JP2019148614A - 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びタッチパネル用電極の保護膜の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】防錆性及びインデックスマッチング層に対する接着性に優れるタッチパネル用電極の保護膜を形成できる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びタッチパネル電極用の保護膜の製造方法を提供すること。【解決手段】バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、バインダーポリマーがカルボキシル基を有し、かつバインダーポリマーの酸価が８５〜１００ｍｇＫＯＨ/ｇであり、光重合開始剤がベンジルジメチルケタールを含有する、感光性樹脂組成物。【選択図】なし

Description

本発明は、感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びタッチパネル用電極の保護膜の製造方法に関する。

パソコン、テレビの大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器及びＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器には、液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルでは、基板上に透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウム、酸化スズ等が知られている。これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子等に用いられる電極材として主流になっている。

タッチパネルはすでに各種の方式で実用化されているが、近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、導電体である指先がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜とが静電容量結合し、コンデンサを形成する。このように、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。

特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備え、その操作性の良さから、携帯電話や携帯型音楽プレーヤなどの小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として利用が進んでいる。

ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために、金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。

しかしながら、上述のようなタッチパネルでは、指先に接触される際に水分や塩分などの腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、一般的には銅で形成されている金属配線は腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線のおそれがあった。

このような金属配線の腐食を防ぐこと（防錆）を目的として、基板上に特定の感光性樹脂組成物から形成される感光性樹脂層（「感光層」ともいう）を設け、この感光性樹脂層を露光、現像することで基板上の金属配線を保護する保護膜を形成することが知られている（例えば、特許文献１参照）。

ところで、一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造の透明電極パターンを形成しており、該電極としてはＩＴＯが用いられる。このような透明電極パターンが形成されたタッチパネルでは、透明電極パターンが形成された部分と形成されていない部分とで、光学的な反射特性の違いにより色差が大きくなり、モジュール化した際に透明導電パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題が生じ得る。この問題を解決するために、透明電極下部に光学調整層（「インデックスマッチング層」ともいう）を設け、透明電極パターンが形成された部分と形成されていない部分との光学特性の差を小さくすることが一般的である。

国際公開第２０１３／０８４８７３号

インデックスマッチング層は、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２などの金属ナノ粒子を含有する樹脂組成物で構成されるが、インデックスマッチング層表層には、保護膜との接着に寄与する水酸基などの活性基が少ないことから、インデックスマッチング層と保護膜との接着力が低いという課題がある。

そこで、本発明は、防錆性及びインデックスマッチング層に対する接着性に優れるタッチパネル用電極の保護膜を形成できる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びタッチパネル電極用の保護膜の製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、特定のバインダーポリマー、及び特定の光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物によって、防錆性及びインデックスマッチング層に対する接着性に優れる保護膜を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、バインダーポリマーがカルボキシル基を有し、かつバインダーポリマーの酸価が８５〜１００ｍｇＫＯＨ/ｇであり、光重合開始剤がベンジルジメチルケタールを含有する、感光性樹脂組成物を提供する。

この感光性樹脂組成物によれば、インデックスマッチング層との接着性に優れ、且つ解像性に優れるパターンで透明性が高い薄膜の保護膜を形成することが可能となる。また、得られる保護膜は、薄膜であっても充分な防錆性を有する。

光重合性化合物は、好ましくは、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する化合物の少なくとも１種を含む。この場合、感光性樹脂組成物で形成された保護膜は、防錆性により優れる。

感光性樹脂組成物は、好ましくは、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する。この場合、現像性と防錆性とを両立することができ、良好なパターンで防錆性を有する保護膜を形成することができる。

本発明はまた、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを提供する。

本発明の感光性エレメントは、上記感光性樹脂組成物を用いることにより、所定のタッチパネル用電極上に、防錆性に優れる保護膜を形成することができる。また、上記感光性エレメントを用いることにより、ロールツーロールプロセスを容易に実現できる、溶媒乾燥工程を短縮できるなど、製造工程の短縮及びコスト低減に大きく貢献することができる。

感光層の４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値は、好ましくは９０％以上である。この場合、タッチパネルの視認性を充分に確保することができる。

感光層のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊は、好ましくは−０．２〜１．０である。この場合、タッチパネルの視認性を更に向上させることができる。

感光層の厚みは、好ましくは１０μｍ以下である。この場合、感光層の硬化物からなる保護膜を形成したときに、保護膜が形成された領域と形成されていない領域との間での、タッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が小さくなる。

本発明はまた、電極が設けられた基板上に、上記感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける第１工程と、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、を備える、タッチパネル用電極の保護膜の製造方法を提供する。

本発明のタッチパネル用電極の保護膜の製造方法によれば、上記特定の感光性樹脂組成物を用いることにより、現像性及び基板への密着性（接着性）を確保しつつ、例えば１０μｍ以下の厚みであっても防錆性に優れる保護膜を形成することができる。

上記タッチパネル用電極の保護膜の製造方法は、好ましくは、上記所定部分が感光層の一部であり、上記第２工程の後に、上記所定部分以外の感光層を除去する第３工程を更に備える。この場合、上記感光性樹脂組成物で形成された感光層を現像することにより、美観と防錆性の双方に優れる保護膜を形成できることから、タッチパネルの製造における製造コストの低減を図ることが可能となる。

本発明はまた、上記感光性樹脂組成物からなる感光層を硬化してなる保護膜を提供する。

本発明によれば、防錆性及びインデックスマッチング層に対する接着性に優れるタッチパネル用電極の保護膜を形成できる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びタッチパネル電極用の保護膜の製造方法を提供することができる。

（ａ），（ｂ）は、それぞれ本発明の一実施形態に係る感光性エレメントを示す模式断面図である。 （ａ）は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。（ｂ）は、図２（ａ）に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図である。 図２に示すタッチパネルに設けられている保護膜の製造方法（形成方法）を説明するための模式断面図である。 静電容量式のタッチパネルの別の例を示す模式上面図である。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

本明細書においてタッチパネル用電極とは、タッチパネルのセンシング領域にある電極だけでなく額縁領域の金属配線も含む。保護膜で保護される電極は、センシング領域にある電極及び額縁領域の金属配線のいずれか一方であってもよく、両方であってもよい。

本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。

本明細書において「工程」との語には、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、当該工程も含まれる。
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。

本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。

本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）とを含有する。

バインダーポリマーは、カルボキシル基を有する。カルボキシル基を有するバインダーポリマーは、例えば、カルボキシル基を有する重合性単量体及びその他の重合性単量体をモノマー単位として有する共重合体であり、好ましくは（ａ）（メタ）アクリル酸及び（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステルをモノマー単位として有する共重合体である。

（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、及び（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルが挙げられる。

上記共重合体は、上記の（ａ）成分及び（ｂ）成分の少なくとも一方と共重合しうるその他のモノマーをモノマー単位として更に有してよい。その他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、スチレン、及びビニルトルエンが挙げられる。上記共重合体は、その他のモノマーの１種又は２種以上をモノマー単位として有してよい。

バインダーポリマーを構成する全モノマー単位に対するカルボキシル基を有するモノマー単位の割合は、バインダーポリマーが後述の酸価を有するように適宜調整されればよく、例えば１０〜２０質量％であってよい。

バインダーポリマーの酸価は、インデックスマッチング層との密着性（接着性）及び防錆性の観点から、８５〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは８５〜９６ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは８５〜９３ｍｇＫＯＨ／ｇ、さらに好ましくは８５〜９１ｍｇＫＯＨ／ｇである。バインダーポリマーの酸価が８５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、感光性樹脂組成物を用いて得られる保護膜とインデックスマッチング層との接着力が向上する。バインダーポリマーの酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、当該保護膜は防錆性に優れる。

バインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。すなわち、まず、酸価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤する。上記精秤したバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行う。そして、次式により酸価を算出する。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定したバインダーポリマーを含有する溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定したバインダーポリマーを含有する溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。なお、バインダーポリマーが合成溶媒や希釈溶媒などの揮発分と混合された状態である場合には、精秤前に予め、揮発分の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去してから酸価を測定する。

バインダーポリマーの重量平均分子量は、特に制限はないが、塗布性、塗膜強度及び現像性の見地から、好ましくは１０，０００〜２００，０００、より好ましくは３０，０００〜１５０，０００、更に好ましくは５０，０００〜１００，０００である。本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により測定され、標準ポリスチレンを用いて作成した検量線により換算された値である。

バインダーポリマーのガラス転移温度は、好ましくは６５〜８０℃、より好ましくは７０〜８０℃、更に好ましくは７０〜７５℃である。本明細書において、バインダーポリマーのガラス転移温度は、次のＦｏｘの式により算出される温度である。
Ｆｏｘの式：１／Ｔｇ＝Σ（Ｗｉ／Ｔｇｉ）
式中、Ｔｇはバインダーポリマーのガラス転移温度を示し、Ｗｉはバインダーポリマーを構成する各モノマーの重量分率を示し、Ｔｇｉはバインダーポリマーを構成する各モノマーのホモポリマーのガラス転移温度を示す。

（Ｂ）成分は、好ましくはエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物である。

エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、及び少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。

一官能モノマーとしては、例えば、上記バインダーポリマーがモノマー単位として有するのに好適なモノマーとして例示した、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、及びそれらと共重合可能なモノマーが挙げられる。

二官能ビニルモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリオキシエチレンポリオキシプロピレンジ（メタ）アクリレート（すなわち、２，２−ビス（４−アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等；多価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質（β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）とのエステル化物等が挙げられる。

少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマー、すなわち、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物及びグリシジル基を有する化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを付加反応させて得られる化合物が挙げられる。

多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを反応させて得られる化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。

グリシジル基を有する化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを付加反応させて得られる化合物としては、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート等が挙げられる。

（Ｂ）成分は、好ましくは少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を含有する。少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物は、電極の腐食を抑制し、かつ現像を容易にする観点から、好ましくは、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種、より好ましくはジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種である。

本明細書において、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジペンタエリスリトールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。ジペンタエリスリトールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物においては、一分子中におけるエステル結合の数は好ましくは６であるが、ジペンタエリスリトールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が１〜５の化合物の混合物であってもよい。

トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物とは、トリメチロールプロパンと（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。トリメチロールプロパンと（メタ）アクリル酸とのエステル化物においては、一分子中におけるエステル結合の数は好ましくは３であるが、トリメチロールプロパンと（メタ）アクリル酸とのエステル化物は、エステル結合の数が１〜２の化合物の混合物であってもよい。

ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種は、電極の腐食を抑制し、かつ現像を容易にする観点から、好ましくは、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種、より好ましくは、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種である。

アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートが挙げられる。ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートは、例えば、日本化薬（株）から製品（製品名：ＲＰ−１０４０）として入手可能である。

（Ｂ）成分は、上記化合物の１種であってもよく、２種以上の混合物であってもよい。

（Ｂ）成分として少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いる場合、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物のみを用いてもよく、一官能ビニルモノマー又は二官能ビニルモノマーと組み合わせて用いてもよい。光硬化性及び電極腐食の抑制力を得る観点から、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物の含有割合は、感光性樹脂組成物に含まれる（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対して、好ましくは３０質量部以上、より好ましくは５０質量部以上、更に好ましくは７５質量部以上である。

（Ｂ）光重合性化合物の酸価は、防錆性の点で更に優れる観点から、好ましくは５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。

（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量はそれぞれ、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、好ましくは、（Ａ）成分が４０〜８０質量部かつ（Ｂ）成分が２０〜６０質量部、より好ましくは、（Ａ）成分が５０〜７０質量部かつ（Ｂ）成分が３０〜５０質量部、更に好ましくは、（Ａ）成分が５５〜６５質量部かつ（Ｂ）成分が３５〜４５質量部である。

本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、塗布性及び後述の感光性エレメントを形成した際のフィルム性を充分に確保しつつ、感度、光硬化性、現像性、及び電極腐食の抑制力を充分に確保することができる。

（Ｃ）成分は、ベンジルジメチルケタールを含有する。（Ｃ）成分がベンジルジメチルケタールを含有することにより、本実施形態に係る感光性樹脂組成物で形成される保護膜は、インデックスマッチング層への密着性（接着性）に優れる。ベンジルジメチルケタールは、下記式（１）で表される化合物である。

（Ｃ）成分は、ベンジルジメチルケタール以外の光重合開始剤を更に含有していてもよい。ベンジルジメチルケタール以外の光重合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン、ベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン化合物、オキシムエステル化合物、ベンジルジメチルケタール以外のベンジル誘導体、アクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン化合物、オキサゾール化合物、及びホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。芳香族ケトンは、好ましくは、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１等である。ベンゾインエーテル化合物は、好ましくは、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等である。ベンゾイン化合物は、好ましくは、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等である。オキシムエステル化合物は、好ましくは、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等である。アクリジン誘導体は、好ましくは、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等である。Ｎ−フェニルグリシン誘導体は、好ましくは、Ｎ−フェニルグリシン等である。ホスフィンオキサイド化合物は、好ましくは、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等である。

（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、好ましくは、０．１〜２０質量部、より好ましくは０．５〜１５質量部、更に好ましくは１〜１０質量部である。

（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、感光性樹脂組成物の光感度が充分になるとともに、感光性樹脂組成物で形成された感光層に活性光線を照射した場合に、当該感光層の表面における活性光線の吸収量の増大に起因して当該感光層の内部における光硬化が不充分となること、及び感光層の可視光透過率が低下するなどの不具合を抑制することができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物では、特に、所定の酸価を有する（Ａ）成分と、ベンジルジメチルケタールを含有する（Ｃ）成分とを組み合わせて用いることにより、現像性及びインデックスマッチング層に対する密着性（接着性）を確保しつつ、例えば１０μｍ以下の厚みであっても充分な防錆性を有する保護膜の形成が可能となる。よって、本実施形態に係る感光性樹脂組成物によれば、防錆性とインデックスマッチング層に対する密着性（接着性）とを両立できる保護膜を形成することができ、また、得られる保護膜は美観に優れる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、防錆性及び現像性を両立する観点から、好ましくは、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（以下、「（Ｄ）成分」ともいう）を更に含有する。

トリアゾール化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール、３−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を有するトリアゾール化合物、３−アミノ−５−メルカプトトリアゾール等のアミノ基を有するトリアゾール化合物が挙げられる。

チアジアゾール化合物としては、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，１，３−ベンゾチアジアゾール等が挙げられる。

テトラゾール化合物としては、例えば、下記一般式（Ｄ−１）で表わされる化合物が挙げられる。

一般式（Ｄ−１）中のＲ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アミノ基、メルカプト基、又はカルボキシメチル基を示す。炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物としては、例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾール等が挙げられる。

（Ｄ）成分は、上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物の水溶性塩であってもよい。一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物の水溶性塩としては、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。

（Ｄ）成分は、これらの中でも、電極腐食の抑制性、感光性樹脂組成物で形成された保護膜と金属電極との密着性（接着性）、現像の容易性、及び感光性樹脂組成物で形成された保護膜の透明性の観点から、特に好ましくは、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、及び１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾールである。

（Ｄ）成分は、これらのテトラゾール化合物及びその水溶性塩の１種でもよく、２種以上の混合物であってもよい。

また、保護膜で保護する電極の表面が銅、銀、ニッケルなどの金属成分を有している場合に、後述する感光層の現像性を更に向上させる観点から、（Ｄ）成分は、上記化合物の中でも、好ましくはアミノ基を有するテトラゾール化合物を更に含有する。この場合、現像残渣を低減することができ、良好なパターンで保護膜を形成することが容易となる。この理由としては、アミノ基を有するテトラゾール化合物の配合によって、感光性樹脂組成物の現像液に対する溶解性、及び感光層と金属成分との密着力（接着性）のバランスが良好となることが考えられる。

（Ｄ）成分が、アミノ基を有するテトラゾール化合物を含有する場合、上記の効果が得られることから、本実施形態に係る感光性樹脂組成物及び後述する感光性エレメントは、銅層などの金属配線を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護するための保護膜の形成に好適である。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、好ましくは０．０５〜１０．０質量部、より好ましくは０．１〜２．０質量部、更に好ましくは０．２〜１．０質量部である。

（Ｄ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、現像性や解像度が低下するなどの不具合を抑制しつつ、電極腐食の抑制力及び金属電極との密着性（接着性）を向上させる効果を充分に得ることができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、その他、必要に応じて、シランカップリング剤等の密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有してよい。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用してよい。

本実施形態の感光性樹脂組成物の４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９２％以上、更に好ましくは９５％以上である。

ここで、感光性樹脂組成物の４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値は以下のようにして求められる。
まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を乾燥後の厚みが１０μｍ以下となるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層（「感光層」ともいう）を形成する。次に、ガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光層を光硬化した後、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける光透過率を測定する。

一般的な可視光波長域の光線である４００〜７００ｎｍの波長域における光透過率が９０％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合、及びタッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属配線（例えば、ＩＴＯ電極上に形成された銅層など）を保護したときにセンシング領域の端部から保護膜が見える場合において、センシング領域での画像表示の品質、色合い、及び輝度が低下することを充分に抑制することができる。

タッチパネルの視認性を更に向上させる観点から、本実施形態の感光性樹脂組成物のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊は、好ましくは−０．２〜１．０、より好ましくは０．０〜０．７、更に好ましくは０．１〜０．５である。４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値が９０％以上である場合と同様に、センシング領域の画像表示の品質、及び色合いの低下を防止する観点からも、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊は、好ましくは−０．２〜１．０である。なお、本明細書において、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊は、例えばコニカミノルタ製分光測色計「ＣＭ−５」を使用して、感光性樹脂組成物から形成される感光層のＤ６５光源、視野角２°の条件で測定することにより得られる値を意味する。感光層は、厚み０．７ｍｍのガラス基板に感光性樹脂組成物を塗布し、厚みが１０μｍ以下の層を形成した後、この層に紫外線を照射して光硬化させることにより形成される。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、後述するように、タッチパネル用電極を有する基板上に感光層を形成するために用いることができ、インデックスマッチング層及びタッチパネル用電極を有する基板上に感光層を形成するために特に好適に用いることができる。本実施形態の感光性樹脂組成物は、防錆性に優れるものであるため、タッチパネル（タッチセンサー）の電極を保護する目的であれば、タッチパネルを有する液晶表示装置の構成によらず好適に用いられる。具体的には、液晶表示装置が、カバーガラス、タッチパネル、及び液晶パネルの３枚の構成要素を有する場合、カバーガラス一体型である場合（カバーガラスとタッチパネルとが一体である場合）、及びオンセル型である場合（タッチパネルと液晶パネルとが一体である場合）のいずれであっても、本実施形態の感光性樹脂組成物は、タッチパネル（タッチセンサー）の電極を保護する目的であれば好適に用いられる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、好ましくは、後述する感光性エレメントのように、フィルム状に製膜して感光性フィルムとして用いられる。感光性フィルムを、タッパネル用電極を有する基板上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶媒乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮やコスト低減に大きく貢献することができる。

図１は、本発明の一実施形態に係る感光性エレメントを示す模式断面図である。図１（ａ）に示されるように、感光性エレメント１Ａは、支持フィルム２と、支持フィルム２上に設けられた上記感光性樹脂組成物からなる感光層３と、を備える。

感光性エレメント１Ａは、例えば、本実施形態の感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製し、当該塗布液を支持フィルム２上に塗布して塗膜を形成し、さらに当該塗膜を乾燥して溶媒を揮発させることで感光層３を形成することにより得られる。塗布液は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を構成する各成分を、溶媒に均一に溶解又は分散することにより得られる。

溶媒としては、特に制限はなく、公知のものが使用できる。溶媒は、各成分の溶解性、塗膜の形成のし易さ等の観点から、好ましくは、ケトン、芳香族炭化水素、アルコール、グリコールエーテル、グリコールアルキルエーテル、グリコールアルキルエーテルアセテート、エステル、ジエチレングリコール、クロロホルム、及び塩化メチレンであり、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム及び塩化メチレンである。

溶媒は、上記溶媒の中でも、好ましくは、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等である。これら溶媒は、１種単独で用いられてもよく、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いられてもよい。

塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。

乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、好ましくは６０〜１３０℃であり、乾燥時間は、好ましくは３０秒間〜３０分間である。

支持フィルム２としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。

支持フィルム２の厚みは、被覆性の確保、及び支持フィルム２を介して、感光層３に活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、好ましくは５〜１００μｍ、より好ましくは１０〜７０μｍ、更に好ましくは１５〜４０μｍ、特に好ましくは２０〜３５μｍである。

感光層３の厚みは、防錆性など電極の保護に充分な効果を発揮し、かつ部分的な電極保護膜の形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後（溶媒を揮発させた後）の厚みで、好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上９μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以上８μｍ以下、特に好ましくは２μｍ以上８μｍ以下、極めて好ましくは３μｍ以上８μｍ以下である。

本実施形態においては、感光層３の４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９２％以上、特に好ましくは９５％以上である。感光層の４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値の測定方法は、上述の感光性樹脂組成物の４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値の測定方法と同様である。

感光層３のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊は、好ましくは−０．２〜１．０、より好ましくは−０．２〜０．７、更に好ましくは−０．２〜０．４である。感光層のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の測定方法は、上述の感光性樹脂組成物のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の測定方法と同様である。

３０℃における感光層３の粘度は、感光性エレメント１Ａをロール状とした場合に、感光性エレメント１Ａの端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１カ月以上防止する観点、及び感光性エレメント１Ａを切断する際に感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き起こされる、活性光線を照射する際の露光不良や現像残り等を防止する点から、好ましくは１５〜１００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは２０〜９０ｍＰａ・ｓ、更に好ましくは２５〜８０ｍＰａ・ｓである。

感光性エレメント１Ａは、ロール状に巻いて、保管又は使用されてもよい。

なお、上記の粘度は、感光性樹脂組成物で形成された、直径７ｍｍ、厚み２ｍｍの円形の膜を測定用試料とし、当該試料の厚み方向に、３０℃及び８０℃のそれぞれにおいて、１．９６×１０^−２Ｎの荷重を加えたときの厚みの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。

本実施形態の感光性エレメントは、本発明の効果が得られる範囲で、感光層の他に適宜選択した他の層を有してもよい。前記他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光学調整層、クッション層、酸素遮蔽層、剥離層、接着層等が挙げられる。前記感光性エレメントは、これらの層を１種単独で有していてもよく、２種以上を有してもよい。また、同種の層を２以上有していてもよい。

図１（ｂ）に示すように、感光性エレメント１Ｂは、支持フィルム２とは反対側の感光層３上に設けられた保護フィルム４を、更に備えてよい。

保護フィルム（カバーフィルム）４としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、及びポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等からなるフィルムが挙げられる。

保護フィルム４の厚みは、好ましくは５〜１００μｍ程度である。保護フィルム４の厚みは、ロール状に巻いて保管する観点から、好ましくは７０μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下、更に好ましくは５０μｍ以下、特に好ましくは４０μｍ以下である。

本実施形態の感光性エレメント１Ａ，１Ｂは、上記感光性樹脂組成物により形成された感光層３を備えることにより、タッチパネル用電極の保護膜の形成に好適に用いることができる。

図２は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式図である。図２（ａ）は、該タッチパネルの模式上面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図である。

図２（ａ），（ｂ）に示すように、タッチパネル５Ａは、基板（透明基板）６と、基板６上に設けられたインデックスマッチング層７と、インデックスマッチング層７上に設けられたタッチパネル用電極とを備える。タッチパネル５Ａの中央部には、タッチ位置座標を検出するためのセンシング領域（タッチ画面領域）８が形成されている。タッチパネル用電極としては、第１の透明電極９、第２の透明電極１０、金属配線１１、接続電極１２及び接続端子１３が設けられている。

基板６としては、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板（例えば、ＰＥＴフィルム）、セラミック板等の基板が挙げられる。インデックスマッチング層７は、例えば、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２等の金属ナノ粒子を含有する樹脂組成物で形成されている。タッチパネル用電極としては、ＩＴＯ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極等が挙げられる。

第１の透明電極９及び第２の透明電極１０は、センシング領域８の静電容量変化を検出するために、センシング領域８内に設けられている。第１の透明電極９及び第２の透明電極１０は、それぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。

金属配線１１は、第１の透明電極９及び第２の透明電極１０からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝える。金属配線１１と、第１の透明電極９及び第２の透明電極１０とは、図２（ａ）に示すように、第１の透明電極９及び第２の透明電極１０上に設けられた接続電極１２により互いに電気的に接続されている。他の態様においては、金属配線１１と、第１の透明電極９及び第２の透明電極１０とは、互いに直接接続されていてもよい。金属配線１１の一端は、第１の透明電極９及び第２の透明電極１０と接続されており、金属配線１１の他端には、外部回路との接続端子１３が設けられている。

第１の透明電極９、第２の透明電極１０及び接続端子１３それぞれの一部、並びに、金属配線１１及び接続電極１２の全部には、これらを覆うように保護膜１４が配置されている。保護膜１４は、本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを用いて好適に形成される。

図３は、図２に示したタッチパネル５Ａに設けられた保護膜１４の製造方法（形成方法）を説明するための模式断面図である。この方法では、まず、図３（ａ）に示すように、インデックスマッチング層７、及び金属配線１１等の電極（タッチパネル用電極）が設けられた基板６上に、上記感光性樹脂組成物からなる感光層３を設ける（第１工程）。

インデックスマッチング層７及びタッチパネル用電極は、公知の方法によって形成される。なお、他の態様においては、基板６とインデックスマッチング層７との間には、絶縁層が更に設けられていてもよい。

第１の透明電極９及び第２の透明電極１０は、例えば、インデックスマッチング層７の全面に透明電極を形成した後、該透明電極をエッチングする方法などにより、第１の透明電極、第２の透明電極の順で形成される

金属配線１１及び接続電極１２は、第１の透明電極９及び第２の透明電極１０の形成後に形成しても、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。金属配線１１及び接続電極１２は、金属スパッタリングにより金属膜を形成した後、エッチング法などを用いて形成することができる。金属配線１１は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１２の形成時に同時に形成してもよい。接続端子１３は、例えば金属配線１１及び接続電極１２の形成後に形成される。

タッチパネル用電極の他の形成方法としては、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタより金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する方法が挙げられる。

第１工程においては、より具体的には、金属配線１１等のタッチパネル用電極を覆うように、インデックスマッチング層７上に、感光性エレメント１Ａを、感光層３がインデックスマッチング層７側になるように配置し、加熱しながら感光層３（感光性エレメント１Ａ）を圧着することにより転写し、積層する。なお、感光性エレメントとして、保護フィルム４を備える感光性エレメント１Ｂを用いる場合、圧着前に保護フィルム４を除去する。

圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。

加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層３とインデックスマッチング層７との密着性（接着性）、及び感光層３と金属配線１１等のタッチパネル用電極との密着性（接着性）を充分確保しながら、感光層３の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、好ましくは１０〜１８０℃、より好ましくは２０〜１６０℃、更に好ましくは３０〜１５０℃である。

加熱圧着時の圧着圧力は、感光層３とインデックスマッチング層７との密着性（接着性）を充分確保しながら、基板６の変形を抑制する観点から、線圧で、好ましくは５０〜１×１０^５Ｎ／ｍ、より好ましくは２．５×１０^２〜５×１０^４Ｎ／ｍと、更に好ましくは５×１０^２〜４×１０^４Ｎ／ｍである。

感光性エレメント１Ａを上記のように加熱すれば、基板６及びインデックスマッチング層７を予熱処理することは必要ではないが、感光層３とインデックスマッチング層７との密着性（接着性）を更に向上させる点から、好ましくはインデックスマッチング層７を予熱処理する。このときの予熱温度は、好ましくは３０〜１８０℃である。

他の実施形態においては、感光性エレメント１Ａを用いる代わりに、感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を調製してインデックスマッチング層７のタッチパネル用電極（金属配線１１等）が設けられている表面に塗布し、乾燥して（溶媒を揮発させて）感光層を形成することができる。

感光層３は、好ましくは、上述した厚み、４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の条件を満たす。

第１工程に続いて、図３（ｂ）に示すように、所定の開口パターンを有するフォトマスク１５を介して、感光層３の所定部分に活性光線Ｌを照射して硬化させる（第２工程）。

活性光線Ｌを照射する際、感光層３上の支持フィルム２が透明の場合には、そのまま活性光線Ｌを照射することができ、不透明の場合には支持フィルム２を除去してから活性光線Ｌを照射する。感光層３の保護という点からは、好ましくは、支持フィルム２として透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して活性光線Ｌを照射する。この場合、支持フィルム２は、活性光線Ｌの照射後、後述の第３工程が行われる前に除去される。

活性光線Ｌの照射に用いられる光源としては、公知の活性光源が使用でき、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。当該光源としては、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びキセノンランプが挙げられる。

このときの活性光線Ｌの照射量は、通常、１×１０^２〜１×１０^４Ｊ／ｍ^２である。照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線Ｌの照射量が１×１０^２Ｊ／ｍ^２以上であると光硬化の効果が充分となる傾向にあり、１×１０^４Ｊ／ｍ^２以下であると感光層３が変色することを抑制できる傾向にある。

第２工程を経ることにより、図２（ｃ）に示すように、感光層３には、活性光線Ｌを照射した所定部分に対応し、活性光線Ｌの照射によって硬化した硬化領域Ｒ１と、当該所定部分以外の部分に対応し、活性光線Ｌが照射されずに硬化しなかった未硬化領域Ｒ２とが存在する。そして、第２工程に続いて、感光層３を現像液で現像して未硬化領域Ｒ２を除去することにより、タッチパネル用電極の一部を被覆する保護膜１４を形成する（第３工程）。形成される保護膜１４は、感光層３の硬化物からなっており、フォトマスク１５の開口パターンに対応した、図２に示すような所定のパターンを有している。

なお本明細書において「パターン」とは、回路を形成する微細配線の形状にとどまらず、他基板との接続部のみを矩形に除去した形状や基板の額縁部以外を除去した形状等も含む。

現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶媒等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビング等の公知の方法により現像を行い、未硬化領域Ｒ２を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境及び安全性の観点から、好ましくはアルカリ水溶液を用いる方法が挙げられる。

アルカリ水溶液は、好ましくは炭酸ナトリウムの水溶液である。例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（０．５〜５質量％水溶液）が好適に用いられる。また、アルカリ水溶液には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶媒等を混入させることができる。

現像温度及び時間は、本実施形態の感光性樹脂組成物の現像性に合わせて調整することができる。

また、現像後、光硬化後の感光層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。

現像後、必要に応じて、活性光線の照射（例えば、５×１０^３〜２×１０^４Ｊ／ｍ^２）により、感光層３の硬化物を更に硬化させてもよい。なお、本実施形態の感光性樹脂組成物は、現像後の加熱工程なしでもインデックスマッチング層７及びタッチパネル用電極に対して優れた密着性（接着性）を示すが、必要に応じて、現像後の活性光線の照射の代わりに、又は活性光線の照射と合わせて、加熱処理（８０〜２５０℃）を施してもよい。

他の実施形態においては、保護膜１４を設ける箇所は、適宜変更してもよい。図４は、静電容量式のタッチパネルの別の例を示す模式上面図である。図４に示すように、保護膜１４は、センシング領域８にある透明電極９，１０をすべて覆うように設けられていてもよい。この場合、第２工程において、フォトマスク１５を介さずに、感光層３の全面に活性光線Ｌを照射してもよく、後続の第３工程を省略してもよい。

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［バインダーポリマー溶液の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、固形分が４５質量％であるバインダーポリマー溶液（Ａ１）〜（Ａ５）を得た。バインダーポリマーの特性（重量平均分子量、酸価及びガラス転移温度）を表１に示す。

作製したポリマーの特性は、以下の方法で測定した。

［重量平均分子量の測定方法］
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
ＧＰＣ条件
ポンプ：日立 Ｌ−６０００型（（株）日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０、ＧｅｌｐａｃｋＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成（株）製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立 Ｌ−３３００型ＲＩ（（株）日立製作所製、製品名）

［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価を測定すべき、固形のポリマー１ｇを精秤した後、精秤したポリマーを三角フラスコに入れ、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、ポリマーを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。

［ガラス転移温度（Ｔｇ）の算出方法］
Ｆｏｘの式を用いて、各バインダーポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）を以下の計算により求めた。
１／Ｔｇ＝（Ｗ１／Ｔｇ１）＋（Ｗ２／Ｔｇ２）＋（Ｗ３／Ｔｇ３）
式中、Ｔｇ１、Ｔｇ２及びＴｇ３はそれぞれ、各モノマー成分（メタクリル酸，メタクリル酸メチル及びアクリル酸エチル）のホモポリマーのガラス転移温度を示し、Ｗ１、Ｗ２及びＷ３は各モノマー成分（メタクリル酸，メタクリル酸メチル及びアクリル酸エチル）の重量分率を示す。

（実施例１）
［感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）の作製］
表２に示す材料を、表２に示す配合量で、攪拌機を用いて１５分間混合し、保護膜を形成するための感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）を作製した。（Ａ）成分の配合量は、固形分の質量である。

［感光性エレメント（Ｅ−１）の作製］
支持フィルムとして厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、この支持フィルム上に、上記で作製した感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）をコンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶媒を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは５μｍであった。

次いで、得られた感光層の上に、カバーフィルムとして、厚み２５μｍのポリエチレンフィルムを貼り、感光性エレメント（Ｅ−１）を得た。

［保護膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚みが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅付きポリイミドフィルム上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、平行光線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、得られた積層体の感光層に対して支持フィルム側（感光層側上方）より、露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した。その後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射した。これにより、厚み５．０μｍの、感光層の硬化物からなる保護膜を有する塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機（株）製ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料（人工汗液耐性評価試験用試料）を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を肉眼で観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ ： 保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ ： 保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ ： 保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ ： 保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、保護膜表面、銅に変化なく評価はＡであった。

［保護膜のクロスカット密着性（接着性）試験］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、ＰＥＴフィルムの一方の面にインデックスマッチング層とＩＴＯ層が順に積層された透明導電性フィルム ＥＬＥＣＲＹＳＴＡ Ｖ１００−Ｇ２ＹＣ５Ｂ（日東電工（株）製）のＩＴＯ層をエッチングにより除去し、インデックスマッチング層を露出させたＰＥＴフィルム上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚みが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのＰＥＴフィルムを用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、インデックスマッチング層付きＰＥＴフィルム上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、平行光線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、得られた積層体の感光層に対して支持フィルム側（感光層側上方）より、露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した。その後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射した。これにより、厚み５．０μｍの、感光層の硬化物からなる保護膜を有するクロスカット密着性試験用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（Ｋ５４００）を参考に、１００マスのクロスカット試験を実施した。試験面にカッターナイフを用いて、１×１ｍｍ四方の碁盤目の切り傷を入れ、碁盤目部分にメンディングテープ＃８１０（スリーエム ジャパン（株）製）を強く圧着させ、テープの端をほぼ１８０°の角度でゆっくりと引き剥がした後、碁盤目の状態を肉眼で観察し、以下の評点に従ってクロスカット密着性（接着性）を評価した。（渡部）に直接確認済み
Ａ ：全面積のほぼ１００％が密着している。
Ｂ ：全面積のうち９５％以上１００％未満が密着し残っている。
Ｂ〜Ｃ：全面積のうち８５％以上９５％未満が密着し残っている。
Ｃ ：全面積のうち６５％以上８５％未満が密着し残っている。
Ｃ〜Ｄ：全面積のうち３５％以上６５％未満が密着し残っている。
Ｄ ：全面積のうち０％以上３５％未満が密着し残っている。
評価用試料の碁盤目の状態を観察したところ、インデックスマッチング層上に全面積のうち９５％以上が密着し残っている状態で、評価はＢであった。

［感光層の光透過率及びＨａｚｅ（ヘーズ）の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、厚み１ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚みが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、平行光線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、得られた積層体の感光層に対して支持フィルム側（感光層側上方）より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した。その後、支持フィルムを除去し、厚み５．０μｍの、感光層の硬化物を有する光透過率及びヘーズの測定用試料を得た。

次いで、得られた光透過率及びヘーズの測定用試料について、ヘーズメーター（日本電色工業（株）製、製品名：ＮＤＨ ７０００）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける光透過率及びヘーズを測定した。結果を表２に示す。

［感光層のｂ^＊の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のポリエチレンフィルムをはがしながら、厚み０．７ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚みが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持体フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、平行光線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、得られた積層体の感光層に対して支持フィルム側（感光層側上方）より、露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した。その後、支持体フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射した。これにより、厚み５．０μｍの、感光層の硬化物を有するｂ^＊測定用試料を得た。

次いで、得られたｂ^＊測定用試料について、コニカミノルタ（株）製、分光測色計（ＣＭ−５）を使用して、光源設定Ｄ６５、視野角２°でＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊を測定した。

感光層のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊は０．２１であり、良好なｂ^＊を有していることが確認された。

［感光層の現像残渣試験］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、インデックスマッチング層付きＰＥＴフィルム上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚みが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、インデックスマッチング層付きＰＥＴフィルム上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を得た。

上記で得られた積層体を、２３℃、６０％の条件で２４時間保管した後、活性光線透過部と活性光線遮光部とが交互にパターニングされた、ライン幅／スペース幅が３００μｍ／３００μｍであるフォトマスクを、積層体の支持フィルム上に載置した。平行光線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、フォトマスク面垂直上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。

次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、感光層を選択的に除去し、保護膜パターンを形成した。得られた保護膜パターン付き基板の、選択的に感光層を除去した部分の基板表面状態を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って現像残渣を評価した。
Ａ ： 基板表面に全く変化なし。
Ｂ ： 基板表面に現像残渣がわずかに発生する。
Ｃ ： 基板表面に現像残渣が発生する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、基板表面に全く変化はなく、評価はＡであった。

（実施例２〜４）
表２に示す感光性樹脂組成物を含有する塗布液を用いたこと以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、塩水噴霧試験、クロスカット密着性（接着性）試験、光透過率及びヘーズの測定、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の測定、並びに現像残渣試験を行った。表２に示すように、実施例１〜４においては、塩水噴霧試験、クロスカット密着性（接着性）試験、光透過率及びヘーズの測定、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の測定、並びに現像残渣試験のいずれも良好な結果であった。

（比較例１〜６）
表３，４に示す感光性樹脂組成物を含有する塗布液を用いたこと以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、塩水噴霧試験、クロスカット密着性（接着性）試験、光透過率及びヘーズの測定、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の測定、並びに現像残渣試験を行った。

なお、表２及び表３中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ｂ）成分
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬（株）製）
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬（株）製）
（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１：ベンジルジメチルケタール（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡（株）製）
（Ｅ）成分
ＰＭ−２１：２−ヒドロキシエチルメタクリレートの６−ヘキサノリド付加重合物と無水リン酸との反応生成物（日本化薬（株）製）
その他の成分
Ａｎｔａｇｅ Ｗ−５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学工業（株）製）
ＳＨ−３０：シリコーンレベリング剤（東レ・ダウコーニング（株）製）
メチルエチルケトン：東燃化学合同（株）製

１Ａ，１Ｂ…感光性エレメント、２…支持フィルム、３…感光層、４…保護フィルム、５Ａ，５Ｂ…タッチパネル、６…基板、７…インデックスマッチング層、８…センシング領域（タッチ画面領域）、９…第１の透明電極、１０…第２の透明電極、１１…金属配線、１２…接続電極、１３…接続端子、１４…保護膜、１５…フォトマスク、Ｌ…活性光線、Ｒ１…硬化領域、Ｒ２…未硬化領域。

Claims (10)

1. バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、
   前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有し、かつ前記バインダーポリマーの酸価が８５〜１００ｍｇＫＯＨ/ｇであり、
   前記光重合開始剤がベンジルジメチルケタールを含有する、感光性樹脂組成物。
2. 前記光重合性化合物が、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する化合物の少なくとも１種を含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
3. トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
4. 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメント。
5. 前記感光層の４００〜７００ｎｍにおける光透過率の最小値が９０％以上である、請求項４に記載の感光性エレメント。
6. 前記感光層のＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊が−０．２〜１．０である、請求項４又は５に記載の感光性エレメント。
7. 前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、請求項４〜６のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
8. 電極が設けられた基板上に、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける第１工程と、
   前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、
   を備える、タッチパネル用電極の保護膜の製造方法。
9. 前記所定部分が前記感光層の一部であり、
   前記第２工程の後に、前記所定部分以外の前記感光層を除去する第３工程を更に備える、請求項８に記載のタッチパネル用電極の保護膜の製造方法。
10. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層を硬化してなる保護膜。

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