JP2008146018A - 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置 - Google Patents
感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008146018A JP2008146018A JP2007185797A JP2007185797A JP2008146018A JP 2008146018 A JP2008146018 A JP 2008146018A JP 2007185797 A JP2007185797 A JP 2007185797A JP 2007185797 A JP2007185797 A JP 2007185797A JP 2008146018 A JP2008146018 A JP 2008146018A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- liquid crystal
- crystal display
- display device
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 150
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 150
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 title abstract description 47
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 90
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 55
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 70
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 65
- 239000010408 film Substances 0.000 description 40
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 25
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- -1 2-ethylhexyl group Chemical group 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 13
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 13
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 12
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011161 development Methods 0.000 description 10
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 6
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 4
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 2
- CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N (e)-2-cyano-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=CC=C1 CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical group CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMMOZSFQHREDHM-UHFFFAOYSA-N 2-adamantyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(OC(=O)C(=C)C)C2C3 DMMOZSFQHREDHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHCHLHOEAKKCAB-UHFFFAOYSA-N 2-oxaspiro[3.5]nonane-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C11CCCCC1 HHCHLHOEAKKCAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical group C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical group CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDGMGEXADBMOMJ-LURJTMIESA-N N(g)-dimethylarginine Chemical compound CN(C)C(\N)=N\CCC[C@H](N)C(O)=O YDGMGEXADBMOMJ-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical group CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKKHNUKNMQLBTJ-QIIDTADFSA-N [(1s,4r)-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@H]2C(OC(=O)C(=C)C)C[C@@H]1C2 SKKHNUKNMQLBTJ-QIIDTADFSA-N 0.000 description 1
- 125000003670 adamantan-2-yl group Chemical group [H]C1([H])C(C2([H])[H])([H])C([H])([H])C3([H])C([*])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])C3([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- YDGMGEXADBMOMJ-UHFFFAOYSA-N asymmetrical dimethylarginine Natural products CN(C)C(N)=NCCCC(N)C(O)=O YDGMGEXADBMOMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007869 azo polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N butadiene group Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000012718 coordination polymerization Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- KZOJQMWTKJDSQJ-UHFFFAOYSA-M sodium;2,3-dibutylnaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCC)C(CCCC)=CC2=C1 KZOJQMWTKJDSQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Abstract
【解決手段】側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基、側鎖に酸性基を有する基、および側鎖にエチレン性不飽和基を有する基とを含有する樹脂(A)、重合性化合物(B)、光重合開始剤(C)を少なくとも含んでなる感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びこれらを用いたフォトスペーサーの製造方法、並びに、表示ムラを防止して高画質画像の表示を可能とする液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置。
【選択図】なし
Description
また、製造が容易で貯蔵安定性に優れたフォトスペーサー用の感光性組成物が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
さらに、耐冷熱衝撃性に優れた組成物も開示されている(例えば、特許文献3参照)。
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、高度の変形回復性を有し、液晶表示装置における表示ムラを解消し得る感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びこれらを用いたフォトスペーサーの製造方法、並びに、表示ムラを防止して高画質画像の表示を可能とする液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
<2> 前記樹脂(A)のガラス転移温度(Tg)が40〜180℃であり、かつ重量平均分子量が10,000〜100,000であることを特徴とする<1>に記載の感光性組成物。
<4> 更に微粒子(D)を含むことを特徴とする<1>〜<3>の何れか1項に記載の感光性組成物。
<6> 前記微粒子(D)がコロイダルシリカであることを特徴とする<4>又は<5>に記載の感光性組成物。
<9> <1>〜<6>の何れか1項に記載の感光性組成物を用いて、塗布することで支持体上に感光性樹脂層を形成する工程を有することを特徴とするフォトスペーサーの製造方法。
<11> <9>又は<10>に記載のフォトスペーサーの製造方法により製造したフォトスペーサーを備えたことを特徴とする液晶表示装置用基板。
<12> <11>に記載の液晶表示装置用基板を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
本発明の感光性組成物は、側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基、側鎖に酸性基を有する基、および側鎖にエチレン性不飽和基を有する基とを含有する樹脂(A)、重合性化合物(B)、光重合開始剤(C)を少なくとも含有する。本発明の感光性組成物により製造されるフォトスペーサーは高度の変形回復性を有するため、表示装置における表示ムラを解消することができる。
本発明における層形成工程は、支持体上に本発明の感光性組成物を含む感光性樹脂層(以下、単に「感光性樹脂組成物層」とも言う。)を形成する工程である。
この感光性樹脂層は、後述する製造工程を経て、変形回復性が良好でセル厚を均一に保持し得るフォトスペーサーを構成する。該フォトスペーサーを用いることにより特にセル厚の変動で表示ムラが生じやすい表示装置における画像中の表示ムラが効果的に解消される。
感光性組成物の塗布は、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第2681294号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等により行なうことができる。中でも、特開2004−89851号公報、特開2004−17043号公報、特開2003−170098号公報、特開2003−164787号公報、特開2003−10767号公報、特開2002−79163号公報、特開2001−310147号公報等に記載のスリットノズルあるいはスリットコーターによる方法が好適である。
転写による場合、感光性樹脂転写フイルムを用いて、仮支持体上に膜状に形成された感光性樹脂層を支持体面に加熱及び/又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体の剥離により感光性樹脂組成物層を支持体上に転写する。具体的には、特開平7−110575号公報、特開平11−77942号公報、特開2000−334836号公報、特開2002−148794号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平7−110575号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
該感光性転写フイルムを構成する仮支持体、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層、その他の層や該感光性転写フイルムの作製方法については、特開2006−23696号公報の段落番号[0024]〜[0030]に記載の構成、作製方法と同様である。
次に、感光性組成物について説明する。
感光性組成物は、側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基と、側鎖に酸性基を有する基と、側鎖にエチレン性不飽和基を有する基とを含有する樹脂(A)(以下、単に「樹脂(A)」とも言う。)、重合性化合物(B)、光重合開始剤(C)を少なくとも含有する。また、必要に応じて、着色剤や界面活性剤などのその他の成分を用いて構成することができる。
前記感光性組成物は、フォトスペーサー用に特に好ましく用いられる。
樹脂(A)は側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基:X(xモル%)と、酸性基を有する基:Y(yモル%)と、エチレン性不飽和基を有する基:Z(zモル%)を含有してなり、必要に応じてその他の基(L)(lモル%)を有していてもよい。また、樹脂(A)中のひとつの基の中にX,Y,及びZが複数組み合わされていてもよい。
前記「側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基」について説明する。
まず、分岐を有する基としては、炭素原子数3〜12個の分岐状のアルキル基を示し、例えば、i−プロピル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、2−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、i−アミル基、t−アミル基、3−オクチル、t−オクチル等が挙げられる。これらの中でも、i−プロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等が好ましく、さらにi−プロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基等が好ましい。
前記市販品としては、日立化成工業(株)製:FA−511A、FA−512A(S)、FA−512M、FA−513A、FA−513M、TCPD−A、TCPD−M、
H−TCPD−A、H−TCPD−M、TOE−A、TOE−M、H−TOE−A、H−TOE−M等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、変形回復率に優れる点で、FA−512A(S),512Mが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。
前記「側鎖にエチレン性不飽和基」としては、特に制限はなく、エチレン性不飽和基としては、(メタ)アクリロイル基が好ましい。また、エチレン性不飽和基と単量体との連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの2価の連結基であれば特に制限はない。側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ基にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ基にイソシアネート基を持つ(メタ)アクリレートを付加した付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
前記その他の単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐および/または脂環構造をもたない(メタ)アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。
前記樹脂(A)は、モノマーの(共)重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から作られる。
まず、(共)重合反応は種々のモノマーの(共)重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。
樹脂(A)として好適な前記共重合体の重量平均分子量は、10,000〜10万が好ましく、12,000〜6万が更に好ましく、15,000〜4.5万が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、共重合体の製造適性、現像性の点で望ましい。また、溶融粘度の低下により形成された形状が潰れ難い点で、また、架橋不良となり難い点、現像でのスペーサー形状の残渣がない点で好ましい。
樹脂(A)として好適なガラス転移温度(Tg)は、40〜180℃であることが好ましく、45〜140℃であることはより好ましく、50〜130℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度(Tg)が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られる。
樹脂(A)として好適な酸価はとりうる分子構造により好ましい範囲は変動するが、一般には20mgKOH/g以上であることが好ましく、50mgKOH/g以上であることはより好ましく、70〜130mgKOH/gであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られる。
更に、前記樹脂(A)の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度(Tg)、及び酸価のそれぞれの組合せがより好ましい。
前記樹脂(A)の前記各成分の共重合組成比については、ガラス転移温度と酸価を勘案して決定され、一概に言えないが、「側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基」は10〜70モル%が好ましく、15〜65モル%が更に好ましく、20〜60モル%が特に好ましい。側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
また、「側鎖に酸性基を有する基」は5〜70モル%が好ましく、10〜60モル%が更に好ましく、20〜50モル%が特に好ましい。側鎖に酸性基を有する基が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
また、「側鎖にエチレン性不飽和基を有する基」は10〜70モル%が好ましく、20〜70モル%が更に好ましく、30〜70モル%が特に好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を有する基が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、現像性及び硬化性も良好である。
前記樹脂(A)と併用することができる樹脂としては、アルカリ性水溶液に対して膨潤性を示す化合物が好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性である化合物がより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示す樹脂としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられ、具体的には、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物(エポキシアクリレート化合物)、側鎖に(メタ)アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体、エポキシアクリレート化合物と、側鎖に(メタ)アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体との混合物、マレアミド酸系共重合体、などが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられ、これらの中でも、原料の入手性などの観点から、カルボキシル基が好ましく挙げられる。
前記樹脂(A)と併用することができる樹脂との合計の含有量としては、前記感光性組成物全固形分に対して、5〜70質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。該固形分含有量が、5質量%未満であると、後述する感光層の膜強度が弱くなりやすく、該感光層の表面のタック性が悪化することがあり、70質量%を超えると、露光感度が低下することがある。なお、前記含有量は、固形分含有量のことを示している。
本発明において、重合性化合物(B)、光重合開始剤(C)、その他の成分として公知の組成物を構成する成分を好適に用いることができ、例えば、特開2006−23696号公報の段落番号[0010]〜[0020]に記載の成分や、特開2006−64921号公報の段落番号[0027]〜[0053]に記載の成分が挙げられる。
前記光重合開始剤(C)の含有量としては、樹脂(A)に対して0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。
前記感光性組成物において、微粒子を添加することが好ましい。前記微粒子(D)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、特開2003−302639号公報[0035]〜[0041]に記載の体質顔料が好ましく、中でも良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られるという観点からコロイダルシリカが好ましい。
本発明におけるパターニング工程は、支持体上に形成された感光性樹脂層を露光及び現像してパターニングする。パターニング工程の具体例としては、特開2006−64921号公報の段落番号[0071]〜[0077]に記載の形成例や、特開2006−23696号公報の段落番号[0040]〜[0051]に記載の工程などが、本発明においても好適な例として挙げられる。
前記黒色遮蔽部及び着色部とフォトスペーサとは、感光性組成物を塗布する塗布法と感光性組成物からなる感光性樹脂層を有する転写材料を用いる転写法と、を任意に組合せて形成することが可能である。
前記黒色遮蔽部及び着色部並びに前記フォトスペーサはそれぞれ感光性組成物から形成でき、具体的には、例えば、基板に液体の前記感光性組成物を直接塗布することにより感光性樹脂層を形成した後に、露光・現像を行い、前記黒色遮蔽部及び着色部をパターン状に形成し、その後、別の液体の前記感光性組成物を前記基板とは異なる別の基板(仮支持体)上に設置して感光性樹脂層を形成することにより作製された転写材料を用い、この転写材料を前記黒色遮蔽部及び着色部が形成された前記基板に密着させて感光性樹脂層を転写した後に、露光・現像を行うことによりフォトスペーサをパターン状に形成することができる。このようにして、フォトスペーサが設けられたカラーフィルタを作製することができる。
本発明の液晶表示装置用基板は、前記本発明のフォトスペーサーの製造方法により得られたフォトスペーサーを備えたものである。フォトスペーサーは、支持体上に形成されたブラックマトリクス等の表示用遮光部の上やTFT等の駆動素子上に形成されることが好ましい。また、ブラックマトリクス等の表示用遮光部やTFT等の駆動素子とフォトスペーサーとの間にITO等の透明導電層(透明電極)やポリイミド等の液晶配向膜が存在していてもよい。
本発明の液晶表示装置用基板には更に、必要に応じて赤色(R)、青色(B)、緑色(G)3色等の着色画素が設けられていてもよい。
前記本発明の液晶表示装置用基板を設けて液晶表示素子を構成することができる。液晶表示素子の1つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体(本発明の液晶表示装置用基板を含む。)間に液晶層と液晶駆動手段(単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。)を少なくとも備えたものが挙げられる。
この場合も、本発明の液晶表示装置用基板は、複数のRGB画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されたカラーフィルタ基板として構成されている。
また、前記カラーフィルタ基板の前記画素群は、互いに異なる色を呈する2色の画素からなるものでも、3色の画素、4色以上の画素からなるものであってもよい。例えば3色の場合、赤(R)、緑(G)及び青(B)の3つの色相で構成される。RGB3色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、4色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタ基板の作製は、例えば2色以上の画素群を形成した後既述のようにブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスを形成した後に画素群を形成するようにしてもよい。RGB画素の形成については、特開2004−347831号公報等を参考にすることができる。
本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置用基板を設けて構成されたものである。また、本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示素子を設けて構成されたものである。すなわち、互いに向き合うように対向配置された一対の基板間を既述のように、本発明のフォトスペーサーの製造方法により作製されたフォトスペーサーで所定幅に規制し、規制された間隙に液晶材料を封入(封入部位を液晶層と称する。)して構成されており、液晶層の厚さ(セル厚)が所望の均一厚に保持されるようになっている。
(合成例1)
反応容器中に1−メトキシ−2−プロパノール(ダイセル化学工業(株)製) 8.57部をあらかじめ加え90℃に昇温し、イソプロピルメタクリレート 6.27部、メタクリル酸 5.15部、アゾ系重合開始剤(和光純薬社製、V−601) 1部、及び1−メトキシ−2−プロパノール8.57部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、90℃の反応容器中に2時間かけて滴下した。滴下後4時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.025部、及びテトエチルアンモニウムブロマイド 0.084部を加えた後、グリシジルメタクリレート 5.41部を2時間かけて滴下した。滴下後、空気を吹き込みながら90℃で4時間反応させ後、固形分濃度が45%になるように溶媒MMPGACを添加することにより調製し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−1で表される樹脂溶液を得た。
なお、前記化合物構造P−1で表される樹脂の分子量Mwは、重量平均分子量のことを示し、前記分子量の測定方法としては、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用いて測定した。
前記化合物構造P−2で表される樹脂の合成を以下のように行った。
前記化合物構造P−2で表される樹脂は、前記化合物構造P−2中のx:y:zが40mol%:25mol%:35mol%になるように、t−ブチルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−2で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−3で表される樹脂の合成例3を以下のように行った。
前記化合物構造P−3で表される樹脂は、前記化合物構造P−3中のx:y:zが40mol%:20mol%:40mol%になるように、イソブチルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−3で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−7で表される樹脂の合成例4を以下のように行った。
前記P−7で表される樹脂は、前記化合物構造P−7中のx:y:zが40mol%:25mol%:35mol%になるように、イソプロピルメタクリレート、メタクリル酸、及びサイクロマー(CYCLOMER)M−200;ダイセル化学工業(株)製の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−7で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−8で表される樹脂の合成例5を以下のように行った。
前記P−8で表される樹脂は、前記化合物構造P−8中のx:y:zが35mol%:30mol%:35mol%になるように、t−ブチルメタクリレート、メタクリル酸、及びサイクロマー(CYCLOMER)A−200;ダイセル化学工業(株)製の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−8で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−10で表される樹脂の合成例6を以下のように行った。
前記P−10で表される樹脂は、前記化合物構造P−10中のx:y:zが30mol%:30mol%:40mol%になるように、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−10で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−12で表される樹脂の合成例7を以下のように行った。
前記P−12で表される樹脂は、前記化合物構造P−12中のx:y:zが30mol%:30mol%:40mol%になるように、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、及びサイクロマー(CYCLOMER)A−200;ダイセル化学工業(株)製の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−12で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−13で表される樹脂の合成例8を以下のように行った。
前記P−13で表される樹脂は、前記化合物構造P−13中のx:y:zが45mol%:15mol%:40mol%になるように、イソボルニルメタクリレート、アクリル酸ダイマー、及びサイクロマー(CYCLOMER)M−200;ダイセル化学工業(株)製の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−13で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−14で表される樹脂の合成例9を以下のように行った。
前記P−14で表される樹脂は、前記化合物構造P−14中のx:y:zが35mol%:30mol%:35mol%になるように、イソボルニルメタクリレート、メタクリル酸、及びサイクロマー(CYCLOMER)A−200;ダイセル化学工業(株)製の添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−14で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−15で表される樹脂の合成例10を以下のように行った。
前記P−15で表される樹脂は、前記化合物構造P−15中のx:y:zが45mol%:30mol%:25mol%になるように、ノルボルニルメタクリレート、アクリル酸ダイマー、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−15で表される樹脂溶液を得た。
前記合成例2において、合成例2で用いた成分の添加量を表2中の固形分酸価、Mwになるように調整し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−2で表される樹脂溶液を得た。
前記合成例1において、合成例1で用いた成分の添加量を表2中の固形分酸価、Mwになるように調整し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−1で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−24で表される樹脂の合成例18を以下のように行った。
前記P−24で表される樹脂は、前記化合物構造P−24中のx:y:zが44mol%:16mol%:40mol%になるように、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−24で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−25で表される樹脂の合成例19を以下のように行った。
前記P−25で表される樹脂は、前記化合物構造Pー18中のx:l:y:zが46mol%:2mol%:20mol%:32mol%になるように、シクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−25で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−26で表される樹脂の合成例20を以下のように行った。
前記P−26で表される樹脂は、前記化合物構造P−26中のx:l:y:zが45.5mol%:2mol%:19mol%:33.5mol%になるように、シクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−26で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−27で表される樹脂の合成例21を以下のように行った。
前記P−27で表される樹脂は、前記化合物構造P−27中のx:y:zが48mol%:22mol%:30mol%になるように、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−27で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−28で表される樹脂の合成例22を以下のように行った。
前記P−28で表される樹脂は、前記化合物構造P−28中のx:y:zが51.5mol%:18.5mol%:30mol%になるように、シクロヘキシルメタクリレート、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−28で表される樹脂液を得た。
反応容器中に1−メトキシ−2−プロパノール 25gと1−メトキシ−2−プロピルアセテート25gの混合溶媒をあらかじめ加え、90℃に昇温しスチレン32.1g、メタクリル酸36.5g、アゾ系重合開始剤(和光純薬社製、V−601) 6.73g、1−メトキシ−2−プロパノール 25g、および1−メトキシ−2−プロピルアセテート25gの混合溶液を窒素ガス雰囲気下、90℃の反応容器中に2時間かけて滴下した。滴下後4時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−25で表される樹脂の合成を以下のように行った。
合成例19において、開始剤量と反応温度を調整した以外は同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−25で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−29〜P−35で表される樹脂の合成を以下のように行った。
前記化合物構造P−29〜P−35で表される樹脂は、前記化合物構造P−29〜P−35中のx:y:zが表3に記載のmol%になるように、表3のxユニットに記載の各化合物、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−29〜P−35で表される樹脂溶液を得た。
前記化合物構造P−21で表される樹脂の合成を以下のように行った。
前記P−21で表される樹脂は、前記化合物構造P−21中のx:y:zが45mol%:20mol%:35mol%になるように、ADMA(メタクリル酸 2-アダマンチル)、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレートの添加量を変更した以外は、合成例1と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−21で表される樹脂溶液を得た。
−スペーサー用感光性転写フイルムの作製−
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体(PET仮支持体)上に、下記処方Aからなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚15.0μmの熱可塑性樹脂層を形成した。
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート
/メタクリル酸共重合体 … 25.0部
(=55/11.7/4.5/28.8[モル比]、質量平均分子量90,000)
・スチレン/アクリル酸共重合体 … 58.4部
(=63/37[モル比]、質量平均分子量8,000)
・2,2−ビス〔4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル〕プロパン
… 39.0部
・界面活性剤1(下記構造物1) … 10.0部
・メタノール … 90.0部
・1−メトキシ−2−プロパノール … 51.0部
・メチルエチルケトン … 700部
次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、下記処方Bからなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚1.6μmの中間層を積層した。
*界面活性剤1
・下記構造物1 ・・・30%
・メチルエチルケトン ・・・70%
・ポリビニルアルコール … 3.22部
(PVA−205、鹸化率88%、(株)クラレ製)
・ポリビニルピロリドン … 1.49部
(PVP K−30、アイエスピー・ジャパン株式会社製)
・メタノール … 42.3部
・蒸留水 … 524部
特開2005−3861号公報の段落番号[0084]〜[0095]に記載の方法でブラックマトリクス、R画素、G画素、B画素を有するカラーフィルタを作製した。次いで、カラーフィルタ基板のR画素、G画素、及びB画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ITO(Indium Tin Oxide)の透明電極をスパッタリングにより形成した。
得られたスペーサー用感光性転写フイルム(1)のカバーフィルムを剥離し、露出した感光性樹脂組成物層の表面を、上記で作製したITO膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のITO膜上に重ね合わせ、ラミネーターLamicII型〔(株)日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧100N/cm、130℃の加圧・加熱条件下で搬送速度2m/分にて貼り合わせた。その後、PET仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光性樹脂組成物層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した(層形成工程)。
引き続き、炭酸Na系現像液(0.38モル/リットルの炭酸水素ナトリウム、0.47モル/リットルの炭酸ナトリウム、5%のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有;商品名:T−CD1(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて29℃で50秒間、コーン型ノズル圧力0.15MPaでシャワー現像し、スペーサーのパターン像を得た。
引き続き、洗浄剤(燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有;商品名:T−SD3(富士フイルム(株)製))を純水で10倍に希釈した液を用いて33℃で20秒間、コーン型ノズル圧力0.02MPaにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、所望のスペーサーパターンを得た。
得られたスペーサーパターンは、直径24μm、平均高さ3.6μmの円柱状であった。尚、平均高さは、得られたスペーサ1000個を三次元表面構造解析顕微鏡(メーカー:ZYGO Corporation、型式:New View 5022)を用い、ITOの透明電極形成面から最も高いスペーサーの最も高い位置を測定(n=20)した。
別途、対向基板としてガラス基板を用意し、上記で得られたカラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれPVAモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
実施例1において、樹脂(A)を合成例1で得た化合物構造P−1の代わりに、表2又は表3に記載の化合物構造に変更し、感光性樹脂組成物層用塗布液の処方1を表1に記載の処方に変更した以外は、実施例1と同様の方法でフォトスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径24μm、平均高さ3.6μmの円柱状であった。
・カーボンブラック(商品名:Nipex35、デグサ ジャパン(株)製) 13.1部
・分散剤1(下記化合物1) 0.65部
・ポリマー(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=72/28モル比のランダム共重合物、分子量3.7万) 6.72部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 79.53部
−フォトスペーサーの作製(液レジ法)−
上記で作製したITO膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のITO膜上に、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーターMH−1600(エフ・エー・エス・アジア社製)にて下記表1に示す処方からなる感光性樹脂組成物層用塗布液を塗布した。引き続き、真空乾燥機VCD(東京応化社製)を用いて30秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、120℃で3分間プリベークして膜厚4.0μmの感光性樹脂組成物層を形成した(層形成工程)。
モバイル機器など小型の液晶表示装置では、一般に画素が小さく、かつTNタイプの液晶モードが用いられる。このため、スペーサーは直径を小さく、かつ、高さをより高く求められることが多い。しかし、直径が小さく、高さが高いスペーサーは、工程中で一部が脱落するケースがある。
この要求に、より適した例として、本実施例では、樹脂(A)を合成例1で得た化合物構造P−1の代わりに、合成例18〜22の化合物構造に変更し、感光性樹脂組成物層用塗布液の処方1を表4に記載の処方に変更した以外は、実施例1と同様の方法でフォトスペーサーを作成した。但しT−CD1は純水で5倍に希釈して用いた。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。工程中での脱落は見られなかった。また本実施例では、コロイダルシリカの割合を増やして、スペーサーの厚み精度を高めた。
実施例28において感光性樹脂組成物層用塗布液を塗布量調整して、得られたスペーサーパターンを、直径15μm、平均高さ4.7μmの円柱状に変更した以外は実施例28と同様に行なった。
−変形回復率−
フォトスペーサーの各々について、微小硬度計(DUH−W201、(株)島津製作所製)により次のようにして測定を行ない、評価した。測定は、50μmφの円錘台圧子を採用し、直径24μmのフォトスペーサーの場合は、最大荷重50mN、保持時間5秒として、負荷−除荷試験法により行ない、直径15μmのフォトスペーサーの場合は、最大荷重21mN、保持時間5秒として、同様に行なった。この測定値から下記式により変形回復率〔%〕を求め、下記基準にしたがって評価した。測定は、22±1℃、50%RHの環境下で行った。
変形回復率(%)=(加重開放後の回復量[μm]/加重による変形量[μm])×100
5:変形回復率が90%以上であった。
4:変形回復率が87%以上90%未満であった。
3:変形回復率が85%以上87%未満であった。
2:変形回復率が80%以上85%未満であった。
1:変形回復率が75%以上80%未満であった。
0:変形回復率が75%未満であった。
上記「−フォトスペーサーの作製−」において、プロキシミティー露光後、各実施例の現像条件と同様の方法で現像し、形成したフォトスペーサー周辺部分のSEM観察を行い周辺に残渣が残っているか確認した。
5: 残渣がまったく見られない。
4: パターン周辺に若干の残渣が見られた。
3: パターン周辺に残渣が見られた。
2: パターン周辺とパターン近傍の基板上に残渣が見られた。
1: 基板上所々に残渣が確認できた。
カラーフィルタ基板に感光性樹脂転写フィルムを転写した状態について、仮支持体剥離後、光学顕微鏡にてラミネート状態を観察し、ラミ泡の有無を観察した。
3:ラミ泡がまったく無い。
2:ラミ泡が、パターン形成箇所以外に発生した。
1:ラミ泡がパターン形成部に発生した。
45℃/75%RH環境下で24時間放置した後の、感光性樹脂転写フイルムの表面を顕微鏡を用いて観察し、下記基準にしたがって目視による評価を行なった。
4:細かい「しわ」等の発生は、全く認められなかった。
3:細かい「しわ」等の発生が僅かに認められたが、実用上使用可能な程度であった。
2:細かい「しわ」等の発生が少し認められた。
1:細かい「しわ」等の発生がかなり認められた。
液晶表示装置の各々について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視及びルーペにて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
○:表示ムラは全く認められなかった。
△:表示ムラが僅かに認められた。
×:表示ムラが顕著に認められた。
Claims (12)
- 側鎖に分岐および/または脂環構造を有する基、側鎖に酸性基を有する基、および側鎖にエチレン性不飽和基を有する基とを含有する樹脂(A)、重合性化合物(B)、光重合開始剤(C)を少なくとも含んでなることを特徴とする感光性組成物。
- 前記樹脂(A)のガラス転移温度(Tg)が40〜180℃であり、かつ重量平均分子量が10,000〜100,000であることを特徴とする請求項1に記載の感光性組成物。
- 前記重合性化合物(B)の樹脂(A)に対する質量比率((B)/(A))が0.5〜2であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の感光性組成物。
- 更に微粒子(D)を含むことを特徴とする請求項1〜請求項3の何れか1項に記載の感光性組成物。
- 前記微粒子(D)の平均粒子径が5〜50nmであり、かつ請求項4に記載の感光性組成物中の全固形分に対する質量比率が5〜50質量%であることを特徴とする請求項4に記載の感光性組成物。
- 前記微粒子(D)がコロイダルシリカであることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の感光性組成物。
- 仮支持体上に、少なくとも感光性樹脂層を有する感光性樹脂転写フイルムであって、該感光性樹脂層が、請求項1〜請求項6の何れか1項に記載の感光性組成物を用いて形成されたことを特徴とする感光性樹脂転写フイルム。
- 前記感光性樹脂層と前記仮支持体の間に、酸素遮断層および/または熱可塑性樹脂層を設けたことを特徴とする請求項7に記載の感光性樹脂転写フイルム。
- 請求項1〜請求項6の何れか1項に記載の感光性組成物を用いて、塗布することで支持体上に感光性樹脂層を形成する工程を有することを特徴とするフォトスペーサーの製造方法。
- 請求項7又は請求項8に記載の感光性樹脂転写フイルムを用いて、加熱及び/又は加圧により感光性樹脂層を転写することで支持体上に感光性樹脂層を形成する工程を有することを特徴とするフォトスペーサーの製造方法。
- 請求項9又は請求項10に記載のフォトスペーサーの製造方法により製造したフォトスペーサーを備えたことを特徴とする液晶表示装置用基板。
- 請求項11に記載の液晶表示装置用基板を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007185797A JP4994136B2 (ja) | 2006-07-26 | 2007-07-17 | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006203926 | 2006-07-26 | ||
JP2006203926 | 2006-07-26 | ||
JP2006309042 | 2006-11-15 | ||
JP2006309042 | 2006-11-15 | ||
JP2007185797A JP4994136B2 (ja) | 2006-07-26 | 2007-07-17 | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008146018A true JP2008146018A (ja) | 2008-06-26 |
JP4994136B2 JP4994136B2 (ja) | 2012-08-08 |
Family
ID=39222441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007185797A Active JP4994136B2 (ja) | 2006-07-26 | 2007-07-17 | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4994136B2 (ja) |
KR (1) | KR20080010354A (ja) |
CN (1) | CN101114124B (ja) |
TW (1) | TW200813630A (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010032627A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Jsr Corp | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 |
JP2010066323A (ja) * | 2008-09-08 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | 感光性転写材料、樹脂パターンの形成方法、樹脂パターン付き基板、表示装置及び液晶表示装置 |
JP2010085760A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP2010256687A (ja) * | 2009-04-27 | 2010-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | 着色組成物、カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ |
WO2012176915A1 (en) | 2011-06-24 | 2012-12-27 | Fujifilm Corporation | Ink composition, image forming method and printed material |
WO2014065220A1 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、パターン形成方法およびエッチング方法 |
WO2014077228A1 (ja) * | 2012-11-14 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、感光性低屈折率転写層を有する基板、感光性低屈折率転写層の製造方法、永久膜の形成方法、光学デバイス及びその製造方法 |
JP2016006475A (ja) * | 2013-10-11 | 2016-01-14 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、分散組成物、これを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
JP2016034722A (ja) * | 2014-08-01 | 2016-03-17 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、透明積層体および静電容量型入力装置 |
JP2016186550A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2017120435A (ja) * | 2017-03-01 | 2017-07-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、パターン形成方法およびエッチング方法 |
JP2018005249A (ja) * | 2017-09-14 | 2018-01-11 | 日立化成株式会社 | タッチパネル電極の保護膜用感光性透明材 |
US9964849B2 (en) | 2011-12-05 | 2018-05-08 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
US10040967B2 (en) | 2015-11-06 | 2018-08-07 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive film, photosensitive element, cured product and touch panel |
US10336043B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-07-02 | Fujifilm Corporation | Transfer film, transparent laminate, method for producing transparent laminate, capacitive input device, and image display device |
WO2021246366A1 (ja) * | 2020-06-01 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、積層体の製造方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5328175B2 (ja) * | 2008-02-25 | 2013-10-30 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサ及びその製造方法、表示装置用基板並びに表示装置 |
JP5284833B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-09-11 | 富士フイルム株式会社 | フォトスペーサーの製造方法 |
CN102270524A (zh) * | 2010-05-21 | 2011-12-07 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 基于热塑性透明聚合物的银纳米线透明导电薄膜及其制备方法 |
JP2012255963A (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
WO2013084283A1 (ja) * | 2011-12-05 | 2013-06-13 | 日立化成株式会社 | タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント |
JP6080543B2 (ja) * | 2012-12-26 | 2017-02-15 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物 |
KR20150029921A (ko) * | 2013-09-11 | 2015-03-19 | 동우 화인켐 주식회사 | 디스플레이 장치의 전면 차광층 형성용 착색 감광성 수지 조성물 |
JP6943279B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-09-29 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法及びタッチパネル |
CN110462560B (zh) * | 2017-03-28 | 2023-07-28 | 株式会社力森诺科 | 转印型感光性膜 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000147767A (ja) * | 1997-09-29 | 2000-05-26 | Kansai Paint Co Ltd | フオトレジスト用感光性樹脂組成物 |
JP2002287357A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Nippon Paint Co Ltd | フォトソルダーレジスト組成物 |
JP2003207890A (ja) * | 2002-01-10 | 2003-07-25 | Goo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、プリント配線板及びドライフィルム |
JP2004219979A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-08-05 | Mitsubishi Chemicals Corp | 着色感光性組成物、カラーフィルター及びこれを用いて形成された液晶表示装置 |
JP2004240396A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | 着色感光性組成物、カラーフィルター及びこれを用いて形成された液晶表示装置 |
JP2005091852A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性組成物およびそれを用いて形成したフォトスペーサを有するカラーフィルタ |
JP2005157311A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2006047542A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Toray Ind Inc | 感光性セラミックス組成物 |
JP2006064921A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性転写材料、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2006124664A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2006220701A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 感光性樹脂組成物、及びその硬化物並びに該硬化物からなる表示パネル用スペーサー |
JP2006243015A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Toppan Printing Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いて形成したフォトスペーサを有するカラーフィルタ |
JP2006308961A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにスペーサーの製造方法 |
JP2007246586A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4119666B2 (ja) * | 2002-04-11 | 2008-07-16 | 富士フイルム株式会社 | スペーサー用樹脂組成物及び液晶表示素子 |
TWI279644B (en) * | 2004-01-19 | 2007-04-21 | Chi Mei Corp | Photo-sensitive resin composite for black matrix |
CN1260619C (zh) * | 2004-04-30 | 2006-06-21 | 奇美实业股份有限公司 | 黑色矩阵用感光性树脂组成物 |
CN100460432C (zh) * | 2004-08-12 | 2009-02-11 | Jsr株式会社 | 侧链不饱和聚合物、辐射敏感性树脂组合物以及液晶显示元件用隔板 |
CN1797197A (zh) * | 2004-11-17 | 2006-07-05 | Jsr株式会社 | 感光性树脂组合物、显示面板用间隔体以及显示面板 |
KR101299380B1 (ko) * | 2005-03-02 | 2013-08-22 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물 및 액정 표시 소자용 스페이서 |
JP4571087B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2010-10-27 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物並びにそれを用いた表示装置用遮光膜形成用材料及び感光性転写材料 |
TWI371654B (en) * | 2008-06-20 | 2012-09-01 | Chi Mei Corp | Photosensitive resin composition for black matrix |
-
2007
- 2007-07-17 JP JP2007185797A patent/JP4994136B2/ja active Active
- 2007-07-24 TW TW096126854A patent/TW200813630A/zh unknown
- 2007-07-26 CN CN2007101363905A patent/CN101114124B/zh active Active
- 2007-07-26 KR KR1020070075221A patent/KR20080010354A/ko active Search and Examination
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000147767A (ja) * | 1997-09-29 | 2000-05-26 | Kansai Paint Co Ltd | フオトレジスト用感光性樹脂組成物 |
JP2002287357A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Nippon Paint Co Ltd | フォトソルダーレジスト組成物 |
JP2003207890A (ja) * | 2002-01-10 | 2003-07-25 | Goo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、プリント配線板及びドライフィルム |
JP2004219979A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-08-05 | Mitsubishi Chemicals Corp | 着色感光性組成物、カラーフィルター及びこれを用いて形成された液晶表示装置 |
JP2004240396A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | 着色感光性組成物、カラーフィルター及びこれを用いて形成された液晶表示装置 |
JP2005091852A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性組成物およびそれを用いて形成したフォトスペーサを有するカラーフィルタ |
JP2005157311A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2006047542A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Toray Ind Inc | 感光性セラミックス組成物 |
JP2006064921A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性転写材料、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2006124664A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2006220701A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 感光性樹脂組成物、及びその硬化物並びに該硬化物からなる表示パネル用スペーサー |
JP2006243015A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Toppan Printing Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いて形成したフォトスペーサを有するカラーフィルタ |
JP2006308961A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにスペーサーの製造方法 |
JP2007246586A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010032627A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Jsr Corp | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 |
JP2010066323A (ja) * | 2008-09-08 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | 感光性転写材料、樹脂パターンの形成方法、樹脂パターン付き基板、表示装置及び液晶表示装置 |
JP2010085760A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP2010256687A (ja) * | 2009-04-27 | 2010-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | 着色組成物、カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ |
WO2012176915A1 (en) | 2011-06-24 | 2012-12-27 | Fujifilm Corporation | Ink composition, image forming method and printed material |
US9964849B2 (en) | 2011-12-05 | 2018-05-08 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
WO2014065220A1 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、パターン形成方法およびエッチング方法 |
US9810984B2 (en) | 2012-10-26 | 2017-11-07 | Fujifilm Corporation | Photosensitive transfer material, pattern formation method, and etching method |
US10289001B2 (en) | 2012-10-26 | 2019-05-14 | Fujifilm Corporation | Pattern forming method, etching method and method for producing capacitance-type input device |
JP2014085643A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Fujifilm Corp | 感光性転写材料、パターン形成方法およびエッチング方法 |
JP6012755B2 (ja) * | 2012-11-14 | 2016-10-25 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、感光性低屈折率転写層を有する基板、感光性低屈折率転写層の製造方法、永久膜の形成方法、光学デバイスの製造方法 |
WO2014077228A1 (ja) * | 2012-11-14 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、感光性低屈折率転写層を有する基板、感光性低屈折率転写層の製造方法、永久膜の形成方法、光学デバイス及びその製造方法 |
US10336043B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-07-02 | Fujifilm Corporation | Transfer film, transparent laminate, method for producing transparent laminate, capacitive input device, and image display device |
JP2016006475A (ja) * | 2013-10-11 | 2016-01-14 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、分散組成物、これを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
JP2016034722A (ja) * | 2014-08-01 | 2016-03-17 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、透明積層体および静電容量型入力装置 |
JP2016186550A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
US10040967B2 (en) | 2015-11-06 | 2018-08-07 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive film, photosensitive element, cured product and touch panel |
US10717893B2 (en) | 2015-11-06 | 2020-07-21 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive film, photosensitive element, cured product and touch panel |
JP2017120435A (ja) * | 2017-03-01 | 2017-07-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、パターン形成方法およびエッチング方法 |
JP2018005249A (ja) * | 2017-09-14 | 2018-01-11 | 日立化成株式会社 | タッチパネル電極の保護膜用感光性透明材 |
WO2021246366A1 (ja) * | 2020-06-01 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、積層体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200813630A (en) | 2008-03-16 |
KR20080010354A (ko) | 2008-01-30 |
CN101114124A (zh) | 2008-01-30 |
JP4994136B2 (ja) | 2012-08-08 |
CN101114124B (zh) | 2013-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4994136B2 (ja) | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置 | |
JP5207837B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、フォトスペーサーの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
JP5191244B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP5127577B2 (ja) | スペーサ及びその製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示装置 | |
JP5284833B2 (ja) | フォトスペーサーの製造方法 | |
JP5361459B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂転写材料、フォトスペーサー及びその製造方法、表示装置用基板、並びに、表示装置 | |
JP2009048187A (ja) | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
TWI476513B (zh) | 感光性樹脂組成物、光間隔物及其形成方法、保護膜、著色圖案、顯示裝置用基板與顯示裝置 | |
JP2009162871A (ja) | 感光性組成物、フォトスペーサー及びフォトスペーサーの製造方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP5030599B2 (ja) | 液晶ディスプレイ用フォトスペーサー及びその製造方法並びに液晶表示装置 | |
JP5328175B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサ及びその製造方法、表示装置用基板並びに表示装置 | |
JP2009229720A (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP2009084435A (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサの製造方法、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、及び液晶表示装置 | |
JP2009122533A (ja) | 感光性樹脂組成物、スペーサ及びその形成方法、並びに液晶表示素子 | |
JP2009080194A (ja) | 重合性樹脂組成物、転写材料、カラーフィルタ及びその製造方法、液晶表示装置用スペーサ及びその製造方法、並びに液晶表示装置 | |
JP2009186838A (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 | |
JP2009122549A (ja) | 感光性樹脂組成物、スペーサ及びその形成方法、並びに液晶表示素子 | |
JP2010039022A (ja) | パターン構造物の製造方法、パターン構造物付き基板及び液晶表示装置 | |
JP2009128487A (ja) | 感光性樹脂組成物及びフォトスペーサーの製造方法、並びに、液晶表示装置用基板、液晶表示素子及び液晶表示装置 | |
KR20090104670A (ko) | 감광성 수지 조성물, 포토 스페이서와 그 제조방법, 보호막, 착색 패턴, 표시장치용 기판, 및 표시장치 | |
JP2009079140A (ja) | 硬化性組成物、硬化性樹脂転写フイルム、スペーサーの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
JP2009035642A (ja) | 硬化性組成物、硬化性樹脂転写材料、硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置用基板、並びに液晶表示装置 | |
KR20090082859A (ko) | 감광성 수지 조성물, 포토 스페이서와 그 형성방법, 보호막, 착색 패턴, 표시장치용 기판, 및 표시장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120417 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120508 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150518 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4994136 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |