CN111480115A - 转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法 - Google Patents

转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。转印薄膜具备临时支承体及感光性层，上述感光性层含有：包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。
Figure DDA0002531063330000011

Description

转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸 面板的制造方法
技术领域
本发明涉及一种转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。
背景技术
以往，已知一种具备感光性组合物及使用了感光性组合物的感光性层的转印薄膜(也称为“感光性薄膜”)。
专利文献1中记载有一种感光性树脂组合物，其含有树脂、包含由下述通式(1)表示的结构的聚合性化合物及光聚合引发剂。
[化学式1]
Figure BDA0002531063310000011
由通式(1)表示的结构在*的位置与其他结构键合而形成聚合性化合物。并且，通式(1)中，R0表示氢原子或甲基，R1表示氢原子、一价有机基或与上述其他结构键合而形成包含-R1CHX-的环结构的二价有机基。X表示-O-、-NR2-或-S-。R2表示氢原子、一价有机基或与上述其他结构键合而形成包含-R2N-的环结构的二价有机基。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-229720号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
有时对使转印薄膜中的感光性层固化而成的固化膜要求水蒸气透过率(WVTR；Water Vapor Transmission Rate)的降低。例如，当将触摸面板中包含的触摸面板用保护膜形成为使感光性层固化而成的固化膜时，对形成的触摸面板用保护膜(即，固化膜)要求WVTR的降低。
关于这一方面，在专利文献1中记载的使使用了感光性组合物的感光性层固化而成的固化膜中，WVTR的降低有改善的余地。
并且，有时对转印薄膜中的感光性层要求粘性的降低。若感光性层的粘性大，则有时临时支承体的剥离会变困难。
并且，转印薄膜中的感光性层在转印到基材之后，通过曝光及显影而形成图案状固化膜。其中，在上述显影时，例如通过感光性层与传送辊的接触，有时在显影中的感光性层的表面会产生划痕。若能够抑制产生上述划痕，则可得到面状优异的固化膜，固化膜的光学特性的面内均匀性变良好，因此认为优选。
本发明中，将在显影中不易产生上述划痕的情况也称为“显影液中的耐刮擦性优异”。
本发明的实施方式的课题为提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。
用于解决技术课题的手段
用于解决上述课题的方法中，包含以下方式。
＜1＞一种转印薄膜，其具备临时支承体及感光性层，
上述感光性层含有：
包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；
自由基聚合性化合物；及
光聚合引发剂，
上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，
上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，
上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。
[化学式2]
Figure BDA0002531063310000031
式A1中，Ar表示苯基或萘基，RA1表示氢原子或烷基。
＜2＞如上述＜1＞所述的转印薄膜，其中，
上述聚合物A还包含具有酸基的构成单元。
＜3＞如上述＜1＞或＜2＞所述的转印薄膜，其中，
上述感光性层还包含热交联性化合物。
＜4＞如上述＜3＞所述的转印薄膜，其中，
上述热交联性化合物中的热交联性基团为封端异氰酸酯基。
＜5＞如上述＜3＞或＜4＞所述的转印薄膜，其中，
上述热交联性化合物具有自由基聚合性基团。
＜6＞如上述＜1＞至＜5＞中任一项所述的转印薄膜，其用于形成触摸面板用保护膜。
＜7＞一种电极保护膜，其从上述＜1＞至＜6＞中任一项所述的转印薄膜去除上述临时支承体而得。
＜8＞一种层叠体，其在包含静电电容型输入装置的电极的基板上，具有从上述＜1＞至＜6＞中任一项所述的转印薄膜去除临时支承体之后的感光性层。
＜9＞一种静电电容型输入装置，其具有上述＜7＞所述的电极保护膜或上述＜8＞所述的层叠体。
＜10＞一种触摸面板的制造方法，其包括如下工序：
准备具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的结构的触摸面板用基板；
在上述触摸面板用基板的配置有上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的一侧的面上，使用上述＜1＞至＜6＞中任一项所述的转印薄膜来形成感光性层；
对形成在上述触摸面板用基板上的上述感光性层进行图案曝光；及
通过对经图案曝光的上述感光性层进行显影而得到保护上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的至少一部分的触摸面板用保护膜。
发明效果
根据本发明的实施方式，提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。
附图说明
图1是表示本发明的一实施方式的转印薄膜的一例的概略剖视图。
图2是表示本发明的一实施方式的触摸面板的第1具体例的概略剖视图。
图3是表示本发明的一实施方式的触摸面板的第2具体例的概略剖视图。
具体实施方式
以下，对本发明的一实施方式进行说明。
本说明书中的基团(原子团)的标记中，未记述取代及未取代的标记为一同包含不具有取代基的基团和具有取代基的基团。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，还包含具有取代基的烷基(取代烷基)。并且，本说明书中的“有机基”是指包含至少1个碳原子的基团。
本说明书中，利用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
本说明书中，当在感光性层等层中存在多种相当于各成分的物质时，除非另有说明，则感光性层等层中的各成分的量是指存在于感光性层等层中的上述多种物质的合计量。
本说明书中，“工序”这一词不仅包含独立的工序，即使无法与其他工序明确区别的情况下，只要达到该工序的预期目的，则也包含于本术语中。
本说明书中，“(甲基)丙烯酸”为包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酸酯”为包含丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者的概念，“(甲基)丙烯酰基”为包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的概念。
本说明书中，“光”为包含诸如γ射线、β射线、电子束、紫外线、可见光线、红外线的活性能量射线的概念。
除非另有说明，则本说明书中的“曝光”不仅包含基于汞灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线、X射线及EUV(Extreme ultraviolet：极紫外线)光等的曝光，也包含基于电子束及离子束等粒子束的曝光。
本说明书中，“透明”是指23℃下的波长400nm～800nm下的最低透过率为80％以上(优选为90％以上，更优选为95％以上)。
并且，本说明书中，2个以上的优选的方式的组合为更优选的方式。
(转印薄膜)
本发明的转印薄膜具备临时支承体及感光性层，上述感光性层含有：包含上述由式A1表示的构成单元(以下，也称为“构成单元A1”。)、源自具有脂环式结构的单体的构成单元(以下，也称为“构成单元B1”。)及具有自由基聚合性基团的构成单元(以下，也称为“构成单元C1”。)的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度(Tg)为120℃以上。
本发明人等进行深入研究的结果，发现通过采用上述构成，可得到转印薄膜，该转印薄膜可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异。
关于可得到上述效果的机制并不一定明确，但推测为如下。
认为聚合物A中的构成单元A1的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，且构成单元B1的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，由此固化膜被疏水化，因此WVTR得以降低。
并且，认为聚合物A具有构成单元C1，由此通过感光性层的效果而得到的固化膜被致密化，因此WVTR得以降低。
进而，认为聚合物A中的构成单元B1的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，且形成构成单元B1的具有脂环式结构的单体的均聚物的Tg为120℃以上，由此感光性层的流动性降低，感光性层表面的粘性优异。
此外，本发明中，将源自具有脂环式结构的单体的构成单元(构成单元B1)中的具有脂环式结构的单体也称为“形成构成单元B1的具有脂环式结构的单体”。
进而，认为聚合物A中的构成单元C1与其他构成单元C1或自由基聚合性化合物等形成交联结构，由此显影时的感光性层表面的硬度得以提高，显影液中的耐刮擦性优异。
本发明的转印薄膜适于在基材上的固化膜的形成。当使用本发明的转印薄膜在基材上形成固化膜时，例如对欲形成固化膜的基材转印本发明的转印薄膜的感光性层，对转印到上述基材上的感光性层实施曝光及显影等处理，由此在基材上形成固化膜。
根据本发明的转印薄膜，可发挥能够形成WVTR降低的固化膜这一效果。
从而，本发明的转印薄膜尤其适于作为固化膜而形成触摸面板用保护膜的用途中。
以下，对构成本发明的转印薄膜的各要件进行说明。
＜临时支承体＞
本发明的转印薄膜具备临时支承体。
临时支承体优选为薄膜，更优选为树脂薄膜。
作为临时支承体，能够使用具有挠性，并且在加压下或加压及加热下，未产生显著的变形、收缩或拉伸的薄膜。
作为这种薄膜，例如可举出聚对酞酸乙二酯薄膜、三乙酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚酰亚胺薄膜及聚碳酸酯薄膜。
其中，尤其优选双轴拉伸聚对酞酸乙二酯薄膜。
临时支承体的厚度并无特别限制，优选为5μm～200μm。从易操作性及通用性的观点考虑，临时支承体的厚度尤其优选为10μm～150μm。
＜感光性层＞
本发明的转印薄膜具备感光性层。
本发明中的感光性层含有：包含构成单元A1、构成单元B1及构成单元C1的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，构成单元A1的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，构成单元B1的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，形成构成单元B1的具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度(Tg)为120℃以上。
本发明中的感光性层优选为通过曝光而固化的所谓的负型感光性层。
并且，本发明中的感光性层优选为透明。
〔构成单元A1〕
本发明中使用的聚合物A包含由下述式A1表示的构成单元(构成单元A1)。
[化学式3]
Figure BDA0002531063310000071
式A1中，Ar表示苯基或萘基，RA1表示氢原子或烷基。
式A1中，Ar可以具有取代基，但优选未取代的苯基或未取代的萘基。作为苯基或萘基可以具有的取代基，可举出烷基、烷氧基、芳基、卤素原子、羟基等。并且，苯基或萘基可以具有多个取代基。
式A1中，RA1优选为氢原子。当RA1表示烷基时，优选碳原子数1～4的烷基，更优选甲基。
由式A1表示的构成单元例如通过作为制造聚合物A时使用的单体，使用由下述式A2表示的单体而被导入到聚合物A中。
[化学式4]
Figure BDA0002531063310000072
式A2中，Ar及RA1的定义分别与式A1中的Ar及RA1相同，优选的方式也相同。
作为由式A2表示的单体的具体例，可举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、1-乙烯基萘、2-乙烯基萘、4-羟基苯乙烯、4-溴苯乙烯、4-甲氧基苯乙烯等，尤其优选苯乙烯。
以下示出由式A1表示的构成单元的具体例，但由式A1表示的构成单元并不限定于此。
[化学式5]
Figure BDA0002531063310000081
从降低WVTR的观点考虑，由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，更优选为15质量％以上，进一步优选为20质量％以上。上限并无特别限制，能够设为50质量％以下。
聚合物A可以含有多种由式A1表示的构成单元。该情况下，上述含量为由式A1表示的多种构成单元的含量的合计值。
〔构成单元B1〕
本发明中的聚合物A包含制成均聚物时的玻璃化转变温度为120℃以上的单体，即源自具有脂环式结构的单体的构成单元(构成单元B1)。
形成构成单元B1的脂环式结构并无特别限定，可以为烃环结构也可以为包含杂原子的杂环式结构，优选不包含杂原子的烃环结构。作为包含杂原子的情况下的杂原子，可举出氧原子、氮原子、硫原子等。
上述脂环式结构进而可以与芳香环结构键合，脂环式结构也可以为缩合多环式结构。
形成构成单元B1的脂环式结构优选5元环～30元环，更优选5元环～20元环。
并且，构成单元B1可以具有多个脂环式结构。
将具有脂环式结构，Tg为120℃以上，且具有自由基聚合性基团的构成单元设为相当于构成单元B1，而不相当于后述的构成单元C1。
-具有脂环式结构的单体-
作为形成构成单元B1的具有脂环式结构的单体，只要制成均聚物时的Tg为120℃以上则并无特别限定，但可举出具有脂环式结构的(甲基)丙烯酸酯化合物或N-取代马来酰亚胺化合物等。
作为形成构成单元B1的具有脂环式结构的单体，例如优选为源自甲基丙烯酸二环戊基酯(Tg：175℃)、丙烯酸二环戊基酯(Tg：120℃)、甲基丙烯酸异冰片酯(Tg：173℃)、1-金刚烷基甲基丙烯酸酯(Tg：250℃)、丙烯酸1-金刚烷基酯(Tg：153℃)、N-苯基马来酰亚胺(Tg：276℃)等的构成单元。通过聚合物A包含源自上述化合物的构成单元，临时支承体上的感光性层表面的粘性(粘着性)降低，与和感光性层接触的辊的摩擦力降低，因此能够抑制在感光性层表面产生褶皱。
上述具体例中，Tg的值为将各单体制成均聚物时的Tg的值。
并且，形成构成单元B1的具有脂环式结构的单体的均聚物的Tg为120℃以上，优选为150℃以上，更优选为170℃以上。若Tg为上述范围，则能够降低感光性层表面的粘性。玻璃化转变温度的上限并无特别限定，但优选为250℃以下。
关于上述均聚物的玻璃化转变温度(Tg)，能够在制造形成构成单元B1的具有脂环式结构的单体的重均分子量10,000以上的均聚物之后，按照JIS K7121规定中记载的方法，并使用差示扫描量热仪(DSC)等进行测量。此外，玻璃化转变温度(Tg)根据分子量而发生变化，但当重均分子量10,000以上时，基于分子量的Tg的变动为能够忽视的程度。
构成单元B1的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，优选为15质量％以上且70质量％以下，更优选为20质量％以上且60质量％以下，进一步优选为25质量％以上且50质量％以下。
若构成单元B1的含量为15质量％以上，则感光性层表面的粘性变小，在临时支承体上形成有感光性层的转印薄膜的传送时不易在感光性层表面产生褶皱。并且，若构成单元B1的含量为70质量％以下，则将转印薄膜转印到基材时的转印性会提高，可防止固化膜的膜质变脆，对弯曲的耐性会提高，因此为优选。
聚合物A可以含有多种由式B1表示的构成单元。该情况下，上述含量为由式B1表示的多种构成单元的含量的合计值。
〔构成单元C1〕
本发明中的聚合物A优选包含含有自由基聚合性基团的构成单元(构成单元C1)。
作为自由基聚合性基团，并无特别限定，优选乙烯性不饱和基，更优选(甲基)丙烯酰基或乙烯基苯基，进一步优选(甲基)丙烯酰氧基。
作为构成单元C1，优选由下述式C2表示的单元(以下，也称为“构成单元C2”)。
[化学式6]
Figure BDA0002531063310000101
式C2中，R2及R3分别独立地表示氢原子或烷基，L表示2价连接基。
作为由R2及R3表示的烷基的碳原子数，分别独立地优选为1～3，更优选为1或2，尤其优选为1。
作为由L表示的2价连接基，优选选自包括羰基(即，-C(＝O)-基)、氧原子(即，-O-基)、亚烷基及亚芳基的组中的1个基团或选自上述组中的2个以上的基团连结而形成的基团。
亚烷基或亚芳基分别可以经取代基(例如，伯羟基以外的羟基、卤素原子等)取代。
由L表示的2价连接基可以具有支链结构。
作为由L表示的2价连接基的碳原子数，优选为1～30，更优选为1～20，进一步优选为2～10。
作为由L表示的2价连接基，尤其优选由下述式L-1～式L-6中的任一个表示的基团。
[化学式7]
Figure BDA0002531063310000111
上述各基团中，*1表示与式C2中的主链中包含的碳原子的键合位置，*2表示与在式C2中形成双键的碳原子的键合位置。
并且，式L-5中，n及m分别独立地表示1～6的整数。
作为构成单元C1，可举出对(甲基)丙烯酸单元加成含环氧基的单体而成的构成单元、对含羟基的单体单元加成含异氰酸酯基的单体而成的构成单元等。
作为含有环氧基的单体，优选总碳原子数为5～24的含环氧基的(甲基)丙烯酸酯，更优选总碳原子数为5～12的含有环氧基的(甲基)丙烯酸酯，尤其优选(甲基)丙烯酸环氧丙酯或(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯。
作为用于形成含羟基的单体单元的含羟基的单体，优选总碳原子数为4～24的羟基烷基(甲基)丙烯酸酯，更优选总碳原子数为4～12的羟基烷基(甲基)丙烯酸酯，尤其优选(甲基)丙烯酸羟乙酯。
其中，“(甲基)丙烯酸单元”是指源自(甲基)丙烯酸的构成单元。
同样地，本说明书中，紧接在单体名称之后标注“单元”这一词的术语(例如“含羟基的单体单元”)是指源自该单体(例如含羟基的单体)的构成单元。
作为构成单元C1，更具体而言，可举出：
对(甲基)丙烯酸单元加成(甲基)丙烯酸环氧丙酯而成的构成单元、
对(甲基)丙烯酸单元加成(甲基)丙烯酸而成的构成单元、
对(甲基)丙烯酸单元加成(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯而成的构成单元、
对(甲基)丙烯酸羟乙酯单元加成(甲基)丙烯酸2-异氰酸乙酯而成的构成单元、
对(甲基)丙烯酸羟丁酯单元加成(甲基)丙烯酸2-异氰酸乙酯而成的构成单元、
对羟基苯乙烯单元加成(甲基)丙烯酸2-异氰酸乙酯而成的构成单元等。
作为构成单元C1，
进一步优选对(甲基)丙烯酸单元加成(甲基)丙烯酸环氧丙酯而成的构成单元或对(甲基)丙烯酸单元加成(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯而成的构成单元，
尤其优选对甲基丙烯酸单元加成甲基丙烯酸环氧丙酯而成的构成单元或对甲基丙烯酸单元加成甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯而成的构成单元。
从兼顾固化膜的WVTR的降低和粘性的降低的观点考虑，构成单元C1的含量相对于聚合物A的总质量优选为5质量％～60质量％，更优选为15质量％～50质量％。
聚合物A可以含有多种构成单元C1。该情况下，上述含量为多种构成单元C1的含量的合计值。
〔具有酸基的构成单元〕
聚合物A优选包含具有酸基的构成单元(以下，也称为“构成单元D1”。)。
酸基为具有解离性质子的取代基，例如是指诸如羧基、膦酰基、磷酰基、磺基、硼酸基的显示酸性的基团。这些中，作为酸基，优选羧基、磺基或膦酰基，更优选羧基。
具有酸基的构成单元优选为源自(甲基)丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、马来酸、反丁烯二酸、双(甲基丙烯酰氧基乙基)磷酸酯或2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸等具有酸基的单体的构成单元，更优选为源自甲基丙烯酸或丙烯酸的构成单元，从减小粘性的观点考虑，进一步优选为源自甲基丙烯酸的构成单元。
从显影性及显影液中的耐刮擦性的观点考虑，具有酸基的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量优选为5质量％以上且30质量％以下，更优选为10质量％以上且25质量％以下。
聚合物A可以含有多种具有酸基的构成单元。该情况下，上述含量为具有酸基的多种构成单元的含量的合计值。
并且，当聚合物A包含具有酸基的构成单元时，作为聚合物A的酸值，优选60mgKOH/g以上，更优选60mgKOH/g～200mgKOH/g，进一步优选60mgKOH/g～150mgKOH/g，尤其优选60mgKOH/g～110mgKOH/g。
作为酸值，能够使用通过日本特开2004-149806号公报的0063段或日本特开2012-211228号公报的0070段等中记载的计算方法计算的理论酸值的值。
〔其他构成单元〕
聚合物A可以包含除了上述的构成单元以外的其他构成单元。
其他构成单元可举出不具有自由基聚合性基团及酸基中的任一个的烷基(甲基)丙烯酸酯单元。
作为其他构成单元的烷基(甲基)丙烯酸酯单元的总碳原子数优选为4～24，更优选为4～20。
烷基(甲基)丙烯酸酯单元中的烷基部分可以具有选自包括环状结构及支链结构的组中的至少一种结构。
＜聚合物A的特性＞
〔聚合物A的重均分子量〕
聚合物A的重均分子量(Mw)并无特别限定，从显影性、进一步降低固化膜的WVTR的观点及减小粘性的观点考虑，优选10,000～200,000，更优选10,000～100,000，尤其优选10,000～60,000。
本发明中，重均分子量(Mw)的测量能够在下述条件下，通过凝胶渗透色谱法(GPC)进行。校准曲线由TOSOH CORPORATION制“标准试样TSK standard,polystyrene”：“F-40”、“F-20”、“F-4”、“F-1”、“A-5000”、“A-2500”、“A-1000”、“正丙基苯”这8种样品制作。
-条件-
·GPC：HLC(注册商标)-8020GPC(TOSOH CORPORATION制)
·管柱：TSKgel(注册商标)、3根Super MultiporeHZ-H(TOSOH CORPORATION制、4.6mmID×15cm)
·洗脱液：THF(四氢呋喃)
·试样浓度：0.45质量％
·流速：0.35ml/min
·样品注入量：10μl
·测量温度：40℃
·检测器：差示折射计(RI)
〔含量〕
本发明中的感光性层中的聚合物A的含量并无特别限制。
聚合物A的含量相对于感光性层的总质量优选为10质量％～95质量％，更优选为20质量％～80质量％，尤其优选为30质量％～70质量％。
本发明中的感光性层可以含有除了聚合物A以外的其他聚合物(例如，丙烯酸树脂、聚硅氧烷树脂、聚苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂等)。
本发明中的感光性层中，聚合物A的含量相对于所含有的聚合物的总含量优选为60质量％～100质量％，更优选为80质量％～100质量％，尤其优选为90质量％～100质量％。
〔具体例〕
作为本发明中使用的聚合物A的具体例，可举出后述的实施例中的聚合物P-1～聚合物P-17。
＜自由基聚合引发剂＞
本发明中的感光性层含有至少一种自由基聚合引发剂。
作为自由基聚合引发剂并无特别限制，能够使用公知的自由基聚合引发剂。
自由基聚合引发剂优选为光自由基聚合引发剂。
作为自由基聚合引发剂，可举出：
具有肟酯结构的自由基聚合引发剂(以下，也称为“肟系聚合引发剂”)、
具有α-胺基烷基苯酮结构的自由基聚合引发剂(以下，也称为“α-胺基烷基苯酮系聚合引发剂”)、
具有α-羟基烷基苯酮结构的自由基聚合引发剂(以下，也称为“α-羟基烷基苯酮系聚合引发剂”)、
具有酰基氧化膦结构的自由基聚合引发剂(以下，也称为“酰基氧化膦系聚合引发剂”)等。
自由基聚合引发剂优选包含选自包括肟系聚合引发剂、α-胺基烷基苯酮系聚合引发剂及α-羟基烷基苯酮系聚合引发剂的组中的至少一种，更优选包含选自包括肟系聚合引发剂及α-胺基烷基苯酮系聚合引发剂的组中的至少一种。
并且，作为自由基聚合引发剂，例如可以使用日本特开2011-095716号公报的0031～0042段、日本特开2015-014783号公报的0064～0081段中记载的聚合引发剂。
作为自由基聚合引发剂的市售品，可举出1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)-,2-(邻苯甲酰基肟)](商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(邻乙酰基肟)(商品名：IRGACURE OXE-02、BASF公司制)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE 379EG、BASF公司制)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 907、BASF公司制)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 127、BASF公司制)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE 369、BASF公司制)、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 1173、BASF公司制)、1-羟基环己基苯基酮(商品名：IRGACURE 184、BASF公司制)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：IRGACURE 651、BASF公司制)、肟酯系(商品名：Lunar 6、DKSH MANAGEMENT LTD.制)等。
〔含量〕
本发明中的感光性层中的自由基聚合引发剂的含量并无特别限制。
本发明中的感光性层可以单独包含一种自由基聚合引发剂，也可以同时使用两种以上。
自由基聚合引发剂的含量相对于感光性层的总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。
并且，自由基聚合引发剂的含量相对于感光性层的总质量优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。
＜自由基聚合性化合物＞
从进一步提高固化膜的强度的观点考虑，本发明中的感光性层含有至少一种自由基聚合性化合物。
自由基聚合性化合物优选含有2官能以上的自由基聚合性化合物。
其中，自由基聚合性化合物是指在一分子中具有自由基聚合性基团的单体，2官能以上的自由基聚合性化合物是指在一分子中具有2个以上的自由基聚合性基团的单体。
具有自由基聚合性基团的化合物中，将相当于聚合物A的化合物作为不相当于本发明所述的“自由基聚合性化合物”。
作为自由基聚合性基团，优选乙烯性不饱和基(即，具有乙烯性双键的基团)，更优选(甲基)丙烯酰基。
作为自由基聚合性化合物，优选(甲基)丙烯酸酯。
从提高固化膜的WVTR的降低的观点考虑，本发明中的感光性层尤其优选含有2官能的自由基聚合性化合物(优选为2官能的(甲基)丙烯酸酯)和3官能以上的自由基聚合性化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯)。
并且，本发明中的感光性层含有3官能以上的(甲基)丙烯酸酯，由此所得到的固化膜中的交联密度会上升，且变得更容易降低WVTR。
〔具有环结构的2官能的自由基聚合性化合物〕
从降低固化膜的WVTR的观点考虑，本发明中的感光性层优选包含具有环结构的2官能的自由基聚合性化合物来作为上述2官能以上的自由基聚合性化合物。
作为环结构，可以为脂环式结构也可以为芳香环式结构，但优选为脂环式结构。
作为具有脂环式结构的2官能的自由基聚合性化合物，可举出三环癸烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，优选三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
并且，作为具有芳香环式结构的2官能的自由基聚合性化合物，可举出具有双酚结构(双酚A结构、双酚F结构等)的2官能的自由基聚合性化合物，优选具有双酚结构的二(甲基)丙烯酸酯化合物(例如，环氧烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯等)。
作为具有脂环式结构的2官能的自由基聚合性化合物，可以使用市售品，作为市售品，可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.制)等。
〔其他2官能的自由基聚合性化合物〕
作为其他2官能的自由基聚合性化合物并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为其他2官能的自由基聚合性化合物，可举出1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、等亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为其他2官能的自由基聚合性化合物，可以使用市售品，作为市售品，可举出1,9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.制)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.制)等。
〔3官能以上的自由基聚合性化合物〕
作为3官能以上的自由基聚合性化合物并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为3官能以上的自由基聚合性化合物，例如可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物等。
其中，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
作为自由基聚合性化合物，
还可举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制A-9300-1CL等)、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARAD RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制A-GLY-9E等)等。
〔胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯〕
作为自由基聚合性化合物，还可举出胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(优选为3官能以上的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯)。
作为3官能以上的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，例如可举出8UX-015A(TAISEIFINE CHEMICAL CO,.LTD.制)、UA-32P(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、UA-1100H(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)等。
〔具有酸基的自由基聚合性化合物〕
并且，从碱溶性提高(即显影性提高)的观点考虑，自由基聚合性化合物优选含有具有酸基的自由基聚合性化合物。
作为酸基，例如可举出磷酸基、磺酸基及羧基，优选羧基。
作为具有酸基的自由基聚合性化合物，例如可举出具有酸基的3～4官能的自由基聚合性化合物(将羧酸基导入到季戊四醇三及四丙烯酸酯[PETA]骨架而成(酸值＝80mgKOH/g～120mgKOH/g))、具有酸基的5～6官能的自由基聚合性化合物(将羧酸基导入到二季戊四醇五及六丙烯酸酯[DPHA]骨架而成(酸值＝25～70mgKOH/g))等。
具有这些酸基的3官能以上的自由基聚合性化合物可以根据需要与具有酸基的2官能的自由基聚合性化合物同时使用。
作为具有酸基的自由基聚合性化合物，优选选自包括含有羧基的2官能以上的自由基聚合性化合物及其羧酸酐的组中的至少一种。
含有羧基的2官能以上的自由基聚合性化合物无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为含有羧基的2官能以上的自由基聚合性化合物，例如能够优选地使用ARONIX(注册商标)TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制)、ARONIX M-520(TOAGOSEI CO.,LTD.制)或ARONIX M-510(TOAGOSEI CO.,LTD.制)。
具有酸基的自由基聚合性化合物也优选为日本特开2004-239942号公报的0025～0030段中记载的具有酸基的聚合性化合物。将该公报的内容编入本说明书中。
〔分子量〕
作为本发明中的感光性层中可含有的自由基聚合性化合物的分子量(当具有分布时为重均分子量)，优选200～3000，更优选250～2600，进一步优选280～2200。
本发明中的感光性层中含有的所有的自由基聚合性化合物中，分子量最小的自由基聚合性化合物的分子量优选250以上，更优选280以上，进一步优选300以上。
本发明中的感光性层中含有的所有的自由基聚合性化合物中，分子量300以下的自由基聚合性化合物的含量比例相对于感光性层中含有的所有的聚合性化合物优选30质量％以下，更优选25质量％以下，进一步优选20质量％以下。
〔含量〕
自由基聚合性化合物的含量相对于感光性层的总质量优选1质量％～70质量％，更优选10质量％～70质量％，进一步优选20质量％～60质量％，尤其优选20质量％～50质量％。
并且，当本发明的感光性层含有2官能的自由基聚合性化合物和3官能以上的自由基聚合性化合物时，2官能的自由基聚合性化合物的含量相对于感光性层中含有的所有的自由基聚合性化合物优选10质量％～90质量％，更优选20质量％～85质量％，进一步优选30质量％～80质量％。
并且，该情况下，3官能以上的自由基聚合性化合物的含量相对于感光性层中含有的所有的自由基聚合性化合物优选10质量％～90质量％，更优选15质量％～80质量％，进一步优选20质量％～70质量％。
并且，该情况下，2官能以上的自由基聚合性化合物的含量相对于2官能的自由基聚合性化合物与3官能以上的自由基聚合性化合物的总含量优选为50质量％以上且小于100质量％，更优选为60质量％～95质量％，尤其优选为70质量％～95质量％。
并且，当本发明中的感光性层含有2官能以上的自由基聚合性化合物时，该感光性层进而可以含有单官能的自由基聚合性化合物。
然而，当本发明中的感光性层含有2官能以上的自由基聚合性化合物时，优选感光性层中含有的自由基聚合性化合物中，2官能以上的自由基聚合性化合物为主成分。
具体而言，当本发明中的感光性层含有2官能以上的自由基聚合性化合物时，2官能以上的自由基聚合性化合物的含量相对于感光性层中含有的自由基聚合性化合物的总含量优选60质量％～100质量％，更优选80质量％～100质量％，尤其优选90质量％～100质量％。
并且，当本发明的感光性层含有具有酸基的自由基聚合性化合物(优选为含有羧基的2官能以上的自由基聚合性化合物或其羧酸酐)时，具有酸基的自由基聚合性化合物的含量相对于感光性层的总质量优选1质量％～50质量％，更优选1质量％～20质量％，进一步优选1质量％～10质量％。
本发明中的感光性层中，自由基聚合性化合物相对于聚合物A的含有质量比(自由基聚合性化合物/聚合物A)优选1.5以下，更优选0.1～1.5，进一步优选0.5～1.2，进一步优选0.7～1.0。
＜热交联性化合物＞
本发明中的感光性层优选进而含有热交联性化合物。
热交联性化合物为具有至少1个热交联性基团的化合物。
本发明中，热交联性基团是指除了自由基聚合性基团以外的、因热的作用而产生与聚合物A或其他成分的键合(也包括热交联性化合物彼此的键合)的基团，更优选为产生与聚合物A的键合的基团。
当本发明中的感光性层含有热交联性化合物时，上述感光性层不仅具有感光性(即，光固化性)，进而还具有热固化性。
当本发明中的感光性层具有光固化性及热固化性这两者时，通过光固化能够形成强度优异的固化膜，通过固化膜形成后的热固化，能够进而提高固化膜的强度，且进一步降低固化膜的WVTR。
从进一步降低固化膜的WVTR的观点考虑，热交联性化合物的热交联性基团优选为选自包括环氧基、氧杂环丁基、异氰酸酯基、环氧基、烯酮基、封端化异氰酸酯基及封端化烯酮基的组中的至少一种，更优选环氧基或封端异氰酸酯基，进一步优选封端异氰酸酯基。
即，热交联性化合物尤其优选在一分子中具有1个以上作为选自包括环氧基、氧杂环丁基、异氰酸酯基、烯酮基、封端化异氰酸酯基及封端化烯酮基的组中的至少一种的热交联性基团。一分子中的热交联性基团的数量的上限并无特别限制，一分子中的热交联性基团的数量例如能够设为30以下，更优选10以下。
具有热交联性基团的化合物可以在一分子中具有亲水性基。
具有热交联性的化合物在一分子中具有亲水性基，由此显影性会提高。
作为在一分子中具有亲水性基的热交联性化合物并无特别限制，能够使用公知的化合物。
在一分子中具有亲水性基的热交联性化合物的合成方法也并无特别限制。
作为在一分子中具有亲水性基的热交联性化合物中的亲水性基，优选非离子型亲水性基或阳离子型亲水性基。
非离子型亲水性基并无特别限定，例如可举出对甲醇、乙醇、丁醇、乙二醇及二乙二醇中的任一种醇的羟基加成有环氧乙烷或环氧丙烷的结构的基团。
具有热交联性的化合物可以为通过热而与酸基或羟基反应的化合物。
通过热而与酸基或羟基反应的化合物即具有热交联性基团的化合物通过加热而与存在于系统内的酸基或羟基(例如，作为其他聚合物的(甲基)丙烯酸树脂中的酸基或羟基)反应。由此，系统内的极性减少而亲水性会降低，且WVTR会进一步降低。
作为通过热而与酸基或羟基反应的化合物即具有热交联性基团的化合物，优选是作为热反应性基而具有通过封端剂而暂时失活的基团(例如，封端化异氰酸酯基、封端化烯酮基等)，且通过在规定的解离温度下源自封端剂的基团解离而能够与酸反应的化合物或具有环氧基的化合物。
通过热而与酸基或羟基反应的化合物即具有热交联性的化合物优选为大于25℃而加热之后的与酸的反应性比25℃下的与酸的反应性高的化合物。
作为通过热而与酸反应的化合物即热交联性化合物，尤其优选具有封端化异氰酸酯基的化合物(以下，“封端异氰酸酯化合物”)或具有环氧基的化合物(以下，“环氧化合物”)。
〔封端异氰酸酯化合物〕
作为封端异氰酸酯化合物，优选具有用封端剂对异氰酸酯化合物(即，具有异氰酸酯基的化合物)的异氰酸酯基进行保护(遮盖)的结构的化合物。
封端异氰酸酯化合物优选在一分子中具有亲水性基。亲水性基的优选的方式与上述相同。
封端异氰酸酯化合物的解离温度优选100℃～160℃，更优选130℃～150℃。
其中，封端异氰酸酯化合物的解离温度是指，“在使用差示扫描量热计(SeikoInstruments Inc.制、DSC6200)并通过DSC(Differential Scanning Calorimetry：差示扫描量热法)分析进行测量的情况下，伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰值的温度”。
作为用于形成封端异氰酸酯化合物(例如，解离温度为100℃～160℃的封端异氰酸酯化合物)的封端剂，例如可举出吡唑系化合物(3,5-二甲基吡唑、3-甲基吡唑、4-溴-3,5-二甲基吡唑、4-硝基-3,5-二甲基吡唑等)、活性亚甲基系化合物(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2-乙基己酯)等)等)、三唑系化合物(1,2,4-三唑等)、肟系化合物(一分子中具有由-C(＝N-OH)-表示的结构的化合物；例如，甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等)。
其中，从保存稳定性的观点考虑，优选肟系化合物及吡唑系化合物，更优选肟系化合物。
作为封端异氰酸酯化合物，可以使用市售品。
作为封端异氰酸酯化合物的市售品，例如可举出异佛尔酮二异氰酸酯的甲基乙基酮肟封体、即Takenate(注册商标)B870N(Mitsui Chemicals,Inc.制)及六亚甲基二异氰酸酯类封端异氰酸酯化合物、即DURANATE(注册商标)MF-K60B、TPA-B80E、X3071.04(均为ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION制)。
〔环氧化合物〕
环氧化合物中含有的环氧基可以为环氧丙基也可以为脂环式环氧基。
作为环氧化合物无特别限制，能够使用公知的化合物。
作为环氧化合物，能够优选地使用日本特开2015-135396号公报的0096～0098段中记载的化合物，并将该公报的内容编入本说明书中。
作为环氧化合物的例，能够举出EPOX-MK R151(Printec Co.制)等。
〔自由基聚合性基团〕
热交联性化合物优选具有自由基聚合性基团。
此外，包含热交联性基团及自由基聚合性基团的化合物设为不相当于上述自由基聚合性化合物，而相当于热交联性化合物。
热交联性化合物具有自由基聚合性基团，由此容易得到显影液中的耐刮擦性进一步优异的转印薄膜。推测其原因为如下，即由于热交联性化合物中的自由基聚合性基团与感光性层中包含的自由基聚合性化合物或聚合物A在曝光时会进一步聚合，因此显影时的感光性层的表面硬度会提高。并且，推测为如此通过组入曝光后的聚合物中的热交联性基团在显影后的加热(后烘烤)等中进行反应，可得到WVTR进一步降低的固化膜。
作为热交联性化合物中包含的自由基聚合性基团，并无特别限制，能够使用公知的自由基聚合性基团，优选为乙烯性不饱和基，例如可更优选地举出(甲基)丙烯酰基或乙烯基苯基。其中，作为自由基聚合性基团，从所得到的固化膜中的表面的面状、显影速度及反应性的观点考虑，优选为乙烯性不饱和基，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。
当热交联性化合物具有自由基聚合性基团时，从WVTR容易进一步降低的观点考虑，热交联性化合物中的自由基聚合性基团的含有摩尔量优选为热交联性基团的含有摩尔量以下的量，更优选为热交联性基团：自由基聚合性基团(摩尔比)＝1:1～10:1，进一步优选为热交联性基团：自由基聚合性基团(摩尔比)＝1:1～5:1。
作为具有自由基聚合性基团的热交联性化合物，并无特别限定，例如使用下述化合物。
[化学式8]
Figure BDA0002531063310000241
并且，作为具有自由基聚合性基团的化合物，可以使用市售品，作为市售品，可举出KARENZ AOI-BM、KARENZ MOI-BM(均为SHOWA DENKO K.K.制)、DA-MGIC、MA-DGIC(均为SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION.制)等。
〔分子量〕
作为热交联性化合物的分子量，从显影速度及热反应性的观点考虑，优选为1,000以下。
〔含量〕
当本发明中的感光性层含有热交联性化合物时，热交联性化合物的含量相对于感光性层的总质量优选为1质量％～50质量％，更优选为5质量％～30质量％。
＜其他成分＞
本发明中的感光性层可以含有除了上述的成分以外的其他成分。
作为其他成分，例如可举出后述金属氧化抑制剂、日本专利第4502784号公报的0017段、日本特开2009-237362号公报的0060～0071段中所记载的表面活性剂、公知的氟系表面活性剂、日本专利第4502784号公报的0018段中所记载的热阻聚剂及日本特开2000-310706号公报的0058～0071段中所记载的其他添加剂。
本发明中的感光性层优选含有氟系表面活性剂即MEGAFACE F-551(DICCORPORATION制)来作为其他成分。
并且，以调节折射率或透光性为目的，本发明中的感光性层可以含有至少一种粒子(例如金属氧化物粒子)来作为其他成分。
金属氧化物粒子的金属中也包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金属。从固化膜的透明性的观点考虑，粒子(例如金属氧化物粒子)的平均一次粒径优选1～200nm，更优选3～80nm。关于平均一次粒径，使用电子显微镜测量任意200个粒子的粒径，并对测量结果进行算术平均而求出。当粒子的形状并非球形时，将最长的边作为粒径。
粒子的含量相对于感光性层的总质量优选0质量％～35质量％，更优选0质量％～10质量％，进一步优选0质量％～5质量％，进一步优选0质量％～1质量％，尤其优选0质量％(即，感光性层中不包含粒子)。
并且，本发明中的感光性层可以含有微量着色剂(颜料、染料等)来作为其他成分，但从透明性的观点考虑，优选实质上不含有着色剂。
具体而言，本发明中的感光性层中的着色剂的含量相对于感光性层的总质量优选小于1质量％，更优选小于0.1质量％。
进而，本发明中的感光性层可以含有溶剂。作为感光性层含有溶剂的情况，例如可举出在涂布溶剂及含有感光性层中包含的其他成分的感光性组合物，并干燥而形成感光性层的情况下，在干燥后感光性层中也残存溶剂的情况。
〔溶剂〕
作为溶剂，能够无特别限制地使用通常使用的溶剂。
作为溶剂，优选有机溶剂。
作为有机溶剂，例如能够举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别称：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇、2-丙醇等。本发明中的感光性层可以含有这些化合物的混合物即混合溶剂。
作为溶剂，优选甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂、二乙二醇乙基甲基醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂或甲基乙基酮、丙二醇单甲醚及丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。
当本发明中的感光性层含有溶剂时，溶剂的含量相对于感光性层的总质量优选10质量％以下，更优选5质量％以下，尤其优选3质量％以下。溶剂的含量的下限并无特别限定，可以为0质量％。
＜感光性层的特性＞
〔折射率〕
感光性层的折射率优选为1.47～1.56，更优选1.50～1.56。
控制感光性层的折射率的方法并无特别限制。
作为控制感光性层的折射率的方法，例如可举出选择具有所希望的折射率的聚合物A的方法、通过添加金属氧化物粒子或金属粒子而进行控制的方法、使用金属盐与聚合物A的複合物进行控制的方法等。
感光性层优选适用于触摸面板的图像显示部分，该情况下，感光性层优选具有高透明性及高透过性。
〔厚度〕
本发明中的感光性层的厚度优选1μm～20μm，更优选2μm～15μm，进一步优选3μm～12μm。
通过将感光性层的膜厚设为上述范围，透过率变得不易降低。
通过将感光性层的膜厚设为上述范围，感光性层不易吸收波长10nm～100nm的电波(短波)，且可抑制感光性层变黄。
＜高折射率层＞
本发明的转印薄膜进而在上述感光性层的与临时支承体相反的一侧优选具备波长550nm下的折射率比上述感光性层高，且为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的透明层(高折射率层)。
该方式中，对具备透明电极图案(例如，由ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)形成的透明电极图案)的触摸面板用基板转印转印薄膜的感光性层及高折射率层而形成了触摸面板用保护膜的情况下，透明电极图案变得更不易视觉辨认(即，透明电极图案的隐蔽性进一步提高)。
高折射率层只要为在波长550nm下的折射率比上述感光性层高，且为1.50以上的层即可，除此以外并无特别限制。
关于视觉辨认到透明电极图案的现象及透明电极图案的隐蔽性，能够适当参考日本特开2014-010814号公报及日本特开2014-108541号公报。
本说明书中，除非另有说明，则“折射率”是指在温度23℃下以波长550nm的可见光通过椭偏仪测量的值。
从容易将折射率调整为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的方面考虑，上述高折射率层优选含有选自包括折射率为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的无机粒子、折射率为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的高分子化合物及折射率为1.50以上(更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上)的聚合性单体的组中的至少一种。
并且，高折射率层优选含有粘合剂聚合物及粒子。
关于高折射率层的成分，能够参考日本特开2014-108541号公报的0019～0040段及0144～0150段中记载的固化性透明树脂层的成分、日本特开2014-010814号公报的0024～0035段及0110～0112段中记载的透明层的成分、国际公开第2016/009980号的0034～0056段中记载的具有铵盐的组合物的成分、国际公开第2017/155003号的0088～0131段中记载的组合物的成分等。
作为高折射率层材料的具体例，能够举出国际公开第2017/155003号的实施例的材料B-17。
＜保护膜＞
本发明的转印薄膜还可以在从感光性层观察时与临时支承体相反的一侧具备保护膜。
本发明的转印薄膜在从感光性层观察时与临时支承体相反的一侧具备高折射率层的情况下，保护膜优选配置于从高折射率层观察时与临时支承体相反的一侧。
作为保护膜，例如可举出聚对酞酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚苯乙烯薄膜及聚碳酸酯薄膜。
作为保护膜，例如可以使用日本特开2006-259138号公报的0083～0087段及0093段中所记载的保护膜。
＜热塑性树脂层＞
本发明的转印薄膜还可以在临时支承体与感光性层之间具备热塑性树脂层。
在转印薄膜具备热塑性树脂层的情况下，将转印薄膜转印到基板而形成了层叠体时，在层叠体的各要素中不易产生气泡。在将该层叠体使用在图像显示装置的情况下，不易产生图像不均等，从而可得到优异的显示特性。
热塑性树脂层优选具有碱溶性。
热塑性树脂层在转印时，作为吸收基板表面的凹凸的缓冲材料而发挥功能。
在基板表面的凹凸中还包含已形成的图像、电极、佈线等。热塑性树脂层优选具有可根据据凹凸而变形的性质。
热塑性树脂层优选包含日本特开平5-072724号公报中记载的有机高分子物质，更优选包含基于维卡(Vicat)法(具体而言，基于美国材料试验方法ASTMD1235的聚合物软化点测量法)的软化点为约80℃以下的有机高分子物质。
作为热塑性树脂层的厚度，优选3μm～30μm，更优选4μm～25μm，进一步优选5μm～20μm。
若热塑性树脂层的厚度为3μm以上，则针对基板表面的凹凸的追随性得以提高，因此能够进一步有效地吸收基板表面的凹凸。
若热塑性树脂层的厚度为30μm以下，则工序适性进一步提高。例如，在临时支承体上涂布形成热塑性树脂层时的干燥(溶剂去除)的负载进一步减少，并且转印后的热塑性树脂层的显影时间得以缩短。
热塑性树脂层可通过将包含溶剂及热塑性有机高分子的热塑性树脂层形成用组合物涂布于临时支承体，并根据需要使其干燥来形成。
涂布及干燥的方法的具体例分别与形成感光性层时的涂布及干燥的具体例相同。
作为溶剂，只要是溶解形成热塑性树脂层的高分子成分的溶剂，则无特别限制，可举出有机溶剂(例如，甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇)。
热塑性树脂层的在100℃下测量的粘度优选为1,000～10,000Pa·s。并且，在100℃下测量的热塑性树脂层的粘度优选比在100℃下测量的感光性层的粘度低。
＜中间层＞
本发明的转印薄膜还可以在临时支承体与感光性层之间具备中间层。
当本发明的转印薄膜具备热塑性树脂层时，中间层优选配置于热塑性树脂层与感光性层之间。
作为中间层的成分，例如可举出聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、纤维素或作为包含它们中的至少2种的混合物的树脂。
并且，作为中间层，也能够使用日本特开平5-072724号公报中作为“分离层”而记载的中间层。
制造在临时支承体上依次具备热塑性树脂层、中间层及感光性层的方式的转印薄膜的情况下，中间层例如可通过涂布含有不溶解热塑性树脂层的溶剂和作为中间层的成分的上述树脂的中间层形成用组合物，并根据需要使其干燥来形成。涂布及干燥的方法的具体例分别与形成感光性层时的涂布及干燥的具体例相同。
上述情况下，例如首先在临时支承体上涂布热塑性树脂层形成用组合物，并使其干燥来形成热塑性树脂层。接着，在该热塑性树脂层上涂布中间层形成用组合物，并使其干燥来形成中间层。然后，在中间层上涂布含有有机溶剂的方式的感光性组合物，并使其干燥来形成感光性层。该情况下的有机溶剂优选为不溶解中间层的有机溶剂。
＜转印薄膜的具体例＞
图1是作为本发明的转印薄膜的一具体例的转印薄膜10的概略剖视图。
如图1所示，转印薄膜10具有“保护膜16/高折射率层20A/感光性层18A/临时支承体12”的层叠结构(即，依次配置有临时支承体12、感光性层18A、高折射率层20A及保护膜16的层叠结构)。
但是，本发明的转印薄膜并不限定于转印薄膜10，例如可以省略高折射率层20A及保护膜16。并且，可以在临时支承体12与感光性层18A之间具备上述热塑性树脂层及中间层中的至少一方。
高折射率层20A为如下层，即配置在从感光性层18A观察时与存在临时支承体12的一侧相反的一侧的层，且在波长550nm下的折射率为1.50以上的层。
转印薄膜10为负型材料(负型薄膜)。
转印薄膜10的制造方法并无特别限制。
转印薄膜10的制造方法例如依次包括：在临时支承体12上形成感光性层18A的工序；在感光性层18A上形成高折射率层20A的工序；及在高折射率层20A上形成保护膜16的工序。
转印薄膜10的制造方法可以在形成高折射率层20A的工序与形成保护膜16的工序之间包括国际公开第2016/009980号的0056段中记载的使氨挥发的工序。
(电极保护膜、层叠体及静电电容型输入装置)
本发明的电极保护膜为从本发明的转印薄膜去除了临时支承体的电极保护膜。
本发明的电极保护膜优选为静电电容型输入装置的电极保护膜，更优选为触摸面板用电极保护膜。
以下所述的本发明的层叠体具有本发明的电极保护膜。
本发明的层叠体在包含静电电容型输入装置的电极的基板上具有从本发明的转印薄膜去除临时支承体之后的感光性层。
并且，本发明的层叠体优选在包含静电电容型输入装置的电极的基板上，从上述基板侧依次具有从本发明的转印薄膜去除临时支承体之后的高折射率层、感光性层。
本发明的静电电容型输入装置具有本发明的电极保护膜或本发明的层叠体。
静电电容型输入装置的电极可以为透明电极图案，也可以为引绕佈线。层叠体中，静电电容型输入装置的电极优选为电极图案，更优选为透明电极图案。
本发明的层叠体具有基板、透明电极图案、与透明电极图案相邻而配置的高折射率层、与高折射率层相邻而配置的感光性层，高折射率层的折射率优选比感光性层的折射率高。高折射率层的折射率优选为1.6以上。
通过设为上述层叠体的结构，透明电极图案的隐蔽性变良好。
作为上述基板，优选玻璃基板或树脂基板。
并且，基板优选为透明基板，更优选为透明树脂基板。关于透明的意思，与上述相同。
基板的折射率优选1.50～1.52。
作为玻璃基板，例如能够使用Corning Incorporated Co.,Ltd.的大猩猩玻璃(注册商标)等强化玻璃。
作为树脂基板，优选使用光学变形少的树脂基板及透明度高的树脂基板中的至少一方，例如可举出由聚对酞酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)、聚酰亚胺(PI)、聚苯并
Figure BDA0002531063310000301
唑(PBO)、聚烯烃聚合物(COP)等树脂形成的基板。
作为透明基板的材质，可优选地使用日本特开2010-086684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中记载的材质。
作为上述静电电容型输入装置，可优选地举出触摸面板。
作为触摸面板用电极，例如可举出配置于触摸面板的至少图像显示区域的透明电极图案。触摸面板用电极可以从图像显示区域延伸至触摸面板的框架部分。
作为触摸面板用佈线，例如可举出配置于触摸面板的框架部分的引绕佈线(引出佈线)。
关于触摸面板用基板及触摸面板的优选方式，在透明电极图案的延伸至触摸面板的框架部分的部分层叠引绕佈线的一部分，由此透明电极图案与引绕佈线电连接的方式为优选。
作为透明电极图案的材质，优选ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等金属氧化膜。
作为引绕佈线的材质，优选金属。关于作为引绕佈线的材质的金属，可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰以及包括这些金属元素中的2种以上的合金。作为引绕佈线的材质，优选铜、钼、铝或钛，尤其优选铜。
本发明的触摸面板用电极保护膜以保护电极等(即，触摸面板用电极及触摸面板用佈线中的至少一方)为目的，以直接或隔着其他层覆盖电极等的方式设置。
触摸面板用电极保护膜的厚度的优选范围与上述的感光性层的厚度的优选范围相同。
本发明的电极保护膜，优选为触摸面板用电极保护膜可以具有开口部。
上述开口部可通过感光性层的非曝光部因显影液而溶解来形成。
该情况下，即使在使用转印薄膜在高温层压条件下形成触摸面板用电极保护膜的情况下，也可抑制触摸面板用电极保护膜的开口部中的显影残渣。
触摸面板还可以在电极等与触摸面板用电极保护层之间具备第一折射率调整层(例如，参考后述的触摸面板的第1具体例)。
第一折射率调整层的优选方式与转印薄膜可具备的高折射率层的优选方式相同。第一折射率调整层可以通过第一折射率调整层形成用组合物的涂布及干燥来形成，也可以通过单独转印具备折射率调整层的转印薄膜的折射率调整层来形成。
具备第一折射率调整层的方式的触摸面板通过使用优选为具备高折射率层的方式的本发明的转印薄膜，优选转印转印薄膜中的感光性层及高折射率层来形成。该情况下，由转印薄膜中的感光性层形成触摸面板用电极保护层，且由转印薄膜中的高折射率层形成第一折射率调整层。
并且，触摸面板或触摸面板用基板可以在基板与电极等之间具备第二折射率调整层(例如，参考后述的触摸面板的第1具体例)。
第二折射率调整层的优选方式与转印薄膜可具备的高折射率层的优选方式相同。
触摸面板具备第一折射率调整层的方式(更优选为具备第一折射率调整层及第二折射率调整层的方式)具有不易视觉辨认到电极等(即，可抑制所谓的图案可视)的优点。
关于触摸面板的结构，可以参考日本特开2014-010814号公报或日本特开2014-108541号公报中记载的静电电容型输入装置的结构。
＜触摸面板的第1具体例＞
图2是作为本发明的触摸面板的第1具体例的触摸面板30的概略剖视图。更详细而言，图2是触摸面板30的图像显示区域的概略剖视图。
如图2所示，触摸面板30具有依次配置有基板32、第二折射率调整层36、作为触摸面板用电极的透明电极图案34、第一折射率调整层20及触摸面板用电极保护膜18的结构。
触摸面板30中，触摸面板用电极保护膜18及第一折射率调整层20覆盖整个透明电极图案34。然而，本发明的触摸面板并不限定于该方式。触摸面板用电极保护膜18及第一折射率调整层20只要覆盖透明电极图案34的至少一部分即可。
并且，第二折射率调整层36及第一折射率调整层20优选分别直接或隔着其他层连续地覆盖存在透明电极图案34的第1区域40及不存在透明电极图案34的第2区域42。由此，透明电极图案34变得更不易视觉辨认。
关于第二折射率调整层36及第一折射率调整层20，与隔着其他层覆盖第1区域40及第2区域42这两者相比，优选直接覆盖。作为“其他层”，例如可举出絶縁层、透明电极图案34以外的电极图案等。
第一折射率调整层20跨越第1区域40及第2区域42这两者而层叠。第一折射率调整层20与第二折射率调整层36相邻，进而还与透明电极图案34相邻。
当与第二折射率调整层36接触的部位中的透明电极图案34的端部的形状为如图2所示的锥形时，优选沿锥形(即，以与锥角相同的斜率)层叠有第一折射率调整层20。
作为透明电极图案34，优选为ITO透明电极图案。
透明电极图案34例如能够通过以下方法形成。
在形成有第二折射率调整层36的基板32上，通过溅射而形成电极用薄膜(例如ITO膜)。在该电极用薄膜上涂布蚀刻用感光性抗蚀剂，或者转印蚀刻用感光性薄膜，由此形成蚀刻保护层。接着，通过曝光及显影，将该蚀刻保护层进行图案化以使其成为所希望的图案形状。接着，通过蚀刻，去除电极用薄膜中的未被经图案化的蚀刻保护层覆盖的部分。由此，将电极用薄膜制成所希望的形状的图案(即，透明电极图案34)。接着，通过剥离液去除经图案化的蚀刻保护层。
第一折射率调整层20及触摸面板用电极保护膜18例如通过如下方式形成于依次设置有第二折射率调整层36及透明电极图案34的基板32(即，触摸面板用基板)上。
首先，准备图1所示的转印薄膜10(即，具有“保护膜16/高折射率层20A/感光性层18A/临时支承体12”的层叠结构的转印薄膜10)。
接着，从转印薄膜10去除保护膜16。
接着，将去除了保护膜16的转印薄膜10层压于依次设置有第二折射率调整层36及透明电极图案34的基板32(即，触摸面板用基板)上。关于层压，以去除了保护膜16的转印薄膜10的高折射率层20A与透明电极图案34相接触的方向进行。通过该层压，得到具有“临时支承体12/感光性层18A/高折射率层20A/透明电极图案34/第二折射率调整层36/基板32”的层叠结构的层叠体。
接着，从层叠体去除临时支承体12。
接着，通过对去除了临时支承体12的层叠体进行图案曝光，使感光性层18A及高折射率层20A以图案状固化。关于感光性层18A及高折射率层20A以图案状固化，可以分别通过不同的图案曝光而分开进行，但优选通过1次图案曝光而同时进行。
接着，通过显影而去除感光性层18A及高折射率层20A的非曝光部(即，非固化部)，由此分别得到作为感光性层18A的图案状固化物的触摸面板用电极保护膜18(关于图案形状，未图示)及作为高折射率层20A的图案状固化物的第一折射率调整层20(关于图案形状，未图示)。关于图案曝光后的感光性层18A及高折射率层20A的显影，可以分别通过不同的显影而分开进行，但优选通过1次显影而同时进行。
关于层压、图案曝光、显影的优选的方式，将在后面进行叙述。
关于触摸面板的结构，可以参考日本特开2014-010814号公报或日本特开2014-108541号公报中记载的静电电容型输入装置的结构。
＜触摸面板的第2具体例＞
图3是作为本发明的触摸面板的第2具体例的触摸面板90的概略剖视图。
如图3所示，触摸面板90具有图像显示区域74及图像非显示区域75(即，框架部分)。
如图3所示，触摸面板90在基板32的两面具备触摸面板用电极。详细而言，触摸面板90在基板32的一面具备第1透明电极图案70，且在另一面具备第2透明电极图案72。
触摸面板90中，在第1透明电极图案70及第2透明电极图案72分别连接有引绕佈线56。引绕佈线56例如为铜佈线。
触摸面板90中，在基板32的一面以覆盖第1透明电极图案70及引绕佈线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18，在基板32的另一面以覆盖第2透明电极图案72及引绕佈线56的方式形成有触摸面板用电极保护膜18。
可以在基板32的一面及另一面分别设置有第1具体例中的第一折射率调整层及第二折射率调整层。
＜触摸面板的制造方法＞
制造本发明的触摸面板的方法无特别限制，但优选以下制造方法。
本发明的触摸面板的优选的制造方法包括：
准备具有在基板上配置有电极等(即，触摸面板用电极及触摸面板用佈线中的至少一方)的结构的触摸面板用基板的工序(以下，也称为“准备工序”。)；
在触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上使用本发明的转印薄膜来形成感光性层的工序(以下，也称为“感光性层形成工序”。)；
对形成在触摸面板用基板的上述面上的感光性层进行图案曝光的工序(以下，也称为“图案曝光工序”；及
通过对经图案曝光的感光性层进行显影而得到保护电极等的至少一部分的触摸面板用电极保护膜的工序(以下，也称为“显影工序”)。
根据上述优选的制造方法，能够制造具备WVTR降低的触摸面板用电极保护膜的触摸面板。
并且，上述优选的制造方法中，即使在使用本发明的转印薄膜在高温层压条件下形成了感光性层的情况下，也可抑制在显影后的感光性层的非曝光部中产生显影残渣。
以下，对上述优选的制造方法的各工序进行说明。
＜准备工序＞
准备工序是为了方便起见的工序，是准备具有在基板上配置有电极等(即，触摸面板用电极及触摸面板用佈线中的至少一方)的结构的触摸面板用基板的工序。
准备工序可以为仅准备预先制造的触摸面板用基板的工序，也可以为制造触摸面板用基板的工序。
触摸面板用基板的优选方式与上述相同。
＜感光性层形成工序＞
感光性层形成工序为在触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上使用本发明的转印薄膜来形成感光性层的工序。
以下，对感光性层形成工序中使用本发明的转印薄膜的方式进行说明。
该方式中，将本发明的转印薄膜层压于触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上，将本发明的转印薄膜的感光性层转印到上述面上，由此在上述面上形成感光性层。
层压(感光性层的转印)能够使用真空层压机、自动切割层压机等公知的层压机来进行。
作为层压条件，能够适用通常的条件。
作为层压温度，优选80℃～150℃，更优选90℃～150℃。
如上述，使用本发明的转印薄膜的方式中，即使在层压温度为高温(例如为120℃～150℃)的情况下，也可抑制产生基于热雾的显影残渣。
当使用具备橡胶辊的层压机时，层压温度是指橡胶辊温度。
层压时的基板温度无特别限制。作为层压时的基板温度，可举出10℃～150℃，优选20℃～150℃，更优选30℃～150℃。作为基板而使用树脂基板时，作为层压时的基板温度，优选10℃～80℃，更优选20℃～60℃，尤其优选30℃～50℃。
并且，作为层压时的线压，优选0.5N/cm～20N/cm，更优选1N/cm～10N/cm，尤其优选1N/cm～5N/cm。
并且，作为层压时的传送速度(层压速度)，优选0.5m/分钟～5m/分钟，更优选1.5m/分钟～3m/分钟。
当使用具有“保护膜/感光性层/中间层/热塑性树脂层/临时支承体”的层叠结构的转印薄膜时，首先从转印薄膜剥离保护膜而使感光性层暴露，接着将转印薄膜与触摸面板用基板贴合，以使所暴露的感光性层与触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面接触，接着实施加热及加压。由此，转印薄膜的感光性层被转印到触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的面上，从而形成具有“临时支承体/热塑性树脂层/中间层/感光性层/电极等/基板”的层叠结构的层叠体。该层叠结构中，“电极等/基板”的部分为触摸面板用基板。
然后，根据需要，从上述层叠体剥离临时支承体。然而，也能够以残留有临时支承体的状态直接进行后述的图案曝光。
作为将转印薄膜的感光性层转印到触摸面板用基板上，进行图案曝光，并显影的方法的例子，也能够参考日本特开2006-023696号公报的0035～0051段的记载。
＜图案曝光工序＞
图案曝光工序为对形成在触摸面板用基板上的感光性层进行图案曝光的工序。
在此，图案曝光是指，曝光成图案状的方式、即存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。
触摸面板用基板上的感光性层中，图案曝光中的曝光部被固化，最终成为固化膜。
另一者面，触摸面板用基板上的感光性层中，图案曝光中的非曝光部未固化，且在接下来的显影工序中，通过显影液而被去除(溶解)。非曝光部在显影工序后可形成固化膜的开口部。
图案曝光可以为经由掩模的曝光，也可以为使用了激光等的数字曝光。
作为图案曝光的光源，只要是能够照射可固化感光性层的波长域的光(例如，365nm或405nm)，则能够适当选择使用。作为光源，例如可举出各种激光、发光电二极管(LED)、超高压汞灯、高压汞灯及金属卤化物灯。曝光量优选为5mJ/cm2～200mJ/cm2，更优选为10mJ/cm2～200mJ/cm2。
在使用转印薄膜来在基板上形成了感光性层的情况下，图案曝光可以在将临时支承体剥离之后进行，也可以在剥离临时支承体之前进行曝光，然后剥离临时支承体。
并且，曝光工序中，可以在图案曝光后且显影前，对感光性层实施热处理(所谓的PEB(Post Exposure Bake：后烘烤))。
＜显影工序＞
显影工序为通过对经图案曝光的感光性层进行显影(即，通过将图案曝光中的非曝光部溶解于显影液)，得到保护电极等的至少一部分的触摸面板用电极保护膜的工序。
使用于显影中的显影液无特别限制，能够使用日本特开平5-072724号公报中记载的显影液等公知的显影液。
作为显影液，优选使用碱性水溶液。
作为碱性水溶液中可含有的碱性化合物，例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)等。
作为碱性水溶液在25℃下的pH，优选8～13，更优选9～12，尤其优选10～12。
碱性水溶液中的碱性化合物的含量相对于碱性水溶液总量优选0.1质量％～5质量％，更优选0.1质量％～3质量％。
显影液可以含有针对水具有混合性的有机溶剂。
作为有机溶剂，例如能够举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺及N-甲基吡咯烷酮。
有机溶剂的浓度优选0.1质量％～30质量％。
显影液可以包含公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选0.01质量％～10质量％。
显影液的液温优选20℃～40℃。
作为显影的方式，例如可举出旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等方式。
当进行喷淋显影时，通过以喷淋状对图案曝光后的感光性层喷射显影液，去除感光性层的非曝光部。当使用了具备感光性层与热塑性树脂层及中间层中的至少一方的转印薄膜的情况下，可以在这些层对基板上的转印后且感光性层的显影前，以喷淋状喷射感光性层的溶解性低的碱性溶液来预先去除热塑性树脂层及中间层中的至少一方(存在两者时为该两者)。
并且，在显影后，优选通过喷淋而喷射清洗剂等，并且用刷子等擦拭，由此去除显影残渣。
显影液的液温优选20℃～40℃。
显影工序可以包含进行上述显影的阶段和对通过上述显影而得到的固化膜进行加热处理(以下，也称为“后烘烤”)的阶段。
当基板为树脂基板时，后烘烤温度优选100℃～180℃，更优选130℃～180℃。
通过该后烘烤，还能够调整透明电极图案的电阻值。
并且，当感光性层包含含羧基的(甲基)丙烯酸树脂时，通过后烘烤而能够使含羧基的(甲基)丙烯酸树脂中的至少一部分变为羧酸酐。
尤其，当感光性层包含热交联性化合物时，通过进行后烘烤而固化膜中的交联变密，且WVTR容易进一步降低。
并且，显影工序可以包含进行上述显影的阶段和对通过上述显影而得到的固化膜进行曝光(以下，也称为“后曝光”。)的阶段。
当显影工序包含进行后曝光的阶段及进行后烘烤的阶段时，优选为以后曝光、后烘烤的顺序实施。
关于图案曝光、显影等，例如还能够参考日本特开2006-023696号公报的0035～0051段的记载。
本发明的触摸面板的优选的制造方法还可以包含上述的工序以外的其他工序。作为其他工序，能够无特别限制地适用有时设于通常的光微影工序中的工序(例如，清洗工序等)。
(图像显示装置)
本发明的图像显示装置具备本发明的静电电容型输入装置，优选为具备本发明的触摸面板(例如，第1～第2具体例的触摸面板)。
作为本发明的图像显示装置，优选具有将本发明的触摸面板与公知的液晶显示元件重叠的结构的液晶显示装置。
作为具备触摸面板的图像显示装置的结构，例如能够适用“最新触摸面板技术”(2009年7月6日发行Techno Times Co.,Ltd.)、三谷雄二监修、“触摸面板的技术与开发”、CMC出版(2004,12)、FPD International 2009 Forum T-11演讲教材、CypressSemiconductor Corporation应用笔记AN2292中公开的结构。
实施例
以下举出实施例对本发明进行更具体的说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理工序等只要不脱离本发明的宗旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。此外，除非另有说明，则“份”、“％”为质量基准。
此外，以下的实施例中，树脂的重均分子量为通过基于凝胶渗透色谱法(GPC)的聚苯乙烯换算求出的重均分子量。并且，酸值使用了理论酸值。
＜树脂A的合成＞
首先，作为转印薄膜的感光性层中含有的树脂，分别对本发明中使用的聚合物A的具体例即聚合物P-1～P-17及比较例用聚合物即聚合物R-1～R-4进行了合成。
＜聚合物P-1的合成＞
向三口烧瓶加入丙二醇单甲醚(MFG、WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)244.2质量份，在氮下，保持在90℃。经3小时对其滴加了甲基丙烯酸二环戊酯(TOKYOCHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.制)120.4质量份、甲基丙烯酸(MAA、WAKO PURE CHEMICALINDUSTRIES,LTD.制)96.1质量份、苯乙烯(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)87.2质量份、MFG188.5质量份、对甲氧基苯酚(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)0.0610质量份、V-601(二甲基2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸酯)、WAKO PURE CHEMICALINDUSTRIES,LTD.制)16.7质量份的混合液。
滴加后，在90℃下搅拌1小时，添加V-601(2.1质量份)与MFG(5.2质量份)的混合液，并搅拌1小时之后，进而添加了V-601(2.1质量份)与MFG(5.2质量份)的混合液。搅拌1小时之后，进而添加了V-601(2.1质量份)与MFG(5.2质量份)的混合液。搅拌3小时之后，添加MFG2.9质量份、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA、DAICEL CORPORATION.制)166.9质量份，并搅拌至均匀。
向反应液添加作为附加催化剂的四甲基溴化铵(TEAB、TOKYO CHEMICAL INDUSTRYCO.,LTD.制)1.5质量份、对甲氧基苯酚0.7质量份，并升温至100℃。进而，添加甲基丙烯酸环氧丙酯(GMA、WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)62.8质量份，在100℃下搅拌9小时而得到了聚合物P-1的MFG/PGMEA混合溶液。P-1的基于GPC测量的重均分子量为20,000(聚苯乙烯换算)，固体成分浓度为36.3质量％。
＜聚合物P-2～P-17及R-1～R-4的合成＞
将聚合物中包含的各构成单元及各构成单元的含量变更为如表1所示，除此以外，以与聚合物P-1的合成相同的方式对聚合物P-2～P-17及R-1～R-4进行了合成。将任一聚合物均作为聚合物溶液而进行合成，且将稀释剂(PGMEA)的量调整为聚合物溶液中的聚合物浓度(固体成分浓度)成为35质量％。
其中，聚合物R-1～R-4为比较用聚合物。
表1中，关于除了具有自由基聚合性基团的构成单元以外的构成单元，以用于形成各构成单元的单体的简称表示。
关于具有自由基聚合性基团的构成单元，以单体与单体的附加结构的形式表示。例如，MAA-GMA是指对源自甲基丙烯酸的构成单元加成甲基丙烯酸环氧丙酯而成的构成单元。
[表1]
Figure BDA0002531063310000421
〔表1中的说明〕
·简称的意思与下述相同。
St：苯乙烯(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)
VN：乙烯基萘(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)
AMS：α-甲基苯乙烯(TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.制)
DCPMA：甲基丙烯酸二环戊基酯(Tg：175℃、FANCRYL FA-513M、HITACHI CHEMICALCO.,LTD.制)
IBXMA：甲基丙烯酸异冰片酯(Tg：173℃、LIGHT ESTER IB-X、KYOEISHA CHEMICALCO.,LTD.制)
PMI：N-苯基马来酰亚胺(Tg：276℃、IMILEX-P、NIPPON SHOKUBAI CO.,LTD.制)
ADMA：1-金刚烷基甲基丙烯酸酯(Tg：250℃、Adamantate AM(Idemitsu KosanCo.,Ltd.制))
ADA：1-金刚烷基丙烯酸酯(Tg：153℃、Adamantate AA(IDEMITSU KOSAN CO.,LTD.制))
DCPA：丙烯酸二环戊基酯(Tg：120℃、FANCRYL FA-513AS、HITACHI CHEMICAL CO.,LTD.制)
CHMA：甲基丙烯酸环己酯(Tg＝66℃、CHMA、MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO，INC制)
MAA-GMA：对源自甲基丙烯酸的构成单元加成甲基丙烯酸环氧丙酯而成的构成单元
MAA-M100：对源自甲基丙烯酸的构成单元加成CYM-M100(DAICEL CORPORATION.制；甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯)而成的构成单元
MAA：甲基丙烯酸(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)
AA：丙烯酸(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)
MMA：甲基丙烯酸甲酯(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)
nBMA：正丁基甲基丙烯酸酯(WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制)
＜感光性组合物的制备＞
各实施例或比较例中，对下述表2或表3所示的组成的感光性组合物进行了制备。表2或表3中，各成分的数值表示各成分的含量(质量份)，聚合物的量是指聚合物溶液(聚合物浓度36.3质量％)的量。
[表2]
Figure BDA0002531063310000451
[表3]
Figure BDA0002531063310000461
＜转印薄膜的制作＞
各实施例或比较例中，使用狭缝状喷嘴在聚对酞酸乙二酯薄膜即厚度16μm的临时支承体上涂布在各实施例或比较例中制备的上述表2或表3中记载的感光性组合物而形成了干燥后膜厚为8μm的感光性透明树脂层。在感光性透明树脂层上压接保护膜(厚度16μm的聚对苯二甲酸乙酯薄膜)而制作了实施例1～实施例28及比较例1～比较例4的转印薄膜。
＜水蒸气透过率(WVTR)的评价＞
〔透湿性测量用试样的制作〕
将各实施例或比较例的转印薄膜剥离保护膜之后层压于SUMITOMO ELECTRICINDUSTRIES,LTD.制PTFE(四氟化乙烯树脂)膜过滤器FP-100-100(以下，简称为“膜过滤器”)上而形成了具有“临时支承体/厚度8μm的感光性层/膜过滤器”的层结构的层叠体A。将层压的条件设为膜过滤器温度40℃、层压辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。
进而，从层叠体A剥离临时支承体，以与上述相同的方式在感光性层将剥离了保护膜的转印薄膜进而层压4次从而形成了具有“临时支承体/合计膜厚40μm的感光性层/膜过滤器”的层叠结构的层叠体B。
使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(HITACHI HIGH-TECHNOLOGIESCORPORATION.制)，经由临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)对所得到的层叠体B的感光性层进行了曝光。剥离临时支承体之后，进而以曝光量375mJ/cm2(i射线)进行曝光之后，进行170℃、30分钟的后烘烤，由此使感光性层固化而形成了固化膜。
通过上述，得到了具有“合计膜厚40μm的固化膜/膜过滤器”的层叠结构的透湿性测量用试样。
〔水蒸气透过率(WVTR)的测量〕
使用透湿性测量用试样，参考JIS-Z-0208(1976)而实施了基于杯法(Cup method)的透湿性测量。以下，对详细内容进行说明。
首先，从透湿性测量用试样切取直径70mm的圆形试样。接着，向测量杯内加入经干燥的20g的氯化钙，接着用上述圆形试样盖住，由此准备了带盖的测量杯。
将该带盖的测量杯在恒温恒湿槽内在65℃、90％RH的条件下放置了24小时。从上述放置前后的带盖的测量杯的质量变化计算出圆形试样的水蒸气透过率(WVTR)(单位：g/(m2·天))。
将上述测量实施3次，并计算出3次测量中的WVTR的平均值。基于WVTR的平均值，按照下述评价基准对水蒸气透过率(WVTR)进行了评价。下述评价基准中，优选为A、B、C中的任一个，更优选A或B，最优选A。
将结果示于表4。
此外，上述测量中，如上所述，对具有“固化膜/膜过滤器”的层叠结构的圆形试样的WVTR进行了测量。然而，与固化膜的WVTR相比，膜过滤器的WVTR的极其高(容易使水蒸气透过)，因此在上述测量中，实质上是对固化膜本身的WVTR进行了测量。
〔水蒸气透过率(WVTR)的评价基准〕
A：WVTR的平均值小于160g/(m2·天)
B：WVTR的平均值为160g/(m2·天)以上且小于180g/(m2·天)
C：WVTR的平均值为180g/(m2·天)以上且小于200g/(m2·天)
D：WVTR的平均值为200g/(m2·天)以上且小于250g/(m2·天)
D：WVTR的平均值为250g/(m2·天)以上
〔粘性的评价〕
将各实施例或比较例中的转印薄膜剪切成5cm×18cm的长方形。将厚度500μm的PFA(聚四氟乙烯)薄膜剪切成10cm×15cm的长方形，并固定在水平面上。以PFA薄膜与上述所剪切的转印薄膜的形成有上述感光性层的面接触的方式将上述PFA薄膜与上述转印薄膜重叠，在其上载置了底部4cm×6cm的长方体形状的70g的重量。使用SHIMPO公司制ForceGauge Stand，沿与转印薄膜的长边平行的水平方向以一定速度拉伸上述所重叠的转印薄膜而对施加了上述重量的荷载的状态下的摩擦力(单位：N)进行了测量。
将摩擦力除以70而得的值(以下，也称为“粘性指标值”。)作为粘性的指标。
下述评价基准中，优选为A、B、C中的任一个，更优选A或B，最优选A。
将评价结果示于表4。
〔粘性的评价基准〕
A：粘性指标值小于2。
B：粘性指标值为2以上且小于4。
C：粘性指标值为4以上且小于6。
D：粘性指标值为6以上且小于10。
E：粘性指标值为10以上。
〔显影液中的耐刮擦性的评价〕
将各实施例或比较例中的转印薄膜剪切成4.5cm×9cm的大小，剥离保护膜之后层压于5cm×10cm的大小的玻璃(EAGLE XG、CORNING INCORPORATED制)上而形成了具有“临时支承体/厚度8μm的感光性层/玻璃”的层结构的层叠体。将层压的条件设为膜过滤器温度40℃、层压辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。然后，使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION.制)，经由临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了全面曝光。
曝光至2小时后从上述层叠体剥离临时支承体，以约1cm宽度遍及长度约6cm用滴管将浓度1质量％、温度33℃的碳酸钠水溶液滴加于层叠体的感光层的表面之后，使用TRIBOGEAR(表面性能测量机TYPE：14DR、SHINTO SCIENTIFIC CO.,LTD.制)在显影液中实施了感光性层表面的刮擦。其中，刮擦的压头使用前端为圆形且前端的直径为7μm的金刚石压头，将荷载条件设为10g，速度设为60mm/分钟。
使用三维光学分析仪(Zygo NewView6210、CANON INC制)测量实施刮擦之后的感光层表面的划痕深度，将划痕深度作为显影液中的耐刮擦性的评价指标。
下述评价基准中，优选为A、B、C中的任一个，更优选A或B，最优选A。
将评价结果示于表4。
〔显影液中的耐刮擦性的评价基准〕
A：划痕深度小于0.10μm。
B：划痕深度为0.10μm以上且小于0.15μm。
C：划痕深度为0.15μm以上且小于0.20μm。
D：划痕深度为0.20μm以上且小于0.30μm。
E：划痕深度为0.30μm以上。
[表4]
Figure BDA0002531063310000501
如表4所示，可知上述实施例1～实施例28的转印薄膜可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异，该转印薄膜具备临时支承体及感光性层，上述感光性层含有：包含由式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。
并且，比较例1中，构成单元A1的含量为5质量％，该情况下，可知WVTR未降低。
比较例2中，构成单元B1的含量为12质量％，该情况下，可知粘性大。
比较例3中，相当于构成单元B1的构成单元(源自甲基丙烯酸环己酯的构成单元)中的单体的均聚物的Tg为66℃，该情况下，可知粘性大。
比较例4中，聚合物中不具有构成单元C1，该情况下，可知显影液中的耐刮擦性低。
(实施例101～实施例128：触摸面板的制造)
使用狭缝状喷嘴在聚对酞酸乙二酯薄膜即厚度16μm的临时支承体上涂布在上述实施例1～实施例28中分别制作的各感光性组合物而形成了干燥后膜厚为8μm的感光性透明树脂层。在感光性透明树脂层上涂布国际公开第2017/155003号的实施例的材料B-17而形成了干燥膜厚为90nm的高折射率层。将保护膜(厚度16μm的聚对苯二甲酸乙酯薄膜)压接于高折射率层上而制作了实施例101～实施例128的转印薄膜。
剥离实施例101～实施例128的转印薄膜的保护膜之后，层压于“ITO透明电极图案/折射率调整层/COP(环烯烃聚合物)基板”的层叠结构而形成了具有“厚度8μm的感光性层/高折射率层/ITO透明电极图案/折射率调整层/COP基板”的层结构的层叠体。将层压的条件设为基板温度40℃、层压辊温度110℃、线压3N/cm、传送速度2m/分钟。使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION.制)，将曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支承体之间的距离设定为125μm，并经由临时支承体以曝光量100mJ/cm2(i射线)对上述层叠体的感光性层进行了曝光。剥离临时支承体之后，用浓度1质量％温度33℃的碳酸钠水溶液进行显影而去除了多余部分。进而以曝光量375mJ/cm2(i射线)进行曝光之后，进行170℃、30分钟的后烘烤而使感光性层固化。
使用所制作的具有“固化的感光性层/高折射率层/ITO透明电极图案/折射率调整层/COP基板”的层结构的层叠体，并通过公知的方法制造了触摸面板。将所制造的触摸面板贴合于利用日本特开2009-047936号公报的＜0097＞～＜0119＞段中记载的方法制造的液晶显示元件而制造了具备触摸面板的液晶显示装置。
关于具备触摸面板的液晶显示装置，确认到显示特性优异，且无问题地作动。
符号说明
10-转印薄膜，12-临时支承体，16-保护膜，18-感光性层(触摸面板用电极保护膜)，20，20A-高折射率层(第一折射率调整层)，30-触摸面板，32-基板，34-透明电极图案，36-第二折射率调整层，40-存在透明电极图案的第1区域，42-不存在透明电极图案的第2区域，56-引绕佈线，70-第1透明电极图案，72-第2透明电极图案，74-图像显示区域，75-图像非显示区域，90-触摸面板。

Claims (10)

1.一种转印薄膜，其具备临时支承体及感光性层，
所述感光性层含有：
包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；
自由基聚合性化合物；及
光聚合引发剂，
所述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，
所述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，
所述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上；
Figure FDA0002531063300000011
式A1中，Ar表示苯基或萘基，RA1表示氢原子或烷基。
2.根据权利要求1所述的转印薄膜，其中，
所述聚合物A还包含具有酸基的构成单元。
3.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，
所述感光性层还包含热交联性化合物。
4.根据权利要求3所述的转印薄膜，其中，
所述热交联性化合物中的热交联性基团为封端异氰酸酯基。
5.根据权利要求3或4所述的转印薄膜，其中，
所述热交联性化合物具有自由基聚合性基团。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印薄膜，其用于形成触摸面板用保护膜。
7.一种电极保护膜，其从权利要求1至6中任一项所述的转印薄膜去除所述临时支承体而得。
8.一种层叠体，其在包含静电电容型输入装置的电极的基板上，具有从权利要求1至6中任一项所述的转印薄膜去除临时支承体之后的感光性层。
9.一种静电电容型输入装置，其具有权利要求7所述的电极保护膜或权利要求8所述的层叠体。
10.一种触摸面板的制造方法，其包括如下工序：
准备具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的结构的触摸面板用基板；
在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的一侧的面上，使用权利要求1至6中任一项所述的转印薄膜来形成感光性层；
对形成在所述触摸面板用基板上的所述感光性层进行图案曝光；及
通过对经图案曝光的所述感光性层进行显影而得到触摸面板用保护膜，所述触摸面板用保护膜对所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的至少一部分进行保护。
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