CN111742260A - 感光性转印材料、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种铜变色防止性及固化后的耐弯曲性优异的感光性转印材料，以及提供一种使用了上述感光性转印材料的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。感光性转印材料具有临时支承体及感光性层，上述感光性层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物、光聚合引发剂、硫醇化合物及杂环化合物。

Description

感光性转印材料、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置 及触摸面板的制造方法

技术领域

本发明涉及一种感光性转印材料、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。

背景技术

移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行的终端等电子设备中，近年来在液晶装置等的表面配置平板型输入装置。存在一种装置，其一边参考显示在液晶装置的图像显示区域的指示图像，一边在显示有指示图像的部位用手指或触控笔等触碰而进行与指示图像对应的信息的输入。

如上所述，输入装置(以下，有时称为触摸面板。)中存在电阻膜型、静电电容型等。静电电容型输入装置具有仅在一片基板上形成透光性导电膜即可的优点。该静电电容型输入装置中，例如存在使电极图案沿彼此交叉的方向延伸，并用手指等触碰时，探测电极之间的静电电容发生变化的情况而检测输入位置的类型的装置。

以保护静电电容型输入装置的电极图案或收集在框部的引绕布线(例如铜线等金属布线)等为目的，在与用手指等输入的表面相反的一侧设置有透明树脂层。

使用这些静电电容型输入装置时，例如若稍微远离源自光源的入射光的正反射附近的位置用肉眼观察触摸面板的表面，有时可肉眼观察到存在于内部的透明电极图案，且会损害外观。因此，要求在触摸面板等的表面提高透明电极图案的隐蔽性。

作为使用感光性树脂组合物的树脂固化膜的图案形成方法，可举出专利文献1中所记载的方法。

专利文献1中记载有一种树脂固化膜图案的形成方法，其具备：第1工序，在基材上设置由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及硫醇化合物的感光性树脂组合物组成的感光层；第2工序，通过光化射线的照射使上述感光层的规定部分固化；及第3工序，去除除了上述感光层的上述规定部分以外的部分，并形成上述感光层的上述规定部分的固化膜图案，且上述感光性树脂组合物作为上述光聚合引发剂而包含肟酯化合物和/或氧化膦化合物。

并且，作为感光性树脂组合物，可举出专利文献2或专利文献3中所记载的感光性树脂组合物。

专利文献2中记载有一种感光性树脂组合物，其用于液晶显示元件用间隔物的形成，该感光性树脂组合物的特征在于含有〔A〕具有源自烯属不饱和羧酸的聚合单元和/或源自烯属不饱和羧酸酐的聚合单元的共聚物、〔B〕具有烯属不饱和键的聚合性化合物、〔C〕光聚合引发剂以及〔D〕由下述式(1)或(2)表示的硫醇化合物；

[化学式1]

(式(1)中，R₁为亚甲基或碳原子数2～20的亚烷基，R₂为亚甲基或碳原子数2～6的直链或支链亚烷基，且m表示1～20的整数)

[化学式2]

(式(2)中，R相同或不同，且为-H、-OH或由下述式(2’)

[化学式3]

表示的基团，R₃为亚甲基或碳原子数2～6的直链或支链亚烷基，其中4个R中的至少一个为由上述式(2’)表示的基团)。

专利文献3中，记载有一种固化性组合物，其特征在于，作为成分A含有具有烯属不饱和键的聚合性化合物，作为成分B含有聚合引发剂，作为成分S含有硫醇化合物，且作为成分D含有有机溶剂，成分A包含6官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，成分A中的上述6官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的比例为70～100质量％，成分S的含量相对于固化性组合物的总固体成分为1～20质量％。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2013/084872号

专利文献2：日本特开2008-077067号公报

专利文献3：国际公开第2015/072533号

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明的一实施方式欲解决的课题在于提供一种铜变色防止性及固化后的耐弯曲性优异的感光性转印材料。

并且，本发明的另一实施方式欲解决的课题在于提供一种使用了上述感光性转印材料的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。

用于解决技术课题的手段

用于解决上述课题的方案，包括以下方式。

＜1＞一种感光性转印材料，其具有临时支承体及感光性层，上述感光性层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物、光聚合引发剂、硫醇化合物及杂环化合物。

＜2＞根据＜1＞所述的感光性转印材料，其中，

上述杂环化合物为杂环上直接键合有巯基的杂环化合物。

＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的感光性转印材料，其中，

上述杂环化合物中的杂环为包含氮原子的5元环。

＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，

上述感光性层中所含有的上述硫醇化合物的含量M_A与上述杂环化合物的含量M_B的质量比为M_B/M_A＝0.01以上且1.00以下。

＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，

上述硫醇化合物是2官能以上的硫醇化合物。

＜6＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，

上述硫醇化合物包含由下述式1表示的化合物。

[化学式4]

式1中，n表示1～6的整数，A表示碳原子数1～15的n价有机基团或由下述式2表示的基团，R¹分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团。其中，当A表示由下述式2表示的基团时，n表示3。

[化学式5]

式2中，R²～R⁴分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团，波浪线部分表示与和上述式1中的A相邻的氧原子的键合位置。

＜7＞根据＜1＞至＜6＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，

上述硫醇化合物的含量相对于上述感光性层的总质量为5质量％以上。

＜8＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，

上述感光性层还含有封端异氰酸酯化合物。

＜9＞根据＜8＞所述的感光性转印材料，其中，

上述封端异氰酸酯化合物具有自由基聚合性基团。

＜10＞根据＜1＞至＜9＞中任一项所述的感光性转印材料，其为触摸面板中的保护膜形成用感光性转印材料。

＜11＞一种电极保护膜，其使从＜1＞至＜10＞中任一项所述的感光性转印材料去除了上述临时支承体的上述感光性层固化而成。

＜12＞一种层叠体，其中，

在基板上具有从＜1＞至＜10＞中任一项所述的感光性转印材料去除了上述临时支承体之后的上述感光性层或去除了上述临时支承体之后使其固化的上述感光性层。

＜13＞一种静电电容型输入装置，其具有＜11＞所述的电极保护膜或＜12＞所述的层叠体。

＜14＞一种触摸面板的制造方法，其包括如下工序：

准备具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的结构的触摸面板用基板；

在上述触摸面板用基板的配置有上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的一侧的表面上使用＜1＞至＜10＞中任一项所述的感光性转印材料形成感光性层；

对形成在上述触摸面板用基板上的上述感光性层进行图案曝光；及

对经图案曝光的上述感光性层进行显影，由此得到保护上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的至少一部分的触摸面板用保护膜。

发明效果

根据本发明的一实施方式，能够提供一种铜变色防止性及固化后的耐弯曲性优异的感光性转印材料。

并且，根据本发明的另一实施方式，能够提供一种使用了上述感光性转印材料的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。

附图说明

图1是表示本发明的感光性转印材料的一例的概略剖视图。

图2是表示本发明的触摸面板的第1具体例的概略剖视图。

图3是表示本发明的触摸面板的第2具体例的概略剖视图。

图4是表示耐弯曲性评价中的耐弯曲性评价用试样的状态的剖面示意图。

具体实施方式

以下，对本发明的内容进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式而成，但本发明并不限定于这种实施方式。

另外，本发明中，表示数值范围的“～”以将记载在其前后的数值作为下限值及上限值而包含的含义使用。

本说明书中阶段性记载的数值范围中，在一个数值范围记载的上限值或下限值可以替换为其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，本说明书中所记载的数值范围中，该数值范围的上限值或下限值可以替换为实施例中所示出的值。

并且，本发明中的基团(原子团)的标记中，未记载经取代及未经取代的标记是同时包含不具有取代基和具有取代基的基团。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基)，还包含具有取代基的烷基(经取代烷基)。

并且，本发明中，“质量％”的定义与“重量％”相同，“质量份”的定义与“重量份”相同。

进而，本发明中，2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。

本发明中，当组合物中存在多种相当于各成分的物质时，组合物中的各成分的量没有特别说明，是指存在于组合物中的上述多种物质的合计量。

本发明中，“工序”这一术语，不仅为独立地工序，且即使无法与其他工序明确区分的情况下只要可实现工序的预期目的则也包含在本术语中。

本发明中，“(甲基)丙烯酸”为包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酸酯”为包含丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者的概念，“(甲基)丙烯酰基”为包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的概念。

并且，除非另有说明，则本发明中的重均分子量(Mw)及数平均分子量(Mn)为通过使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制商品名)的管柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置，并通过溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射仪而检测，且作为标准物质使用聚苯乙烯而换算的分子量。

本发明中，除非另有说明，则树脂中的结构单元的比例表示摩尔比例。

本发明中，除非另有说明，则存在分子量分布时的分子量表示重均分子量(Mw)。

以下，对本发明进行详细说明。

(感光性转印材料)

本发明的感光性转印材料具有临时支承体及感光性层，上述感光性层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物、光聚合引发剂、硫醇化合物及杂环化合物。

本发明的感光性转印材料能够优选地用作触摸面板用感光性转印材料，能够更优选地用作触摸面板中的保护膜形成用感光性转印材料，能够尤其优选地用作触摸面板中的电极保护膜形成用感光性转印材料。

本发明人进行了深入研究的结果，发现通过上述构成能够提供一种铜变色防止性及固化后的耐弯曲性优异的感光性转印材料。

通过其的优异的效果的作用原理虽不明确，但推测如下。

感光性层含有硫醇化合物，由此硫醇化合物与具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物反应，并生成硫醚键，所得到的固化膜的柔软性得到提高，且固化后的耐弯曲性优异。并且，含有杂环化合物，由此抑制杂环化合物附着于铜，抑制硫醇化合物向铜的附着，并抑制认为因硫醇化合物引起的向铜的变色。尤其，当对感光性层进行曝光并显影而形成了图案时，在去除感光性层，且铜所暴露的部位因氧等的影响而上述铜的变色显著，但通过使用本发明的感光性转印材料，在去除感光性层，且铜所暴露的部位也抑制变色。

＜感光性层＞

本发明的感光性转印材料具有感光性层，上述感光性层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物、光聚合引发剂、硫醇化合物及杂环化合物。

＜＜硫醇化合物＞＞

上述感光性层含有硫醇化合物。

作为硫醇化合物，可优选地使用单官能硫醇化合物或多官能硫醇化合物。其中，从固化后的硬度的观点考虑，优选包含2官能以上的硫醇化合物(多官能硫醇化合物)，更优选为多官能硫醇化合物。

本发明中，多官能硫醇化合物是指在分子内具有2个以上的巯基(硫醇基)的化合物。作为多官能硫醇化合物，优选分子量100以上的低分子化合物，具体而言，更优选分子量为100～1,500，进一步优选为150～1,000。

作为多官能硫醇化合物的官能团数，从固化后的硬度的观点考虑，优选2官能～10官能，更优选2官能～8官能，进一步优选2官能～6官能。

并且，作为多官能硫醇化合物，从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点考虑，优选为脂肪族多官能硫醇化合物。

进而，作为硫醇化合物，从固化后的耐弯曲性及硬度的观点考虑，更优选仲硫醇化合物。

作为多官能硫醇化合物，具体而言，能够例示三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、乙二醇双硫代丙酸酯、1,2-苯二硫醇、1,3-苯二硫醇、1,2-乙烷二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,6-六亚甲基二硫醇、2,2’-(亚乙基二硫基)二乙烷硫醇、间-2,3-二巯基琥珀酸、对二甲苯二硫醇、间二甲苯二硫醇、二(巯基乙基)醚等。

这些中，可优选地举出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)及二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)。

作为单官能硫醇化合物，能够使用脂肪族硫醇化合物及芳香族硫醇化合物中的任一种。

作为单官能脂肪族硫醇化合物，具体而言可举出1-辛硫醇、1-十二硫醇、β-巯基丙酸、甲基-3-巯基丙酸酯、2-乙基己基-3-巯基丙酸酯、正辛基-3-巯基丙酸酯、甲氧基丁基-3-巯基丙酸酯、硬脂基-3-巯基丙酸酯等。

作为单官能芳香族硫醇化合物，可举出苯硫醇、甲苯硫醇、二甲苯硫醇等。

从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点考虑，上述硫醇化合物优选为具有酯键的硫醇化合物，更优选包含由下述式1表示的化合物。

[化学式6]

式1中，n表示1～6的整数，A表示碳原子数1～15的n价有机基团或由下述式2表示的基团，R¹分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团。其中，当A表示由下述式2表示的基团时，n表示3。

[化学式7]

式2中，R²～R⁴分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团，波浪线部分表示与和上述式1中的A相邻的氧原子的键合位置。

从固化后的硬度的观点考虑，式1中的n优选为2～6的整数。

从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点考虑，式1中的A优选为碳原子数1～15的n价脂肪族基或由上述式2表示的基团，更优选为碳原子数4～15的n价脂肪族基或由上述式2表示的基团，进一步优选为碳原子数5～10的n价脂肪族基或由上述式2表示的基团，尤其优选为由上述式2表示的基团。

并且，从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点考虑，式1中的A优选为由氢原子及碳原子组成的n价基团或由氢原子、碳原子及氧原子组成的n价基团，更优选为由氢原子及碳原子组成的n价基团，尤其优选为n价脂肪族烃基。

从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点考虑，式1中的R¹分别独立地优选为碳原子数1～15的亚烷基，更优选为碳原子数2～4的亚烷基，进一步优选为碳原子数3的亚烷基，尤其优选为1,2-亚丙基。上述亚烷基可以为直链状，也可以具有支链。

从粘性以及固化后的耐弯曲性及硬度的观点考虑，式2中的R²～R⁴分别独立地优选为碳原子数2～15的脂肪族基，更优选为碳原子数2～15的亚烷基或碳原子数3～15的聚亚烷氧基烷基，进一步优选为碳原子数2～15的亚烷基，尤其优选为亚乙基。

并且，作为多官能硫醇化合物，优选具有2个以上的由下述式S-1表示的基团的化合物。

[化学式8]

式S-1中，R^1S表示氢原子或烷基，A^1S表示-CO-或-CH₂-，波浪线部分表示与其他结构的键合位置。

作为多官能硫醇化合物，优选具有2以上且6以下的由式S-1表示的基团的化合物。

作为式S-1中的R^1S中的烷基，是直链、支链或环状烷基，作为碳原子数的范围，优选1～16，更优选1～10。作为烷基的具体例，是甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、2-乙基己基等，优选甲基、乙基、丙基或异丙基。

作为R^1S，尤其优选氢原子、甲基、乙基、丙基或异丙基，最优选甲基或乙基。

进而，作为多官能硫醇化合物，尤其优选为具有多个由上述式S-1表示的基团的由下述式S-2表示的化合物。

[化学式9]

式S-2中，R^1S分别独立地表示氢原子或烷基，A^1S分别独立地表示-CO-或-CH₂-，L^1S表示nS价连接基，nS表示2～8的整数。从合成上的观点考虑，R^1S优选为全部相同的基团，并且，A^1S优选为全部相同的基团。

式S-2中的R^1S的定义与上述式S-1中的R^1S相同，优选的范围也相同。nS优选为2～6的整数。

作为式S-2中的nS价连接基即L^1S，例如可举出-(CH₂)_mS-(mS表示2～6的整数。)、-(CH₂)_mS{(CH₂)_mSO}_mT(CH₂)_mS-(mS及mT分别独立地表示2～6的整数。)等二价连接基、三羟甲基丙烷残基、具有3个-(CH₂)_pS-(pS表示2～6的整数。)的异氰脲酸环等三价连接基、季戊四醇残基等四价连接基、二季戊四醇残基等五价或六价连接基。

作为硫醇化合物，具体而言可优选举出以下化合物，但并不限定于这些是毋庸置疑的。

[化学式10]

[化学式11]

硫醇化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

上述感光性层中的硫醇化合物的含量相对于上述感光性层的总质量优选为5质量％以上，更优选5质量％～40质量％，进一步优选5.5质量％～30质量％，尤其优选6.5质量％～25质量％。

＜＜杂环化合物＞＞

上述感光性层含有杂环化合物。

作为上述杂环化合物所具有的杂原子，可举出氮原子、氧原子、硫原子等。其中，从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，优选将选自包括氮原子及硫原子及氧原子的组中的至少一种原子作为杂原子而具有，更优选将氮原子至少作为杂原子而具有。

作为上述杂环化合物，从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，优选具有氮原子，更优选上述杂环化合物中的杂环包含氮原子，进一步优选上述杂环化合物中的杂环为包含氮原子的5元环，尤其优选上述杂环化合物中的杂环为包含氮原子以及硫原子及氧原子的5元环。

并且，作为上述杂环化合物的杂环，从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，优选为5元环或6元环，更优选为5元环。

从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，上述杂环化合物优选为具有巯基(硫醇基)的杂环化合物，更优选为杂环上直接键合有巯基的杂环化合物。

并且，当上述杂环化合物具有巯基时，上述杂环化合物中的巯基的数量并无特别限制，从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，优选为1～6，更优选为1～4，进一步优选为1或2，尤其优选为1。

作为上述杂环化合物，例如可优选地举出三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、苯并噁唑化合物或嘧啶化合物。

其中，优选三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并咪唑化合物或苯并噁唑化合物，更优选三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物或苯并噁唑化合物，尤其优选噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物或苯并噁唑化合物。

作为上述杂环化合物并无特别限制，但从密合性、铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，优选为由下述式H1～式H13中的任一个表示的化合物。

[化学式12]

式H1～式H13中，R^1h、R^5h、R^7h、R^9h、R^20h及R^25h分别独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基或氨基，R^2h～R^4h、R^8h、R^10h～R^13h、R^15h～R^18h、R^22h、R^24h、R^26h～R^28h及R^30h分别独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、氨基、烷氨基、芳氨基、巯基、烷硫基或芳硫基，R^6h、R^14h、R^21h、R^23h及R^29h分别独立地表示卤素原子、烷基、芳基、杂芳基、氨基、烷氨基、芳氨基、巯基、烷硫基、芳硫基、羧基、羟基、烷氧基或芳氧基，R^19h表示氢原子、烷基、芳基或杂芳基，n1～n5分别独立地表示0～4的整数。

另外，由上述式H1或式H2表示的化合物是三唑化合物，由上述式H3表示的化合物是苯并三唑化合物，由上述式H4表示的化合物是四唑化合物，由上述式H5～式H7表示的化合物是噻二唑化合物，由上述式H8表示的化合物是三嗪化合物，由上述式H9表示的化合物是绕丹宁化合物，由上述式H10表示的化合物是苯并噻唑化合物，由上述式H11表示的化合物是苯并咪唑化合物，由上述式H12表示的化合物是噻唑化合物，由上述H13表示的化合物是苯并噁唑化合物。

R^1h、R^7h、R^9h、R^20h及R^25h分别独立地优选为氢原子、烷基、芳基或杂芳基，更优选为氢原子或烷基，尤其优选为氢原子。

R^5h优选为氢原子、烷基或氨基，更优选为氢原子或氨基。

R^2h～R^4h、R^8h、R^10h～R^13h、R^22h、R^24h、R^26h～R^28h及R^30h分别独立地优选为氢原子、烷基、芳基、杂芳基、氨基、巯基或烷硫基，更优选为氢原子、氨基、巯基或烷硫基。

R^15h～R^17h分别独立地优选为氢原子、烷基、芳基、杂芳基、氨基、巯基或烷硫基，更优选为氨基或杂芳基，尤其优选为氨基或吡啶基。

并且，从合成上的观点考虑，R¹⁵～R¹⁷优选为相同的基团。

R^18h优选为氢原子、烷基、芳基、杂芳基、氨基、巯基或烷硫基，更优选为氢原子、氨基、巯基或烷硫基，进一步优选为氢原子。

R^6h、R^14h、R^21h、R^23h及R^29h分别独立地优选为烷基、芳基、杂芳基、氨基、烷氨基、芳氨基、巯基、烷硫基、芳硫基、羧基、羟基、烷氧基或芳氧基，更优选为烷基、芳基、杂芳基、氨基、巯基、烷硫基、芳硫基或羧基。

并且，R^6h、R^14h、R^21h、R^23h及R^29h能够取代上述各式中的苯环上的任意位置的氢原子并与其键合。

R^19h优选为氢原子或烷基，更优选为氢原子。

n1～n5分别独立地优选为0～2的整数，更优选为0或1，尤其优选为0。

从密合性的观点考虑，上述杂环化合物优选为由上述式H1、式H2及式H4～式H13中的任一个表示的化合物，更优选为由上述式H4～式H13中的任一个表示的化合物，进一步优选为由上述式H5～式H7、式H10及式H13中的任一个表示的化合物，尤其优选为由上述式H5～式H7及式H13中的任一个表示的化合物。

并且，从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，上述杂环化合物优选为由上述式H1、H2、H5～式H7及H10、H11、式H13中的任一个表示的化合物，更优选为由上述式H5～式H7及式H13中的任一个表示的化合物，进一步优选为由上述式H5、式H6及式H13中的任一个表示的化合物，尤其优选为由上述式H6表示的化合物或由上述式H13表示的化合物，最优选为由上述式H13表示的化合物。

作为上述杂环化合物，具体而言，能够优选地例示以下所示的化合物。

作为三唑化合物及苯并三唑化合物，能够例示以下化合物。

[化学式13]

作为四唑化合物，能够例示以下化合物。

[化学式14]

作为噻二唑化合物，能够例示以下化合物。

[化学式15]

作为三嗪化合物，能够例示以下化合物。

[化学式16]

作为绕丹宁化合物，能够例示以下化合物。

[化学式17]

作为噻唑化合物，可举出以下化合物。

[化学式18]

作为苯并噻唑化合物，可举出以下化合物。

[化学式19]

作为苯并咪唑化合物，能够例示以下化合物。

[化学式20]

作为苯并噁唑化合物，能够例示以下化合物。

[化学式21]

上述感光性层可以将上述杂环化合物单独含有一种，也可以含有两种以上。

上述杂环化合物的含量并无特别限制，从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，相对于感光性层的总质量优选为0.01质量％～20质量％，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.5质量％～8质量％，尤其优选为1质量％～5质量％。若为上述范围，则所得到的固化物的硬度及向金属布线的防腐蚀性进一步优异，并且所得到的固化物的透明性优异。

并且，从铜变色防止性及所得到的图案的直线性的观点考虑，上述感光性层中所含有的上述硫醇化合物的含量M_A与上述杂环化合物的含量M_B的质量比优选为M_B/M_A＝0.001以上且1.50以下，更优选为M_B/M_A＝0.01以上且1.00以下，进一步优选为M_B/M_A＝0.05以上且0.80以下，尤其优选为M_B/M_A＝0.10以上且0.50以下。

＜＜粘合剂聚合物＞＞

本发明的感光性转印材料中的感光性层包含粘合剂聚合物。

上述粘合剂聚合物优选为碱溶性树脂。

上述粘合剂聚合物的酸值并无特别限制，但从显影性的观点考虑、优选为酸值60mgKOH/g以上的粘合剂聚合物，更优选为酸值60mgKOH/g以上的碱溶性树脂，尤其优选为酸值60mgKOH/g以上的含羧基(甲基)丙烯酸树脂。

推测粘合剂聚合物具有酸值，由此能够与可通过加热而与酸反应的化合物热交联，并提高三维交联密度。并且，推测含羧基(甲基)丙烯酸树脂的羧基被酐化，且被疏水化而有助于耐湿热性的改善。

作为酸值60mgKOH/g以上的含羧基(甲基)丙烯酸树脂(以下，有时称为特定聚合物A。)，只要满足上述酸值条件则并无特别限制，能够从公知的树脂适当选择使用。

例如，日本特开2011-095716号公报的0025段中所记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂即粘合剂聚合物、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段中所记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含羧基(甲基)丙烯酸树脂等能够优选地用作本实施方式中的特定聚合物A。

其中，(甲基)丙烯酸树脂是指包含源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元中的至少一个的树脂。

(甲基)丙烯酸树脂中的源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计比例优选30摩尔％以上，更优选50摩尔％以上。

特定聚合物A中的源自具有羧基的单体的结构单元的比例的优选范围相对于特定聚合物A总质量为5质量％～50质量％，更优选为5质量％～40质量％，进一步优选为10质量％～30质量％，尤其优选为20质量％～30质量％的范围内。

特定聚合物A可以具有反应性基团，作为将反应性基团导入特定聚合物A的方法，可举出使羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸等与环氧化合物、封端异氰酸酯、异氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等反应的方法。

这些中，作为反应性基团，优选为自由基聚合性基团，更优选为烯属不饱和基团，尤其优选为(甲基)丙烯酰氧基。

并且，从固化后的透湿度及强度的观点考虑，粘合剂聚合物、尤其特定聚合物A优选包含具有芳香环的结构单元。

作为形成具有芳香环的结构单元的单体，可举出苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、苄基(甲基)丙烯酸酯等。

作为具有芳香环的结构单元，优选含有至少一种由后述的式P-2表示的结构单元。并且，作为具有芳香环的结构单元，优选为源自苯乙烯化合物的结构单元。

当粘合剂聚合物含有具有芳香环的结构单元时，具有芳香环的结构单元的含有比例相对于粘合剂聚合物的总质量优选为5质量％～90质量％，更优选为10质量％～70质量％，进一步优选为20质量％～50质量％。

并且，从粘性及固化后的强度的观点考虑，粘合剂聚合物、尤其特定聚合物A优选包含具有脂肪族环式骨架的结构单元。

作为形成具有脂肪族环式骨架的结构单元的单体，具体而言可举出二环戊基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、异冰片基(甲基)丙烯酸酯等。

作为具有上述脂肪族环式骨架的结构单元所具有的脂肪族环，可优选地举出二环戊烷环、环己烷环、异冰片环、三环癸烷环等。其中，可尤其优选地举出三环癸烷环。

当粘合剂聚合物含有具有脂肪族环式骨架的结构单元时，具有脂肪族环式骨架的结构单元的比例相对于粘合剂聚合物的总质量优选为5质量％～90质量％，更优选为10质量％～80质量％，进一步优选为20质量％～70质量％。

并且，从粘性及固化后的强度的观点考虑，粘合剂聚合物、尤其特定聚合物A优选包含具有烯属不饱和基团的结构单元。

作为烯属不饱和基团，优选(甲基)丙烯酸基，更优选(甲基)丙烯酰氧基。

当粘合剂聚合物含有具有烯属不饱和基团的结构单元时，具有烯属不饱和基团的结构单元的比例相对于粘合剂聚合物的总质量优选为5质量％～70质量％，更优选为10质量％～50质量％，进一步优选为20质量％～40质量％。

作为特定聚合物A，优选以下所示的化合物A或化合物B，进一步优选化合物A。另外，以下所示的各结构单元的比例能够根据目的而适当变更。

化合物A

[化学式22A]

上述化合物A中的各结构单元的比例为摩尔比，并且，Me表示甲基。

化合物B

[化学式22B]

上述化合物B中的各结构单元的比例为质量比。

本发明中所使用的粘合剂聚合物的酸值优选为60mgKOH/g～200mgKOH/g，更优选为60mgKOH/g～150mgKOH/g，进一步优选为60mgKOH/g～110mgKOH/g。

本说明书中，酸值是指按照JIS K0070(1992年)中所记载的方法而测定的值。

上述粘合剂聚合物包含酸值60mgKOH/g以上的粘合剂聚合物，由此除了上述优点以外，通过后述的第二树脂层含有具有酸基的(甲基)丙烯酸树脂而能够提高感光性层与第二树脂层的层间密合性。

特定聚合物A的重均分子量优选1万以上，更优选2万～10万。

并且，除了上述特定聚合物以外，上述粘合剂聚合物也能够根据目的适当选择使用任意的膜形成树脂。从将感光性转印材料用作静电电容型输入装置的电极保护膜的观点考虑，优选表面硬度、耐热性良好的膜，更优选碱溶性树脂，碱溶性树脂中，也能够优选地举出公知的感光性硅氧烷树脂材料等。

作为本发明中所使用的粘合剂聚合物，优选含有包含具有羧酸酐结构的结构单元的聚合物(以下，还称为特定聚合物B。)。通过含有特定聚合物B，显影性及固化后的强度进一步优异。

羧酸酐结构可以为链状羧酸酐结构及环状羧酸酐结构中的任一个，但优选为环状羧酸酐结构。

作为环状羧酸酐结构的环，优选5～7元环，更优选5元环或6元环，进一步优选5元环。

并且，环状羧酸酐结构可以与其他环结构稠合或键合而形成多环结构，但优选未形成多环结构。

当环状羧酸酐结构与其他环结构稠合或键合而形成多环结构时，作为多环结构，优选双环结构或螺环结构。

多环结构中，作为相对于环状羧酸酐结构稠合或键合的其他环结构的数量，优选1～5，更优选1～3。

作为其他环结构，可举出碳原子数3～20的环状烃基、碳原子数3～20的杂环基等。

作为杂环基，并无特别限定，可举出脂肪族杂环基及芳香族杂环基。

并且，作为杂环基，优选5元环或6元环，尤其优选5元环。

并且，作为杂环基，优选含有至少一个氧原子的杂环基(例如，氧杂环戊烷环、噁烷环、二噁烷环等)。

具有羧酸酐结构的结构单元优选为在主链中包含从由下述式P-1表示的化合物去除了2个氢原子的2价基团的结构单元或从由下述式P-1表示的化合物去除了1个氢原子的1价基团相对于主链直接或经由2价连接基而键合的结构单元。

[化学式23]

式P-1中，R^A1a表示取代基，n^1a个R^A1a可以相同也可以不同。

Z^1a表示形成包含-C(＝O)-O-C(＝O)-的环的2价基。n^1a表示0以上的整数。

作为由R^A1a表示的取代基，可举出与上述羧酸酐结构可以具有的取代基相同的取代基，优选的范围也相同。

作为Z^1a，优选碳原子数2～4的亚烷基，更优选碳原子数2或3的亚烷基，尤其优选碳原子数2的亚烷基。

由式P-1表示的部分结构可以与其他环结构稠合或键合而形成多环结构，但优选未形成多环结构。

作为在此所述的其他环结构，可举出与上述可以与羧酸酐结构稠合或键合的其他环结构相同的环结构，优选的范围也相同。

n^1a表示0以上的整数。

当Z^1a表示碳原子数2～4的亚烷基时，n^1a优选为0～4的整数，更优选为0～2的整数，进一步优选为0。

当n^1a表示2以上的整数时，存在多个的R^A1a可以相同也可以不同。并且，存在多个的R^A1a可以彼此键合而形成环，但优选未彼此键合而形成环。

具有羧酸酐结构的结构单元优选为源自不饱和羧酸酐的结构单元，更优选为源自不饱和环式羧酸酐的结构单元，进一步优选为源自不饱和脂肪族环式羧酸酐的结构单元，进一步优选为源自马来酸酐或衣康酸酐的结构单元，尤其优选为源自马来酸酐的结构单元。

以下，举出具有羧酸酐结构的结构单元的具体例，但具有羧酸酐结构的结构单元并不限定于这些具体例。

下述结构单元中，Rx表示氢原子、甲基、CH₂OH基或CF₃基，Me表示甲基。

[化学式24]

[化学式25]

作为具有羧酸酐结构的结构单元，优选为由上述式a2-1～式a2-21中的任一个表示的结构单元中的至少一种，更优选为由上述式a2-1～式a2-21中的任一个表示的结构单元中的一种。

从固化膜的耐汗性提高及作为感光性转印材料时的显影残渣减少的观点考虑，优选具有羧酸酐结构的结构单元包含由式a2-1表示的结构单元及由式a2-2表示的结构单元中的至少一个，更优选包含由式a2-1表示的结构单元。

特定聚合物B中的具有羧酸酐结构的结构单元的比例(当为两种以上时为合计比例。以下相同。)相对于特定聚合物B的总量，优选为大于0摩尔％且60摩尔％以下，更优选为5摩尔％～40摩尔％，进一步优选为10摩尔％～35摩尔％。

另外，本发明中，当以摩尔比规定“结构单元”的含量时，该“结构单元”的定义与“单体单元”相同。并且，本发明中，该“单体单元”通过高分子反应等而聚合后可以被修饰。以下也相同。

特定聚合物B优选含有至少一种由下述式P-2表示的结构单元。由此，所形成的固化膜的疏水性及强度进一步提高。

[化学式26]

式P-2中，R^P1表示羟基、烷基、芳基、烷氧基、羧基或卤素原子，R^P2表示氢原子、烷基或芳基，nP表示0～5的整数。当nP为2以上的整数时，存在2个以上的R^P1可以相同也可以不同。

作为R^P1，优选为碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数1～10的烷氧基、羧基、F原子、Cl原子、Br原子或I原子，更优选为碳原子数1～4的烷基、苯基、碳原子数1～4的烷氧基、Cl原子或Br原子。

作为R^P2，优选为氢原子、碳原子数1～10的烷基或碳原子6～12的芳基，更优选为氢原子或碳原子数1～4的烷基，进一步优选为氢原子、甲基或乙基，尤其优选为氢原子。

nP优选为0～3的整数，更优选为0或1，进一步优选为0。

作为由式P-2表示的结构单元，优选为源自苯乙烯化合物的结构单元。

作为苯乙烯化合物，可举出苯乙烯、对甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、α,对二甲基苯乙烯、对乙基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、1,1-二苯乙烯等，优选苯乙烯或α-甲基苯乙烯，尤其优选苯乙烯。

用于形成由式P-2表示的结构单元的苯乙烯化合物可以仅为一种也可以为两种以上。

当特定聚合物B含有由式P-2表示的结构单元时，特定聚合物B中的由式P-2表示的结构单元的比例(当为两种以上时为合计比例。以下相同。)相对于特定聚合物B的总量优选为5摩尔％～90摩尔％，更优选为30摩尔％～90摩尔％，进一步优选为40摩尔％～90摩尔％。

特定聚合物B可以包含至少一种除了具有羧酸酐结构的结构单元及由式P-2表示的结构单元以外的其他结构单元。

其他结构单元优选不含有酸基。

作为其他结构单元并无特别限定，可举出源自单官能烯属不饱和化合物的结构单元。

作为上述单官能烯属不饱和化合物，能够无特别限定地使用公知的化合物，例如可举出甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、正丁基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、卡必醇(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸衍生物；N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己内酰胺等N-乙烯化合物；烯丙基缩水甘油醚等烯丙基化合物的衍生物等。

特定聚合物B中的其他结构单元的比例(当为两种以上时为合计比例)相对于特定聚合物B的总量优选为10摩尔％以上且小于100摩尔％，更优选为50摩尔％以上且小于100摩尔％。

粘合剂聚合物的重均分子量并无特别限制，优选大于3,000，更优选为大于3,000且60,000以下，进一步优选为5,000～50,000。

粘合剂聚合物可以单独使用一种，也可以含有两种以上。

从感光性及固化膜的强度的观点考虑，上述感光性层中的粘合剂聚合物的含量相对于上述感光性层的总质量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％以上且80质量％以下，进一步优选为30质量％以上且70质量％以下。

＜＜具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物＞＞

本发明的感光性转印材料中的感光性层含有具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(以下，还简称为“烯属不饱和化合物”或“自由基聚合性化合物”。)。

具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物是有助于上述感光性层的感光性(即，光固化性)及固化膜的强度的成分。

并且，烯属不饱和化合物是具有一个以上的烯属不饱和基团的化合物。

上述感光性层优选包含2官能以上的烯属不饱和化合物来作为烯属不饱和化合物。

其中，2官能以上的烯属不饱和化合物是指在一分子中具有2个以上的烯属不饱和基团的化合物。

作为烯属不饱和基团，更优选(甲基)丙烯酰基。

作为烯属不饱和化合物，优选(甲基)丙烯酸酯化合物。

从固化后的固化性的观点考虑，上述感光性层尤其优选含有2官能烯属不饱和化合物(优选为2官能(甲基)丙烯酸酯化合物)和3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。

作为2官能烯属不饱和化合物，并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。

作为2官能烯属不饱和化合物，可举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。

作为2官能烯属不饱和化合，更具体而言，可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N、Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)等。

作为3官能以上的烯属不饱和化合物，并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。

作为3官能以上的烯属不饱和化合物，例如可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物等。

其中，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。

作为烯属不饱和化合物，也可举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制A-9300-1CL等)、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd制KAYARAD RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制A-GLY-9E等)等。

作为烯属不饱和化合物，也可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(优选为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物)。

作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可举出8UX-015A(Taisei Fine Chemical Co.,Ltd.制)、UA-32P(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、UA-1100H(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)等。

并且，从显影性向上的观点考虑，烯属不饱和化合物优选包含具有酸基的烯属不饱和化合物。

作为酸基，例如可举出磷酸基、磺酸基及羧基，优选羧基。

作为具有酸基的烯属不饱和化合物，例如可举出具有酸基的3～4官能烯属不饱和化合物(向季戊四醇三及四丙烯酸酯(PETA)骨架导入了羧基(酸值＝80～120mgKOH/g))、具有酸基的5～6官能烯属不饱和化合物(向二季戊四醇五及六丙烯酸酯(DPHA)骨架导入了羧基(酸值＝25～70mgKOH/g))等。

这些具有酸基的3官能以上的烯属不饱和化合物可以根据需要而与具有酸基的2官能烯属不饱和化合物同时使用。

作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选选自包括含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐的组中的至少一种。由此显影性及固化膜的强度提高。

含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。

作为含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物，例如能够优选地使用ARONIX(注册商标)TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制)、ARONIX M-520(TOAGOSEI CO.,LTD.制)或ARONIXM-510(TOAGOSEI CO.,LTD.制)。

具有酸基的烯属不饱和化合物还优选为日本特开2004-239942号公报的0025～0030段中所记载的具有酸基的聚合性化合物。将该公报的内容编入本说明书中。

作为本发明中所使用的烯属不饱和化合物的重均分子量(Mw)，优选200～3,000，更优选250～2,600，进一步优选280～2,200，尤其优选300～2,200。

并且，上述感光性层中所使用的烯属不饱和化合物中，分子量300以下的烯属不饱和化合物的含量的比例相对于上述感光性层中所含有的所有的烯属不饱和化合物优选30质量％以下，更优选25质量％以下，进一步优选20质量％以下。

烯属不饱和化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

上述感光性层中的烯属不饱和化合物的含量相对于上述感光性层的总质量优选1质量％～70质量％，更优选10质量％～70质量％，进一步优选20质量％～60质量％，尤其优选20质量％～50质量％。

并且，当上述感光性层含有2官能烯属不饱和化合物和3官能以上的烯属不饱和化合物时，2官能烯属不饱和化合物的含量相对于上述感光性层中所含有的所有的烯属不饱和化合物优选10质量％～90质量％，更优选20质量％～85质量％，进一步优选30质量％～80质量％。

并且，该情况下，3官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于上述感光性层中所含有的所有的烯属不饱和化合物优选10质量％～90质量％，更优选15质量％～80质量％，进一步优选20质量％～70质量％。

并且，该情况下，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于2官能烯属不饱和化合物与3官能以上的烯属不饱和化合物的总含量优选为40质量％以上且小于100质量％，更优选为40质量％～90质量％，进一步优选为50质量％～80质量％，尤其优选为50质量％～70质量％。

并且，当上述感光性层含有2官能以上的烯属不饱和化合物时，上述感光性层还可以含有单官能烯属不饱和化合物。

进而，当上述感光性层含有2官能以上的烯属不饱和化合物时，上述感光性层中所含有的烯属不饱和化合物中，优选2官能以上的烯属不饱和化合物为主成分。

具体而言，当上述感光性层含有2官能以上的烯属不饱和化合物时，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于上述感光性层中所含有的烯属不饱和化合物的总含量优选60质量％～100质量％，更优选80质量％～100质量％，尤其优选90质量％～100质量％。

并且，当上述感光性层含有具有酸基的烯属不饱和化合物(优选为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物或其羧酸酐)时，具有酸基的烯属不饱和化合物的含量相对于上述感光性层优选1质量％～50质量％，更优选1质量％～20质量％，进一步优选1质量％～10质量％。

＜＜光聚合引发剂＞＞

本发明的感光性转印材料中的感光性层含有光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂并无特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂，可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下，还称为“肟系光聚合引发剂”)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，还称为“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，还称为“α-羟基烷基苯酮系聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下，还称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)、具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下，还称为“N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂”。)等。

光聚合引发剂优选包含选自包括肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟基烷基苯酮系聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂的组中的至少一种，更优选包含选自包括肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂的组中的至少一种。

并且，作为光聚合引发剂，例如可以使用日本特开2011-095716号公报的0031～0042段、日本特开2015-014783号公报的0064～0081段中所记载的聚合引发剂。

作为光聚合引发剂的市售品，可举出1-[4-(苯硫基)]-1,2-辛二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基肟)(商品名：IRGACURE OXE-02、BASF公司制)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE 379EG、BASF公司制)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 907、BASF公司制)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)芐基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 127、BASF公司制)、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE 369、BASF公司制)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 1173、BASF公司制)、1-羟基环己基苯基酮(商品名：IRGACURE 184、BASF公司制)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 651、BASF公司制)、肟酯系(商品名：Lunar 6、DKSH JAPAN K.K.制)等。

光聚合引发剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

上述感光性层中的光聚合引发剂的含量并无特别限制，相对于上述感光性层的总质量优选0.1质量％以上，更优选0.5质量％以上，进一步优选1.0质量％以上。

并且，光聚合引发剂的含量相对于感光性层的总质量优选10质量％以下，更优选5质量％以下。

＜＜封端异氰酸酯化合物＞＞

从固化后的硬度的观点考虑，本发明的感光性转印材料中的感光性层优选还含有封端异氰酸酯化合物。

另外，封端异氰酸酯化合物是指“具有用封端剂保护(遮住)了异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。

封端异氰酸酯化合物的解离温度优选为100℃～160℃，更优选为130℃～150℃。

本说明书中的封端异氰酸酯的解离温度是指“当使用示差扫描量热仪(SEIKOINSTRUMENTS INC.制、DSC6200)并通过DSC(Differential scanning calorimetry：示差扫描量热法)分析进行了测定时，伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。

作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，可举出吡唑化合物(3,5-二甲基吡唑、3-甲基吡唑、4-溴-3,5-二甲基吡唑、4-硝基-3,5-二甲基吡唑等)、活性亚甲基化合物(丙二酸二酯(丙二酸二甲基、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2-乙基己酯)等)、三唑化合物(1,2,4-三唑等)、肟化合物(甲醛肟、乙酰肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的结构的化合物)等。其中，从保存稳定性的观点考虑，优选肟化合物或吡唑化合物，尤其优选肟化合物。

并且，从膜的脆性改善、与被转印体的密合性提高等观点考虑，优选封端异氰酸酯化合物具有异氰脲酸酯结构。具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如能够通过将六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化而保护来制备。

具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中，从与不具有肟结构的化合物相比，更容易将解离温度设为优选的范围，且容易减少显影残渣的观点考虑，优选具有将肟化合物用作封端剂的肟结构的化合物。

从固化后的硬度的观点考虑，本发明中所使用的封端异氰酸酯化合物优选具有自由基聚合性基团。

作为自由基聚合性基团，并无特别限制，能够使用公知的聚合性基，例如可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基等烯属不饱和基团、缩水甘油基等具有环氧基的基团等。其中，作为聚合性基，从所得到的固化膜中的表面的面状、显影速度及反应性的观点考虑，优选为烯属不饱和基团，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。

作为本发明中所使用的封端异氰酸酯化合物，也能够举出市售的封端异氰酸酯化合物。例如，能够举出Karenz AOI-BM、Karenz MOI-BM、Karenz、Karenz MOI-BP(均为SHOWADENKO K.K.制)、封端型DURANATE系列(Asahi Kasei Corporation.制)等。

本发明中所使用的封端异氰酸酯化合物中，分子量优选为200～3,000，更优选为250～2,600，尤其优选为280～2,200。

本发明中，封端异氰酸酯化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

封端异氰酸酯化合物的含量相对于感光性层的总质量优选为1质量％～50质量％，更优选为5质量％～30质量％。

＜＜表面活性剂＞＞

上述感光性层可以含有表面活性剂。

作为表面活性剂，例如能够使用日本专利第4502784号公报的0017段及日本特开2009-237362号公报的0060～0071段中所记载的表面活性剂、公知的氟系表面活性剂等。

作为表面活性剂，优选氟系表面活性剂。

作为氟系表面活性剂的市售品，可举出MEGAFACE(注册商标)F551(DICCORPORATION制)。

当上述感光性层含有表面活性剂时，表面活性剂的含量相对于上述感光性层的总质量优选0.01质量％～3质量％，更优选0.05质量％～1质量％，进一步优选0.1质量％～0.8质量％。

＜＜阻聚剂＞＞

上述感光性层可以含有至少一种阻聚剂。

作为阻聚剂，例如能够使用日本专利第4502784号公报的0018段中所记载的热阻聚剂(还称为阻聚剂)。

其中，能够优选地使用啡噻嗪、啡噁嗪或4-甲氧基苯酚。

当上述感光性层含有阻聚剂时，阻聚剂的含量相对于上述感光性层的总质量优选0.01质量％～3质量％，更优选0.01质量％～1质量％，进一步优选0.01质量％～0.8质量％。

＜＜金属氧化抑制剂＞＞

上述感光性层优选还含有金属氧化抑制剂。

金属氧化抑制剂优选为包含具有氮原子的杂芳香环的化合物。包含具有氮原子的杂芳香环的化合物可以具有取代基。

作为具有氮原子的杂芳香环，优选咪唑环、三唑环、四唑环、噻唑环、噻二唑环或这些中的任一个与其他芳香环的稠合环，更优选咪唑环、三唑环、四唑环或这些中的任一个与其他芳香环的稠合环。

形成稠合环的“其他芳香环”可以为同素环也可以为杂环，优选同素环，更优选苯环或萘环，进一步优选苯环。

作为具体例，可举出咪唑、苯并咪唑、三唑、苯并三唑、四唑及巯基噻二唑。

当上述感光性层含有金属氧化抑制剂时，金属氧化抑制剂的含量相对于感光性层的总质量优选0.01质量％～20质量％，更优选0.05质量％～10质量％，进一步优选0.1质量％～5质量％。

＜＜供氢化合物＞＞

上述感光性层优选还含有供氢化合物。

本发明中，供氢化合物具有进一步提高光聚合引发剂对光化射线的灵敏度或抑制因氧引起的聚合性化合物的聚合阻碍等作用。

作为这种供氢化合物的例，可举出胺类，例如，M.R.Sander等著“Journal ofPolymer Society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-020189号公报、日本特开昭51-082102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-084305号公报、日本特开昭62-018537号公报、日本特开昭64-033104号公报、ResearchDisclosure33825号中所记载的化合物等，具体而言可举出三乙醇胺、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲基硫代二甲基苯胺等。

并且，作为供氢化合物的又一例，可举出氨基酸化合物(例如，N-苯基甘氨酸等)、日本特公昭48-042965号公报中所记载的有机金属化合物(例如，三丁基乙酸锡等)、日本特公昭55-034414号公报中所记载的供氢体、日本特开平6-308727号公报中所记载的硫化合物(例如，三噻烷等)等。

从基于聚合成长速度与链移动的平衡的固化速度的提高的观点考虑，这些供氢化合物的含量相对于感光性层的总质量优选0.1质量％以上且30质量％以下的范围，更优选0.1质量％以上且25质量％以下的范围，进一步优选0.5质量％以上且20质量％以下的范围。

＜＜其他成分＞＞

上述感光性层还可以含有除了上述成分以外的其他成分。

作为其他成分，例如可举出日本专利第4502784号公报的0018段中所记载的热阻聚剂、日本特开2000-310706号公报的0058～0071段中所记载的其他添加剂等。

并且，上述感光性层可以以调节折射率或透光性为目的而含有至少一种粒子(例如金属氧化物粒子)来作为其他成分。

金属氧化物粒子的金属中还包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。从固化膜的透明性的观点考虑，粒子(例如金属氧化物粒子)的平均一次粒径优选1～200nm，更优选3～80nm。平均一次粒径使用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径，并对测定结果进行算术平均而计算。当粒子的形状并不是球形时，将最长的边设为粒径。

粒子的含量相对于上述感光性层的总质量优选0质量％～35质量％，更优选0质量％～10质量％，进一步优选0质量％～5质量％，进一步优选0质量％～1质量％，尤其优选0质量％(即，上述感光性层中不包含粒子)。

并且，上述感光性层可以含有微量的着色剂(颜料、染料等)来作为其他成分，但从透明性的观点考虑，优选实质上不含有着色剂。

具体而言，上述感光性层中的着色剂的含量相对于上述感光性层的总质量优选小于1质量％，更优选小于0.1质量％。

上述感光性层的厚度优选20μm以下，更优选15μm以下，尤其优选12μm以下。

若上述感光性层的厚度为20μm以下，则在感光性转印材料整体的薄膜化、感光性层或所得到的固化膜的透过率提高、感光性层或所得到的固化膜的黄色着色化抑制等方面有利。

从制造适性的观点考虑，上述感光性层的厚度优选1μm以上，更优选2μm以上，尤其优选3μm以上。

作为上述感光性层的折射率，优选1.47～1.56，更优选1.50～1.53，进一步优选1.50～1.52，尤其优选1.51～1.52。

本发明中，“折射率”是指波长550nm下的折射率。

除非另有说明，则本发明中的“折射率”是指在温度23℃下波长550nm的可见光下，通过椭圆偏光仪测定的值。

上述感光性层的形成方法并无特别限定，能够利用公知的方法。

作为上述感光性层的形成方法的一例，可举出在临时支承体上涂布含有溶剂的感光性树脂组合物，并根据需要使其干燥而形成的方法。

作为涂布的方法，能够利用公知的方法，例如可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法、模涂法(即，狭缝涂布法)等，优选模涂法。

作为干燥的方法，能够将自然干燥、加热干燥、减压干燥等公知的方法单独或组合多个而适用。

-溶剂-

从通过涂布进行的感光性层的形成的观点考虑，上述感光性层的形成中可以含有至少一种溶剂。

作为溶剂，能够无特别限制地使用通常所使用的溶剂。

作为溶剂，优选有机溶剂。

作为有机溶剂，例如能够举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别名：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇、2-丙醇等。并且，所使用的溶剂可以含有这些化合物的混合物即混合溶剂。

作为溶剂，优选甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂、甲基乙基酮、丙二醇单甲醚乙酸酯及丙二醇单甲醚的混合溶剂或二乙二醇乙基甲基醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。

当使用溶剂时，作为感光性树脂组合物的固体成分含量，相对于感光性树脂组合物的总质量优选5质量％～80质量％，更优选5质量％～40质量％，尤其优选5质量％～30质量％。

并且，当使用溶剂时，从涂布性的观点考虑，感光性树脂组合物的粘度(25℃)优选1mPa·s～50mPa·s，更优选2mPa·s～40mPa·s，尤其优选3mPa·s～30mPa·s。

粘度例如使用VISCOMETER TV-22(TOKI SANGYO CO.,LTD.制)而测定。

当感光性树脂组合物含有溶剂时，从涂布性的观点考虑，感光性树脂组合物的表面张力(25℃)优选5mN/m～100mN/m，更优选10mN/m～80mN/m，尤其优选15mN/m～40mN/m。

表面张力例如使用AutoM_Atic Surface Tensiometer CBVP-Z(Kyowa InterfaceScience Co.,Ltd.制)而测定。

作为溶剂，也能够使用美国专利申请公开第2005/282073号说明书的0054及0055段中所记载的Solvent，并将该说明书的内容编入本说明书中。

并且，作为溶剂，也能够根据需要而使用沸点为180℃～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。

＜临时支承体＞

本发明的感光性转印材料具有临时支承体。

临时支承体优选为薄膜，更优选为树脂薄膜。

作为临时支承体，能够使用具有挠性，且在加压下或加压及加热下，不会产生显著的变形、收缩或延伸的薄膜。

作为这种薄膜，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、三乙酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚酰亚胺薄膜及聚碳酸酯薄膜。

其中，尤其优选双轴延伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。

并且，用作临时支承体的薄膜优选无褶皱等变形或伤痕。

临时支承体的厚度并无特别限制，但优选为5μm～200μm，从易处理性及通用性的观点考虑、尤其优选为10μm～150μm。

＜第二树脂层＞

从感光性层观察时，本发明的感光性转印材料进而可以在与存在临时支承体的一侧相反的一侧具备第二树脂层(例如，参考后述的感光性转印材料的具体例)。

作为第二树脂层，可优选地举出折射率调整层。

根据具备折射率调整层的方式的感光性转印材料，当通过相对于具备透明电极图案的触摸面板用基板转印感光性转印材料的折射率调整层及感光性层而形成了触摸面板用保护层时，透明电极图案变得更不易视觉辨认(即，透明电极图案的隐蔽性进一步提高。)。可视觉辨认透明电极图案的显影通常被称为“图案可视”。

关于可视觉辨认透明电极图案的显影及透明电极图案的隐蔽性，能够适当参考日本特开2014-010814号公报及日本特开2014-108541号公报。

第二树脂层优选与感光性层相邻配置。

从抑制图案可视的观点考虑，第二树脂层的折射率优选比感光性层的折射率高。

第二树脂层的折射率优选为1.50以上，更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上。

第二树脂层的折射率的上限并无特别限制，但优选2.10以下，更优选1.85以下，进一步优选1.78以下，尤其优选1.74以下。

第二树脂层可以具有光固化性(即，感光性)，也可以具有热固化性，也可以具有光固化性及热固化性这两者。

从通过转印后的光固化而形成强度优异的固化膜的观点考虑，第二树脂层优选具有光固化性。

并且，从通过热固化能够进一步提高固化膜的强度的观点考虑，第二树脂层优选具有热固化性。

第二树脂层优选具有碱溶性(例如，相对于弱碱水溶液的溶解性)。

第二树脂层具有感光性的方式具有在转印后，能够通过一次光刻将转印到基板上的感光性层及第二树脂层一同图案化的优点。

作为第二树脂层的膜厚，优选500nm以下，更优选110nm以下，尤其优选100nm以下。

并且，第二树脂层的膜厚优选20nm以上，更优选50nm以上，进一步优选55nm以上，尤其优选60nm以上。

第二树脂层的折射率优选根据透明电极图案的折射率进行调整。

例如，如由ITO(Indium Tin Oxide；氧化铟锡)组成的透明电极图案那样当透明电极图案的折射率为1.8～2.0的范围时，第二树脂层的折射率优选1.60以上。该情况下的第二树脂层的折射率的上限并无特别限制，但优选2.1以下，更优选1.85以下，进一步优选1.78以下，尤其优选1.74以下。

并且，例如如由IZO(Indium Zinc Oxide；氧化铟锌)组成的透明电极图案那样，当透明电极图案的折射率大于2.0时，第二树脂层的折射率优选1.70以上且1.85以下。

控制第二树脂层的折射率的方法并无特别限制，例如可举出单独使用规定的折射率的树脂的方法、使用树脂和金属氧化物粒子或金属粒子的方法、使用金属盐与树脂的复合物的方法等。

第二树脂层优选含有选自包括折射率为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的无机粒子、折射率为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的树脂及折射率为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的聚合性单体的组中的至少一种。

若为该方式，则容易将第二树脂层的折射率调整为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)。

并且，第二树脂层优选含有粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物及粒子。

关于第二树脂层的成分，能够参考日本特开2014-108541号公报的0019～0040及0144～0150段中所记载的固化性第二树脂层的成分、日本特开2014-010814号公报的0024～0035及0110～0112段中所记载的透明层的成分、国际公开第2016/009980号的0034～0056段中所记载的具有铵盐的组合物的成分等。

并且，第二树脂层优选含有至少一种金属氧化抑制剂。

当第二树脂层含有金属氧化抑制剂时，将第二树脂层转印到基板(即，转印对象物)上时，能够对与第二树脂层直接接触的部件(例如，形成在基板上的导电性部件)进行表面处理。该表面处理相对于与第二树脂层直接接触的部件赋予金属氧化抑制功能(保护性)。

作为金属氧化抑制剂，可举出上述金属氧化抑制剂。

第二树脂层可以含有除了上述成分以外的其他成分。

作为第二树脂层中可含有的其他成分，可举出与上述感光性层中所含有的各成分相同的成分。

第二树脂层优选含有表面活性剂来作为其他成分。

第二树脂层的形成方法并无特别限定。

作为第二树脂层的形成方法的一例，可举出在形成在临时支承体上的上述感光性层上涂布含有水系溶剂的方式的第二树脂层形成用组合物，并根据需要使其干燥而形成的方法。

涂布及干燥的方法的具体例分别与形成感光性层时的涂布及干燥的具体例相同。

第二树脂层形成用组合物可含有上述第二树脂层的各成分。

第二树脂层形成用组合物例如含有粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物、粒子及水系溶剂。

并且，作为第二树脂层形成用组合物，还优选国际公开第2016/009980号的0034～0056段中所记载的具有铵盐的组合物。

＜保护膜＞

从感光性层观察时，本发明的感光性转印材料进而可以在与临时支承体相反的一侧具备保护膜。

当从感光性层观察时，本发明的感光性转印材料在与临时支承体相反的一侧具备第二树脂层时，保护膜优选从第二树脂层观察时配置于与临时支承体相反的一侧。

作为保护膜，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚苯乙烯薄膜及聚碳酸酯薄膜。

作为保护膜，例如可以使用日本特开2006-259138号公报的0083～0087及0093段中所记载的保护膜。

＜热塑性树脂层＞

本发明的感光性转印材料进而可以在临时支承体与感光性层之间具备热塑性树脂层。

当感光性转印材料具备热塑性树脂层时，且当将感光性转印材料转印于基板而形成了层叠体时，不易在层叠体的各要件中产生气泡。当将该层叠体使用到图像显示装置时，不易产生图像不均等，且可得到优异的显示特性。

热塑性树脂层优选具有碱溶性。

热塑性树脂层在转印中作为吸收基板表面的凹凸的缓冲材料而发挥功能。

基板表面的凹凸中还包含已形成的图像、电极、布线等。热塑性树脂层优选具有根据凹凸可变形的性质。

热塑性树脂层优选包含日本特开平5-072724号公报中所记载的有机高分子物质，更优选包含基于Vicat法(具体而言，基于美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法)的软化点为约80℃以下的有机高分子物质。

作为热塑性树脂层的厚度，优选3μm～30μm，更优选4μm～25μm，进一步优选5μm～20μm。

若热塑性树脂层的厚度为3μm以上，则针对基板表面的凹凸的追随性提高，因此能够进一步有效地吸收基板表面的凹凸。

若热塑性树脂层的厚度为30μm以下，则工序适性进一步提高。例如，进一步减轻了在临时支承体上涂布形成热塑性树脂层时的干燥(溶剂去除)的负载，并且缩短了转印后的热塑性树脂层的显影时间。

热塑性树脂层可通过将包含溶剂及热塑性有机高分子的热塑性树脂层形成用组合物涂布在临时支承体，并根据需要使其干燥而形成。

涂布及干燥的方法的具体例分别与形成感光性层时的涂布及干燥的具体例相同。

作为溶剂，只要是溶解形成热塑性树脂层的高分子成分的溶剂，则并无特别限制，可举出有机溶剂(例如，甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇)。

热塑性树脂层，在100℃下测定的粘度优选为1,000～10,000Pa·s。并且，优选在100℃下测定的热塑性树脂层的粘度比在100℃下测定的感光性层的粘度低。

＜中间层＞

本发明的感光性转印材料进而可以在临时支承体与感光性层之间具备中间层。

当本发明的感光性转印材料具备热塑性树脂层时，中间层优选配置于热塑性树脂层与感光性层之间。

作为中间层的成分，例如可举出聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、纤维素或包含这些中的至少两种的混合物即树脂。

并且，作为中间层，也能够使用日本特开平5-072724号公报中作为“分离层”而记载的层。

当制造在临时支承体上依次具备热塑性树脂层、中间层及感光性层的方式的感光性转印材料时，中间层例如通过涂布含有不溶解热塑性树脂层的溶剂和作为中间层的成分的上述树脂的中间层形成用组合物，并根据需要使其干燥而形成。涂布及干燥的方法的具体例分别与形成感光性层时的涂布及干燥的具体例相同。

上述情况下，例如首先在临时支承体上涂布热塑性树脂层形成用组合物，并使其干燥而形成热塑性树脂层。接着，在该热塑性树脂层上涂布中间层形成用组合物，并使其干燥而形成中间层。然后，在中间层上涂布含有有机溶剂的方式的感光性树脂组合物，并使其干燥而形成感光性层。该情况下的有机溶剂优选为不溶解中间层的有机溶剂。

＜感光性转印材料的具体例＞

图1是本发明的感光性转印材料的一具体例即感光性转印材料10的概略剖视图。

如图1所示，感光性转印材料10具有保护膜16/第二树脂层20A/感光性层18A/临时支承体12的层叠结构(即，依次配置有临时支承体12、感光性层18A、第二树脂层20A及保护膜16的层叠结构)。

然而，本发明的感光性转印材料并不限定为感光性转印材料10，例如可以省略第二树脂层20A及保护膜16。并且，可以在临时支承体12与感光性层18A之间具备上述热塑性树脂层及中间层中的至少一个。

第二树脂层20A为从感光性层18A观察时配置在与存在临时支承体12的一侧相反的一侧的层，且为在波长550nm下的折射率为1.50以上的层。

感光性转印材料10为负型材料(负型薄膜)。

感光性转印材料10的制造方法并无特别限制。

感光性转印材料10的制造方法例如依次包括在临时支承体12上形成感光性层18A的工序、在感光性层18A上形成第二树脂层20A的工序及在第二树脂层20A上形成保护膜16的工序。

感光性转印材料10的制造方法中可以在形成第二树脂层20A的工序与形成保护膜16的工序之间包括国际公开第2016/009980号的0056段中所记载的使氨挥发的工序。

(电极保护膜、层叠体及静电电容型输入装置)

本发明的电极保护膜为使从本发明的感光性转印材料去除了上述临时支承体的上述感光性层固化而成的电极保护膜。

并且，上述感光性层可以为所希望的图案形状。

本发明的电极保护膜优选为静电电容型输入装置的电极保护膜，更优选为触摸面板用电极保护膜。

以下所述的本发明的层叠体具有本发明的电极保护膜。

本发明的层叠体在基板上具有从本发明的感光性转印材料去除上述临时支承体之后的上述感光性层或经固化的上述感光性层(还称为固化膜。)。

并且，上述感光性层及上述固化膜可以为所希望的图案形状。

并且，本发明的层叠体优选在基板上从上述基板侧依次具有从本发明的感光性转印材料去除临时支承体之后的第二树脂层、感光性层。

本发明的静电电容型输入装置具有本发明的电极保护膜或本发明的层叠体。

上述基板优选为包括静电电容型输入装置的电极的基板。

静电电容型输入装置的电极可以为透明电极图案，也可以为引绕布线。层叠体中，静电电容型输入装置的电极优选为电极图案，更优选为透明电极图案。

本发明的层叠体中，从使透明电极图案的隐蔽性良好的观点考虑，优选具有基板、透明电极图案、与透明电极图案相邻配置的第二树脂层及与第二树脂层相邻配置的感光性层，第二树脂层的折射率比感光性层的折射率高。第二树脂层的折射率优选为1.6以上。

作为上述基板，优选玻璃基板或树脂基板。

并且，基板优选为透明的基板，更优选为透明的树脂基板。本发明中的透明是指，所有的可见光线的透过率为85％以上，优选90％以上，更优选95％以上。

基板的折射率优选1.50～1.52。

作为玻璃基板，例如能够使用Corning Incorporated Co.,Ltd.的大猩猩玻璃(Gorilla Glass)(注册商标)等钢化玻璃。

作为树脂基板，优选使用无光学变形及透明度高中的至少一个，例如可举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)、聚酰亚胺(PI)、聚苯并噁唑(PBO)、环烯烃聚合物(COP)等树脂组成的基板。

作为透明基板的材质，可优选地使用日本特开2010-086684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中所记载的材质。

作为上述静电电容型输入装置，可优选地举出触摸面板。

作为触摸面板用电极，例如可举出配置于触摸面板的至少图像显示区域的透明电极图案。触摸面板用电极可以从图像显示区域延伸至触摸面板的框部。

作为触摸面板用布线，例如可举出配置于触摸面板的框部的引绕布线(取出布线)。

触摸面板用基板及触摸面板的优选的方式优选为，在透明电极图案的向触摸面板的框部延伸的部分层叠引绕布线的一部分，由此透明电极图案与引绕布线电连接的方式。

作为透明电极图案的材质，优选ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等金属氧化膜。

作为引绕布线的材质，优选金属。作为引绕布线的材质即金属，可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰以及由这些金属元素中的两种以上组成的合金。作为引绕布线的材质，优选铜、钼、铝或钛，尤其优选铜。

本发明的触摸面板用电极保护膜以保护电极等(即，触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个)为目的直接或经由其他层覆盖电极等的方式而设置。

触摸面板用电极保护膜的厚度的优选范围与上述感光性层的厚度的优选范围相同。

本发明的电极保护膜、优选为触摸面板用电极保护膜可以具有开口部。

上述开口部可通过感光性层的非曝光部因显影液而溶解来形成。

该情况下，即使在使用感光性转印材料在高温层压条件下形成触摸面板用电极保护膜时，也可抑制触摸面板用电极保护膜的开口部中的显影残渣。

触摸面板进而可以在电极等与触摸面板用电极保护层之间具备第一折射率调整层(例如，参考后述的触摸面板的第1具体例)。

第一折射率调整层的优选方式与感光性转印材料中可具备的第二树脂层的优选方式相同。第一折射率调整层可以通过第一折射率调整层形成用组合物的涂布及干燥而形成，也可以通过另外转印具备折射率调整层的感光性转印材料的折射率调整层而形成。

具备第一折射率调整层的方式的触摸面板优选使用具备第二树脂层的方式的本发明的感光性转印材料，并优选通过转印感光性转印材料中的感光性层及第二树脂层而形成。该情况下，由感光性转印材料中的感光性层形成触摸面板用电极保护层，且由感光性转印材料中的第二树脂层形成第一折射率调整层。

并且，触摸面板或触摸面板用基板可以在基板与电极等之间具备第二折射率调整层(例如，参考后述的触摸面板的第1具体例)。

第二折射率调整层的优选方式与感光性转印材料可具备的第二树脂层的优选方式相同。

触摸面板具备第一折射率调整层的方式(更优选为具备第一折射率调整层及第二折射率调整层的方式)具有不易视觉辨认电极等(即，所谓的图案可视得以抑制)优点。

关于触摸面板的结构，可以参考日本特开2014-010814号公报或日本特开2014-108541号公报中所记载的静电电容型输入装置的结构。

＜触摸面板的第1具体例＞

图2是本发明的触摸面板的第1具体例即触摸面板30的概略剖视图。更详细而言，图2是触摸面板30的图像显示区域的概略剖视图。

如图2所示，触摸面板30具有依次配置有基板32、第二折射率调整层36、作为触摸面板用电极的透明电极图案34、第一折射率调整层20及触摸面板用电极保护膜18的结构。

触摸面板30中，触摸面板用电极保护膜18及第一折射率调整层20覆盖透明电极图案34整体。但是，本发明的触摸面板并不限定于该方式。触摸面板用电极保护膜18及第一折射率调整层20只要覆盖透明电极图案34中的至少一部分即可。

并且，第二折射率调整层36及第一折射率调整层20分别优选直接或经由其他层而连续覆盖存在透明电极图案34的第1区域40及不存在透明电极图案34的第2区域42。由此，透明电极图案34变得更不易视觉辨认。

关于第二折射率调整层36及第一折射率调整层20，与经由其他层覆盖第1区域40及第2区域42这两者相比，优选直接覆盖。作为“其他层”，例如可举出绝缘层、除了透明电极图案34以外的电极图案等。

第一折射率调整层20横跨第1区域40及第2区域42这两者而层叠。第一折射率调整层20与第二折射率调整层36相邻，进而还与透明电极图案34相邻。

当与第二折射率调整层36接触的部位中的透明电极图案34的端部形状为如图2所示的锥形时，优选沿锥形(即，与锥角相同的斜率)层叠有第一折射率调整层20。

作为透明电极图案34，优选ITO透明电极图案。

透明电极图案34例如能够通过以下方法而形成。

在形成有第二折射率调整层36的基板32上，通过溅射形成电极用薄膜(例如ITO膜)。在该电极用薄膜上涂布蚀刻用感光性抗蚀剂或者转印蚀刻用感光性薄膜，由此形成蚀刻保护层。接着，通过曝光及显影，将该蚀刻保护层图案化成所希望的图案形状。接着，通过蚀刻，去除电极用薄膜中未被图案化的蚀刻保护层覆盖的部分。由此，将电极用薄膜制成所希望的形状的图案(即，透明电极图案34)。接着，通过剥离液去除经图案化的蚀刻保护层。

第一折射率调整层20及触摸面板用电极保护膜18例如如下所述形成于依次设置有第二折射率调整层36及透明电极图案34的基板32(即，触摸面板用基板)上。

首先，准备图1所示的感光性转印材料10(即，具有保护膜16/第二树脂层20A/感光性层18A/临时支承体12的层叠结构的感光性转印材料10)。

接着，从感光性转印材料10去除保护膜16。

接着，将去除了保护膜16的感光性转印材料10层压于依次设置有第二折射率调整层36及透明电极图案34的基板32(即，触摸面板用基板)上。层压以去除了保护膜16的感光性转印材料10的第二树脂层20A与透明电极图案34相接的朝向进行。通过该层压，可得到具有临时支承体12/感光性层18A/第二树脂层20A/透明电极图案34/第二折射率调整层36/基板32的层叠结构的层叠体。

接着，从层叠体去除临时支承体12。

接着，对去除了临时支承体12的层叠体进行图案曝光，由此使感光性层18A及第二树脂层20A固化成图案状。感光性层18A及第二树脂层20A的图案状固化分别可以通过不同的图案曝光而单独进行，但优选通过一次图案曝光而同时进行。

接着，通过显影去除感光性层18A及第二树脂层20A的非曝光部(即，非固化部)，由此分别得到感光性层18A的图案状的固化物即触摸面板用电极保护膜18(关于图案形状，未图示)及第二树脂层20A的图案状的固化物即第一折射率调整层20(关于图案形状，未图示)。图案曝光后的感光性层18A及第二树脂层20A的显影分别可以通过不同的显影而单独进行，但优选通过一次显影而同时进行。

关于层压、图案曝光、显影的优选方式将在后面进行叙述。

关于触摸面板的结构，可以参考日本特开2014-010814号公报或日本特开2014-108541号公报中所记载的静电电容型输入装置的结构。

＜触摸面板的第2具体例＞

图3是本发明的触摸面板的第2具体例即触摸面板90的概略剖视图。

如图3所示，触摸面板90具有图像显示区域74及图像非显示区域75。

如图3所示，触摸面板90在基板32的两面具备触摸面板用电极。详细而言，触摸面板90在基板32的一面具备第1透明电极图案70，且在另一面具备第2透明电极图案72。

触摸面板90中，第1透明电极图案70及第2透明电极图案72分别连接有引绕布线56。引绕布线56例如为铜布线。

触摸面板90中，在基板32的一面，以覆盖第1透明电极图案70及引绕布线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18，且在基板32的另一面，以覆盖第2透明电极图案72及引绕布线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18。

在基板32的一面及另一面可以分别设置有第1具体例中的第一折射率调整层及第二折射率调整层。

＜触摸面板的制造方法＞

制造本发明的触摸面板的方法并无特别限制，但优选以下制造方法。

本发明的触摸面板的优选的制造方法包括：

准备具有在基板上配置有电极等(即，触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个)的结构的触摸面板用基板的工序(以下，还称为“准备工序”。)；

在触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的表面上，使用本发明的感光性转印材料而形成感光性层的工序(以下，还称为“感光性层形成工序”。)；

对形成在触摸面板用基板的上述表面上的感光性层进行图案曝光的工序(以下，还称为“图案曝光工序”。)；及

通过对经图案曝光的感光性层进行显影，得到保护电极等的至少一部分的触摸面板用电极保护膜的工序(以下，还称为“显影工序”。)。

根据上述优选的制造方法，能够制造具备耐弯曲性优异的触摸面板用电极保护膜的触摸面板。

并且，上述优选的制造方法中，即使在使用本发明的感光性转印材料并在高温层压条件下形成了感光性层的情况下，也可以抑制在显影后的感光性层的非曝光部中产生显影残渣。

以下，对上述优选的制造方法的各工序进行说明。

＜准备工序＞

准备工序为为了方便起见的工序，且为准备具有在基板上配置有电极等(即，触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个)的结构的触摸面板用基板的工序。

准备工序可以为仅准备预先制造的触摸面板用基板的工序，也可以为制造触摸面板用基板的工序。

触摸面板用基板的优选方式如在触摸面板的第1具体例及触摸面板的第2具体例中所述。

＜感光性层形成工序＞

感光性层形成工序为在触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的表面上，使用本发明的感光性转印材料而形成感光性层的工序。

以下，对感光性层形成工序中使用本发明的感光性转印材料的方式进行说明。

该方式中，将本发明的感光性转印材料层压于触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的表面上，并将本发明的感光性转印材料的感光性层转印于上述表面上，由此在上述表面上形成感光性层。

层压(感光性层的转印)能够利用真空层压机、自动切割层压机等公知的层压机来进行。

作为层压条件，能够适用通常的条件。

作为层压温度，优选80℃～150℃，更优选90℃～150℃，尤其优选100℃～150℃。

如上所述，使用本发明的感光性转印材料的方式中，即使在层压温度为高温(例如120℃～150℃)的情况下，也可抑制基于热灰雾的显影残渣的产生。

当使用具备橡胶辊的层压机时，层压温度是指橡胶辊温度。

层压时的基板温度并无特别限制。作为层压时的基板温度，可举出10℃～150℃，优选20℃～150℃，更优选30℃～150℃。当作为基板而使用树脂基板时，作为层压时的基板温度，优选10℃～80℃，更优选20℃～60℃，尤其优选30℃～50℃。

并且，作为层压时的线压，优选0.5N/cm～20N/cm，更优选1N/cm～10N/cm，尤其优选1N/cm～5N/cm。

并且，作为层压时的传送速度(层压速度)，优选0.5m/分钟～5m/分钟，更优选1.5m/分钟～3m/分钟。

当使用具有保护膜/感光性层/中间层/热塑性树脂层/临时支承体的层叠结构的感光性转印材料时，首先从感光性转印材料剥离保护膜而使感光性层暴露，接着使感光性转印材料与触摸面板用基板贴合以便所暴露的感光性层与触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的表面相接，接着实施加热及加压。由此，感光性转印材料的感光性层被转印于触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的表面上而形成具有临时支承体/热塑性树脂层/中间层/感光性层/电极等/基板的层叠结构的层叠体。该层叠结构中，“电极等/基板”的部分为触摸面板用基板。

然后，根据需要从上述层叠体剥离临时支承体。然而，也能够在残留有临时支承体的状态下直接进行后述图案曝光。

作为将感光性转印材料的感光性层转印于触摸面板用基板上，进行图案曝光并显影的方法的例，也能够参考日本特开2006-023696号公报的0035～0051段的记载。

＜图案曝光工序＞

图案曝光工序为对形成在触摸面板用基板上的感光性层进行图案曝光的工序。

其中，图案曝光是指，曝光成图案状的方式、即存在曝光部与非曝光部的方式的曝光。

触摸面板用基板上的感光性层中，图案曝光中的曝光部被固化而最终成为固化膜。

另一方面，触摸面板用基板上的感光性层中，未使图案曝光中的非曝光部固化便在下一显影工序中通过显影液而去除(溶解)。关于非曝光部，可在显影工序后形成固化膜的开口部。

图案曝光可以为经由掩模的曝光，也可以为使用了激光等的数字曝光。

作为图案曝光的光源，只要能够照射可使感光性层固化的波长区域的光(例如，365nm或405nm)，则能够适当选择使用。作为光源，例如可举出各种激光、发光二极管(LED)、超高压汞灯、高压汞灯及金属卤化物灯。曝光量优选为5mJ/cm²～200mJ/cm²，更优选为10mJ/cm²～200mJ/cm²。

当使用感光性转印材料在基板上形成有感光性层时，图案曝光可以在剥离临时支承体之后进行，也可以在剥离临时支承体之前进行曝光，然后剥离临时支承体。

并且，曝光工序中，可以在图案曝光后且显影前对感光性层实施热处理(所谓的PEB(Post Exposure Bake：曝光后烘烤))。

＜显影工序＞

显影工序为通过对经图案曝光的感光性层进行显影(即，使图案曝光中的非曝光部溶解于显影液)，得到保护电极等的至少一部分的触摸面板用电极保护膜的工序。

显影中所使用的显影液并无特别限制，能够使用日本特开平5-072724号公报中所记载的显影液等公知的显影液。

作为显影液，优选使用碱性水溶液。

作为碱性水溶液中可含有的碱性化合物，例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)等。

作为碱性水溶液的25℃下的pH，优选8～13，更优选9～12，尤其优选10～12。

碱性水溶液中的碱性化合物的含量相对于碱性水溶液总质量优选0.1质量％～5质量％，更优选0.1质量％～3质量％。

显影液可以含有相对于水具有混和性的有机溶剂。

作为有机溶剂，例如能够举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺及N-甲基吡咯烷酮。

有机溶剂的浓度优选0.1质量％～30质量％。

显影液可以包含公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选0.01质量％～10质量％。

显影液的溶液温度优选20℃～40℃。

作为显影的方式，例如可举出旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等方式。

当进行喷淋显影时，通过以喷淋状向图案曝光后的感光性层喷射显影液来去除感光性层的非曝光部。当使用了具备感光性层、热塑性树脂层及中间层中的至少一个的感光性转印材料时，可以在这些层向基板上的转印后且感光性层的显影前，以喷淋状喷射感光性层的溶解性低的碱性液来预先去除热塑性树脂层及中间层中的至少一个(当存在两者时为两者)。

并且，显影后，优选一边通过喷淋而喷射清洗剂等一边用刷子等进行擦拭，由此去除显影残渣。

显影液的溶液温度优选20℃～40℃。

显影工序可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影而得到的固化膜进行加热处理(以下，还称为“后烘烤”)的阶段。

当基板为树脂基板时，后烘烤温度优选100℃～160℃，更优选130℃～160℃。

通过该后烘烤，还能够调整透明电极图案的电阻值。

并且，当感光性层包含含羧基(甲基)丙烯酸树脂时，能够通过后烘烤而使含羧基(甲基)丙烯酸树脂的至少一部分变成羧酸酐。由此，显影性及固化膜的强度优异。

并且，显影工序可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影而得到的固化膜进行曝光(以下，还称为“后曝光”。)的阶段。

当显影工序包括进行后曝光的阶段及进行后烘烤的阶段时，优选为依次实施后曝光、后烘烤。

关于图案曝光、显影等，例如还能够参考日本特开2006-023696号公报的0035～0051段的记载。

本发明的触摸面板的优选的制造方法可以还包括除了上述工序以外的其他工序。作为其他工序，能够无特别限制地适用有时在通常的光刻工序中设置的工序(例如，清洗工序等)。

(图像显示装置)

本发明的图像显示装置具备本发明的静电电容型输入装置，优选为具备本发明的触摸面板(例如，第1～第2具体例的触摸面板)。

作为本发明的图像显示装置，优选具有将本发明的触摸面板与公知的液晶显示元件重合而成的结构的液晶显示装置。

作为具备触摸面板的图像显示装置的结构，例如能够适用“最新触摸面板技术”(2009年7月6日发行Techno Times Co.,Ltd.)、三谷雄二监修、“触摸面板的技术与开发”、CMC出版(2004,12)、FPD International 2009Forum T-11演讲教材、CypressSemiconductor Corporation应用笔记AN2292中所公开的结构。

实施例

以下举出实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理工序等只要不脱离本发明的宗旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，除非另有说明，则“份”、“％”为质量基准。

另外，以下的实施例中，树脂的重均分子量为通过基于凝胶渗透色谱(GPC)的聚苯乙烯换算求出的重均分子量。

(实施例1)

＜感光性转印材料的制作＞

＜＜感光性层的形成＞＞

在厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(临时支承体)上，使用狭缝状喷嘴，以干燥后的厚度成为10μm的方式进行调整而涂布由下述配方101组成的感光性层用涂布液，在100℃下干燥2分钟之后，进而在120℃下干燥1分钟而形成了感光性层。

-感光性层用涂布液：配方101(有机溶剂系树脂组合物)-

以成为下述表1～表7所示的组成的固体成分比例的方式混合材料，进而添加有机溶剂制成固体成分100质量份中包含丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA、Daicel ChemicalIndustries Ltd.制)25.5质量份、丙二醇单甲醚(MFG、Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制)67.8质量份、甲基乙基酮(MEK、Maruzen Petrochemical Co.,Ltd.制)151.5质量份的溶液，由此制备了实施例1～实施例52及比较例1～比较例3的感光性树脂组合物溶液。

＜＜第二树脂层的形成＞＞

接着，在感光性层上，以干燥后的厚度成为70nm的方式进行调整而涂布由下述配方201组成的第二树脂层用涂布液，在80℃下干燥1分钟之后，进而在110℃下干燥1分钟而形成了直接与感光性层相接而配置的第二树脂层。

其中，配方201使用具有酸基的树脂与氨水溶液制备而成，具有酸基的树脂在氨水溶液中被中和，从而制备了包含具有酸基的树脂的铵盐的水系树脂组合物即第二树脂层用涂布液。

-第二树脂层用涂布液：配方201(水系树脂组合物)-

·(甲基)丙烯酸树脂(具有酸基的树脂、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙酯的共聚合树脂、重均分子量2.5万、组成比(摩尔比)＝40/60、固体成分99.8％)：0.29份

·ARONIX TO-2349(具有羧酸的单体、TOAGOSEI CO.,LTD.制)：0.04份

·NanoUse OZ-S30M(ZrO₂粒子、固体成分30.5％、甲醇69.5％、折射率为2.2、平均粒径：约12nm、Nissan Chemical Industries,LTD.制)：4.80份

·BT120(苯并三唑、JOHOKU CHEMICAL CO.,LTD制):0.03份

·MEGAFACE F444(氟系表面活性剂、DIC CORPORATION制)：0.01份

·氨水溶液(2.5％)：7.80份

·蒸馏水：24.80份

·甲醇：76.10份

＜＜保护膜的形成＞＞

相对于如上述那样得到的临时支承体上依次设置有感光性层和与感光性层直接相接而配置的第二树脂层的层叠体，在该第二树脂层上压接厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(保护膜)，从而制作了实施例1的感光性转印材料。

(实施例2～实施例52及比较例1～比较例3)

变更为固体成分的比率为下述表1～表7所示的组成的感光性层用涂布液，除此以外，以与实施例1相同的方式分别制作了实施例2～实施例52及比较例1～比较例3的感光性转印材料。

使用所得到的感光性转印材料如下那样进行了评价。将评价结果示于表1～表7。

＜耐弯曲性的评价＞

-耐弯曲性评价用试样的制作-

将所得到的感光性转印材料在剥离保护膜之后，层压于实施了145℃30分钟的热处理的TOYOBO CO.,LTD.制聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的Cosmoshine A4300(厚度50μm)的两个表面上，从而形成了具有临时支承体/感光性层/第二树脂层/Cosmoshine A4300(厚度50μm)/第二树脂层/感光性层/临时支承体的层结构的层叠体A。层压的条件设为层压辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。

然后，使用具有超高压汞灯的接近式曝光仪(Hitachi High-TechnologiesCorporation制)，并经由临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)对两面进行了全面曝光。剥离两面的临时支承体之后，进而以曝光量400mJ/cm2(i射线)进行了两面曝光，然后进行145℃、30分钟的后烘烤，由此使感光性层固化而形成了固化膜。

如此，得到了由厚度10μm的固化膜/Cosmoshine A4300(厚度50μm)/厚度10μm的固化膜组成的耐弯曲性评价用试样。

-耐弯曲性的评价-

使用耐弯曲性评价用试样，如下那样对耐弯曲性进行了评价。

图4是表示耐弯曲性评价中的耐弯曲性评价用试料的状态的剖面示意图。

将上述中所得到的耐弯曲性评价用试料裁切成5cm×12cm的长方形。如图4所示，对所裁切的耐弯曲性评价用试料102中的短边的一方安装100g的重物104而进行加重，并保持为以90°的角度与直径d毫米的金属制杆106相接(如图4中的耐弯曲性评价用试料102的状态)。然后，以卷绕金属制杆106的方式使耐弯曲性评价用试料弯曲，直至成为将耐弯曲性评价用试料102弯曲至180°的状态(图4中的弯曲后的耐弯曲性评价用试料102A的状态)，并使其回到原来位置的运动(往复方向D)进行10次往复，从而用肉眼观察确认了试样的表面有无裂纹。

一边变更该金属制杆106的直径d一边进行上述动作，从而求出了未产生裂纹的最小d。下述评价基准中，A的耐弯曲性最良好，E的耐弯曲性最差。优选为A、B及C中的任一个，最优选A。

A：未产生裂纹的最小d为2mm以下

B：未产生裂纹的最小d大于2mm且3mm以下

C：未产生裂纹的最小d大于3mm且4mm以下

D：未产生裂纹的最小d大于4mm且5mm以下

E：未产生裂纹的最小d大于5mm

＜铜变色防止性的评价＞

将所得到的感光性转印材料在剥离保护膜之后，在铜板上的一面以铜板与第二树脂层直接相接的方式进行了层压。将层压条件设为层压辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。

然后，对所得到的曝光前的层叠体使用具有超高压汞灯的接近式曝光机(HitachiHigh-Technologies Corporation制)，将曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模、1mm的线与空间：5线)面与临时支承体之间的距离设定为125μm，并经由临时支承体以曝光量100mJ/cm²(i射线)进行了图案曝光。剥离临时支承体之后，将图案曝光后的层叠体在碳酸钠2％水溶液32℃下进行了60秒钟的清洗处理。通过从超高压清洗喷嘴向清洗处理后的铜基板喷射超纯水而去除了残渣。接着，喷射空气而去除铜基板上的水分，并进行了140℃、30分钟的后烘烤处理。

用肉眼观察确认了该图案的空间部分的铜的变色。

另外，第二树脂层的厚度比感光性层薄，因此在铜变色防止性评价中，感光性层的影响表现得强烈。

在下述评价基准中，A的铜变色耐性最良好，E最差。优选为A、B及C中的任一个，最优选A。

A：与处理前的铜的颜色相同，完全未变色

B：稍微变成红色

C：变为红色

D：变为蓝色

E：变得非常蓝

＜所得到的图案的直线性(光刻图案的直线性)的评价＞

将上述铜变色防止性评价中的曝光掩模的线与空间的宽度逐一变更50μm，从而求出了线宽的变动为5％以内的最小的线与空间的宽度。

线宽的变动率＝(最大线宽-最小线宽)/平均线宽

另外，平均线宽为将所形成的所有线的宽度进行平均而得的值。

在下述评价基准中，A最良好，E最差。优选为A、B及C中的任一个，最优选A。

A：最小线宽为50μm以下

B：最小线宽大于50μm且100μm以下

C：最小线宽大于100μm且200μm以下

D：最小线宽大于200μm且300μm以下

E：最小线宽大于300μm

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

[表5]

[表6]

[表7]

上述表1～表7中的各成分的含量的单位％为质量％。

根据上述表1～表7得知，与比较例1～3的感光性转印材料相比，实施例1～52的感光性转印材料的铜变色防止性及固化后的耐弯曲性优异。

并且，根据上述表1～表7，实施例1～52的感光性转印材料的所得到的图案的直线性也优异。

以下，对除了上述以外的表1～表7中所记载的成分的详细内容进行记载。

化合物A：下述所示的结构的树脂(Mw＝27,000)

[化学式27]

上述化合物A中的各结构单元的比例为摩尔比，并且Me表示甲基。

化合物B：下述所示的结构的树脂(Mw＝20,000)

[化学式28]

另外，化合物B中的各结构单元的比例为质量比。

·SMA EF-40(苯乙烯/马来酸酐＝4:1(摩尔比)的共聚物、酸酐价1.94mmol/g、重均分子量10,500、Cray Valley公司制)

符号说明

10-感光性转印材料，12-临时支承体，16-保护膜，18-感光性层(触摸面板用电极保护膜)，20，20A-第二树脂层(第一折射率调整层)，30-触摸面板，32-基板，34-透明电极图案，36-第二折射率调整层，40-存在透明电极图案的第1区域，42-不存在透明电极图案的第2区域，56-引绕布线，70-第1透明电极图案，72-第2透明电极图案，74-图像显示区域，75-图像非显示区域，90-触摸面板，102-耐弯曲性评价用试样，102A-弯曲成180°的状态下的耐弯曲性评价用试样，104-重物，106-金属制杆，D-往复方向，d-金属制杆106的直径。

Claims (14)

1.一种感光性转印材料，其具有：

临时支承体；及

感光性层，

所述感光性层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物、光聚合引发剂、硫醇化合物及杂环化合物。

2.根据权利要求1所述的感光性转印材料，其中，

所述杂环化合物为杂环上直接键合有巯基的杂环化合物。

3.根据权利要求1或2所述的感光性转印材料，其中，

所述杂环化合物中的杂环为包含氮原子的5元环。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性转印材料，其中，

所述感光性层中所含有的所述硫醇化合物的含量M_A与所述杂环化合物的含量M_B的质量比为M_B/M_A＝0.01以上且1.00以下。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光性转印材料，其中，

所述硫醇化合物为2官能以上的硫醇化合物。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的感光性转印材料，其中，

所述硫醇化合物包含由下述式1表示的化合物；

式1中，n表示1～6的整数，A表示碳原子数1～15的n价有机基团或由下述式2表示的基团，R¹分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团；其中，当A表示由下述式2表示的基团时，n表示3；

式2中，R²～R⁴分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团，波浪线部分表示与和所述式1中的A相邻的氧原子的键合位置。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的感光性转印材料，其中，

所述硫醇化合物的含量相对于所述感光性层的总质量为5质量％以上。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光性转印材料，其中，

所述感光性层还含有封端异氰酸酯化合物。

9.根据权利要求8所述的感光性转印材料，其中，

所述封端异氰酸酯化合物具有自由基聚合性基团。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的感光性转印材料，其为触摸面板中的保护膜形成用感光性转印材料。

11.一种电极保护膜，其使从权利要求1至10中任一项所述的感光性转印材料去除了所述临时支承体的所述感光性层固化而成。

12.一种层叠体，其中，

在基板上具有从权利要求1至10中任一项所述的感光性转印材料去除了所述临时支承体之后的所述感光性层或去除了所述临时支承体之后进行了固化的所述感光性层。

13.一种静电电容型输入装置，其具有权利要求11所述的电极保护膜或权利要求12所述的层叠体。

14.一种触摸面板的制造方法，其包括如下工序：

准备具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的结构的触摸面板用基板；

在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的一侧的表面上使用权利要求1至10中任一项所述的感光性转印材料形成感光性层；

对形成在所述触摸面板用基板上的所述感光性层进行图案曝光；及

对经图案曝光的所述感光性层进行显影，由此得到对所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一个的至少一部分进行保护的触摸面板用保护膜。

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