JP6591078B2 - 感光性樹脂組成物、転写フィルム、タッチパネル用保護膜、タッチパネル及びその製造方法、並びに画像表示装置 - Google Patents

Description

本開示は、感光性樹脂組成物、転写フィルム、タッチパネル用保護膜、タッチパネル及びその製造方法、並びに画像表示装置に関する。

従来より、感光性樹脂組成物が知られている。
例えば、極めて電気特性に優れ、充分な密着性、表面硬度及び透明性を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物として、アルカリ可溶性樹脂、及び、２官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物を含む硬化性樹脂組成物であって、上記アルカリ可溶性樹脂は、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、側鎖にエチレン性不飽和基を有しないアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）と、の少なくとも２種以上であり、上記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）は、芳香族ビニル化合物と、無水マレイン酸誘導体及び／又はその加水分解物と、を含む単量体成分を重合して得られる硬化性樹脂組成物が知られている（例えば、特開２０１５−１６０８６９号公報参照）。

また、感光性樹脂組成物を用いてタッチパネル用電極の保護膜を形成する技術も知られている。
例えば、所定のタッチパネル用電極上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができるタッチパネル用電極の保護膜の形成方法として、タッチパネル用電極を有する基板上に、カルボキシ基を有し、酸価が３０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、上記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に上記所定部分以外を除去し、上記電極の一部又は全部を被覆する上記感光層の上記所定部分の硬化物からなる保護膜を形成する、タッチパネル用電極の保護膜の形成方法が知られている（例えば、特許第５３０４９７３号公報参照）。

一般に、感光性樹脂組成物、又は、仮支持体と感光性樹脂組成物の固形分を含有する感光性層とを備える転写フィルムを用い、基板上に感光性層を形成し、基板上に形成された感光性層をパターン露光し、パターン露光された感光性層を現像することにより、基板上に硬化膜を形成することが行われている。
上述の硬化膜に対し、耐汗性（即ち、汗に対する耐性）が要求される場合がある。例えば、タッチパネル用保護膜を上述の硬化膜として形成する場合には、形成されるタッチパネル用保護膜に対し、耐汗性が要求される（詳細は後述する）。
この点に関し、本発明者等の検討により、特開２０１５−１６０８６９号公報及び特許第５３０４９７３号公報に記載の感光性樹脂組成物を用いて作製された硬化膜は、耐汗性に劣る傾向があることが判明した。

また、本発明者等の検討により、特開２０１５−１６０８６９号公報及び特許第５３０４９７３号公報に記載の感光性樹脂組成物を用いて転写フィルムを作製し、作製された転写フィルムを用いて硬化膜を形成する場合において、転写フィルムをラミネートする段階で高温（例えば１２０℃以上）のラミネート条件を適用した場合には、熱かぶりに起因する現像残渣が発生する傾向があることが判明した。

本開示の第１態様の課題は、耐汗性に優れた硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することである。
本開示の第２態様の課題は、耐汗性に優れた硬化膜を形成でき、また、硬化膜の形成の際、転写フィルムをラミネートする段階で高温（例えば１２０℃以上）のラミネート条件を適用した場合においても、熱かぶりに起因する現像残渣の発生を抑制できる転写フィルムを提供することである。
本開示の第３態様の課題は、耐汗性に優れるタッチパネル用保護膜を提供することである。
本開示の第４態様の課題は、上記タッチパネル用保護膜を備えるタッチパネルを提供することである。
本開示の第５態様の課題は、上記タッチパネルを備える画像表示装置を提供することである。
本開示の第６態様の課題は、上記タッチパネルを製造できるタッチパネルの製造方法を提供することである。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー、
光重合開始剤、
カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体、及び
含窒素複素環化合物
を含有する感光性樹脂組成物。
＜２＞ 含窒素複素環化合物が、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアゾール化合物、及びチアジアゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物である＜１＞に記載の感光性樹脂組成物。
＜３＞ カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体の酸無水物価が、０．８０ｍｍｏｌ／ｇ〜５．００ｍｍｏｌ／ｇである＜１＞又は＜２＞に記載の感光性樹脂組成物。
＜４＞ カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体が、更に、スチレン化合物に由来する構成単位を含む＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物。
＜５＞ カルボン酸無水物構造を有する構成単位が、下記式ａ２−１で表される構成単位及び下記式ａ２−２で表される構成単位の少なくとも一方を含む＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物。

＜６＞ カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体の含有量が、感光性樹脂組成物の固形分に対し、３０質量％以下である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物。
＜７＞ 含窒素複素環化合物が、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物を含む＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物。
＜８＞ タッチパネル用保護膜の形成に用いられる＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物。
＜９＞ 仮支持体と、
＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物の固形分を含有する感光性層と、
を備える転写フィルム。
＜１０＞ 感光性層の厚さが、２０μｍ以下である＜９＞に記載の転写フィルム。
＜１１＞ タッチパネル用保護膜の形成に用いられる＜９＞又は＜１０＞に記載の転写フィルム。
＜１２＞ ＜８＞に記載の感光性樹脂組成物の固形分の硬化物であるタッチパネル用保護膜。
＜１３＞ ＜１２＞に記載のタッチパネル用保護膜を備えるタッチパネル。
＜１４＞ ＜１３＞に記載のタッチパネルを備える画像表示装置。
＜１５＞ 基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程と、
タッチパネル用基板のタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、＜８＞に記載の感光性樹脂組成物又は＜１１＞に記載の転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程と、
タッチパネル用基板の上記面の上に形成された感光性層をパターン露光する工程と、
パターン露光された感光性層を現像することにより、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る工程と、
を含むタッチパネルの製造方法。

本開示の第１態様によれば、耐汗性に優れた硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物が提供される。
本開示の第２態様によれば、耐汗性に優れた硬化膜を形成でき、また、硬化膜の形成の際、転写フィルムをラミネートする段階で高温（例えば１２０℃以上）のラミネート条件を適用した場合においても、熱かぶりに起因する現像残渣の発生を抑制できる転写フィルムが提供される。
本開示の第３態様によれば、耐汗性に優れるタッチパネル用保護膜が提供される。
本開示の第４態様によれば、上記タッチパネル用保護膜を備えるタッチパネルが提供される。
本開示の第５態様によれば、上記タッチパネルを備える画像表示装置が提供される。
本開示の第６態様によれば、上記タッチパネルを製造できるタッチパネルの製造方法が提供される。

本開示の第２態様に係る転写フィルムの具体例を示す概略断面図である。 本開示の第４態様に係るタッチパネルの第１具体例を示す概略断面図である。 本開示の第４態様に係るタッチパネルの第２具体例を示す概略断面図である。

本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を包含する概念である。
本明細書において、重合体における構成単位の比は、特に断りが無い限り、モル比を表す。

本明細書において、「感光性樹脂組成物の固形分」とは、感光性樹脂組成物中の溶剤以外の成分を意味し、「感光性樹脂組成物の固形分量」とは、感光性樹脂組成物中の固形分の全量を意味する。
本明細書において、「光」は、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線といった活性エネルギー線を包含する概念である。
本明細書において、「透明」とは、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍにおける最低透過率が８０％以上（好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上）であることを意味する。

〔感光性樹脂組成物〕
本開示の感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー（以下、単に「光重合性モノマー」ともいう）、光重合開始剤、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体（以下、「特定重合体」ともいう）、及び含窒素複素環化合物を含有する。

本開示の感光性樹脂組成物によれば、耐汗性に優れた硬化膜（例えば、タッチパネル用保護膜。以下同じ。）を形成できる。
硬化膜の耐汗性の効果が発現する理由は明らかではないが、以下の理由が考えられる。
硬化膜中には、特定重合体及び含窒素複素環化合物が含有されている。この硬化膜に汗が接触した場合には、汗中の水分により、硬化膜中の特定重合体のカルボン酸無水物構造が開環する。硬化膜中の含窒素複素環化合物は、上記カルボン酸無水物構造の開環に対し、触媒として機能すると考えられる。上述したカルボン酸無水物構造の開環という機構により、硬化膜に接触した汗が硬化膜中にトラップされる（即ち、硬化膜の耐汗性の効果が発現する）と考えられる。
但し、本開示の感光性樹脂組成物は、上記理由によって限定されることはない。

本開示の感光性樹脂組成物から含窒素複素環化合物を除いた場合には、硬化膜の耐汗性が劣化する（例えば、後述の比較例２参照）。この理由は、カルボン酸無水物構造の開環に対する触媒として機能する含窒素複素環化合物が無いことにより、特定重合体のカルボン酸無水物構造の開環が不十分となり、汗をトラップする効果が不十分となるためと推測される。
本開示の感光性樹脂組成物から特定重合体を除いた場合にも、硬化膜の耐汗性が劣化する（例えば、後述の比較例３参照）。この理由は、開環することによって汗をトラップするカルボン酸無水物構造が存在しないためと推測される。
また、本開示の感光性樹脂組成物において、特定重合体中のカルボン酸無水物構造を有する構成単位を、ジカルボン酸のハーフエステル構造を有する構成単位に変更した場合にも、硬化膜の耐汗性が劣化する（例えば、後述の比較例４及び５参照）。この理由は、カルボン酸無水物構造が無いことにより、汗をトラップする効果が不十分となるためと推測される。

本開示の感光性樹脂組成物は、基板（例えば、後述する、ガラス基板、樹脂基板、タッチパネル用基板、等）の上に塗布し、上記基板上に直接的に感光性層を形成することに用いることができる。
また、仮支持体及び感光性層を備える転写フィルムの感光性層を形成することにも用いることができる。

本開示の感光性樹脂組成物を転写フィルムの感光性層の形成に用いた場合には、以下の効果も奏される。
即ち、上記転写フィルムを用いて硬化膜を形成する際、転写フィルムをラミネートする段階で高温（例えば１２０℃以上）のラミネート条件を適用した場合においても、熱かぶりに起因する現像残渣の発生が抑制される。
かかる効果について、以下では、単に「現像残渣抑制の効果」ともいう。
現像残渣抑制の効果が奏される理由は明らかではないが、以下のように推測される。但し、本開示の感光性樹脂組成物は以下の理由によって限定されることはない。
熱かぶりに起因する現像残渣は、転写フィルムの感光性層を、高温（例えば１２０℃以上）のラミネート条件にて基板上に転写し、次いで、基板上に転写された感光性層を露光し、現像する場合において、感光性層の非露光部の現像性（即ち、現像液に対する溶解性）が不足することによって生じると考えられる。感光性層の非露光部は、非硬化部であり、本来は現像液によって除去されるべき部分（即ち、現像液に溶解すべき部分）である。
熱かぶりに起因する現像残渣に関し、本開示の感光性樹脂組成物は、特定重合体及び含窒素複素環化合物を含有している。このため、本開示の感光性樹脂組成物の固形分を含む感光性層に現像液が接触した際、感光層中の含窒素複素環化合物が触媒として機能することにより、現像液中の水分によって感光層中の特定重合体のカルボン酸無水物構造が開環し、カルボキシ基を生じる。このカルボキシ基が、感光性層の非露光部の現像性（即ち、現像液に対する溶解性）を向上させるので、熱かぶりに起因する現像残渣の発生が抑制されると考えられる。

なお、感光性層の露光部（即ち、硬化膜となる部分）の表面及びその近傍では、現像液と感光性層との接触によって生じたカルボキシ基が、現像後の乾燥（好ましくはポストベーク）により、再びカルボン酸無水物構造に戻ると考えられる。また、感光性層の露光部の内部（現像液と接触しない部分）では、カルボン酸無水物構造が開環せずにそのまま残っていると考えられる。硬化膜においては、これらのカルボン酸無水物構造と含窒素複素環化合物との作用により、前述の耐汗性向上の効果が発揮されると考えられる。

本開示の感光性樹脂組成物は、耐汗性が要求される硬化膜の形成に特に制限なく用いられる。
耐汗性が要求される硬化膜の一例として、タッチパネル用保護膜が挙げられる。
以下、タッチパネル及びタッチパネル用保護膜について説明する。

携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器として、画像表示領域を有する画像表示装置（例えば液晶表示装置）の表面にタッチパネル（即ち、タブレット型の入力装置）が配置されている電子機器が知られている。
かかる電子機器では、画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、タッチパネルの上記指示画像に対応する箇所に、指などで触れることにより、情報の入力を行う。

タッチパネルは、
基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方（以下、「電極等」ともいう）が配置された構造を有するタッチパネル用基板と、
電極等の少なくとも一部を直接又は他の層を介して覆うタッチパネル用保護膜と、
を備える。
タッチパネル用電極としては、例えば、画像表示領域に設けられる透明電極パターンが挙げられる。
タッチパネル用配線としては、画像表示領域外の領域（以下、「枠部」又は「画像非表示領域」ともいう）に設けられる引き回し配線が挙げられる。引き回し配線は、取り出し配線とも呼ばれている。

タッチパネルにおいて、人間の汗がタッチパネル用保護膜に浸透することにより、タッチパネル用保護膜の下の電極等が腐食する場合がある。かかる腐食を抑制するために、タッチパネル用保護膜には、耐汗性が要求される。
特に、近年では、タッチパネルの軽量化、タッチパネルの透過率向上等の観点から、タッチパネル用保護膜の厚さ低減（即ち、薄膜化）が求められている。タッチパネル用保護膜の厚さを薄くすればするほど、タッチパネル用保護膜の耐汗性が低下し易い。
以上の事情により、タッチパネル用保護膜の耐汗性は、実用上、重要な性能である。
従って、耐汗性に優れる硬化膜を形成できる本開示の感光性樹脂組成物は、硬化膜としてのタッチパネル用保護膜の形成に用いられることが特に好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物を用いてタッチパネル用保護膜を形成する態様としては、以下の態様１及び態様２が挙げられる。
態様１．タッチパネル用基板上に、本開示の感光性樹脂組成物を塗布し乾燥させて感光性層を形成し、形成された感光性層に対し、露光及び現像を順次施すことによってタッチパネル用保護膜を形成する態様。
態様２．まず、仮支持体上に本開示の感光性樹脂組成物を塗布し乾燥させて感光性層を形成することにより転写フィルムを作製し、作製された転写フィルムをタッチパネル用基板上にラミネートすることによりタッチパネル用基板上に転写フィルムの感光性層を転写し、タッチパネル用基板上に転写された感光性層に対し、露光及び現像を順次施すことによってタッチパネル用保護膜を形成する態様。
言うまでもないが、本開示の感光性樹脂組成物は、タッチパネル用保護膜以外の硬化膜の形成に用いられてもよい。

以下、本開示の感光性樹脂組成物に含有され得る各成分について説明する。

＜特定重合体＞
本開示の感光性樹脂組成物は、特定重合体（即ち、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体）を含有する。
特定重合体及び後述する含窒素複素環化合物は、前述のとおり、硬化膜の耐汗性向上の効果、及び、転写フィルムを用いた場合の現像残渣抑制の効果に寄与する。
特定重合体の重量平均分子量は、１０００〜５０００００であることが好ましく、３０００〜３０００００であることがより好ましく、５０００〜２０００００であることが更に好ましく、５０００〜１０００００であることが更に好ましく、５０００〜５００００であることが更に好ましく、５０００〜３００００であることが特に好ましい。

本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）によって測定する。
Ｍｗの測定において、検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。
−条件−
・ＧＰＣ：ＨＬＣ（登録商標）−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
・カラム：ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）、Ｓｕｐｅｒ ＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ−Ｈ（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本
・溶離液：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・試料濃度：０．４５質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・サンプル注入量：１０μＬ
・測定温度：４０℃
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）

（カルボン酸無水物構造を有する構成単位）
特定重合体は、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を少なくとも１種含む。
カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、カルボン酸無水物構造を１種類のみ有することが好ましい。
カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造及び環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造であることが好ましい。
環状カルボン酸無水物構造の環としては、５〜７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。
また、環状カルボン酸無水物構造は、他の環構造と縮環又は結合して多環構造を形成していてもよいが、多環構造を形成していないことが好ましい。

環状カルボン酸無水物構造に他の環構造が縮環又は結合して多環構造を形成している場合、多環構造としては、ビシクロ構造又はスピロ構造が好ましい。
多環構造において、環状カルボン酸無水物構造に対し縮環又は結合している他の環構造の数としては、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましい。
他の環構造としては、炭素数３〜２０の環状の炭化水素基、炭素数３〜２０のヘテロ環基等が挙げられる。
ヘテロ環基としては、特に限定されないが、脂肪族ヘテロ環基及び芳香族ヘテロ環基が挙げられる。
また、ヘテロ環基としては、５員環又は６員環が好ましく、５員環が特に好ましい。
また、ヘテロ環基としては、酸素原子を少なくとも一つ含有するヘテロ環基（例えば、オキソラン環、オキサン環、ジオキサン環等）が好ましい。

また、カルボン酸無水物構造は、置換基を有していても、有していなくてもよいが、有していないことが好ましい。
置換基としては、特に限定されないが、例えば、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基などが挙げられ、好ましくは、炭素数１〜８のアルキル基又はシアノ基である。
炭素数１〜８のアルキル基としては、直鎖状の炭素数１〜６のアルキル基、分岐状の炭素数３〜６のアルキル基、又は環状の炭素数３〜６のアルキル基が好ましく、直鎖状の炭素数１〜３のアルキル基がより好ましい。
カルボン酸無水物構造が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されないが、１〜４が好ましく、１又は２がより好ましい。
カルボン酸無水物構造が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
また、カルボン酸無水物構造に他の環構造が縮環している場合、この他の環構造が置換基を有していてもよい。

カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式２で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位であるか、又は、下記式２で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。

式２中、Ｒ^Ａ１ａは置換基を表し、ｎ^１ａ個のＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよい。
Ｚ^１ａは、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を含む環を形成する２価の基を表す。ｎ^１ａは０以上の整数を表す。

Ｒ^Ａ１ａで表される置換基としては、上述したカルボン酸無水物構造が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。

Ｚ^１ａとしては、炭素数２〜４のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が特に好ましい。

式２で表される部分構造は、他の環構造と縮環又は結合して多環構造を形成していてもよいが、多環構造を形成していないことが好ましい。
ここでいう他の環構造としては、上述した、カルボン酸無水物構造と縮環又は結合してもよい他の環構造と同様のものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。

ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。
Ｚ^１ａが炭素数２〜４のアルキレン基を表す場合、ｎ^１ａは０〜４の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０が更に好ましい。
ｎ^１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲ^Ａ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。

カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位であることが好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位であることがより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位であることが更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位であることが更に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位であることが特に好ましい。

以下、カルボン酸無水物構造を有する構成単位の具体例を挙げるが、カルボン酸無水物構造を有する構成単位はこれらの具体例に限定されるものではない。
下記の構成単位中、Ｒｘは、水素原子、メチル基、ＣＨ_２ＯＨ基、又はＣＦ_３基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。

カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、上記式ａ２−１〜式ａ２−２１で表される構成単位のうちの少なくとも１種であることが好ましく、上記式ａ２−１〜式ａ２−２１で表される構成単位のうちの１種であることがより好ましい。

カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、硬化膜の耐汗性向上及び転写フィルムとした場合の現像残渣低減の観点から、式ａ２−１で表される構成単位及び式ａ２−２で表される構成単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、式ａ２−１で表される構成単位を含むことがより好ましい。

特定重合体におけるカルボン酸無水物構造を有する構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量。以下同じ。）は、特定重合体に含有される全ての構成単位の総含有量に対し、５モル％〜６０モル％であることが好ましく、５モル％〜４０モル％であることがより好ましく、１０モル％〜３５モル％であることが更に好ましい。

（式１で表される構成単位）
特定重合体は、下記式１で表される構成単位を少なくとも１種含有することが好ましい。これにより、形成される硬化膜の疎水性及び強度がより向上する。

式１中、Ｒ^１は、水酸基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルボキシ基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の整数である場合、２つ以上存在するＲ^１は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｒ^１としては、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、カルボキシ基、Ｆ原子、Ｃｌ原子、Ｂｒ原子、又はＩ原子であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、Ｃｌ原子、又はＢｒ原子であることがより好ましい。
Ｒ^２としては、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素原子６〜１２のアリール基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

ｎは、０〜３の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。

式１で表される構成単位としては、スチレン化合物に由来する構成単位であることが好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、α，ｐ−ジメチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン、１，１−ジフェニルエチレン等が挙げられ、スチレン又はα−メチルスチレンが好ましく、スチレンが特により好ましい。
式１で表される構成単位を形成するためのスチレン化合物は、１種のみであっても２種以上であってもよい。

特定重合体が式１で表される構成単位を含有する場合、特定重合体における式１で表される構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量。以下同じ。）は、特定重合体に含有される全ての構成単位の総含有量に対し、２０モル％〜９０モル％であることが好ましく、３０モル％〜９０モル％であることがより好ましく、４０モル％〜９０モル％であることが更に好ましい。

特定重合体が式１で表される構成単位を含有する場合、特定重合体における、式１で表される構成単位とカルボン酸無水物構造を有する構成単位との総含有量は、特定重合体の全量に対し、７０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることが更に好ましい。
式１で表される構成単位とカルボン酸無水物構造を有する構成単位との総含有量の上限には特に制限はない。即ち、上記総含有量は、１００質量％であってもよい。

（その他の構成単位）
特定重合体は、カルボン酸無水物構造を有する構成単位及び式１で表される構成単位以外のその他の構成単位を少なくとも１種含んでいてもよい。
その他の構成単位は、酸基を含有しないことが好ましい。
その他の構成単位としては特に限定されないが、単官能エチレン性不飽和化合物に由来する構成単位が挙げられる。
上記単官能エチレン性不飽和化合物としては、公知の化合物を特に限定なく用いることができ、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸誘導体；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物；アリルグリシジルエーテル等のアリル化合物の誘導体；等が挙げられる。

特定重合体におけるその他の構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量）は、特定重合体の全量に対し、０質量％〜１０質量％であることが好ましく、０質量％〜５質量％であることがより好ましく、０質量％〜２質量％であることが更に好ましい。

（含有量）
本開示の感光性樹脂組成物における特定重合体の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対し、３０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
特定重合体の含有量が３０質量％以下であると、光重合性モノマー（及び必要に応じ用いられるその他の重合体）の含有量を確保し易いので、感光性樹脂組成物の感光性（即ち、光硬化性）及び硬化膜の強度がより向上する。
特定重合体の含有量は、より好ましくは２０質量％以下である。
特定重合体の含有量が０．１質量％以上であると、硬化膜の耐汗性がより向上する。
特定重合体の含有量は、硬化膜の耐汗性をより向上させる観点から、より好ましくは０．２質量％以上であり、更に好ましくは０．５質量％以上であり、特に好ましくは１質量％以上である。

（酸無水物価）
特定重合体の酸無水物価としては、０．８０ｍｍｏｌ／ｇ〜５．００ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．９０ｍｍｏｌ／ｇ〜３．００ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、１．００ｍｍｏｌ／ｇ〜２．００ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。
本明細書において、酸無水物価とは、特定重合体１ｇ当たりのカルボン酸無水物構造のミリモル数（ｍｍｏｌ）を意味する。
特定重合体の酸無水物価が０．８０ｍｍｏｌ／ｇ以上であると、硬化膜の耐汗性がより向上する。この理由は、前述した汗をトラップする効果がより効果的に働くためと考えられる。
特定重合体の酸無水物価が５．００ｍｍｏｌ／ｇ以下であると、硬化膜の耐汗性がより向上する。この理由は、硬化膜がより疎水的となるためと考えられる。

本明細書において、特定重合体の酸無水物価は、カルボン酸無水物構造とオクチルアミンとの反応量を測定することによって求める。特定重合体の酸無水物価は、具体的には、以下の方法によって求める。

まず、下記溶液Ａ及び下記溶液Ｂを調製する。
溶液Ａ：オクチルアミンの１０質量％ＭＦＧ（メチルプロピレングリコール）溶液
溶液Ｂ：特定重合体と溶液Ａとの反応液

溶液Ｂは、特定重合体と溶液Ａとの混合液を室温（２５℃）で２時間撹拌し、特定重合体と溶液Ａとの反応を完結させることによって調製する。
溶液Ｂの調製において、上記混合液における特定重合体と溶液Ａとの混合比は、特定重合体の酸量（ｍｍｏｌ）と、溶液Ａのアミン量（ｍｍｏｌ）と、を一致させるか、又は、特定重合体の酸量（ｍｍｏｌ）に対して溶液Ａのアミン量（ｍｍｏｌ）が過剰となるようにする。
ここで、特定重合体の酸量（ｍｍｏｌ）とは、特定重合体中のカルボン酸無水物構造が加水分解した状態での総酸量（ｍｍｏｌ）を意味する。
特定重合体の酸量（ｍｍｏｌ）は、特定重合体中のカルボン酸無水物構造が加水分解した状態での特定重合体の総酸価（ｍｍｏｌ／ｇ）と、特定重合体の秤量値（ｇ）と、の積から求める。
溶液Ａのアミン量（ｍｍｏｌ）は、溶液Ａのアミンの価数（ｍｍｏｌ／ｇ）と、溶液Ａの秤量値（ｇ）と、の積から求める。

次に、溶液Ａ及び溶液Ｂを、それぞれ０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液で滴定することにより、溶液Ａのアミンの価数Ａ（ｍｍｏｌ／ｇ）及び溶液Ｂのアミンの価数Ｂ（ｍｍｏｌ／ｇ）をそれぞれ算出する。
溶液Ａのアミンの価数Ａ（ｍｍｏｌ／ｇ）及び溶液Ｂのアミンの価数Ｂ（ｍｍｏｌ／ｇ）に基づき、下記算出式により、特定重合体の酸無水物価（ｍｍｏｌ／ｇ）を算出する。
溶液Ｂの酸無水物量（ｍｍｏｌ）
＝溶液Ａのアミンの価数Ａ（ｍｍｏｌ／ｇ）×溶液Ｂの調製に用いた溶液Ａの秤量値（ｇ）−溶液Ｂのアミンの価数Ｂ（ｍｍｏｌ／ｇ）×（溶液Ｂの調製に用いた溶液Ａの秤量値（ｇ）＋溶液Ｂの調製に用いた特定重合体の秤量値（ｇ））
特定重合体の酸無水物価（ｍｍｏｌ／ｇ）
＝溶液Ｂの酸無水物量（ｍｍｏｌ）÷溶液Ｂの調製に用いた特定重合体の秤量値（ｇ）

なお、本明細書中における酸価は、ＪＩＳ Ｋ００７０（１９９２）記載の方法に従って測定された値を意味する。

＜含窒素複素環化合物＞
本開示の感光性樹脂組成物は、含窒素複素環化合物を少なくとも１種含有する。
含窒素複素環化合物及び前述の特定重合体は、前述のとおり、硬化膜の耐汗性向上、及び、転写フィルムの感光性層に用いた場合の現像残渣抑制に寄与する。

含窒素複素環化合物としては、アゾール化合物（即ち、含窒素５員環化合物）、含窒素６員環化合物等が挙げられるが、硬化膜の耐汗性向上の効果、及び、転写フィルムを用いた場合の現像残渣抑制の効果の観点から、アゾール化合物が好ましい。
含窒素複素環化合物として、更に好ましくは、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアゾール化合物、及びチアジアゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物である。

イミダゾール化合物としては、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、５−アミノ−２−メルカプトベンゾイミダゾール、５−メチルベンズイミダゾール等が挙げられる。

トリアゾール化合物としては、１，２，４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール、３−メルカプト１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−［Ｎ,Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、３−アミノ−５−メチルチオ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、２，２’−［［（メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）メチル］イミノ］ビスエタノール、１−（２，３−ジカルボキシプロピル）ベンゾトリアゾール、１−［（２−エチルヘキシルアミノ）メチル］ベンゾトリアゾール、２，６−ビス［（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）メチル］−４−メチルフェノール、１−（１’，２’−ジカルボキシエチル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

テトラゾール化合物としては、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾール、５−メルカプト−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール等が挙げられる。
テトラゾール化合物としては、硬化膜の耐汗性をより向上させる観点から、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、又は１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾールが特に好ましい。

チアゾール化合物としては、チアゾール、ベンゾチアゾール、２−アミノベンゾチアゾール等が挙げられる。

チアジアゾール化合物としては、チアジアゾール、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，１，３−ベンゾチアジアゾール、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジチオール、２−メルカプト−５−メチルチオ−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−アミノ−５−メチルチオ−１，３，４−チアジアゾール、５−アミノ−１，２，３−チアジアゾール等が挙げられる。

含窒素複素環化合物としては、硬化膜の耐汗性をより向上させる観点から、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物を含むことが好ましい。

含窒素複素環化合物の分子量には特に制限はないが、含窒素複素環化合物の分子量は１０００以下が好ましく、５００以下がより好ましく、３００以下が更に好ましく、２００以下が特に好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物における含窒素複素環化合物の含有量は、硬化膜の耐汗性をより向上させる観点、及び、転写フィルムに用いた場合の現像残渣抑制の観点から、感光性樹脂組成物の固形分に対し、０．１質量％〜８質量％であることが好ましく、０．１質量％〜５質量％であることがより好ましく、０．２質量％〜３質量％であることが更に好ましく、０．２質量％〜２質量％であることが更に好ましく、０．２質量％〜１質量％であることが特に好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物において、特定重合体及び含窒素複素環化合物の総含有質量に対する含窒素複素環化合物の含有質量の質量比〔含窒素複素環化合物の含有質量／特定重合体及び含窒素複素環化合物の総含有質量〕は、硬化膜の耐汗性をより向上させる観点、及び、転写フィルムに用いた場合の現像残渣抑制の観点から、０．０１〜０．７０であることが好ましく、０．０１〜０．５０であることがより好ましく、０．０１以上０．５０未満であることが更に好ましく、０．０３〜０．４０が更に好ましく、０．０５〜０．４０であることが特に好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物において、特定重合体及び含窒素複素環化合物の総含有量は、本開示の感光性樹脂組成物の固形分に対し、０．１質量％〜３５質量％であることが好ましく、１質量％〜２５質量％であることがより好ましく、１質量％〜２０質量％であることが更に好ましく、２質量％〜１０質量％であることが特に好ましい。

＜光重合性モノマー＞
本開示の感光性樹脂組成物は、光重合性モノマー（即ち、エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー）を少なくとも１種含有する。
光重合性モノマーは、組成物の感光性（即ち光硬化性）及び硬化膜の強度に寄与する成分である。

光重合性モノマーは、２官能以上の光重合性モノマーを含むことが好ましい。
ここで、２官能以上の光重合性モノマーとは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する光重合性モノマーを意味する。
エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
光重合性モノマーとしては、（メタ）アクリレートが好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物は、硬化膜の耐汗性をより向上する観点から、２官能の光重合性モノマー（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート）と、３官能以上の光重合性モノマー（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート）と、を含有することが特に好ましい。

２官能の光重合性モノマーとしては特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
２官能の光重合性モノマーとしては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメナノールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
２官能の光重合性モノマーとしては、より具体的には、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ 新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（ＤＣＰ 新中村化学工業（株）製）、１，９−ノナンジオールジアクリレート（Ａ−ＮＯＤ−Ｎ 新中村化学工業（株）製）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ−ＨＤ−Ｎ 新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

３官能以上の光重合性モノマーとしては特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
３官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物、等が挙げられる。

ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。

光重合性モノマーとしては、
（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標） ＤＰＣＡ-２０、新中村化学工業（株）製Ａ−９３００−１ＣＬ等）、
（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ−１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−９３００、ダイセル・オルネクス製 ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標） １３５等）、
エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ等）、等も挙げられる。

光重合性モノマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート（好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート）も挙げられる。
３官能以上のウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、８ＵＸ−０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ−３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ−１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）、等が挙げられる。

また、光重合性モノマーは、現像性向上及び硬化膜の耐汗性向上の観点から、酸基を有する重合性モノマーを含むことが好ましい。
酸基としては、例えば、リン酸基、スルホン酸基、及びカルボキシ基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
酸基を有する光重合性モノマーとしては、例えば、
酸基を有する３〜４官能の光重合性モノマー（ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート［ＰＥＴＡ］骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝８０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、
酸基を有する５〜６官能の光重合性モノマー（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート［ＤＰＨＡ］骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝２５〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、等が挙げられる。
これら酸基を有する３官能以上の光重合性モノマーは、必要に応じ、酸基を有する２官能の光重合性モノマーと併用してもよい。

酸基を有する光重合性モノマーとしては、カルボキシ基を含有する２官能以上の光重合性モノマー及びそのカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。これにより硬化膜の耐汗性が高まる。
カルボキシ基を含有する２官能以上の光重合性モノマーは特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
カルボキシ基を含有する２官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、アロニックス（登録商標）ＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ−５２０（東亞合成（株）製）、又はアロニックスＭ−５１０（東亞合成（株）製）を好ましく用いることができる。

酸基を有する光重合性モノマーは、特開２００４−２３９９４２号公報の段落００２５〜００３０に記載の酸基を有する重合性化合物であることも好ましい。この公報の内容は本明細書に組み込まれる。

本開示の感光性樹脂組成物に含有され得る光重合性モノマーの重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２００〜３０００が好ましく、２５０〜２６００がより好ましく、２８０〜２２００がさらに好ましい。
本開示の感光性樹脂組成物が光重合性モノマーを含有する場合、感光性樹脂組成物に含有されるすべての光重合性モノマーのうち、分子量が最小のものの分子量は、２５０以上が好ましく、２８０以上がより好ましく、３００以上がさらに好ましい。
本開示の感光性樹脂組成物が光重合性モノマーを含有する場合、感光性樹脂組成物に含有されるすべての光重合性モノマーのうち、分子量３００以下の光重合性モノマーの含有量の割合は、感光性樹脂組成物に含有されるすべての重合性化合物に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物における光重合性モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対し、１質量％〜７０質量％が好ましく、１０質量％〜７０質量％がより好ましく、２０質量％〜６０質量％が更に好ましく、２０質量％〜５０質量％が特に好ましい。

また、本開示の感光性樹脂組成物が２官能の光重合性モノマーと３官能以上の光重合性モノマーとを含有する場合、２官能の光重合性モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物に含まれる全ての光重合性モノマーに対し、１０質量％〜９０質量％が好ましく、２０質量％〜８５質量％がより好ましく、３０質量％〜８０質量％がさらに好ましい。
また、この場合、３官能以上の光重合性モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物に含まれる全ての光重合性モノマーに対し、１０質量％〜９０質量％が好ましく、１５質量％〜８０質量％がより好ましく、２０質量％〜７０質量％がさらに好ましい。
また、この場合、２官能以上の光重合性モノマーの含有量は、２官能の光重合性モノマーと３官能以上の光重合性モノマーとの総含有量に対し、４０質量％以上１００質量％未満であることが好ましく、４０質量％〜９０質量％であることがより好ましく、５０質量％〜８０質量％であることが更に好ましく、５０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。

また、本開示の感光性樹脂組成物が２官能以上の光重合性モノマーを含有する場合、この感光性樹脂組成物は、更に単官能の光重合性モノマーを含有してもよい。
但し、本開示の感光性樹脂組成物が２官能以上の光重合性モノマーを含有する場合、感光性樹脂組成物に含有される光重合性モノマーにおいて、２官能以上の光重合性モノマーが主成分であることが好ましい。
具体的には、本開示の感光性樹脂組成物が２官能以上の光重合性モノマーを含有する場合において、２官能以上の光重合性モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物に含有される光重合性モノマーの総含有量に対し、６０質量％〜１００質量％が好ましく、８０質量％〜１００質量％がより好ましく、９０質量％〜１００質量％が特に好ましい。

また、本開示の感光性樹脂組成物が、酸基を有する光重合性モノマー（好ましくは、カルボキシ基を含有する２官能以上の光重合性モノマー又はそのカルボン酸無水物）を含有する場合、酸基を有する光重合性モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対し、１質量％〜５０質量％が好ましく、１質量％〜２０質量％がより好ましく、１質量％〜１０質量％がさらに好ましい。

＜光重合開始剤＞
本開示の感光性樹脂組成物は、光重合開始剤を少なくとも１種含有する。
光重合開始剤としては特に制限はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、
オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう）、
α−アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう）、
α−ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α−ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう）、
アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう）、
Ｎ−フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ−フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう）、
等が挙げられる。

光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α−ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、及びＮ−フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及びＮ−フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。

また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００３１〜００４２、特開２０１５−０１４７８３号公報の段落００６４〜００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。

光重合開始剤の市販品としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ製）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７、ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７、ＢＡＳＦ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９、ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １１７３、ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４、ＢＡＳＦ製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１、ＢＡＳＦ製）、オキシムエステル系の（商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン（株）製）などが挙げられる。

本開示の感光性樹脂組成物における光重合開始剤の含有量には特に制限はない。
光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。
また、光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。

＜その他の重合体＞
本開示の感光性樹脂組成物は、特定重合体以外のその他の重合体を含有してもよい。
その他の重合体の種類に特に制限は無く、公知のポリマーを用いることができる。
その他の重合体としては、（メタ）アクリル樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂等を挙げることができる。
その他の重合体は２種類以上を併用することもできる。

その他の重合体は、現像性の観点から、酸基を含むことが好ましい。
酸基としては、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基などを挙げることができ、カルボキシ基が好ましい。
その他の重合体は、カルボキシ基を有する構成単位（好ましくは、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位）を含むことが好ましい。この場合、その他の重合体中におけるカルボキシ基を有する構成単位の割合は、その他の重合体に含有される全ての構成単位の総含有量に対し、１モル％〜５０モル％が好ましく、５モル％〜３５モル％がより好ましい。

その他の重合体は、（メタ）アクリル樹脂であることが好ましい。
ここで、（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の少なくとも一方を含む樹脂を指す。
（メタ）アクリル樹脂中における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計割合は、（メタ）アクリル樹脂に含有される全ての構成単位の総含有量に対し、３０モル％以上であることが好ましく、５０モル％以上であることがより好ましい。
（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を含むことが好ましい。この場合、（メタ）アクリル樹脂中における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の割合は、（メタ）アクリル樹脂に含有される全ての構成単位の総含有量に対し、１モル％〜５０モル％が好ましく、５モル％〜３５モル％がより好ましい。

その他の重合体（好ましくは（メタ）アクリル樹脂。以下同じ。）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００〜１０００００が好ましく、１００００〜５００００がより好ましい。

その他の重合体の酸価は、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましい。
その他の重合体としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５、及び、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるカルボキシ基含有アクリル樹脂を用いることが好ましい。
その他の重合体の酸価は、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。

その他の重合体の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対し、１０質量％〜９５質量％であることが好ましく、２０質量％〜８０質量％であることがより好ましく、３０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物において、重合体の全量に対する光重合性モノマーの全量の
質量比〔光重合性モノマーの全量／重合体の全量〕は、０．２０〜０．９０であることが好ましく、０．３０〜０．８０であることがより好ましく、０．４０〜０．８０であることが特に好ましい。
言うまでもないが、本開示の感光性樹脂組成物がその他の重合体を含有する場合、上記重合体の全量は、特定重合体とその他の重合体との合計量である。

本開示の感光性樹脂組成物において、重合体の全量と光重合性モノマーの全量との合計量は、感光性樹脂組成物の固形分に対し、６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。

＜熱架橋性化合物＞
本開示の感光性樹脂組成物は、硬化膜の耐汗性をより向上させる観点から、熱架橋性化合物を少なくとも１種含有してもよい。
熱架橋性化合物としては、一分子中に２つ以上の熱反応性基を有する化合物が好ましい。一分子中に２つ以上の熱反応性基を有する化合物は、熱により反応して架橋構造を形成する。
本開示の感光性樹脂組成物が熱架橋性化合物を含有する場合には、上記感光性樹脂組成物は、感光性（即ち、光硬化性）だけでなく、更に、熱硬化性をも有する。
本開示の感光性樹脂組成物が光硬化性及び熱硬化性の両方を有する場合には、光硬化により強度に優れた硬化膜を形成でき、硬化膜形成後の熱硬化により、硬化膜の強度を更に向上させ、かつ、硬化膜の耐汗性をより低減させることができる。

熱架橋性化合物の熱反応性基は、硬化膜の耐汗性をより低減させる観点から、イソシアネート基、ケテン基、ブロック化イソシアネート基、及びブロック化ケテン基からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
即ち、熱架橋性化合物は、イソシアネート基、ケテン基、ブロック化イソシアネート基、及びブロック化ケテン基からなる群から選ばれる少なくとも１種である熱反応性基を、一分子中に合計で２つ以上有することが特に好ましい。

熱架橋性化合物は、一分子中に親水性基を有していてもよい。
熱架橋性化合物が一分子中に親水性基を有することにより、現像性が向上する。
一分子中に親水性基を有する熱架橋性化合物としては特に制限されず、公知の化合物を用いることができる。
一分子中に親水性基を有する熱架橋性化合物の合成方法も特に制限されない。
一分子中に親水性基を有する熱架橋性化合物における親水性基として、ノニオン型親水性基又はカチオン型親水性基が好ましい。
ノニオン型親水性基は特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、及びジエチレングリコールのうちいずれかのアルコールの水酸基に、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドを付加した構造の基が挙げられる。

熱架橋性化合物は、熱により酸と反応する化合物であってもよい。
熱により酸と反応する化合物である熱架橋性化合物は、加熱により、系内に存在する酸基（例えば、その他の重合体としての（メタ）アクリル樹脂中の酸基）と反応する。これにより、系内の極性が減少するため親水性が低下する。
熱により酸と反応する化合物である熱架橋性化合物としては、熱反応性基として、ブロック剤により一時的に不活性化されている基（例えば、ブロック化イソシアネート基、ブロック化ケテン基、等）を有し、かつ、所定の解離温度においてブロック剤由来の基が解離することにより酸と反応可能となる化合物であることが好ましい。
熱により酸と反応する化合物である熱架橋性化合物は、２５℃における酸との反応性よりも、２５℃を超えて加熱した後における酸との反応性の方が高い化合物であることが好ましい。

熱により酸と反応する化合物である熱架橋性化合物としては、ブロック化イソシアネート基を有する化合物（以下、「ブロックイソシアネート化合物」）又はブロック化ケテン基を有する化合物（以下、「ブロックケテン化合物」）が更に好ましく、ブロックイソシアネート化合物が特に好ましい。
この態様であると、電極等を保護する保護膜（例えばタッチパネル用保護膜）を感光性樹脂組成物によって形成する場合において、熱架橋性化合物による電極の腐食が抑制される。

（ブロックイソシアネート化合物）
ブロックイソシアネート化合物としては、イソシアネート化合物（即ち、イソシアネート基を有する化合物）のイソシアネート基をブロック剤で保護（マスク）した構造を有する化合物が好ましい。

ブロックイソシアネート化合物は、一分子中に親水性基を有することが好ましい。親水性基の好ましい態様は、前述のとおりである。

ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、１００℃〜１６０℃が好ましく、１３０℃〜１５０℃がより好ましい。
ここで、ブロックイソシアネート化合物の解離温度とは、「示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ（株）製、ＤＳＣ６２００）により、ＤＳＣ（Differential Scanning Calorimetry）分析にて測定した場合に、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」のことをいう。

ブロックイソシアネート化合物（例えば、解離温度が１００℃〜１６０℃であるブロックイソシアネート化合物）を形成するためのブロック剤としては、例えば、ピラゾール系化合物（３，５−ジメチルピラゾール、３−メチルピラゾール、４−ブロモ−３，５−ジメチルピラゾール、４−ニトロ−３，５−ジメチルピラゾールなど）、活性メチレン系化合物（マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ−ブチル、マロン酸ジ２−エチルヘキシルなど）など）、トリアゾール系化合物（１，２，４−トリアゾールなど）、オキシム系化合物（一分子中に−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）−で表される構造を有する化合物；例えば、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなど）が挙げられる。
中でも、保存安定性の観点から、オキシム系化合物及びピラゾール系化合物が好ましく、オキシム系化合物がより好ましい。

硬化膜の靭性及び基板密着力を向上する観点から、ブロックイソシアネート化合物は、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して合成される。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物のうち、ブロック剤としてオキシム系化合物を用いたオキシム構造を有する化合物は、オキシム構造を有さない化合物と比較して、解離温度を好ましい範囲に制御しやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすいため、好ましい。

ブロックイソシアネート化合物として、特開２００６−２０８８２４号公報の段落００７４〜００８５に記載のブロックイソシアネート化合物を用いてもよく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
ブロックイソシアネート化合物の具体例として、以下の化合物が挙げられる。ただし、ブロックイソシアネートは以下の化合物に限定されない。なお、以下の化合物の構造中、「＊」は、結合位置を示す。

ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いてもよい。
ブロックイソシアネート化合物の市販品としては、例えば、イソホロンジイソシアネートのメチルエチルケトンオキシムブロック化体であるタケネート（登録商標）Ｂ８７０Ｎ（三井化学（株）製）、及びヘキサメチレンジイソシアネート系ブロックイソシアネート化合物であるデュラネート（登録商標）ＭＦ−Ｋ６０Ｂ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、Ｘ３０７１．０４（いずれも旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。

（ブロックケテン化合物）
ブロックケテン化合物としては、ケテン化合物（即ち、ケテン基を有する化合物）のケテン基をブロック剤で保護した構造を有する化合物、光又は熱によりケテン基が発生する化合物、等が挙げられる。
ブロックケテン化合物を形成するためのブロック剤の具体例は、前述した、ブロックイゾシアネート化合物を形成するためのブロック剤の具体例と同様である。
ブロックケテン化合物として、より具体的には、ナフトキノンジアジド構造を有する化合物、メルドラム酸構造を有する化合物、等が挙げられる。

ブロックケテン化合物としては、４−｛４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］−α，α−ジメチルベンジル｝フェノールのナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、等が挙げられる。

ブロックケテン化合物としては、市販品を用いてもよい。
ブロックケテン化合物の市販品としては、例えば、４−｛４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］−α，α−ジメチルベンジル｝フェノールのナフトキノンジアジドスルホン酸エステルである東洋合成（株）のＴＡＳ−２００が挙げられる。また、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドスルホン酸エステルも購入可能である。

本開示の感光性樹脂組成物が熱架橋性化合物（例えば、ブロックイソシアネート化合物又はブロックケテン化合物）を含有する場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対し、１質量％〜５０質量％であることが好ましく、５質量％〜４０質量％であることがより好ましく、１０質量％〜４０質量％であることが更に好ましく、１０質量％〜３０質量％であることが特に好ましい。

＜溶剤＞
本開示の感光性樹脂組成物は、塗布による感光性層の形成の観点から、溶剤を少なくとも１種含有してもよい。

溶剤としては、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。
溶剤としては、有機溶剤が好ましい。
有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１−メトキシ−２−プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ−プロパノール、２−プロパノールなどを挙げることができる。本開示の感光性樹脂組成物は、これらの化合物の混合物である混合溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、又はジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合、本開示の感光性樹脂組成物の固形分含有量としては、感光性樹脂組成物の全量に対し、５質量％〜８０質量％が好ましく、５質量％〜４０質量％がより好ましく、５質量％〜３０質量％が特に好ましい。

本開示の感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合、感光性樹脂組成物の粘度（２５℃）は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２ｍＰａ・ｓ〜４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
粘度は、例えば、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２（ＴＯＫＩ ＳＡＮＧＹＯ ＣＯ．ＬＴＤ製）を用いて測定する。
本開示の感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合、感光性樹脂組成物の表面張力（２５℃）は、塗布性の観点から、５ｍＮ／ｍ〜１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０ｍＮ／ｍ〜８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍが特に好ましい。
表面張力は、例えば、Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ ＣＢＶＰ-Ｚ（協和界面科学（株）製）を用いて測定する。

溶剤としては、ＵＳ２００５／２８２０７３Ａ１号明細書の段落００５４及び００５５に記載のＳｏｌｖｅｎｔを用いることもでき、この明細書の内容は本明細書に組み込まれる。
また、溶剤として、必要に応じて沸点が１８０℃〜２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を使用することもできる。

＜界面活性剤＞
本開示の感光性樹脂組成物は、界面活性剤を少なくとも１種含有してもよい。
界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７及び特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤、公知のフッ素系界面活性剤等を用いることができる。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤が好ましい。
フッ素系界面活性剤の市販品としては、メガファック（登録商標）Ｆ５５１（ＤＩＣ（株）製）が挙げられる。

本開示の感光性樹脂組成物が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対して、０．０１質量％〜３質量％が好ましく、０．０５質量％〜１質量％がより好ましく、０．１質量％〜０．８質量％がさらに好ましい。

＜重合禁止剤＞
本開示の感光性樹脂組成物は、重合禁止剤を少なくとも１種含有してもよい。
重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落〔００１８〕に記載された熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう）を用いることができる。
中でも、フェノチアジン、フェノキサジン、又は４−メトキシフェノールを好適に用いることができる。

本開示の感光性樹脂組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対して、０．０１質量％〜３質量％が好ましく、０．０１質量％〜１質量％がより好ましく、０．０１質量％〜０．８質量％がさらに好ましい。

＜その他の成分＞
本開示の感光性樹脂組成物は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。
その他の成分としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤、等が挙げられる。

また、本開示の感光性樹脂組成物は、その他の成分として、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（例えば金属酸化物粒子）を少なくとも１種含んでもよい。
金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれる。硬化膜の透明性の観点から、粒子（例えば金属酸化物粒子）の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍがより好ましい。平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。
粒子の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対して、０質量％〜３５質量％が好ましく、０質量％〜１０質量％がより好ましく、０質量％〜５質量％が更に好ましく、０質量％〜１質量％が更に好ましく、０質量％（即ち、感光性樹脂組成物に粒子が含まれないこと）が特に好ましい。

また、本開示の感光性樹脂組成物は、その他の成分として、微量の着色剤（顔料、染料、等）を含有してもよいが、透明性の観点から、着色剤を実質的に含有しないことが好ましい。
具体的には、本開示の感光性樹脂組成物における着色剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分量に対し、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。

〔転写フィルム〕
本開示の転写フィルムは、仮支持体と、本開示の感光性樹脂組成物の固形分を含有する感光性層と、を備える。
本開示の転写フィルムは、基板上への硬化膜の形成に好適である。本開示の転写フィルムを用いて基板上に硬化膜の形成する場合には、例えば、硬化膜を形成しようとする基板に対し、本開示の転写フィルムをラミネートすることによっての本開示の転写フィルムの感光性層を転写し、上記基板上に転写された感光性層に対し、露光及び現像等の処理を施すことにより、基板上に硬化膜を形成する。
本開示の転写フィルムによれば、本開示の感光性樹脂組成物による効果と同様に、耐汗性に優れた硬化膜を形成できるという効果が奏される。
また、前述のとおり、本開示の転写フィルムによれば、硬化膜の形成の際、転写フィルムをラミネートする段階で高温（例えば１２０℃以上）のラミネート条件を適用した場合においても、熱かぶりに起因する現像残渣の発生を抑制できるという効果が奏される。
また、前述のとおり、本開示の転写フィルムは、硬化膜としてのタッチパネル用保護膜の形成に特に好適である。

転写フィルムにおける感光性層は、本開示の感光性樹脂組成物の固形分を含有する。
即ち、本開示の感光性樹脂組成物が溶剤を含有する場合には、転写フィルムにおける感光性層は、少なくとも、上記感光性樹脂組成物の溶剤以外の成分（即ち、固形分）を含有する。この場合、感光性層は、更に、溶剤を含有してもよい。感光性層が溶剤を含有する場合としては、例えば、溶剤を含有する感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて感光性層を形成する場合において、乾燥後においても感光性層中に溶剤が残存した場合が挙げられる。
また、本開示の感光性樹脂組成物が溶剤を含有しない場合には、転写フィルムにおける感光性層は、上記感光性樹脂組成物の全成分を含有する。

以下、本開示の転写フィルムに含まれ得る各要素について説明する。

＜仮支持体＞
本開示の転写フィルムは、仮支持体を備える。
仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮又は伸びを生じないフィルムを用いることができる。
このようなフィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。
中でも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。

仮支持体の厚みは特に制限はないが、例えば５μｍ〜２００μｍである。仮支持体の厚みは、取扱い易さ及び汎用性の観点から、１０μｍ〜１５０μｍが特に好ましい。

＜感光性層＞
本開示の転写フィルムは、本開示の感光性樹脂組成物の固形分を含有する感光性層を備える。
感光性層は、感光性（即ち、光硬化性）を有するが、更に、熱硬化性を有していてもよい。感光性層に熱硬化性を付与する手段としては、例えば、本開示の感光性樹脂組成物に、上述した熱架橋性化合物を含有させる手段が挙げられる。感光性層が光硬化性及び熱硬化性の両方を有する場合には、硬化膜の強度をより向上させ、かつ、硬化膜の耐汗性をより向上させることができる。
感光性層は、更に、アルカリ可溶性（例えば、弱アルカリ水溶液に対する溶解性）を有することが好ましい。感光性層にアルカリ可溶性を付与する手段としては、例えば、本開示の感光性樹脂組成物に、前述のその他の重合体として、酸基を含む重合体を含有させる手段が挙げられる。
また、感光性層は、透明層であることが好ましい。
感光性層を透明層とする手段としては、本開示の感光性樹脂組成物中における着色剤の含有量を、１質量％未満とする手段が挙げられる。

感光性層の厚さは、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１２μｍ以下が特に好ましい。
感光性層の厚さが、２０μｍ以下であると、転写フィルム全体の薄膜化、感光性層又は得られる硬化膜の透過率向上、感光性層又は得られる硬化膜の黄着色化抑制等の面で有利である。
また、一般的には、感光性層の厚さが２０μｍ以下であると、硬化膜の耐汗性が低下する場合がある。しかし、本開示の転写フィルムの感光性層においては、感光性層の厚さが２０μｍ以下であっても、厚さが薄いことによる硬化膜の耐汗性の低下を抑制できる。
感光性層の厚さは、製造適性の観点から、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、３μｍ以上が特に好ましい。

感光性層の屈折率としては、１．４７〜１．５６が好ましく、１．５０〜１．５３がより好ましく、１．５０〜１．５２がさらに好ましく、１．５１〜１．５２が特に好ましい。
本明細書において、「屈折率」は、波長５５０ｎｍにおける屈折率を指す。
本明細書における「屈折率」は、特に断りが無い限り、温度２３℃において波長５５０ｎｍの可視光で、エリプソメトリーによって測定した値を意味する。

感光性層の形成方法には特に限定はない。
感光性層の形成方法の一例として、仮支持体上に、溶剤を含有する態様の本開示の感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。
塗布の方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、ダイコート法（即ち、スリットコート法）等が挙げられ、ダイコート法が好ましい。
乾燥の方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等の公知の方法を、単独で、又は複数組み合わせて適用することができる。

＜保護フィルム＞
本開示の転写フィルムは、更に、感光性層からみて仮支持体とは反対側に、保護フィルムを備えていてもよい。
本開示の転写フィルムが、感光性層からみて仮支持体とは反対側に後述の屈折率調整層を備える場合には、保護フィルムは、好ましくは、屈折率調整層からみて仮支持体とは反対側に配置される。
保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。
保護フィルムとしては、例えば、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００８３〜００８７及び００９３に記載のものを用いてもよい。

＜熱可塑性樹脂層＞
本開示の転写フィルムは、更に、仮支持体と感光性層との間に、熱可塑性樹脂層を備えていてもよい。
転写フィルムが熱可塑性樹脂層を備える場合には、転写フィルムを基板に転写して積層体を形成した場合に、積層体の各要素に気泡が発生しにくくなる。この積層体を画像表示装置に用いた場合には、画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性が得られる。
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有することが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、転写時において、基板表面の凹凸を吸収するクッション材として機能する。
基板表面の凹凸には、既に形成されている、画像、電極、配線なども含まれる。熱可塑性樹脂層は、凹凸に応じて変形し得る性質を有していることが好ましい。

熱可塑性樹脂層は、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を含むことが好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質を含むことがより好ましい。

熱可塑性樹脂層の厚さとしては、３μｍ〜３０μｍが好ましく、４μｍ〜２５μｍがより好ましく、５μｍ〜２０μｍがさらに好ましい。
熱可塑性樹脂層の厚さが３μｍ以上であると、基板表面の凹凸に対する追従性が向上するので、基板表面の凹凸をより効果的に吸収できる。
熱可塑性樹脂層の厚さが３０μｍ以下であると、プロセス適性がより向上する。例えば、仮支持体に熱可塑性樹脂層を塗布形成する際の乾燥（溶剤除去）の負荷がより軽減され、また、転写後の熱可塑性樹脂層の現像時間が短縮される。

熱可塑性樹脂層は、溶剤及び熱可塑性の有機高分子を含む熱可塑性樹脂層形成用組成物を仮支持体に塗布し、必要に応じ乾燥させることによって形成され得る。
塗布及び乾燥の方法の具体例は、それぞれ、感光性層を形成する際の塗布及び乾燥の具体例と同様である。
溶剤としては、熱可塑性樹脂層を形成する高分子成分を溶解するものであれば特に制限されず、有機溶剤（例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ−プロパノール、及び２−プロパノール）が挙げられる。

熱可塑性樹脂層は、１００℃で測定した粘度が１０００〜１００００Ｐａ・ｓであることが好ましい。また、１００℃で測定した熱可塑性樹脂層の粘度が、１００℃で測定した感光性層の粘度よりも低いことが好ましい

＜中間層＞
本開示の転写フィルムは、更に、仮支持体と感光性層との間に、中間層を備えていてもよい。
本開示の転写フィルムが熱可塑性樹脂層を備える場合、中間層は、好ましくは、熱可塑性樹脂層と感光性層との間に配置される。
中間層の成分としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース、又は、これらのうちの少なくとも２種を含む混合物である樹脂が挙げられる。
また、中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されているものを用いることもできる。

仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、及び感光性層をこの順に備える態様の転写フィルムを製造する場合において、中間層は、例えば、熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤と、中間層の成分としての上記樹脂と、を含有する中間層形成用組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることによって形成され得る。塗布及び乾燥の方法の具体例は、それぞれ、感光性層を形成する際の塗布及び乾燥の具体例と同様である。
上記の場合、例えば、まず、仮支持体上に熱可塑性樹脂層形成用組成物を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成する。次いで、この熱可塑性樹脂層上に中間層形成用組成物を塗布し、乾燥させて中間層を形成する。その後、中間層上に、有機溶剤を含有する態様の本開示の感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて感光性層を形成する。この場合の有機溶剤は、中間層を溶解しない有機溶剤であることが好ましい。

＜屈折率調整層＞
本開示の転写フィルムは、更に、感光性層からみて仮支持体が存在する側とは反対側に、屈折率調整層を備えてもよい（例えば、後述する転写フィルムの具体例参照）。
屈折率調整層を備える態様の転写フィルムによれば、透明電極パターンを備えるタッチパネル用基板に対し、転写フィルムの屈折率調整層及び感光性層を転写することによりタッチパネル用保護膜を形成した場合において、透明電極パターンがより視認されにくくなる（即ち、透明電極パターンの隠蔽性がより向上する）。透明電極パターンが視認される現象は、一般に、「骨見え」と称されている。
透明電極パターンが視認される現象、及び、透明電極パターンの隠蔽性については、特開２０１４−１０８１４号公報及び特開２０１４−１０８５４１号公報を適宜参照できる。

屈折率調整層は、感光性層に隣接して配置されることが好ましい。
屈折率調整層の屈折率は、感光性層の屈折率よりも高いことが好ましい。
屈折率調整層の屈折率は、好ましくは１．５０以上、より好ましくは１．５５以上、特に好ましくは１．６０以上である。
屈折率調整層の屈折率の上限は特に制限されないが、２．１０以下が好ましく、１．８５以下がより好ましく、１．７８以下が更に好ましく、１．７４以下が特に好ましい。

屈折率調整層は、光硬化性（即ち、感光性）を有してもよいし、熱硬化性を有していてもよいし、光硬化性及び熱硬化性の両方を有してもよい。
転写後の光硬化により、強度に優れた硬化膜を形成する観点からは、屈折率調整層は光硬化性を有することが好ましい。
また、熱硬化により、硬化膜の強度をより向上させることができ、かつ、硬化膜の耐汗性をより向上させることができる観点から、屈折率調整層は熱硬化性を有することが好ましい。
屈折率調整層は熱硬化性及び光硬化性を有することが好ましい。
屈折率調整層は、アルカリ可溶性（例えば、弱アルカリ水溶液に対する溶解性）を有することが好ましい。
また、屈折率調整層は、透明層であることが好ましい。

屈折率調整層が感光性を有する態様は、転写後において、基板上に転写された感光性層及び屈折率調整層を、一度のフォトリソグラフィによってまとめてパターニングできるという利点を有する。

屈折率調整層の膜厚としては、５００ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が特に好ましい。
また、屈折率調整層の膜厚は、２０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましく、５５ｎｍ以上が更に好ましく、６０ｎｍ以上が特に好ましい。
屈折率調整層の膜厚は、５０ｎｍ〜１００ｎｍが更に好ましく、５５ｎｍ〜１００ｎｍが更に好ましく、６０ｎｍ〜１００ｎｍが特に好ましい。

屈折率調整層の屈折率は、透明電極パターンの屈折率に応じて調整することが好ましい。
例えば、ＩＴＯからなる透明電極パターンのように透明電極パターンの屈折率が１．８〜２．０の範囲である場合は、屈折率調整層の屈折率は、１．６０以上が好ましい。この場合の屈折率調整層の屈折率の上限は特に制限されないが、２．１以下が好ましく、１．８５以下がより好ましく、１．７８以下が更に好ましく、１．７４以下が特に好ましい。
また、例えば、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide；酸化インジウム亜鉛）からなる透明電極パターンのように、透明電極パターンの屈折率が２．０を超える場合は、屈折率調整層の屈折率は、１．７０以上１．８５以下が好ましい。

屈折率調整層の屈折率を制御する方法は特に制限されず、例えば、所定の屈折率の樹脂を単独で用いる方法、樹脂と金属酸化物粒子又は金属粒子とを用いる方法、金属塩と樹脂との複合体を用いる方法、等が挙げられる。

屈折率調整層は、屈折率が１．５０以上（より好ましくは１．５５以上、特に好ましくは１．６０以上）である無機粒子、屈折率が１．５０以上（より好ましくは１．５５以上、特に好ましくは１．６０以上）である樹脂、及び、屈折率が１．５０以上（より好ましくは１．５５以上、特に好ましくは１．６０以上）である重合性モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。
この態様であると、屈折率調整層の屈折率を１．５０以上（より好ましくは１．５５以上、特に好ましくは１．６０以上）に調整し易い。

また、屈折率調整層は、バインダーポリマー、重合性モノマー、及び粒子を含有することが好ましい。
屈折率調整層の成分については、特開２０１４−１０８５４１号公報の段落００１９〜００４０及び０１４４〜０１５０に記載されている硬化性透明樹脂層の成分、特開２０１４−１０８１４号公報の段落００２４〜００３５及び０１１０〜０１１２に記載されている透明層の成分、国際公開第２０１６／００９９８０号の段落００３４〜段落００５６に記載されているアンモニウム塩を有する組成物の成分、等を参照することができる。

また、屈折率調整層は、金属酸化抑制剤を少なくとも１種含有することが好ましい。
屈折率調整層が金属酸化抑制剤を含有する場合には、屈折率調整層を基板（即ち、転写対象物）上に転写する際に、屈折率調整層と直接接する部材（例えば、基板上に形成された導電性部材）を表面処理することができる。この表面処理は、屈折率調整層と直接接する部材に対し金属酸化抑制機能（保護性）を付与する。

金属酸化抑制剤は、「窒素原子を含む芳香環」を有する化合物であることが好ましい。「窒素原子を含む芳香環」を有する化合物は、置換基を有してもよい。
「窒素原子を含む芳香環」としては、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、又は、これらのいずれか１つと他の芳香環との縮合環が好ましく、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環又はこれらのいずれか１つと他の芳香環との縮合環であることがより好ましい。
縮合環を形成する「他の芳香環」は、単素環でも複素環でもよいが、単素環が好ましく、ベンゼン環又はナフタレン環がより好ましく、ベンゼン環がさらに好ましい。

金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンズイミダゾール、テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、１，２，４−トリアゾール又はベンゾトリアゾールが好ましく、イミダゾール、ベンズイミダゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１，２，４−トリアゾール又はベンゾトリアゾールがより好ましい。
金属酸化抑制剤としては市販品を用いてもよく、市販品としては、例えばベンゾトリアゾールを含む城北化学工業（株）製ＢＴ１２０を好ましく用いることができる。

屈折率調整層が金属酸化抑制剤を含有する場合、金属酸化抑制剤の含有量は、屈折率調整層の固形分量に対し、０．１質量％〜２０質量％が好ましく、０．５質量％〜１０質量％がより好ましく、１質量％〜５質量％がさらに好ましい。

屈折率調整層は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。
屈折率調整層に含有され得るその他の成分としては、本開示の感光性樹脂組成物に含有され得るその他の成分と同様のものが挙げられる。
屈折率調整層は、その他の成分として、界面活性剤を含有することが好ましい。

屈折率調整層の形成方法には特に限定はない。
屈折率調整層の形成方法の一例として、仮支持体上に形成された上述の感光性層上に、水系溶剤を含有する態様の屈折率調整層形成用組成物を塗布し、必要に応じ乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。
塗布及び乾燥の方法の具体例は、それぞれ、感光性層を形成する際の塗布及び乾燥の具体例と同様である。

屈折率調整層形成用組成物は、上述した屈折率調整層の各成分を含有し得る。
屈折率調整層形成用組成物は、例えば、バインダーポリマー、重合性モノマー、粒子、及び水系溶剤を含有する。
また、屈折率調整層形成用組成物としては、国際公開第２０１６／００９９８０号の段落００３４〜段落００５６に記載されている、アンモニウム塩を有する組成物も好ましい。

＜転写フィルムの具体例＞
図１は、本開示の転写フィルムの具体例である転写フィルム１０の概略断面図である。
図１に示されるように、転写フィルム１０は、保護フィルム１６／屈折率調整層２０Ａ／感光性層１８Ａ／仮支持体１２の積層構造（即ち、仮支持体１２と、感光性層１８Ａと、屈折率調整層２０Ａと、保護フィルム１６と、がこの順に配置された積層構造）を有する。
但し、本開示の転写フィルムは、転写フィルム１０であることには限定されず、例えば、屈折率調整層２０Ａ及び保護フィルム１６は省略されていてもよい。また、仮支持体１２と感光性層１８Ａとの間に、前述の熱可塑性樹脂層及び中間層の少なくとも一方を備えていてもよい。

感光性層１８Ａは、本開示の感光性樹脂組成物の固形分を含有する層である。
屈折率調整層２０Ａは、感光性層１８Ａからみて仮支持体１２が存在する側とは反対側に配置された層であり、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５０以上である層である。
転写フィルム１０は、ネガ型材料（ネガ型フィルム）である。

転写フィルム１０の製造方法は特に制限されない。
転写フィルム１０の製造方法は、例えば、仮支持体１２上に感光性層１８Ａを形成する工程と、感光性層１８Ａ上に屈折率調整層２０Ａを形成する工程と、屈折率調整層２０Ａ上に保護フィルム１６を形成する工程と、をこの順に含む。
転写フィルム１０の製造方法は、屈折率調整層２０Ａを形成する工程と保護フィルム１６を形成する工程との間に、国際公開第２０１６／００９９８０号の段落００５６に記載されている、アンモニアを揮発させる工程を含んでもよい。

〔タッチパネル用保護膜、タッチパネル〕
本開示のタッチパネル用保護膜は、前述の本開示の感光性樹脂組成物の固形分の硬化物である。
本開示のタッチパネルは、本開示のタッチパネル用保護膜を備える。
本開示のタッチパネル用保護膜は、前述の本開示の感光性樹脂組成物の固形分の硬化物であるため、耐汗性に優れる。

本開示のタッチパネルの好ましい態様は、
基板上に電極等（即ち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）が配置された構造を有するタッチパネル用基板と、
電極等の少なくとも一部を直接又は他の層を介して覆う本開示のタッチパネル用保護膜と、
を備える態様である。

上記基板としては、ガラス基板又は樹脂基板が好ましい。
また、基板は、透明な基板であることが好ましく、透明な樹脂基板であることがより好ましい。透明の意味については、前述のとおりである。
基板の屈折率は、１．５０〜１．５２が好ましい。
ガラス基板としては、例えば、コーニング社のゴリラガラス（登録商標）などの強化ガラスを用いることができる。
樹脂基板としては、光学的に歪みがないもの及び透明度が高いものの少なくとも一方を用いることが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等の樹脂からなる基板が挙げられる。
透明な基板の材質としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報、及び特開２０１０−２５７４９２号公報に記載されている材質が好ましく用いられる。

タッチパネル用電極としては、例えば、タッチパネルの少なくとも画像表示領域に配置される透明電極パターンが挙げられる。タッチパネル用電極は、画像表示領域からタッチパネルの枠部にまで延びていてもよい。
タッチパネル用配線としては、例えば、タッチパネルの枠部に配置される引き回し配線（取り出し配線）が挙げられる。
タッチパネル用基板及びタッチパネルの好ましい態様は、透明電極パターンのタッチパネルの枠部に延びている部分に、引き回し配線の一部が積層されることにより、透明電極パターンと引き回し配線とが電気的に接続されている態様が好適である。

透明電極パターンの材質としては、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜が好ましい。
引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛、及びマンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム、又はチタンが好ましく、銅が特に好ましい。

本開示のタッチパネル用保護膜は、電極等（即ち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）を保護する目的で、電極等を直接又は他の層を介して覆うように設けられる。
タッチパネル用保護膜の厚さの好ましい範囲は、前述した感光性層の厚さの好ましい範囲と同様である。

本開示のタッチパネル用保護膜は開口部を有していてもよい。
本開示のタッチパネル用保護膜の開口部は、感光性層の非露光部が現像液によって溶解されることによって形成され得る。
この場合において、タッチパネル用保護膜が、転写フィルムを用いて高温のラミネート条件で形成された場合においても、タッチパネル用保護膜の開口部における現像残渣が抑制される。

タッチパネルは、更に、電極等とタッチパネル用保護膜との間に第１屈折率調整層を備えていてもよい（例えば、後述するタッチパネルの第１具体例参照）。
第１屈折率調整層の好ましい態様は、転写フィルムに備えられ得る屈折率調整層の好ましい態様と同様である。第１屈折率調整層は、第１屈折率調整層形成用組成物の塗布及び乾燥によって形成されてもよいし、屈折率調整層を備える転写フィルムの屈折率調整層を転写することによって形成されてもよい。
第１屈折率調整層を備える態様のタッチパネルは、好ましくは、屈折率調整層を備える態様の本開示の転写フィルムを用い、転写フィルムにおける感光性層及び屈折率調整層を転写することによって形成する。この場合、転写フィルムにおける感光性層からタッチパネル用保護膜が形成され、転写フィルムにおける屈折率調整層から第１屈折率調整層が形成される。

また、タッチパネル又はタッチパネル用基板は、基板と電極等との間に、第２屈折率調整層を備えていてもよい（例えば、後述するタッチパネルの第１具体例参照）。
第２屈折率調整層の好ましい態様は、転写フィルムに備えられ得る屈折率調整層の好ましい態様と同様である。

本開示のタッチパネルが第１屈折率調整層を備える態様（より好ましくは第１屈折率調整層及び第２屈折率調整層を備える態様）は、電極等が視認されにくくなる（即ち、いわゆる骨見えが抑制される）という利点を有する。

タッチパネルの構造については、特開２０１４−１０８１４号公報又は特開２０１４−１０８５４１号公報に記載の静電容量型入力装置の構造を参照してもよい。

＜タッチパネルの第１具体例＞
図２は、本開示のタッチパネルの第１具体例であるタッチパネル３０の概略断面図である。より詳細には、図２は、タッチパネル３０の画像表示領域の概略断面図である。
図２に示されるように、タッチパネル３０は、基板３２と、第２屈折率調整層３６と、タッチパネル用電極としての透明電極パターン３４と、第１屈折率調整層２０と、タッチパネル用保護膜１８と、がこの順序で配置された構造を有する。
タッチパネル３０では、タッチパネル用保護膜１８及び第１屈折率調整層２０が、透明電極パターン３４の全体を覆っている。しかし本開示のタッチパネルはこの態様には限定されない。タッチパネル用保護膜１８及び第１屈折率調整層２０は、透明電極パターン３４の少なくとも一部を覆っていればよい。

また、第２屈折率調整層３６及び第１屈折率調整層２０は、それぞれ、透明電極パターン３４が存在する第１領域４０及び透明電極パターン３４が存在しない第２領域４２を、直接又は他の層を介して連続して被覆することが好ましい。これにより、透明電極パターン３４がより視認されにくくなる。
第２屈折率調整層３６及び第１屈折率調整層２０は、第１領域４０及び第２領域４２の両方を、他の層を介して被覆するよりも、直接被覆することが好ましい。「他の層」としては、例えば、絶縁層、透明電極パターン３４以外の電極パターン、等が挙げられる。

第１屈折率調整層２０は、第１領域４０及び第２領域４２の両方にまたがって積層されている。第１屈折率調整層２０は、第２屈折率調整層３６と隣接しており、さらに、透明電極パターン３４とも隣接している。
第２屈折率調整層３６と接触する箇所における透明電極パターン３４の端部の形状が、図２に示される如きテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（即ち、テーパー角と同じ傾きで）、第１屈折率調整層２０が積層されていることが好ましい。

透明電極パターン３４としては、ＩＴＯ透明電極パターンが好適である。
透明電極パターン３４は、例えば、以下の方法により形成できる。
第２屈折率調整層３６が形成された基板３２の上に、スパッタリングにより電極用薄膜（例えばＩＴＯ膜）を形成する。この電極用薄膜の上に、エッチング用感光性レジストを塗布することにより、又は、エッチング用感光性フィルムを転写することにより、エッチング保護層を形成する。次いで、露光及び現像により、このエッチング保護層を所望とするパターン形状にパターニングする。次いで、エッチングにより、電極用薄膜のうちパターニングされたエッチング保護層に覆われていない部分を除去する。これにより、電極用薄膜を所望の形状のパターン（即ち、透明電極パターン３４）とする。続いて、剥離液によりパターニングされたエッチング保護層を除去する。

第１屈折率調整層２０及びタッチパネル用保護膜１８は、例えば以下のようにして、第２屈折率調整層３６及び透明電極パターン３４が順次設けられた基板３２（即ち、タッチパネル用基板）の上に形成される。
まず、図１に示した転写フィルム１０（即ち、保護フィルム１６／屈折率調整層２０Ａ／感光性層１８Ａ／仮支持体１２の積層構造を有する転写フィルム１０）を準備する。
次に、転写フィルム１０から保護フィルム１６を取り除く。
次に、保護フィルム１６が取り除かれた転写フィルム１０を、第２屈折率調整層３６及び透明電極パターン３４が順次設けられた基板３２（即ち、タッチパネル用基板）の上にラミネートする。ラミネートは、保護フィルム１６が取り除かれた転写フィルム１０の屈折率調整層２０Ａと、透明電極パターン３４と、が接する向きで行う。このラミネートにより、仮支持体１２／感光性層１８Ａ／屈折率調整層２０Ａ／透明電極パターン３４／第２屈折率調整層３６／基板３２の積層構造を有する積層体が得られる。
次に、積層体から仮支持体１２を取り除く。
次に、仮支持体１２が取り除かれた積層体をパターン露光することにより、感光性層１８Ａ及び屈折率調整層２０Ａをパターン状に硬化させる。感光性層１８Ａ及び屈折率調整層２０Ａのパターン状に硬化は、それぞれ別個のパターン露光によって別個に行ってもよいが、１回のパターン露光によって同時に行うことが好ましい。
次に、現像によって感光性層１８Ａ及び屈折率調整層２０Ａの非露光部(即ち、非硬化部）を除去することにより、感光性層１８Ａのパターン状の硬化物であるタッチパネル用保護膜１８（パターン形状については不図示）、及び、屈折率調整層２０Ａのパターン状の硬化物である第１屈折率調整層２０（パターン形状については不図示）をそれぞれ得る。パターン露光後の感光性層１８Ａ及び屈折率調整層２０Ａの現像は、それぞれ別個の現像によって別個に行ってもよいが、１回の現像によって同時に行うことが好ましい。

ラミネート、パターン露光、現像の好ましい態様は後述する。

タッチパネルの構造については、特開２０１４−１０８１４号公報又は特開２０１４−１０８５４１号公報に記載の静電容量型入力装置の構造を参照してもよい。

＜タッチパネルの第２具体例＞
図３は、本開示のタッチパネルの第２具体例であるタッチパネル９０の概略断面図である。
図３に示されるように、タッチパネル９０は、画像表示領域７４及び画像非表示領域７５（即ち、枠部）を有する。
図３に示されるように、タッチパネル９０は、基板３２の両面にタッチパネル用電極を備えている。詳細には、タッチパネル９０は、基板３２の一方の面に第１透明電極パターン７０を備え、他方の面に第２透明電極パターン７２を備えている。
タッチパネル９０では、第１透明電極パターン７０及び第２透明電極パターン７２のそれぞれに、引き回し配線５６が接続されている。引き回し配線５６は、例えば銅配線である。
タッチパネル９０では、基板３２の一方の面において、第１透明電極パターン７０及び引き回し配線５６を覆うようにタッチパネル用保護膜１８が形成されており、基板３２の他方の面において、第２透明電極パターン７２及び引き回し配線５６を覆うようにタッチパネル用保護膜１８が形成されている。
基板３２の一方の面及び他方の面には、それぞれ、第１具体例における第１屈折率調整層及び第２屈折率調整層が設けられていてもよい。

〔タッチパネルの製造方法〕
本開示のタッチパネルを製造する方法には特に制限はないが、以下の製造方法が好ましい。
本開示のタッチパネルの好ましい製造方法は、
基板上に電極等（即ち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程（以下、「準備工程」ともいう）と、
タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面の上に、本開示の感光性樹脂組成物又は本開示の転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程（以下、「感光性層形成工程」ともいう）と、
タッチパネル用基板の上記面の上に形成された感光性層をパターン露光する工程（以下、「パターン露光工程」ともいう）と、
パターン露光された感光性層を現像することにより、電極等の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る工程（以下、「現像工程」ともいう）と、
を含む。

上記好ましい製造方法によれば、耐汗性に優れたタッチパネル用保護膜を備えるタッチパネルを製造できる。
また、上記好ましい製造方法では、本開示の転写フィルムを用い高温のラミネート条件で感光性層を形成した場合においても、現像後の感光性層の非露光部において、現像残渣の発生が抑制される。

以下、上記好ましい製造方法の各工程について説明する。

＜準備工程＞
準備工程は、便宜上の工程であり、基板上に電極等（即ち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程である。
準備工程は、予め製造されたタッチパネル用基板を単に準備するだけの工程であってもよいし、タッチパネル用基板を製造する工程であってもよい。
タッチパネル用基板の好ましい態様は前述のとおりである。

＜感光性層形成工程＞
感光性層形成工程は、タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面の上に、本開示の感光性樹脂組成物又は本開示の転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程である。

以下、感光性層形成工程において、本開示の転写フィルムを用いる態様について説明する。
この態様では、本開示の転写フィルムをタッチパネル用基板の電極等が配置された側の面の上にラミネートし、本開示の転写フィルムの感光性層を上記面の上に転写することにより、上記面の上に感光性層を形成する。
ラミネート（感光性層の転写）は、真空ラミネータ、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを用いて行うことができる。

ラミネート条件としては、一般的な条件を適用できる。
ラミネート温度としては、８０℃〜１５０℃が好ましく、９０℃〜１５０℃がより好ましく、１００℃〜１５０℃が特に好ましい。
前述のとおり、本開示の転写フィルムを用いる態様では、ラミネート温度が高温（例えば１２０℃〜１５０℃）である場合においても、熱かぶりによる現像残渣の発生が抑制される。
ゴムローラーを備えたラミネーターを用いる場合、ラミネート温度は、ゴムローラー温度を指す。
ラミネート時の基板温度には特に制限はない。ラミネート時の基板温度としては、１０℃〜１５０℃が挙げられ、２０℃〜１５０℃が好ましく、３０℃〜１５０℃がより好ましい。基板として樹脂基板を用いる場合には、ラミネート時の基板温度としては、１０℃〜８０℃が好ましく、２０℃〜６０℃がより好ましく、３０℃〜５０℃が特に好ましい。
また、ラミネート時の線圧としては、０．５Ｎ／ｃｍ〜２０Ｎ／ｃｍが好ましく、１Ｎ／ｃｍ〜１０Ｎ／ｃｍがより好ましく、１Ｎ／ｃｍ〜５Ｎ／ｃｍが特に好ましい。
また、ラミネート時の搬送速度（ラミネート速度）としては、０．５ｍ／分〜５ｍ／分が好ましく、１．５ｍ／分〜３ｍ／分がより好ましい。

保護フィルム／感光性層／中間層／熱可塑性樹脂層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムを用いる場合には、まず、転写フィルムから保護フィルムを剥離して感光性層を露出させ、次いで、露出した感光性層とタッチパネル用基板の電極等が配置された側の面とが接するようにして、転写フィルムとタッチパネル用基板とを貼り合わせ、次いで加熱及び加圧を施す。これにより、転写フィルムの感光性層が、タッチパネル用基板の電極等が配置された側の面上に転写され、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性層／電極等／基板の積層構造を有する積層体が形成される。この積層構造のうち、「電極等／基板」の部分が、タッチパネル用基板である。
その後、必要に応じ、上記積層体から仮支持体を剥離する。但し、仮支持体を残したまま、後述のパターン露光を行うこともできる。

タッチパネル用基板上に転写フィルムの感光性層を転写し、パターン露光し、現像する方法の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１の記載を参照することもできる。

次に、感光性層形成工程において、本開示の転写フィルムを用いずに本開示の感光性樹脂組成物を用いる態様について説明する。
この態様の好適な例として、溶剤を含有する態様の本開示の感光性樹脂組成物をタッチパネル用基板の電極等が配置された側の面の上に塗布し、乾燥させることにより、上記面の上に感光性層を形成する。
塗布及び乾燥の方法の具体例は、それぞれ、仮支持体上に感光性層を形成する際の塗布及び乾燥の具体例と同様である。乾燥後であって露光前の感光性層に対し、必要に応じ、熱処理（いわゆるプリベーク）を施してもよい。

＜パターン露光工程＞
パターン露光工程は、タッチパネル用基板上に形成された感光性層をパターン露光する工程である。
ここで、パターン露光とは、パターン状に露光する態様、即ち、露光部と非露光部とが存在する態様の露光を指す。
タッチパネル用基板上の感光性層のうち、パターン露光における露光部が硬化され、最終的に硬化膜となる。
一方、タッチパネル用基板上の感光性層のうち、パターン露光における非露光部は硬化せず、次の現像工程で、現像液によって除去（溶解）される。非露光部は、現像工程後、硬化膜の開口部を形成し得る。
パターン露光は、マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。

パターン露光の光源としては、感光性層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。光源としては、例えば、各種レーザー、ＬＥＤ、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及びメタルハライドランプが挙げられる。露光量は、例えば５ｍＪ／ｃｍ^２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２であり、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ^２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２である。

転写フィルムを用いて基板上に感光性層を形成した場合には、パターン露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。
また、露光工程では、パターン露光後であって現像前に、感光性層に対し熱処理（いわゆるＰＥＢ（Post Exposure Bake））を施してもよい。

＜現像工程＞
現像工程は、パターン露光された感光性層を現像することにより（即ち、パターン露光における非露光部を現像液に溶解させることにより）、電極等の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る工程である。

現像に用いる現像液は特に制限されず、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を用いることができる。
現像液としては、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。
アルカリ性水溶液に含有され得るアルカリ性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン（２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）、等が挙げられる。
アルカリ性水溶液の２５℃におけるｐＨとしては、８〜１３が好ましく、９〜１２がより好ましく、１０〜１２が特に好ましい。
アルカリ性水溶液中におけるアルカリ性化合物の含有量は、アルカリ性水溶液全量に対し、０．１質量％〜５質量％が好ましく、０．１質量％〜３質量％がより好ましい。

現像液は、水に対して混和性を有する有機溶剤を含有してもよい。
有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、及びＮ−メチルピロリドンを挙げることができる。有機溶剤の濃度は、０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
現像液は、公知の界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。

現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、ディップ現像、等の方式が挙げられる。
シャワー現像を行う場合、パターン露光後の感光性層に現像液をシャワー状に吹き付けることにより、感光性層の非露光部を除去する。感光性層と熱可塑性樹脂層及び中間層の少なくとも一方とを備える転写フィルムを用いた場合には、これらの層の基板上への転写後であって感光性層の現像の前に、感光性層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワー状に吹き付け、熱可塑性樹脂層及び中間層の少なくとも一方（両方存在する場合には両方）を予め除去してもよい。
また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付けつつブラシなどで擦ることにより、現像残渣を除去することが好ましい。
現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。

現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を加熱処理（以下、「ポストベーク」ともいう）する段階と、を含んでいてもよい。
基板が樹脂基板である場合には、ポストベークの温度は、１００℃〜１６０℃が好ましく、１３０℃〜１６０℃がより好ましい。
このポストベークにより、透明電極パターンの抵抗値を調整することもできる。
また、感光性層がカルボキシル基含有（メタ）アクリル樹脂を含む場合には、ポストベークにより、カルボキシル基（メタ）含有アクリル樹脂の少なくとも一部をカルボン酸無水物に変化させることができる。これにより、耐汗性に優れた硬化膜が得られる。

また、現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を露光（以下、「ポスト露光」ともいう）する段階と、を含んでいてもよい。
現像工程がポスト露光する段階及びポストベークする段階を含む場合、好ましくは、ポスト露光、ポストベークの順序で実施する。

パターン露光、現像などについては、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１の記載を参照することもできる。

本開示のタッチパネルの好ましい製造方法は、上述した工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。その他の工程としては、通常のフォトリソ工程に設けられることがある工程（例えば、洗浄工程など）を特に制限無く適用できる。

〔画像表示装置〕
本開示の画像表示装置は、前述の本開示のタッチパネル（例えば、第１〜第２具体例のタッチパネル）を備える。
本開示の画像表示装置としては、本開示のタッチパネルを公知の液晶表示素子と重ね合わせた構造を有する液晶表示装置が好ましい。
タッチパネルを備える画像表示装置の構造としては、例えば、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、『タッチパネルの技術と開発』、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２に開示されている構造を適用することができる。

以下、本開示の実施例を示すが、本開示は以下の実施例には限定されない。
以下において、「部」及び「％」は、それぞれ、「質量部」及び「質量％」を意味する。

〔実施例１〜２６、比較例１〜５〕
＜感光性樹脂組成物（材料Ａ−１〜Ａ−３１）の調製＞
転写フィルムの感光性層を形成するための感光性樹脂組成物として、後述の表２〜６に示す組成の材料Ａ−１〜Ａ−３１を調製した。具体的には表２〜６に示す組成となるように材料を混合撹拌して溶剤溶液とし、孔径０．３μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過することにより、材料Ａ−１〜Ａ−３１を調製した。
表２〜６中、「その他の重合体」は、特定重合体（即ち、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体）以外の重合体を意味する。

（重合体Ｃ−１の固形分３５．０質量％溶液の調製）
材料Ａ−１３の調製に用いた重合体Ｃ−１（カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体）の固形分３５．０質量％溶液は、以下のようにして調製した。
メタクリル酸（２２．３ｇ：全単量体成分中の１１．２質量％となる量）、メタクリル酸メチル（４１．８ｇ：全単量体成分中の２０．９質量％となる量）、スチレン（９９．９ｇ：全単量体成分中の５０．０質量％に相当）、Ｖ−６０１（１１．１７ｇ）（和光純薬工業製）、４−メトキシフェノール（０．０１ｇ）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（１５．０ｇ）を混合し、滴下液１を得た。
イタコン酸無水物（３５．８ｇ：全単量体成分中の１７．９質量％に相当）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（２３６．３ｇ）、及び４−メトキシフェノール（０．０１ｇ）を混合し、滴下液２を得た。
３つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（１１９．９ｇ）を入れ、窒素雰囲気下において８５℃±１℃に昇温した。昇温したプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対し、滴下液１の滴下を開始し、滴下液１の滴下開始から１５分後に、滴下液２の滴下を開始した。ここで、滴下液１は２時間かけて滴下し、滴下液２は２時間１５分かけて滴下した。
滴下液２の滴下終了後、８５℃±１℃にて１時間３０分攪拌した後、Ｖ−６０１（４．５０ｇ）を加え、さらに８５℃±１℃にて４時間攪拌した。その後、室温まで冷却することにより、重合体Ｃ−１（Ｍｗ＝１３０００）の固形分濃度３５．０質量％溶液を得た。

（重合体Ｄの固形分３６．３質量％溶液の準備）
材料Ａ−１〜Ａ−３１の調製では、その他の重合体として、下記構造を有する重合体Ｄの固形分３６．３質量％溶液を用いた。重合体Ｄにおいて、各構成単位の右下の数値は、各構成単位の含有比率（モル％）を示す。
重合体Ｄの固形分３６．３質量％溶液は下記に示す重合工程および付加工程により準備した。

−重合工程−
２０００ｍＬのフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（三和化学産業製、商品名ＰＧＭ−Ａｃ）６０ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル（三和化学産業製、商品名ＰＧＭ）２４０gを導入した。得られた液体を、撹拌速度２５０ｒｐｍで撹拌しつつ９０℃に昇温した。
滴下液（１）の調製として、メタクリル酸（三菱レイヨン製、商品名アクリエステルＭ）１０７．１ｇ、メタクリル酸メチル（三菱ガス化学製、商品名ＭＭＡ）５．４６ｇ、及びシクロヘキシルメタクリレート（三菱ガス化学製、商品名ＣＨＭＡ）２３１．４２ｇを混合し、ＰＧＭ−Ａｃ ６０ｇで希釈することにより、滴下液（１）を得た。
滴下液（２）の調製として、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）（和光純薬工業製、商品名Ｖ−６０１）９．６３７ｇをＰＧＭ−Ａｃ １３６．５６ｇで溶解させることにより、滴下液（２）を得た。
滴下液（１）と滴下液（２）とを同時に３時間かけて、上述した２０００ｍＬのフラスコ（詳細には、９０℃に昇温された液体が入った２０００ｍＬのフラスコ）に滴下した。次に、滴下液（１）の容器をＰＧＭ−Ａｃ １２ｇで洗浄し、洗浄液を上記２０００ｍＬのフラスコに滴下した。次に、滴下液（２）の容器をＰＧＭ−Ａｃ ６ｇで洗浄し、洗浄液を上記２０００ｍＬのフラスコに滴下した。これらの滴下中、上記２０００ｍＬのフラスコ内の反応液を９０℃に保ち、撹拌速度２５０ｒｐｍで撹拌した。更に、後反応として、９０℃で１時間撹拌した。
後反応後の反応液に、開始剤の追加添加１回目として、Ｖ−６０１の２．４０１ｇを添加した。更に、Ｖ−６０１の容器をＰＧＭ−Ａｃ ６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後、９０℃で１時間撹拌した。
次に、開始剤の追加添加２回目として、Ｖ−６０１の２．４０１ｇを反応液に添加した。更にＶ−６０１の容器をＰＧＭ−Ａｃ ６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後９０℃で１時間撹拌した。
次に、開始剤の追加添加３回目として、Ｖ−６０１の２．４０１ｇを反応液に添加した。更に、Ｖ−６０１の容器をＰＧＭ−Ａｃ ６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後９０℃で３時間撹拌した。

−付加工程−
９０℃で３時間撹拌後、ＰＧＭ−Ａｃ １７８．６６ｇを反応液へ導入した。次に、テトラエチルアンモニウムブロミド（和光純薬工業社製）１．８ｇとハイドロキノンモノメチルエーテル（和光純薬工業社製）０．８ｇとを反応液に添加した。更にそれぞれの容器をＰＧＭ−Ａｃ ６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液へ導入した。その後、反応液の温度を１００℃まで昇温させた。
次に、グリシジルメタクリレート（日油社製、商品名ブレンマーＧ）７６．０３ｇを１時間かけて反応液に滴下した。ブレンマーＧの容器をＰＧＭ−Ａｃ ６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。この後、付加反応として、１００℃で６時間撹拌した。
次に、反応液を冷却し、ゴミ取り用のメッシュフィルター（１００メッシュ）でろ過し、重合体Ｄの溶液を１１５８ｇ得た（固形分濃度３６．３質量％）。得られた重合体Ｄの重量平均分子量は２７０００、数平均分子量は１５０００、酸価は９５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

＜転写フィルムの作製＞
仮支持体としての厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの上に、スリット状ノズルを用いて、感光性樹脂組成物（詳細には、材料Ａ−１〜Ａ−３１のいずれか１つ）を塗布して塗膜を得、１００℃の乾燥温度で乾燥させることにより、感光性層を形成した。ここで、感光性樹脂組成物の塗布量は、乾燥後の膜厚が８．０μｍになるように調整した。
次に、仮支持体上の感光性層の上に、保護フィルム（厚さ１６μｍポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム）を圧着することにより、保護フィルム／感光性層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムを得た。

＜現像残渣の評価＞
（タッチパネル用基板の作製）
現像残渣の評価用の基板として、ＩＴＯ透明電極パターン／屈折率調整層／ＣＯＰ基板の積層構造を有するタッチパネル用基板を作製した。詳細を以下に示す。
まず、基板として、厚さが３８μｍであり、屈折率が１．５３であるシクロオレフィン樹脂フィルム（以下、「ＣＯＰ基板」ともいう）を準備した。このＣＯＰ基板に対し、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗ、直径１．２ｍｍのワイヤー電極使用、電極長２４０ｍｍ、及びワーク電極間１．５ｍｍの条件で、３秒間コロナ放電処理を施すことにより、ＣＯＰ基板の表面改質を行った。
表面改質されたＣＯＰ基板の上に、スリット状ノズルを用い、下記表１中に示す材料−Ｃの材料を塗布して塗膜を形成し、この塗膜に対し、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２にて紫外線を照射（全面露光）し、次いで乾燥温度１１０℃で乾燥させることにより、屈折率１．６０、膜厚８０ｎｍの屈折率調整層を形成した。
以上により、屈折率調整層付きＣＯＰ基板を得た。

上記構造のポリマーにおいて、ｘ、ｙ、及びｚはモル％であり、重量平均分子量は３．５万である。

屈折率調整層付きＣＯＰ基板の屈折率調整層上に、ＤＣマグネトロンスパッタリングにより、厚さが４０ｎｍであり屈折率が１．８２であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を形成し、形成されたＩＴＯ膜をフォトエッチングによってパターニングすることにより、屈折率調整層上に、ＩＴＯ透明電極パターンを形成した。ＩＴＯ膜の形成及びＩＴＯ膜のパターニング（即ち、ＩＴＯ透明電極パターンの形成）は、特開２０１４−１０８１４号公報の段落０１１９〜０１２２に記載された方法によって行った。
以上により、ＩＴＯ透明電極パターン／屈折率調整層／ＣＯＰ基板の積層構造を有するタッチパネル用基板を得た。

（転写フィルムを用いた感光性層の転写（ラミネート））
上述した転写フィルムから保護フィルムを剥離し、保護フィルムを剥離した転写フィルムを、上述したタッチパネル用基板にラミネートすることにより、タッチパネル用基板のＩＴＯ透明電極パターンが形成された側の面に、転写フィルムの感光性層を貼り付けた。ラミネートの条件は、タッチパネル用基板の温度４０℃、ゴムローラー温度（即ち、ラミネート温度）１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件とした。
これにより、仮支持体／感光性層／ＩＴＯ透明電極パターン／屈折率調整層／ＣＯＰ基板の積層構造を有する積層体を得た。

（パターン露光及び現像）
上記積層体の感光性層を、仮支持体を介してパターン露光した。
パターン露光は、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）及び露光マスクを用い、露光マスク面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）の条件で行った。
パターン露光後、積層体から仮支持体を剥離した。
次に、仮支持体が剥離された積層体の感光性層を、現像液としての炭酸ナトリウム２質量％水溶液（液温３０℃）を用いて４０秒間現像した。これにより、ＩＴＯ透明電極パターンの一部を露出させる開口部（即ち、非露光部）を有するタッチパネル用保護膜を得た。
以上により、タッチパネル用保護膜／ＩＴＯ透明電極パターン／屈折率調整層／ＣＯＰ基板の積層構造を有するタッチパネルを得た。
上記で得られたタッチパネルのタッチパネル用保護膜を、光学顕微鏡（倍率１０倍）で観察した。
いずれの実施例及び比較例においても、タッチパネル用保護膜の開口部において、現像残渣は確認できなかった。

（現像残渣の評価）
次に、ラミネート時のゴムローラー温度（即ち、ラミネート温度）を、１２０℃、１３０℃、及び１４０℃の各温度に変更し、上述したラミネートから現像までの操作と同様の操作を行った。
各ラミネート温度にて形成されたタッチパネルのタッチパネル用保護膜を、それぞれ、光学顕微鏡（倍率１０倍）で観察し、各タッチパネル用保護膜の開口部（即ち、非露光部）の現像残渣を確認した。確認結果に基づき、下記評価基準により、現像残渣を評価した。
結果を表２〜６に示す。
下記評価基準において、Ａ又はＢは、ラミネート時の熱かぶりに起因する現像残渣が抑制されていることを意味する。

−現像残渣の評価基準−
Ａ：タッチパネル用保護膜の開口部における現像残渣の密度が、０個／１ｃｍ^２であった（即ち、現像残渣が観察されなかった）。
Ｂ：タッチパネル用保護膜の開口部における現像残渣の密度が、１個／１ｃｍ^２以上３個／１ｃｍ^２未満であった。
Ｃ：タッチパネル用保護膜の開口部における現像残渣の密度が、３個／１ｃｍ^２以上であった。

＜タッチパネル用保護膜の耐汗性の評価＞
（耐汗性評価用の試料の作製）
上記転写フィルムから保護フィルムを剥離し、保護フィルムを剥離した転写フィルムを、銅箔が積層されたＰＥＴフィルム（ジオマテック社製）にラミネートすることにより、銅箔の表面に転写フィルムの感光性層を転写した。ラミネートの条件は、タッチパネル用基板の温度４０℃、ゴムローラー温度（即ち、ラミネート温度）１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件とした。ここで、銅箔は、タッチパネルの引き回し配線を想定した膜である。
上記積層体の感光性層を、仮支持体を介して全面露光した。全面露光は、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用い、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）の条件で行った。
全面露光後、積層体から仮支持体を剥離した。
次に、仮支持体が剥離された積層体の感光性層を、現像液としての炭酸ナトリウム２質量％水溶液（液温３０℃）を用いて４０秒間現像した。現像後、エアを吹きかけて水分を除去し、１４５℃で３０分間の加熱（ポストベーク）処理を行うことにより、タッチパネル用保護膜／銅箔／ＰＥＴフィルムの積層構造を有する耐汗性評価用試料を得た。

（耐汗性の評価）
次に、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ Ｌ０８４８（２００４））に従って、酸性の人工汗を作製した。この人工汗３０μＬを上記耐汗性評価用試料のタッチパネル用保護膜表面に滴下し、次いで人工汗を自然乾燥させた。
自然乾燥後の耐汗性評価用試料を、高温高湿（１２０℃、１００％ＲＨ）下で１５時間経時させた。
１５時間経時後の耐汗性評価用試料について、タッチパネル用保護膜を通してタッチパネル用保護膜の下の銅箔の腐食状況を目視で観察した。観察結果に基づき、下記評価基準に従って、タッチパネル用保護膜の耐汗性を評価した。
結果を表２〜６に示す。
下記評価基準において、Ａ又はＢであれば、タッチパネル用保護膜の耐汗性が実用上の許容範囲内である。

−タッチパネル用保護膜の耐汗性の評価基準−
Ａ：銅箔の腐食が全く見られなかった。
Ｂ：銅箔の腐食箇所において、腐食箇所の中心から腐食箇所の端部までの距離が０．５ｍｍ未満であった。
Ｃ：銅箔の腐食箇所において、腐食箇所の中心から腐食箇所の端部までの距離が０．５ｍｍ以上１０ｍｍ未満であった。
Ｄ：銅箔の腐食箇所において、腐食箇所の中心から腐食箇所の端部までの距離が１０ｍｍ以上２０ｍｍ未満であった。
Ｅ：銅箔の腐食箇所において、腐食箇所の中心から腐食箇所の端部までの距離が２０ｍｍ以上であった。

表２〜表６中、光重合性モノマーの詳細は以下のとおりである。
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学（株）；２官能モノマー）
ＴＯ−２３４９：カルボン酸含有モノマー（東亜合成（株）「アロニックス（登録商標）ＴＯ−２３４９」；５官能モノマーと６官能モノマーとの混合物）
ＡＤ−ＴＭＰ：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（新中村化学（株）；４官能モノマー）
Ａ−ＮＯＤ−Ｎ：１，９−ノナンジオールジアクリレート（新中村化学工業（株）製；２官能モノマー）
８ＵＸ−０１５Ａ：ウレタンアクリレート（大成ファインケミカル（株）製；１５官能モノマー）
Ｍ−２７０：ポリプロピレングリコールジアクリレート（東亞合成（株）製「アロニックス（登録商標）Ｍ−２７０」；２官能モノマー）

表２〜表６中、光重合開始剤の詳細は以下のとおりである。
ＯＸＥ−０２：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦ社「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ−０２」；オキシム系光重合開始剤）
ＩＲＧ９０７：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン （ＢＡＳＦ社「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ９０７」；α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤）
ＩＲＧ３７９ＥＧ：２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（ＢＡＳＦ社「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ３７９ＥＧ」；α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤）
ＯＸＥ−０１：１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ−０１」；オキシム系光重合開始剤）
Ｎ−フェニルグリシン；純正化学（株）製の化合物

表２〜表６中、重合体の共重合比は、モル比である。
表２〜表６中の熱架橋性化合物（デュラネート（登録商標）Ｘ３０７１．０４及びデュラネート（登録商標）ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ）は、いずれもヘキサメチレンジイソシアネート系のブロックイソシアネート化合物である。

表２〜表５に示すように、エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー、光重合開始剤、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体、及び含窒素複素環化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いた実施例１〜２６では、現像残渣が抑制され、耐汗性に優れたタッチパネル用保護膜を形成できた。
これに対し、表６に示すように、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体を含有しない感光性樹脂組成物を用いた比較例１及び３〜５では、タッチパネル用保護膜の現像残渣及び耐汗性が劣化した。特に、比較例４及び５は、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体ではなく、カルボン酸ハーフエステル構造を有する構成単位を含む重合体を含有する感光性樹脂組成物を用いた例であるが、この比較例４及び５では、現像残渣抑制効果及び耐汗性向上効果が得られないことがわかる。
また、表６に示すように、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体を含有するが含窒素複素環化合物を含有しない感光性樹脂組成物を用いた比較例２では、タッチパネル用保護膜の耐汗性が劣化した。

〔実施例８−２〕
＜スリット塗布によるタッチパネル用保護膜の形成＞
銅箔が積層されたＰＥＴフィルム（ジオマテック社製）上に、前述の実施例８で用いた材料Ａ−８をスリット塗布し、乾燥させることにより、乾燥膜厚８．０μｍの感光性層を形成した。
上記感光性層を、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用い、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）の条件で全面露光した。
全面露光後の感光性層を、現像液としての炭酸ナトリウム２質量％水溶液（液温３０℃）を用いて４０秒間現像した。現像後、エアを吹きかけて水分を除去し、１４５℃で３０分間の加熱（ポストベーク）処理を行うことにより、タッチパネル用保護膜を形成した。
以上により、タッチパネル用保護膜／銅箔／ＰＥＴフィルムの積層構造を有する耐汗性評価用試料を得た。

得られた耐汗性評価用試料（実施例８−２）を用い、実施例８と同様の耐汗性の評価を行ったところ、実施例８と同様に、「Ａ」の結果が得られた。

〔実施例２４−２〕
実施例２４において、仮支持体を厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＦＢ−４０、東レ（株）製）に、保護フィルムを厚さ３３μｍのポリエチレンフィルム（ＧＦ−８５８、タマポリ（株）製）に、それぞれ変更したこと以外は、実施例２４と同様にして転写フィルムを得た。
得られた転写フィルムを用いたこと以外は実施例２４と同様にして評価を行った。
その結果、実施例２４と同様の結果（即ち、現像残渣が全て「Ａ」、耐汗性が「Ａ」）が得られた。

〔実施例１０１〜１２６及び比較例１０１〜１０５〕
保護フィルム／感光性層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムを、保護フィルム／屈折率調整層／感光性層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムに変更したこと以外は実施例１〜２６及び比較例１〜５の各々と同様の操作を行った。

実施例１０１〜１２６及び比較例１０１〜１０５では、屈折率調整層の材料として、表７に示す組成の材料Ｂ−１を用いた。
実施例１０１〜１２６及び比較例１０１〜１０５において、保護フィルム／屈折率調整層／感光性層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムは、以下のようにして作製した。
仮支持体としての厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの上に、スリット状ノズルを用いて、感光性樹脂組成物（詳細には、材料Ａ−１〜Ａ−３１のいずれか１つ）を塗布して塗膜を得、１００℃の乾燥温度で乾燥させることにより、感光性層を形成した。ここで、感光性樹脂組成物の塗布量は、乾燥後の膜厚が８．０μｍになるように調整した。
次に、感光性層上に、スリット状ノズルを用いて、屈折率調整層形成用材料である材料Ｂ−１を塗布して塗膜を得、１００℃の乾燥温度で乾燥させることにより、屈折率調整層を形成した。ここで、材料Ｂ−１の塗布量は、乾燥後の膜厚（屈折率調整層の膜厚）が８０ｎｍになるように調整した。
次に、屈折率調整層の上に、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着することにより、保護フィルム／屈折率調整層／感光性層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムを得た。

実施例１０１〜１２６及び比較例１０１〜１０５において、転写フィルムのラミネートは、上記転写フィルムから保護フィルムを剥離して屈折率調整層を露出させ、屈折率調整層が露出した転写フィルムを用いて行った。
実施例１０１〜１２６及び比較例１０１〜１０５において、現像残渣の評価は、タッチパネル用保護膜／屈折率調整層／ＩＴＯ透明電極パターン／屈折率調整層／ＣＯＰ基板の積層構造を有するタッチパネルを用いて行った。
実施例１０１〜１２６及び比較例１０１〜１０５において、耐汗性の評価は、タッチパネル用保護膜／屈折率調整層／銅箔／ＰＥＴ基板の積層構造を有する耐汗性評価用試料を用いて行った。
以上の結果を表８に示す。

〔実施例１２７〕
屈折率調整層形成用材料である材料Ｂ−１を、表７に示す組成の材料Ｂ−２に変更したこと以外は実施例１０２と同様の操作を行った。
結果を表８に示す。

表８に示すように、保護フィルム／屈折率調整層／感光性層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムを用いた実施例１０１〜１２６及び比較例１０１〜１０５においても、実施例１〜２６及び比較例１〜５と同様の結果が得られた。
また、屈折率調整層形成用材料としてＢ−１を用いた実施例１０２と、屈折率調整層形成用材料としてＢ−２を用いた実施例１２７と、では同様の結果が得られた。
以上のことから、屈折率調整層が存在する場合においても、本開示の効果（即ち、耐汗性向上の効果及びラミネート時の熱かぶりに起因する現像残渣抑制の効果）が奏されることが確認された。

以上の各実施例で製造したタッチパネルを、例えば特開２００９−４７９３６号公報の段落［００９７］〜［０１１９］に記載の方法で製造した液晶表示素子に貼り合わせることにより、タッチパネルを備えた液晶表示装置を製造することができる。

２０１６年８月３０日に出願された日本国特許出願２０１６−１６８４２５号の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。

Claims (12)

1. タッチパネル用保護膜の形成に用いられる感光性樹脂組成物であって、
   エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー、
   光重合開始剤、
   カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体、及び
   含窒素複素環化合物
   を含有し、
   前記含窒素複素環化合物が、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアゾール化合物、及びチアジアゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物である感光性樹脂組成物。
2. 前記カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体の酸無水物価が、０．８０ｍｍｏｌ／ｇ〜５．００ｍｍｏｌ／ｇである請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
3. 前記カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体が、更に、スチレン化合物に由来する構成単位を含む請求項１又は請求項２に記載の感光性樹脂組成物。
4. 前記カルボン酸無水物構造を有する構成単位が、下記式ａ２−１で表される構成単位及び下記式ａ２−２で表される構成単位の少なくとも一方を含む請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
   
5. 前記カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体の含有量が、感光性樹脂組成物の固形分に対し、３０質量％以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
6. 前記含窒素複素環化合物が、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のアゾール化合物を含む請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
7. タッチパネル用保護膜の形成に用いられる転写フィルムであって、
   仮支持体と、
   請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物の固形分を含有する感光性層と、
   を備える転写フィルム。
8. 前記感光性層の厚さが、２０μｍ以下である請求項７に記載の転写フィルム。
9. 請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物の固形分の硬化物であるタッチパネル用保護膜。
10. 請求項９に記載のタッチパネル用保護膜を備えるタッチパネル。
11. 請求項１０に記載のタッチパネルを備える画像表示装置。
12. 基板上にタッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程と、
    前記タッチパネル用基板の前記タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方が配置された側の面の上に、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物又は請求項７若しくは請求項８に記載の転写フィルムを用いて感光性層を形成する工程と、
    前記タッチパネル用基板の前記面の上に形成された前記感光性層をパターン露光する工程と、
    パターン露光された前記感光性層を現像することにより、前記タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方の少なくとも一部を保護するタッチパネル用保護膜を得る工程と、
    を含むタッチパネルの製造方法。