JP2009162871A - 感光性組成物、フォトスペーサー及びフォトスペーサーの製造方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 - Google Patents
感光性組成物、フォトスペーサー及びフォトスペーサーの製造方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】良好な透明性を有し、硬化状態における弾性回復率が良好なカラーフィルタ用の感光性組成物を提供する。
【解決手段】感光性組成物中に、酸性基とエチレン性不飽和結合を有する基とを側鎖に含有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含む重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を少なくとも含有せしめる。
【選択図】なし
【解決手段】感光性組成物中に、酸性基とエチレン性不飽和結合を有する基とを側鎖に含有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含む重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を少なくとも含有せしめる。
【選択図】なし
Description
本発明は、感光性組成物、フォトスペーサー及びフォトスペーサーの製造方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置に関する。
従来、液晶表示装置は、高画質画像を表示する表示装置に広く利用されている。液晶表示装置は一般に、一対の基板（以下、「表示装置用基板」ともいう）間に所定の配向により画像表示を可能とする液晶層が配置されており、この基板間隔、すなわち液晶層の厚みを均一に維持することが画質を決定する要素の一つであり、そのために液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーが配設されている。この基板の間の厚みは一般に「セル厚」と称され、セル厚は通常、前記液晶層の厚み、換言すれば、表示領域の液晶に電界をかけている２枚の電極間の距離を示すものである。
表示装置用基板（例えば、カラーフィルタ基板、アクティブマトリクス基板等）は、基板上に着色パターンや保護膜等の構造物が形成された構成となっている。これらの構造物のうち、着色パターンや保護膜の形成方法としては、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより形成する方法が主流となっている。
スペーサーは、従来ビーズ散布により形成されていたが、近年では、感光性組成物を用いてフォトリソグラフィーにより位置精度の高いスペーサーが形成されるようになってきている。このような感光性組成物を用いて形成されたスペーサーは、フォトスペーサーと呼ばれている。
感光性樹脂組成物に関しては、従来から種々の検討がなされており、例えば、エチレン性不飽和カルボン酸等とエチレン性不飽和化合物との共重合体及び特定の光重合開始剤を用いた感光性樹脂組成物が開示されている（例えば、特許文献１参照）。また、特定構造の脂肪族環状炭化水素基を有する構成単位と酸性官能基を有する構成単位とラジカル重合性基を有する構成単位とが連結した分子構造の脂肪族環状炭化水素基含有共重合体からなる硬化性樹脂が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
特開２００７−８６５６５号公報
特開２００２−２９３８３７号公報
前記従来の感光性樹脂組成物においては、一般的に光重合性モノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートやジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のエチレン性不飽和結合を有するモノマーが用いられている。しかしながら、従来の感光性樹脂組成物を用いて基板上にパターン構造物（例えば、フォトスペーサー、着色パターン、等。以下同じ）や保護膜を形成する場合、形成されたパターン構造物や保護膜の変形回復性が不十分であり、表示装置を構成した場合に表示ムラの原因となることがあった。
本発明は良好な透明性を有し、硬化状態における変形回復性が良好なカラーフィルタ用の感光性組成物、該感光性組成物からなるフォトスペーサー、保護膜、及び着色パターン、該感光性組成物を用いたフォトスペーサーの製造方法、並びに表示ムラを防止して高画質画像の表示を可能とする表示装置用基板、及び表示装置を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 酸性基と、エチレン性不飽和結合を有する基とを側鎖に含有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有する重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を少なくとも含んでなるカラーフィルタ用の感光性組成物。
＜２＞ 前記重合性化合物（Ｂ）は、下記一般式（１）〜（１４）のいずれかで表されることを特徴とする前記＜１＞に記載の感光性組成物。
［式中、Ｌ１〜Ｌ８はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ｑ１〜Ｑ８はそれぞれ独立にエチレン性不飽和結合を有する基を表し、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ１１はメチレン、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基を表す］
＜３＞ 前記重合性化合物（Ｂ）の樹脂（Ａ）に対する質量比率（（Ｂ）／（Ａ））が０．５〜２であることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の感光性組成物。
＜４＞ 更に微粒子（Ｄ）を含むことを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞の何れか１項に記載の感光性組成物。
＜１＞ 酸性基と、エチレン性不飽和結合を有する基とを側鎖に含有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有する重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を少なくとも含んでなるカラーフィルタ用の感光性組成物。
＜２＞ 前記重合性化合物（Ｂ）は、下記一般式（１）〜（１４）のいずれかで表されることを特徴とする前記＜１＞に記載の感光性組成物。
［式中、Ｌ１〜Ｌ８はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ｑ１〜Ｑ８はそれぞれ独立にエチレン性不飽和結合を有する基を表し、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ１１はメチレン、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基を表す］
＜３＞ 前記重合性化合物（Ｂ）の樹脂（Ａ）に対する質量比率（（Ｂ）／（Ａ））が０．５〜２であることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の感光性組成物。
＜４＞ 更に微粒子（Ｄ）を含むことを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞の何れか１項に記載の感光性組成物。
＜５＞ 前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成されたフォトスペーサー。
＜６＞ 前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成された保護膜。
＜７＞ 前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成された着色パターン。
＜６＞ 前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成された保護膜。
＜７＞ 前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成された着色パターン。
＜８＞ 前記＜１＞〜＜４＞の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて、支持体上に感光性樹脂層を形成する工程を有するフォトスペーサーの製造方法。
＜９＞ 前記＜５＞に記載のフォトスペーサー、前記＜６＞に記載の保護膜、及び前記＜７＞に記載の着色パターンの少なくとも１種を備えた表示装置用基板。
＜１０＞ 前記＜９＞に記載の表示装置用基板を備えた表示装置。
＜９＞ 前記＜５＞に記載のフォトスペーサー、前記＜６＞に記載の保護膜、及び前記＜７＞に記載の着色パターンの少なくとも１種を備えた表示装置用基板。
＜１０＞ 前記＜９＞に記載の表示装置用基板を備えた表示装置。
本発明によれば、良好な透明性を有し、硬化状態における変形回復性が良好なカラーフィルタ用の感光性組成物、該感光性組成物からなるフォトスペーサー、保護膜、及び着色パターン、該感光性組成物を用いたフォトスペーサーの製造方法、並びに表示ムラを防止して高画質画像の表示を可能とする表示装置用基板、及び表示装置を提供することができる。
以下、本発明の感光性組成物について詳細に説明し、さらに該感光性樹脂組成物を用いたフォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置についても説明する。
≪感光性組成物≫
本発明のカラーフィルタ用の感光性組成物は、酸性基と、エチレン性不飽和結合を有する基と、を含有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有する重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を少なくとも含有する。本発明の感光性組成物の硬化物は、良好な透明性と高度の変形回復性を有する。そのため本発明の感光性組成物により製造される、例えば、フォトスペーサーは高度の変形回復性を有し、これを含む表示装置における表示ムラを解消することができる。
本発明のカラーフィルタ用の感光性組成物は、酸性基と、エチレン性不飽和結合を有する基と、を含有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有する重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を少なくとも含有する。本発明の感光性組成物の硬化物は、良好な透明性と高度の変形回復性を有する。そのため本発明の感光性組成物により製造される、例えば、フォトスペーサーは高度の変形回復性を有し、これを含む表示装置における表示ムラを解消することができる。
（Ｂ）重合性化合物
本発明における重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有することを特徴とする。重合性化合物が環構造を有し、該環構造に結合した２つ以上のエチレン性不飽和基が重合することによって形成される硬化物は、その分子配向性が良好であり、高度の変形回復性を示すことができる。
本発明における重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有することを特徴とする。重合性化合物が環構造を有し、該環構造に結合した２つ以上のエチレン性不飽和基が重合することによって形成される硬化物は、その分子配向性が良好であり、高度の変形回復性を示すことができる。
前記重合性化合物における環構造としては、その構成原子及び大きさについて特に制限はない。エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と結合可能な環構造であればよく、脂肪族環、芳香族環、および複素環のいずれであってもよい。また、単環構造であっても、縮合環構造であっても、複数の環が互いに単結合又は連結基で連結して更に環を形成した構造であってもよい。本発明においては、変形回復性の観点から、回転対称性を有する環構造であることが好ましい。
また、前記環構造としては、変形回復性の観点から、６員環以上であることが好ましく、６員以上４０員以下の環構造であることが好ましく、６員以上２０員以下であることもまた好ましい。
更に、前記重合性化合物における環構造としては、変形回復性の観点から、環を直接構成する原子が同一平面上に存在する平面環構造であることもまた好ましい。
また、本発明における前記２価以上の環構造含有基は、変形回復性の観点から、３価以上の基であることが好ましい。
更に、前記重合性化合物における環構造としては、変形回復性の観点から、環を直接構成する原子が同一平面上に存在する平面環構造であることもまた好ましい。
また、本発明における前記２価以上の環構造含有基は、変形回復性の観点から、３価以上の基であることが好ましい。
本発明における重合性化合物が含む環構造含有基としては、変形回復性の観点から、回転対称性を有する６員環以上２０員以下の環構造を有する基であることが好ましく、回転対称性を有し、６員環以上２０員以下であって平面環構造を有する３価以上の基であることがより好ましい。
本発明における前記２価以上の環構造含有基としては、例えば、シクロヘキサンに由来する基、ベンゼンに由来する基、トリアジンに由来する基、ポルフィリンに由来する基、ヘキサアザシクロオクタデカンに由来する基、トリフェニレンに由来する基、ジベンゾピレンに由来する基、及びこれらの組合せからなる基等を挙げることができる。
中でも、シクロヘキサンに由来する基、及びトリフェニレンに由来する基であることが好ましい。
中でも、シクロヘキサンに由来する基、及びトリフェニレンに由来する基であることが好ましい。
本発明の重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の少なくとも１種を２つ以上有することを特徴とする。
本発明におけるエチレン性不飽和結合を有する重合性置換基としては特に制限はない。例えば、エチレン性不飽和結合を含む官能基と、前記官能基の少なくとも１つと前記環構造含有基とを連結する２価以上の連結基とから構成することができる。
本発明におけるエチレン性不飽和結合を有する重合性置換基としては特に制限はない。例えば、エチレン性不飽和結合を含む官能基と、前記官能基の少なくとも１つと前記環構造含有基とを連結する２価以上の連結基とから構成することができる。
前記エチレン性不飽和結合を含む官能基は、エチレン性不飽和結合と、アルキル基、アリール基、カルボニル基、酸素原子、及び窒素原子から選ばれる少なくとも１種とを含んで構成される官能基であることが好ましい。
また前記連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、カルボニル基、イミノ基、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組合せからなる群から選ばれる２価以上の連結基であることが好ましい。
また前記連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、カルボニル基、イミノ基、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組合せからなる群から選ばれる２価以上の連結基であることが好ましい。
本発明においては、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有する重合性化合物（Ｂ）は、透明性と変形回復性の観点から、下記一般式（１）〜（１４）のいずれかで表される重合性化合物であることが好ましく、下記一般式（１）〜（１１）のいずれかで表される重合性化合物であることがより好ましく、下記一般式（１）〜（６）のいずれかで表される重合性化合物であることがさらに好ましい。
式中、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ１１はメチレン、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基を表す。
また、Ｌ１〜Ｌ８はそれぞれ独立に２価の連結基を表す。２価の連結基はアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、カルボニル基、イミノ基、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組合せからなる群から選ばれる２価の連結基であることが好ましく、アルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、イミノ基、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる２価の基を少なくとも２つ組合せた連結基であることがより好ましく、アルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、及び酸素原子からなる群から選ばれる２価の基を少なくとも２つ組合せた連結基であることがさらに好ましい。
前記アルキレン基の炭素数は１〜１２であることが好ましく、前記アルケニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、前記アリーレン基の炭素数は６〜１０であることが好ましい。
前記アルキレン基の炭素数は１〜１２であることが好ましく、前記アルケニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、前記アリーレン基の炭素数は６〜１０であることが好ましい。
２価の連結基（Ｌ１〜Ｌ８）の具体例を、以下の（Ｌ−１）〜（Ｌ−２４）に示す。尚、左側が環構造を有する２価以上の基に結合し、右側が重合性置換基（Ｑ１〜Ｑ８）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例えば、アルキル基等）をさらに有していてもよい。
（Ｌ−１）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
（Ｌ−２）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−３）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
（Ｌ−４）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−５）：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
（Ｌ−６）：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−７）：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−８）：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
（Ｌ−９）：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−１０）：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
（Ｌ−２）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−３）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
（Ｌ−４）：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−５）：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
（Ｌ−６）：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−７）：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−８）：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
（Ｌ−９）：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−１０）：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１１）：−Ｏ−ＡＬ−
（Ｌ−１２）：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−１３）：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１４）：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
（Ｌ−１５）：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
（Ｌ−１６）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
（Ｌ−１７）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１８）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１９）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−２０）：−Ｓ−ＡＬ−
（Ｌ−２１）：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−２２）：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−２３）：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
（Ｌ−２４）：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
（Ｌ−１２）：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−１３）：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１４）：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
（Ｌ−１５）：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
（Ｌ−１６）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
（Ｌ−１７）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１８）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−１９）：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−２０）：−Ｓ−ＡＬ−
（Ｌ−２１）：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
（Ｌ−２２）：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
（Ｌ−２３）：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
（Ｌ−２４）：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
Ｑ１〜Ｑ８はそれぞれ独立にエチレン性不飽和結合を有する基を表す。前記エチレン性不飽和結合を有する基は、エチレン性不飽和結合によって付加重合可能な基であれば特に制限はなく、例えば、下記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）で表される基を好ましく挙げることができる。
式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又はメチル基が好ましい。上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、合成の容易さ、反応性などの観点から、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
本発明においては、Ｌ１〜Ｌ８で表される２価の連結基は、互いに同一であっても、それぞれ異なっていてもよい。また、Ｑ１〜Ｑ８で表される重合性置換基も、互いに同一であっても、それぞれ異なっていてもよい。
本発明においては、Ｌ１〜Ｌ８で表される２価の連結基は、互いに同一であっても、それぞれ異なっていてもよい。また、Ｑ１〜Ｑ８で表される重合性置換基も、互いに同一であっても、それぞれ異なっていてもよい。
本発明における重合性化合物（Ｂ）は、透明性と変形回復性の観点から、前記一般式（１）〜（１４）のいずれかであって、Ｌ１〜Ｌ８が前記（Ｌ−１）〜（Ｌ−２４）のいずれかであって、Ｑ１〜Ｑ８が前記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）のいずれかであることが好ましく、前記一般式（１）〜（１１）のいずれかであって、Ｌ１〜Ｌ８が前記（Ｌ−１）〜（Ｌ−２１）のいずれかであって、Ｑ１〜Ｑ８が前記（Ｍ−１）〜（Ｍ−４）のいずれかであることがより好ましい。
本発明における重合性化合物環構造を有する２価以上の基の具体例としては、例えば、特許２６９６４８０号公報に記載の化合物群、特開２００６−７６９９２号公報に記載の化合物群、特開２００６−９１１５１号公報に記載の化合物群等の他、以下に例示する重合性化合物（Ｂ−１）〜（Ｂ−１４）を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明においては、前記重合性化合物（Ｂ）は１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。また、本発明の感光性組成物は、上記重合性化合物（Ｂ）以外のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有してもよい。
前記重合性化合物（Ｂ）以外の前記重合性化合物としては、公知の組成物を構成する重合性の化合物から選択して用いることができ、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２０］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００２７］〜［００５３］に記載の成分を挙げることができる。
本発明における前記重合性化合物（Ｂ）以外の重合性化合物の含有率は、前記重合性化合物（Ｂ）に対して０〜５０質量％とすることができ、変形回復性の観点から、０〜３０質量％であることが好ましい。
前記重合性化合物（Ｂ）以外の前記重合性化合物としては、公知の組成物を構成する重合性の化合物から選択して用いることができ、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２０］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００２７］〜［００５３］に記載の成分を挙げることができる。
本発明における前記重合性化合物（Ｂ）以外の重合性化合物の含有率は、前記重合性化合物（Ｂ）に対して０〜５０質量％とすることができ、変形回復性の観点から、０〜３０質量％であることが好ましい。
本発明の感光性組成物においては、変形回復性の観点から、前記重合性化合物（Ｂ）を全固形分に対して、５〜５０質量％含むことが好ましく、１０〜４０質量％含むことがより好ましい。
また、本発明における重合性化合物（Ｂ）は、市販品を用いてもよいし、通常の合成方法で適宜製造して用いてもよい。合成方法としては、例えば、特許２６９６４８０号明細書、特開２００６-７６９９２号公報等に記載の方法を適用することができる。
また、本発明における重合性化合物（Ｂ）は、市販品を用いてもよいし、通常の合成方法で適宜製造して用いてもよい。合成方法としては、例えば、特許２６９６４８０号明細書、特開２００６-７６９９２号公報等に記載の方法を適用することができる。
（Ａ）樹脂
本発明の感光性組成物は、酸性基と、エチレン性不飽和結合を有する基と、を側鎖に含有する樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」ということがある）の少なくとも１種を含有する。前記樹脂は分岐構造及び脂環構造の少なくとも１種を有する基を、側鎖に更に含有することが好ましい。
本発明の感光性組成物中における樹脂（Ａ）の含有量としては、感光性組成物の全固形分に対して、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。この含有量が、５質量％以上であると感光性組成物層の膜強度を維持でき、該感光性組成物層の表面のタック性を良好に保つことができ、７０質量％以下であると露光感度が良好になる。
本発明の感光性組成物は、酸性基と、エチレン性不飽和結合を有する基と、を側鎖に含有する樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」ということがある）の少なくとも１種を含有する。前記樹脂は分岐構造及び脂環構造の少なくとも１種を有する基を、側鎖に更に含有することが好ましい。
本発明の感光性組成物中における樹脂（Ａ）の含有量としては、感光性組成物の全固形分に対して、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。この含有量が、５質量％以上であると感光性組成物層の膜強度を維持でき、該感光性組成物層の表面のタック性を良好に保つことができ、７０質量％以下であると露光感度が良好になる。
前記樹脂（Ａ）は、酸性基を有して現像性を備えると共に、エチレン性不飽和結合を有することで、高い重合反応性を備えつつ、優れた液保存性及び乾膜での経時保存性有しているので、パターン構造物を所望の形状及び膜厚（高さなど）に制御可能な制御性を付与することができる。また、分岐及び／又は脂環構造を有し、形成されたパターン構造物の外力を受けた際の圧縮弾性率、圧縮変形からの弾性回復性を高めることができる。これより、例えば表示装置用のフォトスペーサーなどのパターン構造物を構成するのに有用である。
ここで、分岐構造及び脂環構造の少なくとも１種、酸性基、並びにエチレン性不飽和結合は、それぞれが異なる側鎖中に含まれていてもよいし、一部が組み合わされて同じ側鎖中に含まれていてもよいし、全てが同じ側鎖中に含まれていてもよい。
なお、本明細書中において、（メタ）アクリロイル基はアクリロイル基又はメタクリロイル基を表し、（メタ）アクリレートはアクリレート又はメタクリレートを表し、（メタ）アクリルはアクリル又はメタクリルを表し、（メタ）アクリルアミドはアクリルアミド又はメタクリルアミドを表し、（メタ）アクリルアニリドはアクリルアニリド又はメタクリルアニリドを表す。
（分岐構造及び脂環構造）
樹脂（Ａ）は、樹脂の主鎖に結合する側鎖に、分岐構造及び脂環構造の少なくとも１種（以下、「分岐及び／又は脂環構造」ということがある）を含む。分岐及び／又は脂環構造は、樹脂（Ａ）の側鎖中に複数含まれていてもよい。また、分岐及び／又は脂環構造は、樹脂（Ａ）の側鎖中に、酸性基、及び／又は、エチレン性不飽和結合とともに含まれていてもよい。
また、分岐及び／又は脂環構造は、樹脂（Ａ）の主鎖に直接結合して分岐及び／又は脂環構造のみで樹脂（Ａ）の側鎖を構成されていてもよいし、樹脂（Ａ）の主鎖に２価の有機連結基を介して結合し、分岐及び／又は脂環構造を有する基として樹脂（Ａ）の側鎖を構成されていてもよい。
樹脂（Ａ）は、樹脂の主鎖に結合する側鎖に、分岐構造及び脂環構造の少なくとも１種（以下、「分岐及び／又は脂環構造」ということがある）を含む。分岐及び／又は脂環構造は、樹脂（Ａ）の側鎖中に複数含まれていてもよい。また、分岐及び／又は脂環構造は、樹脂（Ａ）の側鎖中に、酸性基、及び／又は、エチレン性不飽和結合とともに含まれていてもよい。
また、分岐及び／又は脂環構造は、樹脂（Ａ）の主鎖に直接結合して分岐及び／又は脂環構造のみで樹脂（Ａ）の側鎖を構成されていてもよいし、樹脂（Ａ）の主鎖に２価の有機連結基を介して結合し、分岐及び／又は脂環構造を有する基として樹脂（Ａ）の側鎖を構成されていてもよい。
前記２価の有機連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、エステル基、アミド基、及びエーテル基から選ばれる１つ又はそれらの組み合わせが好ましい。前記アルキレン基としては、総炭素数１〜２０のアルキレン基が好ましく、さらに好ましくは１〜１０が好ましい。具体的には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、オクチレン、ドデシレン、オクタデシレンなどが挙げられ、これらは分岐／環状構造、官能基を有していてもよく、さらに好ましくは、メチレン基、エチレン基、オクチレン基が好ましい。前記アリーレン基としては、総炭総数６〜２０のアリーレン基が好ましく、さらに好ましくは６〜１２が好ましい。具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基、アントラセン基などが挙げられ、これらは分岐、官能基を有していてもよく、さらに好ましくは、フェニレン基、ビフェニレン基が好ましい。
分岐及び／又は脂環構造は、現像性、弾性回復率などの観点から、少なくともエステル基（−ＣＯＯ−）を介して樹脂（Ａ）の主鎖に結合されている形態が好ましい。この形態は、分岐及び／又は脂環構造がエステル基（−ＣＯＯ−）のみを介して樹脂（Ａ）の主鎖に結合されている形態に限られず、分岐及び／又は脂環構造がエステル基（−ＣＯＯ−）を含む２価の連結基を介して樹脂（Ａ）の主鎖に結合されている形態であってもよい。すなわち、分岐及び／又は脂環構造とエステル鎖との間、及び／又は、エステル鎖と樹脂（Ａ）の主鎖との間に、他の原子や他の連結基が含まれていてもよい。
前記分岐構造としては、炭素原子数３〜１２個の分岐状のアルキル基が挙げられ、例えば、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ｉ−アミル基、ｔ−アミル基、３−オクチル、ｔ−オクチル等が好ましい。これらの中でも、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基等がより好ましく、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が特に好ましい。
前記脂環構造としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基が挙げられ、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基等並びにこれらを有する基が好ましい。これらの中でも、ジシクロペンテニル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基等がより好ましく、ジシクロペンテニル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロペンテニル基等が更に好ましく、ジシクロペンテニル基、トリシクロペンテニル基が特に好ましい。
更には、分岐及び／又は脂環構造を有する基として、下記一般式（Ｉ）で表される基を有して構成された形態が好ましい。
一般式（Ｉ）において、Ｘは、２価の有機連結基を表し、無置換でも置換基を有していてもよい。ｙは、１又は２を表し、ｎは０〜１５の整数を表す。
前記２価の有機連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、エステル基、アミド基、及びエーテル基から選ばれる１つ又は組み合わせが好ましく、これらは置換基を有していてもよい。
前記アルキレン基としては、総炭素数１〜２０のアルキレン基が好ましく、さらに好ましくは１〜１０のアルキレン基である。具体的には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、オクチレン、ドデシレン、オクタデシレンなどの基が挙げられ、これらは分岐／環状構造、官能基を有していてもよく、さらに好ましくは、メチレン基、エチレン基、オクチレン基である。
前記アリーレン基としては、総炭総数６〜２０のアリーレン基が好ましく、さらに好ましくは６〜１２のアリーレン基である。具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基、アントラセン基などが挙げられ、これらは分岐、官能基を有していてもよく、さらに好ましくは、フェニレン基、ビフェニレン基である。
置換されている場合の置換基としては、アルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン基、芳香環基、脂環構造を有する基などが挙げられる。
前記アルキレン基としては、総炭素数１〜２０のアルキレン基が好ましく、さらに好ましくは１〜１０のアルキレン基である。具体的には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、オクチレン、ドデシレン、オクタデシレンなどの基が挙げられ、これらは分岐／環状構造、官能基を有していてもよく、さらに好ましくは、メチレン基、エチレン基、オクチレン基である。
前記アリーレン基としては、総炭総数６〜２０のアリーレン基が好ましく、さらに好ましくは６〜１２のアリーレン基である。具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基、アントラセン基などが挙げられ、これらは分岐、官能基を有していてもよく、さらに好ましくは、フェニレン基、ビフェニレン基である。
置換されている場合の置換基としては、アルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン基、芳香環基、脂環構造を有する基などが挙げられる。
樹脂（Ａ）の側鎖に分岐及び／又は脂環構造を導入するための単量体としては、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、（メタ）アクリレート類がより好ましい。
樹脂（Ａ）の側鎖に分岐構造を導入するための具体的な単量体としては、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−アミル、（メタ）アクリル酸ｔ−アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ｉｓｏ−アミル、（メタ）アクリル酸２−オクチル、（メタ）アクリル酸３−オクチル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル等が好ましく、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｔ−ブチル等がより好ましい。
樹脂（Ａ）の側鎖に脂環構造を導入するための単量体としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。具体的な例としては、（メタ）アクリル酸（ビシクロ〔２．２．１］ヘプチル−２）、（メタ）アクリル酸１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸３−メチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸３，５−ジメチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸３−エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸３−メチル−５−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸３，５，８−トリエチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸３，５−ジメチル−８−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−メチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−エチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシ−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−５−イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−１−イルメチル、（メタ）アクリル酸１−メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−ビシクロ〔３．１．１〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸３，７，７−トリメチル−４−ヒドロキシ−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸２，２，５−トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸トリシクロペンテニル等が挙げられる。
これら（メタ）アクリル酸エステルの中でも、嵩高い官能基ほど圧縮弾性率、弾性回復性が良好になる点で、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸１−メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸トリシクロペンテニルなどが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸トリシクロペンテニルが特に好ましい。
これら（メタ）アクリル酸エステルの中でも、嵩高い官能基ほど圧縮弾性率、弾性回復性が良好になる点で、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸１−メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸トリシクロペンテニルなどが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸トリシクロペンテニルが特に好ましい。
また、樹脂（Ａ）の側鎖に脂環構造を導入するための単量体としては、下記一般式（II）又は（III）で表される化合物が挙げられる。ここで、一般式（II）、（III）において、Ｘは２価の有機連結基を表し、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。ｙは１又は２を表し、ｎは０〜１５を表す。一般式（II）、（III）の中でも、ｙ＝１又は２、ｎ＝０〜８が好ましく、更に好ましくは、ｙ＝１又は２、ｎ＝０〜４（より好ましくはｎ＝０〜２）である。一般式（II）又は（III）で表される化合物の好ましい具体例として、下記化合物Ｄ−１〜Ｄ−１１、Ｔ−１〜Ｔ−１２が挙げられる。
中でも、弾性回復率の点で、下記一般式（II）で表される化合物が好ましい。
中でも、弾性回復率の点で、下記一般式（II）で表される化合物が好ましい。
一般式（II）、一般式（III）において、Ｘで表される２価の有機連結基は、無置換であっても、置換基を有していてもよく、前記一般式（Ｉ）のＸで表される２価の有機連結基と同義であり、好ましい態様も同様である。
樹脂（Ａ）の側鎖に脂環構造を導入するための単量体としては、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
前記市販品としては、日立化成工業（株）製：ＦＡ−５１１Ａ、ＦＡ−５１２Ａ（Ｓ）、ＦＡ−５１２Ｍ、ＦＡ−５１３Ａ、ＦＡ−５１３Ｍ、ＴＣＰＤ−Ａ、ＴＣＰＤ−Ｍ、Ｈ−ＴＣＰＤ−Ａ、Ｈ−ＴＣＰＤ−Ｍ、ＴＯＥ−Ａ、ＴＯＥ−Ｍ、Ｈ−ＴＯＥ−Ａ、Ｈ−ＴＯＥ−Ｍ等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、変形回復率に優れる点で、ＦＡ−５１２Ａ（Ｓ）、５１２Ｍが好ましい。
前記市販品としては、日立化成工業（株）製：ＦＡ−５１１Ａ、ＦＡ−５１２Ａ（Ｓ）、ＦＡ−５１２Ｍ、ＦＡ−５１３Ａ、ＦＡ−５１３Ｍ、ＴＣＰＤ−Ａ、ＴＣＰＤ−Ｍ、Ｈ−ＴＣＰＤ−Ａ、Ｈ−ＴＣＰＤ−Ｍ、ＴＯＥ−Ａ、ＴＯＥ−Ｍ、Ｈ−ＴＯＥ−Ａ、Ｈ−ＴＯＥ−Ｍ等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、変形回復率に優れる点で、ＦＡ−５１２Ａ（Ｓ）、５１２Ｍが好ましい。
（酸性基）
樹脂（Ａ）は、主鎖に連結する側鎖に、酸性基の少なくとも１種を含む。酸性基は、側鎖中に複数含まれていてもよい。また、酸性基は、樹脂（Ａ）の側鎖中に、前記分岐及び／又は脂環構造、並びにエチレン性不飽和結合とともに含まれていてもよい。
また、前記酸性基は、樹脂（Ａ）の主鎖に直接結合し酸性基のみで樹脂（Ａ）の側鎖を構成してもよいし、樹脂（Ａ）の主鎖に２価の有機連結基を介して結合し、酸性基を有する基として樹脂（Ａ）の側鎖を構成してもよい。ここで、２価の有機連結基については前記分岐及び／又は脂環構造における説明で例示した２価の有機連結基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
樹脂（Ａ）は、主鎖に連結する側鎖に、酸性基の少なくとも１種を含む。酸性基は、側鎖中に複数含まれていてもよい。また、酸性基は、樹脂（Ａ）の側鎖中に、前記分岐及び／又は脂環構造、並びにエチレン性不飽和結合とともに含まれていてもよい。
また、前記酸性基は、樹脂（Ａ）の主鎖に直接結合し酸性基のみで樹脂（Ａ）の側鎖を構成してもよいし、樹脂（Ａ）の主鎖に２価の有機連結基を介して結合し、酸性基を有する基として樹脂（Ａ）の側鎖を構成してもよい。ここで、２価の有機連結基については前記分岐及び／又は脂環構造における説明で例示した２価の有機連結基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
前記酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。
前記酸性基を樹脂（Ａ）に導入するための単量体の具体例としては、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
単量体の市販品としては、東亜合成化学工業（株）製：アロニックスＭ−５３００、アロニックスＭ−５４００、アロニックスＭ−５５００、アロニックスＭ−５６００、新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＣＢ−１、ＮＫエステルＣＢＸ−１、共栄社油脂化学工業（株）製：ＨＯＡ−ＭＰ、ＨＯＡ−ＭＳ、大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃２１００等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、低コストである点で（メタ）アクリル酸等が好ましい。
（エチレン性不飽和結合）
樹脂（Ａ）は、側鎖に、エチレン性不飽和結合の少なくとも１種を含む。
樹脂（Ａ）中において、エチレン性不飽和結合は、主鎖との間にエステル基を介して配されることが好ましい。
このエチレン性不飽和結合は、側鎖中に複数含まれていてもよい。また、エチレン性不飽和結合は、樹脂（Ａ）の側鎖中に、前記分岐及び／又は脂環構造、並びに／又は前記酸性基とともに含まれていてもよい。
樹脂（Ａ）は、側鎖に、エチレン性不飽和結合の少なくとも１種を含む。
樹脂（Ａ）中において、エチレン性不飽和結合は、主鎖との間にエステル基を介して配されることが好ましい。
このエチレン性不飽和結合は、側鎖中に複数含まれていてもよい。また、エチレン性不飽和結合は、樹脂（Ａ）の側鎖中に、前記分岐及び／又は脂環構造、並びに／又は前記酸性基とともに含まれていてもよい。
また、エチレン性不飽和結合は、樹脂（Ａ）の主鎖との間に少なくとも１つのエステル基（−ＣＯＯ−）を介して結合し、エチレン性不飽和結合とエステル基のみで樹脂（Ａ）の側鎖を構成していてもよい。また、樹脂（Ａ）の主鎖とエステル基との間、及び／又は、エステル基とエチレン性不飽和結合との間に、さらに２価の有機連結基を有してもよく、エチレン性不飽和結合は「主鎖との間にエステル基を介して配されたエチレン性不飽和結合を有する基」として樹脂（Ａ）の側鎖を構成していてもよい。ここで、２価の有機連結基については、分岐及び／又は脂環構造における説明で例示した２価の有機連結基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
また、エチレン性不飽和結合は、（メタ）アクリロイル基を導入して配されることが好ましい。
樹脂（Ａ）の側鎖に（メタ）アクリロイル基を導入する方法は、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ繰り返し単位にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、イソシアネート基を持つ繰り返し単位にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
樹脂（Ａ）の側鎖に（メタ）アクリロイル基を導入する方法は、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ繰り返し単位にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、イソシアネート基を持つ繰り返し単位にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
前記エポキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、特に制限はないが、例えば、下記構造式（１）で表される化合物及び下記構造式（２）で表される化合物が好ましい。
但し、前記構造式（１）中、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を表す。Ｌ１１は有機基を表す。
但し、前記構造式（２）中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を表す。Ｌ１２は有機基を表す。Ｗは４〜７員環の脂肪族炭化水素基を表す。
前記構造式（１）で表される化合物及び構造式（２）で表される化合物の中でも、構造式（１）で表される化合物が構造式（２）よりも好ましい。前記構造式（１）及び（２）においては、Ｌ１１及びＬ１２がそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基のものがより好ましい。
前記構造式（１）で表される化合物又は構造式（２）で表される化合物としては、特に制限はないが、例えば、以下の例示化合物（１）〜（１０）が挙げられる。
〜〜その他の単量体〜〜
本発明における樹脂（Ａ）には、その他の単量体を用いて、その他の基が導入されていてもよい。
前記その他の単量体としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
本発明における樹脂（Ａ）には、その他の単量体を用いて、その他の基が導入されていてもよい。
前記その他の単量体としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。
前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。
前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。
前記樹脂（Ａ）におけるその他の単量体の含有率としては、組成比が、１〜４０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。
樹脂（Ａ）の具体例としては、例えば、下記構造で表される化合物（例示化合物Ｐ−１〜Ｐ−５６）が挙げられる。
また、例示化合物中のｘ、ｙ、ｚ、ｌ及びＳｔは、各繰り返し単位の組成比（質量比）を表し、後述の好ましい範囲で構成する形態が好適である。また、各例示化合物の重量平均分子量も、後述の好ましい範囲で構成する形態が好適である。
また、例示化合物中のｘ、ｙ、ｚ、ｌ及びＳｔは、各繰り返し単位の組成比（質量比）を表し、後述の好ましい範囲で構成する形態が好適である。また、各例示化合物の重量平均分子量も、後述の好ましい範囲で構成する形態が好適である。
〜合成法〜
樹脂（Ａ）は、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から合成することができる。
まず、（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。
樹脂（Ａ）は、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から合成することができる。
まず、（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。
〜炭素数〜
樹脂（Ａ）に含まれる分岐構造及び脂環構造の総炭素数としては、弾性係数（硬さ）の点で、１０以上が好ましい。中でも、総炭素数は、１０〜３０がより好ましく、特に好ましくは１０〜１５である。
樹脂（Ａ）に含まれる分岐構造及び脂環構造の総炭素数としては、弾性係数（硬さ）の点で、１０以上が好ましい。中でも、総炭素数は、１０〜３０がより好ましく、特に好ましくは１０〜１５である。
〜分子量〜
樹脂（Ａ）の分子量としては、重量平均分子量で１０，０００〜１０万が好ましく、１２，０００〜６０，０００が更に好ましく、１５，０００〜４５，０００が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、樹脂（好ましくは共重合体）の製造適性、現像性の点で望ましい。また、溶融粘度の低下により形成された形状が潰れ難い点で、また、架橋不良となり難い点、現像でのスペーサー形状の残渣がない点で好ましい。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定される。ＧＰＣについては、後記する実施例の項で詳細に示す。
樹脂（Ａ）の分子量としては、重量平均分子量で１０，０００〜１０万が好ましく、１２，０００〜６０，０００が更に好ましく、１５，０００〜４５，０００が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、樹脂（好ましくは共重合体）の製造適性、現像性の点で望ましい。また、溶融粘度の低下により形成された形状が潰れ難い点で、また、架橋不良となり難い点、現像でのスペーサー形状の残渣がない点で好ましい。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定される。ＧＰＣについては、後記する実施例の項で詳細に示す。
〜ガラス転移温度〜
樹脂（Ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０〜１８０℃であることが好ましく、４５〜１４０℃であることはより好ましく、５０〜１３０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる。
樹脂（Ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０〜１８０℃であることが好ましく、４５〜１４０℃であることはより好ましく、５０〜１３０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる。
〜酸価〜
樹脂（Ａ）の酸価は、とりうる分子構造により好ましい範囲が変動するが、一般には２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることはより好ましく、５０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる。
樹脂（Ａ）の酸価は、とりうる分子構造により好ましい範囲が変動するが、一般には２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることはより好ましく、５０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる。
〜Ｔｇ〜
前記樹脂（Ａ）は、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる点で、ガラス転移温度（Ｔｇ）が４０〜１８０℃であり、かつ重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であることが好ましく、Ｔｇが４５〜１４０℃（更には５０〜１３０℃）であり、かつ重量平均分子量が１２，０００〜６０，０００（更には１５，０００〜４５，０００）であることが好ましい。
更に、前記樹脂（Ａ）の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度（Ｔｇ）、及び酸価のそれぞれの組合せがより好ましい。
前記樹脂（Ａ）は、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる点で、ガラス転移温度（Ｔｇ）が４０〜１８０℃であり、かつ重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であることが好ましく、Ｔｇが４５〜１４０℃（更には５０〜１３０℃）であり、かつ重量平均分子量が１２，０００〜６０，０００（更には１５，０００〜４５，０００）であることが好ましい。
更に、前記樹脂（Ａ）の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度（Ｔｇ）、及び酸価のそれぞれの組合せがより好ましい。
本発明における樹脂（Ａ）は、分岐及び／又は脂環構造と、酸性基と、（好ましくは主鎖との間にエステル基を介して配された）エチレン性不飽和結合と、をそれぞれ別の繰り返し単位（共重合単位）に有する３元共重合以上の共重合体であることが、パターン構造物（例えばカラーフィルタ用のスペーサー）を形成したときの変形回復率、現像残渣、レチキュレーションの観点から好ましい。
具体的には、前記樹脂（Ａ）は、分岐及び／又は脂環構造を有する繰り返し単位：Ｘ（ｘモル％）と、酸性基を有する繰り返し単位：Ｙ（ｙモル％）と、エチレン性不飽和結合を有する繰り返し単位：Ｚ（ｚモル％）と、を少なくとも有する３元共重合以上の共重合体であることが好ましい。さらに、必要に応じてその他の繰り返し単位：Ｌ（ｌモル％）を有していてもよい。
このような共重合体は、例えば、分岐及び／又は脂環構造を有する単量体と、酸性基を有する単量体と、エチレン性不飽和結合を有する単量体と、必要に応じて他の単量体と、を共重合させて得ることができる。このうち、嵩高い官能基で圧縮弾性率、弾性回復性が良好になる点で、少なくとも前記分岐及び／又は脂環構造を有する単量体として、前記一般式（II）で表される単量体を共重合させて、分岐及び／又は脂環構造を有する基が導入された共重合体である場合が好ましい。この場合、樹脂（Ａ）は、前記一般式（II）で表される単量体に由来の構成単位を主鎖に有する。
具体的には、前記樹脂（Ａ）は、分岐及び／又は脂環構造を有する繰り返し単位：Ｘ（ｘモル％）と、酸性基を有する繰り返し単位：Ｙ（ｙモル％）と、エチレン性不飽和結合を有する繰り返し単位：Ｚ（ｚモル％）と、を少なくとも有する３元共重合以上の共重合体であることが好ましい。さらに、必要に応じてその他の繰り返し単位：Ｌ（ｌモル％）を有していてもよい。
このような共重合体は、例えば、分岐及び／又は脂環構造を有する単量体と、酸性基を有する単量体と、エチレン性不飽和結合を有する単量体と、必要に応じて他の単量体と、を共重合させて得ることができる。このうち、嵩高い官能基で圧縮弾性率、弾性回復性が良好になる点で、少なくとも前記分岐及び／又は脂環構造を有する単量体として、前記一般式（II）で表される単量体を共重合させて、分岐及び／又は脂環構造を有する基が導入された共重合体である場合が好ましい。この場合、樹脂（Ａ）は、前記一般式（II）で表される単量体に由来の構成単位を主鎖に有する。
前記樹脂（Ａ）が共重合体である場合の共重合組成比については、ガラス転移温度と酸価を勘案して決定される。一概に言えないが、下記の範囲とすることができる。
樹脂（Ａ）における、分岐及び／又は脂環構造を有する繰り返し単位の組成比（ｘ）は、１０〜７０モル％が好ましく、１５〜６５モル％が更に好ましく、２０〜６０モル％が特に好ましい。組成比（ｘ）が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
樹脂（Ａ）における、酸性基を有する繰り返し単位の組成比（ｙ）は、５〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％が更に好ましく、２０〜５０モル％が特に好ましい。組成比（ｙ）が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
樹脂（Ａ）における「エチレン性不飽和結合」を有する繰り返し単位の組成比（ｚ）は、１０〜７０モル％が好ましく、２０〜７０モル％が更に好ましく、３０〜７０モル％が特に好ましい。組成比（ｚ）が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、感度及び重合硬化性が良好であり、調液後の液保存性、及び塗布後の乾膜状態で長期保持された際の経時安定性が良好になる。
更には、樹脂（Ａ）としては、組成比（ｘ）が１０〜７０モル％（更には１５〜６５モル％、特には２０〜５０モル％）であって、組成比（ｙ）が５〜７０モル％（更には１０〜６０モル％、特には３０〜７０モル％）であって、組成比（ｚ）が１０〜７０モル％（更には２０〜７０モル％、特には３０〜７０モル％）である場合が好ましい。
樹脂（Ａ）における、分岐及び／又は脂環構造を有する繰り返し単位の組成比（ｘ）は、１０〜７０モル％が好ましく、１５〜６５モル％が更に好ましく、２０〜６０モル％が特に好ましい。組成比（ｘ）が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
樹脂（Ａ）における、酸性基を有する繰り返し単位の組成比（ｙ）は、５〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％が更に好ましく、２０〜５０モル％が特に好ましい。組成比（ｙ）が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
樹脂（Ａ）における「エチレン性不飽和結合」を有する繰り返し単位の組成比（ｚ）は、１０〜７０モル％が好ましく、２０〜７０モル％が更に好ましく、３０〜７０モル％が特に好ましい。組成比（ｚ）が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、感度及び重合硬化性が良好であり、調液後の液保存性、及び塗布後の乾膜状態で長期保持された際の経時安定性が良好になる。
更には、樹脂（Ａ）としては、組成比（ｘ）が１０〜７０モル％（更には１５〜６５モル％、特には２０〜５０モル％）であって、組成比（ｙ）が５〜７０モル％（更には１０〜６０モル％、特には３０〜７０モル％）であって、組成比（ｚ）が１０〜７０モル％（更には２０〜７０モル％、特には３０〜７０モル％）である場合が好ましい。
以上、樹脂（Ａ）の好ましい形態について説明したが、本発明の感光性樹脂組成物の好ましい形態としては、樹脂として上記樹脂（Ａ）の好ましい形態を用い、重合性化合物（Ｂ）として前記一般式（１）〜一般式（６）で表される化合物を用いる形態が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物をこのように構成すると、本発明による効果がより効果的に奏される。
樹脂（Ａ）は、後述するその他の樹脂と併用できるが、前記樹脂（Ａ）のみで構成される場合が好ましい。
〜その他の樹脂〜
前記樹脂（Ａ）と併用することができる樹脂としては、アルカリ性水溶液に対して膨潤性を示す化合物が好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性である化合物がより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示す樹脂としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられ、具体的には、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物（エポキシアクリレート化合物）、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体、エポキシアクリレート化合物と、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体との混合物、マレアミド酸系共重合体、などが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられ、これらの中でも、原料の入手性などの観点から、カルボキシル基が好ましく挙げられる。
前記樹脂（Ａ）と併用することができる樹脂としては、アルカリ性水溶液に対して膨潤性を示す化合物が好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性である化合物がより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示す樹脂としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられ、具体的には、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物（エポキシアクリレート化合物）、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体、エポキシアクリレート化合物と、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体との混合物、マレアミド酸系共重合体、などが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられ、これらの中でも、原料の入手性などの観点から、カルボキシル基が好ましく挙げられる。
前記樹脂（Ａ）とその他の樹脂とを併用する場合、樹脂（Ａ）と併用することができる樹脂との合計の含有率（固形分）としては、感光性組成物の全固形分に対して、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。この含有量が、５質量％以上であると感光性組成物層の膜強度を維持でき、該感光性組成物層の表面のタック性を良好に保つことができ、７０質量％以下であると露光感度が良好になる。
本発明においては、前記重合性化合物（Ｂ）の前記樹脂（Ａ）に対する質量比率（（Ｂ）／（Ａ））が０．２〜２であることが好ましく、０．５〜２．０であることが好ましく、０．６〜１．８であることはより好ましく、０．７〜１．５であることが特に好ましい。前記質量比率が前記範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有する構造物（例えば、フォトスペーサー）が得られる。
（Ｃ）光重合開始剤
本発明の感光性組成物は、光重合開始剤を少なくとも１種含有する。
本発明における光重合開始剤としては特に限定はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。公知の光重合開始剤としては、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２０］や特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００２７］〜［００５３］に記載の開始剤を挙げることができる。公知の光重合開始剤の例としては、感度の点で、上記以外のアミノアセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル系化合物が好適である。
アミノアセトフェノン系化合物の具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（Ｉｒｇ）９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系化合物の具体例としては、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯや、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（Ｉｒｇ）８１９（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が挙げられる。また、オキシムエステル系化合物の具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（Ｉｒｇ）ＯＸＥ０１やＣＧＩ２４２等（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）が挙げられる。以下に、これらの開始剤の構造を示す。
本発明の感光性組成物は、光重合開始剤を少なくとも１種含有する。
本発明における光重合開始剤としては特に限定はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。公知の光重合開始剤としては、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２０］や特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００２７］〜［００５３］に記載の開始剤を挙げることができる。公知の光重合開始剤の例としては、感度の点で、上記以外のアミノアセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル系化合物が好適である。
アミノアセトフェノン系化合物の具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（Ｉｒｇ）９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系化合物の具体例としては、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯや、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（Ｉｒｇ）８１９（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が挙げられる。また、オキシムエステル系化合物の具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（Ｉｒｇ）ＯＸＥ０１やＣＧＩ２４２等（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）が挙げられる。以下に、これらの開始剤の構造を示す。
光重合開始剤の感光性組成物中における総量は、感光性組成物の全固形分に対して、０．５〜２５質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。
＜微粒子＞
本発明における感光性組成物は、樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）と共に、力学強度の点で、微粒子を少なくとも１種含有することが好ましい。
微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、特開２００３−３０２６３９号公報［００３５］〜［００４１］に記載の体質顔料が好ましく、中でも、良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られる点から、コロイダルシリカが好ましい。
本発明における感光性組成物は、樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）と共に、力学強度の点で、微粒子を少なくとも１種含有することが好ましい。
微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、特開２００３−３０２６３９号公報［００３５］〜［００４１］に記載の体質顔料が好ましく、中でも、良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られる点から、コロイダルシリカが好ましい。
前記微粒子の平均粒子径は、フォトスペーサー等の外力を受けやすい構造を形成する場合には高い力学強度が得られる点で、５〜５０ｎｍであることが好ましく、１０〜４０ｎｍであることがより好ましく、１５〜３０ｎｍであることが特に好ましい。
前記微粒子の感光性組成物（フォトスペーサーを形成するときにはフォトスペーサー（又はこれを構成する感光性樹脂層）中における含有率としては、高い力学強度を有するフォトスペーサーを得る観点から、感光性組成物中の全固形分（質量）に対して、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましく、１５〜３０質量％であることが特に好ましい。
＜その他＞
本発明における感光性組成物は、樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び必要に応じて含まれる微粒子以外に、さらに必要に応じて、光重合開始助剤などの他の成分を含んでいてもよい。
本発明における感光性組成物は、樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び必要に応じて含まれる微粒子以外に、さらに必要に応じて、光重合開始助剤などの他の成分を含んでいてもよい。
感光性組成物は、他の添加成分として光重合開始助剤を併用してもよい。光重合開始助剤は、光重合開始剤によって重合が開始された重合性化合物の重合を促進するために、光重合開始剤と組み合わせて用いることができる。光重合開始助剤としては、アミン系化合物の少なくとも１種を用いることが好ましい。
前記アミン系化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられ、中でも４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。また、アミン系やその他の光重合開始助剤を複数組み合わせて使用してもよい。
上記以外の他の光重合開始助剤として、例えば、アルコキシアントラセン系化合物、チオキサントン系化合物、クマリン系化合物などが挙げられる。前記アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。前記チオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
また、光重合開始助剤として市販のものを用いることもできる。市販の光重合開始助剤としては、例えば、商品名「ＥＡＢ−Ｆ」（保土谷化学工業（株）製）などが挙げられる。
上記以外の他の光重合開始助剤として、例えば、アルコキシアントラセン系化合物、チオキサントン系化合物、クマリン系化合物などが挙げられる。前記アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。前記チオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
また、光重合開始助剤として市販のものを用いることもできる。市販の光重合開始助剤としては、例えば、商品名「ＥＡＢ−Ｆ」（保土谷化学工業（株）製）などが挙げられる。
光重合開始助剤の感光性組成物中における含有量としては、上記の光重合開始剤１質量部に対して、０．６質量部以上２０質量部以下が好ましく、１質量部以上１５質量部以下がより好ましく、とりわけ１．５質量部以上１５質量部以下が好ましい。
また、その他の成分としては、公知の感光性組成物を構成する成分から選択して用いることができ、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２０］や特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００２７］〜［００５３］に記載の成分を挙げることができる。
本発明の感光性組成物は、後述する、フォトスペーサー、着色パターン、保護膜の形成に好適に用いることができる他、離画壁（例えば、ブラックマトリクス等）、配向制御用突起など、その他のパターン構造物や被膜の形成にも好適に用いることができる。
≪フォトスペーサー及びその形成方法≫
本発明のフォトスペーサーは、既述の本発明の感光性組成物を用いて形成されたものである。感光性組成物の詳細及び好ましい態様については、既述した通りである。
本発明のフォトスペーサーは、本発明の感光性組成物を用いて構成されるので、均一な断面形状を有し、高さバラツキが抑制される。
さらに、本発明の感光性組成物が樹脂（Ａ）を含有する場合には、フォトスペーサーとして必要とされる高い圧縮弾性率、変形回復性を持つフォトスペーサーが得られる。
本発明のフォトスペーサーは、既述の本発明の感光性組成物を用いて形成されたものである。感光性組成物の詳細及び好ましい態様については、既述した通りである。
本発明のフォトスペーサーは、本発明の感光性組成物を用いて構成されるので、均一な断面形状を有し、高さバラツキが抑制される。
さらに、本発明の感光性組成物が樹脂（Ａ）を含有する場合には、フォトスペーサーとして必要とされる高い圧縮弾性率、変形回復性を持つフォトスペーサーが得られる。
ここで本発明におけるフォトスペーサー等のパターン構造が「均一な断面形状」を有する状態について説明する。
パターン構造物が「均一な断面形状」を有する状態としては、基板内の複数箇所（好ましくは３箇所以上）において、パターン構造物の断面形状が矩形に近い形状となっている状態が好ましい。前記「矩形に近い形状」としては、基板法線方向に並行であって、かつパターン構造物の法線方向からみたエッジ（円柱状構造物の場合はエッジの法泉）と直行する平面で該パターン構造物を切断したときの切断面において、パターン構造物側面に相当する線とパターン構造物下面に相当する線とのなす角（以下、「テーパー角度」ともいう）が８０°以上１００°以下である形状がより好ましい。
ここで、前記パターン構造物下面とは、パターン構造物の面のうち、該パターン構造物が形成された下地との接触面をいう。また、前記パターン構造物側面とは、パターン構造物の面のうち、前記パターン構造物下面にもパターン構造物上面（前記パターン構造物下面と平行な面であって、前記下地と接触しない面）にも該当しない面をいう。
パターン構造物が「均一な断面形状」を有する状態としては、基板内の複数箇所（好ましくは３箇所以上）において、パターン構造物の断面形状が矩形に近い形状となっている状態が好ましい。前記「矩形に近い形状」としては、基板法線方向に並行であって、かつパターン構造物の法線方向からみたエッジ（円柱状構造物の場合はエッジの法泉）と直行する平面で該パターン構造物を切断したときの切断面において、パターン構造物側面に相当する線とパターン構造物下面に相当する線とのなす角（以下、「テーパー角度」ともいう）が８０°以上１００°以下である形状がより好ましい。
ここで、前記パターン構造物下面とは、パターン構造物の面のうち、該パターン構造物が形成された下地との接触面をいう。また、前記パターン構造物側面とは、パターン構造物の面のうち、前記パターン構造物下面にもパターン構造物上面（前記パターン構造物下面と平行な面であって、前記下地と接触しない面）にも該当しない面をいう。
本発明のフォトスペーサーは、本発明の感光性組成物を用いた方法であれば、いずれの方法で形成されてもよいが、以下に示す工程（イ）〜（ニ）を含む方法（本発明のフォトスペーサーの形成方法）を用いることによって最も好適に形成することができる。
本発明のフォトスペーサーの形成方法は、（イ）既述の本発明の感光性組成物の被膜を基板上に形成する工程（以下、「被膜形成工程」ともいう。）と、（ロ）前記被膜の少なくとも一部を露光する工程（以下、「露光工程」ともいう。）と、（ハ）露光後の前記被膜を現像する工程（以下、「現像工程」ともいう。）と、（ニ）現像後の前記被膜を加熱する工程（以下、「被膜加熱工程」ともいう。）と、を設けて構成されており、必要に応じて、更に他の工程を設けて構成されてもよい。
本発明のフォトスペーサーの形成方法は、（イ）既述の本発明の感光性組成物の被膜を基板上に形成する工程（以下、「被膜形成工程」ともいう。）と、（ロ）前記被膜の少なくとも一部を露光する工程（以下、「露光工程」ともいう。）と、（ハ）露光後の前記被膜を現像する工程（以下、「現像工程」ともいう。）と、（ニ）現像後の前記被膜を加熱する工程（以下、「被膜加熱工程」ともいう。）と、を設けて構成されており、必要に応じて、更に他の工程を設けて構成されてもよい。
（イ）被膜形成工程
被膜形成工程は、既述の本発明の感光性組成物の被膜を基板上に形成する。被膜として感光性組成物層を形成することができ、この感光性組成物層は、後述の露光工程や現像工程等の他工程を経ることにより、セル厚を均一に保持し得るフォトスペーサーを構成する。本発明のフォトスペーサーを用いることにより、特にセル厚の変動で表示ムラが生じやすい表示装置（特に液晶表示装置）における画像中の表示ムラが効果的に解消される。
被膜形成工程は、既述の本発明の感光性組成物の被膜を基板上に形成する。被膜として感光性組成物層を形成することができ、この感光性組成物層は、後述の露光工程や現像工程等の他工程を経ることにより、セル厚を均一に保持し得るフォトスペーサーを構成する。本発明のフォトスペーサーを用いることにより、特にセル厚の変動で表示ムラが生じやすい表示装置（特に液晶表示装置）における画像中の表示ムラが効果的に解消される。
基板上に感光性組成物層を形成する方法としては、（ａ）既述の樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を少なくとも含む感光性組成物を塗布する塗布法、及び（ｂ）前記感光性組成物層を有する感光性転写材料を用い、加熱及び／又は加圧により感光性組成物層をラミネート、転写する転写法が好適に挙げられる。
（ａ）塗布法
感光性組成物の塗布は、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等により行なうことができる。中でも、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリットノズルあるいはスリットコーターによる方法が好適である。
感光性組成物の塗布は、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等により行なうことができる。中でも、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリットノズルあるいはスリットコーターによる方法が好適である。
（ｂ）転写法
転写は、感光性転写材料を用いて、仮支持体上に膜状に形成された感光性組成物層を所望の基板面に例えば加熱及び／又は加圧したローラー又は平板を用いて圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体の剥離により感光性組成物層を基板上に転写する。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
転写は、感光性転写材料を用いて、仮支持体上に膜状に形成された感光性組成物層を所望の基板面に例えば加熱及び／又は加圧したローラー又は平板を用いて圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体の剥離により感光性組成物層を基板上に転写する。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
感光性組成物層を形成する場合、感光性組成物層と仮支持体との間には更に酸素遮断層（以下、「酸素遮断膜」又は「中間層」ともいう。）を設けることができる。これにより、露光感度をアップすることができる。また、転写性を向上させるために、クッション性を有する熱可塑性樹脂層を設けてもよい。
感光性転写材料を構成する仮支持体、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層、その他の層や該感光性転写材料の作製方法については、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００２４］〜［００３０］に記載の構成、作製方法を適用することができる。
感光性転写材料を構成する仮支持体、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層、その他の層や該感光性転写材料の作製方法については、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００２４］〜［００３０］に記載の構成、作製方法を適用することができる。
（ａ）塗布法、（ｂ）転写法ともに感光性組成物層を形成する場合、その層厚は０．５〜１０．０μｍが好ましく、１〜６μｍがより好ましい。層厚が前記範囲であると、製造時における塗布形成の際のピンホールの発生が防止され、未露光部の現像除去を長時間を要することなく行なうことができる。
感光性組成物層を形成する基板としては、例えば、透明基板（例えばガラス基板やプラスチックス基板）、透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）付基板、カラーフィルタ付きの基板（カラーフィルタ基板ともいう。）、駆動素子（例えば、薄膜トランジスタ［ＴＦＴ］）付駆動基板、などが挙げられる。基板の厚みとしては、７００〜１２００μｍが一般に好ましい。
（ロ）露光工程・（ハ）現像工程
露光工程では、前記被膜形成工程で形成された被膜の少なくとも一部を露光し、潜像を形成する。その後の現像工程では、前記露光工程で露光された被膜を現像し、所望の形状のスペーサーパターンを形成することができる。
露光工程では、前記被膜形成工程で形成された被膜の少なくとも一部を露光し、潜像を形成する。その後の現像工程では、前記露光工程で露光された被膜を現像し、所望の形状のスペーサーパターンを形成することができる。
これらの工程の具体例としては、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００７１］〜［００７７］に記載の形成例や、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００４０］〜［００５１］に記載の工程などが、本発明において好適な例として挙げることができる。
（ニ）被膜加熱工程
被膜加熱工程では、前記現像工程における現像後の被膜を加熱する。加熱により、被膜の硬化がより促進され、高強度を有するフォトスペーサーが得られる。また、感光性組成物が前記樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｂ）とを含むことで、圧縮弾性率、弾性回復性の良好なフォトスペーサーが得られる。
被膜加熱工程では、前記現像工程における現像後の被膜を加熱する。加熱により、被膜の硬化がより促進され、高強度を有するフォトスペーサーが得られる。また、感光性組成物が前記樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｂ）とを含むことで、圧縮弾性率、弾性回復性の良好なフォトスペーサーが得られる。
上記のようにして、基板上にフォトスペーサーを備えた表示装置用基板を作製することができる。フォトスペーサーは、基板上に形成されたブラックマトリクス等の黒色遮光部の上やＴＦＴ等の駆動素子上に形成されることが好ましい。また、ブラックマトリクス等の黒色遮光部やＴＦＴ等の駆動素子とフォトスペーサーとの間にＩＴＯ等の透明導電層（透明電極）やポリイミド等の配向膜が存在していてもよい。
例えば、フォトスペーサーが黒色遮光部や駆動素子の上に設けられる場合、該基板に予め配設された黒色遮光部（ブラックマトリクスなど）や駆動素子を覆うようにして、例えば、感光性転写材料の感光性樹脂層を支持体面にラミネートし、剥離転写して感光性樹脂層を形成した後、これに露光、現像、加熱処理等を施してフォトスペーサーを形成することによって、表示装置用基板を作製することができる。
本発明の表示装置用基板には更に、必要に応じて赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）３色等の着色画素が設けられてもよい。
本発明の表示装置用基板には更に、必要に応じて赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）３色等の着色画素が設けられてもよい。
本発明のフォトスペーサーは、ブラックマトリクス等の黒色遮蔽部及び着色画素等の着色部を含むカラーフィルタを形成した後に形成することができる。
前記黒色遮蔽部及び着色部とフォトスペーサーとは、感光性樹脂組成物を塗布する塗布法と感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を有する転写材料を用いる転写法と、を任意に組合せて形成することが可能である。
前記黒色遮蔽部及び着色部並びに前記フォトスペーサーはそれぞれ感光性樹脂組成物から形成でき、具体的には、例えば、基板に液体の前記感光性樹脂組成物を直接塗布することにより感光性樹脂層を形成した後に、露光・現像を行ない、前記黒色遮蔽部及び着色部をパターン状に形成し、その後、別の液体の前記感光性樹脂組成物を前記基板とは異なる別の基板（仮支持体）上に設置して感光性樹脂層を形成することにより作製された転写材料を用い、この転写材料を前記黒色遮蔽部及び着色部が形成された前記基板に密着させて感光性樹脂層を転写した後に、露光・現像を行うことによりフォトスペーサーをパターン状に形成することができる。
このようにして、フォトスペーサーが設けられたカラーフィルタを作製することができる。
前記黒色遮蔽部及び着色部とフォトスペーサーとは、感光性樹脂組成物を塗布する塗布法と感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を有する転写材料を用いる転写法と、を任意に組合せて形成することが可能である。
前記黒色遮蔽部及び着色部並びに前記フォトスペーサーはそれぞれ感光性樹脂組成物から形成でき、具体的には、例えば、基板に液体の前記感光性樹脂組成物を直接塗布することにより感光性樹脂層を形成した後に、露光・現像を行ない、前記黒色遮蔽部及び着色部をパターン状に形成し、その後、別の液体の前記感光性樹脂組成物を前記基板とは異なる別の基板（仮支持体）上に設置して感光性樹脂層を形成することにより作製された転写材料を用い、この転写材料を前記黒色遮蔽部及び着色部が形成された前記基板に密着させて感光性樹脂層を転写した後に、露光・現像を行うことによりフォトスペーサーをパターン状に形成することができる。
このようにして、フォトスペーサーが設けられたカラーフィルタを作製することができる。
≪保護膜≫
本発明の保護膜は、既述の本発明の感光性組成物を用いて形成されたものである。本発明の保護膜は、本発明の感光性組成物を用いて構成されるので、透明性が高く、変形回復性に優れる。
本発明の保護膜は、既述の本発明の感光性組成物を用いて形成されたものである。本発明の保護膜は、本発明の感光性組成物を用いて構成されるので、透明性が高く、変形回復性に優れる。
本発明の保護膜は、本発明の感光性組成物を用いた方法であれば、いずれの方法で形成されてもよいが、前述の本発明のフォトスペーサーの形成方法と同様の方法により形成できる。ここで、保護膜にパターニングを施さない場合、即ち、保護膜をいわゆるベタ膜として形成する場合には、前記（ロ）露光工程において、被膜を全面露光する方法が好適である。
≪着色パターン≫
本発明の着色パターンは、既述の本発明の感光性組成物を用いて形成されたものである。ここで、感光性組成物は、既述の各成分に加え、更に、着色剤の少なくとも１種を含有する形態が好適である。
前記着色剤としては、特に制限はなく、公知の着色剤の中から適宜選択して用いることができる。公知の着色剤としては、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤などを挙げることができる。
本発明の着色パターンは、既述の本発明の感光性組成物を用いて形成されたものである。ここで、感光性組成物は、既述の各成分に加え、更に、着色剤の少なくとも１種を含有する形態が好適である。
前記着色剤としては、特に制限はなく、公知の着色剤の中から適宜選択して用いることができる。公知の着色剤としては、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤などを挙げることができる。
本発明の着色パターンは、本発明の感光性組成物を用いて構成されるので、色調が良好で、変形回復性に優れる。
なお、本発明の着色パターンが、複数色の着色パターンを有するカラーフィルタの一要素として用いられる場合は、少なくとも一色の着色パターンが本発明の感光性組成物を用いて形成されていればよい。
なお、本発明の着色パターンが、複数色の着色パターンを有するカラーフィルタの一要素として用いられる場合は、少なくとも一色の着色パターンが本発明の感光性組成物を用いて形成されていればよい。
本発明の着色パターンは、本発明の感光性組成物を用いた方法であれば、いずれの方法で形成されてもよいが、例えば、前述の本発明のフォトスペーサーの形成方法と同様の方法により形成できる。
≪表示装置用基板≫
本発明の表示装置用基板は、本発明のフォトスペーサー、本発明の保護膜、及び本発明の着色パターンの少なくとも１つを備えて構成される。
本発明の表示装置用基板は、本発明の感光性組成物を用いて形成された、断面形状及び膜厚（高さ）均一性が良好な構造物（本発明のフォトスペーサー、本発明の保護膜、及び本発明の着色パターンの少なくとも１つ。以下同じ）を備えるため、表示装置に用いた際に表示ムラを抑制できる。
本発明の表示装置用基板は、本発明のフォトスペーサー、本発明の保護膜、及び本発明の着色パターンの少なくとも１つを備えて構成される。
本発明の表示装置用基板は、本発明の感光性組成物を用いて形成された、断面形状及び膜厚（高さ）均一性が良好な構造物（本発明のフォトスペーサー、本発明の保護膜、及び本発明の着色パターンの少なくとも１つ。以下同じ）を備えるため、表示装置に用いた際に表示ムラを抑制できる。
ここで表示装置用基板とは、表示装置を構成するための一対の支持体のうち少なくとも一方を指す。
表示装置用基板の具体例としては、表示素子や表示装置の構成によっても異なるが、例えば、着色パターン（以下、「着色画素」ともいう）を備えたカラーフィルタ基板、駆動手段を備えた駆動手段付き基板（例えば、単純マトリクス基板、アクティブマトリクス基板、等）、離隔壁を備えた離隔壁付き基板（例えば、ブラックマトリクスを備えたブラックマトリクス付き基板、等）、着色パターンと駆動手段との双方を備えたカラーフィルタオンアレイ基板、パターン構造物や被膜が設けられていないガラス基板等が挙げられる。
表示装置用基板の具体例としては、表示素子や表示装置の構成によっても異なるが、例えば、着色パターン（以下、「着色画素」ともいう）を備えたカラーフィルタ基板、駆動手段を備えた駆動手段付き基板（例えば、単純マトリクス基板、アクティブマトリクス基板、等）、離隔壁を備えた離隔壁付き基板（例えば、ブラックマトリクスを備えたブラックマトリクス付き基板、等）、着色パターンと駆動手段との双方を備えたカラーフィルタオンアレイ基板、パターン構造物や被膜が設けられていないガラス基板等が挙げられる。
前記カラーフィルタ基板の前記着色パターン群（着色画素群）は、互いに異なる色を呈する２色の画素からなるものでも、３色の画素、４色以上の画素からなるものであってもよい。例えば３色の場合、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相で構成される。ＲＧＢ３色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタ基板の作製は、例えば２色以上の画素群を形成した後既述のようにブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスを形成した後に画素群を形成するようにしてもよい。ＲＧＢ画素の形成については、特開２００４−３４７８３１号公報等を参考にすることができる。
≪表示素子≫
本発明の表示装置用基板を用い、表示素子を形成することができる。
表示素子の１つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体（表示装置用基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。）を少なくとも備えた液晶表示素子が挙げられる。
本発明の表示装置用基板を用い、表示素子を形成することができる。
表示素子の１つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体（表示装置用基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。）を少なくとも備えた液晶表示素子が挙げられる。
この液晶表示素子の場合、表示装置用基板は、複数のＲＧＢ画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されているカラーフィルタ基板として用いることができる。このカラーフィルタ基板には、断面形状及び膜厚（高さ）均一性が良好な構造物が設けられているため、該カラーフィルタ基板を備えた液晶表示素子は、カラーフィルタ基板と対向基板との間のセルギャップ（セル厚）の変動に起因して液晶材料が偏在する、低温発泡する等による色ムラ等の表示ムラの発生を効果的に防止することができる。これにより、作製された液晶表示素子は鮮やかな画像を表示できる。
また、液晶表示素子のより詳細な態様として、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体（液晶表示装置用基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段とを少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子（例えばＴＦＴ）を有し、かつ一対の基板間がフォトスペーサーにより所定幅に規制して構成されたものが挙げられる。
≪表示装置≫
本発明の表示装置は、上記の表示装置用基板を備えたものである。
本発明の表示装置は、断面形状及び膜厚（高さ）均一性が良好な構造物が設けられた本発明の表示装置用基板を備えるため、表示ムラが抑制される。
本発明の表示装置は、上記の表示装置用基板を備えたものである。
本発明の表示装置は、断面形状及び膜厚（高さ）均一性が良好な構造物が設けられた本発明の表示装置用基板を備えるため、表示ムラが抑制される。
表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
表示装置の中でも液晶表示装置が好ましい。
液晶表示装置は、例えば、互いに向き合うように対向配置された一対の基板間をフォトスペーサーで所定幅に規制し、規制された間隙に液晶材料を封入（封入部位を液晶層と称する。）して構成されており、液晶層の厚さ（セル厚）が所望の均一厚に保持されるようになっている。
液晶表示装置は、例えば、互いに向き合うように対向配置された一対の基板間をフォトスペーサーで所定幅に規制し、規制された間隙に液晶材料を封入（封入部位を液晶層と称する。）して構成されており、液晶層の厚さ（セル厚）が所望の均一厚に保持されるようになっている。
液晶表示装置における液晶表示モードとしては、ＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型、ＡＳＭ型、その他種々のものが好適に挙げられる。中でも、本発明の液晶表示装置においては、最も効果的に本発明の効果を奏する観点から、液晶セルのセル厚の変動により表示ムラを起こし易い表示モードが望ましく、セル厚が２〜４μｍであるＶＡ型表示モード、ＩＰＳ型表示モード、ＯＣＢ型表示モードに構成されるのが好ましい。
また、本発明において使用可能な液晶としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、強誘電液晶が挙げられる。
液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（ａ）薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、（ｂ）駆動基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、等が挙げられ、本発明の液晶表示装置は、各種液晶表示機器に好適に適用することができる。
液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、側工業調査会、１９９４年発行）」に記載がある。本発明の液晶表示装置には、本発明の液晶表示素子を備える以外に特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載された種々の方式の液晶表示装置に構成することができる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置を構成するのに有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）、１９９６年発行）」に記載がある。
液晶表示装置は、既述のフォトスペーサー、着色パターン、保護膜、液晶表示装置用基板、液晶表示素子を備える以外は、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、フォトスペーサー．視野角補償フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムなどの様々な部材を用いて一般的に構成できる。これら部材については、例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉、（株）富士キメラ総研、２００３等発行）」に記載されている。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定した。ＧＰＣは、ＨＬＣ−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ、Ｓｕｐｅｒ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＺ−Ｈ（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いた。また、条件としては、試料濃度を０．３５／ｍｉｎ、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、ＩＲ検出器を用いて行なった。また、検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製した。
＜樹脂（Ａ）の合成＞
まず、感光性樹脂組成物中の樹脂として、樹脂（Ａ）（例示化合物Ｐ−５２、Ｐ−５１、Ｐ−５３、Ｐ−４６、Ｐ−４７）の合成を行った。
まず、感光性樹脂組成物中の樹脂として、樹脂（Ａ）（例示化合物Ｐ−５２、Ｐ−５１、Ｐ−５３、Ｐ−４６、Ｐ−４７）の合成を行った。
（例示化合物Ｐ−５２の合成）
反応容器中に、１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＦＧ、日本乳化剤（株）製）７．４８部をあらかじめ加え、９０℃に昇温し、スチレン（St）３．１部、トリシクロペンテニルメタアクリレート（日立化成工業（株）製のＴＣＰＤ−Ｍ；ｘ）４．２８部、メタクリル酸（ＭＡＡ；ｙ）１１．７部、アゾ系重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１）２．０８部、及び１−メトキシ−２−プロパノール５５．２部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、９０℃の反応容器中に２時間かけて滴下した。滴下後、４時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．１５部、及びテトラエチルアンモニウムブロマイド０．３４部を加えた後、メタクリル酸グリシジル（ＧＬＭ，東京化成工業（株）製）２６．４部を２時間かけて滴下した（ＧＬＭ−ＭＡＡ；ｚ）。滴下後、空気を吹き込みながら９０℃で４時間反応させた後、固形分濃度が４５％になるように溶媒１−メトキシ−２−プロピルアセテート（ＭＭＰＧＡｃ、ダイセル化学工業（株）製）を添加することにより調製し、不飽和基を持つ既述の例示化合物Ｐ−５１にスチレン由来の構造単位を加えた例示化合物Ｐ−５２（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２５，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た（ｘ：ｙ：ｚ：St＝３０ｍｏｌ％：２７ｍｏｌ％：３７ｍｏｌ％：６ｍｏｌ％）。
ここで、ＧＬＭ−ＭＡＡは、メタクリル酸にグリシジルメタクリレートが結合したものを示す（以下、同様である）。
なお、例示化合物Ｐ−５２の分子量Ｍｗは、重量平均分子量を示し、重量平均分子量の測定は、ゲル浸透クロマトグラフ法（ＧＰＣ法）を用いて行なった（以下、同様である）。
反応容器中に、１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＦＧ、日本乳化剤（株）製）７．４８部をあらかじめ加え、９０℃に昇温し、スチレン（St）３．１部、トリシクロペンテニルメタアクリレート（日立化成工業（株）製のＴＣＰＤ−Ｍ；ｘ）４．２８部、メタクリル酸（ＭＡＡ；ｙ）１１．７部、アゾ系重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１）２．０８部、及び１−メトキシ−２−プロパノール５５．２部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、９０℃の反応容器中に２時間かけて滴下した。滴下後、４時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．１５部、及びテトラエチルアンモニウムブロマイド０．３４部を加えた後、メタクリル酸グリシジル（ＧＬＭ，東京化成工業（株）製）２６．４部を２時間かけて滴下した（ＧＬＭ−ＭＡＡ；ｚ）。滴下後、空気を吹き込みながら９０℃で４時間反応させた後、固形分濃度が４５％になるように溶媒１−メトキシ−２−プロピルアセテート（ＭＭＰＧＡｃ、ダイセル化学工業（株）製）を添加することにより調製し、不飽和基を持つ既述の例示化合物Ｐ−５１にスチレン由来の構造単位を加えた例示化合物Ｐ−５２（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２５，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た（ｘ：ｙ：ｚ：St＝３０ｍｏｌ％：２７ｍｏｌ％：３７ｍｏｌ％：６ｍｏｌ％）。
ここで、ＧＬＭ−ＭＡＡは、メタクリル酸にグリシジルメタクリレートが結合したものを示す（以下、同様である）。
なお、例示化合物Ｐ−５２の分子量Ｍｗは、重量平均分子量を示し、重量平均分子量の測定は、ゲル浸透クロマトグラフ法（ＧＰＣ法）を用いて行なった（以下、同様である）。
（例示化合物Ｐ−５１の合成）
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、スチレンを用いず、例示化合物Ｐ−５１中のｘ：ｙ：ｚが３４ｍｏｌ％：２７ｍｏｌ％：３９ｍｏｌ％になるように、ＴＣＰＤ−Ｍ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、及びＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）の添加量を変更した以外は、前記例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ例示化合物Ｐ−５１（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７２．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２２，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、スチレンを用いず、例示化合物Ｐ−５１中のｘ：ｙ：ｚが３４ｍｏｌ％：２７ｍｏｌ％：３９ｍｏｌ％になるように、ＴＣＰＤ−Ｍ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、及びＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）の添加量を変更した以外は、前記例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ例示化合物Ｐ−５１（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７２．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２２，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
（例示化合物Ｐ−５３の合成）
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、スチレンを用いず、トリシクロペンテニルメタアクリレートをジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート（日立化成工業（株）製のファンクリルＦＡ−５１２Ｍ）に代え、例示化合物Ｐ−５３中のｘ：ｙ：ｚが４６．２ｍｏｌ％：２４．３ｍｏｌ％：２９．５ｍｏｌ％になるように、ＦＡ−５１２Ｍ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、ＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）、の添加量を変更した以外は、前記例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ例示化合物Ｐ−５３（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２５，５００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、スチレンを用いず、トリシクロペンテニルメタアクリレートをジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート（日立化成工業（株）製のファンクリルＦＡ−５１２Ｍ）に代え、例示化合物Ｐ−５３中のｘ：ｙ：ｚが４６．２ｍｏｌ％：２４．３ｍｏｌ％：２９．５ｍｏｌ％になるように、ＦＡ−５１２Ｍ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、ＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）、の添加量を変更した以外は、前記例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ例示化合物Ｐ−５３（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２５，５００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
（例示化合物Ｐ−４６の合成）
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、トリシクロペンテニルメタアクリレートをＡＤＭＡ（出光興産（株）製）に代え、化合物Ｐ−１にスチレン由来の構造単位を加えた組成ｘ：ｙ：ｚ：Stが３０ｍｏｌ％：２４ｍｏｌ％：３８ｍｏｌ％：８ｍｏｌ％になるように、ＡＤＭＡ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、ＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）、及びスチレンの添加量を変更した以外は、前記例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ例示化合物Ｐ−１にスチレン由来の構造単位を加えた例示化合物Ｐ−４６（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７４．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２９，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、トリシクロペンテニルメタアクリレートをＡＤＭＡ（出光興産（株）製）に代え、化合物Ｐ−１にスチレン由来の構造単位を加えた組成ｘ：ｙ：ｚ：Stが３０ｍｏｌ％：２４ｍｏｌ％：３８ｍｏｌ％：８ｍｏｌ％になるように、ＡＤＭＡ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、ＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）、及びスチレンの添加量を変更した以外は、前記例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ例示化合物Ｐ−１にスチレン由来の構造単位を加えた例示化合物Ｐ−４６（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７４．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２９，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
（例示化合物Ｐ−４７の合成）
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、トリシクロペンテニルメタアクリレートをメタクリル酸イソボルニル（ＩＢＸＭＡ，和光純薬工業（株）製）に代え、化合物Ｐ−２にスチレン由来の構造単位を加えた組成ｘ：ｙ：ｚ：Stが３４ｍｏｌ％：２４ｍｏｌ％：３６ｍｏｌ％：６ｍｏｌ％になるように、ＩＢＸＭＡ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、ＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）、及びスチレンの添加量を変更した以外は、例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物Ｐ−２にスチレン由来の構造単位を加えた例示化合物Ｐ−４７（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７２．９ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２９，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
前記例示化合物Ｐ−５２の合成において、トリシクロペンテニルメタアクリレートをメタクリル酸イソボルニル（ＩＢＸＭＡ，和光純薬工業（株）製）に代え、化合物Ｐ−２にスチレン由来の構造単位を加えた組成ｘ：ｙ：ｚ：Stが３４ｍｏｌ％：２４ｍｏｌ％：３６ｍｏｌ％：６ｍｏｌ％になるように、ＩＢＸＭＡ（ｘ）、メタクリル酸（ｙ）、ＧＬＭ−ＭＡＡ（ｚ）、及びスチレンの添加量を変更した以外は、例示化合物Ｐ−５２の合成と同様の方法により合成し、不飽和基を持つ化合物Ｐ−２にスチレン由来の構造単位を加えた例示化合物Ｐ−４７（樹脂（Ａ））の樹脂溶液（固形分酸価；７２．９ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ；２９，０００、１−メトキシ−２−プロパノール／１−メトキシ−２−プロピルアセテート４５％溶液）を得た。
［実施例１］：塗布法
＜カラーフィルタ基板の作製＞
特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００８４］〜［００９５］に記載の方法により、ブラックマトリクス、Ｒ（赤色）画素、Ｇ（緑色）画素、Ｂ（青色）画素を有するカラーフィルタを作製した（以下、これをカラーフィルタ基板と称する。）。ここで、カラーフィルタ基板の基板サイズは、５５０ｍｍ×６５０ｍｍとした。
次いで、得られたカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
＜カラーフィルタ基板の作製＞
特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００８４］〜［００９５］に記載の方法により、ブラックマトリクス、Ｒ（赤色）画素、Ｇ（緑色）画素、Ｂ（青色）画素を有するカラーフィルタを作製した（以下、これをカラーフィルタ基板と称する。）。ここで、カラーフィルタ基板の基板サイズは、５５０ｍｍ×６５０ｍｍとした。
次いで、得られたカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
＜フォトスペーサーの形成＞
上記で作製したＩＴＯ透明電極がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ透明電極上に、スピンナーにて、下記表１に示す処方（実施例１では処方１）からなる感光性組成物層用塗布液をスリット塗布した。引き続き、真空乾燥機ＶＣＤ（東京応化社製）を用いて３０秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、９０℃のホットプレート上で３分間プリベークし、膜厚５．２μｍの感光性組成物層を形成した（被膜形成工程）。
上記で作製したＩＴＯ透明電極がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ透明電極上に、スピンナーにて、下記表１に示す処方（実施例１では処方１）からなる感光性組成物層用塗布液をスリット塗布した。引き続き、真空乾燥機ＶＣＤ（東京応化社製）を用いて３０秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、９０℃のホットプレート上で３分間プリベークし、膜厚５．２μｍの感光性組成物層を形成した（被膜形成工程）。
続いて、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、マスク（直径１５μｍの円形パターンを有する石英露光マスク）と、該マスクと感光性組成物層とが向き合うように配置したカラーフィルタ基板と、を略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と感光性組成物層の表面との間の距離を１００μｍとし、該マスクを介して、３６５ｎｍにおける強度２５０Ｗ／ｍ２で紫外透過フィルタ（ＵＶ−３５、東芝ガラス（株）製）を透過させた紫外線を１０秒間、照射した（露光工程、露光量２５０ｍＪ／ｃｍ２）。
次に、炭酸ナトリウム系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フィルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２９℃で３０秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し、パターン像を形成した（現像工程）。引き続いて、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フィルム（株）製））を純水で１０倍に希釈した液を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、円柱状のスペーサーパターンを３００μｍ×３００μｍに１本のスペーサー間隔となるように形成した。
ここで、得られたフォトスペーサ１０００個について、三次元表面構造解析顕微鏡（メーカー：ZYGO Corporation、型式：New View 5022）を用い、ＩＴＯ透明電極上面（基板に平行な２つの面のうち、基板から遠い側の面）からフォトスペーサーの最も高い位置までの距離（以下、この距離を「フォトスペーサーの高さ」ともいう）を測定し、平均値をフォトスペーサーの平均高さとした。
また、得られたフォトスペーサーの底面積の計測は、ＳＥＭ写真を用いて行なった。その結果、直径１５．１μｍ、平均高さ４．７μｍの円柱形状であった。測定値は下記表２に示す。
また、得られたフォトスペーサーの底面積の計測は、ＳＥＭ写真を用いて行なった。その結果、直径１５．１μｍ、平均高さ４．７μｍの円柱形状であった。測定値は下記表２に示す。
＜液晶表示装置の作製＞
別途、対向基板としてガラス基板を用意し、上記で得られたカラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれＰＶＡモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
別途、対向基板としてガラス基板を用意し、上記で得られたカラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれＰＶＡモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、ＰＶＡモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板をＵＶ照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
次いで、赤色（Ｒ）ＬＥＤとしてＦＲ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、緑色（Ｇ）ＬＥＤとしてＤＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、青色（Ｂ）ＬＥＤとしてＤＢ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
＜評価＞
得られたフォトスペーサー、液晶表示装置について、下記の評価を行なった。測定評価の結果は下記表２に示す。
得られたフォトスペーサー、液晶表示装置について、下記の評価を行なった。測定評価の結果は下記表２に示す。
（フォトスペーサーの断面形状）
上記＜フォトスペーサーの形成＞で得られた加熱処理後のフォトスペーサーの断面形状を、走査型電子顕微鏡を用いて観察した。観察は、基板周辺部及び基板中央部の計５箇所について行った。
更に、下記評価基準に従ってフォトスペーサーの断面形状を評価した。
上記＜フォトスペーサーの形成＞で得られた加熱処理後のフォトスペーサーの断面形状を、走査型電子顕微鏡を用いて観察した。観察は、基板周辺部及び基板中央部の計５箇所について行った。
更に、下記評価基準に従ってフォトスペーサーの断面形状を評価した。
〜評価基準〜
Ａ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８７°以上９３°以下の均一な断面形状を有するフォトスペーサーが形成されていた。
Ｂ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８３°以上９７°以下の均一な断面形状を有するフォトスペーサーが形成されていたが、上記Ａには該当しなかった。
Ｃ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８０°以上１００°以下の均一な断面形状を有するフォトスペーサーが形成されていたが、上記Ａ及びＢのいずれにも該当しなかった。
Ｄ：５箇所中１〜４箇所について、テーパー角度８０°以上１００°以下の範囲を外れるフォトスペーサーが形成されていた。
Ｅ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８０°以上１００°以下の範囲を外れるフォトスペーサーが形成されていた。
Ａ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８７°以上９３°以下の均一な断面形状を有するフォトスペーサーが形成されていた。
Ｂ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８３°以上９７°以下の均一な断面形状を有するフォトスペーサーが形成されていたが、上記Ａには該当しなかった。
Ｃ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８０°以上１００°以下の均一な断面形状を有するフォトスペーサーが形成されていたが、上記Ａ及びＢのいずれにも該当しなかった。
Ｄ：５箇所中１〜４箇所について、テーパー角度８０°以上１００°以下の範囲を外れるフォトスペーサーが形成されていた。
Ｅ：５箇所の全てにおいて、テーパー角度８０°以上１００°以下の範囲を外れるフォトスペーサーが形成されていた。
（フォトスペーサーの高さ均一性）
上記＜フォトスペーサーの形成＞で測定されたフォトスペーサー１０００個分の高さの結果から、最大値と最小値との差を算出し、下記基準に従って評価した。
差が小さい程、均一性に優れている。
上記＜フォトスペーサーの形成＞で測定されたフォトスペーサー１０００個分の高さの結果から、最大値と最小値との差を算出し、下記基準に従って評価した。
差が小さい程、均一性に優れている。
〜評価基準〜
Ａ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．２μｍ未満であった。
Ｂ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．２μｍ以上０．３μｍ未満であった。
Ｃ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．３μｍ以上０．４μｍ未満であった。
Ｄ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．４μｍ以上０．５μｍ未満であった。
Ｅ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．５μｍ以上であった。
Ａ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．２μｍ未満であった。
Ｂ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．２μｍ以上０．３μｍ未満であった。
Ｃ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．３μｍ以上０．４μｍ未満であった。
Ｄ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．４μｍ以上０．５μｍ未満であった。
Ｅ：フォトスペーサーの高さの最大値と最小値との差が０．５μｍ以上であった。
（変形回復率）
得られたフォトスペーサーに対して、微小硬度計（ＤＵＨ−Ｗ２０１、（株）島津製作所製）により次のようにして測定を行ない、評価した。測定は、５０μｍφの円錘台圧子を採用し、最大荷重５０ｍＮ、保持時間５秒として、負荷−除荷試験法により行なった。この測定値から下記式により変形回復率〔％〕を求め、下記評価基準にしたがって評価した。測定は、２２±１℃、５０％ＲＨの環境下で行なった。
変形回復率（％）
＝（荷重開放後の回復量［μｍ］／荷重時の変形量［μｍ］）×１００
得られたフォトスペーサーに対して、微小硬度計（ＤＵＨ−Ｗ２０１、（株）島津製作所製）により次のようにして測定を行ない、評価した。測定は、５０μｍφの円錘台圧子を採用し、最大荷重５０ｍＮ、保持時間５秒として、負荷−除荷試験法により行なった。この測定値から下記式により変形回復率〔％〕を求め、下記評価基準にしたがって評価した。測定は、２２±１℃、５０％ＲＨの環境下で行なった。
変形回復率（％）
＝（荷重開放後の回復量［μｍ］／荷重時の変形量［μｍ］）×１００
〜評価基準〜
ＡＡ：変形回復率が９２％以上であった。
Ａ ：変形回復率が９０％以上９２％未満であった。
Ｂ ：変形回復率が８７％以上９０％未満であった。
Ｃ ：変形回復率が８５％以上８７％未満であった。
Ｄ ：変形回復率が８０％以上８５％未満であった。
Ｅ ：変形回復率が７５％以上８０％未満であった。
Ｆ ：変形回復率が７５％未満であった。
ＡＡ：変形回復率が９２％以上であった。
Ａ ：変形回復率が９０％以上９２％未満であった。
Ｂ ：変形回復率が８７％以上９０％未満であった。
Ｃ ：変形回復率が８５％以上８７％未満であった。
Ｄ ：変形回復率が８０％以上８５％未満であった。
Ｅ ：変形回復率が７５％以上８０％未満であった。
Ｆ ：変形回復率が７５％未満であった。
（液晶表示装置の表示ムラ）
上記で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。評価結果は下記表２に示す。
上記で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。評価結果は下記表２に示す。
〜評価基準〜
Ａ：表示ムラはなく、非常に良好な表示画像が得られた。
Ｂ：ガラス基板のふち部分に微かにムラがあったものの、表示部への影響はなく表示画像は良好であった。
Ｃ：表示部に微かにムラがみられたが、実用上許容範囲内であった。
Ｄ：表示部にムラがみられた。
Ａ：表示ムラはなく、非常に良好な表示画像が得られた。
Ｂ：ガラス基板のふち部分に微かにムラがあったものの、表示部への影響はなく表示画像は良好であった。
Ｃ：表示部に微かにムラがみられたが、実用上許容範囲内であった。
Ｄ：表示部にムラがみられた。
［実施例２〜１８］：塗布法
重合性化合物（Ｂ）及び樹脂（Ａ）の種類を下記表２に示すように変更した以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
重合性化合物（Ｂ）及び樹脂（Ａ）の種類を下記表２に示すように変更した以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
［実施例１９］：転写法
実施例１において、感光性樹脂層用塗布液（処方１）の塗布に代えて以下に示すスペーサー用感光性転写フィルムを用いた転写を行なうことにより、感光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様して、フォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサーは、円柱形状であった。得られたフォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例１において、感光性樹脂層用塗布液（処方１）の塗布に代えて以下に示すスペーサー用感光性転写フィルムを用いた転写を行なうことにより、感光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様して、フォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサーは、円柱形状であった。得られたフォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
＜スペーサー用感光性転写フィルムの作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、下記処方Ａからなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚１５．０μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、下記処方Ａからなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚１５．０μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
〜熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ａ〜
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 … ２５．０部
（＝５５／１１．７／４．５／２８．８［モル比］、重量平均分子量９０，０００）
・スチレン／アクリル酸共重合体 … ５８．４部
（＝６３／３７［モル比］、重量平均分子量８，０００）
・２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパン
… ３９．０部
・下記界面活性剤１ … １０．０部
・メタノール … ９０．０部
・１−メトキシ−２−プロパノール … ５１．０部
・メチルエチルケトン …７００部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 … ２５．０部
（＝５５／１１．７／４．５／２８．８［モル比］、重量平均分子量９０，０００）
・スチレン／アクリル酸共重合体 … ５８．４部
（＝６３／３７［モル比］、重量平均分子量８，０００）
・２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパン
… ３９．０部
・下記界面活性剤１ … １０．０部
・メタノール … ９０．０部
・１−メトキシ−２−プロパノール … ５１．０部
・メチルエチルケトン …７００部
＊界面活性剤１
・下記構造物１ …３０％
・メチルエチルケトン …７０％
・下記構造物１ …３０％
・メチルエチルケトン …７０％
次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｂからなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚１．５μｍの中間層を積層した。
〜中間層用塗布液の処方Ｂ〜
・ポリビニルアルコール …３．２２部
（ＰＶＡ−２０５（鹸化率８０％）、（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン …１．４９部
（ＰＶＰ Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン株式会社製）
・メタノール …４２．３部
・蒸留水 …５２４部
・ポリビニルアルコール …３．２２部
（ＰＶＡ−２０５（鹸化率８０％）、（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン …１．４９部
（ＰＶＰ Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン株式会社製）
・メタノール …４２．３部
・蒸留水 …５２４部
次に、形成した中間層上に更に、前記表１に示す処方１からなる感光性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚５．０μｍの感光性樹脂層を積層した。
以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層の積層構造（３層の合計層厚：２１．５μｍ）に構成した後、感光性樹脂層の表面に更に、カバーフィルムとして厚み１２μｍのポリプロピレン製のフィルムを加熱・加圧して貼り付け、スペーサー用感光性転写フィルムを得た。
＜フォトスペーサーの作製＞
得られたスペーサー用感光性転写フィルムのカバーフィルムを剥離し、露出した感光性樹脂層の表面を、実施例１と同様にして作製したＩＴＯ透明電極がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ透明電極上に重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃII型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、１３０℃の加圧・加熱条件下で搬送速度２ｍ／分にて貼り合わせた。その後、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光性樹脂層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した（被膜形成工程）。
得られたスペーサー用感光性転写フィルムのカバーフィルムを剥離し、露出した感光性樹脂層の表面を、実施例１と同様にして作製したＩＴＯ透明電極がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ透明電極上に重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃII型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、１３０℃の加圧・加熱条件下で搬送速度２ｍ／分にて貼り合わせた。その後、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光性樹脂層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した（被膜形成工程）。
続いて、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、マスク（画像パターンを有する石英露光マスク）と、該マスクと熱可塑性樹脂層とが向き合うように配置したカラーフィルタ基板とを略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂層の中間層に接する側の表面との間の距離を１００μｍとし、マスクを介して熱可塑性樹脂層側から露光量９０ｍＪ／ｃｍ２にてプロキシミティー露光した（露光工程）。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フィルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で５０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。続いて、炭酸ナトリウム系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フィルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２９℃で３０秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し、パターン像を形成した（現像工程）。
次いで、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フィルム（株）製））を純水で１０倍に希釈した液を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、円柱状のスペーサーパターンを３００μｍ×３００μｍに１本のスペーサー間隔となるように形成した。
次に、スペーサーパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、２３０℃下で３０分間加熱処理を行なう（被膜加熱工程）ことにより、カラーフィルタ基板上にフォトスペーサーを作製した。得られたフォトスペーサーは、直径１５．１μｍ、平均高さ４．７μｍの円柱形状であった。
そして、フォトスペーサーが作製されたカラーフィルタ基板を用い、実施例１と同様にして、ＰＶＡモード液晶表示装置を作製した。
次いで、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フィルム（株）製））を純水で１０倍に希釈した液を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、円柱状のスペーサーパターンを３００μｍ×３００μｍに１本のスペーサー間隔となるように形成した。
次に、スペーサーパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、２３０℃下で３０分間加熱処理を行なう（被膜加熱工程）ことにより、カラーフィルタ基板上にフォトスペーサーを作製した。得られたフォトスペーサーは、直径１５．１μｍ、平均高さ４．７μｍの円柱形状であった。
そして、フォトスペーサーが作製されたカラーフィルタ基板を用い、実施例１と同様にして、ＰＶＡモード液晶表示装置を作製した。
［実施例２０〜２４］：塗布法
実施例１において、処方１の感光性組成物層用塗布液の代わりに処方２〜６の感光性組成物層用塗布液を用いた以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例１において、処方１の感光性組成物層用塗布液の代わりに処方２〜６の感光性組成物層用塗布液を用いた以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。得られたフォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
［比較例１］
重合性化合物を、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）に変更した以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。フォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
重合性化合物を、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）に変更した以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。フォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
［比較例２］
樹脂を、メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比）＝２０／８０（重量平均分子量＝３．６万）に変更した以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。フォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
樹脂を、メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比）＝２０／８０（重量平均分子量＝３．６万）に変更した以外は実施例１と同様にしてフォトスペーサー及び液晶表示装置を作製した。フォトスペーサー及び液晶表示装置について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表２に示す。
表２中、重合性化合物欄及び樹脂欄の、Ｂ−１、Ｐ−５２等の記号は例示化合物番号を表す。
表２に示すように、実施例のフォトスペーサーは断面形状が均一で、高さバラツキが抑制されており、更に良好な変形回復性を有していた。また、実施例のフォトスペーサーを備えた液晶表示装置では表示ムラが抑制されていた。
〔実施例２５〕
＜保護膜の形成＞
実施例１中、カラーフィルタ基板の作製において、ブラックマトリクス、Ｒ画素、Ｇ画素、及びＢ画素形成後、ブラックマトリクス及び各画素上に、更に、前記処方１からなる感光性樹脂組成物を塗布し、マスクを介さずに露光し（全面露光）、加熱処理して保護膜を形成した。ここで、塗布、露光、加熱処理の条件は、マスクを介さずに露光する以外は実施例１のフォトスペーサーの形成における塗布、露光、加熱処理の条件と同様である。
次いで、得られた保護層上に更に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
＜保護膜の形成＞
実施例１中、カラーフィルタ基板の作製において、ブラックマトリクス、Ｒ画素、Ｇ画素、及びＢ画素形成後、ブラックマトリクス及び各画素上に、更に、前記処方１からなる感光性樹脂組成物を塗布し、マスクを介さずに露光し（全面露光）、加熱処理して保護膜を形成した。ここで、塗布、露光、加熱処理の条件は、マスクを介さずに露光する以外は実施例１のフォトスペーサーの形成における塗布、露光、加熱処理の条件と同様である。
次いで、得られた保護層上に更に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
＜フォトスペーサーの形成＞
上記で形成されたＩＴＯ透明電極上に、感光性樹脂組成物として比較例２で用いた感光性樹脂組成物を用いた以外は実施例１と同様の方法によりフォトスペーサーを形成した。
上記で形成されたＩＴＯ透明電極上に、感光性樹脂組成物として比較例２で用いた感光性樹脂組成物を用いた以外は実施例１と同様の方法によりフォトスペーサーを形成した。
＜液晶表示装置の作製及び評価＞
次に、前記フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタ基板を用い、実施例１と同様の方法により液晶表示装置を作製した。
得られた保護膜及び液晶表示装置について、実施例１と同様の方法により評価を行った。本発明の感光性組成物を用いて保護膜を形成した場合においても、フォトスペーサーを形成した場合と同様に良好な結果が得られた。
次に、前記フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタ基板を用い、実施例１と同様の方法により液晶表示装置を作製した。
得られた保護膜及び液晶表示装置について、実施例１と同様の方法により評価を行った。本発明の感光性組成物を用いて保護膜を形成した場合においても、フォトスペーサーを形成した場合と同様に良好な結果が得られた。
〔実施例２６〕
＜着色パターンの形成＞
実施例１中、カラーフィルタ基板の作製において、Ｒ画素を下記方法により形成した以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ基板を作製した。
即ち、前記処方１に、さらにピグメントレッド２５４（１９．４部）及びピグメントレッド１７７（４．８３部）を添加して、Ｒ画素用感光性樹脂組成物を調製した。
調製されたＲ画素用感光性樹脂組成物を用いたこと及びフォトマスクとしてＲ画素用フォトマスクを用いたこと以外は実施例１のフォトスペーサーの形成と同様の方法により、Ｒ画素を形成した。
＜着色パターンの形成＞
実施例１中、カラーフィルタ基板の作製において、Ｒ画素を下記方法により形成した以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ基板を作製した。
即ち、前記処方１に、さらにピグメントレッド２５４（１９．４部）及びピグメントレッド１７７（４．８３部）を添加して、Ｒ画素用感光性樹脂組成物を調製した。
調製されたＲ画素用感光性樹脂組成物を用いたこと及びフォトマスクとしてＲ画素用フォトマスクを用いたこと以外は実施例１のフォトスペーサーの形成と同様の方法により、Ｒ画素を形成した。
作製されたカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素形成後、各画素上に更に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
＜フォトスペーサーの形成＞
上記で形成されたＩＴＯ透明電極上に、感光性樹脂組成物として比較例２で用いた感光性樹脂組成物を用いた以外は実施例１と同様の方法によりフォトスペーサーを形成した。
上記で形成されたＩＴＯ透明電極上に、感光性樹脂組成物として比較例２で用いた感光性樹脂組成物を用いた以外は実施例１と同様の方法によりフォトスペーサーを形成した。
＜液晶表示装置の作製及び評価＞
次に、前記フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタ基板を用い、実施例１と同様の方法により液晶表示装置を作製した。
得られた着色パターン及び液晶表示装置について、実施例１と同様の方法により評価を行った。本発明の感光性組成物を用いて着色パターンを形成した場合においても、フォトスペーサーを形成した場合と同様に良好な結果が得られた。
次に、前記フォトスペーサーが形成されたカラーフィルタ基板を用い、実施例１と同様の方法により液晶表示装置を作製した。
得られた着色パターン及び液晶表示装置について、実施例１と同様の方法により評価を行った。本発明の感光性組成物を用いて着色パターンを形成した場合においても、フォトスペーサーを形成した場合と同様に良好な結果が得られた。
Claims (10)
- 酸性基と、エチレン性不飽和結合を有する基とを側鎖に含有する樹脂（Ａ）と、エチレン性不飽和結合を有する重合性置換基の２つ以上と、前記重合性置換基と結合する２価以上の環構造含有基とを含有する重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を少なくとも含んでなるカラーフィルタ用の感光性組成物。
- 前記重合性化合物（Ｂ）は、下記一般式（１）〜（１４）のいずれかで表されることを特徴とする請求項１に記載の感光性組成物。
［式中、Ｌ１〜Ｌ８はそれぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ｑ１〜Ｑ８はそれぞれ独立にエチレン性不飽和結合を有する基を表し、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ１１はメチレン、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基を表す］ - 前記重合性化合物（Ｂ）の樹脂（Ａ）に対する質量比率（（Ｂ）／（Ａ））が０．５〜２であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の感光性組成物。
- 更に微粒子（Ｄ）を含むことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の感光性組成物。
- 請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成されたフォトスペーサー。
- 請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成された保護膜。
- 請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて形成された着色パターン。
- 請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の感光性組成物を用いて、支持体上に感光性樹脂層を形成する工程を有するフォトスペーサーの製造方法。
- 請求項５に記載のフォトスペーサー、請求項６に記載の保護膜、及び請求項７に記載の着色パターンの少なくとも１種を備えた表示装置用基板。
- 請求項９に記載の表示装置用基板を備えた表示装置。
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-
2007
- 2007-12-28 JP JP2007340292A patent/JP2009162871A/ja not_active Abandoned
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