JPS5948752A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPS5948752A JPS5948752A JP15918282A JP15918282A JPS5948752A JP S5948752 A JPS5948752 A JP S5948752A JP 15918282 A JP15918282 A JP 15918282A JP 15918282 A JP15918282 A JP 15918282A JP S5948752 A JPS5948752 A JP S5948752A
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- JP
- Japan
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- compound
- photosensitive resin
- resin composition
- photopolymerizable
- compd
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性樹脂組成物に関し,更に詳しくは印刷配
υ板製造用の半田マスク(永久作僅マスク)等に1史用
(2得る接名・性が改善された感光性樹脂組成物に関す
る。
υ板製造用の半田マスク(永久作僅マスク)等に1史用
(2得る接名・性が改善された感光性樹脂組成物に関す
る。
感光性樹jバi 、Tfi成物放物刷配線板を製造する
ためのフォトレジストとして使用されることはよく知ら
れている。
ためのフォトレジストとして使用されることはよく知ら
れている。
印刷配線板48!3竜川の感光性樹脂、t11成物はそ
の使用目的によって2神に大別できる。
の使用目的によって2神に大別できる。
一つは、エツチングあるいは金属めつきの際のレジスト
像を形成する配線パターン形成用の感光性樹脂組成物で
あり、一つは、半田マスク形成用の感光1j、(Ω↑脂
徂成放物ある。このいずれにしても適月1する基材との
接着性に優れていることが望まれ、乙が、その接着性の
意味するf’Jrは大きく異なっている。I〕(1ち、
前者に2ちっての接着性は、エツチング又はめつき時に
のみ、室温あるいは高々100°Cのエツチング液又は
めつき液がしみこまないで、かつそれらのエツチング又
はめつき処理後汀容易にかつ完全にレジス)・が基材か
ら剥離されることが必要である。即ち必要とされる接着
1牛は一時的なものにすぎない。
像を形成する配線パターン形成用の感光性樹脂組成物で
あり、一つは、半田マスク形成用の感光1j、(Ω↑脂
徂成放物ある。このいずれにしても適月1する基材との
接着性に優れていることが望まれ、乙が、その接着性の
意味するf’Jrは大きく異なっている。I〕(1ち、
前者に2ちっての接着性は、エツチング又はめつき時に
のみ、室温あるいは高々100°Cのエツチング液又は
めつき液がしみこまないで、かつそれらのエツチング又
はめつき処理後汀容易にかつ完全にレジス)・が基材か
ら剥離されることが必要である。即ち必要とされる接着
1牛は一時的なものにすぎない。
これに対して後者にあっての接着性は永久的なものであ
りかつ、高温度(通常240〜300℃)の半田浴に浸
漬した場合に半田のもぐりあるいけマスクの浮きが発生
してはならないという非常に過酷な接着性である。
りかつ、高温度(通常240〜300℃)の半田浴に浸
漬した場合に半田のもぐりあるいけマスクの浮きが発生
してはならないという非常に過酷な接着性である。
特公昭53−44346号公報では、感光性樹脂組成物
を構成する光重合性不飽和化合物の例としてリン含有ア
クリル酸誘導体が挙げられ−Cいるが、それが半[]1
耐熱イ1に関して効果があるとの示1変はなく、又2本
発明者らの検討によっても単独ではほどんど幼果を示さ
な、いことが分った。
を構成する光重合性不飽和化合物の例としてリン含有ア
クリル酸誘導体が挙げられ−Cいるが、それが半[]1
耐熱イ1に関して効果があるとの示1変はなく、又2本
発明者らの検討によっても単独ではほどんど幼果を示さ
な、いことが分った。
1に、イミダゾール、チアゾール、テトラゾール、1.
リアゾール又はこれらの誘導体が銅および銅合金の腐食
抑制及び変色防止剤として作用することは公知であるが
これらの添加が半田マスクの半田耐熱性を向上させるこ
とは知られておらず1本発明者らの検討によっても全く
効果を示さないことが分った。
リアゾール又はこれらの誘導体が銅および銅合金の腐食
抑制及び変色防止剤として作用することは公知であるが
これらの添加が半田マスクの半田耐熱性を向上させるこ
とは知られておらず1本発明者らの検討によっても全く
効果を示さないことが分った。
しかるに9本発明者らが柚々検討【−だ結果。
イミダゾール、チアゾール、テトラゾール、トリアゾー
ル又はこれらの誘導体と光重合性不飽和結合を有するリ
ン酸化合物と全組み合わせたときには半田耐熱性が顕著
に向上することが見い出され/?:、。
ル又はこれらの誘導体と光重合性不飽和結合を有するリ
ン酸化合物と全組み合わせたときには半田耐熱性が顕著
に向上することが見い出され/?:、。
本発明の目的01.半田マスクの形成等に使用1〜うる
基材への接7tJ性の改善された感光性樹脂組成物を提
供することである。
基材への接7tJ性の改善された感光性樹脂組成物を提
供することである。
本発明は、(a)イミダゾール、チアゾール、すトラゾ
ール、トリアゾール及びこれらの誘導体からなる肝より
選ばれた化合物の少なくとも1オ虫 。
ール、トリアゾール及びこれらの誘導体からなる肝より
選ばれた化合物の少なくとも1オ虫 。
(b)光重合性不飽和結合を有するリン酸化合物。
(C)末端エチ1/ン基を少なくとも1個有する光重合
性化合!丙。
性化合!丙。
(d)熱町塑件有機υJ4)子化合物。
お・よび
(el活性光砂の照射によって前記小胞第11化付物(
b)及び(C)のiI【合を開始する増感剤及び/又は
増感剤系 を含有する感光性樹脂組成物に関する。
b)及び(C)のiI【合を開始する増感剤及び/又は
増感剤系 を含有する感光性樹脂組成物に関する。
本発明の提案する感光性樹脂組成物について以下に詳細
に説明する。
に説明する。
本発明の提案する感光1!B 41t)脂組放物/jイ
ミダゾール、チアゾール、デトラゾール、トリアゾール
及びこれらの誘導体からなる群よりS tJ:れた化合
物の少なくとも1種を必須成力と(〜て舌付する。
ミダゾール、チアゾール、デトラゾール、トリアゾール
及びこれらの誘導体からなる群よりS tJ:れた化合
物の少なくとも1種を必須成力と(〜て舌付する。
好ましい化合9勿のト1]と17てば、イミダゾール。
2−メチル−rミタ゛ゾール、2−エチル−4−メチル
・イミグゾール、2−ノエニル・rミダゾール。
・イミグゾール、2−ノエニル・rミダゾール。
2−フェニル−4−メfルイミfi’ソーk 、 2−
アミノ−rミダゾール、チアゾール、2−メチルチアゾ
ール、2−アミノチアゾール、l11−テ1、ラゾール
、5−アミノ−I H−テトラゾール。
アミノ−rミダゾール、チアゾール、2−メチルチアゾ
ール、2−アミノチアゾール、l11−テ1、ラゾール
、5−アミノ−I H−テトラゾール。
1.2.3−i・リアゾール、2,1.3−トリアゾー
ル。
ル。
3−アミン−1,2,4−トリアゾール等があるが。
これらに制限されるものではない。これらは2柿以十用
いでもよい。この化合物の添加の効果は感光性樹脂組成
功中0.001重用部以上から得られるが、全属人面上
の光重合層の耐りロスカット性停の点から5重財部以下
が好ましい。
いでもよい。この化合物の添加の効果は感光性樹脂組成
功中0.001重用部以上から得られるが、全属人面上
の光重合層の耐りロスカット性停の点から5重財部以下
が好ましい。
本発明の提案するt、s<光4(Lg樹脂A」1成物は
、光重B性不IQ和結合を汀するリン酸化合物を必須成
分どして含有する。好−上しい化合1方の例としてに寸
、油脂2製品(1・1月・Jのび録トζj匪ホスマーM
(γ/ソ1′7オスフオキシエチルメタクリレート)。
、光重B性不IQ和結合を汀するリン酸化合物を必須成
分どして含有する。好−上しい化合1方の例としてに寸
、油脂2製品(1・1月・Jのび録トζj匪ホスマーM
(γ/ソ1′7オスフオキシエチルメタクリレート)。
ホスマーCL(3−クロL+〜2−r7ノドフオスフオ
キンブロビルメタアクリレート 化檗(F(j ’;提(7) ?L 録rij自;’;
KAYi〜へIEII シリーズのPへ■−2(ビス(
メタアクリロキシエチル)フォスフニー1)、Pjへ−
1(γクリロキシエチルフオスフエート)、1)A−2
(ビス(アクリル酸エチル)フォスフニー1・) 、
(1#J大八比へ工業n丁製の登録商(巧1ヒ゛ニエイ
トー几,PSーA4等がある。この出自゛1′J(1)
添加の効果d、感光性樹脂用成」勿中,o.ooi重i
tf11+lり1″−LIJ・ら得られるがm’l f
IL :’迂1−′[秀の点から5 7iQ−’H’1
部以Fが好゛ましい。
キンブロビルメタアクリレート 化檗(F(j ’;提(7) ?L 録rij自;’;
KAYi〜へIEII シリーズのPへ■−2(ビス(
メタアクリロキシエチル)フォスフニー1)、Pjへ−
1(γクリロキシエチルフオスフエート)、1)A−2
(ビス(アクリル酸エチル)フォスフニー1・) 、
(1#J大八比へ工業n丁製の登録商(巧1ヒ゛ニエイ
トー几,PSーA4等がある。この出自゛1′J(1)
添加の効果d、感光性樹脂用成」勿中,o.ooi重i
tf11+lり1″−LIJ・ら得られるがm’l f
IL :’迂1−′[秀の点から5 7iQ−’H’1
部以Fが好゛ましい。
本発明の提案する1よ1光12−樹脂組成物は末端エチ
レン基を少なくとも1個有するうt重合性化合物を必須
成分として含有する。この化合物の1.+lJとしては
,特公昭53−37214号公報で提案された光1「8
1生1ヒ合物,特開昭53〜56018号公報中に記載
される単1+1体,特願11,j 5 5−13132
2号に示される光重合トドウレタン化合物等を挙げ得る
。
レン基を少なくとも1個有するうt重合性化合物を必須
成分として含有する。この化合物の1.+lJとしては
,特公昭53−37214号公報で提案された光1「8
1生1ヒ合物,特開昭53〜56018号公報中に記載
される単1+1体,特願11,j 5 5−13132
2号に示される光重合トドウレタン化合物等を挙げ得る
。
感光性樹脂組成物中の末端エチレン基を少なくとも1個
有する光重合性化合物の含有Mはフィルム性及び光硬化
性の点から20〜80重掖部が好液しい。
有する光重合性化合物の含有Mはフィルム性及び光硬化
性の点から20〜80重掖部が好液しい。
本発明の提案する感光性樹脂組成物に[熱可塑111ユ
有機高分子化合物を必須成分として含有する。
有機高分子化合物を必須成分として含有する。
使用できる例としては特公昭41−15932号公報に
記載された熱0T塑性重罰体等を示すことができるが,
他の組成との相溶性,適用する基板表面との密着件等の
点からビニル系共重合線状高分子化合物が好ましい。共
重合成分としては名拙のビニル単打1体を用いることが
できる。
記載された熱0T塑性重罰体等を示すことができるが,
他の組成との相溶性,適用する基板表面との密着件等の
点からビニル系共重合線状高分子化合物が好ましい。共
重合成分としては名拙のビニル単打1体を用いることが
できる。
ビニル単L−i体の適当な例と1,ではメタクリル酸メ
チル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、スチレ
ン、a−メチルスチレン、ビニルトルエン、2−ヒドロ
キジエチルメタクリレート。
チル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、スチレ
ン、a−メチルスチレン、ビニルトルエン、2−ヒドロ
キジエチルメタクリレート。
2−ヒドロキンプロビルアクリレート、アクリル醇.メ
タクリル市,グリシジルメタクリ1/ート,t−ブチル
アミノエチルメタクリレート。
タクリル市,グリシジルメタクリ1/ート,t−ブチル
アミノエチルメタクリレート。
2、3−ジブロモゾロビルメタクリレート,3−クロロ
−2−ヒドロキシゾロピルメタクリレート;テ]・ラヒ
ドロフルフリルメタクリレート。
−2−ヒドロキシゾロピルメタクリレート;テ]・ラヒ
ドロフルフリルメタクリレート。
トリブロモフェニルアクリレート、アクリルアミド、ア
クリロニトリル、ブタジェン等を挙げ得る。感光性樹脂
組成物中の熱可塑性有機高分子化合物の含有縫はフィル
ム性及び光硬化i生の点から20〜80重し1部が好捷
しい。
クリロニトリル、ブタジェン等を挙げ得る。感光性樹脂
組成物中の熱可塑性有機高分子化合物の含有縫はフィル
ム性及び光硬化i生の点から20〜80重し1部が好捷
しい。
本発明の提案するII・\光i生(1+1脂ホI■成′
吻は活TJ−光線の照射によ゛つて前M[F Cl)−
j’e ’IA汀訃不飽和結合を有するリン酸[ヒ占物
及びト)′・11ジエチレン基を少なくともIIIII
Jイ1す4光10合1生化合物の重合を開始する噌感剤
没び/又し1増/LL削系を必須成句としてS有する。
吻は活TJ−光線の照射によ゛つて前M[F Cl)−
j’e ’IA汀訃不飽和結合を有するリン酸[ヒ占物
及びト)′・11ジエチレン基を少なくともIIIII
Jイ1す4光10合1生化合物の重合を開始する噌感剤
没び/又し1増/LL削系を必須成句としてS有する。
使用できるJ’l’j A’.<ハ11としてシー12
−工チルアントラキノン,2−1−プチルアノトラギノ
ン,オクタメチルアントラギノン,1,2,。
−工チルアントラキノン,2−1−プチルアノトラギノ
ン,オクタメチルアントラギノン,1,2,。
ベンズアントラキノン、2.3−ジンエニルγントラキ
ノン等の置換又は非1a換の多核上ノン類。
ノン等の置換又は非1a換の多核上ノン類。
ジアセチル、ベンジル等のケトγルドニル什合43、、
ベンゾイン、ビバロン寺(1) (I f p ル1
.+ニルアルコール5i1 オニ0:エーテルJ.+’
l 、 (Z−フェニル−ベンゾイン、α,αージェト
ギシアセトフエノン等のa−炭1ヒ水素置換芳香族アシ
ロイン類,ベンゾフェノン、4.4’−ビスジγルキル
ーrミノベンゾノエノ7等の芳香庇ケトン類などを例示
でき,こ〕しらは屯独でも1ト11台すでもよい。
ベンゾイン、ビバロン寺(1) (I f p ル1
.+ニルアルコール5i1 オニ0:エーテルJ.+’
l 、 (Z−フェニル−ベンゾイン、α,αージェト
ギシアセトフエノン等のa−炭1ヒ水素置換芳香族アシ
ロイン類,ベンゾフェノン、4.4’−ビスジγルキル
ーrミノベンゾノエノ7等の芳香庇ケトン類などを例示
でき,こ〕しらは屯独でも1ト11台すでもよい。
使用できる増/1&剤系としては2, 4. 5 〜ト
リアリールイミタ゛ゾールニド□′.、体と2−メルb
ゾトベンゾ−ヤナゾール,ロイコクリスタルバイオレッ
ト。
リアリールイミタ゛ゾールニド□′.、体と2−メルb
ゾトベンゾ−ヤナゾール,ロイコクリスタルバイオレッ
ト。
トリス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェニル)メ
タン等とのrr.[を合せlどをV/11示できる。
タン等とのrr.[を合せlどをV/11示できる。
ま/r′.,ぞれ自((、で尤[;i’l始(tは’1
イカ、前述Li’14J +7+4とf!If i′
3″itで用いることにより全体として光開始1′I:
i止C/.)より良好々゛壇感剤系と7+:ろような/
JS加削を用いることが1″きる。例えばベンゾフェノ
ンKrffるトリエタノールアミン等の三級アミンなど
である。感光性樹脂組成物中の増感剤及び/又は増感剤
系は、0.5〜10重量部含有されることが好ましい。
イカ、前述Li’14J +7+4とf!If i′
3″itで用いることにより全体として光開始1′I:
i止C/.)より良好々゛壇感剤系と7+:ろような/
JS加削を用いることが1″きる。例えばベンゾフェノ
ンKrffるトリエタノールアミン等の三級アミンなど
である。感光性樹脂組成物中の増感剤及び/又は増感剤
系は、0.5〜10重量部含有されることが好ましい。
さらに1本発明の感光1/I:樹脂組成物は他の副次的
成分を含有することができる。副次的成分としては熱重
合防止剤、染料1M科料。ィラー。
成分を含有することができる。副次的成分としては熱重
合防止剤、染料1M科料。ィラー。
分散安定剤、堕工性向上剤、雌燃削、難燃助剤等であり
、これらの選択は通常の感光1!j:樹脂組成1ニダと
同様の考ノばのもとに行なわれる。
、これらの選択は通常の感光1!j:樹脂組成1ニダと
同様の考ノばのもとに行なわれる。
次に9本発明の提案する感光性樹脂組成物の使用方法の
例についてd)ト明する。
例についてd)ト明する。
基板」ニへの1県光性樹脂組成物の層の形成は常法によ
り行なうことができる。たとえば感フし性464 JA
W 6t hシ勿t 7’ fルエチルケj・ン、トル
エン塩化メチレン等の有機浴剤に均一に溶り子させ(但
し.フーfラー,顔料等は均一に分ti(させ)。
り行なうことができる。たとえば感フし性464 JA
W 6t hシ勿t 7’ fルエチルケj・ン、トル
エン塩化メチレン等の有機浴剤に均一に溶り子させ(但
し.フーfラー,顔料等は均一に分ti(させ)。
この溶液をデーfソノコート法,フローコーI・注等で
基板に直接塗布[7,溶剤乾燥することにより亘,ない
得る。その後,感光性樹脂組成にさらに特公昭46−3
5687号公報.特公昭46−32714号公報等に示
される酸素不透過性保H’A I*を設け,あるいけポ
リエステルフィルム等の活性光に透明なフィルムを積層
してもよい。
基板に直接塗布[7,溶剤乾燥することにより亘,ない
得る。その後,感光性樹脂組成にさらに特公昭46−3
5687号公報.特公昭46−32714号公報等に示
される酸素不透過性保H’A I*を設け,あるいけポ
リエステルフィルム等の活性光に透明なフィルムを積層
してもよい。
父,本発明になる感光性樹脂)組成物は,支持体フィル
ムL:に感光1イJl:樹脂組成物の層を設けた感光性
エレメントの製造用にも好適である。
ムL:に感光1イJl:樹脂組成物の層を設けた感光性
エレメントの製造用にも好適である。
支持体フィルム上への感光性樹脂組成物の層の形成は常
法により行なうことができる。たとえば11べ光性樹脂
組成物をメチルエチルケトン。
法により行なうことができる。たとえば11べ光性樹脂
組成物をメチルエチルケトン。
トルエン、塩化メチレン等の有機溶剤に均一に溶解させ
( (fl L 、顔料等は均一に分散させン。
( (fl L 、顔料等は均一に分散させン。
この溶液を支持体フィルム−Fにティフコ−1法。
〔J−ルコート法等で塗布し,乾燥し,で行なわれる。
感ブt:層中の残存溶剤騎i1特匪保持のに,めに2重
吋−以下におさえることが好゛ましく,1重゛ldφ以
下におさえることが特に好ましい。
吋−以下におさえることが好゛ましく,1重゛ldφ以
下におさえることが特に好ましい。
支持体)・rルムti感光件エレメントの製造時に必要
な耐熱性,IiliI溶剤性を有(〜でいることが必要
で,活性光に対17透明でをJつても不透明であっても
よい。fff−4しい例として,ポリエステルフィルム
、ポリイミドフィルム等の公知のフィルムを挙げること
ができ,乙。
な耐熱性,IiliI溶剤性を有(〜でいることが必要
で,活性光に対17透明でをJつても不透明であっても
よい。fff−4しい例として,ポリエステルフィルム
、ポリイミドフィルム等の公知のフィルムを挙げること
ができ,乙。
長尺のΔ1にブ1j:エレメントを製造する場合は。
製造のM終段階で該エレメントをロール状に巻き取る。
この場合,感圧1生粘着テープ等で公知の方法を用い,
背面処理した支持体フィルムを用いることにより,ロー
ル状に巻き取ったときの感光性樹脂組成!I’y)(7
)層の支持体フィルム11面への転着を防ぐことがり能
である。同じ目的。
背面処理した支持体フィルムを用いることにより,ロー
ル状に巻き取ったときの感光性樹脂組成!I’y)(7
)層の支持体フィルム11面への転着を防ぐことがり能
である。同じ目的。
塵の付着を防ぐ1]的等で該エンメントのA&光性樹脂
組成物のA.y上に/41j喘dF11ヒなカバーフィ
ルムをオ責層すること/l;〃了fしい。
組成物のA.y上に/41j喘dF11ヒなカバーフィ
ルムをオ責層すること/l;〃了fしい。
剥比′を可r+f:なカパーフ・「ルムの例とl〜では
,ポリエチ【/ンフイルム,ポリプロピレンフィルム。
,ポリエチ【/ンフイルム,ポリプロピレンフィルム。
テフロンフィルム、表面処理をした紙等があり。
カバー7・fルムを剥PalするときにlIIヒ、光性
1:樹脂組成物の層と支持体フィルムとのJ並7tU’
力よりも。
1:樹脂組成物の層と支持体フィルムとのJ並7tU’
力よりも。
感光匹樹脂,f11成物の層と力・・−フィルムとの接
着力がより小さ斐へものであればよい。
着力がより小さ斐へものであればよい。
このようにして製造した感光性エレメントの基板上への
積層は容易である。すなわち、カバーフィルムのない場
合はその1ま,カバーフィルムのある場合はカバーフィ
ルムを珀j離して又は剥離しながら,基板上に加熱・加
圧積層する。
積層は容易である。すなわち、カバーフィルムのない場
合はその1ま,カバーフィルムのある場合はカバーフィ
ルムを珀j離して又は剥離しながら,基板上に加熱・加
圧積層する。
加熱・加圧積層は印刷配線板製造業者では周知の常圧ラ
ミネータを用いて行なうことができる。
ミネータを用いて行なうことができる。
基板が,2i.体配線ラインの形成された印刷配線板の
ように10μ01以上の凹凸のあるものの場合は,減圧
下又は真空下で積層することが好ましい。
ように10μ01以上の凹凸のあるものの場合は,減圧
下又は真空下で積層することが好ましい。
このための装置としては特開昭51=637(12号公
報又は特公昭53−31670号公報に記載される積I
儲装置等がある。
報又は特公昭53−31670号公報に記載される積I
儲装置等がある。
積層後の露光および現像処理は常法により行ない得る。
すなわち、支持体フィルムが活性光に不透明である場合
は支持体フィルムを剥離した後,高圧水銀灯,超高圧水
銀灯等の光源を用い,ネガマスクを通(〜で像的に露光
する。
は支持体フィルムを剥離した後,高圧水銀灯,超高圧水
銀灯等の光源を用い,ネガマスクを通(〜で像的に露光
する。
露光陵支持体フ・fルムが残っている場Uは支持体フィ
ルムを!1j喘し、現職する。現像液には。
ルムを!1j喘し、現職する。現像液には。
1.1.1−1クロルエタン等の有機溶剤、アルカリ性
水溶液、;汀(良溶剤の水溶液等が用いられる。
水溶液、;汀(良溶剤の水溶液等が用いられる。
更に現像後の80℃ないし200 ℃での/IIl熱処
j里及び活性光の露光によ#)潰れた特性金石する半田
マスクとなる。現+7+友のカl熱処理及び活性光の露
光の順序はどちらか先でもよく、またそれぞれをFJ度
かに分けて行なってもよい。現像後の加熱処理及び活性
光の露光によって得られる保映被膜は反れた半田1Fj
t熱四を示す。
j里及び活性光の露光によ#)潰れた特性金石する半田
マスクとなる。現+7+友のカl熱処理及び活性光の露
光の順序はどちらか先でもよく、またそれぞれをFJ度
かに分けて行なってもよい。現像後の加熱処理及び活性
光の露光によって得られる保映被膜は反れた半田1Fj
t熱四を示す。
更に該保護被膜はトリクレン、イングロビルアルコール
、トルエン等の有amAllに十分+Iuf 、t 。
、トルエン等の有amAllに十分+Iuf 、t 。
酸1生水溶液又はアルカリ性水浴液にも耐えるので半田
マスク等の永久的な保躾被膜として好適である。
マスク等の永久的な保躾被膜として好適である。
次に本発明の実施し0を示す。
本発明はこの実施例によって限定されるものではない。
実施例中及び比較例中の1一部」は重量部を示す。
実施例1
a)末端エチレン基全壱する光重合性化合物の合成
トルエン 1200部
ジラウリン1夜ジーn −1部
7゛チルスス′
トルエン 300部
p〜7トキシフエノール 0.3部Cメタノール
20部 −1−if[: Aを温度計、攪拌装置、冷却管、窒素
ガス導入管及び滴下器のついた。 JIII熱及び冷却
の可能な谷績約51の反応器に加え撹拌しながら60℃
に昇温した。反応温度を55〜65℃に保ちながら約5
時間で均一にBを滴下しtc。
20部 −1−if[: Aを温度計、攪拌装置、冷却管、窒素
ガス導入管及び滴下器のついた。 JIII熱及び冷却
の可能な谷績約51の反応器に加え撹拌しながら60℃
に昇温した。反応温度を55〜65℃に保ちながら約5
時間で均一にBを滴下しtc。
B滴下後、約5時間かけて徐々に反応温度を80℃まで
昇温した。その後温度を60℃に下げ、Cを加え約1時
間攪拌を続けた。その後。
昇温した。その後温度を60℃に下げ、Cを加え約1時
間攪拌を続けた。その後。
減圧乾燥して溶剤を除去し、粘稠な末端エチレン基を有
する光11(臼−11化合物fi+を得た。
する光11(臼−11化合物fi+を得た。
l))感光性樹脂組成11′dと感光性ニレメン]・の
製造上記方法で1)JらJした光重合性化合物(1)5
’OKり。
製造上記方法で1)JらJした光重合性化合物(1)5
’OKり。
メタクリル?實メチル・アクリル酸メチル・アクリル酸
・2〜ヒドロキシエチルメタクリl/−ト(83/10
/215重量比)共重合物(分子計約12万)
50に9゜ベンゾフェノン
2.7 Kp 。
・2〜ヒドロキシエチルメタクリl/−ト(83/10
/215重量比)共重合物(分子計約12万)
50に9゜ベンゾフェノン
2.7 Kp 。
ミヒラーケトン 0.3にグ。
■)−ノドキシフェノール 0.02に7゜ビク
トリアピュアブルー 0.05に7゜トルエン−
50に7゜ メチルエチルケトン 50Kp。
トリアピュアブルー 0.05に7゜トルエン−
50に7゜ メチルエチルケトン 50Kp。
−I: WI:組成の配合液20Kzに対しイミダゾー
ル及びホスマーM(油脂製品(18g製登録商標、メタ
クリル基を含有するリン酸化合物)をそれぞれ表1の通
り添加した10種の感光性樹脂組成物のm液を準備した
。
ル及びホスマーM(油脂製品(18g製登録商標、メタ
クリル基を含有するリン酸化合物)をそれぞれ表1の通
り添加した10種の感光性樹脂組成物のm液を準備した
。
2431図に示す装置aを用いて上記10種の!函光−
性樹脂肩1成物の溶ン戊1をそれぞれ251tm厚さの
ポリエチレンテレフタレー用・フィルム2」二に均一に
砧布し80〜100℃の熱風対流式乾燥機3を約10分
間通して乾燥した。感光性樹脂組成9・(dの層の乾燥
後の厚さは約75μn1であつた。感光性樹脂組成物の
層の上には、更に第1図のように厚さ約25μmのポリ
エチレンフィルム4をカバーフィルムとして張シ合わせ
た。
性樹脂肩1成物の溶ン戊1をそれぞれ251tm厚さの
ポリエチレンテレフタレー用・フィルム2」二に均一に
砧布し80〜100℃の熱風対流式乾燥機3を約10分
間通して乾燥した。感光性樹脂組成9・(dの層の乾燥
後の厚さは約75μn1であつた。感光性樹脂組成物の
層の上には、更に第1図のように厚さ約25μmのポリ
エチレンフィルム4をカバーフィルムとして張シ合わせ
た。
第1図において、5はポリエチレンテレフタレートフィ
ルムぐり出しロール、6,7.8はロール、9はナイフ
、10けポリエチレンフィルムくり出しロール、11.
12はロール、13は感光性エレメント巻き取りロール
である。
ルムぐり出しロール、6,7.8はロール、9はナイフ
、10けポリエチレンフィルムくり出しロール、11.
12はロール、13は感光性エレメント巻き取りロール
である。
C)半田マスクの形成
上記b)で得られた10種の感光1’lエレメントを、
前処理により銅表面を清浄にしだ鋼張積層板(日立化成
工業fInn製、MCL−E61.銅箔厚さ35μm1
1 、基材厚さ1.6−)−ヒに、曙産業(((1)製
A−500型常圧ラミネータを用いカバー、フィルムを
剥NiI f、なから、積層した。積層後第2図に示し
た試験用ネガマスクを用い、((力オーク製作新製クエ
ニソクス3000型露光機を1史用して150 m J
/art2の躇光廿の紫外縁を照射した。第2図におい
て14けネガマスクの不透明部分、15)士ネガマスク
の透明部分を示し。
前処理により銅表面を清浄にしだ鋼張積層板(日立化成
工業fInn製、MCL−E61.銅箔厚さ35μm1
1 、基材厚さ1.6−)−ヒに、曙産業(((1)製
A−500型常圧ラミネータを用いカバー、フィルムを
剥NiI f、なから、積層した。積層後第2図に示し
た試験用ネガマスクを用い、((力オーク製作新製クエ
ニソクス3000型露光機を1史用して150 m J
/art2の躇光廿の紫外縁を照射した。第2図におい
て14けネガマスクの不透明部分、15)士ネガマスク
の透明部分を示し。
数字の単位は關である。
80℃で5分間加熱し室温で30分間故1tシたのち、
支持体フィルムを剥離し、1,1.l)リクロルエタン
を用い、20℃で120 +J’間スジスプレー現像。
支持体フィルムを剥離し、1,1.l)リクロルエタン
を用い、20℃で120 +J’間スジスプレー現像。
現像後80℃で10分間jIII熱乾燥し、東芝電材(
444)d紫外線照射装置i’4をI車用]−露光h1
を5J/cJとして照射した。その後さらに150℃で
45分間加熱処理した。
444)d紫外線照射装置i’4をI車用]−露光h1
を5J/cJとして照射した。その後さらに150℃で
45分間加熱処理した。
このようにして保護被膜を形成した10枚の試験基板を
、ロジン系フラックスA−226(タムラ化研(固装)
を用いて255〜265℃のフロー半田浴に20秒間接
触させ半田試験を行なった。その結果を表2にまとめて
示した。
、ロジン系フラックスA−226(タムラ化研(固装)
を用いて255〜265℃のフロー半田浴に20秒間接
触させ半田試験を行なった。その結果を表2にまとめて
示した。
表2 半1−11試躾段の保護波膜の状態表2から明ら
かなように、イミダゾール及びホスマーN1を共に3有
した感光はエレメント(EX−8,EX−9及びEX−
10)から形成された保護θl iiuのみが良好な半
田耐熱性を示すのに対し、その他のムベ元1で仁エレメ
ント、すなわちイミターゾール及びホスマーΔ■を共に
含有し々い1県光1イ)ミニレノ)−1−(EX−1)
、イミダゾールを含有するがホスマーλ1を含有(〜な
い感光性エレメント(E X−2、E X −3及びE
X −4)、ホスマーへfを含有するがイミダゾール
を含有しない感光性ニレメン)・(EX−5,EX−6
及びEX−7)から形成された保護被膜は−に記の半田
試験により著しい浮き又ははがれを生じ、半田もぐりが
認められた。
かなように、イミダゾール及びホスマーN1を共に3有
した感光はエレメント(EX−8,EX−9及びEX−
10)から形成された保護θl iiuのみが良好な半
田耐熱性を示すのに対し、その他のムベ元1で仁エレメ
ント、すなわちイミターゾール及びホスマーΔ■を共に
含有し々い1県光1イ)ミニレノ)−1−(EX−1)
、イミダゾールを含有するがホスマーλ1を含有(〜な
い感光性エレメント(E X−2、E X −3及びE
X −4)、ホスマーへfを含有するがイミダゾール
を含有しない感光性ニレメン)・(EX−5,EX−6
及びEX−7)から形成された保護被膜は−に記の半田
試験により著しい浮き又ははがれを生じ、半田もぐりが
認められた。
実施例2
実施例1−a)で合成した末端エチレン基を有する光重
合付化合物(1) 40部。
合付化合物(1) 40部。
アローニツクスへ1−8060(東亜合成(陶製登録商
標、多価アクリレート) 12部。
標、多価アクリレート) 12部。
メタクリル酸メチル・2−ヒドロキシエチルメタクリレ
−1・・テトラヒドロフルフリルメタクリレート・トリ
ブロモフェニルアクリレート(60/4メ10/26重
蓋比)共重合物(分子’iIi約lO万)
48部。
−1・・テトラヒドロフルフリルメタクリレート・トリ
ブロモフェニルアクリレート(60/4メ10/26重
蓋比)共重合物(分子’iIi約lO万)
48部。
ベンゾフェノン 4部。
ミヒラーケトン 0.2部。
2−メチルイミダゾール 0.5部。
KA、YAD、fER−P A 2 (日本化薬((j
)製登録商標。
)製登録商標。
アクリル基を含有するリン酸化合物)0.2部。
フタロシアニン・グリーン5AX(三洋色素(41製登
録商標、顔f’s) 0.3部。
録商標、顔f’s) 0.3部。
三酸化アンチモン 1部。
メチルエチルケトン 60部。
トルエン 50部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を、第1図に示す装
置を用いて25μm厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム2上に均一に塗布し、80〜100℃の熱風対
流式乾燥機3を約12分間通して乾燥した。感光性樹脂
組成物の層の乾燥後の厚さは約90μIIIであった。
置を用いて25μm厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム2上に均一に塗布し、80〜100℃の熱風対
流式乾燥機3を約12分間通して乾燥した。感光性樹脂
組成物の層の乾燥後の厚さは約90μIIIであった。
感光性樹脂組成物の層の上には、更に第1図のように厚
さ約25μm11のポリエチレンフィルム4をカバーフ
ィルムとして張り合わせた。このようにして得た感光性
エレメントを、第31mlに示すt+Vパターン(銅厚
さ約70μrn )の形成された試験用印刷配線板(ガ
ラスエボギシ基板、基材厚さ1.6 T11m )上に
日立化成工業(+:IJ製真空ラミネータ(真空度30
rmarII g 、ラミネート温度1000G 、
ラミネートスピード1++t/分)を用い、カバーフ・
fルムを剥らl L、なから力[1熱・加圧積)−した
。菌3図において、16は銅パターン部分、17は基材
の露出部分を示し、数字の単位は關である。室温で3時
間放置した後第2図に示した試験用ネガマスクを通して
150 nlJ 10rr”の露光量の紫外線を照射し
た。80’Cで5分間加熱]−室温で30分間放置した
のち、支持体フ・rルムを剥離し1,1.1−トリクロ
ルエタンを用い20’Cで150秒間スプレー現像した
。現像後80’Cで10分間加熱乾燥し7.露光fpH
3J /alr”の紫夕1腺照射した。さらに150’
Cで30分間加熱処理した。
さ約25μm11のポリエチレンフィルム4をカバーフ
ィルムとして張り合わせた。このようにして得た感光性
エレメントを、第31mlに示すt+Vパターン(銅厚
さ約70μrn )の形成された試験用印刷配線板(ガ
ラスエボギシ基板、基材厚さ1.6 T11m )上に
日立化成工業(+:IJ製真空ラミネータ(真空度30
rmarII g 、ラミネート温度1000G 、
ラミネートスピード1++t/分)を用い、カバーフ・
fルムを剥らl L、なから力[1熱・加圧積)−した
。菌3図において、16は銅パターン部分、17は基材
の露出部分を示し、数字の単位は關である。室温で3時
間放置した後第2図に示した試験用ネガマスクを通して
150 nlJ 10rr”の露光量の紫外線を照射し
た。80’Cで5分間加熱]−室温で30分間放置した
のち、支持体フ・rルムを剥離し1,1.1−トリクロ
ルエタンを用い20’Cで150秒間スプレー現像した
。現像後80’Cで10分間加熱乾燥し7.露光fpH
3J /alr”の紫夕1腺照射した。さらに150’
Cで30分間加熱処理した。
このようにして保護被膜を形成した試験基板を。
ロジン系フラックスMl−1−320V(タムラ化研(
(も1を用いて255〜265℃のフロー半田浴に15
秒間接触させ半円状rJを行なっlこ。保検被膜の浮き
、はがれはなく、良好な半田耐熱性を示した。
(も1を用いて255〜265℃のフロー半田浴に15
秒間接触させ半円状rJを行なっlこ。保検被膜の浮き
、はがれはなく、良好な半田耐熱性を示した。
」七り」21多り1
KAYAI’vlE11.− P A 2を添加しない
曲は実bm例2と同様にして感う゛C性エレメントを製
造し、試験基板トに像的な保護被膜を形成し、半[口試
験を行なつた。保設彼膜に浮き及びふくれが認められ、
半田もぐりが生じ/ζ。
曲は実bm例2と同様にして感う゛C性エレメントを製
造し、試験基板トに像的な保護被膜を形成し、半[口試
験を行なつた。保設彼膜に浮き及びふくれが認められ、
半田もぐりが生じ/ζ。
実施例3
アローニツクスN1〜6100(東亜合成(4勺製登録
商標、多価アクリレート) 15部。
商標、多価アクリレート) 15部。
MECIIPP (大阪有様((+IJ製登録商標、1
1曲メタクリレート)5部。
1曲メタクリレート)5部。
A−TMM3L(新中村化字(+、i)装登録商標、多
画アクリレート) 20部。
画アクリレート) 20部。
メタクリルCdメチル・アクリル酸エチル・スチレン・
メククリル酸畳]・リブロモフェニルアクリレート(3
5/20/10/25/10重批比)共重合物(り〕子
量的8万) 60部。
メククリル酸畳]・リブロモフェニルアクリレート(3
5/20/10/25/10重批比)共重合物(り〕子
量的8万) 60部。
ベンゾンエノン 4部。
ミヒラーケト70.2部。
2−γミノナアゾール 0.1部。
ホスマーCL(油脂製品(印製会録面標、メタクリル基
を八−有するリン「波比、、’4+!l刀)0.1部。
を八−有するリン「波比、、’4+!l刀)0.1部。
ビクトリアピュアブルー 0.01部。
三酸化アンチモン 1部。
エチルセロンルプ 80部。
メチルエチルケトン 40部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い、実施例2と
同様にして感光性樹脂組成物の層の厚さ約60μn1の
感光性エレメントを得た。該感光性エレメントを第3図
に示す銅パターン(銅ノリさ約35μm )の形成され
た試験用印刷配線板(ガラスエポキシ基板、基材厚さ0
.8nzm )上にカバーフィルムを剥離しながら減圧
下(*空度20 b’AIIg )でh1熱・加圧積層
(−た。室温で24時間放1iiL*後第2図に示しf
?L試験j■Iネガマスクを)1旧〜で150口I J
km”の露光量の紫外線を照射した。80℃で5分間
7Jn熱し室温で30分間放置(〜たのち、支持体フィ
ルムを剥離し、2%、35℃の炭酸ナトリウム水浴液を
70秒間スプレーすることに1り現イ床l−た。
同様にして感光性樹脂組成物の層の厚さ約60μn1の
感光性エレメントを得た。該感光性エレメントを第3図
に示す銅パターン(銅ノリさ約35μm )の形成され
た試験用印刷配線板(ガラスエポキシ基板、基材厚さ0
.8nzm )上にカバーフィルムを剥離しながら減圧
下(*空度20 b’AIIg )でh1熱・加圧積層
(−た。室温で24時間放1iiL*後第2図に示しf
?L試験j■Iネガマスクを)1旧〜で150口I J
km”の露光量の紫外線を照射した。80℃で5分間
7Jn熱し室温で30分間放置(〜たのち、支持体フィ
ルムを剥離し、2%、35℃の炭酸ナトリウム水浴液を
70秒間スプレーすることに1り現イ床l−た。
水洗後80℃で20分間力[1熱乾燥し、露光量3 、
T 101の紫外線照射しtc、さらに160℃で4G
力間加熱処理した。
T 101の紫外線照射しtc、さらに160℃で4G
力間加熱処理した。
このようにして保勲被膜を形成した1・(験基板を。
水溶性フラックスWS−37(タムラ化研■製)を用い
て、255〜265℃のフロー半田浴に15秒間接触さ
せ手口1試験を行なった。保護被膜の浮き、はがれはな
く、良好な半田耐熱性を示した。
て、255〜265℃のフロー半田浴に15秒間接触さ
せ手口1試験を行なった。保護被膜の浮き、はがれはな
く、良好な半田耐熱性を示した。
実施例4
実施例2の2−メチルイミダゾール0.5部にかえて5
−γミノーIII−テトラゾール0.1部を用い、他は
実施例2と同様の操作を行なった。最終的に得られた保
護被膜は15秒間の半田試験に耐え、良好な半FB耐熱
性を示した。
−γミノーIII−テトラゾール0.1部を用い、他は
実施例2と同様の操作を行なった。最終的に得られた保
護被膜は15秒間の半田試験に耐え、良好な半FB耐熱
性を示した。
実施例5
実施例2の2−メチルイミダゾール0.5部にかえて1
,2.3−トリアゾール0,1部を用い、他は実施例2
と同様の操作を行なった。最終的に得られた保護破膜は
15秒間の半田試験に耐え、良好な半田耐熱性を示し7
た。
,2.3−トリアゾール0,1部を用い、他は実施例2
と同様の操作を行なった。最終的に得られた保護破膜は
15秒間の半田試験に耐え、良好な半田耐熱性を示し7
た。
実施例6
実施例2の2−メチルイミダゾール0.5部にかえてチ
アゾール0.2部を用い1曲は実が1例2と同様の操作
を行なった。最終的に得られた保護被膜は15秒間の半
田試験に耐え、良好な半田耐熱性を示した。
アゾール0.2部を用い1曲は実が1例2と同様の操作
を行なった。最終的に得られた保護被膜は15秒間の半
田試験に耐え、良好な半田耐熱性を示した。
実施例7
実bi例2の2−メチルイミダゾール0.5部にかえて
I H−テトラゾール0.1部を用い、仙tt実施例2
と同様の操作を行なった。最終的に得られた保護被膜は
15秒間の半田試験に耐え、良好な半田耐熱性を示した
。
I H−テトラゾール0.1部を用い、仙tt実施例2
と同様の操作を行なった。最終的に得られた保護被膜は
15秒間の半田試験に耐え、良好な半田耐熱性を示した
。
実施しjj8
実h1′!IIクリ2の2−メチシイミグゾール0.5
部にかえてjj−アミノ−1,2,4−トリアゾールo
、 i部を用い、他は実施15’112と同様の操作を
行なった。最終的に得られた保護被膜は15秒間の半1
)]試験に耐え、良好な半a1耐熱性を示した。
部にかえてjj−アミノ−1,2,4−トリアゾールo
、 i部を用い、他は実施15’112と同様の操作を
行なった。最終的に得られた保護被膜は15秒間の半1
)]試験に耐え、良好な半a1耐熱性を示した。
実施例9
実施例2の2−メチル−f ミダゾール0.5部にかえ
てイミタゾール0.1部及び2−アミノチアゾール0.
1部を用い9曲は実施例2と同様の操作を行なった。最
終的に得られた保護被膜は15秒間の半田試験に耐え、
良好な半田耐熱性を示した。
てイミタゾール0.1部及び2−アミノチアゾール0.
1部を用い9曲は実施例2と同様の操作を行なった。最
終的に得られた保護被膜は15秒間の半田試験に耐え、
良好な半田耐熱性を示した。
」ユ十、実施例で詳細に説明j7た様に、各々単独では
増景しても効果を示式なかった2柚頼の添加剤を組み合
わせたときのみに顕著に半田耐熱性が向上することは篤
くべきことである。本発明になる感光性樹脂組成物は基
材表面への接着性が優れた保護被膜を形成し、形成され
た保護被膜は半田マスク用しジス]・等に好適である。
増景しても効果を示式なかった2柚頼の添加剤を組み合
わせたときのみに顕著に半田耐熱性が向上することは篤
くべきことである。本発明になる感光性樹脂組成物は基
材表面への接着性が優れた保護被膜を形成し、形成され
た保護被膜は半田マスク用しジス]・等に好適である。
尚、上記は本発明になるh<<光1イE樹脂組成吻の一
実AI!’i例にすさ′ず、当然9本発明の精神を逸脱
しない範囲で4重々の変ル及び使用方法が可能でめる。
実AI!’i例にすさ′ず、当然9本発明の精神を逸脱
しない範囲で4重々の変ル及び使用方法が可能でめる。
4、[ン1面のii+H単なi*!j明第1図は実施例
で用いた感光性エレメントの製造装置の略図、第21Y
IH実施例で用いた試験用ネガマスクを示す図、第3図
は実施例で用いた試験基41iの(j・・]パターンを
示す図である。
で用いた感光性エレメントの製造装置の略図、第21Y
IH実施例で用いた試験用ネガマスクを示す図、第3図
は実施例で用いた試験基41iの(j・・]パターンを
示す図である。
t、)号の説明
[・・・感光・t:1g 16(脂j[i代物の1容?
+に2・・・ポリエチL/ンテレフタL/−1フィルム
3 ・・・乾燥イに遍 4・・・ポリエチレンフィルム 5・・・ポリエチレンプレツタレートフィルム<す出し
ロール 6.7.8・・・ロール 9・・・ナイン 10・・・ポリエチレンフィルム<すtilt、ロール
11 、12・・・ロール IJ ・・感光゛1−[エレメント巻き取りロール14
・・・ネガマスクの不透明部分 15・−不ノノマスクの逍1jJJ 部分16・・・銅
パターン部力 第 1 図 第 2 図 ■■■■■■ ■■■■■■ ■■■■■■ ■■■■■■ 第 3 289− 1t″″
+に2・・・ポリエチL/ンテレフタL/−1フィルム
3 ・・・乾燥イに遍 4・・・ポリエチレンフィルム 5・・・ポリエチレンプレツタレートフィルム<す出し
ロール 6.7.8・・・ロール 9・・・ナイン 10・・・ポリエチレンフィルム<すtilt、ロール
11 、12・・・ロール IJ ・・感光゛1−[エレメント巻き取りロール14
・・・ネガマスクの不透明部分 15・−不ノノマスクの逍1jJJ 部分16・・・銅
パターン部力 第 1 図 第 2 図 ■■■■■■ ■■■■■■ ■■■■■■ ■■■■■■ 第 3 289− 1t″″
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 (alイミダゾール、チアゾール、テトラゾー
ル、トリアゾール及びこれらのVj L1体からなる群
よシ選ばれた化合物の少なくとも1種。 fbl光重光重合胞不飽和結合するリン酸化合物。 (C)末端エチレン基を少なくとも1飼有する光重合性
化合物。 fdl熱可塑性有機高分子化合物。 fe)活性光りの照射によって前記不飽和化合物(bl
及び(C1の重合を開始する増感剤及び/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物。 2、 (a)イミダゾール、チアゾール、テトラゾー
ル、トリアゾール及びこれらの誘導体からなる群より選
ばれた化合物の少なくとも1柚を0、0 0 1 〜5
重土ト部。 (bl光重合性不飽和結合を有するリン酸化合物 をo、ooi〜5重量部。 (C1末端エチレン基を少なくとも1飼有する光重合性
化合物 を20〜80重量部。 ((1)熱可塑性有機高分子化合物 を20〜80重1丘部。 および (el活1イト光紳の照射によって前記小胞第11化合
物(lす及び(C1の重合を開始する増感剤及び/又は
増感剤系 ff10.5〜1(1重−hト部と1.た特許h1°j
水(ニ)範囲4131項記載のtri<光性樹脂わl放
物。 3、熱可塑性有機と6分子化合物がビニル系共重合繊状
高分子化合物でおる特許請求の範囲第1項又は第2項記
載の感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15918282A JPS5948752A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15918282A JPS5948752A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5948752A true JPS5948752A (ja) | 1984-03-21 |
Family
ID=15688094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15918282A Pending JPS5948752A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5948752A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61260237A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
EP0206030A2 (en) * | 1985-06-07 | 1986-12-30 | Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
JPS6225389U (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-16 | ||
EP0665468A1 (en) * | 1993-12-30 | 1995-08-02 | Hercules Incorporated | Staining inhibitor for photopolymerizable compositions containing a tetrazole |
CN108535959A (zh) * | 2018-02-28 | 2018-09-14 | 苏州城邦达力材料科技有限公司 | 感光胶黏剂及其制备方法和应用 |
-
1982
- 1982-09-13 JP JP15918282A patent/JPS5948752A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN108535959A (zh) * | 2018-02-28 | 2018-09-14 | 苏州城邦达力材料科技有限公司 | 感光胶黏剂及其制备方法和应用 |
CN108535959B (zh) * | 2018-02-28 | 2021-09-24 | 苏州城邦达益材料科技有限公司 | 感光胶黏剂及其制备方法和应用 |
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