1透明层形成用涂布液)。

在下述化合物A中，一并记载于各结构单元中的数值表示各结构单元的含有比率(摩尔比)，化合物A的重均分子量为29,000。

另外，表1中的未记载数值的栏表示不包含该材料。

[化学式6]

化合物A

＜第2透明层形成用涂布液的制备＞

接着，制备了具有下表2～表4中所记载的组成的材料B-1～B-18(第2透明层形成用涂布液)。

另外，表2～表4中的未记载数值的栏表示不包含该材料。

并且，对于在20℃下的溶剂的粘度，使用TOKI SANGYO CO.,LTD.制造的TV25型粘度计(TVE-25)对在20℃的恒温槽进行了温度调整的溶剂进行了测定。

[表4]

[化学式7]

化合物B

化合物C

化合物D

化合物E

化合物F

<转印薄膜的制作>

在厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(临时支撑体)上，调整为干燥后的膜厚成为8.0μm的涂布量，并使用狭缝状喷嘴涂布第1透明层形成用材料A-1～A-10中的任一种，形成了第1透明层。

接着，使第1透明层在100℃的干燥区挥发溶剂后，用狭缝状喷嘴将在下述表6～表7所示的组合下的第2透明层形成用材料B-1～B-18中的至少1种的涂布量调整为干燥后的膜厚约成为80nm的膜厚，并涂布于第1透明层上。然后，在干燥温度为70℃下干燥所形成的第2透明层，形成了第2透明层。在第2透明层上压接保护膜(厚度为12μm聚丙烯薄膜)，制作了实施例1～21的转印薄膜。

＜比较例1的转印薄膜的制作＞

在聚对苯二甲酸乙二酯薄膜即临时支撑体上，调整为干膜厚成为8.0μm的涂布量，并使用狭缝状喷嘴涂布了第1透明层用材料A-1。在100℃的干燥区使溶剂挥发后，照射了UV灯(曝光量80mJ/cm²，金属卤化物灯)。然后，调整为第2透明层用材料B-13的干膜厚成为80nm的膜厚的涂布量,并进行涂布、干燥，制作了比较例1的转印薄膜。

＜比较例2的转印薄膜的制作＞

在聚对苯二甲酸乙二酯薄膜即临时支撑体上，调整为干膜厚成为8.0μm的涂布量，并使用狭缝状喷嘴涂布了第1透明层用材料A-1。在100℃的干燥区使溶剂挥发后，调整为材料B-1的干膜厚成为90nm的涂布量,并使用狭缝状喷嘴进行了涂布、干燥。进而，将第2透明层用材料B-16的涂布量调整为干燥膜厚成为200nm并进行了涂布、干燥，制作了比较例2的转印薄膜。

～转印薄膜的层结构～

针对如上述方式制作的各种转印薄膜，通过以下所示的方法确认到在第1透明层及第2透明层上形成有第3透明层。

具体而言，使用超薄切片机切割每个所制作的转印薄膜，制作了露出剖面的切片。接着，使用透射型电子显微镜(TEM；Transmission Electron Microscope)观察了切片的剖面。结果，在各实施例及比较例2中，确认到层叠有第1透明层、第2透明层及第3透明层的层结构。

～第3透明层中所包含的成分的确认～

在此使用飞行时间型二次离子质谱分析法(TOF-SIMS)分析了各实施例及比较例的转印薄膜中的第3透明层的表面。

其结果，检测出表示第1透明层中所含有的封端异氰酸酯即DURANATE TPA-B80E及DURANATE X3071.04(Asahi Kasei Corporation制造)中所包含的保护基(封端剂)即甲乙酮(MEK)肟的片段。由此，确认到在第3透明层中包含通过了第2透明层的第1透明层中所包含的低分子量成分。

进而，通过以下所示的方法来测定构成金属氧化物粒子的金属原子(M)的比率，并根据所测定出的比率，并按照以下所示的评价基准进行了评价。结果，与下述表6所示的比率相同地，确认到2％以下的金属原子。

(1)使用超薄切片机切割以上述方式制作的各个转印薄膜，并使用Hitachi High-Technologies Corporation制造的HD2300型STEM，对露出剖面的切片的剖面进行了能量色散型X射线分析(EDX；Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)。

其结果，在各实施例及比较例2中，确认到第3透明层的Zr或者Ti的X射线强度比第2透明层的Zr或者Ti的X射线强度小。即，确认到第3透明层的层中的金属原子相对于所有原子的比例小于第2透明层的层中的金属原子相对于所有原子的比例。

(2)使用Quantera SXM型XPS(ULVAC-PHI,Inc.制造)，并通过XPS(X-rayPhotoelectron Spectroscopy)法，从转印薄膜表面中的第3透明层的与第2透明层接触的界面相反侧的最表面，测定了构成金属氧化物粒子的金属原子(M)的比率。测定条件为如下。在测定条件下，从表面的检测深度一般设为约10nm。

＜测定条件＞

X射线：Al-Kα射线(100μm、25W、15kV)

测定面积：300μm见方(μm□＝300μm×300μm)

光电子拾取角度：45°

通能(Pass Energy)：112eV、台阶能(Step Energy)：0.1eV

根据通过上述测定条件而测定出的比率，并按照以下评价基准进行了评价。将评价结果示于下述表6。

＜评价基准＞

A：2％以下

B：大于2％且3％以下

C：大于3％

～第1透明层、第2透明层及第3透明层的厚度～

使用超薄切片机切割如上述方式制作出的每个转印薄膜，以露出剖面的切片的剖面的5mm距离作为测定区域，用TEM观察，并测定了第1透明层、第2透明层及第3透明层的厚度。针对将测定区域进行了等间隔划分的20个部位测定厚度，根据各测定值算出各个层的算术平均，并将各层的平均值作为平均厚度。

并且，算出100×H2/T2，并作为厚度分布。另外，H2为第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2为第2透明层的平均厚度。

将结果示于下述表6。

＜在层叠体的制作中所使用的透明电极图案薄膜的制作＞

(透明膜的形成)

利用高频振荡器，并使用输出电压为100％、功率为250W、直径为1.2mm的金属丝电极，在电极长度为240mm、工作电极间隔为1.5mm的条件下，对膜厚38μm、折射率1.53的环烯烃树脂薄膜进行3秒钟的电晕放电处理，并进行了表面改性。将所得到的薄膜设为透明薄膜基板。

接着，使用狭缝状喷嘴将下述表5中所示出的材料-C涂敷于透明薄膜基板上之后，进行紫外线照射(累计光量300mJ/cm²)，且在约110℃下进行干燥，从而制成折射率为1.60、膜厚为80nm的透明膜。

[表5]

[化学式8]

＜透明电极图案的形成＞

将在透明薄膜基板上层叠有透明膜的薄膜导入真空腔室内，使用SnO₂含有率为10质量％的ITO靶(铟:锡＝95:5(摩尔比))进行直流(DC)磁控溅射(条件：透明薄膜基板的温度为150℃、氩气压力为0.13Pa、氧气压力为0.01Pa)，由此形成厚度为40nm、折射率为1.82的ITO薄膜，得到了在透明薄膜基板上形成有透明膜和透明电极层的薄膜。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□(Ω每见方面积)。

(蚀刻用感光性薄膜E1的制备)

在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴涂布由上述配方H1构成的热塑性树脂层用涂布液并使其干燥。接着，涂布由上述配方P1构成的中间层用涂布液并使其干燥。另外，涂布由下述配方E1构成的蚀刻用光固化性树脂层用涂布液并使其干燥。通过已叙述的方法，在临时支撑体上得到由干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、由膜厚为2.0μm的蚀刻用光固化性树脂层构成的层叠体，最后压接了保护膜(厚度为12μm聚丙烯薄膜)。如此，制作了临时支撑体和热塑性树脂层和中间层(阻氧膜)和蚀刻用光固化性树脂层成为一体的转印材料即蚀刻用感光性薄膜E1。

(蚀刻用光固化性树脂层用涂布液：配方E1)

另外，蚀刻用光固化性树脂层用涂布液E1的去除溶剂后的100℃的粘度为2500Pa·sec。

(热塑性树脂层用涂布液：配方H1)

商品名称：MEGAFACE F780F、DIC CORPORATION制造、40质量份的C₆F₁₃CH₂CH₂OCOCH＝CH₂、55质量份的(OCH(CH₃)CH₂)₇OCOCH＝CH₂及5质量份的H(OCHCH₂)₇OCOCH＝CH₂的共聚物，重均分子量：3万、甲乙酮30质量％溶液

(中间层用涂布液：配方P1)

·聚乙烯醇 32.2质量份

(商品名称：PVA205、Kuraray Co.,Ltd.、皂化度＝88％、聚合度550)

·聚乙烯吡咯烷酮 14.9质量份

(商品名称：K-30、ISP Japan Ltd.)

·蒸馏水 524质量份

·甲醇 429质量份

-透明电极图案的形成-

清洗在透明薄膜基板上形成有透明膜和透明电极层的薄膜，并将去除了保护膜的蚀刻用感光性薄膜E1层压于清洗后的薄膜。以如下条件下进行了层压：透明薄膜基板的温度130℃，橡胶辊温度120℃，线压100N/cm，输送速度2.2m/分钟。

在剥离临时支撑体之后，以曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与已叙述的蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为200μm、曝光量50mJ/cm²(i射线)下进行了图案曝光。

接着，将三乙醇胺类显影液(用纯水将含有三乙醇胺30质量％、商品名称：T-PD2(Fujifilm Corporation)稀释为10倍的液体)在25℃下，处理100秒钟，并使用含有表面活性剂的清洗液(用纯水将商品名称：T-SD3(Fujifilm Corporation)稀释为10倍的液体)在33℃下，处理20秒钟，用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行残渣去除，进而，进行130℃、30分钟的后烘烤处理，从而得到了在透明薄膜基板上形成有透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的薄膜。

将在透明薄膜基板上形成有透明膜、透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的薄膜，浸渍于放入ITO用蚀刻液(盐酸、氯化钾水溶液,液温30℃)的蚀刻槽中进行100秒钟的处理，将未被蚀刻用光固化性树脂层包覆的露出区域的透明电极层进行溶解和去除，得到附有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极层图案的薄膜。

接着，将附有蚀刻用光固化性树脂层图案的带透明电极层图案的薄膜浸渍于放入抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、一乙醇胺、表面活性剂(商品名称：SURFYNOL465、AirProducts Japan,Inc)、液温45℃)的抗蚀剂剥离槽中进行200秒钟的处理，去除蚀刻用光固化性树脂层，得到在透明薄膜基板上形成有透明膜及透明电极图案的薄膜。

＜4.各实施例及比较例的透明层叠体的制作＞

使用剥离了保护膜的各实施例及比较例的转印薄膜，在透明薄膜基板上形成了透明膜及透明电极图案的薄膜的覆盖有透明膜及透明电极图案的位置层压了转印薄膜。其结果，通过转印薄膜，第3透明层、第2透明层、第1透明层及临时支撑体依次转印到透明薄膜基板所具有的透明膜及透明电极图案上。在透明薄膜基板的温度：40℃、橡胶辊温度110℃、线压3N/cm、输送速度2m/分钟的条件下进行了转印。

之后，使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(Hitachi High-Tech ElectronicsEngineering Co.,Ltd.制造)，将曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支撑体之间的距离设定为125μm，并以曝光量100mJ/cm²(i射线)经由临时支撑体进行了图案曝光。

在剥离了临时支撑体之后，用纯碱2％的水溶液在32℃下进行了60秒钟的清洗处理。通过从超高压清洗喷嘴对进行清洗处理后的透明薄膜基板喷射超纯水而去除了残渣。继续吹送空气以去除透明薄膜基板上的水分，并在145℃下进行了30分钟的后烘烤处理以制作了透明层叠体，该透明层叠体在透明薄膜基板上从基板侧依次层叠有固化了透明膜、透明电极图案及第3透明层的第3固化层、固化了第2透明层的第2固化层及固化了第1透明层的第1固化层。

～透明层叠体的层结构～

针对如上述方式制作的透明层叠体，通过以下所示的方法，确认到第1透明层的固化层及第2透明层的固化层上具有第3透明层的固化层。

具体而言，使用Hitachi High-Technologies Corporation制造的FB-2100型FIB来切割所制作的透明层叠体，制作了露出剖面的切片。接着，通过透射型电子显微镜(TEM；Transmission Electron Microscope)观察了切片的剖面。

结果，在各实施例及比较例2中，确认到具有第1透明层的固化层即第1固化层、第2透明层的固化层即第2固化层及第3透明层的固化层即第3固化层的层结构。

～第3固化层中的金属原子相对于所有原子的比例～

(1)使用Hitachi High-Technologies Corporation制造的FB-2100型FIB切割如上述方式制作的每个透明层叠体，使用Hitachi High-Technologies Corporation制造的HD2300型STEM，对露出剖面的切片的剖面进行了能量色散型X射线分析(EDX；EnergyDispersive X-ray Spectroscopy)。

其结果，各实施例及比较例2中，确认到第3固化层的Zr或者Ti的X射线强度比第2固化层的Zr或者Ti的X射线强度小。即，确认到第3固化层中的金属原子相对于所有原子的比例小于第2固化层中的金属原子相对于所有原子的比例。

(2)使用Quantera SXM型XPS(ULVAC-PHI,Inc.制造)，并通过XPS(X-rayPhotoelectron Spectroscopy)法，从与第2固化层接触的界面相反侧的最表面，对透明层叠体中的第3固化层的构成金属氧化物粒子的金属原子(M)的比率与转印薄膜的情况相同地进行了测定、评价。将评价结果示于下述表7。

＜评价基准＞

A：2％以下

B：大于2％且3％以下

C：大于3％

～第3固化层的厚度～

使用Hitachi High-Technologies Corporation制造的FB-2100型FIB切割如上述方式制作出的每个透明层叠体，以露出剖面的切片的剖面为5mm的距离作为测定区域，用TEM观察，并测定了第1固化层、第2固化层及第3固化层的厚度。针对将测定区域进行了等间隔划分的20个部位测定厚度，根据各测定值算出各个层算术平均，并将各层的平均值作为平均厚度。

将结果示于下述表7。

〔透明层叠体的评价〕

＜透明电极图案隐蔽性的评价＞

在透明薄膜基板上，通过透明粘接胶带(3M Japan Limited.制造、(商品名称)OCA胶带8171CL)，将黑色PET材料粘接于依次具有透明膜、透明电极图案、第3固化层、第2固化层及第1固化层的透明层叠体的透明薄膜，将基板整体进行了遮光。

在暗室中，从与黑色PET材料相反的一侧将荧光灯的光照射到层叠体上，从斜方向目视观察反射光，并评价了透明电极图案的外观。A、B、C或D为实用水准，优选为A或B，更优选为A。

＜评价基准＞

A：即使在15cm的距离凝视也看不到，并且，即使在40cm的距离正常地目视也看不到。

B：在15cm的距离凝视时，稍微看得到，并且，在40cm的距离正常地目视时看不到。

C：在15cm的距离凝视时，稍微看得到，并且，即使在40cm的距离正常地目视也稍微看得到。

D：在15cm的距离凝视时，清楚地看得到，并且，在40cm的距离正常地目视时稍微看得到。

E：在15cm的距离凝视时，清楚地看得到，并且，即使在40cm的距离正常地目视也清楚地看得到。

＜第2固化层的缺陷评价＞

将各实施例的转印薄膜密合于透明薄膜基板上，并将各透明层进行了转印之后，使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(Hitachi High-Tech Electronics EngineeringCo.,Ltd.制造)，并将曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支撑体之间的距离设定为125μm，通过临时支撑体以100mJ/cm²(i射线)的曝光量进行了图案曝光。剥离临时支撑体后，进行了显微镜暗视角观察，观察是否有缺陷(即裂纹)，并按照以下评价基准进行了评价。

对于层压后的第2固化层的缺陷评价，在评价基准中优选为A、B或C，更优选为A或B，尤其优选为A。将结果示于下述表7。

＜评价基准＞

A：完全看不到缺陷。

B：稍微看得到缺陷。

C：看得到缺陷。

D：清楚地看得到缺陷。

＜密合性评价＞

参考JIS标准(K5400)实施了100格的交叉切割试验。在成为各实施例及比较例的透明层叠体的试验面即与透明薄膜基材相反的一侧的表面，使用切割刀切出1mm见方的棋盘格切痕，并强力压接#600透明粘合胶带(3M Japan Limited.)且向180℃方向进行了剥离之后，观察棋盘格的状态，并按照以下评价基准评价了密合性。在实用上必须为A、B或C。将结果示于下述表7。

＜评价基准＞

A：总面积的近100％密合。

B：在总面积中，95％以上且小于100％密合后存在剩余。

C：在总面积中，65％以上且小于95％密合后存在剩余。

D：在总面积中，35％以上且小于65％密合后存在剩余。

E：在总面积中，密合后剩余的部分小于35％。

[表6]

[表7]

根据上述表7，实施例的转印薄膜存在第3透明层，从而密合性成为良好，并且，将100×H2/T2的值设小且第2透明层的厚度分布设为均匀，从而能够制作层压后的第2透明层没有缺陷的层叠体。

另外，如已经叙述般，对第3透明层进行分析的结果，确认到第3透明层含有成为第1透明层中所包含的封端异氰酸酯的封端剂的低分子量成分(MEK肟)。

另一方面，在固化第1透明层之后形成有第2透明层的比较例1的转印薄膜中，第1透明层中所包含的低分子量成分没有在第2透明层上渗出，且没有形成第3透明层，对被转印体的密合性差。另一方面，对于以涂布法形成了第3透明层的比较例2，第3透明层的厚度厚，且第2透明层的良好的折射率平衡被破坏，透明电极图案的隐蔽性差。

《图像显示装置(触摸面板)的制作》

在通过日本特开2009-47936号公报的[0097]～[0119]中所记载的方法而制造的液晶显示元件上贴合上面所制造的各实施例的包括透明层叠体的薄膜，进而，贴合前玻璃板，由此通过公知的方法而制作出图像显示装置，该图像显示装置包含将静电电容型输入装置作为构成要件而具备的各实施例的透明层叠体。

《静电电容型输入装置及图像显示装置的评价》

各实施例的包含透明层叠体的静电电容型输入装置及图像显示装置不存在透明电极图案被辨识的问题。

可得到感光性透明树脂层、第2透明层均没有气泡等缺陷且显示特性优异的图像显示装置。

在2016年3月8日申请的日本专利申请2016-044831号的公开、2016年8月9日申请的日本专利申请2016-156904号的公开、2017年3月7日申请的日本专利申请2017-043227号的公开及2017年3月7日申请的日本专利申请2017-043289号的公开的所有内容分别通过参考并入本说明书中。

本说明书中所记载的所有文献、专利申请及技术标准通过参考并入本说明书中，其中，将各个文献、专利申请及技术标准通过参考并入的程度与具体且各个记载的情况相同。

Claims

1.一种转印薄膜，其中，

在临时支撑体上，从临时支撑体侧依次具有：

第1透明层，该第1透明层至少包含聚合性单体及树脂；

第2透明层，该第2透明层至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；及

第3透明层，该第3透明层的平均厚度比所述第2透明层的平均厚度薄，并且该第3透明层中的金属原子相对于所有原子的比率小于所述第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率。

2.一种转印薄膜，其中，

在临时支撑体上，从临时支撑体侧依次具有：

第1透明层，该第1透明层至少包含聚合性单体及树脂；

第3透明层，该第3透明层的平均厚度比所述第2透明层的平均厚度薄，并且该第3透明层通过X射线光电子能谱法从与所述第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

3.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第3透明层的平均厚度为10nm以下。

4.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第1透明层还含有聚合引发剂及通过加热能够与酸进行反应的化合物。

5.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第3透明层包含所述第1透明层中所包含的成分。

6.根据权利要求5所述的转印薄膜，其中，

所述成分为所述第1透明层中所包含的固化成分。

7.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层满足下述式(1)，

式(1)：100×H2/T2≤80.0

式(1)中，H2表示所述第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示第2透明层的平均厚度。

8.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层满足下述式(2)，

式(2)：100×H2/T2≤40.0

式(2)中，H2表示所述第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示所述第2透明层的平均厚度。

9.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层满足下述式(3)，

式(3)：100×H2/T2≤20.0

式(3)中，H2表示所述第2透明层的厚度的最大值与最小值之差的绝对值，T2表示所述第2透明层的平均厚度。

10.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层包含至少2种树脂。

11.根据权利要求10所述的转印薄膜，其中，

所述至少2种树脂中的至少1种是重均分子量为1000～20000的树脂。

12.根据权利要求10所述的转印薄膜，其中，

所述至少2种树脂中的至少1种是酸值为150mgKOH/g以上的树脂。

13.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层中所包含的树脂包含：具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元的共聚物。

14.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层中所包含的树脂包含：具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯的结构单元且酸值为150mgKOH/g以上的共聚物。

15.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层中所包含的树脂包含：具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自苯乙烯的结构单元及源自具有乙撑氧基链的(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物。

16.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述第2透明层还包含溶剂，所述溶剂中粘度最高的溶剂在20℃时的粘度为3.0mPa·s以上。

17.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，

所述金属氧化物粒子为选自氧化锆粒子及氧化钛粒子中的至少1种。

18.一种电极保护膜，其从权利要求1或2所述的转印薄膜去除了所述临时支撑体。

19.一种层叠体，其中，

在包含电极的基板上，从所述基板侧依次具有从权利要求1或2所述的转印薄膜去除了临时支撑体之后的、第3透明层、第2透明层及第1透明层。

20.一种层叠体，其依次具有：

第1透明层，该第1透明层至少包含聚合性单体及树脂；

第2透明层，该第2透明层至少包含金属氧化物粒子及树脂，并且平均厚度小于200nm；

第3透明层，该第3透明层的平均厚度比所述第2透明层的平均厚度薄，并且该第3透明层中的金属原子相对于所有原子的比率小于所述第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率；及

基板，该基板包含电极。

21.一种层叠体，其依次具有：

第1透明层，该第1透明层至少包含聚合性单体及树脂；

第3透明层，该第3透明层的平均厚度比所述第2透明层的平均厚度薄，并且该第3透明层通过X射线光电子能谱法从与所述第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下；及

基板，该基板包含静电电容型输入装置的电极。

22.根据权利要求20或21所述的层叠体，其中，

所述第3透明层包含所述第1透明层中所包含的成分。

23.一种转印薄膜的制造方法，其依次具有：

在临时支撑体上涂布包含有机溶剂及聚合性单体及树脂的涂布液而形成第1透明层的工序；及

在所述第1透明层被固化之前，在所述第1透明层上涂布包含水及金属氧化物粒子及树脂的涂布液，并形成平均厚度小于200nm的第2透明层的工序，

该转印薄膜的制造方法制造在所述第2透明层上配置有第3透明层的转印薄膜，该第3透明层的平均厚度比所述第2透明层的平均厚度薄，并且第3透明层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率。

24.一种转印薄膜的制造方法，其依次具有：

该转印薄膜的制造方法制造在所述第2透明层上配置有第3透明层的转印薄膜，该第3透明层的平均厚度比所述第2透明层的平均厚度薄，并且该第3透明层通过X射线光电子能谱法从与所述第2透明层接触的面相反侧的最表面进行测定时，在300μm见方的面积中的金属原子相对于所有原子的比率为2％以下。

25.一种静电电容触摸面板的制造方法，其依次具有：

将权利要求1或2所述的转印薄膜的第3透明层的面贴附于包含静电电容型输入装置的电极的基板的工序；

对贴附于所述基板的所述转印薄膜进行曝光的工序；及

对所述经曝光的转印薄膜进行显影的工序，

在贴附所述转印薄膜的工序与所述进行曝光的工序之间和/或在所述进行曝光的工序与所述进行显影的工序之间具有剥离临时支撑体的工序。

26.一种静电电容型输入装置，其具有权利要求18所述的电极保护膜。

27.一种静电电容型输入装置，其依次具有：

第1树脂层，该第1树脂层包含聚合性单体的固化物及树脂；

第2树脂层，该第2树脂层包含金属氧化物粒子及树脂，且平均厚度小于200nm；

第3树脂层，该第3树脂层的平均厚度比所述第2树脂层的平均厚度薄，并且该第3树脂层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2树脂层中的金属原子相对于所有原子的比率；及

基板，该基板包含电极。

28.根据权利要求27所述的静电电容型输入装置，其为触摸面板。

29.一种静电电容型输入装置的制造方法，其依次具有：

通过使所述转印薄膜的第3透明层的面与包含电极的基板接触而贴附权利要求1或2所述的转印薄膜的工序；

对贴附于所述基板的所述转印薄膜进行曝光的工序；及

对所述曝光后的转印薄膜进行显影的工序，

在贴附所述转印薄膜的工序与所述进行曝光的工序之间和/或在所述进行曝光的工序与所述进行显影的工序之间具有剥离所述临时支撑体的工序。