WO2022044879A1

WO2022044879A1 - 転写フィルム、積層体の製造方法、回路配線の製造方法

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Publication number: WO2022044879A1
Application number: PCT/JP2021/030005
Authority: WO
Inventors: 正弥鈴木
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2020-08-25
Filing date: 2021-08-17
Publication date: 2022-03-03
Also published as: CN115943347A; JPWO2022044879A1

Abstract

本発明は、転写フィルムを被転写体に貼り合わせた際に、シワが発生しにくい転写フィルム、積層体の製造方法及び回路配線の製造方法を提供する。本発明の転写フィルムは、仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する長尺状の転写フィルムであって、仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２に対する、仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１の比が、１．４０以下である。

Description

転写フィルム、積層体の製造方法、回路配線の製造方法

　本発明は、転写フィルム、積層体の製造方法、及び回路配線の製造方法に関する。

　所定のパターンを得るための工程数が少ないことから、転写フィルムを用いて基板等の被転写体上に感光性組成物層を配置して、この感光性組成物層に対して、マスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。

　例えば、特許文献１では、カラーフィルタ製造用感光性フィルム（転写フィルム）が開示されている。

特開平６－３２４２１０号公報

　近年、転写フィルムのより一層の性能向上が求められている。具体的には、転写フィルムの仮支持体とは反対側の表面を、被転写体に接触させて貼り合わせた際に、シワが発生しにくいことが求められている。

　本発明者は、特許文献１等に記載の転写フィルムの特性について検討したところ、貼り合わせ際にシワが発生し、更なる改良が必要であることを知見した。

　そこで、本発明は、転写フィルムを被転写体に貼り合わせた際に、シワが発生しにくい転写フィルムの提供を課題とする。
　また、本発明は、転写フィルムを用いる、積層体の製造方法及び回路配線の製造方法の提供も課題とする。

　本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

　〔１〕　仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する長尺状の転写フィルムであって、仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２に対する、仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１の比が、１．４０以下である、転写フィルム。
　〔２〕　式（１）で求められるＸが、７．００％以下である、〔１〕に記載の転写フィルム。
　Ｘ＝｛〔（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）－（Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２）〕／（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）｝×１００　式（１）
　Ｅ_ａ１：仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ａ２：仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ｂ１：仮支持体の短手方向の８０℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ｂ２：仮支持体の長手方向の８０℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　〔３〕　仮支持体の１００℃における短手方向の貯蔵弾性率Ｅ_ａ１と、仮支持体の１００℃における長手方向の貯蔵弾性率Ｅ_ａ２との相乗平均が、１．００ＧＰａ以上である、〔１〕又は〔２〕に記載の転写フィルム。
　〔４〕　仮支持体の厚みが、４０．０μｍ以下である、〔１〕～〔３〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔５〕　感光性組成物層の厚みが、２０．０μｍ以下である、〔１〕～〔４〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔６〕　感光性組成物層が、バインダーポリマー、重合性化合物、及び、重合開始剤を含む、〔１〕～〔５〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔７〕　感光性組成物層上に配置された屈折率調整層を更に有する、〔１〕～〔６〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔８〕　感光性組成物層が、タッチパネル用電極保護膜形成に用いられる、〔１〕～〔７〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔９〕　〔１〕～〔８〕のいずれか１つに記載の転写フィルムの仮支持体とは反対側の表面を、被転写体に貼り合わせ、被転写体、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き被転写体を得る貼合工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き被転写体から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
　〔１０〕　〔１〕～〔８〕のいずれか１つに記載の転写フィルムの仮支持体とは反対側の表面を、導電層を含む被転写体に貼り合わせ、被転写体、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き被転写体を得る貼合工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、
　パターンが配置されていない領域における導電層をエッチング処理するエッチング工程と、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き被転写体から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、回路配線の製造方法。
　〔１１〕　被転写体が、段差を有する基板である、〔９〕に記載の積層体の製造方法。

　本発明によれば、転写フィルムを被転写体に貼り合わせた際に、シワが発生しにくい転写フィルムの提供できる。また、本発明によれば、転写フィルムを用いる積層体の製造方法及び回路配線の製造方法の提供もできる。

段差を有する基板の一例を示す断面概略図である。

　以下、本発明について、詳細に説明する。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

　本明細書において、「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

　本明細書において、「透明」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。
　本明細書において、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。

　本明細書において、特段の断りのない限り、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、カラムとして、ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺＭ－Ｎ（東ソー株式会社製）の３本直列連結、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、検出器として示差屈折計、及び、標準物質としてポリスチレンを使用し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により測定した標準物質のポリスチレンを用いて換算した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、分子量分布が有する化合物の分子量は、重量平均分子量である。

　本明細書において、屈折率は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍの光でエリプソメーターによって測定される値である。

　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロキシ基」は、アクリロキシ基及びメタアクリロキシ基の両方を包含する概念である。
　また、本明細書において、「有機基」とは、少なくとも１個の炭素原子を含む基をいう。

　本明細書において、「置換基を有していてもよい」というときの置換基の種類、置換基の位置、及び、置換基の数は特に制限されない。置換基の数は例えば、１つ、２つ、３つ、又はそれ以上であってもよい。置換基の例としては水素原子を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、例えば、以下の置換基Ｔから選択できる。
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとしては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、及びｔｅｒｔ－ブトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基及びｐ－トリルオキシ基等のアリールオキシ基；メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、及びフェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びメトキサリル基等のアシル基；メチルスルファニル基及びｔｅｒｔ－ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基；フェニルスルファニル基及びｐ－トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基；アルキル基；シクロアルキル基；アリール基；ヘテロアリール基；水酸基；カルボキシ基；ホルミル基；スルホ基；シアノ基；ニトロ基；エーテル基；アルキルアミノカルボニル基；アリールアミノカルボニル基；スルホンアミド基；シリル基；アミノ基；モノアルキルアミノ基；ジアルキルアミノ基；アリールアミノ基；並びにこれらの組み合わせが挙げられる。

〔転写フィルム〕
　仮支持体と、仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する長尺状の転写フィルムである。
　長尺状とは、転写フィルムの一方向における長さが、一方向と直交する他の方向における長さよりも長い形状をいう。つまり、転写フィルムは、流れ方向に沿う長手方向と、幅方向に沿う短手方向とを有する。

　本発明の転写フィルムの特徴点としては、後述するように、転写フィルムが所定の貯蔵弾性率の仮支持体を有することが挙げられる。
　本発明者は、従来の転写フィルムについて検討したところ、転写フィルムの仮支持体とは反対側の表面と、被転写体とを接触させ、ラミネートで貼り合わせ際に、シワが発生しやすかった。それに対して、本発明では、所定の貯蔵弾性率である仮支持体を有する転写フィルムを用いた場合、シワが発生しにくいことを知見した。
　シワの発生抑制の機構は不明確であるが、ラミネート時に、異方性が小さい仮支持体を用いることで、より均一に貼り合わせができる結果、シワが発生しにくくなったと推測される。以下、本明細書において、シワがより発生しにくくなることを、本発明の効果がより優れるともいう。
　以下、転写フィルムの各構成について詳述する。

＜仮支持体＞
　転写フィルムは、仮支持体を有する。
　仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２に対する、仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１の比（Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２）が、１．４０以下であり、本発明の効果がより優れる点から、１．３５以下が好ましく、１．３０以下がより好ましく、１．２５以下が更に好ましく、１．２０以下が特に好ましく、１．１０以下が最も好ましい。下限は特に制限されず、０．１０以上が好ましく、０．５０以上がより好ましく、０．８０以上が更に好ましく、１．００以上が特に好ましい。
　なお、仮支持体は、後述する感光性組成物層等を支持する部材であり、最終的には剥離処理により除去される。

　仮支持体において、式（１）で求められるＸは、８．００％以下が好ましく、７．００％以下がより好ましく、６．８０％以下が更に好ましく、６．７０％以下が特に好ましい。
　Ｘ＝｛〔（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）－（Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２）〕／（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）｝×１００　式（１）
　Ｅ_ａ１：仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ａ２：仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ｂ１：仮支持体の短手方向の８０℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ｂ２：仮支持体の長手方向の８０℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）

　仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１は、１．００～５．００ＧＰａが好ましく、２．００～４．００ＧＰａがより好ましく、２．００～２．９５ＧＰａが更に好ましく、２．５０～２．９０ＧＰａが特に好ましく、２．５０～２．７０ＧＰａが最も好ましい。
　仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２は、１．００～５．００ＧＰａが好ましく、２．００～４．００ＧＰａがより好ましく、２．１５～３．００ＧＰａが更に好ましく、２．２０～２．８０ＧＰａが特に好ましく、２．３０～２．６０ＧＰａが最も好ましい。
　仮支持体の短手方向の８０℃における貯蔵弾性率Ｅ_ｂ１は、１．００～５．００ＧＰａが好ましく、３．００～５．００ＧＰａがより好ましく、３．５０～４．６５ＧＰａが更に好ましく、３．５０～４．５０ＧＰａが特に好ましく、４．００～４．４０ＧＰａが最も好ましい。
　仮支持体の長手方向の８０℃における貯蔵弾性率Ｅ_ｂ２は、１．００～５．００ＧＰａが好ましく、２．００～４．００ＧＰａがより好ましく、３．１８～４．００ＧＰａが更に好ましく、３．２５～４．００ＧＰａが特に好ましく、３．３０～３．８０ＧＰａが最も好ましい。

　上記貯蔵弾性率は、例えば、動的粘弾性測定装置（バイブロン：ＤＶＡ－２２５（アイティー計測制御（株）製））を用いて測定できる。

　仮支持体の１００℃における短手方向の貯蔵弾性率Ｅ_ａ１と、仮支持体の１００℃における長手方向の貯蔵弾性率Ｅ_ａ２との相乗平均は、１．００ＧＰａ以上が好ましく、２．００ＧＰａ以上がより好ましく、２．４０ＧＰａ以上が更に好ましい。上限は特に制限されず、５．００ＧＰａ以下が好ましく、３．００ＧＰａ以下がより好ましい。
　なお、相乗平均は、ｎ個の数値があるとき、それらを全部掛け合わせた積のｎ乗根を意味する。例えば、Ｅ_ａ１とＥ_ａ２との積の平方根の値（相乗平均＝√（Ｅ_ａ１×Ｅ_ａ２））である。

　仮支持体の上記特性（（Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２）等）を達成するための手段は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。例えば、仮支持体として２軸延伸樹脂フィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）を用いる場合には、縦方向と横方向との延伸倍率を調整することにより、上記特性を達成することができる。

　仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
　仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧下及び加熱下において、著しい変形、収縮、又は、伸びを、生じないフィルムを用いることができる。
　上記フィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　なかでも、仮支持体としては、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、及び、傷等がないことも好ましい。

　仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという点から、透明性が高いことが好ましく、波長３６５ｎｍの光の透過率は６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が更に好ましい。下限は特に制限されず、０％以上が好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物、及び、欠陥の数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子、異物、及び、欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／１０ｍｍ^２以下がより好ましく、３個／１０ｍｍ^２以下が更に好ましく、０個／１０ｍｍ^２が特に好ましい。

　仮支持体の厚みは特に制限されないが、２００．０μｍ以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、１００．０μｍ以下が好ましく、４０．０μｍ以下がより好ましく、３０．０μｍ以下が更に好ましく、２５．０μｍ以下が特に好ましく、２０．０μｍ以下が最も好ましい。下限は特に制限されず、１．０μｍ以上が好ましく、１０．０μｍ以上がより好ましい。
　仮支持体の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出できる。

　仮支持体の表面に、ハンドリング性を付与する点で、微小な粒子を含む層（滑剤層）を設けてもよい。滑剤層は仮支持体の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。
　滑剤層に含まれる粒子の直径は、０．０５～０．８μｍが好ましい。
　滑剤層の厚みは、０．０５～１．０μｍが好ましい。

　仮支持体としては、例えば、厚み２５．０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み１６．０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、及び、厚み１２．０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。

　仮支持体の好ましい形態としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［００１７］～［００１８］、特開２０１６－０２７３６３号公報の段落［００１９］～［００２６］、ＷＯ２０１２／０８１６８０Ａ１公報の段落［００４１］～［００５７］、及び、ＷＯ２０１８／１７９３７０Ａ１公報の段落［００２９］～［００４０］に記載を援用でき、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。

＜感光性組成物層＞
　転写フィルムは、仮支持体上に配置された感光性組成物層を有する。
　感光性組成物層は、後述するバインダーポリマー、重合性化合物、及び、重合開始剤を含むことが好ましい。
　感光性組成物層を被転写物上に転写した後、露光及び現像を行うことにより、被転写物上にパターンを形成できる。
　感光性組成物層としては、ポジ型感光性組成物層であっても、ネガ型感光性組成物層であってもよい。
　ポジ型感光性組成物層とは、露光により露光部が現像液に対する溶解性が向上する感光性組成物層である。ネガ型感光性組成物層とは、露光により露光部が現像液に対する溶解性が低下する感光性組成物層である。
　なかでも、ネガ型感光性組成物層を用いることが好ましい。感光性組成物層がネガ型感光性組成物層である場合、形成されるパターンは保護膜に該当する。

　感光性組成物層の厚みは、塗布性の点から、２０．０μｍ以下が好ましく、１５．０μｍ以下がより好ましく、１０．０μｍ以下が更に好ましい。上記の下限は特に制限されず、０．０５μｍ以上が好ましく、３．０μｍ以上がより好ましく、４．０μｍ以上が更に好ましく、５．０μｍ以上が特に好ましい。
　感光性組成物層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

　感光性組成物層の屈折率は、１．４７～１．５６が好ましく、１．４９～１．５４がより好ましい。

　感光性組成物層は無彩色であることが好ましい。感光性組成物層のａ^＊値は、－１．０～１．０であることが好ましく、感光性組成物層のｂ^＊値は、－１．０～１．０であることが好ましい。
　感光性組成物層の色相は、色差計（ＣＲ－２２１、ミノルタ株式会社製）を用いて測定できる。

　感光性組成物層のＮＣＯ価は、０．５０ｍｍｏｌ／ｇよりも大きいことが好ましく、０．５５ｍｍｏｌ／ｇ以上がより好ましく、０．６０ｍｍｏｌ／ｇ以上が更に好ましい。
　感光性組成物層のＮＣＯ価の上限は、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．８０ｍｍｏｌ／ｇ未満がより好ましく、０．７０ｍｍｏｌ／ｇ以下が更に好ましい。
　感光性組成物層のＮＣＯ価は、感光性組成物層１ｇ当たりに含まれるイソシアネート基のモル数を意味し、ブロックイソシアネート化合物の構造式から計算される値である。

　以下、感光性組成物層を構成する各材料について説明する。

［バインダーポリマー］
　感光性組成物層は、バインダーポリマーを含んでいてもよい。
　バインダーポリマーとしては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アミドエポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応で得られるエポキシアクリレート樹脂、及び、エポキシアクリレート樹脂と酸無水物との反応で得られる酸変性エポキシアクリレート樹脂が挙げられる。

　バインダーポリマーの好適態様の一つとして、アルカリ現像性及びフィルム形成性に優れる点で、（メタ）アクリル樹脂が挙げられる。
　なお、本明細書において、（メタ）アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位を有する樹脂を意味する。（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位のみで構成されていてもよく、（メタ）アクリル化合物以外の重合性単量体に由来する構成単位を有していてもよい。すなわち、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量の上限は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、１００質量％以下が好ましい。

　（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、及び、（メタ）アクリロニトリルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、及び、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートが挙げられ、（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましい。
　（メタ）アクリルアミドとしては、例えば、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミドが挙げられる。

　（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、及び、（メタ）アクリル酸ドデシル等の炭素数が１～１２のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、炭素数１～４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸エチルがより好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位以外の構成単位を有していてもよい。
　上記構成単位を形成する重合性単量体としては、（メタ）アクリル化合物と共重合可能な（メタ）アクリル化合物以外の化合物であれば特に制限されず、例えば、スチレン、ビニルトルエン及びα－メチルスチレン等のα位又は芳香族環に置換基を有してもよいスチレン化合物、アクリロニトリル及びビニル－ｎ－ブチルエーテル等のビニルアルコールエステル、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル及びマレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマール酸、ケイ皮酸、α－シアノケイ皮酸、イタコン酸、並びに、クロトン酸が挙げられる。
　これらの重合性単量体は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、アルカリ現像性をより良好にする点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、ホスホン酸基が挙げられる。
　なかでも、（メタ）アクリル樹脂は、カルボキシ基を有する構成単位を有することがより好ましく、上記の（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有することが更に好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂における酸基を有する構成単位（好ましくは（メタ）アクリル酸に由来する構成単位）の含有量は、現像性に優れる点で、（メタ）アクリル樹脂の全質量に対して、１０質量％以上が好ましい。また、上限値は特に制限されないが、アルカリ耐性に優れる点で、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を有することがより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂における（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、５０～９０質量％が好ましく、６０～９０質量％がより好ましく、６５～９０質量％が更に好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有する樹脂が好ましく、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位のみで構成されている樹脂がより好ましい。
　また、（メタ）アクリル樹脂としては、メタクリル酸に由来する構成単位、メタクリル酸メチルに由来する構成単位、及び、アクリル酸エチルに由来する構成単位を有するアクリル樹脂も好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種を有することが好ましく、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の両者を有することが好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂におけるメタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量は、本発明の効果がより優れる点から、（メタ）アクリル樹脂の全構成単位に対して、４０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％以下であってもよく、８０質量％以下が好ましい。

　また、（メタ）アクリル樹脂は、本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種と、アクリル酸に由来する構成単位及びアクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位からなる群より選択される少なくとも１種とを有することも好ましい。
　本発明の効果がより優れる点から、メタクリル酸に由来する構成単位及びメタクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量は、アクリル酸に由来する構成単位及びアクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の合計含有量に対して、質量比で６０／４０～８０／２０が好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂は、転写後の感光性組成物層の現像性に優れる点で、末端にエステル基を有することが好ましい。
　なお、（メタ）アクリル樹脂の末端部は、合成に用いた重合開始剤に由来する部位により構成される。末端にエステル基を有する（メタ）アクリル樹脂は、エステル基を有するラジカルを発生する重合開始剤を用いることにより合成できる。

　また、バインダーポリマーの別の好適態様としては、アクリル可溶性樹脂が挙げられる。
　なお、本開示において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
　バインダーポリマーは、例えば、現像性の点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のバインダーポリマーであることが好ましい。
　また、バインダーポリマーは、例えば、加熱により架橋成分と熱架橋し、強固な膜を形成しやすいという点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基を有する樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有樹脂）であることがより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基を有する（メタ）アクリル樹脂（いわゆる、カルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂）であることが更に好ましい。
　バインダーポリマーがカルボキシ基を有する樹脂であると、例えば、ブロックイソシアネート化合物等の熱架橋性化合物を添加して熱架橋することで、３次元架橋密度を高めることができる。また、カルボキシ基を有する樹脂のカルボキシ基が無水化され、疎水化すると、湿熱耐性が改善し得る。

　酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有（メタ）アクリル樹脂としては、上記酸価の条件を満たす限りにおいて、特に制限はなく、公知の（メタ）アクリル樹脂から適宜選択できる。
　例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００２５］に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落［００３３］～［００５２］に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂等を好ましく用いることができる。

　バインダーポリマーの他の好適態様としてはスチレン－アクリル共重合体が挙げられる。
　なお、本開示において、スチレン－アクリル共重合体とは、スチレン化合物に由来する構成単位と、（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位とを有する樹脂を指し、上記スチレン化合物に由来する構成単位、及び、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の合計含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。下限は特に制限されないが、１００質量％以下が好ましい。
　また、スチレン化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、５～８０質量％が更に好ましい。
　また、上記（メタ）アクリル化合物に由来する構成単位の含有量は、上記共重合体の全構成単位に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０～９５質量％が更に好ましい。

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、芳香環構造を有することが好ましく、芳香環構造を有する構成単位を有することがより好ましい。
　芳香環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、メチルスチレン、及び、α－メチルスチレン等のスチレン化合物、並びに、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　なかでも、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
　また、バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、下記式（Ｓ）で表される構成単位（スチレンに由来する構成単位）を有することがより好ましい。

　バインダーポリマーが芳香環構造を有する構成単位を有する場合、芳香環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～９０質量％が好ましく、１０～７０質量％より好ましく、２０～６０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける芳香環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～６０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～６０モル％が更に好ましい。
　なお、本開示において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、上記「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において、上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、単環の脂肪族炭化水素環構造、又は、多環の脂肪族炭化水素環構造を有することが好ましい。つまり、バインダーポリマーは、単環又は多環の脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有することが好ましい。なかでも、バインダーポリマーは、多環の脂肪族炭化水素環構造を有することがより好ましく、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有することが更に好ましい。

　脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位における脂肪族炭化水素環構造を構成する環としては、トリシクロデカン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、ノルボルナン環、及び、イソボロン環が挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点から、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環が好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環（トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン環）がより好ましい。
　脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を形成するモノマーとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、及び、イソボルニル（メタ）アクリレートが挙げられる。
　また、バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することがより好ましく、上記式（Ｓ）で表される構成単位、及び、下記式（Ｃｙ）で表される構成単位を有することがより好ましい。

　式（Ｃｙ）中、Ｒ^Ｍは水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^Ｃｙは脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基を表す。

　式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｍは、メチル基であることが好ましい。
　式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、本発明の効果がより優れる点から、炭素数５～２０の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが好ましく、炭素数６～１６の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることがより好ましく、炭素数８～１４の脂肪族炭化水素環構造を有する一価の基であることが更に好ましい。
　また、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造としては、単環の脂肪族炭化水素環構造、又は、多環の脂肪族炭化水素環構造であってもよい。なかでも、本発明の効果がより優れる点から、シクロペンタン環構造、シクロヘキサン環構造、若しくは、イソボロン環構造等の単環の脂肪族炭化水素環構造、又は、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造、若しくは、ノルボルナン環構造等の多環の脂肪族炭化水素環構造であることが好ましく、シクロヘキサン環構造、又は、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることがより好ましく、テトラヒドロジシクロペンタジエン環構造であることが更に好ましい。
　更に、式（Ｃｙ）のＲ^Ｃｙにおける脂肪族炭化水素環構造は、本発明の効果がより優れる点から、多環の脂肪族炭化水素環であることが好ましく、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造であることがより好ましく、２～４環の脂肪族炭化水素環が縮環した環であることが更に好ましい。
　更に、式（Ｃｙ）におけるＲ^Ｃｙは、本発明の効果がより優れる点から、式（Ｃｙ）における－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－の酸素原子と脂肪族炭化水素環構造（単環又は多環であってもよい）とが直接結合する基、すなわち、脂肪族炭化水素環基であることが好ましく、シクロヘキシル基、又は、ジシクロペンタニル基であることがより好ましく、ジシクロペンタニル基であることが更に好ましい。

　バインダーポリマーは、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　バインダーポリマーが脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有する場合、脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～９０質量％が好ましく、１０～８０質量％がより好ましく、２０～７０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。

　バインダーポリマーが芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位を有する場合、芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の総含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、４０～７５質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける芳香環構造を有する構成単位及び脂肪族炭化水素環構造を有する構成単位の総含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、１０～８０モル％が好ましく、２０～７０モル％がより好ましく、４０～６０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位及び上記式（Ｃｙ）で表される構成単位の総含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、１０～８０モル％が好ましく、２０～７０モル％がより好ましく、４０～６０モル％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける上記式（Ｓ）で表される構成単位のモル量ｎＳと上記式（Ｃｙ）で表される構成単位のモル量ｎＣｙは、本発明の効果がより優れる点から、下記式（ＳＣｙ）に示す関係を満たすことが好ましく、下記式（ＳＣｙ－１）に示す関係を満たすことがより好ましく、下記式（ＳＣｙ－２）に示す関係を満たすことが更に好ましい。
　　０．２≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．８　　　式（ＳＣｙ）
　　０．３０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７５　　　式（ＳＣｙ－１）
　　０．４０≦ｎＳ／（ｎＳ＋ｎＣｙ）≦０．７０　　　式（ＳＣｙ－２）

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、酸基を有する構成単位を有することが好ましい。
　上記酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、及び、リン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
　上記酸基を有する構成単位としては、下記に示す、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が好ましく、メタクリル酸由来の構成単位がより好ましい。

　バインダーポリマーは、酸基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　バインダーポリマーが酸基を有する構成単位を有する場合、酸基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～５０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、１０～３０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける酸基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、２０～４０モル％が更に好ましい。
　更に、バインダーポリマーにおける（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、２０～４０モル％が更に好ましい。

　バインダーポリマーは、本発明の効果がより優れる点から、反応性基を有することが好ましく、反応性基を有する構成単位を有することがより好ましい。
　反応性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。また、バインダーポリマーがエチレン性不飽和基を有している場合、バインダーポリマーは、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましい。
　本開示において、「主鎖」とは、樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。
　反応性基を有する構成単位の一例としては、下記に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。

　バインダーポリマーは、反応性基を有する構成単位を１種単独で有していても、２種以上有していてもよい。
　バインダーポリマーが反応性基を有する構成単位を有する場合、反応性基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましく、２０～４０質量％が更に好ましい。
　また、バインダーポリマーにおける反応性基を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、バインダーポリマーの全構成単位に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～６０モル％がより好ましく、２０～５０モル％が更に好ましい。

　反応性基をバインダーポリマーに導入する手段としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、アセトアセチル基、及び、スルホ基等の官能基に、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、及び、カルボン酸無水物等の化合物を反応させる方法が挙げられる。
　反応性基をバインダーポリマーに導入する手段の好ましい例としては、カルボキシ基を有するポリマーを重合反応により合成した後、高分子反応により、得られたポリマーのカルボキシ基の一部にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させて、（メタ）アクリロキシ基をポリマーに導入する手段が挙げられる。この手段により、側鎖に（メタ）アクリロキシ基を有するバインダーポリマーを得ることができる。
　上記重合反応は、７０～１００℃の温度条件で行うことが好ましく、８０～９０℃の温度条件で行うことがより好ましい。上記重合反応に用いる重合開始剤としては、アゾ系開始剤が好ましく、例えば、富士フイルム和光純薬（株）製のＶ－６０１（商品名）又はＶ－６５（商品名）がより好ましい。上記高分子反応は、８０～１１０℃の温度条件で行うことが好ましい。上記高分子反応においては、アンモニウム塩等の触媒を用いることが好ましい。

　バインダーポリマーとしては、本発明の効果がより優れる点から、以下に示すポリマーが好ましい。なお、以下に示す各構成単位の含有比率（ａ～ｄ）及び重量平均分子量Ｍｗ等は目的に応じて適宜変更できる。

　また、バインダーポリマーは、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を有する重合体（以下、「重合体Ｘ」ともいう。）を含んでいてもよい。
　カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造、及び環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造であることが好ましい。
　環状カルボン酸無水物構造の環としては、５～７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位、又は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。

　式Ｐ－１中、Ｒ^Ａ１ａは、置換基を表し、ｎ^１ａ個のＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよく、Ｚ^１ａは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成する２価の基を表し、ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。

　Ｒ^Ａ１ａで表される置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
　Ｚ^１ａとしては、炭素数２～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が更に好ましい。
　ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。Ｚ^１ａが炭素数２～４のアルキレン基を表す場合、ｎ^１ａは、０～４の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　ｎ^１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲ^Ａ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位が好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位がより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位が更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位が特に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位が最も好ましい。

　以下、カルボン酸無水物構造を有する構成単位の具体例を挙げるが、カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、これらの具体例に限定されるものではない。下記の構成単位中、Ｒｘは、水素原子、メチル基、ＣＨ_２ＯＨ基、又はＣＦ_３基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。

　重合体Ｘにおけるカルボン酸無水物構造を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位の総含有量は、重合体Ｘの全構成単位に対して、０～６０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましく、１０～３５モル％が更に好ましい。

　感光性組成物層は、重合体Ｘを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性組成物層が重合体Ｘを含む場合、本発明の効果がより優れる点から、重合体Ｘの含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．１０～３０．００質量％が好ましく、０．２０～２０．００質量％がより好ましく、０．２０～５．００質量％が更に好ましく、０．５０～１．５０質量％が特に好ましい。

　バインダーポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる点から、５，０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましく、１０，０００～５０，０００が更に好ましく、１０，０００～３０，０００が特に好ましい。
　バインダーポリマーの分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、現像残渣低減の点から、１．０～３．０が好ましく、２．０～３．０がより好ましい。

　バインダーポリマーの酸価は、１０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、６０ｍｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが更に好ましく、６０～１１０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
　バインダーポリマーの酸価は、ＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に記載の方法に従って、測定される値である。

　感光性組成物層は、バインダーポリマーを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　バインダーポリマーの含有量は、本発明の効果がより優れる点から、感光性組成物層の全質量に対して、１０．００～９０．００質量％が好ましく、３０．００～８０．００質量％がより好ましく、４０．００～７０．００質量％が更に好ましく、４５．００～６０．００質量％が特に好ましい。

［重合開始剤］
　感光性組成物層は、重合開始剤を含んでいてもよい。
　重合開始剤としては、特に制限されず、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
　重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下「α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下「α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下「Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）が挙げられる。

　重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、及びＮ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及びＮ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましく、オキシム系光重合開始剤、及びα－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが更に好ましい。

　重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落［００３１］～［００４２］、及び特開２０１５－０１４７８３号公報の段落［００６４］～［００８１］に記載された重合開始剤も挙げられる。

　重合開始剤としては、例えば、１－［４－（フェニルチオ）］フェニル－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製〕、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製〕、８－［５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１１－（２－エチルヘキシル）－１１Ｈ－ベンゾ［ａ］カルバゾイル］［２－（２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ）フェニル］メタノン－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ－０３、ＢＡＳＦ社製〕、１－［４－［４－（２－ベンゾフラニルカルボニル）フェニル］チオ］フェニル］－４－メチル－１－ペンタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ－０４、ＢＡＳＦ社製〕、オキシムエステル系の化合物〔商品名：Ｌｕｎａｒ（登録商標）６、ＤＫＳＨジャパン社製〕、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）３７９ＥＧ、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）９０７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）１２７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）３６９、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）１１７３、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）１８４、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン〔商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ６５１、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製〕、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、及び（１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルホリノプロパン－１－オン（商品名：ＡＰｉ－３０７、Ｓｈｅｎｚｈｅｎ　ＵＶ－ＣｈｅｍＴｅｃｈ　Ｌｔｄ．社製）が挙げられる。

　重合開始剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、感光性組成物層の全質量に対して、０．１０質量％以上が好ましく、０．５０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されず、感光性組成物層の全質量に対して、１０．００質量％以下が好ましく、５．００質量％以下がより好ましい。

［重合性化合物］
　感光性組成物層は、重合性化合物を含んでいてもよい。
　重合性化合物は、重合性基を有する化合物である。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、及び、カチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（以下、単に「エチレン性不飽和化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロキシ基が好ましい。
　本明細書において、エチレン性不飽和化合物は、上記バインダーポリマー以外の化合物であり、分子量５，０００未満であることが好ましい。

　重合性化合物としては、下記式（Ｍ）で表される化合物（単に、「化合物Ｍ」ともいう。）が好ましい。
　　Ｑ^２－Ｒ^１ａ－Ｑ^１　　　式（Ｍ）
　式（Ｍ）中、Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ独立に、（メタ）アクリロイルオキシ基を表し、Ｒ^１は鎖状構造を有する２価の連結基を表す。

　式（Ｍ）におけるＱ^１及びＱ^２は、合成容易性の点から、Ｑ^１及びＱ^２は同じ基であることが好ましい。
　また、式（Ｍ）におけるＱ^１及びＱ^２は、反応性の点から、アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
　式（Ｍ）におけるＲ^１ａとしては、本発明の効果がより優れる点から、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基（－Ｌ^１－Ｏ－Ｌ^１－）、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基（－（Ｌ^１－Ｏ）_ｐ－Ｌ^１－）が好ましく、炭素数２～２０の炭化水素基、又は、ポリアルキレンオキシアルキレン基がより好ましく、炭素数４～２０のアルキレン基が更に好ましく、炭素数６～１８の直鎖アルキレン基が特に好ましい。
　上記炭化水素基は、少なくとも一部に鎖状構造を有していればよく、上記鎖状構造以外の部分としては、特に制限はなく、例えば、分岐鎖状、環状、又は、炭素数１～５の直鎖状アルキレン基、アリーレン基、エーテル結合、及びそれらの組み合わせのいずれであってもよく、アルキレン基、又は、２つ以上のアルキレン基と１つ以上のアリーレン基とを組み合わせた基が好ましく、アルキレン基がより好ましく、直鎖アルキレン基が更に好ましい。
　なお、上記Ｌ^１は、それぞれ独立に、アルキレン基を表し、エチレン基、プロピレン基、又は、ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、１，２－プロピレン基がより好ましい。ｐは２以上の整数を表し、２～１０の整数が好ましい。

　また、化合物ＭにおけるＱ^１とＱ^２との間を連結する最短の連結鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる点から、３～５０個が好ましく、４～４０個がより好ましく、６～２０個が更に好ましく、８～１２個が特に好ましい。
　本開示において、「Ｑ^１とＱ^２の間を連結する最短の連結鎖の原子数」とは、Ｑ^１に連結するＲ^１における原子からＱ^２に連結するＲ^１における原子までを連結する最短の原子数である。

　化合物Ｍとしては、例えば、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７－ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、及びポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。上記エステルモノマーは混合物としても使用できる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点から、化合物Ｍとしては、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及びネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましく、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることがより好ましく、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが更に好ましい。

　また、重合性化合物としては、２官能以上のエチレン性不飽和化合物が好ましい。
　本明細書において、「２官能以上のエチレン性不飽和化合物」とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
　エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。

　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　上記化合物Ｍ以外の２官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、及びトリシクロデカンジメナノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物Ｂ１を含むことも好ましい。

　感光性組成物層が重合性化合物Ｂ１を含む場合、重合性化合物の全質量に対する重合性化合物Ｂ１の含有量の質量比は、解像性がより優れる観点から、４０％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、５５質量％以上が更に好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。上限は特に制限されないが、剥離性の観点から、例えば１００質量％以下であり、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が更に好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。

　重合性化合物Ｂ１が有する芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環等の芳香族炭化水素環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環及びピリジン環等の芳香族複素環、並びに、それらの縮合環が挙げられ、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。なお、上記芳香環は、置換基を有してもよい。
　重合性化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。

　重合性化合物Ｂ１は、現像液による感光性組成物層の膨潤を抑制することにより、解像性が向上する観点から、ビスフェノール構造を有することが好ましい。
　ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造、及びビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。

　ビスフェノール構造を有する重合性化合物Ｂ１としては、例えば、ビスフェノール構造と、そのビスフェノール構造の両端に結合した２つの重合性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）とを有する化合物が挙げられる。
　ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４～１６個が好ましく、６～１４個がより好ましい。
　ビスフェノール構造を有する重合性化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～００８０に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。

　重合性化合物Ｂ１としては、ビスフェノールＡ構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物が好ましく、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンがより好ましい。
　２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業社製）、及びエトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業社製）が挙げられる。

　重合性化合物Ｂ１としては、下記一般式（Ｂ１）で表される化合物も好ましい。

　一般式Ｂ１中、Ｒ_１及びＲ_２は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。ＡはＣ_２Ｈ_４を表す。ＢはＣ_３Ｈ_６を表す。ｎ１及びｎ３は各々独立に１～３９の整数であり、且つ、ｎ１＋ｎ３は２～４０の整数である。ｎ２及びｎ４は各々独立に０～２９の整数であり、且つ、ｎ２＋ｎ４は０～３０の整数である。－（Ａ－Ｏ）－及び－（Ｂ－Ｏ）－の構成単位の配列は、ランダムであってもブロックであってもよい。そして、ブロックの場合、－（Ａ－Ｏ）－と－（Ｂ－Ｏ）－とのいずれがビスフェニル基側でもよい。
　一態様において、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４は、２～２０が好ましく、２～１６がより好ましく、４～１２が更に好ましい。また、ｎ２＋ｎ４は、０～１０が好ましく、０～４がより好ましく、０～２が更に好ましく、０が特に好ましい。

　重合性化合物Ｂ１は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
　感光性組成物層が重合性化合物Ｂ１を含有する場合、その含有量は、解像性がより優れる観点から、感光性組成物層の全質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（転写部材の端部から感光性樹脂が滲み出す現象）の観点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。

　２官能のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（商品名：ＮＫエステル　ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、及び１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。

　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、及び、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。

　ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。

　重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＤＰＣＡ－２０、及び、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　Ｒ－６０４、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、及び、ダイセル・オルネクス社のＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）　１３５等）、及び、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製ＮＫエステル　Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）も挙げられる。

　重合性化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物〔好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物〕も挙げられる。
　３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＮＫエステル　ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＮＫエステル　ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

　重合性化合物としては、酸基を有するエチレン性不飽和化合物が好ましい。
　酸基としては、例えば、リン酸基、スルホ基、及び、カルボキシ基が挙げられる。
　なかでも、酸基としては、カルボキシ基が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、酸基を有する３～４官能のエチレン性不飽和化合物〔ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価：８０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕、及び酸基を有する５～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの〔酸価：２５～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕等が挙げられる。
　これら酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物が、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物からなる群から選択される少なくとも１種であると、現像性及び膜強度がより高まる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５２０（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５１０（東亞合成（株）製）が挙げられる。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落［００２５］～［００３０］に記載の酸基を有する重合性化合物が好ましく、この公報に記載の内容は、本明細書に組み込まれる。

　重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、グリシジル基含有化合物にα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマー、γ－クロロ－β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、β－ヒドロキシエチル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート、及び、β－ヒドロキシプロピル－β’－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－フタレート等のフタル酸系化合物、並びに、（メタ）アクリル酸アルキルエステルも挙げられる。
　これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

　多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、及び、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物、エチレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド基の数が２～１４であり、かつ、プロピレンオキサイド基の数が２～１４であるポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、並びに、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　なかでも、上記化合物としては、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。

　重合性化合物としては、例えば、エチレン性不飽和化合物のカプロラクトン変性化合物（例えば、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、及び、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、エチレン性不飽和化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（例えば、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ－６０４、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、及び、ダイセル・オルネクス社製　ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１３５等）、及び、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）も挙げられる。

　なかでも、重合性化合物（特に、エチレン性不飽和化合物）としては、転写後の感光性組成物層の現像性に優れる点で、エステル結合を含むものも好ましい。
　エステル結合を含むエチレン性不飽和化合物としては、分子内にエステル結合を含むものであれば特に制限されないが、本発明の効果が優れる点で、テトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物が好ましく、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、又は、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレートがより好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、信頼性付与の点から、炭素数６～２０の脂肪族基を有するエチレン性不飽和化合物と、上記のテトラメチロールメタン構造又はトリメチロールプロパン構造を有するエチレン不飽和化合物と、を含むことが好ましい。
　炭素数６以上の脂肪族構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、例えば、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及びトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　重合性化合物としては、例えば、脂肪族炭化水素環構造を有する重合性化合物（好ましくは、２官能エチレン性不飽和化合物）が挙げられる。
　上記重合性化合物としては、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造（好ましくは、トリシクロデカン構造及びトリシクロデセン構造からなる群から選択される構造）を有する重合性化合物が好ましく、２環以上の脂肪族炭化水素環が縮環した環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物がより好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが更に好ましい。
　上記脂肪族炭化水素環構造としては、本発明の効果がより優れる点から、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、トリシクロデカン構造、トリシクロデセン構造、ノルボルナン構造、又は、イソボロン構造が好ましい。

　重合性化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
　感光性組成物層に含まれる重合性化合物のうち、分子量３００以下の重合性化合物の含有量の割合は、感光性組成物層に含まれる全ての重合性化合物の含有量に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。
　分子量３００以下の重合性化合物の含有量の割合の下限は、特に制限されないが、１．０質量％以上が好ましい。

　感光性組成物層は、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、３官能又は４官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましい。

　感光性組成物層は、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、及び脂肪族炭化水素環を有する構造単位を有するバインダーポリマーを含むことも好ましい。

　感光性組成物層は、式（Ｍ）で表される化合物、及び酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、及びカルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、及び、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸変性体を含むことが更に好ましい。

　感光性組成物層は、式（Ｍ）で表される化合物、酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び後述する熱架橋性化合物を含むことが好ましく、式（Ｍ）で表される化合物、酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、後述するブロックイソシアネート化合物を含むことがより好ましい。

　感光性組成物層は、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）、及び、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）を含むこと好ましい。

　感光性組成物層は、防錆性の点から、化合物Ｍ、及び、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。

　感光性組成物層は、密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の点から、化合物Ｍ、及び酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、及び酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、３官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましく、化合物Ｍ、脂肪族炭化水素環構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物、３官能以上のエチレン性不飽和化合物、酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。

　感光性組成物層は、密着性、現像残渣抑制性、及び、防錆性の点から、１，９－ノナンジオールジアクリレート、及び、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、及び、カルボン酸基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ａ－ＤＰＨ）、及び、カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましく、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、カルボン酸基を有するエチレン性不飽和化合物、及び、ウレタンアクリレート化合物を含むことが特に好ましい。

　感光性組成物層は、エチレン性不飽和化合物として、単官能エチレン性不飽和化合物を含んでいてもよい。
　上記エチレン性不飽和化合物における２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の総含有量に対して、６０～１００質量％が好ましく、８０～１００質量％がより好ましく、９０～１００質量％が更に好ましい。

　重合性化合物（特に、エチレン性不飽和化合物）は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層における重合性化合物（特に、エチレン性不飽和化合物）の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１．００～７０．００質量％が好ましく、１０．００～７０．００質量％がより好ましく、１５．０～５０．０質量％が更に好ましく、２０．０～４０．０質量％が特に好ましい。

［複素環化合物］
　感光性組成物層は、複素環化合物を含んでいてもよい。
　複素環化合物が有する複素環は、単環及び多環のいずれの複素環でもよい。
　複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。

　複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ピリミジン化合物、及び、ピリジン化合物が挙げられる。
　なかでも、複素環化合物としては、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、及び、ピリジン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物が好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物がより好ましい。

　複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。
　トリアゾール化合物及びベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ピリジン化合物としては、例えば、（イソ）ニコチン酸、及び、（イソ）ニコチンアミド等が挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独の複素環化合物を含んでいてもよく、２種以上の複素環化合物を含んでいてもよい。
　感光性組成物層が複素環化合物を含む場合、複素環化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～２０．００質量％が好ましく、０．１０～１０．００質量％がより好ましく、０．１０～５．００質量％が更に好ましく、０．１０～１．００質量％が特に好ましい。

［脂肪族チオール化合物］
　感光性組成物層は、脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。

　脂肪族チオール化合物としては、単官能の脂肪族チオール化合物、又は、多官能の脂肪族チオール化合物（すなわち、２官能以上の脂肪族チオール化合物）が好ましく、形成されるパターンの密着性（特に、露光後における密着性）の点から、多官能の脂肪族チオール化合物がより好ましい。

　本明細書において、「多官能の脂肪族チオール化合物」とは、チオール基（「メルカプト基」ともいう。）を分子内に２個以上有する脂肪族化合物を意味する。

　多官能の脂肪族チオール化合物の分子量は、１００以上が好ましく、１００～１，５００がより好ましく、１５０～１，０００が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物の官能基数としては、例えば、形成されるパターンの密着性の点から、２～１０官能が好ましく、２～８官能がより好ましく、２～６官能が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，６－ヘキサメチレンジチオール、２，２’－（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ－２，３－ジメルカプトコハク酸、及び、ジ（メルカプトエチル）エーテルが挙げられる。
　なかでも、多官能の脂肪族チオール化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、及び、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。

　単官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、１－オクタンチオール、１－ドデカンチオール、β－メルカプトプロピオン酸、メチル－３－メルカプトプロピオネート、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート、メトキシブチル－３－メルカプトプロピオネート、及び、ステアリル－３－メルカプトプロピオネートが挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよく、２種以上の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含む場合、脂肪族チオール化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、５質量％以上が好ましく、５～５０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましく、８～２０質量％が特に好ましい。

［熱架橋性化合物］
　感光性組成物層は、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の点から、熱架橋性化合物を含むことが好ましい。
　なお、本明細書においては、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、エチレン性不飽和化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
　また、熱架橋性化合物は、上述した感光性組成物層に含まれる成分（バインダーポリマー、重合開始剤、及び、重合性化合物等）とは異なる化合物である。
　熱架橋性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メチロール化合物、及び、ブロックイソシアネート化合物が挙げられる。
　なかでも、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物の少なくとも一方が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、保護膜としての機能が強化される傾向がある。
　なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。

（第１ブロックイソシアネート化合物）
　ブロックイソシアネート化合物は、ブロックイソシアネート当量（以下「ＮＣＯ価」ともいう。）が４．５ｍｍｏｌ／ｇ以上のブロックイソシアネート化合物（以下「第１ブロックイソシアネート化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。これにより、曲げ耐性がより優れ、また、導電層の腐食も抑制できる。

　第１ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価は、４．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、本発明の効果がより優れる点から、５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上がより好ましく、５．３ｍｍｏｌ／ｇ以上が更に好ましい。
　第１ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価の上限値は、本発明の効果がより優れる点から、６．０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、５．８ｍｍｏｌ／ｇ未満がより好ましく、５．７ｍｍｏｌ／ｇ以下が更に好ましい。
　本発明におけるブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価は、ブロックイソシアネート化合物１ｇ当たりに含まれるブロックイソシアネート基のミリモル数を意味し、以下の式から算出できる。
　式：ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価＝１０００×（分子中に含まれるブロックイソシアネート基の個数）／（ブロックイソシアネート化合物の分子量）

　第１ブロックイソシアネート化合物の解離温度としては、１００～１６０℃が好ましく、１１０～１５０℃がより好ましい。

　本明細書において、「ブロックイソシアネート化合物の解離温度」とは、示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネート化合物の脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度を意味する。示差走査熱量計としては、特に制限されず、例えば、セイコーインスツルメンツ株式会社製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に用いることができる。

　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、活性メチレン化合物〔（マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等））等〕、及び、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。上記の中でも、解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、保存安定性の点から、オキシム化合物が好ましい。

　第１ブロックイソシアネート化合物は、本発明の効果がより優れる点から、環構造を有することが好ましい。環構造としては、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環、及び、複素環が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、脂肪族炭化水素環及び芳香族炭化水素環が好ましく、脂肪族炭化水素環がより好ましい。
　脂肪族炭化水素環の具体例としては、シクロペンタン環、及びシクロヘキサン環が挙げられ、シクロヘキサン環が好ましい。
　芳香族炭化水素環の具体例としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられ、ベンゼン環が好ましい。
　複素環の具体例としては、イソシアヌレート環が挙げられる。
　第１ブロックイソシアネート化合物が環構造を有する場合、環の個数は、本発明の効果がより優れる点から、１～２が好ましく、１がより好ましい。なお、第１ブロックイソシアネート化合物が縮合環を含む場合には、縮合環を構成する環の個数を数え、例えば、ナフタレン環における環の個数は２として数える。

　第１ブロックイソシアネート化合物が有するブロックイソシアネート基の個数は、形成されるパターンの強度が優れる点、及び、本発明の効果がより優れる点から、２～５が好ましく、２～３がより好ましく、２が更に好ましい。

　第１ブロックイソシアネート化合物は、本発明の効果がより優れる点から、式Ｑで表されるブロックイソシアネート化合物であることが好ましい。
　　Ｂ^１－Ａ^１－Ｌ^１－Ａ^２－Ｂ^２　　　式Ｑ

　式Ｑ中、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、ブロックイソシアネート基を表す。
　ブロックイソシアネート基としては、特に限定されないが、本発明の効果がより優れる点から、イソシアネート基がオキシム化合物でブロックされた基が好ましく、イソシアネート基がメチルエチルケトオキシムでブロックされた基（具体的には、＊－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（ＣＨ_３）－Ｃ_２Ｈ_５で表される基。＊は、Ａ^１又はＡ^２との結合位置を表す。）がより好ましい。
　Ｂ^１及びＢ^２は、同一の構造の基であることが好ましい。

　式Ｑ中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１０のアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましい。
　アルキレン基は、直鎖状、分岐状、又は、環状であってもよく、直鎖状であることが好ましい。
　アルキレン基の炭素数は、１～１０であり、本発明の効果がより優れる点から、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。
　Ａ^１及びＡ^２は、同一の構造の基であることが好ましい。

　式Ｑ中、Ｌ^１は、２価の連結基を表す。
　２価の連結基の具体例としては、２価の炭化水素基が挙げられる。
　２価の炭化水素基の具体例としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、及び、これらの基が２つ以上連結されて形成される基が挙げられる。
　２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状、分岐状、又は、環状であってもよく、本発明の効果がより優れる点から、環状であることが好ましい。２価の飽和炭化水素基の炭素数は、本発明の効果がより優れる点から、４～１５が好ましく、５～１０がより好ましく、５～８が更に好ましい。
　２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基は、置換基（例えば、アルキル基）を有していてもよい。
　なかでも、２価の連結基としては、炭素数５～１０の直鎖状、分岐状、若しくは、環状の２価の飽和炭化水素基、炭素数５～１０の環状の飽和炭化水素基と炭素数１～３の直鎖状のアルキレン基とが連結した基、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基、又は、２価の芳香族炭化水素基と炭素数１～３の直鎖状のアルキレン基とが連結した基が好ましく、炭素数５～１０の環状の２価の飽和炭化水素基、又は、置換基を有していてもよいフェニレン基がより好ましく、シクロへキシレン基又は置換基を有していてもよいフェニレン基が更に好ましく、シクロへキシレン基が特に好ましい。

　式Ｑで表されるブロックイソシアネート化合物は、本発明の効果がより優れる点から、式ＱＡで表されるブロックイソシアネート化合物であることが好ましい。
　　Ｂ^１ａ－Ａ^１ａ－Ｌ^１ａ－Ａ^２ａ－Ｂ^２ａ　　　式ＱＡ

　式ＱＡ中、Ｂ^１ａ及びＢ^２ａは、それぞれ独立に、ブロックイソシアネート基を表す。Ｂ^１ａ及びＢ^２ａの好適態様は、式Ｑ中のＢ^１及びＢ^２と同様である。

　式ＱＡ中、Ａ^１ａ及びＡ^２ａは、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。Ａ^１ａ及びＡ^２ａにおける２価の連結基の好適態様は、式Ｑ中のＡ^１ａ及びＡ^２ａと同様である。

　式ＱＡ中、Ｌ^１ａは、環状の２価の飽和炭化水素基、又は、２価の芳香族炭化水素基を表す。
　Ｌ^１ａにおける環状の２価の飽和炭化水素基の炭素数は、５～１０が好ましく、５～８がより好ましく、５～６が更に好ましく、６が特に好ましい。
　Ｌ^１ａにおける２価の芳香族炭化水素基の好適態様は、式ＱＡ中のＬ^１と同様である。
　なかでも、Ｌ^１ａは、環状の２価の飽和炭化水素基が好ましく、炭素数５～１０の環状の２価の飽和炭化水素基がより好ましく、炭素数５～１０の環状の２価の飽和炭化水素基が更に好ましく、炭素数５～６の環状の２価の飽和炭化水素基が特に好ましく、シクロへキシレン基が最も好ましい。

　第１ブロックイソシアネート化合物の具体例を以下に示すが、第１ブロックイソシアネート化合物はこれに限定されるわけではない。

　感光性組成物層は、１種単独の第１ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよく、２種以上の第１ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよい。

　第１ブロックイソシアネート化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．５０～２５．００質量％が好ましく、１．００～２０．００質量％がより好ましく、１．５０～５．００質量％が更に好ましい。

　第１ブロックイソシアネート化合物は、例えば、イソシアネート基を有する化合物（例えば、上記式ＱにおけるＢ^１及びＢ^２がイソシアネート基である化合物）のイソシアネート基と、上記ブロック剤とを反応させて得られる。

（第２ブロックイソシアネート化合物）
　ブロックイソシアネート化合物は、ＮＣＯ価が４．５ｍｍｏｌ／ｇ未満のブロックイソシアネート化合物（以下「第２ブロックイソシアネート化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。これにより、感光性組成物層をパターン露光及び現像を行った後において、現像残渣の発生を抑制できる。

　第２ブロックイソシアネート化合物のＮＣＯ価は、４．５ｍｍｏｌ／ｇ未満であり、２．０ｍｍｏｌ／ｇ以上４．５ｍｍｏｌ／ｇ未満が好ましく、２．５～４．０ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。

　第２ブロックイソシアネート化合物の解離温度としては、１００～１６０℃が好ましく、１１０～１５０℃がより好ましい。
　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤の具体例は、上述した通りである。

　第２ブロックイソシアネート化合物は、膜の脆性改良、又は、被転写体に対する密着力の向上等の点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。

　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物としては、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすい点から、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が好ましい。

　第２ブロックイソシアネート化合物は、形成されるパターンの強度の点から、重合性基を有していてもよい。重合性基としては、ラジカル重合性基が好ましい。
　重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、及び、スチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。上記の中でも、重合性基としては、得られるパターンにおける表面の面状、現像速度、及び、反応性の点から、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。

　第２ブロックイソシアネート化合物の具体例を以下に示すが、第２ブロックイソシアネート化合物はこれに限定されるわけではない。

　第２ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いることができる。ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、例えば、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＰ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＰ〔以上、昭和電工株式会社製〕、及び、ブロック型のデュラネートシリーズ〔例えば、デュラネート（登録商標）　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、旭化成ケミカルズ株式会社製〕が挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独の第２ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよく、２種以上の第２ブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が第２ブロックイソシアネート化合物を含む場合、第２ブロックイソシアネート化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、現像残渣の発生をより低減できる点から、１．００～２５．００質量％が好ましく、１．００～２０．０質量％がより好ましく、１０．００～１５．００質量％が更に好ましい。

　感光性組成物層が第１ブロックイソシアネート化合物及び第２ブロックイソシアネート化合物を含む場合、第２ブロックイソシアネート化合物の含有量に対する、第１ブロックイソシアネート化合物の含有量の質量比（第１ブロックイソシアネート化合物／第２ブロックイソシアネート化合物）は、曲げ耐性と透湿度低減の点から、０．１０～９．００が好ましく、０．１８～２．３５がより好ましく、０．１８～１．００が更に好ましい。

　熱架橋性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１．００～５０．００質量％が好ましく、１０．００～３０．００質量％がより好ましく、１５．００～２０．００質量％が更に好ましい。

［界面活性剤］
　感光性組成物層層は、界面活性剤を含んでいてもよい。
　界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落［００６０］～［００７１］に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、及び炭化水素系界面活性剤が挙げられ、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤がより好ましい。また、界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。

　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック　Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８－２、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７９、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８６、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８７、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６２８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６３１、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６０３、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、及びＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ社製）；フロラード　ＦＣ４３０、及びＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム社製）；サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、及びＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ社製）；ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及びＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）；フタージェント　７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、及び６８１（以上、ＮＥＯＳ社製）、Ｕ－１２０Ｅ（ユニケム株式会社）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ社製のメガファック　ＤＳシリーズ（化学工業日報２０１６年２月２２日、日経産業新聞２０１６年２月２３日、例えば、メガファック　ＤＳ－２１）が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。

　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。

　フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。例えば、メガファック　ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、及びＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ社製）が挙げられる。

　フッ素系界面活性剤としては、環境適性向上の観点から、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）及びパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）等の炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物の代替材料に由来する界面活性剤であることが好ましい。

　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤の市販品としては、ＥＸＰ．Ｓ－３０９－２、ＥＸＰ．Ｓ－３１５、ＥＸＰ．Ｓ－５０３－２、ＥＸＰ．Ｓ－５０５－２（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ＤＯＷＳＩＬ　８０３２　ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、及びトーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング社製）；Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＰ－１０１ＫＰ－１０３、ＫＰ－１０４、ＫＰ－１０５、ＫＰ－１０６、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１１２、ＫＰ－１２０、ＫＰ－１２１、ＫＰ－１２４、ＫＰ－１２５、ＫＰ－３０１、ＫＰ－３０６、ＫＰ－３１０、ＫＰ－３２２、ＫＰ－３２３、ＫＰ－３２７、ＫＰ－３４１、ＫＰ－３６８、ＫＰ－３６９、ＫＰ－６１１、ＫＰ－６２０、ＫＰ－６２１、ＫＰ－６２６、及びＫＰ－６５２（以上、信越シリコーン社製）；Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、及びＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）；ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３１３、ＢＹＫ３１５Ｎ、ＢＹＫ３３１、ＢＹＫ３３３、ＢＹＫ３４５、ＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８、ＢＹＫ３４９、ＢＹＫ３７０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、及びＢＹＫ３２３（以上、ビックケミー社製）が挙げられる。

　炭化水素系界面活性剤としては、例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、並びに、それらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、及びグリセロールエトキシレート等）；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、及びソルビタン脂肪酸エステルが挙げられる。
　炭化水素系界面活性剤の市販品としては、プルロニック（登録商標）　Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）；テトロニック　３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、及び１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）；ソルスパース　２００００（以上、日本ルーブリゾール社製）；ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、及びＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬社製）；パイオニン　Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、及びＤ－６３１５（以上、竹本油脂社製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、及び４４０（以上、日信化学工業社製）が挙げられる。

　界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～３．０質量％が好ましく、０．０５～１．０質量％がより好ましく、０．１０～０．８０質量％が更に好ましい。

［リン酸エステル化合物］
　感光性組成物層は、リン酸エステル化合物を含んでいてもよい。
　リン酸エステル化合物としては、リン酸（Ｏ＝Ｐ（ＯＨ）_３）における３つの水素の少なくとも１つ以上が有機基で置換されたものであれば特に制限されず、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＰ）、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＫＡＹＡＭＥＲ　ＰＭ－２１、ＫＡＹＡＭＥＲ　ＰＭ－２）、及び、共栄社化学株式会社製のライトエステルシリーズ（ライトエステルＰ－２Ｍ（商品名））が挙げられる。

　リン酸エステル化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　リン酸エステル化合物の含有量は特に制限されないが、感光性組成物層の全質量に対して、０．０５～３．０質量％が好ましく、０．１～２．０質量％がより好ましく、０．２～１．０質量％が更に好ましい。
　感光性組成物層がリン酸エステル化合物を含む場合、リン酸エステル化合物の含有量は特に制限されないが、被転写体に対する密着性をより向上させる点で、バインダーポリマー及び重合性化合物の合計１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、３質量部以下であることがより好ましい。また、上記含有量の上限は特に制限されないが、０．０１質量部以上であることが好ましく、０．１質量部以上であることがより好ましい。

［重合禁止剤］
　感光性組成物層は、重合禁止剤を含んでいてもよい。
　重合禁止剤とは、重合反応を遅延又は禁止させる機能を有する化合物を意味する。重合禁止剤としては、例えば、重合禁止剤として用いられる公知の化合物を用いることができる。

　重合禁止剤としては、例えば、フェノチアジン、ビス－（１－ジメチルベンジル）フェノチアジン、及び、３，７－ジオクチルフェノチアジン等のフェノチアジン化合物；ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、１，３，５－トリス（４－ｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、及び、ペンタエリスリトールテトラキス３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のヒンダードフェノール化合物；４－ニトロソフェノール、Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミン、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン等のニトロソ化合物又はその塩；メチルハイドロキノン、ｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ジ－ｔ－ブチルハイドロキノン、及び、４－ベンゾキノン等のキノン化合物；４－メトキシフェノール、４－メトキシ－１－ナフトール、及び、ｔ－ブチルカテコール等のフェノール化合物；ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸マンガン、及び、ジフェニルジチオカルバミン酸マンガン等の金属塩化合物が挙げられる。
　なかでも、重合禁止剤としては、フェノチアジン化合物、ニトロソ化合物又はその塩、及び、ヒンダードフェノール化合物からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、フェノチアジン、ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオン酸］［エチレンビス（オキシエチレン）］２，４－ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）、及び、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩がより好ましい。

　重合禁止剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が重合禁止剤を含む場合、重合禁止剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～１０．０質量％が好ましく、０．０５～５．００質量％がより好ましく、０．１０～３．００質量％が更に好ましい。

［水素供与性化合物］
　感光性組成物層は、水素供与性化合物を含んでいてもよい。
　水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、及び、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。

　水素供与性化合物としては、例えば、アミン類、及び、アミノ酸化合物が挙げられる。

　アミン類としては、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－０２０１８９号公報、特開昭５１－０８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－０８４３０５号公報、特開昭６２－０１８５３７号公報、特開昭６４－０３３１０４号公報、及び、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号等に記載の化合物が挙げられる。より具体的には、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタン（別名：ロイコクリスタルバイオレット）、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、及び、ｐ－メチルチオジメチルアニリンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、アミン類としては、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、及び、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタンからなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。

　アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルグリシン、及び、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルグリシンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、アミノ酸化合物としては、Ｎ－フェニルグリシンが好ましい。

　また、水素供与性化合物としては、例えば、特公昭４８－０４２９６５号公報に記載の有機金属化合物（トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－０３４４１４号公報に記載の水素供与体、及び、特開平６－３０８７２７号公報に記載の硫黄化合物（トリチアン等）も挙げられる。

　水素供与性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層が水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の点から、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～１０．００質量％が好ましく、０．０３～８．００質量％がより好ましく、０．０５～５．００質量％が更に好ましい。

［残存モノマー］
　感光性組成物層は、上述したバインダーポリマーの各構造単位の残存モノマーを含む場合がある。
　残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、バインダーポリマー全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、バインダーポリマー全質量に対して、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　バインダーポリマーの各構造単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性組成物層の全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、感光性組成物層の全質量に対して、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。

　高分子反応でバインダーポリマーを合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてバインダーポリマーを合成する場合、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
　残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。

［他の成分］
　感光性組成物層は、既述の成分以外の成分（以下「他の成分」ともいう。）を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、着色剤、酸化防止剤、及び、粒子（例えば、金属酸化物粒子）が挙げられる。また、他の成分としては、特開２０００－３１０７０６号公報の段落［００５８］～［００７１］に記載のその他の添加剤も挙げられる。

－粒子－
　粒子としては、金属酸化物粒子が好ましい。
　金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。
　粒子の平均一次粒子径は、例えば、硬化膜の透明性の点から、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍがより好ましい。
　粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

　感光性組成物層が粒子を含む場合、金属種、及び、大きさ等の異なる粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　感光性組成物層は、粒子を含まないか、又は、感光性組成物層が粒子を含む場合には、粒子の含有量が、感光性組成物層の全質量に対して、０質量％超３５質量％以下が好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が、感光性組成物層の全質量に対して、０質量％超１０質量％以下がより好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が、感光性組成物層の全質量に対して、０質量％超５質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が、感光性組成物層の全質量に対して、０質量％超１質量％以下が更に好ましく、粒子を含まないことが特に好ましい。

－着色剤－
　感光性組成物層は、微量の着色剤（顔料及び染料等）を含んでいてもよいが、例えば、透明性の点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
　感光性組成物層が着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。下限は特に制限されず、０質量％が好ましい。

－酸化防止剤－
　酸化防止剤としては、例えば、１－フェニル－３－ピラゾリドン（別名：フェニドン）、１－フェニル－４，４－ジメチル－３－ピラゾリドン、及び、１－フェニル－４－メチル－４－ヒドロキシメチル－３－ピラゾリドン等の３－ピラゾリドン類；ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、及び、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類；パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、及び、パラフェニレンジアミンが挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、酸化防止剤としては、３－ピラゾリドン類が好ましく、１－フェニル－３－ピラゾリドンがより好ましい。

　感光性組成物層が酸化防止剤を含む場合、酸化防止剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性組成物層の全質量に対して、１質量％以下が好ましい。

［不純物］
　感光性組成物層は、不純物を含んでいてもよい。
　不純物としては、例えば、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン、及び、これらのイオンが挙げられる。
　なかでも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及び、カリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。

　感光性組成物層における不純物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、８０質量ｐｐｍ以下が好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、２質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されず、感光性組成物層の全質量に対して、１質量ｐｐｂ以上が好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。

　不純物を上記範囲にする方法としては、感光性組成物層に含まれる原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、及び、感光性組成物層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。

　不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及び、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。

　感光性組成物層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及び、ヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物は、感光性組成物層の全質量に対して、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、４質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されず、感光性組成物層の全質量に対して、１０質量ｐｐｂ以上が好ましく、１００質量ｐｐｂ以上がより好ましい。これら化合物は、上述した金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。

　感光性組成物層における水の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、信頼性及びラミネート性を向上させる点から、０．０１～１．０質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。

［屈折率調整層］
　転写フィルムは、感光性組成物層上に配置された屈折率調整層を有していてもよい。
　転写フィルムは、仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層とをこの順で有することが好ましい。
　なお、転写フィルムが後述する保護フィルムを更に有する場合、仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層と、後述する保護フィルムとをこの順で有することが好ましい。

　屈折率調整層としては、公知の屈折率調整層を適用できる。屈折率調整層に含まれる材料としては、例えば、バインダー及び粒子が挙げられる。

　バインダーとしては、例えば、感光性組成物層に含まれるバインダーポリマー及びカルボン酸無水物構造を有する構造単位を含む重合体が挙げられる。

　粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、酸化ニオブ粒子（Ｎｂ_２Ｏ_５粒子）、酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）、及び、二酸化珪素粒子（ＳｉＯ_２粒子）が挙げられる。

　屈折率調整層は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。
　屈折率調整層が金属酸化抑制剤を含むことで、屈折率調整層に接する金属の酸化を抑制できる。
　金属酸化抑制剤としては、例えば、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物が好ましい。金属酸化抑制剤としては、例えば、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及び、ベンゾトリアゾールが挙げられる。

　屈折率調整層の屈折率は、１．６０以上が好ましく、１．６３以上がより好ましい。上限は特に制限されず、２．１０以下が好ましく、１．８５以下がより好ましい。

　屈折率調整層の厚みは、５００ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。上限は特に制限されず、２０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。
　屈折率調整層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

［その他の層］
　転写フィルムは、上述した仮支持体、感光性組成物層、及び、屈折率調整層以外のその他の層を有していてもよい。
　その他の層としては、例えば、保護フィルム及び帯電防止層が挙げられる。

　転写フィルムは、仮支持体と反対側の表面に、感光性組成物層を保護するための保護フィルムを有していてもよい。
　保護フィルムは樹脂フィルムであることが好ましく、耐熱性及び耐溶剤性を有する樹脂フィルムを用いることができる。
　保護フィルムとしては、例えば、ポリプロピレンフィルム及びポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。また、保護フィルムとして上述の仮支持体と同じ材料で構成された樹脂フィルムを用いてもよい。

　保護フィルムの厚みは、１～１００μｍが好ましく、５～５０μｍがより好ましく、５～４０μｍが更に好ましく、１５～３０μｍが特に好ましい。保護フィルムの厚みは、機械的強度に優れる点で、１μｍ以上が好ましく、比較的安価となる点で、１００μｍ以下が好ましい。

　転写フィルムは、帯電防止層を含んでいてもよい。
　転写フィルムが帯電防止層を有することで、帯電防止層上に配置されたフィルム等を剥離する際における静電気の発生を抑制でき、また、設備又は他のフィルム等との擦れによる静電気の発生も抑制できるため、例えば、電子機器における不具合の発生を抑止できる。
　帯電防止層は、仮支持体と感光性組成物層との間に配置することが好ましい。

　帯電防止層は、帯電防止性を有する層であり、帯電防止剤を少なくとも含む。帯電防止剤としては特に制限されず、公知の帯電防止剤を適用できる。

〔転写フィルムの製造方法〕
　本発明の転写フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
　なかでも、生産性に優れる点で、仮支持体上に感光性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥処理を施し、感光性組成物層を形成する方法が好ましい。
　以下、上記方法について詳述する。

　感光性組成物の塗布方法としては、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、及びダイコート法（すなわち、スリットコート法）が挙げられる。

　乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、及び減圧乾燥が挙げられる。上記した方法を単独で又は複数組み合わせて適用することができる。
　本明細書において、「乾燥」とは、感光性組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。

　転写フィルムが感光性組成物層上に屈折率調整層を有する場合、例えば、感光性組成物層上に屈折率調整層形成用組成物を塗布し、そして、必要に応じて乾燥させることにより屈折率調整層を形成できる。

　また、転写フィルムが保護フィルムを有する場合、保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせることにより、転写フィルムを製造できる。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる装置としては、真空ラミネーター及びオートカットラミネーター等の公知のラミネーターが挙げられる。
　ラミネーターは、ゴムローラー等の任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができるものであることが好ましい。

〔積層体の製造方法〕
　上述した転写フィルムを用いることにより、被転写体へ感光性組成物層を転写することができる。
　なかでも、転写フィルムの仮支持体とは反対側の表面を、被転写体に接触させて貼り合わせ、被転写体、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き被転写体を得る貼合工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き被転写体から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法が好ましい。
　本発明の積層体の製造方法ではこのような構成により、被転写体として段差を有する基板を用いた際にも、段差を有する基板へのラミネート時のシワの発生を抑制でき、特に、段差に沿った領域（図１における４４）において段差を有する基板へのラミネート時のシワの発生を抑制できる。
　以下、上記工程の手順について詳述する。

＜貼合工程＞
　貼合工程は、転写フィルムの仮支持体とは反対側の表面を、被転写体に接触させて貼り合わせ、被転写体、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き被転写体を得る工程である。
　なお、被転写体として段差を有する基板を用いた場合には、転写フィルムの仮支持体上の感光性組成物層を、段差を有する基板に接触させて、段差を構成する段の上部、及び、段の下部を連続して覆うように、貼り合わせ、基板、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き基板を得る工程であることが好ましい。
　また、転写フィルムの仮支持体とは反対側の表面とは、転写フィルムが屈折率調整層を有する場合は屈折率調整層であることが好ましく、転写フィルムが屈折率調整層を有さない場合は感光性組成物層であることが好ましい。つまり、貼合工程は、転写フィルムの屈折率調整層を、被転写体に接触させて貼り合わせるか、又は、転写フィルムの感光性組成物層を、被転写体に接触させて貼り合わせることが好ましい。

　転写フィルムの仮支持体上の露出した感光性組成物層を、被転写体に接触させて貼り合わせる。この貼合によって、被転写体上に、感光性組成物層及び仮支持体が配置される。
　上記貼合においては、上記被転写体と上記感光性組成物層の表面と、が接触するように圧着させる。
　上記圧着の方法としては特に制限はなく、公知の転写方法及びラミネート方法を用いることができる。なかでも、感光性組成物層の表面を、段差を有する基板に重ね、ロール等による加圧及び加熱することに行われることが好ましい。
　貼り合せには、真空ラミネーター及びオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用できる。

　被転写体の種類は特に制限されず、ガラス基板、樹脂基板、及び、金属基板が挙げられ、これらの積層体であってもよい。
　被転写体としては、例えば、段差を有する基板が挙げられる。

　段差を有する基板の準備方法としては、特に制限されない。
　段差を有する基板に含まれる基板としては、例えば、透明基板が好ましい。

　段差を有する基板は、上述した貼付工程におけるラミネートによる各層の密着性を高めるために、予め基板（特に基板が透明基板（前面板）である場合）の被接触面に表面処理をしてもよい。
　上記表面処理としては、特に制限されず、密着性を向上できる公知の方法を使用できる。
　なかでも、シラン化合物（シランカップリング剤が好ましい）を用いた表面処理を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性組成物層と相互作用する官能基を有するものが好ましい。具体的には、シランカップリング液（Ｎ－β（アミノエチル）γ－アミノプロピルトリメトキシシラン）０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネーターの基板予備加熱を用いてもよい。
　段差を構成する段の下部が、基板以外の他の部材である場合、基板上に他の部材を設ける工程を有していてもよい。

　上記段差を構成する段の厚みとしては、１００ｎｍ以上が好ましく、１００～５００ｎｍがより好ましく、１００～３００ｎｍが更に好ましい。
　図１に示した段差を有する基板４３は、基板１Ａの上に、段差を構成する段４１を有する。段差を構成する段４１の厚みは、段差を構成する段の上部４１ａと段差を構成する段の下部４１ｂの高さ（距離）に相当する。図１では段差を構成する段４１の厚みを１００ｎｍと記載してあるが、本発明の積層体の製造方法に用いられる段差を有する基板は、このような態様に限定されるものではない。
　また、図１においては、基板１Ａの上方から見たときの段４１の大きさを縦２ｃｍ、横５ｃｍと記載しているが、上記態様はあくまで一例であって、この態様に限定されない。
　また、段差を構成する段の上部は、平面であってもよく、曲面であってもよい。
　また、段差を構成する段の形状は、段差を構成する段の側部が、段の上部の方が段の下部よりも狭い傾斜構造（いわゆる、テーパー形状）であってもよく、段の上部と段の下部とが同じ構造であってもよい。
　段差を構成する段の側部（図１における４１ｂ）と、基板（図１における１Ａ）とのなす角度は、特に制限されず、５～９０°であることが好ましい。

　なお、本発明の積層体の製造方法は、前述の段差を構成する段の下部（図１における４１ｃ）から段の上部（図１における４１ａ）までこの順で前述の感光性組成物層を積層する段差上昇工程と、前述の段差を構成する段の上部（図１における４１ａ）から段の下部（図１における４１ｃ）までこの順で前述の感光性組成物層を積層する段差下降工程とを有することが好ましい。このように段差上昇工程と、段差下降工程を含む場合であっても、本発明の積層体の製造方法によれば、特に図１の段差に沿った領域４４において、段差を有する基板へのラミネート時のシワ混入を抑制できる。段差上昇工程は、図１においてラミネート方向４２に近い側の段差において、感光性組成物層が段を乗り上げる際に行われる。段差下降工程は、図１においてラミネート方向４２から遠い側の段差において、感光性組成物層が段を越える際に行われる。

　上記段差を構成する段は、導電性要素を含んでいてもよい。導電性要素としては、後述する導電層が挙げられる。

　被転写体としては、導電層を有する基板であってもよい。
　導電層を有する基板は、基板上に導電層を有し、必要により任意の層が形成されてもよい。つまり、導電層を有する基板は、基板と、基板上に配置される導電層とを少なくとも有する導電性基板である。
　基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、及び、半導体基板が挙げられる。
　基板の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４０］に記載があり、この内容は本明細書に組み込まれる。

　導電層としては、導電性及び細線形成性の点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層、及び、導電ポリマー層からなる群から選択される少なくとも１種の層が好ましい。
　また、基板上には導電層を１層のみ配置してもよいし、２層以上配置してもよい。導電層を２層以上配置する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
　導電層の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４１］に記載があり、この内容は本明細書に組み込まれる。

　導電層を有する基板としては、透明電極及び引き回り配線の少なくとも一方を有する基板が好ましい。上記のような基板は、タッチパネル用基板として好適に用いることができる。
　透明電極は、タッチパネル電極として好適に機能し得る。透明電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、及び、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、並びに、金属メッシュ、及び、銀ナノワイヤー等の金属細線により構成されることが好ましい。
　金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。なかでも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。

　引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。
　引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛、及び、マンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。なかでも、引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム、又は、チタンが好ましく、銅がより好ましい。

＜露光工程＞
　露光工程は、感光性組成物層をパターン露光する工程である。
　なお、ここで、「パターン露光」とは、パターン状に露光する形態、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光を指す。
　パターン露光におけるパターンの詳細な配置及び具体的サイズは、特に制限されない。なお、後述する現像工程によって形成されるパターンは、幅が２０μｍ以下である細線を含むことが好ましく、幅が１０μｍ以下の細線を含むことがより好ましい。

　パターン露光の光源としては、少なくとも感光性組成物層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。なかでも、パターン露光の露光光の主波長は、３６５ｎｍが好ましい。なお、主波長とは、最も強度が高い波長である。

　光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及びメタルハライドランプが挙げられる。
　露光量は、５～２００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～２００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

　露光に使用する光源、露光量及び露光方法の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４６］～［０１４７］に記載があり、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜剥離工程＞
　剥離工程は、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と後述する現像工程との間に、感光性組成物層付き被転写体から仮支持体を剥離する工程である。
　剥離方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落［０１６１］～［０１６２］に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を用いることができる。

＜現像工程＞
　現像工程は、露光された感光性組成物層を現像して、パターンを形成する工程である。
　上記感光性組成物層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
　現像液として、アルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。

　現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、スピン現像、及び、ディップ現像等の方式が挙げられる。

　本明細書において、好適に用いられる現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９４］に記載の現像液が挙げられる。
　好適に用いられる現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９５］に記載の現像方式が挙げられる。

　形成されるパターンの詳細な配置及び具体的なサイズは特に制限されないが、後述する導電性細線が得られるパターンが形成される。なお、パターンの間隔は、８μｍ以下が好ましく、６μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、２μｍ以上の場合が多い。

　上記手順によって形成されるパターン（感光性組成物層の保護膜）は、無彩色であることが好ましい。具体的には、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系において、パターンのａ^＊値は、－１．０～１．０であることが好ましく、パターンのｂ^＊値は、－１．０～１．０であることが好ましい。

＜ポスト露光工程及びポストベーク工程＞
　上記積層体の製造方法は、上記現像工程によって得られたパターンを、露光する工程（ポスト露光工程）及び／又は加熱する工程（ポストベーク工程）を有していてもよい。
　ポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。

〔回路配線の製造方法〕
　転写フィルムは、回路配線の製造方法に用いることもできる。
　回路配線の製造方法としては、特に制限されず、公知の製造方法が挙げられる。
　なかでも、回路配線の製造方法としては、
　転写フィルムの仮支持体上の感光性組成物層を、導電層を含む被転写体に貼り合わせ、被転写体、感光性組成物層、及び、仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き被転写体を得る貼合工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された前記感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、
　パターンが配置されていない領域における導電層をエッチング処理するエッチング工程と、
　更に、貼合工程と露光工程との間、又は、露光工程と現像工程との間に、感光性組成物層付き被転写体から仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法が好ましい。

　回路配線の製造方法において、貼合工程、露光工程、現像工程、及び、剥離工程は、上述した＜積層体の製造方法＞の各工程と同義であり、好適範囲も同じである。

＜エッチング工程＞
　エッチング工程は、現像工程で得られたパターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理する工程（エッチング工程）である。
　つまり、エッチング工程は、感光性組成物層から形成されたパターンを、エッチングレジストとして使用し、導電層のエッチング処理を行うことである。

　エッチング工程としては、公知の方法を適用でき、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落［０２０９］～［０２１０］に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落［００４８］～［００５４］に記載の方法、エッチング液に浸漬するウェットエッチング方法、及び、プラズマエッチングによるドライエッチング方法が挙げられる。

　ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性又はアルカリ性のエッチング液を適宜選択すればよい。
　酸性のエッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸、及び、リン酸から選択される酸性成分単独の水溶液、並びに、酸性成分と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムから選択される塩との混合水溶液が挙げられる。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分であってもよい。
　アルカリ性のエッチング液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、及び、有機アミンの塩（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）から選択されるアルカリ成分単独の水溶液、並びに、アルカリ成分と塩（過マンガン酸カリウム等）との混合水溶液が挙げられる。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分であってもよい。

＜除去工程＞
　回路配線の製造方法は、残存するパターンを除去する工程（除去工程）を含んでいてもよい。
　除去工程は、特に制限され、各工程前又は工程後に行ってもよく、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
　残存するパターンを除去する方法としては、特に制限されないが、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いて除去する方法が好ましい。
　除去液を用いて除去する方法としては、撹拌中の除去液に、残存するパターンを有する被転写体を、１～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
　除去液の液温としては、３０～８０℃が好ましく、５０～８０℃がより好ましい。

　除去液としては、例えば、無機アルカリ成分又は有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶液に溶解させた除去液が挙げられる。無機アルカリ成分としては、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。有機アルカリ成分としては、第１級アミン化合物、第２級アミン化合物、第３級アミン化合物及び第４級アンモニウム塩化合物が挙げられる。
　また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法及びパドル法等の公知の方法により除去してもよい。

〔その他の工程〕
　積層体の製造方法、及び、回路配線の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
　回路配線の製造方法に適用可能な露光工程、現像工程、及び、その他の工程としては、特開２００６－０２３６９６号公報の段落［００３５］～［００５１］に記載の工程が挙げられる。

＜可視光線反射率を低下させる工程＞
　積層体の製造方法、及び、回路配線の製造方法は、被転写体が有する複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理を行う工程を含んでいてもよい。
　可視光線反射率を低下させる処理としては、例えば、酸化処理が挙げられる。被転写体が銅を含む導電層を有する場合、銅を酸化処理して酸化銅とし、導電層を黒化することにより、導電層の可視光線反射率を低下させることができる。
　可視光線反射率を低下させる処理については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落［００１７］～［００２５］、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落［００４１］～［００４２］、段落［００４８］、及び、段落［００５８］に記載を援用でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜絶縁膜を形成する工程、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程＞
　回路配線の製造方法は、回路配線の表面に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程と、を含むことも好ましい。
　上記の工程により、第１の電極パターンと、絶縁した第２の電極パターンとを形成することができる。
　絶縁膜を形成する工程としては、特に制限されず、公知の永久膜を形成する方法が挙げられる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
　絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程は、特に制限されず、例えば、導電性を有する感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。

　回路配線の製造方法は、被転写体の両方の表面側にそれぞれ複数の導電層を含む被転写体を用い、被転写体の両方の表面側に配置された導電層に対して逐次又は同時に回路形成することも好ましい。このような構成により、被転写体の一方の表面に第１の導電パターン、もう一方の表面に第２の導電パターンを形成したタッチパネル用回路配線を形成できる。また、このような構成のタッチパネル用回路配線を、ロールツーロールで被転写体の両面から形成することも好ましい。

〔用途〕
　積層体の製造方法、及び、回路配線の製造方法により製造される積層体及び回路配線は、種々の装置に適用することができる。上記の製造方法により製造される積層体又は回路配線を備えた装置としては、例えば、表示装置、プリント配線板、半導体パッケージ、入力装置が挙げられ、タッチパネルが好ましく、静電容量型タッチパネルがより好ましい。また、上記入力装置は、有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置等の表示装置に適用できる。

〔電子デバイスの製造方法〕
　転写フィルムは、電子デバイスの製造方法にも用いてもよい。
　上記電子デバイスの製造方法としては、上述の転写フィルムを用いる電子デバイスの製造方法が好ましい。
　なかでも、電子デバイスの製造方法は、上述した積層体の製造方法を含むことが好ましい。
　上記電子デバイスとしては、例えば、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましい。また、上記入力装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び、液晶表示装置の表示装置に適用することができる。

　タッチパネルの製造方法としては、例えば、被転写体（例えば、基板、導電層（基板が有する導電層））、及び、上記の転写フィルムを用いて製造されたパターンがこの順で積層された積層体において、樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理することにより、タッチパネル用配線を形成する工程を含む方法も好ましく、上記貼合工程と、上記露光工程と、上記現像工程とを含む製造方法により製造されるパターンを使用する方法がより好ましい。

　タッチパネル用配線を形成する工程を含むタッチパネルの製造方法における、各工程の具体的な態様、及び、各工程を行う順序等の実施態様については、上述した＜回路配線の製造方法＞において説明した通りであり、好ましい態様も同様である。
　また、タッチパネル用配線を形成する工程を含むタッチパネルの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
　タッチパネル用配線を形成する方法としては、例えば国際公開第２０１６／１９０４０５号公報の図１に記載の方法も挙げられる。

　上記のタッチパネルの製造方法により、タッチパネル用配線を少なくとも有するタッチパネルが製造される。タッチパネルは、透明基板と、電極と、絶縁層又は保護層とを有することが好ましい。
　タッチパネルにおける検出方法としては、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式等の公知の方式が挙げられ、静電容量方式が好ましい。

　タッチパネルとしては、例えば、インセル型（例えば、特表２０１２－５１７０５１号公報の図５～８に記載のもの）、オンセル型（例えば、特開２０１３－１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、並びに、特開２０１２－０８９１０２号公報の図１及び図５に記載のもの）、ＯＧＳ（Ｏｎｅ　Ｇｌａｓｓ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）型、ＴＯＬ（Ｔｏｕｃｈ－ｏｎ－Ｌｅｎｓ）型（例えば、特開２０１３－０５４７２７号公報の図２に記載のもの）、各種アウトセル型（例えば、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１及びＧ１Ｆ等）、並びに、その他の構成（例えば、特開２０１３－１６４８７１号公報の図６に記載のもの）が挙げられる。
　タッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０３４５号公報の段落［０２２９］に記載のものが挙げられる。

　転写フィルムを用いる電子デバイスの製造方法においては、（特に、転写フィルムがネガ型感光性組成物層を含む場合において）製造される電子デバイスが樹脂パターンを硬化膜として含むことも好ましい。
　このような樹脂パターンの硬化膜は、電子デバイス（タッチパネル等）が有する電極等の一部又は全部を被覆する保護膜（永久膜）として使用できる。電極等の上に上記樹脂パターンの硬化膜を保護膜（永久膜）として配置することで、金属の腐食、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加、及び、断線といった不具合の防止が可能である。また、樹脂パターンの硬化膜の他の用途としては、例えば、各種の電極保護膜、平坦化膜、オーバーコート膜、ハードコート膜、パッシベーション膜、隔壁、スペーサ、マイクロレンズ、光学フィルター、及び、反射防止膜が挙げられる。

　以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本明細書の趣旨を逸脱しない限り、適宜及び変更することができる。従って、本発明の範囲は、以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
　以下の実施例において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量である。

〔仮支持体〕
＜ポリエステル１の合成＞
　以下に示すように、テレフタル酸及びエチレングリコールを直接反応させて水を留去し、エステル化した後、減圧下で重縮合を行う直接エステル化法を用いて、連続重合装置により、仮支持体の原料となるポリエステル１（以下「ＰＥＴ１」ともいう。）（Ｓｂ触媒系ＰＥＴ）を合成した。

（エステル化反応）
　第一エステル化反応槽に、高純度テレフタル酸（４．７トン）と、エチレングリコール（１．８トン）とを９０分かけて混合してスラリー形成させ、３８００ｋｇ／ｈの流量で連続的に第一エステル化反応槽に供給した。更に、三酸化アンチモンのエチレングリコール溶液を連続的に供給し、反応槽内温度２５０℃、攪拌下、平均滞留時間約４．３時間で反応させた。このとき、三酸化アンチモンはＳｂ添加量が元素換算値で１５０ｐｐｍとなるように連続的に添加した。

　この反応物を第二エステル化反応槽に移送し、攪拌下、反応槽内温度２５０℃で、平均滞留時間で１．２時間反応させた。第二エステル化反応槽には、酢酸マグネシウムのエチレングリコール溶液と、リン酸トリメチルのエチレングリコール溶液とを、元素換算値で、Ｍｇ（マグネシウム）添加量が６５質量ｐｐｍ、及び、Ｐ（リン）添加量が３５質量ｐｐｍになるように連続的に供給した。

（重縮合反応）
　上記で得られたエステル化反応生成物を連続的に第一重縮合反応槽に供給し、攪拌下、反応温度２７０℃、反応槽内圧力２０ｔｏｒｒ（２．６７×１０^－３ＭＰａ）で、平均滞留時間約１．８時間で重縮合させた。

　更に、第二重縮合反応槽に移送し、この反応槽において攪拌下、反応槽内温度２７６℃、反応槽内圧力５ｔｏｒｒ（６．６７×１０^－４ＭＰａ）で滞留時間約１．２時間の条件で反応（重縮合）させた。

　次いで、更に第三重縮合反応槽に移送し、この反応槽では、反応槽内温度２７８℃、反応槽内圧力１．５ｔｏｒｒ（２．０×１０^－４ＭＰａ）で、滞留時間１．５時間の条件で反応（重縮合）させ、反応物１（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））を得た。

　次に、得られた反応物１を、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレット＜断面：長径約４ｍｍ、短径約２ｍｍ、長さ：約３ｍｍ＞を作製し、ＰＥＴ１を得た。得られたＰＥＴ１のＩＶ（固有粘度）は、０．６３であった。

＜ポリエステル２の合成＞
　乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’－（１，４－フェニレン）ビス（４Ｈ－３，１－ベンズオキサジン－４－オン）（１０質量部）、及び、ＰＥＴ１（９０質量部）を混合し、混練押出機を用い、上述したＰＥＴ１の作製と同様に、ペレット化して、仮支持体の原料であり、紫外線吸収剤を含むポリエステル２を得た（以下「ＰＥＴ２」ともいう。）。

＜仮支持体の製造＞
（仮支持体Ｃ－１）
　ＰＥＴ１（９０質量部）と、ＰＥＴ２（１０質量部）とを、含水率２０質量ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径５０ｍｍの一軸混練押出機１のホッパー１に投入し、押出機１で３００℃に溶融した（中間層ＩＩ層）。
　またＰＥＴ１を、含水率２０質量ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径３０ｍｍの一軸混練押出機２のホッパー２に投入し、押出機２で３００℃に溶融した（外層Ｉ層、外層ＩＩＩ層）。
　これらの２種のポリマー溶融物を、それぞれ、ギアポンプ及びフィルター（目開き８μｍ、すなわち孔径８μｍ）を１枚ずつ有するろ過装置１セットを通過させた後、２種３層合流ブロックにて、押出機１から押出されたポリマーが中間層（ＩＩ層）に、押出機２から押出されたポリマーが外層（Ｉ層及びＩＩＩ層）になるように積層し、幅１２０ｍｍのダイよりシート状に押し出した。溶融樹脂の押出条件は、圧力変動を１％、及び、溶融樹脂の温度分布を２％として、溶融樹脂をダイから押出した。具体的には、背圧を、押出機のバレル内平均圧力に対して１％加圧し、押出機の配管温度を、押出機のバレル内平均温度に対して２％高い温度で加熱した。
　ダイから押出した溶融樹脂は、温度２５℃に設定された冷却キャストドラム上に押出し、静電印加法を用い冷却キャストドラムに密着させた。押出時の樹脂温度は３００℃であった。冷却ドラムの上に密着する際の樹脂温度は２７７℃であった。冷却キャストドラムに対向配置された剥ぎ取りロールを用いて剥離し、未延伸ポリエステルフィルム１を得た。このとき、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚みの比は、１０（Ｉ層）：８０（ＩＩ層）：１０（ＩＩＩ層）となるように各押出機の吐出量を調整した。

　表面粗さＲａが０．２μｍの延伸ロールを用いて、得られた未延伸ポリエステルフィルム１を１１０℃で長手方向４．２倍に延伸した。更に、引き続いてステンタにて１１５℃の熱風下で幅方向に４．５倍延伸後、定張下、２１５℃で４秒間熱処理し、その後長手方向に０．１％、短手方向に３．２％の弛緩処理を施し、厚み１６μｍの２軸延伸ポリエステルフィルム１’を得た。得られた２軸延伸ポリエステルフィルム１’をスリッターにてスリットし、仮支持体Ｃ－１を得た。

（仮支持体Ｃ－２）
　厚みが１６μｍとなるように、上述した＜仮支持体の製造＞で得られた未延伸ポリエステルフィルム１の厚みを調整し、長手方向４．０倍に延伸し、短手方向に４．７倍に延伸した以外は、仮支持体Ｃ－１と同様に作製し、厚み１６μｍの２軸延伸ポリエステルフィルム２’を得た。得られた２軸延伸ポリエステルフィルム２’をスリッターにてスリットし、仮支持体Ｃ－２を得た。

（仮支持体Ｃ－３）
　厚み２５μｍとなるように、上述した＜仮支持体の製造＞で得られた未延伸ポリエステルフィルム１の厚みを調整し、長手方向３．８倍に延伸し、短手方向に４．８倍に延伸した以外は、仮支持体Ｃ－１と同様に作製し、厚み２５μｍの２軸延伸ポリエステルフィルム３’を得た。得られた２軸延伸ポリエステルフィルム３’をスリッターにてスリットし、仮支持体Ｃ－３を得た。

（仮支持体Ｃ－４）
　厚み１６μｍとなるように、上述した＜仮支持体の製造＞で得られた未延伸ポリエステルフィルム１の厚みを調整し、長手方向４．１倍に延伸し、１２３℃の熱風下で短手方向に４．８倍に延伸した以外は、仮支持体Ｃ－１と同様に作製し、厚み１６μｍの２軸延伸ポリエステルフィルム４’を得た。得られた２軸延伸ポリエステルフィルム４’をスリッターにてスリットし、仮支持体Ｃ－４を得た。

（仮支持体Ｃ－５）
　厚み２５μｍとなるように、上述した＜仮支持体の製造＞で得られた未延伸ポリエステルフィルム１の厚みを調整し、長手方向３．８倍に延伸し、１１０℃の熱風下で短手方向に４．８倍に延伸し、短手方向の弛緩処理を２．４％とした以外は、仮支持体Ｃ－１と同様に作製し、厚み２５μｍの２軸延伸ポリエステルフィルム５’を得た。得られた２軸延伸ポリエステルフィルム５’をスリッターにてスリットし、仮支持体Ｃ－５を得た。

〔バインダーポリマー〕
＜バインダーポリマーＰ－１の合成＞
　プロピレングリコールモノメチルエーテル（８２．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）をフラスコに仕込み、溶液を調製した。得られた溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。加熱した溶液に、スチレン（３８．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、ジシクロペンタニルメタクリレート（３０．１ｇ、ファンクリルＦＡ－５１３Ｍ、日立化成株式会社）、及び、メタクリル酸（３４．０ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）をプロピレングリコールモノメチルエーテル（２０ｇ）に溶解させた溶液、並びに、重合開始剤Ｖ－６０１（５．４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（４３．６ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）に溶解させた溶液、を同時に３時間かけて滴下した。滴下終了後、１時間おきにＶ－６０１（０．７５ｇ）を溶液に３回添加した。その後、更に溶液を３時間反応させた。その後、得られた溶液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（５８．４ｇ）、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル（１１．７ｇ）で希釈した。空気気流下、希釈後の溶液を１００℃に加熱し、更に、テトラエチルアンモニウムブロミド（０．５３ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、ｐ－メトキシフェノール（０．２６ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を溶液に添加した。得られた溶液に、グリシジルメタクリレート（２５．５ｇ、日油株式会社、ブレンマーＧＨ）を２０分かけて滴下した。得られた溶液を１００℃で７時間反応させ、バインダーポリマーＰ－１の溶液を得た。得られた溶液の固形分濃度は３６．５質量％であった。得られたバインダーポリマーは、表１に示す各構成単位を有し、ＧＰＣにおける標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００、分散度は２．４、ポリマーの酸価は９４．５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ガスクロマトグラフィーを用いて測定した残存モノマー量はいずれのモノマーにおいても、バインダーポリマーの固形分に対して、０．１質量％未満であった。
　なお、固形分とは、溶剤を除いた成分を意図する。上記成分の性状が、液体状であっても、固形分に含まれる。

　表１中、（メタ）アクリロイル基を有する構成単位以外の構成単位については、各構成単位を形成するためのモノマーの略称で示している。
　（メタ）アクリロイル基を有する構成単位については、モノマーとモノマーとの付加構造の形式で示している。例えば、ＭＡＡ－ＧＭＡは、メタクリル酸に由来する構成単位に対してグリシジルメタクリレートが付加した構成単位を意味する。
　Ｓｔ：スチレン
　ＭＡＡ－ＧＭＡ：メタクリル酸に由来する構成単位に対してグリシジルメタクリレートが付加した構成単位
　ＭＡＡ：メタクリル酸
　ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
　ＥＡ：アクリル酸エチル
　ＢｚＭＡ：メタクリル酸ベンジル
　ＤＣＰＭＡ：ジシクロペンタニルメタクリレート

＜バインダーポリマーＰ－２～Ｐ－４の合成＞
　モノマーの種類及び量、開始剤の量を変更したこと以外はＰ－１と同様に合成した。得られた溶液の固形分濃度は３６．３質量％であった。得られたバインダーポリマーは、表１に示す各構成単位を有していた。ガスクロマトグラフィーを用いて測定した残存モノマー量はいずれのモノマーにおいても、バインダーポリマーの固形分に対して、０．１質量％未満であった。

＜バインダーポリマーＰ’－１の合成＞
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル（２７０．０ｇ）を加え、撹拌しながら窒素気流下で７０℃に昇温させた。一方、アリルメタクリレート（４５．６ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）、及び、メタクリル酸（１４．４ｇ）をプロピレングリコールモノメチルエーテル（２７０．０ｇ）に溶解させ、更にＶ－６５（３．９４ｇ、富士フイルム和光純薬株式会社）を溶解させて滴下液を作製し、得られた滴下液を３つ口フラスコ中へ２．５時間かけて滴下を行った。得られた溶液を、撹拌しながら２時間反応させた。その後、得られた溶液の温度を室温まで放冷した後、イオン交換水（２．７Ｌ）を撹拌しながら、得られた溶液をイオン交換水へ滴下し、再沈殿を実施して懸濁液を得た。ろ紙を引いたヌッチェにて懸濁液を投入することでろ過を行い、濾過物を更にイオン交換水で洗浄して湿潤状態のバインダーポリマーＰ’－１粉体を得た。次に、４５℃の送風乾燥にかけ、恒量になったことを確認し、粉体として収率７０％でバインダーポリマーＰ’－１を得た。下記にバインダーポリマーＰ’－１の構造式を示す。なお、下記中のバインダーポリマーに含まれる各構成単位の比率は、質量％である。

〔ブロックイソシアネート化合物Ｑ－１〕
　窒素気流下、ブタノンオキシム（４５３ｇ、出光興産社製）をメチルエチルケトン（７００ｇ）に溶解させ、溶液を得た。氷冷下で、得られた溶液に１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（５００ｇ、シス－トランス異性体混合物、三井化学社製、タケネート６００）を１時間かけて滴下し、滴下後、更に溶液を１時間反応させた。その後、得られた溶液を４０℃に昇温して更に１時間反応させた。^１Ｈ－ＮＭＲ（核磁気共鳴）及びＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフ）にて反応が完結したことを確認し、下記の構造式を示されるブロックイソシアネート化合物Ｑ－１のメチルエチルケトン溶液を得た。

〔感光性組成物の調製〕
　各実施例又は各比較例において、下記表２に示す組成の感光性組成物である材料Ａ－１～Ａ－５を調製した。表２中、各成分の数値は各成分の含有量（質量部）を表し、バインダーポリマーの量は、バインダーポリマー溶液（固形分濃度３６．３質量％）の量を意味する。

〔屈折率調整層形成用組成物の調製〕
　次に、下記表３に記載の組成で、屈折率調整層形成用組成物である材料Ｂ－１を調製した。

〔実施例１〕
　上記で作製した仮支持体Ｃ－１上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の厚みが５．５μｍになる塗布量の感光性組成物Ａ－１を塗布し、１００℃の乾燥ゾーンで溶媒を揮発させて、感光性組成物層１を形成した。更に、感光性組成物層１の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の厚みが７０ｎｍになる塗布量の屈折率調整層形成用組成物Ｂ－１を、塗布し、８０℃の乾燥温度で乾燥させ、屈折率調整層１を形成した。屈折率調整層の上に保護フィルムとして、厚み２５μｍのポリプロピレンフィルム（トレファン２５Ａ－ＫＷ３７、東レ（株）製）を圧着して実施例１の転写フィルム１を作製した。

〔実施例２～４及び比較例１～３〕
　表４に従って、各成分、各材料、及び、各厚み等を変更した以外は、実施例１と同様の手順で、実施例２～４、及び、比較例１～３の転写フィルム２～４、１`～３`を作製した。

〔実施例５～８〕
　感光性組成物層を形成する際に、表２および４に従って、各成分、各材料、及び、各厚み等を変更したこと、屈折率調整層を形成しなかったこと、以外は実施例１と同様の手順で、転写フィルム５～８を作製した。

＜積層体の製造＞
　積層体の製造方法を図１に基づいて説明する。
　基板（膜厚５０μｍ、ＩＴＯ透明電極パターンを有するＣＯＰフィルム）上に、段差を構成する段の厚みが１００ｎｍであって、ラミネート方向４２を縦方向としたときに、基板の上方から見たときに縦２ｃｍ、横５ｃｍの長方形となる形状の銅製の導電部を有する基板（段差を有する基板４３）を準備した。
　図１に示すラミネート方向４２から、得られた段差を有する基板の段差を全て覆うように、実施例及び比較例の各転写フィルムの保護フィルムを剥離して露出した感光性組成物側の表面（屈折率調整層）を連続して、ゴムローラー温度１００℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、及び、搬送速度４．０ｍ／分の条件でラミネートし、感光性組成物層を積層した積層体を得た。
　なお、このラミネート方法には、段差を構成する段の下部から段の上部までこの順で感光性組成物層を積層する段差上昇工程と、段差を構成する段の上部から段の下部までこの順で感光性組成物層を積層する段差下降工程とがそれぞれ１回ずつ含まれる。

〔評価〕
＜貯蔵弾性率の測定＞
　上記で作製した各仮支持体Ｃ－１～Ｃ－５の長手方向及び短手方向を、それぞれ長手として、５ｍｍ×３０ｍｍのサイズで切り出した。切り出したサンプルを２５℃及び６０％ＲＨ（相対湿度）下で２時間以上調湿した後、動的粘弾性測定装置（バイブロン：ＤＶＡ－２２５（アイティー計測制御（株）製））で、サンプルの長手方向に対して、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃～１５０℃、周波数１Ｈｚで測定し、温度８０℃時又は温度１００℃時の貯蔵弾性率（Ｅ_ａ１、Ｅ_ａ２、Ｅ_ｂ１及びＥ_ｂ２）を求めた。

＜ラミネート時のシワ発生評価＞
　上述した＜作製した積層体＞で得られた積層体の屈折率調整層、感光性組成物層及び仮支持体の少なくとも１つに発生するシワ及び微細シワを以下の基準に沿って評価した。
　下記評価基準において、Ａ又はＢであることが好ましい。なお、シワとは、目視で観測できる大きさのシワであり、微細なシワとは、目視では観測できないが、倍率２０倍の光学顕微鏡で観測できる大きさのシワを意味する。
（評価基準）
Ａ：積層体の連続２００ｍに渡り、目視で観察して積層体にシワが確認されない。更に、２００ｍｍ^２範囲の積層体を倍率２０倍の光学顕微鏡で観察して微細なシワが確認されない。
Ｂ：積層体の連続２００ｍに渡り、目視で観察して積層体にシワが確認されない。更に、２００ｍｍ^２範囲の積層体を倍率２０倍の光学顕微鏡で観察される微細なシワが１個以上１０個以下であった。
Ｃ：積層体の連続２００ｍに渡り、目視で観察して積層体にシワが確認されない。更に、２００ｍｍ^２範囲の積層体を倍率２０倍の光学顕微鏡で観察される微細なシワが１１個以上であった。
Ｄ：積層体の連続２００ｍにおいて、目視で観察して積層体にシワが確認された。

　表４に評価結果を示す。
　表中の記載は、以下を示す。
　「Ｅ_ａ１」欄は、仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１を示す。
　「Ｅ_ａ２」欄は、仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２を示す。
　「Ｅ_ｂ１」欄は、仮支持体の短手方向の８０℃における貯蔵弾性率Ｅ_ｂ１を示す。
　「Ｅ_ｂ２」欄は、仮支持体の長手方向の８０℃における貯蔵弾性率Ｅ_ｂ２を示す。
　「Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２」欄は、仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２に対する、仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１の比を示す。
　「Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２」欄は、仮支持体の長手方向の８０℃における貯蔵弾性率Ｅ_ｂ２に対する、仮支持体の短手方向の８０℃における貯蔵弾性率Ｅ_ｂ１の比を示す。
　「Ｘ」欄は、下記式（１）で求められる値を示す。
　Ｘ＝｛〔（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）－（Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２）〕／（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）｝×１００　式（１）
　「１００℃の相乗平均」欄は、Ｅ_ａ１とＥ_ａ２との積の平方根の値（１００℃の相乗平均＝√（Ｅ_ａ１×Ｅ_ａ２））を示す。

　上記表４に示す通り、本発明の転写フィルムを用いた場合、所望する効果が得られることが確認された。
　実施例１～４の比較から、仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２に対する、仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１の比（Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２）が１．３０以下である場合、より効果が優れることが確認された。また、同様の比較から、Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２が１．２５以下である場合、更に効果が優れることが確認された。
　また、実施例１及び４と、実施例２～３との比較から、上述した式（１）で求められるＸが、７．００％以下である場合、より効果優れることが確認された。

〔実施例９〕
　以下の方法により、実施例１～８の転写フィルムを配線形成用エッチングレジストとして用いた場合に得られる、配線パターンの解像性及び剥離性を評価した。
　厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、スパッタ法を用いて厚み２００ｎｍの銅層を形成することにより、銅層付きＰＥＴ基板を作製した。

＜解像性＞
　作製したロール形態の実施例１～８のいずれかの転写フィルムを巻き出し、上記転写フィルムから保護フィルムを剥離した。次に、上記転写フィルムと上記銅層付きＰＥＴ基板とを、保護フィルムの剥離により露出した転写フィルムの仮支持体側とは反対側の表面（屈折率調整層）と、銅層付きＰＥＴ基板の銅層とが互いに接触するように貼り合わせて、積層体を得た。この貼り合わせ工程は、ロール温度１００℃、線圧１．０ＭＰａ、及び、線速度４．０ｍ／ｍｉｎの条件で行った。
　得られた積層体の仮支持体側から、フォトマスクを介して超高圧水銀灯（露光主波長：３６５ｎｍ）を照射して、感光性組成物層を露光した露光に使用したフォトマスクは、との幅の比（Ｄｕｔｙ比）が１：１であり、かつ、ライン幅及びスペース幅が５０μｍのラインアンドスペースパターンを有していた。また、ラインアンドスペースパターンのライン幅及びスペース幅が５０μｍである領域を通過した照射光によって露光されて形成される樹脂パターンのライン幅が５０μｍとなるように、感光性組成物層に対する露光量を調整した。その後、露光された積層体から仮支持体を剥離し、液温２５℃の１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて３０秒間のシャワー現像を行った。この現像工程により、積層体から、未露光の感光性組成物層を除去し、銅層の表面にラインアンドスペースパターンを有する樹脂パターンを作製した。実施例１～８のいずれの転写フィルムを用いた場合においても、良好に解像した樹脂パターンを得ることができた。

＜剥離性＞
　上記＜解像性＞で得られた銅層の表面に樹脂パターンを有する積層体を、銅エッチング液（関東化学社製、Ｃｕ－０２）を用いて樹脂パターンが配置されていない領域にある銅層をエッチング処理した。上記銅エッチング処理した積層体をそれぞれ４０℃の剥離液（関東化学社製、ＫＰ－３０１）に浸漬させ、剥離液を１００ｒｐｍで撹拌した。
　実施例１～８のいずれの転写フィルムを用いて形成された樹脂パターンを有する積層体は、いずれも剥離液への積層体の浸漬を開始してから２分以内に樹脂パターンが銅層の表面から全て剥離し、良好な剥離性を示した。また、得られた積層体を、更に水洗及び乾燥することで、銅がラインアンドスペースパターンで描画された銅配線基板を得た。実施例１～８のいずれの転写フィルムを用いた場合においても、良好に解像した銅配線パターンを得ることができた。

１Ａ　　基板
４１　　段差を構成する段
４１ａ　　段の上部
４１ｂ　　段の側部
４１ｃ　　段の下部
４２　　ラミネート方向
４３　　段差を有する基板
４４　　段差に沿った領域

Claims

　仮支持体と、前記仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する長尺状の転写フィルムであって、
　前記仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ２に対する、前記仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率Ｅ_ａ１の比が、１．４０以下である、転写フィルム。
　式（１）で求められるＸが、７．００％以下である、請求項１に記載の転写フィルム。
　Ｘ＝｛〔（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）－（Ｅ_ａ１／Ｅ_ａ２）〕／（Ｅ_ｂ１／Ｅ_ｂ２）｝×１００　式（１）
　Ｅ_ａ１：前記仮支持体の短手方向の１００℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ａ２：前記仮支持体の長手方向の１００℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ｂ１：前記仮支持体の短手方向の８０℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　Ｅ_ｂ２：前記仮支持体の長手方向の８０℃における貯蔵弾性率（ＧＰａ）
　前記仮支持体の１００℃における短手方向の貯蔵弾性率Ｅ_ａ１と、前記仮支持体の１００℃における長手方向の貯蔵弾性率Ｅ_ａ２との相乗平均が、１．００ＧＰａ以上である、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
　前記仮支持体の厚みが、４０．０μｍ以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層の厚みが、２０．０μｍ以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層が、バインダーポリマー、重合性化合物、及び、重合開始剤を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層上に配置された屈折率調整層を更に有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層が、タッチパネル用電極保護膜形成に用いられる、請求項１～７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　請求項１～８のいずれか１項に記載の転写フィルムの前記仮支持体とは反対側の表面を、被転写体に貼り合わせ、前記被転写体、前記感光性組成物層、及び、前記仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き被転写体を得る貼合工程と、
　前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された前記感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、を有し、
　更に、前記貼合工程と前記露光工程との間、又は、前記露光工程と前記現像工程との間に、前記感光性組成物層付き被転写体から前記仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、積層体の製造方法。
　請求項１～８のいずれか１項に記載の転写フィルムの前記仮支持体とは反対側の表面を、導電層を含む被転写体に貼り合わせ、前記被転写体、前記感光性組成物層、及び、前記仮支持体をこの順に有する感光性組成物層付き被転写体を得る貼合工程と、
　前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された前記感光性組成物層を現像して、パターンを形成する現像工程と、
　前記パターンが配置されていない領域における前記導電層をエッチング処理するエッチング工程と、
　更に、前記貼合工程と前記露光工程との間、又は、前記露光工程と前記現像工程との間に、前記感光性組成物層付き被転写体から前記仮支持体を剥離する剥離工程と、を有する、回路配線の製造方法。
　前記被転写体が、段差を有する基板である、請求項９に記載の積層体の製造方法。