JPH0653642A - プリント配線板 - Google Patents

プリント配線板

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JPH0653642A
JPH0653642A JP22340192A JP22340192A JPH0653642A JP H0653642 A JPH0653642 A JP H0653642A JP 22340192 A JP22340192 A JP 22340192A JP 22340192 A JP22340192 A JP 22340192A JP H0653642 A JPH0653642 A JP H0653642A
Authority
JP
Japan
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film
copper
clad laminate
films
preferred
Prior art date
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Pending
Application number
JP22340192A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Fujiki
勝 藤木
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Elna Co Ltd
Original Assignee
Elna Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】フォトED法により銅張積層板の表面に形成さ
れたフォトレジスト膜を保護する。 【構成】フォトレジスト膜上に合成樹脂製のフィルムを
貼着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銅張積層板の表面にフ
ォトED法により形成されたフォトレジスト膜を同レジ
スト膜上に保護フィルムを貼ることによって保護するよ
うにしたプリント配線板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板の製造方法において、回
路パタ−ンの形成方法として感光性レジスト膜を電着方
法により形成する方法、すなわちフォトED法が知られ
ている。
【0003】このフォトED法による回路パタ−ンの形
成方法を説明すると、銅張積層板に透孔を穿設し、透孔
内壁面および銅張積層板の表面に銅をパネルめっき処理
する。次いで、電着法によりポジ型またはネガ型のフォ
トレジスト膜を形成し、露光・現像処理した後にエッチ
ングを行ない、さらにレジスト膜を除去するようにした
ものである。
【0004】銅張積層板の表面および透孔内に形成され
るフォトレジスト膜としてはポジ型フォトレジストとネ
ガ型フォトレジストとがある。ポジ型フォトレジストは
光反応としては光分解型であり、形成される膜厚は5〜
10μm程度である。また、ネガ型フォトレジストの光
反応は光重合であり、形成される膜厚は5〜20μm程
度である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】フォトED法によりレ
ジスト膜を形成された銅張積層板(製品)は、通常の製
造工程においては直ちに次工程の露光工程に移送され
る。しかし、上述のようにレジスト膜は5〜20μmと
非常に薄く、キズが付くと回路パタ−ンの断線などの原
因となり、製品の搬送やストックなどでの取扱いについ
ては充分に注意を要する必要があった。また、製品の一
時保管時にはレジストが感光しないように充分に注意を
するとともに、特別な場所に保管する必要があった。
【0006】
【課題を解決するための手段】しかるに、本発明は上述
した課題を解決するためになされたもので、フォトレジ
スト膜の形成された銅張積層板の表面にフィルムを貼っ
てフォトレジスト膜を保護するものである。
【0007】本発明において、フィルムとしては厚さが
1〜100μmの合成樹脂製のフィルムが好ましく、ポ
リエステル樹脂フィルムやポリエチレン樹脂フィルムを
例示することができる。フィルムとしては透明のもので
もよいが、遮光性、特には紫外線を遮断するものが好ま
しい。このようなフィルムはラミネ−タを用いて、銅張
積層板の両表面にそれぞれ圧着して貼着するのが好まし
い。
【0008】
【実施例】次に、本発明の一実施例を説明する。
【0009】塩化ビニ−ル製の槽にアニオンネガ型の電
着液を建浴した。電着液組成はアクリル系不飽和樹脂、
アミン類、光重合開始剤などからなり、浴温度を25
℃、pHを5.8〜6.6の範囲に、比電導度を200
0μS/cmに管理した。なお、液量は200リットル
とした。
【0010】一方、ガラス・エポキシ樹脂板の両面にそ
れぞれ18μmの銅箔を張り合わせた340mm角、厚
さ1mmの銅張積層板を用意した。この銅張積層板にド
リリングマシンにて直径1.0mmの透孔を100個穿
設し、ブラシにて研磨した後に0.3%の希硫酸で酸洗
し、次いで水洗し、乾燥した。
【0011】この銅張積層板を陽極として電着槽内に浸
漬し、電流密度100mA/dm2、電圧160V、印
加時間30分間の条件で電着処理した。表面には15μ
mのフォトレジスト膜が形成された。なお、処理枚数は
50枚とした。
【0012】次に、厚さ25μmの遮光性のポリエステ
ル樹脂フィルムを用意し、ラミネ−タを用いて50枚の
うち25枚の銅張積層板の両面にフィルムを貼着し、保
護フィルムを形成した。
【0013】保護フィルムを形成した25枚の銅張積層
板を積み重ねて台車に搭載し、次工程まで、30m運搬
した。そこで、保護フィルムを剥離し、露光・現像処理
した後にエッチングを行ない、さらにレジスト膜を除去
することによって回路パタ−ンを形成した。回路パタ−
ンを検査したところ、パタ−ンの断線や短絡の発生は皆
無であった。
【0014】これに対して、保護フィルムを形成してい
ない銅張積層板を同様に積み重ねて台車にて次工程まで
運搬し、同様にして回路パタ−ンを形成したところ、約
半数にパタ−ン断線が認められた。
【0015】
【発明の効果】本発明はフォトED法により銅張積層板
の表面に形成されたフォトレジスト膜上にフィルムを貼
着するようにしたので、キズの発生を防止することがで
き、次工程の露出工程までの取扱いが非常に容易とな
る。また、レジスト膜を形成した銅張積層板の作りだめ
も可能となる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】銅張積層板の表面にフォトED法により形
    成されたフォトレジスト膜に対して合成樹脂製のフィル
    ムを貼着したことを特徴とするプリント配線板。
  2. 【請求項2】合成樹脂製のフィルムが遮光性であること
    を特徴とする請求項1に記載のプリント配線板。
JP22340192A 1992-07-30 1992-07-30 プリント配線板 Pending JPH0653642A (ja)

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JP (1) JPH0653642A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1513381A3 (en) * 2003-09-08 2007-05-16 Nitto Denko Corporation Process for producing wiring circuit board
WO2019124307A1 (ja) * 2017-12-20 2019-06-27 住友電気工業株式会社 プリント配線板の製造方法及び積層体

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