WO2017155003A1

WO2017155003A1 - 転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法

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Publication number: WO2017155003A1
Application number: PCT/JP2017/009336
Authority: WO
Inventors: 豊岡　健太郎; 陽平有年; 達也霜山
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2016-03-08
Filing date: 2017-03-08
Publication date: 2017-09-14

Abstract

仮支持体上に、少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２透明層の平均厚みより薄い第３の透明層と、を仮支持体側から順に有する転写フィルムおよびその応用。第３の透明層は、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい、又は第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である。

Description

転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法

　本開示は、転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法に関する。

　携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置される。液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行える装置がある。

　既述のような入力装置（以下、「タッチパネル」と称することがある。）には、抵抗膜型、静電容量型などがある。静電容量型入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプの装置がある。
　静電容量型入力装置の電極パターンや枠部にまとめられた引き回し配線（例えば銅線などの金属配線）などを保護する等の目的で、指などで入力する表面に透明樹脂層が設けられている。

　これらの静電容量型入力装置を使用するにあたり、例えば、光源からの入射光の正反射近傍から少し離れた位置においてタッチパネルの表面を目視すると、内部に存在する透明電極パターンが目視され、外観上支障を来すことがある。したがって、タッチパネル等の表面において透明電極パターンの隠蔽性を向上させることが求められている。

　特開２０１４－１０８５４１号公報には、仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルムが記載され、電極保護膜を形成した場合の透明電極パターンの隠蔽性が良好であると記載されている。

　特開２００４－５０７３４号公報は、基材フィルム表面上に反射防止用転写膜を設けた転写フィルムに関し、第１屈折層、第２屈折層、および第３屈折層が、基材フィルム表面上にこの順で積層されてなり、各層の可視光屈折率が、第２屈折層、第３屈折層、第１屈折層、の順で低くなる転写フィルムが記載されており、反射防止能が良好であり、生産性に優れることが記載されている。

　特開２０１５－１９６３６９号公報には、仮支持体と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有し、第一の硬化性透明樹脂層および第二の硬化性透明樹脂層のいずれか一方が水溶性を示す層であり、もう一方が非水溶性を示す層であり、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である転写フィルムが開示されている。特開２０１５－１９６３６９号公報に記載の転写フィルムは、パターン形成性、透明電極パターンの隠蔽性が良好であることが記載され、さらに、第二の硬化性透明樹脂層の上に、第三の硬化性透明樹脂を塗工しうることが記載されている。

　特開２０１４－１０８５４１号公報に記載の転写フィルムは、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率を１．６以上に調整する方法として、第二の硬化性透明樹脂層に金属酸化物粒子を添加する方法が挙げられている。

　本発明者らの検討によれば、金属酸化物粒子を含有する第二の硬化性透明樹脂層が最表面にあると、第二の硬化性透明樹脂層中で金属酸化物粒子の分布が生じた場合、転写フィルムを被転写部材へラミネートする際に、偏在した金属酸化物粒子に起因して、透明樹脂層に線状の欠陥が生じることがある。転写フィルムに線状の欠陥が生じた場合、転写フィルムを電極保護膜の形成に使用した場合、線状の欠陥に添って光が漏れる可能性がある。

　特開２００４－５０７３４号公報に記載の転写フィルムは、それぞれの層の屈折率の調整が煩雑であり、また、反射防止素材としての金属酸化物粒子に関しては、記載されておらず、目的とする透明電極パターンの隠蔽性を得るにはなお改良の余地がある。
　特開２０１５－１９６３６９号公報に記載の転写フィルムは、第二の透明樹脂層が金属酸化物粒子を含む構成であり、第二の透明樹脂層上に、塗布法により形成することができる任意の層である第三の透明樹脂層においても、屈折率調整の観点から金属酸化物粒子を含むことが好ましいとされ、第二の透明樹脂層と第三の透明樹脂層との屈折率のバランスという観点からは、なお改良の余地がある。

　本発明の第１の実施形態においては、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できる転写フィルムが提供される。
　本発明の第２の実施形態においては、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できる転写フィルムが提供される。また、両実施形態においては、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法が提供される。

　第１の実施形態には以下の態様が含まれる。

＜１－１＞　仮支持体上に、少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２透明層の平均厚みより薄く、かつ、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光（Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：以下、ＸＰＳと称することがある）法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層と、を仮支持体側から順に有する転写フィルム。
＜１－２＞　第３の透明層の平均厚みが、１０ｎｍ以下である＜１－１＞に記載の転写フィルム。
＜１－３＞　第１の透明層が、更に、重合開始剤及び加熱により酸と反応可能な化合物を含有する＜１－１＞または＜１－２＞に記載の転写フィルム。
＜１－４＞　第３の透明層が、第１の透明層に含まれる成分を含む＜１－１＞～＜１－３＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
＜１－５＞　第１の透明層に含まれる成分は、第１の透明層に含まれる硬化成分である＜１－４＞に記載の転写フィルム。
＜１－６＞　第２の透明層が、下記式（１）を満たす＜１－１＞～＜１－５＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　　式（１）：　　１００×Ｈ２／Ｔ２≦８０．０
（式（１）中、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。）
＜１－７＞　第２の透明層が、下記式（２）を満たす＜１－１＞～＜１－６＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　　式（２）：　　１００×Ｈ２／Ｔ２≦４０．０
（式（２）中、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。）
＜１－８＞　第２の透明層が、下記式（３）を満たす＜１－１＞～＜１－７＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　　式（３）：　　１００×Ｈ２／Ｔ２≦２０．０
（式（３）中、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。）
＜１－９＞　第２の透明層が、少なくとも２種の樹脂を含む＜１－１＞～＜１－８＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
＜１－１０＞　少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種は、重量平均分子量１０００以上２００００以下の樹脂である＜１－９＞に記載の転写フィルム。
＜１－１１＞　少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種は、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂である＜１－９＞または＜１－１０＞に記載の転写フィルム。
＜１－１２＞　第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、およびスチレン由来の構造単位を有する共重合体を含む＜１－１＞～＜１－１１＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
＜１－１３＞　第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、およびスチレン由来の構造単位を有し、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である共重合体を含む＜１－１＞～＜１－１２＞のいずれか１項に記載の転写フィルム。
＜１－１４＞第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、およびエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体含む＜１－１＞～＜１－１３＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
＜１－１５＞　第２の透明層が溶媒をさらに含み、溶媒のうち粘度が最も高い溶媒の２０℃における粘度は、３．０ｍＰａ・ｓ以上である＜１－１＞～＜１－１４＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
＜１－１６＞　金属酸化物粒子は、酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子から選ばれる少なくとも１種である＜１－１＞～＜１－１５＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。

＜１－１７＞　＜１－１＞～＜１－１６＞のいずれか一つに記載の転写フィルムから、仮支持体が取り除かれた、電極保護膜。
＜１－１８＞　静電容量型入力装置の電極を含む基板上に、＜１－１＞～＜１－１６＞のいずれか一つに記載の転写フィルムから仮支持体を除いた後の、第３の透明層と、第２の透明層と、第１の透明層と、を基板側からこの順に有する、積層体。
＜１－１９＞　少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層と、静電容量型入力装置の電極を含む基板と、を順次有する、積層体。
＜１－２０＞　第３の透明層が、第１の透明層に含まれる成分を含む＜１－１９＞に記載の積層体。
＜１－２１＞　＜１－１７＞に記載の電極保護膜、または＜１－１８＞～＜１－２０＞のいずれか１つに記載の積層体を有する、静電容量型入力装置。
＜１－２２＞　仮支持体上に、有機溶剤と重合性モノマーと樹脂とを含む塗布液を塗布して第１の透明層を形成する工程と、第１の透明層が硬化される前に、第１の透明層上に、水と金属酸化物粒子と樹脂とを含む塗布液を塗布し、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層を形成する工程と、をこの順に有し、第２の透明層上に、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳにて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層が配置された転写フィルムを製造する、転写フィルムの製造方法。
＜１－２３＞　静電容量型入力装置の電極を含む基板に、＜１－１＞～＜１－１６＞のいずれか１つに転写フィルムの第３の透明層の面を貼り付ける工程と、転写フィルムを貼り付けた基板を露光する工程と、露光した転写フィルムを現像する工程と、前記転写フィルムを貼り付ける工程と、前記露光する工程との間、または、前記露光する工程と、前記現像する工程との間の少なくとも一方において、仮支持体を剥離する工程と、をこの順に有する、静電容量タッチパネルの製造方法。

　第２の実施形態には以下の態様が含まれる。
　＜２－１＞　仮支持体上に、少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層と、を仮支持体側から順に有する転写フィルム。

　＜２－２＞　第３の透明層の平均厚みが、１０ｎｍ以下である＜２－１＞に記載の転写フィルム。
　＜２－３＞　第１の透明層は、更に、重合開始剤及び加熱により酸と反応可能な化合物を含有する＜２－１＞または＜２－２＞に記載の転写フィルム。
　＜２－４＞　第３の透明層が、第１の透明層に含まれる成分を含む＜２－１＞～＜２－３＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　＜２－５＞　上記成分は、第１の透明層に含まれる硬化成分である＜２－４＞に記載の転写フィルム。
　＜２－６＞　第２の透明層が、下記式（１）を満たす＜２－１＞～＜２－５＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　　式（１）：　１００×Ｈ２／Ｔ２≦８０．０
（式（１）中、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。）
　＜２－７＞　第２の透明層が、下記式（２）を満たす＜２－１＞～＜２－６＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　　式（２）：　１００×Ｈ２／Ｔ２≦４０．０
（式（２）中、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。）
　＜２－８＞　第２の透明層が、下記式（３）を満たす＜２－１＞～＜２－７＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　　式（３）：　１００×Ｈ２／Ｔ２≦２０．０
（式（３）中、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。）

　＜２－９＞　第２の透明層が、少なくとも２種の樹脂を含む＜２－１＞～＜２－８＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　＜２－１０＞　少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種は、重量平均分子量が１０００以上２００００以下の樹脂である＜２－９＞に記載の転写フィルム。
　＜２－１１＞　少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種は、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂である＜２－９＞または＜２－１０＞に記載の転写フィルム。
　＜２－１２＞　第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、およびスチレン由来の構造単位を有する共重合体を含む＜２－１＞～＜２－１１＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　＜２－１３＞　第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位およびスチレン由来の構造単位を有し、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である共重合体を含む＜２－１＞～＜２－１１＞のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　＜２－１４＞第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、およびエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体含む＜２－１＞～＜２－１３＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　＜２－１５＞　第２の透明層が溶媒をさらに含み、溶媒のうち粘度が最も高い溶媒の２０℃における粘度は、３．０ｍＰａ・ｓ以上である＜２－１＞～＜２－１４＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。
　＜２－１６＞　金属酸化物粒子は、酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子から選ばれる少なくとも１種である＜２－１＞～＜２－１５＞のいずれか一つに記載の転写フィルム。

　＜２－１７＞　＜２－１＞～＜２－１６＞のいずれか一つに記載の転写フィルムから、仮支持体が取り除かれた、電極保護膜。

　＜２－１８＞　電極（好ましくは、静電容量型入力装置の電極）を含む基板上に、＜２－１＞～＜２－１６＞のいずれか一つに記載の転写フィルムから仮支持体を除いた後の、第３の透明層と、第２の透明層と、第１の透明層と、を基板側からこの順に有する、積層体。
　＜２－１９＞　少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層と、電極（好ましくは、静電容量型入力装置の電極）を含む基板と、を順次有する、積層体。
　＜２－２０＞　第３の透明層が、第１の透明層に含まれる成分を含む＜２－１９＞に記載の積層体。

　＜２－２１＞　仮支持体上に、有機溶剤と重合性モノマーと樹脂とを含む塗布液を塗布して第１の透明層を形成する工程と、第１の透明層が硬化される前に、第１の透明層上に、水と金属酸化物粒子と樹脂とを含む塗布液を塗布し、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層を形成する工程と、をこの順に有し、第２の透明層上に、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層が配置された転写フィルムを製造する、転写フィルムの製造方法。
　＜２－２２＞　＜２－１７＞に記載の電極保護膜、または＜２－１８＞～＜２－２０＞のいずれか１つに記載の積層体を有する、静電容量型入力装置。
　＜２－２３＞　重合性モノマーの硬化物および樹脂を含む第１樹脂層と、金属酸化物粒子および樹脂を含み、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２樹脂層と、平均厚みが第２硬化層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２硬化層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３樹脂層と、電極を含む基板と、をこの順に有する静電容量型入力装置。
　＜２－２４＞　タッチパネルである＜２－２３＞に記載の静電容量型入力装置。
　＜２－２５＞　＜２－１＞～＜２－１６＞のいずれか１つに記載の転写フィルムを、転写フィルムの第３の透明層の面を電極（好ましくは、静電容量型入力装置の電極）を含む基板に接触させて貼り付ける工程と、上記転写フィルムが貼り付けられた基板を露光する工程と、上記露光後の転写フィルムを現像する工程と、上記転写フィルムを貼り付ける工程と上記露光する工程との間、または、上記露光する工程と上記現像する工程の間の少なくとも一方において、仮支持体を剥離する工程と、をこの順に有する、静電容量型入力装置（好ましくは、静電容量タッチパネル）の製造方法。

　本発明の第１の実施形態によれば、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できる転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、および転写フィルムの製造方法が提供される。
　本発明の第２の実施形態によれば、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できる転写フィルムが提供される。また、本発明の第２の実施形態によれば、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法が提供される。

転写フィルムの構成の一例を示す概略断面図である。

　以下、本開示の転写フィルム、電極保護膜、積層体、静電容量型入力装置、静電容量型入力装置の製造方法、および転写フィルムの製造方法について詳細に説明する。
　以下に説明する本開示における各構成要件は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明は以下に記載する実施態様及び具体例等には限定されない。

　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　また、「～」の前後に記載される数値の一方に単位が付されている場合は、その数値範囲全体で同じ単位であることを意味する。
　「（メタ）アクリル」は「アクリル」および「メタクリル」の片方または双方を含む意味で用いられ、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」および「メタクリレート」の片方または双方を含む意味で用いられる。
　本明細書において、特に断らない限り、「室温」とは、２５℃を意味する。
　また、本明細書において、特に断わりの無い限り、ポリマーの各構造単位の含有比率はモル比である。
　本明細書において、屈折率は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍでエリプソメトリーによって測定される値である。

［転写フィルム］
　第１の実施形態の転写フィルムは、仮支持体上に、
　少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、
　少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、
　平均厚みが第２透明層の平均厚みより薄く、かつ、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層と、を仮支持体側から順に有する転写フィルムである。
　既述の構成により、本実施形態の転写フィルムは、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体が提供される。
　第２の実施形態の転写フィルムは、仮支持体上に、少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層と、を仮支持体側から順に有する転写フィルムである。
　既述の構成により、本実施形態の転写フィルムは、被転写体との密着性に優れ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体が提供される。

　本明細書において、「透明」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光の透過率が、８０％以上であることを意味する。したがって、「透明層」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光の透過率が８０％以上である層を指す。「透明層」の可視光の透過率は、９０％以上であることが好ましい。
　また、転写フィルム及び転写フィルムの各透明層の光透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定することができる。

　第２の実施形態では、第３の透明層としては、被転写体との密着性をより高める観点から、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である層であることが好ましい。

　本発明の第１の実施形態及び第２の実施形態における作用機構は、必ずしも明確ではないが、以下のように推定される。
　本発明の第１の実施形態又は第２の実施形態の転写フィルムが有する第２の透明層は、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含むことで高屈折率であり、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満であるため、透明電極パターンの隠蔽性が良好となる。
　さらに、重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層上に、既述の金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層が積層した際に、未硬化の第１の樹脂層に含まれる重合性モノマーなどの低分子量成分が、金属酸化物粒子を含む第２の透明層の中を通り、第２の透明層の表面、即ち、第２の透明層の仮支持体が配置された側とは反対側の表面に浸み出し、第２の透明層上に、第２の透明層よりも厚みの薄い第３の透明層が形成される。
　第２の透明層の形成に際しては、第２の透明層形成用塗布液を、未だ硬化されていない第１の透明層上に塗布、乾燥する。塗布、乾燥による第２の透明層形成時に、第２の透明層形成用塗布液に含まれる金属酸化物粒子は、第１の透明層に含まれる低分子量成分が第２の透明層を通って第２の透明層の表面に浸み出した際に、金属酸化物粒子が第２の透明層上に移動することは殆どない。このため、第２の透明層の表面に形成される第３の透明層は、金属酸化物粒子を含まないか、又は金属酸化物粒子を含んでいても極めて少量となる。即ち、第１の実施形態では、第３の透明層において、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下となり、第２の実施形態では、第３の透明層中の全原子に対する金属原子の比率は、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さくなる。

　転写フィルムを被転写体に密着させる際、被転写体には、金属原子を含有しないか、又は金属原子の含有比率が極めて少ない第３の透明層が被転写体に接するため、被転写体との密着性が良好となる。さらに、第２の透明層の厚みに面内分布があると、第２の透明層の厚みの薄い部分で、転写時に金属酸化物粒子を含む第２の透明層と被転写体との圧着時に金属酸化物粒子に起因する欠陥が生じることがある。第２の透明層の厚みが面内で均一であることで、この金属酸化物粒子に起因する欠陥の発生が抑制される。
　なお、欠陥とは、ひび割れ（クラック）が生じることによる欠陥を指す。
　また、第３の透明層の厚みが薄い場合には、第２の透明層における屈折率に起因する第２の透明層が有する良好な透明電極パターンの隠蔽性に悪影響を与える懸念はない。
　したがって、第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムは、被転写体との密着性と、低屈折率層の存在に起因する透明電極パターンの隠蔽性と、を両立させることができたと推測される。
　なお、本発明は、上記推定機構に制限されるものではない。

　第１の実施形態又は第２の実施形態における転写フィルムの一例を、図１を参照して示す。
　図１は、本発明の第１の実施形態又は第２の実施形態の転写フィルムの一態様を示す概略断面図である。図１に示す転写フィルム１０は、仮支持体１２、第１の透明層１４、第２の透明層１６、および第３の透明層１８が、仮支持体１２側から順に配置されている。

　以下、第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムについて、詳細に説明する。
＜仮支持体＞
　第１の実施形態及び第２の実施形態において、転写フィルムに用いられる仮支持体は、必要な強度と柔軟性を有する限り、特に制限はない。ハンドリング性の観点からは、形態はフィルム状であることが好ましい。

（厚み）
　仮支持体の厚みは、特に制限はなく、厚み５μｍ～２００μｍの範囲のフィルムを任意に用いることができる。取扱い易さ、汎用性などの点で、厚みは１０μｍ～１５０μｍの範囲が好ましい。

（材質）
　仮支持体の材質は、フィルム形成した際に必要な強度と柔軟性を有する限り、特に制限はない。成形性、コストの観点からは樹脂フィルムであることが好ましい。
　仮支持体として用いられるフィルムは、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じないフィルムが好ましい。
　より具体的には、仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリ酢酸セルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリスチレン（ＰＳ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム等が挙げられ、なかでも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。

　仮支持体の外観にも特に制限はなく、目的に応じて選択することができる。即ち、透明フィルムでもよく、着色されたフィルムでもよい。着色されたフィルムとしては、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有する樹脂フィルムが挙げられる。
　仮支持体には、特開２００５－２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。

＜第１の透明層＞
　第１の実施形態及び第２の実施形態において、第１の透明層は、少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む。第１の透明層は、エネルギーの付与により硬化する層である。第１の透明層は、更に、重合開始剤、加熱により酸と反応可能な化合物を含んでいてもよい。
　第１の透明層は、光硬化性であっても、熱硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。中でも、熱硬化性かつ光硬化性の組成物であることが、膜の信頼性をより向上できるという観点から好ましい。

　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムにおける第１の透明層は、アルカリ可溶性の樹脂層であることが好ましい。第１の透明層は、弱アルカリ水溶液により現像可能であることが好ましい。

（厚み）
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の樹脂層の厚みには特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　例えば、第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムが、静電容量型入力装置の電極保護膜の形成に用いられる場合には、第１の透明層の厚みは、透明性の観点から１μｍ～２０μｍとすることができる。第１の透明層の厚みは、好ましくは２μｍ～１５μｍの範囲であり、より好ましくは３μｍ～１２μｍの範囲であり、さらに好ましくは６μｍ～１２μｍの範囲である。

（屈折率）
　第１の透明層の屈折率は、１．５～１．５３であることが好ましく、１．５～１．５２であることがより好ましく、１．５１～１．５２であることが特に好ましい。
　第１の透明層の屈折率を制御する方法には、特に制限はない。例えば、所望の屈折率の透明樹脂層を単独で用いる方法、金属酸化物粒子、金属粒子、金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明樹脂層を用いる方法、金属塩と高分子の複合体を用いる方法などが挙げられる。

（組成）
　第１の透明層は、重合性モノマーを含むネガ型材料により形成される。そのため、第１の透明層は、強度及び信頼性の点で良好である。

　以下、第１の透明層が含んでもよい成分について述べる。
－樹脂－
　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムにおける第１の透明層は、樹脂の少なくとも一種を含有する。第１の透明層に含まれる樹脂は、バインダーポリマーとして機能することができる。
　第１の透明層に含まれる樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂としては、現像性の観点から、例えば、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂が好ましい。また、架橋性分と反応して熱架橋し、強固な膜を形成し易い観点からは、カルボキシル基を有する樹脂が好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び透明性の観点から、アクリル樹脂であることが好ましい。アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも一種に由来する構成単位を有する樹脂である。
　アルカリ可溶性樹脂の酸価には、特に制限はないが、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂が好ましい。樹脂がカルボキシル基を含む場合、ブロックイソシアネートを添加して熱架橋する際に３次元架橋密度を高めることができる。また、カルボキシル基含有アクリル樹脂のカルボキシル基が無水化され、疎水化することにより湿熱耐性の改善に寄与すると推定される。

（酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂）
　第１の透明層に含まれる酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂（以下、特定バインダーと称することがある）としては、上記酸価の条件を満たす限りにおいて特に制限は無く、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。
　例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂であるバインダーポリマー、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂等が、第１の実施形態及び第２の実施形態における特定バインダーとして好ましく用いることができる。

　特定バインダーにおける、カルボキシル基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、ポリマー１００質量％に対し５質量％～５０質量％であり、より好ましくは５質量％～４０質量％、更に好ましくは２０質量％～３０質量％の範囲内である。
　特定バインダーは、反応性基を有していてもよく、反応性基を特定バインダーに導入する手段としては、水酸基、カルボキシル基、一級、二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸などに、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート、イソシアネ－ト、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。
　特定バインダーとしては、以下に示す化合物Ａが好ましい。なお、以下に示す各構造単位の含有比率は目的に応じて適宜変更することができる。

　特定バインダーの酸価は、具体的には、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１１０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
　本明細書において、樹脂の酸価は、ＪＩＳＫ００７０（１９９２）に規定される滴定方法で測定される値である。

　第１の透明層及び後述する第２の透明層がいずれもアクリル樹脂を含有する場合、第１の透明層と第２の透明層との層間密着性を高めることができる。

　特定バインダーの重量平均分子量は１万以上が好ましく、さらに好ましくは２万～１０万である。

　第１の透明層は、既述の好ましい特定バインダーである酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂以外の他の樹脂（以下、第１の透明層に含まれ得る他の樹脂を「他の樹脂（１）」と称することがある）を含んでいてもよい。
　他の樹脂（１）としては、任意の膜形成樹脂を目的に応じて適宜選択して用いることができる。転写フィルムを静電容量型入力装置の電極保護膜として用いる観点から、表面硬度、耐熱性が良好な膜が好ましく、アルカリ可溶性樹脂がより好ましく、アルカリ可溶性樹脂の中でも、公知の感光性シロキサン樹脂材料などを好ましく挙げることができる。
　硬化前の膜のハンドリング性、硬化後の膜の硬度の観点から、樹脂の含有量は第１の透明層の全固形分量に対し、２０質量％～８０質量％の範囲が好ましく、４０質量％～６０質量％の範囲がより好ましい。樹脂の含有量が８０質量％以下であると、モノマー量が少なくなり過ぎず、硬化膜の架橋密度を良好に維持し、硬度に優れたものとなる。また、樹脂の含有量が２０質量％以上であると、硬化前の膜が柔らかくなり過ぎず、途中のハンドリング性の点で有利である。

－重合性モノマー－
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層は、重合性モノマーを含む。重合性モノマーとして、エチレン性不飽和基を有する重合性モノマーを含むことが好ましく、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を含むことがより好ましい。重合性モノマーは、光重合性基として少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有していることが好ましく、エチレン性不飽和基に加えてエポキシ基などのカチオン重合性基を有していてもよい。第１の透明層に含まれる重合性モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましい。

　第１の透明層は、重合性モノマーとして、２つのエチレン性不飽和基を有する化合物および少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する化合物を含むことが好ましく、２つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物および少なくとも３つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含むことがより好ましい。
　また、第１の透明層に含まれる重合性モノマーの少なくとも１種がカルボキシル基を含有することが、特定バインダーにおけるカルボキシル基と、重合性モノマーのカルボキシル基とがカルボン酸無水物を形成して、湿熱耐性を高められる観点から好ましい。
　カルボキシル基を含有する重合性モノマーとしては、特に限定されず、市販の化合物が使用できる。市販品としては、例えば、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株））、アロニックスＭ－５２０（東亞合成（株））、アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株））などを好ましく挙げられる。カルボキシル基を含有する重合性モノマーを含む場合の含有量は、第１の透明層に含まれるすべての重合性モノマーに対して１質量％～５０質量％の範囲で使用することが好ましく、１質量％～３０質量％の範囲で使用することがより好ましく、５質量％～１５質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。

　第１の透明層に含まれる重合性モノマーは、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。
　ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含む場合の含有量は、第１の透明層に含まれるすべての重合性モノマー１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート化合物は光重合性基の官能基数、すなわち（メタ）アクリロイル基の数が３官能以上であることが好ましく、４官能以上であることがより好ましい。
　２官能のエチレン性不飽和基を有する光重合性モノマーは、エチレン性不飽和基を分子内に２つ持つ化合物であれば特に限定されず、市販の（メタ）アクリレート化合物が使用できる。市販品としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ　新中村化学工業（株））、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（ＤＣＰ　新中村化学工業（株））、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ　新中村化学工業（株））、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ　新中村化学工業（株））などが好ましく挙げられる。

　３官能以上のエチレン性不飽和基を有する光重合性モノマーは、エチレン性不飽和基を分子内に３つ以上持つ化合物であれば特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、イソシアヌル酸アクリレート、グリセリントリアクリレート等の骨格の（メタ）アクリレート化合物が使用できる。なかでも、（メタ）アクリレート間のスパン長が長い化合物が好ましく、具体的には、前述のジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（新中村化学工業（株）：ＡＤ－ＴＭＰ等）、イソシアヌル酸アクリレート等の骨格の（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ、新中村化学工業（株）：Ａ－９３００－１ＣＬ等）、アルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）：ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス製：ＥＢＥＣＲＹＬ　１３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）：Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）等が好ましく挙げられる。また、３官能以上のウレタン（メタ）アクリレートを用いることも好ましい態様である。３官能以上のウレタン（メタ）アクリレートとしては、８ＵＸ－０１５Ａ：大成ファインケミカル（株）、ＵＡ－３２Ｐ：新中村化学工業（株）、ＵＡ－１１００Ｈ：新中村化学工業（株）などが好ましく挙げられる。

　第１の透明層に含まれる重合性モノマーは、重量平均分子量が２００～３０００であることが好ましく、２５０～２６００であることがより好ましく、２８０～２２００であることが特に好ましい。
　重合性モノマーは、１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。重合性モノマーを２種以上用いることが、第１の透明層における膜物性を制御しうるという観点から好ましい。
　なかでも、第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムにおける第１の透明層が含有する重合性モノマーは、３官能以上の重合性モノマーと２官能の重合性モノマーを組みあわせて使用することが転写後の第１の透明層を露光した後の膜物性を改善する観点から好ましい。
　２官能の重合性モノマーを用いる場合には、第１の透明層に含まれる全ての重合性モノマーに対して１０質量％～９０質量％の範囲で使用することが好ましく、２０質量％～８５質量％の範囲で使用することがより好ましく、３０質量％～８０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
　３官能以上の重合性モノマーを用いる場合には、第１の透明層に含まれるすべての重合性モノマーに対して１０質量％～９０質量％の範囲で使用することが好ましく、１５質量％～８０質量％の範囲で使用することがより好ましく、２０質量％～７０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。

　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムにおいては、第１の透明層および第２の透明層が直接接する際に、第２の透明層を介して、第１の透明層に含まれる低分子量成分が、積層された第２の透明層の表面に浸み出しやすいという観点から、第１の透明層に含まれる全ての重合性モノマーの中で最小の分子量である重合性モノマーの分子量が２５０以上であることが好ましく、２８０以上であることがより好ましく、３００以上であることが特に好ましい。

　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムにおいては、第１の透明層および２の透明樹脂層が直接接する際に、第２の透明層の厚み方向に対し、第１の透明層に含まれる低分子量成分が第２の透明層の表面に浸み出しやすいという観点から、第１の透明層に含まれる重合性モノマーの含有量に対する分子量が３００以下の重合性モノマーの含有量の割合が３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。
　また、第１の透明層が含む樹脂に対する重合性モノマーの質量比が０．１～０．９であることが好ましく、０．２～０．９であることがより好ましく、０．３～０．７であることが特に好ましい。

　さらに、前述の第１の透明層には、樹脂および重合性モノマーに加え、目的に応じて種々の成分を含有することができる。
　任意の成分としては、重合開始剤、加熱により酸と反応可能な化合物などが挙げられる。

－重合開始剤－
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層は、重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。
　第１の透明層が、樹脂、重合性モノマーに加え、重合開始剤を含むことによって、第１の透明層のパターンを形成しやすくできる。
　重合開始剤としては、特開２０１１－９５７１６号公報に記載の段落００３１～００４２に記載の光重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤としては、例えば、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社）の他、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７、ＢＡＳＦ社）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１２７、ＢＡＳＦ社）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９、ＢＡＳＦ社）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１１７３、ＢＡＳＦ社）、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４、ＢＡＳＦ社）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１、ＢＡＳＦ社）、オキシムエステル開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ　６、ＤＫＳＨジャパン（株））などが好ましく挙げられる。
　第１の透明層が重合開始剤を含む場合の、第１の透明層の固形分に対する重合開始剤の含有量は、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましい。また、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましい。重合開始剤の含有量が上記範囲であることで、転写フィルムにおけるパターン形成性、被転写体との密着性をより改善することができる点で好ましい。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層は、硬化感度を調整するために、さらに、増感剤及び重合禁止剤から選ばれる少なくとも１種を含むことができる。

－増感剤－
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層は、増感剤を含むことができる。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における増感剤は、第１の透明層に含まれる増感色素、重合開始剤等の活性放射線に対する感度をより向上させる作用、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する作用等を有する。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における増感剤の例としては、アミン化合物、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－２０１８９号公報、特開昭５１－８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－８４３０５号公報、特開昭６２－１８５３７号公報、特開昭６４－３３１０４号公報、ＲｅｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅ３３８２５号等に記載の化合物等が挙げられる。より具体的には、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、ｐ－メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における増感剤の別の例としては、チオール及びスルフィド化合物、例えば、特開昭５３－７０２号公報、特公昭５５－５００８０６号公報、特開平５－１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６－７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられる。より具体的には、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－４（３Ｈ）－キナゾリン、β－メルカプトナフタレン等が挙げられる。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における増感剤の別の例としては、Ｎ－フェニルグリシン等のアミノ酸化合物、特公昭４８－４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６－３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層が増感剤を含む場合の増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスに起因して硬化速度がより向上するという観点から、第１の透明層の全固形分量に対し、０．０１質量％～３０質量％の範囲が好ましく、０．０５質量％～１０質量％の範囲がより好ましい。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層が増感剤を含む場合、増感剤は、１種のみ含んでもよく、２種以上を含んでもよい。

－重合禁止剤－
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層は、重合禁止剤を含むことができる。
　重合禁止剤は、製造中あるいは保存中において重合性モノマーの所望されない重合を阻止する機能を有する。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における重合禁止剤には特に制限はなく、公知の重合禁止剤を目的に応じて使用することができる。公知の重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２'－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩、フェノチアジン、フェノキサジン等が挙げられる。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層が重合禁止剤を含む場合の重合禁止剤の添加量は、第１の透明層の全固形分に対し０．０１質量％～２０質量％が好ましい。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第１の透明層が重合禁止剤を含む場合、重合禁止剤は、１種のみ含んでもよく、２種以上を含んでもよい。

－加熱により酸と反応可能な化合物－
　第１の実施形態及び第２の実施形態第１の透明層は、加熱により酸と反応可能な化合物を含むことが好ましい。

　加熱により酸と反応可能な化合物としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、特に制限はない。加熱により酸と反応可能な化合物は、２５℃での酸との反応性に比べて、２５℃を超えて加熱した後の酸との反応性が高い化合物であることが好ましい。加熱により酸と反応可能な化合物は、ブロック剤により一時的に不活性化されている酸と反応可能な基を有し、あらかじめ定められた解離温度においてブロック剤由来の基が解離する化合物であることが好ましい。
　加熱により酸と反応可能な化合物は、カルボン酸化合物、アルコール化合物、アミン化合物、ブロックイソシアネート、エポキシ化合物などを挙げることができ、ブロックイソシアネートであることが好ましい。

　分子内に親水性基を持つ加熱により酸と反応可能な化合物としては特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。分子内に親水性基を持つ加熱により酸と反応可能な化合物の調製方法としては特に制限はないが、例えば合成により調製することができる。
　分子内に親水性基を持つ加熱により酸と反応可能な化合物としては、分子内に親水性基を持つブロックイソシアネートであることが好ましい。分子内に親水性基を持つ加熱により酸と反応可能な化合物の詳細については、後述のブロックイソシアネートの説明に記載する。

　ブロックイソシアネートとは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（マスク）した構造を有する化合物」のことを言う。

　ブロックイソシアネートの初期Ｔｇ（ｇｌａｓｓ　ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ、ガラス転移温度）が－４０℃～１０℃であることが好ましく、－３０℃～０℃であることがより好ましい。
　ブロックイソシアネートの初期Ｔｇが上記範囲であることで、転写時の段差追従性、泡巻込み抑制の点で有利である。

　ブロックイソシアネートの解離温度が１００℃～１６０℃であることが好ましく、１３０℃～１５０℃であることがより好ましい。
　本明細書中におけるブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ（株）製、ＤＳＣ６２００）によりＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合に、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」のことを言う。

　解離温度が１００℃～１６０℃以下であるブロック剤としては、ピラゾール化合物（３，５－ジメチルピラゾール、３－メチルピラゾール、４－ブロモー３，５－ジメチルピラゾール、４－ニトロー３，５－ジメチルピラゾールなど）、活性メチレン化合物（マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル）など）、トリアゾール化合物（１，２，４－トリアゾールなど）、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどの分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）などが挙げられる。なかでも、保存安定性の観点から、オキシム化合物、ピラゾール化合物が好ましく、特にオキシム化合物が好ましい。

　ブロックイソシアネートがイソシアヌレート構造を有することが膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の観点から好ましい。イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネートは、例えばヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して調製することができる。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネートの中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物の方が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、現像残渣を少なくしやすい観点から好ましい。

　ブロックイソシアネートのブロックされたイソシアネート基の１分子あたりの個数は１～１０であることが好ましく、２～６であることがより好ましく、３～４であることが特に好ましい。
　ブロックイソシアネートのブロックされたイソシアネート基の個数が上記範囲であることで、熱架橋後の低透湿性及び柔軟性の点で有利である。

　ブロックイソシアネートとして、特開２００６－２０８８２４号公報の段落〔００７４〕～〔００８５〕に記載のブロックイソシアネート化合物を用いてもよく、上記公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　転写フィルムに用いられるブロックイソシアネートの具体例としては以下の化合物を挙げることができる。ただし、第１の実施形態及び第２の実施形態に用いられるブロックイソシアネートは以下の具体例に限定されない。

　転写フィルムに用いられるブロックイソシアネートとしては、市販のブロックイソシアネートを挙げることもできる。例えば、イソホロンジイソシアネートのメチルエチルケトンオキシムブロック化体であるタケネート（登録商標）Ｂ８７０Ｎ（三井化学（株））、ヘキサメチレンジイソシアネート系ブロックイソシアネート化合物であるデュラネート（登録商標）ＭＦ－Ｋ６０Ｂ、ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、Ｘ３０７１．０４（いずれも旭化成ケミカルズ（株））などを挙げることができる。

　分子内に親水性基を持つブロックイソシアネートは、イソシアネート基の少なくとも一部が、親水性基が付加された水性イソシアネート基であるブロックイソシアネートであることが好ましい。ポリイソシアネートのイソシアネート基と、ブロック剤（アミン系化合物と言われることもある）とを反応させることにより、分子内に親水性基を持つブロックイソシアネートを得ることができる。反応方法としては、ポリイソシアネートが有するイソシアネート基の一部に親水性基を化学反応により付加する方法が挙げられる。
　加熱により酸と反応可能な化合物が持つ親水性基としては、特に限定されないが、具体的には、ノニオン型親水性基、カチオン型親水性基等が挙げられる。

　ノニオン型親水性基としては、特に限定されないが、具体的には、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、またはジエチレングリコール等のアルコールの水酸基に、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加した化合物等が挙げられる。すなわち、分子内に親水性基を持つ加熱により酸と反応可能な化合物の親水性基は、エチレンオキサイド鎖またはプロピレンオキサイド鎖であることが好ましい。これら化合物はイソシアネート基と反応する活性水素を有し、活性水素によりイソシアネート基に付加することができる。なかでも、少ない使用量で水分散できるモノアルコール類が好ましい。
　また、エチレンオキサイド鎖またはプロピレンオキサイド鎖の付加数としては、４～３０が好ましく、４～２０がより好ましい。付加数が４以上であると、水分散性がより向上する傾向にある。また、付加数が３０以下であると、得られたブロックイソシアネートの初期Ｔｇがより向上する傾向にある。
　カチオン型親水性基の付加は、カチオン型親水性基と、イソシアネート基と反応する活性水素と、を併せ持つ化合物を利用する方法；ポリイソシアネートに、例えば、グリシジル基等の官能基を予め導入し、その後、例えば、スルフィド、ホスフィン等の特定化合物を、グリシジル基等の官能基と反応させる方法等があるが、前者の方法が容易である。
　イソシアネート基と反応する活性水素としては、特に限定されないが、具体的には、水酸基、チオール基等が挙げられる。カチオン型親水性基と、イソシアネート基と反応する活性水素と、を併せ持つ化合物としては、特に限定されないが、具体的には、ジメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が挙げられる。既述の方法により導入された三級アミノ基は、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等で四級化することもできる。

　親水性基の付加されたイソシアネート基とブロックイソシアネート基との当量比率は１：９９～８０：２０であることが好ましく、２：９８～５０：５０であることがより好ましく、５：９５～３０：７０であることが特に好ましい。上記好ましい範囲とすることが、イソシアネート反応性と現像残渣抑制との両立の点から好ましい。

　分子内に親水性基を持つブロックイソシアネートおよびその合成方法としては、特開２０１４－０６５８３３号公報の００１０～００４５に記載の水性ブロックポリイソシアネートを好ましく用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。

　分子内に親水性基を持つブロックイソシアネートを合成する場合、親水性基の付加反応やイソシアネート基のブロック化反応は、合成溶媒の存在下で行うことができる。この場合の合成溶媒は活性水素を含まない溶媒が好ましく、例えばジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートメトキシプロピルアセテートなどを挙げることができる。
　分子内に親水性基を持つブロックイソシアネートを合成する場合、親水性基を有する化合物は、ポリイソシアネートに対して、１質量％～１００質量％添加されることが好ましく、２質量％～８０質量％添加されることがより好ましい。
　分子内に親水性基を持つブロックイソシアネートを合成する場合、ブロック剤は、ポリイソシアネートに対して、２０質量％～９９質量％添加されることが好ましく、１０質量％～１００質量％添加されることがより好ましい。

　第１の透明層に含まれるブロックイソシアネートは、重量平均分子量が２００～３０００であることが好ましく、２５０～２６００であることがより好ましく、２８０～２２００であることが特に好ましい。
　ブロックイソシアネートの含有量は、転写後の加熱工程前のハンドリング性、加熱工程後の低透湿性の観点から、第１の透明層の全固形分量に対し、１質量％～３０質量％の範囲が好ましく、５質量％～２０質量％の範囲がより好ましい。

－金属酸化物粒子－
　第１の透明層は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（好ましくは金属酸化物粒子）を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。第１の透明層の屈折率を上述の範囲に制御するために、使用する樹脂や重合性モノマーの種類に応じ、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。
　金属酸化物粒子の第１の透明層中における含有量は、第１の透明層に対して、０質量％～３５質量％が好ましく、０質量％～１０質量％がより好ましく、０質量％（含まないこと）が特に好ましい。
　金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有する。そのため、金属酸化物粒子を含有することで、高屈折率で、透明性に優れた第１の透明層が得られる。
　金属酸化物粒子の屈折率は、第１の透明層形成用塗布液から金属酸化物粒子を除いた塗布液により形成された透明膜の屈折率より高いことが好ましい。

　なお、金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれる。
　光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、二酸化チタンが最も好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。

　第１の透明層の透明性の観点から、前述の金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ～２００ｎｍが好ましく、３ｎｍ～８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
　また、前述の金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。

　また、第１の透明層に含まれる他の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤や、公知のフッ素系界面活性剤、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。第１の透明層に好ましく用いられる添加剤としては、公知のフッ素系界面活性剤であるメガファック（登録商標）Ｆ－５５１（ＤＩＣ（株））が挙げられる。

～第１の透明層の形成～
　第１の透明層は、少なくとも重合性モノマー及び樹脂を含む第１の透明層を形成するための樹脂組成物を溶媒に溶解させた溶液（第１の透明層形成用塗布液という）を塗布し、乾燥させて形成される。

＜第２の透明層＞
　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムは、各々、第２の透明層を有し、第２の透明層は、金属酸化物粒子および樹脂を含む。
　第２の透明層は、光硬化性であっても、熱硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。中でも、熱硬化性かつ光硬化性の組成物であることが、転写フィルムの形成時のみならず、転写フィルムを被転写体に転写した後、光照射により簡易に硬化し、製膜することができる。更にはその後、加熱により熱硬化させて膜の信頼性をより向上できる点でも好ましい。
　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムにおいては、生産の簡便性、特に、後述の第３の透明層形成の簡便性の点で、第１の透明層および第２の透明層が互いに接していることが好ましい。

　第２の透明層は、下記式（１）を満たすことが好ましい。
　下記式（１）において、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。
　　　式（１）：１００×Ｈ２／Ｔ２≦８０．０
　更に、第２の透明層は、下記式（２）を満たすことがより好ましく、下記式（３）を満たすことが更に好ましい。
　式（２）および式（３）において、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。即ち、第２の透明層の厚みにおいて、平均膜厚に対する厚みのばらつきが小さいことで、後述する第３の透明層の形成性がより良好となり、第２の透明層における屈折率もより良好な範囲となる。
　　　式（２）：１００×Ｈ２／Ｔ２≦４０．０
　　　式（３）：１００×Ｈ２／Ｔ２≦２０．０

　第２の透明層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて測定することができる。具体的には、ウルトラミクロトームを用いて転写フィルムの切片を作製し、ＴＥＭにて転写フィルムの切片における断面の５ｍｍの長さの領域をスキャンして、第２の透明層である金属酸化物粒子を含む領域の厚みを測定する。次いで、この領域での第２の透明層の平均厚みおよび厚みの最大値と最小値の差を算出する。
　上述の領域において、等間隔で区切った２０箇所の厚みの測定値の算術平均を求め、各層の平均厚みとする。

　上記の式（１）～式（３）の条件を満たす第２の透明層を形成する手段には、特に制限はなく、例えば、均一な膜厚を得る手段として、以下に詳述するように、第２の透明層に少なくとも２種の樹脂を含有させる方法を好ましく挙げることができる。
　また、第２の透明層形成用塗布液に高粘度溶剤を含有させ、塗布液の粘度を増加させる手段、詳細には、第２の透明層形成用塗布液に溶媒を含有させ、溶媒のうち粘度が最も高い溶媒の２０℃における粘度が３．０ｍＰａ・ｓ以上の溶剤を含有させる方法が挙げられる。
　なお、２０℃における溶媒の粘度の測定方法については、後述する。
　また、均一な膜厚を得るその他の手段としては、例えば、塗布面状性を向上させるフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、及び、その他親水部と疎水部を含む界面活性剤から選ばれる界面活性剤を含有させる方法、第２の透明層形成用塗布液を第１の透明層上に塗布する際、面内で均一性の高い風をあてて乾燥させる方法などが挙げられる。

　第２の透明層がネガ型材料により形成される場合、第２の透明層には、金属酸化物粒子、樹脂（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）に加え、さらに、重合性モノマー、重合開始剤を含むことが好ましい。さらに、必要に応じて他の添加剤を用いることができる。

　第２の透明層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂層を単独で用いる方法、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明樹脂層を用いる方法、金属塩と高分子の複合体を用いる方法などが挙げられる。

－樹脂－
　第２の透明層は、樹脂を含む。樹脂はバインダーとしての機能を有してもよい。樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも一種に由来する構成単位を有する樹脂（（メタ）アクリル樹脂）であることがより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の詳細については、第１の透明層におけるアルカリ可溶性樹脂と同義である。中でも、第２の透明層では、酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を好ましい樹脂の例として挙げることができる。
　第２の透明層形成用組成物は、硬化成分として、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩を含んでいてもよい。

－酸基を有する樹脂のアンモニウム塩－
　酸基を有する樹脂のアンモニウム塩としては、特に制限はなく、（メタ）アクリル樹脂のアンモニウム塩が好適に挙げられる。

　第２の透明層形成用組成物の調製に際しては、酸基を有する樹脂をアンモニア水溶液に溶解し、酸基の少なくとも一部がアンモニウム塩化した樹脂を含む第２の透明層形成用塗布液を調製する工程を含むことが好ましい。

－－酸基を有する樹脂－－
　酸基を有する樹脂としては、１価の酸基（カルボキシル基など）を有する樹脂であることが好ましい。第２の透明層に含まれる樹脂は、カルボキシル基を有する樹脂であることが特に好ましい。
　第２の透明層に用いることができる水性溶媒（好ましくは、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒）に対して溶解性を有する樹脂としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のも樹脂の中から適宜選択できる。
　第２の透明層に用いられる酸基を有する樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂は、線状有機高分子重合体であって、分子中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有する重合体の中から適宜選択することができる。アルカリ可溶性を促進する基、即ち、酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂としては、好ましくは、（メタ）アクリル酸及びスチレンから選ばれる構造単位を主鎖に含む共重合体が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂は、より好ましくは、有機溶剤に可溶で、且つ、弱アルカリ水溶液により現像可能な樹脂が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類およびその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることもできる。

　上記の線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有する樹脂が好ましい。例えば、特開昭５９－４４６１５号、特公昭５４－３４３２７号、特公昭５８－１２５７７号、特公昭５４－２５９５７号、特開昭５９－５３８３６号、特開昭５９－７１０４８号、特開昭４６－２１２１号公報や特公昭５６－４０８２４号公報の各公報に記載されているような、ポリ（メタ）アクリル酸、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、スチレン／マレイン酸等のマレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びにカルボキシアルキルセルロースおよびカルボキシアルキル澱粉等の側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有する樹脂に酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖に（メタ）アクリロイル基等の反応性官能基を有する高分子重合体も好ましい例として挙げられる。

　これらの中では特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。
　この他、２－ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの等も有用な例として挙げられる。

　上記以外に、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂の具体的な構成単位については、特に（メタ）アクリル酸と、（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体との共重合体が好適である。

　（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。ここで、アルキル基およびアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
　アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、トリルアクリレート、ナフチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等を挙げることができる。

　また、ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ＣＨ_２＝ＣＲ^１Ｒ^２、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）（ＣＯＯＲ^３）〔ここで、Ｒ^１は水素原子または炭素数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^２は炭素数６～１０の芳香族炭化水素環を表し、Ｒ^３は炭素数１～８のアルキル基または炭素数６～１２のアラルキル基を表す。〕等を挙げることができる。

　これら共重合可能な他の単量体は、１種単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　好ましい共重合可能な他の単量体は、ＣＨ_２＝ＣＲ^１Ｒ^２、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）（ＣＯＯＲ^３）、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートおよびスチレンから選択される少なくとも１種であり、特に好ましくは、ＣＨ_２＝ＣＲ^１Ｒ^２およびＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）（ＣＯＯＲ^３）から選択される少なくとも１種である。

　この他に反応性官能基を有する（メタ）アクリル化合物、ケイヒ酸等に、この反応性官能基と反応可能な置換基を有する線状高分子を反応させて、エチレン不飽和二重結合をこの線状高分子に導入した樹脂が挙げられる。反応性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が例示でき、この反応性官能基と反応可能な置換基としては、イソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等を挙げることができる。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における第２の透明層は、少なくとも２種の樹脂を含むことが好ましい。少なくとも２種の樹脂のうち、少なくとも１種は、重量平均分子量１０００以上２００００以下の樹脂であることが好ましく、少なくとも２種の樹脂のうち、少なくとも１種は、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂であることが好ましい。
　より詳細には、少なくとも２種の樹脂のうち、重量平均分子量が１，０００以上２０，０００以下である樹脂を含み、更には、重量平均分子量が２０，０００を超える樹脂を含むことが好ましい。
　また、アルカリ可溶性の観点からは、少なくとも１種の酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂を含み、更には、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の樹脂を含むことが好ましい。
　既述の少なくとも２種の樹脂を含むことで、第１の透明層に含まれる低分子量成分が、第２の透明層を通って第２の透明層表面に浸み出しやすくなり、後述する第３の透明層を形成しやすくなる。
　少なくとも２種の樹脂のうちの少なくとも１種の樹脂の重量平均分子量は、金属酸化物粒子との相互作用、乾燥中の塗布液粘度が好適な範囲に維持され易いという観点から、上記範囲であることが好ましく、１０００以上１８０００以下であることがより好ましく、２０００以上１７０００以下であることがさらに好ましい。
　少なくとも２種の樹脂のうちの少なくとも１種の樹脂の酸価は、金属酸化物粒子との相互作用が良好であるという観点から、上記範囲であることが好ましく、１８０以上であることがより好ましく、２００以上であることがさらに好ましい。
　第２の透明層に含まれる少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種が、重量平均分子量１０００以上２００００以下の樹脂であること、少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種が、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂であることの少なくとも１つの条件を満たすことにより、第２の透明層を形成する際の膜厚均一性がより良好となる。

　本明細書における樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を用いている。
　ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による測定は、測定装置として、ＨＬＣ（登録商標）－８０２０ＧＰＣ（東ソー（株））を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）Ｓｕｐｅｒ　Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ　ＨＺ－Ｈ（４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ、東ソー（株））を３本用い、溶離液として、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いることができる。
　また、測定条件としては、試料濃度を０．４５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、及び測定温度を４０℃とし、示差屈折率（ＲＩ）検出器を用いて行うことができる。
　検量線は、東ソー（株）の「標準試料ＴＳＫ　ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ－４０」、「Ｆ－２０」、「Ｆ－４」、「Ｆ－１」、「Ａ－５０００」、「Ａ－２５００」、「Ａ－１０００」、及び「ｎ－プロピルベンゼン」の８サンプルから作製できる。

　また、第２の透明層に含まれる酸基を有する樹脂としては、酸基を有する（メタ）アクリル樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル酸／ビニル化合物の共重合樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸アリルの共重合樹脂であることが特に好ましい。
　なかでも、第２の透明層は、樹脂として、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、およびスチレン由来の構造単位を有する共重合体を含むことが好ましく、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、およびエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体を含むことがより好ましい。
　第２の透明層に樹脂として、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、およびスチレン由来の構造単位を有する共重合体を含むこと、さらには、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、およびエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体を含むことにより第２の透明層を形成する際の膜厚均一性がより良好となる。
　（メタ）アクリル酸由来の構造単位、およびスチレン由来の構造単位を有する共重合体、および（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、およびエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体の例を以下に挙げるが、本開示はこれに制限されない。

　上記例示化合物において、ａ１～ｄ４は、それぞれ記載された構造単位の含有比率（モル比）を示し、既述の好ましい酸価、重量平均分子量を達成しうる範囲において、目的に応じて適宜調整される。

　第２の透明層に含まれる酸基を有する樹脂は、市販品を用いてもよい。第２の透明層に含まれる酸基を有する樹脂の市販品は、特に制限はされず、目的に応じて適宜選択できる。第１の実施形態及び第２の実施形態における第２の透明層に用いうる酸基を有する樹脂の市販品としては、例えば、東亜合成（株）製のＡＲＵＦＯＮ（アルフォン：登録商標）　ＵＣ３０００，ＵＣ３５１０，ＵＣ３０８０，ＵＣ３９２０，ＵＦ５０４１（以上、商品名），ＢＡＳＦ社製のＪＯＮＣＲＹＬ（登録商標）６７、ＪＯＮＣＲＹＬ６１１、ＪＯＮＣＲＹＬ６７８、ＪＯＮＣＲＹＬ６９０、ＪＯＮＣＲＹＬ８１９（以上、商品名）等が挙げられる。

　第２の透明層に対して、酸基を有する樹脂は１０質量％～８０質量％含まれることが好ましく、１５質量％～６５質量％含まれることがより好ましく、２０質量％～５０質量％含まれることが特に好ましい。

－－酸基を有するモノマー－－
　第２の透明層は、硬化成分として、酸基を有するモノマーを含有することができる。酸基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸またはその誘導体などの（メタ）アクリルモノマー、および以下のモノマーを好ましく用いることができる。
　例えば、３官能～４官能のラジカル重合性モノマー（ペンタエリスリトールトリおよびテトラアクリレート［ＰＥＴＡ］骨格にカルボン酸基を導入したもの（酸価＝８０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、５官能～６官能のラジカル重合性モノマー（ジペンタエリスリトールペンタまたはヘキサアクリレート［ＤＰＨＡ］骨格にカルボン酸基を導入した化合物（酸価＝２５ｍｇＫＯＨ／ｇ～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ））等が挙げられる。具体的な名称は記載していないが、必要に応じ、２官能のアルカリ可溶性ラジカル重合性モノマーを用いてもよい。
　その他、特開２００４－２３９９４２号公報の［００２５］～［００３０］に記載の酸基を有するモノマーも好ましく用いることができ、この公報の内容は本開示に組み込まれる。
　また、第１の透明層に用いられる重合性モノマーとして挙げたモノマーのうち、酸基を有するモノマーも好ましく用いることができる。
　これらの中でも、カルボキシル基を含有する重合性モノマーが好ましく、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーをより好ましく用いることができ、その中でもアロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株））が特に好ましい。なお、本明細書中、アクリルモノマーは、メタクリルモノマーとアクリルモノマーの両方が含まれる。
　第２の透明層中、酸基を有する樹脂に対して、酸基を有するモノマーを１質量％～５０質量％含むことが好ましく、３質量％～２０質量％含むことがより好ましく、６質量％～１５質量％含むことが特に好ましい。

－他の樹脂－
　第２の透明層に用いられる酸基を有さない他の樹脂には、特に制限はなく、前述の第１の透明層の形成に用いられる第１の透明層形成用塗布液に用いられる他の樹脂（１）を同様に用いることができる。

－金属酸化物粒子－
　第２の透明層は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、金属酸化物粒子を含む。
　第２の透明層には、使用する樹脂、重合性モノマーの種類および含有量、用いる金属酸化物粒子の種類等に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。

　金属酸化物粒子の種類としては特に制限はなく、公知の金属酸化物粒子を用いることができる。既述の第１の透明層において挙げた金属酸化物粒子は、第２の透明層においても使用することができる。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第２の透明層は、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、Ｎｂ_２Ｏ_５粒子および酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）のうち少なくとも一方を有することが、前述の第２の透明層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、金属酸化物粒子が酸化ジルコニウム粒子または酸化チタン粒子であることがより好ましく、酸化ジルコニウム粒子であることが特に好ましい。

　金属酸化物粒子として、酸化ジルコニウム粒子を用いる場合、転写後に金属酸化物粒子を有する第２の樹脂層の欠陥が見え難く、かつ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できるという観点から、酸化ジルコニウム粒子の含有量は、第２の透明層の全成分に対して、４０質量％～９５質量％であることが好ましく、６０質量％～９５質量％であることがより好ましく、６０質量％以上８０質量％未満であることがさらに好ましい。
　金属酸化物粒子として酸化チタンを用いる場合、転写後に金属酸化物粒子を有する第２の透明層の欠陥が見え難く、かつ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できる観点から、酸化チタン粒子の含有量は、第２の透明層に対して、３０質量％～７０質量％であることが好ましく、４０質量％以上６０質量％未満であることがより好ましい。

　金属酸化物粒子の屈折率は、第２の透明層形成用塗布液から金属酸化物粒子を除いた組成物により形成された透明膜の屈折率より高いことが好ましい。
　具体的には、転写フィルムは第２の透明層は、４００ｎｍ～７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の金属酸化物粒子を含有することが好ましく、屈折率が１．５５以上の粒子を含有することがより好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子を含有することがさらに好ましく、１．９０以上の粒子を含有することが特に好ましく、２．００以上の粒子を含有することが最も好ましい。
　ここで、４００ｎｍ～７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。

　金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、ヘイズ等の光学性能の観点から、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観測で任意の１００個の粒子の直径を測定し、１００個の直径の算術平均により求められる値である。

　第２の透明層は、金属酸化物粒子を１種単独で含んでもよく、２種以上の金属酸化物粒子を含んでもよい。
　金属酸化物粒子の第２の透明層における含有量は、金属酸化物粒子の種類によらず、第２の透明層の全成分に対して、３０質量％～９５質量％含まれることが好ましく、３０質量％～８５質量％含まれることがより好ましく、３０質量％以上８０質量％未満含まれることがさらに好ましい。金属酸化物粒子の含有量が既述の範囲であることで、転写後の透明電極パターンの隠蔽性がより向上する。

　第２の透明層は、樹脂および金属酸化物粒子に加え、他の成分を含むことができる。

－金属酸化抑制剤－
　第２の透明層は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。
　第１の実施形態及び第２の実施形態に用いられる金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物であることが好ましい。
　また、金属酸化抑制剤としては、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、および、それらと他の芳香環との縮合環よりなる群から選ばれた少なくとも一つの環であることが好ましく、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、またはイミダゾール環と他の芳香環との縮合環であることがより好ましい。
　上記他の芳香環としては、単素環でも複素環でもよいが、単素環であることが好ましく、ベンゼン環またはナフタレン環であることがより好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましい。
　好ましい金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンズイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、および、ベンゾトリアゾールが好ましく例示され、イミダゾール、ベンズイミダゾールおよびベンゾトリアゾールがより好ましい。金属酸化抑制剤としては市販品を用いてもよく、例えばベンゾトリアゾールを含む城北化学工業（株）、ＢＴ１２０などを好ましく用いることができる。
　また、金属酸化抑制剤の含有量は、第２の透明層の全質量に対し、０．１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１０質量％であることがより好ましく、１質量％～５質量％であることが更に好ましい。

－加熱により酸と反応可能な化合物－
　第１の実施形態及び第２の実施形態における第２の透明層は、加熱により酸と反応可能な化合物を含むことができる。本明細書において加熱により酸と反応可能な化合物は、常温（２５℃）においては、酸との反応性を有さず、化合物の物性に応じた特定の温度以上に加熱された場合に酸との反応性を発現する化合物を指す。

　加熱により酸と反応可能な化合物は、目的とする反応性を有する限り、特に制限はなく、公知の化合物を適宜選択して用いることができる。加熱により酸と反応可能な化合物は、温度２５℃における酸との反応性に比べて、２５℃を超えて加熱された場合の酸との反応性がより高い化合物であることが好ましい。
　加熱により酸と反応可能な化合物は、ブロック剤由来の部分構造により一時的に不活性化されている酸と反応可能な基を有し、あらかじめ定めれた解離温度においてブロック剤由来の部分構造が解離する化合物であることが好ましい。
　加熱により酸と反応可能な化合物は、カルボン酸化合物、アルコール化合物、アミン化合物、ブロックイソシアネート、エポキシ化合物などを挙げることができ、なかでも、保存安定性の観点から、ブロックイソシアネートであることが好ましい。
　ブロックイソシアネートとしては、第１の透明層形成用塗布液において説明したブロックイソシアネートを同様に使用することができ、好ましい例も同様である。

　さらに、前述の第２の透明層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。第２の透明層に好ましく用いられる添加剤としては、公知のフッ素系界面活性剤であるメガファック（登録商標）Ｆ－４４４（ＤＩＣ（株））が挙げられる。

－重合性モノマー－
　第２の透明層が、光重合性モノマーまたは熱重合性モノマーなどの重合性モノマーを含むことが、硬化させて膜の強度などを高める観点から好ましい。第２の透明層は、前述の酸基を有するモノマーのみを重合性モノマーとして含んでいてもよく、前述の酸基を有するモノマー以外の他の重合性モノマーを含んでもよい。
　第２の透明層に用いられる重合性モノマーとしては、特許第４０９８５５０号の段落００２３～００２４に記載の重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの重合性モノマーは単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０％～８０％であることが好ましく、１０％～６０％であることがより好ましい。
　第２の透明層に用いられる重合性モノマーとして、具体的には、下記構造式１で表される水溶性の重合性モノマー、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭＴ：新中村化学工業（株）、不純物としてトリアクリレート約１０％含有）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭ３ＬＭ－Ｎ　新中村化学工業（株）、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ　新中村化学工業（株）、トリアクリレート５５％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭ３　新中村化学工業（株）、トリアクリレート５７％）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ－１０４０　日本化薬（株））などを挙げることができる。

　その他の第２の透明層に用いられる重合性モノマーとしては、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水の混合溶媒等の水性溶媒に対して溶解性を有する重合性モノマーが好ましい。水性溶媒に対して溶解性を有する重合性モノマーとしては、水酸基を有するモノマー、分子内にエチレンオキサイドやポリプロピレンオキサイド、およびリン酸基を有するモノマーが挙げられる。

－重合開始剤－
　第２の透明層は、重合開始剤を含むことができる。
　第２の透明層に用いられる重合開始剤としては、水性溶媒に対して溶解性を有する重合開始剤が好ましい。水性溶媒に対して溶解性を有する重合開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　２９５９、下記構造式２の光重合開始剤等が挙げられる。

　以上、転写フィルムがネガ型材料である場合を中心に説明したが、転写フィルムは、ポジ型材料であってもよい。転写フィルムがポジ型材料である場合、前述の第２の透明層に、例えば特開２００５－２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、既述の材料には限られない。

　第２の透明層を形成に使用する第２の透明層形成用塗布液は、特定バインダー等を溶解する溶媒を含むことができる。
　第２の透明層が溶媒をさらに含み、溶媒のうち粘度が最も高い溶媒の２０℃における粘度は、３．０ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。第２の透明層に含まれる溶媒のうち粘度が最も高い溶媒の粘度が３．０ｍＰａ・ｓ以上であることで、第２の透明層を形成する際に用いられる第２の透明層形成用塗布液の粘度がより高くなり、第１の透明層に含まれる成分が第２の透明層に含まれる溶媒と相溶することが抑制され、第２の透明層の膜厚均一性がより向上する。
　なお、２０℃における溶媒の粘度は、２０℃の恒温槽で温度調整した溶媒に対して、東機産業（株）製、ＴＶ２５形粘度計（ＴＶＥ－２５）を用いて測定される値である。

　２０℃における粘度が３．０ｍＰａ・ｓ以上である溶媒としては、例えば、ジアセトンアルコール（３．２ｍＰａ・ｓ）、エチレングリコール（３２．５ｍＰａ・ｓ）、プロピレングリコール（５６ｍＰａ・ｓ）、イソブチルアルコール（４．２ｍＰａ・ｓ）などが挙げられる。

～第２の透明層の形成～
　第２の透明層は、金属酸化物粒子と樹脂とを含む第２の透明層を形成するための樹脂組成物を溶媒に溶解させた溶液（第２の透明層形成用塗布液という）を塗布し、乾燥させて形成される。
　なお、本明細書において、第２の透明層形成用塗布液は、金属酸化物粒子と樹脂とを含む第２の透明層を形成するための樹脂組成物を、水またはアルコール等の水性溶媒を含む溶媒に溶解させた溶液のことを指す。

　また、第２の透明層の形成に際しては、仮支持体上に、第１の透明層を積層した後、第１の透明層を硬化させることなく第２の透明層を積層することが好ましい。好ましい態様は、第１の透明層が、有機溶媒を含有する第１の透明層形成用塗布液により形成され、第２の透明層が、水またはアルコール等の水性溶媒を含有する第２の透明層形成用塗布液により形成される態様であり、隣接する２つの層の分画が良好となって、上記のメカニズムで透明電極パターン視認性を改善できる。さらに、転写フィルムから屈折率調整層（すなわち第１の透明層および第２の透明層）を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。なお、第１の透明層および第２の透明層の層分画が良好であると、上記のメカニズムによる屈折率調整の効果が十分となりやすく、透明電極パターンの隠蔽性がより良好となる。

（屈折率）
　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムは、各々、第１の透明層上に、第２の透明層を有する。第２の透明層の屈折率は第１の透明層の屈折率よりも高いことが好ましい。
　被転写体における透明電極パターン（好ましくは、Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）と第２の透明層との屈折率差、ならびに、第２の透明層と第１の透明層との屈折率差を小さくすることにより、光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、透明電極パターンの隠蔽性を改善することができる。
　第２の透明層の屈折率が１．６０以上であることが好ましい。
　第２の透明層の屈折率は、透明電極の屈折率によって調整する必要があり、値の上限値には特に制限はないが、２．１以下であることが好ましく、１．７８以下であることがより好ましく、１．７４以下であってもよい。
　透明電極の屈折率が、ＩｎおよびＺｎの酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ：ＩＺＯ）を用いた場合の如く２．０を超える場合においては、第２の透明層の屈折率は、１．７以上１．８５以下であることが好ましい。
　なお、屈折率は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍでエリプソメトリーによって測定される値である。

（厚み）
　第２の透明層の平均厚みは、２００ｎｍ未満であり、１１０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。
　第２の透明層の平均厚みは、０ｎｍより大きく、２０ｎｍ以上であることが好ましい。
　第２の透明層の平均厚みは、５５ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、６０ｎｍ～１００ｎｍであることがより好ましく、７０ｎｍ～１００ｎｍであることがさらに好ましい。
　平均厚みが上記範囲であると、好ましい屈折率が維持され、透明電極パターンの隠蔽性がより良好となる。

＜第３の透明層＞
　（第１の実施形態における第３の透明層）
　第１の実施形態の転写フィルムは、第２の透明層上に、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層を有する。
　第１の実施形態における第３の透明層における、全原子に対する金属原子の比率は２％以下であり、１％以下であることが好ましく、不可避不純物を除き、金属原子を含まないことがより好ましい。

（第３の透明層の平均厚み）
　第１の実施形態において、後述する好ましい方法により形成される第３の透明層は、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄ければ特に制限はないが、効果の観点からは、薄い層であることが好ましく、具体的には、第３の透明層の平均厚みは３０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
　第３の透明層の平均厚みは０ｎｍよりも大きいことを要し、１ｎｍ以上であることが好ましい。
　このような極めて薄い透明層は、通常の塗布法によっては、形成することが困難である。
　第３の透明層の平均厚みは、以下の方法で測定することができる。
　第３の透明層の厚みは、第２の透明層の厚みと同時に測定することができる。即ち、第２の透明層の厚み測定方法で述べた方法と同様にして断面を切り出し、第２の透明層の厚みをＴＥＭ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により測定し、測定対象の断面の５ｍｍの長さの領域をスキャンして、金属酸化物粒子を含む領域の厚みを第２の透明層とし、金属酸化物粒子を含まない領域を第３の透明層の厚みとすることで、第３の透明層の厚みを測定することができる。第３の透明層の平均厚みは、測定対象領域において等間隔で区切った２０箇所の厚みの測定値の平均を算出した値である。

　第３の透明層は、第１の透明層に含まれる成分を含む層であることが好ましく、第１の透明層に含まれる成分として、硬化成分を含むことが好ましい。
　ここで、硬化成分とは、光、熱等のエネルギー付与によって反応して架橋構造を形成したり、重合したりする成分であり、重合性モノマー、ブロックイソシアネート等を例示することができる。
　第１の透明層に含まれる成分であって、第２の透明層を通って、第２の透明層上に浸み出す低分子量成分としては、重合性モノマー、重合開始剤、ブロックイソシアネート等の加熱により酸と反応可能な化合物、界面活性剤などが挙げられる。
　第２の透明層上に浸み出した第１の透明層に含まれる低分子量成分のうち、硬化に寄与する硬化成分、例えば、重合性モノマー、重合開始剤、ブロックイソシアネートなどの加熱により酸と反応可能な化合物等は、第２の透明層を硬化する際に、第２の透明層上で硬化され、硬化した第３の透明層が形成される。
　第３の透明層に含まれる第１の透明層の成分については、例えば、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）を用いて第３の透明層の表面を解析することで分析し、確認することができる。

　第３の透明層が、第１の透明層に含まれる成分、なかでも、硬化に寄与する硬化成分を含むこと、第３の透明層の平均厚みが１０ｎｍ以下という極めて薄い層であることで、第３の透明層は、第２の透明層上に浸み出した第１の透明層に含まれる成分により形成されたことが推認できる。

（第３の透明層における金属原子の含有量）
　第１の実施形態に係る第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率は、以下の方法で測定することができる。
　Ｑｕａｎｔｅｒａ　ＳＸＭ型ＸＰＳ（ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ社製）を用いて、ＸＰＳ（Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）法にて、転写フィルム表面における第３の透明層の、第２の透明層と接する面と反対側の最表面における金属酸化物粒子を構成する金属原子（Ｍ）の比率を測定することができる。
　測定条件は以下の条件で実施することができる。
　Ｘ線：Ａｌ－Ｋα線（１００μｍ、２５Ｗ、１５ｋＶ）
　測定面積：３００μｍ□（μｍスクエア、μｍ四方）
　光電子取し角：４５°
　Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ：１１２ｅＶ、Ｓｔｅｐ　Ｅｎｅｒｇｙ：０．１ｅＶ
　上記条件により測定した結果、測定対象領域３００μｍ四方において、全原子に対する金属原子の比率が２％以下の場合に、第３の透明層は、金属酸化物粒子をほぼ含まない領域であると判断する。

（第３の透明層の形成）
　第１の実施形態における第３の透明層は、仮支持体上に、有機溶剤と重合性モノマーと樹脂とを含む塗布液を塗布して第１の透明層を形成し、その後、第１の透明層上に、水と金属酸化物粒子と樹脂とを含む塗布液を塗布し、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層を形成することにより形成することができる。即ち、第１の透明層に含まれる低分子量成分と有機溶剤とが、第２の透明層に含まれる水性成分とは相溶せず、第２の透明層内を通って第２の透明層上に浸み出し、第２の透明層上に形成されることが好ましい。
　なお、第３の透明層の形成方法は、上記に限定されない。

＜第３の透明層＞
　（第２の実施形態における第３の透明層）
　第２の実施形態の転写フィルムは、第２の透明層上に、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層を有する。
　第２の実施形態における第３の透明層は、被転写体への密着性により優れたものとなる点で、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である層であることが好ましい。
　第３の透明層における、全原子に対する金属原子の比率は２％以下が好ましく、１％以下であることが好ましく、不可避不純物を除き、金属原子を含まないことがより好ましい。
　ＸＰＳ法による金属原子の比率の具体的な測定方法については後述する。

（厚み）
　第３の透明層は、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより小さい層として形成される。第３の透明層は、効果の観点から、薄い層であることが好ましい。具体的には、第３の透明層の平均厚みとしては、３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下が更に好ましい。
　第３の透明層の平均厚みは、０ｎｍよりも大きく、１ｎｍ以上であることが好ましい。
　上記のように薄い透明層は、通常の塗布法により形成することは困難である。

　第３の透明層の平均厚みは、以下の方法で測定される値である。
　第３の透明層の平均厚みは、第２の透明層の厚みと同時に測定できる。即ち、
　ウルトラミクロトームを用いて転写フィルムの切片を作製し、転写フィルムの切片における、第１の透明層の上の層の平均厚みを、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により測定し、切片における断面の５ｍｍの長さの領域をスキャンして、金属酸化物粒子を含む領域の厚みを第２の透明層とし、金属酸化物粒子を含まない領域を第３の透明層の厚みとする。これにより、第３の透明層の厚みが測定される。
　平均厚みは、測定対象領域において等間隔で区切った２０箇所の厚みの測定値の平均を算出した値である。

　第３の透明層は、第１の透明層に含まれる成分を含む層であることが好ましく、第１の透明層に含まれる成分は、低分子量成分が好ましく、低分子量成分として硬化成分を含むことが好ましい。
　硬化成分とは、光、熱等のエネルギー付与によって反応して重合反応又は架橋反応する成分であり、重合性モノマー、重合開始剤、ブロックイソシアネート等を例示することができる。

　第１の透明層に含まれる成分であって、第２の透明層を通過して第２の透明層上に浸み出す低分子量成分としては、重合性モノマー、重合開始剤、ブロックイソシアネート等の、加熱により酸と反応可能な化合物、界面活性剤などが挙げられる。
　第２の透明層上に浸み出した第１の透明層に含まれる低分子量成分のうち、硬化に寄与する硬化成分（例えば、重合性モノマー、重合開始剤、ブロックイソシアネート）等の、加熱により酸と反応可能な化合物等は、第３の透明層に硬化性を付与する。
　第３の透明層に含まれる第１の透明層の成分については、例えば、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）を用いて第３の透明層の表面を解析することで確認することができる。
　第３の透明層が、第１の透明層に含まれる成分、なかでも、硬化に寄与する硬化成分を含むこと、第３の透明層の厚みが極めて薄い（３０ｎｍ以下の）層であることで、第３の透明層は、第２の透明層上に浸み出した第１の透明層に含まれる成分により形成されたことが推認できる。

（第３の透明層における金属原子の含有量）
　第３の透明層の層中の全原子に対する金属原子の割合と第２の透明層の層中の全原子に対する金属原子の割合は、転写フィルムをウルトラミクロトームを用いて切断し、断面がむき出しになった切片の断面を、日立ハイテクノロジーズ社製のＨＤ２３００型ＳＴＥＭを用いてエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ；Energy Dispersive X-ray Spectroscopy）により測定することができる。
　また、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率は、以下の方法で測定することができる。
　Ｑｕａｎｔｅｒａ　ＳＸＭ型ＸＰＳ（ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ社製）を用いて、ＸＰＳ（Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）法にて、転写フィルム表面における第３の透明層の、第２の透明層と接する面と反対側の最表面における金属酸化物粒子を構成する金属原子（Ｍ）の比率を測定することができる。
　測定条件は以下の条件で実施することができる。
　Ｘ線：Ａｌ－Ｋα線（１００μｍ、２５Ｗ、１５ｋＶ）
　測定面積：３００μｍ□（μｍスクエア、μｍ四方）
　光電子取し角：４５°
　Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ：１１２ｅＶ、Ｓｔｅｐ　Ｅｎｅｒｇｙ：０．１ｅＶ
　上記条件により測定した結果、測定対象領域３００μｍ四方において、全原子に対する金属原子の比率が２％以下の場合に、第３の透明層は、金属酸化物粒子をほぼ含まない領域であると判断する。

～第３の透明層の形成～
　第３の透明層は、仮支持体上に、有機溶剤と重合性モノマーと樹脂とを含む第１の透明層形成用塗布液を塗布して第１の透明層を形成し、形成された第１の透明層上に、水性溶媒と金属酸化物粒子と樹脂とを含む第２の透明層形成用塗布液を塗布し、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層を形成した後、第２の透明層上に形成されることが好ましい。
　具体的には、第１の透明層上に第２の透明層が積層された際、第１の透明層中に含まれる低分子量成分と有機溶剤とが、第２の透明層に含まれる水性成分と相溶せず、第２の透明層内を通って第２の透明層上に浸み出すことで、層形成されることが好ましい。

＜任意の樹脂層＞
　第１の実施形態の転写フィルムには、既述の第１の透明層、第２の透明層、および第３の透明層に加え、第１の実施形態の効果を損なわない限りにおいて、他の任意の層を有していてもよい。第２の実施形態の転写フィルムには、既述の第１の透明層、第２の透明層、および第３の透明層に加え、第２の実施形態の効果を損なわない限りにおいて、他の任意の層を有していてもよい。

（熱可塑性樹脂層）
　転写フィルムは、仮支持体と第１の透明層との間に熱可塑性樹脂層を設けることができる。
　熱可塑性樹脂層を設けることで、転写フィルムを被転写体に転写して積層体を形成する場合、各層における気泡の発生が抑制され、気泡に起因する画像ムラなどが発生し難くなるため好ましい。
　熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂層を設けることで、被転写体表面の凹凸を吸収するクッション材として機能することが好ましく、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有している樹脂層であることが好ましい。
　熱可塑性樹脂層は、特開平５－７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも１種を含む態様が特に好ましい。
　熱可塑性樹脂層を設ける場合の層厚は、３μｍ～３０μｍが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚を上記範囲とすることで、転写時の追随性が良好で、被転写体表面の凹凸を吸収でき、かつ、熱可塑性樹脂層の形成時における乾燥、現像が簡易に行なえるため好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚としては、４μｍ～２５μｍが更に好ましく、５μｍ～２０μｍが特に好ましい。

＜中間層＞
　転写フィルムは、任意に設けられる熱可塑性樹脂層と第１の透明層との間に中間層を設けることができる。
　中間層としては、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている層を適用することができる。

＜保護フィルム＞
　転写フィルムは、第３の透明層の表面に保護フィルムを設けることができる。保護フィルムを設けることで、転写フィルムにおける被転写体と密着する面である第３の透明層表面を保護することができる。
　保護フィルムとしては、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００８３～００８７および００９３に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。

～転写フィルムの製造方法～
　転写フィルムの製造方法は特に制限は無く、公知の方法を用いることができる。なかでも、目的とする第３の透明層を形成しやすいという観点から、以下に示す製造方法により製造されることが好ましい。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における転写フィルムの製造方法は、仮支持体上に、有機溶剤と重合性モノマーと樹脂とを含む第１の透明層形成用塗布液を塗布して第１の透明層を形成する工程と、第１の透明層上に、水性溶媒と金属酸化物粒子と樹脂とを含む第２の透明層形成用塗布液を塗布し、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層を形成する工程と、を有し、第２の透明層上に、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層が配置された転写フィルムを製造することが好ましい。
　仮支持体上に第１の透明層の形成後に、第２の透明層を形成する場合、仮支持体上に第１の透明層を形成するための第１の透明層形成用塗布液を塗布した後、第１の透明層形成用塗布液が完全に乾燥、硬化する前に、第２の透明層を形成することが好ましい。即ち、第２の透明層形成用塗布液を塗布する第２の透明層形成工程を実施することが好ましい。
　第１の透明層を形成する工程が、第１の透明層形成用塗布液を仮支持体上に塗布する工程であり、かつ、第２の透明層を形成する工程が、第１の透明層上に直接第２の透明層を形成する工程であることが好ましい。中でも、第２の透明層を形成する工程は、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む第２の透明層形成用塗布液を塗布する工程であることがより好ましい。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における製造方法によれば、第１の透明層と第２の透明層との分画が良好となり、第１の透明層に含まれる低分子量の成分が、第２の透明層を通過し、第２の透明層上に浸み出し、第３の透明層の形成を容易に行ないうる。
　第１の透明層形成用塗布液によって得られた第１の透明層の上に、酸基を有する樹脂、好ましくは酸価１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂を含む第２の透明層形成用塗布液（水系樹脂組成物）を塗布して第２の透明層を形成することで、第１の透明層の硬化前に第２の透明層を形成しても層混合が生じず、分画が良好となる。
　また、上記構成とすることで、高温高湿下で経時させて吸湿させた場合に第２の透明層を構成する酸基を有する樹脂はすでに水に溶解しなくなっているため、転写フィルムが吸湿した場合に生じる問題も抑制することができる。

（第１の透明層を形成する工程）
　転写フィルムの製造方法は、仮支持体上に第１の透明層を形成する工程を有する。
　第１の透明層を形成する工程は、第１の透明層形成用塗布液を仮支持体上に塗布する工程であることが好ましい。
　第１の透明層形成用塗布液は、重合性モノマー及び樹脂を含む第１の透明層を形成するための樹脂組成物を、溶媒に溶解させた溶液のことをいう。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。

　有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒を使用できる。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（１－メトキシ－２－プロピルアセテート）、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、等を挙げることができる。
　第１の透明層形成用塗布液は、重合性モノマー、樹脂、有機溶剤、及び重合開始剤を含むことが好ましい。

（第２の透明層を形成する工程）
　転写フィルムの製造方法は、第１の透明層の上に直接、第２の透明層を形成する工程を有することが好ましい。
　第２の透明層を形成する工程は、少なくとも金属酸化物粒子及び樹脂を含む第２の透明層を形成するための樹脂組成物を、水等を含む水性溶媒に溶解させた溶液（第２の透明層形成用塗布液（水系樹脂組成物））を塗布する工程であることが好ましい。

　第２の透明層形成用塗布液に用いる水性溶媒としては、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒が好ましい。転写フィルムの製造方法の好ましい態様では、第２の透明層の形成に用いる第２の透明層形成用塗布液の溶媒が、水および炭素原子数１～３のアルコールを含むことが好ましく、炭素原子数１～３のアルコール／水の質量比が２０／８０～８０／２０の水または混合溶媒を含むことがより好ましい。
　混合溶媒としては、水とメタノールとの混合溶媒、水とエタノールとの混合溶媒が好ましく、乾燥および塗布性の観点から水とメタノールとの混合溶媒が好ましい。
　特に、第２の透明層形成の際、水とメタノール（ＭｅＯＨ）との混合溶媒を用いる場合は、ＭｅＯＨ／水の質量比（質量％比率）が２０／８０～８０／２０であることが好ましく、３０／７０～７５／３０であることがより好ましく、４０／６０～７０／３０であることがさらに好ましい。上記範囲に制御することにより、第１の透明層と第２の透明層とが界面にて互いに層溶して混合することなく、塗布と迅速な乾燥とを実現できる。

　第２の透明層形成用塗布液の２５℃におけるｐＨ（Ｐｏｗｅｒ　ｏｆ　Ｈｙｄｒｏｇｅｎ）が、７．０以上１２．０以下であることが好ましく、７．０～１０．０であることがより好ましく、７．０～８．５であることが特に好ましい。例えば、酸基に対して過剰量のアンモニアを用い、酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂を添加して、上記の好ましい範囲に第２の透明層形成用塗布液のｐＨを調整することができる。
　また、転写フィルムの製造方法は、第２の透明層の形成に用いられる第２の透明層形成用塗布液が、熱硬化性および光硬化性のうち少なくとも一方であることが好ましい。第１の透明層および第２の透明層がこのような硬化性透明樹脂層である場合、転写フィルムの製造方法によれば第１の透明層を積層した後に硬化させることなく第２の透明層を積層しても層分画が良好となって透明電極パターン視認性を改善することができ、且つ、得られた転写フィルム（転写材料、好ましくは転写フィルム）から屈折率調整層（すなわち第１の透明層および第２の透明層）を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できることが好ましい。
　転写フィルムの製造方法は、第２の透明層の形成に用いられる第２の透明層形成用塗布液が、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含み、バインダーポリマーと、光または熱重合性モノマーと、光または熱重合開始剤とを含むことが好ましい。酸基を有する樹脂のアンモニウム塩のみがバインダーポリマーであってもよく、酸基を有する樹脂のアンモニウム塩の他にさらに他のバインダーポリマーを併用してもよい。酸基を有するモノマーのアンモニウム塩が光または熱重合性モノマーであってもよく、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩の他にさらに光または熱重合性モノマーを併用してもよい。

～アンモニアの揮発～
　さらに転写フィルムの製造方法は、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩から、アンモニアを揮発させることで、酸基を生成する工程を含むことが好ましい。前述の酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩から、アンモニアを揮発させることで、酸基を生成する工程が、塗布された前述の第２の透明層形成用塗布液を加熱する工程であることが好ましい。
　塗布された前述の第２の透明層形成用塗布液を加熱する工程の詳細な条件の好ましい範囲について、以下に示す。
　加熱・乾燥方法としては、加熱装置を備えた炉内を通過させる方法や、又、送風により実施することもできる。加熱・乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、４０℃～１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。これらの条件の中でも、第２の透明層のＭ／Ｃの厚み方向分布のプロファイルのＰ／Ａの値を好ましい範囲に制御しやすい観点から、５０℃～１２０℃の温度で加熱することが特に好ましく、６０℃～１００℃の温度に加熱することが更に好ましい。加熱・乾燥後の組成物としては、含水率が５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下にすることがより好ましく、１質量％以下にすることが更に好ましい。

（第３の透明層の形成）
　既述のように、第１の透明層形成用塗布液を塗布し、乾燥させた後、硬化前に、第２の透明層形成用塗布液を塗布することで、第２の透明層を通って第１の透明層に含まれる成分が第２の透明層の上に浸み出すことで第３の透明層が形成される。

（その他の工程）
　第１の実施形態及び第２の実施形態における転写フィルムの製造方法は、前述の仮支持体上に前述の第１の透明層を形成する前に、さらに熱可塑性樹脂層を形成する工程、熱可塑性樹脂層を形成する工程の後に所望により実施される中間層を形成する工程を含んでいてもよい。
　その他の透明樹脂層の製造方法は、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００９４～００９８に記載の感光性転写材料の作製方法を採用することができる。

～用途～
　第１の実施形態の転写フィルム及び第２の実施形態の転写フィルムは、各々、静電容量型入力装置の電極保護膜形成に用いられることが好ましく、電極保護膜用のなかでも透明絶縁層用または透明保護層用であることが好ましい。転写フィルムは第１の透明層が未硬化状態であってもよく、その場合は、透明電極パターンの上にフォトリソグラフィ方式により静電容量型入力装置の電極保護膜の積層パターンを形成するための転写フィルム、より好ましくは屈折率調整層およびオーバーコート層（透明保護層）の積層パターンを形成するための転写フィルムとして用いることができる。

［電極保護膜］
　第１の実施形態の電極保護膜は、既述の第１の実施形態の転写フィルムから、仮支持体が取り除かれた積層膜である。第２の実施形態の電極保護膜は、既述の第２の実施形態の転写フィルムから、仮支持体が取り除かれた積層膜である。
　以下に述べる第１の実施形態の積層体は、基板上に第１の実施形態の電極保護膜を有し、電極を含む基板の電極が、第３の透明層、第２の透明層及び第１の透明層で覆われ、保護されている。第２の実施形態の積層体は、基板上に第２の実施形態の電極保護膜を有し、電極を含む基板の電極が、第３の透明層、第２の透明層及び第１の透明層で覆われ、保護されている。

［積層体］
　第１の実施形態の積層体は、電極を含む基板上に、既述の第１の実施形態の転写フィルムから仮支持体を除いた後の、第３の透明層と、第２の透明層と、第１の透明層と、を基板側からこの順に有する積層体である。第２の実施形態の積層体は、電極を含む基板上に、既述の第２の実施形態の転写フィルムから仮支持体を除いた後の、第３の透明層と、第２の透明層と、第１の透明層と、を基板側からこの順に有する積層体である。

　具体的には、第１の実施形態の積層体は、少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、前記第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層と、電極を含む基板と、を順次有する積層体である。第２の実施形態の積層体は、少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、平均厚みが第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層と、電極を含む基板と、を順次有する積層体である。
　なお、第２の実施形態の積層体は、第３の透明層が、第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸＰＳ法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である層である態様が好ましい。
　また、第１の実施形態における積層体及び第２の実施形態における積層体において、第３の透明層が、第１の透明層に含まれる成分を含む態様が好ましい。

　静電容量型入力装置の電極は、透明電極パターンであっても、引き回し配線であってもよい。積層体は、静電容量型入力装置の電極が、電極パターンであることが好ましく、透明電極パターンであることがより好ましい。

　第１の実施形態及び第２の実施形態における積層体は、静電容量型入力装置の電極を含む基板とこの基板の上に形成された第１の透明層と、第２の透明層と、第３の透明層とを基板側からこの順に有する。
　積層体においては、基板と透明電極パターンと、透明電極パターンに隣接して配置された第３の透明層と、第３の透明層に隣接して配置された第２の透明層と、第２の透明層に隣接して配置された第１の透明層と、を有し、第２の透明層の屈折率が第１の透明層の屈折率よりも高いことが好ましい。第２の透明層の屈折率は１．６以上であることが好ましい。
　既述の積層体の構成とすることにより、透明電極パターンの隠蔽性が良好となる。

（基板）
　第１の実施形態の積層体及び第２の実施形態の積層体は、各々、電極（好ましくは静電容量型入力装置の電極）を含む基板を有する。静電容量型入力装置の電極を含む基板は、基板と、電極が別の部材であることが好ましい。
　基板は、ガラス基板またはフィルム基板を用いることができる。
　フィルム基板としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＰ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）等の公知の樹脂の基材を挙げることができる。
　基板は目的に応じて選択されるが、一般的には、透明基板であることが好ましい。
　基板の屈折率は、１．５～１．５２であることが好ましい。

（透明電極パターン）
　入力装置における透明電極パターンの屈折率は１．７５～２．１であることが好ましい。
　透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ等の金属膜、銅ニッケル合金等の複数の金属の合金膜；ＳｉＯ_２等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０ｎｍ～２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することができる。
　ＩＴＯ等によって導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４～００１６等を参考にすることができる。
　第１の実施形態の転写フィルムが適用される電極は、透明電極に限定されない。第１の実施形態の転写フィルムは、透明ではない金属膜又は金属酸化膜の保護膜として用いることもできる。第２の実施形態の転写フィルムが適用される電極は、透明電極に限定されない。第２の実施形態の転写フィルムは、透明ではない金属膜又は金属酸化膜の保護膜として用いることもできる。
　透明でない金属膜又は金属酸化膜の材料は特に制限されず、例えば、透明電極の材料として挙げた材料等を透明でない金属膜又は金属酸化膜の形成に用いることができる。

［積層体の製造方法］
　積層体の製造方法は、電極（好ましくは静電容量型入力装置の電極）を含む基板の上に、既述の転写フィルムを、転写フィルムの第３の透明層側を基板と接触させて密着（ラミネート）し、基板に第３の透明層、第２の透明層、及び第１の透明層を転写することにより製造することができる。仮支持体は、転写の後に剥離され、除去される。

　転写フィルムの各透明層を転写する際、ラミネート時の基板と第３の透明層との間の密着性を高めるため、あらかじめ被転写体である基板の、転写フィルムとの接触面に表面処理を施すことができる。表面処理としては、シラン化合物を用いたシランカップリング処理が挙げられる。

　任意に設けられる保護フィルムが除去された第１の実施形態又は第２の実施形態の転写フィルムは、透明電極パターンを有する被転写体に転写され、積層体が形成される。
　転写フィルムの転写は、第１の実施形態又は第２の実施形態の転写フィルムの第３の透明層側を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。

　パターン形成は、必要に応じて行うことができ、露光工程、および現像工程が必要に応じて実施される。露光工程、現像工程およびその他の工程の例としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の方法が参照され、第１の実施形態及び第２の実施形態においても好適に実施することができる。

　露光工程は、透明電極パターン上に転写された第１の透明層、第２の透明層および第３の透明層を露光する工程である。
　具体的には、前述の透明電極パターン上に転写された転写フィルムの上方に所定のマスクを配置し、マスクおよび仮支持体を介してマスク上方からパターン状に露光する方法が挙げられる。パターン露光としては、レーザー等を用いて所望の領域を走査して露光する走査露光であってもよい。
　露光の光源としては、既述の各透明層の少なくともいずれかを硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５ｍＪ／ｃｍ^２～２００ｍＪ／ｃｍ^２程度であり、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ^２～１００ｍＪ／ｃｍ^２程度である。

　露光後に実施される現像工程は、露光された光硬化性の樹脂層を現像する工程である。
　第１の実施形態及び第２の実施形態における現像工程は、パターン露光された既述の各透明層を現像液によってパターン現像する現像工程である。
　現像は、現像液を用いて行うことができる。現像液としては、特に制約はなく、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。現像液としては、アルカリ水溶液を含む現像液が好ましく例示される。

　現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。
　なお、転写フィルムが、熱可塑性樹脂層、中間層等を有する場合には、現像の前に光硬化性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去した後、現像を行うことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃～４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８～１３が好ましい。

［静電容量型入力装置］
　第１の実施形態の静電容量型入力装置は、既述の第１の実施形態の電極保護膜または積層体を有する静電容量型入力装置である。第２の実施形態の静電容量型入力装置は、既述の第２の実施形態の電極保護膜または積層体を有する静電容量型入力装置である。
　第１の実施形態の静電容量型入力装置は、第１の実施形態の転写フィルムから第３の透明層、第２の透明層および第１の透明層を、透明電極パターンの上に転写して作製される装置であることが好ましい。第２の実施形態の静電容量型入力装置は、第２の実施形態の転写フィルムから第３の透明層、第２の透明層および第１の透明層を、透明電極パターンの上に転写して作製される装置であることが好ましい。
　具体的には、第１の実施形態の静電容量型入力装置は、重合性モノマーの硬化物および樹脂を含む第１樹脂層と、金属酸化物粒子および樹脂を含み、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２樹脂層と、平均厚みが第２樹脂層の平均厚みより薄く、かつ、前記第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３樹脂層と、電極（好ましくは、静電容量型入力装置の電極）を含む基板と、をこの順に有する静電容量型入力装置であることが好ましい。第２の実施形態の静電容量型入力装置は、重合性モノマーの硬化物および樹脂を含む第１樹脂層と、金属酸化物粒子および樹脂を含み、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２樹脂層と、平均厚みが第２樹脂層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２樹脂層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３樹脂層と、電極（好ましくは、静電容量型入力装置の電極）を含む基板と、をこの順に有する静電容量型入力装置であることが好ましい。
　第３樹脂層は、被転写体との密着性をより高める観点から、第２樹脂層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である層であることが好ましい。

　第１の実施形態の静電容量型入力装置及び第２の実施形態の静電容量型入力装置において、第１樹脂層は、転写フィルムの第１の透明層中の硬化成分が硬化反応してなる硬化層（本明細書中において「第１硬化層」ともいう。）である。
　第２樹脂層は、少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含む層であり、非硬化の層でもよいし、層中に硬化成分を含む場合は硬化成分が硬化反応してなる硬化層（本明細書中において、第２樹脂層が硬化された層である場合「第２硬化層」ともいう。）であってもよい。
　また、第３樹脂層は、転写フィルムの第３の透明層中の硬化成分が硬化反応してなる硬化層（本明細書中において「第３硬化層」ともいう。）である。

　第１の実施形態の静電容量型入力装置は、以下の要素を有し、さらに、第１の実施形態の静電容量型入力装置の電極保護膜または第１の実施形態の積層体を有することが好ましい。第２の実施形態の静電容量型入力装置は、以下の要素を有し、さらに、第２の実施形態の静電容量型入力装置の電極保護膜または第２の実施形態の積層体を有することが好ましい。
（要素１）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン；
（要素２）前述の第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前述の第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン；
（要素３）前述の第一の透明電極パターンと前述の第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層；
　既述の透明樹脂層は、通常公知の静電容量型入力装置におけるいわゆる透明保護層であることが好ましい。

　第１の実施形態の静電容量型入力装置及び第２の実施形態の静電容量型入力装置は、このような様々な部材を含む場合であっても、透明電極パターンに隣接して配置された前述の積層体の機能により、透明電極パターンの隠蔽性に優れる。
　静電容量型入力装置には、タッチパネル等が含まれる。

　第１の実施形態の静電容量型入力装置及び第２の実施形態の静電容量型入力装置、およびこの静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、『タッチパネルの技術と開発』、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　２００９　Ｆｏｒｕｍ　Ｔ－１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。

［静電容量型入力装置の製造方法］
　第１の実施形態の静電容量タッチパネルの製造方法は、既述の第１の実施形態の転写フィルムを、転写フィルムの第３の透明層の面を電極（好ましくは、静電容量型入力装置の電極）を含む基板に接触させて貼り付ける工程と、転写フィルムが貼り付けられた基板を露光する工程と、露光後の転写フィルムを現像する工程と、転写フィルムを貼り付ける工程と露光する工程との間、または、露光する工程と現像する工程の間の少なくとも一方において、仮支持体を剥離する工程と、をこの順に有する。第２の実施形態の静電容量タッチパネルの製造方法は、既述の第２の実施形態の転写フィルムを、転写フィルムの第３の透明層の面を電極（好ましくは、静電容量型入力装置の電極）を含む基板に接触させて貼り付ける工程と、転写フィルムが貼り付けられた基板を露光する工程と、露光後の転写フィルムを現像する工程と、転写フィルムを貼り付ける工程と露光する工程との間、または、露光する工程と現像する工程の間の少なくとも一方において、仮支持体を剥離する工程と、をこの順に有する。

　なお、基板に転写フィルムを貼り付ける工程、転写フィルムを露光する工程、及び現像する工程については、既述の積層体の製造方法に詳細が記載されており、静電容量型入力装置（好ましくは静電容量タッチパネル）の製造方法にも、同様に適用できる。

　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
　なお、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量である。また、酸価は、理論酸価を用いた。

［実施例１～２１、比較例１～２］
＜第１の透明層形成用塗布液の調製＞
　以下の表１に示す組成を有する材料Ａ－１～Ａ－１０（第１の透明層形成用塗布液）を調製した。
　下記化合物Ａにおける各構造単位に併記された数値は、各構造単位の含有比率（モル比）を示し、化合物Ａの重量平均分子量は２９，０００である。
　なお、表１中の数値の記載されていない欄は、その素材を含まないことを示す。

＜第２の透明層形成用塗布液の調製＞
　次に、以下の表２～表４に記載の組成を有する材料Ｂ－１～Ｂ－１８（第２の透明層形成用塗布液）を調製した。
　なお、表２～表４中の数値の記載されていない欄は、その素材を含まないことを示す。
　また、２０℃における溶媒の粘度は、２０℃の恒温槽で温度調整した溶媒に対し、東機産業株式会社製のＴＶ２５形粘度計（ＴＶＥ－２５）を用いて測定した。

＜転写フィルムの作製＞
　厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の膜厚が８．０μｍになる塗布量に調整し、第１の透明層形成用の材料Ａ－１～Ａ－１０のいずれか１種を塗布し、第１の透明層を形成した。
　次に、第１の透明層を１００℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルから、下記の表６～表７に示す組み合わせにて第２の透明層形成用の材料Ｂ－１～Ｂ－１８の少なくとも１種を、乾燥後の膜厚が約８０ｎｍの膜厚になる塗布量に調整して第１の透明層の上に塗布した。その後、形成された第２の透明層を、乾燥温度７０℃で乾燥させ、第２の透明層を形成した。第２の透明層の上に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着し、実施例１～２１の転写フィルムを作製した。

＜比較例１の転写フィルムの作製＞
　ポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、乾膜厚が８．０μｍになる塗布量に調整し、第１の透明層用の材料Ａ－１を形成した。１００℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、ＵＶランプを照射した（露光量８０ｍＪ／ｃｍ^２、メタンハライドランプ）。その後、第２の透明層用の材料Ｂ－１３を乾膜厚が８０ｎｍの膜厚になる塗布量を調整して塗布、乾燥させ、比較例１の転写フィルムを作製した。

＜比較例２の転写フィルムの作製＞
　ポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、乾膜厚が８．０μｍになる塗布量を調整し、第１の透明層用の材料Ａ－１を形成した。１００℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて、材料Ｂ－１を乾膜厚が９０ｎｍになる塗布量を調整して塗布、乾燥させた。さらに、第２の透明層用の材料Ｂ－１６を乾燥膜厚が２００ｎｍになる塗布量を調整して塗布、乾燥させ、比較例２の転写フィルムを作製した。

～転写フィルムの層構造～
　上記のようにして作製した各種の転写フィルムについて、以下に示す方法によって第１の透明層及び第２の透明層の上に第３の透明層が形成されていることを確認した。
　具体的には、作製した転写フィルムの各々をウルトラミクロトームを用いて切断し、断面がむき出しになった切片を作製した。次いで、切片の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）にて観察した。結果、各実施例及び比較例２では、第１の透明層、第２の透明層、及び第３の透明層が積層されている層構造が確認された。

～第３の透明層に含まれる成分の確認～
　ここで各実施例及び比較例の転写フィルムにおける第３の透明層の表面を、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）で分析した。
　その結果、第１の透明層に含有されるブロックイソシアネートであるデュラネートＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、およびデュラネートＸ３０７１．０４（旭化成ケミカルズ（株）製）に含まれる保護基（ブロック剤）であるメチルエチルケトン（ＭＥＫ）オキシムを示すフラグメントが検出された。これにより、第３の透明層には、第２の透明層を通った第１の透明層に含まれる低分子量成分が含まれることが確認された。

　更に、以下に示す方法により金属酸化物粒子を構成する金属原子（Ｍ）の比率を測定し、測定された比率をもとに以下に示す評価基準にしたがって評価した。結果、下記表６に示す比率と同様、２％以下の金属原子が確認された。

（１）上記のように作製した転写フィルムの各々をウルトラミクロトームを用いて切断し、断面がむき出しになった切片の断面を、日立ハイテクノロジーズ社製のＨＤ２３００型ＳＴＥＭを用いてエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ；Energy Dispersive X-ray Spectroscopy）分析を行った。
　その結果、各実施例及び比較例２では、第３の透明層のＺｒもしくはＴｉのＸ線強度が、第２の透明層のＺｒもしくはＴｉのＸ線強度よりも小さいことが確認された。即ち、
　第３の透明層の層中の全原子に対する金属原子割合が、第２の透明層の層中の全原子に対する金属原子の割合よりも小さいことが確認された。
（２）Ｑｕａｎｔｅｒａ　ＳＸＭ型ＸＰＳ（ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ社製）を用いて、ＸＰＳ（Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）法にて、転写フィルム表面における第３の透明層の、第２の透明層と接する界面と反対側の最表面から、金属酸化物粒子を構成する金属原子（Ｍ）の比率を測定した。測定条件は、以下の通りである。測定条件における表面からの検出深さは、一般的に約１０ｎｍとなる。
　<測定条件>
　　Ｘ線：Ａｌ－Ｋα線（１００μｍ、２５Ｗ、１５ｋＶ）
　　測定面積：３００μｍ四方（μｍ□＝３００μｍ×３００μｍ）
　　光電子取し角：４５°
　　Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ：１１２ｅＶ、Ｓｔｅｐ　Ｅｎｅｒｇｙ：０．１ｅＶ
　上記の測定条件により測定された比率をもとに、以下の評価基準にしたがって評価した。評価結果を下記表６に示す。
　<評価基準>
　Ａ：２％以下
　Ｂ：２％超かつ３％以下
　Ｃ：３％超

～第１の透明層、第２の透明層、及び第３の透明層の厚み～
　上記のように作製した転写フィルムの各々をウルトラミクロトームを用いて切断し、断面がむき出しになった切片の断面の５ｍｍの距離を測定領域としてＴＥＭ観察し、第１の透明層、第２の透明層、及び第３の透明層の厚みを測定した。測定領域を等間隔に区切った２０箇所について、厚みを測定し、各測定値をもとに各層毎に算術平均を算出し、各層の平均値を平均厚みとした。
　また、１００×Ｈ２／Ｔ２を算出し、厚み分布とした。なお、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値であり、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みである。
　結果を下記表６に示す。

＜積層体作製に用いる透明電極パターンフィルムの作製＞
（透明膜の形成）
　膜厚３８μｍ、屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面改質を行った。得られたフィルムを透明フィルム基板とした。
　次に、下記表５中に示す材料－Ｃを、スリット状ノズルを用いて、透明フィルム基板上に塗工した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２）し、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６０、膜厚８０ｎｍの透明膜を製膜した。

＜透明電極パターンの形成＞
　透明フィルム基板上に透明膜が積層されたフィルムを、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明フィルム基板の温度１５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍ、屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。

（エッチング用感光性フィルムＥ１の調製）
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記の処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。既述の方法により仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍのエッチング用光硬化性樹脂層から成る積層体を得、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となった転写材料である、エッチング用感光性フィルムＥ１を作製した。

（エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１）
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体
　（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、重量平均分子量６００００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）　　　　　　　１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株））
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物　　　　　　　　　　　　７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート　　　　　　　　　　　　２．８質量部
・２－クロロ－Ｎ－ブチルアクリドン　　　　０．４２質量部
・２，２－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール　　　　　　　　　　　２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩　　　　　　０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット　　　　　　０．２６質量部
・フェノチアジン　　　　　　　　　　　　０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ－７８０Ｆ、ＤＩＣ（株））
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０３質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　４０質量部
・１－メトキシ－２－プロパノール　　　　　　　２０質量部
　なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓｅｃであった。

（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．３６質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２－エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
　メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝
　５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）　１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株））
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．１質量部
・フッ素系ポリマー　　　　　　　　　　　　０．５４質量部
　〔商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製、４０質量部のＣ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２と、５５質量部の（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２と、５質量部のＨ（ＯＣＨＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２との共重合体、重量平均分子量：３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液

（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　３２．２質量部
　　（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン　　　　　　　　　　１４．９質量部
　　（商品名：Ｋ－３０、アイエスピー・ジャパン（株））
・蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　　　５２４質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　４２９質量部

－透明電極パターンの形成－
　透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを洗浄し、洗浄後のフィルムに、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした。ラミネート条件は、透明フィルム基板の温度１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分にて行なった。
　仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面と既述のエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。
　次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株））を純水で１０倍に希釈した液）を２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株））を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、さらに１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを得た。

　透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを、ＩＴＯ用エッチング液（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを得た。
　次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを、レジスト剥離液（Ｎ－メチル－２－ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツジャパン（株））液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、透明フィルム基板上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムを得た。

＜４．各実施例および比較例の透明積層体の作製＞
　保護フィルムを剥離した各実施例および比較例の転写フィルムを用いて、透明フィルム基板上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムの透明膜と透明電極パターンを覆う位置に転写フィルムをラミネートした。その結果、透明フィルム基板が有する透明膜および透明電極パターン上に転写フィルムによって、第３の透明層、第２の透明層、第１の透明層および仮支持体がこの順に転写された。転写は、透明フィルム基板の温度：４０℃、ゴムローラー温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分の条件で行った。
　その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。
　仮支持体を剥離後、炭酸ソーダ２％水溶液３２℃で６０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の透明フィルム基板に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて透明フィルム基板上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明フィルム基板上に透明膜、透明電極パターン、第３の透明層が硬化した第３硬化層、第２の透明層が硬化した第２硬化層、および第１の透明層が硬化した第１硬化層が基板から順に積層された透明積層体を作製した。

～透明積層体の層構造～
　上記のようにして作製した透明積層体について、以下に示す方法により第１の透明層の硬化層及び第２の透明層の硬化層の上に第３の透明層の硬化層を有することを確認した。
　具体的には、作製した透明積層体を日立ハイテクノロジーズ社製のＦＢ－２１００型ＦＩＢを用いて切断し、断面がむき出しになった切片を作製した。次いで、切片の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）にて観察した。
　結果、各実施例及び比較例２では、第１の透明層の硬化層である第１硬化層、第２の透明層の硬化層である第２硬化層、及び第３の透明層の硬化層である第３硬化層を有する層構造が確認された。

～第３硬化層中の全原子に対する金属原子の割合～
（１）　上記のように作製した透明積層体の各々を日立ハイテクノロジーズ社製のＦＢ－２１００型ＦＩＢを用いて切断し、断面がむき出しになった切片の断面を、日立ハイテクノロジーズ社製のＨＤ２３００型ＳＴＥＭを用いてエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ；Energy Dispersive X-ray Spectroscopy）分析を行った。
　その結果、各実施例及び比較例２では、第３硬化層のＺｒもしくはＴｉのＸ線強度が、第２硬化層のＺｒもしくはＴｉのＸ線強度よりも小さいことが確認された。即ち、
　第３硬化層中の全原子に対する金属原子割合が、第２硬化層中の全原子に対する金属原子の割合よりも小さいことが確認された。

（２）　Ｑｕａｎｔｅｒａ　ＳＸＭ型ＸＰＳ（ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ社製）を用いて、ＸＰＳ（X-ray Photoelectron Spectroscopy）法にて、透明積層体における第３硬化層の、第２硬化層と接する界面と反対側の最表面から、金属酸化物粒子を構成する金属原子（Ｍ）の比率を転写フィルムの場合と同様に測定、評価した。評価結果を下記表７に示す。
　<評価基準>
Ａ：２％以下
Ｂ：２％超かつ３％以下
Ｃ：３％超

～第３硬化層の厚み～
　上記のように作製した透明積層体の各々を日立ハイテクノロジーズ社製のＦＢ－２１００型ＦＩＢを用いて切断し、断面がむき出しになった切片の断面の５ｍｍの距離を測定領域としてＴＥＭ観察し、第１硬化層、第２硬化層及び第３硬化層の厚みを測定した。測定領域を等間隔に区切った２０箇所について、厚みを測定し、各測定値をもとに各層毎に算術平均を算出し、各層の平均値を平均厚みとした。
　また、１００×Ｈ２／Ｔ２を算出し、厚み分布とした。なお、Ｈ２は、第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値であり、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みである。
　結果を下記表７に示す。

〔透明積層体の評価〕
＜透明電極パターン隠蔽性の評価＞
　透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン、第３硬化層、第２硬化層および第１硬化層をこの順に有する透明積層体の透明フィルムに、透明接着テープ（スリーエムジャパン（株）製、（商品名）ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、黒色ＰＥＴ材を接着させ、基板全体を遮光した。
　暗室において、黒色ＰＥＴ材とは反対側から積層体に蛍光灯の光をあて、反射光を斜めから目視で観察し、透明電極パターンの見え方を評価した。Ａ、Ｂ、Ｃ又はＤが実用レベルであり、Ａ又はＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
　<評価基準>
　Ａ：１５ｃｍの距離から凝視しても見えず、かつ、４０ｃｍの距離から普通に目視しても見えない。
　Ｂ：１５ｃｍの距離から凝視すると僅かに見え、かつ、４０ｃｍの距離から普通に目視すると見えない。
　Ｃ：１５ｃｍの距離から凝視すると僅かに見え、かつ、４０ｃｍの距離から普通に目視しても僅かに見える。
　Ｄ：１５ｃｍの距離から凝視するとはっきりに見え、かつ、４０ｃｍの距離から普通に目視するとわずかに見える。
　Ｅ：１５ｃｍの距離から凝視するとはっきりに見え、かつ、４０ｃｍの距離から普通に目視してもはっきり見える。

＜第２硬化層の欠陥の評価＞
　各実施例の転写フィルムを透明フィルム基板上に密着させて各透明層を転写した後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。仮支持体を剥離後、顕微鏡の暗視野観察を行い、欠陥（即ちクラック）の有無を観察し、以下の評価基準にしたがって評価した。
　ラミネート後の第２硬化層の欠陥の評価は、評価基準のうち、Ａ、ＢまたはＣであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることが特に好ましい。評価結果を表７に示す。
　<評価基準>
Ａ：欠陥が全く見えない。
Ｂ：欠陥がわずかに見える。
Ｃ：欠陥が見える。
Ｄ：欠陥がはっきり見える。

＜密着性の評価＞
　ＪＩＳ規格（Ｋ５４００）を参考に１００マスのクロスカット試験を実施した。各実施例および比較例の透明積層体の試験面である透明フィルム基材とは反対側の表面にカッターナイフを用いて１ｍｍ四方の碁盤目の切り傷を入れ、透明粘着テープ＃６００（スリーエムジャパン（株））を強く圧着させ、１８０℃方向に剥離した後、碁盤目の状態を観察し、以下の評価基準にしたがって密着性を評価した。Ａ、ＢまたはＣであることが実用上必須である。評価結果を表７に示す。
　<評価基準>
Ａ：全面積のほぼ１００％が密着している。
Ｂ：全面積のうち９５％以上１００％未満が密着して残っている。
Ｃ：全面積のうち６５％以上９５％未満が密着して残っている。
Ｄ：全面積のうち３５％以上６５％未満が密着して残っている。
Ｅ：全面積のうち密着して残っている部分が３５％未満である。

　上記表７より、実施例の転写フィルムは、第３の透明層が存在することで密着性が良好となり、また、１００×Ｈ２／Ｔ２の値が小さく第２の透明層の厚み分布を均一にすることで、ラミネート後の第２の透明層の欠陥のない積層体を作製可能となった。
　なお、既述のように、第３の透明層の分析の結果、第３の透明層は、第１の層に含まれるブロックイソシアネートのブロック剤である低分子量成分（ＭＥＫオキシム）を含有していることが確認された。
　他方、第１の透明層を硬化した後、第２の透明層を形成した比較例１の転写フィルムでは、第１の透明層に含まれる低分子量成分の第２の透明層上への浸み出しがなく、第３の透明層が形成されず、被転写体への密着性が劣っていた。一方、第３の透明層を塗布法で形成した比較例２は、第３の透明層の厚みが厚く、第２の透明層における良好な屈折率バランスが崩れ、透明電極パターンの隠蔽性に劣っていた。

《画像表示装置（タッチパネル）の作製》
　特開２００９－４７９３６号公報の［００９７］～［０１１９］に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した各実施例の透明積層体を含むフィルムを貼り合せ、更に、前面ガラス板を張り合わせることで、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えた各実施例の透明積層体を含む画像表示装置を作製した。

《静電容量型入力装置および画像表示装置の評価》
　各実施例の透明積層体を含む静電容量型入力装置および画像表示装置は、透明電極パターンが視認される問題がなかった。
　感光性透明樹脂層、第２の透明層のいずれにも気泡等の欠陥がなく、表示特性に優れた画像表示装置が得られた。

　２０１６年３月８日に出願された日本国特許出願２０１６－０４４８３１号の開示、２０１６年８月９日に出願された日本国特許出願２０１６－１５６９０４号の開示、２０１７年３月７日に出願された日本国特許出願２０１７－０４３２２７号の開示、及び２０１７年３月７日に出願された日本国特許出願２０１７－０４３２８９号の開示は、それぞれその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims

　仮支持体上に、
　少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、
　少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、
　平均厚みが前記第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、前記第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層と、
　を仮支持体側から順に有する、転写フィルム。
　仮支持体上に、
　少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、
　少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、
　平均厚みが前記第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、前記第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層と、
　を仮支持体側から順に有する、転写フィルム。
　前記第３の透明層の平均厚みが、１０ｎｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の転写フィルム。
　前記第１の透明層は、更に、重合開始剤及び加熱により酸と反応可能な化合物を含有する請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記第３の透明層が、前記第１の透明層に含まれる成分を含む請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記成分は、前記第１の透明層に含まれる硬化成分である請求項５に記載の転写フィルム。
　前記第２の透明層が、下記式（１）を満たす請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　　　式（１）：　１００×Ｈ２／Ｔ２≦８０．０
　式（１）中、Ｈ２は、前記第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、第２の透明層の平均厚みを表す。
　前記第２の透明層が、下記式（２）を満たす請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　　　式（２）：　１００×Ｈ２／Ｔ２≦４０．０
　式（２）中、Ｈ２は、前記第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、前記第２の透明層の平均厚みを表す。
　前記第２の透明層が、下記式（３）を満たす請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　　　式（３）：　　１００×Ｈ２／Ｔ２≦２０．０
　式（３）中、Ｈ２は、前記第２の透明層の厚みの最大値と最小値との差の絶対値を表し、Ｔ２は、前記第２の透明層の平均厚みを表す。
　前記第２の透明層が、少なくとも２種の樹脂を含む請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種は、重量平均分子量が１０００～２００００の樹脂である請求項１０に記載の転写フィルム。
　前記少なくとも２種の樹脂の少なくとも１種は、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂である請求項１０または請求項１１に記載の転写フィルム。
　前記第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位およびスチレン由来の構造単位を有する共重合体を含む請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位およびスチレン由来の構造単位を有し、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である共重合体を含む請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記第２の透明層に含まれる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、およびエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体を含む請求項１～請求項１４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記第２の透明層が溶媒をさらに含み、前記溶媒のうち粘度が最も高い溶媒の２０℃における粘度は、３．０ｍＰａ・ｓ以上である請求項１～請求項１５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記金属酸化物粒子は、酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子から選ばれる少なくとも１種である請求項１～請求項１６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　請求項１～請求項１７のいずれか１項に記載の転写フィルムから、前記仮支持体が取り除かれた、電極保護膜。
　電極を含む基板上に、
　請求項１～請求項１７のいずれか１項に記載の転写フィルムから仮支持体を除いた後の、第３の透明層と、第２の透明層と、第１の透明層と、を前記基板側から順に有する、積層体。
　少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、
　少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、
　平均厚みが前記第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、前記第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層と、
　電極を含む基板と、
を順次有する、積層体。
　少なくとも重合性モノマーおよび樹脂を含む第１の透明層と、
　少なくとも金属酸化物粒子および樹脂を含み、かつ、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層と、
　平均厚みが前記第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、前記第２の透明層と接する面と反対側の最表面からをＸ線光電子分光法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層と、
　静電容量型入力装置の電極を含む基板と、
を順次有する、積層体。
　前記第３の透明層が、前記第１の透明層に含まれる成分を含む請求項２０又は請求項２１に記載の積層体。
　仮支持体上に、有機溶剤と重合性モノマーと樹脂とを含む塗布液を塗布して第１の透明層を形成する工程と、
　前記第１の透明層が硬化される前に、前記第１の透明層上に、水と金属酸化物粒子と樹脂とを含む塗布液を塗布し、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層を形成する工程と、をこの順に有し、
　前記第２の透明層上に、平均厚みが前記第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２の透明層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３の透明層が配置された転写フィルムを製造する、転写フィルムの製造方法。
　仮支持体上に、有機溶剤と重合性モノマーと樹脂とを含む塗布液を塗布して第１の透明層を形成する工程と、
　前記第１の透明層が硬化される前に、前記第１の透明層上に、水と金属酸化物粒子と樹脂とを含む塗布液を塗布し、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２の透明層を形成する工程と、をこの順に有し、
　前記第２の透明層上に、平均厚みが前記第２の透明層の平均厚みより薄く、かつ、前記第２の透明層と接する面と反対側の最表面からＸ線光電子分光法にて測定した際の、３００μｍ四方の面積中における、全原子に対する金属原子の比率が２％以下である第３の透明層が配置された転写フィルムを製造する、転写フィルムの製造方法。
　静電容量型入力装置の電極を含む基板に、請求項１～請求項１７のいずれか１項に記載の転写フィルムの第３の透明層の面を貼り付ける工程と、
　前記転写フィルムを貼り付けた前記基板を露光する工程と、
　前記露光した転写フィルムを現像する工程と、
　前記転写フィルムを貼り付ける工程と、前記露光する工程との間、または、前記露光する工程と、前記現像する工程との間の少なくとも一方において、仮支持体を剥離する工程と、をこの順に有する、静電容量タッチパネルの製造方法。
　請求項１８に記載の電極保護膜、または請求項１９～請求項２２のいずれか１項に記載の積層体を有する、静電容量型入力装置。
　重合性モノマーの硬化物および樹脂を含む第１樹脂層と、
　金属酸化物粒子および樹脂を含み、平均厚みが２００ｎｍ未満である第２樹脂層と、
　平均厚みが前記第２硬化層の平均厚みより薄く、かつ、層中の全原子に対する金属原子の比率が、第２硬化層中の全原子に対する金属原子の比率よりも小さい第３樹脂層と、
　電極を含む基板と、
をこの順に有する静電容量型入力装置。
　タッチパネルである請求項２７に記載の静電容量型入力装置。
　請求項１～請求項１７のいずれか１項に記載の転写フィルムを、前記転写フィルムの第３の透明層の面を電極を含む基板に接触させて貼り付ける工程と、
　前記転写フィルムが貼り付けられた前記基板を露光する工程と、
　前記露光後の転写フィルムを現像する工程と、
　前記転写フィルムを貼り付ける工程と前記露光する工程との間、または、前記露光する工程と前記現像する工程の間の少なくとも一方において、前記仮支持体を剥離する工程と、
　をこの順に有する、静電容量型入力装置の製造方法。