WO2016001955A1 - 転写形感光性屈折率調整フィルム - Google Patents

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Abstract

　支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた、トリアジン環を有する化合物を含む高屈折率層とを備える転写形感光性屈折率調整フィルム。

Description

転写形感光性屈折率調整フィルム
　本発明は、転写形感光性屈折率調整フィルムに関する。詳しくは透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムに関する。
　パソコンやテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器などには液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明電極材料からなる電極が設けられている。透明電極材料としては、高い可視光透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ－Ｔｉｎ－Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウムや酸化スズが主流になっている。
　タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えている。そのため、携帯電話や携帯型音楽プレーヤ等の小型の表示装置を有する機器において、表示面上の入力装置として利用が進んでいる。
　一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルではＸ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造パターンを形成している。これらの電極として、近年、Ａｇナノワイヤ、カーボンナノチューブ等に代表される導電性繊維の利用が検討されているが、ＩＴＯが未だに主流である。
　ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。ＩＴＯの導電性は充分に高くないので、一般的に金属配線は銅により形成されている。
　タッチパネルは指先に接触される際に水分や塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがある。
　金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した投影型静電容量方式のタッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法は高温処理が必要となり基材が限定される、製造コストが高くなる等の問題があった。
　そこで、本発明者らは、透明基材上に特定の感光性樹脂組成物から形成される感光層を設け、この感光層を露光、現像することで透明基材上の金属配線を保護する方法を提案している（例えば、特許文献２）。
　ところで、上述したように投影型静電容量方式のタッチパネルでは、基材上に透明電極材料による、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造の透明電極パターンを形成しているが、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分とでの光学的な反射により色差が大きくなり、モジュール化した際に透明導電パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。また、基材と透明電極との間、又はモジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する視認性向上フィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ）と透明電極パターンとの間で、反射光強度が増加し画面の透過率を低下させるという問題もある。
　骨見え現象や透過率の低下を防ぐために、基材と透明電極パターンとの間にＩＭ層（光学調整層）を設けることで、色差を抑制し、骨見え現象と、画面の透過率低下を防ぐ透明導電膜が開示されている（例えば特許文献３）。
特開２０１１－２８５９４号公報 国際公開第２０１３／０８４８７３号 特開平８－２４０８００号公報 国際公開第２０１４／０８４１１２号パンフレット
　しかしながら、特許文献３の手法では、骨見え現象と、透過率低下の防止効果は充分ではなく、更なる改善の余地がある。また、上記手法では、ＩＭ層を構築するために、スパッタ又はスピンコーター等の塗布が必要であるが、この工程に加え、タッチパネルの額縁領域にある金属配線の腐食防止を別工程で行う必要が生じ、工程数が増えるという課題があった。
　また、工程数は増えるが、特許文献３の手法に特許文献２の手法を組み合わせようと、基材上にＩＭ層を設け、該ＩＭ層上に透明電極パターンを形成後、さらに該透明電極パターン上にＩＭ層を作成しようと試みても、透明電極パターンの形成されている表面に凹凸があるため、ＩＭ層を均一に形成できないという課題があった。
　また、透明電極パターンが視認されることを防ぐ手法として、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層及び高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを隣接して有する転写フィルムが開示されている（特許文献４参照）。しかしながら、本手法では、所定の硬化膜を形成する際、現像性が充分ではなく、画面の透過率低下防止とセンサー金属配線の保護を両立させる硬化膜を形成する観点では改善の余地がある。また、特許文献４では、具体的な転写フィルムの構成として、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／第一の硬化性透明樹脂層／第二の硬化性透明樹脂層／保護フィルムからなる６層フィルムを開示しているが、多層フィルムの生産性の観点から改善の余地がある。
　さらに、特許文献４の手法では、金属酸化物超微粒子である酸化ジルコニウム分散液をバインダー樹脂と混合し塗布することで高屈折率を発現している（実施例、請求項９等）。しかしながら、超微粒子分散系は分散検討に時間を要し、さらには、均一な膜を形成することが困難で汎用的ではない。また、超微粒子は比表面積が大きいため、物質そのものの性質の他に特有の有害性を有することが近年指摘されており、健康有害性の面で検証が必要である。
　本発明は、透明電極パターンの骨見え現象防止又は画面の透過率低下防止と、センサー金属配線の保護という機能を両立させ、かつ現像性に優れる硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムを提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討した結果、感光性樹脂層と高屈折率層から構成される転写形感光性屈折率調整フィルムにより、透明導電パターン上にＩＭ層を薄膜に形成することで、色差が大きくなることを抑制し、骨見え現象の防止及び画面の透過率低下の防止によるタッチ画面の視認性向上と、金属配線の腐食防止とを両立できることを見出した。また、高屈折率層に特定の材料を用いることで現像性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　本発明の具体的態様を以下に示す。
＜１＞支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた、トリアジン環を有する化合物を含む高屈折率層とを備える転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜２＞支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた、イソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む高屈折率層とを備える転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜３＞前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含有する１又は２に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜４＞前記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５～１．９である１～３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜５＞前記高屈折率層の膜厚が５０ｎｍ～５００ｎｍである１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜６＞前記感光性樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する１～５のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜７＞前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物を含有する６に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜８＞前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有するポリマーである６又は７に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜９＞前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシルエステルから選択される化合物に由来する構造単位を含むポリマーである６～８のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜１０＞前記感光性樹脂層が、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを含有する１～９のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜１１＞前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の積層体の、波長４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上である１～１０のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜１２＞前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である１～１１のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
＜１３＞１～１２のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて、基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
　前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去して、屈折率調整パターンを形成する工程と
　を備える屈折率調整パターンの形成方法。
＜１４＞１３に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
　本発明によれば、透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有し、かつ現像性に優れる硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムを提供することができる。
本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを示す模式断面図である。 本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを透明導電パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式平面図である。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「（ポリ）オキシエチレン鎖」はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味し、「（ポリ）オキシプロピレン鎖」はオキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン基を意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
　また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
　さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（転写形感光性屈折率調整フィルム）
　本発明は支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備える転写形感光性屈折率調整フィルムである。
　図１は、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される転写形感光性屈折率調整フィルム１は、支持フィルム１０と、上記支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層（以下、感光層ともいう）２０と、上記感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層（以下、高屈層ともいう）３０とを備える。なお、転写形感光性屈折率調整フィルムは、図１に示すように感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム４０を含んでもよい。
　図２は、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを透明導電パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。図２において、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａ付き基材５０上に、パターン５０ａを覆うように高屈折率層３０が設けられ、その上に感光層２０が設けられて、積層体１００が構成されている。
　上記転写形感光性屈折率調整フィルムを用いることで、例えばタッチパネルの額縁にある金属配線や透明電極の保護機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を一括で形成することができる。
　支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。
　支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５～１００μｍであることが好ましく、１０～７０μｍであることがより好ましく、１５～４０μｍであることがさらに好ましく、１５～３５μｍであることが特に好ましい。
（感光層）
　感光層２０は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）とを含有する感光性樹脂組成物から形成されることが好ましい。
　（Ａ）成分としては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するポリマーを用いることが好ましい。
　（Ａ）成分は、（メタ）アクリル酸、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン等が挙げられる。
　上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
　これらの中でも、アルカリ現像性（特に無機アルカリ水溶液に対する）、パターニング性、透明性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルエステルから選択される化合物の構造単位からなるバインダーポリマーが好ましい。
　（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００～２００，０００であることが好ましく、１５，０００～１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００～１５０，０００であることがさらに好ましく、３０，０００～１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００～１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本願明細書の実施例を参考にゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。
　（Ａ）成分の酸価は、所望の形状を有する保護膜をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、保護膜形状の制御容易性と保護膜の防錆性との両立を図る観点から、７５～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。なお、酸価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　（Ａ）成分の水酸基価は、防錆性をより向上させる観点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、水酸基価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　（Ｂ）成分は、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、又は少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
　（Ｂ）成分に用いられる化合物は、上記（Ａ）成分と重複する場合があるが、（Ａ）成分以外の（（Ａ）成分とは異なる）成分である。
　上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示したものが挙げられる。
　上記二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線や透明電極の腐食防止及び現像性の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることが好ましい。
　より具体的には、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがさらに好ましい。
　ここで、「～由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物」について、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を例にとり説明する。ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記エステル化物は、一分子中におけるエステル結合数が最大数の４であることが好ましいが、エステル結合の数が１～３の化合物が混合していてもよい。
　分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーと、一官能ビニルモノマーや二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、使用する割合に特に制限は無いが、光硬化性及び電極腐食を防止する観点から、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーの割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることがさらに好ましい。
　（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が３５～８５質量部であることが好ましく、４０～８０質量部であることがより好ましく、５０～７０質量部であることがさらに好ましく、５５～６５質量部であることが特に好ましい。特に、パターン形成性や硬化膜の透明性を維持する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、３５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることがさらに好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい
　（Ｃ）成分としては、透明性の高い光重合開始剤であれば、従来公知のものを特に制限無く用いることができるが、基材上に厚みが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で樹脂硬化膜パターンを形成する点では、オキシムエステル化合物を含むことが好ましい。
　オキシムエステル化合物としては、下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、又は下記式（３）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式（１）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。炭素数１～８のアルキル基、炭素数４～６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基、炭素数４～６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。Ｒ１３は、－Ｈ、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、－Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、－ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又は－ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。－Ｈ、－Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、－Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、－ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ、又は－ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることが好ましく、－Ｈ、－Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、又は－ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式（２）中、Ｒ１４は、それぞれ炭素数１～６のアルキル基を示し、プロピル基であることが好ましい。Ｒ１５は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。置換基を有する場合の置換基としては、炭素数１～６のアルキル基が挙げられる。
　Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（３）中、Ｒ１８は、炭素数１～６のアルキル基を示し、エチル基であることが好ましい。
　Ｒ１９はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（３－１）に示す化合物が有するＲ１９に対応する置換基であることが好ましい。
　Ｒ２０及びＲ２１は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
　Ｒ２２は、炭素数１～６のアルキル基を示す。ｎは０～４の整数を示す。
　上記式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（１－１）で表される化合物及び下記式（１－２）で表される化合物が挙げられる。下記式（１－１）で表される化合物はＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式（２－１）で表される化合物が挙げられる。下記式（２－１）で表される化合物は、ＤＦＩ－０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　上記式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３－１）で表される化合物が挙げられる。下記式（３－１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ－１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　その他のオキシムエステル化合物としては、下記式（４）で表される化合物、下記式（５）で表される化合物を用いることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　上記の中でも、上記式（１－１）で表される化合物が極めて好ましい。なお、上記式（１－１）で表される化合物が硬化膜に含まれているかどうかは、硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析を行ったときに、ヘプタノニトリル及び安息香酸が検出されるかどうかを指標にできる。硬化膜が高温の加熱工程を受けていない場合は、ヘプタノニトリル及び安息香酸が検出されることで硬化膜に上記式（１－１）で表される化合物が含まれていたことがわかる。硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析における安息香酸の検出ピーク面積は、ヘプタノニトリルの検出ピーク面積に対して、１～１０％の範囲で検出される。
　硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析は、測定サンプルを１４０℃で加熱して発生したガスについてガスクロマトグラフ質量分析を行うことが好ましい。上記の測定サンプルの加熱時間は、１～６０分の範囲であればよいが、３０分であることが好ましい。熱分解ガスクロマトグラフ質量分析の測定条件の一例を以下に示す。
（熱分解ガスクロマトグラフ質量分析の測定条件）
測定装置：ＧＣ／ＭＳ　ＱＰ－２０１０（株式会社島津製作所製、製品名）
カラム：ＨＰ－５ＭＳ（アジレント・テクノロジー株式会社製、製品名）
Ｏｖｅｎ　Ｔｅｍｐ：４０℃で５分間加熱後、１５℃／ｍｉｎの割合で３００℃まで昇温
キャリアーガス：ヘリウム、１．０ｍＬ／ｍｉｎ
インターフェイス温度：２８０℃
イオンソース温度：２５０℃
サンプル注入量：０．１ｍＬ
　（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１～１０質量部であることが好ましく、１～５質量部であることがより好ましく、１～３質量部であることがさらに好ましく、１～２質量部であることが特に好ましい。
　本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物又はアミノ基を有するテトラゾール化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）をさらに含有することが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３－メルカプト－トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：３ＭＴ）が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２－アミノ－５－メルカプト－１，３，４－チアジアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：ＡＴＴ）が挙げられる。
　上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－アセトニトリル、ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３－メルカプトトリアゾール、５－メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。
　上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５－アミノ－１Ｈ－テトラゾール、１－メチル－５－アミノ－テトラゾール、１－メチル－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール、１－カルボキシメチル－５－アミノ－テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１－メチル－５－アミノ－テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
　（Ｄ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５～５．０質量部が好ましく、０．１～２．０質量部がより好ましく、０．２～１．０質量部がさらに好ましく、０．３～０．８質量部が特に好ましい。
　本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、ＩＴＯ電極に対する密着性と、現像残りの発生を防ぐ観点から、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含有することが好ましい。
　（Ｅ）成分である光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルとしては、形成する保護膜の防錆性を充分確保しつつ、ＩＴＯ電極に対する密着性と現像性とを高水準で両立する観点から、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＰ等）、又は日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ２１、ＰＭ－２等）が好ましい。
　感光層の６３３ｎｍにおける屈折率は、通常、１．４０～１．４９である。
（高屈折率層）
　高屈折率層の「高」とは、上記の感光性樹脂層よりも屈折率が高いことを意味する。
　上記高屈折率層は、６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０であることが好ましく、１．５３～１．８５であることがより好ましく、１．５５～１．７５であることがさらに好ましい。高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０であることにより、図２に示す積層体とした場合、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａと、感光層２０の上に使用される各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するＯＣＡ）との屈折率の中間値となり、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を防止できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を防止することが可能となる。なお、屈折率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、１．８０～２．１０であることが好ましく、１．８５～２．０５であることがより好ましく、１．９０～２．００であることがさらに好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は１．４５～１．５５であることが好ましく、１．４７～１．５３であることがより好ましく、１．４８～１．５１であることがさらに好ましい。
　上記高屈折率層の膜厚は、５０～５００ｎｍであることが好ましく、６０～３００ｎｍであることがより好ましく、７０～２５０ｎｍであることがさらに好ましく、８０～２００ｎｍであることが特に好ましい。膜厚が５０～５００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。
　高屈折率層３０を形成するための組成物（高屈折率組成物）は、トリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物（以下、（Ｆ）成分とも呼ぶ）を含有することが好ましい。これにより、６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることが可能となり、さらに、現像性と均一性を向上することができる。
　高屈折率組成物は、必要に応じて上記（Ａ）～（Ｅ）成分を含有してもよい。また、屈折率の観点から、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の金属酸化物微粒子、又はフルオレン骨格を有する化合物をさらに含有してもよい。屈折率と現像性、パターニング性、さらには透明性の観点からフルオレン骨格を有する化合物を含有することが好ましい。
　イソシアヌル酸骨格を有する化合物の「イソシアヌル酸骨格」とは、イソシアヌル酸から３つの水素原子を除いた基を言い、イソシアヌル酸骨格を有する化合物としては、下記式（１０）で表される化合物が挙げられる。
　具体的には、イソシアヌル酸トリアリルが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式中、Ｒはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒ’ＯＨ（Ｒ’は炭素数１～６のアルキレンである）、又はアリル基を示し、アリル基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
　－Ｒ’ＯＨとしては、メチロール基、ヒドロキシエチル基が好ましい。
　トリアジン環を有する化合物としては、構造単位中にトリアジン環を有するポリマーが挙げられ、下記式（１１）で表される構造単位を有する化合物等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 （式中、Ａｒは、芳香環（炭素数は例えば６～２０）及び複素環（原子数は例えば５～２０）から選択される少なくとも１つを含む２価の基を示す。Ｘは、それぞれＮＲ’を示す。Ｒ’は、それぞれ水素原子、アルキル基（炭素数は例えば１～２０）、アルコキシ基（炭素数は例えば１～２０）、アリール基（炭素数は例えば６～２０）又はアラルキル基（炭素数は例えば７～２０）を示す。）
　具体的には、トリアジン環を含有するハイパーブランチポリマーが好ましく、例えば、ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ　ＵＲ－１０１（日産化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　このハイパーブランチポリマーは、例えば、ｍ－フェニルジアミンのジメチルアセトアミド溶液に２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジンのジメチルアセトアミド溶液を滴下させて重合を開始し、２－アミノプロパノールをさらに滴下して反応させ、アンモニア水溶液に沈殿させることで得られる。
　得られたトリアジン環を含有するハイパーブランチポリマーを、フタル酸やコハク酸等で変性することにより酸価を含有させることも可能である。
　酸化ジルコニウムとしては、透明導電パターンを不可視化する観点から、酸化ジルコニウムナノ粒子であることが好ましい。また、酸化ジルコニウムナノ粒子の中でも、粒度分布Ｄｍａｘが４０ｎｍ以下であることが好ましい。
　酸化ジルコニウムナノ粒子は、ＯＺ－Ｓ３０Ｋ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ－Ｋ（酸化ジルコニウムメチルエチルケトン分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ－Ｍ（酸化ジルコニウムメタノール分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　酸化チタンとしては、透明導電パターンを不可視化する観点から、酸化チタンナノ粒子であることが好ましい。また、酸化チタンナノ粒子の中でも、粒度分布Ｄｍａｘが５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０～５０ｎｍがより好ましい。
　ここで、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の金属酸化物微粒子は含んでもよいし含まなくてもよい。屈折率を高める点からは含むことが好ましいが、現像性を向上する観点からは含まないほうが好ましい。超微粒子を含まない場合、微粒子の基材への吸着等の問題が生じず、現像性を向上することができる。
　フルオレン骨格を有する化合物としては、９，９－ビス［４－２－（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン骨格を有する化合物が好ましい。上記化合物は（ポリ）オキシエチレン又は（ポリ）オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、ＥＡ－２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　高屈折率組成物における（Ｆ）成分の含有量は、高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率を１．５～１．９の範囲に調整するため、以下の範囲が好ましい。
　トリアジン環を有する化合物を含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、１０～１００質量部含むことが好ましく、２０～９０質量部含むことがより好ましく、３０～８０質量部含むことがさらに好ましく、３０～７０質量部含むことが特に好ましい。
　イソシアヌル酸骨格を有する化合物を含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、１０～９０質量部含むことが好ましく、２０～８０質量部含むことがより好ましく、３０～７０質量部含むことがさらに好ましい。
　酸化ジルコニウム又は酸化チタンを含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、２０～９０質量部含むことが好ましく、３０～８０質量部含むことがより好ましく、３０～７０質量部含むことがさらに好ましい。
　フルオレン骨格を有する化合物を含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、１０～９５質量部含むことが好ましく、２０～９０質量部含むことがより好ましく、３０～８０質量部含むことがさらに好ましく、３０～６０質量部含むことが特に好ましい。
　尚、上記の「高屈折率組成物」とは溶媒を含まない状態の組成物をいい、各成分の含有割合は、溶媒以外の成分全量に対する含有割合である。
　また、上記の高屈折率組成物は、実質的にトリアジン環を有する化合物及びフルオレン骨格を有する化合物のみからなってもよく、イソシアヌル酸骨格を有する化合物及びフルオレン骨格を有する化合物のみからなってもよい。即ち、本発明における高屈折率層は、実質的にこれら成分のみからなっていてもよい。
　「実質的」とは、組成物又は層を構成する成分の９５質量％以上１００質量％以下（好ましくは９８質量％以上１００質量％以下）が上記成分であることを意味する。
　転写形感光性屈折率調整フィルムにおいて、感光性樹脂層と高屈折率層の積層体の、４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値は９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることがさらに好ましい。一般的な可視光波長域である４００～７００ｎｍにおける透過率が９０．００％以上であれば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。可視光透過率の最大値は、通常１００％以下である。なお、可視光透過率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　転写形感光性屈折率調整フィルムの感光層２０、高屈折率層３０は、例えば、感光性樹脂組成物、高屈折率組成物を含有する塗布液をそれぞれ調製し、これを各々支持フィルム１０、保護フィルム４０上に塗布、乾燥し、貼り合わせることにより形成できる。または、支持フィルム１０上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、その後、感光層２０上に、高屈折率組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、保護フィルム４０を貼り付けることにより形成することもできる。
　塗布液は、上述した本実施形態に係る感光性樹脂組成物、高屈折率組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
　塗布液として用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。
　塗布方法としては、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
　乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０～１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５～３０分とすることが好ましい。
　感光性樹脂層と高屈折率層の合計（以下、感光性屈折率調整層ともいう）の厚みは、ラミネート時の追従性向上の観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。さらに、防錆性の観点から、基材の突起物によるピンホールが発生する可能性を加味すると、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがさらに好ましい。３μｍ以上であれば、基材の突起物による影響を極力抑え防錆性を保つことが可能となる。
　感光性屈折率調整層の粘度は、転写形感光性屈折率調整フィルムをロール状に保管した場合に、転写形感光性屈折率調整フィルムの端面から樹脂組成物がしみ出すことを防止する観点及び転写形感光性屈折率調整フィルムを切断する際に樹脂組成物の破片が基材に付着することを防止する観点から、３０℃において、１５～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０～９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５～８０ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。
　保護フィルム４０としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン－酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
　保護フィルム４０の厚さは、５～１００μｍが好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
　次に、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いた透明電極の保護機能と、電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を形成する方法について説明する。
　まず、転写形感光性屈折率調整フィルム１の保護フィルム４０を除去した後、転写形感光性屈折率調整フィルムを基材５０（透明導電パターン付き基材）の表面に高屈折率層３０から圧着することによりラミネート（転写）する。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
　加熱圧着する場合の加熱温度は、高屈折率層３０と基材５０との密着性と、感光層や高屈折率層の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、１０～１６０℃とすることが好ましく、２０～１５０℃とすることがより好ましく、３０～１５０℃とすることがさらに好ましい。
　また、加熱圧着時の圧着圧力は、高屈折率層３０と基材５０との密着性を充分確保しながら、基材５０の変形を抑制する観点から、線圧で５０～１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２～５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２～４×１０４Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。
　転写形感光性屈折率調整フィルムを上記のように加熱圧着すれば、基材の予熱処理は必ずしも必要ではないが、高屈折率層３０と基材５０との密着性をさらに向上させる点から、基材５０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０～１５０℃とすることが好ましい。
　基材としては、例えばタッチパネル（タッチセンサー）に用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基材が挙げられる。この基材上には、硬化膜を形成する対象となる電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極が挙げられる。また、基材上には、基材と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。
　次に、転写後の感光性屈折率調整層の所定部分に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、感光性屈折率調整層上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。
　活性光線の照射量は、１×１０２～１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２以上であれば、光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０４Ｊ／ｍ２以下であれば感光性屈折率調整層が変色することを抑制できる傾向がある。
　続いて、活性光線照射後の感光層及び高屈折率層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する屈折率調整パターンを形成する。なお、活性光線の照射後、感光性屈折率調整層に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
　現像工程は、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行うことができる。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度や時間は従来公知の範囲で調整することができる。
　本実施形態に係る電子部品は、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した屈折率調整パターンを備えている。電子部品としては、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。
　図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基材１０１上に設けられている。
　透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
　透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
　図３に示すように、屈折率調整パターン１２３を形成することによって、透明電極１０３、透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜の機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域（タッチ画面１０２）の屈折率調整機能を同時に奏する。
　以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
　撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
［重量平均分子量の測定方法］
　重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ条件＞
ポンプ：Ｌ－６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ－３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
［酸価の測定方法］
　バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
　　酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
　式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
［水酸基価の測定方法］
　バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名：ＣＯＭ－１７００）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
　　水酸基価＝（Ａ－Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
　式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
実施例１～１６、比較例１～１２
［感光性樹脂層（感光層）を形成する塗布液の作製］
　表２に示す各成分を撹拌機によって１５分間混合し、感光層を形成するための塗布液（組成物）Ａ～Ｇを調製した。
　表２において、各成分の配合量の単位は質量部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２中の成分の記号は以下の意味を示す。
・（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６０℃
・（Ｂ）成分
Ｔ－１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
・（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０１：１，２－オクタンジオン，１－［（４－フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９：２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）
ＤＥＴＸ：２，４－ジエチル　チオキサントン（日本化薬株式会社製、製品名）
・（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５－アミノ－１Ｈ－テトラゾール（東洋紡績株式会社製、製品名）
・（Ｅ）成分
ＰＭ－２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
・その他の成分
Ａｎｔａｇｅ　Ｗ－５００（ＡＷ－５００）：２，２’－メチレン－ビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）（川口化学株式会社製、製品名）
ＳＨ－３０：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング
株式会社製、製品名）
メチルエチルケトン：東燃化学株式会社製
［高屈層を形成する塗布液の作製］
　後述する表３～表６の「高屈層」に示す成分を、撹拌機を用いて１５分間混合し高屈層を形成するための塗布液を作製した。表３～６において、各成分の配合量の単位は質量部である。
　表３～表６中の成分の記号は以下の意味を示す。
・（Ｄ）成分
３ＭＴ：３－メルカプト－トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名）
・（Ｅ）成分
Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ：りん酸２－(メタクリロイルオキシ)エチル（ユニケミカル株式会社製、商品名）
・（Ｆ）成分
ＵＲ１０１：トリアジン骨格を有するポリマー（日産化学工業株式会社製、製品名：ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ（商標名））
イソシアヌル酸トリアリル：東京化成工業株式会社
・その他の成分
ＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名：ナノユースＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ）
ＯＺ－Ｓ３０Ｋ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名：ナノユースＯＺ－Ｓ３０Ｋ）
ＥＡ－２００：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ－Ｆ５５０３：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート／ベンジルアクリレート／９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン骨格化合物の混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ－ＨＣ９３１：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート他混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
Ｌ－７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
［屈折率の測定］
　高屈層を形成するための塗布液を、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈層を形成した。
　次いで、上記で得られた高屈層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射した後、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０－ＣＡ）内に３０分間静置し、高屈層を有する屈折率測定用試料を得た。なお、高屈層に（Ｃ）成分が含まれていない実施例１～１６、比較例１，２，７～１０は露光工程を省略した。
　次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ－ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
なお、転写形感光性屈折率調整フィルムの形態では、高屈層単層の屈折率を測定することは難しいため、高屈層の支持フィルム側の最表面層の値とする。
　各高屈層の屈折率を表７～１０に示す。
［転写形感光性屈折率調整フィルムの作製］
　保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名：Ｅ－２０１Ｆ）を使用し、上記で作製した高屈層を形成するための塗布液を保護フィルム上にダイコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈層を形成した。
　支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）を使用し、上記で作製した感光層を形成する塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、８μｍ厚の感光層を形成した。
［高屈層と感光層の膜厚測定］
　上記で作製した高屈層をＦ２０（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ株式会社製、製品名）で測定することにより高屈層の膜厚を測定した。また、上記で作製した感光層を、デジタルシックネスゲージ（ニコン株式会社製、製品名：ＤＩＧＩＭＩＣＲＯＳＴＡＮＤ　ＭＳ－５Ｃ）で測定することにより感光層の膜厚を測定した。高屈層と感光層の膜厚を表７～１０に示す。
　次いで、表３～表６に示すように、高屈層を有する保護フィルムと、感光層を有する支持フィルムをラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ－３０００型）を用いて、２３℃で貼り合わせて転写形感光性屈折率調整フィルムを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　作製した転写形感光性屈折率調整フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表７～１０に示す。
［硬化膜の透過率、ヘーズの測定］
　上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、高屈層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ－３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、高屈層、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０－ＣＡ）内に３０分間静置し、透過率測定用試料を得た。
　次いで、得られた透過率測定用試料をヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名：ＮＤＨ　７０００）を使用して、測定波長域４００～７００ｎｍで可視光線透過率、ヘーズを測定した。
［硬化膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工株式会社製）上に、高屈層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ－３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、高屈層、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名：ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０－ＣＡ）内に３０分間静置した。これにより、人工汗液耐性評価用試料を得た。
　次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ　２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機株式会社製、製品名：ＳＴＰ－９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ　：　保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ　：　保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ　：　保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ　：　保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
［現像残渣試験］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、易接着層付ＰＥＴフィルム（製品名：Ａ４３００　１２５μｍ厚、東洋紡株式会社製）上に、高屈層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名ＨＬＭ－３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１２５μｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、Ａ４３００上に、高屈層、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　上記で得られた積層体を作製後、温度２３℃、湿度６０％の条件で３０分保管した後、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、高屈層、感光層を除去した。得られた基材表面状態を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って現像残渣を評価した。
Ａ　：　基材表面に全く変化なし。
Ｂ　：　現像残渣がわずかに発生する。
Ｃ　：　現像残渣が発生する。
　実施例の評価用試料の表面状態を観察したところ、基材表面に全く変化がなく、評価はＡであった。
［硬化膜のｂ＊（透過ｂ＊）の測定］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名ＨＬＭ－３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、高屈層、感光層及び支持フィルムが積層された基板を作製した。
　次いで、得られた感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持体フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ８μｍの感光層の硬化膜パターンを有するｂ＊測定用試料を得た。
　次いで、得られた試料を分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、ＣＭ－５）を使用して、光源設定Ｄ６５、視野角２°でＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊（透過ｂ＊）を測定した。
［色相（反射Ｒ）の測定］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、透明導電性フィルム（東洋紡株式会社製、製品名：３００Ｒ）上に、高屈層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ－３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、透明導電性フィルム上に、高屈層、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名：ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、硬化膜を有する色相（反射Ｒ）測定用試料を得た。
　次いで、得られた色相（反射Ｒ）測定用試料を、分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、製品名ＣＭ－５）を使用して、光源が感光層側になるようにして、光源設定Ｄ６５、視野角２°、測定径３０ｍｍφ、ＳＣＩ（正反射光込み）方式でＸＹＺ表色系でのｂ＊（反射ｂ＊）及びＹ値（これを反射率Ｒとする）を測定し、下記式を用いて規格化を実施した。
　反射率Ｒ規格化＝反射率実測値／感光層のみ積層した測定試料（比較例２）の反射率実測値×１００
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　表７～１０に示すように、実施例では反射Ｒ規格化の値が９０％以下となり、反射率を充分に低減しているとともに、塩水噴霧試験に対する耐性も充分であった。また、現像性にも優れていた。なお、比較例１は感光層及び高屈層をどちらも設けていない場合の結果であり、比較例２は感光層のみを設けた場合の結果である。
　上記に本発明の実施形態及び／又は実施例を幾つか詳細に説明したが、当業者は、本発明の新規な教示及び効果から実質的に離れることなく、これら例示である実施形態及び／又は実施例に多くの変更を加えることが容易である。従って、これらの多くの変更は本発明の範囲に含まれる。
　この明細書に記載の文献及び本願のパリ優先の基礎となる日本出願明細書の内容を全てここに援用する。

Claims (14)

  1. 　支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた、トリアジン環を有する化合物を含む高屈折率層とを備える転写形感光性屈折率調整フィルム。
  2. 　支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた、イソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む高屈折率層とを備える転写形感光性屈折率調整フィルム。
  3. 　前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含有する請求項１又は２に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  4. 　前記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５～１．９である請求項１～３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  5. 　前記高屈折率層の膜厚が５０ｎｍ～５００ｎｍである請求項１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  6. 　前記感光性樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する請求項１～５のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  7. 　前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物を含有する請求項６に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  8. 　前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有するポリマーである請求項６又は７に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  9. 　前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシルエステルから選択される化合物に由来する構造単位を含むポリマーである請求項６～８のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  10. 　前記感光性樹脂層が、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルを含有する請求項１～９のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  11. 　前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の積層体の、波長４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上である請求項１～１０のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  12. 　前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である請求項１～１１のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  13. 　請求項１～１２のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて、基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
    　前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去して、屈折率調整パターンを形成する工程と
    　を備える屈折率調整パターンの形成方法。
  14. 　請求項１３に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
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